JP2012179680A

JP2012179680A - ガラス板の研磨方法

Info

Publication number: JP2012179680A
Application number: JP2011044250A
Authority: JP
Inventors: Atsushi Shiroyama; 厚城山; Yoshitaka Nakatani; 嘉孝中谷; Makoto Fukuda; 真福田; Takeo Suzuki; 健雄鈴木
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2011-03-01
Filing date: 2011-03-01
Publication date: 2012-09-20
Also published as: KR20120099594A; TW201238712A; CN102653074A

Abstract

【課題】本発明は、フロート法によって製造されたガラス板を、ＦＰＤ用ガラス基板として最適なガラス板に研磨するガラス板の研磨方法を提供する。
【解決手段】本発明は、フロート法により製造されたガラス板Ｇであって、厚さが０．７ｍｍ以下であり、１辺の長さが１０００ｍｍ以上、ヤング率が６５ＧＰａ以上のガラス板Ｇを研磨対象とする。このガラス板Ｇの非研磨面をガラス保持部材１６によって保持し、ガラス板Ｇの研磨面にある高さ０．３μｍ以下のうねりを研磨具２６によって研磨することにより０．０５μｍ以下に低減させてフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を製造する。研磨具２６は、Ａ硬度が２０以上、Ｄ硬度が９９以下、厚さが１．０〜２．５ｍｍ、厚さ分布が±０．０５ｍｍ以内であることが好ましい。また、ガラス保持部材１６は、圧縮率が１０〜７０％、圧縮弾性率が７０〜９８、Ａ硬度が２〜２０、厚さが０．３〜２．０ｍｍ、厚さ分布が±０．０５ｍｍ以内であることが好ましい。
【選択図】図１

Description

本発明は、ガラス板の研磨方法に関する。

溶融ガラスを溶融錫浴上に流し込むことによってガラス板を製造するフロート法によるガラス板の製造装置は、特許文献１、２等に開示されている。また、フロート法によって製造されたガラス板を、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のＦＰＤ（Flat Panel Display）用ガラス基板に研磨する研磨装置も従来から知られている。

フロート法で製造されたガラス板は、その表面に微小な凹凸やうねり（３〜３０ｍｍのピッチで、最大高さが０．３μｍのうねり）が存在するが、このような微小な凹凸やうねりは、画像に歪みや色むらを与える原因となる。このため、微小な凹凸やうねりを研磨装置によって除去することが必要となる。

特許文献３に開示された研磨装置は、研磨具保持定盤に取り付けられた研磨具に、ガラス保持部材に保持されたガラス板を押し当てるとともに、研磨具保持定盤及びガラス保持部材を相対的に移動させて、ガラス板の微小な凹凸やうねりを除去している。

特開２００８−２３９３７０号公報特開２００９−４６３６６号公報ＷＯ２００７／０２０８５９号公報

従来では、フロート法により製造されたガラス板を、すなわち、表面に微小な凹凸やうねりが存在するガラス板を、画像に歪みや色むらのないＦＰＤ用ガラス基板に研磨する最適な研磨方法について開示されたものはない。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、フロート法によって製造されたガラス板を、ＦＰＤ用ガラス基板として最適なガラス板に研磨するガラス板の研磨方法を提供することを目的とする。

本発明は、前記目的を達成するために、溶融ガラスを溶融錫浴上に流し込むことにより製造されたガラス板であって、厚さが０．７ｍｍ以下であり、１辺の長さが１０００ｍｍ以上、ヤング率が６５ＧＰａ以上のガラス板を研磨対象のガラス板とし、前記ガラス板の非研磨面をガラス保持部材によって保持し、該ガラス板の研磨面にある高さ０．３μｍ以下のうねりを研磨具によって研磨することにより０．０５μｍ以下に低減させてフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を製造することを特徴とするガラス板の研磨方法を提供する。

フロート法により製造されたガラス板であって、ＦＰＤ用ガラス基板として使用される、厚さが０．７ｍｍ以下、１辺の長さが１０００ｍｍ以上、ヤング率が６５ＧＰａ以上のガラス板は、その表面（研磨面）に３〜３０ｍｍのピッチで最大高さが０．３μｍのうねりが存在する。このため、本発明では、ガラス板の研磨面にある高さ０．３μｍ以下のうねりを研磨具によって研磨し、そのうねりの最大高さを０．０５μｍ以下に低減する。これにより、画像に歪みや色むらを与えないＦＰＤ用ガラス基板として最適なガラス板を製造できる。

