JP2013167160A - Exhaust gas purification device and purification method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、臭気成分などの有害成分を含む排気ガスの浄化を行う浄化装置と浄化方法に関する。 The present invention relates to a purification device and a purification method for purifying exhaust gas containing harmful components such as odor components.
火力発電所の化石燃料を使用するボイラ、化学製品製造工場、金属精錬所、ごみ焼却炉、塗装工場、半導体製造工場から排出する排ガス及び加熱調理器、船舶用エンジン又は自動車用エンジンなどのエンジンから排出する排ガスなどの各種排ガス中には微粒、油滴をはじめ有害成分、臭気成分、油成分が含まれるが、これら有害物を効果的に除去可能な排ガス浄化のための装置が各種開発されている。 From boilers that use fossil fuels from thermal power plants, chemical product manufacturing plants, metal smelters, waste incinerators, painting plants, exhaust gas discharged from semiconductor manufacturing plants, heating cookers, marine engines or automobile engines Various exhaust gases such as exhaust gas to be discharged contain fine particles, oil droplets and other harmful components, odor components, and oil components. Various devices for exhaust gas purification that can effectively remove these harmful substances have been developed. Yes.
従来の脱臭・脱煙・脱油装置は図12に示すように浄化装置16に排ガスを導入して、該浄化装置16内に配置した上流側から順にフィルタ17と接触材18を経て排ガスを浄化した後、浄化装置16から排出する構成(図12(a))、又は浄化装置16内に配置した上流側から順にフィルタ17とヒータ19を経て排ガスを浄化した後、浄化装置16から排出する構成(図12(b))が知られている。
As shown in FIG. 12, the conventional deodorizing / desmoking / deoiling device introduces exhaust gas into the
また、特開2002−180060号公報には、生ごみの炭化室から発生する乾留ガスに空気を混合して燃焼炉で完全燃焼させて黒鉛や悪臭を大気中に漏出させない生ごみ炭化装置が開示されている。 Japanese Patent Laid-Open No. 2002-180060 discloses a garbage carbonization apparatus that mixes air with dry distillation gas generated from a carbonization chamber of garbage and completely burns it in a combustion furnace so that graphite and odors do not leak into the atmosphere. Has been.
上記図12に示す浄化装置では、フィルタ17を通過した排ガスを接触材18又はヒータ19に接して浄化させるが、この浄化装置16内を排ガスが直線的に通過するため、比較的速く浄化装置16から排出され、効果的な浄化機能が達成されない。
また、上記特許文献記載の発明は、排ガスである乾留ガスに空気を混合して燃焼炉で完全燃焼させるという、高度な排ガスの完全燃焼技術が必要である。
本発明の課題は、従来技術に比べて簡単な構成からなり、浄化効果が高い浄化装置と浄化方法を提供することである。
In the purification device shown in FIG. 12, the exhaust gas that has passed through the
Further, the invention described in the above-mentioned patent document requires an advanced exhaust gas complete combustion technique in which air is mixed with dry distillation gas, which is exhaust gas, and is completely burned in a combustion furnace.
An object of the present invention is to provide a purification device and a purification method that have a simpler structure than that of the prior art and have a high purification effect.
本発明の上記課題は、次の解決手段により解決される。
請求項1記載の発明は、4kHz〜25kHzの周波数帯域内で、(a)単一周波数を持つ交流電流、(b)互いに周波数の異なる複数の単一周波数を持つ交流電流又は(c)時間的に周波数が変化する交流電流に基づく電磁波により処理された電磁波処理水を、螺旋状の排ガス流路に噴霧することで排ガスを浄化処理する排ガス浄化処理方法である。
The above-described problems of the present invention are solved by the following solution means.
