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JP2013098367A - Substrate conveyance stage, drawing device, and drawing method - Google Patents

Substrate conveyance stage, drawing device, and drawing method Download PDF

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JP2013098367A JP2011240060A JP2011240060A JP2013098367A JP 2013098367 A JP2013098367 A JP 2013098367A JP 2011240060 A JP2011240060 A JP 2011240060A JP 2011240060 A JP2011240060 A JP 2011240060A JP 2013098367 A JP2013098367 A JP 2013098367A
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JP
Japan
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axis
substrate
linear motor
main scanning
scanning axis
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Application number
JP2011240060A
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Japanese (ja)
Inventor
Takuji Tsutsui
匠司 筒井
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

【課題】作業位置精度の高い基板用搬送ステージ、それを備えた描画装置、および、それを用いた描画方法を提供する。
【解決手段】基板用搬送ステージ50は、ベース1と、主走査軸方向としてのY軸方向の走査を行なうY軸モーター5と、Y軸モーター5の可動子としてのY軸テーブル10に載置されY軸方向と交差する副走査軸方向としてのX軸方向の走査を行なうX軸モーター15と、X軸モーター15の可動子としてのX軸テーブル20に載置されY軸方向やX軸方向と直交する直交軸回りの回転を行なうθ軸回転式モーター25およびその可動子としての基板ステージ30と、Y軸テーブル10と基板ステージ30とをロックするロック手段としての摩擦ブレーキ部18とを備えている。
【選択図】図1
Provided are a substrate transfer stage with high work position accuracy, a drawing apparatus including the same, and a drawing method using the same.
A substrate transport stage is mounted on a base, a Y-axis motor that performs scanning in the Y-axis direction as the main scanning axis direction, and a Y-axis table that serves as a mover of the Y-axis motor. An X-axis motor 15 that performs scanning in the X-axis direction as a sub-scanning axis direction that intersects the Y-axis direction, and an X-axis table 20 as a mover of the X-axis motor 15 are mounted on the Y-axis direction and the X-axis direction. A rotary motor 25 that rotates about an orthogonal axis orthogonal to the substrate, a substrate stage 30 as a movable element thereof, and a friction brake unit 18 as a locking means for locking the Y-axis table 10 and the substrate stage 30. ing.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、基板用搬送ステージ、基板用搬送ステージを有する描画装置、および、それを用いた描画方法に関する。   The present invention relates to a substrate transfer stage, a drawing apparatus having a substrate transfer stage, and a drawing method using the drawing device.

従来より、作業対象物としての基板をX軸方向、Y軸方向、および、θ軸方向に搬送させて、基板に所望の作業を行なえるように構成された基板用搬送ステージが広く用いられている。例えば、基板用搬送ステージと、液状体(例えばインク)を吐出させる描画ヘッド(機能液滴吐出ヘッド)とを備え、基板用搬送ステージに載置した基板(ワーク)と描画ヘッドとを相対的に移動させながら、描画ヘッドから基板に液状体の液滴を吐出させて所定の描画を行なえるようにした描画装置(液滴吐出装置)が知られている(例えば特許文献1)。   2. Description of the Related Art Conventionally, a substrate transfer stage configured to perform a desired operation on a substrate by transporting a substrate as a work object in the X-axis direction, the Y-axis direction, and the θ-axis direction has been widely used. Yes. For example, a substrate transfer stage and a drawing head (functional droplet discharge head) for discharging a liquid material (for example, ink) are provided, and the substrate (work) placed on the substrate transfer stage and the drawing head are relatively 2. Description of the Related Art A drawing apparatus (droplet discharge apparatus) is known in which a liquid droplet is discharged from a drawing head onto a substrate while being moved to perform predetermined drawing (for example, Patent Document 1).

描画装置に用いる基板用搬送ステージは、例えば、ベースと、Y軸(主走査軸)方向の走査を行なうY軸リニアモーターと、X軸(副走査軸)方向の走査を行なうX軸リニアモーターと、Y軸方向やX軸方向と直交する直交軸回りの回転を行なうθ軸回転式モーターと、を具備している。そしてθ軸回転式モーターの可動子(例えば基板ステージ)上に載置した基板を所定の作業開始位置に搬送した後に、そのときの実際の基板位置と、基板の所望の作業開始位置との差を検知して補正量を計算して、所望の作業開始位置に位置補正を行なった後に、Y軸(主走査軸)リニアモーターにより基板をY軸(主走査軸)方向に走査させながら所定の描画作業を実施する。   The substrate transfer stage used in the drawing apparatus includes, for example, a base, a Y-axis linear motor that performs scanning in the Y-axis (main scanning axis) direction, and an X-axis linear motor that performs scanning in the X-axis (sub-scanning axis) direction. And a θ-axis rotary motor that rotates around an orthogonal axis orthogonal to the Y-axis direction and the X-axis direction. After the substrate placed on the mover (for example, substrate stage) of the θ-axis rotary motor is transported to a predetermined work start position, the difference between the actual substrate position at that time and the desired work start position of the substrate Is detected, the correction amount is calculated, the position is corrected to a desired work start position, and then the substrate is scanned in the Y-axis (main scanning axis) direction by a Y-axis (main scanning axis) linear motor. Perform drawing work.

特開2004−130299号公報JP 2004-130299 A

しかしながら、上記した従来の描画装置による描画方法では、作業開始位置補正を行なった後で、描画作業のための主走査方向の走査開始時の初期動作時に働く力により、副走査軸リニアモーターの可動子やθ軸回転式モーターの可動子に偏差が生じて、所望の位置に描画が行なえない虞があるという問題があった。   However, in the drawing method using the conventional drawing apparatus described above, after the work start position is corrected, the sub-scanning axis linear motor can be moved by the force that acts during the initial operation at the start of scanning in the main scanning direction for the drawing work. There is a problem that there is a possibility that drawing may not be performed at a desired position due to deviations in the child or the mover of the θ-axis rotary motor.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]本適用例に係る基板用搬送ステージは、ベースと、前記ベース上に載置され主走査軸方向の走査を行なう主走査軸リニアモーターと、前記主走査軸リニアモーターの可動子に載置され前記主走査軸方向と交差する副走査軸方向の走査を行なう副走査軸リニアモーターと、前記副走査軸リニアモーターの可動子に載置され前記主走査軸方向や前記副走査軸方向と直交する直交軸回りの回転を行なうθ軸回転式モーターおよびその可動子と、を具備し、前記θ軸回転式モーターの可動子上に載置した基板を前記副走査軸リニアモーターおよび前記θ軸回転式モーターにより所定の作業開始位置に位置合わせた後に、前記主走査軸リニアモーターにより前記基板を前記主走査軸方向に走査させながら所定の作業を実施する基板用搬送ステージであって、前記主走査軸リニアモーターの可動子と前記θ軸回転式モーターの可動子とをロックするロック手段を備えたことを特徴とする。   Application Example 1 A substrate transfer stage according to this application example includes a base, a main scanning axis linear motor that is placed on the base and performs scanning in the main scanning axis direction, and a mover of the main scanning axis linear motor. And a sub-scanning axis linear motor that performs scanning in the sub-scanning axis direction that intersects the main scanning axis direction, and a sub-scanning axis linear motor that is mounted on a movable element of the sub-scanning axis linear motor. A θ-axis rotary motor that rotates about an orthogonal axis that is orthogonal to the direction and a mover thereof, and a substrate placed on the mover of the θ-axis rotary motor is the sub-scanning axis linear motor and the mover After alignment with a predetermined work start position by a θ-axis rotary motor, a substrate transfer step for performing a predetermined work while scanning the substrate in the main scanning axis direction by the main scanning axis linear motor. A di, characterized by comprising locking means for locking the movable element of the main scanning axis linear motor mover and the θ-axis rotary motor.

