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JP2012242773A - Manufacturing method of pattern phase difference film, and manufacturing method of metal mold for manufacturing pattern phase difference film - Google Patents

Manufacturing method of pattern phase difference film, and manufacturing method of metal mold for manufacturing pattern phase difference film Download PDF

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JP2012242773A
JP2012242773A JP2011115577A JP2011115577A JP2012242773A JP 2012242773 A JP2012242773 A JP 2012242773A JP 2011115577 A JP2011115577 A JP 2011115577A JP 2011115577 A JP2011115577 A JP 2011115577A JP 2012242773 A JP2012242773 A JP 2012242773A
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Japan
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film
producing
retardation film
master
pattern retardation
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JP2011115577A
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Japanese (ja)
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Hiroyuki Amamiya
裕之 雨宮
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

【課題】パッシブ方式による3次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムに関して、パターン位相差フィルムを容易かつ大量に作製することができるようにする。
【解決手段】平板上に、パターン位相差フィルムの凹凸形状に対応する凹凸形状を作製して原盤21を作製する。この原盤21の表面に電鋳処理によるメッキ膜22を作製し、このメッキ膜22を取り外して、母材23の表面に配置して金型13を作製する。
【選択図】図4
The present invention relates to a pattern retardation film applied to a three-dimensional image display by a passive method, so that a pattern retardation film can be easily produced in large quantities.
An original plate 21 is prepared by producing an uneven shape corresponding to the uneven shape of a pattern retardation film on a flat plate. A plating film 22 is produced on the surface of the master 21 by electroforming, and the plating film 22 is removed and placed on the surface of the base material 23 to produce the mold 13.
[Selection] Figure 4

Description

本発明は、パッシブ方式による3次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムの製造に関するものである。   The present invention relates to the manufacture of a pattern retardation film applied to a three-dimensional image display by a passive method.

フラットパネルディスプレイは、従来、2次元表示のものが主流であった。しかしながら、近年、3次元表示可能なフラットパネルディスプレイが注目を集めており、一部市販もされている。そして今後のフラットパネルディスプレイは3次元表示可能であることが当然に求められる傾向にあり、3次元表示可能なフラットパネルディスプレイの検討が幅広い分野において進められている。   Conventionally, flat panel displays have been mainly two-dimensional displays. However, in recent years, flat panel displays capable of three-dimensional display have attracted attention, and some are also commercially available. Further, there is a tendency that future flat panel displays are capable of three-dimensional display, and flat panel displays capable of three-dimensional display are being studied in a wide range of fields.

フラットパネルディスプレイにおいて3次元表示をするには、通常、何らかの方式で右目用の映像と、左目用の映像とを、それぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供することが必要である。右目用の映像と左目用の映像とを選択的に提供する方法としては、例えば、パッシブ方式が知られている。このパッシブ方式の3次元表示方式について図を参照しながら説明する。図10は、液晶表示パネルを使用したパッシブ方式の3次元表示の一例を示す概略図である。この図10の例では、垂直方向に連続する液晶表示パネルの画素を、順次交互に、右目用及び左目用に割り当て、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動し、これにより右目用の映像と左目用の映像とを同時に表示する。また液晶表示パネルのパネル面にパターン位相差フィルムを配置し、右目用及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で方向の異なる円偏光に変換する。これによりパッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなるめがねを装着して、右目用の映像と左目用の映像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供する。   In order to perform three-dimensional display on a flat panel display, it is usually necessary to selectively provide a right-eye image and a left-eye image in some manner, respectively, to the viewer's right eye and left eye. As a method for selectively providing a right-eye video and a left-eye video, for example, a passive method is known. This passive three-dimensional display method will be described with reference to the drawings. FIG. 10 is a schematic diagram showing an example of a passive three-dimensional display using a liquid crystal display panel. In the example of FIG. 10, the pixels of the liquid crystal display panel that are continuous in the vertical direction are sequentially assigned to the right eye and the left eye, and are driven by the image data for the right eye and the left eye, respectively. And the image for the left eye are displayed simultaneously. In addition, a pattern retardation film is disposed on the panel surface of the liquid crystal display panel, and light emitted by linearly polarized light from the right-eye and left-eye pixels is converted into circularly polarized light having different directions for the right-eye and left-eye. As a result, in the passive method, glasses equipped with corresponding polarizing filters are attached, and a right eye image and a left eye image are selectively provided to the viewer's right eye and left eye, respectively.

このパッシブ方式は、応答速度の低い液晶表示装置でも適用することができ、さらにパターン位相差フィルムと円偏光メガネとを用いた簡易な構成で3次元表示することができる。このようなことから、パッシブ方式の液晶表示装置は今後の3次元表示装置の中心的存在となるものとして非常に注目されている。   This passive method can also be applied to a liquid crystal display device having a low response speed, and can also perform three-dimensional display with a simple configuration using a pattern retardation film and circularly polarized glasses. For this reason, a passive liquid crystal display device has attracted a great deal of attention as a center for future three-dimensional display devices.

ところでパッシブ方式に係るパターン位相差フィルムは、画素の割り当てに対応して透過光に位相差を与えるパターン状の位相差層が必要である。このパターン位相差フィルムは、まだ広く研究、開発が行われておらず、標準的な技術としても確立されているものがないのが現状である。   By the way, the pattern phase difference film which concerns on a passive system requires the pattern phase difference layer which gives a phase difference to transmitted light corresponding to allocation of a pixel. This pattern retardation film has not been widely researched and developed yet, and there is no established standard technology.

