JP2012518611A - オリゴアミノシランの製造法および安定化法 - Google Patents
オリゴアミノシランの製造法および安定化法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012518611A JP2012518611A JP2011550522A JP2011550522A JP2012518611A JP 2012518611 A JP2012518611 A JP 2012518611A JP 2011550522 A JP2011550522 A JP 2011550522A JP 2011550522 A JP2011550522 A JP 2011550522A JP 2012518611 A JP2012518611 A JP 2012518611A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- general formula
- oligoaminosilane
- activated carbon
- oligohalogenated
- silane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 5
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 title claims abstract description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 16
- 150000004756 silanes Polymers 0.000 claims abstract description 14
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000001257 hydrogen Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical group [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims abstract description 3
- 125000002924 primary amino group Chemical class [H]N([H])* 0.000 claims abstract 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 5
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Polymers [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052740 iodine Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000011630 iodine Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 abstract description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract description 3
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical group II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WMAAIGILTZEOHE-UHFFFAOYSA-N n-[bis(ethylamino)-[tris(ethylamino)silyl]silyl]ethanamine Chemical compound CCN[Si](NCC)(NCC)[Si](NCC)(NCC)NCC WMAAIGILTZEOHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 2-Methylpentane Chemical compound CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 6
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LXEXBJXDGVGRAR-UHFFFAOYSA-N trichloro(trichlorosilyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)[Si](Cl)(Cl)Cl LXEXBJXDGVGRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Chemical class 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N N-[1-oxo-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propan-2-yl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(C(C)NC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- -1 amino-substituted monosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229950005499 carbon tetrachloride Drugs 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004255 ion exchange chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B63/00—Purification; Separation; Stabilisation; Use of additives
