JP2013173820A - Novel polyimide and printing composition including the same - Google Patents
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Abstract
Description
本願発明は、新規なポリイミド並びにそれを含む印刷用組成物及びそれを用いた絶縁膜の形成方法に関する。 The present invention relates to a novel polyimide, a printing composition containing the same, and a method for forming an insulating film using the same.
近年、電子部品、太陽電池材料の分野においては、その外表面に配線(銅箔パターン等)を保護するための保護膜(カバーレイフィルム)を設ける場合が多い。また、高速化、パターン精細性、屈曲性、難燃性への対応から、耐熱性、電気特性及び耐湿性に優れる絶縁保護膜として、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが用いられている。これらの樹脂は、樹脂構造が剛直であり薄膜基材に用いた場合、硬化後の基材が大きく反り、硬化膜は柔軟性に欠け、屈曲性に劣る問題がある。 In recent years, in the field of electronic parts and solar cell materials, a protective film (coverlay film) for protecting wiring (copper foil pattern or the like) is often provided on the outer surface. In addition, polyimide resin, polyamideimide resin, polyurethane resin, epoxy resin, etc. are used as insulating protective films with excellent heat resistance, electrical properties, and moisture resistance in order to cope with high speed, pattern definition, flexibility, and flame resistance. It has been. These resins have a rigid resin structure, and when used as a thin film substrate, the cured substrate is greatly warped, and the cured film lacks flexibility and has poor flexibility.
また、特許文献1,2には、ジアミノポリシロキサンから誘導されるシロキサン変性ポリイミドからなる組成が開示されている。シロキサン変性ポリイミドは、耐熱性、電気絶縁性が優れ、加えて低弾性であるため低そり性が優れている。しかし、ポリシロキサン成分のために硬化膜表面の密着性が十分でなく、本来ポリイミド樹脂が有している電気特性、機械的特性及び耐熱性等の優れた特性が損なわれ、絶縁耐力、不燃特性等が低下してしまう等の問題があった。 Patent Documents 1 and 2 disclose a composition made of siloxane-modified polyimide derived from diaminopolysiloxane. Siloxane-modified polyimide is excellent in heat resistance and electrical insulation and, in addition, has low warpage due to its low elasticity. However, due to the polysiloxane component, the adhesion of the cured film surface is not sufficient, and excellent properties such as electrical properties, mechanical properties and heat resistance inherently possessed by the polyimide resin are impaired, and dielectric strength, nonflammability properties There was a problem such as lowering.
また、上記低弾性化による反り性を改善する方法とは別に、熱膨張係数を低くすることにより基材との反りを改善する方法が知られている。しかしながら、物性の均衡を維持しながらの配合設計は難しく、係る方法によって形成される樹脂硬化膜は均一性において、特に硬化時の分子量分布等による反応性の相違から生じる外観上のムラや機械特性上のバラツキが問題点として挙げられていた。(非特許文献1、2、3) In addition to the method for improving the warp due to the low elasticity, a method for improving the warp with the substrate by lowering the thermal expansion coefficient is known. However, it is difficult to design a composition while maintaining a balance of physical properties, and the cured resin film formed by such a method is uniform in appearance, particularly unevenness in appearance and mechanical properties due to differences in reactivity due to molecular weight distribution during curing. The above variation was cited as a problem. (Non-patent documents 1, 2, 3)
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、スクリーン印刷において高速な印刷が可能であり、耐熱性、電気特性、機械的特性及び不燃性等の特性を有し、密着性や屈曲性、低反り性に優れ、且、保存安定性が良好な新規な熱硬化性ポリイミド並びにそれを含む印刷用組成物及びそれを用いた絶縁膜の形成方法を提供することである。 The present invention has been made in view of such points, and can be printed at high speed in screen printing, has heat resistance, electrical properties, mechanical properties, nonflammability, and the like, and has adhesiveness and flexibility, It is an object of the present invention to provide a novel thermosetting polyimide having excellent low warpage and good storage stability, a printing composition containing the same, and a method for forming an insulating film using the same.
本願発明者らは鋭意研究の結果、繰返し単位中に三重結合を有する新規なポリイミドを創製し、このポリイミドをスクリーン印刷用のインクとして用いると、スクリーン印刷において高速な印刷が可能であり、耐熱性、電気特性、機械的特性及び不燃性等の特性を有し、密着性や屈曲性、低反り性に優れ、かつ、保存安定性が良好である絶縁膜を形成することができることを見出し、本発明を完成した。 As a result of earnest research, the inventors of the present application have created a novel polyimide having a triple bond in a repeating unit, and when this polyimide is used as an ink for screen printing, high-speed printing is possible in screen printing, and heat resistance It has been found that an insulating film having characteristics such as electrical characteristics, mechanical characteristics and nonflammability, excellent adhesion, flexibility, low warpage, and good storage stability can be formed. Completed the invention.
すなわち、本発明は、下記一般式[I] That is, the present invention provides the following general formula [I]
(式中、AR1は任意の4価の有機基であり、AR2は任意の2価の有機基であり、AR1及びAR2の少なくともいずれか一方が三重結合を有する)
で表される繰り返し単位を有するポリイミドを提供する。
(In the formula, AR 1 is an arbitrary tetravalent organic group, AR 2 is an arbitrary divalent organic group, and at least one of AR 1 and AR 2 has a triple bond)
The polyimide which has a repeating unit represented by these is provided.
また、本発明は、上記本発明のポリイミドと、該ポリイミドを溶解する有機溶媒とを含む印刷用インク組成物を提供する。さらに、本発明は、上記本発明の組成物を基層上に塗布、乾燥してポリイミド膜から成る絶縁膜を形成することを含む、絶縁膜の形成方法を提供する。 Moreover, this invention provides the ink composition for printing containing the polyimide of the said invention and the organic solvent which melt | dissolves this polyimide. Furthermore, this invention provides the formation method of an insulating film including apply | coating the composition of the said invention on the base layer, and drying and forming the insulating film which consists of a polyimide film.
本発明により、繰返し単位中に三重結合を有する新規なポリイミドが初めて提供された。このポリイミドをスクリーン印刷用のインクとして用いると、スクリーン印刷において高速な印刷が可能であり、耐熱性、電気特性、機械的特性及び不燃性等の特性を有し、密着性や屈曲性、低反り性に優れ、かつ、保存安定性が良好である絶縁膜を形成することができる。 According to the present invention, a novel polyimide having a triple bond in a repeating unit is provided for the first time. When this polyimide is used as an ink for screen printing, high-speed printing is possible in screen printing, which has properties such as heat resistance, electrical properties, mechanical properties, and nonflammability, adhesion, flexibility, and low warpage. It is possible to form an insulating film having excellent properties and storage stability.
上記の通り、本発明のポリイミドは、上記一般式[I]で表されるものである。一般式[I]中、AR1は任意の4価の有機基であり、AR2は任意の2価の有機基であり、AR1及びAR2の少なくともいずれか一方が三重結合を有する。AR1としては下記一般式[II]: As described above, the polyimide of the present invention is represented by the above general formula [I]. In general formula [I], AR 1 is an arbitrary tetravalent organic group, AR 2 is an arbitrary divalent organic group, and at least one of AR 1 and AR 2 has a triple bond. As AR 1 , the following general formula [II]:
(式中、Eは単結合、−C≡C−、−O−、−C(CH3)2−又は−C(CF3)2−を表す)
で表されるものが好ましく、特にEが−C≡C−であるものが好ましい。一般式 [II]で表わされる構造を含むテトラカルボン酸二無水物の好ましい例として、下記式[VI]で表される4,4−(1,2−エチニル)ビスフタル酸無水物を挙げることができる。
(In the formula, E represents a single bond, —C≡C—, —O—, —C (CH 3 ) 2 — or —C (CF 3 ) 2 —).
