JP2012092089A - Antibacterial agent and substrate surface treatment method using the same - Google Patents
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- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 title claims abstract description 150
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 76
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 title claims description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 31
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 227
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 227
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 120
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 96
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 claims abstract description 75
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 claims abstract description 67
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 45
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 20
- -1 methacryloyl group Chemical group 0.000 claims description 122
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 95
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 59
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 47
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 45
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 43
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 39
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 39
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 33
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 32
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims description 31
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 27
- CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N trichlorofluoromethane Chemical compound FC(Cl)(Cl)Cl CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- PXBRQCKWGAHEHS-UHFFFAOYSA-N dichlorodifluoromethane Chemical compound FC(F)(Cl)Cl PXBRQCKWGAHEHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 claims description 17
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 16
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 16
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 13
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 claims description 13
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 10
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 9
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 claims description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 13
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 claims 1
- 230000000840 anti-viral effect Effects 0.000 abstract description 11
- 230000000843 anti-fungal effect Effects 0.000 abstract description 9
- 238000010828 elution Methods 0.000 abstract description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 6
- 229940121375 antifungal agent Drugs 0.000 abstract description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 68
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 68
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 50
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 43
- 239000000047 product Substances 0.000 description 42
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 38
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 35
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 34
- 0 CC1(C)C(C2)C2CC*1 Chemical compound CC1(C)C(C2)C2CC*1 0.000 description 33
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 32
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 28
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 27
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 26
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 20
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 19
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 18
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 18
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 18
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 17
- 241000700605 Viruses Species 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 16
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 14
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 14
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 14
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 14
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 13
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 11
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 10
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 10
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 8
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 8
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 8
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 8
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 7
- 235000010210 aluminium Nutrition 0.000 description 7
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000003518 norbornenyl group Chemical group C12(C=CC(CC1)C2)* 0.000 description 7
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 7
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 7
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 7
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 6
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 6
- 230000000120 cytopathologic effect Effects 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N palladium(2+) Chemical compound [Pd+2] MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 6
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 6
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 5
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 5
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000005234 alkyl aluminium group Chemical group 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 5
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 5
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCOCC1CO1 SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 241000588724 Escherichia coli Species 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 241000714201 Feline calicivirus Species 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 241000712431 Influenza A virus Species 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 4
- 230000000845 anti-microbial effect Effects 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 4
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 4
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 4
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 4
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 4
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 3
- WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-pentanol Chemical compound CC(C)CC(C)O WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 241000709661 Enterovirus Species 0.000 description 3
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229920000557 Nafion® Polymers 0.000 description 3
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 3
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 239000000645 desinfectant Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- CPOFMOWDMVWCLF-UHFFFAOYSA-N methyl(oxo)alumane Chemical compound C[Al]=O CPOFMOWDMVWCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229930014626 natural product Natural products 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 3
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012089 stop solution Substances 0.000 description 3
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 3
- OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C(C)(C)C OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- XLYMOEINVGRTEX-ONEGZZNKSA-N (e)-4-ethoxy-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound CCOC(=O)\C=C\C(O)=O XLYMOEINVGRTEX-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XWJBRBSPAODJER-UHFFFAOYSA-N 1,7-octadiene Chemical compound C=CCCCCC=C XWJBRBSPAODJER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PHPRWKJDGHSJMI-UHFFFAOYSA-N 1-adamantyl prop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(OC(=O)C=C)C3 PHPRWKJDGHSJMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LVJZCPNIJXVIAT-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2,3,4,5,6-pentafluorobenzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(C=C)C(F)=C1F LVJZCPNIJXVIAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MUUOUUYKIVSIAR-UHFFFAOYSA-N 2-but-3-enyloxirane Chemical compound C=CCCC1CO1 MUUOUUYKIVSIAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CMAOLVNGLTWICC-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-5-methylbenzonitrile Chemical compound CC1=CC=C(F)C(C#N)=C1 CMAOLVNGLTWICC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940095095 2-hydroxyethyl acrylate Drugs 0.000 description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQIIEHBULBHJKX-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropylalumane Chemical compound CC(C)C[AlH2] LQIIEHBULBHJKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NMVXHZSPDTXJSJ-UHFFFAOYSA-L 2-methylpropylaluminum(2+);dichloride Chemical compound CC(C)C[Al](Cl)Cl NMVXHZSPDTXJSJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FCZHJHKCOZGQJZ-UHFFFAOYSA-N 2-oct-7-enyloxirane Chemical compound C=CCCCCCCC1CO1 FCZHJHKCOZGQJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical compound OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- YYPNJNDODFVZLE-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-enoic acid Chemical compound CC(C)=CC(O)=O YYPNJNDODFVZLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MKTOIPPVFPJEQO-UHFFFAOYSA-N 4-(3-carboxypropanoylperoxy)-4-oxobutanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)OOC(=O)CCC(O)=O MKTOIPPVFPJEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFWSICBKRCICMR-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-hexanone Chemical compound CC(C)CCC(C)=O FFWSICBKRCICMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N Angelic acid Natural products CC=C(C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N Boron trifluoride etherate Chemical compound FB(F)F.CCOCC KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- 229910001436 Cr3+ Inorganic materials 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Chemical class 0.000 description 2
- GXBYFVGCMPJVJX-UHFFFAOYSA-N Epoxybutene Chemical compound C=CC1CO1 GXBYFVGCMPJVJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000192125 Firmicutes Species 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000233866 Fungi Species 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 208000000474 Poliomyelitis Diseases 0.000 description 2
- NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N Propionic aldehyde Chemical compound CCC=O NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N Silver ion Chemical compound [Ag+] FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021550 Vanadium Chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium peroxydisulfate Substances [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)OOS([O-])=O VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 239000004599 antimicrobial Substances 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- WXNOJTUTEXAZLD-UHFFFAOYSA-L benzonitrile;dichloropalladium Chemical compound Cl[Pd]Cl.N#CC1=CC=CC=C1.N#CC1=CC=CC=C1 WXNOJTUTEXAZLD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAHWPYUMFXYFJY-UHFFFAOYSA-N beta-myrcene Chemical compound CC(C)=CCCC(=C)C=C UAHWPYUMFXYFJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUWUEFKEXZQKKA-UHFFFAOYSA-N beta-thujaplicin Chemical compound CC(C)C=1C=CC=C(O)C(=O)C=1 FUWUEFKEXZQKKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNHIGQDRGKUECZ-UHFFFAOYSA-L bis(triphenylphosphine)palladium(ii) dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Pd+2].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YNHIGQDRGKUECZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- SHOVVTSKTTYFGP-UHFFFAOYSA-L butylaluminum(2+);dichloride Chemical compound CCCC[Al](Cl)Cl SHOVVTSKTTYFGP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N chloro(fluoro)methane Chemical class F[C]Cl KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LKRBKNPREDAJJQ-UHFFFAOYSA-M chloro-di(propan-2-yl)alumane Chemical compound [Cl-].CC(C)[Al+]C(C)C LKRBKNPREDAJJQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- BFGKITSFLPAWGI-UHFFFAOYSA-N chromium(3+) Chemical compound [Cr+3] BFGKITSFLPAWGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- APEJMQOBVMLION-UHFFFAOYSA-N cinnamamide Chemical compound NC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 APEJMQOBVMLION-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZPXREABEBSAQM-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;nickel(2+) Chemical compound [Ni+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KZPXREABEBSAQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N dichloro(diethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)CC BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FLFGMNFGOKXUQY-UHFFFAOYSA-L dichloro(propan-2-yl)alumane Chemical compound [Cl-].[Cl-].CC(C)[Al+2] FLFGMNFGOKXUQY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RFUDQCRVCDXBGK-UHFFFAOYSA-L dichloro(propyl)alumane Chemical compound [Cl-].[Cl-].CCC[Al+2] RFUDQCRVCDXBGK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 2
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JGHYBJVUQGTEEB-UHFFFAOYSA-M dimethylalumanylium;chloride Chemical compound C[Al](C)Cl JGHYBJVUQGTEEB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- AUZONCFQVSMFAP-UHFFFAOYSA-N disulfiram Chemical compound CCN(CC)C(=S)SSC(=S)N(CC)CC AUZONCFQVSMFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 241001493065 dsRNA viruses Species 0.000 description 2
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005678 ethenylene group Chemical group [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 description 2
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NARCMUVKZHPJHP-UHFFFAOYSA-L ethyl(diiodo)alumane Chemical compound [I-].[I-].CC[Al+2] NARCMUVKZHPJHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L ethylaluminum(2+);dichloride Chemical compound CC[Al](Cl)Cl UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N fumaric acid monoethyl ester Natural products CCOC(=O)C=CC(O)=O XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N iso-butyl alcohol Natural products CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940035429 isobutyl alcohol Drugs 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 2
- BQPIGGFYSBELGY-UHFFFAOYSA-N mercury(2+) Chemical compound [Hg+2] BQPIGGFYSBELGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- YSTQWZZQKCCBAY-UHFFFAOYSA-L methylaluminum(2+);dichloride Chemical compound C[Al](Cl)Cl YSTQWZZQKCCBAY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N mono-hydroxyphenyl-ethylene Natural products OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940074369 monoethyl fumarate Drugs 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- AIYYMMQIMJOTBM-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) acetate Chemical compound [Ni+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O AIYYMMQIMJOTBM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 231100001083 no cytotoxicity Toxicity 0.000 description 2
- 150000002848 norbornenes Chemical class 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000052769 pathogen Species 0.000 description 2
- RPESBQCJGHJMTK-UHFFFAOYSA-I pentachlorovanadium Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[V+5] RPESBQCJGHJMTK-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YPVDWEHVCUBACK-UHFFFAOYSA-N propoxycarbonyloxy propyl carbonate Chemical compound CCCOC(=O)OOC(=O)OCCC YPVDWEHVCUBACK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- GGFBICGBDXVAGX-UHFFFAOYSA-N propylaluminum Chemical compound [Al].[CH2]CC GGFBICGBDXVAGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 238000007152 ring opening metathesis polymerisation reaction Methods 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 2
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 2
- QAIPRVGONGVQAS-DUXPYHPUSA-N trans-caffeic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CC=C(O)C(O)=C1 QAIPRVGONGVQAS-DUXPYHPUSA-N 0.000 description 2
