JP2012168439A - Electrochromic display device and manufacturing method for the same - Google Patents
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Landscapes
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
Abstract
Description
本発明は、エレクトロクロミック表示デバイスおよびその製造方法に関する。 The present invention relates to an electrochromic display device and a manufacturing method thereof.
電子情報ネットワークの普及に伴い、従来の印刷技術による書籍に代わり、電子書籍の形での出版、すなわち電子出版が盛んに行われるようになってきた。こうしたネットワークで配信される電子情報を表示する装置として、例えば、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）ディスプレイやバックライト型液晶ディスプレイが一般的に用いられている。しかしながら、これらのディスプレイを用いた表示は、紙に印刷した慣用の表示に比べ、読む場所が制限され、取り扱いの面においても重量、大きさ、形状、携帯性の点で劣る。また、これらのディスプレイは消費電力が大きいため、電池による駆動であれば表示時間にも制限が生じてしまう。さらに、これらのディスプレイは、何れも発光型のディスプレイであり、長時間凝視すると高度の疲労を招くことがあるという問題もある。 With the spread of electronic information networks, publishing in the form of electronic books, that is, electronic publishing, has been actively performed in place of books by conventional printing technology. For example, a CRT (Cathode Ray Tube) display or a backlight type liquid crystal display is generally used as a device for displaying electronic information distributed through such a network. However, the display using these displays has a limited reading place and is inferior in terms of handling, weight, size, shape, and portability as compared with a conventional display printed on paper. In addition, since these displays consume a large amount of power, the display time is limited if driven by a battery. Further, these displays are all light-emitting displays, and there is a problem that high-level fatigue may be caused when staring for a long time.
したがって、上記のような問題を解決できる表示デバイス、さらには、書き換え可能な表示デバイスが望まれている。このような表示デバイスとして、ペーパーライクディスプレイ或いは電子ペーパーと称するものが提案されている。具体的には、例えば、反射型液晶方式の表示デバイス、電気泳動方式の表示デバイス、二色性の粒子を電場で回転させる方式の表示デバイス、エレクトロクロミック方式の表示デバイス（例えば、特許文献１参照）等がこれまでに提案されている。 Therefore, a display device that can solve the above-described problems and a rewritable display device are desired. As such a display device, a so-called paper-like display or electronic paper has been proposed. Specifically, for example, a reflective liquid crystal display device, an electrophoretic display device, a display device that rotates dichroic particles with an electric field, an electrochromic display device (see, for example, Patent Document 1) ) Etc. have been proposed so far.
ところで、エレクトロクロミック方式の表示デバイス（エレクトロクロミック表示デバイス）においては、表示材料として、例えば、電極の表面で発色するロイコ染料等の染料前駆体を必須成分とするエレクトロクロミック組成物が用いられている。このエレクトロクロミック組成物は溶液系であるため、画素間の分離不良（画素同士のクロストーク）を抑制するために、画素同士の間に画素間を分離するための隔壁を形成する必要がある。隔壁材料としては、例えば、ガラスや感光性樹脂などを用いることができ、隔壁形成方法としては、例えば、スクリーン印刷法やフォトリソグラフィー法などを用いることができる。そして、隔壁は、画素と同期し、画素を取り囲むように形成される。 By the way, in an electrochromic display device (electrochromic display device), as a display material, for example, an electrochromic composition containing, as an essential component, a dye precursor such as a leuco dye that develops color on the surface of an electrode is used. . Since this electrochromic composition is a solution system, it is necessary to form a partition for separating pixels between pixels in order to suppress poor separation between pixels (crosstalk between pixels). As the partition wall material, for example, glass or a photosensitive resin can be used, and as the partition wall formation method, for example, a screen printing method, a photolithography method, or the like can be used. The partition wall is formed so as to surround the pixel in synchronization with the pixel.
このような隔壁を設けることによって、画素間のクロストークが抑制されるので、画像の滲みを大幅に低減させることができる。しかしながら、エレクトロクロミック表示デバイスを１ミリ秒／ライン以上の高速で駆動すると、画像の滲みを十分に抑制することができず、滲んだ画像が表示されてしまう場合がある。特に、文字パターンの表示ではかなりの滲みが観測され、鮮明な文字パターンを表示することが困難であった。 By providing such a partition wall, crosstalk between pixels is suppressed, so that blurring of an image can be significantly reduced. However, when the electrochromic display device is driven at a high speed of 1 millisecond / line or more, bleeding of the image cannot be sufficiently suppressed, and a blurred image may be displayed. In particular, considerable blurring was observed in the display of the character pattern, and it was difficult to display a clear character pattern.
本発明の目的は、高速で駆動した場合であっても高品質な表示を実現することが可能なエレクトロクロミック表示デバイスおよび当該エレクトロクロミック表示デバイスの製造方法を提供することである。 An object of the present invention is to provide an electrochromic display device capable of realizing high-quality display even when driven at high speed, and a method for manufacturing the electrochromic display device.
以上の課題を解決するため、請求項１に記載の発明は、
第１基板と、前記第１基板の上面に設けられた第１電極と、前記第１基板の上方に当該第１基板に対向して設けられ、透明な材料により形成された第２基板と、前記第２基板の下面に設けられ、少なくとも一部が透明な電極材料により形成された第２電極と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられたエレクトロクロミック組成物層と、を備えるエレクトロクロミック表示デバイスにおいて、
前記エレクトロクロミック組成物層は、ゲル化されたゲル状エレクトロクロミック組成物を備えることを特徴とする。
In order to solve the above problems, the invention described in claim 1
A first substrate; a first electrode provided on an upper surface of the first substrate; a second substrate provided above the first substrate so as to face the first substrate and formed of a transparent material; A second electrode provided on the lower surface of the second substrate, at least part of which is formed of a transparent electrode material, and an electrochromic composition layer provided between the first substrate and the second substrate; In an electrochromic display device comprising:
The electrochromic composition layer includes a gelled gel-like electrochromic composition.
請求項２に記載の発明は、
請求項１に記載のエレクトロクロミック表示デバイスにおいて、
前記エレクトロクロミック組成物層は、前記第１基板と前記第２基板との間の空間を、前記第１基板および前記第２基板に対して略垂直方向に貫通する複数の区画に仕切る隔壁を備え、
前記ゲル状エレクトロクロミック組成物は、前記区画内に導入されていることを特徴とする。
The invention described in claim 2
The electrochromic display device according to claim 1.
The electrochromic composition layer includes a partition that partitions a space between the first substrate and the second substrate into a plurality of partitions penetrating in a substantially vertical direction with respect to the first substrate and the second substrate. ,
The gel-like electrochromic composition is introduced into the compartment.
請求項３に記載の発明は、
請求項２に記載のエレクトロクロミック表示デバイスの製造方法において、
エレクトロクロミック組成物をゲル化して前記ゲル状エレクトロクロミック組成物を生成するゲル化工程と、
前記ゲル状エレクトロクロミック組成物を、所定の塗布具を用いて前記隔壁の前記第１基板側または前記第２基板側の面から前記区画内へと押し込むことにより、当該区画内へと導入する押し込み工程と、
を有することを特徴とする。
The invention according to claim 3
In the manufacturing method of the electrochromic display device according to claim 2,
A gelling step of gelling the electrochromic composition to produce the gelled electrochromic composition;
Pushing the gel-like electrochromic composition into the compartment by pushing it into the compartment from the first substrate side or the second substrate side surface of the partition using a predetermined applicator. Process,
It is characterized by having.
本発明によれば、エレクトロクロミック組成物がゲル化されているので、エレクトロクロミック組成物を構成する構成成分等がエレクトロクロミック組成物層中で沈殿したり、エレクトロクロミック組成物層中に気泡が混入したりすること等を抑制することができ、エレクトロクロミック表示デバイスを高速で駆動した場合であっても、高品質な表示を実現することが可能となる。 According to the present invention, since the electrochromic composition is gelled, the components constituting the electrochromic composition are precipitated in the electrochromic composition layer, or bubbles are mixed in the electrochromic composition layer. And the like, and even when the electrochromic display device is driven at a high speed, a high-quality display can be realized.
以下、図面を参照して、本発明の好適な実施形態について説明する。ただし、本発明を適用可能な実施形態はこれに限定されるものではなく、また、本発明は図示例に限定されるものでもない。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, embodiments to which the present invention is applicable are not limited to this, and the present invention is not limited to the illustrated examples.
〔第１実施形態〕
＜エレクトロクロミック表示デバイスの構成＞
図１は、第１実施形態におけるエレクトロクロミック表示デバイス１００を模式的に示す平面図であり、図２は、図１におけるII−II線に沿う断面図であり、図３は、図１におけるIII−III線に沿う断面図である。
本実施形態におけるエレクトロクロミック表示デバイス１００は、例えば、図１〜図３に示すように、第１基板１０と、第１基板１０の上面に設けられた第１電極２０…と、第１基板１０の上方に第１基板１０に対向して設けられた第２基板３０と、第２基板３０の下面に設けられた第２電極４０…と、第１基板１０と第２基板３０との間に設けられたエレクトロクロミック組成物層５０と、を備えて構成される。
[First Embodiment]
<Configuration of electrochromic display device>
FIG. 1 is a plan view schematically showing an electrochromic display device 100 in the first embodiment, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II in FIG. 1, and FIG. 3 is III in FIG. It is sectional drawing which follows the -III line.
The electrochromic display device 100 according to the present embodiment includes, for example, as shown in FIGS. 1 to 3, a first substrate 10, first electrodes 20 provided on the upper surface of the first substrate 10, and the first substrate 10. Between the first substrate 10 and the second substrate 30, the second substrate 30 provided opposite to the first substrate 10, the second electrodes 40 provided on the lower surface of the second substrate 30, and the second substrate 30. And an electrochromic composition layer 50 provided.
エレクトロクロミック表示デバイス１００は、例えば、第１電極２０…と第２電極４０…との間の通電によって表示を実施するとともに、第１電極２０…と第２電極４０…との間の当該表示のための通電とは逆方向の通電によって、或いは、当該表示のための通電を遮断することによって、当該表示の消去を実施するパッシブマトリクス駆動の表示デバイスである。
第１電極２０…は、互いに並行して延在する複数の電極である。第２電極４０…は、第１電極２０…と直交する方向に互いに並行して延在する複数の透明電極によりなる透明表示電極である。そして、第１電極２０…と第２電極４０…とが立体交差する部分に画素６０…が形成されている。
The electrochromic display device 100, for example, performs display by energization between the first electrodes 20 ... and the second electrodes 40 ... and the display between the first electrodes 20 ... and the second electrodes 40 ... This is a passive matrix drive display device that erases the display by energizing in the direction opposite to that for energization or by interrupting energization for the display.
The first electrodes 20 are a plurality of electrodes extending in parallel with each other. The second electrodes 40 are transparent display electrodes composed of a plurality of transparent electrodes extending in parallel with each other in a direction orthogonal to the first electrodes 20. Pixels 60 are formed at portions where the first electrodes 20 and the second electrodes 40 intersect three-dimensionally.
第１基板１０は、例えば、平面状に形成された透明基板であり、エレクトロクロミック表示デバイス１００の基体としての機能を有する。 The first substrate 10 is a transparent substrate formed in a planar shape, for example, and has a function as a base of the electrochromic display device 100.
第１基板１０の材質は、電気的に絶縁性の透明基板を構成可能な材質であれば、特に限定されるものではなく、例えば、ガラスやプラスチックを用いることができる。ガラスとしては、例えば、ソーダライム系ガラス、低アルカリ・ホウケイ酸ガラス、無アルカリ・ホウケイ酸ガラス、無アルカリ・アルミノケイ酸塩ガラス、石英ガラス等が挙げられる。また、プラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリアミド類、ポリカーボネート類、ポリフッ化ビニリデンなどのフッ素ポリマー類、ポリエーテル類、ポリスチレン、ポリエチレンなどのポリオレフィン類、ポリイミド類等が挙げられる。 The material of the 1st board | substrate 10 will not be specifically limited if it is a material which can comprise an electrically insulating transparent substrate, For example, glass and a plastic can be used. Examples of the glass include soda lime glass, low alkali / borosilicate glass, alkali-free / borosilicate glass, alkali-free / aluminosilicate glass, and quartz glass. Examples of the plastic include polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyamides, polycarbonates, fluoropolymers such as polyvinylidene fluoride, polyethers, polyolefins such as polystyrene and polyethylene, and polyimides. Can be mentioned.
なお、第１基板１０は、電気的に絶縁性の基板であれば、必ずしも透明基板でなくてもよい。第１基板１０が透明基板でない場合、第１基板１０は、白色に見えることが好ましい。したがって、第１基板１０の材質をガラスやプラスチックとした場合、例えば、二酸化チタン、硫酸バリウム、カオリン等の白色顔料を配合することによって、白色に見える第１基板１０を形成することができる。また、透明基板の下面に、前記白色顔料を塗布したり、白色紙や白色ＰＥＴシートなどの白色シートを配置したりすることによって、白色に見える第１基板１０を形成することができる。 Note that the first substrate 10 is not necessarily a transparent substrate as long as it is an electrically insulating substrate. When the first substrate 10 is not a transparent substrate, the first substrate 10 preferably looks white. Therefore, when the material of the first substrate 10 is glass or plastic, for example, the first substrate 10 that looks white can be formed by blending a white pigment such as titanium dioxide, barium sulfate, or kaolin. Moreover, the 1st board | substrate 10 which looks white can be formed by apply | coating the said white pigment on the lower surface of a transparent substrate, or arrange | positioning white sheets, such as white paper and a white PET sheet.
第１電極２０…は、例えば、幅を有するライン状に形成された透明電極であり、互いに平行な等間隔の縞状に設けられている。第１電極２０…は、図１中、列方向（上下方向）に延在して並列している。なお、図中、省略して８列の第１電極２０を示しているが、実際には、第１電極２０…は、例えば、７６８本のラインを成している。
第１電極２０…は、エレクトロクロミック組成物層５０に接するように、かつ、第２電極４０…に対向してエレクトロクロミック組成物層５０を挟むように、第１基板１０の上面に設けられている。
第１電極２０…は、第２電極４０…と対になり、エレクトロクロミック組成物層５０に通電する機能を有する。
第１電極２０…は、第２電極４０…と立体交差、すなわち、間隔を有して交差し、その交点部分に画素６０を形成している。
The first electrodes 20 are, for example, transparent electrodes formed in a line shape having a width, and are provided in stripes at equal intervals parallel to each other. The first electrodes 20... Extend in parallel in the column direction (vertical direction) in FIG. In the figure, the eight electrodes of the first electrodes 20 are omitted, but in reality, the first electrodes 20... Form, for example, 768 lines.
The first electrodes 20 are provided on the upper surface of the first substrate 10 so as to be in contact with the electrochromic composition layer 50 and to sandwich the electrochromic composition layer 50 facing the second electrodes 40. Yes.
The first electrodes 20 are paired with the second electrodes 40 and have a function of energizing the electrochromic composition layer 50.
The first electrodes 20 ... intersect with the second electrodes 40 ... three-dimensionally, that is, with an interval, and form a pixel 60 at the intersection.
第１電極２０の材質は、透明電極を構成可能な材質であれば、特に限定されるものではない。透明電極を構成可能な材質としては、例えば、ＩＴＯ膜やＳｎＯ２またはＩｎＯ２をコーティングした薄膜などが挙げられる。また、ＩＴＯ膜やＳｎＯ２またはＩｎＯ２をコーティングした薄膜などにＳｎやＳｂなどをドーピングしたものであってもよく、ＭｇＯ、ＺｎＯ、ＦＴＯなどであってもよい。
なお、第１電極２０は、必ずしも透明電極でなくてもよく、不透明電極であってもよい。
The material of the 1st electrode 20 will not be specifically limited if it is a material which can comprise a transparent electrode. Examples of the material capable of forming the transparent electrode include an ITO film and a thin film coated with SnO 2 or InO 2 . Further, an ITO film or a thin film coated with SnO 2 or InO 2 may be doped with Sn, Sb, or the like, or may be MgO, ZnO, FTO, or the like.