本発明の前記研磨具は、Ａ硬度が２０以上、Ｄ硬度が９９以下、厚さが１．０〜２．５ｍｍ、厚さ分布が±０．０５ｍｍ以内であることが好ましい。

本発明によれば、研磨具の硬度、厚さ、厚さ分布を上記の如く規定することにより、フロート法により製造されたガラス板を、ＦＰＤ用ガラス基板として更に最適なガラス板に研磨することができる。

本発明の前記ガラス保持部材は、圧縮率が１０〜７０％、圧縮弾性率が７０〜９８、Ａ硬度が２〜２０、厚さが０．３〜２．０ｍｍ、厚さ分布が±０．０５ｍｍ以内であることが好ましい。

本発明によれば、ガラス保持部材の圧縮率、圧縮弾性率、硬度、厚さ、厚さ分布を上記の如く規定することにより、フロート法により製造されたガラス板を、ＦＰＤ用ガラス基板として更に最適なガラス板に研磨することができる。

本発明の前記ガラス保持部材は、前記ガラス保持部材は、シール材を介してガラス保持定盤に取り付けられており、該ガラス保持定盤が評価長さを３０ｍｍとしたときのうねり曲線の最大断面高さが２０μｍ以下であることが好ましい。

本発明によれば、ガラス保持定盤のうねり曲線の最大断面高さを上記の如く規定することにより、ガラス板の非研磨面に存在するうねりをガラス保持部材によって良好に吸収できるので、フロート法により製造されたガラス板を、ＦＰＤ用ガラス基板として更に最適なガラス板に研磨することができる。

本発明の前記研磨具は、シール材を介して研磨具保持定盤に取り付けられており、該研磨具保持定盤が評価長さを３０ｍｍとしたときの断面曲線の最大断面高さが１００μｍ以下であることが好ましい。

本発明によれば、研磨具保持定盤の断面曲線の最大断面高さを上記の如く規定することにより、研磨具の表面のうねりを抑えることができるので、フロート法により製造されたガラス板を、ＦＰＤ用ガラス基板として更に最適なガラス板に研磨することができる。

本発明の前記研磨具は前記ガラス板に対して一定の荷重で押圧されており、該荷重のばらつきが平均荷重の１０％以下であることが好ましい。

本発明によれば、ガラス板に対する研磨具の荷重を上記の如く規定することにより、フロート法により製造されたガラス板を、ＦＰＤ用ガラス基板として更に最適なガラス板に研磨することができる。

本発明の前記研磨具は、ツルーイング砥石と該ツルーイング砥石を包囲するように配置された研磨能力のないフレームとが押し当てられて目立てされることが好ましい。

本発明によれば、所定の圧力によってツルーイング砥石、及びフレームを研磨具に押し付けて、研磨具の面をツルーイング砥石によって研削する。この際、前記圧力はツルーイング砥石の外周に位置するフレームに集中するが、フレームは研削能力を有していないため、フレームと接触する研磨具の一部の面は研削されない。すなわち、圧力が均一に与えられているツルーイング砥石のみによって研磨具の面が研削される。これにより、研磨具の面全体が平坦に研削されるので、ツルーイング砥石による目立てを改善できる。

本発明のガラス板の研磨方法によれば、フロート法によって製造されたガラス板を、ＦＰＤ用ガラス基板として最適なガラス板に研磨することができる。

実施の形態の研磨具が適用された研磨装置の全体構造を示す斜視図図１に示した研磨装置の側面図従来のツルーイング砥石による研磨具の目立て方法を示した模式図図３に示した目立て方法により目立てされた研磨具の平面図実施の形態のツルーイング砥石による目立て方法を示した模式図図５に示した目立て方法により目立てされた研磨具の平面図ドレッシング用水ノズルによる研磨具の目直し方法を示した側面図

以下、添付図面に従って本発明に係るガラス板の研磨方法の好ましい実施の形態を詳説する。

図１は、実施の形態のガラス板の研磨方法が適用された研磨装置１０の全体構成を示す斜視図である。図２は、図１に示した研磨装置１０の側面図である。

これらの図に示す研磨装置１０は、フロート法により製造されたガラス板Ｇであって、例えば厚さが０．７ｍｍ以下であり、１辺の長さが１０００ｍｍ以上、ヤング率が６５ＧＰａのガラス板Ｇの表面（研磨面）を、研磨具を用いてＦＰＤ用ガラス基板に必要な平坦度に研磨する研磨装置である。すなわち、この研磨装置１０は、３〜３０ｍｍのピッチで最大高さが０．３μｍのうねりが存在するガラス板Ｇの研磨面を研磨して、そのうねりの最大高さを０．０５μｍ以下に低減することにより、画像に歪みや色むらを与えないＦＰＤ用ガラス基板として最適なガラス板を製造する装置である。

