JP2013163710A - ポリイミド前駆体、ポリイミド、電荷輸送性組成物、及びポリイミド前駆体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ポリイミド(前駆体)及びそれを含む電荷輸送性組成物、並びに当該ポリイミド前駆体の製造方法に関し、さらに詳述すると、分子内に酸化還元部位を有するポリイミド(前駆体)、及び当該ポリイミド(前駆体)とオリゴアニリン誘導体とを含む電荷輸送性組成物、並びに当該ポリイミド前駆体の製造方法に関する。
低分子オリゴアニリン化合物からなる電荷輸送性物質を用いた有機溶媒系の電荷輸送性ワニスから得られる電荷輸送性薄膜が、優れた有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)素子特性を示すことを、本出願人は既に報告している(特許文献1:特開2002−151272号公報参照)。
この有機EL素子に用いられる電荷輸送性薄膜は、可視領域での透過率が高いことが望まれるが、上記特許文献1の電荷輸送性ワニスを用いて作製される電荷輸送性薄膜は、可視領域での着色が問題となることがあった。
この有機EL素子に用いられる電荷輸送性薄膜は、可視領域での透過率が高いことが望まれるが、上記特許文献1の電荷輸送性ワニスを用いて作製される電荷輸送性薄膜は、可視領域での着色が問題となることがあった。
この問題点について、本出願人は、低分子オリゴアニリン化合物とポリイミド(前駆体)とを併用することで、得られる薄膜の可視領域での透過率を向上し得ることを見出している(特許文献2:国際公開第2005/092984号パンフレット参照)。
しかし、特許文献2の技術では、電荷輸送性材料を構成する導電性材料に対して絶縁性のポリマーであるポリイミドを配合しているため、可視領域での透過率は向上するものの、ポリイミドを配合しない場合に比べて有機EL素子特性が低下してしまうという問題があった。
しかし、特許文献2の技術では、電荷輸送性材料を構成する導電性材料に対して絶縁性のポリマーであるポリイミドを配合しているため、可視領域での透過率は向上するものの、ポリイミドを配合しない場合に比べて有機EL素子特性が低下してしまうという問題があった。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、電荷輸送性材料と併用した場合に有機EL素子等の素子特性を向上し得るポリイミド(前駆体)、及び当該ポリイミド(前駆体)を含み、可視領域での透過率が高く、しかも有機EL素子特性を向上し得る電荷輸送性薄膜を与える電荷輸送性組成物、並びにポリイミド前駆体の製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、ポリイミド(前駆体)分子内に酸化還元部位を有する新規なポリイミド(前駆体)を見出すとともに、当該ポリイミド(前駆体)とオリゴアニリン誘導体とを含む電荷輸送性組成物から得られる薄膜の可視領域での透過率が向上するのみならず、当該薄膜を備えた有機EL素子の特性が向上することを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、
1.下記式(1)又は(2)で示されることを特徴とするポリイミド前駆体又はポリイミド、
[式中、Tは、下記式(3)〜(9)から選ばれる少なくとも1種の4価の有機基であり、
(式中、R1〜R4は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜5のアルキコキシ基を示す。)
Qは、下記式(10)〜(12)から選ばれる少なくとも1種のフェロセン含有基であり、
{式中、R5〜R35は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、シラノール基、チオール基、カルボキシル基、リン酸基、リン酸エステル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、ニトロ基、1価炭化水素基、オルガノオキシ基、オルガノアミノ基、オルガノシリル基、オルガノチオ基、アシル基、又はスルホン酸基を示し、Arは、3価の芳香族基を示し、Wは、2価炭化水素基又は下記式(13)で示される2価の基を示す。
(式中、*は上記Arとの結合部であり、iは0又は1、jは1〜5の整数を示す。)}
kは、2〜400を示す。]
2.下記式(14)又は(15)で示される1のポリイミド前駆体又はポリイミド、
(式中、T、R5〜R13及びkは、上記と同じ意味を表す。)
3.下記式(16)で示されることを特徴とするジアミン化合物、
(式中、R5〜R13は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、シラノール基、チオール基、カルボキシル基、リン酸基、リン酸エステル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、ニトロ基、1価炭化水素基、オルガノオキシ基、オルガノアミノ基、オルガノシリル基、オルガノチオ基、アシル基、又はスルホン酸基を示し、lは1〜5の整数を示す。)
4.1又は2のポリイミド前駆体又はポリイミドと、数平均分子量が250〜5,000の電荷輸送性オリゴアニリンからなる電荷輸送物質又はこの電荷輸送物質及び電荷受容性ドーパント物質からなる電荷輸送性有機材料と、を含有することを特徴とする電荷輸送性組成物、
5.上記電荷輸送性物質が、下記式(17)で表されるオリゴアニリン誘導体又はその酸化体のキノンジイミン誘導体である4の電荷輸送性組成物、
[式中、R36〜R38は、それぞれ独立して、水素原子、1価炭化水素基又はオルガノオキシ基を示し、A及びBは、それぞれ独立して、下記式(18)又は(19)
(式中、R39〜R46は、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシ基、1価炭化水素基、オルガノオキシ基、アシル基又はスルホン酸基を示す。)
で表される2価の基であり、
m及びnは、それぞれ独立して、1以上の整数で、m+n≦20を満足する。]
6.上記電荷輸送物質が、下記式(20)で表されるオリゴアニリン誘導体又はその酸化体のキノンジイミン誘導体である5の電荷輸送性組成物、
(式中、R36〜R42、m及びnは、上記と同じ意味を示す。)
7.上記電子受容物質が、下記式(21)で示される4〜6のいずれかの電荷輸送性組成物、
(式中、R47〜R50は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、シラノール基、チオール基、カルボキシル基、リン酸基、リン酸エステル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、ニトロ基、1価炭化水素基、オルガノオキシ基、オルガノアミノ基、オルガノシリル基、オルガノチオ基、アシル基、又はスルホン酸基を示す。)
8.4〜7のいずれかの電荷輸送性組成物と、少なくとも1種の溶媒とを含み、上記ポリイミド前駆体又はポリイミド及び電荷輸送性物質又は電荷輸送性有機材料が、上記溶媒に溶解又は均一に分散している電荷輸送性ワニス、
9.8の電荷輸送性ワニスから得られる電荷輸送性薄膜、
10.9の電荷輸送性薄膜を備える有機エレクトロルミネッセンス素子、
11.テトラカルボン酸又はその誘導体と下記式(10’)〜(12’)で示されるジアミンから選ばれる少なくとも1種とを反応させることを特徴とする1のポリイミド前駆体の製造方法、
(式中、R5〜R35、Ar及びWは上記と同じ。)
12.上記テトラカルボン酸又はその誘導体が、ピロメリット酸、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−テトラメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−テトラフルオロ−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸、ビシクロ[3,3,0]オクタン−2,4,6,8−テトラカルボン酸、3,5,6−トリカルボキシビシクロ[2,2,1]へキサン−2−酢酸、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1−ナフタレンコハク酸、4,5−ジカルボキシ−2−シクロヘキセン−1−イル−コハク酸及びこれらの酸二無水物、並びにこれらのジカルボン酸ジハロゲン化物から選ばれる11のポリイミド前駆体の製造方法
を提供する。
1.下記式(1)又は(2)で示されることを特徴とするポリイミド前駆体又はポリイミド、
Qは、下記式(10)〜(12)から選ばれる少なくとも1種のフェロセン含有基であり、
kは、2〜400を示す。]
2.下記式(14)又は(15)で示される1のポリイミド前駆体又はポリイミド、
3.下記式(16)で示されることを特徴とするジアミン化合物、
4.1又は2のポリイミド前駆体又はポリイミドと、数平均分子量が250〜5,000の電荷輸送性オリゴアニリンからなる電荷輸送物質又はこの電荷輸送物質及び電荷受容性ドーパント物質からなる電荷輸送性有機材料と、を含有することを特徴とする電荷輸送性組成物、
5.上記電荷輸送性物質が、下記式(17)で表されるオリゴアニリン誘導体又はその酸化体のキノンジイミン誘導体である4の電荷輸送性組成物、
で表される2価の基であり、
m及びnは、それぞれ独立して、1以上の整数で、m+n≦20を満足する。]
6.上記電荷輸送物質が、下記式(20)で表されるオリゴアニリン誘導体又はその酸化体のキノンジイミン誘導体である5の電荷輸送性組成物、
7.上記電子受容物質が、下記式(21)で示される4〜6のいずれかの電荷輸送性組成物、
8.4〜7のいずれかの電荷輸送性組成物と、少なくとも1種の溶媒とを含み、上記ポリイミド前駆体又はポリイミド及び電荷輸送性物質又は電荷輸送性有機材料が、上記溶媒に溶解又は均一に分散している電荷輸送性ワニス、
9.8の電荷輸送性ワニスから得られる電荷輸送性薄膜、
10.9の電荷輸送性薄膜を備える有機エレクトロルミネッセンス素子、
11.テトラカルボン酸又はその誘導体と下記式(10’)〜(12’)で示されるジアミンから選ばれる少なくとも1種とを反応させることを特徴とする1のポリイミド前駆体の製造方法、
12.上記テトラカルボン酸又はその誘導体が、ピロメリット酸、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−テトラメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−テトラフルオロ−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸、ビシクロ[3,3,0]オクタン−2,4,6,8−テトラカルボン酸、3,5,6−トリカルボキシビシクロ[2,2,1]へキサン−2−酢酸、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1−ナフタレンコハク酸、4,5−ジカルボキシ−2−シクロヘキセン−1−イル−コハク酸及びこれらの酸二無水物、並びにこれらのジカルボン酸ジハロゲン化物から選ばれる11のポリイミド前駆体の製造方法
を提供する。
本発明のポリイミド(前駆体)は、分子内に酸化還元部位を有しているため、当該ポリイミド(前駆体)と電荷輸送性材料とを含む組成物から得られた薄膜を有機EL素子に適用した場合に、高発光効率化等の初期特性の向上や、素子の長寿命化の実現が可能である。
また、本発明の電荷輸送性組成物は、電荷輸送性オリゴアニリンからなる電荷輸送物質と、ポリイミド(前駆体)とを含有しているため、当該組成物から得られる薄膜の可視領域での透過率が高い。
本発明の電荷輸送性薄膜は、特に有機EL素子の電荷注入層及び電荷輸送層として用いることにより、発光層からの発光をよく透過して効率よく外部に取り出すことができる。
さらに、当該薄膜は、高平坦性及び高電荷輸送性を有しているため、この特性を利用して、太陽電池の正孔輸送層、燃料電池用電極、コンデンサ電極保護膜、帯電防止膜等へ応用することもできる。
また、本発明の電荷輸送性組成物は、電荷輸送性オリゴアニリンからなる電荷輸送物質と、ポリイミド(前駆体)とを含有しているため、当該組成物から得られる薄膜の可視領域での透過率が高い。
本発明の電荷輸送性薄膜は、特に有機EL素子の電荷注入層及び電荷輸送層として用いることにより、発光層からの発光をよく透過して効率よく外部に取り出すことができる。
