JP2012172122A - Phenolic polymer, production method of the same and application of the same - Google Patents
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Abstract
【課題】従来のビフェニル骨格を有するフェノールアラルキル樹脂と同等以上の難燃性を持ち、かつ高流動性であるフェノール系重合体、その組成物及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】式(1)のフェノール類、式(2)の芳香族化合物、式(3)のアルデヒド類、およびm−キシレン・ホルムアルデヒド・メタノールの縮合物との反応において、芳香族化合物のフェノール類に対するモル比が0.05〜0.40、アルデヒド類のフェノール類に対するモル比が0〜0.20、酸素含有率が10〜20wt%、25℃における粘度が10〜200mPa・s、数平均分子量が200〜400であるm−キシレン・ホルムアルデヒド・メタノールの縮合物をフェノール類重量の5〜25wt%で反応させて得られるフェノール系重合体。
【選択図】なしTo provide a phenolic polymer having a flame retardancy equal to or higher than that of a conventional phenol aralkyl resin having a biphenyl skeleton and a high fluidity, a composition thereof, and a method for producing the same.
In the reaction with a phenol of formula (1), an aromatic compound of formula (2), an aldehyde of formula (3), and a condensate of m-xylene, formaldehyde and methanol, the phenol of the aromatic compound The molar ratio of aldehydes to phenol is 0.05 to 0.40, the molar ratio of aldehydes to phenols is 0 to 0.20, the oxygen content is 10 to 20 wt%, the viscosity at 25 ° C. is 10 to 200 mPa · s, the number average A phenolic polymer obtained by reacting a condensate of m-xylene, formaldehyde and methanol having a molecular weight of 200 to 400 at 5 to 25 wt% of the weight of phenols.
[Selection figure] None
Description
本発明は、フェノール系重合体、その製法およびその用途に関する。さらに詳しくは、本発明は、低溶融粘度で高難燃性である半導体封止材用途に適したフェノール系重合体、その製法及びその用途に関する。 The present invention relates to a phenolic polymer, a process for producing the same, and a use thereof. More specifically, the present invention relates to a phenolic polymer suitable for semiconductor encapsulant use having low melt viscosity and high flame retardancy, its production method and its use.
フェノールアラルキル樹脂は、エポキシ樹脂の硬化剤として用いると耐熱性、耐湿性、機械的性質等の物性に優れ、しかも低粘度の樹脂が製造可能であり作業性が良好であることから、挿入型用や表面実装用樹脂の用途、特に半導体封止用樹脂として使用されている。 When used as a curing agent for epoxy resins, phenol aralkyl resins have excellent physical properties such as heat resistance, moisture resistance, mechanical properties, etc., and low viscosity resins can be produced and workability is good. And is used as a resin for surface mounting, particularly as a semiconductor sealing resin.
近年半導体パッケージの小型・薄型化及び形状の複雑化に伴い、半導体封止用樹脂には益々低粘度のものが要求されるようになってきている。低粘度であればその流動性が向上することで複雑形状のパッケージ、例えばBGAなどにも対応が可能となり、またフィラーの高充填化が可能となることで、難燃性、半田耐熱性、耐湿信頼性の面でも有利となる。 In recent years, as semiconductor packages have become smaller and thinner and more complicated in shape, semiconductor sealing resins are increasingly required to have low viscosity. If the viscosity is low, its fluidity will improve and it will be possible to deal with packages with complex shapes, such as BGA, and it will be possible to increase the filling of the filler. This is also advantageous in terms of reliability.
特に近年は、地球環境に配慮した企業活動の重視により有害性のおそれのある物質の削減・撤廃の動きがあり、ハロゲン系難燃剤及びアンチモン化合物を用いない難燃性に優れたエポキシ樹脂組成物の要求が高まっており、汎用パッケージから先端パッケージ用に至る用途で使用されていたフェノールアラルキル樹脂にもハロゲン系難燃剤及びアンチモン化合物を用いなくとも優れた難燃性を有することが求められている(たとえば特許文献1など)。なかでもビフェニル骨格を有するフェノールアラルキル樹脂は高難燃性であることが知られており先端パッケージ用途で重用されているが、その一方でさらなる高流動性を求める要望が近年高まっている(たとえば特許文献2など)。しかし従来のビフェニル骨格を有するフェノールアラルキル樹脂と同等以上の難燃性を持ちながら高流動性の改良に成功した事例はない。一方で、m−キシレン・ホルムアルデヒド縮合物によるフェノールアラルキル樹脂の変性例が存在し、未変性のものと比べて同等以上の難燃性を持ちながら高流動化も達成しているが、その変性の対象がビフェニル骨格タイプのフェノールアラルキル樹脂ではなく未変性品の流動性は改良できても未変性品自体の自己消火性が乏しいため、その難燃性は不満足なものであった(特許文献3)。 In recent years, epoxy resin compositions with excellent flame retardancy that do not use halogenated flame retardants and antimony compounds have been moving to reduce or eliminate potentially harmful substances due to the importance of corporate activities in consideration of the global environment. The phenol aralkyl resin used in applications ranging from general-purpose packages to advanced packages is also required to have excellent flame retardancy without using halogen-based flame retardants and antimony compounds. (For example, patent document 1 etc.). Among them, a phenol aralkyl resin having a biphenyl skeleton is known to be highly flame retardant and is used extensively in advanced package applications. On the other hand, there is an increasing demand for higher fluidity (for example, patents). Reference 2). However, there is no case where the improvement of the high fluidity is achieved while having the flame retardance equal to or higher than that of the conventional phenol aralkyl resin having a biphenyl skeleton. On the other hand, there is a modification example of phenol aralkyl resin by m-xylene / formaldehyde condensate, and high fluidity is achieved while having the same or better flame retardance than unmodified one. Although the subject is not a biphenyl skeleton type phenol aralkyl resin and the flowability of the unmodified product can be improved, the flame retardancy is unsatisfactory because the unmodified product itself has poor self-extinguishing properties (Patent Document 3). .
本発明では、従来のビフェニル骨格を有するフェノールアラルキル樹脂と同等以上の難燃性を持ち、かつ高流動性であるフェノール系重合体、その組成物及びその製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a phenolic polymer having a flame retardancy equal to or higher than that of a conventional phenol aralkyl resin having a biphenyl skeleton and a high fluidity, a composition thereof, and a method for producing the same.
