JP2013016026A - Touch panel member, coordinate detector, lamination member, and lamination member manufacturing method - Google Patents
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Abstract
【課題】部材強度を向上させつつも、薄膜化、軽量化が損なわれないタッチパネル部材あるいは積層部材等の提供、および、上記タッチパネル部材を用いる座標検出装置、上記タッチパネル部材を含む積層部材の製造方法を提供する。
【解決手段】タッチパネル部材6は、強化ガラス基板2上に、タッチパネル用電極層8,9と、シロキサン樹脂層3a,3bとが、積層して設けられ、上記強化ガラス基板が上記タッチパネル用電極層および上記シロキサン樹脂層の直接の支持基板となるよう構成し、あるいは、積層部材を、強化ガラス基板上に電極層と、シロキサン樹脂層とが、積層して設けられ、上記強化ガラス基板が上記電極層および上記シロキサン樹脂層の直接の支持基板となるよう構成する。
【選択図】図2Provided are a touch panel member or a laminated member that does not impair thinning and weight reduction while improving member strength, a coordinate detection device using the touch panel member, and a method for producing a laminated member including the touch panel member I will provide a.
A touch panel member 6 includes a touch panel electrode layer 8, 9 and a siloxane resin layer 3a, 3b laminated on a tempered glass substrate 2, and the tempered glass substrate is the touch panel electrode layer. The laminated member is provided by laminating an electrode layer and a siloxane resin layer on a tempered glass substrate, and the tempered glass substrate is the electrode. And a direct supporting substrate for the siloxane resin layer.
[Selection] Figure 2
Description
本発明は、タッチパネル部材、座標検出装置、積層部材および、積層部材の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a touch panel member, a coordinate detection device, a laminated member, and a method for manufacturing the laminated member.
近年、タッチパネルは、表示装置と座標検出装置を組み合わせた、入力デバイスとして注目を集めており、携帯電話、携帯音楽再生装置などのポータブルデバイス、自動販売機、パーソナルコンピュータの画面など種々の技術分野において搭載機種が増加している。タッチパネルの方式は、その作動原理から抵抗膜方式、静電容量方式、光学方式、超音波表面弾性波方式、電磁誘導方式など様々であり、組み合わせて使用が予定されるデバイスの目的や使用環境などを勘案して、望ましい方式が選択される傾向にある。 In recent years, touch panels have been attracting attention as input devices that combine display devices and coordinate detection devices. In various technical fields such as portable devices such as mobile phones and portable music playback devices, vending machines, and personal computer screens. The number of installed models is increasing. There are various types of touch panel methods such as resistive film method, capacitance method, optical method, ultrasonic surface acoustic wave method, electromagnetic induction method, etc. from the principle of operation. Therefore, a desirable method tends to be selected.
上記座標検出装置には、タッチ面に指先などが接触し、あるいは接触に近い状態となったときにおける電圧の変化や静電容量の変化などを生じせしめるための電極層が基板に設けられたタッチパネル部材が備えられている。電極層の内容は、タッチパネル方式の違いなどによって種々決定され、電極層の層構成としては、一層から構成される電極層、二層以上から構成される積層電極層がある。また、上記タッチパネル部材における電極層は、その電気的特性などを勘案し、該電極層に直接または間接に絶縁性膜あるいは保護層が積層されることが一般的である。上記絶縁性膜および上記保護層は、フォトリソグラフィ法により容易にパターニングが可能な、無色で透明性に優れるアクリル樹脂系のネガ型感光性材料(以下、単に「アクリル樹脂材料」という場合がある)により形成されることが一般的である。尚、上記アクリル材料を用いて形成される従来の絶縁性膜または保護層は、そのプロセス条件にもよるが、耐熱性が230℃程度である。 In the coordinate detection device, a touch panel in which an electrode layer is provided on a substrate to cause a change in voltage or a change in capacitance when a fingertip or the like comes into contact with the touch surface or is close to contact. A member is provided. The contents of the electrode layer are variously determined depending on the difference in the touch panel system and the like. As the layer configuration of the electrode layer, there are an electrode layer composed of one layer and a laminated electrode layer composed of two or more layers. The electrode layer in the touch panel member generally has an insulating film or a protective layer laminated directly or indirectly on the electrode layer in consideration of its electrical characteristics. The insulating film and the protective layer can be easily patterned by photolithography, and are colorless and highly transparent acrylic resin-based negative photosensitive material (hereinafter sometimes referred to simply as “acrylic resin material”). Is generally formed by. In addition, although the conventional insulating film or protective layer formed using the said acrylic material is based on the process conditions, heat resistance is about 230 degreeC.
上記タッチパネル部材の一般的な構成の例としては、例えば一の基材に一の電極を形成した電極材を2つ準備し、これらを積層させることで積層電極とする態様が汎用である(例えば下記特許文献1。以下、「従来技術1」ともいう)。しかしながら、かかるタッチパネル部材は、2枚の基材を必要とするため薄膜化、軽量化の点で改善が望まれており、また、電極材を対向配置させる際の位置合わせなども要する点などの問題を有している。 As an example of a general configuration of the touch panel member, for example, a mode in which two electrode materials in which one electrode is formed on one base material is prepared and laminated to form a stacked electrode is general-purpose (for example, Patent Document 1 below, hereinafter also referred to as “Prior Art 1”). However, since such a touch panel member requires two base materials, improvement is desired in terms of thinning and weight reduction, and alignment is also required when the electrode materials are arranged to face each other. Have a problem.
またタッチパネル部材の別の態様として一枚の基材の両面側に、それぞれ直接に、電極層を形成することによって構成されるタッチパネル部材(以下、「従来技術2」ともいう)が知られている(例えば特許文献2)。従来技術2によれば、従来技術1のように複数の基材を貼り合わせることによるアライメント精度の低下の問題がなく、さらに従来技術1に比べて、タッチパネルの厚みも小さくすることができる。 As another aspect of the touch panel member, there is known a touch panel member (hereinafter, also referred to as “conventional technology 2”) configured by directly forming electrode layers on both sides of a single substrate. (For example, patent document 2). According to the prior art 2, there is no problem of a decrease in alignment accuracy due to the bonding of a plurality of substrates as in the prior art 1, and the touch panel thickness can be reduced as compared with the prior art 1.
ところで、いずれのタッチパネル部材においても、薄膜化、軽量化、強度向上といった課題を有している。軽量化、薄膜の観点では、上記従来技術1に比べ、従来技術2の方が、電極を積層するための支持基板である基板の数を減らせることができるため好ましい。
一方、強度の点では、保護層などの保護構成をタッチパネル部材に付加することが一般的である。例えば、従来技術1の例として示す特許文献1に開示の図1には、上下電極材を対向させ、さらに下側電極材の下側全面に強化ガラスを貼り合わせる態様が示されている。
また、従来技術2の例として示す特許文献2に開示の図1には、上部電極を覆って表面側に保護膜4を被着させる態様が示されている。
また、近年は、タッチパネルを搭載した携帯電話などのポータブルデバイスにおけるタッチパネル部材のカバーガラスとして、強化ガラスを使用する例も提案されている(例えば特許文献3)。
By the way, any touch panel member has problems such as thinning, weight reduction, and strength improvement. From the viewpoint of weight reduction and thin film, the prior art 2 is preferable to the prior art 1 because the number of substrates that are support substrates for stacking electrodes can be reduced.
On the other hand, in terms of strength, it is common to add a protective structure such as a protective layer to the touch panel member. For example, FIG. 1 disclosed in Patent Document 1 as an example of the prior art 1 shows a mode in which upper and lower electrode materials are opposed to each other and tempered glass is bonded to the entire lower surface of the lower electrode material.
FIG. 1 disclosed in Patent Document 2 as an example of the prior art 2 shows a mode in which a protective film 4 is deposited on the surface side so as to cover the upper electrode.
In recent years, an example in which tempered glass is used as a cover glass of a touch panel member in a portable device such as a mobile phone equipped with a touch panel has been proposed (for example, Patent Document 3).
特に、強化ガラスは、強化処理のなされていないガラスに比べて強度が高く、タッチパネル部材の保護部材としての使用が期待されている。 In particular, tempered glass has higher strength than glass that has not been tempered, and is expected to be used as a protective member for touch panel members.
しかしながら強化ガラスを保護部材としてタッチパネル部材に用いるためには、まず強化処理前のガラスを所望の形状に加工し、その後に強化処理を行い、強化ガラスとした上で、タッチパネル部材に、粘着材などを介して貼り付ける必要があった。したがって、タッチパネル部材自体の基材に加えて、強化ガラスの重量が付加されるため、部材の軽量化の点で問題があった。また、強化ガラスを貼り付ける工程を必要とする点、およびタッチパネル部材と強化ガラス間における粘着層の存在によりタッチパネルの透過性が低減する虞がある点などの問題があった。 However, in order to use tempered glass as a protective member for a touch panel member, first, the glass before tempering is processed into a desired shape, and then tempered to form tempered glass. Had to be pasted through. Therefore, since the weight of tempered glass is added in addition to the base material of the touch panel member itself, there has been a problem in terms of reducing the weight of the member. Moreover, there existed problems, such as the point which requires the process which affixes tempered glass, and there exists a possibility that the transparency of a touchscreen may reduce by presence of the adhesion layer between a touchscreen member and tempered glass.
これに対し、本発明者らは、従来技術2における基材として強化ガラスを用い、強化ガラスを直接の支持基板として、電極層を積層することを検討したが以下の理由により困難な点があることがわかった。即ち、タッチパネル部材などの積層部材は、多面取りの大型基材に2以上の有効領域を積層すべく、電極層などを作りこんだ後、大型基材をダイヤモンドカッターなどの物理的な切断手段で一有効領域毎に切断して複数の部材を得る方法が常用である。しかしながら、強化ガラスは、従来用いられてきた非強化処理のガラス基板よりも強度が高いため、物理的な切断手段では、望ましく切断できない虞があり、レーザー切断手段などの熱切断手段を選択する必要がある。ところが、熱切断手段によれば、強化ガラスは切断可能であるものの、切断面が切断時の熱により溶融するため、タッチパネル部材に設けられている、アクリル樹脂材料などから構成される絶縁性膜あるいは保護層などにおいて上記切断面に近い領域が焦げ付き、異物化する虞があった。したがって、強化ガラスを直接の支持基板として用いるタッチパネル部材の提供には困難性があり、これを可能とするための技術が求められていた。 On the other hand, the present inventors have examined the use of tempered glass as a base material in the prior art 2 and laminating an electrode layer using the tempered glass as a direct support substrate, but there are difficulties due to the following reasons. I understood it. That is, a laminated member such as a touch panel member is formed with an electrode layer or the like so as to laminate two or more effective areas on a multi-faceted large base material, and then the large base material is physically cut using a diamond cutter or the like. A method of obtaining a plurality of members by cutting each effective area is commonly used. However, tempered glass has higher strength than the conventionally used non-strengthened glass substrate, so there is a possibility that it cannot be desirably cut by a physical cutting means, and it is necessary to select a thermal cutting means such as a laser cutting means. There is. However, according to the thermal cutting means, although the tempered glass can be cut, since the cut surface is melted by the heat at the time of cutting, the insulating film or acrylic film material provided on the touch panel member or the like In the protective layer or the like, there is a possibility that the area close to the cut surface is burnt and becomes a foreign substance. Therefore, there is a difficulty in providing a touch panel member using tempered glass as a direct support substrate, and a technique for enabling this is required.
また、本発明者らは、上記タッチパネル部材が有する、強度向上、且つ、軽量化、薄膜化に関する課題は、タッチパネル部材のみならず、太陽電池モジュールや表示装置などの種々のデバイスにおいて用いられる、基材上に電極層および絶縁性膜および/または保護層等を備える積層部材一般における課題であると認識した。 In addition, the present inventors have found that the above-mentioned touch panel member has problems related to strength improvement, weight reduction, and thinning, not only in the touch panel member but also in various devices such as a solar cell module and a display device. Recognized as a general problem in a laminated member having an electrode layer and an insulating film and / or a protective layer on the material.
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、部材強度、薄膜化、軽量化が改善されたタッチパネル部材あるいは積層部材等の提供、あるいは換言すると、部材強度を向上させつつも、薄膜化、軽量化を損なわないタッチパネル部材あるいは積層部材等の提供を課題とし、より具体的には、強化ガラスを直接の支持基板として用いるタッチパネル部材、該タッチパネル部材を用いる座標検出装置、強化ガラスを直接の支持基板として用いる積層部材、上記タッチパネル部材を含む積層部材の製造方法を提供することを課題とするものである。 The present invention has been made in view of the above problems, and provides a touch panel member or a laminated member with improved member strength, thinning, and weight reduction, or in other words, thinning and weight reduction while improving member strength. It is an object to provide a touch panel member or laminated member that does not impair the process, and more specifically, a touch panel member that uses tempered glass as a direct support substrate, a coordinate detection device that uses the touch panel member, and a direct support substrate that uses tempered glass It is an object of the present invention to provide a laminated member used as a laminated member and a method for producing a laminated member including the touch panel member.
本発明は、
(1)強化ガラス基板上に、タッチパネル用電極層と、シロキサン樹脂層とが、積層して設けられ、上記強化ガラス基板が上記タッチパネル用電極層および上記シロキサン樹脂層の直接の支持基板であることを特徴とするタッチパネル部材、
(2)上記強化ガラス基板のヤング率が70GPa以上であることを特徴とする上記(1)に記載のタッチパネル部材、
(3)強化ガラス基板上に電極層と、シロキサン樹脂層とが、積層して設けられ、上記強化ガラス基板が上記電極層および上記シロキサン樹脂層の直接の支持基板であることを特徴とする積層部材、
(4)強化ガラス基板上に、タッチパネル用電極層およびシロキサン樹脂層が積層して設けられており、上記強化ガラス基板が上記タッチパネル用電極層および上記シロキサン樹脂層の直接の支持基板であるタッチパネル部材を備え、上記強化ガラス基板を直接または間接にタッチ面とするか、あるいは、電極層および/またはシロキサン樹脂層を挟んで上記強化ガラス基板に対向して設けられる他の基板をタッチ面とし、上記タッチ面に対し、直接または間接に行なわれる接触動作によって出力される電気信号を検出する検出回路と、上記検出回路において検出された電気信号から上記接触動作の行なわれた接触位置の座標を算出する座標算出用演算回路と、を備えることを特徴とする座標検出装置、
(5)基板上に電極層およびシロキサン樹脂層を備える積層部材の製造方法であって、基板として強化ガラス基板を用い、強化ガラス基板上に電極層およびシロキサン樹脂層を任意の順序で積層形成し、上記電極層および上記シロキサン樹脂層を含む有効領域を形成する積層工程と、上記積層工程実施後に、上記有効領域の周囲全周あるいは周囲の一部に位置する、他の領域を熱切断手段により切断する切断工程と、を備えることを特徴とする積層部材の製造方法、
(6)強化ガラス基板が、2以上の積層部材を多面取り可能な強化ガラス基板であり、
積層工程が、上記強化ガラス基板上に電極層およびシロキサン樹脂層を任意の順序で形成し、上記電極層および上記シロキサン樹脂層を含む有効領域を2以上形成する積層工程であり、切断工程が、上記積層工程実施後に、熱切断手段により上記有効領域毎に切断することを含む切断工程であることを特徴とする上記(5)に記載の積層部材の製造方法、
(7)上記シロキサン樹脂層が感光性シロキサン樹脂を含むシロキサン樹脂組成物を用いて形成されることを特徴とする上記(5)または(6)に記載の積層部材の製造方法、
(8)上記積層部材がタッチパネル部材であり、上記電極層がタッチパネル用電極層であることを特徴とする上記(5)から(7)のいずれかに記載の積層部材の製造方法、
を要旨とするものである。
The present invention
(1) A touch panel electrode layer and a siloxane resin layer are laminated on a tempered glass substrate, and the tempered glass substrate is a direct support substrate for the touch panel electrode layer and the siloxane resin layer. A touch panel member characterized by
(2) The touch panel member according to (1) above, wherein the Young's modulus of the tempered glass substrate is 70 GPa or more,
(3) A laminate in which an electrode layer and a siloxane resin layer are laminated on a tempered glass substrate, and the tempered glass substrate is a direct support substrate for the electrode layer and the siloxane resin layer. Element,
(4) A touch panel member in which a touch panel electrode layer and a siloxane resin layer are laminated on a tempered glass substrate, and the tempered glass substrate is a direct support substrate for the touch panel electrode layer and the siloxane resin layer. The tempered glass substrate is used as a touch surface directly or indirectly, or another substrate provided facing the tempered glass substrate with the electrode layer and / or the siloxane resin layer interposed therebetween is used as the touch surface. A detection circuit that detects an electrical signal output by a contact operation performed directly or indirectly on the touch surface, and coordinates of the contact position where the contact operation is performed are calculated from the electrical signal detected by the detection circuit. A coordinate detection device comprising a calculation circuit for coordinate calculation,
(5) A method for producing a laminated member comprising an electrode layer and a siloxane resin layer on a substrate, wherein a tempered glass substrate is used as the substrate, and the electrode layer and the siloxane resin layer are laminated on the tempered glass substrate in an arbitrary order. A laminating step for forming an effective region including the electrode layer and the siloxane resin layer, and after performing the laminating step, another region located on the entire periphery or part of the periphery of the effective region is formed by thermal cutting means. A method for producing a laminated member, comprising: a cutting step for cutting;
(6) The tempered glass substrate is a tempered glass substrate capable of taking two or more laminate members,
The laminating step is a laminating step in which the electrode layer and the siloxane resin layer are formed on the tempered glass substrate in an arbitrary order, and two or more effective regions including the electrode layer and the siloxane resin layer are formed, and the cutting step is After the said lamination process implementation, it is a cutting process including cutting | disconnecting for every said effective area | region by a thermal cutting means, The manufacturing method of the lamination | stacking member as described in said (5) characterized by the above-mentioned.
(7) The method for producing a laminated member according to (5) or (6), wherein the siloxane resin layer is formed using a siloxane resin composition containing a photosensitive siloxane resin,
(8) The method for manufacturing a laminated member according to any one of (5) to (7), wherein the laminated member is a touch panel member, and the electrode layer is an electrode layer for a touch panel,
Is a summary.
本発明のタッチパネル部材および積層部材は、強化ガラス基板が用いられているため、強度に優れる。しかも、非強化処理のガラスや樹脂フィルムを支持基板とし、該基板に電極層や絶縁性膜あるいは保護層を作り込んだ上、強化ガラスを保護材としてさらに積層する従来のタッチパネル部材あるいは積層部材に比べて、薄膜化、軽量化が図られる。 Since the tempered glass substrate is used, the touch panel member and laminated member of the present invention are excellent in strength. In addition, a conventional touch panel member or laminated member in which non-strengthened glass or resin film is used as a support substrate, and an electrode layer, an insulating film, or a protective layer is formed on the substrate, and then tempered glass is further laminated as a protective material. Compared to this, a reduction in thickness and weight can be achieved.
上記タッチパネル部材を用いて構成される本発明の座標検出装置においても、上記タッチパネル部材の強度向上、軽量化、薄膜化という効果が反映され、優れた座標検出装置を提供することが可能である。 Also in the coordinate detection apparatus of the present invention configured using the touch panel member, it is possible to provide an excellent coordinate detection apparatus reflecting the effects of strength improvement, weight reduction, and thinning of the touch panel member.
本発明の積層部材の製造方法は、製造工程を複雑にすることなく、強度が向上し、且つ、軽量化、薄膜化が図られたタッチパネル部材を含む積層部材を提供することができる。
しかも、本発明の積層部材の製造方法は、強化ガラス基板を直接の支持基板とし、これに樹脂層および電極層を積層形成した後で、熱切断手段により強化ガラス基板を切断する工程を含むが、上記樹脂層としてシロキサン樹脂層を選択したことにより、熱切断時における樹脂層の焦げ付きの問題が解消され、強化ガラス基板を直接の支持基板とする積層部材の多面取り製造や、所望の形状に切断加工することを実質的に可能とした。
The manufacturing method of the laminated member of the present invention can provide a laminated member including a touch panel member that is improved in strength, lightened, and thinned without complicating the production process.
And the manufacturing method of the lamination | stacking member of this invention includes the process of cut | disconnecting a tempered glass board | substrate with a thermal cutting means, after making a tempered glass board | substrate into a direct support substrate and laminating and forming a resin layer and an electrode layer on this. By selecting a siloxane resin layer as the resin layer, the problem of burning of the resin layer at the time of thermal cutting is solved, and multi-faced manufacturing of a laminated member using a tempered glass substrate as a direct support substrate, or in a desired shape Cutting was practically possible.