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005829 trimerization reaction Methods 0.000 description 2
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFXVBWRMVZPLFK-UHFFFAOYSA-N trioctylalumane Chemical compound CCCCCCCC[Al](CCCCCCCC)CCCCCCCC LFXVBWRMVZPLFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000701161 unidentified adenovirus Species 0.000 description 2
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 2
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical compound [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- DZZAHYHMWKNGLC-UHFFFAOYSA-N (1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-undecafluorocyclohexyl)methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F DZZAHYHMWKNGLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOOBDAVNHSOIDB-UHFFFAOYSA-N (2,3-dichlorobenzoyl) 2,3-dichlorobenzenecarboperoxoate Chemical compound ClC1=CC=CC(C(=O)OOC(=O)C=2C(=C(Cl)C=CC=2)Cl)=C1Cl BOOBDAVNHSOIDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGXJDMCMYLEZMJ-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C(C)(C)C HGXJDMCMYLEZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIONDZDPPYHYKY-SNAWJCMRSA-N (2E)-hexenoic acid Chemical compound CCC\C=C\C(O)=O NIONDZDPPYHYKY-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- TXXHDPDFNKHHGW-UHFFFAOYSA-N (2E,4E)-2,4-hexadienedioic acid Natural products OC(=O)C=CC=CC(O)=O TXXHDPDFNKHHGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLCSDJLATUNSSI-JXMROGBWSA-N (2e)-3,7-dimethylocta-2,6-dienenitrile Chemical compound CC(C)=CCC\C(C)=C\C#N HLCSDJLATUNSSI-JXMROGBWSA-N 0.000 description 1
- CTKKGXDAWIAYSA-KPNKYRRCSA-N (2e,6z)-2,6-dibenzylidenecyclohexan-1-one Chemical compound O=C1\C(=C/C=2C=CC=CC=2)CCC\C1=C/C1=CC=CC=C1 CTKKGXDAWIAYSA-KPNKYRRCSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDKMFQGAZVMXQV-UHFFFAOYSA-N (3-chloro-2-hydroxypropyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)CCl DDKMFQGAZVMXQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWYSWCQLTATFER-UHFFFAOYSA-N (3-oxocyclohexyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCC(=O)C1 MWYSWCQLTATFER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVVQSKVGDZEMBN-UHFFFAOYSA-N (3-oxocyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCC(=O)C1 ZVVQSKVGDZEMBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQVMHMFBVWSSPF-SOYUKNQTSA-N (4E,6E)-2,6-dimethylocta-2,4,6-triene Chemical compound C\C=C(/C)\C=C\C=C(C)C GQVMHMFBVWSSPF-SOYUKNQTSA-N 0.000 description 1
- PRBHEGAFLDMLAL-GQCTYLIASA-N (4e)-hexa-1,4-diene Chemical compound C\C=C\CC=C PRBHEGAFLDMLAL-GQCTYLIASA-N 0.000 description 1
- OWUVDWLTQIPNLN-GLIMQPGKSA-N (4z,8z)-13-oxabicyclo[10.1.0]trideca-4,8-diene Chemical compound C1C\C=C/CC\C=C/CCC2OC21 OWUVDWLTQIPNLN-GLIMQPGKSA-N 0.000 description 1
- GMGYODAMPOELNZ-MDZDMXLPSA-N (5e)-deca-1,5,9-triene Chemical compound C=CCC\C=C\CCC=C GMGYODAMPOELNZ-MDZDMXLPSA-N 0.000 description 1
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- AMVYAIXPAGBXOM-AATRIKPKSA-N (E)-2-(trifluoromethyl)cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1C(F)(F)F AMVYAIXPAGBXOM-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- ACEAELOMUCBPJP-UHFFFAOYSA-N (E)-3,4,5-trihydroxycinnamic acid Natural products OC(=O)C=CC1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 ACEAELOMUCBPJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSBWHDDGWSYETA-SNAWJCMRSA-N (E)-3-(trifluoromethyl)cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 KSBWHDDGWSYETA-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- ANRMAUMHJREENI-ZZXKWVIFSA-N (E)-4-(trifluoromethyl)cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CC=C(C(F)(F)F)C=C1 ANRMAUMHJREENI-ZZXKWVIFSA-N 0.000 description 1
- NCNYEGJDGNOYJX-NSCUHMNNSA-N (e)-2,3-dibromo-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\Br)=C(/Br)C=O NCNYEGJDGNOYJX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- CDUQMGQIHYISOP-RMKNXTFCSA-N (e)-2-cyano-3-phenylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\C#N)=C\C1=CC=CC=C1 CDUQMGQIHYISOP-RMKNXTFCSA-N 0.000 description 1
- QAXPUWGAGVERSJ-VOTSOKGWSA-N (e)-3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enoic acid Chemical compound COC1=CC=CC(\C=C\C(O)=O)=C1OC QAXPUWGAGVERSJ-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- LYYBVUOVYNSRSE-DAFODLJHSA-N (e)-3-(2,5-dichlorophenyl)prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CC(Cl)=CC=C1Cl LYYBVUOVYNSRSE-DAFODLJHSA-N 0.000 description 1
- OMHDOOAFLCMRFX-AATRIKPKSA-N (e)-3-(2-bromophenyl)prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1Br OMHDOOAFLCMRFX-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- JOLPMPPNHIACPD-ZZXKWVIFSA-N (e)-3-(4-aminophenyl)prop-2-enoic acid Chemical compound NC1=CC=C(\C=C\C(O)=O)C=C1 JOLPMPPNHIACPD-ZZXKWVIFSA-N 0.000 description 1
- KAJZGRFYZKWYDX-VQHVLOKHSA-N (e)-3-methyl-4-phenylbut-3-enamide Chemical compound NC(=O)CC(/C)=C/C1=CC=CC=C1 KAJZGRFYZKWYDX-VQHVLOKHSA-N 0.000 description 1
- VUVORVXMOLQFMO-ONEGZZNKSA-N (e)-3-pyridin-3-ylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CC=CN=C1 VUVORVXMOLQFMO-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- DOTGZROJTAUYFQ-OWOJBTEDSA-N (e)-4-bromobut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\CBr DOTGZROJTAUYFQ-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- FWUIHQFQLSWYED-ONEGZZNKSA-N (e)-4-oxo-4-propan-2-yloxybut-2-enoic acid Chemical compound CC(C)OC(=O)\C=C\C(O)=O FWUIHQFQLSWYED-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- IQBLWPLYPNOTJC-FPLPWBNLSA-N (z)-4-(2-ethylhexoxy)-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)\C=C/C(O)=O IQBLWPLYPNOTJC-FPLPWBNLSA-N 0.000 description 1
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- JTCVKNUSIGHJRG-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,3,3,3-heptafluoropropan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound FC(F)(F)C(F)(C(F)(F)F)OC(=O)C=C JTCVKNUSIGHJRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-ol Chemical compound FC(F)(F)C(O)C(F)(F)F BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMQPBWHSNCRVQJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C(F)(F)F)C(F)(F)F FMQPBWHSNCRVQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethene Chemical group FC=C(F)F MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWTUEMKLYAGTNQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromoethene Chemical group BrC=CBr UWTUEMKLYAGTNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatonaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(N=C=O)C(N=C=O)=CC=C21 ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFKLPJRVSHJZPL-UHFFFAOYSA-N 1,2:7,8-diepoxyoctane Chemical compound C1OC1CCCCC1CO1 LFKLPJRVSHJZPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC(CN=C=O)=C1 RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFVFDTCSVFBOTL-UHFFFAOYSA-N 1,3-diazetidine Chemical compound C1NCN1 MFVFDTCSVFBOTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=C(N=C=O)C=C1 ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 1,5-Hexadiene Natural products CC=CCC=C PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-5,6-dimethylheptane Chemical compound O=C=NC(C)(C)C(C)CCCCN=C=O VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZVABYGYVXBZDP-UHFFFAOYSA-N 1-adamantyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(OC(=O)C(=C)C)C3 MZVABYGYVXBZDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGGLDBIZIQMEGH-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-4-ethenylbenzene Chemical compound BrC1=CC=C(C=C)C=C1 WGGLDBIZIQMEGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLBWTXHUVGBPNL-UHFFFAOYSA-N 1-pyridin-4-ylheptan-1-one Chemical compound CCCCCCC(=O)C1=CC=NC=C1 MLBWTXHUVGBPNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- 238000004293 19F NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- QTKPMCIBUROOGY-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(F)(F)F QTKPMCIBUROOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBHXIMACZBQHPX-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroethyl prop-2-enoate Chemical compound FC(F)(F)COC(=O)C=C VBHXIMACZBQHPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSVZYSKAPMBSMY-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluoropropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(F)(F)C(F)F RSVZYSKAPMBSMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHJHZYSXJKREEE-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluoropropyl prop-2-enoate Chemical compound FC(F)C(F)(F)COC(=O)C=C VHJHZYSXJKREEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117900 2,2-bis(4-glycidyloxyphenyl)propane Drugs 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPUKSAVXNUITKN-UHFFFAOYSA-N 2,3,3-trimethylbicyclo[2.2.1]hept-5-ene Chemical compound C1C2C=CC1C(C)C2(C)C JPUKSAVXNUITKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAZHUUGOLCHESB-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbicyclo[2.2.1]hept-5-ene Chemical compound C1C2C(C)C(C)C1C=C2 LAZHUUGOLCHESB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYQMXMFORHOAJP-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(tert-butylperoxy)-2,5-dimethylhex-3-yne;2,5-bis(tert-butylperoxy)-2,3,5-trimethylhexane Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C#CC(C)(C)OOC(C)(C)C.CC(C)(C)OOC(C)(C)C(C)CC(C)(C)OOC(C)(C)C UYQMXMFORHOAJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSAYAFZWRDYBQY-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylhexa-1,5-diene Chemical compound CC(=C)CCC(C)=C DSAYAFZWRDYBQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXXFZKQPYACQLD-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOCCO XXXFZKQPYACQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUDMXOOVKMKODN-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)ethanamine Chemical compound NCCC1=CCCCC1 IUDMXOOVKMKODN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSPDYEHKAMKDNW-UHFFFAOYSA-N 2-(furan-2-ylmethylsulfanyl)ethanamine Chemical compound NCCSCC1=CC=CO1 VSPDYEHKAMKDNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLSRKCIBHNJFHA-UHFFFAOYSA-N 2-(trifluoromethyl)prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(=C)C(F)(F)F VLSRKCIBHNJFHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKGLODGBIWIDQR-UHFFFAOYSA-N 2-(trifluoromethylsulfonyl)butanoic acid Chemical compound FC(S(=O)(=O)C(C(=O)O)CC)(F)F OKGLODGBIWIDQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexanoic acid Chemical compound CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-ARJAWSKDSA-M 2-Methyl-2-butenoic acid Natural products C\C=C(\C)C([O-])=O UIERETOOQGIECD-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- ULIKDJVNUXNQHS-UHFFFAOYSA-N 2-Propene-1-thiol Chemical compound SCC=C ULIKDJVNUXNQHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKMZQOIASVGJQE-ONEGZZNKSA-N 2-Thiopheneacrylic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CC=CS1 KKMZQOIASVGJQE-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,2-dimethyl-3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(C)(C)COCC1CO1 KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFDFFEMHDKXMBG-UHFFFAOYSA-N 2-acetamidoprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=O)NC(=C)C(O)=O UFDFFEMHDKXMBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYNDYESLUKWOEE-UHFFFAOYSA-N 2-benzylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(=C)CC1=CC=CC=C1 RYNDYESLUKWOEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JITXMLLVGWGFGV-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-4-(3-chloro-4-isocyanatophenyl)-1-isocyanatobenzene Chemical compound C1=C(N=C=O)C(Cl)=CC(C=2C=C(Cl)C(N=C=O)=CC=2)=C1 JITXMLLVGWGFGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBHQOMRKOUANQQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxypropanoic acid Chemical class CCOC(C)C(O)=O XBHQOMRKOUANQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRSMWHGLCNBZSO-UHFFFAOYSA-N 2-ethylidenebutanedioic acid Chemical compound CC=C(C(O)=O)CC(O)=O NRSMWHGLCNBZSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl]methyl]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1CC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCO HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- PURTUPNWTLPILZ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropanoic acid;nickel Chemical compound [Ni].CC(O)C(O)=O.CC(O)C(O)=O PURTUPNWTLPILZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPPFYBPQAPISCT-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl acetate Chemical compound CC(O)COC(C)=O PPPFYBPQAPISCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEOANEHUOYJHTH-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 VEOANEHUOYJHTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUGOQZFPNUYUOO-UHFFFAOYSA-N 2-trimethylsilyloxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO[Si](C)(C)C WUGOQZFPNUYUOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXBXVVIUZANZAU-UHFFFAOYSA-N 2E-decenoic acid Natural products CCCCCCCC=CC(O)=O WXBXVVIUZANZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMIWYOZFFSLIAK-UHFFFAOYSA-N 3,3,3-trifluoro-2-(trifluoromethyl)prop-1-ene Chemical compound FC(F)(F)C(=C)C(F)(F)F QMIWYOZFFSLIAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJBWJAPEBGSQPR-GQCTYLIASA-N 3,4-dimethoxycinnamic acid Chemical compound COC1=CC=C(\C=C\C(O)=O)C=C1OC HJBWJAPEBGSQPR-GQCTYLIASA-N 0.000 description 1
- ZGIGZINMAOQWLX-NCZFFCEISA-N 3,7,11-Trimethyl-2,6,10-dodecatrienyl acetate Chemical compound CC(C)=CCC\C(C)=C\CC\C(C)=C\COC(C)=O ZGIGZINMAOQWLX-NCZFFCEISA-N 0.000 description 1
- TXQJIMNDEHCONN-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methoxyphenoxy)propanoic acid Chemical compound COC1=CC=CC=C1OCCC(O)=O TXQJIMNDEHCONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPGFMWPQXUXQRX-UHFFFAOYSA-N 3-amino-3-(4-fluorophenyl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CC(N)C1=CC=C(F)C=C1 CPGFMWPQXUXQRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTZNODTZOSBYJW-UHFFFAOYSA-N 3-amino-5,5-dimethylcyclohex-2-en-1-one Chemical compound CC1(C)CC(N)=CC(=O)C1 MTZNODTZOSBYJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZMRPOAHZITKBV-UHFFFAOYSA-N 3-aminocyclohex-2-en-1-one Chemical compound NC1=CC(=O)CCC1 ZZMRPOAHZITKBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLISZRPOUBOZDL-UHFFFAOYSA-N 3-bromopropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCBr GLISZRPOUBOZDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOZHZOLFFPSEAM-UHFFFAOYSA-N 3-butene-1,2,3-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)C(=C)C(O)=O WOZHZOLFFPSEAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLBGECWYBGXCNV-UHFFFAOYSA-N 3-trichlorosilylpropanenitrile Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCC#N OLBGECWYBGXCNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBQYMXVQHATSCC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropanenitrile Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC#N GBQYMXVQHATSCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZZGHGKTHXIOMN-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilyl-n-(3-trimethoxysilylpropyl)propan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCC[Si](OC)(OC)OC TZZGHGKTHXIOMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BESKSSIEODQWBP-UHFFFAOYSA-N 3-tris(trimethylsilyloxy)silylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](O[Si](C)(C)C)(O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C BESKSSIEODQWBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMJUDJKKBVBOQJ-UHFFFAOYSA-N 4,4-bis(trifluoromethylsulfonyl)butyl-(4-ethenylphenyl)-dimethylsilane Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)C(S(=O)(=O)C(F)(F)F)CCC[Si](C)(C)C1=CC=C(C=C)C=C1 PMJUDJKKBVBOQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBZWYXLQJQBKU-UHFFFAOYSA-N 4-(morpholin-4-yldisulfanyl)morpholine Chemical compound C1COCCN1SSN1CCOCC1 HLBZWYXLQJQBKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGSWKAQJJWESNS-ZZXKWVIFSA-M 4-Hydroxycinnamate Natural products OC1=CC=C(\C=C\C([O-])=O)C=C1 NGSWKAQJJWESNS-ZZXKWVIFSA-M 0.000 description 1