Note that the first electrode 20 is not necessarily a transparent electrode, and may be an opaque electrode.
また、第１電極２０と第１基板１０との間には、第１電極２０毎に、各第１電極２０に沿って延在する金属電極部２１が設けられている。金属電極部２１は、第１基板１０の上面に設けられており、第１電極２０によって覆われている。
この金属電極部２１が第１電極２０に埋め込まれていることにより、第１電極２０の抵抗を低減することが可能となる。その結果、通電時における第１電極２０の長手方向への電圧降下を防ぐことができるため、各画素６０における発色を安定させて、均一な表示を得ることが可能となる。
金属電極部２１の材質は、特に限定されるものではなく、金属電極を構成可能な材質であれば任意である。金属電極を構成可能な材質としては、例えば、金、白金、銀、クロム、アルミニウム、コバルト、パラジウム、銅、ニッケル、それらの合金等が挙げられる。
In addition, a metal electrode portion 21 extending along each first electrode 20 is provided for each first electrode 20 between the first electrode 20 and the first substrate 10. The metal electrode portion 21 is provided on the upper surface of the first substrate 10 and is covered with the first electrode 20.
Since the metal electrode portion 21 is embedded in the first electrode 20, the resistance of the first electrode 20 can be reduced. As a result, a voltage drop in the longitudinal direction of the first electrode 20 during energization can be prevented, so that the color development in each pixel 60 can be stabilized and uniform display can be obtained.
The material of the metal electrode portion 21 is not particularly limited, and any material can be used as long as it can constitute the metal electrode. Examples of the material capable of forming the metal electrode include gold, platinum, silver, chromium, aluminum, cobalt, palladium, copper, nickel, and alloys thereof.
第２基板３０は、例えば、平面状に形成された透明基板であり、第２電極４０…の支持体としての機能を有する。 The second substrate 30 is, for example, a transparent substrate formed in a planar shape, and has a function as a support for the second electrodes 40.
第２基板３０の材質は、電気的に絶縁性の透明基板を構成可能な材質であれば、特に限定されるものではなく、例えば、ガラスやプラスチックを用いることができる。ガラスとしては、例えば、ソーダライム系ガラス、低アルカリ・ホウケイ酸ガラス、無アルカリ・ホウケイ酸ガラス、無アルカリ・アルミノケイ酸塩ガラス、石英ガラス等が挙げられる。また、プラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリアミド類、ポリカーボネート類、ポリフッ化ビニリデンなどのフッ素ポリマー類、ポリエーテル類、ポリスチレン、ポリエチレンなどのポリオレフィン類、ポリイミド類等が挙げられる。 The material of the 2nd board | substrate 30 will not be specifically limited if it is a material which can comprise an electrically insulating transparent substrate, For example, glass and a plastic can be used. Examples of the glass include soda lime glass, low alkali / borosilicate glass, alkali-free / borosilicate glass, alkali-free / aluminosilicate glass, and quartz glass. Examples of the plastic include polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyamides, polycarbonates, fluoropolymers such as polyvinylidene fluoride, polyethers, polyolefins such as polystyrene and polyethylene, and polyimides. Can be mentioned.
第２電極４０…は、例えば、幅を有するライン状に形成された透明電極であり、互いに平行な等間隔の縞状に設けられている。第２電極４０…は、図１中、行方向（左右方向）に延在して並列している。なお、図中、省略して８行の第２電極４０を示しているが、実際には、第２電極４０…は、例えば、１０２４本のラインを成している。
また、各第２電極４０は、それぞれ同じ数の第１電極２０と交差する複数の領域に分割されている。具体的に、各第２電極４０は、例えば、それぞれ１９２本の第１電極２０と交差する４つの領域（第１領域Ｒ１〜第４領域Ｒ４）に分割されている。
The second electrodes 40 are transparent electrodes formed in a line shape having a width, for example, and are provided in stripes at equal intervals parallel to each other. The second electrodes 40... Extend in parallel in the row direction (left-right direction) in FIG. In the figure, eight rows of the second electrodes 40 are omitted, but actually, the second electrodes 40... Form, for example, 1024 lines.
Each second electrode 40 is divided into a plurality of regions intersecting with the same number of first electrodes 20. Specifically, each second electrode 40 is divided into, for example, four regions (first region R1 to fourth region R4) intersecting with 192 first electrodes 20, respectively.
第２電極４０…は、エレクトロクロミック組成物層５０に接するように、かつ、第１電極２０…に対向してエレクトロクロミック組成物層５０を挟むように、第２基板３０の下面に設けられている。
第２電極４０…は、第１電極２０…と対になり、エレクトロクロミック組成物層５０に通電する機能を有する。
第２電極４０…は、第１電極２０…と立体交差、すなわち、間隔を有して交差し、その交点部分に画素６０を形成している。
The second electrodes 40 are provided on the lower surface of the second substrate 30 so as to be in contact with the electrochromic composition layer 50 and to sandwich the electrochromic composition layer 50 facing the first electrodes 20. Yes.
The second electrodes 40 are paired with the first electrodes 20 and have a function of energizing the electrochromic composition layer 50.
The second electrodes 40 intersect with the first electrodes 20 with a three-dimensional intersection, that is, with an interval, and form a pixel 60 at the intersection.
第２電極４０の材質は、透明電極を構成可能な材質であれば、特に限定されるものではない。透明電極を構成可能な材質としては、例えば、ＩＴＯ膜やＳｎＯ２またはＩｎＯ２をコーティングした薄膜などが挙げられる。また、ＩＴＯ膜やＳｎＯ２またはＩｎＯ２をコーティングした薄膜などにＳｎやＳｂなどをドーピングしたものであってもよく、ＭｇＯ、ＺｎＯ、ＦＴＯなどであってもよい。 The material of the 2nd electrode 40 will not be specifically limited if it is a material which can comprise a transparent electrode. Examples of the material capable of forming the transparent electrode include an ITO film and a thin film coated with SnO 2 or InO 2 . Further, an ITO film or a thin film coated with SnO 2 or InO 2 may be doped with Sn, Sb, or the like, or may be MgO, ZnO, FTO, or the like.
また、第２電極４０と第２基板３０との間には、第２電極４０毎に、各第２電極４０に沿って延在する金属電極部としての金属電線（第１金属電線４１〜第４金属電線４４）が設けられている。第１金属電線４１〜第４金属電線４４は、第２基板３０の下面に設けられており、第２電極４０によって覆われている。 In addition, between the second electrode 40 and the second substrate 30, for each second electrode 40, a metal wire (first metal wire 41 to first metal wire) as a metal electrode portion extending along each second electrode 40. Four metal wires 44) are provided. The first metal wires 41 to the fourth metal wires 44 are provided on the lower surface of the second substrate 30 and are covered with the second electrode 40.
具体的には、図１や図４に示すように、第１金属電線４１と第２金属電線４２は、第２基板３０の一方の端部から当該第２基板３０の中央側に延在し、第２電極４０の第１領域Ｒ１から第２領域Ｒ２までに亘って配されている。そして、第１金属電線４１と第２金属電線４２は、第２電極４０の両側に互いに離間した状態で並行して設けられている。
また、図１や図４に示すように、第３金属電線４３と第４金属電線４４は、第２基板３０の他方の端部から当該第２基板３０の中央側に延在し、第２電極４０の第４領域Ｒ４から第３領域Ｒ３までに亘って配されている。そして、第３金属電線４３と第４金属電線４４は、第２電極４０の両側に互いに離間した状態で並行して設けられている。
なお、第１金属電線４１と第２金属電線４２、第３金属電線４３と第４金属電線４４は、それぞれ第２電極４０の縁側に設けられていることが好ましい。第１金属電線４１〜第４金属電線４４は、光透過性を有していないので、第２電極４０の縁側に設けられている方が、画素６０（エレクトロクロミック組成物層５０）の発色による表示の妨げになりにくく、好適である。
Specifically, as shown in FIGS. 1 and 4, the first metal wire 41 and the second metal wire 42 extend from one end of the second substrate 30 to the center side of the second substrate 30. The second electrode 40 extends from the first region R1 to the second region R2. The first metal wire 41 and the second metal wire 42 are provided in parallel in a state of being separated from each other on both sides of the second electrode 40.
As shown in FIGS. 1 and 4, the third metal wire 43 and the fourth metal wire 44 extend from the other end of the second substrate 30 to the center side of the second substrate 30, and The electrode 40 extends from the fourth region R4 to the third region R3. The third metal wire 43 and the fourth metal wire 44 are provided in parallel in a state of being separated from each other on both sides of the second electrode 40.
In addition, it is preferable that the 1st metal electric wire 41 and the 2nd metal electric wire 42, the 3rd metal electric wire 43, and the 4th metal electric wire 44 are provided in the edge side of the 2nd electrode 40, respectively. Since the first metal wires 41 to the fourth metal wires 44 do not have optical transparency, the one provided on the edge side of the second electrode 40 is due to the color of the pixel 60 (electrochromic composition layer 50). It is preferable because it does not hinder display.
より具体的には、図４に示すように、第１金属電線４１のうち第２電極４０の第２領域Ｒ２に対応する部分は絶縁膜４５で被覆されている。すなわち、第１金属電線４１は、第２電極４０の第１領域Ｒ１と導通可能に接続され、第２電極４０の第２領域Ｒ２とは絶縁されている。つまり、第１金属電線４１は、第２電極４０の第１領域Ｒ１の通電に寄与することによって、第１領域Ｒ１における画素６０の発色に寄与するように構成されている。
また、第２金属電線４２のうち第２電極４０の第１領域Ｒ１に対応する部分は絶縁膜４５で被覆されている。すなわち、第２金属電線４２は、第２電極４０の第２領域Ｒ２と導通可能に接続され、第２電極４０の第１領域Ｒ１とは絶縁されている。つまり、第２金属電線４２は、第２電極４０の第２領域Ｒ２の通電に寄与することによって、第２領域Ｒ２における画素６０の発色に寄与するように構成されている。
More specifically, as shown in FIG. 4, a portion of the first metal wire 41 corresponding to the second region R <b> 2 of the second electrode 40 is covered with an insulating film 45. That is, the first metal electric wire 41 is connected to the first region R1 of the second electrode 40 so as to be conductive, and is insulated from the second region R2 of the second electrode 40. That is, the first metal wire 41 is configured to contribute to the color development of the pixel 60 in the first region R1 by contributing to the energization of the first region R1 of the second electrode 40.
Further, a portion of the second metal wire 42 corresponding to the first region R1 of the second electrode 40 is covered with an insulating film 45. That is, the second metal wire 42 is connected to the second region R2 of the second electrode 40 so as to be conductive, and is insulated from the first region R1 of the second electrode 40. That is, the second metal wire 42 is configured to contribute to the color development of the pixel 60 in the second region R2 by contributing to the energization of the second region R2 of the second electrode 40.
また、第３金属電線４３のうち第２電極４０の第４領域Ｒ４に対応する部分は絶縁膜４５で被覆されている。すなわち、第３金属電線４３は、第２電極４０の第３領域Ｒ３と導通可能に接続され、第２電極４０の第４領域Ｒ４とは絶縁されている。つまり、第３金属電線４３は、第２電極４０の第３領域Ｒ３の通電に寄与することによって、第３領域Ｒ３における画素６０の発色に寄与するように構成されている。
また、第４金属電線４４のうち第２電極４０の第３領域Ｒ３に対応する部分は絶縁膜４５で被覆されている。すなわち、第４金属電線４４は、第２電極４０の第４領域Ｒ４と導通可能に接続され、第２電極４０の第３領域Ｒ３とは絶縁されている。つまり、第４金属電線４４は、第２電極４０の第４領域Ｒ４の通電に寄与することによって、第４領域Ｒ４における画素６０の発色に寄与するように構成されている。
Further, a portion of the third metal wire 43 corresponding to the fourth region R4 of the second electrode 40 is covered with an insulating film 45. That is, the third metal wire 43 is connected to the third region R3 of the second electrode 40 so as to be conductive, and is insulated from the fourth region R4 of the second electrode 40. That is, the third metal wire 43 is configured to contribute to the color development of the pixel 60 in the third region R3 by contributing to the energization of the third region R3 of the second electrode 40.
Further, a portion of the fourth metal wire 44 corresponding to the third region R3 of the second electrode 40 is covered with an insulating film 45. That is, the fourth metal electric wire 44 is connected to the fourth region R4 of the second electrode 40 so as to be conductive, and is insulated from the third region R3 of the second electrode 40. That is, the fourth metal wire 44 is configured to contribute to the color development of the pixel 60 in the fourth region R4 by contributing to the energization of the fourth region R4 of the second electrode 40.
そして、この金属電線（第１金属電線４１〜第４金属電線４４）が第２電極４０に埋め込まれていることにより、第２電極４０の抵抗を低減することが可能となる。その結果、通電時における第２電極４０の長手方向への電圧降下を防ぐことができるため、各画素６０における発色を安定させて、均一な表示を得ることが可能となる。
金属電線（第１金属電線４１〜第４金属電線４４）の材質は、特に限定されるものではなく、金属電極を構成可能な材質であれば任意である。金属電極を構成可能な材質としては、例えば、金、白金、銀、クロム、アルミニウム、コバルト、パラジウム、銅、ニッケル、それらの合金等が挙げられる。
And since this metal electric wire (the 1st metal electric wire 41-the 4th metal electric wire 44) is embedded in the 2nd electrode 40, it becomes possible to reduce resistance of the 2nd electrode 40. As a result, a voltage drop in the longitudinal direction of the second electrode 40 during energization can be prevented, so that the color development in each pixel 60 can be stabilized and a uniform display can be obtained.
The material of the metal wire (the first metal wire 41 to the fourth metal wire 44) is not particularly limited, and any material can be used as long as it can form the metal electrode. Examples of the material capable of forming the metal electrode include gold, platinum, silver, chromium, aluminum, cobalt, palladium, copper, nickel, and alloys thereof.
また、絶縁膜４５の材質は、特に限定されるものではなく、電気的に絶縁性の膜を構成可能な材質であれば任意である。電気的に絶縁性の膜を構成可能な材質としては、例えば、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）や光学露光用レジスト材料などが挙げられる。 The material of the insulating film 45 is not particularly limited, and any material can be used as long as it can form an electrically insulating film. Examples of a material that can form an electrically insulating film include silicon dioxide (SiO 2 ) and a resist material for optical exposure.
エレクトロクロミック組成物層５０は、第１基板１０と第２基板３０との間の空間を第１基板１０および第２基板３０に対して略垂直方向に貫通する複数の区画ｒに仕切る隔壁５１や、隔壁５１により形成された区画ｒ…内に導入されたゲル状エレクトロクロミック組成物５２などを備えて構成される。
エレクトロクロミック組成物層５０の厚みは、特に限定されるものではないが、好ましくは１０μｍ〜５００μｍ、より好ましくは３０μｍ〜２００μｍに設定することによって、ゲル状エレクトロクロミック組成物５２の表示機能を効果的に発現させることができる。
The electrochromic composition layer 50 includes partition walls 51 that divide a space between the first substrate 10 and the second substrate 30 into a plurality of partitions r that penetrate the first substrate 10 and the second substrate 30 in a substantially vertical direction. The gel-like electrochromic composition 52 introduced into the compartments r formed by the partition walls 51.
The thickness of the electrochromic composition layer 50 is not particularly limited, but the display function of the gel-like electrochromic composition 52 is effectively achieved by setting the thickness to preferably 10 μm to 500 μm, more preferably 30 μm to 200 μm. Can be expressed.
隔壁５１は、第１基板１０と第２基板３０との間に、一定の体積で、ゲル状エレクトロクロミック組成物５２を保持する役割を有する。すなわち、隔壁５１は、ゲル状エレクトロクロミック組成物５２を含むことによって、ゲル状エレクトロクロミック組成物５２を第１基板１０と第２基板３０との間で支えるとともに、隔壁５１の厚みによって、ゲル状エレクトロクロミック組成物５２の量を均一に制御する役割を有する。 The partition wall 51 has a role of holding the gel-like electrochromic composition 52 with a constant volume between the first substrate 10 and the second substrate 30. That is, the partition wall 51 includes the gel-like electrochromic composition 52 to support the gel-like electrochromic composition 52 between the first substrate 10 and the second substrate 30, and the gel-like shape depends on the thickness of the partition wall 51. It has a role of uniformly controlling the amount of the electrochromic composition 52.
