JP2012508804A - シリカ添加剤で光沢を変更する方法及び関連製品及び使用 - Google Patents

Abstract

本発明は、成形ポリマー製品、例えば自動車工業における物品、例えば自動車内装用品の光沢を変更する方法、同様にこの目的のための特定の添加剤の使用、同様に関連発明の態様に関する。この変更は、成形された物品を得るためのポリマー基体として使用されるポリマー組成物へ少なくとも１種のシリカ添加剤を添加することからなっている。

Description

本発明は、成形ポリマー製品中で光沢変更剤としてシリカを使用すること及び相応する方法及び処理法並びに得られる製品に関する。

要するに、本発明はポリマー組成物にシリカを添加することからなる、ポリマー組成物の光沢を変更する、殊に低減させる方法、その製造法及び相応するポリマー組成物、同様にこのポリマー組成物から製造された成形製品をも提供する。本発明に従って形成された低光沢のポリマー組成物は、艶消仕上げ面を有するポリマーの使用が有利である所での用途、例えば自動車（内装）用途のために好適である。

自動車市場で、自動車内装部品のような物品のためのポリマー、殊にＰＰ（ポリプロピレン）及びＴＰＯ（熱可塑性ポリオレフィン）の工業的及び環境的利点は従前から認められている。この用途のための大部分の市販のＴＰＯ物質は、最終部品の充分な耐引掻き性を提供し、均一な（低）光沢を保持するために、これら物質がラッカー又はペイント又は他の塗被物で被覆されるべきである欠点を有している。

ここで、用語「物品」（例えば成形された物品）及び「製品」（例えば成形製品）は、同義語として使用されていることを書き留める。

ＰＰをベースとしている先進物質は、低密度、好都合な加工性及び良好なコスト／性能バランス等の主要な利点に基づき、自動車内装及び外装構成成分のために持続的に普及している。最終顧客（殊に自動車購入者）のその品質要求は絶えず増大し続けている。（殊に自動車）生産者は、この要求に対して、耐引掻き性、デザイン調和性、新色及び高級外観並びに安全性、例えば乱反射を避ける等の改良された表面特性によって対応する試みをしている。

内装用途及び成形された製品及び物品に関する重要な最高レベルが、計器パネル構造、コンソル、他の内装トリム部品又は計器パネルそれ自体に求められるが、座席構成成分、ハンドル、貨物定期船（cargo liners）、エンジン室構成成分等にも求められる。他の分野においても、相応する成形製品は、例えば機械ハウジング、器具、日用品又は電子装置、アウトドア乗物又は装置のために又は良好な機械強度及び好ましい視覚、例えば低光沢を必要とする他の成形された部品又は成形された物品のために重要である。

その低光沢及び改良された耐引掻き性が未実現で必要となっている主な基体（substrate）は、タルク充填されたＰＰコポリマー又はＰＰベースのＴＰＥ等の基体である。これら物質の組成は広範囲で変動可能であるので、低光沢及び耐引掻き性は、使用されている樹脂、エラストマー及びタルク、安定剤及び補助添加剤、同様に顔料及び他の充填剤のタイプ及び含分に依存することは明らかである。加えて、その処理条件及び表面組織（粗面：grain）も重要な役目を演じる。

これら新規物質は、塗装なしの成形製品の製造で使用されることが意図され、殊に雌型（金型中で粗面化される）成形法に使用することができる。

低光沢性を得るために、付加的な充填物質が使用されている。しかしながら多くの用途では、このタイプの充填剤は、生じる物品の機械特性を損なう傾向を有し、しかるに一貫して均一な仕上げをも提供しない。低光沢は、射出成形装置上の適切な表面組織を使用することによって達成することもできる。しかしながら、製造の全時間にわたり非常に低い光沢を保持することは、頻繁な表面浄化／再構造化（re-texturing）を必要とし、このことは経費及び労働時間を増大させることになりうる。

相応する製品の表面を変更するために塗被物（coatings）が使用されているが、原則的にむしろ好ましくは、成形製品のバルク物質（bulk material）そのものがその表面で露呈されていることが望ましい。それというのも、引掻きは必ずしも表面外観の悪化を意味せず（同じ物質がなおその表面上に存在している）、製造時により少ない工程（例えば、付加的に１以上の付加層、例えば接着剤又は類似物を要求することのある膜の添加なしに、例えば塗被物等の乾燥工程等なしに）を使用することが可能であるからである。

従って、付加的な塗装又は表面処理を要求せずに、記載のような成形製品の製造を可能とする更なるポリマー組成物を見つける必要性が存在する。殊に、他の重要な特性、例えば耐引掻き性及び機械特性、例えば引張り弾性率、破断時の引張り応力及び破断時の引張り歪及び耐衝撃性を保持していながら、低光沢を有することを可能とする組成物が望ましい。

殊に、改良された耐引掻き性のポリマー、殊に自動車用途で使用される低光沢を有するＴＰＯの必要性は周知である。自動車内装用途に重要な最高レベルが、計器パネル構造、コンソル、他の内装トリム部品及び計器パネル中で考慮される。

自動車内装の低光沢表面は、殊に２つの理由のために必要である：
１）安全性、例えばダシュボードからウインドシールドまでの低反射。
２）デザイン及び美学：低光沢表面は、高品質及び高価値部品と認められている。

その低光沢及び改良された耐引掻き性がなお未実現で必要になっている主な基体（物品の基本物質を意味する）は、タルク充填されたＰＰコポリマー又はＰＰベースのＴＰＥ（スキン）等の基体である。これら物質の組成は広範囲で変動可能であるので、低光沢及び耐引掻き性は、使用された樹脂、エラストマー及びタルク、安定剤及び補助添加剤並びに顔料及び他の充填剤のタイプ及び含分に依存していることは明らかである。加えて、その処理条件及び表面組織（粗面）も重要な役割を演じている。

これら新規物質は、塗被物なしに使用されるべき（少なくとも有利に）ことが意図されており、殊に雌型（金型中で粗面化される）成形法のために使用することができる。

ところで意外にも、シリカ、殊に熱分解法で及び／又は沈殿法で得られたシリカをポリマー組成物に添加して、成形製品の所望の光沢特性を達成させることができ、しかるに例えば前記の他の重要な特性を実質的に保持するか又は改良をもすることを発見した。

