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JP2012198274A - Optical device and optical modulator - Google Patents

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JP2012198274A
JP2012198274A JP2011060570A JP2011060570A JP2012198274A JP 2012198274 A JP2012198274 A JP 2012198274A JP 2011060570 A JP2011060570 A JP 2011060570A JP 2011060570 A JP2011060570 A JP 2011060570A JP 2012198274 A JP2012198274 A JP 2012198274A
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Abstract

【課題】複数の共振波長を有する光デバイスを提供する。
【解決手段】本明細書に開示する光デバイス10は、光を伝搬するコア層12を有し、コア層12を伝搬する光を共振させる共振部14と、コア層12に沿って幅が変化しながら延びる共振波長変調層16と、を備える。共振部14は、コア層12における長手方向の両側部に設けられた回折格子13か、又は、コア層12を伝搬する光と結合可能に配置された複数のリング型光導波路17を有する。共振波長変調層16は、コア層12の光の伝搬方向における共振波長を変化させる。
【選択図】図3
An optical device having a plurality of resonance wavelengths is provided.
An optical device disclosed in the present specification includes a core layer that propagates light, a resonance portion that resonates light propagating through the core layer, and a width that varies along the core layer. And a resonant wavelength modulation layer 16 that extends while extending. The resonating unit 14 includes diffraction gratings 13 provided on both sides in the longitudinal direction of the core layer 12 or a plurality of ring optical waveguides 17 arranged so as to be coupled with light propagating through the core layer 12. The resonant wavelength modulation layer 16 changes the resonant wavelength in the light propagation direction of the core layer 12.
[Selection] Figure 3

Description

本発明は、光デバイス及び光変調器に関する。   The present invention relates to an optical device and an optical modulator.

従来、光の振幅または位相を変化させる又は光を蓄積・遅延させるために光共振器が用いられている。   Conventionally, an optical resonator is used to change the amplitude or phase of light or to accumulate and delay light.

このような光共振器は、所定の共振波長を有しており、この共振波長と一致する波長を有する光を共振させる。   Such an optical resonator has a predetermined resonance wavelength, and resonates light having a wavelength that matches the resonance wavelength.

一方、光共振器の周囲の温度が変化すると、光共振器に入力される入力光の波長がずれる場合がある。このように、入力光の波長が変化して、光共振器の共振波長と一致しなくなると、光共振器は入力光を十分に共振させることができなくなるおそれがある。従って、光共振器には、その共振周波数に対して所定の幅を有することが求められる。   On the other hand, when the temperature around the optical resonator changes, the wavelength of the input light input to the optical resonator may shift. Thus, if the wavelength of the input light changes and does not coincide with the resonance wavelength of the optical resonator, the optical resonator may not be able to sufficiently resonate the input light. Therefore, the optical resonator is required to have a predetermined width with respect to the resonance frequency.

また、一つの光共振器を用いて、異なる波長を有する入力光を共振させたい場合がある。このような場合には、光共振器は、入力光が有する波長それぞれに対応する共振周波数を有することが求められる。   In some cases, it is desired to resonate input light having different wavelengths using a single optical resonator. In such a case, the optical resonator is required to have a resonance frequency corresponding to each wavelength of the input light.

そして、上述したように、異なる波長を有する入力光それぞれを共振させるための光共振器が提案されている。   As described above, an optical resonator for resonating input lights having different wavelengths has been proposed.

図1(A)は、従来の例による光共振器を示す平面図であり、図1(B)は、図1(A)のX1−X1線断面図である。   FIG. 1A is a plan view showing an optical resonator according to a conventional example, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line X1-X1 in FIG.

図1(A)及び(B)に示す光共振器110は、光を伝搬するコア層112と、コア層112における長手方向の両側部に設けられた回折格子113とを有する共振部114と、共振部114の周囲を囲むクラッド層115とを備える。また、光共振器110は、共振部114及びクラッド層115が積層される基板111を備える。   1A and 1B includes an optical resonator 110 having a core layer 112 that propagates light and diffraction gratings 113 provided on both sides of the core layer 112 in the longitudinal direction, A clad layer 115 surrounding the periphery of the resonance part 114. The optical resonator 110 includes a substrate 111 on which a resonance part 114 and a cladding layer 115 are stacked.

回折格子113は、入力側の端部から出力側の端部に向かって格子間隔が増加しており、格子間隔の周期に対応して異なる波長を有する入力光それぞれを共振できるようになっている。   In the diffraction grating 113, the grating interval increases from the input side end to the output side end, and can resonate each input light having a different wavelength corresponding to the period of the grating interval. .

例えば、光共振器110に入力した波長λ1を有する入力光Piは、コア層112を伝搬しながら、波長λ1と共振する格子間隔を有する回折格子の部分で共振された後、出力光Poとして出力される。   For example, the input light Pi having the wavelength λ1 input to the optical resonator 110 is resonated at the portion of the diffraction grating having a grating interval that resonates with the wavelength λ1 while propagating through the core layer 112, and then output as the output light Po. Is done.

同様に、波長λ1とは異なる波長λ2を有する入力光Piは、コア層112を伝搬しながら、波長λ2と共振する格子間隔を有する回折格子の部分で共振された後、出力光Poとして出力される。   Similarly, the input light Pi having a wavelength λ2 different from the wavelength λ1 is output as output light Po after being resonated at the portion of the diffraction grating having a grating interval resonating with the wavelength λ2 while propagating through the core layer 112. The

図2(A)は、従来の他の例による光共振器を示す平面図であり、図2(B)は、図2(A)のX2−X2線断面図である。   2A is a plan view showing an optical resonator according to another conventional example, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line X2-X2 in FIG. 2A.

図2(A)及び(B)に示す光共振器110は、光を伝搬するコア層112と、コア層112に沿って、コア層112を伝搬する光と結合可能に配置された複数のリング型光導波路117とを有する共振部114を備える。また、光共振器110は、共振部114の周囲を囲むクラッド層115と、共振部114及びクラッド層115が積層される基板111とを備える。   The optical resonator 110 shown in FIGS. 2A and 2B includes a core layer 112 that propagates light, and a plurality of rings that are arranged along the core layer 112 so as to be coupled with light that propagates through the core layer 112. A resonating unit 114 having a type optical waveguide 117 is provided. The optical resonator 110 includes a clad layer 115 surrounding the resonating unit 114 and a substrate 111 on which the resonating unit 114 and the clad layer 115 are stacked.

複数のリング型光導波路117は、入力側の端部から出力側の端部に向かってリングの直径が増加しており、リングの周長に対応して異なる波長を有する光それぞれを共振できるようになっている。   The plurality of ring-type optical waveguides 117 have a ring diameter that increases from the input side end to the output side end so that light having different wavelengths can resonate according to the circumference of the ring. It has become.

例えば、光共振器110に入力した波長λ1を有する入力光Piは、コア層112を伝搬しながら、波長λ1と共振する直径を有するリング型光導波路の部分で共振された後、出力光Poとして出力される。   For example, the input light Pi having the wavelength λ1 input to the optical resonator 110 is resonated at the portion of the ring optical waveguide having a diameter that resonates with the wavelength λ1 while propagating through the core layer 112, and then output as the output light Po. Is output.

同様に、波長λ1とは異なる波長λ2を有する入力光Piは、コア層112を伝搬しながら、波長λ1と共振する直径を有するリング型光導波路の部分で共振された後、出力光Poとして出力される。   Similarly, the input light Pi having a wavelength λ2 different from the wavelength λ1 propagates through the core layer 112 and is resonated at the portion of the ring optical waveguide having a diameter resonating with the wavelength λ1, and then output as the output light Po. Is done.

特開2002−14307号公報JP 2002-14307 A

ところで、上述した光共振器では、例えば、共振波長が1nmだけ異なる光を共振させる場合には、格子間隔又はリング型光導波路の径の変化をサブナノメートルのオーダで形成することが求められる。   By the way, in the above-described optical resonator, for example, when resonating light having different resonance wavelengths by 1 nm, it is required to form a change in the lattice spacing or the diameter of the ring optical waveguide on the order of sub-nanometers.

一方、フォトリソグラフィ又は電子ビーム描画を用いて、サブナノメートルのオーダで変化する構造を加工することは困難であるので、上述したような複数の共振波長を有する光共振器を形成することは難しい。従って、品質の安定した光デバイスを製造できないおそれがある。   On the other hand, since it is difficult to process a structure changing on the order of sub-nanometers using photolithography or electron beam drawing, it is difficult to form an optical resonator having a plurality of resonance wavelengths as described above. Therefore, there is a possibility that an optical device with stable quality cannot be manufactured.

本明細書では、上述した問題点を解決し得る光デバイス及び光変調器を提供することを目的とする。   An object of the present specification is to provide an optical device and an optical modulator that can solve the above-described problems.

本明細書に開示する光デバイスの一形態によれば、光を伝搬するコア層を有し、上記コア層を伝搬する光を共振させる共振部と、上記コア層に沿って幅が変化しながら延びる共振波長変調層と、を備える。   According to an aspect of the optical device disclosed in the present specification, the optical device has a core layer that propagates light, and resonates the light that propagates through the core layer, and the width changes along the core layer. An extending resonant wavelength modulation layer.

また、本明細書に開示する光デバイスの一形態によれば、コア層と、上記コア層に沿って配置された複数のリング型光導波路と、複数の上記リング型光導波路の上に配置された共振波長変調層と、複数の上記リング型光導波路と上記共振波長変調層との間に配置されたクラッド層と、を備え、隣り合う上記リング型光導波路同士では、光導波路の全長に対する上記共振波長変調層に覆われている光導波路の部分の長さの割合が異なっている。   Further, according to one mode of the optical device disclosed in the present specification, the core layer, the plurality of ring optical waveguides disposed along the core layer, and the plurality of ring optical waveguides are disposed on the core layer. A resonance wavelength modulation layer, a plurality of the ring-type optical waveguides and a cladding layer disposed between the resonance wavelength modulation layers, and the ring-type optical waveguides adjacent to each other, The ratio of the length of the portion of the optical waveguide covered with the resonant wavelength modulation layer is different.

また、本明細書に開示する光変調器の一形態によれば、光を伝搬するコア層を有する第1光導波路と、光を伝搬するコア層を有する第2光導波路と、を備え、上記第1光導波路又は上記第2光導波路は、コア層を伝搬する光を共振させる共振部と、コア層に沿って幅が変化しながら延びており、光が伝搬する方向における上記共振部の共振波長を変化させる共振波長変調層と、を有する。   Moreover, according to one form of the optical modulator disclosed in this specification, the optical modulator includes a first optical waveguide having a core layer that propagates light, and a second optical waveguide having a core layer that propagates light, The first optical waveguide or the second optical waveguide resonates light propagating through the core layer, and extends along the core layer while changing in width. The resonance of the resonant unit in the direction of light propagation And a resonant wavelength modulation layer for changing the wavelength.

