JP2012017475A - 重合性シャトリング剤による接触オレフィンブロック共重合体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】重合方法及び結果として得られるポリマー組成物であって、該方法は、好ましくは擬似ブロック分子構造を含む分岐ポリマーの形成を特徴とする条件下、金属化合物又は複合体と共触媒とを含む、少なくとも1種の付加重合触媒の存在下で、1以上の付加重合性モノマーと重合性シャトリング剤とを重合するステップを含む。
【選択図】図1
Description
コモノマーの混合物を重合し、特異な物性を有するインターポリマー生成物を形成する方
法、そのようなインターポリマーを調製する方法、及び結果として得られるポリマー生成
物に関する。他の態様では、本発明は、これらのポリマーから調製される製品に関する。
ある実施形態では、本発明のポリマーは、2以上の領域又はセグメント(ブロック)と、
少なくとも1種の分岐中心とを含み、各ブロックは、一般的に均一な化学組成を特徴とす
る。これらの分岐状「擬似ブロック」共重合体及びこれを含むポリマーブレンドは、忠実
品、例えば、成形、押出し又は他の方法による成形品、フィルム、シート、及び発泡品の
製造に有用に使用され、接着剤、積層品、ポリマーブレンド又は他の最終用途における構
成品又は成分として有用である。得られた生成物は、自動車用部品、例えば、外形、バン
パー及び装備品、包装用材料、電気ケーブル絶縁体、及び他の用途の製造に使用される。
本発明によるポリマーのブレンドは、1以上の天然又は合成ポリマーとともに調製されて
もよい。
本出願は、2005年9月15日出願の米国仮特許出願第60/717,544号の恩
典を主張する。
比べて優れた特性を有することは長い間知られてきた。例えば、スチレンとブタジエンの
トリブロック共重合体(SBS)、及び同じものの水素化物のトリブロック共重合体(S
EBS)は、耐熱性と弾性との優れた組合せを有する。他のブロック共重合体も当分野で
公知である。一般的に、熱可塑性弾性体(TPE)として知られるブロック共重合体は、
同じポリマー内に、「硬質」あるいは結晶性又はガラス質ブロックを連結する「軟質」又
は弾性状ブロックセグメントが存在するため、所望の特性を有する。硬質セグメントの融
点又はガラス転移温度以下の温度で、ポリマーは弾性特性を示す。高温で、ポリマーは流
動し始め、熱可塑性挙動を示す。ブロック共重合体を調整する公知の方法として、アニオ
ン性重合法及び制御されたフリーラジカル重合法が挙げられる。残念なことに、ブロック
共重合体を調製するこれらの方法は、相対的完全性に対する重合に関し、順次モノマー添
加を必要とし、そのような方法で有用に使用することができるモノマーの種類は、比較的
限定される。例えば、SBS型ブロック共重合体を形成するスチレン及びブタジエンのア
ニオン性重合では、各ポリマー鎖は化学量論的量の開始剤を必要とし、得られるポリマー
は、好ましくは1.0〜1.3の非常に狭い分子量分布Mw/Mnを有する。すなわち、
ポリマーブロックの長さは実質的に同じである。さらに、アニオン及びフリーラジカル法
は、比較的遅く、その結果、方法の経済性が低く、また、α−オレフィンの重合には簡単
に適用されない。
とによって、例えば、連鎖移動剤の不在下、及びβ−ヒドリド脱離による連鎖移動又は他
の連鎖移動方法を本質的に排除するのに十分な低温で、重合を行うことによって、実質的
に「ブロックのような」構造を有するポリマーを調製することができると記載する。その
ような条件下での、高転化率と組合わせた異なるモノマーの順次添加は、異なるモノマー
含量の配列又はセグメントを有するポリマーを形成する結果となると言われていた。その
ような触媒組成物及び方法の数種の例がCoates,Hustad及びReinart
zによって、Angew. Chem., Int. Ed., 41, 2236-2257 (2002)及び米国特許公開第200
3/0114623号明細書で検討されている。
心1つ当たり1個のみのポリマー鎖しか生成せず、触媒生産性を限定する。加えて、比較
的低い方法温度で高い転化率を要求することにより、方法操作コストが増加し、そのよう
な方法の商業的な実施を不相応にしている。さらに、触媒を、それぞれのポリマーの種類
の生成に最適化することができず、従って、方法全体としては、最大効率及び/又は品質
未満のポリマーブロック又はセグメントの生成となる。例えば、早期に停止されたポリマ
ーがある量で形成されることは、一般的に不可避であり、劣ったポリマー特性を有するブ
レンドの形成という結果になる。
フィン重合において鎖成長を中断することは、当分野では周知である。加えて、オレフィ
ン重合においてそのような化合物、特に、アルミニウムアルキル化合物を、捕捉剤として
又は共触媒として使用することは公知である。Macromolecules, 33,9192-9199(2000)では
、あるアルミニウムトリアルキル化合物を、ある対のジルコノセン触媒組成物と組合わせ
て、連鎖移動剤として使用し、アイソタクチック鎖及びアタクチック鎖の両方のセグメン
を含有する少量のポリマーフラクションを含有するポリプロピレン混合物を得た。Liu
及びRytter、Macromolecular Rapid Comm., 22, 952-956 (2001)、ならびにBru
aseth及びRytter, Macromolecules. 36, 3026-3034 (2003)では、エチレン
及び1−ヘキセンの混合物を、トリメチルアルミニウム連鎖移動剤を含有する類似の触媒
組成物によって重合した。後者の文献で、筆者は、従来の研究を以下の方法でまとめてい
る(いくつかの列挙は省く)。
使用することができる。数種の研究が、2種のメタロセンを混合することによるエチレン
重合で行われている。共通する観察は、異なるMwを持つポリエチレンを別々に与える触
媒を組合わせることによって、より広く、ある場合は2頂MWDを持つポリエチレンを得
ることができることであった。[S]oares及びKim(J. Polym. Sci, Part A: P
olym. Chem., 38, 1408-1432 (2000))は、シリカに支持されたEt(Ind)2ZrCl
2/Cp2HfCl2及びEt(Ind)2ZrCl2/CGCの混合物(制限幾何触媒)の
エチレン/1−ヘキセン共重合によって代表される、二重シングルサイト触媒によって製
造されたポリマーのMWD二様性を試験するために、判断基準を開発した。Heilan
d及びKaminsky(Makromol. Chem., 193, 601-610 (1992))は、エタン及び1−
ブテンの共重合において、Et−(Ind)2ZrCl2及びハフニウム類縁体の混合物を
研究した。
停止された鎖の再吸着によるものも含有しない。しかし、そのような報告が、プロペンの
重合のために発行されている。Chienら(J. Polym. Sci. Part A: Polym. Chem., 3
7, 2439-2445 (1999), Makromol., 30, 3447-3458 (1997))は、均一な二元ジルコノセン
触媒によるプロペン重合を研究した。アイソタクチックポリプロピレン(i−PP)、ア
タクチックポリプロピレン(a−PP)及びステレオブロックフラクション(i−PP−
b−a−PP)のブレンドは、アイソ特異的及び非特異的前駆体と、ボレート及びTIB
Aを共触媒として含む、二元システムで得られた。アイソ特異的及びシンジオ特異的ジル
コノセンの二元混合物の使用により、アイソタクチックポリプロピレン(i−PP)、シ
ンジオタクチックポリプロピレン(s−PP)、及びステレオブロックフラクション(i
−PP−b−s−PP)のブレンドを得た。ステレオブロックフラクションの形成のため
のメカニズムによって、2つの異なる触媒部位の間の伝搬鎖の交換の関与が提案された。
Przybyla及びFink(Acta Polym., 50, 77-83 (1999))は、プロペン重合の
ために同じシリカに支持された2つの異なる種類のメタロセン(アイソ特異的及びシンジ
オ特異的)を使用した。著者らは、あるタイプのシリカ支持体に関し、触媒システム中で
活性種の間で連鎖移動が起こり、ステレオブロックPPが得られたと報告した。Lieb
er及びBrintzinger(Macromol. 3, 9192-9199 (2000))は、成長するポリ
マー鎖の1種のメタロセンから他のものへの移動がどのようにして起こるかについてのよ
り詳しい説明を提示した。著者らは、2種の異なるansa−ジルコノセンの触媒混合物
によるプロペン重合を研究した。異なる触媒を、先ず、アルキルポリマー交換に対するそ
れらの傾向について、アルキルアルミニウム活性化剤を用い、個別に研究し、次いで、ス
テレオブロック構造を持つポリマーを製造するそれらの能力に関し、対で研究した。著者
らは、異なる立体選択性を有するジルコノセン触媒の混合物によるステレオブロックポリ
マーの形成は、共触媒のZr触媒中心とAl中心との間の効率的なポリマー交換を条件と
すると報告した。
するペアジルコノセン触媒を使用した著者ら自身の観察を開示し、重合活性、コモノマー
の導入、及びメチルアルモキサン共触媒を使用したポリマー微細構造に関して、二重部位
触媒の影響の効果を報告した。
剤からのポリマー鎖の再吸着可能な触媒、共触媒及び第三成分の組合せを利用することが
できなかったようであり、すなわち、著者らは、2方向再吸着を得ることに失敗したこと
を示している。トリメチルアルミニウムの存在による連鎖停止反応は、おそらく、最小コ
モノマーを導入する触媒から形成されたポリマーに関して起こり、その後、さらなるポリ
マー交換により触媒部位が開き、次いで連続重合が起こったことを示しているが、ポリマ
ーリガンドの逆流の証拠が文献にはないようである。実際、後の情報では、Rytter
ら,Polymer, 45, 7853-7861 (2004)は、先の実験において、触媒部位の間で連鎖移動は
行われなかったと報告した。類似の重合が国際公開第98/34970号パンフレットに
報告された。
メタロセン触媒、すなわち、異なる重合特性、例えば、異なる反応性比を有する2つの立
体異性体の間の転換を比較的容易にすることができるメタロセンの使用は、「ブロック」
構造を有するオレフィン共重合体の生成の結果となると言われた。残念ながら、そのよう
なメタロセンの個々の立体異性体は、一般的に、ポリマー形成特性において有意な相違を
持たず、例えば、所与のモノマー混合物から決められた反応条件下で、高結晶性及びアモ
ルファスブロック共重合体セグメントを形成することは不可能である。さらに、触媒の2
つの「流動性」形態の相対比は変化できないので、「流動性」触媒を使用して、ポリマー
ブロック組成物を変える、又はそれぞれのブロックの比を変えることはできない。
ング重合」の効果について見当している。著者は、接触リビング重合をこのように定義す
る。
アルミニウム中心との間での成長するポリマー鎖の交換が非常に速くかつ可逆的であれば
、ポリマー鎖は、アルミニウム中心上に成長するようである。これは、アルミニウム上の
接触連鎖成長反応として合理的に記載することができる。・・・このタイプの鎖成長反応
の魅力的な出現は、β−H移動が伝搬反応を達成するときに生じるシュルツゲージ−フロ
ーリー分布とは対照的に、生成物分子量のポアソン分布である。」
せて使用したエチレンの接触リビング単独重合の結果を報告した。アルミニウム、ホウ素
、スズ、リチウム、マグネシウム及び鉛のホモレプティックな(Homoleptic)アルキルは
、接触鎖成長を誘発しない。GaMe3を共触媒として用いることによって、狭い分子量
分布を有するポリマーが生成する。しかし、時間依存性生成物分布の分析の後、著者らは
、この反応は、「単純な接触鎖成長反応ではない」と結論付けた。類似の触媒を使用する
類似の方法が、米国特許第5,210,338号、第5,276,220号及び第6,4
44,867号明細書に記載されている。
応器内で使用して、ブロック共重合体を形成する特許請求の範囲を作った。そのような技
術の例として、米国特許第3,970,719号及び第4,039,632号明細書が挙
げられる。実質的なブロック共重合体形成は、これらの反応条件下では起こらないことは
今や公知である。
良されることは、当分野では公知である。ポリマー中のLCBの存在は、主骨格ポリマー
鎖に結合する、C3-8オレフィンコモノマー残余物のどのようなものより長い長さのポリ
マー部分の発生を特徴とする。従来技術では、長鎖分岐は、重合触媒それ自体の作用によ
る、あるいは架橋剤の使用による、ビニルで停止されたマクロマーの導入(意図的に加え
られた、あるいは重合中にインサイチューで形成される、例えば、β−ヒドリド脱離によ
り)によって、ポリマー内に生成する。これらの方法は、一般的に、ビニルで停止された
マクロマー又は架橋部分のポリマーへの導入が不完全で、及び/又は所与のプロセス条件
用のLCBの範囲全体の制御が欠如している。
収率な方法で調製することができる重合方法の必要性が残っている。さらに、重合性シャ
トリング剤(polymerizable shuttling agent)(PSA)を使用して、長鎖分岐を含む分
岐を、得られる共重合体、特に擬似ブロック共重合体に導入することによって、2以上の
コモノマー、例えばエチレンと、1以上のコモノマーとの共重合体を含むポリマーを調製
する、改良された方法を提供することが望まれている。また、ビニル官能化マクロ分子の
インサイチューでの形成を必要としない、オレフィンポリマー、特に擬似ブロック共重合
体中に、制御された量の長鎖分岐を生成する方法を提供することも望まれている。さらに
、前記分岐共重合体生成物を連続重合方法で調製する改良された方法を提供することも望
まれている。
岐共重合体が提供される。本発明のポリマーは、少なくとも1種の付加重合触媒、共触媒
及び重合性シャトリング剤(PSA)を含む組成物を持つ付加重合条件下での1以上の付
加重合性モノマーの重合によって、特異的に形成される。好ましい実施形態では、得られ
るポリマーは、差別化されたポリマー組成物又は特性の複数のブロック又はセグメント、
特に、分岐ポリマー構造において、異なるコモノマー導入レベルを含むブロック又はセグ
メントを含む。ブロックは触媒的に調製されるという事実のため、これらは、ランダムな
化学構造を有し、得られた共重合体構造において、ランダムに結合している。したがって
、得られたポリマーを、「擬似ブロック」共重合体という。これら分岐共重合体の特定の
ものは、実質的に線状であり、触媒及びプロセス条件の選択により、長鎖分岐の量を制御
することができる(前もって製造されたポリマーセグメントの再導入により)。得られた
ポリマーは、複数に分岐され、「くし」型の分子構造を有するのが非常に好ましい。さら
に、本発明の共重合体の特定のものは、長鎖分岐のいくつかのフラクションがそれ自体分
岐している「分岐部分上の分岐部分」構成を有する。一般的に、得られたポリマーは、ゲ
ルフラクションの減少によって証明される架橋されたポリマー形成の発生率が減少してい
る。本発明のポリマーは、2%未満の架橋ゲルフラクションを含むことが好ましく、さら
に好ましくは1%未満の架橋ゲルフラクション、最も好ましくは0.5%未満の架橋ゲル
フラクションである。
された残余物によって結合された、少なくともいくらかのポリマーセグメントで構成され
ているので、得られたポリマー組成物は、同じ総体化学組成のランダム共重合体又はポリ
マー混合物、及び分岐能を持たない連鎖シャトリング剤(chain shuttling agent)で調
製された擬似ブロック共重合体と比較して、特異な物性及び化学特性を有する。本発明の
分岐ブロック共重合体の線状擬似ブロック共重合体を超える利点として、改善された加工
性及びより高い溶融強度が挙げられる。重合性シャトリング剤の導入による分岐部分は、
それぞれ、比較的長く、すなわち、2以上の重合されたモノマー単位、好ましくは2〜1
00個、最も好ましくは3〜20個の重合されたモノマー単位で構成され、理想的には、
各分岐部分は、擬似ブロック形態も有する。
、該方法は、重合反応器内で、少なくとも1種のオレフィン重合触媒及びPSAの存在下
、1以上のオレフィン系モノマーを重合し、複数の分岐部分を含むポリマーの形成を起こ
すステップを含む。少なくともいくつかの分岐部分は、理想的には、2又はそれ以上、よ
り好ましくは2〜100、最も好ましくは3〜20個のモノマー単位の重合から形成され
る長鎖分岐部分である。ポリマーは、さらに、異なるプロセス条件下でのポリマーの異な
るセグメントの重合による擬似ブロック化学構造の存在を特徴とするのが好ましい。
合体が提供され、該方法は、重合反応器内で、2以上のオレフィン重合触媒及びPSAの
存在下、1以上のオレフィン系モノマーを重合し、複数の分岐部分を含むポリマーの形成
を起こすステップを含む。ポリマーは、さらに、擬似ブロック化学構成の存在を特徴とす
ることが好ましい。
ピレン及び少なくとも1種の4〜20個の炭素を有する共重合性コモノマー、又は4−メ
チル−1−ペンテン及び少なくとも1種の4〜20個の炭素を有する異なる共重合性コモ
ノマーを、重合された形態で含む共重合体であって、該共重合体は、2以上の、好ましく
は2又は3個の異なる化学特性又は物性を含む分子内領域、特に分岐ポリマー構造内で結
合された、差別化されたコモノマー導入の領域を含むような共重合体を提供する。
が提供され、該方法は、重合反応器内で、オレフィン重合触媒及びPSAの存在下、1以
上のオレフィン系モノマーを重合し、少なくともいくらかの量の、ポリマーに重合された
シャトリング剤官能基を含有する初期ポリマーの形成を起こすステップと、
反応生成物を、第一反応器又はゾーンから、第一重合反応器又はゾーンの条件とは区別し
得る重合条件下で操作する第2重合反応器又はゾーンへ放出するステップと、
シャトリング剤官能基を含有する少なくともいくつかの初期ポリマーを、第2重合反応器
又はゾーン内の活性触媒部位へ移動するステップと、
初期ポリマーのいくらか又は全てに結合し、かつ初期ポリマーセグメントとは区別し得る
ポリマー特性を有する第二ポリマーセグメントを形成するように、第2重合反応器又はゾ
ーン内で重合を行うステップとを含む。
重合体を提供し、該方法は、重合反応器内で、オレフィン重合触媒及びPSAの存在下、
1以上のオレフィン系モノマーを重合し、シャトリング剤によって停止され、かつポリマ
ー中に付加重合性官能基を含有する少なくともいくらかの量の初期ポリマーの形成を起こ
すステップと、
PSAの付加重合性官能基によって、いくらか又は全ての初期ポリマーに結合された第二
ポリマーセグメントを形成するように、同じ又は異なる重合反応器内で、場合によっては
、1以上の付加重合触媒、共触媒、モノマー又は連鎖シャトリング剤の存在下、重合を継
続するステップとを含む。
、該方法は、2種の触媒(A及びB)及びPSAの存在下で、エチレンと、1以上のα−
オレフィンコモノマーを重合するステップであって、
触媒Aは、PSAに関し、良コモノマー導入剤であるが貧繰返し剤であり、かつ
触媒Bは、PSAに関し、貧コモノマーであるが良繰返し剤であるステップと、
実質的にエチレン及び1以上のα−オレフィンのランダム共重合体の骨格と、
重合形態のエチレンから本質的になる、又はエチレンと、骨格ポリマーと比較して減らさ
れた量の、共重合されたα−オレフィンコモノマーとを含む分岐部分とを含む得られる共
重合体を回収するステップとを含む。換言すれば、結果として得られるポリマーは、比較
的高密度のポリエチレンの分岐部分を持つ、比較的低密度のポリエチレンの骨格を有する
。
それらを生成するというより、重合反応の開始時に、例えば、β−ヒドリド脱離を介して
、ポリマー生成物中の長鎖分岐のレベルを上げることが達成可能となる。さらに、LCB
の程度を、単位用量のPSAを重合反応系へ添加することにより、容易に制御する。本明
細書におけるポリマー生成物は、少なくともいくらかの量の、2以上の区別し得る、重合
性シャトリング剤の残余物により結合されたブロックサイズの最確分布を特徴とするブロ
ック又はセグメントを含有するポリマーを含むことが強く望まれる。本明細書のポリマー
は全て、公知の技術に従って、多官能性カップリング剤の使用によって結合させた分岐ブ
ロック共重合体を形成するため、プロトン源を使用して停止させ、末端連鎖シャトリング
剤を、ビニル−、ヒドロキシル−、アミン−、シラン、カルボン酸−、カルボン酸エステ
ル、アイオノマー又は他の官能基に変換することにより、マトリックス、架橋又は硬化し
た組成物を形成し、又は官能化する。
型擬似ブロック共重合体を形成する結果となるのが望ましい。一般的に、そのような共重
合体は、複数の分岐点を含有する、識別可能な骨格又は中央ポリマー鎖を特徴とする。分
岐部分は、線状であっても、さらに同じように分岐されていてもよい。理想的には、ポリ
マー部分の全てが、実質的に擬似ブロック形態を特徴とする。
トリング剤(CSA)も、同じ方法で使用してもよい。CSAは、触媒部位を形成する活
性ポリマーと相互反応し、成長するポリマー鎖を一時的に取り外し、次いで、それを同じ
又は異なる触媒部位に移し戻すことができる。重合において、CSAの存在は、重要なポ
リマー鎖の停止を起こすことなく、正常な鎖成長を妨害する。PSAの存在は、得られる
ポリマーブロックのサイズ及び分布と同時にポリマー分岐の度合いを制御することを助け
る。CSAだけが、ポリマー平均ブロックサイズを減少させることに役立つ。PSA及び
非重合性CSAの両方を使用することによって、ポリマー及び分岐の「ブロック性」を、
独立して制御することができる。すなわち、ポリマーブロックの量及びサイズ(ブロック
性)の両方を制御し、及びその際の分岐の程度を制御しながら、擬似ブロック共重合体を
調製することができる。さらに本発明の他の実施形態では、「多中心シャトリング剤」(
すなわち、1より多いの連鎖繰返しを起こすことができる部分を有する非重合性CSA)
を、重合性シャトリング剤も含む重合系に1回又は複数回加えることによって、重合性シ
ャトリング剤から得られる正常な分岐官能基に加えて、そのような多中心シャトリング剤
から得られるポリマーに、1以上の複数の分岐された残余物を導入する。結果として得ら
れるポリマーは、重合中に2つの中心又はそれ以上の中心の連鎖シャトリング剤を使用す
るか否かに依存して、1以上の分岐中心を含有する。結果として得られるポリマー生成物
は、少なくともいくらかの量の、第一分子量を有する第一ポリマーと、少なくともいくら
かの量の、使用される多中心シャトリング剤中の繰返し中心の数に応じて、第一ポリマー
の分子量の約2倍、3倍、又はそれ以上の分子量を有する第二ポリマーとの存在を特徴と
する。ポリマーは全て、擬似ブロック共重合体の形態の存在を特徴とすることが好ましい
。
はプロピレンのホモポリマー及び/又はエチレン又はプロピレンと、1以上の共重合性コ
モノマーとの共重合体と、(2)本発明による、又は本発明の方法により製造された1以
上の分岐ポリマーとを含むポリマー混合物が提供される。
って刊行された著作権で保護される元素周期表を参照する。属に関するいかなる言及も、
属に番号をつけるIUPACシステムを使用するこの元素周期表を反映させた属をいう。
反対のことが記載されていない限り、内容から暗黙にわからない限り、あるいは当分野で
習慣になっていない限り、すべての部及び%は、重量基準である。米国特許の実務の目的
に関し、本明細書で参照した特許、特許出願又は刊行物の内容は、その全体を特に、合成
技術、定義(本明細書で提示した定義と矛盾しない範囲で)及び当分野の一般的知識に関
し、参照によって本明細書に組入れられる(又はその同等のUSバージョンも参照によっ
てそのように組入れられる)。
いなくても、いかなる追加の部分、成分、ステップ又は手順の存在を除外することを意図
するものではない。一切の懸念を避けるため、用語「含む」が全体にわたって使用されて
いる、本明細書で主張されている全ての組成物は、反対のことが記載されていない限り、
ポリマーであろうと他のものであろうと、追加の添加物、補助剤又は化合物を含んでもよ
い。対照的に、用語「本質的に〜からなる」は、実施に本質でないものを除いて、引き続
く列挙の範囲から他の部分、成分、ステップ又は手段を除外する。用語「からなる」は、
特別に記載又は列挙していない、どのような部分、成分、ステップ又は手段も除外するも
のである。用語「又は」は、他に記載がない限り、個々に列挙しているもの及びいかなる
組合せもいう。
ポリマー及び少なくとも2種のモノマーの反応により調製されたポリマー、あるいはたと
え単一のモノマーから形成されても、その中に化学的に差別化されたセグメント又はブロ
ックを含有するものを意味する共重合体(本明細書においてインターポリマーと相互互換
的にいう。)も含む。より詳しくは、用語「ポリエチレン」は、エチレンのホモポリマー
と、エチレン及び1以上のC3-8α−オレフィンの共重合体とを含む。用語「結晶性」が
使用される場合、これは、示差走査熱量測定法(DSC)又は同等の技術で測定した、一
次転移点又は結晶性融点(Tm)を有するポリマーをいう。該用語は、用語「半結晶性」
と相互互換的に使用してもよい。用語「アモルファス」は、結晶性融点を持たないポリマ
ーをいう。用語「弾性体」又は「弾性状」は、0℃未満の、より好ましくは−15℃未満
の、最も好ましくは−25℃未満のTgを有するポリマー又はポリマーセグメントを言い
、応力を加えることによってサンプルを変形した場合、変形する力が取り除かれた時、一
般的に、該サンプルは、そのサイズ及び形が回復し得る。具体的には、本明細書で使用さ
れる弾性又は弾性状は、付勢をかけた時の物質の該特性は、材料を破壊されることなく、
その長さが偏りのない長さより長い25%伸長することを可能にし、力を取り除いた時、
伸びの少なくとも40%の回復を起こすことを意味する。弾性状材料の定義を満足する仮
説の例として、長さを少なくとも1.25cm伸ばされ、1.25cm伸ばされて開放さ
れたある材料の1cmのサンプルが、その長さを1.15cm以下回復することが挙げら
れる。多くの弾性材料が、それらの弛緩状態の長さの25%より大きく超えて伸ばされ、
これらの多くは、伸ばしている力を取り除いたとき、実質的に最初の弛緩状態の長さに回
復する。
徴とするポリマーである。それぞれのペンダント分岐はさらに分岐される。複数レベルの
分岐を含有(過度に分岐した)するポリマー、及び単一の、複数の中心のある分岐点を、
本明細書では、「デンドリマー」又は「樹枝状」という。
、領域エラー又は他の特性のような、異なる化学特性又は物性の2以上のブロック又はセ
グメントを含む共重合体を指す。非隣接ブロックは、同一の化学組成物にとって必ずしも
必要ではなく、他の全てのブロック又は領域の組成から、1以上の先に記載した点に関し
