JP2013003344A - パターン位相差フィルムの製造方法、それに用いるマスク、およびそれを用いたパターン位相差フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】パターン精度に優れたパターン位相差フィルムを容易に製造可能なパターン位相差フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】透明フィルム基材１、および上記透明フィルム基材上に形成され、光配向材料を含む配向層形成用層２′を有する長尺配向膜形成用フィルム３を連続的に搬送しつつ、上記配向層形成用層に偏光紫外線を照射する第１露光処理および第２露光処理により、屈折率異方性を有する棒状化合物を一定の方向に配列させる第１配向領域２ａおよび上記棒状化合物を上記第１配向領域とは異なる方向に配列させる第２配向領域２ｂを含む配向層２を形成する露光工程と、上記配向層上に、上記棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液を塗布する塗布工程と、を有するパターン位相差フィルムの製造方法であって、上記第１露光処理および第２露光処理で照射される偏光紫外線の偏光方向が異なる。
【選択図】図１

Description

本発明は、パターン精度に優れたパターン位相差フィルムを容易に製造可能なパターン位相差フィルムの製造方法に関するものである。

フラットパネルディスプレイとしては、従来、２次元表示のものが主流であったが、近年においては３次元表示可能なフラットパネルディスプレイが注目を集め始めており、一部市販されているものも存在しつつある。そして、今後のフラットパネルディスプレイにおいては３次元表示可能であることが、その性能として当然に求められる傾向にあり、３次元表示可能なフラットパネルディスプレイの検討が幅広い分野において進められている。

フラットパネルディスプレイにおいて３次元表示をするには、通常、視聴者に対して何らかの方式で右目用の映像と、左目用の映像とを別個に表示することが必要とされる。右目用の映像と左目用の映像とを別個に表示する方法としては、例えば、パッシブ方式というものが知られている。このようなパッシブ方式の３次元表示方式について図を参照しながら説明する。図１３はパッシブ方式の３次元表示の一例を示す概略図である。図１３に示すようにこの方式では、まず、フラットパネルディスプレイを構成する画素を、右目用映像表示画素と左目用映像表示画素の２種類の複数の画素にパターン状に分割し、一方のグループの画素では右目用の映像を表示させ、他方のグループの画素では左目用の映像を表示させる。また、直線偏光板と当該画素の分割パターンに対応したパターン状の位相差層が形成されたパターン位相差フィルムとを用い、右目用の映像と、左目用の映像とを互いに直交関係にある円偏光に変換する。さらに、視聴者には右目用レンズと左目用レンズとに互いに直交する円偏光レンズを採用した円偏光メガネを装着させ、右目用の映像が右目用レンズのみを通過し、かつ左目用の映像が左目用のレンズのみを通過するようにする。このようにして右目用の映像が右目のみに届き、左目用の映像が左目のみに届くようにすることによって３次元表示を可能とするものがパッシブ方式である。

このようなパッシブ方式では、上記パターン位相差フィルムと、対応する円偏光メガネとを用いることにより容易に３次元表示が可能なものにできるという利点がある。

ところで、上述したようにパッシブ方式においてはパターン位相差フィルムを用いることが必須になるところ、このようなパターン位相差フィルムについてはまだ広く研究・開発が行われておらず、標準的な技術としても確立されているものがないのが現状である。この点、特許文献１にはパターン位相差フィルムとして、ガラス基板上に配向規制力がパターン状に制御された光配向膜と、当該光配向膜上に形成され、液晶化合物の配列が上記光配向膜のパターンに対応するようにパターニングされた位相差層とを有するパターン位相差板が開示されている。しかしながら、このような特許文献１に開示されたパターン位相差板は、ガラス板を用いることが必須となっていることから、高価であり、また大面積のものを大量に製造できるというものではなく、その実用性に難点があった。

このようなことから、実用性を有するパターン位相差フィルムに関しては未だ研究開発段階にあり、一般的なものとして知られるに至っているものはほとんどなく、その結果、安価で簡易的な方法で大量に製造することが可能であり、３次元映像を表示することが可能な表示装置を得るには至っていないといった問題があった。
また、パターン位相差フィルムとした場合には、右目用映像表示画素と左目用映像表示画素の２種類のパターンをパターン精度良く形成することができないといった問題があった。具体的には、パターン位相差フィルムのパターンを右目用および左目用映像表示画素に合わせることが難しく、右目用および左目用映像表示画素に対してそれぞれ逆の位相差層が配置され、右目用および左目用映像が逆の目に届く、いわゆるクロストークが生じるといった問題があった。

特開２００５−４９８６５号公報

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、パターン精度に優れたパターン位相差フィルムを容易に製造可能なパターン位相差フィルムの製造方法を提供することを主目的とするものである。

本発明者等は、上記課題を解決すべく研究を重ねた結果、光配向層へのパターン露光を行う露光工程、屈折率異方性を有する棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液の塗布工程、棒状化合物を所定の方向に配列させる配向工程、およびその塗膜の乾燥工程を行ってパターン位相差フィルムを製造した場合、得られたパターン位相差フィルムのパターンは、各工程の条件により種々の変動を受けるものの、乾燥工程時の熱収縮の影響により露光工程時のパターンと比較して収縮している傾向が極めて大きいことを見出し、本発明を完成させるに至ったのである。

すなわち、本発明は、透明フィルム基材、および上記透明フィルム基材上に形成され、光配向材料を含む配向層形成用層を有する長尺配向膜形成用フィルムを連続的に搬送しつつ、上記配向層形成用層に偏光紫外線を照射する第１露光処理および第２露光処理により、屈折率異方性を有する棒状化合物を一定の方向に配列させる第１配向領域および上記棒状化合物を上記第１配向領域とは異なる方向に配列させる第２配向領域を含む配向層を形成する露光工程と、上記配向層上に、上記棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液を塗布する塗布工程と、上記位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を、上記配向層に含まれる第１配向領域および第２配向領域の異なる配向方向に沿って配列させる配向工程と、上記塗膜を乾燥させ、位相差層を形成する乾燥工程と、上記乾燥工程後の透明フィルム基材が上記露光工程時よりも収縮した安定収縮状態時に、上記位相差層を保護フィルムで覆う保護工程と、を有するパターン位相差フィルムの製造方法であって、上記第１露光処理および第２露光処理で照射される偏光紫外線の偏光方向が異なるものであり、上記第１露光処理および第２露光処理の少なくともいずれか一方が、上記配向層形成用層に偏光紫外線をマスクを介してパターン照射するものであり、上記パターン照射に用いる上記マスクが、上記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されていることを特徴とするパターン位相差フィルムの製造方法を提供する。

本発明によれば、上述のように安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されたマスクを用いることにより、パターン精度に優れたパターン位相差フィルムを容易に製造することができ、上述したようなクロストークを安定的に抑制できる。
また、上記保護工程が、透明フィルム基材が安定収縮状態時に、上記位相差層を保護フィルムで覆うものであることにより、透明フィルム基材の吸湿の影響が少なく、寸法変化の少ないものとすることができる。また、安定収縮状態時に行うものであることにより、上記保護工程に要する時間を短いものとすることができ、生産効率に優れたものとすることができる。

本発明は、上述のパターン位相差フィルムの製造方法のパターン照射に用いられ、上記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されていることを特徴とするマスクを提供する。

本発明によれば、上記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されていることにより、パターン精度に優れたパターン位相差フィルムを容易に形成することができる。

本発明は、上述のパターン位相差フィルムの製造方法により製造され、上記透明フィルム基材が安定収縮状態であることを特徴とするパターン位相差フィルム。

本発明によれば、上記透明フィルム基材が安定収縮状態であることにより、寸法安定性に優れたものとすることができる。このため、３次元表示装置の組み立てを容易なものとすることができる。

本発明のパターン位相差フィルムの製造方法によれば、パターン精度に優れたパターン位相差フィルムを容易に製造可能とすることができるという効果を奏する。

本発明のパターン位相差フィルムの製造方法の一例を示す工程図である。 本発明のパターン位相差フィルムの製造方法の一例を示す工程図である。 本発明のパターン位相差フィルムの製造法を説明する説明図である。 本発明に用いられる露光工程を説明する説明図である。 本発明に用いられる露光工程を説明する説明図である。 本発明に用いられる露光工程を説明する説明図である。 本発明に用いられる露光工程を説明する説明図である。 本発明に用いられる露光工程を説明する説明図である。 本発明に用いられる露光工程を説明する説明図である。 本発明に用いられる露光工程を説明する説明図である。 本発明のパターン位相差フィルムの製造方法におけるその他の工程を説明する説明図である。 本発明におけるその他の工程の一例を示す工程図である。 パッシブ方式で３次元映像を表示可能な液晶表示装置の例を示す概略図である。

本発明は、パターン位相差フィルムの製造方法、それに用いるマスク、およびそれを用いたパターン位相差フィルムに関するものである。
以下、本発明のパターン位相差フィルムの製造方法、マスク、およびパターン位相差フィルムについて詳細に説明する。

Ａ．パターン位相差フィルムの製造方法
本発明のパターン位相差フィルムの製造方法は、透明フィルム基材、および上記透明フィルム基材上に形成され、光配向材料を含む配向層形成用層を有する長尺配向膜形成用フィルムを連続的に搬送しつつ、上記配向層形成用層に偏光紫外線を照射する第１露光処理および第２露光処理により、屈折率異方性を有する棒状化合物を一定の方向に配列させる第１配向領域および前記棒状化合物を前記第１配向領域とは異なる方向に配列させる第２配向領域を含む配向層を形成する露光工程と、上記配向層上に、上記棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液を塗布する塗布工程と、上記位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を、上記配向層に含まれる第１配向領域および第２配向領域の異なる配向方向に沿って配列させる配向工程と、上記塗膜を乾燥させ、位相差層を形成する乾燥工程と、上記乾燥工程後の透明フィルム基材が上記露光工程時よりも収縮した安定収縮状態時に、上記位相差層を保護フィルムで覆う保護工程と、を有するパターン位相差フィルムの製造方法であって、上記第１露光処理および第２露光処理で照射される偏光紫外線の偏光方向が異なるものであり、上記第１露光処理および第２露光処理の少なくともいずれか一方が、上記配向層形成用層に偏光紫外線をマスクを介してパターン照射するものであり、上記パターン照射に用いる上記マスクが、上記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されていることを特徴とするものである。

