JP2012232871A - スピネル粉末およびその製造方法、溶射膜の製造方法、ならびにガスセンサ素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】粒状のスピネル粒子で覆われていることを特徴とするスピネル粉末。電融アルミナにマグネシア原料を混合後、焼成することにより得られる。
【選択図】図1
Description
(1)粒状のスピネル粒子で覆われていることを特徴とするスピネル粉末。
(2)粒状のスピネル粒子の大きさが0.1〜4μmである前記(1)に記載のスピネル粉末。
(3)平均粒径D50が10〜70μmであり、かつ比表面積が0.2〜2m2/gである前記(1)または(2)に記載のスピネル粉末。
(4)アルミナ含有量が69〜82%であり、かつマグネシア含有量が18〜31%である前記(1)〜(3)のいずれかに記載のスピネル粉末。
(5)スピネル粉末のX線回折の強度比 I[αAl2O3(113)]/{I[αAl2O3(113)]+I[MgAl2O4(311)]}が0.03以下で、I[MgO(200)]/{I[MgO(200)]+I[MgAl2O4(311)]}が0.03以下である前記(1)〜(4)のいずれかに記載のスピネル粉末。
(6)電融アルミナにマグネシア原料を混合後、焼成することを特徴とするスピネル粉末の製造方法。
(7)アルミナ含有量が69〜82%であり、かつマグネシア含有量が18〜31%である前記(6)に記載のスピネル粉末の製造方法。
(8)電融アルミナの平均粒径D50が7〜70μmであり、かつマグネシア原料の平均粒径D50が1〜10μmである前記(6)または(7)に記載のスピネル粉末の製造方法。
(9)電融アルミナにマグネシア原料を混合後、焼成することで生成したスピネル粉末を使って溶射することを特徴とする溶射膜の製造方法。
(10)電融アルミナにマグネシア原料を混合後、焼成することで生成したスピネル粉末を使って、ガスセンサ素子の電極保護膜を形成することを特徴とするガスセンサ素子の製造方法。
1.スピネル粉末
本発明のスピネル粉末は、粒状のスピネル粒子で覆われていることを特徴とし、粒状のスピネル粒子の大きさが0.1〜4μm、特に0.3〜3μm、であることが好ましいが、本発明において、上記の大きさの範囲に入らないスピネル粒子がある程度存在しても特に問題はない。
4MgO−3Mg2++2Al3+=MgAl2O4
スピネルとAl2O3の境界で起こる反応を
57/9Al2O3+3Mg2+−2Al3+=19/4(Mg36/57Al128/57O4)
としている。
2.スピネル粉末の製造方法
本発明のスピネル粉末の製造方法は、電融アルミナとマグネシア原料を混合後、焼成することを特徴とする。
この範囲内であれば、電融アルミナと好適に反応し、スピネル粉末を製造することができる。
3.溶射膜の製造法、並びにガスセンサ素子の製造方法
上述したように、電融アルミナにマグネシア原料を混合後、焼成することで生成したスピネル粉末を使って溶射することで得られた溶射膜は、従来の電融粉で得られる溶射膜よりも非常に気孔率をバラツキなく安定に製造できる利点がある。その理由は、プラズマ溶射は5000℃以上のプラズマフレームにスピネル粉末を投入して非常に短い滞留時間の中で溶融させて素子表面に成膜するものであり、本発明の方法で製造したスピネル粒子は、好適には粒子内部が緻密で粒状のスピネル粒子で覆われていることを特徴としており、プラズマフレームの熱を安定に受熱できる特徴がある。その結果としてガスセンサの特性にバラツキを大幅に抑えることができる。
(1)平均粒径D50
レーザー回折散乱装置(堀場製作所製LA−950)で測定した。なお、本発明において、平均粒径D50とは測定した粒子径分布の累積頻度が50体積%となる粒子径をいう。
(2)比表面積
比表面積計(島津製作所製「FlowsorbII2300」)を用い、BET法により測定した。
(実施例1)
純度99.5%以上で、平均粒径20.6μmの電融アルミナ(宇治電化学工業株式会社製、WA#800)3.67kgと純度97.5%以上(水分及び灼熱減量除き)で平均粒径7.0μmの酸化マグネシウム(神島化学工業株式会社製、スターマグU)1.38kgを10LのV型混合機に入れ、30分間、混合を行った。これを1250℃×4時間、大気圧下で焼成を行い、スピネル粉末を得た。
得られたスピネル粉末のかさ比重は1.27g/cm3、平均粒径D50は26.8μmでD90は39.8μm、D10は18.4μmであった。
又、比表面積は0.7m2/gであった。なお、電融スピネル粉末の比表面積は0.1m2/g程度であるので、約7倍の比表面積のものが得られていることが判る。
図11にXRDパターンを示す。これより、若干のコランダムが認められるもののペリクレースは認められず、ほぼ完全なスピネルが生成していることがわかる。なお、X線回折の強度比 I[αAl2O3(113)]/{I[αAl2O3(113)]+I[MgAl2O4(311)]}は、0.013であった。
(実施例2)
焼成を1400℃で行った以外は、実施例1と同様にしてスピネル粉末を得た。得られたスピネル粉末のかさ比重は1.30g/cm3、平均粒径D50は26.5μmでD90は37.8μm、D10は18.1μmであった。
又、比表面積は0.3m2/gであった。
(実施例3)
(実施例4)
実施例3と同様の溶射条件でD50が26.5μmの従来の電融粉と実施例1のD50が26.8μmの開発粉を用いて300μmの保護膜を形成しセンサの特性とその変動率を比較した。このとき、センサ特性は、センサ素子検出部を400℃に加熱した状態でリッチ雰囲気、リーン雰囲気の実車模擬ガスをそれぞれ交互に供給して、センサ出力を調べたときの周期を応答時間として測定し応答時間が2.0秒以下であって、各水準で30本の値が5%以内のものを○とした。なお、上記実車模擬ガスとしては、リッチガスとしてCO、CH4、C3H8がλ=0.99となるよう供給し、リーンガスとしてO2、NOがλ=1.01となるよう供給した。また、特性変化率は実機にて耐久時件950℃、1500時間の耐久試験を実施し、初期と耐久後の変化率が5%以内であれば○とした。尚、気孔率、膜厚バラツキ、材料歩留りについては実施例3と同様に評価した。