このパターン位相差フィルムに関して、特許文献1には、配向規制力を制御した光配向膜をガラス基板上に形成し、この光配向膜により液晶の配列をパターニングする作製方法が開示されている。しかしながらこの特許文献1に開示の方法は、ガラス基板を使用することが必要であることから、パターン位相差フィルムが高価になり、大面積のものを大量生産し難い問題がある。   With respect to this pattern retardation film, Patent Document 1 discloses a production method in which a photo-alignment film in which the alignment regulating force is controlled is formed on a glass substrate, and the alignment of liquid crystals is patterned by this photo-alignment film. However, since the method disclosed in Patent Document 1 requires the use of a glass substrate, there is a problem that the pattern retardation film becomes expensive and it is difficult to mass-produce a large area.

またパターン位相差フィルムに関して、特許文献2には、レーザーの照射によりロール版の周囲に微細な凹凸形状を形成し、この凹凸形状を転写してパターン状に配向規制力を制御した光配向膜を作製する方法が開示されている。この特許文献2に開示の方法では、レーザーの走査によりロール版の全周に漏れ無くレーザーを照射することが必要である。従ってロール版の作製に時間を要する問題がある。また高価なレーザー加工装置を使用しなければならない問題もある。   Regarding the pattern retardation film, Patent Document 2 discloses a photo-alignment film in which a fine uneven shape is formed around a roll plate by laser irradiation, and this uneven shape is transferred to control the alignment regulating force in a pattern shape. A method of making is disclosed. In the method disclosed in Patent Document 2, it is necessary to irradiate the entire circumference of the roll plate with laser without being leaked by laser scanning. Therefore, there is a problem that it takes time to produce the roll plate. There is also a problem that an expensive laser processing apparatus must be used.

特開2005−49865号公報JP 2005-49865 A 特開2010−152296号公報JP 2010-152296 A

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、パッシブ方式による3次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムに関して、パターン位相差フィルムを容易かつ大量に作製することができるパターン位相差フィルムの作製方法、パターン位相差フィルム作製用金型及びその作製方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and relates to a pattern retardation film applied to a passive three-dimensional image display. A pattern retardation film capable of easily and in large quantities producing a pattern retardation film. An object of the present invention is to provide a production method of the above, a mold for producing a pattern retardation film and a production method thereof.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、原盤に凹凸形状を形成し、この凹凸形状を電鋳処理により写し取って金型を作製する、との着想に至り、本発明を完成するに至った。   The inventor has conducted extensive research to solve the above-mentioned problems, and formed an uneven shape on the master disk, and arrived at the idea of copying the uneven shape by electroforming to produce a mold. It came to be completed.

具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。     Specifically, the present invention provides the following.

(1) 転写用金型に形成された凹凸形状を透明シート材に転写して配向膜を形成するパターン位相差フィルムの作製方法において、前記パターン位相差フィルムは、前記配向膜のパターニングにより、右目用の透過光に、対応する位相差を与える右目用の領域と、左目用の透過光に、対応する位相差を与える左目用の領域とが、それぞれ帯状に順次交互に形成され、前記パターン位相差フィルムの作製方法は、平板上に、前記パターン位相差フィルムの凹凸形状に対応する凹凸形状を作製して原盤を作製する原盤作製工程と、前記原盤を電鋳処理して、前記原盤の表面に電鋳処理によるメッキ膜を作製する電鋳処理工程と、前記原盤より前記メッキ膜を取り外し、前記転写用金型に係る母材の表面に配置して前記転写用金型を作製するメッキ膜処理工程と、前記転写用金型を用いて、前記透明シート材を処理して前記パターン位相差フィルムを作製する透明シート材の処理工程とを備えることを特徴とするパターン位相差フィルムの作製方法。   (1) In the method for producing a patterned retardation film in which the uneven shape formed on the transfer mold is transferred to a transparent sheet material to form an alignment film, the pattern retardation film is formed by patterning the alignment film, A right-eye region that gives a corresponding phase difference to transmitted light for left and a left-eye region that gives a corresponding phase difference to transmitted light for left eye are alternately formed in a band shape, respectively, and the pattern position A method for producing a phase difference film includes a step of producing a master by producing a concavo-convex shape corresponding to the concavo-convex shape of the pattern retardation film on a flat plate, and electroforming the master to obtain a surface of the master An electroforming process for producing a plating film by electroforming, and a method for removing the plating film from the master and placing it on the surface of the base material of the transfer mold to produce the transfer mold. Production of a pattern retardation film comprising: a film treatment step; and a treatment step of a transparent sheet material for producing the pattern retardation film by treating the transparent sheet material using the transfer mold. Method.

(2) 表面に形成された凹凸形状の透明シート材への転写によりパターン位相差フィルムの配向膜を作製するパターン位相差フィルム作製用の金型であって、電鋳処理により原盤に形成された凹凸形状を転写したメッキ膜が、母材の表面に配置されて、前記パターン位相差フィルムの凹凸形状に対応する凹凸形状が形成されたことを特徴とするパターン位相差フィルム作製用の金型。   (2) A pattern retardation film production mold for producing an alignment film of a pattern retardation film by transfer to a concavo-convex transparent sheet material formed on the surface, which is formed on a master by electroforming A metal mold for producing a pattern retardation film, wherein a plating film having a concavo-convex shape transferred thereon is disposed on a surface of a base material, and a concavo-convex shape corresponding to the concavo-convex shape of the pattern retardation film is formed.

