JP2012170719A - Magnetic resonance imaging apparatus and method for producing magnetic field-correcting coil - Google Patents
Magnetic resonance imaging apparatus and method for producing magnetic field-correcting coil Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012170719A JP2012170719A JP2011036916A JP2011036916A JP2012170719A JP 2012170719 A JP2012170719 A JP 2012170719A JP 2011036916 A JP2011036916 A JP 2011036916A JP 2011036916 A JP2011036916 A JP 2011036916A JP 2012170719 A JP2012170719 A JP 2012170719A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic field
- coil
- substrate
- pattern
- conductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000002595 magnetic resonance imaging Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims abstract description 18
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 39
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 17
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 12
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 5
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 240000004050 Pentaglottis sempervirens Species 0.000 description 2
- 235000004522 Pentaglottis sempervirens Nutrition 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Magnetic Resonance Imaging Apparatus (AREA)
Abstract
Description
本発明は、磁気共鳴イメージング装置に係わり、特に、薄型でかつ実装作業が簡便な鞍型シムコイルを備えた磁気共鳴イメージング装置及び磁場補正用コイルの製造方法に関する。 The present invention relates to a magnetic resonance imaging apparatus, and more particularly to a magnetic resonance imaging apparatus including a saddle-type shim coil that is thin and easy to mount and a method for manufacturing a magnetic field correction coil.
シムコイルの製造方法としては、例えば、特許文献1に記載されているような線材をコイル状に配置する方法や、板状の導体から切削加工やエッチングによりコイルパターンを切り出す手法がある。前者に示すような線材の配置方法よりも後者に示す切削加工やエッチングによる方法の方が精度の高いパターン形成が可能である。
As a method for manufacturing a shim coil, for example, there are a method of arranging a wire rod as described in
板状の導体を切削加工やエッチングで渦巻き型のコイル状に加工する場合、加工後にコイル形状を保持する手段が必要である。 When a plate-shaped conductor is processed into a spiral coil shape by cutting or etching, a means for holding the coil shape after processing is required.
エッチング後のコイルの形状を保持するために、樹脂基材上に銅などの導体を貼り付けた積層板をエッチングの対象として用いる方法がある。例えば、特許文献2では樹脂シートの両面にその方法を適用し傾斜コイルを得ている。 In order to maintain the shape of the coil after etching, there is a method in which a laminated plate in which a conductor such as copper is bonded on a resin base material is used as an object to be etched. For example, in Patent Document 2, the method is applied to both surfaces of a resin sheet to obtain a gradient coil.
MRI装置のワイドボア化に伴い、傾斜磁場コイルを薄型化する傾向にある。しかし、その傾斜磁場コイルの内容物である磁場補正用のシムコイルは、一方でMRI装置の高機能化に伴い、搭載するシムコイル数が増える傾向にある。そのため、シムコイルの薄型化が課題であった。 With the wide bore of the MRI apparatus, the gradient coil tends to be made thinner. However, the magnetic field correction shim coils, which are the contents of the gradient magnetic field coils, tend to increase the number of shim coils to be mounted as the functionality of the MRI apparatus increases. Therefore, the thinning of the shim coil has been a problem.
また、通常ひとつの鞍型シムコイルユニットは複数のコイルを接続して形成されるが、搭載されるシムコイルの数が増えると配線作業がより煩雑になる。そのため、傾斜磁場コイルへの搭載作業の簡略化も課題であった。 In addition, a single saddle-type shim coil unit is usually formed by connecting a plurality of coils, but the wiring work becomes more complicated as the number of mounted shim coils increases. Therefore, simplification of the mounting work to the gradient magnetic field coil has been a problem.
特許文献2に記述された内容は、傾斜コイルに関して絶縁性シートの両面に導体シートを配置するものであるが、本発明で対象にするシムコイルとは異なる上、コイルの周回パターン間を接続する所謂、段落し部の位置が裏表で異なるため、誤差磁場が大きくなる構造となっている。 The content described in Patent Document 2 is that a conductor sheet is arranged on both sides of an insulating sheet with respect to a gradient coil, which is different from the shim coil which is the subject of the present invention, and is so-called connecting between the coil winding patterns. Since the position of the paragraph is different between the front and back sides, the error magnetic field is increased.
そこで、本発明の目的は、必要な磁場強度を確保しつつ薄型で、シムコイルを簡便に位置精度の高く傾斜磁場発生装置へ積層することが可能で、段落し部での誤差磁場を低減できるシムコイルを提供することである。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a shim coil that is thin while ensuring the required magnetic field strength, and can easily stack a shim coil on a gradient magnetic field generator with high positional accuracy, and can reduce an error magnetic field at a section. Is to provide.
上記課題を解決するために、本発明による磁気共鳴イメージング装置の主なものは、以下のように構成される。すなわち、静磁場発生源と傾斜磁場印加部とから発生する磁場空間に被検体を配置し、照射パルスが印加された該被検体から放出されるMRI信号に基づいて、該被検体の対象部位の画像を生成する磁気共鳴イメージング装置において、傾斜磁場印加部は、静磁場発生源から発生する静磁場および傾斜磁場印加部から発生する傾斜磁場のうちの少なくとも一方の磁場を補正する磁場補正手段を備え、磁場補正手段は、基板の一主面に配置され電流を流して磁場を発生させる第1導体部と、該基板を介して対向する他主面に配置され電流を流して磁場を発生させる第2導体部とを有し、第1および第2導体部の一部に第1導体部から発生する磁場の向きと第2導体部から発生する磁場の向きとが逆方向である領域を含むことを特徴とする。 In order to solve the above-described problems, the main components of the magnetic resonance imaging apparatus according to the present invention are configured as follows. That is, a subject is placed in a magnetic field generated from a static magnetic field generation source and a gradient magnetic field application unit, and based on an MRI signal emitted from the subject to which an irradiation pulse is applied, the target region of the subject is In the magnetic resonance imaging apparatus for generating an image, the gradient magnetic field application unit includes a magnetic field correction unit that corrects at least one of a static magnetic field generated from the static magnetic field generation source and a gradient magnetic field generated from the gradient magnetic field application unit. The magnetic field correcting means is disposed on one main surface of the substrate and causes a current to flow to generate a magnetic field, and a magnetic field correction unit is disposed on the other main surface facing through the substrate to generate a magnetic field by flowing current. The first and second conductor portions include a region in which the direction of the magnetic field generated from the first conductor portion and the direction of the magnetic field generated from the second conductor portion are opposite to each other. It is characterized by.
