JP2012008525A - 立体表示システム - Google Patents

Abstract

【課題】表示装置に対して眼鏡の表面を水平に配置したまま回転する際、コントラスト及び色の変化が小さい立体表示システムが求められている。
【解決手段】右眼用画像と左眼用画像とを交互に表示する表示装置と、表示装置が交互に表示する画像と同期して動作する液晶シャッターとを備えた眼鏡とを含み、前記表示装置と前記眼鏡とがともに、位相差板を有し、表示装置が有する位相差板及び眼鏡が有する位相差板からなる群から選ばれる少なくとも１種が、式（１）を充足する位相差板である立体表示システム。Ｒｅ（４５１）＜Ｒｅ（５４９）＜Ｒｅ（６２８） （１）［式（１）中、Ｒｅ（ν）は、波長νｎｍにおける位相差値を表す。］
【選択図】図１

Description

本発明は、立体表示システムに関する。

立体表示システムとしては、例えば、右眼用画像と左眼用画像とを時間的に交互に表示する表示装置と、当該表示装置により表示される各眼用画像が表示されるタイミングに同期して開閉するシャッター機能を有する眼鏡とを含む立体表示システムが知られている（非特許文献１）。

ディスプレイ技術年鑑２０１０ Ｐ．１５８（日経ＢＰ社発行）

従来の立体表示システムは、表示装置に対して眼鏡の表面を水平に配置したまま回転する際、コントラスト及び色の変化が大きいという点（角度依存性）で、十分満足できるものではなかった。

本発明は、以下の発明である。
１．右眼用画像と左眼用画像とを交互に表示する表示装置と、表示装置が交互に表示する画像と同期して動作する液晶シャッター眼鏡とを含み、
前記表示装置と前記眼鏡とがともに、位相差板を有し、
表示装置が有する位相差板及び眼鏡が有する位相差板からなる群から選ばれる少なくとも１種が、式（１）を充足する位相差板である立体表示システム。
Ｒｅ（４５１）＜Ｒｅ（５４９）＜Ｒｅ（６２８） （１）
［式（１）中、Ｒｅ（ν）は、波長νｎｍにおける位相差値を表す。］
２．表示装置が有する位相差板及び眼鏡が有する位相差板の両方が、式（１）を充足する位相差板である１．記載の立体表示システム。
３．表示装置が、直線偏光を円偏光へ変換する位相差板を有する装置であり、かつ眼鏡が、円偏光を直線偏光に変換する位相差板を有する装置である１．又は２．記載の立体表示システム。
４．式（１）を充足する位相差板が、重合性液晶化合物を重合して得られる位相差板、及びフィルムを延伸して得られる位相差板からなる群から選ばれる少なくとも１種である１．〜３．のいずれか記載の立体表示システム。

５．重合性液晶化合物が、式（Ａ）で表される化合物である４．記載の立体表示システム。
Ｌ^１−Ｇ^１−Ｄ^１−Ａｒ−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｌ^２ （Ａ）
［式（Ａ）中、Ａｒは芳香環を有する２価の基を表し、該芳香環に含まれるπ電子の数Ｎ_πは、１２以上２２以下である。
Ｄ^１及びＤ^２は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−、−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＮＲ^１−ＣＲ^２Ｒ^３−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＮＲ^３−、−ＣＯ−ＮＲ^１−、又は−ＮＲ^１−ＣＯ−を表す。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれるメチン基は、

で置き換っていてもよい。
Ｌ^１及びＬ^２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ^１及びＬ^２からなる群から選ばれる少なくとも１種が、重合性基を有する１価の基を表す。］
６．Ｌ^１が式（Ｂ）で表される基であり、かつＬ^２が式（Ｃ）で表される基である５．記載の立体表示システム。
Ｐ^１−Ｆ^１−（Ｂ^１−Ａ^１）_ｋ−Ｅ^１− （Ｂ）
Ｐ^２−Ｆ^２−（Ｂ^２−Ａ^２）_ｌ−Ｅ^２− （Ｃ）
［式（Ｂ）及び（Ｃ）中、Ｂ^１、Ｂ^２、Ｅ^１及びＥ^２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^５Ｒ^６−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^５−、−ＮＲ^５−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｓ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｓ−又は単結合を表す。ｋが２以上の整数である場合、複数のＢ^１は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｌが２以上の整数である場合、複数のＢ^２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれるメチン基は、

で置き換っていてもよい。ｋが２以上の整数である場合、複数のＡ^１は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｌが２以上の整数である場合、複数のＡ^２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
Ｆ^１及びＦ^２は、炭素数１〜１２の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｐ^１は、重合性基を表す。
Ｐ^２は、水素原子又は重合性基を表す。］

７．Ａｒが、式（Ａｒ−６）で表される基である５．又は６．記載の立体表示システム。

［式（Ａｒ−６）中、Ｚ^１は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ^７Ｒ^８、−ＳＲ^７を表す。ｎが２以上の整数である場合、複数のＺ^１は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ^７及びＲ^８は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｑ^１は、−Ｓ−、−Ｏ−又は−ＮＲ^９−を表す。
Ｒ^９は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｙ^２は、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の１価の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数３〜１２の１価の芳香族複素環式基を表す。
ｎは、０〜２の整数を表す。］
８．Ｇ^１及びＧ^２が、ともにシクロヘキサン−１，４−ジイル基である５．〜７．のいずれか記載の立体表示システム。
９．重合性基が、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基及びメタクリロイルオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１種である５．〜８．のいずれか記載の立体表示システム。

１０．フィルムが、ポリカーボネートに由来する構造単位、ポリウレタンに由来する構造単位又はポリウレタンウレアに由来する構造単位を含むフィルムである４．記載の立体表示システム。
１１．フィルムが、ポリカーボネートに由来する構造単位、ポリウレタンに由来する構造単位又はポリウレタンウレアに由来する構造単位、並びにカルバゾール骨格、フルオレン骨格、ベンゾチアゾール骨格及びナフタレン骨格からなる群から選ばれる少なくとも１種を有する重合性化合物に由来する構造単位を含むフィルムである４．又は１０．記載の立体表示システム。

１２．表示装置が交互に表示する画像と同期して動作する液晶シャッター眼鏡であり、かつ式（１）を充足する位相差板を有する立体表示システム用眼鏡。
Ｒｅ（４５１）＜Ｒｅ（５４９）＜Ｒｅ（６２８） （１）
［式（１）中、Ｒｅ（ν）は、波長νｎｍにおける位相差値を表す。］
１３．位相差板が、式（Ａ）で表される化合物を重合して得られる位相差板である１２．記載の立体表示システム用眼鏡。
Ｌ^１−Ｇ^１−Ｄ^１−Ａｒ−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｌ^２ （Ａ）
［式（Ａ）中、Ａｒは、芳香環を有する２価の基を表し、該芳香環に含まれるπ電子の数は、１２以上２２以下である。
Ｄ^１及びＤ^２は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−、−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＮＲ^１−ＣＲ^２Ｒ^３−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＮＲ^３−、−ＣＯ−ＮＲ^１−、又は−ＮＲ^１−ＣＯ−を表す。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれるメチン基は、

で置き換っていてもよい。
Ｌ^１及びＬ^２は、それぞれ独立に、１価の基有機基を表し、Ｌ^１及びＬ^２からなる群から選ばれる少なくとも１種は、重合性基を有する１価の基を表す。］
１４．式（１）を充足する位相差板が、フィルムを延伸して得られる位相差板である１２．記載の立体表示システム用眼鏡。

１５．右眼用画像と左眼用画像とを交互に表示する表示装置であり、式（１）を充足する位相差板を有する立体表示システム用表示装置。
Ｒｅ（４５１）＜Ｒｅ（５４９）＜Ｒｅ（６２８） （１）
［式（１）中、Ｒｅ（ν）は、波長νｎｍにおける位相差値を表す。］
１６．式（１）を充足する位相差板が、式（Ａ）で表される化合物を重合して得られる位相差板である１５．記載の立体表示システム用表示装置。
Ｌ^１−Ｇ^１−Ｄ^１−Ａｒ−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｌ^２ （Ａ）
［式（Ａ）中、Ａｒは、芳香環を有する２価の基を表し、該芳香環に含まれるπ電子の数は、１２以上２２以下である。
Ｄ^１及びＤ^２は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−、−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＮＲ^１−ＣＲ^２Ｒ^３−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＮＲ^３−、−ＣＯ−ＮＲ^１−、又は−ＮＲ^１−ＣＯ−を表す。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれるメチン基は、

で置き換っていてもよい。
Ｌ^１及びＬ^２は、それぞれ独立に、有機基を表す。ただし、Ｌ^１及びＬ^２からなる群から選ばれる少なくとも１種は、重合性基を有する基である。］
１７．式（１）を充足する位相差板が、フィルムを延伸して得られる位相差板である１５．記載の立体表示システム用表示装置。

本発明の立体表示システムによれば、コントラスト及び色の角度依存性を小さくすることができる。

本発明に係る半透過型液晶表示装置３１Ａを示す概略図である。 本発明に係る半透過型液晶表示装置３１Ａを示す別の概略図である。 本発明に係る液晶表示装置５１を示す概略図である。 本発明に係る液晶表示装置以外のフラットパネル表示装置６１を示す概略図である。 本発明に係る液晶表示装置７１Ａを示す概略図である。 本発明に係る液晶表示装置７１Ｂを示す概略図である。 本発明に係る液晶表示装置７１Ｃを示す概略図である。 本発明に係る立体表示システム用眼鏡９１を示す概略図である。 本発明に係る立体表示システム用眼鏡９６を示す概略図である。 本発明の実施例における評価条件を示す図である。 本発明の実施例における評価条件を示す図である。

本発明は、右眼用画像と左眼用画像とを交互に表示する表示装置と、表示装置が交互に表示する画像と同期して動作する液晶シャッター眼鏡とを含み、
前記表示装置と前記眼鏡とがともに、位相差板を有し、
表示装置が有する位相差板及び眼鏡が有する位相差板らなる群から選ばれる少なくとも１種が、式（１）を充足する位相差板である立体表示システムである。
Ｒｅ（４５１）＜Ｒｅ（５４９）＜Ｒｅ（６２８） （１）
［式（１）中、Ｒｅ（ν）は、波長νｎｍにおける位相差値を表す。］
すなわち、本発明の立体表示システムは、表示装置及び眼鏡からなる群から選ばれる少なくとも１種が、式（１）を充足する位相差板を有する装置である立体表示システムである。

右眼用画像とは、右眼により視認されるべき画像情報を意味し、左眼用画像とは、左眼により視認されるべき画像情報を意味する。
液晶シャッター眼鏡は、液晶セルの駆動により、表示装置から出射される光を透過または不透過とする眼鏡であり、前記表示装置が交互に表示する画像と同期して動作する。ここで、”同期して動作する”とは、表示装置が右眼用画像を表示した場合には、観察者の右眼で当該右眼用画像が観察されるよう、当該眼鏡の右眼側は、表示装置から出射される光を透過するとともに、左眼側は、表示装置から出射される光を不透過とする一方で、表示装置が左眼用画像を表示した場合には、観察者の左眼で当該左眼用画像が観察されるよう、当該眼鏡の左眼側は、表示装置から出射される光を透過するとともに、右眼側は、表示装置から出射される光を不透過とすることを意味する。

本発明の表示システムでは、表示装置と眼鏡とがともに、位相差板を有する。
本明細書において、位相差板とは、光を透過し得る物体であって、光学的な機能を有する物体をいう。光学的な機能とは、屈折、複屈折等を意味する。位相差板は、直線偏光を円偏光や楕円偏光に変換したり、逆に円偏光又は楕円偏光を直線偏光に変換したりするために用いられる。
位相差板は、基板上に形成されたものであってもよい。また、フィルム状の位相差板であってもよい。

表示装置としてはブラウン管方式表示装置、液晶表示装置、プラズマ表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置等が挙げられる

表示装置は、右眼用の画像と左眼用の画像を高速で交互に切り替えて表示する。画像の切り替え速度（画像の表示周期）は、観察者が観察する画像に自然な連続性を感じる程度が望ましく、切り替え速度が３０Ｈｚ未満であると、観察者は、観察する画像に自然な連続性を感じにくくなるため、表示装置は３０Ｈｚ以上の画像切り替え速度で、右眼用画像と左眼用画像とを交互に切り替えて表示することが可能な表示装置であることが望ましい。

液晶シャッター眼鏡は、液晶シャッター機能を有する眼鏡である。液晶シャッターは、表示装置の画像切り替えに応じて動作し、観察者の両眼に届ける画像情報を、制御するものである。液晶シャッターは、液晶シャッターが閉じた状態、つまり、表示装置から出射される光を不透過とする場合には、表示装置から出射される光に対して、十分な遮光性を有しており、かつ表示装置の高速な画像切り替えに同期して動作しうる高速応答性を有することが望ましい。
前記液晶シャッターとしては、偏光板２枚に挟まれた液晶セル、及び観察者側に１枚の偏光板を配置した液晶セルが挙げられる。３Ｄクロストークを低減するという点で、前者の偏光板２枚に挟まれた液晶セルが好ましく、観察者によって観察される画像の輝度の点で、観察者側に１枚の偏光板を配置した液晶セルが好ましい。

本発明の立体表示システムに含まれる表示装置が有する位相差板及び眼鏡が有する位相差板からなる群から選ばれる少なくとも１種は、式（１）を充足する。
Ｒｅ（４５１）＜Ｒｅ（５４９）＜Ｒｅ（６２８） （１）
［式（１）中、Ｒｅ（ν）は、波長νｎｍにおける位相差値を表す。］
以下、式（１）を充足する位相差板を「位相差板（１）」という場合がある。
前記表示装置、前記眼鏡またはその両方が有する位相差板が、式（１）を充足することにより、一様の偏光変換が可能なため、観察者により観察される画像のコントラスト及び色の角度依存性が小さくすることができる。

観察者が、立体表示用の眼鏡を通して、立体表示装置により表示される画像を観察する場合、当該立体表示装置の正面に観察者が位置していても、観察者が首を曲げたり、横になったりすると、観察者により観察される画像のコントラストや色が変化する。本明細書では、このような、観察角度により、コントラストや色が変化することを、「角度依存性を有する」といい、観察角度によって、コントラストや色の変化が小さいことを、「角度依存性が小さい」という。
本発明の立体表示システムは、表示装置が有する位相差板が位相差板（１）であり、眼鏡が有する位相差板は位相差板（１）でない立体表示システム、表示装置が有する位相差板が位相差板（１）ではない位相差板であり、眼鏡が有する位相差板が位相差板（１）である表立体示システム、および、表示装置が有する位相差板が位相差板（１）であり、眼鏡が有する位相差板も位相差板（１）である立体表示システムを含む。

中でも、表示装置が有する位相差板及び眼鏡が有する位相差板の両者が、位相差板（１）である立体表示システムが好ましい。表示装置が有する位相差板及び眼鏡が有する位相差板の両者が、位相差板（１）であると、観察者によって観察される画像のコントラスト及び色の角度依存性がさらに小さくなる。

位相差板（１）の位相差値は、５０〜５００ｎｍであり、好ましくは１００〜３００ｎｍである。
位相差板（１）が、広帯域λ／４板である場合、Ｒｅ（５４９）は１１３〜１６３ｎｍが好ましく、１２０〜１４０ｎｍがより好ましく、１２２〜１３８ｎｍがさらに好ましい。広帯域λ／２板である場合、Ｒｅ（５４９）は２５０〜３００ｎｍが好ましく、好ましくは２７０〜２８０ｎｍがより好ましく、２７３〜２７７ｎｍがさらに好ましい。
位相差値が前記の値であると、広範の波長の光に対し、一様に偏光変換できる傾向があり、好ましい。
ここで、広帯域λ／４板とは、各波長の光に対し、その１／４の位相差値を発現する位相差板であり、広帯域λ／２板とは、各波長の光に対し、その１／２の位相差値を発現する位相差板である。
本明細書において、５０〜５００とは、５０以上５００以下を意味する。

表示装置が、直線偏光を円偏光へ変換する位相差板を有する装置であり、かつ眼鏡が、円偏光を直線偏光に変換する位相差板を有する装置であることが好ましい。表示装置の発する画像情報を円偏光に変換して眼鏡に届けることで、コントラスト及び色の角度依存性を小さくすることができる。

位相差板（１）の膜厚は、０．１〜１００μｍであることが好ましい。
位相差値Ｒｅ（ν）（νは波長を表す。）は、複屈折率と膜厚との積であることから、前記の範囲で膜厚を変化させることにより調整することができる。

本発明の立体表示システムの表示装置は、さらに偏光板を有することが好ましく、位相差板（１）を含む円偏光板を有する表示装置であることがより好ましい。λ／４板として位相差値を調整した位相差板（１）と偏光板とを組合せることによって、円偏光板を作製することができる。位相差板（１）の位相差値Ｒｅ（５４９）を、１１３〜１６３ｎｍ、好ましくは１２０〜１４０ｎｍ、さらに好ましくは１２２〜１３８ｎｍに調整することでλ／４板とすることができる。