具体的には、隔壁５１は、例えば図５（Ａ）に示すように、平面視六角形の六角柱形状の区画ｒが形成されるように仕切るものであってもよいし、例えば図５（Ｂ）に示すように、平面視四角形の四角柱形状の区画ｒが形成されるように仕切るものであってもよい。
なお、区画ｒの形状は、六角柱形状や四角形状に限定されるものではなく、第１基板１０および第２基板３０に対して略垂直方向に沿う形状であれば任意であり、例えば、その他の角柱形状であってもよいし、円柱形状であってもよい。
Specifically, as shown in FIG. 5A, for example, the partition wall 51 may be partitioned so that a hexagonal columnar section r having a hexagonal shape in plan view is formed. As shown to B), you may partition so that the quadratic prism-shaped division r of a square view may be formed.
The shape of the partition r is not limited to a hexagonal column shape or a quadrangular shape, and may be any shape as long as the shape is substantially perpendicular to the first substrate 10 and the second substrate 30. For example, other It may be a prismatic shape or a cylindrical shape.
区画ｒの平面視におけるサイズおよび位置は、画素６０と同期する必要はない。すなわち、区画ｒの平面視におけるサイズおよび位置は、画素６０と同期していてもよいし、画素６０と同期していなくてもよい。
なお、区画ｒが画素６０と同期していない場合、区画ｒの平面視におけるサイズは、画素６０のサイズよりも小さい方が好ましいが、画素６０のサイズよりも大きくてもよい。また、区画ｒ，ｒ同士の間の距離は小さい方が好ましい、すなわち隔壁５１の開口率は大きい方が好ましいが、これに限定されるものではなく、区画ｒ，ｒ同士の間の距離（隔壁５１の開口率）は適宜選択可能である。
The size and position of the section r in plan view need not be synchronized with the pixel 60. That is, the size and position of the section r in plan view may be synchronized with the pixel 60 or may not be synchronized with the pixel 60.
When the section r is not synchronized with the pixel 60, the size of the section r in plan view is preferably smaller than the size of the pixel 60, but may be larger than the size of the pixel 60. Further, it is preferable that the distance between the sections r and r is small, that is, the opening ratio of the partition wall 51 is preferably large. However, the present invention is not limited to this, and the distance between the sections r and r (partition wall) The aperture ratio (51) can be selected as appropriate.
隔壁５１の材質は、上述した厚みや形状を有するものを形成できるのであれば、特に限定されるものではなく、無機材料および有機材料の何れも用いることができる。 The material of the partition 51 is not particularly limited as long as the material having the above-described thickness and shape can be formed, and any of an inorganic material and an organic material can be used.
好ましい材質としては、例えば、電気的に絶縁性の無機材料としてアルミナ（特に陽極酸化アルミナ）、シリカ、酸化ジルコニウム、ＳｉＣ、ガラス等、電気的に絶縁性の有機材料および高分子物質としてテフロン（米国デュポン社の登録商標）、ナイロン、ポリエステル、ポリイミド、ポリカーボネート等、半導体を含む金属酸化物材料としてＴｉＯ２、ＳｒＴｉＯ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、ＩｎＳｎＯＸ、Ｎｂ２Ｏ３、ＷＯ３、ＣｕＯ、ＣｏＯ２、ＭｎＯ２、Ｖ２Ｏ５等、化合物半導体を含む金属カルコゲナイドおよび他元素複合化合物としてＣｄＳ、ＺｎＳ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＩｎＰ、ＦｅＳ２、ＰｂＳ、ＣｕＩｎＳ２、ＣｕＩｎＳｅなどに代表される化合物半導体、ペロブスカイト構造を有する化合物や複合化合物等、金属および半金属材料として金、白金、銀、銅、クロム、亜鉛、錫、チタン、タングステン、アルミニウム、ニッケル、鉄、シリコン、ゲルマニウム等、炭素材料としてグラファイト、グラシーカーボン、ダイヤモンド等が挙げられるが、これに限定されるものではない。 Preferable materials include, for example, alumina (particularly anodized alumina) as an electrically insulating inorganic material, silica, zirconium oxide, SiC, glass, etc., an electrically insulating organic material, and Teflon (US (Registered trademark of DuPont), nylon, polyester, polyimide, polycarbonate, etc., as a metal oxide material containing a semiconductor such as TiO 2 , SrTiO 3 , ZnO, SnO 2 , InSnOX, Nb 2 O 3 , WO 3 , CuO, CoO 2 , Compound semiconductors represented by CdS, ZnS, GaP, GaAs, InP, FeS 2 , PbS, CuInS 2 , CuInSe, and the like, and perovskite structures such as MnO 2 , V 2 O 5, etc. Compounds and composite compounds having Gold, platinum, silver, copper, chromium, zinc, tin, titanium, tungsten, aluminum, nickel, iron, silicon, germanium, etc. as metal and metalloid materials, graphite, glassy carbon, diamond, etc. as carbon materials However, the present invention is not limited to this.
隔壁５１は、単一の材料から構成されていてもよいし、複数の材料から構成されていてもよい。複数の材料から構成される場合は、区画ｒ…の内壁部分とその他の部分、区画ｒ…の上部と下部、といったように部分毎に材料を変えて構成することも可能である。
区画ｒ…の内壁部分を構成する材料は、絶縁体材料または半導体材料が好ましい。具体的には、金属のカルコゲナイド（例えば、酸化物、硫化物、セレン化物等）、シリコンが好ましく、金属酸化物がより好ましく、アルミニウム、アルミナ、所定の繊維（例えば、テフロン、ナイロン（米国デュポン社の登録商標）、ポリエステル等）が最も好ましい。
The partition wall 51 may be made of a single material or may be made of a plurality of materials. In the case of being composed of a plurality of materials, it is also possible to change the material for each part such as the inner wall part and other parts of the section r... And the upper and lower parts of the section r.
The material constituting the inner wall portion of the compartment r ... is preferably an insulator material or a semiconductor material. Specifically, metal chalcogenides (for example, oxides, sulfides, selenides, etc.) and silicon are preferable, metal oxides are more preferable, aluminum, alumina, predetermined fibers (for example, Teflon, nylon (US DuPont) And the like are most preferred.
隔壁５１の作製方法は、上述した厚みや形状を有するものを形成できるのであれば、特に限定されるものではない。 The method for manufacturing the partition wall 51 is not particularly limited as long as the partition wall 51 can be formed with the above-described thickness and shape.
好ましい作製方法の一例として、例えば、量産のために、広い面積にわたって細孔ピッチを制御しながら作製する方法、具体的には、例えば、化学反応において、イオンや分子の拡散および輸送が関わる自己組織化反応を制御することで隔壁５１を作製する方法が挙げられる。この自己組織化によって規則的細孔配列を持つ隔壁５１（多孔性ナノ構造体、多孔質膜）を作製する方法としては、下記に示すような公知の技術を応用することができる。
公知の技術としては、例えば、（１）陽極電解酸化によって作製される陽極酸化アルミナ、（２）ダイヤモンドフィルム上にポーラスアルミナ膜を鋳型として載置してプラズマエッチングを行い、その後、ソフトエッチング（例えば、リン酸によるソフトエッチング等）によりポーラスアルミナ膜を溶かすことによって作製されるダイヤモンド多孔性ナノ構造体、（３）転写によって作製される金属多孔性構造体、（４）スパッタリング法によって基板上にアルミニウムシリコン混合膜を成膜し、混合膜中のアルミニウム領域（アルミニウムを含む柱状構造体領域）のみを選択的にエッチング（エッチング法としては、アルミニウムのみを選択的に溶解する酸やアルカリを用いたウエットエッチングが好ましい。）することによって作製されるシリコン多孔質膜、（５）自己組織化により作製した陽極酸化アルミナを用いて、細孔の凹凸構造をポリメタクリル酸メチルなどの重合体に一度転写した後、転写体上にゾルゲル反応などにより無機金属酸化物の層を形成させることによって作製される各種材料からなる多孔性ナノ構造体、（６）ブロック共重合体を利用して、数十ナノメートル間隔で膜方向に垂直に配向したミクロ相分離構造を形成することによりミクロ相分離構造膜を作製し、例えばシリンダー部分を溶解することによって作製される多孔質膜、（７）高分子、金属、プラスチック等に選択的エッチングにより細孔を形成することによって作製される多孔質膜、或いは、作製された多孔質膜を鋳型として用い、他の高分子、金属、プラスチック等に転写することによって作製される多孔質膜、といった多孔質体を作製する方法等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
As an example of a preferable manufacturing method, for example, a method of manufacturing while controlling the pore pitch over a large area for mass production, specifically, for example, self-organization involving diffusion and transport of ions and molecules in a chemical reaction. A method of producing the partition wall 51 by controlling the oxidization reaction is mentioned. As a method for producing the partition wall 51 (porous nanostructure, porous film) having a regular pore arrangement by this self-assembly, the following known techniques can be applied.
Known techniques include, for example, (1) anodized alumina produced by anodic electrolytic oxidation, (2) plasma etching by placing a porous alumina film on a diamond film as a mold, and then soft etching (for example, , Diamond porous nanostructures prepared by melting a porous alumina film by phosphoric acid, etc., (3) metal porous structures prepared by transfer, (4) aluminum on the substrate by sputtering A silicon mixed film is formed, and only the aluminum region (columnar structure region containing aluminum) in the mixed film is selectively etched (as an etching method, wet using an acid or alkali that selectively dissolves only aluminum) Etching is preferred.) Using a silicon porous film and (5) anodized alumina prepared by self-organization, the uneven structure of the pores is once transferred to a polymer such as polymethyl methacrylate, and then inorganic on the transfer body by a sol-gel reaction or the like. Porous nanostructures made of various materials produced by forming metal oxide layers, (6) microphases oriented perpendicular to the film direction at intervals of several tens of nanometers using block copolymers A micro phase separation structure film is produced by forming a separation structure, for example, a porous film produced by dissolving a cylinder part, and (7) pores are formed by selective etching in a polymer, metal, plastic, etc. By using the porous film prepared as a template and transferring it to other polymers, metals, plastics, etc. The porous film produced, methods of making a porous body, and the like such as, but not limited thereto.
また、好ましい作製方法の一例として、例えば、スクリーン印刷法やフォトリソグラフィー法を用いて、適宜、ハニカム状や格子状などに形成された隔壁５１を作製する方法が挙げられる。 Moreover, as an example of a preferable manufacturing method, for example, a method of manufacturing partition walls 51 appropriately formed in a honeycomb shape or a lattice shape using a screen printing method or a photolithography method can be given.
スクリーン印刷法による場合は、区画ｒ，ｒ同士の間の距離に制限（およそ３０μｍ以上）があるとともに、開孔率に制限があるが、上述した厚みや形状を有する隔壁５１を作製することができる。
好ましい材料としては、ゲル状エレクトロクロミック組成物５２は極性溶剤を必須成分としていることから、その極性溶剤に対して耐性のあるものが好ましく、例えば、ガラスペーストや極性溶剤耐性のある熱硬化性樹脂などを用いることができる。ガラスペーストとしては、例えば、旭硝子株式会社製ＡＰ誘電体ペーストＡＰ５３４６Ｇ，ＡＰ５６９５ＢＤ、日本電気硝子株式会社製ガラスペーストＰＬＳ−３１２４、日本電気硝子株式会社製粉末ガラスＬＳ−０２４１等が挙げられるが、これに限定されるものではない。極性溶剤耐性のある熱硬化性樹脂としては、例えば、１液性のエポキシ樹脂（具体的には、例えば、株式会社スリーボンド製スリーボンド２２００シリーズのうち、２２１７，２２１７Ｂ，２２１９Ｄ等）等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
In the case of the screen printing method, the distance between the compartments r and r is limited (approximately 30 μm or more) and the aperture ratio is limited, but the partition wall 51 having the above-described thickness and shape can be produced. it can.
As a preferable material, since the gel-like electrochromic composition 52 contains a polar solvent as an essential component, a material resistant to the polar solvent is preferable, for example, a glass paste or a thermosetting resin resistant to polar solvent. Etc. can be used. Examples of the glass paste include AP dielectric paste AP5346G and AP5695BD manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., glass paste PLS-3124 manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., powder glass LS-0241 manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., and the like. It is not limited. Examples of the thermosetting resin having polar solvent resistance include one-component epoxy resins (specifically, for example, 2217, 2217B, 2219D, etc. in Three Bond 2200 series manufactured by Three Bond Co., Ltd.). However, the present invention is not limited to this.
フォトリソグラフィー法による場合は、微細な構造を有する隔壁５１を作製することができる。
好ましい材料としては、上述のとおり極性溶剤に対して耐性のあるものが好ましく、具体的には、例えば、アスペクト比の高い隔壁５１を、１回露光で得ることができる東京応化工業株式会社製ＭＥＭＳ用永久レジストＴＭＭＲＳ−２０００等などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
In the case of using a photolithography method, the partition wall 51 having a fine structure can be manufactured.
As described above, a material that is resistant to a polar solvent is preferable as described above. Specifically, for example, a MEMS 51 manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. that can obtain a partition wall 51 having a high aspect ratio by one exposure. Permanent resist TMMRS-2000 and the like, but are not limited thereto.
また、隔壁５１は、上述した厚みや形状を有するものであれば、市販のものであっても良い。市販の隔壁５１としては、例えば、Whatman社製アノディスクメンブレンフィルタとして入手できる酸化アルミによるメンブレンフィルタ、ミリポア社製オム二ポアメンブレン、ミリポア社製ナイロンネットフィルタ、ミリポア社製アイソポアメンブレン、日東電工株式会社製超高分子量ポリエチレン多孔質フィルムサンマップ、Sefar Inc.製ＮＹＴＡＬ（ナイロンメッシュクロス）、Sefar Inc.製ＰＥＴＥＸ（ポリエステルメッシュクロス）等が挙げられるが、これに限定されるものではない。 Moreover, the partition 51 may be a commercially available product as long as it has the above-described thickness and shape. Commercially available partition walls 51 include, for example, a membrane filter made of aluminum oxide available as an Annodisc membrane filter manufactured by Whatman, an Omnipore membrane manufactured by Millipore, a nylon net filter manufactured by Millipore, an isopore membrane manufactured by Millipore, and Nitto Denko Corporation. Examples include, but are not limited to, ultrahigh molecular weight polyethylene porous film sunmaps manufactured by company, NYTAL (nylon mesh cloth) manufactured by Sefar Inc., PETEX (polyester mesh cloth) manufactured by Sefar Inc., and the like.
ゲル状エレクトロクロミック組成物５２は、支持電解質と、極性溶剤と、ロイコ染料と、を含むエレクトロクロミック組成物を所定のゲル化剤によりゲル化したものである。
なお、ゲル状エレクトロクロミック組成物５２には、エレクトロクロミック表示デバイス１００の表示品質の劣化を抑制するための表示品質劣化抑制剤や、第１電極２０…と第２電極４０…との間の消去のための通電時にロイコ染料を吸着する吸着剤や、エレクトロクロミック組成物層５０の地色の白さを増加させるための白色剤などが添加されていてもよい。
The gel electrochromic composition 52 is obtained by gelling an electrochromic composition containing a supporting electrolyte, a polar solvent, and a leuco dye with a predetermined gelling agent.
The gel-like electrochromic composition 52 includes a display quality deterioration inhibitor for suppressing display quality deterioration of the electrochromic display device 100, and erasure between the first electrode 20 and the second electrode 40. For example, an adsorbent that adsorbs a leuco dye when energized or a whitening agent for increasing the whiteness of the ground color of the electrochromic composition layer 50 may be added.
