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JP2012131650A - Method for manufacturing tungsten oxide particle dispersion liquid, method for manufacturing noble metal-carrying tungsten oxide particle dispersion liquid, and photocatalyst functional product - Google Patents

Method for manufacturing tungsten oxide particle dispersion liquid, method for manufacturing noble metal-carrying tungsten oxide particle dispersion liquid, and photocatalyst functional product Download PDF

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JP2012131650A
JP2012131650A JP2010282763A JP2010282763A JP2012131650A JP 2012131650 A JP2012131650 A JP 2012131650A JP 2010282763 A JP2010282763 A JP 2010282763A JP 2010282763 A JP2010282763 A JP 2010282763A JP 2012131650 A JP2012131650 A JP 2012131650A
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JP
Japan
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tungsten oxide
particle dispersion
oxide particle
dispersion
noble metal
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Pending
Application number
JP2010282763A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akinori Okusako
顕仙 奥迫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

【課題】本発明によれば、分散媒中への酸化タングステン粒子の分散性が優れ、保管していても固液分離が生じない酸化タングステン粒子分散液を提供することである。
【解決手段】工程(a)、(b)を有する酸化タングステン粒子分散液を製造する方法であり、分散処理は、混合物中にアルカリ性化合物を添加しながら、湿式媒体撹拌ミルを使用して行われることを特徴とする酸化タングステン粒子分散液の製造方法。
(a)酸化タングステン粒子と分散媒を混合して混合物を得る。
(b)混合物を分散処理する。
【選択図】なし
An object of the present invention is to provide a tungsten oxide particle dispersion that has excellent dispersibility of tungsten oxide particles in a dispersion medium and does not cause solid-liquid separation even when stored.
A method for producing a tungsten oxide particle dispersion having steps (a) and (b), wherein the dispersion treatment is performed using a wet medium stirring mill while adding an alkaline compound to the mixture. A method for producing a tungsten oxide particle dispersion.
(A) A mixture is obtained by mixing tungsten oxide particles and a dispersion medium.
(B) Dispersing the mixture.
[Selection figure] None

Description

本発明は、酸化タングステン粒子分散液の製造方法、貴金属担持酸化タングステン粒子分散液の製造方法、並びに、これら製造方法で得られる酸化タングステン粒子分散液または貴金属担持酸化タングステン粒子分散液を用いて得られる光触媒体機能製品に関する。   The present invention is obtained using a method for producing a tungsten oxide particle dispersion, a method for producing a noble metal-supported tungsten oxide particle dispersion, and a tungsten oxide particle dispersion or a noble metal-supported tungsten oxide particle dispersion obtained by these production methods. The present invention relates to a photocatalyst functional product.

半導体にバンドギャップ以上のエネルギーを持つ光を照射すると、価電子帯の電子が伝導帯に励起され、価電子帯に正孔が生成する。このようにして生成した正孔は強い酸化力を有し、励起した電子は強い還元力を有することから、半導体に接触した物質に酸化還元作用を及ぼす。この酸化還元作用は光触媒作用と呼ばれており、かかる光触媒作用を示し得る半導体は光触媒体と呼ばれている。このような光触媒体として酸化タングステンが知られている。酸化タングステンは蛍光灯の照明下で高い光触媒作用を示す光触媒体である。   When a semiconductor is irradiated with light having energy greater than or equal to the band gap, electrons in the valence band are excited to the conduction band and holes are generated in the valence band. The holes generated in this manner have a strong oxidizing power, and the excited electrons have a strong reducing power, so that the material in contact with the semiconductor has a redox action. This redox action is called a photocatalytic action, and a semiconductor that can exhibit such a photocatalytic action is called a photocatalyst. Tungsten oxide is known as such a photocatalyst. Tungsten oxide is a photocatalyst that exhibits high photocatalysis under the illumination of a fluorescent lamp.

光触媒体を各種部材等へ使用するには、分散媒に光触媒体を分散させた光触媒体分散液を各種部材等へ塗布することが便利であるが、分散媒に酸化タングステン粒子を分散させた酸化タングステン粒子分散液は、酸化タングステン粒子の分散媒への分散性が低く、酸化タングステン粒子同士の凝集等が生じることがある。 In order to use the photocatalyst for various members, it is convenient to apply a photocatalyst dispersion liquid in which the photocatalyst is dispersed in a dispersion medium to various members. The tungsten particle dispersion has low dispersibility of the tungsten oxide particles in the dispersion medium, and aggregation of the tungsten oxide particles may occur.

特許文献1には、酸化タングステン粒子と分散媒とを含む光触媒分散体(酸化タングステン粒子分散液)であって、酸化タングステン粒子の表面を水酸基に置き換えてゼータ電位の絶対値を大きくし、分散性を向上させるために、分散媒のpHを2.1〜5.7の範囲内とした光触媒分散体が開示されている。 Patent Document 1 discloses a photocatalyst dispersion (tungsten oxide particle dispersion) containing tungsten oxide particles and a dispersion medium, in which the surface of the tungsten oxide particles is replaced with a hydroxyl group to increase the absolute value of the zeta potential. In order to improve the above, a photocatalyst dispersion in which the pH of the dispersion medium is in the range of 2.1 to 5.7 is disclosed.

特開2009−240979号公報JP 2009-240979 A

しかしながら、特許文献1に記載の光触媒分散体は、酸化タングステン粒子の分散性が十分ではなく、該光触媒分散体を保管していると、酸化タングステン粒子の凝集に伴う固液分離が生じることがわかった。   However, the photocatalyst dispersion described in Patent Document 1 does not have sufficient dispersibility of tungsten oxide particles, and it is found that solid-liquid separation accompanying aggregation of tungsten oxide particles occurs when the photocatalyst dispersion is stored. It was.

そこで本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、以下の構成からなる製造方法により製造される酸化タングステン粒子分散液が、分散媒中への酸化タングステン粒子の分散性が優れ、保管していても固液分離が生じないことを見出し、本発明を完成するに至った。
(1)工程(a)、(b)を有する酸化タングステン粒子分散液を製造する方法であり、分散処理は、混合物中にアルカリ性化合物を添加しながら、湿式媒体撹拌ミルを使用して行われることを特徴とする酸化タングステン粒子分散液の製造方法。
(a)酸化タングステン粒子と分散媒を混合して混合物を得る。
(b)混合物を分散処理する。
(2)酸化タングステン粒子の含有量が、酸化タングステン粒子分散液100重量部に対し、15〜50重量部である前記(1)に記載の製造方法。
(3)前記(1)または(2)のいずれかに記載の製造方法により得られる酸化タングステン粒子分散液に、貴金属の前駆体を添加し、次いで酸化タングステン粒子のバンドギャップ以上のエネルギーを有する光を照射する貴金属担持酸化タングステン粒子分散液の製造方法。
(4)貴金属がCu、Pt、Au、Pd、Ag、Ru、Ir及びRhからなる群より選ばれる少なくとも1種である前記(3)に記載の製造方法。
(5)基材表面に光触媒体層を備える光触媒機能製品であって、前記光触媒体層が、前記(1)〜(4)のいずれかに記載の製造方法で得られる分散液を用いて形成される光触媒機能製品。
Therefore, as a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has excellent dispersibility of tungsten oxide particles in a dispersion medium in which the tungsten oxide particle dispersion produced by the production method having the following configuration is excellent. The inventors have found that solid-liquid separation does not occur even when stored, and have completed the present invention.
(1) A method for producing a tungsten oxide particle dispersion having steps (a) and (b), wherein the dispersion treatment is performed using a wet medium stirring mill while adding an alkaline compound to the mixture. A method for producing a tungsten oxide particle dispersion.
(A) A mixture is obtained by mixing tungsten oxide particles and a dispersion medium.
(B) Dispersing the mixture.
(2) The manufacturing method as described in said (1) whose content of a tungsten oxide particle is 15-50 weight part with respect to 100 weight part of tungsten oxide particle dispersion liquid.
(3) A light having a precious metal precursor added to the tungsten oxide particle dispersion obtained by the production method according to any one of (1) and (2), and then having energy equal to or higher than the band gap of the tungsten oxide particles. For producing a noble metal-supported tungsten oxide particle dispersion.
(4) The production method according to (3), wherein the noble metal is at least one selected from the group consisting of Cu, Pt, Au, Pd, Ag, Ru, Ir, and Rh.
(5) A photocatalytic functional product having a photocatalyst layer on the surface of the substrate, wherein the photocatalyst layer is formed using a dispersion obtained by the production method according to any one of (1) to (4). Photocatalytic functional products.

本発明によれば、分散媒中への酸化タングステン粒子の分散性が優れ、保管していても固液分離が生じない酸化タングステン粒子分散液を提供することが出来る。また、本発明によれば、酸化タングステン粒子に貴金属が担持され、分散媒中への該粒子の分散性が優れ、保管していても固液分離が生じない貴金属担持酸化タングステン粒子分散液を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the dispersibility of the tungsten oxide particle in a dispersion medium is excellent, and the tungsten oxide particle dispersion liquid which does not produce solid-liquid separation even if it can store can be provided. Further, according to the present invention, there is provided a noble metal-supported tungsten oxide particle dispersion in which noble metal is supported on tungsten oxide particles, the particles are excellent in dispersibility in a dispersion medium, and solid-liquid separation does not occur even when stored. can do.

実施例1で得られた酸化タングステン粒子分散液を真空乾燥して得た固形分のX線回折スペクトル、および比較例1で得られた酸化タングステン粒子分散液を真空乾燥して得た固形分のX線回折スペクトルを示す図である。X-ray diffraction spectrum of solid content obtained by vacuum drying the tungsten oxide particle dispersion obtained in Example 1, and solid content obtained by vacuum drying the tungsten oxide particle dispersion obtained in Comparative Example 1. It is a figure which shows an X-ray diffraction spectrum.

本発明の酸化タングステン粒子の製造方法は、酸化タングステン粒子と分散媒を混合して混合物を得、混合物中にアルカリ性化合物を添加しながら、湿式媒体撹拌ミルを使用して混合物を分散処理することで、酸化タングステン粒子分散液を製造するものである。   In the method for producing tungsten oxide particles of the present invention, tungsten oxide particles and a dispersion medium are mixed to obtain a mixture, and the mixture is dispersed using a wet medium stirring mill while adding an alkaline compound to the mixture. A tungsten oxide particle dispersion is produced.

(酸化タングステン粒子)
酸化タングステン粒子は、光触媒作用を示す粒子状の酸化タングステンであれば、特に制限されないが、例えば、三酸化タングステン(WO)粒子等が挙げられる。なお、酸化タングステン粒子は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用して用いてもよい。
(Tungsten oxide particles)
The tungsten oxide particles are not particularly limited as long as they are particulate tungsten oxide exhibiting a photocatalytic action, and examples thereof include tungsten trioxide (WO 3 ) particles. The tungsten oxide particles may be used alone or in combination of two or more.

酸化タングステン粒子は、例えばタングステン酸塩の水溶液に酸を加えることにより、沈殿物としてタングステン酸を得、得られたタングステン酸を焼成する方法により得ることができる。また、メタタングステン酸アンモニウム、パラタングステン酸アンモニウムを加熱して熱分解する方法により得ることもできる。さらに、金属状のタングステン粒子を燃焼する方法でも得ることができる。   The tungsten oxide particles can be obtained, for example, by adding an acid to an aqueous solution of tungstate to obtain tungstic acid as a precipitate and baking the obtained tungstic acid. Moreover, it can also obtain by the method of heating and thermally decomposing ammonium metatungstate and ammonium paratungstate. Further, it can be obtained by a method of burning metallic tungsten particles.

酸化タングステン粒子の粒子径は、特に制限されないが、光触媒作用の点から、平均分散粒子径で、通常50〜200nm、好ましくは80〜130nmである。   The particle diameter of the tungsten oxide particles is not particularly limited, but in terms of photocatalysis, the average dispersed particle diameter is usually 50 to 200 nm, preferably 80 to 130 nm.

(分散媒)
分散媒としては通常、水を主成分とする水性媒体、具体的には水の含有量が50質量%以上のものが用いられ、水単独であってもよいし、水と水溶性有機溶媒との混合媒体であってもよい。
水溶性有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等の水溶性アルコール、アセトン、メチルエチルケトン、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、酢酸エチル、ジエチルエーテル等が挙げられる。なお、水溶性有機溶媒は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
分散媒の使用量は、酸化タングステン粒子に対して、通常3質量倍〜200質量倍である。分散媒の使用量が3質量倍未満では酸化タングステン粒子が沈降し易くなり、200質量倍を超えると容積効率の点で不利である。
(Dispersion medium)
As the dispersion medium, an aqueous medium mainly containing water, specifically, a water content of 50% by mass or more is used, and water alone or water and a water-soluble organic solvent may be used. It may be a mixed medium.
Examples of the water-soluble organic solvent include water-soluble alcohols such as methanol, ethanol, propanol, and butanol, acetone, methyl ethyl ketone, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ethyl acetate, and diethyl ether. In addition, a water-soluble organic solvent may be used independently and may use 2 or more types together.
The usage-amount of a dispersion medium is 3 mass times-200 mass times normally with respect to a tungsten oxide particle. If the amount of the dispersion medium used is less than 3 times by mass, the tungsten oxide particles are likely to settle, and if it exceeds 200 times by mass, it is disadvantageous in terms of volume efficiency.

(分散処理)
分散処理は、酸化タングステン粒子と分散媒を混合して混合物を得、該混合物中にアルカリ性化合物を添加しながら、湿式媒体撹拌ミルを使用して行われる。このような分散処理を行うことで、分散媒中への酸化タングステン粒子の分散性を向上させ、保管していても固液分離の生じない酸化タングステン粒子分散液を得ることができる。この理由として、湿式媒体攪拌ミルを使用して酸化タングステン粒子と分散媒との分散処理を行うと、酸化タングステン粒子が粉砕メディアであるビーズとの衝突によりメカノケミカル的な作用を受けることで、結晶性のタングステン酸粒子(HWO)が生成され、このタングステン酸粒子が酸化タングステン粒子の凝集剤として機能することで、酸化タングステン粒子が凝集し易くなり分散性が低下するが、分散媒にアルカリ性化合物を添加することで、タングステン酸粒子の生成は抑制され、分散媒中への酸化タングステン粒子の分散性の低下が抑制されることが推察される。
結晶性のタングステン酸粒子の生成は、例えば、酸化タングステン粒子分散液を乾燥して得られる粉末のX線回折スペクトルを測定することにより確認することができる。
(Distributed processing)
The dispersion treatment is performed using a wet medium stirring mill while mixing the tungsten oxide particles and the dispersion medium to obtain a mixture and adding an alkaline compound to the mixture. By performing such a dispersion treatment, it is possible to improve the dispersibility of the tungsten oxide particles in the dispersion medium, and to obtain a tungsten oxide particle dispersion in which solid-liquid separation does not occur even when stored. The reason for this is that when a dispersion treatment of tungsten oxide particles and a dispersion medium is performed using a wet medium agitation mill, the tungsten oxide particles are subjected to a mechanochemical action due to collision with beads serving as a grinding medium, thereby producing crystals. Tungstic acid particles (H 2 WO 4 ) are generated, and the tungstic acid particles function as an aggregating agent for the tungsten oxide particles, so that the tungsten oxide particles are easily aggregated and the dispersibility is lowered. By adding an alkaline compound, it is guessed that the production | generation of a tungstic acid particle is suppressed and the fall of the dispersibility of the tungsten oxide particle in a dispersion medium is suppressed.
The formation of crystalline tungstic acid particles can be confirmed, for example, by measuring an X-ray diffraction spectrum of a powder obtained by drying a tungsten oxide particle dispersion.

分散媒への酸化タングステン粒子の混合量は、分散液100重量部に対し、15〜50重量部であることが好ましい。酸化タングステン粒子の混合量が15質量部未満では、得られる酸化タングステン粒子分散液の濃度が薄くなり、これを用いる際に用途によっては濃縮等の操作が必要となるおそれがある。また、混合量が50重量部を越えると、分散処理の効率が著しく低下するおそれがある。   The amount of tungsten oxide particles mixed in the dispersion medium is preferably 15 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the dispersion. When the mixing amount of the tungsten oxide particles is less than 15 parts by mass, the concentration of the obtained tungsten oxide particle dispersion becomes thin, and there is a possibility that an operation such as concentration may be required depending on the application when using this. On the other hand, if the mixing amount exceeds 50 parts by weight, the efficiency of the dispersion treatment may be significantly reduced.

混合物中に添加するアルカリ性化合物としては、例えば、アンモニア水、水酸化リチウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、炭酸アンモニウム水容液、炭酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素カリウム水溶液、炭酸水素アンモニウム水溶液等が挙げられる。
アルカリ性化合物の添加量は、酸化タングステン粒子分散液のpHが2.2〜4.0の範囲内、好ましくは2.4〜3.0の範囲内に維持される量が好ましい。アルカリ性化合物の添加量が少なく、酸化タングステン粒子分散液のpHが2.2未満であると、タングステン酸粒子の生成の抑制が十分でなく、分散媒中への酸化タングステン粒子の分散性低下の抑制が不十分となるおそれがある。また、アルカリ性化合物の添加量が多く、酸化タングステン粒子分散液のpHが4.0を超えると、酸化タングステン粒子が分散媒に溶解し、該酸化タングステン粒子分散液から得られる酸化タングステン粒子の光触媒作用が低下するおそれがある。
Examples of the alkaline compound added to the mixture include aqueous ammonia, lithium hydroxide aqueous solution, sodium hydroxide aqueous solution, potassium hydroxide aqueous solution, sodium carbonate aqueous solution, potassium carbonate aqueous solution, ammonium carbonate aqueous solution, sodium bicarbonate aqueous solution, carbonic acid carbonate, and the like. Examples thereof include an aqueous potassium hydrogen solution and an aqueous ammonium hydrogen carbonate solution.
The addition amount of the alkaline compound is preferably such that the pH of the tungsten oxide particle dispersion is maintained within the range of 2.2 to 4.0, preferably within the range of 2.4 to 3.0. When the addition amount of the alkaline compound is small and the pH of the tungsten oxide particle dispersion is less than 2.2, the formation of tungstic acid particles is not sufficiently suppressed, and the decrease in the dispersibility of the tungsten oxide particles in the dispersion medium is suppressed. May become insufficient. Further, when the amount of the alkaline compound added is large and the pH of the tungsten oxide particle dispersion exceeds 4.0, the tungsten oxide particles dissolve in the dispersion medium, and the photocatalytic action of the tungsten oxide particles obtained from the tungsten oxide particle dispersion May decrease.

アルカリ化合物の添加の方法としては、pHの値を任意に制御できる点から、pHを一定に調整する制御機構を有するpHコントローラを使用する方法が好ましい。
アルカリ性化合物の添加は、湿式媒体撹拌ミルを使用している間連続して行ってもよいし、断続的に行ってもよいし、一定期間間隔を空けて行ってもよい。
As a method for adding the alkali compound, a method using a pH controller having a control mechanism for adjusting the pH to be constant is preferable because the pH value can be arbitrarily controlled.
The addition of the alkaline compound may be performed continuously while using the wet medium stirring mill, may be performed intermittently, or may be performed at intervals of a certain period.

(酸化タングステン粒子分散液)
かくして混合物中にアルカリ性化合物を添加しながら、湿式媒体撹拌ミルを使用して混合物を分散処理することで、酸化タングステン粒子分散液を得る。酸化タングステン粒子は分散媒中に、沈降することなく分散されている。この酸化タングステン粒子が分散された分散液は、酸化タングステン粒子の分散性に優れ、保管していても酸化タングステン粒子の凝集に伴う固液分離が生じないため取り扱いやすい。
(Tungsten oxide particle dispersion)
Thus, a tungsten oxide particle dispersion is obtained by dispersing the mixture using a wet medium stirring mill while adding an alkaline compound to the mixture. The tungsten oxide particles are dispersed in the dispersion medium without settling. The dispersion in which the tungsten oxide particles are dispersed is excellent in dispersibility of the tungsten oxide particles, and is easy to handle because solid-liquid separation associated with aggregation of the tungsten oxide particles does not occur even when stored.

(貴金属の前駆体)
本発明では、貴金属またはその前駆体を酸化タングステン粒子分散液に添加し、酸化タングステン粒子に担持させることが好ましい。貴金属とは、酸化タングステン粒子に担持されて電子吸引性を発揮しうる化合物であり、貴金属の前駆体とは、酸化タングステン粒子の表面で貴金属に遷移しうる化合物(例えば、光照射により貴金属に還元されうる化合物)である。貴金属が酸化タングステン粒子に担持されると、光の照射により伝導帯に励起された電子と価電子帯に生成した正孔との再結合が抑制され、光触媒作用をより高めることができる。
(Precious metal precursor)
In the present invention, it is preferable that a noble metal or a precursor thereof is added to the tungsten oxide particle dispersion and supported on the tungsten oxide particles. A noble metal is a compound that can be supported on tungsten oxide particles and can exhibit electron withdrawing properties, and a noble metal precursor is a compound that can transition to a noble metal on the surface of tungsten oxide particles (for example, reduced to a noble metal by light irradiation). Compound). When the noble metal is supported on the tungsten oxide particles, recombination between electrons excited in the conduction band by irradiation of light and holes generated in the valence band is suppressed, and the photocatalytic action can be further enhanced.

本発明で使用する貴金属の前駆体としては、分散媒中に溶解し得るものが使用される。かかる前駆体が溶解すると、これを構成する貴金属元素は通常、プラスの電荷を帯びた貴金属イオンとなって、分散媒中に存在する。そして、この貴金属イオンが、光の照射により0価の貴金属に還元されて、酸化タングステン粒子の表面に担持される。貴金属としては、例えばCu、Pt、Au、Pd、Ag、Ru、IrおよびRhが挙げられる。その前駆体としては、これら貴金属の水酸化物、硝酸塩、硫酸塩、ハロゲン化物、有機酸塩、炭酸塩、リン酸塩などが挙げられる。これらの中でも高い光触媒活性を得る点から、貴金属は、Cu、Pt、Au、Pdが好ましい。   As the noble metal precursor used in the present invention, those which can be dissolved in a dispersion medium are used. When such a precursor is dissolved, the noble metal element constituting the precursor usually becomes a noble metal ion having a positive charge and exists in the dispersion medium. The noble metal ions are reduced to zero-valent noble metal by light irradiation and are supported on the surface of the tungsten oxide particles. Examples of the noble metal include Cu, Pt, Au, Pd, Ag, Ru, Ir, and Rh. Examples of the precursor include hydroxides, nitrates, sulfates, halides, organic acid salts, carbonates, and phosphates of these noble metals. Among these, from the viewpoint of obtaining high photocatalytic activity, the noble metal is preferably Cu, Pt, Au, or Pd.

Cuの前駆体としては、例えば、硝酸銅(Cu(NO))、硫酸銅(CuSO)、塩化銅(CuCl、CuCl)、臭化銅(CuBr、CuBr)、沃化銅(CuI)、沃素酸銅(CuI)、塩化アンモニウム銅(Cu(NH)Cl)、オキシ塩化銅(CuCl(OH))、酢酸銅(CHCOOCu、(CHCOO)Cu)、蟻酸銅((HCOO)Cu)、炭酸銅(CuCO)、蓚酸銅(CuC)、クエン酸銅(Cu)、リン酸銅(CuPO)等が挙げられる。 Examples of the Cu precursor include copper nitrate (Cu (NO 3 ) 2 ), copper sulfate (CuSO 4 ), copper chloride (CuCl 2 , CuCl), copper bromide (CuBr 2 , CuBr), copper iodide ( CuI), copper iodate (CuI 2 O 6 ), ammonium copper chloride (Cu (NH 4 ) 2 Cl 4 ), copper oxychloride (Cu 2 Cl (OH) 3 ), copper acetate (CH 3 COOCu, (CH 3 COO) 2 Cu), copper formate ((HCOO) 2 Cu), copper carbonate (CuCO 3 ), copper oxalate (CuC 2 O 4 ), copper citrate (Cu 2 C 6 H 4 O 7 ), copper phosphate ( CuPO 4 ) and the like.

Ptの前駆体としては、例えば、塩化白金(PtCl、PtCl)、臭化白金(PtBr、PtBr)、沃化白金(PtI、PtI)、テトラクロロ白金酸カリウム(KPtCl)、ヘキサクロロ白金酸(HPtCl)、ヘキサクロロ白金酸カリウム(KPtCl)、亜硫酸白金(HPt(SO)OH)、塩化テトラアンミン白金(Pt(NH)Cl)、炭酸水素テトラアンミン白金(C14Pt)、テトラアンミン白金リン酸水素(Pt(NH)HPO)、水酸化テトラアンミン白金(Pt(NH)(OH))、硝酸テトラアンミン白金(Pt(NO)(NH))、テトラアンミン白金テトラクロロ白金((Pt(NH))(PtCl))、ジニトロジアミン白金(Pt(NO)(NH)等が挙げられる。 Examples of the precursor of Pt include platinum chloride (PtCl 2 , PtCl 4 ), platinum bromide (PtBr 2 , PtBr 4 ), platinum iodide (PtI 2 , PtI 4 ), potassium tetrachloroplatinate (K 2 PtCl 4 ). 4 ), hexachloroplatinic acid (H 2 PtCl 6 ), potassium hexachloroplatinate (K 2 PtCl 6 ), platinum sulfite (H 3 Pt (SO 3 ) 2 OH), tetraammineplatinum chloride (Pt (NH 3 ) 4 Cl 2 ), Tetraammineplatinum hydrogen carbonate (C 2 H 14 N 4 O 6 Pt), tetraammineplatinum hydrogen phosphate (Pt (NH 3 ) 4 HPO 4 ), tetraammineplatinum hydroxide (Pt (NH 3 ) 4 (OH) 2 ) , Tetraammineplatinum nitrate (Pt (NO 3 ) 2 (NH 3 ) 4 ), tetraammineplatinum tetrachloroplatinum ((Pt (NH 3 ) 4 ) (PtCl 4 )), Dinitrodiamine platinum (Pt (NO 2 ) 2 (NH 3 ) 2 ) and the like.

Auの前駆体としては、例えば、塩化金(AuCl)、臭化金(AuBr)、沃化金(AuI)、水酸化金(Au(OH))、テトラクロロ金酸(HAuCl)、テトラクロロ金酸カリウム(KAuCl)、テトラブロモ金酸カリウム(KAuBr)等が挙げられる。 Examples of the Au precursor include gold chloride (AuCl), gold bromide (AuBr), gold iodide (AuI), gold hydroxide (Au (OH) 2 ), tetrachloroauric acid (HAuCl 4 ), tetra Examples include potassium chloroaurate (KAuCl 4 ) and potassium tetrabromoaurate (KAuBr 4 ).

Pdの前駆体としては、例えば、酢酸パラジウム((CHCOO)Pd)、塩化パラジウム(PdCl)、臭化パラジウム(PdBr)、沃化パラジウム(PdI)、水酸化パラジウム(Pd(OH))、硝酸パラジウム(Pd(NO))、硫酸パラジウム(PdSO)、テトラクロロパラジウム酸カリウム(K(PdCl))、テトラブロモパラジウム酸カリウム(K(PdBr))、テトラアンミンパラジウム塩化物(Pd(NHCl)、テトラアンミンパラジウム臭化物(Pd(NHBr)、テトラアンミンパラジウム硝酸塩(Pd(NH(NO)、テトラアンミンパラジウムテトラクロロパラジウム酸((Pd(NH)(PdCl))、テトラクロロパラジウム酸アンモニウム((NHPdCl)等が挙げられる。 Examples of the precursor of Pd include palladium acetate ((CH 3 COO) 2 Pd), palladium chloride (PdCl 2 ), palladium bromide (PdBr 2 ), palladium iodide (PdI 2 ), palladium hydroxide (Pd ( OH) 2 ), palladium nitrate (Pd (NO 3 ) 2 ), palladium sulfate (PdSO 4 ), potassium tetrachloropalladate (K 2 (PdCl 4 )), potassium tetrabromopalladate (K 2 (PdBr 4 )) , Tetraammine palladium chloride (Pd (NH 3 ) 4 Cl 2 ), tetraammine palladium bromide (Pd (NH 3 ) 4 Br 2 ), tetraammine palladium nitrate (Pd (NH 3 ) 4 (NO 3 ) 2 ), tetraammine palladium tetra chloropalladate acid ((Pd (NH 3) 4 ) (PdCl 4)), Te Etc. La chloro palladium ammonium ((NH 4) 2 PdCl 4 ) and the like.

貴金属の前駆体は、それぞれ単独で、または2種類以上を組み合わせて使用される。その使用量は、貴金属原子に換算して、光触媒体粒子の使用量100質量部に対して、光触媒作用の向上効果が十分に得られる点で通常0.005質量部以上、コストに見合った効果が得られる点で通常1質量部以下であり、好ましくは0.01質量部〜0.6質量部、さらに好ましくは0.05〜0.2質量部である。   The noble metal precursors may be used alone or in combination of two or more. The amount used is usually 0.005 parts by mass or more in terms of cost, in terms of obtaining a sufficient effect of improving the photocatalytic action with respect to 100 parts by mass of the photocatalyst particles in terms of noble metal atoms. Is usually 1 part by mass or less, preferably 0.01 part by mass to 0.6 part by mass, and more preferably 0.05 to 0.2 part by mass.

