JP2012009540A - Vacuum tweezers - Google Patents
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Abstract
【課題】反りがある半導体ウエハに対して、安定して吸着することができる真空ピンセット。
【解決手段】長尺状の本体2と、この本体2の端部に設けられ、複数の吸着面4〜6を有する吸着部3と、吸着面4〜6毎に少なくとも一つ設けられ、被処理体を吸着する吸着孔7と、を備え、少なくとも一つの吸着面は、一辺に屈曲部11を有し、被処理体に対して吸着孔7が接近又は離間するように、屈曲部11を中心に回動可能に構成されていることを特徴とする真空ピンセット1を提供する。
【選択図】図1Vacuum tweezers capable of stably adsorbing a warped semiconductor wafer.
SOLUTION: An elongated main body 2, an adsorption portion 3 provided at an end of the main body 2 and having a plurality of adsorption surfaces 4 to 6, and at least one for each adsorption surface 4 to 6, are provided, And at least one suction surface has a bent portion 11 on one side, and the bent portion 11 is arranged so that the suction hole 7 approaches or separates from the object to be processed. Provided is a vacuum tweezer 1 which is configured to be rotatable about a center.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、真空を利用して半導体ウエハを吸着し移送させる際に用いる真空ピンセットに関し、特に反りのある半導体ウエハを吸着し移送させることができる真空ピンセットに関する。 The present invention relates to a vacuum tweezers used when sucking and transferring a semiconductor wafer using a vacuum, and more particularly to a vacuum tweezers capable of sucking and transferring a warped semiconductor wafer.
半導体装置の分野においては、製造工程、検査工程等において、半導体ウエハを吸着するために、真空ピンセットが使用されている。真空ピンセットは、ハンドル形状の本体に設けられたボタンを押すことによって、真空ポンプ等の真空導入部から通じる真空がウエハ吸着部に達し、ウエハを吸着する構成が一般的である(例えば特許文献1参照)。 In the field of semiconductor devices, vacuum tweezers are used for adsorbing semiconductor wafers in manufacturing processes, inspection processes, and the like. The vacuum tweezers generally have a configuration in which a vacuum communicated from a vacuum introduction unit such as a vacuum pump reaches the wafer adsorption unit by pushing a button provided on a handle-shaped main body and adsorbs the wafer (for example, Patent Document 1) reference).
ところで、近年の電子機器の小型化に伴い、電子機器に搭載される部品に対しても小型化、薄型化が求められ、前記部品を構成する半導体ウエハも薄型化されている。このような半導体ウエハは、その面積に対して非常に薄く形成されているため、ウエハ上に表面加工物を形成した場合にウエハ内に応力が発生し、反りが大きくなることが知られている。例えば、ウエハサイズ8インチ、ウエハ厚100μmの半導体ウエハに樹脂20μmを付着させたところ、1.5mmの反りが見られた。一方、真空ピンセットの吸着部は通常平坦な形状に作られており、このようなウエハ形状の違いによって、安定な吸着が困難となる場合がある。 By the way, with the recent miniaturization of electronic devices, the components mounted on the electronic devices are also required to be small and thin, and the semiconductor wafers constituting the components are also thinned. Since such a semiconductor wafer is formed very thin with respect to its area, it is known that when a surface workpiece is formed on the wafer, stress is generated in the wafer and warpage increases. . For example, when 20 μm of resin was adhered to a semiconductor wafer having a wafer size of 8 inches and a wafer thickness of 100 μm, a warp of 1.5 mm was observed. On the other hand, the suction part of the vacuum tweezers is usually made in a flat shape, and stable suction may be difficult due to such a difference in wafer shape.
特許文献1に記載されている真空ピンセットのように、複数の独立した吸着部を設けた場合、吸着部の数が増える分、ウエハの吸着を安定化させることができる。しかしながら、吸着部の数が増加することにより、例えば、キャリア内のウエハを抜き取る際、吸着部がウエハに接触し、ウエハを傷付けやすくなる恐れがある。また、特許文献2に記載されている真空ピンセットのように、一つの吸着部に多数の吸着溝(吸着孔)を設けた構成とした場合、吸着部がウエハに接触する恐れは少なくなるが、吸着部が平坦であるために、反りがあるウエハについては全ての吸着溝を確実に吸着させることが難しくなる。
When a plurality of independent suction portions are provided as in the vacuum tweezers described in Patent Document 1, the wafer suction can be stabilized by the increase in the number of suction portions. However, an increase in the number of suction portions may cause the suction portions to come into contact with the wafer and easily damage the wafer, for example, when the wafer in the carrier is extracted. In addition, as in the case of the vacuum tweezers described in
この発明は、このような事情を考慮してなされたもので、その目的は、反りがある半導体ウエハに対して、安定して吸着することができる真空ピンセットを提供することにある。 The present invention has been made in consideration of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a vacuum tweezers that can be stably adsorbed to a warped semiconductor wafer.