従って本発明は、第１の態様で、ポリマー組成物の光沢を変更する、殊に低減させる方法を提供し、かつ更なる塗被物及び／又は膜なしに、殊に他の表面処理をすることなしに、成形製品の製造のためのポリマー組成物の使用を提供する。本発明の方法に従って形成された低光沢ポリマー組成物は、艶消し仕上げ表面を有しているポリマーの使用が有利である用途、例えば、成形された自動車（内装）用途のために好適である。

本発明に従って形成されたポリマー組成物は、改良された低光沢特徴及び良好な又は改良された物理特性を示す。

一般に、この低光沢組成物は、ポリプロピレン組成物と本発明によるシリカ添加剤１種以上とを溶融混合することによって形成される。

本発明による組成物中に、充填剤、例えばタルク及び珪灰石及び他のプロセス添加剤も含有されていることができる。ポリマー分野での他の慣用の添加剤も同様に存在することができる。

従って本発明には、殊に、バルク出発ポリマー混合物へ１種以上のシリカ添加剤を添加（殊に溶融混合）して光沢を変更させ、殊に減少（低下）させ（シリカ添加剤の添加を欠いているが、他は同じ混合物と比較して）、次いで物品を形成させることからなる、成形されたポリマー物品の光沢を変更する方法、殊に低減（低下）させる方法及び／又は成形された低光沢のポリマー物品を製造する方法又は１種以上のシリカ添加剤を、成形ポリマー物品を形成するために使用される混合物に添加することからなる、前記の成形ポリマー物品の光沢を低減させるための添加剤として１種以上のシリカ添加剤を使用することが、包含される。前記シリカ添加剤を欠いている（但し、他は同じである）組成物と比べて光沢の低下に有効である量のシリカ添加剤１種以上を添加することが有利である。

用語「成形製品」又は「成形された物品」とは、殊に、少なくとも約２ｍｍ、より好ましくは少なくとも約５ｍｍ、例えば少なくとも約１ｃｍの厚さを有している三次元の物品を意味する。好ましくはこれから、塗被物及び膜又は繊維形の物質並びに強化繊維、例えばガラス繊維がこのポリマー基体中に含有されている物質は除外される。

製造されるべき成形ポリマー物品を製造する条件を、シリカ添加剤の添加、殊にシリカ添加剤の量及び／又はタイプが、選択される加工条件との組み合わせで、他は同じ組成を有するがシリカ添加剤を欠いている物品と比べて光沢を低下させるように、選択することも好ましい。

本発明の明細書中で使用されている用語「光沢を変更する」とは、このことが光沢を所望の値まで適合させることができ、これは、原則的に光沢を増加させることが可能であることをも意味する。しかしながら、ここに記載の全発明態様の１つの特別な態様では、この用語は、光沢を「低減（低下）させる」ことを表すために使用されている。

本発明による熱可塑性樹脂組成物を、公知方法で、例えば真空成形、異形成形（profile moulding）、発泡成形、射出成形、吹込み成形、圧縮成形、回転成形又は類似法によって、種々の成形された物品にすることができる。場合により又は必要な場合には、例えば、形状のない（溶融された）物質から固化（たわみ性及び／又は弾性をも包含する）物体を形成する成形製品中に空洞又は類似物を形成するために、それぞれ成形の後に除去可能な１以上の芯材（例えば砂及び結合剤などの物質からの）を用いる、型中での成形（Urformverfahren：オリジナル成形法）が有利である。

本発明は、光沢低下剤として１種以上のシリカ添加剤を用いることに関し、この際、少なくとも１種のシリカ添加剤が、成形されたポリマー物品の形成のために使用される混合物に添加される。

一般に、本発明の各々の態様に関する本明細書中の１、２以上又は全ての用語は、本発明の更なる有利な態様を示すために、以前又は以後に記載のより詳細な定義によって換えることができる。

不定冠詞"ａ"又は"ａｎ"が使用されている場合には、これには「少なくとも１個」、例えば「１以上」を包含することが意図されている。

本発明に従って形成されたポリマー組成物は、改良された（殊に低い）光沢特徴及び改良された物理特性を示す。

一般に、低光沢組成物は、ポリマー基体、例えばポリプロピレン組成物を本発明に包含されるシリカ添加剤と溶融混合することによって、好都合に形成される。

本発明は、次のものから選択される、殊に化学的に製造された及び／又は熱分解法シリカ添加剤に関する：例えばＡＣＥＭＡＴＴ（登録商標）なる商品名でDegussaから市販されているもの、例えば表面変性された熱分解法シリカ；例えばレーザー回折で測定された約９μｍの粒度ｄ５０値を有するシリカ、例えばDegussaからのＡＣＥＭＡＴＴ（登録商標）３３００、沈殿法で得られ、３μｍの平均凝集物粒度（平均ＴＥＭ）を有する未処理のシリカ、例えばDegussaからのＡＣＥＭＡＴＴ（登録商標）ＨＫ４００又はＡＣＥＭＡＴＴ（登録商標）ＨＫ４５０、それぞれ、２．５μｍの平均凝集物粒度（平均ＴＥＭ）を有する、沈殿法、熱沈殿法で得られた未処理のシリカ、例えばDegussaからのＡＣＥＭＡＴＴ（登録商標）ＨＫ４６０、有機表面−処理され、３μｍの平均凝集物粒度（平均ＴＥＭ）を有する、容易に分散可能な沈降シリカ剤、例えばDegussaからのＡＣＥＭＡＴＴ（登録商標）ＯＫ４１２、有機表面−処理され及び３μｍの平均凝集物粒度（平均ＴＥＭ）を有する、容易に分散可能な沈降シリカ、例えばDegussaからのＡＣＥＭＡＴＴ（登録商標）ＯＫ５００又はＡＣＥＭＡＴＴ（登録商標）ＯＫ５２０、それぞれ、有機表面処理され及び２μｍの平均凝集物粒度（平均ＴＥＭ）を有する、容易に分散可能な、非常に微細な沈降シリカ、例えばDegussaからのＡＣＥＭＡＴＴ（登録商標）ＯＫ６０７、４μｍの平均凝集物粒度（平均ＴＥＭ）を有する、熱処理されていない沈降／熱沈降シリカ、例えばDegussaからのＡＣＥＭＡＴＴ（登録商標）ＴＳ１００、レーザー回折（ＩＳＯ １３３２０−１と類似の）で測定された約９．５μｍの粒度ｄ５０値を有する、シリカ添加剤をベースとする熱分解法シリカ又は殊に沈降法で得られた未処理のシリカ、例えばDegussaからのＡＣＥＭＡＴＴ（登録商標）ＨＫ４４０（ＣＡＳ Ｎｏ．：１１２９２６−００−８）である。"Degussa"は、Evonik Degussa GmbH,Frankfurt,Germanyである。