In particular, those in which E is —C≡C— are preferred. Preferred examples of tetracarboxylic dianhydrides having a structure represented by the general formula [II] include 4,4- (1,2-ethynyl) bisphthalic anhydride represented by the following formula [VI]. it can.
また、一般式[I]中のAR2が下記一般式[III]: In addition, AR 2 in the general formula [I] is represented by the following general formula [III]:
(式中、Wは、-C(CH3)2-又は-C(CF3)2-を表す)
で表されるもの、又はAR2が下記一般式[IV]:
(Wherein represents -C (CH 3 ) 2 -or -C (CF 3 ) 2- )
Or AR 2 is represented by the following general formula [IV]:
(式中、Xは、−C≡C−、-C(=O)-、-SO2-、-O-、-S-、-(CH2)a-(Aは1〜5の整数を表す)、-NHCO-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-C(=O)O-及び単結合から成る群より選ばれ、R1、R2は互いに独立して水素、水酸基、カルボキシル基、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、F、CL及びBRから選択されるもの(ただし、P1、P2互いに独立して1〜4の整数を表す)
で表されるもの、又はAR2が下記一般式[V]:
(Wherein X is —C≡C—, —C (═O) —, —SO 2 —, —O—, —S—, — (CH 2 ) a — (A is an integer of 1 to 5) Selected from the group consisting of: -NHCO-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -C (= O) O- and a single bond, and R 1 and R 2 are Independently selected from hydrogen, hydroxyl group, carboxyl group, alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, phenyl group, F, CL and BR (however, P1 and P2 each independently represent an integer of 1 to 4)
Or AR 2 is represented by the following general formula [V]:
(式中、Y及びZは互いに独立して-C(=O)-、-SO2-、-O-、-S-、-(CH2)a-(Aは1〜5の整数を表す)、-NHCO-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-C(=O)O-及び単結合から成る群より選ばれ、R3、R4及びR5は互いに独立して水素、水酸基、カルボキシル基、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、F、CL及びBRから選択されるもの(ただし、R3、R4及びR5の少なくとも1つは炭素数1〜4のアルキル基)を表し、P3、P4及びP5は互いに独立して1〜4の整数を表す)で示される基である)
で表されるものが好ましい。
Wherein Y and Z are independently of each other —C (═O) —, —SO 2 —, —O—, —S—, — (CH 2 ) a — (A represents an integer of 1 to 5 ), -NHCO-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -C (= O) O- and a single bond, R 3 , R 4 and R 5 Are independently selected from hydrogen, hydroxyl group, carboxyl group, alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, phenyl group, F, CL and BR (provided that at least one of R 3 , R 4 and R 5 is A group having 1 to 4 carbon atoms), and P3, P4 and P5 each independently represent an integer of 1 to 4))
The thing represented by these is preferable.
上記式[III]で表わされる構造を含むジアミンの好ましい例として、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、α,α−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]−1,3−ジイソプロピルベンゼン、α,α−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]−1,4−ジイソプロピルベンゼンを挙げることができる。 Preferred examples of the diamine having the structure represented by the above formula [III] include 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane and 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl. ] Hexafluoropropane, α, α-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -1,3-diisopropylbenzene, α, α-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -1,4- Mention may be made of diisopropylbenzene.
上記式[IV]で表わされる構造を含むジアミンの好ましい例として、3,7−ジアミノ−ジメチルジベンゾチオフェン 5,5−ジオキシド、ビス(3−カルボキシー4−アミノフェニル)メチレン、2,2−ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−メチル−4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−アミノ−4−メチルフェニル)ヘキサフルオロプロパン、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、5,5'-メチレンビス(2-アミノ安息香酸)、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフォン
を挙げることができる。
Preferred examples of the diamine having the structure represented by the above formula [IV] include 3,7-diamino-dimethyldibenzothiophene 5,5-dioxide, bis (3-carboxy-4-aminophenyl) methylene, 2,2-bis ( 3-hydroxy-4-aminophenyl) propane, 2,2-bis (4-aminophenyl) propane, 2,2-bis (3-methyl-4-aminophenyl) propane, 2,2-bis (4-amino) Phenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (3-amino-4-methylphenyl) hexafluoropropane, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 5,5'-methylenebis (2-aminobenzoic acid) and 3,3′-diamino-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone can be mentioned.
上記式[V]で表わされる構造を含むジアミンの好ましい例として、α,α−ビス(4−アミノフェニル)−1,3−ジイソプロピルベンゼン、α,α−ビス(4−アミノフェニル)−1,3−ジヘキサフルオロイソプロピリデンベンゼン、α,α−ビス(4−アミノフェニル)−1,4−ジイソプロピルベンゼン、α,α−ビス(4−アミノフェニル)−1,4−ジヘキサフルオロイソプロピリデンベンゼンを挙げることができる。 Preferred examples of the diamine having the structure represented by the above formula [V] include α, α-bis (4-aminophenyl) -1,3-diisopropylbenzene, α, α-bis (4-aminophenyl) -1, 3-dihexafluoroisopropylidenebenzene, α, α-bis (4-aminophenyl) -1,4-diisopropylbenzene, α, α-bis (4-aminophenyl) -1,4-dihexafluoroisopropylidenebenzene Can be mentioned.
本発明で用いられるポリイミドを構成するテトラカルボン酸二無水物及びジアミンとしては、通常、上記したエチニル基を有するテトラカルボン酸二無水物及び/又はジアミンと共に、耐熱性、電気的特性、膜物性、密着性など様々な機能性を付与するために他のテトラカルボン酸二無水物及び/又はジアミンが併用することができる。 As the tetracarboxylic dianhydride and diamine constituting the polyimide used in the present invention, usually, together with the tetracarboxylic dianhydride and / or diamine having the ethynyl group, heat resistance, electrical characteristics, film physical properties, Other tetracarboxylic dianhydrides and / or diamines can be used in combination in order to impart various functions such as adhesion.
このようなテトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エ−テル二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、特に溶解性の問題からビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エ−テル二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、4,4’−オキシジフタル酸無水物、3,4’−オキシジフタル酸無水物、3,3’−オキシジフタル酸無水物を好適に用いることができる。これらのテトラカルボン酸二無水物は、単独又は2種類以上を組み合わせて用いられる。 Examples of such tetracarboxylic dianhydrides include pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, and bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether. Dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] octane -7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride and the like, and bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, Preferably, ', 4,4'-biphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic anhydride, 3,4'-oxydiphthalic anhydride, 3,3'-oxydiphthalic anhydride is used. Can do. These tetracarboxylic dianhydrides may be used alone or in combination of two or more.