さらに、当該薄膜は、高平坦性及び高電荷輸送性を有しているため、この特性を利用して、太陽電池の正孔輸送層、燃料電池用電極、コンデンサ電極保護膜、帯電防止膜等へ応用することもできる。
以下、本発明についてさらに詳しく説明する。
本発明のポリイミド前駆体及びポリイミドは、それぞれ下記式(1)及び(2)で示されるものである。
本発明のポリイミド前駆体及びポリイミドは、それぞれ下記式(1)及び(2)で示されるものである。
上記式中、Tは、下記式(3)〜(9)から選ばれる少なくとも1種の4価の有機基である。
上記R1〜R4は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜5のアルキコキシ基を示す。
ここで、上記炭素数1〜5のアルキル基としては、直鎖、分岐鎖、環状のいずれのものでもよく、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、c−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、c−ブチル基、n−ペンチル基、c−ペンチル基等が挙げられる。
上記炭素数1〜5のアルコキシ基としては、その中のアルキル基が直鎖、分岐鎖、環状のいずれのものでもよく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、c−プロポキシ基、n−ブトキシ基、i−ブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基、c−ブトキシ基、n−ペントキシ基、c−ペントキシ基等が挙げられる。
ポリイミド前駆体及びポリイミドの溶解性を考慮すると、Tとしては、式(3)で示される有機基が好ましく、この場合、R1〜R4が水素原子であることがより好ましい。
ここで、上記炭素数1〜5のアルキル基としては、直鎖、分岐鎖、環状のいずれのものでもよく、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、c−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、c−ブチル基、n−ペンチル基、c−ペンチル基等が挙げられる。
上記炭素数1〜5のアルコキシ基としては、その中のアルキル基が直鎖、分岐鎖、環状のいずれのものでもよく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、c−プロポキシ基、n−ブトキシ基、i−ブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基、c−ブトキシ基、n−ペントキシ基、c−ペントキシ基等が挙げられる。
ポリイミド前駆体及びポリイミドの溶解性を考慮すると、Tとしては、式(3)で示される有機基が好ましく、この場合、R1〜R4が水素原子であることがより好ましい。
また、上記Qは、下記式(10)〜(12)から選ばれる少なくとも1種のフェロセン含有基である。
上記R5〜R35は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、シラノール基、チオール基、カルボキシル基、リン酸基、リン酸エステル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、ニトロ基、1価炭化水素基、オルガノオキシ基、オルガノアミノ基、オルガノシリル基、オルガノチオ基、アシル基、又はスルホン酸基を示す。
ここで、上記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
上記1価炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;ビシクロヘキシル基等のビシクロアルキル基;ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、イソプロペニル基、1−メチル−2−プロペニル基、1−,2−又は3−ブテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基;フェニル基、キシリル基、トリル基、ビフェニル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルシクロヘキシル基等のアラルキル基等が挙げられる。
なお、これらの1価炭化水素基の水素原子の一部又は全部は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、シラノール基、チオール基、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、リン酸エステル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、ニトロ基、オルガノオキシ基、オルガノアミノ基、オルガノシリル基、オルガノチオ基、アシル基、アルキル基、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基等で置換されていてもよい。
上記1価炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;ビシクロヘキシル基等のビシクロアルキル基;ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、イソプロペニル基、1−メチル−2−プロペニル基、1−,2−又は3−ブテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基;フェニル基、キシリル基、トリル基、ビフェニル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルシクロヘキシル基等のアラルキル基等が挙げられる。
なお、これらの1価炭化水素基の水素原子の一部又は全部は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、シラノール基、チオール基、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、リン酸エステル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、ニトロ基、オルガノオキシ基、オルガノアミノ基、オルガノシリル基、オルガノチオ基、アシル基、アルキル基、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基等で置換されていてもよい。
上記オルガノオキシ基としては、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基等が挙げられ、これらを構成するアルキル基、アルケニル基、アリール基としては、上記1価炭化水素基と同様のものが挙げられる。
上記オルガノアミノ基としては、フェニルアミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、ノニルアミノ基、デシルアミノ基、ラウリルアミノ基等のアルキルアミノ基;ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジペンチルアミノ基、ジヘキシルアミノ基、ジヘプチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、ジノニルアミノ基、ジデシルアミノ基等のジアルキルアミノ基;シクロヘキシルアミノ基、モルホリノ基等が挙げられる。
上記オルガノアミノ基としては、フェニルアミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、ノニルアミノ基、デシルアミノ基、ラウリルアミノ基等のアルキルアミノ基;ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジペンチルアミノ基、ジヘキシルアミノ基、ジヘプチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、ジノニルアミノ基、ジデシルアミノ基等のジアルキルアミノ基;シクロヘキシルアミノ基、モルホリノ基等が挙げられる。
上記オルガノシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリブチルシリル基、トリペンチルシリル基、トリヘキシルシリル基、ペンチルジメチルシリル基、ヘキシルジメチルシリル基、オクチルジメチルシリル基、デシルジメチルシリル基等が挙げられる。
上記オルガノチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、ノニルチオ基、デシルチオ基、ラウリルチオ基等のアルキルチオ基が挙げられる。
上記アシル基としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
上記オルガノチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、ノニルチオ基、デシルチオ基、ラウリルチオ基等のアルキルチオ基が挙げられる。
上記アシル基としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
上記リン酸エステル基としては、−P(O)(OQ1)(OQ2)が挙げられる。
上記エステル基としては、−C(O)OQ1、−OC(O)Q1が挙げられる。
上記チオエステル基としては、−C(S)OQ1、−OC(S)Q1が挙げられる。
上記アミド基としては、−C(O)NHQ1、−NHC(O)Q1、−C(O)NQ1Q2、−NQ1C(O)Q2が挙げられる。
ここで、上記Q1及びQ2は、アルキル基、アルケニル基又はアリール基を示し、これらは上記1価炭化水素基として例示したものと同様のものが挙げられる。
上記エステル基としては、−C(O)OQ1、−OC(O)Q1が挙げられる。
上記チオエステル基としては、−C(S)OQ1、−OC(S)Q1が挙げられる。
上記アミド基としては、−C(O)NHQ1、−NHC(O)Q1、−C(O)NQ1Q2、−NQ1C(O)Q2が挙げられる。
ここで、上記Q1及びQ2は、アルキル基、アルケニル基又はアリール基を示し、これらは上記1価炭化水素基として例示したものと同様のものが挙げられる。
上記1価炭化水素基、オルガノオキシ基、オルガノアミノ基、オルガノシリル基、オルガノチオ基、アシル基、リン酸エステル基、エステル基、チオエステル基、アミド基等における炭素数は、特に限定されるものではないが、一般に炭素数1〜20、好ましくは1〜8である。
なお、以上の置換基において、置換基同士が連結されて環状である部分を含んでいてもよい。
なお、以上の置換基において、置換基同士が連結されて環状である部分を含んでいてもよい。
上記式(10)におけるArは3価の芳香族基を示し、具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ビフェニル、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ピレン等の芳香環上の水素原子が3個脱離した構造の基が挙げられる。これらの中でも、ポリイミド前駆体及びポリイミドの溶解性を考慮すると、ベンゼン、トルエン、キシレン、ビフェニル、ナフタレンから水素原子が3個脱離した構造の基が好ましく、ベンゼン、トルエン、キシレンから水素原子が3個脱離した構造の基がより好ましく、ベンゼンから水素原子が3個脱離した構造の基が更に好ましい。
上記2価炭化水素基としては、直鎖、分岐鎖、環状のいずれでもよく、溶媒への溶解性を考慮すると、炭素数1〜5の直鎖アルキレン基が好ましく、炭素数1〜4のアルキレン基がより好ましく、炭素数1〜3のアルキレン基が更に好ましい。
また、上記式(13)で示される2価の基としては、iが0又は1、jが1〜3であることが好ましく、iが1、jが1〜2であることがより好ましく、iが1、jが1であることが更に好ましい。
これらの中でも、上記Wとしては、iが1、jが1である式(13)で示される2価の基が最も好ましい。
また、上記式(13)で示される2価の基としては、iが0又は1、jが1〜3であることが好ましく、iが1、jが1〜2であることがより好ましく、iが1、jが1であることが更に好ましい。
これらの中でも、上記Wとしては、iが1、jが1である式(13)で示される2価の基が最も好ましい。
式(10)〜(12)で示されるフェロセン含有基の具体例としては、下記のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