本発明は、下記一般式(1)で示されるフェノール類、下記一般式(2)で示される芳香族化合物、下記一般式(3)で示されるアルデヒド類、およびm−キシレン・ホルムアルデヒド・メタノールの縮合物との反応において、芳香族化合物のフェノール類に対するモル比が0.05〜0.40、アルデヒド類のフェノール類に対するモル比が0〜0.20、酸素含有率が10〜20wt%、25℃における粘度が10〜200mPa・s、数平均分子量が200〜400であるm−キシレン・ホルムアルデヒド・メタノールの縮合物がフェノール類重量の5〜25wt%使用される条件で反応させて得られるフェノール系重合体を提供する。 The present invention includes phenols represented by the following general formula (1), aromatic compounds represented by the following general formula (2), aldehydes represented by the following general formula (3), and m-xylene / formaldehyde / methanol. In the reaction with the condensate, the molar ratio of the aromatic compound to the phenol is 0.05 to 0.40, the molar ratio of the aldehyde to the phenol is 0 to 0.20, the oxygen content is 10 to 20 wt%, 25 A phenolic system obtained by reacting under the condition that a condensate of m-xylene, formaldehyde and methanol having a viscosity at 10 ° C. of 10 to 200 mPa · s and a number average molecular weight of 200 to 400 is used in an amount of 5 to 25 wt% of the phenol weight. A polymer is provided.
本発明は、前記したフェノール系重合体とエポキシ樹脂からなるエポキシ樹脂組成物を提供する。 The present invention provides an epoxy resin composition comprising the above-described phenolic polymer and an epoxy resin.
本発明は、前記一般式(1)で示されるフェノール類、前記一般式(2)で示される芳香族化合物、前記一般式(3)で示されるアルデヒド類、およびm−キシレン・ホルムアルデヒドの縮合物との反応において、芳香族化合物のフェノール類に対するモル比が0.05〜0.40、アルデヒド類のフェノール類に対するモル比が0〜0.20、酸素含有率が10〜20wt%、25℃における粘度が10〜200mPa・s、数平均分子量が200〜400であるm−キシレン・ホルムアルデヒド・メタノールの縮合物がフェノール類重量の5〜25wt%使用される条件で反応させて得られるフェノール系重合体の製造方法を提供する。 The present invention provides a phenol represented by the general formula (1), an aromatic compound represented by the general formula (2), an aldehyde represented by the general formula (3), and a condensate of m-xylene / formaldehyde. In the reaction, the molar ratio of the aromatic compound to the phenols is 0.05 to 0.40, the molar ratio of the aldehydes to the phenols is 0 to 0.20, the oxygen content is 10 to 20 wt%, at 25 ° C. A phenolic polymer obtained by reacting a m-xylene / formaldehyde / methanol condensate having a viscosity of 10 to 200 mPa · s and a number average molecular weight of 200 to 400 under a condition that 5 to 25 wt% of the phenol weight is used. A manufacturing method is provided.
本発明によれば、成形材、各種バインダー、コーティング材、積層材などに有効な高自己消火性を併せ持つ低溶融粘度のフェノール系重合体及びその製造方法が提供される。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the low melt viscosity phenolic polymer which has a high self-extinguishing property effective in a molding material, various binders, a coating material, a laminated material, etc. and its manufacturing method are provided.
本発明により、とくにエポキシ樹脂硬化剤として有用であり、とりわけ半導体封止用として用いた場合に、低溶融粘度、難燃性に優れたエポキシ樹脂組成物を形成することができるフェノール系重合体、及びそのエポキシ樹脂組成物が提供される。 According to the present invention, a phenolic polymer that is particularly useful as an epoxy resin curing agent and can form an epoxy resin composition excellent in low melt viscosity and flame retardancy, especially when used for semiconductor encapsulation, And an epoxy resin composition thereof.
本発明は、前記一般式(1)で示されるフェノール類、前記一般式(2)で示される芳香族化合物、前記一般式(3)で示されるアルデヒド類、およびm−キシレン・ホルムアルデヒド・メタノールの縮合物との反応において、芳香族化合物のフェノール類に対するモル比が0.05〜0.40、アルデヒド類のフェノール類に対するモル比が0〜0.20、酸素含有率が10〜20wt%、25℃における粘度が10〜200mPa・s、数平均分子量が200〜400であるm−キシレン・ホルムアルデヒド・メタノールの縮合物がフェノール類重量の5〜25wt%使用される条件で反応させて得られるフェノール系重合体を提供する。 The present invention includes phenols represented by the general formula (1), aromatic compounds represented by the general formula (2), aldehydes represented by the general formula (3), and m-xylene / formaldehyde / methanol. In the reaction with the condensate, the molar ratio of the aromatic compound to the phenol is 0.05 to 0.40, the molar ratio of the aldehyde to the phenol is 0 to 0.20, the oxygen content is 10 to 20 wt%, 25 A phenolic system obtained by reacting under the condition that a condensate of m-xylene, formaldehyde and methanol having a viscosity at 10 ° C. of 10 to 200 mPa · s and a number average molecular weight of 200 to 400 is used in an amount of 5 to 25 wt% of the phenol weight. A polymer is provided.
本発明は、前記一般式(1)で示されるフェノール類、前記一般式(2)で示される芳香族化合物、前記一般式(3)で示されるアルデヒド類、およびm−キシレン・ホルムアルデヒド・メタノールの縮合物との反応において、芳香族化合物のフェノール類に対するモル比が0.05〜0.40、アルデヒド類のフェノール類に対するモル比が0〜0.20、酸素含有率が10〜20wt%、25℃における粘度が10〜200mPa・s、数平均分子量が200〜400であるm−キシレン・ホルムアルデヒド・メタノールの縮合物がフェノール類重量の5〜25wt%使用される条件で反応させて得られるフェノール系重合体の製造方法を提供する。 The present invention includes phenols represented by the general formula (1), aromatic compounds represented by the general formula (2), aldehydes represented by the general formula (3), and m-xylene / formaldehyde / methanol. In the reaction with the condensate, the molar ratio of the aromatic compound to the phenol is 0.05 to 0.40, the molar ratio of the aldehyde to the phenol is 0 to 0.20, the oxygen content is 10 to 20 wt%, 25 A phenolic system obtained by reacting under the condition that a condensate of m-xylene, formaldehyde and methanol having a viscosity at 10 ° C. of 10 to 200 mPa · s and a number average molecular weight of 200 to 400 is used in an amount of 5 to 25 wt% of the phenol weight. A method for producing a polymer is provided.