ゲル状エレクトロクロミック組成物５２は、エレクトロクロミック表示デバイス１００の表示にかかる発色および消色の機能を有する。
具体的には、ゲル状エレクトロクロミック組成物５２は、第１電極２０…と第２電極４０…との間の通電によって発色し、発色のための通電とは逆方向の通電によって、或いは、発色のための通電を遮断することによって消色する。
The gel-like electrochromic composition 52 has a function of coloring and decoloring for display of the electrochromic display device 100.
Specifically, the gel-like electrochromic composition 52 develops color by energization between the first electrode 20 ... and the second electrode 40 ..., or by color development in the direction opposite to the energization for color development or color development. Decolorize by turning off the power for.
ゲル状エレクトロクロミック組成物５２の構成成分である支持電解質は、ゲル状エレクトロクロミック組成物５２内を電流が流れ易くするための機能を有する。支持電解質は、一般に溶融塩と称する化合物を含む。支持電解質は、各化合物を単独で用いてもよいし、複数を混合して用いてもよい。
支持電解質は、ゲル状エレクトロクロミック組成物５２全体の重量に対して、０．０１〜２０重量％となるように添加することが好ましく、前記機能の十分な発現のためには、０．１〜２０重量％となるように添加することがより好ましい。
The supporting electrolyte, which is a constituent component of the gelled electrochromic composition 52, has a function for facilitating the flow of current through the gelled electrochromic composition 52. The supporting electrolyte contains a compound generally called a molten salt. As the supporting electrolyte, each compound may be used alone, or a plurality thereof may be mixed and used.
The supporting electrolyte is preferably added in an amount of 0.01 to 20% by weight with respect to the total weight of the gel electrochromic composition 52. It is more preferable to add so that it may become 20 weight%.
具体的には、支持電解質は、前記機能を有する化合物であれば、特に限定されるものではなく、例えば、第１の支持電解化合物および／または第２の支持電解化合物が挙げられる。
第１の支持電解化合物としては、例えば、ＮａＣｌＯ４、ＬｉＣｌＯ４、ＫＣｌＯ４、ＲｂＣｌＯ４、ＣｓＣｌＯ４、ＮＨ４ＣｌＯ４、ＬｉＢＦ４、ＬｉＰＦ６等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
また、第２の支持電解化合物としては、例えば、（ＣＨ３）４ＮＣｌＯ４、（Ｃ２Ｈ５）４ＮＣｌＯ４、（ｎ−Ｃ４Ｈ９）４ＮＣｌＯ４、（ＣＨ３）４ＮＢＦ４、（Ｃ２Ｈ５）４ＮＢＦ４、（ｎ−Ｃ４Ｈ９）４ＮＢＦ４、（ＣＨ３）４ＮＣｌ、（Ｃ２Ｈ５）４ＮＣｌ、（ＣＨ３）４ＮＢｒ、（Ｃ２Ｈ５）４ＮＢｒ、（ｎ−Ｃ４Ｈ９）４ＮＢｒ、（ｎ−Ｃ４Ｈ９）４ＮＩ、Ｃ６Ｈ５（ＣＨ３）３ＮＣｌＯ４、Ｃ６Ｈ５（Ｃ２Ｈ５）３ＮＣｌＯ４、Ｃ８Ｈ１７（ＣＨ３）３ＮＣｌＯ４、（Ｃ２Ｈ５）４ＮＰＦ６、（ｎ−Ｃ４Ｈ９）４ＮＰＦ６、（ＣＨ３）４ＮＣＦ３ＳＯ３、（Ｃ２Ｈ５）４ＮＣＦ３ＳＯ３等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
Specifically, the supporting electrolyte is not particularly limited as long as it is a compound having the above function, and examples thereof include a first supporting electrolytic compound and / or a second supporting electrolytic compound.
Examples of the first supporting electrolytic compound include, but are not limited to, NaClO 4 , LiClO 4 , KClO 4 , RbClO 4 , CsClO 4 , NH 4 ClO 4 , LiBF 4 , LiPF 6, and the like. .
Examples of the second supporting electrolytic compound include (CH 3 ) 4 NClO 4 , (C 2 H 5 ) 4 NClO 4 , (nC 4 H 9 ) 4 NClO 4 , and (CH 3 ) 4 NBF 4. , (C 2 H 5 ) 4 NBF 4 , (n-C 4 H 9 ) 4 NBF 4 , (CH 3 ) 4 NCl, (C 2 H 5 ) 4 NCl, (CH 3 ) 4 NBr, (C 2 H 5 ) 4 NBr, (n-C 4 H 9 ) 4 NBr, (n-C 4 H 9 ) 4 NI, C 6 H 5 (CH 3 ) 3 NClO 4 , C 6 H 5 (C 2 H 5 ) 3 NClO 4 , C 8 H 17 (CH 3 ) 3 NClO 4 , (C 2 H 5 ) 4 NPF 6 , (n-C 4 H 9 ) 4 NPF 6 , (CH 3 ) 4 NCF 3 SO 3 , (C 2 H 5) 4 NCF 3 is SO 3 and the like, is limited to Not shall.
ゲル状エレクトロクロミック組成物５２の構成成分である極性溶剤は、支持電解質を用い通電性を示す有機溶媒の少なくとも１種であり、ロイコ染料の消色を電圧および／または電流の遮断により促進する機能を有する。極性溶剤は、各種を単独で用いてもよいし、適宜２種類以上を組み合わせて用いてもよい。 The polar solvent, which is a constituent of the gel-like electrochromic composition 52, is at least one organic solvent that exhibits electroconductivity using a supporting electrolyte and promotes decolorization of the leuco dye by blocking voltage and / or current. Have Various polar solvents may be used alone or in combination of two or more.
以下に、好適な極性溶剤の例を示すが、これらは例示であり、極性溶剤を限定するものではない。
極性溶剤の具体例としては、例えば、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、プロピレンカーボネート、ジメチルスルフォキシド、γ-ブチロラクトン、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル等が挙げられる。
Although the example of a suitable polar solvent is shown below, these are illustrations and do not limit a polar solvent.
Specific examples of the polar solvent include, for example, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, diethylformamide, N, N-dimethylacetamide, propylene carbonate, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, acetonitrile, propionitrile, butyronitrile and the like. It is done.
ゲル状エレクトロクロミック組成物５２の構成成分であるロイコ染料は、無色または淡色の電子供与性染料前駆体であり、フェノール性化合物などの顕色剤、酸性物質、電子受容性物質によって発色する化合物である。
ロイコ染料としては、例えば、部分骨格にラクトン、ラクタム、スルトン、スピロピラン、エステルまたはアミド構造を有する実用上無色となりうる化合物等が挙げられる。具体的には、例えば、トリアリルメタン化合物、ビスフェニルメタン化合物、キサンテン化合物、フルオラン化合物、チアジン化合物、スピロピラン化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
The leuco dye, which is a constituent of the gel electrochromic composition 52, is a colorless or light-colored electron-donating dye precursor, and is a compound that develops color by a developer such as a phenolic compound, an acidic substance, or an electron-accepting substance. is there.
Examples of leuco dyes include compounds that have a lactone, lactam, sultone, spiropyran, ester or amide structure in the partial skeleton and can be practically colorless. Specific examples include triallylmethane compounds, bisphenylmethane compounds, xanthene compounds, fluorane compounds, thiazine compounds, spiropyran compounds and the like, but are not limited thereto.
ロイコ染料は、前記化合物の中から適宜選択することによって、各種カラーの発色を行うことができる。したがって、ロイコ染料を用いたエレクトロクロミック表示デバイス１００の表示色は、ロイコ染料によって適宜選択することができる。具体的には、例えば、ブラックに発色するロイコ染料を用いる場合は、白黒およびグレー表示が可能となる。 The leuco dye can be colored in various colors by appropriately selecting from the above compounds. Therefore, the display color of the electrochromic display device 100 using a leuco dye can be appropriately selected depending on the leuco dye. Specifically, for example, when a leuco dye that develops color in black is used, black and white and gray display are possible.
ロイコ染料の配合量は、ロイコ染料の溶解度に依存するため、一概に表すことは難しいが、ロイコ染料は、発色のために充分な量が配合されている必要がある。溶解度が小さいロイコ染料の場合は、必要な量が含まれるように、例えば、各画素６０に対応するエレクトロクロミック組成物層５０の体積（隔壁５１の厚み）を大きくする等して、ロイコ染料の配合量を調節するとよい。 Since the blending amount of the leuco dye depends on the solubility of the leuco dye, it is difficult to express it generally. However, the leuco dye needs to be blended in a sufficient amount for color development. In the case of a leuco dye having a low solubility, the volume of the electrochromic composition layer 50 corresponding to each pixel 60 (thickness of the partition wall 51) is increased, for example, so that a necessary amount is included. The blending amount may be adjusted.
ゲル状エレクトロクロミック組成物５２に添加可能な表示品質劣化抑制剤は、ロイコ染料の発色、消色の繰り返し動作に伴うエレクトロクロミック表示デバイス１００の表示品質の劣化を抑制する機能を有する化合物である。
表示品質劣化抑制剤の添加量は、ロイコ染料の含有量に対して、１〜２０重量％となるように添加することが好ましく、前記機能の十分な発現のためには、５〜２０重量％となるように添加することが好ましい。
The display quality degradation inhibitor that can be added to the gel electrochromic composition 52 is a compound that has a function of suppressing degradation of the display quality of the electrochromic display device 100 that accompanies repeated operations of coloring and decoloring of the leuco dye.
The addition amount of the display quality deterioration inhibitor is preferably 1 to 20% by weight based on the content of the leuco dye, and 5 to 20% by weight for sufficient expression of the function. It is preferable to add so that it becomes.
表示品質劣化抑制剤は、第１の表示品質劣化抑制化合物（ハイドロキノン誘導体および／またはカテコール誘導体）と、第２の表示品質劣化抑制化合物（フェロセン誘導体）と、第３の表示品質劣化抑制化合物（カルボニル基を有する化合物（例えば、アセトフェノン誘導体、ジベンゾイル誘導体および／またはベンゾキノン誘導体））と、のうちの少なくとも何れか１種からなる。 The display quality degradation inhibitor includes a first display quality degradation inhibiting compound (hydroquinone derivative and / or catechol derivative), a second display quality degradation inhibiting compound (ferrocene derivative), and a third display quality degradation inhibiting compound (carbonyl). And a compound having a group (for example, an acetophenone derivative, a dibenzoyl derivative and / or a benzoquinone derivative), and at least one of them.
ゲル状エレクトロクロミック組成物５２に添加可能な吸着剤は、例えば、酸化アルミニウムおよび／または水酸化アルミニウムである。
吸着剤の添加の態様は、超音波やボールミルやホモミキサーなどのホモジナイザーを用いて、吸着剤が均一に分散している吸着剤分散液を生成し、その吸着剤分散液をエレクトロクロミック組成物に添加することが好ましいが、これに限定されるものではない。
吸着剤の添加量は、用いる酸化アルミニウムおよび／または水酸化アルミニウムの活性度、粒径等により異なる。
具体的には、αアルミナのように表面積の小さい酸化アルミニウム、１０μｍ以上の粒径を有する大きな酸化アルミニウム、表面積の小さい水酸化アルミニウム、１０μｍ以上の粒径を有する水酸化アルミニウムは、ロイコ染料の吸着効果が小さく、十分な吸着動作を発現するためには、１グラムのロイコ染料に対して、０．５グラム〜５グラム、好ましくは１グラム〜３グラムの添加が好ましい。
また、γアルミナのように表面積の大きい酸化アルミニウム、１μｍ以下の粒径を有する小さい酸化アルミニウム、表面積の大きい水酸化アルミニウム、１μｍ以下の粒径を有する小さい水酸化アルミニウムは、ロイコ染料の吸着効果が大きいため、１グラムのロイコ染料に対して、０．１グラム〜０．５グラムの添加で、十分な吸着動作を発現する。
また、薄層クロマトグラフィなどに用いられる活性アルミナの類は、数１０μｍの粒径を有する大粒子であっても、１グラムのロイコ染料に対して、０．１グラム〜０．５グラムの添加で、十分な吸着動作を発現する。
The adsorbent that can be added to the gel electrochromic composition 52 is, for example, aluminum oxide and / or aluminum hydroxide.
The adsorbent is added using an ultrasonic wave, a homogenizer such as a ball mill or a homomixer to generate an adsorbent dispersion in which the adsorbent is uniformly dispersed, and the adsorbent dispersion is converted into an electrochromic composition. Although it is preferable to add, it is not limited to this.
The amount of adsorbent added varies depending on the activity and particle size of the aluminum oxide and / or aluminum hydroxide used.
Specifically, aluminum oxide having a small surface area such as α-alumina, large aluminum oxide having a particle size of 10 μm or more, aluminum hydroxide having a small surface area, and aluminum hydroxide having a particle size of 10 μm or more are adsorbed on leuco dyes. In order to exhibit a small effect and sufficient adsorption action, addition of 0.5 gram to 5 gram, preferably 1 gram to 3 gram per 1 gram of leuco dye is preferable.
In addition, aluminum oxide having a large surface area such as γ-alumina, small aluminum oxide having a particle size of 1 μm or less, aluminum hydroxide having a large surface area, and small aluminum hydroxide having a particle size of 1 μm or less have an effect of adsorbing a leuco dye. Due to its large size, a sufficient adsorption action is exhibited with addition of 0.1 to 0.5 gram per gram of leuco dye.
In addition, activated alumina used for thin layer chromatography and the like can be added in an amount of 0.1 to 0.5 gram per gram of leuco dye, even if it is a large particle having a particle size of several tens of micrometers. , Express sufficient adsorption operation.
ロイコ染料を吸着する吸着剤は、化成品にて容易に入手できる。
以下に、好適な市販の吸着剤の例を示すが、これらは例示であり、吸着剤を限定するものではない。
市販の吸着剤としては、例えば、メルク社製薄層クロマト用酸化アルミニウム６０ＧＮｅｕｔｒａｌ（粒径４μｍ〜５０μｍ）、日本軽金属製ローソーダアルミナＬＳ２３５（粒径０．４７μｍ），活性アルミナＣ２００（粒径４．４μｍ），水酸化アルミニウムＢ１４０３（粒径１．５μｍ）、住友化学製γアルミナＫＣ５０１（粒径１μｍ）等が挙げられる。
Adsorbents that adsorb leuco dyes are readily available as chemical products.
Although the example of a suitable commercially available adsorbent is shown below, these are illustrations and do not limit adsorbent.
Examples of commercially available adsorbents include, for example, aluminum oxide 60GN neutral for thin-layer chromatography (particle size: 4 μm to 50 μm), low light soda alumina LS235 (particle size: 0.47 μm) manufactured by Nippon Light Metal Co., Ltd., activated alumina C200 (particle size: 4. 4 μm), aluminum hydroxide B1403 (particle size 1.5 μm), γ-alumina KC501 (particle size 1 μm) manufactured by Sumitomo Chemical, and the like.
ゲル状エレクトロクロミック組成物５２に添加可能な白色剤は、例えば、二酸化チタンや硫酸バリウムである。
白色剤の添加の態様は、超音波やボールミルやホモミキサーなどのホモジナイザーを用いて、白色剤が均一に分散している白色剤分散液を生成し、その白色剤分散液をエレクトロクロミック組成物に添加することが好ましいが、これに限定されるものではない。
Examples of the whitening agent that can be added to the gel electrochromic composition 52 include titanium dioxide and barium sulfate.
The whitening agent is added using a homogenizer such as an ultrasonic wave, a ball mill or a homomixer to produce a whitening agent dispersion in which the whitening agent is uniformly dispersed, and the whitening agent dispersion is converted into an electrochromic composition. Although it is preferable to add, it is not limited to this.