[タッチパネル部材および積層部材]
本発明のタッチパネル部材は、強化ガラス基板を直接の支持基板とし、該強化ガラス基板上に、タッチパネル用電極層とシロキサン樹脂層とが積層して設けられる。本発明は、「強化ガラス基板を直接の支持基板とする」ことにより、強化ガラス以外の基板を直接の支持基板として電極層およびシロキサン樹脂層が設けられ、事後的に、さらに強化ガラスが積層されるものが除かれる。かかる構成を採用することによって、タッチパネル部材あるいはそれ以外の積層部材の強度向上が図られるとともに、事後的に強化ガラス基板をさらに積層する従来の部材に比べ、薄膜化、軽量化を図ることができる。
[Touch panel member and laminated member]
In the touch panel member of the present invention, a tempered glass substrate is used as a direct support substrate, and a touch panel electrode layer and a siloxane resin layer are laminated on the tempered glass substrate. The present invention provides an electrode layer and a siloxane resin layer using a substrate other than tempered glass as a direct support substrate by “using a tempered glass substrate as a direct support substrate”, and after that, tempered glass is further laminated. Things are excluded. By adopting such a configuration, the strength of the touch panel member or other laminated member can be improved, and the film can be made thinner and lighter than the conventional member in which a tempered glass substrate is further laminated afterwards. .
また、本発明の積層部材は、強化ガラス基板上の少なくとも一方面側に電極層と、シロキサン樹脂層とが、積層して設けられ、上記強化ガラス基板が上記電極層および上記シロキサン樹脂層の直接の支持基板であることを特徴とする。後述する、本発明のタッチパネル部材に関する記載において、タッチパネル用電極層の代わりに、タッチパネル以外の他のデバイスにおける電極層として適した電極層を適宜選択して実施し、またタッチパネル特有の技術的事項を除外することによって、本発明の積層部材を理解することができる。したがって、後述する本発明のタッチパネル部材の説明あるいは態様において、タッチパネル部材特有の構成、材料、態様など以外の記載については、本発明の積層部材の説明と重複するため、該積層部材に関する説明は割愛する。
また、後述においては、主として強化ガラス基板の一方面側にのみ電極層およびシロキサン樹脂層が設けられる態様を例に、本発明を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。強化ガラス基板の一方面側に設けられる電極層およびシロキサン樹脂層の内容および形成方法などに倣って、同様に該強化ガラス基板の他方面側にも任意に電極層および/またはシロキサン樹脂層を設ける態様も本発明のタッチパネル部材、積層部材、あるいは本発明の積層部材の製造方法に含まれる。
In the laminated member of the present invention, an electrode layer and a siloxane resin layer are laminated and provided on at least one side of the tempered glass substrate, and the tempered glass substrate is directly connected to the electrode layer and the siloxane resin layer. It is characterized by being a support substrate. In the description relating to the touch panel member of the present invention, which will be described later, instead of the electrode layer for the touch panel, an electrode layer suitable as an electrode layer in other devices other than the touch panel is appropriately selected and implemented, and technical matters specific to the touch panel By excluding it, the laminated member of the present invention can be understood. Accordingly, in the description or aspect of the touch panel member of the present invention described later, descriptions other than the configuration, material, aspect, etc. specific to the touch panel member overlap with the description of the laminated member of the present invention, and therefore description of the laminated member is omitted. To do.
Further, in the following description, the present invention will be described by taking an example in which the electrode layer and the siloxane resin layer are mainly provided only on one surface side of the tempered glass substrate, but the present invention is not limited to this. Similarly, the electrode layer and / or the siloxane resin layer is optionally provided on the other surface side of the tempered glass substrate in accordance with the contents and formation method of the electrode layer and the siloxane resin layer provided on the one surface side of the tempered glass substrate. The aspect is also included in the touch panel member, the laminated member of the present invention, or the method for producing the laminated member of the present invention.
本発明のタッチパネル部材の積層態様の例を、図1を用いて説明する。図1Aは、強化ガラス基板2上に、シロキサン樹脂層3を備え、さらにシロキサン樹脂層3上にタッチパネル用電極層4が設けられてなる本発明のタッチパネル部材1の概略断面図である。シロキサン樹脂層は、ポリシロキサンを含んで構成される層であって、絶縁性と良好な強度および耐熱性とを発揮可能な樹脂層である。したがって、タッチパネル部材1においてシロキサン樹脂層3は、例えば、絶縁性膜および/または保護層としての作用を発揮可能である。より具体的な例としては、強化ガラス基板上に金属材料などで形成される所謂、取り出し配線がまず形成され、その後にタッチパネル用電極層4が設けられる場合がある(取り出し配線については図示省略する)。その場合には、該取り出し配線の少なくとも一部を覆って、取り出し配線の保護層として、且つ、取り出し配線とタッチパネル用電極層4との間の絶縁性膜として、シロキサン樹脂層3が作用可能である。 The example of the lamination | stacking aspect of the touchscreen member of this invention is demonstrated using FIG. FIG. 1A is a schematic cross-sectional view of a touch panel member 1 of the present invention in which a siloxane resin layer 3 is provided on a tempered glass substrate 2 and a touch panel electrode layer 4 is further provided on the siloxane resin layer 3. The siloxane resin layer is a layer that includes polysiloxane, and is a resin layer that can exhibit insulation, good strength, and heat resistance. Therefore, in the touch panel member 1, the siloxane resin layer 3 can exhibit an effect | action as an insulating film and / or a protective layer, for example. As a more specific example, a so-called extraction wiring formed of a metal material or the like is first formed on a tempered glass substrate, and then a touch panel electrode layer 4 may be provided (the illustration of the extraction wiring is omitted). ). In that case, the siloxane resin layer 3 can act as a protective layer for the extraction wiring and as an insulating film between the extraction wiring and the touch panel electrode layer 4 so as to cover at least a part of the extraction wiring. is there.
上述のとおり、本発明のタッチパネル部材においてシロキサン樹脂層は、保護層および/または絶縁性膜として設けられてよい。ただし本発明におけるシロキサン樹脂を、保護層および/または絶縁性膜として限定する趣旨ではない。たとえば、チタンを含有するシロキサン樹脂層を、タッチ面側の最表面、あるいは最表面層に近い位置に設けることによって反射防止、あるいは光学調整の作用を発揮可能である。あるいはまた、本発明のタッチパネル部材と組み合わされるデバイスを考慮し、上記チタンを含有するシロキサン樹脂層において、バックライトなどの透過光に対する光学調整作用を発揮させることも可能であり、この場合に、該シロキサン樹脂層の形成位置は任意である。したがって、本発明におけるシロキサン樹脂層は、反射防止層および/または光学調整層として設けられてもよい。もちろん、反射防止、光学調整、表面保護層といった2以上の作用が期待される機能層であってもよい。 As described above, in the touch panel member of the present invention, the siloxane resin layer may be provided as a protective layer and / or an insulating film. However, it is not intended to limit the siloxane resin in the present invention as a protective layer and / or an insulating film. For example, by providing a siloxane resin layer containing titanium at the outermost surface on the touch surface side or at a position close to the outermost surface layer, it is possible to exhibit the effect of antireflection or optical adjustment. Alternatively, in consideration of a device combined with the touch panel member of the present invention, the titanium-containing siloxane resin layer can exhibit an optical adjustment effect on transmitted light such as a backlight. The formation position of the siloxane resin layer is arbitrary. Therefore, the siloxane resin layer in the present invention may be provided as an antireflection layer and / or an optical adjustment layer. Of course, it may be a functional layer expected to have two or more actions such as antireflection, optical adjustment, and surface protective layer.
また、図1Bに示す本発明のタッチパネル部材1’は、タッチパネル用電極層4とシロキサン樹脂層3との積層順が入れ替わった以外は、図1Aに示すタッチパネル部材1と同様である。かかる態様では、シロキサン樹脂層3はタッチパネル用電極層4の表面保護層として作用し得る。あるいはまた、シロキサン樹脂層3の強化ガラス基板2とは反対面側にさらに任意の層が設けられる場合には、タッチパネル用電極層4と該任意の層との絶縁性膜として作用する場合もあってよい。 Moreover, the touch panel member 1 ′ of the present invention shown in FIG. 1B is the same as the touch panel member 1 shown in FIG. 1A except that the stacking order of the electrode layer 4 for touch panel and the siloxane resin layer 3 is changed. In such an embodiment, the siloxane resin layer 3 can act as a surface protective layer of the touch panel electrode layer 4. Alternatively, when an optional layer is further provided on the opposite side of the siloxane resin layer 3 from the tempered glass substrate 2, it may act as an insulating film between the touch panel electrode layer 4 and the optional layer. It's okay.
また、図1Cに示すタッチパネル部材1’’は、強化ガラス基板2、第一シロキサン樹脂層3a、タッチパネル用電極層4、第二シロキサン樹脂層3bの順に積層して構成されている。第一シロキサン樹脂層3a、第二シロキサン樹脂層3bが、保護層および/または絶縁性膜であってよいことは、図1A、図1Bと同様である。また、後述する図1D、図1Eにおいて示すシロキサン樹脂層についても同様に、保護層および/または絶縁性膜であってよい。 A touch panel member 1 ″ shown in FIG. 1C is configured by laminating a tempered glass substrate 2, a first siloxane resin layer 3 a, a touch panel electrode layer 4, and a second siloxane resin layer 3 b in this order. As in FIGS. 1A and 1B, the first siloxane resin layer 3a and the second siloxane resin layer 3b may be protective layers and / or insulating films. Similarly, a siloxane resin layer shown in FIGS. 1D and 1E described later may be a protective layer and / or an insulating film.
また本発明のタッチパネル部材は、2以上のシロキサン樹脂層だけでなく、2以上のタッチパネル用電極層を備えていてもよい。たとえば本発明のタッチパネル部材の態様としては、図1Dに示す、強化ガラス基板2、第一電極層8、第一シロキサン樹脂層3a、第二電極層9、第二シロキサン樹脂層3bがこの順に積層されてなるタッチパネル部材5であってよい。あるいは、図1Eに示すように、本発明のタッチパネル部材の別の態様としては、図1Eに示す、強化ガラス基板2、第一シロキサン樹脂層3a、第一電極層8、第二シロキサン樹脂層3b、第二電極層9、第三シロキサン樹脂層3cがこの順に積層されてなるタッチパネル部材5’であってよい。 The touch panel member of the present invention may include not only two or more siloxane resin layers but also two or more touch panel electrode layers. For example, as an aspect of the touch panel member of the present invention, the tempered glass substrate 2, the first electrode layer 8, the first siloxane resin layer 3a, the second electrode layer 9, and the second siloxane resin layer 3b shown in FIG. 1D are laminated in this order. The touch panel member 5 thus formed may be used. Alternatively, as shown in FIG. 1E, as another aspect of the touch panel member of the present invention, the tempered glass substrate 2, the first siloxane resin layer 3a, the first electrode layer 8, and the second siloxane resin layer 3b shown in FIG. 1E are used. The touch panel member 5 ′ may be formed by laminating the second electrode layer 9 and the third siloxane resin layer 3c in this order.
尚、図1には、いずれも強化ガラス基板2の一方面側にのみ、タッチパネル用電極層およびシロキサン樹脂層を備える本発明のタッチパネル部材の態様を示したが、本発明のタッチパネル部材の態様はこれに限定されず、強化ガラス基板の両面側に、それぞれタッチパネル用電極層およびシロキサン樹脂層を備える態様も含まれる。その場合に、タッチパネル用電極層およびシロキサン樹脂層は、強化ガラス基板を中心として両面対象に積層構造が構成されていてもよいし、強化ガラス基板を中心として一方面側と他方面側とにおいてタッチパネル用電極層とシロキサン樹脂層の積層態様が異なっていてもよい。あるいは、強化ガラスの一方面側にタッチパネル用電極層が積層されており、他方面側にシロキサン樹脂層が積層されていてもよい。このように強化ガラス基板を介してタッチパネル用電極層とシロキサン樹脂層が設けられる本発明のタッチパネル部材では、シロキサン樹脂層は、例えば、外光反射防止、光学調整など機能を発揮可能である。 In addition, although all showed the aspect of the touch panel member of this invention provided with the electrode layer for touchscreens and the siloxane resin layer only in the one surface side of the tempered glass substrate 2, the aspect of the touchscreen member of this invention is shown in FIG. It is not limited to this, The aspect provided with the electrode layer for touchscreens and a siloxane resin layer on the both surfaces side of a tempered glass substrate is also included, respectively. In that case, the electrode layer for touch panel and the siloxane resin layer may have a laminated structure on both sides with the tempered glass substrate as the center, and the touch panel on one side and the other side with the tempered glass substrate as the center. The lamination mode of the electrode layer for use and the siloxane resin layer may be different. Or the electrode layer for touchscreens may be laminated | stacked on the one surface side of tempered glass, and the siloxane resin layer may be laminated | stacked on the other surface side. Thus, in the touch panel member of the present invention in which the touch panel electrode layer and the siloxane resin layer are provided via the tempered glass substrate, the siloxane resin layer can exhibit functions such as antireflection of external light and optical adjustment.
加えて図1では、強化ガラス基板2上にタッチパネル用電極層およびシロキサン樹脂層のみが設けられる態様を示したが、本発明のタッチパネル部材はこれに限定されず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、さらなる任意の層あるいは、さらなる任意の構成が付加されていてよい。例えば、強化ガラス基板上に設けられた電極層あるいはシロキサン樹脂層上、あるいはこれらに並列にさらに任意の層が設けられもよい。また、強化ガラス基板の一方面側に透明樹脂層およびシロキサン樹脂層が設けられ、他方面側に任意の層あるいは構成が設けられていても良い。 In addition, FIG. 1 shows an embodiment in which only the electrode layer for touch panel and the siloxane resin layer are provided on the tempered glass substrate 2, but the touch panel member of the present invention is not limited to this and does not depart from the spirit of the present invention. In FIG. 4, any further layers or further arbitrary configurations may be added. For example, an arbitrary layer may be provided on the electrode layer or the siloxane resin layer provided on the tempered glass substrate, or in parallel therewith. Further, a transparent resin layer and a siloxane resin layer may be provided on one side of the tempered glass substrate, and an arbitrary layer or configuration may be provided on the other side.
本発明のタッチパネル部材は、種々の様式のタッチパネルにおいて、タッチパネル用電極層を備える部材として用いることが可能である。例えば、図1A〜図1Cに示すタッチパネル用電極層4を備えるタッチパネル部材1、1’、1’’は、抵抗膜方式のタッチパネルにおける上部電極板または下部電極板として使用することが可能である。かかる場合には、該上部電極板または下部電極板に一般的に用いられるPETフィルムあるいは非強化処理ガラスなどの透明基材の替わりに、強化ガラス基板を支持基板として構成することが可能である。あるいは静電容量方式のタッチパネルのうち、特に投影型静電容量方式のタッチパネルに、一層構成の電極層を備えるタッチパネル部材として構成することが可能である。あるいは、タッチパネル部材1、1’、1’’は、二層以上のタッチパネル用電極層を積層させるタイプの静電容量方式のタッチパネルであって、基板に1層のタッチパネル用電極層を積層する電極材を積層させる態様において、少なくとも一方側の電極材として本発明のタッチパネル部材を用いてもよい。 The touch panel member of the present invention can be used as a member having a touch panel electrode layer in various types of touch panels. For example, the touch panel member 1, 1 ′, 1 ″ including the touch panel electrode layer 4 shown in FIGS. 1A to 1C can be used as an upper electrode plate or a lower electrode plate in a resistive film type touch panel. In such a case, it is possible to configure a tempered glass substrate as a support substrate instead of a transparent substrate such as a PET film or non-tempered glass generally used for the upper electrode plate or the lower electrode plate. Or it is possible to comprise as a touch panel member provided with the electrode layer of one layer composition in the projection type capacitive touch panel among capacitive touch panels. Alternatively, the touch panel members 1, 1 ′, 1 ″ are capacitive touch panels in which two or more touch panel electrode layers are stacked, and are electrodes in which one touch panel electrode layer is stacked on a substrate. In the aspect of laminating materials, the touch panel member of the present invention may be used as an electrode material on at least one side.
一方、図1E、Dに例示するように、一枚の強化ガラス基板上に、2層以上のタッチパネル用電極層を積層させる態様の本発明にタッチパネル部材は、2層以上のタッチパネル用電極層を積層させるタイプの静電容量方式のタッチパネルに用いることができる。図1C〜図1Eにおける、より具体的な態様の1つとして、本発明のタッチパネル部材において、タッチパネル用電極層として、強化ガラス基板の一方の面側から第一電極層および、上記第一電極層上に積層される第二電極層の2層を備え、且つ、上記第一電極層および上記第二電極層間に、上記シロキサン樹脂層が絶縁性膜として設けられていることを特徴とするタッチパネル部材を提供することが可能である。かかる具体的例示の態様は、シロキサン樹脂層が、二層の電極層が基材を介さずに積層形成される態様のタッチパネル部材において、両電極層の絶縁性膜として優れた効果を発揮し、且つ、タッチパネル部材全体の強度向上、薄膜化、軽量化が図られるため、本発明の優れた態様の1つであると理解される。
以上に示す本発明のタッチパネル部材と、これを用いる種々の様式のタッチパネルとの関係は例示に過ぎず、何ら本発明のタッチパネル部材の使用を制限するものではない。
On the other hand, as illustrated in FIGS. 1E and 1D, the touch panel member according to the present invention in which two or more touch panel electrode layers are stacked on one tempered glass substrate has two or more touch panel electrode layers. It can be used for a capacitive type touch panel to be laminated. As one of the more specific modes in FIGS. 1C to 1E, in the touch panel member of the present invention, as the electrode layer for the touch panel, the first electrode layer and the first electrode layer from one surface side of the tempered glass substrate. A touch panel member comprising two layers of a second electrode layer laminated thereon, wherein the siloxane resin layer is provided as an insulating film between the first electrode layer and the second electrode layer Can be provided. Such a specific exemplary embodiment is a touch panel member in which the siloxane resin layer is formed by laminating two electrode layers without using a base material, and exhibits an excellent effect as an insulating film of both electrode layers. And since the strength improvement of the whole touch panel member, thin film formation, and weight reduction are achieved, it is understood that it is one of the outstanding aspects of this invention.
The relationship between the touch panel member of the present invention described above and various types of touch panels using the same is merely an example, and does not limit the use of the touch panel member of the present invention.
図1に示すタッチパネル部材における電極層およびシロキサン樹脂層は、いずれも平坦な層として図示したが、本発明における電極層およびシロキサン樹脂層は、これに限定されず、適宜、パターニング形成されていてよい。 Although the electrode layer and the siloxane resin layer in the touch panel member shown in FIG. 1 are both shown as flat layers, the electrode layer and the siloxane resin layer in the present invention are not limited to this and may be appropriately formed by patterning. .
図1Dに示すタッチパネル部材5の積層態様と同様の積層態様であって、電極層およびシロキサン樹脂層がパターニングされてなる本発明のタッチパネル部材6について、図2を用いて説明する。図2に示すタッチパネル部材6は、強化ガラス基板2上に、所望のパターンでパターンニング形成された第一電極層8と第一電極層8の端部に電気的に接続する取り出し電極7が設けられ、第一電極層8と取り出し電極7の一部とを覆って第一シロキサン樹脂層3aが設けられている。次いで、所望のパターンでパターンニング形成された第二電極層9、第二電極層9を覆って第二シロキサン樹脂層3bが設けられている。尚、第一シロキサン樹脂層3aおよび第二シロキサン樹脂層3bは、ベタ層として形成されていてもよいし、あるいは、取り出し配線7の一部上を被覆しないよう、パターニング形成されてなる層であってもよい。タッチパネル部材6は、二つの電極層が積層されて設けられており、薄膜化の観点において、特に静電容量方式のタッチパネルに好適に用いることができる。このとき、第一シロキサン樹脂層3aは、絶縁性膜として機能させることができ、また第二シロキサン樹脂層3bは、保護層として機能させることができる。ただしタッチパネル部材6は、静電容量方式のタッチパネル部材への適用に限定されず、本発明においてもたらされる薄膜化等の効果は、他の形式のタッチパネル部材においても有効な効果として発揮される。尚、図2の紙面上には表れないが、タッチパネル部材6には、第二電極層9の端部に電気的に接続される取出し配線が設けられてよい。 A touch panel member 6 of the present invention, which is the same stacking mode as the touch panel member 5 shown in FIG. 1D and in which an electrode layer and a siloxane resin layer are patterned, will be described with reference to FIG. The touch panel member 6 shown in FIG. 2 is provided with a first electrode layer 8 patterned in a desired pattern on the tempered glass substrate 2 and an extraction electrode 7 electrically connected to the end of the first electrode layer 8. The first siloxane resin layer 3 a is provided so as to cover the first electrode layer 8 and a part of the extraction electrode 7. Next, a second siloxane resin layer 3b is provided so as to cover the second electrode layer 9 and the second electrode layer 9 which are patterned in a desired pattern. The first siloxane resin layer 3a and the second siloxane resin layer 3b may be formed as solid layers, or layers formed by patterning so as not to cover a part of the lead-out wiring 7. May be. The touch panel member 6 is provided by laminating two electrode layers, and can be suitably used particularly for a capacitive touch panel from the viewpoint of thinning. At this time, the first siloxane resin layer 3a can function as an insulating film, and the second siloxane resin layer 3b can function as a protective layer. However, the touch panel member 6 is not limited to the application to the capacitive touch panel member, and the effects such as thinning brought about in the present invention are also exhibited as effective effects in other types of touch panel members. Although not shown on the paper surface of FIG. 2, the touch panel member 6 may be provided with an extraction wiring that is electrically connected to the end of the second electrode layer 9.