て変化してもよい。ランダム共重合体に比較して、擬似ブロック共重合体は、熱可塑性/
弾性特性のような、真性ブロック共重合体の1以上の所望の特性を達成するために、化学
特性、特にブロック又はセグメントとそれぞれのブロックに対し十分なブロック長さとの
間の結晶性において、十分な違いを有し、同時に、従来のオレフィン重合方法、特に触媒
量の重合触媒を使用する連続溶液重合方法による製造に修正可能である。擬似ブロック共
重合体のそれぞれのブロックは、シュルツゲージ−フローリー分布というよりポアソン分
布に適合するPDIを有するのが望ましい。
は連続して各重合反応器又は重合において使用される重合ゾーンに加えられてもよいこと
は当業者には容易に理解される。PSAは、反応混合物に、重合開始の前、重合を開始さ
せると同時、あるいは少なくとも重合を行っている重要な時間帯の間、特に複数の反応器
が利用される場合、最初の反応器に加えることが強く望まれる。PSA及び反応混合物の
十分な混合は、能動的又は静電混合装置によって、又は反応混合物の混合又は移送におい
て使用されるいかなる撹拌又はポンプ装置の使用によって、実施してもよい。
、全ての異性体を含み、逆も同様である(例えば、「ヘキサン」は、ヘキサンの全ての異
性体を個々に又は集合的に含む)。用語「化合物」及び「複合体」は、本明細書では、相
互互換的に使用され、有機、無機及び有機金属化合物をいう。用語「原子」は、イオン状
態に関係なく、すなわち、それが電荷、部分的電荷を有する、又は他の原子に結合してい
るかどうかに関係なく、元素の最小構成成分をいう。用語「ヘテロ原子」は、炭素及び水
素以外の原子をいう。好ましいヘテロ原子として、F、Cl、Br、N、O、P、B、S
、Si、Sb、Al、Sn、As、Se及びGeが挙げられる。
岐又は非分岐状の、飽和又は不飽和の、環状又は非環状の種を含む。例示として、アルキ
ル、シクロアルキル、アルケニル、アルカジエニル、シクロアルケニル、シクロアルカジ
エニル、アリール及びアルキニル基が挙げられる。「置換ヒドロカルビル」は、1以上の
非ヒドロカルビル置換基で置換されたヒドロカルビル基をいう。用語「ヘテロ原子含有ヒ
ドロカルビル」又は「ヘテロヒドロカルビル」は、水素又は炭素以外の少なくとも1種の
原子が、1以上の炭素原子及び1以上の水素原子とともに存在する1価の基をいう。用語
「ヘテロカルビル」は、1以上の炭素原子と1以上のヘテロ原子とを含有し、水素原子を
含有しない基をいう。炭素原子と任意のヘテロ原子との間の結合、及び任意の2個のヘテ
ロ原子の間の結合は、飽和でも不飽和でもよい。従って、ヘテロシクロアルキルで置換さ
れたアルキル基、置換ヘテロシクロアルキル、ヘテロアリール、置換ヘテロアリール、ア
ルコキシ、アリールオキシ、ジヒドロカルビルボリル、ジヒドロカルビルホスフィノ、ジ
ヒドロカルビルアミノ、トリヒドロカルビルシリル、ヒドロカルビルチオ又はヒドロカル
ビルセレノ基は、用語ヘテロアルキルの範囲内である。適切なヘテロアルキル基の例とし
て、シアノ、ベンゾイル、(2−ピリジル)メチル−及びトリフルオロメチル基が挙げら
れる。
数である)を含有する多原子、環状、共役環構造をいう。2以上の多原子環状環を含有す
る環構造に関し本明細書で使用される用語「縮合された」は、その少なくとも2個の環に
関し、少なくとも1対の隣接する原子対が両方の環に含まれていることを意味する。用語
「アリール」は、1価の芳香族置換基を言い、単一の芳香族環でも、互いに縮合された、
共有結合で結合した、又はメチレン又はエチレン部分のような共通の基に結合した複数の
芳香族環でもよい。中でも、芳香族環は、フェニル、ナフチル、アントラセニル及びビフ
ェニルを含む。
えば、アルキル、置換アルキル、シクロアルキル、置換シクロアルキル、ヘテロシクロア
ルキル、置換ヘテロシクロアルキル、ハロゲン、アルキルハロ(例えば、CF3)、ヒド
ロキシ、アミノ、ホスフィド、アルコキシ、アミノ、チオ、ニトロ、及び芳香族環に縮合
された、共有結合で結合された、又はメチレン又はエチレン部分のような共通の基に結合
した飽和及び不飽和環状炭化水素によって置き換えられているアリール基をいう。共通の
結合基は、ベンゾフェノンにおけるカルボニル、ジフェニルエーテルにおける酸素、又は
ジフェニルアミンにおける窒素であってもよい。
されたコモノマーのパーセントをいう。本発明の一実施形態において、異なる重合条件下
でのコモノマー導入指数において、最も大きな相違を有する金属複合体又は触媒組成の選
択により、同じコモノマー組成分布に関し、密度のようなブロック又はセグメント特性に
おける最も大きな相違を有する2以上のモノマーからの共重合体をもたらす。コモノマー
導入指数は、一般的に、NMR分光分析技術の使用によって測定する。また、公知の理論
技術によるモノマー反応性及び反応器動力学に基づいて確立される。
最確分布を有する擬似ブロック共重合体を含む。3又はそれ以上のセグメント(区別し得
るブロックによって分離されたブロック)を含有するポリマーでは、各ブロックは、同じ
又は化学的に異なってもよく、一般的に、特性の分布を特徴とする。先に記載した結果は
、ポリマー鎖を、異なる重合条件、特に形成の間異なる触媒に供すれば、達成することが
できる。異なる重合条件には、異なるモノマー、コモノマー又はモノマー/コモノマー比
の使用、異なる重合温度、種々のモノマーの圧力又は分圧、異なる触媒、単一中心又は多
中心連鎖シャトリング剤の同時使用、異なるモノマー勾配、又は区別し得るポリマーセグ
メントの形成に導く他の相違が含まれる。この場合、本発明の方法に起因するポリマーの
少なくとも一部が、分子内で配置された、差別化されたポリマーセグメントを含んでもよ
い。
らのポリマーセグメントの迅速な移動が可能な高度に活性な触媒組成物を選択することに
より、高度に分岐されたポリマーを含む分岐状生成物が形成され、特異な特性を有するポ
リマー生成物を得る。少なくとも1種の重合性シャトリング剤及び成長しているポリマー
鎖の迅速かつ効率的な交換が可能な触媒の使用により、ポリマーは、不連続なポリマー成
長及び移動を受け、その結果、くし型又は樹枝状分子構造を持つポリマーが少なくともい
くつか形成する。
本発明の共重合体の調製において使用される適切なモノマーとしては、任意の付加重合
性モノマー、好ましくは任意のオレフィン又はジオレフィン系モノマー、さらに好ましく
は任意のα−オレフィン、最も好ましくはエチレン及び少なくとも1種の共重合性コモノ
マー、プロピレン及び少なくとも1種の4〜20個の炭素を有する共重合性コモノマー、
又は4−メチル−1−ペンテン及び少なくとも1種の異なる4〜20個の炭素を有する共
重合性コモノマーである。適切なモノマーの例として、2〜30個の、好ましくは2〜2
0個の炭素原子の直鎖、又は分岐状のα−オレフィン、例えば、エチレン、プロピレン、
1−ブテン、1−ペンテン、3−メチル−1−ブテン、1−ヘキサン、4−メチル−1−
ペンテン、3−メチル−1−ペンテン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−
テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン及び1−エイコセン;3〜30個、
好ましくは3〜20個の炭素原子のシクロオレフィン、例えば、シクロペンテン、シクロ
ヘプテン、ノルボルネン、5−メチル−2−ノルボルネン、テトラシクロドデセン及び2
−メチル−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒ
ドロナフタレン;ジ及びポリオレフィン、例えば、ブタジエン、イソプレン、4−メチル
−1,3−ペンタジエン、1,3−ペンタジエン、1,4−ペンタジエン、1,5−ヘキ
サジエン、1,4−ヘキサジエン、1,3−ヘキサジエン、1,3−オクタジエン、1,
4−オクタジエン、1,5−オクタジエン、1,6−オクタジエン、1,7−オクタジエ
ン、エチリデンノルボルネン、ビニルノルボルネン、ジシクロペンタジエン、7−メチル
−1,6−オクタジエン、4−エチリデン−8−メチル−1,7−ノナジエン及び5,9
−ジメチル−1,4,8−デカトリエン;芳香族ビニル化合物、例えば、モノ又はポリア
ルキルスチレン(スチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチ
レン、o,p−ジメチルスチレン、o−エチルスチレン、メチルスチレン及びp−エチル
スチレンを含む)、及び官能基含有誘導体、例えば、メトキシスチレン、エトキシスチレ
ン、ビニル安息香酸、ビニル安息香酸メチル、ビニルベンジルアセテート、ヒドロキシス
チレン、o−クロロスチレン、p−クロロスチレン、ジビニルベンゼン、3−フェニルプ
ロペン、4−フェニルプロペン及びα−メチルスチレン、塩化ビニル、1,2−ジフルオ
ロエチレン、1,2−ジクロロエチレン、テトラフルオロエチレン及び3,3,3−トリ
フルオロ−1−プロペンが挙げられ、ただし、モノマーは、使用される条件下で重合性で
ある。
マーの混合物として、エチレン;プロピレン;エチレンと、プロピレン、1−ブテン、1
−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、1−オクテン及びスチレンからなる群より選択
される1以上のモノマーとの混合物;及びエチレン、プロピレン及び共役又は非共役ジエ
ンの混合物が挙げられる。
用語「シャトリング剤」又は「連鎖シャトリング剤」は、重合の条件下、種々の活性触
媒部位の間でポリマー移動を起こすことができる化合物又は化合物の混合物をいう。すな
わち、ポリマー断片の移動は、容易な方法で活性触媒部位に及び該部位からの両方で起こ
る。シャトリング剤と対照的に、「連鎖移動剤」は、ポリマー鎖成長の停止を起こし、触
媒から移動剤へのポリマーの成長は1回の移動ということになる。連鎖シャトリング剤と
ポリマー鎖との間に形成される中間体は、鎖停止が比較的まれな、十分に安定であること
が望ましい。特に、安定な連鎖繰返し部分は、元素周期表の第2〜14族から選択される
金属から誘導され、1以上の、配位重合触媒によって調製される成長ポリマー鎖に可逆的
に結合することができる、利用可能な原子価を有する金属中心を含むのが好ましい。シャ
トリング剤の使用によって得られる少なくとも0.5%、好ましくは少なくとも1%、よ
り好ましくは少なくとも2%、及び最も望ましくは少なくとも3%で、50、90、95
又は99%までのポリマーは、シャトリング剤の成長ポリマー鎖への導入によって得られ
るブロックを含有することが望ましい。
結基によって結合された連鎖繰返し部分を含有する化合物又は分子をいう。連鎖繰返し部
分が成長するポリマー鎖に結合すると同時に、連鎖繰返し部分の損失の後に残る多価連結
基が、2以上の活性触媒部位に導入あるいは結合して、2以上の、多価連結基の末端にポ
リマーを挿入することができる活性配位重合を含有する触媒組成物を形成する。少なくと
も0.5%、好ましくは少なくとも1%、より好ましくは少なくとも2%、最も望ましく
は少なくとも3%であって、50、90、95又は99%までの高分子ポリマー成分が、
多中心シャトリング剤の使用によって調製された、又はその使用によって形成されたポリ
マーブレンド中に存在するのが望ましい。
部分が、重合性セグメント単独、又は金属中心又は他の繰返し官能基に結合したセグメン
トを含む多中心シャトリング剤を含む。例として、エチレン不飽和、例えばビニル基(ポ
リビニル基、例えば、共役又は非共役ジエン、あるいはジビニルフェニレン官能基が挙げ
られる)を含む化合物又は複合体が挙げられる。また、そのような重合性官能基は、繰返
し交換が起こる前又は後に反応混合物中で、付加重合性モノマーと重合されてもよい。一
度ポリマー鎖中に重合されれば、シャトリング剤の連鎖繰返し部(例えば、金属中心)は
、触媒部位と入れ替わり、あるいは停止が起こるまで連鎖シャトリング剤に結合したまま
である。先に記載した場合、重合性シャトリング剤は、得られたポリマー鎖に結合したま
まであり、一方ポリマーは、交換された触媒部位及び他の残っている任意の活性触媒部位
によって形成が続く。
は、ポリマー構造を変更しない、又は追加のモノマーを包含しないことが望ましい。すな
わち、シャトリング剤は、関心のある重合に関し、重要な触媒特性も持たない。むしろ、
シャトリング剤は、金属アルキル、又はポリマー部分と他のタイプの相互反応を形成し、
ポリマー部分の他の活性重合触媒部位への移動が起こるまで、重合を阻止する。ある状況
下では、続いて形成されたポリマー領域は、重合の間の他の時に形成されたポリマーと区
別し得る物性又は化学特性、例えば、異なるモノマー又はコモノマーの独自性、コモノマ
ー組成分布における相違、結晶性、密度、立体規則性、領域エラー又は他の特性を持つ。
前記方法の後続の繰返しは、ポリマー交換の速度、反応器又は1つの反応器内のゾーンの
数、反応器又はゾーン間の移動、異なる触媒の数、反応器内のモノマー勾配、又は重合に
影響する他の要因に応じて、先に形成したポリマー組成物とは異なる特性又は繰返しを有
するセグメント又はブロックを形成する結果となる。本発明のポリマーは、組成及び/又
は最も可能性のあるグロック長さ分布において相違する少なくとも2個の個々のブロック
又はセグメントを特徴とすることが望ましい。個々のブロックは、ポリマー内で変更され
た組成を有し、及び1.2を超える、好ましくは1.5を超えるPDI(Mw/Mn)を
有することがより好ましい。普通、ポリマー組成物全体のPDIは、1.8を超え、ある
いは2.0を超え、20まで、一般的に10までである。
らに明らかにされ、そこには、重合性ビニル基と、連鎖繰返し官能基、M’、例えば、2
価のリガンド基、Lによって結合された金属中心とを含有するエチレン、1及び重合性シ
ャトリング剤、3のモノマー混合物が図示されている。2個の触媒、それぞれ
は存在する。
(C)の1つによって重合され、ペンダント連鎖繰返し官能基L−M’を含有するランダ
ムエチレン/PSA共重合体を形成する。触媒C’によって形成される類似の共重合体は
示されていない。あるいは、触媒C’は、コモノマーを導入することができない。すなわ
ち、触媒を、望ましい場合、触媒の1つだけが、PSAの有意量を導入し、及び他は高度
に結晶性のエチレンホモポリマーブロックを製造するように、重合性シャトリング剤に関
し、導入能を基に選択されてもよい。ステップ2)では、金属中心官能基、M’が触媒C
’で置換されるように連鎖繰返しが行われる。触媒C部分による同様の交換も行われるが
、示していない。方法は、重合性部分が活性触媒部位に移動する時はいつも、ポリマー鎖
中の分岐中心を確立する。ステップ1)及び2)は、同じ効果が反対の配列において起こ
り得る。さらに、ステップ2)で示される連鎖繰返しは、ポリマー鎖への導入が起こる前
又は後に、1個又は数個の活性触媒中心に1回又は数回起こり得る。全ての触媒が交換方
法において同じように活性である必要はなく、すなわち、制限された平衡状態であり、種
々のシャトリング剤リガンド(すなわち、ポリマー添加の種々の段階で形成される、ポリ
マーの種々の残余物を含有する金属中心)は、PSAが重合中に連続して加えられるかど
うか、反応器がバッチ式又は連続式重合条件下で操作されるかどうか、反応器がプラグ流
れで行われるか、強混合型反応器で操作されるかどうか、及び操作する者によって選択さ
れる他の条件に応じて、活性触媒部位へ移動され、種々の異なるポリマー種の形成を可能
にする。
合が起こる。これは、触媒C及びC’の両方が同じポリマー鎖に存在する場合、場合によ
っては差別化されたポリマーブロックを有する、分岐共重合体を形成する結果となる。方
法は、重合及び繰返し条件が反応器内で維持される限り、何度繰り返してもよい。触媒C
及びC’によって形成されたそれぞれのポリマーブロックは、例えば、コモノマー導入レ
ベル、立体規則性、Mw又は他のポリマー特性によって区別されてもよい。ステップ4で
、例えば、極性化合物の添加による、重合及び繰返し方法の停止によって、本発明の分岐
ポリマーを形成する。分岐点は、異なる活性触媒部位によって、異なるポリマーの種類の
骨格及び分岐を持つPSAの残余物よって生じる。
回起こり、複数の分岐された、くし型ポリマー構造を得てもよいことは、当業者であれば
理解する。さらに、触媒C’を、PSAが該触媒から形成される結果物であるポリマーに
導入されるように選択される場合及び/又は初期導入から形成されたポリマー鎖がどちら
かの触媒と往復する場合、分岐−オン−分岐形態を持つポリマー鎖がいくつか得られる。
追加のポリマー、例えば、触媒C及びC’だけで形成された非分岐ポリマー(図示せず)
も、同様に、反応混合物中に存在するかもしれない。
ロックのサイズは、サイズの分布、好ましくは最確分布と一致する。異なる重合条件、例
えば、モノマー勾配、異なるプロセス条件下で操作される複数の反応器などを使用する場
合、反応性ポリマーセグメントも、化学特性又は物性における相違に基づいて区別されて
もよい。連鎖繰返し及びさらなる成長が、先に記載したように、任意の回数で続いてもよ
い。しかし、得られる生成物混合物は、ある場合は、複数の分岐ポリマー及びそれ自体複
数に分岐されている分岐部分を含む、少なくともいくつかの分岐ポリマーを含有すること
は容易にわかる。
エチレン又はプロピレン、あるいはエチレン及びC3-8α−オレフィンのようなモノマー
混合物、及び重合性シャトリング剤を使用して調製される共重合体が図示されている。ポ
リマーは、モノマーのランダム共重合体と、先に説明したようなPSA挿入によって生じ
る分岐点12を数多く含有する重合性連鎖シャトリング剤、10とを含む。均質重合条件
下では、連続重合中で形成するポリマー、すなわち、ポリマーセグメント、14の全ては
、その分子量は変化してもよいが、実質的に同一である。分岐共重合体は、複数の区別し
得るセグメント、例えば、先に検討したように、非分岐された、分岐された、又は複数分
岐されたものを含有する。
えば、水、又は他の極性源との反応によって回収し、あるいは望ましい場合は官能化して
、ビニル、水酸基、シラン、カルボン酸、カルボン酸エステル、アイオノマー、又は他の
官能性末端基を形成させてもよい。あるいは、ポリマーセグメントを、多官能性カップリ
ング剤(図示せず)、特に、二官能性カップリング剤、例えば、ジクロロジメチルシラン
、トリレンジイソシアネート又はエチレンジクロライドとカップリングし、回収する。
置換シャトリング剤を含有してもよいことを認識する。一般的なポリマー方法では、架橋
は望ましくないが、これにより、架橋マトリックスを形成する結果となり、事実、本発明
の利点の1つは、架橋ポリマー又はゲル形成が比較的欠如していることである。さらに、
本発明の方法は、どれも、2、3、4個、又はそれ以上の活性中心を始めから含有する多
中心シャトリング剤を使用してもよく、約2倍、3倍、4倍又はその他の倍数の分子量の
残存するポリマー及び線状、分岐又は星状形態を有するポリマーをいくらかの量含有する
ポリマー混合物を形成する結果となる。
0倍まで、あるいは100倍まで速いのが理想的であり、重合の速度に関し、これは重要
である。好ましいシャトリング剤は、1000炭素当たり0.1〜10ポリマー分岐を提
供するのに十分な速度で、金属移動を起こす。これにより、連鎖シャトリング剤で停止さ
れ、有意量の高分岐共重合体に導く連続したモノマー挿入を可能にする分岐ポリマー鎖を
有意量形成するのを可能になる。
成、温度、圧力、任意の鎖停止剤、例えば、H2、あるいは他の反応条件を変化させるこ
とによって、別々の反応器、又はプラグ流れ条件下で操作する反応器のゾーンを使用する
ことによって、種々の密度又はコモノマー濃度、モノマー含量及び/又は他の区別される
特性のセグメントを有する分岐ポリマーを調製することができる。
成され、樹脂ブレンドとなる。触媒及び重合性シャトリング剤の正しい選択によって、全
て、比較的大きなポリマーセグメント又はブロック、あるいは前記ブレンドと、さらなる
ランダム共重合体とを含有する複数の分岐共重合体を得ることができる。
合体構成を含有するエチレン及びC3-8コモノマーの複数分岐共重合体を含む。追加の非
常に望ましいポリマーは、くし型のポリマー構成を有する。すなわち、ポリマーは、それ
ぞれ、長鎖分岐の有意量を欠くポリマーを含む、複数の分岐点を含有する骨格ポリマーを
少なくともいくらか含有する。そのようなポリマーは、PSAだけを連続重合の初期段階
、特にプラグ流れ条件下で操作される反応器に加える1実施形態において形成される。そ
のようなくし型ポリマーの一例を、分岐点22を有し、PSA導入によって形成されるラ
ンダム共重合体骨格セグメント20と、PSAが実質的に不在で形成される、比較的線状
のセグメント24とが示された図3に図示する。
期表の第1〜13族、好ましくは第1、2、12又は13族の金属の金属化合物又は複合
体であって、少なくとも1種のC1-20ヒドロカルビル基を含有する化合物又は複合体、好
ましくは、各ヒドロカルビル基中に1〜12個の炭素を含有する、ヒドロカルビル置換ア
ルミニウム、ガリウム又は亜鉛化合物、及びそれらと中性ルイス塩基又は他の安定化基と
の反応生成物が挙げられる。好ましいヒドロカルビル基は、アルキル基、好ましくは線状
又は分岐状C2-8アルキル基である。本発明の使用に最も好ましいシャトリング剤は、ト
リアルキルアルミニウム及びジアルキル亜鉛化合物であり、特に、トリエチルアルミニウ
ム、トリ(i−プロピル)アルミニウム、トリ(i−ブチル)アルミニウム、トリ(n−
ヘキシル)アルミニウム、トリ(n−オクチル)アルミニウム、トリエチルガリウム又は
ジエチル亜鉛である。追加の適切なシャトリング剤として、前記有機金属化合物、好まし
くはトリ(C1-8)アルキルアルミニウム又はジ(C1-8)アルキル亜鉛化合物、特にトリ
エチルアルミニウム、トリ(i−プロピル)アルミニウム、トリ(i−ブチル)アルミニ
ウム、トリ(n−ヘキシル)アルミニウム、トリ(n−オクチル)アルミニウム又はジエ
チル亜鉛と、化学量論的量(ヒドロカルビル基の数に対して)未満の第2アミン又はヒド
ロキシル化合物、特にビス(トリメチルシリル)アミン、t−ブチル(ジメチル)シロキ
サン、2−ヒドロキシメチルピリジン、ジ(n−ペンチル)アミン、2,6−ジ(t−ブ
チル)フェノール、エチル(1−ナフチル)アミン、ビス(2,3,6,7−ジベンゾ−
1−アザシクロヘプタンアミン)、又は2,6−ジフェニルフェノールとを組合わせるこ
とによって形成される反応生成物又は混合物が挙げられる。十分なアミン又はヒドロキシ
ル試薬を、1個の金属原子当たり1個のヒドロカルビル基が残るように使用するのが望ま
しい。シャトリング剤として本発明の使用に最も望ましい先に記載した組合せの第一反応
生成物は、n−オクチルアルミニウムジ(ビス(トリメチルシリル)アミン)、i−プロ
ピルアルミニウムビス(ジメチル(t−ブチル)シロキシド)及びn−オクチルアルミニ
ウムジ(ピリジニル−2−メトキシド)、i−ブチルアルミニウムビス(ジメチル(t−
ブチル)シロキサン)、i−ブチルアルミニウムビス(ジ(トリメチルシリル)アミン)
、n−オクチルアルミニウムジ(ピリジン−2−メトキシド)、i−ブチルアルミニウム
ビス(ジ(n−ペンチル)アミン)、n−オクチルアルミニウムビス(2,6−ジ−t−
ブチルフェノキシド)、n−オクチルアルミニウムジ(エチル(1−ナフチル)アミン)
、エチルアルミニウムビス(t−ブチルジメチルシロキシド)、エチルアルミニウムジ(
ビス(トリメチルシリル)アミン)、エチルアルミニウムビス(2,3,6,7−ジベン
ゾ−1−アザシクロヘプタンアミン)、n−オクチルアルミニウムビス(2,3,6,7
−ジベンゾ−1−アザシクロヘプタンアミド)、n−オクチルアルミニウムビス(ジメチ
ル(t−ブチル)シロキシド、エチル亜鉛(2,6−ジフェニルフェノキシド)、及びエ
チル亜鉛(t−ブトキシド)が挙げられる。
鎖停止反応の発生率の減少)を有する。そのようなシャトリング剤を、低濃度で使用して
もよく、それでも、所望の繰返しの度合いを達成する。反応器内の効率的な分子量のポリ
マーを低下させ、それによって、反応混合物の粘度を下げ、結果的に操作コストを下げる
ということのため、単一の交換部位を持つ連鎖シャトリング剤を、使用することが強く望
まれる。
返し部分を含有する化合物又は複合体であって、配位重合触媒によって調製されるポリマ
ー鎖と、可逆的電子相互反応を形成することができる化合物又は複合体である。さらに、
連鎖繰返し部分の喪失時に形成する多中心残余物は、活性触媒組成物と相互反応し、最終
的に、残余物の2以上の部位でポリマーを成長させなければならない。好ましい多中心シ
ャトリング剤は、式:(M’)mL’(式中、M’は、連鎖繰返し部分、好ましくは、連
結基L’からの分離によって形成される連鎖シャトリング剤の1価の誘導体であり、mは
、2〜6の整数、好ましくは2又は3である)に対応する化合物である。好ましいL’基
は、有機基、特に、炭化水素又は不活性置換炭化水素基、最も好ましくはアルカジイル又
はアルカトリイル基、及びそれらの不活性置換誘導体である。最も好ましいL’基は、C
2-20ヒドロカルビレンである。適切なM’基の具体的な例として、1価の亜鉛又はアルミ
ニウムラジカル、及びそれらの複合体を含有するルイス塩基、最も好ましくは、−Zn(
PG)及びAl(PG)2(式中、PGは保護基、好ましくは、水素、ハロ、ヒドロカル
ビル、トリ(ヒドロカルビル)シリル、ハロ置換ヒドロカルビル及びハロ置換トリ(ヒド
ロカルビル)シリルから選択される基が挙げられる。当業者であれば、前記M’及びL’
種は、重合中にインサイチューで形成し、個別に分離し又は回収することができない、過
渡的に帯電した種であると考えられると認識する。
2−エチレン)ジ(臭化亜鉛)、(1,2−エチレン)ジ(エチル亜鉛)、(1,2−エ
チレン)ビス(トリメチル)シリル亜鉛)、(1,4−ブチレン)ジ(塩化亜鉛)、(1
,4−ブチレン)ジ(臭化亜鉛)、(1,4−ブチレン)ジ(エチル亜鉛)、(1,4−
ブチレン)ビス((トリメチル)シリル亜鉛)、ビス(1,2−エチレン二亜鉛)、ビス
(1,3−プロピレン二亜鉛)、ビス(1,4−ブチレン二亜鉛)、メチルトリ(1,2
−エチレン臭化亜鉛)、(1,2−エチレン)ビス(ジクロロアルミニウム)及び(1,
2−エチレン)ビス(ジエチルアルミニウム)が挙げられる。
基の中に少なくとも1種の重合性官能基を含む化合物である。従って、そのような化合物
は、式:(M’)mL(式中、M’及びmは先に規定した通りであり、Lは重合性官能基
である)で表してもよい。好ましいL基として、エチレン性不飽和ヒドロカルビル基、特
に、1以上の金属中心に結合するビニル置換ヒドロカルビル又はヒドロカルビレン基であ
って、場合によっては電荷バランスを保つためにさらに置換基を含有する基が挙げられる