本発明のポリイミド前駆体及びポリイミドの製造方法は特に限定されるものではない。
ポリイミド前駆体の製法としては、例えば、テトラカルボン酸又はその誘導体と1級ジアミンとを重合させる方法等が挙げられる。また、ポリイミドの製法としては、上記方法によって得られたポリイミド前駆体を100〜400℃で加熱脱水する方法や、トリエチルアミン/無水酢酸等のイミド化触媒を用いて化学的イミド化を行う方法等が挙げられる。この際、溶解性を確保するためにポリイミド前駆体の一部をイミド化せずに残しておいてもよい。
ポリイミド前駆体の製法としては、例えば、テトラカルボン酸又はその誘導体と1級ジアミンとを重合させる方法等が挙げられる。また、ポリイミドの製法としては、上記方法によって得られたポリイミド前駆体を100〜400℃で加熱脱水する方法や、トリエチルアミン/無水酢酸等のイミド化触媒を用いて化学的イミド化を行う方法等が挙げられる。この際、溶解性を確保するためにポリイミド前駆体の一部をイミド化せずに残しておいてもよい。
上記ポリイミド前駆体の重合に用いられるテトラカルボン酸誘導体としては、テトラカルボン酸二無水物を用いるのが一般的である。
テトラカルボン酸二無水物の総物質量に対する1級ジアミンの総物質量の割合は、0.80〜1.20であることが好ましい。1級ジアミンを過剰にすると溶液の着色が大きくなる場合があり、また、無水物を過剰にすると無水物末端のポリイミド前駆体が得られ不安定な構造となる場合がある。これらを考慮すると、上記割合は、1.05〜1.10であることが、より好ましい。通常の重縮合反応同様、上記割合が1に近いほど生成する重合体の重合度は大きくなる。重合度が小さすぎるとポリイミド膜の強度が不十分となり、重合度が大きすぎるとポリイミド膜形成時の作業性が悪くなる場合がある。
テトラカルボン酸二無水物の総物質量に対する1級ジアミンの総物質量の割合は、0.80〜1.20であることが好ましい。1級ジアミンを過剰にすると溶液の着色が大きくなる場合があり、また、無水物を過剰にすると無水物末端のポリイミド前駆体が得られ不安定な構造となる場合がある。これらを考慮すると、上記割合は、1.05〜1.10であることが、より好ましい。通常の重縮合反応同様、上記割合が1に近いほど生成する重合体の重合度は大きくなる。重合度が小さすぎるとポリイミド膜の強度が不十分となり、重合度が大きすぎるとポリイミド膜形成時の作業性が悪くなる場合がある。
テトラカルボン酸二無水物と1級ジアミンとを反応、重合させる方法は、特に限定されるものではなく、一般にはN−メチル−2−ピロリドン(NMP)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)等の有機極性溶媒中に1級ジアミンを溶解し、その溶液中にテトラカルボン酸二無水物を添加、反応させてポリイミド前駆体を合成する方法が用いられる。テトラカルボン酸二無水物と1級ジアミンとを反応させてポリイミド前駆体とする際の反応温度は−20〜150℃、好ましくは−5〜100℃の任意の温度を選択することができる。
上記ポリイミド前駆体を得る際に用いられるテトラカルボン酸及びその誘導体の具体例としては、ピロメリット酸、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−テトラメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−テトラフルオロ−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸、ビシクロ[3,3,0]オクタン−2,4,6,8−テトラカルボン酸、3,5,6−トリカルボキシビシクロ[2,2,1]へキサン−2−酢酸、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1−ナフタレンコハク酸、4,5−ジカルボキシ−2−シクロヘキセン−1−イル−コハク酸等のテトラカルボン酸及びその誘導体であるテトラカルボン酸ジハライド(テトラカルボン酸のジカルボン酸ジハロゲン化物)、テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。上記製法においては、上記テトラカルボン酸及びその誘導体は、1種単独で使用することもでき、2種以上を混合して使用することもできる。
また、本発明に用いるポリイミド前駆体を得る際には、例えば、下記式(10’)〜(12’)で示されるフェロセン含有基を有するジアミンのような、酸化還元部位を有するジアミンが用いられる。
これらジアミンの合成法としては、特に限定されるものではない。
式(10’)のジアミンは、例えば、ジニトロベンゼン誘導体と、ヒドロキシ基を有するフェロセン誘導体とをカップリングした後、ニトロ基を水素で還元して得ることができる。
式(11’)のジアミンは、例えば、ジニトロフェロセン誘導体のニトロ基を水素で還元して得ることができる。
式(12’)のジアミンは、例えば、ジニトロアリールフェロセン誘導体のニトロ基を水素で還元して得ることができる。
式(10’)のジアミンは、例えば、ジニトロベンゼン誘導体と、ヒドロキシ基を有するフェロセン誘導体とをカップリングした後、ニトロ基を水素で還元して得ることができる。
式(11’)のジアミンは、例えば、ジニトロフェロセン誘導体のニトロ基を水素で還元して得ることができる。
式(12’)のジアミンは、例えば、ジニトロアリールフェロセン誘導体のニトロ基を水素で還元して得ることができる。
本発明の電荷輸送性組成物は、式(1)で示されるポリイミド前駆体又は式(2)で示されるポリイミドと、数平均分子量が250〜5,000の電荷輸送性オリゴアニリンからなる電荷輸送物質又はこの電荷輸送物質及び電荷受容性ドーパント物質からなる電荷輸送性有機材料と、を含有するものである。
本発明において、電荷輸送性とは、導電性と同義であり、正孔輸送性、電子輸送性、正孔及び電子の両電荷輸送性のいずれかを意味する。本発明の電荷輸送性組成物は、それ自体に電荷輸送性があるものでもよく、組成物から得られる固体膜に電荷輸送性があるものでもよい。
本発明において、電荷輸送性とは、導電性と同義であり、正孔輸送性、電子輸送性、正孔及び電子の両電荷輸送性のいずれかを意味する。本発明の電荷輸送性組成物は、それ自体に電荷輸送性があるものでもよく、組成物から得られる固体膜に電荷輸送性があるものでもよい。
本発明のポリイミド(前駆体)は、本発明の電荷輸送性組成物から得られる薄膜の機械的強度、耐熱性及び透明性を主として向上させる機能を有している。また、このポリイミド(前駆体)の分子内に導入された酸化還元部位は、ポリイミド(前駆体)自体にも若干の導電性を発揮させる機能を有し、これによりポリイミドを含有する薄膜の導電性の低下及び有機EL素子特性の低下が抑制される。
ここで、酸化還元部位としては、酸化還元能を有する基であれば特に限定されるものではないが、メタロセン等の有機金属錯体が好適であり、特に、安定な酸化還元特性を示すフェロセンが好ましい。
したがって、上記ポリイミド(前駆体)としては、特に、下記式(14)又は(15)で示されるポリイミド(前駆体)が、より好ましい。
上記ポリイミド(前駆体)の数平均分子量は、1,000〜100,000が好ましい。ここで、数平均分子量が小さすぎると薄膜の強度が不十分となる場合があり、数平均分子量が大きすぎると薄膜形成時の作業性が悪くなる場合がある。これらを考慮すると、数平均分子量は、1,000〜50,000であることがより好ましく、特に、5,000〜30,000であることが好ましい。
したがって、kは、2〜400であるが、上記分子量を与える数が好ましく、2〜50がより好ましい。
したがって、kは、2〜400であるが、上記分子量を与える数が好ましく、2〜50がより好ましい。
式(14)のポリイミド前駆体の具体例としては下記のもの等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
本発明の電荷輸送性組成物を構成する電荷輸送性オリゴアニリンとしては、数平均分子量が250〜5,000のものであれば特に制限されない。数平均分子量が250未満では、揮発性が高くなりすぎて電荷輸送性が充分に発現されない可能性が高く、一方、5,000を超えると溶媒に対する溶解性が低くなって使用に適さない可能性が高い。特に、溶媒に対する溶解性を向上させることを考慮すると、その数平均分子量は2,000以下であることが望ましく、400〜800が好適である。
なお、数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(ポリスチレン換算)による測定値である(以下同様)。
なお、数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(ポリスチレン換算)による測定値である(以下同様)。
また、上記オリゴアニリンは、溶解性、電荷輸送性を均一にするということを考慮すると、分子量分布のない、換言すれば、分散度が1のものが好ましい。また、溶媒への溶解性及び溶液の透明性を考慮すると、ヒドラジンによる還元操作を行ったオリゴアニリンが好適である。
中でも、高溶解性及び適切なイオン化ポテンシャルを示すとともに、分子内のπ共役系をなるべく拡張させた方が、得られる電荷輸送性薄膜の電荷輸送性が向上する点を考慮すると、特に、下記式(17)で示されるオリゴアニリン誘導体又はその酸化体であるキノンジイミン誘導体を用いることが好ましく、特に下記式(20)で示されるオリゴアニリン誘導体又はその酸化体のキノンジイミン誘導体が好適である。
中でも、高溶解性及び適切なイオン化ポテンシャルを示すとともに、分子内のπ共役系をなるべく拡張させた方が、得られる電荷輸送性薄膜の電荷輸送性が向上する点を考慮すると、特に、下記式(17)で示されるオリゴアニリン誘導体又はその酸化体であるキノンジイミン誘導体を用いることが好ましく、特に下記式(20)で示されるオリゴアニリン誘導体又はその酸化体のキノンジイミン誘導体が好適である。
で表される2価の基であり、m及びnは、それぞれ独立して、1以上の整数で、m+n≦20を満足する。]
なお、キノンジイミン体とは、その骨格中に、下式で示される部分構造を有する化合物を意味する。
上記式において、R36〜R38は、それぞれ独立して、水素原子、1価炭化水素基又はオルガノオキシ基を示す。上記1価炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;ビシクロヘキシル基等のビシクロアルキル基;ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、イソプロペニル基、1−メチル−2−プロペニル基、1−,2−又は3−ブテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基;フェニル基、キシリル基、トリル基、ビフェニル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルシクロヘキシル基等のアラルキル基等が挙げられる。
上記オルガノオキシ基としては、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基等が挙げられ、これらを構成するアルキル基、アルケニル基、アリール基としては、上記1価炭化水素基と同様のものが挙げられる。
上記オルガノオキシ基としては、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基等が挙げられ、これらを構成するアルキル基、アルケニル基、アリール基としては、上記1価炭化水素基と同様のものが挙げられる。
上記R39〜R46は、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシ基、1価炭化水素基、オルガノオキシ基、アシル基又はスルホン基を示す。上記1価炭化水素基、オルガノオキシ基の具体例としては、上記R36〜R38の具体例として例示したものと同様の基が挙げられる。
上記アシル基としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
上記アシル基としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
