JP2012177050A - Antistatic resin composition, and film or molded product having antistatic layer - Google Patents
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Abstract
【課題】滑り性に優れた塗膜を形成する帯電防止樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)、ポリテトラメチレングリコール骨格を有する(メタ)アクリレート化合物(B)、及び4級アンモニウム塩基含有ポリマー(C)を含有する帯電防止樹脂組成物。ポリテトラメチレングリコール骨格を有する(メタ)アクリレート化合物(B)の含有量が(A)〜(C)の合計中0.5〜40重量%である。
【選択図】なしAn antistatic resin composition capable of forming a coating film excellent in slipperiness is provided.
An antistatic resin composition comprising a compound (A) having a (meth) acryloyl group, a (meth) acrylate compound (B) having a polytetramethylene glycol skeleton, and a quaternary ammonium base-containing polymer (C). . The content of the (meth) acrylate compound (B) having a polytetramethylene glycol skeleton is 0.5 to 40% by weight in the total of (A) to (C).
[Selection figure] None
Description
本発明は、帯電防止樹脂組成物、及び帯電防止層を有するフィルム又は成型品に関し、詳しくは、滑り性に優れた塗膜を形成する帯電防止樹脂組成物、及び滑り性に優れた帯電防止層を有するフィルム又は成型品に関する。 The present invention relates to an antistatic resin composition, and a film or molded article having an antistatic layer, and more specifically, an antistatic resin composition that forms a coating film excellent in slipperiness and an antistatic layer excellent in slipperiness. The present invention relates to a film or molded product having
電気製品のハウジング、ディスプレイ等の表示装置、光ディスク等の光情報記録媒体、精密電子部品には、成形性や透明性の観点からトリアセチルセルロース樹脂や、ポリカーボネート樹脂或いはポリメチルメタクリレート樹脂などのプラスチック材料が多く使用されている。ところが、これらの材料は、高い電気絶縁性を示すために帯電が起き易く、表面にゴミが付着し易いと言った問題がある。また、更に、表面の滑り性が悪いため、他の素材との接触時にブロッキングや動作不良を起こすと言った問題がある。 Plastic materials such as triacetyl cellulose resin, polycarbonate resin, or polymethyl methacrylate resin from the viewpoint of moldability and transparency for electrical equipment housings, display devices such as displays, optical information recording media such as optical disks, and precision electronic components Is often used. However, these materials have a problem that they are easily charged because they exhibit high electrical insulation, and dust easily adheres to the surface. Furthermore, there is a problem that blocking or malfunction occurs when contacting with other materials because the slipperiness of the surface is poor.
このため、帯電防止性、滑り性を兼ね備えたコート膜を設ける検討が行われている。例えば、帯電防止性の付与については、4級アンモニウム塩基含有ポリマーを添加した帯電防止樹脂組成物を使用した帯電防止ハードコート層を形成する試みがなされている(特許文献1、2、3)。しかしながら、滑り性と帯電防止性を両立した組成物は未だ報告されていない。 For this reason, studies are being made to provide a coating film having both antistatic properties and slipperiness. For example, for imparting antistatic properties, attempts have been made to form an antistatic hard coat layer using an antistatic resin composition to which a quaternary ammonium base-containing polymer is added (Patent Documents 1, 2, and 3). However, no composition having both slipperiness and antistatic properties has been reported yet.
本発明は、滑り性に優れた塗膜を形成する帯電防止樹脂組成物を提供することを課題とする。また、本発明は、滑り性に優れた帯電防止層を有するフィルム又は成型品を提供することを課題とする。 This invention makes it a subject to provide the antistatic resin composition which forms the coating film excellent in slipperiness. Moreover, this invention makes it a subject to provide the film or molded article which has the antistatic layer excellent in slipperiness.
すなわち、本発明の第1の要旨は、(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)、ポリテトラメチレングリコール骨格を有する(メタ)アクリレート化合物(B)、及び4級アンモニウム塩基含有ポリマー(C)を含有することを特徴とする帯電防止樹脂組成物に存する。 That is, the first gist of the present invention is a compound (A) having a (meth) acryloyl group, a (meth) acrylate compound (B) having a polytetramethylene glycol skeleton, and a quaternary ammonium base-containing polymer (C). It exists in the antistatic resin composition characterized by containing.