。適切な重合性シャトリング剤として、ビニルメチル亜鉛、(2−プロペン−1−イル)
メチル亜鉛、(2−ブテン−2−イル)メチル亜鉛、(2−ブテン−3−イル)メチル亜
鉛、(3−ブテン−1−イル)メチル亜鉛、(1−ブテン−2−イル)メチル亜鉛、(1
,3−ブタジエン−1−イル)メチル亜鉛、1,4−ジフェニル−(1,2,3,4−η
4−1,3−ブタジエン)ベンジル亜鉛、ジ(3−ブテン−1−イル)亜鉛、(p−ビニ
ルベンジル)メチル亜鉛、(7−オクテニル)メチル亜鉛、ジ(7−オクテニル)亜鉛、
ジアリル亜鉛、(ビニル)エチル亜鉛、(p−ビニルベンジル)エチル亜鉛、(ビニル)
1−ドデシル亜鉛、(2−プロペン−1−イル)(トリメチルシリルメチル)亜鉛、(1
,4−ブチレン)ジ((2−プロペン−1−イル)亜鉛)、5−ヘキセニル臭化亜鉛、(
2−プロペン−1−イル)ジメチルアルミニウム、ジ(2−プロペン−1−イル)アルミ
ニウムブロマイド、ジ(5−ヘキセニル)亜鉛、5−ヘキセニルエチル亜鉛及び(5−ヘ
キセニル)t−ブチル亜鉛が挙げられるが、これらに限定されない。
本明細書での使用に適切な触媒として、任意の所望の組成又は種類のポリマーを調製す
るのに適する化合物又は化合物の混合物が挙げられる。不均一な触媒も均一な触媒も使用
してよい。不均一な触媒の例として、周知のチーグラー−ナッター組成物、特に、第2族
金属ハライド又は混合ハライド及びアルコキシド上にサポートされた第4族金属ハライド
、及び周知のクロミウム又はバナジウム系触媒が挙げられる。しかし、溶液中における狭
い分子量のポリマーセグメントの使用及び製造の容易さに関し、ここで使用する触媒は、
比較的純粋な有機金属化合物又は金属複合体、特に、元素周期表の第3〜15族又はラン
タノイド系列から選択される金属に基づく化合物又は複合体を含む均一な触媒が好ましい
。
は多価ルイス塩基リガンドを含有する、元素周期表の第3〜15族から選択される金属の
複合体が挙げられる。例として、メタロセン複合体、半メタロセン複合体、制限幾何複合
体、及び多価ピリジルアミン複合体又は他のポリキレート化複合体が挙げられる。複合体
は、一般的に、式:MKkXxZz又はそのダイマーで表され、式中、
Mは、元素周期表の第3〜15族、好ましくは第3〜10属、さらに好ましくは第4〜1
0属、最も好ましくは第4族から選択される金属であり;
Kは、各存在で独立して、KをMに結合させる、非局在化π電子又は1以上の電子対を含
有する基であって、該K基は、水素原子を除く50個までの原子を含有し、場合によって
は、2以上のK基は、一緒に結合して、架橋構造を形成してもよく、さらに場合によって
は1以上のK基は、Z、X又はZ及びXの両方に結合してもよく;
Xは、各存在で独立して、40個までの水素ではない原子を有する1価のアニオン性部分
であって、場合によっては、1以上のX基は、一緒に結合し、2価又は多価のアニオン性
基を形成してもよく、さらに場合によっては、1以上のX基及び1以上のZ基は、互いに
結合し、Mに共有結合で結合されそれに配位する部分を形成してもよく;
Zは、各存在で独立して、ZがMに配位する非共有電子対を少なくとも1種含有する、5
0個までの水素ではない原子の中性ルイス塩基ドナーリガンドであり;
kは、0〜3の整数であり;
xは、1〜4の整数であり;
zは、0〜3の数であり;及び
k+xの合計は、Mの形式的な酸化状態と等しい。
有するものが挙げられ、これらは環状又は非環状非局在化π結合アニオン性リガンド基で
あってもよい。そのようなπ結合基の代表的なものは、共役又は非共役、環状又は非環状
ジエン及びジエニル基、アリル基、ボラタベンゼン基、ホスホル基及びアレーン基である
。「π結合された」という用語は、部分的非局在化π結合からの電子を共有することによ
り、リガンド基が遷移金属に結合することを意味する。
ロカルビル、ヒドロカルビル置換ヘテロ原子からなる群より選択されるラジカルで置換さ
れてもよく、ここで、ヘテロ原子は、元素周期表の第14〜16族から選択され、ヒドロ
カルビル置換ヘテロ原子ラジカルは、さらに第15又は16ヘテロ原子を含有する部分で
置換されている。さらに、2以上のそのようなラジカルは、一緒になって、部分的又は完
全に水素化縮合された環構造を含む縮合された環構造を形成してもよく、あるいは、これ
らは、金属とメタロサイクルを形成してもよい。用語「ヒドロカルビル」には、C1-20直
鎖、分岐状及び環状アルキルラジカル、C6-20芳香族ラジカル、C7-20アルキル置換芳香
族ラジカル及びC7-20アリール置換アルキルラジカルが含まれる。適切なヒドロカルビル
置換ヘテロ原子ラジカルとして、ホウ素、ケイ素、ゲルマニウム、窒素、リン又は酸素の
モノ、ジ及びトリ置換ラジカルであって、各ヒドロカルビル基は、1〜20個の炭素原子
を含有するラジカルが挙げられる。例として、N,N−ジメチルアミノ、ピロリジニル、
トリメチルシリル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、メチルジ(t−ブチ
ル)シリル、トリフェニルゲルミル及びトリメチルゲルミル基が挙げられる。第15又は
16族ヘテロ原子を含有する部分の例として、アミノ、ホスフィノ、アルコキシ又はアル
キルチオ部分又はその2価の誘導体、例えば、遷移金属又はランタニド金属に結合した、
ヒドロカルビル基に結合した、アミド、ホスフィド、アルキレンオキシ又はアルキレンチ
オ基、π結合基、又はヒドロカルビル置換ヘテロ原子が挙げられる。
、フルオレニル、テトラヒドロインデニル、テトラヒドロフルオレニル、オクタヒドロフ
ルオレニル、ペンタジエニル、シクロヘキサジエニル、ジヒドロアントラセニル、ヘキサ
ヒドロアントラセニル、デカヒドロアントラセニル基、ホスホール及びボラタベンジル(
boratabenzyl)基、及びその不活性な置換誘導体、特にそのC1-10ヒドロカルビル置換誘
導体又はトリス(C1-10ヒドロカルビル)シリル置換誘導体が挙げられる。好ましいアニ
オン性非局在化π結合基は、シクロペンタジエニル、ペンタメチルシクロペンタジエニル
、テトラメチルシクロペンタジエニル、テトラメチルシリルシクロペンタジエニル、イン
デニル、2,3−ジメチルインデニル、フルオレニル、2−メチルインデニル、2−メチ
ル−4−フェニルインデニル、テトラヒドロフルオレニル、オクタヒドロフルオレニル、
1−インダセニル、3−ピロリジノインデン−1−イル、3,4−(シクロペンタ(ι)
フェナントレン−1−イル及びテトラヒドロインデニルである。
であるアニオン性リガンドである。それらは、先にG.Herberich et al., Organomettalic
s, 14, 1, 471-480(1995)に記載され、当分野で公知である。好ましいボラタベンゼニル
リガンドは、式、
又はゲルミルからなる群より選択され、該R1は、20個までの水素ではない原子を有し
、場合によっては2個の隣接するR1基は一緒に結合してもよい)に対応する。そのよう
な非局在化π結合基の2価の誘導体を包含する複合体中の1原子は、複合体の他の原子に
、共有結合又は共有結合された2価の基によって結合され、架橋構造を形成する。
ガンドである。それらは、国際公開第98/50392号パンフレット及びその他に記載
され、当分野で先に公知である。好ましいホスホールリガンドは、式、
対応する。
(式中、
Mは第4族金属であり;
Kは、KがMに結合する非局在化π原子を含有する基であって、該K基は、水素原子を含
まない50個までの原子を含有し、場合によっては2個のK基は一緒に結合して架橋構造
を形成してもよく、さらに場合によっては、1個のKがX又はZに結合してもよく;
Xは、各存在で、40個までの水素原子ではない原子を有する、1価のアニオン性部分で
あり、場合によっては、1以上のX基及び1以上のK基は、一緒に結合し、メタロサイク
ルを形成してもよく、さらに場合によっては、1以上のX基及び1以上のZ基は一緒に結
合し、Mに共有結合し、それに配位する部分を形成してもよく;
Zは、各存在で独立して、50個までの水素ではない原子の中性ルイス塩基ドナーリガン
ドであって、ZがMに配位する非共有電子対を少なくとも1種含有するリガンドであり;
kは0〜3の整数であり;
xは1〜4の整数であり;
zは、0〜3の数であり;
k+xの合計は、Mの形式的な酸化状態と等しい。)
体として、2個のK基を結合する架橋基を含有するものが挙げられる。好ましい架橋基と
して、式(ER’2)e(式中、Eは、ケイ素、ゲルマニウム、スズ又は炭素であり、R’
は、各存在で独立して、水素又はシリル、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ及びこ
れらの組合せから選択される基であり、該R’は、30個までの炭素又はケイ素原子を有
し、eは1〜8である)に相当するものが挙げられる。R’は各存在で独立して、メチル
、エチル、プロピル、ベンジル、tert−ブチル、フェニル、メトキシ、エトキシ又は
フェノキシが好ましい。
Mは、+2又は+4の形式的な酸化状態において、チタニウム、ジルコニウム又はハフニ
ウム、好ましくは、ジルコニウム又はハフニウムであり;
R3は、各存在で独立して、水素、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、シアノ、ハロ及
びこれらの組合せからなる群より選択され、該R3は、20個までの水素ではない原子を
有し、あるいは隣接するR3基は、互いに一緒になって、2価の誘導体(すなわち、ヒド
ロカルバジイル、シラジイル又はゲルマジイル基)を形成し、これにより縮合された環構
造を形成し;
X’’は、各存在で独立して、40個までの水素ではない原子のアニオン性リガンド基で
あり、あるいは2個のX’’基が、一緒になって、40個までの水素ではない原子の2価
のアニオン性リガンド基、又は一緒になって4〜30個の水素ではない原子を有する共役
ジエンであって、非局在化π電子によってMに結合するジエンを形成し、この時、Mは、
+2の形式的な酸化状態にあり;
R’、E及びeは先に規定した通りである)に相当する化合物である。
ニル)シラン、ジメチルビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)シラン、ジメチルビ
ス(2−エチルシクロペンタジエン−1−イル)シラン、ジメチルビス(2−t−ブチル
シクロペンタジエン−1−イル)シラン、2,2−ビス(テトラメチルシクロペンタジエ
ニル)プロパン、ジメチルビス(インデン−1−イル)シラン、ジメチルビス(テトラヒ
ドロインデン−1−イル)シラン、ジメチルビス(フルオレン−1−イル)シラン、ジメ
チルビス(テトラヒドロフルオレン−1−イル)シラン、ジメチルビス(2−メチル−4
−フェニルインデン−1−イル)シラン、ジメチルビス(2−メチルインデン−1−イル
)シラン、ジメチル(シクロペンタジエニル)(フルオレン−1−イル)シラン、ジメチ
ル(シクロペンタジエニル)(オクタヒドロフルオレン−1−イル)シラン、ジメチル(
シクロペンタジエニル)(テトラヒドロフルオレン−1−イル)シラン、(1,1,2,
2−テトラメチル)−1,2−ビス(シクロペンタジエニル)ジシラン、(1,2−ビス
(シクロペンタジエニル)エタン、及びジメチル(シクロペンタジエニル)−1−(フル
オレン−1−イル)メタンである。
ビル、ハロシリル、シリルヒドロカルビル及びアミノヒドロカルビル基から選択され、あ
るいは2個のX’’基が一緒になって、共役ジエンの2価の誘導体、あるいはそれらは一
緒になって、中性π結合共役ジエンを形成する。最も好ましいX’’基は、C1-20ヒドロ
カルビル基である。
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジベンジル、
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムメチルベンジル、
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムメチルフェニル、
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジフェニル、
ビス(シクロペンタジエニル)チタニウムアリル、
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムメチルメトキシド、
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムメチルクロライド、
ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、
ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)チタニウムジメチル、
ビス(インデニル)ジルコニウムジメチル、
インデニルフルオレニルジルコニウムジメチル、
ビス(インデニル)ジルコニウムメチル(2−(ジメチルアミノ)ベンジル)、
ビス(インデニル)ジルコニウムメチルトリメチルシリル、
ビス(テトラヒドロインデニル)ジルコニウムメチルトリメチルシリル、
ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムメチルベンジル、
ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジベンジル、
ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムメチルメトキシド、
ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムメチルクロライド、
ビス(メチルエチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、
ビス(ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジベンジル、
ビス(t−ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、
ビス(エチルテトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、
ビス(メチルプロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジベンジル、
ビス(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジベンジル、
ジメチルシリルビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、
ジメチルシリルビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)チタニウム(III)アリル
、
ジメチルシリルビス(t−ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、
ジメチルシリルビス(n−ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、
(メチレンビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)チタニウム(III)2−(ジメ
チルアミノ)ベンジル、
(メチレンビス(n−ブチルシクロペンタジエニル)チタニウム(III)2−(ジメチ
ルアミノ)ベンジル、
ジメチルシリルビス(インデニル)ジルコニウムベンジルクロライド、
ジメチルシリルビス(2−メチルインデニル)ジルコニウムジメチル、
ジメチルシリルビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)ジルコニウムジメチル、
ジメチルシリルビス(2−メチルインデニル)ジルコニウム−1,4−ジフェニル−1,
3−ブタジエン、
ジメチルシリルビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)ジルコニウム(II)1,
4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、
ジメチルシリルビス(テトラヒドロインデニル)ジルコニウム(II)1,4−ジフェニ
ル−1,3−ブタジエン、
ジメチルシリルビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、
ジメチルシリルビス(フルオレニル)ジルコニウムジメチル、
ジメチルシリル−ビス(テトラヒドロフルオレニル)ジルコニウムビス(トリメチルシリ
ル)、
(イソプロピリデン)(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジベンジ
ル、及び
ジメチルシリル(テトラメチルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジ
メチルが挙げられる。
イマー(式中、M、K、X、x及びzは、先に規定した通りであり、Zは、50個までの
水素ではない原子の置換基であって、Kと一緒になって、Mを持つメタロサイクルを形成
する)に相当する。
ウ素、又は元素周期表の第14賊のメンバーである原子であって、Kに直接結合する原子
の少なくとも1種と、窒素、リン、酸素又はイオウからなる群より選択される異なる原子
であって、Mに共有結合で結合する原子とを含む基が挙げられる。
Mは、+2、+3又は+4正式酸化状態で、チタニウム又はジルコニウム、好ましくはチ
タニウムであり;
K1は、非局在化π結合リガンド基であって、場合によっては、1〜5個のR2基で置換さ
れ;
R2は、各存在で独立して、水素、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、シアノ、ハロ及
びこれらの組合せからなる群より選択され、該R2は、20個までの水素ではない原子を
有し、又は隣接するR2基が一緒になって、2価の誘導体(すなわち、ヒドロカルバジイ
ル、シラジイル又はゲルマジイル基)を形成して、縮合された環構造を形成し;
各Xは、ハロ、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ又はシリル基であり、該基は、2
0個までの水素ではない原子を有し、又は2個のX基が一緒になって、中性C5-30共役ジ
エン又はその2価の誘導体を形成し;
xは1又は2であり;
Yは、−O−、−S−、−NR’−、−PR’−であり;
X’は、SiR’2、CR’2、SiR’2SiR’2、CR’2CR’2、CR’=CR’、
CR’2SiR’2又はGeR’2(式中、R’は、各存在で独立して、水素又はシリル、
ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ及びこれらの組合せから選択される基であり、該
R’は、30個までの炭素又はケイ素原子を有する)に相当する「制限幾何触媒」が挙げ
られる。
Arは、6〜30個の水素以外の原子のアリール基であり;
R4は、各存在で独立して、水素、Ar、又はヒドロカルビル、トリヒドロカルビルシリ
ル、トリヒドロカルビルゲルミル、ハライド、ヒドロカルビルオキシ、トリヒドロカルビ
ルシロキシ、ビス(トリヒドロカルビルシリル)アミノ、ジ(ヒドロカルビル)アミノ、
ヒドロカルバジイルアミノ、ヒドロカルビルイミノ、ジ(ヒドロカルビル)ホスフィノ、
ヒドロカルバジイルホスフィノ、ヒドロカルビルスルフィド、ハロ置換ヒドロカルビル、
ヒドロカルビルオキシ置換ヒドロカルビル、トリヒドロカルビルシリル置換ヒドロカルビ
ル、トリヒドロカルビルシロキシ置換ヒドロカルビル、ビス(トリヒドロカルビルシリル
)アミノ置換ヒドロカルビル、ジ(ヒドロカルビル)アミノ置換ヒドロカルビル、ヒドロ
カルビレンアミノ置換ヒドロカルビル、ジ(ヒドロカルビル)ホスフィノ置換ヒドロカル
ビル、ヒドロカルビレンホスフィノ置換ヒドロカルビル又はヒドロカルビルスルフィド置
換ヒドロカルビルから選択されるAr以外の基であり、該R基は、40個までの水素原子
以外の原子を有し、場合によっては2個の隣接するR4基は一緒に結合して、ポリ環状縮
合環基を形成してもよく;
Mはチタニウムであり;
X’は、SiR6 2、CR6 2、SiR6 2SiR6 2、CR6 2CR6 2、CR6=CR6、CR6 2S
iR6 2、BR6、BR6L’’、又はGeR6 2であり;
Yは、−O−、−S−、−NR5−、−PR5−、−NR5 2又はPR5 2であり;
R5は、各存在で独立して、ヒドロカルビル、トリヒドロカルビルシリル又はトリヒドロ
カルビルシリルヒドロカルビルであり、該R5は、20個までの水素以外の原子を有し、
場合によっては、2個のR5基又はR5とY又はZとが一緒になって環構造を形成し;
R6は、各存在で独立して、水素、又はヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、シリル
、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリール、−NR5 2及びこれらの組合せから選択され
る基であり、該R6は、20個までの水素ではない原子を有し、場合によっては、2個の
R6基、又はR6とZとが一緒になって環構造を形成し;
Zは、場合によってはR5、R6又はXに結合する中性ジエン、モノデンテート(monodent
ate)又はポリデンテートルイス塩基であり;
Xは、水素、60個までの水素ではない原子を有する1価のアニオン性リガンド基、又は
2個のX基が一緒に結合して2価のリガンド基を形成し;
xは1又は2であり;
zは0、1又は2である)に相当する化合物が挙げられる。
位が両方ともAr基で置換されている。
(3−フェニルシクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t−ブチルアミド)シランチ
タニウムジクロライド、
(3−フェニルシクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t−ブチルアミド)シランチ
タニウムジメチル、
(3−フェニルシクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t−ブチルアミド)シランチ
タニウム(II)1,3−ジフェニル−1,3−ブタジエン;
(3−(ピロール−1−イル)シクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t−ブチルア
ミド)シランチタニウムジクロライド、
(3−(ピロール−1−イル)シクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t−ブチルア
ミド)シランチタニウムジメチル、
(3−(ピロール−1−イル)シクロペンタジエン−1−イル))ジメチル(t−ブチル
アミド)シランチタニウム(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン;
(3−(1−メチルピロール−3−イル)シクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t
−ブチルアミド)シランチタニウムジクロライド、
(3−(1−メチルピロール−3−イル)シクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t
−ブチルアミド)シランチタニウムジメチル、
(3−(1−メチルピロール−3−イル)シクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t
−ブチルアミド)シランチタニウム(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン;
(3,4−ジフェニルシクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t−ブチルアミド)シ
ランチタニウムジクロライド、
(3,4−ジフェニルシクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t−ブチルアミド)シ
ランチタニウムジメチル、
(3,4−ジフェニルシクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t−ブチルアミド)シ
ランチタニウム(II)1,3−ペンタジエン;
(3−(3−N,N−ジメチルアミノ)フェニル)シクロペンタジエン−1−イル)ジメ
チル(t−ブチルアミド)シランチタニウムジクロライド、
(3−(3−N,N−ジメチルアミノ)フェニルシクロペンタジエン−1−イル)ジメチ
ル(t−ブチルアミド)シランチタニウムジメチル、
(3−(3−N,N−ジメチルアミノ)フェニルシクロペンタジエン−1−イル)ジメチ
ル(t−ブチルアミド)シランチタニウム(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジ
エン;
(3−(4−メトキシフェニル)−4−メチルシクロペンタジエン−1−イル)ジメチル
(t−ブチルアミド)シランチタニウムジクロライド、
(3−(4−メトキシフェニル)−4−フェニルシクロペンタジエン−1−イル)ジメチ
ル(t−ブチルアミド)シランチタニウムジメチル、
(3−4−メトキシフェニル)−4−フェニルシクロペンタジエン−1−イル)ジメチル
(t−ブチルアミド)シランチタニウム(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエ
ン;
(3−フェニル−4−メトキシシクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t−ブチルア
ミド)シランチタニウムジクロライド、
(3−フェニル−4−メトキシシクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t−ブチルア
ミド)シランチタニウムジメチル、
(3−フェニル−4−メトキシシクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t−ブチルア
ミド)シランチタニウム(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン;
(3−フェニル−4−(N,N−ジメチルアミノ)シクロペンタジエン−1−イル)ジメ
チル(t−ブチルアミド)シランチタニウムジクロライド、
(3−フェニル−4−(N,N−ジメチルアミノ)シクロペンタジエン−1−イル)ジメ
チル(t−ブチルアミド)シランチタニウムジメチル、
(3−フェニル−4−(N,N−ジメチルアミノ)シクロペンタジエン−1−イル)ジメ