(3) 表面に形成された凹凸形状の透明シート材への転写によりパターン位相差フィルムの配向膜を作製するパターン位相差フィルム作製用金型の作製方法であって、前記パターン位相差フィルムは、前記配向膜のパターニングにより、右目用の透過光に、対応する位相差を与える右目用の領域と、左目用の透過光に、対応する位相差を与える左目用の領域とが、それぞれ帯状に順次交互に形成され、前記パターン位相差フィルム作製用金型の作製方法は、平板上に、前記パターン位相差フィルムの凹凸形状に対応する凹凸形状を作製して原盤を作製する原盤作製工程と、前記原盤を電鋳処理して、前記原盤の表面に電鋳処理によるメッキ膜を作製する電鋳処理工程と、前記原盤より前記メッキ膜を取り外し、
母材の表面に配置して前記パターン位相差フィルム作製用金型を作製するメッキ膜処理工程とを備えることを特徴とするパターン位相差フィルム作製用金型の作製方法。
(3) A method for producing a mold for producing a pattern retardation film in which an alignment film of a pattern retardation film is produced by transfer to a concavo-convex shaped transparent sheet material formed on the surface, wherein the pattern retardation film comprises: By patterning the alignment layer, a right-eye region that gives a corresponding phase difference to the transmitted light for the right eye and a left-eye region that gives a corresponding phase difference to the transmitted light for the left eye are sequentially formed in a band shape, respectively. Alternatingly formed, the method for producing the mold for producing the pattern retardation film is a master production process for producing a master by producing an uneven shape corresponding to the uneven shape of the pattern retardation film on a flat plate, An electroforming process is performed on the master, and a plating film is formed on the surface of the master by electroforming, and the plating film is removed from the master,
And a plating film treatment step of preparing the pattern retardation film preparation mold on the surface of a base material. A method of manufacturing a pattern retardation film preparation mold.

本発明によれば、ロール版等の転写用金型の作製に適用して、高価な装置を使用しなくても、短時間で転写用の金型を作製することができる。またそのために必要な平板による原盤にあっても、汎用性の高い設備を使用して、簡易に作製することができる。従ってパッシブ方式による3次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムに関して、容易かつ大量に作製することができる。   According to the present invention, it is possible to produce a transfer mold in a short time without using an expensive apparatus when applied to the production of a transfer mold such as a roll plate. Moreover, even if it exists in the original disk by the flat plate required for it, it can produce simply using a highly versatile installation. Therefore, the pattern retardation film applied to the passive three-dimensional image display can be manufactured easily and in large quantities.

本発明の第1実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。It is a figure which shows the pattern phase difference film which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図1のパターン位相差フィルムの製造装置を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing apparatus of the pattern phase difference film of FIG. 図2の製造装置におけるロール版を示す図である。It is a figure which shows the roll plate in the manufacturing apparatus of FIG. 図3のロール版の作製方法の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the preparation methods of the roll plate of FIG. 図4の原盤の作製方法の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the preparation methods of the original disk of FIG. 図5の続きを示す図である。It is a figure which shows the continuation of FIG. 図6の続きを示す図である。It is a figure which shows the continuation of FIG. 本発明の第2実施形態に適用する原盤の作製方法の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the manufacturing method of the original disk applied to 2nd Embodiment of this invention. 図8の続きを示す図である。It is a figure which shows the continuation of FIG. パッシブ方式による3次元画像表示の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the three-dimensional image display by a passive system.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

〔第1実施形態〕
図1は、本発明の第1実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。パターン位相差フィルム1は、透明シート材による基材2に配向膜3、位相差層4が順次作製される。パターン位相差フィルム1は、位相差層4が液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を配向膜3の配向規制力によりパターニングする。なおこの液晶分子の配向を図1では細長い楕円により示す。このパターニングにより、パターン位相差フィルム1は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用の領域Aと、左目用の領域Bとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a view showing a pattern retardation film according to the first embodiment of the present invention. In the pattern retardation film 1, an alignment film 3 and a retardation layer 4 are sequentially formed on a base material 2 made of a transparent sheet material. In the pattern retardation film 1, the retardation layer 4 is formed of a liquid crystal material, and the alignment of the liquid crystal material is patterned by the alignment regulating force of the alignment film 3. The orientation of the liquid crystal molecules is indicated by a long and narrow ellipse in FIG. By this patterning, the pattern retardation film 1 is formed in a band shape alternately with the right-eye area A and the left-eye area B sequentially with a certain width corresponding to the pixel assignment in the liquid crystal display panel. A phase difference corresponding to each light emitted from the right-eye pixel and the left-eye pixel is given.

