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JP2013077031A - Actuator, driving device and imaging apparatus - Google Patents

Actuator, driving device and imaging apparatus Download PDF

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JP2013077031A
JP2013077031A JP2013006837A JP2013006837A JP2013077031A JP 2013077031 A JP2013077031 A JP 2013077031A JP 2013006837 A JP2013006837 A JP 2013006837A JP 2013006837 A JP2013006837 A JP 2013006837A JP 2013077031 A JP2013077031 A JP 2013077031A
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JP
Japan
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layer
actuator
conductive
heater
heat
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2013006837A
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Japanese (ja)
Inventor
Natsuki Yamamoto
夏樹 山本
Akira Kosaka
明 小坂
Takashi Matsuo
隆 松尾
Yasutaka Tanimura
康隆 谷村
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Konica Minolta Advanced Layers Inc
Original Assignee
Konica Minolta Advanced Layers Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actuator able to reduce power consumption by improving heat efficiency, and to provide a driving device and imaging apparatus that use the actuator.SOLUTION: The actuator comprises a fixed part, a first movable part, a second movable part and a conductive part. Here, the first movable part is composed by arranging a plurality of parts in layers. The plurality of parts include: a first beam part provided with respect to the fixed part; a first force generation part for generating force according to the application of heat; and a first heat generation part for generating heat according to the supply of current. The first movable part is deformed according to heat generation in the first heat generation part. The second movable part is composed by arranging a plurality of parts in layers. The plurality of parts include a second beam part provided with respect to the fixed part; a second force generation part for generating force according to heat generation; and a second heat generation part for generating heat according to the supply of current. The second movable part is deformed according to the heat generation in the second heat generation part. The conductive part electrically connects the first and second heat generation parts, and is lower in electric resistance per unit length than the first and second heat generation parts.

Description

本発明は、アクチュエータ、ならびに該アクチュエータを用いた駆動装置および撮像装置に関する。   The present invention relates to an actuator, and a driving device and an imaging device using the actuator.

近年、携帯電話機に代表される携帯式の電子機器に、デジタルカメラの機能が標準搭載されるようになってきている。このような携帯式の電子機器については、更なる小型軽量化が常に要求されており、カメラモジュールの小型軽量化も必然的に求められる。その一方で、携帯式の電子機器に搭載されるカメラモジュールに対しては、オートフォーカス機能や手振れ補正機能等といった機能の強化も要請される。   In recent years, functions of a digital camera have come to be standardly installed in portable electronic devices typified by cellular phones. For such portable electronic devices, further reduction in size and weight is always required, and reduction in size and weight of the camera module is inevitably required. On the other hand, for camera modules mounted on portable electronic devices, it is required to enhance functions such as an autofocus function and a camera shake correction function.

このようなカメラモジュールの高機能化には、光学系やメカ機構を駆動するためのアクチュエータが必須であり、小型軽量化の要求を満足しながら高機能化を実現するためのアクチュエータが求められる。   In order to increase the functionality of such a camera module, an actuator for driving an optical system and a mechanical mechanism is indispensable, and an actuator for realizing higher functionality while satisfying the demand for reduction in size and weight is required.

このような要求に対して、バイメタルを用いたアクチュエータや形状記憶合金を用いた小型のアクチュエータが提案されている(例えば、特許文献1,2)。このようなアクチュエータでは、加熱と冷却によって駆動力を生じるため、応答性の向上を目的とした加熱速度と冷却速度の向上を図る必要性がある。   In response to such requirements, actuators using bimetals and small actuators using shape memory alloys have been proposed (for example, Patent Documents 1 and 2). In such an actuator, since driving force is generated by heating and cooling, it is necessary to improve the heating rate and the cooling rate for the purpose of improving responsiveness.

特開2004−255614号公報JP 2004-255614 A 特開2007−193248号公報JP 2007-193248 A

しかしながら、上記特許文献1,2の技術では、駆動力を生じさせるために加熱すべき部分以外における熱効率については全く考慮されておらず、熱損失の発生により、熱効率の低下による消費電力の上昇を招く。   However, the techniques of Patent Documents 1 and 2 do not consider the thermal efficiency except for the portion to be heated in order to generate the driving force, and increase in power consumption due to the decrease in thermal efficiency due to the generation of heat loss. Invite.

本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、熱効率の上昇による消費電力の低減を図ることが可能なアクチュエータ、ならびに該アクチュエータを用いた駆動装置および撮像装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide an actuator capable of reducing power consumption due to an increase in thermal efficiency, and a drive device and an imaging device using the actuator. .

上記課題を解決するために、第1の態様に係るアクチュエータは、固定部と、前記固定部に対して設けられる第1梁部と、加熱に応じて力を発生する第1力発生部と、電流の供給に応じて発熱する第1発熱部とを含む複数の部分が積み重ねられて構成され、且つ前記第1発熱部における発熱に応じて変形する第1可動部と、前記固定部に対して設けられる第2梁部と、加熱に応じて力を発生する第2力発生部と、電流の供給に応じて発熱する第2発熱部とを含む複数の部分が積み重なられて構成され、且つ前記第2発熱部における発熱に応じて変形する第2可動部と、前記第1発熱部と前記第2発熱部とを電気的に接続し、且つ前記第1および第2発熱部よりも単位長さ当たりの電気抵抗が低い導電部とを備える。   In order to solve the above-described problem, an actuator according to a first aspect includes a fixed portion, a first beam portion provided for the fixed portion, a first force generating portion that generates a force in response to heating, A plurality of portions including a first heat generating portion that generates heat in response to current supply are stacked, and a first movable portion that deforms in response to heat generated in the first heat generating portion, and the fixed portion A plurality of portions including a second beam portion to be provided, a second force generating portion that generates force in response to heating, and a second heat generating portion that generates heat in response to supply of current are stacked and configured. The second movable part deforming according to the heat generation in the second heat generating part, the first heat generating part and the second heat generating part are electrically connected, and the unit is more unit than the first and second heat generating parts. A conductive portion having a low electrical resistance per length.

第2の態様に係るアクチュエータは、第1の態様に係るアクチュエータであって、前記第1および第2力発生部が、形状記憶合金を含む。   The actuator which concerns on a 2nd aspect is an actuator which concerns on a 1st aspect, Comprising: The said 1st and 2nd force generation part contains a shape memory alloy.

第3の態様に係るアクチュエータは、第1の態様に係るアクチュエータであって、前記第1および第2力発生部が、前記第1および第2梁部の熱膨張率よりも高い熱膨張率を有する。   An actuator according to a third aspect is the actuator according to the first aspect, wherein the first and second force generation units have a thermal expansion coefficient higher than that of the first and second beam parts. Have.

第4の態様に係る駆動装置は、第1から第3の何れか1つの態様に係るアクチュエータと、前記第1および第2可動部の変形によって移動される移動対象物とを備える。   A drive device according to a fourth aspect includes an actuator according to any one of the first to third aspects, and a moving object that is moved by deformation of the first and second movable parts.

第5の態様に係る撮像装置は、第1から第3の何れか1つの態様に係るアクチュエータと、撮像素子と、被写体からの光を前記撮像素子まで導く光学系とを備え、前記撮像素子および前記光学系のうちの少なくとも一方が、前記第1および第2可動部の変形によって移動される。   An imaging device according to a fifth aspect includes the actuator according to any one of the first to third aspects, an imaging element, and an optical system that guides light from a subject to the imaging element, and the imaging element and At least one of the optical systems is moved by deformation of the first and second movable parts.

第6の態様に係る駆動装置は、固定部と、前記固定部に対して設けられる第1梁部と、加熱に応じて力を発生する第1力発生部と、電流の供給に応じて発熱する第1発熱部とを含む複数の部分が積み重ねられて構成され且つ前記第1発熱部における発熱に応じて変形する第1可動部と、前記固定部に対して設けられる第2梁部と、加熱に応じて力を発生する第2力発生部と、電流の供給に応じて発熱する第2発熱部とを含む複数の部分が積み重ねられて構成され且つ前記第2発熱部における発熱に応じて変形する第2可動部と、を含むアクチュエータ層と、前記第1発熱部と前記第2発熱部とを電気的に接続し、且つ前記第1および第2発熱部よりも単位長さ当たりの電気抵抗が低い導電層と、前記第1および第2可動部によって移動される移動対象物とを備える。   The drive device according to the sixth aspect includes a fixed portion, a first beam portion provided for the fixed portion, a first force generating portion that generates a force in response to heating, and heat generation in response to a current supply. A plurality of portions including a first heat generating portion to be stacked and configured to be deformed in response to heat generated in the first heat generating portion; a second beam portion provided to the fixed portion; A plurality of parts including a second force generating part that generates a force in response to heating and a second heat generating part that generates heat in response to a current supply are stacked, and in response to heat generated in the second heat generating part. An actuator layer including a deformable second movable portion; and the first heat generating portion and the second heat generating portion are electrically connected, and the electric power per unit length is greater than that of the first and second heat generating portions. It is moved by the conductive layer having low resistance and the first and second movable parts. And a dynamic object.

第7の態様に係る撮像装置は、第6の態様に係る駆動装置を備え、撮像素子と、被写体からの光を前記撮像素子まで導く光学系とを含み、前記移動対象物が、前記撮像素子および前記光学系のうちの少なくとも一方を含む。   An imaging device according to a seventh aspect includes the drive device according to the sixth aspect, includes an imaging device and an optical system that guides light from a subject to the imaging device, and the moving object is the imaging device. And at least one of the optical systems.

第1から第3の何れの態様に係るアクチュエータによっても、第1発熱部と第2発熱部とを電気的に接続する配線において発熱が抑制されるため、熱効率の上昇による消費電力の低減を図ることができる。   With the actuator according to any of the first to third aspects, heat generation is suppressed in the wiring that electrically connects the first heat generating portion and the second heat generating portion, so that power consumption is reduced due to an increase in thermal efficiency. be able to.

第4の態様に係る駆動装置、および第5の態様に係る撮像装置の何れによっても、移動対象物を移動させる際に、第1発熱部と第2発熱部とを電気的に接続する配線において発熱が抑制されるため、熱効率の上昇による消費電力の低減を図ることができる。   In any of the drive device according to the fourth aspect and the imaging device according to the fifth aspect, in the wiring that electrically connects the first heat generating part and the second heat generating part when moving the moving object Since heat generation is suppressed, power consumption can be reduced due to an increase in thermal efficiency.

第6および第7の何れの態様に係る駆動装置によっても、移動対象物を移動させる際に、第1発熱部と第2発熱部とを電気的に接続する配線において発熱が抑制されるため、熱効率の上昇による消費電力の低減を図ることができる。   With the driving devices according to any of the sixth and seventh aspects, when moving the object to be moved, heat generation is suppressed in the wiring that electrically connects the first heat generating unit and the second heat generating unit. Power consumption can be reduced by increasing the thermal efficiency.

本発明の一実施形態に係るカメラモジュールを搭載した携帯電話機の概略構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows schematic structure of the mobile telephone carrying the camera module which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る第1の筐体に着目した断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram paying attention to the 1st housing | casing which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係るカメラモジュールの断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram of the camera module which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係るカメラモジュールを側方から見た外観図である。It is the external view which looked at the camera module which concerns on one Embodiment of this invention from the side. 本発明の一実施形態に係るカメラモジュールを側方から見た外観図である。It is the external view which looked at the camera module which concerns on one Embodiment of this invention from the side. レンズ群の断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram of a lens group. レンズ群の断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram of a lens group. 第1レンズ構成層を下方から見た外観図である。It is the external view which looked at the 1st lens constituent layer from the lower part. 第2レンズ構成層を上方から見た外観図である。It is the external view which looked at the 2nd lens constituent layer from the upper part. スペーサ層の形状を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the shape of a spacer layer. レンズ位置調整層を上方から見た外観図である。It is the external view which looked at the lens position adjustment layer from the upper part. レンズ位置調整層を側方から見た外観図である。It is the external view which looked at the lens position adjustment layer from the side. アクチュエータ層を上方から見た外観図である。It is the external view which looked at the actuator layer from the upper part. アクチュエータ層を側方から見た外観図である。It is the external view which looked at the actuator layer from the side. アクチュエータ層を構成するベース層の形状を示す図である。It is a figure which shows the shape of the base layer which comprises an actuator layer. アクチュエータ層を構成するアクチュエータ素子層の形状を示す図である。It is a figure which shows the shape of the actuator element layer which comprises an actuator layer. アクチュエータ層を構成する第1絶縁層の形状を示す図である。It is a figure which shows the shape of the 1st insulating layer which comprises an actuator layer. アクチュエータ層を構成するヒータ層の形状を示す図である。It is a figure which shows the shape of the heater layer which comprises an actuator layer. アクチュエータ層を構成する導電層の形状を示す図である。It is a figure which shows the shape of the conductive layer which comprises an actuator layer. アクチュエータ層を構成する第2絶縁層の形状を示す図である。It is a figure which shows the shape of the 2nd insulating layer which comprises an actuator layer. 可動部の動作例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the operation example of a movable part. 可動部の動作例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the operation example of a movable part. 第2平行ばねを下方から見た外観図である。It is the external view which looked at the 2nd parallel spring from the downward direction. レンズ群に装着された第2平行ばねを示す図である。It is a figure which shows the 2nd parallel spring with which the lens group was mounted | worn. 第1平行ばねを下方から見た外観図である。It is the external view which looked at the 1st parallel spring from the lower part. レンズ群に装着された第1平行ばねを示す図である。It is a figure which shows the 1st parallel spring with which the lens group was mounted | worn. カメラモジュールの製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process of a camera module. 準備されたシート等を積層させて接合する様子を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically a mode that the prepared sheet | seat etc. are laminated | stacked and joined. 本発明の変形例に係るカメラモジュールの断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram of the camera module which concerns on the modification of this invention. 本発明の変形例に係る導電枠層の形状を示す図である。It is a figure which shows the shape of the electroconductive frame layer which concerns on the modification of this invention. 本発明の変形例に係るアクチュエータ層を上方から見た外観図である。It is the external view which looked at the actuator layer which concerns on the modification of this invention from upper direction. 本発明の変形例に係るベース層の形状を示す図である。It is a figure which shows the shape of the base layer which concerns on the modification of this invention. 本発明の変形例に係るアクチュエータ素子層の形状を示す図である。It is a figure which shows the shape of the actuator element layer which concerns on the modification of this invention. 本発明の変形例に係る第1絶縁層の形状を示す図である。It is a figure which shows the shape of the 1st insulating layer which concerns on the modification of this invention. 本発明の変形例に係るヒータ層の形状を示す図である。It is a figure which shows the shape of the heater layer which concerns on the modification of this invention. 本発明の変形例に係る導電層の形状を示す図である。It is a figure which shows the shape of the conductive layer which concerns on the modification of this invention. 本発明の変形例に係る第2絶縁層の形状を示す図である。It is a figure which shows the shape of the 2nd insulating layer which concerns on the modification of this invention. 本発明の変形例に係る撮像素子を移動させる態様を示す図である。It is a figure which shows the aspect which moves the image pick-up element which concerns on the modification of this invention.

以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

<(1)携帯電話機の概略構成>
図1は、本発明の一実施形態に係るカメラモジュール500を搭載した携帯電話機100の概略構成を示す模式図である。なお、図1および図1以降の図では方位関係を明確化するために、XYZの相互に直交する3軸が適宜付されている。
<(1) Schematic configuration of mobile phone>
FIG. 1 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a mobile phone 100 equipped with a camera module 500 according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1 and the drawings after FIG. 1, three axes XYZ orthogonal to each other are appropriately attached in order to clarify the orientation relationship.

