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JP2012099290A - Organic el display device - Google Patents

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JP2012099290A
JP2012099290A JP2010244738A JP2010244738A JP2012099290A JP 2012099290 A JP2012099290 A JP 2012099290A JP 2010244738 A JP2010244738 A JP 2010244738A JP 2010244738 A JP2010244738 A JP 2010244738A JP 2012099290 A JP2012099290 A JP 2012099290A
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JP
Japan
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insulating film
organic
inorganic insulating
display device
region
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Pending
Application number
JP2010244738A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hisanori Tokuda
尚紀 徳田
伸哉 ▲高▼木
Shinya Takagi
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Canon Inc
Japan Display Inc
Original Assignee
Canon Inc
Hitachi Displays Ltd
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Publication date
Application filed by Canon Inc, Hitachi Displays Ltd filed Critical Canon Inc
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Abstract

【課題】有機EL素子が配列された領域に水分が侵入することを抑制する。
【解決手段】複数のTFT素子が形成された基板GAと、複数のTFT素子の上側に形成される第1の無機絶縁膜IL1と、第1の無機絶縁膜IL1の上側に配列される複数の有機EL素子によって形成される素子配列領域と、素子配列領域内の各画素を隔て、かつ外側を覆う第1の有機絶縁膜OL1と、第1の有機絶縁膜OL1を上側から覆って、第1の無機絶縁膜IL1の第1の有機絶縁膜OL1から露出する部分で重複して密着される第2の無機絶縁膜IL2と、第1の無機絶縁膜IL1に埋設される配線ES3と、を有する有機EL表示装置であって、配線ES3は、第2の無機絶縁膜IL2が密着される密着領域SLの下側を通過する密着領域通過部を有し、密着領域通過部は、主配線部と、主配線部から側方に突出する少なくとも1つの突出部と、を有する、ことを特徴とする有機EL表示装置。
【選択図】図3
Water is prevented from entering a region where organic EL elements are arranged.
A substrate GA on which a plurality of TFT elements are formed, a first inorganic insulating film IL1 formed on the upper side of the plurality of TFT elements, and a plurality of elements arranged on the upper side of the first inorganic insulating film IL1. The element array region formed by the organic EL elements, the first organic insulating film OL1 that covers each pixel in the element array region and covers the outside, and the first organic insulating film OL1 are covered from above, and the first A second inorganic insulating film IL2 that is in close contact with the first organic insulating film OL1 exposed from the first organic insulating film OL1, and a wiring ES3 embedded in the first inorganic insulating film IL1. In the organic EL display device, the wiring ES3 has an adhesion region passing portion that passes below the adhesion region SL to which the second inorganic insulating film IL2 is adhered, and the adhesion region passage portion is connected to the main wiring portion. , Projecting sideways from the main wiring section It has one protruding portion, the organic EL display device, characterized in that.
[Selection] Figure 3

Description

本発明は、有機EL表示装置に関する。   The present invention relates to an organic EL display device.

有機EL表示装置(Organic Electro-Luminescence display)は、複数の有機EL素子が配列された素子配列領域を有する基板を備えている。   An organic EL display (Organic Electro-Luminescence display) includes a substrate having an element arrangement region in which a plurality of organic EL elements are arranged.

ここで、有機EL素子は、水分によって劣化が生じる性質を有しているため、素子配列領域を水分から保護する必要がある。水分から保護する1つの方法としては、例えば、単層あるいは複数層の無機絶縁膜や有機絶縁膜を用いることにより、素子配列領域を封止することが考えられる(薄膜封止)。   Here, since the organic EL element has a property of being deteriorated by moisture, it is necessary to protect the element arrangement region from moisture. As one method for protecting from moisture, for example, it is conceivable to seal the element arrangement region by using a single layer or a plurality of layers of inorganic insulating film or organic insulating film (thin film sealing).

ここで、無機絶縁膜および有機絶縁膜を用いて素子配列領域を水分から保護をする有機EL表示装置の一例としては、図5Aおよび図5Bで示される有機EL表示装置が考えられる。この有機EL表示装置においては、図5Aで示されるように、素子配列領域DPの外周は有機絶縁膜OL1で覆われて、さらに有機絶縁膜OL1が無機絶縁膜IL2で覆われる。そして、図5Bにおいても示されるように、無機絶縁膜IL2と、基板GA上の保護絶縁膜として形成された無機絶縁膜IL1とが、素子配列領域DP外で互いに密着し、これにより有機EL素子が水分から保護される。   Here, as an example of the organic EL display device that protects the element array region from moisture using an inorganic insulating film and an organic insulating film, the organic EL display device shown in FIGS. 5A and 5B can be considered. In this organic EL display device, as shown in FIG. 5A, the outer periphery of the element array region DP is covered with an organic insulating film OL1, and the organic insulating film OL1 is further covered with an inorganic insulating film IL2. As shown also in FIG. 5B, the inorganic insulating film IL2 and the inorganic insulating film IL1 formed as the protective insulating film on the substrate GA are in close contact with each other outside the element arrangement region DP, whereby the organic EL element Is protected from moisture.