ジアミンとしては、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチル−1,1’−ビフェニル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジトリフルオロメチル−1,1’−ビフェニル、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジトリフルオロメチル−1,1’−ビフェニル、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシ−1,1’−ビフェニル、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチル−1,1’−ビフェニル、9,9’−ビス(3−メチル−4−アミノフェニル)フルオレン、3,5−ジアミノ安息香酸、2,6−ジアミノピリジン、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジアニリン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−アミノ−4−メチルフェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’−(9−フルオレニリデン)ジアニリン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1、3−ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2−ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)ベンゼン、2,2−ビス(3−メチル−4−アミノフェニル)ベンゼン等を挙げることができる。これらのジアミンは、単独又は2種類以上を組み合わせて用いられる。 Examples of the diamine include m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 2,4-diaminotoluene, 4,4′-diamino-2,2′-dimethyl-1,1′-biphenyl, 4,4′-diamino-2. , 2′-ditrifluoromethyl-1,1′-biphenyl, 4,4′-diamino-3,3′-ditrifluoromethyl-1,1′-biphenyl, 4,4′-diamino-3,3′- Dihydroxy-1,1′-biphenyl, 4,4′-diamino-3,3′-dimethyl-1,1′-biphenyl, 9,9′-bis (3-methyl-4-aminophenyl) fluorene, 3, 5-diaminobenzoic acid, 2,6-diaminopyridine, 4,4 ′-(hexafluoroisopropylidene) dianiline, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropro 2,2-bis (3-amino-4-methylphenyl) hexafluoropropane, 4,4 ′-(9-fluorenylidene) dianiline, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3- Bis (3-hydroxy-4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 2,2-bis (3-hydroxy-4) -Aminophenyl) benzene, 2,2-bis (3-methyl-4-aminophenyl) benzene and the like. These diamines are used alone or in combination of two or more.
本発明で用いられるポリイミドは、上記した、エチニル基を有するテトラカルボン酸二無水物及び/又はジアミン並びに、通常、これら以外の上記したテトラカルボン酸二無水物及び/又はジアミンを組み合わせて得られる。ポリイミドを構成するテトラカルボン酸二無水物成分及びジアミン成分のうち、エチニル基を有する成分の割合は、通常、10〜80モル%、好ましくは、20〜60モル%である。エチニル基を有する成分の割合がこの範囲内にあると優れた硬化膜特性を得ることができる。 The polyimide used in the present invention is obtained by combining the above-described tetracarboxylic dianhydride and / or diamine having an ethynyl group and the above-described tetracarboxylic dianhydride and / or diamine other than these. The ratio of the component which has an ethynyl group among the tetracarboxylic dianhydride component and diamine component which comprise a polyimide is 10-80 mol% normally, Preferably, it is 20-60 mol%. When the proportion of the component having an ethynyl group is within this range, excellent cured film characteristics can be obtained.
また、耐薬品性の向上のためポリイミドの末端部分に反応性基を導入することができる。例えば、ポリイミドの末端が酸無水物となるようにテトラカルボン酸の量を僅かに多く添加、合成し、次いで3−エチニルアニリンや4−エチニルアニリンに代表されるアミン化合物を添加することでポリマー末端にアセチレン基を導入できる。また、アミン末端になるようにジアミン化合物量を僅かに多く添加し、合成、次いで無水マレイン酸や無水エチニルフタル酸や無水フェニルエチニルフタル酸に代表される酸無水物を添加することによっても同様に反応性基を導入できる。これらの末端基同士は、150℃以上の加熱により反応し、ポリマー主鎖が架橋する。 Moreover, a reactive group can be introduced into the terminal portion of the polyimide in order to improve chemical resistance. For example, a slightly larger amount of tetracarboxylic acid is added and synthesized so that the end of polyimide becomes an acid anhydride, and then an amine compound typified by 3-ethynylaniline or 4-ethynylaniline is added. An acetylene group can be introduced into. It is also possible to add a slight amount of a diamine compound so as to be an amine terminal, and then add an acid anhydride typified by maleic anhydride, ethynyl phthalic anhydride or phenyl ethynyl phthalic anhydride. Reactive groups can be introduced. These end groups react with each other by heating at 150 ° C. or higher, and the polymer main chain is crosslinked.
本発明のポリイミド樹脂組成物に含まれるポリイミドは、テトラカルボン酸二無水物とジアミンを有機溶媒に溶解させて、酸触媒の存在下、直接イミド化する、公知の合成法により製造することができ、更にはテトラカルボン酸二無水物とジアミンを有機溶媒中で溶解反応させ、続いてテトラカルボン酸二無水物及びジアミンの少なくとも一方を添加してイミド化することによっても製造することができる。テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの混合比は、酸二無水物の合計量1モル%に対して、ジアミンの合計量0.9〜1.1モル%とするのが好ましい。ここで、酸触媒としては、無水酢酸/トリエチルアミン系、バレロラクトン/ピリジン系などの触媒を用いた化学的イミド化が好適に用いることができる。反応温度は、80〜250℃とすることが好ましく、反応時間は、バッチの規模、採用される反応条件などにより適宜選択することができる。また、イミド化反応を、2段階以上に分けて行い、かつ、各段階において異なるテトラカルボン酸二無水物及び/又はジアミンを反応させることにより得られるブロック共重合ポリイミドを好ましく用いることができる。なお、溶剤可溶性ブロック共重合ポリイミドの製造方法自体は、例えば、特許文献10に記載されるように公知であり、本発明に好適に用いられるポリイミドは、上記したテトラカルボン酸二無水物及び/又はジアミンを用いて、公知の方法により合成することができる。
The polyimide contained in the polyimide resin composition of the present invention can be produced by a known synthesis method in which tetracarboxylic dianhydride and diamine are dissolved in an organic solvent and directly imidized in the presence of an acid catalyst. Further, it can also be produced by dissolving and reacting tetracarboxylic dianhydride and diamine in an organic solvent, followed by imidization by adding at least one of tetracarboxylic dianhydride and diamine. The mixing ratio of tetracarboxylic dianhydride and diamine is preferably 0.9 to 1.1 mol% of the total amount of diamine with respect to 1 mol% of the total amount of acid dianhydride. Here, as the acid catalyst, chemical imidation using a catalyst such as acetic anhydride / triethylamine or valerolactone / pyridine can be suitably used. The reaction temperature is preferably 80 to 250 ° C., and the reaction time can be appropriately selected depending on the scale of the batch, the reaction conditions employed, and the like. Moreover, the block copolymerization polyimide obtained by performing imidation reaction in 2 steps or more and reacting different tetracarboxylic dianhydride and / or diamine in each step can be preferably used. In addition, the manufacturing method itself of solvent-soluble block copolymerization polyimide itself is well-known as described, for example in
このようにして得られたポリイミド樹脂の数平均分子量は、2000〜60000であることが好ましく、4000〜40000であることがより好ましい。ここで、数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)装置により標準ポリスチレンを用いて作成した検量線を基礎としたポリスチレン換算値である。 The number average molecular weight of the polyimide resin thus obtained is preferably 2000 to 60000, and more preferably 4000 to 40000. Here, the number average molecular weight is a polystyrene equivalent value based on a calibration curve prepared using standard polystyrene by a gel permeation chromatography (GPC) apparatus.