- GXLIFJYFGMHYDY-ZZXKWVIFSA-N 4-chlorocinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CC=C(Cl)C=C1 GXLIFJYFGMHYDY-ZZXKWVIFSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMDKEBZUCHXUER-UHFFFAOYSA-N 4-methylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1CC2C=CC1(C)C2 RMDKEBZUCHXUER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 4-oxo-4-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)butanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)OCCOC(=O)C=C UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHJIJNGGGLNBNJ-UHFFFAOYSA-N 5-ethylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(CC)CC1C=C2 QHJIJNGGGLNBNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCBPVYHMZBWMAZ-UHFFFAOYSA-N 5-methylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(C)CC1C=C2 PCBPVYHMZBWMAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAQWCPXBLNGTCC-UHFFFAOYSA-N 6-(prop-2-enoylamino)hexanoic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCNC(=O)C=C SAQWCPXBLNGTCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVFRNNALLLVPGJ-UHFFFAOYSA-N 7-methylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1CC2C=CC1C2C AVFRNNALLLVPGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FDQGNLOWMMVRQL-UHFFFAOYSA-N Allobarbital Chemical compound C=CCC1(CC=C)C(=O)NC(=O)NC1=O FDQGNLOWMMVRQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005047 Allyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000239290 Araneae Species 0.000 description 1
- 241000228212 Aspergillus Species 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- YBEYGQSVGGWVSG-UHFFFAOYSA-N Br.C(C)P(CC)CC.C(C)P(CC)CC Chemical compound Br.C(C)P(CC)CC.C(C)P(CC)CC YBEYGQSVGGWVSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000056139 Brassica cretica Species 0.000 description 1
- 235000003351 Brassica cretica Nutrition 0.000 description 1
- 235000003343 Brassica rupestris Nutrition 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PDVAFURCGJRRJQ-UHFFFAOYSA-N C(C)#N.C1(=CC=CC=C1)P(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)P(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)P(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(C)#N.C1(=CC=CC=C1)P(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)P(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)P(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 PDVAFURCGJRRJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYOWJZVOLUAIQ-UHFFFAOYSA-N C1(CC2C(CC1)O2)CC[Si](OC)(OC)OC.C2(CCCCC2)[Si](OC)(OC)OC Chemical compound C1(CC2C(CC1)O2)CC[Si](OC)(OC)OC.C2(CCCCC2)[Si](OC)(OC)OC OXYOWJZVOLUAIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTWNZBROXNLDGB-UHFFFAOYSA-N CC#N.CC#N.Cl.Cl Chemical compound CC#N.CC#N.Cl.Cl DTWNZBROXNLDGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWQJWGMQZYJFIF-UHFFFAOYSA-M CC([O-])=O.ClC(Cl)CCCCC[Ni+] Chemical compound CC([O-])=O.ClC(Cl)CCCCC[Ni+] FWQJWGMQZYJFIF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SXNICUVVDOTUPD-UHFFFAOYSA-N CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)C1=CC=CC=C1 SXNICUVVDOTUPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQKUPRGCMZATCL-UHFFFAOYSA-N CCC(C)C(CC1)CCC1C(S(C(F)(F)F)(=O)=O)S(C(F)(F)F)(=O)=O Chemical compound CCC(C)C(CC1)CCC1C(S(C(F)(F)F)(=O)=O)S(C(F)(F)F)(=O)=O FQKUPRGCMZATCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUGOSPHJWZAGBH-UHFFFAOYSA-N CO[SiH](OC)C=C Chemical compound CO[SiH](OC)C=C ZUGOSPHJWZAGBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYPOTCHOVIFPTJ-UHFFFAOYSA-N CO[Ti](OC)(OC)C1(C)C(C)=C(C)C(C)=C1C Chemical compound CO[Ti](OC)(OC)C1(C)C(C)=C(C)C(C)=C1C KYPOTCHOVIFPTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N Calcium cation Chemical compound [Ca+2] BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000305761 Calidris canutus Species 0.000 description 1
- 235000002568 Capsicum frutescens Nutrition 0.000 description 1
- 229920002101 Chitin Polymers 0.000 description 1
- 229920001661 Chitosan Polymers 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- 241000222290 Cladosporium Species 0.000 description 1
- 241000193155 Clostridium botulinum Species 0.000 description 1
- 241000711573 Coronaviridae Species 0.000 description 1
- NMEZJSDUZQOPFE-UHFFFAOYSA-N Cyclohex-1-enecarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CCCCC1 NMEZJSDUZQOPFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJBWJAPEBGSQPR-UHFFFAOYSA-N DMCA Natural products COC1=CC=C(C=CC(O)=O)C=C1OC HJBWJAPEBGSQPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000450599 DNA viruses Species 0.000 description 1
- LYUUVYQGUMRKOV-UHFFFAOYSA-N Diethyl diallylmalonate Chemical compound CCOC(=O)C(CC=C)(CC=C)C(=O)OCC LYUUVYQGUMRKOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGIGZINMAOQWLX-UHFFFAOYSA-N Farnesyl acetate Natural products CC(C)=CCCC(C)=CCCC(C)=CCOC(C)=O ZGIGZINMAOQWLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000606790 Haemophilus Species 0.000 description 1
- 241000700721 Hepatitis B virus Species 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N Hydrogen atom Chemical compound [H] YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O Imidazolium Chemical compound C1=C[NH+]=CN1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910021575 Iron(II) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021577 Iron(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 241000588748 Klebsiella Species 0.000 description 1
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N Magnesium ion Chemical compound [Mg+2] JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAEMQWOKJMHJLA-UHFFFAOYSA-N Manganese(2+) Chemical compound [Mn+2] WAEMQWOKJMHJLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 241001263478 Norovirus Species 0.000 description 1
- SAPUAMKYUBJIGU-UHFFFAOYSA-N OC1(C(C=CC(=C1)C(=C)C)CC(C)=O)C Chemical compound OC1(C(C=CC(=C1)C(=C)C)CC(C)=O)C SAPUAMKYUBJIGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000702244 Orthoreovirus Species 0.000 description 1
- 229910021605 Palladium(II) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021606 Palladium(II) iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000002233 Penicillium roqueforti Nutrition 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N Potassium ion Chemical compound [K+] NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241000588769 Proteus <enterobacteria> Species 0.000 description 1
- 241000589517 Pseudomonas aeruginosa Species 0.000 description 1
- 241000725643 Respiratory syncytial virus Species 0.000 description 1
- 229910021604 Rhodium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000702670 Rotavirus Species 0.000 description 1
- ZFAHNWWNDFHPOH-YFKPBYRVSA-N S-allylcysteine Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CSCC=C ZFAHNWWNDFHPOH-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- 241000607142 Salmonella Species 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 1
- 241000191967 Staphylococcus aureus Species 0.000 description 1
- 241000193996 Streptococcus pyogenes Species 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000269722 Thea sinensis Species 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYYWUUFWQRZTIU-UHFFFAOYSA-N Thiophosphoric acid Chemical compound OP(O)(S)=O RYYWUUFWQRZTIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000002474 Tinea Diseases 0.000 description 1
- LCKIEQZJEYYRIY-UHFFFAOYSA-N Titanium ion Chemical compound [Ti+4] LCKIEQZJEYYRIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000893966 Trichophyton verrucosum Species 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M Trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 241000700618 Vaccinia virus Species 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical group ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000195452 Wasabia japonica Species 0.000 description 1
- 235000000760 Wasabia japonica Nutrition 0.000 description 1
- NIONDZDPPYHYKY-UHFFFAOYSA-N Z-hexenoic acid Natural products CCCC=CC(O)=O NIONDZDPPYHYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- HXWLCYMHOULBJZ-UHFFFAOYSA-N [1-(benzenesulfonyl)indol-2-yl]boronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC2=CC=CC=C2N1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 HXWLCYMHOULBJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRLHGXGMYJNYCR-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2-(2-hydroxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound CC(O)=O.CC(O)COC(C)CO XRLHGXGMYJNYCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBYGDVHOECIAFC-UHFFFAOYSA-L acetonitrile;palladium(2+);dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Pd+2].CC#N.CC#N RBYGDVHOECIAFC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001334 alicyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229960000880 allobarbital Drugs 0.000 description 1
- HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N allylthiourea Chemical compound NC(=S)NCC=C HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUFYVOCKVJOUIR-UHFFFAOYSA-N alpha-Thujaplicin Natural products CC(C)C=1C=CC=CC(=O)C=1O TUFYVOCKVJOUIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYBREYKSZAROCT-UHFFFAOYSA-N alpha-myrcene Natural products CC(=C)CCCC(=C)C=C VYBREYKSZAROCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-ARJAWSKDSA-N angelic acid Chemical compound C\C=C(\C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- VZVHUBYZGAUXLX-UHFFFAOYSA-N azane;azanide;cobalt(3+) Chemical compound N.N.N.[NH2-].[NH2-].[NH2-].[Co+3] VZVHUBYZGAUXLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003385 bacteriostatic effect Effects 0.000 description 1
- 229910001422 barium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- KOPGXQBFEROLEQ-UHFFFAOYSA-N benzhydrylbenzene;isocyanic acid Chemical compound N=C=O.C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KOPGXQBFEROLEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPLASELWOOUNGW-UHFFFAOYSA-N benzyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CC1=CC=CC=C1 CPLASELWOOUNGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKSKPIVNLNLAAV-UHFFFAOYSA-N bis(2-chloroethyl) sulfide Chemical compound ClCCSCCCl QKSKPIVNLNLAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTEKOFXDMRILGB-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl)carbamothioylsulfanyl n,n-bis(2-ethylhexyl)carbamodithioate Chemical compound CCCCC(CC)CN(CC(CC)CCCC)C(=S)SSC(=S)N(CC(CC)CCCC)CC(CC)CCCC VTEKOFXDMRILGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQMRIBYCTLBDAK-UHFFFAOYSA-M bis(2-methylpropyl)alumanylium;chloride Chemical compound CC(C)C[Al](Cl)CC(C)C HQMRIBYCTLBDAK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CSXPRVTYIFRYPR-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-diethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C=C)(C=C)OCC CSXPRVTYIFRYPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPECUSGQPIKHLT-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-dimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(C=C)C=C ZPECUSGQPIKHLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFUOBHWPTSIEOV-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) cyclohexane-1,2-dicarboxylate Chemical compound C1CCCC(C(=O)OCC2OC2)C1C(=O)OCC1CO1 XFUOBHWPTSIEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N biuret Chemical compound NC(=O)NC(N)=O OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical group OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N butyric aldehyde Natural products CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLZRMCYVCSSEQC-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+) Chemical compound [Cd+2] WLZRMCYVCSSEQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000004883 caffeic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940074360 caffeic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910001424 calcium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N caproic acid ethyl ester Natural products CCCCCC(=O)OCC SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- HYZXMVILOKSUKA-UHFFFAOYSA-K chloro(dimethyl)alumane;dichloro(methyl)alumane Chemical compound C[Al](C)Cl.C[Al](Cl)Cl HYZXMVILOKSUKA-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- ZDOBWJOCPDIBRZ-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](CCl)(OCC)OCC ZDOBWJOCPDIBRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- GQVMHMFBVWSSPF-UHFFFAOYSA-N cis-alloocimene Natural products CC=C(C)C=CC=C(C)C GQVMHMFBVWSSPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAIPRVGONGVQAS-UHFFFAOYSA-N cis-caffeic acid Natural products OC(=O)C=CC1=CC=C(O)C(O)=C1 QAIPRVGONGVQAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 1
- XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+) Chemical compound [Co+2] XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- QKSIFUGZHOUETI-UHFFFAOYSA-N copper;azane Chemical compound N.N.N.N.[Cu+2] QKSIFUGZHOUETI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001896 cresols Chemical class 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- YMNCCEXICREQQV-UHFFFAOYSA-L cyclopenta-1,3-diene;titanium(4+);dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ti+4].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 YMNCCEXICREQQV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 1
- PYRZPBDTPRQYKG-UHFFFAOYSA-N cyclopentene-1-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CCCC1 PYRZPBDTPRQYKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 231100000135 cytotoxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000003013 cytotoxicity Effects 0.000 description 1
- NLDGJRWPPOSWLC-UHFFFAOYSA-N deca-1,9-diene Chemical compound C=CCCCCCCC=C NLDGJRWPPOSWLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 125000005131 dialkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- PGAXJQVAHDTGBB-UHFFFAOYSA-N dibutylcarbamothioylsulfanyl n,n-dibutylcarbamodithioate Chemical compound CCCCN(CCCC)C(=S)SSC(=S)N(CCCC)CCCC PGAXJQVAHDTGBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGTZBTUOZOIOBJ-UHFFFAOYSA-N dichloro(ethenyl)silicon Chemical compound Cl[Si](Cl)C=C KGTZBTUOZOIOBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFMKUUJQLUQKHT-UHFFFAOYSA-N dichloro(ethyl)silicon Chemical compound CC[Si](Cl)Cl PFMKUUJQLUQKHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNAFLNBULDHNJS-UHFFFAOYSA-N dichloro(phenyl)silicon Chemical compound Cl[Si](Cl)C1=CC=CC=C1 XNAFLNBULDHNJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAYIDWCWWMOISO-UHFFFAOYSA-N dichloro-bis(ethenyl)silane Chemical compound C=C[Si](Cl)(Cl)C=C MAYIDWCWWMOISO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1CC(N=C=O)CCC1CC1CCC(N=C=O)CC1 KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)OCC ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWTJVXCCMKLQKS-UHFFFAOYSA-N diethoxy(ethyl)silicon Chemical compound CCO[Si](CC)OCC ZWTJVXCCMKLQKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)OCC GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXPDYFSTVHQQOI-UHFFFAOYSA-N diethoxysilane Chemical compound CCO[SiH2]OCC ZXPDYFSTVHQQOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSYLGGHSEIWGJV-UHFFFAOYSA-N diethyl(dimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](CC)(OC)OC VSYLGGHSEIWGJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004683 dihydrates Chemical class 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 238000006471 dimerization reaction Methods 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)OC PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIQDYIQMZXESRD-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[SiH](OC)C1=CC=CC=C1 CIQDYIQMZXESRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N dimethoxysilane Chemical compound CO[SiH2]OC YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N dimethylmethane Natural products CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 201000010099 disease Diseases 0.000 description 1
