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JP2013068814A - Colored radiation-sensitive composition, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor - Google Patents

Colored radiation-sensitive composition, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor Download PDF

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JP2013068814A
JP2013068814A JP2011207570A JP2011207570A JP2013068814A JP 2013068814 A JP2013068814 A JP 2013068814A JP 2011207570 A JP2011207570 A JP 2011207570A JP 2011207570 A JP2011207570 A JP 2011207570A JP 2013068814 A JP2013068814 A JP 2013068814A
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sensitive composition
carbon atoms
colored radiation
general formula
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Kazuhisa Takeuchi
和寿 竹内
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Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
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Publication date
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Abstract

【課題】直線性が良好な着色パターンを形成でき、且つ、着色パターン形成領域外における残渣の発生が抑制された着色感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】(A)着色剤、(B)下記式(I)で表される部分構造を有するアクリル樹脂、(C)重合性化合物、及び(D)紫外線吸収剤を含み、該(D)紫外線吸収剤の含有量が着色感放射線性組成物の固形分に対して、0.1質量%〜10質量%である着色感放射線組成物。

【選択図】なし
Disclosed is a colored radiation-sensitive composition that can form a colored pattern with good linearity and that suppresses the generation of residues outside the colored pattern formation region.
The composition comprises (A) a colorant, (B) an acrylic resin having a partial structure represented by the following formula (I), (C) a polymerizable compound, and (D) an ultraviolet absorber. The colored radiation-sensitive composition whose content of a ultraviolet absorber is 0.1 mass%-10 mass% with respect to solid content of a colored radiation-sensitive composition.

[Selection figure] None

Description

本発明は、着色感放射線性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子に関する。   The present invention relates to a colored radiation-sensitive composition, a color filter, a method for producing the same, and a solid-state imaging device.

カラーフィルタは、固体撮像素子や液晶ディスプレイに不可欠な構成部品である。特に、固体撮像素子用のカラーフィルタでは、色分解性の向上及び色再現性の向上が求められている。   The color filter is an indispensable component for solid-state imaging devices and liquid crystal displays. In particular, color filters for solid-state imaging devices are required to improve color separation and color reproducibility.

このようなカラーフィルタは、複数の色相の着色領域(着色硬化膜)を備えて形成されており、通常は、少なくとも、赤色、緑色、及び青色の着色領域(以下、「着色パターン」や「着色画素」ともいう。)を備えて形成される。着色パターンの形成方法としては、まず、第1の色相において、赤色、緑色、青色の何れかの着色剤を有する着色感放射線性組成物を基板上に塗布し、露光、現像、必要に応じて加熱処理を行って当該色相の着色パターンを形成した後、第2の色相、第3の色相においても同様の塗布、露光、現像、必要に応じた加熱処理のプロセスを繰り返すことになる。   Such a color filter is formed to include a plurality of colored regions (colored cured films), and usually has at least red, green, and blue colored regions (hereinafter referred to as “colored patterns” and “colored”). It is also called a “pixel”. As a method for forming a colored pattern, first, in a first hue, a colored radiation-sensitive composition having a colorant of any one of red, green, and blue is applied on a substrate, exposed, developed, and as necessary. After the heat treatment is performed to form a colored pattern of the hue, the same coating, exposure, development, and heat treatment processes as necessary are repeated for the second hue and the third hue.

カラーフィルタにおける着色剤としては、鮮明な色調と高い着色力を有することから、顔料が広く使用されており、特に、微細化されていると共に、好適な色相と色濃度を示し、色分解性の良好な顔料を使用することが好ましい。   As a colorant in a color filter, since it has a clear color tone and high coloring power, a pigment is widely used, and in particular, it is miniaturized and exhibits a suitable hue and color density, and has a color separation property. It is preferable to use good pigments.

また、最近では、固体撮像素子において、解像度向上を目的として微細な着色パターン(例えば、固体撮像素子では一辺が2.0μm以下の着色パターン)を再現性よく形成することが求められ、同時に、着色パターンの膜厚も薄膜化(例えば、固体撮像素子では膜厚1μm以下)することも求められている。
しかしながら、着色パターンのサイズを微細にすると、四角形の着色画素の周囲での直線性が不良となりやすく、また、基板上あるいは他色のパターン上に現像残りと思われる残渣が発生しやすくなり、このために固体撮像素子にカラーフィルタを用いると色分解性が悪化し、解像度の高い固体撮像素子が得られないという欠点を克服することが求められている。
In recent years, in solid-state imaging devices, it has been required to form fine colored patterns (for example, colored patterns with a side of 2.0 μm or less on a solid-state imaging device) with high reproducibility for the purpose of improving resolution. It is also required to reduce the film thickness of the pattern (for example, a film thickness of 1 μm or less for a solid-state imaging device).
However, if the size of the colored pattern is made fine, the linearity around the square colored pixels tends to be poor, and a residue that appears to be undeveloped tends to be generated on the substrate or other color pattern. For this reason, when a color filter is used for a solid-state image sensor, it is required to overcome the disadvantage that the color separation property is deteriorated and a solid-state image sensor with high resolution cannot be obtained.

着色パターンの直線性改良、及び残渣の低減の技術の提案が、種々なされているが、これらの技術をもってしても、まだ不十分であり、特に他色のパターン上に生じる残渣の低減は、更なる技術の改良が待ち望まれていた。   Various proposals have been made for techniques for improving the linearity of the coloring pattern and reducing the residue, but even with these techniques, the reduction of the residue generated on the pattern of other colors is still insufficient. A further technical improvement has been awaited.

また、ベンゾイミダゾール環を有する高分子化合物を、顔料の分散剤として使用し、顔料の分散性を向上することが知られている(例えば、特許文献1参照。)が、固体撮像素子に用いたときに着色パターンの直線性、あるいは残渣の低減に注目された技術ではなく、着色パターンの形成性の更なる技術の改良が要求されていた。   In addition, it is known that a polymer compound having a benzimidazole ring is used as a pigment dispersant to improve the dispersibility of the pigment (see, for example, Patent Document 1). There has been a demand for further improvement of the technique of forming the colored pattern, not the technique of paying attention to the linearity of the colored pattern or the reduction of the residue.

特開2010−53307号公報JP 2010-53307 A

本発明の課題は、直線性が良好な着色パターンを形成でき、且つ、着色パターン形成領域外における残渣の発生が抑制された着色感放射線性組成物を提供することである。
また、本発明の別の課題は、直線性が良好な着色パターンを有し、且つ、着色パターン形成領域外における残渣が低減されたカラーフィルタ、及びその製造方法、並びに、該カラーフィルタを備えた固体撮像素子を提供することである。
An object of the present invention is to provide a colored radiation-sensitive composition that can form a colored pattern with good linearity and that suppresses the generation of residues outside the colored pattern formation region.
Another object of the present invention is to provide a color filter having a color pattern with good linearity and reduced residue outside the color pattern formation region, a method for manufacturing the same, and the color filter. A solid-state imaging device is provided.

本発明者らは、前記実情に鑑み鋭意研究を行ったところ、下記の手段により上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成した。
前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
The present inventors conducted intensive research in view of the above circumstances, and found that the above-described problems can be solved by the following means, and completed the present invention.
Means for solving the above problems are as follows.

<1> (A)着色剤、(B)下記式(I)で表される部分構造を有するアクリル樹脂、(C)重合性化合物、及び(D)紫外線吸収剤を含み、該(D)紫外線吸収剤の含有量が着色感放射線性組成物の固形分に対して、0.1質量%〜10質量%である着色感放射線組成物。 <1> (A) a colorant, (B) an acrylic resin having a partial structure represented by the following formula (I), (C) a polymerizable compound, and (D) an ultraviolet absorber, The colored radiation-sensitive composition whose content of an absorber is 0.1 mass%-10 mass% with respect to solid content of a colored radiation-sensitive composition.

式(I)中、Rは、水素原子又は1価の置換基を表す。*は主鎖構造との結合の部位を表す。   In formula (I), R represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. * Represents the site of binding to the main chain structure.

<2> 前記(B)式(I)で表される部分構造を有するアクリル樹脂が、さらにカルボキシル基を含むアクリル樹脂である<1>に記載の着色感放射線性組成物。
<3> 前記(B)式(I)で表される部分構造を有するアクリル樹脂中に含まれる式(I)で表される部分構造の含有量が、アクリル樹脂全量に対して1質量%〜30質量%である<1>又は<2>に記載の着色感放射線性組成物。
<2> The colored radiation-sensitive composition according to <1>, wherein the acrylic resin having the partial structure represented by formula (I) is an acrylic resin further containing a carboxyl group.
<3> The content of the partial structure represented by the formula (I) contained in the acrylic resin having the partial structure represented by the formula (I) (B) is 1% by mass to the total amount of the acrylic resin. The colored radiation-sensitive composition according to <1> or <2>, which is 30% by mass.

<4> 前記(A)着色剤が、赤色顔料である<1>〜<3>のいずれか1項に記載の着色感放射線性組成物。
<5> 前記(D)紫外線吸収剤が、下記一般式(II)で表される化合物である<1>〜<4>のいずれか1項に記載の着色感放射線性組成物。
<4> The colored radiation-sensitive composition according to any one of <1> to <3>, wherein the colorant (A) is a red pigment.
<5> The colored radiation-sensitive composition according to any one of <1> to <4>, wherein the (D) ultraviolet absorber is a compound represented by the following general formula (II).

前記一般式(II)中、R及びRは、各々独立に、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、又は炭素原子数6〜20のアリール基を表し、RとRとが、同時に水素原子を表すことはない。R及びRは、各々独立に、1価の基を表す。 In the general formula (II), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and R 1 and R 2 And do not represent hydrogen atoms at the same time. R 3 and R 4 each independently represents a monovalent group.

<6> 前記(C)重合性化合物が、分子中にエチレンオキシ基と5個以上の(メタ)アクリロイルとを含む重合性化合物である<1>〜<5>のいずれか1項に記載の着色感放射線性組成物。
<7> さらに、(E)光重合開始剤を含む<1>〜<6>のいずれか1項に記載の着色感放射線性組成物。
<8> 前記(E)光重合開始剤が、オキシム化合物である<7>に記載の着色感放射線性組成物。
<6> The polymerizable compound according to any one of <1> to <5>, wherein the polymerizable compound (C) is a polymerizable compound containing an ethyleneoxy group and five or more (meth) acryloyl groups in a molecule. Colored radiation-sensitive composition.
<7> The colored radiation-sensitive composition according to any one of <1> to <6>, further comprising (E) a photopolymerization initiator.
<8> The colored radiation-sensitive composition according to <7>, wherein the (E) photopolymerization initiator is an oxime compound.

<9> <1>〜<8>のいずれか1項に記載の着色感放射線性組成物を用いてなる着色膜を具備するカラーフィルタ。
<10> <1>〜<8>のいずれか1項に記載の着色感放射線性組成物を基板上に付与して、着色感放射線性組成物層を形成する工程と、前記着色感放射線性組成物層をパターン状に露光する工程と、露光後の前記着色感放射線性組成物層を現像して着色パターンを形成する工程と、を有するカラーフィルタの製造方法。
<11> <9>に記載のカラーフィルタを備えた固体撮像素子。
<9> A color filter comprising a colored film using the colored radiation-sensitive composition according to any one of <1> to <8>.
<10> A step of forming a colored radiation-sensitive composition layer by applying the colored radiation-sensitive composition according to any one of <1> to <8> on a substrate, and the colored radiation-sensitive composition. A method for producing a color filter, comprising: exposing a composition layer in a pattern; and developing the colored radiation-sensitive composition layer after exposure to form a colored pattern.
<11> A solid-state imaging device comprising the color filter according to <9>.

本発明の着色感放射線性組成物は、着色剤、式(I)で表される部分構造を有するアクリル樹脂、重合性化合物、および紫外線吸収剤を含むことを特徴とする。本発明における着色パターンの直線性の改良、残渣の低減の機構は明確ではないが、以下のように推測される。即ち、露光工程においては、露光光が着色感放射線性組成物層内での反射等によって非露光部に侵入することを、含有する紫外線吸収剤が阻害し、潜像は露光部だけに形成されるものと考えられる。一方、現像工程においては、着色剤に式(I)の構造が相互作用し、特に着色剤として顔料を用いた場合には、顔料に式(I)の構造部分が吸着し、着色剤と共に前記アクリル樹脂が現像液に溶解し易くなるものと考えられる。これらの作用によって、得られた着色パターンの直線性が改良され、しかも、着色パターン形成領域外(基板上及び他色の着色パターン上)の残渣が低減されたものと考えられる。特に、紫外線吸収剤として前記一般式(II)で表される化合物を用いたときには、特に低照度露光を行なった際のその後の現像性能変動を抑えるので、パターンの線幅、膜厚、分光スペクトル等のパターン形成性に関係する露光照度依存性を抑制することができ、紫外線吸収剤の添加による低感度化が抑制され、本発明の効果である着色パターンの直線性の改良、および残渣の低減を図ることができたものと思われる。   The colored radiation-sensitive composition of the present invention comprises a colorant, an acrylic resin having a partial structure represented by formula (I), a polymerizable compound, and an ultraviolet absorber. The mechanism for improving the linearity of the colored pattern and reducing the residue in the present invention is not clear, but is presumed as follows. That is, in the exposure process, the ultraviolet light contained prevents the exposure light from entering the non-exposed part by reflection or the like in the colored radiation-sensitive composition layer, and the latent image is formed only in the exposed part. It is thought that. On the other hand, in the development step, the structure of the formula (I) interacts with the colorant, and particularly when a pigment is used as the colorant, the structural part of the formula (I) is adsorbed to the pigment, It is considered that the acrylic resin is easily dissolved in the developer. By these actions, it is considered that the linearity of the obtained colored pattern is improved and the residue outside the colored pattern forming region (on the substrate and the colored patterns of other colors) is reduced. In particular, when the compound represented by the general formula (II) is used as an ultraviolet absorber, it suppresses subsequent development performance fluctuations particularly when low-illuminance exposure is performed. Dependence on exposure illuminance related to pattern formability such as the above can be suppressed, lowering of sensitivity due to the addition of an ultraviolet absorber is suppressed, and the linearity of the colored pattern, which is an effect of the present invention, and reduction of residues are reduced. It seems that we were able to plan.

本発明によれば、直線性が良好な着色パターンを形成でき、且つ、着色パターン形成領域外における残渣の発生が抑制された着色感放射線性組成物を提供することができる。
また、本発明によれば、直線性が良好な着色パターンを有し、且つ、着色パターン形成領域外における残渣が低減されたカラーフィルタ、及びその製造方法、並びに、該カラーフィルタを備えた固体撮像素子を提供することができる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the colored radiation sensitive composition which can form a coloring pattern with favorable linearity, and generation | occurrence | production of the residue outside a coloring pattern formation area was suppressed can be provided.
Further, according to the present invention, a color filter having a colored pattern with good linearity and having reduced residue outside the colored pattern forming region, a method for manufacturing the same, and a solid-state imaging device including the color filter An element can be provided.

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされるものであるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The description of the constituent elements described below is made based on typical embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments.

本発明の着色感放射線性組成物において、全固形分とは、着色感放射線性組成物の全組成から有機溶剤を除いた成分の総質量をいう。
本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
In the colored radiation-sensitive composition of the present invention, the total solid content means the total mass of components excluding the organic solvent from the total composition of the colored radiation-sensitive composition.
In the present specification, a numerical range represented by using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.

本明細書においては「アルキル基」は「直鎖、分岐、および環状」のアルキル基を示し、また置換基で置換されていても、無置換でもよい。
また、本明細書において、“(メタ)アクリレート”はアクリレートおよびメタクリレートの双方、又は、いずれかを表し、“(メタ)アクリル”はアクリルおよびメタクリルの双方、又は、いずれかを表し、“(メタ)アクリロイル”はアクリロイルおよびメタクリロイルの双方、又は、いずれかを表す。
In the present specification, the “alkyl group” refers to a “straight chain, branched, and cyclic” alkyl group, and may be substituted or unsubstituted.
In this specification, “(meth) acrylate” represents both and / or acrylate and methacrylate, “(meth) acryl” represents both and / or acryl and “(meth) acrylic”. ) "Acryloyl" represents both and / or acryloyl and methacryloyl.

また、本明細書において、“単量体”と“モノマー”とは同義である。本明細書における単量体は、オリゴマーおよびポリマーと区別され、重量平均分子量が2,000以下の化合物をいう。本明細書において、重合性化合物とは、重合性官能基を有する化合物のことをいい、単量体であっても、ポリマーであってもよい。重合性官能基とは、重合反応に関与する基を言う。   In the present specification, “monomer” and “monomer” are synonymous. The monomer in this specification is distinguished from an oligomer and a polymer, and refers to a compound having a weight average molecular weight of 2,000 or less. In the present specification, the polymerizable compound means a compound having a polymerizable functional group, and may be a monomer or a polymer. The polymerizable functional group refers to a group that participates in a polymerization reaction.

また、本明細書における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。   In addition, in the description of groups (atomic groups) in the present specification, the description that does not indicate substitution and non-substitution includes those having no substituent and those having a substituent. For example, the “alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).

本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
本発明において「放射線」とは、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等を含むものを意味する。
In this specification, the term “process” is not limited to an independent process, and is included in the term if the intended action of the process is achieved even when it cannot be clearly distinguished from other processes. .
In the present invention, “radiation” means a substance containing visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, X-ray or the like.

なお、本発明のカラーフィルタにおける着色領域とは、カラーフィルタにおける着色画素(着色パターン)領域、及び、遮光膜形成領域を包含するものである。
また、本発明の着色感放射線性組成物を設ける基板については詳細には後述するが、光電変換素子基板やシリコン基板等の上に下塗り層を設けたものであってもよく、また、他色のパターンは、本発明の着色感放射線性組成物を用いて形成されたものであっても、本発明の着色感放射線性組成物とは異なる着色感放射線性組成物を用いて形成されたものであってもよい。
The colored region in the color filter of the present invention includes a colored pixel (colored pattern) region and a light shielding film forming region in the color filter.
Further, the substrate on which the colored radiation-sensitive composition of the present invention is provided will be described in detail later, but an undercoat layer may be provided on a photoelectric conversion element substrate, a silicon substrate, etc. Even if the pattern is formed using the colored radiation-sensitive composition of the present invention, it is formed using a colored radiation-sensitive composition that is different from the colored radiation-sensitive composition of the present invention. It may be.

[着色感放射線性組成物]
本発明の着色感放射線性組成物は、少なくとも、(A)着色剤、(B)下記式(I)で表される部分構造を含有するアクリル樹脂(以下、適宜「特定樹脂」と称する。)、(C)重合性化合物、及び(D)紫外線吸収剤を含み、該(D)紫外線吸収剤の含有量が着色感放射線性組成物の固形分に対して、0.1質量%〜10質量%であることを特徴とする。
[Colored radiation-sensitive composition]
The colored radiation-sensitive composition of the present invention comprises at least (A) a colorant and (B) an acrylic resin containing a partial structure represented by the following formula (I) (hereinafter referred to as “specific resin” as appropriate). , (C) a polymerizable compound, and (D) an ultraviolet absorber, wherein the content of the (D) ultraviolet absorber is 0.1% by mass to 10% by mass with respect to the solid content of the colored radiation-sensitive composition. %.

式(I)中、Rは、水素原子又は1価の置換基を表す。*は主鎖構造との結合の部位を表す。   In formula (I), R represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. * Represents the site of binding to the main chain structure.

Rが表す1価の置換基としては、直鎖アルキル基、分岐アルキル基、水酸基、ニトロ基、スルホ基等が挙げられる。
これらのうち、直鎖アルキル基、分岐アルキル基、中でも、メチル基、エチル基が好ましい。
Examples of the monovalent substituent represented by R include a linear alkyl group, a branched alkyl group, a hydroxyl group, a nitro group, and a sulfo group.
Of these, a linear alkyl group and a branched alkyl group, and a methyl group and an ethyl group are preferable.

以下、本発明の着色感放射線性組成物に含有される各成分について、詳細に説明する。   Hereinafter, each component contained in the colored radiation-sensitive composition of the present invention will be described in detail.

<(A)着色剤>
本発明の着色感放射線性組成物は、着色剤を含有する。着色剤としては顔料でも、染料でもどちらでもよい。また、着色剤として、2種以上の顔料であっても、2種以上の染料であってもよく、1種以上の顔料と1種以上の染料を併用してもよい。
本発明の着色感放射線性組成物は、赤色、緑色、および青色の着色感放射線性組成物が好ましく、補色系のシアン色、マゼンタ色、またはイエロー色の着色感放射線性組成物にも適用可能である。好ましくは、赤色、緑色、および青色の着色感放射線性組成物であり、赤色の着色感放射線性組成物に適用したときに、大きな効果が得られ、特に赤色顔料を用いた着色感放射線性組成物に適用することで、さらに大きな効果が得られる。
以下に、赤色、緑色、および青色の着色感放射線性組成物が含む着色剤について説明する。
<(A) Colorant>
The colored radiation-sensitive composition of the present invention contains a colorant. The colorant may be a pigment or a dye. Further, as the colorant, two or more kinds of pigments, two or more kinds of dyes, or one or more kinds of pigments and one or more kinds of dyes may be used in combination.
The colored radiation-sensitive composition of the present invention is preferably a red, green, and blue colored radiation-sensitive composition, and can also be applied to a complementary color cyan, magenta, or yellow colored radiation-sensitive composition. It is. Preferably, red, green, and blue colored radiation-sensitive compositions, and when applied to a red colored radiation-sensitive composition, a great effect is obtained, and in particular, a colored radiation-sensitive composition using a red pigment. By applying to objects, even greater effects can be obtained.
Below, the colorant which a red, green, and blue coloring radiation sensitive composition contains is demonstrated.

〔赤色の着色感放射線性組成物〕
赤色の着色感放射線性組成物には、赤色およびオレンジの顔料、または染料を含む。さらに黄色の顔料、または染料を含んでもよい。2種以上の赤色の着色剤でもよいし、2種以上の赤色着色剤と黄色の着色剤でもよいし、赤色の着色剤と2種以上の黄色着色剤でもよいし、2種以上の赤色着色剤と2種以上の黄色着色剤とを使用してもよい。
[Red colored radiation-sensitive composition]
The red colored radiation sensitive composition includes red and orange pigments or dyes. Further, a yellow pigment or dye may be included. Two or more red colorants, two or more red colorants and a yellow colorant, a red colorant and two or more yellow colorants, or two or more red colors may be used. An agent and two or more yellow colorants may be used.

赤色の顔料としては、例えば、C.I.ピグメントレッド 1、2、3、4、5、6、7、9、10、14、17、22、23、31、38、41、48:1、48:2、48:3、48:4、49、49:1、49:2、52:1、52:2、53:1、57:1、60:1、63:1、66、67、81:1、81:2、81:3、83、88、90、105、112、119、122、123、144、146、149、150、155、166、168、169、170、171、172、175、176、177、178、179、184、185、187、188、190、200、202、206、207、208、209、210、216、220、224、226、242、246、254、255、264、270、272、279
オレンジ色の顔料としては、C.I.ピグメントオレンジ 2、5、13、16、17:1、31、34、36、38、43、46、48、49、51、52、55、59、60、61、62、64、71、73等である。
Examples of red pigments include C.I. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49, 49: 1, 49: 2, 52: 1, 52: 2, 53: 1, 57: 1, 60: 1, 63: 1, 66, 67, 81: 1, 81: 2, 81: 3, 83, 88, 90, 105, 112, 119, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 155, 166, 168, 169, 170, 171, 172, 175, 176, 177, 178, 179, 184, 185, 187, 188, 190, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 216, 220, 224, 226, 242, 246, 254, 255, 264, 270, 272, 279
Examples of orange pigments include C.I. I. Pigment Orange 2, 5, 13, 16, 17: 1, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 71, 73, etc. It is.

赤色の染料としては、例えば、C.I.アシッドレッド 1、4、8、14、17、18、26、27、29、31、34、35、37、42、44、50、51、52、57、66、73、80、87、88、91、92、94、97、103、111、114、129、133、134、138、143、145、150、151、158、176、183、198、211、215、216、217、249、252、257、260、266、274等である。   Examples of red dyes include C.I. I. Acid Red 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 80, 87, 88, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 183, 198, 211, 215, 216, 217, 249, 252, 257, 260, 266, 274, etc.

これらの赤色およびオレンジ色の着色剤のうちでも、着色パターンの直線性、および残渣の発生が抑制される観点から、C.I.ピグメントレッド 166、177、224、242、254が好ましく、特にC.I.ピグメントレッド 254が好ましい。   Among these red and orange colorants, C.I. from the viewpoint of suppressing the linearity of the coloring pattern and the generation of residues. I. Pigment Red 166, 177, 224, 242, and 254 are preferable. I. Pigment Red 254 is preferred.

黄色の顔料としては、例えば、C.I.ピグメントイエロー 1、2、3、4、5、6、10、11、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、199、213、214等である。   Examples of yellow pigments include C.I. I. Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 20, 24, 31, 32, 34, 35, 35: 1, 36, 36: 1, 37, 37: 1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 17 , It is a 176,177,179,180,181,182,185,187,188,193,194,199,213,214, and the like.

黄色の染料としては、例えば、C.I.アシッドイエロー 1、3、7、9、11、17、23、25、29、34、36、42、54、72、73、76、79、98、99、111、112、114、116、184、243;C.I.フッドイエロー 3等を挙げることができる。   Examples of yellow dyes include C.I. I. Acid Yellow 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 42, 54, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 114, 116, 184, 243; I. Hood Yellow 3 etc. can be mentioned.

これらの黄色の着色剤のうちでも、着色パターンの直線性、および残渣の発生が抑制される観点から、C.I.ピグメントイエロー139が、好ましい。   Among these yellow colorants, C.I. from the viewpoint of suppressing the linearity of the coloring pattern and the generation of residues. I. Pigment Yellow 139 is preferable.

赤色の着色感放射線性組成物における赤色の着色剤と黄色の着色剤との含有比としては質量基準で、赤色の着色剤:黄色の着色剤=80:20〜60:40であることがで好ましく、70:30であることが特に好ましい。
また、赤色の着色感放射線性組成物における全着色剤の含有量は、赤色の着色感放射線性組成物の全固形分に対して、質量基準で、10%〜40%であることが好ましく、20%〜30%であることがより好ましい。
The content ratio of the red colorant and the yellow colorant in the red colored radiation-sensitive composition may be, based on mass, red colorant: yellow colorant = 80: 20 to 60:40. 70:30 is particularly preferable.
The content of the total colorant in the red colored radiation-sensitive composition is preferably 10% to 40% on a mass basis with respect to the total solid content of the red colored radiation-sensitive composition. More preferably, it is 20% to 30%.

〔緑色の着色感放射線性組成物〕
緑色の着色感放射線性組成物には、緑色の顔料、または染料を含む。さらに黄色の顔料、または染料を含んでもよい。2種以上の緑色着色剤と黄色の着色剤でもよいし、緑色の着色剤と2種以上の黄色着色剤でもよいし、2種以上の緑色着色剤と2種以上の黄色着色剤とを使用してもよい。
[Green colored radiation-sensitive composition]
The green colored radiation-sensitive composition contains a green pigment or dye. Further, a yellow pigment or dye may be included. Two or more green colorants and a yellow colorant may be used, or a green colorant and two or more yellow colorants may be used, or two or more green colorants and two or more yellow colorants are used. May be.

緑色顔料としては、例えば、C.I.ピグメントグリーン 7、10、36、37、58等である。
緑色染料としては、例えば、C.I.アシッドグリーン 1、3、5、9、16、25、27、50等である。
Examples of the green pigment include C.I. I. Pigment Green 7, 10, 36, 37, 58, etc.
Examples of the green dye include C.I. I. Acid Green 1, 3, 5, 9, 16, 25, 27, 50, etc.

これらの緑色の着色剤のうちでも、C.I.ピグメントグリーン 7、36、58が好ましく、特にC.I.ピグメントグリーン 36、58が好ましい。   Among these green colorants, C.I. I. Pigment Green 7, 36 and 58 are preferable. I. Pigment Green 36 and 58 are preferable.

黄色顔料としては、例えば、C.I.ピグメントイエロー 1、2、3、4、5、6、10、11、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、199、213、214等である。   Examples of yellow pigments include C.I. I. Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 20, 24, 31, 32, 34, 35, 35: 1, 36, 36: 1, 37, 37: 1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 17 , It is a 176,177,179,180,181,182,185,187,188,193,194,199,213,214, and the like.

黄色染料としては、例えば、C.I.アシッドイエロー 1、3、7、9、11、17、23、25、29、34、36、42、54、72、73、76、79、98、99、111、112、114、116、184、243;C.I.フッドイエロー 3等を挙げることができる。   Examples of yellow dyes include C.I. I. Acid Yellow 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 42, 54, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 114, 116, 184, 243; I. Hood Yellow 3 etc. can be mentioned.

これらの黄色の着色剤のうちでも、C.I.ピグメントイエロー139、150、185が好ましい。   Among these yellow colorants, C.I. I. Pigment Yellow 139, 150, and 185 are preferable.

緑色の着色感放射線性組成物における緑色の着色剤と黄色の着色剤との含有比としては質量基準で、緑色の着色剤:黄色の着色剤=50:50〜70:30であることがで好ましく、特に好ましくは60:40である。
また、緑色の着色感放射線性組成物における全着色剤の含有量は、緑色の着色感放射線性組成物の全固形分に対して、質量基準で、10%〜40%であることが好ましく、20%〜30%であることがより好ましい。
The content ratio of the green colorant and the yellow colorant in the green colored radiation-sensitive composition is, on a mass basis, green colorant: yellow colorant = 50: 50 to 70:30. It is preferably 60:40.
Further, the content of the total colorant in the green colored radiation-sensitive composition is preferably 10% to 40% on a mass basis with respect to the total solid content of the green colored radiation-sensitive composition. More preferably, it is 20% to 30%.

〔青色の着色感放射線性組成物〕
青色の着色感放射線性組成物には、青色の顔料、または染料を含む。さらに紫色の顔料、または染料を含んでもよい。青色着色剤だけでもよいし、2種以上の青色着色剤と紫色の着色剤でもよいし、青色の着色剤と2種以上の紫色着色剤でもよいし、2種以上の青色着色剤と2種以上の紫色着色剤とを使用してもよい。
[Blue colored radiation-sensitive composition]
The blue colored radiation-sensitive composition contains a blue pigment or dye. Further, a purple pigment or dye may be included. Only a blue colorant may be sufficient, 2 or more types of blue colorants and purple colorants may be sufficient, a blue colorant and 2 or more types of purple colorants may be sufficient, or 2 or more types of blue colorants and 2 types You may use the above purple colorant.

青色顔料としては、例えば、C.I.ピグメントブルー 1、2、15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、66、79、80等である。
青色染料としては、例えば、C.I.アシッドブルー 1、7、9、15、18、23、25、27、29、40〜45、62、70、74、80、83、86、87、90、92、103、112、113、120、129、138、147、158、171、182、192、243、324:1等である。
Examples of the blue pigment include C.I. I. Pigment Blue 1, 2, 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 64, 66, 79, 80, and the like.
Examples of the blue dye include C.I. I. Acid Blue 1, 7, 9, 15, 18, 23, 25, 27, 29, 40-45, 62, 70, 74, 80, 83, 86, 87, 90, 92, 103, 112, 113, 120, 129, 138, 147, 158, 171, 182, 192, 243, 324: 1 and the like.

これらの青色の着色剤のうちでも、C.I.ピグメントブルー 15:3、15:6が好ましく、特にC.I.ピグメントブルー15:6が好ましい。   Among these blue colorants, C.I. I. Pigment Blue 15: 3 and 15: 6 are preferable. I. Pigment Blue 15: 6 is preferable.

紫色顔料としては、例えば、C.I.ピグメントバイオレット 1、19、23、27、32、37、42等である。   Examples of purple pigments include C.I. I. Pigment violet 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42 and the like.

紫色染料としては、例えば、C.I.アシッドバイオレット 6B、7、9、17、19、C.I.アシッドクロームバイオレット K3等を挙げることができる。
紫色染料としては、後述の一般式(M)で表されるジピロメテン染料も好ましい。
Examples of purple dyes include C.I. I. Acid Violet 6B, 7, 9, 17, 19, C.I. I. And acid chrome violet K3.
As the purple dye, a dipyrromethene dye represented by the following general formula (M) is also preferable.

〔一般式(M)で表されるジピロメテン染料=特定染料〕
本発明における青色画素は、下記一般式(M)で表されるジピロメテン染料(以下、適宜「特定染料」と称する。)を含むことが好ましい。
前記特定染料としては、下記一般式(M)で表されるジピロメテン染料であればよく、一般式(M)と金属もしくは金属化合物とから得られるジピロメテン金属錯体化合物またはその互変異性体に由来する構造を含む。
[Dipyrromethene dye represented by general formula (M) = specific dye]
The blue pixel in the present invention preferably contains a dipyrromethene dye represented by the following general formula (M) (hereinafter referred to as “specific dye” as appropriate).
The specific dye may be a dipyrromethene dye represented by the following general formula (M), and is derived from a dipyrromethene metal complex compound obtained from the general formula (M) and a metal or a metal compound, or a tautomer thereof. Includes structure.

〔一般式(M)中、R〜R10は、各々独立に水素原子または1価の置換基を表す。ただし、RとRとが互いに結合して環を形成することはない。〕 [In General Formula (M), R 4 to R 10 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. However, R 4 and R 9 are not bonded to each other to form a ring. ]

前記一般式(M)で表されるジピロメテン化合物と金属または金属化合物とから得られるジピロメテン金属錯体化合物またはその互変異性体としては、具体的には、下記一般式(5)又は下記一般式(6)で表されるジピロメテン金属錯体化合物が挙げられる。
但し、本発明はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of the dipyrromethene metal complex compound obtained from the dipyrromethene compound represented by the general formula (M) and a metal or a metal compound or a tautomer thereof include the following general formula (5) or the following general formula ( The dipyrromethene metal complex compound represented by 6) is mentioned.
However, the present invention is not limited to these.

(一般式(5)で表されるジピロメテン金属錯体化合物) (Dipyrromethene metal complex compound represented by the general formula (5))

上記一般式(5)中、R〜Rは各々独立に、水素原子、又は置換基を表し、R10は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。Maは、金属原子、又は金属化合物を表す。Xは、Maに結合可能な基を表し、Xは、Maの電荷を中和する基を表し、XとXは、互いに結合してMaと共に5員、6員、又は7員の環を形成していてもよい。ただし、RとRとが互いに結合して環を形成することはない。なお、上記一般式(5)で表されるジピロメテン金属錯体化合物は、互変異性体を含む。 In the general formula (5), R 4 to R 9 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and R 10 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. Ma represents a metal atom or a metal compound. X 1 represents a group capable of binding to Ma, X 2 represents a group that neutralizes the charge of Ma, and X 1 and X 2 are bonded to each other to form a 5-membered, 6-membered, or 7-membered member together with Ma. The ring may be formed. However, R 4 and R 9 are not bonded to each other to form a ring. In addition, the dipyrromethene metal complex compound represented by the general formula (5) includes a tautomer.

色素残基を構成するために前記一般式(5)で表されるジピロメテン金属錯体化合物から水素原子が1つ又は2つ外れる部位としては特に限定はないが、合成適合性の点で、R〜Rのいずれか1つ又は2つの部位が好ましく、R、R、R及びRのいずれか1つ又は2つの部位がより好ましく、R及びRのいずれか1つ又は2つの部位が更に好ましい。 There is no particular limitation on the site where one or two hydrogen atoms are removed from the dipyrromethene metal complex compound represented by the general formula (5) in order to form a dye residue, but in terms of synthesis compatibility, R 4 preferably any one or two sites to R 9, R 4, R 6, either one or two sites of R 7 and R 9 are more preferred, any one of R 4 and R 9 or Two sites are more preferred.

本発明における特定染料はアルカリ可溶性基を有することが好ましい。
特定染料にアルカリ可溶性基を導入する方法として、アルカリ可溶性基を有する色素単量体又は構造単位を用いる場合、前記一般式(5)で表されるジピロメテン金属錯体化合物のR〜R10、X、Xのいずれか1つ又は2つ以上の置換基にアルカリ可溶性基を持たせることができる。これら置換基の中でも、R〜R及びXのいずれかが好ましく、R、R、R及びRのいずれかがより好ましく、R及びRのいずれかが更に好ましい。
The specific dye in the present invention preferably has an alkali-soluble group.
As a method for introducing an alkali-soluble group into a specific dye, when a pigment monomer or a structural unit having an alkali-soluble group is used, R 4 to R 10 of the dipyrromethene metal complex compound represented by the general formula (5), X Any one or two or more substituents of 1 and X 2 can have an alkali-soluble group. Among these substituents, any one of R 4 to R 9 and X 1 is preferable, any of R 4 , R 6 , R 7 and R 9 is more preferable, and any of R 4 and R 9 is still more preferable.

上記一般式(5)で表されるジピロメテン金属錯体化合物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、アルカリ可溶性基以外の官能基を有していてもよい。   The dipyrromethene metal complex compound represented by the general formula (5) may have a functional group other than the alkali-soluble group as long as the effects of the present invention are not impaired.

上記R〜Rとしては、例えば、ハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素)、アルキル基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24の、直鎖、分岐鎖、又は環状のアルキル基で、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、2−エチルヘキシル、ドデシル、ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、1−ノルボルニル、1−アダマンチル)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜48、より好ましくは炭素数2〜18のアルケニル基で、例えば、ビニル、アリル、3−ブテン−1−イル)、アリール基(好ましくは炭素数6〜48、より好ましくは炭素数6〜24のアリール基で、例えば、フェニル、ナフチル)、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜18のヘテロ環基で、例えば、2−チエニル、4−ピリジル、2−フリル、2−ピリミジニル、1−ピリジル、2−ベンゾチアゾリル、1−イミダゾリル、1−ピラゾリル、ベンゾトリアゾール−1−イル)、シリル基(好ましくは炭素数3〜38、より好ましくは炭素数3〜18のシリル基で、例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリブチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、t−ヘキシルジメチルシリル)、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のアルコキシ基で、例えば、メトキシ、エトキシ、1−ブトキシ、2−ブトキシ、イソプロポキシ、t−ブトキシ、ドデシルオキシ、シクロアルキルオキシ基で、例えば、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜48、より好ましくは炭素数6〜24のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ、1−ナフトキシ)、ヘテロ環オキシ基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜18のヘテロ環オキシ基で、例えば、1−フェニルテトラゾール−5−オキシ、2−テトラヒドロピラニルオキシ)、シリルオキシ基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜18のシリルオキシ基で、例えば、トリメチルシリルオキシ、t−ブチルジメチルシリルオキシ、ジフェニルメチルシリルオキシ)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜48、より好ましくは炭素数2〜24のアシルオキシ基で、例えば、アセトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ドデカノイルオキシ)、アルコキシカルボニルオキシ基(好ましくは炭素数2〜48、より好ましくは炭素数2〜24のアルコキシカルボニルオキシ基で、例えば、エトキシカルボニルオキシ、t−ブトキシカルボニルオキシ、シクロアルキルオキシカルボニルオキシ(例えば、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ))、アリールオキシカルボニルオキシ基(好ましくは炭素数7〜32、より好ましくは炭素数7〜24のアリールオキシカルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ)、カルバモイルオキシ基(好ましくは炭素数1〜48、よりこの好ましくは炭素数1〜24のカルバモイルオキシ基で、例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ、N−ブチルカルバモイルオキシ、N−フェニルカルバモイルオキシ、N−エチル−N−フェニルカルバモイルオキシ)、スルファモイルオキシ基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜24のスルファモイルオキシ基で、例えば、N,N−ジエチルスルファモイルオキシ、N−プロピルスルファモイルオキシ)、アルキルスルホニルオキシ基(好ましくは炭素数1〜38、より好ましくは炭素数1〜24のアルキルスルホニルオキシ基で、例えば、メチルスルホニルオキシ、ヘキサデシルスルホニルオキシ、シクロヘキシルスルホニルオキシ)、 As said R < 4 > -R < 9 >, a halogen atom (for example, fluorine, chlorine, bromine), an alkyl group (preferably C1-C48, More preferably, C1-C24 linear, branched chain, Or a cyclic alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, t-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, 2-ethylhexyl, dodecyl, hexadecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, 1-norbornyl, 1-adamantyl), an alkenyl group (preferably an alkenyl group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably 2 to 18 carbon atoms, such as vinyl, allyl, 3-buten-1-yl), an aryl group (preferably carbon An aryl group having 6 to 48, more preferably 6 to 24 carbon atoms, such as phenyl and naphthyl A heterocyclic group (preferably a heterocyclic group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 18 carbon atoms, such as 2-thienyl, 4-pyridyl, 2-furyl, 2-pyrimidinyl, 1-pyridyl, 2 -Benzothiazolyl, 1-imidazolyl, 1-pyrazolyl, benzotriazol-1-yl), a silyl group (preferably a silyl group having 3 to 38 carbon atoms, more preferably 3 to 18 carbon atoms, such as trimethylsilyl, triethylsilyl, Tributylsilyl, t-butyldimethylsilyl, t-hexyldimethylsilyl), hydroxy group, cyano group, nitro group, alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, , Methoxy, ethoxy, 1-butoxy, 2-butoxy, isopropoxy, t-butoxy, dodecylo A cycloalkyloxy group such as cyclopentyloxy or cyclohexyloxy) or an aryloxy group (preferably an aryloxy group having 6 to 48 carbon atoms, more preferably 6 to 24 carbon atoms such as phenoxy or 1-naphthoxy ), A heterocyclic oxy group (preferably a heterocyclic oxy group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 18 carbon atoms, such as 1-phenyltetrazol-5-oxy, 2-tetrahydropyranyloxy), silyloxy A group (preferably a silyloxy group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 18 carbon atoms, such as trimethylsilyloxy, t-butyldimethylsilyloxy, diphenylmethylsilyloxy), an acyloxy group (preferably having 2 to 2 carbon atoms). 48, more preferably an acyloxy group having 2 to 24 carbon atoms, For example, acetoxy, pivaloyloxy, benzoyloxy, dodecanoyloxy), an alkoxycarbonyloxy group (preferably an alkoxycarbonyloxy group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably 2 to 24 carbon atoms, such as ethoxycarbonyloxy, t- Butoxycarbonyloxy, cycloalkyloxycarbonyloxy (for example, cyclohexyloxycarbonyloxy)), aryloxycarbonyloxy group (preferably an aryloxycarbonyloxy group having 7 to 32 carbon atoms, more preferably 7 to 24 carbon atoms, , Phenoxycarbonyloxy), a carbamoyloxy group (preferably a carbamoyloxy group having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as N, N-dimethylcarbamoyloxy, N- Tilcarbamoyloxy, N-phenylcarbamoyloxy, N-ethyl-N-phenylcarbamoyloxy), a sulfamoyloxy group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably having 1 to 24 carbon atoms). , For example, N, N-diethylsulfamoyloxy, N-propylsulfamoyloxy), an alkylsulfonyloxy group (preferably an alkylsulfonyloxy group having 1 to 38 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, For example, methylsulfonyloxy, hexadecylsulfonyloxy, cyclohexylsulfonyloxy),

アリールスルホニルオキシ基(好ましくは炭素数6〜32、より好ましくは炭素数6〜24のアリールスルホニルオキシ基で、例えば、フェニルスルホニルオキシ)、アシル基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のアシル基で、例えば、ホルミル、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、テトラデカノイル、シクロヘキサノイル)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜48、より好ましくは炭素数2〜24のアルコキシカルボニル基で、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜32、より好ましくは炭素数7〜24のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のカルバモイル基で、例えば、カルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、N−エチル−N−オクチルカルバモイル、N,N−ジブチルカルバモイル、N−プロピルカルバモイル、N−フェニルカルバモイル、N−メチルN−フェニルカルバモイル、N,N−ジシクロへキシルカルバモイル)、アミノ基(好ましくは炭素数32以下、より好ましくは炭素数24以下のアミノ基で、例えば、アミノ、メチルアミノ、N,N−ジブチルアミノ、テトラデシルアミノ、2−エチルへキシルアミノ、シクロヘキシルアミノ)、アニリノ基(好ましくは炭素数6〜32、より好ましくは炭素数6〜24のアニリノ基で、例えば、アニリノ、N−メチルアニリノ)、ヘテロ環アミノ基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜18のヘテロ環アミノ基で、例えば、4−ピリジルアミノ)、カルボンアミド基(好ましくは炭素数2〜48、より好ましくは炭素数2〜24のカルボンアミド基で、例えば、アセトアミド、ベンズアミド、テトラデカンアミド、ピバロイルアミド、シクロヘキサンアミド)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜24のウレイド基で、例えば、ウレイド、N,N−ジメチルウレイド、N−フェニルウレイド)、イミド基(好ましくは炭素数36以下、より好ましくは炭素数24以下のイミド基で、例えば、N−スクシンイミド、N−フタルイミド)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜48、より好ましくは炭素数2〜24のアルコキシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、t−ブトキシカルボニルアミノ、オクタデシルオキシカルボニルアミノ、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜32、より好ましくは炭素数7〜24のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のスルホンアミド基で、例えば、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ヘキサデカンスルホンアミド、シクロヘキサンスルホンアミド)、スルファモイルアミノ基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のスルファモイルアミノ基で、例えば、N、N−ジプロピルスルファモイルアミノ、N−エチル−N−ドデシルスルファモイルアミノ)、アゾ基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜24のアゾ基で、例えば、フェニルアゾ、3−ピラゾリルアゾ)、 An arylsulfonyloxy group (preferably an arylsulfonyloxy group having 6 to 32 carbon atoms, more preferably an arylsulfonyloxy group having 6 to 24 carbon atoms, such as phenylsulfonyloxy), an acyl group (preferably having 1 to 48 carbon atoms, more preferably carbon An acyl group having 1 to 24, for example, formyl, acetyl, pivaloyl, benzoyl, tetradecanoyl, cyclohexanoyl), an alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 48 carbon atoms, more preferably an alkoxy having 2 to 24 carbon atoms) Examples of carbonyl groups include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, octadecyloxycarbonyl, cyclohexyloxycarbonyl, 2,6-di-tert-butyl-4-methylcyclohexyloxycarbonyl), and aryloxycarbonyl groups (preferably having 7 to 32 carbon atoms). , Yo Preferably, it is an aryloxycarbonyl group having 7 to 24 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl, and a carbamoyl group (preferably having 1 to 48 carbon atoms, more preferably a carbamoyl group having 1 to 24 carbon atoms, such as carbamoyl, N, N-diethylcarbamoyl, N-ethyl-N-octylcarbamoyl, N, N-dibutylcarbamoyl, N-propylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl, N-methylN-phenylcarbamoyl, N, N-dicyclohexylcarbamoyl), amino A group (preferably an amino group having 32 or less carbon atoms, more preferably 24 or less carbon atoms, such as amino, methylamino, N, N-dibutylamino, tetradecylamino, 2-ethylhexylamino, cyclohexylamino), anilino Group (preferably having 6 to 32 carbon atoms) More preferably, it is an anilino group having 6 to 24 carbon atoms, such as anilino or N-methylanilino), a heterocyclic amino group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably a heterocyclic amino group having 1 to 18 carbon atoms, For example, 4-pyridylamino), carbonamido group (preferably a carbonamido group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably 2 to 24 carbon atoms, for example, acetamido, benzamido, tetradecanamido, pivaloylamide, cyclohexaneamido), ureido group (Preferably a ureido group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as ureido, N, N-dimethylureido, N-phenylureido), an imide group (preferably having 36 or less carbon atoms, more Preferably it is an imide group having 24 or less carbon atoms, such as N-succinimide and N-phthalate. Imide), alkoxycarbonylamino group (preferably an alkoxycarbonylamino group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably 2 to 24 carbon atoms, such as methoxycarbonylamino, ethoxycarbonylamino, t-butoxycarbonylamino, octadecyloxycarbonyl Amino, cyclohexyloxycarbonylamino), aryloxycarbonylamino group (preferably an aryloxycarbonylamino group having 7 to 32 carbon atoms, more preferably 7 to 24 carbon atoms, such as phenoxycarbonylamino), sulfonamide group (preferably Is a sulfonamide group having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as methanesulfonamide, butanesulfonamide, benzenesulfonamide, hexadecanesulfonamide, cyclohexane. Sulfonamides), sulfamoylamino groups (preferably sulfamoylamino groups having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as N, N-dipropylsulfamoylamino, N-ethyl). -N-dodecylsulfamoylamino), an azo group (preferably an azo group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as phenylazo, 3-pyrazolylazo),

アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のアルキルチオ基で、例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜48、より好ましくは炭素数6〜24のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ)、ヘテロ環チオ基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜18のヘテロ環チオ基で、例えば、2−ベンゾチアゾリルチオ、2−ピリジルチオ、1−フェニルテトラゾリルチオ)、アルキルスルフィニル基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜24のアルキルスルフィニル基で、例えば、ドデカンスルフィニル)、アリールスルフィニル基(好ましくは炭素数6〜32、より好ましくは炭素数6〜24のアリールスルフィニル基で、例えば、フェニルスルフィニル)、アルキルスルホニル基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のアルキルスルホニル基で、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、2−エチルヘキシルスルホニル、ヘキサデシルスルホニル、オクチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル)、アリールスルホニル基(好ましくは炭素数6〜48、より好ましくは炭素数6〜24のアリールスルホニル基で、例えば、フェニルスルホニル、1−ナフチルスルホニル)、スルファモイル基(好ましくは炭素数32以下、より好ましくは炭素数24以下のスルファモイル基で、例えば、スルファモイル、N,N−ジプロピルスルファモイル、N−エチル−N−ドデシルスルファモイル、N−エチル−N−フェニルスルファモイル、N−シクロヘキシルスルファモイル)、スルホ基、ホスホニル基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜24のホスホニル基で、例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル)、ホスフィノイルアミノ基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜24のホスフィノイルアミノ基で、例えば、ジエトキシホスフィノイルアミノ、ジオクチルオキシホスフィノイルアミノ)が挙げられる。 An alkylthio group (preferably an alkylthio group having 1 to 48 carbon atoms, more preferably an alkylthio group having 1 to 24 carbon atoms, for example, methylthio, ethylthio, octylthio, cyclohexylthio), an arylthio group (preferably having 6 to 48 carbon atoms, more preferably An arylthio group having 6 to 24 carbon atoms, such as phenylthio, and a heterocyclic thio group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably a heterocyclic thio group having 1 to 18 carbon atoms, such as 2-benzothiazoli Ruthio, 2-pyridylthio, 1-phenyltetrazolylthio), an alkylsulfinyl group (preferably an alkylsulfinyl group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably an alkylsulfinyl group having 1 to 24 carbon atoms, for example, dodecanesulfinyl group), an arylsulfinyl group ( Preferably it has 6 to 32 carbon atoms, more preferably 6 to 24 carbon atoms. An arylsulfonyl group (for example, phenylsulfinyl), an alkylsulfonyl group (preferably an alkylsulfonyl group having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as methylsulfonyl, ethylsulfonyl, propylsulfonyl, butylsulfonyl, Isopropylsulfonyl, 2-ethylhexylsulfonyl, hexadecylsulfonyl, octylsulfonyl, cyclohexylsulfonyl), an arylsulfonyl group (preferably an arylsulfonyl group having 6 to 48 carbon atoms, more preferably 6 to 24 carbon atoms, such as phenylsulfonyl, 1-naphthylsulfonyl), a sulfamoyl group (preferably a sulfamoyl group having 32 or less carbon atoms, more preferably 24 or less carbon atoms, such as sulfamoyl, N, N-dipropylsulfa , N-ethyl-N-dodecylsulfamoyl, N-ethyl-N-phenylsulfamoyl, N-cyclohexylsulfamoyl), sulfo group, phosphonyl group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably carbon A phosphonyl group having 1 to 24 carbon atoms, for example, phenoxyphosphonyl, octyloxyphosphonyl, phenylphosphonyl), phosphinoylamino group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably phosphino having 1 to 24 carbon atoms) Ilylamino group includes, for example, diethoxyphosphinoylamino, dioctyloxyphosphinoylamino).