このような本発明のパターン位相差フィルムの製造方法について図を参照しながら説明する。図１および図２は、本発明のパターン位相差フィルムの製造方法の一例を示す工程図である。まず、図１（ａ）に例示するように、透明フィルム基材１上に、光配向材料として光反応材料を含む配向層形成用塗工液を塗布し、その塗膜を乾燥することにより、透明フィルム基材１および上記透明フィルム基材１上に形成され、光配向材料を含む配向層形成用層２´を有する長尺配向膜形成用フィルム３を形成し、この長尺配向膜形成用フィルム３を連続的に搬送しつつ、上記配向層形成用層２´にマスクを介して偏光紫外線をパターン照射し（図１（ｂ））、第１配向領域２ａを形成し、次いで、第１配向領域２ａを形成した際の偏光紫外線とは異なる偏光紫外線を照射することにより（図１（ｃ））、第１配向領域２ａとは棒状化合物を配列させる方向の異なる第２配向領域２ｂを有する配向層２形成する(図１（ｄ）)。
次いで、図２（ａ）に示すように、上記棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液を塗布し、その塗膜４´を加熱するとともに乾燥することにより(図２（ｂ）)、上記第1配向領域２ａおよび第２配向領域２ｂの配向規制力にしたがって上記棒状化合物が一定方向に配列した第１位相差領域４ａおよび第２位相差領域４ｂを含む位相差層４を形成し、その後、室温近くまで冷却し、紫外線を照射することにより硬化させて（図２（ｃ））、パターン位相差フィルム１０を形成し、さらに、透明フィルム基材１が上記露光工程時よりも収縮した安定収縮状態時に、透明フィルム基材１および位相差層４に保護フィルム２１を積層するものである（図２（ｄ）〜（ｅ））。
ここで、パターン照射に用いるマスクは、上記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されているものである。
なお、この例においては、図１（ａ）が配向層形成用塗工液塗布工程および配向層形成用層乾燥工程である。また、図１（ｂ）〜（ｃ）が露光工程であり、図１（ｂ）が第１露光処理、図１（ｃ）が第２露光処理である。また、図２（ａ）が塗布工程であり、図２（ｂ）が配向工程および乾燥工程であり、図２（ｃ）が硬化工程であり、図２（ｄ）〜（ｅ）が保護工程である。

上述のように、パターン位相差フィルムのパターンは、製造時の各工程での露光光、熱、テンション、溶媒との接触等の影響により種々の変動を受け、またそれらの影響を完全に把握できていないものの、露光工程前と乾燥工程後とで比較すると、乾燥工程時の熱の影響により透明フィルム基材を含むパターン位相差フィルムが幅方向に収縮し、それと同時に、乾燥工程後のパターンは、露光工程前のパターンと比較して収縮する傾向が極めて大きいことが本発明者等により見出された。例えば、露光工程前にレーザーマーキングにより透明フィルム基材上にレーザーマーキング痕を付した場合、図３に例示するように、乾燥工程後のレーザーマーキング痕の幅は、露光工程前のレーザーマーキング痕の幅と比較して収縮する傾向がある（Ｈａ＞Ｈｂ）。
このため、本発明によれば、上述のように安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されたマスクを用いることにより、各工程での条件等の影響を受けることなく、安定的にパターン精度に優れたパターン位相差フィルムを容易に製造することができる。その結果、その後の工程での通過性を良好なものとすることができ、上述のようなクロストークを安定的に抑制できる。
また、パターンを変更した場合であっても、所望のパターンのパターン位相差フィルムを容易かつ短時間で得ることができる。

また、上記保護工程が、透明フィルム基材が安定収縮状態時に、上記位相差層を保護フィルムで覆うものであることにより、透明フィルム基材の吸湿の影響が少なく、寸法変化の少ないものとすることができる。また、安定収縮状態時に行うものであることにより、上記保護工程に要する時間を短いものとすることができ、生産効率に優れたものとすることができる。

また、上記露光工程を有することにより、上記配向層に棒状化合物を一定の方向に配列させることができる第１配向領域および上記第１配向領域とは異なる方向に棒状化合物を配列させることができる第２配向領域を連続的に形成することができる。
したがって、このような配向領域が形成された配向層上に棒状化合物を含む位相差層を形成した場合には、当該パターンに従って上記位相差層においても第１配向領域上に形成された位相差層（以下、「第１位相差領域」と称する場合がある。）と、上記第２配向領域上に形成された位相差層（以下、「第２位相差領域」と称する場合がある。）とがパターン状に配置されたパターン位相差フィルムを容易かつ大量に製造することができる。
また、所望の配向規制力を有する第１および第２配向領域が形成されたフィルムが、長尺配向膜形成用フィルムであることにより、例えば、この状態でロール状にして保管することや、ロール状で保管した状態から巻き出して、配向層上に屈折率異方性を有する棒状化合物を含む位相差層を形成することができる等、パターン位相差フィルムの製造プロセスの自由度を高いものとすることができる。
さらに、最終的に得られるパターン位相差フィルムを長尺状のままロール状にして保存することや、ロール状で保存した状態から、用いられる表示装置のサイズに合わせて所望のサイズのパターン位相差フィルムを切り出すことが容易に行うことができる等、表示装置の製造プロセスの自由度を高いものとすることができる。

本発明のパターン位相差フィルムの製造方法は、少なくとも露光工程、塗布工程、配向工程、乾燥工程および保護工程を含むものである。
以下、本発明のパターン位相差フィルムの製造方法の各工程について詳細に説明する。

１．露光工程
本発明の製造方法における露光工程は、長尺配向膜形成用フィルムを連続的に搬送しつつ、上記配向層形成用層に偏光紫外線を照射する第１露光処理および第２露光処理により、屈折率異方性を有する棒状化合物を一定の方向に配列させる第１配向領域および上記棒状化合物を上記第１配向領域とは異なる方向に配列させる第２配向領域を含む配向層を形成する工程である。
また、上記第１露光処理および第２露光処理で照射される偏光紫外線の偏光方向が異なるものであり、上記第１露光処理および第２露光処理の少なくともいずれか一方が、上記配向層形成用層に偏光紫外線をマスクを介してパターン照射するものである。

（１）マスク
本工程に用いられるマスクは、上記パターン照射に用いられるものであり、上記透明フィルム基材が本工程時よりも収縮した安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されているものである。

ここで、安定収縮状態とは、常温常湿下で緩やかに吸湿し、膨張し得る状態をいうものであり、例えば、上記乾燥工程後のパターン位相差フィルムに含まれる透明フィルム基材の幅をＨｔ、上記乾燥工程後のパターン位相差フィルムに含まれる透明フィルム基材の絶乾状態での幅をＨ０、上記乾燥工程後のパターン位相差フィルムに含まれる透明フィルム基材の飽和膨張状態での幅をＨ１、とした際に、（Ｈｔ-Ｈ０）／（Ｈ１-Ｈ０）×１００で示される膨張率が、０．０５％〜９０％の範囲内であることをいうものである。
本工程においては、なかでも、上記膨張率が０．５％〜５０％の範囲内であることが好ましく、特に、３％〜４０％の範囲内であることが好ましい。このような範囲内であることにより、周囲環境からの吸湿・膨張による寸法変化が少なく、かつ、安定収縮状態に至る時間を短いものとすることができ、上記保護工程に要する時間を短いものとすることができるからである。また、その結果、生産効率に優れたものとすることができるからである。

なお、上記飽和膨張状態の幅Ｈ１については、透明フィルム基材を、常温（温度２５±３℃の水に１時間浸漬した後、表面の水滴をエアガンやワイパー等で除去したのちに、透明フィルム基材の一方の表面を平滑な平面、例えばガラス製のステージ、ＳＵＳ材やアルミニウム等の金属製ステージ上に密着させて展開したときをいうものである。
また、絶乾状態での幅Ｈ０については、上記乾燥工程後のパターン位相差フィルムに含まれる透明フィルム基材の水分率（単位％；水分の質量／透明フィルム基材の質量×１００）を横軸に、パターン位相差フィルムに含まれる透明フィルム基材の幅を縦軸とするグラフを作成し、水分率が０である場合の幅Ｈ０を外挿して求めることができる。

本工程において、上記水分率の測定方法としては、上記乾燥工程後の透明フィルム基材を用いて、精度良く測定できる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、上記乾燥工程後の透明フィルム基材から１０ｃｍ×１０ｃｍのサンプルを切り出して、大気圧下、温度２３±２℃で５分の加熱前後の質量変化から求める方法を用いることができる。
また、水分率の異なる透明フィルム基材を得る方法としては、精度良くグラフを作成できるように調整できる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、温度・湿度等の調整が可能な恒温槽内に上記透明フィルム基材を入れ、温度・湿度・放置時間を調整する方法等を挙げることができる。

本工程において、このような透明フィルム基材の幅および水分率の測定は、パターン位相差フィルムまたは長尺配向膜形成用フィルムから保護フィルム、配向層、位相差層、配向層形成用層等の透明フィルム基材以外の構成を全て剥離した透明フィルム基材を用いて行われるものである。

本工程において、透明フィルム基材の幅の測定方法については、上述の膨張率および倍率を安定的に計算できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、透明フィルム基材の全幅を測定する方法であっても良く、透明フィルム基材内の一部分の幅を測定する方法であっても良い。一部分の幅を用いる方法としては、例えば、既に説明した図３に示すように、レーザーマーキングにより幅方向と平行に形成された２点のレーザーマーキング痕Ｍを用いる方法を挙げることができる。

また、上記安定収縮状態時の透明フィルム基材は、本工程時よりも収縮したものである。
本工程におけるパターン照射時の透明フィルム基材の幅をＨａ、上記乾燥工程後であり、かつ、安定収縮状態である透明フィルム基材の幅をＨｂとした際の収縮率（Ｈｂ／Ｈａ）としては、１未満であれば特に限定されるものではないが、０．９９〜０．９９９９９９の範囲内であることが好ましく、中でも０．９９９〜０．９９９９９の範囲内であることが好ましく、特に０．９９９〜０．９９９９の範囲内であることが好ましい。上記収縮率が上述の範囲内であることにより、マスクの拡大補正により安定的に補正することができるからである。また上記範囲より小さいと乾燥工程後の透明フィルム基材幅の吸湿による時間変化が急激過ぎて制御することが困難になるといった問題が生じる恐れがあるからである。
なお、上記乾燥工程の影響により、通常、飽和膨張状態での幅Ｈ１は、本工程におけるパターン照射時の透明フィルム基材の幅Ｈａよりも狭いものとなる。