チル(t−ブチルアミド)シランチタニウム(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタ
ジエン;
2−メチル−(3,4−ジ(4−メチルフェニル)シクロペンタジエン−1−イル)ジメ
チル(t−ブチルアミド)シランチタニウムジクロライド、
2−メチル−(3,4−ジ(4−メチルフェニル)シクロペンタジエン−1−イル)ジメ
チル(t−ブチルアミド)シランチタニウムジメチル、
2−メチル−(3,4−ジ(4−メチルフェニル)シクロペンタジエン−1−イル)ジメ
チル(t−ブチルアミド)シランチタニウム(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタ
ジエン;
((2,3−ジフェニル)−4−(N,N−ジメチルアミノ)シクロペンタジエン−1−
イル)ジメチル(t−ブチルアミド)シランチタニウムジクロライド、
((2,3−ジフェニル)−4−(N,N−ジメチルアミノ)シクロペンタジエン−1−
イル)ジメチル(t−ブチルアミド)シランチタニウムジメチル、
((2,3−ジフェニル)−4−(N,N−ジメチルアミノ)シクロペンタジエン−1−
イル)ジメチル(t−ブチルアミド)シランチタニウム(II)1,4−ジフェニル−1
,3−ブタジエン;
(2,3,4−トリフェニル−5−メチルシクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t
−ブチルアミド)シランチタニウムジクロライド、
(2,3,4−トリフェニル−5−メチルシクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t
−ブチルアミド)シランチタニウムジメチル、
(2,3,4−トリフェニル−5−メチルシクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t
−ブチルアミド)シランチタニウム(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン;
(3−フェニル−4−メトキシシクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t−ブチルア
ミド)シランチタニウムジクロライド、
(3−フェニル−4−メトキシシクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t−ブチルア
ミド)シランチタニウムジメチル、
(3−フェニル−4−メトキシシクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t−ブチルア
ミド)シランチタニウム(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン;
(2,3−ジフェニル−4−(n−ブチル)シクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(
t−ブチルアミド)シランチタニウムジクロライド、
(2,3−ジフェニル−4−(n−ブチル)シクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(
t−ブチルアミド)シランチタニウムジメチル、
(2,3−ジフェニル−4−(n−ブチル)シクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(
t−ブチルアミド)シランチタニウム(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン
;
(2,3,4,5−テトラフェニルシクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t−ブチ
ルアミド)シランチタニウムジクロライド、
(2,3,4,5−テトラフェニルシクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t−ブチ
ルアミド)シランチタニウムジメチル、及び
(2,3,4,5−テトラフェニルシクロペンタジエン−1−イル)ジメチル(t−ブチ
ルアミド)シランチタニウム(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエンが挙げら
れる。
式、
Mは、+2、+3又は+4の形式的な酸化状態で、チタニウムであり;
R7は各存在で独立して、ヒドリド、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、ハライド、ヒ
ドロカルビルオキシ、ヒドロカルビルシロキシ、ヒドロカルビルシリルアミノ、ジ(ヒド
ロカルビル)アミノ、ヒドロカルビレンアミノ、ジ(ヒドロカルビル)ホスフィノ、ヒド
ロカルビレン−ホスフィノ、ヒドロカルビルスルフィド、ハロ置換ヒドロカルビル、ヒド
ロカルビルオキシ置換ヒドロカルビル、シリル置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシロ
キシ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリルアミノ置換ヒドロカルビル、ジ(ヒドロ
カルビル)アミノ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビレンアミノ置換ヒドロカルビル、ジ
(ヒドロカルビル)ホスフィノ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビレンホスフィノ置換ヒ
ドロカルビル又はヒドロカルビルスルフィド置換ヒドロカルビルであり、該R7基は、4
0個までの水素ではない原子を有し、場合によっては、2以上の前記基と一緒になって、
2価の誘導体を形成してもよく;
R8は、金属複合体の残部と縮合構造を形成する、2価のヒドロカルビレン又は置換ヒド
ロカルビレン基であり、該R8は、1〜30個の水素ではない原子を含有し;
Xaは、2価の部分、又は1個のσ−結合と、Mと配位共有結合を形成し得る、中性の2
個の電子対とを含む部分であり、該Xaは、ホウ素又は元素周期表の第14族のメンバー
を含み、及び窒素、リン、イオウ又は酸素も含み;
Xは、60個までの原子を有する、1価のアニオン性リガンド基であって、環状、非局在
化、π結合リガンド基であるリガンドのクラスは除き、場合によっては、2個のX基が一
緒になって、2価のリガンド基を形成し;
Zは、各存在で独立して、20個までの原子を有する中性配位性化合物であり;
xは0、1又は2であり;
zは0又は1である)に対応するポリ環状複合体がある。
のが挙げられる。
(8−メチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−1−イル)−N−(1
,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(II)1,4−ジフェニル−
1,3−ブタジエン、
(8−メチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−1−イル)−N−(1
,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(II)1,3−ペンタジエン
、
(8−メチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−1−イル)−N−(1
,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(III)2−(N,N−ジメ
チルアミノ)ベンジル、
(8−メチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−1−イル)−N−(1
,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(IV)ジクロライド、
(8−メチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−1−イル)−N−(1
,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(IV)ジメチル、
(8−メチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−1−イル)−N−(1
,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(IV)ジベンジル、
(8−ジフルオロメチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−1−イル)
−N−(1,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(II)1,4−ジ
フェニル−1,3−ブタジエン、
(8−ジフルオロメチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−1−イル)
−N−(1,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(II)1,3−ペ
ンタジエン、
(8−ジフルオロメチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−1−イル)
−N−(1,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(III)2−(N
,N−ジメチルアミノ)ベンジル、
(8−ジフルオロメチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−1−イル)
−N−(1,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(IV)ジクロライ
ド、
(8−ジフルオロメチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−1−イル)
−N−(1,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(IV)ジメチル、
(8−ジフルオロメチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−1−イル)
−N−(1,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(IV)ジベンジル
、
(8−メチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−2−イル)−N−(1
,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(II)1,4−ジフェニル−
1,3−ブタジエン、
(8−メチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−2−イル)−N−(1
,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(II)1,3−ペンタジエン
、
(8−メチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−2−イル)−N−(1
,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(III)2−(N,N−ジメ
チルアミノ)ベンジル、
(8−メチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−2−イル)−N−(1
,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(IV)ジクロライド、
(8−メチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−2−イル)−N−(1
,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(IV)ジメチル、
(8−メチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−2−イル)−N−(1
,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(IV)ジベンジル、
(8−ジフルオロメチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−2−イル)
−N−(1,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(II)1,4−ジ
フェニル−1,3−ブタジエン、
(8−ジフルオロメチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−2−イル)
−N−(1,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(II)1,3−ペ
ンタジエン、
(8−ジフルオロメチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−2−イル)
−N−(1,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(III)2−(N
,N−ジメチルアミノ)ベンジル、
(8−ジフルオロメチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−2−イル)
−N−(1,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(IV)ジクロライ
ド、
(8−ジフルオロメチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−2−イル)
−N−(1,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム((IV)ジメチル
、
(8−ジフルオロメチレン−1,8−ジヒドロジベンゾ[e,h]アズレン−2−イル)
−N−(1,1−ジメチルエチル)ジメチルシランアミドチタニウム(IV)ジベンジル
,及びこれらの混合物、特に、位置異性体の混合物。
(式中、Mは、+2、+3又は+4の形式的な酸化状態で、チタニウムであり;
Tは、−NR9−又はO−であり;
R9は、水素ではない10個までの原子のヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、ジヒドロ
カルビルボリル、又はハロヒドロカルビルであり;
R10は、各存在で独立して、水素、ヒドロカルビル、トリヒドロカルビルシリル、トリヒ
ドロカルビルシリルヒドロカルビル、ゲルミル、ハライド、ヒドロカルビルオキシ、ヒド
ロカルビルシロキシ、ヒドロカルビルシリルアミノ、ジ(ヒドロカルビル)アミノ、ヒド
ロカルビレンアミノ、ジ(ヒドロカルビル)ホスフィノ、ヒドロカルビレン−ホスフィノ
、ヒドロカルビルスルフィド、ハロ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ置換ヒド
ロカルビル、シリル置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシロキシ置換ヒドロカルビル、
ヒドロカルビルシリルアミノ置換ヒドロカルビル、ジ(ヒドロカルビル)アミノ置換ヒド
ロカルビル、ヒドロカルビレンアミノ置換ヒドロカルビル、ジ(ヒドロカルビル)ホスフ
ィノ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビレンホスフィノ置換ヒドロカルビル、又はヒドロ
カルビルスルフィド置換ヒドロカルビルであり、該R10基は、40個までの水素原子を除
く原子を有し、場合によっては、2以上の隣接するR10基は一緒になって、2価の誘導体
を形成して、飽和又は不飽和縮合環を形成してもよく;
Xaは、非局在化π電子において欠けている2価部分、あるいはそのような部分は、1個
のσ結合とMに配位共有結合を形成することができる中性2電子対とを含み、前記X’は
、ホウ素又は元素周期表の第14族のメンバーを含み、窒素、リン、硫黄又は酸素も含み
;
Xは、60個までの原子を有する1価のアニオン性リガンド基であって、非局在化π電子
を介してMに結合する環状リガンド基であるリガンドのクラスは除き、又は2個のX基は
、一緒になって2価のアニオン性リガンド基であり;
Zは、各存在で独立して、20個までの原子を有する中性配位性化合物であり;
xは、0、1、2又は3であり;
zは0又は1である。)
メチルシラン、zは0、及びR10は、それぞれの存在で、水素、20個までの水素を除く
原子の、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、ジヒドロカルビルアミノ、ヒドロカル
ビレンアミノ、ジヒドロカルビルアミノ置換ヒドロカルビル基、又はヒドロカルビレンア
ミノ置換ヒドロカルビル基であり、場合によっては、2個のR10基は、一緒に結合しても
よい。
合物が挙げられる。
(t−ブチルアミド)ジメチル−[6,7]ベンゾ−[4,5:2’,3’](1−メチ
ルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタニウム(II)1,4
−ジフェニル−1,3−ブタジエン、
(t−ブチルアミド)ジメチル−[6,7]ベンゾ−[4,5:2’,3’](1−メチ
ルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタニウム(II)1,3
−ペンタジエン、
(t−ブチルアミド)ジメチル−[6,7]ベンゾ−[4,5:2’,3’](1−メチ
ルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタニウム(III)2−
(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、
(t−ブチルアミド)ジメチル−[6,7]ベンゾ−[4,5:2’,3’](1−メチ
ルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタニウム(IV)ジクロ
ライド、
(t−ブチルアミド)ジメチル−[6,7]ベンゾ−[4,5:2’,3’](1−メチ
ルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタニウム(IV)ジメチ
ル、
(t−ブチルアミド)ジメチル−[6,7]ベンゾ−[4,5:2’,3’](1−メチ
ルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタニウム(IV)ジベン
ジル、
(t−ブチルアミド)ジメチル−[6,7]ベンゾ−[4,5:2’,3’](1−メチ
ルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタニウム(IV)ビス(
トリメチルシリル)、
(シクロヘキシルアミド)ジメチル−[6,7]ベンゾ−[4,5:2’,3’](1−
メチルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタニウム(II)1
,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、
(シクロヘキシルアミド)ジメチル−[6,7]ベンゾ−[4,5:2’,3’](1−
メチルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタニウム(II)1
,3−ペンタジエン、
(シクロヘキシルアミド)ジメチル−[6,7]ベンゾ−[4,5:2’,3’](1−
メチルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタニウム(III)
2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、
(シクロヘキシルアミド)ジメチル−[6,7]ベンゾ−[4,5:2’,3’](1−
メチルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタニウム(IV)ジ
クロライド、
(シクロヘキシルアミド)ジメチル−[6,7]ベンゾ−[4,5:2’,3’](1−
メチルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタニウム(IV)ジ
メチル、
(シクロヘキシルアミド)ジメチル−[6,7]ベンゾ−[4,5:2’,3’](1−
メチルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタニウム(IV)ジ
ベンジル、
(シクロヘキシルアミド)ジメチル−[6,7]ベンゾ−[4,5:2’,3’](1−
メチルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタニウム(IV)ビ
ス(トリメチルシリル)、
(t−ブチルアミド)ジ(p−メチルフェニル)−[6,7]ベンゾ−[4,5:2’,
3’](1−メチルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタニウ
ム(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、
(t−ブチルアミド)ジ(p−メチルフェニル)−[6,7]ベンゾ−[4,5:2’,
3’](1−メチルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタニウ
ム(II)1,3−ペンタジエン、
(t−ブチルアミド)ジ(p−メチルフェニル)−[6,7]ベンゾ−[4,5:2’,
3’](1−メチルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタニウ
ム(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、
(t−ブチルアミド)ジ(p−メチルフェニル)−[6,7]ベンゾ−[4,5:2’,
3’](1−メチルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタニウ
ム(IV)ジクロライド、
(t−ブチルアミド)ジ(p−メチルフェニル)−[6,7]ベンゾ−[4,5:2’,
3’](1−メチルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタニウ
ム(IV)ジメチル、
(t−ブチルアミド)ジ(p−メチルフェニル)−[6,7]ベンゾ−[4,5:2’,
3’](1−メチルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタニウ
ム(IV)ジベンジル、
(t−ブチルアミド)ジ(p−メチルフェニル)−[6,7]ベンゾ−[4,5:2’,
3’](1−メチルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタニウ
ム(IV)ビス(トリメチルシリル)、
(シクロヘキシルアミド)ジ(p−メチルフェニル)−[6,7]ベンゾ−[4,5:2
’,3’](1−メチルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタ
ニウム(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、
(シクロヘキシルアミド)ジ(p−メチルフェニル)−[6,7]ベンゾ−[4,5:2
’,3’](1−メチルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタ
ニウム(II)1,3−ペンタジエン、
(シクロヘキシルアミド)ジ(p−メチルフェニル)−[6,7]ベンゾ−[4,5:2
’,3’](1−メチルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタ
ニウム(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、
(シクロヘキシルアミド)ジ(p−メチルフェニル)−[6,7]ベンゾ−[4,5:2
’,3’](1−メチルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタ
ニウム(IV)ジクロライド、
(シクロヘキシルアミド)ジ(p−メチルフェニル)−[6,7]ベンゾ−[4,5:2
’,3’](1−メチルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタ
ニウム(IV)ジメチル、
(シクロヘキシルアミド)ジ(p−メチルフェニル)−[6,7]ベンゾ−[4,5:2
’,3’](1−メチルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタ
ニウム(IV)ジベンジル、及び
(シクロヘキシルアミド)ジ(p−メチルフェニル)−[6,7]ベンゾ−[4,5:2
’,3’](1−メチルイソインドール)−(3H)−インデン−2−イル)シランチタ
ニウム(IV)ビス(トリメチルシリル)。
れる。
(tert−ブチルアミド)(1,1−ジメチル−2,3,4,9,10−η−1,4,
5,6,7,8−ヘキサヒドロナフタレニル)ジメチルシランチタニウムジメチル、
(tert−ブチルアミド)(1,1,2,3−テトラメチル−2,3,4,9,10−
η−1,4,5,6,7,8−ヘキサヒドロナフタレニル)ジメチルシランチタニウムジ
メチル、
(tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチルシ
ランチタニウムジベンジル、
(tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチルシ
ランチタニウムジメチル、
(tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)−1,2−
エタンジイルチタニウムジメチル、
(tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−インデンイル)ジメチルシランチタ
ニウムジメチル、
(tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチルシ
ランチタニウム(III)2−(ジメチルアミノ)ベンジル、
(tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチルシ
ランチタニウム(III)アリル、
(tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチルシ
ランチタニウム(III)2,4−ジメチルペンタジエニル、
(tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチルシ
ランチタニウム(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、
(tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチルシ
ランチタニウム(II)1,3−ペンタジエン、
(tert−ブチルアミド)(2−メチルインデンイル)ジメチルシランチタニウム(I
I)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、
(tert−ブチルアミド)(2−メチルインデンイル)ジメチルシランチタニウム(I
I)2,4−ヘキサジエン、
(tert−ブチルアミド)(2−メチルインデンイル)ジメチルシランチタニウム(I
V)2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、
(tert−ブチルアミド)(2−メチルインデンイル)ジメチルシランチタニウム(I
V)イソプレン、
(tert−ブチルアミド)(2−メチルインデンイル)ジメチルシランチタニウム(I
V)1,3−ブタジエン、
(tert−ブチルアミド)(2,3−ジメチルインデンイル)ジメチルシランチタニウ
ム(IV)2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、
(tert−ブチルアミド)(2,3−ジメチルインデンイル)ジメチルシランチタニウ
ム(IV)イソプレン、
(tert−ブチルアミド)(2,3−ジメチルインデンイル)ジメチルシランチタニウ
ム(IV)ジメチル、
(tert−ブチルアミド)(2,3−ジメチルインデンイル)ジメチルシランチタニウ
ム(IV)ジベンジル、
(tert−ブチルアミド)(2,3−ジメチルインデンイル)ジメチルシランチタニウ
ム(IV)1,3−ブタジエン、
(tert−ブチルアミド)(2,3−ジメチルインデンイル)ジメチルシランチタニウ
ム(II)1,3−ペンタジエン、
(tert−ブチルアミド)(2,3−ジメチルインデンイル)ジメチルシランチタニウ
ム(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、
(tert−ブチルアミド)(2−メチルインデンイル)ジメチルシランチタニウム(I
I)1,3−ペンタジエン、
(tert−ブチルアミド)(2−メチルインデンイル)ジメチルシランチタニウム(I
V)ジメチル、
(tert−ブチルアミド)(2−メチルインデンイル)ジメチルシランチタニウム(I
V)ジベンジル、
(tert−ブチルアミド)(2−メチル−4−フェニルインデンイル)ジメチルシラン
チタニウム(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、
(tert−ブチルアミド)(2−メチル−4−フェニルインデンイル)ジメチルシラン
チタニウム(II)1,3−ペンタジエン、
(tert−ブチルアミド)(2−メチル−4−フェニルインデンイル)ジメチルシラン
チタニウム(II)2,4−ヘキサジエン
(tert−ブチルアミド)(テトラメチルη5−シクロペンタジエニル)ジメチルシラ
ンチタニウム(IV)1,3−ブタジエン、
(tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチルシ
ランチタニウム(IV)2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、
(tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチルシ
ランチタニウム(IV)イソプレン、
(tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチルシ
ランチタニウム(II)1,4−ジベンジル−1,3−ブタジエン、
(tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチルシ
ランチタニウム(II)2,4−ヘキサジエン、
(tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチルシ
ランチタニウム(II)3−メチル−1,3−ペンタジエン、
(tert−ブチルアミド)(2,4−ジメチルペンタジエン−3−イル)ジメチルシラ
ンチタニウムジメチル、
(tert−ブチルアミド)(6,6−ジメチルシクロヘキサジエニル)ジメチルシラン
チタニウムジメチル、
(tert−ブチルアミド)(1,1−ジメチル−2,3,4,9,10−η−1,4,
5,6,7,8−ヘキサヒドロナフタレン−4−イル)ジメチルシランチタニウムジメチ
ル、
(tert−ブチルアミド)(1,1,2,3−テトラメチル−2,3,4,9,10−
η−1,4,5,6,7,8−ヘキサヒドロナフタレン−4−イル)ジメチルシランチタ
ニウムジメチル、
(tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニルメチルフェニ
ルシランチタニウム(IV)ジメチル、
(tert−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニルメチルフェニ
ルシランチタニウム(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、
1−(tert−ブチルアミド)−2−(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)
エタンジイルチタニウム(IV)ジメチル、及び
1−(tert−ブチルアミド)−2−(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)
エタンジイル−チタニウム(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン。
は明らかになる。中でも、国際公開第03/78480号、第03/78483号、第0
2/92610号、第02/02577号パンフレット、米国特許出願第US 2003
/0004286号及び米国特許第6,515,155号、第6,555,634号、第
6,150,297号、第6,034,022号、第6,268,444号、第6,01
5,868号、第5,866,704号及び第5,470,993号明細書に開示されて
いる。
に対応する多価ルイス塩基化合物が挙げられる。
上記式中、Tbは、架橋基であり、好ましくは、2個又はそれ以上の水素以外の原子を含
有し、
Xb及びYb'は、それぞれ独立して、窒素、硫黄、酸素及びリンからなる群より選択され
;より好ましくはXb及びYbは、両方とも窒素であり、
Rb及びRb’は、各存在で独立して、水素又は場合によっては1以上のヘテロ原子を含有
するC1-50ヒドロカルビル基、又はその不活性置換誘導体である。適切なRb及びRb’基
の限定ではない例示として、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、(ポリ)ア
ルキルアリール及びシクロアルキル基、ならびにこれらの窒素、リン、酸素及びハロゲン
置換誘導体が挙げられる。適切なRb及びRb’基の具体的な例として、メチル、エチル
、イソプロピル、オクチル、フェニル、2,6−ジメチルフェニル、2,6−ジ(イソプ
ロピル)フェニル、2,4,6−トリメチルフェニル、ペンタフルオロフェニル、3,5
−トリフルオロメチルフェニル及びベンジルが挙げられる。
gは0又は1である。
Mbは、元素周期表の第3〜15族、又はランタノイド系列から選択される金属元素であ
る。好ましくは、Mbは、第3〜13族金属であり、より好ましくはMbは、第4〜10属
金属である。
Lbは、1〜50個の水素ではない原子を含有する1価、2価、又は3価のアニオン性リ
ガンドである。適切なLb基の例として、ハライド;ヒドリド;ヒドロカルビル、ヒドロ
カルビルオキシ;ジ(ヒドロカルビル)アミド;ヒドロカルビレンアミド、ジ(ヒドロカ
ルビル)ホスフィド;ヒドロカルビルスルフィド;ヒドロカルビルオキシ;トリ(ヒドロ
カルビルシリル)アルキル;及びカルボン酸塩が挙げられる。より好ましいLb基は、C1
-20アルキル、C7-20アラルキル、及び塩化物である。
hは、1〜6の整数であり、好ましくは1〜4の整数、より好ましくは1〜3の整数であ
り、jは、1又は2であり、h×jの値は、電荷バランスを取るように選択される。
Zbは、Mbに配位した中性リガンド基であり、50個までの水素ではない原子を含有する
。好ましいZb基として、脂肪族及び芳香族アミン類、ホスフィン類及びエーテル類、ア
ルケン、アルカジエン、及びこれらの不活性置換誘導体が挙げられる。適切な不活性置換
基として、ハロゲン、アルコキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アリールオ
キシカルボニル、ジ(ヒドロカルビル)アミン、トリ(ヒドロカルビル)シリル、及びニ
トリル基が挙げられる。好ましいZb基として、トリフェニルホスフィン、テトラヒドロ
フラン、ピリジン、及び1,4−ジフェニルブタジエンが挙げられる。
fは、1〜3の整数である。
2又は3個のTb、Rb及びRb’は、一緒に結合し、単一又は複数の環構造を形成しても
よい。
hは、1〜6の整数であり、好ましくは1〜4の整数、より好ましくは1〜3の整数であ
る。
含み、多重結合を含有する。
矢印は、配位結合を示し、及び
点線は、場合によっては二重結合であることを示す。
施形態では、最も好ましいRb基は、直鎖アルキル基、直鎖アルケニル基、最も近い分岐
点がXbから少なくとも3原子取り除かれる分岐鎖アルキル基、及びそのハロ、ジヒドロ
カルビルアミノ、アルコキシ又はトリヒドロカルビルシリル置換誘導体である。この実施
形態において、非常に好ましいRb基は、C1-8直鎖アルキル基である。
が好ましい。この実施形態に関して適切なRb’基の限定ではない例示として、1以上の
第二又は第三炭素中心を含有するアルキル又はアルケニル基、シクロアルキル、アリール
、アルカリル、脂肪族又は芳香族ヘテロ環状基、有機又は無機オリゴマー、ポリマー又は
環状基、及びこれらのハロ、ジヒドロカルビルアミノ、アルコキシ又はトリヒドロカルビ
ルシリル置換誘導体が挙げられる。この実施形態における好ましいRb’基は、3〜40
、より好ましくは3〜30、最も好ましくは4〜20個の水素を除く原子を含有し、分岐
状又は環状である。
各Rdは、C1-10ヒドロカルビル基、好ましくは、メチル、エチル、n−プロピル、i
−プロピル、t−ブチル、フェニル、2,6−ジメチルフェニル、ベンジル、又はトリル
である。各Reは、C1-10ヒドロカルビル、好ましくは、メチル、エチル、n−プロピル
、i−プロピル、t−ブチル、フェニル、2,6−ジメチルフェニル、ベンジル、又はト
リルである。さらに、2以上のRd又はRe基、あるいはRd及びRe基の混合物は、一緒
になって、ヒドロカルビル基の多価誘導体、例えば、1,4−ブチレン、1,5−ペンチ
レン、又は多環状縮合環、多価ヒドロカルビル基又はヘテロヒドロカルビル基、例えば、
ナフタレン−1,8−ジイルを形成してもよい。)
式中、Rd'は、各存在において、独立して、水素及び場合によっては1以上のヘテロ原子
を含有するC1-50ヒドロカルビル基からなる群より選択され、又はその不活性置換誘導体
であり、さらに場合によっては、2個の隣接するRd'基は一緒になって、2価の架橋基を
形成してもよく;
d’は、4であり;
Mb'は、第4族金属、好ましくは、チタニウム又はハフニウム、あるいは第10属金属、
好ましくはNi又はPdであり;
Lb'は、50個までの水素ではない原子の1価のリガンドであり、好ましくは、ハライド
又はヒドロカルビル、あるいは2個のLb'基が一緒になって、2価又は中性リガンド基で
あり、好ましくは、C2-50ヒドロカルビレン、ヒドロカルバジイル又はジエン基である。
ヒドロカルビルアミン置換ヘテロアリール化合物のハフニウム誘導体を特に含む。
R11は、1〜30個の水素ではない原子を含有するアルキル、シクロアルキル、ヘテロア
ルキル、シクロヘテロアルキル、アリール、及びこれらの不活性置換誘導体から選択され
、あるいはこれらの2価の誘導体であり;
T1は、水素以外の1〜41個の原子、好ましくは水素以外の1〜20個の原子を有する
2価の架橋基、最も好ましくはモノ又はジC1-20ヒドロカルビル置換メチレン又はシラン
基であり;
R12は、ルイス塩基官能基を含有するC5-20ヘテロアリール基、特にピリジン−2−イル
又は置換ピリジン−2−イル基、あるいはこれらの2価の誘導体であり;
M1は、第4続金属、好ましくはハフニウムであり;
X1は、アニオン性、中性又はジアニオン性リガンド基であり;
x’は、前記X1基の数を示す0〜5の数であり;
結合、任意の結合、及び電子供与性相互作用は、それぞれ、線、点線及び矢印で示す。)
ては1以上の追加の基、特にR12からの喪失に起因するものである。さらに、ルイス塩基
官能基、好ましくは電子対からの電子供与は、金属中心に追加の安定性を与える。好まし
い金属複合体は、式、
M1、X1、x’、R11及びT1は、先に規定した通りであり、
R13、R14、R15及びR16は、水素、ハロ、又は20個までの水素ではない原子のアルキ
ル、シクロアルキル、ヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、又はシリル基
であり、あるいは、隣接するR13、R14、R15又はR16基は、一緒に結合し、縮合環誘導
体を形成してもよく、
結合、任意の結合及び電子対供与性相互反応は、それぞれ、線、点線及び矢印で示す)に
対応する。
M1、X1及びx’は、先に規定した通りであり、
R13、R14、R15及びR16は、先に規定した通りであり、好ましいR13、R14及びR15は
、水素又はC1-4アルキル、及びR16はC6-20アリール、最も好ましくはナフタレニルで
あり;
Raは、各存在で独立して、C1-4アルキルであり、aは1〜5であり、最も好ましいRa
は、窒素に対し2個のオルソ位で、イソプロピル又はt−ブチルであり;
R17及びR18は、各存在で独立して、水素、ハロゲン、又はC1-20アルキル又はアリール
基であり、最も好ましくは、R17及びR18の1個が水素で、残りがC6-20アリール基であ
り、特に、2−イソプロピル、フェニル又は縮合ポリ環状アリール基であり、最も好まし
くはアントラセニル基であり、
結合、任意の結合及び電子対供与性相互反応は、それぞれ、線、点線及び矢印で示す)に
対応する。
り、好ましくは、各存在で、X1はメチルであり;
Rfは、各存在で独立して、水素、ハロゲン、C1-20アルキル又はC6-20アリールであり
、あるいは2個の隣接するRf基は、一緒に結合して、環を形成し、fは1〜5であり;
Rcは、各存在で独立して、水素、ハロゲン、C1-20アルキル又はC6-20アリールであり
、あるいは2個の隣接するRc基は、一緒に結合して、環を形成し、cは1〜5である)
に対応する。
Rxは、C1-4アルキル又はシクロアルキルであり、好ましくはメチル、イソプロピル、t
−ブチル又はシクロヘキシルであり、
X1は、各存在で、ハライド、N,N−ジメチルアミド、又はC1-4アルキルであり、好ま
しくはメチルである)の複合体である。
[N−(2,6−ジ(1−メチルエチル)フェニル)アミド)(o−トリル)(α−ナフ
タレン−2−ジイル(6−ピリジン−2−ジイル)メタン)]ハフニウムジメチル;
[N−(2,6−ジ(1−メチルエチル)フェニル)アミド)(o−トリル)(α−ナフ
タレン−2−ジイル(6−ピリジン−2−ジイル)メタン)]ハフニウムジ(N,N−ジ
メチルアミド);
[N−(2,6−ジ(1−メチルエチル)フェニル)アミド)(o−トリル)(α−ナフ
タレン−2−ジイル(6−ピリジン−2−ジイル)メタン)]ハフニウムジクロライド;
[N−(2,6−ジ(1−メチルエチル)フェニル)アミド)(2−イソプロピルフェニ
ル)(α−ナフタレン−2−ジイル(6−ピリジン−2−ジイル)メタン)]ハフニウム
ジメチル;
[N−(2,6−ジ(1−メチルエチル)フェニル)アミド)(2−イソプロピルフェニ
ル)(α−ナフタレン−2−ジイル(6−ピリジン−2−ジイル)メタン)]ハフニウム
ジ(N,N−ジメチルアミド);
[N−(2,6−ジ(1−メチルエチル)フェニル)アミド)(2−イソプロピルフェニ
ル)(α−ナフタレン−2−ジイル(6−ピリジン−2−ジイル)メタン)]ハフニウム
ジクロライド;
[N−(2,6−ジ(1−メチルエチル)フェニル)アミド)(フェナントレン−5−イ
ル)(α−ナフタレン−2−ジイル(6−ピリジン−2−ジイル)メタン)]ハフニウム
ジメチル;
[N−(2,6−ジ(1−メチルエチル)フェニル)アミド)(フェナントレン−5−イ
ル)(α−ナフタレン−2−ジイル(6−ピリジン−2−ジイル)メタン)]ハフニウム
ジ(N,N−ジメチルアミド);及び
[N−(2,6−ジ(1−メチルエチル)フェニル)アミド](フェナントレン−5−イ
ル)(α−ナフタレン−2−ジイル(6−ピリジン−2−ジイル)メタン)]ハフニウム
ジクロライド。
ン−2−イル基の6位に置換したα−ナフタレン基の2位の水素が脱離され、それによっ
て、金属が得られたアミド基及びα−ナフタレニル基の2位の両方に共有結合した金属複
合体を独自に形成し、同時に窒素原子の電子対を介して、ピリジニル窒素原子に配位する
ことによって安定化する。
R20は、5〜20個の水素ではない原子を含有する芳香族又は不活性置換芳香族基、又は
その多価誘導体であり;
T3は、1〜20個の水素ではない原子を有するヒドロカルビレン又はシラン基、又はそ
の不活性置換誘導体であり;
M3は、第4族金属であり、好ましくはジルコニウム又はハフニウムであり;
Gは、アニオン性、中性又はジアニオン性リガンド基であり;好ましくは、20個までの
水素ではない原子を有するハライド、ヒドロカルビル又はジヒドロカルビルアミド基であ
り;
gは、そのようなG基の数を示す1〜5の数字であり;
結合及び電子供与性相互反応は、それぞれ、線及び矢印で示す)に対応する化合物が挙げ
られる。
T3は、2〜20個の水素ではない原子の2価の架橋基であり、好ましくは、置換又は非
置換C3-6アルキレン基であり;
Ar2は、各存在で独立して、アリーレン、あるいは6〜20個の水素ではない原子のア
ルキル又はアリール置換アリーレン基であり;
M3は、第4族金属であり、好ましくはハフニウム又はジルコニウムであり;
Gは、各存在で独立して、アニオン性、中性又はジアニオン性リガンド基であり;
gは、前記X基の数を示す1〜5の数字であり;
電子供与性相互反応は、矢印で示す)に対応する。
M3は、Hf又はZrであり;
Ar4は、C6-20アリール又はその不活性置換誘導体であり、特に、3,5−ジ(イソプ
ロピル)フェニル、3,5−ジ(イソブチル)フェニル、ジベンゾ−1H−ピロール−1
−イル、又はアントラセン−5−イルであり;
T4は、各存在で独立して、C3-6アルキレン基、C3-6シクロアルキレン基又はこれらの
不活性置換誘導体を含み;
R21は、各存在で独立して、水素、ハロ、50個までの水素ではない原子のヒドロカルビ
ル、トリヒドロカルビルシリル、又はトリヒドロカルビルシリルヒドロカルビルであり;
Gは、各存在で独立して、ハロ、あるいは20個までの水素ではない原子のヒドロカルビ
ル又はトリヒドロカルビルシリル基、又は2G基は一緒になって、前記ヒドロカルビル又
はトリヒドロカルビルシリル基の2価の誘導体である)が挙げられる。
ェニル、ジベンゾ−1H−ピロール−1−イル、又はアントラセン−5−イルであり、
R21は、水素、ハロ、又はC1-4アルキルであり、特に、メチルであり、
T4は、プロパン−1,3−ジイル又はブタン−1,4−ジイルであり、
Gはクロロ、メチル又はベンジルである)の化合物が特に好ましい。
準のメタレーション及びリガンド交換手段によって、便利に調製することができる。さら
に、複合体も、対応する第4族金属テトラミン及びヒドロカルビル化剤、例えば、トリメ
チルアルミニウムから出発して、アミン脱離及びヒドロカルビル化方法によって、調製し
てもよい。他の技術も同様に使用してもよい。これらの複合体は、特に、米国特許第6,
320,005号、第6,103,657号明細書、国際公開第02/38628号及び
第03/40195号パンフレット、及びUS04/0220050号明細書の開示から
公知である。
M2は、元素周期表の第4〜10属の金属であり、好ましくは、第4族金属、Ni(II
)又はPd(II)であり、最も好ましくはジルコニウムであり;
T2は、窒素、酸素又はリン含有基であり;
X2は、ハロ、ヒドロカルビル、又はヒドロカルビルオキシであり;
tは、1又は2であり;
x’’は、電荷バランスを提供するように選択される数字であり;
T2及びNは、架橋リガンドによって結合されている)に対応する第4〜10属金属誘導
体が挙げられる。
Soc., 117, 6414 -6415 (1995)及びOrganometallics. 16, 1514-1516, (1997)に先に開示
されている。
芳香族ジオキシイミン複合体であり、式、
M2、X2及びT2は、先に規定した通りであり;
Rdは、各存在で独立して、水素、ハロゲン又はReであり;
Reは、各存在で独立して、C1-20ヒドロカルビル、又はそのヘテロ原子、特に、F、N
、S又はP置換誘導体であり、より好ましくは、C1-I0ヒドロカルビル、又はそのF又は
N置換誘導体であり、最も好ましくは、アルキル、ジアルキルアミノアルキル、ピロリル
、ピペリデニル、パーフルオロフェニル、シクロアルキル、(ポリ)アルキルアリール又
はアラルキルである)に対応する。
り、式、
X2は、先に規定した通りであり、好ましくは、C1-I0ヒドロカルビルであり、最も好ま
しくは、メチル又はベンジルであり;
Re’は、メチル、イソプロピル、t−ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、2−
メチルシクロヘキシル、2,4−ジメチルシクロヘキシル、2−ピロリル、N−メチル−
2−ピロリル、2−ピペリデニル、N−メチル−2−ピペリデニル、ベンジル、o−トリ
ル、2,6−ジメチルフェニル、パーフルオロフェニル、2,6−ジ(イソプロピル)フ
ェニル、又は2,4,6−トリメチルフェニルである)に対応する。
1号明細書に開示されている。これらの複合体は、式:[(Rf)3−P=N]fM(K2)
(Rf)3-f
(式中、
Rfは、1価のリガンド、又は2個のRf基が一緒になって2価のリガンド、好ましくはR
fは、水素又はC1-4アルキルであり;
Mは第4族金属であり;
K2は、K2がMに結合する、非局在化π電子を含有する基であり、該K2基は、50個ま
での水素原子ではない原子を含有し;
fは1又は2である)に対応する。
応、あるいは他の方法を介して、重合中に偶発的に起こる生成した長鎖オレフィンをその
場で再構築することが知られている。そのような長鎖オレフィンの濃度は、高い転換率、
特に95%以上のエチレン転換率、より好ましくは97%以上のエチレン転換率での連続
溶液重合条件の利用によって、特に向上する。そのような条件下、少量であるが検出でき
る量のビニル基で停止されたポリマーを、成長するポリマー鎖に再導入してもよく、長鎖
分岐の形成、すなわち、他の意図的に加えられたコモノマーから得られると思われる長さ
より炭素長さが長い分岐部が形成する結果となる。さらに、そのような鎖は、反応混合物
中に存在する他のコモノマーの存在を反映する。すなわち、反応混合物のコモノマー組成
に依存して、短鎖又は長鎖分岐を同じように含んでよい。しかし、重合中にMSA又はC
SAが存在すると、圧倒的多数のポリマー鎖が、MSA又はCSA種に結合し始め、β−
ヒドリド脱離の実行を妨げるため、長鎖分岐の発生率を著しく制限する。
各金属複合体(本明細書では前触媒と、相互互換的にいう)を活性化し、共触媒、好ま
しくは共触媒形成カチオン、強ルイス酸又はこれらの混合物と組合わせて、活性触媒組成
物を形成してもよい。
関して当分野すでに公知のものが挙げられる。例として、中性ルイス酸、例えば、C1-30
ヒドロカルビル置換第13族化合物、特に、トリ(ヒドロカルビル)アルミニウム化合物
又はトリ(ヒドロカルビル)ホウ素化合物、及びそのハロゲン化(パーハロゲン化を含む
)誘導体であって、これらは、1〜10個の炭素原子を各ヒドロカルビル又はハロゲン化
ヒドロカルビル基中に有し、さらにパーフルオロ化トリ(アリール)ホウ素化合物、特に
トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン;非ポリマーの相溶性非配位性イオン形成化合
物(そのような化合物を酸化条件下で使用することを含む)、特に、相溶性非配位性アニ
オンのアンモニウム、ホスホニウム、オキソニウム、カルボニウム、シリリウム−又はス
ルホニウム塩、又は相溶性非配位性アニオンのフェロセニウム、鉛又は銀塩の使用;及び
前記カチオン形成共触媒及び技術の組合せが挙げられる。前記活性化共触媒及び活性化技
術は、以下の引用文献に、オレフィン重合の異なる金属複合体に関し、先に教示がある。
欧州特許公開第277,003号公報、米国特許5,153,157号、米国特許第5,
064,802号、米国特許第5,321,106号、米国特許第5,721,185号
、米国特許第5,350,723号、米国特許第5,425,872号、米国特許第5,
625,087号、米国特許第5,883,204号、米国特許第5,919,983号
、米国特許第5,783,512号明細書、国際公開第99/15534号及び国際公開
第99/42467号パンフレット。
アルミニウム化合物と、各ヒドロカルビル基中に1〜20個の炭素を有するハロゲン化ト
リ(ヒドロカルビル)ホウ素化合物、特にトリス(ペンタフルオロフェニル)ボランとの
組合せ、さらにそのような中性ルイス酸混合物とポリマー又はオリゴマーアルモキサンと
の組合せ、及び単一の中性ルイス酸、特にトリス(ペンタフルオロフェニル)ボランとポ
リマー又はオリゴマーアルモキサンとの組合せを、活性化共触媒として使用してもよい。
金属複合体:トリス(ペンタフルオロフェニル−ボラン:アルモキサンの好ましいモル比