本適用例によれば、作業対象物としての基板を所望の作業開始位置に位置補正した後で、主走査軸リニアモーターの可動子と、θ軸回転式モーターの可動子とをロック手段によりロックしてから、基板を主走査軸方向に走査させながら基板に所定の作業を行なうことができる。これにより、主走査軸方向への走査開始時に起こり得る副走査軸リニアモーターの可動子およびθ軸回転式モーターの可動子の位置偏差を防止して、所望の作業開始位置を保持しながら主走査軸方向に基板を走査させて所望の作業を行なうことができる。   According to this application example, after the position of the substrate as the work target is corrected to the desired work start position, the mover of the main scanning axis linear motor and the mover of the θ-axis rotary motor are locked by the locking means. Then, a predetermined operation can be performed on the substrate while scanning the substrate in the main scanning axis direction. This prevents the positional deviation of the mover of the sub-scanning axis linear motor and the mover of the θ-axis rotary motor that may occur at the start of scanning in the main scanning axis direction, and maintains the desired work start position while maintaining the main scan. A desired operation can be performed by scanning the substrate in the axial direction.

[適用例2]本適用例に係る描画装置は、ベースと、前記ベース上に載置され主走査軸方向の走査を行なう主走査軸リニアモーターと、前記主走査軸リニアモーターの可動子に載置され前記主走査軸方向と交差する副走査軸方向の走査を行なう副走査軸リニアモーターと、前記副走査軸リニアモーターの可動子に載置され前記主走査軸方向や前記副走査軸方向と直交する直交軸回りの回転を行なうθ軸回転式モーターおよびその可動子と、を具備し、前記θ軸回転式モーターの可動子上に描画媒体としての基板を載置する基板用搬送ステージと、前記基板に液状体を吐出させて描画を行なう描画ヘッド部と、を有し、前記θ軸回転式モーターの可動子上に載置した前記基板を前記副走査軸リニアモーターおよび前記θ軸回転式モーターにより所定の描画開始位置に位置合わせた後に、前記主走査軸リニアモーターにより前記基板を前記主走査軸方向に走査させながら前記描画ヘッド部から前記基板に前記液状体を吐出させて所定の描画を行なう描画装置であって、前記基板用搬送ステージが、前記主走査軸リニアモーターの可動子と前記θ軸回転式モーターの可動子とをロックするロック手段を備えたことを特徴とする。   Application Example 2 A drawing apparatus according to this application example is mounted on a base, a main scanning axis linear motor that is placed on the base and performs scanning in the main scanning axis direction, and a movable element of the main scanning axis linear motor. And a sub-scanning axis linear motor that performs scanning in the sub-scanning axis direction that intersects with the main scanning axis direction, and is mounted on a mover of the sub-scanning axis linear motor, and the main scanning axis direction and the sub-scanning axis direction A substrate transfer stage for mounting a substrate as a drawing medium on the mover of the θ-axis rotary motor, and a θ-axis rotary motor that rotates around an orthogonal axis that is orthogonal to the mover; A drawing head unit that performs drawing by discharging a liquid material onto the substrate, and the substrate placed on the mover of the θ-axis rotary motor is the sub-scanning axis linear motor and the θ-axis rotary type By motor After the alignment to the drawing start position, the drawing is performed by discharging the liquid material from the drawing head unit to the substrate while scanning the substrate in the main scanning axis direction by the main scanning axis linear motor. In the apparatus, the substrate transfer stage includes a lock unit that locks the mover of the main scanning axis linear motor and the mover of the θ-axis rotary motor.

本適用例によれば、描画媒体としての基板を所望の作業開始位置(描画開始位置)に位置補正した後で、主走査軸リニアモーターの可動子とθ軸回転式モーターの可動子とをロック手段によりロックしてから、主走査軸リニアモーターにより基板を主走査軸方向に走査させながら描画を行なうことができる。これにより、主走査軸方向への走査開始時に起こり得る副走査軸リニアモーターの可動子およびθ軸回転式モーターの可動子の位置偏差を防止して、所望の描画開始位置の副走査軸方向およびθ軸方向の位置を保持しながら主走査軸方向に走査させて基板に所望の描画を行なうことが可能な描画装置を提供することができる。   According to this application example, after the substrate as the drawing medium is corrected to the desired work start position (drawing start position), the movable element of the main scanning axis linear motor and the movable element of the θ-axis rotary motor are locked. After locking by the means, drawing can be performed while the substrate is scanned in the main scanning axis direction by the main scanning axis linear motor. This prevents a positional deviation between the movable element of the sub-scanning axis linear motor and the movable element of the θ-axis rotary motor that may occur at the start of scanning in the main scanning axis direction. It is possible to provide a drawing apparatus capable of performing desired drawing on the substrate by scanning in the main scanning axis direction while maintaining the position in the θ-axis direction.

[適用例3]本適用例に係る描画方法は、ベースと、前記ベース上に載置され主走査軸方向の走査を行なう主走査軸リニアモーターと、前記主走査軸リニアモーターの可動子に載置され前記主走査軸方向と交差する副走査軸方向の走査を行なう副走査軸リニアモーターと、前記副走査軸リニアモーターの可動子に載置され前記主走査軸方向や前記副走査軸方向と直交する直交軸回りの回転を行なうθ軸回転式モーターおよびその可動子と、を具備し、前記θ軸回転式モーターの可動子上に描画媒体としての基板を載置する基板用搬送ステージと、前記基板に液状体を吐出させて描画を行なう描画ヘッド部と、を有し、前記基板用搬送ステージは、前記主走査軸リニアモーターの可動子と前記θ軸回転式モーターの可動子とをロックするロック手段を備えた描画装置を用いた描画方法であって、前記基板用搬送ステージ上に載置した前記基板を、前記主走査軸リニアモーターおよび前記副走査軸リニアモーターを駆動させて描画開始位置に給材する前記基板給材ステップと、所定の前記描画開始位置と、基板給材ステップ後の実際の前記基板の位置との差を、前記副走査軸リニアモーターおよび前記θ軸回転式モーターを操作して許容範囲内に収める描画開始位置補正ステップと、前記病が開始位置補正ステップの後で、前記主走査軸リニアモーターにより前記基板を主走査軸方向にスキャンさせながら前記描画ヘッド部から液状体を吐出させて前記基板に所望の描画を行なう描画ステップと、を含み、前記描画ステップの前に、前記ロック手段により前記主走査軸リニアモーターの可動子と前記θ軸回転式モーターの可動子とをロックするステップを含むことを特徴とする。   Application Example 3 A drawing method according to this application example is mounted on a base, a main scanning axis linear motor that is placed on the base and performs scanning in the main scanning axis direction, and a movable element of the main scanning axis linear motor. And a sub-scanning axis linear motor that performs scanning in the sub-scanning axis direction that intersects with the main scanning axis direction, and is mounted on a mover of the sub-scanning axis linear motor, and the main scanning axis direction and the sub-scanning axis direction A substrate transfer stage for mounting a substrate as a drawing medium on the mover of the θ-axis rotary motor, and a θ-axis rotary motor that rotates around an orthogonal axis that is orthogonal to the mover; A drawing head unit that performs drawing by discharging a liquid material onto the substrate, and the substrate transport stage locks the mover of the main scanning axis linear motor and the mover of the θ-axis rotary motor Lock hand A drawing method using a drawing apparatus comprising: the substrate placed on the substrate transfer stage is driven to a drawing start position by driving the main scanning axis linear motor and the sub-scanning axis linear motor. The sub-scanning axis linear motor and the θ-axis rotary motor are operated to determine the difference between the substrate feeding step to be performed, the predetermined drawing start position, and the actual position of the substrate after the substrate feeding step. After the drawing start position correction step that falls within the allowable range and the disease start position correction step, the liquid material is removed from the drawing head unit while the substrate is scanned in the main scanning axis direction by the main scanning axis linear motor. A drawing step of performing desired drawing on the substrate by discharging, and before the drawing step, the main scanning axis linear motor is movable by the locking means And a step of locking the child and the mover of the θ-axis rotary motor.