図1で示されるように、携帯電話機100は、折り畳み式の携帯電話機として構成され、第1の筐体200と、第2の筐体300と、ヒンジ部400とを有する。第1の筐体200および第2の筐体300は、それぞれ板状の略直方体の形状を有し、各種電子部材を格納する筐体としての役割を有する。具体的には、第1の筐体200は、カメラモジュール500および表示ディスプレイを有し、第2の筐体300は、携帯電話機100を電気的に制御する制御部とボタン等の操作部材とを有する。なお、ヒンジ部400は、第1の筐体200と第2の筐体300とを回動可能に接続している。このため、携帯電話機100は、折り畳み可能となっている。   As shown in FIG. 1, the mobile phone 100 is configured as a foldable mobile phone, and includes a first housing 200, a second housing 300, and a hinge part 400. Each of the first casing 200 and the second casing 300 has a plate-like substantially rectangular parallelepiped shape and serves as a casing for storing various electronic members. Specifically, the first casing 200 includes a camera module 500 and a display, and the second casing 300 includes a control unit that electrically controls the mobile phone 100 and an operation member such as a button. Have. In addition, the hinge part 400 has connected the 1st housing | casing 200 and the 2nd housing | casing 300 so that rotation is possible. For this reason, the mobile phone 100 can be folded.

図2は、携帯電話機100のうちの第1の筐体200に着目した断面模式図である。図1および図2で示されるように、カメラモジュール500は、XY断面のサイズが約5mm四方であり、厚さ(Z方向の奥行き)が約3mm程度である小型の撮像装置、所謂マイクロカメラユニット(MCU)となっている。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view focusing on the first casing 200 of the mobile phone 100. As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the camera module 500 is a small imaging device, so-called micro camera unit, having an XY cross section of about 5 mm square and a thickness (depth in the Z direction) of about 3 mm. (MCU).

以下、カメラモジュール500の構成、カメラモジュール500の製造工程、およびカメラモジュール500におけるレンズ駆動について順次説明する。   Hereinafter, the configuration of the camera module 500, the manufacturing process of the camera module 500, and lens driving in the camera module 500 will be sequentially described.

<(2)カメラモジュールの構成>
図3は、カメラモジュール500の断面模式図であり、図3の矢印AR1の示す方向が+Z方向に対応する。なお、図3以降の図面においても、方位関係の明確化のために、+Z方向に対応する方向を示す矢印AR1が適宜付されている。また、図4および図5は、カメラモジュール500を側方から見た側面図である。
<(2) Configuration of camera module>
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the camera module 500, and the direction indicated by the arrow AR1 in FIG. 3 corresponds to the + Z direction. In the drawings subsequent to FIG. 3, an arrow AR <b> 1 indicating a direction corresponding to the + Z direction is appropriately attached in order to clarify the orientation relationship. 4 and 5 are side views of the camera module 500 as viewed from the side.

図3で示されるように、カメラモジュール500は、撮影光学系としてのレンズ群20が移動可能に設けられている光学ユニットKBと、被写体像に関する撮影画像を取得する撮像部PBとを有している。   As shown in FIG. 3, the camera module 500 includes an optical unit KB in which a lens group 20 as a photographing optical system is movably provided, and an imaging unit PB that acquires a photographed image related to a subject image. Yes.

撮像部PBは、例えば、COMSセンサまたはCCDセンサ等の撮像素子181を有する撮像素子層18と、カバーガラス層17とが+Z方向にこの順序で積層された構成を有する。なお、カバーガラス層17が、赤外線(IR)をカットするフィルタ層を含むようにしても良い。   The imaging unit PB has a configuration in which, for example, an imaging element layer 18 having an imaging element 181 such as a COMS sensor or a CCD sensor, and a cover glass layer 17 are stacked in this order in the + Z direction. The cover glass layer 17 may include a filter layer that cuts infrared rays (IR).

光学ユニットKBは、蓋層10、第1枠層11、第1平行ばね(上層平行ばね)12、第2枠層13、第2平行ばね(下層平行ばね)14、アクチュエータ層15、レンズ位置調整層16、およびレンズ群20を備える。蓋層10、第1枠層11、第1平行ばね12、第2枠層13、第2平行ばね14、アクチュエータ層15、レンズ位置調整層16、およびレンズ群20は、いずれもウエハ状態(ウエハレベルで)製作される。これらの製作工程については後述する。   The optical unit KB includes a lid layer 10, a first frame layer 11, a first parallel spring (upper parallel spring) 12, a second frame layer 13, a second parallel spring (lower parallel spring) 14, an actuator layer 15, and lens position adjustment. The layer 16 and the lens group 20 are provided. The lid layer 10, the first frame layer 11, the first parallel spring 12, the second frame layer 13, the second parallel spring 14, the actuator layer 15, the lens position adjustment layer 16, and the lens group 20 are all in a wafer state (wafer Produced by level). These manufacturing processes will be described later.

光学ユニットKBでは、レンズ位置調整層16、アクチュエータ層15、第2平行ばね14、第2枠層13、第1平行ばね12、第1枠層11、および蓋層10が+Z方向にこの順序で積層され、第2平行ばね14と第1平行ばね12との間にレンズ群20が保持される。そして、第1平行ばね12と第2平行ばね14とアクチュエータ層15とが互いに協働することで、レンズ群20をZ軸に沿った方向に移動させる。   In the optical unit KB, the lens position adjusting layer 16, the actuator layer 15, the second parallel spring 14, the second frame layer 13, the first parallel spring 12, the first frame layer 11, and the lid layer 10 are arranged in this order in the + Z direction. The lens group 20 is held between the second parallel spring 14 and the first parallel spring 12. The first parallel spring 12, the second parallel spring 14, and the actuator layer 15 cooperate with each other to move the lens group 20 in the direction along the Z axis.

カメラモジュール500では、蓋層10、第1および第2枠層11,13、レンズ位置調整層16、カバーガラス層17、および撮像素子層18が、レンズ群20に対する固定部となる。また、カメラモジュール500および光学ユニットKBは、ウエハ状態(ウエハレベルで)製作され、その4つの側面(図4および図5のZ軸に平行な側面)が、ダイシングによって形成された切断面となっている。そして、この切断面では、光学ユニットKBおよび撮像部PBを構成する複数層の積層構造が露出している。   In the camera module 500, the lid layer 10, the first and second frame layers 11 and 13, the lens position adjustment layer 16, the cover glass layer 17, and the imaging element layer 18 serve as a fixing portion for the lens group 20. The camera module 500 and the optical unit KB are manufactured in a wafer state (at the wafer level), and four side surfaces thereof (side surfaces parallel to the Z axis in FIGS. 4 and 5) are cut surfaces formed by dicing. ing. And in this cut surface, the laminated structure of the multiple layer which comprises the optical unit KB and the imaging part PB is exposed.

ここで、レンズ群20は、固定部に結合された第1および第2平行ばね12,14によって支持される。より詳細には、レンズ群20の−Z側(撮像素子181が配置される側)におけるアクチュエータ層15と該レンズ群20との間には、第2平行ばね14が介挿される。また、レンズ群20の+Z側(蓋層10が配置される側)における第1枠層11と該レンズ群20との間には、第1平行ばね12が介挿される。つまり、レンズ群20は、第1平行ばね12と第2平行ばね14とによって挟まれている。ここでは、第1および第2平行ばね12,14によってレンズ群20が挟持されるため、レンズ群20の移動に拘わらず、レンズ群20の姿勢が保持され、レンズ群20の光軸が略一定に保持される。   Here, the lens group 20 is supported by the first and second parallel springs 12 and 14 coupled to the fixed portion. More specifically, the second parallel spring 14 is interposed between the actuator layer 15 and the lens group 20 on the −Z side (the side on which the image sensor 181 is disposed) of the lens group 20. Further, a first parallel spring 12 is interposed between the first frame layer 11 and the lens group 20 on the + Z side (the side where the lid layer 10 is disposed) of the lens group 20. That is, the lens group 20 is sandwiched between the first parallel spring 12 and the second parallel spring 14. Here, since the lens group 20 is clamped by the first and second parallel springs 12 and 14, the posture of the lens group 20 is maintained regardless of the movement of the lens group 20, and the optical axis of the lens group 20 is substantially constant. Retained.

また、第1および第2平行ばね12,14は、移動対象物であるレンズ群20が+Z方向に移動する際に、レンズ群20の移動方向(すなわち+Z方向)とは反対方向の力を、該レンズ群20に対して付与する。なお、レンズ群20が−Z方向に移動する際には、第1および第2平行ばね12,14がレンズ群20に対して付与する力の方向は、レンズ群20の移動方向(すなわち−Z方向)と一致する。   Further, the first and second parallel springs 12 and 14 apply a force in a direction opposite to the moving direction of the lens group 20 (that is, the + Z direction) when the lens group 20 as the moving object moves in the + Z direction. The lens group 20 is given. When the lens group 20 moves in the −Z direction, the direction of the force applied to the lens group 20 by the first and second parallel springs 12 and 14 is the moving direction of the lens group 20 (that is, −Z). Direction).

更に、レンズ群20が+Z方向に移動していない非駆動状態(例えば駆動前の静止状態)では、第1および第2平行ばね12,14の弾性力によってレンズ群20がレンズ位置調整層16の突起部162の上端面に対して押し付けられ、レンズ群20がレンズ位置調整層16によっても支持される。そして、この非駆動状態では、レンズ群20がZ軸に沿って変位可能な範囲(変位可能範囲)の最も−Z側の所定位置に配置されて静止する。   Further, in a non-driving state in which the lens group 20 is not moving in the + Z direction (for example, a stationary state before driving), the lens group 20 is moved by the elastic force of the first and second parallel springs 12 and 14 from the lens position adjusting layer 16. The lens group 20 is supported by the lens position adjusting layer 16 by being pressed against the upper end surface of the protrusion 162. In this non-driven state, the lens group 20 is disposed at a predetermined position on the most −Z side of the range (displaceable range) that can be displaced along the Z axis and is stationary.

なお、この所定位置は、例えば、撮像素子181において多数の画素回路が配列されている+Z側の面(以下「撮像面」とも称する)上に光学ユニットKBの焦点が配置されるような位置に設定される。ここで言う光学ユニットKBの焦点とは、+Z側から平行光線を光学ユニットKBに入射したときに、該光学ユニットKBから射出される光線が一点に集まる点のことを言う。   The predetermined position is, for example, a position where the focal point of the optical unit KB is disposed on the + Z side surface (hereinafter also referred to as “imaging surface”) on which a large number of pixel circuits are arranged in the image sensor 181. Is set. Here, the focal point of the optical unit KB refers to a point where light beams emitted from the optical unit KB gather at one point when parallel light beams enter the optical unit KB from the + Z side.

また、上述したように、非駆動状態では、レンズ群20は、第1および第2平行ばね12,14の弾性力によってレンズ位置調整層16に対して押し付けられるため、カメラモジュール500に対して強い衝撃が付与されても、レンズ群20の姿勢が保持される。   Further, as described above, in the non-driven state, the lens group 20 is pressed against the lens position adjustment layer 16 by the elastic force of the first and second parallel springs 12 and 14, and thus is strong against the camera module 500. Even when an impact is applied, the posture of the lens group 20 is maintained.

アクチュエータとしてのアクチュエータ層15は、+Z方向への駆動変位を発生させる可動部15a,15b(図13)を有し、レンズ群20の−Z側に配置されている。可動部15a,15bは、レンズ群20の−Z側に突出した第1突起部201と接触し、可動部15a,15bで生じる駆動変位は、第1突起部201を介してレンズ群20に伝達される。つまり、アクチュエータ層15は、自身の変形によって、移動対象物であるレンズ群20を所定方向(ここでは、+Z方向)に移動させる。なお、可動部15a,15bにおける+Z方向への駆動変位が小さくなっていく場面では、第1および第2平行ばね12,14の弾性力によって、レンズ群20が所定方向とは反対方向(−Z方向)に移動する。   The actuator layer 15 as an actuator has movable parts 15 a and 15 b (FIG. 13) that generate drive displacement in the + Z direction, and is disposed on the −Z side of the lens group 20. The movable portions 15 a and 15 b are in contact with the first protrusion 201 protruding to the −Z side of the lens group 20, and the drive displacement generated in the movable portions 15 a and 15 b is transmitted to the lens group 20 via the first protrusion 201. Is done. That is, the actuator layer 15 moves the lens group 20 that is the moving object in a predetermined direction (here, the + Z direction) by its deformation. In a scene where the drive displacement in the + Z direction in the movable portions 15a and 15b is reduced, the lens group 20 is moved in a direction opposite to the predetermined direction (−Z by the elastic force of the first and second parallel springs 12 and 14). Direction).

側面配線21は、カメラモジュール500の4つの側面のうちの1つの側面に配設される薄型の導電部材である。側面配線21は、図4および図5で示されるように、撮像素子層18を介して、ヒータ層154(図18)と、外部の電流供給源(不図示)とが電気的に接続する。なお、外部の電流供給源としては、制御部(不図示)からの信号に応じて供給する電流を制御するドライバ等が挙げられる。また、側面配線21と第2平行ばね14とが短絡しないように、第2平行ばね14と側面配線21との間に絶縁部14epが設けられる。   The side wiring 21 is a thin conductive member disposed on one of the four side surfaces of the camera module 500. As shown in FIGS. 4 and 5, the side wiring 21 is electrically connected to the heater layer 154 (FIG. 18) and an external current supply source (not shown) via the imaging element layer 18. Examples of the external current supply source include a driver that controls a current supplied in accordance with a signal from a control unit (not shown). Further, an insulating portion 14ep is provided between the second parallel spring 14 and the side wiring 21 so that the side wiring 21 and the second parallel spring 14 are not short-circuited.

以上のように、カメラモジュール500では、移動対象物であるレンズ群20が、該レンズ群20を介して互いに対向する位置に配置された第1および第2平行ばね12,14と結合され、該第1および第2平行ばね12,14がレンズ群20に垂直な方向(+Z方向)に弾性変形しつつ、レンズ群20の姿勢を保持する。そして、レンズ群20は、アクチュエータ層15の可動部15a,15bから駆動力を受けて、その位置をZ軸に沿って変位させる。従って、カメラモジュール500に設けられた光学ユニットKBは、レンズ群20を該レンズ群20の光軸方向(Z軸の方向)に変位させることができ、レンズ群20を変位させる駆動装置としてカメラモジュール500を機能させる。   As described above, in the camera module 500, the lens group 20 that is a moving object is coupled to the first and second parallel springs 12 and 14 disposed at positions facing each other via the lens group 20, The first and second parallel springs 12 and 14 are elastically deformed in a direction perpendicular to the lens group 20 (+ Z direction), and hold the posture of the lens group 20. The lens group 20 receives a driving force from the movable portions 15a and 15b of the actuator layer 15 and displaces the position along the Z axis. Therefore, the optical unit KB provided in the camera module 500 can displace the lens group 20 in the optical axis direction (Z-axis direction) of the lens group 20, and the camera module serves as a driving device for displacing the lens group 20. Make 500 work.

<(2-1)レンズ群について>
レンズ群20は、ガラス基板を基材としてウエハレベルで作製され、例えば、2枚以上のレンズを重ね合わせて成形される。本実施形態では、2枚の光学レンズを重ね合わせてレンズ群20が構成される場合について例示する。なお、本実施形態では、レンズ群20は、被写体からの光を撮像素子181に導く撮像レンズとして機能する。
<(2-1) Lens group>
The lens group 20 is manufactured at a wafer level using a glass substrate as a base material, and is formed by, for example, superposing two or more lenses. In the present embodiment, a case where the lens group 20 is configured by overlapping two optical lenses is illustrated. In the present embodiment, the lens group 20 functions as an imaging lens that guides light from the subject to the imaging element 181.

図6および図7は、レンズ群20の断面模式図であり、矢印AR2の示す方向が+Z方向に対応する。図8は、レンズ群20を下方(−Z側)から見たレンズ群20の下面外観図であり、図9は、レンズ群20を上方(+Z側)から見たレンズ群20の上面外観図である。   6 and 7 are schematic cross-sectional views of the lens group 20, and the direction indicated by the arrow AR2 corresponds to the + Z direction. 8 is a bottom external view of the lens group 20 when the lens group 20 is viewed from below (−Z side), and FIG. 9 is a top external view of the lens group 20 when the lens group 20 is viewed from above (+ Z side). It is.

図6および図7で示されるように、レンズ群20は、第1レンズG1を有する第1レンズ構成層LY1と、第2レンズG2を有する第2レンズ構成層LY2と、スペーサ層RBとを備える。そして、第1レンズ構成層LY1と第2レンズ構成層LY2とが、スペーサ層RBを介して結合される。ここでは、第1および第2レンズ構成層LY1,LY2の非レンズ部の外縁が略正方形の形状を有する。   As shown in FIGS. 6 and 7, the lens group 20 includes a first lens constituent layer LY1 having a first lens G1, a second lens constituent layer LY2 having a second lens G2, and a spacer layer RB. . Then, the first lens constituent layer LY1 and the second lens constituent layer LY2 are coupled via the spacer layer RB. Here, the outer edges of the non-lens portions of the first and second lens constituent layers LY1, LY2 have a substantially square shape.

