JP2013051124A

JP2013051124A - Plasma display panel

Info

Publication number: JP2013051124A
Application number: JP2011188408A
Authority: JP
Inventors: Eiji Takeda; 英治武田; Hiroyuki Agui; 博之安喰
Original assignee: Panasonic Corp
Current assignee: Panasonic Corp
Priority date: 2011-08-31
Filing date: 2011-08-31
Publication date: 2013-03-14

Abstract

【課題】本発明は、高精細で高輝度の表示性能を備え、かつ低消費電力を可能とするプラズマディスプレイパネルを実現することを目的とするものである。
【解決手段】上記の目的を達成するため、本発明におけるプラズマディスプレイパネルは、表示電極および誘電体を有した前面板と背面板からなり、前記誘電体層上には保護膜を設け、前記保護膜は、下地層と、前記下地層上に粒子を有し、前記粒子は、金属酸化物で被覆されているものである。
【選択図】図６An object of the present invention is to realize a plasma display panel that has high-definition and high-luminance display performance and enables low power consumption.
In order to achieve the above object, a plasma display panel according to the present invention comprises a front plate and a back plate having display electrodes and a dielectric, and a protective film is provided on the dielectric layer, and the protection is provided. The film has a base layer and particles on the base layer, and the particles are coated with a metal oxide.
[Selection] Figure 6

Description

本発明は、表示デバイスなどに用いるプラズマディスプレイパネルに関する。 The present invention relates to a plasma display panel used for a display device or the like.

プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと呼ぶ）は、高精細化、大画面化の実現が可能であることから、１００インチクラスのテレビなどが製品化されている。近年、ＰＤＰにおいては、従来のＮＴＳＣ方式に比べて走査線数が２倍以上の高精細テレビへの適用が進められており、エネルギー問題に対応してさらなる消費電力低減への取り組みや、環境問題に配慮した鉛成分を含まないＰＤＰへの要求なども高まっている。 A plasma display panel (hereinafter referred to as a PDP) can realize a high definition and a large screen, and thus a 100-inch class television or the like has been commercialized. In recent years, PDP has been applied to high-definition televisions that have more than twice the number of scanning lines compared to the conventional NTSC system. In response to energy problems, efforts to further reduce power consumption and environmental issues There is also a growing demand for PDPs that do not contain lead components in consideration of the above.

ＰＤＰは、基本的には、前面板と背面板とで構成されている。前面板は、フロート法により製造された硼硅酸ナトリウム系ガラスのガラス基板と、ガラス基板の一方の主面上に形成されたストライプ状の透明電極とバス電極とで構成される表示電極と、表示電極を覆ってコンデンサとしての働きをする誘電体層と、誘電体層上に形成された酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層とで構成されている。 A PDP basically includes a front plate and a back plate. The front plate is a glass substrate of sodium borosilicate glass produced by the float process, a display electrode composed of a striped transparent electrode and a bus electrode formed on one main surface of the glass substrate, A dielectric layer that covers the display electrode and functions as a capacitor, and a protective layer made of magnesium oxide (MgO) formed on the dielectric layer.

一方、背面板は、ガラス基板と、その一方の主面上に形成されたストライプ状のアドレス電極と、アドレス電極を覆う下地誘電体層と、下地誘電体層上に形成された隔壁と、各隔壁間に形成された赤色、緑色及び青色それぞれに発光する蛍光体層とで構成されている。 On the other hand, the back plate is a glass substrate, stripe-shaped address electrodes formed on one main surface thereof, a base dielectric layer covering the address electrodes, a partition formed on the base dielectric layer, The phosphor layer is formed between the barrier ribs and emits red, green and blue light.

前面板と背面板とはその電極形成面側を対向させて気密封着され、隔壁によって仕切られた放電空間にネオン（Ｎｅ）−キセノン（Ｘｅ）の放電ガスが４００Ｔｏｒｒ〜６００Ｔｏｒｒの圧力で封入されている。ＰＤＰは、表示電極に映像信号電圧を選択的に印加することによって放電させ、その放電によって発生した紫外線が各色蛍光体層を励起して赤色、緑色、青色の発光をさせてカラー画像表示を実現している。 The front plate and the back plate are hermetically sealed with their electrode forming surfaces facing each other, and neon (Ne) -xenon (Xe) discharge gas is sealed at a pressure of 400 Torr to 600 Torr in a discharge space partitioned by a partition wall. ing. PDP discharges by selectively applying a video signal voltage to the display electrodes, and the ultraviolet rays generated by the discharge excite each color phosphor layer to emit red, green, and blue light, thereby realizing color image display doing.

また、このようなＰＤＰの駆動方法としては、書き込みをしやすい状態に壁電荷を調整する初期化期間と、入力画像信号に応じて書き込み放電を行う書き込み期間と、書き込みが行われた放電空間で維持放電を生じさせることによって表示を行う維持期間を有する駆動方法が一般的に用いられている。これらの各期間を組み合わせた期間（サブフィールド）が、画像の１コマに相当する期間（１フィールド）内で複数回繰り返されることによってＰＤＰの階調表示を行っている。 In addition, such a PDP driving method includes an initialization period in which wall charges are adjusted so that writing is easy, a writing period in which writing discharge is performed according to an input image signal, and a discharge space in which writing is performed. A driving method having a sustain period in which display is performed by generating a sustain discharge is generally used. A period (subfield) obtained by combining these periods is repeated a plurality of times within a period (one field) corresponding to one frame of an image, thereby performing PDP gradation display.

このようなＰＤＰにおいて、前面板の誘電体層上に形成される保護層の役割としては、放電によるイオン衝撃から誘電体層を保護すること、アドレス放電を発生させるための初期電子を放出することなどがあげられる。イオン衝撃から誘電体層を保護することは、放電電圧の上昇を防ぐ重要な役割であり、またアドレス放電を発生させるための初期電子を放出することは、画像のちらつきの原因となるアドレス放電ミスを防ぐ重要な役割である。 In such a PDP, the role of the protective layer formed on the dielectric layer of the front plate is to protect the dielectric layer from ion bombardment due to discharge and to emit initial electrons for generating address discharge. Etc. Protecting the dielectric layer from ion bombardment plays an important role in preventing an increase in discharge voltage, and emitting initial electrons for generating an address discharge is an address discharge error that causes image flickering. It is an important role to prevent.

保護層からの初期電子の放出数を増加させて画像のちらつきを低減するために、例えば、針状、あるいはテトラポッド状の酸化亜鉛（ＺｎＯ）粒子を酸化マグネシウム（ＭｇＯ）保護層上に形成した例が開示されている（例えば、特許文献１、２、３、４など参照）。 In order to increase the number of initial electrons emitted from the protective layer and reduce image flicker, for example, needle-like or tetrapod-like zinc oxide (ZnO) particles are formed on the magnesium oxide (MgO) protective layer. Examples are disclosed (see, for example, Patent Documents 1, 2, 3, 4, etc.).