そして、本発明の第2の要旨は、基材上に上記の帯電防止樹脂組成物を塗布して成ることを特徴とするフィルム又は成型品に存する。 The second gist of the present invention resides in a film or a molded product obtained by coating the antistatic resin composition on a substrate.
本発明によれば前記の課題が解決される。 According to the present invention, the above problems are solved.
以下、本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
本発明の帯電防止樹脂組成物は、(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)、ポリテトラメチレングリコール骨格を有する(メタ)アクリレート化合物(B)、及び4級アンモニウム塩基含有ポリマー(C)を含有することを特徴とする。 The antistatic resin composition of the present invention contains a compound (A) having a (meth) acryloyl group, a (meth) acrylate compound (B) having a polytetramethylene glycol skeleton, and a quaternary ammonium base-containing polymer (C). It is characterized by doing.
(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)は、分子内に(メタ)アクリロイル基を1以上有する化合物を意味し、モノマーであっても、オリゴマーであってもよい。本発明では、アクリロイル基とメタアクリロイル基を総称して、(メタ)アクリロイル基という。すなわち、(メタ)アクリロイル基を有する化合物とは、アクリロイル基のみを有する化合物であってもよく、メタアクリロイル基のみを有する化合物であってもよく、アクリロイル基とメタアクリロイル基とを有する化合物であってもよい。また、以下に記載する(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸エステルについても同様である。 The compound (A) having a (meth) acryloyl group means a compound having at least one (meth) acryloyl group in the molecule, and may be a monomer or an oligomer. In the present invention, the acryloyl group and the methacryloyl group are collectively referred to as a (meth) acryloyl group. That is, the compound having a (meth) acryloyl group may be a compound having only an acryloyl group, a compound having only a methacryloyl group, or a compound having an acryloyl group and a methacryloyl group. May be. The same applies to (meth) acrylates and (meth) acrylic esters described below.
(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)としては、例えば、以下に記載する多官能(メタ)アクリレート、単官能(メタ)アクリレートのモノマーやオリゴマー又はポリマーが挙げられる。 As a compound (A) which has a (meth) acryloyl group, the monomer, oligomer, or polymer of the polyfunctional (meth) acrylate described below and a monofunctional (meth) acrylate is mentioned, for example.
多官能(メタ)アクリレートの具体例としては、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスルトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールフプロパンテトラ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化グリセリントリ(メタ)アクリレート、プロポキシ化グリセリントリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、2,2,2−トリス(メタ)アクリロイロキシメチルエチルコハク酸、2,2,2−トリス(メタ)アクリロイロキシメチルエチルフタル酸、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、1、6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エトキシ化水添ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化水添ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、9,9−ビス[4−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ジオキサングリコールジ(メタ)アクリレート、1分子中に(メタ)アクリレートが2個以上のエポキシ(メタ)アクリレート、1分子中に(メタ)アクリレートが2個以上のウレタン(メタ)アクリレート、1分子中に(メタ)アクリレートが2個以上のポリエステルアクリレート、グリシジルメタアクリレートの単独または共重合体の(メタ)アクリル酸付加物、(メタ)アクリル酸の単独または共重合体のグリシジルメタアクリレート付加物、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテルの単独または共重合体の(メタ)アクリル酸付加物、(メタ)アクリル酸の単独または共重合体の4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル付加物、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネートの単独または共重合体の水酸基と(メタ)アクリロイル基を有する化合物の付加物、水酸基と(メタ)アクリロイル基を有する化合物の単独または共重合体の2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート付加物が挙げられる。ここで、水酸基と(メタ)アクリロイル基を有する化合物としては、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートが特に好ましい。 Specific examples of polyfunctional (meth) acrylates include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ethoxylated pentaerythritol tetra (meth) acrylate, propoxylated pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipenta Erythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethoxylated isocyanuric acid tri (meth) acrylate, ditrimethylol propanetetra (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, ethoxylated glycerol tri ( (Meth) acrylate, propoxylated glycerol tri (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 2,2,2-tris (meth) acrylate Leuoxymethylethylsuccinic acid, 2,2,2-tris (meth) acryloyloxymethylethylphthalic acid, diethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) Acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, propoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, ethoxylated hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, propoxylated hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, 9,9-bis [4- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene, tricyclodecane dimethyl Tanol di (meth) acrylate, dioxane glycol di (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate with two or more (meth) acrylates in one molecule, urethane (meth) with two or more (meth) acrylates in one molecule Acrylate, polyester acrylate having two or more (meth) acrylates in one molecule, glycidyl methacrylate homo- or copolymer (meth) acrylic acid adduct, (meth) acrylic acid mono- or copolymer glycidyl meta Acrylate adduct, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether homo- or copolymer (meth) acrylic acid adduct, (meth) acrylic acid homo- or copolymer 4-hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl Ether adduct, 2- (meth) acryl 2- (meth) acryloyloxyethyl, a homopolymer or a copolymer of a compound having a hydroxyl group and a (meth) acryloyl group, or an adduct of a compound having a hydroxyl group and a (meth) acryloyl group, alone or as a copolymer of yloxyethyl isocyanate An isocyanate adduct is mentioned. Here, as a compound having a hydroxyl group and a (meth) acryloyl group, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, cyclohexanedimethanol mono (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) Acrylates are particularly preferred.