タッチパネル部材6が静電容量式のタッチパネルに適用される場合において、第一電極層8および第二電極層9の積層パターンは、二層の電極層が積層されてなる静電容量方式のタッチパネル部材として適用可能な積層電極の積層パターンであれば、適宜選択して実施してよい。一例として、タッチパネル部材6の第一電極層8、第二電極層9が積層された側を上面とする上面概略図を図3に示す。尚、図3においては、タッチパネル部材6における取出し配線7およびシロキサン樹脂層3a、3bを図示省略する。図3に示される第一電極層8、第二電極層9の積層パターンは、強化ガラス基板2上に、規則的に配列されるダイヤ型の電極部をy方向に連続するようパターニング形成された第一電極層8上に、図示省略するシロキサン樹脂層3aを形成した後、規則的に配列されるダイヤ型の電極部をx方向に連続するようパターニング形成された第二電極層9を設けて構成されている。第二電極層9上にはさらに、図示省略するシロキサン樹脂層3bが形成されてよい。 When the touch panel member 6 is applied to a capacitive touch panel, the laminated pattern of the first electrode layer 8 and the second electrode layer 9 is a capacitive touch panel member in which two electrode layers are laminated. As long as it is a laminated pattern of laminated electrodes applicable to the above, it may be selected as appropriate. As an example, FIG. 3 shows a schematic top view of the touch panel member 6 having a top surface on which the first electrode layer 8 and the second electrode layer 9 are laminated. In FIG. 3, the lead-out wiring 7 and the siloxane resin layers 3a and 3b in the touch panel member 6 are not shown. The laminated pattern of the first electrode layer 8 and the second electrode layer 9 shown in FIG. 3 was formed by patterning on the tempered glass substrate 2 so that the regularly arranged diamond-shaped electrode portions were continuous in the y direction. A siloxane resin layer 3a (not shown) is formed on the first electrode layer 8, and then a second electrode layer 9 is formed by patterning so that regularly arranged diamond-shaped electrode portions are continuous in the x direction. It is configured. A siloxane resin layer 3b (not shown) may be further formed on the second electrode layer 9.
尚、本発明のタッチパネル部材は、2以上の電極層を設ける態様において、一方の電極層を強化ガラス基板の一方面側に設け、他方の電極層を強化ガラスの他方面側に設ける態様を含む。この場合の電極層の積層パターンの例としては、例えば、図4に示すように、強化ガラス基板2上の一方面側に、規則的に配列されるダイヤ型の電極部をy方向に連続するようパターニング形成された第一電極層8を設け、他方面側に規則的に配列されるダイヤ型の電極部をx方向に連続するようパターニング形成された第二電極層10を備えるタッチパネル部材が挙げられる。
図4に示す態様において、図示省略するシロキサン樹脂層は、強化ガラス基板2と第一電極層8との間、強化ガラス基板2と第二電極層10との間、第一電極層8上、および第二電極層10の少なくともいずれかに設けられる。
また、第一電極層および第二電極層の積層パターンは、上述に限定されず、例えばストライプ状に形成された第一電極層と第二電極層とが上面視上において交差するパターン、あるいは、一方の電極層が整然配列された複数のダイヤ形状の電極部を有し、他方の電極層が上面視上、隣り合うダイヤ形状の電極部をx軸方向またはy軸方向に接続する、複数のブリッジ形状の電極部を有するパターンなどが例示されるが、これに限定されない。
In addition, in the aspect which provides two or more electrode layers, the touch panel member of this invention includes the aspect which provides one electrode layer in the one surface side of a tempered glass substrate, and provides the other electrode layer in the other surface side of tempered glass. . As an example of the laminated pattern of the electrode layers in this case, for example, as shown in FIG. 4, diamond-shaped electrode portions regularly arranged on one side of the tempered glass substrate 2 are continued in the y direction. A touch panel member provided with the second electrode layer 10 provided with the first electrode layer 8 formed in such a pattern and having the diamond-shaped electrode portions regularly arranged on the other surface side continuous in the x-direction. It is done.
In the embodiment shown in FIG. 4, the siloxane resin layer not shown is provided between the tempered glass substrate 2 and the first electrode layer 8, between the tempered glass substrate 2 and the second electrode layer 10, on the first electrode layer 8, And at least one of the second electrode layers 10.
In addition, the lamination pattern of the first electrode layer and the second electrode layer is not limited to the above, for example, a pattern in which the first electrode layer and the second electrode layer formed in a stripe shape intersect in top view, or A plurality of diamond-shaped electrode portions in which one electrode layer is regularly arranged, and the other electrode layer connects a plurality of diamond-shaped electrode portions adjacent to each other in the x-axis direction or the y-axis direction when viewed from above; Although the pattern etc. which have a bridge-shaped electrode part are illustrated, it is not limited to this.
尚、図1を用いて説明するタッチパネル部材におけるタッチパネル用電極層を、タッチパネル以外のデバイスに必要とされる電極層に置き換えることによって、図1を用いて説明する積層態様は、本発明の積層部材の態様として理解することができる。本発明の積層部材を使用可能なデバイスの具体的な例としては、例えば、太陽電池モジュール、電極層を備える薄膜トランジスタ、各種表示装置の電極基板などが挙げられるが、これに限定されない。 1 is replaced with an electrode layer required for a device other than the touch panel so that the lamination mode explained using FIG. 1 is the laminated member of the present invention. It can be understood as an embodiment. Specific examples of devices that can use the laminated member of the present invention include, but are not limited to, solar cell modules, thin film transistors including electrode layers, and electrode substrates of various display devices.
(強化ガラス基板)
本発明に用いられる強化ガラス基板は、衝撃に対し脆い、あるいは物理的衝撃による傷耐性が不充分であるというガラス基板の性質を改善するために処理された強化ガラスを用いる基板である。上記強化ガラスとしては、一般的には、ガラス表面の圧縮応力を向上させる処理を施すことによって、処理前のガラスと比べて耐衝撃性が向上したものを含む。強化ガラスとするための強化処理方法は特に限定されないが、化学強化処理ガラスを得る手段として、イオン交換法、あるいは風冷強化法が広く知られている。また、熱強化処理により得られる熱強化ガラス、特許第3956286号に開示されるレーザー処理等により得られるレーザー処理ガラスなども、本発明における強化ガラス基板として使用可能であり、またこれらに限定されない。
(Tempered glass substrate)
The tempered glass substrate used in the present invention is a substrate that uses tempered glass that has been treated to improve the properties of the glass substrate that are brittle against impact or have insufficient scratch resistance due to physical impact. In general, the tempered glass includes a glass whose impact resistance is improved by performing a treatment for improving the compressive stress on the glass surface as compared with the glass before the treatment. A tempering method for obtaining tempered glass is not particularly limited, but an ion exchange method or an air cooling tempering method is widely known as means for obtaining chemically tempered glass. Moreover, the heat-strengthened glass obtained by a heat-strengthening process, the laser-treated glass obtained by the laser process etc. which are disclosed by the patent 3956286 etc. can be used as a tempered glass board | substrate in this invention, and are not limited to these.
特にイオン交換法は、薄膜ガラスの強化可能であり、本発明に用いる強化ガラス基板を得るための方法として適している。上記イオン交換法は、カリウムイオンなどの適切なイオンが含有される処理液を準備し、該処理液中に、ナトリウムイオンなどの置換可能なイオンを含有するガラスを浸漬し、該ガラスに含まれる置換可能なイオンと、処理液中に含有されるイオンを交換させる方法である。このときガラス中のナトリウムイオンと、これよりも大きいカリウムイオンとが交換されることによって、ガラスの表面層内部が圧縮された状態となり、この結果、ガラスの強度が向上するものである。 In particular, the ion exchange method can reinforce thin-film glass and is suitable as a method for obtaining a tempered glass substrate used in the present invention. In the ion exchange method, a treatment liquid containing appropriate ions such as potassium ions is prepared, and glass containing a substitutable ion such as sodium ions is immersed in the treatment liquid. This is a method of exchanging replaceable ions and ions contained in the treatment liquid. At this time, the sodium ions in the glass are exchanged with potassium ions larger than this, whereby the inside of the surface layer of the glass is compressed, and as a result, the strength of the glass is improved.
上記強化ガラスは、強化処理前のガラスと区別されるものである。強化処理前のガラスとは、所謂、青板ガラス、生板ガラス、強化未処理ガラスなど呼ばれるものを含む。強化ガラスの市販品としては、例えば、コーニング社製のゴリラFITガラス(Gorilla FIT Glass)、ゴリラガラス(Gorilla Glass)(登録商標)、旭硝子社製のドラゴントレイル(Dragontrail)(登録商標)、日本板硝子社製の化学強化ガラス(FL3.2)などを挙げることができるが、これに限定されない。 The tempered glass is distinguished from the glass before the tempering treatment. Glass before tempering includes what is called blue plate glass, green plate glass, tempered untreated glass, and the like. Commercially available tempered glass includes, for example, Corning Gorilla FIT Glass (Gorilla FIT Glass), Gorilla Glass (registered trademark), Asahi Glass Dragontrail (registered trademark), Nippon Sheet Glass Examples include, but are not limited to, chemically tempered glass (FL3.2) manufactured by the company.
特に、本発明における強化ガラス基板としては、ヤング率が70GPa以上であるものが好適に選択される。ヤング率が70GPa以上の強化ガラス基板を用いる本発明のタッチパネル部材であれば、タッチ面側から受けるタッチ力に対する応力が特に高い。したがって、ヤング率が70GPa以上の強化ガラス基板を用いる本発明では、指やタッチペンなどによる押し圧でデバイス内部が圧迫されて、該デバイスの故障や機能低下を防止する効果が充分に高くなるからである。より具体的には、例えば、液晶表示装置とヤング率が70GPa以上の強化ガラス基板を用いる本発明のタッチパネル部材を組み合わせた場合に、タッチ面からのタッチにより、装置内部の液晶素子等が圧迫され、ディスプレイの表示不良が発生することを良好に防止することができる。
また、ヤング率が70GPa以上の強化ガラス基板は、特に傷耐性が高いので、該強化ガラスをタッチ面として設計した場合には、優れた表面の傷付き防止効果が発揮される。
ただし上述する、強化ガラス基板のタッチ力に対する優れた応力や、傷耐性といった効果は、本発明のタッチパネル部材においてヤング率が70GPa以上の強化ガラス基板を用いたときに初めて発揮される効果ではなく、特に70GPa以上の強化ガラス基板において効果が高い。尚、本発明における強化ガラス基板のヤング率は、ガラスの強化という観点からは、高いほうが好ましく特に制限を設けられるものではないため、タッチパネル部材の基板としての適当な厚み、重量などを勘案して適宜決定されてよい。強化ガラス基板のヤング率は、JIS規格のR1602(セラミックの室温の弾性定数測定)で測定することができる。
尚、上述するヤング率が示される強化ガラスに関し、応力、傷耐性などの優れた性能は本発明の積層部材においても優れた特質として発揮される。したがって、本発明の積層部材においても、ヤング率が70GPa以上の強化ガラスを用いることは、上述する効果を享受可能である点で好ましい。
In particular, as the tempered glass substrate in the present invention, one having a Young's modulus of 70 GPa or more is preferably selected. If the touch panel member of the present invention uses a tempered glass substrate having a Young's modulus of 70 GPa or more, the stress on the touch force received from the touch surface side is particularly high. Therefore, in the present invention using a tempered glass substrate having a Young's modulus of 70 GPa or more, the inside of the device is pressed by a pressing force with a finger or a touch pen, and the effect of preventing failure and functional deterioration of the device becomes sufficiently high. is there. More specifically, for example, when the liquid crystal display device and the touch panel member of the present invention using a tempered glass substrate having a Young's modulus of 70 GPa or more are combined, the liquid crystal elements inside the device are pressed by touch from the touch surface. It is possible to satisfactorily prevent the occurrence of display defects on the display.
In addition, a tempered glass substrate having a Young's modulus of 70 GPa or more has particularly high scratch resistance. Therefore, when the tempered glass is designed as a touch surface, an excellent anti-scratch effect on the surface is exhibited.
However, the above-described effects such as excellent stress on the touch force of the tempered glass substrate and scratch resistance are not the effects that are exhibited for the first time when the tempered glass substrate having a Young's modulus of 70 GPa or more is used in the touch panel member of the present invention, The effect is particularly high in a tempered glass substrate of 70 GPa or more. Note that the Young's modulus of the tempered glass substrate in the present invention is preferably higher from the viewpoint of strengthening the glass, and is not particularly limited. Therefore, considering the appropriate thickness, weight, etc. of the touch panel member as a substrate. It may be determined as appropriate. The Young's modulus of the tempered glass substrate can be measured by JIS standard R1602 (measuring the elastic constant of a ceramic at room temperature).
In addition, regarding the tempered glass having the Young's modulus described above, excellent performances such as stress and scratch resistance are exhibited as excellent characteristics in the laminated member of the present invention. Therefore, also in the laminated member of the present invention, it is preferable to use a tempered glass having a Young's modulus of 70 GPa or more because the effects described above can be enjoyed.
ガラス基板のヤング率は、ガラス基板を構成する成分などにも左右され、また基板の厚みによるところも大きい。従来のタッチパネル部材に用いられる強化処理前のガラス基板の厚みは一般的に2〜3mm程度であって、このとき示されるヤング率は50GPa〜70GPa未満であることが一般的であった。しかし本発明に用いられる強化ガラスは基板の厚みが0.5mm〜1.8mm程度において、ヤング率70GPa以上を発揮することが可能である。 The Young's modulus of the glass substrate depends on the components constituting the glass substrate, and is largely dependent on the thickness of the substrate. The thickness of the glass substrate before the strengthening treatment used for the conventional touch panel member is generally about 2 to 3 mm, and the Young's modulus shown at this time is generally 50 GPa to less than 70 GPa. However, the tempered glass used in the present invention can exhibit a Young's modulus of 70 GPa or more when the thickness of the substrate is about 0.5 mm to 1.8 mm.
強化ガラスは、上述のとおり強化処理されているため、ダイヤモンドカッターなどの物理的圧力による切断手段(非熱切断手段)によって望ましく切断することが困難である。この傾向は、ヤング率70GPa以上の強化ガラスにおいて特に顕著である。そこで、強化ガラスの切断手段として、レーザー切断、ガス切断、プラズマ切断、放電切断等などの熱切断手段を選択することにより切断可能である。本発明のタッチパネル部材あるいは積層部材の製造を勘案すれば、本発明に用いる強化ガラス基板の熱切断時において、焦げ付きなどが発生しないようシロキサン樹脂層を構成することが望ましい。あるいは、本発明におけるシロキサン樹脂層の耐熱性を勘案し、本発明に用いる強化ガラスの種類、厚みを決定してもよい。 Since the tempered glass is tempered as described above, it is difficult to desirably cut it by a cutting means (non-thermal cutting means) using physical pressure such as a diamond cutter. This tendency is particularly remarkable in tempered glass having a Young's modulus of 70 GPa or more. Therefore, it is possible to cut by selecting a thermal cutting means such as laser cutting, gas cutting, plasma cutting, electric discharge cutting or the like as the cutting means for tempered glass. Considering the production of the touch panel member or the laminated member of the present invention, it is desirable to form the siloxane resin layer so that no burning or the like occurs during the thermal cutting of the tempered glass substrate used in the present invention. Alternatively, the type and thickness of the tempered glass used in the present invention may be determined in consideration of the heat resistance of the siloxane resin layer in the present invention.
上記強化ガラス基板の厚みは特に限定されず、本発明のタッチパネル部材あるいは積層部材が用いられるデバイスにおいて適した厚みを適宜選択してよい。あるいは、強化ガラス基板の厚みは、該強化ガラス基板がタッチ面側に位置することを予定するか、あるいは、デバイスの内側(インセル)に位置することを予定するかによって、適宜決定してよい。例えば、第一電極層と第二電極層とを備える静電容量方式のタッチパネル部材とし、しかも、強化ガラス基板が直接または間接にタッチ面となる場合には、強化ガラス基板の厚みは、0.5mm以上1.8mm以下であることが望ましい。これによって、タッチ面としての強度が充分発揮されうる。 The thickness of the said tempered glass board | substrate is not specifically limited, You may select suitably the thickness suitable for the device in which the touch panel member or laminated member of this invention is used. Alternatively, the thickness of the tempered glass substrate may be appropriately determined depending on whether the tempered glass substrate is scheduled to be located on the touch surface side or is located on the inner side (in-cell) of the device. For example, when a capacitive touch panel member including a first electrode layer and a second electrode layer is used, and the tempered glass substrate directly or indirectly becomes a touch surface, the thickness of the tempered glass substrate is 0. It is desirable that it is 5 mm or more and 1.8 mm or less. Thereby, the strength as a touch surface can be sufficiently exhibited.
上記強化ガラス基板は、タッチパネルを含む表示機能を備えるデバイスの表示面内に位置することが予定される場合には、一般的に透明であることが望ましい。強化ガラスの透明度合いは特に限定されず、タッチパネルを含むデバイス自体の視認性、タッチパネル部材あるいは積層部材が使用されるデバイスにおける表示性能を担保する範囲で、適度な透明性が示されればよい。 In general, the tempered glass substrate is desirably transparent when it is planned to be located within a display surface of a device having a display function including a touch panel. The degree of transparency of the tempered glass is not particularly limited, as long as the transparency of the device itself including the touch panel and the display performance of the device using the touch panel member or the laminated member are ensured.
(電極層)
本発明のタッチパネル部材におけるタッチパネル用電極層は、タッチ面において指などが接触または接触に近い状態となったときに、これを感知するために設けられる電極をなす層であればよく、公知のタッチパネル部材の基材上に設けられ得る電極層を適宜選択することができる。本発明におけるタッチパネル用電極層は、一層からなるもの、二層以上からなるもののいずれであってもよく、二層以上に設けられる場合に、強化ガラス基板の一方面側に二以上の電極層が設けられているもの、および強化ガラス基板の両面側にそれぞれ一層以上の電極層が設けられているもののいずれであってもよい。
(Electrode layer)
The touch panel electrode layer in the touch panel member of the present invention may be a layer that forms an electrode provided for sensing when a finger or the like is in contact with or close to contact on the touch surface. An electrode layer that can be provided on the base material of the member can be appropriately selected. The electrode layer for a touch panel in the present invention may be composed of one layer or two or more layers. When two or more electrode layers are provided on one side of the tempered glass substrate, two or more electrode layers are provided. Any of those provided and one or more electrode layers provided on both sides of the tempered glass substrate may be used.
本発明の積層部材における電極層は、タッチパネル以外のデバイスにおいて、基板上に設けられ得る電極層を適宜選択することができる。電極層の数、強化ガラス基板の片面側に設けられる場合、両面側に設けられる場合については、上述するタッチパネル用電極層と同様である。 As the electrode layer in the laminated member of the present invention, an electrode layer that can be provided on a substrate in a device other than a touch panel can be appropriately selected. The number of electrode layers, the case of being provided on one side of the tempered glass substrate, and the case of being provided on both sides are the same as the electrode layer for touch panel described above.
以下に、本発明における電極層について、タッチパネル用電極層を例に、詳細を説明する。
タッチパネル用電極層は、タッチ面において指などが接触または接触に近い状態となったことを感知可能とする面内に主として設けられることが一般的である。またタッチパネル部材が表示機能を備えるデバイスと組み合わせて使用することが予定される場合には、電極層は、該デバイスにおける表示領域面内に含められるよう設計されることが一般的である。ただし、電極層の端部は、上記感知可能とする面の外側、あるいは上記表示領域面の外側まで伸長していてもよい。
Hereinafter, the electrode layer in the present invention will be described in detail by taking an electrode layer for a touch panel as an example.
In general, the electrode layer for a touch panel is mainly provided in a surface that can sense that a finger or the like is in contact with or close to contact on the touch surface. When the touch panel member is planned to be used in combination with a device having a display function, the electrode layer is generally designed to be included in the display area plane of the device. However, the end portion of the electrode layer may extend to the outside of the surface that can be sensed or the outside of the display area surface.
上記タッチパネル用電極層は、タッチパネルの視認性、表示性を妨げないという観点から、光透過性の材料で形成されることが一般的である。ただし、タッチ面、あるいは表示面において視認されない程度の小さい領域にパターン形成されるなど、選択される電極層のパターンによっては、光透過性のない材料から形成されてもよい。上記電極層を構成する材料としては、インジウム錫オキサイド(ITO)、酸化インジウム、インジウム亜鉛オキサイド(IZO)などの酸化インジウム系透明電極材料、あるいは、酸化錫(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)等の透明導電膜、ポリアニリン、ポリアセチレン等の導電性酸化物等を用いることができるが、材料はこれに限定されない。あるいは、ワイヤーセンサー方式のタッチパネルに本発明のタッチパネル部材が使用予定の場合には、導電性ワイヤで電極層を形成してもよい。一枚の強化ガラス基板上に、二層以上の電極層が設けられる場合には、各電極層は、同種の材料から構成されていてもよいし、異なる材料により構成されていてもよい。 The electrode layer for a touch panel is generally formed of a light transmissive material from the viewpoint of not hindering the visibility and display properties of the touch panel. However, depending on the pattern of the selected electrode layer, it may be formed of a material that does not transmit light, such as a pattern formed in a small area that is not visible on the touch surface or the display surface. Examples of the material constituting the electrode layer include indium oxide-based transparent electrode materials such as indium tin oxide (ITO), indium oxide, and indium zinc oxide (IZO), or tin oxide (SnO 2 ) and zinc oxide (ZnO). A transparent conductive film, a conductive oxide such as polyaniline, polyacetylene, or the like can be used, but the material is not limited to this. Alternatively, when the touch panel member of the present invention is to be used for a wire sensor touch panel, the electrode layer may be formed of a conductive wire. When two or more electrode layers are provided on a single tempered glass substrate, each electrode layer may be made of the same material or different materials.