なお、前記うねりの測定方法は、ＪＩＳＢ００３１：’８２とＪＩＳＢ０６０１：’８２に記載の方法である。また、前記うねりを０．０５μｍ以下にするための研磨量は研磨具の硬度に応じて決定する。研磨具の硬度が高い程、研磨量は少なくともうねりを低減できる。

研磨装置１０は、研磨ヘッド１２と定盤１４とから構成される。研磨ヘッド１２は、ガラス板Ｇの非研磨面を保持するガラス保持部材１６、ガラス保持部材１６がシール材１８を介して取り付けられたガラス保持定盤２０、及びガラス保持定盤２０が取り付けられたキャンバス２２を備えている。キャンバス２２には回転軸２４が固定され、回転軸２４がその軸芯Ｐ_１を中心に回転されることにより、研磨ヘッド１２が回転されるとともに、回転軸２４が公転軸Ｐ_２を中心に公転されることにより、研磨ヘッド１２が公転される。

また、キャンバス２２の空気室２３には、中空の回転軸２４を介して圧縮エアが供給され、この圧縮エアの圧力がガラス保持定盤２０、シール材１８、及びガラス保持部材１６を介してガラス板Ｇに伝達される。

前記定盤１４は、研磨具２６、研磨具２６がシール材２８を介して取り付けられた研磨具保持定盤３０を備えている。シール材２８は、軟質で吸着保持性を高める樹脂製（例えばポリウレタン製）のシール材である。

したがって、実施の形態の研磨装置１０は、前記圧縮エアの圧力によってガラス板Ｇの研磨面を研磨具２６に押し付けるとともに、研磨ヘッド１２を自転、公転させることにより、ガラス板Ｇの研磨面を研磨する。

研磨具２６は、Ａ硬度（ＩＳＯ７６１９に準ずる）が２０以上、Ｄ硬度（ＩＳＯ７６１９に準ずる）が９９以下、厚さが１．０〜２．５ｍｍ、厚さ分布が±０．０５ｍｍ以内であることが好ましい。

研磨具２６のＡ硬度が２０未満であると、ガラス板Ｇのうねりを低減できず、Ｄ硬度が９９を超えるとガラス板Ｇが割れ易くなる。また、研磨具２６の厚さが１ｍｍ未満であると、研磨具２６に溝加工ができない。特に大面積の研磨具２６では溝加工ができないと砥粒分布が不均一となりガラス板Ｇの加工に問題が生じる。これに対して、研磨具２６の厚さが２．５ｍｍを超えると、研磨具２６の変形代が大きくなりガラス板Ｇの加工品質が低下する。なお、研磨具２６の厚さ分布は、溝加工部分を除く領域での最大厚み−最小厚みである。この厚さ分布が±０．３ｍｍを超えると、圧力分布が大きくなりガラス板の加工品質が低下する。

このように研磨具２６の硬度、厚さ、厚さ分布を上記の如く規定することにより、フロート法により製造されたガラス板Ｇを、ＦＰＤ用ガラス基板として更に最適なガラス板に研磨することができる。

一方、本願発明者は鋭意検討した結果、うねりを０．０５μｍ以下にするには研磨具２６のＡ硬度を管理するだけでは不十分で、ガラス保持部材１６の圧縮率、圧縮弾性率、Ａ硬度、厚さ、及び分布を管理する必要があることを突き止めた。

例えば、ガラス保持部材１６のＡ硬度が低過ぎると、ガラス保持部材１６の耐久性が低下し、ガラス保持部材１６を繰り返し使用することができない。また、ガラス保持部材１６のＡ硬度が適度に低い場合には、ガラス板Ｇの非研磨面に存在するうねりを、ガラス保持部材１６が吸収するので、ガラス板Ｇの研磨面に存在しているうねりを研磨具２６によって良好に研磨できる。これに対して、ガラス保持部材１６のＡ硬度が高過ぎると、ガラス板Ｇの非研磨面に存在するうねりをガラス保持部材１６によって吸収できない状態で、ガラス板Ｇの研磨面を研磨具２６によって研磨するので、ガラス板Ｇをガラス保持部材１６から取り外した際に、ガラス板Ｇがスプリングバックを起こし、この結果、ガラス板Ｇの研磨面に０．０５μｍを超えるうねりが残る。