本工程において、上記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されているとは、透明フィルム基材が本工程を実施する時よりも収縮した状態である安定収縮状態にある場合において、配向層の第１配向領域および第２配向領域のパターン、すなわち、位相差層に含まれる第１位相差領域および第２位相差領域のパターンが、目的のパターンとなるように、マスクのパターンの大きさが調整されていることをいうものである。
具体的には、本工程におけるパターン照射時の透明フィルム基材の幅をＨａ、上記乾燥工程後であり、かつ、安定収縮状態である透明フィルム基材の幅をＨｂとすると、上記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されたマスクのパターンの大きさは、目的のパターンである本発明の製造方法により製造されたパターン位相差フィルムに要求されるパターンの大きさに、Ｈａ／Ｈｂ倍拡大補正されたもの、すなわち、上記収縮率（Ｈｂ／Ｈａ）の逆数倍拡大補正されたものとなる。
したがって、パターンが上記長尺配向膜形成用フィルムの長手方向に互いに平行な帯状のパターンである場合、マスクの幅およびその周期は、目的のパターンの幅および周期がＨａ／Ｈｂ倍拡大補正されたものとなる。
また、パターンが平行な帯状のパターンではない場合には、マスクのパターンの形状は、目的のパターンの形状をＨａ／Ｈｂ倍拡大補正した相似形となる。

本工程に用いられるマスクのパターン、すなわち、パターン照射のパターンとしては、第１配向領域および第２配向領域を安定的に形成できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば帯状パターン、モザイク状パターン、千鳥配置状パターン等を挙げることができる。なかでも本工程においては帯状のパターンであることが好ましく、特に、上記長尺配向膜形成用フィルムの長手方向に互いに平行な帯状のパターンであること、すなわち、上記パターン照射が、上記長尺配向膜形成用フィルムの長手方向に互いに平行な帯状のパターンに偏光紫外線を照射するものであることが好ましい。偏光紫外線の照射位置を固定し、上記長尺配向膜形成用フィルムを長手方向に搬送することで容易に形成できるからである。また、パターン精度良くパターン状に照射することができるからである。また、上記第１位相差領域および第２位相差領域が形成されたパターンと、表示装置に用いられるカラーフィルタ等において画素が形成されているパターンとを対応関係にすることが容易になるからである。

上記マスクのパターン幅、すなわち、偏光紫外線の照射幅および照射間隔（非照射幅）としては、同一であってもよく、あるいは異なっていてもよい。しかしながら、本工程においては両者の幅、すなわち、形成される第１配向領域の幅と第２配向領域との幅が同一であることが好ましい。上記第１位相差領域および第２位相差領域が形成されているパターンと、上記画素部が形成されているパターンとを対応関係にすることが容易になり、その結果、容易に製造可能なものとすることができるようになるからである。カラーフィルタのストライプラインと位置を合わせる場合は、上記第１配向領域および上記第２配向領域が形成されたパターンと、上記カラーフィルタのストライプパターンとを対応関係となるような幅で照射されることが好ましい。

このようなパターン幅としては、具体的には、３次元表示用途の場合具体的には、通常、５０μｍ〜１０００μｍの範囲内であることが好ましく、１００μｍ〜６００μｍの範囲内であることがより好ましい。
なお、ここでいう具体的なパターン幅とは、本発明の製造方法により製造されるパターン位相差フィルムに含まれる透明フィルム基材が安定収縮状態での、上記配向層のパターン幅を指すものである。したがって、本工程に用いられるマスクのパターン幅、すなわち、マスクの開口部の幅は、このような幅に上記倍率を乗じた幅となる。

本工程におけるマスクを構成する材料としては、所望の開口部を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、紫外線による劣化がほとんどない金属や石英等を挙げることができる。
具体的には、ＳＵＳ等の金属基板をエッチング加工、レーザー加工、または電鋳加工によりパターンニングし、さらに必要に応じてニッケルメッキ等の表面処理を施したものを用いることができる。また、ソーダライムガラスや石英からなる基板上に、エマルジョン（銀塩）や、クロムからなる遮光膜を有するものとすることができる。
本工程においては、なかでも、合成石英にＣｒをパターニングしたものであることが好ましい。温度・湿度変化等に対する寸法安定性と紫外線透過率に優れ、配向層形成用層にパターン精度良く配向領域を形成することができるからである。

本工程における合成石英マスクの厚みとしては、寸法精度良くパターンを形成できるものであれば特に限定されるものではないが、１ｍｍ〜２０ｍｍの範囲内であることが好ましく、中でも、５ｍｍ〜１８ｍｍの範囲内であることが好ましく、特に、９ｍｍ〜１６ｍｍの範囲内であることが好ましい。厚みが上述の範囲内であることにより、たわまないものとすることができ、寸法精度の高いものとすることができるとともに、フォトマスクとしてハンドリングする際に重過ぎることがないからである。

（２）長尺配向膜形成用フィルム
本工程に用いられる長尺配向膜形成用フィルムは、透明フィルム基材、および配向層形成用層を少なくとも有するものである。

ａ．透明フィルム基材
本工程に用いられる長尺配向膜形成用フィルムを構成する透明フィルム基材は、配向層形成用層および位相差層等を支持する機能を有し、長尺に形成されたものである。

本工程に用いられる透明フィルム基材は、位相差が小さいものであることが好ましい。より具体的には、本工程に用いられる透明フィルム基材は、面内レターデーション値（Ｒｅ値）が、０ｎｍ〜１０ｎｍの範囲内であることが好ましく、０ｎｍ〜５ｎｍの範囲内であることがより好ましく、０ｎｍ〜３ｎｍの範囲内であることがさらに好ましい。透明フィルム基材の面内レターデーション値が上記範囲よりも大きいと、本発明の製造方法により製造される長尺位相差フィルムを用いて形成される３次元映像を表示可能な表示装置の表示品質が悪くなってしまう場合があるからである。

本工程に用いられる透明フィルム基材は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、透明フィルム基材の透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。

本工程に用いられる透明フィルム基材は、ロール状に巻き取ることができる可撓性を有するフレキシブル材であることが好ましい。
このようなフレキシブル材としては、セルロース誘導体、ノルボルネン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン、変性アクリル系ポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル類などを例示することができる。なかでも本工程においてはセルロース誘導体を用いることが好ましい。セルロース誘導体は特に光学的等方性に優れるため、光学的特性に優れたパターン位相差フィルムを製造することができるからである。

本工程においては、上記セルロース誘導体のなかでも、セルロースエステルを用いることが好ましく、さらに、セルロースエステル類のなかでも、セルロースアシレート類を用いることが好ましい。セルロースアシレート類は工業的に広く用いられていることから、入手容易性の点において有利だからである。

上記セルロースアシレート類としては、炭素数２〜４の低級脂肪酸エステルが好ましい。低級脂肪酸エステルとしては、例えばセルロースアセテートのように、単一の低級脂肪酸エステルのみを含むものでもよく、また、例えばセルロースアセテートブチレートやセルロースアセテートプロピオネートのような複数の脂肪酸エステルを含むものであってもよい。

本工程においては、上記低級脂肪酸エステルの中でもセルロースアセテートを特に好適に用いることができる。セルロースアセテートとしては、平均酢化度が５７．５％〜６２．５％（置換度：２．６〜３．０）のトリアセチルセルロースを用いることが最も好ましい。ここで、酢化度とは、セルロース単位質量当りの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験方法）におけるアセチル化度の測定および計算により求めることができる。なお、トリアセチルセルロースフィルムを構成するトリアセチルセルロースの酢化度は、フィルム中に含まれる可塑剤等の不純物を除去した後、上記の方法により求めることができる。

本工程に用いられる透明フィルム基材の厚みは、本発明により製造されるパターン位相差フィルムの用途等に応じて、当該パターン位相差フィルムに必要な自己支持性を付与できる範囲内であれば特に限定されないが、通常、２５μｍ〜１２５μｍの範囲内が好ましく、なかでも４０μｍ〜１００μｍの範囲内が好ましく、特に６０μｍ〜８０μｍの範囲内であることが好ましい。透明フィルム基材の厚みが上記の範囲よりも薄いと、本発明により製造されるパターン位相差フィルムに必要な自己支持性を付与できない場合があるからである。また、厚みが上記の範囲よりも厚いと、例えば、本発明により製造される長尺パターン位相差フィルムを裁断加工し、枚葉のパターン位相差フィルムとする際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があるからである。

本工程に用いられる透明フィルム基材の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。

本工程に用いられる透明フィルム基材は長尺状に形成されたものである。
ここで、長尺状であるとは、ロール状に巻き取ることができる程度の長さのものであることをいうものであり、製造装置に設置できる重量等に応じて任意に決定すればよいが、具体的には、長さが１０ｍ以上の範囲内とすることが好ましく、なかでも、５０ｍ〜５０００ｍの範囲内とすることが好ましく、特に、１００ｍ〜４０００ｍの範囲内とすることが好ましい。
また、長さは幅に対して１０倍以上であることが好ましく、なかでも５０倍〜５０００倍の範囲内であることが好ましく、特に、１００倍〜４０００倍の範囲内であることがこの好ましい。取扱い性等に優れたものとすることができるからである。

ｂ．配向層形成用層
本工程に用いられる長尺配向膜形成用フィルムを構成する配向層形成用層は、光配向材料を含むものであり、偏光紫外線の照射により屈折率異方性を有する棒状化合物を一定方向に配列させることができる配向規制力を有する配向領域を形成可能なものである。

ここで、本工程に用いられる光配向材料は、偏光紫外線照射により配向規制力を発現できる材料をさすものである。また、「配向規制力」とは、後述する棒状化合物を配列させる相互作用を意味するものとする。

このような光配向材料としては、偏光を照射することにより上記配向規制力を発現するものであれば特に限定されるものではない。このような光配向材料はシスートランス変化によって分子形状のみを変化させて配向規制力を可逆的に変化させる光異性化材料と、偏光を照射することにより分子そのものを変化させる光反応材料とに大別することができる。本工程においては上記光異性化材料、および、上記光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、光反応材料を用いることがより好ましい。上述したように光反応材料は、偏光が照射されることによって分子が反応して配向規制力を発現するものであるため、不可逆的に配向規制力を発現することが可能になる。したがって、光反応材料の方が配向規制力の経時安定性において優れるからである。

上記光反応材料は、偏光照射によって生じる反応の種類によってさらに分別することができる。具体的には、光二量化反応を生じることによって配向規制力を発現する光二量化型材料、光分解反応を生じることによって配向規制力を発現する光分解型材料、光結合反応を生じることによって配向規制力を発現する光結合型材料、および、光分解反応と光結合反応とを生じることによって配向規制力を発現する光分解−結合型材料等に分けることができる。本工程においては上記光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、なかでも、安定性および反応性（感度）等の観点から光二量化型材料を用いることがより好ましい。