しかしながら、無機絶縁膜IL1には配線が埋設される。この配線が、2つの無機絶縁膜が密着する部分の下側を通過する場合には、当該配線を介して素子配列領域DPに水分が侵入することがある。   However, a wiring is embedded in the inorganic insulating film IL1. When this wiring passes below the portion where the two inorganic insulating films are in close contact, moisture may enter the element array region DP through the wiring.

本発明は、上記課題に鑑みて、有機絶縁膜を間に介在させた2層の無機絶縁膜が素子配列領域DP外で密着した有機EL表示装置において、2層のうちの下側の無機絶縁膜に埋設された配線を介して、素子配列領域DPに水分が侵入するのを抑制することを目的とする。   In view of the above problems, the present invention provides an organic EL display device in which two layers of an inorganic insulating film with an organic insulating film interposed therebetween are in close contact outside the element arrangement region DP. It is an object to suppress moisture from entering the element array region DP through the wiring embedded in the film.

本発明にかかる有機EL表示装置は、上記課題に鑑みて、複数のTFT素子が配列された基板と、前記複数のTFT素子の上側に形成される第1の無機絶縁膜と、前記第1の無機絶縁膜の上側に配列される複数の有機EL素子によって形成される素子配列領域と、前記素子配列領域内の各画素を隔て、かつ外側を覆う第1の有機絶縁膜と、前記第1の有機絶縁膜を上側から覆って、かつ、前記第1の無機絶縁膜の前記第1の有機絶縁膜から露出する部分に重複して密着される第2の無機絶縁膜と、前記第1の無機絶縁膜に埋設される配線と、を有する有機EL表示装置であって、前記配線は、前記第2の無機絶縁膜が密着される密着領域の下側を通過する密着領域通過部を有し、前記密着領域通過部は、さらに、主配線部と、前記主配線部から側方に突出する少なくとも1つの突出部と、を有する、ことを特徴とする。   In view of the above problems, an organic EL display device according to the present invention includes a substrate on which a plurality of TFT elements are arranged, a first inorganic insulating film formed above the plurality of TFT elements, and the first An element arrangement region formed by a plurality of organic EL elements arranged on the upper side of the inorganic insulating film; a first organic insulating film which covers each pixel in the element arrangement region and covers the outside; and A second inorganic insulating film that covers the organic insulating film from above and is in close contact with a portion of the first inorganic insulating film exposed from the first organic insulating film; and the first inorganic insulating film An organic EL display device having a wiring embedded in an insulating film, wherein the wiring has a close contact region passing portion that passes under a close contact region to which the second inorganic insulating film is closely attached, The contact area passing part further includes a main wiring part and the main wiring part. It has at least one protrusion projecting laterally, and wherein the.

また、本発明にかかる有機EL表示装置の一態様では、前記配線は、前記複数の有機EL素子を駆動するための電源を供給する電源線である、ことを特徴としてもよい。   In the organic EL display device according to the aspect of the invention, the wiring may be a power supply line that supplies power for driving the plurality of organic EL elements.

また、本発明にかかる有機EL表示装置の一態様では、前記主配線部は、少なくとも一カ所で方向を変えて前記密着領域の下側を通過する、ことを特徴としてもよい。   Further, in one aspect of the organic EL display device according to the present invention, the main wiring portion may change direction at least at one place and pass under the adhesion region.

また、本発明にかかる有機EL表示装置の一態様では、前記主配線部は、コの字型に敷設される部分を有している、ことを特徴としてもよい。   In one aspect of the organic EL display device according to the present invention, the main wiring portion may have a portion laid in a U-shape.

また、本発明にかかる有機EL表示装置の一態様では、前記主配線部は、クランク型に敷設される、ことを特徴としてもよい。   In one aspect of the organic EL display device according to the present invention, the main wiring portion may be laid in a crank shape.

また、本発明にかかる有機EL表示装置の一態様では、前記密着領域は、前記素子配列領域を取り囲むように形成される、ことを特徴としてもよい。   In one aspect of the organic EL display device according to the present invention, the adhesion region may be formed so as to surround the element arrangement region.

また、本発明にかかる有機EL表示装置の一態様では、第2の無機絶縁膜の上側に形成される第2の有機絶縁膜と、前記第2の有機絶縁膜を上側から覆って、前記第2の無機絶縁膜の前記第2の有機絶縁膜から露出する部分と密着する第3の無機絶縁膜と、をさらに有し、前記第1の無機絶縁膜は、前記第1の有機絶縁膜から露出する部分で前記第2の無機絶縁膜と密着し、前記第3の無機絶縁膜と前記第2の無機絶縁膜とが密着する領域の少なくとも一部は、前記第1の無機絶縁膜と前記第2の無機絶縁膜とが密着する前記密着領域と、重複する、ことを特徴としてもよい。   In one aspect of the organic EL display device according to the present invention, the second organic insulating film formed on the upper side of the second inorganic insulating film and the second organic insulating film are covered from above, and the first A third inorganic insulating film that is in close contact with a portion of the second inorganic insulating film that is exposed from the second organic insulating film, and the first inorganic insulating film is formed from the first organic insulating film. The exposed portion is in close contact with the second inorganic insulating film, and at least a part of the region in which the third inorganic insulating film and the second inorganic insulating film are in close contact is formed between the first inorganic insulating film and the first inorganic insulating film. It may be characterized in that it overlaps with the contact region where the second inorganic insulating film is in close contact.

