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JP2012248628A - Manufacturing method of coil component and coil component - Google Patents

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JP2012248628A JP2011118359A JP2011118359A JP2012248628A JP 2012248628 A JP2012248628 A JP 2012248628A JP 2011118359 A JP2011118359 A JP 2011118359A JP 2011118359 A JP2011118359 A JP 2011118359A JP 2012248628 A JP2012248628 A JP 2012248628A
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等 大久保
Yoshihiro Maeda
佳宏 前田
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Abstract

【課題】引出導体以外の導体が、ダイシングによって切り離された後のコイル部品の側面に露出してしまうことを回避する。
【解決手段】コイル部品形成工程は、第1乃至第7の矩形領域A1〜A7それぞれに導体埋込用スルーホールを形成し、基板のおもて面2tに関して、矩形領域ごとに、内周端が導体埋込用スルーホールを覆う平面スパイラル導体を形成するとともに、第1乃至第4の矩形領域A1〜A4の各角部が集合する領域に、これらの矩形領域に対応する4つの平面スパイラル導体それぞれの外周端と接続する引出導体11aを形成し、基板のうら面2bに関して、矩形領域ごとに、内周端が導体埋込用スルーホールを覆う平面スパイラル導体を形成するとともに、第1及び第5乃至第7の矩形領域A1,A5〜A7の各角部が集合する領域に、これらの矩形領域に対応する4つの平面スパイラル導体それぞれの外周端と接続する引出導体11bを形成する。
【選択図】図3
A conductor other than a lead conductor is prevented from being exposed on a side surface of a coil component after being separated by dicing.
In the coil component forming step, a through hole for embedding a conductor is formed in each of first to seventh rectangular regions A1 to A7, and an inner peripheral edge is formed for each rectangular region with respect to a front surface 2t of the substrate. Forms a planar spiral conductor covering the through hole for embedding a conductor, and four planar spiral conductors corresponding to these rectangular areas are formed in areas where the corners of the first to fourth rectangular areas A1 to A4 are gathered. A lead conductor 11a connected to each outer peripheral end is formed, and a planar spiral conductor whose inner peripheral end covers the through hole for embedding the conductor is formed for each rectangular region with respect to the back surface 2b of the substrate. In the region where the corners of the fifth to seventh rectangular regions A1, A5 to A7 are gathered, the lead conductor 11b connected to the outer peripheral ends of the four planar spiral conductors corresponding to these rectangular regions is formed. To.
[Selection] Figure 3

Description

本発明はコイル部品の製造方法及びコイル部品に関し、特に、電解めっきによりプリント基板上に形成した平面スパイラル導体を有するコイル部品の製造方法及びそのようなコイル部品に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a coil component and a coil component, and more particularly to a method for manufacturing a coil component having a planar spiral conductor formed on a printed board by electrolytic plating and such a coil component.

民生用又は産業用の電子機器分野では、電源用のインダクタとして表面実装型のコイル部品を用いることが多くなっている。表面実装型のコイル部品は、小型・薄型で電気的絶縁性に優れ、しかも低コストで製造できるためである。   In the field of consumer or industrial electronic devices, surface mount type coil components are often used as inductors for power supplies. This is because the surface mount type coil component is small and thin, has excellent electrical insulation, and can be manufactured at low cost.

表面実装型のコイル部品の具体的構造のひとつに、プリント回路基板技術を応用した平面コイル構造がある。製造工程の観点からこの構造を簡単に説明すると、まずプリント回路基板上に平面スパイラル形状のシードレイヤ(下地膜)を形成する。そして、めっき液中に浸してシードレイヤに直流電流(以下、「めっき電流」という)を流すことにより、めっき液中の金属イオンをシードレイヤ上に電着させる。これにより平面スパイラル導体が形成され、その後、形成した平面スパイラル導体を覆う絶縁樹脂層と、保護層及び磁路としての金属磁性粉含有樹脂層とを順次形成し、コイル部品が完成する。この構造によれば、寸法及び位置の精度を非常に高い値に維持でき、また、小型化及び薄型化が可能になる。特許文献1には、このような平面コイル構造を有する平面コイル素子が開示されている。   One of the specific structures of surface mount type coil components is a planar coil structure that applies printed circuit board technology. To briefly explain this structure from the viewpoint of the manufacturing process, a planar spiral seed layer (underlying film) is first formed on a printed circuit board. Then, the metal ions in the plating solution are electrodeposited on the seed layer by dipping in the plating solution and flowing a direct current (hereinafter referred to as “plating current”) through the seed layer. As a result, a planar spiral conductor is formed, and then an insulating resin layer covering the formed planar spiral conductor, a protective layer, and a metal magnetic powder-containing resin layer as a magnetic path are sequentially formed to complete a coil component. According to this structure, the accuracy of dimensions and positions can be maintained at a very high value, and the size and thickness can be reduced. Patent Document 1 discloses a planar coil element having such a planar coil structure.

特開2006−310716号公報JP 2006-310716 A

ところで、平面コイル構造を有するコイル部品を量産する場合、一枚の大きな絶縁基板上にマトリクス状に多数のコイル部品を形成した後、ダイシングによる切り離し工程を経て、個々のコイル部品が製造されることになる。したがって、電解めっきを行う段階では各コイル部品は切り離されておらず、シードレイヤには、一枚の大きな絶縁基板の端部からめっき電流を流すことになる。   By the way, when mass-producing coil parts having a planar coil structure, a large number of coil parts are formed in a matrix on a single large insulating substrate, and then individual coil parts are manufactured through a separation process by dicing. become. Accordingly, each coil component is not separated at the stage of electrolytic plating, and a plating current flows through the seed layer from the end of one large insulating substrate.

ここで、図10は、本発明の背景技術によるコイル部品の平面図である。同図には、電解めっき終了直後の状態(切り離される前)の、基板のおもて面を示している。同図に示す破線は、ダイシングの切断線である。また、領域104は、後に金属磁性粉含有樹脂層を埋め込んで磁路を形成するための穴である。同図に示すように、基板のおもて面には略楕円形の平面スパイラル導体100がマトリクス状に多数形成され、その外周端は、後に引出導体となる平面導体101によって、y方向の一方側に隣接する他の平面スパイラル導体100と接続されている。図示していないが、基板のうら面にも同様の平面スパイラル導体100がマトリクス状に形成されており、おもて面の平面スパイラル導体100とうら面の平面スパイラル導体100とは、スルーホール導体102によって内周端同士で接続されている。うら面では、おもて面の平面導体101とは平面スパイラル導体100を挟んでy方向の反対側に平面導体101が形成されており、うら面の平面スパイラル導体100は、この平面導体101を介して、y方向の他方側に隣接する他の平面スパイラル導体100と接続されている。これにより、電解めっきの際、y方向にめっき電流を流すことが可能になる。   Here, FIG. 10 is a plan view of a coil component according to the background art of the present invention. This figure shows the front surface of the substrate in a state immediately after the end of electrolytic plating (before separation). The broken line shown in the figure is a cutting line for dicing. The region 104 is a hole for embedding a metal magnetic powder-containing resin layer later to form a magnetic path. As shown in the figure, a large number of substantially elliptical planar spiral conductors 100 are formed in a matrix on the front surface of the substrate, and the outer peripheral end thereof is one side in the y direction by a planar conductor 101 that later becomes a lead conductor. It is connected to another planar spiral conductor 100 adjacent to the side. Although not shown, the same planar spiral conductor 100 is also formed in a matrix on the back surface of the substrate. The front surface spiral conductor 100 and the back surface planar conductor 100 are a through-hole conductor. The inner peripheral ends are connected by 102. On the back surface, a planar conductor 101 is formed on the opposite side of the y direction with respect to the planar conductor 101 on the front surface across the planar spiral conductor 100, and the planar spiral conductor 100 on the back surface is connected to the planar conductor 101. And is connected to another planar spiral conductor 100 adjacent to the other side in the y direction. This makes it possible to flow a plating current in the y direction during electrolytic plating.

さらに、図10に示すように、各平面導体101は、直線導体103を介して、x方向に隣接する2つの平面導体101とも接続されている。図示しないうら面についても同様である。このような構造を採用することにより、電解めっきの際、x方向にもめっき電流を流すことが可能になる。   Furthermore, as shown in FIG. 10, each planar conductor 101 is also connected to two planar conductors 101 adjacent to each other in the x direction via a straight conductor 103. The same applies to the back surface (not shown). By adopting such a structure, it is possible to flow a plating current also in the x direction during electrolytic plating.

このようにx方向とy方向の両方にめっき電流が流れるようにすることは、均質なめっきを行うために必須な事項である。しかしながら、背景技術のような直線導体103には、ダイシングによって個々のコイル部品に分離した後、その端面がコイル部品の側面に露出してしまうという問題がある。このような露出は、分離後に行う外部端子のめっき工程でめっき伸びが発生する原因となったり、実装後の使用信頼性に悪影響を及ぼすため、好ましくない。   In this way, the plating current flowing in both the x direction and the y direction is an indispensable matter for performing uniform plating. However, the linear conductor 103 as in the background art has a problem that its end face is exposed to the side surface of the coil component after being separated into individual coil components by dicing. Such exposure is not preferable because it causes plating elongation to occur in the external terminal plating step performed after separation or adversely affects use reliability after mounting.

したがって、本発明の目的の一つは、引出導体以外の導体が切り離し後の側面に露出してしまうことを回避できるコイル部品の製造方法及びコイル部品を提供することにある。   Accordingly, one of the objects of the present invention is to provide a method of manufacturing a coil component and a coil component that can prevent a conductor other than the lead conductor from being exposed to the side surface after separation.