単官能(メタ)アクリレートの具体例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、アクリロニトリル、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、n−ステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノールエチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、ノニルフェノールプロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル化o−フェニルフェノール(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピルフタレート等のフタル酸誘導体のハーフ(メタ)アクリレート、フルフリル(メタ)アクリレート、カルビトール(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート2−アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェートモノエステル等が挙げられる。 Specific examples of the monofunctional (meth) acrylate include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, acrylonitrile, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether, cyclohexanedimethanol mono (Meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, 2-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) Acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycerin mono (meth) acrylate, glycidyl (meta Acrylate, lauryl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate , Heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, n-stearyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate , Phenol ethylene oxide modified (meth) acrylate, nonylphenol propylene oxide modified (meth) acrylate, hydroxyethylated o-phenylphenol (meth) Half (meth) acrylate, furfuryl (meth) acrylate, carbitol (meth) acrylate of phthalic acid derivatives such as acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl acid phosphate, 2- (meth) acryloyloxy-2-hydroxypropyl phthalate , Benzyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate 2-acryloyloxyethyl acid phosphate monoester, and the like.
これらの(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)は、2種以上を混合して使用してもよい。また、ポリテトラメチレングリコール骨格を有する(メタ)アクリレート化合物(B)が滑り性に寄与するメカニズムとしては、ポリテトラメチレングリコール骨格の疎水性が高いために塗膜表面に濃縮されることによるものと推定されることから、(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)は、ポリテトラメチレングリコール骨格よりも極性が高い構造を有するものがより好ましい。 These compounds (A) having a (meth) acryloyl group may be used in combination of two or more. In addition, the mechanism by which the (meth) acrylate compound (B) having a polytetramethylene glycol skeleton contributes to slipperiness is due to the fact that the polytetramethylene glycol skeleton is concentrated on the coating surface because of its high hydrophobicity. Since it is estimated, it is more preferable that the compound (A) having a (meth) acryloyl group has a structure having a higher polarity than the polytetramethylene glycol skeleton.
(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)の含有量は、(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)、ポリテトラメチレングリコール骨格を有する(メタ)アクリレート化合物(B)、及び4級アンモニウム塩基含有ポリマー(C)の合計中、通常30〜99重量%、好ましくは50〜98重量%である。(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)の含有量が少な過ぎると塗膜の耐擦傷性が悪くなり、多過ぎると4級アンモニウム塩基含有ポリマー(C)の濃度が低下し帯電防止性が低下する。 The content of the compound (A) having a (meth) acryloyl group includes a compound (A) having a (meth) acryloyl group, a (meth) acrylate compound (B) having a polytetramethylene glycol skeleton, and a quaternary ammonium base. It is 30 to 99 weight% normally in the sum total of a polymer (C), Preferably it is 50 to 98 weight%. When the content of the compound (A) having a (meth) acryloyl group is too small, the scratch resistance of the coating film is deteriorated, and when it is too large, the concentration of the quaternary ammonium base-containing polymer (C) is lowered and the antistatic property is lowered. To do.