本発明によれば、有機絶縁膜を間に介在させた2つの無機絶縁膜が素子配列領域DP外で密着した有機EL表示装置において、2つのうちの下側の無機絶縁膜に埋設された配線を介して、素子配列領域DPに水分が侵入するのが抑制される。   According to the present invention, in an organic EL display device in which two inorganic insulating films having an organic insulating film interposed therebetween are in close contact outside the element array region DP, wiring embedded in the lower inorganic insulating film of the two Through this, the entry of moisture into the element array region DP is suppressed.

本発明の実施形態にかかる有機EL表示装置の上面概略図である。1 is a schematic top view of an organic EL display device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態にかかる有機EL表示装置の基板上に敷設される一部の配線の様子を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the mode of the one part wiring laid on the board | substrate of the organic electroluminescent display apparatus concerning embodiment of this invention. 図2のIII−III断面の様子を説明する図である。It is a figure explaining the mode of the III-III cross section of FIG. 本発明の実施形態における走査回路電源線およびアノード電源線の密着領域通過部を示す図である。It is a figure which shows the contact | attachment area | region passage part of the scanning circuit power supply line and anode power supply line in embodiment of this invention. 本発明の実施形態におけるカソード電源線の密着領域通過部の様子を示す図である。It is a figure which shows the mode of the contact | adherence area | region passage part of the cathode power supply line in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における配線の密着領域通過部の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the contact | adherence area | region passage part of the wiring in embodiment of this invention. 無機絶縁膜および有機絶縁膜を用いて、素子配列領域を水分から保護をする有機EL表示装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the organic electroluminescence display which protects an element arrangement | sequence area | region from a water | moisture content using an inorganic insulating film and an organic insulating film. 図5AのVB−VB断面の様子を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the mode of the VB-VB cross section of FIG. 5A.

以下、本発明の実施形態に係る有機EL表示装置について、図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, an organic EL display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明の実施形態にかかる有機EL表示装置1の上面を概略的に示す図である。本実施形態の有機EL表示装置1は、複数の有機EL素子が配列される素子配列領域DPを基板GA上に有しており、素子配列領域DPは、各画素間を有機絶縁膜OL1(以下、本明細書において第1の有機絶縁膜とも言う。)によって隔離され、有機絶縁膜OL1は、さらに、素子配列領域DPの外周を覆っている。さらに、第1の無機絶縁膜IL1と第2の無機絶縁膜IL2とが互いに密着する領域に取り囲まれている。   FIG. 1 is a diagram schematically showing an upper surface of an organic EL display device 1 according to an embodiment of the present invention. The organic EL display device 1 of the present embodiment has an element arrangement region DP in which a plurality of organic EL elements are arranged on a substrate GA, and the element arrangement region DP has an organic insulating film OL1 (hereinafter referred to as an organic insulating film OL1). In this specification, it is also referred to as a first organic insulating film), and the organic insulating film OL1 further covers the outer periphery of the element arrangement region DP. Further, the first inorganic insulating film IL1 and the second inorganic insulating film IL2 are surrounded by a region where they are in close contact with each other.

まず、素子配列領域DPには、多数の走査信号線GLが互いに等間隔を置いて敷設されるとともに、多数の映像信号線DLが、走査信号線GLが敷設される方向とは垂直となる方向に互いに等間隔をおいて敷設される。そして、これら走査信号線GLと映像信号線DLとによって区画される各画素領域には、MIS(Metal-Insulator-Semiconductor)構造のスイッチングに用いる薄膜トランジスタが配置される。各走査信号線GLおよび各映像信号線DLには、走査信号線駆動回路(不図示)および映像信号線駆動回路(不図示)が接続される。これらの駆動回路から信号が出力されることにより、各画素に配置された有機EL素子の発光が制御される。   First, in the element array region DP, a large number of scanning signal lines GL are laid at equal intervals, and a large number of video signal lines DL are perpendicular to the direction in which the scanning signal lines GL are laid. Are laid out at equal intervals. In each pixel region partitioned by the scanning signal line GL and the video signal line DL, a thin film transistor used for switching of a MIS (Metal-Insulator-Semiconductor) structure is disposed. A scanning signal line driving circuit (not shown) and a video signal line driving circuit (not shown) are connected to each scanning signal line GL and each video signal line DL. By outputting signals from these drive circuits, the light emission of the organic EL elements arranged in each pixel is controlled.

素子配列領域DPの各有機EL素子は、アノード電極(陽極)とカソード電極(陰極)と、これらの間に挟持される有機層と、を含んで構成される。アノード電極およびカソード電極間に挟持された有機層は、発光層の他に、ホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層、電子注入層等の層を含んで構成されて、両電極間に生じた電位差により有機EL素子の発光が制御される。   Each organic EL element in the element arrangement region DP includes an anode electrode (anode), a cathode electrode (cathode), and an organic layer sandwiched between them. The organic layer sandwiched between the anode electrode and the cathode electrode includes layers such as a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and an electron injection layer in addition to the light emitting layer. The light emission of the organic EL element is controlled by the potential difference.