これらの製品は、本発明により有用であり、バルク物質中に含有されている表面変性剤として、殊に低光沢添加剤として、ＰＰ／ＴＰＯポリマー組成物中及び自動車用途の成形製品中で使用される。

本発明による物品を形成するために使用されるこの組成物は、シリカ添加剤を、好ましくは０．２〜４０質量％、より好ましくは約２〜約３０質量％又は好ましくは約２５％まで、更により好ましくは約２〜１８％、例えば約５〜約１５質量％の量で含有している。

このシリカ添加剤粒子の寸法は、電子顕微鏡又は好ましくはレーザー回折で測定された平均寸法、例えば約０．１〜約１００μｍの範囲、例えば約０．２μｍ〜約５０μｍ、例えば約０．５μｍ〜約３０μｍの範囲であってよく、この粒度分布は、粒子の５０％より多く、より好ましくは７５％より多くが、平均値の±５０％以内に存在することが好ましい。最も好ましい前記の数値は、ＩＳＯ１３３２０−１に従って得られるｄ５０粒度である。

「約」が用いられている場合には、これは、「約」の後に記載の数値の（屡々技術的実際で避けられない）僅かな変動が、例えば記載値の±１０％、例えば±３％の範囲内で可能であることを意味している。

「光沢の低下に有効であるシリカ添加剤の量が添加されている」と記載されている場合に、これは殊に、シリカ添加剤が添加されていないが他は同じ組成物と比べた場合に（例えば例中に記載の方法を用いて）生じる物品の光沢を、２％以上、例えば５％以上、例えば１０〜９９％も低下させる量を含有することを意味している。

加えて、本発明による方法及び使用時のプロセス条件を、光沢の低減が可能でない条件と比べて光沢の低減を可能にするように変更することができる。変更できるパラメータには、例えば溶融温度、所望の製品を形成する装置（例えば、芯材を用いる又は用いない成形のための型）中へ物質を移動する速度、成形用の型を充填する温度（殊に導入の前の型の温度）、成形装置の温度、固化製品にする加工温度等がある。当業者は、実施例中の証拠に基づき、１つ又は非常に限られた数の実験によって、適切なプロセス条件を好都合に工夫することが可能である。例えば型の温度を、約２０〜約６０℃の範囲、例えば２０〜３０℃の範囲で選択することができ、射出の温度を、好ましく２００〜２８０℃の範囲、例えば２００〜２３０℃の範囲で選択することができ、かつ例中に記載の設備条件下での射出速度を、好ましく５ｍｍ／ｓｅｃ〜１２０ｍｍ／ｓｅｃ、例えば更なる実験が必要とされる場合には少なくとも出発点で、約１０〜１００ｍｍ／ｓｅｃの範囲で選択することができる。

本発明による低光沢製品を得るために有用な組成物の基本物質（ポリマー基体）を、溶融混合のために適切な任意のタイプのポリマー又はポリマー混合物から選択することができる。可能なポリマーの中から、次のものを模範的に挙げることができる：スチレン含有ポリマー、例えばＡＢＳ（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンポリマー）、ＳＢＳ（スチレン−ブタジエン−スチレントリブロックコポリマー）、ＳＡＮ（スチレン−アクリロニトリルコポリマー）、ＡＳＡ（アルリロニトリル−アクリレートエラストマー−スチレン コポリマー、アクリロニトリル−スチレン−アクリレートも）、例えばジカルボン酸とジアルコールとから及び／又はヒドロキシカルボン酸又は相応するラクトンから誘導されるポリエステル、例えばＰＢＴ（ポリ（ブチレンテレフタレート）、ＰＥＴ（ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリヒドロキシベンゾエート、コポリエーテルエステル又はＵＰＥＳ（不飽和ポリエステル）、ＰＡ（ポリアミド、例えばジアミンとジカルボン酸とから及び／又はアミノカルボン酸又は相応するラクタムから誘導されるポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、６６／６、６／６６、ポリアミド１１、ポリアミド１２、部分的芳香族（コ）ポリアミド、例えば芳香族ジアミン及びアジピン酸をベースとするポリアミド、アルキレンジアミンとイソ−及び／又はテレフタル酸とから製造されるポリアミド及びそのコポリアミド、コポリエーテルアミド、コポリエステルアミド及び類似物）、ＴＰＵ（ウレタンベースの熱可塑性エラストマー）、ＰＳ（ポリ（スチレン））、ＨＩＰＳ（耐衝撃性ポリ（スチレン））、ＰＣ（ポリカーボネート）、例えばポリ（芳香族カーボネート）又はポリ（脂肪族カーボネート）、例えばコモノマーとしてのビスフェノールＡ及び"炭酸"（carbonic acid）単位又は他のビスフェノール及び／又はジ炭酸単位をベースとしているもの、ＰＣ／ＡＢＳ（ポリカーボネート／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブレンド）、ＡＢＳ／ＰＢＴ（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン／ポリ（ブチレンテレフタレート）ブレンド）、ＰＶＣ（ポリ（塩化ビニル））；ＰＶＣ／ＡＢＳ（ポリ（塩化ビニル）／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンポリマー）、ＰＶＣ／ＡＳＡ（ポリ（塩化ビニル）／アクリロニトリル−スチレン−アクリレート）、ＰＶＣ／アクリレート（アクリレート−変性ＰＶＣ）及びイオノマー（イオン化され（少なくとも部分的に）及び電気的に中性のモノマーのコポリマー）。

有利な１例中で、ポリマー基体は、ポリオレフィン（例えば高結晶性ＰＰ）、ＰＣ／ＡＢＳ、ＡＢＳ、ポリアミド、例えばＰＡ−６又はポリオレフィンゴム又はＴＰＥ又は例えば例中に詳述されているようなポリマーである。

ポリオレフィンの例は次のものである：モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、例えば高結晶性ポリプロピレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、同様にシクロオレフィン、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（場合により架橋された）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度で高分子量のポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度で超高分子量のポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状の低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、ＶＬＤＰＥ及びＵＬＤＰＥ又は前記のポリマーの２種以上の混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの、ポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ又はＰＰ／ＬＤＰＥ）又は種々のタイプのポリエチレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）、モノオレフィンとジオレフィンとの相互の又は他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状の低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びこれと低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エン コポリマー、エチレン／ヘキサンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレート コポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー及び一酸化炭素とのこれらのコポリマー、並びにエチレンとプロピレン及びジエン、例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンとのコポリマー；及びこのようなコポリマー相互の又は前記の他の１種以上のポリマーとの混合物、例えばポリ（プロピレン／エチレン−プロピレン）コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ）又は類似物。