上記目的を達成するための本発明によるコイル部品の製造方法は、複数のコイル部品を単一の基板上にマトリクス状に形成するコイル部品形成工程と、前記複数のコイル部品ごとに前記基板を切断する切断工程とを備え、前記コイル部品形成工程は、前記基板に区画された、第1の矩形領域、前記基板表面内の第1の方向の一方側で前記第1の矩形領域と隣接する第2の矩形領域、前記第1の方向と前記基板表面内で直角に交わる第2の方向の一方側で前記第2の矩形領域と隣接する第3の矩形領域、前記第2の方向の一方側で前記第1の矩形領域と隣接する第4の矩形領域、前記第1の方向の他方側で前記第1の矩形領域と隣接する第5の矩形領域、前記第2の方向の他方側で前記第5の矩形領域と隣接する第6の矩形領域、及び前記第2の方向の他方側で前記第1の矩形領域と隣接する第7の矩形領域それぞれに、導体埋込用スルーホールを形成する工程と、前記基板のおもて面に関して、前記第1乃至第7の矩形領域ごとに、内周端が前記導体埋込用スルーホールを覆う第1の平面スパイラル導体を形成するとともに、前記第1乃至第4の矩形領域の各角部が集合する領域に、前記第1乃至第4の矩形領域に対応する4つの前記第1の平面スパイラル導体それぞれの外周端と接続する第1の引出導体を形成する工程と、前記基板のうら面に関して、前記第1乃至第7の矩形領域ごとに、内周端が前記導体埋込用スルーホールを覆う第2の平面スパイラル導体を形成するとともに、前記第1及び第5乃至第7の矩形領域の各角部が集合する領域に、前記第1及び第5乃至第7の矩形領域に対応する4つの前記第2の平面スパイラル導体それぞれの外周端と接続する第2の引出導体を形成する工程と、電解めっき処理を行い、前記第1及び第2の平面スパイラル導体並びに前記第1及び第2の引出導体に金属イオンを電着させる工程とを含み、前記切断工程では、前記第1乃至第7の矩形領域ごとに前記基板が切り離されることを特徴とする。   In order to achieve the above object, a coil component manufacturing method according to the present invention includes a coil component forming step of forming a plurality of coil components in a matrix on a single substrate, and cutting the substrate for each of the plurality of coil components. The coil component forming step includes: a first rectangular region defined on the substrate; and a first rectangular region adjacent to the first rectangular region on one side in a first direction within the substrate surface. Two rectangular regions, a third rectangular region adjacent to the second rectangular region on one side of the first direction and a second direction intersecting at right angles within the substrate surface, one side of the second direction A fourth rectangular region adjacent to the first rectangular region, a fifth rectangular region adjacent to the first rectangular region on the other side in the first direction, and the other side in the second direction on the other side. A sixth rectangular area adjacent to the fifth rectangular area; and the second rectangular area Forming a through hole for embedding a conductor in each of the seventh rectangular regions adjacent to the first rectangular region on the other side in the direction, and the first to seventh elements with respect to the front surface of the substrate For each rectangular area, a first planar spiral conductor whose inner peripheral end covers the through hole for burying the conductor is formed, and the first to fourth rectangular areas are gathered in an area where the corners gather. Forming a first lead conductor connected to an outer peripheral end of each of the four first planar spiral conductors corresponding to the first to fourth rectangular regions, and the back surface of the substrate; A region in which each of the rectangular regions of the first and fifth to seventh rectangular regions gathers while forming a second planar spiral conductor whose inner peripheral end covers the conductor-embedded through hole for each rectangular region In addition, the first and fifth to seventh Forming a second lead conductor connected to an outer peripheral end of each of the four second planar spiral conductors corresponding to the shape region, performing an electroplating process, the first and second planar spiral conductors, and the A step of electrodepositing metal ions on the first and second lead conductors, wherein the substrate is separated for each of the first to seventh rectangular regions in the cutting step.

本発明によれば、第1及び第2の引出導体を通じて、x方向とy方向の両方にめっき電流を流すことが可能になる。したがって、引出導体以外の導体が切り離し後の側面に露出してしまうことを回避できる。   According to the present invention, it is possible to pass a plating current in both the x direction and the y direction through the first and second lead conductors. Therefore, it is possible to avoid that conductors other than the lead conductor are exposed on the side surface after separation.

上記コイル部品の製造方法において、前記コイル部品形成工程は、前記第1乃至第7の矩形領域の角部のうち前記第1及び第2の引出導体のいずれもが形成されない角部に、前記基板を貫通する磁路形成用スルーホールを形成する工程と、前記磁路形成用スルーホール内に磁性体を埋め込む工程とをさらに含むこととしてもよい。これによれば、コイル部品のインダクタンスを向上できる。   In the coil component manufacturing method, the coil component forming step includes forming the substrate at a corner portion of the first to seventh rectangular regions where none of the first and second lead conductors is formed. And forming a magnetic path forming through hole penetrating through the magnetic path and embedding a magnetic material in the magnetic path forming through hole. According to this, the inductance of the coil component can be improved.

上記コイル部品の製造方法において、前記磁路形成用スルーホールは、前記平面スパイラル導体の中央部にも形成されることとしてもよい。これによれば、コイル部品のインダクタンスをさらに向上できる。   In the method for manufacturing a coil component, the magnetic path forming through hole may be formed also in a central portion of the planar spiral conductor. According to this, the inductance of the coil component can be further improved.

上記コイル部品の製造方法において、前記磁路形成用スルーホールは、前記第1及び第2の平面スパイラル導体並びに前記第1及び第2の引出導体を形成する前に形成されることとしてもよい。これによれば、磁路形成用スルーホール内に張り出して第1及び第2の平面スパイラル導体を形成することが可能になるので、第1及び第2の平面スパイラル導体の形成領域を実質的に広く取ることが可能になる。   In the coil component manufacturing method, the magnetic path forming through-hole may be formed before forming the first and second planar spiral conductors and the first and second lead conductors. According to this, since it is possible to form the first and second planar spiral conductors by projecting into the magnetic path forming through hole, the formation area of the first and second planar spiral conductors is substantially reduced. It becomes possible to take widely.

上記コイル部品の製造方法において、前記コイル部品形成工程は、前記電解めっきの後、前記第1及び第2の平面スパイラル導体並びに前記第1及び第2の引出導体を覆う絶縁樹脂層を形成する工程をさらに含み、前記磁性体を埋め込む工程では、前記基板のおもて面及びうら面を覆うとともに、前記磁路形成用スルーホール内を埋める金属磁性粉含有樹脂層を形成することによって、前記磁路形成用スルーホール内に磁性体を埋め込むこととしてもよい。これによれば、直流重畳特性に優れた電源用チョークコイルを得ることが可能になる。   In the coil component manufacturing method, the coil component forming step includes forming an insulating resin layer covering the first and second planar spiral conductors and the first and second lead conductors after the electrolytic plating. In the step of embedding the magnetic body, the magnetic material is formed by forming a metal magnetic powder-containing resin layer that covers the front surface and the back surface of the substrate and fills the magnetic path forming through hole. A magnetic material may be embedded in the through hole for forming a path. According to this, it is possible to obtain a power choke coil having excellent direct current superposition characteristics.

上記コイル部品の製造方法において、前記第1及び第2の平面スパイラル導体はそれぞれ、対応する前記矩形領域の2本の対角線のうち、対応する前記第1の引出導体と対応する前記第2の引出導体を結ぶ一方の対角線の方向に相対的に長く、他方の対角線の方向に相対的に短い形状を有することとしてもよい。これによれば、コイル面積を広く取ることが可能になる。   In the method of manufacturing a coil component, the first and second planar spiral conductors each correspond to the second lead conductor corresponding to the corresponding first lead conductor among the two diagonal lines of the corresponding rectangular region. It is good also as having a shape comparatively long in the direction of one diagonal which connects a conductor, and relatively short in the direction of the other diagonal. This makes it possible to increase the coil area.

また、本発明の一側面によるコイル部品の製造方法は、複数のコイル部品を単一の基板上にマトリクス状に形成するコイル部品形成工程と、前記複数のコイル部品ごとに前記基板を切断する切断工程とを備え、前記切断工程では、それぞれ第1の方向に延伸し、かつ前記第1の方向と垂直な第2の方向に交互に配置された第1及び第2の切断線と、それぞれ前記第2の方向に延伸し、かつ前記第1の方向に交互に配置された第3及び第4の切断線とに沿って前記基板を切断し、前記コイル部品形成工程は、前記切断工程での切断線に囲まれた矩形領域それぞれに導体埋込用スルーホールを形成する工程と、前記基板のおもて面に関して、前記切断工程での切断線に囲まれた矩形領域それぞれに、内周端が前記導体埋込用スルーホールを覆う第1の平面スパイラル導体を形成するとともに、前記第1の切断線と前記第3の切断線の交点に、該交点を取り囲んで配置された4つの前記第1の平面スパイラル導体それぞれの外周端と接続する第1の引出導体を形成する工程と、前記基板のうら面に関して、前記切断工程での切断線に囲まれた矩形領域それぞれに、内周端が前記導体埋込用スルーホールを覆う第2の平面スパイラル導体を形成するとともに、前記第2の切断線と前記第4の切断線の交点に、該交点を取り囲んで配置された4つの前記第2の平面スパイラル導体それぞれの外周端と接続する第2の引出導体を形成する工程と、電解めっき処理を行い、前記第1及び第2の平面スパイラル導体並びに前記第1及び第2の引出導体に金属イオンを電着させる工程とを含むことを特徴とする。こうしても、第1及び第2の引出導体を通じて、x方向とy方向の両方にめっき電流を流すことが可能になる。したがって、引出導体以外の導体が切り離し後の側面に露出してしまうことを回避できる。   The coil component manufacturing method according to one aspect of the present invention includes a coil component forming step of forming a plurality of coil components in a matrix on a single substrate, and cutting for cutting the substrate for each of the plurality of coil components. A first cutting line extending in a first direction and alternately arranged in a second direction perpendicular to the first direction, and in the cutting step, respectively, Cutting the substrate along third and fourth cutting lines that extend in a second direction and are alternately arranged in the first direction, and the coil component forming step includes: Forming a through hole for embedding a conductor in each of the rectangular regions surrounded by the cutting line, and an inner peripheral edge of each of the rectangular regions surrounded by the cutting line in the cutting step with respect to the front surface of the substrate Covers the through hole for embedding the conductor. Are formed at the intersection of the first cutting line and the third cutting line and connected to the outer peripheral ends of the four first planar spiral conductors arranged around the intersection. A step of forming a first lead conductor, and a second surface of the back surface of the substrate, the inner peripheral end of which covers the through hole for embedding the conductor in each rectangular region surrounded by the cutting line in the cutting step A planar spiral conductor is formed and connected to an outer peripheral end of each of the four second planar spiral conductors arranged around the intersection at the intersection of the second cutting line and the fourth cutting line. A step of forming two lead conductors and a step of performing electroplating to electrodeposit metal ions on the first and second planar spiral conductors and the first and second lead conductors. To. Even in this case, it is possible to pass a plating current in both the x direction and the y direction through the first and second lead conductors. Therefore, it is possible to avoid that conductors other than the lead conductor are exposed on the side surface after separation.