また、本発明による磁場補正用コイルの製造方法の主なものは、以下のように構成される。すなわち、磁気共鳴イメージング装置における静磁場発生源および傾斜磁場印加部から発生する磁場のうちの少なくとも一方を補正する磁場補正用コイルの製造方法であって、基板を準備する工程と、基板の両主面に導体シートを貼り付ける工程と、両主面に貼り付けられた導体シートのそれぞれの表面に感光性有機物質を塗布し定着させる工程と、磁場補正用コイルの形状を有するマスクを両主面上の感光性有機物質の表面に貼り付ける工程と、マスク上から光を照射して感光性有機物質を感光し現像する工程と、現像された形状を有する感光性有機物質をエッチング用マスクとして用いて、導体シートをエッチングし形状を有する磁場補正用コイルを基板の両面上に形成する工程とを有し、該磁場補正用コイルが形成された後に、基板の所定の位置に貫通孔を設け、両面上のそれぞれの磁場補正用コイルを電気的に接続する接続部を設けることを特徴とする。 The main method of manufacturing the magnetic field correction coil according to the present invention is configured as follows. That is, a method of manufacturing a magnetic field correction coil for correcting at least one of a magnetic field generated from a static magnetic field generation source and a gradient magnetic field application unit in a magnetic resonance imaging apparatus, comprising: a step of preparing a substrate; A process of affixing a conductor sheet on the surface, a process of applying and fixing a photosensitive organic material on each surface of the conductor sheet affixed to both main surfaces, and a mask having the shape of a magnetic field correction coil on both main surfaces A process of affixing to the surface of the photosensitive organic material above, a step of exposing and developing the photosensitive organic material by irradiating light from above the mask, and using the photosensitive organic material having the developed shape as an etching mask And forming a magnetic field correction coil having a shape on both sides of the substrate by etching the conductor sheet, and after forming the magnetic field correction coil, A through hole in a fixed position, characterized in that each of the magnetic field correction coils on both sides provided with a connecting portion for electrically connecting.
即ち、本発明は、磁場補正手段、例えば、鞍型シムコイルにおいて、単一のシート上に複数のコイルパターンとそれらを接続する配線が形成されたことを特徴とする。 That is, the present invention is characterized in that in a magnetic field correction means, for example, a saddle type shim coil, a plurality of coil patterns and wirings connecting them are formed on a single sheet.
以上、本発明のシムコイルは樹脂基材の両面に導体パターンを形成することにより、必要な磁場強度を確保しつつ薄型にすることが可能である。そのため、従来と同等な性能を維持しつつ傾斜磁場発生装置の開口部を、従来より大きくすること、または従来と同じ大きさの開口部を維持しつつ、より多数のシムコイルユニットを搭載することが可能になる。 As described above, the shim coil of the present invention can be thinned while ensuring the necessary magnetic field strength by forming conductor patterns on both surfaces of the resin base material. Therefore, the opening of the gradient magnetic field generator can be made larger than before while maintaining the same performance as before, or more shim coil units can be mounted while maintaining the same size opening as before. It becomes possible.
本発明のシムコイルはシート状に形成されるため、従来の線材を固定する方法に比べて位置精度の高いシムコイルを簡便に傾斜磁場発生装置へ積層することが可能になる。 Since the shim coil of the present invention is formed in a sheet shape, it is possible to easily stack a shim coil with high positional accuracy on the gradient magnetic field generator as compared with a conventional method of fixing a wire.
以下、本発明について、発明の実施の形態(実施例)とともに図面を参照して詳細に説明する。なお、発明の実施の形態を説明するための全図において、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings together with embodiments (examples) of the invention. Note that components having the same function are denoted by the same reference symbols throughout the drawings for describing the embodiment of the invention, and the repetitive description thereof is omitted.
図1に、磁気共鳴イメージング装置(以下、MRI装置と称する)の側方から見た断面図を示す。MRI装置の構成部品として、静磁場コイル1と、傾斜磁場コイル2と、高周波磁場コイル3、ベッド4がある。静磁場コイル1は、均一磁場領域5を形成する。図示せぬ被検者は、均一磁場領域5に配置され、ベッド4上に横たわっている。傾斜磁場コイル2は、静磁場コイル1と均一磁場領域5との間に固定される。高周波磁場コイル3は、均一磁場領域5と傾斜磁場コイル2の間に固定される。
FIG. 1 shows a cross-sectional view seen from the side of a magnetic resonance imaging apparatus (hereinafter referred to as an MRI apparatus). As components of the MRI apparatus, there are a static
本発明で対象とする鞍型シムコイルは通常、傾斜磁場コイル2内に搭載され、傾斜磁場および静磁場を補正する磁場のうちの少なくとも一方を発生する。 The saddle type shim coil that is the subject of the present invention is usually mounted in the gradient magnetic field coil 2 and generates at least one of a magnetic field that corrects the gradient magnetic field and the static magnetic field.
図2に、傾斜磁場コイル2内に搭載されたシムコイルを含む各種のコイル構成の一例を示す。本図は、図1の視線方向(矢印)10で示す方向から傾斜磁場コイル2を見た場合のコイル構成を示している。すなわち、傾斜磁場を発生するメインコイル22の外径方向に絶縁層(1)23を介してシムコイル21が積層され、さらにシムコイル21の外径方向には絶縁層(2)24を介して漏れ磁場を低減するために設けられたシールドコイル20が積層された構成となっている。
FIG. 2 shows an example of various coil configurations including a shim coil mounted in the gradient magnetic field coil 2. This figure has shown the coil structure at the time of seeing the gradient magnetic field coil 2 from the direction shown by the gaze direction (arrow) 10 of FIG. That is, the
また、メインコイル22およびシールドコイル20は、それぞれ直交する3軸に対応する傾斜磁場を発生させるコイルを含んでいる。
なお、上記の各種コイル構成は、一例であって、必ずしもこの構成である必要はない。
The
The various coil configurations described above are examples, and are not necessarily required.
傾斜磁場コイル2は、3軸方向に直交する傾斜磁場を発生させるコイルや発熱を抑える冷却管などの構造物を樹脂でモールドして得られる。静磁場が水平方向のMRI装置において傾斜磁場コイルは円筒または楕円筒型の形状をもち、静磁場を発生させる磁石(通常筒型の超伝導コイル)の内側に搭載される。 The gradient coil 2 is obtained by molding a structure such as a coil that generates a gradient magnetic field orthogonal to three axial directions and a cooling pipe that suppresses heat generation with a resin. In an MRI apparatus in which the static magnetic field is horizontal, the gradient magnetic field coil has a cylindrical or elliptical cylindrical shape and is mounted inside a magnet (usually a cylindrical superconducting coil) that generates a static magnetic field.
