JP2012240000A - Method for manufacturing catalyst - Google Patents
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Abstract
【課題】金が表面に修飾された白金粒子の電位サイクルに対する耐久性を安定的に向上させることができる触媒の製造方法を提供する。
【解決手段】白金合金または白金からなる白金粒子を少なくとも含む触媒を製造する方法であって、前記白金粒子の表面に銅層を被覆する工程と、前記銅層が被覆された白金粒子を金イオン水溶液に接触させることにより、前記銅層の銅を金に置換する工程と、該金に置換された白金粒子の表面を、非酸化性ガス雰囲気下で加熱処理する工程と、を少なくとも含む。
【選択図】なしThe present invention provides a method for producing a catalyst capable of stably improving the durability against potential cycle of platinum particles whose surface is modified with gold.
A method for producing a catalyst including at least platinum particles made of platinum alloy or platinum, the step of coating a surface of the platinum particles with a copper layer, and the platinum particles coated with the copper layer being converted into gold ions. It includes at least a step of replacing copper in the copper layer with gold by contacting with an aqueous solution, and a step of heat-treating the surface of the platinum particles replaced with gold in a non-oxidizing gas atmosphere.
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Description
本発明は、白金粒子及び白金粒子を担持した導電性担体からなる触媒の製造方法に係り、白金粒子の表面に金を好適に修飾することができる触媒の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a catalyst comprising platinum particles and a conductive carrier carrying the platinum particles, and more particularly to a method for producing a catalyst capable of suitably modifying gold on the surface of the platinum particles.
従来から、めっき、物理蒸着(PVD)、化学蒸着(CVD)などの表面処理は、一般的に、粒子などの基材表面を異種材料で被覆することにより、基材の性質を維持したまま、基材表面の性質のみを改質するために行われることがある。一方、この種の表面処理は、被覆材となる高価な金属材料の使用量の低減、利用率の向上、あるいは、特性劣化の抑制のために利用される。 Conventionally, surface treatments such as plating, physical vapor deposition (PVD), and chemical vapor deposition (CVD) are generally performed by coating the surface of a substrate such as particles with a different material, while maintaining the properties of the substrate. This may be done to modify only the properties of the substrate surface. On the other hand, this type of surface treatment is used for reducing the amount of expensive metal material used as a coating material, improving the utilization rate, or suppressing characteristic deterioration.
例えば、燃料電池用電極には、粒状カーボンなどの導電性担体に白金粒子を担持させたものを触媒として用い、酸素センサなどには、白金粒子そのものが触媒として用いられる。このような白金粒子は、白金または白金合金からなる、数ナノメートルの粒子である。このような触媒は、白金粒子の表面およびその近傍が触媒として機能するため、高価な白金または白金合金の利用率の向上(使用量の低減)が望まれている。 For example, an electrode for a fuel cell is a catalyst in which platinum particles are supported on a conductive carrier such as granular carbon, and a platinum particle itself is used as a catalyst for an oxygen sensor or the like. Such platinum particles are particles of several nanometers made of platinum or a platinum alloy. In such a catalyst, the surface of the platinum particles and the vicinity thereof function as a catalyst. Therefore, improvement in the utilization rate (reduction in the amount of use) of expensive platinum or a platinum alloy is desired.
さらに、燃料電池使用環境下において、このような触媒を用いた場合には、白金粒子が酸化、溶出し、再析出により粗大化することがあり、電池性能が低下することが知られている。そのため、白金粒子の表面の一部に薄い金層を形成し(白金粒子の表面に金を修飾し)、白金粒子の酸化、溶出を抑制する技術が提案されている。 Furthermore, it is known that when such a catalyst is used in an environment where a fuel cell is used, platinum particles may be oxidized and eluted, and may be coarsened by reprecipitation, resulting in a decrease in cell performance. Therefore, a technique has been proposed in which a thin gold layer is formed on a part of the surface of the platinum particles (gold is modified on the surface of the platinum particles) to suppress the oxidation and elution of the platinum particles.
例えば、(1)白金粒子を含む触媒を電極(作用極)上に固定し、この電極を窒素雰囲気中で、硫酸銅水溶液に浸漬し、触媒に適切な還元電位を印加することにより、銅の単原子層を白金粒子の表面に析出させて銅被覆白金粒子を製造し、(2)銅被覆白金粒子を含む触媒を精製水で濯ぎ、溶液中に存在する銅イオンを除去し、(3)銅被覆白金粒子を含む触媒を、HAuCl4水溶液に浸漬することにより、単原子層の銅を金に置換する触媒の製造技術が提案されている(例えば特許文献1参照)。 For example, (1) a catalyst containing platinum particles is fixed on an electrode (working electrode), this electrode is immersed in a copper sulfate aqueous solution in a nitrogen atmosphere, and an appropriate reduction potential is applied to the catalyst, Depositing a monoatomic layer on the surface of platinum particles to produce copper-coated platinum particles; (2) rinsing a catalyst containing copper-coated platinum particles with purified water to remove copper ions present in the solution; (3) There has been proposed a technology for producing a catalyst in which a monoatomic layer of copper is replaced with gold by immersing a catalyst containing copper-coated platinum particles in an HAuCl 4 aqueous solution (see, for example, Patent Document 1).
このように、特許文献1に記載の製造方法によれば、アンダーポテンシャルディポジション(UPD)法を用いて、白金粒子表面を銅層(銅単原子層)で被覆し、この銅層を金でガルバニック置換することにより、白金粒子の表面に金が修飾された触媒を得ることができる。
Thus, according to the manufacturing method described in
ここで、特許文献1に示す触媒は、白金粒子の表面に金の修飾により、白金粒子の耐久性を向上させることを目的としている。しかしながら、発明者らの後述する実験によれば、この触媒に対して、サイクリックボルタンメトリー(CV)などの電位サイクルを付与した際には、金の修飾によらず、白金粒子が溶出することにより白金粒子の耐久性が低下することがあった。また、製作するロットごとに白金の粒子の耐久性にばらつきも大きかった。
Here, the catalyst shown in
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、金が表面に修飾された白金粒子の電位サイクルに対する耐久性を安定して向上させることができる触媒の製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of such problems, and the object of the present invention is to provide a catalyst that can stably improve the durability against potential cycles of platinum particles whose surfaces are modified with gold. It is in providing the manufacturing method of.