また、厚さ分布が±０．０５ｍｍより大きくなると、ガラス保持部材１６のクッション性にガラス板Ｇの面内でムラが発生し、うねりが均一になくならないという問題が生じる。

圧縮率は初期のガラス板Ｇに追随するクッション性を表し、圧縮弾性率は繰り返し使用する場合の復元の程度を表するのに必要なパラメーターである。ガラス保持部材１６は、発泡ポリウレタン製である。

上記問題を解消するため、ガラス保持部材１６は、圧縮率（ＪＩＳＬ１０２１−６：’０７付属書1に準ずる）が１０〜７０％、圧縮弾性率（ＪＩＳＬ１０２１−６：’０７付属書1に準ずる、但し、初期荷重は１００ｇｆ／ｃｍ^２とし、最終荷重は１１２０ｇｆ／ｃｍ^２）が７０〜９８、Ａ硬度が２〜２０、厚さが０．３〜２．０ｍｍ、厚さ分布が±０．０５ｍｍ以内であることが好ましい。

また、ガラス保持部材１６の管理は、ガラス板Ｇが薄くなると特に管理範囲を狭くする必要がある。例えば、板厚０．５ｍｍ以下のガラス板Ｇの場合のガラス保持部材１６は、圧縮率が１０〜７０％、圧縮弾性率が７０〜９８、Ａ硬度が２〜２０、厚さが０．５〜１．５ｍｍ、厚さ分布が±０．０５ｍｍ以内であることが好ましい。また、板厚０．３ｍｍ以下のガラス板Ｇの場合のガラス保持部材１６は、圧縮率が１０〜７０％、圧縮弾性率が７０〜９８、Ａ硬度が２〜２０、厚さが０．７〜１．２ｍｍ、厚さ分布が±０．０５ｍｍ以内であることが好ましい。

ガラス保持部材１６の圧縮率、圧縮弾性率、Ａ硬度、厚さ、厚さ分布を上記の如く規定することにより、フロート法により製造されたガラス板Ｇを、ＦＰＤ用ガラス基板として更に最適なガラス板に研磨することができる。

また、ガラス保持部材１６がシール材１８を介して取り付けられるガラス保持定盤２０の面については、評価長さを３０ｍｍとしたときのうねり曲線の最大断面高さが２０μｍ以下であることが好ましい。

ガラス保持部材１６を管理しても、ガラス保持定盤２０のうねり曲線の最大断面高さが高過ぎる場合には、ガラス板Ｇの非研磨面に存在するうねりをガラス保持部材１６によって良好に吸収できず、ガラス板Ｇの研磨面のうねりを０．０５μｍ以下に研磨できないことが判明した。

ガラス保持定盤２０のうねり曲線の最大断面高さを上記の如く規定することにより、ガラス板Ｇの非研磨面に存在するうねりをガラス保持部材１６によって良好に吸収できるので、フロート法により製造されたガラス板を、ＦＰＤ用ガラス基板として更に最適なガラス板に研磨することができる。

研磨具２６がシール材２８を介して取り付けられる研磨具保持定盤３０の面については、評価長さを３０ｍｍとしたときの断面曲線の最大断面高さが１００μｍ以下であることが好ましい。

研磨具２６を管理しても、研磨具保持定盤３０の断面曲線の最大断面高さが高過ぎる場合には、研磨具２６の表面に大きなうねりが発生し、ガラス板Ｇの研磨面のうねりを０．０５μｍ以下に研磨できないことが判明した。

したがって、研磨具保持定盤３０の断面曲線の最大断面高さを上記の如く規定することにより、研磨具２６の表面のうねりを抑えることができるので、フロート法により製造されたガラス板を、ＦＰＤ用ガラス基板として更に最適なガラス板に研磨することができる。

なお、うねり曲線の最大断面高さは、ＪＩＳＢ０６０１：’０１に記載されている。うねり曲線の最大断面高さは、測定長３０ｍｍ、λＣ＝０．８ｍｍの測定条件で株式会社東京精密製サーフコム「１４００−Ｄ６４」にて測定する。

更にまた、ガラス板Ｇの研磨面を、研磨具２６に対して押圧する荷重のばらつきは、平均荷重の１０％以下であることが好ましい。

ガラス板Ｇに対する研磨具２６の荷重を上記の如く規定することにより、フロート法により製造されたガラス板Ｇを、ＦＰＤ用ガラス基板として更に最適なガラス板に研磨することができる。なお、荷重分布の測定手段として、ニッタ株式会社製大面積圧力分布測定システムの「ＢＩＧ−ＭＡＴ」又は「ＨＵＧＥ−ＭＡＴ」を用いることができる。