- 208000037265 diseases, disorders, signs and symptoms Diseases 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- IYPLTVKTLDQUGG-UHFFFAOYSA-N dodeca-1,11-diene Chemical compound C=CCCCCCCCCC=C IYPLTVKTLDQUGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- XMKVMJPCDLDMTQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl(diethoxy)silane Chemical compound CCO[SiH](C=C)OCC XMKVMJPCDLDMTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYGAXBISYRORDR-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(hydroxymethyl)prop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(=C)CO SYGAXBISYRORDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- YSLVSGVAVRTLAV-UHFFFAOYSA-N ethyl(dimethoxy)silane Chemical compound CC[SiH](OC)OC YSLVSGVAVRTLAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 229940007703 farnesyl acetate Drugs 0.000 description 1
- NJVOZLGKTAPUTQ-UHFFFAOYSA-M fentin chloride Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Sn](C=1C=CC=CC=1)(Cl)C1=CC=CC=C1 NJVOZLGKTAPUTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N ferrocene Chemical compound [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- ALDOUWLIYKWJTN-UHFFFAOYSA-N fluoro(dioxido)borane;nickel(2+) Chemical compound [Ni+2].[O-]B([O-])F ALDOUWLIYKWJTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical compound FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- NKHAVTQWNUWKEO-UHFFFAOYSA-N fumaric acid monomethyl ester Natural products COC(=O)C=CC(O)=O NKHAVTQWNUWKEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOXMQCWUWZZNC-UHFFFAOYSA-N gamma-Methyl-alpha-butylen-alpha-carbonsaeure Natural products CC(C)C=CC(O)=O QAOXMQCWUWZZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCCXGQLQJHWTLZ-UHFFFAOYSA-N geranyl linalool Natural products CC(=CCCC(=CCCCC(C)(O)CCC=C(C)C)C)C CCCXGQLQJHWTLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQDXAJNQKSIPGB-HQSZAHFGSA-N geranyllinalool Chemical compound CC(C)=CCC\C(C)=C\CC\C(C)=C\CCC(C)(O)C=C IQDXAJNQKSIPGB-HQSZAHFGSA-N 0.000 description 1
- 230000002070 germicidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical compound C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUQWZSZYIQGTHT-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene-3,4-diol Chemical compound C=CC(O)C(O)C=C KUQWZSZYIQGTHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C(C)=C LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004693 imidazolium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000011534 incubation Methods 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 238000012690 ionic polymerization Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AQBLLJNPHDIAPN-LNTINUHCSA-K iron(3+);(z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound [Fe+3].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O AQBLLJNPHDIAPN-LNTINUHCSA-K 0.000 description 1
- LNOZJRCUHSPCDZ-UHFFFAOYSA-L iron(ii) acetate Chemical compound [Fe+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O LNOZJRCUHSPCDZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GYCHYNMREWYSKH-UHFFFAOYSA-L iron(ii) bromide Chemical compound [Fe+2].[Br-].[Br-] GYCHYNMREWYSKH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical group 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVPVRDXYQKGNMQ-UHFFFAOYSA-N lead(2+) Chemical compound [Pb+2] RVPVRDXYQKGNMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940087305 limonene Drugs 0.000 description 1
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005923 long-lasting effect Effects 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001425 magnesium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- CCERQOYLJJULMD-UHFFFAOYSA-M magnesium;carbanide;chloride Chemical compound [CH3-].[Mg+2].[Cl-] CCERQOYLJJULMD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940127554 medical product Drugs 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRLWUINFJPLSH-UHFFFAOYSA-N methanide Chemical compound [CH3-] LGRLWUINFJPLSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- XKORCTIIRYKLLG-ARJAWSKDSA-N methyl (z)-3-aminobut-2-enoate Chemical compound COC(=O)\C=C(\C)N XKORCTIIRYKLLG-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKHAVTQWNUWKEO-IHWYPQMZSA-N methyl hydrogen fumarate Chemical compound COC(=O)\C=C/C(O)=O NKHAVTQWNUWKEO-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N methyl pyruvate Chemical compound COC(=O)C(C)=O CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- NRQNMMBQPIGPTB-UHFFFAOYSA-N methylaluminum Chemical compound [CH3].[Al] NRQNMMBQPIGPTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFWSQSCIDYBUOU-UHFFFAOYSA-N methylcyclopentadiene Chemical compound CC1=CC=CC1 NFWSQSCIDYBUOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKDBSOOYVOEUQR-UHFFFAOYSA-N mucobromic acid Natural products OC1OC(=O)C(Br)=C1Br PKDBSOOYVOEUQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010460 mustard Nutrition 0.000 description 1
- INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N n'-(3-triethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCN INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWJOHLSXLTXCV-UHFFFAOYSA-N n'-[(2-ethenylphenyl)methyl]-n-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine;hydron;chloride Chemical compound Cl.CO[Si](OC)(OC)CCCNCCNCC1=CC=CC=C1C=C MYWJOHLSXLTXCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N n-(hydroxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCO DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZYDAVFRVJXFHS-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexyl-2-pyrrolidone Chemical compound O=C1CCCN1C1CCCCC1 PZYDAVFRVJXFHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPHCIYGRSFZNRD-UHFFFAOYSA-N n-methyl-1-(4,5,6,7-tetrahydro-1h-indazol-3-yl)methanamine Chemical compound C1CCCC2=C1NN=C2CNC CPHCIYGRSFZNRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- UQPSGBZICXWIAG-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);dibromide;trihydrate Chemical compound O.O.O.Br[Ni]Br UQPSGBZICXWIAG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N norbornadiene Chemical compound C1=CC2C=CC1C2 SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N octyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002897 organic nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004831 organic oxygen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002898 organic sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N oxopalladium Chemical compound [Pd]=O HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JKDRQYIYVJVOPF-FDGPNNRMSA-L palladium(ii) acetylacetonate Chemical compound [Pd+2].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O JKDRQYIYVJVOPF-FDGPNNRMSA-L 0.000 description 1
- INIOZDBICVTGEO-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) bromide Chemical compound Br[Pd]Br INIOZDBICVTGEO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HNNUTDROYPGBMR-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) iodide Chemical compound [Pd+2].[I-].[I-] HNNUTDROYPGBMR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- MTZWHHIREPJPTG-UHFFFAOYSA-N phorone Chemical compound CC(C)=CC(=O)C=C(C)C MTZWHHIREPJPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- VPJDULFXCAQHRC-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylurea Chemical compound NC(=O)NCC=C VPJDULFXCAQHRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C=C LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-P pyrimidine-1,3-diium Chemical compound C1=C[NH+]=C[NH+]=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 1
- 150000003856 quaternary ammonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCQRKDSALKMOGU-UHFFFAOYSA-K rhodium(3+);triphenylphosphane;trichloride Chemical compound Cl[Rh](Cl)Cl.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 FCQRKDSALKMOGU-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- JXOHGGNKMLTUBP-HSUXUTPPSA-N shikimic acid Chemical compound O[C@@H]1CC(C(O)=O)=C[C@@H](O)[C@H]1O JXOHGGNKMLTUBP-HSUXUTPPSA-N 0.000 description 1
- JXOHGGNKMLTUBP-JKUQZMGJSA-N shikimic acid Natural products O[C@@H]1CC(C(O)=O)=C[C@H](O)[C@@H]1O JXOHGGNKMLTUBP-JKUQZMGJSA-N 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQLFBEKRDQMJLZ-UHFFFAOYSA-M silver acetate Chemical compound [Ag+].CC([O-])=O CQLFBEKRDQMJLZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940071536 silver acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOZDTZWAMGHLDY-UHFFFAOYSA-L sodium picosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC(OS(=O)(=O)[O-])=CC=C1C(C=1N=CC=CC=1)C1=CC=C(OS([O-])(=O)=O)C=C1 GOZDTZWAMGHLDY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001427 strontium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- PWYYWQHXAPXYMF-UHFFFAOYSA-N strontium(2+) Chemical compound [Sr+2] PWYYWQHXAPXYMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002459 sustained effect Effects 0.000 description 1
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 1
- KXYJPVZMZBJJBZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-ethylbutaneperoxoate Chemical compound CCC(CC)C(=O)OOC(C)(C)C KXYJPVZMZBJJBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWAXTRYEYUTSAP-UHFFFAOYSA-N tert-butyl ethaneperoxoate Chemical compound CC(=O)OOC(C)(C)C SWAXTRYEYUTSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- AFCAKJKUYFLYFK-UHFFFAOYSA-N tetrabutyltin Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)(CCCC)CCCC AFCAKJKUYFLYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004685 tetrahydrates Chemical class 0.000 description 1
- 125000005958 tetrahydrothienyl group Chemical group 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRHIAMBJMSSNNM-UHFFFAOYSA-N tetraphenylstannane Chemical compound C1=CC=CC=C1[Sn](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 CRHIAMBJMSSNNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- RYYWUUFWQRZTIU-UHFFFAOYSA-K thiophosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=S RYYWUUFWQRZTIU-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical compound CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002447 thiram Drugs 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-ONEGZZNKSA-N tiglic acid Chemical compound C\C=C(/C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- UAXOELSVPTZZQG-UHFFFAOYSA-N tiglic acid Natural products CC(C)=C(C)C(O)=O UAXOELSVPTZZQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUTCEZPPWBHGIX-UHFFFAOYSA-N tin(2+) Chemical compound [Sn+2] IUTCEZPPWBHGIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- TXXHDPDFNKHHGW-ZPUQHVIOSA-N trans,trans-muconic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C=C\C(O)=O TXXHDPDFNKHHGW-ZPUQHVIOSA-N 0.000 description 1
- PMOWTIHVNWZYFI-AATRIKPKSA-N trans-2-coumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1O PMOWTIHVNWZYFI-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- WXBXVVIUZANZAU-CMDGGOBGSA-N trans-2-decenoic acid Chemical compound CCCCCCC\C=C\C(O)=O WXBXVVIUZANZAU-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 1
- NGSWKAQJJWESNS-ZZXKWVIFSA-N trans-4-coumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CC=C(O)C=C1 NGSWKAQJJWESNS-ZZXKWVIFSA-N 0.000 description 1
- MAZWDMBCPDUFDJ-UHFFFAOYSA-N trans-Traumatinsaeure Natural products OC(=O)CCCCCCCCC=CC(O)=O MAZWDMBCPDUFDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTZCVFVGUGFEME-HNQUOIGGSA-N trans-aconitic acid Chemical compound OC(=O)C\C(C(O)=O)=C/C(O)=O GTZCVFVGUGFEME-HNQUOIGGSA-N 0.000 description 1
- GTZCVFVGUGFEME-UHFFFAOYSA-N trans-aconitic acid Natural products OC(=O)CC(C(O)=O)=CC(O)=O GTZCVFVGUGFEME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-N trans-cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAZWDMBCPDUFDJ-VQHVLOKHSA-N traumatic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC\C=C\C(O)=O MAZWDMBCPDUFDJ-VQHVLOKHSA-N 0.000 description 1
- 125000005208 trialkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- YVAMNMBARCMOTI-UHFFFAOYSA-N trichloro(2-trichlorosilylethynyl)silane Chemical group Cl[Si](Cl)(Cl)C#C[Si](Cl)(Cl)Cl YVAMNMBARCMOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOXSLJBUMMHDKW-UHFFFAOYSA-N trichloro(3-chloropropyl)silane Chemical compound ClCCC[Si](Cl)(Cl)Cl OOXSLJBUMMHDKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIPHWXREAZVVNS-UHFFFAOYSA-N trichloro(cyclohexyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1CCCCC1 SIPHWXREAZVVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOYFEXPFPVDYIS-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)Cl ZOYFEXPFPVDYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKFSBKQQYCMCKO-UHFFFAOYSA-N trichloro(prop-2-enyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC=C HKFSBKQQYCMCKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N trichlorosilicon Chemical group Cl[Si](Cl)Cl PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC=C)(OCC)OCC UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O triethylammonium ion Chemical compound CC[NH+](CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000004205 trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 1
- LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC=C LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZESWBFKRPIRQCD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-(4-methoxyphenyl)silane Chemical compound COC1=CC=C([Si](OC)(OC)OC)C=C1 ZESWBFKRPIRQCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQEGZYAXBCFSBS-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-(4-methylphenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(C)C=C1 XQEGZYAXBCFSBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilicon Chemical group CO[Si](OC)OC PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQBSGRWMSNFIPG-UHFFFAOYSA-N trioxane Chemical compound C1COOOC1 KQBSGRWMSNFIPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNWZYDSEVLFSMS-UHFFFAOYSA-N tripropylalumane Chemical compound CCC[Al](CCC)CCC CNWZYDSEVLFSMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001529453 unidentified herpesvirus Species 0.000 description 1
- 241000712461 unidentified influenza virus Species 0.000 description 1
- 230000035899 viability Effects 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- VPGLGRNSAYHXPY-UHFFFAOYSA-L zirconium(2+);dichloride Chemical compound Cl[Zr]Cl VPGLGRNSAYHXPY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AFVLVVWMAFSXCK-UHFFFAOYSA-N α-cyano-4-hydroxycinnamic acid Chemical compound OC(=O)C(C#N)=CC1=CC=C(O)C=C1 AFVLVVWMAFSXCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIDDLDNGQCUOJQ-SDNWHVSQSA-N α-phenylcinnamic acid Chemical compound C=1C=CC=CC=1/C(C(=O)O)=C\C1=CC=CC=C1 BIDDLDNGQCUOJQ-SDNWHVSQSA-N 0.000 description 1
- 229930007845 β-thujaplicin Natural products 0.000 description 1
Landscapes
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
Description
本発明は、抗菌性、防カビ性、抗ウィルス性を有する抗菌剤およびそれを用いた基材の表面処理方法およびその抗菌性部材に関する。 The present invention relates to an antibacterial agent having antibacterial property, antifungal property, and antiviral property, a surface treatment method for a substrate using the same, and an antibacterial member thereof.
抗菌剤は、生活環境の多様化と生活意識の変化に伴い、そのニーズが大きく広がりつつある。現在では、抗菌、防カビ等の化学的技術は、生活関連分野から、プラスチックス工業、電子部品工業等、あらゆる産業分野にわたって応用がなされている。 The need for antibacterial agents is greatly expanding with the diversification of living environments and changes in living consciousness. At present, chemical technologies such as antibacterial and antifungal are applied in various industrial fields such as life-related fields, plastics industry, electronic parts industry, and the like.
本発明における抗菌とは、微生物、特に細菌、真菌(カビ)の発生、発育を持続的に防止し、それらに起因する加害を未然に防止または回避する一連の技術である。 The antibacterial in the present invention is a series of techniques for continuously preventing the occurrence and development of microorganisms, particularly bacteria and fungi (molds), and preventing or avoiding the harm caused by them.
一時的な殺菌には、紫外線または放射線を使う方法、加熱する方法、冷却する方法、加圧する方法等の様々な物理的技術がある。抗菌とは微生物を対象として、一時的な殺菌と異なり、滅菌以下、静菌以上のレベルが長期にわたり持続的に微生物の繁殖を抑制することである。尚、滅菌とは、微生物が死滅または消滅するレベルであり、静菌とは、これら微生物の増殖が抑制されるレベルである。 There are various physical techniques for temporary sterilization, such as a method using ultraviolet rays or radiation, a heating method, a cooling method, and a pressurizing method. Antibacterial refers to microorganisms that, unlike temporary sterilization, have a level below sterilization and above bacteriostatic to continuously suppress the growth of microorganisms over a long period of time. Sterilization is a level at which microorganisms are killed or disappeared, and bacteriostasis is a level at which the growth of these microorganisms is suppressed.