パターン位相差フィルム1は、基材2の表面に紫外線硬化樹脂5が塗布された後、この紫外線硬化樹脂5の表面に微細な凹凸形状が形成され、これにより紫外線硬化樹脂を介して基材2の表面に凹凸形状が形成される。パターン位相差フィルム1は、この紫外線硬化樹脂5の表面の凹凸形状により配向膜3が形成される。この凹凸形状は、一方向に延長する多数のすじによるすじ状模様により形成され、各すじの延長方向が、配向膜3近傍における液晶材料の配向方向と一致する一方向に設定される。従ってこの紫外線硬化樹脂5の表面に形成される凹凸形状は、このすじの延長方向が、右目用及び左目用の領域A及びBで、90度異なる方向となるように、かつ各領域の延長方向に対して45度傾くように形成される。なおこの各領域の延長方向に対する傾きにあっては、基材2のリタデーションが無視できない程度に大きい場合には、リタデーション値に応じて、適宜、増減される。   In the pattern retardation film 1, after the ultraviolet curable resin 5 is applied to the surface of the substrate 2, a fine uneven shape is formed on the surface of the ultraviolet curable resin 5, whereby the substrate 2 is interposed via the ultraviolet curable resin. An uneven shape is formed on the surface. In the pattern retardation film 1, the alignment film 3 is formed by the uneven shape on the surface of the ultraviolet curable resin 5. This uneven shape is formed by a streak pattern made up of a number of streaks extending in one direction, and the extending direction of each streak is set to one direction that coincides with the alignment direction of the liquid crystal material in the vicinity of the alignment film 3. Therefore, the uneven shape formed on the surface of the ultraviolet curable resin 5 is such that the extension direction of the stripes is 90 degrees different between the right eye area and the left eye area A and B, and the extension direction of each area. It is formed so as to be inclined by 45 degrees with respect to the angle. In addition, in the inclination with respect to the extension direction of each area | region, when the retardation of the base material 2 is so large that it cannot disregard, it is increased / decreased suitably according to the retardation value.

図2は、このパターン位相差フィルム1の製造装置を示す略線図である。この製造装置10は、基材2がロールにより提供され、この基材2を供給リール11から供給する。製造装置10は、ダイ12によりこの基材2に紫外線硬化樹脂を塗布する。この製造装置10において、ロール版13は、パターン位相差フィルム1の配向膜3に係る凹凸形状が周囲に形成された円筒形状の金型である。製造装置10は、紫外線硬化樹脂が塗布されてなる基材2を加圧ローラ14によりロール版13に押圧し、紫外線照射装置15による紫外線の照射により紫外線硬化樹脂を硬化させる。これにより製造装置10は、ロール版13に形成された凹凸形状を基材2に転写する。その後、剥離ローラ16によりロール版13から基材2を剥離し、ダイ19により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置17による紫外線の照射により液晶材料を硬化させた後、巻き取りリール18に巻き取る。パターン位相差フィルム1は、この巻き取りリール18に巻き取ったシート材に、必要に応じて粘着層、反射防止層等を形成した後、所望の大きさに切断して作製される。これによりパターン位相差フィルム1では、ロール版13を用いた凹凸形状の転写により、ロールにより提供される基材2を連続して処理して効率良く作製される。   FIG. 2 is a schematic diagram showing an apparatus for manufacturing the pattern retardation film 1. In the manufacturing apparatus 10, the base material 2 is provided by a roll, and the base material 2 is supplied from a supply reel 11. The manufacturing apparatus 10 applies an ultraviolet curable resin to the substrate 2 with the die 12. In this manufacturing apparatus 10, the roll plate 13 is a cylindrical mold in which the uneven shape related to the alignment film 3 of the pattern retardation film 1 is formed around. The manufacturing apparatus 10 presses the base material 2 to which the ultraviolet curable resin is applied against the roll plate 13 by the pressure roller 14, and cures the ultraviolet curable resin by irradiation with ultraviolet rays from the ultraviolet irradiation device 15. Thus, the manufacturing apparatus 10 transfers the uneven shape formed on the roll plate 13 to the base material 2. Thereafter, the substrate 2 is peeled from the roll plate 13 by the peeling roller 16, and the liquid crystal material is applied by the die 19. Thereafter, the liquid crystal material is cured by ultraviolet irradiation by the ultraviolet irradiation device 17, and then wound around the take-up reel 18. The pattern retardation film 1 is produced by forming an adhesive layer, an antireflection layer, and the like on the sheet material wound on the take-up reel 18 as necessary, and then cutting it to a desired size. Thereby, in the pattern phase difference film 1, the base material 2 provided by the roll is continuously processed by transferring the concavo-convex shape using the roll plate 13, and is efficiently produced.

図3は、ロール版13を示す斜視図である。ロール版13は、中心軸方向に、パターン位相差フィルム1の右目用の領域A及び左目用の領域Bにそれぞれ対応するリング状の領域WA、WBが順次交互に形成される。また各領域WA、WBには、それぞれ対応する凹凸形状が形成される。   FIG. 3 is a perspective view showing the roll plate 13. In the roll plate 13, ring-shaped regions WA and WB corresponding to the right-eye region A and the left-eye region B of the pattern retardation film 1 are alternately formed in the central axis direction. Corresponding uneven shapes are formed in each of the areas WA and WB.