本工程に用いられる光二量化型材料は、光二量化反応を生じることにより配向規制力を発現できる材料であれば特に限定されない。なかでも本工程においては光二量化反応を生じる光の波長が２８０ｎｍ以上であることが好ましく、特に２８０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内であることが好ましく、さらには３００ｎｍ〜３８０ｎｍの範囲内であることが好ましい。

このような光二量化型材料としては、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、または、シンナミリデン酢酸誘導体を有するポリマーを例示することができる。なかでも工程においてはシンナメート、または、クマリンの少なくとも一方を有するポリマー、シンナメートおよびクマリンを有するポリマーが好ましく用いられる。このような光二量化型材料の具体例としては、例えば特開平９−１１８７１７号公報、特表平１０−５０６４２０号公報、特表２００３−５０５５６１号公報、および、ＷＯ２０１０／１５０７４８号公報に記載された化合物を挙げることができる。

本工程における上記シンナメート、および、クマリンとしては、下記式Ｉａ、Ｉｂで表されるものが好適に用いられる。

上記式中、Ａは、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、２，５−チオフェニレン、２，５−フラニレン、１，４−もしくは２，６−ナフチレンを表すか、非置換であるか、フッ素、塩素または炭素原子１〜１８個の環式、直鎖状もしくは分岐鎖状アルキル残基（非置換であるか、フッ素、塩素によって一または多置換されており、１個以上の隣接しない−ＣＨ_２−基が独立して基Ｃによって置換されていてもよい）によって一または多置換されているフェニレンを表す。
上記式中、Ｂは、水素原子を表すか、第二の物質、たとえばポリマー、オリゴマー、モノマー、光活性ポリマー、光活性オリゴマーおよび／または光活性モノマーもしくは表面と反応または相互作用することができる基を表す。
上記式中、基Ｃは、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ_１−、−ＮＲ_１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ_１−、−ＮＲ_１−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ_１−、−ＮＲ_１−ＣＯ−ＮＲ_１−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（Ｒ_１は水素原子または低級アルキルを表す）から選択される基を表す。
上記式中、Ｓ_１およびＳ_２は、互いに独立して、単結合またはスペーサー単位、たとえば炭素原子１〜４０個の直鎖状もしくは分岐鎖状アルキレン基（非置換であるか、フッ素、塩素によって一または多置換されており、１個以上の隣接しない−ＣＨ_２−基が独立して基Ｄによって置換されていてもよいが、酸素原子が互いに直接的には結合していない）を表す。
上記式中、基Ｄは、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ_１−、−ＮＲ_１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ_１−、−ＮＲ_１−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ_１−、−ＮＲ_１−ＣＯ−ＮＲ_１−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（Ｒ_１は水素原子または低級アルキルを表す）から選択される基、芳香族基または脂環式基を表す。
上記式中、Ｑは、酸素原子または−ＮＲ_１−（Ｒ_１は水素原子または低級アルキルを表す）を表す。
上記式中、ＸおよびＹは、互いに独立して、水素、フッ素、塩素、シアノ、炭素原子１〜１２個のアルキル（場合によってはフッ素によって置換されており、場合によっては１個以上の隣接しないアルキル−ＣＨ_２−基が−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−および／または−ＣＨ＝ＣＨ−によって置換されている）を表す。
なお、このような光二量化型材料としては、具体的には、ＷＯ０８／０３１２４３号公報やＷＯ０８/１３０５５５号公報ではＲｏｌｉｃ社からＲＯＰ−１０３（商品名）として市販されているものを用いることができる。

また、本工程に用いられる光配向材料としては、屈折率異方性を有するものであっても良い。このような光配向材料を用いた場合には、工程を簡略化することができるからである。
なお、このような屈折率異方性を有する光配向材料としては、具体的には、特開２００２−８２２２４号公報に記載されるものを用いることができる。

なお、本工程に用いられる光配向材料は、１種類のみであってもよく、または、２種類以上を用いてもよい。

本工程に用いられる配向層形成用層は、少なくとも光配向材料を含むものであるが、必要に応じて他の化合物を含むものであっても良い。
このような他の化合物としては、本工程により形成される配向層の配向規制力を損なわないものであれば特に限定されない。本工程においては、このような他の化合物として、一つ以上の官能基を持つモノマー又はオリゴマーが好適に用いられる。このようなモノマー又はオリゴマーを含むことにより、本工程により形成される配向層上に屈折率異方性を有する棒状化合物を含む位相差層を形成した場合に、位相差層との密着性に優れたものにできるからである。

本工程に用いられる上記モノマー又はオリゴマーとしては、例えば、アクリレート系の官能基を有する単官能モノマー（例えば、反応性エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン）及び多官能モノマー（例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリエチレン（ポリプロピレン）グリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ポリ(メタ）アクリレート（例えば、イソシアヌル酸ＥＯジアクリレート等））や、ビスフェノールフルオレン誘導体（例えば、ビスフェノキシエタノールフルオレンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールフルオレンジエポキシ（メタ）アクリレート）等を単体もしくは混合したものとして用いることができる。

さらに、上記モノマー又はオリゴマーは、常温（２０〜２５℃）において固体であるものを用いることが好ましい。これにより、長尺配向膜形成用フィルムがロール巻きされた状態で保管される場合でも、透明フィルム基材の裏面に配向層形成用層が貼り付くことに起因するブロッキングが生じることを防止できるからである。

本工程におけるモノマー又はオリゴマーの含有量としては、本工程により形成される配向層の配向規制力を損なわず、かつ所望の密着性等を発揮できるものであれば特に限定されるものではないが、上記光配向材料の質量に対して０．０１倍〜３倍の範囲内が好ましく、特に０．０５倍〜１．５倍の範囲内であることが好ましい。

本工程における配向層形成用層の厚みは、後述する屈折率異方性を有する棒状化合物に対して所望の配向規制力を発現できる範囲内であれば特に限定されるものではないが、通常、０．０１μｍ〜１．０μｍの範囲内であることが好ましく、なかでも０．０３μｍ〜０．５μｍの範囲内であることが好ましく、特に０．０５μｍ〜０．２０μｍの範囲内であることが好ましい。

本工程に用いられる配向層形成用層の形成方法としては、光配向材料を含む配向層形成用層を所望の厚みで形成することができる方法であれば特に限定されるものではなく、上記光配向材料を含む配向層形成用塗工液を透明フィルム基材上に塗工する方法を挙げることができる。

このような配向層形成用塗工液に含まれる光配向材料の含有量としては、塗布方式等に応じて、上記配向層形成用塗工液を所望の粘度にできる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本工程においては、配向層形成用塗工液中の上記光配向材料の含有量が、０．５質量％〜５０質量％、好ましくは１質量％〜３０質量％、より好ましくは２質量％〜２０質量％の範囲内であることが好ましい。光配向材料の含有量が上記範囲よりも多いと、塗布方式によっては、平面性に優れた配向層形成用層を形成することが困難となる場合があり、また、上記範囲よりも薄いと、溶媒の乾燥負荷が増加するため、塗布速度を所望の範囲にできない可能性があるからである。

本工程における配向層形成用塗工液に用いられる溶媒としては、光配向材料等を所望の濃度に溶解できるものであれば特に限定されるものでなく、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、およびプロパノール等のアルコール系溶媒を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、本工程に用いられる溶媒は、１種類でもよく、２種類以上の溶媒の混合溶媒でもよい。

本工程における配向層形成用塗工液の塗布方法としては、所望の平面性を達成できる方法であれば、特に限定されるものではない。具体的な塗布方式としては、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、Ｅ型塗布方法などを例示することができる。

上記配向層形成用塗工液の塗膜の厚みについても、所望の平面性を達成できる範囲内であれば特に限定されるものではないが、通常、０．１μｍ〜５０μｍの範囲内が好ましく、特に０．５μｍ〜３０μｍの範囲内が好ましく、中でも０．５μｍ〜１０μｍの範囲内が好ましい。

上記配向層形成用塗工液の塗膜の乾燥方法は、加熱乾燥方法、減圧乾燥方法、ギャップ乾燥方法等、一般的に用いられる乾燥方法を用いることができる。また、本工程における乾燥方法は、単一の方法に限られず、例えば残留する溶媒量に応じて順次乾燥方式を変化させる等の態様により、複数の乾燥方式を採用してもよい。
さらに、上記配向層形成用塗工液の塗膜の乾燥方法としては、一定の温度に調整された乾燥風を、上記塗膜に当てる方法を用いることもできるが、このようは乾燥方法を用いる場合は、上記塗膜に当てる乾燥風の風速が３ｍ／秒以下であることが好ましく、特に０．５ｍ／秒以下であることが好ましい。

ｃ．長尺配向膜形成用フィルム
本工程に用いられる長尺配向膜形成用フィルムは、上記透明フィルム基材および配向層形成用層を少なくとも含むものであるが、必要に応じて、透明フィルム基材および配向層形成用層の間の密着性向上や、透明フィルム基材から可塑剤等の成分が配向層形成用層に移行したり、配向層形成用層に含まれる光配向材料が透明フィルム基材へ移行することを防止するバリア性向上を図るため、中間層（例えばペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）等の架橋性モノマーを硬化させた厚み１μｍ程度の層）を有するものであっても良い。
また、透明フィルム基材の配向層形成用層が形成される面とは反対面上に反射防止層および／またはアンチグレア層が形成されていることが好ましい。これにより本発明の製造方法により得られたパターン位相差フィルムを用いて表示装置を製造した際に、表示品質の良い表示装置を得ることができるからである。

上記アンチグレア層は、太陽や蛍光灯などからの外光が、表示装置の表示画面に入射して反射することから生じる画面の映り込みを低減させる機能を有する層である。一方、上記反射防止層は、表面の正反射率を抑えることで画像のコントラストがよくなり、その結果、画像の視認性を向上させる機能を有するものである。本工程に用いられるアンチグレア層、反射防止層としては、所望のアンチグレア機能、または反射防止機能を有するものであれば特に限定されるものではなく、表示画質向上を目的として表示装置に用いられるものとして一般的に公知のものを用いることができる。上記アンチグレア層としては、例えば、微粒子を分散させた樹脂層を挙げることができ、上記反射防止層としては、例えば、屈折率の異なる複数の層が積層された構成を有するものを挙げることができる。尚、アンチグレア層の最表面に反射防止層を設ければ、明室における画像の視認性を更に向上することができる。