In the invention according to
請求項2記載の発明は、螺旋状の排ガス流路内の排ガスを加熱した状態で電磁波処理水により浄化処理をする請求項1記載の排ガス浄化処理方法である。
The invention according to claim 2 is the exhaust gas purification processing method according to
請求項3記載の発明は、入口部から出口部に向けて導入した排ガスを螺旋状に流す螺旋状の排ガス流路と、該排ガス流路内の底部に設けた水貯留タンクと、該水貯留タンク内の水を汲み上げて排ガス流路内の出口部から入口部に向けて排ガス流路内を流す給水配管と、該給水配管に設けられた前記螺旋状の排ガス流路に沿って給水を散布するスプレーノズルと、該給水配管の上流側に巻き付けられ、4kHz〜25kHzの周波数帯域内で、(a)単一周波数を持つ交流電流、(b)互いに周波数の異なる複数の単一周波数を持つ交流電流又は(c)時間的に周波数が変化する交流電流を流すコイル部とを備えた排ガス浄化処理装置である。
The invention according to
請求項4記載の発明は、螺旋状の排ガス流路にヒータを配置した請求項3記載の排ガスを浄化処理装置である。 A fourth aspect of the present invention is the exhaust gas purifying apparatus according to the third aspect, wherein a heater is disposed in the spiral exhaust gas flow path.
本発明において浄化装置に導入する排ガスとしては、化石燃料燃焼装置であるボイラ火炉、溶鉱炉、工業用火炉、化学製品製造工場、精錬所、ごみ焼却炉、塗装工場、半導体製造工場から排出する排ガス及び加熱調理器、船舶用エンジン又は自動車用エンジンなどのエンジンから排出する排ガスなどの各種排ガスである。
本発明によれば、排ガス中の微粒子が本発明の電磁波処理水で処理されることで水に吸着除去されたり、燃焼されたりして、浄化装置を排出した排ガスは浄化される。
Exhaust gas introduced into the purification apparatus in the present invention includes boiler furnaces, blast furnaces, industrial furnaces, chemical product manufacturing plants, smelters, waste incinerators, painting plants, semiconductor manufacturing plants, which are fossil fuel combustion devices, and Various exhaust gases such as exhaust gas discharged from an engine such as a heating cooker, a marine engine or an automobile engine.
According to the present invention, the fine particles in the exhaust gas are treated with the electromagnetic wave-treated water of the present invention so that the exhaust gas discharged from the purification device is purified by being adsorbed and removed by water or burned.
請求項1、3記載の発明によれば、排ガスに対して本発明の電磁波処理をしない(以下、単に「未処理」ということがある)場合に比べて、本発明の4kHz〜25kHzの周波数帯域内で、(a)単一周波数を持つ交流電流、(b)互いに周波数の異なる複数の単一周波数を持つ交流電流又は(c)時間的に周波数が変化する交流電流に基づく電磁波により処理をする場合には排ガスの浄化が促進され、浄化装置内で微粒子の目詰まりがなく、長時間の排ガス浄化処理を行うことができる。 According to the first and third aspects of the present invention, the frequency band of 4 kHz to 25 kHz of the present invention is compared with the case where the electromagnetic wave treatment of the present invention is not performed on the exhaust gas (hereinafter, sometimes simply referred to as “untreated”). (B) an alternating current having a plurality of single frequencies having different frequencies, or (c) an electromagnetic wave based on an alternating current whose frequency changes with time. In this case, the purification of the exhaust gas is promoted, and there is no clogging of fine particles in the purification device, and the exhaust gas purification treatment can be performed for a long time.
請求項2、4記載の発明によれば、請求項1、3記載の発明の効果に加えて、螺旋状の排ガス流路内が加熱されるので、該排ガス流路内の排ガスが電磁波処理水と直接接触して浄化処理が促進される。 According to the second and fourth aspects of the invention, in addition to the effects of the first and third aspects of the invention, the inside of the spiral exhaust gas passage is heated. Purifying treatment is promoted by direct contact with.