本発明の印刷用インク組成物に含まれる有機溶媒は、ポリイミド樹脂、及びフィラーを添加する場合には該フィラーを溶解するものであればよく、特に限定されない。スクリーン印刷で印刷し、低温で乾燥することから有機溶剤の大気圧下沸点が80℃以上300℃未満、より好ましくは120℃以上250℃未満である。130℃未満であると、スクリーン印刷において乾燥が速すぎて上手く印刷できない場合がある。250℃以上になると、低温での乾燥が遅くなることがある。具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジベンジルエーテル等のエ−テル類、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、ブチルアセテート、イソブチルアセテート、3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、ンジルアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のアセテート類、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル等のエステル類、トリグライム、テトラグライム等のグライム類、アセチルアセトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、2−ヘプタノン等のケトン類、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ペンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、3−メチル−2−ブタノール、3−メチル−3−メトキシブタノール、ジアセトンアルコール等のアルコール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、その他、γ−ブチロラクトン、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。 The organic solvent contained in the printing ink composition of the present invention is not particularly limited as long as the polyimide resin and the filler are added as long as they dissolve the filler. Since it is printed by screen printing and dried at a low temperature, the boiling point of the organic solvent under atmospheric pressure is 80 ° C. or higher and lower than 300 ° C., more preferably 120 ° C. or higher and lower than 250 ° C. If it is lower than 130 ° C., drying may be too fast in screen printing, and printing may not be successful. When it is 250 ° C. or higher, drying at a low temperature may be slow. Specifically, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl Ethers such as ethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, dibenzyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propyl acetate Acetate, propylene glycol diacetate, butyl acetate, isobutyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, benzyl acetate, butyl carbitol acetate, etc., methyl lactate, ethyl lactate, lactic acid Esters such as butyl, methyl benzoate and ethyl benzoate, glymes such as triglyme and tetraglyme, ketones such as acetylacetone, methylpropylketone, methylbutylketone, methylisobutylketone, cyclopentanone and 2-heptanone, butyl Alcohols such as alcohol, isobutyl alcohol, pentanol, 4-methyl-2-pentanol, 3-methyl-2-butanol, 3-methyl-3-methoxybutanol, diacetone alcohol, Aromatic hydrocarbons such as xylene, and other, .gamma.-butyrolactone, N- methylpyrrolidone, N, N- dimethylformamide, N, N- dimethylacetamide, and dimethyl sulfoxide.
本発明の組成物中のポリイミド樹脂固形分の割合は、15〜50重量%であることが好ましく、25〜40重量%であることが更に好ましい。15重量%未満であると1回の印刷、塗布で生成できる膜厚が薄くなり複数回の印刷、塗布が必要となる傾向があり、50重量%を超えると樹脂組成物の粘度が高すぎてしまう傾向がある。 The proportion of the solid content of the polyimide resin in the composition of the present invention is preferably 15 to 50% by weight, and more preferably 25 to 40% by weight. If it is less than 15% by weight, the film thickness that can be generated by one printing and coating tends to be thin, and multiple printings and coatings tend to be required. If it exceeds 50% by weight, the viscosity of the resin composition is too high There is a tendency to end up.
本発明のインク組成物は、チキソトロピー性を付与することが可能である。チキソトロピー性は、多くの場合、本発明のポリイミド自身が有しているが、ポリイミド自身がチキソトロピー性を有していない場合には、無機フィラーを添加することにより付与することができるので、本発明の組成物に無機フィラーを含有させることも有効な手段である。チキソトロピー性を付与するための無機フィラーとしては、シリカ、アルミナ、チタニア、銀、銅のうち、少なくとも1種類からなる無機フィラーを挙げることができる。具体的には、0.01〜0.03μmの無定形シリカ及び/又は粒径0.1〜0.3μmの球状シリカ又はアルミナ又はチタニアを挙げることができる。また、保存安定性などを高める目的でトリメチルシリル化剤などにより表面処理された無機フィラーを使用することがより好ましい。組成物中の無機フィラーの含有量は、通常、0〜50重量%、好ましくは2〜30重量%である。無機フィラーの含有量がこの範囲にあると、適切なチキソトロピー性が付与される。 The ink composition of the present invention can impart thixotropic properties. The thixotropic property is often possessed by the polyimide itself of the present invention, but when the polyimide itself does not have thixotropic property, it can be imparted by adding an inorganic filler. It is also an effective means to contain an inorganic filler in the composition. Examples of the inorganic filler for imparting thixotropy include inorganic fillers composed of at least one of silica, alumina, titania, silver, and copper. Specific examples include amorphous silica of 0.01 to 0.03 μm and / or spherical silica, alumina, or titania having a particle size of 0.1 to 0.3 μm. Moreover, it is more preferable to use an inorganic filler surface-treated with a trimethylsilylating agent or the like for the purpose of enhancing storage stability. The content of the inorganic filler in the composition is usually 0 to 50% by weight, preferably 2 to 30% by weight. When the content of the inorganic filler is in this range, appropriate thixotropic properties are imparted.
また、本発明のポリイミド樹脂組成物には、製品に影響がなければ必要に応じて、着色剤、消泡剤、レベリング剤、密着性付与剤等の添加剤を添加することができる。着色剤としては、フタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、クリスタルバイオレット、酸化チタン、カーボンブラック、ナフタレンブラック等が挙げられる。消泡剤は、印刷、塗工時及び硬化時に生じる泡を消すために用いられ、アクリル系、シリコーン系等の界面活性剤が適宜用いられる。具体的には、BYK Chemi社のBYK−A501、ダウコーニング社のDC−1400、シリコーン系泡消剤として、日本ユニカー社のSAG−30、FZ−328、FZ−2191、FZ−5609等が挙げられる。レベリング剤は、印刷、塗工時に生じる皮膜表面の凹凸を失くすために用いられる。具体的には、約100ppm〜約2重量%の界面活性剤成分を含有させることが好ましく、アクリル系、シリコーン系等のレベリング剤により、発泡を抑えるとともに、塗膜を平滑にすることができる。好ましくは、イオン性不純物を含まない非イオン性のものである。適当な界面活性剤としては、例えば、3M社のFC−430、BYK Chemi社のBYK−051、日本ユニカー社のY-5187、A−1310、SS−2801〜2805が挙げられる。密着性付与剤としては、イミダゾール系化合物、チアゾール系化合物、トリアゾール系化合物、有機アルミニウム化合物、有機チタン化合物、シランカップリング剤等が挙げられる。これら上記の添加剤は、ポリイミド樹脂成分100重量部に対して、10重量部以下の配合量にすることが好ましい。上記添加剤の配合量が10重量部を超えると、得られる塗膜物性が低下する傾向があると共に揮発成分による汚染の問題も生じるようになる。このため、上記の添加剤を添加しないことが最も好ましい。 Moreover, if there is no influence on a product, additives, such as a coloring agent, an antifoamer, a leveling agent, an adhesiveness imparting agent, can be added to the polyimide resin composition of this invention as needed. Examples of the colorant include phthalocyanine blue, phthalocyanine green, iodine green, disazo yellow, crystal violet, titanium oxide, carbon black, naphthalene black and the like. The antifoaming agent is used to eliminate bubbles generated during printing, coating, and curing, and an acrylic or silicone surfactant is appropriately used. Specifically, BYK-A501 of BYK Chemi, DC-1400 of Dow Corning, SAG-30, FZ-328, FZ-2191, FZ-5609, etc. of Nippon Unicar Co., Ltd. are listed as silicone-based defoamers. It is done. The leveling agent is used to lose unevenness on the surface of the film that occurs during printing and coating. Specifically, it is preferable to contain about 100 ppm to about 2% by weight of a surfactant component, and an acrylic or silicone leveling agent can suppress foaming and make the coating film smooth. Preferably, it is non-ionic without ionic impurities. Examples of suitable surfactants include FC-430 from 3M, BYK-051 from BYK Chemi, Y-5187, A-1310, and SS-2801 to 2805 from Nippon Unicar. Examples of the adhesion-imparting agent include imidazole compounds, thiazole compounds, triazole compounds, organoaluminum compounds, organotitanium compounds, and silane coupling agents. These additives are preferably blended in an amount of 10 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the polyimide resin component. When the compounding amount of the additive exceeds 10 parts by weight, the physical properties of the obtained coating film tend to be lowered and the problem of contamination by volatile components also occurs. For this reason, it is most preferable not to add said additive.