エレクトロクロミック組成物をゲル化するためのゲル化剤は、エレクトロクロミック組成物の粘度を高めて取り扱いを容易にする機能、エレクトロクロミック組成物を構成するロイコ染料などの構成成分等が区画ｒ…内で沈殿することを抑制する機能、エレクトロクロミック組成物を区画ｒ…内に導入する際に気泡が混入することを抑制する機能等を有する。ゲル化剤は各種を単独で用いてもよいし、適宜２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
ゲル化剤の好ましい配合量は、エレクトロクロミック組成物全体の重量に対して、０．１〜８０重量％とすることが好ましい。
The gelling agent for gelling the electrochromic composition has a function of increasing the viscosity of the electrochromic composition to facilitate handling, and components such as leuco dye constituting the electrochromic composition are in the compartment r ... And the like, and the function of suppressing bubbles from being mixed when the electrochromic composition is introduced into the compartment r. Various gelling agents may be used alone, or two or more kinds may be used in combination as appropriate.
It is preferable that the preferable compounding quantity of a gelatinizer shall be 0.1 to 80 weight% with respect to the weight of the whole electrochromic composition.
下記の式（１）〜式（７）に、好適なゲル化剤の例を示すが、これらは例示であり、ゲル化剤を限定するものではない。
以上に説明したゲル状エレクトロクロミック組成物５２は、一例であり、その他にも電気化学的な発色が可能な組成物であれば、これを隔壁５１により形成される区画ｒ…内に導入したものをエレクトロクロミック組成物層５０として用いることが可能である。
例えば、本実施形態では、ゲル状エレクトロクロミック組成物５２の構成成分である染料としてロイコ染料を用いたが、これに限定されるものではなく、ビオロゲン染料等のその他の有機染料を用いることも可能である。
The gel-like electrochromic composition 52 described above is an example. In addition, if the composition is capable of electrochemical color development, the gel-like electrochromic composition 52 is introduced into the compartment r formed by the partition walls 51. Can be used as the electrochromic composition layer 50.
For example, in the present embodiment, a leuco dye is used as a dye that is a constituent component of the gel electrochromic composition 52, but the present invention is not limited to this, and other organic dyes such as a viologen dye may be used. It is.
＜エレクトロクロミック表示デバイスの製造方法＞
次に、エレクトロクロミック表示デバイス１００の製造方法の一例について説明する。
エレクトロクロミック表示デバイス１００の製造方法は、以下の［１］〜［９］の工程を有する。
<Method of manufacturing electrochromic display device>
Next, an example of a method for manufacturing the electrochromic display device 100 will be described.
The manufacturing method of the electrochromic display device 100 includes the following steps [1] to [9].
［１］第１の蒸着工程
第１の蒸着工程は、第１基板１０の上面（第２基板３０側の面）に金属電極部２１を設ける工程である。金属電極部２１は、公知の蒸着法、メッキ法、スパッタ法等によって成膜され、次いで、フォトリソグラフィー法等によってパターニングされ、次いで、エッチング法等によって形成される。
[1] First vapor deposition step The first vapor deposition step is a step of providing the metal electrode portion 21 on the upper surface of the first substrate 10 (the surface on the second substrate 30 side). The metal electrode portion 21 is formed by a known vapor deposition method, plating method, sputtering method, or the like, then patterned by a photolithography method or the like, and then formed by an etching method or the like.
［２］第２の蒸着工程
第２の蒸着工程は、金属電極部２１の上に第１電極２０を設ける工程である。金属電極部２１は、公知の蒸着法、メッキ法、スパッタ法等によって成膜され、次いで、フォトリソグラフィー法等によってパターニングされ、そして、エッチング法等によって形成される。
[2] Second Vapor Deposition Step The second vapor deposition step is a step of providing the first electrode 20 on the metal electrode portion 21. The metal electrode portion 21 is formed by a known vapor deposition method, plating method, sputtering method or the like, then patterned by a photolithography method or the like, and formed by an etching method or the like.
［３］第３の蒸着工程
第３の蒸着工程は、第２基板３０の下面（第１基板１０側の面）に第１金属電線４１〜第４金属電線４４を設ける工程である。第１金属電線４１〜第４金属電線４４は、公知の蒸着法、メッキ法、スパッタ法等によって成膜され、次いで、フォトリソグラフィー法等によってパターニングされ、そして、エッチング法等によって形成される。
[3] Third vapor deposition step The third vapor deposition step is a step of providing the first metal wires 41 to the fourth metal wires 44 on the lower surface of the second substrate 30 (the surface on the first substrate 10 side). The first metal wire 41 to the fourth metal wire 44 are formed by a known vapor deposition method, plating method, sputtering method or the like, then patterned by a photolithography method or the like, and formed by an etching method or the like.
［４］第４の蒸着工程
第４の蒸着工程は、第１金属電線４１〜第４金属電線４４の下に絶縁膜４５を設ける工程である。絶縁膜４５は、公知の蒸着法、メッキ法、スパッタ法等によって成膜され、次いで、フォトリソグラフィー法等によってパターニングされ、そして、エッチング法等によって形成される。
[4] Fourth Vapor Deposition Step The fourth vapor deposition step is a step of providing an insulating film 45 under the first metal wire 41 to the fourth metal wire 44. The insulating film 45 is formed by a known vapor deposition method, plating method, sputtering method or the like, then patterned by a photolithography method or the like, and formed by an etching method or the like.
［５］第５の蒸着工程
第５の蒸着工程は、第１金属電線４１〜第４金属電線４４および絶縁膜４５の下に第２電極４０を設ける工程である。第２電極４０は、公知の蒸着法、メッキ法、スパッタ法等によって成膜され、次いで、フォトリソグラフィー法等によってパターニングされ、そして、エッチング法等によって形成される。
[5] Fifth Vapor Deposition Step The fifth vapor deposition step is a step of providing the second electrode 40 under the first metal wire 41 to the fourth metal wire 44 and the insulating film 45. The second electrode 40 is formed by a known vapor deposition method, plating method, sputtering method or the like, then patterned by a photolithography method or the like, and formed by an etching method or the like.
［６］隔壁設置工程
隔壁設置工程は、第１電極２０…が形成された第１基板１０の上面に隔壁５１を設置する工程である。
具体的には、例えば、第１電極２０…が形成された第１基板１０の上面（第１電極２０…が形成されている面）に、ガラスペースト（例えば、日本電気硝子株式会社製ガラスペーストＰＬＳ−３１２４）等をスクリーン印刷することによって、隔壁５１を設置する。
或いは、例えば、第１電極２０…が形成された第１基板１０の上面（第１電極２０…が形成されている面）に、フォトレジスト（例えば、東京応化工業株式会社製ＭＥＭＳ用永久レジストＴＭＭＲＳ−２０００）等を付与する。そして、フォトリソグラフィー法等によりパターン状に立体成形することによって隔壁５１を形成して設置する。
なお、隔壁５１は、第１電極２０…が形成された第１基板１０の上面ではなく、第２電極４０…が形成された第２基板３０の下面（第２電極４０…が形成されている面）に設置することも可能である。
[6] Partition Installation Step The partition installation step is a step of installing the partition wall 51 on the upper surface of the first substrate 10 on which the first electrodes 20 are formed.
Specifically, for example, a glass paste (for example, a glass paste manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.) is applied to the upper surface of the first substrate 10 on which the first electrodes 20 are formed (the surface on which the first electrodes 20 are formed). The partition wall 51 is installed by screen printing PLS-3124) or the like.
Alternatively, for example, a photoresist (for example, a permanent resist TMMRS for MEMS manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is formed on the upper surface of the first substrate 10 on which the first electrodes 20 are formed (the surface on which the first electrodes 20 are formed). -2000). Then, the partition wall 51 is formed and installed by three-dimensional molding into a pattern by a photolithography method or the like.
The partition 51 is not the upper surface of the first substrate 10 on which the first electrodes 20 are formed, but the lower surface of the second substrate 30 on which the second electrodes 40 are formed (second electrodes 40 are formed). It is also possible to install it on the surface.
［７］ゲル化工程
ゲル化工程は、エレクトロクロミック組成物をゲル化して、ゲル状エレクトロクロミック組成物５２を生成する工程である。
具体的には、例えば、支持電解質と極性溶剤とロイコ染料とを含むエレクトロクロミック組成物を生成して、表示品質劣化抑制剤や吸着剤や白色剤などの添加物を適宜添加する。そして、所定のゲル化剤を添加し、表示品質劣化抑制剤や吸着剤や白色剤などが適宜添加されたエレクトロクロミック組成物をゲル化することによって、ゲル状エレクトロクロミック組成物５２を生成する。
[7] Gelation Step The gelation step is a step of gelling the electrochromic composition to produce the gel electrochromic composition 52.
Specifically, for example, an electrochromic composition containing a supporting electrolyte, a polar solvent, and a leuco dye is generated, and additives such as a display quality deterioration inhibitor, an adsorbent, and a whitening agent are added as appropriate. And the gel-like electrochromic composition 52 is produced | generated by adding a predetermined gelatinizer and gelatinizing the electrochromic composition to which the display quality degradation inhibitor, the adsorbent, the whitening agent, etc. were added suitably.
［８］押し込み工程
押し込み工程は、ゲル状エレクトロクロミック組成物５２を、所定の塗布具を用いて隔壁５１により形成される区画ｒ…内へと押し込むことにより、当該区画ｒ…内へと導入する工程である。
具体的には、例えば、第１電極２０…が形成された第１基板１０に設置されている隔壁５１の上面（第２基板３０側の面）にゲル状エレクトロクロミック組成物５２を載置する。次いで、へら等の所定の塗布具を用いて、隔壁５１の上面に載置されているゲル状エレクトロクロミック組成物５２を、区画ｒ…内へと押し込みながら隔壁５１の上面全体に塗り付けていくことによって、区画ｒ…内へと導入する。そして、区画ｒ…内へと導入されずに隔壁５１の上面に残ったゲル状エレクトロクロミック組成物５２を除去する。これにより、第１電極２０…が形成された第１基板１０の上面にエレクトロクロミック組成物層５０が形成される。
[8] Indentation step In the indentation step, the gel-like electrochromic composition 52 is introduced into the compartment r ... by being pushed into the compartment r ... formed by the partition 51 using a predetermined applicator. It is a process.
Specifically, for example, the gel-like electrochromic composition 52 is placed on the upper surface (surface on the second substrate 30 side) of the partition wall 51 provided on the first substrate 10 on which the first electrodes 20 are formed. . Next, using a predetermined applicator such as a spatula, the gel-like electrochromic composition 52 placed on the upper surface of the partition wall 51 is applied to the entire upper surface of the partition wall 51 while being pushed into the compartment r. As a result, it is introduced into the compartment r. And the gel-like electrochromic composition 52 which was not introduce | transduced into the division r ... but remained on the upper surface of the partition 51 is removed. As a result, the electrochromic composition layer 50 is formed on the upper surface of the first substrate 10 on which the first electrodes 20 are formed.
［９］貼り合わせ工程
貼り合わせ工程は、第１電極２０…が形成された第１基板１０と第２電極４０…が形成された第２基板３０とを、エレクトロクロミック組成物層５０を介して貼り合わせる工程である。
具体的には、例えば、第１電極２０…が形成された第１基板１０の上面（第１電極２０…が形成されている面）と、第２電極４０…が形成された第２基板３０の下面（第２電極４０…が形成されている面）と、が対向するとともに、第１電極２０…が第２電極４０…に対して直交し、かつ、その直交部が画素６０…となるように調整して、当該第１基板１０の上面に形成されたエレクトロクロミック組成物層５０に当該第２基板３０を重ね合せる。そして、この重ね合せたものの側面を、所定の接着剤を用いて、接着封止する。これにより、エレクトロクロミック表示デバイス１００が作製される。
[9] Bonding Step In the bonding step, the first substrate 10 on which the first electrodes 20 are formed and the second substrate 30 on which the second electrodes 40 are formed are interposed via the electrochromic composition layer 50. It is a process of bonding.
Specifically, for example, the upper surface of the first substrate 10 on which the first electrodes 20 are formed (the surface on which the first electrodes 20 are formed) and the second substrate 30 on which the second electrodes 40 are formed. Are opposite to each other, the first electrodes 20 are orthogonal to the second electrodes 40, and the orthogonal portion is the pixel 60. Thus, the second substrate 30 is superimposed on the electrochromic composition layer 50 formed on the upper surface of the first substrate 10. Then, the side surfaces of the superposed ones are adhesively sealed using a predetermined adhesive. Thereby, the electrochromic display device 100 is manufactured.
なお、上記のエレクトロクロミック表示デバイス１００の製造方法は、一例であって、これに限定されるものではない。 In addition, the manufacturing method of said electrochromic display device 100 is an example, Comprising: It is not limited to this.
＜エレクトロクロミック表示デバイスの駆動方法＞
エレクトロクロミック表示デバイス１００は、例えば、パッシブマトリックス駆動によって、以下のように駆動される。
<Driving method of electrochromic display device>
The electrochromic display device 100 is driven as follows by, for example, passive matrix driving.
エレクトロクロミック表示デバイス１００の各画素６０は、第１電極２０…と第２電極４０…とにより挟まれたエレクトロクロミック組成物層５０によって構成される。
エレクトロクロミック表示デバイス１００の表示（発色）は、第１電極２０…と第２電極４０…との間に通電することによってゲル状エレクトロクロミック組成物５２に通電すると、エレクトロクロミック組成物層５０と第２電極４０…との間（第２電極４０の表面）にてゲル状エレクトロクロミック組成物５２が電気化学的な変化を起こすことによって行われる。また、エレクトロクロミック表示デバイス１００の消色は、表示のための通電とは逆方向の通電によって、或いは、表示のための通電を遮断して放置することによって行われるが、表示のための通電とは逆方向の通電の方が、速やかに消去動作を実施することができる。
Each pixel 60 of the electrochromic display device 100 is constituted by an electrochromic composition layer 50 sandwiched between first electrodes 20 and second electrodes 40.
The electrochromic display device 100 displays (colors) when the gel-like electrochromic composition 52 is energized by energizing between the first electrode 20... And the second electrode 40. The gel-like electrochromic composition 52 undergoes an electrochemical change between the two electrodes 40 (the surface of the second electrode 40). Further, the erasing of the electrochromic display device 100 is performed by energization in the direction opposite to the energization for display or by shutting off the energization for display and leaving it alone. In the reverse direction, the erasing operation can be carried out more quickly.
特に、本実施形態のエレクトロクロミック表示デバイス１００における第２電極４０は、第１領域Ｒ１〜第４領域Ｒ４の４つの領域に分割されており、第２電極４０の各領域（第１領域Ｒ１〜第４領域Ｒ４）はそれぞれに対応する金属電線（第１金属電線４１〜第４金属電線４４）により通電がなされるように構成されている。つまり、４つの領域（第１領域Ｒ１〜第４領域Ｒ４）ごとにゲル状エレクトロクロミック組成物５２に対する通電を行い、それら４つの領域（第１領域Ｒ１〜第４領域Ｒ４）ごとの表示（発色）を独立して行うことができるように構成されている。 In particular, the second electrode 40 in the electrochromic display device 100 of the present embodiment is divided into four regions, a first region R1 to a fourth region R4, and each region (first region R1 to R1) of the second electrode 40 is divided. The fourth region R4) is configured to be energized by the corresponding metal wires (first metal wire 41 to fourth metal wire 44). That is, the gel-like electrochromic composition 52 is energized for each of the four regions (first region R1 to fourth region R4), and display (color development) for each of these four regions (first region R1 to fourth region R4) is performed. ) Can be performed independently.
ここで、従来のエレクトロクロミック表示デバイスにおいては、１画面分の表示を行う場合に、第１電極２０を７６８本スキャンするパッシブマトリックス駆動を要していた。これに対し、本実施形態のエレクトロクロミック表示デバイス１００においては、４つの領域（第１領域Ｒ１〜第４領域Ｒ４）を同時にスキャンするように、各領域の第１電極２０を１９２本スキャンするパッシブマトリックス駆動によって、１画面分の表示を行うことができる。
このように、本実施形態のエレクトロクロミック表示デバイス１００では、全ての第１電極２０のスキャンに要する時間を従来の四分の一にすることができ、１画面の表示に要する時間を四分の一にすることが可能になる。
Here, in the conventional electrochromic display device, when performing display for one screen, passive matrix driving for scanning 768 first electrodes 20 is required. On the other hand, in the electrochromic display device 100 according to the present embodiment, the 192 first electrodes 20 in each region are passively scanned so that four regions (first region R1 to fourth region R4) are simultaneously scanned. One screen can be displayed by matrix driving.