更に、本明細書に開示する光変調器の一形態によれば、光が伝搬するコア層を有する第1光導波路と、光が伝搬するコア層を有する第2光導波路と、を備え、上記第1光導波路又は上記第2光導波路は、コア層に沿って配置された複数のリング型光導波路と、複数の上記リング型導波路の上に配置された共振波長変調層と、複数の上記リング型光導波路と上記共振波長変調層との間に配置されたクラッド層と、を有し、隣り合う上記リング型光導波路同士では、光導波路の全長に対する上記共振波長変調層に覆われている光導波路の部分の長さの割合が異なっている。   Furthermore, according to one mode of the optical modulator disclosed in the present specification, the optical modulator includes a first optical waveguide having a core layer through which light propagates, and a second optical waveguide having a core layer through which light propagates, The first optical waveguide or the second optical waveguide includes a plurality of ring-type optical waveguides arranged along the core layer, a plurality of resonant wavelength modulation layers arranged on the plurality of ring-type waveguides, and a plurality of the above-mentioned A cladding layer disposed between the ring-type optical waveguide and the resonance wavelength modulation layer, and the adjacent ring-type optical waveguides are covered with the resonance wavelength modulation layer with respect to the entire length of the optical waveguide. The ratio of the length of the portion of the optical waveguide is different.

上述した本明細書に開示する光デバイスの一形態によれば、複数の共振波長を有する。   According to one mode of the optical device disclosed in the present specification described above, the optical device has a plurality of resonance wavelengths.

また、本明細書に開示する光変調器の一形態によれば、共振部が複数の共振波長を有する。   Moreover, according to one form of the optical modulator disclosed in this specification, the resonance unit has a plurality of resonance wavelengths.

本発明の目的及び効果は、特に請求項において指摘される構成要素及び組み合わせを用いることによって認識され且つ得られるだろう。   The objects and advantages of the invention will be realized and obtained by means of the elements and combinations particularly pointed out in the appended claims.

前述の一般的な説明及び後述の詳細な説明の両方は、例示的及び説明的なものであり、特許請求の範囲に記載されている本発明を制限するものではない。   Both the foregoing general description and the following detailed description are exemplary and explanatory and are not restrictive of the invention as claimed.

(A)は、従来の例による光共振器を示す平面図であり、(B)は、(A)のX1−X1線断面図である。(A) is a top view which shows the optical resonator by a prior art example, (B) is X1-X1 sectional view taken on the line of (A). (A)は、従来の他の例による光共振器を示す平面図であり、(B)は、(A)のX2−X2線断面図である。(A) is a top view which shows the optical resonator by other conventional examples, (B) is X2-X2 sectional view taken on the line of (A). (A)は、本明細書に開示する光デバイスの第1実施形態を示す平面図であり、(B)は、(A)のX3−X3線断面図である。(A) is a top view which shows 1st Embodiment of the optical device disclosed by this specification, (B) is the X3-X3 sectional view taken on the line of (A). (A)は、共振部における等価位相屈折率と光の伝搬方向の位置との関係を示す図であり、(B)は、共振部における共振波長と光の伝搬方向の位置との関係を示す図である。(A) is a figure which shows the relationship between the equivalent phase refractive index in a resonance part, and the position of the propagation direction of light, (B) shows the relationship between the resonance wavelength in a resonance part, and the position of the propagation direction of light. FIG. 光デバイスのコア層を伝搬する光の導波モードの光の伝搬方向に対して垂直な方向における電界強度分布図である。FIG. 6 is an electric field intensity distribution diagram in a direction perpendicular to a light propagation direction of light in a waveguide mode of light propagating through a core layer of an optical device. (A)は、第1実施形態の光デバイスの変形例1を示す図であり、(B)は、第1実施形態の光デバイスの変形例2を示す図であり、(C)は、第1実施形態の光デバイスの変形例3を示す図である。(A) is a figure which shows the modification 1 of the optical device of 1st Embodiment, (B) is a figure which shows the modification 2 of the optical device of 1st Embodiment, (C) It is a figure which shows the modification 3 of the optical device of 1 embodiment. (A)は、本明細書に開示する光デバイスの第2実施形態を示す平面図であり、(B)は、(A)のX4−X4線断面図である。(A) is a top view which shows 2nd Embodiment of the optical device disclosed by this specification, (B) is the X4-X4 sectional view taken on the line of (A). 第2実施形態の光デバイスの変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the optical device of 2nd Embodiment. (A)は、本明細書に開示する光デバイスの製造方法の第1実施形態を示す図(その1)であり、(B)は、(A)のX5−X5線断面図である。(A) is a figure (the 1) which shows 1st Embodiment of the manufacturing method of the optical device disclosed to this specification, (B) is the X5-X5 sectional view taken on the line of (A). (A)は、本明細書に開示する光デバイスの製造方法の第1実施形態を示す図(その2)であり、(B)は、(A)のX6−X6線断面図である。(A) is a figure (the 2) which shows 1st Embodiment of the manufacturing method of the optical device disclosed to this specification, (B) is the X6-X6 sectional view taken on the line of (A). (A)は、本明細書に開示する光デバイスの製造方法の第1実施形態を示す図(その3)であり、(B)は、(A)のX7−X7線断面図である。(A) is a figure (the 3) which shows 1st Embodiment of the manufacturing method of the optical device disclosed to this specification, (B) is X7-X7 sectional view taken on the line of (A). (A)は、本明細書に開示する光デバイスの製造方法の第1実施形態を示す図(その4)であり、(B)は、(A)のX8−X8線断面図である。(A) is a figure (the 4) which shows 1st Embodiment of the manufacturing method of the optical device disclosed to this specification, (B) is X8-X8 sectional view taken on the line of (A). (A)は、本明細書に開示する光デバイスの製造方法の第2実施形態を示す図(その1)であり、(B)は、(A)のX9−X9線断面図である。(A) is a figure (the 1) which shows 2nd Embodiment of the manufacturing method of the optical device disclosed to this specification, (B) is the X9-X9 sectional view taken on the line of (A). (A)は、本明細書に開示する光デバイスの製造方法の第2実施形態を示す図(その2)であり、(B)は、(A)のX10−X10線断面図である。(A) is a figure (the 2) which shows 2nd Embodiment of the manufacturing method of the optical device disclosed to this specification, (B) is X10-X10 sectional view taken on the line of (A). (A)は、本明細書に開示する光デバイスの製造方法の第2実施形態を示す図(その3)であり、(B)は、(A)のX11−X11線断面図である。(A) is a figure (the 3) which shows 2nd Embodiment of the manufacturing method of the optical device disclosed to this specification, (B) is the X11-X11 sectional view taken on the line of (A). (A)は、本明細書に開示する光デバイスの製造方法の第2実施形態を示す図(その4)であり、(B)は、(A)のX12−X12線断面図である。(A) is a figure (the 4) which shows 2nd Embodiment of the manufacturing method of the optical device disclosed to this specification, (B) is X12-X12 sectional view taken on the line of (A). (A)は、本明細書に開示する光変調器の第1実施形態を示す図であり、(B)は、本明細書に開示する光変調器の第2実施形態を示す図である。(A) is a figure which shows 1st Embodiment of the optical modulator disclosed by this specification, (B) is a figure which shows 2nd Embodiment of the optical modulator disclosed by this specification.

以下、本明細書で開示する光デバイスの好ましい第1実施形態を、図面を参照して説明する。但し、本発明の技術範囲はそれらの実施形態に限定されず、特許請求の範囲に記載された発明とその均等物に及ぶものである。   Hereinafter, a first preferred embodiment of an optical device disclosed in this specification will be described with reference to the drawings. However, the technical scope of the present invention is not limited to these embodiments, but extends to the invention described in the claims and equivalents thereof.

図3(A)は、本明細書に開示する光デバイスの第1実施形態を示す平面図であり、図3(B)は、図3(A)のX3−X3線断面図である。   FIG. 3A is a plan view showing a first embodiment of the optical device disclosed in this specification, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line X3-X3 in FIG.

本実施形態の光デバイス10は、入力した入力光Piを伝搬する縦長のコア層12を有し、コア層12を伝搬する光を共振させる共振部14と、共振部14の周りを囲むクラッド層15と、コア層12の長手方向に沿って幅が変化しながら延びる共振波長変調層16とを備える。また、光デバイス10は、共振部14及びクラッド層15が積層される基板11を備える。コア層12の長手方向は、光デバイス10を光が伝搬する方向と一致する。   The optical device 10 according to this embodiment includes a vertically long core layer 12 that propagates input light Pi, and a resonance unit 14 that resonates light propagating through the core layer 12 and a cladding layer that surrounds the resonance unit 14. 15 and a resonant wavelength modulation layer 16 extending while changing in width along the longitudinal direction of the core layer 12. The optical device 10 includes a substrate 11 on which the resonance unit 14 and the cladding layer 15 are stacked. The longitudinal direction of the core layer 12 coincides with the direction in which light propagates through the optical device 10.

光デバイス10では、光が伝搬する方向における共振部14の共振波長が変化するので、所定の帯域内の波長を有する入力光Piを共振させることができる。即ち、光デバイス10は、異なる波長を有する入力光λ1,λ2それぞれを共振させることができる。   In the optical device 10, since the resonance wavelength of the resonance unit 14 in the direction in which light propagates changes, the input light Pi having a wavelength within a predetermined band can be resonated. That is, the optical device 10 can resonate the input lights λ1 and λ2 having different wavelengths.

例えば、光デバイス10は、入力光Piを共振させることにより、光を蓄積して、光の伝達を遅延させる光遅延器として使用することができる。また、光デバイス10は、入力光Piを共振させることにより、光の遅延時間を変化させる分散補償器として使用することができる。   For example, the optical device 10 can be used as an optical delay device that accumulates light by causing the input light Pi to resonate and delays the transmission of light. The optical device 10 can be used as a dispersion compensator that changes the delay time of light by resonating the input light Pi.

共振部14は、コア層12と同様に縦長の形状を有している。また、共振部14は、コア層12における長手方向の両側部に設けられた回折格子13を有する。コア層12と回折格子13とは一体に形成されている。コア層12は、光デバイス10の長手方向の両端部に亘って延びており、入力側の端部から入力した入力光Piを伝搬し、共振した光を出力側の端部から出力光Poとして出力する。   Similar to the core layer 12, the resonating unit 14 has a vertically long shape. The resonance unit 14 includes diffraction gratings 13 provided on both sides of the core layer 12 in the longitudinal direction. The core layer 12 and the diffraction grating 13 are integrally formed. The core layer 12 extends over both ends of the optical device 10 in the longitudinal direction, propagates the input light Pi input from the input side end, and converts the resonated light as output light Po from the output side end. Output.

回折格子13は、同じ格子間隔で、即ち同じ周期で、コア層12の長手方向の両側部に対向するように配置されており、格子間隔の周期に対応する波長を有する光を共振させる。   The diffraction grating 13 is disposed so as to face both sides in the longitudinal direction of the core layer 12 at the same grating interval, that is, at the same period, and resonates light having a wavelength corresponding to the period of the grating interval.

光デバイス10の回折格子13は、同じ格子間隔で形成されるので、従来のフォトリソグラフィ又は電子ビーム描画等の半導体製造技術を用いて形成することができる。   Since the diffraction grating 13 of the optical device 10 is formed with the same grating interval, it can be formed using a conventional semiconductor manufacturing technique such as photolithography or electron beam drawing.

クラッド層15は、コア層12を伝搬する光を、コア層12の内部に閉じ込める働きを有する。この観点から、クラッド層15の位相屈折率は、コア層12の位相屈折率よりも小さいことが好ましい。   The cladding layer 15 has a function of confining light propagating through the core layer 12 inside the core layer 12. From this point of view, the phase refractive index of the cladding layer 15 is preferably smaller than the phase refractive index of the core layer 12.

位相屈折率は、光の位相速度に影響を与える屈折率であり、真空中の光速を物質中の光速(位相速度)で割った値となる。   The phase refractive index is a refractive index that affects the phase speed of light, and is a value obtained by dividing the speed of light in vacuum by the speed of light (phase speed) in a substance.