また、本発明によるコイル部品は、時計回りに第1乃至第4の角部を有する略矩形の基板と、前記基板のおもて面に電解めっき処理によって形成された第1の平面スパイラル導体と、前記基板のうら面に電解めっき処理によって形成された第2の平面スパイラル導体と、前記基板を貫通し、前記第1の平面スパイラル導体の内周端と前記第2の平面スパイラル導体の内周端とを接続するスルーホール導体と、前記第1の角部を含む前記おもて面内の領域に電解めっき処理によって形成され、前記第1の平面スパイラル導体の外周端と接続する第1の引出導体と、前記第3の角部を含む前記うら面内の領域に電解めっき処理によって形成され、前記第2の平面スパイラル導体の外周端と接続する第2の引出導体とを備えることを特徴とする。   The coil component according to the present invention includes a substantially rectangular substrate having first to fourth corners in the clockwise direction, and a first planar spiral conductor formed on the front surface of the substrate by electrolytic plating. A second planar spiral conductor formed on the back surface of the substrate by electrolytic plating, and an inner peripheral end of the first planar spiral conductor and an inner circumference of the second planar spiral conductor that penetrates the substrate. A through-hole conductor connecting the end and a first in-plane region including the first corner portion formed by electrolytic plating on the front surface and connected to the outer peripheral end of the first planar spiral conductor A lead conductor and a second lead conductor formed by electrolytic plating in a region in the back surface including the third corner portion and connected to an outer peripheral end of the second planar spiral conductor. And

コイル部品にこのような構造を採用することにより、このコイル部品を量産する際に、第1及び第2の引出導体を通じて、x方向とy方向の両方にめっき電流を流すことが可能になる。したがって、引出導体以外の導体がコイル部品の側面に露出してしまうことを回避できる。   By adopting such a structure for the coil component, it is possible to flow a plating current in both the x direction and the y direction through the first and second lead conductors when the coil component is mass-produced. Therefore, it can be avoided that a conductor other than the lead conductor is exposed on the side surface of the coil component.

上記コイル部品において、前記基板のうち前記第2の角部を含む部分及び前記第4の角部を含む部分をそれぞれ貫通する第1及び第2のスルーホール磁性体をさらに備えることとしてもよい。これによれば、コイル部品のインダクタンスを向上できる。   The coil component may further include first and second through-hole magnetic bodies that respectively penetrate the portion including the second corner portion and the portion including the fourth corner portion of the substrate. According to this, the inductance of the coil component can be improved.

上記コイル部品において、前記基板のうち前記第1及び第2の平面スパイラル導体の中央部に対応する部分を貫通する第3のスルーホール磁性体をさらに備えることとしてもよい。これによれば、コイル部品のインダクタンスをさらに向上できる。   The coil component may further include a third through-hole magnetic body penetrating through a portion of the substrate corresponding to a central portion of the first and second planar spiral conductors. According to this, the inductance of the coil component can be further improved.

上記コイル部品において、前記第1及び第2の平面スパイラル導体並びに前記第1及び第2の引出導体を覆う絶縁樹脂層と、前記基板のおもて面及びうら面を覆う金属磁性粉含有樹脂層とをさらに備え、前記第1乃至第3のスルーホール磁性体は、前記金属磁性粉含有樹脂層の一部であることとしてもよい。これによれば、直流重畳特性に優れた電源用チョークコイルを得ることが可能になる。   In the coil component, an insulating resin layer covering the first and second planar spiral conductors and the first and second lead conductors, and a metal magnetic powder-containing resin layer covering the front surface and the back surface of the substrate. The first to third through-hole magnetic bodies may be part of the metal magnetic powder-containing resin layer. According to this, it is possible to obtain a power choke coil having excellent direct current superposition characteristics.

上記コイル部品において、前記第1及び第2の平面スパイラル導体はそれぞれ、前記第1の角部と前記第3の角部を結ぶ対角線の方向に相対的に長く、前記第2の角部と前記第4の角部を結ぶ対角線の方向に相対的に短い形状を有することとしてもよい。これによれば、コイル面積を広く取ることが可能になる。   In the coil component, the first and second planar spiral conductors are relatively long in a direction of a diagonal line connecting the first corner and the third corner, and the second corner and the second It is good also as having a relatively short shape in the direction of the diagonal line connecting the fourth corners. This makes it possible to increase the coil area.

本発明によれば、第1及び第2の引出導体を通じて、x方向とy方向の両方にめっき電流を流すことが可能になる。したがって、引出導体以外の導体が切り離し後の側面に露出してしまうことを回避できる。   According to the present invention, it is possible to pass a plating current in both the x direction and the y direction through the first and second lead conductors. Therefore, it is possible to avoid that conductors other than the lead conductor are exposed on the side surface after separation.

本発明の実施の形態によるコイル部品の分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the coil components by embodiment of this invention. 量産工程の途中における、本発明の実施の形態によるコイル部品を示す図である。(a)は、切断前の基板をおもて面側から見た平面図であり、(b)は、(a)のA−A線断面図である。It is a figure which shows the coil components by embodiment of this invention in the middle of a mass production process. (A) is the top view which looked at the board | substrate before a cutting | disconnection from the front surface side, (b) is the sectional view on the AA line of (a). (a)(b)はそれぞれ、切断前の基板をおもて面側から見た場合の各構成の配置図、切断前の基板をうら面側から見た場合の各構成の配置図である。(A) and (b) are the layout of each structure at the time of seeing the board | substrate before a cutting | disconnection from the front surface side, respectively, and the layout of each structure at the time of seeing the board | substrate before a cutting | disconnection from the back surface side. . 量産工程の途中における、本発明の実施の形態によるコイル部品を示す図である。(a)は、切断前の基板をおもて面側から見た平面図であり、(b)は、(a)のA−A線断面図である。It is a figure which shows the coil components by embodiment of this invention in the middle of a mass production process. (A) is the top view which looked at the board | substrate before a cutting | disconnection from the front surface side, (b) is the sectional view on the AA line of (a). 量産工程の途中における、本発明の実施の形態によるコイル部品を示す図である。(a)は、切断前の基板をおもて面側から見た平面図であり、(b)は、(a)のA−A線断面図である。It is a figure which shows the coil components by embodiment of this invention in the middle of a mass production process. (A) is the top view which looked at the board | substrate before a cutting | disconnection from the front surface side, (b) is the sectional view on the AA line of (a). 量産工程の途中における、本発明の実施の形態によるコイル部品を示す図である。(a)は、切断前の基板をおもて面側から見た平面図であり、(b)は、(a)のA−A線断面図である。It is a figure which shows the coil components by embodiment of this invention in the middle of a mass production process. (A) is the top view which looked at the board | substrate before a cutting | disconnection from the front surface side, (b) is the sectional view on the AA line of (a). 量産工程の途中における、本発明の実施の形態によるコイル部品を示す図である。(a)は、切断前の基板をおもて面側から見た平面図であり、(b)は、(a)のA−A線断面図である。It is a figure which shows the coil components by embodiment of this invention in the middle of a mass production process. (A) is the top view which looked at the board | substrate before a cutting | disconnection from the front surface side, (b) is the sectional view on the AA line of (a). 個片化後の本発明の実施の形態によるコイル部品を示す図である。It is a figure which shows the coil components by embodiment of this invention after dividing into pieces. 本発明の実施の形態の変形例によるコイル部品の平面図である。It is a top view of the coil components by the modification of embodiment of this invention. 本発明の背景技術によるコイル部品の平面図である。It is a top view of the coil component by the background art of this invention.

以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施の形態について詳細に説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は、本実施の形態によるコイル部品1の分解斜視図である。同図に示すように、コイル部品1は略矩形の基板2を有している。「略矩形」とは、完全な矩形の他、一部の角が欠けている矩形を含む意である。本明細書では矩形の「角部」という用語を用いるが、一部の角が欠けている矩形についての「角部」とは、欠けがないとした場合に得られる完全な矩形の角部を意味する。以下では、基板2の4つの角部を、図1に示すように反時計回りに第1乃至第4の角部C〜Cと称する。 FIG. 1 is an exploded perspective view of a coil component 1 according to the present embodiment. As shown in the figure, the coil component 1 has a substantially rectangular substrate 2. The “substantially rectangular” is intended to include a complete rectangle and a rectangle lacking some corners. In this specification, the term “corner” of a rectangle is used. However, the “corner” for a rectangle lacking some corners means the corner of a complete rectangle obtained when there is no lack. means. Hereinafter, the four corners of the substrate 2 are referred to as first to fourth corners C 1 to C 4 counterclockwise as shown in FIG.

基板2の材料には、ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸させた一般的なプリント基板を用いることが好ましい。また、例えばBTレジン基材、FR4基材、FR5基材を用いてもよい。   As a material for the substrate 2, it is preferable to use a general printed circuit board in which a glass cloth is impregnated with an epoxy resin. Further, for example, a BT resin base material, an FR4 base material, or an FR5 base material may be used.

基板2のおもて面2tの中央部には、平面スパイラル導体10a(第1の平面スパイラル導体)が形成される。同様に、うら面2bの中央部には、平面スパイラル導体10b(第2の平面スパイラル導体)が形成される。また、基板2にはスルーホール12a(導体埋込用スルーホール)が設けられ、その内部にスルーホール導体12が埋め込まれている。平面スパイラル導体10aの内周端と平面スパイラル導体10bの内周端とは、スルーホール導体12によって互いに接続される。   A planar spiral conductor 10a (first planar spiral conductor) is formed at the center of the front surface 2t of the substrate 2. Similarly, a planar spiral conductor 10b (second planar spiral conductor) is formed at the center of the back surface 2b. The substrate 2 is provided with through holes 12a (through holes for embedding conductors), and the through hole conductors 12 are embedded therein. The inner peripheral end of the planar spiral conductor 10 a and the inner peripheral end of the planar spiral conductor 10 b are connected to each other by a through-hole conductor 12.