つぎに、素子配列領域DPを水分から保護するための、第1の無機絶縁膜IL1と、有機絶縁膜OL1と、第2の無機絶縁膜IL2について順番に説明をする。   Next, the first inorganic insulating film IL1, the organic insulating film OL1, and the second inorganic insulating film IL2 for protecting the element array region DP from moisture will be described in order.

第1の無機絶縁膜IL1は、基板GA上に窒化シリコン(SiN)で形成されている。本実施形態の第1の無機絶縁膜IL1は、素子配列領域DPの下地として基板GAのほぼ全体に形成されて、薄膜トランジスタ等を保護する保護絶縁膜となっている。   The first inorganic insulating film IL1 is formed of silicon nitride (SiN) on the substrate GA. The first inorganic insulating film IL1 of the present embodiment is formed on almost the entire substrate GA as a base of the element array region DP, and serves as a protective insulating film that protects the thin film transistor and the like.

有機絶縁膜OL1は、樹脂によって形成されて、素子配列領域DPの外側を覆って配置される。本実施形態における有機絶縁膜OL1は、図1で示されるように、素子配列領域DPの外側に広がって形成され、第1の無機絶縁膜IL1の一部が、有機絶縁膜OL1から露出するようになっている。有機絶縁膜OL1は、具体的には、各有機EL素子のカソード電極に接して下側に配置されて、表示制御の対象となる各有機EL素子それぞれを隔てている。   The organic insulating film OL1 is formed of resin and is disposed so as to cover the outside of the element arrangement region DP. As shown in FIG. 1, the organic insulating film OL1 in the present embodiment is formed to extend outside the element arrangement region DP, and a part of the first inorganic insulating film IL1 is exposed from the organic insulating film OL1. It has become. Specifically, the organic insulating film OL1 is disposed on the lower side in contact with the cathode electrode of each organic EL element, and separates each organic EL element to be subjected to display control.

そして、第2の無機絶縁膜IL2は、有機絶縁膜OL1の上側に、窒化シリコン(SiN)で形成される。本実施形態の第2の無機絶縁膜IL2は、図1で示すように、有機絶縁膜OL1よりもさらに広がって有機絶縁膜OL1の全体を覆うように形成される。そして図1で示されるように、第2の無機絶縁膜IL2は、有機絶縁膜OL1よりも広がって形成される部分が第1の無機絶縁膜IL1に成膜されて、これにより、第1の無機絶縁膜IL1の有機絶縁膜OL1から露出した部分と重複して密着されることとなる。   The second inorganic insulating film IL2 is formed of silicon nitride (SiN) above the organic insulating film OL1. As shown in FIG. 1, the second inorganic insulating film IL2 of the present embodiment is formed so as to further spread over the organic insulating film OL1 and cover the entire organic insulating film OL1. As shown in FIG. 1, a portion of the second inorganic insulating film IL2 that is formed so as to be wider than the organic insulating film OL1 is formed on the first inorganic insulating film IL1. The inorganic insulating film IL1 is in close contact with the portion exposed from the organic insulating film OL1.

第1の無機絶縁膜IL1および第2の無機絶縁膜IL2が互いに密着する領域(以下、本実施形態において密着領域というものとする)は、平面的に見て、素子配列領域DPおよび有機絶縁膜OL1を取り囲む枠のような形状となっている。すなわち、本実施形態の密着領域は枠状の領域となっており、耐水性に優れた2つの無機絶縁膜によって、密着領域の内側に存在する素子配列領域DPおよび有機絶縁膜OL1が水分から封止される。なお、本実施形態では、第2の無機絶縁膜IL2の上層に、さらに、有機絶縁膜OL1とは異なる有機絶縁膜OL2(本明細書において、第2の有機絶縁膜ともいう。)と、第3の無機絶縁膜IL3とが積層されるが、図1においてはその表記を省略しており、後述する図3において説明をする。   A region where the first inorganic insulating film IL1 and the second inorganic insulating film IL2 are in close contact with each other (hereinafter referred to as an adhesive region in the present embodiment) is an element arrangement region DP and an organic insulating film in plan view. It has a shape like a frame surrounding OL1. That is, the adhesion region of this embodiment is a frame-like region, and the element arrangement region DP and the organic insulation film OL1 existing inside the adhesion region are sealed from moisture by two inorganic insulating films having excellent water resistance. Stopped. In the present embodiment, an organic insulating film OL2 (also referred to as a second organic insulating film in this specification), which is different from the organic insulating film OL1, is formed on the second inorganic insulating film IL2. 3 is laminated, but the notation is omitted in FIG. 1, and will be described in FIG. 3 to be described later.

