JP2012093004A - 集熱レシーバー及び太陽熱発電装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 太陽熱発電装置に使用される集熱レシーバーであって、上記集熱レシーバーは、熱媒体を通過させるための複数の流路が並設された1個又は複数個のハニカムユニットからなる熱吸収体と、該熱吸収体を支持するとともに、熱媒体を流通させる支持体とからなり、上記熱吸収体は、炭化ケイ素を含んで構成され、太陽光が照射される面には、研磨処理又はコーティング処理のいずれかの表面処理が施されていることを特徴とする集熱レシーバー。
【選択図】 図1
Description
集熱レシーバーでは、加熱された熱吸収体の流路に、エアーやエアーを含む混合ガスからなる熱媒体を通過させ、これにより熱媒体が熱を得ることができる。タワー型太陽熱発電では、得られた熱により水を沸騰させて蒸気とし、蒸気タービンを回して発電を行う。
また、熱吸収体は、炭化ケイ素を含んで構成されているため、熱伝導率が高く、クラック等が発生しにくく、得られた熱をスムーズに熱媒体に伝達することができる。
ブラスト加工処理としては、例えば、炭化ケイ素粒子等を用いたサンドブラスト加工処理が望ましい。
研磨処理により形成された粗化面により太陽光は、粗化面の内側で反射され易くなるとともに吸収され易くなり、外部に出射しにくくなるので、太陽光の反射が生じにくくなり、太陽光が照射される面における太陽光の反射をより確実に低減できる。なお、表面粗さRaは、JIS B 0601に記載の方法に準じて測定したものである。
このような構成によっても、上記研磨処理と同様に、太陽光の反射をより抑制することができ、効率的に集熱レシーバーに光を吸収させることができる。
このような組成を有するコーティング層は、熱吸収体との密着性に優れるため、熱吸収体が高温状態となっても、コーティング層が剥離しにくくなる。
このような組成を有するコーティング層とすることにより、黒色で熱吸収体との密着性に優れたコーティング層とすることができる。
多孔質のカーボン層は、反射率が低く、太陽光の反射を抑制することができ、熱の吸収効率を向上させることができる。
このような膜厚を有するコーティング層であれば、コーティング液(コーティング材料)を熱吸収体の太陽光が照射される面に塗布することにより、比較的容易に均一な厚みのコーティング層を形成することができる。
このような構成によっても、研磨処理により形成された粗化面により太陽光は、粗化面の内側で反射され易くなるとともに吸収され易くなり、外部に出射しにくくなるので、太陽光の反射を低減することができる。
ブラスト加工処理を適用することで、コーティング層の表面に容易に粗化面を形成できる。
このような構成によると、太陽光が照射される粗化面の内側で反射され易くなるとともに外部により出射しにくくなるので、太陽光の反射をより確実に低減できる。なお、表面粗さRaは、JIS B 0601に記載の方法に準じて測定したものである。
このような構成であると、上記流路を熱媒体が流通することにより、上記ハニカムユニットから上記熱媒体に効率よく熱が伝達され、その結果、高い効率で発電を行うことができる。
このような構成であると、ハニカムユニットの蓄熱性が高くなり、また、極めて熱伝導率が高いため、得られた熱をスムーズに熱媒体に伝達することができる。
このような構成であると、ハニカムユニットは、熱伝導率が高いものであるため、得られた熱をスムーズに熱媒体に伝達することができる。
このような構成であると、ハニカムユニットは、緻密体であるためハニカムユニットの蓄熱性が高くなり、また、熱伝導率も極めて高いため、得られた熱をスムーズに熱媒体に伝達することができる。
このような構成であると、ハニカムユニットは、開気孔を有しているので、シリコンを充填する際には、気孔の内部にスムーズにシリコンを充填することができる。