前記一般式(1)で示されるフェノール類としては、フェノール、o−、m−、p−クレゾール、2,3−、2,4−、2,5−、2,6−、3,4−、3,5−キシレノール、o−、m−、p−エチルフェノール、などの単環型フェノール化合物が挙げられ、これらを1種もしくは2種以上使用することができるが、特にフェノールが好ましい。 Examples of the phenols represented by the general formula (1) include phenol, o-, m-, p-cresol, 2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4- , 3,5-xylenol, o-, m-, p-ethylphenol, and the like, and one or more of them can be used, and phenol is particularly preferable.
本発明にて使用されるm−キシレン・ホルムアルデヒド・メタノールの縮合物は、m−キシレンをメチレン基で架橋した構造を持ち、かつメチレン基を介して架橋しうる反応性官能基を有するオリゴマー混合物である。これらは、m−キシレン、ホルムアルデヒド、メタノールを酸性触媒存在下で縮合させることで得ることができ、反応性の指標が酸素含有率で与えられる(特開平10−168147)。m−キシレン・ホルムアルデヒド・メタノールの縮合物の酸素含有率、25℃における粘度、数平均分子量は、原料のm−キシレン、ホルムアルデヒド、メタノールの比率によるが、難燃性と流動性のバランスを考慮すると、酸素含有率が10〜20wt%、25℃における粘度が10〜200mPa・s、数平均分子量としては200〜400の範囲内が好ましい。なお本化合物は市販されており、入手も容易である。(例えばフドー(株)製「ニカノールY-50」「ニカノールY-100」)。 The condensate of m-xylene / formaldehyde / methanol used in the present invention is an oligomer mixture having a structure in which m-xylene is crosslinked with a methylene group and having a reactive functional group capable of crosslinking via the methylene group. is there. These can be obtained by condensing m-xylene, formaldehyde, and methanol in the presence of an acidic catalyst, and an index of reactivity is given by oxygen content (Japanese Patent Laid-Open No. 10-168147). The oxygen content of the condensate of m-xylene / formaldehyde / methanol, viscosity at 25 ° C., and number average molecular weight depend on the ratio of m-xylene, formaldehyde, and methanol as raw materials, but considering the balance between flame retardancy and fluidity The oxygen content is preferably 10 to 20 wt%, the viscosity at 25 ° C. is 10 to 200 mPa · s, and the number average molecular weight is preferably in the range of 200 to 400. This compound is commercially available and can be easily obtained. (For example, “Nikanol Y-50” “Nikanol Y-100” manufactured by Fudou Co., Ltd.).
一般式(2)で示される芳香族化合物の例として、4,4’−ビス(クロロメチル)ビフェニル、4,4’−ビス(ブロモメチル)ビフェニル、4,4’−ビス(ヨードメチル)ビフェニル、4,4’−ビス(ヒドロキシメチル)ビフェニル、4,4’−ビス(メトキシメチル)ビフェニルなどを挙げることができる。これら芳香族化合物のうち入手性の観点から、4,4’−ビス(クロロメチル)ビフェニルの使用が好ましい。 Examples of the aromatic compound represented by the general formula (2) include 4,4′-bis (chloromethyl) biphenyl, 4,4′-bis (bromomethyl) biphenyl, 4,4′-bis (iodomethyl) biphenyl, 4 4,4′-bis (hydroxymethyl) biphenyl, 4,4′-bis (methoxymethyl) biphenyl, and the like. Of these aromatic compounds, 4,4'-bis (chloromethyl) biphenyl is preferably used from the viewpoint of availability.
一般式(3)で示されるアルデヒド類として、ホルムアルデヒドまたはベンズアルデヒドが挙げられる。これらはエポキシ樹脂用硬化剤の性能を調整する目的で必要に応じて使用され単独使用または混合使用のいずれでもよいが、エポキシ樹脂組成物のコールドフローの抑制および高流動性の付与の観点から、ベンズアルデヒドの使用が好ましい。 Examples of aldehydes represented by the general formula (3) include formaldehyde and benzaldehyde. These are used as necessary for the purpose of adjusting the performance of the curing agent for epoxy resin and may be used alone or in combination, but from the viewpoint of suppressing cold flow of the epoxy resin composition and imparting high fluidity, The use of benzaldehyde is preferred.
前記で示されるフェノール系重合体は、前記一般式(1)で示されるフェノール類、前記一般式(2)で示される芳香族化合物、前記一般式(3)で示されるアルデヒド類、およびm−キシレン・ホルムアルデヒド・メタノールの縮合物を反応させて得ることができる。 The phenolic polymer shown above includes phenols represented by the general formula (1), aromatic compounds represented by the general formula (2), aldehydes represented by the general formula (3), and m- It can be obtained by reacting a condensate of xylene, formaldehyde and methanol.
前記一般式(1)で示されるフェノール類、前記一般式(2)で示される芳香族化合物、前記一般式(3)で示されるアルデヒド類、およびm−キシレン・ホルムアルデヒド・メタノールの縮合物の反応においては、適度な分子量とエポキシ樹脂用硬化剤としての優れた性能を有するフェノール系重合体を得るために、芳香族化合物のフェノール類に対するモル比が0.05〜0.40、好ましくは0.15〜0.25、アルデヒド類のフェノールに対するモル比が0〜0.20、好ましくは0〜0.10、m−キシレン・ホルムアルデヒド・メタノールの縮合物がフェノール類重量の5〜25wt%、好ましくは5〜15wt%で反応させるのがよい。 Reaction of phenols represented by the general formula (1), aromatic compounds represented by the general formula (2), aldehydes represented by the general formula (3), and a condensate of m-xylene / formaldehyde / methanol. In order to obtain a phenolic polymer having an appropriate molecular weight and excellent performance as a curing agent for epoxy resins, the molar ratio of aromatic compound to phenols is 0.05 to 0.40, preferably 0.8. 15 to 0.25, molar ratio of aldehydes to phenol is 0 to 0.20, preferably 0 to 0.10, m-xylene / formaldehyde / methanol condensate is 5 to 25 wt% of phenols, preferably It is good to make it react at 5 to 15 wt%.