前記R及びRとしては、上記の中でも、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボンアミド基、ウレイド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基が好ましく、カルボンアミド基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基がより好ましく、カルボンアミド基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基が更に好ましく、カルボンアミド基、ウレイド基が特に好ましい。
前記R及びRとしては、上記の中でも、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ニトリル基、イミド基、カルバモイルスルホニル基が好ましく、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、ニトリル基、イミド基、カルバモイルスルホニル基がより好ましく、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、ニトリル基、イミド基、カルバモイルスルホニル基が更に好ましく、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基が特に好ましい。
前記R及びRとしては、上記の中でも、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のアリール基、置換又は無置換のヘテロ環基が好ましく、更に好ましくは置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のアリール基である。
Among the above, R 4 and R 9 are preferably an alkylamino group, an arylamino group, a carbonamido group, a ureido group, an imide group, an alkoxycarbonylamino group, and a sulfonamido group, and a carbonamido group, a ureido group, an alkoxy group. A carbonylamino group and a sulfonamide group are more preferable, a carbonamide group, a ureido group, an alkoxycarbonylamino group, and a sulfonamide group are further preferable, and a carbonamide group and a ureido group are particularly preferable.
Among the above, R 5 and R 8 are preferably an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a nitrile group, an imide group, and a carbamoylsulfonyl group, and an alkoxycarbonyl group, aryl Oxycarbonyl group, carbamoyl group, alkylsulfonyl group, nitrile group, imide group, carbamoylsulfonyl group are more preferable, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, nitrile group, imide group, carbamoylsulfonyl group are more preferable, alkoxy A carbonyl group, an aryloxycarbonyl group, and a carbamoyl group are particularly preferable.
Among the above, R 6 and R 7 are preferably a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and more preferably a substituted or unsubstituted alkyl group. , A substituted or unsubstituted aryl group.

及びRがアルキル基を表す場合の、該アルキル基としては、好ましくは、炭素数1〜12の直鎖、分岐鎖、又は環状の置換又は無置換のアルキル基であり、より具体的には、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、及び、ベンジル基が挙げられ、より好ましくは炭素数1〜12の分岐鎖、又は環状の置換又は無置換のアルキル基であり、より具体的には、例えば、イソプロピル基、シクロプロピル基、i−ブチル基、t−ブチル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基が挙げられ、更に好ましくは、炭素数1〜12の2級又は3級の置換又は無置換のアルキル基であり、より具体的には、例えば、イソプロピル基、シクロプロピル基、i−ブチル基、t−ブチル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基が挙げられる。 When R 6 and R 7 represent an alkyl group, the alkyl group is preferably a linear, branched, or cyclic substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, more specifically. For example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, cyclopropyl group, n-butyl group, i-butyl group, t-butyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, and benzyl More preferably a branched chain having 1 to 12 carbon atoms or a cyclic substituted or unsubstituted alkyl group, and more specifically, for example, an isopropyl group, a cyclopropyl group, an i-butyl group, a t-butyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group, and more preferably a secondary or tertiary substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. Ri, more specifically, for example, isopropyl, cyclopropyl, i- butyl, t- butyl group, a cyclobutyl group, a cyclohexyl group.

及びRがアリール基を表す場合の、該アリール基としては、好ましくは、置換又は無置換のフェニル基、置換又は無置換のナフチル基が挙げられ、より好ましくは置換又は無置換のフェニル基である。
及びRがヘテロ環基を表す場合の、該ヘテロ環基としては、好ましくは、置換又は無置換の2−チエニル基、置換又は無置換の4−ピリジル基、置換又は無置換の3−ピリジル基、置換又は無置換の2−ピリジル基、置換又は無置換の2−フリル基、置換又は無置換の2−ピリミジニル基、置換又は無置換の2−ベンゾチアゾリル基、置換又は無置換の1−イミダゾリル基、置換又は無置換の1−ピラゾリル基、置換又は無置換のベンゾトリアゾール−1−イル基が挙げられ、より好ましくは置換又は無置換の2−チエニル基、置換又は無置換の4−ピリジル基、置換又は無置換の2−フリル基、置換又は無置換の2−ピリミジニル基、置換又は無置換の1−ピリジル基が挙げられる。
When R 6 and R 7 represent an aryl group, the aryl group preferably includes a substituted or unsubstituted phenyl group and a substituted or unsubstituted naphthyl group, and more preferably a substituted or unsubstituted phenyl group. It is a group.
When R 6 and R 7 represent a heterocyclic group, the heterocyclic group is preferably a substituted or unsubstituted 2-thienyl group, a substituted or unsubstituted 4-pyridyl group, a substituted or unsubstituted 3 -Pyridyl group, substituted or unsubstituted 2-pyridyl group, substituted or unsubstituted 2-furyl group, substituted or unsubstituted 2-pyrimidinyl group, substituted or unsubstituted 2-benzothiazolyl group, substituted or unsubstituted 1 -Imidazolyl group, substituted or unsubstituted 1-pyrazolyl group, substituted or unsubstituted benzotriazol-1-yl group, more preferably substituted or unsubstituted 2-thienyl group, substituted or unsubstituted 4- Examples include a pyridyl group, a substituted or unsubstituted 2-furyl group, a substituted or unsubstituted 2-pyrimidinyl group, and a substituted or unsubstituted 1-pyridyl group.

前記一般式(5)中、Maは、金属原子又は金属化合物を表す。金属原子又は金属化合物としては、錯体を形成可能な金属原子又は金属化合物であればいずれであってもよく、2価の金属原子、2価の金属酸化物、2価の金属水酸化物、又は2価の金属塩化物が含まれる。
例えば、Zn、Mg、Si、Sn、Rh、Pt、Pd、Mo、Mn、Pb、Cu、Ni、Co、Fe等、及びAlCl、InCl、FeCl、TiCl、SnCl、SiCl、GeClなどの金属塩化物、TiO、VO等の金属酸化物、Si(OH)等の金属水酸化物が含まれる。
In the general formula (5), Ma represents a metal atom or a metal compound. The metal atom or metal compound may be any metal atom or metal compound capable of forming a complex, and may be any divalent metal atom, divalent metal oxide, divalent metal hydroxide, or Divalent metal chlorides are included.
For example, Zn, Mg, Si, Sn , Rh, Pt, Pd, Mo, Mn, Pb, Cu, Ni, Co, Fe , etc., and AlCl, InCl, FeCl, TiCl 2 , SnCl 2, SiCl 2, GeCl 2 , etc. Metal chlorides, metal oxides such as TiO and VO, and metal hydroxides such as Si (OH) 2 are included.

これらの中でも、錯体の安定性、分光特性、耐熱、耐光性、及び製造適性等の観点から、金属原子又は金属化合物として、Fe、Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Mo、Mn、Cu、Ni、Co、TiO、及びVOが好ましく、Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Cu、Ni、Co、及びVOが更に好ましく、Zn、Cu、Co、及びVOが特に好ましく、Znが最も好ましい。   Among these, from the viewpoints of the stability, spectral characteristics, heat resistance, light resistance, and production suitability of the complex, Fe, Zn, Mg, Si, Pt, Pd, Mo, Mn, Cu, Ni, Co, TiO, and VO are preferred, Zn, Mg, Si, Pt, Pd, Cu, Ni, Co, and VO are more preferred, Zn, Cu, Co, and VO are particularly preferred, and Zn is most preferred.

また、前記一般式(5)中、R10は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表し、好ましくは水素原子である。 In the general formula (5), R 10 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, preferably a hydrogen atom.

前記一般式(5)中、Xは、Maに結合可能な基であればいずれであってもよく、具体的には、水、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール)等、更に「金属キレート」([1]坂口武一・上野景平著(1995年 南江堂)、[2](1996年)、[3](1997年)等)に記載の化合物が挙げられる。中でも、製造の点で、水、カルボン酸化合物、アルコール類が好ましく、水、カルボン酸化合物がより好ましい。 In the general formula (5), X 1 may be any group as long as it is a group capable of binding to Ma. Specifically, water, alcohols (for example, methanol, ethanol, propanol), etc. The compounds described in “Metal Chelate” ([1] Takeichi Sakaguchi / Keihei Ueno (1995 Nanedo), [2] (1996), [3] (1997), etc.) can be mentioned. Among these, from the viewpoint of production, water, carboxylic acid compounds and alcohols are preferable, and water and carboxylic acid compounds are more preferable.

前記一般式(5)中、Xで表される「Maの電荷を中和する基」としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、カルボン酸基、燐酸基、スルホン酸基等が挙げられ、中でも、製造の点で、ハロゲン原子、水酸基、カルボン酸基、スルホン酸基が好ましく、水酸基、カルボン酸基がより好ましい。 In the general formula (5), examples of the “group that neutralizes the charge of Ma” represented by X 2 include a halogen atom, a hydroxyl group, a carboxylic acid group, a phosphoric acid group, and a sulfonic acid group. From the viewpoint of production, a halogen atom, a hydroxyl group, a carboxylic acid group, and a sulfonic acid group are preferable, and a hydroxyl group and a carboxylic acid group are more preferable.

前記一般式(5)中、XとXは、互いに結合して、Maと共に5員、6員、又は7員の環を形成してもよい。形成される5員、6員、及び7員の環は、飽和環であっても不飽和環であってもよい。また、5員、6員、及び7員の環は、炭素原子のみで構成されていてもよく、窒素原子、酸素原子、又は/及び硫黄原子から選ばれる原子を少なくとも1個有するヘテロ環を形成していてもよい。 In the general formula (5), X 1 and X 2 may be bonded to each other to form a 5-membered, 6-membered, or 7-membered ring together with Ma. The 5-membered, 6-membered and 7-membered rings formed may be saturated or unsaturated. The 5-membered, 6-membered, and 7-membered rings may be composed of only carbon atoms, and form a heterocycle having at least one atom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom, and / or a sulfur atom. You may do it.

前記一般式(5)で表される化合物の好ましい態様としては、R〜Rは各々独立に、R〜Rの説明で記載した好ましい態様であり、R10はR10の説明で記載した好ましい態様であり、MaはZn、Cu、Co、又はVOであり、Xは水、又はカルボン酸化合物であり、Xは水酸基、又はカルボン酸基であり、XとXとが互いに結合して5員又は6員環を形成していてもよい。 As a preferred embodiment of the compound represented by the general formula (5), R 4 to R 9 are each independently a preferred embodiment described in the description of R 4 to R 9 , and R 10 is a description of R 10 . In the preferred embodiment described, Ma is Zn, Cu, Co, or VO, X 1 is water or a carboxylic acid compound, X 2 is a hydroxyl group or a carboxylic acid group, and X 1 and X 2 May be bonded to each other to form a 5-membered or 6-membered ring.

(一般式(6)で表されるジピロメテン金属錯体化合物) (Dipyrromethene metal complex compound represented by the general formula (6))

上記一般式(6)中、R11及びR16は各々独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、又はヘテロ環アミノ基を表す。R12〜R15は各々独立に、水素原子、又は置換基を表す。R17は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。Maは、金属原子、又は金属化合物を表す。X及びXは、NR(Rは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基を表す。)、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を表す。Y及びYは、NR(Rは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基を表す。)、窒素原子、又は炭素原子を表す。R11とYは、互いに結合して5員、6員、又は7員の環を形成していてもよく、R16とYは、互いに結合して5員、6員、又は7員の環を形成していてもよい。XはMaと結合可能な基を表し、aは0、1、又は2を表す。なお、上記一般式(6)で表されるジピロメテン金属錯体化合物は、互変異性体を含む。 In the general formula (6), R 11 and R 16 are each independently an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylamino group, an arylamino group, or a heterocyclic amino group. Represents a group. R 12 to R 15 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. R 17 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. Ma represents a metal atom or a metal compound. X 2 and X 3 are NR (R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group), a nitrogen atom, an oxygen atom, or Represents a sulfur atom. Y 1 and Y 2 represent NR (R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group), a nitrogen atom, or a carbon atom. Represent. R 11 and Y 1 may be bonded to each other to form a 5-, 6-, or 7-membered ring, and R 16 and Y 2 are bonded to each other to form a 5-, 6-, or 7-membered ring. The ring may be formed. X 1 represents a group capable of binding to Ma, and a represents 0, 1, or 2. In addition, the dipyrromethene metal complex compound represented by the general formula (6) includes a tautomer.

色素残基を構成するために前記一般式(6)で表されるジピロメテン金属錯体化合物から水素原子が1つ又は2つ外れる部位としては特に限定はないが、R11〜R17、X、Y〜Yのいずれか1つ又は2つの部位である。
これらの中でも、合成適合性の点で、R11〜R16及びXのいずれか1つ又は2つの部位が好ましく、より好ましくは、R11、R13、R14及びR16のいずれか1つ又は2つの部位であり、更に好ましくは、R11及びR16のうち1つ又は2つの部位である。
Although there is no particular limitation as a site where one or two hydrogen atoms are removed from the dipyrromethene metal complex compound represented by the general formula (6) in order to form a dye residue, R 11 to R 17 , X 1 , It is any one or two sites of Y 1 to Y 2 .
Among these, from the point of synthetic compatibility, any one or two sites of R 11 to R 16 and X 1 are preferable, and more preferably any one of R 11 , R 13 , R 14 and R 16. One or two sites, and more preferably one or two sites out of R 11 and R 16 .

本発明における特定染料にアルカリ可溶性基を導入する方法として、アルカリ可溶性基を有する色素単量体又は構造単位を用いる場合、前記一般式(6)で表されるジピロメテン金属錯体化合物のR11〜R17、X、Y〜Yのいずれか1つ又は2つ以上の置換基にアルカリ可溶性基を持たせることができる。これら置換基の中でも、R11〜〜R16及びXのいずれかが好ましく、R11、R13、R14及びR16のいずれかがより好ましく、R11及びR16のいずれかが更に好ましい。 As a method for introducing an alkali-soluble group into the specific dye in the present invention, when a dye monomer or a structural unit having an alkali-soluble group is used, R 11 to R of the dipyrromethene metal complex compound represented by the general formula (6). 17 , any one or two or more substituents of X 1 , Y 1 to Y 2 may have an alkali-soluble group. Among these substituents, one of R 11 ~~R 16 and X 1 are preferred, more preferably one of R 11, R 13, R 14 and R 16, any one of R 11 and R 16 are more preferably .

上記一般式(6)で表されるジピロメテン金属錯体化合物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、アルカリ可溶性基以外の官能基を有していてもよい。   The dipyrromethene metal complex compound represented by the general formula (6) may have a functional group other than the alkali-soluble group as long as the effects of the present invention are not impaired.

上記R12〜R15は、前記一般式(5)中のR〜Rと同義であり、好ましい態様も同様である。上記R17は、前記一般式(5)中のR10と同義であり、好ましい態様も同様である。上記Maは、前記一般式(5)中のMaと同義であり、好ましい範囲も同様である。 Said R < 12 > -R < 15 > is synonymous with R < 5 > -R < 8 > in the said General formula (5), and its preferable aspect is also the same. R 17 has the same meaning as R 10 in the general formula (5), and the preferred embodiment is also the same. Said Ma is synonymous with Ma in the said General formula (5), and its preferable range is also the same.

より詳細には、前記一般式(6)において上記R12〜R15のうち、前記R12及びR15としては、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ニトリル基、イミド基、又は、カルバモイルスルホニル基が好ましく、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、ニトリル基、イミド基、カルバモイルスルホニル基がより好ましく、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、ニトリル基、イミド基、カルバモイルスルホニル基が更に好ましく、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基が特に好ましい。
前記R13及びR14としては、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のアリール基、置換又は無置換のヘテロ環基が好ましく、更に好ましくは置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のアリール基である。ここで、より好ましいアルキル基、アリール基、及びヘテロ環基の具体例は、一般式(5)の前記R及びRにおいて列記した具体例を同様に挙げることができる。
More specifically, in the general formula (6), among R 12 to R 15 , the R 12 and R 15 include an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, Nitrile group, imide group or carbamoylsulfonyl group is preferable, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, alkylsulfonyl group, nitrile group, imide group and carbamoylsulfonyl group are more preferable, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl Group, carbamoyl group, nitrile group, imide group and carbamoylsulfonyl group are more preferred, and alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group and carbamoyl group are particularly preferred.
R 13 and R 14 are preferably a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, more preferably a substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted. A substituted aryl group. Here, specific examples of more preferable alkyl groups, aryl groups, and heterocyclic groups can be the same as specific examples listed in R 6 and R 7 of the general formula (5).

前記一般式(6)中、R11及びR16は、アルキル基(好ましくは炭素数1〜36、より好ましくは炭素数1〜12の直鎖、分岐鎖、又は環状のアルキル基で、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、ヘキシル、2−エチルヘキシル、ドデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、1−アダマンチル)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜24、より好ましくは炭素数2〜12のアルケニル基で、例えば、ビニル、アリル、3−ブテン−1−イル)、アリール基(好ましくは炭素数6〜36、より好ましくは炭素数6〜18のアリール基で、例えば、フェニル、ナフチル)、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12のヘテロ環基で、例えば、2−チエニル、4−ピリジル、2−フリル、2−ピリミジニル、2−ピリジル、2−ベンゾチアゾリル、1−イミダゾリル、1−ピラゾリル、ベンゾトリアゾール−1−イル)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜36、より好ましくは炭素数1〜18のアルコキシ基で、例えば、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、2−エチルヘキシルオキシ、ドデシルオキシ、シクロヘキシルオキシ)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜24、より好ましくは炭素数1〜18のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ、ナフチルオキシ)、アルキルアミノ基(好ましくは炭素数1〜36、より好ましくは炭素数1〜18のアルキルアミノ基で、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブチルアミノ、ヘキシルアミノ、2−エチルヘキシルアミノ、イソプロピルアミノ、t−ブチルアミノ、t−オクチルアミノ、シクロヘキシルアミノ、N,N−ジエチルアミノ、N,N−ジプロピルアミノ、N,N−ジブチルアミノ、N−メチル−N−エチルアミノ)、アリールアミノ基(好ましくは炭素数6〜36、より好ましくは炭素数6〜18のアリールアミノ基で、例えば、フェニルアミノ、ナフチルアミノ、N,N−ジフェニルアミノ、N−エチル−N−フェニルアミノ)、又はヘテロ環アミノ基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12のヘテロ環アミノ基で、例えば、2−アミノピロール、3−アミノピラゾール、2−アミノピリジン、3−アミノピリジン)を表す。 In the general formula (6), R 11 and R 16 are alkyl groups (preferably a linear, branched, or cyclic alkyl group having 1 to 36 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms. Methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, t-butyl, hexyl, 2-ethylhexyl, dodecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, 1-adamantyl), alkenyl group (preferably having 2 to 24 carbon atoms, more preferably An alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, for example, vinyl, allyl, 3-buten-1-yl), an aryl group (preferably an aryl group having 6 to 36 carbon atoms, more preferably 6 to 18 carbon atoms, , Phenyl, naphthyl), a heterocyclic group (preferably a heterocyclic group having 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, For example, 2-thienyl, 4-pyridyl, 2-furyl, 2-pyrimidinyl, 2-pyridyl, 2-benzothiazolyl, 1-imidazolyl, 1-pyrazolyl, benzotriazol-1-yl), an alkoxy group (preferably having 1 carbon atom) To 36, more preferably an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, propyloxy, butoxy, hexyloxy, 2-ethylhexyloxy, dodecyloxy, cyclohexyloxy), an aryloxy group (preferably having a carbon number) An aryloxy group having 6 to 24, more preferably 1 to 18 carbon atoms, such as phenoxy or naphthyloxy, an alkylamino group (preferably having 1 to 36 carbon atoms, more preferably an alkylamino group having 1 to 18 carbon atoms) For example, methylamino, ethylamino, propylamino, Tylamino, hexylamino, 2-ethylhexylamino, isopropylamino, t-butylamino, t-octylamino, cyclohexylamino, N, N-diethylamino, N, N-dipropylamino, N, N-dibutylamino, N-methyl -N-ethylamino), an arylamino group (preferably an arylamino group having 6 to 36 carbon atoms, more preferably 6 to 18 carbon atoms, such as phenylamino, naphthylamino, N, N-diphenylamino, N- Ethyl-N-phenylamino) or a heterocyclic amino group (preferably a heterocyclic amino group having 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms such as 2-aminopyrrole, 3-aminopyrazole, 2 -Aminopyridine, 3-aminopyridine).

前記R11及びR16としては、上記の中でも、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基が好ましく、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、がより好ましく、アルキル基、アルケニル基、アリール基が更に好ましく、アルキル基が特に好ましい。 Among the above, R 11 and R 16 are preferably an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkylamino group, an arylamino group, and a heterocyclic amino group, and an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, Heterocyclic groups are more preferred, alkyl groups, alkenyl groups, and aryl groups are more preferred, and alkyl groups are particularly preferred.

前記一般式(6)中、R11及びR16のアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、又はヘテロ環アミノ基が、更に置換可能な基である場合には、後述する一般式(1)のRの置換基で説明する置換基で置換されていてもよく、2個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。 In the general formula (6), an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylamino group, an arylamino group, or a heterocyclic amino group represented by R 11 and R 16 When it is a substitutable group, it may be substituted with the substituent explained in the substituent of R 1 in the general formula (1) described later, and when it is substituted with two or more substituents These substituents may be the same or different.

前記一般式(6)中、X及びXは、NR、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を表す。ここで、Rは、水素原子、アルキル基(好ましくは炭素数1〜36、より好ましくは炭素数1〜12の直鎖、分岐鎖、又は環状のアルキル基で、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、ヘキシル、2−エチルヘキシル、ドデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、1−アダマンチル)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜24、より好ましくは炭素数2〜12のアルケニル基で、例えば、ビニル、アリル、3−ブテン−1−イル)、アリール基(好ましくは炭素数6〜36、より好ましくは炭素数6〜18のアリール基で、例えば、フェニル、ナフチル)、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12のヘテロ環基で、例えば、2−チエニル、4−ピリジル、2−フリル、2−ピリミジニル、1−ピリジル、2−ベンゾチアゾリル、1−イミダゾリル、1−ピラゾリル、ベンゾトリアゾール−1−イル)、アシル基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数2〜18のアシル基で、例えば、アセチル、ピバロイル、2−エチルヘキシル、ベンゾイル、シクロヘキサノイル)、アルキルスルホニル基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜18のアルキルスルホニル基で、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル)、アリールスルホニル基(好ましくは炭素数6〜24、より好ましくは炭素数6〜18のアリールスルホニル基で、例えば、フェニルスルホニル、ナフチルスルホニル)を表す。 In the general formula (6), X 2 and X 3 represent NR, a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom. Here, R is a hydrogen atom, an alkyl group (preferably a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 36 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methyl, ethyl, propyl, Isopropyl, butyl, isobutyl, t-butyl, hexyl, 2-ethylhexyl, dodecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, 1-adamantyl), alkenyl group (preferably having 2 to 24 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms) An alkenyl group, for example, vinyl, allyl, 3-buten-1-yl), an aryl group (preferably an aryl group having 6 to 36 carbon atoms, more preferably an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, for example, phenyl, naphthyl), A heterocyclic group (preferably a heterocyclic group having 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, such as 2-thienyl; 4-pyridyl, 2-furyl, 2-pyrimidinyl, 1-pyridyl, 2-benzothiazolyl, 1-imidazolyl, 1-pyrazolyl, benzotriazol-1-yl), acyl group (preferably having 1 to 24 carbon atoms, more preferably An acyl group having 2 to 18 carbon atoms, for example, acetyl, pivaloyl, 2-ethylhexyl, benzoyl, cyclohexanoyl), an alkylsulfonyl group (preferably having 1 to 24 carbon atoms, more preferably an alkylsulfonyl having 1 to 18 carbon atoms) A group such as methylsulfonyl, ethylsulfonyl, isopropylsulfonyl, cyclohexylsulfonyl), an arylsulfonyl group (preferably an arylsulfonyl group having 6 to 24 carbon atoms, more preferably 6 to 18 carbon atoms, such as phenylsulfonyl, naphthyl) Sulfonyl).

上記Rのアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基は、後述する一般式(1)のRの置換基で説明する置換基で置換されていてもよく、複数の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。 The alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, acyl group, alkylsulfonyl group, and arylsulfonyl group of R are substituted with the substituent explained in the substituent of R 1 in the general formula (1) described later. In the case where it is substituted with a plurality of substituents, these substituents may be the same or different.

前記一般式(6)中、Y及びYは、NR、窒素原子、又は炭素原子を表し、Rは、前記X及びXのRと同義であり、好ましい態様も同様である。 In General Formula (6), Y 1 and Y 2 represent NR, a nitrogen atom, or a carbon atom, R has the same meaning as R in X 2 and X 3 , and the preferred embodiment is also the same.

前記一般式(6)中、R11とYは、互いに結合して炭素原子と共に5員環(例えば、シクロペンタン、ピロリジン、テトラヒドロフラン、ジオキソラン、テトラヒドロチオフェン、ピロール、フラン、チオフェン、インドール、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン)、6員環(例えば、シクロヘキサン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、テトラヒドロピラン、ジオキサン、ペンタメチレンスルフィド、ジチアン、ベンゼン、ピペリジン、ピペラジン、ピリダジン、キノリン、キナゾリン)、又は7員環(例えば、シクロヘプタン、ヘキサメチレンイミン)を形成してもよい。 In the general formula (6), R 11 and Y 1 are bonded to each other to form a 5-membered ring with a carbon atom (for example, cyclopentane, pyrrolidine, tetrahydrofuran, dioxolane, tetrahydrothiophene, pyrrole, furan, thiophene, indole, benzofuran, Benzothiophene), 6-membered ring (eg, cyclohexane, piperidine, piperazine, morpholine, tetrahydropyran, dioxane, pentamethylene sulfide, dithiane, benzene, piperidine, piperazine, pyridazine, quinoline, quinazoline), or 7-membered ring (eg, cyclo Heptane, hexamethyleneimine).

前記一般式(6)中、R16とYは、互いに結合して炭素原子と共に5員環(例えば、シクロペンタン、ピロリジン、テトラヒドロフラン、ジオキソラン、テトラヒドロチオフェン、ピロール、フラン、チオフェン、インドール、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン)、6員環(例えば、シクロヘキサン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、テトラヒドロピラン、ジオキサン、ペンタメチレンスルフィド、ジチアン、ベンゼン、ピペリジン、ピペラジン、ピリダジン、キノリン、キナゾリン)、又は7員環(例えば、シクロヘプタン、ヘキサメチレンイミン)を形成してもよい。 In the general formula (6), R 16 and Y 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring with a carbon atom (for example, cyclopentane, pyrrolidine, tetrahydrofuran, dioxolane, tetrahydrothiophene, pyrrole, furan, thiophene, indole, benzofuran, Benzothiophene), 6-membered ring (eg, cyclohexane, piperidine, piperazine, morpholine, tetrahydropyran, dioxane, pentamethylene sulfide, dithiane, benzene, piperidine, piperazine, pyridazine, quinoline, quinazoline), or 7-membered ring (eg, cyclo Heptane, hexamethyleneimine).

前記一般式(6)中、R11とY、及びR16とYが結合して形成される5員、6員、及び7員の環が、置換可能な環である場合には、後述する一般式(1)のRの置換基で説明する置換基で置換されていてもよく、2個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。 In the general formula (6), when the 5-membered, 6-membered, and 7-membered rings formed by combining R 11 and Y 1 and R 16 and Y 2 are substitutable rings, It may be substituted with the substituent described in the substituent of R 1 in the general formula (1) described later, and when it is substituted with two or more substituents, the substituents are the same. May be different.

前記一般式(6)中、XはMaと結合可能な基を表し、具体的には、前記一般式(5)におけるXと同様な基が挙げられ、好ましい態様も同様である。aは0、1、又は2を表す。 In the general formula (6), X 1 represents a group capable of binding to Ma, and specific examples thereof include the same group as X 1 in the general formula (5), and preferred embodiments are also the same. a represents 0, 1, or 2.

前記一般式(6)で表される化合物の好ましい態様としては、R12〜R15は各々独立に、前記一般式(5)中のR〜Rの説明で記載した好ましい態様であり、R17は前記一般式(5)中のR10の説明で記載した好ましい態様であり、MaはZn、Cu、Co、又はVOであり、XはNR(Rは水素原子、アルキル基)、窒素原子、又は酸素原子であり、XはNR(Rは水素原子、アルキル基)、又は酸素原子であり、YはNR(Rは水素原子、アルキル基)、窒素原子、又は炭素原子であり、Yは窒素原子、又は炭素原子であり、R11及びR16は各々独立に、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、又はアルキルアミノ基であり、Xは酸素原子を介して結合する基であり、aは0又は1である。R11とYとが互いに結合して5員又は6員環を形成、又はR16とYとが互いに結合して5員、6員環を形成していてもよい。 As a preferable aspect of the compound represented by the general formula (6), R 12 to R 15 are each preferably a preferable aspect described in the description of R 5 to R 8 in the general formula (5). R 17 is a preferred embodiment described in the description of R 10 in the general formula (5), Ma is Zn, Cu, Co, or VO, X 2 is NR (R is a hydrogen atom, an alkyl group), A nitrogen atom or an oxygen atom, X 3 is NR (R is a hydrogen atom, an alkyl group), or an oxygen atom; Y 1 is NR (R is a hydrogen atom, an alkyl group), a nitrogen atom, or a carbon atom; Y 2 represents a nitrogen atom or a carbon atom, R 11 and R 16 each independently represents an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, or an alkylamino group, and X 1 represents an oxygen atom. A is 0 or 1 A. R 11 and Y 1 may be bonded to each other to form a 5- or 6-membered ring, or R 16 and Y 2 may be bonded to each other to form a 5- or 6-membered ring.

前記一般式(6)で表される化合物の更に好ましい態様としては、R12〜R15は各々独立に、一般式(5)で表される化合物におけるR〜Rの説明で記載した好ましい態様であり、R17は前記一般式(5)中のR10の説明で記載した好ましい態様であり、MaはZnであり、X及びXは、酸素原子であり、YはNHであり、Yは窒素原子であり、R11及びR16は各々独立に、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、又はアルキルアミノ基であり、Xは酸素原子を介して結合する基であり、aは0又は1である。R11とYとが互いに結合して5員又は6員環を形成、又はR16とYとが互いに結合して5員、6員環を形成していてもよい。 As a more preferable embodiment of the compound represented by the general formula (6), R 12 to R 15 are each preferably independently described in the description of R 5 to R 8 in the compound represented by the general formula (5). R 17 is a preferred embodiment described in the description of R 10 in the general formula (5), Ma is Zn, X 2 and X 3 are oxygen atoms, and Y 1 is NH. Y 2 is a nitrogen atom, R 11 and R 16 are each independently an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, or an alkylamino group, and X 1 is bonded through an oxygen atom. And a is 0 or 1. R 11 and Y 1 may be bonded to each other to form a 5- or 6-membered ring, or R 16 and Y 2 may be bonded to each other to form a 5- or 6-membered ring.

前記一般式(5)及び一般式(6)で表されるジピロメテン金属錯体化合物のモル吸光係数は、膜厚の観点から、できるだけ高いほうが好ましい。また、最大吸収波長λmaxは、色純度向上の観点から、520nm〜580nmが好ましく、530nm〜570nmが更に好ましい。なお、最大吸収波長、及びモル吸光係数は、分光光度計UV−2400PC(島津製作所社製)により測定されるものである。
前記一般式(5)及び一般式(6)で表されるジピロメテン金属錯体化合物の融点は、溶解性の観点から、高すぎない方がよい。
The molar extinction coefficient of the dipyrromethene metal complex compound represented by the general formulas (5) and (6) is preferably as high as possible from the viewpoint of film thickness. The maximum absorption wavelength λmax is preferably 520 nm to 580 nm, more preferably 530 nm to 570 nm, from the viewpoint of improving color purity. The maximum absorption wavelength and molar extinction coefficient are measured with a spectrophotometer UV-2400PC (manufactured by Shimadzu Corporation).
The melting point of the dipyrromethene metal complex compound represented by the general formula (5) and the general formula (6) is preferably not too high from the viewpoint of solubility.

前記一般式(5)及び一般式(6)で表されるジピロメテン金属錯体化合物は、米国特許第4,774,339号、同第5,433,896号、特開2001−240761号公報、同2002−155052号公報、特許第3614586号公報、Aust.J.Chem,1965,11,1835−1845、J.H.Boger et al,Heteroatom Chemistry,Vol.1,No.5,389(1990)等に記載の方法で合成することができる。具体的には、特開2008−292970号公報の段落0131〜0157に記載の方法を適用することができる。   The dipyrromethene metal complex compounds represented by the general formula (5) and the general formula (6) are disclosed in U.S. Pat. Nos. 4,774,339, 5,433,896, and JP-A-2001-240761. 2002-155052 gazette, Japanese Patent No. 3614586 gazette, Aust. J. et al. Chem, 1965, 11, 1835-1845, J. Am. H. Boger et al, Heteroatom Chemistry, Vol. 1, No. 1 5,389 (1990) and the like. Specifically, the method described in paragraphs 0131 to 0157 of JP-A-2008-292970 can be applied.

本発明における特定染料は、ジピロメテン構造を含む色素多量体であることが好ましく、ジピロメテン構造を含む色素多量体における色素部位が、前記一般式(M)で表されるジピロメテン化合物と金属または金属化合物とから得られるジピロメテン金属錯体化合物またはその互変異性体に由来する構造であることが好ましい。
さらに、前記一般式(M)で表されるジピロメテン化合物と金属または金属化合物とから得られるジピロメテン金属錯体化合物またはその互変異性体としては、前記一般式(5)又は前記一般式(6)で表されるジピロメテン金属錯体化合物が好ましい。
次に色素多量体について説明する。
The specific dye in the present invention is preferably a pigment multimer having a dipyrromethene structure, and the pigment site in the pigment multimer having a dipyrromethene structure is a dipyrromethene compound represented by the general formula (M) and a metal or a metal compound. It is preferable that the structure is derived from a dipyrromethene metal complex compound obtained from the above or a tautomer thereof.
Furthermore, as the dipyrromethene metal complex compound obtained from the dipyrromethene compound represented by the general formula (M) and a metal or a metal compound or a tautomer thereof, the general formula (5) or the general formula (6) may be used. The dipyrromethene metal complex compound represented is preferred.
Next, the dye multimer will be described.

本発明における特定染料は、ジピロメテン構造を含む色素多量体であることが好ましいが、重量平均分子量(Mw)が5,000以上20,000以下であることが好ましく、よし好ましくは5,000以上16,000以下であり、さらに好ましくは6,000以上12,000以下である。
重量平均分子量(Mw)が5,000未満であると、青色画素とした際、加熱処理による着色剤の熱拡散(色移り)、着色剤の染み込み、耐アルカリ溶出性、耐溶剤性が悪化する傾向がある。重量平均分子量が20,000を超えると、特に、現像残渣が悪化する傾向がある。
The specific dye in the present invention is preferably a pigment multimer having a dipyrromethene structure, but preferably has a weight average molecular weight (Mw) of 5,000 or more and 20,000 or less, more preferably 5,000 or more and 16 or more. 2,000 or less, more preferably 6,000 or more and 12,000 or less.
When the weight average molecular weight (Mw) is less than 5,000, when a blue pixel is formed, thermal diffusion (color transfer) of the colorant due to heat treatment, penetration of the colorant, alkali elution resistance, and solvent resistance deteriorate. Tend. When the weight average molecular weight exceeds 20,000, the development residue tends to deteriorate.

また、分散度(Mw/Mn)としては、1.00以上2.50以下であることが好ましい。
分散度(Mw/Mn)が2.50を超えると、着色膜とした際、加熱処理による着色剤の熱拡散(色移り)、着色剤の染み込み、耐アルカリ溶出性、耐溶剤性が悪化する傾向がある。分散度(Mw/Mn)は、1.00以上2.50以下であることが必要であり、好ましくは1.00以上2.20以下であり、より好ましくは1.00以上2.00以下である。
Further, the dispersity (Mw / Mn) is preferably 1.00 or more and 2.50 or less.
When the dispersity (Mw / Mn) exceeds 2.50, when a colored film is formed, the thermal diffusion (color transfer) of the colorant by heat treatment, the soaking of the colorant, the alkali elution resistance, and the solvent resistance deteriorate. Tend. The dispersity (Mw / Mn) needs to be 1.00 or more and 2.50 or less, preferably 1.00 or more and 2.20 or less, more preferably 1.00 or more and 2.00 or less. is there.

なお、重量平均分子量および分子量分布は、ゲル浸透クロマトグラフィ法(GPC)で、東ソー株式会社製HLC−8220GPC(展開溶媒NMP、検出RI、ポリスチレンによる換算値)を用いて測定された値を指す。   In addition, a weight average molecular weight and molecular weight distribution refer to the value measured by gel permeation chromatography (GPC) using HLC-8220GPC (developing solvent NMP, detection RI, conversion value by polystyrene) manufactured by Tosoh Corporation.

本発明における特定染料は、アルカリ可溶性基を有することが好ましい。
アルカリ可溶性基としては、カルボキシル基、ホスホノ基、スルホ基などが挙げられる。中でも、カルボキシル基が好ましい。
後述するフォトリソ法で好適に使用する観点で、特定染料の酸価は、0.5mmol/g以上3.0mmol/g以下であることが好ましく、0.6mmol/g以上2.5mmol/g以下であることがより好ましく、0.7mmol/g以上2.0mmol/g以下であることが特に好ましい。
The specific dye in the invention preferably has an alkali-soluble group.
Examples of the alkali-soluble group include a carboxyl group, a phosphono group, and a sulfo group. Among these, a carboxyl group is preferable.
The acid value of the specific dye is preferably 0.5 mmol / g or more and 3.0 mmol / g or less, preferably 0.6 mmol / g or more and 2.5 mmol / g or less from the viewpoint of being suitably used in the photolithographic method described later. More preferably, it is 0.7 mmol / g or more and 2.0 mmol / g or less.

本発明における特定染料としては、二量体、三量体、オリゴマー、ポリマーなどが挙げられる。   Examples of the specific dye in the present invention include dimers, trimers, oligomers, and polymers.

色素多量体を共重合反応で合成する場合、前記他の重合性モノマー(コモノマー)は、重合性色素モノマーと重合可能なものであれば特に限定はない。
これらのコモノマーには、スチレン系化合物、カルボン酸モノマー、およびそのエステル、アミド、イミドまたは無水物、ビニル化合物が含まれる。
スチレン系化合物の例を挙げると、スチレン、α−メチルスチレン、ヒドロキシスチレン、p−クロロメチルスチレン、m−クロロメチルスチレンである。
α,β−不飽和カルボン酸の例を挙げると、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、1−ブチン−2,3,4−トリカルボン酸である。
When the dye multimer is synthesized by a copolymerization reaction, the other polymerizable monomer (comonomer) is not particularly limited as long as it can be polymerized with the polymerizable dye monomer.
These comonomers include styrenic compounds, carboxylic acid monomers, and their esters, amides, imides or anhydrides, and vinyl compounds.
Examples of styrenic compounds are styrene, α-methylstyrene, hydroxystyrene, p-chloromethylstyrene, and m-chloromethylstyrene.
Examples of α, β-unsaturated carboxylic acids are acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, mesaconic acid, and 1-butyne-2,3,4-tricarboxylic acid.

不飽和カルボン酸のエステルの例を挙げると、上記α,β−不飽和カルボン酸のメチルエステル、エチルエステル、2−ヒドロキシエチルエステル、プロピルエステル、ブチルエステル、オクチルエステル、ドデシルエステル、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルエステル、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルエステル、2−〔3−(2−ベンゾトリアゾリル)−4−ヒドロキシフェニル〕エチルエステルである。
不飽和カルボン酸のアミドの例を挙げると、上記α,β−不飽和カルボン酸のメチルアミド、ジメチルアミド、エチルアミド、ジエチルアミド、プロピルアミド、ジプロピルアミド、ブチルアミド、ジブチルアミド、ヘキシルアミド、オクチルアミド、フェニルアミドなどである。
不飽和カルボン酸のイミドの例を挙げると、マレイミド、イタコンイミド、N−ブチルマレイミド、N−オクチルマレイミド、N−フェニルマレイミドである。ビニル化合物の例を挙げると、酢酸ビニル、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロリドンである。
Examples of unsaturated carboxylic acid esters include the above-mentioned α, β-unsaturated carboxylic acid methyl ester, ethyl ester, 2-hydroxyethyl ester, propyl ester, butyl ester, octyl ester, dodecyl ester, 2,2, 6,6-tetramethyl-4-piperidyl ester, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl ester, 2- [3- (2-benzotriazolyl) -4-hydroxyphenyl] ethyl ester It is.
Examples of unsaturated carboxylic acid amides include methyl amide, dimethyl amide, ethyl amide, diethyl amide, propyl amide, dipropyl amide, butyl amide, dibutyl amide, hexyl amide, octyl amide, phenyl of the above α, β-unsaturated carboxylic acid. Amides and the like.
Examples of unsaturated carboxylic acid imides are maleimide, itaconimide, N-butylmaleimide, N-octylmaleimide, and N-phenylmaleimide. Examples of vinyl compounds are vinyl acetate, N-vinyl carbazole, and N-vinyl pyrrolidone.

重合性色素モノマーとコモノマーとの共重合比は、重合性色素モノマーの種類によって異なるが通常、重合性色素モノマー100gに対して、コモノマー5〜10000gの割合であることが好ましく、コモノマー5〜1000gの割合であることがより好ましく、コモノマー5〜100gの割合であることが特に好ましい。   Although the copolymerization ratio of the polymerizable dye monomer and the comonomer varies depending on the type of the polymerizable dye monomer, it is usually preferably in a ratio of 5 to 10,000 g of the comonomer with respect to 100 g of the polymerizable dye monomer. A ratio is more preferable, and a ratio of 5 to 100 g of comonomer is particularly preferable.

本発明における特定染料としては、下記一般式(A)、一般式(B)、及び、一般式(C)で表される構成単位の少なくとも一つを有し、又は、一般式(D)で表されるジピロメテン構造を含む色素多量体、が好適である。   The specific dye in the present invention has at least one of structural units represented by the following general formula (A), general formula (B), and general formula (C), or represented by the general formula (D) Dye multimers containing the dipyrromethene structure represented are preferred.

(一般式(A)で表される構成単位) (Structural unit represented by formula (A))

一般式(A)中、XA1は重合によって形成される連結基を表し、LA1は単結合または2価の連結基を表し、Dyeはジピロメテン構造を含む色素化合物から任意の水素原子を1個〜1+m個取り除いた色素残基を表す。XA2は重合によって形成される連結基を表し、LA2は単結合または2価の連結基を表し、mは0〜3の整数を表し、mが2以上のときは、[ ]内の構造は同じであっても異なっていてもよい。DyeとLA2とは、共有結合、イオン結合、及び、配位結合のいずれで連結されていてもよい。 In general formula (A), X A1 represents a linking group formed by polymerization, L A1 represents a single bond or a divalent linking group, and Dye represents one arbitrary hydrogen atom from a dye compound containing a dipyrromethene structure. Represents ˜1 + m pigment residues removed. X A2 represents a linking group formed by polymerization, L A2 represents a single bond or a divalent linking group, m represents an integer of 0 to 3, and when m is 2 or more, the structure in [] May be the same or different. Dye and LA 2 may be linked by any of a covalent bond, an ionic bond, and a coordination bond.

前記一般式(A)中、XA1及びXA2は、それぞれ独立に、重合によって形成される連結基を表す。すなわち重合反応で形成される主鎖に相当する繰り返し単位を形成する部分を指す。なお、2つの*で表された部位が繰り返し単位となる。
A1及びXA2としては、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の不飽和エチレン基を重合して形成される連結基、環状エーテルを開環重合して形成される連結基等が挙げられ、好ましくは、不飽和エチレン基を重合して形成される連結基である。具体的には以下に示す連結基等が挙げられるが、本発明における重合によって形成される連結基はこれらに限定されるものではない。
尚、下記(X−1)〜(X−15)において*で示された部位でLA1またはLA2と連結していることを表す。
In the general formula (A), X A1 and X A2 each independently represent a linking group formed by polymerization. That is, it refers to a portion that forms a repeating unit corresponding to the main chain formed by the polymerization reaction. Two sites represented by * are repeating units.
X A1 and X A2 each independently include a linking group formed by polymerizing a substituted or unsubstituted unsaturated ethylene group, a linking group formed by ring-opening polymerization of a cyclic ether, and the like. Is a linking group formed by polymerizing an unsaturated ethylene group. Specific examples include the following linking groups, but the linking groups formed by polymerization in the present invention are not limited to these.
In the following (X-1) to (X-15), it is connected to L A1 or L A2 at the site indicated by *.