上記課題に対し、本発明の以下の手段により解決を図る。
すなわち、本発明の請求項1に係る真空ピンセットは、長尺状の本体と、該本体の端部に設けられ、複数の吸着面を有する吸着部と、前記吸着面毎に少なくとも一つ設けられ、被処理体を吸着する吸着孔と、を備え、少なくとも一つの前記吸着面は、一辺に屈曲部を有し、前記被処理体に対して前記吸着面が接近又は離間するように、前記屈曲部を中心に回動可能に構成されていることを特徴としている。
また、本発明の請求項2に係る真空ピンセットは、請求項1に記載の真空ピンセットにおいて、前記複数の吸着面が前記屈曲部を介して直線状に接続されており、接続された吸着面同士が相対的に回動可能に構成されていることを特徴としている。
また、本発明の請求項3に係る真空ピンセットは、請求項1に記載の真空ピンセットにおいて、前記複数の吸着面が前記屈曲部を介して前記本体に接続されており、前記複数の吸着面は前記本体に対して相対的に回動可能に構成されていることを特徴としている。
また、本発明の請求項4に係る真空ピンセットは、請求項3に記載の真空ピンセットにおいて、前記吸着面が、前記本体の端部の両側方に屈曲部を介して接続された第一及び第二の吸着面と、前記本体の延在方向に屈曲部を介して接続された第三の吸着面とから構成されていることを特徴としている。
また、本発明の請求項5に係る真空ピンセットは、請求項1〜4のいずれか1項に記載の真空ピンセットにおいて、前記回動は、手動によって行われることを特徴としている。
さらに、本発明の請求項6に係る真空ピンセットは、請求項1〜4のいずれか1項に記載の真空ピンセットにおいて、前記回動が、屈曲部に組み込まれたモータによって行われることを特徴としている。
The above-described problems are solved by the following means of the present invention.
That is, the vacuum tweezers according to claim 1 of the present invention is provided with an elongated main body, an adsorption portion provided at an end of the main body, and having a plurality of adsorption surfaces, and at least one for each adsorption surface. A suction hole for sucking the object to be processed, and at least one of the suction surfaces has a bent portion on one side, and the bending is performed so that the suction surface approaches or separates from the object to be processed. It is characterized by being configured to be rotatable around the part.
The vacuum tweezers according to
The vacuum tweezers according to claim 3 of the present invention is the vacuum tweezers according to claim 1, wherein the plurality of suction surfaces are connected to the main body via the bent portion, and the plurality of suction surfaces are It is configured to be rotatable relative to the main body.
A vacuum tweezers according to a fourth aspect of the present invention is the vacuum tweezers according to the third aspect, wherein the suction surface is connected to both sides of the end of the main body via bent portions. It is characterized by comprising two suction surfaces and a third suction surface connected via a bent portion in the extending direction of the main body.
Moreover, the vacuum
Furthermore, the vacuum tweezers according to
本発明によれば、吸着孔を有する真空ピンセットの吸着面を折り曲げ可能に構成した。これにより、吸着孔を半導体ウエハの反りに合わせて接近又は離間させることが可能となるため、反りがある半導体ウエハに対して、吸着部を安定して吸着することができる真空ピンセットを提供することができる。 According to the present invention, the suction surface of the vacuum tweezers having suction holes is configured to be bendable. This makes it possible to approach or separate the suction holes in accordance with the warp of the semiconductor wafer, and to provide vacuum tweezers that can stably suck the suction part to a warped semiconductor wafer. Can do.
また、複数の吸着面を、屈曲部を介して直線状に接続することにより、一方向に湾曲した被処理体に沿って吸着させることができる。
また、複数の吸着面を、屈曲部を介して本体に接続することにより、複雑な形状に反った被処理体を吸着させることができる。
Further, by connecting the plurality of suction surfaces linearly via the bent portions, the suction surfaces can be sucked along the object to be processed curved in one direction.