また、図6〜図8で示されるように、第1レンズG1を有する第1レンズ構成層LY1の一方主面(ここでは、−Z側)には、レンズとして機能しない非レンズ部に第1突起部201が設けられる。更に、図6,図7および図9で示されるように、第2レンズG2を有する第2レンズ構成層LY2の一方主面(ここでは、+Z側)には、レンズとして機能しない非レンズ部に第2突起部202が設けられる。   As shown in FIGS. 6 to 8, the first main surface (here, −Z side) of the first lens constituent layer LY1 having the first lens G1 has a first non-lens portion that does not function as a lens. A protrusion 201 is provided. Furthermore, as shown in FIGS. 6, 7, and 9, a non-lens portion that does not function as a lens is provided on one main surface (here, + Z side) of the second lens constituent layer LY <b> 2 having the second lens G <b> 2. A second protrusion 202 is provided.

また、図10は、スペーサ層RBの形状に着目して、スペーサ層RBを上方(+Z側)から見た図である。図10で示されるように、スペーサ層RBは、第1および第2レンズ構成層LY1,LY2の非レンズ部の外縁に沿って設けられ、XY断面の外縁および内縁の形状が矩形である環状の構成を有する。そして、レンズ群20の光軸が、Z軸に沿った方向に設定される。   FIG. 10 is a view of the spacer layer RB as viewed from above (+ Z side), focusing on the shape of the spacer layer RB. As shown in FIG. 10, the spacer layer RB is provided along the outer edge of the non-lens portion of the first and second lens constituting layers LY1 and LY2, and the outer edge and the inner edge of the XY cross section are rectangular in shape. It has a configuration. Then, the optical axis of the lens group 20 is set in a direction along the Z axis.

<(2-2)各機能層について>
以下では、カメラモジュール500を構成する各機能層の詳細について説明する。なお、各機能層については、−Z側の面を一主面と称し、+Z側の面を他主面と称する。
<(2-2) About each functional layer>
Below, the detail of each functional layer which comprises the camera module 500 is demonstrated. For each functional layer, the −Z side surface is referred to as one main surface, and the + Z side surface is referred to as the other main surface.

<(2-2-1)撮像素子層>
図3で示されるように、撮像素子層18は、光学ユニットKBを通過した被写体からの光を受光して、被写体の像に関する画像信号を生成する撮像素子181、その周辺回路、および撮像素子181を囲む外周部を備える部材である。また、撮像素子181は、多数の画素回路が配列されて構成される。なお、撮像素子層18の一主面(−Z側の面)には、リフロー方式によるはんだ付けを行うためのはんだボールHBが設けられている。また、ここでは図示を省略しているが、撮像素子層18の一主面には、撮像素子181に対する信号の付与、および該撮像素子181からの信号の読み出しを行う配線を接続するための各種端子が設けられる。
<(2-2-1) Image sensor layer>
As shown in FIG. 3, the image sensor layer 18 receives light from the subject that has passed through the optical unit KB, and generates an image signal related to the image of the subject, its peripheral circuit, and the image sensor 181. It is a member provided with the outer peripheral part which surrounds. The image sensor 181 is configured by arranging a large number of pixel circuits. Note that a solder ball HB for performing reflow soldering is provided on one main surface (the surface on the −Z side) of the imaging element layer 18. Although not shown here, various types of wiring for applying a signal to the image sensor 181 and reading a signal from the image sensor 181 are connected to one main surface of the image sensor layer 18. A terminal is provided.

<(2-2-2)カバーガラス層>
図3で示されるように、カバーガラス層17は、略平板状であり且つXY断面が略正方形の形状を有し、透明なガラス等によって構成される。このカバーガラス層17は、撮像素子層18の他主面(+Z側の面)に対して接合され、撮像素子181を保護する機能を有する。なお、カバーガラス層17が撮像素子層18上に接合された状態で撮像素子基板178を構成する。
<(2-2-2) Cover glass layer>
As shown in FIG. 3, the cover glass layer 17 has a substantially flat plate shape and an XY cross section having a substantially square shape, and is made of transparent glass or the like. The cover glass layer 17 is bonded to the other main surface (+ Z side surface) of the image sensor layer 18 and has a function of protecting the image sensor 181. The image sensor substrate 178 is configured with the cover glass layer 17 bonded to the image sensor layer 18.

<(2-2-3)レンズ位置調整層>
レンズ位置調整層16は、樹脂材料を用いて構成されるとともに、撮像素子181とレンズ群20との間に配設され、且つ撮像素子181とレンズ群20との距離を調整する部材である。具体的には、レンズ位置調整層16は、非駆動状態におけるレンズ群20の位置(初期位置)を規定する。なお、レンズ位置調整層16は、例えば、樹脂をエッチングする手法等を用いて生成される。
<(2-2-3) Lens position adjustment layer>
The lens position adjustment layer 16 is configured by using a resin material, is disposed between the image sensor 181 and the lens group 20, and is a member that adjusts the distance between the image sensor 181 and the lens group 20. Specifically, the lens position adjustment layer 16 defines the position (initial position) of the lens group 20 in the non-driven state. The lens position adjustment layer 16 is generated using, for example, a method of etching a resin.

図11は、レンズ位置調整層16を上方(+Z側)から見たレンズ位置調整層16の上面図である。図12は、レンズ位置調整層16を側方から見たレンズ位置調整層16の側面図である。図11および図12で示されるように、レンズ位置調整層16は、枠体161と突起部162とを備える。   FIG. 11 is a top view of the lens position adjusting layer 16 as seen from above (+ Z side). FIG. 12 is a side view of the lens position adjusting layer 16 when the lens position adjusting layer 16 is viewed from the side. As shown in FIGS. 11 and 12, the lens position adjustment layer 16 includes a frame body 161 and a protrusion 162.

枠体161は、レンズ位置調整層16の外周部分を構成する略矩形の環状の部分であり、XY平面に略平行な板状の形状を有する。そして、枠体161は、Z軸に沿った方向に貫通する孔(貫通孔)16Hを形成し、枠体161を構成する+Y側の板状の部材および−Y側の板状の部材は、貫通孔16H側に出っ張った部分(凸部)161Tをそれぞれ有する。また、枠体161の一主面は、隣接するカバーガラス層17に対して接合され、枠体161の他主面は、隣接するアクチュエータ層15(詳細には、アクチュエータ層15の枠体15f(図13))と接合される。   The frame 161 is a substantially rectangular annular portion that constitutes the outer peripheral portion of the lens position adjusting layer 16, and has a plate-like shape substantially parallel to the XY plane. The frame 161 forms a hole (through-hole) 16H penetrating in the direction along the Z axis, and the + Y side plate-like member and the −Y side plate-like member constituting the frame 161 are: Each has a protruding portion 161T that protrudes toward the through hole 16H. Further, one main surface of the frame body 161 is bonded to the adjacent cover glass layer 17, and the other main surface of the frame body 161 is connected to the adjacent actuator layer 15 (specifically, the frame body 15 f of the actuator layer 15 ( FIG. 13)).

突起部162は、枠体161を構成する凸部161Tの内縁近傍において上方(+Z方向)に向けて立設される。この突起部162は、XZ平面に略平行で且つ略長方形の盤面を有する板状の部分であり、突起部162の長手方向がX軸に略平行な方向とされ、突起部162の短手方向がZ軸に略平行な方向とされている。そして、突起部162の+Z側の端面は、レンズ群20が当接することで、該レンズ群20を初期位置に配置する機能を有する。   The protrusion 162 is erected upward (in the + Z direction) in the vicinity of the inner edge of the convex portion 161T constituting the frame body 161. The projection 162 is a plate-like portion having a substantially rectangular board surface substantially parallel to the XZ plane, and the longitudinal direction of the projection 162 is a direction substantially parallel to the X axis, and the short direction of the projection 162 Is a direction substantially parallel to the Z-axis. The end surface on the + Z side of the protrusion 162 has a function of placing the lens group 20 at the initial position when the lens group 20 comes into contact therewith.

また、図11では、撮像素子181を構成する複数の画素回路が配列される領域(画素配列領域)、すなわち撮像素子181の前面(撮像面)の外縁が破線で示されている。図11で示されるように、撮像面は、(短辺の長さ):(長辺の長さ):(対角線の長さ)=3:4:5の関係が成立するように構成される。そして、突起部162は、被写体からレンズ群20を介して撮像素子181の画素配列領域に至る光路を、該画素配列領域の幅が最も狭い方向において挟む位置に配設されている。つまり、撮影への悪影響、および装置の大型化を招かないように、突起部162が設置される。   In FIG. 11, a region (pixel array region) in which a plurality of pixel circuits constituting the image sensor 181 are arranged, that is, an outer edge of the front surface (imaging surface) of the image sensor 181 is indicated by a broken line. As shown in FIG. 11, the imaging surface is configured such that the relationship of (short side length) :( long side length) :( diagonal length) = 3: 4: 5 is established. . The protrusion 162 is disposed at a position that sandwiches the optical path from the subject through the lens group 20 to the pixel array region of the image sensor 181 in the direction in which the width of the pixel array region is the narrowest. That is, the protrusion 162 is installed so as not to adversely affect the photographing and increase the size of the apparatus.

<(2-2-4)アクチュエータ層>
図13は、アクチュエータ層15を上方(+Z側)から見た該アクチュエータ層15の上面図である。図14は、アクチュエータ層15を側方から見た該アクチュエータ層15の側面図である。図15から図20は、アクチュエータ層15を構成する各層の構成を示す図である。
<(2-2-4) Actuator layer>
FIG. 13 is a top view of the actuator layer 15 as seen from above (+ Z side). FIG. 14 is a side view of the actuator layer 15 as seen from the side. 15 to 20 are diagrams showing the configuration of each layer constituting the actuator layer 15.

図13で示されるように、アクチュエータ層15は、外周部を構成する枠体15fと、枠体15fの内側の中空部分に対して枠体15fから突設される2枚の板状の可動部15aおよび15bとを備える。また、アクチュエータ層15は、ベース層151(図15)、アクチュエータ素子層152(図16)、第1絶縁層153(図17)、ヒータ層154(図18)、導電層155(図19)、および第2絶縁層156(図20)が、−Z側から+Z側に向けてこの順番に積層されて構成される。   As shown in FIG. 13, the actuator layer 15 includes a frame body 15 f constituting an outer peripheral portion, and two plate-like movable portions that protrude from the frame body 15 f with respect to a hollow portion inside the frame body 15 f. 15a and 15b. The actuator layer 15 includes a base layer 151 (FIG. 15), an actuator element layer 152 (FIG. 16), a first insulating layer 153 (FIG. 17), a heater layer 154 (FIG. 18), a conductive layer 155 (FIG. 19), And the 2nd insulating layer 156 (FIG. 20) is laminated | stacked in this order from -Z side to + Z side, and is comprised.

ベース層151は、枠体15fを構成する固定部としてのベース枠体151fと、ベース枠体151fの内側の中空部分に対してベース枠体151fから突設される2枚の板状の突設部151a,151bを備える。ここでは、梁部としての突設部151aが可動部15aを構成するとともに、梁部としての突設部151bが可動部15bを構成する。また、ベース層151は、シリコン等の熱膨張率が低い素材によって構成される。   The base layer 151 includes a base frame 151f as a fixing portion constituting the frame 15f, and two plate-like protrusions protruding from the base frame 151f with respect to a hollow portion inside the base frame 151f. The units 151a and 151b are provided. Here, the protruding portion 151a as the beam portion constitutes the movable portion 15a, and the protruding portion 151b as the beam portion constitutes the movable portion 15b. The base layer 151 is made of a material having a low coefficient of thermal expansion such as silicon.

アクチュエータ素子層152は、可動部15aを構成する力発生部152a、および可動部15bを構成する力発生部152bを有する。力発生部152a,152bは、ベース層151とは異なる特性を有する素材によって構成され、加熱に応じて変形することで、力を発生する。ここでは、力発生部152a,152bが、形状記憶合金(SMA)によって構成されるものとして説明する。なお、力発生部152aは、スパッタリングや蒸着等の手法によって、突設部151aの+Z側の主面(他主面)の全域を覆うように形成される。同様に、力発生部152bは、スパッタリングや蒸着等の手法によって、突設部151bの+Z側の主面(他主面)の全域を覆うように形成される。   The actuator element layer 152 includes a force generator 152a that constitutes the movable portion 15a, and a force generator 152b that constitutes the movable portion 15b. The force generators 152a and 152b are made of a material having characteristics different from those of the base layer 151, and generate force by being deformed in response to heating. Here, the description will be made assuming that the force generators 152a and 152b are made of a shape memory alloy (SMA). The force generation part 152a is formed so as to cover the entire area of the + Z side main surface (other main surface) of the protruding part 151a by a technique such as sputtering or vapor deposition. Similarly, the force generator 152b is formed so as to cover the entire area of the + Z side main surface (other main surface) of the protruding portion 151b by a technique such as sputtering or vapor deposition.

第1絶縁層153は、酸化膜(二酸化珪素等)等の絶縁体によって構成される。この第1絶縁層153は、スパッタリングや蒸着等の手法によって、図17で示されるように、ベース枠体151fおよびアクチュエータ素子層152の+Z側の主面(他主面)を覆うように形成される。   The first insulating layer 153 is made of an insulator such as an oxide film (silicon dioxide or the like). The first insulating layer 153 is formed by a technique such as sputtering or vapor deposition so as to cover the main surface (the other main surface) on the + Z side of the base frame 151f and the actuator element layer 152, as shown in FIG. The

ヒータ層154は、白金等の抵抗率が高い導電性を有する金属等によって構成される。ヒータ層154は、半導体の製造プロセス等で一般的に用いられるフォトリソグラフィ技術によって、第1絶縁層153の+Z側の主面(他主面)上に形成される。図18で示されるように、ヒータ層154は、1本の細長い配線のような形状で設けられる。具体的には、ヒータ層154では、配線部1541、ヒータ部154a、配線部1542、ヒータ部154b、および配線部1543がこの順番で延設され、順次に電気的に接続される。そして、配線部1541,1542,1543が、枠体15fを構成し、ヒータ部154aが、可動部15aを構成し、ヒータ部154bが、可動部15bを構成する。   The heater layer 154 is made of a conductive metal such as platinum having a high resistivity. The heater layer 154 is formed on the + Z side main surface (the other main surface) of the first insulating layer 153 by a photolithography technique generally used in a semiconductor manufacturing process or the like. As shown in FIG. 18, the heater layer 154 is provided in a shape like one elongated wiring. Specifically, in the heater layer 154, the wiring portion 1541, the heater portion 154a, the wiring portion 1542, the heater portion 154b, and the wiring portion 1543 are extended in this order, and are sequentially electrically connected. The wiring portions 1541, 1542, and 1543 constitute the frame 15f, the heater portion 154a constitutes the movable portion 15a, and the heater portion 154b constitutes the movable portion 15b.

詳細には、図18で示されるように、ヒータ部154aが、可動部15aのうちの枠体15fに固定される一端部(固定端)から、該可動部15aの他端部(自由端)FT近傍にかけて延設されるとともに、自由端FT近傍で折り返されて、自由端FT近傍から固定端にかけて延設される。同様に、ヒータ部154bが、可動部15bのうちの枠体15fに固定される一端部(固定端)から、該可動部15bの他端部(自由端)FT近傍にかけて延設されるとともに、自由端FT近傍で折り返されて、自由端FTから固定端にかけて延設される。   Specifically, as shown in FIG. 18, the heater portion 154a is fixed from one end (fixed end) to the frame 15f of the movable portion 15a to the other end (free end) of the movable portion 15a. It extends over the vicinity of the FT, is folded back near the free end FT, and extends from the vicinity of the free end FT to the fixed end. Similarly, the heater portion 154b extends from one end portion (fixed end) fixed to the frame 15f of the movable portion 15b to the vicinity of the other end portion (free end) FT of the movable portion 15b. It is folded near the free end FT and extends from the free end FT to the fixed end.