図3(A)に示すように、共振波長変調層16は、共振部14の長手方向(図3(A)中のX方向)において回折格子13が設けられた領域に配置されており、縦長の形状を有している。また、図3(B)に示すように、共振波長変調層16は、共振部15の上にクラッド層15を介して配置される。   As shown in FIG. 3A, the resonance wavelength modulation layer 16 is arranged in a region where the diffraction grating 13 is provided in the longitudinal direction of the resonance portion 14 (X direction in FIG. 3A), and is vertically long. It has the shape of In addition, as shown in FIG. 3B, the resonance wavelength modulation layer 16 is disposed on the resonance portion 15 via the cladding layer 15.

共振波長変調層16の幅Wは、光が伝搬する方向に向かって線形に変化している。具体的には、共振波長変調層16の幅Wは、光の伝搬方向Xの増加と共に線形に増加している。共振波長変調層16の幅方向の中心は、コア層12の幅方向の中心と一致させて、クラッド層15の上に配置されることが好ましい。共振波長変調層16は、幅方向の中心線に対して対称な形状を有していることが好ましい。光デバイス10では、共振波長変調層16は、2等辺三角形の形状を有しており、底辺の向きが、コア層12の長手方向Xに対して直交している。   The width W of the resonant wavelength modulation layer 16 changes linearly in the direction in which light propagates. Specifically, the width W of the resonant wavelength modulation layer 16 increases linearly as the light propagation direction X increases. The center in the width direction of the resonant wavelength modulation layer 16 is preferably disposed on the cladding layer 15 so as to coincide with the center in the width direction of the core layer 12. The resonant wavelength modulation layer 16 preferably has a symmetrical shape with respect to the center line in the width direction. In the optical device 10, the resonant wavelength modulation layer 16 has an isosceles triangular shape, and the direction of the base is orthogonal to the longitudinal direction X of the core layer 12.

光デバイス10の共振波長変調層16は、従来のフォトリソグラフィ又は電子ビーム描画等の半導体製造技術を用いて形成することができる。   The resonant wavelength modulation layer 16 of the optical device 10 can be formed using conventional semiconductor manufacturing techniques such as photolithography or electron beam drawing.

ここで、共振部14の回折格子13が形成されている部分の共振波長は、下記の式(1)で表される。   Here, the resonance wavelength of the part where the diffraction grating 13 of the resonance part 14 is formed is expressed by the following equation (1).

λm=2neΛ/m (1)   λm = 2neΛ / m (1)

ここで、neはコア層12の等価位相屈折率であり、Λは回折格子13の周期であり、mは回折格子の次数である。   Here, ne is the equivalent phase refractive index of the core layer 12, Λ is the period of the diffraction grating 13, and m is the order of the diffraction grating.

等価位相屈折率neは、コア層12の位相屈折率及びクラッド層の15の位相屈折率と共に、共振波長変調層16の位相屈折率の影響を受ける。そして、コア層12が共振波長変調層16に覆われている幅Wが、光の伝搬方向Xにおいて変化しているので、共振波長変調層16が配置される領域では、等価位相屈折率neは、光の伝搬方向Xにおいて変化する。   The equivalent phase refractive index ne is influenced by the phase refractive index of the resonant wavelength modulation layer 16 together with the phase refractive index of the core layer 12 and the phase refractive index of 15 of the cladding layer. Since the width W of the core layer 12 covered with the resonant wavelength modulation layer 16 changes in the light propagation direction X, the equivalent phase refractive index ne is equal to the region where the resonant wavelength modulation layer 16 is disposed. , And changes in the light propagation direction X.

図4(A)は、共振部における等価位相屈折率と光の伝搬方向の位置との関係を示す図である。図4(B)は、共振部における共振波長と光の伝搬方向の位置との関係を示す図である。   FIG. 4A is a diagram showing the relationship between the equivalent phase refractive index and the position in the light propagation direction in the resonance part. FIG. 4B is a diagram showing the relationship between the resonance wavelength and the position in the light propagation direction in the resonance part.

共振部14における等価位相屈折率neは、共振波長変調層16の幅Wの増加と共に増加する。そして、共振部14における共振波長は、式(1)に示す関係から、等価位相屈折率neの増加と共に増加する。即ち、共振部14における共振波長は、コア層12に沿って増加する。   The equivalent phase refractive index ne in the resonance unit 14 increases as the width W of the resonance wavelength modulation layer 16 increases. And the resonance wavelength in the resonance part 14 increases with the increase in equivalent phase refractive index ne from the relationship shown in Formula (1). That is, the resonance wavelength in the resonance unit 14 increases along the core layer 12.

このように、光デバイス10は、所定の幅の共振波長帯域を有しており、この帯域に含まれる波長を有する光を共振させることができる。   Thus, the optical device 10 has a resonance wavelength band with a predetermined width, and can resonate light having a wavelength included in this band.

例えば、光共振器10に入力した波長λ1を有する入力光Piは、コア層12を伝搬しながら、波長λ1と共振する共振波長を有する共振波長変調層16の幅の位置における回折格子の部分で共振された後、出力光Poとして出力される。   For example, the input light Pi having the wavelength λ <b> 1 input to the optical resonator 10 is propagated through the core layer 12 at the diffraction grating portion at the position of the width of the resonant wavelength modulation layer 16 having the resonant wavelength that resonates with the wavelength λ <b> 1. After being resonated, it is output as output light Po.

同様に、波長λ1とは異なる波長λ2を有する入力光Piは、コア層12を伝搬しながら、波長λ2と共振する共振波長を有する共振波長変調層16の幅の位置における回折格子の部分で共振された後、出力光Poとして出力される。   Similarly, the input light Pi having a wavelength λ2 different from the wavelength λ1 resonates at the diffraction grating portion at the position of the width of the resonant wavelength modulation layer 16 having a resonant wavelength that resonates with the wavelength λ2 while propagating through the core layer 12. Is output as output light Po.

図5は、光デバイスのコア層を伝搬する光の導波モードの光の伝搬方向に対して垂直な方向における電界強度分布図である。   FIG. 5 is an electric field intensity distribution diagram in a direction perpendicular to the propagation direction of light in the waveguide mode of light propagating through the core layer of the optical device.

コア層12を伝搬する光の導波モードの電界強度は、光の伝搬方向Xに対して垂直な方向Z(図3(B)参照)において、図5に示すような分布を有している。図5の横軸Zのゼロの位置は、コア層12の中心に対応する。   The electric field intensity of the waveguide mode of light propagating through the core layer 12 has a distribution as shown in FIG. 5 in the direction Z (see FIG. 3B) perpendicular to the light propagation direction X. . The zero position on the horizontal axis Z in FIG. 5 corresponds to the center of the core layer 12.

導波モードの電界強度は、Z方向において、コア層12を超えて、クラッド層15及び共振波長変調層16にまで分布している。このように、導波モードの電界強度が、共振波長変調層16までに亘って分布しているので、等価位相屈折率neに対して、共振波長変調層16の位相屈折率の影響が及ぶことになる。   The electric field intensity in the waveguide mode is distributed to the cladding layer 15 and the resonance wavelength modulation layer 16 beyond the core layer 12 in the Z direction. Thus, since the electric field intensity of the waveguide mode is distributed over the resonance wavelength modulation layer 16, the influence of the phase refractive index of the resonance wavelength modulation layer 16 is exerted on the equivalent phase refractive index ne. become.

共振波長変調層16とコア層15との間の距離が近いと、等価位相屈折率neに対する共振波長変調層16の位相屈折率の影響が大きくなる。そして、共振波長変調層16とコア層15との間の距離が近づく程、共振波長変調層16の幅Wの変化に対して、共振波長の変化幅が大きく変化する。このような場合に、精確な幅を有する共振波長帯域を得るためには、コア層の長手方向Xにおける共振波長変調層16の幅Wの変化率を小さくすることにより、共振波長の変化幅を小さくすることが求められる場合がある。ただし、共振波長変調層16の幅Wの変化率を小さくすることは、即ち共振波長変調層16の2つの斜辺の傾きを小さくすることは、共振波長変調層16を製造する上で、サブナノメートルのオーダで変化する構造を製造することが求められるおそれがある。   When the distance between the resonant wavelength modulation layer 16 and the core layer 15 is short, the influence of the phase refractive index of the resonant wavelength modulation layer 16 on the equivalent phase refractive index ne increases. Then, as the distance between the resonance wavelength modulation layer 16 and the core layer 15 is closer, the change width of the resonance wavelength is greatly changed with respect to the change of the width W of the resonance wavelength modulation layer 16. In such a case, in order to obtain a resonance wavelength band having an accurate width, the change rate of the resonance wavelength is reduced by reducing the rate of change of the width W of the resonance wavelength modulation layer 16 in the longitudinal direction X of the core layer. It may be required to be small. However, reducing the change rate of the width W of the resonant wavelength modulation layer 16, that is, reducing the slopes of the two hypotenuses of the resonant wavelength modulation layer 16 is a sub-nanometer in manufacturing the resonant wavelength modulation layer 16. It may be required to produce a structure that changes on the order of.

従って、所定の幅の共振波長帯域を得るためには、共振波長変調層16とコア層15との間の距離は、共振波長変調層16の製造が可能な寸法を有する程度に、離すことが好ましい。   Therefore, in order to obtain a resonance wavelength band of a predetermined width, the distance between the resonance wavelength modulation layer 16 and the core layer 15 should be separated to such an extent that the resonance wavelength modulation layer 16 can be manufactured. preferable.

このような観点から、共振波長変調層16は、コア層12を伝搬する光の導波モードの伝搬方向Xに対して垂直な方向Zにおける電界強度分布Cのテール部分(図5参照)に配置されることが好ましい。ここで、電界強度分布Cのテール部分は、コア層12を伝搬する光の導波モードの電界強度の伝搬方向Xに対して垂直な方向Zにおける距離に対する2次導関数の符号が変化する位置Pに対して、コア層12とは反対側に位置する部分Wである。位置Pは、電界強度の変曲点である。更に説明すると、電界強度分布Cは、コア層12を中心に基板11側及び共振波長変調層16側に亘っているので、部分Wは、位置Pに対して、基板11とは反対側の領域にある。   From this point of view, the resonant wavelength modulation layer 16 is arranged in the tail portion (see FIG. 5) of the electric field intensity distribution C in the direction Z perpendicular to the propagation direction X of the waveguide mode of light propagating through the core layer 12. It is preferred that Here, the tail portion of the electric field intensity distribution C is a position where the sign of the second derivative changes with respect to the distance in the direction Z perpendicular to the propagation direction X of the electric field intensity of the waveguide mode of light propagating through the core layer 12. The portion W is located on the opposite side of the core layer 12 with respect to P. The position P is an inflection point of the electric field strength. More specifically, since the electric field intensity distribution C extends from the core layer 12 to the substrate 11 side and the resonance wavelength modulation layer 16 side, the portion W is a region opposite to the substrate 11 with respect to the position P. It is in.