Moreover, the to-be-processed object which curved the complicated shape can be adsorb | sucked by connecting a some adsorption | suction surface to a main body through a bending part.
<第一実施形態>
以下、本発明の第一実施形態を図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明の第一実施形態を示す図面であり、図1(a)は真空ピンセットの平面図であり、図1(b)は(a)に示すA方向から見た側面図である。
本発明の真空ピンセット1は、把持部である本体2と、ウエハ等の被処理体を吸着する吸着面4,5,6からなる吸着部3を主な構成要素としており、前記吸着部3が、折り曲げ可能に構成されていることを特徴としている。
<First embodiment>
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a drawing showing a first embodiment of the present invention, FIG. 1 (a) is a plan view of a vacuum tweezers, and FIG. 1 (b) is a side view seen from the A direction shown in FIG. 1 (a). is there.
The vacuum tweezers 1 according to the present invention mainly includes a
まず、本発明の真空ピンセット1の全体構成を説明する。
本発明の真空ピンセット1は、図1に示すように、本体2と本体2の一方の端部に設けられた吸着部3とから構成されている。吸着部3には、半導体ウエハ等の被処理体Wを吸着するための3つの吸着孔7が設けられている。
本体2の他方の端部には、真空引き用ホース8が設けられている。真空引き用ホース8は、図示しない真空ポンプに接続されている。また、真空引き用ホース8と3つの吸着孔7とは、吸引流路10で接続されている。さらに、本体2にはボタン9が設けられており、該ボタン9を押すことによって真空引き用ホース8から通じる真空が吸着孔7に達し、被処理体Wを吸着する構成となっている。
First, the whole structure of the vacuum tweezers 1 of this invention is demonstrated.
As shown in FIG. 1, the vacuum tweezers 1 of the present invention includes a
A
次に、本発明の特徴である折り曲げ可能な吸着部3について説明する。
本実施形態の真空ピンセット1の吸着部3は、第一の吸着面4、第二の吸着面5、第三の吸着面6の3つの面から構成されており、図1(b)に示すように、第一の吸着面4の両側に設けられた第二の吸着面と第三の吸着面5,6が、第一の吸着面4に対して折り曲げ可能に構成されている。
吸着部3を構成する3つの面は略矩形状であり、第一の吸着面4は前記本体2の端部に設けられている。第二、第三の吸着面5,6は、前記第一の吸着面4の四辺のうち、前記本体2の長手方向に沿う辺であって、対向する二辺を介して第一の吸着面4の両側に屈曲部11を介して接続されている。
Next, the bendable suction part 3 that is a feature of the present invention will be described.
The suction part 3 of the vacuum tweezers 1 of this embodiment is composed of three surfaces, a
The three surfaces constituting the suction portion 3 are substantially rectangular, and the
屈曲部11は、第一の吸着面4と第二、第三の吸着面5,6を接続し、かつ、第二、第三の吸着面5,6が第一の吸着面4に対して回動することを可能にする部位であり、本実施形態においては、任意の角度で固定することが可能なヒンジ(フリーストップヒンジとも言う)を利用して回動(吸着部3の折り曲げ)を実現している。このようなヒンジを用いることにより、使用者は任意の角度で第二、第三の吸着面5,6を固定することができる。
The
図1(b)は、反りのある被処理体Wに対応するように、吸着部3を変形させた様子を示している。予め反りの量がわかっている場合は、このように第二、第三の吸着面5,6を回動させておき、反りのある被処理体Wに合わせて吸着部3を折り曲げておくことができる。なお、図1(b)に示す被処理体Wは、反りの量を誇張して描いたものである。
FIG. 1B shows a state in which the suction unit 3 is deformed so as to correspond to the workpiece W having warpage. When the amount of warpage is known in advance, the second and
吸着部3を構成する3つの面の材質は、高度の耐熱性及び耐薬品性を備えた合成樹脂材の使用が望ましく、例えばポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリイミド(PI)等の使用が可能である。 The material of the three surfaces constituting the adsorbing part 3 is preferably a synthetic resin material having a high degree of heat resistance and chemical resistance. For example, polyether ether ketone (PEEK), polyphenylene sulfide (PPS), polytetrafluoro Ethylene (PTFE), polyimide (PI), etc. can be used.