本発明におけるタッチパネル用電極層の厚みは、特に限定されず、一般的には、10nm〜500nm程度、好ましくは10nm〜100nm程度である。 The thickness of the electrode layer for a touch panel in the present invention is not particularly limited, and is generally about 10 nm to 500 nm, preferably about 10 nm to 100 nm.
(シロキサン樹脂層)
本発明におけるシロキサン樹脂層とは、ポリシロキサンを含む層であり、実質的にポリシロキサンからなる層、およびポリシロキサンに加え、任意の成分および任意の元素を含む層のいずれも含む。本発明におけるシロキサン樹脂層は、絶縁性、耐熱性、硬度などの点で優れた性質を発揮し得るが、当該性質は、ポリシロキサンからなる樹脂骨格により層構成されているためと推察される。シロキサン樹脂層が上記優れた性質を示すため、強化ガラス基板上においてタッチパネル用電極層、あるいはタッチパネル以外の電極層に対し、直接または間接に該シロキサン樹脂層が積層されることによって、絶縁性膜および/または保護層としての機能を発揮させることができる。電極層は、その電気的な作用を設計通りに作用させるために、絶縁性膜を積層されることが望ましく、そのため、絶縁性のシロキサン樹脂層を積層させることによって電極層の電気的な作用が望ましく実施される。また、電極層形成後の製造後工程や、部材の搬送時、あるいは完成品に関しタッチパネルなどのデバイスを使用する際、電極層が物理的あるいは化学的に損傷を受けると、タッチパネルあるいはデバイスの機能が良好に実施されない虞がある。したがって電極層上に保護層を設けることが望ましい。ことのき、該保護層を硬度、耐熱性に優れるシロキサン樹脂層とすることにより、従来のアクリル樹脂材料から形成される保護層に比べ、保護効果を向上させることができる。ただし上述は、本発明におけるシロキサン樹脂層を絶縁性膜および/または保護層として用いる態様に限定する趣旨ではない。本発明におけるシロキサン樹脂層の積層の趣旨は、主としてポリシロキサン骨格を備えることによる種々発揮される性質の範囲において、絶縁性、保護性を含め適宜理解されてよい。
(Siloxane resin layer)
The siloxane resin layer in the present invention is a layer containing polysiloxane, and includes both a layer substantially consisting of polysiloxane and a layer containing any component and any element in addition to polysiloxane. The siloxane resin layer in the present invention can exhibit excellent properties in terms of insulation, heat resistance, hardness, and the like, but this property is presumed to be due to the layer structure of a resin skeleton composed of polysiloxane. Since the siloxane resin layer exhibits the above-described excellent properties, the insulating film and the insulating film and the electrode layer for the touch panel on the tempered glass substrate or the electrode layer other than the touch panel are laminated directly or indirectly. The function as a protective layer can be exhibited. The electrode layer is desirably laminated with an insulating film in order to cause its electrical action to work as designed. Therefore, by laminating an insulating siloxane resin layer, the electrical action of the electrode layer is improved. Desirably implemented. In addition, when a device such as a touch panel is used for a post-manufacturing process after the electrode layer is formed, a member is transported, or a finished product is used, if the electrode layer is physically or chemically damaged, the function of the touch panel or device There is a risk that it will not be implemented well. Therefore, it is desirable to provide a protective layer on the electrode layer. At this time, the protective effect can be improved by making the protective layer a siloxane resin layer having excellent hardness and heat resistance as compared with a protective layer formed from a conventional acrylic resin material. However, the above is not intended to limit the embodiment in which the siloxane resin layer in the present invention is used as an insulating film and / or a protective layer. The purpose of the lamination of the siloxane resin layer in the present invention may be appropriately understood including insulating properties and protective properties within a range of various properties mainly due to provision of a polysiloxane skeleton.
シロキサン樹脂層は、アクリル樹脂などから形成される樹脂層と同等以上の絶縁性を示すことが可能であり、またシロキサン樹脂層の絶縁性の程度は特に限定されない。ただし、シロキサン樹脂の積層は、絶縁性膜として機能することが求められる場合、あるいは保護層としての機能が求められる場合、あるいはその両方の場合を含むが、いずれの場合においても、シロキサン樹脂層の事後的な静電気による破壊などを考慮して、絶縁耐圧が200Vから500V程度となるように設定されることが望ましく、また所望の絶縁耐圧は、用いられるシロキサン樹脂材料の種類や、シロキサン樹脂層の厚みなどによって調整することができる。 The siloxane resin layer can exhibit an insulation property equal to or higher than that of a resin layer formed from an acrylic resin or the like, and the degree of insulation of the siloxane resin layer is not particularly limited. However, the lamination of the siloxane resin includes a case where it is required to function as an insulating film, a case where a function as a protective layer is required, or both cases. It is desirable to set the withstand voltage to about 200 V to 500 V in consideration of the subsequent breakdown due to static electricity, etc. The desired withstand voltage is determined depending on the type of siloxane resin material used and the siloxane resin layer. It can be adjusted by the thickness or the like.
シロキサン樹脂層の耐熱性は特に限定されないが、一般的には400℃〜500℃程度の耐熱性が示され得る。したがって、400℃〜500℃、あるいは500℃を超える温度で強化ガラス基板が熱切断され切断面が溶融した場合にも、シロキサン樹脂層の、該切断面付近の領域において焦げ付きが良好に防止されうる。また、シロキサン樹脂層の硬度は特に限定されないが、JIS K 5600−5−4における鉛筆硬度試験において4H以上の構造を示すことが可能である。したがって、特にシロキサン樹脂層が保護層として設けられる場合には、上記硬度が4H以上となるよう、シロキサン樹脂層を構成することが望ましい。シロキサン樹脂層の耐熱性、あるいは硬度といった物性は、シロキサン樹脂層に含まれるシロキサン樹脂(ポリシロキサン)の含有率や選択されるシロキサン樹脂の種類、2以上のシロキサン樹脂の混合などによって適宜調整してよい。 Although the heat resistance of a siloxane resin layer is not specifically limited, Generally, the heat resistance of about 400 degreeC-500 degreeC may be shown. Therefore, even when the tempered glass substrate is thermally cut at a temperature of 400 ° C. to 500 ° C. or higher than 500 ° C. and the cut surface is melted, scorching can be well prevented in the region near the cut surface of the siloxane resin layer. . Further, the hardness of the siloxane resin layer is not particularly limited, but a structure of 4H or more can be shown in a pencil hardness test in JIS K 5600-5-4. Therefore, especially when a siloxane resin layer is provided as a protective layer, it is desirable to configure the siloxane resin layer so that the hardness is 4H or more. The physical properties such as heat resistance or hardness of the siloxane resin layer are appropriately adjusted depending on the content of the siloxane resin (polysiloxane) contained in the siloxane resin layer, the type of siloxane resin selected, and the mixing of two or more siloxane resins. Good.
また、上記シロキサン樹脂層が、タッチパネル部材、あるいは積層部材中に二層以上形成される場合には、各層は、実質的に同一のポリシロキサンから構成されていてもよいし、あるいは異なるポリシロキサンが含有されていてもよい。但し、各層を実質的に同一にポリシロキサンから構成することによれば、各シロキサン樹脂層の収縮率を同じくすることできるため、設計通りのタッチパネル部材あるいは積層部材を容易に製造し易く望ましい。加えて、各シロキサン樹脂層の屈折率が同じになるため、光学的に反射の発生を防止することができ望ましい。尚、本発明において「二層以上のシロキサン樹脂層が実質的に同一のポリシロキサンから構成されている」とは、一のシロキサン樹脂層が、1種のポリシロキサンのみを含む場合、各シロキサン樹脂層を構成するポリシロキサンの構造式が同一であることを意味する。一方、一のシロキサン樹脂層が2種以上のポリシロキサンの組み合わせで構成される場合には、各シロキサン樹脂層におけるポリシロキサンの組み合わせが同一であることを意味し、組み合わされるシロキサン樹脂の含有比率までは、その同一性を問わない。 When the siloxane resin layer is formed in two or more layers in the touch panel member or the laminated member, each layer may be composed of substantially the same polysiloxane, or different polysiloxanes may be formed. It may be contained. However, if each layer is made of polysiloxane substantially the same, the shrinkage rate of each siloxane resin layer can be made the same, so that it is desirable to easily manufacture a touch panel member or a laminated member as designed. In addition, since the refractive index of each siloxane resin layer is the same, it is desirable that optical reflection can be prevented. In the present invention, “two or more siloxane resin layers are composed of substantially the same polysiloxane” means that when one siloxane resin layer contains only one kind of polysiloxane, each siloxane resin. It means that the structural formulas of the polysiloxanes constituting the layers are the same. On the other hand, when one siloxane resin layer is composed of a combination of two or more polysiloxanes, it means that the combination of polysiloxanes in each siloxane resin layer is the same, up to the content ratio of the combined siloxane resins Do not ask for their identity.
シロキサン樹脂層に任意に添加される添加剤としては、例えば、チタン、シリカ粒子、光酸発生材、熱酸発生材あるいはこれらの残渣などが挙げられるがこれらに限定されず、本願発明の趣旨を逸脱しない範囲において、シロキサン樹脂層に、ポリシロキサン以外のその他の成分が含有していてもよい。その他の含有成分の含有量は、特に限定されず、本発明のタッチパネル部材が用いられるタッチパネル、あるいは本発明の積層部材が用いられるデバイスにおいて不都合にならない程度の性質、例えば透明性、絶縁性、硬化性、耐熱性などが示されるよう、適宜調整してよい。 Examples of the additive arbitrarily added to the siloxane resin layer include, but are not limited to, titanium, silica particles, a photoacid generator, a thermal acid generator, or a residue thereof. In the range which does not deviate, other components other than polysiloxane may contain in the siloxane resin layer. The content of other components is not particularly limited, and properties that are not inconvenient in a touch panel in which the touch panel member of the present invention is used or a device in which the laminated member of the present invention is used, such as transparency, insulation, and curing. May be appropriately adjusted so as to show properties, heat resistance, and the like.
上記シロキサン樹脂層の厚みは、特に限定されないが、シロキサン樹脂層に求められる機能、絶縁耐圧、シロキサン樹脂層を備えるタッチパネル部材を含む積層部材の使用が予定されるデバイスの機能などを勘案し、求められる機能を発揮することが可能な範囲で、薄く形成されることが、望ましい。シロキサン樹脂の厚みを可能な範囲で小さく設計することのメリットは以下のとおりである。
即ち、タッチパネル部材、また表示機能を備えるデバイスに使用予定の積層部材において、上記絶縁性膜および上記保護層としてのシロキサン樹脂層は、全可視光領域での透過率が高く、ほぼ無色透明ではあることが好ましいが、若干ながら可視光領域の短波長領域に吸収帯を有するため、わずかに黄色く着色する場合がある。このような着色は、デバイスの表示機能を勘案すると好ましくない。また、感光性シロキサン樹脂を用いてシロキサン樹脂層を形成する場合に、膜厚を大きく設定するほど、露光の際の回折光の影響により露光エリアが増大し、結果としてパターン太りを招いて解像度が悪化するといった問題も発生し得る。したがって、上記着色の問題および解像度の悪化を回避するために、上記シロキサン樹脂層は、絶縁耐圧を満足する範囲で必要最低限の膜厚で形成されることが好ましい。一般的には、絶縁性膜および表面保護層の厚みは、0.5μm以上3.0μm以下の厚さで形成されることが好ましい。また、光学調整、あるいは反射防止効果をシロキサン樹脂層の求める場合には、層の厚みは、30nm以上100nm以下、特には、40nm〜70nm以下程度にすることが好ましい。
The thickness of the siloxane resin layer is not particularly limited, but is determined in consideration of the functions required of the siloxane resin layer, the withstand voltage, the function of the device that is expected to use the laminated member including the touch panel member including the siloxane resin layer, and the like. It is desirable to form the thin film as long as it can exhibit the functions to be achieved. The merit of designing the thickness of the siloxane resin as small as possible is as follows.
That is, in the laminated member scheduled to be used for a touch panel member or a device having a display function, the insulating film and the siloxane resin layer as the protective layer have high transmittance in the entire visible light region and are almost colorless and transparent. Although it is preferable, since it has an absorption band in the short wavelength region of the visible light region, it may be slightly colored yellow. Such coloring is not preferable in view of the display function of the device. In addition, when a siloxane resin layer is formed using a photosensitive siloxane resin, the exposure area increases due to the influence of diffracted light at the time of exposure as the film thickness is set larger. Problems such as deterioration can also occur. Therefore, in order to avoid the above-mentioned coloring problem and resolution deterioration, it is preferable that the siloxane resin layer is formed with a minimum necessary thickness within a range satisfying the withstand voltage. In general, the insulating film and the surface protective layer are preferably formed to have a thickness of 0.5 μm to 3.0 μm. Further, when the siloxane resin layer is required for optical adjustment or antireflection effect, the thickness of the layer is preferably 30 nm or more and 100 nm or less, particularly about 40 nm to 70 nm or less.
(任意の構成)
本発明のタッチパネル部材あるいは本発明の積層部材には、強化ガラス基板上において電極層とシロキサン樹脂層以外に、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において任意の層を含む任意の構成が設けられて良い。
(Arbitrary configuration)
The touch panel member of the present invention or the laminated member of the present invention may be provided with any configuration including an arbitrary layer within the scope of the present invention, in addition to the electrode layer and the siloxane resin layer, on the tempered glass substrate. .
任意の構成が設けられた本発明のタッチパネル部材の例として図10を示す。図10に示す本発明にタッチパネル部材71は、タッチ面側に位置する強化ガラス基板72上に、パターニングされた第一電極層73と、これに積層させる第二透明電極層74を有し、第一電極層73と第二電極層74との間には、絶縁性膜としてパターニング形成された第一シロキサン樹脂層75を備える。そして、第一電極層73の端部と電気的に接続する取り出し配線77が設けられている。このように、本発明において取り出し配線が任意の構成として設けられてもよく、図10に現れない、第二透明電極層74の端部に電気的に接続する取り出し配線をさらに有していても良い。このとき、取出し配線77を覆って第二シロキサン樹脂層76が設けられることによって、取り出し配線77に対する保護および絶縁作用が図られる。 FIG. 10 shows an example of the touch panel member of the present invention provided with an arbitrary configuration. The touch panel member 71 according to the present invention shown in FIG. 10 has a patterned first electrode layer 73 and a second transparent electrode layer 74 laminated on the tempered glass substrate 72 located on the touch surface side. A first siloxane resin layer 75 patterned as an insulating film is provided between the one electrode layer 73 and the second electrode layer 74. A lead-out wiring 77 that is electrically connected to the end portion of the first electrode layer 73 is provided. Thus, in the present invention, the extraction wiring may be provided as an arbitrary configuration, and may further have an extraction wiring that does not appear in FIG. 10 and is electrically connected to the end of the second transparent electrode layer 74. good. At this time, the second siloxane resin layer 76 is provided so as to cover the extraction wiring 77, thereby protecting and insulating the extraction wiring 77.
上記取出し配線は、電極層との電気的接続により導電し、タッチパネル部材に接続される回路等および電極層との間における電流の流れを助ける。したがって、導電性材料によって構成される。また上記取出し配線は、タッチパネル部材における指などが接触または接触に近い状態となったことを感知可能とする操作領域(表示領域)の外側に位置する非操作領域(非表示領域)に設けられることが一般的であり、かかる場合には、光透過性の有無を問わない。上記取出し配線は、高い導電性を有した銀や銅などの金属材料を用いて形成することができる。より具体的には、取出し配線を構成する金属物質としては、金属単体や、金属の複合体や、金属と金属化合物の複合体のほか、金属合金を挙げることができる。金属単体としては、銀、銅、金、クロム、プラチナ、アルミニウムの単体などを例示することができる。金属の複合体としては、MAM(Mo−Al−Mo、すなわちモリブデン・アルミニウム・モリブデンの3層構造体)などを挙げることができ、金属と金属化合物の複合体としては、酸化クロム/クロム積層体などを例示することができる。金属合金としては、銀合金や銅合金が汎用される。また、金属合金としては、APC(Au・Pd・Cu、すなわち銀・パラジウム・銅)などを例示することができる。 The lead-out wiring is electrically conductive by electrical connection with the electrode layer, and helps current flow between the circuit and the electrode layer connected to the touch panel member. Accordingly, the conductive material is used. Further, the extraction wiring is provided in a non-operation area (non-display area) located outside the operation area (display area) that can detect that a finger or the like on the touch panel member is in contact with or close to contact. In such a case, it does not matter whether light is transmitted or not. The extraction wiring can be formed using a metal material such as silver or copper having high conductivity. More specifically, examples of the metal material constituting the extraction wiring include a metal simple substance, a metal composite, a metal / metal compound composite, and a metal alloy. Examples of the simple metal include silver, copper, gold, chromium, platinum, and aluminum. Examples of the metal composite include MAM (Mo-Al-Mo, that is, a three-layer structure of molybdenum, aluminum, and molybdenum), and examples of the composite of metal and metal compound include a chromium oxide / chromium laminate. Etc. can be illustrated. As the metal alloy, a silver alloy or a copper alloy is generally used. Moreover, APC (Au * Pd * Cu, ie, silver * palladium * copper) etc. can be illustrated as a metal alloy.
また、タッチパネル部材71には、その他の任意の構成として、額縁層78が設けられている。額縁層78は、強化ガラス基板72上の非操作領域(非表示領域)に形成されており、タッチ面側から観察した際に、取り出し配線77を覆って、これらの視認を防止する役割を有する。したがって、額縁層78は、一般的には黒色であるが、黒色に限定する必要はなく、タッチ面側から取り出し配線77が視認不可能な程度の不透明性が示されればよく、白色不透明、あるいは有色不透明な層であってもよい。額縁層78を設けることにより、タッチパネル部材のタッチ面側からの意匠性を向上させることができる。額縁層78は、不透明性を発揮しうるインキあるいはペーストなどの材料を用い、フォトリソフラフィ法あるいはスクリーン印刷などの公知の手段で形成することができる。また額縁層78の厚みは任意であるが、充分な意匠性を発揮させるためには、用いられるインキやペーストなどの種類を勘案し、0.8μm〜2μm程度に形成することが一般的である。 The touch panel member 71 is provided with a frame layer 78 as another arbitrary configuration. The frame layer 78 is formed in a non-operation area (non-display area) on the tempered glass substrate 72 and has a role of covering the take-out wiring 77 and preventing the visual recognition of these when observed from the touch surface side. . Therefore, the frame layer 78 is generally black, but it is not necessary to limit the frame layer 78 to black. The frame layer 78 may be opaque as long as the extraction wiring 77 is not visible from the touch surface side. Alternatively, it may be a colored opaque layer. By providing the frame layer 78, the design from the touch surface side of the touch panel member can be improved. The frame layer 78 can be formed by a known means such as a photolithographic method or screen printing using a material such as ink or paste that can exhibit opacity. The thickness of the frame layer 78 is arbitrary, but in order to exhibit sufficient design properties, it is common to form the frame layer 78 to a thickness of about 0.8 μm to 2 μm in consideration of the type of ink or paste used. .
さらにタッチパネル部材71は、第二シロキサン樹脂層76上の一部または略全面を覆って保護ペースト層79が任意で設けられていてもよい。保護ペースト層77を設けることによって、下層にある金属配線を保護することが可能である。保護ペースと層77は、透明であってもよく、または不透明であってもよく、例えば、不透明な保護ペースト層77であれば、上述する額縁層78と同様の材料および方法により形成することができる。 Further, the touch panel member 71 may be optionally provided with a protective paste layer 79 so as to cover a part or substantially the entire surface of the second siloxane resin layer 76. By providing the protective paste layer 77, it is possible to protect the metal wiring in the lower layer. The protective pace and layer 77 may be transparent or opaque. For example, if the protective paste layer 77 is opaque, it can be formed by the same material and method as the frame layer 78 described above. it can.