- C07B63/04—Use of additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/025—Silicon compounds without C-silicon linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/10—Compounds having one or more C—Si linkages containing nitrogen having a Si-N linkage
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Abstract
本発明の対象は、一般式（ＩＩ）ＳｉnＸ2n+2で示されるオリゴハロゲン化シランを一般式（ＩＩＩ）Ｒ−ＮＨ2で示される第一級アミンと、溶剤としての炭化水素中で反応させることにより、一般式（Ｉ）ＳｉnＹ2n+2で示されるオリゴアミノシランを製造する方法であり、上記式中、Ｘは、塩素、臭素および沃素から選択され、Ｙは、ハロゲン、水素またはＲ−ＮＨを表わし、Ｒは、１〜２０個の炭素原子を有する炭化水素基を表わし、およびｎは、１〜２０の値を表わし、但し、基Ｙの最大３５モル％は、水素を表わし、および基Ｙの最大１５モル％は、ハロゲンを表わし、この場合反応混合物には、活性炭が添加される。同様に、本発明の対象は、一般式（Ｉ）のオリゴアミノシランを安定化させる方法であり、この場合オリゴアミノシランには、活性炭が添加される。
Description
本発明は、オリゴアミノシランをオリゴハロゲン化シランおよび第一級アミンから製造する方法、この場合反応混合物には、活性炭が添加され、ならびにオリゴアミノシランの安定化に関する。
アミノシラン化合物は、Ｓｉ−Ｎ−層およびＳｉ−Ｏ−層の形成にとって著しく重要であり、このためにアミノ置換されたモノシランは、既に試験されたものであり、また、若干のジシランは、良好な性質を示す。その限りにおいて、高い珪素含量を有する化合物が重要である。
ＷＯ ０３／０４５９５９には、ヘキサキスエチルアミノジシランをヘキサクロロジシランおよびペンタン中のエチルアミンから製造することが記載されている。また、こうして製造されたヘキサキスエチルアミノジシランは、水および空気の厳格な遮断下に制限されてのみ貯蔵安定性である。
オリゴアミノシラン、例えばヘキサキスエチルアミノジシランの使用には、高い純度が必要とされるので、貯蔵の際に分解、ひいては汚染傾向を有しない生成物に対する高い要求が課されていた。
本発明の対象は、
一般式（ＩＩ）
ＳｉnＸ2n+2 （ＩＩ）
で示されるオリゴハロゲン化シランを
一般式（ＩＩＩ）
Ｒ−ＮＨ2 （ＩＩＩ）
で示される第一級アミンと、溶剤としての炭化水素中で反応させることにより、一般式（Ｉ）
ＳｉnＹ2n+2 （Ｉ）
で示されるオリゴアミノシランを製造する方法であり、
上記式中、Ｘは、塩素、臭素および沃素から選択され、
Ｙは、ハロゲン、水素またはＲ−ＮＨを表わし、
Ｒは、１〜２０個の炭素原子を有する炭化水素基を表わし、および
ｎは、１〜２０の値を表わし、
但し、基Ｙの最大３５モル％は、水素を表わし、および
基Ｙの最大１５モル％は、ハロゲンを表わし、この場合反応混合物には、活性炭が添加される、一般式（Ｉ）のオリゴアミノシランを製造する方法である。
一般式（ＩＩ）
ＳｉnＸ2n+2 （ＩＩ）
で示されるオリゴハロゲン化シランを
一般式（ＩＩＩ）
Ｒ−ＮＨ2 （ＩＩＩ）
で示される第一級アミンと、溶剤としての炭化水素中で反応させることにより、一般式（Ｉ）
ＳｉnＹ2n+2 （Ｉ）
で示されるオリゴアミノシランを製造する方法であり、
上記式中、Ｘは、塩素、臭素および沃素から選択され、
Ｙは、ハロゲン、水素またはＲ−ＮＨを表わし、
Ｒは、１〜２０個の炭素原子を有する炭化水素基を表わし、および
ｎは、１〜２０の値を表わし、
但し、基Ｙの最大３５モル％は、水素を表わし、および
基Ｙの最大１５モル％は、ハロゲンを表わし、この場合反応混合物には、活性炭が添加される、一般式（Ｉ）のオリゴアミノシランを製造する方法である。
一般式（Ｉ）のオリゴアミノシランを製造する際に活性炭を存在させることによって、オリゴアミノシランの貯蔵安定性は、明らかに向上される。一般式（Ｉ）のオリゴアミノシランの収量も改善させることができる。更に、また、生成物の塩素含量は、減少される。
本方法に使用される活性炭は、特に炭素少なくとも９０質量％を有する。ＢＥＴ表面積は、特に活性炭１ｇ当たり少なくとも２００ｍ2、殊に少なくとも４００ｍ2である。活性炭は、植物性、動物性、鉱物性または石油化学性の出発物質から製造されてよい。この製造は、特に出発物質を脱水剤、例えば塩化亜鉛、硫酸または燐酸で５００〜９００℃で処理することによって行なわれるか、または乾式蒸留によって行なわれる。こうして得られた粗製活性炭は、引続き７００〜１０００℃で水蒸気または二酸化炭素を用いてか、または空気を用いて酸化活性化される。
一般式（Ｉ）において、基Ｙの特に最大２０モル％、特に有利に最大１０モル％、殊に０モル％は、水素を意味する。
一般式（Ｉ）において、基Ｙの特に最大１モル％、特に有利に最大０．１モル％、殊に最大０．０１モル％、殊に有利に０モル％は、ハロゲンを意味する。
ハロゲンＸおよび場合によりＹは、特に塩素である。
Ｒは、殊に直鎖状または分枝鎖状のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルケニル基またはアリールアルキル基であることができる。好ましくは、基Ｒは、１〜１２個、殊に１〜６個の炭素原子を有する。特に好ましい基Ｒは、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基または第三ペンチル基およびフェニル基である。