また、上記合成樹脂の代替として、可撓性のあるゴム系材料を用いることも可能である。ゴム系材料を用いることによって、吸着面4〜6が更に被処理体Wの形状に倣うようになるため、吸着時の真空漏れが発生しにくくなる。 Moreover, it is also possible to use a flexible rubber-based material as an alternative to the synthetic resin. By using a rubber-based material, the suction surfaces 4 to 6 further follow the shape of the workpiece W, so that vacuum leakage during suction is less likely to occur.
なお、第一の吸着面4と本体2とは、一体に成形してもよい。
また、3つの吸着面4〜6を一体に成形することも可能である。この場合は、吸着面4と吸着面5、及び吸着面4と吸着面6との間の接続は、極薄い樹脂によってなされる(リビングヒンジとも言う)ことが好ましい。
In addition, you may shape | mold the 1st adsorption |
It is also possible to integrally form the three
3つの吸着孔7は、吸着部3を構成する3つの面4〜6の略中央に形成されている円形状の吸入口である。該吸着孔7には吸引流路10が連結されている。吸引流路10は、前記吸着孔7と真空引き用ホース8とを接続する流路である。吸着孔7及び吸引流路10は、吸着面4〜6の内部に穿設することによって形成されている。屈曲部11においては、第二、第三の吸着面5,6の吸引流路10と、第一の吸着面4の吸引流路10との間は吸引流路ホース10aによって接続される。
なお、吸着孔7は上述したような円形状に限ることはなく、リング状の溝や、複数の小径穴から構成されたメッシュ状の吸入口等、ウエハ等の被処理体を吸着することができるものであれば様々な構成のものが採用可能である。
The three
The
なお、本実施形態の吸着部3の大きさは、10mm×15mm(図1(a)の上下方向が15mm)であるが、吸着部3の大きさは、被処理体Wの大きさに依存して適宜変更可能である。
また、本実施形態の吸着孔7は、3つの吸着面4〜6の各面に1つずつ形成されているが、これに限ることは無く、例えば、1つの吸着面に複数形成してもよい。
また、本実施形態の吸着孔7は、本体の長手方向に直交する方向に、直線状に配されているが、これに限ることは無く、例えば、3つの吸着孔7によって三角形を描くように配されていてもよい。
さらに、吸着面の数は3つに限定はされず、例えば、吸着部3が5面構成のもの(4つの屈曲部)等も適宜採用可能である。
In addition, although the magnitude | size of the adsorption | suction part 3 of this embodiment is 10 mm x 15 mm (the up-down direction of Fig.1 (a) is 15 mm), the magnitude | size of the adsorption | suction part 3 is dependent on the magnitude | size of the to-be-processed object W. Therefore, it can be changed as appropriate.
In addition, the suction holes 7 of the present embodiment are formed one by one on each of the three
In addition, the suction holes 7 of the present embodiment are arranged in a straight line in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the main body. However, the present invention is not limited to this. For example, the three
Further, the number of suction surfaces is not limited to three, and for example, a suction portion 3 having a five-surface configuration (four bent portions) can be appropriately employed.
本実施形態の真空ピンセット1は、吸着部3が3つの吸着面4〜6からなり、これら3つの吸着面4〜6が、屈曲部11を介して接続されていることによって、吸着部3が折り曲げ可能である。これにより、吸着面4〜6からなる吸着部3を、一方向に反りのある被処理体(半導体ウエハ)Wに合わせて変形させることが可能となるため、安定して被処理体Wを吸着することができる。
In the vacuum tweezers 1 of the present embodiment, the suction part 3 is composed of three
<第二実施形態>
次に、本発明に係る第二実施形態を図面に基づいて説明する。
図2は、本実施形態に係る真空ピンセット1Aを示す図である。なお、ここでは第一実施形態との相違点を中心に述べ、同様の部分についてはその説明を省略する。
第二実施形態に係る真空ピンセット1Aは、屈曲部12にモータ及び減速機を組み込むことによって、第二、第三の吸着面5,6の回動(吸着部3の折り曲げ)を自動で行うことを特徴としている。
<Second embodiment>
Next, a second embodiment according to the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 2 is a view showing the vacuum tweezers 1A according to the present embodiment. Here, the differences from the first embodiment will be mainly described, and description of similar parts will be omitted.