［円偏光板］
本発明の立体表示システムの液晶シャッター眼鏡は、さらに偏光板を有することが好ましく、位相差板（１）を含む円偏光板を有する液晶シャッター眼鏡であることが好ましい。
前記円偏光板は、λ／４板として位相差を調整した位相差板（１）と、偏光板とを組合せることによって、作製することができる。位相差板（１）の位相差Ｒｅ（５４９）を、１１３〜１６３ｎｍ、好ましくは１２０〜１４０ｎｍ、さらに好ましくは１２２〜１３８ｎｍに調整することでλ／４板とすることができる。

偏光板としては、偏光機能を有するフィルムであればよく、例えばポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素や二色性色素を吸着させて延伸したフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムを延伸してヨウ素や二色性色素を吸着させたフィルム等が挙げられる。

円偏光板は、位相差板（１）と偏光板とを、位相差板（１）の遅相軸方向と偏光板の吸収軸方向とが４０〜５０度、好ましくは４２〜４８度の角度をなすように配置することによって作製することができる。円偏光板を構成する位相差板と偏光板とは、接合剤を用いて貼合されていることが好ましい。接合剤としては、位相差値をもたない接合剤が好ましい。

本発明の立体表示システムが、位相差板（１）を有する表示装置及び位相差板（１）を有する液晶シャッター眼鏡を含む場合、表示装置の位相差板（１）の波長分散性及び眼鏡位相差板（１）の波長分散性は、互いに近いものが好ましい。

図１は、本発明に係る立体表示システムを構成する表示装置の一つである、半透過型液晶表示装置３１Ａを示す概略図である。図２は、本発明に係る立体表示システムを構成する表示装置の一つである、半透過型液晶表示装置３１Ｂを示す概略図である。半透過型表示装置３１Ａ及び３１Ｂは、反射モード及び／又は透過モードで駆動されることができる表示装置である。

半透過型液晶表示装置３１Ａは、位相差板（１）を有する表示装置であり、バックライト３２、偏光板３３、位相差板３４、基材３５、画素３６、液晶層３７、前面透明電極３８、カラーフィルタ３９（ただし、カラーフィルタは、必ずしも必要ない）、偏光板４０、基材４１及び位相差板（１）４２を含み、バックライト３２が半透過型液晶表示装置の背面側に来るように配置され、さらに、バックライト３２側（背面側）から、偏光板３３、位相差板３４、基材３５、画素３６、液晶層３７、前面透明電極３８、カラーフィルタ３９、偏光板４０、基材４１、位相差板（１）４２の順に配置された装置である。

半透過型液晶表示装置３１Ｂは、位相差板（１）を有する表示装置であり、バックライト３２、偏光板３３、位相差板３４、基材３５、画素３６、液晶層３７、前面透明電極３８、偏光板４０、カラーフィルタ３９、基材４１および位相差板（１）４２を含み、バックライト３２が半透過型液晶表示装置の背面側に来るように配置され、バックライト３２側（背面側）から、偏光板３３、位相差板３４、基材３５、画素３６、液晶層３７、前面透明電極３８、偏光板４０、カラーフィルタ３９（ただし、カラーフィルタは、必ずしも必要ない）、基材４１、位相差板（１）４２の順に配置された装置である。
半透過型液晶表示装置３１Ａ及び３１Ｂは、いずれも基材４１を含むが、基材４１を含まない半透過型液晶表示装置であってもよい。

画素３６は、第１及び第２のサブ画素に副分割され、第１の副画素を反射サブ画素と呼び、第２のサブ画素を透過サブ画素と呼ぶ。第１のサブ画素は、反射部を兼ねる、アルミニウムホイル等から製造される背面反射電極部３６Ａを含み、第２のサブ画素は、例えばＩＴＯ等から製造される透明の背面透明電極部３６Ｂを有する。従って、背面反射電極部３６Ａは反射画素部であり、背面透明電極部３６Ｂは透過画素部である。

図３〜７は、本発明に係る立体表示システムを構成する表示装置の一つである、フラットパネル表示装置を示す概略図である。
図３は、本発明に係る立体表示システムを構成する表示装置の一つである、液晶表示装置５１を示す概略図である。液晶表示装置５１は、位相差板（１）を有し、さらに、バックライト５２、偏光板５３、液晶セル５４および偏光板５５を含み、バックライト５２が液晶表示装置の背面側に来るよう配置され、バックライト５２側（背面側）より順番に、偏光板５３、液晶セル５４、偏光板５５、位相差板（１）５６を含む構成である。液晶セル５４の前後に偏光板５３及び偏光板５５配置され、バックライト５２側とは反対側（前面側）の偏光板５５の、液晶セル５４に対する面とは反対側に、位相差板（１）５６が設けられている。
図４は、本発明に係る立体表示システムを構成する表示装置の一つである、液晶表示装置以外のフラットパネル表示装置６１を示す概略図である。液晶表示装置以外のフラットパネル表示装置６１としては、有機ＥＬ表示装置、プラズマ表示装置表示装置、フィールドエミッション表示装置（ＦＥＤ）、ＳＥＤ方式平面型表示装置、電子ペーパー等が挙げられる。これらの表示装置は出射光が偏光ではないため、従来のフラットパネル表示装置６２の前面の出射側に、偏光板６３を設置し、偏光板６３の従来のフラットパネル表示装置６２とは反対側に位相差板（１）６４を設置することにより、立体表示が可能となる。

図５〜７は、本発明に係る立体表示システムを構成する表示装置の一つである、液晶表示装置７１Ａ〜７１Ｃを示す概略図である。液晶表示装置７１Ａ〜７１Ｃは、液晶セルの外側に偏光板を配置する構成もあるが、セル内に偏光板及び位相差板（１）を配置することにより、立体表示のクロストークを軽減することができる。

図５は、本発明に係る立体表示システムを構成する表示装置の一つである、液晶表示装置７１Ａを示す概略図である。液晶表示装置７１Ａは、バックライト７２、偏光板７３、公知の位相差板７４、基材７５、背面電極７６、液晶層７７、前面透明電極７８、カラーフィルタ７９、偏光板８２、位相差板（１）８０及び基材８１を含み、バックライト７２が、液晶表示装置の背面側に来るよう配置され、さらに、バックライト７２側（背面側）から、偏光板７３、公知の位相差板７４、基材７５、背面電極７６、液晶層７７、前面透明電極７８、カラーフィルタ７９（ただし、カラーフィルタは、必ずしも必要ない）、偏光板８２、位相差板（１）８０、基材８１の順に配置されている。

図６は、本発明に係る立体表示システムを構成する表示装置の一つである、液晶表示装置７１Ｂを示す概略図である。液晶表示装置７１Ｂは、バックライト７２、偏光板７３、公知の位相差板７４、基材７５、背面電極７６、液晶層７７、前面透明電極７８、偏光板８２、位相差板（１）８０、カラーフィルタ７９及び基材８１を含み、バックライト７２が液晶表示装置の背面側に来るよう配置され、バックライト７２側（背面側）から、偏光板７３、公知の位相差板７４、基材７５、背面電極７６、液晶層７７、前面透明電極７８、偏光板８２、位相差板（１）８０、カラーフィルタ７９（ただし、カラーフィルタは、必ずしも必要ない）、基材８１の順に配置されている。

図７は、本発明に係る立体表示システムを構成する表示装置の一つである、液晶表示装置７１Ｃを示す概略図である。液晶表示装置７１Ｃは、バックライト７２、偏光板７３、公知の位相差板７４、基材７５、背面電極７６、液晶層７７、前面透明電極７８、偏光板８２、カラーフィルタ７９、位相差板（１）８０、基材８１を含み、バックライト７２が液晶表示装置の背面側に来るよう配置され、さらに、バックライト７２側（背面側）から、偏光板７３、公知の位相差板７４、基材７５、背面電極７６、液晶層７７、前面透明電極７８、偏光板８２、カラーフィルタ７９（ただし、カラーフィルタは、必ずしも必要ない）、位相差板（１）８０、基材８１の順に配置されている。
液晶表示装置７１Ａ、７１Ｂ及び７１Ｃは、いずれも基材８１を含むが、基材８１を含まない液晶表示装置であってもよい。

図８は、本発明に係る立体表示システム用眼鏡の一つである、立体表示システム用眼鏡９１を示す概略図である。立体表示システム用眼鏡９１は、観察者が眼鏡を掛けた際の最前面側（すなわち表示装置側）に位相差板（１）９２を配し、その背面に偏光板９３、液晶セル９４、偏光板９５を含む構成である。

図９は、本発明に係る立体表示システム用眼鏡の一つである、立体表示システム用眼鏡９６を示す概略図である。立体表示システム用眼鏡９６は、観察者が眼鏡を掛けた際の最前面側（すなわち表示装置側）に位相差板（１）９２を配し、その背面に液晶セル９４、偏光板９５を含む構成である。

本発明の立体表示システムとしては、例えば、図１〜図７に示す表示装置のいずれか一つと、図８または図９に示す立体表示システム用眼鏡とを組み合わせたシステムが挙げられる。また、図１〜図７に示す表示装置のいずれか一つであって、該表示装置における位相差板（１）が、位相差板（１）以外の位相差板、つまり、式（１）を充足しない位相差板である表示装置と、図８または図９に示す立体表示システム用眼鏡とを組み合わせたシステムも挙げられる。さらに、図１〜図７に示す表示装置のいずれか一つと、図８または図９に示す立体表示システム用眼鏡であって、該眼鏡における位相差板（１）が、位相差板（１）以外の位相差板、つまり、式（１）を充足しない位相差板である眼鏡とを組み合わせたシステムも挙げられる。

位相差板（１）は、式（１）を充足する位相差板であればよい。かかる位相差板（１）は、重合性液晶化合物を重合することにより得られる位相差板（以下「位相差板（ａ）」という場合がある）及びフィルムを延伸することにより得られる位相差板（以下「位相差板（ｂ）」という場合がある）からなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。

位相差板（ａ）としては、式（Ａ）で表される化合物（以下「化合物（Ａ）」という場合がある）を重合して得られる位相差板が好ましい。
Ｌ^１−Ｇ^１−Ｄ^１−Ａｒ−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｌ^２ （Ａ）
［式（Ａ）中、Ａｒは、芳香環を有する２価の基を表し、該芳香環に含まれるπ電子の数は、１２以上２２以下である。
Ｄ^１及びＤ^２は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−、−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＮＲ^１−ＣＲ^２Ｒ^３−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＮＲ^３−、−ＣＯ−ＮＲ^１−、又は−ＮＲ^１−ＣＯ−を表す。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基（−ＣＨ_２−）は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれるメチン基は、

で置き換っていてもよい。
Ｌ^１及びＬ^２は、それぞれ独立に、１価の基有機基を表し、Ｌ^１及びＬ^２からなる群から選ばれる少なくとも１種は、重合性基を有する１価の基を表す。］

位相差板（ａ）は、化合物（Ａ）を含む組成物を基板に塗布し、該組成物中の化合物（Ａ）を含む重合性成分を重合することにより得られる。該組成物には、化合物（Ａ）は単独で用いてもよいし、異なる複数の種類の化合物（Ａ）を組み合わせて用いてもよい。

Ａｒは、芳香環を有する２価の基であり、本明細書において、「芳香環」は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環を含む。Ａｒは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する２価の基であることが好ましい。該２価の基に含まれる芳香環のπ電子の合計数Ｎ_πは、１２以上２２以下であり、好ましくは１３以上２２以下である。

芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナンスロリン環等が挙げられ、芳香族複素環としては、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環及びベンゾチアゾール環等が挙げられる。中でも、ベンゼン環、チアゾール環又はベンゾチアゾール環が好ましい。

Ａｒとしては、例えば式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−１３）で表される２価の基が挙げられる。

［式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−１３）中、Ｚ^１は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基又は炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
Ｑ^１及びＱ^３は、それぞれ独立に、−ＣＲ^９Ｒ^１０−、−Ｓ−、−ＮＲ^９−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。
Ｒ^９及びＲ^１０は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３は、それぞれ独立で置換基を有していてもよい１価の芳香族炭化水素基又は１価の芳香族複素環基を表す。
Ｗ^ａ及びＷ^ｂは、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表す。
ｍは、０〜６の整数を表す。
ｎは、０〜２の整数を表す。］

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子が好ましい。

炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。

炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基としては、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、ｓｅｃ−ブチルスルフィニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルフィニル基、ペンチルスルフィニル基、ヘキシルスルフィニル基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のアルキルスルフィニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルフィニル基がより好ましく、メチルスルフィニル基が特に好ましい。

炭素数１〜６のアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のアルキルスルホニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルホニル基がより好ましく、メチルスルホニル基が特に好ましい。

炭素数１〜６のフルオロアルキル基としては、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１〜２のフルオロアルキル基がより好ましく、トリフルオロメチル基が特に好ましい。

炭素数１〜６のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜２のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基が特に好ましい。

炭素数１〜６のアルキルスルファニル基としては、メチルスルファニル基、エチルスルファニル基、プロピルスルファニル基、イソプロピルスルファニル基、ブチルスルファニル基、イソブチルスルファニル基、ｓｅｃ−ブチルスルファニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルファニル基、ペンチルスルファニル基、ヘキシルスルファニル基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のアルキルスルファニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルファニル基がより好ましく、メチルスルファニル基が特に好ましい。

炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基としては、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ−イソブチルアミノ基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ−ペンチルアミノ基、Ｎ−ヘキシルアミノ基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のＮ−アルキルアミノ基が好ましく、炭素数１〜２のＮ−アルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ−メチルアミノ基が特に好ましい。

炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノ基等が挙げられる。中でも炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基が特に好ましい。

炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基としては、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−プロピルスルファモイル基、Ｎ−イソプロピルスルファモイル基、Ｎ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−イソブチルスルファモイル基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ペンチルスルファモイル基、Ｎ−ヘキシルスルファモイル基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のＮ−アルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数１〜２のＮ−アルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ−メチルスルファモイル基が特に好ましい。

炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルスルファモイル基等が挙げられる。中でも炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基が特に好ましい。

式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−１３）中のＺ^１は、特にハロゲン原子、メチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、メチルスルホニル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルスルファニル基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチルスルファモイル基又はＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基であることが好ましい。

Ｒ^９及びＲ^１０における炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。中でも炭素数１〜２のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。

式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−１３）中のＱ^１は、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−又は−Ｎ（ＣＨ_３）−であることが好ましく、Ｑ^３は、−Ｓ−又は−ＣＯ−であることが好ましい。

Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３を表す１価の芳香族炭化水素基及び１価の芳香族複素環基としては、単環系芳香族炭化水素基、単環系芳香族複素環基、多環系芳香族炭化水素基及び多環系芳香族複素環基が挙げられる。
１価の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられる。中でもフェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。１価の芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも一つ含む炭素数４〜２０の芳香族複素環基が挙げられる。中でもフリル基、チエニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基が好ましい。

かかる１価の芳香族炭化水素基及び１価の芳香族複素環基は、置換基を有していてもよく、該置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基等が挙げられる。

ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基及び炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、前述したＺ^１におけるものと同様のものが挙げられる。

前記置換基としては、中でもハロゲン原子、炭素数１〜２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜２のアルキルスルホニル基、炭素数１〜２のフルオロアルキル基、炭素数１〜２のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキルスルファニル基、炭素数１〜２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜２のアルキルスルファモイル基が好ましい。

１価の単環系芳香族炭化水素基又１価のは単環系芳香族複素環基としては、例えば式（Ｙ−１）〜式（Ｙ−６）で表される基が挙げられる。

［式（Ｙ−１）〜式（Ｙ−６）中、＊は結合手を表し、Ｚ^２は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基又は炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
ａ^１は、０〜５の整数、ａ^２は、０〜４の整数、ｂ^１は、０〜３の整数、ｂ^２は、０〜２の整数、Ｒは、水素原子又はメチル基を表す。］

Ｚ^２におけるハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基又は炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、前述したＺ^１におけるものと同様のものが挙げられる。

Ｚ^２としては、特にハロゲン原子、メチル基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシ基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルスルファニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基又はＮ−メチルアミノ基が好ましい。

Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３は、それぞれ独立に、式（Ｙ−１）又は式（Ｙ−３）で表される基であることが、製造工程やコストの点で特に好ましい。

１価の多環系芳香族炭化水素基又は１価の多環系芳香族複素環基としては、例えば式（Ｙ^１−１）〜式（Ｙ^１−７）で表される基が挙げられる。

［式（Ｙ^１−１）〜式（Ｙ^１−７）中、＊は結合手を表し、Ｚ^３は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
Ｖ^１及びＶ^２は、それぞれ独立に、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＮＲ^１１−、−Ｏ−、−Ｓｅ−又は−ＳＯ_２−を表す。
Ｗ^１〜Ｗ^５は、それぞれ独立に、 −ＣＨ＝又は−Ｎ＝を表す。
ただし、Ｖ^１、Ｖ^２及びＷ^１〜Ｗ^５のうち少なくとも１つは、Ｓ、Ｎ、Ｏ又はＳｅを含む基を表す。
Ｒ^１１は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
ａは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
ｂは、それぞれ独立に、０〜２の整数を表す。］