ｎは、特に１〜６の値を表わし、特に好ましくは、１、２、３および４の値である。
炭化水素溶剤としては、１バールで１２０℃までの沸点または沸騰範囲を有する溶剤および溶剤混合物が好ましい。このような溶剤の例は、３〜１０個の炭素原子を有するアルカン、６〜１２個の炭素原子を有する芳香族化合物、１〜３個のハロゲン化アルカンおよびこれらの混合物である。好ましい例は、ジクロロメタン、テトラクロロメタン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエンおよびキシレン、およびこれらの異性体混合物である。
有利に製造された一般式（Ｉ）のオリゴアミノシランは、長鎖状または分枝鎖状である。特に有利に製造された一般式（Ｉ）のオリゴアミノシランは、一般式（ＩＶ）
Ｙ（ＳｉＹ2）mＳｉＹ3 （ＩＶ）
〔式中、Ｙは、前記の意味を有し、ｎは、１、２、３、４または５の値を表わす〕で示される直鎖状オリゴアミノシランである。
Ｙ（ＳｉＹ2）mＳｉＹ3 （ＩＶ）
〔式中、Ｙは、前記の意味を有し、ｎは、１、２、３、４または５の値を表わす〕で示される直鎖状オリゴアミノシランである。
同様に、有利に製造された、一般式（Ｉ）のオリゴアミノシランは、一般式（Ｖ）
Ｙ3Ｓｉ（ＳｉＺ2）ＳｉＹ3 （Ｖ）
〔式中、Ｙは、前記の意味を有し、Ｚは、水素、ハロゲンまたはＳｉＹ3を表わす〕で示されるオリゴアミノシランである。
Ｙ3Ｓｉ（ＳｉＺ2）ＳｉＹ3 （Ｖ）
〔式中、Ｙは、前記の意味を有し、Ｚは、水素、ハロゲンまたはＳｉＹ3を表わす〕で示されるオリゴアミノシランである。
特に、一般式（ＩＩＩ）の第一級アミンは、一般式（ＩＩ）のオリゴハロゲン化シランに対して過剰量で使用される。特に、第一級アミンの過剰量は、それぞれオリゴハロゲン化シラン中の基Ｘ１モルに対して少なくとも１．１：１、特に有利に少なくとも２：１、殊に少なくとも５：１および特に最大２０：１である。
オリゴハロゲン化シラン中の基Ｘ１モル当たり、活性炭特に少なくとも０．５ｇ、特に有利に少なくとも２ｇ、特に最大３０ｇ、特に有利に最大１０ｇが使用される。
１つの好ましい実施態様において、活性炭は、オリゴハロゲン化シラン中の基Ｘ少なくとも５０％、殊に７５％の反応後に反応混合物に添加される。
更に、好ましい実施態様において、一般式（ＩＩＩ）の第一級アミンは、溶剤中に装入され、一般式（ＩＩ）のオリゴハロゲン化シランが供給される。特に、オリゴハロゲン化シランの添加後に、活性炭が添加される。特に好ましくは、最初に過剰量のアミンが除去され、その後に活性炭が添加される。
特に、反応の温度は、少なくとも−８０℃、特に有利に少なくとも−４０℃および特に最大１００℃、特に有利に最大３０℃である。
特に、反応の圧力は、０．５バール、特に有利に少なくとも１バール、特に最大１０バールである。易揮発性の第一級アミン、例えばメチルアミンおよびエチルアミンを使用する場合には、１バールを上廻る圧力の使用は、好ましい。
特に、活性炭は、反応混合物の後処理の際に濾別される。
同様に、本発明の対象は、一般式（Ｉ）のオリゴアミノシランを安定化させる方法であり、この場合オリゴアミノシランには、活性炭が添加される。そのために、特に活性炭が断片の形で使用される。
前記式の全ての前記の符号は、それらの意味を、それぞれ互いに無関係に有する。全ての式において、珪素原子は、四価である。
以下の実施例では、そのつど別記されていなければ、全ての量および％の記載は、質量に対するものであり、全ての圧力は、１バール（絶対圧）であり、かつ全ての温度は２０℃である。
例１：ヘキサキスエチルアミノジシランの製造（本発明による）
フラスコ中にイソヘキサン１３００ｇを供給する。このフラスコ中で、エチルアミン７２０ｇを縮合させる。このために、この溶液を−４０℃に冷却する。引続き、冷却下にヘキサクロロジシラン２７０ｇを、温度が０℃を上廻らないように計量供給する。計量供給の終結後、１時間攪拌し、引続きフラスコ内容物をフィルター中に移す。得られた溶液から過剰量のエチルアミンおよびイソヘキサン約４００ｇを留去する。このために、真空に印加し、約４０℃の温度で連続的に４００ミリバールに上昇させる。更に、得られた濃厚物（約１１００ｇ）を活性炭３０ｇで撹拌下に１０時間処理する。活性炭を濾別し、濃厚物を蒸留する。目的生成物のヘキサキスエチルアミノジシランは、１２０℃の塔頂温度および２．５ミリバールで取り出される。
フラスコ中にイソヘキサン１３００ｇを供給する。このフラスコ中で、エチルアミン７２０ｇを縮合させる。このために、この溶液を−４０℃に冷却する。引続き、冷却下にヘキサクロロジシラン２７０ｇを、温度が０℃を上廻らないように計量供給する。計量供給の終結後、１時間攪拌し、引続きフラスコ内容物をフィルター中に移す。得られた溶液から過剰量のエチルアミンおよびイソヘキサン約４００ｇを留去する。このために、真空に印加し、約４０℃の温度で連続的に４００ミリバールに上昇させる。更に、得られた濃厚物（約１１００ｇ）を活性炭３０ｇで撹拌下に１０時間処理する。活性炭を濾別し、濃厚物を蒸留する。目的生成物のヘキサキスエチルアミノジシランは、１２０℃の塔頂温度および２．５ミリバールで取り出される。
例２：ヘキサキスエチルアミノジシランの製造（本発明によらない）
フラスコ中にイソヘキサン１３００ｇを供給する。このフラスコ中で、エチルアミン７２０ｇを縮合させる。このために、この溶液を−４０℃に冷却する。引続き、冷却下にヘキサクロロジシラン２７０ｇを、温度が０℃を上廻らないように計量供給する。計量供給の終結後、１時間攪拌し、引続きフラスコ内容物をフィルター中に移す。引続き、この溶液を蒸留する。このために、連続的に６０℃の温度で真空を１〜３ミリバールに上昇させる。その後に、温度を１〜３ミリバールで上昇させる。目的生成物のヘキサキスエチルアミノジシランは、１２０℃の塔頂温度および２．５ミリバールで取り出される。