ここで、平面スパイラル導体10aと平面スパイラル導体10bとは、互いに反対向きに巻回されている。つまり、おもて面2tの側から見た平面スパイラル導体10aが、内周端から外周端に向かって時計回りに巻回されているのに対し、同様におもて面2tの側から見た平面スパイラル導体10bは、内周端から外周端に向かって反時計回りに巻回されている。このような巻回方法を採用したことにより、コイル部品1では、平面スパイラル導体10aの外周端と平面スパイラル導体10bの外周端との間に電流を流した場合に、両平面スパイラル導体が互いに同一方向の磁場を発生して強め合う。したがって、コイル部品1は、1つのインダクタとして機能する。   Here, the planar spiral conductor 10a and the planar spiral conductor 10b are wound in opposite directions. That is, the planar spiral conductor 10a viewed from the front surface 2t side is wound clockwise from the inner peripheral end to the outer peripheral end, but similarly viewed from the front surface 2t side. The planar spiral conductor 10b is wound counterclockwise from the inner peripheral end toward the outer peripheral end. By adopting such a winding method, in the coil component 1, when a current is passed between the outer peripheral end of the planar spiral conductor 10a and the outer peripheral end of the planar spiral conductor 10b, both the planar spiral conductors are identical to each other. Generate a magnetic field in the direction and strengthen each other. Therefore, the coil component 1 functions as one inductor.

また、平面スパイラル導体10a,10bはそれぞれ、第1の角部Cと第3の角部Cを結ぶ対角線の方向に相対的に長く、第2の角部Cと第4の角部Cを結ぶ対角線の方向に相対的に短い、若干ゆがんだ形状を有している。この点については、後にコイル部品1の製造工程を説明する際に再度より詳しく説明する。 The planar spiral conductor 10a, 10b, respectively, relatively long in the diagonal direction connecting the first corner C 1 and the third corner C 3, second corner C 2 and the fourth corner relatively short in the direction of the diagonal line connecting the C 4, and has a slightly distorted shape. This point will be described again in more detail later when the manufacturing process of the coil component 1 is described later.

基板2のおもて面2tとうら面2bには、それぞれ引出導体11a,11bが形成される。引出導体11a(第1の引出導体)は、第1の角部Cを含むおもて面2t内の領域に形成される。一方、引出導体11b(第2の引出導体)は、第3の角部Cを含むうら面2b内の領域に形成される。引出導体11aは平面スパイラル導体10aの外周端と接続され、引出導体11bは平面スパイラル導体10bの外周端と接続される。 Lead conductors 11a and 11b are formed on the front surface 2t and the back surface 2b of the substrate 2, respectively. Lead conductor 11a (first lead conductor) is formed in a region in the front surface 2t comprising first corner C 1. On the other hand, lead conductor 11b (second lead conductor) is formed in a region in the back surface 2b including a third corner C 3. The lead conductor 11a is connected to the outer peripheral end of the flat spiral conductor 10a, and the lead conductor 11b is connected to the outer peripheral end of the flat spiral conductor 10b.

以上の平面スパイラル導体10a,10b及び引出導体11a,11bは、無電解めっき工程によって下地層を形成した後、2度の電解めっき工程を経て形成される。下地層の材料及び2度の電解めっき工程で形成されるめっき層の材料は、いずれもCuとすることが好適である。本発明の主たる目的は、このうち2度目の電解めっき工程において、x方向とy方向の両方にめっき電流が流れるようにすることにある。この点についても、後にコイル部品1の製造工程を説明する際に再度より詳しく説明する。   The planar spiral conductors 10a and 10b and the lead conductors 11a and 11b are formed through two electrolytic plating processes after forming an underlayer by an electroless plating process. It is preferable that the material of the underlayer and the material of the plating layer formed in the two electrolytic plating processes are both Cu. The main object of the present invention is to allow a plating current to flow in both the x direction and the y direction in the second electrolytic plating process. This point will be described again in more detail when the manufacturing process of the coil component 1 is described later.

平面スパイラル導体10a,10b及び引出導体11a,11bは、絶縁樹脂層21によって覆われている。この絶縁樹脂層21は、各導体と後述する金属磁性粉含有樹脂層22とが導通してしまうことを防止するために設けられているものである。   The planar spiral conductors 10 a and 10 b and the lead conductors 11 a and 11 b are covered with an insulating resin layer 21. The insulating resin layer 21 is provided to prevent conduction between each conductor and a metal magnetic powder-containing resin layer 22 described later.

基板のおもて面2t及びうら面2bは、絶縁樹脂層21の上からさらに、金属磁性粉含有樹脂層22によって覆われている。金属磁性粉含有樹脂層22は、樹脂に金属磁性粉を混入して作られる磁性材料(金属磁性粉含有樹脂)によって構成される。金属磁性粉としては、パーマロイ系材料を用いることが好適である。具体的には、平均粒径が20〜50μmであるPb−Ni−Co合金と、平均粒径が3〜10μmであるカルボニル鉄とを所定の比率、例えば70:30〜80:20の重量比、好ましくは75:25の重量比で含む金属磁性粉を用いることが好ましい。金属磁性粉含有樹脂層22における金属磁性粉の含有率は90〜96重量%であることが好ましい。一方、樹脂としては、液状又は粉体のエポキシ樹脂を用いることが好ましい。また、金属磁性粉含有樹脂層22における樹脂の含有率は4〜10重量%であることが好ましい。樹脂は絶縁結着材として機能する。以上の構成を有する金属磁性粉含有樹脂層22は、樹脂に対して金属磁性粉の量が少ないほど飽和磁束密度が小さくなり、逆に金属磁性粉の量が多いほど飽和磁束密度が大きくなるという性質を有している。   The front surface 2 t and the back surface 2 b of the substrate are further covered with a metal magnetic powder-containing resin layer 22 from above the insulating resin layer 21. The metal magnetic powder-containing resin layer 22 is made of a magnetic material (metal magnetic powder-containing resin) made by mixing metal magnetic powder into a resin. As the metal magnetic powder, it is preferable to use a permalloy material. Specifically, a weight ratio of Pb—Ni—Co alloy having an average particle diameter of 20 to 50 μm and carbonyl iron having an average particle diameter of 3 to 10 μm, for example, 70:30 to 80:20. It is preferable to use a metal magnetic powder containing a weight ratio of 75:25. The metal magnetic powder content in the metal magnetic powder-containing resin layer 22 is preferably 90 to 96% by weight. On the other hand, it is preferable to use a liquid or powder epoxy resin as the resin. Moreover, it is preferable that the resin content rate in the metal magnetic powder containing resin layer 22 is 4 to 10 weight%. The resin functions as an insulating binder. The metal magnetic powder-containing resin layer 22 having the above configuration is such that the smaller the amount of metal magnetic powder relative to the resin, the smaller the saturation magnetic flux density, and conversely, the larger the amount of metal magnetic powder, the larger the saturation magnetic flux density. It has properties.

また、基板2には、図1に示すように3つのスルーホール14(磁路形成用スルーホール)が形成される。このうちの2つはそれぞれ、基板2のうち第2及び第4の角部C,Cを含む部分を貫通して設けられ、他の1つは、基板2のうち平面スパイラル導体10a,10bの中央部に対応する部分を貫通して設けられる。金属磁性粉含有樹脂層22はこれらのスルーホール14内にも埋め込まれており、図1に示すように、埋め込まれた金属磁性粉含有樹脂層22のうち第4の角部Cに対応する部分は第1のスルーホール磁性体22aを構成し、第2の角部Cに対応する部分は第2のスルーホール磁性体22bを構成し、平面スパイラル導体10a,10bの中央部に対応する部分は第3のスルーホール磁性体22cを構成している。 Further, three through holes 14 (magnetic path forming through holes) are formed in the substrate 2 as shown in FIG. Two of them are provided through the portion of the substrate 2 including the second and fourth corners C 2 and C 4 , and the other one is the planar spiral conductor 10 a, of the substrate 2. It is provided through a portion corresponding to the central portion of 10b. The metal magnetic powder-containing resin layer 22 is also embedded in these through holes 14, and corresponds to the fourth corner C4 of the embedded metal magnetic powder-containing resin layer 22, as shown in FIG. The portion constitutes the first through-hole magnetic body 22a, the portion corresponding to the second corner C2 constitutes the second through-hole magnetic body 22b, and corresponds to the central portion of the planar spiral conductors 10a and 10b. The portion constitutes a third through-hole magnetic body 22c.

以上のような金属磁性粉含有樹脂層22を設けたことで、コイル部品1には完全な閉磁路が形成されている。また、金属磁性粉含有樹脂層22が上述したような性質を有していることから、金属磁性粉含有樹脂層22の金属磁性粉の含有率を調節することで、閉磁路の飽和磁束密度を調節することが可能となっている。   By providing the metal magnetic powder-containing resin layer 22 as described above, a complete closed magnetic circuit is formed in the coil component 1. Further, since the metal magnetic powder-containing resin layer 22 has the properties as described above, the saturation magnetic flux density of the closed magnetic circuit can be reduced by adjusting the content of the metal magnetic powder in the metal magnetic powder-containing resin layer 22. It is possible to adjust.

なお、図1には示していないが、金属磁性粉含有樹脂層22の表面には薄い絶縁層が形成される。この絶縁層の形成は、金属磁性粉含有樹脂層22の表面をリン酸塩で処理することによって行う。この絶縁層を設けるのは、後述する外部電極25,26と金属磁性粉含有樹脂層22との導通を避けるためである。   Although not shown in FIG. 1, a thin insulating layer is formed on the surface of the metal magnetic powder-containing resin layer 22. The insulating layer is formed by treating the surface of the metal magnetic powder-containing resin layer 22 with phosphate. The reason why this insulating layer is provided is to avoid conduction between external electrodes 25 and 26 described later and the metal magnetic powder-containing resin layer 22.

コイル部品1の側面には、外部電極25,26が形成される。外部電極25,26はそれぞれ、側面に露出した引出導体11a,11bと接触する。したがって、外部電極25は引出導体11aと導通し、外部電極26は引出導体11bと導通する。なお、外部電極25,26と金属磁性粉含有樹脂層22とは、上述した薄い絶縁層が存在することにより、導通しない。外部電極25,26の形状は、図1に示すように、引出導体11a,11bの露出面をすべて覆う形状とすることが好適である。外部電極25,26は、図示しない実装基板上に形成された配線と、はんだ等によって接着される。これにより、実装基板上に形成された配線を通じて、平面スパイラル導体10aの外周端と平面スパイラル導体10bの外周端との間に電流を流すことが実現されている。   External electrodes 25 and 26 are formed on the side surfaces of the coil component 1. The external electrodes 25 and 26 are in contact with the lead conductors 11a and 11b exposed on the side surfaces, respectively. Therefore, the external electrode 25 is electrically connected to the lead conductor 11a, and the external electrode 26 is electrically connected to the lead conductor 11b. The external electrodes 25 and 26 and the metal magnetic powder-containing resin layer 22 are not electrically connected due to the presence of the thin insulating layer described above. As shown in FIG. 1, the external electrodes 25 and 26 preferably have a shape that covers all exposed surfaces of the lead conductors 11a and 11b. The external electrodes 25 and 26 are bonded to a wiring formed on a mounting substrate (not shown) by solder or the like. Thereby, it is realized that a current flows between the outer peripheral end of the planar spiral conductor 10a and the outer peripheral end of the planar spiral conductor 10b through the wiring formed on the mounting substrate.