特開２００２−３５２７３０号公報JP 2002-352730 A 特開２００４−３３５４０６号公報JP 2004-335406 A 国際公開第２００５／０４５８７２号International Publication No. 2005/045872 特開２００７−１０３１５０号公報JP 2007-103150 A

近年、テレビは高精細化が進んでおり、市場では低コスト・低消費電力・高輝度のフルＨＤ（ハイ・ディフィニション）（１９２０×１０８０画素：プログレッシブ表示）ＰＤＰが要求されている。保護層からの電子放出特性はＰＤＰの画質を決定するため、電子放出特性を制御することが非常に重要である。 In recent years, high definition has been advanced in televisions, and a low-cost, low-power-consumption, high-brightness full HD (high definition) (1920 × 1080 pixels: progressive display) PDP is required in the market. Since the electron emission characteristics from the protective layer determine the image quality of the PDP, it is very important to control the electron emission characteristics.

すなわち、高精細化された画像を表示するためには、１フィールドの時間が一定にもかかわらず書き込みを行う画素の数が増えるため、サブフィールド中の書き込み期間において、アドレス電極へ印加するパルスの幅を狭くする必要が生じる。しかしながら、電圧パルスの立ち上がりから放電空間内で放電が発生するまでには放電遅れと呼ばれるタイムラグの存在があるため、パルスの幅が狭くなれば書き込み期間内で放電が終了できる確率が低くなってしまう。その結果、点灯不良が生じ、ちらつきといった画質性能の低下という問題も生じてしまう。 That is, in order to display a high-definition image, the number of pixels to be written increases even though the time of one field is constant. Therefore, in the writing period in the subfield, the pulse applied to the address electrode It is necessary to reduce the width. However, since there is a time lag called discharge delay from the rise of the voltage pulse to the occurrence of discharge in the discharge space, if the pulse width is narrowed, the probability that the discharge can be completed within the writing period is lowered. . As a result, lighting failure occurs, and the problem of deterioration in image quality performance such as flickering occurs.

また、消費電力低減のために放電による発光効率を向上させることを目的として、蛍光体の発光に寄与する放電ガスの一成分であるキセノン（Ｘｅ）の放電ガス全体における含有率をあげると、やはり放電電圧が高くなるとともに、放電遅れが大きくなって点灯不良などの画質低下が発生するという問題が生じてしまう。 Further, for the purpose of improving the luminous efficiency by discharge for reducing power consumption, the content of xenon (Xe), which is one component of the discharge gas contributing to the light emission of the phosphor, in the entire discharge gas is also increased. As the discharge voltage becomes higher, the discharge delay becomes larger, resulting in a problem that the image quality is deteriorated such as lighting failure.

このようにＰＤＰの高精細化や低消費電力化を進めるにあたっては、放電電圧が高くならないようにすることと、さらに、点灯不良を低減して画質を向上させることを、同時に実現させなければならないという課題があった。 As described above, in order to advance the high definition and low power consumption of the PDP, it is necessary to simultaneously realize that the discharge voltage is not increased and that the image quality is improved by reducing defective lighting. There was a problem.

保護層に不純物を混在させることで電子放出特性を改善しようとする試みが行われている。しかしながら、保護層に不純物を混在させて電子放出特性を改善した場合には、保護層表面に電荷を蓄積させてメモリー機能として使用しようとする際に、電荷が時間とともに減少する減衰率が大きくなってしまうため、これを抑えるための印加電圧を大きくする必要があるなどの対策が必要になる。 Attempts have been made to improve the electron emission characteristics by mixing impurities in the protective layer. However, when the electron emission characteristics are improved by mixing impurities in the protective layer, when the charge is accumulated on the surface of the protective layer and used as a memory function, the attenuation rate at which the charge decreases with time increases. Therefore, it is necessary to take measures such as increasing the applied voltage to suppress this.

一方、針状、あるいはテトラポッド状の酸化亜鉛（ＺｎＯ）粒子を酸化マグネシウム（ＭｇＯ）保護層上に形成した例では、放電遅れを小さくして点灯不良を低減することは可能であるが、放電によるスパッタリングにより針状、あるいはテトラポッド状の先端が磨耗され、放電遅れの低減効果を長時間維持できないといった課題を有していた。 On the other hand, in the example in which needle-like or tetrapod-like zinc oxide (ZnO) particles are formed on the magnesium oxide (MgO) protective layer, it is possible to reduce the discharge delay and reduce the lighting failure. As a result of the sputtering, the needle-like or tetrapod-like tip is worn, and the effect of reducing the discharge delay cannot be maintained for a long time.

本発明はこのような課題に鑑みなされたもので、高輝度の表示性能を備え、かつ低電圧駆動が可能なＰＤＰを実現することを目的としている。 The present invention has been made in view of such a problem, and an object of the present invention is to realize a PDP having high luminance display performance and capable of being driven at a low voltage.

上記の目的を達成するために、本発明のＰＤＰは、表示電極および誘電体を有した前面板と背面板からなり、前記誘電体層上には保護膜を設け、前記保護膜は、下地層と、前記下地層上に粒子を有し、前記粒子は、金属酸化物で被覆されているものである。 In order to achieve the above object, the PDP of the present invention comprises a front plate and a back plate having display electrodes and a dielectric, and a protective film is provided on the dielectric layer, and the protective film is a base layer. And particles on the underlayer, and the particles are coated with a metal oxide.

このような構成によれば、保護層における二次電子放出特性を向上させ、輝度を高めるために放電ガスのキセノン（Ｘｅ）ガス分圧を大きくした場合でも放電開始電圧を低減し、さらに、放電遅れを低減して高精細画像表示でも点灯不良など発生しない、表示性能に優れたＰＤＰを実現することができる。 According to such a configuration, the discharge start voltage is reduced even when the xenon (Xe) gas partial pressure of the discharge gas is increased in order to improve the secondary electron emission characteristics in the protective layer and increase the luminance. It is possible to realize a PDP excellent in display performance in which delay is reduced and lighting failure does not occur even in high-definition image display.

本発明によれば、高精細画像でも高輝度で低電圧駆動が可能なＰＤＰを実現することができる。 According to the present invention, it is possible to realize a PDP that can be driven with high brightness and low voltage even in a high-definition image.