フラスコ中にイソヘキサン１３００ｇを供給する。このフラスコ中で、エチルアミン７２０ｇを縮合させる。このために、この溶液を−４０℃に冷却する。引続き、冷却下にヘキサクロロジシラン２７０ｇを、温度が０℃を上廻らないように計量供給する。計量供給の終結後、１時間攪拌し、引続きフラスコ内容物をフィルター中に移す。引続き、この溶液を蒸留する。このために、連続的に６０℃の温度で真空を１〜３ミリバールに上昇させる。その後に、温度を１〜３ミリバールで上昇させる。目的生成物のヘキサキスエチルアミノジシランは、１２０℃の塔頂温度および２．５ミリバールで取り出される。
生成物の試験
例１および２により製造されたヘキサキスエチルアミノジシランの安定性を物質約５ｇを加熱することによってネジ締めされた鋼製管中で１５０℃で試験する。ヘキサキスエチルアミノジシランの百分率での取り出し量は、次の通りである：
１日目／１５０℃ ５日目／１５０℃
例２＊の生成物 −２４％ −５３％
例１の生成物 −４％ −２３％
＊本発明によらない
また、活性炭での本発明による処理によって、収量は、上昇される。収量は、全ての画分に関して次の通りである：
例２（本発明によらない）の生成物 ７７％
例１の生成物 ８２％
本発明による研究方法によって、生成物の塩素含量も減少される。イオンクロマトグラフィーにより測定した塩素含量は、次の通りである：
例２（本発明によらない）の生成物 ２５ｐｐｍ
例１の生成物 １３ｐｐｍ
例１および２により製造されたヘキサキスエチルアミノジシランの安定性を物質約５ｇを加熱することによってネジ締めされた鋼製管中で１５０℃で試験する。ヘキサキスエチルアミノジシランの百分率での取り出し量は、次の通りである：
１日目／１５０℃ ５日目／１５０℃
例２＊の生成物 −２４％ −５３％
例１の生成物 −４％ −２３％
＊本発明によらない
また、活性炭での本発明による処理によって、収量は、上昇される。収量は、全ての画分に関して次の通りである：
例２（本発明によらない）の生成物 ７７％
例１の生成物 ８２％
本発明による研究方法によって、生成物の塩素含量も減少される。イオンクロマトグラフィーにより測定した塩素含量は、次の通りである：
例２（本発明によらない）の生成物 ２５ｐｐｍ
例１の生成物 １３ｐｐｍ
Claims (9)
- 一般式（ＩＩ）
ＳｉnＸ2n+2 （ＩＩ）
で示されるオリゴハロゲン化シランを
一般式（ＩＩＩ）
Ｒ−ＮＨ2 （ＩＩＩ）
で示される第一級アミンと、溶剤としての炭化水素中で反応させることにより、
一般式（Ｉ）
ＳｉnＹ2n+2 （Ｉ）
で示されるオリゴアミノシランを製造する方法であって、
上記式中、Ｘは、塩素、臭素および沃素から選択され、
Ｙは、ハロゲン、水素またはＲ−ＮＨを表わし、
Ｒは、１〜２０個の炭素原子を有する炭化水素基を表わし、および
ｎは、１〜２０の値を表わし、
但し、基Ｙの最大３５モル％は、水素を表わし、および
基Ｙの最大１５モル％は、ハロゲンを表わし、この場合反応混合物には、活性炭が添加される、一般式（Ｉ）のオリゴアミノシランを製造する方法。 - Ｒは、１〜６個の炭素原子を有するアルキル基を表わす、請求項１記載の方法。
- 一般式（ＩＶ）
Ｙ（ＳｉＹ2）mＳｉＹ3 （ＩＶ）
〔式中、Ｙは、請求項１に記載の意味を有し、
ｍは、１、２、３、４または５の値を表わす〕で示される直鎖状オリゴアミノシランを製造する、請求項１または２記載の方法。 - 一般式（Ｖ）
Ｙ3Ｓｉ（ＳｉＺ2）ＳｉＹ3 （Ｖ）
〔式中、Ｙは、請求項１に記載の意味を有し、
Ｚは、水素、ハロゲンまたはＳｉＹ3を表わす〕で示されるオリゴアミノシランを製造する、請求項１または２記載の方法。 - 一般式（ＩＩＩ）の第一級アミンを一般式（ＩＩＩ）のオリゴハロゲン化シランに対して過剰量で使用する、請求項１から４までのいずれか１項に記載の方法。
- 活性炭をオリゴハロゲン化シラン中の基Ｘ少なくとも７５％の反応後に反応混合物に添加する、請求項５記載の方法。
- 一般式（ＩＩＩ）の第一級アミンを溶剤中に装入し、一般式（ＩＩ）のオリゴハロゲン化シランを供給し、オリゴハロゲン化シランの添加後に活性炭を添加する、請求項１から６までのいずれか１項に記載の方法。
- 反応の温度は、−８０℃〜１００℃である、請求項１から７までのいずれか１項に記載の方法。
- 請求項１記載の一般式（Ｉ）のオリゴアミノシランを安定化する方法において、
オリゴアミノシランに活性炭を添加することを特徴とする、請求項１記載の一般式（Ｉ）のオリゴアミノシランを安定化する方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102009001088.2 | 2009-02-23 | ||
| DE102009001088A DE102009001088A1 (de) | 2009-02-23 | 2009-02-23 | Verfahren zur Herstellung und Stabilisierung von Oligoaminosilanen |
| PCT/EP2010/051672 WO2010094610A1 (de) | 2009-02-23 | 2010-02-11 | Verfahren zur herstellung und stabilisierung von oligoaminosilanen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012518611A true JP2012518611A (ja) | 2012-08-16 |
| JP5551189B2 JP5551189B2 (ja) | 2014-07-16 |
Family