一般式(A)中、LA1及びLA2は、それぞれ独立に、単結合または2価の連結基を表す。LA1及びLA2としては、それぞれ独立に、炭素数1〜30の置換もしくは無置換の直鎖、分岐もしくは環状アルキレン基(例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブチレン基など)、炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアリーレン基(例えば、フェニレン基、ナフタレン基等)、置換もしくは無置換のヘテロ環連結基、−CH=CH−、−O−、−S−、−NR−、−C(=O)−、−SO−、−SO−、下記一般式(2)で表される連結基、下記一般式(3)で表される連結基、又は下記一般式(4)で表される連結基等)、及びこれらを2個以上連結して形成される連結基(例えば、−N(R)C(=O)−、−OC(=O)−、−C(=O)N(R)−、−C(=O)O−)を表す。前記Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。
本発明の2価の連結基は、本発明の効果を奏しうる範囲であれば何ら限定されない。
In general formula (A), L A1 and L A2 each independently represent a single bond or a divalent linking group. L A1 and L A2 are each independently a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkylene group having 1 to 30 carbon atoms (for example, methylene group, ethylene group, trimethylene group, propylene group, butylene group, etc.) A substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 30 carbon atoms (for example, a phenylene group, a naphthalene group, etc.), a substituted or unsubstituted heterocyclic linking group, —CH 2 ═CH 2 —, —O—, —S—. , —NR—, —C (═O) —, —SO—, —SO 2 —, a linking group represented by the following general formula (2), a linking group represented by the following general formula (3), or the following And a linking group formed by linking two or more of these (for example, —N (R) C (═O) —, —OC (═O) —). , -C (= O) N (R)-, -C (= O) O-). R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.
The divalent linking group of the present invention is not limited at all as long as the effects of the present invention can be obtained.

ここで、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。Rは、水素原子、又は置換基を表す。kは、0〜4の整数を表し、kが2以上のときは、Rは同じであっても異なっていてもよい。
一般式(2)〜一般式(4)中、*は、上記一般式(1)における−C(R)=CH基と結合する位置を表し、**は、上記一般式(1)におけるL又はDye(n=0の場合)と結合する位置を表す。
Here, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. R 3 represents a hydrogen atom or a substituent. k represents an integer of 0 to 4, and when k is 2 or more, R 3 may be the same or different.
In the general formula (2) to the general formula (4), * represents a position bonded to the —C (R 1 ) ═CH 2 group in the general formula (1), and ** represents the general formula (1). It represents a position bonded with the (case of n = 0) L 2 or Dye in.

一般式(A)中、mは0〜3の整数を表す。mが2以上の場合、複数存在するXA2は同じであっても異なっていてもよい。同様に、mが2以上の場合、複数存在するLA2は同じであっても異なっていてもよい。
前記mは、0〜2の整数が好ましく、0又は1がより好ましく、0が特に好ましい。
In general formula (A), m represents an integer of 0 to 3. When m is 2 or more, a plurality of X A2 may be the same or different. Similarly, when m is 2 or more, a plurality of L A2 may be the same or different.
M is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, and particularly preferably 0.

一般式(A)中、Dyeは、ジピロメテン構造を含む色素化合物の任意の水素原子を1個〜1+m個取り除いた色素残基を表す。
一般式(A)中、DyeとLA2とは、共有結合、イオン結合、配位結合のいずれで連結されていてもよいが、イオン結合又は配位結合で連結されていることが好ましい。
In the general formula (A), Dye represents a dye residue obtained by removing 1 to 1 + m of arbitrary hydrogen atoms of a dye compound having a dipyrromethene structure.
In General Formula (A), Dye and L A2 may be linked by any of a covalent bond, an ionic bond, and a coordination bond, but are preferably linked by an ionic bond or a coordination bond.

(一般式(B)で表される構成単位) (Structural unit represented by general formula (B))

一般式(B)中、XB1は重合によって形成される連結基を表し、LB1は単結合または2価の連結基を表し、AはDyeとイオン結合もしくは配位結合可能な基を表す。Dyeは、Aとイオン結合もしくは配位結合可能な基を有するジピロメテン構造を含む色素化合物、または該色素化合物から任意の水素原子を1個〜m個除いた色素残基を表す。XB2は重合によって形成される連結基を表し、LB2は単結合または2価の連結基を表し、mは0〜3の整数を表し、mが2以上のときは、[ ]内の構造は同じであっても異なっていてもよい。DyeとLB2とは、共有結合、イオン結合、および、配位結合のいずれで連結されていてもよい。 In the general formula (B), X B1 represents a linking group formed by polymerization, L B1 represents a single bond or a divalent linking group, and A represents a group capable of ionic bonding or coordination bonding with Dye. Dye represents a dye compound having a dipyrromethene structure having a group capable of ionic bonding or coordination bond with A, or a dye residue obtained by removing 1 to m arbitrary hydrogen atoms from the dye compound. X B2 represents a linking group formed by polymerization, L B2 represents a single bond or a divalent linking group, m represents an integer of 0 to 3, and when m is 2 or more, the structure in [] May be the same or different. Dye and the L B2, covalent bonding, ionic bonding, and may be connected at any coordination bonds.

一般式(B)中のXB1、LB1、およびmは、それぞれ前記一般式(A)中のXA1、LA1、およびmと同義であり、好ましい範囲も同じである。
一般式(B)中のXB2およびLB2は、それぞれ前記一般式(A)中のXA2およびLA2と同義であり、好ましい範囲も同じである。
一般式(B)中のAで表される基としては、Dyeとイオン結合もしくは配位結合可能な基であればよく、イオン結合できる基としては、アニオン性基、カチオン性基のどちらでもよい。アニオン性基としては、カルボキシル基、ホスホ基、スルホ基、アシルスルホンアミド基、スルホンイミド基など、pKaが12以下のアニオン性基が好ましく、より好ましくはpKaが7以下であり、更に好ましくは、5以下である。アニオン性基はDye中のMaもしくはヘテロ環基とイオン結合もしくは配位結合しても良いが、Maとイオン結合することがより好ましい。アニオン性基として好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。下記具体例中、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。
X B1 , L B1 , and m in the general formula (B) have the same meanings as X A1 , L A1 , and m in the general formula (A), respectively, and the preferred ranges are also the same.
X B2 and L B2 in the general formula (B) have the same meanings as X A2 and L A2 in the general formula (A), respectively, and the preferred ranges are also the same.
The group represented by A in the general formula (B) may be any group capable of ionic bonding or coordination bonding with Dye, and the group capable of ionic bonding may be either an anionic group or a cationic group. . The anionic group is preferably an anionic group having a pKa of 12 or less, such as a carboxyl group, a phospho group, a sulfo group, an acylsulfonamide group, or a sulfonimide group, more preferably a pKa of 7 or less, still more preferably 5 or less. The anionic group may form an ionic bond or a coordinate bond with Ma or a heterocyclic group in Dye, but it is more preferable to form an ionic bond with Ma. Specific examples of preferred anionic groups are shown below, but the present invention is not limited thereto. In the following specific examples, R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.

一般式(B)中のAで表されるカチオン性基としては、置換もしくは無置換のオニウムカチオン(例えば、置換もしくは無置換のアンモニウム基、ピリジニウム基、イミダゾリウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基など)が好ましく、特に置換アンモニウム基が好ましい。   As the cationic group represented by A in the general formula (B), a substituted or unsubstituted onium cation (for example, a substituted or unsubstituted ammonium group, pyridinium group, imidazolium group, sulfonium group, phosphonium group, etc.) Are preferable, and a substituted ammonium group is particularly preferable.

一般式(B)中、mは0〜3の整数を表す。mが2以上の場合、複数存在するXB2は同じであっても異なっていてもよい。同様に、mが2以上の場合、複数存在するLB2は同じであっても異なっていてもよい。
前記mは、0〜2の整数が好ましく、0又は1がより好ましく、0が特に好ましい。
In general formula (B), m represents an integer of 0 to 3. When m is 2 or more, a plurality of XB2 may be the same or different. Similarly, when m is 2 or more, a plurality of L B2 may be the same or different.
M is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, and particularly preferably 0.

一般式(B)中のDyeは、ジピロメテン構造を含む色素化合物、または該色素化合物から任意の水素原子を1個〜m個除いた色素残基である。
一般式(B)中、DyeとLB2とは、共有結合、イオン結合、配位結合のいずれで連結されていてもよいが、イオン結合又は配位結合で連結されていることが好ましい。
Dye in the general formula (B) is a dye compound containing a dipyrromethene structure, or a dye residue obtained by removing 1 to m arbitrary hydrogen atoms from the dye compound.
In General Formula (B), Dye and L B2 may be connected by any of a covalent bond, an ionic bond, and a coordinate bond, but are preferably connected by an ionic bond or a coordinate bond.

(一般式(C)で表される構成単位) (Structural unit represented by general formula (C))

一般式(C)中、LC1は単結合または2価の連結基を表し、Dyeはジピロメテン構造を含む色素化合物から任意の水素原子を2個取り除いた2価の色素残基を表す。
一般式(C)中のLC1は、前記一般式(A)におけるLA1と同義であり、好ましい範囲も同じである。
In the general formula (C), L C1 represents a single bond or a divalent linking group, and Dye represents a divalent dye residue obtained by removing two arbitrary hydrogen atoms from a dye compound containing a dipyrromethene structure.
L C1 in the general formula (C) has the same meaning as L A1 in the general formula (A), and the preferred range is also the same.

以下に、特定染料を構成するジピロメテン構造を含む構成単位を示す。   Below, the structural unit containing the dipyrromethene structure which comprises specific dye is shown.

(共重合成分)
本発明の特定染料は、前記一般式(A)、一般式(B)、及び、一般式(C)で表される構成単位のみで構成されていてもよいが、前記一般式(A)、一般式(B)、及び、一般式(C)で表される構成単位の少なくとも一つと、他の構成単位と、を含んで構成されていてもよい(この場合、前記一般式(A)、一般式(B)、及び、一般式(C)で表される構成単位の少なくとも一つと、他の構成単位と、の少なくとも一方がアルカリ可溶性基を含むことが好ましい。)。
他の構成単位としては、側鎖にアルカリ可溶性基(カルボキシル基、ホスホノ基、スルホ基、等)を有する構造単位が好ましい。
以下、他の構成単位の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
(Copolymerization component)
The specific dye of the present invention may be composed of only the structural units represented by the general formula (A), the general formula (B), and the general formula (C), but the general formula (A), At least one of the structural units represented by the general formula (B) and the general formula (C) and other structural units may be included (in this case, the general formula (A), It is preferable that at least one of the structural unit represented by the general formula (B) and the general formula (C) and at least one of the other structural units includes an alkali-soluble group.
The other structural unit is preferably a structural unit having an alkali-soluble group (carboxyl group, phosphono group, sulfo group, etc.) in the side chain.
Hereinafter, although the specific example of another structural unit is shown, this invention is not limited to these.

また、不飽和基を側鎖に有する下記の構成単位も共重合成分として好ましい。例えば、エチレン性不飽和基(例えば、メタクリル基、アクリル基、スチリル基等)が挙げられ、これらの構成単位を含むことによって耐熱性、耐溶剤性が良好となる。   Moreover, the following structural unit which has an unsaturated group in a side chain is also preferable as a copolymerization component. For example, an ethylenically unsaturated group (for example, a methacryl group, an acryl group, a styryl group, etc.) is mentioned, and heat resistance and solvent resistance are improved by including these structural units.

(一般式(D)で表される色素多量体) (Dye multimer represented by formula (D))

一般式(D)中、LD1はm価の連結基を表し、mは2〜100の整数を表し、mが2以上のときは、Dyeの構造は同じであっても異なっていてもよい。Dyeはジピロメテン構造を含む色素化合物から任意の水素原子を1個取り除いた色素残基を表す。
mは好ましくは2〜80であり、より好ましくは2〜40であり、特に好ましくは2〜10である。
In General Formula (D), L D1 represents an m-valent linking group, m represents an integer of 2 to 100, and when m is 2 or more, the structures of Dye may be the same or different. . Dye represents a dye residue obtained by removing one arbitrary hydrogen atom from a dye compound containing a dipyrromethene structure.
m is preferably 2 to 80, more preferably 2 to 40, and particularly preferably 2 to 10.

mが2の場合、LD1で表される2価の連結基としては、炭素数1〜30の置換もしくは無置換の直鎖、分岐もしくは環状アルキレン基(例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブチレン基など)、炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアリーレン基(例えば、フェニレン基、ナフタレン基等)、置換もしくは無置換のヘテロ環連結基、−CH=CH−、−O−、−S−、−NR−、−C(=O)−、−SO−、−SO−,および、これらを2個以上連結して形成される連結基(例えば、−N(R)C(=O)−、−OC(=O)−、−C(=O)N(R)−、−C(=O)O−、−N(R)C(=O)N(R)−など)が好適に挙げられる。前記Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。
mが3以上のm価の連結基は、置換もしくは無置換のアリーレン基(1,3,5−フェニレン基、1,2,4−フェニレン基、1,4,5,8−ナフタレン基など)、へテロ環連結基(例えば、1,3,5−トリアジン基など)、アルキレン連結基等を中心母核とし、前記2価の連結基が置換して形成される連結基が挙げられる。
When m is 2, the divalent linking group represented by L D1 is a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkylene group having 1 to 30 carbon atoms (for example, methylene group, ethylene group, trimethylene group). , Propylene group, butylene group, etc.), substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 30 carbon atoms (eg, phenylene group, naphthalene group, etc.), substituted or unsubstituted heterocyclic linking group, —CH 2 ═CH 2 — , —O—, —S—, —NR—, —C (═O) —, —SO—, —SO 2 —, and a linking group formed by linking two or more thereof (for example, —N (R) C (= O)-, -OC (= O)-, -C (= O) N (R)-, -C (= O) O-, -N (R) C (= O) N (R)-etc.) are preferred. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.
The m-valent linking group in which m is 3 or more is a substituted or unsubstituted arylene group (1,3,5-phenylene group, 1,2,4-phenylene group, 1,4,5,8-naphthalene group, etc.) And a linking group formed by substituting the divalent linking group using a heterocyclic linking group (for example, 1,3,5-triazine group, etc.), an alkylene linking group or the like as a central mother nucleus.

(一般式(1)で表される色素単量体)
本発明における特定色素単量体は、下記一般式(1)で表されるジピロメテン構造を含む色素単量体を重合させて得られることも好ましい。
(Dye monomer represented by general formula (1))
The specific dye monomer in the present invention is also preferably obtained by polymerizing a dye monomer containing a dipyrromethene structure represented by the following general formula (1).

上記一般式(1)中、Rは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はアリール基を表す。Lは、−N(R)C(=O)−、−OC(=O)−、−C(=O)N(R)−、−C(=O)O−、下記一般式(2)で表される基、下記一般式(3)で表される基、又は下記一般式(4)で表される基を表す。Lは、2価の連結基を表す。m及びnは各々独立に、0又は1を表す。Dyeはジピロメテン構造を含む色素残基を表す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。 In the general formula (1), R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, or an aryl group. L 1 is —N (R 2 ) C (═O) —, —OC (═O) —, —C (═O) N (R 2 ) —, —C (═O) O—, The group represented by (2), the group represented by the following general formula (3), or the group represented by the following general formula (4) is represented. L 2 represents a divalent linking group. m and n each independently represents 0 or 1. Dye represents a dye residue containing a dipyrromethene structure. R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.

ここで、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。Rは、水素原子、又は置換基を表す。kは、0〜4の整数を表し、kが2以上のときは、Rは同じあっても異なっていてもよい。一般式(2)〜一般式(4)中、*は、上記一般式(1)における−C(R)=CH基と結合する位置を表し、**は、上記一般式(1)におけるL又はDye(n=0の場合)と結合する位置を表す。 Here, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. R 3 represents a hydrogen atom or a substituent. k represents an integer of 0 to 4, and when k is 2 or more, R 3 may be the same or different. In the general formula (2) to the general formula (4), * represents a position bonded to the —C (R 1 ) ═CH 2 group in the general formula (1), and ** represents the general formula (1). It represents a position bonded with the (case of n = 0) L 2 or Dye in.

すなわち、前記一般式(1)で表されるジピロメテン構造を含む色素単量体は、ジピロメテン構造を含む色素化合物に、−(L−(L−C(R)=CHで表される重合性基が導入された化合物である。
なお、m及びnのいずれもが0の場合、ジピロメテン構造を含む色素化合物に直接−C(R)=CH基が導入される。
That is, the dye monomer containing the dipyrromethene structure represented by the general formula (1) is added to the dye compound containing the dipyrromethene structure by-(L 2 ) n- (L 1 ) m -C (R 1 ) = CH. 2 is a compound into which a polymerizable group represented by 2 is introduced.
When both m and n are 0, a -C (R 1 ) = CH 2 group is directly introduced into a dye compound containing a dipyrromethene structure.

前記一般式(1)中、Rは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はアリール基を表す。Rがアルキル基又はアリール基の場合、無置換でも置換されていてもよい。 In the general formula (1), R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, or an aryl group. When R 1 is an alkyl group or an aryl group, it may be unsubstituted or substituted.

上記Rがアルキル基の場合、好ましくは炭素数1〜36、より好ましくは炭素数1〜6の置換もしくは無置換の直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基が好適である。アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
上記Rがアリール基の場合、好ましくは炭素数6〜18、より好ましくは6〜14、さらに好ましくは炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリール基が好適である。アリール基の例としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
When R 1 is an alkyl group, a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 36 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms is preferable. Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, octyl group, isopropyl group, cyclohexyl group and the like.
When R 1 is an aryl group, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 18 carbon atoms, more preferably 6 to 14 carbon atoms, and still more preferably 6 to 12 carbon atoms is preferable. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.

上記Rが置換アルキル基及び置換アリール基の場合の置換基は、ハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、アルキル基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12のアルキル基で、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピル、t−ブチル、2−エチルヘキシル、ドデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチル)、アリール基(好ましくは炭素数6〜24、より好ましくは炭素数6〜12のアリール基で、例えば、フェニル、ナフチル)、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12のヘテロ環基で、例えば、2−チエニル、4−ピリジル、2−フリル、2−ピリミジニル、1−ピリジル、2−ベンゾチアゾリル、1−イミダゾリル、1−ピラゾリル、ベンゾトリアゾール−1−イル)、シリル基(好ましくは炭素数3〜24、より好ましくは炭素数3〜12のシリル基で、例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリブチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、t−ヘキシルジメチルシリル)、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、スルホン酸基、ホスホン酸基、カルボキシル基、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12、更に好ましくは炭素数1〜6のアルコキシ基で、例えば、メトキシ、エトキシ、1−ブトキシ、2−ブトキシ、イソプロポキシ、t−ブトキシ、ドデシルオキシ、シクロアルキルオキシ基で、例えば、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜24、より好ましくは炭素数6〜12のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ、1−ナフトキシ)、ヘテロ環オキシ基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12のヘテロ環オキシ基で、例えば、1−フェニルテトラゾール−5−オキシ、2−テトラヒドロピラニルオキシ)、シリルオキシ基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12のシリルオキシ基で、例えば、トリメチルシリルオキシ、t−ブチルジメチルシリルオキシ、ジフェニルメチルシリルオキシ)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜24、より好ましくは炭素数2〜12のアシルオキシ基で、例えば、アセトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ドデカノイルオキシ)、アルコキシカルボニルオキシ基(好ましくは炭素数2〜24、より好ましくは炭素数2〜12、更に好ましくは炭素数2〜6のアルコキシカルボニルオキシ基で、例えば、エトキシカルボニルオキシ、t−ブトキシカルボニルオキシ)、シクロアルキルオキシカルボニルオキシ(例えば、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ))、アリールオキシカルボニルオキシ基(好ましくは炭素数7〜24、より好ましくは炭素数7〜12のアリールオキシカルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ)、カルバモイルオキシ基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12、更に好ましくは炭素数1〜6のカルバモイルオキシ基で、例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ、N−ブチルカルバモイルオキシ、N−フェニルカルバモイルオキシ、N−エチル−N−フェニルカルバモイルオキシ)、スルファモイルオキシ基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12、更に好ましくは炭素数1〜6のスルファモイルオキシ基で、例えば、N,N−ジエチルスルファモイルオキシ、N−プロピルスルファモイルオキシ)、アルキルスルホニルオキシ基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12、更に好ましくは炭素数1〜6のアルキルスルホニルオキシ基で、例えば、メチルスルホニルオキシ、ヘキサデシルスルホニルオキシ、シクロヘキシルスルホニルオキシ)、アリールスルホニルオキシ基(好ましくは炭素数6〜24、より好ましくは炭素数6〜12のアリールスルホニルオキシ基で、例えば、フェニルスルホニルオキシ)、アシル基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12のアシル基で、例えば、ホルミル、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、テトラデカノイル、シクロヘキサノイル)、 When R 1 is a substituted alkyl group or a substituted aryl group, the substituent is a halogen atom (for example, fluorine, chlorine, bromine, iodine), an alkyl group (preferably having 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 1 carbon atoms). 12 alkyl groups, for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, isopropyl, t-butyl, 2-ethylhexyl, dodecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, adamantyl), aryl groups (preferably having 6 to 24 carbon atoms, more Preferably it is a C6-C12 aryl group, for example, phenyl, naphthyl), a heterocyclic group (preferably C1-C24, more preferably a C1-C12 heterocyclic group, for example, 2-thienyl. 4-pyridyl, 2-furyl, 2-pyrimidinyl, 1-pyridyl, 2-benzothiazolyl, 1-imidazoli , 1-pyrazolyl, benzotriazol-1-yl), silyl group (preferably a silyl group having 3 to 24 carbon atoms, more preferably 3 to 12 carbon atoms, such as trimethylsilyl, triethylsilyl, tributylsilyl, t- (Butyldimethylsilyl, t-hexyldimethylsilyl), hydroxyl group, cyano group, nitro group, sulfonic acid group, phosphonic acid group, carboxyl group, alkoxy group (preferably having 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms) And more preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy, ethoxy, 1-butoxy, 2-butoxy, isopropoxy, t-butoxy, dodecyloxy, cycloalkyloxy group such as cyclopentyloxy, cyclohexyl Oxy), an aryloxy group (preferably having 6 to 24 carbon atoms) More preferably, it is an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, such as phenoxy or 1-naphthoxy, and a heterocyclic oxy group (preferably having 1 to 24 carbon atoms, more preferably a heterocyclic oxy group having 1 to 12 carbon atoms). , For example, 1-phenyltetrazol-5-oxy, 2-tetrahydropyranyloxy), a silyloxy group (preferably a silyloxy group having 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, trimethylsilyloxy, t -Butyldimethylsilyloxy, diphenylmethylsilyloxy), an acyloxy group (preferably an acyloxy group having 2 to 24 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, for example, acetoxy, pivaloyloxy, benzoyloxy, dodecanoyloxy), Alkoxycarbonyloxy group (preferably having 2 carbon atoms) 24, more preferably an alkoxycarbonyloxy group having 2 to 12 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms, such as ethoxycarbonyloxy, t-butoxycarbonyloxy), cycloalkyloxycarbonyloxy (for example, cyclohexyloxycarbonyl) Oxy)), aryloxycarbonyloxy group (preferably aryloxycarbonyloxy group having 7 to 24 carbon atoms, more preferably 7 to 12 carbon atoms, such as phenoxycarbonyloxy), carbamoyloxy group (preferably having 1 carbon atom) To 24, more preferably a carbamoyloxy group having 1 to 12 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, such as N, N-dimethylcarbamoyloxy, N-butylcarbamoyloxy, N-phenylcarbamoyloxy, N- Ethyl-N- Phenylcarbamoyloxy), a sulfamoyloxy group (preferably a sulfamoyloxy group having 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, for example, N, N- Diethylsulfamoyloxy, N-propylsulfamoyloxy), an alkylsulfonyloxy group (preferably an alkylsulfonyloxy group having 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms). For example, methylsulfonyloxy, hexadecylsulfonyloxy, cyclohexylsulfonyloxy), arylsulfonyloxy groups (preferably arylsulfonyloxy groups having 6 to 24 carbon atoms, more preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenylsulfonyl Oxy), an acyl group (preferably having 1 to 2 carbon atoms) , More preferably an acyl group having 1 to 12 carbon atoms, such as formyl, acetyl, pivaloyl, benzoyl, tetradecanoyl, cyclohexanoyl)

アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜24、より好ましくは炭素数2〜12、更に好ましくは炭素数2〜6のアルコキシカルボニル基で、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜24、より好ましくは炭素数7〜12のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12のカルバモイル基で、例えば、カルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、N−エチル−N−オクチルカルバモイル、N,N−ジブチルカルバモイル、N−プロピルカルバモイル、N−フェニルカルバモイル、N−メチル−N−フェニルカルバモイル、N,N−ジシクロへキシルカルバモイル)、アミノ基(好ましくは炭素数24以下、より好ましくは炭素数12以下のアミノ基で、例えば、アミノ、メチルアミノ、N,N−ジブチルアミノ、テトラデシルアミノ、2−エチルへキシルアミノ、シクロヘキシルアミノ)、アニリノ基(好ましくは炭素数6〜24、より好ましくは炭素数6〜12のアニリノ基で、例えば、アニリノ、N−メチルアニリノ)、ヘテロ環アミノ基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12のヘテロ環アミノ基で、例えば、4−ピリジルアミノ)、カルボンアミド基(好ましくは炭素数2〜24、より好ましくは炭素数2〜12のカルボンアミド基で、例えば、アセトアミド、ベンズアミド、テトラデカンアミド、ピバロイルアミド、シクロヘキサンアミド)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12のウレイド基で、例えば、ウレイド、N,N−ジメチルウレイド、N−フェニルウレイド)、イミド基(好ましくは炭素数20以下の、より好ましくは炭素数12以下のイミド基で、例えば、N−スクシンイミド,N−フタルイミド)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜24、より好ましくは炭素数2〜12のアルコキシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、t−ブトキシカルボニルアミノ、オクタデシルオキシカルボニルアミノ、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜24、より好ましくは炭素数7〜12のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12のスルホンアミド基で、例えば、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ヘキサデカンスルホンアミド、シクロヘキサンスルホンアミド)、スルファモイルアミノ基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12のスルファモイルアミノ基で、例えば、N、N−ジプロピルスルファモイルアミノ、N−エチル−N−ドデシルスルファモイルアミノ)、アゾ基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜24のアゾ基で、例えば、フェニルアゾ、3−ピラゾリルアゾ)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12のアルキルチオ基で、例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜24、より好ましくは炭素数6〜12のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ)、ヘテロ環チオ基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12のヘテロ環チオ基で、例えば、2−ベンゾチアゾリルチオ、2−ピリジルチオ、1−フェニルテトラゾリルチオ)、アルキルスルフィニル基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12のアルキルスルフィニル基で、例えば、ドデカンスルフィニル)、 An alkoxycarbonyl group (preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 24 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, still more preferably 2 to 6 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, octadecyloxycarbonyl, cyclohexyloxycarbonyl ), An aryloxycarbonyl group (preferably an aryloxycarbonyl group having 7 to 24 carbon atoms, more preferably an aryloxycarbonyl group having 7 to 12 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl), a carbamoyl group (preferably having 1 to 24 carbon atoms, more preferably A carbamoyl group having 1 to 12 carbon atoms such as carbamoyl, N, N-diethylcarbamoyl, N-ethyl-N-octylcarbamoyl, N, N-dibutylcarbamoyl, N-propylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl, N-methyl − -Phenylcarbamoyl, N, N-dicyclohexylcarbamoyl), an amino group (preferably an amino group having 24 or less carbon atoms, more preferably 12 or less carbon atoms, such as amino, methylamino, N, N-dibutylamino, Tetradecylamino, 2-ethylhexylamino, cyclohexylamino), anilino group (preferably an anilino group having 6 to 24 carbon atoms, more preferably 6 to 12 carbon atoms, such as anilino, N-methylanilino), heterocyclic amino A group (preferably a C1-C24, more preferably a C1-C12 heterocyclic amino group such as 4-pyridylamino), a carbonamido group (preferably C2-C24, more preferably C2 ~ 12 carbonamido groups such as acetamide, benzamide, tetradecanamide, (Roylamide, cyclohexaneamide), ureido group (preferably a ureido group having 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, such as ureido, N, N-dimethylureido, N-phenylureido), imide group ( Preferably, it is an imide group having 20 or less carbon atoms, more preferably 12 or less carbon atoms, for example, N-succinimide, N-phthalimide), alkoxycarbonylamino group (preferably having 2 to 24 carbon atoms, more preferably 2 carbon atoms). -12 alkoxycarbonylamino group, for example, methoxycarbonylamino, ethoxycarbonylamino, t-butoxycarbonylamino, octadecyloxycarbonylamino, cyclohexyloxycarbonylamino), aryloxycarbonylamino group (preferably having 7 to 24 carbon atoms, Better Preferably, it is an aryloxycarbonylamino group having 7 to 12 carbon atoms, such as phenoxycarbonylamino), a sulfonamide group (preferably a sulfonamide group having 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, Methanesulfonamide, butanesulfonamide, benzenesulfonamide, hexadecanesulfonamide, cyclohexanesulfonamide), sulfamoylamino group (preferably having 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms). And, for example, N, N-dipropylsulfamoylamino, N-ethyl-N-dodecylsulfamoylamino), an azo group (preferably an azo group having 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms). For example, phenylazo, 3-pyrazolylazo), alkylthio group (preferably Or an alkylthio group having 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms such as methylthio, ethylthio, octylthio, cyclohexylthio), an arylthio group (preferably having 6 to 24 carbon atoms, more preferably 6 carbon atoms). An arylthio group having ˜12, for example, phenylthio), a heterocyclic thio group (preferably a heterocyclic thio group having 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, such as 2-benzothiazolylthio, 2 -Pyridylthio, 1-phenyltetrazolylthio), an alkylsulfinyl group (preferably an alkylsulfinyl group having 1 to 24 carbon atoms, more preferably an alkylsulfinyl group having 1 to 12 carbon atoms, for example, dodecanesulfinyl),

アリールスルフィニル基(好ましくは炭素数6〜24、より好ましくは炭素数6〜12のアリールスルフィニル基で、例えば、フェニルスルフィニル)、アルキルスルホニル基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12のアルキルスルホニル基で、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、2−エチルヘキシルスルホニル、ヘキサデシルスルホニル、オクチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル)、アリールスルホニル基(好ましくは炭素数6〜24、より好ましくは炭素数6〜12のアリールスルホニル基で、例えば、フェニルスルホニル、1−ナフチルスルホニル)、スルファモイル基(好ましくは炭素数24以下、より好ましくは炭素数16以下のスルファモイル基で、例えば、スルファモイル、N,N−ジプロピルスルファモイル、N−エチル−N−ドデシルスルファモイル、N−エチル−N−フェニルスルファモイル、N−シクロヘキシルスルファモイル)、スルホ基、ホスホニル基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12のホスホニル基で、例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル)、ホスフィノイルアミノ基(好ましくは炭素数1〜24、より好ましくは炭素数1〜12のホスフィノイルアミノ基で、例えば、ジエトキシホスフィノイルアミノ、ジオクチルオキシホスフィノイルアミノ)が挙げられる。 An arylsulfinyl group (preferably an arylsulfinyl group having 6 to 24 carbon atoms, more preferably an arylsulfinyl group having 6 to 12 carbon atoms, for example, phenylsulfinyl), an alkylsulfonyl group (preferably having 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 carbon atom) -12 alkylsulfonyl groups such as methylsulfonyl, ethylsulfonyl, propylsulfonyl, butylsulfonyl, isopropylsulfonyl, 2-ethylhexylsulfonyl, hexadecylsulfonyl, octylsulfonyl, cyclohexylsulfonyl), arylsulfonyl groups (preferably having 6 carbon atoms) To 24, more preferably an arylsulfonyl group having 6 to 12 carbon atoms, for example, phenylsulfonyl, 1-naphthylsulfonyl), sulfamoyl group (preferably having 24 or less carbon atoms, more preferably carbon 16 or less sulfamoyl groups, for example, sulfamoyl, N, N-dipropylsulfamoyl, N-ethyl-N-dodecylsulfamoyl, N-ethyl-N-phenylsulfamoyl, N-cyclohexylsulfamoyl), A sulfo group, a phosphonyl group (preferably a phosphonyl group having 1 to 24 carbon atoms, more preferably a phosphonyl group having 1 to 12 carbon atoms, such as phenoxyphosphonyl, octyloxyphosphonyl, phenylphosphonyl), a phosphinoylamino group (preferably Is a phosphinoylamino group having 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include diethoxyphosphinoylamino and dioctyloxyphosphinoylamino).

上記の置換基の中でも、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ホスホン酸基、カルボン酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、シクロアルキルカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルファモイルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボンアミド基、イミド基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、スルファモイル基が好ましく、アルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ホスホン酸基、カルボン酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルファモイルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、スルファモイル基がより好ましく、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ホスホン酸基、カルボン酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルファモイルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基が更に好ましく、ヒドロキシル基、スルホン酸基、カルボン酸基、アルコキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルファモイルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基が特に好ましい。   Among the above substituents, halogen atom, alkyl group, aryl group, hydroxyl group, sulfonic acid group, phosphonic acid group, carboxylic acid group, alkoxy group, aryloxy group, alkoxycarbonyloxy group, cycloalkylcarbonyloxy group, aryl Oxycarbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfamoyloxy group, alkylsulfonyloxy group, arylsulfonyloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, carbonamido group, imide group, sulfonamido group , Sulfamoylamino group, sulfamoyl group are preferable, alkyl group, aryl group, hydroxyl group, sulfonic acid group, phosphonic acid group, carboxylic acid group, alkoxy group, aryloxy group, alkoxycarbonyloxy , Aryloxycarbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfamoyloxy group, alkylsulfonyloxy group, arylsulfonyloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, carbonamido group, sulfonamido group, A sulfamoylamino group and a sulfamoyl group are more preferable, and a hydroxyl group, a sulfonic acid group, a phosphonic acid group, a carboxylic acid group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkoxycarbonyloxy group, an aryloxycarbonyloxy group, a carbamoyloxy group, a sulfo group. More preferred are a famoyloxy group, an alkylsulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, and an aryloxycarbonyl group. Group, a carboxylic acid group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyloxy group, a sulfamoylamino group, an alkylsulfonyloxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group is particularly preferred.

上記の特に好ましい置換基の中でも、スルホン酸基、カルボン酸基、アルコキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アルコキシカルボニル基がより好ましく、スルホン酸基、カルボン酸基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基が更に好ましく、スルホン酸基、カルボン酸基、アルコキシ基が特に好ましい。   Among the above particularly preferred substituents, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyloxy group, an alkylsulfonyloxy group, and an alkoxycarbonyl group are more preferable, and a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, an alkoxy group, and an alkoxycarbonyl group. A group is more preferable, and a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, and an alkoxy group are particularly preferable.

前記一般式(1)中、Rとしては、水素原子、アルキル基、アリール基が好ましく、水素原子、アルキル基が特に好ましい。 In the general formula (1), R 1 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, particularly preferably a hydrogen atom or an alkyl group.

前記一般式(1)中、Rの置換アルキル基及び置換アリール基の置換基が、更に置換可能な基である場合には、前記で説明した置換基で置換されていてもよく、2個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。 In the general formula (1), when the substituents of the substituted alkyl group and the substituted aryl group of R 1 are further substitutable groups, the substituents described above may be substituted. When substituted with the above substituents, these substituents may be the same or different.

前記一般式(1)中、Lは、−N(R)C(=O)−、−OC(=O)−、−C(=O)N(R)−、−C(=O)O−、下記の一般式(2)で表される基、一般式(3)で表される基、又は一般式(4)で表される基を表す。ここで、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。 In the general formula (1), L 1 represents —N (R 2 ) C (═O) —, —OC (═O) —, —C (═O) N (R 2 ) —, —C (= O) represents O—, a group represented by the following general formula (2), a group represented by the general formula (3), or a group represented by the general formula (4). Here, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.

前記一般式(1)中、Rのアルキル基、アリール基、及びヘテロ環基は、前記Rの置換アルキル基及び置換アリール基の置換基で説明したアルキル基、アリール基、及びヘテロ環基が例として挙げられ、好ましい態様も同様である。
上記Rのアルキル基、アリール基、及びヘテロ環基は、前記Rで説明した置換基で置換されていてもよく、2個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
In the general formula (1), the alkyl group, aryl group, and heterocyclic group represented by R 2 are the alkyl group, aryl group, and heterocyclic group described above for the substituted alkyl group and substituted aryl group represented by R 1. Is given as an example, and the preferred embodiment is also the same.
The alkyl group, aryl group, and heterocyclic group of R 2 may be substituted with the substituent described in the above R 1 , and when they are substituted with two or more substituents, their substitution The groups may be the same or different.

以下に、前記一般式(1)中、Lで表される下記の一般式(2)で表される基、一般式(3)で表される基、及び一般式(4)で表される基について説明する。 Below, in the general formula (1), is represented by groups represented by the following formula represented by L 1 (2), a group represented by the general formula (3), and general formula (4) The group will be described.

ここで、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表し、Rは、水素原子、又は置換基を表し、kは、0〜4の整数を表し、kが2以上のときは、Rは同じあっても異なっていてもよい。*は、前記一般式(1)における−C(R)=CH基と結合する位置を表し、**は、前記一般式(1)におけるL又はDye(n=0の場合)と結合する位置を表す。 Here, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, R 3 represents a hydrogen atom or a substituent, k represents an integer of 0 to 4, and k is 2 In these cases, R 3 may be the same or different. * Represents the position bonded to the —C (R 1 ) ═CH 2 group in the general formula (1), and ** represents L 2 or Dye (in the case of n = 0) in the general formula (1). Represents the position to join.

上記Rは、前記一般式(1)で説明したRと同義であり、好ましい態様も同様である。 R 2 has the same meaning as R 2 described in the general formula (1), and the preferred embodiment is also the same.

上記Rは、水素原子又は置換基を表し、Rで表される置換基としては、前記Rの置換アルキル基及び置換アリール基で説明した置換基が例として挙げられ、好ましい態様も同様である。kは0、1、2、3、4を表す。kが2、3、4の場合、Rは同じでもよく、異なっていてもよい。
上記Rの置換基が、更に置換可能な基である場合には、前記Rで説明した置換基で、置換されていてもよく、2個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
R 3 represents a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent represented by R 3 include the substituents described for the substituted alkyl group and substituted aryl group of R 1 , and preferred embodiments are also the same. It is. k represents 0, 1, 2, 3, 4; When k is 2, 3, or 4, R 3 may be the same or different.
When the substituent of R 3 is a further substitutable group, it may be substituted with the substituent described in the above R 1 , and when it is substituted with two or more substituents These substituents may be the same or different.

上記Lとしては、合成上の観点から、−N(R)C(=O)−、−OC(=O)−、−C(=O)N(R)−、−C(=O)O−が好ましく、−OC(=O)−、−C(=O)N(R)−、−C(=O)O−がより好ましく、−C(=O)N(R)−、−C(=O)O−が更に好ましい。 As L 1 , from the viewpoint of synthesis, —N (R 2 ) C (═O) —, —OC (═O) —, —C (═O) N (R 2 ) —, —C (= O) O- are preferable, -OC (= O) -, - C (= O) N (R 2) -, - C (= O) O- , more preferably, -C (= O) N ( R 2 )-And -C (= O) O- are more preferable.

次に、前記一般式(1)中、Lについて説明する。
上記Lは、L又は−C(R)=CH基(m=0の場合)と、Dyeとを連結する2価の連結基を表す。
上記Lは、好ましくは、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、−O−、−C(=O)−、−OC(=O)−、OC(=O)O−、−OSO−、−OC(=O)N(R50)−、−N(R50)−、−N(R50)C(=O)−、−N(R50)C(=O)O−、−N(R50)C(=O)N(R51)−、−N(R50)SO−、−N(R50)SON(R51)−、−S−、−S−S−、−SO−、−SO−、−SON(R50)−、−SOO−等が挙げられる。また、上記の2価の連結基が、複数個結合して、新たに2価の連結基を形成していてもよい。
Next, L 2 in the general formula (1) will be described.
L 2 represents a divalent linking group that links L 1 or —C (R 1 ) ═CH 2 group (when m = 0) and Dye.
L 2 is preferably an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, —O—, —C (═O) —, —OC (═O) —, OC (═O) O—, —OSO 2 —, -OC (= O) N (R 50) -, - N (R 50) -, - N (R 50) C (= O) -, - N (R 50) C (= O) O -, - N (R 50 ) C (═O) N (R 51 ) —, —N (R 50 ) SO 2 —, —N (R 50 ) SO 2 N (R 51 ) —, —S—, —S—S— , -SO -, - SO 2 - , - SO 2 N (R 50) -, - SO 2 O- and the like. In addition, a plurality of the above divalent linking groups may be bonded to form a new divalent linking group.

上記のR50及びR51は各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。R50及びR51のアルキル基、アリール基、及びヘテロ環基は、前記Rの置換基で説明したアルキル基、アリール基、及びヘテロ環基が例として挙げられ、好ましい態様も同様である。R50及びR51のアルキル基、アリール基、及びヘテロ環基は、前記Rの置換基で説明した置換基で置換されていてもよく、2個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。 R 50 and R 51 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. Examples of the alkyl group, aryl group, and heterocyclic group of R 50 and R 51 include the alkyl group, aryl group, and heterocyclic group described above for the substituent of R 1 , and preferred embodiments are also the same. The alkyl group, aryl group, and heterocyclic group of R 50 and R 51 may be substituted with the substituents described for the substituent of R 1 , or may be substituted with two or more substituents. These substituents may be the same or different.

前記Lが、アルキレン基、アラルキレン基、又はアリーレン基である場合、無置換でもよく置換されていてもよく、置換されている場合には、前記Rの置換基で説明した置換基で置換されていてもよく、2個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
前記Lがアルキレン基、アラルキレン基、又はアリーレン基である場合、炭素数1〜12のアルキレン基、炭素数6〜18のアラルキレン基、炭素数6〜18のアリーレン基が好ましく、炭素数1〜8のアルキレン基、炭素数6〜16のアラルキレン基、炭素数6〜12のアリーレン基がより好ましく、炭素数1〜6のアルキレン基、炭素数6〜12のアラルキレン基が更に好ましい。
When L 2 is an alkylene group, an aralkylene group, or an arylene group, it may be unsubstituted or substituted, and when it is substituted, it is substituted with the substituent described for the substituent of R 1. When it is substituted with two or more substituents, these substituents may be the same or different.
When L 2 is an alkylene group, an aralkylene group, or an arylene group, an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, an aralkylene group having 6 to 18 carbon atoms, or an arylene group having 6 to 18 carbon atoms is preferable. An alkylene group having 8 to 8 carbon atoms, an aralkylene group having 6 to 16 carbon atoms and an arylene group having 6 to 12 carbon atoms are more preferable, and an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms and an aralkylene group having 6 to 12 carbon atoms are still more preferable.

前記LとLとの組み合わせとしては、Lが−N(R)C(=O)−、−OC(=O)−、−C(=O)N(R)−、−C(=O)O−で、Lが炭素数1〜12のアルキレン基、炭素数6〜18のアラルキレン基、炭素数6〜18のアリーレン基、炭素数2〜18のアルキルチオエーテル、炭素数2〜18のアルキルカルボンアミド基、炭素数2〜18のアルキルアミノカルボニル基の態様が好ましい。より好ましくは、Lが−OC(=O)−、−C(=O)N(R)−、−C(=O)O−で、Lが炭素数1〜8のアルキレン基、炭素数6〜16のアラルキレン基、炭素数6〜12のアリーレン基、炭素数2〜12のアルキルチオエーテル、炭素数2〜12のアルキルカルボンアミド基、炭素数2〜12のアルキルアミノカルボニル基の態様であり、更に好ましくは、Lが−C(=O)N(R)−、−C(=O)O−で、Lが炭素数1〜6のアルキレン基、炭素数6〜12のアラルキレン基、炭素数2〜6のアルキルチオエーテル、炭素数2〜6のアルキルカルボンアミド基、炭素数2〜6のアルキルアミノカルボニル基の態様である。 As the combination of L 1 and L 2 , L 1 is —N (R 2 ) C (═O) —, —OC (═O) —, —C (═O) N (R 2 ) —, — C (= O) O-, L 2 is an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, an aralkylene group having 6 to 18 carbon atoms, an arylene group having 6 to 18 carbon atoms, an alkylthioether having 2 to 18 carbon atoms, a carbon number Preferred are an alkylcarbonamide group having 2 to 18 carbon atoms and an alkylaminocarbonyl group having 2 to 18 carbon atoms. More preferably, L 1 is —OC (═O) —, —C (═O) N (R 2 ) —, —C (═O) O—, and L 2 is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, Embodiments of an aralkylene group having 6 to 16 carbon atoms, an arylene group having 6 to 12 carbon atoms, an alkylthioether having 2 to 12 carbon atoms, an alkylcarbonamide group having 2 to 12 carbon atoms, and an alkylaminocarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms More preferably, L 1 is —C (═O) N (R 2 ) — or —C (═O) O—, L 2 is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, or 6 to 12 carbon atoms. Are an aralkylene group, an alkylthioether having 2 to 6 carbon atoms, an alkylcarbonamide group having 2 to 6 carbon atoms, and an alkylaminocarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms.

下記に、前記一般式(1)中において−(L−(L−C(R)=CHで表される重合性基の例を挙げる。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。 Below, in the general formula (1) in - (L 2) n - ( L 1) m -C (R 1) = examples of the polymerizable group represented by CH 2. However, the present invention is not limited to these.

(特定染料の例示化合物)
以下、本発明における特定染料の例示化合物を示すが、本発明は以下の例示化合物に何ら限定されるものではない。
なお、以下の例示化合物において、「wt−%」は質量基準である。
また、例示化合物2−1〜2−5においては、組成比aを構成する構成成分と、組成比(b+c)に相当するメタクリル酸成分を、表中に示す割合に従って重合を行う。重合により生じた色素多量体のメタクリル酸成分の一部は、組成比aを構成する構成成分と等モル量分だけZnに配位することになる。
(Exemplary compounds of specific dyes)
Hereinafter, although the exemplary compound of the specific dye in this invention is shown, this invention is not limited to the following exemplary compounds at all.
In the following exemplary compounds, “wt-%” is based on mass.
Moreover, in exemplary compound 2-1 to 2-5, it superposes | polymerizes according to the ratio which shows the structural component which comprises the composition ratio a, and the methacrylic acid component corresponded to composition ratio (b + c) in a table | surface. A part of the methacrylic acid component of the dye multimer generated by polymerization is coordinated with Zn by an equimolar amount with respect to the component constituting the composition ratio a.

(特定染料の合成例)
以下に、特定染料の具体例のいくつかについて、合成方法の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(Synthesis example of specific dye)
Hereinafter, examples of the synthesis method will be shown for some specific examples of the specific dye, but the present invention is not limited thereto.

〜例示化合物1−4の合成〜
下記色素単量体1(5.0g)、メタクリル酸(0.68g)および連鎖移動剤としてn−ドデカンチオール240mgをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)32mlに溶解させ、窒素下、85℃で攪拌し、ジメチル2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)542mgを添加した。その後、ジメチル2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)240mgを二時間おきに二度追加添加し、90℃に昇温し、更に二時間攪拌した。反応終了後、アセトニトリル400ml中に反応液を滴下し、得られた結晶をろ過し、例示化合物1−4(4.8g)を得た。
なお、下記色素単量体1は例えば特開2008−292970号公報記載の合成法に準じて合成できる。
また、連鎖移動剤量の増減および反応温度の上下によって、重量平均分子量を調整でき、また再沈殿溶媒種類/量の変更によって分散度を調整できる。
-Synthesis of Exemplified Compound 1-4-
The following dye monomer 1 (5.0 g), methacrylic acid (0.68 g) and 240 mg of n-dodecanethiol as a chain transfer agent were dissolved in 32 ml of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) and stirred at 85 ° C. under nitrogen. Then, 542 mg of dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) was added. Thereafter, 240 mg of dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) was additionally added twice every 2 hours, the temperature was raised to 90 ° C., and the mixture was further stirred for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was dropped into 400 ml of acetonitrile, and the resulting crystal was filtered to obtain Exemplified Compound 1-4 (4.8 g).
The following dye monomer 1 can be synthesized, for example, according to the synthesis method described in JP-A-2008-292970.
In addition, the weight average molecular weight can be adjusted by increasing / decreasing the amount of chain transfer agent and the reaction temperature, and the degree of dispersion can be adjusted by changing the type / amount of reprecipitation solvent.