また、本発明の組成物に硬化剤を添加してもよい。硬化剤としては、特に限定されるものではないが、フェノールノボラック型フェノール樹脂、クレゾールノボラック型フェノール樹脂、ナフタレン型フェノール樹脂等のフェノール樹脂、アミノ樹脂類、ユリア樹脂類、メラミン樹脂類、ジシアンジアミド、ジヒドラジン化合物類、イミダゾール化合物類、ルイス酸、及びブレンステッド酸塩類、ポリメルカプタン化合物類、イソシアネートおよびブロックイソシアネート化合物類、等を挙げる事ができる。 Moreover, you may add a hardening | curing agent to the composition of this invention. Although it does not specifically limit as a hardening | curing agent, Phenolic resins, such as a phenol novolak type phenol resin, a cresol novolak type phenol resin, a naphthalene type phenol resin, amino resins, urea resins, melamine resins, dicyandiamide, di Examples include hydrazine compounds, imidazole compounds, Lewis acids, Bronsted acid salts, polymercaptan compounds, isocyanates and blocked isocyanate compounds, and the like.
上記硬化剤は、1種又は2種以上を組み合わせて用いることができ、全ポリイミド樹脂100重量部に対して、1重量部〜100重量部の範囲内で用いることが好ましい。 The said hardening | curing agent can be used 1 type or in combination of 2 or more types, It is preferable to use within the range of 1 weight part-100 weight part with respect to 100 weight part of all the polyimide resins.
また、上記硬化剤と伴に硬化促進剤を使用してもよい。硬化促進剤としては、特に限定されないが、例えば、トリフェニルホスフィン等のホスフィン系化合物;3級アミン系、トリメタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラエタノールアミン等のアミン系化合物;1,8−ジアザ−ビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセニウムテトラフェニルボレート等のボレート系化合物等、イミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−イソプロピルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類;2−メチルイミダゾリン、2−エチルイミダゾリン、2−イソプロピルイミダゾリン、2−フェニルイミダゾリン、2−ウンデシルイミダゾリン、2,4−ジメチルイミダゾリン、2−フェニル−4−メチルイミダゾリン等のイミダゾリン類;2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン等のアジン系イミダゾール類等が挙げられる。イミド樹脂にアミノ基が含まれる場合、回路埋め込み性が向上させることができる点で、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン等のイミダゾール類を用いることが好ましい。 Moreover, you may use a hardening accelerator with the said hardening | curing agent. The curing accelerator is not particularly limited. For example, phosphine compounds such as triphenylphosphine; amine compounds such as tertiary amine, trimethanolamine, triethanolamine, tetraethanolamine; 1,8-diaza- Borate compounds such as bicyclo [5,4,0] -7-undecenium tetraphenylborate, imidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole Imidazoles such as 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-isopropylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole; 2-methylimidazoline, 2-ethylimidazoline, 2-isopropylimidazoline, 2-fe Imidazolines such as loumidazoline, 2-undecylimidazoline, 2,4-dimethylimidazoline, 2-phenyl-4-methylimidazoline; 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]- Ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-undecylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl-4' Examples include azine-based imidazoles such as -methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine. When the imide resin contains an amino group, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2,4-diamino-6- [2 can be used because the circuit embedding property can be improved. It is preferable to use imidazoles such as '-undecylimidazolyl- (1')]-ethyl-s-triazine.
上記硬化促進剤は、1種又は2種以上を組み合わせて用いることができ、全熱硬化性樹脂組組成物100重量部に対して、0.01重量部〜10重量部の範囲内で用いることが好ましい。 The said hardening accelerator can be used combining 1 type (s) or 2 or more types, It is used within the range of 0.01 weight part-10 weight part with respect to 100 weight part of all thermosetting resin group compositions. Is preferred.
本発明のポリイミド樹脂組成物の25℃における粘度は、100〜50000mPa・sが好ましく、500mPa・s〜40000mPa・sがより好ましい。これは、500mPa・s未満となるとダレ等が起こりやすくなり充分な膜厚と解像度を得ることができない場合があり、40000mPa・sを超えると転写性、印刷作業性が劣る傾向がある。なお、本発明における粘度数値はレオメーターを用いてせん断速度333(1/s)の条件で得られる、みかけ粘度で表すこととする。 The polyimide resin composition of the present invention has a viscosity at 25 ° C. of preferably 100 to 50000 mPa · s, and more preferably 500 mPa · s to 40000 mPa · s. If this is less than 500 mPa · s, sagging or the like is likely to occur, and a sufficient film thickness and resolution may not be obtained. If it exceeds 40000 mPa · s, the transferability and the printing workability tend to be inferior. In addition, the viscosity numerical value in this invention shall be represented with the apparent viscosity obtained on the conditions of the shear rate 333 (1 / s) using a rheometer.
この粘度数値は、塗布直後の形状保持性と共に、スクリーン印刷時にスキージにより容易に変形して流動するという流動性についても重要な因子である。スクリーン印刷においては、粘度が高くなると樹脂組成物のローリングが悪くなるため、スクレッパーでのコートが不十分になり、塗布ムラ又はクズレ等が発生し易くなる傾向がある。 This viscosity value is an important factor not only for the shape retention immediately after coating, but also for the fluidity that easily deforms and flows with a squeegee during screen printing. In screen printing, when the viscosity is high, rolling of the resin composition is deteriorated, so that coating with a scraper becomes insufficient, and coating unevenness or scratches tend to occur.
また、インクにおいてスクリーン印刷等で所望のパターン形状に塗布した直後に印刷された形状を保持しようとする形状保持性がないと、パターン外周部ににじみやダレが発生するため、解像度良く厚膜を得ることができない。単純に粘度を高くすればダレ等は抑えられるが、スクリーン印刷において版離れの問題や塗布膜の平坦性の問題が生じてしまう。従って、にじみやダレが発生しないようにするためには、チキソトロピー係数が重要である。通常、レオメーターによる測定ではヒステリシスカーブ(粘度の回転数依存性の測定)により得られた面積から定量化及び評価が可能であるが、より一般的な粘度計を用いたTI値で評価する方法が最も簡便である。本発明においてチキソトロピー係数は、せん断速度が33(1/s)と333(1/s)における樹脂組成物のみかけ粘度、η33とη333の比η33/η333として表すこととする。 In addition, if the ink does not have shape retention ability to maintain the printed shape immediately after being applied to the desired pattern shape by screen printing or the like, bleeding and sagging occur in the outer periphery of the pattern, so a thick film with high resolution can be obtained. Can't get. If the viscosity is simply increased, sagging and the like can be suppressed, but a problem of plate separation and a problem of flatness of the coating film occur in screen printing. Therefore, the thixotropy coefficient is important in order to prevent bleeding and sagging. Usually, rheometer measurement can be quantified and evaluated from the area obtained by hysteresis curve (measurement of viscosity rotation speed dependence), but it is a method of evaluating with a TI value using a more general viscometer. Is the simplest. In the present invention, the thixotropic coefficient is expressed as the apparent viscosity of the resin composition at a shear rate of 33 (1 / s) and 333 (1 / s), and the ratio η33 / η333 between η33 and η333.