以上の如く、実施の形態の研磨装置１０によれば、フロート法により製造されたガラス板Ｇであって、厚さが０．７以下であり、１辺の長さが１０００ｍｍ以上、ヤング率が６５ＧＰａ以上のガラス板Ｇを研磨対象とし、ガラス板Ｇの非研磨面をガラス保持部材１６によって保持し、ガラス板Ｇの研磨面にある高さ０．３μｍ以下のうねりを研磨具２６によって研磨することにより０．０５μｍ以下に低減させてフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を製造する。これにより、画像に歪みや色むらを与えないＦＰＤ用ガラス基板として最適なガラス板Ｇを製造できる。

研磨仕様の一例を下記に示す。

研磨圧力：２ｋＰａ〜２５ｋＰａ
研磨スラリ：酸化セリウム水溶液を研磨具保持定盤のスラリ供給孔から供給
研磨具：軟質ウレタン製スエード状で表面にスラリを流す溝有り（溝ピッチ４．５ｍｍ、溝幅１．５ｍｍ、溝深さ１〜１．５ｍｍ）
ガラス板の厚み：０．２ｍｍ〜０．７ｍｍ
ガラス板の形状：１辺が１０００ｍｍを超えた矩形状ガラス板
ガラス板の非研磨面：ガラス保持部材にて密着保持
以上が研磨仕様の一例である。

ところで、実施の形態の研磨装置１０では、ガラス板Ｇの研磨レートを維持するために、研磨具２６の面をダイヤモンド砥粒が含有されたツルーイング砥石によって定期的に研削し、目立てを実施している。

従来では、図３の模式図に示すようにガラス板Ｇと略同サイズで板状のツルーイング砥石４０をガラス保持部材１６に取り付ける。そして、図１に示したキャンバス２２の空気室２３に供給された圧縮エアのエア圧によって、図３のツルーイング砥石４０を研磨具２６に押し付けて、研磨具２６の面を研削する。この際、ツルーイング砥石４０は、ガラス板Ｇの研磨と同様に研磨ヘッド１２の動作によって自転、公転しながら研磨具２６の面を研削する。

従来のツルーイング砥石４０による研削時において、前記エア圧はツルーイング砥石４０のエッジ部分４０Ａに集中するという現象が生じる。このため、エッジ部分４０Ａと接触する研磨具２６の一部の面２６Ａが他の面２６Ｂよりも多めに研削されるので、研磨具２６の面全体が平坦に研削されないという不具合があった。また、エッジ部分４０Ａと接触する前記一部の面２６Ａは、ツルーイング砥石４０の自転、公転によって、図４の平面図に示すように研磨具２６の面に環状に現れる。

このような不具合を防止するために、実施の形態の研磨装置１０では、図５に示すように、ダイヤモンド砥粒を有さず研削能力のない矩形状のフレーム４２を、図６の平面図に示すようにツルーイング砥石４０を包囲するようにガラス保持部材１６に取り付けている。そして、キャンバス２２の空気室２３に供給された圧縮エアのエア圧によってツルーイング砥石４０、及びフレーム４２を研磨具２６に押し付けて、研磨具２６の面をツルーイング砥石４０によって研削する。

この際、前記エア圧はツルーイング砥石４０の外周に位置するフレーム４２に集中するが、フレーム４２は研削能力を有していないため、フレーム４２と接触する研磨具２６の一部の面は研削されない。すなわち、エア圧が均一に与えられているツルーイング砥石４０のみによって研磨具２６の面が研削される。これにより、研磨具２６の面全体が平坦に研削されるので、ツルーイング砥石４０による目立てを改善できる。

なお、研磨具２６のツルーイング時のみにフレーム４２を用いるのではなく、ガラス板Ｇの研磨時においてもフレーム４２を使用することが好ましい。これにより、ガラス板Ｇの研磨時にエア圧がガラス板Ｇのエッジに集中することを防止できるので、ガラス板Ｇのエッジの研削過多を防止できる。フレーム４２の材質としては、ステンレス、鉄、アルミニウム、ポリエチレン、ポリウレタン等の研磨能力を有しない材質を例示できる。

また、実施の形態の研磨装置１０では、ガラス板Ｇの研磨レートを維持するために、研磨具２６の面を定期的に水洗浄することにより、研磨具２６の面に付着している研磨液中の酸化セリウム等の残渣を除去する目直しを実施している。