〜例示化合物2−3の合成〜
下記色素単量体2(20g)、メタクリル酸(5.88g)および連鎖移動剤としてチオリンゴ酸520mgをプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)150mlに溶解させ、窒素下、85℃で攪拌し、ジメチル2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)1.2gを添加した。その後、ジメチル2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)1.2gを二時間おきに二度追加添加し、90℃に昇温し、更に二時間攪拌した。反応終了後、アセトニトリル2000ml中に反応液を滴下し、得られた結晶をろ過し、例示化合物2−3(21.2g)を得た。H NMRスペクトルからAcOのプロトンのピークが消失していることから例示化合物2−3のように主鎖カルボン酸が配位していることを確認した。
なお、下記色素単量体2も例えば特開2008−292970号公報記載の合成法に準じて合成できる。また、連鎖移動剤量の増減および反応温度の上下によって、重量平均分子量を調整でき、また再沈殿溶媒種類/量の変更によって分散度を調整できる。
-Synthesis of Exemplified Compound 2-3-
The following dye monomer 2 (20 g), methacrylic acid (5.88 g) and 520 mg of thiomalic acid as a chain transfer agent were dissolved in 150 ml of propylene glycol monomethyl ether (PGME), stirred at 85 ° C. under nitrogen, dimethyl 2, 1.2 g of 2′-azobis (2-methylpropionate) was added. Thereafter, 1.2 g of dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) was additionally added twice every 2 hours, the temperature was raised to 90 ° C., and the mixture was further stirred for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was dropped into 2000 ml of acetonitrile, and the resulting crystal was filtered to obtain Exemplary Compound 2-3 (21.2 g). Since the AcO proton peak disappeared from the 1 H NMR spectrum, it was confirmed that the main chain carboxylic acid was coordinated as in Example Compound 2-3.
The following dye monomer 2 can also be synthesized according to, for example, the synthesis method described in JP-A-2008-292970. In addition, the weight average molecular weight can be adjusted by increasing / decreasing the amount of chain transfer agent and the reaction temperature, and the degree of dispersion can be adjusted by changing the type / amount of reprecipitation solvent.

以上、本発明における特定染料について説明したが、本発明のカラーフィルタの青色画素には、特定染料を1種用いることが好ましく、2種以上を用いてもよい。   As mentioned above, although the specific dye in this invention was demonstrated, it is preferable to use 1 type of specific dye for the blue pixel of the color filter of this invention, and may use 2 or more types.

青色の着色感放射線性組成物における青色の着色剤と紫色の着色剤との含有比としては質量基準で、青色の着色剤:紫色の着色剤=80:20〜60:40であることが好ましく、70:30であることが特に好ましい。
また、青色の着色感放射線性組成物における全着色剤の含有量は、青色の着色感放射線性組成物の全固形分に対して、質量基準で、10%〜40%であることが好ましく、20%〜30%であることがより好ましい。
The content ratio of the blue colorant to the purple colorant in the blue colored radiation-sensitive composition is preferably blue colorant: purple colorant = 80: 20 to 60:40 on a mass basis. 70:30 is particularly preferable.
The content of the total colorant in the blue colored radiation-sensitive composition is preferably 10% to 40% on a mass basis with respect to the total solid content of the blue colored radiation-sensitive composition. More preferably, it is 20% to 30%.

その他、着色剤としては、直接染料、塩基性染料、媒染染料、酸性媒染染料、アゾイック染料、分散染料、油溶染料、食品染料、及び/又は、これらの誘導体等も有用に使用することができる。   In addition, as the colorant, a direct dye, a basic dye, a mordant dye, an acid mordant dye, an azoic dye, a disperse dye, an oil-soluble dye, a food dye, and / or a derivative thereof can also be used. .

また、上記以外の、アゾ系、キサンテン系、フタロシアニン系の酸性染料も好ましく、C.I.Solvent Blue 44、38;C.I.Solvent orange 45;Rhodamine B、Rhodamine 110等の酸性染料及びこれらの染料の誘導体も好ましく用いられる。   Other than the above, azo, xanthene and phthalocyanine acid dyes are also preferred. I. Solvent Blue 44, 38; C.I. I. Solvent orange 45; Rhodamine B, Rhodamine 110 and other acid dyes and derivatives of these dyes are also preferably used.

なかでも、染料としては、トリアリルメタン系、アントラキノン系、アゾメチン系、ベンジリデン系、オキソノール系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、アンスラピリドン系、ピロメテン系から選ばれる染料であることが好ましい。
また、染料は多量体であってもよい。
Among them, as the dye, triallylmethane, anthraquinone, azomethine, benzylidene, oxonol, cyanine, phenothiazine, pyrrolopyrazole azomethine, xanthene, phthalocyanine, benzopyran, indigo, pyrazoleazo The dye is preferably selected from anilinoazo, pyrazolotriazole azo, pyridone azo, anthrapyridone, and pyromethene.
The dye may be a multimer.

さらに、本発明の着色感放射線性組成物を用いて構成されるカラーフィルタは緑色、赤色、および青色の3原色のカラーフィルタだけでなく、シアン色、黄色、マゼンタ色の補色を含めた6色カラーフィルタ、或いは3原色にシアン色、無色等を加えた4色カラーフィルタなど多色のカラーフィルタにおいても効果を発揮する。   Furthermore, the color filter constituted by using the colored radiation-sensitive composition of the present invention includes not only three primary color filters of green, red, and blue, but also six colors including complementary colors of cyan, yellow, and magenta. The present invention is also effective in a color filter or a multi-color filter such as a four-color filter in which cyan and colorless are added to the three primary colors.

本発明の着色感放射線性組成物に適用される顔料としては、本発明の着色感放射線性組成物を適用して得られるカラーフィルタが、高色純度であることが好ましいことを考慮すると、なるべく微細なものが好ましい。また、着色感放射線性組成物のハンドリング性をも考慮すると、顔料の平均1次粒子径は、5nm〜100nmが好ましく、5nm〜50nmがより好ましい。   Considering that the color filter obtained by applying the colored radiation-sensitive composition of the present invention preferably has high color purity as the pigment applied to the colored radiation-sensitive composition of the present invention. A fine one is preferred. In consideration of the handling properties of the colored radiation-sensitive composition, the average primary particle diameter of the pigment is preferably 5 nm to 100 nm, and more preferably 5 nm to 50 nm.

各色の着色感放射線性組成物においては、着色剤の含有量を上記に記載したそれぞれの範囲とすることで、着色感放射線性組成物によりカラーフィルタを作製した際に、適度な色度が得られる。また、放射線硬化が充分に進み、着色硬化膜としての強度を維持することができるため、アルカリ現像の際の現像ラチチュードが狭くなることを防止することができる。   In the colored radiation-sensitive composition of each color, by adjusting the content of the colorant to the respective ranges described above, an appropriate chromaticity can be obtained when a color filter is produced from the colored radiation-sensitive composition. It is done. Further, since radiation curing is sufficiently advanced and the strength as a colored cured film can be maintained, it is possible to prevent the development latitude during alkali development from becoming narrow.

本発明の着色感放射線性組成物に(A)着色剤として顔料を使用する場合には、顔料を予め必要により、顔料分散剤、有機溶剤、顔料誘導体、およびその他の成分等と共に分散して、顔料分散液を調製し、得られた顔料分散液を(B)特定樹脂、(C)重合性化合物、(D)紫外線吸収剤、及び必要により加えられるその他の成分と混合して調製することが好ましい。
以下に顔料分散液の組成、顔料分散液の調製の方法について詳述する。
When the pigment is used as the colorant (A) in the colored radiation-sensitive composition of the present invention, the pigment is dispersed together with a pigment dispersant, an organic solvent, a pigment derivative, and other components, if necessary. A pigment dispersion is prepared, and the resulting pigment dispersion is prepared by mixing with (B) a specific resin, (C) a polymerizable compound, (D) an ultraviolet absorber, and other components added as necessary. preferable.
The composition of the pigment dispersion and the method for preparing the pigment dispersion are described in detail below.

本発明においては、顔料はそれぞれ別個に顔料分散液を調製してもよいし、あるいは2種、3種、または4種以上をまとめて顔料分散液を調製してもよい。
2種以上の顔料分散液とする場合、顔料分散液の顔料以外の組成、顔料分散液の調製方法は同じでも異なっていてもよい。
In the present invention, a pigment dispersion may be prepared separately for each pigment, or two, three, or four or more may be combined to prepare a pigment dispersion.
When two or more pigment dispersions are used, the composition other than the pigment in the pigment dispersion and the method for preparing the pigment dispersion may be the same or different.

顔料分散液の調製方法は、特に制限されないが、分散の方法としては、例えば、顔料と顔料分散剤を予め混合して、ホモジナイザー等で予め分散しておいたものを、ジルコニアビーズ等を用いたビーズ分散機(例えば、GETZMANN社製のディスパーマット)等を用いて微分散させることによって行なえる。   The method for preparing the pigment dispersion is not particularly limited, and as a dispersion method, for example, a pigment and a pigment dispersant are mixed in advance and dispersed in advance using a homogenizer or the like, using zirconia beads or the like. It can be carried out by finely dispersing using a bead disperser (for example, a disperse mat manufactured by GETZMANN).

(顔料分散剤)
本発明に用いうる顔料分散剤としては、高分子分散剤〔例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物〕、及び、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン等の界面活性剤、及び、顔料誘導体等を挙げることができる。
高分子分散剤は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
(Pigment dispersant)
Examples of pigment dispersants that can be used in the present invention include polymer dispersants [for example, polyamidoamines and salts thereof, polycarboxylic acids and salts thereof, high molecular weight unsaturated acid esters, modified polyurethanes, modified polyesters, and modified poly (meth) acrylates. , (Meth) acrylic copolymers, naphthalene sulfonic acid formalin condensates], and surfactants such as polyoxyethylene alkyl phosphate esters, polyoxyethylene alkyl amines, alkanol amines, and pigment derivatives, etc. Can do.
The polymer dispersant can be further classified into a linear polymer, a terminal-modified polymer, a graft polymer, and a block polymer from the structure thereof.

顔料表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子としては、例えば、特開平3−112992号公報、特表2003−533455号公報等に記載の末端にりん酸基を有する高分子、特開2002−273191号公報等に記載の末端にスルホン酸基を有する高分子、特開平9−77994号公報等に記載の有機色素の部分骨格や複素環を有する高分子などが挙げられる。また、特開2007−277514号公報に記載の高分子末端に2個以上の顔料表面へのアンカー部位(酸基、塩基性基、有機色素の部分骨格やヘテロ環等)を導入した高分子も分散安定性に優れ好ましい。   Examples of the terminal-modified polymer having an anchor site to the pigment surface include polymers having a phosphate group at the terminal described in JP-A-3-112992, JP-T2003-533455, and the like. Examples thereof include a polymer having a sulfonic acid group at the terminal end described in JP-A-273191, and a polymer having a partial skeleton of an organic dye or a heterocyclic ring described in JP-A-9-77994. In addition, a polymer in which two or more anchor sites (acid group, basic group, partial skeleton of organic dye, heterocycle, etc.) to the surface of the pigment described in JP-A-2007-277514 are introduced. It is preferable because of excellent dispersion stability.

顔料表面へのアンカー部位を有するグラフト型高分子としては、例えば、特開昭54−37082号公報、特表平8−507960号公報、特開2009−258668公報等に記載のポリ(低級アルキレンイミン)とポリエステルの反応生成物、特開平9−169821号公報等に記載のポリアリルアミンとポリエステルの反応生成物、特開平10−339949号、特開2004−37986号公報等に記載のマクロモノマーと、窒素原子モノマーとの共重合体、特開2003−238837号公報、特開2008−9426号公報、特開2008−81732号公報等に記載の有機色素の部分骨格や複素環を有するグラフト型高分子、特開2010−106268号公報等に記載のマクロモノマーと酸基含有モノマーの共重合体等が挙げられる。特に、特開2009−203462号公報に記載の塩基性基と酸性基を有する両性分散樹脂は、顔料分散物の分散性、分散安定性、及び着色感放射線性組成物が示す現像性の観点から特に好ましい。   Examples of the graft polymer having an anchor site to the pigment surface include poly (lower alkyleneimine) described in JP-A-54-37082, JP-A-8-507960, JP-A-2009-258668, and the like. ) And a polyester reaction product, a reaction product of polyallylamine and polyester described in JP-A-9-169821, etc., a macromonomer described in JP-A-10-339949, JP-A-2004-37986, and the like, Copolymers with nitrogen atom monomers, graft-type polymers having partial skeletons or heterocyclic rings of organic dyes described in JP-A-2003-238837, JP-A-2008-9426, JP-A-2008-81732, etc. And a copolymer of a macromonomer and an acid group-containing monomer described in JP2010-106268A. It is. In particular, the amphoteric dispersion resin having a basic group and an acidic group described in JP 2009-203462 A is from the viewpoint of dispersibility of the pigment dispersion, dispersion stability, and developability exhibited by the colored radiation-sensitive composition. Particularly preferred.

顔料表面へのアンカー部位を有するグラフト型高分子をラジカル重合で製造する際に用いるマクロモノマーとしては、公知のマクロモノマーを用いることができ、東亜合成(株)製のマクロモノマーAA−6(末端基がメタクリロイル基であるポリメタクリル酸メチル)、AS−6(末端基がメタクリロイル基であるポリスチレン)、AN−6S(末端基がメタクリロイル基であるスチレンとアクリロニトリルの共重合体)、AB−6(末端基がメタクリロイル基であるポリアクリル酸ブチル)、ダイセル化学工業(株)製のプラクセルFM5(メタクリル酸2−ヒドロキシエチルのε−カプロラクトン5モル当量付加品)、FA10L(アクリル酸2−ヒドロキシエチルのε−カプロラクトン10モル当量付加品)、及び特開平2−272009号公報に記載のポリエステル系マクロモノマー等が挙げられる。これらの中でも、特に柔軟性且つ親溶剤性に優れるポリエステル系マクロモノマーが、顔料分散物の分散性、分散安定性、及び顔料分散物を用いた着色感放射線性組成物が示す現像性の観点から特に好ましく、更に、特開平2−272009号公報に記載のポリエステル系マクロモノマーで表されるポリエステル系マクロモノマーが最も好ましい。   As the macromonomer used when the graft polymer having an anchor site to the pigment surface is produced by radical polymerization, a known macromonomer can be used. Macromonomer AA-6 (terminal) manufactured by Toa Gosei Co., Ltd. Polymethyl methacrylate whose group is a methacryloyl group), AS-6 (polystyrene whose terminal group is a methacryloyl group), AN-6S (a copolymer of styrene and acrylonitrile whose terminal group is a methacryloyl group), AB-6 ( Polybutyl acrylate whose end group is a methacryloyl group), PLACEL FM5 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. (5 molar equivalent addition product of ε-caprolactone of 2-hydroxyethyl methacrylate), FA10L (2-hydroxyethyl acrylate) ε-caprolactone 10 molar equivalent addition product), and JP-A-2-2720 Polyester macromonomer described in No. 09 publication. Among these, the polyester-based macromonomer that is particularly excellent in flexibility and solvophilicity is from the viewpoint of the dispersibility of the pigment dispersion, the dispersion stability, and the developability exhibited by the colored radiation-sensitive composition using the pigment dispersion. In particular, a polyester macromonomer represented by a polyester macromonomer described in JP-A-2-272009 is most preferable.

顔料表面へのアンカー部位を有するブロック型高分子としては、特開2003−49110号公報、特開2009−52010号公報等に記載のブロック型高分子が好ましい。   As the block polymer having an anchor site to the pigment surface, block polymers described in JP-A Nos. 2003-49110 and 2009-52010 are preferable.

本発明に用いうる顔料分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、BYKChemie社製「Disperbyk−101(ポリアミドアミン燐酸塩)、107(カルボン酸エステル)、110(酸基を含む共重合物)、130(ポリアミド)、161、162、163、164、165、166、170(高分子共重合物)」、「BYK−P104、P105(高分子量不飽和ポリカルボン酸)、EFKA社製「EFKA4047、4050〜4010〜4165(ポリウレタン系)、EFKA4330〜4340(ブロック共重合体)、4400〜4402(変性ポリアクリレート)、5010(ポリエステルアミド)、5765(高分子量ポリカルボン酸塩)、6220(脂肪酸ポリエステル)、6745(フタロシアニン誘導体)、6750(アゾ顔料誘導体)」、味の素ファンテクノ社製「アジスパーPB821、PB822、PB880、PB881」、共栄社化学社製「フローレンTG−710(ウレタンオリゴマー)」、「ポリフローNo.50E、No.300(アクリル系共重合体)」、楠本化成社製「ディスパロンKS−860、873SN、874、#2150(脂肪族多価カルボン酸)、#7004(ポリエーテルエステル)、DA−703−50、DA−705、DA−725」、花王社製「デモールRN、N(ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物)、MS、C、SN−B(芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物)」、「ホモゲノールL−18(高分子ポリカルボン酸)」、「エマルゲン920、930、935、985(ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル)」、「アセタミン86(ステアリルアミンアセテート)」、日本ルーブリゾール(株)製「ソルスパース5000(フタロシアニン誘導体)、22000(アゾ顔料誘導体)、13240(ポリエステルアミン)、3000、17000、27000(末端部に機能部を有する高分子)、24000、28000、32000、38500(グラフト型高分子)」、日光ケミカル社製「ニッコールT106(ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート)、MYS−IEX(ポリオキシエチレンモノステアレート)」、川研ファインケミカル(株)製 ヒノアクトT−8000E等、信越化学工業(株)製、オルガノシロキサンポリマーKP341、裕商(株)製「W001:カチオン系界面活性剤」、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル等のノニオン系界面活性剤、「W004、W005、W017」等のアニオン系界面活性剤、森下産業(株)製「EFKA−46、EFKA−47、EFKA−47EA、EFKAポリマー100、EFKAポリマー400、EFKAポリマー401、EFKAポリマー450」、サンノプコ(株)製「ディスパースエイド6、ディスパースエイド8、ディスパースエイド15、ディスパースエイド9100」等の高分子分散剤、(株)ADEKA製「アデカプルロニックL31、F38、L42、L44、L61、L64、F68、L72、P95、F77、P84、F87、P94、L101、P103、F108、L121、P−123」、及び三洋化成(株)製「イオネットS−20」、日本触媒製「アクリキュアーRD−F8」、藤倉化成製「アクリベースFFS−6824」等が挙げられる。   The pigment dispersant that can be used in the present invention is also available as a commercial product, and specific examples thereof include “Disperbyk-101 (polyamideamine phosphate), 107 (carboxylic acid ester)”, 110 (by BYK Chemie). Copolymer containing acid groups), 130 (polyamide), 161, 162, 163, 164, 165, 166, 170 (polymer copolymer), "BYK-P104, P105 (high molecular weight unsaturated polycarboxylic acid) ) "EFKA 4047, 4050-4010-4165 (polyurethane)", EFKA 4330-4340 (block copolymer), 4400-4402 (modified polyacrylate), 5010 (polyesteramide), 5765 (high molecular weight polycarboxylic acid) Salt), 6220 (fatty acid polyester), 6745 Phthalocyanine derivatives), 6750 (azo pigment derivatives) ”,“ Ajisper PB821, PB822, PB880, PB881 ”manufactured by Ajinomoto Fan Techno Co.,“ Floren TG-710 (urethane oligomer) ”manufactured by Kyoeisha Chemical Co.,“ Polyflow No. 50E, No. .300 (acrylic copolymer) ”,“ Disparon KS-860, 873SN, 874, # 2150 (aliphatic polycarboxylic acid), # 7004 (polyether ester), DA-703-50, manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd. DA-705, DA-725 "," Demol RN, N (Naphthalenesulfonic acid formalin polycondensate), MS, C, SN-B (aromatic sulfonic acid formalin polycondensate) "manufactured by Kao Corporation," Homogenol L- 18 (polymer polycarboxylic acid) "," Emulgen 920, 930, 935, 85 (polyoxyethylene nonylphenyl ether) ”,“ acetamine 86 (stearylamine acetate) ”,“ Solsperse 5000 (phthalocyanine derivative), 22000 (azo pigment derivative), 13240 (polyesteramine) ”manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd. , 17000, 27000 (polymer having a functional part at the end), 24000, 28000, 32000, 38500 (graft type polymer) ”,“ Nikkor T106 (polyoxyethylene sorbitan monooleate), MYS-IEX, manufactured by Nikko Chemical Co., Ltd. ” (Polyoxyethylene monostearate), Kawaken Fine Chemical Co., Ltd. Hinoact T-8000E, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Organosiloxane Polymer KP341, Yusho Co., Ltd. “W001: Cationic System Surfactant ", polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester Nonionic surfactants such as, anionic surfactants such as “W004, W005, W017”, “EFKA-46, EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA polymer 100, EFKA polymer 400, manufactured by Morishita Sangyo Co., Ltd.” EFKA Polymer 401, EFKA Polymer 450 ”,“ Disperse Aid 6, Disperse Aid 8, Disperse Aid 15, Disperse Aid manufactured by San Nopco Corporation Polymeric dispersants such as “100”, “Adeka Pluronic L31, F38, L42, L44, L61, L64, F68, L72, P95, F77, P84, F87, P94, L101, P103, F108, L121 manufactured by ADEKA Corporation , P-123 ”, Sanyo Chemical Co., Ltd.“ Ionette S-20 ”, Nippon Shokubai Co., Ltd.“ Acryure RD-F8 ”, Fujikura Kasei Co., Ltd.“ Acrybase FFS-6824 ”, and the like.

これらの顔料分散剤は、単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。本発明においては、特に、顔料誘導体と高分子分散剤とを組み合わせて使用することが好ましい。また、本発明における顔料分散剤は、前記顔料表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子であることが好ましい。   These pigment dispersants may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, it is particularly preferable to use a combination of a pigment derivative and a polymer dispersant. The pigment dispersant in the present invention is preferably a terminal-modified polymer, a graft polymer, or a block polymer having an anchor site to the pigment surface.

顔料分散液における顔料分散剤の含有量としては、顔料100質量部に対して、1〜80質量部であることが好ましく、5〜70質量部がより好ましく、10〜60質量部であることが更に好ましい。
具体的には、高分子分散剤を用いる場合であれば、その使用量としては、顔料100質量部に対して、質量換算で5〜100部の範囲が好ましく、10〜80部の範囲であることがより好ましい。
As content of the pigment dispersant in a pigment dispersion liquid, it is preferable that it is 1-80 mass parts with respect to 100 mass parts of pigments, 5-70 mass parts is more preferable, and it is 10-60 mass parts. Further preferred.
Specifically, if a polymer dispersant is used, the amount used is preferably in the range of 5 to 100 parts in terms of mass, and in the range of 10 to 80 parts, with respect to 100 parts by mass of the pigment. It is more preferable.

<顔料誘導体>
顔料分散液は、更に、顔料誘導体を含有することが好ましい。
顔料誘導体とは、有機顔料の一部分を、酸性基、塩基性基又はフタルイミドメチル基で置換した構造を有する化合物である。顔料誘導体としては、分散性及び分散安定性の観点から、酸性基又は塩基性基を有する顔料誘導体を含有することが好ましい。
<Pigment derivative>
The pigment dispersion preferably further contains a pigment derivative.
The pigment derivative is a compound having a structure in which a part of an organic pigment is substituted with an acidic group, a basic group or a phthalimidomethyl group. The pigment derivative preferably contains a pigment derivative having an acidic group or a basic group from the viewpoint of dispersibility and dispersion stability.

顔料誘導体を構成するための有機顔料としては、ジケトピロロピロール系顔料、アゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、ペリノン系顔料、ペリレン系顔料、チオインジゴ系顔料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、スレン系顔料、金属錯体系顔料等が挙げられる。
また、顔料誘導体が有する酸性基としては、スルホン酸、カルボン酸及びその4級アンモニウム塩が好ましく、カルボン酸基及びスルホン酸基がさらに好ましく、スルホン酸基が特に好ましい。顔料誘導体が有する塩基性基としては、アミノ基が好ましく、特に三級アミノ基が好ましい。
Examples of the organic pigment for constituting the pigment derivative include diketopyrrolopyrrole pigments, azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, perinone pigments, perylene pigments, thioindigo pigments , Isoindoline pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, selenium pigments, metal complex pigments, and the like.
Moreover, as an acidic group which a pigment derivative has, a sulfonic acid, carboxylic acid, and its quaternary ammonium salt are preferable, a carboxylic acid group and a sulfonic acid group are more preferable, and a sulfonic acid group is especially preferable. The basic group possessed by the pigment derivative is preferably an amino group, particularly preferably a tertiary amino group.

顔料誘導体としては、特に、キノリン系、ベンズイミダゾロン系及びイソインドリン系の顔料誘導体が好ましく、キノリン系及びベンズイミダゾロン系の顔料誘導体がさらに好ましい。特に、下記一般式(P)で表される構造を有する顔料誘導体が好ましい。   As the pigment derivative, quinoline-based, benzimidazolone-based and isoindoline-based pigment derivatives are particularly preferable, and quinoline-based and benzimidazolone-based pigment derivatives are more preferable. In particular, a pigment derivative having a structure represented by the following general formula (P) is preferable.

一般式(P)中、Aは、下記一般式(PA−1)〜(PA−3)から選ばれる部分構造を表す。Bは単結合、又は(t+1)価の連結基を表す。Cは、単結合、−NH−、−CONH−、−CO−、−SONH−、−O−、−S−又は−SO−を表す。Dは、単結合、アルキレン基、シクロアルキレン基又はアリーレン基を表す。Eは、−SOH、−COH又は−N(Rpa)(Rpb)を表す。Rpa及びRpbは、各々独立して、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表し、Rpa及びRpbは互いに連結して環を形成してもよい。tは1〜5の整数を表す。 In the general formula (P), A represents a partial structure selected from the following general formulas (PA-1) to (PA-3). B represents a single bond or a (t + 1) -valent linking group. C represents a single bond, -NH -, - CONH -, - CO 2 -, - SO 2 NH -, - O -, - S- or -SO 2 - represents a. D represents a single bond, an alkylene group, a cycloalkylene group or an arylene group. E represents -SO 3 H, -CO 2 H or -N (Rpa) (Rpb). Rpa and Rpb each independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and Rpa and Rpb may be linked to each other to form a ring. t represents an integer of 1 to 5.

一般式(PA−1)及び(PA−2)中、Rp1は、炭素数1〜5のアルキル基又はアリール基を表す。一般式(PA−3)中、Rp2は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はヒドロキシル基を表す。sは1〜4の整数を表す。一般式(PA−1)及び一般式(PA−3)中、Rp3は、単結合、−NH−、−CONH−、−CO−、−SONH−、−O−、−S−又は−SO−を表す。*はBとの連結部を表す。 In general formulas (PA-1) and (PA-2), R p1 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an aryl group. In General Formula (PA-3), R p2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, or a hydroxyl group. s represents the integer of 1-4. In general formula (PA-1) and general formula (PA-3), R p3 represents a single bond, —NH—, —CONH—, —CO 2 —, —SO 2 NH—, —O—, —S—. or -SO 2 - represents a. * Represents a connecting portion with B.

一般式(P)中、Rp1は、特にメチル基又はフェニル基が好ましく、メチル基が最も好ましい。一般式(PA−3)中、Rp2は、水素原子又はハロゲン原子が好ましく、水素原子又は塩素原子が最も好ましい。 In general formula (P), R p1 is particularly preferably a methyl group or a phenyl group, and most preferably a methyl group. In general formula (PA-3), R p2 is preferably a hydrogen atom or a halogen atom, and most preferably a hydrogen atom or a chlorine atom.

一般式(P)中、Bで表される(t+1)価の連結基としては、例えば、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基及びヘテロアリーレン基が挙げられる。これらのうちでも、特に、下記構造式(PA−4)〜(PA−9)で表される連結基が好ましい。   In the general formula (P), examples of the (t + 1) -valent linking group represented by B include an alkylene group, a cycloalkylene group, an arylene group, and a heteroarylene group. Among these, the linking groups represented by the following structural formulas (PA-4) to (PA-9) are particularly preferable.

構造式(PA−4)〜(PA−9)のうちでも、特にBとして、構造式(PA−5)又は(PA−8)で表される連結基を有する顔料誘導体が、分散性により優れることから好ましい。   Among structural formulas (PA-4) to (PA-9), in particular, a pigment derivative having a linking group represented by the structural formula (PA-5) or (PA-8) as B is more excellent in dispersibility. This is preferable.

一般式(P)中、Dで表されるアルキレン基、シクロアルキレン基及びアリーレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、デシレン、シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロオクチレン、シクロデシレン、フェニレン、ナフチレン等が挙げられる。これらのうちでも、Dとしては、特にアルキレン基が好ましく、炭素数1〜5のアルキレンが最も好ましい。   In the general formula (P), examples of the alkylene group, cycloalkylene group and arylene group represented by D include methylene, ethylene, propylene, butylene, pentylene, hexylene, decylene, cyclopropylene, cyclobutylene, cyclopentylene, Examples include cyclohexylene, cyclooctylene, cyclodecylene, phenylene, naphthylene, and the like. Among these, as D, an alkylene group is particularly preferable, and alkylene having 1 to 5 carbon atoms is most preferable.

一般式(P)中、Eが−N(Rpa)(Rpb)を表す場合に、Rpa及びRpbにおけるアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチル、シクロデシル、フェニル、ナフチル等を挙げることができる。Rpa及びRpbとしては、特にアルキル基が好ましく、炭素数1〜5のアルキル基が最も好ましい。前記tは1又は2が好ましい。   In the general formula (P), when E represents -N (Rpa) (Rpb), examples of the alkyl group, cycloalkyl group and aryl group in Rpa and Rpb include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, Examples include sec-butyl, tert-butyl, pentyl, isopentyl, neopentyl, hexyl, octyl, decyl, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cyclooctyl, cyclodecyl, phenyl, naphthyl, and the like. As Rpa and Rpb, an alkyl group is particularly preferable, and an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is most preferable. The t is preferably 1 or 2.

顔料分散液における顔料誘導体の含有量は、顔料の全質量に対し、1〜50質量%が好ましく、3〜30質量%がさらに好ましい。顔料誘導体は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
また、顔料誘導体を併用する場合、顔料誘導体の使用量としては、顔料100質量部に対し、質量換算で1〜30部の範囲にあることが好ましく、3〜20部の範囲にあることがより好ましく、5〜15部の範囲にあることが特に好ましい。
1-50 mass% is preferable with respect to the total mass of a pigment, and, as for content of the pigment derivative in a pigment dispersion, 3-30 mass% is more preferable. Only one pigment derivative may be used, or two or more pigment derivatives may be used in combination.
Moreover, when using together a pigment derivative, it is preferable that it is in the range of 1-30 parts in conversion of mass as a usage-amount of a pigment derivative, and is in the range of 3-20 parts with respect to 100 mass parts of pigments. A range of 5 to 15 parts is particularly preferable.

(有機溶剤)
顔料分散液は有機溶剤を含有することが好ましい。
有機溶剤は、顔料分散液中に含まれる各成分の溶解性や、顔料分散液を着色感放射線性組成物に応用した場合の塗布性などにより選択される。顔料分散液に用いうる有機溶剤としては、(E)有機溶剤として後述するものが挙げられる。
顔料分散液における有機溶剤の含有量としては、50〜95質量%が好ましく、70〜90質量%がより好ましい。
(Organic solvent)
The pigment dispersion preferably contains an organic solvent.
The organic solvent is selected depending on the solubility of each component contained in the pigment dispersion and the coating properties when the pigment dispersion is applied to a colored radiation-sensitive composition. Examples of the organic solvent that can be used in the pigment dispersion include those described later as the (E) organic solvent.
As content of the organic solvent in a pigment dispersion liquid, 50-95 mass% is preferable, and 70-90 mass% is more preferable.

(高分子材料)
顔料分散液には、前記した各成分に加え、分散安定性の向上、顔料分散液を着色感放射線性組成物に応用した場合の現像性制御などの観点から、(B)特定樹脂とは異なる構造の他の構造の高分子材料を更に含有してもよい。
(Polymer material)
The pigment dispersion is different from the specific resin (B) from the viewpoint of improving the dispersion stability, developing property control when the pigment dispersion is applied to the colored radiation-sensitive composition, in addition to the above-described components. You may further contain the polymeric material of the other structure of a structure.

特定樹脂とは異なる構造の他の構造の高分子材料としては、例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル系共重合体(特に、カルボン酸基と側鎖に重合性基を含有する(メタ)アクリル酸系共重合体が好ましい。)、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物等が挙げられる。このような高分子材料は、顔料の表面に吸着し、再凝集を防止するように作用するため、顔料表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子が好ましく、例えば、複素環を含有するモノマーとエチレン性不飽和結合を有する重合性オリゴマーを共重合体単位として含むグラフト共重合体が挙げられる。
他の構造の高分子材料としては、更に、ポリアミドアミン燐酸塩、高分子量不飽和ポリカルボン酸、ポリエーテルエステル、芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエステルアミン、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレートポリオキシエチレンモノステアレート等が挙げられる。
Examples of the polymer material having a structure different from that of the specific resin include, for example, polyamidoamine and its salt, polycarboxylic acid and its salt, high molecular weight unsaturated acid ester, modified polyurethane, modified polyester, modified poly (meth) Acrylate, (meth) acrylic copolymer (in particular, (meth) acrylic acid copolymer containing a carboxylic acid group and a polymerizable group in the side chain is preferable), naphthalenesulfonic acid formalin condensate and the like. . Such a polymer material is adsorbed on the surface of the pigment and acts to prevent re-aggregation. Therefore, a terminal-modified polymer, a graft polymer, and a block polymer having an anchor site to the pigment surface are used. Preferable examples include a graft copolymer including a monomer containing a heterocyclic ring and a polymerizable oligomer having an ethylenically unsaturated bond as a copolymer unit.
Examples of other polymer materials include polyamidoamine phosphate, high molecular weight unsaturated polycarboxylic acid, polyether ester, aromatic sulfonic acid formalin polycondensate, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyester amine, polyoxy Examples include ethylene sorbitan monooleate polyoxyethylene monostearate.

これらの他の構造の高分子材料は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせ用いてもよい。
顔料分散液における他の構造の高分子材料の含有量としては、顔料に対して、20〜80質量%が好ましく、30〜70質量%がより好ましく、40〜60質量%が更に好ましい。
These polymer materials having other structures may be used alone or in combination of two or more.
As content of the polymeric material of the other structure in a pigment dispersion liquid, 20-80 mass% is preferable with respect to a pigment, 30-70 mass% is more preferable, 40-60 mass% is still more preferable.

<(B)式(I)で表される部分構造を有するアクリル樹脂>
本発明の着色感放射線性組成物は、(B)下記式(I)で表される部分構造を有するアクリル樹脂(特定樹脂)を含有する。
<(B) Acrylic resin having a partial structure represented by formula (I)>
The colored radiation-sensitive composition of the present invention contains (B) an acrylic resin (specific resin) having a partial structure represented by the following formula (I).

式(I)中、Rは、水素原子又は1価の置換基を表す。*は主鎖構造との結合の部位を表す。   In formula (I), R represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. * Represents the site of binding to the main chain structure.

特定樹脂は、式(I)で表される部分構造を有していればよく、式(I)で表される部分構造を有するアクリルモノマーを単独で重合したものでもよいし、式(I)で表される部分構造を有する重合性不飽和化合物と他のアクリルモノマーとを共重合して得られたアクリル樹脂でもよい。また、式(I)で表される部分構造を有する反応性化合物をアクリル樹脂に高分子反応で側鎖に結合させたアクリル樹脂でもよい。   The specific resin only needs to have a partial structure represented by the formula (I), and may be obtained by polymerizing an acrylic monomer having a partial structure represented by the formula (I) alone. An acrylic resin obtained by copolymerizing a polymerizable unsaturated compound having a partial structure represented by the above and another acrylic monomer may be used. Moreover, the acrylic resin which combined the reactive compound which has the partial structure represented by Formula (I) with the side chain by the polymer reaction to the acrylic resin may be sufficient.

式(I)で表される部分構造を有する不飽和化合物としては、ビニル基、(メタ)アクリロイルオキシ基、(メタ)アクリル基等の不飽和基を、直接又は連結基を介して、式(I)の*部分に結合した化合物が挙げられる。
連結基としては、炭素数1〜10のアルキレン基、フェニレン基、トリレン基、ナフチレン基、などである。好ましい連結基としては、単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、フェニレン基などが挙げられる。
Examples of the unsaturated compound having a partial structure represented by the formula (I) include an unsaturated group such as a vinyl group, a (meth) acryloyloxy group, a (meth) acryl group, directly or via a linking group. And compounds bonded to the * moiety of I).
Examples of the linking group include an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a phenylene group, a tolylene group, and a naphthylene group. Preferred examples of the linking group include a single bond, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and a phenylene group.

また、式(I)で表される部分構造を有する不飽和化合物の例としては、ビニルウレイレンベンゾイミダゾール、アリルウレイレンベンゾイミダゾール(メタ)アクリロイロキシウレイレンベンゾイミダゾール、(メタ)アクリロイロキシメチルウレイレンベンゾイミダゾール、(メタ)アクリロイロキシエチルウレイレンベンゾイミダゾール、(メタ)アクリロイロキシフェニルウレイレンベンゾイミダゾールなどである。
これらのうちで、好ましくは(メタ)アクリロイロキシエチルウレイレンベンゾイミダゾールである。
式(I)で表される部分構造を有するアクリルモノマーとしては、前記の式(I)で表される部分構造を有する不飽和化合物のうち、不飽和基として(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物が挙げられる。
Examples of unsaturated compounds having a partial structure represented by formula (I) include vinylureylene benzimidazole, allyl ureylene benzimidazole (meth) acryloyloxyureylene benzimidazole, and (meth) acryloyloxy. Examples include methylureylene benzimidazole, (meth) acryloyloxyethylureylene benzimidazole, and (meth) acryloyloxyphenylureylene benzimidazole.
Of these, (meth) acryloyloxyethylureylenebenzimidazole is preferable.
As the acrylic monomer having a partial structure represented by the formula (I), a compound having a (meth) acryloyloxy group as an unsaturated group among the unsaturated compounds having the partial structure represented by the formula (I). Is mentioned.

本発明の特定樹脂は、さらに、式(I)で表される部分構造を有する不飽和化合物以外の共重合成分を含んでいてもよく、以下に記載する。
本発明の特定樹脂が、含んでいてもよい式(I)で表される部分構造を有する不飽和化合物以外の共重合成分としては、例えば、活性メチレン基および活性メチン基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を有する不飽和化合物である。
活性メチレン基および活性メチン基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を有する不飽和化合物としては、下記式(B−1)および式(B−2)で表される化合物である。
The specific resin of the present invention may further contain a copolymer component other than the unsaturated compound having a partial structure represented by the formula (I), and is described below.
The copolymer component other than the unsaturated compound having a partial structure represented by the formula (I) that may be contained in the specific resin of the present invention is selected from the group consisting of an active methylene group and an active methine group, for example. An unsaturated compound having at least one group.
The unsaturated compound having at least one group selected from the group consisting of an active methylene group and an active methine group is a compound represented by the following formulas (B-1) and (B-2).

(式(B−1)および(B−2)中、Rは水素原子またはヘテロ原子を含有してもよい炭素数1〜24の炭化水素基を表す。Rは単結合または炭素数1〜20の2価の炭化水素基を表す。Rは下記式(1−1)〜(1−3)のいずれかで表される2価の基を表す。Rは下記式(1−4)〜(1−7)のいずれかで表される基を表す。Xは下記式(1−8)〜(1−10)のいずれかで表される2価の基を表す。Rは前記Rと同じである。 (In formulas (B-1) and (B-2), R 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms which may contain a hetero atom. R 2 represents a single bond or 1 carbon atom. And R 3 represents a divalent group represented by any one of the following formulas (1-1) to (1-3), and R 4 represents a formula (1- 4) to (1-7) represents a group, and X represents a divalent group represented by any of the following formulas (1-8) to (1-10): R 5 Is the same as R 1 described above.

およびRは、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、へキソキシ基、シクロヘキソキシ基、下記式(1−11)〜(1−13)で表される基であり、より好ましくは水素原子、メチル基である。 R 1 and R 5 are preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a hexoxy group, a cyclohexoxy group, 1-11) to groups represented by (1-13), more preferably a hydrogen atom or a methyl group.

は、好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、シクロヘキシレン基、オクチレン基、デシレン基、ドデシレン基であり、より好ましくは、単結合、メチレン基、エチレン基である。 R 2 is preferably a single bond, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a hexylene group, a cyclohexylene group, an octylene group, a decylene group, or a dodecylene group, more preferably a single bond, a methylene group, or ethylene. It is a group.

式(B−1)で表される化合物として、具体的には、以下の化合物が挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the formula (B-1) include the following compounds.

式(B−2)で表される化合物として、具体的には、以下の化合物が挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the formula (B-2) include the following compounds.

化合物(I−1)〜(I−7)、(I−16)、(II−1)、(II−2)および(II−5)は、メタクリル基からなる構成単位を導く化合物であるが、アクリル基からなる構成単位を導く化合物も挙げることができる。   Compounds (I-1) to (I-7), (I-16), (II-1), (II-2) and (II-5) are compounds that lead to a structural unit consisting of a methacryl group. Moreover, the compound which derives | leads-out the structural unit which consists of an acrylic group can also be mentioned.

中でも、2−(メタクリロイルオキシ)エチルアセトアセテート(下記(B−3))で表される化合物が好ましい。   Among these, a compound represented by 2- (methacryloyloxy) ethyl acetoacetate (the following (B-3)) is preferable.

本発明の特定樹脂が、活性メチレン基および活性メチン基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を有する不飽和化合物から導かれる繰り返し単位を含有すると、耐溶剤性および現像性が良好になる。活性メチレン基および活性メチン基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を有する不飽和化合物から導かれる繰り返し単位の含有量は、特に制限はないが、本発明の特定樹脂に含有される全繰り返し単位を100モル%とした場合に、一般式(B−1)及び(B−2)のいずれかで表される繰り返し単位を5モル%以上含有することが好ましく、10モル%〜40モル%含有することが更に好ましい。   When the specific resin of the present invention contains a repeating unit derived from an unsaturated compound having at least one group selected from the group consisting of an active methylene group and an active methine group, the solvent resistance and developability are improved. The content of the repeating unit derived from the unsaturated compound having at least one group selected from the group consisting of an active methylene group and an active methine group is not particularly limited, but is all repeating contained in the specific resin of the present invention. When the unit is 100 mol%, the repeating unit represented by any one of the general formulas (B-1) and (B-2) is preferably contained in an amount of 5 mol% or more, preferably 10 mol% to 40 mol%. It is more preferable to contain.

本発明の特定樹脂が含んでいてもよい、式(I)で表される部分構造を有する不飽和化合物以外の共重合成分として、さらに、下記式(B−4)及び(B−5)から選択される少なくとも1種の繰り返し単位を挙げることができる。   As a copolymerization component other than the unsaturated compound having a partial structure represented by the formula (I), which may be contained in the specific resin of the present invention, further from the following formulas (B-4) and (B-5): Mention may be made of at least one repeating unit selected.

上記式(B−4)及び(B−5)中、R〜Rは、各々独立に、水素原子、又は1価の有機基を表し、X及びXは、各々独立に、−CO−、−C(=O)O−、−CONH−、−OC(=O)−、又はフェニレン基を表し、L及びLは、各々独立に、単結合、又は2価の有機連結基を表し、A及びAは、各々独立に、1価の有機基を表し、m及びnは、各々独立に、2〜8の整数を表し、p及びqは、各々独立に、1〜100の整数を表す。 In the above formulas (B-4) and (B-5), R 1 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group, and X 1 and X 2 each independently represent — CO-, -C (= O) O-, -CONH-, -OC (= O)-, or a phenylene group, L 1 and L 2 are each independently a single bond or a divalent organic linkage. A 1 and A 2 each independently represents a monovalent organic group, m and n each independently represents an integer of 2 to 8, p and q each independently represents 1 Represents an integer of ~ 100.

〜Rは、各々独立に、水素原子、又は1価の有機基を表す。1価の有機基としては、置換若しくは無置換のアルキル基が好ましい。アルキル基としては、炭素数1〜12のアルキル基が好ましく、炭素数1〜8のアルキル基がより好ましく、炭素数1〜4のアルキル基が特に好ましい。
アルキル基が置換基を有する場合、該置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜5、より好ましくは炭素数1〜3がより好ましい。)メトキシ基、エトキシ基、シクロヘキシロキシ基等が挙げられる。
好ましいアルキル基として、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−メトキシエチル基が挙げられる。
、R、R、及びRとしては、水素原子が好ましく、R及びRとしては、水素原子又はメチル基が、顔料表面への吸着効率の点からも最も好ましい。
R 1 to R 6 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group. As the monovalent organic group, a substituted or unsubstituted alkyl group is preferable. As an alkyl group, a C1-C12 alkyl group is preferable, a C1-C8 alkyl group is more preferable, and a C1-C4 alkyl group is especially preferable.
When the alkyl group has a substituent, examples of the substituent include a hydroxy group, an alkoxy group (preferably having 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms), a methoxy group, an ethoxy group, Examples include a cyclohexyloxy group.
Specific examples of preferred alkyl groups include methyl, ethyl, propyl, n-butyl, i-butyl, t-butyl, n-hexyl, cyclohexyl, 2-hydroxyethyl, A 3-hydroxypropyl group, a 2-hydroxypropyl group, and a 2-methoxyethyl group are exemplified.
R 1 , R 2 , R 4 , and R 5 are preferably hydrogen atoms, and R 3 and R 6 are most preferably hydrogen atoms or methyl groups from the viewpoint of adsorption efficiency on the pigment surface.

及びXは、各々独立に、−CO−、−C(=O)O−、−CONH−、−OC(=O)−、又はフェニレン基を表す。中でも、−C(=O)O−、−CONH−、フェニレン基が、顔料への吸着性の観点で好ましく、−C(=O)O−が最も好ましい。 X 1 and X 2 each independently represent —CO—, —C (═O) O—, —CONH—, —OC (═O) —, or a phenylene group. Among them, —C (═O) O—, —CONH—, and a phenylene group are preferable from the viewpoint of adsorptivity to the pigment, and —C (═O) O— is most preferable.

及びLは、各々独立に、単結合、又は2価の有機連結基を表す。2価の有機連結基としては、置換若しくは無置換のアルキレン基や、該アルキレン基とヘテロ原子又はヘテロ原子を含む部分構造とからなる2価の有機連結基が好ましい。ここで、アルキレン基としては、炭素数1〜12のアルキレン基が好ましく、炭素数1〜8のアルキレン基が更に好ましく、炭素数1〜4のアルキレン基が特に好ましい。また、ヘテロ原子を含む部分構造におけるヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子があげられ、中でも、酸素原子、窒素原子が好ましい。
好ましいアルキレン基として、具体的には、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基が挙げられる。
アルキレン基が置換基を有する場合、該置換基としては、例えば、ヒドロキシ基等が挙げられる。
2価の有機連結基としては、上記のアルキレン基の末端に、−C(=O)−、−OC(=O)−、−NHC(=O)−から選ばれるヘテロ原子又はヘテロ原子を含む部分構造を有し、該ヘテロ原子又はヘテロ原子を含む部分構造を介して、隣接した酸素原子と連結したものが、顔料への吸着性の点から好ましい。ここで、隣接した酸素原子とは、一般式(I)におけるL、及び一般式(II)におけるLに対し、側鎖末端側で結合する酸素原子を意味する。
L 1 and L 2 each independently represents a single bond or a divalent organic linking group. The divalent organic linking group is preferably a substituted or unsubstituted alkylene group or a divalent organic linking group comprising the alkylene group and a hetero atom or a partial structure containing a hetero atom. Here, the alkylene group is preferably an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and particularly preferably an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. In addition, examples of the hetero atom in the partial structure containing a hetero atom include an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom, and among them, an oxygen atom and a nitrogen atom are preferable.
Specific examples of preferable alkylene groups include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a trimethylene group, and a tetramethylene group.
When the alkylene group has a substituent, examples of the substituent include a hydroxy group.
The divalent organic linking group includes a heteroatom or a heteroatom selected from —C (═O) —, —OC (═O) —, and —NHC (═O) — at the end of the above alkylene group. A compound having a partial structure and linked to an adjacent oxygen atom via the heteroatom or a partial structure containing a heteroatom is preferable from the viewpoint of adsorptivity to the pigment. Here, the adjacent oxygen atom means an oxygen atom that is bonded to L 1 in the general formula (I) and L 2 in the general formula (II) on the side chain end side.