また、タッチパネル部材71は、強化ガラス基材72が、タッチ面側に位置するよう予定されるため、タッチ面とは反対面側略全面に保護層80を設け、タッチパネル部材71と他のデバイスとを組み合わせる際、あるいは、タッチパネル部材71の運搬の際などにおいて、第一透明電極層73および第二透明電極層74の保護を図ってもよい。保護層80を、シロキサン樹脂層により構成してもよい。あるいは、保護層80を透明樹脂フィルムまたはアクリル樹脂などの透明樹脂層により構成してもよいが、かかる場合には、多面取りした基板から熱切断手段により本発明のタッチパネル部材を得る場合、あるいは熱切断手段により所望の形状に加工する場合には、熱切断手段実施後に、保護層80を設けることが望ましい。 Moreover, since the tempered glass base material 72 is scheduled to be located on the touch surface side, the touch panel member 71 is provided with a protective layer 80 on the substantially entire surface opposite to the touch surface, and the touch panel member 71 and other devices are provided. The first transparent electrode layer 73 and the second transparent electrode layer 74 may be protected when combining the two or when the touch panel member 71 is transported. The protective layer 80 may be composed of a siloxane resin layer. Alternatively, the protective layer 80 may be formed of a transparent resin layer such as a transparent resin film or an acrylic resin. In such a case, when the touch panel member of the present invention is obtained from a multi-faced substrate by thermal cutting means, When processing into a desired shape by the cutting means, it is desirable to provide the protective layer 80 after the thermal cutting means.
(タッチパネル部材一体型有機EL表示装置)
以下に本発明のタッチパネル部材の使用態様の例を、図面を用いて説明する。図5は、タッチパネル部材一体型の表示装置の実施態様の例である、タッチパネル部材一体型有機EL表示装置11について、基板面に対し略法線方向に切断した際の概略断面図である。タッチパネル部材一体型とは、タッチパネル部材における基板が、組み合わされるデバイスの基板として兼用される態様を意味する。
(Touch panel member integrated organic EL display)
Below, the example of the usage condition of the touchscreen member of this invention is demonstrated using drawing. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of the touch panel member-integrated organic EL display device 11 which is an example of an embodiment of the touch panel member-integrated display device, cut in a substantially normal direction with respect to the substrate surface. The touch panel member integrated type means a mode in which the substrate in the touch panel member is also used as a substrate of a device to be combined.
タッチパネル部材一体型有機EL表示装置11は、本発明のタッチパネル部材に関し、強化ガラス基板が直接または間接にタッチ面として位置するようデバイスと組み合わされる使用態様としても理解される。
強化ガラス基板が直接にタッチ面として位置するとは、図5に示すとおり、強化ガラスの一方面側が使用者側に露出しており、使用者が接触または接触に近い状態でタッチパネルを使用する際の面となることを意味する。一方、強化ガラス基板が間接にタッチ面として位置するとは、例えば、強化ガラスの露出面側に、反射防止フィルムなどのさらなる層、あるいは部材が積層され、使用者がタッチ面に接触した際に、直接に強化ガラスに触れない態様を意味する。
The touch panel member-integrated organic EL display device 11 relates to the touch panel member of the present invention, and is also understood as a usage mode in which a tempered glass substrate is combined with a device so as to be directly or indirectly positioned as a touch surface.
When the tempered glass substrate is directly positioned as a touch surface, as shown in FIG. 5, one side of the tempered glass is exposed to the user side, and the user touches or uses the touch panel in a state close to contact. It means to be a face. On the other hand, when the tempered glass substrate is indirectly positioned as a touch surface, for example, an additional layer such as an antireflection film or a member is laminated on the exposed surface side of the tempered glass, and when the user contacts the touch surface, It means an embodiment in which the tempered glass is not touched directly.
タッチパネル部材一体型有機EL表示装置11は、本発明のタッチパネル部材12と有機EL基板21とを用いて構成されている。
タッチパネル部材12は、強化ガラス基板13の一方面側に、第一電極層14が設けられ、次いで、第一電極層14上にシロキサン樹脂層15が設けられ、さらに第二電極層14’が設けられて、構成されている。第一電極層14および第二電極層14’は、それぞれ、タッチパネル部材の積層電極として機能するよう適切なパターンでパターニングされている。尚、図中、取出し配線は図示省略しているが、有機EL基板と組み合わせるタッチパネル部材においては、取出し配線は、一般的に取出し配線として理解される金属などの導電性の材料で構成されてよく、また光取り出しのために、金属酸化物からなる透明導電膜などの透明電極として形成されてもよい。
The touch panel member-integrated organic EL display device 11 is configured using the touch panel member 12 and the organic EL substrate 21 of the present invention.
The touch panel member 12 is provided with a first electrode layer 14 on one side of the tempered glass substrate 13, then a siloxane resin layer 15 is provided on the first electrode layer 14, and a second electrode layer 14 ′ is further provided. And configured. Each of the first electrode layer 14 and the second electrode layer 14 ′ is patterned in an appropriate pattern so as to function as a laminated electrode of the touch panel member. In the drawing, the extraction wiring is not shown, but in the touch panel member combined with the organic EL substrate, the extraction wiring may be made of a conductive material such as a metal generally understood as the extraction wiring. Further, for light extraction, it may be formed as a transparent electrode such as a transparent conductive film made of a metal oxide.
一方、有機EL用基板21は、透明基板22上に有機EL素子23が設けられて構成されている。有機EL素子23は、一般的には、透明基板22上にTFTを備える駆動用回路が形成され、必要に応じて駆動用回路上に平坦化膜や保護膜が設けられた後、Al、Ag、Auなどの有機EL素子における金属電極として公知の材料を用いて金属電極が形成され、次いで、発光層を備える有機層が公知の材料から形成された後、さらに金属電極が形成されることによって構成される。ただし、本発明における有機EL素子、あるいはこれを備える有機EL基板の構成はこれに限定されず、従来公知の有機EL用基板を適宜選択し、タッチパネル部材と一体的に組み合わせてよい。
そして、タッチパネル部材12における第二電極層14’側と、有機EL用基板21における有機EL素子23側とが向かい合う向きで互いに組み合わせることにより製造することができる。このとき両基板間は、たとえばスペーサ24などにより適当な距離が保たれる。
On the other hand, the organic EL substrate 21 is configured by providing an organic EL element 23 on a transparent substrate 22. In general, the organic EL element 23 is formed with a driving circuit including TFTs on a transparent substrate 22, and a flattening film or a protective film is provided on the driving circuit as necessary. By forming a metal electrode using a known material as a metal electrode in an organic EL element such as Au, and then forming an organic layer including a light emitting layer from a known material, and then forming a metal electrode. Composed. However, the configuration of the organic EL element or the organic EL substrate including the organic EL element in the present invention is not limited thereto, and a conventionally known organic EL substrate may be appropriately selected and combined with the touch panel member.
And it can manufacture by mutually combining in the direction which the 2nd electrode layer 14 'side in the touch panel member 12 and the organic EL element 23 side in the board | substrate 21 for organic ELs face. At this time, an appropriate distance is maintained between the two substrates, for example, by a spacer 24 or the like.
比較として、従来のタッチパネル部材一体型有機EL表示装置100の概略断面図を図11に示す。タッチパネル部材一体型有機EL表示装置100に用いられるタッチパネル部材101は、タッチパネル部材101の直接の支持基板として、強化処理のなされていないガラス基板あるいは透明樹脂フィルムを透明基板102として用いたこと、および、第一電極層14と第二電極層14’との間に、アクリル樹脂層104を用いたこと以外は、タッチパネル部材12と同様の構成を有する。そして、タッチパネル部材101と有機EL基板21とが組み合わされ、且つタッチ面の耐傷耐性や強度を向上させるために、強化ガラス105が、透明基板102の露出面側に設けられている。尚、強化ガラス105と透明基板102との間には、図示省略する粘着層が設けられ、強化ガラス105は、透明基板102に対し位置あわせされた上、貼り付けられる。 As a comparison, FIG. 11 shows a schematic cross-sectional view of a conventional touch panel member-integrated organic EL display device 100. The touch panel member 101 used in the touch panel member-integrated organic EL display device 100 uses a glass substrate or a transparent resin film that has not been reinforced as the transparent substrate 102 as a direct support substrate of the touch panel member 101, and The touch panel member 12 has the same configuration except that the acrylic resin layer 104 is used between the first electrode layer 14 and the second electrode layer 14 ′. The tempered glass 105 is provided on the exposed surface side of the transparent substrate 102 in order to combine the touch panel member 101 and the organic EL substrate 21 and improve the scratch resistance and strength of the touch surface. An adhesive layer (not shown) is provided between the tempered glass 105 and the transparent substrate 102, and the tempered glass 105 is attached to the transparent substrate 102 after being aligned.
タッチパネル部材一体型有機EL表示装置11は、強化ガラス基板13がタッチ面となっているため、タッチ面の傷耐性や強度の向上が図られている上、タッチパネル部材一体型有機EL表示装置100と比較すると、透明基板102が省略されているためデバイスの薄膜化、軽量化が図られ好ましい。しかも、タッチパネル部材一体型有機EL表示装置100では、強化ガラス105を設けるために、透明基板102と強化ガラス105の間に図示省略される粘着層が設けられているため、粘着層による光散乱などの虞があるが、本発明のタッチパネル部材の使用によれば、そのような虞がない。 The touch panel member-integrated organic EL display device 11 has a tempered glass substrate 13 serving as a touch surface, so that the scratch resistance and strength of the touch surface are improved, and the touch panel member-integrated organic EL display device 100 and In comparison, since the transparent substrate 102 is omitted, the device is preferably made thinner and lighter. In addition, in the touch panel member-integrated organic EL display device 100, in order to provide the tempered glass 105, an adhesive layer (not shown) is provided between the transparent substrate 102 and the tempered glass 105. However, according to the use of the touch panel member of the present invention, there is no such fear.
(タッチパネル部材搭載型液晶表示装置)
次に本発明のタッチパネル部材の異なる使用態様の例を、図面を用いて説明する。図6は、タッチパネル部材搭載型液晶表示装置の実施態様の例であり、示されるタッチパネル部材搭載型液晶表示装置31について、基板面に対し略法線方向に切断した際の概略断面図である。タッチパネル部材搭載型とは、タッチパネル部材における基板が、組み合わされるデバイスの基板として兼用されず、タッチパネル部材における基板と、組み合わされるデバイスの基板とが任意の手段で重ね合わされる態様を意味する。
(Touch panel member-mounted liquid crystal display)
Next, examples of different usage modes of the touch panel member of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 6 is an example of an embodiment of the touch panel member-mounted liquid crystal display device, and is a schematic cross-sectional view of the illustrated touch panel member-mounted liquid crystal display device 31 when cut in a substantially normal direction with respect to the substrate surface. The touch panel member mounting type means an aspect in which the substrate in the touch panel member is not used as the substrate of the device to be combined, and the substrate in the touch panel member and the substrate of the device to be combined are overlapped by any means.
タッチパネル部材搭載型液晶表示装置31は、本発明のタッチパネル部材32と、液晶表示装置41とを用いて構成されている。
タッチパネル部材32は、強化ガラス基板33の一方面側に、第一電極層34と第一電極層34の端部に電気的に接続される取出し配線36とが設けられ、次いで、第一電極層34上に第一シロキサン樹脂層35が設けられ、さらに第二電極層34’が設けられて、第二電極層34’を覆って第二シロキサン樹脂層35’が設けられて構成されている。第一電極層34および第二電極層34’は、それぞれ、タッチパネル部材の積層電極として機能するよう適切なパターンでパターニングされている。タッチパネル部材32には、強化ガラス基板33の対向基板として透明基板38がスペーサ37を介して設けられ、タッチパネル39をなしている。本発明のタッチパネル部材は、タッチパネル39のように、強化ガラス基板の対向基板をさらに備えてタッチパネルを構成してもよい。上記対向基板としては、透明ガラス基板や、透明フィルム基板などが好ましく用いられるが、これに限定されるものではない。
The touch panel member-mounted liquid crystal display device 31 is configured using the touch panel member 32 of the present invention and the liquid crystal display device 41.
The touch panel member 32 is provided with a first electrode layer 34 and an extraction wiring 36 electrically connected to an end of the first electrode layer 34 on one surface side of the tempered glass substrate 33, and then the first electrode layer A first siloxane resin layer 35 is provided on 34, a second electrode layer 34 ′ is provided, and a second siloxane resin layer 35 ′ is provided to cover the second electrode layer 34 ′. The first electrode layer 34 and the second electrode layer 34 ′ are each patterned in an appropriate pattern so as to function as a laminated electrode of the touch panel member. A transparent substrate 38 is provided on the touch panel member 32 as a counter substrate of the tempered glass substrate 33 via a spacer 37 to form a touch panel 39. Like the touch panel 39, the touch panel member of the present invention may further include a counter substrate of a tempered glass substrate to constitute a touch panel. A transparent glass substrate, a transparent film substrate, or the like is preferably used as the counter substrate, but is not limited thereto.
一方、液晶表示装置41は、表示側基板43と電極基板48とを対向させ、シール部材50で両基板間に空間を設けた状態で密着させ、当該空間に駆動用液晶材料49を充填させ構成することができる。表示側基板43は、透明基板42上に、ブラックマトリクス45を設け、次いで、赤色着色部44R、緑色着色部44G、青色着色部44Bからなる着色層46を設け、図示省略する透明導電膜、および駆動用液晶材料用配向膜47を着色層46上に設けて構成されている。また電極基板48は、図示省略する液晶駆動用回路および液晶駆動用電極などを透明基板上に設けて構成されている。液晶表示装置41は、単なる例示であり、一般的に駆動用液晶材料を用いてなる液晶表示装置として理解される装置であればよい。公知の液晶表示装置における表示側基板を構成する透明基板と、本発明のタッチパネル部材の強化ガラス基板とが直接または間接に重なるよう、本発明のタッチパネル部材を搭載することができる。また同様に、有機EL表示装置などの他の表示装置を含むデバイスにおいても、表示側基板等のデバイスの一方側の基板と、本発明のタッチパネル部材の強化ガラス基板とが直接または間接に重なるよう、重ね合わせて搭載することができる。 On the other hand, the liquid crystal display device 41 has a configuration in which the display side substrate 43 and the electrode substrate 48 are opposed to each other, are closely attached with a space provided between the substrates by the sealing member 50, and the driving liquid crystal material 49 is filled in the space. can do. The display-side substrate 43 is provided with a black matrix 45 on a transparent substrate 42, and then a colored layer 46 including a red colored portion 44R, a green colored portion 44G, and a blue colored portion 44B. A driving liquid crystal material alignment film 47 is provided on the colored layer 46. The electrode substrate 48 is configured by providing a liquid crystal driving circuit and a liquid crystal driving electrode (not shown) on a transparent substrate. The liquid crystal display device 41 is merely an example, and may be any device that is generally understood as a liquid crystal display device using a driving liquid crystal material. The touch panel member of the present invention can be mounted so that the transparent substrate constituting the display side substrate in the known liquid crystal display device and the tempered glass substrate of the touch panel member of the present invention directly or indirectly overlap. Similarly, in a device including another display device such as an organic EL display device, the substrate on one side of the device such as the display side substrate and the tempered glass substrate of the touch panel member of the present invention are directly or indirectly overlapped. , Can be mounted on top of each other.
図6に示すタッチパネル部材搭載型液晶表示装置31は、本発明のタッチパネル部材に関し、強化ガラス基板が、タッチ面側ではなくデバイス側(インセル)に位置するようデバイスと組み合わされる使用態様として理解される。かかる使用態様によれば、デバイス自体の強度の向上を図ることができる。また、万が一に強化ガラス基板が割れてしまった場合でも、該強化ガラス基板がデバイス側(インセル)に位置しているため、周囲に対するガラス破片の散乱を小さく抑えることができる。 The touch panel member-mounted liquid crystal display device 31 shown in FIG. 6 relates to the touch panel member of the present invention, and is understood as a usage mode in which the tempered glass substrate is combined with the device so as to be positioned on the device side (in-cell) instead of the touch surface side. . According to this usage mode, the strength of the device itself can be improved. Moreover, even if the tempered glass substrate is broken by any chance, the tempered glass substrate is located on the device side (in-cell), so that scattering of glass fragments with respect to the surroundings can be suppressed to a low level.
尚、図6に示す態様は、本発明のタッチパネル部材を任意のデバイスに搭載する使用態様を限定するものではない。例えば、図6において、タッチパネル39を紙面上、上下を逆にして液晶層表示装置41に搭載させることも可能である。この場合には、強化ガラス基板33が、タッチ面となり、タッチパネル部材搭載型液晶表示装置31のタッチ面側の強度等の向上を図ることができる上、強化ガラスをタッチ面としたにもかかわらず薄膜化、軽量化が損なわれないという有利な点がある。 In addition, the aspect shown in FIG. 6 does not limit the usage aspect which mounts the touch-panel member of this invention in arbitrary devices. For example, in FIG. 6, the touch panel 39 can be mounted on the liquid crystal layer display device 41 upside down on the paper. In this case, the tempered glass substrate 33 becomes a touch surface, which can improve the strength and the like on the touch surface side of the liquid crystal display device 31 with the touch panel member mounted thereon. There is an advantage that thinning and weight reduction are not impaired.
[座標検出装置]
次に、本発明の座標検出装置について説明する。上述する本発明のタッチパネル部材を用い、タッチ面に対し、直接または間接に行なわれる接触動作によって電極層において出力される電気信号を検出する検出回路と、上記検出回路において検出された電気信号から上記接触動作の行なわれた接触位置の座標を算出する座標算出用演算回路とを備えることによって、本発明の座標検出装置を構成することができる。
[Coordinate detector]
Next, the coordinate detection apparatus of the present invention will be described. Using the touch panel member of the present invention described above, a detection circuit that detects an electrical signal output from the electrode layer by a contact operation performed directly or indirectly on the touch surface, and the electrical signal detected by the detection circuit The coordinate detection device of the present invention can be configured by including a coordinate calculation arithmetic circuit that calculates the coordinates of the contact position where the contact operation is performed.
本発明の座標検出装置は、用いられるタッチパネル部材における直接の支持基板が強化ガラスであるため、強度向上が図られるとともに、薄膜化、および軽量化の観点でも有利である。特に、タッチ面側に強化ガラス基板を備える態様では、指やタッチペンなどの接触による物理的衝撃に対し、タッチ面の強度、傷耐性を向上させることができ好ましい。しかも、タッチ面側における透明基板にさらに粘着層を介して強化ガラスを貼り合わせることによってタッチ面の強化が図られた従来の座標検出装置に比べ、本発明は強化ガラスによりタッチ面の強度向上が図られる上、該粘着層による透過光の散乱などの虞がない。
一方、上記強化ガラス基板をタッチ面と反対側に位置させてなる本発明の座標検出装置では、該強化ガラス基板が座標検出装置自体の強度を向上させることが期待される上、万が一に強化ガラスが割れてしまった場合でも、周囲に対するガラス破片の散乱を小さく抑えることができる。
In the coordinate detection apparatus of the present invention, since the direct support substrate in the touch panel member used is tempered glass, the strength is improved, and it is advantageous from the viewpoint of thinning and weight reduction. In particular, an aspect in which a tempered glass substrate is provided on the touch surface side is preferable because it can improve the strength and scratch resistance of the touch surface against physical impact caused by contact with a finger or a touch pen. In addition, the present invention improves the strength of the touch surface by using the tempered glass as compared with the conventional coordinate detection device in which the touch surface is reinforced by attaching the tempered glass to the transparent substrate on the touch surface side via an adhesive layer. In addition, there is no risk of scattering of transmitted light by the adhesive layer.
On the other hand, in the coordinate detection device of the present invention in which the tempered glass substrate is positioned on the side opposite to the touch surface, the tempered glass substrate is expected to improve the strength of the coordinate detection device itself, and in the unlikely event tempered glass is used. Even if the glass is broken, the scattering of glass fragments to the surroundings can be kept small.
本発明の座標検出装置における検出回路は、タッチパネル部材におけるタッチ面の接触または接触に近い動作により発生する電気信号を検出することを可能とする回路である。
以下に、静電容量式のタッチパネル部材を用いる本発明の座標検出装置を例に説明する。上記座標検出装置は、タッチパネル部材のタッチ面に、指などの導体が接触するか、または接触に近い状態で接近した際に、その接触動作の行われた座標における静電容量の変化による交流電流の偏りを検出する検出回路と、上記検出回路より出力される静電容量の変化量より、所定の演算式に基づき、接触動作の行われた座標位置を計算する座標算出用演算回路とを備える。タッチパネル部材と検出回路とは、該タッチパネル部材における接触動作を電気信号として検知可能に接続されていればよい。例えば、電極層が絶縁性膜を介して二層にパターン形成されている態様のタッチパネル部材を用いる場合には、強化ガラス基板側から、第一電極層、絶縁性膜、第二電極層の順に構成され、第一電極層、および第二電極層の端部に設けられた取出し配線と、検出回路とが、フレキシブルプリント回路などの配線部材などによって電気的に接続される。
The detection circuit in the coordinate detection apparatus of the present invention is a circuit that can detect an electric signal generated by touching or touching the touch surface of the touch panel member.