一方、共振波長変調層16とコア層15との間の距離が離れていると、等価位相屈折率neに対する共振波長変調層16の位相屈折率の影響が小さくなる。そして、共振波長変調層16とコア層15との間の距離が離れる程、共振波長変調層16の幅Wの変化に対して、共振波長の変化幅が減少してくる。従って、共振波長変調層16とコア層15との間の距離が離過ぎていると、共振波長変調層16の幅Wの変化に対して、共振波長の変化幅が僅かとなるので、所定の幅の共振波長帯域を得ることができなくなるおそれがある。   On the other hand, when the distance between the resonant wavelength modulation layer 16 and the core layer 15 is increased, the influence of the phase refractive index of the resonant wavelength modulation layer 16 on the equivalent phase refractive index ne is reduced. As the distance between the resonance wavelength modulation layer 16 and the core layer 15 increases, the change width of the resonance wavelength decreases with respect to the change in the width W of the resonance wavelength modulation layer 16. Accordingly, if the distance between the resonant wavelength modulation layer 16 and the core layer 15 is too large, the change width of the resonance wavelength becomes small with respect to the change in the width W of the resonant wavelength modulation layer 16, There is a possibility that a resonance wavelength band having a width cannot be obtained.

従って、所定の幅の共振波長帯域を得るためには、共振波長変調層16とコア層15との間の距離は、等価位相屈折率neに対する共振波長変調層16の位相屈折率の影響が小さくなり過ぎない程度であることが好ましい。   Therefore, in order to obtain a resonance wavelength band of a predetermined width, the distance between the resonance wavelength modulation layer 16 and the core layer 15 is such that the influence of the phase refractive index of the resonance wavelength modulation layer 16 on the equivalent phase refractive index ne is small. It is preferable that it is not too much.

このような観点から、共振波長変調層16のZ方向の位置は、電界強度分布Cのピーク値に対して、電界強度の値が1/10000以上1/10以下、特に、電界強度の値が1/1000以上1/100以下、更には、電界強度の値が1/500以上1/200以下の領域V(図5参照)に配置されることが好ましい。   From this point of view, the position of the resonant wavelength modulation layer 16 in the Z direction is such that the electric field intensity value is 1/10000 or more and 1/10 or less with respect to the peak value of the electric field intensity distribution C. It is preferably arranged in the region V (refer to FIG. 5) having a value of 1/1000 or more and 1/100 or less, and further having an electric field strength value of 1/500 or more and 1/200 or less.

例えば、共振部14及び共振波長変調層16がシリコンを用いて形成され、クラッド層が酸化シリコンを用いて形成される場合には、共振波長変調層16とコア層15との間の距離は、50nm以上500nm以下、特に150nm以上300nm以下、更に特に175nm以上225nm以下とすることが、上述した観点から好ましい。このようにして、光デバイス10は、共振波長帯域として、例えば、1nmから20nmの範囲を得ることができる。   For example, when the resonance unit 14 and the resonance wavelength modulation layer 16 are formed using silicon and the cladding layer is formed using silicon oxide, the distance between the resonance wavelength modulation layer 16 and the core layer 15 is From the viewpoint described above, it is preferably 50 nm to 500 nm, particularly 150 nm to 300 nm, more preferably 175 nm to 225 nm. In this way, the optical device 10 can obtain, for example, a range of 1 nm to 20 nm as the resonance wavelength band.

次に、共振波長変調層16の位相屈折率と、コア層12及びクラッド層15の位相屈折率との関係を以下に説明する。   Next, the relationship between the phase refractive index of the resonant wavelength modulation layer 16 and the phase refractive indexes of the core layer 12 and the cladding layer 15 will be described below.

共振波長変調層16の位相屈折率が、コア層12の位相屈折率よりも大きいと、コア層12を伝搬する光が共振波長変調層16の方へ移動してくるので、コア層12を伝搬する光が減少するおそれがある。   When the phase refractive index of the resonant wavelength modulation layer 16 is larger than the phase refractive index of the core layer 12, the light propagating through the core layer 12 moves toward the resonant wavelength modulation layer 16, and thus propagates through the core layer 12. There is a risk that the light to be reduced.

このような観点から、共振波長変調層16の位相屈折率は、コア層12の位相屈折率と同じか又はコア層12の位相屈折率よりも小さいことが好ましい。特に、共振波長変調層16の位相屈折率を、コア層12の位相屈折率と同じ値にすると、光デバイス10の光学特性の設計が容易となる利点がある。また、共振波長変調層16の位相屈折率がコア層12の位相屈折率よりも小さ過ぎると、等価位相屈折率neへの共振波長変調層16の影響が小さくなるおそれがある。   From such a viewpoint, it is preferable that the phase refractive index of the resonant wavelength modulation layer 16 is the same as or smaller than the phase refractive index of the core layer 12. In particular, if the phase refractive index of the resonant wavelength modulation layer 16 is set to the same value as the phase refractive index of the core layer 12, there is an advantage that the optical characteristics of the optical device 10 can be easily designed. Further, if the phase refractive index of the resonant wavelength modulation layer 16 is too small than the phase refractive index of the core layer 12, the influence of the resonant wavelength modulation layer 16 on the equivalent phase refractive index ne may be reduced.

また、共振波長変調層16の位相屈折率neは、クラッド層15の位相屈折率よりも大きいことが好ましい。一方、共振波長変調層16の位相屈折率neが、クラッド層15よりも位相屈折率が小さいと、等価位相屈折率neへの共振波長変調層16の影響が小さくなる。   The phase refractive index ne of the resonant wavelength modulation layer 16 is preferably larger than the phase refractive index of the cladding layer 15. On the other hand, when the phase refractive index ne of the resonant wavelength modulation layer 16 is smaller than that of the cladding layer 15, the influence of the resonant wavelength modulation layer 16 on the equivalent phase refractive index ne is reduced.

また、共振波長変調層16の位相屈折率の大きさにも依存するが、共振波長変調層16の厚さは、コア層12の厚さよりも薄いことが好ましい。共振波長変調層16の厚さが、コア層12よりも厚いと、コア層12を伝搬する光が共振波長変調層16の方へ移動してくるので、コア層12を伝搬する光が減少するおそれがあるためである。   The thickness of the resonant wavelength modulation layer 16 is preferably smaller than the thickness of the core layer 12, although it depends on the magnitude of the phase refractive index of the resonant wavelength modulation layer 16. If the thickness of the resonant wavelength modulation layer 16 is thicker than that of the core layer 12, the light propagating through the core layer 12 moves toward the resonant wavelength modulation layer 16, so that the light propagating through the core layer 12 decreases. This is because there is a fear.

なお、共振波長変調層16の位相屈折率が大きい場合には、共振波長変調層16の厚さが薄くても、等価位相屈折率neを変化させることができる。一方、共振波長変調層16の位相屈折率が小さい場合には、共振波長変調層16を厚くしないと、等価位相屈折率neを十分に変化させることができないおそれがある。   When the phase refractive index of the resonant wavelength modulation layer 16 is large, the equivalent phase refractive index ne can be changed even if the resonant wavelength modulation layer 16 is thin. On the other hand, when the phase refractive index of the resonant wavelength modulation layer 16 is small, the equivalent phase refractive index ne may not be changed sufficiently unless the resonant wavelength modulation layer 16 is thickened.

以上が、共振波長変調層16の位相屈折率と、コア層12及びクラッド層15の位相屈折率との関係の説明である。   The above is the description of the relationship between the phase refractive index of the resonant wavelength modulation layer 16 and the phase refractive indexes of the core layer 12 and the cladding layer 15.

上述したような観点を考慮して、所望の共振波長帯域を得られるように、光デバイス10が設計される。例えば、光デバイス10で共振させたい波長の下限値λ1と上限値λ2とが決定されると、式(1)を用いて、対応する等価位相屈折率n1及びn2が定まる。そして、等価位相屈折率n1及びn2が得られる共振波長変調層16の幅W1、W2それぞれが決定されて、共振波長変調層16の寸法は、これらの幅W1、W2を含むように設計される。なお、共振波長変調層16の斜辺の傾きは、共振波長変調層16又は光デバイス10の長手方向の寸法によっても決定され得る。   The optical device 10 is designed so as to obtain a desired resonance wavelength band in consideration of the above viewpoint. For example, when the lower limit value λ1 and the upper limit value λ2 of the wavelength to be resonated by the optical device 10 are determined, the corresponding equivalent phase refractive indexes n1 and n2 are determined using the equation (1). Then, the widths W1 and W2 of the resonant wavelength modulation layer 16 from which the equivalent phase refractive indexes n1 and n2 are obtained are determined, and the dimensions of the resonant wavelength modulation layer 16 are designed to include these widths W1 and W2. . Note that the slope of the oblique side of the resonant wavelength modulation layer 16 can also be determined by the longitudinal dimension of the resonant wavelength modulation layer 16 or the optical device 10.

光デバイス10の形成材料としては、化合物半導体又はシリコン又はこれらの酸化物等を用いることができる。特に、シリコン又はその酸化物を用いて光デバイス10を形成する場合には、従来のシリコン半導体の製造技術を用いて、シリコン基板上に複数の光デバイスを製造することができ、且つ他のシリコン半導体素子と組み合わせて製造することが容易となる利点がある。   As a material for forming the optical device 10, a compound semiconductor, silicon, or an oxide thereof can be used. In particular, when the optical device 10 is formed using silicon or an oxide thereof, a plurality of optical devices can be manufactured on a silicon substrate using a conventional silicon semiconductor manufacturing technique, and other silicon can be manufactured. There is an advantage that it is easy to manufacture in combination with a semiconductor element.

上述した本実施形態の光デバイス10によれば、光が伝搬する方向における共振部の共振波長を変化させることができるので、異なる波長を有する光それぞれを共振できる。   According to the optical device 10 of the present embodiment described above, since the resonance wavelength of the resonance unit in the direction in which light propagates can be changed, each light having a different wavelength can resonate.

また、光デバイス10は、回折格子13及び共振波長変調層16等の加工を、従来のフォトリソグラフィ又は電子ビーム描画等の半導体製造技術を用いて行うことができるので、品質の安定した光デバイスを製造可能である。   Further, since the optical device 10 can process the diffraction grating 13 and the resonant wavelength modulation layer 16 using a semiconductor manufacturing technology such as conventional photolithography or electron beam drawing, an optical device with stable quality can be obtained. It can be manufactured.

次に、上述した第1実施形態の光デバイスの変形例1〜3を、図面を参照して以下に説明する。   Next, modifications 1 to 3 of the optical device of the first embodiment described above will be described below with reference to the drawings.

図6(A)は、第1実施形態の光デバイスの変形例1を示す図である。   FIG. 6A is a diagram illustrating a first modification of the optical device according to the first embodiment.

変形例1の光デバイス10は、共振波長変調層16の形状が、上述した第1実施形態とは異なっている。   In the optical device 10 of Modification 1, the shape of the resonant wavelength modulation layer 16 is different from that of the first embodiment described above.

本変形例では、共振波長変調層16の幅Wが、コア層12の長手方向において、非線形に変化している。具体的には、第1実施形態における2等辺三角形の形状であった共振波長変調層の斜辺の形状が幅方向の内側に凸に湾曲した形状となっている。   In the present modification, the width W of the resonant wavelength modulation layer 16 changes nonlinearly in the longitudinal direction of the core layer 12. Specifically, the shape of the hypotenuse of the resonant wavelength modulation layer, which was the shape of an isosceles triangle in the first embodiment, is a shape that is convexly convex inward in the width direction.

このように、共振波長変調層16の幅Wは、コア層12の長手方向において、例えば、放物線状又は双曲線状に変化していても良い。また、共振波長変調層16の幅Wは、幅方向の外側に凸に湾曲するように変化していても良い。   Thus, the width W of the resonant wavelength modulation layer 16 may change, for example, in a parabolic shape or a hyperbolic shape in the longitudinal direction of the core layer 12. Further, the width W of the resonant wavelength modulation layer 16 may change so as to be convexly curved outward in the width direction.