このような構成であると、断熱材により、上記熱吸収体から上記支持体への熱の逃散を効果的に防止することができるとともに、上記断熱材により上記熱吸収体をしっかりと保持することができる。
本発明に係る太陽熱発電装置は、上記した本発明に係る集熱レシーバーを用いているので、太陽光をより効率的に熱吸収体に吸収及び蓄熱することができ、発電効率の向上が図れる。
以下、本発明の集熱レシーバーの一実施形態である第一実施形態について図面を参照しながら説明する。
図1(a)は、本発明の第一実施形態に係る集熱レシーバーを模式的に示す縦断面図であり、図1(b)は、図1(a)に示した集熱レシーバーの正面図である。図2(a)は、本発明の第一実施形態に係る集熱レシーバーの端面の一部を示した拡大断面図である。
なお、上記気孔率は、例えば、水銀圧入法、アルキメデス法、走査型電子顕微鏡(SEM)による測定等、従来公知の方法により測定することができる。
表面粗さRaがこのような範囲にあることで、太陽光の反射をより確実に低減できる。
また、多孔質炭化ケイ素を用い、粗化面を形成することにより、反射率を9〜21%の範囲に抑制することができる。
本発明の実施形態に係る発明では、ハニカムユニット13の放射率を、0.73〜0.91とすることができる。
ハニカムユニット13が多孔質炭化ケイ素からなる場合には、ハニカムユニットの放射率を、0.73〜0.91に抑制することができる。
ハニカムユニット13の熱伝導率は、45〜120W/mKが望ましい。ハニカムユニット13の密度は、2.7〜3.1g/cm3が望ましい。
金属材料としては、例えば、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム、タングステン、モリブデン、チタン、鉛、銅、亜鉛及びこれら金属の合金等が挙げられる。また、セラミックとしては、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化チタン等の窒化物セラミック、炭化ケイ素、炭化ジルコニウム、炭化チタン、炭化タンタル、炭化タングステン等の炭化物セラミック、シリカ、アルミナ、ムライト、ジルコニア等の酸化物セラミック等が挙げられる。支持体12の材料としては、その他に、例えば、金属と窒化物セラミックの複合体、金属と炭化物セラミックの複合体等も挙げられる。これらのなかでは、耐熱性等の点から、炭化ケイ素又はアルミナが特に好ましい。
断熱材17の材料は特に限定されるものではなく、無機繊維、無機粒子、無機バインダー等、種々の無機材料を含むものであってもよいが、無機繊維からなるマット状のものが好ましい。本実施形態では、断熱材17として無機繊維からなる平面視矩形のマットを使用した例について、以下に説明する。
この断熱材17は、無機繊維からなる平面視矩形のマットが1個又は複数積層されて構成されたものであり、この断熱材17を熱吸収体11の側面に巻き付けた状態で、支持体12に収納することにより、熱吸収体11を支持体12の内部に支持、固定することができる。
まず、ハニカムユニット13を構成する多孔質炭化ケイ素を製造する。
多孔質炭化ケイ素を製造する際には、セラミック原料として平均粒子径の異なる炭化ケイ素粉末と、有機バインダ、可塑剤、潤滑剤、水等とを混合して、湿潤混合物を調製する。
なお、上記したブラスト加工処理は、複数のハニカムユニット13を接着材ペースト等を用いて接合した後に行ってもよい。
(1)本実施形態の集熱レシーバーにおいては、熱吸収体に含まれるハニカムユニットは、太陽光(ヘリオスタットから集光された光)が照射される面に研磨処理(ブラスト加工処理)が施されているので、太陽光の反射を抑制することができ、太陽光の反射による熱損失を低減して、集熱レシーバーをより効率よく加熱することができる。
(ハニカムユニットの作製工程)