The vacuum tweezers 1A according to the second embodiment automatically rotates the second and
図2に示す真空ピンセット1Aの屈曲部12には、モータ及び減速機が組み込まれている。屈曲部12に組み込まれているモータは、図示しない制御手段によって制御されており、第二、第三の吸着面5,6を所望の角度に回動させることが可能である。また、様々な角度を制御手段に記憶させておくことで、様々な反りの量の被処理体Wに対応させることができる。
A motor and a speed reducer are incorporated in the
<第三実施形態>
次に、本発明に係る第三実施形態を図面に基づいて説明する。
図3は、本実施形態に係る真空ピンセット1Bを示す図である。なお、ここでは第一実施形態との相違点を中心に述べ、同様の部分についてはその説明を省略する。以下の説明においては、第一の吸着面4と第二の吸着面5の接続部について説明し、第一の吸着面4と第三の吸着面6(図1参照)については説明を省略する。第三実施形態に係る真空ピンセット1Bは、空気圧を利用して折り曲げを行うことを特徴としている。
<Third embodiment>
Next, a third embodiment according to the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 3 is a view showing the
図3に示す真空ピンセット1Bの第一の吸着面4と第二の吸着面5とは管状部材13によって接続されており、この管状部材13が屈曲部を構成している。
管状部材13は円筒形構造であり、合成ゴム等の可撓性を有する材料によって形成されている。管状部材13の一端13aは閉じられており、一端13aを構成する面が第二の吸着面5の端面に接着されている。管状部材13の他端13bは開放されており、第一の吸着面4の内部に形成され、第一の吸引流路10aとは独立した第二の吸引流路10bに接続されている。また、第二の吸引流路10bは、第一の吸着面4に形成されている吸着孔7aと連通されている。つまり、管状部材13の内部と吸着部7aとは連通している。
一方、第一の吸着面4及び第二の吸着面5の内部に形成された第一の吸引流路10aは、第二の吸着面5に形成されている吸着部7bと連通されている。
さらに、第二の吸引流路10bは第一の吸引流路10aと同様に、真空引き用ホース(図示せず)と連通している。つまり、真空ピンセット1Bの真空引きを行うことによって、管状部材13の内部が真空引きされる。
The
The
On the other hand, the
Further, the
第一の吸着面4側と第二の吸着面5側との間には、異なるばね定数の2本の引張りコイルばねが接続されている。図3(a)の符号14、15が引張りコイルばねであり、引張りコイルばね14のばね定数は、引張りコイルばね15のばね定数より大きくなっている。
Two tension coil springs having different spring constants are connected between the
本実施形態の真空ピンセットの使用法について説明する。
まず、真空引きを行わない状態で、被処理体Wに真空ピンセット1Bを接近させる。真空ピンセット1Bを十分接近させてから真空引きを行うと、第一の吸着面4の吸着孔7aが被処理体Wに吸着するとともに、管状部材13の内部が真空引きされる。
管状部材13の内部が真空引きされることによって、管状部材13は、その両端部が接近する方向に収縮する。次いで、図3(b)に示すように、管状部材13の収縮と同時に、ばね定数の大きい引張りコイルばね14が縮む方向に(R2方向に)第二の吸着面5が回動する。第二の吸着面5は、第二の吸着面5が被処理体Wに接するまで回動する。第二の吸着面5の吸着孔7bが被処理体Wに接すると、第二の吸着面5においても吸着が行われる。
図示しないが、第二実施形態の真空ピンセット1Bには、第一実施形態の真空ピンセット1と同様に第三の吸着面が設けられており、第三の吸着面においても吸着が行われる。
The usage of the vacuum tweezers of this embodiment will be described.