本発明の実施の形態におけるＰＤＰの構造を示す斜視図The perspective view which shows the structure of PDP in embodiment of this invention 同ＰＤＰの前面板の構成を示す断面図Sectional drawing which shows the structure of the front plate of the PDP 同ＰＤＰの下地膜におけるＸ線回折結果を示す図The figure which shows the X-ray-diffraction result in the base film of the PDP 同ＰＤＰの他の構成の下地膜におけるＸ線回折結果を示す図The figure which shows the X-ray-diffraction result in the base film of the other structure of the PDP 同ＰＤＰの核粒子と被覆膜を説明するための図The figure for demonstrating the core particle and coating film of the PDP 同ＰＤＰの核粒子と被覆粒子を説明するための図Diagram for explaining core particles and coated particles of the PDP

以下、本発明の実施の形態におけるＰＤＰについて図面を用いて説明する。 Hereinafter, a PDP according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図１は本発明の実施の形態におけるＰＤＰ１の構造を示す斜視図である。ＰＤＰ１の基本構造は、一般的な交流面放電型ＰＤＰと同様である。図１に示すように、ＰＤＰ１は前面ガラス基板３などよりなる前面板２と、背面ガラス基板１１などよりなる背面板１０とが対向して配置され、その外周部をガラスフリットなどからなる封着材によって気密封着されている。封着されたＰＤＰ１内部の放電空間１６には、キセノン（Ｘｅ）とネオン（Ｎｅ）などの放電ガスが４００Ｔｏｒｒ〜６００Ｔｏｒｒの圧力で封入されている。 FIG. 1 is a perspective view showing the structure of PDP 1 in the embodiment of the present invention. The basic structure of the PDP 1 is the same as that of a general AC surface discharge type PDP. As shown in FIG. 1, the PDP 1 has a front plate 2 made of a front glass substrate 3 and a back plate 10 made of a back glass substrate 11 facing each other, and its outer peripheral portion is sealed with a glass frit or the like. The material is hermetically sealed. A discharge gas such as xenon (Xe) and neon (Ne) is sealed in the sealed discharge space 16 inside the PDP 1 at a pressure of 400 Torr to 600 Torr.

前面板２の前面ガラス基板３上には、走査電極４及び維持電極５よりなる一対の帯状の表示電極６とブラックストライプ（遮光層）７が互いに平行にそれぞれ複数列配置されている。前面ガラス基板３上には表示電極６と遮光層７とを覆うように電荷を保持してコンデンサとしての働きをする誘電体層８が形成され、さらにその上に保護層９が形成されている。 On the front glass substrate 3 of the front plate 2, a pair of strip-shaped display electrodes 6 each composed of the scanning electrodes 4 and the sustain electrodes 5 and a plurality of black stripes (light shielding layers) 7 are arranged in parallel to each other. A dielectric layer 8 is formed on the front glass substrate 3 so as to cover the display electrodes 6 and the light-shielding layer 7 so as to hold charges and function as a capacitor. A protective layer 9 is further formed thereon. .

また、背面板１０の背面ガラス基板１１上には、前面板２の走査電極４及び維持電極５と直交する方向に、複数の帯状のアドレス電極１２が互いに平行に配置され、これを下地誘電体層１３が被覆している。さらに、アドレス電極１２間の下地誘電体層１３上には放電空間１６を区切る所定の高さの隔壁１４が形成されている。隔壁１４間の溝ごとに、紫外線によって赤色、緑色及び青色にそれぞれ発光する蛍光体層１５が順次塗布して形成されている。走査電極４及び維持電極５とアドレス電極１２とが交差する位置に放電空間が形成され、表示電極６方向に並んだ赤色、緑色、青色の蛍光体層１５を有する放電空間がカラー表示のための画素になる。 On the back glass substrate 11 of the back plate 10, a plurality of strip-like address electrodes 12 are arranged in parallel to each other in a direction orthogonal to the scanning electrodes 4 and the sustain electrodes 5 of the front plate 2. Layer 13 is covering. Further, a partition wall 14 having a predetermined height is formed on the base dielectric layer 13 between the address electrodes 12 to divide the discharge space 16. In each groove between the barrier ribs 14, a phosphor layer 15 that emits red, green, and blue light by ultraviolet rays is sequentially applied. A discharge space is formed at a position where the scan electrode 4 and the sustain electrode 5 intersect with the address electrode 12, and a discharge space having red, green, and blue phosphor layers 15 arranged in the direction of the display electrode 6 is used for color display. Become a pixel.

図２は、本発明の実施の形態におけるＰＤＰ１の前面板２の構成を示す断面図であり、図２は図１と上下反転させて示している。図２に示すように、フロート法などにより製造された前面ガラス基板３に、走査電極４と維持電極５よりなる表示電極６と遮光層７がパターン形成されている。走査電極４と維持電極５はそれぞれインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）や酸化スズ（ＳｎＯ₂）などからなる透明電極４ａ、５ａと、透明電極４ａ、５ａ上に形成された金属バス電極４ｂ、５ｂとにより構成されている。金属バス電極４ｂ、５ｂは透明電極４ａ、５ａの長手方向に導電性を付与する目的として用いられ、銀（Ａｇ）材料を主成分とする導電性材料によって形成されている。 FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of the front plate 2 of the PDP 1 in the embodiment of the present invention, and FIG. 2 is shown upside down from FIG. As shown in FIG. 2, a display electrode 6 and a light shielding layer 7 including scanning electrodes 4 and sustain electrodes 5 are formed in a pattern on a front glass substrate 3 manufactured by a float method or the like. Scan electrode 4 and sustain electrode 5 are made of transparent electrodes 4a and 5a made of indium tin oxide (ITO) or tin oxide (SnO ₂ ), respectively, and metal bus electrodes 4b and 5b formed on transparent electrodes 4a and 5a. It is comprised by. The metal bus electrodes 4b and 5b are used for the purpose of imparting conductivity in the longitudinal direction of the transparent electrodes 4a and 5a, and are formed of a conductive material whose main component is a silver (Ag) material.

誘電体層８は、前面ガラス基板３上に形成されたこれらの透明電極４ａ、５ａと金属バス電極４ｂ、５ｂと遮光層７を覆って設けた第１誘電体層８１と、第１誘電体層８１上に形成された第２誘電体層８２の少なくとも２層構成とし、さらに第２誘電体層８２上に保護層９が形成されている。 The dielectric layer 8 includes a first dielectric layer 81 provided on the front glass substrate 3 so as to cover the transparent electrodes 4a and 5a, the metal bus electrodes 4b and 5b, and the light shielding layer 7, and a first dielectric. The second dielectric layer 82 formed on the layer 81 has at least two layers, and the protective layer 9 is formed on the second dielectric layer 82.

保護層９は、誘電体層８に形成した下地膜９１と、下地膜９１上に金属酸化物で被覆された粒子９２とにより構成している。下地膜９１は、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、及び酸化バリウム（ＢａＯ）から選ばれる少なくとも２つ以上の酸化物からなる金属酸化物により形成され、さらに下地膜９１上に金属酸化物で被覆された粒子９２を付着形成している。 The protective layer 9 is composed of a base film 91 formed on the dielectric layer 8 and particles 92 covered with a metal oxide on the base film 91. The base film 91 is formed of a metal oxide composed of at least two oxides selected from magnesium oxide (MgO), calcium oxide (CaO), strontium oxide (SrO), and barium oxide (BaO). Particles 92 covered with a metal oxide are deposited on the base film 91.