平均粒子径22μmを有する炭化ケイ素の粗粉末52.8重量%と、平均粒子径0.5μmの炭化ケイ素の微粉末22.6重量%とを混合し、得られた混合物に対して、アクリル樹脂2.1重量%、有機バインダ(メチルセルロース)4.6重量%、潤滑剤(日本油脂社製 ユニルーブ)2.8重量%、グリセリン1.3重量%、及び、水13.8重量%を加えて混練して湿潤混合物を得た後、押出成形する押出成形工程を行い、四角柱形状の生のハニカム成形体を作製した。
得られたハニカムユニット13の熱伝導率は、45W/m・K、密度は、2.7g/cm3であった。なお、ハニカムユニット13の熱伝導率は、レーザフラッシュ法により測定した。また、ハニカムユニットの密度をアルキメデス法により測定した。
ブラスト加工処理は、炭化ケイ素粒子を用いたサンドブラスト加工処理であり、炭化ケイ素のバンテージが400、ノズルの出口径φが11.8cm、噴射角度が90°、投射圧が4kg/cm2、流量が100g/hrの条件下で行った。
このブラスト加工処理により、ハニカムユニット13の面13aにおける表面粗さRaは、3.2μmとなった。なお、表面粗さRaは、JIS B 0601に記載の算術平均粗さに準拠して測定した。
表面処理を施したハニカムユニット13を4個用いて、図1(b)に示すように、組み合わせた後、真空下、ハニカムユニット13の上面、下面等(端面を除く側面)にシリコンを載置し、加熱した。これにより、ハニカムユニット13をシリコンにより結束して、熱吸収体11を作製した。
得られた熱吸収体11の周囲に断熱材17を巻き付け、支持体12に挿入した。これにより、集熱レシーバー10が得られた。
断熱材17としては、組成比がAl2O3:SiO2=72:28(重量比)からなる無機繊維のマット状物で、無機繊維の平均繊維径が5.1μm、平均繊維長60mm、嵩密度が0.15g/cm3、目付量が1400g/m2の断熱材を用い、14mmの厚さになるように巻き付けた。
得られた集熱レシーバー10の面13aにおける光の反射率を、分光光度計(Perkin Elmer社製、型番system200型)を用いて、室温(25℃)の雰囲気下、波長3〜30μmの条件で測定した。また、集熱レシーバー10の面13aにおける光の放射率を、分光光度計(Perkin Elmer社製、型番system200型)を用いて、室温(25℃)の雰囲気下、波長3〜30μmの条件で測定した。
実施例1のハニカムユニット13の反射率は21%、放射率は0.79であった。
反射率及び放射率の測定結果を表1に示す。
ハニカムユニット13の面13aにおける表面粗さRaを表1に示すように実施例2は3.1μm、実施例3は3.3μmに変更した。そして、それ以外は実施例1と同様にして、ハニカムユニット13を作製し、実施例1と同様にして、ハニカムユニット13の表面粗さ、熱伝導率及び密度を測定した。実施例2のハニカムユニット13の熱伝導率は、45W/m・K、密度は、2.7g/cm3、実施例3のハニカムユニット13の熱伝導率は、45W/m・K、密度は、2.7g/cm3であった。
次に、実施例1と同様にして、集熱レシーバー10を作製した。この後、集熱レシーバー10の面13aにおける反射率及び放射率を測定した。実施例2のハニカムユニット13の反射率は15%、放射率は0.85、実施例3のハニカムユニット13の反射率は13%、放射率は0.87であった。
反射率及び放射率の測定結果を表1に示す。
実施例1におけるハニカムユニット13の表面にブラスト加工処理を行わなかった。そして、それ以外は実施例1と同様にして、ハニカムユニット13を作製し、実施例1と同様にして、ハニカムユニット13の表面粗さ、熱伝導率及び密度を測定した。この比較例1のハニカムユニット13の面13aにおける表面粗さRaは、2.4μmであった。比較例1のハニカムユニット13の熱伝導率は、45W/m・K、密度は、2.7g/cm3であった。
次に、実施例1と同様にして、集熱レシーバー10を作製した。この後、集熱レシーバー10の面13aにおける反射率及び放射率を測定した。
比較例1のハニカムユニット13の反射率は25%、放射率は0.75であった。
反射率及び放射率の測定結果を表1に示す。