従って、本発明のポリイミド樹脂組成物は、25℃におけるチキソトロピー係数(η33/η333)が1.5〜10.0の範囲になるようにすることが好ましく、1.8〜8がより好ましい。チキソトロピー係数が1.5以上であれば、スクリーン印刷により充分な解像性が得られやすく、一方、8.0以下であれば、印刷時の作業性が向上するためである。 Therefore, the polyimide resin composition of the present invention preferably has a thixotropic coefficient (η33 / η333) at 25 ° C. in the range of 1.5 to 10.0, and more preferably 1.8 to 8. This is because if the thixotropy coefficient is 1.5 or more, sufficient resolution can be easily obtained by screen printing, while if it is 8.0 or less, workability during printing is improved.
本発明のポリイミド樹脂組成物は、シリコンウェハ、セラミック基板、ガラス基板、ガラスエポキシ基板、Ni、Cu、Al基板を代表とする金属基板、PIコーティング基板との濡れ性が高いことが好ましい。すなわち、シリコン、SiO2膜、ポリイミド系樹脂、セラミック、金属表面上のいずれにおいても室温での接触角が20〜90°であることが好ましい。90°以下であれば、ワキ、ハジキ、ピンホールがなく均一な塗膜が得られる。90°を超えると基板上で樹脂ペーストが弾いてしまい、ピンホール、パターニング不良等が発生する。逆に、20°以下なると塗布後のレベリング時にダレが発生してしまい、パターン精度が低下する傾向があるため好ましくない。なお、上記の接触角度は、耐熱性樹脂ペーストの液滴を各種基板上に落とした際、液滴と基板の接点から接線を引き、この接線と基板との角度を接触角とする。なお「室温」とは、主に25℃前後の温度を指す。なお、組成物の接触角は、ポリイミド樹脂組成、溶剤、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤により調整することができる。 The polyimide resin composition of the present invention preferably has high wettability with silicon substrates, ceramic substrates, glass substrates, glass epoxy substrates, metal substrates typified by Ni, Cu, and Al substrates, and PI coating substrates. That is, the contact angle at room temperature is preferably 20 to 90 ° in any of silicon, SiO 2 film, polyimide resin, ceramic, and metal surface. If it is 90 ° or less, a uniform coating film can be obtained without any flaming, cissing or pinhole. If it exceeds 90 °, the resin paste will bounce on the substrate, and pinholes, patterning defects, etc. will occur. On the other hand, if it is 20 ° or less, sagging occurs during leveling after coating, and the pattern accuracy tends to decrease, such being undesirable. The contact angle is such that when a droplet of the heat-resistant resin paste is dropped on various substrates, a tangent is drawn from the contact point between the droplet and the substrate, and the angle between the tangent and the substrate is defined as the contact angle. The “room temperature” mainly refers to a temperature around 25 ° C. In addition, the contact angle of a composition can be adjusted with a polyimide resin composition, a solvent, surfactant, an antifoamer, and a leveling agent.
上記ポリイミド組成物を、太陽電池内の基層上に塗布、乾燥することにより、太陽電池内の絶縁膜を形成することができる。本発明のポリイミド樹脂組成物の塗布方法は、スクリーン印刷法、ディスペンス法、インクジェット法が好適であり、特に大面積を短時間で塗布できるという点でスクリーン印刷法が最適である。1回の塗布で、乾燥後の厚みが1μm以上、好ましくは2μm以上の膜を安定して形成することが可能である。絶縁信頼性を考慮すると1回の塗布で少なくとも5μm厚を得ることが望ましいため、スクリーン印刷法においては、線径50μm以下かつ420メッシュ以上のメッシュ版及びゴム硬度70度以上90度以下の樹脂製スキージを用いてスクリーン印刷することが望ましい。メッシュ径、メッシュ数などのスクリーン版の仕様は、所望の膜厚、パターンサイズにより適宜選択することができる。また、ディスペンス法にて細線描写が可能であり、塗布直後の線幅と比較してウェット塗膜の線幅が1日室温放置しても+20%以内であることを達成することが可能である。さらに、インクジェット法にて細線描写が可能であり、塗布直後の線幅と比較してウェット塗膜の線幅が1日室温放置しても+100%以内であることを達成することが可能である。 By applying and drying the polyimide composition on the base layer in the solar cell, an insulating film in the solar cell can be formed. As a method for applying the polyimide resin composition of the present invention, a screen printing method, a dispensing method, and an ink jet method are preferable. Particularly, the screen printing method is optimal in that a large area can be applied in a short time. With a single application, it is possible to stably form a film having a thickness after drying of 1 μm or more, preferably 2 μm or more. Considering the insulation reliability, it is desirable to obtain a thickness of at least 5 μm by one application. Therefore, in the screen printing method, a mesh plate having a wire diameter of 50 μm or less and 420 mesh or more and a resin having a rubber hardness of 70 to 90 degrees are used. It is desirable to screen print using a squeegee. The specifications of the screen plate such as the mesh diameter and the number of meshes can be appropriately selected depending on the desired film thickness and pattern size. In addition, fine lines can be drawn by the dispensing method, and it is possible to achieve that the line width of the wet coating film is within + 20% even when left at room temperature for one day as compared with the line width immediately after application. . Furthermore, it is possible to draw fine lines by the ink jet method, and it is possible to achieve that the line width of the wet coating film is within + 100% even when left at room temperature for one day as compared with the line width immediately after coating. .
上記ポリイミド樹脂組成物は、印刷後にレベリング、真空乾燥、最終のキュアプロセスを行なうことで、電気的特性、耐熱性、耐薬品性の優れた絶縁膜、保護膜を得ることができる。レベリングは、10分以上行なうことが好ましい。真空乾燥は、塗膜の仕上がりが良くなるため行なうことが好ましいが、レベリング剤や消泡剤を添加している場合には必ずしも必要とはしない場合がある。最終のキュア温度や時間は、ポリイミド樹脂組成物の溶剤や塗布した膜厚により適宜選択することができる。 The polyimide resin composition can obtain an insulating film and a protective film having excellent electrical characteristics, heat resistance, and chemical resistance by performing leveling, vacuum drying, and final curing process after printing. The leveling is preferably performed for 10 minutes or more. The vacuum drying is preferably performed because the finish of the coating film is improved, but may not always be necessary when a leveling agent or an antifoaming agent is added. The final curing temperature and time can be appropriately selected depending on the solvent of the polyimide resin composition and the applied film thickness.
本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施例によって限定されない。また、実施例において各物性値は、以下の方法により測定した。 The present invention will be described in more detail based on examples. The present invention is not limited to the following examples. In the examples, each physical property value was measured by the following method.
1.ポリイミドの合成
比較例1
ステンレス製の碇型攪拌器を取り付けた2リットルのセパラブル3つ口フラスコに、ディーンズ・スターク・トラップを取り付けた。オキシジフタル酸無水物(ODPA)337.51g(1088ミリモル)、4,4'−(1,3−フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン(Bisaniline−M)70.28g(408ミリモル)、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン(BAPP)73.89g(640ミリモル)、γ−バレロラクトン10.89g、ピリジン17.21g、安息香酸メチル(BAME)966.3g、テトラグライム414.3g、トルエン50gを仕込んだ。室温、窒素雰囲気下、180rpmで30分攪拌した後、180℃に昇温して5時間攪拌した。反応中、トルエン−水の共沸分を除いた。還流物を系外に除くことにより28%濃度のポリイミド溶液を得た。
1. Comparative synthesis example 1 of polyimide
A Dean's Stark trap was attached to a 2 liter separable three-necked flask equipped with a stainless steel vertical stirrer. Oxydiphthalic anhydride (ODPA) 337.51 g (1088 mmol), 4,4 ′-(1,3-phenylenediisopropylidene) bisaniline (Bisaniline-M) 70.28 g (408 mmol), 2,2-bis [ 4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (BAPP) 73.89 g (640 mmol), γ-valerolactone 10.89 g, pyridine 17.21 g, methyl benzoate (BAME) 966.3 g, tetraglyme 414.3 g Toluene 50g was charged. After stirring for 30 minutes at 180 rpm in a nitrogen atmosphere at room temperature, the mixture was heated to 180 ° C. and stirred for 5 hours. During the reaction, toluene-water azeotrope was removed. By removing the reflux from the system, a 28% concentration polyimide solution was obtained.