ID=42025697
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011550522A Expired - Fee Related JP5551189B2 (ja) | 2009-02-23 | 2010-02-11 | オリゴアミノシランの製造法および安定化法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8367854B2 (ja) |
| EP (1) | EP2398811B1 (ja) |
| JP (1) | JP5551189B2 (ja) |
| KR (1) | KR101366927B1 (ja) |
| CN (1) | CN102307883B (ja) |
| DE (1) | DE102009001088A1 (ja) |
| WO (1) | WO2010094610A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102199525B1 (ko) * | 2014-05-30 | 2021-01-08 | 디디피 스페셜티 일렉트로닉 머티리얼즈 유에스 9 엘엘씨 | 다이아이소프로필아미노-다이실란의 합성 공정 |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0770154A (ja) * | 1993-07-30 | 1995-03-14 | Th Goldschmidt Ag | アルキル錫化合物、その製造方法、および該化合物を含有する、導電性および赤外反射性のフッ素ドープした酸化錫層をガラス、ガラスセラミックおよびほうろう表面に製造するための薬剤 |
| JPH09309954A (ja) * | 1996-05-20 | 1997-12-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ポリシラン類の精製方法 |
| US6100418A (en) * | 1998-05-12 | 2000-08-08 | Sivento Chemie Rheinfelden Gmbh | Lessening residual halogen content and improving color number in alkoxysilanes or alkoxysilane-based compositions |
| JP2003171383A (ja) * | 2001-11-30 | 2003-06-20 | L'air Liquide Sa Pour L'etude & L'exploitation Des Procede S Georges Claude | ヘキサキス（モノヒドロカルビルアミノ）ジシランおよびその製造方法 |
| US20040096582A1 (en) * | 2002-11-14 | 2004-05-20 | Ziyun Wang | Composition and method for low temperature deposition of silicon-containing films such as films including silicon nitride, silicon dioxide and/or silicon-oxynitride |
| JP2005252238A (ja) * | 2004-02-06 | 2005-09-15 | Mitsubishi Materials Corp | 金属含有膜形成材料及び該材料から作製された金属含有膜 |
| WO2007112779A1 (en) * | 2006-04-03 | 2007-10-11 | L'air Liquide Societe Anonyme A Directoire Et Conseil De Surveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Pentakis(dimethylamino) disilane precursor comprising compound and method for the preparation thereof |
| JP2007296484A (ja) * | 2006-05-01 | 2007-11-15 | Unitika Ltd | 水処理用フィルター |
| JP2008074847A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-04-03 | Air Products & Chemicals Inc | 弱塩基性イオン交換樹脂を用いた窒素含有オルガノシラン及び酸素含有オルガノシランの安定化 |
| JP2008189671A (ja) * | 2007-02-05 | 2008-08-21 | Air Products & Chemicals Inc | 化学気相成長における前駆体として用いられる有機ケイ素組成物を精製する方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2385018A (en) * | 1942-08-25 | 1945-09-18 | Wingfoot Corp | Stabilization of esters |
| DE4422813A1 (de) * | 1994-06-29 | 1996-01-04 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zum Stabilisieren von Organpolysiloxanen |
| DE10362060B4 (de) * | 2003-10-21 | 2009-07-09 | Altana Coatings & Sealants Gmbh | Verpackungsmaterial mit einer Barriereschicht für Gase |