Thus, in the electrochromic display device 100 of this embodiment, the time required for scanning all the first electrodes 20 can be reduced to a quarter of the conventional time, and the time required for displaying one screen can be reduced to a quarter. It becomes possible to be one.
なお、エレクトロクロミック表示デバイス１００の発色濃度は、通電する電気量によって任意に調節することができる。さらに、通電は、電流の連続的な供給によっても、電流の間欠的な供給によっても可能である。電流の間欠的な供給とは、例えば、パルスによる駆動を指す。
また、エレクトロクロミック表示デバイス１００の発色は、通電の遮断によって消色するが、電子ペーパー等に適用する場合には、発色を維持する必要がある。エレクトロクロミック表示デバイス１００の発色の維持は、例えば、表示のために印加した電流よりも小さい電流の供給によって行うことができる。連続的な電流の供給であれば、発色の維持は、電圧または電流を発色時の半分以下にして行うことができる。また、間欠的な電流の供給、すなわちパルス駆動であれば、発色の維持は、例えば、通電期間を発色時よりも短くしたり、パルスの強度や幅を発色時よりも小さくしたり、パルスの間隔を発色時よりも大きくしたりして行うことができる。
Note that the color density of the electrochromic display device 100 can be arbitrarily adjusted by the amount of electricity to be applied. Further, energization can be performed by continuous supply of current or intermittent supply of current. The intermittent supply of current refers to driving by pulses, for example.
In addition, the color of the electrochromic display device 100 is erased by cutting off the energization, but it is necessary to maintain the color when applied to electronic paper or the like. The color development of the electrochromic display device 100 can be maintained, for example, by supplying a current smaller than the current applied for display. If the current is supplied continuously, the color development can be maintained at a voltage or current that is less than half that during color development. In addition, in the case of intermittent current supply, that is, pulse driving, for example, maintenance of color development can be achieved by, for example, shortening the energization period compared to the time of color development, reducing the intensity or width of the pulse smaller than that during color development, The interval can be made larger than that during color development.
＜実施例＞
以下に、具体的な実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
<Example>
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples, but the present invention is not limited thereto.
（エレクトロクロミック表示デバイスの作製）
第１基板１０として、０．７ｍｍ厚の矩形状の無アルカリガラス基板を用い、その一方の面（上面）に、金（Ａｕ）の薄膜をスパッタ形成した。スパッタされた金の薄膜は、膜厚１００ｎｍであった。スパッタ形成された金の薄膜を、エッチング法を用いて、ストライプ幅１０μｍ、ピッチ１５０μｍとして、金属電極部２１をストライプ状にパターン形成した。
(Production of electrochromic display devices)
As the first substrate 10, a 0.7 mm thick rectangular non-alkali glass substrate was used, and a thin film of gold (Au) was formed on one surface (upper surface) thereof by sputtering. The sputtered gold thin film had a thickness of 100 nm. The sputter-formed gold thin film was patterned into a stripe shape with a stripe width of 10 μm and a pitch of 150 μm using an etching method.
次いで、金属電極部２１のストライプパターンの上に、一面的にＩＴＯ膜をスパッタ形成した。スパッタ形成されたＩＴＯ膜は、膜厚２００ｎｍ、表面抵抗１０Ω／□であった。スパッタ形成されたＩＴＯ膜を、エッチング法を用い、ストライプ幅１４０μｍ、ピッチ１５０μｍとして、ストライプ状にパターン形成することにより、第１電極２０…を形成した。 Next, an ITO film was formed on one surface of the stripe pattern of the metal electrode portion 21 by sputtering. The sputter-formed ITO film had a thickness of 200 nm and a surface resistance of 10Ω / □. A first electrode 20 was formed by patterning the sputtered ITO film in a stripe pattern with an etching method and a stripe width of 140 μm and a pitch of 150 μm.
また、第２基板３０として、０．７ｍｍ厚の矩形状の無アルカリガラス基板を用い、その一方の面（下面）に、金（Ａｕ）の薄膜をスパッタ形成した。スパッタされた金の薄膜は、膜厚１００ｎｍであった。スパッタ形成された金の薄膜を、エッチング法を用いて、ストライプ幅１０μｍ、ピッチ７５μｍとして、金属電線をストライプ状にパターン形成するとともに、それら金属電線の長手方向の中央部分を間隔１０μｍになるように切断し、金属電線を左右に振り分けるようにして、金属電線（第１金属電線４１〜第４金属電線４４）を形成した。 Further, a 0.7 mm thick rectangular non-alkali glass substrate was used as the second substrate 30, and a gold (Au) thin film was formed on one surface (lower surface) by sputtering. The sputtered gold thin film had a thickness of 100 nm. The sputter-formed gold thin film is patterned by using an etching method with a stripe width of 10 μm and a pitch of 75 μm so that the metal wires are patterned in stripes, and the central portions of the metal wires in the longitudinal direction are spaced by 10 μm. The metal wires (first metal wire 41 to fourth metal wire 44) were formed by cutting and distributing the metal wires left and right.
次いで、金属電線（第１金属電線４１〜第４金属電線４４）のストライプパターンの上に、一面的に二酸化ケイ素の絶縁層をスパッタ形成し、そのスパッタ形成された絶縁層をエッチング法によりパターニングして、各金属電線（第１金属電線４１〜第４金属電線４４）をそれぞれ部分的に被覆する絶縁膜４５を形成した。 Next, an insulating layer of silicon dioxide is sputtered over the stripe pattern of the metal wire (first metal wire 41 to fourth metal wire 44), and the sputtered insulating layer is patterned by an etching method. Thus, an insulating film 45 partially covering each of the metal wires (first metal wire 41 to fourth metal wire 44) was formed.
次いで、金属電線（第１金属電線４１〜第４金属電線４４）および絶縁膜４５の上に、一面的にＩＴＯ膜をスパッタ形成した。スパッタ形成されたＩＴＯ膜は、膜厚２００ｎｍ、表面抵抗１０Ω／□であった。スパッタ形成されたＩＴＯ膜を、エッチング法を用い、ストライプ幅１４０μｍ、ピッチ１５０μｍとして、ストライプ状にパターン形成するとともに、そのストライプ方向（長手方向）にＩＴＯ膜を四等分して、それぞれの間隔が１０μｍになるように分割された第２電極４０…を形成した（図４参照）。 Next, an ITO film was formed on the entire surface of the metal wire (first metal wire 41 to fourth metal wire 44) and the insulating film 45 by sputtering. The sputter-formed ITO film had a thickness of 200 nm and a surface resistance of 10Ω / □. The sputter-formed ITO film is patterned into a stripe shape with a stripe width of 140 μm and a pitch of 150 μm using an etching method, and the ITO film is divided into four equal parts in the stripe direction (longitudinal direction). The second electrodes 40... Divided to 10 μm were formed (see FIG. 4).
次いで、第１電極２０…が形成された第１基板１０の上面に、東京応化工業株式会社製ＭＥＭＳ用永久レジストＴＭＭＲＳ−２０００を、スピナーを用いて付与し、所定のマスクを用いて、フォトリソグラフィー法によりパターン状に立体成形することによって隔壁５１を形成して設置した。 Next, a permanent resist TMMRS-2000 for MEMS manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. is applied to the upper surface of the first substrate 10 on which the first electrodes 20 are formed using a spinner, and photolithography is performed using a predetermined mask. The partition wall 51 was formed and installed by three-dimensional molding into a pattern by the method.
次いで、所定の添加物（表示品質劣化抑制剤や吸着剤や白色剤など）が添加されたエレクトロクロミック組成物に、所定のゲル化剤を添加して、ゲル状エレクトロクロミック組成物５２（以下「ゲル状エレクトロクロミック組成物Ａ」と呼ぶ）を生成した。 Next, a predetermined gelling agent is added to the electrochromic composition to which a predetermined additive (display quality degradation inhibitor, adsorbent, white agent, etc.) is added, and the gelled electrochromic composition 52 (hereinafter “ A gel-like electrochromic composition A ”).
ゲル状エレクトロクロミック組成物Ａの組成は、
支持電解質：ＴＢＡＦＢ（テトラｎブチルアンモニウムテトラフルオロボレート，（ｎ−Ｃ４Ｈ９）４ＮＢＦ４）１６０ｍｇ、
極性溶剤：ＤＭＳＯ（ジメチルスルフォキシド）１．０ｇ（チタニア分散液用溶媒ＤＭＳＯを０．４ｇ含む）と、ＰＣ（プロピレンカーボネート）１．０ｇ（チタニア分散液用溶媒ＰＣを０．４ｇ含む）と、の混合溶剤、
ロイコ染料：ＢＬＡＣＫ １００（山田化学工業（株）製）３００ｍｇ、
第１の表示品質劣化抑制化合物：2,5-ジ-tert-アミル-1,4-ハイドロキノン １８８ｍｇ、
第２の表示品質劣化抑制化合物：フェロセン ２．５ｍｇ、
第３の表示品質劣化抑制化合物：ベンゾイルアセトン １２２ｍｇ、
白色剤分散液：（チタニア（ＴｉＯ２，石原産業株式会社製ＣＲ−９３）１０ｇを、バインダーとしてポリビニルブチラール（積水化学エスレックＢＨ３）０．２ｇを含む溶媒（ＤＭＳＯ１０ｇ及びＰＣ１０ｇ）の混合溶剤中にボールミル分散）１．２ｇ、
吸着剤分散液：（酸化アルミニウム（住友化学製ＫＣ５０１）７．５ｇを、溶媒（ＤＭＳＯ２０ｇ及びＰＣ２０ｇ）の混合溶剤中に分散）４０ｍｇ、
バインダー：ポリビニルブチラール ０．０５ｇ、
ゲル化剤：（上記の式（１））０．０６ｇ、である。
The composition of the gel electrochromic composition A is:
Supporting electrolyte: TBAFB (tetra-n-butylammonium tetrafluoroborate, (n-C 4 H 9 ) 4 NBF 4) 160mg,
Polar solvent: 1.0 g of DMSO (dimethyl sulfoxide) (containing 0.4 g of titania dispersion solvent DMSO) and 1.0 g of PC (propylene carbonate) (containing 0.4 g of titania dispersion solvent PC) , Mixed solvent,
Leuco dye: BLACK 100 (manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd.) 300 mg,
First display quality deterioration inhibiting compound: 2,5-di-tert-amyl-1,4-hydroquinone 188 mg,
Second display quality degradation inhibiting compound: ferrocene 2.5 mg,
Third display quality deterioration inhibiting compound: benzoylacetone 122 mg,
White agent dispersion: Ball mill in a mixed solvent of a solvent (DMSO 10 g and PC 10 g) containing 10 g of titania (TiO 2 , CR-93 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) and 0.2 g of polyvinyl butyral (Sekisui Chemical ESREC BH3) as a binder Dispersion) 1.2 g,
Adsorbent dispersion liquid: (dispersed in a mixed solvent of solvent (DMSO20g and PC20g) 7.5g of aluminum oxide (Sumitomo Chemical KC501)) 40mg,
Binder: Polyvinyl butyral 0.05g,
Gelling agent: (above formula (1)) 0.06 g.
次いで、第１電極２０…が形成された第１基板１０に設置されている隔壁５１の上面にゲル状エレクトロクロミック組成物Ａを載置し、へらを用いて、隔壁５１の上面に載置されているゲル状エレクトロクロミック組成物５２を、区画ｒ…内へと押し込みながら隔壁５１の上面全体に塗り付けていくことによって、区画ｒ…内へと導入した。そして、区画ｒ…内へと導入されずに隔壁５１の上面に残ったゲル状エレクトロクロミック組成物５２を除去して、第１電極２０…が形成された第１基板１０の上面にエレクトロクロミック組成物層５０を形成した。 Next, the gel-like electrochromic composition A is placed on the upper surface of the partition wall 51 provided on the first substrate 10 on which the first electrodes 20 are formed, and is placed on the upper surface of the partition wall 51 using a spatula. The gel-like electrochromic composition 52 is introduced into the compartment r... By being applied to the entire upper surface of the partition wall 51 while being pushed into the compartment r. Then, the gel-like electrochromic composition 52 left on the upper surface of the partition wall 51 without being introduced into the compartments r is removed, and the electrochromic composition is formed on the upper surface of the first substrate 10 on which the first electrodes 20 are formed. A physical layer 50 was formed.
次いで、第１電極２０…が形成された第１基板１０の上面と、第２電極４０…が形成された第２基板３０の下面と、が対向するとともに、第１電極２０…が第２電極４０…に対して直交し、かつ、その直交部が画素６０…となるように調整して、当該第１基板１０の上面に形成されたエレクトロクロミック組成物層５０に当該第２基板３０を重ね合せた。そして、この重ね合せたものの４つの側面（厚み方向に平行する面）を、所定の接着剤（例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂）で接着封止し、エレクトロクロミック表示デバイス１００（以下「表示デバイスＡ」と呼ぶ）を作製した。 Next, the upper surface of the first substrate 10 on which the first electrodes 20 are formed and the lower surface of the second substrate 30 on which the second electrodes 40 are formed face each other, and the first electrodes 20 are the second electrodes. The second substrate 30 is overlaid on the electrochromic composition layer 50 formed on the upper surface of the first substrate 10 by adjusting so as to be orthogonal to 40. Combined. Then, the four side surfaces (surfaces parallel to the thickness direction) of this superposed material are adhesively sealed with a predetermined adhesive (for example, thermosetting epoxy resin), and electrochromic display device 100 (hereinafter “display device”). A)).
また、比較例１として、エレクトロクロミック組成物をゲル化していない点のみが表示デバイスＡとは異なるエレクトロクロミック表示デバイス（以下「表示デバイスＢ」と呼ぶ）を作製した。 Further, as Comparative Example 1, an electrochromic display device (hereinafter referred to as “display device B”) different from the display device A only in that the electrochromic composition was not gelled was produced.
また、比較例２として、第１電極２０…が形成された第１基板１０の上面と、第２電極４０…が形成された第２基板３０の下面と、の間に、スペーサ（粒状体（積水化学製ミクロパールＧＳ−２６０（粒径６０μｍ）））を挟み、そのスペーサにゲル状エレクトロクロミック組成物Ａを染み込ませた点のみが表示デバイスＡとは異なるエレクトロクロミック表示デバイス（以下「表示デバイスＣ」と呼ぶ）を作製した。 Further, as Comparative Example 2, a spacer (granular body (granular body)) is formed between the upper surface of the first substrate 10 on which the first electrodes 20 are formed and the lower surface of the second substrate 30 on which the second electrodes 40 are formed. Sekisui Chemical Micropearl GS-260 (particle size 60 μm))), and the electrochromic display device (hereinafter “display device”) different from the display device A only in that the gel electrochromic composition A is infiltrated into the spacer. C ”).
また、比較例３として、第１電極２０…が形成された第１基板１０の上面と、第２電極４０…が形成された第２基板３０の下面と、の間に、スペーサ（粒状体（積水化学製ミクロパールＧＳ−２６０（粒径６０μｍ）））を挟み、そのスペーサにゲル化されていないエレクトロクロミック組成物を染み込ませ点のみが表示デバイスＡとは異なるエレクトロクロミック表示デバイス（以下「表示デバイスＤ」と呼ぶ）を作製した。 As Comparative Example 3, a spacer (granular body (granular body)) is formed between the upper surface of the first substrate 10 on which the first electrodes 20 are formed and the lower surface of the second substrate 30 on which the second electrodes 40 are formed. Sekisui Chemical's Micropearl GS-260 (particle size 60 μm)) is sandwiched between the display device A and the electrochromic display device (hereinafter “display”). Device D)).