以下、本発明の集熱レシーバーの他の一実施形態である第二実施形態について説明する。
本実施形態に係る集熱レシーバーは、ハニカムユニットが緻密質炭化ケイ素からなる他は、本発明の第一実施形態に係る集熱レシーバーと同様に構成されている。緻密質炭化ケイ素からなるハニカムユニットの気孔率は、98〜99%である。
本実施形態においては、本発明の第一実施形態の(1)、(2)、(4)の作用効果を奏するほか、下記の効果を奏する。
ハニカムユニット13を緻密質炭化ケイ素で作製した。緻密質炭化ケイ素からなるハニカムユニット13は、炭化ケイ素粉末と、ホウ素(B)、カーボン、有機バインダ、可塑剤、潤滑剤、水等とを混合して、湿潤混合物を調製し、この湿潤混合物を押出成形し、乾燥及び焼成処理を行うことにより作製した。そして、実施例1と同様にして、ハニカムユニット13の表面粗さ、熱伝導率及び密度を測定した。
その結果、ハニカムユニット13の面13aにおける表面粗さRaは、0.7μmであった。また、ハニカムユニット13の熱伝導率は、80W/m・K、密度は、3.1g/cm3であった。ハニカムユニット13の面13aにおける反射率は22%、放射率は0.78であった。
次に、実施例1と同様にして、集熱レシーバー10を作製し、実施例1と同様にして、集熱レシーバー10の面13aにおける反射率及び放射率を測定した。反射率及び放射率の測定結果を表1に示す。
実施例4におけるハニカムユニット13の表面にブラスト加工処理を行わなかった。それ以外は実施例4と同様にして、ハニカムユニット13を作製し、ハニカムユニット13の表面粗さ、熱伝導率及び密度を測定した。ハニカムユニット13の面13aにおける表面粗さRaは、0.2μmであった。また、ハニカムユニット13の熱伝導率は、80W/m・K、密度は、3.1g/cm3であった。
次に、実施例1と同様にして、集熱レシーバー10を作製し、反射率、放射率を測定した。ハニカムユニット13の面13aにおける反射率は29%、放射率は0.71であった。反射率及び放射率の測定結果を表1に示す。
以下、本発明の集熱レシーバーの他の一実施形態である第三実施形態について説明する。
本実施形態に係る集熱レシーバーは、気孔がシリコンで充填された多孔質炭化ケイ素からなるハニカムユニットを用いた他は、本発明の第一実施形態に係る集熱レシーバーと同様に構成されている。
まず、微粉状シリコンを含浸させた複数のハニカム焼成体(ハニカムユニット)を所定の固定具等を用いて熱吸収体の形状となるように組み合わせた後、加熱するか、シリコン微粉末を含浸させていないハニカム焼成体(ハニカムユニット)を複数個組み合わせた後、真空下、ハニカム焼成体(ハニカムユニット)の上面、下面等の端面を除く側面にシリコンを載置し、加熱する。
また、シリコンの粉末をスラリー状にしたものをハニカム焼成体(ハニカムユニット)の側面に塗布し、塗布面を介して二つのハニカム焼成体を接触させた状態で加熱することにより接着し、この作業を繰り返すことにより複数のハニカム焼成体(ハニカムユニット)を結束してもよい。
本実施形態においては、本発明の第一実施形態の(1)〜(4)の作用効果を奏するほか、下記の効果を奏する。
ハニカムユニット13を気孔がシリコンで充填された多孔質炭化ケイ素で作製した。
まず、実施例1と同様にして多孔質炭化ケイ素からなるハニカム焼成体を作製した。次に、ハニカムユニット13を作製した。そして、実施例1と同様にして、ハニカムユニット13の表面粗さ、熱伝導率及び密度を測定した。ハニカムユニット13の面13aにおける表面粗さRaは、3.3μmであった。また、ハニカムユニット13の熱伝導率は、120W/m・K、密度は、2.8g/cm3であった。
次に、実施例1と同様にして、集熱レシーバー10を作製し、集熱レシーバー10の面13aにおける反射率及び放射率を測定した。ハニカムユニット13の面13aにおける反射率は27%、放射率は0.73であった。反射率及び放射率の測定結果を表1に示す。