また、上記m及びnは、それぞれ独立して、1以上の整数で、m+n≦20を満足するが、良好な電荷輸送性を発揮させるという点からm+nは4以上であることが好ましく、溶媒に対する溶解性を確保するという点からm+nは16以下であることが好ましく、12以下であることがさらに好ましく、6以下であることが最適である。
オリゴアニリン誘導体の具体例としては、フェニルテトラアニリン、フェニルペンタアニリン、フェニルヘキサアニリン、テトラアニリン(アニリン4量体)、ペンタアニリン(アニリン5量体)、ヘキサアニリン(アニリン6量体)、ヘプタアリニン等が挙げられる。透明性を考慮すると、末端がフェニル基でキャップされたフェニルテトラアニリン、フェニルペンタアニリン、フェニルヘキサアニリン等が好ましく、更に溶解性を考慮すると、フェニルテトラアニリン、フェニルペンタアニリンがより好ましい。
上記オリゴアニリン誘導体の合成法としては、特に限定されないが、例えば、ブレティン・オブ・ケミカル・ソサエティ・オブ・ジャパン(Bulletin of Chemical Society of Japan)、1994年、第67巻、p.1749−1752、及びシンセティック・メタルズ(Synthetic Metals)、米国、1997年、第84巻、p.119−120に記載されている方法を用いることができる。
上記オリゴアニリン誘導体の合成法としては、特に限定されないが、例えば、ブレティン・オブ・ケミカル・ソサエティ・オブ・ジャパン(Bulletin of Chemical Society of Japan)、1994年、第67巻、p.1749−1752、及びシンセティック・メタルズ(Synthetic Metals)、米国、1997年、第84巻、p.119−120に記載されている方法を用いることができる。
電荷輸送性物質であるオリゴアニリン化合物の電荷輸送能等を向上させるために、必要に応じて用いられる電荷受容性ドーパント物質としては、正孔輸送性物質に対しては電子受容性ドーパント物質を、電子輸送性物質に対しては正孔受容性ドーパント物質を用いることができるが、いずれも高い電荷受容性を有することが好ましい。
電子受容性ドーパント物質の具体例としては、塩化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機強酸;塩化アルミニウム(III)(AlCl3)、四塩化チタン(IV)(TiCl4)、三臭化ホウ素(BBr3)、三フッ化ホウ素エーテル錯体(BF3・OEt2)、塩化鉄(III)(FeCl3)、塩化銅(II)(CuCl2)、五塩化アンチモン(V)(SbCl5)、五フッ化ヒ素(V)(AsF5)、五フッ化リン(PF5)、トリス(4−ブロモフェニル)アルミニウムヘキサクロロアンチモナート(TBPAH)等のルイス酸;ベンゼンスルホン酸、トシル酸、カンファスルホン酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、国際公開第2005/000832号パンフレットに記載されている1,4−ベンゾジオキサンジスルホン酸誘導体、国際公開第2006/025342号パンフレットに記載されているアリールスルホン酸誘導体、特開2005−108828号公報に記載されているジノニルナフタレンスルホン酸誘導体等の有機強酸;7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン(TCNQ)、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノン(DDQ)、ヨウ素等の有機又は無機酸化剤を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
特に好ましい電子受容性ドーパント物質としては、5−スルホサリチル酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、国際公開第2005/000832号パンフレットに記載されている1,4−ベンゾジオキサンジスルホン酸誘導体、特開2005−108828号公報に記載されているジノニルナフタレンスルホン酸誘導体等の有機強酸である電子受容性ドーパント物質を挙げることができる。
正孔受容性ドーパントの具体例としては、アルカリ金属(Li,Na,K,Cs)、リチウムキノリノラート(Liq)及びリチウムアセチルアセトナート(Li(acac))等の金属錯体が挙げられるが、これに限定されるものではない。
これらの電荷受容性ドーパント物質は1種類のみを使用してもよく、また2種類以上の物質を組み合わせて使用してもよい。
これらの電荷受容性ドーパント物質は1種類のみを使用してもよく、また2種類以上の物質を組み合わせて使用してもよい。
本発明の電荷輸送性組成物は、さらに、上述したポリイミド(前駆体)中の酸化還元部位と電荷移動錯体を形成する電子受容物質を含んでいてもよい。この電子受容物質を含むことで、ポリイミド(前駆体)の電気伝導性が向上し、当該組成物から得られる薄膜を備えた有機EL素子特性がより向上する。
電子受容物質としては、例えば、式(21)で示されるテトラシアノキノジメタン誘導体、p−ベンゾキノン誘導体、テトラシアノエチレン誘導体等が挙げられる。
電子受容物質としては、例えば、式(21)で示されるテトラシアノキノジメタン誘導体、p−ベンゾキノン誘導体、テトラシアノエチレン誘導体等が挙げられる。
上記R47〜R50の具体例としては、R5〜R35の具体例として上述したものと同じ基が挙げられる。
テトラシアノキノジメタン誘導体の具体例としては、7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン(22)、テトラフルオロテトラシアノキノジメタン(26)、2−フルオロ−7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン(24)、2,5−ジメチル−7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン(23)、2,5−ジフルオロ−7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン(25)、2,5−ビス(2−ヒドロキシエトキシ)−7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン(27)、11,11,12,12−テトラシアノナフト−2,6−キノジメタン等が挙げられる。
p−ベンゾキノン誘導体の具体例としては、p−ベンゾキノン、2,6−ナフトキノン、ジフェノキノン等が挙げられる。
テトラシアノエチレン誘導体の具体例としては、テトラシアノエチレン、ヘキサシアノ−1,3−ブタジエン、ヘキサシアノシクロプロパン等が挙げられる。
p−ベンゾキノン誘導体の具体例としては、p−ベンゾキノン、2,6−ナフトキノン、ジフェノキノン等が挙げられる。
テトラシアノエチレン誘導体の具体例としては、テトラシアノエチレン、ヘキサシアノ−1,3−ブタジエン、ヘキサシアノシクロプロパン等が挙げられる。
本発明の電荷輸送性組成物における電荷輸送性物質とポリイミド(前駆体)との配合割合は、特に限定されるものではないが、得られる薄膜の導電性及び可視領域での透過率のバランスを考慮すると、電荷輸送性物質:ポリイミド(前駆体)=100:0.01〜100:30(質量比)が好ましく、特に、100:0.1〜100:10(質量比)がより好ましい。
また、電荷受容性ドーパントを用いる場合、その配合量は特に限定されるものではないが、電荷輸送性物質の電荷輸送性部位であるアミノ基に対して、スルホン酸基が0.1〜10モル%が好ましく、1〜5モル%がより好ましい。
さらに、ポリイミド(前駆体)中の酸化還元部位と電荷移動錯体を形成する電子受容物質を用いる場合、その配合量は特に限定されるものではないが、ポリイミド(前駆体)中の酸化還元部位1molに対して0.01〜10molが好ましく、0.1〜5molがより好ましい。
また、電荷受容性ドーパントを用いる場合、その配合量は特に限定されるものではないが、電荷輸送性物質の電荷輸送性部位であるアミノ基に対して、スルホン酸基が0.1〜10モル%が好ましく、1〜5モル%がより好ましい。
さらに、ポリイミド(前駆体)中の酸化還元部位と電荷移動錯体を形成する電子受容物質を用いる場合、その配合量は特に限定されるものではないが、ポリイミド(前駆体)中の酸化還元部位1molに対して0.01〜10molが好ましく、0.1〜5molがより好ましい。
本発明の電荷輸送性組成物は、溶媒と混合して電荷輸送性ワニスとして用いることもできる。
電荷輸送性ワニスを調製する際に用いられる溶媒としては、電荷輸送性組成物の構成成分を良好に溶解し得る高溶解性溶媒を用いることができる。このような高溶解性溶媒としては、例えば、水;メタノール、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、トルエン等の有機溶媒を用いることができる。これらの溶媒は1種単独で、又は2種以上混合して用いることができ、その使用量は、ワニスに使用する溶媒全体に対して5〜100質量%とすることができる。
なお、電荷輸送性ワニスとする場合、電荷輸送性組成物を構成する各材料が、溶媒に完全に溶解しているか、均一に分散している状態となっていることが好ましい。
電荷輸送性ワニスを調製する際に用いられる溶媒としては、電荷輸送性組成物の構成成分を良好に溶解し得る高溶解性溶媒を用いることができる。このような高溶解性溶媒としては、例えば、水;メタノール、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、トルエン等の有機溶媒を用いることができる。これらの溶媒は1種単独で、又は2種以上混合して用いることができ、その使用量は、ワニスに使用する溶媒全体に対して5〜100質量%とすることができる。
なお、電荷輸送性ワニスとする場合、電荷輸送性組成物を構成する各材料が、溶媒に完全に溶解しているか、均一に分散している状態となっていることが好ましい。
また、本発明の電荷輸送性ワニスは、20℃で10〜200mPa・s、特に50〜150mPa・sの粘度を有し、常圧で沸点50〜300℃、特に150〜250℃の高粘度有機溶媒を、少なくとも1種含有することが好適である。
上記高粘度有機溶媒としては、特に限定されるものではなく、例えば、シクロヘキサノール、エチレングリコール、エチレングリコールジクリシジルエーテル、1,3−オクチレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、1,3−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、プロピレングリコール、へキシレングリコール等が挙げられる。
本発明のワニスに用いられる溶媒全体に対する高粘度有機溶媒の添加割合は、固体が析出しない範囲内であることが好ましく、固体が析出しない限りにおいて、添加割合は、5〜80質量%であることが好ましい。
上記高粘度有機溶媒としては、特に限定されるものではなく、例えば、シクロヘキサノール、エチレングリコール、エチレングリコールジクリシジルエーテル、1,3−オクチレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、1,3−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、プロピレングリコール、へキシレングリコール等が挙げられる。
本発明のワニスに用いられる溶媒全体に対する高粘度有機溶媒の添加割合は、固体が析出しない範囲内であることが好ましく、固体が析出しない限りにおいて、添加割合は、5〜80質量%であることが好ましい。
さらに、基板に対する濡れ性の向上、溶媒の表面張力の調整、極性の調整、沸点の調整等の目的で、焼成時に膜の平坦性を付与し得るその他の溶媒を、ワニスに使用する溶媒全体に対して1〜90質量%、好ましくは1〜50質量%の割合で混合することもできる。
このような溶媒としては、例えば、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチルカルビトール、ジアセトンアルコール、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
このような溶媒としては、例えば、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチルカルビトール、ジアセトンアルコール、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