また、本工程においては、上記透明フィルム基材の配向層形成用層が形成される面とは反対面上に透明フィルム基材の吸湿膨張を抑制するバリア層を有するものであることが好ましい。上記透明フィルム基材の急激な吸湿膨張による寸法変化を抑制することができるからである。
このようなバリア層としては、透明フィルム基材の吸湿膨張を抑制できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、酸化アルミニウム、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化インジウム、酸化錫、ＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ ｔｉｎ ｏｘｉｄｅ）、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ等の無機材料単層、または架橋性アクリレート材料を主成分とする有機層単層、あるいはこれらを２層以上積層した複合膜を挙げることができる。また、上記射防止層、アンチグレア層等をバリア層として用いることもできる。

（３）露光工程
本工程は、長尺配向膜形成用フィルムを連続的に搬送しつつ、上記配向層形成用層に偏光紫外線を照射する第１露光処理および第２露光処理を有するものである。
また、上記第１露光処理および第２露光処理で照射される偏光紫外線の偏光方向が異なるものであり、上記第１露光処理および第２露光処理の少なくともいずれか一方が、上記配向層形成用層に偏光紫外線をマスクを介してパターン照射するものである。

本工程における長尺配向膜形成用フィルムの搬送方法としては、長尺配向膜形成用フィルムを連続的に搬送することができる方法であれば特に限定されるものではなく、一般的な搬送手段を用いる方法を用いることができる。具体的には、ロール状の長尺配向膜形成用フィルムを供給する巻き出し機および長尺配向膜形成用フィルムを巻き取る巻き取り機等を用いる方法、ベルトコンベア、搬送用ロール等を用いる方法を挙げることができる。また、エアの吐出と吸引とを行うことにより、長尺配向膜形成用フィルムを浮上させた状態で搬送する浮上式搬送台を用いる方法であっても良い。
また、搬送時の長尺配向膜形成用フィルムへのテンション付与の有無については、長尺配向膜形成用フィルムを安定的に連続搬送できる方法であれば特に限定されるものではないが、所定のテンションを加えた状態で搬送されることが好ましい。より安定的に連続搬送することができるからである。

本工程に用いられる搬送手段の色としては、長尺配向膜形成用フィルムに偏光紫外線が照射される部位に配置される場合には、長尺配向膜形成用フィルムを透過した偏光紫外線を反射しない色であることが好ましい。具体的には、黒色であることが好ましい。このような黒色とする方法としては、例えば、表面をクロム処理する方法を挙げることができる。

本発明における搬送用ロールの形状としては、安定的に長尺配向膜形成用フィルムを搬送することができるものであれば特に限定されるものではないが、長尺配向膜形成用フィルムに偏光紫外線が照射される部位に配置される場合には、長尺配向膜形成用フィルムの配向層形成用層表面と、露光手段との距離を一定に保つことができるものであることが好ましく、通常、真円形状であることが好ましい。

本工程における第１露光処理および第２露光処理で照射される偏光紫外線の偏光方向としては、両処理で異なるものであれば良く、棒状化合物を配列させる方向が異なる第１および第２配向領域を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、９０°異なるものであることが好ましい。棒状化合物を配列させる方向が直交するような配向規制力を有する第１および第２配向領域を形成すること、すなわち、上記第１位相差領域と上記第２位相差領域とでは屈折率の最も大きくなる方向（遅相軸方向）が互いに直交する関係とすることができることから、３次元表示が可能な表示装置を製造するためにより好適に用いられるものにできるからである。
なお、９０°異なる方向とは、本発明の製造方法により製造されるパターン位相差フィルムを用いて３次元表示が可能な表示装置を形成した際に、精度良く３次元表示を行うことができるものであれば特に限定されるものではないが、通常、９０°±３°の範囲内であることが好ましく、なかでも、９０°±２°程度の範囲内であることが好ましく、なかでも、９０°±１°程度の範囲内であることが好ましい。高性能な３次元表示が可能な表示装置とすることができるからである。
なお、このような偏光方向が９０°異なる方向偏光紫外線を照射して形成された配向領域における棒状化合物を配列させる方向としては、図４中に例示するように、長尺配向膜形成用フィルムの長尺方向に対して、９０°（第１配向領域２ａ）および０°（第１配向領域２ｂ）の方向や、図５に例示するように、長尺方向に対して、４５°（第１配向領域２ａ）および１３５°（第１配向領域２ｂ）の方向であることが好ましい。９０°および０°の方向であることにより、例えば、ＴＮ方式の３次元液晶表示装置に用いられるものとすることが容易だからである。また、４５°および１３５°の方向であることにより、例えば、ＶＡ方式やＩＰＳ方式の３次元液晶表示装置に用いられるものとすることが容易だからである。
なお、図４〜図５中の符号については、図１と同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。また、各配向領域における矢印の方向が、それぞれの領域での棒状化合物を配列させる方向である。

本工程において照射される偏光紫外線としては、集光されていても良いし、集光されていないものであっても良いが、上記パターン照射が、後述するような、搬送用ロール上の長尺配向膜形成用フィルムに対して行われるような場合、すなわち、偏光紫外線が照射される領域内で、偏光紫外線の光源からの距離の差が生じる場合には、搬送方向に対して集光されていることが好ましい。光源からの距離による影響を低減し、パターン精度良く配向領域を形成することができるからである。
なお、このような集光方法としては、一般的に用いられる方法、例えば、所望の形状を有する集光リフレクターや集光レンズを用いる方法を挙げることができる。本発明においては、偏光紫外線が搬送方向と直交する方向（幅方向）に対して平行光となるものであることが好ましく、平行化方法としては一般的に用いられる方法、例えば、所望の形状を有する集光リフレクターや集光レンズを用いる方法を挙げることができる。

本工程において照射される偏光紫外線の波長としては、光配向材料等に応じて適宜設定されるものであり、一般的な光配向材料に配向規制力を発現させる際に用いられる波長とすることができ、具体的には、波長が２１０ｎｍ〜３８０ｎｍ、好ましくは２３０ｎｍ〜３８０ｎｍ、さらに好ましくは２５０ｎｍ〜３８０ｎｍの照射光を用いることが好ましい。

このような紫外線の光源としては、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、ショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）などが例示できる。中でも、メタルハライドランプ、キセノンランプ、高圧水銀ランプ灯等を好ましく用いることができる。

本工程において照射される偏光紫外線の生成方法としては、偏光紫外線を安定的に照射できる方法であれば特に限定されるものではないが、一定方向の偏光のみが通過できる偏光子を介して紫外線照射する方法を用いることができる。
このような偏光子としては、偏光光の生成に一般的に用いられるものを使用することができ、例えば、スリット状の開口部を有するワイヤーグリッド型偏光子や、石英板を複数枚積層してブリュースター角を利用して偏光分離する方法や、屈折率の異なる蒸着多層膜のブリュースター角を利用して偏光分離する方法を用いるもの等を挙げることができる。

本工程において照射される偏光紫外線の照射量としては、所望の配向規制力を有する配向領域を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、波長３１０ｎｍである場合には、５ｍＪ／ｃｍ^２〜５００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることが好ましく、なかでも７ｍＪ／ｃｍ^２〜３００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることが好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ^２〜１００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることが好ましい。十分な配向規制力を有する配向領域を形成することができるからである。

本工程における偏光紫外線の照射距離、すなわち、偏光紫外線の照射を受ける長尺配向膜形成用フィルムの搬送方向の距離としては、各露光処理で上述の照射量とすることができるものであれば特に限定されるものではなく、ライン速度等に応じて適宜設定することができる。
本工程においては、照射距離が短い場合には、パターン精度の高いものとすることが容易となり、照射距離が長い場合には、ライン速度の速い場合でも十分な配向規制力を有する配向領域とすることができるといった利点がある。
なお、照射距離を長くする方法としては、各露光処理での偏光紫外線の照射回数を複数回としたり、搬送方向に照射面積を広くする方法を挙げることができる。

本工程における第１および第２露光処理での偏光紫外線の照射方法としては、少なくともいずれか一方が上記配向層形成用層に偏光紫外線をパターン照射するものであるものであり、棒状化合物を配列させる方向が異なる第１および第２配向領域を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、具体的には、第１露光処理が全面照射、第２露光処理がパターン照射（第１実施態様）、第１露光処理がパターン照射、第２露光照射が全面照射（第２実施態様）、第１露光処理がパターン照射、第２露光処理がパターン照射（第３実施態様）とすることができる。ここで、第１実施態様の場合には、配向層形成用層として、光異性化材料等の配向規制力を可逆的に変化することができる材料を含むものを用いることにより、第１配向領域および第２配向領域を形成することができる。具体的には、図６に例示するように、第１露光処理として全面照射し(図６(ａ))、次いで、第２露光処理として、第１露光処理とは偏光方向の異なる偏光紫外線をパターン照射することで（図６（ｂ））、第１配向領域および第２配向領域を形成することができる(図６(ｃ))。
また、第２実施態様の場合には、配向層形成用層として、光二量化型材料などの光反応性材料等のように配向規制力を可逆的に変化することができない材料を含むものを用いることにより、第１配向領域および第２配向領域を形成することができる。具体的には、図７に例示するように、第１露光処理としてパターン照射し(図７(ａ))、次いで、第２露光処理として、第１露光処理とは偏光方向の異なる偏光紫外線を全面照射することで（図７（ｂ））、第１配向領域および第２配向領域を形成することができる(図７(ｃ))。
さらに、第３実施態様の場合には、配向層形成用層として、配向規制力を可逆的に変化するまたは可逆的に変化することができない材料を用いることにより、第１配向領域および第２配向領域を形成することができる。具体的には、図８に例示するように、第１露光処理としてパターン照射し(図８(ａ))、次いで、第２露光処理として、第１露光処理とは偏光方向の異なる偏光紫外線を第１露光処理で照射した領域とは異なる領域にパターン照射することで（図８（ｂ））、第１配向領域および第２配向領域を形成することができる(図８(ｃ))。
なお、図６〜図８中の符号については、図１と同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。また、この例では、長手方向に互いに平行な帯状のパターンに偏光紫外線を照射するものである。

本工程においては、なかでも、第１露光処理および第２露光処理の一方がパターン照射であり、他方が全面照射であることが好ましく、特に第２実施態様、すなわち、第１露光処理がパターン照射、第２露光処理が全面照射であることが好ましい。他方が全面照射であることにより、露光工程を行う設備を簡便なものとすることが可能となり、互いに異なる方向に棒状化合物を配列させることができる第１配向領域および第２配向領域を容易かつ低コストで形成することができるからである。
さらに、第１露光処理および第２露光処理でパターン合わせの必要がないことから、パターン精度のよい第１および第２配向領域を容易に形成可能なものとすることができるからである。
また、第２実施態様の方法であることにより、配向層形成用層を構成する材料として、上述のように配向規制力の経時安定性において優れる光反応材料を用いることができるからである。