シムコイルは通常抵抗性のコイルであり、コイルに流す電流を制御することで装置、被検体ごとに静磁場の補正が可能である。 Shim coils are usually resistive coils, and the static magnetic field can be corrected for each apparatus and subject by controlling the current flowing through the coils.
通常シムコイルはルジャンドル多項式または球面調和関数成分に対応する空間分布を有する磁場を生成し静磁場を補正する。MRI装置には補正が必要な成分の数だけシムコイルユニットが搭載される。MRIの高機能化に伴い、より高次の成分の磁場補正が必要になればより多くのシムコイルが必要となる。 Usually, a shim coil corrects a static magnetic field by generating a magnetic field having a spatial distribution corresponding to a Legendre polynomial or a spherical harmonic component. As many shim coil units as the number of components that need correction are mounted on the MRI apparatus. As the functionality of MRI increases, more shim coils are required if higher-order component magnetic field correction is required.
シムコイルの形状は、その磁場の成分によって図3Aのような渦巻状のコイルを傾斜磁場コイルの円筒面31に沿って積層する鞍型シムコイル30と図3Bのような円筒面31に螺旋状に巻層する螺旋状シムコイル32の大きく2種類に分けられる。本発明では図3Aに示す鞍型シムコイルを主な対象とする。
The shape of the shim coil is a
鞍型シムコイルのコイルパターンを薄く、正確に作製するには樹脂基材の両面に銅シートが貼られた構造を持つ所謂、銅張積層板をエッチングしてパターンを形成するのが好ましい。 In order to make the coil pattern of the saddle-type shim coil thin and accurate, it is preferable to form a pattern by etching a so-called copper clad laminate having a structure in which a copper sheet is stuck on both surfaces of a resin base material.
<コイルパターンの形成例>
以下に、本発明になる鞍型シムコイルのコイルパターンの作成手順を示す。
<Example of coil pattern formation>
The procedure for creating the coil pattern of the saddle type shim coil according to the present invention will be described below.
図4Aに、エッチングによるコイルパターン作成工程の例としてフォトリソグラフィ工程(4a〜4f)を示す。まず、工程4aで樹脂製シート基材43の両面に導体シート42が貼付けされた素材の表面および裏面に対し、感光性有機物質(レジスト)41を塗布し定着させる。
次に、工程4bでコイルパターンの形状を描いたマスク44をレジスト41の上から貼り付ける。なお、マスク44は、導体シート42の両面上に定着されている感光性有機物質41のそれぞれの表面に、マスクに描かれたコイルパターンが互いに対向する位置に精度良くアライメントされる。
次に、工程4cでマスク44の上から光45を照射しレジスト44を反応させる。
ここで、本実施例では、光が照射された領域が現像液により溶解するタイプ、即ち、ポジ型レジストを例に述べるが、ネガ型タイプのレジストを用いることも当然に可能である。
なお、その際に、マスクに形成されるパターンは、本実施例で用いるものと、光の透過部、非透過部(所謂、白黒領域)が逆のパターンとなる。
次に、工程4dでマスク44を外し、感光したレジスト46を溶解する溶剤に浸し、コイルパターンとなる部分にレジストを残す。
次に、工程4eで導体シート42を溶解する液に浸し、レジスト除去された部分の導体シート42を除去する。
最後に、工程4fでレジスト41を剥離し、パターニングされた導体シート42を得る。
FIG. 4A shows a photolithography process (4a to 4f) as an example of a coil pattern creation process by etching. First, in step 4a, a photosensitive organic material (resist) 41 is applied and fixed to the front and back surfaces of the material having the
Next, a
Next, in
Here, in this embodiment, a type in which a region irradiated with light is dissolved by a developer, that is, a positive type resist is described as an example. However, a negative type resist can naturally be used.
At that time, the pattern formed on the mask is the reverse of the pattern used in the present embodiment and the light transmission part and the non-transmission part (so-called black and white area).
Next, in
Next, in step 4e, the
Finally, in step 4f, the resist 41 is peeled off to obtain a patterned conductor sheet.
フォトリソグラフィ工程(4a〜4f)の後は、図4Bで示す二次加工工程へ進む。 After the photolithography process (4a to 4f), the process proceeds to the secondary processing process shown in FIG. 4B.
図4Bの二次工程に関して、以下に説明する。 The secondary process in FIG. 4B will be described below.
図4Aで形成されたコイルパターン42を有するシート基材43の所定の位置に貫通孔47を開け、シート基材43の裏および表に形成されたコイルパターン42を電気的に接続する裏表接続導体48を設ける。次に、コイルパターン42を覆うようにシート基材43の裏全体および表全体に絶縁シート49を貼付ける。
4A. A back-and-front connecting conductor that opens a through
二次加工工程が完了すると、シート状に形成されたコイルは傾斜磁場コイルのスペーサなどを介して構造物の間の適切な位置に巻きつけて形成される。 When the secondary processing step is completed, the coil formed in a sheet shape is formed by winding it at an appropriate position between the structures via spacers of gradient magnetic field coils.