図6(B)は、第1実施形態の光デバイスの変形例2を示す図である。   FIG. 6B is a diagram illustrating Modification Example 2 of the optical device according to the first embodiment.

本変形例では、共振波長変調層16の幅Wが、コア層12の長手方向において、減少した後再び増加している。   In this modification, the width W of the resonant wavelength modulation layer 16 decreases and then increases again in the longitudinal direction of the core layer 12.

具体的には、共振波長変調層16は、2つの2等辺三角形が頂角を対向させた形状となっている。即ち、共振波長変調層16の幅Wは、コア層12の長手方向において、線形に減少してゼロになった後、再び線形に増加している。   Specifically, the resonant wavelength modulation layer 16 has a shape in which two isosceles triangles face each other at the apex angle. That is, the width W of the resonant wavelength modulation layer 16 decreases linearly in the longitudinal direction of the core layer 12 to zero, and then increases linearly again.

図6(C)は、第1実施形態の光デバイスの変形例3を示す図である。図6(C)は、図3(B)に対応する断面図である。   FIG. 6C is a diagram illustrating a third modification of the optical device according to the first embodiment. FIG. 6C is a cross-sectional view corresponding to FIG.

本変形例では、クラッド層15の上側の部分に溝15aが形成されており、この溝15aの部分が共振波長変調層16となっている。共振波長変調層16内には、例えば空気が充填されており、共振波長変調層16の位相屈折率は、空気の位相屈折率となる。   In this modification, a groove 15 a is formed in the upper part of the cladding layer 15, and the groove 15 a part is the resonance wavelength modulation layer 16. The resonant wavelength modulation layer 16 is filled with, for example, air, and the phase refractive index of the resonant wavelength modulation layer 16 becomes the phase refractive index of air.

なお、溝15aに、空気以外の材料を充填して、共振波長変調層16としても良い。   The groove 15a may be filled with a material other than air to form the resonance wavelength modulation layer 16.

また、上述した第1実施形態及び変形例では、回折格子13は、コア層12における長手方向の両側部に設けられていたが、回折格子13は、コア層12の共振波長変調層16側の面及び基板11側の面に設けても良い。   In the first embodiment and the modification described above, the diffraction grating 13 is provided on both sides of the core layer 12 in the longitudinal direction. However, the diffraction grating 13 is located on the resonance wavelength modulation layer 16 side of the core layer 12. It may be provided on the surface and the surface on the substrate 11 side.

次に、上述した光デバイスの第2実施形態を、図7(A)及び(B)を参照しながら以下に説明する。第2実施形態について特に説明しない点については、上述の第1実施形態に関して詳述した説明が適宜適用される。また、同一の構成要素には同一の符号を付してある。   Next, a second embodiment of the above-described optical device will be described below with reference to FIGS. 7 (A) and (B). For points that are not particularly described in the second embodiment, the description in detail regarding the first embodiment is applied as appropriate. Moreover, the same code | symbol is attached | subjected to the same component.

図7(A)は、本明細書に開示する光デバイスの第2実施形態を示す平面図であり、図7(B)は、図7(A)のX4−X4線断面図である。   FIG. 7A is a plan view showing a second embodiment of the optical device disclosed in this specification, and FIG. 7B is a cross-sectional view taken along line X4-X4 of FIG.

本実施形態の光デバイス10では、共振部14が、コア層12と、コア層12に沿ってコア層12を伝搬する光と結合可能に配置された複数のリング型光導波路17と、を有する。また、光デバイス10は、複数のリング型光導波路17の上に配置された共振波長変調層16を備える。   In the optical device 10 of the present embodiment, the resonating unit 14 includes the core layer 12 and a plurality of ring-type optical waveguides 17 arranged so as to be coupled with light propagating along the core layer 12 along the core layer 12. . The optical device 10 also includes a resonant wavelength modulation layer 16 disposed on the plurality of ring optical waveguides 17.

図7(B)に示すように、コア層12及び複数のリング型光導波路17は、クラッド層15内に埋め込まれており、複数のリング型光導波路17と共振波長変調層16との間にクラッド層16が配置されている。   As shown in FIG. 7B, the core layer 12 and the plurality of ring type optical waveguides 17 are embedded in the cladding layer 15, and between the plurality of ring type optical waveguides 17 and the resonant wavelength modulation layer 16. A cladding layer 16 is disposed.

本実施形態では、共振部14が、回折格子ではなく、複数のリング型光導波路17を有している点が、上述した第1実施形態とは異なっている。   The present embodiment is different from the first embodiment described above in that the resonating unit 14 has a plurality of ring optical waveguides 17 instead of a diffraction grating.

複数のリング型光導波路17同士は、互いには光結合しないように離間して配置されている。各リング型光導波路17は、同じ寸法を有している。リング型光導波路17は、閉じた光導波路の形状を有していればよい。図7(A)に示す例では、リング型光導波路17は、円形状を有する。   The plurality of ring-type optical waveguides 17 are spaced apart so as not to be optically coupled to each other. Each ring optical waveguide 17 has the same dimensions. The ring-type optical waveguide 17 only needs to have a closed optical waveguide shape. In the example shown in FIG. 7A, the ring optical waveguide 17 has a circular shape.

図7(A)に示すように、共振波長変調層16の幅Wは、光が伝搬する方向に向かって線形に変化している。共振波長変調層16は、共振部14の長手方向(図7(A)中のX方向)において全てのリング型光導波路17の上を覆うように配置されており、縦長の形状を有している。共振波長変調層16の幅方向の中心は、複数のリング型光導波路17それぞれの幅方向の中心と一致させて、クラッド層15の上に配置されることが好ましい。   As shown in FIG. 7A, the width W of the resonant wavelength modulation layer 16 changes linearly in the direction in which light propagates. The resonance wavelength modulation layer 16 is disposed so as to cover all the ring type optical waveguides 17 in the longitudinal direction of the resonance part 14 (X direction in FIG. 7A), and has a vertically long shape. Yes. The center in the width direction of the resonant wavelength modulation layer 16 is preferably disposed on the cladding layer 15 so as to coincide with the center in the width direction of each of the plurality of ring type optical waveguides 17.

隣り合うリング型光導波路17同士では、各リング型光導波路17の全長に対する共振波長変調層16に覆われている光導波路の部分の長さの割合が異なっている。   Adjacent ring optical waveguides 17 are different in the ratio of the length of the portion of the optical waveguide covered with the resonant wavelength modulation layer 16 to the entire length of each ring optical waveguide 17.

更に説明すると、図7(A)に示す例では、コア層12に沿って、5つのリング型光導波路17が配置されており、それぞれが共振波長変調層16に覆われている光導波路の部分が左側から順にS1,S2,S3,S4,S5として示されている。上述したように、5つのリング型光導波路17の円周の長さは同じである。   More specifically, in the example shown in FIG. 7A, five ring-type optical waveguides 17 are arranged along the core layer 12, and each part of the optical waveguide is covered with the resonant wavelength modulation layer 16. Are shown as S1, S2, S3, S4 and S5 in order from the left. As described above, the circumferences of the five ring optical waveguides 17 are the same.

そして、左側から1番目に位置するリング型光導波路17の部分S1の長さがリング型光導波路17の円周の長さに対して占める割合は、隣のリング型光導波路17の部分S2の長さがリング型光導波路17の円周の長さに対して占める割合とは異なっている。即ち、部分S1の長さと部分S2の長さとは異なっており、部分S2の長さの方が長い。   The ratio of the length of the portion S1 of the ring optical waveguide 17 positioned first from the left side to the circumference of the ring optical waveguide 17 is the ratio of the portion S2 of the adjacent ring optical waveguide 17 The ratio of the length to the circumference of the ring optical waveguide 17 is different. That is, the length of the portion S1 is different from the length of the portion S2, and the length of the portion S2 is longer.

同様に、左側から2番目に位置するリング型光導波路17の部分S2の長さがリング型光導波路17の円周の長さに対して占める割合は、隣のリング型光導波路17の部分S3の長さがリング型光導波路17の円周の長さに対して占める割合とは異なっている。即ち、部分S2の長さと部分S3の長さとは異なっており、部分S3の長さの方が長い。   Similarly, the ratio of the length of the portion S2 of the ring-shaped optical waveguide 17 located second from the left side to the circumferential length of the ring-shaped optical waveguide 17 is the portion S3 of the adjacent ring-shaped optical waveguide 17 Is different from the ratio of the length of the ring type optical waveguide 17 to the circumference of the ring type optical waveguide 17. That is, the length of the portion S2 is different from the length of the portion S3, and the length of the portion S3 is longer.

以下、同様に、部分S3の長さと部分S4の長さとは異なっており、部分S4の長さと部分S4の長さとは異なっており、長さは、S3,S4,S5の順番に長くなっている。   Similarly, the length of the portion S3 and the length of the portion S4 are different, the length of the portion S4 and the length of the portion S4 are different, and the length becomes longer in the order of S3, S4, and S5. Yes.

このように、光デバイス10では、共振波長変調層16に覆われている各リング型光導波路17の部分の長さが互いに異なっているので、リング型光導波路の全長に対する共振波長変調層16に覆われている光導波路の部分の長さの割合が異なることになる。   As described above, in the optical device 10, the lengths of the ring-type optical waveguides 17 covered with the resonant wavelength modulation layer 16 are different from each other. The ratio of the length of the covered optical waveguide portion is different.

ここで、共振部14のリング型光導波路17が形成されている部分の共振波長は、下記の式(2)で表される。   Here, the resonance wavelength of the portion of the resonance unit 14 where the ring optical waveguide 17 is formed is expressed by the following equation (2).

λm=nae2πR/m (2)   λm = nae2πR / m (2)

ここで、naeはリング型光導波路17の平均等価位相屈折率であり、Rはリング型光導波路17の半径であり、mは回折格子の次数である。   Here, nae is the average equivalent phase refractive index of the ring optical waveguide 17, R is the radius of the ring optical waveguide 17, and m is the order of the diffraction grating.

リング型光導波路17の等価位相屈折率は、共振波長変調層16に覆われている部分では、リング型光導波路17の位相屈折率及びクラッド層の15の位相屈折率と共に、共振波長変調層16の位相屈折率の影響を受ける。一方、共振波長変調層16に覆われていない部分では、リング型光導波路17の等価位相屈折率は、リング型光導波路17の位相屈折率及びクラッド層の15のみの影響を受ける。リング型光導波路17の平均等価位相屈折率naeは、共振波長変調層16に覆われている部分の等価位相屈折率と、共振波長変調層16に覆われていない部分の等価位相屈折率とが平均された等価位相屈折率となる。そして、各リング型光導波路17では、共振波長変調層16に覆われている光導波路の部分S1,S2,S3,S4,S5の長さが異なるため、それぞれのリング型光導波路17に対する共振波長変調層16の等価位相屈折率への影響が異なっている。従って、各リング型光導波路17の平均等価位相屈折率naeも異なっている。   The equivalent phase refractive index of the ring-type optical waveguide 17 is, together with the phase refractive index of the ring-type optical waveguide 17 and the phase refractive index of 15 of the cladding layer, in the portion covered with the resonant wavelength modulation layer 16. It is influenced by the phase refractive index. On the other hand, the equivalent phase refractive index of the ring type optical waveguide 17 is affected only by the phase refractive index of the ring type optical waveguide 17 and the cladding layer 15 in the portion not covered with the resonant wavelength modulation layer 16. The average equivalent phase refractive index nae of the ring type optical waveguide 17 includes an equivalent phase refractive index of a portion covered with the resonant wavelength modulation layer 16 and an equivalent phase refractive index of a portion not covered with the resonant wavelength modulation layer 16. The averaged equivalent phase refractive index is obtained. In each ring-type optical waveguide 17, the lengths of the optical waveguide portions S 1, S 2, S 3, S 4, and S 5 covered with the resonance wavelength modulation layer 16 are different. The influence of the modulation layer 16 on the equivalent phase refractive index is different. Therefore, the average equivalent phase refractive index nae of each ring type optical waveguide 17 is also different.