及びAは、各々独立に、1価の有機基を表す。1価の有機基としては、置換若しくは非置換のアルキル基、又は、置換若しくは非置換のアリール基が好ましい。
好ましいアルキル基の例としては、炭素原子数が1から20までの直鎖状、分岐状、及び環状のアルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基を挙げることができる。
A 1 and A 2 each independently represents a monovalent organic group. As the monovalent organic group, a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group is preferable.
Examples of preferable alkyl groups include linear, branched, and cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, isopropyl, isobutyl, s-butyl, Examples thereof include t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group and 2-norbornyl group.

置換アルキル基の置換基としては、水素を除く1価の非金属原子団の基が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルオキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N’−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキルウレイド基、N’−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アリール−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SOH)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスホノ基(−PO)及びその共役塩基基(以下、ホスホナト基と称す)、ジアルキルホスホノ基(−PO(alkyl))、ジアリールホスホノ基(−PO(aryl))、アルキルアリールホスホノ基(−PO(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノ基(−POH(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスホナト基と称す)、モノアリールホスホノ基(−POH(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールホスホナト基と称す)、ホスホノオキシ基(−OPO)及びその共役塩基基(以後、ホスホナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスホノオキシ基(−OPO(alkyl))、ジアリールホスホノオキシ基(−OPO(aryl))、アルキルアリールホスホノオキシ基(−OPO(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノオキシ基(−OPOH(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスホナトオキシ基と称す)、モノアリールホスホノオキシ基(−OPOH(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールホスホナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基、シリル基が挙げられる。これらの置換基における、アルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、これらは更に置換基を有していてもよい。
置換基としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基、シリル基が、分散安定性の点から好ましい。
As the substituent of the substituted alkyl group, a monovalent non-metallic atomic group other than hydrogen is used. Preferred examples include halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), hydroxyl groups, alkoxy groups. Group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diaryl Amino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy Group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy , Arylsulfoxy group, acyloxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N '-Arylureido group, N', N'-diarylureido group, N'-alkyl-N'-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N'-alkyl-N-alkylureido group N′-alkyl-N-arylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-alkylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-arylureido group, N′-aryl-N-alkylureido group N′-aryl-N-arylureido group, N ′, N′-diaryl-N-alkylureido group, N ′, N′-diaryl-N-aryluree Id group, N′-alkyl-N′-aryl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl- N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group , Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group An alkylsulfinyl group, Arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group (—SO 3 H) and its conjugate base group (hereinafter referred to as sulfonate group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkyls Rufinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkyl Sulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group (—PO 3 H 2) and its conjugated base group (hereinafter referred to as phosphonato group), Alkyl phosphono group (-PO 3 (alkyl) 2) , diaryl phosphono group (-PO 3 (aryl) 2) , alkyl aryl phosphono group (-PO 3 (alkyl) (aryl )), monoalkyl phosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as alkylphosphonate group), monoarylphosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as arylphosphonate) Group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonatoxy group), dialkylphosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) 2 ), diarylphosphonooxy group (— OPO 3 (aryl) 2), alkylaryl phosphono group (-OPO 3 (alkyl) (aryl )) Monoalkyl phosphono group (-OPO 3 H (alkyl)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as alkylphosphonato group), monoarylphosphono group (-OPO 3 H (aryl)) and its conjugate Examples thereof include a base group (hereinafter referred to as an arylphosphonatoxy group), a cyano group, a nitro group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, and a silyl group. Specific examples of the alkyl group in these substituents include the alkyl groups described above, and these may further have a substituent.
Examples of the substituent include an alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, N, N-dialkylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, aryl group, hetero An aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, and a silyl group are preferable from the viewpoint of dispersion stability.

アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることができる。   Specific examples of the aryl group include phenyl, biphenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, mesityl, cumenyl, chlorophenyl, bromophenyl, chloromethylphenyl, hydroxyphenyl, methoxyphenyl, ethoxy Phenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, Ethoxyphenylcarbonyl group, phenoxycarbonylphenyl group, N-phenylcarbamoylphenyl group, phenyl group, cyanophenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, phosphonophenyl group It can be exemplified phosphonophenyl phenyl group.

及びAとしては、分散安定性、現像性の点から、炭素原子数1から20までの直鎖状、炭素原子数3から20までの分岐状、並びに炭素原子数5から20までの環状のアルキル基が好ましく、炭素原子数4から15までの直鎖状、炭素原子数4から15までの分岐状、並びに炭素原子数6から10までの環状のアルキル基がより好ましく、炭素原子数6から10までの直鎖状、炭素原子数6から12までの分岐状のアルキル基が更に好ましい。 As A 1 and A 2 , from the viewpoint of dispersion stability and developability, a straight chain having 1 to 20 carbon atoms, a branched structure having 3 to 20 carbon atoms, and a number having 5 to 20 carbon atoms Cyclic alkyl groups are preferable, linear alkyl groups having 4 to 15 carbon atoms, branched alkyl groups having 4 to 15 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 6 to 10 carbon atoms are more preferable. Even more preferred are linear alkyl groups of 6 to 10 and branched alkyl groups of 6 to 12 carbon atoms.

m及びnは、各々独立に、2〜8の整数を表す。分散安定性、現像性の点から、4〜6が好ましく、5が最も好ましい。   m and n each independently represents an integer of 2 to 8. In view of dispersion stability and developability, 4 to 6 is preferable, and 5 is most preferable.

p及びqは、各々独立に、1〜100の整数を表す。pの異なるもの、qの異なるものが2種以上、混合されてもよい。p及びqは、分散安定性、現像性の点から、5〜60が好ましく、5〜40がより好ましく、5〜20が更に好ましい。   p and q each independently represent an integer of 1 to 100. Two or more different p and different q may be mixed. p and q are preferably 5 to 60, more preferably 5 to 40, and still more preferably 5 to 20 from the viewpoints of dispersion stability and developability.

本発明における特定樹脂としては、分散安定性の点から、前記一般式(B−4)で表される繰り返し単位を含むものが好ましい。   As specific resin in this invention, the thing containing the repeating unit represented by the said general formula (B-4) from the point of dispersion stability is preferable.

また、式(B−4)で表される繰り返し単位としては、下記式(B−6)で表される繰り返し単位であることがより好ましい。   The repeating unit represented by the formula (B-4) is more preferably a repeating unit represented by the following formula (B-6).

上記式(B−6)中、R〜Rは、各々独立に、水素原子、又は1価の有機基を表し、Laは、炭素数2〜10のアルキレン基を表し、Lbは、−C(=O)−、又は−NHC(=O)−を表し、Aは、1価の有機基を表し、mは、2〜8の整数を表し、pは、1〜100の整数を表す。 In the above formula (B-6), R 1 to R 3 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, La represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and Lb represents — C (═O) — or —NHC (═O) —, A 1 represents a monovalent organic group, m represents an integer of 2 to 8, and p represents an integer of 1 to 100. Represent.

式(B−1)、(B−2)、又は、(B−6)で表される繰り返し単位は、それぞれ、下記式(B−7)、(B−8)、又は、(B−9)で表される単量体を、重合或いは共重合することにより、特定樹脂の繰り返し単位として導入される。   The repeating units represented by formula (B-1), (B-2), or (B-6) are represented by the following formulas (B-7), (B-8), or (B-9), respectively. ) Is introduced as a repeating unit of the specific resin by polymerization or copolymerization.

上記式(B−7)〜(B−9)中、R〜Rは、各々独立に、水素原子、又は1価の有機基を表し、X及びXは、各々独立に、−CO−、−C(=O)O−、−CONH−、−OC(=O)−、又はフェニレン基を表し、L及びLは、各々独立に、単結合、又は2価の有機連結基を表し、Laは、炭素数2〜10のアルキレン基を表し、Lbは、−C(=O)−、又は−NHC(=O)−を表し、A及びAは、各々独立に、1価の有機基を表し、m及びnは、各々独立に、2〜8の整数を表し、p及びqは、各々独立に、1〜100の整数を表す。 In the above formulas (B-7) to (B-9), R 1 to R 6 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and X 1 and X 2 are each independently- CO-, -C (= O) O-, -CONH-, -OC (= O)-, or a phenylene group, L 1 and L 2 are each independently a single bond or a divalent organic linkage. Represents a group, La represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, Lb represents -C (= O)-, or -NHC (= O)-, and A 1 and A 2 are each independently Represents a monovalent organic group, m and n each independently represents an integer of 2 to 8, and p and q each independently represents an integer of 1 to 100.

以下に、式(B−7)〜(B−9)で表される単量体の好ましい具体例〔単量体(A−1)〜(A−23)〕を以下に挙げるが、本発明はこれらに制限されるものではない。   Specific preferred examples of the monomers represented by formulas (B-7) to (B-9) [Monomers (A-1) to (A-23)] are listed below, but the present invention is as follows. Is not limited to these.

式(B−4)及び(B−5)のいずれかで表される繰り返し単位の含有量は、特に制限はないが、本発明の特定樹脂に含有される全繰り返し単位を100モル%とした場合に、式(B−4)及び(B−5)のいずれかで表される繰り返し単位を30モル%以上含有することが好ましく、40モル%含有することがより好ましく、50モル%〜70モル%含有することが更に好ましい。   The content of the repeating unit represented by any one of the formulas (B-4) and (B-5) is not particularly limited, but the total repeating unit contained in the specific resin of the present invention is 100 mol%. In this case, the repeating unit represented by any one of the formulas (B-4) and (B-5) is preferably contained in an amount of 30 mol% or more, more preferably 40 mol%, more preferably 50 mol% to 70. More preferably, it is contained in mol%.

また、アルカリ現像性の観点から、酸性基、特に(メタ)アクリル酸やイタコン酸等のカルボキシル基を有するモノマー、N−ヒドロキシフェニルマレイミド等のフェノール性水酸基を有するモノマー、無水マレイン酸や無水イタコン酸等のカルボン酸無水物基を有するモノマーを共重合成分として含むことが好ましい。
これらのうちでも、(メタ)アクリル酸を共重合成分としてとして含むことが好ましい。酸性基の含有量は、本発明の特定樹脂に含有される全繰り返し単位を100モル%とした場合に、5モル%以上含有することが好ましく、10モル%〜30モル%含有することが更に好ましい。
In addition, from the viewpoint of alkali developability, monomers having acidic groups, particularly carboxyl groups such as (meth) acrylic acid and itaconic acid, monomers having phenolic hydroxyl groups such as N-hydroxyphenylmaleimide, maleic anhydride and itaconic anhydride It is preferable to include a monomer having a carboxylic acid anhydride group such as a copolymerization component.
Among these, it is preferable to contain (meth) acrylic acid as a copolymerization component. The content of the acidic group is preferably 5 mol% or more, preferably 10 mol% to 30 mol%, when the total repeating unit contained in the specific resin of the present invention is 100 mol%. preferable.

その他、有機溶媒への溶解性などの扱いやすさの観点から、油溶性を付与するアリール(メタ)アクリレート、アルキル(メタ)アクリレート、ポリエチレンオキシ(メタ)アクリレートを共重合成分として含むことが好ましい。
これらのうちでアリール(メタ)アクリレート、又はアルキル(メタ)アクリレートを共重合成分として含むことが好ましい。
In addition, from the viewpoint of ease of handling such as solubility in an organic solvent, it is preferable to include aryl (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylate, and polyethyleneoxy (meth) acrylate that impart oil solubility as a copolymerization component.
Of these, aryl (meth) acrylate or alkyl (meth) acrylate is preferably included as a copolymerization component.

アリール(メタ)アクリレートとしては、例えば、ベンジルメタクリレートが挙げられる。
アルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エステル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、ビニルアクリレート、2−フェニルビニルアクリレート、1−プロペニルアクリレート、アリルアクリレート、2−アリロキシエチルアクリレート、プロパルギルアクリレート等のアルキルアクリレート、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、ビニルメタクリレート、2−フェニルビニルメタクリレート、1−プロペニルメタクリレート、アリルメタクリレート、2−アリロキシエチルメタクリレート、プロパルギルメタクリレート等が挙げられる。
Examples of the aryl (meth) acrylate include benzyl methacrylate.
Examples of the alkyl (meth) acrylate include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, and 3-hydroxypropyl. Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, isobutyl acrylate, amyl acrylate, acrylic acid Hexyl, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate, 3, -Alkyl acrylates such as epoxy cyclohexyl methyl acrylate, vinyl acrylate, 2-phenyl vinyl acrylate, 1-propenyl acrylate, allyl acrylate, 2-allyloxyethyl acrylate, propargyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, methacryl Acid butyl, isobutyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, vinyl methacrylate , 2-phenyl vinyl methacrylate, 1-propenyl methacrylate, allyl meta Relate, 2-allyloxyethyl methacrylate, propargyl methacrylate, and the like.

また、前記式(I)で表される部分構造を有する不飽和化合物及び該化合物以外の共重合成分を含む樹脂に対して、更にラジカル重合性二重結合を有する化合物を付加させることは、特定樹脂に感放射線性基を持たせることができるので、さらに好ましい態様である。
ラジカル重合性二重結合を有する化合物を付加させる処理の方法は、ラジカル重合性二重結合を有する化合物を付加しうるモノマーの種類によって異なるが、例えば、(メタ)アクリル酸やイタコン酸等のカルボキシル基を有するモノマーを用いた場合には、グリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、o−(またはm−、またはp−)ビニルベンジルグリシジルエーテル等のエポキシ基とラジカル重合性二重結合とを有する化合物を付加させるようにすればよく、無水マレイン酸や無水イタコン酸等のカルボン酸無水物基を有するモノマーを用いた場合には、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等の水酸基とラジカル重合性二重結合とを有する化合物を付加させるようにすればよく、グリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、o−(またはm−、またはp−)ビニルベンジルグリシジルエーテル等のエポキシ基を有するモノマーを用いた場合には、(メタ)アクリル酸等の酸基とラジカル重合性二重結合とを有する化合物を付加させるようにすればよい。
Further, it is specified that a compound having a radical polymerizable double bond is further added to an unsaturated compound having a partial structure represented by the formula (I) and a resin containing a copolymerization component other than the compound. Since the resin can have a radiation-sensitive group, this is a more preferable embodiment.
The treatment method for adding a compound having a radical polymerizable double bond differs depending on the type of monomer to which the compound having a radical polymerizable double bond can be added. For example, carboxyl such as (meth) acrylic acid or itaconic acid When a monomer having a group is used, an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, o- (or m-, or p-) vinylbenzyl glycidyl ether and a radical A compound having a polymerizable double bond may be added. When a monomer having a carboxylic acid anhydride group such as maleic anhydride or itaconic anhydride is used, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate is used. Add compounds with hydroxyl groups and radical polymerizable double bonds such as Well, when a monomer having an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, o- (or m-, or p-) vinylbenzylglycidyl ether is used, A compound having an acid group such as (meth) acrylic acid and a radical polymerizable double bond may be added.

また、特定樹脂に感放射線性基を含有させる場合には、感放射線性基を有する共重合成分の含有量は、特定樹脂中の組成比で20〜40mol%が好ましい。この範囲とすることによって、感放射線性組成物の硬化性が高くなるので、さらに直線性の向上と残渣の低減を図ることができる。   Moreover, when making a specific resin contain a radiation sensitive group, as for content of the copolymerization component which has a radiation sensitive group, 20-40 mol% is preferable by the composition ratio in specific resin. By setting it within this range, the curability of the radiation-sensitive composition is increased, so that the linearity can be further improved and the residue can be reduced.

特定樹脂における共重合成分として最も好ましい組み合わせは、式(I)で表される部分構造を有する不飽和化合物、メタクリル酸、アセトアセトキシエチル(メタ)アクリレート、式(I)で表される部分構造を有する不飽和化合物、メタクリル酸の共重合体である。   The most preferable combination as a copolymerization component in the specific resin includes an unsaturated compound having a partial structure represented by the formula (I), methacrylic acid, acetoacetoxyethyl (meth) acrylate, and a partial structure represented by the formula (I). It is a copolymer of an unsaturated compound having methacrylic acid.

特定樹脂における式(I)で表される部分構造の含有量は、1〜20mol%であり、3〜15mol%が好ましく、より好ましくは7〜12mol%である。この範囲とすることによって、直線性の向上と残渣の低減効果を高めることができる。   Content of the partial structure represented by Formula (I) in specific resin is 1-20 mol%, 3-15 mol% is preferable, More preferably, it is 7-12 mol%. By setting it as this range, the improvement of linearity and the reduction effect of a residue can be heightened.

特定樹脂における酸性基を含有する共重合成分の含有量としては、特定樹脂の酸価が50mgKOH/g〜200mgKOH/gであることが好ましい。この範囲とすることで着色感放射線性組成物のアルカリ現像性が向上し、パターン形成性が特に良好となる。   As content of the copolymerization component containing the acidic group in specific resin, it is preferable that the acid value of specific resin is 50 mgKOH / g-200 mgKOH / g. By setting it as this range, the alkali developability of the colored radiation-sensitive composition is improved, and the pattern formability is particularly good.

また、特定樹脂は、式(I)で表される部分構造を有する反応性化合物をアクリル樹脂と反応させることによって、アクリル樹脂の側鎖に式(I)で表される部分構造を付与させたアクリル樹脂であってもよい。   Moreover, specific resin made the partial structure represented by Formula (I) to the side chain of an acrylic resin by making the reactive compound which has the partial structure represented by Formula (I) react with an acrylic resin. Acrylic resin may be used.

特定樹脂の分子量は、重量平均分子量で5000〜30000が好ましく、8000〜25000がさらに好ましく、9000〜20000が最も好ましい。この範囲とすることで、溶媒への溶解性及び現像性が良好となる。
ここで重量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフ(GPC)により測定し、ポリスチレン換算で算出した値である。GPCは、HLC−8020GPC(東ソー(株)製)を用い、カラムをTSKgel SuperHZM−H、TSKgel SuperHZ4000、TSKgel SuperHZ200(東ソー社製)として測定した。
The molecular weight of the specific resin is preferably 5000 to 30000 in terms of weight average molecular weight, more preferably 8000 to 25000, and most preferably 9000 to 20000. By setting it as this range, the solubility to a solvent and developability become favorable.
Here, the weight average molecular weight is a value measured by gel permeation chromatography (GPC) and calculated in terms of polystyrene. GPC was measured using HLC-8020GPC (manufactured by Tosoh Corporation), and the columns were measured as TSKgel SuperHZM-H, TSKgel SuperHZ4000, and TSKgel SuperHZ200 (manufactured by Tosoh Corporation).

特定樹脂は、特開2010−053307号公報に記載の方法に準じて、合成することができる。   The specific resin can be synthesized according to the method described in JP 2010-053307 A.

本発明の着色感放射線性組成物に、特定樹脂は1種含めばよいが、2種以上を含んでもよい。
また、特定樹脂は着色感放射線性組成物に含めばよく、着色感放射線性組成物の調製のどの工程で添加してもよいが、着色感放射線性組成物の調製において添加することが好ましい。
本発明の着色感放射線性組成物における特定樹脂の含有量は、着色感放射線性組成物の全固形分に対して、1〜10質量%が好ましく、2〜8質量%がより好ましく、2〜6質量%が特に好ましい。この範囲内とすることで本発明の効果が十分に発揮される。
The colored radiation-sensitive composition of the present invention may contain one kind of specific resin, but may contain two or more kinds.
Further, the specific resin may be included in the colored radiation-sensitive composition and may be added in any step of the preparation of the colored radiation-sensitive composition, but is preferably added in the preparation of the colored radiation-sensitive composition.
The content of the specific resin in the colored radiation-sensitive composition of the present invention is preferably 1 to 10% by mass, more preferably 2 to 8% by mass, based on the total solid content of the colored radiation-sensitive composition. 6% by mass is particularly preferred. By making it within this range, the effect of the present invention is sufficiently exhibited.

固体撮像素子のS/N比改善のために、着色パターンを薄層にするが、薄層を実現するために着色感放射線性組成物の固形分中の着色剤の含有量を増加させた場合に、固形分中の着色剤以外の成分である樹脂や重合性化合物等の成分比率が低下する。しかし(B)特定樹脂を使用することによって、従来よりも露光・未露光部でのアルカリ溶解速度差(ディスクリミネーション)が大きくなり、未露光部は高い現像性を示し、パターンの直線性が改良され、残渣の低減ができる。従って、着色剤の含有量が多い場合でも、露光部の着色パターンは矩形となり、画素周辺の残渣の低減ができ、着色パターンの表面荒れ抑制と露光量依存性(線幅太り)の抑制も可能となる。これによって着色パターンの微細化が可能となる。   In order to improve the S / N ratio of the solid-state imaging device, the coloring pattern is made thin, but the content of the colorant in the solid content of the colored radiation-sensitive composition is increased to realize the thin layer. In addition, the ratio of components such as resins and polymerizable compounds other than the colorant in the solid content decreases. However, by using (B) a specific resin, the difference in alkali dissolution rate (discrimination) between the exposed and unexposed areas becomes larger than before, the unexposed areas exhibit high developability, and the linearity of the pattern Improved and reduced residue. Therefore, even when the colorant content is high, the colored pattern in the exposed area is rectangular, reducing the residue around the pixel, and suppressing the surface roughness of the colored pattern and the exposure dose dependency (thickening of the line width). It becomes. This makes it possible to reduce the color pattern.

<(C)重合性化合物>
本発明の感放射線性組成物は、(C)重合性化合物を含有する。
(C)重合性化合物としては、具体的には、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。中でも、4官能以上の多官能重合性化合物が好ましく、5官能以上がさらに好ましい。
このような化合物群は当該産業分野において広く知られているものであり、本発明においてはこれらを特に限定なく用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの多量体などの化学的形態のいずれであってもよい。本発明における重合性化合物は一種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
<(C) Polymerizable compound>
The radiation sensitive composition of the present invention contains (C) a polymerizable compound.
(C) Specifically, the polymerizable compound is selected from compounds having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two or more. Among them, a polyfunctional polymerizable compound having 4 or more functional groups is preferable and 5 or more functional groups are more preferable.
Such a compound group is widely known in the industrial field, and these can be used without particular limitation in the present invention. These may be in any chemical form such as, for example, monomers, prepolymers, ie dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and multimers thereof. The polymeric compound in this invention may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

より具体的には、モノマー及びそのプレポリマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)やそのエステル類、アミド類、並びにこれらの多量体が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、及び不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類、並びにこれらの多量体である。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と、単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物や、単官能若しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と、単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更に、ハロゲン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と、単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等のビニルベンゼン誘導体、ビニルエーテル、アリルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
これらの具体的な化合物としては、特開2009−288705号公報の段落番号〔0095〕〜〔0108〕に記載されている化合物を本発明においても好適に用いることができる。
More specifically, examples of monomers and prepolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters thereof, amides, And multimers thereof, preferably esters of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydric alcohol compounds, amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydric amine compounds, and multimers thereof. is there. Also, addition reaction products of monofunctional or polyfunctional isocyanates or epoxies with unsaturated carboxylic acid esters or amides having a nucleophilic substituent such as hydroxyl group, amino group, mercapto group, monofunctional or polyfunctional. A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, and further a halogen group A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a detachable substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a compound group in which an unsaturated phosphonic acid, a vinylbenzene derivative such as styrene, vinyl ether, allyl ether or the like is used instead of the unsaturated carboxylic acid.
As these specific compounds, the compounds described in paragraphs [0095] to [0108] of JP-A-2009-288705 can also be suitably used in the present invention.

また、前記重合性化合物としては、少なくとも1個の付加重合可能なエチレン基を有する、常圧下で100℃以上の沸点を持つエチレン性不飽和基を持つ化合物も好ましい。その例としては、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、等の単官能のアクリレートやメタアクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(アクリロイロキシエチル)イソシアヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メタ)アクリレート化したもの、特公昭48−41708号、特公昭50−6034号、特開昭51−37193号各公報に記載されているようなウレタン(メタ)アクリレート類、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号各公報に記載されているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタアクリレート及びこれらの混合物を挙げることができる。
多官能カルボン酸にグリシジル(メタ)アクリレート等の環状エーテル基とエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させ得られる多官能(メタ)アクリレートなども挙げることができる。
また、その他の好ましい重合性化合物として、特開2010-160418、特開2010-129825号各公報、特許4364216号明細書等に記載される、フルオレン環を有し、エチレン性不飽和基を2官能以上有する化合物、カルド樹脂も使用することが可能である。
The polymerizable compound is also preferably a compound having at least one addition-polymerizable ethylene group and having an ethylenically unsaturated group having a boiling point of 100 ° C. or higher under normal pressure. Examples include monofunctional acrylates and methacrylates such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, and phenoxyethyl (meth) acrylate; polyethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolethanetri (Meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, hexanediol (Meth) acrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, tri (acryloyloxyethyl) iso (Meth) acrylate obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide to polyfunctional alcohols such as anurate, glycerin and trimethylolethane, JP-B-48-41708, JP-B-50-6034, JP-A-51- Urethane (meth) acrylates as described in JP-B-37193, polyester acrylates described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates and the like, which are reaction products of epoxy resins and (meth) acrylic acid, and mixtures thereof.
A polyfunctional (meth) acrylate obtained by reacting a polyfunctional carboxylic acid with a compound having a cyclic ether group such as glycidyl (meth) acrylate and an ethylenically unsaturated group can also be used.
In addition, as other preferable polymerizable compounds, there are fluorene rings described in JP 2010-160418 A, JP 2010-129825 A, JP 4364216 A, etc., and an ethylenically unsaturated group is difunctional. The above-mentioned compounds and cardo resins can also be used.

また、常圧下で100℃以上の沸点を有し、少なくとも1個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を持つ化合物としては、特開2008−292970号公報の段落番号[0254]〜[0257]に記載の化合物も好適である。   Moreover, as a compound having a boiling point of 100 ° C. or higher under normal pressure and having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated group, paragraph numbers [0254] to [0257] of JP-A-2008-292970 are disclosed. Also suitable are the compounds described in.

上記の他に、下記一般式(MO−1)〜(MO−5)で表される、ラジカル重合性モノマーも好適に用いることができる。なお、式中、Tがオキシアルキレン基の場合には、炭素原子側の末端がRに結合する。   In addition to the above, radically polymerizable monomers represented by the following general formulas (MO-1) to (MO-5) can also be suitably used. In the formula, when T is an oxyalkylene group, the terminal on the carbon atom side is bonded to R.

前記一般式において、nは0〜14であり、mは1〜8である。一分子内に複数存在するR、T、は、各々同一であっても、異なっていてもよい。
前記一般式(MO−1)〜(MO−5)で表される重合性化合物の各々において、複数存在するRの少なくとも1つは、−OC(=O)CH=CH、又は、−OC(=O)C(CH)=CHで表される基を表す。
前記一般式(MO−1)〜(MO−5)で表される重合性化合物の具体例としては、特開2007−269779号公報の段落番号0248〜段落番号0251に記載されている化合物を本発明においても好適に用いることができる。
In the said general formula, n is 0-14 and m is 1-8. A plurality of R and T present in one molecule may be the same or different.
In each of the polymerizable compounds represented by the general formulas (MO-1) to (MO-5), at least one of a plurality of Rs is —OC (═O) CH═CH 2 or —OC. (= O) represents a group represented by C (CH 3 ) ═CH 2 .
Specific examples of the polymerizable compounds represented by the general formulas (MO-1) to (MO-5) include the compounds described in paragraphs 0248 to 0251 of JP-A-2007-26979. It can be suitably used in the invention.

また、特開平10−62986号公報において一般式(1)及び(2)としてその具体例と共に記載の前記多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後に(メタ)アクリレート化した化合物も、重合性化合物として用いることができる。   Moreover, the compound which (meth) acrylate-ized after adding ethylene oxide and propylene oxide to the said polyfunctional alcohol described with the specific example as general formula (1) and (2) in Unexamined-Japanese-Patent No. 10-62986 is also, It can be used as a polymerizable compound.

中でも、重合性化合物としては、ジペンタエリスリトールトリアクリレート(市販品としてはKAYARAD D-330;日本化薬株式会社製)、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート(市販品としてはKAYARAD D-320;日本化薬株式会社製)ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート(市販品としてはKAYARAD D-310;日本化薬株式会社製)、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート(市販品としてはKAYARAD DPHA;日本化薬株式会社製)、日本化薬(株)製A−DPH−12E、及びこれらの(メタ)アクリロイル基がエチレングリコール、プロピレングリコール残基を介している構造が好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。以下に好ましい重合性化合物の態様を示す。   Among these, as the polymerizable compound, dipentaerythritol triacrylate (KAYARAD D-330 as a commercial product; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol tetraacrylate (KAYARAD D-320 as a commercial product; Nippon Kayaku Co., Ltd.) Dipentaerythritol penta (meth) acrylate (commercially available product: KAYARAD D-310; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (commercially available product: KAYARAD DPHA; Nippon Kayaku Co., Ltd.) Manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., and A-DPH-12E manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., and a structure in which these (meth) acryloyl groups are mediated by ethylene glycol and propylene glycol residues. These oligomer types can also be used. Preferred embodiments of the polymerizable compound are shown below.

重合性化合物としては、多官能モノマーであって、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。エチレン性化合物が、上記のように混合物である場合のように未反応のカルボキシル基を有するものであれば、これをそのまま利用することができるが、必要において、上述のエチレン性化合物のヒドロキシル基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を導入してもよい。この場合、使用される非芳香族カルボン酸無水物の具体例としては、無水テトラヒドロフタル酸、アルキル化無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、アルキル化無水ヘキサヒドロフタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸が挙げられる。   As a polymeric compound, it is a polyfunctional monomer, Comprising: You may have acid groups, such as a carboxyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group. If the ethylenic compound has an unreacted carboxyl group as in the case of a mixture as described above, this can be used as it is. Non-aromatic carboxylic acid anhydrides may be reacted to introduce acid groups. In this case, specific examples of the non-aromatic carboxylic acid anhydride used include tetrahydrophthalic anhydride, alkylated tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, alkylated hexahydrophthalic anhydride, succinic anhydride, anhydrous Maleic acid is mentioned.

本発明において、酸基を有するモノマーとしては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルであり、脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシル基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた多官能モノマーが好ましく、 特に好ましくは、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトール及び/又はジペンタエリスリトールであるものである。市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、M−510、M−520などが挙げられる。   In the present invention, the monomer having an acid group is an ester of an aliphatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid, and a non-aromatic carboxylic acid anhydride is reacted with an unreacted hydroxyl group of the aliphatic polyhydroxy compound. A polyfunctional monomer having an acid group is preferred, and in this ester, the aliphatic polyhydroxy compound is pentaerythritol and / or dipentaerythritol. Examples of commercially available products include M-510 and M-520 as polybasic acid-modified acrylic oligomers manufactured by Toagosei Co., Ltd.

本発明の着色感放射線性組成物には、これらの重合性化合物は1種を単独で用いてもよいが、重合性化合物の製造上、単一の化合物を得ることは難しいことから、2種以上を混合して用いてもよい。
また、必要に応じて重合性化合物として酸基を有しない多官能モノマーと酸基を有する多官能モノマーを併用してもよい。
酸基を有する多官能モノマーの好ましい酸価としては、0.1〜40mg−KOH/gであり、特に好ましくは5〜30mg−KOH/gである。多官能モノマーの酸価が低すぎると現像溶解特性が落ち、高すぎると製造や取扱いが困難になり光重合性能が落ち、画素の表面平滑性等の硬化性が劣るものとなる。従って、異なる酸基の多官能モノマーを2種以上併用する場合、或いは酸基を有しない多官能モノマーを併用する場合、全体の多官能モノマーとしての酸基が上記範囲に入るように調整することが好ましい。
In the colored radiation-sensitive composition of the present invention, one of these polymerizable compounds may be used alone, but it is difficult to obtain a single compound for the production of the polymerizable compound. You may mix and use the above.
Moreover, you may use together the polyfunctional monomer which does not have an acid group, and the polyfunctional monomer which has an acid group as a polymeric compound as needed.
A preferable acid value of the polyfunctional monomer having an acid group is 0.1 to 40 mg-KOH / g, and particularly preferably 5 to 30 mg-KOH / g. If the acid value of the polyfunctional monomer is too low, the developing dissolution properties are lowered, and if it is too high, the production and handling are difficult, the photopolymerization performance is lowered, and the curability such as the surface smoothness of the pixel is deteriorated. Accordingly, when two or more polyfunctional monomers having different acid groups are used in combination, or when a polyfunctional monomer having no acid group is used in combination, the acid groups as the entire polyfunctional monomer should be adjusted so as to fall within the above range. Is preferred.

また、重合性化合物として、カプロラクトン構造を有する多官能性単量体を含有することも好ましい態様である。
カプロラクトン構造を有する重合性化合物としては、その分子内にカプロラクトン構造を有する限り特に限定されるものではないが、例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、トリメチロールメラミン等の多価アルコールと、(メタ)アクリル酸およびε−カプロラクトンをエステル化することにより得られる、ε−カプロラクトン変性多官能(メタ)アクリレートを挙げることができる。なかでも下記一般式(Z−1)で表されるカプロラクトン構造を有する多官能性単量体が好ましい。
Moreover, it is also a preferable aspect to contain the polyfunctional monomer which has a caprolactone structure as a polymeric compound.
The polymerizable compound having a caprolactone structure is not particularly limited as long as it has a caprolactone structure in the molecule, and examples thereof include trimethylolethane, ditrimethylolethane, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, pentaerythritol, diester. Ε-caprolactone modified polyfunctional (meth) acrylate obtained by esterifying polyhydric alcohol such as pentaerythritol, tripentaerythritol, glycerin, diglycerol, trimethylolmelamine, (meth) acrylic acid and ε-caprolactone Can be mentioned. Especially, the polyfunctional monomer which has a caprolactone structure represented with the following general formula (Z-1) is preferable.

一般式(Z−1)中、6個のRは全てが下記一般式(Z−2)で表される基であるか、または6個のRのうち1〜5個が下記一般式(Z−2)で表される基であり、残余が下記一般式(Z−3)で表される基である。   In the general formula (Z-1), all six Rs are groups represented by the following general formula (Z-2), or 1 to 5 of the six Rs are represented by the following general formula (Z -2), and the remainder is a group represented by the following general formula (Z-3).

一般式(Z−2)中、R1は水素原子またはメチル基を示し、mは1または2の数を示し、「*」は結合手であることを示す。 In General Formula (Z-2), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, m represents a number of 1 or 2, and “*” represents a bond.

一般式(Z−3)中、R1は水素原子またはメチル基を示し、「*」は結合手であることを示す。) In General Formula (Z-3), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and “*” represents a bond. )

このようなカプロラクトン構造を有する多官能性単量体は、例えば、日本化薬(株)からKAYARAD DPCAシリーズとして市販されており、DPCA−20(上記式(1)〜(3)においてm=1、式(2)で表される基の数=2、R1が全て水素原子である化合物)、DPCA−30(同式、m=1、式(2)で表される基の数=3、R1が全て水素原子である化合物)、DPCA−60(同式、m=1、式(2)で表される基の数=6、R1が全て水素原子である化合物)、DPCA−120(同式においてm=2、式(2)で表される基の数=6、R1が全て水素原子である化合物)等を挙げることができる。
本発明において、カプロラクトン構造を有する多官能性単量体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
Such a polyfunctional monomer having a caprolactone structure is commercially available from Nippon Kayaku Co., Ltd. as KAYARAD DPCA series, and DPCA-20 (m = 1 in the above formulas (1) to (3)). , Number of groups represented by formula (2) = 2, compound in which R 1 is all hydrogen atoms, DPCA-30 (same formula, m = 1, number of groups represented by formula (2) = 3 , Compounds in which R 1 is all hydrogen atoms), DPCA-60 (same formula, m = 1, number of groups represented by formula (2) = 6, compounds in which R 1 are all hydrogen atoms), DPCA- 120 (a compound in which m = 2 in the same formula, the number of groups represented by formula (2) = 6, and all R 1 are hydrogen atoms).
In this invention, the polyfunctional monomer which has a caprolactone structure can be used individually or in mixture of 2 or more types.

本発明における重合性化合物としては、炭素数が2以上のアルキレンオキシ基(エチレンオキシ基、プロピレンオキシ基、ブチレンオキシ基等)を含有する重合性化合物が好ましい。
炭素数が2以上のアルキレンオキシ基を含有する重合性化合物の中でも、下記一般式(i)又は(ii)で表される化合物の群から選択される少なくとも1種であることが特に好ましい。
The polymerizable compound in the present invention is preferably a polymerizable compound containing an alkyleneoxy group having 2 or more carbon atoms (such as an ethyleneoxy group, a propyleneoxy group, or a butyleneoxy group).
Among the polymerizable compounds containing an alkyleneoxy group having 2 or more carbon atoms, at least one selected from the group of compounds represented by the following general formula (i) or (ii) is particularly preferable.

一般式(i)及び(ii)中、Eは、各々独立に、−((CHCHO)−、又は−((CHCH(CH)O)−を表し、yは、各々独立に0〜10の整数を表し、Xは、各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、水素原子、又はカルボキシル基を表す。
一般式(i)中、Xで表されるアクリロイル基及びメタクリロイル基の合計は3個又は4個であり、mは各々独立に0〜10の整数を表し、各mの合計は0〜40の整数である。但し、各mの合計が0の場合、Xのうちいずれか1つはカルボキシル基である。
一般式(ii)中、Xで表されるアクリロイル基及びメタクリロイル基の合計は5個又は6個であり、nは各々独立に0〜10の整数を表し、各nの合計は0〜60の整数である。但し、各nの合計が0の場合、Xのうちいずれか1つはカルボキシル基である。
In the general formula (i) and (ii), E are each independently, - ((CH 2) y CH 2 O) -, or - ((CH 2) y CH (CH 3) O) - represents, Each y independently represents an integer of 0 to 10, and each X independently represents an acryloyl group, a methacryloyl group, a hydrogen atom, or a carboxyl group.
In general formula (i), the sum total of the acryloyl group and methacryloyl group represented by X is 3 or 4, m represents the integer of 0-10 each independently, and the sum of each m is 0-40. It is an integer. However, when the total of each m is 0, any one of X is a carboxyl group.
In general formula (ii), the sum total of the acryloyl group and methacryloyl group represented by X is 5 or 6, each n independently represents an integer of 0 to 10, and the sum of each n is 0 to 60. It is an integer. However, when the total of each n is 0, any one of X is a carboxyl group.

一般式(i)中、mは、0〜6の整数が好ましく、0〜4の整数がより好ましい。また、各mの合計は、2〜40の整数が好ましく、2〜16の整数がより好ましく、4〜8の整数が特に好ましい。
一般式(ii)中、nは、0〜6の整数が好ましく、0〜4の整数がより好ましい。また、各nの合計は、3〜60の整数が好ましく、3〜24の整数がより好ましく、6〜12の整数が特に好ましい。
また、一般式(i)又は一般式(ii)中の−((CHCHO)−又は−((CHCH(CH)O)−は、酸素原子側の末端がXに結合する形態が好ましい。
In general formula (i), m is preferably an integer of 0 to 6, and more preferably an integer of 0 to 4. Moreover, the integer of 2-40 is preferable, the integer of 2-16 is more preferable, and the integer of 4-8 is especially preferable as the sum total of each m.
In general formula (ii), n is preferably an integer of 0 to 6, and more preferably an integer of 0 to 4. Further, the total of each n is preferably an integer of 3 to 60, more preferably an integer of 3 to 24, and particularly preferably an integer of 6 to 12.
In general formula (i) or formula (ii) in the - ((CH 2) y CH 2 O) - or - ((CH 2) y CH (CH 3) O) - , the oxygen atom side ends Is preferred in which X is bonded to X.

一般式(i)又は(ii)で表される化合物は1種単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。特に、一般式(ii)において、6個のX全てがアクリロイル基である形態が好ましい。   The compound represented by general formula (i) or (ii) may be used individually by 1 type, and may be used together 2 or more types. In particular, in the general formula (ii), a form in which all six Xs are acryloyl groups is preferable.

一般式(i)又は(ii)で表される化合物は、従来公知の工程である、ペンタエリスリト−ル又はジペンタエリスリト−ルにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを開環付加反応により開環骨格を結合する工程と、開環骨格の末端水酸基に、例えば(メタ)アクリロイルクロライドを反応させて(メタ)アクリロイル基を導入する工程と、から合成することができる。各工程はよく知られた工程であり、当業者は容易に一般式(i)又は(ii)で表される化合物を合成することができる。   The compound represented by the general formula (i) or (ii) has a ring-opening skeleton by a ring-opening addition reaction of pentaerythritol or dipentaerythritol with ethylene oxide or propylene oxide, which is a conventionally known process. It can be synthesized from the step of bonding and the step of introducing a (meth) acryloyl group by reacting, for example, (meth) acryloyl chloride with the terminal hydroxyl group of the ring-opening skeleton. Each step is a well-known step, and a person skilled in the art can easily synthesize a compound represented by the general formula (i) or (ii).

一般式(i)、(ii)で表される化合物の中でも、ペンタエリスリトール誘導体及び/又はジペンタエリスリトール誘導体がより好ましい。
特に、分子中にエチレンオキシ基と5個以上の(メタ)アクリロイル基とを有する重合性化合物が好ましい。分子中に含まれるエチレンオキシ基の総数としては2個〜10個が好ましく、4個〜8個がより好ましい。
分子中にエチレンオキシ基と5個以上の(メタ)アクリロイル基とを有する重合性化合物を着色感放射線性組成物に含有させることによって、非露光部のアルカリ現像液に対する溶解性が向上し、露光部と非露光部とのディスクリミネーションがつきやすくなるので、着色パターンの直線性が向上し、且つ、基板上および他色の着色パターン上の残渣の低減を図ることができる。
具体的には、下記式(a)〜(f)で表される化合物(以下、「例示化合物(a)〜(f)」ともいう。)が挙げられ、中でも、例示化合物(a)〜(d)が好ましく、本発明の効果を格段に向上させることができる。
Among the compounds represented by the general formulas (i) and (ii), pentaerythritol derivatives and / or dipentaerythritol derivatives are more preferable.
In particular, a polymerizable compound having an ethyleneoxy group and 5 or more (meth) acryloyl groups in the molecule is preferable. The total number of ethyleneoxy groups contained in the molecule is preferably 2 to 10, more preferably 4 to 8.
By incorporating a polymerizable compound having an ethyleneoxy group and five or more (meth) acryloyl groups in the molecule into the colored radiation-sensitive composition, the solubility of the unexposed area in an alkaline developer is improved, and exposure is performed. Since the discrimination between the portion and the non-exposed portion is facilitated, the linearity of the colored pattern is improved, and the residue on the colored pattern of the substrate and other colors can be reduced.
Specific examples include compounds represented by the following formulas (a) to (f) (hereinafter also referred to as “exemplary compounds (a) to (f)”), among which exemplary compounds (a) to ( d) is preferable, and the effect of the present invention can be remarkably improved.

一般式(i)、(ii)で表される重合性化合物の市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ鎖を4個有する4官能アクリレートであるSR−494、日本化薬株式会社製のペンチレンオキシ鎖を6個有する6官能アクリレートであるDPCA−60、イソブチレンオキシ鎖を3個有する3官能アクリレートであるTPA−330などが挙げられる。   Examples of commercially available polymerizable compounds represented by general formulas (i) and (ii) include SR-494, a tetrafunctional acrylate having four ethyleneoxy chains manufactured by Sartomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. DPCA-60, which is a hexafunctional acrylate having six pentyleneoxy chains, and TPA-330, which is a trifunctional acrylate having three isobutyleneoxy chains.

また、本発明の着色感放射線性組成物には、重合性化合物と共に、2つ以上の重合性基を有する他の構造の重合性化合物を更に配合してもよい。
前記「2つ以上の重合性官能基を有する他の構造の重合性化合物」としては、例えば、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(アクリロイロキシエチル)イソシアヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メタ)アクリレート化したもの、特公昭48−41708号、特公昭50−6034号、特開昭51−37193号等の各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号等の各公報に記載されているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタアクリレートを挙げることができる。
更に、日本接着協会誌Vol.20、No.7(300〜308頁)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用できる。
Moreover, you may further mix | blend the polymeric compound of the other structure which has 2 or more polymeric groups with the colored radiation sensitive composition of this invention with a polymeric compound.
Examples of the “polymerizable compound having another structure having two or more polymerizable functional groups” include, for example, polyethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, and neopentyl glycol di (meth) acrylate. , Pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, tri (acryloyloxyethyl) ) A polyfunctional alcohol such as isocyanurate, glycerin or trimethylol ethane, which is added with ethylene oxide or propylene oxide and then (meth) acrylated. No. 708, JP-B-50-6034, JP-A-51-37193, etc., urethane acrylates, JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52 Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates which are reaction products of epoxy resin and (meth) acrylic acid described in each publication such as -30490 can be mentioned.
Furthermore, Japan Adhesion Association Vol. 20, No. 7 (pages 300 to 308), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

本発明の着色感放射線性組成物中における重合性化合物の含有量としては、該組成物の全固形分に対して、2〜50質量%が好ましく、2〜30質量%がより好ましく、更には2〜25質量%がより好ましい。   As content of the polymeric compound in the coloring radiation sensitive composition of this invention, 2-50 mass% is preferable with respect to the total solid of this composition, 2-30 mass% is more preferable, Furthermore, 2-25 mass% is more preferable.

<(D)紫外線吸収剤>
本発明の着色感放射線性組成物は、紫外線吸収剤を含有する。
[紫外線吸収剤]
本発明の硬化性組成物は、紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤としては、共役ジエン系化合物である下記一般式(II)で表される化合物が特に好ましい。
<(D) UV absorber>
The colored radiation-sensitive composition of the present invention contains an ultraviolet absorber.
[Ultraviolet absorber]
The curable composition of the present invention may contain an ultraviolet absorber. As the ultraviolet absorber, a compound represented by the following general formula (II) which is a conjugated diene compound is particularly preferable.

前記一般式(II)中、R及びRは、各々独立に、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、又は炭素原子数6〜20のアリール基を表し、RとRとが、同時に水素原子を表すことはない。R及びRは、各々独立に、1価の基を表す。 In the general formula (II), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and R 1 and R 2 And do not represent hydrogen atoms at the same time. R 3 and R 4 each independently represents a monovalent group.

及びRで表される炭素原子数1〜20のアルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、n−へキシル基、シクロへキシル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−オクタデシル基、エイコシル基、メトキシエチル基、エトキシプロピル基、2−エチルへキシル基、ヒドロキシエチル基、クロロプロピル基、N,N−ジエチルアミノプロピル基、シアノエチル基、フェネチル基、ベンジル基、p−t−ブチルフェネチル基、p−t−オクチルフェノキシエチル基、3−(2,4−ジーt−アミルフェノキシ)プロピル基、エトキシカルボニルメチル基、2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル基、2−フリルエチル基などが挙げられ、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、n−へキシル基が好ましい。
及びRで表されるアルキル基は置換基を有していてもよく、置換基を有するアルキル基の置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、アシルアミノ基、アシル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換カルバモイル基、置換スルファモイル基、ニトロ基、置換アミノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等が挙げられる。
Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 1 and R 2 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, an n-hexyl group, a cyclohexyl group, and n-decyl. Group, n-dodecyl group, n-octadecyl group, eicosyl group, methoxyethyl group, ethoxypropyl group, 2-ethylhexyl group, hydroxyethyl group, chloropropyl group, N, N-diethylaminopropyl group, cyanoethyl group, phenethyl group Group, benzyl group, pt-butylphenethyl group, pt-octylphenoxyethyl group, 3- (2,4-di-t-amylphenoxy) propyl group, ethoxycarbonylmethyl group, 2- (2-hydroxyethoxy) ) Ethyl group, 2-furylethyl group and the like, and methyl group, ethyl group, propyl group, n-butyl group and n-hexyl group are preferred. Arbitrariness.
The alkyl group represented by R 1 and R 2 may have a substituent, and examples of the substituent of the alkyl group having a substituent include an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, Halogen atom, acylamino group, acyl group, alkylthio group, arylthio group, hydroxy group, cyano group, alkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, substituted carbamoyl group, substituted sulfamoyl group, nitro group, substituted amino group, alkylsulfonyl group, An arylsulfonyl group etc. are mentioned.