導電層155は、銅等といったヒータ層154を構成する素材よりも抵抗率が相対的に低い導電体によって構成される。導電層155は、半導体の製造プロセス等で一般的に用いられるフォトリソグラフィ技術によって、第1絶縁層153およびヒータ層154の+Z側の主面(他主面)上に形成される。図19で示されるように、導電層155は、配線部1541の+Z側の主面(他主面)を覆う第1導電部1551、配線部1542の+Z側の主面(他主面)を覆う第2導電部1552、および配線部1543の+Z側の主面(他主面)を覆う第3導電部1553によって構成される。つまり、ヒータ層154の+Z側の主面(他主面)のうち、ヒータ部154aとヒータ部154bとを除く略全域が、導電層155によって覆われる。また、第1〜3導電部1551〜1553は、それぞれ分離して設けられ、枠体15fを構成する。更に、第1〜3導電部1551〜1553の幅は、何れも枠体15fの幅と同程度であり、ヒータ層154の太さと比較して、第1〜3導電部1551〜1553の太さが相対的に太くなっている。   The conductive layer 155 is made of a conductor having a relatively lower resistivity than the material constituting the heater layer 154, such as copper. The conductive layer 155 is formed on the + Z side main surface (other main surface) of the first insulating layer 153 and the heater layer 154 by a photolithography technique generally used in a semiconductor manufacturing process or the like. As shown in FIG. 19, the conductive layer 155 includes a first conductive portion 1551 that covers the + Z side main surface (other main surface) of the wiring portion 1541, and a + Z side main surface (other main surface) of the wiring portion 1542. The second conductive portion 1552 is covered, and the third conductive portion 1553 is formed to cover the main surface (other main surface) on the + Z side of the wiring portion 1543. That is, the conductive layer 155 covers substantially the entire area of the heater layer 154 on the + Z side main surface (other main surface) except the heater portion 154a and the heater portion 154b. Further, the first to third conductive portions 1551 to 1553 are provided separately, and constitute a frame 15f. Furthermore, the widths of the first to third conductive portions 1551 to 1553 are all the same as the width of the frame 15f, and the thickness of the first to third conductive portions 1551 to 1553 is larger than the thickness of the heater layer 154. Is relatively thick.

第1導電部1551は、枠体15fの外縁から内縁近傍にかけて設けられ、配線部1541の+Z側の主面(他主面)を覆うとともに、該第1導電部1551の一端部がヒータ部154aの一端部と電気的に接続される。そして、第1導電部1551のうちの枠体15fの外縁を形成する他端部が、側面配線21と電気的に接続される電極部1551Sを形成する。すなわち、第1導電部1551は、側面配線21が電気的に接続される電極部1551Sとヒータ部154aの一端部とを電気的に接続する導電部として機能する。   The first conductive portion 1551 is provided from the outer edge to the vicinity of the inner edge of the frame 15f, covers the + Z side main surface (other main surface) of the wiring portion 1541, and one end portion of the first conductive portion 1551 is the heater portion 154a. Is electrically connected to one end of the. And the other end part which forms the outer edge of the frame 15f of the 1st electroconductive part 1551 forms the electrode part 1551S electrically connected with the side wiring 21. FIG. That is, the first conductive portion 1551 functions as a conductive portion that electrically connects the electrode portion 1551S to which the side wiring 21 is electrically connected and one end portion of the heater portion 154a.

第2導電部1552は、配線部1542の+Z側の主面(他主面)の略全域を覆い且つヒータ部154aの他端部とヒータ部154bの一端部とを電気的に接続する導電部として機能する。なお、第2導電部1552については、側面配線21と接触して短絡が生じないように、アクチュエータ層15の−X側の外縁部(ここでは、電極部1551Sが形成される外縁部)から+X方向に若干だけ離隔された位置から+X方向に向けて形成される。   The second conductive portion 1552 covers a substantially entire area of the main surface (other main surface) on the + Z side of the wiring portion 1542 and electrically connects the other end portion of the heater portion 154a and one end portion of the heater portion 154b. Function as. The second conductive portion 1552 is + X from the outer edge portion on the −X side of the actuator layer 15 (here, the outer edge portion where the electrode portion 1551S is formed) so that a short circuit does not occur due to contact with the side wiring 21. It is formed toward the + X direction from a position slightly separated in the direction.

第3導電部1553は、配線部1543の+Z側の主面(他主面)の略全域を覆うとともに、該第3導電部1553の一端部がヒータ部154bの他端部と電気的に接続される。そして、第3導電部1553のうちの枠体15fの外縁を形成する他端部が、側面配線21と電気的に接続される電極部1553Sを形成する。すなわち、第3導電部1553は、側面配線21が電気的に接続される電極部1553Sとヒータ部154bの他端部とを電気的に接続する導電部として機能する。   The third conductive portion 1553 covers substantially the entire area of the main surface (other main surface) on the + Z side of the wiring portion 1543, and one end portion of the third conductive portion 1553 is electrically connected to the other end portion of the heater portion 154b. Is done. The other end portion of the third conductive portion 1553 that forms the outer edge of the frame body 15f forms an electrode portion 1553S that is electrically connected to the side surface wiring 21. That is, the third conductive portion 1553 functions as a conductive portion that electrically connects the electrode portion 1553S to which the side wiring 21 is electrically connected and the other end portion of the heater portion 154b.

第2絶縁層156は、酸化膜(二酸化珪素等)等の絶縁体によって構成される。この第2絶縁層156は、スパッタリングや蒸着等の手法によって、図20で示されるように、第1絶縁層153、ヒータ層154、および導電層155の+Z側の主面(他主面)を覆うように形成される。   The second insulating layer 156 is made of an insulator such as an oxide film (silicon dioxide or the like). As shown in FIG. 20, the second insulating layer 156 has a main surface (other main surface) on the + Z side of the first insulating layer 153, the heater layer 154, and the conductive layer 155, as shown in FIG. It is formed to cover.

このようなアクチュエータ層15の構成により、ヒータ層154と導電層155とによって、電極部1551Sと電極部1553Sとの間に電流が流れる配線が形成される。そして、この配線では、第1〜3導電部1551〜1553の電気抵抗が、ヒータ部154a,154bの電気抵抗よりも相対的に低くなっている。詳細には、電極部1551Sと電極部1553Sとを電気的に接続する配線において電流が流れる方向を該配線の延設方向とすると、第1〜3導電部1551〜1553の延設方向における単位長さ当たりの電気抵抗が、ヒータ部154a,154bの延設方向における単位長さ当たりの電気抵抗よりも相対的に低くなっている。したがって、電極部1551Sと電極部1553Sとの間に電圧が印加されて、ヒータ層154と導電層155とからなる配線に電流が流れる際には、相対的に電気抵抗が他の部分よりも高いヒータ部154a,154bが自身のジュール熱によって発熱する。つまり、発熱部としてのヒータ部154a,154bが電流の供給に応じて発熱する。これに対して、ヒータ層154と導電層155とからなる配線のうち、ヒータ部154a,154bを除く部分では、ヒータ部154a,154bよりも電気抵抗が低いため、電流の供給による発熱が抑制される。   With such a configuration of the actuator layer 15, the heater layer 154 and the conductive layer 155 form a wiring through which a current flows between the electrode portion 1551S and the electrode portion 1553S. In this wiring, the electric resistances of the first to third conductive parts 1551 to 1553 are relatively lower than the electric resistances of the heater parts 154a and 154b. Specifically, when the direction in which the current flows in the wiring that electrically connects the electrode portion 1551S and the electrode portion 1553S is the extending direction of the wiring, the unit length in the extending direction of the first to third conductive portions 1551 to 1553 The electric resistance per unit is relatively lower than the electric resistance per unit length in the extending direction of the heater portions 154a and 154b. Therefore, when a voltage is applied between the electrode portion 1551S and the electrode portion 1553S and a current flows through the wiring formed of the heater layer 154 and the conductive layer 155, the electric resistance is relatively higher than that of the other portions. The heaters 154a and 154b generate heat due to their own Joule heat. That is, the heater portions 154a and 154b as the heat generating portions generate heat in response to current supply. On the other hand, in the wiring composed of the heater layer 154 and the conductive layer 155, the portion excluding the heater portions 154a and 154b has an electric resistance lower than that of the heater portions 154a and 154b. The

また、アクチュエータ層15については、記憶させたい形状の型に可動部15a,15bをセットし、所定温度(例えば、600℃)程度で加熱する処理(形状記憶処理)が施される。アクチュエータ素子層152を構成するSMAは、加熱されて所定の相変態温度を超えて所定温度に達すると、予め記憶されている所定形状(「記憶形状」とも称する)に復元する特性を有する。ここでは、可動部15a,15bの自由端FTが上方(+Z方向)に変位する反り形状が記憶される。このため、ヒータ層154および導電層155の通電によってSMAが加熱されると、SMAは、収縮しつつ記憶形状に復元するように変形し、可動部15a,15bの自由端FTが上方(+Z方向)に変位する。   Further, the actuator layer 15 is subjected to a process (shape memory process) in which the movable parts 15a and 15b are set in a mold having a shape to be memorized and heated at a predetermined temperature (for example, 600 ° C.). The SMA constituting the actuator element layer 152 has a characteristic of being restored to a predetermined shape (also referred to as “memory shape”) stored in advance when heated to exceed a predetermined phase transformation temperature and reach a predetermined temperature. Here, a warped shape in which the free ends FT of the movable portions 15a and 15b are displaced upward (+ Z direction) is stored. Therefore, when the SMA is heated by energization of the heater layer 154 and the conductive layer 155, the SMA is deformed so as to be restored to the memory shape while being contracted, and the free ends FT of the movable portions 15a and 15b are moved upward (in the + Z direction). ).

図21および図22は、ヒータ層154(具体的には、ヒータ部154a,154b)の発熱に応じて可動部15a,15bが変形する態様を簡略化して示す模式図である。なお、可動部15a,15bの変形の態様は、それぞれ同様であるから、図21および図22では、可動部15aの変形の態様が一例として示されている。図21で示されるように、ヒータ部154aが発熱していない状態では、可動部15aが平坦な形状を有する。これに対して、図22で示されるように、ヒータ部154aの発熱に応じて、力発生部152aが変形することで力を発生し、可動部15aが、枠体15fに固定されている一端(固定端)近傍を支点として、自由端FTが上方(+Z方向)に変位するような変形を生じる。   FIG. 21 and FIG. 22 are schematic views showing in a simplified manner how the movable portions 15a and 15b are deformed in accordance with the heat generated by the heater layer 154 (specifically, the heater portions 154a and 154b). In addition, since the deformation | transformation aspect of the movable parts 15a and 15b is respectively the same, in FIG.21 and FIG.22, the deformation | transformation aspect of the movable part 15a is shown as an example. As shown in FIG. 21, the movable portion 15a has a flat shape when the heater portion 154a is not generating heat. On the other hand, as shown in FIG. 22, a force is generated by the deformation of the force generator 152a in response to the heat generated by the heater 154a, and the movable portion 15a is fixed to the frame 15f. With the vicinity of the (fixed end) as a fulcrum, deformation occurs such that the free end FT is displaced upward (+ Z direction).

<(2-2-5)第2平行ばね>
図23は、第2平行ばね14を下方(−Z方向)から見た該第2平行ばね14の下面外観図である。図24は、レンズ群20に接合された第2平行ばね14を示す図である。図23で示されるように、第2平行ばね14は、固定枠体141と、弾性部142とを有する弾性部材であり、ばね機構を形成する層(弾性層)となっている。なお、第2平行ばね14の素材としては、例えば、SUS系の金属材料またはりん青銅等が採用される。
<(2-2-5) Second parallel spring>
FIG. 23 is a bottom external view of the second parallel spring 14 when the second parallel spring 14 is viewed from below (−Z direction). FIG. 24 is a diagram showing the second parallel spring 14 joined to the lens group 20. As shown in FIG. 23, the second parallel spring 14 is an elastic member having a fixed frame body 141 and an elastic portion 142, and is a layer (elastic layer) forming a spring mechanism. In addition, as a raw material of the 2nd parallel spring 14, SUS type metal material or phosphor bronze etc. are employ | adopted, for example.

固定枠体141は、第2平行ばね14の外周部を構成し、隣接するアクチュエータ層15の枠体15fと接合される。ここで、アクチュエータ層15の電極部1551S,1553Sと、第2平行ばね14との間隔は、通常は、10um程度しかない。このため、ヒータ層154に電圧および電流を供給する側面配線21を、例えば、印刷などによって撮像素子層18からアクチュエータ層15に渡って単に設けると、側面配線21が、固定枠体141にまでかかってしまう。つまり、側面配線21と第2平行ばね14とが短絡してしまう。   The fixed frame 141 constitutes the outer peripheral portion of the second parallel spring 14 and is joined to the frame 15 f of the adjacent actuator layer 15. Here, the distance between the electrode portions 1551S and 1553S of the actuator layer 15 and the second parallel spring 14 is usually only about 10 μm. For this reason, when the side wiring 21 for supplying voltage and current to the heater layer 154 is simply provided from the imaging element layer 18 to the actuator layer 15 by printing or the like, for example, the side wiring 21 extends to the fixed frame 141. End up. That is, the side wiring 21 and the second parallel spring 14 are short-circuited.

そこで、この短絡を防ぐ目的で、第2平行ばね14の固定枠体141の4隅の近傍の外縁に窪んだ切り欠き部143が設けられる。この切り欠き部143には、第2枠層13と第2平行ばね14とが接合される際、および第2平行ばね14とアクチュエータ層15とが接合される際に、接合に用いられるエポキシ系の樹脂等の接着剤が充填されることで、絶縁部14ep(図3〜図5)が形成される。この絶縁部14epの存在により、側面配線21と第2平行ばね14とが接触することによる不要な短絡が防止される。   Therefore, in order to prevent this short circuit, a notch 143 that is recessed at the outer edge near the four corners of the fixed frame 141 of the second parallel spring 14 is provided. The notch 143 is an epoxy system used for joining when the second frame layer 13 and the second parallel spring 14 are joined and when the second parallel spring 14 and the actuator layer 15 are joined. Insulating part 14ep (FIGS. 3 to 5) is formed by filling an adhesive such as resin. Due to the presence of the insulating portion 14ep, unnecessary short circuit due to contact between the side wiring 21 and the second parallel spring 14 is prevented.

弾性部142は、固定枠体141との接続部PG1と、レンズ群20との接合部PG2とを有し、接続部PG1と接合部PG2とが板状部材EBで繋がれる。そして、図24で示されるように、第2平行ばね14は、弾性部142に設けられる接合部PG2においてレンズ群20と接合される。ここでは、第1突起部201は、第2平行ばね14の固定枠体141と板状部材EBとの隙間を通って、アクチュエータ層15の自由端FTと当接する。つまり、第2平行ばね14は、レンズ群20の第1突起部201と接触しないような形状を有する。   The elastic part 142 has a connection part PG1 with the fixed frame 141 and a joint part PG2 with the lens group 20, and the connection part PG1 and the joint part PG2 are connected by a plate-like member EB. Then, as shown in FIG. 24, the second parallel spring 14 is joined to the lens group 20 at a joint portion PG <b> 2 provided in the elastic portion 142. Here, the first protrusion 201 contacts the free end FT of the actuator layer 15 through the gap between the fixed frame 141 of the second parallel spring 14 and the plate member EB. That is, the second parallel spring 14 has a shape that does not contact the first protrusion 201 of the lens group 20.

そして、レンズ群20が固定枠体141に対して+Z方向に移動されるにつれて、接続部PG1と接合部PG2とのZ方向の位置がずれ、板状部材EBは曲げ変形(たわみ変形)を生じて湾曲する。つまり、第2平行ばね14は、板状部材EBの弾性変形によって、レンズ群20の光軸方向(±Z方向)に弾性変形可能であり、ばね機構として機能する。   Then, as the lens group 20 is moved in the + Z direction with respect to the fixed frame body 141, the positions of the connecting portion PG1 and the joint portion PG2 in the Z direction shift, and the plate-like member EB undergoes bending deformation (flexure deformation). Bend. That is, the second parallel spring 14 can be elastically deformed in the optical axis direction (± Z direction) of the lens group 20 by elastic deformation of the plate-like member EB, and functions as a spring mechanism.

なお、第2平行ばね14は、SUS系の金属材料またはりん青銅等を用いて作製される。例えば、SUS系の金属材料で第2平行ばね14が作製される場合は、フォトリソグラフィ技術により、平行ばねの形状のレジストが金属材料上にパターンニングされ、塩化鉄系のエッチング液に浸してウエットエッチングが行われることで、平行ばねのパターンが形成される。   The second parallel spring 14 is manufactured using a SUS metal material or phosphor bronze. For example, when the second parallel spring 14 is made of a SUS-based metal material, a resist in the shape of a parallel spring is patterned on the metal material by a photolithography technique, and dipped in an iron chloride-based etching solution to be wet. Etching is performed to form a parallel spring pattern.

<(2-2-6)第2枠層>
図3で示されるように、第2枠層13は、XY断面の外縁および内縁がそれぞれ略矩形であるリング状の部材であり、Z軸に沿って貫通する中空部分を形成する。第2枠層13は、中空部分にレンズ群20が配置されることで、該レンズ群20を側方から囲む。なお、第2枠層13を構成する素材としては、樹脂やガラス等が挙げられ、第2枠層13は、金属金型を用いたいわゆるプレス法や射出成型法等によって製作される。そして、第2枠層13の−Z側に位置する下端面(一主面)は、隣接する第2平行ばね14の固定枠体141と接合される。また、第2枠層13の+Z側に位置する上端面(他主面)は、隣接する第1平行ばね12(詳細には、第1平行ばね12の固定枠体121(図25))と接合される。
<(2-2-6) Second frame layer>
As shown in FIG. 3, the second frame layer 13 is a ring-shaped member in which the outer edge and the inner edge of the XY cross section are each substantially rectangular, and forms a hollow portion that penetrates along the Z axis. The second frame layer 13 surrounds the lens group 20 from the side by arranging the lens group 20 in the hollow portion. In addition, resin, glass, etc. are mentioned as a raw material which comprises the 2nd frame layer 13, The 2nd frame layer 13 is manufactured by what is called a press method using a metal metal mold | die, the injection molding method, etc. The lower end surface (one main surface) located on the −Z side of the second frame layer 13 is joined to the fixed frame body 141 of the adjacent second parallel spring 14. The upper end surface (other main surface) located on the + Z side of the second frame layer 13 is adjacent to the adjacent first parallel spring 12 (specifically, the fixed frame body 121 (FIG. 25) of the first parallel spring 12). Be joined.

<(2-2-7)第1平行ばね>
図25は、第1平行ばね12を下方(−Z方向)から見た該第1平行ばね12の下面外観図である。図25で示されるように、第1平行ばね12は、切り欠き部143が設けられていないことを除いて、第2平行ばね14と同様の構成および機能を有する弾性部材であり、固定枠体121と弾性部122とを備える。そして、固定枠体121の一主面は、隣接する第2枠層13の他主面と接合され、固定枠体121の他主面は、隣接する第1枠層11(詳細には、第1枠層11の−Z側の下端面)と接合される。
<(2-2-7) First parallel spring>
FIG. 25 is an external view of the lower surface of the first parallel spring 12 when the first parallel spring 12 is viewed from below (−Z direction). As shown in FIG. 25, the first parallel spring 12 is an elastic member having the same configuration and function as the second parallel spring 14 except that the notch portion 143 is not provided. 121 and an elastic part 122. One main surface of the fixed frame 121 is joined to the other main surface of the adjacent second frame layer 13, and the other main surface of the fixed frame 121 is connected to the adjacent first frame layer 11 (in detail, the first 1 frame layer 11-lower end surface on the -Z side).

図26は、レンズ群20に接合された第1平行ばね12を示す図である。図26で示されるように、弾性部122に設けられた接合部PG2は、レンズ群20の突起部202の+Z側の上端面と接合される。このため、固定枠体121に対してレンズ群20が+Z方向に相対的に移動されると、板状部材EBにおいて弾性変形が発生し、第1平行ばね12が、ばね機構として機能する。   FIG. 26 is a view showing the first parallel spring 12 joined to the lens group 20. As illustrated in FIG. 26, the joint portion PG <b> 2 provided in the elastic portion 122 is joined to the upper end surface on the + Z side of the protrusion 202 of the lens group 20. For this reason, when the lens group 20 is moved relative to the fixed frame 121 in the + Z direction, elastic deformation occurs in the plate-like member EB, and the first parallel spring 12 functions as a spring mechanism.

<(2-2-8)第1枠層>
図3で示されるように、第1枠層11は、第2枠層13と同様に、XY断面の外縁および内縁がそれぞれ略矩形であるリング状の部材であり、Z軸に沿って貫通する中空部分を形成する。第1枠層11の中空部分は、レンズ群20が+Z方向に移動される際に、弾性変形する板状部材EBおよび突起部202が移動可能な空間となる。なお、第1枠層11は、第2枠層13と同様な素材および製作方法によって形成される。そして、第1枠層11の−Z側に位置する下端面(一主面)は、隣接する第1平行ばね12の固定枠体121と接合される。また、第1枠層の+Z側に位置する上端面(他端面)は、隣接する蓋層10(詳細には、蓋層の外周部近傍)と接合される。なお、第1枠層11のZ軸に沿った厚みが、レンズ群20が移動する空間、すなわちレンズ群20のZ軸に沿った移動可能な範囲(ストローク)を確保する。そして、第2突起部202のZ軸に沿った延設距離は、レンズ位置調整層16がアクチュエータ層15に対して接合される際にレンズ群20が+Z方向に押し上げられる距離と、レンズ群20が+Z方向に移動可能な距離(移動可能距離)とを合算した距離以上とされている。
<(2-2-8) First frame layer>
As shown in FIG. 3, the first frame layer 11 is a ring-shaped member in which the outer edge and the inner edge of the XY cross section are each substantially rectangular like the second frame layer 13 and penetrates along the Z axis. A hollow part is formed. The hollow portion of the first frame layer 11 becomes a space in which the plate-like member EB and the protruding portion 202 that are elastically deformed when the lens group 20 is moved in the + Z direction can move. The first frame layer 11 is formed by the same material and manufacturing method as the second frame layer 13. The lower end surface (one main surface) located on the −Z side of the first frame layer 11 is joined to the fixed frame body 121 of the adjacent first parallel spring 12. Moreover, the upper end surface (other end surface) located on the + Z side of the first frame layer is joined to the adjacent lid layer 10 (specifically, near the outer peripheral portion of the lid layer). The thickness of the first frame layer 11 along the Z axis ensures a space in which the lens group 20 moves, that is, a movable range (stroke) along the Z axis of the lens group 20. The extension distance along the Z axis of the second protrusion 202 is such that the lens group 20 is pushed up in the + Z direction when the lens position adjusting layer 16 is bonded to the actuator layer 15 and the lens group 20. Is equal to or greater than the total of the distance movable in the + Z direction (movable distance).

<(2-2-9)蓋層>
図3で示されるように、蓋層10は、XY断面の外縁が略正方形であるとともに、略中央にZ軸に平行な方向に貫通する孔(貫通孔)10Hを有するとともに、XY平面に略平行な盤面を有する板状の部材である。貫通孔10Hは、被写体からの光をレンズ群20を介して撮像素子181に導くための孔であり、この蓋層10は、例えば、平板状の樹脂材料をプレス加工する手法、あるいは樹脂材料をパターニングした後にエッチングする手法等によって、貫通孔10Hが形成されて製作される。
<(2-2-9) Lid layer>
As shown in FIG. 3, the lid layer 10 has a substantially square outer edge in the XY cross section, and has a hole (through hole) 10 </ b> H penetrating in a direction parallel to the Z axis at a substantially center, and substantially in the XY plane. It is a plate-like member having a parallel board surface. The through-hole 10H is a hole for guiding light from the subject to the image sensor 181 through the lens group 20, and the lid layer 10 is formed by, for example, a technique of pressing a flat resin material or a resin material. The through-hole 10H is formed by a technique such as etching after patterning.

なお、図3では、図示が省略されているが、蓋層10の貫通孔10Hからカメラモジュール500の内部にゴミ等が侵入しないように、蓋層10の上面(他主面)側には、適宜ガラス等で構成される透明な保護層が設けられる。   In addition, although illustration is abbreviate | omitted in FIG. 3, on the upper surface (other main surface) side of the lid | cover layer 10 so that dust etc. may not penetrate | invade into the camera module 500 from the through-hole 10H of the lid | cover layer 10, A transparent protective layer composed of glass or the like is provided as appropriate.

<(3)カメラモジュールの製造工程>
ここで、カメラモジュール500の製造工程について簡単に説明する。図27は、カメラモジュール500の製造工程を示すフローチャートである。図27で示されるように、(工程A)レンズ群20の生成(ステップSP1)、(工程B)シートの準備(ステップSP2)、(工程C)組み立て治具の準備(ステップSP3)、(工程D)シートの第1の接合(ステップSP4)、(工程E)レンズ群20の取り付け(ステップSP5)、(工程F)シートの第2の接合(ステップSP6)、(工程G)撮像素子基板178の取り付け(ステップSP7)、および(工程H)ダイシング(ステップSP8)が順次に行われて、カメラモジュール500が製造される。
<(3) Camera module manufacturing process>
Here, a manufacturing process of the camera module 500 will be briefly described. FIG. 27 is a flowchart showing the manufacturing process of the camera module 500. As shown in FIG. 27, (process A) generation of the lens group 20 (step SP1), (process B) sheet preparation (step SP2), (process C) assembly jig preparation (step SP3), (process D) First bonding of the sheet (step SP4), (Process E) Mounting of the lens group 20 (Step SP5), (Process F) Second bonding of the sheet (Step SP6), (Process G) Image sensor substrate 178 (Step SP7) and (process H) dicing (step SP8) are sequentially performed, and the camera module 500 is manufactured.

<(3-1)レンズ群の生成(工程A)>
ステップSP1では、レンズ群20が生成される。ここでは、まず、多数のレンズ群20がマトリックス状に配列されたウエハ(以下「レンズ群ウエハ」とも称する)が製作され、ダイシングにより、多数のレンズ群20が個片化されて、多数のレンズ群20が製作される。レンズ群ウエハは、多数の第1レンズ構成層LY1が配列されたウエハ(第1レンズ構成層ウエハ)と、多数のスペーサ層RBが配列されたウエハ(スペーサ層ウエハ)と、多数の第2レンズ構成層LY2が配列されたウエハ(第2レンズ構成層ウエハ)とが積層されて、相互に接合されることで製作される。
<(3-1) Generation of Lens Group (Process A)>
In step SP1, the lens group 20 is generated. Here, first, a wafer in which a large number of lens groups 20 are arranged in a matrix (hereinafter also referred to as a “lens group wafer”) is manufactured, and a large number of lens groups 20 are separated into pieces by dicing. Group 20 is produced. The lens group wafer includes a wafer in which a large number of first lens constituent layers LY1 are arranged (first lens constituent layer wafer), a wafer in which a large number of spacer layers RB are arranged (spacer layer wafer), and a large number of second lenses. A wafer (second lens constituent layer wafer) on which the constituent layers LY2 are arranged is laminated and bonded together.

<(3-2)シートの準備(工程B)>
ステップSP2では、カメラモジュール500を構成する各機能層に係るシートが、層ごとに形成される。なお、ここでは、ウエハレベルの円盤状のシートが準備される。機能層ごとのシートには、該機能層に係る部材に相当するチップがマトリクス状に所定配列で多数形成される。具体的には、ステップSP2では、蓋層10、第1枠層11、第1平行ばね12、第2枠層13、第2平行ばね14、アクチュエータ層15、およびレンズ位置調整層16といった各機能層に係るチップがそれぞれ所定配列で多数形成された各シートU10〜U16、ならびにカバーガラス層17と撮像素子層18とが接合されて形成される撮像素子基板178に係るチップが所定配列で多数形成されたシート(撮像素子基板シート)U178が、それぞれ準備される。つまり、8枚のシートU10〜16,U178が準備される。
<(3-2) Preparation of sheet (Process B)>
In step SP2, a sheet relating to each functional layer constituting the camera module 500 is formed for each layer. Here, a disc-shaped sheet at the wafer level is prepared. A large number of chips corresponding to members related to the functional layer are formed in a matrix on the sheet for each functional layer. Specifically, in step SP2, the functions such as the lid layer 10, the first frame layer 11, the first parallel spring 12, the second frame layer 13, the second parallel spring 14, the actuator layer 15, and the lens position adjustment layer 16 are performed. Each of the sheets U10 to U16 in which a large number of chips relating to the layers are formed in a predetermined arrangement, and a large number of chips relating to the imaging element substrate 178 formed by joining the cover glass layer 17 and the imaging element layer 18 are formed in a predetermined arrangement. Each sheet (imaging device substrate sheet) U178 is prepared. That is, eight sheets U10 to 16 and U178 are prepared.

ここで、アクチュエータ層15に相当するチップがマトリクス状に所定配列で多数形成されるシート(アクチュエータ層シート)U15については、例えば、半導体の製造プロセスで用いられるマイクロマシニング技術を利用して次のような工程で製作される。まず、ベース層151の設計値に合致した厚みの活性層を有するSOI(silicon on insulator)ウエハが準備される。次に、SOIウエハの活性層側に対して、フォトリソグラフィ技術によって所望のパターンのレジスト膜が形成される。そして、誘導結合方式(Inductively Coupled Plasma:ICP)の反応性イオンエッチング (Reactive Ion Etching:RIE)等によるSOIウエハのエッチングが行われることで、活性層においてベース層151のチップが所定配列で多数形成されたウエハ(ベース層ウエハ)が形成される。その後、フォトリソグラフィ技術による所望のパターンのレジスト膜の形成、スパッタリング(又は蒸着)、および酸素プラズマアッシング等によるレジスト膜の除去等が適宜行われることで、ベース層ウエハに対して、各ベース層151に対応するように、アクチュエータ素子層152、第1絶縁層153、ヒータ層154、導電層155、および第2絶縁層156が、それぞれ順次に形成される。そして、最後に、フォトリソグラフィ技術によって、表面保護用のレジスト膜が形成された後に、フッ酸により、SOIウエハのBOX層(buried oxide layer)のエッチングが行われることで、アクチュエータ層シートU15の製作が完了する。なお、第2絶縁層156についてはレジスト膜で形成されても良い。   Here, regarding a sheet (actuator layer sheet) U15 in which a large number of chips corresponding to the actuator layer 15 are formed in a matrix in a predetermined arrangement, for example, using a micromachining technique used in a semiconductor manufacturing process, the following is performed. It is manufactured by a simple process. First, an SOI (silicon on insulator) wafer having an active layer having a thickness that matches the design value of the base layer 151 is prepared. Next, a resist film having a desired pattern is formed on the active layer side of the SOI wafer by photolithography. Then, by etching the SOI wafer by reactive ion etching (RIE) of Inductively Coupled Plasma (ICP), a large number of chips of the base layer 151 are formed in a predetermined arrangement in the active layer. A processed wafer (base layer wafer) is formed. Thereafter, formation of a resist film having a desired pattern by photolithography, sputtering (or vapor deposition), removal of the resist film by oxygen plasma ashing, or the like is appropriately performed, so that each base layer 151 is formed on the base layer wafer. The actuator element layer 152, the first insulating layer 153, the heater layer 154, the conductive layer 155, and the second insulating layer 156 are sequentially formed so as to correspond to the above. Finally, after a resist film for surface protection is formed by photolithography, etching of the BOX layer (buried oxide layer) of the SOI wafer is performed with hydrofluoric acid, thereby manufacturing the actuator layer sheet U15. Is completed. Note that the second insulating layer 156 may be formed of a resist film.

<(3-3)組み立て治具の準備(工程C)>
ステップSP3では、組み立て治具が準備される。この組み立て治具は、平板状の基台上に略同一の形状を有する多数の突起部が所定配列で設けられて構成される。なお、組み立て治具には、2カ所以上の所定の箇所に位置合わせのためのアライメントマークが形成される。また、突起部の上面は、平板状の基台の主面に対して略平行となるように構成される。なお、該上面上で各カメラモジュール500に相当するユニットが製作される。
<(3-3) Preparation of assembly jig (Process C)>
In step SP3, an assembly jig is prepared. The assembling jig is configured by providing a plurality of protrusions having substantially the same shape on a flat base in a predetermined arrangement. In the assembly jig, alignment marks for alignment are formed at two or more predetermined locations. The upper surface of the protrusion is configured to be substantially parallel to the main surface of the flat base. A unit corresponding to each camera module 500 is manufactured on the upper surface.

<(3-4)シートの第1の接合(工程D)>
ステップSP4では、準備された8枚のシートU10〜16,U178のうちの3枚のシートU11〜U13が接合される。ここでは、第1枠層シートU11、第1平行ばねシートU12、および第2枠層シートU13について、各シートU11〜U13に含まれる各チップが互いに積層されるように、シート形状のまま位置合わせ(アライメント)が行われる。そして、各シートU11〜U13が接着剤等を用いて接合される。
<(3-4) Sheet First Joining (Step D)>
In step SP4, three sheets U11 to U13 among the eight prepared sheets U10 to 16 and U178 are joined. Here, the first frame layer sheet U11, the first parallel spring sheet U12, and the second frame layer sheet U13 are aligned in the sheet shape so that the chips included in the sheets U11 to U13 are stacked on each other. (Alignment) is performed. And each sheet | seat U11-U13 is joined using an adhesive agent etc.

図28は、ステップS4で3枚のシートU11〜U13が積層されて接合される様子、ステップS5でレンズ群20が取り付けられる様子、ステップS6で4枚のシートU10,U14〜U16が積層されて接合される様子、およびステップSP7で撮像素子基板シートU178が接合される様子を合わせて模式的に示す図である。   FIG. 28 shows a state in which three sheets U11 to U13 are stacked and joined in step S4, a lens group 20 is attached in step S5, and four sheets U10 and U14 to U16 are stacked in step S6. It is a figure which shows typically a mode that it joins and a mode that the image pick-up element board | substrate sheet | seat U178 is joined by step SP7.

<(3-5)レンズ群の取り付け(工程E)>
ステップSP5では、ステップSP4で製作されたユニットの各第2枠層13の中空部分に、ステップSP1で生成されたレンズ群20が、所定のマウンターによって取り付けられる。つまり、格子状の形状を有する第2枠層シートU13の各空隙に、レンズ群20がそれぞれ挿入される。具体的には、レンズ群20が接合部PG2に対して押し付けられつつ、第2突起部202の端面が、接合部PG2の一主面側に対して接合される。なお、この接合手法としては、例えば、紫外線の照射によって硬化する接着剤(紫外線硬化接着剤)を用いて接合する手法等が挙げられる。
<(3-5) Attaching the lens group (Process E)>
In step SP5, the lens group 20 generated in step SP1 is attached to a hollow portion of each second frame layer 13 of the unit manufactured in step SP4 by a predetermined mounter. That is, the lens group 20 is inserted into each gap of the second frame layer sheet U13 having a lattice shape. Specifically, while the lens group 20 is pressed against the joint PG2, the end surface of the second protrusion 202 is joined to the one main surface side of the joint PG2. In addition, as this joining technique, the technique etc. which join using the adhesive agent (ultraviolet curing adhesive) hardened | cured by irradiation of an ultraviolet-ray are mentioned, for example.

<(3-6)シートの第2の接合(工程F)>
ステップSP6では、ステップSP2で準備された8枚のシートU10〜16,U178のうちの4枚のシートU10,U14〜U16が接合される。具体的には、ステップSP6では、ステップSP5までに生成されたユニットの一主面側に対して、第2平行ばねシートU14、およびアクチュエータ層シートU15に含まれる各チップが、第2枠層シートU13に含まれる各チップに対してそれぞれ積層されるように、シート形状のまま位置合わせ(アライメント)が行われる。そして、各シートU14,U15が順次に接着剤等を用いて接合される。
<(3-6) Sheet second joining (process F)>
In step SP6, four sheets U10 and U14 to U16 of the eight sheets U10 to 16 and U178 prepared in step SP2 are joined. Specifically, in step SP6, each chip included in the second parallel spring sheet U14 and the actuator layer sheet U15 is attached to the second frame layer sheet with respect to one main surface side of the units generated up to step SP5. Positioning (alignment) is performed while maintaining the sheet shape so as to be stacked on each chip included in U13. And each sheet | seat U14, U15 is joined using an adhesive agent etc. in order.

また、第1枠層シートU11の他主面側に対して、蓋層シートU10に含まれる各チップが、第1枠層シートU11に含まれる各チップに対してそれぞれ積層されるように、シート形状のまま位置合わせ(アライメント)が行われる。そして、この状態で、第1枠層シートU11の他主面側に対して、蓋層シートU10が接着剤等を用いて接合される。   Further, the sheet is so formed that each chip included in the lid layer sheet U10 is stacked with respect to each chip included in the first frame layer sheet U11 with respect to the other main surface side of the first frame layer sheet U11. Alignment (alignment) is performed in the shape. In this state, the lid layer sheet U10 is bonded to the other main surface side of the first frame layer sheet U11 using an adhesive or the like.

更に、アクチュエータ層シートU15の一主面側に対して、レンズ位置調整層シートU16に含まれる各チップが、アクチュエータ層シートU15に含まれる各チップに対してそれぞれ積層されるように、シート形状のまま位置合わせ(アライメント)が行われる。そして、この状態で、アクチュエータ層シートU15の一主面側に対して、レンズ位置調整層シートU16が接着剤等を用いて接合される。   Further, the sheet-like shape is formed so that each chip included in the lens position adjustment layer sheet U16 is stacked on each chip included in the actuator layer sheet U15 with respect to one main surface side of the actuator layer sheet U15. The alignment (alignment) is performed as it is. In this state, the lens position adjustment layer sheet U16 is bonded to one main surface side of the actuator layer sheet U15 using an adhesive or the like.

<(3-7)撮像素子基板の取り付け(工程G)>
ステップSP7では、ステップSP6までにレンズ位置調整層16が接合されて形成されたユニットのレンズ位置調整層16の枠体161に対して、撮像素子基板178の外周部が接合されるように、レンズ位置調整層シートU16の一主面に対して、撮像素子基板シートU178の他主面が接合される。
<(3-7) Mounting of image pickup device substrate (process G)>
In step SP7, the lens is arranged so that the outer peripheral portion of the image sensor substrate 178 is bonded to the frame 161 of the lens position adjustment layer 16 of the unit formed by bonding the lens position adjustment layer 16 by step SP6. The other main surface of the imaging element substrate sheet U178 is joined to one main surface of the position adjustment layer sheet U16.

<(3-8)ダイシング(工程H)>
ステップSP8では、多数のレンズ群20がそれぞれ挿入され、8つのシートU10〜U16,U178が積層されて形成された積層部材が、ダイシングテープ等で保護された後、ダイシング装置によってチップ毎に切り離される。このとき、多数のカメラモジュール500の製作が完了する。なお、このダイシング工程の途中で、側面配線21が形成される。具体的には、一方向に沿ったダイシングが行われた時点で、各カメラモジュール500の側面に相当する切断面において、各電極部1551S,1553Sが露出する。このため、切断面に側面配線21を形成するための導電材料が塗布され、その後、他方向に沿ったダイシングが行われることで、多数のカメラモジュール500の製作が完了する。
<(3-8) Dicing (Process H)>
In step SP8, a large number of lens groups 20 are inserted, and a laminated member formed by laminating eight sheets U10 to U16 and U178 is protected by a dicing tape or the like and then separated for each chip by a dicing device. . At this time, the production of a large number of camera modules 500 is completed. In the middle of this dicing process, the side wiring 21 is formed. Specifically, at the time when dicing along one direction is performed, the electrode portions 1551S and 1553S are exposed on the cut surface corresponding to the side surface of each camera module 500. For this reason, the conductive material for forming the side surface wiring 21 is applied to the cut surface, and then dicing along the other direction is performed, whereby the production of a large number of camera modules 500 is completed.

<(4)カメラモジュールにおけるレンズ駆動>
カメラモジュール500では、上述したように、非駆動状態において、第1および第2平行ばね12,14の弾性力により、レンズ群20がレンズ位置調整層16に対して押し付けられて、該レンズ群20が初期位置に配置される。このとき、カメラモジュール500は、該カメラモジュール500を基準として、無限遠に位置する被写体に対して合焦する。
<(4) Lens drive in camera module>
In the camera module 500, as described above, the lens group 20 is pressed against the lens position adjusting layer 16 by the elastic force of the first and second parallel springs 12 and 14 in the non-driven state, and the lens group 20 Is placed in the initial position. At this time, the camera module 500 focuses on a subject located at infinity with the camera module 500 as a reference.

そして、アクチュエータ層15の可動部15a,15bが変形することで、自由端FTが第1突起部201を+Z方向に押す。そして、第1および第2平行ばね12,14の弾性力に抗して、可動部15a,15bがレンズ群20を+Z方向に押し上げる。このとき、レンズ群20と撮像素子181との距離が変更され、該カメラモジュール500を基準として、種々の距離に位置する被写体に対して合焦させることが可能なオートフォーカス(AF)制御が実現される。   Then, when the movable portions 15a and 15b of the actuator layer 15 are deformed, the free end FT pushes the first protrusion 201 in the + Z direction. The movable portions 15a and 15b push the lens group 20 in the + Z direction against the elastic force of the first and second parallel springs 12 and 14. At this time, the distance between the lens group 20 and the image sensor 181 is changed, and auto-focus (AF) control capable of focusing on subjects located at various distances with the camera module 500 as a reference is realized. Is done.

上述したように、アクチュエータ層15に設けられたヒータ部154a,154bに対する通電による加熱により、力発生部152a,152bが縮み変形を行う。そして、可動部15a,15bの自由端FTが+Z方向に変位する。なお、可動部15a,15bの自由端FT側で発生する変位量は、SMAの加熱温度に応じて異なり、該変位量は、ヒータ部154a,154bへの通電量の制御によって調整される。ここでは、SMAの変形に伴う該ヒータ部154a,154bの変形に応じて該ヒータ部154a,154bの電気抵抗も変化するため、該ヒータ部154a,154bの電気抵抗をモニタリングして、自由端FTの変位量、すなわちレンズ群20の変位量を制御することが可能である。   As described above, the force generators 152a and 152b contract and deform due to heating by energization of the heaters 154a and 154b provided in the actuator layer 15. Then, the free ends FT of the movable portions 15a and 15b are displaced in the + Z direction. Note that the amount of displacement generated on the free end FT side of the movable portions 15a and 15b varies depending on the heating temperature of the SMA, and the amount of displacement is adjusted by controlling the amount of current supplied to the heater portions 154a and 154b. Here, since the electrical resistance of the heater portions 154a and 154b also changes according to the deformation of the heater portions 154a and 154b accompanying the deformation of the SMA, the electrical resistance of the heater portions 154a and 154b is monitored and the free end FT , That is, the displacement amount of the lens group 20 can be controlled.

以上のように、本発明の一実施形態に係るカメラモジュール500を搭載した携帯電話機100では、電極部1551Sとヒータ部154aとが、ヒータ部154aよりも単位長さ当たりの電気抵抗が低い第1導電部1551によって電気的に接続される。このような構成により、レンズ群20を移動させる際に、電極部1551Sとヒータ部154aとを電気的に接続する配線において発熱が抑制されるため、熱効率の上昇による消費電力の低減が図られる。   As described above, in the mobile phone 100 equipped with the camera module 500 according to the embodiment of the present invention, the electrode unit 1551S and the heater unit 154a have a lower electrical resistance per unit length than the heater unit 154a. Electrical connection is made by the conductive portion 1551. With such a configuration, when the lens group 20 is moved, heat generation is suppressed in the wiring that electrically connects the electrode portion 1551S and the heater portion 154a, so that power consumption can be reduced due to an increase in thermal efficiency.

また、電極部1553Sとヒータ部154bとが、ヒータ部154bよりも単位長さ当たりの電気抵抗が低い第3導電部1553によって電気的に接続される。このような構成により、レンズ群20を移動させる際に、電極部1553Sとヒータ部154bとを電気的に接続する配線において発熱が抑制されるため、熱効率の上昇による消費電力の低減が図られる。   Further, the electrode portion 1553S and the heater portion 154b are electrically connected by a third conductive portion 1553 having a lower electrical resistance per unit length than the heater portion 154b. With such a configuration, when the lens group 20 is moved, heat generation is suppressed in the wiring that electrically connects the electrode portion 1553S and the heater portion 154b, so that power consumption can be reduced due to an increase in thermal efficiency.

また、ヒータ部154aとヒータ部154bとが、ヒータ部154a,154bよりも単位長さ当たりの電気抵抗が低い第2導電部1552によって電気的に接続される。このような構成により、レンズ群20を移動させる際に、ヒータ部154aとヒータ部154bとを電気的に接続する配線において発熱が抑制されるため、熱効率の上昇による消費電力の低減が図られる。   Further, the heater unit 154a and the heater unit 154b are electrically connected by a second conductive unit 1552 having a lower electrical resistance per unit length than the heater units 154a and 154b. With such a configuration, when the lens group 20 is moved, heat generation is suppressed in the wiring that electrically connects the heater unit 154a and the heater unit 154b, so that power consumption can be reduced due to an increase in thermal efficiency.

<(5)変形例>
なお、本発明は上述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良等が可能である。
<(5) Modification>
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various changes and improvements can be made without departing from the gist of the present invention.

◎例えば、上記一実施形態では、第1〜3導電部1551〜1553の単位長さ当たりの電気抵抗を、ヒータ部154a,154bの単位長さ当たりの電気抵抗よりも低くするために、ヒータ部154a,154bを構成する素材よりも抵抗率が低い素材を用いて第1〜3導電部1551〜1553を構成するとともに、ヒータ部154a,154bよりも第1〜3導電部1551〜1553を太くしたが、これに限られない。例えば、太さや厚みや断面積等といった構造、および抵抗率のうちの少なくとも一方を調整することで、第1〜3導電部1551〜1553の単位長さ当たりの電気抵抗を、ヒータ部154a,154bの単位長さ当たりの電気抵抗よりも低くすれば良い。   For example, in the above embodiment, in order to make the electrical resistance per unit length of the first to third conductive parts 1551 to 1553 lower than the electrical resistance per unit length of the heater parts 154a and 154b, the heater part The first to third conductive parts 1551 to 1553 are formed using a material having a lower resistivity than the material constituting the 154a and 154b, and the first to third conductive parts 1551 to 1553 are thicker than the heater parts 154a and 154b. However, it is not limited to this. For example, by adjusting at least one of the structure such as thickness, thickness, cross-sectional area, and the resistivity, the electric resistance per unit length of the first to third conductive portions 1551 to 1553 can be changed to the heater portions 154a and 154b. The electrical resistance per unit length may be lower.

◎また、上記一実施形態では、アクチュエータ層15において、電極部1551Sとヒータ部154aとを電気的に接続する第1導電部1551、ヒータ部154aとヒータ部154bとを電気的に接続する第2導電部1552、および電極部1553Sとヒータ部154bとを電気的に接続する第3導電部1553が層状に設けられたが、これに限られない。例えば、アクチュエータ層15において導電層155と第2絶縁層156とを設けず、導電層155と同様な役目を果たす導電性を有する枠(導電枠層)を、アクチュエータ層15と第2平行ばね14との間に設けるようにしても良い。ここで、このような構成の一具体例にあたるカメラモジュール500Aを搭載した携帯電話機100Aについて説明する。   In the above-described embodiment, in the actuator layer 15, the first conductive portion 1551 that electrically connects the electrode portion 1551S and the heater portion 154a, and the second that electrically connects the heater portion 154a and the heater portion 154b. Although the conductive portion 1552 and the third conductive portion 1553 that electrically connects the electrode portion 1553S and the heater portion 154b are provided in layers, the present invention is not limited thereto. For example, the actuator layer 15 is not provided with the conductive layer 155 and the second insulating layer 156, and a conductive frame (conductive frame layer) having the same function as that of the conductive layer 155 is used as the actuator layer 15 and the second parallel spring 14. You may make it provide between. Here, a mobile phone 100A equipped with a camera module 500A, which is a specific example of such a configuration, will be described.

図29は、一変形例に係るカメラモジュール500Aの断面模式図である。図29で示されるように、カメラモジュール500Aは、上記一実施形態に係るカメラモジュール500と比較して、アクチュエータ層15を、導電層155と第2絶縁層156とを取り除いたアクチュエータ層15Aに変更するとともに、該アクチュエータ層15Aと第2平行ばね14との間に導電性を有する素材を用いて構成される枠状の層(導電枠層)19Aを設けたものとなっている。そして、ここでは、ヒータ部154a,154bよりも単位長さ当たりの電気抵抗が低い導電枠層19Aによって、電極部1551Sとヒータ部154aとの間、ヒータ部154aとヒータ部154bとの間、および電極部1553Sとヒータ部154bとの間が、電気的にそれぞれ接続される。   FIG. 29 is a schematic cross-sectional view of a camera module 500A according to a modification. As shown in FIG. 29, the camera module 500A changes the actuator layer 15 to an actuator layer 15A from which the conductive layer 155 and the second insulating layer 156 are removed, as compared with the camera module 500 according to the embodiment. In addition, a frame-like layer (conductive frame layer) 19A configured using a conductive material is provided between the actuator layer 15A and the second parallel spring 14. And here, between the electrode portion 1551S and the heater portion 154a, between the heater portion 154a and the heater portion 154b, and by the conductive frame layer 19A having a lower electrical resistance per unit length than the heater portions 154a and 154b, and The electrode portion 1553S and the heater portion 154b are electrically connected to each other.

図30は、導電層としての導電枠層19Aを上方(+Z側)から見た該導電枠層19Aの上面図である。図30で示されるように、導電枠層19Aは、電極部191Sとヒータ部154aとを電気的に接続する第1導電部191、ヒータ部154aとヒータ部154bとを電気的に接続する第2導電部192、および電極部193Sとヒータ部154bとを電気的に接続する第3導電部193を備える。また、第1〜3導電部191〜193は、この順番に設けられるとともに、相互に分離されている。そして、第1導電部191と第2導電部192との間、第2導電部192と第3導電部193との間、および第3導電部193と第1導電部191との間には、隣接する第2平行ばねシートU14と、導電枠層19Aが配列されるシート(導電枠層シート)とが接合される際等において接着剤が充填される。これにより、第1導電部191と第2導電部192との間、第2導電部192と第3導電部193との間、および第3導電部193と第1導電部191との間が短絡しない。また、第2平行ばね14と導電枠層19Aとの間、および第2導電部192と側面配線21との間が、それぞれ短絡しないように、例えば、導電枠層19Aの他主面(+Z側の面)、および第2導電部192の−X側の端面に対して、それぞれ酸化絶縁膜が形成される。なお、導電枠層シートについては、例えば銅製の円盤状の板に対して金属プレス加工等が施されることで製作される。   FIG. 30 is a top view of the conductive frame layer 19A when the conductive frame layer 19A as a conductive layer is viewed from above (+ Z side). As shown in FIG. 30, the conductive frame layer 19A includes a first conductive portion 191 that electrically connects the electrode portion 191S and the heater portion 154a, and a second portion that electrically connects the heater portion 154a and the heater portion 154b. The electroconductive part 192 and the 3rd electroconductive part 193 which electrically connects the electrode part 193S and the heater part 154b are provided. The first to third conductive parts 191 to 193 are provided in this order and are separated from each other. Between the first conductive part 191 and the second conductive part 192, between the second conductive part 192 and the third conductive part 193, and between the third conductive part 193 and the first conductive part 191, The adhesive is filled when the adjacent second parallel spring sheet U14 and the sheet (conductive frame layer sheet) on which the conductive frame layer 19A is arranged are joined. Thereby, a short circuit occurs between the first conductive part 191 and the second conductive part 192, between the second conductive part 192 and the third conductive part 193, and between the third conductive part 193 and the first conductive part 191. do not do. Further, for example, the other main surface of the conductive frame layer 19A (on the + Z side) so as not to short-circuit between the second parallel spring 14 and the conductive frame layer 19A and between the second conductive portion 192 and the side surface wiring 21. ) And the end surface on the −X side of the second conductive portion 192, an oxide insulating film is formed respectively. In addition, about a conductive frame layer sheet | seat, it manufactures, for example by giving a metal press process etc. with respect to a copper disk-shaped board.

◎また、上記一実施形態では、力発生部152a,152bが、形状記憶合金によって構成されたが、これに限られない。例えば、力発生部152a,152bが、形状記憶合金の代わりに、ベース層151を構成する素材の熱膨張率よりも高い熱膨張率を有する素材によって構成されても良い。詳細には、ベース層151がシリコン等の熱膨張率が比較的小さな素材で形成され、力発生部152a,152bがアルミニウムやニッケル等の熱膨張率が比較的大きな素材で形成される、いわゆるバイメタル(Bi-metallic strip)が適用されても良い。   In the above embodiment, the force generators 152a and 152b are made of a shape memory alloy, but the present invention is not limited to this. For example, the force generators 152a and 152b may be made of a material having a thermal expansion coefficient higher than that of the material forming the base layer 151 instead of the shape memory alloy. More specifically, the base layer 151 is formed of a material having a relatively small thermal expansion coefficient such as silicon, and the force generating portions 152a and 152b are formed of a material having a relatively large thermal expansion coefficient such as aluminum or nickel. (Bi-metallic strip) may be applied.

このような構成では、ヒータ部154a,154bの発熱に応じた突設部151a,151bと力発生部152a,152bとの間の膨張の違いによって、可動部15a,15bが反るような変形が生じて、自由端FTの変位が発生する。但し、自由端FTを上方(+Z方向)に変位させるためには、上記一実施形態に係る可動部15a,15bを構成する複数層の積層順を逆にする必要がある。なお、このようなバイメタルが適用される構成では、形状記憶合金を使用する場合よりも、安価な素材を用いて力発生部152a,152bを形成することができる。このため、アクチュエータ層15の製造コストの低減が図られる。   In such a configuration, deformation such that the movable portions 15a and 15b warp due to a difference in expansion between the projecting portions 151a and 151b and the force generating portions 152a and 152b according to the heat generation of the heater portions 154a and 154b. As a result, a displacement of the free end FT occurs. However, in order to displace the free end FT upward (+ Z direction), it is necessary to reverse the stacking order of the plurality of layers constituting the movable parts 15a and 15b according to the above-described embodiment. In the configuration in which such a bimetal is applied, the force generators 152a and 152b can be formed using a material that is less expensive than when a shape memory alloy is used. For this reason, the manufacturing cost of the actuator layer 15 can be reduced.

◎また、上記一実施形態では、アクチュエータ層15に2本の可動部15a,15bが設けられたが、これに限られず、例えば、アクチュエータ層15に1本の可動部が設けられても良いし、3本以上の可動部が設けられても良い。ここで、アクチュエータ層15から可動部15bが取り除かれたアクチュエータ層15Aの構成例について説明する。   In the above embodiment, the actuator layer 15 is provided with the two movable parts 15a and 15b. However, the present invention is not limited to this. For example, the actuator layer 15 may be provided with one movable part. Three or more movable parts may be provided. Here, a configuration example of the actuator layer 15A in which the movable portion 15b is removed from the actuator layer 15 will be described.

図31は、アクチュエータ層15Aを上方(+Z側)から見た該アクチュエータ層15Aの上面図である。図32から図37は、アクチュエータ層15Aを構成する各層の構成を示す図である。なお、図31から図37では、アクチュエータ層15Aの構成のうち、図13から図20で示された上記実施形態に係るアクチュエータ層15の構成と同様な部分については、同一の符号を付しており、ここでは、重複説明を省略する。   FIG. 31 is a top view of the actuator layer 15A when the actuator layer 15A is viewed from above (+ Z side). 32 to 37 are diagrams showing the configuration of each layer constituting the actuator layer 15A. In FIGS. 31 to 37, the same reference numerals are given to the same parts of the configuration of the actuator layer 15A as those of the actuator layer 15 according to the above-described embodiment shown in FIGS. Here, redundant description is omitted.

アクチュエータ層15Aは、ベース層151A(図32)、アクチュエータ素子層152A(図33)、第1絶縁層153A(図34)、ヒータ層154A(図35)、導電層155A(図36)、および第2絶縁層156A(図37)が、−Z側から+Z側に向けてこの順番に積層されて構成される。   The actuator layer 15A includes a base layer 151A (FIG. 32), an actuator element layer 152A (FIG. 33), a first insulating layer 153A (FIG. 34), a heater layer 154A (FIG. 35), a conductive layer 155A (FIG. 36), and a first layer. Two insulating layers 156A (FIG. 37) are stacked in this order from the −Z side to the + Z side.

図31で示されるアクチュエータ層15Aは、図13で示されたアクチュエータ層15と比較して、外周部を構成する枠体15fが、ヒータ層154Aと導電層155Aに係る構成が異なる枠体15fAに変更されるとともに、可動部15bが除かれた構成を有する。図32で示されるベース層151Aは、図15で示されたベース層151と比較して、突設部151bが除かれた構成を有する。図33で示されるアクチュエータ素子層152Aは、図16で示されたアクチュエータ素子層152と比較して、力発生部152bが除かれた構成を有する。図34で示される第1絶縁層153Aは、図17で示された第1絶縁層153と比較して、可動部15bに対応する部分が除かれた構成を有する。図37で示される第2絶縁層156Aは、図20で示された第2絶縁層156と比較して、可動部15bに対応する部分が除かれた構成を有する。   The actuator layer 15A shown in FIG. 31 is different from the actuator layer 15 shown in FIG. 13 in that the frame body 15f constituting the outer peripheral portion is different from the frame body 15fA having different configurations related to the heater layer 154A and the conductive layer 155A. While being changed, the movable portion 15b is removed. The base layer 151A shown in FIG. 32 has a configuration in which the protruding portion 151b is removed as compared with the base layer 151 shown in FIG. The actuator element layer 152A illustrated in FIG. 33 has a configuration in which the force generation unit 152b is removed as compared to the actuator element layer 152 illustrated in FIG. The first insulating layer 153A shown in FIG. 34 has a configuration in which a portion corresponding to the movable portion 15b is removed as compared with the first insulating layer 153 shown in FIG. The second insulating layer 156A shown in FIG. 37 has a configuration in which a portion corresponding to the movable portion 15b is removed, compared to the second insulating layer 156 shown in FIG.

図35で示されるヒータ層154Aは、図18で示されたヒータ層154と同様に、一本の細長い配線のような形状で設けられる。具体的には、ヒータ層154Aは、配線部1541Aと、ヒータ部154aと、配線部1542Aとが、この順番で延設され、順次に電気的に接続される。そして、配線部1541A,1542Aが、枠体15fAを構成し、ヒータ部154aが、可動部15aを構成する。なお、配線部1541Aの一端が、ヒータ部154aの−X側の一方の端部に電気的に接続されるとともに、配線部1541Aが、−X方向に向けて延設される。また、配線部1542Aの一端が、ヒータ部154aの−X側の他方の端部に電気的に接続されるとともに、配線部1542Aが、−X方向に向けて延設される。   The heater layer 154A shown in FIG. 35 is provided in a shape like one elongated wiring, like the heater layer 154 shown in FIG. Specifically, in the heater layer 154A, the wiring portion 1541A, the heater portion 154a, and the wiring portion 1542A are extended in this order, and are sequentially electrically connected. The wiring portions 1541A and 1542A constitute the frame body 15fA, and the heater portion 154a constitutes the movable portion 15a. Note that one end of the wiring portion 1541A is electrically connected to one end portion on the −X side of the heater portion 154a, and the wiring portion 1541A extends in the −X direction. In addition, one end of the wiring portion 1542A is electrically connected to the other end on the −X side of the heater portion 154a, and the wiring portion 1542A extends in the −X direction.

図36で示される導電層155Aは、図19で示された導電層155と同様に、銅等といったヒータ層154Aを構成する素材よりも抵抗率が相対的に低い導電体によって構成される。導電層155Aは、配線部1541Aの+Z側の主面(他主面)を覆う第1導電部1551A、および配線部1542Aの+Z側の主面(他主面)を覆う第2導電部1552Aによって構成される。つまり、ヒータ層154Aの+Z側の主面(他主面)のうち、ヒータ部154aを除く略全域が、導電層155Aによって覆われる。そして、第1および第2導電部1551A,1552Aは、それぞれ分離して設けられ、枠体15fAを構成する。また、第1および第2導電部1551A,1552Aの幅は、何れも枠体15fAの幅と同程度であり、ヒータ層154Aの太さと比較して、第1および第2導電部1551A,1552Aの太さが相対的に太くなっている。   The conductive layer 155A shown in FIG. 36 is made of a conductor having a relatively lower resistivity than the material forming the heater layer 154A, such as copper, like the conductive layer 155 shown in FIG. The conductive layer 155A is formed by a first conductive portion 1551A that covers the main surface (other main surface) on the + Z side of the wiring portion 1541A, and a second conductive portion 1552A that covers the main surface (other main surface) on the + Z side of the wiring portion 1542A. Composed. That is, substantially the entire area excluding the heater portion 154a in the main surface (other main surface) on the + Z side of the heater layer 154A is covered with the conductive layer 155A. And 1st and 2nd electroconductive part 1551A, 1552A is provided separately, respectively, and comprises frame 15fA. Further, the widths of the first and second conductive portions 1551A and 1552A are both about the same as the width of the frame 15fA, and the widths of the first and second conductive portions 1551A and 1552A are compared with the thickness of the heater layer 154A. The thickness is relatively thick.

第1導電部1551Aは、枠体15fの内縁近傍から外縁にかけて設けられ、配線部1541Aの+Z側の主面(他主面)を覆い且つ、該第1導電部1551Aの一端部がヒータ部154aの一端部と電気的に接続される。そして、第1導電部1551Aのうちの枠体15fAの外縁を形成する他端部が、側面配線21と電気的に接続される電極部1551SAを形成する。すなわち、第1導電部1551Aは、側面配線21が電気的に接続される電極部1551SAとヒータ部154aの一端部とを電気的に接続する導電部として機能する。   The first conductive portion 1551A is provided from the vicinity of the inner edge of the frame 15f to the outer edge, covers the main surface (other main surface) on the + Z side of the wiring portion 1541A, and one end portion of the first conductive portion 1551A is the heater portion 154a. Is electrically connected to one end of the. The other end portion of the first conductive portion 1551A that forms the outer edge of the frame 15fA forms an electrode portion 1551SA that is electrically connected to the side surface wiring 21. That is, the first conductive portion 1551A functions as a conductive portion that electrically connects the electrode portion 1551SA to which the side wiring 21 is electrically connected and one end portion of the heater portion 154a.

第2導電部1552Aは、配線部1542Aの+Z側の主面(他主面)の略全域を覆い且つ、該第2導電部1552Aの一端部がヒータ部154aの他端部と電気的に接続される。そして、第2導電部1552Aのうちの枠体15fAの外縁を形成する他端部が、側面配線21と電気的に接続される電極部1552SAを形成する。すなわち、第2導電部1552Aは、側面配線21が電気的に接続される電極部1552SAとヒータ部154aの他端部とを電気的に接続する導電部として機能する。   The second conductive portion 1552A covers substantially the entire area of the main surface (other main surface) on the + Z side of the wiring portion 1542A, and one end portion of the second conductive portion 1552A is electrically connected to the other end portion of the heater portion 154a. Is done. The other end portion of the second conductive portion 1552A that forms the outer edge of the frame 15fA forms an electrode portion 1552SA that is electrically connected to the side wiring 21. That is, the second conductive portion 1552A functions as a conductive portion that electrically connects the electrode portion 1552SA to which the side wiring 21 is electrically connected and the other end of the heater portion 154a.

このようなアクチュエータ層15Aの構成により、ヒータ層154Aと導電層155Aとによって、電極部1551SAと電極部1552SAとの間に電流が流れる配線が形成される。そして、この配線では、第1および第2導電部1551A,1552Aの電気抵抗が、ヒータ部154aの電気抵抗よりも相対的に低くなっている。詳細には、電極部1551SAと電極部1552SAとを電気的に接続する配線において電流が流れる方向を該配線の延設方向とすると、第1および第2導電部1551A,1552Aの延設方向における単位長さ当たりの電気抵抗が、ヒータ部154aの延設方向における単位長さ当たりの電気抵抗よりも相対的に低くなっている。したがって、電極部1551SAと電極部1552SAとの間に電圧が印加されて、ヒータ層154Aと導電層155Aとからなる配線に電流が流れる際には、相対的に電気抵抗が他の部分よりも高いヒータ部154aが自身のジュール熱によって発熱する。つまり、発熱部としてのヒータ部154aが電流の供給に応じて発熱する。これに対して、ヒータ層154Aと導電層155Aとからなる配線のうち、ヒータ部154aを除く部分では、ヒータ部154aよりも電気抵抗が低いため、電流の供給による発熱が抑制される。なお、ヒータ部154aの発熱による可動部15aの変形、および該変形によるレンズ群20の移動については、上記実施形態と同様なものとなる。   With such a configuration of the actuator layer 15A, the heater layer 154A and the conductive layer 155A form a wiring through which a current flows between the electrode portion 1551SA and the electrode portion 1552SA. In this wiring, the electric resistance of the first and second conductive portions 1551A and 1552A is relatively lower than the electric resistance of the heater portion 154a. Specifically, assuming that the direction in which current flows in the wiring electrically connecting the electrode portion 1551SA and the electrode portion 1552SA is the extending direction of the wiring, the unit in the extending direction of the first and second conductive portions 1551A, 1552A. The electrical resistance per length is relatively lower than the electrical resistance per unit length in the extending direction of the heater portion 154a. Therefore, when a voltage is applied between the electrode portion 1551SA and the electrode portion 1552SA and a current flows through the wiring formed of the heater layer 154A and the conductive layer 155A, the electric resistance is relatively higher than that of other portions. The heater unit 154a generates heat due to its own Joule heat. That is, the heater unit 154a as the heat generating unit generates heat in response to the supply of current. On the other hand, in the wiring composed of the heater layer 154A and the conductive layer 155A, the portion excluding the heater portion 154a has a lower electrical resistance than the heater portion 154a, so that heat generation due to current supply is suppressed. The deformation of the movable portion 15a due to the heat generated by the heater portion 154a and the movement of the lens group 20 due to the deformation are the same as those in the above embodiment.

◎また、上記一実施形態では、可動部15a,15bが、その一端が枠体15fに対して固定された、いわゆる片持ち梁の構成を有していたが、これに限られない。例えば、可動部の両端が枠体に対して固定された、いわゆる両持ち梁の構成を有するものも考えられる。   In the above embodiment, the movable parts 15a and 15b have a so-called cantilever structure in which one end is fixed to the frame 15f. However, the present invention is not limited to this. For example, what has what is called a doubly-supported beam structure in which both ends of the movable part are fixed to the frame is also conceivable.

◎また、上記一実施形態では、ヒータ部154a,154bが直列に接続されていたが、これに限られず、ヒータ部154a,154bに対して別々に電流および電圧が供給されるようにしても良い。   In the above embodiment, the heater units 154a and 154b are connected in series. However, the present invention is not limited to this, and a current and a voltage may be separately supplied to the heater units 154a and 154b. .

◎また、上記一実施形態では、ヒータ層154の+Z側の面(他主面)上に導電層155が設けられたが、これに限られない。例えば、ヒータ層154と導電層155が積層される順番が逆であっても良い。   In the above embodiment, the conductive layer 155 is provided on the surface (other main surface) on the + Z side of the heater layer 154. However, the present invention is not limited to this. For example, the order in which the heater layer 154 and the conductive layer 155 are stacked may be reversed.

◎また、上記一実施形態では、各可動部15a,15bが、突設部151a,151b、力発生部152a,152b、第1絶縁層153、ヒータ部154a,154b、および第2絶縁層156が重ねられて構成されたが、これに限られない。例えば、突設部151a,151bと、力発生部152a,152bとの間に絶縁層を配置する等、各可動部15a,15bが、突設部151a,151b、力発生部152a,152b、およびヒータ部154a,154bを含む複数層が重ねられている構造を有していれば良い。なお、上記一実施形態では、突設部151a,151b、力発生部152a,152b、およびヒータ部154a,154bが、それぞれ層状の形状を有していたが、これに限られない。例えば、各可動部15a,15bにおいて、ヒータ部154a,154bにある程度の厚みを有する構造が採用され、突設部151a,151b、力発生部152a,152b、およびヒータ部154a,154bを含む複数の部分が積み重ねられている構造が採用されても良い。   In the above-described embodiment, each of the movable portions 15a and 15b includes the projecting portions 151a and 151b, the force generating portions 152a and 152b, the first insulating layer 153, the heater portions 154a and 154b, and the second insulating layer 156. Although it is configured to be overlapped, it is not limited to this. For example, each movable part 15a, 15b is provided with a protruding part 151a, 151b, a force generating part 152a, 152b, and the like, such as disposing an insulating layer between the protruding parts 151a, 151b and the force generating parts 152a, 152b. It is only necessary to have a structure in which a plurality of layers including the heater portions 154a and 154b are stacked. In the above-described embodiment, the projecting portions 151a and 151b, the force generating portions 152a and 152b, and the heater portions 154a and 154b each have a layered shape. However, the present invention is not limited to this. For example, in each of the movable parts 15a and 15b, a structure having a certain thickness is adopted for the heater parts 154a and 154b, and a plurality of parts including the projecting parts 151a and 151b, the force generating parts 152a and 152b, and the heater parts 154a and 154b are used. A structure in which the portions are stacked may be employed.

◎また、上記一実施形態では、ヒータ部154a,154bが、可動部15a,15bを構成したが、これに限られない。例えば、ヒータ部154a,154bが、可動部15a,15bだけでなく、枠体15fの一部を構成するようにしても良い。また、上記一実施形態では、導電層155が、枠体15fを構成したがこれに限られない。例えば、導電層155が、枠体15fだけでなく、可動部15a,15bの一部を構成するようにしても良い。   In the above embodiment, the heater portions 154a and 154b constitute the movable portions 15a and 15b. However, the present invention is not limited to this. For example, the heater parts 154a and 154b may constitute not only the movable parts 15a and 15b but also a part of the frame 15f. Moreover, in the said one Embodiment, although the conductive layer 155 comprised the frame 15f, it is not restricted to this. For example, the conductive layer 155 may constitute not only the frame 15f but also a part of the movable portions 15a and 15b.

◎また、上記一実施形態では、携帯電話機100にカメラモジュール500が搭載されたが、該カメラモジュール500と同様な構成をコンパクトタイプのデジタルカメラに搭載しても良い。   In the above embodiment, the camera module 500 is mounted on the mobile phone 100. However, a configuration similar to the camera module 500 may be mounted on a compact digital camera.

◎また、上記一実施形態では、可動部15a,15bによって移動される対象物(移動対象物)が、光学系としてのレンズ群20であったが、これに限られない。例えば、撮像素子等のその他の部材を移動対象物としても良い。例えば、被写体からの光を撮像素子に導く光学系にあたるレンズ群20Bを固定し、上記一実施形態においてレンズ群20を移動させるための構成と同様な構成によって撮像素子層をZ軸に沿った方向に移動させても良い。   In the above embodiment, the object moved by the movable parts 15a and 15b (moving object) is the lens group 20 as an optical system, but is not limited thereto. For example, other members such as an image sensor may be used as the moving object. For example, the lens group 20B corresponding to the optical system that guides light from the subject to the image sensor is fixed, and the image sensor layer is arranged in the direction along the Z-axis by a configuration similar to the configuration for moving the lens group 20 in the one embodiment. It may be moved to.

図38は、レンズ群20Bを固定して、該レンズ群20Bの光軸Axに沿った方向に撮像素子層18Bを前後に移動させる一態様の概念図を例示する図である。図38では、撮像素子層18Bを光軸Axに沿って前後に移動させる撮像部PBBが描かれている。このような構成では、アクチュエータ層の動作に応じて撮像素子層18Bが光軸Axに沿って前後に移動されて、レンズ群20Bと撮像素子層18Bとの距離が変更されることで、オートフォーカス制御が実現される。このように、可動部15a,15bの曲げ変形に応じて撮像素子および光学系のうちの少なくとも一方が移動されれば、オートフォーカス制御が実現される。   FIG. 38 is a diagram illustrating a conceptual diagram of an aspect in which the lens group 20B is fixed and the imaging element layer 18B is moved back and forth in a direction along the optical axis Ax of the lens group 20B. In FIG. 38, an imaging unit PBB that moves the imaging element layer 18B back and forth along the optical axis Ax is depicted. In such a configuration, the image pickup element layer 18B is moved back and forth along the optical axis Ax according to the operation of the actuator layer, and the distance between the lens group 20B and the image pickup element layer 18B is changed. Control is realized. As described above, when at least one of the image sensor and the optical system is moved according to the bending deformation of the movable portions 15a and 15b, the autofocus control is realized.

また、アクチュエータによって移動される対象物(移動対象物)は、光学系や撮像素子等といった撮像装置を構成する要素に限られない。例えば、移動対象物は、光ピックアップレンズの対物レンズ等といったその他のものであっても良い。すなわち、本発明は、アクチュエータと、該アクチュエータの曲げ変形に応じて移動対象物が移動される駆動装置一般に適用することができる。   Moreover, the target object (moving target object) moved by the actuator is not limited to an element constituting the imaging apparatus such as an optical system or an imaging element. For example, the moving object may be another object such as an objective lens of an optical pickup lens. That is, the present invention can be applied to an actuator and a drive device in which a moving object is moved according to bending deformation of the actuator.

◎なお、上記一実施形態および各種変形例をそれぞれ構成する全部または一部を、適宜、矛盾しない範囲で組み合わせ可能であることは、言うまでもない。   It goes without saying that all or a part of each of the above-described embodiment and various modifications can be appropriately combined within a consistent range.

15,15A アクチュエータ層
15a,15b 可動部
15f,15fA 枠体
18,18B 撮像素子層
19A 導電枠層
20,20B レンズ群
100,100A 携帯電話機
151,151A ベース層
151a,151b 突設部
151f ベース枠体
152,152A アクチュエータ素子層
152a,152b 力発生部
153,153A 第1絶縁層
154,154A ヒータ層
154a,154b ヒータ部
155,155A 導電層
156,156A 第2絶縁層
181 撮像素子
191 第1導電部
192 第2導電部
193 第3導電部
500,500A カメラモジュール
1551,1551A 第1導電部
1551S,1551SA,1552SA,1553S 電極部
1552,1552A 第2導電部
1553 第3導電部
PB,PBB 撮像部
15, 15A Actuator layer 15a, 15b Movable part 15f, 15fA Frame 18, 18B Imaging element layer 19A Conductive frame layer 20, 20B Lens group 100, 100A Mobile phone 151, 151A Base layer 151a, 151b Protruding part 151f Base frame 152, 152A Actuator element layer 152a, 152b Force generation part 153, 153A First insulation layer 154, 154A Heater layer 154a, 154b Heater part 155, 155A Conductive layer 156, 156A Second insulation layer 181 Imaging element 191 First conductive part 192 Second conductive portion 193 Third conductive portion 500, 500A Camera module 1551, 1551A First conductive portion 1551S, 1551SA, 1552SA, 1553S Electrode portion 1552, 1552A Second conductive portion 1553 Third conductive portion P B, PBB imaging unit

Claims (7)

固定部と、
前記固定部に対して設けられる第1梁部と、加熱に応じて力を発生する第1力発生部と、電流の供給に応じて発熱する第1発熱部とを含む複数の部分が積み重ねられて構成され、且つ前記第1発熱部における発熱に応じて変形する第1可動部と、
前記固定部に対して設けられる第2梁部と、加熱に応じて力を発生する第2力発生部と、電流の供給に応じて発熱する第2発熱部とを含む複数の部分が積み重なられて構成され、且つ前記第2発熱部における発熱に応じて変形する第2可動部と、
前記第1発熱部と前記第2発熱部とを電気的に接続し、且つ前記第1および第2発熱部よりも単位長さ当たりの電気抵抗が低い導電部と、
を備えることを特徴とするアクチュエータ。
A fixed part;
A plurality of portions including a first beam portion provided for the fixed portion, a first force generating portion that generates a force in response to heating, and a first heat generating portion that generates heat in response to a current supply are stacked. And a first movable portion that is deformed in response to heat generated in the first heat generating portion,
A plurality of portions including a second beam portion provided for the fixed portion, a second force generating portion that generates a force in response to heating, and a second heat generating portion that generates heat in response to a current supply are stacked. A second movable portion that is configured and deforms in response to heat generated in the second heat generating portion;
A conductive portion that electrically connects the first heat generating portion and the second heat generating portion and has a lower electrical resistance per unit length than the first and second heat generating portions;
An actuator comprising:
請求項1に記載のアクチュエータであって、
前記第1および第2力発生部が、
形状記憶合金を含むことを特徴とするアクチュエータ。
The actuator according to claim 1,
The first and second force generators are
An actuator comprising a shape memory alloy.
請求項1に記載のアクチュエータであって、
前記第1および第2力発生部が、
前記第1および第2梁部の熱膨張率よりも高い熱膨張率を有することを特徴とするアクチュエータ。
The actuator according to claim 1,
The first and second force generators are
An actuator having a thermal expansion coefficient higher than that of the first and second beam portions.
請求項1から請求項3の何れか1つの請求項に記載のアクチュエータと、
前記第1および第2可動部の変形によって移動される移動対象物と、
を備えることを特徴とする駆動装置。
The actuator according to any one of claims 1 to 3, and
A moving object moved by deformation of the first and second movable parts;
A drive device comprising:
請求項1から請求項3の何れか1つの請求項に記載のアクチュエータと、
撮像素子と、
被写体からの光を前記撮像素子まで導く光学系と、
を備え、
前記撮像素子および前記光学系のうちの少なくとも一方が、前記第1および第2可動部の変形によって移動されることを特徴とする撮像装置。
The actuator according to any one of claims 1 to 3, and
An image sensor;
An optical system for guiding light from a subject to the image sensor;
With
At least one of the image sensor and the optical system is moved by deformation of the first and second movable parts.
固定部と、
前記固定部に対して設けられる第1梁部と、加熱に応じて力を発生する第1力発生部と、電流の供給に応じて発熱する第1発熱部とを含む複数の部分が積み重ねられて構成され且つ前記第1発熱部における発熱に応じて変形する第1可動部と、
前記固定部に対して設けられる第2梁部と、加熱に応じて力を発生する第2力発生部と、電流の供給に応じて発熱する第2発熱部とを含む複数の部分が積み重ねられて構成され且つ前記第2発熱部における発熱に応じて変形する第2可動部と、
を含むアクチュエータ層と、
前記第1発熱部と前記第2発熱部とを電気的に接続し、且つ前記第1および第2発熱部よりも単位長さ当たりの電気抵抗が低い導電層と、
前記第1および第2可動部によって移動される移動対象物と、
を備えることを特徴とする駆動装置。
A fixed part;
A plurality of portions including a first beam portion provided for the fixed portion, a first force generating portion that generates a force in response to heating, and a first heat generating portion that generates heat in response to a current supply are stacked. A first movable part configured and deformed in response to heat generated in the first heat generating part,
A plurality of portions including a second beam portion provided for the fixing portion, a second force generating portion that generates a force in response to heating, and a second heat generating portion that generates heat in response to a current supply are stacked. A second movable part configured to be deformed in response to heat generated in the second heat generating part,
An actuator layer comprising:
A conductive layer that electrically connects the first heat generating portion and the second heat generating portion and has a lower electrical resistance per unit length than the first and second heat generating portions;
A moving object moved by the first and second movable parts;
A drive device comprising:
請求項6に記載の駆動装置を備え、
撮像素子と、被写体からの光を前記撮像素子まで導く光学系とを含み、
前記移動対象物が、
前記撮像素子および前記光学系のうちの少なくとも一方を含むことを特徴とする撮像装置。
A drive device according to claim 6,
An image sensor, and an optical system that guides light from a subject to the image sensor,
The moving object is
An imaging apparatus comprising at least one of the imaging element and the optical system.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2015104902A1 (en) * 2014-01-09 2015-07-16 コニカミノルタ株式会社 Drive unit and imaging device

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