リング型光導波路17における平均等価位相屈折率naeは、共振波長変調層16に覆われている光導波路の部分S1,S2,S3,S4,S5の長さの増加と共に増加する。そして、共振部14における共振波長は、式(2)に示す関係から、平均等価位相屈折率naeの増加と共に増加する。   The average equivalent phase refractive index nae in the ring type optical waveguide 17 increases as the lengths of the portions S1, S2, S3, S4, and S5 of the optical waveguide covered with the resonant wavelength modulation layer 16 increase. And the resonance wavelength in the resonance part 14 increases with the increase in average equivalent phase refractive index nae from the relationship shown in Formula (2).

このように、光デバイス10は、所定の幅の共振波長帯域を有しており、この帯域に含まれる波長を有する光を共振させることができる。   Thus, the optical device 10 has a resonance wavelength band with a predetermined width, and can resonate light having a wavelength included in this band.

例えば、光共振器10に入力した波長λ1を有する入力光Piは、コア層12を伝搬しながら、波長λ1と共振する共振波長を有するリング型光導波路17の部分で共振された後、出力光Poとして出力される。   For example, the input light Pi having the wavelength λ1 input to the optical resonator 10 is resonated at the portion of the ring optical waveguide 17 having the resonance wavelength that resonates with the wavelength λ1 while propagating through the core layer 12, and then the output light. Output as Po.

同様に、波長λ1とは異なる波長λ2を有する入力光Piは、コア層12を伝搬しながら、波長λ2と共振する共振波長を有するリング型光導波路17の部分で共振された後、出力光Poとして出力される。   Similarly, the input light Pi having a wavelength λ2 different from the wavelength λ1 is resonated at the portion of the ring optical waveguide 17 having a resonance wavelength that resonates with the wavelength λ2 while propagating through the core layer 12, and then the output light Po. Is output as

図7(A)に示す例では、光デバイス10は、5つのリング型光導波路を有しているが、リング型光導波路の数及び半径は、共振させたい波長の帯域等に応じて適宜設定し得る。   In the example shown in FIG. 7A, the optical device 10 has five ring-type optical waveguides, but the number and radius of the ring-type optical waveguides are appropriately set according to the wavelength band to be resonated. Can do.

上述した本実施形態の光デバイス10によれば、第1実施形態の光デバイスと同様の効果が奏される。   According to the optical device 10 of the present embodiment described above, the same effects as the optical device of the first embodiment are exhibited.

次に、上述した第2実施形態の光デバイスの変形例を、図面を参照して以下に説明する。   Next, a modification of the optical device of the second embodiment described above will be described below with reference to the drawings.

図8は、第2実施形態の光デバイスの変形例を示す図である。   FIG. 8 is a diagram illustrating a modification of the optical device according to the second embodiment.

本変形例の光デバイス10は、リング型光導波路17がレーストラック形状を有しており、直線状の光導波路の部分で、コア層12と光結合している。このように、直線状の光導波路の部分で、コア層12と光結合する場合には、コア層12とリング型光導波路17との間の距離を長くしても結合効率を大きくできる利点がある。   In the optical device 10 of this modification, the ring optical waveguide 17 has a racetrack shape, and is optically coupled to the core layer 12 at the linear optical waveguide portion. Thus, when optically coupling with the core layer 12 in the linear optical waveguide portion, there is an advantage that the coupling efficiency can be increased even if the distance between the core layer 12 and the ring optical waveguide 17 is increased. is there.

次に、上述した光デバイスの製造方法の好ましい第1実施形態を、図面を参照しながら、以下に説明する。   Next, a preferred first embodiment of the above-described optical device manufacturing method will be described below with reference to the drawings.

まず、図9(A)及び(B)に示すように、支持層31と絶縁層32と半導体層33とを有する基板30を用意する。本実施形態では、基板30として、SOI(Silicon on Insulator)基板を用いる。支持層31はシリコン基板であり、絶縁層はシリコン酸化層であり、半導体層33は単結晶シリコン層である。半導体層33の厚さとしては、例えば、220nmとすることができる。   First, as shown in FIGS. 9A and 9B, a substrate 30 having a support layer 31, an insulating layer 32, and a semiconductor layer 33 is prepared. In the present embodiment, an SOI (Silicon on Insulator) substrate is used as the substrate 30. The support layer 31 is a silicon substrate, the insulating layer is a silicon oxide layer, and the semiconductor layer 33 is a single crystal silicon layer. The thickness of the semiconductor layer 33 can be set to 220 nm, for example.

なお、基板30は、SOI基板を用いるのではなく、支持層31上に絶縁層32及び半導体層33を形成して用意しても良い。   The substrate 30 may be prepared by forming the insulating layer 32 and the semiconductor layer 33 on the support layer 31 instead of using an SOI substrate.

次に、図10(A)及び(B)に示すように、半導体層33がパターニングされて、コア層12と回折格子13とを有する共振部14が形成される。パターニングとしては、電子ビーム描画法及びドライエッチング法を用いることができる。コア層の幅としては、例えば、450nmとすることができる。   Next, as shown in FIGS. 10A and 10B, the semiconductor layer 33 is patterned to form the resonance part 14 having the core layer 12 and the diffraction grating 13. As the patterning, an electron beam drawing method and a dry etching method can be used. The width of the core layer can be set to 450 nm, for example.

次に、図11(A)及び(B)に示すように、絶縁層32上に、共振部14を埋め込むようにクラッド層15を形成する材料が積層されて、絶縁層32と一体となってクラッド層15が形成される。本実施形態では、クラッド層15の形成材料として、絶縁層32の形成材料と同じ酸化シリコンを用いた。共振部14の上のクラッド層15の部分の厚さは、例えば、200nmとすることができる。   Next, as shown in FIGS. 11A and 11B, a material for forming the cladding layer 15 is laminated on the insulating layer 32 so as to embed the resonance part 14, and is integrated with the insulating layer 32. A clad layer 15 is formed. In the present embodiment, the same silicon oxide as the forming material of the insulating layer 32 is used as the forming material of the cladding layer 15. The thickness of the portion of the cladding layer 15 on the resonance unit 14 can be set to 200 nm, for example.

次に、図12(A)及び(B)に示すように、クラッド層15上に、共振波長変調層16が積層される。共振波長変調層16の厚さとしては、例えば、50nmとすることができる。共振波長変調層16の形成材料としては、例えば、ポリシリコンとすることができる。   Next, as shown in FIGS. 12A and 12B, the resonant wavelength modulation layer 16 is laminated on the cladding layer 15. The thickness of the resonant wavelength modulation layer 16 can be set to, for example, 50 nm. As a material for forming the resonant wavelength modulation layer 16, for example, polysilicon can be used.

そして、共振波長変調層16がパターニングされて、図3(A)及び(B)に示す光デバイスが得られる。共振波長変調層16のパターニングとして、例えば、i線露光法及びドライエッチング法を用いることができる。2等辺三角形状にパターニングされた共振波長変調層16の底辺の長さは、例えば、500nmとすることができる。図3(A)及び(B)では、支持層31が、基板11となる。最後に、クラッド層15と共振波長変調層16を覆うように、素子表面全体に、厚さ1000nm程度のクラッド層を、クラッド層15と同じ材料を用いて形成しても良い。   Then, the resonant wavelength modulation layer 16 is patterned to obtain the optical device shown in FIGS. As patterning of the resonant wavelength modulation layer 16, for example, an i-line exposure method and a dry etching method can be used. The length of the bottom side of the resonant wavelength modulation layer 16 patterned into an isosceles triangle shape can be set to, for example, 500 nm. In FIGS. 3A and 3B, the support layer 31 becomes the substrate 11. Finally, a clad layer having a thickness of about 1000 nm may be formed on the entire element surface using the same material as the clad layer 15 so as to cover the clad layer 15 and the resonant wavelength modulation layer 16.

次に、上述した光デバイスの製造方法の好ましい第2実施形態を、図面を参照しながら、以下に説明する。   Next, a second preferred embodiment of the above-described optical device manufacturing method will be described below with reference to the drawings.

まず、図13(A)及び(B)に示すように、支持層31と絶縁層32と半導体層33とを有する基板30を用意する。本実施形態では、基板30として、SOI(Silicon on Insulator)基板を用いる。支持層31はシリコン基板であり、絶縁層はシリコン酸化層であり、半導体層33は単結晶シリコン層である。半導体層33の厚さとしては、例えば、220nmとすることができる。   First, as shown in FIGS. 13A and 13B, a substrate 30 having a support layer 31, an insulating layer 32, and a semiconductor layer 33 is prepared. In the present embodiment, an SOI (Silicon on Insulator) substrate is used as the substrate 30. The support layer 31 is a silicon substrate, the insulating layer is a silicon oxide layer, and the semiconductor layer 33 is a single crystal silicon layer. The thickness of the semiconductor layer 33 can be set to 220 nm, for example.

なお、基板30は、SOI基板を用いるのではなく、支持層31上に絶縁層32及び半導体層33を形成して用意しても良い。   The substrate 30 may be prepared by forming the insulating layer 32 and the semiconductor layer 33 on the support layer 31 instead of using an SOI substrate.

次に、図14(A)及び(B)に示すように、半導体層33がパターニングされて、コア層12と複数のリング型光導波路17とを有する共振部14が形成される。パターニングとしては、電子ビーム描画法及びドライエッチング法を用いることができる。コア層の幅としては、例えば、450nmとすることができる。リング型光導波路17の直径としては、例えば、16μmとすることができる。また、リング型光導波路17の幅としては、例えば、コア層の幅と同じにすることができる。   Next, as shown in FIGS. 14A and 14B, the semiconductor layer 33 is patterned to form the resonance part 14 having the core layer 12 and the plurality of ring-type optical waveguides 17. As the patterning, an electron beam drawing method and a dry etching method can be used. The width of the core layer can be set to 450 nm, for example. The diameter of the ring type optical waveguide 17 can be set to 16 μm, for example. In addition, the width of the ring-type optical waveguide 17 can be the same as the width of the core layer, for example.

次に、図15(A)及び(B)に示すように、絶縁層32上に、共振部14を埋め込むようにクラッド層15を形成する材料が積層されて、絶縁層32と一体となってクラッド層15が形成される。本実施形態では、クラッド層15の形成材料として、絶縁層32の形成材料と同じ酸化シリコンを用いた。共振部14の上のクラッド層15の部分の厚さは、例えば、200nmとすることができる。   Next, as shown in FIGS. 15A and 15B, a material for forming the cladding layer 15 is laminated on the insulating layer 32 so as to embed the resonance portion 14, and integrated with the insulating layer 32. A clad layer 15 is formed. In the present embodiment, the same silicon oxide as the forming material of the insulating layer 32 is used as the forming material of the cladding layer 15. The thickness of the portion of the cladding layer 15 on the resonance unit 14 can be set to 200 nm, for example.