さらに、式（Ｙ^１−１）〜式（Ｙ^１−７）で表されるいずれかの基は、式（Ｙ^３−１）〜式（Ｙ^３−６）で表される基であることが好ましい。

［式（Ｙ^３−１）〜式（Ｙ^３−６）中、＊、Ｚ^３、ａ、ｂ、Ｖ^１、Ｖ^２及びＷ^１は、前記と同じ意味を表す。］

Ｚ^３としては、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基等が挙げられる。
ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基及び炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、前述したＺ^１におけるものと同様のものが挙げられる。

Ｚ^３としては、中でもハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、ニトロソ基、カルボキシ基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルスルファニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基又はＮ−メチルアミノ基が好ましく、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基がより好ましく、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が特に好ましい。

さらに、Ｖ^１及びＶ^２は、それぞれ独立に、−Ｓ−、−ＮＲ^１１−又は−Ｏ−であることが好ましく、Ｗ^１〜Ｗ^５は、それぞれ独立に、−ＣＨ＝又は−Ｎ＝である。
また、Ｖ^１、Ｖ^２及びＷ^１〜Ｗ^５のうち少なくとも１つは、Ｓ、Ｎ又はＯを含む基を表すことが好ましい。
ａは０又は１であることが好ましく、ｂは０であることが好ましい。

Ａｒとしては、具体的に下記の基が例示される。
例えば、式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−４）で表される基の具体例としては、式（ａｒ−１）〜式（ａｒ−２９）で表される基等が挙げられる。

式（Ａｒ−５）で表される基の具体例としては、式（ａｒ−３０）〜式（ａｒ−３９）で表される基等が挙げられる。

式（Ａｒ−６）又は式（Ａｒ−７）で表される基の具体例としては、式（ａｒ−４０）〜式（ａｒ−１１９）で表される基等が挙げられる。

式（Ａｒ−８）又は式（Ａｒ−９）で表される基の具体例としては、式（ａｒ−１２０）〜式（ａｒ−１２９）で表される基等が挙げられる。

式（Ａｒ−１０）で表される基の具体例としては、式（ａｒ−１３０）〜式（ａｒ−１４９）で表される基等が挙げられる。

式（Ａｒ−１１）で示される基の具体例としては、式（ａｒ−１５０）〜式（ａｒ−１５９）で示される基等が挙げられる。

式（Ａｒ−１２）で表される基の具体例としては、式（ａｒ−１６０）〜式（ａｒ−１７９）で表される基等が挙げられる。

式（Ａｒ−１３）で示される基の具体例としては、式（ａｒ−１８０）〜式（ａｒ−１８９）で示される基等が挙げられる。

化合物（Ａ）におけるＡｒとしては、化合物を合成しやすいため、また位相差の波長分散性をしやすいため、特に式（Ａｒ−６）で表される２価の基であることが好ましい。

式（Ａ）中のＤ^１及びＤ^２は、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、＊−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、＊−ＮＲ^１−ＣＲ^２Ｒ^３−又は＊−ＮＲ^１−ＣＯ−（＊はＡｒとの結合手を表わす。）であることが好ましい。Ｄ^１及びＤ^２が、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−又は＊−ＮＲ^１−ＣＯ−（＊はＡｒとの結合手を表す。）であることがより好ましい。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基であることがより好ましい。

式（Ａ）中のＧ^１及びＧ^２としては、式（ｇ−１）〜式（ｇ−１０）で示されるヘテロ原子を含んでもよい２価の脂環式炭化水素基が挙げられ、５員環又は６員環の２価の脂環式炭化水素基であることが好ましい。

上記式（ｇ−１）〜（ｇ−１０）で示される基に含まれる水素原子は、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜４のフルオロアルキル基；トリフルオロメトキシ基等の炭素数１〜４のフルオロアルコキシ基；シアノ基；ニトロ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子で置換されていてもよい。

Ｇ^１及びＧ^２としては、式（ｇ−１）で表される６員環からなる１価の脂環式炭化水素基であることが好ましい。中でも、Ｇ^１及びＧ^２がともにシクロヘキサン−１，４−ジイル基であることがより好ましく、ｔｒａｎｓ−シクロヘキサン−１，４−ジイル基であることが特に好ましい。

式（Ａ）中のＬ^１及びＬ^２は１価の有機基であり、Ｌ^１及びＬ^２からなる群から選ばれる少なくとも１種は、重合性基を有する１価の基である。
有機基Ｌ^１は式（Ｂ）で表される基であり、Ｌ^２は式（Ｃ）で表される基であることが好ましい。
Ｐ^１−Ｆ^１−（Ｂ^１−Ａ^１）_ｋ−Ｅ^１− （Ｂ）
Ｐ^２−Ｆ^２−（Ｂ^２−Ａ^２）_ｌ−Ｅ^２− （Ｃ）
［式（Ｂ）及び（Ｃ）中、Ｂ^１、Ｂ^２、Ｅ^１及びＥ^２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^５Ｒ^６−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^５−、−ＮＲ^５−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｓ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｓ−又は単結合を表す。ｋが２以上の整数である場合、複数のＢ^１は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｌが２以上の整数である場合、複数のＢ^２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれるメチン基は、

で置き換っていてもよい。ｋが２以上の整数である場合、複数のＡ^１は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｌが２以上の整数である場合、複数のＡ^２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
Ｆ^１及びＦ^２は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｐ^１は、重合性基を表す。
Ｐ^２は、水素原子又は重合性基を表す。］

Ａ^１及びＡ^２における炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基としては、前記式（ｇ−１）〜式（ｇ−１０）で表される５員環又は６員環等からなる脂環式炭化水素基や、下記式（ａ−１）〜式（ａ−８）で表される２価の芳香族炭化水素基が挙げられる。

なお、Ａ^１及びＡ^２として、前記例示された基に含まれる水素原子は、メチル基、エチル基、イソプロピル基又はｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ基又はエトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基；トリフルオロメチル基；トリフルオロメトキシ基；シアノ基；ニトロ基；フッ素原子、塩素原子又は臭素原子等のハロゲン原子で置換されていてもよい。

Ａ^１及びＡ^２としては、それぞれ独立に、単環の１，４−フェニレン基又はシクロヘキサン−１，４−ジイルであることが好ましく、特に、化合物（Ａ）の製造が容易なことから、１，４−フェニレン基であることが好ましい。さらに、Ａ^１及びＡ^２としては、化合物（Ａ）の製造が容易となる傾向にあることから、同種類の基であることが好ましい。

Ｂ^１及びＢ^２は、化合物（Ａ）の製造が容易となる傾向にあることから同種類の基であることが好ましい。また、化合物（Ａ）の製造がより容易となることから、Ａ^１のみと結合しているＢ^１、及びＡ^２のみと結合しているＢ^２が、それぞれ独立に、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−又は単結合であることが好ましい。特に、高い液晶性を示すことから、−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＯ−であることが好ましい。さらに、Ｆ^１と結合しているＢ^１、及びＦ^２と結合しているＢ^２が、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は単結合であることがより好ましい。

ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表すことが好ましく、ｋ及びｌは０〜２であることがより好ましい。ｋ及びｌの合計は、５以下が好ましく、４以下がより好ましい。ｋ及びｌが上記の範囲であると、液晶性を示しやすいことから、好ましい。

Ｆ^１及びＦ^２は、炭素数１〜１２のアルキレン基であることが好ましい。特に、無置換のアルキレン基が好ましい。該アルキレン基に含まれる水素原子は、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基又はハロゲン原子に置換されていてもよい。また、該アルキレン基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置換されていてもよい。

Ｐ^１は重合性基であり、Ｐ^２は、水素原子又は重合性基である。得られる位相差板の硬度が優れる傾向にあることから、Ｐ^１及びＰ^２がともに重合性基であるとことが好ましい。

ここで重合性基とは、化合物（Ａ）を重合させることのできる置換基を意味し、具体的には、ビニル基、ビニルオキシ基、スチリル基、ｐ−（２−フェニルエテニル）フェニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、カルボキシ基、アセチル基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、炭素数１〜４のアルキルアミノ基、アミノ基、オキシラニル基、オキセタニル基、ホルミル基、イソシアナト基又はイソチオシアナト基等が例示される。
重合性基としては、光重合させるのに適したラジカル重合性基、カチオン重合性基が好ましく、特に取り扱いが容易な上に製造も容易となる傾向にあることから、アクリロイル基、メタクロイル基、アクリロイルオキシ基及びメタクリロイルオキシ基が好ましい。中でも重合性基が、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基であることが好ましく、特にアクリロイルオキシ基であることが好ましい。

Ｌ^１が式（Ｂ）で表される基である場合の＊−Ｄ^１−Ｇ^１−Ｌ^１（＊は、Ａｒとの結合手を示す。）の具体例としては、下記式（Ｒ−１）〜式（Ｒ−１２０）及び式（Ｒ−１２９）〜式（Ｒ−１３１）で表される基等が挙げられる。Ｌ^２が式（Ｃ）で表される基である場合の＊−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｌ^２（＊は、Ａｒとの結合手を示す。）の具体的例としては、下記式（Ｒ−１）〜式（Ｒ−１３４）で表される基等が挙げられる。
なお、式（Ｒ−１）〜式（Ｒ−１３４）におけるｎは２〜１２の整数を表す。

化合物（Ａ）は、式（５）及び式（６）を満たす化合物であることが好ましい。
（Ｎ_π−４）／３＜ｋ＋ｌ＋４ （５）
１２≦Ｎ_π≦２２ （６）
［式（５）及び式（６）中、Ｎ_πは、Ａｒが有する芳香環に含まれるπ電子の数を表す。ｋ及びｌは、式（Ｂ）及び（Ｃ）におけるものと同じ意味を表す。］

化合物（Ａ）としては、例えば、下記化合物（ｉ）〜化合物（ｘｘｘｉｖ）が挙げられる。なお、表１中のＲ１は、−Ｄ^１−Ｇ^１−Ｌ^１を、Ｒ２は、−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｌ^２を表す。

上記表１中、化合物（ｘｖｉｉ）は、Ａｒが式（ａｒ−７８）で示される基である化合物又はＡｒが式（ａｒ−７９）で示される基である化合物あるいはＡｒが式（ａｒ−７８）で示される基である化合物と式（ａｒ−７９）で示される基である化合物との混合物のいずれかであることを意味する。

上記表１中、化合物（ｘｘｘ）は、Ａｒが式（ａｒ−１２０）で示される基である化合物又はＡｒが式（ａｒ−１２１）で示される基である化合物あるいはＡｒが式（ａｒ−１２０）で示される基である化合物と式（ａｒ−１２１）で示される基である化合物との混合物のいずれかであることを意味する。同じく、化合物（ｘｘｘｉ）は、Ａｒが式（ａｒ−１２２）で示される基である化合物又はＡｒが式（ａｒ−１２３）で示される基である化合物あるいはＡｒが式（ａｒ−１２２）で示される基である化合物と式（ａｒ−１２３）で示される基である化合物との混合物のいずれかであることを意味する。

表１の化合物の具体例としては、例えば以下のような化合物が挙げられる。下記に化合物（ｉ）、化合物（ｉｉ）、化合物（ｉｖ）、化合物（ｖ）、化合物（ｖｉ）、化合物（ｉｘ）、化合物（ｘ）、化合物（ｘｉ）、化合物（ｘｖｉ）、化合物（ｘｖｉｉｉ）、化合物（ｘｉｘ）、化合物（ｘｘ）、化合物（ｘｘｉ）、化合物（ｘｘｉｉｉ）、化合物（ｘｘｉｖ）、化合物（ｘｘｖ）、化合物（ｘｘｖｉ）、化合物（ｘｘｖｉｉ）、化合物（ｘｘｖｉｉｉ）及び化合物（ｘｘｉｘ）の代表的な構造式を例示する。

さらに、化合物（Ａ）として、例えば以下のものが例示される。

さらに、化合物（Ａ）としては、式（Ａ１−１）〜式（Ａ６８−８）で表される化合物も挙げられる。該式中、＊は結合手を表し、例えば式（Ａ１−１）で表される化合物は、下記のように表される化合物である。

化合物（Ａ）は、Methoden der Organischen Chemie、Organic Reactions、Organic Syntheses、Comprehensive Organic Synthesis、新実験化学講座等に記載されている公知の
有機合成反応（例えば、縮合反応、エステル化反応、ウイリアムソン反応、ウルマン反応、ウイッティヒ反応、シッフ塩基生成反応、ベンジル化反応、薗頭反応、鈴木−宮浦反応、根岸反応、熊田反応、檜山反応、ブッフバルト−ハートウィッグ反応、フリーデルクラフト反応、ヘック反応、アルドール反応等）を、その構造に応じて、適宜組み合わせることにより、製造することができる。

例えば、化合物（Ａ）のＤ^１及びＤ^２が＊−Ｏ−ＣＯ−である場合には、式（１−１）

［式中、Ａｒは上記と同一の意味を表わす。］
で示される化合物と式（１−２）

［式中、Ｇ^１、Ｅ^１、Ａ^１、Ｂ^１、Ｆ^１、Ｐ^１及びｋは上記と同一の意味を表わす。］
で示される化合物とを反応させることにより、式（１−３）

［式中、Ａｒ、Ｇ^１、Ｅ^１、Ａ^１、Ｂ^１、Ｆ^１、Ｐ^１及びｋは上記と同一の意味を表わす。］
で示される化合物を得て、得られた式（１−３）で示される化合物と式（１−４）

［式中、Ｇ^２、Ｅ^２、Ａ^２、Ｂ^２、Ｆ^２、Ｐ^２及びｌは上記と同一の意味を表わす。］
で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。

式（１−１）で示される化合物と式（１−２）で示される化合物との反応及び式（１−３）で示される化合物と式（１−４）で示される化合物との反応は、エステル化剤の存在下に実施することが好ましい。

エステル化剤としては、１−シクロヘキシル−３−（２−モルホリノエチル）カルボジイミドメト−パラ−トルエンスルホネート、ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（一部水溶性カルボジイミド：ＷＳＣとして市販されている）、ビス（２、６−ジイソプロピルフェニル）カルボジイミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ビスイソプロピルカルボジイミド、等のカルボジイミド、２−メチル−６−ニトロ安息香酸無水物、２，２’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール、１，１’−オキサリルジイミダゾール、ジフェニルホスフォリルアジド、１（４−ニトロベンゼンスルフォニル）−１Ｈ−１、２、４−トリアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｏ−（Ｎ−スクシンイミジル）ウロニウムテトラフルオロボレート、Ｎ−（１，２，２，２−テトラクロロエトキシカルボニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−カルボベンゾキシスクシンイミド、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート、２−ブロモ−１−エチルピリジニウムテトラフルオロボレート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムクロリド、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムヘキサフルオロホスフェート、２−クロロ−１−メチルピリジニウムアイオダイド、２−クロロ−１−メチルピリジニウム パラートルエンスルホネート、２−フルオロ−１−メチルピリジニウム パラートルエンスルホネート、トリクロロ酢酸ペンタクロロフェニルエステ等が挙げられる。中でも、反応性、コスト、使用できる溶媒の点から、エステル化剤としてはジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、ビス（２、６−ジイソプロピルフェニル）カルボジイミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ビスイソプロピルカルボジイミド、２，２’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾールが好ましい。

化合物（Ａ）を含む組成物は、化合物（Ａ）とは異なる液晶化合物を含んでいてもよい。
前記液晶化合物の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の３章 分子構造と液晶性の、３．２ ノンキラル棒状液晶分子、３．３ キラル棒状液晶分子、３．８．６ ネットワーク（完全架橋型）、６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料に記載された化合物等が挙げられる。
なかでも、重合性基を有していてかつ液晶性を示す化合物が好ましい。
前記液晶化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いてもよい。

液晶化合物としては、例えば、式（６）で表される化合物（以下「化合物（６）」という場合がある）等が挙げられる。

Ｐ^１１−Ｅ^１１−（Ｂ^１１−Ａ^１１）_ｔ−Ｂ^１２−Ｇ （６）
［式（６）中、Ａ^１１は、炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基又は炭素数３〜１８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該芳香族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、フルオロ基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、フルオロ基を有していてもよい炭素数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基又はで置換されていてもよい。
Ｂ^１１及びＢ^１２は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１６−、−ＮＲ^１６−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＨ_２−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）又は単結合を表す。Ｒ^１６は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のフルオロアルキル基、炭素数１〜１３のＮ−アルキルアミノ基、シアノ基、ニトロ基又は−Ｅ^１２−Ｐ^１２を表す。
Ｅ^１１及びＥ^１２は、炭素数１〜１８のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。
Ｐ^１１及びＰ^１２は、重合性基を表す。
ｔは、１〜５の整数を表す。ｔが２以上の整数である場合、複数のＢ^１１及びＡ^１１は、互いに同一であっても異なっていてもよい。］