発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、白金粒子に付着(修飾)する金と、白金との馴染み性が充分でなく、金が、白金粒子の電気化学的に弱い部分(たとえば、白金粒子の表面の凸部または角部などの反応性の高く白金粒子の溶出しやすい部分)を覆っていないことが原因であると考えた。そこで、発明者らは、金が修飾された白金に熱エネルギを付与することにより、一旦付着した金の金原子を、この白金粒子の溶出しやすい部分に拡散(移動)することができるとの新たな知見を得た。 As a result of intensive investigations, the inventors have found that gold adhering (modifying) to platinum particles is not sufficiently compatible with platinum, and gold is an electrochemically weak portion of platinum particles (for example, platinum particles). It was thought that this was caused by not covering the highly-reactive portions of the platinum particles, such as convex portions or corner portions, on the surface of the surface. Therefore, the inventors can diffuse (move) gold gold atoms once attached to the platinum particles that are easily eluted by applying thermal energy to platinum modified with gold. I got new knowledge.
本発明は、発明者らのこの新たな知見に基づくものであり、本発明に係る触媒の製造方法は、白金合金または白金からなる白金粒子を少なくとも含む触媒を製造する方法であって、前記白金粒子の表面に銅層を被覆する工程と、前記銅層が被覆された白金粒子を金イオン水溶液に接触させることにより、前記銅層の銅を金に置換する工程と、該金に置換された白金粒子の表面を、非酸化性ガス雰囲気下で加熱処理する工程と、を少なくとも含むことを特徴とする。 The present invention is based on the inventors' new knowledge, and a method for producing a catalyst according to the present invention is a method for producing a catalyst containing at least platinum particles made of platinum alloy or platinum, wherein the platinum A step of coating a copper layer on the surface of the particles, a step of replacing the copper of the copper layer with gold by bringing the platinum particles coated with the copper layer into contact with a gold ion aqueous solution, and the gold was replaced with gold And a step of heat-treating the surface of the platinum particles in a non-oxidizing gas atmosphere.
本発明によれば、金に置換された白金粒子の表面を、非酸化性ガス雰囲気下で加熱処理することにより、白金粒子の付着した金の金原子を、白金粒子表面の白金粒子の溶出しやすい部分に拡散(移動)することができると考えられる。これにより、金が表面に修飾された白金粒子の電位サイクルに対する耐久性を安定的に向上させることができる。 According to the present invention, the surface of the platinum particles substituted with gold is heat-treated in a non-oxidizing gas atmosphere, so that gold gold atoms to which the platinum particles adhere are eluted from the platinum particles on the surface of the platinum particles. It is thought that it can diffuse (move) to an easy part. Thereby, the durability with respect to the potential cycle of the platinum particles whose surface is modified with gold can be stably improved.
ここで、本発明でいう非酸化性ガスとは、加熱処理時に、金および白金に対して酸化しないガスであり、水素ガスなどの還元性ガス、または窒素ガス、アルゴンガスなどの不活性ガスを挙げることができる。 Here, the non-oxidizing gas referred to in the present invention is a gas that does not oxidize with respect to gold and platinum during heat treatment, and a reducing gas such as hydrogen gas or an inert gas such as nitrogen gas or argon gas. Can be mentioned.
また、より好ましい態様としては、前記加熱処理工程において、前記白金粒子を、200℃〜400℃の加熱温度範囲内で加熱処理する。本発明によれば、この加熱温度範囲内で、加熱処理を行うことにより、白金粒子表面上の白金粒子の溶出しやすい部分(例えばエッジ部分)に、金原子を好適に拡散させ、この部分を金で被覆することができる。 Moreover, as a more preferable aspect, in the heat treatment step, the platinum particles are heat-treated within a heating temperature range of 200 ° C to 400 ° C. According to the present invention, by performing heat treatment within this heating temperature range, gold atoms are preferably diffused into a portion (for example, an edge portion) where platinum particles are easily eluted on the surface of the platinum particles. Can be coated with gold.
すなわち、加熱温度が200℃未満である場合には、金原子が充分に拡散しないことがあり、加熱温度が400℃を超えた場合には、金(金粒子)が溶融することにより、金と白金の合金化が起こるおそれがある。 That is, when the heating temperature is less than 200 ° C., gold atoms may not diffuse sufficiently, and when the heating temperature exceeds 400 ° C., gold (gold particles) melts, Platinum alloying may occur.
さらに、より好ましい白金粒子の加熱温度としては、300℃以下である。加熱温度が300℃を超えた場合には、白金粒子の表面に付着(修飾)した金粒子の粗大化がはじまるおそれがあり、触媒の耐久性が低下するおそれがある。 Furthermore, the heating temperature of the platinum particles is more preferably 300 ° C. or lower. When the heating temperature exceeds 300 ° C., the gold particles adhering (modified) to the surface of the platinum particles may start to coarsen, and the durability of the catalyst may be reduced.
前記銅を金に置換する工程において、前記金イオン水溶液として、AuCl4 −を含む塩など、銅を金に置換することができる水溶液であれば、その水溶液の種類は特に限定されるものではない。しかしながら、より好ましい態様としては、前記銅を金に置換する工程において、前記金イオン水溶液として、AuBr4 −またはAuI4 −を含む塩と、ハロゲン化水素と、を添加した水溶液を用いる。 In the step of replacing copper with gold, the type of aqueous solution is not particularly limited as long as the gold ion aqueous solution is an aqueous solution that can replace copper with gold, such as a salt containing AuCl 4 −. . However, as a more preferable aspect, in the step of replacing copper with gold, an aqueous solution in which a salt containing AuBr 4 — or AuI 4 — and a hydrogen halide are added as the aqueous solution of gold ions is used.
この態様によれば、銅層が被覆された白金粒子を、AuBr4 −またはAuI4 −を含む塩と、ハロゲン化水素と、を添加した水溶液に接触させることにより、銅層の銅を金に置換する。この際、従来では、AuCl4 −を含む塩(例えば塩化金酸(HAuCl4))を添加した水溶液を用いていたところ、これに比べて、Cu−Au間の電位ギャップが小さいAuBr4 −またはAuI4 −を含む塩が添加された水溶液を用いることにより、銅を金に置換する反応を穏やかにし、これにより、金の粗大粒子の生成を抑制することができる。この結果、その後の白金粒子の加熱処理による金原子が、白金粒子の表面において拡散しやすくなる。 According to this aspect, the platinum particles coated with the copper layer are brought into contact with an aqueous solution to which a salt containing AuBr 4 — or AuI 4 — and a hydrogen halide are added, whereby the copper in the copper layer is converted into gold. Replace. At this time, conventionally, an aqueous solution to which a salt containing AuCl 4 − (for example, chloroauric acid (HAuCl 4 )) is added is used. Compared to this, an AuBr 4 − or a potential gap between Cu and Au is small. By using an aqueous solution to which a salt containing AuI 4 − is added, the reaction of substituting copper with gold can be moderated, thereby suppressing the formation of coarse gold particles. As a result, the gold atoms by the subsequent heat treatment of the platinum particles are likely to diffuse on the surface of the platinum particles.