次いで、得られた多孔質炭化ケイ素からなるハニカムユニット13の焼成体にフェノール樹脂(炭化率30重量%)をあらかじめ常温、常圧で含浸し、続いて乾燥した。
なお、炭化ケイ素100重量部に対する上記シリコンの含浸量は40重量部であった。
実施例5におけるハニカムユニット13の表面にブラスト加工処理を行わなかった。それ以外は実施例1と同様にして、ハニカムユニット13を作製し、集熱レシーバー10を作製した。
作製したハニカムユニット13については、実施例1と同様にして、ハニカムユニット13の表面粗さ、熱伝導率及び密度を測定した。ハニカムユニット13の面13aにおける表面粗さRaは、0.7μmであった。また、ハニカムユニット13の熱伝導率は、120W/m・K、密度は、2.8g/cm3であった。
そして、作製した集熱レシーバーについては、実施例1と同様にして、集熱レシーバー10の面13aにおける反射率及び放射率を測定した。ハニカムユニット13の面13aにおける反射率は36%、放射率は0.64であった。
反射率及び放射率の測定結果を表1に示す。
以下、本発明の集熱レシーバーの他の一実施形態である第四実施形態について図面を参照しながら説明する。本実施形態に係る集熱レシーバーは、表面処理がコーティング処理であるほかは、第一実施形態に係る集熱レシーバーと同様に構成されている。
図2(b)に示すように、本発明に係る集熱レシーバー10には、ハニカムユニット13の流路壁の太陽光が照射される表面にコーティング層16が形成されている。このようなコーティング層16によっても、本発明の第一実施形態に係る研磨処理による粗化面と同様に、太陽光が照射される面の反射率を低減することができる。
多孔質のカーボン層は、カーボンブラック等を含むコーティング剤を塗布して加熱することにより形成することができる。
また、多孔質炭化ケイ素からなるハニカムユニット13をカーボンに変換させることによっても、コーティング層を形成することができる。
さらに、シリコンを充填した多孔質炭化ケイ素からなるハニカムユニット13からシリコンを除去し、露出した多孔質炭化ケイ素をさらにカーボンに変換することによってもコーティング層16とすることができる。露出した多孔質炭化ケイ素をカーボンに変換する際には、例えば、周囲の雰囲気を0.8Torr以下の真空にし、1600〜1700℃で96時間以上加熱処理を行えばよい。これにより、ハニカムユニット13からシリコンが除去され、露出した多孔質炭化ケイ素がカーボンに変換される。
軟化温度が400〜1000℃である無機化合物としては、低融点高膨張ガラスが好ましく、具体的には、アルミナ珪酸ガラス、ポタッシュ鉛ガラス、ソーダ鉛ガラス、ソーダ亜鉛ガラス、ソーダバリウムガラス、バリウムガラス、ボロンガラス、ストロンチウムガラス、高鉛ガラス及びポタッシュソーダ鉛ガラスから選ばれる少なくとも1種である。
これらの低融点高膨張ガラスは、融解させてハニカムユニット13の面13aに塗布して加熱焼成処理する際に、ハニカムユニット13とのなじみが良いため、ハニカムユニット13の面13aにコーティング層16を容易にしかも強固に形成することができる。
無機化合物の軟化温度が400℃未満では、コーティング層16を形成した後に、ハニカムユニット13の温度が高くなるとコーティング層16が流動し易くなり、コーティング層16が剥がれ落ちやすくなり、一方、無機化合物の軟化温度が1000℃を超えると、コーティング材料を融解させてハニカムユニット13に塗布するのが難しくなる。
コーティング層16の表面には、上記のような研磨処理による粗化面が形成されていてもよい。
研磨処理は、ブラスト加工が望ましく、コーティング層の粗化面の表面粗さは、Ra0.5〜50μmが望ましい。コーティング層の粗化面の表面粗さがこのような範囲であるこおて、太陽光の反射をより確実に低減できる。
まず、コーティング層16を形成するためのコーティング液(コーティング材料)を調製する。