上記反応は、触媒の存在下又は不存在下、60〜150℃程度の温度で1〜10時間程度反応させることによって得ることができる。すなわち前記(2)式において、XがOH基またはOCH3基の場合は酸触媒の存在下で反応させることが必要であり、また前記(2)式においてXがハロゲンの場合には、僅かな水を存在させることによって反応を開始させることができ、また反応によって生じるハロゲン化水素によって反応を促進させることができる。 The above reaction can be obtained by reacting at a temperature of about 60 to 150 ° C. for about 1 to 10 hours in the presence or absence of a catalyst. That is, in the formula (2), when X is an OH group or an OCH3 group, it is necessary to carry out the reaction in the presence of an acid catalyst, and when X is a halogen in the formula (2), a slight amount of water is required. The reaction can be initiated by the presence of and can be accelerated by the hydrogen halide produced by the reaction.
上記反応において使用可能な触媒としては、リン酸、硫酸、塩酸などの無機酸、蓚酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などの有機酸、塩化亜鉛、塩化第二錫、塩化第二鉄などのルイス酸触媒を単独使用または併用することができる。 Catalysts usable in the above reaction include inorganic acids such as phosphoric acid, sulfuric acid and hydrochloric acid, organic acids such as oxalic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid and trifluoromethanesulfonic acid, zinc chloride, and second chloride. Lewis acid catalysts such as tin and ferric chloride can be used alone or in combination.
生成物のフェノール系重合体を半導体封止のような電子材料用途に使用する場合には、酸が残存するのは好ましくないため、酸触媒として塩酸を用いることにより、縮合反応混合物から減圧によって塩化水素を簡単に除去することができるので好ましい。 When the product phenolic polymer is used for electronic material applications such as semiconductor encapsulation, it is not preferable that the acid remains. Therefore, by using hydrochloric acid as the acid catalyst, the condensation reaction mixture is chlorinated under reduced pressure. Hydrogen is preferred because it can be easily removed.
上記縮合反応によって得られる縮合反応混合物から、未反応原料、反応副生物、触媒など低沸点成分を除去することによって、反応生成物であるフェノール系重合体を回収することができる。このような反応生成物は、150℃におけるICI溶融粘度が10〜300mPa・s、好ましくは50〜180mPa・sの範囲にある。また上記反応生成物における未反応原料などの除去のために行われる上記減圧下の分離操作は、通常、130℃以上の温度で行われるので、該操作で得られる溶融状態の反応生成物をそのまま急冷・固化することにより、軟化点(JIS K2207)が50〜80℃程度の非晶性固体として単離することができる。 By removing low-boiling components such as unreacted raw materials, reaction byproducts, and catalysts from the condensation reaction mixture obtained by the condensation reaction, the phenolic polymer that is a reaction product can be recovered. Such a reaction product has an ICI melt viscosity at 150 ° C. of 10 to 300 mPa · s, preferably 50 to 180 mPa · s. The separation operation under reduced pressure, which is performed for removing unreacted raw materials in the reaction product, is usually performed at a temperature of 130 ° C. or higher, so that the molten reaction product obtained by the operation is used as it is. By quenching and solidifying, it can be isolated as an amorphous solid having a softening point (JIS K2207) of about 50 to 80 ° C.
このようにして得られる上記反応生成物であるフェノール系重合体は、一般的には成形温度域での溶融粘度が低く加工性に優れており、その硬化物は難燃性に優れる。したがって成形材、各種バインダー、コーティング材、積層材などに使用することができる。したがってエポキシ樹脂硬化剤として有用であり、エポキシ樹脂系半導体封止材における硬化剤として使用すると、流動性に優れたエポキシ樹脂組成物となり、それを硬化させた半導体装置は難燃性に優れる。 The phenolic polymer, which is the reaction product thus obtained, generally has a low melt viscosity in the molding temperature range and excellent workability, and the cured product has excellent flame retardancy. Therefore, it can be used for molding materials, various binders, coating materials, laminated materials and the like. Therefore, it is useful as an epoxy resin curing agent, and when used as a curing agent in an epoxy resin-based semiconductor encapsulant, an epoxy resin composition having excellent fluidity is obtained, and a semiconductor device obtained by curing the epoxy resin composition is excellent in flame retardancy.
上記エポキシ樹脂組成物において、上記フェノール系重合体とともに使用することができるエポキシ樹脂としては、例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、フェノール、ナフトールなどのキシリレン結合によるアラルキル樹脂のエポキシ化物、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂などのグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂などの一分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ化合物が挙げられる。これらエポキシ樹脂は単独使用でも2種類以上併用してもよい。耐湿性、熱時低弾性率、難燃性を考慮すると、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂などの2官能型エポキシ樹脂や、フェノ−ルビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、フェノール、ナフトールなどのキシリレン結合によるアラルキル樹脂のエポキシ化物などから選ばれる芳香環の多い多官能型エポキシ樹脂を使用するのが好ましい。 Examples of the epoxy resin that can be used with the phenolic polymer in the epoxy resin composition include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, and biphenyl type. Epoxy resin, phenol biphenyl aralkyl type epoxy resin, epoxidized aralkyl resin with xylylene bonds such as phenol and naphthol, glycidyl ether type epoxy resin such as dicyclopentadiene type epoxy resin, dihydroxynaphthalene type epoxy resin, triphenolmethane type epoxy resin Epoxy compounds having two or more epoxy groups in one molecule such as glycidyl ester type epoxy resin, glycidyl amine type epoxy resin, etc. It is below. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more. In consideration of moisture resistance, low elastic modulus during heat and flame retardancy, bifunctional epoxy resins such as bisphenol F type epoxy resin and biphenyl type epoxy resin, phenol biphenyl aralkyl type epoxy resin, xylylene such as phenol and naphthol It is preferable to use a polyfunctional epoxy resin having many aromatic rings selected from epoxidized aralkyl resins by bonding.