抗菌剤が抗菌活性を示す細菌には、グラム陽性菌またはグラム陰性菌がある。グラム陽性菌には、黄色ブドウ球菌、化膿性連鎖球菌およびボツリヌス菌のような病原体が挙げられる。一方、グラム陰性菌には、サルモネラ菌、大腸菌、クレブシェラ、ヘモフィルス、緑膿菌およびプロテウスのような病原体があげられる。また、真菌には、白癬菌のようにヒトに寄生して病気を起こすものもある。 Bacteria whose antibacterial agents exhibit antibacterial activity include gram positive bacteria or gram negative bacteria. Gram positive bacteria include pathogens such as Staphylococcus aureus, Streptococcus pyogenes and Clostridium botulinum. On the other hand, Gram-negative bacteria include pathogens such as Salmonella, Escherichia coli, Klebsiella, Haemophilus, Pseudomonas aeruginosa and Proteus. In addition, some fungi parasitize humans and cause diseases, such as ringworm.
このように、持続的に微生物の繁殖を抑制するために、抗菌剤が広く使用されている。 Thus, antibacterial agents are widely used in order to continuously suppress the growth of microorganisms.
また、抗菌剤には、防カビ性、およびウィルスの消毒等の抗ウィルス性を合わせ持つものが求められる。 Antibacterial agents are required to have both antifungal properties and antiviral properties such as virus disinfection.
人間の生活空間には、様々なカビまたはウィルスが存在している。 There are various molds or viruses in human living space.
カビの主な種類としては、アオカビ、コウジカビ、ケカビおよびクモノスカビが挙げられる。一般的にはクロカビという名称もあるが、カビは種類を特定することは難しい。その他、ヨーロッパではアカパンカビも一般的であり、壁のしみは往々にしてクラドスポリウムである。 The main types of molds include blue mold, Aspergillus, mold, and spider mold. In general, there is a name of black mold, but it is difficult to specify the type of mold. In addition, red-knot mold is common in Europe, and the stain on the wall is often Cladosporium.
一方、ウィルスの主な種類としては、ノロウィルス、ロタウィルス、ライノウィルス、コロナウィルスおよび呼吸器合胞体ウィルスが挙げられる。ウィルスには外膜を持っているものと持たないものとがあるが、概して、外膜を持っているウィルスは、細菌に有効な消毒剤に対して感受性が強く、一方、外膜を持たないウィルスは、抵抗力が強い。外膜を持たない主なウィルスは、RNAウィルスでは、ポリオ等のエンテロウィルスおよびレオウィルスであり、DNAウィルスではアデノウィルス、パポバウィルスおよびB型肝炎ウィルス等である。外膜を持たないRNAウィルスであるポリオ、コクサッキーおよびエコー等のエンテロウィルスは、一般に各種消毒剤に対して抵抗力が強く、アデノウィルスがこれに次ぎ、外膜を持っているヘルペスウィルス、ワクチニアウィルスおよびインフルエンザウィルスは感受性が強い。薬剤の中では、次亜塩素酸ソーダが、どのウィルスに対しても比較的低濃度で有効な消毒剤といわれている。 On the other hand, the main types of viruses include norovirus, rotavirus, rhinovirus, coronavirus and respiratory syncytial virus. Viruses may or may not have an outer membrane, but in general, viruses with an outer membrane are more sensitive to germicidal disinfectants, whereas they do not have an outer membrane. Viruses are highly resistant. Major viruses that do not have an outer membrane are enteroviruses and reoviruses such as polio in RNA viruses, and adenoviruses, papovaviruses, and hepatitis B viruses in DNA viruses. Enteroviruses such as polio, coxsackie, and echo, which are RNA viruses that do not have an outer membrane, are generally resistant to various disinfectants, followed by adenovirus followed by herpes virus and vaccinia virus that have an outer membrane. And influenza viruses are very sensitive. Among the drugs, sodium hypochlorite is said to be an effective disinfectant at a relatively low concentration against any virus.
また、抗菌剤の種類は多岐にわたっており、その使用目的によって様々使い分けられている。抗菌剤を分類すると、有機化合物系、無機化合物系または天然物系に大別することができる。 In addition, there are various types of antibacterial agents, and various types are used depending on the purpose of use. Antibacterial agents can be classified into organic compound systems, inorganic compound systems, and natural product systems.
有機化合物系の抗菌剤としては、チアゾール系、イミダゾール系、ピリジン系もしくはトリアジン系等の複素環式化合物、アミン、四級アンモニウム化合物もしくはニトリル化合物等の有機窒素化合物、フェノール、クレゾールもしくはハロゲン化フェノール類等の有機酸素化合物、チオール類等の有機硫黄化合物、またはチオリン酸等の有機リン化合物等が知られている。有機化合物系の抗菌剤は、カビ類に対する抗菌性が高いのが特徴である。しかしながら、フィルムや樹脂成型品に添加した場合には、揮発したり、溶出したりして効果を持続することが難しい。また、有機化合物系の抗菌剤には毒性を示すものも多く、特に食品や食品加工、包装の分野において消費者保護の観点から使用が制限される場合がある。 Organic compound antibacterial agents include thiazole, imidazole, pyridine or triazine heterocyclic compounds, organic nitrogen compounds such as amines, quaternary ammonium compounds or nitrile compounds, phenols, cresols or halogenated phenols. Organic oxygen compounds such as thiols, organic sulfur compounds such as thiols, or organic phosphorus compounds such as thiophosphoric acid are known. Organic compound antibacterial agents are characterized by high antibacterial properties against molds. However, when added to a film or a resin molded product, it is difficult to maintain the effect by volatilization or elution. In addition, many organic compound antibacterial agents are toxic and their use may be restricted from the viewpoint of consumer protection, particularly in the fields of food, food processing and packaging.
一方、唐辛子エキス、キチン、キトサン、ワサビ抽出物、からし抽出物、茶抽出物またはヒノキチオールに代表される天然物系の抗菌剤が知られている。天然物系も有機化合物系と同様に溶出や揮発の問題はあるが、安全性の高さから好んで使用される場合がある。 On the other hand, natural antibacterial agents represented by chili extract, chitin, chitosan, wasabi extract, mustard extract, tea extract or hinokitiol are known. The natural product system has a problem of elution and volatilization as in the case of the organic compound system, but it may be preferably used because of its high safety.
さらに、銀に代表される無機化合物系の抗菌剤が知られており、特に樹脂成型品やフィルム、繊維等に多くの使用実績がある。無機化合物系の抗菌剤は溶出または揮発し難く、抗菌効果が長期間持続しやすく、また安全性が高いことが利点となっている。しかしながら、銀または銀を担持したゼオライト等の微粒子を樹脂に分散させようとした場合、均一に分散することが難しく、また、内部に位置する抗菌剤は外部の菌に対して働きにくいことから、目的とする抗菌効果を得るには、抗菌剤の添加濃度を上げる必要がある。このことから、抗菌効果として特に防カビ効果は有機化合物系に劣ることが指摘されており、高価な銀を使用する点でも使用分野が限られることが課題である。 In addition, inorganic compound-based antibacterial agents represented by silver are known, and in particular, there are many uses of resin molded products, films, fibers and the like. Inorganic compound-based antibacterial agents are advantageous in that they are difficult to elute or volatilize, have an antibacterial effect that lasts for a long time, and are highly safe. However, when trying to disperse fine particles such as silver or silver-supported zeolite in the resin, it is difficult to uniformly disperse, and the antibacterial agent located inside is difficult to work against external bacteria, In order to obtain the target antibacterial effect, it is necessary to increase the concentration of the antibacterial agent. From this, it has been pointed out that the antifungal effect is particularly inferior to the organic compound type as an antibacterial effect, and the field of use is also limited in that expensive silver is used.
このような背景のもと、抗菌性を持つ化合物基を樹脂に固定化しようとする試みがなされ、複数の先行技術文献に開示される。 Against this background, attempts have been made to immobilize antibacterial compound groups on resins, which are disclosed in a plurality of prior art documents.
例えば、特許文献1には、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジンをポリマーに結合することによって、溶出または揮発を抑えた高分子としての重合体結合抗菌剤が開示されている。 For example, Patent Document 1 discloses a polymer-bound antibacterial agent as a polymer that suppresses elution or volatilization by binding 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidine to a polymer. .
また、特許文献2には、ホスホニウムスルホネート基を有するポリアミド系樹脂をからなる抗菌性樹脂フィルムが開示され、当該抗菌性樹脂フィルムは抗菌作用と持続作用を合わせ持つとされている。 Patent Document 2 discloses an antibacterial resin film comprising a polyamide-based resin having a phosphonium sulfonate group, and the antibacterial resin film has both an antibacterial action and a sustained action.
特許文献1に記載の重合体結合抗菌剤、特許文献2に記載の抗菌性樹脂フィルム、ともに抗菌性を持つ化合物基を結合させて、樹脂に固定化することに成功している。 Both the polymer-bonded antibacterial agent described in Patent Document 1 and the antibacterial resin film described in Patent Document 2 have been successfully combined with an antibacterial compound group and immobilized on the resin.
特許文献3には、カルボキシル基を有する重合体が、該カルボキシル基の一部が銀と結合するとともに、該カルボキシル基と多価金属イオンとの結合によって架橋されてなることを特徴とする抗菌性樹脂が開示され、銀イオンによる抗菌性を長期間発揮するとされる。 Patent Document 3 discloses an antibacterial property in which a polymer having a carboxyl group is formed by crosslinking a part of the carboxyl group with silver and bonding with the carboxyl group and a polyvalent metal ion. A resin is disclosed, and it is said that antibacterial properties due to silver ions are exhibited for a long period of time.
また、ビスメチド酸基を有する帯電防止剤が特許文献4に開示されている。 Further, Patent Document 4 discloses an antistatic agent having a bismethide acid group.
無機系の抗菌剤に対しては、樹脂中に抗菌剤を均一に分散する試みがなされている。例えば、特許文献3の抗菌性樹脂は、カルボキシル基を有する重合体において、該カルボキシル基の一部が銀と結合するとともに、該カルボキシル基と多価金属イオンとの結合によって架橋されてなり、銀イオンによる抗菌性を長期間発揮するとされる。しかしながら、特許文献3は、樹脂の化学構造中に抗菌性の有機基を含む抗菌剤に関するものではない。 For inorganic antibacterial agents, attempts have been made to uniformly disperse the antibacterial agents in the resin. For example, in the antibacterial resin of Patent Document 3, in a polymer having a carboxyl group, a part of the carboxyl group is bonded to silver and is crosslinked by bonding of the carboxyl group and a polyvalent metal ion. It is said that the antibacterial property due to ions is demonstrated for a long time. However, Patent Document 3 does not relate to an antibacterial agent containing an antibacterial organic group in the chemical structure of the resin.
また、従来の抗菌性樹脂は、有機化合物系あるいは天然物系を使用した場合には、溶出、揮発等によって長期間持続的な抗菌効果を得ることが難しいという問題があった。 Further, the conventional antibacterial resin has a problem that it is difficult to obtain a long-lasting antibacterial effect due to elution, volatilization or the like when an organic compound type or natural product type is used.
また、銀等無機化合物系の抗菌剤を使用した場合には、その耐熱温度の高さから樹脂に練りこむ等の操作は可能であるが、特に防カビ性において十分な抗菌効果が得られず、また、添加した抗菌剤を、抗菌性を必要とする材料の表面等の必要な場所に限定して存在させることが困難であり、過剰な量を必要としてコスト的な課題も大きかった。 In addition, when using an antibacterial agent of an inorganic compound such as silver, an operation such as kneading into a resin is possible due to its high heat resistance temperature, but a sufficient antibacterial effect cannot be obtained particularly in antifungal properties. In addition, it is difficult to make the added antibacterial agent exist only in necessary places such as the surface of a material that requires antibacterial properties, and an excessive amount of the antibacterial agent is required, which is a significant cost problem.
本発明は、材料の表面等の必要な場所に限定して存在させることが可能で、抗菌性に加え、防カビ性、抗ウィルス性に優れた効果を持続的に発揮する抗菌剤およびそれを用いた基材の表面処理方法およびそれを用いた抗菌性部材を提供することを目的とする。 The present invention can be present only in a necessary place such as the surface of a material, and in addition to antibacterial properties, an antibacterial agent that continuously exhibits an excellent antifungal and antiviral effect and It is an object of the present invention to provide a surface treatment method for a base material used and an antibacterial member using the same.
本発明の抗菌剤は、発明1に示す抗菌剤である。 The antibacterial agent of the present invention is the antibacterial agent shown in the first aspect.
本発明のビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基を有する、即ち一般式(1)で表される有機基を有する樹脂を有効成分として含有する抗菌剤である。 It is an antibacterial agent containing, as an active ingredient, a resin having an organic group containing a bismethide acid group or a bismethido acid salt of the present invention, that is, an organic group represented by the general formula (1).
[発明1]
一般式(1):
General formula (1):
(式(1)中、R1、R2は、それぞれ独立に、炭素数1〜4のフルオロアルキル基である。CとAは共有結合またはイオン結合で結合し、Aは水素原子または陽イオンである。)
で表される有機基を含む樹脂を有効成分として含有する抗菌剤。
(In the formula (1), R 1 and R 2 are each independently a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms. C and A are bonded by a covalent bond or an ionic bond, and A is a hydrogen atom or a cation. .)
The antibacterial agent which contains resin containing the organic group represented by this as an active ingredient.
Aが水素原子の場合、ビスメチド酸基の炭素はパ−フルオロメチドの強い電子吸引性により、水素原子をH+イオンとして解離しやすく、C−H結合は共有結合性とイオン結合性を併せ有する。このように、ビスメチド酸は、陽イオンによりビスメチド酸塩になり易い。本発明の抗菌剤が含有する、抗菌性の有効成分として作用する有機基は、ビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基のどちらであってもよい。 When A is a hydrogen atom, the carbon of the bismethide acid group is easily dissociated as an H + ion due to the strong electron withdrawing property of perfluoromethide, and the C—H bond has both a covalent bond and an ionic bond. Thus, bismethide acid tends to become a bismethide salt by a cation. The organic group that acts as an antibacterial active ingredient contained in the antibacterial agent of the present invention may be either a bismethide acid group or an organic group containing a bismethide acid salt.