本発明の実施の形態について図面とともに説明する。
本実施例で使用する浄化装置の概略構成図を図1に示す。また、排ガス浄化装置1に導入する排ガスは、本実施例では発電用ディーゼル燃焼装置から排出する排ガスである。
Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 shows a schematic configuration diagram of a purification device used in this embodiment. In addition, the exhaust gas introduced into the exhaust
図1(a)には排ガス浄化装置1の底部に水タンク2を設け、該水タンク2を備えた排ガス浄化装置1の一方の側壁面の底部側に排ガス入口部1aを設け、他方の側壁面の頂部側には排ガス出口部1bを設けている。
In FIG. 1A, a water tank 2 is provided at the bottom of the exhaust
また、図1(b)には水タンク2の上に円筒状の排ガス浄化装置1を配置し、該円筒状の排ガス浄化装置1の底部に落下するスプレー水が流れ出て、水タンク2内に貯まる構成になっている。また円筒状の排ガス浄化装置1の一方の側壁面の底部側に排ガス入口部1aを設け、他方の側壁面の頂部側には排ガス出口部1bを設けている。
Further, in FIG. 1B, a cylindrical exhaust
図1(a)と図1(b)に示す構成共に、排ガスの入口部1aと出口部1bの間に空間には図2に示す螺旋状の排ガス流路を形成している。図1(a)に示す構成では図2(a)に示す螺旋状の排ガス流路は排ガスの入口部1aから出口部1bの間で上下方向に流路が形成されており、また図1(b)に示す構成では図2(b)に示す螺旋状の排ガス流路は排ガスの入口部1aから出口部1bの間で水平方向に流路が形成されている。
In both the configurations shown in FIGS. 1A and 1B, a spiral exhaust gas flow path shown in FIG. 2 is formed in the space between the
図2には図1に示す浄化装置1の一部の構成である排ガス流路7と該排ガス流路7内の中心軸にスプレーノズル4を多数備えたスプレー配管3を設けた構成を示す。図2(a)は縦型の排ガス流路、図2(b)は横型の排ガス流路を持つ構成である。
FIG. 2 shows a configuration in which a part of the
該スプレー配管3は浄化装置1の底部に設けられた水タンク2(図1)からポンプ6で汲み上げた水を排ガス流路7内に供給する構成であり、水タンク2内からスプレー配管3に供給された水は浄化装置1内の螺旋状排ガス流路7にだけ設けられたスプレーノズル4から排ガス流路7の内部空間を流れる排ガスに向けて噴霧され、再び水タンク2内に戻る水の循環系を構成している。
The
また、図2に示すように螺旋状の排ガス流路7内には螺旋状の一枚の板8をスプレー配管の外周に巻き付けて、該螺旋板8で排ガス流路を螺旋状に仕切る構成である。図2(a)に示す構成ではスプレー配管3は上下方向を向き、図2(b)に示す構成ではスプレー配管3は水平方向を向けている。
Further, as shown in FIG. 2, a
そして、いずれの場合も水タンク1(図1)内の水をスプレー配管3に供給してスプレーノズル4から噴霧させるために水タンク1からスプレー配管3に水を供給する領域に給水ポンプ6を設けている。
And in any case, in order to supply the water in the water tank 1 (FIG. 1) to the
また、スプレー配管3の一部は浄化装置1の外部に露出しているので、その露出したスプレー配管3の外周にコイルを巻き付けたコイル部9とする。スプレー配管3に設けられたコイル部9は、浄化装置1の外側からメンテナンスを行い易いように、浄化装置1の外部に露出した位置にあるスプレー配管3に設けることが望ましい。
Further, since a part of the
スプレー配管3に形成されるコイル部9は1本の電線ケーブル5を1回以上巻き付けて構成され、該電線ケーブル5には電磁波発生器10により4kHz〜25kHzの範囲内で、(a)単一の周波数を持つ交流電流、(b)互いに周波数の異なる複数の単一周波数を持つ交流電流又は(c)時間的に変化する周波数からなる交流電流を流す。
The
また、螺旋状の排ガス流路7内の中心軸にスプレーノズル4を多数備えたスプレー配管3が設けられるが、スプレーノズル4は排ガス流路7を構成する螺旋状の排ガス流路を仕切る螺旋板8に沿ってスプレー配管3の外周に多数配置されている。従って多数のスプレーノズル4から螺旋状に水が噴霧されて排ガスと気液接触する。
Further, a
さらに、図3に示すように螺旋板8の表裏面に垂直に突起8aを設けて、これに帯状ヒータ11をジグザグ状に巻き付けて配置(図3には螺旋板8の表面にのみ帯状ヒータ11を配置した斜視図を示す)しておくと、排ガスがジグザグ状の帯状ヒータ11により流れを乱され、かつ加熱されることで帯状ヒータ11を配置しない場合に比べて浄化機能が向上する。なお帯状ヒータ11の両端には図示しない電源から電流を供給する端子が取り付けられている。また、図4には図3の帯状ヒータ11付の螺旋板8をスプレー配管4に取り付けた状態の斜視図を示す。
Further, as shown in FIG. 3,
図5と図6に示す回路を有する電磁波発生器10から、(a)単一の周波数を持つ交流電流、(b)互いに周波数の異なる複数の単一周波数を持つ交流電流又は(c)時間的に周波数が変化する交流電流を流して排ガスに電磁波を照射する。図5に示す回路において、三角波又はのこぎり波の発振回路から発振する周波数を電圧−周波数変換回路により前記周波数を細分化し、各周波数に対応した電圧を得る。該電圧−周波数変換回路からの出力を波形整形増幅回路で電磁波強度を設定し、さらに電力を増幅させて適切な大きさの電力を得て図1に示すコイル部2に出力する。
From the