シート基材43上に形成されるコイルパターンは、図5のようにシート基材43上を周回し、磁場発生の役割を担うコイルパターン周回部51とそれをつなぐコイルパターン段落し部52とで構成される。
The coil pattern formed on the
なお、シート基材が複数あって、それらを順次積層する際には、図5で示すように、各層を積層する際に使用する位置調整用の目印となるアライメントマーク53を用いる。このアライメントマーク53は、コイルパターンと同じ導体でエッチングパターンとして形成することで積層作業を簡便にすることが可能である。
When there are a plurality of sheet base materials and they are sequentially laminated, as shown in FIG. 5, an
図6に、図5で示すコイルパターン段落し部が隣接する領域500を拡大した図を示す。コイルパターン段落し部52は、不必要な誤差磁場の発生を抑えるため、裏表のパターンが重なり、さらに電流経路60が逆向きになるように配置されている。すなわち、(a)に示すように、表側から見た場合に、表パターン(実線で表示)を電流60が図の右方からコイルパターン周回部51aを流れて、コイルパターン段落し部52aを上方へ流れる。また、表パターンを電流60が図の下方からコイルパターン段落し部52bを流れて、コイルパターン周回部51bを左方へ流れる。
FIG. 6 shows an enlarged view of the region 500 where the coil pattern section shown in FIG. 5 is adjacent. In order to suppress generation of an unnecessary error magnetic field, the coil pattern marking part 52 is arranged such that the patterns on the front and back are overlapped and the
一方、(b)に示すように、表側から透過して裏パターン(点線で表示)を見た場合には、表パターンを電流60が図の右方からコイルパターン周回部51cを流れて、コイルパターン段落し部52cを下方へ流れる。
また、表パターンを電流60が上方からコイルパターン段落し部52dを流れて、コイルパターン周回部51dを左方へ流れる。
On the other hand, as shown in FIG. 6B, when the back pattern (displayed with a dotted line) is seen through from the front side, the current 60 flows through the coil pattern rotating portion 51c from the right side of the figure and the coil Flows downward through the
In addition, the current 60 is stepped through the coil pattern from above and flows through the portion 52d, and flows through the coil
ここで、電流の流れる向きを考察すると、コイルパターン周回部51aとコイルパターン周回部51c、あるいは、コイルパターン周回部51bとコイルパターン周回部51dに流れる電流の向きは、同方向である。
一方、コイルパターン段落し部52aとコイルパターン段落し部52d、あるいは、コイルパターン段落し部52bとコイルパターン段落し部52cに流れる電流の向きは、逆方向である。
Here, considering the direction of current flow, the direction of the current flowing through the coil pattern surrounding portion 51a and the coil pattern surrounding portion 51c, or between the coil
On the other hand, the direction of the current flowing through the
電流に誘起されて発生する磁場は、電流の向きが同じの場合は、重畳されて倍化するが、電流の向きが逆の場合には、磁場は相殺される。したがって、コイルパターン周回部において、磁場はほぼ倍化し、一方、コイルパターン段落し部においては、磁場は相殺される方向となる。 The magnetic field generated by the current is superimposed and doubled when the current direction is the same, but the magnetic field is canceled when the current direction is reversed. Therefore, the magnetic field is almost doubled in the coil pattern circulating portion, while the magnetic field is canceled in the coil pattern section.
図7に、単一の渦巻きコイルにおける両面パターンの電流経路模式図を示す。該パターンでは周回する磁場発生用パターンの最内周で絶縁シート43に貫通孔を開けて裏表接続導体で裏面のパターン71へ接続される(図4の工程4gに対応)。裏パターンでは表パターンと同じ向きに周回しながら外周へ向かう。このような構造により、片面のみにコイルを形成する場合の倍の磁場が得られる。
FIG. 7 shows a current path schematic diagram of a double-sided pattern in a single spiral coil. In this pattern, a through-hole is formed in the insulating
次に、複数のコイルを繋いだ場合のコイル間を接続する接続線に流れる電流について以下に説明する。 Next, the current flowing through the connection line connecting the coils when a plurality of coils are connected will be described below.
鞍型シムコイルは通常ひとつの磁場補正成分につき複数のコイルが接続されたユニットで構成される。図8、図9にひとつのシムコイルユニットに8つの渦巻状コイルが必要な場合の電流経路の展開図を例示する。 A saddle type shim coil is usually composed of a unit in which a plurality of coils are connected to one magnetic field correction component. FIG. 8 and FIG. 9 illustrate development views of current paths when eight spiral coils are necessary for one shim coil unit.
図8は表側から見た表パターン(実線で表示)であり、図9は表側から見た裏パターン(点線で表示)である。図中のアルファベット(b、b’やc、c’など)で示された点はすべて表裏のパターンが電気的に接続される箇所であり、図8と図9を重ねるとb点とb’点は同じ位置に、c点とc’点は同じ位置になる。同様に、各アルファベットは同じ位置で対応する。 FIG. 8 is a table pattern (displayed by a solid line) viewed from the front side, and FIG. 9 is a back pattern (displayed by a dotted line) viewed from the front side. All the points indicated by alphabets (b, b ′, c, c ′, etc.) in the figure are places where the front and back patterns are electrically connected. When FIG. 8 and FIG. 9 are overlapped, b point and b ′ The points are in the same position, and the points c and c ′ are in the same position. Similarly, each alphabet corresponds in the same position.
図8に示す表パターンにおいて、上段に複数回の周回がなされた渦巻き状のコイルパターンが順に並置され、同様に下段に複数回の周回がなされた渦巻き状のコイルパターンが順に並置されている。それぞれのコイルパターンは、コイルパターン周回部70と、コイルパターン段落とし部90とで構成され、コイルパターン段落とし部90は、一周(一巻き)した一つのコイルパターン周回部70と、次段で一周(一巻き)したコイルパターン周回部70とを電気的に接続する接続部である。
In the table pattern shown in FIG. 8, spiral coil patterns having a plurality of turns are arranged in order in the upper stage, and similarly, spiral coil patterns having a plurality of turns in the lower stage are arranged in order. Each coil pattern is composed of a coil
まず、図中の上段において、入口側の初段のコイルパターンは、外側から順に内側に周回し、図中のb点で、後述する図9で示すコイルパターンのb’点と電気的に接続される。次に、入口側の次段のコイルパターンは、図9で示すc’点と図中のc点で電気的に接続され、c点(内側)から順に外側に周回し、最外周のコイル配線に至る。さらに、入口側の第3段目のコイルパターンは、初段に示すコイルパターンと同様に、外側から順に内側に周回し、図中のd点で、図9で示すコイルパターンのd’点と電気的に接続される。 First, in the upper stage in the figure, the coil pattern of the first stage on the entrance side circulates inward in order from the outside, and is electrically connected to point b ′ of the coil pattern shown in FIG. The Next, the coil pattern of the next stage on the entrance side is electrically connected at the point c ′ shown in FIG. 9 and the point c in the figure, and circulates outward from the point c (inner side) in order, and the outermost coil wiring. To. Further, the third-stage coil pattern on the entrance side, like the coil pattern shown in the first stage, circulates inward from the outside in order, and at the point d in the figure, the point d ′ of the coil pattern shown in FIG. Connected.
なお、次段を周回して最外周のコイル配線は、第3段目のコイルパターンの最外周のコイル配線にコイル間接続線80によって接続されている。
Note that the outermost coil wiring around the next stage is connected to the outermost coil wiring of the third stage coil pattern by an
入口側の第4段目は、次段と同様なコイルパターン形状を有し、最外周のコイル配線は、f点とf’点と電気的に接続され、図9に示す裏パターンに接続される。 The fourth stage on the entrance side has the same coil pattern shape as the next stage, and the outermost coil wiring is electrically connected to the points f and f 'and connected to the back pattern shown in FIG. The
次に、図9の裏パターンについて説明する。 Next, the back pattern of FIG. 9 will be described.