は、1:1:1〜1:5:20、より好ましくは1:1:1.5〜1:5:10である。
ンを放出し得るブロンステッド酸であるカチオンと、相溶性非配位性アニオンA-とを含
む。本明細書で使用される用語「非配位性」は、アニオン又は物質であって、これらはど
ちらも、前駆体複合体を含有する第4族金属及びこれらから誘導される触媒誘導体に配位
しないもの、あるいはそのような複合体に弱くしか配位せず、中性ルイス塩基によって置
き換えられるには十分な不安定さを残しているものを意味する。非配位性アニオンは、具
体的には、カチオン性金属複合体において電荷バランスアニオン(charge balancing ani
on)として機能する時、アニオン性置換基又はその断片を、前記カチオンに移動させずに
、中性複合体を形成するアニオンである。「相溶性アニオン」は、最初に形成した複合体
が分解した時中性を壊さず、所望の次に起こる重合又は複合体の他の用途で妨害されない
アニオンである。
有するものであり、該アニオンは、活性触媒種(金属カチオン)の電荷のバランスを取る
ことができ、2成分が組合わされた時、形成されるかもしれない。また、該アニオンは、
オレフィン、ジオレフィン、及びアセチレン性不飽和化合物、又は他の中性ルイス塩基、
例えば、エステルやニトリルによる置き換えに対して、十分に不安定であるべきである。
適切は金属として、アルミニウム、金、及び白金が挙げられるが、これらに限定されない
。適切なメタロイドとして、ホウ素、リン及びケイ素が挙げられるが、これらに限定され
ない。単一金属又はメタロイド原子を含有する配位複合体を含むアニオンを含有する化合
物は、当然周知であり、特に、アニオン部に単一のホウ素を含有するような化合物であり
、これらは市販されている。
(L*−H)g +(A)g-
(式中、
L*は、中性ルイス塩基であり;
(L*−H)+は、L*の共役ブロンステッド酸であり;
Ag-は、g−の電荷を有する非配位性相溶性アニオンであり、
gは1〜3の整数である)で表される。
より好ましくは、Ag-は、式:[M’Q4]-
(式中、
M’は、+3の形式的な酸化状態で、ホウ素又はアルミニウムであり;
Qは、各存在で独立して、ヒドリド、ジアルキルアミド、ハライド、ヒドロカルビル、ヒ
ドロカルビルオキサイド、ハロ置換ヒドロカルビル、ハロ置換ヒドロカルビルオキシ及び
ハロ置換シリルヒドロカルビルラジカル(パーハロゲン化ヒドロカルビル、パーハロゲン
化ヒドロカルビルオキシ及びパーハロゲン化シリルヒドロカルビルラジカルを含む)から
選択され、該Qは、20個までの炭素を有し、ただし、Qがハライドの場合、その存在は
1以下である)に対応する。ヒドロカルビルオキサイドQ基の例は、米国特許第5,29
6,433号明細書に開示されている。
A-である。ホウ素を含む活性化共触媒であって、本発明の触媒の調製に特に有用な触媒
は、以下の一般式、
(L*−H)+(BQ4)-
(式中、
L*は先に規定した通りであり;
Bは、3の形式的な酸化状態で、ホウ素であり;
Qは、20個の水素ではない原子のヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、フッ化ヒド
ロカルビル、フッ化ヒドロカルビルオキシ又はフッ化シリルヒドロカルビル基であり、た
だしQがヒドロカルビルの場合、その存在は1以下である)で表される。
0アルキル基を含有するトリアルキルアンモニウム塩である。Qは、各存在で、フッ化ア
リール基、特にペンタフルオロフェニル基が最も好ましい。
化合物の具体例として、トリ置換アンモニウム塩、例えば、
トリメチルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
トリエチルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
トリプロピルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
トリ(n−ブチル)アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
トリ(sec−ブチル)アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
N,N−ジメチルアニリニウムn−ブチルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
N,N−ジメチルアニリニウムベンジルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(4−(t−ブチルジメチルシリル)−2,3
,5,6−テトラフルオロフェニル)ボレート、
N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(4−(トリイソプロピルシリル)−2,3,
5,6−テトラフルオロフェニル)ボレート、
N,N−ジメチルアニリニウムペンタフルオロフェノキシトリス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレート、
N,N−ジエチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
N,N−ジメチル−2,4,6−トリメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフ
ェニル)ボレート、
ジメチルオクタデシルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
メチルジオクタデシルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
ジアルキルアンモニウム塩、例えば、
ジ−(i−プロピル)アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
メチルオクタデシルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
メチルオクタドデシルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、及
び
ジオクタデシルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート;
トリ置換ホスホニウム塩、例えば、
トリフェニルホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
メチルジオクタデシルホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、及
び
トリ(2,6−ジメチルフェニル)ホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)
ボレート;
ジ置換オキソニウム塩、例えば、
ジフェニルオキソニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
ジ(o−トリル)オキソニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、及び
ジ(オクタデシル)オキソニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート;
ジ置換スルホニウム塩、例えば、
ジ(o−トリル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、及び
メチルオクタデシルスルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートが挙げ
られるが、これらに限定されない。
チルオクタデシルアンモニウムカチオン及び1又は2個のC14-18アルキル基を含有する
トリアルキルアミンの混合物から誘導される、アンモニウムカチオンである。
ンを含み、式、
(Oxh+)g(Ag-)h
(式中、
Oxh+は、h+の電荷を有するカチオン性酸化剤であり;
hは1〜3の整数であり;
Ag-及びgは先に規定したとおりである)で表される。
Ag+、又はPb+2が挙げられる。Ag-の好ましい実施形態として、活性化共触媒、特に
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートを含有するブロンステッド酸に関して、
先に規定したアニオンが挙げられる。
ンとの塩であり、式、
[C]+A-
(式中、
[C]+はC1-10カルベニウムイオンであり;
A-は、−1の電荷を有する非配位性相溶性アニオンである)で表される相溶性アニオン
を含む。好ましいカルベニウムイオンは、トリチルカチオン、すなわち、トリフェニルメ
チリウムである。
ンとの塩であり、式、
(Q1 3Si)+A-
(式中、
Q1は、C1-10ヒドロカルビルであり、A-は先に規定した通りである)で表される化合物
を含む。
フルオロフェニルボレート、トリエチルシリリウムテトラキスペンタフルオロフェニルボ
レート及びそれらのエーテル置換付加物である。シリリウム塩は、J. Chem Soc. Chem. C
omm., 1993, 383-384及びLambert, J. B., et al., Organometallics, 1994, 13, 2430-2
443に先に一般的に開示されている。付加重合触媒用の活性化共触媒としての前記シリリ
ウム塩の使用は、米国特許第5,625,087号明細書に開示されている。
ニル)ボランとのある複合体も、効果的な触媒活性化剤であり、本発明に従って使用して
もよい。そのような共触媒は、米国特許第5,296,433号明細書に開示されている
。
特に、メチルアルモキサン(MAO)、トリイソブチルアルミニウム変性メチルアルモキ
サン(MMAO)、又はイソブチルアルモキサン;ルイス酸変性アルモキサン、特に、各
ヒドロカルビル又はハロゲン化ヒドロカルビル基において1〜10個の炭素を有する、パ
ーハロゲン化トリ(ヒドロカルビル)アルミニウム又はパーハロゲン化トリ(ヒドロカル
ビル)ホウ素変性アルモキサン、特にトリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン変性アル
モキサンも含まれる。そのような共触媒は、米国特許第6,214,760号、第6,1
60,146号、第6,140,521号及び第6,696,379号明細書に、先に開
示されている。
国特許第6,395,671号明細書にさらに開示され、オレフィン重合用の本発明の金
属複合体を活性化させるために適切に使用してもよい。一般的に、これらの共触媒(イミ
ダゾリド、置換イミダゾリド、イミダゾリニド、置換イミダゾリニド、ベンズイミダゾリ
ド又は置換ベンズイミダゾリドアニオンを有するものによって説明される)を以下に示す
。
A*+は、カチオン、特に、プロトン含有カチオンであり、好ましくは、1又は2個のC10
-40アルキル基を含有するトリヒドロカルビルアンモニウムカチオン、特に、メチルジ(
C14-20アルキル)アンモニウムカチオンであり、
Q3は、各存在で独立して、水素又はハロ、30個までの水素を除く原子、好ましくはC1
-20アルキルの、ヒドロカルビル、ハロカルビル、ハロヒドロカルビル、シリルヒドロカ
ルビル又はシリル(モノ、ジ及びトリ(ヒドロカルビル)シリルを含む)基であり、
Q2は、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン又はトリス(ペンタフルオロフェニル
)アルマン(alumane)である。)
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)イミダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)−2−ウンデシルイミダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)−2−ヘプタデシルイミダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)−4,5−ビス(ウンデシル)イミダ
ゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)−4,5−ビス(ヘプタデシル)イミ
ダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)イミダゾリニド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)−2−ウンデシルイミダゾリニド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)−2−ヘプタデシルイミダゾリニド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)−4,5−ビス(ウンデシル)イミダ
ゾリニド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)−4,5−ビス(ヘプタデシル)イミ
ダゾリニド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)−5,6−ジメチルベンズイミダゾリ
ド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)−5,6−ビス(ウンデシル)ベンズ
イミダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)イミダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)−2−ウンデシルイミダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)−2−ヘプタデシルイミダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)−4,5−ビス(ウンデシル)イミ
ダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)−4,5−ビス(ヘプタデシル)イ
ミダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)イミダゾリニド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)−2−ウンデシルイミダゾリニド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)−2−ヘプタデシルイミダゾリニド
、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)−4,5−ビス(ウンデシル)イミ
ダゾリニド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)−4,5−ビス(ヘプタデシル)イ
ミダゾリニド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)−5,6−ジメチルベンズイミダゾ
リド、及び
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)−5,6−ビス(ウンデシル)ベン
ズイミダゾリドの
メチルジ(C14-20アルキル)アンモニウム塩が挙げられる。
るもの、例えば、トリス(2,2’,2’’−ノナフルオロビフェニル)フルオロアルミ
ネートが挙げられる。活性化剤の組合せも、本発明によって想定され、例えば、アルモキ
サン及びイオン化活性化剤の組合せ、例えば、欧州特許出願公開第0573120号、P
CT公報国際公開第94/07928号及び国際公開第95/14044号パンフレット
及び米国特許第5,153,157号及び第5,453,410号明細書参照。国際公開
第98/09996号パンフレットには、過塩素酸塩、過ヨウ素酸塩、及びヨウ素酸(こ
れらの水和物を含む)を持つ活性化触媒化合物が記載する。国際公開第99/18135
号パンフレットには、オルガノボロアルミニウム活性化剤の使用が記載されている。国際
公開第03/10171号パンフレットには、ブロンステッド酸のルイス酸付加物である
触媒活性化剤を開示する。触媒化合物を活性化するための他の活性化剤あるいは方法は、
例えば、米国特許第5,849,852号、第5,859,653号、第5,869,7
23号明細書、欧州特許公開第EP−A−615981号及びPCT公報国際公開第98
/32775号パンフレットに記載されている。前記触媒活性化剤及び遷移金属複合体触
媒用の任意の他の公知の活性化剤は全て、本発明に従って、単独又は組合わせて使用して
よいが、最高の結果を得るため、アルモキサン含有共触媒は避けられる。
、より好ましくは1:5000〜10:1、最も好ましくは1:1000〜1:1である
。アルモキサンを、活性化共触媒としてそれだけで使用する場合、大量に、一般的に、モ
ル基準で、金属複合体の量の少なくとも100倍使用する。トリス(ペンタフルオロフェ
ニル)ボランを活性化共触媒として使用する場合、金属複合体に対するモル比で、0.5
:1〜10:1、より好ましくは1:1〜6:1、最も好ましくは1:1〜5:1で使用
される。残りの活性化共触媒は、一般的に、金属複合体とほぼ等モル量で使用される。
接触する。方法は、高温高圧での使用を特徴とするのが望ましい。所望であれば、分子量
の制御のために、水素を、公知の技術に従って、連鎖移動剤として使用してもよい。他の
類似の重合のように、使用されるモノマー及び溶剤は、触媒の脱活性化又は早期に連鎖停
止反応が起こらないのに十分高い純度であることが強く求められる。モノマー精製のため
の任意の適切な技術、例えば、減圧下での揮発分除去、分子ふるい又は高表面積アルミナ
への接触、又はこれらの方法の組合せを使用してもよい。
して、固体、粒子化、高表面積、金属酸化物、メタロイド酸化物、又はこれらの混合物(
無機酸化物と相互互換的にいう)が挙げられる。例として、タルク、シリカ、アルミナ、
マグネシア、チタニア、ジルコニア、Sn2O3、アルミノシリケート、ボロシリケート、
クレイ及びこれらの混合物が挙げられる。好ましくは、適切な支持体は、B.E.T.法
を使用する窒素ポロシメトリーにより測定した表面積が10〜1000m2/g、好まし
くは100〜600m2/gである。普通、平均粒径は、0.1〜500μm、好ましく
は1〜200μm、さらに好ましくは10〜100μmである。
粒状化形態で回収し、移動及び取り扱いが簡単な組成物を提供してもよい。スラリーを含
有する液体を噴霧乾燥する適切な方法は、当分野で周知であり、本明細書で有用に使用さ
れる。本明細書で使用するための触媒組成物を噴霧乾燥する好ましい技術は、米国特許第
5,648,310号及び第5,672,669号明細書に記載されている。
ては、溶剤、アジュバント、捕捉剤及び重合補助剤を、1以上の反応器又はゾーンに連続
的に供給し、ポリマー生成物をそこから連続的に取り除く連続溶液重合として行う。本明
細書で使用される用語「連続的な」及び「連続的に」の範囲内には、時間をかけて、全方
法を実質的に連続するように、小さな規則性あるいは不規則な間隔での反応物の間欠的な
添加と生成物の除去がある方法がある。重合性シャトリング剤及び任意で多中心シャトリ
ング剤及び/又は連鎖シャトリング剤を、第一反応器又はゾーン内、第一反応器の出口又
は出口の直前、第一反応器又はゾーンと任意の次の反応器又はゾーンの間を含む重合の間
のいかなる時点でも加えてよく、使用する場合は、単独で第二反応器又はゾーンに加えて
もよいが、前記シャトリング剤(使用される範囲で)は全て重合の初期段階で加えるのが
好ましい。モノマー、温度、圧力又は他の反応器内の重合条件において、又は連続して連
結されている2以上の反応器又はゾーンの間に相違が存在する場合、本発明のポリマーで
は、異なる組成物のポリマーセグメント、例えば、コモノマー含量、結晶性、密度、立体
規則性、領域規則性、又は他の化学的又は物理的相違が、同じ分子内で形成される。その
ような場合、各セグメント又はブロックのサイズは、ポリマー反応条件によって決定され
、最も好ましくはポリマーサイズの最確分布である。
、独立して操作することができる。複数のゾーン重合の場合、ゾーン全てで同じ種類の重
合、例えば、溶液、スラリー又はガス相下で動作するが、場合によっては異なるプロセス
条件で動作することもある。溶液重合方法に関し、使用する重合条件下でポリマーが溶解
する液状希釈剤中で触媒成分が均一に分散している分散液を使用するのが望ましい。均一
な触媒分散液を製造するため、通常、金属複合体又は共触媒のどちらかだけが難溶性であ
る、超微粒シリカ又は類似の分散剤を利用するそのような方法の1つが、米国特許第5,
783,512号明細書に記載されている。高圧方法は、通常、100℃〜400℃の温
度、500バール(50MPa)を超える圧力で行われる。スラリー方法は、普通、不活
性炭化水素希釈剤、及び0℃から得られたポリマーが不活性重合媒体に実質的に溶解しな
い温度未満の温度までを使用する。スラリー重合での好ましい温度は、調製されるポリマ
ーに応じて、30℃から、好ましくは60℃から、115℃まで、好ましくは100℃ま
でである。圧力の通常の範囲は、大気圧(100kPa)〜500psi(3.4MPa
)である。
のような重合条件、特に、連続溶液重合方法を使用することにより、高温反応器温度の使
用が可能になり、本発明のポリマーの製造を、高収率及び効率で、経済的に行われる。
より、均一な組成物として、あるいは最終反応混合物に相溶性のある希釈剤中に調製して
もよい。所望の共触媒又は活性化剤、及び場合によってシャトリング剤は、触媒と重合す
べきモノマー及び任意の追加の反応希釈剤とを組合わせる前、同時に、又は後に、触媒組
成物と組合わせる。PSAを、モノマーと触媒とが最初に接触する前、又は同時に加える
のが好ましい。
護されなければならない。従って、触媒成分、重合性シャトリング剤及び活性化された触
媒は、酸素及び湿気のない環境、好ましくは乾燥した不活性ガス例えば窒素内で調製及び
保存されなければならない。
1つの手段として以下がある。1以上の溶液重合条件下で動作するよく撹拌されるタンク
又はループ反応器内に、重合すべきモノマーを、任意の溶剤又は希釈剤と共に、反応器の
1箇所で連続的に導入する。反応器は、モノマーと、任意の溶剤又は希釈剤と、溶解した
ポリマーとで実質的に構成される、比較的均一な液相を含有する。好ましい溶剤として、
C4-10炭化水素又はその混合物、特に、アルカン、例えば、ヘキサン又はアルカンの混合
物、及び1以上の重合において使用されるモノマーが挙げられる。ループ反応器、及び複
数ループ反応基の使用、連続操作を含むそれの使用のための種々の適切な操作条件の適切
な例は、米国特許第5,977,251号、第6,319,989号及び第6,683,
149号明細書に見出される。
器液相又はそのリサイクル部へ、少なくとも1箇所から導入する。反応器の温度及び圧力
は、溶剤/モノマー比、触媒添加速度を調整することによって、及び冷却又は加熱コイル
、ジャケット又は両方を使用することによって、制御してもよい。重合速度は、触媒添加
の速度によって制御する。ポリマー生成物中の所与のモノマーの含量は、反応器内のモノ
マーの比に影響を受け、これらの成分の反応器へのそれぞれの供給速度を操作することに
よって制御する。ポリマー生成物の分子量は、場合によっては、当分野で周知のように、
他の重合変数、例えば、温度、モノマー濃度を制御することによって、あるいはシャトリ
ング剤(任意の種類の)、又は連鎖停止剤、例えば水素の使用によって制御する。
製された反応混合物を第二反応器に放出するように、第二反応器を反応器の放出口に、場
合によっては、導管又は他の移送手段によって連結する。第一及び第二反応器の間に、少
なくとも1種のプロセス条件における差を確立してもよい。2以上のモノマーの共重合体
の形成における使用については、該差は、1以上のコモノマーの存在又は不在、あるいは
コモノマー濃度の差が好ましい。それぞれ第二反応器に類似した方法で連続して配置され
る、追加の反応器も同様に設置してもよい。さらに、重合は、反応器流出液を、触媒停止
剤、例えば、水、水蒸気、又はアルコール、官能化生成物が所望の場合は官能化剤、又は
架橋反応性生物が所望の場合は架橋剤と接触させることによって停止させる。
剤を減圧下で、蒸発分離し、必要であれば、さらに装置による揮発成分除去を行い、例え
ば、揮発成分除去押出し機を使用することによって回収する。連続方法では、触媒及びポ
リマーの反応器内での平均残留時間は、一般的に、5分〜8時間であり、好ましくは10
分〜6時間である。
ング剤、温度又は他の反応器の異なるゾーン又は領域の間で確立された勾配で行ってもよ
く、さらに場合によっては、触媒及び/又は連鎖シャトリング剤の別々の添加、及び断熱
又は非断熱重合条件下で行うことによって達成してもよい。
体に吸収させることにより、不均一な触媒として、調製及び使用してもよい。好ましい実
施形態では、不均一な触媒を、金属複合体と、不活性無機化合物の反応生成物と、活性水
素含有活性化剤、特に、トリ(C1-4アルキル)アルミニウム化合物とヒドロキシアリー
ルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレートのアンモニウム塩、例えば、(4−ヒドロ
キシ−3,5−ジ第三ブチルフェニル)トリス(ペンタフルオロフェニル)ボレートのア
ンモニウム塩との反応性生物とを共沈させることにより調製する。不均一な又は支持され
た形態で調製された場合、触媒組成物は、スラリー又は気相重合で使用してもよい。実用
上の制限として、スラリー重合は、ポリマー生成物が実質的に溶解しない液状希釈剤中で
行われる。スラリー重合用の希釈剤は、5個未満の炭素原子を持つ1以上の炭化水素であ
るのが好ましい。望ましい場合は、飽和炭化水素、例えば、エタン、プロパン又はブタン
を、希釈剤として全体又は部分的に使用してもよい。溶液重合に関して、α−オレフィン
コモノマー又は異なるα−オレフィン系モノマーの混合物を、希釈剤として、全体又は部
分的に使用してもよい。少なくとも大部分の希釈剤が、α−オレフィン系モノマー又は重
合させるモノマーであることが最も好ましい。
くは20〜200μm、より好ましくは30μm〜150μm、最も好ましくは50μm
〜100μmである。スラリー重合方法における使用に関し、支持体の中央粒径は、好ま
しくは1μm〜200μm、より好ましくは5μm〜100μm、最も好ましくは10μ
m〜80μmである。
ン共重合体、及び他のオレフィンポリマーの製造のための大規模な商業的に使用される公