Below, the coordinate detection device of the present invention using a capacitive touch panel member will be described as an example. The coordinate detection apparatus is configured such that when a conductor such as a finger comes into contact with a touch surface of a touch panel member or approaches the touch surface in a state close to contact, an alternating current is generated due to a change in capacitance at the coordinate where the contact operation is performed. And a coordinate calculation calculation circuit for calculating the coordinate position where the contact operation has been performed based on a predetermined calculation formula from the amount of change in capacitance output from the detection circuit. . The touch panel member and the detection circuit may be connected so that the contact operation on the touch panel member can be detected as an electric signal. For example, when using a touch panel member in which the electrode layer is patterned in two layers via an insulating film, from the tempered glass substrate side, the first electrode layer, the insulating film, and the second electrode layer in this order. The first wiring layer and the extraction wiring provided at the end portions of the first electrode layer and the second electrode layer are electrically connected to the detection circuit by a wiring member such as a flexible printed circuit.
図7に、本発明の座標検出装置の動作の流れの一実施態様を説明するための説明図を示す。図面左側に示すタッチパネル部材は、特に電極層について示す。具体的には、第1電極層を構成する、x方向に電流が流れる複数の第1透明電極部X1、X2、X3・・・と、第2電極層を構成する、y方向に電流が流れる複数の第2透明電極部Y1、Y2、Y3・・・とを備える。図面中央に示す検出回路における定電流源から、電流が、第1透明電極部X1、X2、X3・・・および第2透明電極部Y1、Y2、Y3・・・に供給される。このとき電流は、基準クロックによって指示される規定時間に基づき、高速スイッチ部におけるスイッチングの指示を受け各電極へ接続を切り替える切り替え部によって、絶えず定電流源から各電極へと流れる電流の接続のオン、オフが切り替えられてよい。 FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining an embodiment of the operation flow of the coordinate detection apparatus of the present invention. The touch panel member shown on the left side of the drawing particularly shows an electrode layer. Specifically, a plurality of first transparent electrode portions X1, X2, X3,... Constituting the first electrode layer and a current flowing in the x direction, and a current flowing in the y direction constituting the second electrode layer. A plurality of second transparent electrode portions Y1, Y2, Y3. A current is supplied to the first transparent electrode portions X1, X2, X3... And the second transparent electrode portions Y1, Y2, Y3. At this time, the current is continuously turned on by the switching unit that switches the connection to each electrode in response to the switching instruction in the high-speed switch unit based on the specified time indicated by the reference clock. , May be switched off.
タッチパネル部材のタッチ面において接触動作がないときには、基本的に交流電流は流れず、初期値ゼロの状態であるが、接触動作が行われると、静電容量の発生により交流電流が流れ、電圧降下が生じる。検出回路では、上述のとおり切り替えられながら断続的に各電極に電流が送られるとともに、電流の変化を検知する電流検出回路により各電極の電流により抵抗変化を検知するよう構成される。電流の変化による電圧降下量は、積分用コンデンサにおける増幅回路により増幅されて出力され、インパルスノイズを取り除くための低域通過フィルタを通過し、比較器において、基準電圧と積分用コンデンサで増幅された電圧を比較することで積分用コンデンサが基準電圧に達するまでの時間を認識する。検出回路により検出された電極の容量変化に基づく信号は、タッチ検出演算回路に送られ、所定の計算式により接触動作の行われた座標が算出される。尚、上述は、本発明の座標検出装置の一実施態様を説明するものであって、本発明の座標検出装置を限定するものではなく、本発明の座標検出装置の検出動作を実行する構成および動作の流れとしては、公知のタッチパネル部材における接触動作を検出可能な回路を適宜選択して実施してよい。 When there is no contact operation on the touch surface of the touch panel member, an alternating current basically does not flow and the initial value is zero. However, when the contact operation is performed, an alternating current flows due to the generation of capacitance, resulting in a voltage drop. Occurs. The detection circuit is configured to intermittently send a current to each electrode while being switched as described above, and to detect a resistance change by a current of each electrode by a current detection circuit that detects a change in the current. The amount of voltage drop due to the change in current is amplified and output by the amplifier circuit in the integrating capacitor, passes through a low-pass filter to remove impulse noise, and is amplified by the reference voltage and integrating capacitor in the comparator. The time until the integrating capacitor reaches the reference voltage is recognized by comparing the voltages. A signal based on the change in the capacitance of the electrode detected by the detection circuit is sent to the touch detection calculation circuit, and the coordinates where the contact operation is performed are calculated by a predetermined calculation formula. In addition, the above is one embodiment of the coordinate detection apparatus of the present invention, and is not intended to limit the coordinate detection apparatus of the present invention. The configuration for executing the detection operation of the coordinate detection apparatus of the present invention and As a flow of operation, a circuit that can detect a contact operation on a known touch panel member may be selected as appropriate.
[積層部材の製造方法]
次に、本発明の積層部材の製造方法(以下、「本発明の製造方法」と略する場合がある)について説明する。本発明の製造方法は、基板上に電極層およびシロキサン樹脂層を備える積層部材の製造方法であって、上記積層部材には、本発明のタッチパネル部材、および本発明の積層部材を含む。本発明の製造方法は、強化ガラス基板の少なくとも一方面側に電極層およびシロキサン樹脂層を任意の順序で積層形成し、上記電極層および上記シロキサン樹脂層を含む有効領域を形成する積層工程と、上記積層工程実施後に、上記部材有効領域の周囲全周あるいは周囲の一部に位置する、他の領域を熱切断手段により切断する切断工程と、を備える。尚、本発明において「有効領域」とは、一の積層部材に関する電極層、シロキサン樹脂層、およびさらなる任意の構成または層を含む領域を、意味する。
[Manufacturing method of laminated member]
Next, the manufacturing method of the laminated member of the present invention (hereinafter, may be abbreviated as “the manufacturing method of the present invention”) will be described. The manufacturing method of this invention is a manufacturing method of the laminated member provided with an electrode layer and a siloxane resin layer on a board | substrate, Comprising: The touch panel member of this invention and the laminated member of this invention are included in the said laminated member. The production method of the present invention includes a lamination step of laminating and forming an electrode layer and a siloxane resin layer in an arbitrary order on at least one surface side of a tempered glass substrate, and forming an effective region including the electrode layer and the siloxane resin layer; A cutting step of cutting another region located around the entire circumference of the member effective region or a part of the periphery by the thermal cutting means after the lamination step is performed. In the present invention, the “effective region” means a region including an electrode layer, a siloxane resin layer, and a further arbitrary configuration or layer related to one laminated member.
本発明の製造方法は、上記積層工程および上記切断工程以外の任意の工程を含んでもよいが、その効果を充分に享受するためには、少なくとも、切断工程前において、強化ガラス基板上に、アクリル樹脂材料などの耐熱性の乏しい材料によって樹脂層を形成する工程を含まないよう留意すべきである。尚、耐熱性の乏しい樹脂層とは、熱切断手段による切断時の熱によって焦げ付きなどを起こす可能性のある樹脂層を意味する。 The production method of the present invention may include an optional step other than the laminating step and the cutting step, but in order to fully enjoy the effect, at least before the cutting step, an acrylic resin is formed on the tempered glass substrate. Care should be taken not to include a step of forming the resin layer with a material having poor heat resistance such as a resin material. The resin layer having poor heat resistance means a resin layer that may cause scorching due to heat at the time of cutting by the thermal cutting means.
本発明の製造方法は、絶縁膜や保護層を担うことが可能な樹脂として、耐熱性の優れたシロキサン樹脂層を選択するため、強化ガラスを直接の支持基板として電極層とシロキサン樹脂層を積層形成して有効領域を形成した後に、強化ガラス基板を熱切断手段により切断することを実質的に可能とした。したがって、従来のように多面取りにより作成したタッチパネル部材とは別に、強化ガラス断片を準備する手間が省け、またタッチパネル部材と強化ガラス断片とを位置合わせして貼り付けるという工程も省くことができる。 In the manufacturing method of the present invention, a siloxane resin layer having excellent heat resistance is selected as a resin that can serve as an insulating film and a protective layer. Therefore, the electrode layer and the siloxane resin layer are laminated using tempered glass as a direct support substrate. After forming and forming the effective region, the tempered glass substrate can be substantially cut by a thermal cutting means. Therefore, apart from the touch panel member created by multi-cavity as in the prior art, it is possible to save the trouble of preparing the tempered glass piece, and to omit the step of aligning and attaching the touch panel member and the tempered glass piece.
本発明に製造方法の1つの態様について図8を用いて説明する。まず、積層部材が2以上多面取り可能な強化ガラス基板51を準備する(図8A)。そして強化ガラス基板51に各積層部材に対応する電極層およびシロキサン樹脂層を積層形成し、多面取りする数だけ有効領域52を形成する(図8B)。図8Bに示す強化ガラス基板51上には、6つの有効領域52が形成されている。尚、有効領域において積層形成されている透明電極およびシロキサン樹脂層の積層態様は、本発明のタッチパネル部材の積層態様として図1等を用いて説明する態様と同様であるため、ここでは説明を割愛する。次いで、図8Cに示すとおり、適切な熱切断手段により、切断線54に沿って強化ガラス基板を熱により切断することによって、6つの積層部材53が得られる。 One embodiment of the manufacturing method according to the present invention will be described with reference to FIG. First, a tempered glass substrate 51 capable of taking two or more laminated members is prepared (FIG. 8A). Then, an electrode layer and a siloxane resin layer corresponding to each laminated member are laminated on the tempered glass substrate 51, and as many effective areas 52 as the number of multiple surfaces are formed (FIG. 8B). On the tempered glass substrate 51 shown in FIG. 8B, six effective regions 52 are formed. In addition, since the lamination | stacking aspect of the transparent electrode laminated | stacked in the effective area | region and the siloxane resin layer is the same as the aspect demonstrated using FIG. 1 etc. as a lamination | stacking aspect of the touch panel member of this invention, it omits description here. To do. Next, as shown in FIG. 8C, six laminated members 53 are obtained by cutting the tempered glass substrate by heat along the cutting line 54 by an appropriate thermal cutting means.
本発明の製造方法によれば、上述のとおり、タッチパネル部材などの積層部材を2以上多面取りすることの可能な強化ガラス基板を直接の支持基板として、電極層およびシロキサン樹脂層を作りこんだ後に、有効領域ごとに熱切断し、2以上の積層部材を製造することができ、製造工程を複雑にすることなく、品質の良い積層部材を提供することができる。 According to the manufacturing method of the present invention, as described above, after the electrode layer and the siloxane resin layer are formed using a tempered glass substrate capable of multi-layering two or more laminated members such as a touch panel member as a direct support substrate. Further, it is possible to produce two or more laminated members by heat cutting for each effective region, and to provide a high-quality laminated member without complicating the production process.
また、本発明の製造方法は、多面取りする態様に限定されず、図9に示すように、多面取りを予定しない強化ガラス基板61を準備し(図9A)、強化ガラス基板61に、一の有効領域62を積層形成し(図9B)、その後に熱切断手段により切断線65に沿って強化ガラス基板61を切断し、不要な領域64を切断除去し、所望形状の積層部材63を形成してもよい。上述のとおり、本発明の製造方法によれば、適当な形状の強化ガラス基板を準備し、該強化ガラス基板上に所望形状の電極層およびシロキサン樹脂層を形成し、有効領域の周囲の少なくとも一部を切断し、所望の形状の積層部材を得ることができる。したがって、所望形状の積層部材を作成した上、別途、所望形状の強化ガラス断片を準備し、これを位置あわせの上貼り付けて積層させるといった複雑な工程を省くことができる。 Moreover, the manufacturing method of this invention is not limited to the aspect which carries out multiple chamfering, As shown in FIG. 9, the tempered glass board | substrate 61 which does not plan multi-chamfering is prepared (FIG. 9A), and the tempered glass board | substrate 61 has one The effective region 62 is laminated (FIG. 9B), and then the tempered glass substrate 61 is cut along the cutting line 65 by thermal cutting means, and unnecessary regions 64 are cut and removed to form a laminated member 63 having a desired shape. May be. As described above, according to the manufacturing method of the present invention, a suitably shaped tempered glass substrate is prepared, an electrode layer and a siloxane resin layer having a desired shape are formed on the tempered glass substrate, and at least one around the effective region is formed. By cutting the part, a laminated member having a desired shape can be obtained. Therefore, it is possible to omit a complicated process of preparing a laminated member having a desired shape and separately preparing a tempered glass piece having a desired shape and laminating the laminated pieces after alignment.
尚、タッチパネルは、表示面を使用者が接触するという特殊な使用方法が前提であるため、特に強度の点で向上が望まれるところ、本発明の製造方法であれば、タッチパネル部材の強度向上が図られる上、軽量化、薄膜化についても改善されたタッチパネル部材を提供することができる。したがって、本発明の製造方法は、特にタッチパネル部材の製造方法として有効である。 The touch panel is premised on a special method of use in which the user touches the display surface. Therefore, particularly in terms of strength, an improvement in the strength of the touch panel member is desired in the manufacturing method of the present invention. Furthermore, the touch panel member improved also about weight reduction and thin film formation can be provided. Therefore, the manufacturing method of the present invention is particularly effective as a manufacturing method of a touch panel member.
(透明電極の積層形成)
本発明の製造方法において、強化ガラス基板上に透明電極層を積層形成する方法は特に限定されず、基板上に形成される透明電極の形成方法として知られる公知の方法を適宜選択し、積層部材の使用が予定されるデバイスに適した透明電極を積層形成してよい。例えば、本発明の製造方法によりタッチパネル部材を製造する場合には、タッチパネル用電極層が積層形成される。タッチパネル用電極層を形成する方法は、特に限定されないが、一般的には、フォトリソグラフィ法、あるいはスクリーン印刷法などの形成方法が汎用される。例えば、フォトリソグラフィ法により電極層を形成する場合には、強化ガラス基板上を直接または間接の基材面とし、上述にて説明する電極層を構成する導電性材料を基材面に塗布して導電性膜を形成し、さらに、上記膜上に感光性材料を塗布して感光性膜を形成する。そして、複数の電極部の形成パターンに対応した露光マスクを上記感光性膜上に配置し、露光光を照射して露光する。その後、露光マスクを取り除き、感光性膜を現像し、次いで、導電性膜をエッチングし、最後に、基材面に残る感光性膜を除去することにより、所望のパターンで形成される複数の電極部からなる電極層を形成することができる。電極層をフォトリソグラフィ手法により形成する場合には、一般的には、一の電極層の厚みを10nm〜500nm程度に形成することができる。ただし上述は、本発明の製造方法における電極層の形成方法の一態様であって、電極層の形成方法を限定するものではない。
(Lamination of transparent electrodes)
In the production method of the present invention, the method for laminating and forming the transparent electrode layer on the tempered glass substrate is not particularly limited, and a known method known as a method for forming the transparent electrode formed on the substrate is appropriately selected, and a laminated member Transparent electrodes suitable for devices that are planned to be used may be laminated. For example, when a touch panel member is manufactured by the manufacturing method of the present invention, the electrode layer for the touch panel is laminated. A method for forming the electrode layer for the touch panel is not particularly limited, but generally, a formation method such as a photolithography method or a screen printing method is generally used. For example, when an electrode layer is formed by photolithography, the tempered glass substrate is directly or indirectly base material surface, and a conductive material constituting the electrode layer described above is applied to the base material surface. A conductive film is formed, and a photosensitive material is applied on the film to form a photosensitive film. And the exposure mask corresponding to the formation pattern of a some electrode part is arrange | positioned on the said photosensitive film | membrane, and it exposes by irradiating exposure light. Thereafter, the exposure mask is removed, the photosensitive film is developed, then the conductive film is etched, and finally the photosensitive film remaining on the substrate surface is removed, thereby forming a plurality of electrodes formed in a desired pattern. An electrode layer composed of parts can be formed. In the case where the electrode layer is formed by a photolithography technique, generally, the thickness of one electrode layer can be formed to about 10 nm to 500 nm. However, the above is one aspect of the method for forming the electrode layer in the production method of the present invention, and the method for forming the electrode layer is not limited.
(シロキサン樹脂層の積層形成)
本発明の製造方法においてシロキサン樹脂層は、シロキサン樹脂組成物を準備し、これを基材面に塗布して、該シロキサン樹脂組成物に含有されるシロキサン樹脂に適した膜形成方法を選択することができる。尚、形成されるシロキサン樹脂層は、強化ガラス基板を熱切断手段により切断する際の熱によって焦げ付きを受けない程度の耐熱性が示されることが望ましい。したがって、シロキサン樹脂層を形成するためのシロキサン樹脂組成物は、形成されるシロキサン樹脂層の耐熱性を勘案して、含有されるシロキサン樹脂の配合量などを調整してよい。
(Lamination of siloxane resin layer)
In the production method of the present invention, the siloxane resin layer is prepared by preparing a siloxane resin composition and applying it to the substrate surface, and selecting a film forming method suitable for the siloxane resin contained in the siloxane resin composition. Can do. In addition, it is desirable that the siloxane resin layer to be formed has a heat resistance that does not cause scorching due to heat when the tempered glass substrate is cut by a thermal cutting means. Therefore, in the siloxane resin composition for forming the siloxane resin layer, the blending amount of the contained siloxane resin may be adjusted in consideration of the heat resistance of the formed siloxane resin layer.
以下に本発明の製造方法におけるシロキサン樹脂の積層形成の例として、感光性シロキサン樹脂組成物を用いてシロキサン樹脂層を積層形成する方法を説明する。尚、本発明において感光性とは、電離放射線硬化性を意味する。上記感光性シロキサン樹脂組成物は、アルコキシシラン化合物に加え、必要に応じて、光酸発生剤、熱酸発生剤、光塩基発生剤のいずれかまたは組み合わせ、及び、上記シロキサン樹脂を溶解可能な溶媒を含んで調製されてよい。上記シロキサン樹脂組成物を基材面に塗布して膜を形成し、該膜中に含まれるアルコキシラン化合物を加水分解してシラノール化合物とし、次いでシラノール化合物を縮合反応させて、ポリシロキサンを含むシロキサン樹脂層を形成することができる。 Hereinafter, a method for laminating and forming a siloxane resin layer using a photosensitive siloxane resin composition will be described as an example of laminating a siloxane resin in the production method of the present invention. In the present invention, photosensitivity means ionizing radiation curability. In addition to the alkoxysilane compound, the photosensitive siloxane resin composition includes a photoacid generator, a thermal acid generator, or a photobase generator, or a solvent capable of dissolving the siloxane resin, if necessary. May be prepared. A siloxane containing polysiloxane is formed by coating the siloxane resin composition on a substrate surface to form a film, hydrolyzing an alkoxylane compound contained in the film to form a silanol compound, and then subjecting the silanol compound to a condensation reaction. A resin layer can be formed.
上記アルコキシシラン化合物としては、例えば、特開2010−26360号公報に開示されるアルコキシシラン化合物を選択することができ、詳しくは下記一般式(1)〜(3)等であらわされるものから任意選択で使用してよく、また2以上を組み合わせて用いてもよい。
(式1) R1Si(OR4)3・・・(1)
(式2) R2R3Si(OR5)2・・・(2)
(式3) Si(OR6)4・・・(3)
尚、上記R1は水素、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはそれらの置換体であってよく、特にメチル基が好ましい。R4は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはブチル基であってよく、同一でも異なっていてもよい。
R2およびR3は、それぞれ水素、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはそれらの置換体を表し、同一でも異なっていてもよい。特にメチル基が好ましい。R5はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはブチル基を表し、同一でも異なっていてもよい。
R6はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはブチル基を表し、同一でも異なっていてもよい。
As the alkoxysilane compound, for example, an alkoxysilane compound disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-26360 can be selected, and can be arbitrarily selected from those represented by the following general formulas (1) to (3). May be used, or two or more may be used in combination.
(Formula 1) R 1 Si (OR 4 ) 3 (1)
(Formula 2) R 2 R 3 Si (OR 5 ) 2 (2)
(Formula 3) Si (OR 6 ) 4 (3)
R 1 may be hydrogen, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or a substituted product thereof, and a methyl group is particularly preferable. R 4 may be a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or a butyl group, and may be the same or different.
R 2 and R 3 each represent hydrogen, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or a substituent thereof, and may be the same or different. A methyl group is particularly preferable. R 5 represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or a butyl group, and may be the same or different.
R 6 represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or a butyl group, and may be the same or different.
上記一般式(1)で表される3官能性シラン化合物としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシランなどであってよく、またこれらに限定されない。
上記一般式(2)で表される2官能性シラン化合物としては、例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシランなどであってよく、またこれらに限定されない。
上記一般式(3)で表される4官能性シラン化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどであってよく、またこれらに限定されない。
Examples of the trifunctional silane compound represented by the general formula (1) include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltripropoxysilane, and methyltriisopropoxysilane. Well, but not limited to these.
Examples of the bifunctional silane compound represented by the general formula (2) include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, and methylvinyldimethoxysilane. However, the present invention is not limited to these.
Examples of the tetrafunctional silane compound represented by the general formula (3) include, but are not limited to, tetramethoxysilane and tetraethoxysilane.