裏パターンも表パターンと同様に、外側から内側へ掛けて周回するコイルパターンと、内側から外側へ掛けて周回するコイルパターンが交互に組み合わせれている。例えば、表パターンのf点で接続された図9の下段で出口側から第4番目のコイルパターンは、コイルパターン周回部71とコイルパターン段落とし部91を有し、外側から内側へ掛けて周回し、g’点で表パターンのg点に接続される。コイルパターン間の接続は、図8の表パターンと同様にコイル接続線81にて接続される。
Similarly to the front pattern, the back pattern is formed by alternately combining a coil pattern that wraps around from the outside to the inside and a coil pattern that wraps around from the inside to the outside. For example, the fourth coil pattern from the outlet side in the lower part of FIG. 9 connected at the point f of the front pattern has a coil
電流は、入口からb→b’→c’→c→d→d’→e’→e→f→f’→g’→g→h→h’→i’→i→j→j’の順で流れ出口に達する。 The current is b → b ′ → c ′ → c → d → d ′ → e ′ → e → f → f ′ → g ′ → g → h → h ′ → i ′ → i → j → j ′ from the entrance. Reach the flow outlet in order.
本発明になるシムコイルユニットは、図8に示す表パターンと図9に示す裏パターンとを図示するままの向きで重ね合わせて形成される。即ち、表パターンの初段のコイルパターンと裏パターンにおける出口側の初段パターンは、基板を介して同じ位置に重畳される。 The shim coil unit according to the present invention is formed by superimposing the front pattern shown in FIG. 8 and the back pattern shown in FIG. 9 in the direction as shown. That is, the first-stage coil pattern of the front pattern and the first-stage pattern on the outlet side of the back pattern are superimposed at the same position via the substrate.
この時、図中の矢印で示すように、表パターンと裏パターンにおいて対向するコイルパターン同士のコイルパターン周回部70における電流の向きは、表パターンと裏パターンとで同じである。従って、電流により誘起される磁場は重畳されて倍化する効果がある。
At this time, as indicated by the arrows in the figure, the direction of the current in the coil
一方、図8および図9に示すコイルパターン段落とし部(接続部)90、91において、コイルパターン段落とし部(接続部)90、91では、上記のコイルパターン周回部と異なり、表パターンと裏パターンにおいて対向するコイルパターン同士のコイルパターン段落とし部(接続部)90、91における電流の向きは、互いに逆方向となるように配置されている。従って、電流により誘起される磁場は相殺される効果がある。 On the other hand, in the coil pattern paragraphs (connection parts) 90 and 91 shown in FIG. 8 and FIG. 9, the coil pattern paragraphs (connection parts) 90 and 91 are different from the coil pattern circulation part in the front and back patterns. The direction of the current in the portions (connection portions) 90 and 91 of the coil pattern paragraphs between the opposing coil patterns in the pattern is arranged to be opposite to each other. Therefore, the magnetic field induced by the current has the effect of canceling out.
なお、表パターンと裏パターンのコイルパターン段落とし部(接続部)90、91は、互いに平行になるように配置されている。 The front and back pattern coil pattern paragraphs (connection portions) 90 and 91 are arranged in parallel to each other.
図8および図9に示すコイルパターンの形成方法に関しては、それぞれのコイル間を繋ぐ配線も裏表同時にエッチングで形成することができるため、ひとつのシムコイルユニットを単一のシート上へ形成することが可能である。 With regard to the coil pattern forming method shown in FIGS. 8 and 9, since the wiring connecting the respective coils can be formed by etching simultaneously on the back and front, one shim coil unit can be formed on a single sheet. It is.
図6では、パターン段落し部における、電流の向きが逆になるようにパターンが配置されていることを述べたが、図8、図9でも磁場補正に寄与しないコイル間を接続するコイル間接続線80、81を流れる電流経路は表裏で逆向きの電流が流れるよう配置され誤差磁場を抑える構造としている。
In FIG. 6, it is described that the pattern is arranged so that the direction of the current is reversed in the pattern section. However, in FIG. 8 and FIG. 9, the inter-coil connection that connects the coils that do not contribute to the magnetic field correction. The current paths that flow through the
次に、シムコイルを搭載する基板に関して説明する。 Next, a substrate on which shim coils are mounted will be described.
本発明のシムコイルは、筒型の傾斜磁場コイルへ巻層するため、十分な屈曲性が必要で、例えば、基材の絶縁シートにガラスエポキシ積層板を用いた場合、厚さが0.3mm以下であることが好ましい。また、エッチングされる銅は厚すぎるとシート面方向にもエッチングされパターン形状の正確性が損なわれる恐れがあるため、銅の厚さは0.2mm以下であることが好ましい。 Since the shim coil of the present invention is wound on a cylindrical gradient magnetic field coil, sufficient flexibility is required. For example, when a glass epoxy laminate is used as an insulating sheet of a base material, the thickness is 0.3 mm or less. It is preferable that Further, if the copper to be etched is too thick, it may be etched in the sheet surface direction and the accuracy of the pattern shape may be impaired. Therefore, the copper thickness is preferably 0.2 mm or less.
異なる磁場成分をもつ複数のシムコイルユニットが積層される際、互いの導体が接触しないよう、ユニット間を絶縁する。そのため、図4の工程4hのように絶縁層の形成方法のひとつとしてPET(ポリエチレンテレフタレート)のようなフィルムを基材とした粘着シートをコイルパターン形成後に貼り付けるという手法がある。
When a plurality of shim coil units having different magnetic field components are stacked, the units are insulated so that the conductors do not contact each other. Therefore, as shown in
シムコイルは傾斜磁場コイル内に搭載されその他の構造物と同じく樹脂でモールドされるため、樹脂の流路となる貫通孔をコイルパターンの形成されていない絶縁シートに多数設ける。 Since the shim coil is mounted in the gradient magnetic field coil and molded with resin in the same manner as other structures, a large number of through holes serving as resin flow paths are provided in an insulating sheet on which no coil pattern is formed.