以上で説明した電荷輸送性ワニスを基材上に塗布し、溶媒を蒸発させることで基材上に電荷輸送性薄膜を形成させることができる。
ワニスの塗布方法としては、特に限定されるものではなく、ディップ法、スピンコート法、転写印刷法、ロールコート法、刷毛塗り、インクジェット法、スプレー法等が挙げられる。
溶媒の蒸発法としては、特に限定されるものではなく、例えば、ホットプレートやオーブンを用いて、適切な雰囲気下、すなわち大気、窒素等の不活性ガス、真空中等で蒸発させればよい。これにより、均一な成膜面を有する薄膜を得ることが可能である。
焼成温度は、溶媒を蒸発させることができれば特に限定されないが、40〜250℃で行うことが好ましい。この場合、より高い均一成膜性を発現させたり、基材上で反応を進行させたりする目的で、2段階以上の温度変化をつけてもよい。
ワニスの塗布方法としては、特に限定されるものではなく、ディップ法、スピンコート法、転写印刷法、ロールコート法、刷毛塗り、インクジェット法、スプレー法等が挙げられる。
溶媒の蒸発法としては、特に限定されるものではなく、例えば、ホットプレートやオーブンを用いて、適切な雰囲気下、すなわち大気、窒素等の不活性ガス、真空中等で蒸発させればよい。これにより、均一な成膜面を有する薄膜を得ることが可能である。
焼成温度は、溶媒を蒸発させることができれば特に限定されないが、40〜250℃で行うことが好ましい。この場合、より高い均一成膜性を発現させたり、基材上で反応を進行させたりする目的で、2段階以上の温度変化をつけてもよい。
上記電荷輸送性薄膜の膜厚は、特に限定されないが、有機EL素子内で電荷注入層として用いる場合、5〜200nmであることが望ましい。膜厚を変化させる方法としては、ワニス中の固形分濃度を変化させたり、塗布時の基板上の溶液量を変化させたりする等の方法がある。
本発明の電荷輸送性ワニスを用いてOLED素子を作製する場合の使用材料や作製方法としては、下記のようなものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
使用する電極基板は、洗剤、アルコール、純水等による液体洗浄を予め行って浄化しておくことが好ましく、例えば、陽極基板では使用直前にオゾン処理、酸素−プラズマ処理等の表面処理を行うことが好ましい。ただし、陽極材料が有機物を主成分とする場合、表面処理を行わなくともよい。
使用する電極基板は、洗剤、アルコール、純水等による液体洗浄を予め行って浄化しておくことが好ましく、例えば、陽極基板では使用直前にオゾン処理、酸素−プラズマ処理等の表面処理を行うことが好ましい。ただし、陽極材料が有機物を主成分とする場合、表面処理を行わなくともよい。
正孔輸送性ワニスをOLED素子に使用する場合、以下の方法を挙げることができる。
陽極基板上に当該正孔輸送性ワニスを塗布し、上記の方法により蒸発、焼成を行い、電極上に正孔輸送性薄膜を作製する。これを真空蒸着装置内に導入し、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、陰極金属を順次蒸着してOLED素子とする。発光領域をコントロールするために任意の層間にキャリアブロック層を設けてもよい。
陽極材料としては、インジウム錫酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)に代表される透明電極が挙げられ、平坦化処理を行ったものが好ましい。高電荷輸送性を有するポリチオフェン誘導体やポリアニリン誘導体を用いることもできる。
陽極基板上に当該正孔輸送性ワニスを塗布し、上記の方法により蒸発、焼成を行い、電極上に正孔輸送性薄膜を作製する。これを真空蒸着装置内に導入し、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、陰極金属を順次蒸着してOLED素子とする。発光領域をコントロールするために任意の層間にキャリアブロック層を設けてもよい。
陽極材料としては、インジウム錫酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)に代表される透明電極が挙げられ、平坦化処理を行ったものが好ましい。高電荷輸送性を有するポリチオフェン誘導体やポリアニリン誘導体を用いることもできる。
正孔輸送層を形成する材料としては、(トリフェニルアミン)ダイマー誘導体(TPD)、(α−ナフチルジフェニルアミン)ダイマー(α−NPD)、[(トリフェニルアミン)ダイマー]スピロダイマー(Spiro−TAD)等のトリアリールアミン類、4,4’,4’’−トリス[3−メチルフェニル(フェニル)アミノ]トリフェニルアミン(m−MTDATA)、4,4’,4’’−トリス[1−ナフチル(フェニル)アミノ]トリフェニルアミン(1−TNATA)等のスターバーストアミン類、5,5’’−ビス−{4−[ビス(4−メチルフェニル)アミノ]フェニル}−2,2’:5’,2’’−ターチオフェン(BMA−3T)等のオリゴチオフェン類を挙げることができる。
発光層を形成する材料としては、トリス(8−キノリノラート)アルミニウム(III)(Alq3)、ビス(8−キノリノラート)亜鉛(II)(Znq2)、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(p−フェニルフェノラート)アルミニウム(III)(BAlq)及び4,4’−ビス(2,2−ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)等が挙げられ、電子輸送材料又は正孔輸送材料と発光性ドーパントとを共蒸着することによって、発光層を形成してもよい。
電子輸送材料としては、Alq3、BAlq、DPVBi、(2−(4−ビフェニル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール)(PBD)、トリアゾール誘導体(TAZ)、バソクプロイン(BCP)、シロール誘導体等が挙げられる。
電子輸送材料としては、Alq3、BAlq、DPVBi、(2−(4−ビフェニル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール)(PBD)、トリアゾール誘導体(TAZ)、バソクプロイン(BCP)、シロール誘導体等が挙げられる。
発光性ドーパントとしては、キナクリドン、ルブレン、クマリン540、4−(ジシアノメチレン)−2−メチル−6−(p−ジメチルアミノスチリル)−4H−ピラン(DCM)、トリス(2−フェニルピリジン)イリジウム(III)(Ir(ppy)3)、(1,10−フェナントロリン)−トリス(4,4,4−トリフルオロ−1−(2−チエニル)−ブタン−1,3−ジオナート)ユーロピウム(III)(Eu(TTA)3phen)等が挙げられる。
キャリアブロック層を形成する材料としては、PBD、TAZ、BCP等が挙げられる。
電子注入層を形成する材料としては、酸化リチウム(Li2O)、酸化マグネシウム(MgO)、アルミナ(Al2O3)、フッ化リチウム(LiF)、フッ化マグネシウム(MgF2)、フッ化ストロンチウム(SrF2)、Liq、Li(acac)、酢酸リチウム、安息香酸リチウム等が挙げられる。
陰極材料としては、アルミニウム、マグネシウム−銀合金、アルミニウム−リチウム合金、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム等が挙げられる。
電子注入層を形成する材料としては、酸化リチウム(Li2O)、酸化マグネシウム(MgO)、アルミナ(Al2O3)、フッ化リチウム(LiF)、フッ化マグネシウム(MgF2)、フッ化ストロンチウム(SrF2)、Liq、Li(acac)、酢酸リチウム、安息香酸リチウム等が挙げられる。
陰極材料としては、アルミニウム、マグネシウム−銀合金、アルミニウム−リチウム合金、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム等が挙げられる。
また、電子輸送性ワニスをOLED素子に使用する場合、以下の方法を挙げることができる。
陰極基板上に当該電子輸送性ワニスを塗布して電子輸送性薄膜を作製し、これを真空蒸着装置内に導入し、上記と同様の材料を用いて電子輸送層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層を形成した後、陽極材料をスパッタリング等の方法により成膜してOLED素子とする。
陰極基板上に当該電子輸送性ワニスを塗布して電子輸送性薄膜を作製し、これを真空蒸着装置内に導入し、上記と同様の材料を用いて電子輸送層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層を形成した後、陽極材料をスパッタリング等の方法により成膜してOLED素子とする。
本発明の電荷輸送性ワニスを用いたPLED素子の作製方法は、特に限定されないが、以下の方法が挙げられる。
上記OLED素子作製において、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層の真空蒸着操作を行う代わりに、発光性電荷輸送性高分子層を形成することによって本発明の電荷輸送性ワニスによって形成される電荷輸送性薄膜を含むPLED素子を作製することができる。
具体的には、陽極基板上に、電荷輸送性ワニス(正孔輸送性ワニス)を塗布して上記の方法により正孔輸送性薄膜を作製し、その上部に発光性電荷輸送性高分子層を形成し、さらに陰極電極を蒸着してPLED素子とする。
あるいは、陰極基板上に、電荷輸送性ワニス(電子輸送性ワニス)を塗布して上記の方法により電子輸送性薄膜を作製し、その上部に発光性電荷輸送性高分子層を形成し、さらにスパッタリング、蒸着、スピンコート等の方法により陽極電極を作製してPLED素子とする。
上記OLED素子作製において、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層の真空蒸着操作を行う代わりに、発光性電荷輸送性高分子層を形成することによって本発明の電荷輸送性ワニスによって形成される電荷輸送性薄膜を含むPLED素子を作製することができる。
具体的には、陽極基板上に、電荷輸送性ワニス(正孔輸送性ワニス)を塗布して上記の方法により正孔輸送性薄膜を作製し、その上部に発光性電荷輸送性高分子層を形成し、さらに陰極電極を蒸着してPLED素子とする。
あるいは、陰極基板上に、電荷輸送性ワニス(電子輸送性ワニス)を塗布して上記の方法により電子輸送性薄膜を作製し、その上部に発光性電荷輸送性高分子層を形成し、さらにスパッタリング、蒸着、スピンコート等の方法により陽極電極を作製してPLED素子とする。
使用する陰極及び陽極材料としては、上記OLED素子作製時と同様の物質が使用でき、同様の洗浄処理、表面処理を行うことができる。
発光性電荷輸送性高分子層の形成法としては、発光性電荷輸送性高分子材料又はこれに発光性ドーパントを加えた材料に溶媒を加えて溶解するか均一に分散し、正孔注入層を形成してある電極基板に塗布した後、溶媒の蒸発により成膜する方法が挙げられる。
発光性電荷輸送性高分子材料としては、ポリ(9,9−ジアルキルフルオレン)(PDAF)等のポリフルオレン誘導体、ポリ(2−メトキシ−5−(2’−エチルヘキソキシ)−1,4−フェニレンビニレン)(MEH−PPV)等のポリフェニレンビニレン誘導体、ポリ(3−アルキルチオフェン)(PAT)等のポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール(PVCz)等を挙げることができる。
発光性電荷輸送性高分子層の形成法としては、発光性電荷輸送性高分子材料又はこれに発光性ドーパントを加えた材料に溶媒を加えて溶解するか均一に分散し、正孔注入層を形成してある電極基板に塗布した後、溶媒の蒸発により成膜する方法が挙げられる。
発光性電荷輸送性高分子材料としては、ポリ(9,9−ジアルキルフルオレン)(PDAF)等のポリフルオレン誘導体、ポリ(2−メトキシ−5−(2’−エチルヘキソキシ)−1,4−フェニレンビニレン)(MEH−PPV)等のポリフェニレンビニレン誘導体、ポリ(3−アルキルチオフェン)(PAT)等のポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール(PVCz)等を挙げることができる。
溶媒としては、トルエン、キシレン、クロロホルム等を挙げることができ、溶解又は均一分散法としては攪拌、加熱攪拌、超音波分散等の方法が挙げられる。
塗布方法としては、特に限定されるものではなく、インクジェット法、スプレー法、ディップ法、スピンコート法、転写印刷法、ロールコート法、刷毛塗り等が挙げられる。なお、塗布は、窒素、アルゴン等の不活性ガス下で行うことが望ましい。