First, the vacuum tweezers 1 </ b> B is brought close to the workpiece W without performing vacuuming. When evacuation is performed after the
When the inside of the
Although not shown, the
このような方法を用いることによって、事前に第二、第三の吸着面5,6を回動させることなく、反りの量に応じて自動的に第二、第三の吸着面5,6を回動させることができる。
By using such a method, the second and
<第四実施形態>
次に、本発明に係る第四実施形態を図面に基づいて説明する。
図4は、本実施形態に係る真空ピンセット1Cを示す図であって、図4(a)は平面図、(b)は(a)のB−B断面図である。第四実施形態に係る真空ピンセット1Cは、吸着面の構成以外は、第一実施形態とほぼ同様である。
本実施形態の真空ピンセット1Cの吸着部3Cを構成する吸着面24〜26は、図4に示すように、本体2の端部の両側方に屈曲部31を介して接続された第一の面24及び第二の面25と、本体2の端部の延在方向に屈曲部32を介して接続された第三の面26とから構成されている。
第一実施形態と同様に各面24〜26は略矩形状であり、吸着孔7は各面24〜26の略中央に形成されている。
<Fourth embodiment>
Next, a fourth embodiment according to the present invention will be described with reference to the drawings.
4A and 4B are views showing the
The suction surfaces 24 to 26 constituting the
Similar to the first embodiment, each of the
屈曲部31,32の構成としては、図示したような角度を固定することが可能なヒンジを用いる方法や、モータと減速装置、又は空気圧を利用したアクチュエータ等、適宜採用可能である。
このような構成の吸着部3Cとすることによって、より複雑な形状に反った被処理体を吸着することが可能となる。
As the configuration of the
By adopting the
また、図5に示すように、各吸着孔7に対し独立した吸引流路35,36を設けることもできる。
複数の吸着孔の吸着を一つの吸引流路を介して真空引きを行った場合、1つの吸着孔の吸着が外れると、他の吸着孔の吸着圧まで低下する恐れがある。図5に示す真空ピンセット1Dのように、中心の吸着孔7A用の吸引流路として吸引流路35、両端の吸着孔7B用の吸引流路として吸引流路36をそれぞれ独立して設けることによって、いずれかの吸着孔が外れた場合においても、別の吸着孔の吸着が維持されるため、被処理体の落下を防ぐことができる。
In addition, as shown in FIG. 5,
When the suction of a plurality of suction holes is evacuated through one suction flow path, if the suction of one suction hole is removed, the suction pressure of the other suction holes may be reduced. As in the
また、本真空ピンセットは、反りのある被処理体の吸着を向上させたものであるが、反りのない被処理体にも用いることができる。 Moreover, although this vacuum tweezers improves the adsorption | suction of the to-be-processed object with a curvature, it can be used also for the to-be-processed object without a curvature.
1…真空ピンセット、2…本体、3…吸着部、4…第一の吸着面、5…第二の吸着面、6…第三の吸着面、7…吸着孔、8…真空引き用ホース、9…ボタン、10…吸引流路、11…屈曲部、12…屈曲部(モータ)、13…管状部材、14、15…引張りコイルばね。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Vacuum tweezers, 2 ... Main body, 3 ... Adsorption part, 4 ... 1st adsorption surface, 5 ... 2nd adsorption surface, 6 ... 3rd adsorption surface, 7 ... Adsorption hole, 8 ... Vacuuming hose, DESCRIPTION OF SYMBOLS 9 ... Button, 10 ... Suction flow path, 11 ... Bending part, 12 ... Bending part (motor), 13 ... Tubular member, 14, 15 ... Tensile coil spring.
Claims (6)
該本体の端部に設けられ、複数の吸着面を有する吸着部と、
前記吸着面毎に少なくとも一つ設けられ、被処理体を吸着する吸着孔と、を備え、
少なくとも一つの前記吸着面は、一辺に屈曲部を有し、前記被処理体に対して前記吸着面が接近又は離間するように、前記屈曲部を中心に回動可能に構成されていることを特徴とする真空ピンセット。 An elongated body,
An adsorption portion provided at an end of the main body and having a plurality of adsorption surfaces;
And at least one suction hole for each suction surface, and a suction hole for sucking the object to be processed.
At least one of the suction surfaces has a bent portion on one side, and is configured to be rotatable around the bent portion so that the suction surface approaches or separates from the object to be processed. Features vacuum tweezers.
前記本体の延在方向に屈曲部を介して接続された第三の吸着面とから構成されていることを特徴とする請求項3に記載の真空ピンセット。 The suction surfaces are first and second suction surfaces connected to both sides of the end of the main body via bent portions, and
The vacuum tweezers according to claim 3, wherein the vacuum tweezers are configured by a third suction surface connected via a bent portion in the extending direction of the main body.
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2010
- 2010-06-23 JP JP2010142683A patent/JP2012009540A/en active Pending
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