図4は、このロール版13の製造工程の説明に供する図である。この工程では、初めに原盤21が作製される。ここで原盤21は(図4(a))、ロール版13の各領域WA、WBに対応する凹凸形状が表面に作製された平板である。この工程では、原盤21を電鋳処理し、ニッケルによるメッキ膜22を作製する(図4(b))。続いてこのメッキ膜22を剥離し、ロール版13の母材23に貼り付ける(図4(c))。ここで母材23は、周囲を研磨した銅による円筒形状のベース材に、ニッケル膜等の保護膜を成膜して形成される。この工程では、この母材23の側面を1周する長さでメッキ膜22が作製され、このメッキ膜22を母材23の側面に巻き付けた後、このメッキ膜22をレーザーにより母材23に溶接してロール版13が作製される。このようにして平盤による原盤21を電鋳処理して作製した電鋳膜を円筒形状の母材に配置してロール版を作製することにより、簡易な構成により短時間でロール版を作製することができ、このロール版を用いてパターン位相差フィルムを容易かつ大量に作製することができる。なお母材23へのメッキ膜22の配置にあっては、例えば熱硬化樹脂を用いた接着等、各種の手法を広く適用することができる。   FIG. 4 is a diagram for explaining the manufacturing process of the roll plate 13. In this step, the master 21 is first prepared. Here, the master disk 21 (FIG. 4A) is a flat plate having a concavo-convex shape corresponding to each area WA, WB of the roll plate 13 formed on the surface. In this step, the master 21 is electroformed to produce a nickel plated film 22 (FIG. 4B). Subsequently, the plating film 22 is peeled off and attached to the base material 23 of the roll plate 13 (FIG. 4C). Here, the base material 23 is formed by forming a protective film such as a nickel film on a cylindrical base material made of copper with the periphery polished. In this step, a plating film 22 is produced with a length that goes around the side surface of the base material 23. After the plating film 22 is wound around the side surface of the base material 23, the plating film 22 is applied to the base material 23 by a laser. The roll plate 13 is produced by welding. A roll plate is produced in a short time with a simple configuration by arranging the electroformed film produced by electroforming the master plate 21 using a flat plate on a cylindrical base material to produce a roll plate. It is possible to produce a pattern retardation film easily and in large quantities using this roll plate. Note that various methods such as adhesion using a thermosetting resin can be widely applied to the arrangement of the plating film 22 on the base material 23.

図5は、原盤21の作製工程を示す図である。この原盤作製工程は、表面が平滑に仕上げられた基板25の表面に、ラビング処理用の樹脂層26を作製する(図5(a))。なおこの基板25には、例えばガラス基板が適用され、樹脂層26には、ポリイミド樹脂が適用されるものの、必要に応じて各種の材料を適用することができる。   FIG. 5 is a diagram illustrating a manufacturing process of the master 21. In this master production process, a resin layer 26 for rubbing treatment is produced on the surface of the substrate 25 having a smooth surface (FIG. 5A). For example, a glass substrate is applied to the substrate 25, and a polyimide resin is applied to the resin layer 26. However, various materials can be applied as necessary.

続いてこの原盤作製工程は、樹脂層26の表面にレジスト層27を形成し(図5(b))、パターン位相差フィルム1に設ける右目用の領域A又は左目用の領域Bに対応する領域に遮光部が設けられているマスク28を用いてレジスト層27を露光処理する(図5(c))。なおマスクを用いた露光処理に代えて、レーザービームの走査により露光処理しても良い。   Subsequently, in this master production process, a resist layer 27 is formed on the surface of the resin layer 26 (FIG. 5B), and a region corresponding to the region A for the right eye or the region B for the left eye provided on the pattern retardation film 1. The resist layer 27 is exposed to light using a mask 28 provided with a light shielding portion (FIG. 5C). Note that exposure processing may be performed by scanning with a laser beam instead of exposure processing using a mask.

続いてこの原盤作製工程は、現像、洗浄の処理を実行し、パターン位相差フィルム1の左目用の領域B又は右目用の領域Aに対応する領域に、選択的にレジスト層27を取り残したラビング処理用のマスクを作製する(図5(d))。なおこのように未露光箇所を除去するポジ型レジストの使用に代えて、ネガ型レジストを使用しても良い。続いてこの工程は、図6に示すように、ラビング処理用のロールRによりラビング処理し、パターン位相差フィルム1の右目用の領域A又は左目用の領域Bに対応する領域に、対応する凹凸形状を作製する(図6(e))。また続いてレジスト層27を除去する(図6(f))。   Subsequently, in this master disc production process, development and cleaning processes are performed, and the rubbing process in which the resist layer 27 is selectively left in the region corresponding to the left-eye region B or the right-eye region A of the pattern retardation film 1. A processing mask is manufactured (FIG. 5D). Note that a negative resist may be used in place of the positive resist that removes the unexposed portion. Subsequently, as shown in FIG. 6, this process is performed by rubbing with a roll R for rubbing treatment, and corresponding irregularities corresponding to the region corresponding to the region A for the right eye or the region B for the left eye of the pattern retardation film 1. A shape is produced (FIG. 6E). Subsequently, the resist layer 27 is removed (FIG. 6F).

また続いて全面にレジスト層29を作製し(図6(g))、パターン位相差フィルム1の、右目用の領域A又は左目用の領域Bに対応する領域に遮光部が設けられているマスク30を用いてレジスト層29を露光処理する(図6(h))。なおこの場合も、マスクを用いた露光処理に代えて、レーザービームの走査により露光処理しても良い。   Subsequently, a resist layer 29 is formed on the entire surface (FIG. 6G), and a mask in which a light shielding portion is provided in a region corresponding to the region A for the right eye or the region B for the left eye of the pattern retardation film 1. 30 is used to expose the resist layer 29 (FIG. 6H). In this case, the exposure process may be performed by scanning with a laser beam instead of the exposure process using a mask.