次に、図2は、本実施形態にかかる有機EL表示装置1の基板GA上に敷設される一部の配線を説明する図であり、図3は、図2のIII−III断面の様子を説明する図である。   Next, FIG. 2 is a diagram for explaining a part of wirings laid on the substrate GA of the organic EL display device 1 according to the present embodiment, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line III-III in FIG. It is a figure explaining.

本実施形態では、図2で示されるように、走査回路電源線ES1と、カソード電源線ES2と、アノード電源線ES3は、フレキシブルプリント基板と接続するための端子部TEから密着領域SLによって保護された領域内へと敷設される。これらの電源線は、アルミニウムによって形成された配線であって、走査回路電源線ES1は、素子配列領域DPの両側に配置された走査線駆動回路GDRに電源を供給するための配線となっており、カソード電源線ES2およびアノード電源線ES3は、素子配列領域DPにおける各有機EL素子のカソード電極やアノード電極に電源を供給するための配線となっている。   In the present embodiment, as shown in FIG. 2, the scanning circuit power supply line ES1, the cathode power supply line ES2, and the anode power supply line ES3 are protected by the adhesion region SL from the terminal portion TE for connecting to the flexible printed board. Laid in the area. These power supply lines are wirings formed of aluminum, and the scanning circuit power supply line ES1 is a wiring for supplying power to the scanning line driving circuits GDR disposed on both sides of the element arrangement region DP. The cathode power supply line ES2 and the anode power supply line ES3 are wirings for supplying power to the cathode electrode and the anode electrode of each organic EL element in the element array region DP.

また、走査回路電源線ES1は、図3で示されるように、第1の無機絶縁膜IL1に埋設されており、カソード電源線ES2およびアノード電源線ES3も同様に埋設されて、これらは第1の無機絶縁膜IL1に包み込まれるように覆われる。   Further, as shown in FIG. 3, the scanning circuit power supply line ES1 is embedded in the first inorganic insulating film IL1, and the cathode power supply line ES2 and the anode power supply line ES3 are also embedded in the same manner. Covered with the inorganic insulating film IL1.

しかしながら、第1の無機絶縁膜IL1の表面には配線に起因した段差が生じ、第2の無機絶縁膜IL2の上面から密着領域SLを経て配線に到達してしまうような微小なクラックが形成される場合がある。そして、配線の側面においては、第1の無機絶縁膜IL1との密着性が悪くなって隙間が形成される場合もある。上述の電源線をはじめとする配線では、他の配線よりも比較的太い線幅となるため、配線材料と無機絶縁膜材料の間に生じる応力の差による歪みが生じやすくなり、密着性がさらに悪化するものと考えられる。   However, a step due to the wiring occurs on the surface of the first inorganic insulating film IL1, and a minute crack is formed that reaches the wiring from the upper surface of the second inorganic insulating film IL2 through the adhesion region SL. There is a case. On the side surface of the wiring, the adhesiveness with the first inorganic insulating film IL1 may be deteriorated to form a gap. In the wiring including the above-described power supply line, the line width is relatively thicker than other wirings, so that distortion due to a difference in stress generated between the wiring material and the inorganic insulating film material is likely to occur, and adhesion is further increased. It is thought to get worse.

ここで特に、本実施形態の走査回路電源線ES1等の電源線では、密着領域SLの下側を通過する部分(以下、本実施形態において、密着領域通過部というものとする。)が、電流が通過する主要な経路となる主配線部MPと、主配線部MPからその側方に突出する少なくとも1つの突出部Prと、を含んで構成される。図4Aは、本実施形態における走査回路電源線ES1およびアノード電源線ES3の密着領域通過部の様子を示す図であり、図4Bは、本実施形態におけるカソード電源線ES2の密着領域通過部の様子を示す図である。図4の各図においては、端子部TEが図中下側に、素子配列領域DPが図中上側に配置されているものとしている。走査回路電源線ES1等は、主配線部MPが直線状に敷設されて、突出部Prが主配線部MPの側面の複数箇所から凸型の形状で形成され、カソード電源線ES2は、主配線部MPがクランク状に蛇行して敷設されて、主配線部MPの側面に複数の突出部Prが同様に形成される。   Here, in particular, in the power supply line such as the scanning circuit power supply line ES1 of the present embodiment, a portion passing through the lower side of the contact region SL (hereinafter referred to as a contact region passing portion in the present embodiment) is a current. The main wiring part MP, which is a main path through which is passed, and at least one protruding part Pr protruding from the main wiring part MP to the side thereof are configured. FIG. 4A is a diagram illustrating a state of an adhesion region passing portion of the scanning circuit power supply line ES1 and the anode power supply line ES3 in the present embodiment, and FIG. 4B is a state of an adhesion region passing portion of the cathode power supply line ES2 in the present embodiment. FIG. In each drawing of FIG. 4, it is assumed that the terminal portion TE is arranged on the lower side in the drawing, and the element arrangement region DP is arranged on the upper side in the drawing. In the scanning circuit power supply line ES1 and the like, the main wiring part MP is laid in a straight line, the projecting parts Pr are formed in a convex shape from a plurality of positions on the side surface of the main wiring part MP, and the cathode power supply line ES2 The portions MP meander and lay in a crank shape, and a plurality of projecting portions Pr are similarly formed on the side surfaces of the main wiring portion MP.