適切なポリオレフィンの例は、ＷＯ２００６／００３１２７（Ｃｉｂａ）中に記載されているようなものである。

例えばゴム変性されたポリオレフィンを含有している熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）は、熱可塑性ポリオレフィン（ＴＰＯ）としても公知である。これらは、基本的にポリオレフィンとして先に挙げられているポリマーと耐衝撃性改良剤とのブレンド、例えばエチレン−プロピレン−ジエンモノマーコポリマー（ＥＰＤＭ）、エチレンと高級α−オレフィンとのコポリマー（例えばエチレン−オクテンコポリマー）、ポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレン−ブタジエンコポリマー、水素化スチレン−ブタジエンコポリマー、スチレン−イソプレンコポリマー、水素化スチレン−イソプレンコポリマー及び類似物である。これらのブレンドは、通例、ＴＰＯ（熱可塑性ポリオレフィン）と称される。例えば適切なＴＰＯは、約１０〜約９０質量％のプロピレンホモポリマー、コポリマー又はターポリマー及び約９０〜約１０質量％のエチレンとＣ_３〜Ｃ_８−アルファ−オレフィンとの弾性コポリマーを有する。

適切なＴＰＯは、例えばＵＳ６０４８９４２（Ｍｏｎｔｅｌｌ）中に記載されている。

ポリオレフィン及びゴム改質されたポリオレフィンは、単なる本発明の組成物のポリマー基体でありえるだけではない。非限定的なポリマー基体は、ポリオレフィンと他のポリマーとのコポリマー又はポリオレフィンと前記のような他のポリマーとのブレンドである。

本発明に関連して、このポリマー組成物中に、他の添加剤が存在することができる。

従って本発明によるポリマー組成物（ポリマー基体）は、場合により、約０．０１〜約５％、好ましくは約０．０２５〜約２％、殊に約０．１〜約１質量％の他の種々の添加物、例えば、以下に挙げられているような化合物を、かつ場合によっては付加的に、４０％まで、例えば０〜３５、例えば１０〜２５％の成核剤又は充填剤（例えばタルク）又はこれらの混合物を含有する：
１．酸化防止剤
１．１． アルキル化されたモノフェノール、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２−ｔ−ブチル−４，６−ジ−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジ−メチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、線状の又は側鎖で分枝しているノニルフェノール、例えば２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルウンデシ−１−イル）フェノール、２，４−ジ−メチル−６−（１−メチルヘプタデシ−１−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルトリデシ−１−イル）フェノール又はこれらの２種以上の混合物、
１．２． アルキルチオメチルフェノール、例えば２，４−ジオクチルチオメチル−６−ｔ−ブチルフェノール］−２，４−ジオクチル−チオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール，２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール、
１．３． ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシ−フェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン，２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート、
１．４． トコフェロール、
１．５． ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、
１．６． アルキリデンビスフェノール、例えば２，２’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）−フェノール］、２，２１−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−ｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル−フェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチル−フェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−６−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１，−ビス−（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ−（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン、
１．７． ベンジル化合物、例えば３，５，３’，５’−テトラ−ｔ−ブチル−４，４’−ジヒドロキシベンジルエーテル、
１．８． ヒドロキシベンジル化されたマロネート、
１．１０． 他のトリアジン化合物、例えば２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、
１．１１． ベンジルホスホネート、例えばジメチル−２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−δ−ｔ−ブチル−ヒドロキシ−Ｓ−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩、
１．１２． アシルアミノフェノール、
１．１３． β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と１価又は多価アルコールとのエステル、
１．１４． β−（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と１価又は多価アルコールとのエステル、
１．１５． β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と１価又は多価アルコールとのエステル、
１．１６． ３．５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と１価又は多価アルコールとのエステル、
１．１７． β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、
１．１８． アスコルビン酸（ビタミンＣ）、
１．１９． アミン系酸化防止剤。

２．ＵＶ吸収剤及び光安定剤
２．１． ２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、例えば公知の市販ヒドロキシフェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール及び

に記載されているようなベンゾトリアゾール、例えば２−（２−ヒドロキシ−５−メチル−フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ｔ−ジブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｓ−ブチル−５−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ビス−α−クミル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−（ω−ヒドロキシ−オクタ−（エチレンオキシ）カルボニル−エチル）−フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ドデシル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニル）−エチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ドデシル化２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−５−（２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル）−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−５−（２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル）−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−ビス（４−ｔ−オクチル−（６−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−ｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−オクチル−５−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−フルオロ−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３−α−５−ｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−イソオクチル−オキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−ｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、メチル−３−（５−トリフルオロメチル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート、５−ブチルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−ｔ−オクチル−フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−ｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ａ−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−ブチルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール及び５−フェニルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
２．２． ２−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’Ｊ４１−トリヒドロキシ及び２ｌ−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体、
２．３． 置換又は非置換の安息香酸のエステル、例えば４−ｔ−ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−ｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル ３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−Ｓ，Ｓ−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、
２．４． アシレート及びマロネート、例えばα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸エチルエステル又はイソオクチルエステル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチルエステル又はブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチルエステル、Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチル−インドリン、Ｓａｎｄｕｖｏｒ（登録商標）ＰＲ２５、ジメチルｐ−メトキシベンジリデンマロネート（ＣＡＳ＃７４４３−２５−６）及びＳａｎｄｕｖｏｒ（登録商標）ＰＲ３１、メチルピペリジン−４−イル）ｐ−メトキシベンジリデンマロネート（ＣＡＳ＃１４７７８３−６９−５）、
２．５． ニッケル化合物、例えば２，２’−チオ−ビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステルのニッケル塩、ケトオキシムのニッケル錯体又は付加的な配位子を有する又は有しない、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体、
２．６． 立体障碍アミン安定剤、例えば４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−アリル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−ベンジ−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６，−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−ｔ−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの線状又は環状の縮合物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリールオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの線状又は環状の縮合物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］−デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−及び４−ステアリールオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、同様に４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（ＣＳＡ Ｒｅｇ．Ｎｏ．［１３６５０４−９６−６］）；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４，５］デカンとエピクロロヒドリンとの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル）−４−ピペリジル−オキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン］、Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシ−メチレン−マロン酸と１，２，２−６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２−６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、無水マレイン酸−α−オレフィン−コポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジン又は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物。