コイル部品1に以上のような構造を採用したことにより、このコイル部品1を量産する際の電解めっき工程(上述した2度目の電解めっき工程)において、引出導体11a,11bを通じて、x方向とy方向の両方にめっき電流を流すことが可能になる。以下、コイル部品1の量産工程を説明しながら、この点について詳しく説明する。   By adopting the structure as described above for the coil component 1, in the electrolytic plating process (the second electrolytic plating process described above) when the coil component 1 is mass-produced, the x direction and the y direction are drawn through the lead conductors 11a and 11b. Plating current can be passed in both directions. Hereinafter, this point will be described in detail while explaining the mass production process of the coil component 1.

図2及び図4〜図8は、量産工程の途中におけるコイル部品1を示す図である。このうち図8を除く各図の(a)は、切断前の基板2をおもて面2t側から見た平面図であり、(b)は(a)のA−A線断面図である。なお、図8を除く各図の(a)に示す破線は、ダイシング工程における切断線を示している。この切断線で囲まれた1つ1つのエリアが、個々のコイル部品1となる。図8は、こうして個片化されたコイル部品1の断面図である。同図に示す断面は、図7のA−A線の下半分に対応している。   2 and 4 to 8 are views showing the coil component 1 in the middle of the mass production process. Of these figures, (a) in each drawing excluding FIG. 8 is a plan view of the substrate 2 before cutting as viewed from the front surface 2t side, and (b) is a sectional view taken along line AA in (a). . In addition, the broken line shown to (a) of each figure except FIG. 8 has shown the cutting line in a dicing process. Each area surrounded by the cutting line is an individual coil component 1. FIG. 8 is a cross-sectional view of the coil component 1 thus separated. The cross section shown in the figure corresponds to the lower half of the line AA in FIG.

また、図3(a)(b)はそれぞれ、切断前の基板2をおもて面2t側から見た場合の各構成の配置図、切断前の基板2をうら面2b側から見た場合の各構成の配置図を示している。これらの図においては、平面スパイラル導体10a,10bは省略している。また、これらの図においても、破線は後のダンシング工程における切断線を示している。   3 (a) and 3 (b) are layout diagrams of respective components when the substrate 2 before cutting is viewed from the front surface 2t side, and when the substrate 2 before cutting is viewed from the back surface 2b side. The arrangement | positioning figure of each structure of is shown. In these drawings, the planar spiral conductors 10a and 10b are omitted. Also in these drawings, the broken line shows the cutting line in the subsequent dancing process.

図3(a)(b)に示すように、基板2には、切断線によって多数の矩形領域が区画される。これらの矩形領域は、図3(a)(b)に示す第1乃至第7の矩形領域A1〜A7を一単位として、繰り返し構造を有している。第1の矩形領域A1とその他の矩形領域との位置関係を説明すると、まず第2の矩形領域A2は、基板2表面内のx方向(第1の方向)の一方側で第1の矩形領域A1と隣接している。第3の矩形領域A3は、x方向と基板2表面内で直角に交わるy方向(第2の方向)の一方側で第2の矩形領域A2と隣接している。第4の矩形領域A4は、y方向の一方側で第1の矩形領域A1と隣接している。第5の矩形領域A5は、x方向の他方側で第1の矩形領域A1と隣接している。第6の矩形領域A6は、y方向の他方側で第5の矩形領域A5と隣接している。最後に、第7の矩形領域A7は、y方向の他方側で第1の矩形領域A1と隣接している。以下、これらの矩形領域も参照しながらコイル部品1の量産工程について説明するが、その前に、図3(a)(b)を参照して、これらの矩形領域と引出導体11a,11bと磁路形成用のスルーホール14との平面的な位置関係について説明する。   As shown in FIGS. 3A and 3B, a large number of rectangular regions are defined on the substrate 2 by cutting lines. These rectangular areas have a repetitive structure with the first to seventh rectangular areas A1 to A7 shown in FIGS. 3A and 3B as one unit. The positional relationship between the first rectangular area A1 and the other rectangular areas will be described. First, the second rectangular area A2 is the first rectangular area on one side in the x direction (first direction) in the surface of the substrate 2. Adjacent to A1. The third rectangular area A3 is adjacent to the second rectangular area A2 on one side in the x direction and the y direction (second direction) that intersects at right angles within the surface of the substrate 2. The fourth rectangular area A4 is adjacent to the first rectangular area A1 on one side in the y direction. The fifth rectangular area A5 is adjacent to the first rectangular area A1 on the other side in the x direction. The sixth rectangular area A6 is adjacent to the fifth rectangular area A5 on the other side in the y direction. Finally, the seventh rectangular area A7 is adjacent to the first rectangular area A1 on the other side in the y direction. Hereinafter, the mass production process of the coil component 1 will be described with reference to these rectangular regions, but before that, referring to FIGS. 3A and 3B, these rectangular regions, the lead conductors 11a and 11b, and the magnetic parts are described. The planar positional relationship with the through hole 14 for forming a path will be described.

まず、引出導体11aは、図3(a)に示すように、基板2のおもて面2tのうち第1乃至第4の矩形領域A1〜A4の各角部が集合する領域に形成される。図3には示していないが、おもて面2tでは第1乃至第7の矩形領域A1〜A7ごとに平面スパイラル導体10aが形成されており、引出導体11aは、自身を取り囲んで配置された第1乃至第4の矩形領域A1〜A4に対応する4つの平面スパイラル導体それぞれの外周端と接続するよう構成される。   First, as shown in FIG. 3A, the lead conductor 11a is formed in a region where the corners of the first to fourth rectangular regions A1 to A4 gather on the front surface 2t of the substrate 2. . Although not shown in FIG. 3, a planar spiral conductor 10a is formed for each of the first to seventh rectangular regions A1 to A7 on the front surface 2t, and the lead conductor 11a is disposed so as to surround itself. It is comprised so that it may connect with each outer peripheral end of four planar spiral conductors corresponding to 1st thru | or 4th rectangular area | region A1-A4.

一方、引出導体11bは、図3(b)に示すように、基板2のうら面2bのうち第1及び第5乃至第7の矩形領域A1,A5〜A7の各角部が集合する領域に形成される。図3には示していないが、うら面2bでも第1乃至第7の矩形領域A1〜A7ごとに平面スパイラル導体10bが形成されており、引出導体11bは、自身を取り囲んで配置された第1及び第5乃至第7の矩形領域A1,A5〜A7に対応する4つの平面スパイラル導体それぞれの外周端と接続するよう構成される。   On the other hand, as shown in FIG. 3B, the lead conductor 11b is formed in a region where the corners of the first and fifth to seventh rectangular regions A1, A5 to A7 gather on the back surface 2b of the substrate 2. It is formed. Although not shown in FIG. 3, a planar spiral conductor 10b is formed for each of the first to seventh rectangular regions A1 to A7 on the back surface 2b, and the lead conductor 11b is a first conductor disposed so as to surround itself. And it is comprised so that it may connect with the outer periphery end of each of the four planar spiral conductors corresponding to 5th thru | or 7th rectangular area | region A1, A5-A7.

磁路形成用スルーホール14は、第1乃至第7の矩形領域A1〜A7の角部のうち引出導体11a,11bのいずれもが形成されない角部に形成される。なお、スルーホール14は基板2を貫通しているため、引出導体11a,11bのいずれか一方が形成されている領域には形成できない。   The through hole 14 for forming a magnetic path is formed at a corner where none of the lead conductors 11a and 11b is formed among the corners of the first to seventh rectangular regions A1 to A7. Since the through hole 14 penetrates the substrate 2, it cannot be formed in a region where one of the lead conductors 11 a and 11 b is formed.

別の観点から、矩形領域と引出導体11a,11bと磁路形成用のスルーホール14との平面的な位置関係について再度説明する。基板2の表面には、図3に示すように、切断線x1,x2(第1及び第2の切断線)がy方向に交互に配置され、切断線y1,y2(第3及び第4の切断線)がy方向に交互に配置される。引出導体11aは、切断線x1と切断線y1との交点に配置され、該交点を取り囲んで配置された4つの平面スパイラル導体それぞれの外周端と接続するよう構成される。一方、引出導体11bは、切断線x2と切断線y2との交点に配置され、該交点を取り囲んで配置された4つの平面スパイラル導体それぞれの外周端と接続するよう構成される。そして、磁路形成用スルーホール14は、切断線x1と切断線y2との交点及び切断線x2と切断線y1との交点に配置される。   From another viewpoint, the planar positional relationship among the rectangular region, the lead conductors 11a and 11b, and the magnetic path forming through hole 14 will be described again. As shown in FIG. 3, cutting lines x1, x2 (first and second cutting lines) are alternately arranged in the y direction on the surface of the substrate 2, and cutting lines y1, y2 (third and fourth lines) are arranged. Cutting lines) are alternately arranged in the y direction. The lead conductor 11a is disposed at the intersection of the cutting line x1 and the cutting line y1, and is configured to connect to the outer peripheral ends of the four planar spiral conductors disposed so as to surround the intersection. On the other hand, the lead conductor 11b is arranged at the intersection of the cutting line x2 and the cutting line y2, and is configured to be connected to the outer peripheral ends of the four planar spiral conductors arranged so as to surround the intersection. The through hole 14 for forming a magnetic path is disposed at the intersection between the cutting line x1 and the cutting line y2 and at the intersection between the cutting line x2 and the cutting line y1.