本適用例によれば、描画開始位置補正ステップで基板を所望の作業開始位置に位置補正した後で、描画ステップで描画動作を行なう前に主走査軸リニアモーターの可動子とθ軸回転式モーターの可動子とをロック手段によりロックする。これにより、主走査軸方向への走査開始時に起こり得る副走査軸リニアモーターの可動子およびθ軸回転式モーターの可動子の位置偏差を防止して、所望の作業開始位置を保持しながら主走査軸方向に走査させて基板に所望の描画を行なうことができる。   According to this application example, after the substrate is corrected to the desired work start position in the drawing start position correction step, and before the drawing operation is performed in the drawing step, the mover of the main scanning axis linear motor and the θ-axis rotary motor The movable element is locked by the locking means. This prevents the positional deviation of the mover of the sub-scanning axis linear motor and the mover of the θ-axis rotary motor that may occur at the start of scanning in the main scanning axis direction, and maintains the desired work start position while maintaining the main scan. A desired drawing can be performed on the substrate by scanning in the axial direction.

本発明の基板用搬送ステージの一実施形態を説明する斜視分解図。The perspective exploded view explaining one Embodiment of the conveyance stage for substrates of this invention. 基板用搬送ステージのロック手段を図1のA−A線断面にて模式的に説明するものであり、(a)は、ロック手段がオフの状態、(b)は、ロック手段がオンの状態をそれぞれ示す部分断面図。The locking means of the substrate transfer stage will be schematically described with reference to the cross section along line A-A in FIG. 1. FIG. FIG. 基板用搬送ステージを備えた描画装置の概略構成を模式的に説明する斜視図。The perspective view which illustrates typically schematic structure of the drawing apparatus provided with the conveyance stage for board | substrates. 描画装置を用いた描画方法を示すフローチャート。The flowchart which shows the drawing method using a drawing apparatus.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各層や各部材を認識可能な程度の大きさにするため、各層や各部材の尺度を実際とは異ならせしめている。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following drawings, the scale of each layer and each member is made different from the actual scale so that each layer and each member can be recognized.

(第1の実施形態)
〔基板用搬送ステージ〕
まず、第1の実施形態に係る基板用搬送ステージの概略構成について説明する。図1は、本発明の基板用搬送ステージの一実施形態を説明する斜視分解図である。また、図2は、基板用搬送ステージのロック手段を図1のA−A線断面にて模式的に説明するものであり、(a)は、ロック手段がオフの状態、(b)は、ロック手段がオンの状態をそれぞれ示す部分断面図である。
図1において、基板用搬送ステージ50は、ベース1と、ベース1上に載置された主走査軸リニアモーターとしてのY軸モーター5と、Y軸モーター5の可動子としてのY軸テーブル10と、Y軸テーブル10上に載置された副走査軸リニアモーターとしてのX軸モーター15と、X軸モーター15の可動子としてのX軸テーブル20と、X軸テーブル20に載置されたθ軸回転式モーターとしてのθ軸回転式モーター25、および、その可動子としての基板ステージ(θ軸テーブル)30と、を有している。
(First embodiment)
[Substrate transfer stage]
First, a schematic configuration of the substrate transfer stage according to the first embodiment will be described. FIG. 1 is an exploded perspective view illustrating an embodiment of a substrate transfer stage according to the present invention. FIG. 2 schematically illustrates the locking means of the substrate transfer stage in the AA line cross section of FIG. 1, wherein (a) is a state in which the locking means is off, and (b) It is a fragmentary sectional view which shows the state in which a locking means is each ON.
In FIG. 1, a substrate transfer stage 50 includes a base 1, a Y-axis motor 5 as a main scanning axis linear motor mounted on the base 1, and a Y-axis table 10 as a mover of the Y-axis motor 5. , An X-axis motor 15 as a sub-scanning axis linear motor placed on the Y-axis table 10, an X-axis table 20 as a mover of the X-axis motor 15, and a θ-axis placed on the X-axis table 20. A θ-axis rotary motor 25 as a rotary motor and a substrate stage (θ-axis table) 30 as a mover are provided.

ベース1上には、Y軸(主走査軸)に沿って載置されたY軸モーター(可動コイル型リニアモーター)5と、Y軸モーター5の両側に並行させて載置された下側Y軸リニアモーターガイド(リニアモーターガイド)3,3が配置されている。固定子としてのY軸モーター5は、Y軸モーター5に沿ってY軸方向に移動自在に走行しY軸モーター5の可動子としてのY軸テーブル10との接続に供する三相コイルとしてのY軸可動子接続部6を有している。   On the base 1, a Y-axis motor (movable coil linear motor) 5 placed along the Y-axis (main scanning axis) and a lower Y placed in parallel with both sides of the Y-axis motor 5. Shaft linear motor guides (linear motor guides) 3 and 3 are arranged. The Y-axis motor 5 serving as a stator travels movably in the Y-axis direction along the Y-axis motor 5 and serves as a three-phase coil serving as a connection with a Y-axis table 10 serving as a mover of the Y-axis motor 5. A shaft mover connecting portion 6 is provided.

ベース1上に配置されるY軸テーブル10のベース1と対向する底面側には、ベース1の下側Y軸リニアモーターガイド3,3に対応する上側Y軸リニアモーターガイド19,19が設けられている。本実施形態では、下側Y軸リニアモーターガイド3,3が断面矩形状のレールであるのに対して、上側Y軸リニアモーターガイドは下側Y軸リニアモーターガイド3を嵌め込み可能な凹部を有する断面コの字形状のレールとなっている。
また、Y軸テーブル10の底面側には、ベース1のY軸可動子接続部6が連結・固定される取付け部(不図示)が設けられている。この取付け部にY軸可動子接続部6が連結・固定され、且つ、下側Y軸リニアモーターガイド3,3に対して上側Y軸リニアモーターガイド19,19がY軸方向に移動自在な状態で嵌め合わせられる。これにより、Y軸モーター5を駆動させることによって、Y軸テーブル10はベース1に対してY軸方向の走査が可能になっている。
Upper Y-axis linear motor guides 19, 19 corresponding to the lower Y-axis linear motor guides 3, 3 of the base 1 are provided on the bottom side facing the base 1 of the Y-axis table 10 disposed on the base 1. . In the present embodiment, the lower Y-axis linear motor guides 3 and 3 are rails having a rectangular cross section, whereas the upper Y-axis linear motor guide has a concave portion in which the lower Y-axis linear motor guide 3 can be fitted. It has a letter-shaped rail.
Further, on the bottom surface side of the Y-axis table 10, an attachment portion (not shown) to which the Y-axis movable element connection portion 6 of the base 1 is connected and fixed is provided. The Y-axis mover connecting portion 6 is connected and fixed to the mounting portion, and the upper Y-axis linear motor guides 19 and 19 are fitted to the lower Y-axis linear motor guides 3 and 3 so as to be movable in the Y-axis direction. Adapted. Thus, by driving the Y-axis motor 5, the Y-axis table 10 can scan the base 1 in the Y-axis direction.