エポキシ樹脂の硬化に際しては、硬化促進剤を併用することが好ましい。かかる硬化促進剤としては、エポキシ樹脂をフェノール樹脂系硬化剤で硬化させるための公知の硬化促進剤を用いることができ、例えば、3級アミン化合物、4級アンモニウム塩、イミダゾール類、ホスフィン化合物、ホスホニウム塩などを挙げることができる。より具体的には、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7などの3級アミン化合物、2−メチルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾールなどのイミダゾール類、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ(p−メチルフェニル)ホスフィン、トリ(ノニルフェニル)ホスフィンなどのホスフィン化合物、トリフェニルホスホニオフェノラート、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラナフトエ酸ボレートなどのホスホニウム塩を挙げることができる。中でも低吸水性や信頼性の観点から、ホスフィン化合物やホスホニウム塩の使用が好ましい。 In curing the epoxy resin, it is preferable to use a curing accelerator in combination. As such a curing accelerator, a known curing accelerator for curing an epoxy resin with a phenol resin curing agent can be used. For example, a tertiary amine compound, a quaternary ammonium salt, an imidazole, a phosphine compound, a phosphonium A salt etc. can be mentioned. More specifically, tertiary amine compounds such as triethylamine, triethylenediamine, benzyldimethylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 , 2-methylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, imidazoles such as 2-phenyl-4-methylimidazole, triphenylphosphine, tributylphosphine, tri (p -Phosphine compounds such as methylphenyl) phosphine and tri (nonylphenyl) phosphine, triphenylphosphonium phenolate, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium tetranaphthoic acid borate and the like. Honiumu salt can be mentioned. Of these, phosphine compounds and phosphonium salts are preferred from the viewpoint of low water absorption and reliability.
本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じて無機充填剤、カップリング剤、離型剤、着色剤、難燃剤、低応力剤などを添加または予め反応して用いることができる。また他の硬化剤を併用することもできる。このような他の硬化剤の例として、フェノールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂、フェノールビフェニルアラルキル樹脂、フェノールナフチルアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、トリフェノールメタン型ノボラック樹脂などを挙げることができる。 In the epoxy resin composition of the present invention, an inorganic filler, a coupling agent, a release agent, a colorant, a flame retardant, a low stress agent, or the like can be added or reacted in advance if necessary. Other curing agents can be used in combination. Examples of such other curing agents include phenol novolac resins, phenol aralkyl resins, phenol biphenyl aralkyl resins, phenol naphthyl aralkyl resins, naphthol aralkyl resins, and triphenolmethane type novolac resins.
上記エポキシ樹脂組成物を半導体封止用に使用する場合は、無機充填剤の添加は必須である。このような無機充填剤の例として、非晶性シリカ、結晶性シリカ、アルミナ、ガラス、珪酸カルシウム、マグネサイト、クレー、タルク、マイカ、マグネシア、硫酸バリウムなどを挙げることができるが、とくに非晶性シリカ、結晶性シリカ、硫酸バリウムが好ましい。また優れた成形性を維持しつつ充填剤の配合量を高めるために細密充填を可能とするような粒度分布の広い球形の充填剤を使用することが好ましい。 When using the said epoxy resin composition for semiconductor sealing, addition of an inorganic filler is essential. Examples of such inorganic fillers include amorphous silica, crystalline silica, alumina, glass, calcium silicate, magnesite, clay, talc, mica, magnesia, barium sulfate, etc. Silica, crystalline silica, and barium sulfate are preferred. In order to increase the blending amount of the filler while maintaining excellent moldability, it is preferable to use a spherical filler having a wide particle size distribution that enables fine packing.
カップリング剤の例としては、メルカプトシラン系、ビニルシラン系、アミノシラン系、エポキシシラン系などのシランカップリング剤やチタンカップリング剤を、離型剤の例としてはカルナバワックス、パラフィンワックスなど、また着色剤としてはカーボンブラックなどをそれぞれ例示することができる。難燃剤の例としては、リン化合物、金属水酸化物など、低応力剤の例としては、シリコンゴム、変性ニトリルゴム、変性ブタジエンゴム、変性シリコンオイルなどを挙げることができる。 Examples of coupling agents include mercaptosilane-based, vinylsilane-based, aminosilane-based, and epoxysilane-based silane coupling agents and titanium coupling agents. Examples of mold release agents include carnauba wax, paraffin wax, and coloring. Examples of the agent include carbon black. Examples of the flame retardant include phosphorus compounds and metal hydroxides, and examples of the low stress agent include silicon rubber, modified nitrile rubber, modified butadiene rubber, and modified silicone oil.
本発明のフェノール系重合体とエポキシ樹脂の配合比は、耐熱性、機械的特性などを考慮すると、水酸基/エポキシ基の当量比が0.5〜1.5、特に0.8〜1.2の範囲にあることが好ましい。また他の硬化剤と併用する場合においても水酸基/エポキシ基の当量比が上記割合となるようにするのが好ましい。硬化促進剤は、硬化特性や諸物性を考慮すると、エポキシ樹脂100重量部に対して0.1〜5重量部の範囲で使用するのが好ましい。さらに半導体封止用のエポキシ樹脂組成物においては、無機充填剤の種類によっても異なるが、半田耐熱性、成形性(溶融粘度、流動性)、低応力性、低吸水性などを考慮すると、無機充填剤を組成物全体の60〜93重量%を占めるような割合で配合することが好ましい。 The compounding ratio of the phenolic polymer of the present invention and the epoxy resin is such that the equivalent ratio of hydroxyl group / epoxy group is 0.5 to 1.5, particularly 0.8 to 1.2, considering heat resistance, mechanical properties and the like. It is preferable that it exists in the range. Further, even when used in combination with another curing agent, it is preferable that the equivalent ratio of hydroxyl group / epoxy group is the above-mentioned ratio. The curing accelerator is preferably used in the range of 0.1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin in consideration of curing characteristics and various physical properties. Furthermore, in an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation, although it varies depending on the type of inorganic filler, considering the solder heat resistance, moldability (melt viscosity, fluidity), low stress, low water absorption, etc., it is inorganic. It is preferable to blend the filler in a proportion that occupies 60 to 93% by weight of the entire composition.
エポキシ樹脂組成物を成形材料として調製する場合の一般的な方法としては、所定の割合の各原料を、例えばミキサーによって充分混合後、熱ロールやニーダーなどによって混練処理を加え、さらに冷却固化後適当な大きさ粉砕し、必要に応じタブレット化するなどの方法を挙げることができる。このようにして得た成形材料は、例えば低圧トランスファー成形などにより半導体を封止し、半導体装置を製造することができる。エポキシ樹脂組成物の硬化は、例えば100〜250℃の温度範囲で行うことができる。 As a general method for preparing an epoxy resin composition as a molding material, a predetermined proportion of each raw material is sufficiently mixed by, for example, a mixer, then kneaded by a hot roll or a kneader, and further cooled and solidified. Examples of the method include pulverization of a large size and tableting as necessary. The molding material thus obtained can be used for sealing a semiconductor by, for example, low-pressure transfer molding to manufacture a semiconductor device. Curing of the epoxy resin composition can be performed, for example, in a temperature range of 100 to 250 ° C.