立体障碍アミンは、米国特許No.５９８０７８３中に記載されている化合物の１種であってもよく、この関連部分は、米国特許No.５９８０７８３の６４−７２欄に挙げられている成分Ｉ−ａ）、Ｉ−ｂ）、Ｉ−ｃ）、Ｉ−ｄ）、Ｉ−ｅ）、Ｉ−ｆ）、Ｉ−ｇ）、Ｉ−ｈ）、Ｉ−ｉ）、Ｉ−ｊ）、Ｉ−ｋ）又はＩ−ｌ）、特に光安定剤１−ａ−１、１−ａ−２、１−ｂ−１、１−ｃ−１、１−ｃ−２、１−ｄ−１、１−ｄ−２、１−ｄ−３、１−ｅ−１、１−ｆ−１、１−ｇ−１、１−ｇ−２又は１−ｋ−１の化合物の参照により開示されているものとする、
この立体障碍アミンは、米国特許No.６０４６３０４及び６２９７２９９中に記載の化合物の１つであってよく、その記載は、例えば請求の範囲１０〜３８中に又は例１−１２又はＤ−１〜Ｄ−５中に記載されているものの参照により開示されているものとする、
２．７． Ｎ−原子上でヒドロキシ−置換アルコキシ基で置換されている立体障碍アミン、例えば次の化合物：１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−オクタデカノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−ヘキサデカノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−オキシル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとｔ−アミルアルコールからの炭素基との反応生成物、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−オキソ−２，２，６，６，−テトラメチルピペリジン、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アジペート、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）スクシネート、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）グルタレート及び２，４−ビス｛Ｎ−［１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル］−Ｎ−ブチルアミノ｝−６−（２−ヒドロキシエチルアミノ）−ｓ−トリアジン、
２．８． オキサミド、
２．９． トリス−アリール−ｏ−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン、例えば公知の市販トリス−アリール−ｏ−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン及び

中に記載のようなトリアジン、例えば４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、Ｃｙａｓｏｒｂ（登録商標）１１６４、Ｃｙｔｅｃ Ｃｏｒｐ、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（４−ブロモフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（４−ビフェニリル）−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシカルボニルエチリデンオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４−［２−ヒドロキシ−４−（３−ｓ−ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ｓ−アミルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ｎ−ブチルオキシフェニル）−６−（２，４−ジ−ｎ−ブチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ノニルオキシ^＊−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−５−α−クミルフェニル］−ｓ−トリアジン（^＊は、オクチルオキシ、ノニルオキシ及びデシルオキシ基の混合物を示す）、メチレンビス−｛２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン｝、３：５’、５：５’及び３：３’位置で５：４：１の割合で架橋されたメチレン架橋ジマー混合物、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−イソオクチルオキシカルボニルイソプロピリデンオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ−５−α−クミルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（２，４，６−トリメチルフェニル）−４，６−ビス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ｓ−ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−ドデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−ｓ−トリアジンと４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−ｓ−トリアジンとの混合物、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）４００、Ciba Specialty Chemicals Corp., ４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−ｓ−トリアジン及び４，６−ジフェニル−２−（４−ヘキシルオキシ−２−ヒドロキシフェニル）−ｓ−トリアジン。

３． 金属不活性化剤。

４． ホスファイト及びホスホナイト、例えば亜燐酸トリフェニル、亜燐酸ジフェニルアルキル、亜燐酸フェニルジアルキル、亜燐酸トリス（ノニルフェニル）、亜燐酸トリラウリル、亜燐酸トリオクタデシル、ジステアリールペンタエリスリトールジホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジホスファイト、ジイソデシルオキシペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−トリス（ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、トリステアリル−ソルビトールトリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスホエピン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−１２−メチル−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホホシン、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスファイト、２，２’，２''−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３，５，５’−テトラ−ｔ−ブチル−１，１''−ビフェニル’−２，２’−ジイル）ホスファイト］、２−エチルへキシル（３，３’，５，５−テトラ−ｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスファイト。

５． ヒドロキシルアミン。

６． ニトロン。

７． アミンオキシド。

８． ベンゾフラノン及びインドリノン。

９． チオ相乗剤。

１０．過酸化物捕捉剤。

１１．ポリアミド安定剤。

１２．塩基性補助安定剤 例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウム及びパルミチン酸カリウム、ピロカテコール酸アンチモン又はピロカテコール酸亜鉛。

１３．成核剤、例えば無機物質、例えばタルク、金属酸化物、例えば、二酸化チタン、酸化マグネシウム、好ましくアルカリ土類金属の燐酸塩、炭酸塩又は硫酸塩；有機化合物、例えば１価−又は多価カルボン酸、例えば４−ｔ−ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸及びそれらの塩、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウム；ポリマー化合物、例えばイオン性コポリマー（イオノマー）。

１４．充填剤及び補強剤、例えば炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉及び他の天然物の粉又は繊維、合成繊維。

１５．分散剤、例えばポリエチレンオキサイドワックス又は鉱油。

１６．他の添加剤、例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、染料、蛍光明白剤、流動学的添加剤、触媒、流れ調整剤、スリップ剤、架橋剤、架橋促進剤、ハロゲン捕捉剤、煙抑制剤、防炎剤、帯電防止剤、清澄剤、例えば置換又は非置換のビスベンジリデンソルビトール、ベンズオキサジノンＵＶ吸収剤、例えば２，２’−ｐ−フェニレン−ビス（３，１−ベンズオキサジン−４−オン）、Ｃｙａｓｏｒｂ（登録商標）３６３８（ＣＡＳ＃１８６００−５９−４）及び／又は発泡剤。

特に有利な他の添加剤は、ヒンダードアミン光（殊にＵＶ）安定剤、ヒンダードフェノール、ホスファイト、ベンゾフラノン安定剤及びヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、ヒドロキシフェニル−Ｓ−トリアジン又はベンゾフェノン紫外線吸収剤、充填剤又は成核剤、例えばタルク及びカーボンブラック及び塩基性補助安定剤、例えばステアリン酸カルシウムから成る群から選択される１種以上の添加剤又はこれらの２種以上の混合物である。

勿論、本発明によるシリカ添加剤に加えて、付加的に更なる艶消し剤、例えばタルク、弗素含有ポリマー、１個以上のエポキシド基を有しているポリマー、タルク又は殊にグラフトされたポリマー又はエステル化されたポリマー又はメラミン誘導体、例えばメラミンホスフェート及び／又はメラミンシアヌレートを添加することも可能である。このことは常に本発明の態様に含まれる。