モールド樹脂の流路を確保する貫通孔は絶縁層にも設ける。前述のように絶縁層としてコイルに粘着シートを貼り付けた場合は貼付け後にコイルの基材である絶縁シートごと穴加工を施す。 A through hole for securing the flow path of the mold resin is also provided in the insulating layer. As described above, when an adhesive sheet is attached to the coil as the insulating layer, the hole is processed together with the insulating sheet that is the base material of the coil after application.
以上の構成にすることにより薄型でかつ、傾斜磁場コイルへの積層作業性の良いシムコイルを得ることができる。 With the above configuration, it is possible to obtain a shim coil that is thin and has good workability for stacking on a gradient magnetic field coil.
第2の実施例では、図8で示した表パターンを実施例1と同様に用いるが、裏パターンは図8の場合と異なるパターンを用いる。すなわち、図10に示すような片面(裏面)に設けられたコイルパターンを用いる。図10の裏パターンにはコイルパターン周回部がなく、各貫通穴の接続線100のみのパターンがシート基材43上に形成されている。
In the second embodiment, the front pattern shown in FIG. 8 is used in the same manner as in the first embodiment, but the back pattern is different from that in FIG. That is, a coil pattern provided on one side (back side) as shown in FIG. 10 is used. The back pattern of FIG. 10 does not have a coil pattern surrounding portion, and a pattern of only the
実施例1で述べたような、表パターンのコイルパターン周回部と裏パターンのコイルパターン周回部に流れる電流がなく、表パターンにのみコイルパターン周回部があるので、電流に誘起されて発生する磁場が、重畳されて倍化することはない。従って、表パターンに流れる電流のみで磁場が確保できる場合に適用する実施例である。 As described in the first embodiment, there is no current flowing in the coil pattern surrounding portion of the front pattern and the coil pattern surrounding portion of the back pattern, and there is a coil pattern surrounding portion only in the front pattern. However, they are not superimposed and doubled. Therefore, this is an embodiment applied when the magnetic field can be secured only by the current flowing in the front pattern.
なお、前記接続線100は実施例1と同様に、渦巻状パターンの段落し部およびコイル間接続線と電流が逆向きになるよう配置される。このような配置により、誤差磁場を抑える構造としている。
As in the first embodiment, the connecting
1…静磁場発生装置、
2…傾斜磁場コイル、
3…高周波磁場コイル、
4…ベッド、
5…均一磁場領域、
10…視線方向、
20…シールドコイル(直交する3軸に対応する傾斜磁場を発生させるコイルを含む)、
21…シムコイル、
22…傾斜磁場コイル(直交する3軸に対応する傾斜磁場を発生させるコイルを含む)、
23…絶縁層(1)、
24…絶縁層(2)、
30…鞍型シムコイル、
31…傾斜磁場コイルの中のシムコイルが積層される表面、
32…螺旋状シムコイル、
41…レジスト、
42…導体シート、
43…樹脂製シート基材、
44…マスク、
45…光、
46…感光したレジスト、
47…貫通穴、
48…裏表接続導体、
49…絶縁シート、
51…コイルパターン周回部、
52…コイルパターン段落し部、
53…アライメントメーク、
60…電流経路、
70…表面パターンの周回部、
71…裏面パターンの周回部、
80…表面パターンのコイル間接続線、
81…裏面パターンのコイル間接続線、
90…表面パターンのコイルパターン段落し部、
91…裏面パターンのコイルパターン段落し部、
100…貫通穴接続線パターン、
500…隣接するコイルパターン段落し部の近傍領域、
b〜f,b’〜f’…貫通穴。
1 ... Static magnetic field generator,
2. Gradient magnetic field coil,
3. High frequency magnetic field coil,
4 ... Bed,
5 ... Uniform magnetic field region,
10 ... Gaze direction,
20 Shield coil (including a coil that generates a gradient magnetic field corresponding to three orthogonal axes),
21 ... shim coil,
22: Gradient magnetic field coils (including coils that generate gradient magnetic fields corresponding to three orthogonal axes),
23 ... Insulating layer (1),
24. Insulating layer (2),
30 ... saddle type shim coil,
31 ... the surface on which the shim coils in the gradient magnetic field coil are laminated,
32 ... spiral shim coil,
41 ... resist,
42 ... conductor sheet,
43 ... Resin sheet base material,
44 ... mask,
45 ... light,
46 ... Photosensitized resist,
47 ... through hole,
48 ... back and front connecting conductors,
49. Insulating sheet,
51 ... Coil pattern loop part,
52 ... Paragraph section of coil pattern,
53 ... Alignment make-up,
60 ... current path,
70: Circumferential portion of the surface pattern,
71 ... Circumference part of the back surface pattern,
80 ... Connection pattern between coils of surface pattern,
81 ... connecting wire between coils on the back surface pattern,
90 ... Coil pattern section of surface pattern,
91 ... the coil pattern section of the back pattern,
100: Through hole connection line pattern,
500 ... Adjacent area of adjacent coil pattern section,
b to f, b ′ to f ′, through holes.
Claims (12)
前記傾斜磁場印加部は、前記静磁場発生源から発生する静磁場および前記傾斜磁場印加部から発生する傾斜磁場のうちの少なくとも一方の磁場を補正する磁場補正手段を備え、
前記磁場補正手段は、基板の一主面に配置され電流を流して磁場を発生させる第1導体部と、該基板を介して対向する他主面に配置され電流を流して磁場を発生させる第2導体部とを有し、
前記第1および第2導体部の一部に前記第1導体部から発生する磁場の向きと前記第2導体部から発生する磁場の向きとが逆方向である領域を含むことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 An object is placed in a magnetic field generated from a static magnetic field generation source and a gradient magnetic field application unit, and an image of a target region of the object is obtained based on an MRI signal emitted from the object to which an irradiation pulse is applied. In the generated magnetic resonance imaging apparatus,
The gradient magnetic field application unit includes magnetic field correction means for correcting at least one of a static magnetic field generated from the static magnetic field generation source and a gradient magnetic field generated from the gradient magnetic field application unit,
The magnetic field correction means is disposed on one main surface of the substrate and generates a magnetic field by flowing a current through a first conductor portion that is disposed on the other main surface facing the substrate. Two conductor parts,
A part of the first and second conductor portions includes a region in which the direction of the magnetic field generated from the first conductor portion and the direction of the magnetic field generated from the second conductor portion are opposite to each other. Resonance imaging device.