本工程におけるパターン照射を行う方法としては、パターン精度良く偏光紫外線を照射することができるものであれば特に限定されるものではないが、上記パターン照射が、上記長尺配向膜形成用フィルムを搬送する搬送手段上で行われること、すなわち、パターン照射が、搬送手段上の長尺配向膜形成用フィルムに対して行われるように、パターン照射を行う露光部および搬送手段が配置されることが好ましく、なかでも上記パターン照射を受ける部位の上記長尺配向膜形成用フィルムを搬送する搬送手段が、搬送用ロールであること、すなわち、上記パターン照射が、搬送用ロール上の長尺配向膜形成用フィルムに対して行われることが好ましい。光源と長尺配向膜形成用フィルムとの距離を安定的に一定に保つことが可能となり、互いに異なる方向に棒状化合物を配列させることができる第１配向領域および第２配向領域を精度良く形成できるからである。また、搬送用ロールを用いることにより、容易に光源と長尺配向膜形成用フィルムとの距離を安定的に一定に保つことが可能となるからである。

また、本工程におけるパターン照射を照射距離が長くなるように行う場合、具体的には、各露光処理での偏光紫外線の照射回数を複数回としたり、搬送方向に照射面積を広くしてパターン照射を行う場合のパターン照射を行う方法としては、各露光処理で形成されるパターン状の配向領域がパターン精度良く形成できる方法であれば特に限定されるものではないが、各露光処理で行われるパターン照射が同一の搬送手段上で行う方法であること、すなわち、同一の搬送手段上の長尺配向膜形成用フィルムに対して行われるように、各露光処理のパターン照射を行う露光手段および搬送手段が配置されることが好ましい。同一搬送手段上で行われることにより、搬送される長尺配向膜形成用フィルムが搬送中に幅方向に振動等することを防止でき、パターン精度良く偏光紫外線を照射することができるからである。
具体的には、パターン照射パターン照射の照射回数が複数回である場合には、各露光処理で行われる複数回パターン照射が同一の搬送手段上で行う方法であること、すなわち、上記パターン照射が、複数回パターン照射であり、各露光処理で行われる複数回パターン照射が同一の搬送手段上で行われるように露光手段および搬送手段を配置することが好ましい。各露光処理で行われる複数回のパターン照射が同一搬送手段上で行われることにより、複数回パターン照射に含まれるそれぞれのパターン照射間の上記長尺配向膜形成用フィルムに対するパターンの位置合わせが容易であり、第１配向領域および第２配向領域をパターン精度良く形成できるからである。また、１回のパターン照射では照射量が不足する場合でも、同一箇所に複数回照射することで、十分な照射量とすることができ、上記長尺配向膜形成用フィルムを高速で搬送することが可能となるからである。
図９は、第１露光処理が複数台の第１露光部３２ａから複数回パターン照射を行う場合に、複数回パターン照射が同一搬送手段上で行われる例を示す説明図である。
なお、図９中の符号については、図１と同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。

また、上記第１露光処理および第２露光処理の両処理がパターン照射（第３実施態様）である場合のパターン照射を行う方法としては、両処理のパターン処理が異なる搬送手段上で行われるものであっても良いが、両処理のパターン照射が同一の搬送手段上で行われること、すなわち、第１露光処理尾および第２露光処理を行う第１露光部および第２露光部が同一搬送手段上の長尺配向膜形成用フィルムに対して行われるように露光手段および搬送手段配置されることが好ましい。パターン照射が同一搬送手段上で行われることにより、上記第１および第２露光処理間の上記長尺配向膜形成用フィルムに対するパターンの位置合わせが容易であり、第１配向領域および第２配向領域をパターン精度良く形成できるからである。
図１０は、第１露光処理および第２露光処理がそれぞれ第１露光部３２ａおよび第２露光部３２ｂから偏光紫外線をパターン状に照射するパターン照射であり、両処理のパターン照射が同一搬送手段上で行われる例を示す説明図である。
なお、図１０中の符号については、図１と同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。

本工程においては、第３実施態様のように第１露光処理および第２露光処理の両者がパターン照射である場合には、第１露光処理および第２露光処理のパターン照射のパターンが、第１および第２配向領域の間に、偏光紫外線が照射されない領域（非照射領域）を有するものであっても良い。
図１１は、非照射領域を形成する場合の一例を示す工程図である。図１１に例示するように、第１露光処理および第２露光処理の両処理で偏光紫外線の照射が遮断されるような遮光部を有するマスクを用いることにより（図１１（ａ）〜（ｂ））、図１１（ｃ）に示すように、非照射領域２ｃを形成することができる。
なお、図１１中の符号については、図１と同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。

本工程における全面照射を行う方法としては、偏光紫外線を所定の範囲に安定的に照射することができるものであれば特に限定されるものではないが、上記全面照射が、搬送手段間の上記長尺配向膜形成用フィルムに対して行われることが好ましく、なかでも上記全面照射が搬送用ロール間に位置する長尺配向膜形成用フィルムに対して行われることが好ましい。低コスト化を図ることができるからである。また、露光工程を行うタイミングの自由度を高いものとすることができるからである。

本工程において配向層形成用層に偏光紫外線を照射する際には、配向層形成用層の温度が一定となるように温度調節することが好ましい。配向領域を精度良く形成することができるからである。
本工程においては、なかでも、配向層形成用層が１５℃〜９０℃の範囲内とするように温度調節することが好ましく、なかでも、１５℃〜６０℃の範囲内とすることが好ましい。
また、温度調節の方法としては、一般的な加熱・冷却装置等の温度調節装置を用いる方法を挙げることができる。具体的には所定の温度の空気を送風することができる送風装置を用いる方法や、上記搬送手段として、温度調節可能なものを用いる方法、より具体的には、温度調節可能な搬送用ロールやベルトコンベア等を用いる方法を挙げることができる。

（４）配向層
本工程により形成される配向層は、上記光配向材料を含み、屈折率異方性を有する棒状化合物を一定の方向に配列させる第１配向領域および前記棒状化合物を前記第１配向領域とは異なる方向に配列させる第２配向領域を含むものである。

２．塗布工程
本発明における塗布工程は、上記配向層上に、上記棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液を塗布する工程である。

本工程に用いられる位相差層形成用塗工液に含まれる棒状化合物としては、屈折率異方性を有するものであり、配向領域の配向規制力に沿って規則的に配列することにより本工程における位相差層に所望の位相差性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。なかでも本工程に用いられる棒状化合物は、液晶性を示す液晶性材料であることが好ましい。液晶性材料は屈折率異方性が大きいため、本発明の製造方法により製造されるパターン位相差フィルムに所望の位相差性を付与することが容易になるからである。

本工程に用いられる上記液晶性材料としては、例えば、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を示す材料を挙げることができる。本工程においては、これらのいずれの液晶相を示す材料であっても好適に用いることができるが、なかでもネマチック相を示す液晶性材料を用いることが好ましい。ネマチック相を示す液晶性材料は、他の液晶相を示す液晶性材料と比較して規則的に配列させることが容易であるからである。

また、本工程においては上記ネマチック相を示す液晶性材料として、メソゲン両端にスペーサを有する材料を用いることが好ましい。メソゲン両端にスペーサを有する液晶性材料は柔軟性に優れるため、このような液晶性材料を用いることにより、本発明の製造方法により製造されるパターン位相差フィルムを透明性に優れたものにできるからである。

さらに、本工程に用いられる棒状化合物は、分子内に重合性官能基を有するものが好適に用いられ、なかでも３次元架橋可能な重合性官能基を有するものがより好適に用いられる。上記棒状化合物が重合性官能基を有することにより、上記棒状化合物を重合して固定することが可能になるため、配列安定性に優れ、位相差性の経時変化が生じにくい位相差層を得ることができるからである。なお、重合性官能基を有する棒状化合物を用いた場合、本工程を行うことにより形成される位相差層には、重合性官能基によって架橋された棒状化合物が含有されることになる。

なお、上記「３次元架橋」とは、液晶性分子を互いに３次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることを意味する。

上記重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、或いは熱の作用によって重合する重合性官能基を挙げることができる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、或いはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基（アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称）等が挙げられる。また、上記カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和３重結合等が挙げられる。これらの中でもプロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。

さらにまた、本工程における棒状化合物は液晶性を示す液晶性材料であって、末端に上記重合性官能基を有するものが特に好ましい。このような棒状化合物を用いることにより、例えば、互いに３次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることができるため、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた上記を形成することができるからである。
なお、本工程においては片末端に重合性官能基を有する液晶性材料を用いた場合であっても、他の分子と架橋して配列安定化することができる。

本工程に用いられる棒状化合物の具体例としては、下記式（１）〜（１７）で表される化合物を例示することができる。

なお、本工程において上記棒状化合物は、１種類のみを用いてもよく、または、２種以上を混合して用いてもよい。例えば、上記棒状化合物として、両末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶性材料と、片末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶性材料とを混合して用いると、両者の配合比の調整により重合密度（架橋密度）及び光学特性を任意に調整できる点から好ましい。また、信頼性確保の観点からは、両末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶性材料が好ましいが、液晶配向の観点からは両末端の重合性官能基が１つであることが好ましい。

本工程に用いられる棒状化合物の位相差層形成用塗工液中の含有量としては、配向層上に塗布する塗布方法に応じて、位相差層形成用塗工液の粘度を所望の値にできるものであれば特に限定されない。なかでも本工程においては、上記位相差層形成用塗工液中、５質量％〜４０質量％の範囲内であることが好ましく、なかでも、１０質量％〜３０質量％の範囲内であることが好ましい。

本工程に用いられる位相差層形成用塗工液としては、上記棒状化合物を少なくとも含むものであるが、通常、溶媒を含むものである。また、必要に応じて他の化合物を含むものであっても良い。
このような溶媒としては、上記棒状化合物を均一に溶解または分散できるものであれば特に限定されるものではないが、具体的には配向層形成用塗工液に用いられる溶媒と同様とすることができる。
また、他の化合物としては、本工程により形成される位相差層において、棒状化合物の配列秩序を害するものでなければ特に限定されるものではない。本工程に用いられる上記他の化合物としては、例えば、重合開始剤、重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤、および、シランカップリング剤等を挙げることができる。
本工程においては、上記棒状化合物として上記重合性液晶材料を用いる場合は、上記他の化合物として重合開始剤または重合禁止剤を用いることが好ましい。

上記重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製Ｎ１７１７、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組み合わせ等を例示できる。本工程では、これらの光重合開始剤を１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

