JP2012094618A - Light confining film for solar cell, manufacturing method of the same, and solar cell - Google Patents
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Abstract
【課題】熱可塑性樹脂を含有する光閉じ込めフィルムを、簡便に、効率よく、かつ大量生産規模で製造できる光閉じ込めフィルムの製造方法を提供する。また、当該製造方法によって製造された、太陽光発電の効率を向上させる光閉じ込めフィルムを提供する。さらに、当該光閉じ込めフィルムが具備された太陽電池を提供する。
【解決手段】熱可塑性樹脂を含有するフィルム基材の表面に凹凸形状構造を有する太陽電池用光閉じ込めフィルムの製造方法であって、当該熱可塑性樹脂を含有するフィルム基材に貧溶媒を含む混合溶媒を塗工する工程、及び当該混合溶媒を塗工したフィルム基材を乾燥する工程を有することを特徴とする太陽電池用光閉じ込めフィルムの製造方法。
【選択図】なしA method for producing a light confinement film capable of producing a light confinement film containing a thermoplastic resin simply, efficiently and on a mass production scale is provided. Moreover, the optical confinement film which improves the efficiency of photovoltaic power generation manufactured by the said manufacturing method is provided. Furthermore, the solar cell provided with the said light confinement film is provided.
A method for producing a light confinement film for a solar cell having a concavo-convex structure on the surface of a film substrate containing a thermoplastic resin, wherein the film substrate containing the thermoplastic resin is mixed with a poor solvent The manufacturing method of the light confinement film for solar cells characterized by including the process of applying a solvent, and the process of drying the film base material which apply | coated the said mixed solvent.
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Description
本発明は、太陽電池用光閉じ込めフィルムとその製造方法、及び当該光閉じ込めフィルムが具備された太陽電池に関する。 The present invention relates to a light confinement film for a solar cell, a method for producing the same, and a solar cell provided with the light confinement film.
従来、太陽電池では、発電効率向上のために、光電変換層自体の光電変換効率の向上のほか、光電変換層に入射する光の量を増大させる試みもなされている。 Conventionally, in solar cells, in order to improve power generation efficiency, attempts have been made to increase the amount of light incident on the photoelectric conversion layer, in addition to improving the photoelectric conversion efficiency of the photoelectric conversion layer itself.
太陽電池の高効率化を妨げる要因としては、(1)光電変換層表面における太陽光の反射による損失、(2)光電変換層に入射した光の不完全な収集による損失が挙げられる。 Factors that hinder the high efficiency of solar cells include (1) loss due to reflection of sunlight on the surface of the photoelectric conversion layer, and (2) loss due to incomplete collection of light incident on the photoelectric conversion layer.
高い光電変換効率を有する太陽電池を実現する上で、重要な要素となる技術の一つに光閉じ込めがある。「光閉じ込め」とは、光電変換層に接する透明導電膜あるいは金属層の表面を凹凸化して、その界面で光を散乱させることで光路長を延長させ、光電変換層での光吸収量を増大させるものである。 Optical confinement is one of the important technologies for realizing a solar cell having high photoelectric conversion efficiency. “Light confinement” means that the surface of the transparent conductive film or metal layer in contact with the photoelectric conversion layer is made uneven, and light is scattered at the interface to extend the optical path length and increase the amount of light absorption in the photoelectric conversion layer. It is something to be made.
この光閉込による光電変換効率の向上は、光電変換層の膜厚を薄くする効果をもたらす。これにより、アモルファスシリコン太陽電池の場合には、Staebler−Wronski効果に起因する光劣化を抑制することになる。 The improvement of the photoelectric conversion efficiency by this light confinement brings about the effect of reducing the film thickness of the photoelectric conversion layer. Thereby, in the case of an amorphous silicon solar cell, the optical deterioration resulting from the Staebler-Wronski effect will be suppressed.
さらに、結晶質シリコン太陽電池は、光吸収特性のために、アモルファスシリコンと比較して数倍から十数倍の数μmオーダーもの厚さが必要とされていた。しかし、光閉じ込め効果を利用して、光電変換効率を上げた場合には、結晶質シリコン太陽電池であっても、大幅な製膜時間の減少をもたらすことになる。 Furthermore, the crystalline silicon solar cell is required to have a thickness on the order of several μm, which is several to tens of times that of amorphous silicon, due to light absorption characteristics. However, when the photoelectric conversion efficiency is increased by utilizing the light confinement effect, even if it is a crystalline silicon solar cell, the film forming time is significantly reduced.
すなわち、光閉じ込めは、特に薄膜太陽電池の実用化への大きな課題である高効率化、安定化、低コスト化の全てを解決する手段として必須の技術である。 That is, optical confinement is an essential technique as a means for solving all of the high efficiency, stabilization, and cost reduction, which are major issues for practical use of thin film solar cells.
光閉込による光電変換効率の向上を図る技術として、具体的には、基板の光電変換層と対向する表面等に、光拡散効果を示すいわゆるテクスチャ構造を設ける技術が提案されている。 As a technique for improving the photoelectric conversion efficiency by light confinement, specifically, a technique for providing a so-called texture structure showing a light diffusion effect on a surface of the substrate facing the photoelectric conversion layer has been proposed.
上記要因(1)については、光電変換層の光入射側表面のテクスチャ構造によって改善され、(2)については、下部電極表面及び光電変換層表面のテクスチャ構造によって改善される。 The factor (1) is improved by the texture structure of the light incident side surface of the photoelectric conversion layer, and the factor (2) is improved by the texture structure of the lower electrode surface and the photoelectric conversion layer surface.
例えば、基板表面に、テクスチャ構造として微細なピラミッド状の凹凸を形成した場合、この凹凸は下部電極及び光電変換層の表面性に反映する。そのため、外部から光電変換層の凹凸表面に到達し、凹凸の傾斜面で反射した光は、凹凸の他の傾斜面に当たって光電変換層内に進入し、光電変換層に吸収される。また、入射した光のうち光電変換層で吸収されずに光電変換層裏面まで到達したものは、下部電極と光電変換層との凹凸界面で散乱反射し、斜め方向に光電変換層内に戻るため、反射光が光電変換層内を進む距離が長くなり、効率よく吸収される。さらに、光電変換層内に戻った光のうち、吸収されずに再び光電変換層表面に到達した光は、光電変換層の凹凸表面で再び斜め方向に反射する。このような繰り返し反射により、光電変換層に光が効率よく吸収され、電池の効率が高くなる。 For example, when fine pyramidal irregularities are formed as a texture structure on the substrate surface, the irregularities are reflected in the surface properties of the lower electrode and the photoelectric conversion layer. Therefore, the light that reaches the uneven surface of the photoelectric conversion layer from the outside and is reflected by the inclined surface of the unevenness strikes the other inclined surface of the unevenness, enters the photoelectric conversion layer, and is absorbed by the photoelectric conversion layer. In addition, incident light that reaches the back surface of the photoelectric conversion layer without being absorbed by the photoelectric conversion layer is scattered and reflected at the concavo-convex interface between the lower electrode and the photoelectric conversion layer, and returns to the photoelectric conversion layer in an oblique direction. The distance that the reflected light travels in the photoelectric conversion layer becomes longer and is efficiently absorbed. Furthermore, of the light that has returned into the photoelectric conversion layer, the light that has reached the surface of the photoelectric conversion layer again without being absorbed is reflected again in an oblique direction on the uneven surface of the photoelectric conversion layer. By such repeated reflection, light is efficiently absorbed in the photoelectric conversion layer, and the efficiency of the battery is increased.
従来のテクスチャの作製方法としては、例えば、以下のようなものがある。結晶シリコン太陽電池の場合、加温した水酸化ナトリウム(NaOH)又は水酸化カリウム(KOH)水溶液にイソプロピルアルコールを添加し、得られた混合液にSi(100)ウェハを浸漬することにより、四角錐状の突起を有するテクスチャ構造が得られる。また、炭酸ナトリウム(Na2CO3)水溶液をエッチング液とし、シリコン基板をその水溶液に浸漬して前記シリコン基板の表面に微細な凹凸形状を形成する方法も提案されている(特許文献1参照)。 Examples of conventional texture production methods include the following. In the case of a crystalline silicon solar cell, a quadrangular pyramid is obtained by adding isopropyl alcohol to a heated aqueous solution of sodium hydroxide (NaOH) or potassium hydroxide (KOH) and immersing a Si (100) wafer in the resulting mixture. A texture structure having a protrusion in the shape is obtained. In addition, a method has been proposed in which a sodium carbonate (Na 2 CO 3 ) aqueous solution is used as an etchant and a silicon substrate is immersed in the aqueous solution to form a fine uneven shape on the surface of the silicon substrate (see Patent Document 1). .
一方、薄膜型太陽電池の場合、下部電極として、シリコンを0.1〜6.0質量%含有するアルミニウムターゲットを用い、基板を50〜200℃に昇温してスパッタすることにより、テクスチャ構造を有するアルミニウム膜を得る提案がなされている(特許文献2参照)。また、金属基板上に酸化チタン、アルミナ、シリカなどの顔料を配合した電気絶縁性を有する耐熱性樹脂をコートすることにより、表面粗さRmaxが0.3〜1.5μmの凹凸を有する基板を形成する提案もなされている(特許文献3参照)。 On the other hand, in the case of a thin-film solar cell, an aluminum target containing 0.1 to 6.0% by mass of silicon is used as the lower electrode, and the substrate is heated to 50 to 200 ° C. and sputtered, thereby forming a texture structure. Proposals have been made to obtain an aluminum film (see Patent Document 2). In addition, by coating a metal substrate with a heat-resistant resin having an electrical insulating property blended with pigments such as titanium oxide, alumina, and silica, a substrate having irregularities with a surface roughness Rmax of 0.3 to 1.5 μm is obtained. The proposal to form is also made (refer patent document 3).
しかし、上述した従来のテクスチャ構造形成方法には、生産上及びテクスチャ構造の状態に起因する種々の問題点があり、簡便に、効率よく、かつ大量生産規模で製造できる方法は、未だ得られておらず、その速やかな開発が望まれているのが現状である(特許文献4参照)。 However, the above-described conventional texture structure forming method has various problems due to production and texture structure state, and a method that can be easily, efficiently, and manufactured on a mass production scale has not yet been obtained. The present situation is that rapid development is desired (see Patent Document 4).
本発明は、上記問題・状況にかんがみてなされたものであり、その解決課題は、熱可塑性樹脂を含有する光閉じ込めフィルムを、簡便に、効率よく、かつ大量生産規模で製造できる光閉じ込めフィルムの製造方法を提供することである。また、当該製造方法によって製造された、太陽光発電の効率を向上させる光閉じ込めフィルムを提供することである。さらに、当該光閉じ込めフィルムが具備された太陽電池を提供することである。 The present invention has been made in view of the above problems and situations, and the solution is to provide a light confinement film that can easily and efficiently produce a light confinement film containing a thermoplastic resin on a mass production scale. It is to provide a manufacturing method. Moreover, it is providing the light confinement film which improves the efficiency of photovoltaic power generation manufactured by the said manufacturing method. Furthermore, it is providing the solar cell equipped with the said light confinement film.
本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。 The above-mentioned problem according to the present invention is solved by the following means.
1.熱可塑性樹脂を含有するフィルム基材の表面に凹凸形状構造を有する太陽電池用光閉じ込めフィルムの製造方法であって、当該熱可塑性樹脂を含有するフィルム基材に貧溶媒を含む混合溶媒を塗工する工程、及び当該混合溶媒を塗工したフィルム基材を乾燥する工程を有することを特徴とする太陽電池用光閉じ込めフィルムの製造方法。 1. A method for producing a solar cell light confinement film having a concavo-convex structure on a surface of a film substrate containing a thermoplastic resin, wherein a mixed solvent containing a poor solvent is applied to the film substrate containing the thermoplastic resin And a method for producing a light confinement film for solar cells, comprising: a step of drying, and a step of drying a film substrate coated with the mixed solvent.
2.前記凹凸形状構造における凹凸の平均ピッチが50nm〜3μmの範囲内であり、かつ凸部の最高点と凹部の最低点との差の平均値が5nm〜5μmの範囲内であることを特徴とする前記第1項に記載の太陽電池用光閉じ込めフィルムの製造方法。 2. The average pitch of the unevenness in the uneven shape structure is in the range of 50 nm to 3 μm, and the average value of the difference between the highest point of the convex part and the lowest point of the concave part is in the range of 5 nm to 5 μm. The manufacturing method of the optical confinement film for solar cells of said 1st term | claim.
3.前記貧溶媒が、水とアルコール類の混合溶媒であることを特徴とする前記第1項又は第2項に記載の太陽電池用光閉じ込めフィルムの製造方法。 3. 3. The method for producing an optical confinement film for solar cells according to item 1 or 2, wherein the poor solvent is a mixed solvent of water and alcohols.
4.前記貧溶媒が、水とケトン類の混合溶媒であることを特徴とする前記第1項から第3項までのいずれか一項に記載の太陽電池用光閉じ込めフィルムの製造方法。 4). The method for producing a light confinement film for solar cells according to any one of items 1 to 3, wherein the poor solvent is a mixed solvent of water and ketones.
5.熱可塑性樹脂を含有するフィルム基材の表面に凹凸形状構造を有する太陽電池用光閉じ込めフィルムであって、当該凹凸形状構造が貧溶媒を含む混合溶媒の作用によって形成されたものであることを特徴とする太陽電池用光閉じ込めフィルム。 5. A solar cell light confinement film having a concavo-convex structure on the surface of a film substrate containing a thermoplastic resin, wherein the concavo-convex structure is formed by the action of a mixed solvent containing a poor solvent. A light confinement film for solar cells.
6.前記第1項から第4項までのいずれか一項に記載の太陽電池用光閉じ込めフィルムの製造方法によって製造された太陽電池用光閉じ込めフィルムが具備されていることを特徴とする太陽電池。 6). A solar cell comprising a solar cell light confinement film manufactured by the method for manufacturing a solar cell light confinement film according to any one of items 1 to 4.
本発明の上記手段により、熱可塑性樹脂を含有する光閉じ込めフィルムを、簡便に、効率よく、かつ大量生産規模で製造できる光閉じ込めフィルムの製造方法を提供することができる。また、当該製造方法によって製造された、太陽光発電の効率を向上させる光閉じ込めフィルムを提供することができる。さらに、当該光閉じ込めフィルムが具備された太陽電池を提供することができる。 By the above means of the present invention, it is possible to provide a method for producing a light confinement film capable of producing a light confinement film containing a thermoplastic resin simply, efficiently and on a mass production scale. Moreover, the light confinement film which improves the efficiency of photovoltaic power generation manufactured by the said manufacturing method can be provided. Furthermore, the solar cell provided with the said light confinement film can be provided.
本発明に係る混合溶媒の作用機構は、不明であるが、水を含む貧溶媒ではフィルム基材の構成成分であるセルロースエステルの多数のヒドロキシル基(OH基)と、溶媒分子との相互作用が大きく、そのため、セルロースエステルを含む表面近傍微細構造の空隙部分に溶媒分子が浸透・溶解等して表面に凹凸構造が形成されたものと推定される。 Although the mechanism of action of the mixed solvent according to the present invention is unclear, in a poor solvent containing water, the interaction between a number of hydroxyl groups (OH groups) of the cellulose ester, which is a component of the film substrate, and solvent molecules For this reason, it is presumed that the concavo-convex structure was formed on the surface by the solvent molecules penetrating / dissolving in the voids of the fine structure near the surface containing the cellulose ester.
一方、メチレンクロライドなどの良溶媒を用いた場合は、水との相溶性が低く、かつ、セルロースエステルに対する溶解作用が大きいため、フィルム基材の構成成分のセルロースエステルを全体的に均一に溶解するのみで凹凸構造が形成されない。 On the other hand, when a good solvent such as methylene chloride is used, since the compatibility with water is low and the dissolving action on the cellulose ester is large, the cellulose ester as a constituent component of the film base material is uniformly dissolved as a whole. Only the concavo-convex structure is not formed.
本発明の太陽電池用光閉じ込めフィルムの製造方法は、熱可塑性樹脂を含有するフィルム基材の表面に凹凸形状構造を有する太陽電池用光閉じ込めフィルムの製造方法であって、当該熱可塑性樹脂を含有するフィルム基材に貧溶媒を含む混合溶媒を塗工する工程、及び当該混合溶媒を塗工したフィルム基材を乾燥する工程を有することを特徴とする。この特徴は、請求項1から請求項6までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。 The method for producing a light confinement film for solar cells of the present invention is a method for producing a light confinement film for solar cells having a concavo-convex structure on the surface of a film substrate containing a thermoplastic resin, which contains the thermoplastic resin. It has the process of applying the mixed solvent containing a poor solvent to the film base material to perform, and the process of drying the film base material which applied the said mixed solvent. This feature is a technical feature common to the inventions according to claims 1 to 6.
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記凹凸形状構造における凹凸の平均ピッチが50nm〜3μmの範囲内であり、かつ凸部の最高点と凹部の最低点との差の平均値が5nm〜5μmの範囲内であることが好ましい。さらに、前記貧溶媒が、水とアルコール類の混合溶媒又は水とケトン類の混合溶媒であることが好ましい。 As an embodiment of the present invention, from the viewpoint of manifesting the effect of the present invention, the average pitch of the unevenness in the uneven structure is in the range of 50 nm to 3 μm, and the difference between the highest point of the convex part and the lowest point of the concave part Is preferably in the range of 5 nm to 5 μm. Furthermore, the poor solvent is preferably a mixed solvent of water and alcohols or a mixed solvent of water and ketones.
以上より、本発明の太陽電池用光閉じ込めフィルムは、熱可塑性樹脂を含有するフィルム基材の表面に凹凸形状構造を有する太陽電池用光閉じ込めフィルムであって、当該凹凸形状構造が貧溶媒を含む混合溶媒の作用によって形成されたものであることを特徴とする。 As described above, the light confinement film for solar cells of the present invention is a light confinement film for solar cells having a concavo-convex structure on the surface of a film substrate containing a thermoplastic resin, and the concavo-convex structure includes a poor solvent. It is formed by the action of a mixed solvent.
本発明の太陽電池用光閉じ込めフィルムの製造方法によって製造された太陽電池用光閉じ込めフィルムは、太陽電池に好適に用いることができる。 The light confinement film for solar cells produced by the method for producing a light confinement film for solar cells of the present invention can be suitably used for solar cells.