ポリテトラメチレングリコール骨格を有する(メタ)アクリレート化合物(B)としては、ポリテトラメチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコール骨格を有するウレタン(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコール骨格を有するエポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらのポリテトラメチレングリコール骨格を有する(メタ)アクリレート化合物(B)は、2種以上を混合して使用してもよい。 Examples of the (meth) acrylate compound (B) having a polytetramethylene glycol skeleton include polytetramethylene glycol mono (meth) acrylate, polytetramethylene glycol di (meth) acrylate, and urethane (meth) acrylate having a polytetramethylene glycol skeleton. And epoxy (meth) acrylate having a polytetramethylene glycol skeleton. These (meth) acrylate compounds (B) having a polytetramethylene glycol skeleton may be used in combination of two or more.
ポリテトラメチレングリコール骨格を有する(メタ)アクリレート化合物(B)の含有量は、所望する滑り性、帯電防止性によっても異なるが、(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)、ポリテトラメチレングリコール骨格を有する(メタ)アクリレート化合物(B)、及び4級アンモニウム塩基含有ポリマー(C)の合計中、通常0.5〜40重量%、好ましくは〜30重量%である。 The content of the (meth) acrylate compound (B) having a polytetramethylene glycol skeleton varies depending on the desired slipping property and antistatic property, but the compound (A) having a (meth) acryloyl group, the polytetramethylene glycol skeleton In the total of (meth) acrylate compound (B) having quaternary and quaternary ammonium base-containing polymer (C), it is usually 0.5 to 40% by weight, preferably ˜30% by weight.
4級アンモニウム塩基含有ポリマー(C)は、4級アンモニウム塩基を1以上有するポリマーである。4級アンモニウム塩基含有ポリマー(C)は、例えば、4級アンモニウム塩基を含有する不飽和基を有するモノマーと、他の不飽和基を有する化合物(例えば、モノマー、オリゴマー)との共重合によって得ることが出来る。このような4級アンモニウム塩基含有ポリマー(C)の具体例としては、以下の(i)〜(v)が挙げられる。 The quaternary ammonium base-containing polymer (C) is a polymer having one or more quaternary ammonium bases. The quaternary ammonium base-containing polymer (C) is obtained, for example, by copolymerization of a monomer having an unsaturated group containing a quaternary ammonium base and a compound having another unsaturated group (for example, a monomer or an oligomer). I can do it. Specific examples of such a quaternary ammonium base-containing polymer (C) include the following (i) to (v).
(i)4級アンモニウム塩基を含有した重合性基を有するモノマーと、(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体
(ii)4級アンモニウム塩基を含有した重合性基を有するオリゴマーと、(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体
(iii)4級アンモニウム塩基含有(メタ)アクリル酸エステルと、他の(メタ)アクリル酸エステル及び/又はスチレン系モノマーとの共重合体
(iv)4級アンモニウム塩基含有(メタ)アクリル酸エステルと、他の(メタ)アクリル酸エステル及び/又はスチレン系オリゴマーとの共重合体
(v)4級アンモニウム塩基含有(メタ)アクリル酸エステルと、他の(メタ)アクリル酸エステル及び/又は他の(メタ)アクリル酸エステルオリゴマーとの共重合体
(I) a copolymer of a monomer having a polymerizable group containing a quaternary ammonium base and a (meth) acrylic acid ester, (ii) an oligomer having a polymerizable group containing a quaternary ammonium base, and (meth) Copolymer with acrylic ester (iii) Copolymer of (meth) acrylic ester containing quaternary ammonium base and other (meth) acrylic ester and / or styrene monomer (iv) Quaternary ammonium base Copolymer of containing (meth) acrylic acid ester with other (meth) acrylic acid ester and / or styrene oligomer (v) Quaternary ammonium base-containing (meth) acrylic acid ester and other (meth) acrylic Copolymers with acid esters and / or other (meth) acrylic acid ester oligomers
4級アンモニウム塩基を含有した重合性基を有するモノマーの具体例としては、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレートの4級塩の如きエステル結合を有する化合物、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリルアミドの4級塩の如きアミド結合を有する化合物などが挙げられる。 Specific examples of the monomer having a polymerizable group containing a quaternary ammonium base include a compound having an ester bond such as a quaternary salt of dimethylaminoethyl (meth) acrylate, and a quaternary salt of diethylaminoethyl (meth) acrylamide. Examples thereof include compounds having an amide bond.