次に、このようなＰＤＰ１の製造方法について説明する。まず、前面ガラス基板３上に、走査電極４及び維持電極５と遮光層７とを形成する。走査電極４と維持電極５とを構成する透明電極４ａ、５ａと金属バス電極４ｂ、５ｂは、フォトリソグラフィ法などを用いてパターニングして形成される。透明電極４ａ、５ａは薄膜プロセスなどを用いて形成され、金属バス電極４ｂ、５ｂは銀（Ａｇ）材料を含むペーストを所定の温度で焼成して固化している。また、遮光層７も同様に、黒色顔料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や黒色顔料をガラス基板の全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、焼成することにより形成される。 Next, a method for manufacturing such a PDP 1 will be described. First, the scan electrode 4, the sustain electrode 5, and the light shielding layer 7 are formed on the front glass substrate 3. Transparent electrodes 4a and 5a and metal bus electrodes 4b and 5b constituting scan electrode 4 and sustain electrode 5 are formed by patterning using a photolithography method or the like. The transparent electrodes 4a and 5a are formed using a thin film process or the like, and the metal bus electrodes 4b and 5b are solidified by baking a paste containing a silver (Ag) material at a predetermined temperature. Similarly, the light-shielding layer 7 is formed by screen printing a paste containing a black pigment or by forming a black pigment on the entire surface of the glass substrate, and then patterning and baking using a photolithography method.

次に、走査電極４、維持電極５及び遮光層７を覆うように前面ガラス基板３上に誘電体ペーストをダイコート法などにより塗布して誘電体ペースト（誘電体材料）層を形成する。誘電体ペーストを塗布した後、所定の時間放置することによって塗布された誘電体ペースト表面がレベリングされて平坦な表面になる。その後、誘電体ペースト層を焼成固化することにより、走査電極４、維持電極５及び遮光層７を覆う誘電体層８が形成される。なお、誘電体ペーストはガラス粉末などの誘電体材料、バインダ及び溶剤を含む塗料である。図２中では誘電体層８は第１誘電体層８１、第２誘電体層８２で構成されているが、これに限らず１層構造でもよい。 Next, a dielectric paste is applied on the front glass substrate 3 by a die coating method or the like so as to cover the scan electrode 4, the sustain electrode 5, and the light shielding layer 7, thereby forming a dielectric paste (dielectric material) layer. After the dielectric paste is applied, the surface of the applied dielectric paste is leveled by leaving it to stand for a predetermined time, so that a flat surface is obtained. Thereafter, the dielectric paste layer is formed by baking and solidifying the dielectric paste layer to cover the scan electrode 4, the sustain electrode 5, and the light shielding layer 7. The dielectric paste is a paint containing a dielectric material such as glass powder, a binder and a solvent. In FIG. 2, the dielectric layer 8 is composed of a first dielectric layer 81 and a second dielectric layer 82. However, the dielectric layer 8 is not limited to this and may have a single-layer structure.

次に、誘電体層８上に下地膜９１を形成する。本発明の実施の形態においては、下地膜９１を、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、及び酸化バリウム（ＢａＯ）から選ばれる少なくとも１つ以上の酸化物からなる金属酸化物により形成している。 Next, a base film 91 is formed on the dielectric layer 8. In the embodiment of the present invention, the base film 91 is made of at least one oxide selected from magnesium oxide (MgO), calcium oxide (CaO), strontium oxide (SrO), and barium oxide (BaO). It is formed of a metal oxide.

下地膜９１は、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、及び酸化バリウム（ＢａＯ）の単独材料のペレットや、それらの材料を混合したペレットを用いて薄膜成膜方法によって形成される。薄膜成膜方法としては、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの公知の方法を適用できる。一例として、スパッタリング法では１Ｐａ、蒸着法の一例である電子ビーム蒸着法では０．１Ｐａが実際上取り得る圧力の上限と考えられる。 The base film 91 is formed by using a single material pellet of magnesium oxide (MgO), calcium oxide (CaO), strontium oxide (SrO), and barium oxide (BaO), or a thin film forming method using a pellet obtained by mixing these materials. Formed by. As a thin film forming method, a known method such as an electron beam evaporation method, a sputtering method, or an ion plating method can be applied. As an example, 1 Pa is considered as the upper limit of the pressure that can actually be taken in the sputtering method and 0.1 Pa in the electron beam evaporation method, which is an example of the evaporation method.

また、下地膜９１の成膜時の雰囲気としては、水分付着や不純物の吸着を防止するために外部と遮断された密閉状態で、成膜時の雰囲気を調整することにより、所定の電子放出特性を有する金属酸化物よりなる下地膜９１を形成することができる。 In addition, as an atmosphere during film formation of the base film 91, a predetermined electron emission characteristic is obtained by adjusting the atmosphere during film formation in a sealed state that is shut off from the outside in order to prevent moisture adhesion and adsorption of impurities. A base film 91 made of a metal oxide having the above can be formed.

次に、下地膜９１上に付着形成する粒子９２について述べる。この粒子９２は、核となる核粒子９２ａと、前記核粒子９２ａを被覆する金属酸化物層から構成されている。 Next, the particles 92 deposited and formed on the base film 91 will be described. The particle 92 includes a core particle 92a serving as a nucleus and a metal oxide layer covering the core particle 92a.

核粒子９２ａは、針状、テトラポッド状、多角錐、多面体のいずれかの形状であることが望ましい。核粒子９２ａの大きさは、数μｍから数十μｍ程度であることが望ましい。このような形状を有する核粒子９２ａとしては、株式会社アドテック製のパナテトラなどが挙げられるが、これに限定されるものではない。 It is desirable that the core particle 92a has any one of a needle shape, a tetrapod shape, a polygonal pyramid, and a polyhedron. The size of the core particle 92a is preferably about several μm to several tens of μm. Examples of the core particle 92a having such a shape include Panatetra manufactured by Adtech Co., Ltd., but are not limited thereto.

金属酸化物層は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化ケイ素、及び酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも１つ以上の酸化物が望ましい。金属酸化物層の形態としては、図５および図６にそれぞれ示すように、被覆膜９２ｂと、被覆粒子９２ｃの２種類が考えられる。被覆膜９２ｂの膜厚、および被覆粒子９２ｃの直径は数μｍ以下であることが望ましい。被覆膜９２ｂの被覆方法としては、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などが適用できる。また、被覆粒子９２ｃの被覆方法としては、酸化マグネシウムの場合を例に挙げると、以下に示す気相合成法または前駆体焼成法のいずれかで実現することができる。 The metal oxide layer is preferably at least one oxide selected from magnesium oxide, calcium oxide, strontium oxide, barium oxide, silicon oxide, and aluminum oxide. As the form of the metal oxide layer, as shown in FIG. 5 and FIG. 6, two types of coating film 92b and coating particle 92c are conceivable. The film thickness of the coating film 92b and the diameter of the coating particle 92c are desirably several μm or less. As a coating method of the coating film 92b, an electron beam vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or the like can be applied. Further, as a method for coating the coated particles 92c, taking the case of magnesium oxide as an example, it can be realized by any of the following vapor phase synthesis method or precursor firing method.