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。 Hereinafter, the present invention, its components, and modes and modes for carrying out the present invention will be described in detail. In addition, in this application, "-" is used in the meaning which includes the numerical value described before and behind that as a lower limit and an upper limit.
(光閉じ込めフィルムの製造方法の概要)
本発明の光閉じ込めフィルムの製造方法は、熱可塑性樹脂を含有するフィルム基材の表面に凹凸形状構造を有する光閉じ込めフィルムの製造方法であって、当該熱可塑性樹脂を含有するフィルム基材に貧溶媒を含む混合溶媒を塗工する工程、及び前記混合溶媒を塗工したフィルム基材を乾燥する工程を有することを特徴とする。
(Outline of manufacturing method of optical confinement film)
The method for producing a light confinement film of the present invention is a method for producing a light confinement film having a concavo-convex structure on the surface of a film substrate containing a thermoplastic resin, which is poor in the film substrate containing the thermoplastic resin. It has the process of coating the mixed solvent containing a solvent, and the process of drying the film base material which coated the said mixed solvent.
すなわち、本発明において、表面に凹凸形状構造を形成・付与する手段として、貧溶媒を含む混合溶媒を塗工することを特徴とする。なお、当該貧溶媒のpHは、セルロースエステルフィルム等のアルカリ鹸化処理において用いられる処理液のpHより低く、例えば、25℃において、pH5.5〜7.5の領域内であることが好ましい。 That is, the present invention is characterized in that a mixed solvent containing a poor solvent is applied as a means for forming and imparting a concavo-convex structure on the surface. The pH of the poor solvent is lower than the pH of the treatment liquid used in the alkaline saponification treatment such as cellulose ester film, and is preferably in the region of pH 5.5 to 7.5 at 25 ° C., for example.
なお、混合溶媒塗工を施したフィルムの表面粗さRaと当該前記混合溶媒塗工を施さないフィルムの表面粗さRaが、3nm以上相違するように調整することが好ましい。当該調整の方法としては、塗工する混合溶媒の溶媒化学種の選択、量、混合組成、溶媒の温度、乾燥温度等の条件の適正化等による方法が好ましい。 In addition, it is preferable to adjust so that surface roughness Ra of the film which performed mixed solvent coating and surface roughness Ra of the film which does not perform the said mixed solvent coating may differ 3 nm or more. As a method for the adjustment, a method based on selection of solvent chemical species of the mixed solvent to be applied, amount, mixed composition, temperature of solvent, optimization of conditions such as drying temperature, and the like are preferable.
例えば、樹脂フィルム基材として、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂との混合物を用いる場合、40〜60℃に温めたエタノールと純水の割合が50:50〜80:20Vol%の混合溶媒をフィルム表面にスプレー塗工し、その後、110〜150℃の乾燥ゾーンで搬送させながら乾燥することが好ましい。 For example, when a mixture of an acrylic resin and a cellulose ester resin is used as a resin film substrate, a mixed solvent of ethanol and pure water heated to 40 to 60 ° C. in a ratio of 50:50 to 80:20 Vol% is applied to the film surface. It is preferable to spray-coat and then dry while transporting in a drying zone of 110 to 150 ° C.
光閉じ込めフィルムの製造方法の詳細については、後述する。 Details of the method for manufacturing the light confinement film will be described later.
(貧溶媒)
本発明の光閉じ込めフィルムの製造方法は、熱可塑性樹脂を含有するフィルム基材に貧溶媒を含む混合溶媒を塗工する工程及び乾燥する工程を有することを特徴とする。
(Poor solvent)
The manufacturing method of the light confinement film of this invention has the process of applying the mixed solvent containing a poor solvent to the film base material containing a thermoplastic resin, and the process of drying.
ここで、貧溶媒とは、下記熱可塑性樹脂の固形分3g相当に、溶解性を測定しようとする溶媒を全量が20gになるように加え、温度25℃にてかきまぜた場合に、にごりが認められたり、増粘、分離が認められたものを、当該試料に対し貧溶媒であるとする。 Here, the poor solvent means that when a solvent whose solubility is to be measured is added in an amount corresponding to 3 g of the solid content of the following thermoplastic resin so that the total amount becomes 20 g and stirred at a temperature of 25 ° C., dust is recognized. If the sample is thickened or separated, it is considered to be a poor solvent for the sample.
熱可塑性樹脂が、例えばポリエステル系樹脂又はポリエステルウレタン系樹脂である場合、貧溶媒としては、キシレン、エチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、イソブタノール、イソプロパノール、エタノール、メタノール、ヘキサン、精製水などを例示することができる。 When the thermoplastic resin is, for example, a polyester resin or a polyester urethane resin, examples of the poor solvent include xylene, ethyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, isobutanol, isopropanol, ethanol, methanol, hexane, and purified water. be able to.
また、熱可塑性樹脂がアクリル系樹脂である場合、貧溶媒としては、エチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、イソブタノール、イソプロパノール、エタノール、メタノール、ヘキサン、精製水などを例示することができる。 Further, when the thermoplastic resin is an acrylic resin, examples of the poor solvent include ethyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, isobutanol, isopropanol, ethanol, methanol, hexane, and purified water.
本発明においては、熱可塑性樹脂に対して貧溶媒は、上記溶媒二種以上を混合して用いることが好ましい。特に、水とアルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール等)の混合溶媒であることが好ましい。また、水とケトン類(アセトン、プロパノン、ブタノン等)の混合溶媒であってもよい。 In the present invention, the poor solvent is preferably used by mixing two or more of the above solvents with respect to the thermoplastic resin. In particular, a mixed solvent of water and alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, etc.) is preferable. Further, it may be a mixed solvent of water and ketones (acetone, propanone, butanone, etc.).
(光閉じ込めフィルムの特徴)
本発明に係る光閉じ込めフィルムは、当該光閉じ込めフィルムの少なくとも一方の表面に凹凸形状構造を有し、当該凹凸形状構造における凹凸の平均ピッチが50nm〜3μmの範囲内であり、かつ凸部の最高点と凹部の最低点との差(深さ)の平均値が5nm〜5μmの範囲内であることが、光散乱性の観点から好ましい。
(Characteristics of optical confinement film)
The light confinement film according to the present invention has a concavo-convex shape structure on at least one surface of the light confinement film, the average pitch of the concavo-convex shape in the concavo-convex shape structure is in the range of 50 nm to 3 μm, and the highest convex portion. It is preferable from a light-scattering viewpoint that the average value of the difference (depth) between a point and the lowest point of a recessed part exists in the range of 5 nm-5 micrometers.
なお、当該凹凸の平均ピッチは、100nm〜1μmの範囲内であることが好ましい。また、当該凸部の最高点と凹部の最低点との差(深さ)の平均値は、10nm〜1μmの範囲内であることが好ましい。 In addition, it is preferable that the average pitch of the said unevenness | corrugation exists in the range of 100 nm-1 micrometer. The average value of the difference (depth) between the highest point of the convex part and the lowest point of the concave part is preferably in the range of 10 nm to 1 μm.
ここで、本発明に係る凹凸のピッチ、及び凸部の最高点と凹部の最低点との差(深さ)は、具体的には下記方法により測定される値である(図1参照)。 Here, the pitch of the unevenness according to the present invention and the difference (depth) between the highest point of the convex portion and the lowest point of the concave portion are values measured by the following method (see FIG. 1).
先ず、光閉じ込めフィルムの凹凸形状構造が存在する面において、130μm×130μmの正方形の領域を無作為に5個所抽出し、それぞれにつき3D測定レーザー顕微鏡で測定した観察像を得る。 First, five areas of 130 μm × 130 μm squares are extracted at random on the surface of the light confining film where the concavo-convex structure exists, and an observation image measured with a 3D measurement laser microscope is obtained for each.
レーザー顕微鏡で測定する際の条件は、倍率を350倍とする。なお、当該観察像は、光閉じ込めフィルムの面を垂直に見る方向から取得する。 The condition for measurement with a laser microscope is that the magnification is 350 times. Note that the observation image is acquired from a direction in which the surface of the light confinement film is viewed vertically.
そして、5個所の観察像について得られた凹凸構造プロファイルに基づき凹凸のピッチ、及び凸部の最高点と凹部の最低点との差(深さ)を測定した。 Then, the pitch of the projections and depressions and the difference (depth) between the highest point of the projections and the lowest point of the depressions were measured based on the projection / recess structure profile obtained for the five observation images.
本願において、凹凸構造プロファイルにおいて各凹凸形状の最高点と最低点の中点を含む水平線より下方にある部分を「凹部」といい、当該水平面より上方にある部分を「凸部」という。 In the present application, in the concavo-convex structure profile, a portion below the horizontal line that includes the midpoint of each concavo-convex shape is referred to as “concave portion”, and a portion above the horizontal plane is referred to as “convex portion”.
ここで、「凸部の最高点」とは、各凹凸形状における凸部の最高点(高さが極大値である点)をいう。また、「凹部の最低点」とは、各凹凸形状における凹部の最低点(高さが極小値である点)をいう。 Here, “the highest point of the convex portion” refers to the highest point (the point at which the height is a maximum value) of the convex portion in each concavo-convex shape. In addition, “the lowest point of the concave portion” refers to the lowest point (the point at which the height is a minimum value) of the concave portion in each uneven shape.
「凹凸のピッチ」とは、隣接する凸部同士の最高点(ピーク)間の間隔をいう。また、「凹凸の平均ピッチ」とは、5個所の観察像のそれぞれについて測定領域130μmの範囲内に存在する凸部の最高点(ピーク)の数で130μmを除して得た値の平均値をいう。 The “concave / convex pitch” refers to an interval between the highest points (peaks) between adjacent convex portions. The “average pitch of unevenness” is the average value of values obtained by dividing 130 μm by the number of highest points (peaks) of convex portions existing in the measurement area of 130 μm for each of the five observation images. Say.
「凸部の最高点と凹部の最低点との差(深さ)」とは、隣接する凸部と凹部の最高点との最低点との差をいう。当該差(深さ)の平均値は、5個所の観察像のそれぞれについて測定領域130μmの範囲内に存在する各凹凸について測定して得た値の平均値をいう。 The “difference (depth) between the highest point of the convex portion and the lowest point of the concave portion” refers to the difference between the lowest point between the adjacent convex portion and the highest point of the concave portion. The average value of the difference (depth) is an average value of values obtained by measuring each unevenness existing in the measurement region of 130 μm for each of the five observation images.
なお、凹凸のピッチ、及び凸部の最高点と凹部の最低点との差(深さ)について、上記所定の範囲内に制御する方法としては、下記の製造方法において、製造条件を適切化することによって行うことができる。 In addition, as a method of controlling the pitch of the unevenness and the difference (depth) between the highest point of the convex portion and the lowest point of the concave portion within the predetermined range, manufacturing conditions are optimized in the following manufacturing method. Can be done.
なお、本発明の光閉じ込めフィルムに、高屈折粒子を添加することで導電層の間との界面反射を低減することができ、更なる発電効率向上ができる。 In addition, by adding highly refractive particles to the light confinement film of the present invention, the interface reflection between the conductive layers can be reduced, and the power generation efficiency can be further improved.
(熱可塑性樹脂を含有するフィルム基材)
本発明に係る光閉じ込めフィルムは、熱可塑性樹脂を含有するフィルム基材の表面に凹凸形状構造を有することを特徴とする。
(Film base material containing thermoplastic resin)
The light confinement film according to the present invention is characterized by having an uneven structure on the surface of a film substrate containing a thermoplastic resin.
ここで、「熱可塑性樹脂」とは、ガラス転移温度又は融点まで加熱することによって軟らかくなり、目的の形に成形できる樹脂をいう。 Here, the “thermoplastic resin” refers to a resin that becomes soft when heated to the glass transition temperature or the melting point and can be molded into a desired shape.
熱可塑性樹脂としては、ヒドロキシメチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基等のヒドロキシアルキル基を含むアクリル酸、メタクリル酸、ないしはマレイン酸のエステルの重合体や共重合体ないしはそれらの架橋体、ポリアクリルアミドやその共重合体、アクリロニトリルの重合体や架橋重合体の加水分解物、アクリル酸やメタクリル酸の重合体やその共重合体ないしはそれらの架橋体等のポリアクリル系樹脂、ポリビニルピロリドン系樹脂、ポリビニルアルコール及びその変成物、例えばカチオン化ポリビニルアルコール、シラノール化ポリビニルアルコール、スルホン化ポリビニルアルコールなど、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、澱粉−アクリロニトリル重合体の加水分解生成物、無水マレイン酸共重合体、ポリアクリルアミド系樹脂、ポリエチレンポリアミド系樹脂、ポリアミドポリアミン系樹脂、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレンオキサイド−ポリプロピレンオキサイド共重合体等のポリアルキレンオキサイド誘導体、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂などが挙げられる。 Thermoplastic resins include cellulose derivatives such as hydroxymethylcellulose and methylcellulose, polymers of acrylic acid, methacrylic acid or maleic acid containing hydroxyalkyl groups such as 2-hydroxyethyl group and 2-hydroxypropyl group, Polyacrylics such as polymers or cross-linked products thereof, polyacrylamide or copolymers thereof, acrylonitrile polymers or hydrolysates of cross-linked polymers, polymers of acrylic acid or methacrylic acid, copolymers thereof or cross-linked products thereof. Resins, polyvinyl pyrrolidone resins, polyvinyl alcohol and modified products thereof, such as cationized polyvinyl alcohol, silanolated polyvinyl alcohol, sulfonated polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal resins, polyvinyl butyral resins, Hydrolysis products of powder-acrylonitrile polymer, maleic anhydride copolymer, polyacrylamide resin, polyethylene polyamide resin, polyamide polyamine resin, polyethylene oxide, polyethylene oxide-polypropylene oxide copolymer, etc. , Polyester resins, polyurethane resins and the like.
なお、本発明においては、上記の熱可塑性樹脂を含有することを要する。 In addition, in this invention, it is required to contain said thermoplastic resin.
以下、本発明において好適に用いることができる熱可塑性樹脂について詳細な説明をする。 Hereinafter, a thermoplastic resin that can be suitably used in the present invention will be described in detail.
〈セルロースエステル樹脂〉
本発明に用いることができるセルロースエステル樹脂は、セルロース(ジ、トリ)アセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、及びセルロースフタレートから選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。
<Cellulose ester resin>
The cellulose ester resin that can be used in the present invention is selected from cellulose (di, tri) acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate phthalate, and cellulose phthalate. It is preferable that there is at least one.
これらの中で特に好ましいセルロースエステルは、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートが挙げられる。 Among these, particularly preferable cellulose esters include cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate, and cellulose acetate butyrate.
混合脂肪酸エステルの置換度として、炭素原子数2〜4のアシル基を置換基として有している場合、アセチル基の置換度をXとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をYとした時、下記式(I)及び(II)を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロース樹脂であることが好ましい。 As a substitution degree of the mixed fatty acid ester, when having an acyl group having 2 to 4 carbon atoms as a substituent, when the substitution degree of the acetyl group is X and the substitution degree of the propionyl group or butyryl group is Y, A cellulose resin containing a cellulose ester that simultaneously satisfies the following formulas (I) and (II) is preferable.
式(I) 2.0≦X+Y≦3.0
式(II) 0≦X≦2.5
さらに、本発明で用いられるセルロースエステルは、重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn比が1.5〜5.5のものが好ましく用いられ、特に好ましくは2.0〜5.0であり、さらに好ましくは2.5〜5.0であり、さらに好ましくは3.0〜5.0のセルロースエステルが好ましく用いられる。
Formula (I) 2.0 ≦ X + Y ≦ 3.0
Formula (II) 0 ≦ X ≦ 2.5
Furthermore, the cellulose ester used in the present invention preferably has a weight average molecular weight Mw / number average molecular weight Mn ratio of 1.5 to 5.5, particularly preferably 2.0 to 5.0, Preferably it is 2.5-5.0, More preferably, the cellulose ester of 3.0-5.0 is used preferably.
本発明で用いられるセルロースエステルの原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよく、木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい。製膜の際の剥離性の点からは綿花リンターが好ましく用いられる。これらから作られたセルロースエステルは適宜混合して、或いは単独で使用することができる。 The cellulose ester raw material cellulose used in the present invention may be wood pulp or cotton linter, and the wood pulp may be softwood or hardwood, but softwood is more preferred. A cotton linter is preferably used from the viewpoint of peelability during film formation. The cellulose ester made from these can be mixed suitably or can be used independently.
例えば、綿花リンター由来セルロースエステル:木材パルプ(針葉樹)由来セルロースエステル:木材パルプ(広葉樹)由来セルロースエステルの比率が100:0:0、90:10:0、85:15:0、50:50:0、20:80:0、10:90:0、0:100:0、0:0:100、80:10:10、85:0:15、40:30:30で用いることができる。 For example, the ratio of cellulose ester derived from cellulose linter: cellulose ester derived from wood pulp (coniferous): cellulose ester derived from wood pulp (hardwood) is 100: 0: 0, 90: 10: 0, 85: 15: 0, 50:50: 0, 20: 80: 0, 10: 90: 0, 0: 100: 0, 0: 0: 100, 80:10:10, 85: 0: 15, 40:30:30.
本発明において、セルロースエステル樹脂は、20mlの純水(電気伝導度0.1μS/cm以下、pH6.8)に1g投入し、25℃、1hr、窒素雰囲気下にて攪拌した時のpHが6〜7、電気伝導度が1〜100μS/cmであることが好ましい。 In the present invention, 1 g of cellulose ester resin is added to 20 ml of pure water (electric conductivity 0.1 μS / cm or less, pH 6.8), and the pH is 6 when stirred in a nitrogen atmosphere at 25 ° C. for 1 hr. It is preferable that the electric conductivity is 1 to 100 μS / cm.
〈アクリル樹脂〉
本発明に用いることができるアクリル樹脂には、メタクリル樹脂も含まれる。樹脂としては特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位50〜99質量%、及びこれと共重合可能な他の単量体単位1〜50質量%からなるものが好ましい。
<acrylic resin>
The acrylic resin that can be used in the present invention includes a methacrylic resin. Although it does not restrict | limit especially as resin, What consists of 50-99 mass% of methyl methacrylate units and 1-50 mass% of other monomer units copolymerizable with this is preferable.