溶媒の蒸発法としては、不活性ガス下又は真空中で、オーブン又はホットプレートで加熱する方法を挙げることができる。
塗布方法としては、特に限定されるものではなく、インクジェット法、スプレー法、ディップ法、スピンコート法、転写印刷法、ロールコート法、刷毛塗り等が挙げられる。なお、塗布は、窒素、アルゴン等の不活性ガス下で行うことが望ましい。
溶媒の蒸発法としては、不活性ガス下又は真空中で、オーブン又はホットプレートで加熱する方法を挙げることができる。
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。なお、実施例で用いた各測定装置は以下のとおりである。
[NMRスペクトル]
日本電子(株)製 ECP300(300MHz)
[膜厚測定]
日本真空技術(株)製 表面形状測定装置 DEKTAK3ST
[イオン化ポテンシャル(Ip)]
理研計器(株)製 光電子分光装置 AC−2
[サイクリックボルタンメトリー(以下、CVと略す)]
ビー・エー・エス(株)製 BAS100B
[原子間力顕微鏡(AFM)]
ビーコインスツルメンツ社製 ナノスコープIV型 ディメンション3100
[紫外−可視吸収スペクトル(UV−VIS)]
(株)島津製作所製 UV−3100PC
[ポリイミド(前駆体)の平均分子量測定]
昭和電工(株)製 Shodex GPC−104/101システム(溶媒:テトラヒドロフラン、検量線:標準ポリスチレン)
[スピンコート装置]
ミカサ(株)製 スピンコーター1H−DX2
[基板の表面処理]
(株)テクノビジョン製 UV−O3洗浄システム Model208
[OLED素子特性]
プレサイスゲージ(株)製 有機EL発光効率測定装置 EL1003
[NMRスペクトル]
日本電子(株)製 ECP300(300MHz)
[膜厚測定]
日本真空技術(株)製 表面形状測定装置 DEKTAK3ST
[イオン化ポテンシャル(Ip)]
理研計器(株)製 光電子分光装置 AC−2
[サイクリックボルタンメトリー(以下、CVと略す)]
ビー・エー・エス(株)製 BAS100B
[原子間力顕微鏡(AFM)]
ビーコインスツルメンツ社製 ナノスコープIV型 ディメンション3100
[紫外−可視吸収スペクトル(UV−VIS)]
(株)島津製作所製 UV−3100PC
[ポリイミド(前駆体)の平均分子量測定]
昭和電工(株)製 Shodex GPC−104/101システム(溶媒:テトラヒドロフラン、検量線:標準ポリスチレン)
[スピンコート装置]
ミカサ(株)製 スピンコーター1H−DX2
[基板の表面処理]
(株)テクノビジョン製 UV−O3洗浄システム Model208
[OLED素子特性]
プレサイスゲージ(株)製 有機EL発光効率測定装置 EL1003
[1]オリゴアニリン化合物の合成
[合成例1]
下記式(28)に示すフェニルテトラアニリン(PTA)は、ブレティン・オブ・ケミカル・ソサエティ・オブ・ジャパン(Bulletin of Chemical Society of Japan)、1994年、第67巻、p.1749−1752に従って、p−ヒドロキシジフェニルアミンとp−フェニレンジアミンとから合成した(薄青色固体、収率85%)。
[合成例1]
下記式(28)に示すフェニルテトラアニリン(PTA)は、ブレティン・オブ・ケミカル・ソサエティ・オブ・ジャパン(Bulletin of Chemical Society of Japan)、1994年、第67巻、p.1749−1752に従って、p−ヒドロキシジフェニルアミンとp−フェニレンジアミンとから合成した(薄青色固体、収率85%)。
得られたPTA20g(0.0452mmol)と、活性炭2g(PTAに対して10質量%)と、超音波を用いて脱気した脱水1,4−ジオキサン500gとを窒素雰囲気下にて1Lの三つ口丸底フラスコに加えた。次いで、オイルバスを使用して内温を90℃に保持したまま、1時間加熱攪拌し、PTAを完全に溶解させた。その後、桐山ロートS−60、桐山ろ紙3C、固定相としてセライトを用いて、温度コントローラ付き水循環装置を90℃に保温したまま熱時ろ過を行い、活性炭を除去した。ろ液は内温が20℃になるまで放冷した。放冷後、PTAが析出した薄紫色溶液を反応容器に入れたままグローブボックスに移し、相対湿度が5%になるまで窒素フローを行った。相対湿度5%を保持し、グローブボックス中で析出したPTAを吸引ろ過した。ブフナーロート上のPTAを1,4−ジオキサン200mL、脱水トルエン200mL、ジエチルエーテル200mLで順次洗浄した。グローブボックス中、フッ素樹脂ミクロスパーテルでPTAを100mL丸底フラスコに移し取り、3方コックを用いて減圧後、窒素パージした。その後、120℃に保持した真空乾燥機中で24時間減圧乾燥して白色固体のPTA19.34gが得られた。回収率は96%であった。
なお、脱水1,4−ジオキサンは関東化学製、ヒドラジン一水和物は和光純薬(株)製、活性炭素は純正化学(株)製、セライトは純正化学(株)製(セライト545)を使用した。
なお、脱水1,4−ジオキサンは関東化学製、ヒドラジン一水和物は和光純薬(株)製、活性炭素は純正化学(株)製、セライトは純正化学(株)製(セライト545)を使用した。
[2]ジアミンの合成
[合成例2]1−フェロセニルメチル−3,5−ジアミノベンゾエート(29)(mMFcBeDA)の合成
[合成例2]1−フェロセニルメチル−3,5−ジアミノベンゾエート(29)(mMFcBeDA)の合成
窒素置換した三つ口フラスコに、ヒドロキシメチルフェロセン3.0g(13.9mmol)、トリエチルアミン2.11g(20.8mmol)、及びTHF20mLを加え、氷浴下で10分間攪拌後、3,5−ジニトロベンゾイルクロリド3.84g(16.7mmol)のTHF溶液(30mL)を徐々に滴下した。1時間攪拌後、徐々に室温に戻し、さらに12時間攪拌を行った。この溶液に水を加え、酢酸エチルを用いて抽出を行った(100mL×5回)。その後、有機層を3質量%炭酸水素ナトリウム水溶液、1質量%酢酸水溶液、水で順次洗浄し、脱水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去後、赤褐色粉末を得た。これを熱ヘキサンにて洗浄乾燥後、ヘキサン:酢酸エチル=2:1(体積比)で再結晶を行い、赤褐色微結晶4.68gを得た(収率:82.2%)。以下の1H−NMRスペクトルデータから、目的のジニトロ体が得られていることが確認された。
1H−NMR(CDCl3):δ 9.20(t,1H), 9.12(d,2H), 5.28(s,2H), 4.39(t,2H), 4.25(t,2H), 4.22(s,5H) ppm.
1H−NMR(CDCl3):δ 9.20(t,1H), 9.12(d,2H), 5.28(s,2H), 4.39(t,2H), 4.25(t,2H), 4.22(s,5H) ppm.
窒素置換したナスフラスコに、上記合成したジニトロ体4.00g(9.76mmol)、1,4−ジオキサン70mL、5質量%Pd/C含水0.40g(ジニトロ体に対して10質量%)を加え、脱気、窒素置換後、水素ガスを導入した。水素雰囲気下、室温で48時間反応させ、薄層クロマトグラフィによって原料及び中間体の消失を確認した。その後、反応溶液をセライトろ過してPd/Cを除去し、減圧下でろ液中の溶媒を留去した。得られた固体をヘキサン:酢酸エチル=1:1(体積比)の混合溶液で再結晶し、黄色粉末1.89g(収率:55.3%)を得た。以下の1H−NMRスペクトルデータから、目的のmMFcBeDA(29)が得られたことが確認された。
1H−NMR(DMSO−d6):δ 6.40(d,2H), 5.99(t,1H), 4.99(t,6H), 4.34(t,2H), 4.21(m,7H)ppm.
1H−NMR(DMSO−d6):δ 6.40(d,2H), 5.99(t,1H), 4.99(t,6H), 4.34(t,2H), 4.21(m,7H)ppm.
[3]ポリアミド酸の合成
[合成例3]PAA−1の合成
100mLの三つ口フラスコに、mMFcBeDA1.7510g(5mmol)を加え、窒素気流下でN−メチル−2−ピロリドン(NMP)5.00gを加えて溶解させた。次いで、反応容器を水浴に浸し、発熱反応に備えた後、下記式(30)で示されるシクロブタンテトラカルボン酸二無水物(CBDA)0.9021g(4.6mmol;ジアミン1molに対して0.92molの酸二無水物)をNMP10.034gに懸濁させて調製したスラリー溶液を少量ずつ加えて重合させ、23℃、24時間後、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸(PAA−1)の2.65質量%NMP溶液を得た(黄赤色透明粘ちょう性溶液)。得られたPAA−1の数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)は、それぞれMn=15,446及びMw=25,134であった。
[合成例3]PAA−1の合成
100mLの三つ口フラスコに、mMFcBeDA1.7510g(5mmol)を加え、窒素気流下でN−メチル−2−ピロリドン(NMP)5.00gを加えて溶解させた。次いで、反応容器を水浴に浸し、発熱反応に備えた後、下記式(30)で示されるシクロブタンテトラカルボン酸二無水物(CBDA)0.9021g(4.6mmol;ジアミン1molに対して0.92molの酸二無水物)をNMP10.034gに懸濁させて調製したスラリー溶液を少量ずつ加えて重合させ、23℃、24時間後、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸(PAA−1)の2.65質量%NMP溶液を得た(黄赤色透明粘ちょう性溶液)。得られたPAA−1の数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)は、それぞれMn=15,446及びMw=25,134であった。
[合成例4]PAA−2の合成
100mLの三つ口フラスコに、mMFcBeDA0.2451g(0.7mmol)とp−フェニレンジアミン(p−PDA)0.6813g(6.3mmol)とを加え、さらに、窒素気流下でNMP5.00gを加えて溶解させた。次いで、反応容器を水浴に浸し、発熱反応に備えた後、CBDA1.2629g(6.44mmol;ジアミン1molに対して0.92molの酸二無水物)をNMP7.406gに懸濁させて調製したスラリー溶液を少量ずつ加えて重合させ、23℃、24時間後、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸(PAA−2)の2.19質量%NMP溶液を得た(赤褐色透明粘ちょう性溶液)。得られたPAA−2の数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)は、それぞれMn=11,477及びMw=23,050であった。
100mLの三つ口フラスコに、mMFcBeDA0.2451g(0.7mmol)とp−フェニレンジアミン(p−PDA)0.6813g(6.3mmol)とを加え、さらに、窒素気流下でNMP5.00gを加えて溶解させた。次いで、反応容器を水浴に浸し、発熱反応に備えた後、CBDA1.2629g(6.44mmol;ジアミン1molに対して0.92molの酸二無水物)をNMP7.406gに懸濁させて調製したスラリー溶液を少量ずつ加えて重合させ、23℃、24時間後、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸(PAA−2)の2.19質量%NMP溶液を得た(赤褐色透明粘ちょう性溶液)。得られたPAA−2の数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)は、それぞれMn=11,477及びMw=23,050であった。
[比較合成例1]PAA−3の合成
100mLの三つ口フラスコに、下記式(31)に示される3,5−ジアミノ安息香酸デシル(BPC10)1.4621g(5mmol)を加え、窒素気流下でNMP5.00gを加えて溶解させた。次いで、反応容器を水浴に浸し、発熱反応に備えた後、CBDA0.9021g(4.6mmol;ジアミン1molに対して0.92molの酸二無水物)をNMP8.3797gに懸濁させて調製したスラリー溶液を少量ずつ加えて重合させ、23℃、24時間後、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸(PAA−3)の2.36質量%NMP溶液を得た(褐色透明粘ちょう性溶液)。得られたPAA−3の数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)は、それぞれMn=5,260及びMw=9,122であった。