知の方法に実質的に類似している。使用される気相方法は、例えば、重合反応ゾーンとし
て、機械的撹拌床又はガス流動床を使用するタイプのものでできる。重合反応は、流動ガ
スの流れによって、有孔プレート又は流動化格子上に支持又は浮遊させた、ポリマー粒子
の流動床を含有する垂直円筒重合反応器中で、行われるのが好ましい。
としても作用し、反応熱を床から除去する。熱ガスは、反応器の頂部から、普通、鎮静化
ゾーン、また、流動床より広い直径を持ち、ガス流れ中に連行された微粒子が沈下して床
に戻る機会のある、減速ゾーンとしても知られるゾーンを通って逃げる。また、サイクロ
ンを使用することは、超微粒子を熱ガス気流から除去するために有益である。次いで、普
通、ガスを、ブロワー又はコンプレッサー、及び1以上の重合熱のガスを奪うための熱交
換器によって床に再循環する。
を床に供給し、蒸発冷却効果を得ることであり、しばしば、凝縮方式(condensing mode
)での操作といわれる。この場合使用される揮発性液体は、例えば、揮発性不活性液体、
例えば、3〜8個の、好ましくは4〜6個の炭素原子を有する飽和炭化水素が可能である
。モノマー又はコモノマーそれ自体が揮発性液体である場合、あるいは凝縮してそのよう
な液体を提供することができる場合、これを適切に床に供給し、蒸発冷却効果を得ること
ができる。揮発性液体は、熱流動床中で蒸発し、流動ガスと混合するガスを形成する。揮
発性液体がモノマー又はコモノマーの場合、該床内でいくらか重合される。次いで、蒸発
液体は、熱再循環ガスの一部として反応器から出、再循環ループの圧縮/熱交換部に入る
。再循環ガスは、熱交換器で冷却され、ガスが冷却された温度が露点未満であれば、ガス
から液体が析出する。この液体は、望ましくは、連続的に流動床に再循環される。析出し
た液体を、再循環ガス流れに運ばれる液滴として、床に再循環させることが可能である。
この種類の方法は、例えば、欧州特許第89691号;米国特許第4,543,399号
明細書;国際公開第94/25495号パンフレット及び米国特許第5,352,749
号明細書に記載されている。液体を床に再循環させる特に好ましい方法は、液体を再循環
ガスの流れから分離し、この液体を、好ましくは床内で液体の微液滴を発生させる方法を
使用して、直接床に再注入することである。この種の方法は、国際公開第94/2803
2号パンフレットに記載されている。
加により触媒される。触媒組成物は、前重合ステップに供してもよく、例えば、少量のオ
レフィン系モノマーを液状不活性希釈剤中で重合し、支持された触媒粒子であって、同時
にオレフィンポリマー粒子中に埋め込まれた粒子を含む触媒複合体を提供してもよい。
、支持された触媒組成物、又は床内の前重合された触媒組成物の流動粒子上で直接製造さ
れる。重合反応の開始は、所望のポリマーに類似するのが好ましい、予め形成したポリマ
ー粒子の床を使用し、触媒組成物、モノマー及び再循環ガス気流中にあることが望まれる
他の任意のガスを導入する前に、不活性ガス又は窒素で乾燥することによって床をコンデ
ィショニングすることで行われ、前記他のガスとして、例えば、希釈ガス、水素連鎖移動
剤又は気相凝集方式で操業する場合、不活性凝集性ガスが挙げられる。製造されたポリマ
ーは、所望どおり、流動床から連続的又は半連続的に放出される。
給と、反応器内の反応ゾーンからの生成物の除去を提供することによって、恒常状態環境
を反応器の反応ゾーンにおいてマクロのスケールで提供する連続方法である。生成物は、
公知の技術に従って、減圧に、場合によっては高温(揮発分除去)に曝すことによって、
簡単に回収される。普通、気相法の流動床は、50℃を超える温度、好ましくは60℃〜
110℃、より好ましくは70℃〜110℃で操作される。
0号;第4,543,399号;第5,352,749号;第5,436,304号;第
5,405,922号;第5,462,999号;第5,461,123号;第5,45
3,471号;第5,032,562号;第5,028,670号;第5,473,02
8号;第5,106,804号;第5,556,238号;第5,541,270号;第
5,608,019号;及び第5,616,661号明細書に記載されている。
が使用された触媒又は連鎖シャトリング剤(重合性連鎖シャトリング剤を含む)の残余物
である金属化ポリマー、及びそれらのさらなる誘導体が挙げられる。反応器から流出する
ポリマー生成物の実質的なフラクションは、シャトリング剤で停止するので、さらなる官
能化は比較的簡単である。金属化ポリマー種は、周知の化学反応、例えば、アミン−、ヒ
ドロキシ−、エポキシ−、シラン、ビニル及び他の官能化停止ポリマー生成物を形成する
、他のアルキル−アルミニウム、アルキル−ガリウム、アルキル−亜鉛又はアルキル−第
1属化合物に適切な反応を利用することができる。本発明での使用が適合する適切な反応
技術の例として、Negishi, 「Organometallics in Organic Synthesis」、第1及び2巻
,(1980),及び有機金属及び有機合成に関する他の標準的な教科書に記載されてい
る。
本発明の方法を利用して、1以上のオレフィン系モノマーの分岐された又は複数分岐状
擬似ブロック共重合体を含有する新規なポリマー組成物を簡単に調製する。好ましいポリ
マーは、エチレン、プロピレン及び4−メチル−1−ペンテンからなる群より選択される
少なくとも1種のモノマーを、重合形態として含む。ポリマーは、エチレン、プロピレン
又は4−メチル−1−ペンテン、及び少なくとも1種の異なるC2−20α−オレフィンコ
モノマー、さらに場合によっては1以上の追加の共重合性コモノマーを重合形態で含むイ
ンターポリマーであることが強く望まれる。適切なコモノマーは、ジオレフィン、環状オ
レフィン及び環状ジオレフィン、ハロゲン化ビニル化合物、ならびにビニリデン芳香族化
合物から選択される。好ましいポリマーは、エチレンと、1−ブテン、1−ヘキセン又は
1−オクテンとのインターポリマーである。本発明のポリマー組成物は、エチレン含量が
、ポリマーの総量に基づいて、1〜99%、ジエン含量が0〜10%、及びスチレン及び
/又はC3-8α−オレフィン含量が99〜1%であるのが望ましい。本発明のポリマーは
、重量平均分子量(Mw)が10,000〜2,500,000であるのがさらに好まし
い。
ましくは0.01〜1000g/10分、より好ましくは0.01〜500g/10分、
特に0.01〜100g/10分である。本発明のポリマーは、分子量Mwが、望ましく
は1,000g/モル〜5,000,000g/モル、好ましくは1000g/モル〜1
,000,000、より好ましくは1000g/モル〜500,000g/モル、特に1
,000g/モル〜300,000g/モルである。本発明のポリマーの密度は0.80
〜0.99g/cm3、好ましくは、エチレン含有ポリマーに関し、0.85g/cm3〜
0.97g/cm3である。
、ポリマーの物理的なブレンド、及び順次モノマー添加、流動触媒、あるいはアニオン性
又はカチオン性リビング重合技術で調製されたブロック共重合体から、区別してもよい。
存在する場合は、各ポリマー内の分離領域又はブロックは、反応条件の均一性に応じて比
較的均一で、互いに化学的に異なる。すなわち、コモノマー分布、立体規則性又はポリマ
ー内のセグメントの他の特性は、同じブロック又はセグメント内では比較的均一である。
しかし、平均ブロック長さは、狭い分布ではなく、最確分布が望ましい。2以上のブロッ
ク又はセグメント及びアニオン技術で調製された従来のブロック共重合体より広いサイズ
分布を有する、そのようなポリマー生成物を、本明細書では擬似ブロック共重合体という
。該ポリマーは、多くの点で、それらの純粋なブロック共重合体の特性に類似した特性を
有し、いくつかの態様では、純粋なブロック共重合体の特性を超える場合もある。
入してもよい。これらの添加剤として、補強剤、導電性又は非導電性材料を含む充填剤、
防爆剤、酸化防止剤、熱及び光安定剤、着色剤、増量剤、架橋剤、発泡剤、可塑剤、難燃
剤、滴下防止剤、潤滑剤、スリップ剤、ブロック防止助剤、劣化防止剤、柔軟剤、ワック
ス及び顔料が挙げられる。
本発明のポリマー組成物から、種々の従来の熱可塑性樹脂製造方法を使用して、キャス
ト法、ブロー法、カレンダー法又は押出しコート法によって調製される、少なくとも1種
のフィルム層、例えば、単層フィルムあるいは多層フィルム中の少なくとも1種の層を含
む物体;成形品、例えばブロー成形品、射出成形品、回転成形品;押出し成形品;繊維;
及び織物又は不織布を始めとする、有用な物品を調製することができる。本発明のポリマ
ーを含む熱可塑性組成物は、他の天然又は合成ポリマーと、先に記載した補強剤、充填剤
、防爆剤、酸化防止剤、熱及び光安定剤、着色剤、増量剤、架橋剤、発泡剤、可塑剤、難
燃剤、滴下防止剤、潤滑剤、スリップ剤、ブロック防止助剤、劣化防止剤、柔軟剤、ワッ
クス、及び顔料を含む添加剤とのブレンドを含有する。
ー、トウ、多成分系、シース/コア、より糸、及びモノフィラメントが挙げられる。適切
な繊維形成方法としては、米国特許第4,430,563号、第4,663,220号、
第4,668,566号、及び4,322,027号明細書に開示されるスピンボンド、
メルトブロー技術、米国特許第4,413,110号明細書に開示のゲルスパンファイバ
ー、米国特許第3,485,706号明細書に開示の織物及び不織布、又はそのような繊
維から製造される構造体、例えば、他の繊維、例えば、ポリエステル、ナイロン、綿、熱
硬化性製品、異形押出し及び共押出し、カレンダー加工製品、延伸、撚り、又はけん縮糸
又は繊維を含む、押出し形態とのブレンドが挙げられる。また、本明細書で記載される新
しいポリマーは、ワイヤ及びケーブル被覆作業、及び真空形成作業におけるシート押出し
、射出成形、ブロー成形、回転式方法を含む成形品の形成にも有用である。また、オレフ
ィンポリマーを含む組成物は、二次加工品に形成することもでき、例えば、先に記載した
ように、従来のポリオレフィン加工の当業者に周知のポリオレフィン加工技術を使用する
。
用して、形成することができる。本発明のポリマーを含む泡立てた発泡体も、国際公開第
04/021622号パンフレットに開示の方法によって、形成することができる。また
、該ポリマーを、公知の方法、例えば、過酸化物、電子ビーム、シラン、アジド又は他の
架橋技術を使用することで、架橋してもよい。また、ポリマーを化学的に、例えば、グラ
フト化(例えば、マレイン酸無水物(MAH)、シラン又は他のグラフト化剤の使用によ
り)、ハロゲン化、アミノ化、スルホン化、又は他の化学修飾によって、修飾してもよい
。
を含む熱可塑性及び非熱可塑性ポリマーが挙げられる。代表的なブレンド用ポリマーとし
て、ポリプロピレン、(耐衝撃性改良ポリプロピレン、アイソタクチックポリプロピレン
、アタクチックポリプロピレンも、ランダムエチレン/プロピレン共重合体も)、種々の
タイプのポリエチレン、例えば、高圧フリーラジカルLDPE、チーグラー−ナッターL
LDPE、メタロセンPE、複数反応器PE(チーグラー−ナッターPE及びメタロセン
PEの「反応器内」でのブレンド、例えば、米国特許第6,545,088号、第6,5
38,070号、第6,566,446号、第5,844,045号、第5,869,5
75号、及び第6,448,341号明細書に記載の生成物を含む、エチレン−酢酸ビニ
ル(EVA)、エチレン/ビニルアルコール共重合体、ポリスチレン、耐衝撃性改良ポリ
スチレン、ABS、スチレン/ブタジエンブロック共重合体及びこれらの水素化誘導体(
SBS及びSEBS)、及び熱可塑性ポリウレタンなどが挙げられる。均一なポリマー、
例えば、オレフィンプラストマ及び弾性体、エチレン及びプロピレン系共重合体(例えば
、Dow Chemical社から商品名VERSIFY(商標)で、及びExxonM
obil社からVISTAMAXX(商標)で市販されているポリマーも、本発明のポリ
マー組成物を含むブレンドの成分として有用であり得る。
れの成分を混合又は混練することにより調製してもよい。本発明の組成物のほとんどに関
し、この温度は、130℃を超え、145℃を超え、あるいは150℃を超える場合もあ
る。所望の温度に到達し、混合物を溶融可塑化できる代表的なポリマー混合又は混練装置
を使用してもよい。これらとしては、ミル、混練機、押出し機(1軸スクリュー及び2軸
スクリューの両方を含む)、バンバリーミキサー及びカレンダーが挙げられる。混合の順
番及び方法は、最終組成物に依る。バンバリーバッチ式混合機と連続ミキサーとの組合せ
も使用してよく、例えば、バンバリーミキサー、次いでミルミキサー、次いで押出し機を
使用してもよい。
は、あるASTM規格があり、パラフィン系、ナフテン系又は芳香族方法油は全て使用に
適している。ポリマー組成物の総量の100部に対して、一般的に0〜150部、より好
ましくは0〜100部、最も好ましくは0〜50部の油が使用される。油がより高い量で
あると、ある物性を犠牲にして、得られる生成物の加工を改良する傾向にある。追加の加
工補助剤として、従来からのワックス、脂肪酸塩、例えば、ステアリン酸カルシウム又は
ステアリン酸亜鉛、(ポリ)アルコール、例えば、グリコール、(ポリ)アルコールエー
テル、例えばグリコールエーテル、(ポリ)エステル、例えば、(ポリ)グリコールエス
テル、及び金属塩、特にその第1又は2族金属又は亜鉛塩誘導体が挙げられる。
よい。オゾン化防止剤は、物理的な保護剤、例えば、表面に載せ、その部分を酸素又はオ
ゾンから保護するワックス状物質でもよく、又は酸素又はオゾンと反応する化学的保護剤
でもよい。適切な化学的保護剤として、スチレン化フェノール、ブチル化オクチル化フェ
ノール、ブチル化ジ(ジメチルベンジル)フェノール、p−フェニレンジアミン、p−ク
レゾール及びジシクロペンタジエン(DCPD)のブチル化反応生成物、ポリフェノール
性酸化防止剤、ヒドロキノン誘導体、キノリン、ジフェニレン酸化防止剤、チオエステル
酸化防止剤及びこれらのブレンドが挙げられる。そのような生成物の代表的な商品名のい
くつかとして、Wingstay(商標)S酸化防止剤、Polystay(商標)10
0酸化防止剤、Polystay(商標)100AZ酸化防止剤、Polystay(商
標)200酸化防止剤、Wingstay(商標)L酸化防止剤、Wingstay(商
標)LHLS酸化防止剤、Wingstay(商標)K酸化防止剤、Wingstay(
商標)29酸化防止剤、Wingstay(商標)SN−1酸化防止剤及びIrgano
x(商標)酸化防止剤がある。ある用途では、使用される酸化防止剤及びオゾン化防止剤
は、非染色性及び非移行性であるのが好ましい場合もある。
ALS)及びUV吸収剤も使用してよい。適切な例として、Ciba Specialt
y Chemicals社から入手し得る、Tinuvin(商標)123、Tinuv
in(商標)144、Tinuvin(商標)622、Tinuvin(商標)765、
Tinuvin(商標)770及びTinuvin(商標)780、及びCytex P
lastics社,Houston,TX,USAから入手し得るChemisorb(
商標)T944が挙げられる。米国特許第6,051,681号明細書に開示されるよう
に、優れた表面特性を達成するために、ルイス酸を、HALS化合物に追加的に含有して
もよい。
光安定剤を事前に分散して、マスターバッチを形成する追加の混合方法を使用し、続いて
それからポリマーブレンドを形成してもよい。
いて架橋し、硬化組成物を形成してもよい。本明細書での使用に適切な架橋剤(硬化剤又
は加硫剤ともいう)として、イオウ系、過酸化物系又はフェノール系化合物が挙げられる
。このような材料の例は、米国特許第3,758,643号、第3,806,558号、
第5,051,478号、第4,104,210号、第4,130,535号、第4,2
02,801号、第4,271,049号、第4,340,684号、第4,250,2
73号、第4,927,882号、第4,311,628号、及び第5,248,729
号明細書を始めとして、当分野で見出される。
進剤は、動的加硫に必要な時間及び/又は温度を制御し、得られる架橋製品の特性を改良
するために使用される。一実施形態では、単一の促進剤又は一次促進剤が使用される。一
次促進剤は、総組成物重量に対して、0.5〜4、好ましくは0.8〜1.5phrの範
囲の総量で使用してもよい。他の実施形態では、一次及び二次促進剤の組合せを使用して
もよく、二次促進剤は、硬化製品の特性を活性化及び向上させるために、少量、例えば、
0.05〜3phrの量で使用される。促進剤を組合わせることにより、一般的に、単一
の促進剤の使用によって製造されたものよりいくらか良好な特性を持つ製品が製造される
。さらに、正常な加工温度で影響を受けることなく、通常の加硫温度で十分な効果を生み
出す、遅効性促進剤を使用してもよい。加硫遅延剤も使用してよい。本発明において使用
してもよい適切な種類の促進剤は、アミン、ジスルフィド、グアニジン、チオウレア、チ
アゾール、チウラム、スルフェンアミド、ジチオカルバメート及びキサンテートである。
一次促進剤はスルフェンアミドが好ましい。第二促進剤を使用する場合、二次促進剤は、
グアニジン、ジチオカルバルネート(dithiocarbarnate)、又はチウラム化合物が好まし
い。ある加工補助剤及び硬化活性化剤、例えば、ステアリン酸及びZnOも使用してよい
。過酸化物系硬化剤を使用する場合、共活性化剤又は助剤を、これらと組合わせて使用し
てよい。適切な助剤として、特に、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPT
A)、トリメチロールプロパントリメタクリレート(TMPTMA)、トリアリルシアヌ
レート(TAC)、トリアリルイソシアヌレート(TAIC)が挙げられる。部分的又は
完全動的加硫のために使用される過酸化物系架橋剤及び場合によっては使用される助剤の
使用は、当分野で公知であり、例えば、刊行物「Peroxide Vulcanization of Elastomers
」、第74巻、No3、2001年7−8月号に記載されている。
又は抽出不能なゴム状物を計算することにより測定してもよい。ゲル率は、普通、架橋度
が増加するにつれ増加する。本発明による硬化製品に関し、パーセントゲル含率は、5〜
100%の範囲が望ましい。
、改良された溶融強度特性を独自に有し、そのため、本発明の組成物及びそのブレンドを
、発泡体及び高溶融強度が望まれる熱形成用途に有用に使用することを可能にする。
、デンプン、タルク、カルシウムカーボネート、ガラス繊維、ポリマー繊維(ナイロン、
レーヨン、綿、ポリエステル及びポリアラミドを含む)、金属繊維、ワイヤ、メッシュ、
フレーク又は粒子、発泡性層状シリケート、ホスフェート又はカーボネート、例えば、ク
レイ、マイカ、シリカ、アルミナ、アルミノシリケート又はアルミノホスフェート、炭素
ウィスカ、炭素繊維、ナノチューブ及びナノ繊維を含むナノ粒子、ウォラストナイト、グ
ラファイト、ゼオライト及びセラミック、例えば、シリコンカーバイド、シリコンナイト
ライド又はチタニアを含んでもよい。また、良好な充填剤結合のために、シラン系油又は
他の架橋剤を使用してもよい。追加の適切な添加剤として、粘着剤;パラフィン又はナフ
タレン油を含む油類;及び本発明による他のポリマーを含む他の天然及び合成ポリマーが
挙げられる。
成形、押出し成形、熱成形、スラッシュ成形、オーバー成形、インサート成形、ブロー成
形、及び他の技術によって加工する。多層フィルムを始めとするフィルムを、吹込フィル
ム法を含むキャスト又はテンター法により製造してもよい。
前記特長的な開示及び以下の実施例では、以下の分析技術を使用する。
分岐分布は、PolymerChar社,Valencia,Spainから市販され
ているCRYSTAF200ユニットを使用する、結晶化分析分画法(CRYSTAF)
によって測定する。試料を、1,2,4−トリクロロベンゼンに160℃(0.66mg
/mL)で1時間溶解し、95℃で45分安定化する。サンプリング温度は、0.2℃/
分の冷却速度で、95〜30℃の範囲である。赤外線検出器を、ポリマー溶液濃度を測定
するために使用する。累積溶解濃度を、温度が下がり、ポリマーが結晶化する時測定する
。累積的なプロファイルの分析的誘導は、ポリマーの短鎖分岐分布を反映する。
01b、PolymerChar社,Valencia,Spain)に含まれるピーク
分析モジュールによって同定する。CRYSTAFピークの検出作業により、dW/dT
及び誘導体カーブ中で同定されたピークの両側の最大ポジティブ屈曲の間の面積における
最高値としてピーク温度を同定する。
示差走査熱量測定法結果は、RCS冷却付属品及び自動サンプラーが付いたTAI型Q
1000DSCを使用して測定する。50ml/分の窒素パージガスのフローを使用する
。試料を薄膜でプレスし、プレス状態で、175℃で溶融し、次いで空気で室温(25℃
)まで冷却する。5〜6mm直径のディスクの形の約10mgの材料の重量を正確に計測
し、アルミニウムフォイルパン(約50mg)中に置き、次いでそれをクリンプで閉じる
。試料の熱挙動を、以下の温度プロフィルで調べる。試料を迅速に180℃に加熱し、先
に受けた熱履歴のいずれも除去するために、等温で3分保つ。次いで、試料を10°C/
分の冷却速度で−40℃に冷却し、−40℃で3分保つ。次いで、試料を10℃/分の加
熱速度で150℃まで加熱する。冷却及び第二加熱曲線を記録する。
を、加熱フロー速度(W/g)における最大値として測定する。融解熱を、線状ベースラ
インを使用して、−30℃と融解の終わりの間の融解曲線下の面積として測定する。
耐摩耗性を、ISO4649により、圧縮成形プラークで測定する。3回の測定の平均
値を記録する。6.4mm厚のプラークを、ホットプレス(Carver Model#
4095−4PR1001R)を使用して圧縮成形する。ペレットを、190℃、55p
si(380kPa)で3分、次いで1.3MPaで3分、次に2.6MPaで3分加熱
したポリテトラフルオロエチレンシートの間に置く。次に、フィルムを、プレス状態で、
1.3MPaで、1分間、冷流水で冷却する。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーシステムは、Polymer Labora
tories Model PL−210又はPolymer Laboratorie
s Model PL−220装置のどちらかで構成されている。カラム及び回転ラック
区画は、140℃で操作される。3個のPolymer Laboratories 1
0ミクロンMixed−Bカラムを使用する。溶剤は、1,2,4−トリクロロベンゼン
である。試料を、50ミリリットルの200ppmのブチル化ヒドロキシトルエン(BH
T)を含有する溶剤中、0.1グラムのポリマー濃度で調製する。試料は、160℃で2
時間軽く撹拌することによって調製する。使用した注入体積は100マイクロリットルで
あり、流速は1.0ml/分である。
400,000の範囲の分子量分布を持つポリスチレン標準品を用い、6つの「カクテル
」混合物中に配置し、少なくとも10個の個々の分子量の間の分離で行う。標準品は、P
olymer Laboratories(Shropshire,UK)から購入する
。ポリスチレン標準品は、1,000,000以上の分子量に関しては、50ミリリット
ルの溶剤中0.025グラム、1,000,000未満の分子量に関しては、50ミリリ
ットルの溶剤中0.05グラムで調製する。ポリスチレン標準品を、80℃で穏やかに撹
拌して30分で溶解する。狭い標準品混合物を先ず行い、劣化を最小限にするため、最高
分子量成分を減らす順番で行う。ポリスチレン標準ピーク分子量を、以下の式(Williams
and Ward, J.Polym. Sci., Polym. Let..6,621(1968)に記載されている):Mホ゜リエ
チレン=0.431(Mホ゜リスチレン)を用いて、ポリエチレン分子量に変換する。
ジョン3.0を用いて行う。
圧縮ひずみは、ASTM D395に従って測定する。試料は、3.2mm、2.0m
m及び0.25mmの厚さの25.4mm直径の円形ディスクを、合計厚さが12.7m
mに達するまで、積み上げることによって調製する。ディスクは、190℃で3分間、0
圧、次いで190℃で2分間、86MPa、次いで86MPaで冷流水を用いプレスの中
身を冷却する条件下、ホットプレスによって成形した12.7cm×12.7cm圧縮成
形プラークから切り出す。
密度測定は、ASTM D1928に従って行う。測定は、ASTM D792、B法
を使用し、試料プレスから1時間以内に行う。
試料を、ASTM D1928を用いて圧縮成形する。曲げ弾性率及び2%割線係数は
、ASTM D−790に従って測定する。
0.4mm厚のフィルムを、ホットプレス(Carver Model#4095−4
PR1001R)を使用して、圧縮成形する。ペレットを190℃、55psi(380
kPa)で3分間、次いで1.3MPaで3分間、次に2.6MPaで3分間加熱したポ
リテトラフルオロエチレンシートの間に置く。次いで、フィルムをプレスした状態で、1
.3MPaで冷流水を使用し1分間冷却する。圧縮成形フィルムを、光学測定、引張り挙
動、回復及び応力緩和に関して使用する。
e−gardを使用して測定する。
Glossmeter Microgloss45°を使用して測定する。
Haze−gardを用いて測定する。鉱物油をフィルム表面に塗布し、表面スクラッチ
を取り除く。
用して測定する。試料を、21℃で、500パーセント(%)分-1で、Instronを
用いて延伸する。引張り強度及び破断伸びを、5つの試験片の平均値から記録する。
n(商標)装置を用いて、100%及び300%歪へのサイクル負荷から測定する。試料
は、21℃で3サイクル、267%分-1で負荷をかけ又は負荷をはずす。300%及び8
0℃でのサイクル実験を、環境チャンバを用いて行う。80℃実験では、試料を、試験前
に試験温度で45分間放置し、平衡化する。21℃、300%の歪環状実験では、第一負
荷なしサイクルからの150%歪での収縮応力を記録する。全実験に関し回復率を、負荷
がベースラインから戻ったときの歪を使用して、第一負荷なしサイクルから計算する。回
収率は以下のように定義する。
中、ベースラインまで戻る歪である。)
及び37℃、12時間で測定する。ゲージ寸法は、76mm×25mm×0.4mmであ
った。環境チャンバ中、37℃、45分の平衡化の後、試料を333%分-1で50%歪ま
で延伸した。応力を12時間、時間の関数として記録した。12時間後の応力緩和率を式
、
荷である)を使用して計算した。
/cc以下の密度を有する試料で行う。寸法は、ゲージ部で、76mm×13mm×0.