及びRで表される炭素原子数6〜20のアリール基は、単環であっても縮合環であってもよく、置換基を有する置換アリール基、無置換のアリール基のいずれであってもよい。例えば、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基等を挙げることができる。置換基を有する置換アリール基の置換基としては、例えば、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、アシルアミノ基、アシル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換カルバモイル基、置換スルファモイル基、ニトロ基、置換アミノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等が挙げられる。中でも、置換又は無置換のフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基が好ましい。 The aryl group having 6 to 20 carbon atoms represented by R 1 and R 2 may be a single ring or a condensed ring, and is any of a substituted aryl group having a substituent or an unsubstituted aryl group. There may be. For example, a phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group, indenyl group, acenabutenyl group, fluorenyl group, etc. can be mentioned. Examples of the substituent of the substituted aryl group having a substituent include an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, a halogen atom, an acylamino group, an acyl group, an alkylthio group, an arylthio group, a hydroxy group, and a cyano group. Group, alkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, substituted carbamoyl group, substituted sulfamoyl group, nitro group, substituted amino group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group and the like. Of these, a substituted or unsubstituted phenyl group, 1-naphthyl group, and 2-naphthyl group are preferable.

また、R及びRは、R及びRが結合する窒素原子と共に、環状アミノ基を形成してもよい。環状アミノ基としては、例えば、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基、ヘキサヒドロアゼピノ基、ピペラジノ基等が挙げられる。 R 1 and R 2 may form a cyclic amino group together with the nitrogen atom to which R 1 and R 2 are bonded. Examples of the cyclic amino group include piperidino group, morpholino group, pyrrolidino group, hexahydroazepino group, piperazino group and the like.

上記のうち、R及びRとしては、炭素数1〜8の低級のアルキル基(例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、tert−ペンチル、ヘキシル、オクチル、2−エチルヘキシル、tert−オクチルなど)、又は置換もしくは無置換のフェニル基(例えば、トリル基、フェニル基、アニシル基、メシチル基、クロロフェニル基、2,4−ジ−tert−アミルフェニル基など)が好ましい。また、RとRとが結合して、式中のNで表される窒素原子を含んで環(例えば、ピペリジン環、ピロリジン環、モルホリン環など)を形成していることも好ましい。 Among the above, R 1 and R 2 are each a lower alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (for example, methyl, ethyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, tert-pentyl, hexyl, octyl). , 2-ethylhexyl, tert-octyl, etc.) or a substituted or unsubstituted phenyl group (eg, tolyl group, phenyl group, anisyl group, mesityl group, chlorophenyl group, 2,4-di-tert-amylphenyl group, etc.) Is preferred. It is also preferred that R 1 and R 2 are combined to form a ring (for example, a piperidine ring, a pyrrolidine ring, a morpholine ring) containing the nitrogen atom represented by N in the formula.

前記一般式(II)において、R及びRが表す1価の基は、電子求引基を表す。ここで電子求引基は、ハメットの置換基定数σ値(以下、単に「σ値」という。)が、0.20以上1.0以下の電子求引性基である。好ましくは、σ値が0.30以上0.8以下の電子求引性基である。
ハメット則は、ベンゼン誘導体の反応又は平衡に及ぼす置換基の影響を定量的に論ずるために、1935年にL.P.Hammettにより提唱された経験則であるが、これは今日広く妥当性が認められている。ハメット則により求められた置換基定数には、σ値とσ値とがあり、これらの値は多くの一般的な成書に記載があるが、例えば、J.A. Dean編「Lange’s Handbook of Chemistry」第12版、1979年(Mc Graw−Hill)や「化学の領域増刊」、122号、96〜103頁、1979年(南江堂)、Chemical Reviews, 91巻、165頁〜195頁、1991年に詳しい。本発明では、これらの成書に記載の文献既知の値がある置換基にのみ限定されるという意味ではなく、その値が文献未知であってもハメット則に基づいて測定した場合にその範囲内に含まれる限り包含されることは勿論である。
In the general formula (II), the monovalent group represented by R 3 and R 4 represents an electron withdrawing group. Here, the electron withdrawing group is an electron withdrawing group having a Hammett's substituent constant σ p value (hereinafter simply referred to as “σ p value”) of 0.20 or more and 1.0 or less. Preferably, it is an electron withdrawing group having a σ p value of 0.30 or more and 0.8 or less.
Hammett's rule was found in 1935 by L. L. in order to quantitatively discuss the effect of substituents on the reaction or equilibrium of benzene derivatives. P. A rule of thumb proposed by Hammett, which is widely accepted today. Substituent constants determined by Hammett's rule include σ p value and σ m value, and these values are described in many general books. A. Dean ed. “Lange's Handbook of Chemistry”, 12th edition, 1979 (Mc Graw-Hill) and “Chemical Domains Extra”, 122, 96-103, 1979 (Nan-Edo), Chemical Reviews, 91, 165-195, detailed in 1991. In the present invention, it does not mean that the values known in the literature described in these documents are limited to only certain substituents, but within the range when measured based on Hammett's law even if the value is unknown. Of course, it is included as long as it is included.

前記σ値が、0.20以上1.0以下の電子求引性基の具体例としては、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、ジアリールホスフィニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、アシルチオ基、スルファモイル基、チオシアネート基、チオカルボニル基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキル基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアルコキシ基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアリールオキシ基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキルアミノ基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキルチオ基、σ値0.20以上の他の電子求引性基で置換されたアリール基、複素環基、塩素原子、臭素原子、アゾ基、又はセレノシアネート基が挙げられる。これらの置換基のうち、更に置換基を有することが可能な基は、先に挙げたような置換基を更に有してもよい。 Specific examples of the electron withdrawing group having a σ p value of 0.20 or more and 1.0 or less include an acyl group, an acyloxy group, a carbamoyl group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a cyano group, and a nitro group. Dialkylphosphono group, diarylphosphono group, diarylphosphinyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfonyloxy group, acylthio group, sulfamoyl group, thiocyanate group, thiocarbonyl group, An alkyl group substituted with at least two or more halogen atoms, an alkoxy group substituted with at least two or more halogen atoms, an aryloxy group substituted with at least two or more halogen atoms, or at least two or more halogen atoms Alkyl substituted with Amino group, at least two an alkylthio group substituted with a halogen atom, sigma p value of 0.20 or more other electron-withdrawing aryl group substituted by group, a heterocyclic group, a chlorine atom, a bromine atom, an azo Group, or selenocyanate group. Of these substituents, the group that can further have a substituent may further have a substituent as described above.

これらのうち、R及びRとしては、アシル基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、スルファモイル基が好ましく、特にアシル基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、スルファモイル基が好ましい。
上記のうち、本発明においては、Rとしては、シアノ基、−COOR、−CONHR、−COR、−SOより選択される基が好ましく、また、Rとしては、シアノ基、−COOR、−CONHR、−COR、−SOより選択される基が好ましい。R及びRは、各々独立に、炭素原子数1〜20のアルキル基、又は炭素原子数6〜20のアリール基を表す。R及びRで表される炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基は、前記R及びRにおける場合と同義であり、好ましい態様も同様である。
また、R及びRは互いに結合して環を形成してもよい。
Among these, as R 3 and R 4 , an acyl group, a carbamoyl group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a cyano group, a nitro group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfonyloxy group, and a sulfamoyl group are preferable. In particular, an acyl group, a carbamoyl group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a cyano group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfonyloxy group, and a sulfamoyl group are preferable.
Among the above, in the present invention, R 3 is preferably a group selected from a cyano group, —COOR 5 , —CONHR 5 , —COR 5 , —SO 2 R 5 , and R 4 is a cyano group. A group selected from the group, —COOR 6 , —CONHR 6 , —COR 6 , —SO 2 R 6 is preferred. R 5 and R 6 each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and the aryl group having 6 to 20 carbon atoms represented by R 5 and R 6 have the same meanings as those in R 1 and R 2 , and the preferred embodiments are also the same.
R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a ring.

また、上記のR、R、R、及びRの少なくとも1つは、連結基を介して、ビニル基と結合したモノマーより導かれるポリマーの形になっていてもよい。他のモノマーとの共重合体であっても良い。共重合体の場合、他のモノマーとしては、アクリル酸、α―クロロアクリル酸、α―アルアクリル酸(例えば、メタアクリル酸などのアクリル酸類から誘導されるエステル、好ましくは低級アルキルエステル及びアミド例えばアクリルアミド、メタアクリルアミド、t−ブチルアクリルアミド、メチルアクリレート、メチルメタアクリレート、エチルアクリレート、エチルメタアクリレート、n−プロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、2−エチルへキシルアクリレート、n−へキシルアクリレート、オクチルメタアクリレート、及びラウリルメタアクリレート、メチレンビスアクリルアミド等)、ビニルエステル(例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート及びビニルラウレート等)、アクリロニトリル、メタアクリロニトリル、芳香族ビニル化合物(例えば、スチレン及びその誘導体、例えばビニルトルエン、ジビニルベンゼン、ビニルアセトフェノン、スルホスチレン、及びスチレンスルフィン酸等)、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、ビニリデンクロライド、ビニルアルキルエーテル(例えば、ビニルエチルエーテル等)、マレイン酸エステル、N−ビニル−2−ピロリドン、N−ビニルピリジン、2−及び4−ビニルピリジン等がある。
このうち特にアクリル酸エステル、メタアクリル酸エステル、芳香族ビニル化合物が好ましい。
上記他のモノマー化合物の2種以上を一緒に併用することも出来る。例えば、n−ブチルアクリレートとジビニルベンゼン、スチレンとメチルメタアクリレート、メチルアクリレートとメタアクリレート酸等を併用できる。
Moreover, at least one of the above R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 may be in the form of a polymer derived from a monomer bonded to a vinyl group via a linking group. It may be a copolymer with another monomer. In the case of the copolymer, other monomers include acrylic acid, α-chloroacrylic acid, α-alacrylic acid (for example, esters derived from acrylic acids such as methacrylic acid, preferably lower alkyl esters and amides such as Acrylamide, methacrylamide, t-butyl acrylamide, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n-hexyl acrylate, octyl methacrylate , Lauryl methacrylate, methylenebisacrylamide, etc.), vinyl esters (eg, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl laurate, etc.), acrylonitrile, methacryloni Tolyl, aromatic vinyl compounds (for example, styrene and its derivatives such as vinyl toluene, divinylbenzene, vinyl acetophenone, sulfostyrene, and styrene sulfinic acid), itaconic acid, citraconic acid, crotonic acid, vinylidene chloride, vinyl alkyl ether ( For example, vinyl ethyl ether), maleic acid ester, N-vinyl-2-pyrrolidone, N-vinylpyridine, 2- and 4-vinylpyridine, and the like.
Of these, acrylic acid esters, methacrylic acid esters, and aromatic vinyl compounds are particularly preferable.
Two or more of the other monomer compounds can be used together. For example, n-butyl acrylate and divinylbenzene, styrene and methyl methacrylate, methyl acrylate and methacrylate acid, or the like can be used in combination.

以下、前記一般式(II)で表される化合物の好ましい具体例〔例示化合物(1)〜(14)〕を示す。但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。   Hereinafter, preferable specific examples [Exemplary compounds (1) to (14)] of the compound represented by the general formula (II) are shown. However, the present invention is not limited to these.

一般式(II)で表される紫外線吸収剤は、特公昭44−29620号、特開53−128333号、特開昭61−169831号、特開昭63−53543、特開昭63−53544号、特開昭63−56651号等の各公報、WO2009/123109号パンフレットに記載されている方法により合成することができる。具体的にはWO2009/123109号パンフレット段落番号0040に記載の方法で上記例示化合物(1)を合成することができる。   The ultraviolet absorbers represented by the general formula (II) are described in JP-B No. 44-29620, JP-A No. 53-128333, JP-A No. 61-169831, JP-A No. 63-53543, and JP-A No. 63-53544. In addition, it can be synthesized by the methods described in JP-A 63-56651 and other publications and WO 2009/123109 pamphlet. Specifically, the exemplified compound (1) can be synthesized by the method described in paragraph No. 0040 of WO2009 / 123109 pamphlet.

紫外線吸収剤としては、他にサリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル系、トリアジン系等の紫外線吸収剤を使用することができる。
サリシレート系紫外線吸収剤の例としては、フェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレート、p−t−ブチルフェニルサリシレートなどが挙げられ、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例としては、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例としては、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−アミル−5’−イソブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−イソブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−イソブチル−5’−プロピルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−[2’−ヒドロキシ−5’−(1,1,3,3−テトラメチル)フェニル]ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
In addition, salicylate-based, benzophenone-based, benzotriazole-based, substituted acrylonitrile-based, triazine-based ultraviolet absorbers, and the like can be used as the ultraviolet absorber.
Examples of salicylate-based UV absorbers include phenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate, pt-butylphenyl salicylate, and the like. Examples of benzophenone-based UV absorbers include 2,2′-dihydroxy-4- Methoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone, 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2- And hydroxy-4-octoxybenzophenone. Examples of the benzotriazole ultraviolet absorber include 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3). '-Tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-amyl-5'-isobutylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- ( 2'-hydroxy-3'-isobutyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-isobutyl-5'-propylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2 -(2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzoto Azole, 2- [2'-hydroxy-5 '- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenyl] benzotriazole and the like.

置換アクリロニトリル系紫外線吸収剤の例としては、2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸エチル、2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸2−エチルヘキシルなどが挙げられる。さらに、トリアジン系紫外線吸収剤の例としては、2−[4−[(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシプロピル)オキシ]−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[4−[(2−ヒドロキシ−3−トリデシルオキシプロピル)オキシ]−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジンなどのモノ(ヒドロキシフェニル)トリアジン化合物;2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−3−メチル−4−プロピルオキシフェニル)−6−(4−メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−3−メチル−4−ヘキシルオキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジンなどのビス(ヒドロキシフェニル)トリアジン化合物;2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−6−(2,4−ジブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス[2−ヒドロキシ−4−(3−ブトキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)フェニル]−1,3,5−トリアジンなどのトリス(ヒドロキシフェニル)トリアジン化合物等が挙げられる。
本発明においては、前記各種の紫外線吸収剤は一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of the substituted acrylonitrile-based ultraviolet absorber include ethyl 2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, 2-ethylhexyl 2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, and the like. Furthermore, as an example of a triazine ultraviolet absorber, 2- [4-[(2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) ) -1,3,5-triazine, 2- [4-[(2-hydroxy-3-tridecyloxypropyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) Mono (hydroxyphenyl) triazine compounds such as 1,3,5-triazine and 2- (2,4-dihydroxyphenyl) -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine 2,4-bis (2-hydroxy-4-propyloxyphenyl) -6- (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (2-hydroxy); 3-methyl-4-propyloxyphenyl) -6- (4-methylphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (2-hydroxy-3-methyl-4-hexyloxyphenyl) -6 Bis (hydroxyphenyl) triazine compounds such as-(2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine; 2,4-bis (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -6- (2,4- Dibutoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris [2- And tris (hydroxyphenyl) triazine compounds such as hydroxy-4- (3-butoxy-2-hydroxypropyloxy) phenyl] -1,3,5-triazine.
In the present invention, the various ultraviolet absorbers may be used alone or in combination of two or more.

好ましい紫外線吸収剤としては、例示化合物(1)〜(14)であり、特に好ましくは、例示化合物(2)および(11)である。   Preferred ultraviolet absorbers are exemplified compounds (1) to (14), and particularly preferred compounds are exemplified compounds (2) and (11).

本発明の着色感放射線性組成物は、着色感放射線性組成物の固形分に対して、紫外線吸収剤を0.1質量%〜10質量%含むことを特徴とする。
さらに好ましい紫外線吸収剤の含有量としては、着色感放射線性組成物の固形分に対して、0.5質量%〜6質量%であり、1質量%〜5量%がより好ましい。
この範囲とすることによって、本発明の着色感放射線性組成物を用いて、着色パターンを形成したときに、着色パターンの直線性が向上し、且つ、基板上および他色の着色パターン上の残渣を低減することができる。
The colored radiation-sensitive composition of the present invention is characterized by containing 0.1% by mass to 10% by mass of an ultraviolet absorber with respect to the solid content of the colored radiation-sensitive composition.
Furthermore, as content of a preferable ultraviolet absorber, it is 0.5 mass%-6 mass% with respect to solid content of a coloring radiation sensitive composition, and 1 mass%-5 mass% are more preferable.
By setting it as this range, when a colored pattern is formed using the colored radiation-sensitive composition of the present invention, the linearity of the colored pattern is improved, and the residue on the colored pattern of the substrate and other colors is improved. Can be reduced.

<(E)光重合開始剤>
本発明の着色感放射線性組成物は、(E)光重合開始剤を含有することが好ましい。
本発明における(E)光重合開始剤(以下、単に「重合開始剤」ということがある。)としては、以下に述べる光重合開始剤として知られているものを用いることができる。
<(E) Photopolymerization initiator>
The colored radiation-sensitive composition of the present invention preferably contains (E) a photopolymerization initiator.
As the (E) photopolymerization initiator (hereinafter sometimes simply referred to as “polymerization initiator”) in the present invention, those known as photopolymerization initiators described below can be used.

本発明における光重合開始剤としては、前記重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましい。また、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。
また、光重合開始剤は、約300nm〜800nm(330nm〜500nmがより好ましい。)の範囲内に少なくとも約50の分子吸光係数を有する化合物を、少なくとも1種含有していることが好ましい。
The photopolymerization initiator in the present invention is not particularly limited as long as it has the ability to initiate polymerization of the polymerizable compound, and can be appropriately selected from known photopolymerization initiators. For example, those having photosensitivity to visible light from the ultraviolet region are preferable. Further, it may be an activator that generates some action with a photoexcited sensitizer and generates an active radical, or may be an initiator that initiates cationic polymerization according to the type of monomer.
The photopolymerization initiator preferably contains at least one compound having a molecular extinction coefficient of at least about 50 within a range of about 300 nm to 800 nm (more preferably 330 nm to 500 nm).

本発明における(E)光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体(例えば、トリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの、など)、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体等のオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、アミノアセトフェノン化合物、ヒドロキシアセトフェノンなどが挙げられる。これらの中でも、オキシム化合物が好ましい。   Examples of the (E) photopolymerization initiator in the present invention include halogenated hydrocarbon derivatives (for example, those having a triazine skeleton, those having an oxadiazole skeleton), acylphosphine compounds such as acylphosphine oxide, hexa Examples thereof include oxime compounds such as arylbiimidazole and oxime derivatives, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ketoxime ethers, aminoacetophenone compounds, and hydroxyacetophenones. Among these, oxime compounds are preferable.

前記トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物としては、例えば、若林ら著、Bull.Chem.Soc.Japan,42、2924(1969)記載の化合物、英国特許1388492号明細書記載の化合物、特開昭53−133428号公報記載の化合物、独国特許3337024号明細書記載の化合物、F.C.SchaeferなどによるJ.Org.Chem.;29、1527(1964)記載の化合物、特開昭62−58241号公報記載の化合物、特開平5−281728号公報記載の化合物、特開平5−34920号公報記載の化合物、米国特許第4212976号明細書に記載の化合物、などが挙げられる。   Examples of the halogenated hydrocarbon compound having a triazine skeleton include those described in Wakabayashi et al., Bull. Chem. Soc. Japan, 42, 2924 (1969), a compound described in British Patent 1388492, a compound described in JP-A-53-133428, a compound described in German Patent 3337024, F.I. C. J. Schaefer et al. Org. Chem. 29, 1527 (1964), a compound described in JP-A-62-258241, a compound described in JP-A-5-281728, a compound described in JP-A-5-34920, and U.S. Pat. No. 4,221,976. And compounds described in the specification.

前記米国特許第4212976号明細書に記載されている化合物としては、例えば、オキサジアゾール骨格を有する化合物(例えば、2−トリクロロメチル−5−フェニル−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(4−クロロフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(1−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(2−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリブロモメチル−5−フェニル−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリブロモメチル−5−(2−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール;2−トリクロロメチル−5−スチリル−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(4−クロルスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(4−メトキシスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(1−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(4−n−ブトキシスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリプロモメチル−5−スチリル−1,3,4−オキサジアゾールなど)などが挙げられる。   Examples of the compound described in US Pat. No. 4,221,976 include compounds having an oxadiazole skeleton (for example, 2-trichloromethyl-5-phenyl-1,3,4-oxadiazole, 2- Trichloromethyl-5- (4-chlorophenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (1-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5 -(2-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole, 2-tribromomethyl-5-phenyl-1,3,4-oxadiazole, 2-tribromomethyl-5- (2-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole; 2-trichloromethyl-5-styryl-1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-chlorostyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-methoxystyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (1-naphthyl) -1, 3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-n-butoxystyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-tripromomethyl-5-styryl-1,3,4 Oxadiazole, etc.).

また、上記以外の重合開始剤として、アクリジン誘導体(例えば、9−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9,9’−アクリジニル)ヘプタンなど)、N−フェニルグリシンなど、ポリハロゲン化合物(例えば、四臭化炭素、フェニルトリブロモメチルスルホン、フェニルトリクロロメチルケトンなど)、クマリン類(例えば、3−(2−ベンゾフラノイル)−7−ジエチルアミノクマリン、3−(2−ベンゾフロイル)−7−(1−ピロリジニル)クマリン、3−ベンゾイル−7−ジエチルアミノクマリン、3−(2−メトキシベンゾイル)−7−ジエチルアミノクマリン、3−(4−ジメチルアミノベンゾイル)−7−ジエチルアミノクマリン、3,3’−カルボニルビス(5,7−ジ−n−プロポキシクマリン)、3,3’−カルボニルビス(7−ジエチルアミノクマリン)、3−ベンゾイル−7−メトキシクマリン、3−(2−フロイル)−7−ジエチルアミノクマリン、3−(4−ジエチルアミノシンナモイル)−7−ジエチルアミノクマリン、7−メトキシ−3−(3−ピリジルカルボニル)クマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジプロポキシクマリン、7−ベンゾトリアゾール−2−イルクマリン、また、特開平5−19475号公報、特開平7−271028号公報、特開2002−363206号公報、特開2002−363207号公報、特開2002−363208号公報、特開2002−363209号公報などに記載のクマリン化合物など)、アシルホスフィンオキサイド類(例えば、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフェニルホスフィンオキサイド、LucirinTPOなど)、メタロセン類(例えば、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフロロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウム、η5−シクロペンタジエニル−η6−クメニル−アイアン(1+)−ヘキサフロロホスフェート(1−)など)、特開昭53−133428号公報、特公昭57−1819号公報、同57−6096号公報、及び米国特許第3615455号明細書に記載された化合物などが挙げられる。   In addition, as polymerization initiators other than those described above, polyhalogen compounds (for example, four-phenyl acridine, such as 9-phenylacridine, 1,7-bis (9,9′-acridinyl) heptane), N-phenylglycine, and the like. Carbon bromide, phenyltribromomethylsulfone, phenyltrichloromethylketone, etc.), coumarins (for example, 3- (2-benzofuranoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (2-benzofuroyl) -7- (1- Pyrrolidinyl) coumarin, 3-benzoyl-7-diethylaminocoumarin, 3- (2-methoxybenzoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (4-dimethylaminobenzoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3,3′-carbonylbis ( 5,7-di-n-propoxycoumarin), 3,3′-carbo Rubis (7-diethylaminocoumarin), 3-benzoyl-7-methoxycoumarin, 3- (2-furoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (4-diethylaminocinnamoyl) -7-diethylaminocoumarin, 7-methoxy-3 -(3-pyridylcarbonyl) coumarin, 3-benzoyl-5,7-dipropoxycoumarin, 7-benzotriazol-2-ylcoumarin, JP-A-5-19475, JP-A-7-271028, JP 2002-363206, JP-A 2002-363207, JP-A 2002-363208, JP-A 2002-363209, etc.), acylphosphine oxides (for example, bis (2,4 , 6-Trimethylbenzoyl) -phenylphosphite Oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphenylphosphine oxide, Lucirin TPO, etc.), metallocenes (for example, bis (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl)- Bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium, η5-cyclopentadienyl-η6-cumenyl-iron (1 +)-hexafluorophosphate (1-), etc.) Examples thereof include compounds described in JP-A Nos. 53-133428, 57-1819, 57-6096, and US Pat. No. 3,615,455.

前記ケトン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、2−メチルベンゾフェノン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、4−メトキシベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、2−カルボキシベンゾフェノン、2−エトキシカルボニルベンゾフェノン、ベンゾフェノンテトラカルボン酸又はそのテトラメチルエステル、4,4’−ビス(ジアルキルアミノ)ベンゾフェノン類(例えば、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビスジシクロヘキシルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジヒドロキシエチルアミノ)ベンゾフェノン、4−メトキシ−4’−ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4−ジメチルアミノベンゾフェノン、4−ジメチルアミノアセトフェノン、ベンジル、アントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、2−メチルアントラキノン、フェナントラキノン、キサントン、チオキサントン、2−クロル−チオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、フルオレノン、2−ベンジル−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−1−ブタノン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノ−1−プロパノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−〔4−(1−メチルビニル)フェニル〕プロパノールオリゴマー、ベンゾイン、ベンゾインエーテル類(例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンジルジメチルケタール)、アクリドン、クロロアクリドン、N−メチルアクリドン、N−ブチルアクリドン、N−ブチル−クロロアクリドンなどが挙げられる。   Examples of the ketone compound include benzophenone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 4-methoxybenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone, 2-ethoxycarbonylbenzophenone, benzophenonetetracarboxylic acid or tetramethyl ester thereof, 4,4′-bis (dialkylamino) benzophenone (for example, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bisdicyclohexyl) Amino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (dihydroxyethylamino) benzophenone, 4-methoxy-4′-dimethylaminobenzene Zophenone, 4,4'-dimethoxybenzophenone, 4-dimethylaminobenzophenone, 4-dimethylaminoacetophenone, benzyl, anthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-methylanthraquinone, phenanthraquinone, xanthone, thioxanthone, 2-chloro -Thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, fluorenone, 2-benzyl-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino -1-propanone, 2-hydroxy-2-methyl- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanol oligomer, benzoin, benzoin ethers (for example, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzo Down propyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin phenyl ether, benzyl dimethyl ketal), acridone, chloro acridone, N- methyl acridone, N- butyl acridone, N- butyl - such as chloro acrylic pyrrolidone.

重合開始剤としては、ヒドロキシアセトフェノン化合物、アミノアセトフェノン化合物、及び、アシルホスフィン化合物も好適に用いることができる。より具体的には、例えば、特開平10−291969号公報に記載のアミノアセトフェノン系開始剤、特許第4225898号公報に記載のアシルホスフィンオキシド系開始剤も用いることができる。
ヒドロキシアセトフェノン系開始剤としては、IRGACURE−184、DAROCUR−1173、IRGACURE−500、IRGACURE−2959,IRGACURE−127(商品名:いずれもBASF社製)を用いることができる。アミノアセトフェノン系開始剤としては、市販品であるIRGACURE−907、IRGACURE−369、及び、IRGACURE−379(商品名:いずれもBASF社製)を用いることができる。アミノアセトフェノン系開始剤として、365nmまたは405nm等の長波光源に吸収波長がマッチングされた特開2009−191179公報に記載の化合物も用いることができる。また、アシルホスフィン系開始剤としては市販品であるIRGACURE−819やDAROCUR−TPO(商品名:いずれもBASF社製)を用いることができる。
As the polymerization initiator, hydroxyacetophenone compounds, aminoacetophenone compounds, and acylphosphine compounds can also be suitably used. More specifically, for example, aminoacetophenone initiators described in JP-A-10-291969 and acylphosphine oxide initiators described in Japanese Patent No. 4225898 can also be used.
As the hydroxyacetophenone-based initiator, IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959, IRGACURE-127 (trade names: all manufactured by BASF) can be used. As the aminoacetophenone-based initiator, commercially available products IRGACURE-907, IRGACURE-369, and IRGACURE-379 (trade names: all manufactured by BASF) can be used. As the aminoacetophenone-based initiator, compounds described in JP-A-2009-191179 in which an absorption wavelength is matched with a long wave light source of 365 nm or 405 nm can also be used. As the acylphosphine-based initiator, commercially available products such as IRGACURE-819 and DAROCUR-TPO (trade names: both manufactured by BASF) can be used.

重合開始剤として、より好ましくはオキシム化合物が挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、特開2001−233842号記載の化合物、特開2000−80068号記載の化合物、特開2006−342166号記載の化合物を用いることができる。   More preferred examples of the polymerization initiator include oxime compounds. Specific examples of the oxime compound include compounds described in JP-A No. 2001-233842, compounds described in JP-A No. 2000-80068, and compounds described in JP-A No. 2006-342166.

本発明で重合開始剤として好適に用いられるオキシム誘導体等のオキシム化合物としては、例えば、3−ベンゾイロキシイミノブタン−2−オン、3−アセトキシイミノブタン−2−オン、3−プロピオニルオキシイミノブタン−2−オン、2−アセトキシイミノペンタン−3−オン、2−アセトキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ベンゾイロキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、3−(4−トルエンスルホニルオキシ)イミノブタン−2−オン、及び2−エトキシカルボニルオキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オンなどが挙げられる。   Examples of oxime compounds such as oxime derivatives that are preferably used as a polymerization initiator in the present invention include 3-benzoyloxyiminobutane-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, and 3-propionyloxyimibutane. 2-one, 2-acetoxyiminopentan-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3- (4- Toluenesulfonyloxy) iminobutan-2-one and 2-ethoxycarbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one.

オキシム化合物としては、J.C.S.Perkin II(1979年)pp.1653−1660)、J.C.S.Perkin II(1979年)pp.15
6−162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995年)pp.202−232、特開2000−66385号公報記載の化合物、特開2000−80068号公報、特表2004−534797号公報、特開2006−342166号公報の各公報に記載の化合物等が挙げられる。
市販品ではIRGACURE OXE−01(BASF社製)、IRGACURE OXE−02(BASF社製)も好適に用いられる。
Examples of oxime compounds include J.M. C. S. Perkin II (1979) pp. 1653-1660), J.M. C. S. Perkin II (1979) pp. 15
6-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995), pp. 6-162. 202-232, compounds described in JP-A No. 2000-66385, compounds described in JP-A No. 2000-80068, JP-T 2004-534797, JP-A No. 2006-342166, and the like.
IRGACURE OX-01 (manufactured by BASF) and IRGACURE OXE-02 (manufactured by BASF) are also preferably used as commercial products.

また上記以外のオキシム化合物として、カルバゾールのN位にオキシムが連結した特表2009−519904号公報に記載の化合物、ベンゾフェノン部位にヘテロ置換基が導入された米国特許7626957号公報に記載の化合物、色素部位にニトロ基が導入された特開2010−15025号公報および米国特許公開2009−292039号記載の化合物、国際公開特許2009−131189号公報に記載のケトオキシム系化合物、トリアジン骨格とオキシム骨格を同一分子内に含有する米国特許7556910号公報に記載の化合物、405nmに吸収極大を有しg線光源に対して良好な感度を有する特開2009−221114号公報記載の化合物などを用いてもよい。   Further, as oxime compounds other than the above, compounds described in JP-T 2009-519904, in which oxime is linked to the N-position of carbazole, compounds described in US Pat. No. 7,626,957 in which a hetero substituent is introduced into the benzophenone moiety, and dyes Compounds described in JP2010-15025A and US Patent Publication No. 2009-292209, in which a nitro group is introduced at the site, ketoxime compounds described in International Patent Publication No. 2009-131189, triazine skeleton and oxime skeleton are the same molecule A compound described in U.S. Pat. No. 7,556,910 and a compound described in JP-A-2009-221114 having an absorption maximum at 405 nm and good sensitivity to a g-line light source may be used.

好ましくはさらに、特開2007−231000号公報、及び、特開2007−322744号公報に記載される環状オキシム化合物に対しても好適に用いることができる。環状オキシム化合物の中でも、特に特開2010−32985号公報、特開2010−185072号公報に記載されるカルバゾール色素に縮環した環状オキシム化合物は、高い光吸収性を有し高感度化の観点から好ましい。
また、オキシム化合物の特定部位に不飽和結合を有する特開2009−242469号公報に記載の化合物も、重合不活性ラジカルから活性ラジカルを再生することで高感度化を達成でき好適に使用することができる。
Preferably, it can also be suitably used for the cyclic oxime compounds described in JP-A-2007-231000 and JP-A-2007-322744. Among the cyclic oxime compounds, the cyclic oxime compounds fused to the carbazole dyes described in JP2010-32985A and JP2010-185072A in particular have high light absorptivity from the viewpoint of high sensitivity. preferable.
In addition, the compound described in JP-A-2009-242469 having an unsaturated bond at a specific site of the oxime compound can be preferably used because it can achieve high sensitivity by regenerating the active radical from the polymerization inert radical. it can.

最も好ましくは、特開2007−269779号公報に示される特定置換基を有するオキシム化合物や、特開2009−191061号公報に示されるチオアリール基を有するオキシム化合物が挙げられる。
具体的には、オキシム化合物としては、下記式(OX−1)で表される化合物が好ましい。なお、オキシムのN−O結合が(E)体のオキシム化合物であっても、(Z)体のオキシム化合物であっても、(E)体と(Z)体との混合物であってもよい。
Most preferably, the oxime compound which has a specific substituent shown by Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-267979 and the oxime compound which has a thioaryl group shown by Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-191061 are mentioned.
Specifically, the oxime compound is preferably a compound represented by the following formula (OX-1). The N—O bond of the oxime may be an (E) oxime compound, a (Z) oxime compound, or a mixture of (E) and (Z) isomers. .

一般式(OX−1)中、R及びBは各々独立に一価の置換基を表し、Aは二価の有機基を表し、Arはアリール基を表す。
一般式(OX−1)中、Rで表される一価の置換基としては、一価の非金属原子団であることが好ましい。
前記一価の非金属原子団としては、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環基、アルキルチオカルボニル基、アリールチオカルボニル基等が挙げられる。また、これらの基は、1以上の置換基を有していてもよい。また、前述した置換基は、さらに他の置換基で置換されていてもよい。
置換基としてはハロゲン原子、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル基、アルキル基、アリール基等が挙げられる。
In General Formula (OX-1), R and B each independently represent a monovalent substituent, A represents a divalent organic group, and Ar represents an aryl group.
In General Formula (OX-1), the monovalent substituent represented by R is preferably a monovalent nonmetallic atomic group.
Examples of the monovalent nonmetallic atomic group include an alkyl group, an aryl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a heterocyclic group, an alkylthiocarbonyl group, and an arylthiocarbonyl group. Moreover, these groups may have one or more substituents. Moreover, the substituent mentioned above may be further substituted by another substituent.
Examples of the substituent include a halogen atom, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, an acyl group, an alkyl group, and an aryl group.

置換基を有していてもよいアルキル基としては、炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、1−エチルペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、トリフルオロメチル基、2−エチルヘキシル基、フェナシル基、1−ナフトイルメチル基、2−ナフトイルメチル基、4−メチルスルファニルフェナシル基、4−フェニルスルファニルフェナシル基、4−ジメチルアミノフェナシル基、4−シアノフェナシル基、4−メチルフェナシル基、2−メチルフェナシル基、3−フルオロフェナシル基、3−トリフルオロメチルフェナシル基、及び、3−ニトロフェナシル基が例示できる。   The alkyl group which may have a substituent is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, or a decyl group. , Dodecyl group, octadecyl group, isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, t-butyl group, 1-ethylpentyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, trifluoromethyl group, 2-ethylhexyl group, phenacyl group, 1- Naphthoylmethyl group, 2-naphthoylmethyl group, 4-methylsulfanylphenacyl group, 4-phenylsulfanylphenacyl group, 4-dimethylaminophenacyl group, 4-cyanophenacyl group, 4-methylphenacyl group, 2- Methylphenacyl group, 3-fluorophenacyl group, 3-trifluoromethylphenacyl group, and , 3 Nitorofenashiru group can be exemplified.

置換基を有していてもよいアリール基としては、炭素数6〜30のアリール基が好ましく、具体的には、フェニル基、ビフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−アンスリル基、9−フェナントリル基、1−ピレニル基、5−ナフタセニル基、1−インデニル基、2−アズレニル基、9−フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、キシリル基、o−クメニル基、m−クメニル基及びp−クメニル基、メシチル基、ペンタレニル基、ビナフタレニル基、ターナフタレニル基、クオーターナフタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、フルオランテニル基、アセナフチレニル基、アセアントリレニル基、フェナレニル基、フルオレニル基、アントリル基、ビアントラセニル基、ターアントラセニル基、クオーターアントラセニル基、アントラキノリル基、フェナントリル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、プレイアデニル基、ピセニル基、ペリレニル基、ペンタフェニル基、ペンタセニル基、テトラフェニレニル基、ヘキサフェニル基、ヘキサセニル基、ルビセニル基、コロネニル基、トリナフチレニル基、ヘプタフェニル基、ヘプタセニル基、ピラントレニル基、並びに、オバレニル基が例示できる。   The aryl group which may have a substituent is preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, specifically, a phenyl group, a biphenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, or a 9-anthryl group. 9-phenanthryl group, 1-pyrenyl group, 5-naphthacenyl group, 1-indenyl group, 2-azurenyl group, 9-fluorenyl group, terphenyl group, quarterphenyl group, o-tolyl group, m-tolyl group, p -Tolyl group, xylyl group, o-cumenyl group, m-cumenyl group and p-cumenyl group, mesityl group, pentarenyl group, binaphthalenyl group, turnaphthalenyl group, quarternaphthalenyl group, heptaenyl group, biphenylenyl group, indacenyl group, full Oranthenyl, acenaphthylenyl, aceanthrylenyl, phenalenyl, fluorenyl, ant Ryl group, bianthracenyl group, teranthracenyl group, quarteranthracenyl group, anthraquinolyl group, phenanthryl group, triphenylenyl group, pyrenyl group, chrycenyl group, naphthacenyl group, pleiadenyl group, picenyl group, perylenyl group, pentaphenyl group, Examples thereof include a pentacenyl group, a tetraphenylenyl group, a hexaphenyl group, a hexacenyl group, a ruvicenyl group, a coronenyl group, a trinaphthylenyl group, a heptaphenyl group, a heptacenyl group, a pyranthrenyl group, and an oberenyl group.

置換基を有していてもよいアシル基としては、炭素数2〜20のアシル基が好ましく、具体的には、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、トリフルオロアセチル基、ペンタノイル基、ベンゾイル基、1−ナフトイル基、2−ナフトイル基、4−メチルスルファニルベンゾイル基、4−フェニルスルファニルベンゾイル基、4−ジメチルアミノベンゾイル基、4−ジエチルアミノベンゾイル基、2−クロロベンゾイル基、2−メチルベンゾイル基、2−メトキシベンゾイル基、2−ブトキシベンゾイル基、3−クロロベンゾイル基、3−トリフルオロメチルベンゾイル基、3−シアノベンゾイル基、3−ニトロベンゾイル基、4−フルオロベンゾイル基、4−シアノベンゾイル基、及び、4−メトキシベンゾイル基が例示できる。   The acyl group which may have a substituent is preferably an acyl group having 2 to 20 carbon atoms, specifically, an acetyl group, a propanoyl group, a butanoyl group, a trifluoroacetyl group, a pentanoyl group, a benzoyl group, 1-naphthoyl group, 2-naphthoyl group, 4-methylsulfanylbenzoyl group, 4-phenylsulfanylbenzoyl group, 4-dimethylaminobenzoyl group, 4-diethylaminobenzoyl group, 2-chlorobenzoyl group, 2-methylbenzoyl group, 2 -Methoxybenzoyl group, 2-butoxybenzoyl group, 3-chlorobenzoyl group, 3-trifluoromethylbenzoyl group, 3-cyanobenzoyl group, 3-nitrobenzoyl group, 4-fluorobenzoyl group, 4-cyanobenzoyl group, and And 4-methoxybenzoyl group.

置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基としては、炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基が好ましく、具体的には、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、及び、トリフルオロメチルオキシカルボニル基が例示できる。   The alkoxycarbonyl group which may have a substituent is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, specifically, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, or a hexyloxy group. Examples thereof include a carbonyl group, an octyloxycarbonyl group, a decyloxycarbonyl group, an octadecyloxycarbonyl group, and a trifluoromethyloxycarbonyl group.

置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基として具体的には、フェノキシカルボニル基、1−ナフチルオキシカルボニル基、2−ナフチルオキシカルボニル基、4−メチルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、4−フェニルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、4−ジメチルアミノフェニルオキシカルボニル基、4−ジエチルアミノフェニルオキシカルボニル基、2−クロロフェニルオキシカルボニル基、2−メチルフェニルオキシカルボニル基、2−メトキシフェニルオキシカルボニル基、2−ブトキシフェニルオキシカルボニル基、3−クロロフェニルオキシカルボニル基、3−トリフルオロメチルフェニルオキシカルボニル基、3−シアノフェニルオキシカルボニル基、3−ニトロフェニルオキシカルボニル基、4−フルオロフェニルオキシカルボニル基、4−シアノフェニルオキシカルボニル基、及び、4−メトキシフェニルオキシカルボニル基が例示できる。   Specific examples of the aryloxycarbonyl group which may have a substituent include phenoxycarbonyl group, 1-naphthyloxycarbonyl group, 2-naphthyloxycarbonyl group, 4-methylsulfanylphenyloxycarbonyl group, 4-phenylsulfanyl. Phenyloxycarbonyl group, 4-dimethylaminophenyloxycarbonyl group, 4-diethylaminophenyloxycarbonyl group, 2-chlorophenyloxycarbonyl group, 2-methylphenyloxycarbonyl group, 2-methoxyphenyloxycarbonyl group, 2-butoxyphenyloxy Carbonyl group, 3-chlorophenyloxycarbonyl group, 3-trifluoromethylphenyloxycarbonyl group, 3-cyanophenyloxycarbonyl group, 3-nitrophenyloxycarbonyl , 4-fluorophenyl oxycarbonyl group, 4-cyanophenyl oxycarbonyl group, and a 4-methoxy phenyloxy carbonyl group can be exemplified.

置換基を有していてもよい複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子若しくはリン原子を含む、芳香族又は脂肪族の複素環が好ましい。
具体的には、チエニル基、ベンゾ[b]チエニル基、ナフト[2,3−b]チエニル基、チアントレニル基、フリル基、ピラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、2H−ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、3H−インドリル基、インドリル基、1H−インダゾリル基、プリニル基、4H−キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、4aH−カルバゾリル基、カルバゾリル基、β−カルボリニル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェナルサジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、フェノキサジニル基、イソクロマニル基、クロマニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、キヌクリジニル基、モルホリニル基、及び、チオキサントリル基が例示できる。
The heterocyclic group which may have a substituent is preferably an aromatic or aliphatic heterocyclic ring containing a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a phosphorus atom.
Specifically, thienyl group, benzo [b] thienyl group, naphtho [2,3-b] thienyl group, thiantenyl group, furyl group, pyranyl group, isobenzofuranyl group, chromenyl group, xanthenyl group, phenoxathiyl Nyl group, 2H-pyrrolyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, pyridyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, indolizinyl group, isoindolyl group, 3H-indolyl group, indolyl group, 1H-indazolyl group, purinyl group 4H-quinolidinyl group, isoquinolyl group, quinolyl group, phthalazinyl group, naphthyridinyl group, quinoxalinyl group, quinazolinyl group, cinnolinyl group, pteridinyl group, 4aH-carbazolyl group, carbazolyl group, β-carbolinyl group, phenanthridinyl group, acridinyl group Group Midinyl group, phenanthrolinyl group, phenazinyl group, phenalsadinyl group, isothiazolyl group, phenothiazinyl group, isoxazolyl group, furazanyl group, phenoxazinyl group, isochromanyl group, chromanyl group, pyrrolidinyl group, pyrrolinyl group, imidazolidinyl group, imidazolinyl group, pyrazolidinyl group, pyrazolidinyl group Examples include a group, pyrazolinyl group, piperidyl group, piperazinyl group, indolinyl group, isoindolinyl group, quinuclidinyl group, morpholinyl group, and thioxanthryl group.

置換基を有していてもよいアルキルチオカルボニル基として具体的には、メチルチオカルボニル基、プロピルチオカルボニル基、ブチルチオカルボニル基、ヘキシルチオカルボニル基、オクチルチオカルボニル基、デシルチオカルボニル基、オクタデシルチオカルボニル基、及び、トリフルオロメチルチオカルボニル基が例示できる。   Specific examples of the alkylthiocarbonyl group which may have a substituent include a methylthiocarbonyl group, a propylthiocarbonyl group, a butylthiocarbonyl group, a hexylthiocarbonyl group, an octylthiocarbonyl group, a decylthiocarbonyl group, and an octadecylthiocarbonyl group. Examples thereof include a group and a trifluoromethylthiocarbonyl group.

置換基を有していてもよいアリールチオカルボニル基として具体的には、1−ナフチルチオカルボニル基、2−ナフチルチオカルボニル基、4−メチルスルファニルフェニルチオカルボニル基、4−フェニルスルファニルフェニルチオカルボニル基、4−ジメチルアミノフェニルチオカルボニル基、4−ジエチルアミノフェニルチオカルボニル基、2−クロロフェニルチオカルボニル基、2−メチルフェニルチオカルボニル基、2−メトキシフェニルチオカルボニル基、2−ブトキシフェニルチオカルボニル基、3−クロロフェニルチオカルボニル基、3−トリフルオロメチルフェニルチオカルボニル基、3−シアノフェニルチオカルボニル基、3−ニトロフェニルチオカルボニル基、4−フルオロフェニルチオカルボニル基、4−シアノフェニルチオカルボニル基、及び、4−メトキシフェニルチオカルボニル基が挙げられる。   Specific examples of the arylthiocarbonyl group which may have a substituent include a 1-naphthylthiocarbonyl group, a 2-naphthylthiocarbonyl group, a 4-methylsulfanylphenylthiocarbonyl group, and a 4-phenylsulfanylphenylthiocarbonyl group. 4-dimethylaminophenylthiocarbonyl group, 4-diethylaminophenylthiocarbonyl group, 2-chlorophenylthiocarbonyl group, 2-methylphenylthiocarbonyl group, 2-methoxyphenylthiocarbonyl group, 2-butoxyphenylthiocarbonyl group, 3 -Chlorophenylthiocarbonyl group, 3-trifluoromethylphenylthiocarbonyl group, 3-cyanophenylthiocarbonyl group, 3-nitrophenylthiocarbonyl group, 4-fluorophenylthiocarbonyl group, 4-cyanophenyl Two thiocarbonyl group, and a and a 4-methoxyphenylthiocarbonyl group.

前記一般式(OX−1)中、Bで表される一価の置換基としては、アリール基、複素環基、アリールカルボニル基、又は、複素環カルボニル基を表す。また、これらの基は1以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。また、前述した置換基は、さらに他の置換基で置換されていてもよい。   In the general formula (OX-1), the monovalent substituent represented by B represents an aryl group, a heterocyclic group, an arylcarbonyl group, or a heterocyclic carbonyl group. These groups may have one or more substituents. Examples of the substituent include the above-described substituents. Moreover, the substituent mentioned above may be further substituted by another substituent.

なかでも、特に好ましくは以下に示す構造である。
下記の構造中、Y、X、及びnは、後述する一般式(OX−2)におけるY、X、及びnとそれぞれ同義であり、好ましい例も同様である。
Of these, the structures shown below are particularly preferred.
In the following structure, Y, X, and n have the same meanings as Y, X, and n in General Formula (OX-2) described later, and preferred examples are also the same.