さらに、上記光重合開始剤を用いる場合には、光重合開始助剤を併用することができる。このような光重合開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の３級アミン類や、２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。

上記重合禁止剤としては、例えば、ジフェニルピクリルヒドラジド、トリ−ｐ−ニトロフェニルメチル，ｐ−ベンゾキノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ピクリン酸、塩化銅、メチルハイドロキノン、メトキノン、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン等の反応の重合禁止剤を用いることができるが、なかでも保存安定性の点からハイドロキノン系重合禁止剤が好ましく、メチルハイドロキノンを用いるのが特に好ましい。

また、本工程における位相差層形成用塗工液には、下記に示すような他の化合物を添加することができる。添加できる他の化合物としては、例えば、多価アルコールと１塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレート；ポリオール基と２個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族または脂環式エポキシ樹脂、アミノ基エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート等の光重合性化合物；アクリル基やメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物等が挙げられる。

本工程における位相差層形成用塗工液の塗布方法としては、配向層上に位相差層形成用塗工液からなる塗膜を安定的に形成できる方法であれば特に限定されるものではない。本工程において、配向層上への位相差層形成用塗工液の塗布方法としては、一般的な配向層形成用層と同様とすることができ、例えば、上記配向層形成用層と同様とすることができる。

本工程により形成される位相差層は上記棒状化合物が含有されることにより、位相差性を発現するものになっているところ、当該位相差性の程度は棒状化合物の種類および位相差層の厚みに依存して決定されるものである。
したがって、本工程において形成される位相差層の厚みは、所定の位相差性を達成できる範囲内とするものであれば特に限定されるものではなく、本発明の製造方法により製造されるパターン位相差フィルムの用途等に応じて適宜決定されるものである。
本工程においては、なかでも、位相差層の厚みが、位相差層の面内レターデーションがλ／４分に相当するような範囲内となるように塗布することが好ましい。これにより、本発明の製造方法により製造されるパターン位相差フィルムにおいては、上記第１位相差領域および上記第２位相差領域を通過する直線偏光がそれぞれ互いに直交関係にある円偏光にすることができるため、より精度良く３次元映像を表示できるものとすることができるからである。

本工程において、位相差層の厚みを位相差層の面内レターデーションがλ／４分に相当するような範囲内の距離にする場合、具体的にどの程度の距離にするかは、棒状化合物の種類により適宜決定されることになる。もっとも、当該距離は本工程において一般的に用いられる棒状化合物であれば、通常、０．５μｍ〜２μｍの範囲内となるがこれに限られるものではない。

３．配向工程
本発明における配向工程は、上記位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を、上記配向層に含まれる第１配向領域および第２配向領域の異なる配向方向に沿って、すなわち、第１配向領域および上記第１配向領域とは異なる方向に棒状化合物を配列させることができる第２配向領域の配向規制力に沿って配列させる工程である。
本工程における棒状化合物を配列させる方法としては、所望の方向に配列させることができる方法であれば特に限定されるものではなく、一般的な方法を用いることができるが、棒状化合物が液晶性材料である場合には、上記塗膜を棒状化合物の液晶相形成温度以上に加温する方法が用いられる。

本工程により形成される位相差層は、露光工程により上述したような特徴を有する配向層が形成されていることにより、第１位相差領域と第２位相差領域とが、上記第１配向領域および上記第２配向領域が形成されたパターンと同一のパターン状に形成されたものになる。
なお、本工程に形成される位相差層に第１位相差領域および第２位相差領域からなるパターンが形成されていることは、例えば、偏光板クロスニコルの中にサンプルを入れて、サンプルを回転させた場合に明線と暗線が反転することを確認することにより評価することができる。このとき、第１位相差領域および第２位相差領域からなるパターンが細かい場合は偏光顕微鏡で観察するとよい。また、後述するＡｘｏＳｃａｎで各パターン内の遅相軸の方向（角度）を測定しても良い。

本工程により形成される位相差層の面内レターデーション値としては、具体的には、１００ｎｍ〜１６０ｎｍの範囲内であることが好ましく、１１０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内であることがより好ましく、１２０ｎｍ〜１４０ｎｍの範囲内であることがさらに好ましい。なお、本工程により形成される位相差層において第１位相差領域および第２位相差領域が示す面内レターデーション値は、遅相軸の方向が異なる以外はほぼ同一となる。

ここで、面内レターデーション値とは、屈折率異方体の面内方向における複屈折性の程度を示す指標であり、面内方向において屈折率が最も大きい遅相軸方向の屈折率をＮｘ、遅相軸方向に直交する進相軸方向の屈折率をＮｙ、屈折率異方体の面内方向に垂直な方向の厚みをｄとした場合に、
Ｒｅ［ｎｍ］＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ［ｎｍ］
で表わされる値である。面内レターデーション値（Ｒｅ値）は、例えば、王子計測機器株式会社製 ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用い、平行ニコル回転法により測定することができるし、微小領域の面内レタデーション値はＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社（米国）製のＡｘｏＳｃａｎでミューラーマトリクスを使って測定することも出来る。また、本願明細書においては特に別段の記載をしない限り、Ｒｅ値は波長５８９ｎｍにおける値を意味するものとする。

４．乾燥工程
本発明における乾燥工程は、上記塗膜を乾燥させ、位相差層を形成する工程である。

上記乾燥工程における塗膜の乾燥方法としては、加熱乾燥方法、減圧乾燥方法、ギャップ乾燥方法等、一般的に用いられる乾燥方法を用いることができる。また、本工程における乾燥方法は、単一の方法に限られず、例えば残留する溶媒量に応じて順次乾燥方式を変化させる等の態様により、複数の乾燥方式を採用してもよい。
さらに、上記塗膜の乾燥方法としては、一定の温度に調整された乾燥風を、上記塗膜に当てる方法を用いることもできるが、このようは乾燥方法を用いる場合は、上記塗膜に当てる乾燥風の風速が３ｍ／秒以下であることが好ましく、特に０．５ｍ／秒以下であることが好ましい。

また、温度条件としては、４０℃〜１５０℃の範囲内であることが好ましく、中でも、５０℃〜１２０℃の範囲内であることが好ましく、特に、５５℃〜１０５℃の範囲内であることが好ましい。
また、湿度条件としては、フィルムに吹き付けられるために加熱される前の状態において、２３±３℃の温度範囲で５０±１０％ＲＨの範囲に制御されていることが好ましい。
また、乾燥時間としては、０．２分〜３０分の範囲内であることが好ましく、中でも０．５分〜２０分の範囲内であることが好ましく、特に、1分〜10分の範囲内であることが好ましい。上述の温度・時間の条件であることにより、安定的に溶媒を除去することができるからである。

本工程の実施タイミングとしては、上記配向工程後に行われるものであっても良く、上記配向工程と同時に行われるものであっても良い。

本工程により形成される位相差層は、上記棒状化合物を含み、かつ、上記配向層が有する第１配向領域および第２配向領域が有する配向規制力に沿って棒状化合物を配列された第１位相差領域および第２位相差領域を有するものである。

本工程においては、上記棒状化合物として重合性液晶材料を用いる場合、上記重合性液晶材料を重合し硬化させる硬化処理を含むものであっても良い。なお、上記重合性液晶材料を重合させる方法としては、上記重合性液晶材料が有する重合性官能基の種類に応じて任意に決定すればよい。なかでも本工程においては、活性放射線の照射により硬化させる方法が好ましい。活性放射線としては、重合性液晶材料を重合することが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は装置の容易性等の観点から紫外光または可視光を使用することが好ましく、具体的には、上記「１．露光工程」の「（３）露光工程」の項に記載の紫外線と同様とすることができる。このような硬化処理を経ることにより、互いに重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることができるため、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた上記を形成することができるからである。
なお、上記硬化処理を実施するタイミングとしては、上記配向工程後であれば特に限定されるものではなく、上記配向工程後または乾燥工程後に行うことができる。

５．保護工程
本発明における保護工程は、上記乾燥工程後の透明フィルム基材が安定収縮状態時に、上記位相差層を保護フィルムで覆う工程である。

本工程においては、上記位相差層を少なくとも覆うものであれば良いが、必要に応じて、透明フィルム基材の位相差層が形成された面の反対側の表面も保護フィルムで覆うものであっても良い。

本工程に用いられる保護フィルムとしては、上記位相差層および位相差層が形成された透明フィルム基材が吸湿することを防ぐことができるものであれば特に限定されるものではなく、位相差フィルムの製造に一般的に用いられるものを使用することができる。
具体的には、ポリハロゲン化ビニル樹脂、エチレンビニル共重合体、酢酸ビニル樹脂、セルロース誘導体を含む樹脂、シクロオレフィン系樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エチレンビニルアセテート樹脂、ポリテレフタル酸エチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂を挙げることができ、なかでも、ポリエチレンテレフタレートを好ましく用いることができる。上記位相差層および位相差層が形成された透明フィルム基材の吸湿を安定的に保護することができるからである。

本工程における上記位相差層を保護フィルムで覆う方法としては、上記位相差層および位相差層が形成された透明フィルム基材を吸湿から安定的に保護できるように覆う方法であれば特に限定されるものではないが、上記位相差層上に、直接または接着剤層を介して保護フィルムを積層する方法や、位相差層を含み、ロール状に巻き取られたパターン位相差フィルム全体を覆う方法等を挙げることができる。

本工程において、透明フィルム基材が安定収縮状態時に、上記位相差層を保護フィルムで覆う方法としては、乾燥工程直後から安定収縮状態となるまでに要する時間（安定化時間）を予め測定しておく方法を用いることができる。
このような安定化時間としては、各工程の条件、本工程を行う環境、パターン位相差フィルムの構成等により異なるものであるが、本工程においては、乾燥工程直後から、０．１分〜２４時間の範囲内であることが好ましく、中でも、０．５分〜２時間の範囲内であることが好ましく、特に１分〜１２分の範囲内であることが好ましい。上記安定収縮状態に安定的に達することができ、また、工程通過性に優れたものとすることができるからである。