さて、図2及び図4〜図8を参照しながら、コイル部品1の量産工程について説明する。以下では第1乃至第7の矩形領域A1〜A7のみに着目して説明するが、その他の矩形領域についても同様である。   Now, the mass production process of the coil component 1 will be described with reference to FIGS. 2 and 4 to 8. The following description focuses on only the first to seventh rectangular areas A1 to A7, but the same applies to other rectangular areas.

初めに、図2に示すように、基板2に導体埋込用のスルーホール12aと磁路形成用のスルーホール14とを設ける。スルーホール12aは、第1乃至第7の矩形領域A1〜A7それぞれに1つずつ設けられる。スルーホール14については、上述したように第1乃至第7の矩形領域A1〜A7の角部のうち引出導体11a,11bのいずれもが形成されない角部(切断線x1と切断線y2との交点及び切断線x2と切断線y1との交点)に1つずつ設けられる他、平面スパイラル導体10a,10bの中央部にも設けられる。   First, as shown in FIG. 2, the substrate 2 is provided with a through hole 12a for burying a conductor and a through hole 14 for forming a magnetic path. One through hole 12a is provided in each of the first to seventh rectangular regions A1 to A7. As for the through hole 14, as described above, of the corners of the first to seventh rectangular regions A1 to A7, the corner where none of the lead conductors 11 a and 11 b is formed (the intersection of the cutting line x1 and the cutting line y2). And one at the intersection of the cutting line x2 and the cutting line y1) and at the center of the planar spiral conductors 10a and 10b.

次に、図4に示すように、基板2のおもて面2tに関して、第1乃至第7の矩形領域A1〜A7ごとに、内周端がスルーホール12aを覆う平面スパイラル導体10aを形成する。また、上述した位置(第1乃至第4の矩形領域A1〜A4の各角部が集合する領域。切断線x1と切断線y1との交点)に、引出導体11aを形成する。この際、第1乃至第4の矩形領域A1〜A4に対応する4つの平面スパイラル導体10aそれぞれの外周端が、引出導体11aと接続するようにする。   Next, as shown in FIG. 4, the planar spiral conductor 10a whose inner peripheral end covers the through hole 12a is formed for each of the first to seventh rectangular regions A1 to A7 on the front surface 2t of the substrate 2. . In addition, the lead conductor 11a is formed at the above-described position (region where the corners of the first to fourth rectangular regions A1 to A4 are gathered, the intersection of the cutting line x1 and the cutting line y1). At this time, the outer peripheral ends of the four planar spiral conductors 10a corresponding to the first to fourth rectangular regions A1 to A4 are connected to the lead conductor 11a.

基板2のうら面2bに関しても同様に、第1乃至第7の矩形領域A1〜A7ごとに、内周端がスルーホール12aを覆う平面スパイラル導体10bを形成する。また、上述した位置(第5乃至第7の矩形領域A1,A5〜A7の各角部が集合する領域。切断線x2と切断線y2との交点)に、引出導体11bを形成する。この際、第5乃至第7の矩形領域A1,A5〜A7に対応する4つの平面スパイラル導体10bそれぞれの外周端が、引出導体11bと接続するようにする。   Similarly, on the back surface 2b of the substrate 2, a planar spiral conductor 10b whose inner peripheral end covers the through hole 12a is formed for each of the first to seventh rectangular regions A1 to A7. In addition, the lead conductor 11b is formed at the above-described position (region where the corners of the fifth to seventh rectangular regions A1, A5 to A7 are gathered; the intersection of the cutting line x2 and the cutting line y2). At this time, the outer peripheral ends of the four planar spiral conductors 10b corresponding to the fifth to seventh rectangular regions A1, A5 to A7 are connected to the lead conductor 11b.

平面スパイラル導体10a,10b及び引出導体11a,11bの具体的な形成方法は、次のとおりである。すなわち、まず基板2の両面に無電解めっきによってCuの下地層を形成し、この下地層の表面にフォトレジスト層を電着成膜する。なお、この下地層はスルーホール12a内にも形成され、スルーホール導体12を構成する。続いて、このフォトレジスト層に、片面ずつのフォトリソグラフィ法によって、平面スパイラル導体10a,10b及び引出導体11a,11bの形状の開口パターン(ネガパターン)を設ける。そして、電解めっきによって開口パターン内にめっき層を形成し、フォトレジスト層を除去した後、めっき層が形成された部分以外の下地層をエッチングにより除去する。ここでの電解めっき工程は、上述した1度目の電解めっき工程に相当する。ここでは、下地層はパターニングされていない板状の導体であるので、めっき電流の流れる方向に関する問題は生じない。以上の工程により、それぞれ下地層とめっき層からなる平面スパイラル導体10a,10b及び引出導体11a,11bが形成される。   A specific method for forming the planar spiral conductors 10a and 10b and the lead conductors 11a and 11b is as follows. That is, first, a Cu underlayer is formed on both surfaces of the substrate 2 by electroless plating, and a photoresist layer is electrodeposited on the surface of the underlayer. This underlayer is also formed in the through hole 12 a and constitutes the through hole conductor 12. Subsequently, an opening pattern (negative pattern) in the shape of the planar spiral conductors 10a and 10b and the lead conductors 11a and 11b is provided in the photoresist layer by photolithography on each side. Then, after forming a plating layer in the opening pattern by electrolytic plating and removing the photoresist layer, the underlying layer other than the portion where the plating layer is formed is removed by etching. The electrolytic plating step here corresponds to the first electrolytic plating step described above. Here, since the base layer is an unpatterned plate-like conductor, there is no problem regarding the direction in which the plating current flows. Through the above-described steps, the planar spiral conductors 10a and 10b and the lead conductors 11a and 11b respectively formed of the base layer and the plating layer are formed.

ここまでの工程で基板2のおもて面2t及びうら面2bに形成した各導体は、後述する2度目の電解めっき工程におけるシードレイヤとなる。このシードレイヤは、引出導体11a,11bとスルーホール導体12とを通じてx方向とy方向の両方につながっているため、2度目の電解めっき工程では、x方向とy方向の両方にめっき電流を流すことが可能になる。   The conductors formed on the front surface 2t and the back surface 2b of the substrate 2 in the steps so far serve as seed layers in the second electrolytic plating step described later. Since the seed layer is connected to both the x direction and the y direction through the lead conductors 11a and 11b and the through-hole conductor 12, a plating current is passed in both the x direction and the y direction in the second electrolytic plating process. It becomes possible.

ここで、図4に示すように、平面スパイラル導体10aでは、対応する矩形領域の2本の対角線のうち、対応する引出導体11aと対応する引出導体11bを結ぶ一方の対角線の方向の長さLが、他方の対角線の方向の長さLに比べて長くなるようにしている。図示していないが、平面スパイラル導体10bについても同様である。これにより、平面スパイラル導体10a,10bの形状は若干ゆがむことになるが、こうすることで、基板表面を有効に利用し、コイル面積を広く取ることが可能になる。 Here, as shown in FIG. 4, in the planar spiral conductor 10a, the length L in the direction of one diagonal line connecting the corresponding lead conductor 11a and the corresponding lead conductor 11b among the two diagonal lines in the corresponding rectangular region. 1 is longer than the length L 2 in the direction of the other diagonal line. Although not shown, the same applies to the planar spiral conductor 10b. As a result, the shapes of the planar spiral conductors 10a and 10b are slightly distorted. By doing so, it is possible to effectively use the substrate surface and increase the coil area.

さて、続いて図5に示すように、2度目の電解めっき処理を行う。具体的には、切断前の基板2の端部からシードレイヤとしての上記各導体にめっき電流を流しながら、基板2をめっき液に浸す。この際、上述したようにシードレイヤがx方向とy方向の両方につながっていることから、めっき電流はx方向とy方向の両方に流れる。これにより、平面スパイラル導体10a,10b及び引出導体11a,11bに金属イオンが均一に電着し、均一な膜厚のめっき層20が形成される。   Now, as shown in FIG. 5, a second electrolytic plating process is performed. Specifically, the substrate 2 is immersed in the plating solution while a plating current is passed from the end portion of the substrate 2 before cutting to each conductor as a seed layer. At this time, as described above, since the seed layer is connected in both the x direction and the y direction, the plating current flows in both the x direction and the y direction. Thereby, metal ions are uniformly electrodeposited on the planar spiral conductors 10a and 10b and the lead conductors 11a and 11b, and the plating layer 20 having a uniform film thickness is formed.

めっき層20の形成により、図5(b)に示すように、各導体の膜厚を大幅に増大させることが可能になる。このようにして大きな膜厚を確保するのは、本実施の形態によるコイル部品1が電源用のインダクタであり、極めて小さな直流抵抗を実現する必要があるためである。   By forming the plating layer 20, as shown in FIG. 5B, the film thickness of each conductor can be significantly increased. The reason why a large film thickness is ensured in this way is that the coil component 1 according to the present embodiment is an inductor for power supply and it is necessary to realize a very small DC resistance.

2度目の電解めっき処理の後には、基板2の両面に絶縁樹脂を成膜し、図6に示すように、各導体及びめっき層20を絶縁樹脂層21で覆う。このとき、スルーホール14の側壁も絶縁樹脂層21に覆われるが、スルーホール14の全域が絶縁樹脂層21によって埋め尽くされることのないようにする必要がある。   After the second electrolytic plating treatment, an insulating resin is formed on both surfaces of the substrate 2, and each conductor and the plating layer 20 are covered with an insulating resin layer 21 as shown in FIG. At this time, the side wall of the through hole 14 is also covered with the insulating resin layer 21, but it is necessary to prevent the entire area of the through hole 14 from being completely filled with the insulating resin layer 21.