ここで図5に示す回路を有する電磁波発生器10は0.2〜2Aの電流値で(a)図7に示すタイプの出力波形を有する、実線、破線、一点鎖線、二点鎖線などで示す6,000,10,000、16,000又は22,000Hzなどにピーク値を有するいずれか一つの単一の主要周波数(約4,000〜25,000Hzまでの間のいずれか一つの単一周波数を用いることができる)を持つ交流電流又は(c)図8に示す約4,000〜25,000Hz、又は約4,000〜8,000Hzの間で時間的に周波数が変化する交流電流を流して電磁波を発生させるものであり、図6に示す回路を有する電磁波発生器10は(a)図7に示す6,000,10,000、16,000又は22,000Hzなどにピーク値を有するいずれか一つの単一の主要周波数(約4,000〜25,000Hzまでの間のいずれか一つの単一周波数を用いることができる)を持つ交流電流又は(b)図9に示す6,000,10,000、16,000及び22,000Hzなどにピーク値を有する互いに周波数の異なる複数の単一の主要周波数(約4,000〜25,000Hzまでの間のいずれか一つの単一周波数を用いることができる)を同時に形成する交流電流を流して電磁波を発生させるものである。
また図5又は図6に示す回路を有する電磁波発生器は共に発振する周波数に応じてゼータ電位が(+)にも、(−)にもなり得る。
Here, the
Further, in the electromagnetic wave generator having the circuit shown in FIG. 5 or FIG. 6, the zeta potential can be (+) or (−) depending on the frequency of oscillation.
なお、電磁波強度とは空間における電磁波の強さを意味し、単位は[V/m]又は[A/m]である。測定方法は使用目的により使い分けるが、本実施例では[A/m]を用いる(Vは電圧、Aは電流、mは長さ)。また電磁波の強さは電磁波処理する排ガスの量に応じて適宜選択する。コイル部2に流す前記0.2〜2Aの電流値に比例し、図示しない電磁波強度センサーを置いた所での磁界の大きさをこの場合の電磁波の強さ又は強度としている。 In addition, electromagnetic wave intensity means the intensity of the electromagnetic wave in space, and a unit is [V / m] or [A / m]. Although the measurement method is selectively used according to the purpose of use, [A / m] is used in this embodiment (V is voltage, A is current, and m is length). The strength of the electromagnetic wave is appropriately selected according to the amount of exhaust gas to be treated with electromagnetic waves. The magnitude of the magnetic field at a place where an electromagnetic wave intensity sensor (not shown) is placed, which is proportional to the current value of 0.2 to 2 A flowing through the coil section 2, is the intensity or intensity of the electromagnetic wave in this case.
また、前記電磁波強度はコイル部2に流す電流値に比例してその大きさが変化する。
P=K×i2×t
P:被処理排ガスへの電磁波照射エネルギー[W]
i:コイル部9に流れる電流[A]
t:照射時間[秒]
K:定数[H/m3]
Further, the magnitude of the electromagnetic wave intensity changes in proportion to the value of current flowing through the coil portion 2.
P = K × i 2 × t
P: Electromagnetic wave irradiation energy to treated exhaust gas [W]
i: Current [A] flowing through the
t: Irradiation time [seconds]
K: Constant [H / m 3 ]
図10は、図5又は図6に示す回路を有する電磁波発生器を用いて100Hz〜120kHzの周波数帯域で周波数を種々変えて、測定した各周波数の電磁波強度のピーク値と被処理水(酸化チタン微粒子を含む塩化カリウム水溶液)のゼータ電位の変化量の関係を示す。 FIG. 10 shows the peak values of the electromagnetic wave intensity measured at each frequency and the water to be treated (titanium oxide) by using the electromagnetic wave generator having the circuit shown in FIG. 5 or 6 and changing the frequency in the frequency band of 100 Hz to 120 kHz. The relationship of the variation | change_quantity of the zeta potential of potassium chloride aqueous solution containing microparticles | fine-particles is shown.