コーティング液の調製は、上記した赤外線放射体と無機化合物とを湿式混合することで行う。具体的には、赤外線放射体の粉末と、無機化合物の粉末とをそれぞれ所定の粒度、形状等になるように調製し、各粉末を所定の配合比率で乾式混合して混合粉末を調製し、さらに水を加えて、ボールミルで湿式混合することによりスラリーを調製する。混合粉末と水との配合比は、特に限定されるものでないが、混合粉末100重量部に対して、水100重量部が望ましい。ハニカムユニット13への塗布を行うために適度な粘度とする必要があるためである。また、必要によっては、コーティング液に有機溶剤を加えてもよい。
本実施形態においては、本発明の第一実施形態の(2)〜(4)の作用効果を奏するほか、下記の効果を奏する。
(7)本実施形態の集熱レシーバーにおいては、熱吸収体に含まれるハニカムユニットは、太陽光(ヘリオスタットから集光された光)が照射される面(流路壁の表面)にコーティング層が形成されているので、太陽光の反射を抑制することができ、反射による熱損失を低減して、蓄熱性の高い集熱レシーバーとすることができる。
ハニカムユニット13の面13aにブラスト加工処理を施す代わりに、コーティング層16を形成した以外は、実施例1と同様にして集熱レシーバー10を作製した。
コーティング層16は、以下の手順で形成した。
MnO2粉末65wt%、Fe3O4粉末5wt%と、BaO−SiO2ガラス粉末10wt%とを乾式混合して混合粉末を調製し、混合粉末100重量部に対して水を100重量部加えて、ボールミルで湿式混合することによりコーティング液(コーティング材料)を調製した。
得られたコーティング液を、ハニカムユニット13の面13aに向けてスプレーコートによって塗布した。
その後、スプレーコートにより塗布層が形成されたハニカムユニット13を、100℃で2時間乾燥した後、空気中700℃で1時間加熱焼成する焼成工程を行って、厚み2μmのコーティング層16を形成した。この後、実施例1と同様にして、ハニカムユニット13の熱伝導率及び密度を測定した。
ハニカムユニット13の熱伝導率は、45W/m・K、密度は、2.7g/cm3であった。
コーティング層16の厚みは、厚み方向に切断した後、走査型電子顕微鏡でその厚さを測定した。
反射率及び放射率の測定結果を表1に示す。
コーティング層16の厚みを50μmに変更した以外は、実施例6と同様にして集熱レシーバー10を作製した。実施例1と同様にして、ハニカムユニット13の熱伝導率及び密度を測定した。
ハニカムユニット13の熱伝導率は、45W/m・K、密度は、2.7g/cm3であった。
得られたコーティング層16について、実施例1と同様にして反射率及び放射率を測定した。ハニカムユニット13の面13aにおける反射率は9%、放射率は0.91であった。
反射率及び放射率の測定結果を表1に示す。
コーティング層16を、多孔質カーボン層で形成し、コーティング層16の厚みを50μmとした以外は、実施例6と同様にして集熱レシーバー10を作製した。
多孔質カーボン層の形成は以下により行った。
すなわち、MnO2粉末及びFe3O4の代わりにカーボンブラックの粉末を使用し、コーティング液(コーティング材料)を調製した他は、実施例6と同様にして多孔質カーボン層を形成し、実施例1と同様にして、ハニカムユニット13の熱伝導率及び密度を測定した。
ハニカムユニット13の熱伝導率は、45W/m・K、密度は、2.7g/cm3であった。
得られたコーティング層16について、実施例1と同様にして反射率及び放射率を測定した。ハニカムユニット13の面13aにおける反射率は15%、放射率は0.85であった。
反射率及び放射率の測定結果を表1に示す。