100mLの三つ口フラスコに、下記式(31)に示される3,5−ジアミノ安息香酸デシル(BPC10)1.4621g(5mmol)を加え、窒素気流下でNMP5.00gを加えて溶解させた。次いで、反応容器を水浴に浸し、発熱反応に備えた後、CBDA0.9021g(4.6mmol;ジアミン1molに対して0.92molの酸二無水物)をNMP8.3797gに懸濁させて調製したスラリー溶液を少量ずつ加えて重合させ、23℃、24時間後、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸(PAA−3)の2.36質量%NMP溶液を得た(褐色透明粘ちょう性溶液)。得られたPAA−3の数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)は、それぞれMn=5,260及びMw=9,122であった。
PAA−1〜3について、下記手法によりCVを測定した。結果を図1に示す。
[CV測定法]
作用電極にITO電極を、対極電極に白金ワイヤーを、参照電極に銀/塩化銀電極を、電解液に0.1M塩化カリウム水溶液を用いた。測定対象のPAA−1〜3は、それぞれ作用電極のITO上にスピンコート法で成膜した。成膜後、ウェット膜はホットプレート上、80℃で5分間、次いでオーブンにて230℃で30分間焼成した。
CVは、溶液中に窒素を60分間バブリングさせ、溶存酸素を除いた後、Init Eを900mV、High Eを900mV、Low Eを300mV、初期のスキャン方向をポジティブ、Scan Rateを100mV、Segmentを2、感度を20μA/Vとして測定した。得られたサイクリックボルタモグラムを図1に示す。
[CV測定法]
作用電極にITO電極を、対極電極に白金ワイヤーを、参照電極に銀/塩化銀電極を、電解液に0.1M塩化カリウム水溶液を用いた。測定対象のPAA−1〜3は、それぞれ作用電極のITO上にスピンコート法で成膜した。成膜後、ウェット膜はホットプレート上、80℃で5分間、次いでオーブンにて230℃で30分間焼成した。
CVは、溶液中に窒素を60分間バブリングさせ、溶存酸素を除いた後、Init Eを900mV、High Eを900mV、Low Eを300mV、初期のスキャン方向をポジティブ、Scan Rateを100mV、Segmentを2、感度を20μA/Vとして測定した。得られたサイクリックボルタモグラムを図1に示す。
図1に示されるように、ポリイミド鎖にフェロセンユニットを有するPAA−1及びフェロセンユニットを共重合体として組み入れたPAA−2では、それぞれ0.55V及び0.75V付近に酸化ピーク及び還元ピークが確認できた。
一方、フェロセンユニットを有しないPAA−3は、測定レンジの中に酸化波及び還元波は確認されなかった。
この結果から、フェロセンユニットを含むポリイミドを電荷輸送性材料に加えることで、電荷輸送性材料に別の新たな酸化還元機能を付与できることがわかった。また、フェロセンユニットを有するポリイミドを含む組成物に、フェロセンユニットと電荷輸送性錯体を構成し得る別の電子受容体をさらに加えることで、ITOと隣接する有機膜との界面で多段階酸化還元機能を持たせられることが示唆された。
一方、フェロセンユニットを有しないPAA−3は、測定レンジの中に酸化波及び還元波は確認されなかった。
この結果から、フェロセンユニットを含むポリイミドを電荷輸送性材料に加えることで、電荷輸送性材料に別の新たな酸化還元機能を付与できることがわかった。また、フェロセンユニットを有するポリイミドを含む組成物に、フェロセンユニットと電荷輸送性錯体を構成し得る別の電子受容体をさらに加えることで、ITOと隣接する有機膜との界面で多段階酸化還元機能を持たせられることが示唆された。
[4]電荷輸送性組成物(ワニス)の製造
[実施例1]ワニスS1の調製
合成例1で得られたPTA0.0664gに下記式(32)で示されるNSO−2を0.2709g(PTAに対して2モル当量)加え、これにNMP8.0952gを加え、窒素雰囲気下で完全に溶解させた。(薄緑色透明溶液)
この溶液に、ポリアミド酸が総固形分量の10質量%になるように、合成例3で得られたPAA−1のNMP溶液を1.2714g加え、さらにシクロヘキサノール(CHA)2.6638gを加えて攪拌し、固形分濃度3質量%のワニスS1を調製した。(黄黒色透明溶液)
なお、NSO−2は、国際公開第2006/025342号パンフレットに従って合成した(収率81%)。
[実施例1]ワニスS1の調製
合成例1で得られたPTA0.0664gに下記式(32)で示されるNSO−2を0.2709g(PTAに対して2モル当量)加え、これにNMP8.0952gを加え、窒素雰囲気下で完全に溶解させた。(薄緑色透明溶液)
この溶液に、ポリアミド酸が総固形分量の10質量%になるように、合成例3で得られたPAA−1のNMP溶液を1.2714g加え、さらにシクロヘキサノール(CHA)2.6638gを加えて攪拌し、固形分濃度3質量%のワニスS1を調製した。(黄黒色透明溶液)
なお、NSO−2は、国際公開第2006/025342号パンフレットに従って合成した(収率81%)。
[実施例2]ワニスS2の調製
合成例1で得られたPTA0.0664gにNSO−2を0.2709g(PTAに対して2モル当量)加え、これにNMP8.0952gを加え、窒素雰囲気下で完全に溶解させた。(薄緑色透明溶液)
この溶液に、ポリアミド酸が総固形分量の10質量%になるように、合成例4で得られたPAA−2のNMP溶液を1.5407g加え、さらにCHA2.3945gを加えて攪拌することで、固形分濃度3質量%のワニスS2を調製した。(赤褐色透明溶液)
合成例1で得られたPTA0.0664gにNSO−2を0.2709g(PTAに対して2モル当量)加え、これにNMP8.0952gを加え、窒素雰囲気下で完全に溶解させた。(薄緑色透明溶液)
この溶液に、ポリアミド酸が総固形分量の10質量%になるように、合成例4で得られたPAA−2のNMP溶液を1.5407g加え、さらにCHA2.3945gを加えて攪拌することで、固形分濃度3質量%のワニスS2を調製した。(赤褐色透明溶液)
[比較例1]ワニスS3の調製
合成例1で得られたPTA0.0664gにNSO−2を0.2709g(PTAに対して2モル当量)加え、これにNMP8.0952gを加え、窒素雰囲気下で完全に溶解させた。(薄緑色透明溶液)
この溶液に、ポリアミド酸が総固形分量の10質量%になるように、比較合成例1で得られたPAA−3のNMP溶液を1.4267g加え、さらにCHA2.5085gを加えて攪拌することで、固形分濃度3質量%のワニスS3を調製した。(緑褐色透明溶液)
合成例1で得られたPTA0.0664gにNSO−2を0.2709g(PTAに対して2モル当量)加え、これにNMP8.0952gを加え、窒素雰囲気下で完全に溶解させた。(薄緑色透明溶液)
この溶液に、ポリアミド酸が総固形分量の10質量%になるように、比較合成例1で得られたPAA−3のNMP溶液を1.4267g加え、さらにCHA2.5085gを加えて攪拌することで、固形分濃度3質量%のワニスS3を調製した。(緑褐色透明溶液)
[実施例3]ワニスT1の調製
実施例1で調製した電荷輸送性ワニスS1に、電子受容体であるテトラフルオロテトラシアノキノジメタン(4F−TCNQ)を、S1のポリマー中のフェロセンユニットに対して1:1mol(1当量)となるように加え、ワニスT1を調製した。(濃緑色透明溶液)
実施例1で調製した電荷輸送性ワニスS1に、電子受容体であるテトラフルオロテトラシアノキノジメタン(4F−TCNQ)を、S1のポリマー中のフェロセンユニットに対して1:1mol(1当量)となるように加え、ワニスT1を調製した。(濃緑色透明溶液)
[実施例4]ワニスT2の調製
実施例2で調製した電荷輸送性ワニスS2に、4F−TCNQを、S2のポリマー中のフェロセンユニットに対して1:1mol(1当量)となるように加え、ワニスT2を調製した。(濃緑色透明溶液)
実施例2で調製した電荷輸送性ワニスS2に、4F−TCNQを、S2のポリマー中のフェロセンユニットに対して1:1mol(1当量)となるように加え、ワニスT2を調製した。(濃緑色透明溶液)
[比較例2]ワニスT3の調製
比較例1で調製した電荷輸送性ワニスS3に、実施例3と同量の4F−TCNQを加え、ワニスT3を調製した。(濃緑色透明溶液)
比較例1で調製した電荷輸送性ワニスS3に、実施例3と同量の4F−TCNQを加え、ワニスT3を調製した。(濃緑色透明溶液)
[比較例3]オリゴアニリン溶液の調製
合成例1で得られたPTA0.0664gにNSO−2を0.2709g(PTAに対して2モル当量)を加え、これにNMP10.9060gを加え、窒素雰囲気下で完全に溶解させ、固形分濃度3質量%のワニスを調製した。(薄緑色透明溶液)
合成例1で得られたPTA0.0664gにNSO−2を0.2709g(PTAに対して2モル当量)を加え、これにNMP10.9060gを加え、窒素雰囲気下で完全に溶解させ、固形分濃度3質量%のワニスを調製した。(薄緑色透明溶液)
[5]電荷輸送性薄膜の作製
[実施例5]
ワニスのスピンコートを行う直前まで40分間オゾン洗浄を行ったITOガラス基板上に、実施例3で調製した電荷輸送性ワニスT1を、スピンコート法により塗布し、空気中200℃で60分間焼成し、厚み30nmの正孔輸送性薄膜を成膜した。
[実施例5]
ワニスのスピンコートを行う直前まで40分間オゾン洗浄を行ったITOガラス基板上に、実施例3で調製した電荷輸送性ワニスT1を、スピンコート法により塗布し、空気中200℃で60分間焼成し、厚み30nmの正孔輸送性薄膜を成膜した。
[実施例6]
ワニスT2を用いた以外は、実施例5と同様にしてITO付きガラス基板上に厚み30nmの正孔輸送性薄膜を成膜した。
ワニスT2を用いた以外は、実施例5と同様にしてITO付きガラス基板上に厚み30nmの正孔輸送性薄膜を成膜した。
[比較例4]
ワニスT3を用いた以外は、実施例5と同様にしてITO付きガラス基板上に厚み30nmの正孔輸送性薄膜を成膜した。
ワニスT3を用いた以外は、実施例5と同様にしてITO付きガラス基板上に厚み30nmの正孔輸送性薄膜を成膜した。
[比較例5]
比較例3で調製したオリゴアニリン溶液を用いた以外は、実施例5と同様にして、ITO付きガラス基板上に厚み30nmの正孔輸送性薄膜を成膜した。
比較例3で調製したオリゴアニリン溶液を用いた以外は、実施例5と同様にして、ITO付きガラス基板上に厚み30nmの正孔輸送性薄膜を成膜した。
(1)CV測定
上記実施例5,6及び比較例4で得られた薄膜について、下記手法によりCVを測定した。実施例5及び6の薄膜のサイクリックボルタモグラムを図2に、比較例4の薄膜のサイクリックボルタモグラムを図3にそれぞれ示す。
[CV測定法]
実施例5,6及び比較例4で得られた正孔輸送性薄膜が形成されたITO電極を作用電極とした用いた以外は、上記と同様にしてCVを測定した。得られたサイクリックボルタモグラムを図2に示す。
上記実施例5,6及び比較例4で得られた薄膜について、下記手法によりCVを測定した。実施例5及び6の薄膜のサイクリックボルタモグラムを図2に、比較例4の薄膜のサイクリックボルタモグラムを図3にそれぞれ示す。
[CV測定法]
実施例5,6及び比較例4で得られた正孔輸送性薄膜が形成されたITO電極を作用電極とした用いた以外は、上記と同様にしてCVを測定した。得られたサイクリックボルタモグラムを図2に示す。
図2に示されるように、PTA、NSO−2、フェロセンユニットを含んだポリイミド化合物及び4F−TCNQを含む電荷輸送性ワニスT1及びT2から作製した電荷輸送性薄膜のサイクリックボルタモグラムは、図1に示されるフェロセンユニットに対応した0.55V及び0.75V付近に酸化ピーク及び還元ピークが完全に消失し、酸化側で新たなピークが出現した。具体的には、Positiveでは−0.1Vに、Negativeでは−0.6〜−0.8Vに多段階のピークが出現した。
一方、図3に示されるように、PTA、NSO−2、フェロセンユニットを含まないポリイミド化合物及び4F−TCNQを含む電荷輸送性ワニスT3から作製した電荷輸送性薄膜のサイクリックボルタモグラムは、−1.0V付近にピークが出現した。このピークはPTAとNSO−2のピークと考えられる。