次に、図7に示すように、基板2の両面を金属磁性粉含有樹脂層22で覆う。具体的な形成方法について説明すると、まず基板2の反りを抑制するためのUVテープ(不図示)を基板2のうら面2bに貼り、おもて面2tに金属磁性粉含有樹脂ペーストをスクリーン印刷する。UVテープの代わりに熱剥離テープを用いてもよい。金属磁性粉含有樹脂ペーストからなるスクリーンシートとしては、約0.27mm厚のものを用いることが好適である。また、スクリーン印刷の後には、脱泡と、80℃での30分間の加熱とを経て、ペーストを仮硬化させる。続いて、UVテープを剥がし、うら面2bに金属磁性粉含有樹脂ペーストをスクリーン印刷する。ここでも、金属磁性粉含有樹脂ペーストからなるスクリーンシートとしては、約0.27mm厚のものを用いることが好適である。また、スクリーン印刷の後には、160℃で1時間加熱することにより、ペーストを本硬化させる。以上の処理により、金属磁性粉含有樹脂層22が完成する。   Next, as shown in FIG. 7, both surfaces of the substrate 2 are covered with a metal magnetic powder-containing resin layer 22. A specific forming method will be described. First, a UV tape (not shown) for suppressing warpage of the substrate 2 is pasted on the back surface 2b of the substrate 2, and a resin paste containing metal magnetic powder is screen printed on the front surface 2t. To do. A heat release tape may be used instead of the UV tape. It is preferable to use a screen sheet made of a metal magnetic powder-containing resin paste having a thickness of about 0.27 mm. Further, after the screen printing, the paste is temporarily cured through defoaming and heating at 80 ° C. for 30 minutes. Subsequently, the UV tape is peeled off, and a metal magnetic powder-containing resin paste is screen-printed on the back surface 2b. Again, it is preferable to use a screen sheet made of a metal magnetic powder-containing resin paste having a thickness of about 0.27 mm. Further, after screen printing, the paste is fully cured by heating at 160 ° C. for 1 hour. The metal magnetic powder containing resin layer 22 is completed by the above process.

以上の工程において、金属磁性粉含有樹脂層22はスルーホール14にも埋め込まれる。これにより、スルーホール14内に、図1に示した第1乃至第3のスルーホール磁性体22a〜22cが形成される。   In the above process, the metal magnetic powder-containing resin layer 22 is also embedded in the through hole 14. As a result, the first to third through-hole magnetic bodies 22 a to 22 c shown in FIG. 1 are formed in the through-hole 14.

最後に、ダイサーを用い、切断線に沿って基板2を切断する。これにより矩形領域ごとに個々のコイル部品1が得られるので、次に、図8に示すように、金属磁性粉含有樹脂層22の表面に絶縁層23を形成する。絶縁層23の形成は、金属磁性粉含有樹脂層22の表面をリン酸塩で処理することによって行う。その後は、スパッタ等によって図1に示した外部電極25,26を形成し、コイル部品1が最終的に完成する。   Finally, the substrate 2 is cut along a cutting line using a dicer. As a result, the individual coil components 1 are obtained for each rectangular region. Next, as shown in FIG. 8, an insulating layer 23 is formed on the surface of the metal magnetic powder-containing resin layer 22. The insulating layer 23 is formed by treating the surface of the metal magnetic powder-containing resin layer 22 with phosphate. Thereafter, the external electrodes 25 and 26 shown in FIG. 1 are formed by sputtering or the like, and the coil component 1 is finally completed.

以上説明したように、本実施の形態によるコイル部品1の製造方法によれば、量産の際に、引出導体11a,11bを通じて、x方向とy方向の両方にめっき電流を流すことが可能になる。したがって、x方向とy方向の両方にめっき電流を流すために引出導体以外の導体が切り離し後の側面に露出してしまうことを、回避できる。   As described above, according to the manufacturing method of the coil component 1 according to the present embodiment, it is possible to flow a plating current in both the x direction and the y direction through the lead conductors 11a and 11b during mass production. . Therefore, it is possible to avoid that conductors other than the lead conductor are cut off and exposed to the side surfaces after the plating current flows in both the x direction and the y direction.

また、引出導体11a,11bのいずれもが形成されない角部に第1及び第2のスルーホール磁性体22a,22bを形成し、さらに、平面スパイラル導体10a,10bの中央部に対応する部分にも第3のスルーホー磁性体22cを形成するので、これらを形成しない場合に比べ、コイル部品のインダクタンスを向上できる。   Further, the first and second through-hole magnetic bodies 22a and 22b are formed at the corners where neither of the lead conductors 11a and 11b is formed, and further, the portions corresponding to the central portions of the planar spiral conductors 10a and 10b are also formed. Since the third through-hoe magnetic body 22c is formed, the inductance of the coil component can be improved as compared with the case where these are not formed.

また、磁路形成用のスルーホール14を、平面スパイラル導体10a,10b及び引出導体11a,11bを形成する前に形成するので、図7(b)に例示するように、スルーホール14内に張り出して平面スパイラル導体10a,10bを形成することが可能になる。したがって、平面スパイラル導体10a,10bの形成領域を実質的に広く取ることが可能になる。   Further, since the through hole 14 for forming the magnetic path is formed before the planar spiral conductors 10a and 10b and the lead conductors 11a and 11b are formed, as shown in FIG. Thus, the planar spiral conductors 10a and 10b can be formed. Therefore, it becomes possible to make the formation area of the planar spiral conductors 10a and 10b substantially wide.

また、磁性基板ではなく金属磁性粉含有樹脂層22によって磁路を形成することから、直流重畳特性に優れた電源用チョークコイルを得ることが可能になる。   In addition, since the magnetic path is formed not by the magnetic substrate but by the metal magnetic powder-containing resin layer 22, it is possible to obtain a power choke coil having excellent direct current superposition characteristics.

また、平面スパイラル導体10a,10bを若干ゆがませて形成していることから、コイル面積を広く取ることが可能になる。   Further, since the planar spiral conductors 10a and 10b are formed by being slightly distorted, it is possible to increase the coil area.

以上、本発明の好ましい実施の形態について説明したが、本発明はこうした実施の形態に何等限定されるものではなく、本発明が、その要旨を逸脱しない範囲において、種々なる態様で実施され得ることは勿論である。   As mentioned above, although preferable embodiment of this invention was described, this invention is not limited to such embodiment at all, and this invention can be implemented in various aspects in the range which does not deviate from the summary. Of course.

例えば、引出導体11a,11bの形状は、必ずしも図1〜図7に示したような長方形状(角丸長方形状を含む)としなければならないわけではなく、例えば図9に示すように、正方形から角部を扇形に取り去った形状としてもよい。これによれば、取り去った扇形部分にも平面スパイラル導体を形成することができるので、平面スパイラル導体10a,10bの形成領域を広く取ることが可能になる。   For example, the shape of the lead conductors 11a and 11b does not necessarily have to be a rectangular shape (including a rounded rectangular shape) as shown in FIGS. 1 to 7. For example, as shown in FIG. It is good also as a shape which removed the corner | angular part in the fan shape. According to this, since the planar spiral conductor can be formed also on the removed fan-shaped portion, it is possible to widen the formation area of the planar spiral conductors 10a and 10b.

A1〜A7 第1乃至第7の矩形領域
〜C 角部
22a〜22c 第1乃至第3のスルーホール磁性体
1 コイル部品
2 基板
2b 基板2のおもて面
2t 基板2のうら面
10a,10b 平面スパイラル導体
11a,11b 引出導体
12 スルーホール導体
12a 導体埋込用スルーホール
14 磁路形成用スルーホール
20 めっき層
21 絶縁樹脂層
22 金属磁性粉含有樹脂層
22a〜22c 第1乃至第3のスルーホール磁性体
23 絶縁層
25,26 外部電極
A1~A7 first to front surface 2t substrate 2 Noura surface of the rectangular regions C 1 -C 4 corner portion 22a~22c first to third through-hole magnetic body 1 coil device 2 substrate 2b substrate 2 of the 7 10a, 10b Planar spiral conductors 11a, 11b Lead conductor 12 Through hole conductor 12a Conductor embedding through hole 14 Magnetic path forming through hole 20 Plating layer 21 Insulating resin layer 22 Metal magnetic powder-containing resin layers 22a-22c First to second 3 through-hole magnetic material 23 Insulating layers 25, 26 External electrode

Claims (12)