前記第1及び第2導体部のそれぞれは、前記基板上を渦巻き状に周回する複数の周回部と、前記周回部の一つと該一つの周回部に隣接する周回部との間を接続する接続部とを有し、
前記接続部は、前記基板を介して対向するように前記基板の両主面に配置され、両主面の前記接続部を流れる電流が互いに逆方向に流れるように配置されることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 The magnetic resonance imaging apparatus according to claim 1.
Each of the first and second conductor portions is a connection that connects a plurality of circular portions that spirally circulate on the substrate, and one of the circular portions and a circular portion adjacent to the single circular portion. And
The connecting portions are disposed on both main surfaces of the substrate so as to face each other with the substrate interposed therebetween, and currents flowing through the connecting portions on both main surfaces flow in opposite directions. Magnetic resonance imaging device.
前記基板の一主面に設けられた接続部と、該基板を介して対向する他主面に設けられた接続部とが、互いに平行をなすように配置されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 The magnetic resonance imaging apparatus according to claim 2.
A magnetic resonance characterized in that a connecting portion provided on one main surface of the substrate and a connecting portion provided on another main surface facing each other through the substrate are arranged in parallel to each other Imaging device.
前記基板の一主面上に敷設された複数の第1導体部と、該一主面に該基板を介して対向する他主面に敷設された第2導体部と有し、
前記複数の第1導体部の一つを構成する第1周回部が、外側から順々に内側に周回する第1の配線パターンを有し、前記複数の第1導体部の他の一つを構成する第2周回部が、内側から順々に外側に周回する第2の配線パターンを有する場合に、
前記第1周回部と対向する位置に配置され前記第2導体部の一つを構成する第3周回部は、前記第2の配線パターンを有し、
前記第2周回部と対向する位置に配置され前記第2導体部の他の一つを構成する第4周回部は、前記第1の配線パターンを有することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 The magnetic resonance imaging apparatus according to claim 2.
A plurality of first conductor portions laid on one main surface of the substrate; and a second conductor portion laid on the other main surface facing the one main surface through the substrate;
The first circuit portion constituting one of the plurality of first conductor portions has a first wiring pattern that circulates inward sequentially from the outside, and the other one of the plurality of first conductor portions is When the second circuit portion to be configured has the second wiring pattern that circulates outward from the inside in order,
A third winding portion disposed at a position facing the first winding portion and constituting one of the second conductor portions has the second wiring pattern;
A magnetic resonance imaging apparatus, wherein a fourth circuit portion, which is disposed at a position facing the second circuit portion and constitutes another one of the second conductor portions, has the first wiring pattern.
前記第1及び第2導体部は、前記基板を貫通して設けられた貫通孔に配置された接続部により電気的に接続されることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 The imaging device according to claim 1.
The magnetic resonance imaging apparatus, wherein the first and second conductor portions are electrically connected by a connection portion disposed in a through hole provided through the substrate.
前記基板は、単一シートで構成され少なくとも一種類の補正磁場を発生させることが可能であることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 The imaging device according to claim 1.
The magnetic resonance imaging apparatus, wherein the substrate is formed of a single sheet and can generate at least one type of correction magnetic field.
前記基板は、屈曲性を有するフレキシブル材料で構成されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 The imaging device according to claim 1.
The magnetic resonance imaging apparatus, wherein the substrate is made of a flexible material having flexibility.
前記磁場補正手段は、その表面に絶縁性シートが貼付けされていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 The imaging device according to claim 1.
The magnetic resonance imaging apparatus, wherein the magnetic field correction means has an insulating sheet attached to the surface thereof.
基板を準備する工程と、
前記基板の両主面に導体シートを貼り付ける工程と、
両主面に貼り付けられた前記導体シートのそれぞれの表面に感光性有機物質を塗布し定着させる工程と、
前記磁場補正用コイルの形状を有するマスクを両主面上の前記感光性有機物質の表面に貼り付ける工程と、
前記マスク上から光を照射して前記感光性有機物質を感光し現像する工程と、
現像された前記形状を有する前記感光性有機物質をエッチング用マスクとして用いて、前記導体シートをエッチングし前記形状を有する磁場補正用コイルを前記基板の両面上に形成する工程とを有し、
該磁場補正用コイルが形成された後に、前記基板の所定の位置に貫通孔を設け、両面上のそれぞれの磁場補正用コイルを電気的に接続する接続部を設けることを特徴とする磁場補正用コイルの製造方法。 A method of manufacturing a magnetic field correction coil for correcting at least one of a magnetic field generated from a static magnetic field generation source and a gradient magnetic field application unit in a magnetic resonance imaging apparatus,
Preparing a substrate;
A step of attaching a conductor sheet to both main surfaces of the substrate;
Applying and fixing a photosensitive organic substance on each surface of the conductor sheet attached to both main surfaces;
Attaching a mask having the shape of the magnetic field correction coil to the surface of the photosensitive organic material on both main surfaces;
Irradiating light on the mask to sensitize and develop the photosensitive organic material;
Using the developed photosensitive organic material having the developed shape as an etching mask, and etching the conductor sheet to form magnetic field correction coils having the shape on both surfaces of the substrate,
After the magnetic field correction coil is formed, a through hole is provided at a predetermined position of the substrate, and a connection part for electrically connecting the magnetic field correction coils on both surfaces is provided. Coil manufacturing method.
前記基板は、屈曲性を有するフレキシブル材料で構成されていることを特徴とする磁場補正用コイルの製造方法。 In the manufacturing method of the magnetic field correction coil according to claim 9,
The method of manufacturing a magnetic field correction coil, wherein the substrate is made of a flexible material having flexibility.
前記接続部を設けた後に、前記磁場補正用コイルを覆うように絶縁性シートを貼付する工程を、さらに有することを特徴とする磁場補正用コイルの製造方法。 In the manufacturing method of the magnetic field correction coil according to claim 9,
A method of manufacturing a magnetic field correction coil, further comprising a step of attaching an insulating sheet so as to cover the magnetic field correction coil after providing the connecting portion.