従来の水洗浄装置は、研磨具２６の上方に、噴射孔を下側に向けたドレッシング用水ノズルを配置している。この水ノズルの前記噴射孔から洗浄水を、研磨具２６の面に対して直交する方向に噴射させるとともに、研磨具２６及び水ノズルを相対的に水平方向に移動させて研磨具２６の目直しを実施していた。

しかしながら、従来の洗浄装置では、研磨具２６の面に付着している前記残渣を効率よく除去することができず、また、除去した残渣を研磨具２６の系外に効率よく洗い流すことができないという不具合があった。

このような不具合を防止するために、実施の形態の研磨装置１０では、図７の側面図に示すようにドレッシング用水ノズル４４を傾斜させ、噴射孔４６から噴射される洗浄水４８の噴射角度θを鋭角に設定している。そして、水ノズル４４と研磨具２６を水平方向に相対的に往復移動させることで、研磨具２６の面に付着している残渣を除去する。

これにより、研磨具２６の面に付着している残渣は、傾斜して噴射された洗浄水４８の圧力によって掘り起こされるため、効率よく除去される。また。除去した残渣は、傾斜して噴射されている洗浄水４８によって研磨具２６の系外に効率よく洗い流される。これにより、水ノズル１６６による目直しを改善できる。

なお、洗浄水４８の噴射角度θは、残渣の掘り起こし効率、及び残渣の洗い流し効率の観点から１０〜４５度が好ましく、３０度がより好ましい。また、洗浄水４８が研磨具２６に衝突した際の打力は、弱ければ残渣の除去効率が下がり、高ければ研磨具２６が破損するおそれがあることから、５〜５０ｋＰａが好ましい。更に、研磨具２６と水ノズル４４の相対速度は、遅ければ研磨具２６のドレッシング効率が下がり、速ければ残渣の除去効率が下がることから、３〜２０ｍ／ｍｉｎが好ましい。

Ｇ…ガラス板、１０…研磨装置、１２…研磨ヘッド、１４…定盤、１６…ガラス保持部材、１８…シール材、２０…ガラス保持定盤、２２…キャンバス、２３…空気室、２４…回転軸、２６…研磨具、２８…シール材、３０…研磨具保持定盤、４０…ツルーイング砥石、４２…フレーム、４４…水ノズル、４６…噴射孔、４８…洗浄水

Claims

溶融ガラスを溶融錫浴上に流し込むことにより製造されたガラス板であって、厚さが０．７ｍｍ以下であり、１辺の長さが１０００ｍｍ以上、ヤング率が６５ＧＰａ以上のガラス板を研磨対象のガラス板とし、
前記ガラス板の非研磨面をガラス保持部材によって保持し、該ガラス板の研磨面にある高さ０．３μｍ以下のうねりを研磨具によって研磨することにより０．０５μｍ以下に低減させてフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を製造することを特徴とするガラス板の研磨方法。
前記研磨具は、Ａ硬度が２０以上、Ｄ硬度が９９以下、厚さが１．０〜２．５ｍｍ、厚さ分布が±０．０５ｍｍ以内である請求項１に記載のガラス板の研磨方法。
前記ガラス保持部材は、圧縮率が１０〜７０％、圧縮弾性率が７０〜９８、Ａ硬度が２〜２０、厚さが０．３〜２．０ｍｍ、厚さ分布が±０．０５ｍｍ以内である請求項１、又は２に記載のガラス板の研磨方法。
前記ガラス保持部材は、シール材を介してガラス保持定盤に取り付けられており、該ガラス保持定盤が評価長さを３０ｍｍとしたときのうねり曲線の最大断面高さが２０μｍ以下である請求項１〜３のいずれかに記載のガラス板の研磨方法。
前記研磨具は、シール材を介して研磨具保持定盤に取り付けられており、該研磨具保持定盤が評価長さを３０ｍｍとしたときの断面曲線の最大断面高さが１００μｍ以下である請求項１〜４のいずれかに記載のガラス板の研磨方法。
前記研磨具は前記ガラス板に対して一定の荷重で押圧されており、該荷重のばらつきが平均荷重の１０％以下である請求項１〜５のいずれかに記載のガラス板の研磨方法。
前記研磨具は、ツルーイング砥石と該ツルーイング砥石を包囲するように配置された研磨能力のないフレームとが押し当てられて目立てされる請求項１〜６のいずれかに記載のガラス板の研磨方法。