[go: up one dir, main page]

JP2012037572A - レーザ光整形及び波面制御用光学系 - Google Patents

レーザ光整形及び波面制御用光学系 Download PDF

Info

Publication number
JP2012037572A
JP2012037572A JP2010174688A JP2010174688A JP2012037572A JP 2012037572 A JP2012037572 A JP 2012037572A JP 2010174688 A JP2010174688 A JP 2010174688A JP 2010174688 A JP2010174688 A JP 2010174688A JP 2012037572 A JP2012037572 A JP 2012037572A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical system
intensity distribution
wavefront
lens
intensity
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010174688A
Other languages
English (en)
Inventor
Haruyasu Ito
晴康 伊藤
Takashi Yasuda
敬史 安田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hamamatsu Photonics KK
Original Assignee
Hamamatsu Photonics KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hamamatsu Photonics KK filed Critical Hamamatsu Photonics KK
Priority to JP2010174688A priority Critical patent/JP2012037572A/ja
Priority to KR1020127029424A priority patent/KR20130096154A/ko
Priority to US13/809,468 priority patent/US8810890B2/en
Priority to DE112011102592.0T priority patent/DE112011102592B4/de
Priority to KR1020187000642A priority patent/KR102047612B1/ko
Priority to CN201180038181.1A priority patent/CN103069328B/zh
Priority to PCT/JP2011/065973 priority patent/WO2012017788A1/ja
Priority to TW100125888A priority patent/TWI525345B/zh
Publication of JP2012037572A publication Critical patent/JP2012037572A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0927Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/02Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the intensity of light
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/0944Diffractive optical elements, e.g. gratings, holograms
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/095Refractive optical elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/0977Reflective elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00Simple or compound lenses
    • G02B3/02Simple or compound lenses with non-spherical faces
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

【課題】レーザ光の強度分布を任意の強度分布に整形することと、レーザ光の波面を制御することとを簡易に両立することが可能なレーザ光整形及び波面制御用光学系を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係るレーザ光整形及び波面制御用光学系1は、入射レーザ光の強度分布を変換して所望の強度分布に整形する強度変換レンズ24と、強度変換レンズ24からの出射レーザ光を変調して波面制御を行う光変調素子34と、光変調素子34からの出力レーザ光を集光する集光光学系36と、光変調素子34と集光光学系36との間に配置され、強度変換レンズ24からの出射レーザ光の強度分布が所望の強度分布に分布する面24xと光変調素子34の変調面34aとの間に入射側結像面を有し、集光光学系36の瞳面36aに出射側結像面を有する結像光学系30と、を備える。
【選択図】図13