成形されたポリマー物品は、典型的にはガラス繊維を含有しない。

この発明のもう一つの態様は、ここに記載されているようなポリマー組成物成形製品中での耐引掻き性改良剤としての１種以上のシリカ添加剤の使用である。

本発明による組成物は、既に挙げられている（好ましい）自動車用途以外の他の重要な市場分野にも有用である。

次の実施例につき本発明を詳述するが、本発明はこれらのみに限定されるものではない。例中で「％」は、異なる方式での明白な指示のない限り、「質量％」（全ポリマー組成物に対する）である。

製造された試料の適用特性の試験及び特性表示のために、次の方法及び手法を用いる。

ＩＳＯ ２８１３に従い、Ｚｅｈｎｔｎｅｒ ＺＧＭ １１２０ ｔｒｉｇｌｏｓｓ Ｇｌｏｓｓｍｅｔｅｒ（Zehntner GmbH Testing Instruments,Sissach,Switzerland）を用いて、６０°で、付加的に２０°又は８５°でも、光沢を測定する。

耐引掻き性は、分光光度計Ｓｐｅｃｔｒａｆｌａｓｈ ＳＦ ６００ ｐｌｕｓ（Datacolor AG,Dietlikon,Switzerland）を用いて、色差（ΔＬ値）を測定することによって評価される。この測定値は、引掻かれたポリマー表面と引掻かれなかったポリマー表面の輝度の差に相当する。ＧＭＥ６０２８０（General Motors Europe Engineering Standard GME 60280,Issue 2,July 2004に従う耐引掻き性試験）に類似の、引掻き硬度テスター４３０ Ｐ（Scratch Hardness Tester 430 P：Erichsen GmbH & Co.KG, Hemer Germany）を用いて、１ｍｍ直径の金属先端（ボール形末端を有する球形硬質金属ペン）で、かつ室温で１０Ｎの負荷で、引掻きを行う。

ＩＳＯ ５２７に従い、Ｚｗｉｃｋ Ｚ０１０ ユニバーサル試験装置（Zwick GmbH & Co.KG,Ulm,Germany）を用い、１００ｍｍ／ｍｉｎのクロスヘッド速度で、引張り特性を測定する。各々の規定に対して少なくとも５試料で試験を行い、平均値を算出する。引張り弾性率［Ｍｐａ］、破断時の引張り応力［ＭＰａ］及び破断時の引張り歪［％］を記録する。

ＩＳＯ １７８従い、再びＺｗｉｃｋ Ｚ０１０ユニバーサル試験装置を用いて、曲げ特性を測定する。各々の規定に対して少なくとも５試料で試験を行い、平均値を算出する。曲げ弾性率［ＭＰａ］及び曲げ強度［ＭＰａ］を記録する。

ＩＳＯ １７９／１ｅＡに従い、Ｚｗｉｃｋ ５１１３ 振子型衝撃試験機（Zwick 5113 Pendulum impact tester;Zwick GmbH &Co.KG,Ulm,Germany）を用いて、シャルピー衝撃エネルギーの測定を行う。ハンマーの仕事は４Ｊである。この衝撃試験の前に、試料に、半径０．２５ｍｍの切欠きを入れる。

記載のシリカ添加剤に関する詳細は既に記載されている。

例１：艶消し剤（Evonik DegussaからのＡＣＥＭＡＴＴ）を含有しているＴＰＯ（Borealis Daplen ED 012AE）での射出成形プラックの処理
その表面特性及び機械特性の評価のために、ＴＰＯ射出成形されたプラック中に、艶消し剤を次の手順に従って混入させる：
粉末形のＴＰＯ Ｄａｐｌｅｎ ＥＤ０１２ＡＥ（Borealis AG,Vienna,Austriaから）を、タルク（Luzenac A-20;Rio Tinto,Luzenac Europe,Toulouse,France）２０％、カーボンブラックマスターバッチ２．５％、ステアリン酸カルシウム０．０５％、ＩＲＧＡＮＯＸ Ｂ２１５（ホスファイト（トリス（２，４−ジ−（tert）−ブチル−フェニル）ホスフェート）とヒンダードフェノール（テトラキス−（メチレン−（３，５−ジ−（tert）−ブチル−４−ヒドロシンナメート））メタンとの相乗酸化防止剤混合物、Ciba,Basel ,Switzerland）０．０５％と一緒に混合し、第１表中に指示されているように合一させる。処方物を高速ミキサーＭｉｘａｃｏ Ｌａｂ ＣＭ １２（Mixaco,Dr.Herfeld GmbH & Co. KG Masachinenfabrik,Neuenrade,Germany）中で混合し、２２０℃で混練して、二軸押出機、例えば、Ｂｅｒｓｔｏｒｆｆ ＺＥ ２５×３３Ｄ（Krauss Maffei Berstoff GmbH,Hannover,Germany）中でペレットにする。このペレットを、更に標準射出成形機を用いて射出成形して、厚さ２ｍｍのプラックにする。この処理温度は、約２４０℃である。

第１表中に、表面及び機械的特性をまとめる。

ＡＣＥＭＡＴＴ（登録商標）２７８は、有機艶消し剤（メチルメタクリレートとスチレンとをベースとするコポリマー）（Evonik Degussa GmbH,Frankfurt,Germany）である。

この添加剤の添加によって、耐引掻き性及び機械特性を実質的に変更することなしに、光沢は減少されている。

例２：Ａｃｅｍａｔｔ ＨＫ４４０単独又は他の添加剤と一緒に含有しているＴＰＯ（Borealis Daplen ED 012AE）での射出成形プラックの処理
例１中の記載と同様にして処方物を製造する。第２表はその結果を示している。

この表は、シリカ単独（ＡＣＥＭＡＴＴ（登録商標）ＨＫ ４４０）で、又は他の添加剤、例えばＳｃｒｉｐｓｅｔ（登録商標）５５０；ＩＲＧＡＳＵＲＦ（登録商標）ＳＲ １００又はＣｅｒａｍｅｒ（登録商標）６７との組み合わせで、光沢が低減されうることを示している。