| DE102007048937A1 (de) * | 2007-10-12 | 2009-04-16 | Evonik Degussa Gmbh | Entfernung von polaren organischen Verbindungen und Fremdmetallen aus Organosilanen |
-
2009
- 2009-02-23 DE DE102009001088A patent/DE102009001088A1/de not_active Withdrawn
-
2010
- 2010-02-11 JP JP2011550522A patent/JP5551189B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-02-11 CN CN201080007253.1A patent/CN102307883B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-02-11 WO PCT/EP2010/051672 patent/WO2010094610A1/de not_active Ceased
- 2010-02-11 US US13/147,866 patent/US8367854B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-02-11 KR KR1020117019141A patent/KR101366927B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2010-02-11 EP EP10704134A patent/EP2398811B1/de not_active Not-in-force
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0770154A (ja) * | 1993-07-30 | 1995-03-14 | Th Goldschmidt Ag | アルキル錫化合物、その製造方法、および該化合物を含有する、導電性および赤外反射性のフッ素ドープした酸化錫層をガラス、ガラスセラミックおよびほうろう表面に製造するための薬剤 |
| JPH09309954A (ja) * | 1996-05-20 | 1997-12-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ポリシラン類の精製方法 |
| US6100418A (en) * | 1998-05-12 | 2000-08-08 | Sivento Chemie Rheinfelden Gmbh | Lessening residual halogen content and improving color number in alkoxysilanes or alkoxysilane-based compositions |
| JP2003171383A (ja) * | 2001-11-30 | 2003-06-20 | L'air Liquide Sa Pour L'etude & L'exploitation Des Procede S Georges Claude | ヘキサキス（モノヒドロカルビルアミノ）ジシランおよびその製造方法 |
| US20040096582A1 (en) * | 2002-11-14 | 2004-05-20 | Ziyun Wang | Composition and method for low temperature deposition of silicon-containing films such as films including silicon nitride, silicon dioxide and/or silicon-oxynitride |
| JP2005252238A (ja) * | 2004-02-06 | 2005-09-15 | Mitsubishi Materials Corp | 金属含有膜形成材料及び該材料から作製された金属含有膜 |
| WO2007112779A1 (en) * | 2006-04-03 | 2007-10-11 | L'air Liquide Societe Anonyme A Directoire Et Conseil De Surveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Pentakis(dimethylamino) disilane precursor comprising compound and method for the preparation thereof |
| JP2007296484A (ja) * | 2006-05-01 | 2007-11-15 | Unitika Ltd | 水処理用フィルター |
| JP2008074847A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-04-03 | Air Products & Chemicals Inc | 弱塩基性イオン交換樹脂を用いた窒素含有オルガノシラン及び酸素含有オルガノシランの安定化 |
| JP2008189671A (ja) * | 2007-02-05 | 2008-08-21 | Air Products & Chemicals Inc | 化学気相成長における前駆体として用いられる有機ケイ素組成物を精製する方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN102307883A (zh) | 2012-01-04 |