次に、図16(A)及び(B)に示すように、クラッド層15上に、共振波長変調層16が積層される。共振波長変調層16の厚さとしては、例えば、50nmとすることができる。共振波長変調層16の形成材料としては、例えば、ポリシリコンとすることができる。   Next, as shown in FIGS. 16A and 16B, the resonant wavelength modulation layer 16 is laminated on the cladding layer 15. The thickness of the resonant wavelength modulation layer 16 can be set to, for example, 50 nm. As a material for forming the resonant wavelength modulation layer 16, for example, polysilicon can be used.

そして、共振波長変調層16がパターニングされて、図7(A)及び(B)に示す光デバイスが得られる。共振波長変調層16のパターニングとして、例えば、i線露光法及び銅鑼エッチング法を用いることができる。2等辺三角形状にパターニングされた共振波長変調層16の底辺の長さは、例えば、18μmとすることができる。図7(A)及び(B)では、支持層31が、基板11となる。最後に、クラッド層15と共振波長変調層16を覆うように、素子表面全体に、厚さ1000nm程度のクラッド層を、クラッド層15と同じ材料を用いて形成しても良い。   Then, the resonant wavelength modulation layer 16 is patterned to obtain the optical device shown in FIGS. As patterning of the resonant wavelength modulation layer 16, for example, an i-line exposure method and a copper plating etching method can be used. The length of the bottom side of the resonant wavelength modulation layer 16 patterned in the shape of an isosceles triangle can be set to 18 μm, for example. In FIGS. 7A and 7B, the support layer 31 becomes the substrate 11. Finally, a clad layer having a thickness of about 1000 nm may be formed on the entire element surface using the same material as the clad layer 15 so as to cover the clad layer 15 and the resonant wavelength modulation layer 16.

上述した本明細書に開示する光デバイスは、例えば、光変調器に組み込むことができる。   The above-described optical device disclosed in this specification can be incorporated into an optical modulator, for example.

図17(A)は、本明細書に開示する光変調器の第1実施形態を示す図である。   FIG. 17A is a diagram illustrating a first embodiment of an optical modulator disclosed in this specification.

本実施形態の光変調器20は、マッハツェンダ干渉型光変調器であり、光を伝搬する第1コア層21aを有する第1光導波路21と、光を伝搬する第2コア層22aを有する第2光導波路22と、を備える。第1コア層21a及び第2コア層22aは、クラッド層25内に埋め込まれている。また、光変調器20では、第1光導波路22に第1変調信号を印加する第1電極23と、第2光導波路22に第2変調信号を印加する第2電極24と、がクラッド層25の上に配置されている。   The optical modulator 20 of the present embodiment is a Mach-Zehnder interferometric optical modulator, and is a second optical waveguide 21 having a first core layer 21a that propagates light and a second core layer 22a that propagates light. And an optical waveguide 22. The first core layer 21 a and the second core layer 22 a are embedded in the cladding layer 25. In the optical modulator 20, the first electrode 23 that applies the first modulation signal to the first optical waveguide 22 and the second electrode 24 that applies the second modulation signal to the second optical waveguide 22 include the cladding layer 25. Is placed on top.

第1電極23により、電場が印加された第1光導波路21では、電場の大きさ及び向きに対応して屈折率が変化するので、この屈折率の変化に対応して光路長が変わるため第1光導波路21を伝搬する伝搬光の位相が変化する。同様に、第2電極24により、電場が印加された第2光導波路22では、伝搬する伝搬光の位相が変化する。   In the first optical waveguide 21 to which an electric field is applied by the first electrode 23, the refractive index changes in accordance with the magnitude and direction of the electric field. Therefore, the optical path length changes in response to the change in the refractive index. 1 The phase of propagating light propagating through the optical waveguide 21 changes. Similarly, the phase of propagating light changes in the second optical waveguide 22 to which an electric field is applied by the second electrode 24.

光変調器20は、入力光Piを分岐して第1光導波路21及び第2光導波路22に送り、第1光導波路21及び第2光導波路22それぞれを伝搬した光を合波して、変調された光を出力光Poとして出力する。   The optical modulator 20 branches the input light Pi, sends it to the first optical waveguide 21 and the second optical waveguide 22, multiplexes the light propagated through the first optical waveguide 21 and the second optical waveguide 22, and modulates them. The emitted light is output as output light Po.

また、第1光導波路21には、上述した第1実施形態光のデバイス10が配置されている。   Further, the first optical waveguide device 10 described above is disposed in the first optical waveguide 21.

即ち、光変調器20では、第1光導波路21が、第1コア層21aを伝搬する光を共振させる共振部14と、第1コア層21aに沿って幅が変化しながら延びており、光が伝搬する方向における共振部の共振波長を変化させる共振波長変調層16と、を有する。共振部14は、第1コア層21aの一部分と、この第1コア層21aの一部分における長手方向の両側部に設けられた回折格子13とにより形成される。   That is, in the optical modulator 20, the first optical waveguide 21 extends along the first core layer 21 a with the resonance unit 14 that resonates light propagating through the first core layer 21 a while changing the width. And a resonance wavelength modulation layer 16 that changes the resonance wavelength of the resonance part in the direction in which the light propagates. The resonance part 14 is formed by a part of the first core layer 21a and the diffraction gratings 13 provided on both sides in the longitudinal direction of a part of the first core layer 21a.

上述した光変調器20によれば、第1光導波路21を伝搬する光信号に対して大きな位相変化を生じさせられるので、単位光導波路あたりの位相変化量を大きくすることできるので、光導波路の長さを短くできる。また、デバイス10は、光が伝搬する方向における共振部の共振波長を変化させることができるので、異なる波長を有する光それぞれを共振できるので、光変調器20に入力される入力光Piが所定の波長帯域を有していても、光を共振させて変調することができる。   According to the optical modulator 20 described above, since a large phase change can be caused to the optical signal propagating through the first optical waveguide 21, the amount of phase change per unit optical waveguide can be increased. The length can be shortened. In addition, since the device 10 can change the resonance wavelength of the resonance unit in the direction in which the light propagates, each of the light having different wavelengths can resonate. Therefore, the input light Pi input to the optical modulator 20 is a predetermined value. Even if it has a wavelength band, the light can be resonated and modulated.

また、光変調器20では、第1光導波路21のみに共振部12及び共振波長変調層16が配置されていたが、第2光導波路22にも共振部12及び共振波長変調層16を配置しても良い。   In the optical modulator 20, the resonance unit 12 and the resonance wavelength modulation layer 16 are arranged only in the first optical waveguide 21. However, the resonance unit 12 and the resonance wavelength modulation layer 16 are arranged also in the second optical waveguide 22. May be.

次に、上述した光変調器の第2実施形態を、図17(B)を参照しながら以下に説明する。光変調器の第2実施形態について特に説明しない点については、上述の光変調器の第1実施形態に関して詳述した説明が適宜適用される。また、同一の構成要素には同一の符号を付してある。   Next, a second embodiment of the above-described optical modulator will be described below with reference to FIG. For the points that are not particularly described in the second embodiment of the optical modulator, the description in detail regarding the above-described first embodiment of the optical modulator is applied as appropriate. Moreover, the same code | symbol is attached | subjected to the same component.

図17(B)は、本明細書に開示する光変調器の第2実施形態を示す図である。   FIG. 17B is a diagram illustrating a second embodiment of the optical modulator disclosed in this specification.

本実施形態の光変調器20では、第1光導波路21に配置された共振部の構造が異なっている。   In the optical modulator 20 of the present embodiment, the structure of the resonance part disposed in the first optical waveguide 21 is different.

即ち、第1光導波路21には、上述した第2実施形態の光デバイス10が配置されている。   That is, the optical device 10 of the second embodiment described above is arranged in the first optical waveguide 21.

本実施形態の光変調器20では、第1光導波路21が、第1コア層21aに沿って配置された複数のリング型光導波路17と、複数のリング型導波路17の上に配置された共振波長変調層16とを有する。複数のリング型光導波路17と共振波長変調層16との間には、クラッド層25が配置される。複数のリング型光導波路16における隣り合うリング型光導波路17同士では、リング型光導波路の全長に対する共振波長変調層16に覆われている光導波路の部分の長さの割合が異なっている。   In the optical modulator 20 of the present embodiment, the first optical waveguide 21 is disposed on the plurality of ring optical waveguides 17 disposed along the first core layer 21 a and the plurality of ring optical waveguides 17. And a resonant wavelength modulation layer 16. A clad layer 25 is disposed between the plurality of ring optical waveguides 17 and the resonant wavelength modulation layer 16. The adjacent ring optical waveguides 17 in the plurality of ring optical waveguides 16 have different ratios of the length of the portion of the optical waveguide covered with the resonant wavelength modulation layer 16 to the entire length of the ring optical waveguide.

共振部14は、第1コア層21aの一部分と、この第1コア層21aの一部分に沿って配置された複数のリング型光導波路17とにより形成される。   The resonating unit 14 is formed by a part of the first core layer 21a and a plurality of ring-type optical waveguides 17 arranged along a part of the first core layer 21a.

本発明では、上述した実施形態の光デバイス及び光変調器は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更が可能である。また、一の実施形態が有する構成要件は、他の実施形態にも適宜適用することができる。   In the present invention, the optical device and the optical modulator of the above-described embodiment can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention. In addition, the configuration requirements of one embodiment can be applied to other embodiments as appropriate.

例えば、共振波長変調層がコア層に沿って幅が変化しながら延びることには、共振波長変調層が、その幅が階段状に変化しながら、コア層に沿って延びることが含まれる。   For example, extending the resonance wavelength modulation layer while changing its width along the core layer includes extending the resonance wavelength modulation layer along the core layer while changing its width stepwise.

また、共振部は、フォトニック結晶を用いて形成しても良い。   Further, the resonance part may be formed using a photonic crystal.

また、上述した実施形態では、共振波長変調層は、コア層の上方に配置されていたが、共振波長変調層は、コア層の上下左右のどこに配置されても良い。   In the above-described embodiment, the resonant wavelength modulation layer is disposed above the core layer. However, the resonant wavelength modulation layer may be disposed anywhere on the top, bottom, left, or right of the core layer.

ここで述べられた全ての例及び条件付きの言葉は、読者が、発明者によって寄与された発明及び概念を技術を深めて理解することを助けるための教育的な目的を意図する。ここで述べられた全ての例及び条件付きの言葉は、そのような具体的に述べられた例及び条件に限定されることなく解釈されるべきである。また、明細書のそのような例示の機構は、本発明の優越性及び劣等性を示すこととは関係しない。本発明の実施形態は詳細に説明されているが、その様々な変更、置き換え又は修正が本発明の精神及び範囲を逸脱しない限り行われ得ることが理解されるべきである。   All examples and conditional words mentioned herein are intended for educational purposes to help the reader deepen and understand the inventions and concepts contributed by the inventor. All examples and conditional words mentioned herein are to be construed without limitation to such specifically stated examples and conditions. Also, such exemplary mechanisms in the specification are not related to showing the superiority and inferiority of the present invention. While embodiments of the present invention have been described in detail, it should be understood that various changes, substitutions or modifications can be made without departing from the spirit and scope of the invention.

以上の上述した各実施形態に関し、更に以下の付記を開示する。   Regarding the above-described embodiments, the following additional notes are disclosed.