Y軸テーブル10上には、X軸(副走査軸)に沿って載置されたX軸モーター(可動コイル型リニアモーター)15と、X軸モーター15の両側に並行させて載置された下側X軸リニアモーターガイド(リニアモーターガイド)13,13が配置されている。固定子としてのX軸モーター15は、X軸モーター15に沿ってX軸方向に移動自在に走行しX軸モーター15の可動子としてのX軸テーブル20との接続に供する三相コイルとしてのX軸可動子接続部16を有している。
さらに、Y軸テーブル10上の各モーター軸を避けた領域には、X軸テーブル20を間に挟んでY軸テーブル10に対して基板ステージ30の動きをロックするロック手段としての摩擦ブレーキ部18が設けられている。摩擦ブレーキ部18は最低1箇所に設ければよいが、本実施形態のように、基板ステージ30の重心に対してバランスのよい配置にて複数箇所(本実施形態では最小限の2箇所)に設けることが好ましい。
なお、摩擦ブレーキ部18の構造や動作等の詳細については後述する。
On the Y-axis table 10, an X-axis motor (movable coil linear motor) 15 placed along the X-axis (sub-scanning axis) and a lower part placed in parallel on both sides of the X-axis motor 15. Side X-axis linear motor guides (linear motor guides) 13 and 13 are arranged. The X-axis motor 15 as a stator travels movably in the X-axis direction along the X-axis motor 15 and is used as a three-phase coil for connection with an X-axis table 20 as a mover of the X-axis motor 15. A shaft mover connecting portion 16 is provided.
Further, in a region where the motor shafts on the Y-axis table 10 are avoided, the friction brake unit 18 as a locking unit that locks the movement of the substrate stage 30 with respect to the Y-axis table 10 with the X-axis table 20 interposed therebetween. Is provided. The friction brake unit 18 may be provided at least in one place, but as in the present embodiment, the friction brake unit 18 may be provided at a plurality of places (minimum two places in the present embodiment) in a balanced arrangement with respect to the center of gravity of the substrate stage 30. It is preferable to provide it.
The details of the structure and operation of the friction brake unit 18 will be described later.

Y軸テーブル10上に配置されるX軸テーブル20のY軸テーブル10と対向する底面側には、Y軸テーブル10の下側X軸リニアモーターガイド13,13に対応する上側X軸リニアモーターガイド29,29が設けられている。本実施形態では、下側X軸リニアモーターガイド13,13が断面矩形状のレールであるのに対して、上側X軸リニアモーターガイド29,29は下側X軸リニアモーターガイド13を嵌め込み可能な凹部を有する断面コの字形状のレールとなっている。
また、X軸テーブル20の底面側には、Y軸テーブル10のX軸可動子接続部16が連結・固定される取付け部(不図示)が設けられている。この取付け部にX軸可動子接続部16が連結・固定され、且つ、下側X軸リニアモーターガイド13,13に対して上側X軸リニアモーターガイド29,29がX軸方向に移動自在な状態で嵌め合わせられる。これにより、X軸モーター15を駆動させることによって、X軸テーブル20はベース1に対してY軸方向と直交するX軸方向の走査が可能になっている。
An upper X-axis linear motor guide 29 corresponding to the lower X-axis linear motor guides 13 and 13 of the Y-axis table 10 is disposed on the bottom surface side of the X-axis table 20 arranged on the Y-axis table 10 and facing the Y-axis table 10. 29 is provided. In the present embodiment, the lower X-axis linear motor guides 13 and 13 are rails having a rectangular cross section, whereas the upper X-axis linear motor guides 29 and 29 have recesses into which the lower X-axis linear motor guide 13 can be fitted. The rail has a U-shaped cross section.
Further, on the bottom surface side of the X-axis table 20, an attachment portion (not shown) to which the X-axis movable element connection portion 16 of the Y-axis table 10 is connected and fixed is provided. The X-axis mover connecting portion 16 is connected and fixed to the mounting portion, and the upper X-axis linear motor guides 29 and 29 are fitted to the lower X-axis linear motor guides 13 and 13 so as to be movable in the X-axis direction. Adapted. Thus, by driving the X-axis motor 15, the X-axis table 20 can scan the base 1 in the X-axis direction orthogonal to the Y-axis direction.

また、X軸テーブル20上の中央にはθ軸回転式モーター25が載置されるとともに、そのθ軸回転式モーター25を囲むように平面視で円形状の下側クロスローラーガイド23が設けられている。θ軸回転式モーター25の回転軸には、θ軸回転式モーター25の可動子としての基板ステージ30との接続に供するθ軸可動子接続部26が設けられている。
さらに、X軸テーブル20上の各モーター軸を避けた領域には、Y軸テーブル10の摩擦ブレーキ部18を基板ステージ30に接触可能にするための貫通穴27,27が設けられている。
A θ-axis rotary motor 25 is placed in the center of the X-axis table 20 and a circular lower cross roller guide 23 is provided in plan view so as to surround the θ-axis rotary motor 25. ing. The rotation axis of the θ-axis rotary motor 25 is provided with a θ-axis mover connecting portion 26 for connection to the substrate stage 30 as a mover of the θ-axis rotary motor 25.
Further, through holes 27 for allowing the friction brake portion 18 of the Y-axis table 10 to come into contact with the substrate stage 30 are provided in areas where the motor shafts on the X-axis table 20 are avoided.

X軸テーブル20上に配置される基板ステージ30のX軸テーブル20と対向する底面側には、X軸テーブル20の下側クロスローラーガイド23に対応する上側クロスローラーガイド(不図示)が設けられている。
また、基板ステージ30の底面側には、X軸テーブル20のθ軸可動子接続部26が連結・固定される取付け部26aが設けられている。この取付け部26aにθ軸可動子接続部26が連結・固定され、且つ、下側クロスローラーガイド23に対して上側クロスローラーガイド39(図1には不図示、図2を参照)をθ軸方向に回転自在な状態で嵌め合わることにより、θ軸回転式モーター25を駆動させることによって、基板ステージ30はベース1に対してθ軸方向の回転が可能になっている。
なお、図示はしないが、基板ステージ30の前記底面側の反対側の上面側には、作業対象物としての基板(ワーク)を固定することが可能な固定手段が備えられている。固定手段としては、例えば、真空吸着を用いることができる。この場合、基板ステージ30の上面側の基板載置領域には複数の真空吸着穴を設け、その真空吸着穴に真空発生装置を接続するなどする。
An upper cross roller guide (not shown) corresponding to the lower cross roller guide 23 of the X axis table 20 is provided on the bottom surface side of the substrate stage 30 disposed on the X axis table 20 facing the X axis table 20. ing.
Further, on the bottom surface side of the substrate stage 30, an attachment portion 26 a to which the θ-axis movable element connection portion 26 of the X-axis table 20 is connected and fixed is provided. The θ-axis movable element connecting portion 26 is coupled and fixed to the mounting portion 26a, and the upper cross roller guide 39 (not shown in FIG. 1, refer to FIG. 2) is attached to the lower cross roller guide 23 on the θ axis. The substrate stage 30 can be rotated in the θ-axis direction with respect to the base 1 by driving the θ-axis rotary motor 25 by being fitted in a state that is freely rotatable in the direction.
Although not shown, a fixing means capable of fixing a substrate (work) as a work object is provided on the upper surface side of the substrate stage 30 opposite to the bottom surface side. As the fixing means, for example, vacuum adsorption can be used. In this case, a plurality of vacuum suction holes are provided in the substrate placement region on the upper surface side of the substrate stage 30, and a vacuum generator is connected to the vacuum suction holes.

次に、本実施形態の基板用搬送ステージ50におけるロック手段としての摩擦ブレーキ部18の構造や動作等の詳細について説明する。
図2に示すように、Y軸テーブル10に設けられた摩擦ブレーキ部18は、ブレーキパッド18aがY軸テーブル10側から基板ステージ30側へのZ軸方向(図1を参照)に昇降可能な構造を有している。
図2(a)は、摩擦ブレーキ部18がオフの状態である。オフの状態では、ブレーキパッド18aが下限の位置まで降りていて、X軸テーブル20の底面よりも下方に位置しており、X軸テーブル20および基板ステージ30は、何ら規制されることなく可動な状態になっている。
図2(b)は、摩擦ブレーキ部18がオンの状態である。摩擦ブレーキ部18のブレーキパッド18aが上昇してX軸テーブル20の貫通穴27を経て基板ステージ30の底面に所定の強さで押し付けられると、Y軸テーブル10に対して基板ステージ30がX軸テーブル20とともに動きがロックされる。
Next, details of the structure and operation of the friction brake unit 18 as a locking unit in the substrate transfer stage 50 of the present embodiment will be described.
As shown in FIG. 2, the friction brake unit 18 provided on the Y-axis table 10 can lift and lower the brake pad 18 a in the Z-axis direction (see FIG. 1) from the Y-axis table 10 side to the substrate stage 30 side. It has a structure.
FIG. 2A shows a state in which the friction brake unit 18 is off. In the off state, the brake pad 18a is lowered to the lower limit position and is located below the bottom surface of the X-axis table 20, and the X-axis table 20 and the substrate stage 30 are movable without any restriction. It is in a state.
FIG. 2B shows a state in which the friction brake unit 18 is on. When the brake pad 18a of the friction brake unit 18 is raised and pressed against the bottom surface of the substrate stage 30 through the through hole 27 of the X-axis table 20, the substrate stage 30 is moved against the Y-axis table 10 with the X-axis. The movement is locked together with the table 20.

上記第1の実施形態の基板用搬送ステージによれば、作業対象物としての基板を所望の作業開始位置に位置補正した後で、Y軸(主走査軸)モーター5の可動子としてのY軸テーブル10と、θ軸回転式モーター25の可動子としての基板ステージ30をロック手段としての摩擦ブレーキ部18によりロックしてから、基板をY軸(主走査軸)方向に走査させながら基板に所定の作業を行なうことができる。これにより、Y軸(主走査軸)方向への走査開始時に起こり得るX軸(副走査軸)テーブル20および基板ステージ30の位置偏差を防止して、所望の作業開始位置を保持しながらY軸(主走査軸)方向に基板を走査させて所望の作業を行なうことができる。
また、上記実施形態では、ロック手段として摩擦ブレーキ部18を適用している。ロック手段は摩擦ブレーキ部18に限らず、他のブレーキ構造(ロック構造)を適用してもよいが、摩擦ブレーキは、比較的簡単で、低コストにてロック構造を実現することができる。
例えば、ロック手段として、ブレーキ付きモーターを使用することもできるが、ブレーキ付きモーターとした場合、θ軸の位置を保持するブレーキ付きモーターとなるので強い保持力を必要で調整が比較的難しい。
According to the substrate transfer stage of the first embodiment, after correcting the position of the substrate as the work target to the desired work start position, the Y axis as the mover of the Y axis (main scanning axis) motor 5 is used. The table 10 and the substrate stage 30 as the mover of the θ-axis rotary motor 25 are locked by the friction brake unit 18 as the locking means, and then the substrate is scanned on the substrate in the Y-axis (main scanning axis) direction. Can be done. This prevents a positional deviation between the X-axis (sub-scanning axis) table 20 and the substrate stage 30 that may occur at the start of scanning in the Y-axis (main scanning axis) direction, and maintains the desired work start position while maintaining the desired Y-axis. A desired operation can be performed by scanning the substrate in the (main scanning axis) direction.
Moreover, in the said embodiment, the friction brake part 18 is applied as a locking means. The locking means is not limited to the friction brake unit 18, but other brake structures (lock structures) may be applied. However, the friction brake is relatively simple and can realize the lock structure at a low cost.
For example, a motor with a brake can be used as the locking means. However, when a motor with a brake is used, a motor with a brake that holds the position of the θ-axis is required, so that a strong holding force is required and adjustment is relatively difficult.

(第2の実施形態)
次に、上記第1の実施形態の基板用搬送ステージ50を備えた描画装置、および、それを用いた描画方法について説明する。
〔描画装置〕
まず、第2の実施形態に係る描画装置の概略構成について図面に沿って説明する。図3は、第2の実施形態に係る描画装置100の概略構成を示す斜視図である。なお、上記第1の実施形態と同一の構成部位については同一の番号を付して、重複する説明は省略する。
図3において、描画装置100は、架台62上に、上記第1の実施形態の基板用搬送ステージ50と、基板用搬送ステージ50上に載置された描画媒体としての基板Wに、液状体としてのインクを例えばインクジェット法により吐出させて描画を行なう描画ヘッド部80と、を有している。
(Second Embodiment)
Next, a drawing apparatus provided with the substrate transfer stage 50 of the first embodiment and a drawing method using the same will be described.
[Drawing device]
First, a schematic configuration of a drawing apparatus according to the second embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 3 is a perspective view illustrating a schematic configuration of the drawing apparatus 100 according to the second embodiment. In addition, the same number is attached | subjected about the component same as the said 1st Embodiment, and the overlapping description is abbreviate | omitted.
In FIG. 3, the drawing apparatus 100 includes a liquid material on a substrate transfer stage 50 according to the first embodiment and a substrate W as a drawing medium placed on the substrate transfer stage 50 on a gantry 62. And a drawing head unit 80 that performs drawing by ejecting the ink by, for example, an inkjet method.

本実施形態の描画装置100において、架台62上に配置された上記実施形態の基板用搬送ステージ50のY軸テーブル10は、主走査軸方向としてのY軸方向の描画スキャン時に動作する。また、X軸テーブル20は、副走査軸方向としてのX軸方向のアライメント位置補正時や描画の改行(フィード)時に動作する。また、θ軸テーブルとしての基板ステージ30は、アライメント位置補正時にθ軸回転方向に動作する。   In the drawing apparatus 100 of the present embodiment, the Y-axis table 10 of the substrate transfer stage 50 of the above-described embodiment disposed on the gantry 62 operates during a drawing scan in the Y-axis direction as the main scanning axis direction. The X-axis table 20 operates at the time of alignment position correction in the X-axis direction as the sub-scanning axis direction or at the time of drawing line feed (feed). Further, the substrate stage 30 as the θ-axis table operates in the θ-axis rotation direction when the alignment position is corrected.

また、架台62上には一対の支柱65が立設され、それら支柱65間にキャリッジ搬送装置70が架設されている。キャリッジ搬送装置70には、キャリッジ82がX軸方向(副走査軸方向)に移動自在に配置されている。キャリッジ82には、Z軸モーター83を介して描画ヘッド部80が取り付けられている。描画ヘッド部80は、キャリッジ搬送装置70により描画媒体としての基板Wに対してX軸方向(副走査軸方向)の移動が可能であるとともに、Z軸モーター83によりZ軸方向の移動が可能になっている。
支柱65のキャリッジ搬送装置70近傍には、液状体としてのインクを貯蔵するインクタンク87と、インクタンク87内のインクを描画ヘッドに供給する際の経路となるインク供給経路88とからなるインク供給装置85が設けられている。
In addition, a pair of support columns 65 are erected on the gantry 62, and a carriage conveyance device 70 is installed between the support columns 65. In the carriage transport device 70, a carriage 82 is disposed so as to be movable in the X-axis direction (sub-scanning axis direction). A drawing head unit 80 is attached to the carriage 82 via a Z-axis motor 83. The drawing head unit 80 can be moved in the X-axis direction (sub-scanning axis direction) with respect to the substrate W as a drawing medium by the carriage transport device 70, and can be moved in the Z-axis direction by the Z-axis motor 83. It has become.
An ink supply comprising an ink tank 87 for storing ink as a liquid material and an ink supply path 88 serving as a path for supplying the ink in the ink tank 87 to the drawing head, in the vicinity of the carriage conveying device 70 of the column 65. A device 85 is provided.

上記構成の描画装置100によれば、上記第1の実施形態の基板用搬送ステージ50を備えているので、描画媒体としての基板Wを所望の作業開始位置に位置補正するアライメントを行なった後で、Y軸(主走査軸)モーター5の可動子としてのY軸テーブル10と、θ軸回転式モーター25の可動子としての基板ステージ30とをロック手段としての摩擦ブレーキ部18によりロックしてから、Y軸モーターにより基板WをY軸(主走査軸)方向に走査させながら描画を行なうことができる。これにより、Y軸(主走査軸)方向への走査開始時に起こり得るX軸(副走査軸)モーター15の可動子としてのX軸テーブル20、および、θ軸回転式モーター25の可動子としての基板ステージ30の位置偏差を防止して、位置補正された描画開始位置のX軸(副走査軸)方向およびθ軸方向の位置を保持しながらY軸(主走査軸)方向に走査させて基板Wに所望の描画を行なうことが可能な描画装置100を提供することができる。
また、描画時において、基板ステージ30のY軸(主走査軸)方向の走査の加速時および減速時の特にθ軸方向のずれを防止できることにより、基板ステージ30の描画開始位置と描画エリアとの間隔を小さくすることができるので、描画装置100のサイズに対する描画可能エリアの比率を高くすることができる。
According to the drawing apparatus 100 having the above-described configuration, since the substrate transfer stage 50 according to the first embodiment is provided, after performing alignment for correcting the position of the substrate W as a drawing medium at a desired work start position. After the Y-axis table 10 as the mover of the Y-axis (main scanning axis) motor 5 and the substrate stage 30 as the mover of the θ-axis rotary motor 25 are locked by the friction brake unit 18 as the locking means. Drawing can be performed while the substrate W is scanned in the Y-axis (main scanning axis) direction by the Y-axis motor. As a result, the X-axis table 20 as the mover of the X-axis (sub-scanning axis) motor 15 that can occur at the start of scanning in the Y-axis (main scanning axis) direction, and the mover of the θ-axis rotary motor 25 as the mover. The substrate stage 30 is prevented from being displaced and the substrate is scanned in the Y-axis (main scanning axis) direction while maintaining the position of the drawing start position corrected in the X-axis (sub-scanning axis) direction and θ-axis direction. A drawing apparatus 100 capable of performing desired drawing on W can be provided.
Further, at the time of drawing, it is possible to prevent a deviation in the θ-axis direction at the time of acceleration and deceleration of the scanning of the substrate stage 30 in the Y-axis (main scanning axis) direction. Since the interval can be reduced, the ratio of the drawable area to the size of the drawing apparatus 100 can be increased.

〔描画方法〕
次に、上記描画装置100を用いた描画方法の一実施形態について説明する。図4は、第2の実施形態に係る描画方法を示すフローチャートである。なお、以下の描画方法の説明において、描画装置100、および、その描画装置100に備わる基板用搬送ステージ50の構成については図1〜図3を参照されたい。
本実施形態の描画方法では、まず、図4のステップS1に示すように、描画装置100の基板用搬送ステージ50の基板ステージ30に基板Wを載置して真空吸着することなどにより固定し、基板用搬送ステージ50のY軸モーター5およびX軸モーター15を駆動させて基板Wを所定の描画開始位置に給材する基板給材を行なう。なお、このとき、基板用搬送ステージ50のロック手段としての摩擦ブレーキ部18はオフの状態(図2(a)を参照)になっている。
[Drawing method]
Next, an embodiment of a drawing method using the drawing apparatus 100 will be described. FIG. 4 is a flowchart showing a drawing method according to the second embodiment. In the following description of the drawing method, refer to FIGS. 1 to 3 for the configuration of the drawing apparatus 100 and the substrate transport stage 50 provided in the drawing apparatus 100.
In the drawing method of the present embodiment, first, as shown in step S1 of FIG. 4, the substrate W is placed on the substrate stage 30 of the substrate transfer stage 50 of the drawing apparatus 100 and fixed by vacuum suction or the like, Substrate supply for supplying the substrate W to a predetermined drawing start position is performed by driving the Y-axis motor 5 and the X-axis motor 15 of the substrate transfer stage 50. At this time, the friction brake portion 18 as a locking means of the substrate transfer stage 50 is in an OFF state (see FIG. 2A).

次に、ステップS2に示すように、基板給材ステップ(ステップS1)後の実際の基板Wの描画開始位置と、所望の描画開始位置との偏差を検知して補正量を算出し、X軸モーター15およびθ軸回転式モーター25を操作して描画開始位置の許容範囲内に収める描画開始位置補正を行なう。なお、基板給材ステップ(ステップS1)後の実際の基板Wの位置(描画開始位置)と所望の描画開始位置とのずれは、基板ステージ30上に載置した基板Wの初期的な位置ずれや、基板用搬送ステージ50の機械精度などに起因する位置ずれによって生じる。   Next, as shown in step S2, a correction amount is calculated by detecting a deviation between the actual drawing start position of the substrate W after the substrate supply step (step S1) and the desired drawing start position, and the X axis By operating the motor 15 and the θ-axis rotary motor 25, the drawing start position is corrected so as to be within the allowable range of the drawing start position. Note that the deviation between the actual position (drawing start position) of the substrate W and the desired drawing start position after the substrate supply step (step S1) is the initial positional deviation of the substrate W placed on the substrate stage 30. Or due to misalignment caused by the mechanical accuracy of the substrate transfer stage 50.