図2及び図3の結果を総合して考えると、PTA、NSO−2、フェロセンユニットを含んだポリイミド化合物及び4F−TCNQを含む電荷輸送性ワニスT1及びT2から作製した電荷輸送性薄膜は、PTAとNSO−2とに帰属されると考えられるピーク及びフェロセンユニットに帰属されると考えられるピーク以外の領域に新たな多段階酸化還元ピークを有することがわかった。
一方、図3に示されるように、PTA、NSO−2、フェロセンユニットを含まないポリイミド化合物及び4F−TCNQを含む電荷輸送性ワニスT3から作製した電荷輸送性薄膜のサイクリックボルタモグラムは、−1.0V付近にピークが出現した。このピークはPTAとNSO−2のピークと考えられる。
図2及び図3の結果を総合して考えると、PTA、NSO−2、フェロセンユニットを含んだポリイミド化合物及び4F−TCNQを含む電荷輸送性ワニスT1及びT2から作製した電荷輸送性薄膜は、PTAとNSO−2とに帰属されると考えられるピーク及びフェロセンユニットに帰属されると考えられるピーク以外の領域に新たな多段階酸化還元ピークを有することがわかった。
(2)Ip測定
上記実施例5,6及び比較例3で得られた薄膜について、Ipを測定した。結果を表1に示す。
上記実施例5,6及び比較例3で得られた薄膜について、Ipを測定した。結果を表1に示す。
表1に示されるように、フェロセンユニットを含有したポリイミド化合物と4F−TCNQとを含有したワニスを用いて作製した電荷輸送性薄膜のIpは、フェロセンユニットを含有していないポリイミド化合物と4F−TCNQとを含有したワニスを用いて作製した電荷輸送性薄膜のIpと比較して大きくなっていることがわかった。
また、実施例5及び実施例6を比較すると、ポリイミド化合物を重合させるときに共重合比率を変更させることでIpをコントロールできることがわかった。
また、実施例5及び実施例6を比較すると、ポリイミド化合物を重合させるときに共重合比率を変更させることでIpをコントロールできることがわかった。
(3)表面粗さ測定
上記実施例5,6及び比較例5で得られた薄膜について、AFMにて、10×10μmの範囲を1Hzでタッピングモードにて走査して表面粗さを測定した。平均粗さ(Ra)及び最大粗さ(Rmax)の結果を表2に示す。
上記実施例5,6及び比較例5で得られた薄膜について、AFMにて、10×10μmの範囲を1Hzでタッピングモードにて走査して表面粗さを測定した。平均粗さ(Ra)及び最大粗さ(Rmax)の結果を表2に示す。
表2に示されるように、実施例5及び6で得られた薄膜のRaは、比較例5のRaよりも小さく、平坦性が高いことがわかった。
また、Rmaxの比較から、実施例5及び6で得られた薄膜は、比較例5で得られた薄膜よりも最大ラフネスが小さいことがわかった。
この結果は、ポリイミド化合物の添加により作製した薄膜の粘弾性が向上し、平坦化性が向上したことによるものと考えられる。
また、Rmaxの比較から、実施例5及び6で得られた薄膜は、比較例5で得られた薄膜よりも最大ラフネスが小さいことがわかった。
この結果は、ポリイミド化合物の添加により作製した薄膜の粘弾性が向上し、平坦化性が向上したことによるものと考えられる。
(4)UV−VIS測定
上記で調製したワニスT1、T2又はオリゴアニリン溶液を用いて得られた薄膜について、UV−VISを測定した。結果を図4に示す。
[UV−VIS測定法]
実施例3,4で調製した電荷輸送性ワニスT1,T2又は比較例3で調製したオリゴアニリン溶液を、厚みが1.1mmの石英基板上にスピンコート法を用いてそれぞれ成膜し、200℃で60分間焼成した。膜厚は30nmとした。石英基板上の薄膜について、可視領域である400〜800nmをスキャンしてUV−VISを測定した。
図4に示されるように、電荷輸送性ワニスT1又はT2を用いて作製した薄膜の方が、比較例3で調製したオリゴアニリン溶液を用いて作製した薄膜より透過率が高いことがわかる。これは、ポリイミド化合物及び電子受容体を加えたことにより、着色成分であるPTA;NSO−2の割合が薄膜内で低下したことによると考えられる。
上記で調製したワニスT1、T2又はオリゴアニリン溶液を用いて得られた薄膜について、UV−VISを測定した。結果を図4に示す。
[UV−VIS測定法]
実施例3,4で調製した電荷輸送性ワニスT1,T2又は比較例3で調製したオリゴアニリン溶液を、厚みが1.1mmの石英基板上にスピンコート法を用いてそれぞれ成膜し、200℃で60分間焼成した。膜厚は30nmとした。石英基板上の薄膜について、可視領域である400〜800nmをスキャンしてUV−VISを測定した。
図4に示されるように、電荷輸送性ワニスT1又はT2を用いて作製した薄膜の方が、比較例3で調製したオリゴアニリン溶液を用いて作製した薄膜より透過率が高いことがわかる。これは、ポリイミド化合物及び電子受容体を加えたことにより、着色成分であるPTA;NSO−2の割合が薄膜内で低下したことによると考えられる。
[6]有機EL素子(OLED素子)の作製
[実施例7]
実施例5で作製した電荷輸送性薄膜を真空蒸着装置内に導入し、α−NPD、Alq3、LiF、及びAlを順次蒸着した。膜厚は、それぞれ40nm、60nm、0.5nm、100nmとして、それぞれ8×10-4Pa以下の圧力となってから蒸着操作を行った。その際の蒸着レートはLiF以外の材料については0.3〜0.4nm/s、LiFについては0.02〜0.04nm/sとした。一連の蒸着操作は全ての層を蒸着するまで真空下で行った。
[実施例7]
実施例5で作製した電荷輸送性薄膜を真空蒸着装置内に導入し、α−NPD、Alq3、LiF、及びAlを順次蒸着した。膜厚は、それぞれ40nm、60nm、0.5nm、100nmとして、それぞれ8×10-4Pa以下の圧力となってから蒸着操作を行った。その際の蒸着レートはLiF以外の材料については0.3〜0.4nm/s、LiFについては0.02〜0.04nm/sとした。一連の蒸着操作は全ての層を蒸着するまで真空下で行った。
[実施例8]
実施例6で作製した電荷輸送性薄膜を用いた以外は、実施例7と同様にしてOLED素子を作製した。
実施例6で作製した電荷輸送性薄膜を用いた以外は、実施例7と同様にしてOLED素子を作製した。
[比較例6]
比較例4で作製した電荷輸送性薄膜を用いた以外は、実施例7と同様にしてOLED素子を作製した。
比較例4で作製した電荷輸送性薄膜を用いた以外は、実施例7と同様にしてOLED素子を作製した。
[比較例7]
比較例5で作製した電荷輸送性薄膜を用いた以外は、実施例7と同様にしてOLED素子を作製した。
比較例5で作製した電荷輸送性薄膜を用いた以外は、実施例7と同様にしてOLED素子を作製した。
上記実施例7,8及び比較例6,7で作製したOLED素子について、発光開始電圧、10mA/cm2及び50mA/cm2を閾値としたときの電圧、輝度、並びに発光効率の各素子特性を評価した。その結果を表3に示す。
表3に示されるように、PTA、NSO−2、フェロセンユニットを有するポリイミド化合物及び電子受容体を含むワニスから調製された薄膜を備える実施例7,8のOLED素子は、ポリイミド化合物及び電子受容体を含まないワニスから調製された薄膜を備える比較例7のOLED素子と比較して、発光開始電圧並びにそれぞれの閾値における電圧及び輝度が同等であるうえに、発光効率に優れていることがわかった。
一方、PTA、NSO−2、フェロセンユニットを有しないポリイミド化合物及び電子受容体を含むワニスから調製された薄膜を備える比較例6のOLED素子では、発光開始電圧、各閾値における電圧及び輝度並びに発光効率が著しく低下していることがわかった。これは、フェロセンユニットを有しないポリイミド化合物が絶縁体としての機能するためであると考えられる。すなわち、単に絶縁体として機能するポリイミド化合物を添加した系よりも、比較例7のようにポリイミド化合物を加えない系の方が良好なOLED素子特性を示していることがわかった。
一方、PTA、NSO−2、フェロセンユニットを有しないポリイミド化合物及び電子受容体を含むワニスから調製された薄膜を備える比較例6のOLED素子では、発光開始電圧、各閾値における電圧及び輝度並びに発光効率が著しく低下していることがわかった。これは、フェロセンユニットを有しないポリイミド化合物が絶縁体としての機能するためであると考えられる。すなわち、単に絶縁体として機能するポリイミド化合物を添加した系よりも、比較例7のようにポリイミド化合物を加えない系の方が良好なOLED素子特性を示していることがわかった。
また、実施例7と実施例8とを比較すると、フェロセンユニットの含有比率の高い実施例7の方が発光開始電圧が低下しており、同程度の輝度が得られていることから、OLED素子特性が良好なことがわかった。
以上に示したように、有機金属錯体としてフェロセン誘導体を側鎖に有するポリアミド酸又はポリイミドとオリゴアニリン化合物とを併用することで、可視領域での透過率を向上させ、かつ、有機EL素子特性を著しく向上させる電荷輸送性薄膜を与え、有機EL素子の機能を十分に発現させ得る電荷輸送性材料として有用であることを確認できた。
Claims (12)
- 下記式(1)又は(2)で示されることを特徴とするポリイミド前駆体又はポリイミド。
[式中、Tは、下記式(3)〜(9)から選ばれる少なくとも1種の4価の有機基であり、
(式中、R1〜R4は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜5のアルキコキシ基を示す。)
Qは、下記式(10)〜(12)から選ばれる少なくとも1種のフェロセン含有基であり、
{式中、R5〜R35は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、シラノール基、チオール基、カルボキシル基、リン酸基、リン酸エステル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、ニトロ基、1価炭化水素基、オルガノオキシ基、オルガノアミノ基、オルガノシリル基、オルガノチオ基、アシル基、又はスルホン酸基を示し、Arは、3価の芳香族基を示し、Wは、2価炭化水素基又は下記式(13)で示される2価の基を示す。
(式中、*は上記Arとの結合部であり、iは0又は1、jは1〜5の整数を示す。)}
kは、2〜400を示す。] - 請求項1又は2記載のポリイミド前駆体又はポリイミドと、数平均分子量が250〜5,000の電荷輸送性オリゴアニリンからなる電荷輸送物質又はこの電荷輸送物質及び電荷受容性ドーパント物質からなる電荷輸送性有機材料と、を含有することを特徴とする電荷輸送性組成物。
- 請求項4〜7のいずれか1項記載の電荷輸送性組成物と、少なくとも1種の溶媒とを含み、上記ポリイミド前駆体又はポリイミド及び電荷輸送性物質又は電荷輸送性有機材料が、上記溶媒に溶解又は均一に分散している電荷輸送性ワニス。
- 請求項8記載の電荷輸送性ワニスから得られる電荷輸送性薄膜。
- 請求項9記載の電荷輸送性薄膜を備える有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 上記テトラカルボン酸又はその誘導体が、ピロメリット酸、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−テトラメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−テトラフルオロ−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸、ビシクロ[3,3,0]オクタン−2,4,6,8−テトラカルボン酸、3,5,6−トリカルボキシビシクロ[2,2,1]へキサン−2−酢酸、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1−ナフタレンコハク酸、4,5−ジカルボキシ−2−シクロヘキセン−1−イル−コハク酸及びこれらの酸二無水物、並びにこれらのジカルボン酸ジハロゲン化物から選ばれる請求項11記載のポリイミド前駆体の製造方法。
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- 2012-02-09 JP JP2012026316A patent/JP2013163710A/ja active Pending
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