| EP2398811A1 (de) | 2011-12-28 |
| KR20110107377A (ko) | 2011-09-30 |
| US20110295032A1 (en) | 2011-12-01 |
| JP5551189B2 (ja) | 2014-07-16 |
| US8367854B2 (en) | 2013-02-05 |
| KR101366927B1 (ko) | 2014-02-24 |
| WO2010094610A1 (de) | 2010-08-26 |
| CN102307883B (zh) | 2014-07-16 |
| DE102009001088A1 (de) | 2010-08-26 |
| EP2398811B1 (de) | 2012-10-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Yoder et al. | Reactions of the ambidentate substrate chloromethyldimethylchlorosilane with amines and amides | |
| JP6382447B2 (ja) | イソシアネート官能性オルガノシランの製造 | |
| WO2017106615A1 (en) | Synthesis of disilanylamines and polysilanylamines | |
| TWI720966B (zh) | 二烷基胺基矽烷的製造方法 | |
| JP5187616B2 (ja) | β−ニトロスチレン化合物の製造方法 | |
| TWI659037B (zh) | 含脲之矽烷及其製備方法與用途 | |
| US9731975B2 (en) | Alternative methods for the synthesis of organosilicon compounds | |
| US8664370B2 (en) | Process for preparing silicon-containing azodicarbamides | |
| JP5551189B2 (ja) | オリゴアミノシランの製造法および安定化法 | |
| JPH0245491A (ja) | Ｎ及びｎ′位に１個以上の置換基を有するオルガニルオキシシリル官能性チオ尿素及びその製法 | |
| JP7262980B2 (ja) | シラン混合物およびその製造方法 | |
| EP2876111B1 (en) | Composition containing nitrogen-containing organoxysilane compound and method for making the same | |
| JP2012528823A (ja) | アミノオルガノシランの製造方法 | |
| KR101163978B1 (ko) | 실릴알콕시메틸 할라이드의 제조방법 | |
| CN102803275B (zh) | 制备有机烷氧基氢硅烷的方法 | |
| CN109456361B (zh) | 一种三(三烃基硅基)亚磷酸酯的合成方法 | |
| CN108689874A (zh) | 一种制备2-芳基丙二酰胺的方法及其应用 | |
| KR100823436B1 (ko) | 포스포네이토실란을 생산하는 방법 | |
| CN108463464A (zh) | 制备4-(二烷基氯甲硅烷基)-丁腈的方法 | |
| EP0488759A1 (en) | Thexyl (C1-C4)alkyl dialkoxy silanes; methods of preparation; and uses thereof | |
| CN102898455B (zh) | 一种对甲基苯基二乙氧基甲基硅烷及其制备方法 | |
| Lebedev et al. | Organosilicon synthesis of isocyanates: I. Synthesis of isocyanates of the furan, thiophene, and mono-and polyfluorophenyl series | |
| Lebedev et al. | N-alkylation of N-trimethylsilylimidazole | |
| JP4368243B2 (ja) | 分岐状ペンタシロキサンの製造方法 | |
| JPH09157279A (ja) | オルガノモノアルコキシシランの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20121129 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20121203 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20121203 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130430 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130521 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130813 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140422 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140521 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5551189 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |