JP2012108540A - カタディオプトリック投影対物系 - Google Patents
カタディオプトリック投影対物系 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012108540A JP2012108540A JP2012023476A JP2012023476A JP2012108540A JP 2012108540 A JP2012108540 A JP 2012108540A JP 2012023476 A JP2012023476 A JP 2012023476A JP 2012023476 A JP2012023476 A JP 2012023476A JP 2012108540 A JP2012108540 A JP 2012108540A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- objective
- image
- projection objective
- plane
- intermediate image
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 72
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 84
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 claims description 70
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 2
- 238000001393 microlithography Methods 0.000 claims description 2
- 238000000671 immersion lithography Methods 0.000 abstract description 5
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 33
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 30
- 206010010071 Coma Diseases 0.000 description 19
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 8
- 206010073261 Ovarian theca cell tumour Diseases 0.000 description 6
- 208000001644 thecoma Diseases 0.000 description 6
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 5
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 5
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 210000000887 face Anatomy 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000003702 image correction Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】投影対物レンズの物体平面に設けられたパターンを投影対物系の像平面上に結像するためのカタディオプトリック投影対物レンズが、物体平面に設けられたパターンを第1中間像に結像するための第1屈折対物レンズ部分と、第1中間像を第2中間像に結像するための少なくとも1つの凹面鏡を有する第2対物レンズ部分と、第2中間像を像平面上に結像するための第3屈折対物レンズ部分を有し、投影対物レンズが最大レンズ直径Dmax、最大像視野高さY’、及び像側開口数NAを有し、COMP1=Dmax/(Y’・NA2)であり、条件COMP1<10が当てはまる、カタディオプトリック投影対物系。
【選択図】図1
Description
物体平面に設けられたパターンを第1中間像に結像するための第1屈折対物系部分と、
第1中間像を第2中間像に結像するための少なくとも1つの凹面鏡を有する第2対物系部分と、
第2中間像を像平面上に結像するための第3屈折対物系部分を有し、
投影対物系が、最大レンズ直径Dmaxと、最大像視野高さY’と、像側開口数NAを有し、COMP1=Dmax/(Y’・NA2)であり、
次の条件
COMP1<10
が当てはまる、カタディオプトリック投影対物系を提供する。
像視野高さ及び開口数の所与の値に対して、第1コンパクト性パラメータCOMP1は、もしコンパクトな構成が望まれるなら、可能な限り小さくあるべきことは明らかである。
また、小さい値のCOMP2はコンパクトな光学系を示している。
低光学材料消費の投影対物系もまた、小さい値のCOMP3で特徴付けられる。
物体面に設けられたパターンを第1中間像に結像するための第1屈折対物系部分と、
第1中間像を第2中間像に結像するための第2対物系部分と、
第2中間像を像面上に結像するための第3屈折対物系部分を有し、
第1連続鏡面を有する第1凹面鏡と第2連続鏡面を有する第2凹面鏡が、第2中間像の上流に配置されており、
瞳面が、物体平面及び第1中間像の間と、第1及び第2中間像の間と、第2中間像と像面の間に形成されており、
全ての凹面鏡が瞳面から光学的に離れて配置されており、
第1対物系部分が第1の数であるN1AS個の非球面レンズを有し、
第3対物系部分が第2の数であるN3AS個の非球面レンズを有し、
非球面レンズ比ASR=N1AS/N3ASが1よりも小さく、
像側開口数NAが1,2よりも大きい。
ここで半径の逆数(1/r)は、面頂点での当該面の曲率であり、hは光軸からその点までの距離である。サジッタ又は立ち上がり高さp(h)は、こうして、z方向に沿って、すなわち光軸に沿って計測された当該面の頂点からその点までの距離を表す。定数K、C1、C2等は、表2Aに示されている。
結像対物系部分OP1、OP2、OP3により与えられる倍率に関して、もし第2中間像IMI2を高い縮小率で像面上に結像する第3対物系部分OP3の倍率β3が好ましくは0,11≦β3≦0,17の範囲内となるなら、有利なことが明らかである。所望の全体の縮小比(例えば1:4又は1:5)を得る目的で、第2対物系部分OP2は、拡大比β2<1を有することにより全体の縮小に寄与し得る。好ましくは、第2対物系部分OP2を形成する鏡群は、0,85≦β2≦1により特徴付けられる穏やかな縮小効果を有するように構成されてもよい。もし第2対物系部分が全体の縮小にある程度寄与するなら、縮小の主要な部分に責任を持つ第3対物系部分はより緩和されたやり方で構成され得る。
上記の全ての系は、実物体から実像を(例えばウェーハに)形成するための完全な系であってもよいことが理解されるべきである。もっとも、その系はより大きな系の部分的な系として使用されてもよい。例えば、上記の系のための「物体」は、物体平面の上流の結像系(リレー系)により形成される像であってもよい。同様に、上記の系により形成された像は、像面の下流の系(リレー系)のための物体として使用されてもよい。
Claims (49)
- 投影対物系の物体平面に設けられたパターンを投影対物系の像平面上に結像するためのカタディオプトリック投影対物系であって、
前記物体平面に設けられたパターンを第1中間像に結像するための第1屈折対物系部分と、
少なくとも1つの凹面鏡を有していて前記第1中間像を第2中間像に結像するための第2対物系部分と、
前記第2中間像を前記像平面上に結像するための第3屈折対物系部分を有し、
前記投影対物系が、最大レンズ直径Dmaxと、最大像視野高さY’と、像側開口数NAを有し、COMP1=Dmax/(Y’・NA2)であり、
次の条件
COMP1<10
が当てはまる、カタディオプトリック投影対物系。 - NA>1,2である、請求項1に記載の投影対物系。
- 第1連続鏡面を有する第1凹面鏡と第2連続鏡面を有する少なくとも1つの第2凹面鏡が、前記第2対物系部分に配置されており、
瞳面が、前記物体平面と前記第1中間像の間と、前記第1及び第2中間像の間と、前記第2中間像と前記像平面の間に形成されており、
全ての凹面鏡が前記瞳面から光学的に離れて配置されている、請求項1に記載の投影対物系。 - NL個のレンズと、中間像において連結されたNOP個の結像対物系部分を有し、
COMP2=Dmax・NL/(Y’・NA2)
COMP3=Dmax・NL/(NOP・Y’・NA2)
かつ、次の条件
COMP2<300
COMP3<100
の少なくとも1つが当てはまる、請求項1に記載の投影対物系。 - 前記投影対物系が、第1非球面とこの第1非球面に直近の第2非球面を有する少なくとも1つの2重非球面を有する、請求項1に記載の投影対物系。
- 前記2重非球面が、2つの続いているレンズの隣接する非球面を対向させることにより形成されている、請求項5に記載の投影対物系。
- 前記2重非球面の第1及び第2非球面の間で光軸に沿って測定された距離が、前記2重非球面を形成する2つのレンズのより薄い方の光軸に沿って測定された厚さよりも小さい、請求項6に記載の投影対物系。
- 前記第3対物系部分が少なくとも1つの2重非球面を有する、請求項6に記載の投影対物系。
- 前記2重非球面が、光学的に第2中間像と第3対物系部分の瞳面の間に位置付けられている、請求項8に記載の投影対物系。
- 前記第1対物系部分が少なくとも1つの2重非球面を有する、請求項6に記載の投影対物系。
- 前記2重非球面が、前記第1対物系部分の瞳面又は該瞳面の光学的に近傍に位置付けられている、請求項10に記載の投影対物系。
- 前記第1対物系部分と前記第3対物系部分が、2つの続いているレンズの隣接する非球面を対向させることにより形成された少なくとも1つの2重非球面を各々有している、請求項1に記載の投影対物系。
- 前記第1投影対物系部分が、レンズ面を通過する光線の入射角度が60°より大きい入射角度を含むレンズ面を有する少なくとも1つのレンズを有する、請求項1に記載の投影対物系。
- 前記レンズ面が、光学的に前記瞳面の近くに位置付けられている、請求項13に記載の投影対物系。
- 前記第3対物系部分の第1レンズとこのレンズに幾何学的に最も近い鏡の頂点との間の軸方向鏡−レンズ距離が、物体面OSと像面ISの間の軸方向距離の5%よりも大きい、請求項1に記載の投影対物系。
- 全ての凹面鏡が非球面鏡面を有する、請求項1に記載の投影対物系。
- 第1対物系部分と第2対物系部分と第3対物系部分が、共通の真っ直ぐな光軸を共有している、請求項1に記載の投影対物系。
- 開口絞りが、前記第3対物系部分において、最大ビーム直径の領域と前記像面の間の収束ビームの領域に位置付けられている、請求項1に記載の投影対物系。
- 前記投影対物系が前記像面に最も近い最終レンズを有し、前記最終レンズが湾曲した入射面と平面の射出面を有する平凸正レンズであり、
前記最終レンズの入射面の光学的自由直径がDIALLであり、前記入射面の曲率半径がRLLであり、光軸に沿って測定された前記入射面と前記射出面の間の軸方向距離がTLLであり、
ここで、LL1=TLL/RLL及びLL2=DIALL/RLLであり、
次の条件
(1) 1,1<LL1<2,2
(2) 2,1<LL2<2,6
の少なくとも1つが当てはまる、請求項1に記載の投影対物系。 - 投影対物系の物体面に設けられたパターンを投影対物系の像面上に結像するためのカタディオプトリック投影対物系であって、
前記物体面に設けられたパターンを第1中間像に結像するための第1屈折対物系部分と、
前記第1中間像を第2中間像に結像するための第2対物系部分と、
前記第2中間像を前記像面上に結像するための第3屈折対物系部分を有し、
前記第2対物系部分が、第1連続鏡面を有する第1凹面鏡と第2連続鏡面を有する第2凹面鏡を有しており、
瞳面が、前記物体平面と前記第1中間像の間と、前記第1及び第2中間像の間と、前記第2中間像と前記像平面の間に形成されていて、
全ての凹面鏡が前記瞳面から光学的に離れて配置されていて、
前記第1対物系部分が第1の数であるN1AS個の非球面レンズを有し、
前記第3対物系部分が第2の数であるN3AS個の非球面レンズを有し、
非球面レンズ比ASR=N1AS/N3ASが1よりも小さく、
像側開口数NAが1,2よりも大きい、カタディオプトリック投影対物系。 - 投影対物系の物体面に設けられたパターンを投影対物系の像面上に結像するためのカタディオプトリック投影対物系であって、
前記物体面に設けられたパターンを第1中間像に結像するための第1屈折対物系部分と、
前記第1中間像を第2中間像に結像するための第2対物系部分と、
前記第2中間像を前記像面上に結像するための第3屈折対物系部分を有し、
前記第2対物系部分が、第1連続鏡面を有する第1凹面鏡と第2連続鏡面を有する第2凹面鏡を有し、
瞳面が、前記物体平面と前記第1中間像の間と、前記第1及び第2中間像の間と、前記第2中間像と前記像平面の間に形成されていて、
全ての凹面鏡が前記瞳面から光学的に離れて配置されていて、
前記第1対物系部分が、第1の数であるN1AS個の非球面レンズを有し、
前記第3対物系部分が、第2の数であるN3AS個の非球面レンズを有し、
非球面レンズ比ASR=N1AS/N3ASが0,5より小さい、カタディオプトリック投影対物系。 - 条件NA≧1,2が像側開口数NAに当てはまる、請求項21に記載の投影対物系。
- 投影対物系の物体面に設けられたパターンを投影対物系の像面上に結像するためのカタディオプトリック投影対物系であって、
前記物体面に設けられたパターンを第1中間像に結像するための第1屈折対物系部分と、
前記第1中間像を第2中間像に結像するための第2対物系部分と、
前記第2中間像を前記像面上に結像するための第3屈折対物系部分を有し、
前記第2対物系部分が、第1連続鏡面を有する第1凹面鏡と第2連続鏡面を有する第2凹面鏡を有しており、
瞳面が、前記物体平面と前記第1中間像の間と、前記第1及び第2中間像の間と、前記第2中間像と前記像平面の間に形成されていて、
全ての凹面鏡が前記瞳面から光学的に離れて配置されていて、
前記第1対物系部分が第1の数であるN1AS個の非球面レンズを有し、条件N1AS<3が当てはまる、カタディオプトリック投影対物系。 - 前記第3対物系部分が第2の数であるN3AS個の非球面レンズを有し、非球面レンズ比ASR=N1AS/N3ASが1よりも小さい、請求項23に記載の投影対物系。
- 投影対物系の物体平面に設けられたパターンを投影対物系の像平面上に結像するためのカタディオプトリック投影対物系であって、
前記物体平面に設けられたパターンを第1中間像に結像するための第1屈折対物系部分と、
少なくとも1つの凹面鏡を有していて前記第1中間像を第2中間像に結像するための第2対物系部分と、
第2中間像を前記像平面上に結像するための第3屈折対物系部分を有し、
投影対物系が、第1非球面と第1非球面に直近の第2非球面を有する少なくとも1つの2重非球面を有し、前記2重非球面が2つの連続するレンズの隣接する非球面を対向させることにより形成されている、カタディオプトリック投影対物系。 - 前記2重非球面の第1非球面と第2非球面の間の軸方向距離が、前記2重非球面を形成する2つの連続するレンズのより薄い方のレンズの軸方向厚さよりも小さい、請求項25に記載の投影対物系。
- 前記第3対物系部分が少なくとも1つの2重非球面を有する、請求項25に記載の投影対物系。
- 前記2重非球面が、光学的に前記第2中間像と前記第3対物系部分の瞳面の間に位置付けられている、請求項27に記載の投影対物系。
- 前記第1対物系部分が少なくとも1つの2重非球面を有する、請求項25に記載の投影対物系。
- 前記2重非球面が、前記第1対物系部分の瞳面又は該瞳面の光学的に近傍に位置付けられている、請求項29に記載の投影対物系。
- 前記第1対物系部分と前記第3対物系部分が、少なくとも1つの2重非球面を各々有している、請求項25に記載の投影対物系。
- 第1連続鏡面を有する第1凹面鏡と、第2連続鏡面を有する少なくとも1つの第2凹面鏡が、前記第2対物系部分に配置されていて、
瞳面が、前記物体平面と前記第1中間像の間と、前記第1及び第2中間像の間と、前記第2中間像と前記像平面の間に形成されていて、
全ての凹面鏡が前記瞳面から光学的に離れて配置されている、請求項25に記載の投影対物系。 - 投影対物系の物体平面に設けられたパターンを投影対物系の像平面上に結像するためのカタディオプトリック投影対物系であって、
前記物体平面に設けられたパターンを第1中間像に結像するための第1屈折対物系部分と、
少なくとも1つの凹面鏡を有していて前記第1中間像を第2中間像に結像するための第2対物系部分と、
前記第2中間像を前記像平面上に結像するための第3屈折対物系部分を有し、
前記投影対物系が、最大レンズ直径Dmaxと、最大像視野高さY’と、像側開口数NA>1,2と、NL個のレンズと、中間像で連結されたNOP個の結像対物系部分を有し、
COMP1=Dmax/(Y’・NA2)
COMP2=Dmax・NL(Y’・NA2)
COMP3=Dmax・NL(NOP・Y’・NA2)であり、
以下の条件
(1) COMP1<11
(2) COMP2<300
(3) COMP3<100
の少なくとも1つを満たす、カタディオプトリック投影対物系。 - COMP1<11かつCOMP2<300である、請求項33に記載の投影対物系。
- COMP1<11かつCOMP2<300かつCOMP3<100である、請求項33に記載の投影対物系。
- 第1連続鏡面を有する第1凹面鏡と第2連続鏡面を有する少なくとも1つの第2凹面鏡が、第2対物系部分に配置されていて、
瞳面が、前記物体平面と前記第1中間像の間と、前記第1及び第2中間像の間と、前記第2中間像と前記像平面の間に形成されていて、
全ての凹面鏡が前記瞳面から光学的に離れて配置されている、請求項33に記載の投影対物系。 - 投影対物系の物体平面に設けられたパターンを投影対物系の像平面上に結像するためのカタディオプトリック投影対物系であって、
前記物体平面に設けられたパターンを第1中間像に結像するための第1屈折対物系部分と、
少なくとも1つの凹面鏡を有していて前記第1中間像を第2中間像に結像するための第2対物系部分と、
第2中間像を前記像平面上に結像するための第3対物系部分を有し、
開口絞りが、前記第3対物系部分において、最大ビーム直径の領域と前記像面の間の収束ビームの領域に位置付けられている、カタディオプトリック投影対物系。 - 3つの正レンズのみが前記開口絞りと前記像面の間に設けられている、請求項37に記載の投影対物系。
- 第1連続鏡面を有する第1凹面鏡と第2連続鏡面を有する少なくとも1つの第2凹面鏡が、第2対物系部分に配置されていて、
瞳面が、前記物体平面と前記第1中間像の間と、前記第1及び第2中間像の間と、前記第2中間像と前記像平面の間に形成されていて、
全ての凹面鏡が前記瞳面から光学的に離れて配置されている、請求項37に記載の投影対物系。 - 投影対物系の物体平面に設けられたパターンを投影対物系の像平面上に結像するためのカタディオプトリック投影対物系であって、
前記物体平面に設けられたパターンを第1中間像に結像するための第1屈折対物系部分と、
少なくとも1つの凹面鏡を有していて前記第1中間像を第2中間像に結像するための第2対物系部分と、
前記第2中間像を前記像平面上に結像するための第3屈折対物系部分を有し、
前記投影対物系が前記像面に最も近い最終レンズを有し、前記最終レンズが湾曲した入射面と平面の射出面を有する平凸正レンズであり、
TLLが光軸に沿って測定された前記入射面と前記射出面の間の軸方向距離であり、RLLが前記入射面の曲率半径であり、DIALLが前記最終レンズの入射面の光学的自由直径であり、
LL1=TLL/RLLかつLL2=DIALL/RLLであり、
次の条件
(1) 1,1<LL1<2,2
(2) 2,1<LL2<2,6
の少なくとも1つが当てはまる、カタディオプトリック投影対物系。 - 像側開口数NAが1,2よりも大きい、請求項40に記載の投影対物系。
- 第1連続鏡面を有する第1凹面鏡と第2連続鏡面を有する少なくとも1つの第2凹面鏡が、前記第2対物系部分に配置されていて、
瞳面が、前記物体平面と前記第1中間像の間と、前記第1及び第2中間像の間と、前記第2中間像と前記像平面の間に形成されていて、
全ての凹面鏡が前記瞳面から光学的に離れて配置されている、請求項40に記載の投影対物系。 - 投影対物系の物体面に設けられたパターンを投影対物系の像面上に結像するためのカタディオプトリック投影対物系であって、
前記物体面に設けられたパターンを第1中間像に結像するための第1屈折対物系部分と、
前記第1中間像を第2中間像に結像するための第2対物系部分と、
前記第2中間像を前記像面上に結像するための第3屈折対物系部分を有し、
前記第2対物系部分が、第1連続鏡面を有する第1凹面鏡と第2連続鏡面を有する第2凹面鏡を有し、
瞳面が、前記物体平面と前記第1中間像の間と、前記第1及び第2中間像の間と、前記第2中間像と前記像平面の間に形成されていて、
全ての凹面鏡が前記瞳面から光学的に離れて配置されており、
第1光軸長さOAL1が、前記物体面と前記物体面に幾何学的に最も近い凹面鏡の頂点の間で画定されており、第3光軸長さOAL3が、前記像面に幾何学的に最も近い凹面鏡の頂点と前記像面の間で画定されており、鏡群位置パラメータMG=OAL1/OAL3に条件MG>0,7が当てはまる、カタディオプトリック投影対物系。 - MG≧0,8である、請求項43に記載の投影対物系。
- 投影対物系の物体平面に設けられたパターンを投影対物系の像平面上に結像するためのカタディオプトリック投影対物系であって、
前記物体平面に設けられたパターンを第1中間像に結像するための第1屈折対物系部分と、
少なくとも1つの凹面鏡を有していて前記第1中間像を第2中間像に結像するための第2対物系部分と、
第2中間像を前記像平面上に結像するための第3屈折対物系部分を有し、
前記像面の上流の8及び9個の連続するレンズのうちの少なくとも1つが、正の屈折力を有する、カタディオプトリック投影対物系。 - 像側開口数NAが1,2よりも大きい、請求項45に記載の投影対物系。
- 第1連続鏡面を有する第1凹面鏡と第2連続鏡面を有する少なくとも1つの第2凹面鏡が、前記第2対物系部分に配置されていて、
瞳面が、前記物体平面と前記第1中間像の間と、前記第1及び第2中間像の間と、前記第2中間像と前記像平面の間に形成されていて、
全ての凹面鏡が前記瞳面から光学的に離れて配置されている、請求項45に記載の投影対物系。 - 照明系とカタディオプトリック投影対物系を有するマイクロリソグラフィでの使用のための投影露光系であって、前記投影対物系が請求項1に記載されたように構成されている、投影露光系。
- 半導体装置や他の種類のマイクロデバイスを製造するための方法であって、
予め定められたパターンを有するマスクを準備する工程と、
予め定められた波長を有する紫外光でマスクを照明する工程と、
パターンの像を、投影対物系の像平面の近傍に配置された感光性基板上に、請求項1に記載されたカタディオプトリック投影対物系を用いて投影する工程とを有する方法。
Applications Claiming Priority (12)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US58750404P | 2004-07-14 | 2004-07-14 | |
| US60/587,504 | 2004-07-14 | ||
| US59177504P | 2004-07-27 | 2004-07-27 | |
| US60/591,775 | 2004-07-27 | ||
| US61282304P | 2004-09-24 | 2004-09-24 | |
| US60/612,823 | 2004-09-24 | ||
| US61767404P | 2004-10-13 | 2004-10-13 | |
| US60/617,674 | 2004-10-13 | ||
| US11/035,103 | 2005-01-14 | ||
| US11/035,103 US7385756B2 (en) | 2004-01-14 | 2005-01-14 | Catadioptric projection objective |
| US65495005P | 2005-02-23 | 2005-02-23 | |
| US60/654,950 | 2005-02-23 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007520725A Division JP4954067B2 (ja) | 2004-07-14 | 2005-07-08 | カタディオプトリック投影対物レンズ |
Related Child Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013243793A Division JP2014059579A (ja) | 2004-07-14 | 2013-11-26 | カタディオプトリック投影対物系 |
| JP2014129379A Division JP2014199461A (ja) | 2004-07-14 | 2014-06-24 | カタディオプトリック投影対物系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012108540A true JP2012108540A (ja) | 2012-06-07 |
| JP5600128B2 JP5600128B2 (ja) | 2014-10-01 |
Family
ID=46494126
Family Applications (6)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012023476A Expired - Fee Related JP5600128B2 (ja) | 2004-07-14 | 2012-01-19 | カタディオプトリック投影対物系 |
| JP2013243793A Withdrawn JP2014059579A (ja) | 2004-07-14 | 2013-11-26 | カタディオプトリック投影対物系 |
| JP2014129379A Withdrawn JP2014199461A (ja) | 2004-07-14 | 2014-06-24 | カタディオプトリック投影対物系 |
| JP2015028386A Withdrawn JP2015121815A (ja) | 2004-07-14 | 2015-02-17 | カタディオプトリック投影対物系 |
| JP2015195718A Withdrawn JP2016021076A (ja) | 2004-07-14 | 2015-10-01 | カタディオプトリック投影対物系 |
| JP2016171601A Withdrawn JP2016224460A (ja) | 2004-07-14 | 2016-09-02 | カタディオプトリック投影対物系 |
Family Applications After (5)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013243793A Withdrawn JP2014059579A (ja) | 2004-07-14 | 2013-11-26 | カタディオプトリック投影対物系 |
| JP2014129379A Withdrawn JP2014199461A (ja) | 2004-07-14 | 2014-06-24 | カタディオプトリック投影対物系 |
| JP2015028386A Withdrawn JP2015121815A (ja) | 2004-07-14 | 2015-02-17 | カタディオプトリック投影対物系 |
| JP2015195718A Withdrawn JP2016021076A (ja) | 2004-07-14 | 2015-10-01 | カタディオプトリック投影対物系 |
| JP2016171601A Withdrawn JP2016224460A (ja) | 2004-07-14 | 2016-09-02 | カタディオプトリック投影対物系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (6) | JP5600128B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5600128B2 (ja) * | 2004-07-14 | 2014-10-01 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | カタディオプトリック投影対物系 |
| EP3654083B1 (en) | 2017-07-10 | 2024-10-09 | Sony Group Corporation | Image display device and projection optical system |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001166210A (ja) * | 1999-11-05 | 2001-06-22 | Carl Zeiss:Fa | 2つの中間像を持つ反射屈折対物レンズ |
| WO2001059502A1 (en) * | 2000-02-09 | 2001-08-16 | Nikon Corporation | Reflection/refraction optical system |
| JP2002277742A (ja) * | 2000-10-23 | 2002-09-25 | Nikon Corp | 反射屈折光学系および該光学系を備えた露光装置 |
| WO2004019128A2 (en) * | 2002-08-23 | 2004-03-04 | Nikon Corporation | Projection optical system and method for photolithography and exposure apparatus and method using same |
| WO2004107011A1 (ja) * | 2003-05-06 | 2004-12-09 | Nikon Corporation | 投影光学系、露光装置及び露光方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000058436A (ja) * | 1998-08-11 | 2000-02-25 | Nikon Corp | 投影露光装置及び露光方法 |
| JP4292497B2 (ja) * | 2002-04-17 | 2009-07-08 | 株式会社ニコン | 投影光学系、露光装置および露光方法 |
| JP5600128B2 (ja) * | 2004-07-14 | 2014-10-01 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | カタディオプトリック投影対物系 |
-
2012
- 2012-01-19 JP JP2012023476A patent/JP5600128B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-11-26 JP JP2013243793A patent/JP2014059579A/ja not_active Withdrawn
-
2014
- 2014-06-24 JP JP2014129379A patent/JP2014199461A/ja not_active Withdrawn
-
2015