Description

本発明は、レーザ光の強度分布を任意の強度分布に整形すると共に、当該レーザ光の波面をも制御する光学系に関するものである。
一般に、レーザ光は、ガウシアン分布のように、中央近傍が最も強く、周辺へ向けて次第に弱くなる強度分布を有することが多い。しかしながら、レーザ加工などにおいては、空間的に均一な強度分布を有するレーザ光が望まれている。この点に関し、特許文献1には、レーザ光の強度分布を空間的に均一な強度分布に整形するレーザ光整形用光学系として、非球面レンズ型のホモジナイザを備えるものが開示されている。この特許文献1に開示のレーザ光整形用光学系は、ホモジナイザからの出射レーザ光が伝搬距離に応じて歪むという問題を解決するために、ホモジナイザ直後に転写レンズ系(結像光学系)を備えている。
また、レーザ加工などにおいては、微細加工が行えることが望まれている。例えば、光導波路等の改質層を形成する場合には、集光点が極力小さいものが望まれている。しかしながら、加工位置が深くなると、収差(波面歪)によって集光領域が伸張するため、良好な加工状態を維持することが困難となる。この点に関し、特許文献2及び3には、レーザ光の収差を補正する光学系、すなわち、レーザ光の波面を制御する波面制御用光学系として、空間光変調器(Spatial Light Modulator:SLM)を備えるものが開示されている。なお、特許文献2に開示の波面制御用光学系は、SLMにおける波面形状と集光光学系における波面形状とを一致させるために、SLMと集光光学系との間に調整光学系(結像光学系)を備えている。
特開2007−310368号公報 特開2009−034723号公報 特開2010−075997号公報
本願発明者らは、レーザ光の強度分布を空間的に均一な強度分布に整形することと、レーザ光の波面を制御することとを両立することを試みた。しかしながら、特許文献1に開示のレーザ光整形用光学系において、ホモジナイザと結像光学系との間にSLMを備えると、結像光学系の入射側結像面がホモジナイザの出射面に設定されているので、SLMの出力像が集光光学系に結像されず、波面制御(収差補正)が十分に行われないという問題が生じてしまう。
一方、特許文献2に開示の波面制御用光学系において、SLMの前段にホモジナイザを備えると、結像光学系の入射側結像面がSLMの変調面に設定されているので、ホモジナイザの出力像が集光光学系に結像されず、整形したレーザ光の強度分布が歪んでしまうという問題が生じてしまう。
そこで、本発明は、レーザ光の強度分布を任意の強度分布に整形することと、レーザ光の波面を制御することとを簡易に両立することが可能なレーザ光整形及び波面制御用光学系を提供することを目的とする。
本発明のレーザ光整形及び波面制御用光学系は、入射レーザ光の強度分布を変換して所望の強度分布に整形する強度変換レンズと、強度変換レンズからの出射レーザ光を変調して波面制御を行う光変調素子と、光変調素子からの出力レーザ光を集光する集光光学系と、光変調素子と集光光学系との間に配置され、強度変換レンズからの出射レーザ光の強度分布が所望の強度分布に分布する面と光変調素子の変調面との間に入射側結像面を有し、集光光学系に出射側結像面を有する結像光学系と、を備える。
このレーザ光整形及び波面制御用光学系によれば、結像光学系が、強度変換レンズからの出射レーザ光の強度分布が所望の強度分布に分布する面と光変調素子の変調面との間に入射側結像面を有するので、強度変換レンズによって整形された所望の強度分布と、光変調素子によって制御された波面とを共に集光光学系に転象することができる。したがって、レーザ光の強度分布を任意の強度分布に整形することと、レーザ光の波面を制御することとを簡易に両立することが可能となる。
ここで、強度変換レンズは、入射レーザ光の強度分布を整形するものであるが、同時に入射レーザ光の波面(換言すれば、入射レーザ光の位相)も変化させることとなる。このレーザ光整形及び波面制御用光学系では、この強度変換レンズによる波面(収差)の変化を利用することにより、光変調素子のみで波面制御を行う場合に比べて、波面制御分解能を向上させることが可能となる。
上記した強度変換レンズからの出射レーザ光の強度分布が所望の強度分布に分布する面が、光変調素子の変調面に位置し、上記した結像光学系は、光変調素子の変調面に入射側結像面を有していてもよい。
この構成によれば、強度変換レンズによって整形された所望の強度分布と、光変調素子によって制御された波面とをより厳密に集光光学系に転象することができる。
上記したレーザ光整形及び波面制御用光学系は、強度変換レンズからの出射レーザ光の強度分布が所望の強度分布に分布する面に配置され、強度変換レンズからの出射レーザ光の位相を揃えて平面波に補正する位相補正レンズを更に備えてもよい。
この構成でも、強度変換レンズによって整形された所望の強度分布と、光変調素子によって制御された波面とを共に集光光学系に転象することができる。したがって、レーザ光の強度分布を任意の強度分布に整形することと、レーザ光の波面を制御することとを簡易に両立することが可能となる。
ここで、上述したように、位相補正レンズを備えず強度変換レンズのみを備える構成では、強度変換レンズによる波面変化を利用することができ、収差の補正に対して有効であった。しかしながら、材料の表面を多点加工する場合のように収差の補正が必要とされない場合には、位相補正レンズを更に備えるこの構成が有効である。材料の表面を多点加工する場合、強度変換レンズのみを用いる構成を適用すると、光変調素子では、強度変換レンズによって生じる波面変化を補正すると共に、多点を形成するための波面変化を制御する必要がある。そのため、光変調素子で実現する波面制御量が増加してしまう。
しかしながら、位相補正レンズを更に備えるこの構成によれば、位相補正レンズによって、強度変換レンズからの出力レーザ光の位相を揃えて平面波に補正するので、光変調素子では、多点を形成するための波面変化だけを実現すればよいこととなる。したがって、光変調素子で実現する波面制御量が増加することが無い。
本発明によれば、レーザ光の強度分布を任意の強度分布に整形することと、レーザ光の波面を制御することとを簡易に両立することができる。
本発明の第1の比較例に係るレーザ光整形及び波面制御用光学系を示す構成図である。 ホモジナイザにおける入射レーザ光の強度分布の一例、及び、出射レーザ光の所望の強度分布の一例を示す図である。 ホモジナイザにおける非球面レンズ間の光路特定の概略図である。 強度変換用非球面レンズの形状の一例を示す図である。 位相補正用非球面レンズの形状の一例を示す図である。 強度変換用非球面レンズの出射レーザ光の強度分布を計測するための計測系を示す図である。 強度変換用非球面レンズの入射レーザ光及び出射レーザ光の強度分布の計測結果を示す図である。 本発明の第2の比較例に係るレーザ光整形及び波面制御用光学系を示す構成図である。 強度変換用非球面レンズの出射レーザ光の光路特定の概略図である。 集光レンズの瞳面における強度分布の計測結果を示す図である。 透明媒質内部の集光特性を撮像するための撮像系を示す図である。 透明媒質内部の集光特性の撮像結果を示す図である。 本発明の第1の実施形態に係るレーザ光整形及び波面制御用光学系を示す構成図である。 強度変換用非球面レンズによって生じる波面歪を示す図である。 強度変換用非球面レンズによる波面変化を利用する場合としない場合との透明媒質内部の集光特性を示す図である。 本発明の第2の実施形態に係るレーザ光整形及び波面制御用光学系を示す構成図である。
以下、図面を参照して本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、各図面において同一又は相当の部分に対しては同一の符号を附すこととする。
本発明の実施形態を説明する前に、本発明の比較例について説明する。まず、第1の比較例では、レーザ光の強度分布を整形するホモジナイザとレーザ光の波面制御を行う空間光変調器(光変調素子:以下、SLMという。)とを備え、更に、ホモジナイザによって整形された強度分布とSLMによって制御された波面とを共に任意の位置に転像するために2つの結像光学系を備える形態を考案した。
[第1の比較例]
図1は、本発明の第1の比較例に係るレーザ光整形及び波面制御用光学系を示す構成図である。この第1の比較例のレーザ光整形及び波面制御用光学系1Xは、レーザ光源12と、空間フィルタ14と、コリメートレンズ16と、反射鏡18,20,22と、ホモジナイザ26と、結像光学系28,30Xと、プリズム32と、SLM34と、集光レンズ(集光光学系)36とを備えている。
レーザ光源12は、例えば、Nd:YAGレーザである。空間フィルタ14は、例えば、倍率10倍の対物レンズと、直径Φ=50μmのピンホールとを備える。コリメートレンズ16は、例えば、平凸レンズである。このように、レーザ光源12から出射したレーザ光が空間フィルタ14及びコリメートレンズ16を通過することにより、強度分布が同心円状のガウシアン分布に整形されることとなる(図2のOi)。強度分布が整形されたレーザ光は、反射鏡18によって90度方向転換されて、ホモジナイザ26に入射する。
ホモジナイザ26は、レーザ光の強度分布を任意の形状に整形するためのものである。ホモジナイザ26は、一対の非球面レンズ24,25を備える。ホモジナイザ26では、入射側の非球面レンズ24が、レーザ光の強度分布を任意の形状に整形する強度変換用非球面レンズとして機能し、出射側の非球面レンズ25が、整形されたレーザ光の位相を揃えて平面波に補正する位相補正用非球面レンズとして機能する。このホモジナイザ26では、一対の非球面レンズ24,25の非球面の形状設計により、入射レーザ光Oiの強度分布を所望の強度分布に整形した出射レーザ光Ooを生成することが可能となる。
以下では、ホモジナイザ26における一対の非球面レンズ24,25の非球面の形状設計の一例を例示する。例えば、所望の強度分布を、レーザ加工装置において望まれる空間的に均一な強度分布、すなわち、スーパーガウシアン分布に設定することとする(図2のOo)。ここで、所望の強度分布は、出射レーザ光Ooのエネルギー(所望の強度分布の面積)が入射レーザ光Oiのエネルギー(強度分布の面積)と等しくなるように設定される必要がある。よって、例えば、スーパーガウシアン分布の設定は以下のように行えばよい。
入射レーザ光Oiの強度分布は、図2に示すように、同心円状のガウシアン分布(波長1064nm、ビーム径5.6mm at 1/e、ω=2.0mm)である。ガウシアン分布は下記(1)式により表されるので、入射レーザ光Oiの半径6mmの範囲内のエネルギーは下記(2)式となる。