また、感光性、即ち、電離放射線硬化性の材料であって、それ自体において、フォトリソグラフィ法によりパターニング可能なシロキサン樹脂組成物の他の例として、上述以外の従来公知の材料を適宜選択し、本発明の製造方法においてシロキサン樹脂を積層形成するために使用することが可能である。中でも、特許第3821165号に開示される放射線硬化性樹脂組成物、即ち、シロキサン樹脂材料(ただし、フェノール基を有する水性塩基可溶性シリコン含有ポリマーを除く。)、光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び、上記シロキサン樹脂材料を溶解可能であり、非プロトン性溶媒(即ち、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、メチル−n−ジ−n−プロピルエーテル、ジ−iso−プロピルエーテル、メチルテトラヒドロフラン、ジメチルジオキサン、などの当該公報請求項1に列挙されるエーテル系溶媒を1種以上含む非プロトン性溶媒)を含有してなり、放射線の照射により硬化する放射線硬化性組成物を、本発明において積層形成されるシロキサン樹脂層の構成材料として好適に用いることができる。あるいはまた、特許第3758669号に開示される放射線硬化性樹脂組成物、即ち、シロキサン樹脂材料、露光する工程で使用される特定波長の放射線を照射することにより酸性活性物質を放出する光酸発生剤、又は塩基性活性物質を放出する光塩基発生剤、上記シロキサン樹脂材料を溶解可能な溶媒、及び、上記特定波長の放射線を照射しても酸性活性物質及び塩基性活性物質を放出しない硬化促進触媒を含有してなる放射線硬化性組成物を、本発明の感光性シロキサン樹脂組成物として好適に用いることができる。尚、上記シロキサン樹脂組成物に含まれるシロキサン樹脂材料の好ましい例としては、下記一般式(4)で表される化合物を加水分解縮合して得られる樹脂等が挙げられる。
(式4) R1 nSiX4−n・・・(4)
(式中、R1は、H原子若しくはF原子、又はB原子、N原子、Al原子、P原子、Si原子、Ge原子若しくはTi原子を含む基、又は炭素数1〜20の有機基を示し、Xは加水分解性基を示し、nは0〜2の整数を示し、nが2のとき、各R1は同一でも異なっていてもよく、nが0〜2のとき、各Xは同一でも異なっていてもよい。)
尚、本発明において形成されるシロキサン樹脂層は、1種の感光性シロキサン樹脂材料から形成されてもよく、あるいは、異なる構造式で表わされる2種以上の感光性シロキサン樹脂材料の任意の組み合わせから形成されてもよい。例えば、上記式(4)において示される感光性シロキサン樹脂材料であって、側鎖が異なる2種以上の感光性シロキサン樹脂材料を任意に組み合わせて、シロキサン樹脂層を形成してもよい。
In addition, as another example of a siloxane resin composition that is photosensitive, that is, an ionizing radiation curable material and can be patterned by a photolithography method, a conventionally known material other than the above is appropriately selected. In the production method of the present invention, it can be used for laminating a siloxane resin. Among them, the radiation curable resin composition disclosed in Japanese Patent No. 3821165, that is, a siloxane resin material (excluding an aqueous base-soluble silicon-containing polymer having a phenol group), a photoacid generator or a photobase generator, And the siloxane resin material can be dissolved, and an aprotic solvent (ie, diethyl ether, methyl ethyl ether, methyl-n-di-n-propyl ether, di-iso-propyl ether, methyltetrahydrofuran, dimethyldioxane, A radiation curable composition comprising an aprotic solvent containing at least one ether-based solvent listed in claim 1 of the above publication and cured by irradiation with radiation is laminated in the present invention. It can be suitably used as a constituent material of the siloxane resin layer. Alternatively, the radiation curable resin composition disclosed in Japanese Patent No. 3758669, that is, a siloxane resin material, a photoacid generator that releases an acidic active substance by irradiating with radiation of a specific wavelength used in the exposure step Or a photobase generator that releases a basic active substance, a solvent that can dissolve the siloxane resin material, and a curing-accelerating catalyst that does not release an acidic active substance or a basic active substance even when irradiated with radiation of the specific wavelength. The radiation curable composition containing this can be suitably used as the photosensitive siloxane resin composition of the present invention. In addition, as a preferable example of the siloxane resin material contained in the siloxane resin composition, a resin obtained by hydrolytic condensation of a compound represented by the following general formula (4) can be given.
(Formula 4) R 1 n SiX 4-n (4)
(In the formula, R 1 represents an H atom or F atom, or a group containing B atom, N atom, Al atom, P atom, Si atom, Ge atom or Ti atom, or an organic group having 1 to 20 carbon atoms. , X represents a hydrolyzable group, n represents an integer of 0 to 2, and when n is 2, each R 1 may be the same or different, and when n is 0 to 2, each X is the same But it may be different.)
The siloxane resin layer formed in the present invention may be formed from one type of photosensitive siloxane resin material, or from any combination of two or more types of photosensitive siloxane resin materials represented by different structural formulas. It may be formed. For example, the siloxane resin layer may be formed by arbitrarily combining two or more types of photosensitive siloxane resin materials represented by the above formula (4) and having different side chains.
上述で説明される感光性シロキサン樹脂組成物を用い、従来の絶縁性膜の製造方法、即ち、アクリル系感光性材料を用いた絶縁性膜の製造方法と同様の製造工程でシロキサン樹脂層を形成することができる。したがって、従来、アクリル系感光性材料を用いて層形成した製造設備を、そのまま利用できるため、製造工程上、望ましい。 Using the photosensitive siloxane resin composition described above, a siloxane resin layer is formed in the same manufacturing process as a conventional insulating film manufacturing method, that is, an insulating film manufacturing method using an acrylic photosensitive material. can do. Therefore, it is desirable in the manufacturing process since the manufacturing equipment that has conventionally been formed using an acrylic photosensitive material can be used as it is.
より具体的には、感光性シロキサン樹脂組成物を準備し、強化ガラス基板上に直接または間接に該感光性シロキサン樹脂組成物を塗工して塗膜を形成する。塗工方法は、感光性シロキサン樹脂組成物を、基材面に略均一な膜厚で塗工が可能な塗工方法であればいずれの方法を採用しても良く、例えば、スピンコート法、ダイコート法、スリットコート法、グラビアコート法、あるいはこれらの方法を組み合わせた塗工方式、あるいはインクジェット法を適宜選択して実施することができる。
そして、必要に応じて減圧乾燥処理した後、適当な温度で加熱(プリベーク)し、次いで所望のパターンのフォトマスクを介して紫外線などの電離放射線を照射して露光し露光部分を硬化させ、次いで、マスクをはずして未露光部分をアルカリ現像液で現像し、必要に応じて加熱(ポストベーク)することによって、シロキサン樹脂層を形成することができる。ただし、アクリル系感光性材料と異なる点は、感光性シロキサン樹脂組成物に含まれる感光性シロキサン樹脂材料は、加熱工程における加熱温度が、約220℃〜500℃程度の範囲から適宜決定できる点にある。一般的には、感光性シロキサン樹脂材料を用いた場合、プリベーク時には、100℃前後の比較的に低温で加熱して樹脂を半硬化させ、ポストベーク時において、約220℃〜500℃程度の温度範囲において求められる表面硬度が発揮されるよう加熱温度を選択することができる。
尚、本発明に関し、電離放射線とは、紫外線などを含む電磁波、及び電子線などを含み分子を重合し得るエネルギー量子を有する粒子線のいずれをも含む。また感光性、あるいは電離放射線硬化性、というときは、上記電離放射線により硬化可能であることを意味する。
More specifically, a photosensitive siloxane resin composition is prepared, and the photosensitive siloxane resin composition is applied directly or indirectly on a tempered glass substrate to form a coating film. As the coating method, any method may be adopted as long as the photosensitive siloxane resin composition can be applied to the substrate surface with a substantially uniform film thickness. For example, a spin coating method, A die coating method, a slit coating method, a gravure coating method, a coating method combining these methods, or an ink jet method can be selected as appropriate.
Then, after drying under reduced pressure as necessary, it is heated (prebaked) at an appropriate temperature, and then exposed to ionizing radiation such as ultraviolet rays through a photomask having a desired pattern to cure the exposed portion, The siloxane resin layer can be formed by removing the mask, developing the unexposed portion with an alkali developer, and heating (post-baking) as necessary. However, the difference from the acrylic photosensitive material is that the photosensitive siloxane resin material contained in the photosensitive siloxane resin composition can be appropriately determined by the heating temperature in the heating step from the range of about 220 ° C to 500 ° C. is there. Generally, when a photosensitive siloxane resin material is used, during pre-baking, the resin is semi-cured by heating at a relatively low temperature of around 100 ° C., and during post-baking, a temperature of about 220 ° C. to 500 ° C. The heating temperature can be selected so that the surface hardness required in the range is exhibited.
In the present invention, ionizing radiation includes both electromagnetic waves including ultraviolet rays and particle beams having energy quanta that can polymerize molecules including electron beams. The term “photosensitive” or “ionizing radiation curable” means that it can be cured by the ionizing radiation.
上述は感光性シロキサン樹脂組成物を用い、フォトリソグラフィ手法によってシロキサン樹脂層を形成する方法を主として説明したが、シロキサン樹脂層の形成方法はこれに限定されず、例えば、シロキサン樹脂組成物をインキとして調製しスクリーン印刷などの印刷方法によって強化ガラス基板上に直接または間接に、シロキサン樹脂層を積層形成してもよい。 Although the above mainly explained the method of forming a siloxane resin layer by a photolithographic technique using a photosensitive siloxane resin composition, the method of forming a siloxane resin layer is not limited to this. For example, the siloxane resin composition is used as an ink. The siloxane resin layer may be laminated and formed directly or indirectly on the tempered glass substrate by a printing method such as screen printing.
また、本発明の製造方法におけるシロキサン樹脂層の積層形成は、非感光性シロキサン樹脂組成物を用いて実施することも可能である。例えば半導体分野における絶縁膜形成で知られる、シリコン系SOG(Spin on Glass)材料を、シロキサン樹脂組成物として用い、シロキサン樹脂層を形成してもよい。上記シリコン系SOG材料は、それ自体ではパターニング機能を有していない。そのため、上記シリコン系SOG材料を用いてパターニング層を形成するためには、まず、強化ガラス基板上に直接または間接に、基板面略全面に上記シリコン系SOG材料をベタ製膜した後に、その上面の所望の領域にポジ感光性材料を積層し、フォトリソグラフィ法によりパターニングし、次いでフッ酸などの酸溶剤によるウェットエッチングにより不要部を除去する必要がある。そして、エッチング完了後、不要となったポジ感光性材料を除去することによりパターニングを完遂することができる。 Moreover, lamination | stacking formation of the siloxane resin layer in the manufacturing method of this invention can also be implemented using a non-photosensitive siloxane resin composition. For example, a silicon-based SOG (Spin on Glass) material known for forming an insulating film in the semiconductor field may be used as the siloxane resin composition to form the siloxane resin layer. The silicon-based SOG material itself does not have a patterning function. Therefore, in order to form a patterning layer using the silicon-based SOG material, first, the silicon-based SOG material is formed on the substantially entire surface of the substrate directly or indirectly on the tempered glass substrate, and then the upper surface thereof is formed. It is necessary to laminate a positive photosensitive material in the desired region, pattern by photolithography, and then remove unnecessary portions by wet etching with an acid solvent such as hydrofluoric acid. Then, after the etching is completed, the patterning can be completed by removing the unnecessary positive photosensitive material.
ただし、上述のとおり上記シリコン系SOG材料を用いた場合には、ポジ感光性材料の製版/剥離が必要であり、且つ、取り扱いが難しい酸溶剤を使用してウェットエッチングを実施しなくてはならないなど、製造工程が複雑化し、感光性シロキサン樹脂組成物を用いる場合に比べて生産性に問題が生じる場合がある。 However, when the silicon-based SOG material is used as described above, it is necessary to perform plate etching / peeling of the positive photosensitive material and perform wet etching using an acid solvent that is difficult to handle. The manufacturing process is complicated, and productivity may be problematic as compared with the case where the photosensitive siloxane resin composition is used.
また、感光性シロキサン樹脂組成物を用いて形成されたシロキサン樹脂層は、大型のガラス強化基板を用いて積層部材を多面取りするために形成される場合であっても、良好な面内均一性が得られるという点が挙げられる。
即ち、半導体分野における基板(ウェハー)は、一般的に直径300mm以下であり、比較的小さい基板面における製膜性が確保されれば充分である。一方、近年の表示用部材およびこれに用いられるタッチパネル部材は、例えば、300cm×300cmといった大型の基板において多面取りして製造される傾向にある。シリコン系SOG材料は小さい基板面において良好な製膜性を示す材料が、同様に、大型の基板面上においても、良好な製膜性を示し得るかは不明である。そこで、本発明者らが、上記シリコン系SOG材料を用いて、大型基板で複数の基板の多面取りを検討した。その結果、シリコン系SOG材料を用いて、大型基板で、半導体プロセスと同様にドライエッチングやウェットエッチング工程を実施した場合には、面内均一性が保障できず、これによって形成されるシロキサン樹脂層の面内均一性が得られないことが推察された。これに対し、感光性シロキサン樹脂組成物を用いてシロキサン樹脂層を積層形成するのであれば、フラットパネルディスプレイの製造によって確立された技術を駆使して膜を形成することができ、大型の強化ガラス木場基板を用いた場合であっても、シロキサン樹脂層の面内均一性が充分に確保される。
Also, the siloxane resin layer formed using the photosensitive siloxane resin composition has good in-plane uniformity even when it is formed to take a multi-layered laminate member using a large glass reinforced substrate. Is obtained.
That is, a substrate (wafer) in the semiconductor field generally has a diameter of 300 mm or less, and it is sufficient if film forming properties on a relatively small substrate surface are ensured. On the other hand, a recent display member and a touch panel member used for the display member tend to be manufactured by taking multiple faces on a large substrate of, for example, 300 cm × 300 cm. It is unclear whether a silicon-based SOG material can exhibit good film-formability on a large substrate surface as well as a material that exhibits good film-formability on a small substrate surface. Therefore, the present inventors examined multi-cavity of a plurality of substrates with a large substrate using the silicon-based SOG material. As a result, when a dry etching or wet etching process is performed on a large substrate using a silicon-based SOG material in the same manner as a semiconductor process, in-plane uniformity cannot be guaranteed, and a siloxane resin layer formed thereby It was inferred that the in-plane uniformity was not obtained. In contrast, if a siloxane resin layer is formed using a photosensitive siloxane resin composition, a film can be formed using the technology established by the manufacture of flat panel displays. Even when a Kiba substrate is used, the in-plane uniformity of the siloxane resin layer is sufficiently ensured.
以上の観点からは、本発明におけるシロキサン樹脂の積層形成は、感光性シロキサン樹脂材料を用いて行なうことが好ましい態様といえる。 From the above viewpoints, it can be said that the siloxane resin layered formation in the present invention is preferably performed using a photosensitive siloxane resin material.
(その他の任意の層の形成について)
本発明の製造方法において、切断工程が実施される前に、強化ガラス基板上に直接または間接に任意の構成、あるいは任意の層をさらに形成してもよい。例えば、タッチパネル部材の製造方法において、強化ガラス基板上に取出し配線を形成してよい。取出し配線の形成方法は、一般的なタッチパネル部材の製造において形成される取出し配線の製造方法と同様である。例えば、フォトリソグラフィ手法で取出し配線を形成する場合には、形成材料として、銀と白金と銅からなるAPC材料が汎用されるが、これに限定されない。また、スクリーン印刷などの印刷方法により取出し配線を形成する場合には、形成材料として、溶媒中に数十nm〜数μmの粒径の銀や銅などの金属粒子と樹脂バインダ、たとえば、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレンなどの単体あるいは混合物からなる樹脂バインダが含有され、溶媒を用い適度に調整された金属粒子含有ペーストが汎用されるがこれに限定されない。尚、図示省略するが、取出し配線の端部であってガラス強化基板の縁部においては、それぞれ端子が設けられてよく、取出し配線を形成する工程とは異なる工程においてこれらを形成してもよいが、端子を、取出し配線を形成する際に同工程において、同材料で形成してもよい。尚、取出し配線の厚み、および幅寸法は、特に限定されないが、例えば取出し配線をフォトリソグラフィ手法により形成する場合には、厚みは、一般的には、10nm〜1000nm程度、幅寸法は、一般的には、5μm〜200μm程度に形成することができ、スクリーン印刷などの印刷により形成する場合には、厚みは、一般的には、5μm〜20μm程度、幅寸法は、一般的には、20μm〜300μm程度に形成することができる。
(About formation of other arbitrary layers)
In the production method of the present invention, an arbitrary configuration or an arbitrary layer may be further formed directly or indirectly on the tempered glass substrate before the cutting step is performed. For example, in the manufacturing method of the touch panel member, the lead-out wiring may be formed on the tempered glass substrate. The method for forming the extraction wiring is the same as the method for manufacturing the extraction wiring formed in the manufacture of a general touch panel member. For example, when the extraction wiring is formed by a photolithography technique, an APC material made of silver, platinum, and copper is widely used as a forming material, but the material is not limited thereto. Moreover, when forming the extraction wiring by a printing method such as screen printing, as a forming material, metal particles such as silver and copper having a particle diameter of several tens of nm to several μm in a solvent and a resin binder, for example, an epoxy resin A resin binder made of a simple substance or a mixture of polyester resin, polyvinyl chloride, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, polystyrene, etc. is contained, and a metal particle-containing paste appropriately adjusted using a solvent is widely used, but is not limited thereto. . Although not shown, terminals may be provided at the ends of the extraction wiring and at the edge of the glass reinforced substrate, and these may be formed in a process different from the process of forming the extraction wiring. However, the terminal may be formed of the same material in the same process when the extraction wiring is formed. The thickness and width dimension of the extraction wiring are not particularly limited. For example, when the extraction wiring is formed by a photolithography technique, the thickness is generally about 10 nm to 1000 nm, and the width dimension is general. Can be formed to about 5 μm to 200 μm, and when formed by printing such as screen printing, the thickness is generally about 5 μm to 20 μm, and the width dimension is generally about 20 μm to It can be formed to about 300 μm.
切断工程:
本発明の製造方法において切断工程とは、熱切断手段を駆使して強化ガラス基板を切断する工程である。熱切断手段は、特に限定されないが、レーザー切断、ガス切断、プラズマ切断、放電切断等などの公知の熱切断手段から適宜選択して実施してよい。特に、レーザー切断は、ガラスカッター等でのコンタクトでの切断に対して材料に直接接触しない加工方法であるために、異物の付着や汚れなどの問題はないことや高精度・高能率な加工の要求に対して対応が可能なため本発明の製造方法における熱切断手段として好ましい。上記熱切断手段は、強化ガラス基板を切断することが可能であって、また強化ガラス基板を切断する際の熱が、該強化ガラス基板に設けられるシロキサン樹脂層の焦げ付きなどを防止可能な程度の温度であるものを選択することが好ましい。
Cutting process:
In the production method of the present invention, the cutting step is a step of cutting the tempered glass substrate by using a thermal cutting means. The thermal cutting means is not particularly limited, and may be appropriately selected from known thermal cutting means such as laser cutting, gas cutting, plasma cutting, discharge cutting and the like. In particular, laser cutting is a processing method that does not come into direct contact with the material against contact cutting with a glass cutter, etc., so there is no problem of foreign matter adhesion or dirt, and high-precision and high-efficiency processing. Since it can respond to a request | requirement, it is preferable as a thermal cutting means in the manufacturing method of this invention. The thermal cutting means is capable of cutting the tempered glass substrate, and heat at the time of cutting the tempered glass substrate is such that the siloxane resin layer provided on the tempered glass substrate can be prevented from being burnt. It is preferable to select one that is temperature.
(実施例1)
(下地基板の準備)
まず、タッチパネル部材の基板としての強化ガラス基板(強化処理済アルカリガラス、コーニング社製ゴリラガラス(登録商標)、ヤング率72GPa)550mm×650mmを準備し、超純水を用いて界面活性剤処理し、引き続き超音波洗浄処理により洗浄した。尚、以下に実施する電極層およびシロキサン樹脂層を含む有効領域の形成は、上記強化ガラス基板上において70箇所形成し、70面のタッチパネル部材を多面取り可能に実施した。
Example 1
(Preparation of base substrate)
First, a tempered glass substrate (reinforced alkali glass, Corning Gorilla Glass (registered trademark), Young's modulus 72 GPa) 550 mm × 650 mm as a touch panel member substrate is prepared and treated with a surfactant using ultrapure water. Subsequently, the substrate was cleaned by ultrasonic cleaning. In addition, formation of the effective area | region containing the electrode layer implemented below and a siloxane resin layer was formed 70 places on the said tempered glass board | substrate, and it implemented so that a 70-side touch panel member could be multi-faced.