Ｐ^１１及びＰ^１２としては、化合物（Ａ）のＰ^１及びＰ^２と同様の基が挙げられる。より低温での硬化が可能であることから光重合性基が好ましく、ラジカル重合性基又はカチオン重合性基が好ましく、特に取り扱いが容易な上、化合物（６）の製造も容易であることから、式（Ｐ−１）〜（Ｐ−５）で表される基が好ましい。

［式（Ｐ−１）〜（Ｐ−５）中、Ｒ^１７〜Ｒ^２１はそれぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基又は水素原子を表す。＊は、Ｂ^１１との結合手を表す。］

中でも、Ｐ^１１及びＰ^１２としては、ビニル基、プロペニル基、オキシラニル基、メチルオキシラニル基、オキセタニル基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基が好ましく、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基がより好ましい。

Ａ^１１の芳香族炭化水素基及び脂環式炭化水素基の炭素数は、例えば３〜１８であり、５〜１２であることが好ましく、５又は６であることが特に好ましい。Ａ^１１としては、シクロヘキサン−１，４−ジイル基又は１，４−フェニレン基が好ましい。

Ｅ^１１及びＥ^１２としては、炭素数１〜１８のアルカンジイル基であり、直鎖状であるか分岐が１箇所である炭素数１〜１２のアルカンジイル基が好ましい。

具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基、ペンタンジイル基、ヘキサンジイル基、ヘプタンジイル基、オクタンジイル基、ノナンジイル基、デカンジイル基、ウンデカンジイル基、ドデカンジイル基、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−及び−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−等が挙げられる。

化合物（６）のうち、例えば、ｔが４であり、かつＧが−Ｅ^１２−Ｐ^１２である化合物の具体例として式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−４）で表される化合物が挙げられ、
ｔが４であり、かつＧが−Ｅ^１２−Ｐ^１２以外の基である化合物の具体例として式（ＩＩ−１）〜式（ＩＩ−４）で表される化合物が挙げられ、
ｔが３であり、かつＧが−Ｅ^１２−Ｐ^１２である化合物の具体例として式（ＩＩＩ−１）〜式（ＩＩＩ−２６）で表される化合物が挙げられ、
ｔが３であり、かつＧが−Ｅ^１２−Ｐ^１２以外の基である化合物の具体例として式（ＩＶ−１）〜式（ＩＶ−１９）表される化合物が挙げられ、
ｔが２であり、かつＧが−Ｅ^１２−Ｐ^１２である化合物の具体例として式（Ｖ−１）及び式（Ｖ−２）で表される化合物が挙げられ、
ｔが２であり、かつＧが−Ｅ^１２−Ｐ^１２以外の基である化合物の具体例として式（ＶＩ−１）〜式（ＶＩ−６）で表される化合物等が挙げられる。ただし、式中ｋ１及びｋ２は、２〜１２の整数を表す。これらの液晶化合物であれば、合成が容易であり、市販されている等、入手が容易であることから好ましい。

液晶化合物の含有量は、例えば液晶化合物と化合物（Ａ）との合計量１００質量部に対して、０〜９０質量部であり、好ましくは０〜７０質量部である、さらに好ましくは０〜４０質量部である。

本発明の立体表示システムを構成する表示装置及び／又は眼鏡が有する位相差板（１）の波長分散特性は、位相差板（１）における化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量及び液晶化合物に由来する構造単位の含有量によって、決定することができる。位相差板（１）における化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量を増加させると、より高い逆波長分散特性を示す。

具体的には、化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量が異なる組成物を２〜５種類程度調製し、それぞれの組成物について後述するように、同じ膜厚の位相差板を製造して得られる位相差板の位相差値を求め、その結果から、化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量と位相差板の位相差値との相関を求め、得られた相関関係から、上記膜厚における位相差板に所望の位相差値を与えるために必要な化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量を決定すればよい。

〔重合開始剤〕
化合物（Ａ）を含む組成物（以下「組成物（Ａ）」という場合がある）は、さらに重合開始剤を含有する組成物であることが好ましい。重合開始剤は、光重合開始剤であることが好ましく、光照射によりラジカルを発生する光重合開始剤がより好ましい。重合開始剤を含有することで、位相差板の耐久性が向上する傾向があり、好ましい。

光重合開始剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等のベンゾイン類；ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；ベンジルケタール等のベンジルケタール類；ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１，２−ジフェニル−２，２−ジメトキシ−１−エタノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オン等のα−ヒドロキシケトン類；２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オン等のα−アミノケトン類、ヨードニウム塩又はスルホニウム塩等が挙げられる。イルガキュア（Irgacure）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９（以上、全てチバ・ジャパン（株）製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、全て精工化学（株）製）、カヤキュアー（kayacure）ＢＰ１００（日本化薬（株）製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２又はアデカオプトマーＳＰ−１７０（以上、全て（株）ＡＤＥＫＡ製）等市販されている光重合開始剤を使用することもできる。

また重合開始剤の含有量は、例えば化合物（Ａ）１００質量部に対して、０．１質量部〜３０質量部であり、好ましくは、０．５質量部〜１０質量部である。

組成物（Ａ）は、さらに重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤及び有機溶剤等を含有していてもよい。

〔重合禁止剤〕
重合禁止剤としては、例えばハイドロキノン又はアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類、ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類、ピロガロール類、２，２、６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補足剤、チオフェノール類、β−ナフチルアミン類或いはβ−ナフトール類等を挙げることができる。

重合禁止剤を用いることにより、化合物（Ａ）等の重合を制御することができ、得られる位相差板の安定性を向上させることができる。また重合禁止剤の使用量は、例えば化合物（Ａ）１００質量部に対して、０．１質量部〜３０質量部であり、好ましくは０．５質量部〜１０質量部である。

〔光増感剤〕
光増感剤としては、例えばキサントン及びチオキサントン等のキサントン類、アントラセン及びアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類、フェノチアジン或いはルブレンを挙げることができる。

光増感剤を用いることにより、化合物（Ａ）等の重合を高感度化することができる。また光増感剤の使用量としては、化合物（Ａ）１００質量部に対して、例えば０．１質量部〜３０質量部であり、好ましくは０．５質量部〜１０質量部である。

〔レベリング剤〕
レベリング剤としては、有機変性シリコーンオイル系、ポリアクリレート系、パーフルオロアルキル系等が挙げられる。具体的には、例えば、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ジャパン合同会社製）、フロリナート（商品名）ＦＣ−７２、同ＦＣ−４０、同ＦＣ−４３、同ＦＣ−３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（商品名）Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−９０、同Ｆ−４１０、同Ｆ−４１１、同Ｆ−４４３、同Ｆ−４４５、同Ｆ−４７０、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（商品名）Ｓ−３８１、同Ｓ−３８２、同Ｓ−３８３、同Ｓ−３９３、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０５、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、ＢＹＫ−３５２，ＢＹＫ−３５３，ＢＹＫ−３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）等が挙げられる。これらレベリング剤は２種類以上を併用して使用してもよい。

レベリング剤を用いることにより、位相差板を平滑化することができる。さらに位相差板の製造過程で、組成物（Ａ）の流動性を制御したり、化合物（Ａ）等を重合して得られる位相差板の架橋密度を調整したりすることができる。またレベリング剤の使用量の具体的な数値は、例えば化合物（Ａ）１００質量部に対して、０．１質量部〜３０質量部であり、好ましくは０．５質量部〜１０質量部である。

〔有機溶剤〕
有機溶剤としては、化合物（Ａ）等、組成物（Ａ）の構成成分を溶解し得る有機溶剤であり、重合反応に不活性な溶剤であればよく、具体的には、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル又はフェノール等のアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、ガンマーブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート又は乳酸エチル等のエステル系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン又はメチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤；ペンタン、ヘキサン又はヘプタン等の非塩素系脂肪族炭化水素溶剤；トルエン又はキシレン等の非塩素系芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル系溶剤；テトラヒドロフラン又はジメトキシエタン等のエーテル系溶剤；クロロホルム又はクロロベンゼン等の塩素系溶剤；等が挙げられる。これら有機溶剤は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。特に本発明の組成物は相溶性に優れ、アルコール、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、非塩素系脂肪族炭化水素溶剤及び非塩素系芳香族炭化水素溶剤等にも溶解し得ることから、クロロホルム等の塩素系溶剤を用いなくとも、溶解して塗工させることができる。

組成物（Ａ）における固形分の濃度は、５〜５０質量％である。固形分の濃度が５質量％以上であると、位相差板が薄くなりすぎず、液晶パネルの光学補償に必要な複屈折率が与えられる傾向がある。また５０質量％以下であると、組成物（Ａ）の粘度が低いことから、位相差板の膜厚にムラが生じにくくなる傾向があることから好ましい。ここで、固形分とは、組成物（Ａ）全量から溶剤を除いた量のことをいう。
組成物（Ａ）の粘度は、０．１〜１０ｍＰａ・ｓが好ましく、０．１〜７ｍＰａ・ｓであることがさらに好ましい。この範囲であると、均一に塗工することができる。

位相差板（ａ）の製造方法について、以下に説明する。
位相差板（ａ）は、組成物（Ａ）を、基板に塗布し、乾燥し、重合することにより、基板上に目的の位相差板を得ることができる。

［未重合フィルム調製工程］
基板の上に、組成物（Ａ）を塗布し、乾燥すると、未重合フィルムが得られる。該基板上には、配向膜が形成されていてもよい。未重合フィルムがネマチック相等の液晶相を示す場合、得られる位相差板は、モノドメイン配向による複屈折性を有する。

基板への塗布方法としては、例えば押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法又はダイコーティング法等が挙げられる。またディップコーター、バーコーター又はスピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等が挙げられる。

上記基板としては、例えばガラス、プラスチックシート、プラスチックフィルム又は透光性フィルムを挙げることができる。なお上記透光性フィルムとしては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリアクリル酸エステルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム又はポリフェニレンオキシドフィルム等が挙げられる。

例えば位相差板（ａ）の貼合工程、運搬工程、保管工程等、位相差板の強度が必要な工程でも、基板を用いることにより、破れ等なく容易に取り扱うことができる。

また、配向膜を形成した基板上に組成物（Ａ）を塗布することが好ましい。配向膜は、組成物（Ａ）の塗布時に、混合液に溶解しない溶剤耐性を持つこと、溶剤の除去や液晶の配向の加熱処理時に、耐熱性をもつこと、ラビング時に、摩擦等による剥がれ等が起きないことが好ましく、ポリマー又はポリマーを含有する組成物からなることが好ましい。

上記ポリマーとしては、例えば分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸又はポリアクリル酸エステル類等のポリマーを挙げることができる。これらのポリマーは、単独で用いてもよいし、２種類以上混ぜたり、共重合体したりしてもよい。これらのポリマーは、脱水や脱アミン等による重縮合や、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等の連鎖重合、配位重合や開環重合等で容易に得ることができる。

またこれらのポリマーは、溶剤に溶解して、塗布することができる。溶剤は、特に制限はないが、具体的には、水；メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ又はプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、ガンマーブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート又は乳酸エチル等のエステル系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン又はメチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤；ペンタン、ヘキサン又はヘプタン等の非塩素系脂肪族炭化水素溶剤；トルエン又はキシレン等の非塩素系芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル系溶媒；テトラヒドロフラン又はジメトキシエタン等のエーテル系溶媒；クロロホルム又はクロロベンゼン等の塩素系溶媒；等が挙げられる。これら有機溶剤は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。

また配向膜を形成するために、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）又はオプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）等が挙げられる。

このような配向膜を用いれば、複屈折の面内ばらつきが小さくなるため、フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）の大型化にも対応可能な大きな位相差板を提供できるという効果を奏する。

上記基板上に配向膜を形成する方法としては、例えば上記基板上に、市販の配向膜材料や配向膜の材料となる化合物を溶液にして塗布し、その後、アニールすることにより、上記基板上に配向膜を形成することができる。

このようにして得られる配向膜の厚さは、例えば１０ｎｍ〜１００００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ〜１０００ｎｍである。上記範囲とすれば、化合物（Ａ）等を該配向膜上で所望の角度に配向させることができる。

またこれら配向膜は、必要に応じてラビングもしくは偏光ＵＶ照射を行うことができる。これらにより化合物（Ａ）等を所望の方向に配向させることができる。

配向膜をラビングする方法としては、例えばラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールを、ステージに載せられ、搬送されている配向膜に接触させる方法を用いることができる。

上記の通り、未重合フィルム調製工程では、任意の基板の上に積層した配向膜上に未重合フィルム（液晶層）を積層する。それゆえ、液晶セルを作製し、該液晶セルに液晶化合物を注入する方法に比べて、生産コストを低減することができる。さらにロールフィルムでのフィルムの生産が可能である。

溶剤の乾燥は、重合を進行させるとともに行ってもよいが、重合前にほとんどの溶剤を乾燥させることが、成膜性の点から好ましい。

溶剤の乾燥方法としては、例えば自然乾燥、通風乾燥、減圧乾燥等の方法が挙げられる。未重合フィルムを加熱乾燥する場合、具体的な加熱温度としては、０〜２５０℃が好ましく、５０〜２２０℃がより好ましく、８０〜１７０℃がさらに好ましい。また加熱時間としては、１０秒間〜６０分間であることが好ましく、３０秒間〜３０分間であることがより好ましい。加熱温度及び加熱時間が上記範囲内であれば、上記基板として、耐熱性が必ずしも十分ではない基板を用いることができる。

［未重合フィルム重合工程］
未重合フィルム重合工程では、上記未重合フィルム調製工程で得られた未重合フィルムを重合し、硬化させる。これにより化合物（Ａ）の配向性が固定化されたフィルム、すなわち重合フィルムとなる。従って、熱による複屈折への影響を受けにくくすることができる。

未重合フィルムを重合させる方法は、化合物（Ａ）等の種類に応じて、選択することができる。化合物（Ａ）に含まれるＰ^１及び／又はＰ^２等の重合性基が光重合性であれば光重合、該重合性基が熱重合性であれば熱重合により、上記未重合フィルムを重合することができる。位相差板（ａ）においては、光重合により未重合フィルムを重合させることが好ましい。光重合によれば低温で未重合フィルムを重合させることができるので、より耐熱性の低い基板も選択することができる。また工業的にも製造が容易となる。また成膜性の観点からも光重合が好ましい。光重合は、未重合フィルムに可視光、紫外光又はレーザー光を照射することにより行う。取り扱いやすいという点から、紫外光が特に好ましい。光照射は、組成物（Ａ）が液晶相をとる温度に加温しながら行ってもよい。この際、マスキング等によって重合フィルムをパターニングすることもできる。

位相差板（ａ）の製造方法において、上記工程に続いて、基板を剥離する工程を含んでいてもよい。このような構成とすることにより、得られる積層体は、配向膜と位相差板（ａ）とからなるフィルムとなる。また上記基板を剥離する工程に加えて、配向膜を剥離する工程をさらに含んでいてもよい。このような構成とすることにより、位相差板（ａ）を得ることができる。

位相差板（ａ）の位相差値（リタデーション値、Ｒｅ（λ））は、式（３０）のように決定されることから、所望のＲｅ（λ）を得るためには、膜厚ｄ及び複屈折率Δｎ（λ）を調整すればよい。
Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ） （３０）
（式中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける複屈折率を表す。）

膜厚ｄは、未重合フィルム調製工程において、組成物（Ａ）の固形分濃度や塗布量を適宜調整することにより、所望の位相差を与えるように調製することができる。位相差板（ａ）の厚み（膜厚ｄ）は、０．１〜１０μｍであることが好ましく、光弾性を小さくする点で０．５〜５μｍであることがより好ましい。ここで、位相差板（ａ）の厚みとは、組成物（Ａ）がなす層の厚みを意味する。
また複屈折率Δｎ（λ）は、未重合フィルム重合工程において、重合時の露光量、加熱温度、加熱時間適宜調整することにより、所望の位相差を与えるように調製することができる。

かくして得られた本発明の立体表示システムに含まれる位相差板（ａ）は、式（１）を満たす光学特性を有する。従って、広い波長域で一様の偏光変換を行うことができる。

位相差板（ｂ）は、フィルムを延伸することにより得られる。
フィルムは、樹脂（Ｂ１）を含む組成物（以下「組成物（Ｂ）」という場合がある）を成膜することで得ることができる。組成物（Ｂ）は、重合性モノマー（Ｂ２）及び重合性モノマー（Ｂ２）に由来する構造単位を有する樹脂（ただし樹脂（Ｂ１）とは異なる）からなる群から選ばれる少なくとも一つを含むことが好ましく、さらに光重合開始剤（Ｂ３）を含むことがより好ましい。

樹脂（Ｂ１）としては、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリウレタン及びポリウレタンウレア等が挙げられる。組成物（Ｂ）が樹脂（Ｂ１）を含むことにより、得られるフィルムに、ポリエステルに由来する構造単位、ポリカーボネートに由来する構造単位、ポリアミドに由来する構造単位、ポリウレタンに由来する構造単位又はポリウレタンウレアに由来する構造単位等を導入することができる。
中でも、フィルムは、ポリカーボネートに由来する構造単位、ポリウレタンに由来する構造単位又はポリウレタンウレアに由来する構造単位を含むフィルムであることが好ましい。これらの構造単位を含むと、位相差発現性、耐久性、耐光性の面で優れるため、好ましい。