６．パターン位相差フィルムの製造方法
本発明のパターン位相差フィルムの製造方法は、上記露光工程、塗布工程、配向工程、乾燥工程および保護工程を少なくとも有するものであるが、配向層形成用層２´を有する長尺配向膜形成用フィルムを準備するために、図１２に例示するような透明フィルム基材上に配向層形成用塗工液を塗布し塗膜を形成する配向層形成用塗工液塗布工程（図１２（ａ））、塗膜２´´を乾燥し、配向層形成用層を形成する配向層形成用層乾燥工程（図１２（ｂ））や、透明フィルム基材の配向層形成用層２´が形成される面と反対の面上に反射防止層および／またはアンチグレア層５等を含むバリア層を形成するバリア層形成工程(図１２（ｃ）〜（ｄ）)や、配向工程後に、長尺状のパターン位相差フィルムを裁断し、枚葉に成形されたパターン位相差フィルムとして得るための裁断工程を有するものであっても良い。
なお、配向層形成用塗工液塗布工程および配向層形成用層乾燥工程を行うタイミングとしては、露光工程前に行われるものであれば特に限定されるものではない。また、バリア層形成工程を行うタイミングとしては、安定的にバリア層を形成できるものであれば特に限定されるものではなく、保護工程と同様のタイミングであっても良いが、露光工程前、特に配向層塗布工程前であることが好ましい。透明フィルム基材を寸法安定性に優れたものとすることができるからである。なお、このようなバリア層形成工程については、1回のみ行われるものであっても良いが、例えば、露光工程前にバリア層として反射防止層および／またはアンチグレア層を形成し、乾燥工程後に、上記反射防止層および／またはアンチグレア層上に、別途、他のバリア層を形成する等、複数回行われるものであっても良い。
なお、図１２中の符号については、図１と同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。

本発明においては、これらの各工程が独立して行われるもの、すなわち、工程毎に長尺状の透明フィルム基材を含むフィルムをロール状に巻き取られた状態から巻き出し、所定の処理を行った後に巻き取るものであっても良いが、全工程が連続して行われること、すなわち、原材料からロールトゥロールにて行われることが好ましい。
具体的には、上述のパターン位相差フィルムの製造方法により製造されるパターン位相差フィルムが長尺状である場合には、長尺配向膜形成用フィルムから最終製造物であるパターン位相差フィルムが途中ロール状に巻き取られることなくロールトゥロールで製造されることが好ましい。

７．パターン位相差フィルム
本発明の製造方法により製造されるパターン位相差フィルムは、透明フィルム基材、配向層および位相差層を有するものであり、上記配向層は、屈折率異方性を有する棒状化合物を一定の方向に配列させる第１配向領域および上記棒状化合物を上記第１配向領域とは異なる方向に配列させる第２配向領域を含むものであり、上記位相差層は、上記配向層が有する第１配向領域および第２配向領域が有する配向規制力に沿って棒状化合物を配列された第１位相差領域および第２位相差領域を有するものである。
本発明により製造されるパターン位相差フィルムの用途としては、３次元表示用の表示装置に用いることができ、なかでも、容易かつ大量に製造することが要求される３次元表示用の表示装置に好適に用いられる。

Ｂ．マスク
次に、本発明のマスクについて説明する。
本発明のマスクは、上述のパターン位相差フィルムの製造方法のパターン照射に用いられ、上記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されていることを特徴とするものである。

このような本発明のマスクとしては、具体的には、既に説明した図１に示すものを挙げることができる。

本発明によれば、上記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されていることにより、パターン精度に優れたパターン位相差フィルムを容易に形成することができる。

なお、本発明のマスクは、上記「Ａ．パターン位相差フィルムの製造方法」の項に記載の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。

また、本発明のマスクが、上記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されているか否かの判断方法としては、製造されたパターン位相差フィルムのパターンと比較して、マスクのパターンのサイズが大きいか否かを確認する方法を挙げることができる。

Ｃ．パターン位相差フィルム
次に、本発明のパターン位相差フィルムについて説明する。
本発明のパターン位相差フィルムは、上述のパターン位相差フィルムの製造方法により製造され、透明フィルム基材が安定収縮状態であることを特徴とするものである。

このような本発明のパターン位相差フィルムとしては、具体的には、既に説明した図２に示すものとすることができる。

本発明によれば、上記透明フィルム基材が安定収縮状態であることにより、寸法安定性に優れたものとすることができる。このため、３次元表示装置の組み立てを容易なものとすることができる。

本発明のパターン位相差フィルムは、上述のパターン位相差フィルムの製造方法により製造されるものであり、少なくとも、透明フィルム基材、配向層および位相差層を含むものである。このような各構成については、上記「Ａ．パターン位相差フィルムの製造方法」の項に記載の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。

また、上記透明フィルム基材が安定収縮状態であるか否かについては、本発明のパターン位相差フィルムから保護フィルム、配向層、位相差層等の透明フィルム基材以外の構成を全て剥離することで透明フィルム基材を取出して、飽和膨張状態とした際に、透明フィルム基材の幅方向への伸びがあるか否かにより確認することができる。
より詳細には、上記「Ａ．パターン位相差フィルムの製造方法」の項に記載した膨張率を測定することにより確認することができる。

本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。

以下、実施例および比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。

[比較例]
厚み８０μｍのＴＡＣ（セルローストリアセテート）フィルム（富士フィルム株式会社製フジタック）に透明な微粒子を透明な樹脂に分散させてコーティングしたヘーズ値が１０〜１５のＡＧ（アンチグレア）フィルム（大日本印刷株式会社製）を、幅１ｍ長さ２０００ｍのロール状原反として準備した。光配向材料として光二量化反応型の光配向材料（商品名：ＲＯＰ-１０３、ロリック社製）を含む配向層形成用塗工液を上記ＡＧ面とは反対側に塗布・乾燥し、厚み０．１μｍの配向層形成用層を成膜した。更に、図３の装置を用いて、原反から連続してフィルムを供給しながら、ワイヤーグリッドを通した偏光紫外線（偏光軸がフィルムの搬送方向に対して４５度の方向）を原反の搬送方向と平行な方向に延在する幅５００μｍの開口パターンをラインアンドスペース＝１：１で７８１本形成した合成石英クロムマスクを介して照射した。この場合、マスク上のストライプパターンの一方の端の開口中心と他方の端の開口中心間の距離、すなわちトータルピッチは７８０ｍｍである。次に、マスクを通さないでワイヤーグリッドを通して偏光紫外線（偏光軸がフィルムの搬送方向に対して-４５度の方向）を照射して、配向層を有する長尺パターン配向膜を得た。

上記パタニングされた長尺パターン配向膜の配向層上に、溶媒に溶かした液晶（メルク株式会社製 ｌｉｃｒｉｖｕｅ(商標登録) ＲＭＳ０３−０１３Ｃ（商品名））を塗布・乾燥（液晶配向）・室温近傍まで冷却して紫外線硬化させ位相差層の厚みが１μｍの長尺パターン位相差フィルムを形成した。保護フィルムは貼り付けなかった。

得られた長尺パターン位相差フィルムを巻き出してシート状にカットし、以下のようにしてフィルム上パターンのトータルピッチを測定した。

２３±１．５℃、５０±１０％ＲＨの環境下にあるソキア社製精密３次元座標測定機ＡＭＩＣ−１３００のガラスステージ表面に直線偏光板を敷き、その上にパターン位相差フィルムを載せ、さらにその上に２．８ｍｍ厚の透明なガラス板を積層してパターン位相差フィルムにしわやたるみが生じないようにした。また、カメラの対物レンズ表面に円偏光板を貼り付けた。このようにして、透過照明で観察することにより、モニター上でパターン位相差フィルムにマスクに対応した明暗の縞状パターンが形成されていることが確認できた。ひきつづき、シートにカットする前の元のロールにおいては色々な位置にあったシートをランダムに５枚抜き取り、パターンのトータルピッチを測定したところ、７７９．９８６５ｍｍ、７７９．９１２７ｍｍ、７７９．９９９０ｍｍ、７７９．６１４６ｍｍ、７８０．０１４３ｍｍであった。

[実施例]
位相差層を紫外線硬化した後に、位相差層表面に積層するように幅１ｍの保護フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み６０μｍ）を連続的にラミネートしてロール状に巻き取った以外は比較例と同様にしてパターン位相差フィルムを形成した。フィルムは連続的に等速で搬送されているので、パターン位相差フィルムが液晶層の乾燥工程を出て前記ポリエチレンテレフタレートフィルムがラミネートされるまでに経過する時間は７．５分であった。この後、比較例と同様にシート状にカットして、元のロールにおいては色々な位置にあったシートをランダムに５枚抜き取り、パターンのトータルピッチを測定したところ、７７９.５７８２ｍｍ、７７９.６０３７ｍｍ、７７９．６１１４ｍｍ、７７９．５５３８ｍｍ、７７９．５９１７ｍｍであった。
実施例および比較例より、比較例では保護フィルムを用いないことにより乾燥工程後に、吸湿により膨潤していることが確認できた。また、実施例では幅のばらつきが少ないことが確認できた。

１ … 透明フィルム基材
２´ … 配向層形成用層
２ … 配向層
２ａ … 第１配向領域
２ｂ … 第２配向領域
３ … 長尺配向膜形成用フィルム
４ … 位相差層
４ａ … 第１位相差領域
４ｂ … 第２位相差領域
５ … 反射防止層またはアンチグレア層
１０ … パターン位相差フィルム

Claims (3)

1. 透明フィルム基材、および前記透明フィルム基材上に形成され、光配向材料を含む配向層形成用層を有する長尺配向膜形成用フィルムを連続的に搬送しつつ、前記配向層形成用層に偏光紫外線を照射する第１露光処理および第２露光処理により、屈折率異方性を有する棒状化合物を一定の方向に配列させる第１配向領域および前記棒状化合物を前記第１配向領域とは異なる方向に配列させる第２配向領域を含む配向層を形成する露光工程と、
   前記配向層上に、前記棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液を塗布する塗布工程と、
   前記位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を、前記配向層に含まれる第１配向領域および第２配向領域の異なる配向方向に沿って配列させる配向工程と、
   前記塗膜を乾燥させ、配向層を形成する乾燥工程と、
   前記乾燥工程後の透明フィルム基材が前記露光工程時よりも収縮した安定収縮状態時に、前記位相差層を保護フィルムで覆う保護工程と、
   を有するパターン位相差フィルムの製造方法であって、
   前記第１露光処理および第２露光処理で照射される偏光紫外線の偏光方向が異なるものであり、前記第１露光処理および第２露光処理の少なくともいずれか一方が、前記配向層形成用層に偏光紫外線をマスクを介してパターン照射するものであり、
   前記パターン照射に用いる前記マスクが、前記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されていることを特徴とするパターン位相差フィルムの製造方法。
2. 請求項１に記載のパターン位相差フィルムの製造方法のパターン照射に用いられ、
   前記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されていることを特徴とするマスク。
3. 請求項１に記載のパターン位相差フィルムの製造方法により製造され、
   前記透明フィルム基材が安定収縮状態であることを特徴とするパターン位相差フィルム。