（表示動作）
表示デバイスＡ〜Ｄの、ライン電極（第１電極２０）７６８ライン（７６８本の金属電極部２１）、およびデータ電極（第２電極４０）１０２４ライン（各１０２４本の金属電線（第１金属電線４１〜第４金属電線４４））の部分にパターン作製回路を接続した。
次いで、パッシブマトリクス駆動法を用いて、多電位法により表示のための通電を行った。具体的には、発色させる画素を選択し、その選択した画素６０（選択画素）を形成する第１電極２０を負電極、当該選択画素を形成する第２電極４０を正電極として、１ライン当たり１ミリ秒の速度で、当該選択画素を形成する電極間に第１電位差の電圧を印加することにより、当該選択画素を発色させるとともに、当該選択画素以外の画素（非選択画素）を形成する第１電極２０を正電極、当該非選択画素を形成する第２電極４０を負電極として、１ライン当たり１ミリ秒の速度で、当該非選択画素を形成する電極間に、第１電位差よりも小さく通電が生じない第２電位差の電圧を印加することにより、当該非選択画素の状態を非表示状態に維持することによって、エレクトロクロミック表示デバイス１００に画像（文字パターン）を表示させた。
特に、データ電極（第２電極４０）に対応する４つの領域（第１領域Ｒ１〜第４領域Ｒ４）を同時にスキャンするように、１ライン当たり１ミリ秒の速度で各領域（第１領域Ｒ１〜第４領域Ｒ４）のライン電極（第１電極２０）を１９２本スキャンするパッシブマトリックス駆動によって、０．１９２秒間で表示パターンを形成した。
(Display operation)
768 lines (768 metal electrode portions 21) and data electrodes (second electrode 40) 1024 lines (1024 metal wires (first metal wires each) of display devices A to D) A pattern production circuit was connected to the portions 41 to 4) of the fourth to fourth metal wires 44)).
Next, energization for display was performed by a multipotential method using a passive matrix driving method. Specifically, a pixel to be colored is selected, the first electrode 20 that forms the selected pixel 60 (selected pixel) is a negative electrode, and the second electrode 40 that forms the selected pixel is a positive electrode. By applying a voltage of the first potential difference between the electrodes forming the selected pixel at a speed of 1 millisecond, the selected pixel is colored and a pixel other than the selected pixel (non-selected pixel) is formed. The first electrode 20 is a positive electrode, the second electrode 40 that forms the non-selected pixel is a negative electrode, and is smaller than the first potential difference between the electrodes that form the non-selected pixel at a rate of 1 millisecond per line. An image (character pattern) is displayed on the electrochromic display device 100 by applying the voltage of the second potential difference that is not energized to maintain the state of the non-selected pixel in the non-display state. It was.
In particular, each region (first region R1) is scanned at a rate of 1 millisecond per line so that four regions (first region R1 to fourth region R4) corresponding to the data electrode (second electrode 40) are simultaneously scanned. A display pattern was formed in 0.192 seconds by passive matrix driving of scanning 192 line electrodes (first electrodes 20) in the fourth region R4).
（消去動作）
次いで、表示と反対方向に通電、すなわち消去のための通電を行った。具体的には、前記選択画素を形成する第１電極２０を正電極、当該選択画素を形成する第２電極４０を負電極として、１ライン当たり１ミリ秒の速度で、当該選択画素を形成する電極間に所定の電位差の電圧（具体的には、電極間に電流が流れる電極間電圧）を印加することにより、当該選択画素の発色を消去するとともに、前記非選択画素を形成する第１電極２０を負電極（正電極であってもよい。）、当該非選択画素を形成する第２電極４０を正電極（負電極であってもよい。）として、１ライン当たり１ミリ秒の速度で、当該非選択画素を形成する電極間に所定の電位差の電圧（具体的には、電極間に電流が流れない電極間電圧）を印加することにより、当該非選択画素の状態を非表示状態に維持することによって、エレクトロクロミック表示デバイス１００に表示されている画像（文字パターン）を消去した。
(Erase operation)
Next, energization in the direction opposite to the display, that is, energization for erasing was performed. Specifically, the selection pixel is formed at a rate of 1 millisecond per line, with the first electrode 20 forming the selection pixel being a positive electrode and the second electrode 40 forming the selection pixel being a negative electrode. By applying a voltage having a predetermined potential difference between electrodes (specifically, an interelectrode voltage in which a current flows between the electrodes), the coloring of the selected pixel is erased, and the first electrode that forms the non-selected pixel 20 is a negative electrode (may be a positive electrode), and the second electrode 40 forming the non-selected pixel is a positive electrode (may be a negative electrode) at a rate of 1 millisecond per line. By applying a voltage having a predetermined potential difference between electrodes forming the non-selected pixel (specifically, an inter-electrode voltage in which no current flows between the electrodes), the state of the non-selected pixel is changed to a non-display state. By maintaining electrochromi Erasing the image (character patterns) displayed on click display device 100.
（視覚による評価）
表示デバイスＡ（実施例）においては、図６に示すように、上記表示動作によって、解像度の高い文字パターンを高速で表示させることができた。これにより、表示デバイスＡ（実施例）においては、高速（本実施例では１ミリ秒／ライン）で駆動しても、滲みの少ない鮮明な文字パターンを表示できることが分かった。
また、表示デバイスＡ（実施例）においては、上記消去動作によって、表示された文字パターンを確実に消去することができた。
(Visual evaluation)
In the display device A (Example), as shown in FIG. 6, a high-resolution character pattern could be displayed at high speed by the display operation. As a result, it was found that the display device A (Example) can display a clear character pattern with less blur even when driven at a high speed (1 ms / line in this example).
Further, in the display device A (Example), the displayed character pattern could be surely erased by the erasing operation.
エレクトロクロミック組成物がゲル化されていない表示デバイスＢ（比較例１）においては、図７に示すように、上記表示動作によって、解像度の高い文字パターンを高速で表示させることができなかった。これにより、表示デバイスＢ（比較例１）においては、高速で駆動すると、滲みの多い不鮮明な文字パターンが表示されることが分かった。これは、エレクトロクロミック組成物がゲル化されていないため、エレクトロクロミック組成物を構成するロイコ染料等の構成成分やエレクトロクロミック組成物に添加した添加物などが区画ｒ…内で沈殿したり、エレクトロクロミック組成物を区画ｒ…内に導入する際に気泡が混入したりしたこと等が原因であると考えられる。 In the display device B (Comparative Example 1) in which the electrochromic composition is not gelled, as shown in FIG. 7, a character pattern with high resolution could not be displayed at a high speed by the display operation. As a result, it was found that in the display device B (Comparative Example 1), when driven at a high speed, an unclear character pattern with many blurs is displayed. This is because the electrochromic composition is not gelled, so components such as a leuco dye constituting the electrochromic composition, additives added to the electrochromic composition, etc. are precipitated in the compartment r. This is considered to be caused by bubbles mixed in when introducing the chromic composition into the compartment r.
隔壁５１を備えていない表示デバイスＣ（比較例２）においては、図８に示すように、上記表示動作によって、解像度の高い文字パターンを高速で表示させることができなかった。これは、隔壁５１を備えていないため、画素間のクロストークを抑制できなかったこと等が原因であると考えられる。
ここで、表示デバイスＡ（実施例）において、隔壁５１により形成される区画ｒ…の平面視におけるサイズおよび位置は、画素６０…と同期していないが、画素間のクロストークが抑制されている。これにより、本発明のような隔壁５１を備えることで、区画が画素と同期した隔壁、すなわち緻密で煩雑な工程を経て形成される隔壁を備えなくても、画素間のクロストークを抑制できることが分かった。
In the display device C (Comparative Example 2) that does not include the partition walls 51, as shown in FIG. 8, a character pattern having a high resolution could not be displayed at a high speed by the display operation. This is considered to be because, for example, the crosstalk between the pixels cannot be suppressed because the partition wall 51 is not provided.
Here, in the display device A (example), the size and position in plan view of the section r formed by the partition wall 51 are not synchronized with the pixels 60, but crosstalk between the pixels is suppressed. . Thus, by providing the partition wall 51 as in the present invention, crosstalk between pixels can be suppressed without the partition having a partition synchronized with the pixel, that is, a partition wall formed through a dense and complicated process. I understood.
また、隔壁５１を備えていない表示デバイスＣ（比較例２）においては、表示デバイスＢ（比較例１）よりは滲みの少ない鮮明な文字パターンを表示することができた。これにより、隔壁５１を設けるよりも、エレクトロクロミック組成物をゲル化した方が、滲みの少ない鮮明な文字パターンを表示できることが分かった。これは、エレクトロクロミック組成物をゲル化することによって、エレクトロクロミック組成物層５０中でエレクトロクロミック組成物を構成する構成成分やエレクトロクロミック組成物に添加した添加物などが沈殿したり、エレクトロクロミック組成物層５０中に気泡が混入したりすること等を抑制できるためであると考えられる。 Moreover, in the display device C (Comparative Example 2) that does not include the partition wall 51, a clear character pattern with less bleeding than the display device B (Comparative Example 1) could be displayed. Thereby, it turned out that the direction which gelatinized the electrochromic composition can display a clear character pattern with few blurs rather than providing the partition 51. FIG. This is because, by gelling the electrochromic composition, components constituting the electrochromic composition in the electrochromic composition layer 50, additives added to the electrochromic composition, and the like are precipitated, or the electrochromic composition This is considered to be because bubbles can be prevented from being mixed into the physical layer 50.
エレクトロクロミック組成物がゲル化されておらず隔壁５１も備えられていない表示デバイスＣ（比較例３）においては、図９に示すように、比較例１や比較例２よりも滲みの多い不鮮明な文字パターンが表示されることが分かった。 In the display device C (Comparative Example 3) in which the electrochromic composition is not gelled and the partition wall 51 is not provided, as shown in FIG. 9, the blur is more blurred than in Comparative Example 1 and Comparative Example 2. It turns out that a character pattern is displayed.
以上説明した本発明のエレクトロクロミック表示デバイス１００によれば、第１基板１０と、第１基板１０の上面に設けられた第１電極２０と、第１基板１０の上方に当該第１基板１０に対向して設けられ、透明な材料により形成された第２基板３０と、第２基板３０の下面に設けられ、少なくとも一部が透明な電極材料により形成された第２電極４０と、第１基板１０と第２基板３０との間に設けられたエレクトロクロミック組成物層５０と、を備え、エレクトロクロミック組成物層５０は、ゲル化されたゲル状エレクトロクロミック組成物５２を備えている。
したがって、エレクトロクロミック組成物がゲル化されているので、エレクトロクロミック組成物を構成する構成成分やエレクトロクロミック組成物に添加した添加物などがエレクトロクロミック組成物層５０中で沈殿したり、エレクトロクロミック組成物層５０中に気泡が混入したりすること等を抑制することができ、エレクトロクロミック表示デバイス１００を高速で駆動した場合であっても、高品質な表示を実現することが可能となる。
According to the electrochromic display device 100 of the present invention described above, the first substrate 10, the first electrode 20 provided on the upper surface of the first substrate 10, and the first substrate 10 above the first substrate 10. A second substrate 30 provided oppositely and formed of a transparent material, a second electrode 40 provided on the lower surface of the second substrate 30 and at least partially formed of a transparent electrode material, and the first substrate 10 and an electrochromic composition layer 50 provided between the second substrate 30 and the electrochromic composition layer 50 includes a gelled electrochromic composition 52 that is gelled.
Therefore, since the electrochromic composition is gelled, components constituting the electrochromic composition, additives added to the electrochromic composition, etc. are precipitated in the electrochromic composition layer 50, or the electrochromic composition. Air bubbles can be prevented from being mixed into the physical layer 50, and high-quality display can be realized even when the electrochromic display device 100 is driven at high speed.
また、以上説明した本発明のエレクトロクロミック表示デバイス１００によれば、エレクトロクロミック組成物層５０は、第１基板１０と第２基板３０との間の空間を、第１基板１０および第２基板３０に対して略垂直方向に貫通する複数の区画ｒに仕切る隔壁５１を備え、ゲル状エレクトロクロミック組成物５２は、区画ｒ…内に導入されている。
したがって、ゲル状エレクトロクロミック組成物５２を、隔壁５１により形成される区画ｒ…内に導入するだけで、画素間のクロストークを抑制できるため、エレクトロクロミック表示デバイス１００を高速で駆動した場合であっても、より高品質な表示を実現することが可能となる。
In addition, according to the electrochromic display device 100 of the present invention described above, the electrochromic composition layer 50 has a space between the first substrate 10 and the second substrate 30 in the first substrate 10 and the second substrate 30. The partition wall 51 is partitioned into a plurality of sections r penetrating in a substantially vertical direction, and the gel-like electrochromic composition 52 is introduced into the sections r.
Therefore, since the crosstalk between the pixels can be suppressed only by introducing the gel-like electrochromic composition 52 into the sections r formed by the partition walls 51, the electrochromic display device 100 is driven at a high speed. However, higher quality display can be realized.
また、以上説明した本発明のエレクトロクロミック表示デバイス１００の製造方法によれば、エレクトロクロミック組成物をゲル化してゲル状エレクトロクロミック組成物５２を生成するゲル化工程と、ゲル状エレクトロクロミック組成物５２を、所定の塗布具を用いて隔壁５１の第１基板１０側または第２基板３０側の面から区画ｒ…内へと押し込むことにより、当該区画ｒ…内へと導入する押し込み工程と、を有している。
すなわち、ゲル状エレクトロクロミック組成物５２を、所定の塗布具を用いて区画ｒ…内へと押し込むようにして当該区画ｒ…内へと導入するので、エレクトロクロミック組成物層５０中に気泡が混入したりすること等を抑制することができる。したがって、高速で駆動した場合であっても、高品質な表示を実現することが可能なエレクトロクロミック表示デバイス１００を製造することができる。
Moreover, according to the manufacturing method of the electrochromic display device 100 of this invention demonstrated above, the gelling process which gelatinizes an electrochromic composition and produces | generates the gel-like electrochromic composition 52, and the gel-like electrochromic composition 52 Pushing into the compartment r... From the surface of the partition wall 51 on the first substrate 10 side or the second substrate 30 side using a predetermined applicator. Have.
That is, since the gel-like electrochromic composition 52 is introduced into the compartment r ... by being pushed into the compartment r ... using a predetermined applicator, bubbles are mixed in the electrochromic composition layer 50. Or the like can be suppressed. Therefore, even when driven at a high speed, the electrochromic display device 100 capable of realizing a high-quality display can be manufactured.
また、以上説明した本発明のエレクトロクロミック表示デバイス１００によれば、第２電極４０に関する４つの領域（第１領域Ｒ１〜第４領域Ｒ４）を同時にスキャンするように、各領域の第１電極２０を１９２本スキャンするパッシブマトリックス駆動によって、１画面分の表示を行うことができる。これにより、従来のエレクトロクロミック表示デバイスにおいて、１画面分の表示に、第１電極２０を７６８本スキャンするパッシブマトリックス駆動に要していた時間を四分の一にすることができる。
具体的には、１ライン当たり１ミリ秒の速度で、第１電極２０を７６８本スキャンした場合、０．７６８秒間で１画面分の表示パターンを形成することに対し、本発明のように、各領域（第１領域Ｒ１〜第４領域Ｒ４）の第１電極２０を１９２本スキャンすることによっては、０．１９２秒間で１画面分の表示パターンを形成することができる。
このように、本発明のエレクトロクロミック表示デバイス１００では、全ての第１電極２０のスキャンに要する時間を従来の四分の一にすることができ、１画面の表示に要する時間を四分の一にすることが可能になる。そして、エレクトロクロミック表示デバイス１００は、１画面あたりの表示に要する時間を短縮することによって、より早く画面の表示を切り替えることが可能になる。
つまり、このエレクトロクロミック表示デバイス１００は、より早い画面の切り替えが可能な表示デバイスとして機能することができる。
Further, according to the electrochromic display device 100 of the present invention described above, the first electrode 20 of each region is scanned so that four regions (the first region R1 to the fourth region R4) related to the second electrode 40 are simultaneously scanned. One screen can be displayed by passive matrix driving that scans 192 lines. Thereby, in the conventional electrochromic display device, the time required for the passive matrix driving for scanning 768 first electrodes 20 to display one screen can be reduced to a quarter.
Specifically, when 768 scans of the first electrode 20 are scanned at a rate of 1 millisecond per line, a display pattern for one screen is formed in 0.768 seconds. By scanning 192 first electrodes 20 in each region (first region R1 to fourth region R4), a display pattern for one screen can be formed in 0.192 seconds.
Thus, in the electrochromic display device 100 of the present invention, the time required to scan all the first electrodes 20 can be reduced to a quarter of the conventional time, and the time required to display one screen can be reduced to a quarter. It becomes possible to. The electrochromic display device 100 can switch the screen display more quickly by reducing the time required for display per screen.
That is, the electrochromic display device 100 can function as a display device capable of switching screens faster.
〔第２実施形態〕
次に、本発明に係るエレクトロクロミック表示デバイスの第２実施形態について説明する。なお、第１実施形態と同様の構成については、同符号を付して説明を割愛する。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment of the electrochromic display device according to the present invention will be described. In addition, about the structure similar to 1st Embodiment, the same code | symbol is attached | subjected and description is omitted.
本実施形態におけるエレクトロクロミック表示デバイス１０１は、例えば、図１０〜図１２に示すように、第１基板１０と、第１基板１０の上面に設けられた第１電極２０…と、第１基板１０の上方に第１基板１０に対向して設けられた第２基板３０と、第２基板３０の下面に設けられた第２電極４０…と、第１基板１０と第２基板３０との間に設けられたエレクトロクロミック組成物層５０と、を備えて構成される。 The electrochromic display device 101 in the present embodiment includes, for example, as shown in FIGS. 10 to 12, a first substrate 10, first electrodes 20 provided on the upper surface of the first substrate 10, and the first substrate 10. Between the first substrate 10 and the second substrate 30, the second substrate 30 provided opposite to the first substrate 10, the second electrodes 40 provided on the lower surface of the second substrate 30, and the second substrate 30. And an electrochromic composition layer 50 provided.
そして、図１０〜図１３に示すように、第２電極４０と第２基板３０との間には、第２電極４０毎に、各第２電極４０に沿って延在する金属電極部としての金属電線（第１金属電線４１〜第４金属電線４４）が設けられている。
第２金属電線４２は、第２基板３０の下面に設けられており、その第２金属電線４２に重なるように第１金属電線４１が設けられている。
また、第３金属電線４３は、第２基板３０の下面に設けられており、その第３金属電線４３に重なるように第４金属電線４４が設けられている。
そして、これら金属電線（第１金属電線４１〜第４金属電線４４）は、第２電極４０によって覆われている。
As shown in FIGS. 10 to 13, a metal electrode portion extending along each second electrode 40 is provided for each second electrode 40 between the second electrode 40 and the second substrate 30. Metal wires (first metal wire 41 to fourth metal wire 44) are provided.
The second metal wire 42 is provided on the lower surface of the second substrate 30, and the first metal wire 41 is provided so as to overlap the second metal wire 42.
Further, the third metal electric wire 43 is provided on the lower surface of the second substrate 30, and the fourth metal electric wire 44 is provided so as to overlap the third metal electric wire 43.
These metal wires (first metal wire 41 to fourth metal wire 44) are covered with the second electrode 40.
具体的には、図１０や図１３に示すように、第２金属電線４２は、第２基板３０の一方の端部から当該第２基板３０の中央側に延在し、第２電極４０の第１領域Ｒ１から第２領域Ｒ２までに亘って配されている。また、第１金属電線４１は、第２金属電線４２に重なる配置で第２基板３０の一方の端部から第２電極４０の第１領域Ｒ１までに亘って配されている。つまり、第１金属電線４１と第２金属電線４２は、第２基板３０の下面に積層された状態で設けられている。
また、図１０や図１３に示すように、第３金属電線４３は、第２基板３０の他方の端部から当該第２基板３０の中央側に延在し、第２電極４０の第４領域Ｒ４から第３領域Ｒ３までに亘って配されている。また、第４金属電線４４は、第３金属電線４３に重なる配置で第２基板３０の他方の端部から第２電極４０の第４領域Ｒ４までに亘って配されている。つまり、第４金属電線４４と第３金属電線４３は、第２基板３０の下面に積層された状態で設けられている。
なお、金属電線（第１金属電線４１〜第４金属電線４４）は、第２電極４０の縁側に設けられていることが好ましい。金属電線（第１金属電線４１〜第４金属電線４４）は、光透過性を有していないので、第２電極４０の縁側に設けられている方が、画素６０（エレクトロクロミック組成物層５０）の発色による表示の妨げになりにくく、好適である。
Specifically, as shown in FIGS. 10 and 13, the second metal electric wire 42 extends from one end of the second substrate 30 to the center side of the second substrate 30, and The region extends from the first region R1 to the second region R2. Further, the first metal wire 41 is arranged from one end of the second substrate 30 to the first region R <b> 1 of the second electrode 40 so as to overlap the second metal wire 42. That is, the first metal electric wire 41 and the second metal electric wire 42 are provided in a state of being laminated on the lower surface of the second substrate 30.
As shown in FIGS. 10 and 13, the third metal electric wire 43 extends from the other end of the second substrate 30 to the center side of the second substrate 30, and the fourth region of the second electrode 40. The region extends from R4 to the third region R3. The fourth metal wire 44 is arranged so as to overlap the third metal wire 43 and extends from the other end of the second substrate 30 to the fourth region R4 of the second electrode 40. That is, the fourth metal wire 44 and the third metal wire 43 are provided in a state of being laminated on the lower surface of the second substrate 30.
The metal wires (first metal wire 41 to fourth metal wire 44) are preferably provided on the edge side of the second electrode 40. Since the metal wires (the first metal wires 41 to the fourth metal wires 44) do not have optical transparency, the pixel 60 (electrochromic composition layer 50) is provided on the edge side of the second electrode 40. This is suitable because it does not hinder display due to color development.
より具体的には、図１３に示すように、第２金属電線４２のうち第２電極４０の第１領域Ｒ１に対応する部分は絶縁膜４５で被覆されている。すなわち、第２金属電線４２は、第２電極４０の第２領域Ｒ２と導通可能に接続され、第２電極４０の第１領域Ｒ１とは絶縁されている。つまり、第２金属電線４２は、第２電極４０の第２領域Ｒ２の通電に寄与することによって、第２領域Ｒ２における画素６０の発色に寄与するように構成されている。
また、第１金属電線４１は、第２電極４０の第１領域Ｒ１において、第２金属電線４２を被覆している絶縁膜４５上に設けられている。すなわち、第１金属電線４１は、第２電極４０の第１領域Ｒ１と導通可能に接続されている。つまり、第１金属電線４１は、第２電極４０の第１領域Ｒ１の通電に寄与することによって、第１領域Ｒ１における画素６０の発色に寄与するように構成されている。
More specifically, as shown in FIG. 13, a portion of the second metal wire 42 corresponding to the first region R <b> 1 of the second electrode 40 is covered with an insulating film 45. That is, the second metal wire 42 is connected to the second region R2 of the second electrode 40 so as to be conductive, and is insulated from the first region R1 of the second electrode 40. That is, the second metal wire 42 is configured to contribute to the color development of the pixel 60 in the second region R2 by contributing to the energization of the second region R2 of the second electrode 40.
Further, the first metal wire 41 is provided on the insulating film 45 covering the second metal wire 42 in the first region R1 of the second electrode 40. That is, the first metal wire 41 is connected to the first region R1 of the second electrode 40 so as to be conductive. That is, the first metal wire 41 is configured to contribute to the color development of the pixel 60 in the first region R1 by contributing to the energization of the first region R1 of the second electrode 40.
また、図１３に示すように、第３金属電線４３のうち第２電極４０の第４領域Ｒ４に対応する部分は絶縁膜４５で被覆されている。すなわち、第３金属電線４３は、第２電極４０の第３領域Ｒ３と導通可能に接続され、第２電極４０の第４領域Ｒ４とは絶縁されている。つまり、第３金属電線４３は、第２電極４０の第３領域Ｒ３の通電に寄与することによって、第３領域Ｒ３における画素６０の発色に寄与するように構成されている。
また、第４金属電線４４は、第２電極４０の第４領域Ｒ４において、第３金属電線４３を被覆している絶縁膜４５上に設けられている。すなわち、第４金属電線４４は、第２電極４０の第４領域Ｒ４と導通可能に接続されている。つまり、第４金属電線４４は、第２電極４０の第４領域Ｒ４の通電に寄与することによって、第４領域Ｒ４における画素６０の発色に寄与するように構成されている。
As shown in FIG. 13, a portion of the third metal wire 43 corresponding to the fourth region R <b> 4 of the second electrode 40 is covered with an insulating film 45. That is, the third metal wire 43 is connected to the third region R3 of the second electrode 40 so as to be conductive, and is insulated from the fourth region R4 of the second electrode 40. That is, the third metal wire 43 is configured to contribute to the color development of the pixel 60 in the third region R3 by contributing to the energization of the third region R3 of the second electrode 40.
The fourth metal wire 44 is provided on the insulating film 45 covering the third metal wire 43 in the fourth region R4 of the second electrode 40. That is, the fourth metal wire 44 is connected to the fourth region R4 of the second electrode 40 so as to be conductive. That is, the fourth metal wire 44 is configured to contribute to the color development of the pixel 60 in the fourth region R4 by contributing to the energization of the fourth region R4 of the second electrode 40.
そして、本実施形態のエレクトロクロミック表示デバイス１０１においても、第２電極４０は、第１領域Ｒ１〜第４領域Ｒ４の４つの領域に分割されており、第２電極４０の各領域（第１領域Ｒ１〜第４領域Ｒ４）はそれぞれに対応する金属電線（第１金属電線４１〜第４金属電線４４）により通電がなされるように構成されている。つまり、４つの領域（第１領域Ｒ１〜第４領域Ｒ４）ごとにゲル状エレクトロクロミック組成物５２に対する通電を行い、それら４つの領域（第１領域Ｒ１〜第４領域Ｒ４）ごとの表示（発色）を独立して行うことができるように構成されている。 Also in the electrochromic display device 101 of the present embodiment, the second electrode 40 is divided into four regions of the first region R1 to the fourth region R4, and each region (first region) of the second electrode 40 is divided. R1-fourth area | region R4) is comprised so that electricity may be performed by the metal wire (1st metal wire 41-4th metal wire 44) corresponding to each. That is, the gel-like electrochromic composition 52 is energized for each of the four regions (first region R1 to fourth region R4), and display (color development) for each of these four regions (first region R1 to fourth region R4) is performed. ) Can be performed independently.
本実施形態のエレクトロクロミック表示デバイス１０１であっても、第１実施形態のエレクトロクロミック表示デバイス１００同様、１ライン当たり１ミリ秒の速度で、第２電極４０の各領域（第１領域Ｒ１〜第４領域Ｒ４）に対応する第１電極２０を１９２本スキャンすることによって、０．１９２秒間で１画面分の表示パターンを形成することができ、従来の四分の一の時間で１画面分の表示を行うことができる。
そして、エレクトロクロミック表示デバイス１０１は、従来の表示デバイスよりも１画面あたりの表示に要する時間を短縮することができるので、より早く画面の表示を切り替えることが可能な表示デバイスとして機能する。
Even in the electrochromic display device 101 of the present embodiment, each region of the second electrode 40 (the first region R1 to the first region) at a speed of 1 millisecond per line, like the electrochromic display device 100 of the first embodiment. By scanning 192 first electrodes 20 corresponding to four regions R4), it is possible to form a display pattern for one screen in 0.192 seconds, and for one screen in a conventional quarter time. Display can be made.
Since the electrochromic display device 101 can shorten the time required for display per screen as compared with a conventional display device, it functions as a display device that can switch screen display more quickly.
なお、本発明は上記の実施形態に限定されず、本発明の趣旨から逸脱しない限り、適宜変更可能であることはいうまでもない。 Needless to say, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention.
上記の実施形態では、第２電極４０を４つの領域（第１領域Ｒ１〜第４領域Ｒ４）に分割したが、本発明はこれに限定されるものではなく、その他任意の数に分割して、その数に応じた金属電線を形成するように構成することも可能である。
また、図１４や図１５に示すエレクトロクロミック表示デバイス１０２のように、第２電極４０を分割せずに構成することも可能である。この場合、第２電極４０に金属電線（例えば、第１金属電線４１〜第４金属電線４４）を埋め込んで構成することも可能であるし、図１４や図１５に示すように、第２電極４０に金属電線を埋め込まずに構成することも可能である。
In the above embodiment, the second electrode 40 is divided into four regions (the first region R1 to the fourth region R4), but the present invention is not limited to this, and is divided into any other number. It is also possible to form so as to form metal wires according to the number.
Further, the second electrode 40 may be configured without being divided as in the electrochromic display device 102 shown in FIGS. 14 and 15. In this case, it is possible to embed a metal wire (for example, the first metal wire 41 to the fourth metal wire 44) in the second electrode 40, and as shown in FIGS. 14 and 15, the second electrode It is also possible to configure without embedding a metal wire in 40.
また、上記の実施形態では、第１電極２０に金属電極部２１を埋め込んだが、本発明はこれに限定されるものではなく、図１４や図１５に示すように、第１電極２０に金属電極部２１を埋め込まずに構成することも可能である。 In the above embodiment, the metal electrode portion 21 is embedded in the first electrode 20, but the present invention is not limited to this, and as shown in FIG. 14 and FIG. It is also possible to configure without embedding the part 21.
１０ 第１基板
２０ 第１電極
３０ 第２基板
４０ 第２電極
５０ エレクトロクロミック組成物層
５１ 隔壁
５２ ゲル状エレクトロクロミック組成物
１００，１０１，１０２ エレクトロクロミック表示デバイス
ｒ 区画
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 1st board | substrate 20 1st electrode 30 2nd board | substrate 40 2nd electrode 50 Electrochromic composition layer 51 Partition 52 Gel-like electrochromic composition 100,101,102 Electrochromic display device r Section
Claims (3)
前記エレクトロクロミック組成物層は、ゲル化されたゲル状エレクトロクロミック組成物を備えることを特徴とするエレクトロクロミック表示デバイス。 A first substrate; a first electrode provided on an upper surface of the first substrate; a second substrate provided above the first substrate so as to face the first substrate and formed of a transparent material; A second electrode provided on the lower surface of the second substrate, at least part of which is formed of a transparent electrode material, and an electrochromic composition layer provided between the first substrate and the second substrate; In an electrochromic display device comprising:
The electrochromic composition layer comprises a gelled gelled electrochromic composition.
前記エレクトロクロミック組成物層は、前記第１基板と前記第２基板との間の空間を、前記第１基板および前記第２基板に対して略垂直方向に貫通する複数の区画に仕切る隔壁を備え、
前記ゲル状エレクトロクロミック組成物は、前記区画内に導入されていることを特徴とするエレクトロクロミック表示デバイス。 The electrochromic display device according to claim 1.
The electrochromic composition layer includes a partition that partitions a space between the first substrate and the second substrate into a plurality of partitions penetrating in a substantially vertical direction with respect to the first substrate and the second substrate. ,
The electrochromic display device, wherein the gel-like electrochromic composition is introduced into the compartment.
エレクトロクロミック組成物をゲル化して前記ゲル状エレクトロクロミック組成物を生成するゲル化工程と、
前記ゲル状エレクトロクロミック組成物を、所定の塗布具を用いて前記隔壁の前記第１基板側または前記第２基板側の面から前記区画内へと押し込むことにより、当該区画内へと導入する押し込み工程と、
を有することを特徴とするエレクトロクロミック表示デバイスの製造方法。 In the manufacturing method of the electrochromic display device according to claim 2,
A gelling step of gelling the electrochromic composition to produce the gelled electrochromic composition;
Pushing the gel-like electrochromic composition into the compartment by pushing it into the compartment from the first substrate side or the second substrate side surface of the partition using a predetermined applicator. Process,
A method for producing an electrochromic display device, comprising:
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