ポリウレタンとしては、例えば、２つ以上のヒドロキシ基を有する化合物（以下「ポリオール」という場合がある）と、２つ以上のイソシアナト基を有する化合物（以下「ポリイソシアネート」という場合がある）とを反応させて得られるものが挙げられる。さらに、ヒドロキシ基含有アクリル化合物を反応させてもよい。
ポリウレタンウレアとしては、例えば、ポリオールと、ポリイソシアネートと、２つ以上のアミノ基を有する化合物（以下「ポリアミン」という場合がある）とを反応させて得られるものが挙げられる。さらに、ヒドロキシ基含有アクリル化合物を反応させてもよい。

ポリオールとしては、好ましくはポリスチレン換算でＧＰＣによる数平均分子量１０００〜５０００のものである。例えば、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリエステルポリオール等が挙げられる。

ポリイソシアネートとしては、例えば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、一部をカルボジイミド化されたジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリ
レンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート等が挙げられる。

ポリアミンとしては、例えば、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、イソホロンジアミン、ジアミノシクロヘキサン、メチルジアミノシクロヘキサン、ビペラジン等が挙げられる。

ヒドロキシ基含有アクリル化合物としては、例えば、ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシブチルアクリレート、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリプロピレングリコールモノアクリレート等が挙げられる。

ポリウレタンウレアの製造方法としては、ポリオールとポリイソシアネートとポリアミンとヒドロキシ基含有アクリル化合物とを反応せしめればよく、各試剤の混合順序は特に限定されるものではない。例えば、ポリイソシアネートとポリアミンとを反応させて末端イソシアネートのポリウレアプレポリマーを得、次いで該ポリウレアプレポリマーとポリオール、ヒドロキシ基含有アクリル化合物を反応させる方法、ポリオールとポリイソシアネートとを反応させて末端イソシアネートのウレタンプレポリマーを得、次いで該ポリウレアプレポリマーとポリアミン、ヒドロキシ基含有アクリル化合物とを反応させる方法等が挙げられる。ポリオールとポリイソシアネートとポリアミンとヒドロキシ基含有アクリル化合物との反応は、無溶媒で行うこともできるし、有機溶媒中で行うこともできるし、水中で行うことができる。通常は、有機溶媒中で行われ、反応温度は、好ましくは２０〜１２０℃であり、より好ましくは３０〜１００℃である。反応時間は、３０分〜２４時間が好ましい。

ポリオール、ポリアミン、ヒドロキシ基含有アクリル化合物の活性水素原子含有基と、ポリイソシアネートとのイソシアナト基の当量比は特に制限されるものではないが、通常０．５：１〜１：０．５である。例えばポリウレタンウレア樹脂の製造方法としてポリオールとポリイソシアネートとを予め反応させて末端イソシアナト基のウレタンプレポリマーを得、次いでこれとポリアミン、ヒドロキシ基含有アクリル化合物とを反応させる方法を採用する場合には、通常ポリオールのヒドロキシ基とポリイソシアネートのイソシアナト基の当量比が１：１．１〜１：３となるように、各試剤の使用量を調整して、反応を行って、末端イソシアナト基のウレタンプレポリマーを得、次いで得られた該ウレタンプレポリマーのイソシアナト基とポリアミン、ヒドロキシ基含有アクリル化合物の活性水素原子の当量比が１：０．６〜１：１．２となるように、各試剤の使用量を調整して、反応を行う。ポリウレタンウレア樹脂の製造方法に際しては、必要に応じて第三級アミン系触媒又は／及び有機金属系触媒を使用して反応を促進することができる。前記有機溶媒としては、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブ、酢酸セロソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、トルエン、キシレン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、イソプロパノール等が挙げられる。

ポリウレタンウレアの重量平均分子量は、７万〜１１万が好ましい。上記範囲内であると、良好な生産性及び加工性を確保し、より薄膜で、所望とする複屈折率の耐熱性の高い位相差板（ｂ）を得ることが可能になる。

ポリウレタンウレアの分子量制御方法について説明する。ポリウレタンウレアの分子量は、ポリオール（Ａ）、ポリアミン（Ｃ）、水酸基含有アクリル化合物（Ｄ）の活性水素原子含有基の当量比と、ポリイソシアネート（Ｂ）とのイソシアネート基の当量比により適宜制御すればよい。具体的には、例えば、上記記載の０．５：１〜１：０．５を、１：１により近づけるほどポリウレタンウレアは高分子量となり、１：１からより離れるほどポリウレタンウレアは低分子量となる。ポリウレタンウレアの分子量は、下記の分子量測定条件を用いて機器分析することにより容易に確認可能である。
＜分子量測定条件＞
・使用機器名 東ソー株式会社 ＨＬＣ-８２２０ ＧＰＣ・ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより、分子量既知の標準ポリスチレンの検量線を利用して測定したポリスチレン換算の重量平均分子量・溶離液 テトラヒドロフラン
・流量 １ｍＬ／分
・検出 示査屈折計（ＲＩ）

ポリウレタンウレアが、ウレタンウレア樹脂溶剤溶液 タイフォース ＣＳシリーズ 未変性タイプ 品番：ＣＳ−Ｓ−２０７（商品名、ＤＩＣ（株）製）、ウレタンウレア樹脂溶剤溶液 タイフォース ＣＳシリーズ 未変性タイプ 品番：ＣＳ−Ｓ−２０８（商品名、ＤＩＣ（株）製）又はウレタンウレア樹脂溶剤溶液 タイフォース ＣＳシリーズアクリロイル基導入タイプ 品番：ＣＳ−Ｓ−６５（商品名、ＤＩＣ（株）製）であることが好ましい。なお、これらのＤＩＣ（株）開発上市品は、優れた透明性、優れたＵＶ架橋性及び優れた耐久性（耐熱性、耐湿熱性、耐アルカリ性等）を特徴として有するものである。

ポリウレタンウレアに由来する構造単位の含有量は、位相差板（ｂ）に含まれるすべての構造単位の合計量を１００質量％とした場合、例えば１０〜１００質量％、好ましくは３０〜９８質量％、特に好ましくは５０〜９５質量％である。上記範囲内であると、位相差板が広い波長域でより一様の偏光変換を行うことが可能になることから好ましい。

組成物（Ｂ）は、重合性モノマー（Ｂ２）及び重合性モノマー（Ｂ２）に由来する構造単位を有する樹脂（ただし樹脂（Ｂ１）とは異なる）からなる群から選ばれる少なくとも一つを含むことが好ましい。
重合性モノマー（Ｂ２）としては、式（Ｉ）及び式（ＩＩ）で表されるモノマー（以下「モノマー（Ｉ）、モノマー（ＩＩ）」という場合がある）からなる群から選ばれる少なくとも１種のモノマー（以下「モノマー（１）」という場合がある）に由来する構造単位を有することが好ましい。モノマー（Ｉ）に由来する構造単位を有すると、得られる位相差板（ｂ）が広い波長域でより一様の偏光変換を行うことが可能になることから好ましく、モノマー（ＩＩ）に由来する構造単位を有すると、得られる位相差板（ｂ）の光弾性係数が小さいため、応力による複屈折の発現が極めて小さく、貼合後の偏光板の収縮等による位相差値変化が原因とされる光抜けを抑制し、光学的ムラのないフィルムを得ることが可能になることから好ましい。すなわち、モノマー（Ｉ）に由来する構造単位とモノマー（ＩＩ）に由来する構造単位の両方を有することがより好ましい。

（式（Ｉ）中、Ｒ^ａは、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^ｂは、炭素数６〜２０の環式炭化水素基又は炭素数４〜２０の複素環基を表し、該環式炭化水素基及び複素環基は、ヒドロキシ基、オキソ基、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜１２のアラルキル基、グリシジルオキシ基、炭素数２〜４のアシル基、炭素数１〜１２のアシルオキシ基、アミノ基、一つ若しくは二つの炭素数１〜１２のアルキル基で置換されたアミノ基又はハロゲン原子で置換されていてもよく、前記アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、アシル基及びアシルオキシ基は、ヒドロキシ基、アミノ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアシルオキシ基又は炭素数１〜６のアシル基で置換されていてもよい。）
オキソ基とは、カルボニル基のＯ＝を表す。

（式（ＩＩ）中、Ｒ^ｃは水素原子又はメチル基を表す。Ｒ^ｄは、水素原子、メチル基、炭素数２〜１８のアルキル基、炭素数２〜６のアルキルアミノ基、又は炭素数６〜２０の環式炭化水素基を表す。該アルキル基、及び該アルキルアミノ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、オキソ基又はカルボキシ基で置換されていてもよく、該アルキル基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換わっていてもよい。該環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、オキソ基、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜１２のアラルキル基、グリシジルオキシ基、炭素数２〜４のアシル基又はハロゲン原子で置換されていてもよく、該環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換わっていてもよい。該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基及び該アラルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。）

モノマー（Ｉ）において、Ｒ^ａは、好ましくは水素原子である。モノマー（Ｉ）において、環式炭化水素基は、脂環式炭化水素基であってもよいし、芳香族炭化水素基であってもよく、芳香族炭化水素基が好ましい。単環の環式炭化水素基であってもよいし、縮合環式炭化水素基であってもよい。脂環式炭化水素基の具体例としては、シクロヘキシル基等が挙げられる。芳香族炭化水素基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基及びアントリル基等が挙げられる。複素環基としては、窒素原子、酸素原子等のヘテロ原子を環の構成原子として含む複素環基であればよい。単環の複素環基であってもよいし、縮合環状の複素環基であってもよい。具体的には、ピロリル基、フリル基、チエニル基、ピラジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ピペリジル基、ピペラジル基、テトラヒドロフリル基、インドリル基、チアゾリル基、カルバゾリル基等が挙げられる。Ｒ_２としては、芳香族炭化水素基又は複素環基が好ましい。

環式炭化水素基及び複素環基は、ヒドロキシ基、オキソ基、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基又はオクチル基等の炭素数１〜１２のアルキル基、例えばメトキシ基又はエトキシ基等の炭素数１〜１２のアルコキシ基、例えばフェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜１２のアリール基、例えばベンジル基等の炭素数７〜１２のアラルキル基、グリシジルオキシ基、例えばアセチル基等の炭素数２〜４のアシル基、例えばアセチルオキシ基等の炭素数１〜１２のアシルオキシ基、アミノ基、例えばエチルアミノ基、ジメチルアミノ基等の一つ若しくは二つの炭素数１〜１２のアルキル基で置換されたアミノ基、及び例えばフッ素原子、塩素原子又は臭素原子等のハロゲン原子からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい。

環式炭化水素基及び複素環基は、環式炭化水素基及び複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つが連結基を介して環式炭化水素基又は複素環基に結合された基であってもよい。連結基としては、例えばメチレン基、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基、シクロヘキシリデン基、エチレン基又はプロピレン基等の炭素数１〜６程度の炭化水素基、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基あるいは−ＣＯ_２−等が挙げられる。また複数の環式炭化水素基及び複素環基から選ばれる基が、単結合で結合していてもよい。

具体的には、複数の芳香族炭化水素基が単結合で結合したビフェニル基や、複数の芳香族炭化水素基がイソプロピリデン基で結合した下記式で表される基等が挙げられる。

モノマー（Ｉ）としては、例えばスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、ｏ−エチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、トリメチルスチレン、プロピルスチレン、ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、シクロヘキシルスチレン、ドデシルスチレン等のアルキルスチレン、例えばヒドロキシスチレン、ｔ−ブトキシスチレン、ビニル安息香酸、ビニルベンジルアセテート、ｏ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレン及びアミノスチレン等の、ベンゼン環にヒドロキシ基、アルコキシ基、カルボキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン及びアミノ基等から選ばれる基が結合した置換スチレン、例えば４−ビニルビフェニル、２−エチル−４ベンジルスチレン、４−（フェニルブチル）スチレン及び４−ヒドロキシ−４’−ビニルビフェニル等のビニルビフェニル系化合物、ビニルナフタレン及びビニルアントラセン等の縮合環及びビニル基を有する化合物等が挙げられる。

芳香族複素環基を有するモノマー（Ｉ）としては、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピリジン、Ｎ−ビニルフタルイミド及びＮ−ビニルインドール等が挙げられる。

モノマー（Ｉ）としては、特にスチレン、Ｎ−ビニルカルバゾール、ビニルナフタレン及びビニルアントラセンからなる群から選ばれる少なくとも１種のモノマーであると、位相差板（ｂ）が広い波長域でより一様の偏光変換を行うことが可能になることから好ましく、スチレン又はＮ−ビニルカルバゾールであることがより好ましい。モノマー（Ｉ）として、異なる複数のモノマーを併用してもよい。

モノマー（Ｉ）に由来する構造単位の含有量は、位相差板（ｂ）に含まれるすべての構造単位の合計量を１００質量％とした場合、含まれなくてもよいが、例えば１〜９０質量％、好ましくは２〜７０質量％、特に好ましくは５〜５０質量％である。

モノマー（ＩＩ）において、Ｒ^ｃは、好ましくは水素原子である。モノマー（ＩＩ）において、炭素数６〜２０の環式炭化水素基としては、例えばフェニル基、ナフチル基及びアントラニル基等の芳香族炭化水素基、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、イソボルニル基、トリシクロデカニル基、アダマンチル基、及びノルボルナンラクトン基等のシクロアルキル基等が挙げられる。

該環式炭化水素基には、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基及びオクチル基等の炭素数１〜１２のアルキル基、例えばメトキシ基及びエトキシ基等の炭素数１〜１２のアルコキシ基、例えばフッ素原子、塩素原子及び臭素原子等のハロゲン原子、例えばアセチル基等のような炭素数２〜４のアシル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、グリシジルオキシ基並びにカルボキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基が結合していてもよい。該環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換わっていてもよい。

モノマー（ＩＩ）の具体例としては、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、アントラセニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−テトラヒドロピラニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ
）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアダマンチル（メタ）アクリレート、メチルアダマンチル（メタ）アクリレート、エチルアダマンチル（メタ）アクリレート、ノルボルナンラクトン（メタ）アクリレート、２−（５−オキソ−４−オキサトリシクロ[４，２，１，０^３，７]ノナン−２−イルオキシ）−２−オキソエチル（メタ）アクリレート、１−（メタ）アクリロイル−４−メトキシナフタレン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−（ジメチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート及びグリセリンモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
ここで、（メタ）アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種を意味する。

モノマー（ＩＩ）としては、メチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−テトラヒドロピラニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアダマンチル（メタ）アクリレート、メチルアダマンチル（メタ）アクリレート、エチルアダマンチル（メタ）アクリレート、ノルボルナンラクトン（メタ）アクリレート、２−（５−オキソ−４−オキサトリシクロ[４，２，１，０^３，７]ノナン−２−イルオキシ）−２−オキソエチル（メタ）アクリレート、１−（メタ）アクリロイル−４−メトキシナフタレン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート及びグリセリンモノ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種のモノマーであると、位相差板の光弾性係数が小さいため、応力による複屈折の発現が極めて小さく、貼合後の偏光板の収縮等による位相差値変化が原因とされる光抜けを抑制し、光学的ムラのないフィルムを得ることが可能になることから好ましく、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアダマンチル（メタ）アクリレート、メチルアダマンチル（メタ）アクリレート、エチルアダマンチル（メタ）アクリレート、ノルボルナンラクトン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート及びグリセリンモノ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種のモノマーであることが特に好ましい。モノマー（ＩＩ）として、異なる複数のモノマーを併用してもよい。

モノマー（ＩＩ）に由来する構造単位の含有量は、位相差板（ｂ）に含まれるすべての構造単位の合計量を１００質量％とした場合、含まれなくてもよいが、例えば１〜９０質量％、好ましくは２〜７０質量％、特に好ましくは５〜５０質量％である。

モノマー（１）に由来する構造単位の含有量は、位相差板（ｂ）に含まれるすべての構造単位の合計量を１００質量％とした場合、例えば１〜９０質量％、好ましくは２〜７０質量％、特に好ましくは５〜５０質量％である。

モノマー（１）はそのまま用いることもできるし、重合して重合体（１）として用いることもできる。また一部を重合体（１）としてさらに一部をモノマー（１）のまま用いることもできる。重合体（１）の重合方法としては、公知のラジカル重合法が挙げられる。ラジカル重合法としては、溶液重合、懸濁重合、乳化重合及び塊状重合等の重合方法が挙げられるが、特別に限定はされない。分子量調整、容易性及び成膜性等の観点から、溶液重合が好ましい。

重合体（１）としては、市販の重合体を用いてもよい。ポリビニルカルバゾールは、例えば、シグマ・アルドリッチジャパン（株）から販売されており、ポリスチレンは、例えば和光純薬工業（株）、関東化学（株）から販売されている。重合体（１）を構成するモノマーとしては、特にモノマー（Ｉ）とモノマー（ＩＩ）との組合せを用いることが好ましい。