気相合成法では、核粒子９２ａを不活性ガスが満たされた雰囲気内に導入し、その雰囲気下で純度が９９．９％以上のマグネシウム金属材料を加熱し、さらに、雰囲気に酸素を少量導入することによって、マグネシウムを直接酸化させることで、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が被覆粒子９２ｃである粒子９２を作製することができる。 In the vapor phase synthesis method, core particles 92a are introduced into an atmosphere filled with an inert gas, a magnesium metal material having a purity of 99.9% or more is heated in the atmosphere, and a small amount of oxygen is introduced into the atmosphere. By doing so, magnesium 92 can be directly oxidized to produce particles 92 in which magnesium oxide (MgO) is the coated particles 92c.

一方、前駆体焼成法では、以下の方法によって核粒子９２ａを作製することができる。硝酸マグネシウム（Ｍｇ（ＮＯ₃）₂）を所定量の濃度で水又はアルカリ水溶液中に溶解する。その溶解液中に核粒子９２ａを投入して混合液を作製し、攪拌する。この混合液を濾過、乾燥する。その後、この乾燥物を空気中において４００℃〜８００℃で焼成することでＭｇＯが表面にコートされた核粒子９２ａを作製する。ＭｇＯは核粒子９２ａの表面が露呈しないよう、核粒子９２ａの表面を均一に被覆している状態が好ましい。なお、核粒子９２ａの表面上にＭｇＯを被覆する方法は上述した方法に限らない。また、被覆粒子９２ｃの材料としてＭｇＯを例に挙げたが、これに限定されるものではない。 On the other hand, in the precursor firing method, the core particle 92a can be produced by the following method. Magnesium nitrate (Mg (NO ₃ ) ₂ ) is dissolved in water or an alkaline aqueous solution at a predetermined concentration. The core particles 92a are put into the solution to prepare a mixed solution and stirred. The mixture is filtered and dried. Thereafter, the dried product is fired at 400 ° C. to 800 ° C. in the air to produce core particles 92a whose surfaces are coated with MgO. MgO is preferably in a state where the surface of the core particle 92a is uniformly coated so that the surface of the core particle 92a is not exposed. Note that the method of coating the surface of the core particle 92a with MgO is not limited to the method described above. Moreover, although MgO was mentioned as an example as a material of the covering particle 92c, it is not limited to this.

上記いずれかの方法で得られた粒子９２を、溶媒に分散させ、その分散液をスプレー法やスクリーン印刷法、静電塗布法などによって下地膜９１の表面に分散散布させる。その後、乾燥・焼成工程を経て溶媒除去を図り、粒子９２を下地膜９１の表面に定着させることができる。 The particles 92 obtained by any of the above methods are dispersed in a solvent, and the dispersion is dispersed and dispersed on the surface of the base film 91 by a spray method, a screen printing method, an electrostatic coating method, or the like. Thereafter, the solvent is removed through a drying / firing process, and the particles 92 can be fixed on the surface of the base film 91.

このような一連の工程により前面ガラス基板３上に所定の構成物（走査電極４、維持電極５、遮光層７、誘電体層８、保護層９）が形成されて前面板２が完成する。 Through such a series of steps, predetermined components (scanning electrode 4, sustaining electrode 5, light shielding layer 7, dielectric layer 8, and protective layer 9) are formed on front glass substrate 3, and front plate 2 is completed.

一方、背面板１０は次のようにして形成される。まず、背面ガラス基板１１上に、銀（Ａｇ）材料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や、金属膜を全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングする方法などによりアドレス電極１２用の構成物となる材料層を形成する。その後、所定の温度で焼成することによりアドレス電極１２を形成する。次に、アドレス電極１２が形成された背面ガラス基板１１上にダイコート法などにより、アドレス電極１２を覆うように誘電体ペーストを塗布して誘電体ペースト層を形成する。その後、誘電体ペースト層を焼成することにより下地誘電体層１３を形成する。なお、誘電体ペーストはガラス粉末などの誘電体材料とバインダ及び溶剤を含んだ塗料である。 On the other hand, the back plate 10 is formed as follows. First, the structure for the address electrode 12 is formed by a method of screen printing a paste containing silver (Ag) material on the rear glass substrate 11 or a method of patterning using a photolithography method after forming a metal film on the entire surface. A material layer to be a material is formed. Thereafter, the address electrode 12 is formed by firing at a predetermined temperature. Next, a dielectric paste is applied on the rear glass substrate 11 on which the address electrodes 12 are formed by a die coating method or the like so as to cover the address electrodes 12 to form a dielectric paste layer. Thereafter, the base dielectric layer 13 is formed by firing the dielectric paste layer. The dielectric paste is a paint containing a dielectric material such as glass powder, a binder and a solvent.

次に、下地誘電体層１３上に隔壁材料を含む隔壁形成用ペーストを塗布し、所定の形状にパターニングすることにより隔壁材料層を形成する。その後、所定の温度で焼成することにより隔壁１４を形成する。ここで、下地誘電体層１３上に塗布した隔壁用ペーストをパターニングする方法としては、フォトリソグラフィ法やサンドブラスト法を用いることができる。そして、隣接する隔壁１４間の下地誘電体層１３上及び隔壁１４の側面に蛍光体材料を含む蛍光体ペーストを塗布し、焼成することにより蛍光体層１５が形成される。以上の工程により、背面ガラス基板１１上に所定の構成部材を有する背面板１０が完成する。 Next, a partition wall forming paste containing a partition wall material is applied on the base dielectric layer 13 and patterned into a predetermined shape to form a partition wall material layer. Then, the partition 14 is formed by baking at a predetermined temperature. Here, as a method of patterning the partition wall paste applied on the base dielectric layer 13, a photolithography method or a sand blast method can be used. Then, the phosphor layer 15 is formed by applying and baking a phosphor paste containing a phosphor material on the base dielectric layer 13 between the adjacent barrier ribs 14 and on the side surfaces of the barrier ribs 14. Through the above steps, the back plate 10 having predetermined components on the back glass substrate 11 is completed.

所定の構成部材を備えた前面板２と背面板１０とを走査電極４とアドレス電極１２とが直交するように対向配置し、その周囲をガラスフリットで封着して放電空間１６にキセノン（Ｘｅ）とネオン（Ｎｅ）などを含む放電ガスを封入してＰＤＰ１が完成する。 A front plate 2 and a rear plate 10 having predetermined constituent members are arranged so as to face each other so that the scanning electrodes 4 and the address electrodes 12 are orthogonal to each other, and the periphery thereof is sealed with a glass frit, and xenon (Xe ) And neon (Ne) and the like are enclosed, and the PDP 1 is completed.

次に本発明の実施の形態における保護層９の詳細について説明する。 Next, the detail of the protective layer 9 in embodiment of this invention is demonstrated.