続いてこの原盤作製工程は、現像、洗浄の処理を実行し、図7に示すように、パターン位相差フィルム1の右目用の領域A又は左目用の領域Bに対応する領域に、選択的にレジスト層29を取り残したラビング処理用のマスクを作製する(図7(i))。なおこの場合も、ポジ型レジストの使用に代えて、ネガ方レジストを使用しても良い。続いてこの工程は、ラビング処理用のロールRによりラビング処理し、パターン位相差フィルム1の左目用の領域B又は右目用の領域Aに対応する領域に、対応する凹凸形状を作製する(図7(j))。また続いてレジスト層29を除去し(図7(k))、原盤21を完成する。   Subsequently, in this master production process, development and cleaning processes are executed, and as shown in FIG. 7, the pattern retardation film 1 is selectively applied to a region corresponding to the region A for the right eye or the region B for the left eye. A rubbing mask that leaves the resist layer 29 is produced (FIG. 7I). In this case, a negative resist may be used instead of the positive resist. Subsequently, in this step, a rubbing process is performed with a roll R for rubbing process, and a corresponding uneven shape is produced in a region corresponding to the left eye region B or the right eye region A of the pattern retardation film 1 (FIG. 7). (J)). Subsequently, the resist layer 29 is removed (FIG. 7 (k)), and the master 21 is completed.

この実施形態では、原盤の凹凸形状を電鋳処理によりメッキ膜に転写し、このメッキ膜を使用してロール版を作製することにより、直接、母材に凹凸形状を形成してロール版を作製する場合に比して、格段的に簡易な構成によりロール版を作製し、このロール版を用いた連続の処理によりパターン位相差フィルムを作製することができる。従って従来に比して容易かつ大量にパターン位相差フィルムを作製することができる。   In this embodiment, the concavo-convex shape of the master is transferred to a plating film by electroforming, and a roll plate is produced by using the plating film, thereby forming a concavo-convex shape directly on the base material to produce a roll plate. Compared with the case where it does, a roll plate can be produced by a remarkably simple structure, and a pattern retardation film can be produced by the continuous process using this roll plate. Therefore, it is possible to produce a pattern retardation film easily and in a large amount as compared with the prior art.

〔第2実施形態〕
この実施形態では、図5について上述した原盤21に代えて、図8及び図9の作製工程により作製される原盤34を用いてロール版を作製する。この第2実施形態では、この原盤が異なる点を除いて、第1実施形態と同一に構成される。
[Second Embodiment]
In this embodiment, instead of the master 21 described above with reference to FIG. 5, a roll plate is produced using the master 34 produced by the production steps of FIGS. The second embodiment is configured in the same manner as the first embodiment except that the master is different.

ここでこの原盤作製工程は、表面が平滑に仕上げられた基板25の表面に、ラビング処理用の樹脂層26が作製される(図8(a))。なおこの基板25には、例えばガラス基板が適用され、樹脂層26には、ポリイミド樹脂が適用されるものの、必要に応じて各種の材料を適用することができる。続いてこの原盤作製工程は、ラビング処理用のロールRにより全面をラビング処理し、パターン位相差フィルム1の右目用の領域A又は左目用の領域Bに対応する凹凸形状を全面に作製する(図8(b))。   Here, in this master production process, a resin layer 26 for rubbing treatment is produced on the surface of the substrate 25 having a smooth surface (FIG. 8A). For example, a glass substrate is applied to the substrate 25, and a polyimide resin is applied to the resin layer 26. However, various materials can be applied as necessary. Subsequently, in this master production process, the entire surface is rubbed with a roll R for rubbing treatment, and a concavo-convex shape corresponding to the area A for the right eye or the area B for the left eye of the pattern retardation film 1 is produced on the entire surface (FIG. 8 (b)).

続いて全面にレジスト層27を作製した後(図8(c))、パターン位相差フィルム1の右目用の領域A又は左目用の領域Bに対応する領域に遮光部が設けられているマスク28を用いてレジスト層27を露光処理する(図8(d))。なおこの場合も、マスクを用いた露光処理に代えて、レーザービームの走査により露光処理しても良い。   Subsequently, after a resist layer 27 is formed on the entire surface (FIG. 8C), a mask 28 in which a light shielding portion is provided in a region corresponding to the right-eye region A or the left-eye region B of the pattern retardation film 1. Is used to expose the resist layer 27 (FIG. 8D). In this case, the exposure process may be performed by scanning with a laser beam instead of the exposure process using a mask.

続いてこの原盤作製工程は、現像、洗浄の処理を実行し、図9に示すように、パターン位相差フィルム1の右目用の領域A又は左目用の領域Bに対応する領域に、選択的にレジスト層27を取り残したラビング処理用のマスクを作製する(図9(e))。なおこの場合も、ポジ型レジストの使用に代えて、ネガ型レジストを使用しても良い。続いてこの工程は、ラビング処理用のロールRによりラビング処理し、パターン位相差フィルム1の左目用の領域B又は右目用の領域Aに対応する領域に、対応する凹凸形状を作製する(図9(f))。この場合、当該領域において、最初のラビング処理で作製された凹凸形状は、この2回目のラビングの処理により除去され、当該領域には、この2回目のラビング処理による凹凸形状のみが残ることになる。   Subsequently, in this master production process, development and cleaning processes are executed, and as shown in FIG. 9, a pattern phase difference film 1 is selectively applied to an area corresponding to the area A for the right eye or the area B for the left eye. A rubbing mask that leaves the resist layer 27 is produced (FIG. 9E). In this case, a negative resist may be used instead of the positive resist. Subsequently, in this step, a rubbing process is performed with a roll R for rubbing process, and a corresponding uneven shape is produced in a region corresponding to the left-eye region B or the right-eye region A of the pattern retardation film 1 (FIG. 9). (F)). In this case, the uneven shape produced by the first rubbing process in the region is removed by the second rubbing process, and only the uneven shape by the second rubbing process remains in the region. .

この工程は、続いてレジスト層27を除去し(図9(g))、これにより原盤34が完成する。   In this step, the resist layer 27 is subsequently removed (FIG. 9G), whereby the master 34 is completed.

この実施形態では、他の製造方法により原盤を作製する場合でも、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。またこの実施形態では、全面をラビング処理した後、マスクラビングにより局所的に凹凸形状を変更して原盤を作製することにより、第1実施形態に比して簡易な工程で原盤を作製することができる。従って全体として一段と簡易な構成によりパターン位相差フィルムを作製することができる。   In this embodiment, even when the master is produced by another manufacturing method, the same effect as that of the first embodiment can be obtained. Further, in this embodiment, after the entire surface is rubbed, the master can be manufactured in a simpler process compared to the first embodiment by locally changing the uneven shape by mask rubbing to prepare the master. it can. Therefore, a patterned retardation film can be produced with a simpler structure as a whole.

〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更し、さらに組み合わせることができる。
[Other Embodiments]
The specific configuration suitable for the implementation of the present invention has been described in detail above, but the present invention can be variously modified and further combined with the configuration of the above-described embodiment without departing from the spirit of the present invention. .

すなわち上述の実施形態では、ラビング処理により配向規制力を有する微細な凹凸形状を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、番手の細かなやすりによる研磨によりこの種の凹凸形状を作製する場合等、種々の手法を広く適用することができる。   That is, in the above-described embodiment, the case of producing a fine uneven shape having an alignment regulating force by rubbing treatment has been described, but the present invention is not limited to this, and this kind of uneven shape is obtained by polishing with a fine file. Various methods can be widely applied in the case of manufacturing.

また上述の実施形態では、平板による原盤に直接、電鋳処理してメッキ膜を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、上述した平板から凹凸形状を転写して原盤としても良い。この場合、原本の原盤から多数のコピーによる原盤を作製してロール版をそれぞれ作製することになり、一段とパターン位相差フィルムを大量生産することができる。また他のロール版を用いて基材に凹凸形状を作製したシート材を、原盤として使用することも可能であり、この場合は、簡易にロール版を複製することができる。   Further, in the above-described embodiment, the case where the electroplating process is performed directly on the master plate using the flat plate to produce the plating film is described. However, the present invention is not limited to this, and the master plate may be obtained by transferring the uneven shape from the flat plate described above. good. In this case, a master disk is produced from a large number of copies from the original master disk, and roll plates are respectively manufactured. Thus, the pattern retardation film can be further mass-produced. Moreover, it is also possible to use the sheet material which produced the uneven | corrugated shape on the base material using the other roll plate as a master, and in this case, the roll plate can be easily duplicated.

また上述の実施形態では、ロール版の外周に、リング状に、右目用の領域に係る凹凸形状の領域、左目用の領域に係る凹凸形状の領域を順次作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、これと直交する方向である軸方向に延長するように、各凹凸形状の領域を形成する場合にも広く適用することができる。   Further, in the above-described embodiment, the case has been described in which the uneven shape region related to the right eye region and the uneven shape region related to the left eye region are sequentially formed on the outer periphery of the roll plate in a ring shape. However, the present invention is not limited to this, and can be widely applied to the case where each uneven region is formed so as to extend in the axial direction which is a direction orthogonal to the above.

また上述の実施形態では、円筒形状の母材にメッキ膜を配置してロール版を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、円柱形状により母材を作製してロール版としてもよく、さらには平板の母材にメッキ膜を配置して平板の金型を作製しても良い。   In the above-described embodiment, the case where the roll plate is manufactured by arranging the plating film on the cylindrical base material has been described. However, the present invention is not limited thereto, and the base material is manufactured by a columnar shape as a roll plate. Alternatively, a flat plate mold may be manufactured by arranging a plating film on a flat plate base material.

また上述の実施形態では、液晶表示パネルの使用を前提としたパターン位相差フィルムを作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、有機ELパネル、プラズマディスプレイパネルの使用を前提に、偏光フィルタを一体に設ける場合にも広く適用することができる。   In the above-described embodiment, the case where a pattern retardation film is prepared on the premise of using a liquid crystal display panel is described, but the present invention is not limited to this, and on the premise of using an organic EL panel or a plasma display panel. The present invention can be widely applied also when the polarizing filter is provided integrally.