重合体（１）に由来する構造単位の含有量は、位相差板（ｂ）に含まれるすべての構造単位の合計量を１００質量％とした場合、含まれなくてもよいが、１０〜７０質量％、好ましくは３０〜６０質量％、特に好ましくは４０〜５５質量％である。

位相差板（ｂ）は、組成物（Ｂ）を成膜し更に延伸することによって得ることができる。成膜し更に延伸する工程は、光重合工程を含んでいてもよい。光重合は、成膜したのち延伸する前に行っても、成膜したのち延伸しながら行っても、成膜し更に延伸したのちに行ってもよい。特に、成膜し光重合したのち更に延伸して得ることが好ましい。

光重合工程では、組成物（Ｂ）に紫外光（ＵＶ）を照射することによって、組成物（Ｂ）中の光重合性成分が光重合して硬化する。紫外光の発生源としては、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト、低圧、高圧、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、太陽光線、無電極ランプ等が例示される。紫外光の照射強度は、終始一定で行ってもよいし、硬化途中で変化させてもよく、これにより、硬化後の物性を微調整することもできる。

組成物（Ｂ）は、光重合開始剤（Ｂ３）を含むことが好ましく、光ラジカル重合開始剤を含むことがより好ましい。
光重合開始剤としては、組成物（Ａ）において挙げたものと同様のものが挙げられる。

また光重合開始剤の使用量は、例えば樹脂（Ｂ１）１００質量部に対して、０．１質量部〜３０質量部であり、好ましくは０．５質量部〜２０質量部である。

組成物（Ｂ）は、有機溶剤を含むことが好ましい。
有機溶剤としては、例えばエーテル類、芳香族炭化水素類、ケトン類、アルコール類、エステル類、アミド類等が挙げられる。

エーテル類としては、例えばテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート、アニソール、フェネトール及びメチルアニソール等が挙げられる。

芳香族炭化水素類としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン及びメシチレン等が挙げられる。

ケトン類としては、例えばアセトン、２−ブタノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロペンタノン及びシクロヘキサノン等が挙げられる。

アルコール類としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール及びグリセリン等が挙げられる。

エステル類としては、例えば酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート及びγ−ブチロラクトン等が挙げられる。

アミド類としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等が挙げられる。その他の溶剤としては、例えばＮ−メチルピロリドン及びジメチルスルホオキシド等が挙げられる。溶剤は、それぞれ単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。

組成物（Ｂ）は、更に、必要に応じて重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤及び可塑剤からなる群から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。具体的には、それぞれ、組成物（Ａ）において挙げたものと同様のものが挙げられる。

重合禁止剤の使用量は、例えば樹脂（Ｂ１）１００質量部に対して、０．１質量部〜３０質量部であり、好ましくは０．５質量部〜１０質量部である。

光増感剤の使用量は、樹脂（Ｂ１）１００質量部に対して、例えば０．１質量部〜３０質量部であり、好ましくは０．５質量部〜１０質量部である。

レベリング剤の含有量は、樹脂（Ｂ１）１００質量部に対して、０．００１質量部〜２．０質量部であり、好ましくは０．００５質量部〜１．５質量部である。

可塑剤としては、リン酸エステル、カルボン酸エステル又はグリコール酸エステルが挙げられる。リン酸エステルとしては、例えば、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、トリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート及びトリブチルホスフェート等が挙げられる。

カルボン酸エステルとしては、例えば、フタル酸エステル及びクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）及びジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が挙げられる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）、クエン酸アセチルトリエチル及びクエン酸アセチルトリブチルが挙げられる。その他のカルボン酸エステルとしては、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステル等が挙げられる。。

グリコール酸エステルとしては、例えば、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート及びブチルフタリルブチルグリコレート等が例示される。またトリメチロールプロパントリベンゾエート、ペンタエリスリトールテトラベンゾエート、ジトリメチロールプロパンテトラアセテート、ジトリメチロールプロパンテトラプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラアセテート、ソルビトールヘキサアセテート、ソルビトールヘキサプロピオネート、ソルビトールトリアセテートトリプロピオネート、イノシトールペンタアセテート及びソルビタンテトラブチレート等も好例として挙げられる。

可塑剤としては、中でもトリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、トリブチルホスフェート、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジエチルヘキシルフタレート、トリアセチン、エチルフタリルエチルグリコレート、トリメチロールプロパントリベンゾエート、ペンタエリスリトールテトラベンゾエート、ジトリメチロールプロパンテトラアセテート、ペンタエリスリトールテトラアセテート、ソルビトールヘキサアセテート、ソルビトールヘキサプロピオネート及びソルビトールトリアセテートトリプロピオネート等が好ましく、特にトリフェニルホスフェート、ジエチルフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、トリメチロールプロパントリベンゾエート、ペンタエリスリトールテトラベンゾエート、ジトリメチロールプロパンテトラアセテート、ソルビトールヘキサアセテート、ソルビトールヘキサプロピオネート及びソルビトールトリアセテートトリプロピオネートが好ましい。

可塑剤は１種でもよいし２種以上併用してもよい。可塑剤の添加量は、位相差板特性を大きく損ねない範囲で適宜、選択されればよく、例えば組成物（Ｂ）の固形分総量に対して０．１〜３０質量％程度である。固形分総量とは、組成物（Ｂ）から溶媒を引いた量である。

可塑剤の具体例としては、特開平１１−１２４４４５号公報記載の（ジ）ペンタエリスリトールエステル類、特開平１１−２４６７０４号公報記載のグリセロールエステル類、特開２０００−６３５６０号公報記載のジグリセロールエステル類、特開平１１−９２５７４号公報記載のクエン酸エステル類、特開平１１−９０９４６号公報記載の置換フェニルリン酸エステル類等が挙げられる。

位相差板（ｂ）は、組成物（Ｂ）を成膜（フィルム化）し、得られた膜状物を更に延伸することによって製造される。又は、組成物（Ｂ）を成膜（フィルム化）し、光重合し、得られた膜状物を更に延伸することによって製造される。組成物の膜状物を形成する方法としては、例えば、組成物（Ｂ）を平滑な面にキャストして溶剤を留去する溶剤キャスト法、組成物（Ｂ）を溶融押出機等でフィルム状に押出成形する溶融押出法等が挙げられる。特に溶剤キャスト法は組成物（Ｂ）をそのまま成膜できることから好ましい。

また、延伸方法としては、例えば、テンター法による延伸法、ロール間延伸による延伸法等が挙げられる。延伸は、一軸延伸でも二軸延伸のいずれでもよく、縦延伸でも横延伸のいずれでもよい。一軸延伸の方法としてはロール間延伸による縦方向への一軸延伸法、テンター機を用いた横方向への一軸延伸法等が挙げられ、二軸延伸の方法としては、フィルムの側端を把持するテンタークリップのレール幅が開かれてゆき縦方向の延伸と同時にガイドレールの広がりにより横方向にも延伸する同時二軸延伸や、ロール間延伸による縦方向への延伸を行った後にその両端部をテンタークリップで把持してテンター機を用いて横方向へ延伸する逐次二軸延伸法等が挙げられる。特に生産性の観点から、横一軸延伸及び二軸延伸が好ましく、特に横一軸延伸が好ましい。横一軸延伸や二軸延伸によって光学的二軸性を有している位相差板を得ることができる。ここで光学的二軸性とは、フィルム面内の直行する二方向の屈折率をそれぞれｎ_ｘ、ｎ_ｙ（ただしｎ_ｘ＞ｎ_ｙとする）、厚み方向の屈折率をｎ_ｚとしたときにｎ_ｘ≠ｎ_ｙ≠ｎ_ｚとなることであり、逆にｎ_ｘ、ｎ_ｙ、ｎ_ｚのうちのいずれか二つが等しい場合（例えばｎ_ｘ＞ｎ_ｙ＝ｎ_ｚ、等）は光学的一軸性である。光学的二軸性を有する位相差板（ｂ）は、フィルムの厚み方向に対しても一様な偏光変換が可能である。

かくして得られた本発明の立体表示システムに含まれる位相差板（ｂ）は、式（１）を満たす光学特性を有する。従って、広い波長域で一様の偏光変換を行うことができる。

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部である。

化合物を以下のスキームで合成した。原料のモノテトラヒドロピラニル保護ヒドロキノン(ａ)は特許文献（特開２００４−２６２８８４）に記載されている方法により合成した。

（第一経路）

（化合物（ｂ）の合成例）
モノテトラヒドロピラニル保護ヒドロキノン(ａ)５０．１ｇ（２５８ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム９７．１ｇ（７０３ｍｍｏｌ）、６−ブロモヘキサノール４６．７ｇ（２５８ｍｍｏｌ）及びジメチルアセトアミド１７７ｇを混合した。得られた混合液を、窒素雰囲気下、９０℃で、その後１００℃で撹拌し、その後室温まで冷却した。混合液に、純水及びメチルイソブチルケトンを加え、分離した有機層を回収した。回収した有機層を水酸化ナトリウム水溶液及び純水で洗浄後に脱水し、濾過後に減圧濃縮した。残渣にメタノールを加えて、生成した沈殿を濾過後、真空乾燥させて、化合物（ｂ）４７ｇ（１５９ｍｍｏｌ）を得た。収率は６−ブロモヘキサノール基準で６２％であった。

（化合物（ｃ）の合成例）
化合物（ｂ）１２６ｇ（４２８ｍｍｏｌ）、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（以下ＢＨＴという）１．４０ｇ（６．４２ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン１１６．７ｇ（９６３ｍｍｏｌ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン１．００ｇ及びクロロホルム６００ｇを混合した。窒素雰囲気、氷冷下で、得られた混合液に、アクリロイルクロリド５８．１ｇ（６４２ｍｍｏｌ）を滴下し、さらに純水を加えて攪拌した後、分離した有機層を回収した。回収した有機層を塩酸水、飽和炭酸ナトリウム水溶液及び純水で洗浄した。有機層を乾燥し、濾過後、有機層にＢＨＴ１ｇを加えて減圧濃縮して、化合物（ｃ）を得た。

（化合物（ｄ）の合成例）
化合物（ｃ）及びテトラヒドロフラン（以下ＴＨＦという）２００ｍｌを混合後、得られた混合液にＴＨＦ２００ｍｌを加えた。さらに塩酸水及び濃塩酸水を加えて、窒素雰囲気、６０℃の条件下で攪拌した。得られた混合溶液に飽和食塩水５００ｍｌを加えてさらに攪拌し、分離した有機層を回収した。回収した有機層を脱水し、濾過後減圧濃縮した。さらに有機層にヘキサンを加えて氷冷下で攪拌し、析出した粉末を濾過後真空乾燥して、化合物（ｄ）を９０ｇ（３３９ｍｍｏｌ）得た。収率は化合物（ｃ）基準で７９％であった。

（化合物（ｅ）の合成）
化合物（ｅ）は以下に示す経路で合成した。

トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸モノエトキシメチルエステル（式（ｈ）で表される化合物）を下記のスキームで合成した。

トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸２００ｇ（１．１６１６ｍｏｌ）及びジメチルアセトアミド１０００ｍＬを混合した。窒素雰囲気下、攪拌しながら８０℃まで昇温して、得られた溶液に炭酸カリウム９６．３ｇ（０．６９６９ｍｏｌ）を加えた後、ベンジルクロリド１３９．７ｇ（１．１０３５ｍｏｌ）を加え、溶液を１２０℃で６時間攪拌して反応させた。溶液を室温まで放冷後、氷１５００ｇに注ぎ攪拌した。得られた結晶を濾取して、これを水／メタノール３：２（ｖ/ｖ）、次いで水で洗浄した。真空乾燥により溶媒を除去し、化合物（ｆ）を含む粉末２５１ｇを得た。
前工程で得られた化合物（ｆ）を含む粉末２５１ｇをクロロホルム６００ｍＬとを混合した得られた溶液を氷冷し、窒素雰囲気下、得られた溶液にエトキシクロロメタン９３．５ｇ（０．７６００ｍｏｌ）及びトリエチルアミン１４６．８ｇ（１．４５１５ｍｏｌ）を滴下した。反応溶液を室温、窒素雰囲気下で３時間攪拌して反応させた。反応溶液にトルエン６００ｍＬを加え、析出したトリエチルアミン塩酸塩を濾別し、濾液を回収し、水で洗浄した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濾過後、溶媒を除去した。得られた粗生成物を真空乾燥して、化合物（ｇ）を含む液体２４２ｇを得た。

前工程で得られた化合物（ｇ）を含む液体２４２ｇ及びＴＨＦ２５０ｍｌを混合した。窒素雰囲気下で、得られた溶液に１０％パラジウム−炭素（５０％含水）１０．０ｇを加えた。減圧後、水素置換し、室温、常圧、水素雰囲気下で得られた溶液を６時間攪拌して反応させた。窒素置換後、得られた溶液を濾過し、触媒及び溶媒を除去した。残渣をクロロホルムに溶解した。得られた溶液をシリカゲル濾過した。シリカゲル上の不溶物を、シリカゲルからさらにクロロホルムにて抽出した。クロロホルム溶液を回収し、これを減圧濃縮し、これにヘプタンを加えて結晶化させた。得られた結晶を濾別、真空乾燥することにより化合物（ｈ）１０６ｇを得た。収率は化合物トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸基準で３９％であった。

化合物（ｄ）５６．８ｇ（２１５ｍｍｏｌ）、ジメチルアミノピリジン２．６５ｇ（２２ｍｍｏｌ）、トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸モノエトキシメチルエステル５０ｇ（２１７ｍｍｏｌ）及びクロロホルム３００ｍＬを混合した。得られた混合液を窒素雰囲気下、氷冷して攪拌し、ジシクロヘキシルカルボジイミド４８．７９ｇ（２３７ｍｏｌ）及びクロロホルム５０ｍＬからなる溶液を滴下した。滴下終了後、得られた反応溶液を室温にて攪拌し、クロロホルム２００ｍＬ及びヘプタン２００ｍＬを加えて沈殿を濾過した。濾液を回収して、２Ｎ−塩酸水溶液で洗浄した。分離した有機層を回収し、不溶成分を濾過により除去後、無水硫酸ナトリウムを加え、濾過後、溶媒を除去して得られた固体を、真空乾燥して、化合物（ｅ’）１００ｇを得た。

化合物（ｅ’）１００ｇ、純水３．６４ｇ（２０２ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物３．８４ｇ（２０．２ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ２００ｍＬを混合した。得られた混合液を窒素雰囲気下、５０℃に加温し、攪拌した。混合液を室温まで放冷後、ＴＨＦを減圧除去し、残渣にヘプタン２００ｍＬを加えた。析出した沈殿を濾取し、純水で洗浄後、真空乾燥した。得られた粉末をクロロホルムに溶解し、シリカゲルを通してから濾過した。濾液を回収しクロロホルム４００ｍLに溶解して、得られた溶液を濃縮し、トルエンを加えた。溶液を減圧濃縮したのち、ヘプタンを加えて結晶化させ、得られた粉末を濾取、真空乾燥して、化合物（ｅ）６４．１ｇを得た。収率は化合物（ｄ）基準、二工程で７６％であった。
＜化合物（Ａ１１−１）の合成例＞
化合物（Ａ１１−１）は下記のスキームに従って合成した。

［４，６−ジメチルベンゾフランの合成例］
３，５−ジメチルフェノール２５ｇ（２０５ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド１５０．０ｇに溶解させた。溶液を氷浴により冷却した後に、水酸化ナトリウム９．８２（２４６ｍｍｏｌ）を加えた。室温で１時間攪拌し、クロロアセトアルデヒドジメチルアセタール２５．４９ｇ（２６６ｍｍｏｌ）を滴下した。１００℃で１５時間攪拌し、反応液を水１０００ｍＬ、メチルイソブチルケトン４００ｍＬに加えて分液した。有機層を回収し、２回５００ｍＬの１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液で、さらに２回８００ｍＬの純水で有機層を洗浄した。有機層を回収後、無水硫酸ナトリウムで脱水し、エバポレータにて減圧濃縮させ淡赤色粘長液体を得た。一方で、４００ｇのトルエンと、オルトリン酸３．０１ｇを混合し１１０℃に加熱した。該溶液に淡赤色粘長液体をトルエン１００ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。３時間１１０℃で攪拌した後、室温まで冷却した。反応液を１Ｎ−炭酸水素ナトリウム水溶液で二回洗浄し、最後に純水５００ｍＬで洗浄した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで脱水後、エバポレータにて減圧濃縮、真空乾燥させて、４，６−ジメチルベンゾフランを１６．５ｇ淡赤色粘長液体として得た。収率は３，５−ジメチルフェノール基準で５５％であった。