なお、図6に示す回路を有する電磁場発生器10を用いる変調電磁場処理装置は、OSCからの信号を任意の周波数の信号に変換するための分周器31a、31bと2系統へ信号を分ける分配器32a、32bを通し、R系統ゼネレータ33a又はS系統ゼネレータ33bに電気的に掛け合わせた後、それぞれ電力増幅器34a、34bによりコイル部(図示せず)に出力する。この時、信号の流れとして同一構成で2系統を持ち、例えば一つの分配器32aからの信号を波形ゼネレータ33a、33bに送ることによる同期型とそれぞれ独立した系統(図6の上段と下段)で信号をそれぞれ波形ゼネレータ33a、33bに送る非同期型を選択可能である。この装置は、コイル部に方形波又はサイン波を乗せた変調電磁場信号を間欠的に流すものである。
図10に示すように電磁波処理を好ましくは約4kHz〜25kHz付近の周波数帯域で行った場合に、被処理水のゼータ電位の変化量が大きく変化し、電磁波処理を行わない場合(未処理時)又は他の周波数帯域に電磁波強度のピーク値を示す被処理水のゼータ電位の変化量に比べて大きく低下してゼータ電位がマイナスの値を示す周波数帯域(1,000〜10,000Hz)があることが分かる。
本実施例の排ガスの電磁波処理は、上記約4kHz〜25kHz付近の周波数帯域で行うので、排ガスは浄化処理される。
Note that the modulated electromagnetic field processing apparatus using the
As shown in FIG. 10, when the electromagnetic wave treatment is preferably performed in a frequency band of about 4 kHz to 25 kHz, the amount of change in the zeta potential of the water to be treated changes greatly, and the electromagnetic wave treatment is not performed (when untreated). Alternatively, there is a frequency band (1,000 to 10,000 Hz) in which the zeta potential shows a negative value with a significant decrease compared to the amount of change in the zeta potential of the water to be treated that shows a peak value of electromagnetic wave intensity in another frequency band. I understand that.
Since the electromagnetic wave treatment of the exhaust gas of the present embodiment is performed in the frequency band of about 4 kHz to 25 kHz, the exhaust gas is purified.
なお、図10に示すゼータ電位の測定手順は以下の(1)〜(4)に示す通りである。(1)ゼータ電位測定装置:大塚電子(株)製の電気泳動光散乱光度計ELS−800
(2)試料、溶質:酸化チタンのコロイド粒子(粒径100〜200μm)
溶媒:10mモルのKCl水溶液
調整液:pH5.5
温度:25℃
(3)変調電磁波発生器
図5又は図6に示す回路を有する電磁波発生器10を用いてコイル電流を1.0アンペアで、例えば図10に示す電磁波強度のピーク値と被処理水のゼータ電位の変化量の関係を示す電磁波等を発生させる。
(4)図11に示すように、電磁波発生器10からの交流電流を流すコイル部9(コイルを20回巻き付けた塩化ビニル配管)の内部空間に前記粒子を含む試料を入れたビーカー24を挿入した後、電磁波発生器10などからコイル部9に1.0アンペアの電流を1分間流して処理をした。その後、ビーカー24内の粒子を含む試料をビーカー底部に設けた流出管25からゼータ電位測定装置26内に送り出してゼータ電位を測定した。
The zeta potential measurement procedure shown in FIG. 10 is as shown in the following (1) to (4). (1) Zeta potential measurement device: electrophoretic light scattering photometer ELS-800 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.
