JP2012113274A - プロジェクター - Google Patents
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Abstract
【課題】光の利用効率に優れたプロジェクターを提供する。
【解決手段】プロジェクターは、入射した光束を変調して画像を形成する光変調装置と、光変調装置を制御する制御装置とを備える。光変調装置は、画像を構成する画素毎に、入射した光束を通過させる第1の位置と、入射した光束を遮断する第2の位置との間を移動可能に構成されたシャッター88がそれぞれ設けられ、制御装置は、シャッター88を第1の位置と第2の位置との間の各位置に位置付けて遮光量を調整することで画素の階調を調整する。
【選択図】図5
【解決手段】プロジェクターは、入射した光束を変調して画像を形成する光変調装置と、光変調装置を制御する制御装置とを備える。光変調装置は、画像を構成する画素毎に、入射した光束を通過させる第1の位置と、入射した光束を遮断する第2の位置との間を移動可能に構成されたシャッター88がそれぞれ設けられ、制御装置は、シャッター88を第1の位置と第2の位置との間の各位置に位置付けて遮光量を調整することで画素の階調を調整する。
【選択図】図5
Description
本発明は、プロジェクターに関する。
従来、プロジェクターにおいて、入射した光束を画像情報に応じて変調して画像を形成する光変調装置として、液晶を用いた光変調装置の他、MEMS(Micro Electro Mechanical System)技術により製造した光変調装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。
特許文献1に記載の光変調装置は、画素毎に微小なミラーが配設され、当該微小なミラーの入射角度を制御することにより、光源から出射された光束を光変調して画像を形成するDMD(米国テキサスインスツルメンツ社の商標)で構成されている。
そして、このようなMEMS技術により製造した光変調装置では、液晶の熱劣化等の問題が生じることがなく、長寿命化が図り易いという利点がある。
特許文献1に記載の光変調装置は、画素毎に微小なミラーが配設され、当該微小なミラーの入射角度を制御することにより、光源から出射された光束を光変調して画像を形成するDMD(米国テキサスインスツルメンツ社の商標)で構成されている。
そして、このようなMEMS技術により製造した光変調装置では、液晶の熱劣化等の問題が生じることがなく、長寿命化が図り易いという利点がある。
しかしながら、光変調装置としてDMDを用いた場合には、光源から出射された光束を微小なミラーで反射させるため、その反射時に入射した光束の一部が微小なミラーによって吸収されてしまう。
すなわち、微小なミラーによって一部の光束が吸収された分、プロジェクターからの投影画像の輝度が低下することとなり、光源から出射された光束を効率的に利用することが難しい、という問題がある。
すなわち、微小なミラーによって一部の光束が吸収された分、プロジェクターからの投影画像の輝度が低下することとなり、光源から出射された光束を効率的に利用することが難しい、という問題がある。
本発明の目的は、光の利用効率に優れたプロジェクターを提供することにある。
本発明のプロジェクターは、入射した光束を変調して画像を形成する光変調装置と、前記光変調装置を制御する制御装置とを備えるプロジェクターであって、前記光変調装置は、前記画像を構成する画素毎に、入射した光束を通過させる第1の位置と、入射した光束を遮断する第2の位置との間を移動可能に構成されたシャッターがそれぞれ設けられ、前記制御装置は、前記シャッターを前記第1の位置と前記第2の位置との間の各位置に位置付けて遮光量を調整することで画素の階調を調整することを特徴とする。
ここで、遮光量とは、入射した光束におけるシャッターで遮られる光の量、すなわち、シャッターを通過しない光の量のことをいう。
本発明では、光変調装置は、シャッターを画素毎に設けた構成を有する。そして、この光変調装置は、各シャッターを第1の位置と第2の位置との間の各位置に位置付けて入射した光束の遮光量を調整することで光変調を実施し、画像を形成する。このように、光束の遮光量を調整するシャッターを用いて光変調を行うため、従来のDMDを用いて光変調を行う場合と比較して、画像を構成する光がミラー等で吸収されることがなく、光の利用効率を向上できる。
また、シャッターの位置に応じて入射した光束の遮光量を調整することで、画素の階調を制御できるので、パルス幅変調により階調を制御する場合のように、時分割でシャッターの位置を第1の位置または第2の位置に切り替える制御を行う必要がないことから、階調を制御するための構成を簡素化できる。
本発明では、光変調装置は、シャッターを画素毎に設けた構成を有する。そして、この光変調装置は、各シャッターを第1の位置と第2の位置との間の各位置に位置付けて入射した光束の遮光量を調整することで光変調を実施し、画像を形成する。このように、光束の遮光量を調整するシャッターを用いて光変調を行うため、従来のDMDを用いて光変調を行う場合と比較して、画像を構成する光がミラー等で吸収されることがなく、光の利用効率を向上できる。
また、シャッターの位置に応じて入射した光束の遮光量を調整することで、画素の階調を制御できるので、パルス幅変調により階調を制御する場合のように、時分割でシャッターの位置を第1の位置または第2の位置に切り替える制御を行う必要がないことから、階調を制御するための構成を簡素化できる。