本発明の実施の形態におけるＰＤＰでは、図２に示すように、保護層９は、誘電体層８に形成した下地膜９１と、下地膜９１上に付着させた酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の結晶粒子９２ａが複数個凝集した凝集粒子９２とにより構成されている。また、下地膜９１を、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、及び酸化バリウム（ＢａＯ）から選ばれる少なくとも１つ以上の酸化物からなる金属酸化物により形成する。 In the PDP in the embodiment of the present invention, as shown in FIG. 2, the protective layer 9 includes a base film 91 formed on the dielectric layer 8 and magnesium oxide (MgO) crystal particles deposited on the base film 91. 92a is constituted by agglomerated particles 92 in which a plurality of agglomerates are aggregated. In addition, the base film 91 is formed of a metal oxide made of at least one oxide selected from magnesium oxide (MgO), calcium oxide (CaO), strontium oxide (SrO), and barium oxide (BaO).

図３は、本発明の実施の形態におけるＰＤＰ１の保護層９を構成する下地膜９１面におけるＸ線回折結果を示す図である。また、図３中には、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）単体、酸化カルシウム（ＣａＯ）単体、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）単体、及び酸化バリウム（ＢａＯ）単体のＸ線回折分析の結果も示す。 FIG. 3 is a diagram showing an X-ray diffraction result on the surface of the base film 91 constituting the protective layer 9 of the PDP 1 in the embodiment of the present invention. FIG. 3 also shows the results of X-ray diffraction analysis of magnesium oxide (MgO) alone, calcium oxide (CaO) alone, strontium oxide (SrO) alone, and barium oxide (BaO) alone.

図３において、横軸はブラッグの回折角（２θ）であり、縦軸はＸ線回折波の強度である。回折角の単位は１周を３６０度とする度で示し、強度は任意単位（ａｒｂｉｔｒａｒｙｕｎｉｔ）で示している。図３中には特定方位面である結晶方位面を括弧付けで示している。図３に示すように、結晶方位面の（１１１）では、酸化カルシウム（ＣａＯ）単体では回折角３２．２度、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）単体では回折角３６．９度、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）単体では回折角３０．０度、酸化バリウム（ＢａＯ）単体では回折角２７．９度にピークを有していることがわかる。 In FIG. 3, the horizontal axis represents the Bragg diffraction angle (2θ), and the vertical axis represents the intensity of the X-ray diffraction wave. The unit of the diffraction angle is shown in degrees when one round is 360 degrees, and the intensity is shown in an arbitrary unit. In FIG. 3, the crystal orientation plane which is a specific orientation plane is shown in parentheses. As shown in FIG. 3, in the crystal orientation plane (111), the diffraction angle is 32.2 degrees for calcium oxide (CaO) alone, the diffraction angle is 36.9 degrees for magnesium oxide (MgO) alone, and strontium oxide (SrO) alone. Shows a peak at a diffraction angle of 30.0 degrees, and barium oxide (BaO) alone has a peak at a diffraction angle of 27.9 degrees.

本発明の実施の形態におけるＰＤＰ１では、保護層９の下地膜９１として、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、及び酸化バリウム（ＢａＯ）から選ばれる少なくとも１つ以上の酸化物からなる金属酸化物により形成している。 In PDP 1 in the embodiment of the present invention, at least one or more selected from magnesium oxide (MgO), calcium oxide (CaO), strontium oxide (SrO), and barium oxide (BaO) is used as base film 91 of protective layer 9. It is formed of a metal oxide made of the oxide.

図３には、下地膜９１を構成する単体成分が２成分の場合についてのＸ線回折結果を示している。すなわち、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）と酸化カルシウム（ＣａＯ）の単体を用いて形成した下地膜９１のＸ線回折結果をＡ点、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）と酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）の単体を用いて形成した下地膜９１のＸ線回折結果をＢ点、さらに、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）と酸化バリウム（ＢａＯ）の単体を用いて形成した下地膜９１のＸ線回折結果をＣ点で示している。 FIG. 3 shows the X-ray diffraction result when the single component constituting the base film 91 is two components. That is, the X-ray diffraction result of the base film 91 formed using magnesium oxide (MgO) and calcium oxide (CaO) alone was formed using point A, magnesium oxide (MgO) and strontium oxide (SrO) alone. The X-ray diffraction result of the base film 91 is indicated by B point, and further, the X-ray diffraction result of the base film 91 formed using magnesium oxide (MgO) and barium oxide (BaO) alone is indicated by C point.

すなわち、Ａ点は特定方位面としての結晶方位面の（１１１）において、単体の酸化物の最大回折角となる酸化マグネシウム（ＭｇＯ）単体の回折角３６．９度と、最小回折角となる酸化カルシウム（ＣａＯ）単体の回折角３２．２度との間である回折角３６．１度にピークが存在している。同様に、Ｂ点、Ｃ点もそれぞれ最大回折角と最小回折角との間の３５．７度、３５．４度にピークが存在している。 That is, the point A is a diffraction angle of 36.9 degrees of the magnesium oxide (MgO) alone, which is the maximum diffraction angle of the single oxide, in the crystal orientation plane (111) as the specific orientation plane, and the oxidation which is the minimum diffraction angle. A peak exists at a diffraction angle of 36.1 degrees, which is between the diffraction angle of 32.2 degrees of calcium (CaO) alone. Similarly, peaks at points B and C exist at 35.7 degrees and 35.4 degrees between the maximum diffraction angle and the minimum diffraction angle, respectively.

また、図４には、図３と同様に、下地膜９１を構成する単体成分が３成分以上の場合のＸ線回折結果を示している。すなわち、図４には、単体成分として酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化カルシウム（ＣａＯ）及び酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）を用いた場合の結果をＤ点、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化カルシウム（ＣａＯ）及び酸化バリウム（ＢａＯ）を用いた場合の結果をＥ点、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）及び酸化バリウム（ＢａＯ）を用いた場合の結果をＦ点で示している。 Further, FIG. 4 shows the X-ray diffraction result when the single component constituting the base film 91 is three or more components, as in FIG. That is, FIG. 4 shows the results when magnesium oxide (MgO), calcium oxide (CaO), and strontium oxide (SrO) are used as the single component, point D, magnesium oxide (MgO), calcium oxide (CaO), and oxidation. The results when barium (BaO) is used are indicated by point E, and the results when calcium oxide (CaO), strontium oxide (SrO) and barium oxide (BaO) are used are indicated by point F.

すなわち、Ｄ点は特定方位面としての結晶方位面の（１１１）において、単体の酸化物の最大回折角となる酸化マグネシウム（ＭｇＯ）単体の回折角３６．９度と、最小回折角となる酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）単体の回折角３０．０度との間である回折角３３．４度にピークが存在している。同様に、Ｅ点、Ｆ点もそれぞれ最大回折角と最小回折角との間の３２．８度、３０．２度にピークが存在している。 That is, the point D is a crystal orientation plane (111) as a specific orientation plane, and a diffraction angle of 36.9 degrees of magnesium oxide (MgO) as a maximum diffraction angle of a single oxide and an oxidation level as a minimum diffraction angle. A peak exists at a diffraction angle of 33.4 degrees, which is between the diffraction angle of 30.0 degrees of strontium (SrO) alone. Similarly, peaks at points E and F exist at 32.8 degrees and 30.2 degrees between the maximum diffraction angle and the minimum diffraction angle, respectively.