1 パターン位相差フィルム
2 基材
3 配向膜
4 位相差層
5 紫外線硬化樹脂
10 製造装置
11 供給リール
12、19 ダイ
13 ロール版
14 加圧ローラ
15、17 紫外線照射装置
16 剥離ローラ
18 巻き取りリール
21、34 原盤
22 メッキ膜
23 母材
25 基板
26 樹脂層
27、29 レジスト層
28、30 マスク
R ロール
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Pattern phase difference film 2 Base material 3 Orientation film 4 Phase difference layer 5 UV curable resin 10 Manufacturing apparatus 11 Supply reel 12, 19 Die 13 Roll plate 14 Pressure roller 15, 17 Ultraviolet irradiation apparatus 16 Peeling roller 18 Take-up reel 21 , 34 Master 22 Plated film 23 Base material 25 Substrate 26 Resin layer 27, 29 Resist layer 28, 30 Mask R Roll

Claims (3)

転写用金型に形成された凹凸形状を透明シート材に転写して配向膜を形成するパターン位相差フィルムの作製方法において、
前記パターン位相差フィルムは、
前記配向膜のパターニングにより、右目用の透過光に、対応する位相差を与える右目用の領域と、左目用の透過光に、対応する位相差を与える左目用の領域とが、それぞれ帯状に順次交互に形成され、
前記パターン位相差フィルムの作製方法は、
平板上に、前記パターン位相差フィルムの凹凸形状に対応する凹凸形状を作製して原盤を作製する原盤作製工程と、
前記原盤を電鋳処理して、前記原盤の表面に電鋳処理によるメッキ膜を作製する電鋳処理工程と、
前記原盤より前記メッキ膜を取り外し、前記転写用金型に係る母材の表面に配置して前記転写用金型を作製するメッキ膜処理工程と、
前記転写用金型を用いて、前記透明シート材を処理して前記パターン位相差フィルムを作製する透明シート材の処理工程とを備える
ことを特徴とするパターン位相差フィルムの作製方法。
In the method for producing a pattern phase difference film in which an uneven film formed on a transfer mold is transferred to a transparent sheet material to form an alignment film.
The pattern retardation film is
By patterning the alignment layer, a right-eye region that gives a corresponding phase difference to the transmitted light for the right eye and a left-eye region that gives a corresponding phase difference to the transmitted light for the left eye are sequentially formed in a band shape, respectively. Alternately formed
The method for producing the pattern retardation film is as follows.
On the flat plate, a master disc production step for producing a master plate by producing a concavo-convex shape corresponding to the concavo-convex shape of the pattern retardation film,
An electroforming process for electroplating the master and producing a plating film by electroforming on the surface of the master;
A plating film processing step of removing the plating film from the master and placing the transfer film on a surface of a base material related to the transfer mold to produce the transfer mold;
A process for producing a pattern phase difference film, comprising: using the transfer mold, and processing the transparent sheet material to produce the pattern phase difference film.
表面に形成された凹凸形状の透明シート材への転写によりパターン位相差フィルムの配向膜を作製するパターン位相差フィルム作製用の金型であって、
電鋳処理により原盤に形成された凹凸形状を転写したメッキ膜が、母材の表面に配置されて、前記パターン位相差フィルムの凹凸形状に対応する凹凸形状が形成された
ことを特徴とするパターン位相差フィルム作製用の金型。
A mold for producing a pattern retardation film for producing an alignment film of a pattern retardation film by transferring to a concavo-convex shaped transparent sheet material formed on the surface,
A plating film formed by transferring an uneven shape formed on the master by electroforming is disposed on the surface of the base material, and an uneven shape corresponding to the uneven shape of the pattern retardation film is formed. Mold for retardation film production.
表面に形成された凹凸形状の透明シート材への転写によりパターン位相差フィルムの配向膜を作製するパターン位相差フィルム作製用金型の作製方法であって、
前記パターン位相差フィルムは、
前記配向膜のパターニングにより、右目用の透過光に、対応する位相差を与える右目用の領域と、左目用の透過光に、対応する位相差を与える左目用の領域とが、それぞれ帯状に順次交互に形成され、
前記パターン位相差フィルム作製用金型の作製方法は、
平板上に、前記パターン位相差フィルムの凹凸形状に対応する凹凸形状を作製して原盤を作製する原盤作製工程と、
前記原盤を電鋳処理して、前記原盤の表面に電鋳処理によるメッキ膜を作製する電鋳処理工程と、
前記原盤より前記メッキ膜を取り外し、母材の表面に配置して前記パターン位相差フィルム作製用金型を作製するメッキ膜処理工程とを備える
ことを特徴とするパターン位相差フィルム作製用金型の作製方法。
A method for producing a mold for producing a pattern retardation film, which produces an alignment film of a pattern retardation film by transferring to a concavo-convex shaped transparent sheet material formed on the surface,
The pattern retardation film is
By patterning the alignment layer, a right-eye region that gives a corresponding phase difference to the transmitted light for the right eye and a left-eye region that gives a corresponding phase difference to the transmitted light for the left eye are sequentially formed in a band shape, respectively. Alternately formed
The method for producing the mold for producing the pattern retardation film is as follows.
On the flat plate, a master disc production step for producing a master plate by producing a concavo-convex shape corresponding to the concavo-convex shape of the pattern retardation film,
An electroforming process for electroplating the master and producing a plating film by electroforming on the surface of the master;
A plating film processing step of removing the plating film from the master and disposing the plating film on a surface of a base material to prepare the mold for preparing the pattern retardation film. Manufacturing method.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2014145908A (en) * 2013-01-29 2014-08-14 Dainippon Printing Co Ltd Manufacturing method of optical film

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