(取り出し配線の製版)
外周配線部の抵抗を補助する取り出し配線として、APCを上記ガラス基板全面にスパッタにより30nmの厚さで製膜した。引き続き、ポジ感光性材料(AZマテリアルズ社製)を用い、フォトリソグラフィ法により、有効表示エリア外に金属配線パターンと電極取り出し部のパターンを焼き付けた。さらにエッチャントとしてリン酸、硝酸、酢酸系混合溶液を用い、不要部分を除去し、引き続いて不要となったポジ感光性材料を苛性ソーダで剥離して金属配線パターンを形成した。
(Plate making of extraction wiring)
As a lead-out wiring that assists the resistance of the outer peripheral wiring portion, APC was formed on the entire surface of the glass substrate to a thickness of 30 nm by sputtering. Subsequently, using a positive photosensitive material (manufactured by AZ Materials), a metal wiring pattern and an electrode extraction portion pattern were baked out of the effective display area by photolithography. Further, a phosphoric acid, nitric acid, and acetic acid mixed solution was used as an etchant, unnecessary portions were removed, and then the unnecessary positive photosensitive material was peeled off with caustic soda to form a metal wiring pattern.
(第一透明電極層の製膜)
次に製版された金属配線上に、第一透明電極層を形成するために、スパッタにより全面に30nmの厚さでITOを製膜した。そして、取り出し配線と同様のポジ感光性材料を用いてフォトリソグラフィ法により、整列する複数のダイヤ形状の電極部が、x方向において、独立に整列する列と、x方向に直線状に連結された列とが交互に形成されるパターンで第一透明電極層を形成した。ITOのエッチャントとしてはシュウ酸系溶液を用いた。尚、本実施例において強化ガラス基板上に形成する第一透明電極層および第二透明電極層は、ダイヤ形状の電極部が整然配列するパターンの第一透明電極層、および上面視上、上記ダイヤ形状の電極部をx軸方向に連続させるための複数のブリッジ形状の電極部が整然配列するパターンで実施した。
(Film formation of the first transparent electrode layer)
Next, in order to form a first transparent electrode layer on the plate-formed metal wiring, ITO was deposited to a thickness of 30 nm on the entire surface by sputtering. Then, a plurality of diamond-shaped electrode portions to be aligned are connected linearly in the x direction to columns that are independently aligned in the x direction by photolithography using the same positive photosensitive material as that of the extraction wiring. The first transparent electrode layer was formed in a pattern in which columns were alternately formed. An oxalic acid-based solution was used as an ITO etchant. In the present embodiment, the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer formed on the tempered glass substrate are the first transparent electrode layer having a pattern in which diamond-shaped electrode portions are arranged in an orderly manner, and the above-mentioned diamond in top view. This was performed in a pattern in which a plurality of bridge-shaped electrode portions for arranging the shape-shaped electrode portions in the x-axis direction were regularly arranged.
(第一シロキサン樹脂層の製膜)
特許第3821165号公報の実施例2記載(同公報段落0125)の手法、即ち「テトラエトキシシラン317.9gとメチルトリエトキシシラン247.9gとをジエチレングリコールジメチルエーテル1116.7gに溶解させた溶液中に、0.644重量%に調製した硝酸167.5gを攪拌下で30分間かけて滴下した。滴下終了後3時間反応させた後、減圧下、温浴中で生成エタノールおよびジエチレングリコールジメチルエーテルの一部を留去して、ポリシロキサン溶液1077.0gを得た。このポリシロキサン溶液525.1gにジエチレングリコールジメチルエーテル53.0g、2.38重量%に調製したテトラメチルアンモニウム硝酸塩水溶液(pH3.6)及び水3.0gを添加し、室温(25℃)で30分間攪拌溶解して放射線硬化性組成物用ポリシロキサン溶液を得た。GPC法によりポリシロキサンの重量平均分子量を測定すると、830であった。この放射線硬化性組成物用シロキサン樹脂溶液10.0gに光酸発生剤(PAI−1001、みどり化学社製)0.193gを配合し、放射線硬化性組成物を調製した。なお、(a)成分の使用量は放射線硬化性組成物総量に対して15重量%であり、(b)成分の使用量は放射線硬化性組成物総量に対して1.9重量%であり、(d)成分の使用量は放射線硬化性組成物総量に対して0.075重量%であった。」なる記載に倣い、パターニングが可能な感光性シロキサン樹脂組成物を調製した。
(Formation of first siloxane resin layer)
In the method described in Example 2 (paragraph 0125) of Japanese Patent No. 3821165, that is, "in a solution obtained by dissolving 317.9 g of tetraethoxysilane and 247.9 g of methyltriethoxysilane in 1116.7 g of diethylene glycol dimethyl ether, 167.5 g of nitric acid prepared to 0.644% by weight was added dropwise over 30 minutes with stirring, and after 3 hours of reaction, after reaction was completed, a portion of the ethanol and diethylene glycol dimethyl ether formed was distilled off in a warm bath under reduced pressure. As a result, 1077.0 g of a polysiloxane solution was obtained, 525.1 g of this polysiloxane solution was added with 53.0 g of diethylene glycol dimethyl ether, a tetramethylammonium nitrate aqueous solution (pH 3.6) prepared to 2.38% by weight, and 3.0 g of water. And stir at room temperature (25 ° C) for 30 minutes As a result, a weight average molecular weight of the polysiloxane measured by the GPC method was 830. A photoacid was added to 10.0 g of the siloxane resin solution for a radiation curable composition. A radiation curable composition was prepared by blending 0.193 g of a generator (PAI-1001, manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.) The amount of component (a) used was 15% by weight based on the total amount of the radiation curable composition. The amount of component (b) used is 1.9% by weight with respect to the total amount of the radiation curable composition, and the amount of component (d) used is 0.075% by weight with respect to the total amount of the radiation curable composition. According to the description, a photosensitive siloxane resin composition capable of patterning was prepared.
上記感光性シロキサン樹脂組成物を、上述のとおり製膜した第一透明電極層を備える強化ガラス基板上であって、該第一透明電極層面に直接に、スピンコート法により塗工して塗膜を形成した。引き続き減圧乾燥装置にて0.02torrまで減圧して溶剤を部分的に除去し、さらに90℃のホットプレート上で45秒間加熱(プリベーク)して、完全に溶剤成分を除去した。基板を室温まで冷却した後、後工程で形成予定の第二透明電極層であるITO配線のブリッジ部分にコンタクトホールを設置したパターンのフォトマスクを適用し、プロキシアライナーにより365nmで200mJの露光量で露光処理した。
上述のとおり露光処理が終了した塗膜面を、現像液であるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド2.38wt%(TMAH、東京応化工業社製:NMD−3)でディップ現像し、未露光部分を除去してパターンを形成した。さらに露光後の基板は加熱炉(アドバンテスト社製FUW210PA)中、大気雰囲気下で500℃1時間加熱(ポストベーク)して硬化させ、膜厚1.5μmのパターニングされた絶縁性膜である第一シロキサン樹脂層を第一の透明電極層上に形成した。
The above photosensitive siloxane resin composition is on a tempered glass substrate provided with a first transparent electrode layer formed as described above, and is applied directly to the surface of the first transparent electrode layer by a spin coating method. Formed. Subsequently, the solvent was partially removed by reducing the pressure to 0.02 torr with a vacuum drying apparatus, and further heated (prebaked) for 45 seconds on a hot plate at 90 ° C. to completely remove the solvent component. After cooling the substrate to room temperature, a photomask having a pattern in which contact holes are installed in the bridge portion of the ITO wiring, which is the second transparent electrode layer scheduled to be formed in a later process, is applied, and the exposure amount is 200 mJ at 365 nm by a proxy aligner. Exposure processing was performed.
As described above, the coating surface on which the exposure processing has been completed is dip-developed with 2.38 wt% (TMAH, Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd .: NMD-3), which is a developer, to remove unexposed portions. Pattern was formed. Further, the exposed substrate is a patterned insulating film having a thickness of 1.5 μm, which is cured by heating (post-baking) at 500 ° C. for 1 hour in an air atmosphere in a heating furnace (FUW210PA manufactured by Advantest). A siloxane resin layer was formed on the first transparent electrode layer.
(第二透明電極層の製膜)
さらに上記絶縁性膜上に、ブリッジ部を構成する2層目の透明電極層を形成するために、ITOを用い、スパッタにより全面に50nmの厚さで製膜し、第一透明電極層と同様にポジ感光性材料を用いフォトリソグラフィ法により所定の位置に複数のブリッジ状の電極部が複数形成されるパターンで第二透明電極層を形成した。
(Formation of second transparent electrode layer)
Furthermore, in order to form the second transparent electrode layer constituting the bridge portion on the insulating film, ITO is used to form a film with a thickness of 50 nm on the entire surface by sputtering, and is the same as the first transparent electrode layer. The second transparent electrode layer was formed in a pattern in which a plurality of bridge-like electrode portions were formed at predetermined positions by photolithography using a positive photosensitive material.
(第二シロキサン樹脂層の製膜)
絶縁性膜である第一シロキサン樹脂層を形成する際に調製した感光性シロキサン樹脂組成物と同様のものを用い、タッチパネル部材の最表面として適した形成パターン向けのフォトマスクに変更した以外は、第一シロキサン樹脂層と同様の製膜手法により、第二透明電極層を形成した基材面に厚さ1.5μmの第二シロキサン樹脂層を製膜した。第二シロキサン樹脂層は、主として表面保護のために設けた。以上により、強化ガラス基板上に複数の有効領域が形成された多面取り基板を得た。
(Formation of second siloxane resin layer)
Using the same photosensitive siloxane resin composition prepared when forming the first siloxane resin layer that is an insulating film, except that it was changed to a photomask for the formation pattern suitable as the outermost surface of the touch panel member, A second siloxane resin layer having a thickness of 1.5 μm was formed on the surface of the base material on which the second transparent electrode layer was formed by the same film forming method as that for the first siloxane resin layer. The second siloxane resin layer was provided mainly for surface protection. As described above, a multi-sided substrate having a plurality of effective regions formed on the tempered glass substrate was obtained.
上記多面取り基板上に形成された有効領域を略均等に分割するよう切断線を設定し、該切断線に沿って、CO2レーザー切断装置(LASERTEX−40、小池酸素工業株式会社製)によって、強化ガラス基板を切断し、70個のタッチパネル部材を得て、実施例1とした。 A cutting line is set so as to divide the effective area formed on the multi-planar substrate substantially evenly, and along the cutting line, by a CO 2 laser cutting device (LASERTEX-40, manufactured by Koike Oxygen Co., Ltd.), The tempered glass substrate was cut, and 70 touch panel members were obtained.
(比較例1)
実施例1において、第一シロキサン樹脂層(絶縁性膜)および第二シロキサン樹脂層(表面保護層)を構成する材料として用いた感光性シロキサン樹脂組成物の替わりに、透明アクリル系感光性材料(JSR社製NN880)に変更し、且つ、絶縁性膜および表面保護層の形成条件の一部を以下のとおり変更することによって、第一アクリル樹脂層、第二アクリル樹脂層を設けたこと以外は、実施例1の製造方法と同様の手法でタッチパネル部材の多面取り基板を形成した。
(Comparative Example 1)
In Example 1, instead of the photosensitive siloxane resin composition used as the material constituting the first siloxane resin layer (insulating film) and the second siloxane resin layer (surface protective layer), a transparent acrylic photosensitive material ( Except that the first acrylic resin layer and the second acrylic resin layer are provided by changing to NN880 manufactured by JSR) and changing part of the formation conditions of the insulating film and the surface protective layer as follows. A multi-sided substrate of the touch panel member was formed by the same method as the manufacturing method of Example 1.
比較例1における絶縁性膜および表面保護層は、実施例1におけるこれらの形成条件に対し、プリベーク時の加熱時間を60秒間に変更し、また、露光処理における露光量を100mJに変更した。また、これらの層を形成するための露光処理が終了した基板を現像する際には、現像液としての無機アルカリ溶液(JSR社製 CD150−CR)を用い、未露光部分を除去してパターンを形成した。さらに露光後の基板は加熱炉(アズワン社製DO−450FPA)中、大気雰囲気下で230℃30分加熱して硬化させ、膜厚1.4μmのパターニングされた絶縁性膜および表面保護層をそれぞれ形成した。以上により、強化ガラス基板上に複数の有効領域が形成された多面取り基板を得た。 For the insulating film and the surface protective layer in Comparative Example 1, the heating time during pre-baking was changed to 60 seconds with respect to these formation conditions in Example 1, and the exposure amount in the exposure process was changed to 100 mJ. Further, when developing the substrate after the exposure processing for forming these layers, an inorganic alkaline solution (CD150-CR manufactured by JSR) as a developing solution is used, and the pattern is formed by removing unexposed portions. Formed. Further, the substrate after exposure was cured by heating at 230 ° C. for 30 minutes in an air atmosphere (DO-450FPA manufactured by ASONE Co., Ltd.) to form a patterned insulating film having a thickness of 1.4 μm and a surface protective layer. Formed. As described above, a multi-sided substrate having a plurality of effective regions formed on the tempered glass substrate was obtained.
そして、該他面取り基板を、実施例1におけるレーザー切断手段と同じ条件で有効領域毎になるよう切断し、70個のタッチパネル部材を得て、比較例1とした。 And this other chamfering board | substrate was cut | disconnected so that it might become for every effective area on the same conditions as the laser cutting means in Example 1, 70 touch panel members were obtained, and it was set as the comparative example 1.
(評価)
実施例1のタッチパネル部材は、良好に切断されており、切断面も品質上問題のない状態で示された。また、第一シロキサン樹脂層および第二シロキサン樹脂層は、いずれも焦げ付きなどは生じていないことが方法により観察された。
一方、比較例1のタッチパネル部材は、切断面は品質上問題のない程度の状態が示されたが、第一アクリル樹脂層、および第二アクリル樹脂層の切断面に近い領域において、アクリル樹脂層の焦げ付きが顕微鏡観察により観察された。
(Evaluation)
The touch panel member of Example 1 was cut well, and the cut surface was shown in a state with no problem in quality. Moreover, it was observed by the method that neither the first siloxane resin layer nor the second siloxane resin layer was burnt.
On the other hand, the touch panel member of Comparative Example 1 showed a state where the cut surface had no problem in quality, but the acrylic resin layer in the region close to the cut surface of the first acrylic resin layer and the second acrylic resin layer. The scorching of was observed by microscopic observation.
1、1’、1’’ タッチパネル部材
2 強化ガラス基板
3 シロキサン樹脂層
3a 第一シロキサン樹脂層
3b 第二シロキサン樹脂層
3c 第三シロキサン樹脂層
4 タッチパネル用透明電極層
5 タッチパネル部材
6 タッチパネル部材
7 取り出し配線
8 第一電極層
9 第二電極層
10 第二電極層
11 タッチパネル部材一体型有機EL表示装置
12 タッチパネル部材
13 強化ガラス基板
14 第一電極層
14’ 第二電極層
15 シロキサン樹脂層
21 有機EL用基板
22 透明基板
23 有機EL素子
24 スペーサ
31 タッチパネル部材搭載液晶表示装置
32 タッチパネル部材
33 強化ガラス基板
34 第一電極層
34’ 第二電極層
35 第一シロキサン樹脂層
35’ 第二シロキサン樹脂層
36 取り出し配線
37 スペーサ
38 透明基板
39 タッチパネル部材
41 液晶表示装置
42 透明基板
43 表示側基板
44R、44G、44B 赤色着色部、緑色着色部、青色着色部
45 ブラックマトリクス
46 着色層
47 駆動用液晶材料用配向膜
48 電極基板
49 駆動液晶材料
50 シール部材
51 強化ガラス基板
52 有効領域
53 積層部材
54 切断線
61 強化ガラス基板
62 有効領域
63 積層部材
64 切断領域
65 切断線
71 タッチパネル部材
72 強化ガラス基板
73 第一電極層
74 第二電極層
75 第一シロキサン樹脂層
76 第二シロキサン樹脂層
77 取り出し配線
78 黒額縁層
79 保護ペースト層
80 保護層
100 従来のタッチパネル部材一体型有機EL表示装置
101 従来のタッチパネル部材
102 透明基板
104 アクリル樹脂層
105 保護用強化ガラス
1, 1 ′, 1 ″ touch panel member 2 tempered glass substrate 3 siloxane resin layer 3a first siloxane resin layer 3b second siloxane resin layer 3c third siloxane resin layer 4 transparent electrode layer for touch panel 5 touch panel member 6 touch panel member 7 Wiring 8 First electrode layer 9 Second electrode layer 10 Second electrode layer 11 Touch panel member-integrated organic EL display device 12 Touch panel member 13 Tempered glass substrate 14 First electrode layer 14 ′ Second electrode layer 15 Siloxane resin layer 21 Organic EL Substrate 22 Transparent substrate 23 Organic EL element 24 Spacer 31 Touch panel member-mounted liquid crystal display device 32 Touch panel member 33 Tempered glass substrate 34 First electrode layer 34 ′ Second electrode layer 35 First siloxane resin layer 35 ′ Second siloxane resin layer 36 Extraction wiring 37 Spacer 38 Transparent substrate 39 Touch panel Material 41 Liquid crystal display device 42 Transparent substrate 43 Display side substrate 44R, 44G, 44B Red colored portion, green colored portion, blue colored portion 45 Black matrix 46 Colored layer 47 Alignment film 48 for driving liquid crystal material Electrode substrate 49 Driving liquid crystal material 50 Seal member 51 Tempered glass substrate 52 Effective region 53 Laminated member 54 Cutting line 61 Tempered glass substrate 62 Effective region 63 Laminated member 64 Cutting region 65 Cutting line 71 Touch panel member 72 Tempered glass substrate 73 First electrode layer 74 Second electrode layer 75 First One siloxane resin layer 76 Second siloxane resin layer 77 Lead-out wiring 78 Black frame layer 79 Protective paste layer 80 Protective layer 100 Conventional touch panel member integrated organic EL display device 101 Conventional touch panel member 102 Transparent substrate 104 Acrylic resin layer 105 For protection Tempered glass
Claims (8)
上記強化ガラス基板が上記タッチパネル用電極層および上記シロキサン樹脂層の直接の支持基板であることを特徴とするタッチパネル部材。 On the tempered glass substrate, an electrode layer for a touch panel and a siloxane resin layer are laminated and provided,
The touch panel member, wherein the tempered glass substrate is a direct support substrate for the touch panel electrode layer and the siloxane resin layer.
上記強化ガラス基板が上記電極層および上記シロキサン樹脂層の直接の支持基板であることを特徴とする積層部材。 An electrode layer and a siloxane resin layer are laminated and provided on a tempered glass substrate,
The laminated member, wherein the tempered glass substrate is a direct support substrate for the electrode layer and the siloxane resin layer.
上記強化ガラス基板を直接または間接にタッチ面とするか、あるいは、電極層および/またはシロキサン樹脂層を挟んで上記強化ガラス基板に対向して設けられる他の基板をタッチ面とし、
上記タッチ面に対し、直接または間接に行なわれる接触動作によって出力される電気信号を検出する検出回路と、
上記検出回路において検出された電気信号から上記接触動作の行なわれた接触位置の座標を算出する座標算出用演算回路と、を備えることを特徴とする座標検出装置。 A touch panel electrode layer and a siloxane resin layer are laminated on a tempered glass substrate, and the tempered glass substrate includes a touch panel member that is a direct support substrate for the touch panel electrode layer and the siloxane resin layer,
The tempered glass substrate is used as a touch surface directly or indirectly, or another substrate provided to face the tempered glass substrate with the electrode layer and / or the siloxane resin layer interposed therebetween, as a touch surface,
A detection circuit for detecting an electrical signal output by a contact operation performed directly or indirectly on the touch surface;
A coordinate detection apparatus comprising: a coordinate calculation calculation circuit that calculates coordinates of a contact position where the contact operation is performed from an electrical signal detected by the detection circuit.
基板として強化ガラス基板を用い、
強化ガラス基板上に電極層およびシロキサン樹脂層を任意の順序で積層形成し、上記電極層および上記シロキサン樹脂層を含む有効領域を形成する積層工程と、
上記積層工程実施後に、上記有効領域の周囲全周あるいは周囲の一部に位置する、他の領域を熱切断手段により切断する切断工程と、
を備えることを特徴とする積層部材の製造方法。 A method for producing a laminated member comprising an electrode layer and a siloxane resin layer on a substrate,
Using a tempered glass substrate as the substrate,
Laminating step of laminating an electrode layer and a siloxane resin layer in an arbitrary order on a tempered glass substrate, and forming an effective region including the electrode layer and the siloxane resin layer;
After performing the laminating step, a cutting step of cutting the other region located around the entire circumference or part of the periphery of the effective region by a thermal cutting means,
The manufacturing method of the laminated member characterized by the above-mentioned.
積層工程が、上記強化ガラス基板上に電極層およびシロキサン樹脂層を任意の順序で形成し、上記電極層および上記シロキサン樹脂層を含む有効領域を2以上形成する積層工程であり、
切断工程が、上記積層工程実施後に、熱切断手段により上記有効領域毎に切断することを含む切断工程であることを特徴とする請求項5に記載の積層部材の製造方法。 The tempered glass substrate is a tempered glass substrate that can take two or more laminate members,
The laminating step is a laminating step in which an electrode layer and a siloxane resin layer are formed on the tempered glass substrate in an arbitrary order, and two or more effective regions including the electrode layer and the siloxane resin layer are formed.
6. The method for manufacturing a laminated member according to claim 5, wherein the cutting step is a cutting step including cutting each effective area by a thermal cutting means after the lamination step.
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