共重合可能な他の単量体としては、アルキル数の炭素数が2〜18のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が1〜18のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα,β−不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α−メチルスチレン、核置換スチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα,β−不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、N−置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられ、これらは単独で、あるいは2種以上を併用して用いることができる。 Other monomers that can be copolymerized include alkyl methacrylates having 2 to 18 carbon atoms, alkyl acrylates having 1 to 18 carbon atoms, acrylic acid, methacrylic acid, and the like. Saturated acids, maleic acids, fumaric acids, unsaturated divalent carboxylic acids such as itaconic acid, aromatic vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene, and nucleus-substituted styrene, α, β- such as acrylonitrile, methacrylonitrile, etc. Examples thereof include unsaturated nitrile, maleic anhydride, maleimide, N-substituted maleimide, glutaric anhydride, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
これらの中でも、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、s−ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやn−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。 Among these, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, n-butyl acrylate, s-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and the like are preferable, and methyl acrylate and n-butyl acrylate are particularly preferably used.
アクリル樹脂としては、市販のものも使用することができる。例えば、デルペット60N、80N(旭化成ケミカルズ(株)製)、ダイヤナールBR52、BR80、BR83、BR85、BR88(三菱レイヨン(株)製)、KT75(電気化学工業(株)製)等が挙げられる。 A commercially available thing can also be used as an acrylic resin. For example, Delpet 60N, 80N (Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.), Dianal BR52, BR80, BR83, BR85, BR88 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), KT75 (Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) and the like can be mentioned. .
〈環状オレフィン樹脂〉
本発明においては、環状オレフィン樹脂を用いることも好ましい。環状オレフィン樹脂としては、ノルボルネン系樹脂、単環の環状オレフィン系樹脂、環状共役ジエン系樹脂、ビニル脂環式炭化水素系樹脂、及び、これらの水素化物等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン系樹脂は、透明性と成形性が良好なため、好適に用いることができる。
<Cyclic olefin resin>
In the present invention, it is also preferable to use a cyclic olefin resin. Examples of the cyclic olefin resin include norbornene resins, monocyclic olefin resins, cyclic conjugated diene resins, vinyl alicyclic hydrocarbon resins, and hydrides thereof. Among these, norbornene-based resins can be suitably used because of their good transparency and moldability.
ノルボルネン系樹脂としては、例えば、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との開環共重合体又はそれらの水素化物、ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との付加共重合体又はそれらの水素化物等を挙げることができる。 Examples of the norbornene-based resin include a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure, a ring-opening copolymer of a monomer having a norbornene structure and another monomer, a hydride thereof, and a norbornene structure. An addition polymer of a monomer having a monomer, an addition copolymer of a monomer having a norbornene structure and another monomer, or a hydride thereof.
これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環(共)重合体水素化物は、透明性、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、特に好適に用いることができる。 Among these, a ring-opening (co) polymer hydride of a monomer having a norbornene structure is particularly suitable from the viewpoints of transparency, moldability, heat resistance, low hygroscopicity, dimensional stability, lightness, and the like. Can be used.
ノルボルネン構造を有する単量体としては、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(慣用名:ノルボルネン)、トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3,7−ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、7,8−ベンゾトリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン(慣用名:メタノテトラヒドロフルオレン)、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン(慣用名:テトラシクロドデセン)、及びこれらの化合物の誘導体(例えば、環に置換基を有するもの)などを挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、極性基などを挙げることができる。また、これらの置換基は、同一又は相異なって複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン構造を有する単量体は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the monomer having a norbornene structure include bicyclo [2.2.1] hept-2-ene (common name: norbornene) and tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] deca-3,7-diene. (Common name: dicyclopentadiene), 7,8-benzotricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene (common name: methanotetrahydrofluorene), tetracyclo [4.4.0. 1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene (common name: tetracyclododecene), and derivatives of these compounds (for example, those having a substituent in the ring). Here, examples of the substituent include an alkyl group, an alkylene group, and a polar group. In addition, these substituents may be the same or different and a plurality may be bonded to the ring. Monomers having a norbornene structure can be used singly or in combination of two or more.
極性基の種類としては、ヘテロ原子、又はヘテロ原子を有する原子団などが挙げられる。ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、ハロゲン原子などが挙げられる。極性基の具体例としては、カルボキシル基、カルボニルオキシカルボニル基、エポキシ基、ヒドロキシル基、オキシ基、エステル基、シラノール基、シリル基、アミノ基、ニトリル基、スルホン基などが挙げられる。 Examples of the polar group include a hetero atom or an atomic group having a hetero atom. Examples of the hetero atom include an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, a silicon atom, and a halogen atom. Specific examples of the polar group include a carboxyl group, a carbonyloxycarbonyl group, an epoxy group, a hydroxyl group, an oxy group, an ester group, a silanol group, a silyl group, an amino group, a nitrile group, and a sulfone group.
ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な他の単量体としては、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどのモノ環状オレフィン類及びその誘導体、シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエンなどの環状共役ジエン及びその誘導体などが挙げられる。 Other monomers capable of ring-opening copolymerization with monomers having a norbornene structure include monocyclic olefins such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene and derivatives thereof, cyclic conjugated dienes such as cyclohexadiene, cycloheptadiene, and the like. And derivatives thereof.
ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体及びノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との開環共重合体は、単量体を公知の開環重合触媒の存在下に(共)重合することにより得ることができる。 A ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure and a ring-opening copolymer of a monomer having a norbornene structure and another monomer copolymerizable with the monomer have a known ring-opening polymerization catalyst. It can be obtained by (co) polymerization in the presence.
ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な他の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテンなどの炭素数2〜20のα−オレフィン及びこれらの誘導体;シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどのシクロオレフィン及びこれらの誘導体;1,4−ヘキサジエン、4−メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジエンなどの非共役ジエンなどが挙げられる。これらの単量体は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、α−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。 Examples of other monomers that can be addition copolymerized with a monomer having a norbornene structure include α-olefins having 2 to 20 carbon atoms such as ethylene, propylene, and 1-butene, and derivatives thereof; cyclobutene, cyclopentene, Cycloolefins such as cyclohexene and derivatives thereof; non-conjugated dienes such as 1,4-hexadiene, 4-methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl-1,4-hexadiene, and the like. These monomers can be used alone or in combination of two or more. Among these, α-olefin is preferable and ethylene is more preferable.
ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体及びノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との付加共重合体は、単量体を公知の付加重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。 An addition polymer of a monomer having a norbornene structure and an addition copolymer of another monomer copolymerizable with a monomer having a norbornene structure can be used in the presence of a known addition polymerization catalyst. It can be obtained by polymerization.
ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体の水素添加物、ノルボルネン構造を有する単量体とこれと開環共重合可能なその他の単量体との開環共重合体の水素添加物、ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体の水素添加物、及びノルボルネン構造を有する単量体とこれと付加共重合可能なその他の単量体との付加共重合体の水素添加物は、これらの重合体の溶液に、ニッケル、パラジウムなどの遷移金属を含む公知の水素添加触媒を添加し、炭素−炭素不飽和結合を好ましくは90%以上水素添加することによって得ることができる。 A hydrogenated product of a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure, a hydrogenated product of a ring-opening copolymer of a monomer having a norbornene structure and another monomer capable of ring-opening copolymerization thereof, Hydrogenated products of addition polymers of monomers having a norbornene structure, and hydrogenated products of addition copolymers of monomers having a norbornene structure and other monomers capable of addition copolymerization with these A known hydrogenation catalyst containing a transition metal such as nickel or palladium is added to the polymer solution, and the carbon-carbon unsaturated bond is preferably hydrogenated by 90% or more.
ノルボルネン系樹脂の中でも、繰り返し単位として、X:ビシクロ[3.3.0]オクタン−2,4−ジイル−エチレン構造と、Y:トリシクロ[4.3.0.12,5]デカン−7,9−ジイル−エチレン構造とを有し、これらの繰り返し単位の含有量が、ノルボルネン系樹脂の繰り返し単位全体に対して90質量%以上であり、かつ、Xの含有割合とYの含有割合との比が、X:Yの質量比で100:0〜40:60であるものが好ましい。このような樹脂を用いることにより、長期的に寸法変化がなく、光学特性の安定性に優れる光閉じ込めフィルムを得ることができる。 Among norbornene-based resins, as repeating units, X: bicyclo [3.3.0] octane-2,4-diyl-ethylene structure and Y: tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] decane-7 , 9-diyl-ethylene structure, the content of these repeating units is 90% by mass or more based on the entire repeating units of the norbornene resin, and the content ratio of X and the content ratio of Y The ratio of X: Y is preferably 100: 0 to 40:60. By using such a resin, it is possible to obtain a light confinement film that has no dimensional change in the long term and is excellent in stability of optical characteristics.
本発明に用いる環状オレフィン樹脂の分子量は使用目的に応じて適宜選定される。溶媒としてシクロヘキサン(重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン)を用いるゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)で、通常20,000〜150,000である。好ましくは25,000〜100,000、より好ましくは30,000〜80,000である。重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、フィルムの機械的強度及び成型加工性とが高度にバランスされ好適である。 The molecular weight of the cyclic olefin resin used in the present invention is appropriately selected according to the purpose of use. Polyisoprene or polystyrene-equivalent weight average molecular weight (Mw) measured by gel permeation chromatography using cyclohexane (toluene if the polymer resin does not dissolve) as a solvent, usually 20,000 to 150,000. . Preferably it is 25,000-100,000, More preferably, it is 30,000-80,000. When the weight average molecular weight is in such a range, the mechanical strength and molding processability of the film are highly balanced and suitable.
環状オレフィン樹脂のガラス転移温度は、使用目的に応じて適宜選択されればよい。耐久性及び延伸加工性の観点から、好ましくは130〜160℃、より好ましくは135〜150℃の範囲である。 The glass transition temperature of the cyclic olefin resin may be appropriately selected according to the purpose of use. From the viewpoint of durability and stretchability, it is preferably in the range of 130 to 160 ° C, more preferably 135 to 150 ° C.
環状オレフィン樹脂の分子量分布(重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn))は、緩和時間、生産性等の観点から、1.2〜3.5、好ましくは1.5〜3.0、さらに好ましくは1.8〜2.7である。 The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of the cyclic olefin resin is 1.2 to 3.5, preferably 1.5 to 3.0, from the viewpoint of relaxation time, productivity, and the like. More preferably, it is 1.8 to 2.7.
本発明に用いる環状オレフィン樹脂は、光弾性係数の絶対値が10×10−12Pa−1以下であることが好ましく、7×10−12Pa−1以下であることがより好ましく、4×10−12Pa−1以下であることが特に好ましい。光弾性係数Cは、複屈折をΔn、応力をσとしたとき、C=Δn/σで表される値である。 The cyclic olefin resin used in the present invention preferably has an absolute value of photoelastic coefficient of 10 × 10 −12 Pa −1 or less, more preferably 7 × 10 −12 Pa −1 or less, and more preferably 4 × 10. It is particularly preferably −12 Pa −1 or less. The photoelastic coefficient C is a value represented by C = Δn / σ where birefringence is Δn and stress is σ.
本発明において、環状オレフィン樹脂には、実質的に粒子を含まないことが好ましい。ここで、実質的に粒子を含まないとは、環状オレフィン樹脂からなるフィルムへ粒子を添加しても、未添加状態からのヘイズの上昇巾が0.05%以下の範囲である量までは許容できることを意味する。特に、脂環式ポリオレフィン樹脂は、多くの有機粒子や無機粒子との親和性に欠けるため、上記範囲を超えた粒子を添加した環状オレフィン樹脂フィルムを延伸すると、空隙が発生しやすく、その結果として、ヘイズの著しい低下が生じるおそれがある。 In the present invention, it is preferable that the cyclic olefin resin does not substantially contain particles. Here, “substantially free of particles” means that even if particles are added to a film made of a cyclic olefin resin, the amount of increase in haze from the non-added state is allowed to be in the range of 0.05% or less. Means you can. In particular, the alicyclic polyolefin resin lacks affinity with many organic particles and inorganic particles. Therefore, when a cyclic olefin resin film to which particles exceeding the above range are added is stretched, voids are easily generated, and as a result, There is a risk that a significant decrease in haze occurs.
〈ポリカーボネート樹脂〉
本発明では、種々の公知のポリカーボネート樹脂も使用することができる。本発明においては、特に芳香族ポリカーボネートを用いることが好ましい。当該芳香族ポリカーボネートについて特に制約はなく、所望するフィルムの諸特性が得られる芳香族ポリカーボネートであれば特に制約はない。
<Polycarbonate resin>
In the present invention, various known polycarbonate resins can also be used. In the present invention, it is particularly preferable to use an aromatic polycarbonate. There is no restriction | limiting in particular about the said aromatic polycarbonate, and there will be no restriction | limiting in particular if it is an aromatic polycarbonate from which the various characteristics of a desired film are acquired.
一般に、ポリカーボネートと総称される高分子材料は、その合成手法において重縮合反応が用いられて、主鎖が炭酸結合で結ばれているものを総称するが、これらの内でも、一般に、フェノール誘導体と、ホスゲン、ジフェニルカーボネートらから重縮合で得られるものを意味する。通常、ビスフェノール−Aと呼称されている2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンをビスフェノール成分とする繰り返し単位で表される芳香族ポリカーボネートが好ましく選ばれるが、適宜各種ビスフェノール誘導体を選択することで、芳香族ポリカーボネート共重合体を構成することができる。 In general, a polymer material collectively referred to as polycarbonate is a generic term for a polymer material in which a polycondensation reaction is used in its synthesis method and the main chain is linked by a carbonic acid bond. , Phosgene, diphenyl carbonate and the like obtained by polycondensation. Usually, an aromatic polycarbonate represented by a repeating unit having 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane called bisphenol-A as a bisphenol component is preferably selected, and various bisphenol derivatives should be appropriately selected. Thus, an aromatic polycarbonate copolymer can be constituted.
かかる共重合成分としてこのビスフェノール−A以外に、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−フェニルエタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフロロプロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)サルファイド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン等を挙げることができる。 In addition to this bisphenol-A, bis (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 1,1 -Bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -2-phenyl Ethane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane, bis (4-hydroxyphenyl) sulfide, bis ( 4-hydroxyphenyl) sulfone, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-tri Mention may be made of a chill cyclohexane, and the like.
また、一部にテレフタル酸及び/又はイソフタル酸成分を含む芳香族ポリエステルカーボネートを使用することも可能である。このような構成単位をビスフェノール−Aからなる芳香族ポリカーボネートの構成成分の一部に使用することにより芳香族ポリカーボネートの性質、例えば耐熱性、溶解性を改良することができるが、このような共重合体についても本発明は有効である。 It is also possible to use an aromatic polyester carbonate partially containing terephthalic acid and / or isophthalic acid components. By using such a structural unit as a part of the structural component of the aromatic polycarbonate composed of bisphenol-A, the properties of the aromatic polycarbonate, such as heat resistance and solubility, can be improved. The present invention is also effective for coalescence.
ここで用いられる芳香族ポリカーボネートの粘度平均分子量は、10000以上、200000以下であれば好適に用いられる。粘度平均分子量20000〜120000が特に好ましい。粘度平均分子量が10000より低い樹脂を使用すると得られるフィルムの機械的強度が不足する場合があり、また400000以上の高分子量になるとドープの粘度が大きくなり過ぎ取扱い上問題を生じるので好ましくない。粘度平均分子量は市販の高速液体クロマトグラフィ等で測定することができる。 If the aromatic polycarbonate used here has a viscosity average molecular weight of 10,000 or more and 200,000 or less, it is suitably used. A viscosity average molecular weight of 20,000 to 120,000 is particularly preferred. If a resin having a viscosity average molecular weight lower than 10,000 is used, the mechanical strength of the resulting film may be insufficient, and if it has a high molecular weight of 400000 or more, the viscosity of the dope becomes too large, causing problems in handling. The viscosity average molecular weight can be measured by commercially available high performance liquid chromatography.
本発明に係る芳香族ポリカーボネートのガラス転移温度は200℃以上であることが高耐熱性のフィルムを得る上で好ましく、より好ましくは230℃以上である。これらは、上記共重合成分を適宜選択して得ることができる。ガラス転移温度は、DSC装置(示差走査熱量分析装置)にて測定することができ、例えばセイコー電子工業株式会社製:RDC220にて、10℃/分の昇温条件によって求められる、ベースラインが偏奇し始める温度である。 The glass transition temperature of the aromatic polycarbonate according to the present invention is preferably 200 ° C. or higher in order to obtain a highly heat-resistant film, and more preferably 230 ° C. or higher. These can be obtained by appropriately selecting the copolymerization component. The glass transition temperature can be measured with a DSC apparatus (differential scanning calorimetric analyzer). For example, the baseline is unevenly determined by a temperature rising condition of 10 ° C./min with RDC220 manufactured by Seiko Instruments Inc. It is the temperature that begins to do.
本発明において、上記芳香族ポリカーボネートを含むドープ組成物に用いる溶媒は、メチレンクロライド、及び炭素数1〜6の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを4〜14質量部含有する混合溶媒であることが好ましい。 In the present invention, the solvent used for the dope composition containing the aromatic polycarbonate is a mixed solvent containing 4 to 14 parts by mass of methylene chloride and a linear or branched aliphatic alcohol having 1 to 6 carbon atoms. It is preferable.
上記炭素数1〜6の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールの混合量は、好ましくは4〜12質量部である。このような混合溶媒を用い、従来よりも高い残留溶媒濃度でウェブを剥離することにより、ウェブ剥離時の強い静電気の発生を抑制し、これによりベルトが損傷したり、フィルムのスジやムラ、微小傷の発生を防止することができる。 The mixing amount of the linear or branched aliphatic alcohol having 1 to 6 carbon atoms is preferably 4 to 12 parts by mass. By using such a mixed solvent, the web is peeled off at a higher residual solvent concentration than before, thereby suppressing the generation of strong static electricity when the web is peeled off, thereby causing damage to the belt, film streaks, unevenness, Scratches can be prevented from occurring.