一般式(OX−1)中、Aで表される二価の有機基としては、炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アルキニレン基が挙げられる。また、これらの基は1以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。また、前述した置換基は、さらに他の置換基で置換されていてもよい。
中でも、式(OX−1)におけるAとしては、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、無置換のアルキレン基、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、tert−ブチル基、ドデシル基)で置換されたアルキレン基、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基)で置換されたアルキレン基、アリール基(例えば、フェニル基、p−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基、スチリル基)で置換されたアルキレン基が好ましい。
In general formula (OX-1), examples of the divalent organic group represented by A include an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkylene group, and an alkynylene group. These groups may have one or more substituents. Examples of the substituent include the above-described substituents. Moreover, the substituent mentioned above may be further substituted by another substituent.
Among them, A in the formula (OX-1) is an unsubstituted alkylene group, an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a tert-butyl group, dodecyl) from the viewpoint of increasing sensitivity and suppressing coloring due to heating. Group) substituted alkylene group, alkenyl group (eg vinyl group, allyl group) alkylene group, aryl group (eg phenyl group, p-tolyl group, xylyl group, cumenyl group, naphthyl group, anthryl) Group, a phenanthryl group, and a styryl group) are preferable.

一般式(OX−1)中、Arで表されるアリール基としては、炭素数6〜30のアリール基が好ましく、また、置換基を有していてもよい。置換基としては、先に置換基を有していてもよいアリール基の具体例として挙げた置換アリール基に導入された置換基と同様のものが例示できる。
なかでも、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、置換又は無置換のフェニル基が好ましい。
In general formula (OX-1), the aryl group represented by Ar is preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and may have a substituent. Examples of the substituent include the same substituents as those introduced into the substituted aryl group mentioned above as specific examples of the aryl group which may have a substituent.
Among these, a substituted or unsubstituted phenyl group is preferable from the viewpoint of increasing sensitivity and suppressing coloring due to heating.

一般式(OX−1)においては、一般式(OX−1)中のArとそれに隣接するSとで形成される「SAr」の構造が、以下に示す構造であることが感度の点で好ましい。なお、Meはメチル基を表し、Etはエチル基を表す。   In the general formula (OX-1), it is preferable in terms of sensitivity that the structure of “SAr” formed by Ar in the general formula (OX-1) and S adjacent thereto is a structure shown below. . Me represents a methyl group, and Et represents an ethyl group.

オキシム化合物は、下記一般式(OX−2)で表される化合物であることが好ましい。   The oxime compound is preferably a compound represented by the following general formula (OX-2).

(式(OX−2)中、R及びXは各々独立に一価の置換基を表し、A及びYは各々独立に二価の有機基を表し、Arはアリール基を表し、nは0〜5の整数である。)
式(OX−2)におけるR、A、及びArは、前記式(OX−1)におけるR、A、及びArと同義であり、好ましい例も同様である。
(In Formula (OX-2), R and X each independently represent a monovalent substituent, A and Y each independently represent a divalent organic group, Ar represents an aryl group, and n represents 0 to 0. (It is an integer of 5.)
R, A and Ar in the formula (OX-2) have the same meanings as R, A and Ar in the formula (OX-1), and preferred examples are also the same.

一般式(OX−2)中、Xで表される一価の置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、複素環基、ハロゲン原子が挙げられる。また、これらの基は1以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。また、前述した置換基は、さらに他の置換基で置換されていてもよい。   In the general formula (OX-2), the monovalent substituent represented by X includes an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an amino group, and a heterocyclic ring. Group and halogen atom. These groups may have one or more substituents. Examples of the substituent include the above-described substituents. Moreover, the substituent mentioned above may be further substituted by another substituent.

これらの中でも、一般式(OX−2)におけるXとしては、溶剤溶解性と長波長領域の吸収効率向上の点から、アルキル基が好ましい。
また、式(OX−2)におけるnは、0〜5の整数を表し、0〜2の整数が好ましい。
Among these, as X in the general formula (OX-2), an alkyl group is preferable from the viewpoints of solvent solubility and improvement of absorption efficiency in a long wavelength region.
Moreover, n in a formula (OX-2) represents the integer of 0-5, and the integer of 0-2 is preferable.

一般式(OX−2)中、Yで表される二価の有機基としては、以下に示す構造が挙げられる。なお、以下に示される基において、「*」は、一般式(OX−2)において、Yと隣接する炭素原子との結合位置を示す。   In the general formula (OX-2), examples of the divalent organic group represented by Y include the structures shown below. In the group shown below, “*” represents a bonding position between Y and an adjacent carbon atom in the general formula (OX-2).

光重合開始剤としては、中でも、高感度化の観点から、下記に示す構造を有するものが好ましい。   As the photopolymerization initiator, those having the structure shown below are preferable from the viewpoint of increasing sensitivity.

さらに、オキシム化合物は、下記一般式(OX−3)で表される化合物であることが好ましい。   Furthermore, the oxime compound is preferably a compound represented by the following general formula (OX-3).

一般式(OX−3)中、R及びXは各々独立に一価の置換基を表し、Aは二価の有機基を表し、Arはアリール基を表し、nは0〜5の整数である。)
一般式(OX−3)におけるR、X、A、Ar、及び、nは、一般式(OX−2)におけるR、X、A、Ar、及び、nとそれぞれ同義であり、好ましい例も同様である。
In general formula (OX-3), R and X each independently represent a monovalent substituent, A represents a divalent organic group, Ar represents an aryl group, and n is an integer of 0 to 5. . )
R, X, A, Ar, and n in General Formula (OX-3) have the same meanings as R, X, A, Ar, and n in General Formula (OX-2), respectively, and preferred examples thereof are also the same. It is.

以下、好適に用いられるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of oxime compounds that can be suitably used are shown below, but the present invention is not limited thereto.

オキシム化合物は、350nm〜500nmの波長領域に極大吸収波長を有するものであり、360nm〜480nmの波長領域に吸収波長を有するものであることが好ましく、365nm及び455nmの吸光度が高いものが特に好ましい。   The oxime compound has a maximum absorption wavelength in a wavelength region of 350 nm to 500 nm, preferably has an absorption wavelength in a wavelength region of 360 nm to 480 nm, and particularly preferably has high absorbance at 365 nm and 455 nm.

オキシム化合物は、365nm又は405nmにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、1,000〜300,000であることが好ましく、2,000〜300,000であることがより好ましく、5,000〜200,000であることが特に好ましい。
化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いることができるが、具体的には、例えば、紫外可視分光光度計(Varian社製Carry−5 spctrophotometer)にて、酢酸エチル溶媒を用い、0.01g/Lの濃度で測定することが好ましい。
The molar extinction coefficient at 365 nm or 405 nm of the oxime compound is preferably 1,000 to 300,000, more preferably 2,000 to 300,000, more preferably 5,000 to 200, from the viewpoint of sensitivity. Is particularly preferred.
A known method can be used for the molar extinction coefficient of the compound. Specifically, for example, 0.01 g of an ultraviolet-visible spectrophotometer (Varian Inc., Carry-5 spctrophotometer) is used with an ethyl acetate solvent. It is preferable to measure at a concentration of / L.

本発明に用いられる重合開始剤は、必要に応じて2種以上を組み合わせて使用してもよい。 The polymerization initiator used in the present invention may be used in combination of two or more as required.

本発明の着色感放射線性組成物に用いられる(E)光重合開始剤としては、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、フォスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物及びその誘導体、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体及びその塩、ハロメチルオキサジアゾール化合物、3−アリール置換クマリン化合物からなる群より選択される化合物が好ましい。   The photopolymerization initiator (E) used in the colored radiation-sensitive composition of the present invention includes a trihalomethyltriazine compound, a benzyldimethyl ketal compound, an α-hydroxyketone compound, an α-aminoketone compound, an acyl from the viewpoint of exposure sensitivity. Phosphine compounds, phosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime compounds, triallylimidazole dimers, onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds and their derivatives, cyclopentadiene-benzene-iron complexes and their salts, halomethyl oxadi Compounds selected from the group consisting of azole compounds and 3-aryl substituted coumarin compounds are preferred.

さらに好ましくは、トリハロメチルトリアジン化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、フォスフィンオキサイド化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物であり、トリハロメチルトリアジン化合物、α−アミノケトン化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、ベンゾフェノン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物が最も好ましい。   More preferred are trihalomethyltriazine compound, α-aminoketone compound, acylphosphine compound, phosphine oxide compound, oxime compound, triallylimidazole dimer, onium compound, benzophenone compound, acetophenone compound, trihalomethyltriazine compound, α-aminoketone Most preferred is at least one compound selected from the group consisting of compounds, oxime compounds, triallylimidazole dimer, and benzophenone compounds.

特に、本発明の着色感放射線性組成物を固体撮像素子が備えるカラーフィルタの作製に使用する場合には、微細なパターンをシャープな形状で形成し、着色パターンの直線性を向上するために、硬化性とともに非露光部に残渣がなく現像されることが重要である。このような観点からは、重合開始剤としてはオキシム化合物を使用することが特に好ましい。特に、固体撮像素子において微細なパターンを形成する場合、硬化用露光にステッパー露光を用いるが、この露光機はハロゲンにより損傷される場合があり、重合開始剤の添加量も低く抑える必要があるため、これらの点を考慮すれば、固体撮像素子の如き微細パターンを形成するには(E)重合開始剤としては、オキシム化合物を用いるのが最も好ましい。   In particular, when the colored radiation-sensitive composition of the present invention is used for producing a color filter provided in a solid-state imaging device, in order to form a fine pattern with a sharp shape and improve the linearity of the colored pattern, It is important that the development is performed with no residue in the non-exposed area as well as the curability. From such a viewpoint, it is particularly preferable to use an oxime compound as the polymerization initiator. In particular, when a fine pattern is formed in a solid-state imaging device, stepper exposure is used for curing exposure, but this exposure machine may be damaged by halogen, and it is necessary to keep the addition amount of a polymerization initiator low. Considering these points, it is most preferable to use an oxime compound as the polymerization initiator (E) for forming a fine pattern such as a solid-state imaging device.

本発明の着色感放射線性組成物に含有される(E)重合開始剤の含有量は、着色感放射線性組成物の全固形分に対し0.1質量%以上50質量%以下であることが好ましく、より好ましくは0.5質量%以上20質量%以下、更に好ましくは1質量%以上15質量%以下である。この範囲で、良好な感度とパターン形成性が得られる。   The content of the (E) polymerization initiator contained in the colored radiation-sensitive composition of the present invention is 0.1% by mass or more and 50% by mass or less based on the total solid content of the colored radiation-sensitive composition. More preferably, it is 0.5 mass% or more and 20 mass% or less, More preferably, it is 1 mass% or more and 15 mass% or less. Within this range, good sensitivity and pattern formability can be obtained.

<(F)有機溶剤>
本発明の着色感放射線性組成物は、有機溶剤を含有する。
有機溶剤の例としては、例えば、以下のものが挙げられる。
エステル類として、例えば、酢酸エチル、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸アルキル(例えば、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル(例えば、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル等))、3−オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例えば、3−オキシプロピオン酸メチル、3−オキシプロピオン酸エチル等(例えば、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル等))、2−オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例:2−オキシプロピオン酸メチル、2−オキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸プロピル等(例えば、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル))、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸メチル及び2−オキシ−2−メチルプロピオン酸エチル(例えば、2−メトキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−エトキシ−2−メチルプロピオン酸エチル等)、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸メチル、2−オキソブタン酸エチル等、並びに、エーテル類として、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート等、並びに、ケトン類として、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等、並びに、芳香族炭化水素類として、例えば、トルエン、キシレン等が好適に挙げられる。
<(F) Organic solvent>
The colored radiation-sensitive composition of the present invention contains an organic solvent.
Examples of the organic solvent include the following.
Examples of esters include ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, methyl lactate, ethyl lactate, alkyl oxyacetate ( For example, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate (eg, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, etc.), alkyl 3-oxypropionates (eg, Methyl 3-oxypropionate, ethyl 3-oxypropionate, etc. (for example, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate)), 2- Oxypro Onion acid alkyl esters (eg, methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate, propyl 2-oxypropionate, etc. (eg, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, 2-methoxypropionate) Propyl acid, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate)), methyl 2-oxy-2-methylpropionate and ethyl 2-oxy-2-methylpropionate (for example, 2-methoxy-2-methyl Methyl propionate, ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate, etc.), methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutanoate, ethyl 2-oxobutanoate, etc. As ethers, for example, Ethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene Glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, etc., and ketones, for example, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, etc., and aromatic hydrocarbons, for example, toluene, xylene, etc. Are preferable.

有機溶剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
有機溶剤を2種以上組みあわせて用いる場合、特に好ましくは、上記の3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、2−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、及びプロピレングリコールメチルエーテルアセテートから選択される2種以上で構成される混合溶液である。
An organic solvent may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
When two or more organic solvents are used in combination, the above-mentioned methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, 3-methoxypropionic acid are particularly preferable. It is a mixed solution composed of two or more selected from methyl, 2-heptanone, cyclohexanone, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol methyl ether, and propylene glycol methyl ether acetate.

着色感放射線性組成物に含まれる有機溶剤の量としては、着色感放射線性組成物の全量に対し、10質量%〜90質量%であることが好ましく、20質量%〜80質量%であることがより好ましく、25質量%〜75質量%であることが更に好ましい。   The amount of the organic solvent contained in the colored radiation-sensitive composition is preferably 10% by mass to 90% by mass, and 20% by mass to 80% by mass with respect to the total amount of the colored radiation-sensitive composition. Is more preferable, and it is still more preferable that it is 25 mass%-75 mass%.

<増感剤>
本発明の着色感放射線性組成物は、光重合開始剤の発生効率の向上や感光波長の長波長化の目的で、増感剤を含有してもよい。増感剤としては、300nm〜450nmの波長領域に吸収波長を有する増感剤が挙げられる。
<Sensitizer>
The colored radiation-sensitive composition of the present invention may contain a sensitizer for the purpose of improving the generation efficiency of the photopolymerization initiator and increasing the photosensitive wavelength. Examples of the sensitizer include a sensitizer having an absorption wavelength in a wavelength region of 300 nm to 450 nm.

増感剤としては、例えば、フェナントレン、アントラセン、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、9,10−ジアルコキシアントラセンのような多核芳香族類、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガルのようなキサンテン類、チオキサントン類、シアニン類、メロシアニン類、フタロシアニン類、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルーのようなチアジン類、アクリジン類、アントラキノン類、スクアリウム類、クマリン類、フェノチアジン類、フェナジン類、スチリルベンゼン類、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン類、カルバゾール類、ポルフィリン、スピロ化合物、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトンなどの芳香族ケトン化合物、N−アリールオキサゾリジノンなどのヘテロ環化合物などが挙げられる。   Examples of the sensitizer include polynuclear aromatics such as phenanthrene, anthracene, pyrene, perylene, triphenylene, and 9,10-dialkoxyanthracene, xanthene such as fluorescein, eosin, erythrosine, rhodamine B, and rose bengal. Thioxanthones, cyanines, merocyanines, phthalocyanines, thiazines such as thionine, methylene blue, toluidine blue, acridines, anthraquinones, squaliums, coumarins, phenothiazines, phenazines, styrylbenzenes, azo compounds , Diphenylmethane, triphenylmethane, distyrylbenzenes, carbazoles, porphyrins, spiro compounds, quinacridone, indigo, styryl, pyrylium compounds, pyromethene compounds, pyrazo Triazole compounds, benzothiazole compounds, barbituric acid derivatives, thiobarbituric acid derivatives, acetophenone, benzophenone, aromatic ketone compounds such as Michler's ketone, and heterocyclic compounds such as N- aryl oxazolidinone and the like.

<連鎖移動剤>
本発明の着色感放射線性組成物には、用いる光重合開始剤によっては、連鎖移動剤を加えると好ましい。連鎖移動剤としては、N,N-ジアルキルアミノ安息香酸アルキルエステルやチオール系化合物があげられ、チオール系化合物としては、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプト-1-フェニルベンズイミダゾール、3-メルカプトプロピオン酸、などを単独又は2種以上混合して使用することができる。
<Chain transfer agent>
Depending on the photopolymerization initiator used, it is preferable to add a chain transfer agent to the colored radiation-sensitive composition of the present invention. Examples of chain transfer agents include N, N-dialkylaminobenzoic acid alkyl esters and thiol compounds. Examples of thiol compounds include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercapto-1-phenylbenzimidazole, and 3-mercaptopropion. An acid etc. can be used individually or in mixture of 2 or more types.

<アルカリ可溶性樹脂>
本発明の着色感放射線性組成物は、(B)特定樹脂とは構造が異なるアルカリ可溶性樹脂を含有することも好ましい。前記アルカリ可溶性樹脂を含有することにより、現像性・パターン形成性がさらに向上する。
特定樹脂が酸基を有し、アルカリ可溶性を示す場合には、特定樹脂もアルカリ可溶性樹脂であるが、ここでは特定樹脂とは構造が異なるアルカリ可溶性樹脂について以下に述べる。
アルカリ可溶性樹脂としては、特定樹脂とは構造が異なる線状有機高分子重合体であってもよく、分子(好ましくは、アクリル系共重合体、スチレン系共重合体を主鎖とする分子)中に少なくとも1つのアルカリ可溶性を促進する基を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂としては、特定樹脂のうちアルカリ可溶性を示すもの、および特定樹脂とは構造が異なる線状有機高分子重合体の少なくとも一方を用いることが好ましく、また両方を含んでいてもよい。
<Alkali-soluble resin>
The colored radiation-sensitive composition of the present invention preferably also contains (B) an alkali-soluble resin having a structure different from that of the specific resin. By containing the alkali-soluble resin, the developability and pattern formability are further improved.
When the specific resin has an acid group and exhibits alkali solubility, the specific resin is also an alkali-soluble resin. Here, an alkali-soluble resin having a structure different from that of the specific resin will be described below.
The alkali-soluble resin may be a linear organic polymer having a structure different from that of the specific resin, and in a molecule (preferably a molecule having an acrylic copolymer or a styrene copolymer as a main chain). Can be appropriately selected from alkali-soluble resins having at least one group that promotes alkali solubility.
As the alkali-soluble resin in the present invention, it is preferable to use at least one of a specific resin that exhibits alkali-solubility and a linear organic polymer having a structure different from that of the specific resin. Good.

特定樹脂とは構造が異なる線状有機高分子重合体としては、耐熱性の観点からは、ポリヒドロキシスチレン系樹脂、ポリシロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル/アクリルアミド共重合体樹脂が好ましく、現像性制御の観点からは、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル/アクリルアミド共重合体樹脂が好ましい。
アルカリ可溶性を促進する基(以下、酸基ともいう)としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、フェノール性水酸基などが挙げられるが、有機溶剤に可溶で弱アルカリ水溶液により現像可能なものが好ましく、(メタ)アクリル酸が特に好ましいものとして挙げられる。これら酸基は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。
前記重合後に酸基を付与しうるモノマーとしては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等の水酸基を有するモノマー、グリシジル(メタ)アクリレート等のエポキシ基を有するモノマー、2−イソシアナートエチル(メタ)アクリレート等のイソシアネート基を有するモノマー等が挙げられる。これら酸基を導入するための単量体は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。アルカリ可溶性バインダーに酸基を導入するには、例えば、酸基を有するモノマーおよび/または重合後に酸基を付与しうるモノマー(以下「酸基を導入するための単量体」と称することもある。)を、単量体成分として重合するようにすればよい。なお、重合後に酸基を付与しうるモノマーを単量体成分として酸基を導入する場合には、重合後に例えば後述するような酸基を付与するための処理が必要となる。
As a linear organic polymer having a structure different from that of the specific resin, from the viewpoint of heat resistance, polyhydroxystyrene resin, polysiloxane resin, acrylic resin, acrylamide resin, acrylic / acrylamide copolymer resin From the viewpoint of developing property control, acrylic resins, acrylamide resins, and acrylic / acrylamide copolymer resins are preferable.
Examples of the group that promotes alkali solubility (hereinafter also referred to as an acid group) include a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, and a phenolic hydroxyl group. The group is soluble in an organic solvent and developed with a weak alkaline aqueous solution. Possible are preferable, and (meth) acrylic acid is particularly preferable. These acid groups may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the monomer capable of imparting an acid group after the polymerization include a monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, a monomer having an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate, and 2-isocyanatoethyl (meta ) Monomers having an isocyanate group such as acrylate. These monomers for introducing an acid group may be only one type or two or more types. In order to introduce an acid group into an alkali-soluble binder, for example, a monomer having an acid group and / or a monomer capable of imparting an acid group after polymerization (hereinafter sometimes referred to as “monomer for introducing an acid group”) .) May be polymerized as a monomer component. In addition, when introducing an acid group using a monomer capable of imparting an acid group after polymerization as a monomer component, for example, a treatment for imparting an acid group as described later is required after the polymerization.

特定樹脂とは構造が異なる線状有機高分子重合体であるアルカリ可溶性樹脂の製造には、例えば、公知のラジカル重合法による方法を適用することができる。ラジカル重合法でアルカリ可溶性樹脂を製造する際の温度、圧力、ラジカル開始剤の種類及びその量、溶媒の種類等々の重合条件は、当業者において容易に設定可能であり、実験的に条件を定めるようにすることもできる。   For the production of an alkali-soluble resin, which is a linear organic polymer having a structure different from that of the specific resin, for example, a known radical polymerization method can be applied. Polymerization conditions such as temperature, pressure, type and amount of radical initiator, type of solvent, etc. when producing an alkali-soluble resin by radical polymerization can be easily set by those skilled in the art, and the conditions are determined experimentally. It can also be done.

特定樹脂とは構造が異なる線状有機高分子重合体であるアルカリ可溶性樹脂としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマーが好ましく、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、ノボラック型樹脂などのアルカリ可溶性フェノール樹脂等、並びに側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの挙げられる。特に、(メタ)アクリル酸と、これと共重合可能な他の単量体との共重合体が、アルカリ可溶性樹脂として好適である。(メタ)アクリル酸と共重合可能な他の単量体としては、アルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。アルキル(メタ)アクリレート及びアリール(メタ)アクリレートとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、トリル(メタ)アクリレート、ナフチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート等、ビニル化合物としては、スチレン、α-メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、N-ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等、特開平10−300922号公報に記載のN位置換マレイミドモノマーとして、N―フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等を挙げることができる。なお、これらの(メタ)アクリル酸と共重合可能な他の単量体は1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。   The alkali-soluble resin, which is a linear organic polymer having a structure different from that of the specific resin, is preferably a polymer having a carboxylic acid in the side chain, such as a methacrylic acid copolymer, an acrylic acid copolymer, and an itaconic acid copolymer. , Crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer, alkali-soluble phenol resin such as novolac resin, etc., acidic cellulose derivative having carboxylic acid in the side chain, polymer having hydroxyl group The thing which added the acid anhydride is mentioned. In particular, a copolymer of (meth) acrylic acid and another monomer copolymerizable therewith is suitable as the alkali-soluble resin. Examples of other monomers copolymerizable with (meth) acrylic acid include alkyl (meth) acrylates, aryl (meth) acrylates, and vinyl compounds. As alkyl (meth) acrylate and aryl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, Examples of vinyl compounds such as hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, tolyl (meth) acrylate, naphthyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, glycidyl methacrylate, acrylonitrile, vinyl acetate, N-vinylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl methacrylate, polystyrene macro Examples of N-substituted maleimide monomers described in JP-A-10-300922 such as monomers and polymethylmethacrylate macromonomers include N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide. In addition, only 1 type may be sufficient as the other monomer copolymerizable with these (meth) acrylic acids, and 2 or more types may be sufficient as it.

アルカリ可溶性フェノール樹脂としては、本発明の着色感光性組成物をポジ型の組成物とする場合に好適に用いることができる。アルカリ可溶性フェノール樹脂としては、例えば、ノボラック樹脂、又はビニル重合体等が挙げられる。
上記ノボラック樹脂としては、例えば、フェノール類とアルデヒド類とを酸触媒の存在下に縮合させて得られるものが挙げられる。上記フェノール類としては、例えば、フェノール、クレゾール、エチルフェノール、ブチルフェノール、キシレノール、フェニルフェノール、カテコール、レゾルシノール、ピロガロール、ナフトール、又はビスフェノールA等が挙げられる。
上記アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、又はベンズアルデヒド等が挙げられる。
上記フェノール類及びアルデヒド類は、単独若しくは2種以上を組み合わせて用いることができる。
As alkali-soluble phenol resin, when the colored photosensitive composition of this invention makes a positive composition, it can use suitably. Examples of the alkali-soluble phenol resin include novolak resins and vinyl polymers.
Examples of the novolac resin include those obtained by condensing phenols and aldehydes in the presence of an acid catalyst. Examples of the phenols include phenol, cresol, ethylphenol, butylphenol, xylenol, phenylphenol, catechol, resorcinol, pyrogallol, naphthol, and bisphenol A.
Examples of the aldehydes include formaldehyde, paraformaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, and benzaldehyde.
The said phenols and aldehydes can be used individually or in combination of 2 or more types.

上記ノボラック樹脂の具体例としては、例えば、メタクレゾール、パラクレゾール又はこれらの混合物とホルマリンとの縮合生成物が挙げられる。   Specific examples of the novolak resin include, for example, a condensation product of metacresol, paracresol or a mixture thereof and formalin.

上記ノボラック樹脂は分別等の手段を用いて分子量分布を調節してもよい。又、ビスフェノールCやビスフェノールA等のフェノール系水酸基を有する低分子量成分を上記ノボラック樹脂に混合してもよい。   The novolak resin may be adjusted in molecular weight distribution by means of fractionation or the like. Moreover, you may mix the low molecular weight component which has phenolic hydroxyl groups, such as bisphenol C and bisphenol A, with the said novolak resin.

また、本発明における着色感放射線性組成物の架橋効率を向上させるために、重合性基を有したアルカリ可溶性樹脂を使用してもよい。重合性基を有したアルカリ可溶性樹脂としては、アリル基、(メタ)アクリル基、アリルオキシアルキル基等を側鎖に含有したアルカリ可溶性樹脂等が有用である。上述の重合性基を含有するポリマーの例としては、ダイヤナ-ルNRシリーズ(三菱レイヨン株式会社製)、Photomer6173(COOH含有 polyurethane acrylic oligomer.Diamond Shamrock Co.Ltd.,製)、ビスコートR−264、KSレジスト106(いずれも大阪有機化学工業株式会社製)、サイクロマーPシリーズ、プラクセル CF200シリーズ(いずれもダイセル化学工業株式会社製)、Ebecryl3800(ダイセルユーシービー株式会社製)などが挙げられる。
これら重合性基を含有するアルカリ可溶性樹脂としては、予めイソシアネート基とOH基を反応させ、未反応のイソシアネート基を1つ残し、かつ(メタ)アクリロイル基を含む化合物とカルボキシル基を含むアクリル樹脂との反応によって得られるウレタン変性した重合性二重結合含有アクリル樹脂、カルボキシル基を含むアクリル樹脂と分子内にエポキシ基及び重合性二重結合を共に有する化合物との反応によって得られる不飽和基含有アクリル樹脂、酸ペンダント型エポキシアクリレート樹脂、OH基を含むアクリル樹脂と重合性二重結合を有する2塩基酸無水物を反応させた重合性二重結合含有アクリル樹脂、OH基を含むアクリル樹脂とイソシアネートと重合性基を有する化合物を反応させた樹脂、特開2002-229207号公報及び特開2003-335814号公報に記載されるα位又はβ位にハロゲン原子或いはスルホネート基などの脱離基を有するエステル基を側鎖に有する樹脂を塩基性処理を行うことで得られる樹脂などが好ましい。
Moreover, in order to improve the crosslinking efficiency of the colored radiation-sensitive composition in the present invention, an alkali-soluble resin having a polymerizable group may be used. As the alkali-soluble resin having a polymerizable group, an alkali-soluble resin containing an allyl group, a (meth) acryl group, an allyloxyalkyl group or the like in the side chain is useful. Examples of the above-mentioned polymer containing a polymerizable group include: Dynal NR series (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Photomer 6173 (COOH-containing polyurethane acrylic oligomer. Manufactured by Diamond Shamrock Co. Ltd.), Biscote R-264, KS resist 106 (all manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), Cyclomer P series, Plaxel CF200 series (all manufactured by Daicel Chemical Industry Co., Ltd.), Ebecryl 3800 (manufactured by Daicel UCB Co., Ltd.), and the like.
As an alkali-soluble resin containing these polymerizable groups, an isocyanate group and an OH group are reacted in advance to leave one unreacted isocyanate group and a compound containing a (meth) acryloyl group and an acrylic resin containing a carboxyl group; Urethane-modified polymerizable double bond-containing acrylic resin obtained by the above reaction, unsaturated group-containing acrylic obtained by reaction of an acrylic resin containing a carboxyl group and a compound having both an epoxy group and a polymerizable double bond in the molecule Resin, acid pendant type epoxy acrylate resin, OH group-containing acrylic resin and polymerizable double bond-containing acrylic resin obtained by reacting a polymerizable double bond, OH group-containing acrylic resin and isocyanate Resin obtained by reacting a compound having a polymerizable group, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-229207 And a resin obtained by performing a basic treatment on a resin having an ester group having a leaving group such as a halogen atom or a sulfonate group at the α-position or β-position described in JP-A-2003-335814 Etc. are preferable.

アルカリ可溶性樹脂としては、特に、ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体やベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/他のモノマーからなる多元共重合体が好適である。この他、2−ヒドロキシエチルメタクリレートを共重合したもの、特開平7−140654号公報に記載の、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/メチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジルメタクレート/メタクリル酸共重合体などが挙げられる。   As the alkali-soluble resin, in particular, a benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer and a multi-component copolymer composed of benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / other monomers are suitable. In addition, a copolymer of 2-hydroxyethyl methacrylate, a 2-hydroxypropyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer described in JP-A-7-140654, 2-hydroxy -3-phenoxypropyl acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer.

特定樹脂とは構造が異なる線状有機高分子重合体であるアルカリ可溶性樹脂の酸価としては好ましくは30mgKOH/g〜200mgKOH/g、より好ましくは50mgKOH/g〜150mgKOH/gであることが好ましく、70〜120mgKOH/gであることが最も好ましい。
また、特定樹脂とは構造が異なる線状有機高分子重合体であるアルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量(Mw)としては、2,000〜50,000が好ましく、5,000〜30,000がさらに好ましく、7,000〜20,000が最も好ましい。
The acid value of the alkali-soluble resin which is a linear organic polymer having a structure different from that of the specific resin is preferably 30 mgKOH / g to 200 mgKOH / g, more preferably 50 mgKOH / g to 150 mgKOH / g, Most preferably, it is 70-120 mgKOH / g.
In addition, the weight average molecular weight (Mw) of the alkali-soluble resin, which is a linear organic polymer having a structure different from that of the specific resin, is preferably 2,000 to 50,000, and more preferably 5,000 to 30,000. Preferably, 7,000 to 20,000 is most preferable.

特定樹脂とは構造が異なる線状有機高分子重合体であるアルカリ可溶性樹脂の着色感放射線性組成物中における含有量としては、該組成物の全固形分に対して、1〜15質量%が好ましく、より好ましくは、2〜12質量%であり、特に好ましくは、3〜10質量%である。ただし、本発明における特定樹脂の含有量に対し、40質量%以下であることが好ましい。   The content of the alkali-soluble resin, which is a linear organic polymer having a structure different from that of the specific resin, in the colored radiation-sensitive composition is 1 to 15% by mass with respect to the total solid content of the composition. More preferably, it is 2-12 mass%, Most preferably, it is 3-10 mass%. However, it is preferable that it is 40 mass% or less with respect to content of the specific resin in this invention.

<重合禁止剤>
本発明の着色感放射線性組成物においては、該着色感放射線性組成物の製造中又は保存中において、重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために、少量の重合禁止剤を添加することが望ましい。
本発明に用いうる重合禁止剤としては、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。中でも、p−メトキシフェノールが好ましい。
重合禁止剤の添加量は、着色感放射線性組成物の質量に対して、約0.01質量%〜約5質量%が好ましい。
<Polymerization inhibitor>
In the colored radiation-sensitive composition of the present invention, a small amount of a polymerization inhibitor should be added in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound during the production or storage of the colored radiation-sensitive composition. Is desirable.
Examples of the polymerization inhibitor that can be used in the present invention include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis (3-methyl-6- t-butylphenol), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine primary cerium salt and the like. Of these, p-methoxyphenol is preferred.
The addition amount of the polymerization inhibitor is preferably about 0.01% by mass to about 5% by mass with respect to the mass of the colored radiation-sensitive composition.

<基板密着剤>
さらに、本発明においては、基板密着性を向上させうる基板密着剤を、着色感放射線性組成物に加えてもよい。
基板密着剤としては、シラン系カップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤を用いることが好ましい。シラン系カップリング剤としては、例えば、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、等が挙げられる。中でも、基板密着剤としては、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが好ましい。
<Board adhesive>
Furthermore, in this invention, you may add the board | substrate adhesive agent which can improve board | substrate adhesiveness to a coloring radiation sensitive composition.
As the substrate adhesion agent, it is preferable to use a silane coupling agent, a titanate coupling agent, or an aluminum coupling agent. Examples of the silane coupling agent include γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloxypropyltriethoxysilane, and γ-mercaptopropyl. Examples include trimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, and phenyltrimethoxysilane. Among these, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane is preferable as the substrate adhesion agent.

基板密着剤の含有量は、着色感放射線性組成物を露光、現像した際に、未露光部に残渣が残らないようにする観点から、本発明の感放射線性組成物の全固形分に対して、0.1質量%以上30質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以上20質量%以下であることがより好ましく、1質量%以上10質量%以下であることが特に好ましい。   The content of the substrate adhesive is based on the total solid content of the radiation-sensitive composition of the present invention from the viewpoint of leaving no residue in the unexposed area when the colored radiation-sensitive composition is exposed and developed. It is preferably 0.1% by mass or more and 30% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or more and 20% by mass or less, and particularly preferably 1% by mass or more and 10% by mass or less.

<界面活性剤>
本発明の着色感放射線性組成物には、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
<Surfactant>
Various surfactants may be added to the colored radiation-sensitive composition of the present invention from the viewpoint of further improving coatability. As the surfactant, various surfactants such as a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicon-based surfactant can be used.

特に、本発明の着色感放射線性組成物は、フッ素系界面活性剤を含有することで、塗布液として調製したときの液特性(特に、流動性)がより向上することから、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。
即ち、フッ素系界面活性剤を含有する着色感放射線性組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させることにより、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μm程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。
In particular, since the colored radiation-sensitive composition of the present invention contains a fluorosurfactant, the liquid properties (particularly fluidity) when prepared as a coating liquid are further improved, so that the coating thickness is uniform. And liquid-saving properties can be further improved.
That is, in the case of forming a film using a coating liquid to which a colored radiation-sensitive composition containing a fluorosurfactant is applied, the surface to be coated is reduced by reducing the interfacial tension between the surface to be coated and the coating liquid. The wettability is improved, and the coating property to the coated surface is improved. For this reason, even when a thin film of about several μm is formed with a small amount of liquid, it is effective in that it is possible to more suitably form a film having a uniform thickness with small thickness unevenness.

フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、3質量%〜40質量%が好適であり、より好ましくは5質量%〜30質量%であり、特に好ましくは7質量%〜25質量%である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、着色感放射線性組成物中における溶解性も良好である。   The fluorine content in the fluorosurfactant is preferably 3% by mass to 40% by mass, more preferably 5% by mass to 30% by mass, and particularly preferably 7% by mass to 25% by mass. A fluorosurfactant having a fluorine content within this range is effective in terms of uniformity of coating film thickness and liquid-saving properties, and has good solubility in a colored radiation-sensitive composition. .

フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックF171、同F172、同F173、同F176、同F177、同F141、同F142、同F143、同F144、同R30、同F437、同F475、同F479、同F482、同F554、同F780、同F781(以上、DIC(株)製)、フロラードFC430、同FC431、同FC171(以上、住友スリーエム(株)製)、サーフロンS−382、同SC−101、同SC−103、同SC−104、同SC−105、同SC1068、同SC−381、同SC−383、同S393、同KH−40(以上、旭硝子(株)製)等が挙げられる。   Examples of the fluorosurfactant include Megafac F171, F172, F173, F176, F176, F177, F141, F142, F143, F144, R30, F437, F475, F479, F482, F554, F780, F780, F781 (above DIC Corporation), Florard FC430, FC431, FC171 (above, Sumitomo 3M Limited), Surflon S-382, SC-101, SC-103, SC-104, SC-105, SC1068, SC-381, SC-383, S393, and KH-40 (above, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.).

ノニオン系界面活性剤として具体的には、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート(例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセリンエトキシレート等)、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル(BASF社製のプルロニックL10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2、テトロニック304、701、704、901、904、150R1、ソルスパース20000(日本ルーブリゾール(株)製)、パイオニンD−6112−W(竹本油脂(株)製)等が挙げられる。   Specific examples of nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane, and ethoxylates and propoxylates thereof (for example, glycerol propoxylate, glycerin ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene Stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester (Pluronic L10, L31, L61, L62 manufactured by BASF, 10R5, 17R2, 25R2, Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1, Sol Perth 20000 (manufactured by Nippon Lubrizol Corporation), Pionin D-6112-W (produced by Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.), and the like.

カチオン系界面活性剤として具体的には、フタロシアニン誘導体(商品名:EFKA−745、森下産業(株)製)、オルガノシロキサンポリマーKP341(信越化学工業(株)製)、(メタ)アクリル酸系(共)重合体ポリフローNo.75、No.90、No.95(共栄社化学(株)製)、W001(裕商(株)製)等が挙げられる。   Specific examples of the cationic surfactant include phthalocyanine derivatives (trade name: EFKA-745, manufactured by Morishita Sangyo Co., Ltd.), organosiloxane polymer KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), (meth) acrylic acid ( Co) polymer polyflow no. 75, no. 90, no. 95 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), W001 (manufactured by Yusho Co., Ltd.) and the like.

アニオン系界面活性剤として具体的には、W004、W005、W017(裕商(株)社製)等が挙げられる。   Specific examples of the anionic surfactant include W004, W005, W017 (manufactured by Yusho Co., Ltd.) and the like.

シリコン系界面活性剤としては、例えば、トーレシリコーンDC3PA、トーレシリコーンSH7PA、トーレシリコーンDC11PA、トーレシリコーンSH21PA、トーレシリコーンSH28PA、トーレシリコーンSH29PA、トーレシリコーンSH30PA、トーレシリコーンSH8400(以上、東レ・ダウコーニング(株)製)、TSF−4440、TSF−4300、TSF−4445、TSF−4460、TSF−4452(以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製)、KP341、KF6001、KF6002(以上、信越シリコーン株式会社製)、BYK307、BYK323、BYK330(以上、ビックケミー社製)等が挙げられる。   Examples of the silicone-based surfactant include Torre Silicone DC3PA, Torre Silicone SH7PA, Torre Silicone DC11PA, Torre Silicone SH21PA, Torree Silicone SH28PA, Torree Silicone SH29PA, Torree Silicone SH30PA, Torree Silicone SH8400 (above, Toray Dow Corning Co., Ltd.) )), TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460, TSF-4442 (above, manufactured by Momentive Performance Materials), KP341, KF6001, KF6002 (above, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) , BYK307, BYK323, BYK330 (above, manufactured by BYK Chemie) and the like.

界面活性剤は、1種のみを用いてもよいし、2種類以上を組み合わせてもよい。
界面活性剤の添加量は、着色感放射線性組成物の全質量に対して、0.001質量%〜2.0質量%が好ましく、より好ましくは0.005質量%〜1.0質量%である。
Only one type of surfactant may be used, or two or more types may be combined.
The addition amount of the surfactant is preferably 0.001% by mass to 2.0% by mass, more preferably 0.005% by mass to 1.0% by mass with respect to the total mass of the colored radiation-sensitive composition. is there.

<その他成分>
本発明の着色感放射線性組成物には、必要に応じて、N,N-ジアルキルアミノ安息香酸アルキルエステルや2-メルカプトベンゾチアゾールなどの連鎖移動剤、アゾ系化合物や過酸化物系化合物などの熱重合開始剤、熱重合成分、膜の強度、感度を高める目的で多官能チオールやエポキシ化合物、ジオクチルフタレートなどの可塑剤、低分子量有機カルボン酸などの現像性向上剤、その他充填剤、上記の特定バインダーやアルカリ可溶性樹脂以外の高分子化合物、酸化防止剤、凝集防止剤などの各種添加物を含有することができる。
また、現像後に後加熱で膜の硬化度を上げるために熱硬化剤を添加することができる。熱硬化剤としては、アゾ化合物、過酸化物等の熱重合開始剤、ノボラック樹脂、レゾール樹脂、エポキシ化合物、スチレン化合物等があげられる。
<Other ingredients>
In the colored radiation-sensitive composition of the present invention, a chain transfer agent such as N, N-dialkylaminobenzoic acid alkyl ester and 2-mercaptobenzothiazole, an azo compound, a peroxide compound, etc. Thermal polymerization initiators, thermal polymerization components, film strength, plasticizers such as epoxy compounds and dioctyl phthalate for the purpose of increasing the sensitivity and sensitivity, developability improvers such as low molecular weight organic carboxylic acids, other fillers, Various additives such as a polymer compound other than the specific binder and the alkali-soluble resin, an antioxidant, and an aggregation inhibitor can be contained.
Further, a thermosetting agent can be added to increase the degree of curing of the film by post-heating after development. Examples of the thermosetting agent include thermal polymerization initiators such as azo compounds and peroxides, novolac resins, resole resins, epoxy compounds, and styrene compounds.

−着色感放射線性組成物の調製−
本発明の着色感放射線性組成物は、上記した(A)〜(D)の各成分及び所望により用いられる他の成分と共に、有機溶剤を用いて調製することが好ましい。
-Preparation of colored radiation-sensitive composition-
The colored radiation-sensitive composition of the present invention is preferably prepared using an organic solvent together with the components (A) to (D) described above and other components used as desired.

本発明の着色感放射線性組成物は、固体撮像素子に用いられるカラーフィルタ製造用の他、液晶表示装置用のカラーフィルタ、印刷用インク、インクジェット用インク等に適用することができる。   The colored radiation-sensitive composition of the present invention can be applied to color filters for liquid crystal display devices, printing inks, inkjet inks, etc., in addition to the production of color filters used in solid-state imaging devices.

本発明の着色感放射線性組成物は、微細な顔料を高濃度で含有しても、顔料分散安定性と現像性に優れ、高精細で色特性の良好な着色領域を形成しうることから、固体撮像素子用のカラーフィルタの製造、特に、膜厚が0.8μm以下、好ましくは、0.1μm〜0.5μmの範囲の画素を形成するような場合においても、その効果が著しいといえる。   The colored radiation-sensitive composition of the present invention is excellent in pigment dispersion stability and developability even when containing a fine pigment at a high concentration, and can form a colored region with high definition and good color characteristics. Even when a color filter for a solid-state image sensor is manufactured, particularly when a film thickness of 0.8 μm or less, preferably 0.1 μm to 0.5 μm is formed, the effect is remarkable.

本発明の着色感放射線性組成物は、分散安定性にも優れているため、色再現性に優れた液晶表示装置や解像性に優れた固体撮像素子が備えるカラーフィルタの形成用途に適用する場合には、薄膜形成が可能となる点で有利であることから、当該用途においては顔料を高濃度に含有させた態様に調製することが好ましい。   Since the colored radiation-sensitive composition of the present invention is excellent in dispersion stability, it is applied to the formation of a color filter provided in a liquid crystal display device excellent in color reproducibility or a solid-state imaging device excellent in resolution. In this case, since it is advantageous in that a thin film can be formed, it is preferable to prepare a mode in which the pigment is contained at a high concentration in the application.

本発明の着色感放射線性組成物における顔料濃度としては、着色感放射線性組成物の全固形分(即ち、顔料、分散剤、特定樹脂、アルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、光重合性開始剤、及びその他の添加剤など、溶剤を除いた成分の合計の質量)に対し、40質量%以上が好ましく、45質量%以上がさらに好ましい。   As the pigment concentration in the colored radiation-sensitive composition of the present invention, the total solid content of the colored radiation-sensitive composition (that is, pigment, dispersant, specific resin, alkali-soluble resin, polymerizable compound, photopolymerizable initiator, And 40% by mass or more, more preferably 45% by mass or more, based on the total mass of the components excluding the solvent, such as other additives.

本発明の着色感放射線性組成物は、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルタで濾過することが好ましい。従来からろ過用途等に用いられているものであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)等のフッ素樹脂、ナイロン−6、ナイロン−6,6等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン(PP)等のポリオレフィン樹脂(高密度、超高分子量を含む)等によるフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン(高密度ポリプロピレンを含む)が好ましい。
フィルタの孔径は、0.01〜7.0μm程度が適しており、好ましくは0.01〜2.5μm程度、さらに好ましくは0.01〜2.0μm程度である。この範囲とすることにより、後工程において均一及び平滑な着色感放射線性組成物の調製を阻害する、微細な異物を確実に除去することが可能となる。
The colored radiation-sensitive composition of the present invention is preferably filtered with a filter for the purpose of removing foreign substances or reducing defects. If it is conventionally used for the filtration use etc., it can use without being specifically limited. For example, fluorine resins such as PTFE (polytetrafluoroethylene), polyamide resins such as nylon-6 and nylon-6,6, polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene (PP) (including high density and ultra high molecular weight), etc. Filter. Among these materials, polypropylene (including high density polypropylene) is preferable.
The filter has a pore diameter of about 0.01 to 7.0 μm, preferably about 0.01 to 2.5 μm, and more preferably about 0.01 to 2.0 μm. By setting it as this range, it becomes possible to remove reliably the fine foreign material which inhibits preparation of the uniform and smooth coloring radiation sensitive composition in a post process.

フィルタを使用する際、異なるフィルタを組み合わせてもよい。その際、第1のフィルタでのフィルタリングは、1回のみでもよいし、2回以上行ってもよい。
また、上述した範囲内で異なる孔径の第1のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社(旧日本マイクロリス株式会社)又は株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
第2のフィルタは、上述した第1のフィルタと同様の材料等で形成されたものを使用することができる。
例えば、第1のフィルタでのフィルタリングは、分散液のみで行い、他の成分を混合した後で、第2のフィルタリングを行ってもよい。
When using filters, different filters may be combined. At that time, the filtering by the first filter may be performed only once or may be performed twice or more.
Moreover, you may combine the 1st filter of a different hole diameter within the range mentioned above. The pore diameter here can refer to the nominal value of the filter manufacturer. As a commercially available filter, for example, it can be selected from various filters provided by Nippon Pole Co., Ltd., Advantech Toyo Co., Ltd., Japan Entegris Co., Ltd. (formerly Japan Microlith Co., Ltd.) or KITZ Micro Filter Co., Ltd. .
As the second filter, a filter formed of the same material as the first filter described above can be used.
For example, the filtering by the first filter may be performed only with the dispersion, and the second filtering may be performed after mixing other components.

[カラーフィルタ及びその製造方法]
次に、本発明のカラーフィルタ及びその製造方法について説明する。
本発明のカラーフィルタは、基板上に、本発明の着色感放射線性組成物を用いてなる着色領域(着色パターン)を有することを特徴とする。
以下、本発明のカラーフィルタについて、その製造方法(本発明のカラーフィルタの製造方法)を通じて詳述する。
[Color filter and manufacturing method thereof]
Next, the color filter of the present invention and the manufacturing method thereof will be described.
The color filter of the present invention has a colored region (colored pattern) formed using the colored radiation-sensitive composition of the present invention on a substrate.
Hereinafter, the color filter of the present invention will be described in detail through its manufacturing method (color filter manufacturing method of the present invention).

本発明のカラーフィルタの製造方法は、本発明の感放射線性組成物を基板上に付与して感放射線性組成物層(着色層)を形成する工程(着色層形成工程)と、前記感放射線性組成物層をパターン状に露光する工程(露光工程)と、露光後の前記感放射線性組成物層を現像して着色パターン成形する工程(現像工程)とを含むことを特徴とする。   The method for producing a color filter of the present invention includes a step of forming a radiation-sensitive composition layer (colored layer) by applying the radiation-sensitive composition of the present invention onto a substrate (colored layer forming step), and the radiation-sensitive composition. A step of exposing the photosensitive composition layer in a pattern (exposure step) and a step of developing the radiation-sensitive composition layer after exposure to form a colored pattern (development step).