描画開始位置補正ステップ(ステップS2)を行なった後で、次に、ステップS3に示すように、ロック手段としての摩擦ブレーキ部18をオンの状態にすることにより、Y軸(主走査軸)モーター5の可動子としてのY軸テーブル10と、θ軸回転式モーター25の可動子としての基板ステージ30とをロックする(図2(b)を参照)。
次に、ステップS4に示すように、Y軸(主走査軸)モーター5を駆動させてY軸テーブル10を動かして基板WをY軸(主走査軸)方向に走査させながら、描画ヘッド部80から液状体としてのインクの液滴を吐出させて描画を行なう。即ち、描画中は、Y軸テーブル10と基板ステージ30とが、摩擦ブレーキ部18によりロックされている。
After performing the drawing start position correcting step (step S2), next, as shown in step S3, the friction brake unit 18 as the locking means is turned on to turn on the Y-axis (main scanning axis) motor. The Y-axis table 10 as the mover 5 and the substrate stage 30 as the mover of the θ-axis rotary motor 25 are locked (see FIG. 2B).
Next, as shown in step S4, the Y-axis (main scanning axis) motor 5 is driven to move the Y-axis table 10 to scan the substrate W in the Y-axis (main scanning axis) direction, while drawing head unit 80. Then, drawing is performed by discharging ink droplets as a liquid material. That is, during drawing, the Y-axis table 10 and the substrate stage 30 are locked by the friction brake unit 18.

描画ステップ(ステップS4)でY軸(主走査軸)方向の1スキャンの描画が終了したら、次に、ステップS5に示すように、次の描画列に移動(フィード)させて次の描画スキャンを行なうか否かを決める。
次の描画スキャンを行なう場合は(ステップS5でYES)、摩擦ブレーキ部18をオフの状態にして(図2(a)を参照)、Y軸テーブル10と基板ステージ30とのロックを解除してから(ステップS11)、X軸(副走査軸)モーター15を駆動させてX軸テーブル20を動かすことにより基板WをX軸方向にフィードさせて次の描画列の描画開始位置に移動させ(ステップS12)、ステップS2に戻り、次の描画開始位置の描画前基板位置の補正からの操作を繰り返す。
When drawing in one scan in the Y-axis (main scanning axis) direction is completed in the drawing step (step S4), the next drawing scan is performed by moving (feeding) to the next drawing row as shown in step S5. Decide whether to do it.
When performing the next drawing scan (YES in step S5), the friction brake unit 18 is turned off (see FIG. 2A), and the lock between the Y-axis table 10 and the substrate stage 30 is released. (Step S11), the X-axis (sub-scanning axis) motor 15 is driven to move the X-axis table 20 to feed the substrate W in the X-axis direction and move to the drawing start position of the next drawing row (Step S11). S12), returning to step S2, the operation from the correction of the pre-drawing substrate position at the next drawing start position is repeated.

ステップS5で、次の描画列の描画スキャンを行なわないと判断した場合は(ステップS5でNO)、摩擦ブレーキ部18をオフの状態にして(図2(a)を参照)、Y軸テーブル10と基板ステージ30とのロックを解除してから(ステップS6)、基板用搬送ステージ50のY軸モーター5およびX軸モーター15を駆動させて基板Wを所定の排材位置に搬送して(ステップS7)、描画作業を終了する。   If it is determined in step S5 that drawing scanning of the next drawing row is not performed (NO in step S5), the friction brake unit 18 is turned off (see FIG. 2A), and the Y-axis table 10 is set. After unlocking the substrate stage 30 (step S6), the Y-axis motor 5 and the X-axis motor 15 of the substrate transfer stage 50 are driven to transfer the substrate W to a predetermined waste material position (step S6). S7) The drawing work is terminated.

上記実施形態の描画方法によれば、描画開始位置補正ステップ(ステップS2)により、基板Wを所望の描画開始位置に位置補正した後で、描画ステップ(ステップS4)で描画動作を行なう前にY軸(主走査軸)モーター5の可動子としてのY軸テーブルとθ軸回転式モーター25の可動子としての基板ステージ30とをロック手段としての摩擦ブレーキ部によりロックし、この状態で基板WをY軸(主走査軸)方向にスキャンさせながら描画を行なう。これにより、Y軸方向への走査開始時に起こり得るX軸(副走査軸)モーターの可動子としてのX軸テーブル20、および、θ軸回転式モーター25の可動子としての基板ステージ30の位置偏差を防止して、所望の作業開始位置を保持しながらY軸(主走査軸)方向に走査させて基板Wに所望の描画を行なうことができる。   According to the drawing method of the above embodiment, after the position of the substrate W is corrected to the desired drawing start position by the drawing start position correction step (step S2), Y is performed before the drawing operation is performed in the drawing step (step S4). The Y-axis table as the mover of the axis (main scanning axis) motor 5 and the substrate stage 30 as the mover of the θ-axis rotary motor 25 are locked by the friction brake part as the locking means, and the substrate W is held in this state. Drawing is performed while scanning in the Y-axis (main scanning axis) direction. Thereby, the positional deviation of the X-axis table 20 as the mover of the X-axis (sub-scanning axis) motor and the substrate stage 30 as the mover of the θ-axis rotary motor 25 that can occur at the start of scanning in the Y-axis direction. Thus, desired drawing can be performed on the substrate W by scanning in the Y-axis (main scanning axis) direction while maintaining a desired work start position.

1…ベース、3…下側Y軸リニアモーターガイド、5…主走査軸リニアモーターとしてのY軸モーター、6…Y軸可動子接続部、10…主走査軸リニアモーターの可動子としてのY軸テーブル、13…下側X軸リニアモーターガイド、15…副走査軸リニアモーターとしてのX軸モーター、16…X軸可動子接続部、18…ロック手段としての摩擦ブレーキ部、18a…ブレーキパッド、19…上側Y軸リニアモーターガイド、20…副走査軸リニアモーターの可動子としてのX軸テーブル、23…下側クロスローラーガイド、25…θ軸回転式モーター、26…θ軸可動子接続部、26a…取付け部、27…貫通穴、29…上側X軸リニアガイド、30…基板テーブル、50…基板用搬送ステージ、62…架台、65…支柱、70…キャリッジ搬送装置、80…描画ヘッド部、82…キャリッジ、83…Z軸モーター、85…インク供給装置、87…インクタンク、88…インク供給経路、100…描画装置。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base, 3 ... Lower Y-axis linear motor guide, 5 ... Y-axis motor as a main scanning-axis linear motor, 6 ... Y-axis mover connection part, 10 ... Y-axis table as a mover of a main-scanning-axis linear motor DESCRIPTION OF SYMBOLS 13 ... Lower X-axis linear motor guide, 15 ... X-axis motor as a sub-scanning axis linear motor, 16 ... X-axis mover connection part, 18 ... Friction brake part as a locking means, 18a ... Brake pad, 19 ... Upper Y-axis linear motor guide, 20 ... X-axis table as a mover of the sub-scanning axis linear motor, 23 ... Lower cross roller guide, 25 ... θ-axis rotary motor, 26 ... θ-axis mover connecting portion, 26a ... Mounting portion , 27 ... Through-hole, 29 ... Upper X-axis linear guide, 30 ... Substrate table, 50 ... Substrate transfer stage, 62 ... Base, 65 ... Post, 70 ... Carry 80... Drawing head unit, 82... Carriage, 83... Z-axis motor, 85... Ink supply device, 87.