本発明のプロジェクターでは、前記シャッターは、開口部を備え、前記開口部の開口方向に沿う回転軸を中心として回転可能に構成され、前記制御装置は、前記シャッターを回転させ、前記開口部を介して光束を通過させる前記第1の位置と前記開口部を除く部位にて光束を遮断する前記第2の位置との間の各位置に位置付けることが好ましい。
本発明では、制御装置は、回転軸を中心として回転可能なシャッターを第1の位置と第2の位置との間の各位置に位置付ける構成であるため、単にスライド移動させるシャッター等と比較して、弱い力で容易にシャッターを移動させることができる。
本発明では、制御装置は、回転軸を中心として回転可能なシャッターを第1の位置と第2の位置との間の各位置に位置付ける構成であるため、単にスライド移動させるシャッター等と比較して、弱い力で容易にシャッターを移動させることができる。
本発明のプロジェクターでは、前記開口部は、前記シャッターの回転方向に沿って延び、前記回転方向に直交する方向の幅が前記第1の位置から前記第2の位置への回転方向において次第に小さくなる形状を有することが好ましい。
本発明では、開口部を、シャッターの回転方向に沿って延び、当該回転方向に直交する方向の幅が第1の位置から第2の位置への回転方向において次第に小さくなる形状としている。このため、シャッターを回転させることで開口部の幅に応じて遮光量を調整できるので、開口部の形状を適宜設定することで、遮光量の変化の程度、すなわち、画素の階調の変化の程度を適宜、設定できる。
本発明では、開口部を、シャッターの回転方向に沿って延び、当該回転方向に直交する方向の幅が第1の位置から第2の位置への回転方向において次第に小さくなる形状としている。このため、シャッターを回転させることで開口部の幅に応じて遮光量を調整できるので、開口部の形状を適宜設定することで、遮光量の変化の程度、すなわち、画素の階調の変化の程度を適宜、設定できる。
本発明のプロジェクターでは、前記シャッターは、入射した光束を反射させるミラーを光入射側の端面に備えることが好ましい。
本発明では、シャッターを通過しなかった光束をミラーによって反射させるため、シャッターへの光の吸収を防止でき、ミラーを有していないシャッターによって単に光束を遮断した場合と比較して、シャッターの温度上昇を防止できる。
本発明では、シャッターを通過しなかった光束をミラーによって反射させるため、シャッターへの光の吸収を防止でき、ミラーを有していないシャッターによって単に光束を遮断した場合と比較して、シャッターの温度上昇を防止できる。
本発明のプロジェクターでは、前記シャッターに対して光路上流側に位置し、入射した光束を集光する集光レンズを備えることが好ましい。
本発明では、シャッターに対して光路上流側に集光レンズが位置していることで、シャッターは、入射した光束を遮断する際、集光レンズで集光された光束を遮断すればよいため、集光レンズを用いない構成と比較して、シャッター自体を小型化できる。
本発明では、シャッターに対して光路上流側に集光レンズが位置していることで、シャッターは、入射した光束を遮断する際、集光レンズで集光された光束を遮断すればよいため、集光レンズを用いない構成と比較して、シャッター自体を小型化できる。
以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。
〔プロジェクターの構成〕
図1は、プロジェクター1の概略構成を模式的に示す図である。
プロジェクター1は、光源から出射された光束を変調して画像を形成し、該画像をスクリーン等の投射面上に投射する。このプロジェクター1は、図1に示すように、略直方体状の外装筺体2と、この外装筺体2内部に収納配置される光学ユニット3と、制御装置11とで概略構成される。
なお、具体的な図示は省略するが、外装筺体2内部には、光学ユニット3及び制御装置11の他、プロジェクター1の構成部材に外部からの電力を供給する電源ユニット、プロジェクター1内部を冷却する冷却ユニット等が配置されるものとする。
〔プロジェクターの構成〕
図1は、プロジェクター1の概略構成を模式的に示す図である。
プロジェクター1は、光源から出射された光束を変調して画像を形成し、該画像をスクリーン等の投射面上に投射する。このプロジェクター1は、図1に示すように、略直方体状の外装筺体2と、この外装筺体2内部に収納配置される光学ユニット3と、制御装置11とで概略構成される。
なお、具体的な図示は省略するが、外装筺体2内部には、光学ユニット3及び制御装置11の他、プロジェクター1の構成部材に外部からの電力を供給する電源ユニット、プロジェクター1内部を冷却する冷却ユニット等が配置されるものとする。
光学ユニット3は、外装筺体2内部に配置され、画像を形成して投射する。この光学ユニット3は、図1に示すように、光源ランプ4A及びリフレクター4Bを有する光源装置4と、レンズアレイ5A,5B、及び重畳レンズ5Cを有する照明光学装置5と、ダイクロイックミラー6A,6B、及び反射ミラー6Cを有する色分離光学装置6と、入射側レンズ7A、リレーレンズ7C、及び反射ミラー7B,7Dを有するリレー光学装置7と、3つのフィールドレンズ8Aと、3つの光変調装置8R,8G,8B(赤色光側の光変調装置を8R、緑色光側の光変調装置を8G、青色光側の光変調装置を8Bとする)、及び色合成光学装置としてのクロスダイクロイックプリズム8Cを有する光学装置8と、投射光学装置としての投射レンズ9と、各光学部品4〜8を収納するとともに投射レンズ9を支持する光学部品用筐体10とを備える。
そして、光学ユニット3では、上述した構成により、光源装置4から出射され照明光学装置5を介した光束は、色分離光学装置6にてR,G,Bの3つの色光に分離される。また、分離された各色光は、フィールドレンズ8Aで各々略平行光とされ、各光変調装置8R,8G,8Bにてそれぞれ変調される。変調された各色光は、プリズム8Cにて合成されてカラー画像となり、投射レンズ9にてスクリーンに投射される。
制御装置11は、外装筺体2内部に配置され、プロジェクター1全体を制御する。具体的に、制御装置11は、光学ユニット3が備える光変調装置8R,8G,8Bを制御して、画像情報(画像信号)に基づく画像を光変調装置8R,8G,8Bに形成させる。
そして、光学ユニット3では、上述した構成により、光源装置4から出射され照明光学装置5を介した光束は、色分離光学装置6にてR,G,Bの3つの色光に分離される。また、分離された各色光は、フィールドレンズ8Aで各々略平行光とされ、各光変調装置8R,8G,8Bにてそれぞれ変調される。変調された各色光は、プリズム8Cにて合成されてカラー画像となり、投射レンズ9にてスクリーンに投射される。
制御装置11は、外装筺体2内部に配置され、プロジェクター1全体を制御する。具体的に、制御装置11は、光学ユニット3が備える光変調装置8R,8G,8Bを制御して、画像情報(画像信号)に基づく画像を光変調装置8R,8G,8Bに形成させる。
〔光変調装置の構成〕
図2及び図3は、光変調装置8Rを模式的に示す図である。具体的に、図2は、光変調装置8Rの光入射側を部分的に平面視した正面図であり、図3は、図2に示す光変調装置8Rの側面図である。なお、以下、代表して光変調装置8Rについて説明するが、光変調装置8G,8Bについても同様の構成である。また、図2では、便宜上、図3に示すマイクロレンズ84,85は図示を省略している(以下の図5及び図7についても同様である)。
図2及び図3は、光変調装置8Rを模式的に示す図である。具体的に、図2は、光変調装置8Rの光入射側を部分的に平面視した正面図であり、図3は、図2に示す光変調装置8Rの側面図である。なお、以下、代表して光変調装置8Rについて説明するが、光変調装置8G,8Bについても同様の構成である。また、図2では、便宜上、図3に示すマイクロレンズ84,85は図示を省略している(以下の図5及び図7についても同様である)。
光変調装置8Rは、図2及び図3に示すように、複数の変調部80A、支持部材81、複数の走査(ゲート)線82、及び複数の信号線83を備えている。なお、図3においては、便宜上、走査線82及び信号線83を省略している。
支持部材81は、光を透過させるガラス等の透光性材料で板状に構成されている。
この支持部材81には、複数の走査線82と、複数の信号線83とが形成されている。
支持部材81は、光を透過させるガラス等の透光性材料で板状に構成されている。
この支持部材81には、複数の走査線82と、複数の信号線83とが形成されている。
複数の走査線82は、支持部材81において、行方向(図2中、左右方向)に延びるようにそれぞれ形成され、列方向(図2中、上下方向)に並設されている。そして、複数の走査線82は、図1に示す制御装置11から出力される制御信号を、後述する回路部86に供給する。
複数の信号線83は、支持部材81において、列方向に延びるようにそれぞれ形成され、行方向に並設されている。そして、複数の信号線83は、制御装置11から出力される駆動信号を回路部86に供給する。
複数の信号線83は、支持部材81において、列方向に延びるようにそれぞれ形成され、行方向に並設されている。そして、複数の信号線83は、制御装置11から出力される駆動信号を回路部86に供給する。
変調部80Aは、画像を構成する画素毎にそれぞれ設けられている。変調部80Aは、走査線82及び信号線83の各交差部に対応してマトリクス状に配されている。例えば、光変調装置8Rによって1024×768画素の画像を生成する場合には、光変調装置8Rは、1024×768個の変調部80Aを備える。
変調部80Aは、図2及び図3に示すように、マイクロレンズ84,85(図3)と、回路部86と、駆動手段としての圧電素子87と、シャッター88とを備える。
集光レンズとしての第1のマイクロレンズ84は、支持部材81の光入射側(後述するシャッター88に対して光路上流側)に配設され、フィールドレンズ8Aから出射された光束を焦点位置P(図3)に集光する。
第2のマイクロレンズ85は、支持部材81の光出射側に配設されている。より具体的に、第2のマイクロレンズ85は、焦点位置が第1のマイクロレンズ84の焦点位置Pに一致するように配設されている。そして、第2のマイクロレンズ85は、第1のマイクロレンズ84が集光した光束を略平行光として出射する。
集光レンズとしての第1のマイクロレンズ84は、支持部材81の光入射側(後述するシャッター88に対して光路上流側)に配設され、フィールドレンズ8Aから出射された光束を焦点位置P(図3)に集光する。
第2のマイクロレンズ85は、支持部材81の光出射側に配設されている。より具体的に、第2のマイクロレンズ85は、焦点位置が第1のマイクロレンズ84の焦点位置Pに一致するように配設されている。そして、第2のマイクロレンズ85は、第1のマイクロレンズ84が集光した光束を略平行光として出射する。
図4は、回路部86の構成を示す回路図である。
回路部86は、各変調部80A、すなわち一画素毎に支持部材81に設けられ、圧電素子87に印加する電圧を保持する電圧保持機構として機能する。この回路部86は、図4に示すように、コンデンサーC1と、トランジスターT1とを有している。具体的に、トランジスターT1は、NPN型トランジスターで構成されている。
回路部86は、各変調部80A、すなわち一画素毎に支持部材81に設けられ、圧電素子87に印加する電圧を保持する電圧保持機構として機能する。この回路部86は、図4に示すように、コンデンサーC1と、トランジスターT1とを有している。具体的に、トランジスターT1は、NPN型トランジスターで構成されている。
前述した走査線82がトランジスターT1のベースに接続されている。また、前述した信号線83がコンデンサーC1の一端に接続されている。コンデンサーC1の他端は、トランジスターT1のコレクターに接続されており、トランジスターT1のエミッターは、GNDに接続(接地)されている。
これにより、回路部86は、前述した制御信号に応じてトランジスターT1の導通状態と非導通状態とを切り替え可能に構成され、前述した駆動信号に基づいて圧電素子87に電圧を印加可能に構成される。詳述すると、制御装置11によって走査線82に制御信号としてパルス状の電圧が印加されたときに、信号線83における制御装置11からの駆動信号の電圧によってコンデンサーC1が充電される。そして、このコンデンサーC1の電圧が圧電素子87に印加される。
このように、圧電素子87の駆動(圧電素子87への駆動電圧の印加)は、制御装置11により制御される。
駆動手段としての圧電素子87は、回路部86による電圧の印加状態、すなわち、コンデンサーC1の電圧に応じて伸縮する。この圧電素子87は、図2に示すように、伸縮方向の一端が回路部86に支持される。
これにより、回路部86は、前述した制御信号に応じてトランジスターT1の導通状態と非導通状態とを切り替え可能に構成され、前述した駆動信号に基づいて圧電素子87に電圧を印加可能に構成される。詳述すると、制御装置11によって走査線82に制御信号としてパルス状の電圧が印加されたときに、信号線83における制御装置11からの駆動信号の電圧によってコンデンサーC1が充電される。そして、このコンデンサーC1の電圧が圧電素子87に印加される。
このように、圧電素子87の駆動(圧電素子87への駆動電圧の印加)は、制御装置11により制御される。
駆動手段としての圧電素子87は、回路部86による電圧の印加状態、すなわち、コンデンサーC1の電圧に応じて伸縮する。この圧電素子87は、図2に示すように、伸縮方向の一端が回路部86に支持される。
シャッター88は、図2及び図3に示すように、円盤状に構成されており、中心位置から外れた位置に開口部88Aを有する。そして、シャッター88は、その略中心位置が、図3に示すように、支持部材81の光入射側の端面から開口部88Aの開口方向に沿って突出した回転軸81Aに接続し、回転軸81Aを中心として回転可能に軸支されている。
ここで、開口部88Aは、図2に示すように、円孔部88Bと、シャッター88の回転方向に沿って延びる延出部88Cとを結合した形状を有し、径方向の開口幅(回転方向に直交する方向の幅)が次第に小さくなるように構成されている。具体的に、延出部88Cは、外周側の端縁が円孔部88Bの外側(シャッター88の周縁側)からシャッター88の周縁に沿うように形成され、円孔部88Bから離れた先端部に向かうに連れて開口幅が次第に小さくなるように内周側の端縁が曲線状に形成されている。
また、シャッター88は、図3に示すように、光入射側の端面にミラー88Dを有する。つまり、シャッター88は、光入射側の端面が反射面となっている。例えば、このミラー88Dは、シャッター88にアルミニウム等の光反射率の高い部材を成膜することで形成できる。
そして、前述した圧電素子87の伸縮方向の他端は、図2に示すように、シャッター88の周端部88Eに接続されている。すなわち、シャッター88は、圧電素子87の伸縮により周端部88Eに力が加えられることで、回転軸81Aを中心として回転することとなる。
そして、前述した圧電素子87の伸縮方向の他端は、図2に示すように、シャッター88の周端部88Eに接続されている。すなわち、シャッター88は、圧電素子87の伸縮により周端部88Eに力が加えられることで、回転軸81Aを中心として回転することとなる。
〔光変調装置の動作〕
光変調装置8Rは、以下に説明するように、制御装置11によって各変調部80Aの動作を制御することで画像の赤色光の階調を制御する。なお、制御装置11は、具体的に、シフトレジスター(図示略)に記憶させた電圧をライン走査することで、二次元の画面内の各変調部80A(各画素)にそれぞれ異なった電圧を伝達可能に構成されている。すなわち、各圧電素子87にそれぞれ異なった電圧を印加可能となっている。
光変調装置8Rは、以下に説明するように、制御装置11によって各変調部80Aの動作を制御することで画像の赤色光の階調を制御する。なお、制御装置11は、具体的に、シフトレジスター(図示略)に記憶させた電圧をライン走査することで、二次元の画面内の各変調部80A(各画素)にそれぞれ異なった電圧を伝達可能に構成されている。すなわち、各圧電素子87にそれぞれ異なった電圧を印加可能となっている。
図5は、変調部80Aの動作を説明するための正面図である。
シャッター88は、圧電素子87が縮んだ状態では、図5(A)に示すように、第1のマイクロレンズ84で集光された光束(図5中の一点鎖線)が、全て開口部88Aと重なり、第1のマイクロレンズ84によって集光された光束を、開口部88Aを介して全て通過させる第1の位置に位置付けられる。そして、開口部88Aを介して通過させた光束は、第2のマイクロレンズ85に入射し、第2のマイクロレンズ85で平行化されてプリズム8Cに出射される。
シャッター88は、圧電素子87が縮んだ状態では、図5(A)に示すように、第1のマイクロレンズ84で集光された光束(図5中の一点鎖線)が、全て開口部88Aと重なり、第1のマイクロレンズ84によって集光された光束を、開口部88Aを介して全て通過させる第1の位置に位置付けられる。そして、開口部88Aを介して通過させた光束は、第2のマイクロレンズ85に入射し、第2のマイクロレンズ85で平行化されてプリズム8Cに出射される。
また、シャッター88は、圧電素子87が少し伸びた状態では、図5(B)に示すように、第1のマイクロレンズ84で集光された光束の一部分が、開口部88Aと重なり、他の部分が開口部88Aと重ならないことで、第1のマイクロレンズ84によって集光された光束の一部を、開口部88Aを介して通過させ、残りを遮断する。そして、シャッター88(開口部88Aを除く部位)によって遮断された光束は、ミラー88Dで反射され、フィールドレンズ8A側に戻される。
また、シャッター88は、圧電素子87がさらに伸びた状態では、図5(C)に示すように、第1のマイクロレンズ84で集光された光束が、全く開口部88Aと重ならず、第1のマイクロレンズ84によって集光された光束を全て遮断する第2の位置に位置付けられる。そして、シャッター88(開口部88Aを除く部位)によって遮断された光束は、ミラー88Dで反射され、フィールドレンズ8A側に戻される。
このシャッター88による光束の遮光量は、開口部88Aの周方向の幅が第1の位置から第2の位置への回転方向において次第に小さくなっているため、シャッター88が第1の位置から第2の位置に近づくにつれて大きくなり、第2の位置から第1の位置に近づくにつれて小さくなる。このように、光変調装置8Rは、各変調部80Aにおけるシャッター88の回転角を制御すること、すなわち、圧電素子87に印加する電圧を制御し、圧電素子87の変位量を調整することで画像の階調を制御する。
図6は、光変調装置8Rでの階調制御を説明するための図である。具体的に、図6は、圧電素子87に印加する電圧〔V〕と、シャッター88による遮光率〔%〕(変調部80Aにおける入射光に対する遮光量の比率)の関係を示す。
圧電素子87に電圧を印加しない場合(電圧が0の場合)には、圧電素子87は、図5(A)に示す縮んだ状態を維持する。これにより、図6に示すように、遮光率が0%となり、この赤色光の階調は100%となる。
圧電素子87に電圧を印加することで圧電素子87が伸びる。印加する電圧を高くするにつれて圧電素子87が伸び、シャッター88が第1の位置から第2の位置に向かう方向に回転していき、遮光率が徐々に高くなる。さらに電圧を高くすると、圧電素子87がさらに伸び、シャッター88が第2の位置に移動すると、遮光率が100%となる。つまり、この赤色光の階調は0%となる。
この圧電素子87に印加する電圧と遮光率との関係は、圧電素子87の特性に応じて開口部88Aの形状を変更することで自由に設定可能であり、線形であってもよいし、非線形であってもよい。例えば、この制御装置11による電圧の制御は、予め記憶装置(図示略)に記憶しておいた変換テーブルを参照して行うことができる。
圧電素子87に電圧を印加しない場合(電圧が0の場合)には、圧電素子87は、図5(A)に示す縮んだ状態を維持する。これにより、図6に示すように、遮光率が0%となり、この赤色光の階調は100%となる。
圧電素子87に電圧を印加することで圧電素子87が伸びる。印加する電圧を高くするにつれて圧電素子87が伸び、シャッター88が第1の位置から第2の位置に向かう方向に回転していき、遮光率が徐々に高くなる。さらに電圧を高くすると、圧電素子87がさらに伸び、シャッター88が第2の位置に移動すると、遮光率が100%となる。つまり、この赤色光の階調は0%となる。
この圧電素子87に印加する電圧と遮光率との関係は、圧電素子87の特性に応じて開口部88Aの形状を変更することで自由に設定可能であり、線形であってもよいし、非線形であってもよい。例えば、この制御装置11による電圧の制御は、予め記憶装置(図示略)に記憶しておいた変換テーブルを参照して行うことができる。
上述した一実施形態では、以下の効果がある。
光変調装置8R,8G,8Bは、シャッター88を画素毎に設けた構成を有する。そして、この光変調装置8R,8G,8Bは、各シャッター88を第1の位置と第2の位置との間の各位置に位置付けて入射した光束の遮光量を調整することで光変調を実施し、画像を形成する。
このように、光変調装置8R、8G,8Bは、光変調にシャッター88を用いるため、従来のDMDを用いた場合と比較して、画像を構成する光がミラー等で吸収されることはなく、光の利用効率を向上できる。
また、従来のDMDを用いた場合と同様に、液晶の熱劣化等の問題が生じることがなく、長寿命化が図りやすい。
さらに、シャッター88の位置に応じて入射した光束の遮光量を調整することで、画素の階調を制御できるので、パルス幅変調により階調を制御する場合のように、時分割でシャッターの位置を第1の位置または第2の位置に切り替える制御を行う必要がないことから、階調を制御するための構成を簡素化できる。
光変調装置8R,8G,8Bは、シャッター88を画素毎に設けた構成を有する。そして、この光変調装置8R,8G,8Bは、各シャッター88を第1の位置と第2の位置との間の各位置に位置付けて入射した光束の遮光量を調整することで光変調を実施し、画像を形成する。
このように、光変調装置8R、8G,8Bは、光変調にシャッター88を用いるため、従来のDMDを用いた場合と比較して、画像を構成する光がミラー等で吸収されることはなく、光の利用効率を向上できる。
また、従来のDMDを用いた場合と同様に、液晶の熱劣化等の問題が生じることがなく、長寿命化が図りやすい。
さらに、シャッター88の位置に応じて入射した光束の遮光量を調整することで、画素の階調を制御できるので、パルス幅変調により階調を制御する場合のように、時分割でシャッターの位置を第1の位置または第2の位置に切り替える制御を行う必要がないことから、階調を制御するための構成を簡素化できる。
また、制御装置11は、回転軸81Aを中心として回転可能なシャッター88を第1の位置と第2の位置との間の各位置に位置付ける構成であるため、単にスライド移動させるシャッター等と比較して、弱い力で容易にシャッター88を移動させることができる。
さらに、開口部88Aを、シャッター88の回転方向に沿って延び、径方向の幅が第1の位置から第2の位置への回転方向において次第に小さくなる形状としている。このため、シャッター88を回転させることで開口部88Aの幅に応じて遮光量を調整できるので、開口部88Aの形状を適宜設定することで、遮光量の変化の程度、すなわち、画素の階調の変化の程度を適宜、設定できる。
また、シャッター88を通過しなかった光束をミラー88Dによって反射させるため、シャッター88への光の吸収を防止でき、ミラー88Dを有していないシャッターによって単に光束を遮断した場合と比較して、シャッター88の温度上昇を防止できる。
さらに、ミラー88Dで反射された光を光束の光路に戻している。これにより、シャッター88で遮断された光束を、リフレクター4Bまで戻して再度リフレクター4Bで反射させ、画像を形成する光として再利用できるので、光の利用効率をより向上できる。
さらに、開口部88Aを、シャッター88の回転方向に沿って延び、径方向の幅が第1の位置から第2の位置への回転方向において次第に小さくなる形状としている。このため、シャッター88を回転させることで開口部88Aの幅に応じて遮光量を調整できるので、開口部88Aの形状を適宜設定することで、遮光量の変化の程度、すなわち、画素の階調の変化の程度を適宜、設定できる。
また、シャッター88を通過しなかった光束をミラー88Dによって反射させるため、シャッター88への光の吸収を防止でき、ミラー88Dを有していないシャッターによって単に光束を遮断した場合と比較して、シャッター88の温度上昇を防止できる。
さらに、ミラー88Dで反射された光を光束の光路に戻している。これにより、シャッター88で遮断された光束を、リフレクター4Bまで戻して再度リフレクター4Bで反射させ、画像を形成する光として再利用できるので、光の利用効率をより向上できる。
また、シャッター88に対して光路上流側にマイクロレンズ84が位置していることで、シャッター88は、入射した光束を遮断する際、マイクロレンズ84で集光された光束を遮断すればよいため、マイクロレンズ84を用いない構成と比較して、シャッター88自体を小型化できる。
また、変調部80Aは、入射した光束をマイクロレンズ84で集光し、集光された光束の通過または遮断をシャッター88によって切り替えるので、マイクロレンズ84により集光しない場合と比較して、光の利用効率をさらに向上させることができる。シャッター88が第1の位置に移動されている場合に、フィールドレンズ8Aから出射される光束を、マイクロレンズ84で無駄なく集光して開口部88Aを通過させることができるため、開口率略100%を実現することができる。
また、変調部80Aは、入射した光束をマイクロレンズ84で集光し、集光された光束の通過または遮断をシャッター88によって切り替えるので、マイクロレンズ84により集光しない場合と比較して、光の利用効率をさらに向上させることができる。シャッター88が第1の位置に移動されている場合に、フィールドレンズ8Aから出射される光束を、マイクロレンズ84で無駄なく集光して開口部88Aを通過させることができるため、開口率略100%を実現することができる。
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、前記実施形態における光変調装置8R,8G,8Bを構成する各部材の形状、位置等は、図示したものに限定されず、種々の変形が可能である。
例えば、前記実施形態における光変調装置8R,8G,8Bを構成する各部材の形状、位置等は、図示したものに限定されず、種々の変形が可能である。
図7は、変調部の変形例を説明するための図である。
図7に示す変形例における変調部80B,80Cは、前記実施形態における変調部80Aとシャッター88における開口部の形状が相違する。他の部分は、前記実施形態と同様である。
図7に示す変形例における変調部80B,80Cは、前記実施形態における変調部80Aとシャッター88における開口部の形状が相違する。他の部分は、前記実施形態と同様である。
図7(A)に示す変調部80Bのシャッター89は、前記実施形態の開口部88Aよりも、円孔部89Bと延出部89Cとで構成される開口部89Aが延出部89C側で絞られており、延出部89Cの先端部の幅が細く形成されている。これにより、黒側の階調性を高めることができる。
一方、図7(B)に示す変調部80Cのシャッター90は、前記実施形態の開口部88Aほど、円孔部90Bと延出部90Cとで構成される開口部90Aが延出部90C側で絞られておらず、延出部90Cの先端部の幅が太く形成されている。これにより、白側の階調性を高めることができる。
このように、開口部の形状は、第1の位置から第2の位置に近づくにつれて入射した光束の遮光量が多くなる構成であればよく、前記実施形態で例示したものに限定されるものではない。なお、マイクロレンズ84で集光された光束の光密度は、均一ではない(中心部の密度が外周部の密度よりも高い)ため、開口部の形状は、この光密度に応じた形状とすることが好ましい。
また、前記実施形態では、シャッター88に開口部88Aを設けることで光束の遮光量を調整したが、開口部88Aに換えてシャッター88に一部を切り欠いた切欠部を設けることで、光束の遮光量を調整する構成であってもよい。
一方、図7(B)に示す変調部80Cのシャッター90は、前記実施形態の開口部88Aほど、円孔部90Bと延出部90Cとで構成される開口部90Aが延出部90C側で絞られておらず、延出部90Cの先端部の幅が太く形成されている。これにより、白側の階調性を高めることができる。
このように、開口部の形状は、第1の位置から第2の位置に近づくにつれて入射した光束の遮光量が多くなる構成であればよく、前記実施形態で例示したものに限定されるものではない。なお、マイクロレンズ84で集光された光束の光密度は、均一ではない(中心部の密度が外周部の密度よりも高い)ため、開口部の形状は、この光密度に応じた形状とすることが好ましい。
また、前記実施形態では、シャッター88に開口部88Aを設けることで光束の遮光量を調整したが、開口部88Aに換えてシャッター88に一部を切り欠いた切欠部を設けることで、光束の遮光量を調整する構成であってもよい。
図8は、プロジェクターの変形例を説明するための図である。
前記実施形態では、RGB毎に3つの光変調装置8R,8G,8Bを用いる三板式のプロジェクター1に適用したが、これに限らず、図8に示すような単板式のプロジェクターに適用してもよい。
この変形例によるプロジェクターでは、照明光学装置5の後段に色切替光学装置12を設ける。色切替光学装置12は、円盤状に形成され、回転することにより照明光学装置5から出射された光束をR,G,Bの3つの色光に切り替えるカラーホイール13と、照明光学装置5から出射された光束をカラーホイール13近傍に集光する第1コンデンサーレンズ14と、カラーホイール13を透過した発散光を略平行光にする第2コンデンサーレンズ15とを備えて構成される。
前記実施形態では、RGB毎に3つの光変調装置8R,8G,8Bを用いる三板式のプロジェクター1に適用したが、これに限らず、図8に示すような単板式のプロジェクターに適用してもよい。
この変形例によるプロジェクターでは、照明光学装置5の後段に色切替光学装置12を設ける。色切替光学装置12は、円盤状に形成され、回転することにより照明光学装置5から出射された光束をR,G,Bの3つの色光に切り替えるカラーホイール13と、照明光学装置5から出射された光束をカラーホイール13近傍に集光する第1コンデンサーレンズ14と、カラーホイール13を透過した発散光を略平行光にする第2コンデンサーレンズ15とを備えて構成される。
カラーホイール13は、図9(カラーホイール13正面図)に示すように、回転方向に沿って区切られた4つの扇形の領域に3つの透過型色フィルター16R,16G,16Bと1つの透光領域16Wを備えている。色フィルター16R、16G,16Bは、各々赤色、緑色、青色の光のみを透過させ、透光領域16Wは、照明光学装置5から出射された光束をそのまま通過させる。
このような構成を設けることで、図8に示すように、1つの光変調装置8Dによってプロジェクターを構成することができる。
このような構成を設けることで、図8に示すように、1つの光変調装置8Dによってプロジェクターを構成することができる。
図10は、光変調装置8Dでの階調の制御を説明するための図である。横軸の「W」は透光領域16Wでの光束の光路上の時間を示し、「R」,「G」,「B」は、各々、色フィルター16R,16G,16Bが光束の光路上を占める時間(各色光の単位時間)を示す。図示するように、カラーホイール13の回転と同期させ、各色光の単位時間においてシャッターの位置を調整することで、各色光の遮光率を所望に調整して、画像の階調を制御することができる。
前記実施形態では、駆動手段として、圧電素子87を用いて説明したが、シャッター88を移動させることができるのであれば、これに限らない。例えば、駆動手段として、静電力を利用した静電アクチュエーターを採用してもよい。
前記実施形態では、マイクロレンズ84,85間の光束の出射側に支持部材81を配置し、入射側にシャッター88等を配置する構成としたが、これら位置関係は逆であってもよい。
前記実施形態では、支持部材81上に回路部86及びシャッター88を設けたが、これに限らない。例えば、マイクロレンズ84,85を板状のマイクロレンズアレイのマイクロレンズで構成し、そのマイクロレンズアレイを支持部材81として代用することも可能である。
前記実施形態では、マイクロレンズ84,85を用いたが、これに限らず、マイクロレンズ84,85を省略してもよい。マイクロレンズ84,85を省略した場合には、光変調装置8R,8G,8Bを構成する部材を減らすことができ、製造コストを抑えることができる。
前記各実施形態では、ミラー88Dを成膜により形成するとしたが、シャッター自体をアルミニウム等の光反射部材で構成してもよい。
前記実施形態では、マイクロレンズ84,85間の光束の出射側に支持部材81を配置し、入射側にシャッター88等を配置する構成としたが、これら位置関係は逆であってもよい。
前記実施形態では、支持部材81上に回路部86及びシャッター88を設けたが、これに限らない。例えば、マイクロレンズ84,85を板状のマイクロレンズアレイのマイクロレンズで構成し、そのマイクロレンズアレイを支持部材81として代用することも可能である。
前記実施形態では、マイクロレンズ84,85を用いたが、これに限らず、マイクロレンズ84,85を省略してもよい。マイクロレンズ84,85を省略した場合には、光変調装置8R,8G,8Bを構成する部材を減らすことができ、製造コストを抑えることができる。
前記各実施形態では、ミラー88Dを成膜により形成するとしたが、シャッター自体をアルミニウム等の光反射部材で構成してもよい。
本発明の光変調装置は、光の利用効率を向上できるため、プロジェクター等の表示装置の光変調装置に利用できる。
1・・・プロジェクター、8D,8R,8G,8B・・・光変調装置、11・・・制御装置、80A,80B,80C・・・変調部、81A・・・回転軸、84・・・マイクロレンズ(集光レンズ)、88,89,90・・・シャッター、88A,89A,90A・・・開口部、88D・・・ミラー。
Claims (5)
- 入射した光束を変調して画像を形成する光変調装置と、前記光変調装置を制御する制御装置とを備えるプロジェクターであって、
前記光変調装置は、
前記画像を構成する画素毎に、入射した光束を通過させる第1の位置と、入射した光束を遮断する第2の位置との間を移動可能に構成されたシャッターがそれぞれ設けられ、
前記制御装置は、
前記シャッターを前記第1の位置と前記第2の位置との間の各位置に位置付けて遮光量を調整することで画素の階調を調整する
ことを特徴とするプロジェクター。 - 請求項1に記載のプロジェクターにおいて、
前記シャッターは、
開口部を備え、前記開口部の開口方向に沿う回転軸を中心として回転可能に構成され、
前記制御装置は、
前記シャッターを回転させ、前記開口部を介して光束を通過させる前記第1の位置と前記開口部を除く部位にて光束を遮断する前記第2の位置との間の各位置に位置付ける
ことを特徴とするプロジェクター。 - 請求項1または請求項2に記載のプロジェクターにおいて、
前記開口部は、
前記シャッターの回転方向に沿って延び、前記回転方向に直交する方向の幅が前記第1の位置から前記第2の位置への回転方向において次第に小さくなる形状を有する
ことを特徴とするプロジェクター。 - 請求項1から請求項3のいずれかに記載のプロジェクターにおいて、
前記シャッターは、
入射した光束を反射させるミラーを光入射側の端面に備える
ことを特徴とするプロジェクター。 - 請求項1から請求項4のいずれかに記載のプロジェクターにおいて、
前記シャッターに対して光路上流側に位置し、入射した光束を集光する集光レンズを備える
ことを特徴とするプロジェクター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010264677A JP2012113274A (ja) | 2010-11-29 | 2010-11-29 | プロジェクター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010264677A JP2012113274A (ja) | 2010-11-29 | 2010-11-29 | プロジェクター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012113274A true JP2012113274A (ja) | 2012-06-14 |
Family
ID=46497506
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010264677A Withdrawn JP2012113274A (ja) | 2010-11-29 | 2010-11-29 | プロジェクター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2012113274A (ja) |
-
2010
- 2010-11-29 JP JP2010264677A patent/JP2012113274A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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