この場合、ガウシアン分布は半径0mmを中心として回転対称となるため、1次元解析により非球面形状を設計することになる。
一方、出射レーザ光Ooの所望の強度分布は、図2に示すように、スーパーガウシアン分布(次数N=8、ω=2.65mm)に設定する。スーパーガウシアン分布は下記(3)式により表されるので、下記(4)式のように出射レーザ光Ooの半径6mmの範囲内のエネルギーが入射レーザ光Oiのエネルギーに等しくなるためには、出射レーザ光Ooの強度均一部の値はE=0.687に設定することとなる。


なお、本手法に基づけば、整形後の出射レーザ光の所望の強度分布も規定の関数のみならず、任意の強度分布とすることも可能である。
その後、図3に示すように、強度変換用非球面レンズ24における入射レーザ光Oiの強度分布が位相補正用非球面レンズ25において所望の強度分布を有する出射レーザ光Ooとなるように、強度変換用非球面レンズ24の非球面24aから位相補正用非球面レンズ25の非球面25aへの光路であって、非球面レンズの半径方向の任意の座標における光路P1〜P8を求める。
その後、求めた光路P1〜P8に基づいて、強度変換用非球面レンズ24の非球面24aの形状を求める。具体的には、光路P1〜P8が得られるように、強度変換用非球面レンズ24の中心を基準として半径r方向の各座標における非球面24aの高低差を求める。すると、図4に示すように、強度変換用非球面レンズ24の非球面24aの形状が求まる。
一方、位相補正用非球面レンズ25の非球面25aの形状は、光路P1〜P8におけるレーザ光の位相を揃え、平面波となるように求める。具体的には、位相補正用非球面レンズ25の中心を基準として半径r方向の各座標における非球面25aの高低差を求める。すると、図5に示すように、位相補正用非球面レンズ25の非球面25aの形状が求まる。
なお、図4及び図5は、非球面レンズ24,25の材料としてCaF(n=1.42)を使用し、非球面24aの中心位置(座標r=0の位置)と非球面25aの中心位置(座標r=0の位置)との間隔をL=165mmとして設計したときの一例である。
図1に戻り、ホモジナイザ26によって所望の強度分布に整形されたレーザ光Ooは、反射鏡20によって90度方向転換されて、結像光学系28に入射する。
結像光学系28は、一対のレンズ28a,28bを有し、入射側結像面におけるレーザ光を出射側結像面に結像する。結像光学系28の入射側結像面は、ホモジナイザ26の出射面、すなわち、位相補正用非球面レンズ25の出射面25bに設定されており、出射側結像面は、SLM34の変調面34aに設定されている。なお、結像光学系28は、入射側結像面におけるレーザ光のビーム径をSLM34の変調面34aの大きさに適合させる拡大光学系もしくは縮小光学系として機能することが好ましい。これにより、SLM34の変調面34aにおける画素領域を有効に利用することが可能となる。結像光学系28から出力されるレーザ光は、プリズム32に入射する。
プリズム32は、入射するレーザ光を方向転換させて、SLM34に入射させると共に、SLM34からのレーザ光を方向転換させて、結像光学系30に入射させる。
SLM34は、例えば、LCOS−SLM(Liquid Crystal onSilicon - Spatial Light Modulator)であり、プリズム32からのレーザ光の位相を変調して波面制御を行う。例えば、集光レンズ36で集光したレーザ光によって透明媒質内部の加工を行う場合、透明媒質内部で生じる球面収差を補正する補正波面を設定する。
結像光学系30Xは、一対のレンズ30Xa,30Xbを有し、入射側結像面におけるレーザ光を出射側結像面に結像する。結像光学系30Xの入射側結像面は、SLM34の変調面34aに設定されており、出射側結像面は、集光レンズ36の瞳面36aに設定されている。本形態では、レンズ30Xa,30Xbの間に反射鏡22が配置されている。なお、結像光学系30Xは、入射側結像面におけるレーザ光のビーム径を集光レンズ36の瞳面36aの瞳径に適合させる拡大光学系もしくは縮小光学系として機能することが好ましい。これにより、レーザ光を集光レンズ36へ効率的に導くことが可能となる。
集光レンズ36は、結像光学系30Xからのレーザ光を所望の位置、例えば透明媒質内部の加工位置に集光する。
この第1の比較例のレーザ光整形及び波面制御用光学系1Xによれば、ホモジナイザ26によって整形された強度分布を、結像光学系28,30Xによって集光レンズ36の瞳面36aに厳密に転像することができ、SLM34によって制御された波面を、結像光学系30Xによって集光レンズ36の瞳面36aに厳密に転像することができる。したがって、レーザ光の強度分布を任意の強度分布に整形することと、レーザ光の波面を制御することとを両立することが可能となる。
ここで、ホモジナイザ26における強度変換用非球面レンズ24からの出射レーザ光の空間モード(強度分布)を、図6に示すように、結像レンズ系41を介してビームプロファイラ42によって計測した。また、結像レンズ系41及びビームプロファイラ42によって、強度変換用非球面レンズ24への入射レーザ光の空間モード(強度分布)も計測した。これらの計測結果を図7に示す。
図7(a)は、強度変換用非球面レンズ24への入射レーザ光の空間モード(強度分布)の計測結果であり、図7(b)〜(f)は、強度変換用非球面レンズ24からの出射レーザ光がそれぞれ50mm〜170mm伝搬した後の空間モード(強度分布)の計測結果である。これより、強度変換用非球面レンズ24によれば、レンズ間隔設計値であるL=165mm程度伝播後に、レーザ光の強度分布を空間的に均一な強度分布、すなわちスーパーガウシアン分布にほぼ設計通りに整形できることが確認された。
また、レンズ間隔設計値L=165mmから外れたからといって、強度分布が急激に変化するわけではないことが確認された。この結果は、強度変換用非球面レンズ24によって所望の強度分布が得られる位置と、結像光学系の入射側結像面とを厳密に一致させなくても、強度変換用非球面レンズ24によって整形された強度分布を、結像光学系によって任意の位置に転像可能であることを示している。
そこで、第2の比較例では、第1の比較例においてホモジナイザにおける位相補正用非球面レンズを備えない形態を考案した。
[第2の比較例]
図8は、本発明の第2の比較例に係るレーザ光整形及び波面制御用光学系を示す構成図である。この第2の比較例のレーザ光整形及び波面制御用光学系1Yは、レーザ光整形及び波面制御用光学系1Xにおいてホモジナイザ26に代えて強度変換用非球面レンズ24のみを備える構成で第1の比較例と異なっている。第2の比較例のレーザ光整形及び波面制御用光学系1Yのその他の構成は、第1の比較例のレーザ光整形及び波面制御用光学系1と同一である。
強度変換用非球面レンズ24は、上述したように、レーザ光の強度分布を任意の形状に整形するためのものであり、非球面24aの形状設計により、入射レーザ光Oiの強度分布を所望の強度分布に整形した出射レーザ光Ooを生成することが可能となる。
例えば、図9に示すように、強度変換用非球面レンズ24における入射レーザ光Oiの強度分布(上述したように、ガウシアン分布)が所望の面24xにおいて所望の強度分布(上述したように、スーパーガウシアン分布)を有する出射レーザ光Ooとなるように、強度変換用非球面レンズ24の非球面24aから所望の面24xへの光路であって、非球面レンズの半径方向の任意の座標における光路P1〜P8を求める。
その後、上述したように、求めた光路P1〜P8に基づいて、強度変換用非球面レンズ24の非球面24aの形状を求める。具体的には、光路P1〜P8が得られるように、強度変換用非球面レンズ24の中心を基準として半径r方向の各座標における非球面24aの高低差を求める。すると、図4に示すように、強度変換用非球面レンズ24の非球面24aの形状が求まる。なお、図4は、非球面24aの中心位置(座標r=0の位置)と所望の面24xとの間隔をL=165mmとして設計したときの一例である。
図8に戻り、結像光学系28の入射側結像面は、強度変換用非球面レンズ24からの出射レーザ光の強度分布が所望の強度分布に分布する面24xに設定されている。
この第2の比較例のレーザ光整形及び波面制御用光学系1Yによれば、強度変換用非球面レンズ24によって整形された強度分布であって所望の面24xにおける強度分布を、結像光学系28,30Xによって集光レンズ36の瞳面36aに厳密に転像することができ、SLM34によって制御された波面を、結像光学系30Xによって集光レンズ36の瞳面36aに厳密に転像することができる。したがって、レーザ光の強度分布を任意の強度分布に整形することと、レーザ光の波面を制御することとを両立することが可能となる。
ここで、第2の比較例のレーザ光整形及び波面制御用光学系1Yにおいて、集光レンズ36の瞳面36a上の空間モード(強度分布)を、結像レンズ系41を介してビームプロファイラ42を用いて計測した。この計測結果を図10に示す。これによれば、上述したように、強度変換用非球面レンズ24によって整形された強度分布であって所望の面24xにおける強度分布を、結像光学系28,30Xによって集光レンズ36の瞳面36aに転像できることが確認された。
また、図11に示すように、第2の比較例のレーザ光整形及び波面制御用光学系1Yにおいて、集光レンズ36の集光部に透明材料50を配置し、透明材料50内部の集光特性を側面からレンズ51を介してCCDカメラ52で撮像した。図12は、SLM34による波面制御によって球面収差を補正した場合の撮像結果であり、これによれば、1枚の非球面レンズ24によって整形された強度分布を転像する場合にも、波面制御が有効に機能することが確認された。
ここで、上述したように、強度変換用非球面レンズ24によって整形された強度分布は、設計値から外れたからといって急激に変化するわけではない。また、SLM34によって制御された波面も用途によっては厳密に転像する必要はない。
そこで、本願発明者らは、レーザ光の強度分布を任意の強度分布に整形することと、レーザ光の波面を制御することとを簡易に両立することが可能なレーザ光整形及び波面制御用光学系を考案する。
[第1の実施形態]
図13は、本発明の第1の実施形態に係るレーザ光整形及び波面制御用光学系を示す構成図である。この第1の実施形態のレーザ光整形及び波面制御用光学系1は、レーザ光整形及び波面制御用光学系1Yにおいて2つの結像光学系28,30Xに代えて1つの結像光学系30を備えている構成で第2の比較例と異なっている。第1の実施形態のレーザ光整形及び波面制御用光学系1のその他の構成は、第2の変形例のレーザ光整形及び波面制御用光学系1Yと同一である。
結像光学系30は、一対のレンズ30a,30bを有し、入射側結像面におけるレーザ光を出射側結像面に結像する。結像光学系30の出射側結像面は、結像光学系30Xと同様に、集光レンズ36の瞳面36aに設定されている。そして、結像光学系30は、強度変換用非球面レンズ24からの出射レーザ光の強度分布が所望の強度分布に分布する所望の面24xとSLM34の変調面34aとの間に入射側結像面が設定されている点で結像光学系30Xと異なっている。本実施形態でも、レンズ30a,30bの間に反射鏡22が配置されている。なお、結像光学系30も、入射側結像面におけるレーザ光のビーム径を集光レンズ36の瞳面36aの瞳径に適合させる拡大光学系もしくは縮小光学系として機能することが好ましい。これにより、上述してように、レーザ光を集光レンズ36へ効率的に導くことが可能となる。
この第1の実施形態のレーザ光整形及び波面制御用光学系1によれば、結像光学系30が、強度変換用非球面レンズ24からの出射レーザ光の強度分布が所望の強度分布に分布する所望の面24xとSLM34の変調面34aとの間に入射側結像面を有するので、強度変換用非球面レンズ24によって整形された所望の強度分布と、SLM34によって制御された波面とを共に集光レンズ36の瞳面36aに転象することができる。したがって、レーザ光の強度分布を任意の強度分布に整形することと、レーザ光の波面を制御することとを簡易に両立することが可能となる。
また、第1の実施形態のレーザ光整形及び波面制御用光学系1によれば、レーザ光の強度分布を均一化させることによって集光レンズ36の実効的なNAを向上させることができ、以下に詳説するように、強度変換時に生じる波面変化を利用すると球面収差を補正することが可能となる。
ここで、強度変換用非球面レンズ24は、入射レーザ光の強度分布を整形するものであるが、同時に入射レーザ光の波面(換言すれば、入射レーザ光の位相)も変化させることとなる。第1の実施形態のレーザ光整形及び波面制御用光学系1では、この強度変換用非球面レンズ24による波面の変化を利用することにより、SLM34のみで波面制御を行う場合に比べて、波面制御分解能を向上させることが可能となる。以下では、この作用効果について検証する。
図14は、強度変換用非球面レンズによって生じる波面歪を示す図である。曲線Aは、強度変換用非球面レンズ24によって生じる波面歪であり、曲線Bは、NA=0.8、焦点距離f=4mmの対物レンズを用いて合成石英中の深さ1.5mmの位置にレーザ光を集光させる場合に生じる球面収差を補正するために必要とされる補正波面である。このように、両者の波面は類似しているので、強度変換用非球面レンズによって生じる波面変化によって球面収差を補正することが可能となる。
これより、SLM34では、強度変換用非球面レンズ24によって生じる波面と球面収差を補正させるために必要とされる補正波面とが一致しない量だけ波面補正を行えばよいこととなる。その結果、SLM34だけで球面収差を補正する場合に比べて、波面制御分解能を格段に向上させることが可能となる。
次に、強度変換用非球面レンズ24による波面変化を利用した場合の透明材料内部の集光特性を観測した。図15(a)は、第1の比較例、すなわち、強度変換用非球面レンズ24による波面変化を位相補正用非球面レンズ25によって補正してしまう場合の透明材料内部の集光特性を示す図であり、図15(b)は、第2の比較例、すなわち、強度変換用非球面レンズ24による波面変化を利用する場合の透明材料内部の集光特性を示す図である。図15(a)及び(b)では、強度変換用非球面レンズによる球面収差補正効果を明確にするために、SLM34による波面補正は行わないものとする。本観測では、図11と同様に、集光レンズ36の集光部に透明材料50を配置し、透明材料50内部の集光特性を側面からレンズ51を介してCCDカメラ52で撮像した。これより、強度変換用非球面レンズを単独で用いることによって、球面収差による集光部の歪が改善することが確認された。
[第2の実施形態]
図16は、本発明の第2の実施形態に係るレーザ光整形及び波面制御用光学系を示す構成図である。この第2の実施形態のレーザ光整形及び波面制御用光学系1Aは、レーザ光整形及び波面制御用光学系1において強度変換用非球面レンズ24に代えてホモジナイザ26を備える構成で第1の実施形態と異なっている。すなわち、第2の実施形態のレーザ光整形及び波面制御用光学系1Aは、レーザ光整形及び波面制御用光学系1において更に位相補正用非球面レンズ25を備える構成で第1の実施形態と異なっている。第2の実施形態のレーザ光整形及び波面制御用光学系1Aのその他の構成は、第1の実施形態のレーザ光整形及び波面制御用光学系1と同一である。
位相補正用非球面レンズ25は、上述したように、強度変換用非球面レンズ24によって整形されたレーザ光の位相を揃えて平面波に補正するものであり、強度変換用非球面レンズ24からの出射レーザ光の強度分布が所望の強度分布に分布する所望の面24xに配置されている。
この第2の実施形態のレーザ光整形及び波面制御用光学系1Aでも、第1の実施形態のレーザ光整形及び波面制御用光学系1と同様に、強度変換用非球面レンズ24によって整形された所望の強度分布と、SLM34によって制御された波面とを共に集光レンズ36の瞳面36aに転象することができる。したがって、レーザ光の強度分布を任意の強度分布に整形することと、レーザ光の波面を制御することとを簡易に両立することが可能となる。
ここで、上述したように、位相補正用非球面レンズ25を備えず強度変換用非球面レンズ24のみを備える第1の実施形態では、強度変換用非球面レンズ24による波面変化を利用することができ、球面収差の補正に対して有効であった。しかしながら、材料の表面を多点加工する場合のように球面収差の補正が必要とされない場合には、位相補正用非球面レンズ25を更に備える第2の実施形態が有効である。材料の表面を多点加工する場合、強度変換用非球面レンズ24のみを用いる第1の実施形態を適用すると、SLM34では、強度変換用非球面レンズ24によって生じる波面変化を補正すると共に、多点を形成するための波面変化を制御する必要がある。そのため、SLM34で実現する波面制御量が増加してしまう。
しかしながら、位相補正用非球面レンズ25を更に備える第2の実施形態によれば、位相補正用非球面レンズ25によって、強度変換用非球面レンズ24からの出射レーザ光の位相を揃えて平面波に補正するので、SLM34では、多点を形成するための波面変化だけを実現すればよいこととなる。したがって、SLM34で実現する波面制御量が増加することが無い。
なお、本発明は上記した本実施形態に限定されることなく種々の変形が可能である。例えば、SLMで制御できる波面(位相変調量)は有限であるので、位相変調量が大きい場合には、SLMの分解能が不足して所望の波面を十分に実現することが困難となる。この場合、本実施形態では、SLM34において、2πもしくは2πの偶数倍で折り返し表示させてもよい。
また、第1の実施形態では、強度変換用非球面レンズ24からの出射レーザ光の強度分布が所望の強度分布に分布する所望の面24xが、SLM34の変調面34aに設計されてもよい。この場合、結像光学系30の入射側結像面をSLM34の変調面34aに設定することにより、強度変換用非球面レンズ24によって整形されたSLM34上の強度分布とSLM34によって制御された波面とを共に、集光レンズ36の瞳面36a上に厳密に転像させることが可能となる。
また、第1の実施形態では、比較例における結像光学系28による拡大光学系としての機能を強度変換用非球面レンズ24が備えていてもよい。すなわち、強度変換用非球面レンズ24が、レーザ光のビーム径をSLM34の変調面34aの大きさに適合させるように拡大する機能を備えてもよい。これにより、SLM34の変調面34aにおける画素領域を有効に利用することが可能となる。
また、第1の実施形態では、強度変換用非球面レンズ24の設計次第では所望の球面収差補正に必要とされるビーム径(波面)を強度変換用非球面レンズ24単独で実現する事が可能な場合もある。一方で、強度変換用非球面レンズ24単独で所望の球面収差補正に必要とされるビーム径(波面)を実現することが困難な場合には、強度変換用非球面レンズ24の入射レーザ光のビーム径と出射レーザ光(強度変換後のレーザ光)のビーム径とを適切な値とする必要がある。このためには、強度変換用非球面レンズ24の前段に拡大光学系、もしくは縮小光学系を配置すればよい。
一方、第1の実施形態において、強度変換用非球面レンズ24からの出射レーザ光をSLM34によって積極的に波面制御を行う場合、被変調光とSLM34の変調面34aの大きさとを適合させることにより、SLM34の画素領域を有効に利用することが可能となる。このためには、強度変換用非球面レンズ24の前段に拡大光学系、もしくは縮小光学系を配置すればよい。
1,1A,1X,1Y…レーザ光整形及び波面制御用光学系、12…レーザ光源、14…空間フィルタ、16…コリメートレンズ、18,20,22…反射鏡、24…強度変換用非球面レンズ(強度変換レンズ)、24x…強度変換レンズからの出射レーザ光の強度分布が所望の強度分布に分布する面、25…位相補正用非球面レンズ(位相補正レンズ)、26…ホモジナイザ、28,30,30X…結像光学系、32…プリズム、34…空間光変調器(SLM:光変調素子)、34a…変調面、36…集光レンズ(集光光学系)、36a…瞳面、41…結像レンズ系、42…ビームプロファイラ、50…透明材料、51…レンズ、52…CCDカメラ。

Claims (3)

  1. 入射レーザ光の強度分布を変換して所望の強度分布に整形する強度変換レンズと、
    前記強度変換レンズからの出射レーザ光を変調して波面制御を行う光変調素子と、
    前記光変調素子からの出力レーザ光を集光する集光光学系と、
    前記光変調素子と前記集光光学系との間に配置され、前記強度変換レンズからの出射レーザ光の強度分布が前記所望の強度分布に分布する面と前記光変調素子の変調面との間に入射側結像面を有し、前記集光光学系に出射側結像面を有する結像光学系と、
    を備える、レーザ光整形及び波面制御用光学系。
  2. 前記強度変換レンズからの出射レーザ光の強度分布が前記所望の強度分布に分布する面が、前記光変調素子の変調面に位置し、
    前記結像光学系は、前記光変調素子の変調面に入射側結像面を有する、
    請求項1に記載のレーザ光整形及び波面制御用光学系。
  3. 前記強度変換レンズからの出射レーザ光の強度分布が前記所望の強度分布に分布する面に配置され、前記強度変換レンズからの出射レーザ光の位相を揃えて平面波に補正する位相補正レンズを更に備える、
    請求項1に記載のレーザ光整形及び波面制御用光学系。
JP2010174688A 2010-08-03 2010-08-03 レーザ光整形及び波面制御用光学系 Pending JP2012037572A (ja)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010174688A JP2012037572A (ja) 2010-08-03 2010-08-03 レーザ光整形及び波面制御用光学系
KR1020127029424A KR20130096154A (ko) 2010-08-03 2011-07-13 레이저광 정형 및 파면 제어용 광학계
US13/809,468 US8810890B2 (en) 2010-08-03 2011-07-13 Optical system for laser optical rectification and wave front control
DE112011102592.0T DE112011102592B4 (de) 2010-08-03 2011-07-13 Optisches System zur Laserlichtumformung und Wellenfrontsteuerung
KR1020187000642A KR102047612B1 (ko) 2010-08-03 2011-07-13 레이저광 정형 및 파면 제어용 광학계
CN201180038181.1A CN103069328B (zh) 2010-08-03 2011-07-13 激光整形及波阵面控制用光学系统
PCT/JP2011/065973 WO2012017788A1 (ja) 2010-08-03 2011-07-13 レーザ光整形及び波面制御用光学系
TW100125888A TWI525345B (zh) 2010-08-03 2011-07-22 Optical system for laser light shaping and wave surface control

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010174688A JP2012037572A (ja) 2010-08-03 2010-08-03 レーザ光整形及び波面制御用光学系

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012037572A true JP2012037572A (ja) 2012-02-23

Family

ID=45559295

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010174688A Pending JP2012037572A (ja) 2010-08-03 2010-08-03 レーザ光整形及び波面制御用光学系

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8810890B2 (ja)
JP (1) JP2012037572A (ja)
KR (2) KR102047612B1 (ja)
CN (1) CN103069328B (ja)
DE (1) DE112011102592B4 (ja)
TW (1) TWI525345B (ja)
WO (1) WO2012017788A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012168333A (ja) * 2011-02-14 2012-09-06 Hamamatsu Photonics Kk レーザ光整形及び波面制御用光学系
WO2013108450A1 (ja) * 2012-01-16 2013-07-25 浜松ホトニクス株式会社 レーザ光整形用光学部品の設計方法、レーザ光整形用光学部品の製造方法、及び、レーザ光整形用光学系
JP2014186292A (ja) * 2013-03-22 2014-10-02 Applied Materials Israel Ltd 較正可能ビーム成形システム及び方法
JP2019144426A (ja) * 2018-02-21 2019-08-29 株式会社リコー 光照射装置、光照射装置を用いた光加工装置、光照射方法、及び光加工方法

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140122252A (ko) * 2012-02-10 2014-10-17 리모 파텐트페어발퉁 게엠베하 운트 코. 카게 공작물의 표면을 레이저 가공하는 또는 공작물의 외부면 또는 내부면 상의 코팅을 후처리하는 장치
DE112013002113B4 (de) * 2012-04-20 2019-03-21 Hamamatsu Photonics K.K. Strahlformer
DE112014002683B4 (de) * 2013-06-06 2024-04-18 Hamamatsu Photonics K.K. Justierverfahren für adaptives Optiksystem, adaptives Optiksystem und Speichermedium, das ein Programm für ein adaptives Optiksystem speichert
JP6285659B2 (ja) * 2013-08-05 2018-02-28 浜松ホトニクス株式会社 波長可変光源
JP7413390B2 (ja) * 2019-09-19 2024-01-15 パナソニックIpマネジメント株式会社 投射光学系およびレーダ装置
CN112817157A (zh) * 2020-12-28 2021-05-18 西南技术物理研究所 一种新型平顶光束发生装置
DE102021113406B4 (de) * 2021-05-25 2025-03-27 TRUMPF Laser- und Systemtechnik SE Vorrichtung und Verfahren zum Erzeugen einer definierten Laserbeleuchtung auf einer Arbeitsebene
CN117086472B (zh) * 2023-08-15 2025-12-30 吉林大学 一种透镜波前整形飞秒激光直写加工像差的方法及应用

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007310368A (ja) * 2006-04-21 2007-11-29 Sumitomo Electric Ind Ltd ホモジナイザを用いた整形ビームの伝搬方法およびそれを用いたレ−ザ加工光学系
JP2008049393A (ja) * 2006-08-28 2008-03-06 Univ Of Tokushima レーザ加工装置及びレーザ加工方法
JP2009034723A (ja) * 2007-08-03 2009-02-19 Hamamatsu Photonics Kk レーザ加工方法、レーザ加工装置及びその製造方法
JP2010125507A (ja) * 2008-11-28 2010-06-10 Hamamatsu Photonics Kk レーザ加工装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6198069B1 (en) * 1998-08-13 2001-03-06 The Regents Of The University Of California Laser beam temporal and spatial tailoring for laser shock processing
AU2001222241A1 (en) 2000-01-19 2001-07-31 Hamamatsu Photonics K.K. Laser machinning device
JP5692969B2 (ja) * 2008-09-01 2015-04-01 浜松ホトニクス株式会社 収差補正方法、この収差補正方法を用いたレーザ加工方法、この収差補正方法を用いたレーザ照射方法、収差補正装置、及び、収差補正プログラム
JP5848877B2 (ja) * 2011-02-14 2016-01-27 浜松ホトニクス株式会社 レーザ光整形及び波面制御用光学系

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007310368A (ja) * 2006-04-21 2007-11-29 Sumitomo Electric Ind Ltd ホモジナイザを用いた整形ビームの伝搬方法およびそれを用いたレ−ザ加工光学系
JP2008049393A (ja) * 2006-08-28 2008-03-06 Univ Of Tokushima レーザ加工装置及びレーザ加工方法
JP2009034723A (ja) * 2007-08-03 2009-02-19 Hamamatsu Photonics Kk レーザ加工方法、レーザ加工装置及びその製造方法
JP2010125507A (ja) * 2008-11-28 2010-06-10 Hamamatsu Photonics Kk レーザ加工装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012168333A (ja) * 2011-02-14 2012-09-06 Hamamatsu Photonics Kk レーザ光整形及び波面制御用光学系
WO2013108450A1 (ja) * 2012-01-16 2013-07-25 浜松ホトニクス株式会社 レーザ光整形用光学部品の設計方法、レーザ光整形用光学部品の製造方法、及び、レーザ光整形用光学系
US9373927B2 (en) 2012-01-16 2016-06-21 Hamamatsu Photonics K.K. Method for designing laser-light-shaping optical component, method for producing laser-light-shaping optical component, and laser-light-shaping optical system
JP2014186292A (ja) * 2013-03-22 2014-10-02 Applied Materials Israel Ltd 較正可能ビーム成形システム及び方法
JP2019144426A (ja) * 2018-02-21 2019-08-29 株式会社リコー 光照射装置、光照射装置を用いた光加工装置、光照射方法、及び光加工方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20180005760A (ko) 2018-01-16
DE112011102592T9 (de) 2013-07-25
US8810890B2 (en) 2014-08-19
TWI525345B (zh) 2016-03-11
WO2012017788A1 (ja) 2012-02-09
CN103069328A (zh) 2013-04-24
CN103069328B (zh) 2015-06-24
DE112011102592B4 (de) 2022-06-30
US20130107346A1 (en) 2013-05-02
KR20130096154A (ko) 2013-08-29
TW201215914A (en) 2012-04-16
KR102047612B1 (ko) 2019-11-21
DE112011102592T5 (de) 2013-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2012037572A (ja) レーザ光整形及び波面制御用光学系
JP5848877B2 (ja) レーザ光整形及び波面制御用光学系
JP5789188B2 (ja) ビーム形成装置およびビーム形成方法
CN103170734B (zh) 激光加工装置以及激光加工方法
JP6279565B2 (ja) 投影リソグラフィのための投影露光装置
TWI421537B (zh) Laser optics
JP2019144426A (ja) 光照射装置、光照射装置を用いた光加工装置、光照射方法、及び光加工方法
US10274738B2 (en) Field mapper
JP5820126B2 (ja) レーザ光整形用光学系
CN110554510A (zh) 一种透射式衍射光学元件的光学成像系统
JP2005257735A (ja) レーザビーム光学系およびレーザ加工装置
JP4681651B2 (ja) Fシータ対物レンズおよびfシータ対物レンズを備えたスキャナ装置
CN111061063B (zh) 光瞳滤波远场超分辨成像系统及光瞳滤波器设计方法
JP2016055319A (ja) 光照射装置および光照射方法
JP5633977B2 (ja) マスクレスリソグラフィのための集束スポットの最適化
JP2009134316A (ja) レーザビーム光学系およびレーザ加工装置
CN100504513C (zh) 双位相复合超分辨光瞳滤波方法与装置
JP4723842B2 (ja) 走査型光学顕微鏡
TWI802893B (zh) 消除零階繞射光線的方法與系統
JP3391948B2 (ja) レーザ装置及びそれを用いたレーザ画像記録装置
JP6940564B2 (ja) 光照射装置および光照射方法
US11067815B2 (en) Apparatus for beam shaping of laser radiation
CN115480392A (zh) 消除零阶衍射光线的方法与系统
Turaga et al. Towards deformable mirror calibration using phase diversity in objective coupled planar illumination microscopy

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130325

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140318

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20141111