実施例1
比較例1と同様の装置を用いた。4,4−(1,2−エチニル)ビスフタル酸無水物(EBPA)12.73g(40ミリモル)、Bisaniline−M9.29g(20ミリモル)、BAPP8.21g(20ミリモル)、γ−バレロラクトン0.4g、ピリジン0.63g、γ―ブチロラクトン(GBL)77.7g、安息香酸メチル77.7g、トルエン28gを仕込んだ。室温、窒素雰囲気下、180rpmで30分攪拌した後、180℃に昇温して3時間攪拌した。反応中、トルエン−水の共沸分を除いた。還流物を系外に除くことにより28%濃度のポリイミド溶液を得た。
Example 1
The same apparatus as in Comparative Example 1 was used. 4,4- (1,2-ethynyl) bisphthalic anhydride (EBPA) 12.73 g (40 mmol), Bisanline-M 9.29 g (20 mmol), BAPP 8.21 g (20 mmol), γ-valerolactone 4 g, 0.63 g of pyridine, 77.7 g of γ-butyrolactone (GBL), 77.7 g of methyl benzoate, and 28 g of toluene were charged. After stirring for 30 minutes at 180 rpm in a nitrogen atmosphere at room temperature, the mixture was heated to 180 ° C. and stirred for 3 hours. During the reaction, toluene-water azeotrope was removed. By removing the reflux from the system, a 28% concentration polyimide solution was obtained.
実施例2
比較例1と同様の装置を用いた。(ODPA)337.51g(1088ミリモル)、4,4'−(1,3−フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン(Bisaniline−M)150.31g(408ミリモル)、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン(BAPP)279.15g(680ミリモル)、γ−バレロラクトン10.89g、ピリジン17.21g、安息香酸メチル(BAME)966.3g、テトラグライム414.3g、トルエン50gを仕込んだ。室温、窒素雰囲気下、180rpmで30分攪拌した後、180℃に昇温して5時間攪拌した。5時間反応経過後に4−フェニルエチニルフタル酸無水物14.06g(15.4ミリモル)を仕込み、180℃にて2時間反応させ反応を終了させた。還流物を系外に除くことにより28%濃度のポリイミド溶液を得た。
Example 2
The same apparatus as in Comparative Example 1 was used. (ODPA) 337.51 g (1088 mmol), 4,4 ′-(1,3-phenylenediisopropylidene) bisaniline (Bisaniline-M) 150.31 g (408 mmol), 2,2-bis [4- (4 -Aminophenoxy) phenyl] propane (BAPP) 279.15 g (680 mmol), γ-valerolactone 10.89 g, pyridine 17.21 g, methyl benzoate (BAME) 966.3 g, tetraglyme 414.3 g, toluene 50 g. Prepared. After stirring for 30 minutes at 180 rpm in a nitrogen atmosphere at room temperature, the mixture was heated to 180 ° C. and stirred for 5 hours. After the reaction for 5 hours, 14.06 g (15.4 mmol) of 4-phenylethynylphthalic anhydride was charged and reacted at 180 ° C. for 2 hours to complete the reaction. By removing the reflux from the system, a 28% concentration polyimide solution was obtained.
3.成膜
上記組成物を用いて、基板上に成膜した。基板ポリイミドカプトンフィルム(25μm)であり、スクリーン印刷法により各組成物を塗布した。具体的な塗布条件は、ポリエステルメッシュ#420を用い、スキージ硬度80度、アタック角70度、クリアランス2.5mm、実印圧0.15MPa、印刷速度80mm/secで印刷を行った。次に、塗布膜を乾燥させて、ポリイミド膜を形成した。乾燥条件は、10分レベリングを行い、120℃にて10分でプリベークした上記ポリイミド膜をカプトンフィルムから離型させ、剥離フィルムを再度乾燥炉で昇温して250℃で60分または300℃で60分を窒素雰囲気下で行った。乾燥後の膜厚は、15μmであった。
3. Film Formation A film was formed on the substrate using the above composition. It was a substrate polyimide Kapton film (25 μm), and each composition was applied by screen printing. Specific application conditions were polyester mesh # 420, and printing was performed at a squeegee hardness of 80 degrees, an attack angle of 70 degrees, a clearance of 2.5 mm, an actual printing pressure of 0.15 MPa, and a printing speed of 80 mm / sec. Next, the coating film was dried to form a polyimide film. The drying conditions were leveling for 10 minutes, releasing the polyimide film pre-baked at 120 ° C. for 10 minutes from the Kapton film, raising the temperature of the release film again in a drying furnace, and heating at 250 ° C. for 60 minutes or 300 ° C. 60 minutes was performed under nitrogen atmosphere. The film thickness after drying was 15 μm.
4. 評価
上記したポリイミド、組成物又は形成した膜の性質を評価した。評価は次の通り行った。
4). Evaluation The properties of the above-described polyimide, composition or formed film were evaluated. Evaluation was performed as follows.
(a)分子量:ポリイミド樹脂の数平均分子量Mnは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPC(東ソー社製、HLC−8220GPC)により測定した。カラムは東ソー社製TSKgel GMHHR−Hを使用し、キャリア溶媒としては、DMFにLiBrを0.01Mの濃度で溶解したものを使用した。分子量は、標準ポリスチレン(TSK標準ポリスチレン)を用いて計算した換算値である。 (A) Molecular weight: The number average molecular weight Mn of the polyimide resin was measured by gel permeation chromatography GPC (HLC-8220 GPC, manufactured by Tosoh Corporation). The column used was TSKgel GMH HR- H manufactured by Tosoh Corporation, and the carrier solvent used was a solution of LiBr dissolved in DMF at a concentration of 0.01M. The molecular weight is a converted value calculated using standard polystyrene (TSK standard polystyrene).
(b)熱特性:ポリイミド樹脂の熱分解開始温度は、デュポン951熱重量測定装置で測定した。 (B) Thermal characteristics: The thermal decomposition starting temperature of the polyimide resin was measured with a DuPont 951 thermogravimetric apparatus.
(c)機械特性:ポリイミド樹脂の機械物性は、乾燥条件は、10分レベリングを行い、120℃にて10分でプリベークした上記ポリイミド膜をカプトンフィルムから離型させ、剥離フィルムを再度乾燥炉で昇温して250℃で60分または300℃で60分を窒素雰囲気下で行った。そのポリイミド樹脂フィルムについて、万能型引張試験機(オリエンテック社製、テンシロン UTM−11−20)で、破断強度、伸び率、初期弾性率を測定した。 (C) Mechanical properties: The mechanical properties of the polyimide resin are as follows: the drying condition is leveling for 10 minutes, the polyimide film prebaked at 120 ° C. for 10 minutes is released from the Kapton film, and the release film is again dried in a drying furnace. The temperature was raised, and the reaction was performed at 250 ° C. for 60 minutes or 300 ° C. for 60 minutes in a nitrogen atmosphere. About the polyimide resin film, breaking strength, elongation rate, and initial elastic modulus were measured with a universal tensile tester (Orientec Co., Ltd., Tensilon UTM-11-20).