さらに、この水溶液にハロゲン化水素が添加されているので、AuイオンはAuBr4 −またはAuI4 −の金錯イオンの状態で安定化する。これは、金錯イオンに含まれる同種のアニオン(Cl−、Br−、またはI−など)を添加することになるからである。このような結果、Cu−Au間の電位ギャップが小さいAuBr4 −またはAuI4 −の金錯イオンの状態が保持されるので、銅から金への置換反応をより穏やかにすることができる。 Furthermore, since hydrogen halide is added to this aqueous solution, Au ions are stabilized in the state of AuBr 4 − or AuI 4 − gold complex ions. This is because the same kind of anion (Cl − , Br − , I − or the like) contained in the gold complex ion is added. As a result, the state of the AuBr 4 − or AuI 4 − gold complex ion having a small potential gap between Cu and Au is maintained, so that the substitution reaction from copper to gold can be made more gentle.
さらに、より好ましい態様としては、前記ハロゲン化水素に、HBrまたはHIを用いる。この態様によれば、HBrまたはHIを用いることにより、HClに比べて上述したAuBr4 −またはAuI4 −の金錯イオンの状態で安定化させることができる。 Furthermore, as a more preferable embodiment, HBr or HI is used for the hydrogen halide. According to this aspect, by using HBr or HI, it can be stabilized in the state of the AuBr 4 − or AuI 4 − gold complex ion described above compared with HCl.
本発明によれば、金が表面に修飾された白金粒子の電位サイクルに対する耐久性を安定的に向上させることができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, durability with respect to the electrical potential cycle of the platinum particle by which the surface was modified | denatured with gold can be improved stably.
以下の本実施形態に係る触媒の製造方法を実施形態について説明する。
本発明に係る触媒の製造方法は、表面に金を修飾した白金合金または白金からなる白金粒子を含む触媒の製造方法であり、以下に示す銅層被覆工程、金置換工程、および加熱処理工程を経て、触媒を製造することができる。
Embodiments of the catalyst production method according to the present embodiment will be described below.
The method for producing a catalyst according to the present invention is a method for producing a catalyst containing platinum particles whose surface is modified with a platinum alloy or platinum, and includes the following copper layer coating step, gold replacement step, and heat treatment step. After that, the catalyst can be manufactured.
1.銅層被覆工程
まず白金粒子、または白金粒子を担持した導電性担体を準備する。白金粒子は、白金合金または白金からなり、白金合金として、例えば、PtFe合金、PtMo合金、PtCu合金、PtRu合金、PtSn合金、PtW合金、PtCo合金、PtNi合金、PtIr合金、PtAu合金などを挙げることができ、触媒として作用することができる白金合金であれば特に限定されるものではない。また、白金粒子の大きさは特に限定されるものではなく、例えば燃料電池用の電極触媒に用いる場合には、2〜10nmが好ましい。
1. Copper layer coating step First, platinum particles or a conductive carrier carrying platinum particles is prepared. The platinum particles are made of a platinum alloy or platinum, and examples of the platinum alloy include a PtFe alloy, a PtMo alloy, a PtCu alloy, a PtRu alloy, a PtSn alloy, a PtW alloy, a PtCo alloy, a PtNi alloy, a PtIr alloy, and a PtAu alloy. The platinum alloy is not particularly limited as long as it is a platinum alloy that can act as a catalyst. Further, the size of the platinum particles is not particularly limited. For example, when used for an electrode catalyst for a fuel cell, 2 to 10 nm is preferable.
また、導電性担体の材料として、カーボン、チタン酸化物(TiO2,Ti4O7など)、モリブデン酸化物、またはタンタル酸化物等を挙げることができ、その形態は、粉末状、板状、棒状、または網状のいずれの形態であってもよい。 Examples of the conductive carrier material include carbon, titanium oxide (TiO 2 , Ti 4 O 7 and the like), molybdenum oxide, tantalum oxide, and the like. It may be in the form of a rod or net.
このような白金粒子(または導電性担体に担持された白金粒子)の表面に、UPD法により銅単原子層(銅層)を被覆する。より具体的には、被覆すべき銅イオンを含む溶液中に、白金粒子(または導電性担体)が固定(接着)された作用極(WE)、この作用極に対する対極(CE)及び参照極(RE)を浸漬する。次に、外部電源を用いて参照極に対して作用極を所定の電位に保持することにより、白金粒子の表面に銅層を析出させる。このようなUPD法は、上述した特許文献1に記載の如く、一般的に知られた方法である。
A copper monoatomic layer (copper layer) is coated on the surface of such platinum particles (or platinum particles supported on a conductive carrier) by the UPD method. More specifically, a working electrode (WE) in which platinum particles (or a conductive support) are fixed (adhered) in a solution containing copper ions to be coated, a counter electrode (CE) to the working electrode (CE), and a reference electrode ( D) RE). Next, a copper layer is deposited on the surface of the platinum particles by holding the working electrode at a predetermined potential with respect to the reference electrode using an external power source. Such UPD method is a generally known method as described in
別の方法としては、不活性ガス雰囲気下で、銅電極が浸漬された銅イオンを含む酸水溶液に、白金粒子またはこれを担持した導電性担体を投入して酸水溶液を攪拌し、白金粒子またはこれを担持した導電性担体を銅電極に接触させることにより、白金粒子の表面に銅単原子層(銅層)を析出してもよい。銅イオンを含む酸水溶液としては、硫酸銅(CuSO4)、塩化銅(CuCl2)、酢酸銅(Cu2(CH3COO)4)、硝酸銅(Cu(NO3)2)を挙げることができる。 As another method, in an inert gas atmosphere, platinum particles or a conductive support carrying the copper ions are poured into an acid aqueous solution containing copper ions in which a copper electrode is immersed, and the acid aqueous solution is stirred to obtain platinum particles or A copper monoatomic layer (copper layer) may be deposited on the surface of the platinum particles by bringing a conductive carrier carrying this into contact with a copper electrode. Examples of the acid aqueous solution containing copper ions include copper sulfate (CuSO 4 ), copper chloride (CuCl 2 ), copper acetate (Cu 2 (CH 3 COO) 4 ), and copper nitrate (Cu (NO 3 ) 2 ). it can.
この態様における銅析出のメカニズムは、以下のとおりである。上述した酸水溶液中に銅または銅合金からなる銅電極を浸漬すると、銅電極は銅の標準電極電位になる。そして、白金粒子を投入した後、酸水溶液を攪拌すると、この電位状態の銅電極に接触した白金粒子またはこれを担持した導電性担体の電位は、銅の標準電極電位と等しくなる。ここで、白金粒子は、銅イオンを含む酸水溶液中に存在するので、銅電極が電源として作用し、接触後、ほぼ瞬時に白金粒子の表面に銅イオンが析出する(Pt+Cu2++2e-→Cu−Pt)と共に、銅電極の銅がこれに応じて溶出する(Cu→Cu2++2e-)。この方法によれば、外部電源を用いることなく、白金粒子の表面に銅単原子層(銅層)を被覆することができる。 The mechanism of copper deposition in this embodiment is as follows. When a copper electrode made of copper or a copper alloy is immersed in the acid aqueous solution described above, the copper electrode becomes a standard electrode potential of copper. When the aqueous acid solution is stirred after adding the platinum particles, the potential of the platinum particles in contact with the copper electrode in this potential state or the conductive carrier carrying the same becomes equal to the standard electrode potential of copper. Here, since the platinum particles are present in an acid aqueous solution containing copper ions, the copper electrode acts as a power source, and after contact, the copper ions are deposited on the surface of the platinum particles almost instantaneously (Pt + Cu 2+ + 2e − → Along with (Cu—Pt), copper of the copper electrode elutes accordingly (Cu → Cu 2+ + 2e − ). According to this method, the surface of the platinum particles can be coated with the copper monoatomic layer (copper layer) without using an external power source.
2.金置換工程
金置換工程では、銅層が被覆された白金粒子を金イオン水溶液に接触させることにより、前記銅層の銅を金に置換する。ここで、金イオン水溶液として、AuCl4 −を含む塩など、銅を金に置換することができる水溶液を用いてもよく、この水溶液に、HClをさらに添加してもよい。しかしながら、本実施形態では、銅層が被覆された白金粒子を、AuBr4 −またはAuI4 −を含む塩と、ハロゲン化水素と、を添加した水溶液に接触させることにより、前記銅層の銅を金に置換する。これにより、図1(a)に示すように、表面に金(粒子)12を修飾(付着)した白金粒子11が、導電性担体10に担持された触媒を得ることができる。
2. Gold replacement step In the gold replacement step, the copper in the copper layer is replaced with gold by bringing platinum particles coated with the copper layer into contact with a gold ion aqueous solution. Here, as the gold ion aqueous solution, an aqueous solution capable of replacing copper with gold, such as a salt containing AuCl 4 — , may be used, and HCl may be further added to this aqueous solution. However, in this embodiment, the copper particles covered with the copper layer are brought into contact with an aqueous solution containing a salt containing AuBr 4 — or AuI 4 — and a hydrogen halide, whereby the copper in the copper layer is brought into contact. Replace with gold. Thereby, as shown in FIG. 1A, a catalyst in which
ここで、AuBr4 −またはAuI4 −を含む塩としては、HAuBr4、NaAuBr4、KAuBr4、HAuI4、NaAuI4、KAuI4などを挙げることができ、溶液中において、AuBr4 −またはAuI4 −の金錯イオンとして電離することができる塩であれば特に、これらの塩に限定されるものではない。また、この水溶液に、過塩素酸(HClO4)等の酸をさらに含有してもよい。 Here, examples of the salt containing AuBr 4 — or AuI 4 — include HAuBr 4 , NaAuBr 4 , KAuBr 4 , HAuI 4 , NaAuI 4 , KAuI 4 and the like. In the solution, AuBr 4 — or AuI 4 — The salt is not particularly limited as long as it can be ionized as a gold complex ion. The aqueous solution may further contain an acid such as perchloric acid (HClO 4 ).
ここで、AuCl4 −、AuBr4 −、AuI4 −のそれぞれの標準電極電位は、
AuCl4 −+3e−=Au+4Cl− +1.00V
AuBr4 −+3e−=Au+4Br− +0.87V
AuI4 −+3e−=Au+4I− +0.56V
である。
Here, each standard electrode potential of AuCl 4 − , AuBr 4 − , and AuI 4 − is
AuCl 4 − + 3e − = Au + 4Cl − +1.00 V
AuBr 4 − + 3e − = Au + 4Br − +0.87 V
AuI 4 − + 3e − = Au + 4I − + 0.56V
It is.
従って、ハロゲン元素の原子番号が大きくなるに従って標準電極電位が小さくなる。従来では、AuCl4 −を含む塩を用いて銅から金への置換を行っていた。しかしながら、AuCl4 −を含む塩を用いた場合に比べて、銅から金への置換反応時におけるCu−Au間の電位ギャップをより小さくするには、AuBr4 −またはAuI4 −を含む塩を用いればよいことがわかる。 Therefore, the standard electrode potential decreases as the atomic number of the halogen element increases. Conventionally, substitution from copper to gold was performed using a salt containing AuCl 4 − . However, in order to make the potential gap between Cu and Au during the substitution reaction from copper to gold smaller than when using a salt containing AuCl 4 − , a salt containing AuBr 4 − or AuI 4 − is used. It can be seen that it should be used.
このようにして、従来は、AuCl4 −を含む塩(例えば塩化金酸(HAuCl4))を添加した水溶液を用いていたところ、これに比べて、Cu−Au間の電位ギャップが小さいAuBr4 −またはAuI4 −を含む塩が添加された水溶液を用いることにより、銅を金に置換する反応を穏やかにし、これにより、金の粗大粒子の生成を抑制することができる。これにより、電位サイクルに対する白金粒子の耐久性を高めることができる。 Thus, conventionally, an aqueous solution to which a salt containing AuCl 4 − (for example, chloroauric acid (HAuCl 4 )) was added was used. Compared with this, AuBr 4 has a smaller potential gap between Cu and Au. By using an aqueous solution to which a salt containing — or AuI 4 — is added, the reaction of substituting copper with gold can be moderated, thereby suppressing the formation of coarse gold particles. Thereby, the durability of the platinum particles against the potential cycle can be increased.
さらに、AuBr4 −およびAuI4 −は水溶液中では、Au3+に変化するおそれがある。ここでAu3+の標準電極電位は、
Au3++3e=Au +1.49V
となり、Au3+の標準電極電位は、AuBr4 −およびAuI4 −の金錯イオンの標準電極電位よりも大きい。従って、銅を金に置換する際には、水溶液でAuBr4 −またはAuI4 −の金錯イオンの状態で安定して存在することが望ましい。
Further, AuBr 4 − and AuI 4 − may be changed to Au 3+ in an aqueous solution. Here, the standard electrode potential of Au 3+ is
Au 3+ + 3e = Au + 1.49V
Thus, the standard electrode potential of Au 3+ is larger than the standard electrode potential of AuBr 4 − and AuI 4 − gold complex ions. Therefore, when replacing copper with gold, it is desirable that the aqueous solution be stably present in a gold complex ion state of AuBr 4 − or AuI 4 − .
そこで、本実施形態では、AuBr4 −またはAuI4 −を含む塩の水溶液に、さらにハロゲン化水素を添加している。上述した水溶液にハロゲン化水素をさらに添加するので、AuイオンはAuBr4 −またはAuI4 −の金錯イオンの状態で安定化する。これは、金錯イオンに含まれる同種のアニオンを添加することになるからである。 Therefore, in the present embodiment, hydrogen halide is further added to an aqueous solution of a salt containing AuBr 4 — or AuI 4 — . Since hydrogen halide is further added to the aqueous solution described above, Au ions are stabilized in the state of AuBr 4 − or AuI 4 − gold complex ions. This is because the same kind of anion contained in the gold complex ion is added.
このような結果、Cu−Au間の電位ギャップが小さいAuBr4 −またはAuI4 −の状態が保持されるので、銅から金への置換反応をより穏やかにすることができる。特に、ハロゲン化水素に、HBrまたはHIを用いることにより、HClに比べて上述したAuBr4 −またはAuI4 −の錯イオンの状態で安定化させることができる。 As a result, since the state of AuBr 4 − or AuI 4 − with a small potential gap between Cu and Au is maintained, the substitution reaction from copper to gold can be made more gentle. In particular, by using HBr or HI as the hydrogen halide, it can be stabilized in the state of complex ions of AuBr 4 − or AuI 4 − described above compared with HCl.
また、より好ましくは、ハロゲン化水素(HBrまたはHI)が、水溶液に200μM以上となるように添加されていることが好ましい。この範囲の濃度のハロゲン化水素が添加されることにより、AuBr4 −またはAuI4 −の金錯イオンの状態を安定化することができる。一方、ハロゲン化水素(HBrまたはHI)は、前記水溶液に1000μM以下となるように添加されていることがより好ましい。ハロゲン化水素の濃度がこの範囲を超えたときは、白金が一部被毒するおそれがある。 More preferably, it is preferable that hydrogen halide (HBr or HI) is added to the aqueous solution so as to be 200 μM or more. By adding a hydrogen halide having a concentration in this range, the state of AuBr 4 − or AuI 4 − gold complex ions can be stabilized. On the other hand, hydrogen halide (HBr or HI) is more preferably added to the aqueous solution so as to be 1000 μM or less. When the concentration of hydrogen halide exceeds this range, platinum may be partially poisoned.
3.加熱処理工程
加熱処理工程では、金置換工程後の触媒を加熱炉内に投入し、金に置換された白金粒子の表面を、非酸化性ガス雰囲気下で加熱処理する。具体的には、加熱炉内において、水素ガスなどの還元性ガス、または窒素ガス、アルゴンガスなどの不活性ガスを導入し、白金粒子を、200℃〜400℃の加熱温度範囲内、より好ましくは、200℃〜300℃の加熱温度範囲内で加熱処理する。なお、非酸化性ガスは、加熱処理時において、金および白金に対して酸化しないガスであれば上述したガスに限定されるものではない。
3. Heat treatment step In the heat treatment step, the catalyst after the gold replacement step is put into a heating furnace, and the surface of the platinum particles replaced with gold is heat-treated in a non-oxidizing gas atmosphere. Specifically, a reducing gas such as hydrogen gas or an inert gas such as nitrogen gas or argon gas is introduced in the heating furnace, and the platinum particles are more preferably within a heating temperature range of 200 ° C. to 400 ° C. Is heat-treated within a heating temperature range of 200 ° C to 300 ° C. The non-oxidizing gas is not limited to the above-described gas as long as it is a gas that does not oxidize gold and platinum during the heat treatment.
ここで、図1(b)に示すように、金置換工程で、例えば、HAuCl4、HAuBr4などが添加された金イオン水溶液を用いた場合、ハロゲン元素(例えばCl原子やBr原子(図中ではCl原子))が、白金粒子の不安定な部分に付着すると考えられる。 Here, as shown in FIG. 1B, when a gold ion aqueous solution to which, for example, HAuCl 4 , HAuBr 4 or the like is added is used in the gold substitution step, a halogen element (for example, Cl atom or Br atom (in the drawing) In this case, it is considered that Cl atoms)) adhere to unstable parts of the platinum particles.
しかしながら、本実施形態では、上述した加熱温度範囲内で加熱処理を行うことにより、ハロゲン元素を白金粒子の不安定な部分から脱離させ、白金粒子の付着した金の金原子を、この不安定部分(例えばエッジ部分)に拡散(移動)させることができると考えられる。これにより、白金粒子の不安定な部分に金が修飾され、白金粒子の電位サイクルに対する耐久性を安定的に向上させることができる。 However, in this embodiment, by performing the heat treatment within the above-described heating temperature range, the halogen element is desorbed from the unstable portion of the platinum particle, and the gold gold atom to which the platinum particle is attached is removed from the unstable state. It is thought that it can be diffused (moved) to a part (for example, an edge part). Thereby, gold | metal | money is modified to the unstable part of platinum particle, and durability with respect to the electrical potential cycle of platinum particle can be improved stably.
なお、加熱温度が200℃未満である場合には、金原子の拡散が充分出ないことがあり、加熱温度が400℃を超えた場合には、金(金粒子)が溶融することにより、金と白金の合金化が起こるおそれがある。上述した温度範囲における加熱処理時間は、1〜4時間であることが好ましい。加熱時間が1時間未満の場合には、金原子の拡散が発現し難く、4時間を越えた場合には、金が粗大化するおそれがある。 When the heating temperature is less than 200 ° C., gold atoms may not be sufficiently diffused. When the heating temperature exceeds 400 ° C., gold (gold particles) melts, And alloying of platinum may occur. The heat treatment time in the above temperature range is preferably 1 to 4 hours. When the heating time is less than 1 hour, the diffusion of gold atoms hardly occurs, and when it exceeds 4 hours, the gold may be coarsened.
以下に本発明を実施例により説明する。
(実施例1)
まず、銅被覆工程において、白金粒子の表面にUPD法(上述した外部電源を用いない方法)により銅単原子層(銅層)を被覆した。具体的には、銅材を浸漬した硫酸銅水溶液(50mM CuSO4/0.1M H2SO4)、25mlに、白金粒子を30質量%担持した白金担持カーボン(30mass%Pt/C)1gに対して硫酸酸溶液200mlとなるように、白金担持カーボンを投入し、攪拌した。これにより、白金粒子の表面に銅層が被覆された白金担持カーボンを含む懸濁液を得た。
Hereinafter, the present invention will be described by way of examples.
Example 1
First, in the copper coating step, the surface of the platinum particles was coated with a copper monoatomic layer (copper layer) by the UPD method (method not using the above-described external power source). Specifically, to 1 g of platinum-supporting carbon (30 mass% Pt / C) supporting 30 mass% of platinum particles in 25 ml of an aqueous copper sulfate solution (50 mM CuSO 4 /0.1 MH 2 SO 4 ) in which a copper material is immersed. On the other hand, platinum-supporting carbon was added and stirred so that the sulfuric acid solution was 200 ml. As a result, a suspension containing platinum-supported carbon having a copper layer coated on the surface of platinum particles was obtained.
次に、金置換工程において、50μMのHAuCl4、0.1MのHClO4を含む水溶液を準備し、銅層が被覆された白金担持カーボンを含む懸濁液を加え、30分攪拌した。これにより、銅層の銅を金に置換した。攪拌後の懸濁液を濾過後、乾燥することにより、金が修飾された白金担持カーボンを得た。 Next, in the gold replacement step, an aqueous solution containing 50 μM HAuCl 4 and 0.1 M HClO 4 was prepared, and a suspension containing platinum-supported carbon coated with a copper layer was added and stirred for 30 minutes. Thereby, the copper of the copper layer was replaced with gold. The suspension after stirring was filtered and dried to obtain platinum-supported carbon modified with gold.
次に、加熱処理工程において、白金担持カーボンをアルゴンガス雰囲気下で200℃まで1時間昇温し、この温度を2時間保持し、その後放冷した。これにより、加熱処理を行った金修飾白金担持カーボンを得た。 Next, in the heat treatment step, the platinum-supporting carbon was heated to 200 ° C. for 1 hour under an argon gas atmosphere, kept at this temperature for 2 hours, and then allowed to cool. Thereby, gold-modified platinum-supported carbon subjected to heat treatment was obtained.
(比較例1)
実施例1で準備した銅層を被覆前の白金担持カーボンを準備し、白金粒子に金を修飾することなく、実施例1と同じ加熱条件で加熱処理を行った。すなわち、比較例1が、実施例1と相違する点は、白金粒子に金を修飾していない点である。
(Comparative Example 1)
The platinum-supported carbon before coating the copper layer prepared in Example 1 was prepared, and heat treatment was performed under the same heating conditions as in Example 1 without modifying the platinum particles with gold. That is, the comparative example 1 is different from the example 1 in that the platinum particles are not modified with gold.
(比較例2)
実施例1と同じように、金修飾白金担持カーボンを作製した。実施例1と相違する点は、加熱処理工程を行っていない点である。すなわち、比較例2は、加熱処理を行っていない、金修飾白金担持カーボンであり、実施例1の加熱処理前の白金担持カーボンに相当する。
(Comparative Example 2)
In the same manner as in Example 1, gold-modified platinum-supported carbon was produced. The difference from Example 1 is that the heat treatment step is not performed. That is, Comparative Example 2 is gold-modified platinum-supported carbon that has not been subjected to heat treatment, and corresponds to platinum-supported carbon before heat treatment in Example 1.
(比較例3)
実施例1と同様の銅層を被覆する前の白金担持カーボンを準備し、これを比較例3の白金担持カーボンとした。すなわち、比較例3は、加熱処理を行っていない、かつ白金粒子に金を修飾していない白金担持カーボンであり、比較例1の加熱処理前の白金担持カーボンに相当する。
(Comparative Example 3)
A platinum-supporting carbon before coating the same copper layer as in Example 1 was prepared, and this was used as the platinum-supporting carbon of Comparative Example 3. That is, Comparative Example 3 is a platinum-supported carbon that is not subjected to heat treatment and in which the platinum particles are not modified with gold, and corresponds to the platinum-supported carbon before heat treatment of Comparative Example 1.
<白金粒子の粒径の測定>
XRDにより、実施例1および比較例1〜3の白金担持カーボンに担持された白金粒子の白金粒径を測定した。この結果を、表1に示す。
<Measurement of particle size of platinum particles>
The platinum particle size of the platinum particles supported on the platinum-supported carbon of Example 1 and Comparative Examples 1 to 3 was measured by XRD. The results are shown in Table 1.
<電位サイクル試験>
実施例1、2および比較例1〜3の白金担持カーボンに対して、電位サイクル試験を行った。具体的には、まず、白金担持カーボンをグラッシーカーボン電極上に塗布した。次に、0.1Nの過塩素酸溶液を窒素ガスでバブリングすることにより、溶存酸素を除去し、この溶液中に、上記電極を浸漬した。
<Potential cycle test>
A potential cycle test was performed on the platinum-supported carbons of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 3. Specifically, first, platinum-supported carbon was applied onto a glassy carbon electrode. Next, 0.1 N perchloric acid solution was bubbled with nitrogen gas to remove dissolved oxygen, and the electrode was immersed in this solution.
次に、ポテンショスタットを用いて、サイクリックボルタンメトリーにより電極の電位を、掃引速度200mV/s、400〜1100mVの範囲で、5000回繰り返し変化させ、電極の電位に対する電流を測定した。このときに得られた、1サイクル目から1000サイクル毎の電圧値と電流値との波形(サイクリックボルタモグラム)を用いて、白金に吸着した水素の量(水素吸着量)を算出し、この水素吸着量から白金粒子の表面面積を算出した。電位サイクル試験前の初期の白金粒子の表面積に対する、電位サイクルごとの白金粒子の表面積の割合(白金表面積維持率)を算出した。この結果を図2(a),(b)に示す。図2(a),(b)は、電位サイクル数毎の白金表面積維持率を測定した結果である。 Next, using a potentiostat, the potential of the electrode was repeatedly changed 5000 times by cyclic voltammetry at a sweep rate of 200 mV / s and in the range of 400 to 1100 mV, and the current with respect to the potential of the electrode was measured. The amount of hydrogen adsorbed on platinum (hydrogen adsorption amount) is calculated using the waveform (cyclic voltammogram) of the voltage value and current value every 1000 cycles from the first cycle obtained at this time. The surface area of the platinum particles was calculated from the amount of adsorption. The ratio of the surface area of the platinum particles for each potential cycle (platinum surface area maintenance ratio) relative to the surface area of the initial platinum particles before the potential cycle test was calculated. The results are shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b). 2A and 2B show the results of measuring the platinum surface area maintenance rate for each number of potential cycles.
(結果1および考察)
表1に示すように、実施例1および比較例1の白金粒子の粒径が、比較例2および3のものに比べて大きかった。実施例1および比較例1の白金粒子は、加熱処理により、粒径が大きくなったと考えられる。
(
As shown in Table 1, the particle diameters of the platinum particles of Example 1 and Comparative Example 1 were larger than those of Comparative Examples 2 and 3. The platinum particles of Example 1 and Comparative Example 1 are considered to have increased in particle size due to the heat treatment.
また、図2(b)からも明らかなように、加熱処理前においては、比較例3および比較例4の白金表面積維持率は、電位サイクル数によらず略同じである。すなわち、白金粒子への金の修飾に拘わらず、電位サイクル数が進むに従って白金粒子の白金が溶出していると考えられる。 As is clear from FIG. 2B, the platinum surface area retention rates of Comparative Example 3 and Comparative Example 4 are substantially the same regardless of the number of potential cycles before the heat treatment. That is, it is considered that platinum of the platinum particles is eluted as the number of potential cycles increases regardless of the gold modification to the platinum particles.
しかしながら、図2(a)に示すように、加熱処理後においては、実施例1の白金表面積維持率は、比較例1のものに比べて高くなった。以上のことから、金を修飾した白金粒子に対して上述した加熱処理を行うことにより、白金粒子の溶出しやすい部分(エッジ部分)に金が拡散し、白金粒子の耐久性を高めることができたと考えられる。 However, as shown in FIG. 2A, after the heat treatment, the platinum surface area retention rate of Example 1 was higher than that of Comparative Example 1. From the above, by performing the above-mentioned heat treatment on platinum particles modified with gold, gold diffuses into the portion where the platinum particles are easily eluted (edge portion), and the durability of the platinum particles can be improved. It is thought.
(実施例2)
実施例1と同じように、加熱処理を行った金修飾白金担持カーボンを作製した。なお、本実施例では、加熱処理工程において、白金担持カーボンをアルゴンガス雰囲気下で200℃まで1時間昇温し、この温度を2時間保持し、その後放冷した。
(Example 2)
As in Example 1, gold-modified platinum-supported carbon subjected to heat treatment was produced. In this example, in the heat treatment step, the platinum-supporting carbon was heated to 200 ° C. for 1 hour under an argon gas atmosphere, this temperature was maintained for 2 hours, and then allowed to cool.
(実施例3)
実施例2と同じように、加熱処理を行った金修飾白金担持カーボンを作製した。実施例2と相違する点は、加熱処理工程において、白金担持カーボンをアルゴンガス雰囲気下で300℃まで1時間昇温し、この温度を2時間保持し、その後放冷した点である。
(Example 3)
In the same manner as in Example 2, gold-modified platinum-supported carbon subjected to heat treatment was produced. The difference from Example 2 is that in the heat treatment step, the platinum-supported carbon was heated to 300 ° C. for 1 hour under an argon gas atmosphere, held at this temperature for 2 hours, and then allowed to cool.
(比較例4)
実施例1と同じように、実施例1で準備した銅層を被覆前の白金担持カーボンを準備して、これを比較例4の白金担持カーボンとした。
(Comparative Example 4)
As in Example 1, platinum-supported carbon before coating the copper layer prepared in Example 1 was prepared and used as platinum-supported carbon in Comparative Example 4.
上述した、実施例2、実施例3、および比較例4の白金担持カーボンに対して、実施例1と同じように電位サイクル試験を行った。この結果を、図3に示す。図3は、電位サイクル数毎の白金表面積維持率を測定した結果である。 A potential cycle test was performed on the platinum-supported carbons of Example 2, Example 3, and Comparative Example 4 described above in the same manner as in Example 1. The result is shown in FIG. FIG. 3 shows the results of measuring the platinum surface area maintenance rate for each number of potential cycles.
(結果2および考察)
図3に示すように、実施例2および実施例3の白金表面積維持率は、比較例4のものに比べて高くなった。このことから、少なくとも200℃〜300℃の加熱温度範囲内で、加熱処理を行えば、金修飾された白金粒子の耐久性は向上すると考えられる。
(
As shown in FIG. 3, the platinum surface area retention rates of Example 2 and Example 3 were higher than those of Comparative Example 4. From this, it is considered that the durability of the gold-modified platinum particles is improved if the heat treatment is performed at least within a heating temperature range of 200 ° C. to 300 ° C.
以下の表2は白金粒子を加熱した際の金粒子の粒径を測定した結果であり、この結果からも加熱温度400℃までは、その粒径の大きさに変化がほとんどないことがわかる。 Table 2 below shows the results of measuring the particle size of the gold particles when the platinum particles were heated. From this result, it can be seen that there is almost no change in the particle size up to the heating temperature of 400 ° C.
また、図4は、金粒子の粒径と、その融点との関係を説明するための参考図であり、この結果からも、加熱する温度が上昇するにしたがって、金の粒径が大きくなり、加熱温度が300℃を超え始めると、金粒径の粗大化が始まると考えられる。 FIG. 4 is a reference diagram for explaining the relationship between the particle size of the gold particles and the melting point thereof, and also from this result, the particle size of the gold increases as the heating temperature rises. When the heating temperature starts to exceed 300 ° C., it is considered that the coarsening of the gold particle diameter starts.
さらに、図5は、温度変化に伴う金粒子の粒径とそのカウント数とを説明するための参考図であり、この結果からも、3nm程度の粒径の金粒子の融点は、400℃程度である。このことから、金を含む触媒に対して、熱処理温度400℃を超えて加熱を行った場合には、金が溶融し、粗大化すると共に、金と白金が合金化するおそれがあると考えられる。このことから、加熱処理工程における加熱処理温度は、400℃以下であることが好ましいと言える。 Further, FIG. 5 is a reference diagram for explaining the particle diameter of gold particles and the count number thereof according to the temperature change. Also from this result, the melting point of gold particles having a particle diameter of about 3 nm is about 400 ° C. It is. From this, it is considered that when a catalyst containing gold is heated at a heat treatment temperature exceeding 400 ° C., the gold is melted and coarsened, and gold and platinum may be alloyed. . From this, it can be said that the heat treatment temperature in the heat treatment step is preferably 400 ° C. or lower.
このように、加熱処理温度を200℃〜400℃の範囲内で加熱することにより、白金粒子の表面の金が、白金粒子のエッジ部分(反応しやすい部分)に移動して、この部分を覆うので、電位サイクルに対する加熱処理された白金担持カーボンの耐久性が向上したものと考えられる。 Thus, by heating the heat treatment temperature within a range of 200 ° C. to 400 ° C., the gold on the surface of the platinum particles moves to the edge portion (reactive portion) of the platinum particles and covers this portion. Therefore, it is considered that the durability of the platinum-supported carbon that was heat-treated with respect to the potential cycle was improved.
(実施例4)
実施例1と同じように、加熱処理を行った金修飾白金担持カーボンを作製した。
Example 4
As in Example 1, gold-modified platinum-supported carbon subjected to heat treatment was produced.
(実施例5)
実施例1と同じように、加熱処理を行った金修飾白金担持カーボンを作製した。実施例1と相違する点は、金置換工程において、HAuCl4の代わりに、同じ添加量のHAuBr4を用いた点である。
(Example 5)
As in Example 1, gold-modified platinum-supported carbon subjected to heat treatment was produced. The difference from Example 1 is that the same amount of HAuBr 4 was used instead of HAuCl 4 in the gold replacement step.
(比較例5)
実施例1と同じように、実施例1で準備した銅層を被覆前の白金担持カーボンを準備して、これを比較例5の白金担持カーボンとした。
(Comparative Example 5)
As in Example 1, platinum-supported carbon before coating the copper layer prepared in Example 1 was prepared and used as platinum-supported carbon in Comparative Example 5.
実施例4、実施例5、および比較例5の白金担持カーボンに対して、上述した、XRDにより、白金担持カーボンに担持された白金粒子の白金粒径を測定した。この結果を、表3に示す。また、実施例4、実施例5、および比較例5の白金担持カーボンに対して、実施例1と同じように電位サイクル試験を行った。この結果を、図6に示す。図6は、電位サイクル数毎の白金表面積維持率を測定した結果である。 For the platinum-supported carbons of Example 4, Example 5, and Comparative Example 5, the platinum particle size of the platinum particles supported on the platinum-supported carbon was measured by XRD as described above. The results are shown in Table 3. In addition, the potential cycle test was performed on the platinum-supported carbons of Example 4, Example 5, and Comparative Example 5 in the same manner as in Example 1. The result is shown in FIG. FIG. 6 shows the results of measuring the platinum surface area maintenance rate for each number of potential cycles.
(結果3および考察)
図6に示すように、実施例5、実施例4、比較例5の順に、電位サイクル数の増加に伴う白金表面積維持率は高くなった。実施例4では、HAuCl4を添加した水溶液を用いたが、実施例5では、Cu−Au間の電位ギャップが小さいHAuBr4が添加された水溶液を用いたことにより、実施例4に比べて、銅を金に置換する反応が穏やかになり、金の粗大粒子の生成を抑制することができたので、実施例5の白金表面積維持率が、実施例4のものに比べて、高くなったと考えられる。
(
As shown in FIG. 6, the platinum surface area retention rate increased with the increase in the number of potential cycles in the order of Example 5, Example 4, and Comparative Example 5. In Example 4, an aqueous solution to which HAuCl 4 was added was used. However, in Example 5, an aqueous solution to which HAuBr 4 having a small potential gap between Cu and Au was used was used. Since the reaction of substituting copper with gold became mild and the formation of coarse gold particles could be suppressed, the platinum surface area maintenance rate of Example 5 was considered to be higher than that of Example 4. It is done.
以上、本発明の実施の形態を用いて詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態及び実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲における設計変更があっても、それらは本発明に含まれるものである。 As mentioned above, although it explained in full detail using embodiment of this invention, a concrete structure is not limited to this embodiment and an Example, There exists a design change in the range which does not deviate from the summary of this invention. They are also included in the present invention.
Claims (3)
前記白金粒子の表面に銅層を被覆する工程と、
前記銅層が被覆された白金粒子を金イオン水溶液に接触させることにより、前記銅層の銅を金に置換する工程と、
該金に置換した白金粒子の表面を、非酸化性ガス雰囲気下で加熱処理する工程と、を少なくとも含むことを特徴とする触媒の製造方法。 A method for producing a catalyst comprising at least platinum particles comprising platinum alloy or platinum,
Coating the surface of the platinum particles with a copper layer;
A step of replacing the copper of the copper layer with gold by bringing platinum particles coated with the copper layer into contact with a gold ion aqueous solution;
And a step of heat-treating the surface of the platinum particles substituted with gold in a non-oxidizing gas atmosphere.
前記金イオン水溶液として、AuBr4 −またはAuI4 −を含む塩と、ハロゲン化水素と、を添加した水溶液を用いることを特徴とする請求項1または2に記載の触媒の製造方法。 In the step of replacing the copper with gold,
3. The method for producing a catalyst according to claim 1, wherein an aqueous solution to which a salt containing AuBr 4 — or AuI 4 — and a hydrogen halide are added is used as the gold ion aqueous solution.
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Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| US12456738B2 (en) | 2019-03-22 | 2025-10-28 | Johnson Matthey Hydrogen Technologies Limited | Catalyst for a fuel cell |
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- 2011-05-20 JP JP2011113781A patent/JP2012240000A/en not_active Withdrawn
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