また、本発明の抗菌剤は、発明2〜9に示す抗菌剤である。 Moreover, the antibacterial agent of this invention is an antibacterial agent shown to invention 2-9.
抗菌剤を樹脂に単に混練し練りこんだ場合と比べて、発明2〜9に示した特定のポリマー鎖にビスメチド酸基を結合させた樹脂を有効成分として含有する抗菌剤は、ポリマー鎖に有効成分であるビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基を結合させたことで、有効成分の揮発や溶出が抑制され、抗菌性が長期間に亘って持続する。 Compared to the case where the antibacterial agent is simply kneaded and kneaded into the resin, the antibacterial agent containing the resin having the bismethide acid group bonded to the specific polymer chain shown in inventions 2 to 9 as an active ingredient is effective for the polymer chain. By binding an organic group containing the component bismethide acid group or bismethide acid salt, volatilization and elution of the active ingredient is suppressed, and antibacterial properties are maintained for a long period of time.
一般式(1)で表される有機基(ビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基)を有する繰り返し単位には、発明2の樹脂が有する一般式(2)で表される繰り返し単位(a)が挙げられる。一般式(2)で表される繰り返し単位を例示すると、発明3のエステル結合を有する一般式(3)で表される繰り返し単位(a−1)、発明4の主鎖にスチレン鎖を有する一般式(4)で表される繰り返し単位(a−2)、発明5の主鎖にノルボルネン環を有する一般式(5)で表される繰り返し単位(a−3)が挙げられる。 The repeating unit having an organic group represented by the general formula (1) (an organic group containing a bismethide acid group or a bismethide acid salt) includes a repeating unit represented by the general formula (2) of the resin of the invention 2 (a ). When the repeating unit represented by the general formula (2) is exemplified, the repeating unit (a-1) represented by the general formula (3) having an ester bond of the invention 3 and a styrene chain in the main chain of the invention 4 Examples include the repeating unit (a-2) represented by the formula (4) and the repeating unit (a-3) represented by the general formula (5) having a norbornene ring in the main chain of the invention 5.
[発明2]
前記樹脂が、一般式(2):
The resin is represented by the general formula (2):
(式(2)中、R1、R2は、それぞれ独立に、炭素数1〜4のフルオロアルキル基である。R3は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン原子または炭素数1〜4のフルオロアルキル基である。R4、R5は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基またはハロゲン原子である。R6は単結合、炭素数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基、またはこれらの組み合わせである2価の炭化水素基であり、エーテル結合、エステル結合、アミド結合またはウレタン結合を有していてもよく、R6に含まれる炭素原子の一部が珪素で置換されていてもよく、水素原子の一部または全部がフッ素原子または水酸基で置換されていてもよい。また、R3とR4またはR5とR6は、結合して環を形成してもよく、炭素数3〜12の単環式、二環式または多環式の構造を含んでもよい。CとAは共有結合またはイオン結合で結合し、Aは水素原子または陽イオンである。)
で表される繰り返し単位(a)を有する樹脂である発明1の抗菌剤。
(In Formula (2), R 1 and R 2 are each independently a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms. R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, or a carbon number. R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a halogen atom, and R 6 is a single bond, having 1 to 12 carbon atoms. A divalent hydrocarbon group which is a linear, branched or cyclic divalent hydrocarbon group, or a combination thereof, and may have an ether bond, an ester bond, an amide bond or a urethane bond, Some of the carbon atoms contained in R 6 may be substituted with silicon, and some or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms or hydroxyl groups, and R 3 and R 4 or R 5 And R 6 combine to form a ring And may include a monocyclic, bicyclic or polycyclic structure having 3 to 12 carbon atoms, C and A are bonded by a covalent bond or an ionic bond, and A is a hydrogen atom or a cation .)
The antibacterial agent of the invention 1 which is resin which has the repeating unit (a) represented by these.
上記、一般式(1)および一般式(2)における、R1またはR2としては、CF3、C2F5、直鎖状もしくは分枝鎖状のC3F7、C4F9が挙げられ、本発明の抗菌剤において、合成のし易さより、CF3が好適に用いられる。 In the above general formula (1) and general formula (2), as R 1 or R 2 , CF 3 , C 2 F 5 , linear or branched C 3 F 7 , C 4 F 9 are In the antibacterial agent of the present invention, CF 3 is preferably used because of its ease of synthesis.
[発明3]
前記繰り返し単位(a)が、下記一般式(3):
The repeating unit (a) is represented by the following general formula (3):
(式(3)中、R7は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子またはトリフルオロメチル基をである。R8は単結合、炭素数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基またはこれらの組み合わせである2価の炭化水素基であり、エーテル結合、エステル結合、アミド結合またはウレタン結合を有していてもよく、R8に含まれる炭素原子の一部が珪素で置換されていてもよく、水素原子の一部または全部がフッ素原子または水酸基で置換されていてもよい。CとAは共有結合またはイオン結合で結合し、Aは水素原子または陽イオンである。)
で表される繰り返し単位(a−1)である発明2の抗菌剤。
(In the formula (3), R 7 is a hydrogen atom, an alkyl group, a halogen atom or a trifluoromethyl group. R 8 is a single bond, a linear, branched or cyclic divalent group having 1 to 12 carbon atoms. Or a combination thereof, which may have an ether bond, an ester bond, an amide bond or a urethane bond, and a part of carbon atoms contained in R 8 is silicon. And a part or all of hydrogen atoms may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group, C and A are bonded by a covalent bond or an ionic bond, and A is a hydrogen atom or a cation. .)
The antibacterial agent of the invention 2 which is the repeating unit (a-1) represented by these.
[発明4]
前記繰り返し単位(a)が、一般式(4):
The repeating unit (a) is represented by the general formula (4):
(式(4)中、R9は単結合、炭素数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基またはこれらの組み合わせである2価の炭化水素基であり、エーテル結合、エステル結合、アミド結合またはウレタン結合を有していてもよく、R9に含まれる炭素原子の一部が珪素で置換されていてもよく、水素原子の一部または全部がフッ素原子または水酸基で置換されていてもよい。CとAは共有結合またはイオン結合で結合し、Aは水素原子または陽イオンである。)
で表される繰り返し単位(a−2)である発明2の抗菌剤。
(In Formula (4), R 9 is a single bond, a linear, branched or cyclic divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or a divalent hydrocarbon group that is a combination thereof, and an ether. May have a bond, an ester bond, an amide bond, or a urethane bond, a part of carbon atoms contained in R 9 may be substituted with silicon, and a part or all of hydrogen atoms may be fluorine atoms or hydroxyl groups C and A are bonded by a covalent bond or an ionic bond, and A is a hydrogen atom or a cation.)
The antibacterial agent of the invention 2 which is the repeating unit (a-2) represented by these.
[発明5]
前記繰り返し単位(a)が、一般式(5):
The repeating unit (a) is represented by the general formula (5):
(式(5)中、R10は単結合、炭素数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基またはこれらの組み合わせである2価の炭化水素基であり、エーテル結合、エステル結合、アミド結合またはウレタン結合を有していてもよく、R10に含まれる炭素原子の一部が珪素で置換されていてもよく、水素原子の一部または全部がフッ素原子または水酸基で置換されていてもよい。CとAは共有結合またはイオン結合で結合し、Aは水素原子または陽イオンである。)
で表される繰り返し単位(a−3)である発明2の抗菌剤。
(In the formula (5), R 10 is a single bond, a linear, branched or cyclic divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or a divalent hydrocarbon group that is a combination thereof, and an ether. May have a bond, an ester bond, an amide bond or a urethane bond, a part of carbon atoms contained in R 10 may be substituted with silicon, and a part or all of hydrogen atoms may be fluorine atoms or hydroxyl groups C and A are bonded by a covalent bond or an ionic bond, and A is a hydrogen atom or a cation.)
The antibacterial agent of the invention 2 which is the repeating unit (a-3) represented by these.
[発明6]
前記樹脂が、さらに一般式(6):
The resin further has the general formula (6):
(式(6)中、R11は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン原子または炭素数1〜4のフルオロアルキル基である。R12、R13は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基またはハロゲン原子である。R14は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数1〜35の直鎖状、分岐状もしくは環状、もしくは直鎖状、分岐状、環状の組み合わせである1価の炭化水素基であり、エーテル結合、エステル結合、アミド結合またはウレタン結合を有していてもよく、R14に含まれる炭素原子の一部が珪素で置換されていてもよく、水素原子の一部または全部がフッ素原子または水酸基で置換されていてもよい。また、R11とR12またはR13とR14は、結合して環を形成してもよく、炭素数3〜12の単環式、二環式または多環式の構造を含んでもよい。)
で表される繰り返し単位(b−1)を含む樹脂である発明2の抗菌剤。
(In Formula (6), R 11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, or a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms. R 12 and R 13 are each independently a hydrogen atom. And an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a halogen atom, and R 14 is a hydrogen atom, a halogen atom, or a linear, branched or cyclic group having 1 to 35 carbon atoms, or a linear, branched or cyclic group. It is a monovalent hydrocarbon group which is a combination, and may have an ether bond, an ester bond, an amide bond or a urethane bond, and a part of the carbon atoms contained in R 14 may be substituted with silicon In addition, some or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms or hydroxyl groups, and R 11 and R 12 or R 13 and R 14 may combine to form a ring and have 3 carbon atoms. ~ 12 single It may contain cyclic, bicyclic or polycyclic structures.)
The antibacterial agent of the invention 2 which is resin containing the repeating unit (b-1) represented by these.
[発明7]
前記樹脂が、さらに一般式(7):
The resin further has the general formula (7):
(式(7)中、R11は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン原子または炭素数1〜4のフルオロアルキル基である。R12、R13は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基またはハロゲン原子であり、R11とR12またはR13は、結合して環を形成してもよく、炭素数3〜12の単環式、二環式または多環式の構造を含んでもよい。R15は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数1〜35の直鎖状、分岐状、環状、もしくは直鎖状、分岐状、環状の組み合わせである1価の炭化水素基であり、エーテル結合、エステル結合、アミド結合またはウレタン結合を有していてもよく、R15に含まれる炭素原子の一部が珪素で置換されていてもよく、水素原子の一部または全部がフッ素原子または水酸基で置換されていてもよく、R15は、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、アルケニル基、アルキニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロロシリル基、アルコキシシリル基またはヒドロシリル基から選ばれた架橋剤と反応し得る基を含む。)
で表される繰り返し単位(b−2)を含む樹脂である発明2の抗菌剤。
(In Formula (7), R 11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, or a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms. R 12 and R 13 are each independently a hydrogen atom. , An alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a halogen atom, and R 11 and R 12 or R 13 may combine to form a ring, and the monocyclic, bicyclic or 3 to 12 carbon atoms R 15 may be a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent group that is a linear, branched, cyclic, or linear, branched, or cyclic combination having 1 to 35 carbon atoms. Which may have an ether bond, an ester bond, an amide bond or a urethane bond, a part of carbon atoms contained in R 15 may be substituted with silicon, and Part or all is fluorine atom or hydroxyl In may be substituted, R 15 is selected a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, an alkenyl group, an alkynyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, chlorosilyl group, alkoxysilyl group or a hydrosilyl group Including groups capable of reacting with other crosslinking agents.)
The antibacterial agent of the invention 2 which is resin containing the repeating unit (b-2) represented by these.
[発明8]
前記樹脂がイソシアネート基、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、アルケニル基、アルキニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロロシリル基、アルコキシシリル基またはヒドロシリル基から選ばれた1種以上の基を含む架橋剤により架橋されてなることを特徴とする架橋剤を含む発明7の硬化型抗菌剤。
[Invention 8]
The resin is one or more groups selected from isocyanate group, hydroxyl group, mercapto group, carboxyl group, amino group, epoxy group, alkenyl group, alkynyl group, acryloyl group, methacryloyl group, chlorosilyl group, alkoxysilyl group or hydrosilyl group. A curable antibacterial agent according to invention 7, comprising a crosslinking agent, which is crosslinked with a crosslinking agent comprising
具体的には、ヘキサメチレンジイソシアネート、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、パラホルムアルデヒド、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジメトキシシランメチロール化メラミンとその誘導体イオウ、ベンゾイルパーオキサイドまたはアゾビスイソブチロニトリルからなる群から選ばれた少なくとも1つの架橋剤が用いられる。 Specifically, the group consisting of hexamethylene diisocyanate, 1,4-butanediol diglycidyl ether, paraformaldehyde, dimethyldichlorosilane, dimethyldimethoxysilane methylolated melamine and its derivatives sulfur, benzoyl peroxide or azobisisobutyronitrile. At least one crosslinking agent selected from is used.
次に、発明9〜14に、本発明の抗菌剤を用いた基材の表面処理方法を示す。 Next, the surface treatment method of the base material using the antibacterial agent of this invention is shown to inventions 9-14.
発明1に示したビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基を有する樹脂を有効成分として含有する抗菌剤、特に発明2〜8に示した特定のポリマー鎖にビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基を結合させた樹脂を有効成分として含有する抗菌剤は、様々な形態で適用することが可能である。 An antibacterial agent containing a resin having an organic group containing a bismethide acid group or a bismethide acid salt as shown in Invention 1 as an active ingredient, particularly including a bismethide acid group or a bismethide acid salt in the specific polymer chain shown in Inventions 2 to 8 An antibacterial agent containing an organic group-bonded resin as an active ingredient can be applied in various forms.
例えば、樹脂の状態で溶剤に溶かした後に塗布し、基体上に塗布し抗菌性皮膜を形成する基材の表面処理方法、シート状とした後に表面に付着する方法等を適用することが可能である。 For example, it is possible to apply a surface treatment method of a base material that is applied after being dissolved in a solvent in a resin state and applied on a substrate to form an antibacterial film, a method of adhering to the surface after forming a sheet shape, etc. is there.