［２−ホルミル−４，６−ジメチルベンゾフランの合成例］
４，６−ジメチルベンゾフラン２１．６２ｇ（１４８ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド２８．４ｇ（３８９ｍｍｏｌ）に溶解させた。溶液を水浴により冷却した後に、オキシ塩化リン２５ｇ（１６３ｍｍｏｌ）を滴下した。ピンク色溶液を室温で１時間攪拌した後、１００℃で１０時間攪拌した。反応液を室温まで放冷し、純水１００ｍＬを加えて一時間攪拌後、１Ｎ炭酸水素ナトリウムで中和した。ｐＨを８に調節後、トルエンと分液した。有機層を回収し、活性炭を２．６ｇ加えて濾過した。エバポレータにて減圧濃縮し、残渣をクロロホルムに溶解させ、ヘプタンにて結晶化させた。結晶を濾取、真空乾燥して、２−ホルミル−４，６−ジメチルベンゾフランを１９．５ｇ淡黄色粉末として得た。収率は４，６−ジメチルベンゾフラン基準で７６％であった。

［４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸の合成例−１］
２−ホルミル−４，６−ジメチルベンゾフラン１９．５０ｇ（１１２ｍｍｏｌ）、アミド硫酸１３．０４ｇ（１３４ｍｍｏｌ）を１００ｍＬの純水と混合した。氷浴で冷却し、亜塩素酸ナトリウム１２．１５ｇ（１３４ｍｍｏｌ）の水１００ｍＬ溶液を滴下した。水浴で３６時間反応させた。反応溶液にトルエン１００ｍＬ、水酸化カリウム２５ｇを加えてｐＨを１２に調整した。分液し、水層を回収し水層をさらに２００ｍＬのトルエンで洗浄した。水層を回収し、２Ｎ−塩酸にてｐＨを２にした後、トルエン４００ｍＬを加えて分液した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで脱水後、エバポレータにて減圧濃縮、真空乾燥して、４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸を１４．２７ｇ黄色粉末として得た。収率は２−ホルミル−４，６−ジメチルベンゾフラン基準で６７％であった。

４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸は下記のスキームによっても合成できた。

［４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸の合成例−２］

３，５−ジメチルフェノール１５０ｇ（１２２７ｍｍｏｌ）、パラホルムアルデヒド２３０．１ｇ（７６７４ｍｍｏｌ）、無水塩化マグネシウム１７５．４ｇ（１８４２ｍｍｏｌ）をアセトニトリル９００ｍＬに分散させた。氷浴で３０分攪拌した後、トリエチルアミン４７４ｇ（４６８１ｍｍｏｌ）を二時間かけて滴下した。混合液を水浴で８時間、室温で１４時間反応させた。反応液に冷５Ｎ−塩酸１５００ｍＬを加えて、酸性にした後、４００ｍＬの酢酸エチルで分液し、有機層を回収した。さらに水層を４００ｍＬの酢酸エチルで分液した。有機層を回収し、先の有機層と集めて、無水硫酸ナトリウムで脱水後、エバポレータにて減圧濃縮した。残渣を４００ｍＬトルエンに溶解し、活性炭３ｇ、シリカゲル２０ｇ加えて３０分室温で攪拌し、濾過した。濾液を回収し、エバポレータにて減圧濃縮、真空乾燥させることにより、４，６−ジメチルサリチルアルデヒドを１７０ｇ橙色粘稠液体として得た。収率は３，５−ジメチルフェノール基準で９２％であった。

４，６−ジメチルサリチルアルデヒド４５．０ｇ（３００ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１０１．ｇ（３００ｍｍｏｌ）、をＮ，Ｎ’―ジメチルアセトアミド３６０ｍＬに分散させた。８０℃に加温した後、ブロモ酢酸エチル５０.０ｇ（３００ｍｍｏｌ）を１時間かけて滴下した。混合液を８０℃で４時間反応させた。反応液を室温まで冷却後、メチルイソブチルケトン４００ｍＬを加えて、冷１Ｎ−塩酸１０００ｍＬで酸性にした後、分液した。有機層を３回１０００ｍＬの純水で洗浄し、有機層を回収した。無水硫酸ナトリウムで脱水後、エバポレータにて溶媒を留去した。残渣に水酸化カリウム４０ｇ、エタノール４００ｍＬを加えて、８０℃で１時間攪拌した。室温まで放冷後、エバポレータにて溶媒を留去し、純水１０００ｍＬを加えた。ｐＨが１２以上であることを確認後、水層をトルエンにて二回、ヘプタンで一回洗浄した。水層を回収し、４Ｎ−硫酸にて中和、ｐＨを３に調節した。析出した黄色沈殿を濾取し、純水で懸洗後、真空乾燥させることにより、４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸を４８．１ｇ黄色粉末として得た。収率は４，６−ジメチルサリチルアルデヒド基準で８３％であった。

［化合物（１１−ａ）の合成例］
２，５−ジメトキシアニリン１１．４９ｇ（７５．０ｍｍｏｌ）、４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸１４．２７ｇ（７５．７ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン７．５９ｇ（７５．０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアミノピリジン１．８３ｇ（１５．０ｍｍｏｌ）及び脱水Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド１００．０ｇを混合した。得られた溶液を氷浴にて冷却した後、ＢＯＰ試薬３４．８５ｇ（８２．５ｍｍｏｌ）を加えて室温で２４時間反応させた。得られた混合液に水、メタノールの混合溶液（水２体積部、メタノール１体積部）を加えて晶析させた。得られた沈殿を濾取し水−メタノールの混合溶液（水３体積部、メタノール２体積部）で洗浄、真空乾燥して、淡黄色粉末として化合物（１１−ａ）を１６．２ｇ得た。収率は２，５−ジメトキシアニリン基準で６６％であった。

［化合物（１１−ｂ）の合成例］
化合物（１１−ａ）１６．０ｇ（４９ｍｍｏｌ）、２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド（ローソン試薬）９．２ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）及びトルエン１００ｇを混合し、得られた混合液を８０℃に昇温して１２時間反応させた。冷却後濃縮し、化合物（１１−ｂ）とローソン試薬の分解物とを主成分とする赤色粘稠固体を得た。

［化合物（１１−ｃ）の合成例］
前項で得られた化合物（１１−ｂ）を含む混合物、水酸化ナトリウム１１．８ｇ（２６２ｍｍｏｌ）及び水２５０ｇを混合し、得られた混合液を氷冷下で反応させた。続いてフェリシアン化カリウム４４．１７ｇ（１３４ｍｍｏｌ）を含む水溶液を、氷冷下で加え、反応させた。６０℃で１２時間反応させて、析出した黄色沈殿を濾取した。濾取した沈殿を水、次いでヘキサンで洗浄し、トルエンで結晶化させた。得られた黄色を真空乾燥して、化合物（１１−ｃ）を主成分とする黄土色固体４．１ｇを得た。収率は化合物（１１−ａ）基準で２５％であった。

［化合物（１１−ｄ）の合成例］
化合物（１１−ｃ）４．０ｇ（１２．０ｍｍｏｌ）及び塩化ピリジニウム４０．０ｇ（１０倍質量）を混合し、１８０℃に昇温して３時間反応させた。得られた混合液を氷に加え、得られた沈殿を濾取した。水で懸洗後、トルエンで洗浄、真空乾燥させて、化合物（１１−ｄ）を主成分とする黄土色固体３．４ｇを得た。収率は化合物（１１−ｃ）基準で９３％であった。

［化合物（Ａ１１−１）の合成例］
化合物（１１−ｄ）３．００ｇ（９．６４ｍｍｏｌ）、化合物（ｅ）８．４７ｇ（２０．２３ｍｍｏｌ）、ジメチルアミノピリジン０．１２ｇ（０．９６ｍｍｏｌ）及びクロロホルム４０ｍＬを混合した。得られた混合液にＮ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド２．９２ｇ（２３．１２ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた。得られた反応溶液を室温で終夜反応させ、シリカゲル濾過したのち、減圧濃縮した。残渣にメタノールを加えて結晶化させた。結晶を濾取し、クロロホルムに再溶解させ０．３ｇの活性炭を加えて、室温で一時間攪拌した。溶液を濾過して濾液をエバポレータにて１／３まで減圧濃縮後、攪拌しながらメタノールを加えて、生成した白色沈殿を濾取し、ヘプタンで洗浄、真空乾燥して化合物（Ａ１１−１）を白色粉末として７．６０ｇ得た。収率は化合物（１１−ｄ）基準で７１％であった。

化合物（Ａ１１−１）の^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ（ｐｐｍ）１．４５〜１．８５（ｍ、２４Ｈ）、２．３６〜２．８７（ｍ、１８Ｈ）、３．９３〜３．９７（ｔ、４Ｈ）、４．１５〜４．２０（ｔ、４Ｈ）、５．７９〜５．８４（ｄｄ、２Ｈ）、６．０７〜６．１７（ｍ、２Ｈ）、６．３７〜６．４５（ｍ、２Ｈ）、６．８７〜７．０１（ｍ、９Ｈ）、７．２０（ｓ，１Ｈ）、７．２３（ｓ、２Ｈ）、７．５３（ｓ，１Ｈ）

得られた化合物（Ａ１１−１）の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって確認した。化合物（Ａ１１−１）は、昇温時において、１０５℃から１３７℃まで粘性の高い中間相を示した。液晶相の判別は困難であったが、１３７℃以上で明確なネマチック液晶相を呈した。ネマチック液晶相は１８０℃以上まであり、降温時においては、６１℃までネマチック相を呈し結晶化した。

（化合物（ｘ−ａ）の製造例）
化合物（ｘ−ａ）は、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ．１誌、２０５−２１０頁（２０００年）に記載されている方法と同等の以下のスキームで合成した。つまり、上記に記載されている合成法のベンゾイルクロライドを２-チオフェンカルボニルクロリドに変える以外は同様の方法で、合成した。
さらに、化合物（ｘ−ａ）は、化合物（ｘ−ｄ）２０．０ｇ（７２．１ｍｍｏｌ）と塩化ピリジニウム１００．０ｇ（５倍質量）とを混合し、得られた混合液を２２０℃に昇温して攪拌した。混合液を冷却後、水を加え、得られた沈殿を濾別し、水及びノルマルヘプタンで洗浄して、化合物（ｘ−ａ）を主成分とする固体１７．４ｇを得た。収率は化合物（ｘ−ｄ）基準で９７％であった。

＜化合物（ｘ−１）の合成例＞
化合物（Ａ１１−１）の合成例と同様の方法で、化合物（１１−ｄ）を化合物（ｘ−ａ）に変える以外は同様の方法にて、化合物（ｘ−１）を得た。収率は化合物（ｘ−ａ）基準で８４％であった。

化合物（ｘ−１）の^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ（ｐｐｍ）１．４３〜１．８３（ｍ、２４Ｈ）、２．２９〜２．８２（ｍ、１２Ｈ）、３．９２〜３．９７（ｔ、４Ｈ）、４．１５〜４．２０（ｔ、４Ｈ）、５．８０〜５．８４（ｄｄ、２Ｈ）、６．０７〜６．１８（ｍ、２Ｈ）、６．３７〜６．４４（ｍ、２Ｈ）、６．８６〜７．０２（ｍ、８Ｈ）、７．１２（ｄｔ、１Ｈ）、７．１８（ｓ、２Ｈ）、７．５１（ｄｄ、１Ｈ）、７．６３（ｄｄ、１Ｈ）

得られた化合物（ｘ−１）の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行った。化合物（ｘ−１）は、昇温時において、１０１℃から１０６℃までスメクチック相を呈し、１０６℃から１８０℃以上までネマチック相を呈し、降温時において、８１℃までネマチック相を呈し結晶化した。

〔実施例1及び２、比較例１及び２〕
表２に示す組成となるように各成分を混合し、組成物１及び組成物２を得た。
表２は、組成物全量に対する各成分の含有量（質量％）を表す。

液晶化合物ｂ：下記式で表される化合物（Poliocolor ＬＣ２４２；ＢＡＳＦ社製）

組成物１の光重合性開始剤：イルガキュア３６９（チバ・ジャパン（株）製）
組成物２の光重合性開始剤：イルガキュア９０７（チバ・ジャパン（株）製）
レベリング剤：ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン製）

＜位相差板（ａ）の製造例＞
ガラス基板（ＥＡＧＬＥ２０００、平岡特殊硝子製作（株）製）に、ポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業（株）製）の２質量％水溶液を塗布し、乾燥後、厚さ８９ｎｍの膜を形成した。続いて、得られた膜の表面にラビング処理を施した。ラビング処理は、半自動ラビング装置（商品名：ＬＱ−００８型、常陽工学（株）製）を用いて、布（商品名：ＹＡ−２０−ＲＷ、吉川化工（株）製）によって、押し込み量０．１５ｍｍ、回転数５００ｒｐｍ、１６．７ｍｍ／ｓの条件で行った。続いてラビング処理を施した面に、表３に記載の組成物を、硬化後の膜厚が表３に記載の膜厚になるようにスピンコート法により塗布し、表３に記載の温度で加熱し、モノドメイン配向した塗膜を得た。その後、表３に記載の温度に保持して紫外線（ＳＰ−７、ウシオ電機（株）製）を表３に記載の露光量（積算光量）を照射した。これにより、ガラス基板上に、位相差板ｉ〜ｉｖ、ｖｉｉ及びｉｘを得た。

＜位相差板（ｂ）の製造例＞
ポリウレタンウレア（商品名：ウレタンウレア樹脂溶剤溶液 タイフォース ＣＳシリーズ アクリロイル基導入タイプ 品番：ＣＳ−Ｓ−６５、ＤＩＣ（株）（樹脂第二技術本部 スペシャリティ開発グループ、〒５９２−０００１ 大阪府高石市高砂１−３）製、重量平均分子量７万、不揮発分２５％、粘度６０，０００、アクリロイル基 当量重量（固形分換算）２８，０００）の溶液８０部（固形分量換算で２０部）、Ｎ−ビニルカルバゾール６．５部、光重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イルガキュア１８４；チバ・ジャパン（株）製）０．４部、レベリング剤（ポリエーテル変性シリコーンオイルＳＨ８４００；東レ・ダウコーニング社製）０．０１部、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０部を混合した後、ポリエチレンテレフタレート製の離型フィルム上にロール・ツー・ロール成膜装置を用いて塗り厚８００μｍで塗布し、１００℃で２５分乾燥し、ＵＶ照射（高圧水銀ランプ：１Ｐａｓｓ当たり ６７２ｍＪ／ｃｍ^２：３６５ｎｍ）し、フィルムを得た。得られたフィルムを、テンター延伸機を用いて横一軸延伸により３倍延伸し、位相差板ｖを得た。
位相差板ｖｉとしては、ポリカーボネート系一軸延伸フィルム（ピュアエースＷＲ Ｓ−１４２；帝人化成製）を用いた。

＜光学特性の測定＞
位相差板の位相差値（ｎｍ）の測定は、ガラス基板上に作成した位相差板を、ガラス基板から剥離することなく、測定機（ＫＯＢＲＡ−ＷＲ、王子計測機器社製）で計測した。基材に使用したガラス基板には、ほとんど複屈折性が無いため、剥離せずに測定しても、ガラス基板上に作製した位相差板の位相差値を得ることができる。立体表示システムの表示装置側及び眼鏡側に使用した位相差板の波長４５１ｎｍ、５４９ｎｍ、及び６２８ｎｍにおける位相差値を表４に示す。また、その位相差値の値から、［Ｒｅ（４５１）／Ｒｅ（５４９）］（αとする）及び［Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４９）］（βとする）を算出した。

＜眼鏡用円偏光板の作製＞
眼鏡用位相差板と偏光板（ＰＶＡ層：クラレＲポバールフィルム、片ＴＡＣ品、住友化学製）とを貼合することで眼鏡用円偏光板１０１を作製した。眼鏡用位相差板１０１としては、上記の位相差板ｉ〜ｉｘを用いた。

＜輝度及び色度の測定のための装置＞
図１０に示すように、簡易暗室ユニット（品番：ＤＲＵ−１５１５、シグマ光機製）中に液晶表示装置９７（型番：Ｎ２２０Ｗ、ＨＹＵＮＤＡＩ ＩＴ（株）製）を配置し、液晶表示装置９７の画面の一部に表示装置用位相差板９８を貼り付けた。表示装置用位相差板９８は、ガラス基板上に位相差板が形成されており、位相差板が表示装置側に、ガラス基板が後述する色彩輝度計側に来るように配置するとともに、その遅相軸方向が液晶表示装置９７から出る光の吸収軸方向（液晶表示装置が備える偏光板の吸収軸）と右又は左に４５度の角度をなすように設置した。なお、ここで右又は左とは、色彩輝度計１００側から液晶表示装置９７を見た際の回転方向とする。
表示装置用位相差板９７としては、上記の位相差板ｉ〜ｉｘを用いた。

液晶表示装置９７の画面のうち位相差板９８が貼り付けられている部分以外は、黒画用紙で遮光をした。また、表示装置用位相差板９８の面から垂直方向に６０ｃｍ離れた位置に、色彩輝度計（型番：ＢＭ−５Ａ、光源；Ｆ−１０、（株）トプコン製）のレンズ筒先端が来るように色彩輝度計１００を配置し、その先端部分に、眼鏡用円偏光板１０１と表示装置用位相差板９８とが平行になるように、かつ偏光板面が色彩輝度計１００側に向くように、眼鏡用円偏光板１０１を取り付けた。また、眼鏡用位相差板１０１と表示装置用位相差板９８とは同じものを用いた。
色彩輝度計は、ＲＳ−２３２Ｃケーブルを介してパーソナルコンピュータと繋げ、色彩輝度計の測定結果は、コンピュータ内のアプリケーションソフト（ＨａｒｖｅｙＳｃｏｐｅ、Ｈａｒｖｅｒ Ｌａｂ．製）を使用して出力した。