以下に実施例、比較例によって本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって何ら制限されるものではない。 The present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples below, but the present invention is not limited to these examples.
[実施例1]
フェノール488.5g(5.196モル)、4,4’−ビス(クロロメチル)ビフェニル220.0g(0.909モル)及びニカノールY−100(フドー(株)製、数平均分子量270)62.7gを、下部に抜出口のある4つ口フラスコに仕込み、温度を上昇させると、系内が50℃でスラリー状態になり、70℃で均一に溶け、塩化水素の発生が始まり、70℃で1時間保持した後、昇温させ95℃で2時間保持後、さらに150℃で1時間熱処理を加えた。反応で出てくる塩化水素はそのまま系外へ揮散させ、アルカリ水でトラップした。この段階で未反応の4,4’−ビス(クロロメチル)ビフェニル、ニカノールは残存しておらず、全て反応したことをガスクロマトグラフィで確認した。反応終了後、減圧することにより、系内に残存する塩化水素及び未反応のフェノールを系外へ除去した。最終的に30torrで150℃まで減圧処理することで、残存フェノールがガスクロマトグラフィで未検出になった。この反応生成物を150℃に保持しながら抜き出し、淡黄褐色で透明なフェノール重合体(1)394.1gを得た。
このフェノール系重合体(1)のJIS K 2207に基づく軟化点は67℃であった。またICI溶融粘度計により測定した150℃における溶融粘度は60mPa・sであった。さらにアセチル化逆滴定法により測定した水酸基当量は195g/eqであった。
[Example 1]
488.5 g (5.196 mol) of phenol, 220.0 g (0.909 mol) of 4,4′-bis (chloromethyl) biphenyl and Nicanol Y-100 (manufactured by Fudou Co., Ltd., number average molecular weight 270) When 7g was charged into a four-necked flask with an outlet at the bottom and the temperature was raised, the system became a slurry state at 50 ° C, and evenly melted at 70 ° C, and generation of hydrogen chloride started. After holding for 1 hour, the temperature was raised, the temperature was kept at 95 ° C. for 2 hours, and then heat treatment was added at 150 ° C. for 1 hour. Hydrogen chloride produced in the reaction was volatilized out of the system as it was and trapped with alkaline water. At this stage, unreacted 4,4′-bis (chloromethyl) biphenyl and nicanol did not remain, and it was confirmed by gas chromatography that all had reacted. After completion of the reaction, the pressure was reduced to remove hydrogen chloride remaining in the system and unreacted phenol out of the system. Finally, the residual phenol was not detected by gas chromatography by reducing the pressure to 150 ° C. at 30 torr. This reaction product was extracted while maintaining at 150 ° C. to obtain 394.1 g of a pale yellowish brown and transparent phenol polymer (1).
The softening point of this phenol polymer (1) based on JIS K 2207 was 67 ° C. The melt viscosity at 150 ° C. measured with an ICI melt viscometer was 60 mPa · s. Furthermore, the hydroxyl group equivalent measured by the acetylation back titration method was 195 g / eq.
[実施例2]
フェノール839.3g(8.928モル)、4,4’−ビス(クロロメチル)ビフェニル350.0g(1.446モル)、ベンズアルデヒド33.1g(0.312モル)及びニカノールY−100(フドー(株)製、数平均分子量270)60.1gを、下部に抜出口のある4つ口フラスコに仕込み、温度を上昇させると、系内が50℃でスラリー状態になり、70℃で均一に溶け、塩化水素の発生が始まり、70℃で1時間保持した後、昇温させ95℃で2時間保持後、さらに150℃で1時間熱処理を加えた。反応で出てくる塩化水素はそのまま系外へ揮散させ、アルカリ水でトラップした。この段階で未反応の4,4’−ビス(クロロメチル)ビフェニル、ベンズアルデヒド、ニカノールは残存しておらず、全て反応したことをガスクロマトグラフィで確認した。反応終了後、減圧することにより、系内に残存する塩化水素及び未反応のフェノールを系外へ除去した。最終的に30torrで150℃まで減圧処理することで、残存フェノールがガスクロマトグラフィで未検出になった。この反応生成物を150℃に保持しながら抜き出し、淡黄褐色で透明なフェノール重合体(2)643.2gを得た。
このフェノール系重合体(2)のJIS K 2207に基づく軟化点は68℃であった。またICI溶融粘度計により測定した150℃における溶融粘度は60mPa・sであった。さらにアセチル化逆滴定法により測定した水酸基当量は188g/eqであった。
[Example 2]
839.3 g (8.928 mol) of phenol, 350.0 g (1.446 mol) of 4,4′-bis (chloromethyl) biphenyl, 33.1 g (0.312 mol) of benzaldehyde and Nicanol Y-100 (Fudo ( Co., Ltd., number average molecular weight 270) 60.1 g was charged into a four-necked flask with a discharge outlet at the bottom, and when the temperature was raised, the system became a slurry at 50 ° C and melted uniformly at 70 ° C Then, the generation of hydrogen chloride started, and after maintaining at 70 ° C. for 1 hour, the temperature was raised, the temperature was maintained at 95 ° C. for 2 hours, and heat treatment was further applied at 150 ° C. for 1 hour. Hydrogen chloride produced in the reaction was volatilized out of the system as it was and trapped with alkaline water. At this stage, unreacted 4,4′-bis (chloromethyl) biphenyl, benzaldehyde, and nicanol did not remain, and it was confirmed by gas chromatography that all had reacted. After completion of the reaction, the pressure was reduced to remove hydrogen chloride remaining in the system and unreacted phenol out of the system. Finally, the residual phenol was not detected by gas chromatography by reducing the pressure to 150 ° C. at 30 torr. The reaction product was extracted while maintaining at 150 ° C. to obtain 643.2 g of a pale yellowish brown and transparent phenol polymer (2).
The softening point of this phenol polymer (2) based on JIS K 2207 was 68 ° C. The melt viscosity at 150 ° C. measured with an ICI melt viscometer was 60 mPa · s. Furthermore, the hydroxyl group equivalent measured by the acetylated back titration method was 188 g / eq.