(d)粘度、チキソトロピー係数はThermo Haake社製レオメーターRS300を使用し測定した。具体的には以下のように行なった。プレート(固定部分)を25±0.1℃に調整後、試料量0.5〜1.0gを載せる。コーン(可動部分)を所定の位置まで移動させ、樹脂溶液がプレートとコーンに挟まれた状態で、温度が25±0.1℃になるまで保持する。コーンの回転を始め、10秒間でせん断速度が33(1/s)になるよう回転速度を徐々に上げ、その速度を保持、1分後の粘度を読み取る。次に、せん断速度が333(1/s)に10秒間で到達するように回転速度を上げ、333(1/s)時の粘度を読み取る。このようにして得られた33(1/s)時の数値を、333(1/s)時の数値で除した値をチキソトロピー係数とした。 (D) Viscosity and thixotropy coefficient were measured using a rheometer RS300 manufactured by Thermo Haake. Specifically, it was performed as follows. After adjusting the plate (fixed part) to 25 ± 0.1 ° C., a sample amount of 0.5 to 1.0 g is placed. The cone (movable part) is moved to a predetermined position, and the resin solution is held between the plate and the cone until the temperature reaches 25 ± 0.1 ° C. Start rotating the cone, gradually increase the rotation speed so that the shear rate becomes 33 (1 / s) in 10 seconds, hold the speed, and read the viscosity after 1 minute. Next, the rotational speed is increased so that the shear rate reaches 333 (1 / s) in 10 seconds, and the viscosity at 333 (1 / s) is read. A value obtained by dividing the numerical value at 33 (1 / s) thus obtained by the numerical value at 333 (1 / s) was defined as a thixotropic coefficient.
(f)印刷性は、ニューロング精密工業株式会社製印刷機LS−34TVAおよびNBC株式会社製スクリーン版ポリエステルメッシュ#420−27、L−Screenを用いて印刷を行った。6インチシリコンウエハ全面に印刷を行い、目視でクラックやハジキの数を調べた。 (F) Printability was printed using a printing machine LS-34TVA manufactured by Neurong Seimitsu Kogyo Co., Ltd., a screen plate polyester mesh # 420-27 manufactured by NBC Co., Ltd., and L-Screen. Printing was performed on the entire surface of the 6-inch silicon wafer, and the number of cracks and repels was visually examined.
(g)連続印刷性は、(f)で使用した装置を用いて印刷を行い、3回印刷後に20分間印刷を止める。再度印刷を行い、3回までに膜厚が止める前と同じになった物を○とした。 (G) For continuous printability, printing is performed using the apparatus used in (f), and printing is stopped for 20 minutes after printing three times. Printing was performed again, and the product that was the same as before the film thickness was stopped by 3 times was marked as ◯.
(h)基板との密着性は、JIS K5600−5−6クロスカット法に基づき評価を行った。 (H) Adhesion with the substrate was evaluated based on the JIS K5600-5-6 cross-cut method.
耐薬品性:アセトンあるいはイソプロパノールなどの試薬をしみ込ませたウエスで、塗膜を試薬に浸漬させる。→○:異常なし、×:表面異常または溶解 Chemical resistance: A coating film is immersed in a reagent with a cloth soaked with a reagent such as acetone or isopropanol. → ○: No abnormality, ×: Surface abnormality or dissolution
上記実施例から明らかなように、本発明のポリイミドによれば、乾燥硬化後の熱膨張係数が50ppm以下であり、且つ弾性率2GPa以上を有し、且つ高い長期絶縁信頼性、難燃性及び耐薬品性を奏するポリイミド熱硬化性樹脂組成物を提供することができる。 As is clear from the above examples, according to the polyimide of the present invention, the thermal expansion coefficient after drying and curing is 50 ppm or less, the elastic modulus is 2 GPa or more, and high long-term insulation reliability, flame retardancy, and A polyimide thermosetting resin composition having chemical resistance can be provided.
Claims (12)
で表される繰り返し単位を有するポリイミド。 The following general formula [I]
The polyimide which has a repeating unit represented by these.
(式中、Eは単結合、−C≡C−、−O−、−C(CH3)2−又は−C(CF3)2−を表す)
で表される請求項1記載のポリイミド。 Ar 1 is represented by the following general formula [II]:
(In the formula, E represents a single bond, —C≡C—, —O—, —C (CH 3 ) 2 — or —C (CF 3 ) 2 —).
The polyimide of Claim 1 represented by these.
(式中、Wは、-C(CH3)2-又は-C(CF3)2-を表す)
で表される請求項1〜3のいずれか1項に記載のポリイミド。 Ar 2 is represented by the following general formula [III]:
(Wherein represents -C (CH 3 ) 2 -or -C (CF 3 ) 2- )
The polyimide of any one of Claims 1-3 represented by these.
(式中、Xは、−C≡C−、-C(=O)-、-SO2-、-O-、-S-、-(CH2)a-(aは1〜5の整数を表す)、-NHCO-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-C(=O)O-及び単結合から成る群より選ばれ、R1、R2は互いに独立して水素、水酸基、カルボキシル基、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、F、Cl及びBrから選択されるもの(ただし、p1、p2互いに独立して1〜4の整数を表す)
で表される請求項1〜3のいずれか1項に記載のポリイミド。 The Ar 2 is represented by the following general formula [IV]:
(In the formula, X represents —C≡C—, —C (═O) —, —SO 2 —, —O—, —S—, — (CH 2 ) a — (a represents an integer of 1 to 5). Selected from the group consisting of: -NHCO-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -C (= O) O- and a single bond, and R 1 and R 2 are Independently selected from hydrogen, hydroxyl group, carboxyl group, alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, phenyl group, F, Cl and Br (however, p1 and p2 each independently represent an integer of 1 to 4)
The polyimide of any one of Claims 1-3 represented by these.
(式中、Y及びZは互いに独立して-C(=O)-、-SO2-、-O-、-S-、-(CH2)a-(aは1〜5の整数を表す)、-NHCO-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-C(=O)O-及び単結合から成る群より選ばれ、R3、R4及びR5は互いに独立して水素、水酸基、カルボキシル基、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、F、Cl及びBrから選択されるもの(ただし、R3、R4及びR5の少なくとも1つは炭素数1〜4のアルキル基)を表し、p3、p4及びp5は互いに独立して1〜4の整数を表す)で示される基である)
で表される請求項1〜3のいずれか1項に記載のポリイミド。 Ar 2 is represented by the following general formula [V]:
Wherein Y and Z are independently of each other —C (═O) —, —SO 2 —, —O—, —S—, — (CH 2 ) a — (a represents an integer of 1 to 5 ), -NHCO-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -C (= O) O- and a single bond, R 3 , R 4 and R 5 Are independently selected from hydrogen, hydroxyl group, carboxyl group, alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, phenyl group, F, Cl and Br (provided that at least one of R 3 , R 4 and R 5 is An alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), and p3, p4 and p5 each independently represent an integer of 1 to 4))
The polyimide of any one of Claims 1-3 represented by these.
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