複数のコイル部品を単一の基板上にマトリクス状に形成するコイル部品形成工程と、
前記複数のコイル部品ごとに前記基板を切断する切断工程とを備え、
前記コイル部品形成工程は、
前記基板に区画された、第1の矩形領域、前記基板表面内の第1の方向の一方側で前記第1の矩形領域と隣接する第2の矩形領域、前記第1の方向と前記基板表面内で直角に交わる第2の方向の一方側で前記第2の矩形領域と隣接する第3の矩形領域、前記第2の方向の一方側で前記第1の矩形領域と隣接する第4の矩形領域、前記第1の方向の他方側で前記第1の矩形領域と隣接する第5の矩形領域、前記第2の方向の他方側で前記第5の矩形領域と隣接する第6の矩形領域、及び前記第2の方向の他方側で前記第1の矩形領域と隣接する第7の矩形領域それぞれに、導体埋込用スルーホールを形成する工程と、
前記基板のおもて面に関して、前記第1乃至第7の矩形領域ごとに、内周端が前記導体埋込用スルーホールを覆う第1の平面スパイラル導体を形成するとともに、前記第1乃至第4の矩形領域の各角部が集合する領域に、前記第1乃至第4の矩形領域に対応する4つの前記第1の平面スパイラル導体それぞれの外周端と接続する第1の引出導体を形成する工程と、
前記基板のうら面に関して、前記第1乃至第7の矩形領域ごとに、内周端が前記導体埋込用スルーホールを覆う第2の平面スパイラル導体を形成するとともに、前記第1及び第5乃至第7の矩形領域の各角部が集合する領域に、前記第1及び第5乃至第7の矩形領域に対応する4つの前記第2の平面スパイラル導体それぞれの外周端と接続する第2の引出導体を形成する工程と、
電解めっき処理を行い、前記第1及び第2の平面スパイラル導体並びに前記第1及び第2の引出導体に金属イオンを電着させる工程とを含み、
前記切断工程では、前記第1乃至第7の矩形領域ごとに前記基板が切り離される
ことを特徴とするコイル部品の製造方法。
A coil component forming step of forming a plurality of coil components in a matrix on a single substrate;
A cutting step of cutting the substrate for each of the plurality of coil components,
The coil component forming step includes:
A first rectangular region partitioned by the substrate; a second rectangular region adjacent to the first rectangular region on one side of the substrate surface in the first direction; the first direction and the substrate surface; A third rectangular region adjacent to the second rectangular region on one side in a second direction intersecting at right angles within the first rectangular region, and a fourth rectangle adjacent to the first rectangular region on one side in the second direction. A region, a fifth rectangular region adjacent to the first rectangular region on the other side in the first direction, a sixth rectangular region adjacent to the fifth rectangular region on the other side in the second direction, And forming a through hole for embedding a conductor in each of the seventh rectangular regions adjacent to the first rectangular region on the other side in the second direction;
With respect to the front surface of the substrate, for each of the first to seventh rectangular regions, a first planar spiral conductor whose inner peripheral end covers the through hole for burying a conductor is formed, and the first to seventh The first lead conductors connected to the outer peripheral ends of the four first planar spiral conductors corresponding to the first to fourth rectangular areas are formed in an area where the corners of the four rectangular areas are gathered. Process,
With respect to the back surface of the substrate, for each of the first to seventh rectangular regions, a second planar spiral conductor whose inner peripheral end covers the conductor-embedded through hole is formed, and the first and fifth to fifth regions are formed. The second lead connected to the outer peripheral ends of the four second planar spiral conductors corresponding to the first and fifth to seventh rectangular areas in the area where the corners of the seventh rectangular area are gathered Forming a conductor;
Performing an electrolytic plating process, and electrodepositing metal ions on the first and second planar spiral conductors and the first and second lead conductors,
In the cutting step, the substrate is cut for each of the first to seventh rectangular regions. A method of manufacturing a coil component, wherein:
前記コイル部品形成工程は、
前記第1乃至第7の矩形領域の角部のうち前記第1及び第2の引出導体のいずれもが形成されない角部に、前記基板を貫通する磁路形成用スルーホールを形成する工程と、
前記磁路形成用スルーホール内に磁性体を埋め込む工程とをさらに含む
ことを特徴とする請求項1に記載のコイル部品の製造方法。
The coil component forming step includes:
Forming a magnetic path forming through-hole penetrating the substrate at a corner where none of the first and second lead conductors is formed among the corners of the first to seventh rectangular regions;
The method for manufacturing a coil component according to claim 1, further comprising: embedding a magnetic body in the through hole for forming a magnetic path.
前記磁路形成用スルーホールは、前記平面スパイラル導体の中央部にも形成される
ことを特徴とする請求項2に記載のコイル部品の製造方法。
The method for manufacturing a coil component according to claim 2, wherein the magnetic path forming through hole is also formed in a central portion of the planar spiral conductor.
前記磁路形成用スルーホールは、前記第1及び第2の平面スパイラル導体並びに前記第1及び第2の引出導体を形成する前に形成される
ことを特徴とする請求項2又は3に記載のコイル部品の製造方法。
4. The magnetic path forming through hole is formed before forming the first and second planar spiral conductors and the first and second lead conductors. 5. Manufacturing method of coil parts.
前記コイル部品形成工程は、
前記電解めっきの後、前記第1及び第2の平面スパイラル導体並びに前記第1及び第2の引出導体を覆う絶縁樹脂層を形成する工程をさらに含み、
前記磁性体を埋め込む工程では、前記基板のおもて面及びうら面を覆うとともに、前記磁路形成用スルーホール内を埋める金属磁性粉含有樹脂層を形成することによって、前記磁路形成用スルーホール内に磁性体を埋め込む
ことを特徴とする請求項2乃至4のいずれか一項に記載のコイル部品の製造方法。
The coil component forming step includes:
A step of forming an insulating resin layer covering the first and second planar spiral conductors and the first and second lead conductors after the electrolytic plating;
In the step of embedding the magnetic body, the magnetic path forming through is formed by forming a metal magnetic powder-containing resin layer that covers the front surface and the back surface of the substrate and fills the magnetic path forming through hole. The method of manufacturing a coil component according to any one of claims 2 to 4, wherein a magnetic body is embedded in the hole.
前記第1及び第2の平面スパイラル導体はそれぞれ、対応する前記矩形領域の2本の対角線のうち、対応する前記第1の引出導体と対応する前記第2の引出導体を結ぶ一方の対角線の方向に相対的に長く、他方の対角線の方向に相対的に短い形状を有する
ことを特徴とする請求項2乃至5のいずれか一項に記載のコイル部品の製造方法。
Each of the first and second planar spiral conductors is in the direction of one diagonal line connecting the corresponding first lead conductor and the second lead conductor among the two diagonal lines of the corresponding rectangular region. 6. The method of manufacturing a coil component according to claim 2, wherein the coil component has a shape that is relatively long and relatively short in the direction of the other diagonal line.
複数のコイル部品を単一の基板上にマトリクス状に形成するコイル部品形成工程と、
前記複数のコイル部品ごとに前記基板を切断する切断工程とを備え、
前記切断工程では、それぞれ第1の方向に延伸し、かつ前記第1の方向と垂直な第2の方向に交互に配置された第1及び第2の切断線と、それぞれ前記第2の方向に延伸し、かつ前記第1の方向に交互に配置された第3及び第4の切断線とに沿って前記基板を切断し、
前記コイル部品形成工程は、
前記切断工程での切断線に囲まれた矩形領域それぞれに導体埋込用スルーホールを形成する工程と、
前記基板のおもて面に関して、前記切断工程での切断線に囲まれた矩形領域それぞれに、内周端が前記導体埋込用スルーホールを覆う第1の平面スパイラル導体を形成するとともに、前記第1の切断線と前記第3の切断線の交点に、該交点を取り囲んで配置された4つの前記第1の平面スパイラル導体それぞれの外周端と接続する第1の引出導体を形成する工程と、
前記基板のうら面に関して、前記切断工程での切断線に囲まれた矩形領域それぞれに、内周端が前記導体埋込用スルーホールを覆う第2の平面スパイラル導体を形成するとともに、前記第2の切断線と前記第4の切断線の交点に、該交点を取り囲んで配置された4つの前記第2の平面スパイラル導体それぞれの外周端と接続する第2の引出導体を形成する工程と、
電解めっき処理を行い、前記第1及び第2の平面スパイラル導体並びに前記第1及び第2の引出導体に金属イオンを電着させる工程とを含む
ことを特徴とするコイル部品の製造方法。
A coil component forming step of forming a plurality of coil components in a matrix on a single substrate;
A cutting step of cutting the substrate for each of the plurality of coil components,
In the cutting step, first and second cutting lines each extending in a first direction and alternately arranged in a second direction perpendicular to the first direction, respectively in the second direction Extending the substrate and cutting the substrate along third and fourth cutting lines alternately arranged in the first direction;
The coil component forming step includes:
Forming a through hole for embedding a conductor in each rectangular region surrounded by the cutting line in the cutting step;
With respect to the front surface of the substrate, in each rectangular region surrounded by the cutting line in the cutting step, a first planar spiral conductor whose inner peripheral end covers the through hole for embedding a conductor is formed, and Forming a first lead conductor connected to an outer peripheral end of each of the four first planar spiral conductors arranged around the intersection at the intersection of the first cutting line and the third cutting line; ,
With respect to the back surface of the substrate, a second planar spiral conductor whose inner peripheral end covers the through hole for burying the conductor is formed in each rectangular region surrounded by the cutting line in the cutting step, and the second Forming a second lead conductor connected to an outer peripheral end of each of the four second planar spiral conductors arranged around the intersection at the intersection of the cutting line and the fourth cutting line;
And a step of electrodepositing metal ions on the first and second planar spiral conductors and the first and second lead conductors.
時計回りに第1乃至第4の角部を有する略矩形の基板と、
前記基板のおもて面に電解めっき処理によって形成された第1の平面スパイラル導体と、
前記基板のうら面に電解めっき処理によって形成された第2の平面スパイラル導体と、
前記基板を貫通し、前記第1の平面スパイラル導体の内周端と前記第2の平面スパイラル導体の内周端とを接続するスルーホール導体と、
前記第1の角部を含む前記おもて面内の領域に電解めっき処理によって形成され、前記第1の平面スパイラル導体の外周端と接続する第1の引出導体と、
前記第3の角部を含む前記うら面内の領域に電解めっき処理によって形成され、前記第2の平面スパイラル導体の外周端と接続する第2の引出導体と
を備えることを特徴とするコイル部品。
A substantially rectangular substrate having first to fourth corners in a clockwise direction;
A first planar spiral conductor formed on the front surface of the substrate by electrolytic plating;
A second planar spiral conductor formed by electrolytic plating on the back surface of the substrate;
A through-hole conductor that passes through the substrate and connects an inner peripheral end of the first planar spiral conductor and an inner peripheral end of the second planar spiral conductor;
A first lead conductor formed by electrolytic plating in a region in the front surface including the first corner portion and connected to an outer peripheral end of the first planar spiral conductor;
A coil component comprising: a second lead conductor formed by electrolytic plating on a region in the back surface including the third corner portion and connected to an outer peripheral end of the second planar spiral conductor. .
前記基板のうち前記第2の角部を含む部分及び前記第4の角部を含む部分をそれぞれ貫通する第1及び第2のスルーホール磁性体をさらに備える
ことを特徴とする請求項8に記載のコイル部品。
The first and second through-hole magnetic bodies that respectively penetrate the portion including the second corner portion and the portion including the fourth corner portion of the substrate are further provided. Coil parts.
前記基板のうち前記第1及び第2の平面スパイラル導体の中央部に対応する部分を貫通する第3のスルーホール磁性体をさらに備える
ことを特徴とする請求項9に記載のコイル部品。
10. The coil component according to claim 9, further comprising a third through-hole magnetic body that penetrates a portion of the substrate corresponding to a central portion of the first and second planar spiral conductors.
前記第1及び第2の平面スパイラル導体並びに前記第1及び第2の引出導体を覆う絶縁樹脂層と、
前記基板のおもて面及びうら面を覆う金属磁性粉含有樹脂層とをさらに備え、
前記第1乃至第3のスルーホール磁性体は、前記金属磁性粉含有樹脂層の一部である
ことを特徴とする請求項10に記載のコイル部品。
An insulating resin layer covering the first and second planar spiral conductors and the first and second lead conductors;
A metal magnetic powder-containing resin layer covering the front and back surfaces of the substrate;
The coil component according to claim 10, wherein the first to third through-hole magnetic bodies are part of the metal magnetic powder-containing resin layer.
前記第1及び第2の平面スパイラル導体はそれぞれ、前記第1の角部と前記第3の角部を結ぶ対角線の方向に相対的に長く、前記第2の角部と前記第4の角部を結ぶ対角線の方向に相対的に短い形状を有する
ことを特徴とする請求項8乃至11のいずれか一項に記載のコイル部品。
Each of the first and second planar spiral conductors is relatively long in a diagonal direction connecting the first corner and the third corner, and the second corner and the fourth corner The coil component according to any one of claims 8 to 11, wherein the coil component has a relatively short shape in a direction of a diagonal line connecting the two.
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