したがって、本発明の実施の形態におけるＰＤＰ１の下地膜９１は、単体成分として２成分であれ、３成分であれ、下地膜９１を構成する金属酸化物の下地膜９１面のＸ線回折分析において、特定方位面の金属酸化物を構成する酸化物の単体より発生するピークの最小回折角と最大回折角との間にピークが存在するようにしている。 Therefore, in the X-ray diffraction analysis of the surface of the base film 91 of the metal oxide constituting the base film 91, the base film 91 of the PDP 1 in the embodiment of the present invention has two components or three components as a single component. A peak exists between the minimum diffraction angle and the maximum diffraction angle of a peak generated from a single oxide constituting a metal oxide having a specific orientation plane.

なお、上記の説明では特定方位面としての結晶方位面として（１１１）を対象として説明したが、他の結晶方位面を対象とした場合も金属酸化物のピークの位置が上記と同様である。 In the above description, (111) has been described as the crystal orientation plane as the specific orientation plane, but the peak position of the metal oxide is the same as that described above when other crystal orientation planes are also targeted.

酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、及び酸化バリウム（ＢａＯ）の真空準位からの深さは酸化マグネシウム（ＭｇＯ）と比較して浅い領域に存在する。そのため、ＰＤＰ１を駆動する場合において、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、酸化バリウム（ＢａＯ）のエネルギー準位に存在する電子がキセノン（Ｘｅ）イオンの基底状態に遷移する際に、オージェ効果により放出される電子数が、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）のエネルギー準位から遷移する場合と比較して多くなると考えられる。 The depth from the vacuum level of calcium oxide (CaO), strontium oxide (SrO), and barium oxide (BaO) exists in a shallow region as compared with magnesium oxide (MgO). Therefore, when the PDP 1 is driven, when electrons existing in the energy levels of calcium oxide (CaO), strontium oxide (SrO), and barium oxide (BaO) transition to the ground state of the xenon (Xe) ion, Auger It is considered that the number of electrons emitted due to the effect increases as compared with the case of transition from the energy level of magnesium oxide (MgO).

また、上述のように、本発明の実施の形態における下地膜９１は、金属酸化物を構成する酸化物の単体より発生するピークの最小回折角と最大回折角との間にピークが存在するようにしている。Ｘ線回折分析の結果が、図３及び図４に示す特徴を有する金属酸化物はそのエネルギー準位もそれらを構成する単体の酸化物の間に存在する。したがって、下地膜９１のエネルギー準位も単体の酸化物の間に存在し、オージェ効果により放出される電子数が酸化マグネシウム（ＭｇＯ）のエネルギー準位から遷移する場合と比較して多くなると考えられる。 Further, as described above, the base film 91 according to the embodiment of the present invention has a peak between the minimum diffraction angle and the maximum diffraction angle of the peak generated from the single oxide constituting the metal oxide. I have to. As a result of X-ray diffraction analysis, metal oxides having the characteristics shown in FIGS. 3 and 4 have their energy levels between single oxides constituting them. Therefore, the energy level of the base film 91 is also present between the single oxides, and the number of electrons emitted by the Auger effect is considered to be larger than that in the case of transition from the energy level of magnesium oxide (MgO). .

その結果、下地膜９１では、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）単体と比較して、良好な二次電子放出特性を発揮することができ、結果として、放電維持電圧を低減することができる。そのため、特に輝度を高めるために放電ガスとしてのキセノン（Ｘｅ）分圧を高めた場合に、放電電圧を低減し、低電圧でなおかつ高輝度のＰＤＰを実現することが可能となる。 As a result, the base film 91 can exhibit better secondary electron emission characteristics as compared with magnesium oxide (MgO) alone, and as a result, the discharge sustaining voltage can be reduced. Therefore, particularly when the partial pressure of xenon (Xe) as the discharge gas is increased in order to increase the luminance, it is possible to reduce the discharge voltage and realize a low-voltage and high-luminance PDP.

表１には、本発明の実施の形態におけるＰＤＰにおいて、４５０Ｔｏｒｒのキセノン（Ｘｅ）及びネオン（Ｎｅ）の混合ガス（Ｘｅ、１５％）を封入した場合の放電維持電圧の結果で、下地膜９１の構成を変えた場合の、ＰＤＰの結果を示す。 Table 1 shows the result of the sustaining voltage when the mixed gas (Xe, 15%) of 450 Torr of xenon (Xe) and neon (Ne) is sealed in the PDP according to the embodiment of the present invention. The result of PDP when the structure of is changed is shown.

なお、表１の放電維持電圧は比較例を１００とした場合の相対値で表している。サンプルＡの下地膜９１は、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）と酸化カルシウム（ＣａＯ）による金属酸化物、サンプルＢの下地膜９１は酸化マグネシウム（ＭｇＯ）と酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）による金属酸化物、サンプルＣの下地膜９１は酸化マグネシウム（ＭｇＯ）と酸化バリウム（ＢａＯ）による金属酸化物、サンプルＤの下地膜９１は、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化カルシウム（ＣａＯ）及び酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）による金属酸化物、サンプルＥの下地膜９１は酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化カルシウム（ＣａＯ）及び酸化バリウム（ＢａＯ）による金属酸化物によって構成されている。また、比較例は、下地膜９１が酸化マグネシウム（ＭｇＯ）単体である場合について示している。 The sustaining voltage in Table 1 is expressed as a relative value when the comparative example is 100. The base film 91 of sample A is a metal oxide made of magnesium oxide (MgO) and calcium oxide (CaO). The base film 91 of sample B is a metal oxide made of magnesium oxide (MgO) and strontium oxide (SrO). The base film 91 is a metal oxide made of magnesium oxide (MgO) and barium oxide (BaO). The base film 91 of the sample D is a metal oxide made of magnesium oxide (MgO), calcium oxide (CaO), and strontium oxide (SrO). The base film 91 of the sample E is made of a metal oxide made of magnesium oxide (MgO), calcium oxide (CaO), and barium oxide (BaO). Further, the comparative example shows a case where the base film 91 is made of magnesium oxide (MgO) alone.

放電ガスのキセノン（Ｘｅ）の分圧を１０％から１５％に高めた場合には輝度が約３０％上昇するが、下地膜９１が酸化マグネシウム（ＭｇＯ）単体の場合の比較例では、放電維持電圧が約１０％上昇する。 When the partial pressure of the discharge gas xenon (Xe) is increased from 10% to 15%, the luminance increases by about 30%. However, in the comparative example in which the base film 91 is made of magnesium oxide (MgO) alone, the discharge is maintained. The voltage increases about 10%.