また、樹脂の前駆体である重合性化合物の状態、または樹脂の繰り返し単位の前駆体である重合性化合物の状態、必要に応じて架橋剤を加えた後、塗布または付着させ、加熱または紫外線等の光照射によって、重合あるいは架橋させて強靭な抗菌性樹脂膜とする表面処理方法を採用することが可能である。 In addition, the state of the polymerizable compound that is the precursor of the resin, or the state of the polymerizable compound that is the precursor of the repeating unit of the resin, and after adding a cross-linking agent as necessary, is applied or adhered, heated or ultraviolet rays, etc. It is possible to employ a surface treatment method in which a strong antibacterial resin film is obtained by polymerization or crosslinking by irradiation with light.
このように、本発明の基材の表面処理方法によれば、対象物の表面に被覆して、効率的に基材表面に抗菌剤を塗布または付着させることにより、抗菌性を付与することができる。 Thus, according to the surface treatment method for a substrate of the present invention, antibacterial properties can be imparted by coating the surface of an object and efficiently applying or adhering an antibacterial agent to the substrate surface. it can.
[発明9]
発明1〜8のいずれかの抗菌剤を基材表面に塗布または付着させて皮膜を形成することを特徴とする基材の表面処理方法。
[Invention 9]
A surface treatment method for a substrate, which comprises applying or adhering the antibacterial agent according to any one of Inventions 1 to 8 to the substrate surface to form a film.
[発明10]
一般式(2−1)
General formula (2-1)
(式(2−1)中、R1、R2は、それぞれ独立に、炭素数1〜4のフルオロアルキル基をである。R3は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン原子または炭素数1〜4のフルオロアルキル基である。R4、R5は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基またはハロゲン原子である。R6は単結合、炭素数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基、またはこれらの組み合わせである2価の炭化水素基であり、エーテル結合、エステル結合、アミド結合またはウレタン結合を有していてもよく、R6に含まれる炭素原子の一部が珪素で置換されていてもよく、水素原子の一部または全部がフッ素原子または水酸基で置換されていてもよい。また、R3とR4またはR5とR6は、結合して環を形成してもよく、炭素数3〜12の単環式、二環式または多環式の構造を含んでもよい。CとAは共有結合またはイオン結合で結合し、Aは水素原子または陽イオンである。)
で表される繰り返し単位の前駆体である重合性化合物を基材表面に塗布または付着させて発明1〜8の抗菌剤の皮膜を形成することを特徴とする基材の表面処理方法。
(In Formula (2-1), R 1 and R 2 each independently represents a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms. R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a halogen atom. Or a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 4 and R 5 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a halogen atom, and R 6 is a single bond or 1 carbon atom. A divalent hydrocarbon group of -12 linear, branched or cyclic divalent hydrocarbon groups, or a combination thereof, having an ether bond, an ester bond, an amide bond or a urethane bond In addition, some of the carbon atoms contained in R 6 may be substituted with silicon, and some or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms or hydroxyl groups, and R 3 and R 4 Or R 5 and R 6 are And may include a monocyclic, bicyclic or polycyclic structure having 3 to 12 carbon atoms, C and A are bonded by a covalent bond or an ionic bond, and A is a hydrogen atom. Or a cation.)
A surface treatment method for a base material, characterized in that a film of the antibacterial agent of inventions 1 to 8 is formed by applying or adhering a polymerizable compound which is a precursor of a repeating unit represented by
[発明11]
一般式(2−1):
General formula (2-1):
(式(2−1)中、R1、R2は、それぞれ独立に、炭素数1〜4のフルオロアルキル基である。R3は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン原子または炭素数1〜4のフルオロアルキル基である。R4、R5は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基またはハロゲン原子である。R6は単結合、炭素数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基、またはこれらの組み合わせである2価の炭化水素基であり、エーテル結合、エステル結合、アミド結合またはウレタン結合を有していてもよく、R6に含まれる炭素原子の一部が珪素で置換されていてもよく、水素原子の一部または全部がフッ素原子または水酸基で置換されていてもよい。また、R3とR4またはR5とR6は、結合して環を形成してもよく、炭素数3〜12の単環式、二環式または多環式の構造を含んでもよい。CとAは共有結合またはイオン結合で結合し、Aは水素原子または陽イオンである。)
で表される重合性化合物に、さらに一般式(6−1):
In addition to the polymerizable compound represented by general formula (6-1):
(式(6−1)中、R11は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン原子または炭素数1〜4のフルオロアルキル基である。R12、R13は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基またはハロゲン原子である。R14は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数1〜35の直鎖状、分岐状、環状、もしくは直鎖状、分岐状、環状の組み合わせである1価の炭化水素基であり、エーテル結合、エステル結合、アミド結合またはウレタン結合を有していてもよく、R14に含まれる炭素原子の一部が珪素で置換されていてもよく、水素原子の一部または全部がフッ素原子または水酸基で置換されていてもよい。また、R11とR12またはR13とR14は、結合して環を形成してもよく、炭素数3〜12の単環式、二環式または多環式の構造を含んでもよい。)
または一般式(7−1):
Or general formula (7-1):
(式(7−1)中、R11は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン原子または炭素数1〜4のフルオロアルキル基である。R12、R13は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基またはハロゲン原子である、R11とR12またはR13は、結合して環を形成してもよく、炭素数3〜12の単環式、二環式または多環式の構造を含んでもよい。R15は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数1〜35の直鎖状、分岐状、環状、もしくは直鎖状、分岐状、環状の組み合わせである1価の炭化水素基であり、エーテル結合、エステル結合、アミド結合またはウレタン結合を有していてもよく、R15に含まれる炭素原子の一部が珪素で置換されていてもよく、水素原子の一部または全部がフッ素原子または水酸基で置換されていてもよく、R15は、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、アルケニル基、アルキニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロロシリル基、アルコキシシリル基またはヒドロシリル基から選ばれた架橋剤と反応しえる基を含む。)
で表される重合性化合物を加えた後、基材表面に塗布または付着させて発明6または発明7に記載の抗菌剤の皮膜を形成することを特徴とする発明10に記載の基材の表面処理方法。
(In formula (7-1), R 11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, or a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms. R 12 and R 13 are each independently R 11 and R 12 or R 13 which are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a halogen atom may be bonded to form a ring, and a monocyclic or bicyclic ring having 3 to 12 carbon atoms R 15 may be a hydrogen atom, a halogen atom, or a linear, branched, cyclic, or linear, branched, cyclic combination having 1 to 35 carbon atoms. A monovalent hydrocarbon group, which may have an ether bond, an ester bond, an amide bond or a urethane bond, a part of carbon atoms contained in R 15 may be substituted with silicon, and a hydrogen atom; Part or all of fluorine atom or May be substituted with an acid group, R 15 represents a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, an alkenyl group, an alkynyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, chlorosilyl group, alkoxysilyl group or a hydrosilyl group Contains groups that can react with the chosen crosslinker.)
After the addition of the polymerizable compound represented by formula (1), the surface of the substrate according to invention 10 is formed by applying or adhering to the surface of the substrate to form a film of the antibacterial agent according to invention 6 or 7. Processing method.
尚、以上の繰り返し単位の前駆体である一般式(2−1)、一般式(6−1)または一般式(6−3)で表される重合性化合物は、モノマーに限らず、以上のモノマーを組み合わせたオリゴマーであってもよい。)
[発明12]
さらに、架橋剤を加えた後に、発明8の抗菌剤の皮膜を形成することを特徴とする発明9〜11のいずれかの基材の表面処理方法。
In addition, the polymerizable compound represented by the general formula (2-1), the general formula (6-1), or the general formula (6-3), which is a precursor of the above repeating unit, is not limited to the monomer. The oligomer which combined the monomer may be sufficient. )
[Invention 12]
Furthermore, after adding a crosslinking agent, the film of the antimicrobial agent of the invention 8 is formed, The surface treatment method of the base material in any one of the invention 9-11 characterized by the above-mentioned.
本発明の基材の表面処理方法において、上記架橋剤としては、イソシアネート基、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、アルケニル基、アルキニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロロシリル基、アルコキシシリル基またはヒドロシリル基から選ばれた1種以上の基を含む架橋剤が挙げられる。 In the substrate surface treatment method of the present invention, the cross-linking agent includes isocyanate group, hydroxyl group, mercapto group, carboxyl group, amino group, epoxy group, alkenyl group, alkynyl group, acryloyl group, methacryloyl group, chlorosilyl group, alkoxy group. Examples of the crosslinking agent include one or more groups selected from a silyl group or a hydrosilyl group.
具体的には、ヘキサメチレンジイソシアネート、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、パラホルムアルデヒド、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジメトキシシランメチロール化メラミンとその誘導体イオウ、ベンゾイルパーオキサイドまたはアゾビスイソブチロニトリルである群から選ばれた少なくとも1つの架橋剤が用いられる。 Specifically, the group of hexamethylene diisocyanate, 1,4-butanediol diglycidyl ether, paraformaldehyde, dimethyldichlorosilane, dimethyldimethoxysilane methylolated melamine and its derivatives sulfur, benzoyl peroxide or azobisisobutyronitrile At least one crosslinking agent selected from is used.
[発明13]
前記皮膜を、加熱することで、重合または架橋させて硬化膜とすることを特徴とする発明12の基材の表面処理方法。
[Invention 13]
The substrate surface treatment method according to invention 12, wherein the film is polymerized or crosslinked to form a cured film by heating.
本発明の基材の表面処理方法において、上記重合のための重合開始剤としては、過ピバル酸−tert−ブチルが好適に用いられる。 In the substrate surface treatment method of the present invention, perpivalic acid-tert-butyl is suitably used as the polymerization initiator for the polymerization.
[発明14]
前記皮膜を、光照射することで、重合または架橋させて硬化膜とすることを特徴とする発明12の表面処理方法。
[Invention 14]
The surface treatment method according to invention 12, wherein the film is polymerized or crosslinked to form a cured film by light irradiation.
本発明の基材の表面処理方法において、上記光重合のための開始剤としては、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンが好適に用いられる。 In the substrate surface treatment method of the present invention, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone is preferably used as the initiator for the photopolymerization.
また、本発明の基材の表面処理方法において、上記重合性化合物、開始剤、架橋剤に限らず、溶媒を用いてもよく、溶媒としては、2−ブタノンまたはシクロヘキサノンが好適に用いられる。 Moreover, in the surface treatment method of the base material of the present invention, not only the polymerizable compound, the initiator and the crosslinking agent, but also a solvent may be used, and 2-butanone or cyclohexanone is preferably used as the solvent.
[発明15]
発明9〜14の表面処理方法で表面処理することを特徴とする抗菌性部材の作製方法。
[Invention 15]
A method for producing an antibacterial member, wherein the surface treatment is performed by the surface treatment method according to any one of Inventions 9 to 14.
本発明のビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基を有する、即ち、一般式(1)で表される有機基を有する樹脂を有効成分として含有する抗菌剤は、ビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基の含有が低濃度であっても、抗菌活性を示し、前記樹脂中におけるビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基(CF3SO2)2C−の含有率が、樹脂に対して少なくとも0.1質量%以上で、その抗菌効
果がみられ、1質量%以上では抗菌活性の高い効果がみられた。
An antibacterial agent having an organic group containing a bismethide acid group or a bismethide acid salt of the present invention, that is, a resin having an organic group represented by the general formula (1) as an active ingredient Even if the content of the organic group containing is low, the antibacterial activity is exhibited, and the content of the organic group (CF 3 SO 2 ) 2 C— containing the bismethide acid group or bismethide acid salt in the resin is On the other hand, the antibacterial effect was seen at least 0.1% by mass or more, and the effect of high antibacterial activity was seen at 1% by mass or more.
また、本発明のポリマー鎖にビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基を結合させた樹脂を有効成分として含有する抗菌剤は、抗菌剤を樹脂に単に混練し練りこんだ従来の抗菌剤と比較して、ポリマー鎖に有効成分であるビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基を結合させたことで、有効成分の揮発や溶出が抑制され、抗菌性が長期間に亘って持続する。 Further, the antibacterial agent containing a resin in which an organic group containing a bismethide acid group or a bismethide acid salt is bonded as an active ingredient to the polymer chain of the present invention is an antibacterial agent simply kneaded and kneaded into a resin. In comparison, by binding an organic group containing a bismethide acid group or bismethide acid salt, which is an active ingredient, to the polymer chain, volatilization and elution of the active ingredient is suppressed, and antibacterial properties are maintained for a long period of time.
即ち、本発明の抗菌剤およびそれを用いた表面処理法により、材料の表面等の必要な場所に限定して存在させることが可能で、抗菌性、防カビ性および抗ウィルス性に優れた効果を持続的に発揮する抗菌剤およびそれを用いた抗菌性部材を提供された。 That is, the antibacterial agent of the present invention and the surface treatment method using the antibacterial agent can be present only in necessary places such as the surface of the material, and are excellent in antibacterial, antifungal and antiviral properties. An antibacterial agent that continuously exerts the antimicrobial properties and an antibacterial member using the same are provided.
また、本発明のビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基を有する樹脂を有効成分として含有する抗菌剤は、ビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基の含有が低濃度で抗菌性を示した。 In addition, the antibacterial agent containing the resin having an organic group containing a bismethide acid group or bismethide acid salt as an active ingredient of the present invention exhibits antibacterial properties at a low concentration of the organic group containing a bismethide acid group or bismethide acid salt. It was.
また、抗菌剤を樹脂に単に練りこんだ場合に比べ、ビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基を有する樹脂を有効成分として含有する抗菌剤、特に、特定のポリマー鎖にビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基を結合させた樹脂を有効成分として含有する本発明の抗菌剤は、ポリマー鎖に有効成分であるビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基を結合させたことで、有効成分の揮発や溶出が抑制され、抗菌性が長期間に亘って持続する。本発明の抗菌剤において、前記特定の樹脂中のビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基の分布を均一にすることは容易であり、ビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基が片寄ることなく安全性が高い。 In addition, the antibacterial agent containing a resin having an organic group containing a bismethide acid group or a bismethide acid salt as an active ingredient as compared with a case where the antibacterial agent is simply kneaded into the resin, particularly a bismethide acid group or bismethide in a specific polymer chain. The antibacterial agent of the present invention containing a resin bonded with an organic group containing an acid salt as an active ingredient is effective by binding an organic group containing a bismethide acid group or a bismethide acid salt as an active ingredient to the polymer chain. Volatilization and elution of components are suppressed, and antibacterial properties last for a long time. In the antibacterial agent of the present invention, it is easy to make the distribution of organic groups containing bismethide acid groups or bismethido acid salts in the specific resin easy, and organic groups containing bismethide acid groups or bismethide acid salts are offset. There is no safety.