このように、主配線部MPの側面に突出部Prが形成されると、第1の無機絶縁膜IL1との密着性が向上し、密着領域SLの上側から配線に至る水分を、配線の側面で留めることができる。また、素子配列領域DPへの水分の侵入を防ぐ上では、主配線部MPが直線状となるよりも、主配線部MPがクランク状に蛇行するのが好ましいが、図4Cのように主配線部MPがコの字型に敷設される部分を有していたり、S字型に敷設される部分を有しているのがさらに好適である。このように主配線部MPが少なくとも一カ所で方向を変えて、密着領域SLの下側を通過することで、水分が侵入する経路が延長されて水分の侵入が抑制される。   As described above, when the protruding portion Pr is formed on the side surface of the main wiring portion MP, the adhesion with the first inorganic insulating film IL1 is improved, and moisture from the upper side of the adhesion region SL to the wiring is transferred to the side surface of the wiring. Can be fastened. Further, in order to prevent moisture from entering the element array region DP, it is preferable that the main wiring portion MP meanders in a crank shape rather than a straight line, but the main wiring portion MP as shown in FIG. 4C. More preferably, the part MP has a portion laid in a U-shape or a portion laid in an S-shape. As described above, the main wiring portion MP changes its direction at least at one place and passes below the adhesion region SL, so that the route through which moisture enters is extended and moisture entry is suppressed.

なお、主配線部MPは、数十ミクロン〜数百ミクロンのオーダーの線幅で形成され、これに対し突出部Prは、数ミクロン〜数十ミクロンのオーダーで形成されるのが望ましい。図4A〜Cで示される突出部Prの線幅は、主配線部MPの10分の1程度になっているが、突出部Prの線幅は、主配線部MPの10分の1よりもさらに太くなってもよいし細くなっても良い。また、突出部Prは、主配線部MPからほぼ垂直に突出して、数ミクロン〜数十ミクロンの長さを有して形成されるが、主配線部MPの線幅よりも長く形成されても良い。   The main wiring portion MP is formed with a line width on the order of several tens of microns to several hundreds of microns, while the protrusion Pr is preferably formed on the order of several microns to several tens of microns. The line width of the protrusion Pr shown in FIGS. 4A to 4C is about one-tenth of the main wiring part MP, but the line width of the protrusion Pr is less than one-tenth of the main wiring part MP. It may be thicker or thinner. The protruding portion Pr protrudes substantially perpendicularly from the main wiring portion MP and has a length of several microns to several tens of microns. However, the protruding portion Pr may be longer than the line width of the main wiring portion MP. good.

なお、本実施形態では、図3で示すように、樹脂によって形成された第2の有機絶縁膜OL2と、窒化シリコンによって形成された第3の無機絶縁膜IL3とがさらに形成されて、3層の無機絶縁膜と2層の有機絶縁膜によって素子配列領域DPが保護される。第2の有機絶縁膜OL2は、第2の無機絶縁膜IL2の上側に形成され、第3の無機絶縁膜IL3は、第2の無機絶縁膜IL2の第2の有機絶縁膜OL2から露出した部分と密着する。第3の無機絶縁膜IL3と第2の無機絶縁膜IL2とが密着する領域は、図3で示されるように、第2の無機絶縁膜IL2と第1の無機絶縁膜IL1が密着する領域と、少なくとも一部が重複している。第2の有機絶縁膜OL2は、第1の有機絶縁膜OL1よりも厚く形成されて、第2の有機絶縁膜OL2の外周部分は滑らかに傾斜した曲面で形成される。   In the present embodiment, as shown in FIG. 3, a second organic insulating film OL2 formed of resin and a third inorganic insulating film IL3 formed of silicon nitride are further formed to form three layers. The element arrangement region DP is protected by the inorganic insulating film and the two-layer organic insulating film. The second organic insulating film OL2 is formed above the second inorganic insulating film IL2, and the third inorganic insulating film IL3 is a portion of the second inorganic insulating film IL2 exposed from the second organic insulating film OL2. Close contact with. As shown in FIG. 3, the region where the third inorganic insulating film IL3 and the second inorganic insulating film IL2 are in close contact with each other is the region where the second inorganic insulating film IL2 and the first inorganic insulating film IL1 are in close contact with each other. , At least some overlap. The second organic insulating film OL2 is formed thicker than the first organic insulating film OL1, and the outer peripheral portion of the second organic insulating film OL2 is formed with a smoothly inclined curved surface.

このように、本実施形態の有機EL表示装置1は、第1の無機絶縁膜IL1と第2の無機絶縁膜IL2と有機絶縁膜OL1に加えて、第3の無機絶縁膜IL3と第2の有機絶縁膜OL2を有しているが、これにより、密着領域SLの内側がさらに保護されるので望ましい。しかしながら、必ずしも、第3の無機絶縁膜IL3および第2の有機絶縁膜OL2を有しておらずともよく、間に有機絶縁膜OL1を介在させた第1の無機絶縁膜IL1と第2の無機絶縁膜IL2とによる密着領域SLにより、その内側が保護されることとなる。   As described above, the organic EL display device 1 of the present embodiment includes the third inorganic insulating film IL3 and the second inorganic insulating film IL1, in addition to the first inorganic insulating film IL1, the second inorganic insulating film IL2, and the organic insulating film OL1. The organic insulating film OL2 is included, which is desirable because it further protects the inside of the adhesion region SL. However, it is not always necessary to have the third inorganic insulating film IL3 and the second organic insulating film OL2, and the first inorganic insulating film IL1 and the second inorganic insulating film with the organic insulating film OL1 interposed therebetween. The inner side is protected by the adhesion region SL formed by the insulating film IL2.

なお、本実施形態では、図3で示すように、第1の無機絶縁膜IL1の平坦に形成された部分と第2の無機絶縁膜IL2とが密着して、密着領域SLが形成されている。しかしながら、第1の無機絶縁膜IL1の表面に、素子配列領域DPや有機絶縁膜OL1の外周を取り囲む少なくとも1つの溝や土手が形成されても良い。このような溝等が密着領域SLに形成されることにより、有機絶縁膜OL1の密着領域SLへのはみ出しが抑えられる。また、当該溝は、素子配列領域DPや有機絶縁膜OL1の外周の一部に沿って形成されても良い。   In the present embodiment, as shown in FIG. 3, the flat portion of the first inorganic insulating film IL1 and the second inorganic insulating film IL2 are in close contact to form an adhesive region SL. . However, at least one groove or bank surrounding the outer periphery of the element array region DP and the organic insulating film OL1 may be formed on the surface of the first inorganic insulating film IL1. By forming such a groove or the like in the adhesion region SL, the protrusion of the organic insulating film OL1 to the adhesion region SL is suppressed. Further, the groove may be formed along a part of the outer periphery of the element array region DP and the organic insulating film OL1.

なお、本実施形態のように、第1の無機絶縁膜IL1と第2の無機絶縁膜IL2と第3の無機絶縁膜IL3は、窒化シリコンで形成されるのが望ましいが、他の材料による無機絶縁膜であっても良いし、互いに異なる無機絶縁膜であってもよい。互いに異なる無機絶縁膜で形成される等の場合であっても、第1の無機絶縁膜IL1と第2の無機絶縁膜IL2とが重複する領域で密着されればよい。   Note that the first inorganic insulating film IL1, the second inorganic insulating film IL2, and the third inorganic insulating film IL3 are preferably formed of silicon nitride as in the present embodiment, but inorganic materials of other materials are used. An insulating film may be used, and different inorganic insulating films may be used. Even in the case of being formed of different inorganic insulating films, the first inorganic insulating film IL1 and the second inorganic insulating film IL2 may be in close contact with each other.

なお、本実施形態の有機EL表示装置1は、トップエミッション型の有機EL表示装置であっても良いし、ボトムエミッション型の有機EL表示装置であっても良い。   The organic EL display device 1 of the present embodiment may be a top emission type organic EL display device or a bottom emission type organic EL display device.

なお、本実施形態における主配線部MPの側方には、複数の突出部Prが所定の間隔を置いて形成されているが、この間隔は、場所によって異なっていても良い。また、突出部Prは、主配線部MPの両側面に形成されているが、主配線部MPの2つの側面のうちの一方の側面に形成されてもよい。少なくとも1つの突出部Prが主配線部MPに形成されることにより、密着領域通過部を介して水分が浸入することが抑制されることとなる。   In addition, although the some protrusion part Pr is formed in the side of the main wiring part MP in this embodiment at predetermined intervals, this space | interval may change with places. Further, although the protruding portion Pr is formed on both side surfaces of the main wiring portion MP, it may be formed on one of the two side surfaces of the main wiring portion MP. By forming at least one projecting portion Pr in the main wiring portion MP, it is possible to prevent moisture from entering through the close contact region passage portion.

なお、第1の無機絶縁膜IL1と第2の無機絶縁膜IL2の密着領域SLに破損が生じうる衝撃が加わった場合であっても、突出部Prの存在によって無機絶縁膜の剥離が局所的な範囲に抑えられる。   Even when an impact that may cause damage is applied to the adhesion region SL between the first inorganic insulating film IL1 and the second inorganic insulating film IL2, the peeling of the inorganic insulating film is locally caused by the presence of the protrusion Pr. It is restrained to the range.

本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。例えば、実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成、又は同一の目的を達成することができる構成でおきかえることが出来る。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made. For example, the configuration described in the embodiment can be replaced with a configuration that is substantially the same, a configuration that exhibits the same effects, or a configuration that can achieve the same purpose.

1 有機EL表示装置、GA 基板、DP 素子配列領域、IL1 第1の無機絶縁膜、OL1 第1の有機絶縁膜、IL2 第2の無機絶縁膜、OL2 第2の有機絶縁膜、IL3 第3の無機絶縁膜、DL 映像信号線、GL 走査信号線、TE 端子部、GDR 走査線駆動回路、SL 密着領域、ES1 走査回路電源線、ES2 カソード電源線ES2、ES3 アノード電源線、MP 主配線部、Pr 突出部。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Organic electroluminescent display device, GA board | substrate, DP element arrangement | positioning area | region, IL1 1st inorganic insulating film, OL1 1st organic insulating film, IL2 2nd inorganic insulating film, OL2 2nd organic insulating film, IL3 3rd Inorganic insulating film, DL video signal line, GL scanning signal line, TE terminal part, GDR scanning line drive circuit, SL adhesion region, ES1 scanning circuit power supply line, ES2 cathode power supply line ES2, ES3 anode power supply line, MP main wiring part, Pr protrusion.

Claims (7)

複数のTFT素子が配列された基板と、
前記複数のTFT素子の上側に形成される第1の無機絶縁膜と、
前記第1の無機絶縁膜の上側に配列される複数の有機EL素子によって形成される素子配列領域と、
前記素子配列領域内の各画素を隔て、かつ外側を覆う第1の有機絶縁膜と、
前記第1の有機絶縁膜を上側から覆って、かつ、前記第1の無機絶縁膜の前記第1の有機絶縁膜から露出する部分に重複して密着される第2の無機絶縁膜と、
前記第1の無機絶縁膜に埋設される配線と、を有する有機EL表示装置であって、
前記配線は、前記第2の無機絶縁膜が密着される密着領域の下側を通過する密着領域通過部を有し、
前記密着領域通過部は、さらに、
主配線部と、
前記主配線部から側方に突出する少なくとも1つの突出部と、を有する、
ことを特徴とする有機EL表示装置。
A substrate on which a plurality of TFT elements are arranged;
A first inorganic insulating film formed on the upper side of the plurality of TFT elements;
An element arrangement region formed by a plurality of organic EL elements arranged on the upper side of the first inorganic insulating film;
A first organic insulating film that separates and covers the pixels in the element array region;
A second inorganic insulating film that covers the first organic insulating film from above and is in close contact with a portion of the first inorganic insulating film exposed from the first organic insulating film;
An organic EL display device having a wiring embedded in the first inorganic insulating film,
The wiring has a close contact area passing portion that passes below the close contact area to which the second inorganic insulating film is closely attached,
The contact area passing portion further includes
A main wiring section;
And at least one projecting portion projecting laterally from the main wiring portion,
An organic EL display device characterized by that.
請求項1に記載された有機EL表示装置であって、
前記配線は、前記複数の有機EL素子を駆動するための電源を供給する電源線である、
ことを特徴とする有機EL表示装置。
An organic EL display device according to claim 1,
The wiring is a power supply line that supplies power for driving the plurality of organic EL elements.
An organic EL display device characterized by that.
請求項2に記載された有機EL表示装置であって、
前記主配線部は、少なくとも一カ所で方向を変えて前記密着領域の下側を通過する、
ことを特徴とする有機EL表示装置。
An organic EL display device according to claim 2,
The main wiring portion changes direction at least at one place and passes below the contact area,
An organic EL display device characterized by that.
請求項3に記載された有機EL表示装置であって、
前記主配線部は、コの字型に敷設される部分を有している、
ことを特徴とする有機EL表示装置。
An organic EL display device according to claim 3,
The main wiring portion has a portion laid in a U-shape,
An organic EL display device characterized by that.
請求項3に記載された有機EL表示装置であって、
前記主配線部は、クランク型に敷設される、
ことを特徴とする有機EL表示装置。
An organic EL display device according to claim 3,
The main wiring portion is laid in a crank shape,
An organic EL display device characterized by that.
請求項1に記載された有機EL表示装置であって、
前記密着領域は、前記素子配列領域を取り囲むように形成される、
ことを特徴とする有機EL表示装置。
An organic EL display device according to claim 1,
The adhesion region is formed so as to surround the element arrangement region.
An organic EL display device characterized by that.
請求項1に記載された有機EL表示装置であって、
第2の無機絶縁膜の上側に形成される第2の有機絶縁膜と、
前記第2の有機絶縁膜を上側から覆って、前記第2の無機絶縁膜の前記第2の有機絶縁膜から露出する部分と密着する第3の無機絶縁膜と、をさらに有し、
前記第1の無機絶縁膜は、前記第1の有機絶縁膜から露出する部分で前記第2の無機絶縁膜と密着し、
前記第3の無機絶縁膜と前記第2の無機絶縁膜とが密着する領域の少なくとも一部は、前記第1の無機絶縁膜と前記第2の無機絶縁膜とが密着する前記密着領域と、重複する、
ことを特徴とする有機EL表示装置。
An organic EL display device according to claim 1,
A second organic insulating film formed on the upper side of the second inorganic insulating film;
A third inorganic insulating film that covers the second organic insulating film from above and is in close contact with a portion of the second inorganic insulating film exposed from the second organic insulating film;
The first inorganic insulating film is in close contact with the second inorganic insulating film at a portion exposed from the first organic insulating film;
At least a part of a region where the third inorganic insulating film and the second inorganic insulating film are in close contact with each other is such that the first inorganic insulating film and the second inorganic insulating film are in close contact with each other, Duplicate,
An organic EL display device characterized by that.
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