(実施例5)
実施例4と同様の溶射条件でD50が40.5μmの従来の電融粉と実施例1のD50が40.1μmの開発粉を用いて100μmの保護膜を形成し実施例5と同様の比較を実施した。
Claims (10)
- 粒状のスピネル粒子で覆われていることを特徴とするスピネル粉末。
- 粒状のスピネル粒子の大きさが0.1〜4μmである請求項1に記載のスピネル粉末。
- 平均粒径D50が10〜70μmであり、かつ比表面積が0.2〜2m2/gである請求項1または2に記載のスピネル粉末。
- アルミナ含有量が69〜82%であり、かつマグネシア含有量が18〜31%である請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のスピネル粉末。
- スピネル粉末のX線回折の強度比 I[αAl2O3(113)]/{I[αAl2O3(113)]+I[MgAl2O4(311)]}が0.03以下で、I[MgO(200)]/{I[MgO(200)]+I[MgAl2O4(311)]}が0.03以下である請求項1〜4のいずれか1項に記載のスピネル粉末。
- 電融アルミナにマグネシア原料を混合後、焼成することを特徴とするスピネル粉末の製造方法。
- アルミナ含有量が69〜82%であり、かつマグネシア含有量が18〜31%である請求項6記載のスピネル粉末の製造方法。
- 電融アルミナの平均粒径D50が7〜70μmであり、かつマグネシア原料の平均粒径D50が1〜10μmである請求項6または7に記載のスピネル粉末の製造方法。
- 電融アルミナにマグネシア原料を混合後、焼成することで生成したスピネル粉末を使って溶射することを特徴とする溶射膜の製造方法。
- 電融アルミナにマグネシア原料を混合後、焼成することで生成したスピネル粉末を使って、ガスセンサ素子の電極保護膜を形成することを特徴とするガスセンサ素子の製造方法。
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Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015079906A1 (ja) * | 2013-11-26 | 2015-06-04 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 溶射材料および溶射皮膜 |
| WO2016002480A1 (ja) * | 2014-06-30 | 2016-01-07 | 日本碍子株式会社 | MgO系セラミックス膜、半導体製造装置用部材及びMgO系セラミックス膜の製法 |
| JP2016508548A (ja) * | 2013-02-20 | 2016-03-22 | エリコン メトコ(ユーエス)インコーポレイテッド | 熱溶射被覆のための電気絶縁材料 |
| JP2016121049A (ja) * | 2014-12-25 | 2016-07-07 | 第一稀元素化学工業株式会社 | スピネル粉末及びその製造方法 |
| JPWO2020195721A1 (ja) * | 2019-03-28 | 2020-10-01 | ||
| WO2024202513A1 (ja) * | 2023-03-31 | 2024-10-03 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 溶射用粉末 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6440566B2 (ja) * | 2015-05-13 | 2018-12-19 | 日本特殊陶業株式会社 | 酸素センサ電極用導電性酸化物焼結体、及び、それを用いた酸素センサ |
| JP6845645B2 (ja) * | 2016-09-26 | 2021-03-24 | タテホ化学工業株式会社 | 酸化マグネシウム含有スピネル粉末及びその製造方法 |
| CN106854757B (zh) * | 2016-12-12 | 2019-02-19 | 天津理工大学 | 一种镁铝尖晶石的制备方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008535750A (ja) * | 2005-02-15 | 2008-09-04 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | 高温壁反応器において球形の混合酸化物粉末を製造する方法 |
| WO2010059070A1 (en) * | 2008-10-13 | 2010-05-27 | Cuf-Companhia União Fabril, Sgps, S.A. | Ceramic powders coated with a nanoparticle layer and process for obtaining thereof |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3544266A (en) * | 1968-03-05 | 1970-12-01 | Research Corp | Finely divided spinel |
| JPS56109822A (en) * | 1980-01-30 | 1981-08-31 | Nippon Steel Corp | Manufacture of spinel material for melt-spraying |
| JP2009084093A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Hitachi Zosen Corp | スピネルの製造方法および金属状ケイ素の製造方法 |