表1に示した結果から明らかなように、実施例1〜8に係る集熱レシーバーは、実施例1〜3及び6〜8と比較例1、実施例4と比較例2、実施例5と比較例3のように、集熱レシーバーの材質が同じものである実施例と比較例とを比較する。多孔質炭化珪ケイ素の集熱レシーバーの放射率は、実施例においては0.73〜0.91の範囲であり、比較例の0.75に比べて高く、緻密質炭化ケイ素の集熱レシーバーの放射率は、実施例においては0.78であり、比較例の0.71に比べて高く、シリコンで充填された多孔質炭化珪ケイ素の集熱レシーバーの放射率は、実施例においては0.73であり、比較例の0.64に比べて高くなっている。その結果、集熱レシーバーの表面処理が行われていない比較例に比べて、表面処理が行われている実施例の方が放射率が高いことがわかる。したがって、本発明の実施例に係るレシーバーを太陽熱発電の集熱器として使用した場合には、吸収した光の熱を放熱して、熱媒体へと良好に伝えることができる。
また、太陽熱発電の集熱器として使用した場合には、放射率と熱伝導率との両方によって熱媒体へ熱を伝えることができる。すなわち、熱伝導率の高い材料からなるレシーバーであれば、昇温したレシーバーから貫通孔を通過する熱媒体へと熱が伝わることとなる。そして、放射率が高ければ、レシーバーからの放熱によっても熱媒体を良好に加熱することができる。
また、多孔質炭化ケイ素の集熱レシーバーの反射率は、実施例においては9〜21%であり、比較例の25%に比べて低く、緻密質炭化ケイ素の集熱レシーバーの反射率は、実施例においては22%であり、比較例の36%に比べて低く、シリコンで充填された多孔質炭化ケイ素の集熱レシーバーの反射率は、実施例においては27%であり、比較例の36%に比べて低くなっている。その結果、実施例1〜8に係る集熱レシーバーは、いずれも太陽光が照射される面に表面処理が施されていたため、比較例に比べて反射率が低くてってょくことがわかる。したがって、本発明の実施例に係る集熱レシーバーを太陽熱発電の集熱器として使用した場合には、太陽光が照射される面から効率良く集熱レシーバーに熱を伝えることができると考えられる。
以下、本発明の太陽熱発電装置の一実施形態である第五実施形態について説明する。
本実施形態に係る太陽熱発電装置では、本発明の第一実施形態に係る集熱レシーバーが用いられている。
図4は、本発明の第五実施形態に係る太陽熱発電装置を模式的に示す説明図である。
蓄熱器34には、管22bと繋がった蓄熱用配管(図示せず)が通っており、熱吸収体11により加熱された熱媒体14が蓄熱用配管内を通過することにより、蓄熱材に熱を供給する。蓄熱材は、上記のように熱容量が大きいため、多量の熱を吸収して蓄熱することができる。
この冷却器36において、蒸気発生器33を通過することにより冷却された熱媒体14は、冷却器36の冷却管(図示せず)を通るようにすることが好ましい。熱媒体14が冷却管を通ることにより加熱されるので、集熱レシーバー10で吸収した熱を効率良く利用することができる。また、上述したように、熱を回収した熱媒体14が、レシーバーアレイ20の多数の集熱レシーバー10の間に形成されている空間22cに入るように配管を構成すれば、さらに、集熱レシーバー10の支持体12の熱も有効に利用することができる。
上記本発明の第一実施形態に係る集熱レシーバーを用いた太陽熱発電装置について説明したが、本発明の第二〜第四実施形態のいずれかに係る集熱レシーバーを用いても、第一実施形態に係る集熱レシーバーと同様の効果を得ることができる。
(11)本実施形態の太陽熱発電装置においては、本発明に係る集熱レシーバーが用いられているので、照射された太陽光を、効率よく熱に変換することができ、効率よく発電を行うことができる。
本発明の第一実施形態では、熱吸収体11であるハニカムユニット13が多孔質炭化ケイ素からなる例を挙げて説明したが、他の多孔質セラミックを用いることも可能である。他の多孔質セラミックとしては、例えば、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素等の窒化物セラミック、炭化ジルコニウム、炭化タンタル等の炭化物セラミック、アルミナ、ジルコニア、コージュライト、ムライト等の酸化物セラミックを挙げることができる。これらのセラミックは、それ自体が高い熱伝導率を有しているので、熱吸収体11として用いたときには、得られた熱をスムーズに熱媒体に伝達することができる。
コーティング層に施す研磨処理としては、ブラスト加工処理、研削加工処理、研磨加工処理、溶融塩を用いたエッチング加工処理等が挙げられる。
11 熱吸収体
12 支持体
12a 集熱部
12b ガス出口
13 ハニカムユニット
13a 面
13b 流路
14 熱媒体
15 接着材層
16 コーティング層
17 断熱材
18 太陽光
20 レシーバーアレイ
22 枠体
22a 底部
22b 管
30 太陽熱発電装置
32 中央タワー
33 蒸気発生器
34 蓄熱器
35 蒸気タービン
36 冷却器
37 ヘリオスタット
Claims (18)
- 太陽熱発電装置に使用される集熱レシーバーであって、
前記集熱レシーバーは、熱媒体を通過させるための複数の流路が並設された1個又は複数個のハニカムユニットからなる熱吸収体と、
該熱吸収体を収納、支持するとともに、熱媒体を流通させる支持体とからなり、
前記熱吸収体は、炭化ケイ素を含んで構成され、
太陽光が照射される面には、研磨処理又はコーティング処理のいずれかの表面処理が施されていることを特徴とする集熱レシーバー。 - 前記研磨処理は、ブラスト加工処理であり、前記太陽光が照射される面には、粗化面が形成されている請求項1記載の集熱レシーバー。
- 前記粗化面の表面粗さRaは、0.5〜5.0μmである請求項1又は2記載の集熱レシーバー。
- 前記コーティング処理により前記太陽光が照射される面には黒色のコーティング層が形成されている請求項1記載の集熱レシーバー。
- 前記コーティング層は、遷移元素の酸化物を主成分とする赤外線放射体と、軟化温度が400〜1000℃である無機化合物とを含む赤外線黒体塗料組成物からなる請求項4記載の集熱レシーバー。
- 前記遷移元素の酸化物は、二酸化マンガン、酸化マンガン、酸化鉄、酸化コバルト、酸化銅及び酸化クロムから選ばれる少なくとも1種であり、
前記無機化合物は、アルミナ珪酸ガラス、ポタッシュ鉛ガラス、ソーダ鉛ガラス、ソーダ亜鉛ガラス、ソーダバリウムガラス、バリウムガラス、ボロンガラス、ストロンチウムガラス、高鉛ガラス及びポタッシュソーダ鉛ガラスから選ばれる少なくとも1種からなる低融点高膨張ガラスである請求項5記載の集熱レシーバー。 - 前記コーティング層は、多孔質のカーボン層である請求項4記載の集熱レシーバー。
- 前記コーティング層の厚みは、2〜50μmである請求項4〜7のいずれかに記載の集熱レシーバー。
- 前記コーティング層の表面には、研磨処理による粗化面が形成されている請求項4〜7のいずれかに記載の集熱レシーバー。
- 前記研磨処理は、ブラスト加工処理である請求項9記載の集熱レシーバー。
- 前記粗化面の表面粗さRaは、0.5〜5.0μmである請求項9又は10記載の集熱レシーバー。
- 前記ハニカムユニットには、31.0〜93.0個/cm2の流路が形成され、流路間の壁部の厚さは、0.1〜0.5mmである請求項1〜11のいずれかに記載の集熱レシーバー。
- 前記ハニカムユニットは、緻密質炭化ケイ素からなる請求項1〜12のいずれかに記載の集熱レシーバー。
- 前記ハニカムユニットは、多孔質炭化ケイ素からなる請求項1〜12のいずれかに記載の集熱レシーバー。
- 前記ハニカムユニットは、気孔がシリコンで充填された多孔質炭化ケイ素からなる請求項1〜12のいずれかに記載の集熱レシーバー。
- 前記ハニカムユニットの気孔率は35〜60%、平均気孔径は5〜30μmである請求項14又は15に記載の集熱レシーバー。
- 前記熱吸収体と前記支持体との間には、断熱材が介装されている請求項1〜16のいずれかに記載の集熱レシーバー。
- 請求項1〜17のいずれかに記載の集熱レシーバーが用いられていることを特徴とする太陽熱発電装置。
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