[実施例3]
下記一般式(4)で示されるエポキシ樹脂(日本化薬(株)製NC−3000P、フェノールビフェニルアラルキル型、エポキシ当量272g/eq)、実施例1で得たフェノール系重合体(1)、溶融シリカおよびリン系硬化促進剤テトラフェニルホスホニウムテトラ−p−メチルフェニルボレート(北興産業(株)、TPP−MK)を表2に示す割合
で配合し、充分に混合した後、85±3℃の2本ロールで3分混練し、冷却、粉砕することにより成形用組成物を得た。トランスファー成形機でこの成形用組成物を圧力100kgf/cm2で175℃2分間成形した後、180℃6時間のポストキュアを行い、ガラス転移温度測定用及び難燃性試験用のテストピースを得た。
[Example 3]
Epoxy resin represented by the following general formula (4) (Nippon Kayaku Co., Ltd. NC-3000P, phenol biphenyl aralkyl type, epoxy equivalent 272 g / eq), phenolic polymer (1) obtained in Example 1, molten Silica and phosphorus-based curing accelerator tetraphenylphosphonium tetra-p-methylphenylborate (Hokuko Sangyo Co., Ltd., TPP-MK) were blended in the proportions shown in Table 2 and mixed well, and then 2 at 85 ± 3 ° C. The molding composition was obtained by kneading with this roll for 3 minutes, cooling and grinding. This molding composition was molded at 175 ° C. for 2 minutes at a pressure of 100 kgf / cm 2 using a transfer molding machine, and then post-cured at 180 ° C. for 6 hours to obtain test pieces for measuring the glass transition temperature and for the flame retardancy test. .
[実施例4]
実施例3において、実施例1で得たフェノール系重合体(1)に代えて実施例2で得たフェノール系重合体(2)を用いる以外は同様に成形用組成物を調製し、これよりガラス転移温度測定用及び難燃性試験用のテストピースを得た。
[Example 4]
In Example 3, a molding composition was prepared in the same manner except that the phenolic polymer (2) obtained in Example 2 was used instead of the phenolic polymer (1) obtained in Example 1. Test pieces for glass transition temperature measurement and flame retardancy test were obtained.
[比較例1]
下記一般式(5)に示されるフェノールビフェニルアラルキル樹脂(エア・ウォーター(株)製、HE200C−10)をフェノール重合体(3)とした。
このフェノール系重合体(2)のJIS K 2207に基づく軟化点は70℃であった。またICI溶融粘度計により測定した150℃における溶融粘度は100mPa・sであった。さらにアセチル化逆滴定法により測定した水酸基当量は205g/eqであった。
[Comparative Example 1]
Phenol biphenyl aralkyl resin (manufactured by Air Water Co., Ltd., HE200C-10) represented by the following general formula (5) was used as the phenol polymer (3).
The softening point of this phenol polymer (2) based on JIS K 2207 was 70 ° C. The melt viscosity at 150 ° C. measured with an ICI melt viscometer was 100 mPa · s. Furthermore, the hydroxyl group equivalent measured by the acetylation back titration method was 205 g / eq.
[比較例2]
フェノール168.8g(1.796モル)、1,4−ジ(クロロメチル)ベンゼン77.0g(0.440モル)及びニカノールY−100(フドー(株)製、数平均分子量270)30.4gを、下部に抜出口のある4つ口フラスコに仕込み、温度を上昇させると、系内が50℃でスラリー状態になり、70℃で均一に溶け、HClの発生が始まり、70℃で1時間保持した後、昇温させ95℃で2時間保持後、さらに150℃で1時間熱処理を加えた。反応で出てくるHClはそのまま系外へ揮散させ、アルカリ水でトラップした。この段階で未反応の1,4−ジ(クロロメチル)ベンゼン、ニカノールは残存しておらず、全て反応したことをガスクロマトグラフィで確認した。反応終了後、減圧することにより、系内に残存するHCl及び未反応のフェノールを系外へ除去した。最終的に30torrで150℃まで減圧処理することで、残存フェノールがガスクロマトグラフィで未検出になった。この反応生成物を150℃に保持しながら抜き出し、淡黄褐色で透明なフェノール重合体(4)152.1gを得た。
このフェノール系重合体(4)のJIS K 2207に基づく軟化点は64℃であった。またICI溶融粘度計により測定した150℃における溶融粘度は50mPa・sであった。さらにアセチル化逆滴定法により測定した水酸基当量は175g/Eqであった。
[Comparative Example 2]
168.8 g (1.796 mol) of phenol, 77.0 g (0.440 mol) of 1,4-di (chloromethyl) benzene and 30.4 g of Nicanol Y-100 (manufactured by Fudou Co., Ltd., number average molecular weight 270) Is added to a four-necked flask with an outlet at the bottom, and when the temperature is raised, the system becomes a slurry state at 50 ° C., dissolves uniformly at 70 ° C., generation of HCl begins, and at 70 ° C. for 1 hour After being held, the temperature was raised, the temperature was kept at 95 ° C. for 2 hours, and then heat treatment was added at 150 ° C. for 1 hour. HCl generated in the reaction was volatilized out of the system as it was and trapped with alkaline water. At this stage, unreacted 1,4-di (chloromethyl) benzene and nicanol did not remain, and it was confirmed by gas chromatography that all had reacted. After completion of the reaction, the pressure was reduced to remove HCl remaining in the system and unreacted phenol out of the system. Finally, the residual phenol was not detected by gas chromatography by reducing the pressure to 150 ° C. at 30 torr. The reaction product was withdrawn while maintaining at 150 ° C. to obtain 152.1 g of a pale yellowish brown and transparent phenol polymer (4).
The softening point of this phenol polymer (4) based on JIS K 2207 was 64 ° C. The melt viscosity at 150 ° C. measured with an ICI melt viscometer was 50 mPa · s. Furthermore, the hydroxyl group equivalent measured by the acetylation back titration method was 175 g / Eq.
[比較例3]
比較例3において、実施例1で得たフェノール系重合体(1)に代えて比較例1のフェノール系重合体(3)を用いる以外は同様に成形用組成物を調製し、これよりガラス転移温度測定用及び難燃性試験用のテストピースを得た。
[Comparative Example 3]
In Comparative Example 3, a molding composition was prepared in the same manner except that the phenolic polymer (3) of Comparative Example 1 was used in place of the phenolic polymer (1) obtained in Example 1, and the glass transition was obtained therefrom. Test pieces for temperature measurement and flame retardancy test were obtained.
[比較例4]
比較例4において、実施例1で得たフェノール系重合体(1)に代えて比較例2で得たフェノール系重合体(4)を用いる以外は同様に成形用組成物を調製し、これよりガラス転移温度測定用及び難燃性試験用のテストピースを得た。
[Comparative Example 4]
In Comparative Example 4, a molding composition was prepared in the same manner except that the phenolic polymer (4) obtained in Comparative Example 2 was used instead of the phenolic polymer (1) obtained in Example 1. Test pieces for glass transition temperature measurement and flame retardancy test were obtained.
これら成形材料の物性を、次の方法により測定した。
(1)組成物の溶融粘度
エポキシ樹脂組成物2.5gをタブレットにして、高下式フローテスター(温度175℃、オリフィス径1mm、長さ1mm)にて測定した。
(2)ガラス転移温度
TMAによりテストピースの線膨張係数を昇温速度10℃/分で測定し、線膨張係数の変曲点をガラス転移温度とした。
(3)難燃性
厚み1.6mm×幅10mm×長さ135mmのサンプルを用い、UL−94に準拠して残炎時間を測定し評価した。
これらの評価結果を表2に示す。
The physical properties of these molding materials were measured by the following method.
(1) Melt viscosity of composition 2.5 g of the epoxy resin composition was used as a tablet, and measured with a high and low flow tester (temperature: 175 ° C., orifice diameter: 1 mm, length: 1 mm).
(2) Glass transition temperature The linear expansion coefficient of the test piece was measured by TMA at a heating rate of 10 ° C./min, and the inflection point of the linear expansion coefficient was taken as the glass transition temperature.
(3) Flame retardance Using a sample having a thickness of 1.6 mm × width 10 mm × length 135 mm, the afterflame time was measured and evaluated in accordance with UL-94.
These evaluation results are shown in Table 2.
表1において、実施例1〜2は比較例1のフェノールビフェニルアラルキル樹脂を基本構造としながらもその溶融粘度は比較例1の60%と低く、本発明が与えるm−キシレン・ホルムアルデヒド・メタノールの縮合物による変性処理がビフェニル構造を有するフェノールビフェニルアラルキル樹脂の高流動化に有効な手段であることがわかる。特に実施例2は本発明の変性処理に加えてベンズアルデヒドによる変性処理も加わることで軟化点が実施例1よりも5℃向上しており、実施例1と同等の高流動性を備える一方でコールドフローも起こりにくいより実用的なエポキシ樹脂組成物を与えることが可能である。
表2において、実施例3〜4に示すように表1における実施例1〜2の樹脂の高流動性がエポキシ樹脂組成物とした場合においても維持されていることが確認される。一方難燃性評価によると、実施例3〜4の硬化物の残炎時間は比較例1のフェノールビフェニルアラルキル樹脂を硬化剤とする比較例3の硬化物のFmax、Ftotalとほぼ同等であった。これに対し表1の比較例2および表2の比較例4が示すように、フェノールアラルキル樹脂を基本構造とするm−キシレン・ホルムアルデヒド・メタノール縮合物による変性品は、本発明が与える硬化剤およびエポキシ樹脂組成物と同等の高流動性は示すものの、その硬化物の残炎時間は実施例3〜4の2倍以上となり自己消化性に劣ることがわかる。
以上のことより、本発明が与えるビフェニル構造を有するフェノールビフェニルアラルキル樹脂に対して行われるm−キシレン・ホルムアルデヒド・メタノールの縮合物による変性処理は、未変性のフェノールビフェニルアラルキル樹脂が有する高難燃性の特徴を保ちながら高流動性を付与させることができるものであり、従来のアプローチでは困難であった高流動性と高難燃性の両立を可能するものである。
In Table 1, Examples 1 and 2 have the basic structure of the phenol biphenyl aralkyl resin of Comparative Example 1, but its melt viscosity is as low as 60% of Comparative Example 1, and the condensation of m-xylene, formaldehyde and methanol provided by the present invention. It can be seen that the modification treatment with the product is an effective means for increasing the fluidity of the phenol biphenyl aralkyl resin having a biphenyl structure. In particular, in Example 2, in addition to the modification treatment of the present invention, a modification treatment with benzaldehyde is added, so that the softening point is improved by 5 ° C. compared to Example 1. It is possible to provide a more practical epoxy resin composition that is less prone to flow.
In Table 2, as shown in Examples 3 to 4, it is confirmed that the high fluidity of the resins of Examples 1 and 2 in Table 1 is maintained even when the epoxy resin composition is used. On the other hand, according to the flame retardancy evaluation, the afterflame times of the cured products of Examples 3 to 4 were almost equivalent to Fmax and Ftotal of the cured product of Comparative Example 3 using the phenol biphenyl aralkyl resin of Comparative Example 1 as a curing agent. . On the other hand, as shown in Comparative Example 2 in Table 1 and Comparative Example 4 in Table 2, a modified product of m-xylene / formaldehyde / methanol condensate having a phenol aralkyl resin as a basic structure is provided with a curing agent and Although high fluidity equivalent to that of the epoxy resin composition is exhibited, it can be seen that the afterflame time of the cured product is twice or more that of Examples 3 to 4 and is inferior in self-digestibility.
From the above, the modification treatment with the condensate of m-xylene, formaldehyde, and methanol performed on the phenol biphenyl aralkyl resin having the biphenyl structure provided by the present invention is highly flame retardant possessed by the unmodified phenol biphenyl aralkyl resin. High fluidity can be imparted while maintaining the above characteristics, and it is possible to achieve both high fluidity and high flame retardance, which was difficult with conventional approaches.
本発明が与える硬化剤および組成物は、高流動性および高難燃性の両立が求められる半導体封止材料用途に適する。 The hardening | curing agent and composition which this invention provides are suitable for the semiconductor sealing material use as which high fluidity and high flame retardance are calculated | required.
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|---|---|---|---|---|
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2011
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013085004A1 (en) * | 2011-12-09 | 2013-06-13 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | Photosensitive resin composition, method for producing hardened relief pattern, semiconductor device and display device |
| JPWO2013085004A1 (en) * | 2011-12-09 | 2015-04-27 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | Photosensitive resin composition, method for producing cured relief pattern, semiconductor device and display device |
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