(光の照射)
本発明では、酸化タングステン粒子分散液に貴金属の前駆体を添加し、次いで光を照射することが好ましい。酸化タングステン粒子分散液への光の照射は、撹拌しながら行ってもよい。透明なガラスやプラスチック製の管内を通過させながら管の内外から照射してもよく、これを繰り返してもよい。光源としては酸化タングステン粒子のバンドギャップ以上のエネルギーを有する光を照射できるものであれば特に制限はなく、具体例としては、殺菌灯、水銀灯、発光ダイオード、蛍光灯、ハロゲンランプ、キセノンランプ、太陽光を用いることができる。照射する光の波長は通常、180nm〜500nmである。光照射を行う時間は、十分な量の貴金属を担持できることから、通常20分以上、好ましくは1時間以上、通常24時間以下、好ましくは6時間以下である。24時間を越える場合、それまでに貴金属の前駆体の殆どは貴金属となって担持されてしまい、光照射にかかるコストに見合う効果が得られない。
(Light irradiation)
In the present invention, it is preferable to add a precursor of a noble metal to the tungsten oxide particle dispersion and then irradiate with light. You may perform irradiation of the light to a tungsten oxide particle dispersion liquid, stirring. Irradiation may be performed from inside or outside the tube while passing through a transparent glass or plastic tube, or this may be repeated. The light source is not particularly limited as long as it can irradiate light having energy higher than the band gap of tungsten oxide particles. Specific examples include germicidal lamps, mercury lamps, light emitting diodes, fluorescent lamps, halogen lamps, xenon lamps, solar Light can be used. The wavelength of the irradiated light is usually 180 nm to 500 nm. The time for the light irradiation is usually 20 minutes or longer, preferably 1 hour or longer, usually 24 hours or shorter, preferably 6 hours or shorter because a sufficient amount of noble metal can be supported. When the time exceeds 24 hours, most of the precursors of the noble metal have been supported as noble metals by that time, and an effect commensurate with the cost of light irradiation cannot be obtained.

(犠牲剤)
本発明では、犠牲剤を貴金属の前駆体を添加した酸化タングステン粒子分散液に添加することが好ましい。犠牲剤としては、例えば、エタノール、メタノール、プロパノール等のアルコール、アセトン等のケトン、蓚酸等のカルボン酸が用いられる。犠牲剤が固体の場合、この犠牲剤を適当な溶媒に溶解して用いてもよいし、固体のまま用いてもよい。尚、犠牲剤は、光照射を行う前に原料分散液に添加してもよいし、原料液に一定時間光照射を行い、その後に犠牲剤を添加して、さらに光照射を行ってもよい。犠牲剤の量は分散媒に対して、通常0.001質量倍〜0.3質量倍、好ましくは0.005質量倍〜0.1質量倍である。犠牲剤の使用量が0.001質量倍未満では酸化タングステン粒子への貴金属の担持が不十分となり、0.3質量倍を超えると犠牲剤の量が過剰量となりコストに見合う効果が得られない。
(Sacrificial agent)
In the present invention, it is preferable to add the sacrificial agent to the tungsten oxide particle dispersion added with the noble metal precursor. Examples of the sacrificial agent include alcohols such as ethanol, methanol, and propanol, ketones such as acetone, and carboxylic acids such as oxalic acid. When the sacrificial agent is a solid, the sacrificial agent may be used by dissolving in a suitable solvent, or may be used as a solid. The sacrificial agent may be added to the raw material dispersion before performing light irradiation, or the raw material liquid may be irradiated with light for a certain period of time, and then the sacrificial agent may be added and further irradiated with light. . The amount of the sacrificial agent is usually 0.001 to 0.3 times by mass, preferably 0.005 to 0.1 times by mass with respect to the dispersion medium. If the amount of the sacrificial agent used is less than 0.001 mass times, the noble metal is insufficiently supported on the tungsten oxide particles. If the amount of the sacrificial agent exceeds 0.3 mass times, the amount of the sacrificial agent is excessive and an effect corresponding to the cost cannot be obtained. .

(pH調整)
本発明では、貴金属の前駆体を添加した酸化タングステン粒子分散液のpHを2.5〜4.5の範囲内に維持しながら、好ましくは2.7〜3.5に維持しながら光照射を行う。通常、光照射により貴金属が酸化タングステン粒子の表面に担持される際には分散液のpHが酸性に除々に変化するので、pHを前記範囲内に維持するため、通常塩基を添加すればよい。塩基としては、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム等の水溶液が挙げられるが、これらの中でもアンモニア水や水酸化ナトリウム水溶液や水酸化カリウム水溶液を用いるのが好ましい。
(PH adjustment)
In the present invention, light irradiation is carried out while maintaining the pH of the tungsten oxide particle dispersion added with the noble metal precursor within a range of 2.5 to 4.5, preferably 2.7 to 3.5. Do. Usually, when the noble metal is supported on the surface of the tungsten oxide particles by light irradiation, the pH of the dispersion gradually changes to acidic. Therefore, in order to maintain the pH within the above range, a base is usually added. Examples of the base include aqueous solutions of ammonia, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, etc. Among them, aqueous ammonia and hydroxide It is preferable to use a sodium aqueous solution or a potassium hydroxide aqueous solution.

(貴金属担持酸化タングステン粒子分散液)
かくして光を照射することにより、貴金属前駆体が貴金属となって酸化タングステン粒子に担持されて、貴金属担持酸化タングステン粒子を得る。この貴金属担持酸化タングステン粒子は用いた分散媒中に、沈降することなく分散されている。この貴金属担持酸化タングステン粒子が分散された分散液は、貴金属担持酸化タングステン粒子の分散性に優れ、保管していても貴金属担持酸化タングステン粒子の凝集に伴う固液分離が生じないため取り扱いやすい。
(Precious metal-supported tungsten oxide particle dispersion)
Thus, by irradiating with light, the noble metal precursor becomes a noble metal and is supported on the tungsten oxide particles to obtain noble metal-supported tungsten oxide particles. The noble metal-supported tungsten oxide particles are dispersed in the used dispersion medium without settling. The dispersion in which the noble metal-supported tungsten oxide particles are dispersed is excellent in dispersibility of the noble metal-supported tungsten oxide particles, and even when stored, solid-liquid separation associated with aggregation of the noble metal-supported tungsten oxide particles does not occur and is easy to handle.

酸化タングステン粒子分散液および貴金属担持酸化タングステン粒子分散液は、本発明の効果を損なわない範囲で公知の各種添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、例えば非晶質シリカ、シリカゾル、水ガラス、オルガノポリシロキサンなどのケイ素化合物、非晶質アルミナ、アルミナゾル、水酸化アルミニウムなどのアルミニウム化合物、ゼオライト、カオリナイトなどのアルミノケイ酸塩、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムなどのアルカリ土類金属酸化物、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウムなどのアルカリ土類金属水酸化物、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Tc、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Os、Ir、Ag、Zn、Cd、Ga、In、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、La、Ceなどの金属元素の水酸化物や酸化物、リン酸カルシウム、モレキュラーシーブ、活性炭、有機ポリシロキサン化合物の重縮合物、リン酸塩、フッ素系ポリマー、シリコン系ポリマー、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂が挙げられる。これらの添加剤を添加して用いる場合、それぞれ単独で、又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。   The tungsten oxide particle dispersion and the noble metal-supported tungsten oxide particle dispersion may contain various known additives as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of additives include amorphous silica, silica sol, water glass, silicon compounds such as organopolysiloxane, amorphous alumina, alumina sol, aluminum compounds such as aluminum hydroxide, aluminosilicates such as zeolite and kaolinite, oxidation Alkaline earth metal oxides such as magnesium, calcium oxide, strontium oxide, barium oxide, alkaline earth metal hydroxides such as magnesium hydroxide, calcium hydroxide, strontium hydroxide, barium hydroxide, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Tc, Re, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Os, Ir, Ag, Zn, Cd, Ga, In, Tl, Ge, Sn, Pb, Hydroxides and oxides of metal elements such as Bi, La and Ce, calcium phosphate, molecular Sieve, active carbon, a polycondensation product of an organopolysiloxane compound, phosphate, a fluorine-based polymer, silicone-based polymers, acrylic resins, polyester resins, melamine resins, urethane resins, alkyd resins. When these additives are added and used, they can be used alone or in combination of two or more.

前記添加剤は、本発明の分散液を用いて基材の表面に光触媒体層を形成する際に、光触媒体粒子をより強固に基材の表面に保持させるためのバインダー等に用いることもできる(例えば、特開平8−67835号公報、特開平9−25437号公報、特開平10―183061号公報、特開平10―183062号公報、特開平10―168349号公報、特開平10―225658号公報、特開平11―1620号公報、特開平11―1661号公報、特開2004―059686号公報、特開2004―107381号公報、特開2004―256590号公報、特開2004―359902号公報、特開2005―113028号公報、特開2005―230661号公報、特開2007―161824号公報など参照)。   The additive can also be used as a binder for holding the photocatalyst particles more firmly on the surface of the substrate when the photocatalyst layer is formed on the surface of the substrate using the dispersion of the present invention. (For example, JP-A-8-67835, JP-A-9-25437, JP-A-10-183061, JP-A-10-183062, JP-A-10-168349, JP-A-10-225658 JP-A-11-1620, JP-A-11-1661, JP-A-2004-059686, JP-A-2004-107381, JP-A-2004-256590, JP-A-2004-359902, (See JP 2005-113028, JP 2005-230661, JP 2007-161824, etc.).

(光触媒機能製品)
本発明の光触媒機能製品は、前記酸化タングステン粒子分散液または貴金属担持酸化タングステン粒子分散液を用いて形成された光触媒体層を表面に備えるものである。ここで、光触媒体層は、例えば、本発明の酸化タングステン粒子分散液または貴金属担持酸化タングステン粒子分散液を基材(製品)の表面に塗布した後に、分散媒を揮発させるなど、従来公知の成膜方法によって形成することができる。光触媒体層の膜厚は、特に制限されるものではなく、通常、その用途等に応じて、数百nm〜数mmまで適宜設定すればよい。光触媒体層は、基材(製品)の内表面または外表面であれば、どの部分に形成されていてもよいが、例えば、光(可視光線)が照射される面であって、かつ悪臭物質が発生する箇所や、病原菌やウイルスが存在する箇所と連続または断続して空間的につながる面に形成されていることが好ましい。なお、基材(製品)の材質は、形成される光触媒体層を実用に耐えうる強度で保持できる限り、特に制限されるものではなく、例えば、プラスチック、金属、セラミックス、木材、コンクリート、紙など、あらゆる材料からなる製品を対象にすることができる。尚、光触媒作用による光触媒体層と基材の密着性の劣化を抑制するために、光触媒体層と基材の間に、例えばシリカ成分等からなる公知のバリア層を形成することができる。
(Photocatalytic product)
The photocatalytic functional product of the present invention has a photocatalyst layer formed on the surface using the tungsten oxide particle dispersion or the noble metal-supported tungsten oxide particle dispersion. Here, the photocatalyst layer is formed by a conventionally known composition such as, for example, volatilizing the dispersion medium after applying the tungsten oxide particle dispersion or the noble metal-supported tungsten oxide particle dispersion of the present invention to the surface of the substrate (product). It can be formed by a film method. The film thickness of the photocatalyst body layer is not particularly limited, and usually may be appropriately set from several hundred nm to several mm according to the application. The photocatalyst layer may be formed on any part as long as it is an inner surface or an outer surface of the base material (product). For example, the photocatalyst layer is a surface irradiated with light (visible light), and a malodorous substance. It is preferably formed on a surface that is continuously or intermittently connected to a place where the occurrence of a pathogen or a pathogen or virus is present. The material of the base material (product) is not particularly limited as long as the formed photocatalyst layer can be held at a strength that can be practically used. For example, plastic, metal, ceramics, wood, concrete, paper, etc. , Products made of any material can be targeted. In addition, in order to suppress the deterioration of the adhesion between the photocatalyst layer and the substrate due to the photocatalytic action, a known barrier layer made of, for example, a silica component can be formed between the photocatalyst layer and the substrate.