ＩＲＧＡＳＵＲＦ ＳＲ １００（Ciba,Basele,Switzerland）は、耐引掻き性添加剤である。

Ｓｃｒｉｐｓｅｔ（登録商標）５５０は、次の第２ａ表から推論できる典型的な特性を有する、低分子量ｓ−ブチルエステルでエステル化されたスチレン／無水マレイン酸コポリマー（Ｓｃｒｉｐｓｅｔ ５５０，Hercules Incorporated, Wilmington,DE,USA）であり、付加的な艶消し剤として使用できるグラフトポリマー又はエステル化ポリマーの例である：

Ｃｅｒａｍｅｒ（登録商標）ポリマーは、エチレンポリマー上に無水マレイン酸誘導体をグラフトさせることによって製造される。これら（及び殊にCERAMER（登録商標）67）は、Baker Hughes Inc.,Houston,Texas,USA.に属するBaker Petrolite から入手可能である。CERAMER 67は、次の特性を有する：酸価 ＫＯＨｍｇ／試料ｇ：１２５（ＢＷＭ ３．０１Ａによる）；鹸化価 ＫＯＨｍｇ／試料ｇ：１５６（ＢＷＭ３．０２Ａによる）；融点（℃）：７８（ＡＳＴＭ−Ｄ−１２７による）；針入度：２５℃で０．１ｍｍ：３（ＡＳＴＭＤ−１３２１による）。

このことは、シリカの添加によって、少なくとも比較可能な、ある場合には優れてさえいる耐引掻き性が認められうることを示している。加えて、シリカ単独（ＡＣＥＭＡＴＴ（登録商標）ＨＫ ４４０）によっても、他の添加剤、例えばＳｃｒｉｐｓｅｔ ５５０；ＩＲＧＡＳＵＲＦ（登録商標）ＳＲ １００又はＣｅｒａｍｅｒ（登録商標）６７との組み合わせ物によっても、光沢は減少されうることが明らかである。

例３：種々の濃度のタルク及び付加的な添加剤を含有しているＴＰＯ（Borealis Daplen ED 012AE）での射出成形プラックの処理
例１に記載と同様に行うが、タルク濃度を第３表中に示されているように変動させて、処方物を製造する。Ｆｉｎｎｔａｌｃ Ｍ０５は、Ｆｉｎｎｔａｌｃ Ｍ０３，Ｆｉｎｎｍｉｎｅｒａｌｓ Ｏｙ，Ｆｉｎｎｌａｎｄからのタルクであり、ここで、粒子の９７％は、１０ミクロンを下回る平均直径を有している。

この表は、更なる艶消し剤としてのタルク添加剤は、多様でありうることを示している。

例４：ＨＣＰＰ（Ｓａｂｉｃ ＰＰ ＣＸ０２−８１）（ポリプロピレンコポリマープラスチック、SABIC Deutschland GmbH & Co.KG, Duessldorf Germany）での射出成形プラックの処理
例１と同様に行うが、Ｂｏｒｅａｌｉｓ Ｄａｐｌｅｎ ＥＤ ０１２ＡＥの代わりに、高結晶性ＰＰ、Ｓａｂｉｃ ＰＰ ＣＸ０２−８１を使用し、処方にタルクを添加しないで、この処方物を製造する。

この表は、全ての添加されたシリカ、殊にＡＣＥＭＡＴＴ（登録商標）ＨＫ４４０は、非常に良好な光沢減少を示しているが、同時に耐引掻き性を保持していることを示している。

例５： ＰＣ／ＡＢＳ（Ｄｏｗ Ｐｕｌｓｅ Ａ３５−１０５）での射出成形プラックの処理
例４に記載されていると同様に行うが、Ｂｏｒｅａｌｉｓ Ｄａｐｌｅｎ ＥＤ ０１２ＡＥの代わりに、ＰＣ／ＡＢＳ、Ｄｏｗ Ｐｕｌｓｅ Ａ３５−１０５（Dow Automotive,Auburn Hills,Michigan,USA）を用いて、処方物を製造する。

第５表中に結果を示す。

Ａｅｒｏｘｉｄｅ ＴｉＯ２ Ｐ２５は、ヒュームドシリカ（ＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）−ｐｒｏｃｅｓｓ）（Evonik Degussa GmbH,Frankfurt,Germany）と同様に製造された、高分散性二酸化チタンである。

結果は、全てのシリカ添加剤、殊にＡＣＥＭＡＴＴ（登録商標）４４０が良好な艶消しを示すことを示している。

例６： ＡＢＳ（Ｄｏｗ Ｍａｇｎｕｍ ３５０４）での射出成形プラックの処理
例４に記載されていると同様に行うが、Ｂｏｒｅａｌｉｓ Ｄａｐｌｅｎ ＥＤ０１２ＡＥの代わりに、ＡＢＳ、Ｄｏｗ Ｍａｇｎｕｍ ３５０４（Dow Automotive,Auburn Hills, Michigan,USA）を使用して処方物を製造する。

第６表中に結果を示す。

この表は、シリカ添加剤、殊にＡＣＥＭＡＴＴ ＨＫ ４４０は、非常に良好な光沢減少を可能にするが、機械特性は実質的に保持されていることを示している。

例７：ＴＰＥ（Ｋｒａｉｂｕｒｇ ＳＴＰ ９３６３／３３Ｂ）での射出成形プラックの処理
例４に記載されていると同様に行うが、Ｂｏｒｅａｌｉｓ Ｄａｐｌｅｎ ＥＤ０１２ＡＥの代わりに、ＴＰＥ、Ｋｒａｉｂｕｒｇ ＳＴＰ ９３６３／３３Ｂ １０２（Kraiburg TPE GmbH & Co.KG,Waldkreiburg,Germany）（熱可塑性エラストマー）を用いて処方物を製造する。

要約すると、これらの実施例から、シリカ添加剤が、成形された物品中の種々異なるタイプのポリマー及びプラスチック材料の光沢を選択的に低下させるために有用であることを推論することができる。

Claims (15)