(付記1)
光を伝搬するコア層を有し、前記コア層を伝搬する光を共振させる共振部と、
前記コア層に沿って幅が変化しながら延びる共振波長変調層と、
を備える光デバイス。
(Appendix 1)
A resonating portion having a core layer that propagates light, and resonating light propagating through the core layer;
A resonant wavelength modulation layer extending in width along the core layer;
An optical device comprising:

(付記2)
前記共振波長変調層の厚さは、前記コア層の厚さよりも薄い付記1に記載の光デバイス。
(Appendix 2)
The optical device according to appendix 1, wherein a thickness of the resonant wavelength modulation layer is thinner than a thickness of the core layer.

(付記3)
前記共振波長変調層の位相屈折率は、前記コア層の位相屈折率と同じか又は前記コア層の位相屈折率よりも小さい付記1又は2に記載の光デバイス。
(Appendix 3)
The optical device according to appendix 1 or 2, wherein a phase refractive index of the resonant wavelength modulation layer is the same as or smaller than a phase refractive index of the core layer.

(付記4)
前記コア層と、前記共振波長変調層との間に位置するクラッド層を備えており、
前記共振波長変調層の位相屈折率は、前記クラッド層の位相屈折率よりも大きい付記1〜3の何れか一項に記載の光デバイス。
(Appendix 4)
Comprising a cladding layer positioned between the core layer and the resonant wavelength modulation layer;
The optical device according to any one of Supplementary notes 1 to 3, wherein a phase refractive index of the resonant wavelength modulation layer is larger than a phase refractive index of the cladding layer.

(付記5)
前記共振部は、前記コア層に設けられた回折格子を有している付記1〜4の何れか一項に記載の光デバイス。
(Appendix 5)
The optical device according to any one of Supplementary notes 1 to 4, wherein the resonance unit includes a diffraction grating provided in the core layer.

(付記6)
前記共振部は、前記コア層に沿って配置された複数のリング型光導波路を有している付記1〜4の何れか一項に記載の光デバイス。
(Appendix 6)
The optical device according to any one of appendices 1 to 4, wherein the resonance unit includes a plurality of ring-type optical waveguides arranged along the core layer.

(付記7)
前記共振波長変調層は、前記コア層を伝搬する光の導波モードの伝搬方向に対して垂直な方向における電界強度分布のテール部分に配置される付記1〜6の何れか一項に記載の光デバイス。
(Appendix 7)
The resonance wavelength modulation layer according to any one of appendices 1 to 6, wherein the resonance wavelength modulation layer is disposed at a tail portion of an electric field intensity distribution in a direction perpendicular to a propagation direction of a waveguide mode of light propagating through the core layer. Optical device.

(付記8)
前記電界強度分布のテール部分は、前記コア層を伝搬する光の導波モードの電界強度の前記伝搬方向に対して垂直な方向における距離に対する2次導関数の符号が変化する位置に対して、前記コア層とは反対側に位置する付記7に記載の光デバイス。
(Appendix 8)
The tail portion of the electric field intensity distribution is at a position where the sign of the second derivative with respect to the distance in the direction perpendicular to the propagation direction of the electric field intensity of the waveguide mode of light propagating through the core layer changes, The optical device according to appendix 7, which is located on the opposite side to the core layer.

(付記9)
前記コア層と前記共振波長変調層との間の距離は、50nm以上500nm以下である付記7又は8に記載の光デバイス。
(Appendix 9)
The optical device according to appendix 7 or 8, wherein a distance between the core layer and the resonance wavelength modulation layer is 50 nm or more and 500 nm or less.

(付記10)
前記共振波長変調層の幅は、光が伝搬する方向に向かって線形に変化する付記1〜9の何れか一項に記載の光デバイス。
(Appendix 10)
The optical device according to any one of appendices 1 to 9, wherein the width of the resonant wavelength modulation layer changes linearly in a direction in which light propagates.

(付記11)
コア層と、
前記コア層に沿って配置された複数のリング型光導波路と、
複数の前記リング型光導波路の上に配置された共振波長変調層と、
複数の前記リング型光導波路と前記共振波長変調層との間に配置されたクラッド層と、
を備え、
隣り合う前記リング型光導波路同士では、光導波路の全長に対する前記共振波長変調層に覆われている光導波路の部分の長さの割合が異なっている光デバイス。
(Appendix 11)
The core layer,
A plurality of ring optical waveguides disposed along the core layer;
A resonant wavelength modulation layer disposed on the plurality of ring-type optical waveguides;
A clad layer disposed between the plurality of ring optical waveguides and the resonant wavelength modulation layer;
With
An optical device in which the ring-type optical waveguides adjacent to each other differ in the ratio of the length of the portion of the optical waveguide covered with the resonance wavelength modulation layer to the entire length of the optical waveguide.

(付記12)
光を伝搬するコア層を有する第1光導波路と、
光を伝搬するコア層を有する第2光導波路と、
を備え、
前記第1光導波路又は前記第2光導波路は、
コア層を伝搬する光を共振させる共振部と、
コア層に沿って幅が変化しながら延びており、光が伝搬する方向における前記共振部の共振波長を変化させる共振波長変調層と、
を有する光変調器。
(Appendix 12)
A first optical waveguide having a core layer for propagating light;
A second optical waveguide having a core layer for propagating light;
With
The first optical waveguide or the second optical waveguide is
A resonating unit for resonating light propagating through the core layer;
A resonance wavelength modulation layer that extends while changing in width along the core layer, and changes a resonance wavelength of the resonance unit in a direction in which light propagates;
An optical modulator.

(付記13)
光を伝搬するコア層を有する第1光導波路と、
光を伝搬するコア層を有する第2光導波路と、
を備え、
前記第1光導波路又は前記第2光導波路は、
コア層に沿って配置された複数のリング型光導波路と、
複数の前記リング型導波路の上に配置された共振波長変調層と、
複数の前記リング型光導波路と前記共振波長変調層との間に配置されたクラッド層と、
を有し、
隣り合う前記リング型光導波路同士では、光導波路の全長に対する前記共振波長変調層に覆われている光導波路の部分の長さの割合が異なっている光変調器。
(Appendix 13)
A first optical waveguide having a core layer for propagating light;
A second optical waveguide having a core layer for propagating light;
With
The first optical waveguide or the second optical waveguide is
A plurality of ring optical waveguides disposed along the core layer;
A resonant wavelength modulation layer disposed on the plurality of ring waveguides;
A clad layer disposed between the plurality of ring optical waveguides and the resonant wavelength modulation layer;
Have
An optical modulator in which the ring-type optical waveguides adjacent to each other are different in the ratio of the length of the portion of the optical waveguide covered with the resonant wavelength modulation layer to the entire length of the optical waveguide.

10 光デバイス
11 基板
12 コア層
13 回折格子
14 共振部
15 クラッド層
16 共振波長変調層
17 リング光導波路
20 光変調器
21 第1光導波路
21a 第1コア層
22 第2光導波路
22a 第2コア層
23 第1電極
24 第2電極
25 クラッド層
30 基板
31 支持層
32 絶縁層
33 半導体層
C 電界強度分布
P 変曲点
W テール部分
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Optical device 11 Substrate 12 Core layer 13 Diffraction grating 14 Resonance part 15 Cladding layer 16 Resonance wavelength modulation layer 17 Ring optical waveguide 20 Optical modulator 21 First optical waveguide 21a First core layer 22 Second optical waveguide 22a Second core layer 23 First electrode 24 Second electrode 25 Clad layer 30 Substrate 31 Support layer 32 Insulating layer 33 Semiconductor layer C Electric field intensity distribution P Inflection point W Tail part

Claims (8)

光を伝搬するコア層を有し、前記コア層を伝搬する光を共振させる共振部と、
前記コア層に沿って幅が変化しながら延びる共振波長変調層と、
を備える光デバイス。
A resonating portion having a core layer that propagates light, and resonating light propagating through the core layer;
A resonant wavelength modulation layer extending in width along the core layer;
An optical device comprising:
前記共振波長変調層の厚さは、前記コア層の厚さよりも薄い請求項1に記載の光デバイス。   The optical device according to claim 1, wherein a thickness of the resonant wavelength modulation layer is thinner than a thickness of the core layer. 前記共振波長変調層の位相屈折率は、前記コア層の位相屈折率と同じか又は前記コア層の位相屈折率よりも小さい請求項1又は2に記載の光デバイス。   The optical device according to claim 1, wherein a phase refractive index of the resonant wavelength modulation layer is the same as or smaller than a phase refractive index of the core layer. 前記共振部は、前記コア層に設けられた回折格子を有している請求項1〜3の何れか一項に記載の光デバイス。   The optical device according to claim 1, wherein the resonance unit includes a diffraction grating provided in the core layer. 前記共振部は、前記コア層に沿って配置された複数のリング型光導波路を有している請求項1〜3の何れか一項に記載の光デバイス。   The optical device according to any one of claims 1 to 3, wherein the resonance unit includes a plurality of ring-type optical waveguides arranged along the core layer. コア層と、
前記コア層に沿って配置された複数のリング型光導波路と、
複数の前記リング型光導波路の上に配置された共振波長変調層と、
複数の前記リング型光導波路と前記共振波長変調層との間に配置されたクラッド層と、
を備え、
隣り合う前記リング型光導波路同士では、光導波路の全長に対する前記共振波長変調層に覆われている光導波路の部分の長さの割合が異なっている光デバイス。
The core layer,
A plurality of ring optical waveguides disposed along the core layer;
A resonant wavelength modulation layer disposed on the plurality of ring-type optical waveguides;
A clad layer disposed between the plurality of ring optical waveguides and the resonant wavelength modulation layer;
With
An optical device in which the ring-type optical waveguides adjacent to each other differ in the ratio of the length of the portion of the optical waveguide covered with the resonance wavelength modulation layer to the entire length of the optical waveguide.
光を伝搬するコア層を有する第1光導波路と、
光を伝搬するコア層を有する第2光導波路と、
を備え、
前記第1光導波路又は前記第2光導波路は、
コア層を伝搬する光を共振させる共振部と、
コア層に沿って幅が変化しながら延びており、光が伝搬する方向における前記共振部の共振波長を変化させる共振波長変調層と、
を有する光変調器。
A first optical waveguide having a core layer for propagating light;
A second optical waveguide having a core layer for propagating light;
With
The first optical waveguide or the second optical waveguide is
A resonating unit for resonating light propagating through the core layer;
A resonance wavelength modulation layer that extends while changing in width along the core layer, and changes a resonance wavelength of the resonance unit in a direction in which light propagates;
An optical modulator.
光が伝搬するコア層を有する第1光導波路と、
光が伝搬するコア層を有する第2光導波路と、
を備え、
前記第1光導波路又は前記第2光導波路は、
コア層に沿って配置された複数のリング型光導波路と、
複数の前記リング型導波路の上に配置された共振波長変調層と、
複数の前記リング型光導波路と前記共振波長変調層との間に配置されたクラッド層と、
を有し、
隣り合う前記リング型光導波路同士では、光導波路の全長に対する前記共振波長変調層に覆われている光導波路の部分の長さの割合が異なっている光変調器。
A first optical waveguide having a core layer through which light propagates;
A second optical waveguide having a core layer through which light propagates;
With
The first optical waveguide or the second optical waveguide is
A plurality of ring optical waveguides disposed along the core layer;
A resonant wavelength modulation layer disposed on the plurality of ring waveguides;
A clad layer disposed between the plurality of ring optical waveguides and the resonant wavelength modulation layer;
Have
An optical modulator in which the ring-type optical waveguides adjacent to each other are different in the ratio of the length of the portion of the optical waveguide covered with the resonant wavelength modulation layer to the entire length of the optical waveguide.
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