前記プラスチックとしては、熱硬化性樹脂の場合には、例えば、アラミド樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、シリコーン樹脂、メラミンユリア樹脂等が挙げられる。
また、前記プラスチックとしては、熱可塑性樹脂の場合には、例えば、縮重合系樹脂やビニルモノマーを重合して得られる樹脂等が挙げられる。
As the plastic, in the case of a thermosetting resin, for example, aramid resin, polyimide resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, phenol resin, urea resin, polyurethane resin, melamine resin, benzoguanamine resin, silicone resin, melamine urea Examples thereof include resins.
Examples of the plastic include, in the case of a thermoplastic resin, a resin obtained by polymerizing a condensation polymerization resin or a vinyl monomer.

縮重合系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ乳酸、生分解性ポリエステル、ポリエステル系液晶ポリマーなどのポリエステル系樹脂;エチレンジアミン−アジピン酸重縮合体(ナイロン−66)、ナイロン−6、ナイロン−12、ポリアミド系液晶ポリマーなどのポリアミド樹脂;ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンオキシド、ポリメチレンオキシド、アセタール樹脂などのポリエーテル系樹脂;セルロースおよびその誘導体などの多糖類系樹脂;等が挙げられる。   Examples of the condensation polymerization resin include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polylactic acid, biodegradable polyester, and polyester liquid crystal polymer; ethylenediamine-adipic acid polycondensate (nylon-66), nylon-6 And polyamide resins such as nylon-12 and polyamide liquid crystal polymers; polyether resins such as polycarbonate resins, polyphenylene oxide, polymethylene oxide, and acetal resins; polysaccharide resins such as cellulose and derivatives thereof; and the like.

ビニルモノマーを重合して得られる樹脂としては、例えば、ポリオレフィン系樹脂;ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン、スチレン−エチレン−プロピレン共重合体(ポリスチレン−ポリ(エチレン/プロピレン)ブロック共重合体)、スチレン−エチレン−ブテン共重合体(ポリスチレン−ポリ(エチレン/ブテン)ブロック共重合体)、スチレン−エチレン−プロピレン−スチレン共重合体(ポリスチレン−ポリ(エチレン/プロピレン)−ポリスチレンブロック共重合体)、エチレン−スチレン共重合体などの不飽和芳香族含有樹脂;ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラールなどのポリビニルアルコール系樹脂;ポリメチルメタクリレート、モノマーとしてメタクリル酸エステル、アクリル酸エステル、メタクリル酸アミド、アクリル酸アミドを含むアクリル系樹脂;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどの塩素系樹脂、ポリテトラフルオロエチレン、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、エチレン−テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリフッ化ビニリデンなどのフッ素系樹脂;等が挙げられる。   Examples of resins obtained by polymerizing vinyl monomers include polyolefin resins; polystyrene, poly-α-methylstyrene, styrene-ethylene-propylene copolymers (polystyrene-poly (ethylene / propylene) block copolymers), Styrene-ethylene-butene copolymer (polystyrene-poly (ethylene / butene) block copolymer), styrene-ethylene-propylene-styrene copolymer (polystyrene-poly (ethylene / propylene) -polystyrene block copolymer), Unsaturated aromatic-containing resins such as ethylene-styrene copolymers; polyvinyl alcohol resins such as polyvinyl alcohol and polyvinyl butyral; polymethyl methacrylate, methacrylic acid ester, acrylic acid ester, methacrylic acid amide as monomers Acrylic resins containing chloric acid amides; chlorinated resins such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride, polytetrafluoroethylene, ethylene-tetrafluoroethylene copolymer, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, ethylene-tetra And fluororesin such as fluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer and polyvinylidene fluoride;

本発明の光触媒機能製品は、屋外においては勿論のこと、蛍光灯、ナトリウムランプ、
および白色発光ダイオードのような可視光源からの光しか受けない屋内環境においても、
光照射によって高い光触媒作用を示す。したがって、本発明の製造方法により得られた酸化タングステン粒子分散液または貴金属担持酸化タングステン粒子分散液を、例えば、天井材、タイル、ガラス、壁紙、壁材、床等の建築資材、自動車内装材(自動車インストルメントパネル、自動車用シート、自動車用天井材)、冷蔵庫やエアコン等の家電製品、衣類やカーテン等の繊維製品などに塗布して乾燥させると、屋内照明による光照射によって、ホルムアルデヒドやアセトアルデヒドなどの揮発性有機物、アルデヒド類、メルカプタン類、アンモニアなどの悪臭物質、窒素酸化物の濃度を低減させ、黄色ブドウ球菌、大腸菌、炭疽菌、結核菌、コレラ菌、ジフテリア菌、破傷風菌、ペスト菌、赤痢菌、ボツリヌス菌、およびレジオネラ菌等の病原菌等を死滅、分解、除去することができ、また、七面鳥ヘルぺスウイルス、マレック病ウイルス、伝染性ファブリキウス嚢病ウイルス、ニューカッスル病ウイルス、伝染性気管支炎ウイルス、伝染性喉頭気管炎、鳥脳脊髄炎ウイルス、鶏貧血ウイルス、鶏痘ウイルス、鳥類レオウイルス、鳥類白血病ウイルス、細網内皮症ウイルス、鳥類アデノウイルス及び出血性腸炎ウイルス、ヘルペスウイルス、天然痘ウイルス、牛痘ウイルス、水庖唐ウイルス、麻疹ウイルス、アデノウイルス、コクサッキーウイルス、カリシウイルス、レトロウイルス、コロナウイルス、鳥インフルエンザウイルス、ヒトインフルエンザウイルス、豚インフルエンザウイルス、ノロウイルス及びその組換え体等を無害化することができ、さらに、ダニアレルゲンやスギ花粉アレルゲン等のアレルゲンを無害化することができる。また、本発明の光触媒機能製品は、可視光線を照射すれば、充分な親水性を発揮し、防曇性を発現するだけでなく、汚れに水をかけるだけで容易に拭き取ることができるようになり、さらに帯電をも防止できる。
The photocatalytic functional product of the present invention can be used not only outdoors but also fluorescent lamps, sodium lamps,
And indoor environments that only receive light from visible light sources such as white light emitting diodes,
High photocatalytic action is exhibited by light irradiation. Therefore, the tungsten oxide particle dispersion or the noble metal-supported tungsten oxide particle dispersion obtained by the production method of the present invention can be used, for example, for building materials such as ceiling materials, tiles, glass, wallpaper, wall materials, floors, automobile interior materials ( Automotive instrument panels, automotive seats, automotive ceilings), home appliances such as refrigerators and air conditioners, textile products such as clothing and curtains, etc. When dried and exposed to light from indoor lighting, formaldehyde, acetaldehyde, etc. Volatile organic substances, aldehydes, mercaptans, ammonia and other malodorous substances, reduce the concentration of nitrogen oxides, Staphylococcus aureus, Escherichia coli, anthrax, tuberculosis, cholera, diphtheria, tetanus, plague, Kill, decompose, and remove pathogenic bacteria such as Shigella, Clostridium botulinum, and Legionella Turkey herpes virus, Marek's disease virus, infectious bursal disease virus, Newcastle disease virus, infectious bronchitis virus, infectious laryngotracheitis, avian encephalomyelitis virus, chicken anemia virus, fowlpox virus , Avian reovirus, avian leukemia virus, reticuloendotheliosis virus, avian adenovirus and hemorrhagic enteritis virus, herpes virus, smallpox virus, cowpox virus, varicella virus, measles virus, adenovirus, coxsackie virus, calicivirus, It can detoxify retrovirus, coronavirus, avian influenza virus, human influenza virus, swine influenza virus, norovirus and its recombinants, and further allergens such as mite allergen and cedar pollen allergen It is possible to Gaika. In addition, the photocatalytic functional product of the present invention is not only capable of exhibiting sufficient hydrophilicity and exhibiting antifogging properties when irradiated with visible light, but also can be easily wiped off by simply applying water to the dirt. In addition, charging can be prevented.

以下、実施例によって本発明をより詳細に説明するが、本発明はかかる実施例によって限定されるものではない。
なお、各実施例における測定法は、以下の通りである。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited by this Example.
In addition, the measuring method in each Example is as follows.

1.平均分散粒子径(nm)
マイクロトラックUPA粒度分析計(日機装(株)製)を用いて、動的散乱法により累積50%径と90%径を測定して、それぞれ分散粒子径d50(nm)およびd90(nm)とした。
1. Average dispersed particle size (nm)
Using a Microtrac UPA particle size analyzer (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.), the cumulative 50% diameter and 90% diameter were measured by the dynamic scattering method to obtain dispersed particle diameters d50 (nm) and d90 (nm), respectively. .

2.X線回折スペクトル
X線回折装置(リガク社製「RINT2000/PC」)を用いてX線回折スペクトルを測定し、そのX線回折スペクトルから結晶性のタングステン酸粒子の存在の有無を確認した。
2. X-ray diffraction spectrum The X-ray diffraction spectrum was measured using an X-ray diffractometer ("RINT2000 / PC" manufactured by Rigaku Corporation), and the presence or absence of crystalline tungstic acid particles was confirmed from the X-ray diffraction spectrum.

3.アセトアルデヒド分解能の測定
光触媒活性は、蛍光灯の光の照射下でのアセトアルデヒドの分解反応における一次反応速度定数を測定することにより評価した。すなわち、ガラス製シャーレ(外径70mm、内径66mm、高さ14mm、容量約48mL)に、得られた貴金属担持酸化タングステン粒子分散液を底面の単位面積あたりの固形分換算の滴下量が1g/mとなるように滴下し、シャーレの底面全体に均一に形成した。次いで、このシャーレを110℃の乾燥機内で大気中で1時間保持することにより乾燥させて、ガラス製シャーレの底面に光触媒体層を形成した。この光触媒体層に紫外線強度が2mW/cm(トプコン社製紫外線強度計「UVR−2」に同社製受光部「UD−36」を取り付けて測定)となるようにブラックライトからの紫外線を16時間照射して、これを光触媒活性測定用試料とした。
3. Measurement of acetaldehyde resolution The photocatalytic activity was evaluated by measuring the first-order rate constant in the decomposition reaction of acetaldehyde under irradiation of light from a fluorescent lamp. That is, in a glass petri dish (outer diameter: 70 mm, inner diameter: 66 mm, height: 14 mm, capacity: about 48 mL), the obtained noble metal-supported tungsten oxide particle dispersion liquid has a drop amount in terms of solid content per unit area of the bottom surface of 1 g / m. It was dripped so that it might become 2, and it formed uniformly in the whole bottom face of a petri dish. Next, the petri dish was dried by holding it in the air at 110 ° C. for 1 hour in the air to form a photocatalyst layer on the bottom of the glass petri dish. The photocatalyst layer has an ultraviolet intensity of 2 mW / cm 2 (measured by attaching a UV receiver “UD-36” to Topcon's UV intensity meter “UVR-2”) and receiving 16 UV rays from the black light. This was used as a sample for photocatalytic activity measurement after time irradiation.

次に、この光触媒活性測定用試料をシャーレごとガスバッグ(内容積1L)の中に入れて密閉し、次いで、このガスバッグ内を真空にした後、酸素と窒素との体積比が1:4である混合ガス0.6Lを封入し、さらにその中に1%アセトアルデヒドを含む窒素ガス3mLを封入して、暗所で室温下1時間保持した。その後、市販の白色蛍光灯を光源とし、測定用試料近傍での照度が1000lx(ミノルタ社製照度計「T−10」で測定)となるようにガスバッグの外から蛍光灯の光を照射し、アセトアルデヒドの分解反応を行った。このとき、測定試料近傍の紫外線の強度は、6.5μW/cm(トプコン社製紫外線強度計「UVR−2」に同社製受光部「UD−36」を取り付けて測定)であった。蛍光灯の光照射を開始してから1.5時間毎にガスバッグ内のガスをサンプリングし、アセトアルデヒドの濃度をガスクロマトグラフ(島津製作所社製「GC−14A」)にて測定した。そして照射時間に対するアセトアルデヒドの濃度から一次反応速度定数を算出し、これをアセトアルデヒド分解能として評価した。この一次反応速度定数が大きいほど、アセトアルデヒドの分解能、すなわち光触媒活性が高いと言える。 Next, the sample for photocatalytic activity measurement is put together with the petri dish in a gas bag (internal volume 1 L) and sealed, and then the inside of the gas bag is evacuated, and then the volume ratio of oxygen to nitrogen is 1: 4. Was mixed with 0.6 L of a mixed gas, and 3 mL of nitrogen gas containing 1% acetaldehyde was sealed therein, and the mixture was kept in the dark at room temperature for 1 hour. Then, using a commercially available white fluorescent lamp as the light source, irradiate the fluorescent lamp light from the outside of the gas bag so that the illuminance in the vicinity of the measurement sample is 1000 lx (measured with the illuminometer “T-10” manufactured by Minolta). Then, acetaldehyde was decomposed. At this time, the intensity of the ultraviolet rays in the vicinity of the measurement sample was 6.5 μW / cm 2 (measured by attaching a UV receiver “UD-36” manufactured by Topcon to an ultraviolet intensity meter “UVR-2” manufactured by Topcon). The gas in the gas bag was sampled every 1.5 hours after the light irradiation of the fluorescent lamp was started, and the concentration of acetaldehyde was measured with a gas chromatograph (“GC-14A” manufactured by Shimadzu Corporation). Then, a first-order rate constant was calculated from the concentration of acetaldehyde with respect to the irradiation time, and this was evaluated as acetaldehyde resolution. It can be said that the higher the first-order rate constant, the higher the resolution of acetaldehyde, that is, the photocatalytic activity.

(実施例1)
分散媒としてイオン交換水4kgに、酸化タングステン粒子(日本新金属製)1kgを加えて混合して混合物を得た。この混合物に湿式媒体撹拌ミル(コトブキ技研社製、「ウルトラアペックスミル UAM−1」)を使用して分散処理を施して酸化タングステン粒子分散液を得た。なお、分散処理の間、pH電極とこのpH電極に接続され、アンモニア水を供給してpHを一定に調整する制御機構を有するpHコントローラ(pH=2.5に設定)により、分散媒中にNHを添加して酸化タングステン粒子分散液のpHを2.5一定に保った。添加したNHの量は2.2gであった。
Example 1
As a dispersion medium, 1 kg of tungsten oxide particles (manufactured by Nippon Shin Metal Co., Ltd.) was added to 4 kg of ion-exchanged water and mixed to obtain a mixture. This mixture was subjected to a dispersion treatment using a wet medium stirring mill (manufactured by Kotobuki Giken Co., Ltd., “Ultra Apex Mill UAM-1”) to obtain a tungsten oxide particle dispersion. During the dispersion treatment, a pH controller (set to pH = 2.5) connected to the pH electrode and connected to the pH electrode, and having a control mechanism for adjusting the pH to a constant level by supplying ammonia water, NH 3 was added to keep the pH of the tungsten oxide particle dispersion at a constant 2.5. The amount of NH 3 added was 2.2 g.

得られた酸化タングステン粒子分散液における酸化タングステン粒子の分散粒子径のうちd50が67nmで、d90が116nmであった。さらに、この酸化タングステン粒子分散液を室温で7日間保管したところ、酸化タングステン粒子の分散粒子径のうちd50が65nmで、d90が123nmとなり、保管中に固液分離は見られなかった。なお、保管後の酸化タングステン粒子分散液のpHは3.4であった。
また、得られた酸化タングステン粒子分散液を真空乾燥して固形分を得、得られた固形分について、X線回折スペクトルを測定すると、図1に示す通り酸化タングステン(WO)のピークが観測された。一方、タングステン酸(HWO)のピークは観測されず、結晶性のタングステン酸粒子の生成は確認されなかった。
Of the dispersed particle diameter of the tungsten oxide particles in the obtained tungsten oxide particle dispersion, d50 was 67 nm and d90 was 116 nm. Further, when this tungsten oxide particle dispersion was stored at room temperature for 7 days, d50 was 65 nm and d90 was 123 nm out of the dispersion particle diameter of tungsten oxide particles, and solid-liquid separation was not observed during storage. The tungsten oxide particle dispersion after storage had a pH of 3.4.
Moreover, when the obtained tungsten oxide particle dispersion liquid is vacuum-dried to obtain a solid content, and the X-ray diffraction spectrum of the obtained solid content is measured, a peak of tungsten oxide (WO 3 ) is observed as shown in FIG. It was done. On the other hand, no peak of tungstic acid (H 2 WO 4 ) was observed, and generation of crystalline tungstic acid particles was not confirmed.

この酸化タングステン粒子分散液にヘキサクロロ白金酸(HPtCl)の水溶液をヘキサクロロ白金酸が白金原子換算で酸化タングステン粒子の使用量100質量部に対して0.12質量部になるように加え、ヘキサクロロ白金酸含有酸化タングステン粒子分散液を得た。この分散液100質量部中に含まれる固形分(酸化タングステン粒子の量)は、17質量部(固形分濃度17質量%)であった。 To this tungsten oxide particle dispersion, an aqueous solution of hexachloroplatinic acid (H 2 PtCl 6 ) is added so that hexachloroplatinic acid is 0.12 parts by mass with respect to 100 parts by mass of tungsten oxide particles in terms of platinum atoms, A hexachloroplatinic acid-containing tungsten oxide particle dispersion was obtained. The solid content (amount of tungsten oxide particles) contained in 100 parts by mass of this dispersion was 17 parts by mass (solid content concentration 17% by mass).

次いで、pH電極とこのpH電極に接続され、アンモニア水を供給してpHを一定に調整する制御機構を有するpHコントローラ(pH=3.5に設定)とを備え、水中殺菌灯(三共電気製「GLD15MQ」)を設置したガラス管(内径37mm、高さ360mm)からなる光照射装置で前記ヘキサクロロ白金酸含有酸化タングステン粒子分散液1200gを毎分1Lの速度で循環させ、光照射(紫外線)を行いながら、pHコントローラーによりアンモニア水を加えてヘキサクロロ白金酸含有酸化タングステン粒子分散液のpHを3.5にした。光照射を行った時間は2時間であった。その後、引き続き循環させながら、更にメタノールをその濃度が全溶媒の1質量%となるように加えて、光(紫外線)を3時間照射して、白金担持酸化タングステン粒子分散液を得た。光照射中、pHコントローラーによりアンモニア水が加えられ、分散液のpHは3.5に維持された。   Next, a pH controller (set to pH = 3.5) connected to the pH electrode and connected to the pH electrode and having a control mechanism for adjusting the pH to a constant level by supplying ammonia water is provided. 1200 g of the hexachloroplatinic acid-containing tungsten oxide particle dispersion is circulated at a rate of 1 L / min with a light irradiation device comprising a glass tube (inner diameter 37 mm, height 360 mm) provided with “GLD15MQ”), and light irradiation (ultraviolet rays) is performed. While performing, aqueous ammonia was added with a pH controller to adjust the pH of the hexachloroplatinic acid-containing tungsten oxide particle dispersion to 3.5. The time of light irradiation was 2 hours. Thereafter, while continuing to circulate, methanol was further added so that its concentration was 1% by mass of the total solvent, and irradiation with light (ultraviolet rays) was performed for 3 hours to obtain a platinum-supported tungsten oxide particle dispersion. During the light irradiation, aqueous ammonia was added by a pH controller, and the pH of the dispersion was maintained at 3.5.

得られた白金担持酸化タングステン粒子分散液を20℃で8日間保管したところ、固液分離は見られなかった。
また、得られた白金担持酸化タングステン粒子分散液を用いて形成した光触媒体層の光触媒活性を評価したところ、一次反応速度定数は0.12h−1であった。
When the obtained platinum-supported tungsten oxide particle dispersion was stored at 20 ° C. for 8 days, no solid-liquid separation was observed.
Moreover, when the photocatalytic activity of the photocatalyst body layer formed using the obtained platinum carrying | support tungsten oxide particle dispersion liquid was evaluated, the first-order rate constant was 0.12h- 1 .

(比較例1)
pHをpHコントローラーによるアンモニア水の添加を行わない以外は、実施例1と同様に操作して酸化タングステン粒子分散液を調製した。酸化タングステン粒子分散液のpHは2.1であった。
(Comparative Example 1)
A tungsten oxide particle dispersion was prepared in the same manner as in Example 1 except that ammonia water was not added with a pH controller. The pH of the tungsten oxide particle dispersion was 2.1.

得られた酸化タングステン粒子分散液における酸化タングステン粒子の分散粒子径のうちd50が97nmで、d90が123nmであった。さらに、この酸化タングステン粒子分散液を20℃で7日間保管したところ、酸化タングステン粒子の分散粒子径のうちd50が110nmで、d90が244nmとなり、保管中に固液分離が見られた。pHは2.5であった。
また、得られた酸化タングステン粒子分散液を真空乾燥して固形分を得、分散処理後の固形分について、X線回折スペクトルを測定すると、図1に示す通り酸化タングステン(WO)のピークに加えて、2θ=16.5°、25.5°付近(矢印で示す付近)にタングステン酸(HWO)のピークが観測され、結晶性のタングステン酸粒子の生成が確認された。
Of the dispersed particle diameter of the tungsten oxide particles in the obtained tungsten oxide particle dispersion, d50 was 97 nm and d90 was 123 nm. Furthermore, when this tungsten oxide particle dispersion was stored at 20 ° C. for 7 days, d50 was 110 nm and d90 was 244 nm out of the dispersion particle diameter of the tungsten oxide particles, and solid-liquid separation was observed during storage. The pH was 2.5.
Further, the obtained tungsten oxide particle dispersion is vacuum-dried to obtain a solid content. When the X-ray diffraction spectrum of the solid content after the dispersion treatment is measured, the peak of tungsten oxide (WO 3 ) is obtained as shown in FIG. In addition, the peak of tungstic acid (H 2 WO 4 ) was observed around 2θ = 16.5 ° and 25.5 ° (near the arrow), confirming the formation of crystalline tungstic acid particles.

実施例1の酸化タングステン粒子分散液は、分散安定性に優れ、固液分離が見られなかった。また、実施例1の白金担字酸化タングステン粒子分散液は、分散安定性に優れ、固液分離が見られず、さらに高い光触媒活性を示した。これに対し、比較例1の酸化タングステン粒子分散液は、分散安定性が低く、固液分離が見られた。 The tungsten oxide particle dispersion of Example 1 was excellent in dispersion stability and solid-liquid separation was not observed. Further, the platinum-supported tungsten oxide particle dispersion of Example 1 was excellent in dispersion stability, showed no solid-liquid separation, and exhibited higher photocatalytic activity. In contrast, the tungsten oxide particle dispersion of Comparative Example 1 had low dispersion stability and solid-liquid separation was observed.

(参考例1)
実施例1で得た酸化タングステン粒子分散液または貴金属担持酸化タングステン粒子分散液を、天井を構成する天井材の表面に塗布し乾燥させることにより、天井材の表面に光触媒体層を形成することができ、これによって、屋内照明による光照射により屋内空間における揮発性有機物(例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アセトン、トルエン等)や悪臭物質の濃度を低減することができ、黄色ブドウ球菌や大腸菌等の病原菌や、鳥インフルエンザウイルスやヒトインフルエンザウイルスや豚インフルエンザウイルス等のウイルスを死滅させることができ、また、ダニアレルゲンやスギ花粉アレルゲン等のアレルゲンを無害化することもできる。さらに、天井材の表面が親水化し、汚れを容易に拭き取ることができるようになり、さらに帯電をも防止できる。
(Reference Example 1)
The photocatalyst layer can be formed on the surface of the ceiling material by applying the tungsten oxide particle dispersion or the noble metal-supported tungsten oxide particle dispersion obtained in Example 1 to the surface of the ceiling material constituting the ceiling and drying. It is possible to reduce the concentration of volatile organic substances (for example, formaldehyde, acetaldehyde, acetone, toluene, etc.) and malodorous substances in indoor spaces by light irradiation with indoor lighting, and pathogens such as Staphylococcus aureus and Escherichia coli. Viruses such as avian influenza virus, human influenza virus, and swine influenza virus can be killed, and allergens such as mite allergens and cedar pollen allergens can be rendered harmless. Furthermore, the surface of the ceiling material becomes hydrophilic, so that dirt can be easily wiped off, and further, charging can be prevented.

(参考例2)
実施例1で得た酸化タングステン粒子分散液または貴金属担持酸化タングステン粒子分散液を、屋内の壁面に施工されたタイルに塗布し乾燥させることにより、タイル表面に光触媒体層を形成することができ、これによって、屋内照明による光照射により屋内空間における揮発性有機物(例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アセトン、トルエン等)や悪臭物質の濃度を低減することができ、黄色ブドウ球菌や大腸菌等の病原菌や、鳥インフルエンザウイルスやヒトインフルエンザウイルスや豚インフルエンザウイルス等のウイルスを死滅させることもでき、また、ダニアレルゲンやスギ花粉アレルゲン等のアレルゲンを無害化することもできる。さらに、タイルの表面が親水化し、汚れを容易に拭き取ることができるようになり、さらに帯電をも防止できる。
(Reference Example 2)
By applying and drying the tungsten oxide particle dispersion or the noble metal-supported tungsten oxide particle dispersion obtained in Example 1 on a tile constructed on an indoor wall surface, a photocatalyst layer can be formed on the tile surface. As a result, the concentration of volatile organic substances (for example, formaldehyde, acetaldehyde, acetone, toluene, etc.) and malodorous substances in indoor spaces can be reduced by light irradiation by indoor lighting, and pathogens such as Staphylococcus aureus and Escherichia coli, and birds Viruses such as influenza virus, human influenza virus, and swine influenza virus can be killed, and allergens such as mite allergens and cedar pollen allergens can be rendered harmless. Furthermore, the surface of the tile becomes hydrophilic, so that dirt can be easily wiped off, and charging can be prevented.

(参考例3)
実施例1で得た酸化タングステン粒子分散液または貴金属担持酸化タングステン粒子分散液を、窓ガラスの屋内側表面に塗布し乾燥させることにより、ガラス表面に光触媒体層を形成することができ、これによって、屋内照明による光照射により屋内空間における揮発性有機物(例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アセトン、トルエン等)や悪臭物質の濃度を低減することができ、黄色ブドウ球菌や大腸菌等の病原菌や、鳥インフルエンザウイルスやヒトインフルエンザウイルスや豚インフルエンザウイルス等のウイルスを死滅させることもでき、また、ダニアレルゲンやスギ花粉アレルゲン等のアレルゲンを無害化することもできる。さらに、窓ガラスの表面が親水化し、汚れを容易に拭き取ることができるようになり、さらに帯電をも防止できる。
(Reference Example 3)
By applying the tungsten oxide particle dispersion or the noble metal-supported tungsten oxide particle dispersion obtained in Example 1 to the indoor side surface of the window glass and drying, a photocatalyst layer can be formed on the glass surface. By irradiating light with indoor lighting, the concentration of volatile organic substances (for example, formaldehyde, acetaldehyde, acetone, toluene, etc.) and malodorous substances in indoor space can be reduced, pathogenic bacteria such as Staphylococcus aureus and Escherichia coli, and avian influenza virus In addition, viruses such as human influenza virus and swine influenza virus can be killed, and allergens such as mite allergens and cedar pollen allergens can be rendered harmless. Further, the surface of the window glass becomes hydrophilic, so that dirt can be easily wiped off, and further charging can be prevented.

(参考例4)
実施例1で得た酸化タングステン粒子分散液または貴金属担持酸化タングステン粒子分散液を、壁紙に塗布し乾燥させることにより、壁紙の表面に光触媒体層を形成することができ、さらにこの壁紙を屋内の壁面に施工することによって、屋内照明による光照射により屋内空間における揮発性有機物(例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アセトン、トルエン等)や悪臭物質の濃度を低減することができ、黄色ブドウ球菌や大腸菌等の病原菌や、鳥インフルエンザウイルスやヒトインフルエンザウイルスや豚インフルエンザウイルス等のウイルスを死滅させることもでき、また、ダニアレルゲンやスギ花粉アレルゲン等のアレルゲンを無害化することもできる。さらに、壁紙の表面が親水化し、汚れを容易に拭き取ることができるようになり、さらに帯電をも防止できる。
(Reference Example 4)
The tungsten oxide particle dispersion or the noble metal-supported tungsten oxide particle dispersion obtained in Example 1 can be applied to the wallpaper and dried to form a photocatalyst layer on the surface of the wallpaper. By constructing on the wall surface, it is possible to reduce the concentration of volatile organic substances (for example, formaldehyde, acetaldehyde, acetone, toluene, etc.) and malodorous substances in indoor space by light irradiation by indoor lighting, such as Staphylococcus aureus and Escherichia coli. It can also kill pathogenic bacteria, viruses such as avian influenza virus, human influenza virus, and swine influenza virus, and can also detoxify allergens such as mite allergens and cedar pollen allergens. Furthermore, the surface of the wallpaper becomes hydrophilic, so that dirt can be easily wiped off, and charging can be prevented.

(参考例5)
実施例1で得た酸化タングステン粒子分散液または貴金属担持酸化タングステン粒子分散液を、屋内の床面に塗布し乾燥させることにより、床面に光触媒体層を形成することができ、これによって、屋内照明による光照射により屋内空間における揮発性有機物(例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アセトン、トルエン等)や悪臭物質の濃度を低減することができ、黄色ブドウ球菌や大腸菌等の病原菌や、鳥インフルエンザウイルスやヒトインフルエンザウイルスや豚インフルエンザウイルス等のウイルスを死滅させることもでき、また、ダニアレルゲンやスギ花粉アレルゲン等のアレルゲンを無害化することもできる。さらに、床面の表面が親水化し、汚れを容易に拭き取ることができるようになり、さらに帯電をも防止できる。
(Reference Example 5)
The tungsten oxide particle dispersion or the noble metal-supported tungsten oxide particle dispersion obtained in Example 1 can be applied to the indoor floor surface and dried to form a photocatalyst layer on the floor surface. Light irradiation can reduce the concentration of volatile organic substances (for example, formaldehyde, acetaldehyde, acetone, toluene, etc.) and malodorous substances in indoor spaces, causing pathogens such as Staphylococcus aureus and Escherichia coli, avian influenza viruses and humans Viruses such as influenza virus and swine influenza virus can be killed, and allergens such as mite allergen and cedar pollen allergen can be rendered harmless. Furthermore, the surface of the floor becomes hydrophilic, so that dirt can be easily wiped off and charging can be prevented.

(参考例6)
実施例1で得た酸化タングステン粒子分散液または貴金属担持酸化タングステン粒子分散液を、自動車用インストルメントパネル、自動車用シート、自動車の天井材、自動車用ガラスの車内側などの自動車内装材の表面に塗布し乾燥させることにより、これら自動車内装材の表面に光触媒体層を形成することができ、これによって、車内照明による光照射により車内空間における揮発性有機物(例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アセトン、トルエン等)や悪臭物質の濃度を低減することができ、黄色ブドウ球菌や大腸菌等の病原菌や、鳥インフルエンザウイルスやヒトインフルエンザウイルスや豚インフルエンザウイルス等のウイルスを死滅させることもでき、また、ダニアレルゲンやスギ花粉アレルゲン等のアレルゲンを無害化することもできる。さらに、自動車内装材の表面が親水化し、汚れを容易に拭き取ることができるようになり、さらに帯電をも防止できる。
(Reference Example 6)
The tungsten oxide particle dispersion or the noble metal-supported tungsten oxide particle dispersion obtained in Example 1 is applied to the surface of an automobile interior material such as an instrument panel for automobiles, an automobile seat, an automobile ceiling material, and an automobile glass interior. By applying and drying, a photocatalyst layer can be formed on the surface of these automobile interior materials, and as a result, volatile organic substances (for example, formaldehyde, acetaldehyde, acetone, toluene etc.) ) And malodorous substances, and pathogens such as Staphylococcus aureus and Escherichia coli, and viruses such as avian influenza virus, human influenza virus and swine influenza virus can be killed. No allergens such as pollen allergens It can also be of. Furthermore, the surface of the automobile interior material becomes hydrophilic, so that dirt can be easily wiped off, and charging can be prevented.

(参考例7)
実施例1で得た貴金属担持光触媒体粒子分散液を、エアコンの表面に塗布し乾燥させることにより、エアコンの表面に光触媒体層を形成することができ、これによって、屋内照明による光照射により屋内空間における揮発性有機物(例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アセトン、トルエン等)や悪臭物質の濃度を低減することができ、黄色ブドウ球菌や大腸菌等の病原菌や、鳥インフルエンザウイルスやヒトインフルエンザウイルスや豚インフルエンザウイルス等のウイルスを死滅させることもでき、また、ダニアレルゲンやスギ花粉アレルゲン等のアレルゲンを無害化することもできる。さらに、エアコンの表面が親水化し、汚れを容易に拭き取ることができるようになり、さらに帯電をも防止できる。
(Reference Example 7)
The noble metal-supported photocatalyst particle dispersion obtained in Example 1 is applied to the surface of the air conditioner and dried, whereby a photocatalyst layer can be formed on the surface of the air conditioner. It can reduce the concentration of volatile organic substances (for example, formaldehyde, acetaldehyde, acetone, toluene, etc.) and malodorous substances in the space, pathogenic bacteria such as Staphylococcus aureus and Escherichia coli, avian influenza virus, human influenza virus and swine influenza virus Viruses can be killed, and allergens such as mite allergens and cedar pollen allergens can be rendered harmless. Furthermore, the surface of the air conditioner becomes hydrophilic, so that dirt can be easily wiped off, and charging can be prevented.

(参考例8)
実施例1で得た酸化タングステン粒子分散液または貴金属担持酸化タングステン粒子分散液を、冷蔵庫の庫内に塗布し乾燥させることにより、冷蔵庫内に光触媒体層を形成することができ、これによって、屋内照明や冷蔵庫内の光源による光照射により冷蔵庫内における揮発性有機物(例えば、エチレン等)や悪臭物質の濃度を低減することができ、黄色ブドウ球菌や大腸菌等の病原菌や、鳥インフルエンザウイルスやヒトインフルエンザウイルスや豚インフルエンザウイルス等のウイルスを死滅させることもでき、また、ダニアレルゲンやスギ花粉アレルゲン等のアレルゲンを無害化することもできる。さらに、冷蔵庫の庫内の表面が親水化し、汚れを容易に拭き取ることができるようになり、さらに帯電をも防止できる。
(Reference Example 8)
The tungsten oxide particle dispersion or the noble metal-supported tungsten oxide particle dispersion obtained in Example 1 can be applied to the refrigerator and dried to form a photocatalyst layer in the refrigerator. The concentration of volatile organic substances (such as ethylene) and malodorous substances in the refrigerator can be reduced by illumination or light irradiation from the light source in the refrigerator, and pathogens such as Staphylococcus aureus and Escherichia coli, avian influenza virus and human influenza Viruses such as viruses and swine influenza viruses can be killed, and allergens such as mite allergens and cedar pollen allergens can be rendered harmless. Furthermore, the surface in the refrigerator compartment becomes hydrophilic, so that dirt can be easily wiped off and charging can be prevented.

(参考例9)
実施例1で得た酸化タングステン粒子分散液または貴金属担持酸化タングステン粒子分散液を、電車のつり革、エレベーターのボタン等、不特定多数の人が接触する基材表面に塗布し乾燥させることにより、これら基材表面に光触媒体層を形成することができ、これによって、屋内照明による光照射により屋内空間における揮発性有機物(例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アセトン、トルエン等)や悪臭物質の濃度を低減することができ、黄色ブドウ球菌や大腸菌等の病原菌や、鳥インフルエンザウイルスやヒトインフルエンザウイルスや豚インフルエンザウイルス等のウイルスを死滅させることもでき、また、ダニアレルゲンやスギ花粉アレルゲン等のアレルゲンを無害化することもできる。さらに、基材表面が親水化し、汚れを容易に拭き取ることができるようになり、さらに帯電をも防止できる。
(Reference Example 9)
By applying the tungsten oxide particle dispersion liquid or the noble metal-supported tungsten oxide particle dispersion liquid obtained in Example 1 to the surface of a base material that is contacted by an unspecified number of people, such as train straps and elevator buttons, A photocatalyst layer can be formed on the surface of these substrates, thereby reducing the concentration of volatile organic substances (for example, formaldehyde, acetaldehyde, acetone, toluene, etc.) and malodorous substances in indoor spaces by light irradiation by indoor lighting. It can also kill pathogenic bacteria such as Staphylococcus aureus and Escherichia coli, viruses such as avian influenza virus, human influenza virus and swine influenza virus, and also render allergens such as mite allergen and cedar pollen allergen harmless. You can also Further, the surface of the base material becomes hydrophilic, so that dirt can be easily wiped off, and charging can be prevented.

Claims (5)

工程(a)、(b)を有する酸化タングステン粒子分散液を製造する方法であり、分散処理は、混合物中にアルカリ性化合物を添加しながら、湿式媒体撹拌ミルを使用して行われることを特徴とする酸化タングステン粒子分散液の製造方法。
(a)酸化タングステン粒子と分散媒を混合して混合物を得る。
(b)混合物を分散処理する。
A method for producing a tungsten oxide particle dispersion having steps (a) and (b), wherein the dispersion treatment is performed using a wet medium stirring mill while adding an alkaline compound to the mixture. A method for producing a tungsten oxide particle dispersion.
(A) A mixture is obtained by mixing tungsten oxide particles and a dispersion medium.
(B) Dispersing the mixture.
酸化タングステン粒子の含有量が、酸化タングステン粒子分散液100重量部に対し、15〜50重量部である請求項1に記載の製造方法。   The production method according to claim 1, wherein the content of the tungsten oxide particles is 15 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the tungsten oxide particle dispersion. 請求項1または2のいずれかに記載の製造方法により得られる酸化タングステン粒子分散液に、貴金属の前駆体を添加し、次いで酸化タングステン粒子のバンドギャップ以上のエネルギーを有する光を照射する貴金属担持酸化タングステン粒子分散液の製造方法。   A noble metal-supported oxidation in which a precursor of a noble metal is added to the tungsten oxide particle dispersion obtained by the production method according to claim 1 and then irradiated with light having energy higher than the band gap of the tungsten oxide particles. A method for producing a tungsten particle dispersion. 貴金属がCu、Pt、Au、Pd、Ag、Ru、Ir及びRhからなる群より選ばれる少なくとも1種である請求項3に記載の製造方法。   The production method according to claim 3, wherein the noble metal is at least one selected from the group consisting of Cu, Pt, Au, Pd, Ag, Ru, Ir, and Rh. 基材表面に光触媒体層を備える光触媒機能製品であって、前記光触媒体層が、請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法で得られる分散液を用いて形成される光触媒機能製品。   It is a photocatalyst functional product provided with a photocatalyst layer on the substrate surface, and the photocatalyst layer is formed using the dispersion obtained by the production method according to any one of claims 1 to 4.
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