前記基板の複数を積層する場合に、各基板を積層する際に使用する位置調整用のアライメントマークを前記磁場補正用コイルと同じ導体シートを加工して形成することを特徴とする磁場補正用コイルの製造方法。 In the manufacturing method of the magnetic field correction coil according to claim 9,
A magnetic field correction coil, wherein, when a plurality of the substrates are stacked, an alignment mark for position adjustment used for stacking the substrates is formed by processing the same conductor sheet as the magnetic field correction coil. Manufacturing method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011036916A JP2012170719A (en) | 2011-02-23 | 2011-02-23 | Magnetic resonance imaging apparatus and method for producing magnetic field-correcting coil |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011036916A JP2012170719A (en) | 2011-02-23 | 2011-02-23 | Magnetic resonance imaging apparatus and method for producing magnetic field-correcting coil |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012170719A true JP2012170719A (en) | 2012-09-10 |
Family
ID=46974166
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011036916A Pending JP2012170719A (en) | 2011-02-23 | 2011-02-23 | Magnetic resonance imaging apparatus and method for producing magnetic field-correcting coil |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2012170719A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017131070A1 (en) * | 2016-01-27 | 2017-08-03 | 株式会社日立製作所 | Magnetic field adjustment device and magnetic resonance imaging device |
| CN115047389A (en) * | 2022-05-17 | 2022-09-13 | 武汉联影生命科学仪器有限公司 | Shimming coil detection method and device, storage medium and magnetic resonance imaging system |
| EP4435459A1 (en) * | 2023-03-21 | 2024-09-25 | Bruker France S.A.S. | Shim coils for a compact mri gradient system based on multilayer flexible printed circuit boards and arrangement scheme of conductor layers |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04168386A (en) * | 1990-10-31 | 1992-06-16 | Shimadzu Corp | Shim coil for magnetic field correction and its manufacturing method |
| JPH06349633A (en) * | 1993-04-14 | 1994-12-22 | Jeol Ltd | Z-axis gradient magnetic field coil |
| JPH08196518A (en) * | 1995-01-20 | 1996-08-06 | Toshiba Corp | MRI equipment |
| JPH08317916A (en) * | 1995-05-26 | 1996-12-03 | Jeol Ltd | Gradient magnetic field generator |
| JP2005192825A (en) * | 2004-01-08 | 2005-07-21 | Hitachi Medical Corp | Magnetic resonance imaging apparatus |
| JP2006116305A (en) * | 2004-10-20 | 2006-05-11 | General Electric Co <Ge> | Gradient coil apparatus and method of assembly thereof |
| JP2007229046A (en) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Hitachi Ltd | Magnetic field correction device |
-
2011
- 2011-02-23 JP JP2011036916A patent/JP2012170719A/en active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04168386A (en) * | 1990-10-31 | 1992-06-16 | Shimadzu Corp | Shim coil for magnetic field correction and its manufacturing method |
| JPH06349633A (en) * | 1993-04-14 | 1994-12-22 | Jeol Ltd | Z-axis gradient magnetic field coil |
| JPH08196518A (en) * | 1995-01-20 | 1996-08-06 | Toshiba Corp | MRI equipment |
| JPH08317916A (en) * | 1995-05-26 | 1996-12-03 | Jeol Ltd | Gradient magnetic field generator |
| JP2005192825A (en) * | 2004-01-08 | 2005-07-21 | Hitachi Medical Corp | Magnetic resonance imaging apparatus |
| JP2006116305A (en) * | 2004-10-20 | 2006-05-11 | General Electric Co <Ge> | Gradient coil apparatus and method of assembly thereof |
| JP2007229046A (en) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Hitachi Ltd | Magnetic field correction device |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017131070A1 (en) * | 2016-01-27 | 2017-08-03 | 株式会社日立製作所 | Magnetic field adjustment device and magnetic resonance imaging device |
| JP2017131359A (en) * | 2016-01-27 | 2017-08-03 | 株式会社日立製作所 | Magnetic field adjustment apparatus, magnet device, and magnetic field adjustment method |
| US10512418B2 (en) | 2016-01-27 | 2019-12-24 | Hitachi, Ltd. | Magnetic field adjustment device and magnetic resonance imaging device |
| CN115047389A (en) * | 2022-05-17 | 2022-09-13 | 武汉联影生命科学仪器有限公司 | Shimming coil detection method and device, storage medium and magnetic resonance imaging system |
| EP4435459A1 (en) * | 2023-03-21 | 2024-09-25 | Bruker France S.A.S. | Shim coils for a compact mri gradient system based on multilayer flexible printed circuit boards and arrangement scheme of conductor layers |
| US20240319303A1 (en) * | 2023-03-21 | 2024-09-26 | Bruker France S.A.S. | Shim coils for a compact mri gradient system based on multilayer flexible printed circuit boards and arrangement scheme of conductor layers |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102481116B (en) | Gradient magnetic field coil and magnetic resonance imaging device | |
| JP2004212375A (en) | Sensor for sensing feeble magnetic field, and method for manufacturing the same, using printed circuit board technology | |
| ES2585118T3 (en) | Coil in equivalent series low resistance printed circuit board and high current circulation for power transfer application | |
| US20040027121A1 (en) | Printed circuit board integrated with a two-axis fluxgate sensor and method for manufacturing the same | |
| US8907667B2 (en) | Generator of a homogenous magnetic field | |
| JP6462292B2 (en) | Magnetic resonance imaging system | |
| JPH08196518A (en) | MRI equipment | |
| JP2012170719A (en) | Magnetic resonance imaging apparatus and method for producing magnetic field-correcting coil | |
| WO2014034467A1 (en) | Magnetic resonance imaging device, gradient magnetic field coil unit for magnetic resonance imaging device, and method for producing gradient magnetic field coil unit for magnetic resonance imaging device | |
| JP2015220462A (en) | Magnetic device and manufacturing method using flex circuit | |
| EP3011354A1 (en) | Shim system for a magnetic resonance hybrid scanner | |
| JP6300016B2 (en) | Toroidal coil device and current measuring device using the same | |
| JP2006116305A (en) | Gradient coil apparatus and method of assembly thereof | |
| WO2015136910A1 (en) | Torroidal coil device and current measurement device using same | |
| JP5202491B2 (en) | Magnetic resonance imaging system | |
| JP5204813B2 (en) | Gradient magnetic field coil and magnetic resonance imaging apparatus | |
| WO2010004491A1 (en) | Toroidal coil arrangement | |
| WO2008062599A1 (en) | Electromagnet device and magnetic resonance imaging device | |
| JP5128369B2 (en) | Magnetic resonance imaging system | |
| JPH0576507A (en) | Gradient magnetic field coil and production thereof | |
| JP2011131009A (en) | Magnetic resonance imaging apparatus | |
| JP3377822B2 (en) | Magnetic resonance imaging equipment | |
| JP4630196B2 (en) | Magnetic resonance imaging system | |
| US20260045405A1 (en) | Transformer device | |
| JPH0534651U (en) | Deflection yoke |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140117 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140731 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140902 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141029 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150317 |