4mmのケージ部と、2mmノッチで構成され、試験片長さの半分に切断した試料とする
。試料を破断するまで、21℃、508mm分-1で延伸する。引裂きエネルギーを、歪−
伸び曲線の下、最高負荷での歪までの面積として計算する。少なくとも3つの試験片の平
均を記録する。
熱的機械的分析を、180℃及び10MPa成形圧を5分かけ、次いで空気でクエンチ
して形成した、30mm直径×3.3mm厚の圧縮成形ディスクで行う。使用した装置は
、TMA7、Perkin−Elmer社から入手可能なものである。試験では、丸い1
.5mm歯先のプローブ(P/N N519−0416)を、試料ディスクの表面に、1
Nの力で当てる。温度を25℃から、5°C/分で上げる。プローブ浸透距離を、温度の
関数として測定する。実験は、試料に1mm入り込んだ時に終わる。
動的機械分析(DMA)を、180℃、10MPa圧力で5分、次いでプレス下状態で
90℃/分で冷却する条件でホットプレスを使用して成型した圧縮成形ディスクで測定す
る。試験は、ねじれ試験用デュアルカンチレバー固定治具を備えるARESコントロール
歪レオメーター(TA装置)を使用して行う。
端を、10mm(掴み具分離ΔL)によって分離された固定治具の間に挟み、−100℃
〜200℃(1ステップ当たり5℃)の連続温度ステップに供する。トルクが十分で、測
定が線形領域内に残ることを補償するために、歪振幅を0.1%と4%との間に保ち、各
温度で、ねじり剛性率G’を10rad/sの角振動数で測定する。
ード)。その結果、掴み具分離ΔLは、温度とともに、特にポリマー試料の融点又は軟化
点を越えると、増加する。試験は、最高温度、又は掴み具の間のギャップが65mmに達
した時に止める。
ペレット(150g)を、反割りにした2つの部分をホースクランプによって一緒にし
た、直径2インチ(5cm)の中空シリンダーに置いた。2.75ポンド(1.25kg
)の荷重を、シリンダー内のペレットに、45℃で3日間かける。3日後、ペレットは、
おおまかに、シリンダー型プラグの形に硬化する。プラグを型から取り出し、ペレットブ
ロッキング力を、シリンダーをペレットに破壊するのに必要な圧縮力を測定するため、I
nstron(商標)装置を使用して、圧縮状態のブロックされたペレットのシリンダー
に荷重をかけることによって測定する。
メルトフローレイト(MFR)及びメルトインデックス、又はI2を、ASTM D1
238に従って、条件:190℃/2.16kgで測定する。
分析的昇温溶出分画法(ATREF)分析は、米国特許第4,798,081号明細書
に記載された方法に従って行う。分析すべき組成物を、トリクロロベンゼンに溶解し、0
.1℃/分の冷却速度で、温度をゆっくりと20℃に下げることにより、不活性支持体(
ステンレス鋼ショット)を含有するカラム内で結晶化させる。カラムは、赤外線検出器を
備える。次いで、溶離溶剤(トリクロロベンゼン)の温度を20から120℃へ速度1.
5℃/分でゆっくり上昇させることにより、結晶化ポリマー試料をカラムから溶離し、A
TREFクロマトグラム曲線を作る。
以下の本発明の具体的な実施形態及びその組合せは特に望ましいものであり、添付の特
許請求項のための詳細な開示を提供するために、ここに概説する。
金属化合物又は複合体を含む少なくとも1種の付加重合触媒と、共触媒との存在下、1以
上の付加重合性モノマーと重合性シャトリング剤とを重合するステップを含む方法。
た長鎖分岐部分である実施形態1の方法。
方法。
4の方法。
R11は、アルキル、シクロアルキル、ヘテロアルキル、シクロヘテロアルキル、アリール
及びこれらの不活性置換誘導体であって、1〜30個の原子(水素又は2価の誘導体では
ない)を含有するものから選択され;
T1は、水素以外の1〜41個の原子を持つ2価の架橋基、好ましくは水素以外の1〜20個の原子、最も好ましくはモノ又はジC1-20ヒドロカルビル置換メチレン又はシラン基であり;
R12は、ルイス塩基官能基、特に、ピリジン−2−イル−又は置換ピリジン−2−イル基を含有するC5-20ヘテロアリール基又はその2価の誘導体であり;
M1は、第4族金属、好ましくはハフニウムであり;
X1は、アニオン性、中性又はジアニオン性リガンド基であり;
x’は、そのようなX1基の数を表す0〜5の数であり;及び
結合、任意の結合、及び電子供与性相互作用は、それぞれ、線、点線及び矢印によって表す)に対応する金属複合体、又は式、
M2は、元素周期表の第4〜10属の金属であり;
T2は、窒素、酸素又はリン含有基であり;
X2は、ハロ、ヒドロカルビル又はヒドロカルビルオキシであり;
tは1又は2であり;
x’’は、電荷バランスを提供するように選択される数であり;及び
T2及びNは、架橋リガンドにより結合されている)に対応する金属複合体を含む実施形態1による方法。
リング剤の存在下、1以上のオレフィン系モノマーを重合し、これにより少なくともいく
らかの量の、シャトリング剤によって停止され、付加重合性官能基を含有する初期ポリマ
ーの形成を起こすステップと、
重合性シャトリング剤の付加重合性官能基によって、初期ポリマーのいくらか又は全てに
結合する第二ポリマーセグメントを形成するように、場合によっては、1以上の付加重合
触媒、共触媒、モノマー又は連鎖シャトリング剤の存在下、同じ又は異なる重合反応器内
で、重合を継続するステップとを含む方法。
重合反応器内で、オレフィン重合触媒及び重合性シャトリング剤の存在下、1以上のオレ
フィン系モノマーを重合し、これにより少なくともいくらかの量の重合されたシャトリン
グ剤官能基を含有する初期ポリマーの形成を起こすステップと、
反応生成物を、第一反応器又はゾーンから、第一重合反応器又はゾーンの条件とは区別し
得る重合条件下で操作する第2重合反応器又はゾーンへ放出するステップと、
少なくともいくつかの、シャトリング剤官能基を含有する初期ポリマーを、第2重合反応
器又はゾーン内の活性触媒部位へ移動させるステップと、
初期ポリマーのいくらか又は全てに結合し、初期ポリマーセグメントとは区別し得るポリ
マー特性を有する、第二ポリマーセグメントを形成するように、第2重合反応器又はゾー
ン内で重合を行うステップとを含む方法。
オレフィン重合触媒及び重合性シャトリング剤の存在下、1以上のオレフィン系モノマー
を重合し、これにより少なくともいくらかの量のシャトリング剤で停止され、付加重合性
官能基を含有する初期ポリマーの形成を起こすステップと、
初期ポリマーセグメントとは区別することができ、重合性シャトリング剤の付加重合性官
能基によって、初期ポリマーのいくらか又は全てに結合する第二ポリマーセグメントを形
成するように、場合によっては、1以上の付加重合触媒、共触媒、モノマー又は連鎖シャ
トリング剤の存在下、同じ又は異なる重合反応器内で重合を継続するステップとを含む方
法。
重合反応器内で、オレフィン重合性触媒及び重合性シャトリング剤の存在下、1以上のオ
レフィン系モノマーを重合し、これにより少なくともいくらかの量の重合されたシャトリ
ング剤官能基を含有する初期ポリマーの形成を起こすステップと、
反応生成物を、第一反応器又はゾーンから、第一重合反応器又はゾーンの条件とは区別す
ることができる重合条件下で操作する第2重合反応器又はゾーンに放出するステップと、
少なくともいくつかの、シャトリング剤官能基を含有する初期ポリマーを、第2重合反応
器又はゾーン内の活性触媒部位へ移動するステップと、
初期ポリマーセグメントとは区別することができ、初期ポリマーセグメントのいくらか又
は全てに結合する第二ポリマーセグメントを形成するように、第2重合反応器又はゾーン
内で重合を行うステップとを含む方法。
重合体であって、エチレン及び3〜20個の炭素を有する共重合性コモノマーを重合した
形で含む共重合体。
の炭素を有する共重合性コモノマー又は4−メチル−1−ペンテン及び少なくとも1種の
異なる4〜20個の炭素を有する共重合性コモノマーを重合した形で含む、実施形態15
の分岐状又は複数分岐状擬似ブロック共重合体。
(1)有機又は無機ポリマー、好ましくはエチレンのホモポリマー、エチレン及び3〜2
0個の炭素を有する共重合性コモノマーの共重合体、又はプロピレンのホモポリマーと、
(2)実施形態15の、又は実施形態1〜9のいずれか1つの方法によって調製される分
岐状又は複数分岐状擬似ブロック共重合体とを含むポリマー混合物。
下で実施してもよいことを認める。
い。用語「一晩」が使用されている場合、約16〜18時間の時間を言い、用語「室温」
は、20〜25℃の温度を言い、用語「混合アルカン」は、Exxon Mobil C
hemicals社から、商品名Isopar E(登録商標)で入手し得るC6-9脂肪
族炭化水素の商業的に得られる混合物をいう。本明細書での化合物の名前が、その構造表
示と一致しない場合は、構造表示が優先する。全ての金属複合体の合成及び全スクリーニ
ング実験の調製は、乾燥窒素雰囲気で、ドライボックス法を使用して行った。使用した溶
剤は全てHPLCグレードであり、使用の前に乾燥した。
リイソブチルアルミニウム変性メチルアルモキサンをいう。
フレット、第2003US0204017号明細書、USSN10/429,024号明
細書、及び国際公開第04/24740号パンフレットの教示に従って調製した、[N−
(2,6−ジ(1−メチルエチル)フェニル)アミド)(2−イソプロピルフェニル)(
α−ナフタレン−2−ジイル(6−ピリジン−2−ジイル)メタン)]ハフニウムジメチ
ルである。
フレット、第2003US0204017号明細書、USSN10/429,024号明
細書、及び国際公開第04/24740号パンフレットの教示に従って調製した、[N−
(2,6−ジ(1−メチルエチル)フェニル)アミド)(2−メチルフェニル)(1,2
−フェニレン−(6−ピリジン−2−ジイル)メタン)]ハフニウムジメチルである。
)エチレンジアミン]ハフニウムジベンジルである。
従って調製した、ビス((2−オキソイル−3−(ジベンゾ−1H−ピロール−1−イル
)−5−(メチル)フェニル)−2−フェノキシメチル)シクロヘキサン−1,2−ジイ
ルジルコニウム(IV)ジベンジルである。
ブチル)フェニル)イミノ)ジルコニウムジベンジルである。
ンの調製
3,5−ジ−t−ブチルサリチルアルデヒド(3.00g)を、10mLのイソプロピ
ルアミンに加える。溶液は素早く明黄色に変わる。周辺温度で3時間撹拌した後、揮発分
を真空下除去し、明黄色の結晶性固体(97%収率)を得る。
ニル)イミノ)ジルコニウムジベンジルの調製
(1−メチルエチル)(2−ヒドロキシ−3,5−ジ(t−ブチル)フェニル)イミン
(605mg、2.2mmol)の5mLトルエン溶液を、ゆっくり、Zr(CH2Ph
)4(500mg、1.1mmol)の50mLトルエン溶液に加える。得られた暗黄色
溶液を30分撹拌する。溶剤を減圧下除去し、所望の生成物を赤茶色固体として得る。
ル−3,5−ジ(t−ブチル)フェニル)イミノ)ジルコニウムジベンジルである。
−ブチル)フェニル)イミンの調製
2−メチルシクロヘキシルアミン(8.44mL、64.0mmol)を、メタノール
(90mL)に溶解し、ジ−t−ブチルサリチルアルデヒド(10.00g、42.67
mmol)を加える。反応混合物を3時間撹拌し、次いで12時間で−25℃に冷却する
。得られた黄色の固体状沈殿物をろ過で集め、冷メタノール(2×15mL)で洗浄し、
次いで減圧下乾燥する。収量は、11.17gの黄色の固体を得る。1H NMRは、所
望の生成物の異性体の混合物として一致する。
ジ(t−ブチル)フェニル)イミノ)ジルコニウムジベンジルの調製
(1−(2−メチルシクロヘキシル)エチル)(2−オキソイル−3,5−ジ(t−ブ
チル)フェニル)イミン(7.63g、23.2mmol)の200mLトルエン溶液を
、ゆっくり、Zr(CH2Ph)4(5.28g、11.6mmol)の600mLトルエ
ン溶液に加える。得られた暗黄色溶液を25℃で1時間撹拌する。さらに、溶液を、68
0mLのトルエンで希釈し、濃度0.00783Mの溶液を得る。
した、(t−ブチルアミド)ジメチル(3−N−ピロリル−1,2,3,3a,7a−η
−インデン−1−イル)シランチタニウムジメチルである。
って調製した、(t−ブチルアミド)ジ(4−メチルフェニル)(2−メチル−1,2,
3,3a,7a−η−インデン−1−イル)シランチタニウムジメチルである。
って製造した、(t−ブチルアミド)ジ(4−メチルフェニル)(2−メチル−1,2,
3,3a,8a−η−s−インダセン−1−イル)シランチタニウムジメチルである。
シロキサン)(インデン−1−イル)ジルコニウムジクロライドである。
obel社から入手可能)、HCl及びLi[B(C6F5)4]の反応により調製される
、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートのメチルジ(C14-18アルキル)アン
モニウム塩(以下、アルミーニウムボレート(armeenium borate))の混合物であり、米
国特許第5,919,9883号明細書、実施例2に実質的に開示されている。
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)−アルマン)−2−ウンデシルイミダゾリドの
混合C14-I8アルキルジメチルアンモニウム塩。
鉛(PSA1)、(p−ビニルベンジル)エチル亜鉛(PSA2)、(ビニル)1−ドデ
シル亜鉛(PSA3)、(2−プロペン−1−イル)(トリメチルシリルメチル)亜鉛(
PSA4)、(1,4−ブチレン)ジ((2−プロペン−l−イル)亜鉛)(PSA5)
、5−ヘキセニル臭化亜鉛(PSA6)、(2−プロペン−1−イル)ジメチルアルミニ
ウム(PSA7)、ジ(2−プロペン−1−イル)臭化アルミニウム(PSA8)、ジ(
5−ヘキセニル亜鉛(PSA9)、5−ヘキセニルエチル亜鉛(PSA10)、及び(5
−ヘキセニル)t−ブチル亜鉛(PSA11)が挙げられる。
重合は、Symyx technologies社から入手可能な、高処理パラレル重
合反応器(PPR)を用いて行い、米国特許第6,248,540号、第6,030,9
17号、第6,362,309号、第6,306,658号及び第6,316,663号
明細書に従って実質的に操作する。エチレン共重合は、130℃、80psi(550k
Pa)で、オンデマンドエチレンで、使用した総触媒に基づいて、1.2当量の共触媒2
を使用して行う。PPRは、6×8アレイ中に、それぞれ予備計量したガラス管の付いた
48独立反応器セルから構成される。各反応器セルの実行容積は、6000μLである。
各セルの温度及び圧力は、個々の撹拌パドルによって提供される撹拌で制御される。モノ
マーガス及びクエンチガス(空気)は、PPRユニットへ直接配管され、自動バルブで制
御される。液状試薬を、シリンジによって各反応器セルにロボット制御で加え、貯蔵溶剤
は混合アルカンである。添加の順番は、混合アルカン溶剤(4ml)、エチレン、1−オ
クテン共重合体(143mg)、0.419μmolの共触媒、重合性シャトリング剤を
示された量、最後に0.3495μmolの触媒A3である。クエンチ後、反応器を冷却
し、ガラス管を取り外す。該菅を、遠心/真空乾燥ユニットに移し、60℃で12時間乾
燥する。乾燥ポリマーを含有する菅の重さを計り、この重量と自重との差を、ポリマーの
正味の収量として得る。得られたポリマー組成物の分子量(Mw及びMn)をGPCを使
用して測定する。多分散指数(PDI=Mw/Mn)を各ポリマーに関して計算する。あ
る量の高及び低両分子量ポリマー(二頂PDI)の存在を、ある量の本発明に従う分岐共
重合体の形成の証拠とする。
Claims (15)
- 分岐ポリマーを調製する方法であって、分岐ポリマーの形成を特徴とする条件で、金属
化合物又は複合体を含む少なくとも1つの付加重合触媒と共触媒との存在下、1以上の付
加重合性モノマーと重合性シャトリング剤とを重合するステップを含む方法。 - 少なくともいくつかの分岐部分が、2種以上のモノマー単位の重合で形成された長鎖分
岐である、請求項1に記載の方法。 - ポリマーの異なるセグメントが、異なるプロセス条件下で調製される、請求項1に記載
の方法。 - 2種以上の重合触媒が、重合において使用される、請求項1に記載の方法。
- 2種以上の重合触媒が、連続的に連結された別々の重合反応器内で使用される、請求項
4に記載の方法。 - 重合が、単一の反応器内で行われる、請求項4に記載の方法。
- 触媒が、式、
(式中、
R11は、アルキル、シクロアルキル、ヘテロアルキル、シクロヘテロアルキル、アリール
及びこれらの不活性置換誘導体であって、1〜30個の原子(水素又は2価の誘導体を含
まず)を含有するものから選択され;
T1は、1〜41個の水素以外の原子を持つ2価の架橋基、好ましくは1〜20個の水素
以外の原子を持つ2価の架橋基、最も好ましくはモノ又はジC1-20ヒドロカルビル置換メ
チレン又はシラン基であり;
R12は、ルイス塩基官能基、特に、ピリジン−2−イル−又は置換ピリジン−2−イル基
を含有するC5-20ヘテロアリール基又はその2価の誘導体であり;
M1は、第4族金属、好ましくはハフニウムであり;
X1は、アニオン性、中性又はジアニオン性リガンド基であり;
x’は、このようなX1基の数を表す0〜5の数であり;及び
結合、場合によっては結合及び電子供与性相互反応は、それぞれ、線、点線及び矢印によ
って表す)に対応する金属複合体、又は式、
(式中、
M2は、元素周期表の第4〜10属の金属であり;
T2は、窒素、酸素又はリン含有基であり;
X2は、ハロ、ヒドロカルビル又はヒドロカルビルオキシであり;
tは1又は2であり;
x’’は、電荷バランスを提供するように選択される数であり;及び
T2及びNは、架橋リガンドにより結合されている)に対応する金属複合体を含む、請求
項1に記載の方法。 - 複数分岐状擬似ブロック共重合体を調製する方法であって、
重合反応器内で、オレフィン重合触媒及び重合性シャトリング剤の存在下、1以上のオレ
フィン系モノマーを重合し、少なくともいくらかの量の、ポリマーに重合されたシャトリ
ング剤官能基を含有する初期ポリマーを形成するステップと、
反応生成物を、第一反応器又はゾーンから第一重合反応器又はゾーンの条件とは区別し得
る重合条件下で操作する第2重合反応器又はゾーンへ放出するステップと、
少なくともいくつかのシャトリング剤官能基を含有する初期ポリマーを、第2重合反応器
又はゾーン内の活性触媒部位へ移動するステップと、
初期ポリマーのいくらか又は全てに結合し、かつ初期ポリマーセグメントとは区別し得る
ポリマー特性を有する第二ポリマーセグメントを形成するように、第2重合反応器又はゾ
ーン内で重合を行うステップと、
を含む方法。 - 複数分岐状擬似ブロック共重合体を調製する方法であって、
オレフィン重合触媒及び重合性シャトリング剤(PSA)の存在下、1以上のオレフィン
系モノマーを重合し、シャトリング剤によって停止され、かつポリマー中に付加重合性官
能基を含有する少なくともいくらかの量の初期ポリマーを形成するステップと、
PSAの付加重合性官能基によって、いくらか又は全ての初期ポリマーに結合された第二
ポリマーセグメントを形成するように、同じ又は異なる重合反応器内で、場合によっては
、1以上の付加重合触媒、共触媒、モノマー又は連鎖シャトリング剤の存在下、重合を継
続するステップと
を含む方法。 - 分岐状擬似ブロック共重合体。
- 請求項10に記載の複数分岐状擬似ブロック共重合体。
- くし型の分子構造を有する、請求項11に記載の複数分岐状擬似ブロック共重合体。
- 樹枝状型の分子構造を有する、請求項11に記載の複数分岐状擬似ブロック共重合体。
- エチレンと共重合性コモノマーとの重合形態において、プロピレンと、少なくとも1種
の4〜20個の炭素を有する共重合性コモノマー又は4−メチル−1−ペンテンと、少な
くとも1種の異なる4〜20個の炭素を有する共重合性コモノマーとを含む、請求項10
、11、12又は13記載の分岐状擬似ブロック共重合体。 - (1)有機又は無機ポリマー、好ましくは、エチレンのホモポリマー、エチレン及び共
重合性コモノマーの共重合体又はプロピレンのホモポリマーと、
(2)請求項10から13のいずれか一項に記載の分岐状擬似ブロック共重合体、又は請
求項1から9のいずれか一項に記載の方法に従って調製された分岐状擬似ブロック共重合
体と
を含むポリマー混合物。
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