一方、本発明の実施の形態におけるＰＤＰでは、サンプルＡ、サンプルＢ、サンプルＣ、サンプルＤ、サンプルＥいずれも、放電維持電圧を比較例に比較して約１０％〜２０％低減することができる。そのため、通常動作範囲内の放電開始電圧とすることができ、高輝度で低電圧駆動のＰＤＰを実現することができる。 On the other hand, in the PDP according to the embodiment of the present invention, the discharge sustain voltage can be reduced by about 10% to 20% in all of the sample A, the sample B, the sample C, the sample D, and the sample E as compared with the comparative example. . Therefore, the discharge start voltage can be set within the normal operation range, and a high-luminance and low-voltage drive PDP can be realized.

なお、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、酸化バリウム（ＢａＯ）は、単体では反応性が高いため不純物と反応しやすく、そのために電子放出性能が低下してしまうという課題を有していた。しかしながら、本発明の実施の形態においては、それらの金属酸化物の構成とすることにより、反応性を低減し、不純物の混入や酸素欠損の少ない結晶構造で形成されている。そのため、ＰＤＰの駆動時に電子が過剰放出されるのが抑制され、低電圧駆動と二次電子放出性能の両立効果に加えて、適度な電子保持特性の効果も発揮される。この電荷保持特性は、特に初期化期間に貯めた壁電荷を保持しておき、書き込み期間において書き込み不良を防止して確実な書き込み放電を行う上で有効である。 Calcium oxide (CaO), strontium oxide (SrO), and barium oxide (BaO) are highly reactive by themselves, so that they easily react with impurities, and thus have a problem that the electron emission performance is lowered. It was. However, in the embodiment of the present invention, the structure of these metal oxides reduces the reactivity and forms a crystal structure with few impurities and oxygen vacancies. Therefore, excessive emission of electrons during driving of the PDP is suppressed, and in addition to the effect of achieving both low voltage driving and secondary electron emission performance, the effect of moderate electron retention characteristics is also exhibited. This charge retention characteristic is particularly effective for retaining wall charges stored in the initialization period and preventing a write failure in the write period and performing a reliable write discharge.

次に、本発明の実施の形態における下地膜９１上に設けた、金属酸化物で被覆されている粒子９２について説明する。粒子９２の散布効果として、放電電圧が低減する効果、書き込み放電における放電遅れを抑制する効果、放電遅れの温度依存性を改善する効果などが挙げられる。これは、粒子９２内の核粒子９２ａの先端に電界集中が起こり、電界電子放出によって電子放出特性が向上したためであると考えられる。この効果を得るためには核粒子９２ａの先端が先鋭である必要があるが、放電によるスパッタリングにより先端が徐々に磨耗され、電界電子放出特性が悪化することが考えられる。その結果、長時間にわたって放電電圧の低下を維持し、かつ放電遅れを抑制することが困難となる。しかし、核粒子９２ａを被覆膜９２ｂ、または被覆粒子９２ｃで被覆することにより、放電によるスパッタリングから核粒子９２ａの先端をガードし磨耗を抑制することで、長時間にわたって放電電圧の低下を維持し、かつ放電遅れを抑制することが可能となる。 Next, the particle 92 covered with the metal oxide provided on the base film 91 in the embodiment of the present invention will be described. Examples of the scattering effect of the particles 92 include an effect of reducing the discharge voltage, an effect of suppressing the discharge delay in the write discharge, and an effect of improving the temperature dependence of the discharge delay. This is presumably because the electric field concentration occurred at the tip of the core particle 92a in the particle 92 and the electron emission characteristics were improved by the field electron emission. In order to obtain this effect, the tip of the core particle 92a needs to be sharp, but it is considered that the tip is gradually worn by sputtering due to discharge, and the field electron emission characteristics deteriorate. As a result, it is difficult to maintain a decrease in the discharge voltage over a long period of time and suppress a discharge delay. However, by covering the core particle 92a with the coating film 92b or the cover particle 92c, the tip of the core particle 92a is guarded from sputtering by discharge and the wear is suppressed, so that the discharge voltage can be kept low for a long time. In addition, it is possible to suppress the discharge delay.

以上のように本発明によるＰＤＰによれば、高輝度の表示性能を備え、かつ低電圧駆動が可能で放電遅れの小さいＰＤＰを実現することが可能となる。 As described above, according to the PDP of the present invention, it is possible to realize a PDP having high luminance display performance, capable of being driven at a low voltage and having a small discharge delay.

以上のように本発明は、高画質の表示性能を備え、かつ低消費電力のＰＤＰを実現する上で有用な発明である。 As described above, the present invention is useful in realizing a PDP having high image quality display performance and low power consumption.

１ＰＤＰ
２前面板
３前面ガラス基板
４走査電極
４ａ，５ａ透明電極
４ｂ，５ｂ金属バス電極
５維持電極
６表示電極
７ブラックストライプ（遮光層）
８誘電体層
９保護層
１０背面板
１１背面ガラス基板
１２アドレス電極
１３下地誘電体層
１４隔壁
１５蛍光体層
１６放電空間
９１下地膜
９２粒子
９２ａ核粒子
９２ｂ被覆膜
９２ｃ被覆粒子 1 PDP
2 Front plate 3 Front glass substrate 4 Scan electrode 4a, 5a Transparent electrode 4b, 5b Metal bus electrode 5 Sustain electrode 6 Display electrode 7 Black stripe (light shielding layer)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 8 Dielectric layer 9 Protective layer 10 Back plate 11 Back glass substrate 12 Address electrode 13 Base dielectric layer 14 Partition 15 Phosphor layer 16 Discharge space 91 Base film 92 Particle 92a Core particle 92b Cover film 92c Cover particle

Claims

It consists of a front plate and a back plate having display electrodes and a dielectric, and a protective film is provided on the dielectric layer, the protective film has a base layer and particles on the base layer, and the particles are A plasma display panel that is coated with a metal oxide.

The plasma display panel according to claim 1, wherein the metal oxide is at least one oxide selected from magnesium oxide, calcium oxide, strontium oxide, barium oxide, silicon oxide, and aluminum oxide.

The plasma display panel according to claim 1, wherein the particles have a shape of any one of a needle shape, a tetrapod shape, a polygonal pyramid, and a polyhedron.

The plasma display panel according to claim 1, wherein the particles contain zinc oxide, titanium oxide, zinc selenide, silicon carbide, titanium carbide, silicon nitride, aluminum nitride, and boron nitride as components. .

The underlayer is formed of a metal oxide composed of at least two oxides selected from magnesium oxide, calcium oxide, strontium oxide, and barium oxide, and the metal oxide is subjected to X-ray diffraction analysis of the underlayer surface. 5, wherein a peak exists between the minimum diffraction angle and the maximum diffraction angle generated from the simple substance of the oxide constituting the metal oxide having a specific orientation plane. The plasma display panel according to any one of the above.