Claims (3)

ベースと、
前記ベース上に載置され主走査軸方向の走査を行なう主走査軸リニアモーターと、前記主走査軸リニアモーターの可動子に載置され前記主走査軸方向と交差する副走査軸方向の走査を行なう副走査軸リニアモーターと、前記副走査軸リニアモーターの可動子に載置され前記主走査軸方向や前記副走査軸方向と直交する直交軸回りの回転を行なうθ軸回転式モーターおよびその可動子と、を具備し、
前記θ軸回転式モーターの可動子上に載置した基板を前記副走査軸リニアモーターおよび前記θ軸回転式モーターにより所定の作業開始位置に位置合わせた後に、前記主走査軸リニアモーターにより前記基板を前記主走査軸方向に走査させながら所定の作業を実施する基板用搬送ステージであって、
前記主走査軸リニアモーターの可動子と前記θ軸回転式モーターの可動子とをロックするロック手段を備えたことを特徴とする基板用搬送ステージ。
Base and
A main scanning axis linear motor mounted on the base for scanning in the main scanning axis direction, and a scanning in the sub scanning axis direction which is mounted on a movable element of the main scanning axis linear motor and intersects the main scanning axis direction. A sub-scanning linear motor that performs the rotation, a θ-axis rotary motor that is mounted on a movable element of the sub-scanning linear motor and that rotates about an orthogonal axis that is orthogonal to the main scanning axis direction or the sub-scanning axis direction, and its movable A child,
After the substrate placed on the mover of the θ-axis rotary motor is aligned with a predetermined work start position by the sub-scanning axis linear motor and the θ-axis rotary motor, the substrate is moved by the main scanning axis linear motor. A substrate transport stage that performs a predetermined operation while scanning in the main scanning axis direction,
A substrate transfer stage comprising a lock means for locking the mover of the main scanning axis linear motor and the mover of the θ-axis rotary motor.
ベースと、前記ベース上に載置され主走査軸方向の走査を行なう主走査軸リニアモーターと、前記主走査軸リニアモーターの可動子に載置され前記主走査軸方向と交差する副走査軸方向の走査を行なう副走査軸リニアモーターと、前記副走査軸リニアモーターの可動子に載置され前記主走査軸方向や前記副走査軸方向と直交する直交軸回りの回転を行なうθ軸回転式モーターおよびその可動子と、を具備し、前記θ軸回転式モーターの可動子上に描画媒体としての基板を載置する基板用搬送ステージと、
前記基板に液状体を吐出させて描画を行なう描画ヘッド部と、を有し、
前記θ軸回転式モーターの可動子上に載置した前記基板を前記副走査軸リニアモーターおよび前記θ軸回転式モーターにより所定の描画開始位置に位置合わせた後に、前記主走査軸リニアモーターにより前記基板を前記主走査軸方向に走査させながら前記描画ヘッド部から前記基板に前記液状体を吐出させて所定の描画を行なう描画装置であって、
前記基板用搬送ステージが、前記主走査軸リニアモーターの可動子と前記θ軸回転式モーターの可動子とをロックするロック手段を備えたことを特徴とする描画装置。
A base, a main scanning axis linear motor mounted on the base for scanning in the main scanning axis direction, and a sub-scanning axis direction mounted on a movable element of the main scanning axis linear motor and intersecting the main scanning axis direction A sub-scanning axis linear motor that performs scanning of the above and a θ-axis rotary motor that is mounted on a mover of the sub-scanning axis linear motor and rotates about an orthogonal axis that is orthogonal to the main scanning axis direction or the sub-scanning axis direction And a mover thereof, and a substrate transfer stage for placing a substrate as a drawing medium on the mover of the θ-axis rotary motor,
A drawing head portion for drawing by discharging a liquid material onto the substrate;
After the substrate placed on the mover of the θ-axis rotary motor is aligned with a predetermined drawing start position by the sub-scanning axis linear motor and the θ-axis rotary motor, the main scanning axis linear motor causes the A drawing apparatus that performs predetermined drawing by discharging the liquid material from the drawing head unit to the substrate while scanning the substrate in the main scanning axis direction,
The drawing apparatus, wherein the substrate transfer stage includes a lock unit that locks the movable element of the main scanning axis linear motor and the movable element of the θ-axis rotary motor.
ベースと、前記ベース上に載置され主走査軸方向の走査を行なう主走査軸リニアモーターと、前記主走査軸リニアモーターの可動子に載置され前記主走査軸方向と交差する副走査軸方向の走査を行なう副走査軸リニアモーターと、前記副走査軸リニアモーターの可動子に載置され前記主走査軸方向や前記副走査軸方向と直交する直交軸回りの回転を行なうθ軸回転式モーターおよびその可動子と、を具備し、前記θ軸回転式モーターの可動子上に描画媒体としての基板を載置する基板用搬送ステージと、
前記基板に液状体を吐出させて描画を行なう描画ヘッド部と、を有し、
前記基板用搬送ステージは、前記主走査軸リニアモーターの可動子と前記θ軸回転式モーターの可動子とをロックするロック手段を備えた描画装置を用いた描画方法であって、
前記基板用搬送ステージ上に載置した前記基板を、前記主走査軸リニアモーターおよび前記副走査軸リニアモーターを駆動させて描画開始位置に給材する基板給材ステップと、
所定の前記描画開始位置と、前記基板給材ステップ後の実際の前記基板の位置との差を、前記副走査軸リニアモーターおよび前記θ軸回転式モーターを操作して許容範囲内に収める描画開始位置補正ステップと、
前記描画開始位置補正ステップの後で、前記主走査軸リニアモーターにより前記基板を主走査軸方向にスキャンさせながら前記描画ヘッド部から液状体を吐出させて前記基板に所望の描画を行なう描画ステップと、を含み、
前記描画ステップの前に、前記ロック手段により前記主走査軸リニアモーターの可動子と前記θ軸回転式モーターの可動子とをロックするステップを含むことを特徴とする描画方法。
A base, a main scanning axis linear motor mounted on the base for scanning in the main scanning axis direction, and a sub-scanning axis direction mounted on a movable element of the main scanning axis linear motor and intersecting the main scanning axis direction A sub-scanning axis linear motor that performs scanning of the above and a θ-axis rotary motor that is mounted on a mover of the sub-scanning axis linear motor and rotates about an orthogonal axis that is orthogonal to the main scanning axis direction or the sub-scanning axis direction And a mover thereof, and a substrate transfer stage for placing a substrate as a drawing medium on the mover of the θ-axis rotary motor,
A drawing head portion for drawing by discharging a liquid material onto the substrate;
The substrate transport stage is a drawing method using a drawing apparatus including a lock unit that locks the mover of the main scanning axis linear motor and the mover of the θ-axis rotary motor,
A substrate feeding step of feeding the substrate placed on the substrate transfer stage to the drawing start position by driving the main scanning axis linear motor and the sub scanning axis linear motor;
Start of drawing in which the difference between the predetermined drawing start position and the actual position of the substrate after the substrate supply step is within an allowable range by operating the sub-scanning linear motor and the θ-axis rotary motor A position correction step;
A drawing step of performing desired drawing on the substrate by discharging the liquid material from the drawing head unit while scanning the substrate in the main scanning axis direction by the main scanning axis linear motor after the drawing start position correcting step; Including,
Before the drawing step, the drawing method includes a step of locking the movable element of the main scanning axis linear motor and the movable element of the θ-axis rotary motor by the locking means.
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