1. 成形ポリマー物品の光沢を変更する方法及び／又は低光沢の成形ポリマー物品を製造する方法であって、出発バルクポリマー混合物に、少なくとも１種のシリカ添加剤を添加して光沢を低減させ、次いで前記物品を形成させることを含む前記方法。
2. 少なくとも１種のシリカ添加剤の添加を溶融混合によって行う、請求項１に記載の方法。
3. 光沢の変更とは光沢を低減させることを意味する、請求項１又は２に記載の方法。
4. 少なくとも１種のシリカ添加剤は、沈降法及び／又は熱分解法により得られたシリカである、請求項１から３までのいずれか１項に記載の方法。
5. 少なくとも１種のシリカ添加剤が、全ポリマー混合物の０．２〜４０質量％の量で存在する、請求項１から４までのいずれか１項に記載の方法。
6. ポリマー混合物のポリマー基体を、スチレン含有ポリマー、ポリエステル、ポリアミド、ウレタンベースの熱可塑性エラストマー、ポリ（スチレン）、耐衝撃性ポリ（スチレン）、ポリカーボネート、ポリカーボネート／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブレンド、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン／ポリ（ブチレンテレフタレート）ブレンド、ポリ（塩化ビニル）、ポリ（塩化ビニル）／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンポリマー、ポリ（塩化ビニル）／アクリロニトリル−スチレン−アクリレート、アクリレート−変性ポリ（塩化ビニル）、イオノマー、ポリオレフィン及びポリオレフィンゴム又はＴＰＥから成る群から又はこれらポリマーの２種以上の混合物から選択する、請求項１から５までのいずれか１項に記載の方法。
7. ポリマー基体を、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンポリマー、スチレン−ブタジエン−スチレントリブロックコポリマー、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、アクリロニトリル−アクリレートエラストマー−スチレンコポリマー、ポリ（ブチレンテレフタレート）、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリヒドロキシベンゾエート、コポリエーテルエステル、ポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、ポリアミド６／１０、ポリアミド６／９、ポリアミド６／１２、ポリアミド４／６、ポリアミド６６／６、ポリアミド６／６６、ポリアミド１１、ポリアミド１２、芳香族ジアミン及びアジピン酸をベースとしているポリアミド、アルキレンジアミン及びイソフタル酸及び／又はテレフタル酸から製造されたポリアミド及びこれらのコポリアミド、コポリエーテルアミド、コポリエステルアミド、ウレタンベースの熱可塑性エラストマー、ポリ（スチレン）、耐衝撃性ポリ（スチレン）、コモノマーとしてのビスフェノールＡ及び炭酸単位又は他のビスフェノール及び／又はジ炭酸単位をベースとしているポリカーボネート、ポリカーボネート／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブレンド、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン／ポリ（ブチレンテレフタレート）ブレンド、ポリ（塩化ビニル）；ポリ（塩化ビニル）／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンポリマー、ポリ（塩化ビニル）／アクリロニトリル−スチレン−アクリレート、アクリレート変性ＰＶＣ及びイオノマーから成る群から又はこれらポリマー基体の２種以上の混合物から選択する、請求項６に記載の方法。
8. ポリマー基体は、ＰＣ／ＡＢＳ、ＡＢＳ、ポリアミド、例えばＰＡ−６又はポリオレフィンゴム又はＴＰＥ又は殊にポリオレフィンである、請求項６に記載の方法。
9. ポリオレフィンは、モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、例えば高結晶性ポリプロピレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、シクロオレフィンの、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、場合により架橋されたポリエチレン、例えば高密度ポリエチレン、高密度で高分子量のポリエチレン、高密度で超高分子量のポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、線状の低密度ポリエチレン、ＶＬＤＰＥ及びＵＬＤＰＥ又は前記ポリマーの２種以上の混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの、ポリエチレンとの混合物又は種々異なるタイプのポリエチレンの混合物、モノオレフィンとジオレフィン相互の、又は他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状の低密度ポリエチレン及びこれと低密度ポリエチレンとの混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキサンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー及びこれと一酸化炭素とのコポリマー、並びにエチレンとプロピレン及びジエン、例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンのコポリマー；及びこのようなコポリマー相互の又は前記の他のポリマーとの混合物である、請求項８に記載の方法。
10. ＴＰＥは、ポリオレフィンとしての請求項９に挙げたポリマーと衝撃性改良剤との基本的ブレンドであるゴム変性されたポリオレフィン、例えばエチレン−プロピレン−ジエンモノマーコポリマー、エチレンと高級α−オレフィンとのコポリマー、ポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレン−ブタジエンコポリマー、水素化スチレン−ブタジエンコポリマー、スチレン−イソプレンコポリマー、水素化スチレン−イソプレンコポリマー、好ましくは約１０〜約９０質量％のプロピレンホモポリマー、コポリマー又はターポリマー及び約９０〜約１０質量％のエチレンとＣ_３〜Ｃ_８−α−オレフィンとの弾性コポリマーを有しているＴＰＯを包含している、請求項８に記載の方法。
11. ポリマー組成物に付加的に１種以上の更なる添加剤が添加され、前記１種以上の添加剤を、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、光安定剤、金属不活性化剤、ホスフェート、ホスホナイト、ヒドロキシルアミン、ニトロン、アミン酸化物、ベンゾフラノン、インドリノン、チオ相乗剤、過酸化物捕捉剤、ポリアミド安定剤、塩基性補助安定剤、成核剤、分散剤、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、染料、蛍光増白剤、流動学的添加剤、触媒、流れ調整剤、スリップ剤、架橋剤、架橋促進剤、ハロゲン捕捉剤、煙抑制剤、防炎剤、帯電防止剤、清澄剤及び発泡剤から成る群から選択し、更なる艶消し剤添加なしで又は更なる艶消し剤１種以上を添加し、この際、組成物中の成核剤以外の前記添加剤の相対量の合計を全ポリマー組成物の質量の約０．０１〜約５％とし、成核剤の量をその４０％までとすることができる、請求項１から１０までのいずれか項に記載の方法。
12. 成形製品を製造するプロセス条件及び少なくとも１種のシリカ添加剤の量及び／又はタイプを、その組み合わせで、シリカ添加剤を欠いているが他は同じ組成を有している物品に比べて光沢を低めるように選択する、請求項１から１１までのいずれか１項に記載の方法。
13. 選択されるべきプロセス条件は、溶融の温度、所望の物品を成形する装置中へ物質を移動する速度、成形用の型中に充填する温度、成形装置の温度及び固化製品にする加工温度である、請求項１２に記載の方法。
14. 前記の成形ポリマー物品を形成するために使用される混合物に、シリカ添加剤を添加することによって、好ましくは、請求項１から１３までのいずれか１項に記載の方法を用いて、前記のシリカ添加剤を欠いている組成物と比べて光沢を低下させることに有効である量のシリカ添加剤を添加することによって、成形されたポリマー物品の光沢を低減させるための、少なくとも１種のシリカ添加剤の使用、又は光沢減少剤としてのメラミン誘導体の使用であって、少なくとも１種のシリカ添加剤を、成形されたポリマー物品を形成するために使用される混合物に添加する使用。
15. 請求項１から１３までのいずれか１項に記載の方法により製造された、成形されたポリマー物品。