<着色層形成工程>
着色層形成工程では、基板体上に、本発明の着色感放射線性組成物を塗布して該着色感放射線性組成物からなる着色層(感放射線性組成物層)を形成する。
<Colored layer forming step>
In the colored layer forming step, the colored radiation-sensitive composition of the present invention is applied onto the substrate body to form a colored layer (radiation-sensitive composition layer) comprising the colored radiation-sensitive composition.

本工程に用いうる基板としては、例えば、固体撮像素子に用いられるCCDやCMOSにおける光電変換素子基板、シリコン基板等や、液晶表示装置等に用いられる無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、石英ガラス、及びこれらに透明導電膜を付着させたもの等が挙げられる。これらの基板は、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されている場合もある。
また、これらの基板上には、必要により、上部の層との密着改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。
Examples of the substrate that can be used in this step include a non-alkali glass, soda glass, and Pyrex (registered trademark) used in a CCD or CMOS photoelectric conversion element substrate, a silicon substrate, a liquid crystal display device, or the like used in a solid-state imaging device. Examples thereof include glass, quartz glass, and those obtained by attaching a transparent conductive film thereto. In some cases, a black matrix for isolating each pixel is formed on these substrates.
Further, if necessary, an undercoat layer may be provided on these substrates in order to improve adhesion with the upper layer, prevent diffusion of substances, or planarize the substrate surface.

基板上への本発明の着色感放射線性組成物の塗布方法としては、スリット塗布、インクジェット法、回転塗布、流延塗布、ロール塗布、スクリーン印刷法等の各種の塗布方法を適用することができる。   As a coating method of the colored radiation-sensitive composition of the present invention on the substrate, various coating methods such as slit coating, ink jet method, spin coating, cast coating, roll coating, screen printing method and the like can be applied. .

基板上に塗布された着色層(着色感放射線性組成物層)の乾燥(プリベーク)は、ホットプレート、オーブン等で50℃〜140℃の温度で10秒〜300秒で行うことができる。   The colored layer (colored radiation-sensitive composition layer) applied on the substrate can be dried (prebaked) at a temperature of 50 ° C. to 140 ° C. for 10 seconds to 300 seconds using a hot plate, oven, or the like.

着色層の乾燥後の塗布膜厚(以下、適宜、「乾燥膜厚」と称する)としては、色濃度確保の観点、斜め方向の光が受光部に到達せず、又、デバイスの端と中央とで集光率の差が顕著になる等の不具合を低減する観点から、0.05μm以上1.0μm未満が好ましく、0.1μm以上0.8μm以下がより好ましく、0.2μm以上0.7μm以下が特に好ましい。   The coating thickness of the colored layer after drying (hereinafter referred to as “dry thickness” as appropriate) is as follows. From the viewpoint of ensuring color density, light in an oblique direction does not reach the light receiving portion, and the edge and center of the device. From the viewpoint of reducing problems such as a significant difference in the light collection rate, 0.05 μm or more and less than 1.0 μm is preferable, 0.1 μm or more and 0.8 μm or less is more preferable, 0.2 μm or more and 0.7 μm The following are particularly preferred:

<露光工程>
露光工程では、前記着色層形成工程において形成された着色層(感放射線性組成物層)を、パターン状に露光する。
本工程における露光においては、着色層の露光は、所定のマスクパターンを介して露光し、光照射された塗布膜部分だけを硬化させることによりことにより行うことが好ましい。露光に際して用いることができる放射線としては、特に、g線、h線、i線等の放射線が好ましく用いられる。照射量は30mJ/cm〜1500mJ/cmが好ましく、50mJ/cm〜1000mJ/cmがより好ましく、80mJ/cm〜500mJ/cmが最も好ましい。
<Exposure process>
In the exposure step, the colored layer (radiation sensitive composition layer) formed in the colored layer forming step is exposed in a pattern.
In the exposure in this step, the colored layer is preferably exposed by exposing it through a predetermined mask pattern and curing only the coating film portion irradiated with light. As radiation that can be used for exposure, radiation such as g-line, h-line, and i-line is particularly preferably used. Irradiation dose is preferably 30mJ / cm 2 ~1500mJ / cm 2 , more preferably 50mJ / cm 2 ~1000mJ / cm 2 , 80mJ / cm 2 ~500mJ / cm 2 being most preferred.

<現像工程>
露光工程に次いで、アルカリ現像処理(現像工程)を行うことにより、露光後の未硬化部を現像液に溶出させ、光硬化した部分を残存させる。この現像工程により、各色(例えば、3色あるいは4色)の画素からなるパターン状皮膜を形成することができる。
現像方式は、デイップ方式、シャワー方式、スプレー方式、パドル方式などいずれでもよく、これにスウィング方式、スピン方式、超音波方式などを組み合わせてもよい。
現像液に触れる前に、被現像面を予め水等で湿しておいて、現像むらを防ぐこともできる。
<Development process>
Subsequent to the exposure step, an alkali development treatment (development step) is performed to elute the uncured portion after the exposure into the developer and leave the photocured portion. By this development step, a patterned film composed of pixels of each color (for example, 3 colors or 4 colors) can be formed.
The development method may be any of a dip method, a shower method, a spray method, a paddle method, etc., and a swing method, a spin method, an ultrasonic method, or the like may be combined therewith.
Before the developer is touched, the surface to be developed can be previously moistened with water or the like to prevent uneven development.

現像液としては、下地の回路などにダメージを起さない、有機アルカリ現像液が望ましい。現像温度としては、通常20℃〜30℃であり、現像時間は20〜90秒である。
現像液が含むアルカリ剤としては、例えば、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ−[5、4、0]−7−ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の無機化合物等が挙げられる。
現像液としては、これらのアルカリ剤を濃度が0.001質量%〜10質量%、好ましくは0.01質量%〜1質量%となるように、純水で希釈したアルカリ性水溶液が好ましく使用される。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に現像後、純水で洗浄(リンス)する。
As the developer, an organic alkali developer that does not damage the underlying circuit or the like is desirable. The development temperature is usually 20 ° C. to 30 ° C., and the development time is 20 to 90 seconds.
Examples of the alkaline agent contained in the developer include ammonia water, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo- [5, 4, Organic alkali compounds such as 0] -7-undecene, and inorganic compounds such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, and the like.
As the developer, an alkaline aqueous solution obtained by diluting these alkaline agents with pure water so that the concentration is 0.001% by mass to 10% by mass, preferably 0.01% by mass to 1% by mass is preferably used. . In addition, when using the developing solution which consists of such alkaline aqueous solution, generally it wash | cleans (rinse) with a pure water after image development.

次いで、余剰の現像液を洗浄除去し、乾燥を施す。
なお、本発明の製造方法においては、上述した、着色層形成工程、露光工程、及び現像工程を行った後に、必要により、形成された着色パターンを後加熱(ポストベーク)や後露光により硬化する硬化工程を含んでいてもよい。ポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の加熱処理であり、通常100℃〜270℃の熱硬化処理を行う。光を用いる場合には、g線、h線、i線、KrFやArFなどのエキシマレーザ、電子線、X線等により行うことができるが、既存の高圧水銀灯で20〜50℃程度の低温で行うことが好ましく、照射時間としては、10秒〜180秒、好ましくは30秒〜60秒である。後露光と後加熱との併用の場合、後露光を先に実施することが好ましい。
Next, excess developer is washed away and dried.
In the production method of the present invention, after the above-described colored layer forming step, exposure step, and development step, the formed colored pattern is cured by post-heating (post-baking) or post-exposure, if necessary. A curing step may be included. The post-baking is a heat treatment after development for complete curing, and usually a heat curing treatment at 100 ° C. to 270 ° C. is performed. In the case of using light, it can be performed by g-line, h-line, i-line, excimer laser such as KrF or ArF, electron beam, X-ray, etc., but with an existing high-pressure mercury lamp at a low temperature of about 20-50 ° C. Preferably, the irradiation time is 10 seconds to 180 seconds, preferably 30 seconds to 60 seconds. In the case of combined use of post-exposure and post-heating, post-exposure is preferably performed first.

以上説明した、着色層形成工程、露光工程、及び現像工程(更に、必要により硬化工程)を所望の色相数だけ繰り返すことにより、所望の色相よりなるカラーフィルタが作製される。   By repeating the colored layer forming step, the exposure step, and the developing step (and, if necessary, the curing step) described above for the desired number of hues, a color filter having a desired hue is produced.

本発明のカラーフィルタは、露光感度にも優れた本発明の着色感放射線性組成物を用いて製造されるため、露光部における硬化した組成物は、基板との密着性及び耐現像性に優れ、形成された着色パターンと基板との密着性は高く、また、かつ、所望の断面形状を与えるパターンは微細な着色画素を有する。   Since the color filter of the present invention is produced using the colored radiation-sensitive composition of the present invention having excellent exposure sensitivity, the cured composition in the exposed area is excellent in adhesion to the substrate and development resistance. The adhesion between the formed colored pattern and the substrate is high, and the pattern giving a desired cross-sectional shape has fine colored pixels.

本発明の着色感放射線性組成物は、例えば、塗布装置吐出部のノズル、塗布装置の配管部、塗布装置内等に付着した場合でも、公知の洗浄液を用いて容易に洗浄除去することができる。この場合、より効率の良い洗浄除去を行うためには、本発明の着色感放射線性組成物に含まれる有機溶剤として前掲した有機溶剤を洗浄液として用いることが好ましい。   The colored radiation-sensitive composition of the present invention can be easily cleaned and removed using a known cleaning liquid even when it adheres to, for example, a nozzle of a coating apparatus discharge section, a piping section of a coating apparatus, or the inside of a coating apparatus. . In this case, in order to perform more efficient cleaning and removal, it is preferable to use the organic solvent described above as the cleaning liquid as the organic solvent contained in the colored radiation-sensitive composition of the present invention.

また、特開平7−128867号公報、特開平7−146562号公報、特開平8−278637号公報、特開2000−273370号公報、特開2006−85140号公報、特開2006−291191号公報、特開2007−2101号公報、特開2007−2102号公報、特開2007−281523号公報などに記載の洗浄液も、本発明の着色感放射線性組成物の洗浄除去用の洗浄液として好適に用いることができる。
洗浄液としては、アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、又はアルキレングリコールモノアルキルエーテルを用いることが好ましい。
洗浄液として用いうるこれら有機溶剤は、単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
有機溶剤2種以上を混合する場合、水酸基を有する有機溶剤と水酸基を有しない有機溶剤とを混合してなる混合溶剤が好ましい。水酸基を有する有機溶剤と水酸基を有しない有機溶剤との質量比は、1/99〜99/1、好ましくは10/90〜90/10、更に好ましくは20/80〜80/20である。混合溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)とプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)の混合溶剤で、その比率が60/40であることが特に好ましい。
なお、着色感放射線性組成物に対する洗浄液の浸透性を向上させるために、洗浄液には、着色感放射線性組成物が含有しうる界面活性剤として前掲した界面活性剤を添加してもよい。
JP-A-7-128867, JP-A-7-146562, JP-A-8-278737, JP-A-2000-273370, JP-A-2006-85140, JP-A-2006-291191, The cleaning liquids described in JP 2007-2101 A, JP 2007-2102 A, JP 2007-281523 A, etc. are also preferably used as cleaning liquids for cleaning and removing the colored radiation-sensitive composition of the present invention. Can do.
As the cleaning liquid, it is preferable to use alkylene glycol monoalkyl ether carboxylate or alkylene glycol monoalkyl ether.
These organic solvents that can be used as the cleaning liquid may be used alone or in combination of two or more.
When mixing 2 or more types of organic solvents, the mixed solvent formed by mixing the organic solvent which has a hydroxyl group, and the organic solvent which does not have a hydroxyl group is preferable. The mass ratio of the organic solvent having a hydroxyl group and the organic solvent not having a hydroxyl group is from 1/99 to 99/1, preferably from 10/90 to 90/10, more preferably from 20/80 to 80/20. The mixed solvent is a mixed solvent of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) and propylene glycol monomethyl ether (PGME), and the ratio is particularly preferably 60/40.
In addition, in order to improve the permeability of the cleaning liquid to the colored radiation-sensitive composition, the surfactant described above as a surfactant that may be contained in the colored radiation-sensitive composition may be added to the cleaning liquid.

また、本発明のカラーフィルタの製造方法によって製造された本発明のカラーフィルタは、CCD、CMOS等の固体撮像素子に好適に用いることができ、また電子ペーパーや有機EL等の画像表示デバイス、液晶表示装置などにも好適に用いることができる。特に100万画素を超えるような高解像度のCCDやCMOSの固体撮像素子に好適である。本発明のカラーフィルタは、例えば、CCD素子を構成する各画素の受光部と集光するためのマイクロレンズとの間に配置されるカラーフィルタとしても用いることができる。   The color filter of the present invention produced by the method for producing a color filter of the present invention can be suitably used for a solid-state imaging device such as a CCD and a CMOS, and also an image display device such as electronic paper and organic EL, a liquid crystal It can be suitably used for a display device or the like. In particular, it is suitable for a high-resolution CCD or CMOS solid-state imaging device exceeding 1 million pixels. The color filter of the present invention can also be used as, for example, a color filter disposed between a light receiving portion of each pixel constituting a CCD element and a microlens for condensing light.

[固体撮像素子]
本発明の固体撮像素子は、本発明のカラーフィルタを備える。本発明の固体撮像素子の構成としては、本発明の固体撮像素子用のカラーフィルタが備えられた構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。
[Solid-state imaging device]
The solid-state imaging device of the present invention includes the color filter of the present invention. The configuration of the solid-state imaging device of the present invention is a configuration provided with the color filter for the solid-state imaging device of the present invention, and is not particularly limited as long as the configuration functions as a solid-state imaging device. Can be mentioned.

基板上に、固体撮像素子(CCDイメージセンサー、CMOSイメージセンサー、等)の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる転送電極を有し、前記フォトダイオード及び前記転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面及びフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、前記デバイス保護膜上に、本発明の固体撮像素子用カラーフィルタを有する構成である。
更に、前記デバイス保護層上であってカラーフィルタの下(支持体に近い側)に集光手段(例えば、マイクロレンズ等。以下同じ)を有する構成や、カラーフィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。
A transfer electrode made of a plurality of photodiodes and polysilicon constituting a light receiving area of a solid-state imaging device (CCD image sensor, CMOS image sensor, etc.) is provided on a substrate, and a photo is formed on the photodiode and the transfer electrode. A device having a light-shielding film made of tungsten or the like that is open only in the light-receiving portion of the diode, and a device protective film made of silicon nitride or the like formed on the light-shielding film so as to cover the entire surface of the light-shielding film and the photodiode light-receiving portion The color filter for a solid-state imaging device of the present invention is provided on the protective film.
Further, a configuration having light collecting means (for example, a microlens, etc., the same shall apply hereinafter) on the device protective layer and under the color filter (on the side close to the support), or a structure having the light collecting means on the color filter. Etc.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「%」は、質量基準である。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist thereof. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass.

[下塗り層付シリコンウェハの作製]
下記の下塗り層用組成物の組成により、下塗り層用組成物を調製し、スピンコートにより、シリコンウェハ上に均一に塗布して塗布膜を形成し、形成された塗布膜を230℃のホットプレート上で120秒間加熱処理した。なお、スピンコートの塗布回転数は、加熱処理後の塗布膜の膜厚が約0.1μmとなるように調整した。
このようにして、シリコンウェハ上に下塗り層が形成された下塗り層付シリコンウェハを得た。
[Production of silicon wafer with undercoat layer]
An undercoat layer composition is prepared according to the composition of the undercoat layer below, and a coating film is formed by applying the composition uniformly on a silicon wafer by spin coating, and the formed coating film is formed on a hot plate at 230 ° C. Heat treatment was performed for 120 seconds above. The spin coating speed was adjusted so that the thickness of the coating film after the heat treatment was about 0.1 μm.
Thus, a silicon wafer with an undercoat layer in which an undercoat layer was formed on the silicon wafer was obtained.

(下塗り層用組成物の組成)
・有機溶剤:プロピレングリコールメチルエーテルアセテート(以下、PGMEAと称する) 54.56部
・有機溶剤:エトキシエチルプロピオネート(以下、EEPと称する。) 32.42部
・バインダー:ダイセル社製、商品名サイクロマーP CR−1000 12.19部
・フッ素系界面活性剤:DIC社製、商品名メガファックF−781、0.2%EEP溶液 0.83部
(Composition of composition for undercoat layer)
Organic solvent: Propylene glycol methyl ether acetate (hereinafter referred to as PGMEA) 54.56 parts Organic solvent: ethoxyethyl propionate (hereinafter referred to as EEP) 32.42 parts Binder: Product name, manufactured by Daicel Cyclomer P CR-1000 12.19 parts Fluorosurfactant: manufactured by DIC, trade name MegaFuck F-781, 0.83 part of 0.2% EEP solution

[赤色顔料分散液の調製]
下記組成の混合液を、0.3mm径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル(減圧機構付き高圧分散機NANO−3000−10(日本ビーイーイー(株)製))で、3時間、混合、分散して、顔料分散液R−1を調製した。
(組成)
・赤色顔料:C.I.Pigment Red254( 社製) 4.74部
・黄色顔料:C.I.Pigment Yellow139( 社製) 2.11部
・分散樹脂:日本触媒(株)製、商品名:アクリキュアーRD−F8 4.69部
・有機溶剤:PGMEA 51.75部
[Preparation of red pigment dispersion]
Using a zirconia bead having a diameter of 0.3 mm, a mixed solution having the following composition was mixed and dispersed for 3 hours in a bead mill (high pressure disperser NANO-3000-10 with a decompression mechanism (manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.)). Thus, a pigment dispersion R-1 was prepared.
(composition)
-Red pigment: CIPigment Red254 (made by company) 4.74 parts-Yellow pigment: CIPigment Yellow139 (made by company) 2.11 parts-Dispersing resin: made by Nippon Shokubai Co., Ltd., trade name: Acrycure RD-F8 4.69 Parts / organic solvent: PGMEA 51.75 parts

[緑色顔料分散液の調製]
下記組成の混合液を、0.3mm径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル(減圧機構付き高圧分散機NANO−3000−10(日本ビーイーイー(株)製))で、3時間、混合、分散して、顔料分散液G−1を調製した。
(組成)
・緑色顔料:C.I.Pigment Green36( 社製) 2.26部
・黄色顔料:C.I.Pigment Yellow150( 社製) 2.19部
・分散樹脂:藤倉化成(株)製、商品名:アクリベースFFS−6824(分子量10000) 3.09部
・有機溶剤:PGMEA 28.99部
・有機溶剤:シクロヘキサノン 2.36部
[Preparation of green pigment dispersion]
Using a zirconia bead having a diameter of 0.3 mm, a mixed solution having the following composition was mixed and dispersed for 3 hours in a bead mill (high pressure disperser NANO-3000-10 with a decompression mechanism (manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.)). Thus, a pigment dispersion G-1 was prepared.
(composition)
Green pigment: CIPigment Green36 (manufactured by company) 2.26 parts Yellow pigment: CIPigment Yellow150 (manufactured by company company) 2.19 parts Dispersing resin: manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd., trade name: Acrybase FFS-6824 (molecular weight 10,000) ) 3.09 parts ・ Organic solvent: PGMEA 28.99 parts ・ Organic solvent: cyclohexanone 2.36 parts

[緑色の着色感放射線性組成物の調製]
下記の組成で緑色の着色感放射線性組成物を調製した。この緑色の着色感放射線性組成物は、本発明の着色感放射線性組成物ではない。
(組成)
・有機溶剤:PGMEA 47.06部
・樹脂:下記A−1 5.94部
・重合性化合物:日本化薬(株)製、A−DPH−12E(下記C−1) 2.05部
・重合性化合物:日本化薬(株)製、カヤラッドDPHA 0.69部
(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)
・光重合開始剤:BASF社製、Irgacure OXE-02(下記E−1) 0.34部
・顔料分散液G−1 38.89部
・フッ素系界面活性剤:DIC社製、商品名メガファックF−781、0.2%PGMEA溶液 4.17部
・ノニオン系界面活性剤:竹本油脂(株)製、パイオニンD-6112-W 0.18部
・紫外線吸収剤:下記D−1 0.72部
・重合禁止剤:p-メトキシフェノール 0.001部
[Preparation of green colored radiation-sensitive composition]
A green colored radiation-sensitive composition was prepared with the following composition. This green colored radiation-sensitive composition is not the colored radiation-sensitive composition of the present invention.
(composition)
Organic solvent: PGMEA 47.06 partsResin: 5.94 parts of the following A-1 Polymerizable compound: A-DPH-12E (C-1) 2.05 parts manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Polymerization Compound: Nippon Kayaku Co., Ltd., Kayarad DPHA 0.69 parts (dipentaerythritol hexaacrylate)
-Photopolymerization initiator: BASF, Irgacure OXE-02 (E-1 below) 0.34 parts-Pigment dispersion G-1 38.89 parts-Fluorosurfactant: DIC, trade name Megafac F-781, 0.2% PGMEA solution 4.17 parts Nonionic surfactant: Takemoto Yushi Co., Ltd., Pionein D-6112-W 0.18 parts UV absorber: D-1 0.72 below Part / polymerization inhibitor: p-methoxyphenol 0.001 part

[緑色の着色パターンを有する基板の作製]
下塗り層付シリコンウェハ基板の下塗り層上に、前記で得られた緑色の着色感放射線性組成物を、着色層の乾燥後の膜厚が0.4μmとなるように塗布し、感放射線性の着色層を形成した。そして、100℃のホットプレートを用いて120秒間加熱処理(プリベーク)を行った。次いで、i線ステッパー露光装置FPA−3000i5+(Canon(株)製)を使用して、365nmの波長の光を、パターンが1.4μm四方のベイヤーパターンマスクを通して、着色層に300mJ/cmの露光量でウェハ全面に繰り返しパターンを200個照射した。その後、着色層が形成されているシリコンウェハ基板をスピン・シャワー現像機(DW−30型;(株)ケミトロニクス製)の水平回転テーブル上に載置し、アルカリ現像液CD−2060(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)を用いて室温で60秒間パドル現像を行い、シリコンウェハ基板に緑色の着色パターンを形成し、220℃のホットプレートで5分間加熱処理(ポストベーク)を行った。
このようにして、緑色の着色パターンを有する基板を作製した。
[Preparation of a substrate having a green coloring pattern]
On the undercoat layer of the silicon wafer substrate with the undercoat layer, the green colored radiation-sensitive composition obtained above is applied so that the thickness of the colored layer after drying is 0.4 μm. A colored layer was formed. And it heat-processed for 120 second (prebaking) using the 100 degreeC hotplate. Next, using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Inc.), the light having a wavelength of 365 nm is passed through a Bayer pattern mask having a pattern of 1.4 μm square, and the colored layer is exposed to 300 mJ / cm 2 . 200 repeated patterns were irradiated on the entire surface of the wafer. Thereafter, the silicon wafer substrate on which the colored layer is formed is placed on a horizontal rotating table of a spin shower developing machine (DW-30 type; manufactured by Chemitronics), and an alkali developer CD-2060 (Fuji Film). Using Electronics Materials Co., Ltd.), paddle development was performed at room temperature for 60 seconds to form a green colored pattern on the silicon wafer substrate, and a heat treatment (post-bake) was performed for 5 minutes on a 220 ° C. hot plate.
Thus, the board | substrate which has a green coloring pattern was produced.

〔実施例1〕
[赤色の着色感放射線性組成物の調製]
下記の組成で実施例1の着色感放射線性組成物を調製した。
(組成)
・有機溶剤:PGMEA 25.2部
・有機溶剤:EEP 1.67部
・特定樹脂:下記B−1(分子量18000、組成比はモル%である。) 0.74部
・重合性化合物:日本化薬(株)製、A−DPH−12E(C−1) 3.37部
・光重合開始剤:BASF社製、Irgacure OXE-01(下記E−2) 0.89部
・顔料分散液:前記R−1 63.29部
・フッ素系界面活性剤:DIC社製、商品名メガファックF−781、0.2%EEP溶液 4.17部
・ノニオン系界面活性剤:竹本油脂(株)製、パイオニンD-6112-W 0.17部
・紫外線吸収剤:前記D−1 0.50部
・重合禁止剤:p-メトキシフェノール 0.002部
[Example 1]
[Preparation of red colored radiation-sensitive composition]
A colored radiation-sensitive composition of Example 1 was prepared with the following composition.
(composition)
Organic solvent: PGMEA 25.2 parts Organic solvent: EEP 1.67 parts Specific resin: B-1 below (molecular weight 18000, composition ratio is mol%) 0.74 parts Polymerizable compound: Nippon Yakuhin Co., Ltd., A-DPH-12E (C-1) 3.37 parts Photopolymerization initiator: BASF, Irgacure OXE-01 (E-2 below) 0.89 parts Pigment dispersion: R-1 63.29 parts-Fluorosurfactant: manufactured by DIC Corporation, trade name MegaFuck F-781, 0.2% EEP solution 4.17 parts-Nonionic surfactant: Takemoto Yushi Co., Ltd., Pionein D-6112-W 0.17 part UV absorber: D-0 0.50 part Polymerization inhibitor: p-methoxyphenol 0.002 part

[下塗り層付シリコンウェハ基板上に赤色パターンの形成]
下塗り層付シリコンウェハ基板の下塗り層上に、前記で得られた赤色の着色感放射線性組成物を、着色層の乾燥膜厚が約0.8μmになるように塗布し、感放射線性の着色層を形成した。そして、100℃のホットプレートを用いて120秒間加熱処理(プリベーク)を行った。次いで、i線ステッパー露光装置FPA−3000i5+(Canon(株)製)を使用して、365nmの波長の光を、1.4μm四方のアイランドパターンマスクを介して、着色層に400mJ/cmの露光量で、1cm四方の繰り返しパターンを約200個照射した。その後、着色層が形成されているシリコンウェハ基板をスピン・シャワー現像機(DW−30型;(株)ケミトロニクス製)の水平回転テーブル上に載置し、アルカリ現像液CD−2060(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)を用いて室温で60秒間パドル現像を行い、シリコンウェハ基板に赤色の着色パターンを形成した。
赤色の着色パターンが形成されたシリコンウェハ基板を真空チャック方式で、前記水平回転テーブルに固定し、回転装置によってシリコンウェハ基板を回転数800rpmで回転させつつ、その回転中心の上方より純水を噴出ノズルから供給して、リンス処理を行い、その後、スピン乾燥し、赤色の着色パターンを有するカラーフィルタを得た。
形成された赤色の着色パターンは、いずれも正方形で、断面が矩形状の良好なプロファイルを示しており、固体撮像素子用に好適なカラーフィルタであることがわかった。
[Formation of red pattern on silicon wafer substrate with undercoat]
On the undercoat layer of the silicon wafer substrate with the undercoat layer, the red colored radiation-sensitive composition obtained above is applied so that the dry thickness of the colored layer is about 0.8 μm, and the radiation-sensitive coloring is applied. A layer was formed. And it heat-processed for 120 second (prebaking) using the 100 degreeC hotplate. Next, using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Co., Ltd.), light having a wavelength of 365 nm is exposed to the colored layer through a 1.4 μm square island pattern mask at 400 mJ / cm 2 . About 200 repetition patterns of 1 cm square were irradiated. Thereafter, the silicon wafer substrate on which the colored layer is formed is placed on a horizontal rotating table of a spin shower developing machine (DW-30 type; manufactured by Chemitronics), and an alkali developer CD-2060 (Fuji Film). Using Paddle Development for 60 seconds at room temperature using Electronics Materials Co., Ltd., a red colored pattern was formed on the silicon wafer substrate.
A silicon wafer substrate on which a red coloring pattern is formed is fixed to the horizontal rotary table by a vacuum chuck method, and pure water is ejected from above the rotation center while rotating the silicon wafer substrate at a rotation speed of 800 rpm by a rotating device. It supplied from the nozzle, rinsed, and then spin-dried to obtain a color filter having a red coloring pattern.
The formed red coloring patterns were all square and had a good cross-sectional profile, indicating that the color filter was suitable for solid-state imaging devices.

[残渣の評価]
上記で得られた赤色の着色パターン付シリコンウェハを、光学顕微鏡(オリンパス社製)を用いて、対物レンズ5倍、接眼レンズ10倍及び明視野で、形成された1cm四方の繰り返しパターンを観察し、赤色の着色パターン形成部における残渣の有無を数え、下記判定基準で評価した。結果はまとめて表4に示す。
<判定基準>
残渣のあるDie率とは、微細なパターンのマスクを使って、同じパターンのグループをいくつも、1cm四方に10列×10列で100グループ作成し、この100グループのうち、残渣が観察されたグループをカウントして、割合を出したもののことである。
[Evaluation of residue]
Using the optical wafer (manufactured by Olympus), observe the formed 1 cm square repeated pattern of the red colored silicon wafer obtained above with an objective lens 5 times, an eyepiece 10 times, and a bright field. The presence or absence of residues in the red colored pattern forming part was counted and evaluated according to the following criteria. The results are summarized in Table 4.
<Criteria>
The die ratio with residue is that a group of the same pattern was created by using a mask with a fine pattern, and 100 groups of 10 columns × 10 columns in 1 cm square were created, and residues were observed among these 100 groups. It is a group that counts and gives a percentage.

[緑色の着色パターンを有する基板上に赤色の着色パターンの形成]
緑色の着色パターンを有するシリコンウェハ基板上に、前記で得た赤色の着色感放射線性組成物を、赤色の着色層の乾燥後の膜厚が0.6μmとなるように塗布し、感放射線性の着色層を形成した。そして、100℃のホットプレートを用いて120秒間加熱処理(プリベーク)を行った。次いで、i線ステッパー露光装置FPA−3000i5+(Canon(株)製)を使用して、365nmの波長の光を、パターンが1.4μm四方のアイランドパターンマスクを介して、50〜1050mJ/cmの範囲で露光量を50mJ/cmずつ変化させて、緑色のパターンと緑色のパターンとの間に照射した。基板全面に繰り返しパターンを200個照射した。その後、着色層が形成されているシリコンウェハ基板をスピン・シャワー現像機(DW−30型;(株)ケミトロニクス製)の水平回転テーブル上に載置し、アルカリ現像液CD−2060(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)を用いて室温で60秒間パドル現像を行い、緑色の着色パターンを有するシリコンウェハ基板に赤色の着色パターンを形成し、220℃のホットプレートで5分間加熱処理(ポストベーク)を行った。
このようにして、緑色及び赤色の着色パターンを有するシリコンウェハ基板を得た。
[Formation of a red colored pattern on a substrate having a green colored pattern]
The red colored radiation-sensitive composition obtained above is applied onto a silicon wafer substrate having a green colored pattern so that the thickness of the red colored layer after drying is 0.6 μm. A colored layer was formed. And it heat-processed for 120 second (prebaking) using the 100 degreeC hotplate. Next, using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Inc.), light having a wavelength of 365 nm is passed through an island pattern mask having a pattern of 1.4 μm square and 50 to 1050 mJ / cm 2 . The exposure amount was changed by 50 mJ / cm 2 in the range, and irradiation was performed between the green pattern and the green pattern. 200 repeated patterns were irradiated on the entire surface of the substrate. Thereafter, the silicon wafer substrate on which the colored layer is formed is placed on a horizontal rotating table of a spin shower developing machine (DW-30 type; manufactured by Chemitronics), and an alkali developer CD-2060 (Fuji Film). The paddle development is performed at room temperature for 60 seconds using Electronics Materials Co., Ltd., a red colored pattern is formed on a silicon wafer substrate having a green colored pattern, and heat treatment (post) is performed on a 220 ° C. hot plate. Bake).
In this way, a silicon wafer substrate having green and red coloring patterns was obtained.

(直線性評価)
上記で得られた緑色及び赤色の着色パターンを有するシリコンウェハ基板を電子顕微鏡(S-9260A、日立ハイテク社製)を用いて、倍率20000倍でEoptの露光量で形成された赤色の着色パターンを観察し、1.4μm四方のアイランドパターンのエッジ部の直線性を下記の判定基準で評価した。
Eoptとは、最適露光量のことである。露光量を上げていくとパターンのサイズがマスクより大きくなるため、徐々に露光量を上げていき、マスクと同じサイズでパターンができて、且つ、現像後のはがれがない露光量のことである。結果はまとめて表4に示す。
<判定基準>
(Linearity evaluation)
Using the electron microscope (S-9260A, manufactured by Hitachi High-Tech), the silicon wafer substrate having the green and red coloring patterns obtained above is used to form a red coloring pattern formed at an exposure amount of Eopt at a magnification of 20000 times. Observation was made, and the linearity of the edge portion of the 1.4 μm square island pattern was evaluated according to the following criteria.
Eopt is the optimum exposure amount. As the exposure amount is increased, the pattern size becomes larger than the mask, so the exposure amount is gradually increased, the pattern can be formed with the same size as the mask, and there is no peeling after development. . The results are summarized in Table 4.
<Criteria>

〔実施例2〕
実施例1の赤色の着色感放射線性組成物の調製において、特定樹脂B−1をB−2(下記構造:分子量19000、組成比はモル%)に変更した以外は、実施例1と同様にして赤色の着色感放射線性組成物を調製し、また実施例1と同様にして評価した。
[Example 2]
In the preparation of the red colored radiation-sensitive composition of Example 1, the same procedure as in Example 1 was conducted except that the specific resin B-1 was changed to B-2 (the following structure: molecular weight 19000, composition ratio is mol%). A red colored radiation-sensitive composition was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1.

〔実施例3〕
実施例1の赤色の着色感放射線性組成物の調製において、重合性化合物C−1をC−2(下記構造)に変更した以外は、実施例1と同様にして赤色の着色感放射線性組成物を調製し、また、実施例1と同様にして評価した。
Example 3
In the preparation of the red colored radiation-sensitive composition of Example 1, the red colored radiation-sensitive composition was the same as Example 1 except that the polymerizable compound C-1 was changed to C-2 (the following structure). The product was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1.

〔実施例4〕
実施例3の赤色の着色感放射線性組成物の調製において、特定樹脂B−1をB−2に変更した以外は、実施例3と同様にして赤色の着色感放射線性組成物を調製し、また、実施例1と同様にして評価した。
Example 4
In the preparation of the red colored radiation-sensitive composition of Example 3, a red colored radiation-sensitive composition was prepared in the same manner as in Example 3 except that the specific resin B-1 was changed to B-2. Moreover, it evaluated similarly to Example 1. FIG.

〔実施例5〜8〕
実施例1の赤色の着色感放射線性組成物の調製において、紫外吸収剤の量を下記表4のように変更して、他は実施例1と同様にして、実施例5〜8の着色感放射線性組成物を作製した。
[Examples 5 to 8]
In the preparation of the red colored radiation-sensitive composition of Example 1, the amount of the ultraviolet absorber was changed as shown in Table 4 below, and the color feelings of Examples 5 to 8 were otherwise the same as in Example 1. A radiation composition was prepared.

〔比較例1〕
実施例4の赤色の着色感放射線性組成物の調製において、紫外線吸収剤D−1を添加しなかった以外は、実施例4と同様にして赤色の着色感放射線性組成物を調製し、また、実施例1と同様にして評価した。
[Comparative Example 1]
In the preparation of the red colored radiation-sensitive composition of Example 4, a red colored radiation-sensitive composition was prepared in the same manner as in Example 4 except that the ultraviolet absorber D-1 was not added. Evaluation was conducted in the same manner as in Example 1.

〔比較例2〕
実施例2の赤色の着色感放射線性組成物の調製において、紫外線吸収剤D−1を添加しなかった以外は、実施例2と同様にして赤色の着色感放射線性組成物を調製し、また、実施例1と同様にして評価した。
[Comparative Example 2]
In the preparation of the red colored radiation-sensitive composition of Example 2, a red colored radiation-sensitive composition was prepared in the same manner as in Example 2 except that the ultraviolet absorber D-1 was not added. Evaluation was conducted in the same manner as in Example 1.

〔比較例3〕
実施例3の赤色の着色感放射線性組成物の調製において、紫外線吸収剤D−1を添加しなかった以外は、実施例3と同様にして赤色の着色感放射線性組成物を調製し、また、実施例1と同様にして評価した。
[Comparative Example 3]
In the preparation of the red colored radiation-sensitive composition of Example 3, a red colored radiation-sensitive composition was prepared in the same manner as in Example 3 except that the ultraviolet absorber D-1 was not added. Evaluation was conducted in the same manner as in Example 1.

〔比較例4〕
実施例1の赤色の着色感放射線性組成物の調製において、紫外線吸収剤D−1を添加しなかった以外は、実施例1と同様にして赤色の着色感放射線性組成物を調製し、また、実施例1と同様にして評価した。
[Comparative Example 4]
In the preparation of the red colored radiation-sensitive composition of Example 1, a red colored radiation-sensitive composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the ultraviolet absorber D-1 was not added. Evaluation was conducted in the same manner as in Example 1.

〔比較例5〕
実施例3の赤色の着色感放射線性組成物の調製において、紫外線吸収剤D−1を添加せず、さらに特定樹脂B−1をB−3(下記構造)に変更し、それ以外は、実施例3と同様にして赤色の着色感放射線性組成物を調製し、また、実施例1と同様にして評価した。
[Comparative Example 5]
In the preparation of the red colored radiation-sensitive composition of Example 3, the ultraviolet absorbent D-1 was not added, the specific resin B-1 was changed to B-3 (the following structure), and the others were carried out. A red colored radiation-sensitive composition was prepared in the same manner as in Example 3 and evaluated in the same manner as in Example 1.

〔比較例6〕
実施例1の赤色の着色感放射線性組成物の調製において、紫外線吸収剤D−1を添加せず、且つ、特定樹脂B−1をB−3に変更し、それ以外は、実施例1と同様にして赤色の着色感放射線性組成物を調製し、また、実施例1と同様にして評価した。
[Comparative Example 6]
In the preparation of the red colored radiation-sensitive composition of Example 1, the ultraviolet absorber D-1 was not added, and the specific resin B-1 was changed to B-3. Similarly, a red colored radiation-sensitive composition was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1.

〔実施例9〕
実施例1の赤色の着色感放射線性組成物の調製において、重合性化合物C−1をC−3(下記構造)に変更して、それ以外は、実施例1と同様にして赤色の着色感放射線性組成物を調製し、また、実施例1と同様にして評価した。
Example 9
In the preparation of the red colored radiation-sensitive composition of Example 1, the polymerizable compound C-1 was changed to C-3 (the following structure), and other than that, the red colored feeling was the same as in Example 1. A radiation composition was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1.

〔実施例10〕
実施例1の赤色の着色感放射線性組成物の調製において、重合性化合物C−1をC−4(下記構造)に変更して、それ以外は、実施例1と同様にして赤色の着色感放射線性組成物を調製し、また、実施例1と同様にして評価した。
Example 10
In the preparation of the red colored radiation-sensitive composition of Example 1, the polymerizable compound C-1 was changed to C-4 (the following structure), and other than that, the red colored feeling was the same as in Example 1. A radiation composition was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1.

〔実施例11〕
実施例1の赤色の着色感放射線性組成物の調製において、重合性化合物C−1を日本化薬(株)製カヤラッドDPHAに変更して、それ以外は、実施例1と同様にして赤色の着色感放射線性組成物を調製し、また、実施例1と同様にして評価した。
Example 11
In the preparation of the red colored radiation-sensitive composition of Example 1, the polymerizable compound C-1 was changed to Nippon Kayaku Co., Ltd. Kayarad DPHA, and other than that, the red color was changed in the same manner as in Example 1. A colored radiation-sensitive composition was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1.

〔比較例7〕
実施例1の赤色の着色感放射線性組成物の調製において、紫外吸収剤の量を下記表4のように変更して、他は実施例1と同様にして、比較例7の着色感放射線性組成物を作製した。
[Comparative Example 7]
In the preparation of the red colored radiation-sensitive composition of Example 1, the amount of the ultraviolet absorber was changed as shown in Table 4 below, and the others were the same as Example 1 except that the colored radiation-sensitive property of Comparative Example 7 was used. A composition was prepared.

表4から以下のことがわかる。
本発明の特定樹脂、重合性化合物、および紫外線吸収剤を含有する着色感放射線性組成物を用いた実施例は着色パターンの直線性が良好で、且つ残渣が少ないことがわかる。特に重合性化合物としてエチレンオキシ基を有するC−1を用いた実施例1、2、および5〜8は着色パターンの直線性が良好である。なお、緑色画素上の残渣についても良好な結果が得られた。
Table 4 shows the following.
It turns out that the Example using the coloring radiation sensitive composition containing the specific resin of this invention, a polymeric compound, and a ultraviolet absorber has the favorable linearity of a coloring pattern, and there are few residues. In particular, Examples 1, 2, and 5-8 using C-1 having an ethyleneoxy group as the polymerizable compound have good linearity of the coloring pattern. Good results were also obtained for the residue on the green pixel.

<カラーフィルタの作製>
−青色の着色感放射線性組成物の調製−
下記の成分を混合し、ホモジナイザーを用いて回転数3,000r.p.m.で3時間撹拌して混合し、顔料を含む混合溶液を調製した。
・顔料:C.I.Pigment Blue15:6 95部
・顔料誘導体:下記化合物 15部
<Production of color filter>
-Preparation of blue colored radiation-sensitive composition-
The following components were mixed, and the rotational speed was 3,000 r.m. using a homogenizer. p. m. And mixed for 3 hours to prepare a mixed solution containing the pigment.
Pigment: CIPigment Blue 15: 6 95 partsPigment derivative: 15 parts of the following compound

・分散剤:下記化合物(Mw35000)30%溶液 125部
・PGMEA 750部
-Dispersant: 125 parts of the following compound (Mw35000) 30% solution-750 parts of PGMEA

続いて、上記より得られた混合溶液を、さらに0.3mmφジルコニアビーズを用いたビーズ分散機ディスパーマット(GETZMANN社製)にて6時間分散処理を行ない、顔料分散液(P−1)を得た。   Subsequently, the mixed solution obtained above was further subjected to a dispersion treatment for 6 hours with a bead disperser disperse mat (manufactured by GETZMANN) using 0.3 mmφ zirconia beads to obtain a pigment dispersion (P-1). It was.

前記で得た顔料分散液(P−1)を用いて、下記の青色の着色感放射線性組成物を作製した。
・顔料分散液:(P−1) 1000部
・重合性化合物:カヤラッド DPHA(日本化薬製) 100部
・光重合開始剤:1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム 30部
・樹脂:前記A−1 100部
・溶剤:PGMEA 300部
The following blue colored radiation-sensitive composition was prepared using the pigment dispersion (P-1) obtained above.
Pigment dispersion: (P-1) 1000 parts Polymerizable compound: Kayarad DPHA (manufactured by Nippon Kayaku) 100 parts Photopolymerization initiator: 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxy Carbonyl) oxime 30 parts Resin: 100 parts of the above A-1 Solvent: PGMEA 300 parts

ウエハ上に、前記で得られた実施例6の赤色の着色感放射線性組成物を用いて、1.6×1.6μmの赤色(R)の着色パターンを形成した。さらに、同様にして前記で得られた緑色の着色感放射線性組成物を用いて1.6×1.6μmの緑色(G)、及び、上記の青色の着色感放射線性組成物を用いて青色(B)の有彩色着色パターンを順次形成して固体撮像素子用のカラーフィルタを作製した。
−評価−
フルカラーのカラーフィルタを固体撮像素子に組み込んだところ、該固体撮像素子は、高解像度で、色分離性に優れることが確認された。
A red (R) colored pattern of 1.6 × 1.6 μm was formed on the wafer using the red colored radiation-sensitive composition of Example 6 obtained above. Furthermore, 1.6 × 1.6 μm green (G) using the green colored radiation-sensitive composition obtained in the same manner, and blue using the blue colored radiation-sensitive composition described above. The chromatic color pattern of (B) was sequentially formed to produce a color filter for a solid-state imaging device.
-Evaluation-
When a full-color color filter was incorporated into a solid-state image sensor, it was confirmed that the solid-state image sensor had high resolution and excellent color separation.

Claims (11)

(A)着色剤、(B)下記式(I)で表される部分構造を有するアクリル樹脂、(C)重合性化合物、及び(D)紫外線吸収剤を含み、該(D)紫外線吸収剤の含有量が着色感放射線性組成物の固形分に対して、0.1質量%〜10質量%である着色感放射線組成物。

式(I)中、Rは、水素原子又は1価の置換基を表す。*は主鎖構造との結合の部位を表す。
(A) a colorant, (B) an acrylic resin having a partial structure represented by the following formula (I), (C) a polymerizable compound, and (D) an ultraviolet absorber, The colored radiation-sensitive composition whose content is 0.1 mass%-10 mass% with respect to solid content of a colored radiation-sensitive composition.

In formula (I), R represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. * Represents the site of binding to the main chain structure.
前記(B)式(I)で表される部分構造を有するアクリル樹脂が、さらにカルボキシル基を含むアクリル樹脂である請求項1に記載の着色感放射線性組成物。   The colored radiation-sensitive composition according to claim 1, wherein the acrylic resin having a partial structure represented by the formula (I) is an acrylic resin further containing a carboxyl group. 前記(B)式(I)で表される部分構造を有するアクリル樹脂中に含まれる式(I)で表される部分構造の含有量が、アクリル樹脂全量に対して1質量%〜30質量%である請求項1又は請求項2に記載の着色感放射線性組成物。   The content of the partial structure represented by the formula (I) contained in the acrylic resin having the partial structure represented by the formula (I) (B) is 1% by mass to 30% by mass with respect to the total amount of the acrylic resin. The colored radiation-sensitive composition according to claim 1 or 2. 前記(A)着色剤が、赤色顔料である請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の着色感放射線性組成物。   The colored radiation-sensitive composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the colorant (A) is a red pigment. 前記(D)紫外線吸収剤が、下記一般式(II)で表される化合物である請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の着色感放射線性組成物。

前記一般式(II)中、R及びRは、各々独立に、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、又は炭素原子数6〜20のアリール基を表し、RとRとが、同時に水素原子を表すことはない。R及びRは、各々独立に、1価の基を表す。
The colored radiation-sensitive composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the (D) ultraviolet absorber is a compound represented by the following general formula (II).

In the general formula (II), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and R 1 and R 2 And do not represent hydrogen atoms at the same time. R 3 and R 4 each independently represents a monovalent group.
前記(C)重合性化合物が、分子中にエチレンオキシ基と5個以上の(メタ)アクリロイル基とを含む重合性化合物である請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の着色感放射線性組成物。   The coloring feeling according to any one of claims 1 to 5, wherein the polymerizable compound (C) is a polymerizable compound containing an ethyleneoxy group and five or more (meth) acryloyl groups in a molecule. Radiation composition. さらに、(E)光重合開始剤を含む請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の着色感放射線性組成物。   The colored radiation-sensitive composition according to any one of claims 1 to 6, further comprising (E) a photopolymerization initiator. 前記(E)光重合開始剤が、オキシム化合物である請求項7に記載の着色感放射線性組成物。   The colored radiation-sensitive composition according to claim 7, wherein the (E) photopolymerization initiator is an oxime compound. 請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の着色感放射線性組成物を用いてなる着色膜を具備するカラーフィルタ。   The color filter which comprises the colored film which uses the colored radiation-sensitive composition of any one of Claims 1-8. 請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の着色感放射線性組成物を基板上に付与して、着色感放射線性組成物層を形成する工程と、
前記着色感放射線性組成物層をパターン状に露光する工程と、
露光後の前記着色感放射線性組成物層を現像して着色パターンを形成する工程と、
を有するカラーフィルタの製造方法。
Applying the colored radiation-sensitive composition according to any one of claims 1 to 8 on a substrate to form a colored radiation-sensitive composition layer;
Exposing the colored radiation-sensitive composition layer in a pattern; and
Developing the colored radiation-sensitive composition layer after exposure to form a colored pattern; and
The manufacturing method of the color filter which has this.
請求項9に記載のカラーフィルタを備えた固体撮像素子。   A solid-state imaging device comprising the color filter according to claim 9.
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