加えるアルコールの種類は用いる溶媒により制限される。アルコールと当該溶媒とが相溶性があることが必要条件である。これらは単独で加えても良いし、2種類以上組み合わせても問題ない。本発明におけるアルコールとしては、炭素数1〜6、好ましくは1〜4、より好ましくは2〜4の鎖状、或いは分岐した脂肪族アルコールが好ましい。具体的にはメタノール、エタノール、イソプロパノール、ターシャリ−ブタノールなどが挙げられる。これらのうちエタノール、イソプロパノール、ターシャリ−ブタノールはほぼ同等の効果が得られるが、メタノールはやや効果が低い。理由は明らかでないが溶媒の沸点、即ち乾燥時の飛び易さが関係しているものと推測している。それ以上の高級アルコールは、高沸点であるためフィルム製膜後も残留しやすくなるので好ましくない。 The type of alcohol added is limited by the solvent used. It is a necessary condition that the alcohol and the solvent are compatible. These may be added alone or in combination of two or more. The alcohol in the present invention is preferably a linear or branched aliphatic alcohol having 1 to 6, preferably 1 to 4, more preferably 2 to 4 carbon atoms. Specific examples include methanol, ethanol, isopropanol, and tert-butanol. Of these, ethanol, isopropanol, and tertiary-butanol can achieve almost the same effect, but methanol has a slightly lower effect. Although the reason is not clear, it is presumed that the boiling point of the solvent, that is, the ease of flying during drying is related. Higher alcohols higher than that are not preferred because they have a high boiling point and are likely to remain after film formation.
アルコールの添加量は慎重に選択されなければならない。これらのアルコールは芳香族ポリカーボネートに対する溶解性には全く乏しく、完全な貧溶媒である。従ってあまり多く加えることはできず、満足すべき剥離性が得られる最少量とすべきである。前述したようにメチレンクロライドに対して4〜14質量部、好ましくは4〜12質量部である。メチレンクロライド量に対しては、添加量が4〜14質量部の範囲であると、当該溶媒のポリマーに対する溶解性、ドープ安定性が向上し、剥離性改善の効果が大きくなる。 The amount of alcohol added must be carefully selected. These alcohols are completely poor in solubility in aromatic polycarbonate and are completely poor solvents. Therefore, it cannot be added too much, and should be the minimum amount that provides satisfactory peelability. As mentioned above, it is 4-14 mass parts with respect to a methylene chloride, Preferably it is 4-12 mass parts. When the addition amount is in the range of 4 to 14 parts by mass with respect to the amount of methylene chloride, the solubility of the solvent in the polymer and the dope stability are improved, and the effect of improving the peelability is increased.
本発明はドープ組成物中、上記メチレンクロライドと脂肪族アルコールで構成されるが、他の溶媒を使用することもできる。その他残りの溶媒としては芳香族ポリカーボネートを高濃度に溶解し、かつアルコールと相溶性があること、さらに低沸点溶媒であれば特に限定はない。例えば、芳香族ポリカーボネートに対して溶解力のある溶媒として、塩化メチレン以外にクロロホルム、1,2−ジクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン等の環状エーテル系の溶媒、シクロヘキサノン等のケトン系の溶媒が挙げられる。 The present invention comprises the above methylene chloride and aliphatic alcohol in the dope composition, but other solvents can also be used. The remaining solvent is not particularly limited as long as it dissolves the aromatic polycarbonate at a high concentration and is compatible with alcohol, and is a low-boiling solvent. For example, as a solvent having a solubility in an aromatic polycarbonate, in addition to methylene chloride, halogen solvents such as chloroform, 1,2-dichloroethane, 1,1,2-trichloroethane, chlorobenzene, 1,3-dioxolane, 1, Examples include cyclic ether solvents such as 4-dioxane and tetrahydrofuran, and ketone solvents such as cyclohexanone.
他の溶媒を使用する場合は特に限定はなく、効果を勘案して用いればよい。ここでいう効果とは、溶解性や安定性を犠牲にしない範囲で溶媒を混合することによる、たとえば溶液流延法により製膜したフィルムの表面性の改善(レベリング効果)、蒸発速度や系の粘度調節、結晶化抑制効果などである。これらの効果の度合により混合する溶媒の種類や添加量を決定すればよく、また混合する溶媒として1種又は2種以上用いてもかまわない。 When using other solvent, there is no limitation in particular and it may use it in consideration of an effect. The effects here include mixing the solvent without sacrificing solubility and stability, for example, improving the surface properties of the film formed by the solution casting method (leveling effect), evaporation rate and system These include viscosity adjustment and crystallization suppression effects. What is necessary is just to determine the kind and addition amount of the solvent to mix by the degree of these effects, and you may use 1 type, or 2 or more types as a solvent to mix.
好適に用いられる他の溶媒としてはクロロホルム、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン系溶媒、トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒、エチレングリコールジメチルエーテル、メトキシエチルアセテートなどのエーテル系溶媒が挙げられる。 Other solvents preferably used include halogen solvents such as chloroform and 1,2-dichloroethane, hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone, and ethyl acetate and butyl acetate. Examples include ester solvents, ether solvents such as ethylene glycol dimethyl ether and methoxyethyl acetate.
本発明に係るドープ組成物は、結果としてヘイズの低い透明な溶液が得られればいかなる方法で調製してもよい。あらかじめある溶媒に溶解させた芳香族ポリカーボネート溶液に、アルコールを所定量添加してもよいし、アルコールを含む混合溶媒に芳香族ポリカーボネートを溶解させてもよい。ただ先にも述べた様にアルコールは貧溶媒であるため、前者の後から添加する方法ではポリマーの析出によるドープ白濁の可能性があるため、後者の混合溶媒に溶解させる方法が好ましい。 The dope composition according to the present invention may be prepared by any method as long as a transparent solution having a low haze is obtained as a result. A predetermined amount of alcohol may be added to the aromatic polycarbonate solution dissolved in a certain solvent in advance, or the aromatic polycarbonate may be dissolved in a mixed solvent containing alcohol. However, as described above, since alcohol is a poor solvent, the method of adding the latter after the former may cause clouding of the dope due to the precipitation of the polymer. Therefore, the method of dissolving in the latter mixed solvent is preferable.
〈ポリエステル樹脂〉
本発明において用いることができるポリエステル樹脂は、ジカルボン酸とジオールを重合することにより得られ、ジカルボン酸構成単位(ジカルボン酸に由来する構成単位)の70%以上が芳香族ジカルボン酸に由来し、かつジオール構成単位(ジオールに由来する構成単位)の70%以上が脂肪族ジオールに由来する。
<Polyester resin>
The polyester resin that can be used in the present invention is obtained by polymerizing a dicarboxylic acid and a diol, and 70% or more of dicarboxylic acid structural units (constituent units derived from dicarboxylic acid) are derived from aromatic dicarboxylic acid, and 70% or more of the diol constituent units (constituent units derived from the diol) are derived from the aliphatic diol.
芳香族ジカルボン酸に由来する構成単位の割合は70%以上、好ましくは80%以上、さらに好ましくは90%以上である。 The proportion of the structural unit derived from the aromatic dicarboxylic acid is 70% or more, preferably 80% or more, more preferably 90% or more.
脂肪族ジオールに由来する構成単位の割合は70%以上、好ましくは80%以上、さらに好ましくは90%以上である。ポリエステル樹脂は、2種以上を併用してもよい。 The proportion of the structural unit derived from the aliphatic diol is 70% or more, preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. Two or more polyester resins may be used in combination.
前記芳香族ジカルボン酸として、テレフタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸等のナフタレンジカルボン酸、4,4′−ビフェニルジカルボン酸、3,4′−ビフェニルジカルボン酸等及びこれらのエステル形成性誘導体が例示できる。 Examples of the aromatic dicarboxylic acid include terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, naphthalenedicarboxylic acid such as 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, and 4,4′-biphenyldicarboxylic acid. 3,4'-biphenyldicarboxylic acid and the like and ester-forming derivatives thereof.
ポリエステル樹脂には本発明の目的を損なわない範囲でアジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸や安息香酸、プロピオン酸、酪酸等のモノカルボン酸を用いることができる。 As the polyester resin, aliphatic dicarboxylic acids such as adipic acid, azelaic acid, and sebacic acid, and monocarboxylic acids such as benzoic acid, propionic acid, and butyric acid can be used without departing from the object of the present invention.
前記脂肪族ジオールとして、エチレングリコール、1,3−プロピレンジオール、1,4−ブタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,6−ヘキサンジオール等及びこれらのエステル形成性誘導体が例示できる。 Examples of the aliphatic diol include ethylene glycol, 1,3-propylene diol, 1,4-butanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,6-hexanediol, and the like, and ester-forming derivatives thereof.
ポリエステル樹脂には本発明の目的を損なわない範囲でブチルアルコール、ヘキシルアルコール、オクチルアルコール等のモノアルコール類や、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール等の多価アルコール類を用いることもできる。 As the polyester resin, monoalcohols such as butyl alcohol, hexyl alcohol, and octyl alcohol, and polyhydric alcohols such as trimethylolpropane, glycerin, and pentaerythritol can be used as long as the object of the present invention is not impaired.
ポリエステル樹脂の製造には、公知の方法である直接エステル化法やエステル交換法を適用することができる。ポリエステル樹脂の製造時に使用する重縮合触媒としては、公知の三酸化アンチモン、五酸化アンチモン等のアンチモン化合物、酸化ゲルマニウム等のゲルマニウム化合物、酢酸チタン等のチタン化合物、塩化アルミニウム等のアルミニウム化合物等が例示できるが、これらに限定されない。 A known esterification method or transesterification method can be applied to the production of the polyester resin. Examples of the polycondensation catalyst used in the production of the polyester resin include known antimony compounds such as antimony trioxide and antimony pentoxide, germanium compounds such as germanium oxide, titanium compounds such as titanium acetate, and aluminum compounds such as aluminum chloride. Although it can, it is not limited to these.
好ましいポリエステル樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合樹脂、ポリエチレン−1,4−シクロヘキサンジメチレン−テレフタレート共重合樹脂、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキレート樹脂、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート−テレフタレート共重合樹脂、ポリエチレン−テレフタレート−4,4′−ビフェニルジカルボキシレート樹脂、ポリ−1,3−プロピレン−テレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート樹脂等がある。 Preferred polyester resins include polyethylene terephthalate resin, polyethylene terephthalate-isophthalate copolymer resin, polyethylene-1,4-cyclohexanedimethylene-terephthalate copolymer resin, polyethylene-2,6-naphthalene dicarboxylate resin, polyethylene-2, 6-naphthalene dicarboxylate-terephthalate copolymer resin, polyethylene-terephthalate-4,4'-biphenyldicarboxylate resin, poly-1,3-propylene-terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, polybutylene-2,6-naphthalene There are dicarboxylate resins and the like.
より好ましいポリエステル樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合樹脂、ポリエチレン−1,4−シクロヘキサンジメチレン−テレフタレート共重合樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂及びポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート樹脂が挙げられる。 More preferable polyester resins include polyethylene terephthalate resin, polyethylene terephthalate-isophthalate copolymer resin, polyethylene-1,4-cyclohexanedimethylene-terephthalate copolymer resin, polybutylene terephthalate resin, and polyethylene-2,6-naphthalene dicarboxylate. Resin.
ポリエステル樹脂の固有粘度(フェノール/1,1,2,2−テトラクロロエタン=60/40質量比混合溶媒中、25℃で測定した値)は、0.7〜2.0dl/gが好ましく、より好ましくは0.8〜1.5dl/gである。固有粘度が0.7以上であるとポリエステル樹脂の分子量が充分に高いために、これを使用して得られるポリエステル樹脂組成物からなる成形物が成形物として必要な機械的性質を有すると共に、透明性が良好となる。固有粘度が2.0以下の場合、成形性が良好となる。 The intrinsic viscosity of the polyester resin (phenol / 1,1,2,2-tetrachloroethane = value measured at 25 ° C. in a 60/40 mass ratio mixed solvent) is preferably 0.7 to 2.0 dl / g, more Preferably it is 0.8-1.5 dl / g. Since the molecular weight of the polyester resin is sufficiently high when the intrinsic viscosity is 0.7 or more, the molded product comprising the polyester resin composition obtained by using the polyester resin has mechanical properties necessary for the molded product and is transparent. Property is improved. When the intrinsic viscosity is 2.0 or less, the moldability is good.
〈その他添加剤〉
本発明に係る熱可塑性樹脂基材及び当該基材上に設けられた各種機能層には、目的に応じて種々の化合物等を添加剤として含有させることができる。例えば、可塑剤、酸化防止剤、酸捕捉剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光学異方性制御剤、マット剤、帯電防止剤、剥離剤、等を含有させることができる。
<Other additives>
The thermoplastic resin substrate according to the present invention and various functional layers provided on the substrate can contain various compounds as additives depending on the purpose. For example, a plasticizer, an antioxidant, an acid scavenger, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, an optical anisotropy control agent, a matting agent, an antistatic agent, a release agent, and the like can be contained.
前記添加剤の中で、本発明に有効に寄与するのは光学異方性制御剤であり、特にリターデーション上昇剤が光学的に複屈折性を本願目的の平面から斜め方向に発現し易くするため好ましい。リターデーション上昇剤は、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物が好ましい。芳香族化合物は、樹脂の100質量部に対して、0.01乃至20質量部の範囲で使用することが好ましい。そして、0.05乃至15質量部の範囲で使用することが好ましく、0.1乃至10質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。芳香族炭化水素環は、6員環(すなわち、ベンゼン環)であることが特に好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、5員環、6員環又は7員環であることが好ましく、5員環又は6員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環及び1,3,5−トリアジン環が含まれる。これらについては、特開2004−109410号、特開2003−344655号、特開2000−275434号、特開2000−111914号、特開平12−275434号公報などに詳細が記載されている。 Among the additives, it is an optical anisotropy control agent that effectively contributes to the present invention, and in particular, the retardation increasing agent makes it easy to optically exhibit birefringence obliquely from the plane of the present application. Therefore, it is preferable. The retardation increasing agent is preferably an aromatic compound having at least two aromatic rings. The aromatic compound is preferably used in the range of 0.01 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin. And it is preferable to use in 0.05-15 mass parts, and it is still more preferable to use in 0.1-10 mass parts. Two or more aromatic compounds may be used in combination. The aromatic ring of the aromatic compound includes an aromatic hetero ring in addition to the aromatic hydrocarbon ring. The aromatic hydrocarbon ring is particularly preferably a 6-membered ring (that is, a benzene ring). The aromatic heterocycle is generally an unsaturated heterocycle. The aromatic heterocycle is preferably a 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or 6-membered ring. Aromatic heterocycles generally have the most double bonds. As the hetero atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom are preferable, and a nitrogen atom is particularly preferable. Examples of aromatic heterocycles include furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, oxazole ring, isoxazole ring, thiazole ring, isothiazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, furazane ring, triazole ring, pyran ring, pyridine ring , Pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring and 1,3,5-triazine ring. Details of these are described in JP-A No. 2004-109410, JP-A No. 2003-344655, JP-A No. 2000-275434, JP-A No. 2000-1111914, JP-A No. 12-275434, and the like.
本発明に係る光閉じ込めフィルムは、作製されたフィルムがハンドリングされる際に、傷が付いたり、搬送性が悪化することを防止するために、マット剤として、微粒子を添加しても良い。 In the light confinement film according to the present invention, fine particles may be added as a matting agent in order to prevent the produced film from being scratched or being deteriorated in transportability when handled.
微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等を挙げることができる。微粒子は珪素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。 As fine particles, examples of inorganic compounds include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, Examples thereof include magnesium silicate and calcium phosphate. Fine particles containing silicon are preferable in terms of low turbidity, and silicon dioxide is particularly preferable.
微粒子の一次粒子の平均粒径は5〜400nmが好ましく、さらに好ましいのは10〜300nmである。これらは主に粒径0.05〜0.3μmの2次凝集体として含有されていてもよく、平均粒径100〜400nmの粒子であれば凝集せずに一次粒子として含まれていることも好ましい。光閉じ込めフィルム中のこれらの微粒子の含有量は0.01〜1質量%であることが好ましく、特に0.05〜0.5質量%が好ましい。共流延法による多層構成の光閉じ込めフィルムの場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。 The average primary particle size of the fine particles is preferably 5 to 400 nm, and more preferably 10 to 300 nm. These may be mainly contained as secondary aggregates having a particle size of 0.05 to 0.3 μm, and may be contained as primary particles without being aggregated if the particles have an average particle size of 100 to 400 nm. preferable. The content of these fine particles in the light confinement film is preferably 0.01 to 1% by mass, particularly preferably 0.05 to 0.5% by mass. In the case of a light confinement film having a multilayer structure by the co-casting method, it is preferable to contain fine particles of this addition amount on the surface.
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。 Silicon dioxide fine particles are commercially available under the trade names of, for example, Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.). it can.
酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。 Zirconium oxide fine particles are commercially available, for example, under the trade names Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and can be used.
ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240(以上東芝シリコーン(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。 Examples of the polymer include silicone resin, fluororesin, and acrylic resin. Silicone resins are preferable, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. For example, Tospearl 103, 105, 108, 120, 145, 3120, and 240 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) It is marketed by name and can be used.
これらの中でもアエロジル200V、アエロジルR972Vが光閉じ込めフィルムのヘイズを低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明の光閉じ込めフィルムにおいては、少なくとも一方の面の動摩擦係数が0.2〜1.0であることが好ましい。 Among these, Aerosil 200V and Aerosil R972V are particularly preferably used because they have a large effect of reducing the friction coefficient while keeping the haze of the light confinement film low. In the light confinement film of the present invention, the dynamic friction coefficient of at least one surface is preferably 0.2 to 1.0.
(光閉じ込めフィルムの製造方法)
本発明に係る樹脂フィルム基材をフィルムとして製造する方法としては、通常のインフレーション法、T−ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できるが、着色抑制、異物欠点の抑制、ダイラインなどの光学欠点の抑制などの観点から流延法による溶液流延法、溶融流延法が好ましい。
(Method for producing optical confinement film)
As a method for producing the resin film substrate according to the present invention as a film, production methods such as a normal inflation method, a T-die method, a calendar method, a cutting method, a casting method, an emulsion method, and a hot press method can be used. However, the solution casting method and the melt casting method by a casting method are preferable from the viewpoints of suppressing coloring, suppressing defects of foreign matters, and suppressing optical defects such as die lines.
以下、本発明に係る光閉じ込めフィルムを作製する場合の製造方法について詳述する。 Hereafter, the manufacturing method in the case of producing the light confinement film concerning this invention is explained in full detail.
<溶液流延法による光閉じ込めフィルムの製造方法>
《有機溶媒》
本発明に係る光閉じ込めフィルムを溶液流延法で製造する場合、ドープを形成するのに有用な有機溶媒は、セルロースエステル樹脂等の熱可塑性樹脂を溶解するものであれば制限なく用いることができる。
<Method for producing optical confinement film by solution casting method>
《Organic solvent》
When the optical confinement film according to the present invention is produced by the solution casting method, an organic solvent useful for forming the dope can be used without limitation as long as it dissolves a thermoplastic resin such as a cellulose ester resin. .
例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエタン、乳酸エチル、乳酸、ジアセトンアルコール等を挙げることができ、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン、乳酸エチル等を好ましく使用し得る。 For example, as the chlorinated organic solvent, methylene chloride, as the non-chlorinated organic solvent, methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, acetone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-hexafluoro-1-propanol, 1,3-difluoro-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro- 2-methyl-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-propanol, nitroethane, ethyl lactate, lactic acid , Diacetone alcohol and the like, methylene chloride, methyl acetate, ethyl acetate, acetone, ethyl lactate and the like are preferably used. That.
ドープには、上記有機溶媒の他に、1〜40質量%の炭素原子数1〜4の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有させてもよい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒系での熱可塑性樹脂の溶解を促進する役割もある。 In addition to the organic solvent, the dope may contain 1 to 40% by mass of a linear or branched aliphatic alcohol having 1 to 4 carbon atoms. When the proportion of alcohol in the dope increases, the web gels, facilitating peeling from the metal support, and when the proportion of alcohol is small, the dissolution of the thermoplastic resin in a non-chlorine organic solvent system is promoted. There is also a role.
特に、メチレンクロライド、及び炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有する溶媒に、熱可塑性樹脂は、少なくとも計10〜45質量%溶解させたドープ組成物であることが好ましい。 In particular, the thermoplastic resin should be a dope composition in which at least a total of 10 to 45 mass% is dissolved in a solvent containing methylene chloride and a linear or branched aliphatic alcohol having 1 to 4 carbon atoms. preferable.
炭素原子数1〜4の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノールを挙げることができる。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等からエタノールが好ましい。 Examples of the linear or branched aliphatic alcohol having 1 to 4 carbon atoms include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, sec-butanol, and tert-butanol. Ethanol is preferred because of the stability of these dopes, the relatively low boiling point, and good drying properties.
以下、本発明に係る光閉じ込めフィルム(以下、単に「フィルム」ともいう。)の好ましい製膜方法について説明する。 Hereinafter, a preferable film forming method of the light confinement film (hereinafter also simply referred to as “film”) according to the present invention will be described.
1)溶解工程
熱可塑性樹脂に対する良溶媒を主とする有機溶媒に、溶解釜中で熱可塑性樹脂、その他の添加剤を攪拌しながら溶解しドープを形成する工程である。
1) Dissolution Step In this step, a thermoplastic resin and other additives are dissolved in an organic solvent mainly composed of a good solvent for the thermoplastic resin while stirring to form a dope.
熱可塑性樹脂の溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平9−95544号公報、特開平9−95557号公報、又は特開平9−95538号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平11−21379号公報に記載の如き高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることができるが、特に主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法が好ましい。 For the dissolution of the thermoplastic resin, a method carried out at normal pressure, a method carried out below the boiling point of the main solvent, a method carried out under pressure above the boiling point of the main solvent, JP-A-9-95544, JP-A-9-95557 Alternatively, various dissolution methods such as a cooling dissolution method as described in JP-A-9-95538 and a high-pressure method as described in JP-A-11-21379 can be used. The method of pressurizing at a boiling point or higher is preferred.
返材とは、フィルムを細かく粉砕した物で、フィルムを製膜するときに発生する、フィルムの両サイド部分を切り落とした物や、擦り傷などでスペックアウトしたフィルム原反のことをいい、これも再使用される。 Recycled material is a finely pulverized film, which is generated when the film is formed, cut off on both sides of the film, or the original film that has been speculated out due to scratches, etc. Reused.
2)流延工程
ドープを、送液ポンプ(例えば、加圧型定量ギヤポンプ)を通して加圧ダイに送液し、無限に移送する無端の金属ベルト、例えばステンレスベルト、あるいは回転する金属ドラム等の金属支持体上の流延位置に、加圧ダイスリットからドープを流延する工程である。
2) Casting process An endless metal belt, such as a stainless steel belt or a rotating metal drum, which supports the dope is fed to a pressure die through a liquid feed pump (for example, a pressurized metering gear pump) and supported infinitely. This is a step of casting a dope from a pressure die slit to a casting position on the body.
ダイの口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一にし易い加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやTダイ等があり、いずれも好ましく用いられる。金属支持体の表面は鏡面となっている。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上に2基以上設け、ドープ量を分割して重層してもよい。あるいは複数のドープを同時に流延する共流延法によって積層構造のフィルムを得ることも好ましい。 A pressure die that can adjust the slit shape of the die base portion and can easily make the film thickness uniform is preferable. Examples of the pressure die include a coat hanger die and a T die, and any of them is preferably used. The surface of the metal support is a mirror surface. In order to increase the film forming speed, two or more pressure dies may be provided on the metal support, and the dope amount may be divided and stacked. Or it is also preferable to obtain the film of a laminated structure by the co-casting method which casts several dope simultaneously.
3)溶媒蒸発工程
ウェブ(流延用支持体上にドープを流延し、形成されたドープ膜をウェブと呼ぶ)を流延用支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させる工程である。
3) Solvent evaporation step In this step, the web (the dope is cast on the casting support and the formed dope film is called a web) is heated on the casting support to evaporate the solvent.
溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法及び/又は支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱方法の乾燥効率が良く好ましい。又、それらを組み合わせる方法も好ましく用いられる。流延後の支持体上のウェブを40〜100℃の雰囲気下、支持体上で乾燥させることが好ましい。40〜100℃の雰囲気下に維持するには、この温度の温風をウェブ上面に当てるか赤外線等の手段により加熱することが好ましい。 To evaporate the solvent, there are a method of blowing air from the web side and / or a method of transferring heat from the back side of the support by a liquid, a method of transferring heat from the front and back by radiant heat, etc. High efficiency and preferable. A method of combining them is also preferably used. The web on the support after casting is preferably dried on the support in an atmosphere of 40 to 100 ° C. In order to maintain the atmosphere at 40 to 100 ° C., it is preferable to apply hot air at this temperature to the upper surface of the web or to heat by means such as infrared rays.
面品質、透湿性、剥離性の観点から、30〜120秒以内で該ウェブを支持体から剥離することが好ましい。 From the viewpoint of surface quality, moisture permeability, and peelability, it is preferable to peel the web from the support within 30 to 120 seconds.
4)剥離工程
金属支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離されたウェブは次工程に送られる。
4) Peeling process It is the process of peeling the web which the solvent evaporated on the metal support body in a peeling position. The peeled web is sent to the next process.
金属支持体上の剥離位置における温度は好ましくは10〜40℃であり、さらに好ましくは11〜30℃である。 The temperature at the peeling position on the metal support is preferably 10 to 40 ° C, more preferably 11 to 30 ° C.
なお、剥離する時点での金属支持体上でのウェブの剥離時残留溶媒量は、乾燥の条件の強弱、金属支持体の長さ等により50〜120質量%の範囲で剥離することが好ましいが、残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性を損ね、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易いため、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の残留溶媒量が決められる。 In addition, it is preferable that the residual solvent amount at the time of peeling of the web on the metal support at the time of peeling is peeled in the range of 50 to 120% by mass depending on the strength of drying conditions, the length of the metal support, and the like. If the web is peeled off at a time when the amount of residual solvent is larger, if the web is too soft, the flatness at the time of peeling will be lost, and slippage and vertical stripes are likely to occur due to the peeling tension. The amount of solvent is determined.
ウェブの残留溶媒量は下記式で定義される。 The residual solvent amount of the web is defined by the following formula.
残留溶媒量(%)=(ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱処理後質量)/(ウェブの加熱処理後質量)×100
なお、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、115℃で1時間の加熱処理を行うことを表す。
Residual solvent amount (%) = (mass before web heat treatment−mass after web heat treatment) / (mass after web heat treatment) × 100
Note that the heat treatment for measuring the residual solvent amount represents performing heat treatment at 115 ° C. for 1 hour.
金属支持体とフィルムを剥離する際の剥離張力は、通常、196〜245N/mであるが、剥離の際に皺が入り易い場合、190N/m以下の張力で剥離することが好ましく、さらには、剥離できる最低張力〜166.6N/m、次いで、最低張力〜137.2N/mで剥離することが好ましいが、特に好ましくは最低張力〜100N/mで剥離することである。 The peeling tension at the time of peeling the metal support and the film is usually 196 to 245 N / m. However, when wrinkles easily occur at the time of peeling, it is preferable to peel with a tension of 190 N / m or less. It is preferable to peel at a minimum tension that can be peeled to 166.6 N / m, and then peel at a minimum tension to 137.2 N / m, and particularly preferably peel at a minimum tension to 100 N / m.
本発明においては、当該金属支持体上の剥離位置における温度を−50〜40℃とするのが好ましく、10〜40℃がより好ましく、15〜30℃とするのが最も好ましい。 In the present invention, the temperature at the peeling position on the metal support is preferably -50 to 40 ° C, more preferably 10 to 40 ° C, and most preferably 15 to 30 ° C.
5)乾燥及び延伸工程
剥離後、ウェブを乾燥装置内に複数配置したロールに交互に通して搬送する乾燥装置35、及び/又はクリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンター延伸装置34を用いて、ウェブを乾燥する。
5) Drying and stretching step After peeling, a drying device 35 that transports the web alternately through rolls arranged in the drying device and / or a tenter stretching device 34 that clips and transports both ends of the web with clips. And dry the web.
乾燥手段はウェブの両面に熱風を吹かせるのが一般的であるが、風の代わりにマイクロウェーブを当てて加熱する手段もある。余り急激な乾燥はでき上がりのフィルムの平面性を損ね易い。高温による乾燥は残留溶媒が8質量%以下くらいから行うのがよい。全体を通し、乾燥は概ね40〜250℃で行われる。特に40〜160℃で乾燥させることが好ましい。 Generally, the drying means blows hot air on both sides of the web, but there is also a means for heating by applying microwaves instead of the wind. Too rapid drying tends to impair the flatness of the finished film. Drying at a high temperature is preferably performed from about 8% by mass or less of the residual solvent. Throughout the drying is generally carried out at 40-250 ° C. It is particularly preferable to dry at 40 to 160 ° C.
テンター延伸装置を用いる場合は、テンターの左右把持手段によってフィルムの把持長(把持開始から把持終了までの距離)を左右で独立に制御できる装置を用いることが好ましい。また、テンター工程において、平面性を改善するため意図的に異なる温度を持つ区画を作ることも好ましい。 When using a tenter stretching apparatus, it is preferable to use an apparatus that can independently control the film gripping length (distance from the start of gripping to the end of gripping) left and right by the left and right gripping means of the tenter. In the tenter process, it is also preferable to intentionally create sections having different temperatures in order to improve planarity.
また、異なる温度区画の間にそれぞれの区画が干渉を起こさないように、ニュートラルゾーンを設けることも好ましい。 It is also preferable to provide a neutral zone between different temperature zones so that the zones do not interfere with each other.
なお、延伸操作は多段階に分割して実施してもよく、流延方向、幅手方向に二軸延伸を実施することも好ましい。また、二軸延伸を行う場合には同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。 In addition, extending | stretching operation may be divided | segmented and implemented in multiple steps, and it is also preferable to implement biaxial stretching in a casting direction and a width direction. When biaxial stretching is performed, simultaneous biaxial stretching may be performed or may be performed stepwise.
この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。即ち、例えば、次のような延伸ステップも可能である。 In this case, stepwise means that, for example, stretching in different stretching directions can be sequentially performed, stretching in the same direction is divided into multiple stages, and stretching in different directions is added to any one of the stages. Is also possible. That is, for example, the following stretching steps are possible.
・流延方向に延伸−幅手方向に延伸−流延方向に延伸−流延方向に延伸
・幅手方向に延伸−幅手方向に延伸−流延方向に延伸−流延方向に延伸
また、同時2軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を、張力を緩和して収縮させる場合も含まれる。同時2軸延伸の好ましい延伸倍率は幅手方向、長手方向ともに×1.01倍〜×1.5倍の範囲でとることができる。
-Stretch in the casting direction-Stretch in the width direction-Stretch in the casting direction-Stretch in the casting direction-Stretch in the width direction-Stretch in the width direction-Stretch in the casting direction-Stretch in the casting direction Simultaneous biaxial stretching includes stretching in one direction and contracting the other while relaxing the tension. The preferable draw ratio of simultaneous biaxial stretching can be taken in the range of x1.01 to x1.5 times in both the width direction and the longitudinal direction.
テンターを行う場合のウェブの残留溶媒量は、テンター開始時に20〜100質量%であるのが好ましく、かつウェブの残留溶媒量が10質量%以下になる迄テンターを掛けながら乾燥を行うことが好ましく、さらに好ましくは5質量%以下である。 When the tenter is used, the residual solvent amount of the web is preferably 20 to 100% by mass at the start of the tenter, and it is preferable to perform drying while applying the tenter until the residual solvent amount of the web becomes 10% by mass or less. More preferably, it is 5% by mass or less.
テンターを行う場合の乾燥温度は、30〜160℃が好ましく、50〜150℃がさらに好ましく、70〜140℃が最も好ましい。 30-160 degreeC is preferable, as for the drying temperature in the case of performing a tenter, 50-150 degreeC is more preferable, and 70-140 degreeC is the most preferable.
テンター工程において、雰囲気の幅手方向の温度分布が少ないことが、フィルムの均一性を高める観点から好ましく、テンター工程での幅手方向の温度分布は、±5℃以内が好ましく、±2℃以内がより好ましく、±1℃以内が最も好ましい。 In the tenter process, it is preferable that the temperature distribution in the width direction of the atmosphere is small from the viewpoint of improving the uniformity of the film. The temperature distribution in the width direction in the tenter process is preferably within ± 5 ° C, and within ± 2 ° C Is more preferable, and within ± 1 ° C. is most preferable.
6)巻き取り工程
ウェブ中の残留溶媒量が2質量%以下となってからフィルムとして巻き取り機37により巻き取る工程であり、残留溶媒量を0.4質量%以下にすることにより寸法安定性の良好なフィルムを得ることができる。特に0.00〜0.10質量%で巻き取ることが好ましい。
6) Winding process This is a process in which the amount of residual solvent in the web becomes 2% by mass or less, and is taken up by the
巻き取り方法は、一般に使用されているものを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等があり、それらを使いわければよい。 As a winding method, a generally used method may be used. There are a constant torque method, a constant tension method, a taper tension method, a program tension control method with a constant internal stress, and the like.
本発明に係るフィルムは、長尺フィルムであることが好ましく、具体的には、100m〜5000m程度のものを示し、通常、ロール状で提供される形態のものである。また、フィルムの幅は1.3〜4mであることが好ましく、1.4〜2mであることがより好ましい。 The film according to the present invention is preferably a long film. Specifically, the film has a thickness of about 100 m to 5000 m and is usually provided in a roll shape. Moreover, it is preferable that the width | variety of a film is 1.3-4m, and it is more preferable that it is 1.4-2m.
本発明に係るフィルムの膜厚に特に制限はないが、20〜200μmであることが好ましく、25〜150μmであることがより好ましく、30〜120μmであることが特に好ましい。 Although there is no restriction | limiting in particular in the film thickness of the film concerning this invention, It is preferable that it is 20-200 micrometers, It is more preferable that it is 25-150 micrometers, It is especially preferable that it is 30-120 micrometers.
<溶融流延製膜法による光閉じ込めフィルムの製造方法>
本発明に係る樹脂フィルム基材を、光閉じ込めフィルムとして、溶融流延製膜法により製造する場合の方法について説明する。
<Method for producing optical confinement film by melt casting method>
The method in the case of manufacturing the resin film base material which concerns on this invention as a light confinement film by the melt casting film forming method is demonstrated.
〈溶融ペレット製造工程〉
溶融押出に用いる熱可塑性樹脂フィルムを構成する組成物は、通常あらかじめ混錬してペレット化しておくことが好ましい。
<Melted pellet manufacturing process>
The composition constituting the thermoplastic resin film used for melt extrusion is usually preferably kneaded in advance and pelletized.
ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、乾燥した熱可塑性樹脂と目的に応じて添加剤をフィーダーで押出機に供給し1軸や2軸の押出機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出し、水冷又は空冷し、カッティングすることでできる。 Pelletization may be performed by a known method. For example, a dry thermoplastic resin and an additive depending on the purpose are supplied to an extruder with a feeder, and kneaded using a single-screw or twin-screw extruder. Extruded into a shape, water-cooled or air-cooled and cut.
原材料は、押出する前に乾燥しておくことが原材料の分解を防止する上で重要である。特にセルロースエステルは吸湿しやすいので、除湿熱風乾燥機や真空乾燥機で70〜140℃で3時間以上乾燥し、水分率を200ppm以下、さらに100ppm以下にしておくことが好ましい。 It is important to dry the raw material before extruding to prevent decomposition of the raw material. In particular, since the cellulose ester easily absorbs moisture, it is preferable to dry it at 70 to 140 ° C. for 3 hours or more with a dehumidifying hot air dryer or a vacuum dryer to keep the moisture content at 200 ppm or less, and further 100 ppm or less.
添加剤は、押出機に供給押出機合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。酸化防止剤等少量の添加剤は、均一に混合するため、こと前に混合しておくことが好ましい。 Additives may be fed into the extruder and fed into the extruder, or may be fed by individual feeders. In order to mix a small amount of additives such as an antioxidant uniformly, it is preferable to mix them in advance.
酸化防止剤の混合は、固体同士で混合してもよいし、必要により、酸化防止剤を溶剤に溶解しておき、熱可塑性樹脂に含浸させて混合してもよく、あるいは噴霧して混合してもよい。 The antioxidant may be mixed with each other, and if necessary, the antioxidant may be dissolved in a solvent, impregnated with a thermoplastic resin and mixed, or mixed by spraying. May be.
真空ナウターミキサーなどが乾燥と混合を同時にできるので好ましい。また、フィーダー部やダイからの出口など空気と触れる場合は、除湿空気や除湿したN2ガスなどの雰囲気下にすることが好ましい。 A vacuum nauter mixer or the like is preferable because drying and mixing can be performed simultaneously. Further, if the contact with air, such as the exit from the feeder unit or die, it is preferable that the atmosphere such as dehumidified air and dehumidified N 2 gas.
押出機は、せん断力を抑え、樹脂が劣化(分子量低下、着色、ゲル生成等)しないようにペレット化可能でなるべく低温で加工することが好ましい。例えば、2軸押出機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。 The extruder is preferably processed at as low a temperature as possible so that the shearing force is suppressed and the resin can be pelletized so as not to deteriorate (molecular weight reduction, coloring, gel formation, etc.). For example, in the case of a twin screw extruder, it is preferable to rotate in the same direction using a deep groove type screw. From the uniformity of kneading, the meshing type is preferable.
以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。ペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。 A film is formed using the pellets obtained as described above. It is also possible to feed the raw material powder directly to the extruder with a feeder and form a film as it is without pelletization.
〈溶融混合物をダイから冷却ロールへ押し出す工程〉
まず、作製したペレットを1軸や2軸タイプの押出機を用いて、押し出す際の溶融温度Tmを200〜300℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルタなどでろ過し異物を除去した後、Tダイからフィルム状に共押出し、冷却ロール上で固化し、弾性タッチロールと押圧しながら流延する。
<Process for extruding molten mixture from die to cooling roll>
First, using a single-screw or twin-screw type extruder, the melt temperature Tm during extrusion is set to about 200 to 300 ° C., and filtered with a leaf disk type filter or the like to remove foreign matter, and then the T-die The film is coextruded into a film, solidified on a cooling roll, and cast while pressing with an elastic touch roll.
供給ホッパーから押出機へ導入する際は真空下又は減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。なお、Tmは、押出機のダイ出口部分の温度である。 When introducing into the extruder from the supply hopper, it is preferable to prevent oxidative decomposition and the like under vacuum, reduced pressure, or inert gas atmosphere. Tm is the temperature of the die exit portion of the extruder.
ダイに傷や可塑剤の凝結物等の異物が付着するとスジ状の欠陥が発生する場合がある。このような欠陥のことをダイラインとも呼ぶが、ダイライン等の表面の欠陥を小さくするためには、押出機からダイまでの配管には樹脂の滞留部が極力少なくなるような構造にすることが好ましい。ダイの内部やリップにキズ等が極力無いものを用いることが好ましい。 When foreign matter such as scratches or plasticizer aggregates adheres to the die, streak-like defects may occur. Such defects are also referred to as die lines, but in order to reduce surface defects such as die lines, it is preferable to have a structure in which the resin retention portion is minimized in the piping from the extruder to the die. . It is preferable to use a die that has as few scratches as possible inside the lip.
押出機やダイなどの溶融樹脂と接触する内面は、表面粗さを小さくしたり、表面エネルギーの低い材質を用いるなどして、溶融樹脂が付着し難い表面加工が施されていることが好ましい。具体的には、ハードクロムメッキやセラミック溶射したものを表面粗さ0.2S以下となるように研磨したものが挙げられる。 The inner surface that contacts the molten resin such as an extruder or a die is preferably subjected to surface treatment that makes it difficult for the molten resin to adhere to the surface by reducing the surface roughness or using a material having a low surface energy. Specifically, a hard chrome plated or ceramic sprayed material is polished so that the surface roughness is 0.2 S or less.
本発明において冷却ロールには特に制限はないが、高剛性の金属ロールで内部に温度制御可能な熱媒体又は冷媒体が流れるような構造を備えるロールであり、大きさは限定されないが、溶融押し出されたフィルムを冷却するのに十分な大きさであればよく、通常冷却ロールの直径は100mmから1m程度である。 In the present invention, there is no particular limitation on the cooling roll, but it is a roll having a structure in which a heat medium or a coolant that can be controlled in temperature flows with a highly rigid metal roll, and the size is not limited. It is sufficient that the film is large enough to cool the film, and the diameter of the cooling roll is usually about 100 mm to 1 m.
冷却ロールの表面材質は、炭素鋼、ステンレス、アルミニウム、チタンなどが挙げられる。さらに表面の硬度を上げたり、樹脂との剥離性を改良するため、ハードクロムメッキや、ニッケルメッキ、非晶質クロムメッキなどや、セラミック溶射等の表面処理を施すことが好ましい。 Examples of the surface material of the cooling roll include carbon steel, stainless steel, aluminum, and titanium. Further, in order to increase the hardness of the surface or improve the releasability from the resin, it is preferable to perform a surface treatment such as hard chrome plating, nickel plating, amorphous chrome plating, or ceramic spraying.
冷却ロール表面の表面粗さは、Raで0.1μm以下とすることが好ましく、さらに0.05μm以下とすることが好ましい。ロール表面が平滑であるほど、得られるフィルムの表面も平滑にできるのである。もちろん表面加工した表面はさらに研磨し上述した表面粗さとすることが好ましい。 The surface roughness of the chill roll surface is preferably 0.1 μm or less in terms of Ra, and more preferably 0.05 μm or less. The smoother the roll surface, the smoother the surface of the resulting film. Of course, it is preferable that the surface processed is further polished to have the above-described surface roughness.
本発明において、弾性タッチロールとしては、特開平03−124425号、特開平08−224772号、特開平07−100960号、特開平10−272676号、WO97/028950号、特開平11−235747号、特開2002−36332号、特開2005−172940号や特開2005−280217号公報に記載されているような表面が薄膜金属スリーブ被覆シリコンゴムロールを使用することができる。 In the present invention, as an elastic touch roll, JP-A-03-124425, JP-A-08-224772, JP-A-07-1000096, JP-A-10-272676, WO97 / 028950, JP-A-11-235747, A thin-film metal sleeve-covered silicon rubber roll having a surface as described in JP-A No. 2002-36332, JP-A No. 2005-172940 and JP-A No. 2005-280217 can be used.
冷却ロールからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。 When peeling the film from the cooling roll, it is preferable to control the tension to prevent deformation of the film.
〈延伸工程〉
本発明では、上記のようにして得られたフィルムは冷却ロールに接する工程を通過後、さらに少なくとも1方向に1.01〜3.0倍延伸することもできる。
<Extension process>
In the present invention, the film obtained as described above can be further stretched 1.01 to 3.0 times in at least one direction after passing through the step of contacting the cooling roll.
好ましくは縦(フィルム搬送方向)、横(巾方向)両方向にそれぞれ1.1〜2.0倍延伸することが好ましい。 Preferably, the film is stretched 1.1 to 2.0 times in both the longitudinal (film transport direction) and lateral (width direction) directions.
延伸する方法は、公知のロール延伸機やテンターなどを好ましく用いることができる。特に光閉じ込めフィルムが、偏光板保護フィルムを兼ねる場合は、延伸方向を巾方向とすることで偏光フィルムとの積層がロール形態でできるので好ましい。 As a method of stretching, a known roll stretching machine or tenter can be preferably used. In particular, when the light confinement film also serves as a polarizing plate protective film, it is preferable to make the stretching direction the width direction because lamination with the polarizing film can be performed in a roll form.
巾方向に延伸することで光閉じ込めフィルムの遅相軸は巾方向になる。 By stretching in the width direction, the slow axis of the light confinement film becomes the width direction.
通常、延伸倍率は1.1〜3.0倍、好ましくは1.2〜1.5倍であり、延伸温度は、通常、フィルムを構成する樹脂のTg〜Tg+50℃、好ましくはTg〜Tg+50℃の温度範囲で行われる。 Usually, the draw ratio is 1.1 to 3.0 times, preferably 1.2 to 1.5 times, and the draw temperature is usually Tg to Tg + 50 ° C. of the resin constituting the film, preferably Tg to Tg + 50 ° C. In the temperature range.
延伸は、長手方向もしくは幅手方向で制御された均一な温度分布下で行うことが好ましい。好ましくは±2℃以内、さらに好ましくは±1℃以内、特に好ましくは±0.5℃以内である。 The stretching is preferably performed under a uniform temperature distribution controlled in the longitudinal direction or the width direction. The temperature is preferably within ± 2 ° C, more preferably within ± 1 ° C, and particularly preferably within ± 0.5 ° C.
上記の方法で作製したフィルム状樹脂フィルムを光閉じ込めフィルムとして用いる場合、当該光閉じ込めフィルムのリターデーション調整や寸法変化率を小さくする目的で、フィルムを長手方向や幅手方向に収縮させてもよい。 When the film-like resin film produced by the above method is used as a light confinement film, the film may be contracted in the longitudinal direction or the width direction for the purpose of reducing the retardation of the light confinement film and reducing the dimensional change rate. .
長手方向に収縮するには、例えば、巾延伸を一時クリップアウトさせて長手方向に弛緩させる、又は横延伸機の隣り合うクリップの間隔を徐々に狭くすることによりフィルムを収縮させるという方法がある。 In order to shrink in the longitudinal direction, for example, there is a method in which the film is shrunk by temporarily clipping out the width stretching and relaxing in the longitudinal direction, or by gradually narrowing the interval between adjacent clips of the transverse stretching machine.
遅相軸方向の均一性も重要であり、フィルム巾方向に対して、角度が−5〜+5°であることが好ましく、さらに−1〜+1°の範囲にあることが好ましく、特に−0.5〜+0.5°の範囲にあることが好ましく、特に−0.1〜+0.1°の範囲にあることが好ましい。これらのばらつきは延伸条件を最適化することで達成できる。 The uniformity in the slow axis direction is also important, and the angle is preferably −5 to + 5 ° with respect to the film width direction, more preferably in the range of −1 to + 1 °, and particularly −0. It is preferably in the range of 5 to + 0.5 °, particularly preferably in the range of −0.1 to + 0.1 °. These variations can be achieved by optimizing the stretching conditions.
本発明の光閉じ込めフィルムは、長尺フィルムであることが好ましく、具体的には、100m〜5000m程度のものを示し、通常、ロール状で提供される形態のものである。また、フィルムの幅は1.3〜4mであることが好ましく、1.4〜2mであることがより好ましい。 The light confinement film of the present invention is preferably a long film. Specifically, the light confinement film is about 100 m to 5000 m, and is usually in the form of a roll. Moreover, it is preferable that the width | variety of a film is 1.3-4m, and it is more preferable that it is 1.4-2m.
本発明に係るフィルム状樹脂フィルムの膜厚に特に制限はなく、目的に応じて変化させることが好ましい。例えば、偏光板保護フィルムに使用する場合は、20〜200μmであることが好ましく、25〜150μmであることがより好ましく、30〜120μmであることが特に好ましい。 There is no restriction | limiting in particular in the film thickness of the film-form resin film which concerns on this invention, It is preferable to change according to the objective. For example, when using for a polarizing plate protective film, it is preferable that it is 20-200 micrometers, It is more preferable that it is 25-150 micrometers, It is especially preferable that it is 30-120 micrometers.
〈光閉じ込めフィルムの製造装置〉
図1は、本発明の光閉じ込めフィルムの製造装置の一例の全体構成を示す概略フローシートである。図1において、光閉じ込めフィルムの製造方法は、熱可塑性樹脂等のフィルム材料を混合した後、押出し機1を用いて、流延ダイ4から第1冷却ロール5上に溶融押し出し、第1冷却ロール5に外接させるとともに、さらに、第2冷却ロール7、第3冷却ロール8の合計3本の冷却ロールに順に外接させて、冷却固化してフィルム10とする。次いで、剥離ロール9によって剥離したフィルム10を、次いで延伸装置12によりフィルムの両端部を把持して幅方向に延伸した後、巻取り装置16により巻き取る。また、平面性を矯正するために溶融フィルムを第1冷却ロール5表面に挟圧するタッチロール6が設けられている。このタッチロール6は表面が弾性を有し、第1冷却ロール5との間でニップを形成している。
<Production equipment for optical confinement film>
FIG. 1 is a schematic flow sheet showing the overall configuration of an example of the light confinement film manufacturing apparatus of the present invention. In FIG. 1, the light confinement film is produced by mixing a film material such as a thermoplastic resin and then extruding it from a casting die 4 onto a first cooling roll 5 using an extruder 1. 5, and further circumscribed in order with a total of three cooling rolls, that is, the second cooling roll 7 and the third cooling roll 8, and cooled and solidified to form a film 10. Next, the film 10 peeled off by the peeling
本発明において、製造装置には、ベルト及びロールを自動的に清掃する装置を付加させることが好ましい。清掃装置については特に限定はないが、例えば、ブラシ・ロール、吸水ロール、粘着ロール、ふき取りロール等をニップする方式、清浄エアーを吹き掛けるエアーブロー方式、レーザーによる焼却装置、あるいはこれらの組み合わせなどがある。 In the present invention, it is preferable to add an apparatus for automatically cleaning the belt and the roll to the manufacturing apparatus. There is no particular limitation on the cleaning device. For example, there are a method of niping a brush roll, a water absorbing roll, an adhesive roll, a wiping roll, an air blowing method for spraying clean air, a laser incinerator, or a combination thereof. is there.
清掃用ロールをニップする方式の場合、ベルト線速度とローラ線速度を変えると清掃効果が大きい。 In the case where the cleaning roll is nipped, the cleaning effect is great if the belt linear velocity and the roller linear velocity are changed.
(機能性層)
光閉じ込めフィルム製造に際し、延伸の前及び/又は後で硬化性樹脂層、帯電防止層、反射防止層、易滑性層、易接着層、防眩層、バリアー層、光学補償層等の機能性層を塗設してもよい。この際、コロナ放電処理、プラズマ処理、薬液処理等の各種表面処理を必要に応じて施すことができる。
(Functional layer)
Functionality of curable resin layer, antistatic layer, antireflection layer, slippery layer, easy adhesion layer, antiglare layer, barrier layer, optical compensation layer, etc. before and / or after stretching in the production of light confinement film A layer may be applied. At this time, various surface treatments such as corona discharge treatment, plasma treatment, and chemical treatment can be performed as necessary.
本発明においては、特に機械的強度を付与する観点から、硬化性樹脂層を設けることが好ましい。 In the present invention, a curable resin layer is preferably provided particularly from the viewpoint of imparting mechanical strength.
(硬化性樹脂層)
本発明に係る硬化性樹脂層は、バインダー成分として、活性線硬化樹脂又は熱硬化性樹脂を含有する。本発明においては、活性線硬化樹脂が好ましい。ここで、「活性線硬化樹脂」とは、紫外線や電子線のような活性線(「活性エネルギー線」ともいう。)照射により、架橋反応を経て硬化する樹脂を主たる成分とする樹脂をいう。
(Curable resin layer)
The curable resin layer according to the present invention contains an actinic radiation curable resin or a thermosetting resin as a binder component. In the present invention, an actinic radiation curable resin is preferable. Here, “active ray curable resin” refers to a resin whose main component is a resin that is cured through a crosslinking reaction upon irradiation with active rays such as ultraviolet rays or electron beams (also referred to as “active energy rays”).
〈活性線硬化樹脂〉
活性線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性線硬化樹脂層が形成される。活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が機械的膜強度(耐擦傷性、鉛筆硬度)に優れる点から好ましい。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。紫外線硬化型アクリレート系樹脂としては、多官能アクリレートが好ましい。該多官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。ここで、多官能アクリレートとは、分子中に2個以上のアクリロイルオキシ基又はメタクロイルオキシ基を有する化合物である。多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、イソボロニルアクリレート等が好ましく挙げられる。これらの化合物は、それぞれ単独又は二種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの2量体、3量体等のオリゴマーであってもよい。
<Actinic radiation curable resin>
As the actinic radiation curable resin, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used, and an actinic radiation curable resin layer is formed by curing by irradiation with actinic radiation such as ultraviolet rays or electron beams. The Typical examples of the actinic radiation curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, but the resin that is cured by ultraviolet irradiation is excellent in mechanical film strength (abrasion resistance, pencil hardness). preferable. As the ultraviolet curable resin, for example, an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, or an ultraviolet curable epoxy resin is preferable. Used. Of these, ultraviolet curable acrylate resins are preferred. As the ultraviolet curable acrylate resin, a polyfunctional acrylate is preferable. The polyfunctional acrylate is preferably selected from the group consisting of pentaerythritol polyfunctional acrylate, dipentaerythritol polyfunctional acrylate, pentaerythritol polyfunctional methacrylate, and dipentaerythritol polyfunctional methacrylate. Here, the polyfunctional acrylate is a compound having two or more acryloyloxy groups or methacryloyloxy groups in the molecule. Examples of the polyfunctional acrylate monomer include ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, and tetramethylolmethane triacrylate. , Tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaglycerol triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, glycerol triacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol Lithol hexaacrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, Tetramethylol methane trimethacrylate, tetramethylol methane tetramethacrylate, pentaglycerol trimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, glycerol trimethacrylate, dipentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol tetramethacrylate Acrylate, dipentaerythritol penta methacrylate, dipentaerythritol hexa methacrylate, isobornyl acrylate and the like preferably. These compounds are used alone or in combination of two or more. Moreover, oligomers, such as a dimer and a trimer of the said monomer, may be sufficient.
また、硬化性樹脂層には活性線硬化樹脂の硬化促進のため、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤量としては、質量比で、光重合開始剤:活性線硬化樹脂=20:100〜0.01:100で含有することが好ましい。 The curable resin layer preferably contains a photopolymerization initiator to accelerate the curing of the actinic radiation curable resin. The amount of the photopolymerization initiator is preferably contained in a mass ratio of photopolymerization initiator: active ray curable resin = 20: 100 to 0.01: 100.
光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。 Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof, but are not particularly limited thereto.
〈溶媒〉
本発明に係る硬化性樹脂層を塗布して形成する際の塗布組成物には、溶媒として、前記熱可塑性樹脂に対する良溶媒、及び前記熱可塑性樹脂に対する貧溶媒からなる混合溶媒が用いられることが好ましい。ここで、良溶媒及び貧溶媒とは、以下に示す方法で測定した溶解性を有する溶媒を指す。
<solvent>
In the coating composition when the curable resin layer according to the present invention is applied and formed, a mixed solvent composed of a good solvent for the thermoplastic resin and a poor solvent for the thermoplastic resin is used as a solvent. preferable. Here, the good solvent and the poor solvent refer to solvents having solubility measured by the following method.
前記熱可塑性樹脂の固形分3g相当に、溶解性を測定しようとする溶媒を全量が20gになるように加え、温度25℃にてかきまぜた場合に、均一で透明性を有し、粘度変化がなく相溶したものを、該試料に対し良溶媒であるとし、一方、にごりが認められたり、増粘、分離が認められたものを、該試料に対し貧溶媒であるとする。 When a solvent whose solubility is to be measured is added to a solid content of 3 g corresponding to 3 g of the thermoplastic resin so that the total amount is 20 g and stirred at a temperature of 25 ° C., it is uniform and transparent and has a viscosity change. Those that are compatible with each other are considered to be good solvents for the sample, while those that are found to be dusty, thickened, or separated are considered to be poor solvents for the sample.
熱可塑性樹脂が、例えばポリエステル系樹脂又はポリエステルウレタン系樹脂である場合、良溶媒としては、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトン、酢酸エチル、テトラヒドロフランなどを例示することができる。一方、貧溶媒としては、キシレン、エチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、イソブタノール、イソプロパノール、エタノール、メタノール、ヘキサン、精製水などを例示することができる。また、熱可塑性樹脂がアクリル系樹脂である場合、良溶媒としては、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、キシレンなどを例示することができる。一方、貧溶媒としては、エチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、イソブタノール、イソプロパノール、エタノール、メタノール、ヘキサン、精製水などを例示することができる。なお、前記の良溶媒、及び精製水を除く貧溶媒は、いずれも、通常用いられる活性線硬化樹脂に対して、良溶媒である。 When the thermoplastic resin is, for example, a polyester resin or a polyester urethane resin, examples of the good solvent include toluene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, acetone, ethyl acetate, and tetrahydrofuran. On the other hand, examples of the poor solvent include xylene, ethyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, isobutanol, isopropanol, ethanol, methanol, hexane, and purified water. When the thermoplastic resin is an acrylic resin, examples of the good solvent include toluene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, acetone, ethyl acetate, tetrahydrofuran, xylene, and the like. On the other hand, examples of the poor solvent include ethyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, isobutanol, isopropanol, ethanol, methanol, hexane, and purified water. The good solvent and the poor solvent other than purified water are good solvents for the commonly used actinic radiation curable resins.
本発明においては、熱可塑性樹脂に対して良溶媒及び貧溶媒は、ともに一種を単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。 In the present invention, the good solvent and the poor solvent may be used alone or in combination of two or more with respect to the thermoplastic resin.
また、本発明に係る硬化性樹脂層には、無機化合物又は有機化合物の微粒子を含有してもよい。 Moreover, the curable resin layer according to the present invention may contain fine particles of an inorganic compound or an organic compound.
(微粒子〉
無機微粒子としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ITO、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。特に、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム等が好ましく用いられる。
(Fine particles)
As inorganic fine particles, silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, ITO, zinc oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated silicic acid Mention may be made of calcium, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. In particular, silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide and the like are preferably used.
これら無機微粒子は、フィルムの透明性を維持しつつ耐擦傷性が向上することから、表面の一部に反応性官能基を有する有機成分が被覆されたものが好ましい。表面の一部に反応性官能基を有する有機成分を被覆する方法としては、例えば、金属酸化物微粒子の表面に存在する水酸基にシランカップリング剤等の有機成分を含む化合物が反応して、表面の一部に有機成分が結合した態様、金属酸化物微粒子の表面に存在する水酸基に水素結合等の相互作用により有機成分を付着させた態様や、ポリマー粒子中に1個又は2個以上の無機微粒子を含有する態様などが挙げられる。 These inorganic fine particles are preferably coated with an organic component having a reactive functional group on a part of the surface because the scratch resistance is improved while maintaining the transparency of the film. As a method for coating an organic component having a reactive functional group on a part of the surface, for example, a compound containing an organic component such as a silane coupling agent reacts with a hydroxyl group present on the surface of the metal oxide fine particles, and the surface A mode in which an organic component is bonded to a part of the metal particle, a mode in which an organic component is attached to a hydroxyl group present on the surface of a metal oxide fine particle by an interaction such as a hydrogen bond, or one or more inorganic particles in a polymer particle The aspect containing microparticles | fine-particles etc. are mentioned.
また、有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、又はポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を添加することができる。 Organic particles include polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder, silicon resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin powder, and melamine resin. Powder, polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, polyfluoroethylene resin powder, or the like can be added.
好ましい微粒子は、架橋ポリスチレン粒子(例えば、綜研化学製SX−130H、SX−200H、SX−350H)、ポリメチルメタクリレート系粒子(例えば、綜研化学製MX150、MX300)、フッ素含有アクリル樹脂微粒子が挙げられる。フッ素含有アクリル樹脂微粒子としては、例えば日本ペイント製:FS−701等の市販品が挙げられる。また、アクリル粒子として、例えば日本ペイント製:S−4000、アクリル−スチレン粒子として、例えば日本ペイント製:S−1200、MG−251等が挙げられる。 Preferred fine particles include crosslinked polystyrene particles (for example, SX-130H, SX-200H, SX-350H manufactured by Soken Chemical), polymethyl methacrylate-based particles (for example, MX150, MX300 manufactured by Soken Chemical), and fluorine-containing acrylic resin fine particles. . Examples of the fluorine-containing acrylic resin fine particles include commercial products such as FS-701 manufactured by Nippon Paint. Examples of the acrylic particles include Nippon Paint: S-4000, and examples of the acrylic-styrene particles include Nippon Paint: S-1200, MG-251.
これらの微粒子粉末の平均粒子径は特に制限されないが、0.01〜5μmが好ましく、さらには、0.01〜1.0μmであることが特に好ましい。また、粒径の異なる二種以上の微粒子を含有しても良い。微粒子の平均粒子径は、例えばレーザー回折式粒度分布測定装置により測定することができる。 The average particle size of these fine particle powders is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 5 μm, more preferably 0.01 to 1.0 μm. Moreover, you may contain 2 or more types of microparticles | fine-particles from which a particle size differs. The average particle diameter of the fine particles can be measured by, for example, a laser diffraction particle size distribution measuring device.
紫外線硬化樹脂組成物と微粒子の割合は、樹脂組成物100質量部に対して、1〜400質量部となるように配合することが望ましく、さらに望ましくは、50〜200質量部である。 The proportion of the ultraviolet curable resin composition and the fine particles is desirably blended so as to be 1 to 400 parts by mass, and more desirably 50 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition.
本発明に係る硬化性樹脂層は、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法を用いて、ハードコート層を形成する塗布組成物を塗布し、塗布後、加熱乾燥し、UV硬化処理することで形成できる。 The curable resin layer according to the present invention is applied by applying a coating composition for forming a hard coat layer using a known method such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, or an inkjet method. Thereafter, it can be formed by heat drying and UV curing.
塗布量はウェット層厚として0.1〜40μmが適当で、好ましくは、0.5〜30μmである。また、ドライ層厚としては平均層厚0.1〜30μm、好ましくは1〜20μm、特に好ましくは6〜15μmである。 The coating amount is suitably 0.1 to 40 μm, preferably 0.5 to 30 μm, as the wet layer thickness. The dry layer thickness is an average layer thickness of 0.1 to 30 μm, preferably 1 to 20 μm, particularly preferably 6 to 15 μm.
UV硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。 As a light source for UV curing treatment, any light source that generates ultraviolet rays can be used without limitation. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used.
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常5〜500mJ/cm2、好ましくは5〜200mJ/cm2である。 Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation amount of active rays is usually 5 to 500 mJ / cm 2 , preferably 5 to 200 mJ / cm 2 .
また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、さらに好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は30〜300N/mが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、又は2軸方向に張力を付与してもよい。これによってさらに平面性の優れたフィルムを得ることができる。 Moreover, when irradiating actinic radiation, it is preferable to carry out while applying tension | tensile_strength in the conveyance direction of a film, More preferably, it is performing applying tension | tensile_strength also in the width direction. The tension to be applied is preferably 30 to 300 N / m. The method for applying the tension is not particularly limited, and the tension may be applied in the conveying direction on the back roll, or the tension may be applied in the width direction or biaxial direction by a tenter. This makes it possible to obtain a film having further excellent flatness.
硬化性樹脂層には、帯電防止性を付与するために導電剤を含んでも良く、好ましい導電剤としては、金属酸化物粒子又はπ共役系導電性ポリマーが挙げられる。また、イオン液体も導電性化合物として好ましく用いられる。 The curable resin layer may contain a conductive agent in order to impart antistatic properties, and preferred conductive agents include metal oxide particles or π-conjugated conductive polymers. An ionic liquid is also preferably used as the conductive compound.
また、硬化性樹脂層には、塗布性の観点、及び微粒子の均一な分散性の観点から、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤或いはポリオキシエーテル等の非イオン性界面活性剤、アニオン界面活性剤等を含有させることもできる。これらは塗布性を高める。また、これら成分は、塗布液中の固形分成分に対し、0.01〜3質量%の範囲で添加することが好ましい。 In addition, the curable resin layer has a nonionic surfactant such as a silicone surfactant, a fluorosurfactant or a polyoxyether, an anion from the viewpoint of coating properties and the uniform dispersibility of fine particles. A surfactant or the like can also be contained. These enhance the applicability. Moreover, it is preferable to add these components in 0.01-3 mass% with respect to the solid content component in a coating liquid.
(太陽電池への応用)
本発明の太陽電池用光閉じ込めフィルムは、結晶質若しくはアモルファスシリコン種太陽電池、又は有機薄膜型太陽電池等各種の太陽電池の太陽光入射側すなわち表面側と裏面側に設置することにより、光閉じ込めフィルムとして機能させることができる(図3参照)。
(Application to solar cells)
The light confinement film for solar cell of the present invention is placed on the sunlight incident side, that is, the front surface side and the back surface side of various types of solar cells such as crystalline or amorphous silicon type solar cells, or organic thin film type solar cells. It can function as a film (see FIG. 3).
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
〔光閉じ込めフィルムの作製〕
〈実施例1:光閉じ込めフィルム1の作製〉
(ドープ液組成1)
ダイヤナールBR85(三菱レイヨン(株)製) 70質量部
セルロースエステル(セルロースアセテートプロピオネート アシル基総置換度2.75、アセチル基置換度0.19、プロピオニル基置換度2.56、Mw=200000) 30質量部
メチレンクロライド 300質量部
エタノール 40質量部
上記組成物を、加熱しながら十分に溶解し、ドープ液を作製した。
[Production of optical confinement film]
<Example 1: Production of light confinement film 1>
(Dope solution composition 1)
Dianal BR85 (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) 70 parts by mass Cellulose ester (cellulose acetate propionate acyl group total substitution degree 2.75, acetyl group substitution degree 0.19, propionyl group substitution degree 2.56, Mw = 200000 ) 30 parts by mass Methylene chloride 300 parts by mass Ethanol 40 parts by mass The above composition was sufficiently dissolved while heating to prepare a dope solution.
(製膜)
上記作製したドープ液を、ベルト流延装置を用い、温度22℃、2m幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が100%になるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力162N/mでステンレスバンド支持体上から剥離した。
(Film formation)
The produced dope solution was uniformly cast on a stainless steel band support at a temperature of 22 ° C. and a width of 2 m using a belt casting apparatus. With the stainless steel band support, the solvent was evaporated until the amount of residual solvent reached 100%, and peeling was performed from the stainless steel band support with a peeling tension of 162 N / m.
剥離したアクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の混合物が相溶したウェブを35℃で溶媒を蒸発させ、1.6m幅にスリットし、その後、テンターで幅方向に1.1倍に延伸しながら、135℃の乾燥温度で乾燥させた。このときテンターで延伸を始めたときの残留溶剤量は10%であった。 The web in which the mixture of the peeled acrylic resin and cellulose ester resin is compatible is evaporated at 35 ° C., slit to 1.6 m width, and then stretched 1.1 times in the width direction with a tenter, 135 ° C. It dried at the drying temperature of. At this time, the residual solvent amount when starting stretching with a tenter was 10%.
テンターで延伸後、130℃で5分間緩和を行った後に、65℃に温めたエタノールと純水の割合が80:20Vol%の混合溶媒をフィルム表面にスプレー塗工した。120℃及び140℃の乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、1.5m幅にスリットし、フィルム両端に幅10mm高さ5μmのナーリング加工を施し、初期張力220N/m、終張力110N/mで内径15.24cmコアに巻き取り、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の混合物が相溶し、表面微細凹凸樹脂フィルムである光閉じ込めフィルム1を得た。 After stretching with a tenter, relaxation was performed at 130 ° C. for 5 minutes, and then a mixed solvent of ethanol and pure water heated to 65 ° C. in a ratio of 80:20 Vol% was spray-coated on the film surface. Drying was completed while transporting the drying zones at 120 ° C and 140 ° C with a number of rolls, slitting to a width of 1.5 m, and knurling of 10 mm width to 5 µm was applied to both ends of the film, with an initial tension of 220 N / m. The core was wound around a core having an inner diameter of 15.24 cm at a tension of 110 N / m, and a mixture of an acrylic resin and a cellulose ester resin was compatible with each other to obtain a light confinement film 1 which is a surface fine uneven resin film.
ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるMD方向の延伸倍率は1.1倍であった。 The draw ratio in the MD direction calculated from the rotational speed of the stainless steel band support and the operating speed of the tenter was 1.1 times.
表1に記載の光閉じ込めフィルム1の残留溶剤量は0.1%であり、膜厚は60μm、巻長は5000mであった。 The residual solvent amount of the light confinement film 1 shown in Table 1 was 0.1%, the film thickness was 60 μm, and the winding length was 5000 m.
(実施例2:光閉じ込めフィルム2の作製)
〈主ドープ液の組成〉
メチレンクロライド 340質量部
エタノール 64質量部
セルロースエステル(セルロースアセテートプロピオネート アシル基総置換度2.46、アセチル基置換度1.58、プロピオニル基置換度0.88、Mw=200000)
100質量部
モノペットSB (第一工業製薬製) 10質量部
TTO−51(C) 20質量部
以上を密閉容器に投入し、攪拌しながら溶解してドープ液を調製した。次いで、無端ベルト流延装置を用い、ドープ液を温度33℃、1500mm幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は50℃に制御した。
(Example 2: Production of light confinement film 2)
<Composition of main dope solution>
Methylene chloride 340 parts by mass Ethanol 64 parts by mass Cellulose ester (cellulose acetate propionate acyl group total substitution degree 2.46, acetyl group substitution degree 1.58, propionyl group substitution degree 0.88, Mw = 200000)
100 parts by mass Monopet SB (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) 10 parts by mass TTO-51 (C) 20 parts by mass The above was put into a sealed container and dissolved while stirring to prepare a dope solution. Next, using an endless belt casting apparatus, the dope solution was uniformly cast on a stainless steel belt support at a temperature of 33 ° C. and a width of 1500 mm. The temperature of the stainless steel belt was controlled at 50 ° C.
ステンレスベルト支持体上で、流延(キャスト)したフィルム中の残留溶媒量が75%になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力70N/mで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。 On the stainless steel belt support, the solvent was evaporated until the amount of residual solvent in the cast (cast) film was 75%, and then peeled off from the stainless steel belt support with a peeling tension of 70 N / m.
剥離直後に67℃に温めたエタノールと純水の割合が75:25Vol%の混合溶媒をフィルム表面にスプレー塗工した。 Immediately after peeling, a mixed solvent of ethanol and pure water heated to 67 ° C. in a ratio of 75:25 Vol% was spray-coated on the film surface.
貧溶媒の混合溶媒を表面に塗られたセルロースエステルフィルムを、155℃の熱をかけながらテンターを用いて、幅方向に37%延伸した。延伸開始時の残留溶媒は15%であった。 A cellulose ester film coated with a poor solvent mixture was stretched 37% in the width direction using a tenter while applying heat at 155 ° C. The residual solvent at the start of stretching was 15%.
次いで、乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥温度は120℃で、搬送張力は90N/mとした。 Next, drying was terminated while the drying zone was conveyed by a number of rolls. The drying temperature was 120 ° C. and the transport tension was 90 N / m.
以上のようにして、乾燥膜厚50μmのセルロースエステルフィルムを得た。 As described above, a cellulose ester film having a dry film thickness of 50 μm was obtained.
(実施例3:光閉じ込めフィルム3の作製)
セルロースエステルA(リンター綿から合成されたセルローストリアセテート、アセチル基置換度2.92、Mw=290000) 100質量部
添加剤AC1((メタ)アクリル系共重合体) 10質量部
メチレンクロライド 430質量部
エタノール 40質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解した。
(Example 3: Production of light confinement film 3)
Cellulose ester A (cellulose triacetate synthesized from linter cotton, acetyl group substitution degree 2.92, Mw = 290000) 100 parts by mass Additive AC1 ((meth) acrylic copolymer) 10 parts by mass Methylene chloride 430 parts by mass Ethanol 40 parts by mass or more was put into a closed container, heated, and completely dissolved while stirring.
次いで、ベルト流延装置を用い、温度35℃、2.0m幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が100%になるまで溶剤を蒸発させ、ステンレスバンド支持体101上から剥離した。剥離したセルロースエステルフィルムのウェブを35℃で溶剤を蒸発させ、1.80m幅にスリットし、その後、テンターでTD方向(フィルムの搬送方向と直交する方向)に1.4倍に延伸しながら、135℃の乾燥温度で乾燥させた。このときテンターで延伸を始めたときの残留溶剤量は20%であった。また、TD延伸時の最大応力は10MPaであった。 Next, the belt was cast uniformly on a stainless steel band support at a temperature of 35 ° C. and a width of 2.0 m using a belt casting apparatus. With the stainless steel band support, the solvent was evaporated until the residual solvent amount reached 100%, and the stainless steel band support 101 was peeled off. The web of the peeled cellulose ester film was evaporated at 35 ° C., slit to 1.80 m width, and then stretched 1.4 times in the TD direction (direction perpendicular to the film transport direction) with a tenter, It was dried at a drying temperature of 135 ° C. At this time, the residual solvent amount when starting stretching with a tenter was 20%. The maximum stress during TD stretching was 10 MPa.
その後、64℃に温めたアセトンと純水の割合が70:30Vol%の混合溶媒をフィルム表面にスプレー塗工した後に、120℃の乾燥装置内を多数のロールで搬送させながら15分間乾燥させた後、1.7m幅にスリットし、フィルム両端に幅15mm、高さ10μmのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、光閉じ込めフィルム3を得た。光閉じ込めフィルムの残留溶剤量は0.2%であり、膜厚は60μm、巻数は6000mであった。 Then, after spray-coating a mixed solvent with a ratio of 70:30 Vol% of acetone and pure water heated to 64 ° C. on the film surface, the mixture was dried for 15 minutes while being transported in a drying device at 120 ° C. by a number of rolls. Thereafter, the film was slit to a width of 1.7 m, a knurling process having a width of 15 mm and a height of 10 μm was applied to both ends of the film, and the film was wound around a core to obtain a light confinement film 3. The residual solvent amount of the optical confinement film was 0.2%, the film thickness was 60 μm, and the winding number was 6000 m.
(実施例4:光閉じ込めフィルム4の作製)
セルロースエステルの置換度を2.4に変更して、アセトン/水混合溶媒をテンターに延伸する前に塗工したこと以外は光閉じ込めフィルム3と同様の方法で光閉じ込めフィルム4を作製した。光拡散フィルムの残留溶剤量は0.2%であり、膜厚は40μm、巻数は7000mであった。
(Example 4: Production of light confinement film 4)
The light confinement film 4 was produced in the same manner as the light confinement film 3 except that the substitution degree of the cellulose ester was changed to 2.4 and the acetone / water mixed solvent was applied before stretching into the tenter. The residual solvent amount of the light diffusion film was 0.2%, the film thickness was 40 μm, and the winding number was 7000 m.
(実施例5:光閉じ込めフィルム5の作製)
ダイヤナールBR85(三菱レイヨン(株)製)を溶融流延してフィルムを作製した。
(Example 5: Production of light confinement film 5)
A film was prepared by melting and casting Dianar BR85 (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.).
フィルム作製後、58℃に温めたエタノールと純水の割合が60:40Vol%の混合溶媒をフィルム表面に塗布して光閉じ込めフィルム5を作製した。 After the film was produced, a light confinement film 5 was produced by applying a mixed solvent of ethanol and pure water heated to 58 ° C. in a ratio of 60:40 Vol% to the film surface.
(実施例6)
実施例3で作製した光閉じ込めフィルムを1NのKOH溶液で45℃30秒のけん化条件でアルカリけん化処理した。還元性ポリピロール微粒子の固形分は、約1.3%のアセトン分散液を作製して、塗工乾燥した。
(Example 6)
The light confinement film produced in Example 3 was subjected to alkali saponification treatment with a 1N KOH solution under saponification conditions at 45 ° C. for 30 seconds. The solid content of the reducing polypyrrole fine particles was prepared by preparing an acetone dispersion liquid of about 1.3%, followed by coating and drying.
上記作製したフィルムを、0.02%塩化パラジウム−0.01%塩酸水溶液中に35℃で5分間浸漬後、水道水で水洗した。次に、当該フィルムを無電解銀めっき浴ATSアドカッパーIW浴(奥野製薬工業(株)社製)に浸漬して、35℃で10分間浸漬し銀めっきした。 The produced film was immersed in a 0.02% palladium chloride-0.01% hydrochloric acid aqueous solution at 35 ° C. for 5 minutes and then washed with tap water. Next, the film was immersed in an electroless silver plating bath ATS add copper IW bath (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.), and then immersed at 35 ° C. for 10 minutes for silver plating.
(HC層の作製)
<硬化性樹脂層塗設支持体1〜6の作製>
前記において作製した支持体1〜6の表面が平坦であるフィルム面に下記、硬化性樹脂層塗布液をリバースコーティングにて塗布し、100℃で1分間乾燥後、窒素雰囲気中で120W/cm集光型高圧水銀灯1灯で紫外線照射(照射距離10cm、照射時間30秒)を行い、塗工膜を硬化させ、厚さ5μm、の硬化性樹脂層を形成した。
(Preparation of HC layer)
<Preparation of Curable Resin Layer Coating Supports 1-6>
The following curable resin layer coating solution is applied by reverse coating on the film surfaces of the substrates 1 to 6 prepared above by reverse coating, dried at 100 ° C. for 1 minute, and then collected in a nitrogen atmosphere at 120 W / cm. Ultraviolet irradiation (irradiation distance: 10 cm, irradiation time: 30 seconds) was performed with one optical high-pressure mercury lamp, the coating film was cured, and a curable resin layer having a thickness of 5 μm was formed.
[硬化性樹脂層塗布液1の調製]
イソフタル酸及びアジピン酸からなる多塩基酸と、ネオペンチルグリコールを反応させることにより生成する、重量平均分子量65000、酸価7mgKOH/g、不揮発分60%のポリエステル樹脂7質量部、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート1.8質量部、n−ブタノール/キシレンの質量比が4/6となる混合溶媒57.2質量部、光重合開始剤(商品名:イルガキュアー907、チバガイギー社製)0.2質量部を混合・撹拌して硬化性樹脂層塗布液1を調製した。
[Preparation of curable resin layer coating solution 1]
Polybasic acid consisting of isophthalic acid and adipic acid and neopentyl glycol are reacted to produce a polyester resin having a weight average molecular weight of 65,000, an acid value of 7 mgKOH / g, a non-volatile content of 60%, 7 parts by weight of dipentaerythritol tetraacrylate 1.8 parts by mass, 57.2 parts by mass of a mixed solvent having a mass ratio of n-butanol / xylene of 4/6, and 0.2 parts by mass of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) A curable resin layer coating solution 1 was prepared by mixing and stirring.
《評価》
(表面形状の測定)
光閉じ込めフィルムの凹凸形状構造が存在する面において、130μm×130μmの正方形の領域を無作為に5個所抽出し、それぞれにつき3D測定レーザー顕微鏡(オリンパス社製 3D測定レーザー顕微鏡LEXT OLS4000)で測定した観察像を得た。
<Evaluation>
(Surface shape measurement)
On the surface where the uneven structure of the light confinement film exists, five square regions of 130 μm × 130 μm were randomly extracted and observed with a 3D measurement laser microscope (3D measurement laser microscope LEXT OLS4000 manufactured by Olympus) for each. I got a statue.
レーザー顕微鏡で測定する際の条件は、倍率を350倍とした。なお、イメージは、光拡散フィルムの面を垂直に見る方向から取得した。 The condition for measurement with a laser microscope was a magnification of 350 times. In addition, the image was acquired from the direction which looks at the surface of a light-diffusion film perpendicularly | vertically.
5個所の観察像について凹凸形状構造プロファイルに基づき凹凸のピッチ、及び凸部の最高点と凹部の最低点との差を測定した。 Based on the concavo-convex shape profile for the five observed images, the concavo-convex pitch and the difference between the highest point of the convex part and the lowest point of the concave part were measured.
上記実施例1〜5において作製した光閉じ込めフィルム1〜5の表面の凹凸形状構造における凹凸の平均ピッチは、いずれも、50nm〜3μmの範囲内であり、かつ凸部の最高点と凹部の最低点との差の平均値が5nm〜5μmの範囲内であった。 The average pitch of the irregularities in the irregular shape structure on the surface of the light confinement films 1 to 5 produced in Examples 1 to 5 above is in the range of 50 nm to 3 μm, and the highest point of the convex part and the lowest of the concave part The average value of the difference from the point was in the range of 5 nm to 5 μm.
<太陽電池の作製>
下記方法に従って、有機薄膜太陽電池を作製した。
<Production of solar cell>
An organic thin film solar cell was produced according to the following method.
(透明電極の作製)
上記実施例1〜5で作製した表面凹凸フィルムの凹凸面側に、プラズマ発生スパッタロールコート装置を使用し、DCマグネトロンスパッタにより、Tiをターゲットとして用いて、成膜温度180℃でプロセスガスとしてアルゴンガスと酸素ガスを導入し反応性スパッタで膜厚70nmのSiOx(x=1.8,XPSによる)の堅い層を形成した。堅い層の膜厚は、反応時間によって調整した。次いで、ITO透明導電膜をスパッタリングで100nmの導電層を作製して、表面フィルムを作製した。
(Preparation of transparent electrode)
Using a plasma-generated sputter roll coater on the uneven surface side of the surface uneven film produced in Examples 1 to 5 above, DC magnetron sputtering, using Ti as a target, forming a film at a temperature of 180 ° C., and using argon as a process gas A hard layer of SiO x (x = 1.8, based on XPS) having a thickness of 70 nm was formed by reactive sputtering with introduction of gas and oxygen gas. The film thickness of the hard layer was adjusted by the reaction time. Next, a 100 nm conductive layer was prepared by sputtering an ITO transparent conductive film to prepare a surface film.
(透明電極(第1電極)、電子防止層の形成)
基板電極としては、上記作製したフィルムの凹凸面に透明導電体膜であるITO(酸化インジウムスズ)薄膜が堆積されたフィルム(以下、ITO基板)を用いた。ITO基板を、アセトン,エタノール溶液を用いて各10〜15分間の超音波洗浄を行った。その後、純水又は超純水にて洗浄し、窒素ガスにて乾燥した。
(Transparent electrode (first electrode), formation of electron prevention layer)
As the substrate electrode, a film (hereinafter referred to as ITO substrate) in which an ITO (indium tin oxide) thin film, which is a transparent conductor film, was deposited on the uneven surface of the produced film was used. The ITO substrate was subjected to ultrasonic cleaning for 10 to 15 minutes using acetone and ethanol solutions. Thereafter, it was washed with pure water or ultrapure water and dried with nitrogen gas.
次に、オゾンクリーナ(紫外線(UV)照射装置)を用いて紫外線オゾン処理を行ってITO基板表面(ITO薄膜の表面)に親水基を形成させ、有機半導体層が堆積されやすくするための親水化処理を行った。 Next, hydrophilic treatment is performed to facilitate deposition of the organic semiconductor layer by forming a hydrophilic group on the surface of the ITO substrate (surface of the ITO thin film) by performing ultraviolet ozone treatment using an ozone cleaner (ultraviolet (UV) irradiation device). Processed.
親水処理を施したITO薄膜表面上に電子防止層となるPEDOT−PSS(poly(3,4−ethylenedioxythiophene)−poly(styrenesulfonate))の水分散液(スタルク社製BaytronP4083)をスピンコーターで塗布した。スピンコートの条件は、初速400rpmを10秒、終速5000rpmを100秒でスピンオンし、厚さ70nm程度の膜を堆積させた。その後、大気雰囲気・大気圧中にて、140℃、10分の熱処理焼成を施し、電子防止層を得た。 An aqueous dispersion of PEDOT-PSS (poly (3,4-ethylenedithiophene) -poly (stylensulfonate)) serving as an electron-preventing layer was applied onto the surface of the ITO thin film subjected to hydrophilic treatment with a spin coater. The spin coating was performed by spinning on an initial speed of 400 rpm for 10 seconds and a final speed of 5000 rpm for 100 seconds to deposit a film having a thickness of about 70 nm. Then, heat treatment baking was performed at 140 ° C. for 10 minutes in an air atmosphere / atmospheric pressure to obtain an electron blocking layer.
(光電変換層の形成)
光電変換層としては、P3HT(プレクストロニクス社製:レジオレギュラーポリ−3−ヘキシルチオフェン)(Mw=52000、高分子p型半導体材料)とPCBM(Mw=911、低分子n型半導体材料)(フロンティアカーボン:6,6−フェニル−C61−ブチリックアシッドメチルエステル)の混合材料を用いた。両者の質量比が1:0.8になるように調整し、o−ジクロロベンゼンに溶解させた。超音波攪拌器により十分な撹拌を行った後、目開き0.45μmのフィルタを通した溶液をスピンコート法により塗布した。スピンコートの条件は、初速400rpm10秒、終速1500rpm40秒でスピンオンし、厚さ50nm程度の膜を堆積させた。その後、真空中で室温乾燥を行い、バルクヘテロ接合型薄膜を得た。
(Formation of photoelectric conversion layer)
As the photoelectric conversion layer, P3HT (manufactured by Plextronics: regioregular poly-3-hexylthiophene) (Mw = 52000, high molecular p-type semiconductor material) and PCBM (Mw = 911, low molecular n-type semiconductor material) (frontier) carbon: 6,6-phenyl -C 61 - with butyric acid mixed material of methyl ester). The mass ratio of both was adjusted to 1: 0.8 and dissolved in o-dichlorobenzene. After sufficient stirring with an ultrasonic stirrer, a solution that passed through a filter with an aperture of 0.45 μm was applied by spin coating. The spin coating was performed by spinning on at an initial speed of 400 rpm for 10 seconds and an final speed of 1500 rpm for 40 seconds to deposit a film having a thickness of about 50 nm. Then, room temperature drying was performed in vacuum to obtain a bulk heterojunction thin film.
(電子輸送層の形成)
次に、上記一連の機能層を製膜した基板を真空蒸着装置チャンバー内に移動し、1×10−4Pa以下まで真空蒸着装置内を減圧した後、蒸着速度0.01nm/秒でフッ化リチウムを0.6nm積層し、電子輸送層を製膜した。
(Formation of electron transport layer)
Next, the substrate on which the series of functional layers is formed is moved into a vacuum deposition apparatus chamber, the inside of the vacuum deposition apparatus is depressurized to 1 × 10 −4 Pa or less, and then fluorinated at a deposition rate of 0.01 nm / second. Lithium was laminated to 0.6 nm to form an electron transport layer.
(第2電極の形成)
次に、第2電極形成として、アルミニウム薄膜を真空蒸着法により形成した。タングステンボート上にアルミニウム線を適量のせ、真空度2×10−6Torr程度の高真空,蒸着レートを2−3[Å/s](0.2−0.3nm/s)で、基板温度は室温,基板回転速度を30rpmとして、厚さ50nmのアルミニウム薄膜を形成して有機薄膜太陽電池を作製した。
(Formation of second electrode)
Next, as the second electrode formation, an aluminum thin film was formed by a vacuum deposition method. Place an appropriate amount of aluminum wire on a tungsten boat, a high vacuum of about 2 × 10 −6 Torr, a deposition rate of 2-3 [Å / s] (0.2-0.3 nm / s), and a substrate temperature of room temperature. The organic thin film solar cell was fabricated by forming an aluminum thin film having a thickness of 50 nm at a substrate rotation speed of 30 rpm.
上記で得た有機薄膜太陽電池に実施例1〜5で作製したフィルムは表面凹凸フィルムとして用い、実施例6で作製したフィルムは裏面凹凸フィルムとして用いて、図3に示す太陽電池を作製した。 The film produced in Examples 1-5 was used for the organic thin-film solar cell obtained above as a surface uneven | corrugated film, the film produced in Example 6 was used as a back surface uneven | corrugated film, and the solar cell shown in FIG. 3 was produced.
なお、実施例1において、混合溶媒のスプレー塗工を施さなかったこと以外は、同様にして作製したフィルムを、太陽電池の表面フィルム及び裏面フィルムとして用いた太陽電池を基準用太陽電池とすべく作製した。 In Example 1, except that the mixed solvent was not spray-coated, a solar cell using the film produced in the same manner as the surface film and the back film of the solar cell should be used as the reference solar cell. Produced.
《評価》
(発電効率)
上記方法で得られた太陽電池について、山下電装株式会社製のソーラシミュレータを用いてAm−1.5,100mW/cm2の光源下で出力を測定した。なお、基準用太陽電池の発電効率を基準として発電効率の向上率を相対的に評価した。
<Evaluation>
(Power generation efficiency)
About the solar cell obtained by the said method, the output was measured under the light source of Am-1.5,100mW / cm < 2 > using the solar simulator made from Yamashita Denso. In addition, the improvement rate of power generation efficiency was relatively evaluated based on the power generation efficiency of the reference solar cell.
以上の評価結果を表1にまとめて示す。 The above evaluation results are summarized in Table 1.
表1に示した結果から明らかように、本発明の非常に簡便な手段により、従来の凹凸(テクスチャー構造)形成技術で得られる太陽電池用光閉じ込めフィルム(ガラス)と同等レベルの発電効率を得られることが分かる。 As is clear from the results shown in Table 1, the power generation efficiency equivalent to that of the light confinement film for solar cells (glass) obtained by the conventional unevenness (texture structure) forming technique is obtained by the very simple means of the present invention. You can see that
すなわち、本発明により、熱可塑性樹脂を用いた凹凸構造を有する光閉じ込めフィルムは、従来技術に比べ、簡便に、効率よく、かつ大量生産規模で製造でき、凹凸構造のクラックや導電層のリークなどなく、新たな光閉じ込めフィルムの製造方法を提供することができることがわかる。また、当該製造方法によって製造された光閉じ込めフィルムを用いて高い発電効率を有する太陽電池を提供するこができることが分かる。 That is, according to the present invention, a light confinement film having a concavo-convex structure using a thermoplastic resin can be manufactured easily, efficiently, and on a large-scale production scale as compared with the prior art, such as a crack in the concavo-convex structure or a leak of a conductive layer. It can be seen that a new method for producing a light confinement film can be provided. Moreover, it turns out that the solar cell which has high electric power generation efficiency can be provided using the optical confinement film manufactured by the said manufacturing method.
a 凸部の最高点
b 凹部の最低点
h 凸部の最高点と凹部の最低点との差(深さ)
p ピッチ
1 押出し機
2 フィルタ
3 スタチックミキサー
4 流延ダイ
5 回転支持体(第1冷却ロール)
6 挟圧回転体(タッチロール)
7 回転支持体(第2冷却ロール)
8 回転支持体(第3冷却ロール)
9 剥離ロール
10 フィルム
11、13、14 搬送ロール
12 延伸機
15 スリッター
16 巻き取り機
F 樹脂フィルム
20 太陽電池
21 表面凹凸フィルム
22 第1電極(ITO透明導電膜)
23 電子防止層
24 光電変換層
25 電子輸送層(フッ化リチウム膜)
26 第2電極(アルミニウム薄膜)
27 裏面凹凸フィルム
a Maximum point of convex part b Minimum point of concave part h Difference (depth) between the highest point of convex part and the lowest point of concave part
p pitch 1 extruder 2 filter 3 static mixer 4 casting die 5 rotating support (first cooling roll)
6 Nipping pressure rotating body (touch roll)
7 Rotating support (second cooling roll)
8 Rotating support (3rd cooling roll)
DESCRIPTION OF
23
26 Second electrode (aluminum thin film)
27 Back side uneven film
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2010
- 2010-10-26 JP JP2010239404A patent/JP2012094618A/en active Pending
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