＜輝度及び色度の測定方法＞
前記液晶表示装置９７に、白（Ｙ＝７１．９、ｘ＝０．３０１、ｙ＝０．２８３）を全画面に表示させた。

表示装置用位相差板９８の遅相軸が液晶表示装置９７から発せられる偏光方向（すなわち液晶表示装置９７に具備される偏光板の吸収軸）と右４５度の角度をなすように（言い換えれば、表示装置用位相差板９８の遅相軸が液晶表示装置９７に具備される偏光板の透過軸と左４５度の角度をなすように）、表示装置用位相差板９８を配置した。色彩輝度計に取り付けた眼鏡用円偏光板１０１を回転させ、表示装置用位相差板９８の遅相軸の方向と眼鏡用円偏光板１０１を構成する位相差板の遅相軸の方向とが平行であり、かつ、円偏光板１０１に具備される偏光板の透過軸が、液晶表示装置９７に具備される偏光板の透過軸と直交するとき、眼鏡用円偏光板１０１の角度は、明視野状態における０度であるとした。

また、表示装置用位相差板９８の遅相軸が液晶表示装置９７から発せられる偏光方向（すなわち液晶表示装置９７に具備される偏光板の吸収軸）と左４５度の角度をなすように（言い換えれば、表示装置用位相差板９８の遅相軸が液晶表示装置９７に具備される偏光板の透過軸と右４５度の角度をなすように）、表示装置用位相差板９８を配置した。色彩輝度計に取り付けた眼鏡用円偏光板１０１を回転させ、表示装置用位相差板の遅相軸の方向と眼鏡用円偏光板１０１を構成する位相差板の遅相軸の方向とが直交し、かつ、円偏光板１０１に具備される偏光板の透過軸が、液晶表示装置９７に具備される偏光板の透過軸と直交するとき、眼鏡用円偏光板１０１の角度は、暗視野状態における０度であるとした。

色彩輝度計から液晶表示装置９７を見た場合の眼鏡用円偏光板１０１の回転が左回り方向を正とし、眼鏡用円偏光板１０１を明視野状態又は暗視野状態の初期配置から右及び左回りに１０度刻みで４０度まで、回転させた際の輝度Ｙ及び色度（ｘ，ｙ）の値を上記色彩輝度計１００を用いて測定した。暗視野での測定結果を表５に示す。
コントラストは、同一角度における明視野状態の輝度を暗視野状態の輝度で除して算出した。コントラストが高いほど、表示装置用位相差板９８と眼鏡用円偏光板１０１との両者における光漏れが少なく、眼鏡を通して観察する画像はより鮮明であるといえる。
また、０度におけるコントラスト値に対する、各角度におけるコントラスト値の比を、コントラスト保持率として示した。コントラスト保持率が小さいほど、観察角度の変化によってコントラストがより低下することを表す。

実施例１、３、４及び比較例１の結果を表５に示す。

輝度Y及び色度ｘ，ｙは、ＣＩＥ １９３１色度座標に基づく。
輝度Yの単位は、ｃｄ／ｍ^２である。

＜色再現性評価＞
表示装置用位相差板９８の遅相軸の方向と眼鏡用位相差板１０１の遅相軸の方向とが平行になるように配置し、色彩輝度計１００を分光放射計（型番：ＳＲ−３Ａ、（株）トプコンテクノハウス製）に替えた以外は、前記「輝度及び色度の測定のための装置」と同様の装置を作製し、分光放射計に入射する光の分光分布を測定した。表示装置用位相差板９８及び眼鏡用円偏光板１０１を配置しない状態での分光分布を基準の放射強度（１００％）とした場合の、各波長における放射強度比を算出した。放射強度比が高いほど、表示装置の出射する光の損失が少なく、表示装置が表示する画像に対する、眼鏡を通して観察する画像の色再現性が高いといえる。結果を表６に示す。

＜斜め方向からの色度測定１＞
「輝度及び色度の測定のための装置」と同じ装置を用いて、表示装置用位相差板９８及び眼鏡用円偏光板１０１を、それぞれに具備される位相差板の遅相軸が直交し、かつ、円偏光板１０１の偏光板の透過軸が、液晶表示装置９７に具備される偏光板の透過軸と平行になるように設置した。次いで図１１に示すように、色彩輝度計１００に取り付けた眼鏡用円偏光板１０１が、表示装置用位相差板９８の中心ａを向くように配置した。
色彩輝度計の走査方向１０２に沿って中心ａから同心円上の位置で、かつ仰角１０３を−６０度から６０度の位置まで２０度刻みで、色彩輝度計１００の位置を変更し、色度（ｘ，ｙ）を測定した。中心ａから眼鏡用円偏光板１０１までの距離は３５ｃｍとした。
測定された色度（ｘ，ｙ）から、色差△ｘｙを下記式に従い算出した。色差△ｘｙが小さいほど、観察する位置によって観察される色の変化は小さいといえる。
△ｘｙ＝（（ｘ（ｔ）−ｘ（０））^２＋（ｙ（ｔ）−ｙ（０））^２）^０．５
（式中、ｘ（ｔ）は、仰角ｔ度のときの色度ｘを表す。ｙ（ｔ）は、仰角ｔ度のときの色度ｙを表す。）
表示装置用位相差板９８及び眼鏡用円偏光板１０１を配置しない状態で測定した色度（ｘ_０，ｙ_０）を測定し、色度（ｘ，ｙ）との差△ｘ及び△ｙを下記式に従い算出した。△ｘ及び△ｙが小さいほど、表示装置用位相差板及び眼鏡用円偏光板を通して観察したことによる色の変化が小さいといえる。結果を表７に示す。
△ｘ＝ｘ−ｘ_０
△ｙ＝ｙ−ｙ_０

色度（ｘ，ｙ）は、ＣＩＥ １９３１色度座標に基づく。

＜斜め方向からの色度測定２＞
「斜め方向からの色度測定１」で用いた装置において、色彩輝度計１００に取り付けた眼鏡用円偏光板１０１を、色彩輝度計１００側から液晶表示装置９７を見て左に３０度回転させた状態で、前記と同様に色度（ｘ，ｙ）を測定し、測定された色度（ｘ，ｙ）から色差△ｘｙを算出した。結果を表８に示す。

＜式（１）を充足する位相差板を一部に含む立体表示システムの輝度・色度評価＞
本発明の立体表示システムの一例として、表９の実施例６、実施例７に示すように、眼鏡あるいは表示装置のいずれか一方のみに式（１）を充足する位相差板を配した立体表示システムを＜輝度及び色度の測定のための装置＞中に導入し、＜輝度及び色度の測定方法＞と同様の手法を用いて輝度Ｙ・色度（ｘ，ｙ）を測定した。また、得られた値から色差Δｘｙを算出した。暗視野での色度測定結果とそこから算出した色差Δｘｙを共に、表１０に示す。

輝度Y及び色度ｘ，ｙは、ＣＩＥ １９３１色度座標に基づく。
輝度Yの単位は、ｃｄ／ｍ^２である。

上記実施例によれば、本発明の立体表示システムは、角度を変えた場合でもコントラスト保持率が高いことから、観察角度によらず位相差板による偏光変換において光漏れが少ないことが確認された。さらに、表６によれば、広範の波長において高い放射強度比を示すことから、表示装置から出射する光が、表示装置用位相差板と眼鏡用円偏光板を構成する位相差板との両者を通過しても減衰しにくく、色度が変化しにくいことが示された。表７及び８によれば、本発明の立体表示システムは表示装置に対して斜め方向から観察したり、さらに眼鏡を傾けて観察したりしても、観察される色度は変化しにくいことが示された。加えて、眼鏡と表示装置のうちのいずれか一方のみに式（１）を充足する位相差板を含む立体表示システムにおいても、観察角度の変化に伴う色度変化を抑制することが可能であることが示された。

本発明の立体表示システムは、コントラスト及び色の角度依存性をを小さくすることができる。このことから、本発明の立体表示システムによれば、優れた立体画像を表示及び観察することができる。

３１Ａ，３１Ｂ 半透過型液晶表示装置
３２，５２，７２ バックライト
３３，４０，５３，５５，６３，７３，８２，９３，９５ 偏光板
３４，７４ 公知の位相差板
３５，４１，７５，８１ 基材
３６ 画素
３６Ａ 背面反射電極部
３６Ｂ 背面透明電極部
３７，７７ 液晶層
３８，７８ 前面透明電極
３９，７９ カラーフィルタ
４２，５６，６４，８０，９２ 位相差板（１）
４３ 背面電極
５１ 液晶表示装置
５４ 液晶セル
６１ 液晶表示装置以外のフラットパネル表示装置
６２ 従来のフラットパネル表示装置
７１Ａ，７１Ｂ，７１Ｃ 液晶表示装置
７６ 背面電極
９１ 立体表示システム用眼鏡
９４，９６ 液晶セル
９７ 液晶表示装置
９８ 表示装置用位相差板
ａ 表示装置用位相差板の中心
１００ 色彩輝度計
１０１ 眼鏡用円偏光板
１０２ 走査方向
１０３ 仰角

Claims (17)

1. 右眼用画像と左眼用画像とを交互に表示する表示装置と、表示装置が交互に表示する画像と同期して動作する液晶シャッター眼鏡とを含み、
   前記表示装置と前記眼鏡とがともに、位相差板を有し、
   表示装置が有する位相差板及び眼鏡が有する位相差板からなる群から選ばれる少なくとも１種が、式（１）を充足する位相差板である立体表示システム。
   Ｒｅ（４５１）＜Ｒｅ（５４９）＜Ｒｅ（６２８） （１）
   ［式（１）中、Ｒｅ（ν）は、波長νｎｍにおける位相差値を表す。］
2. 表示装置が有する位相差板及び眼鏡が有する位相差板の両方が、式（１）を充足する位相差板である請求項１記載の立体表示システム。
3. 表示装置が、直線偏光を円偏光へ変換する位相差板を有する装置であり、かつ眼鏡が、円偏光を直線偏光に変換する位相差板を有する装置である請求項１又は２記載の立体表示システム。
4. 式（１）を充足する位相差板が、重合性液晶化合物を重合して得られる位相差板、及びフィルムを延伸して得られる位相差板からなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１〜３のいずれか記載の立体表示システム。
5. 重合性液晶化合物が、式（Ａ）で表される化合物である請求項４記載の立体表示システム。
   Ｌ^１−Ｇ^１−Ｄ^１−Ａｒ−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｌ^２ （Ａ）
   ［式（Ａ）中、Ａｒは芳香環を有する２価の基を表し、該芳香環に含まれるπ電子の数Ｎ_πは、１２以上２２以下である。
   Ｄ^１及びＤ^２は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−、−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＮＲ^１−ＣＲ^２Ｒ^３−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＮＲ^３−、−ＣＯ−ＮＲ^１−、又は−ＮＲ^１−ＣＯ−を表す。
   Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
   Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれるメチン基は、
   

   

   で置き換っていてもよい。
   Ｌ^１及びＬ^２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ^１及びＬ^２からなる群から選ばれる少なくとも１種が、重合性基を有する１価の基を表す。］
6. Ｌ^１が式（Ｂ）で表される基であり、かつＬ^２が式（Ｃ）で表される基である請求項５記載の立体表示システム。
   Ｐ^１−Ｆ^１−（Ｂ^１−Ａ^１）_ｋ−Ｅ^１− （Ｂ）
   Ｐ^２−Ｆ^２−（Ｂ^２−Ａ^２）_ｌ−Ｅ^２− （Ｃ）
   ［式（Ｂ）及び（Ｃ）中、Ｂ^１、Ｂ^２、Ｅ^１及びＥ^２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^５Ｒ^６−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^５−、−ＮＲ^５−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｓ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｓ−又は単結合を表す。ｋが２以上の整数である場合、複数のＢ^１は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｌが２以上の整数である場合、複数のＢ^２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
   Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
   Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれるメチン基は、
   

   

   で置き換っていてもよい。ｋが２以上の整数である場合、複数のＡ^１は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｌが２以上の整数である場合、複数のＡ^２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
   ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
   Ｆ^１及びＦ^２は、炭素数１〜１２の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
   Ｐ^１は、重合性基を表す。
   Ｐ^２は、水素原子又は重合性基を表す。］
7. Ａｒが、式（Ａｒ−６）で表される基である請求項５又は６記載の立体表示システム。
   

   

   ［式（Ａｒ−６）中、Ｚ^１は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ^７Ｒ^８、−ＳＲ^７を表す。ｎが２以上の整数である場合、複数のＺ^１は互いに同一であっても異なっていてもよい。
   Ｒ^７及びＲ^８は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
   Ｑ^１は、−Ｓ−、−Ｏ−又は−ＮＲ^９−を表す。
   Ｒ^９は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
   Ｙ^２は、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の１価の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数３〜１２の１価の芳香族複素環式基を表す。
   ｎは、０〜２の整数を表す。］
8. Ｇ^１及びＧ^２が、ともにシクロヘキサン−１，４−ジイル基である請求項５〜７のいずれか記載の立体表示システム。
9. 重合性基が、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基及びメタクリロイルオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項５〜８のいずれか記載の立体表示システム。
10. フィルムが、ポリカーボネートに由来する構造単位、ポリウレタンに由来する構造単位又はポリウレタンウレアに由来する構造単位を含むフィルムである請求項４記載の立体表示システム。
11. フィルムが、ポリカーボネートに由来する構造単位、ポリウレタンに由来する構造単位又はポリウレタンウレアに由来する構造単位、並びにカルバゾール骨格、フルオレン骨格、ベンゾチアゾール骨格及びナフタレン骨格からなる群から選ばれる少なくとも１種を有する重合性化合物に由来する構造単位を含むフィルムである請求項４又は１０記載の立体表示システム。
12. 表示装置が交互に表示する画像と同期して動作する液晶シャッター眼鏡であり、かつ式（１）を充足する位相差板を有する立体表示システム用眼鏡。
    Ｒｅ（４５１）＜Ｒｅ（５４９）＜Ｒｅ（６２８） （１）
    ［式（１）中、Ｒｅ（ν）は、波長νｎｍにおける位相差値を表す。］
13. 式（１）を充足する位相差板が、式（Ａ）で表される化合物を重合して得られる位相差板である請求項１２記載の立体表示システム用眼鏡。
    Ｌ^１−Ｇ^１−Ｄ^１−Ａｒ−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｌ^２ （Ａ）
    ［式（Ａ）中、Ａｒは、芳香環を有する２価の基を表し、該芳香環に含まれるπ電子の数は、１２以上２２以下である。
    Ｄ^１及びＤ^２は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−、−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＮＲ^１−ＣＲ^２Ｒ^３−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＮＲ^３−、−ＣＯ−ＮＲ^１−、又は−ＮＲ^１−ＣＯ−を表す。
    Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
    Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれるメチン基は、
    

    

    で置き換っていてもよい。
    Ｌ^１及びＬ^２は、それぞれ独立に、１価の基有機基を表し、Ｌ^１及びＬ^２からなる群から選ばれる少なくとも１種は、重合性基を有する１価の基を表す。］
14. 式（１）を充足する位相差板が、フィルムを延伸して得られる位相差板である請求項１２記載の立体表示システム用眼鏡。
15. 右眼用画像と左眼用画像とを交互に表示する表示装置であり、式（１）を充足する位相差板を有する立体表示システム用表示装置。
    Ｒｅ（４５１）＜Ｒｅ（５４９）＜Ｒｅ（６２８） （１）
    ［式（１）中、Ｒｅ（ν）は、波長νｎｍにおける位相差値を表す。］
16. 式（１）を充足する位相差板が、式（Ａ）で表される化合物を重合して得られる位相差板である請求項１５記載の立体表示システム用表示装置。
    Ｌ^１−Ｇ^１−Ｄ^１−Ａｒ−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｌ^２ （Ａ）
    ［式（Ａ）中、Ａｒは、芳香環を有する２価の基を表し、該芳香環に含まれるπ電子の数は、１２以上２２以下である。
    Ｄ^１及びＤ^２は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−、−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＮＲ^１−ＣＲ^２Ｒ^３−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＮＲ^３−、−ＣＯ−ＮＲ^１−、又は−ＮＲ^１−ＣＯ−を表す。
    Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
    Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれるメチン基は、
    

    

    で置き換っていてもよい。
    Ｌ^１及びＬ^２は、それぞれ独立に、有機基を表す。ただし、Ｌ^１及びＬ^２からなる群から選ばれる少なくとも１種は、重合性基を有する基である。］
17. 式（１）を充足する位相差板が、フィルムを延伸して得られる位相差板である請求項１５記載の立体表示システム用表示装置。

Images