- 2015-02-17 JP JP2015028386A patent/JP2015121815A/ja not_active Withdrawn
- 2015-10-01 JP JP2015195718A patent/JP2016021076A/ja not_active Withdrawn
-
2016
- 2016-09-02 JP JP2016171601A patent/JP2016224460A/ja not_active Withdrawn
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001166210A (ja) * | 1999-11-05 | 2001-06-22 | Carl Zeiss:Fa | 2つの中間像を持つ反射屈折対物レンズ |
| WO2001059502A1 (en) * | 2000-02-09 | 2001-08-16 | Nikon Corporation | Reflection/refraction optical system |
| JP2002277742A (ja) * | 2000-10-23 | 2002-09-25 | Nikon Corp | 反射屈折光学系および該光学系を備えた露光装置 |
| WO2004019128A2 (en) * | 2002-08-23 | 2004-03-04 | Nikon Corporation | Projection optical system and method for photolithography and exposure apparatus and method using same |
| WO2004107011A1 (ja) * | 2003-05-06 | 2004-12-09 | Nikon Corporation | 投影光学系、露光装置及び露光方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2014059579A (ja) | 2014-04-03 |
| JP5600128B2 (ja) | 2014-10-01 |
| JP2015121815A (ja) | 2015-07-02 |
| JP2016224460A (ja) | 2016-12-28 |
| JP2014199461A (ja) | 2014-10-23 |
| JP2016021076A (ja) | 2016-02-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5548743B2 (ja) | 反射屈折投影対物レンズ | |
| US7712905B2 (en) | Imaging system with mirror group | |
| JP4954067B2 (ja) | カタディオプトリック投影対物レンズ | |
| US7848016B2 (en) | High-NA projection objective | |
| US20160274343A1 (en) | Catadioptric projection objective | |
| US20060256447A1 (en) | Projection objective | |
| JP5600128B2 (ja) | カタディオプトリック投影対物系 | |
| KR101171131B1 (ko) | 반사굴절식 투영 대물렌즈 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120313 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130527 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130529 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130816 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130821 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131126 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131224 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20140324 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20140327 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140624 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140728 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140814 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5600128 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |