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JP2012030251A - Laser beam machining device - Google Patents

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JP2012030251A
JP2012030251A JP2010171606A JP2010171606A JP2012030251A JP 2012030251 A JP2012030251 A JP 2012030251A JP 2010171606 A JP2010171606 A JP 2010171606A JP 2010171606 A JP2010171606 A JP 2010171606A JP 2012030251 A JP2012030251 A JP 2012030251A
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JP
Japan
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laser
processing
irradiation position
guide
unit
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2010171606A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeharu Murakami
武晴 村上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Miyachi Technos Corp
Original Assignee
Miyachi Technos Corp
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Publication date
Application filed by Miyachi Technos Corp filed Critical Miyachi Technos Corp
Priority to JP2010171606A priority Critical patent/JP2012030251A/en
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Abstract

【課題】データテーブルを有することなく、簡易に可視光レーザの照射位置の補正精度を向上させることができるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】加工用レーザをfθレンズ20によって収束させて加工対象物Wに照射することにより加工対象物Wに対して加工を行うレーザ加工装置10であって、ガイド用レーザを出射するガイド用レーザ光源14と、加工用レーザとガイド用レーザとが同軸上になるように、ガイド用レーザを案内するビームコンバイナ16と、加工用レーザ及びガイド用レーザを走査させる光走査部18と、光走査部18を駆動制御させる光走査制御部58と、fθレンズ20の中心に入射する加工用レーザの加工対象物W上の照射位置を原点として、半径方向にずれる加工用レーザの照射位置とガイド用レーザの照射位置とのズレ量を算出するズレ量算出部54と、算出されたズレ量を用いてガイド用レーザの照射位置を補正する補正部56とを備える。
【選択図】図5
A laser processing apparatus capable of easily improving the correction accuracy of the irradiation position of a visible light laser without having a data table.
A laser processing apparatus for processing a workpiece by converging a processing laser with an fθ lens and irradiating the workpiece with a guide laser for emitting a guide laser. A laser light source 14, a beam combiner 16 that guides the guide laser so that the processing laser and the guide laser are coaxial, an optical scanning unit 18 that scans the processing laser and the guide laser, and optical scanning An optical scanning control unit 58 that drives and controls the unit 18, and an irradiation position of the processing laser that is shifted in the radial direction and a guide for the processing laser that is incident on the center of the fθ lens 20 on the processing target W A deviation amount calculation unit 54 that calculates a deviation amount from the laser irradiation position, and a correction unit 56 that corrects the irradiation position of the guide laser using the calculated deviation amount. .
[Selection] Figure 5

Description

本発明は、加工用レーザを照射することで加工対象物に加工を行うレーザ加工装置に関する。   The present invention relates to a laser processing apparatus that processes a processing object by irradiating a processing laser.

従来から、レーザ加工装置においては、加工用レーザを実際に加工対象物に照射する前に、可視光であるガイド光を加工対象物に照射することで、加工用レーザの照射位置と加工対象物との位置合わせや加工サイズの決定を行うことが知られている。   Conventionally, in a laser processing apparatus, the irradiation position of a processing laser and the processing target object are irradiated by irradiating the processing target object with guide light that is visible light before actually irradiating the processing target object with the processing laser. It is known to perform positioning and processing size determination.

また、レーザ加工装置には、レーザを焦点位置に収束させるための収束レンズとして機能するfθレンズが設けられており、fθレンズは、レーザを焦点距離に配置された加工対象物上で結像させて照射点を形成する。この照射点の位置が照射位置となる。   Further, the laser processing apparatus is provided with an fθ lens that functions as a converging lens for converging the laser to the focal position, and the fθ lens causes the laser to form an image on a processing object disposed at the focal length. To form an irradiation spot. The position of this irradiation point becomes the irradiation position.

この場合は、加工用レーザは、可視光以外の波長(例えば、赤外波長の光)の光が用いられるため、fθレンズにおける可視光レーザの屈折率と加工用レーザの屈折率とが異なる。そのため、可視光レーザの照射位置が加工用レーザの照射位置とズレてしまい、ガイド光としての機能が損なわれてしまう。   In this case, since the processing laser uses light having a wavelength other than visible light (for example, light having an infrared wavelength), the refractive index of the visible light laser in the fθ lens is different from the refractive index of the processing laser. For this reason, the irradiation position of the visible light laser is shifted from the irradiation position of the processing laser, and the function as the guide light is impaired.

このような、問題を解決すべく、下記に示す特許文献1には、加工平面上に設定された直交座標系の各格子点における加工用レーザの照射位置と可視光レーザの照射位置とのズレに関するデータを記憶したデータテーブルを有し、ガイド光である可視光の照射位置が格子点と対応する場合は、前記データテーブルにあるデータを用いて該照射位置の補正を行い、ガイド光の照射位置が格子点以外にある場合は、格子点に関するデータを用いた補間によって得られたデータを用いて該照射位置の補正を行う。これにより、ガイド光の照射位置と実際の加工用レーザの照射位置とのズレをなくすというものである。   In order to solve such a problem, Patent Document 1 shown below describes a deviation between the irradiation position of the processing laser and the irradiation position of the visible light laser at each lattice point of the orthogonal coordinate system set on the processing plane. If the irradiation position of the visible light that is the guide light corresponds to the lattice point, the irradiation position is corrected using the data in the data table, and the irradiation of the guide light is performed. If the position is other than the grid point, the irradiation position is corrected using data obtained by interpolation using data related to the grid point. Thereby, the deviation between the irradiation position of the guide light and the actual irradiation position of the processing laser is eliminated.

特許第3494960号公報Japanese Patent No. 3494960

しかしながら、上記した特許文献1に記載の技術では、データテーブルを作成するために、可視光レーザと加工用レーザとの照射位置を測定しなければならず、手間がかかる。また、fθレンズ毎に測定値が異なるため、レーザ加工装置の初期化やレンズ交換の際には、再び測定しなければならない。さらに、ガイド光の照射位置が、格子点以外にある場合は、格子点に関するデータを用いた補間によって得られたデータを用いて照射位置の補正を行うので、補正精度が下がってしまう。   However, in the technique described in Patent Document 1 described above, in order to create the data table, it is necessary to measure the irradiation positions of the visible light laser and the processing laser, which is troublesome. In addition, since the measured value is different for each fθ lens, it must be measured again when the laser processing apparatus is initialized or the lens is replaced. Further, when the irradiation position of the guide light is other than the grid point, the correction of the irradiation position is performed using the data obtained by the interpolation using the data related to the grid point, so that the correction accuracy is lowered.

そこで、本発明は、係る従来の問題点に鑑みてなされたものであり、データテーブルを有することなく、簡易に可視光レーザの照射位置の補正精度を向上させることができるレーザ加工装置を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been made in view of the above-described conventional problems, and provides a laser processing apparatus that can easily improve the correction accuracy of the irradiation position of the visible light laser without having a data table. For the purpose.

上記目的を達成するために、本発明は、加工用レーザ出射部から出射される加工用レーザを収束レンズによって収束させて加工対象物に照射することにより、前記加工対象物に対して加工を行うレーザ加工装置であって、前記加工用レーザの照射位置を視覚的に確認するために用いられる可視光の波長帯域のガイド用レーザを出射するガイド用レーザ出射部と、前記加工用レーザと前記ガイド用レーザとが同軸上になるように、前記ガイド用レーザを案内する光案内部と、前記加工用レーザ及び前記ガイド用レーザを走査させる光走査部と、前記光走査部を駆動制御させる光走査制御部と、前記収束レンズの中心に入射する加工用レーザの前記加工対象物上における照射位置を原点として、半径方向にずれる前記加工用レーザの照射位置とガイド用レーザの照射位置とのズレ量を、加工用レーザの照射位置と前記原点との距離である半径のべき級数で級数展開した数式により算出するズレ量算出部と、算出された前記ズレ量を用いて、ガイド用レーザの照射位置を補正する補正部と、を備え、前記光走査制御部は、補正された前記照射位置に基づいて、前記ガイド用レーザを走査させることを特徴とする。   In order to achieve the above-mentioned object, the present invention performs processing on the processing object by converging the processing laser emitted from the processing laser emitting section with a converging lens and irradiating the processing object. A laser processing apparatus, a guide laser emitting unit for emitting a guide laser in a visible light wavelength band used for visually confirming an irradiation position of the processing laser, the processing laser, and the guide An optical guide that guides the guide laser, an optical scanning unit that scans the processing laser and the guide laser, and an optical scanning that drives and controls the optical scanning unit A control unit and an irradiation position and a gap of the processing laser that are shifted in the radial direction with the irradiation position on the processing target of the processing laser incident on the center of the convergent lens as an origin. A deviation amount calculating unit for calculating a deviation amount from the irradiation position of the laser for machining by a mathematical expression obtained by series expansion with a power series of a radius that is a distance between the irradiation position of the processing laser and the origin, and the calculated deviation amount And a correction unit that corrects the irradiation position of the guide laser, and the optical scanning control unit scans the guide laser based on the corrected irradiation position.

前記ズレ量算出部は、下記数1に示す前記級数展開した数式のうち、所定項までを用いてズレ量を算出することを特徴とする。   The deviation amount calculation unit is characterized in that the deviation amount is calculated using up to a predetermined term in the mathematical expression expanded in series shown in the following formula 1.

Figure 2012030251
(但し、A(r):半径方向のズレ量,K、K、・・・K2n:係数,r:加工用レーザの照射位置と原点との距離)
Figure 2012030251
(Where A (r): radial deviation, K 2 , K 4 ,... K 2n : coefficient, r: distance between the processing laser irradiation position and the origin)

前記ズレ量算出部は、下記数2を用いてズレ量を算出することを特徴とする。   The deviation amount calculation unit calculates the deviation amount using the following equation (2).

Figure 2012030251
Figure 2012030251

本発明によれば、ガイド用レーザL2の加工用レーザL1に対する照射位置のズレは、半径方向に発生することに着目し、半径方向にズレる加工用レーザL1の照射位置とガイド用レーザL2の照射位置のズレ量A(r)を、加工用レーザの照射位置と原点との距離である半径のべき級数で級数展開した数式により求めるようにしたので、わざわざ複雑なテーブルを有する必要がなく、簡易にガイド用レーザL2の照射位置の補正精度を向上させることができる。   According to the present invention, attention is paid to the fact that the displacement of the irradiation position of the guide laser L2 with respect to the processing laser L1 occurs in the radial direction, and the irradiation position of the processing laser L1 shifted in the radial direction and the irradiation of the guide laser L2. Since the positional deviation amount A (r) is obtained by a mathematical expression that is series-expanded with a power series of the radius that is the distance between the irradiation position of the processing laser and the origin, it is not necessary to have a complicated table, and it is easy. In addition, it is possible to improve the correction accuracy of the irradiation position of the guide laser L2.

実施の形態のレーザ加工装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the laser processing apparatus of embodiment. 加工パターンデータが同一の場合における、加工用レーザによって加工対象物W上に印字される加工パターンと、ガイド用レーザの走査によって浮かびあがる加工パターンとの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the process pattern printed on the workpiece W by the process laser, and the process pattern which emerges by the scanning of the guide laser when the process pattern data is the same. 本実施の形態の照射位置の補正を説明するための図である。It is a figure for demonstrating correction | amendment of the irradiation position of this Embodiment. 図1に示す制御部の機能ブロック図である。It is a functional block diagram of the control part shown in FIG. 印字のシミュレーション時における制御部の動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows operation | movement of the control part at the time of simulation of printing.

本発明に係るレーザ加工装置ついて好適な実施の形態を掲げ、添付の図面を参照しながら以下、詳細に説明する。   DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of a laser processing apparatus according to the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings.

図1は、実施の形態のレーザ加工装置10の概略構成図である。レーザ加工装置10は、加工用レーザ(例えば、気体レーザであるCOガスレーザ、固定レーザであるYAGレーザ等)L1を発生して出射する加工用レーザ光源(加工用レーザ出射部)12と、可視光の波長帯域のレーザ(ガイド用レーザ)L2を発生して出射するガイド用レーザ光源(ガイド用レーザ出射部)14と、加工用レーザL1とガイド用レーザL2とが同軸上になるように、ガイド用レーザL2を案内するビームコンバイナ(光案内部)16と、加工用レーザL1及びガイド用レーザL2を走査させて、加工用レーザL1及びガイド用レーザL2の照射位置を変移させる光走査部18と、加工用レーザL1及びガイド用レーザL2を収束してスポット光とするfθレンズ(収束レンズ)20と、レーザ加工装置10の全体を制御するコンピュータ等の情報処理装置(例えば、CPU)で構成された制御部22とを備える。 FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a laser processing apparatus 10 according to an embodiment. The laser processing apparatus 10 includes a processing laser light source (processing laser emitting unit) 12 that generates and emits a processing laser (for example, a CO 2 gas laser that is a gas laser, a YAG laser that is a fixed laser, etc.) L1, and a visible laser beam. A guide laser light source (guide laser emitting portion) 14 that generates and emits a laser (guide laser) L2 in the light wavelength band, and the processing laser L1 and the guide laser L2 are coaxial. A beam combiner (light guide unit) 16 that guides the guide laser L2, and an optical scanning unit 18 that scans the processing laser L1 and the guide laser L2 to change the irradiation positions of the processing laser L1 and the guide laser L2. And the fθ lens (converging lens) 20 that converges the processing laser L1 and the guide laser L2 into spot light, and the laser processing apparatus 10 as a whole. Gosuru information processing apparatus such as a computer (e.g., CPU) and a control unit 22 composed of.

ビームコンバイナ16は、加工用レーザ光源12が出射した加工用レーザL1を透過して光走査部18に入射させる。また、ビームコンバイナ16は、ガイド用レーザ光源14が出射したガイド用レーザL2を反射させて光走査部18に入射させる。これにより、ビームコンバイナ16は、加工用レーザL1とガイド用レーザL2とを同軸にさせることができる。   The beam combiner 16 transmits the processing laser L <b> 1 emitted from the processing laser light source 12 and enters the light scanning unit 18. In addition, the beam combiner 16 reflects the guide laser L2 emitted from the guide laser light source 14 and makes it incident on the optical scanning unit 18. Thereby, the beam combiner 16 can make the processing laser L1 and the guide laser L2 coaxial.

光走査部18は、入射された加工用レーザL1及びガイド用レーザL2の加工対象物W上における照射位置を変えるものであり、加工対象物W上における照射位置をx軸方向に変えるガルバノスキャナ32xと、照射位置をy軸方向に変えるガルバノスキャナ32yとを備える。ガルバノスキャナ32xは、ガルバノミラー34xと該ガルバノミラー34xを回動可能に支持する駆動モータ36xとを有する。ガルバノスキャナ32yは、ガルバノミラー34yと、該ガルバノミラー34yを回動可能に支持する駆動モータ36yとを有する。ガルバノミラー34yは、ガルバノミラー34xが反射した加工用レーザL1及びガイド用レーザL2が加工対象物Wに入射するように設けられている。ガルバノミラー34yを反射した光は、fθレンズ20を介して加工対象物に入射させる。   The optical scanning unit 18 changes the irradiation position of the incident processing laser L1 and the guide laser L2 on the processing target W. The galvano scanner 32x changes the irradiation position on the processing target W in the x-axis direction. And a galvano scanner 32y that changes the irradiation position in the y-axis direction. The galvano scanner 32x includes a galvanometer mirror 34x and a drive motor 36x that rotatably supports the galvanometer mirror 34x. The galvano scanner 32y includes a galvano mirror 34y and a drive motor 36y that rotatably supports the galvano mirror 34y. The galvanometer mirror 34y is provided such that the processing laser L1 and the guide laser L2 reflected by the galvanometer mirror 34x are incident on the workpiece W. The light reflected by the galvanometer mirror 34 y is incident on the object to be processed through the fθ lens 20.

駆動モータ36xが、ガルバノミラー34xを回動させることで(回動位置を変移させることで)、加工対象物W上における加工用レーザL1及びガイド用レーザL2の照射位置をx軸方向に移動することができる。駆動モータ36yが、ガルバノミラー34yを回動させることで(回動位置を変移させることで)、加工対象物W上における加工用レーザL1及びガイド用レーザL2の照射位置をy軸方向に移動させることができる。このように、駆動モータ36x、36yがガルバノミラー34x、34yを回動させることで、加工対象物W上における加工用レーザL1及びガイド用レーザL2を走査させることができる。   When the drive motor 36x rotates the galvanometer mirror 34x (by changing the rotation position), the irradiation positions of the processing laser L1 and the guide laser L2 on the processing target W are moved in the x-axis direction. be able to. The drive motor 36y rotates the galvanometer mirror 34y (by changing the rotation position), thereby moving the irradiation positions of the processing laser L1 and the guide laser L2 on the workpiece W in the y-axis direction. be able to. As described above, the drive motors 36x and 36y rotate the galvanometer mirrors 34x and 34y, whereby the machining laser L1 and the guide laser L2 on the workpiece W can be scanned.

fθレンズ20は、fθレンズ20の焦点距離に配置された加工対象物Wの表面上において、入射した加工用レーザL1及びガイド用レーザL2を結像させる。   The fθ lens 20 forms an image of the incident processing laser L1 and the guide laser L2 on the surface of the processing target W disposed at the focal length of the fθ lens 20.

制御部22は、加工用レーザ光源12、ガイド用レーザ光源14、及び駆動モータ36x、36yを駆動制御することで、加工用レーザL1及びガイド用レーザL2を走査して、加工対象物W上に加工用レーザL1及びガイド用レーザL2を照射させる。制御部22は、加工パターンデータ(加工によって印字すべき英数字等の文字、図形、記号等の印字パターン、印字サイズ、印字位置等を示すデータ)に基づく照射位置に、加工用レーザL1が照射されるように駆動モータ36x、36yを駆動制御する。   The control unit 22 drives and controls the processing laser light source 12, the guide laser light source 14, and the drive motors 36x and 36y, thereby scanning the processing laser L1 and the guide laser L2 onto the processing target W. The processing laser L1 and the guide laser L2 are irradiated. The control unit 22 irradiates the processing laser L1 at an irradiation position based on processing pattern data (data indicating characters such as alphanumeric characters to be printed by processing, print patterns such as figures and symbols, print size, and print position). The drive motors 36x and 36y are driven and controlled as described above.

また、制御部22には、入力装置40が接続されており、該入力装置40は、様々なデータを制御部22に入力するためのものであり、ユーザがデータを入力するためのキーボード、マウス、或いはタッチパネル等の入力インターフェースを有する。入力装置40は、パーソナルコンピュータ等で構成されていてもよい。入力装置40は、少なくとも加工パターンデータを制御部22に入力する。   An input device 40 is connected to the control unit 22, and the input device 40 is used for inputting various data to the control unit 22, and a keyboard and mouse for the user to input data. Or an input interface such as a touch panel. The input device 40 may be configured with a personal computer or the like. The input device 40 inputs at least machining pattern data to the control unit 22.

記憶部42は、ハードディスクドライブ、ROM、RAM、EEPROM等の情報を記憶することができるものであり、入力装置40によって入力された加工パターンデータを記憶する。記憶部42には、所定のプログラムが記憶されており、制御部22が該所定のプログラムを読み込むことによって、本実施の形態のレーザ加工装置10として機能する。   The storage unit 42 can store information such as a hard disk drive, ROM, RAM, and EEPROM, and stores processing pattern data input by the input device 40. A predetermined program is stored in the storage unit 42, and functions as the laser processing apparatus 10 of the present embodiment when the control unit 22 reads the predetermined program.

制御部22は、加工用レーザL1を用いてレーザ加工を行う前に、ガイド用レーザL2を用いることで、加工対象物W上にレーザ加工される印字パターンを表示させる。これにより、レーザ加工による印字のシミュレーションを行うことができる。具体的には、制御部22は、入力装置40によって入力された加工パターンデータに基づいて、ガイド用レーザ光源14及び駆動モータ36x、36yを駆動させることで、加工対象物W上にガイド用レーザL2を繰り返し走査させる。ある程度以上に高速で走査を繰り返すことで、加工対象物W上に加工パターンデータに基づく印字パターンが浮かびあがり(描画され)、ユーザは、予めレーザ加工を行う前に(加工パターン加工される印字パターン、その大きさ及び位置等)を加工対象物W上で視認することができる。   The controller 22 displays a print pattern to be laser processed on the workpiece W by using the guide laser L2 before performing the laser processing using the processing laser L1. Thereby, the printing simulation by laser processing can be performed. Specifically, the control unit 22 drives the guide laser light source 14 and the drive motors 36x and 36y on the basis of the processing pattern data input by the input device 40, thereby causing the guide laser on the processing target W. L2 is repeatedly scanned. By repeating scanning at a speed higher than a certain level, a print pattern based on the machining pattern data emerges (drawn) on the workpiece W, and the user can perform a printing pattern before the laser machining in advance (print pattern to be machined). , Its size and position, etc.) can be visually recognized on the workpiece W.

ユーザは、この加工対象物W上に浮かびあがった印字パターン等を観察して、印字パターン、印字サイズ、印字位置等に問題がないか否かを判断する。印字パターン、印字サイズ、印字位置等が所望するものと異なっている場合は、ユーザは入力装置40に設けられた入力インターフェースを操作することで、加工パターンデータを修正することができる。   The user observes the print pattern or the like that has emerged on the workpiece W and determines whether or not there is a problem with the print pattern, print size, print position, and the like. When the print pattern, print size, print position, and the like are different from those desired, the user can correct the processing pattern data by operating an input interface provided in the input device 40.

印字のシミュレーションの終了後に、制御部22は、加工用レーザL1を用いて、加工対象物Wの表面をレーザ加工させて、印字パターンを印字させる。具体的には、制御部22は、入力装置40によって入力された加工パターンデータに基づいて、加工用レーザ光源12及び駆動モータ36x、36yを駆動させることで、加工用レーザL1を走査させて加工対象物Wの表面をレーザ加工する。これにより、加工対象物Wの表面上に加工パターンが印字される。   After completion of the printing simulation, the control unit 22 causes the surface of the workpiece W to be laser processed by using the processing laser L1 to print a print pattern. Specifically, the control unit 22 drives the machining laser light source 12 and the drive motors 36x and 36y based on the machining pattern data input by the input device 40, thereby scanning the machining laser L1 and machining. Laser processing is performed on the surface of the object W. As a result, a machining pattern is printed on the surface of the workpiece W.

ここで、上述したように、ガイド用レーザL2は、可視光の波長帯域のレーザを用いるため、赤外波長であることが多い加工用レーザL1に比べ、fθレンズ20における屈折率が大きくなる。つまり、fθレンズ20の屈折率は、短波長であるほど大きくなる。これにより、ガイド用レーザL2の加工対象物W上における走査位置と、加工用レーザL1の加工対象物W上の照射位置はズレてしまう。したがって、加工パターンデータが同じであっても、ガイド用レーザL2の走査によって浮かびあがる加工パターンは、実際に加工用レーザL1を走査することで、加工対象物W上に印字される加工パターンとは異なる。   Here, as described above, since the guide laser L2 uses a laser in the wavelength band of visible light, the refractive index of the fθ lens 20 is larger than that of the processing laser L1, which often has an infrared wavelength. That is, the refractive index of the fθ lens 20 increases as the wavelength becomes shorter. As a result, the scanning position of the guide laser L2 on the workpiece W and the irradiation position of the machining laser L1 on the workpiece W are misaligned. Therefore, even if the machining pattern data is the same, the machining pattern that emerges by scanning with the guide laser L2 is actually the machining pattern printed on the workpiece W by scanning the machining laser L1. Different.

図2は、加工パターンデータが同一の場合における、加工用レーザL1によって加工対象物W上に印字される加工パターンと、ガイド用レーザL2の走査によって浮かびあがる加工パターンとの一例を示す図である。   FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a machining pattern printed on the workpiece W by the machining laser L1 and a machining pattern that emerges by scanning with the guide laser L2 when the machining pattern data is the same. .

実線は加工用レーザL1によって加工対象物W上に印字された加工パターンを示し、点線はガイド用レーザL2によって加工対象物W上に浮かびあがる加工パターンを示している。加工用レーザL1によって印字された加工パターンは、英文字「E」であるが、ガイド用レーザL2によって描画される加工パターンは、「E」という文字が歪んでしまう。また、ガイド用レーザL2は、加工用レーザL1に比べ、fθレンズ20における屈折率が高いので、ガイド用レーザL2によって描画される加工パターンの大きさは、加工用レーザL1によって印字される加工パターンより小さくなる。   A solid line indicates a processing pattern printed on the processing target W by the processing laser L1, and a dotted line indicates a processing pattern that floats on the processing target W by the guide laser L2. The processing pattern printed by the processing laser L1 is the English letter “E”, but the processing pattern drawn by the guide laser L2 is distorted by the letter “E”. Further, since the guide laser L2 has a higher refractive index in the fθ lens 20 than the processing laser L1, the size of the processing pattern drawn by the guide laser L2 is the processing pattern printed by the processing laser L1. Smaller.

このガイドレーザL2により描画される加工パターンを加工用レーザL1によって印字される加工パターンと同一にするために、印字のシミュレーションにおいては、加工パターンデータを補正して、駆動モータ36x、36yを駆動させる。   In order to make the processing pattern drawn by the guide laser L2 the same as the processing pattern printed by the processing laser L1, in the printing simulation, the processing pattern data is corrected and the drive motors 36x and 36y are driven. .

図3は、本実施の形態の照射位置の補正を説明するための図である。駆動モータ36x、36yの回動位置が同じ場合に、加工用レーザL1がfθレンズ20を通過して加工対象物W上に照射された照射位置と、ガイド用レーザL2がfθレンズ20を通過して加工対象物W上に照射された照射位置とは、同じであることが好ましいが、fθレンズ20の屈折率の関係でズレてしまう。   FIG. 3 is a diagram for explaining correction of the irradiation position according to the present embodiment. When the rotational positions of the drive motors 36x and 36y are the same, the irradiation position where the processing laser L1 passes through the fθ lens 20 and is irradiated onto the workpiece W, and the guide laser L2 passes through the fθ lens 20. The irradiation position irradiated on the workpiece W is preferably the same, but is shifted due to the refractive index of the fθ lens 20.

短波長であるガイド用レーザL2は、加工用レーザL1に比べ、fθレンズ20における屈折率が高くなり、加工用レーザの加工対象物W上の照射位置に比べ内側に屈折する。   The guide laser L2 having a short wavelength has a higher refractive index in the fθ lens 20 than the processing laser L1, and is refracted inward relative to the irradiation position on the processing target W of the processing laser.

ガイド用レーザL2の加工用レーザL1に対する照射位置のズレは、fθレンズ20の中心では0と考えられる。つまり、fθレンズ20の中心では屈折率は略同一であり、fθレンズ20の中心に入射したガイド用レーザL2の照射位置と加工用レーザL1の照射位置とは略同一と考えられる。したがって、fθレンズ20の中心に入射した加工用レーザL1の照射位置を原点とし、該原点に遠くなるほど、ガイド用レーザL2の加工用レーザL1に対する照射位置のズレが大きくなる。   The deviation of the irradiation position of the guide laser L2 from the processing laser L1 is considered to be zero at the center of the fθ lens 20. That is, the refractive index is substantially the same at the center of the fθ lens 20, and the irradiation position of the guide laser L2 incident on the center of the fθ lens 20 and the irradiation position of the processing laser L1 are considered to be approximately the same. Accordingly, the irradiation position of the processing laser L1 incident on the center of the fθ lens 20 is set as the origin, and the distance between the irradiation position of the guide laser L2 and the processing laser L1 increases as the distance from the origin is increased.

また、fθレンズ20の波長による屈折率差によって生じる照射位置の位置ズレは、回転対称に発生するので、(x,y)座標ではなく2次元の極座標(r,θ)が適している。fθレンズ20によるガイド用レーザL2の加工用レーザL1に対する照射位置のズレ量Aは、常にr(半径)方向にずれ、θ(回転)方向には殆どずれないと考えられる。したがって、fθレンズ20によるガイド用レーザL2の加工用レーザL1に対する照射位置のズレ量は、A(r)で表すことができる。ズレ量A(r)は、θによらずrのみの関数であることを意味する。   Further, since the positional deviation of the irradiation position caused by the refractive index difference depending on the wavelength of the fθ lens 20 occurs in rotational symmetry, the two-dimensional polar coordinates (r, θ) are suitable instead of the (x, y) coordinates. It is considered that the deviation amount A of the irradiation position of the guide laser L2 with respect to the processing laser L1 by the fθ lens 20 always shifts in the r (radius) direction and hardly shifts in the θ (rotation) direction. Therefore, the deviation amount of the irradiation position of the guide laser L2 with respect to the processing laser L1 by the fθ lens 20 can be expressed by A (r). The deviation A (r) means that it is a function of only r regardless of θ.

ズレ量A(r)をrのべき級数で級数展開すると、以下のように表すことができる。なお、K、K、K、・・・等は係数であり、rは、加工用レーザの照射位置と原点との距離を示す。 When the shift amount A (r) is expanded in series with the power series of r, it can be expressed as follows. Note that K 1 , K 2 , K 3 ,... Are coefficients, and r indicates the distance between the irradiation position of the processing laser and the origin.

Figure 2012030251
Figure 2012030251

ズレ量A(r)は、なめらかな曲面であるfθレンズ20によって発生するものであることを考えると、級数のKには2つの制約がある。第1の制約として、上述したように、fθレンズ20の中心(r=0)ではガイド用レーザL2に対する加工用レーザL1の照射位置のズレ量は0と考えられるため、K=0となる。つまり、fθレンズ20の波長による屈折率差によって生じる照射位置の位置ずれは、回転対称に発生するので回転の中心ではズレ方向が定義できず、方向まで含めたズレ量A(r)がr=0で連続であるためには、r=0で、A(r)の値が0でなければならないからである。 Considering that the deviation A (r) is generated by the fθ lens 20 that is a smooth curved surface, there are two restrictions on the series K. As a first restriction, as described above, since the deviation amount of the irradiation position of the processing laser L1 with respect to the guide laser L2 is considered to be 0 at the center (r = 0) of the fθ lens 20, K 0 = 0. . That is, the positional deviation of the irradiation position caused by the refractive index difference due to the wavelength of the fθ lens 20 occurs in a rotationally symmetrical manner, so the deviation direction cannot be defined at the center of rotation, and the deviation amount A (r) including the direction is r = In order to be continuous at 0, r = 0 and the value of A (r) must be 0.

第2の制約として、ガイド用レーザL2の加工用レーザL1に対するズレ量A(r)が、y=0のx軸上であり、r>0の場合は、ズレ量A(r)と、ズレ量を(x,y)座標で表したズレ量A(x)とは同じ関数となる。しかし、xの負の領域まで含めて考えると、A(x)は、xの全領域でなめらかであり、且つxの±反転に対して対称でなければならない。したがって、2つの制約を考慮すると、ズレ量A(r)は、以下のように表すことができる。   As a second restriction, the deviation amount A (r) of the guide laser L2 with respect to the processing laser L1 is on the x-axis where y = 0, and when r> 0, the deviation amount A (r) This is the same function as the deviation amount A (x) in which the amount is represented by (x, y) coordinates. However, considering up to the negative region of x, A (x) must be smooth in the entire region of x and symmetric with respect to ± inversion of x. Therefore, when considering two constraints, the deviation amount A (r) can be expressed as follows.

Figure 2012030251
Figure 2012030251

級数展開の初項のみで十分な精度が得られるため本実施の形態では、ズレ量A(r)は、以下のように表すことができる。   Since sufficient accuracy can be obtained with only the first term of the series expansion, in this embodiment, the deviation A (r) can be expressed as follows.

Figure 2012030251
Figure 2012030251

したがって、事前に各fθレンズ20に対してKの値を測定しておけば、任意の照射位置(r,θ)に対するガイド用レーザL2のズレ量を求めることができる。加工用レーザL1を照射位置(r,θ)に照射するのに対し、ガイド用レーザL2を照射位置(r+A(r),θ)に照射するように、駆動モータ36x、36yを駆動させてやれば、加工用レーザL1の照射位置とガイド用レーザL2との照射位置を同じにすることができる。 Therefore, if measured prior to the value of K 2 for each fθ lens 20, it is possible to determine the amount of deviation of the guide laser L2 for any of the irradiation position (r, theta). The drive motors 36x and 36y may be driven so that the processing laser L1 is irradiated to the irradiation position (r, θ) while the guide laser L2 is irradiated to the irradiation position (r + A (r), θ). For example, the irradiation position of the processing laser L1 and the irradiation position of the guide laser L2 can be made the same.

図4は、制御部22の機能ブロック図である。制御部22は、加工パターンデータ取得部50、照射位置算出部52、ズレ量算出部54、補正部56、及び光走査制御部58とを備える。   FIG. 4 is a functional block diagram of the control unit 22. The control unit 22 includes a processing pattern data acquisition unit 50, an irradiation position calculation unit 52, a deviation amount calculation unit 54, a correction unit 56, and an optical scanning control unit 58.

加工パターンデータ取得部50は、入力装置40によって入力された加工パターンデータを取得する。加工パターンデータ取得部50は、取得した加工パターンデータを照射位置算出部52に出力する。   The machining pattern data acquisition unit 50 acquires the machining pattern data input by the input device 40. The processing pattern data acquisition unit 50 outputs the acquired processing pattern data to the irradiation position calculation unit 52.

照射位置算出部52は、加工パターンデータ(印字パターン、印字サイズ、印字位置等)に基づいて、照射位置(x,y)を複数算出する。この場合、xy座標の原点は、fθレンズ20の中心に入射した加工用レーザL1の照射位置を原点とする。つまり、xy座標上の原点とrθ座標上の原点は同一である。照射位置算出部52は、算出した照射位置をズレ量算出部54及び光走査制御部58に出力する。光走査制御部58は、加工用レーザ光源12を駆動制御するとともに、該算出された複数の照射位置(x,y)に基づいて、光走査部18を駆動制御する。これにより、加工用レーザL1を複数の照射位置(x,y)に照射させることができる。   The irradiation position calculation unit 52 calculates a plurality of irradiation positions (x, y) based on the processing pattern data (print pattern, print size, print position, etc.). In this case, the origin of the xy coordinates is set to the irradiation position of the processing laser L1 incident on the center of the fθ lens 20. That is, the origin on the xy coordinate and the origin on the rθ coordinate are the same. The irradiation position calculation unit 52 outputs the calculated irradiation position to the deviation amount calculation unit 54 and the optical scanning control unit 58. The optical scanning control unit 58 drives and controls the processing laser light source 12 and controls the optical scanning unit 18 based on the calculated plurality of irradiation positions (x, y). Thereby, the processing laser L1 can be irradiated to a plurality of irradiation positions (x, y).

ズレ量算出部54は、算出した照射位置(x,y)に基づいて、ガイド用レーザL2を照射した場合におけるガイド用レーザL2の照射位置のズレ量A(r)を算出する。具体的には、加工用レーザL1の照射位置(x,y)を極座標(r,θ)の座標系に変換する。そして、変換後のrから数5を用いてズレ量A(r)を算出する。xy座標からrθ座標への変換は、x=r×sinθ,y=r×cosθ、の関数を用いて変換することができる。   The deviation amount calculation unit 54 calculates the deviation amount A (r) of the irradiation position of the guide laser L2 when the guide laser L2 is irradiated based on the calculated irradiation position (x, y). Specifically, the irradiation position (x, y) of the processing laser L1 is converted into a coordinate system of polar coordinates (r, θ). Then, the shift amount A (r) is calculated from the converted r using Equation 5. Conversion from the xy coordinate to the rθ coordinate can be performed using a function of x = r × sin θ, y = r × cos θ.

補正部56は、算出されたズレ量A(r)を用いて、照射位置(x,y)を補正する。具体的には、rθ座標における照射位置(r,θ)に、算出したズレ量A(r)を加算して、rθ座標における補正後の照射位置(r´,θ)を算出する。rθ座標における補正後の照射位置(r´,θ)は、(r+A(r),θ)となる。そして、該算出したrθ座標上における補正後の照射位置(r´,θ)をxy座標に変換する。xy座標に変換後の補正後の照射位置(x´,y´)は、(r´cosθ,r´sinθ)となる。補正部56は、補正した照射位置を、光走査制御部58に出力する。   The correction unit 56 corrects the irradiation position (x, y) using the calculated deviation amount A (r). Specifically, the calculated deviation amount A (r) is added to the irradiation position (r, θ) at the rθ coordinate to calculate the corrected irradiation position (r ′, θ) at the rθ coordinate. The corrected irradiation position (r ′, θ) in the rθ coordinate is (r + A (r), θ). Then, the corrected irradiation position (r ′, θ) on the calculated rθ coordinate is converted into an xy coordinate. The corrected irradiation position (x ′, y ′) after conversion into xy coordinates is (r ′ cos θ, r ′ sin θ). The correction unit 56 outputs the corrected irradiation position to the optical scanning control unit 58.

光走査制御部58は、ガイド用レーザ光源14を駆動制御するとともに、該算出された複数の補正後の照射位置(x´,y´)に基づいて光走査部18を制御することで、加工パターンデータに基づく照射位置(x,y)にガイド用レーザL2を照射することできる。   The optical scanning control unit 58 drives and controls the guide laser light source 14 and controls the optical scanning unit 18 based on the calculated irradiation positions (x ′, y ′) after correction, thereby processing the optical scanning unit 58. The guide laser L2 can be irradiated to the irradiation position (x, y) based on the pattern data.

次に、印字のシミュレーション時における制御部22の動作を図5のフローチャートにしたがって説明する。加工パターンデータ取得部50は、入力装置40によって入力された加工パターンデータを取得する(ステップS1)。   Next, the operation of the control unit 22 during printing simulation will be described with reference to the flowchart of FIG. The machining pattern data acquisition unit 50 acquires the machining pattern data input by the input device 40 (step S1).

次いで、照射位置算出部52は、取得した加工パターンデータに基づいて、xy座標上における照射位置(x,y)を複数算出する(ステップS2)。   Next, the irradiation position calculation unit 52 calculates a plurality of irradiation positions (x, y) on the xy coordinates based on the acquired processing pattern data (step S2).

次いで、ズレ量算出部54は、複数算出したxy座標上の照射位置をrθ座標上の照射位置(r,θ)に変換する(ステップS3)。この変換は、x=r×sinθ、y=r×cosθの関数を用いて変換することができる。   Next, the deviation amount calculation unit 54 converts the plurality of calculated irradiation positions on the xy coordinates into irradiation positions (r, θ) on the rθ coordinates (step S3). This conversion can be performed using a function of x = r × sin θ and y = r × cos θ.

次いで、ズレ量算出部54は、ステップS3で変換された複数の照射位置(r,θ)のrから、数5を用いてそれぞれの照射位置(r,θ)におけるズレ量A(r)を算出する(ステップS4)。   Next, the deviation amount calculation unit 54 calculates the deviation amount A (r) at each irradiation position (r, θ) using Equation 5 from r of the plurality of irradiation positions (r, θ) converted in step S3. Calculate (step S4).

次いで、補正部56は、それぞれの照射位置(r,θ)と、算出したそれぞれの照射位置(r,θ)におけるズレ量A(r)を用いて、rθ座標上における補正後の照射位置(r´,θ)を複数算出する(ステップS5)。具体的には、rθ座標上における照射位置(r,θ)に算出されたズレ量A(r)を加算して、(r´,θ)を算出する。補正後の照射位置(r´,θ)=(r+A(r),θ)となる。   Next, the correction unit 56 uses the respective irradiation positions (r, θ) and the calculated deviation amount A (r) at the respective irradiation positions (r, θ) to correct the irradiation positions ( A plurality of r ′, θ) are calculated (step S5). Specifically, the calculated deviation A (r) is added to the irradiation position (r, θ) on the rθ coordinate to calculate (r ′, θ). The corrected irradiation position (r ′, θ) = (r + A (r), θ).

次いで、補正部56は、算出したrθ座標上における補正後の複数の照射位置(r´,θ)をxy座標上の照射位置(x´,y´)に変換する(ステップS6)。xy座標上の照射位置(x´、y´)は、(r´cosθ、r´sinθ)=((r+A(r))cosθ,(r+A(r))sinθ)となる。   Next, the correcting unit 56 converts the plurality of corrected irradiation positions (r ′, θ) on the calculated rθ coordinates into irradiation positions (x ′, y ′) on the xy coordinates (step S6). The irradiation position (x ′, y ′) on the xy coordinates is (r ′ cos θ, r ′ sin θ) = ((r + A (r)) cos θ, (r + A (r)) sin θ).

次いで、光走査制御部58は、補正後の照射位置(x´,y´)に基づいて、ガイド用レーザL2を走査させる(ステップS7)。具体的には、ガイド用レーザ光源14を駆動制御するとともに、補正後の照射位置(x´,y´)に基づいて光走査部18を駆動制御する。これにより、加工パターンデータに基づく複数の照射位置(x,y)にガイド用レーザL2を照射させることができる。   Next, the light scanning controller 58 scans the guide laser L2 based on the corrected irradiation position (x ′, y ′) (step S7). Specifically, the drive laser light source 14 is driven and controlled, and the optical scanning unit 18 is driven and controlled based on the corrected irradiation position (x ′, y ′). Thereby, the guide laser L2 can be irradiated to a plurality of irradiation positions (x, y) based on the processing pattern data.

印字のシミュレーションが終了すると、光走査制御部58は、加工用レーザ光源12を駆動制御するとともに、複数の照射位置(x,y)に加工用レーザL1が照射されるように光走査部18を駆動制御する。   When the printing simulation is completed, the optical scanning control unit 58 drives and controls the processing laser light source 12 and controls the optical scanning unit 18 so that the processing laser L1 is irradiated to a plurality of irradiation positions (x, y). Drive control.

このように、本実施の形態では、ガイド用レーザL2の加工用レーザL1に対する照射位置のズレは、半径方向に発生することに着目し、半径方向にズレる加工用レーザL1の照射位置とガイド用レーザL2の照射位置のズレ量A(r)を、加工用レーザL1の照射位置と前記原点との距離である半径のべき級数で級数展開した数式により求めるようにしたので、わざわざ複雑なテーブルを有する必要がなく、簡易にガイド用レーザL1の照射位置の補正精度を向上させることができる。   Thus, in the present embodiment, focusing on the fact that the displacement of the irradiation position of the guide laser L2 with respect to the processing laser L1 occurs in the radial direction, the irradiation position of the processing laser L1 shifted in the radial direction and the guide laser Since the deviation amount A (r) of the irradiation position of the laser L2 is obtained by a mathematical expression that is series-expanded with a power series of a radius that is the distance between the irradiation position of the processing laser L1 and the origin, a complicated table is bothered. The correction accuracy of the irradiation position of the guide laser L1 can be easily improved.

また、ズレ量A(r)は、級数展開の初項のみを用いて求めることができるので、係数Kを予め測定しておけばよく、わざわざ複雑なテーブルを有する必要がなく、簡易にガイド用レーザL2の照射位置の補正精度を向上させることができる。 Further, since the deviation amount A (r) can be obtained using only the first term of the series expansion, it is only necessary to measure the coefficient K 2 in advance, and it is not necessary to have a complicated table. The correction accuracy of the irradiation position of the laser L2 can be improved.

なお、上記実施の形態では、級数展開の初項のみを用いてズレ量A(r)を算出するようにしたが、所定項まで(例えば、第1項〜第2項まで)を用いて求めるようにしてもよい。この場合であっても、複雑なテーブルを有する必要がなく、簡易にガイド用レーザL2の照射位置の補正精度を向上させることができる。   In the above embodiment, the shift amount A (r) is calculated using only the first term of the series expansion, but it is obtained using a predetermined term (for example, from the first term to the second term). You may do it. Even in this case, it is not necessary to have a complicated table, and the correction accuracy of the irradiation position of the guide laser L2 can be easily improved.

以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。   As mentioned above, although this invention was demonstrated using embodiment, the technical scope of this invention is not limited to the range as described in the said embodiment. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications or improvements can be added to the above-described embodiment. It is apparent from the scope of the claims that the embodiments added with such changes or improvements can be included in the technical scope of the present invention.

10…レーザ加工装置 12…加工用レーザ光源
14…ガイド用レーザ光源 16…ビームコンバイナ
18…光走査部 20…fθレンズ
32x、32y…ガルバノスキャナ 34x、34y…ガルバノミラー
36x、36y…駆動モータ 40…入力装置
42…記憶部 50…加工パターンデータ取得部
52…照射位置算出部 54…ズレ量算出部
56…補正部 58…光走査制御部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Laser processing apparatus 12 ... Processing laser light source 14 ... Guide laser light source 16 ... Beam combiner 18 ... Optical scanning part 20 ... f (theta) lens 32x, 32y ... Galvano scanner 34x, 34y ... Galvano mirror 36x, 36y ... Drive motor 40 ... Input device 42 ... Storage unit 50 ... Processing pattern data acquisition unit 52 ... Irradiation position calculation unit 54 ... Deviation amount calculation unit 56 ... Correction unit 58 ... Optical scanning control unit

Claims (3)

加工用レーザ出射部から出射される加工用レーザを収束レンズによって収束させて加工対象物に照射することにより、前記加工対象物に対して加工を行うレーザ加工装置であって、
前記加工用レーザの照射位置を視覚的に確認するために用いられる可視光の波長帯域のガイド用レーザを出射するガイド用レーザ出射部と、
前記加工用レーザと前記ガイド用レーザとが同軸上になるように、前記ガイド用レーザを案内する光案内部と、
前記加工用レーザ及び前記ガイド用レーザを走査させる光走査部と、
前記光走査部を駆動制御させる光走査制御部と、
前記収束レンズの中心に入射する加工用レーザの前記加工対象物上における照射位置を原点として、半径方向にずれる前記加工用レーザの照射位置とガイド用レーザの照射位置とのズレ量を、加工用レーザの照射位置と前記原点との距離である半径のべき級数で級数展開した数式により算出するズレ量算出部と、
算出された前記ズレ量を用いて、ガイド用レーザの照射位置を補正する補正部と、
を備え、
前記光走査制御部は、補正された前記照射位置に基づいて、前記ガイド用レーザを走査させることを特徴とするレーザ加工装置。
A laser processing apparatus that performs processing on the processing object by converging the processing laser emitted from the processing laser emitting unit with a converging lens and irradiating the processing object,
A guide laser emitting section for emitting a guide laser in the wavelength band of visible light used for visually confirming the irradiation position of the processing laser;
A light guide portion for guiding the guide laser so that the processing laser and the guide laser are coaxial;
An optical scanning section for scanning the processing laser and the guide laser;
An optical scanning control unit that drives and controls the optical scanning unit;
The amount of deviation between the irradiation position of the processing laser and the irradiation position of the guide laser, which is shifted in the radial direction, with the irradiation position on the processing object of the processing laser incident on the center of the convergent lens as the origin, is used for processing. A deviation amount calculating unit that calculates a mathematical expression that is a series expansion of a power series of a radius that is a distance between a laser irradiation position and the origin;
A correction unit that corrects the irradiation position of the guide laser using the calculated shift amount;
With
The optical scanning control unit scans the guide laser based on the corrected irradiation position.
請求項1に記載のレーザ加工装置であって、
前記ズレ量算出部は、下記数1に示す前記級数展開した数式のうち、所定項までを用いてズレ量を算出することを特徴とするレーザ加工装置。
Figure 2012030251
(但し、A(r):半径方向のズレ量,K、K、・・・K2n:係数,r:加工用レーザの照射位置と原点との距離)
The laser processing apparatus according to claim 1,
The deviation amount calculation unit calculates a deviation amount by using up to a predetermined term in the series expanded mathematical expression shown in the following formula 1.
Figure 2012030251
(Where A (r): radial deviation, K 2 , K 4 ,... K 2n : coefficient, r: distance between the processing laser irradiation position and the origin)
請求項2に記載のレーザ加工装置であって、
前記ズレ量算出部は、下記数2を用いてズレ量を算出することを特徴とするレーザ加工装置。
Figure 2012030251
The laser processing apparatus according to claim 2,
The deviation amount calculation unit calculates the amount of deviation using the following equation (2).
Figure 2012030251
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