(2) Sample, solute: colloidal particles of titanium oxide (particle size 100-200 μm)
Solvent: 10 mmol aqueous KCl solution
Adjustment solution: pH 5.5
Temperature: 25 ° C
(3) Modulated electromagnetic wave generator
Using the
(4) As shown in FIG. 11, a
コイルに流す電流の主要周波数は、0.5,20,40,60,80,・・・及び120kHzで行った。また、電磁波発生器10などによる電磁波処理をしない場合にも、ビーカー24内の粒子を含む試料を低部に設けた流出管25からゼータ電位測定装置26内に送り出してゼータ電位を測定した。
The main frequency of the current passed through the coil was 0.5, 20, 40, 60, 80, ... and 120 kHz. Even when the electromagnetic wave treatment by the
上記方法で得られた各周波数の電磁波強度のピーク値と被処理水のゼータ電位の変化量の関係を図10に示すが、図10のゼータ電位の変化量は電磁波処理を行わない場合(未処理時)のゼータ電位に対する変化量であり、10回の測定値の平均値である。
また、図5と図6に示す回路を有する電磁波発生器で発生させる連続的に周波数の波形は方形波又はのこぎり波に限らず、サイン波、パルス波などの他の波形であってもよい。
FIG. 10 shows the relationship between the peak value of the electromagnetic wave intensity at each frequency obtained by the above method and the amount of change in the zeta potential of the water to be treated. The amount of change in the zeta potential in FIG. It is the amount of change with respect to the zeta potential at the time of the treatment, and is an average value of 10 measurements.
The continuous frequency waveform generated by the electromagnetic wave generator having the circuits shown in FIGS. 5 and 6 is not limited to a square wave or a sawtooth wave, but may be other waveforms such as a sine wave and a pulse wave.
本発明者は、この電磁波処理により周波数帯域(4,000〜25,000Hz)では排ガス中の微量粒子及び電磁波を照射された電磁波処理水のゼータ電位がマイナスになりスプレー配管3のスプレーノズル4の詰まりが防止されると推定している。また、特に断らない限り、上記した(a)単一の周波数を持つ交流電流、(b)互いに周波数の異なる複数の単一周波数を持つ交流電流又は(c)時間的に周波数が変化する交流電流を流して電磁波処理を行った。
The present inventor has found that the zeta potential of the electromagnetic wave treated water irradiated with the minute particles in the exhaust gas and the electromagnetic wave becomes negative in the frequency band (4,000 to 25,000 Hz) by this electromagnetic wave treatment, and the
本発明の浄化装置は化石燃料燃焼装置であるボイラ火炉、溶鉱炉、工業用火炉、化学製品製造工場、精錬所、ごみ焼却炉、加熱調理器、船舶用エンジン又は自動車用エンジンなどから排出する排ガスなどの各種排ガスの浄化処理に適用できる。 The purification apparatus of the present invention is a fossil fuel combustion apparatus such as a boiler furnace, a blast furnace, an industrial furnace, a chemical product manufacturing factory, a smelter, a waste incinerator, a heating cooker, a ship engine, an automobile engine, etc. It can be applied to various exhaust gas purification processes.
1 排ガス浄化装置 2 水タンク
3 スプレー配管 4 スプレーノズル
5 電線ケーブル 6 給水ポンプ
7 排ガス流路 8 螺旋板
9 コイル部 10 電磁波発生器
11 ヒータ 16 浄化装置
17 フィルタ 18 接触材
19 ヒータ 24 ビーカー
25 流出管 26 電位測定装置
31a,31b 分周器 32a,32b 分配器
33a,33b ゼネレータ 34a,34b 電力増幅器
DESCRIPTION OF
Claims (4)
該排ガス流路内の底部に設けた水貯留タンクと、
該水貯留タンク内の水を汲み上げて排ガス流路内の出口部から入口部に向けて排ガス流路内を流す給水配管と、
該給水配管に設けられた前記螺旋状の排ガス流路に沿って給水を散布するスプレーノズルと、
該給水配管の上流側に巻き付けられ、4kHz〜25kHzの周波数帯域内で、(a)単一周波数を持つ交流電流、(b)互いに周波数の異なる複数の単一周波数を持つ交流電流又は(c)時間的に周波数が変化する交流電流を流すコイル部と
を備えた排ガス浄化処理装置。 A spiral exhaust gas flow path for flowing exhaust gas introduced from the inlet portion toward the outlet portion in a spiral manner;
A water storage tank provided at the bottom of the exhaust gas flow path;
A water supply pipe for pumping up water in the water storage tank and flowing in the exhaust gas channel from the outlet to the inlet in the exhaust gas channel;
A spray nozzle for spraying feed water along the spiral exhaust gas flow path provided in the feed water pipe;
Wound around the upstream side of the water supply pipe and within a frequency band of 4 kHz to 25 kHz, (a) an alternating current having a single frequency, (b) an alternating current having a plurality of single frequencies having different frequencies, or (c) An exhaust gas purification processing apparatus comprising a coil section for passing an alternating current whose frequency changes with time.
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