| JP2008286810A (ja) | 2008-08-25 | 2008-11-27 | Denso Corp | 酸素センサ素子 |
| JP5352218B2 (ja) * | 2008-12-15 | 2013-11-27 | 日本碍子株式会社 | 複合酸化物の製造方法 |
| JP5607319B2 (ja) * | 2009-07-16 | 2014-10-15 | 住友化学株式会社 | チタン酸アルミニウム系焼成体の製造方法 |
-
2011
- 2011-04-28 JP JP2011102162A patent/JP5743693B2/ja active Active
-
2012
- 2012-03-29 US US14/113,453 patent/US9340680B2/en active Active
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- 2012-03-29 CN CN201280020653.5A patent/CN103562133B/zh active Active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008535750A (ja) * | 2005-02-15 | 2008-09-04 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | 高温壁反応器において球形の混合酸化物粉末を製造する方法 |
| WO2010059070A1 (en) * | 2008-10-13 | 2010-05-27 | Cuf-Companhia União Fabril, Sgps, S.A. | Ceramic powders coated with a nanoparticle layer and process for obtaining thereof |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| JPN6014041554; G. BERTRAND et al.: 'Dried particle plasma spray in-flight synthesis of spinel coatings' JOURNAL OF THE EUROPEAN CERAMIC SOCIETY Vol.22, 2002, pages 891 - 902 * |
| JPN7014002835; Idalia GOMEZ et al.: 'Comparative study of microwave and conventional processing of MgAl2O4 -based materials' CERAMICS INTERNATIONAL Vol.30, 2004, pages 893 - 900 * |
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10311996B2 (en) | 2013-02-20 | 2019-06-04 | Oerlikon Metco (Us) Inc. | Electrically insulating material for thermal sprayed coatings matching the coefficient of thermal expansion of the underlying body |
| JP2016508548A (ja) * | 2013-02-20 | 2016-03-22 | エリコン メトコ(ユーエス)インコーポレイテッド | 熱溶射被覆のための電気絶縁材料 |
| JPWO2015079906A1 (ja) * | 2013-11-26 | 2017-03-16 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 溶射材料および溶射皮膜 |
| WO2015079906A1 (ja) * | 2013-11-26 | 2015-06-04 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 溶射材料および溶射皮膜 |
| TWI650301B (zh) * | 2014-06-30 | 2019-02-11 | Ngk Insulators, Ltd. | 氧化鎂系陶瓷膜、半導體製造裝置用元件及氧化鎂系陶瓷膜之製法 |
| KR20170005123A (ko) * | 2014-06-30 | 2017-01-11 | 엔지케이 인슐레이터 엘티디 | MgO계 세라믹스막, 반도체 제조 장치용 부재 및 MgO계 세라믹스막의 제법 |
| JPWO2016002480A1 (ja) * | 2014-06-30 | 2017-04-27 | 日本碍子株式会社 | MgO系セラミックス膜、半導体製造装置用部材及びMgO系セラミックス膜の製法 |
| US20170117120A1 (en) * | 2014-06-30 | 2017-04-27 | Ngk Insulators, Ltd. | MgO-BASED CERAMIC FILM, MEMBER FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS, AND METHOD FOR FORMING MgO-BASED CERAMIC FILM |
| WO2016002480A1 (ja) * | 2014-06-30 | 2016-01-07 | 日本碍子株式会社 | MgO系セラミックス膜、半導体製造装置用部材及びMgO系セラミックス膜の製法 |
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