4級アンモニウム塩基含有ポリマー(C)の分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を使用したポリスチレン標準により求められる数平均重量分子量として、通常5000〜500000、好ましくは7000〜300000である。4級アンモニウム塩基含有ポリマー(C)の数平均重量分子量がこの下限を下回ると、硬化塗膜表面へのブリードが起こり易くなる恐れがあり、また、上限を上回ると、滑り性に優れた塗膜を形成する帯電防止樹脂組成物における相溶性が低下する恐れがある。 The molecular weight of the quaternary ammonium base-containing polymer (C) is usually 5,000 to 500,000, preferably 7,000 to 300,000 as the number average weight molecular weight determined by a polystyrene standard using gel permeation chromatography (GPC). If the number average weight molecular weight of the quaternary ammonium base-containing polymer (C) is less than this lower limit, bleeding to the cured coating film surface is likely to occur, and if it exceeds the upper limit, a coating film having excellent slipperiness. There is a possibility that the compatibility in the antistatic resin composition forming the slag may be lowered.
上記の4級アンモニウム塩基含有ポリマー(C)は2種以上を混合して使用してもよい。 The quaternary ammonium base-containing polymer (C) may be used as a mixture of two or more.
4級アンモニウム塩基含有ポリマー(C)の含有量は、(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)、ポリテトラメチレングリコール骨格を有する(メタ)アクリレート化合物(B)、及び4級アンモニウム塩基含有ポリマー(C)の合計中、通常0.5〜30重量%、好ましくは1〜20重量%である。4級アンモニウム塩基含有ポリマー(C)の含有量が少な過ぎると4級アンモニウム塩基含有ポリマーによる十分な帯電防止性能を得ることが出来ず、多過ぎると硬化塗膜の透明性が低下する恐れがある。 The content of the quaternary ammonium base-containing polymer (C) is such that the compound (A) having a (meth) acryloyl group, the (meth) acrylate compound (B) having a polytetramethylene glycol skeleton, and a quaternary ammonium base-containing polymer ( In the total of C), it is usually 0.5 to 30% by weight, preferably 1 to 20% by weight. If the content of the quaternary ammonium base-containing polymer (C) is too small, sufficient antistatic performance due to the quaternary ammonium base-containing polymer cannot be obtained, and if it is too large, the transparency of the cured coating film may be lowered. .
本発明の帯電防止樹脂組成物は、通常、ガンマ線、電子線、紫外線などの活性エネルギー線や熱よって硬化することが出来る。紫外線で硬化させる場合、本発明の帯電防止樹脂組成物には光重合開始剤を添加することが好ましい。光重合開始剤としては、ベンゾフェノン系開始剤、ジケトン系開始剤、アセトフェノン系開始剤、ベンゾイン系開始剤、チオキサントン系開始剤、キノン系開始剤などの公知の重合開始剤を使用してもよい。熱で硬化する場合、本発明の帯電防止樹脂組成物には有機過酸化物を添加することが好ましい。有機過酸化物としては、ケトンパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、パーオキシエステル等が挙げられる。 The antistatic resin composition of the present invention can usually be cured by active energy rays such as gamma rays, electron rays, ultraviolet rays, or heat. When curing with ultraviolet rays, it is preferable to add a photopolymerization initiator to the antistatic resin composition of the present invention. As the photopolymerization initiator, known polymerization initiators such as benzophenone initiators, diketone initiators, acetophenone initiators, benzoin initiators, thioxanthone initiators, and quinone initiators may be used. When cured by heat, it is preferable to add an organic peroxide to the antistatic resin composition of the present invention. Examples of the organic peroxide include ketone peroxide, hydroperoxide, dialkyl peroxide, diacyl peroxide, peroxydicarbonate, and peroxyester.
通常、重合開始剤の使用量は、帯電防止樹脂組成物中の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)、ポリテトラメチレングリコール骨格を有する(メタ)アクリレート化合物(B)、及び4級アンモニウム塩基含有ポリマー(C)の合計100重量部に対して0.1〜20.0重量部の範囲である。 Usually, the polymerization initiator is used in an amount of a compound (A) having a (meth) acryloyl group, a (meth) acrylate compound (B) having a polytetramethylene glycol skeleton, and a quaternary ammonium base in the antistatic resin composition. It is the range of 0.1-20.0 weight part with respect to a total of 100 weight part of containing polymer (C).
本発明の帯電防止樹脂組成物は溶剤を含有させて使用することが出来る。硬化後に得られる帯電防止層が所望の厚さとなるよう任意の量の溶剤を含有させることが出来る。 The antistatic resin composition of the present invention can be used by containing a solvent. An arbitrary amount of a solvent can be contained so that the antistatic layer obtained after curing has a desired thickness.
溶剤としては、例えば、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン等のケトン系溶剤、メタノール、エタノール、t−ブタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤などが挙げられる。これらの溶剤は2種以上を組み合わせて使用してもよい。 Examples of the solvent include ketone solvents such as methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and methyl amyl ketone, and alcohol solvents such as methanol, ethanol, t-butanol, isopropanol, n-butanol, and propylene glycol monomethyl ether. . These solvents may be used in combination of two or more.
溶剤の含有量は、(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)、ポリテトラメチレングリコール骨格を有する(メタ)アクリレート化合物(B)、及び4級アンモニウム塩基含有ポリマー(C)の合計100重量部に対し、通常1〜10,000重量部、好ましくは20〜5000重量部、更に好ましくは40〜1000重量部の範囲である。 The content of the solvent is 100 parts by weight in total of the compound (A) having a (meth) acryloyl group, the (meth) acrylate compound (B) having a polytetramethylene glycol skeleton, and the quaternary ammonium base-containing polymer (C). On the other hand, it is usually 1 to 10,000 parts by weight, preferably 20 to 5000 parts by weight, and more preferably 40 to 1000 parts by weight.
本発明の帯電防止樹脂組成物には、シリコーン系、フッ素系のレベリング剤、N−ビニルホルムアミドのようなアミド結合を有する重合性モノマー等を添加することも可能である。また、本発明の帯電防止樹脂組成物に微粒子を添加することにより、ハードコート層の表面に微細な凸凹が形成されるため、防眩性も付与することが出来る。この場合、微粒子としては、シリカ等の無機系微粒子や、ポリメチル(メタ)アクリレート等の有機系微粒子などが挙げられる。また、本発明の帯電防止樹脂組成物には、上記以外にも必要に応じてその他の添加剤を含有させてもよい。 The antistatic resin composition of the present invention may contain a silicone-based or fluorine-based leveling agent, a polymerizable monomer having an amide bond such as N-vinylformamide, and the like. Further, by adding fine particles to the antistatic resin composition of the present invention, fine irregularities are formed on the surface of the hard coat layer, so that antiglare property can also be imparted. In this case, examples of the fine particles include inorganic fine particles such as silica, and organic fine particles such as polymethyl (meth) acrylate. In addition to the above, the antistatic resin composition of the present invention may contain other additives as necessary.
本発明の帯電防止樹脂組成物は、通常、公知の塗工装置を使用して基材上に塗布した後、溶剤を含有させた場合は溶剤を除去して乾燥し、活性エネルギー線を照射して硬化させることにより、滑り性に優れた帯電防止層を形成する用途に使用される。滑り性に優れた帯電防止層は、基材上に他の層を介して形成してもよい。 The antistatic resin composition of the present invention is usually applied on a substrate using a known coating apparatus, and if a solvent is contained, the solvent is removed and dried, and active energy rays are irradiated. It is used for the purpose of forming an antistatic layer excellent in slipperiness by being cured. The antistatic layer excellent in slipperiness may be formed on the substrate via another layer.
公知の塗工装置としては、マイクログラビアコーター、グラビアコーター、マイヤーバーコーター、ダイコーター、スプレー塗装などの塗工装置を使用することが出来る。また、基材としては、特に制限されるものではないが、例えば、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ノルボルネン系樹脂などの樹脂フィルムや樹脂基板を挙げることが出来る。 As a known coating apparatus, a coating apparatus such as a micro gravure coater, a gravure coater, a Meyer bar coater, a die coater, or spray coating can be used. The substrate is not particularly limited, and examples thereof include resin films and resin substrates such as polycarbonate resins, polyester resins, acrylic resins, triacetyl cellulose resins, and norbornene resins. .
本発明の帯電防止樹脂組成物を使用することにより形成された滑り性に優れた帯電防止層は、指紋などによる汚染が目立ち難く、付着した指紋が拭き取り易いことから、耐指紋性帯電防止層として利用することも可能である。 The antistatic layer having excellent slipperiness formed by using the antistatic resin composition of the present invention is less likely to be contaminated with fingerprints and the attached fingerprint is easily wiped off. It can also be used.
本発明のフィルムまたは成型品は、滑り性に優れた帯電防止層を有するため、電機製品の筐体、ディスプレイ等の表示素子のハードコート層などの保護用フィルム、精密電子部品、床材、各種フィルム、シート、成型品などとして有用である。 Since the film or molded product of the present invention has an antistatic layer excellent in slipperiness, a protective film such as a housing of an electric product, a hard coat layer of a display element such as a display, a precision electronic component, a flooring material, various types It is useful as a film, sheet, molded product and the like.
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded.
実施例1〜3及び比較例1:
各構成成分を表1に示す割合で配合した組成物を、トリアセチルセルロースフィルム(80μm)上に#10バーコーターにて塗布し、約60℃で1分間乾燥後、80W/cmの高圧水銀ランプを使用し、積算光量400mJ/cm2、ピーク強度140mW/cm2の条件で硬化させた。
Examples 1-3 and Comparative Example 1:
A composition containing the components shown in Table 1 was applied on a triacetyl cellulose film (80 μm) with a # 10 bar coater, dried at about 60 ° C. for 1 minute, and then a 80 W / cm high-pressure mercury lamp. Was used and cured under conditions of an integrated light quantity of 400 mJ / cm 2 and a peak intensity of 140 mW / cm 2 .
※1:東亞合成社製ジペンタエリスリトールペンタアクリレート/ヘキサアクリレート混合物
※2:新中村化学工業社製ポリテトラメチレングリコールジアクリレート
※3:日本化成社製4級アンモニウム塩基含有ポリマー(数平均分子量28000)
※4:チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
* 1: Dipentaerythritol pentaacrylate / hexaacrylate mixture manufactured by Toagosei Co., Ltd. * 2: Polytetramethylene glycol diacrylate manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. * 3: Quaternary ammonium base-containing polymer (number average molecular weight 28000) manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.
* 4: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone manufactured by Ciba Specialty Chemicals
実施例1〜3及び比較例1で得られた帯電防止層を有するフィルムについて下記項目を評価し、評価結果を表2に示した。 The following items were evaluated for the films having antistatic layers obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1, and the evaluation results are shown in Table 2.
(1)表面抵抗:
23℃、50%RHの環境下、三菱化学アナリテック社製ハイレスタUP/URSプローブを使用し、印加電圧500Vで測定した。
(1) Surface resistance:
Measurement was performed at an applied voltage of 500 V using a Hiresta UP / URS probe manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd. in an environment of 23 ° C. and 50% RH.
(2)静摩擦係数:
NBC社製ポリエステル製スクリーンメッシュ(305メッシュ/inch)を使用して塗膜表面との静摩擦係数を測定した。測定にはHEIDON社製「Static Friction TESTER HEIDON−10」を使用した。
(2) Coefficient of static friction:
The coefficient of static friction with the coating film surface was measured using a NBC polyester screen mesh (305 mesh / inch). For the measurement, “Static Friction Tester HEIDON-10” manufactured by HEIDON was used.
表2の結果から、本発明の帯電防止樹脂組成物を使用することにより、滑り性と帯電防止性能の向上が可能であることが確認された。 From the results of Table 2, it was confirmed that the use of the antistatic resin composition of the present invention can improve the slipperiness and antistatic performance.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Family
ID=46979120
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2011041582A Withdrawn JP2012177050A (en) | 2011-02-28 | 2011-02-28 | Antistatic resin composition, and film or molded product having antistatic layer |
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| JP (1) | JP2012177050A (en) |
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|---|---|---|---|---|
| JP2019073617A (en) * | 2017-10-16 | 2019-05-16 | Dic株式会社 | Active energy ray-curable composition and film using the same |
| WO2020255561A1 (en) * | 2019-06-18 | 2020-12-24 | 信越化学工業株式会社 | Water repellent agent composition |
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| JP7114874B2 (en) | 2017-10-16 | 2022-08-09 | Dic株式会社 | Active energy ray-curable composition and film using the same |
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