本発明のビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基を有する樹脂を有効成分として含有する抗菌剤は、様々な形態で適用することが可能である。例えば、塗布等の表面処理方法によって、対象物の表面に被覆して、効率的に抗菌性部材に抗菌性を付与することが可能である。このことは、抗菌剤の使用量の削減効果がある。 The antibacterial agent containing, as an active ingredient, a resin having an organic group containing a bismethide acid group or a bismethide acid salt according to the present invention can be applied in various forms. For example, the antibacterial member can be efficiently imparted with antibacterial properties by coating the surface of the object by a surface treatment method such as coating. This has the effect of reducing the amount of antibacterial agent used.
さらに、本発明のビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基を有する樹脂を有効成分として含有する抗菌剤は、幅広い菌に対する抗菌活性を示した。また、抗菌性のみならず、カビやウィルスに対しても有効な抑制効果を示した。 Furthermore, the antibacterial agent containing the resin having an organic group containing a bismethide acid group or a bismethide acid salt as an active ingredient of the present invention showed antibacterial activity against a wide range of bacteria. In addition to antibacterial properties, it also showed an effective inhibitory effect against mold and viruses.
本発明により、優れた抗菌性に加え、防カビ性、抗ウィルス性を併せ持ち、且つその持続性を有し、効率的に大量に製造することが可能であり、生活分野のみならず、電子材料等の工業分野等の広い分野での応用や使用が可能な抗菌材およびそれを用いた基材の表面処理方法およびその抗菌性部材が提供された。 According to the present invention, in addition to excellent antibacterial properties, it has both antifungal properties and antiviral properties, has its sustainability, and can be efficiently manufactured in large quantities. An antibacterial material that can be applied and used in a wide range of fields such as industrial fields, a surface treatment method for a substrate using the same, and an antibacterial member thereof have been provided.
1.抗菌剤
最初に、本発明の抗菌剤について説明する。
1. Antibacterial Agent First, the antibacterial agent of the present invention will be described.
[発明1]
一般式(1):
General formula (1):
(式(1)中、R1、R2は、それぞれ独立に、炭素数1〜4のフルオロアルキル基である。CとAは共有結合またはイオン結合で結合し、Aは水素原子または陽イオンである。)
で表される有機基を含む樹脂を有効成分として含有する抗菌剤。
(In the formula (1), R 1 and R 2 are each independently a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms. C and A are bonded by a covalent bond or an ionic bond, and A is a hydrogen atom or a cation. .)
The antibacterial agent which contains resin containing the organic group represented by this as an active ingredient.
Aが水素原子の場合、ビスメチド酸基の炭素はパ−フルオロメチドの強い電子吸引性により、水素原子をH+イオンとして解離しやすく、C−H結合は共有結合性とイオン結合性を併せ有する。このように、ビスメチド酸は、陽イオンにより、ビスメチド酸塩になり易く、本発明の抗菌剤が含有する、抗菌性の有効成分として作用する有機基は、ビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基のどちらであってもよい。 When A is a hydrogen atom, the carbon of the bismethide acid group is easily dissociated as an H + ion due to the strong electron withdrawing property of perfluoromethide, and the C—H bond has both a covalent bond and an ionic bond. As described above, bismethide acid is easily converted into a bismethide salt by a cation, and the organic group that acts as an antibacterial active ingredient contained in the antibacterial agent of the present invention is an organic group containing a bismethide acid group or a bismethide salt. Either of the groups may be used.
Aは水素原子または陽イオンのいずれかを表し、1価の陽イオンである場合は、一般式(1)で表される有機基(ビスメチド酸基)の陰イオンと、イオン結合によって1対1のビスメチド酸塩を形成してもよい。また、多価の陽イオンは、その価数に相当する陰イオンと塩を形成してもよい。 A represents either a hydrogen atom or a cation. When the cation is a monovalent cation, A represents one-to-one by an ionic bond with the anion of the organic group (bismethide acid group) represented by the general formula (1). The bismethide salt may be formed. The polyvalent cation may form a salt with an anion corresponding to the valence.
また、Cと結合する陽イオンは、1価の陽イオンまたは多価陽イオンのいずれでもよい。上述の1価の陽イオンとしては、水素イオン(H+)、リチウムイオン(Li+)、ナトリウムイオン(Na+)、カリウムイオン(K+)、銀イオン(Ag+)、銅(II)イオン(Cu+)、水銀(II)イオン(Hg+)、アンモニウムイオン(NH4+)、アルキルアンモニウムイオン、アニリニウムイオン、フェニルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、ピリミジニウムイオン、ピラゾーリウムイオン、イミダゾーリウムイオン、ベンズイミダゾーリウムイオン、トリアジニウムイオン、ヘキサヒドロトリアジニウムイオン、トリアゾーリウムイオン、イソオキサゾーリウムイオン、チアゾーリウムイオン、イソチアゾーリウムイオン、ピローリウムイオン、ベンゾチアゾーリウムイオン、チアゾリン−2−オンニウムイオン、イソチアゾリン−3−オンニウムイオン、ベンゾイソチアゾリン−3−オンニウムイオン、ベンゾチアゾリン−2−オンニウムイオンまたはテトラヒドロチアジアジン−2−チオンニウムイオン等が挙げられる。 Further, the cation bonded to C may be either a monovalent cation or a polyvalent cation. Examples of the monovalent cation include hydrogen ion (H + ), lithium ion (Li + ), sodium ion (Na + ), potassium ion (K + ), silver ion (Ag + ), and copper (II) ion. (Cu + ), mercury (II) ion (Hg + ), ammonium ion (NH 4+ ), alkyl ammonium ion, anilinium ion, phenyl ammonium ion, pyridinium ion, pyrimidinium ion, pyrazolium ion, imidazolium ion , Benzimidazolium ion, triazinium ion, hexahydrotriazinium ion, triazolium ion, isoxazolium ion, thiazolium ion, isothiazolium ion, pyrolium ion, benzothiazolium ion, thiazoline-2-ion Ions, isothiazolin-3-one ion, benzisothiazolin-3-one ion, benzothiazolin-2-one ion or tetrahydrothienyl Asia-2-thione ions, and the like.
さらに、アルキルアンモニウムイオンとして、モノアルキルアンモニウムイオン(NR
H3 +)、ジアルキルアンモニウムイオン(NR2H2 +)、トリアルキルアンモニウムイオン(NR3H+)またはテトラアルキルアンモニウムイオン(NR4 +)等が挙げられる。さらに、トリアルキルアンモニウムイオンとしては、トリメチルアンモニウムイオン(N(CH3)3H+)、トリエチルアンモニウムイオン(N(C2H5)3H+)またはトリブチルアンモニウムイオン(N(C4H9)3H+)等が挙げられる。
Further, as alkylammonium ions, monoalkylammonium ions (NR
H 3 + ), dialkyl ammonium ion (NR 2 H 2 + ), trialkyl ammonium ion (NR 3 H + ), tetraalkyl ammonium ion (NR 4 + ), and the like. Furthermore, as a trialkylammonium ion, trimethylammonium ion (N (CH 3 ) 3 H + ), triethylammonium ion (N (C 2 H 5 ) 3 H + ) or tributylammonium ion (N (C 4 H 9 ) 3 H +), and the like.
さらに、テトラアルキルアンモニウムイオンとして、テトラメチルアンモニウムイオン(N(CH3)4 +)、テトラエチルアンモニウムイオン(N(C2H5)4 +)またはテトラブチルアンモニウムイオン(N(C4H9)4 +)等が挙げられる。 Further, tetramethylammonium ions (N (CH 3 ) 4 + ), tetraethylammonium ions (N (C 2 H 5 ) 4 + ), or tetrabutylammonium ions (N (C 4 H 9 ) 4 are used as tetraalkylammonium ions. + ) And the like.
さらに、2価の陽イオンとしては、マグネシウムイオン(Mg2+)、カルシウムイオン(Ca2+)、ストロンチウムイオン(Sr2+)、バリウムイオン(Ba2+)、カドミウムイオン(Cd2+)、ニッケル(II)イオン(Ni2+)、亜鉛イオン(Zn2+)、銅(II)イオン(Cu2+)、水銀(II)イオン(Hg2+)、鉄(II)イオン(Fe2+)、コバルト(II)イオン(Co2+)、スズ(II)イオン(Sn2+)、鉛(II)イオン(Pb2+)またはマンガン(II)イオン(Mn2+)等が挙げられる。 Further, as the divalent cation, magnesium ion (Mg 2+ ), calcium ion (Ca 2+ ), strontium ion (Sr 2+ ), barium ion (Ba 2+ ), cadmium ion (Cd 2+ ), nickel (II) ion (Ni 2+ ), zinc ion (Zn 2+ ), copper (II) ion (Cu 2+ ), mercury (II) ion (Hg 2+ ), iron (II) ion (Fe 2+ ), cobalt (II) ion (Co 2+ ) ), Tin (II) ion (Sn 2+ ), lead (II) ion (Pb 2+ ) or manganese (II) ion (Mn 2+ ).
さらに、3価の陽イオンとしては、アルミニウムイオン(Al3+)、鉄(III)イオン(Fe3+)、クロム(III)イオン(Cr3+)等があげられる。 Furthermore, examples of the trivalent cation include aluminum ion (Al 3+ ), iron (III) ion (Fe 3+ ), and chromium (III) ion (Cr 3+ ).
さらに、4価の陽イオンとしては、スズ(IV)イオン(Sn4+)等が挙げられる。 Further, examples of the tetravalent cation include tin (IV) ion (Sn 4+ ).
また、Aは、錯イオンであってもよく、ジアンミン銀イオン([Ag(NH3)2]+)、ビオレオ([CoCl2(NH3)4]+)、テトラアンミン亜鉛(II)イオン([Zn(NH3)4]2+)、テトラアンミン銅(II)イオン([Cu(NH3)4]2+)、テトラアクア銅(II)イオン([Cu(H2O)4]2+)、チオシアノ鉄(III)
イオン([Fe(SCN)]2+)、ヘキサアンミンニッケル(II)イオン([Ni(NH3)6]2+)、プルプレオ([CoCl(NH3)5]2+)、ヘキサアンミンコバルト(III)イオン([Co(NH3)6]3+)、ヘキサアクアコバルト(III)イオン([Co(H2O)6]3+)またはヘキサアンミンクロム(III)イオン([Cr(NH3)6]3+)、ローゼオ([Co(NH3)4(H2O)2]3+)等が挙げられる。
A may be a complex ion, such as diammine silver ion ([Ag (NH 3 ) 2 ] + ), violeo ([CoCl 2 (NH 3 ) 4 ] + ), tetraammine zinc (II) ion ([[ Zn (NH 3 ) 4 ] 2+ ), tetraammine copper (II) ion ([Cu (NH 3 ) 4 ] 2+ ), tetraaqua copper (II) ion ([Cu (H 2 O) 4 ] 2+ ), thiocyanoiron (III)
Ion ([Fe (SCN)] 2+ ), hexaammine nickel (II) ion ([Ni (NH 3 ) 6 ] 2+ ), purpleo ([CoCl (NH 3 ) 5 ] 2+ ), hexaammine cobalt (III) ion ([Co (NH 3 ) 6 ] 3+ ), hexaaquacobalt (III) ion ([Co (H 2 O) 6 ] 3+ ) or hexaammine chromium (III) ion ([Cr (NH 3 ) 6 ] 3+ ) , Roseo ([Co (NH 3 ) 4 (H 2 O) 2 ] 3+ ) and the like.
また、本発明の抗菌剤は、発明2〜9に示す抗菌剤である。 Moreover, the antibacterial agent of this invention is an antibacterial agent shown to invention 2-9.
抗菌剤を樹脂に単に混練し練りこんだ場合と比べて、発明2〜9に示した特定のポリマー鎖にビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基を結合させた樹脂を有効成分として含有する抗菌剤は、ポリマー鎖に有効成分であるビスメチド酸(CF3SO2)2C−を含有させたことで、有効成分の揮発や溶出が抑制され、抗菌性が長期間に亘って持続する。 Compared to the case where the antibacterial agent is simply kneaded and kneaded into the resin, it contains a resin in which a specific polymer chain shown in inventions 2 to 9 is bonded with an organic group containing a bismethide acid group or a bismethide acid salt as an active ingredient. Since the antibacterial agent contains bismethide acid (CF 3 SO 2 ) 2 C—, which is an active ingredient, in the polymer chain, volatilization and elution of the active ingredient are suppressed, and the antibacterial property lasts for a long period of time.
また、一般式(1)で表される有機基を有する樹脂は、ビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基の含有が低濃度であっても、抗菌活性を示し、前記樹脂中における一般式(1)に記載の有機基であるビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基(CF3SO2)2C−の含有率が、抗菌剤に対して少なくとも0.1mol(モル)%以上で、その抗菌効果がみられ、1mol%以上では抗菌活性の高い効果がみられた。80mol%より多く加えても、その効果は変わらず、かえって酸性が強くなりすぎて扱いづらい。よって、含有率は0.1mol%以上、80mol%以下であることが好ましい。このように、前記抗菌剤は、ビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基(CF3SO2)2C−の含有が0.1mol%以上、80mol%以下となるように調製することが好ましい。 Further, the resin having an organic group represented by the general formula (1) exhibits antibacterial activity even when the content of the organic group containing a bismethide acid group or a bismethide acid salt is low, and the general formula in the resin The content of the organic group (CF 3 SO 2 ) 2 C— containing the bismethide acid group or bismethido acid salt, which is the organic group described in (1), is at least 0.1 mol (mol)% or more with respect to the antimicrobial agent The antibacterial effect was observed, and at 1 mol% or more, an effect with high antibacterial activity was observed. Even if it adds more than 80 mol%, the effect does not change, and on the contrary, the acidity becomes too strong and is difficult to handle. Therefore, the content is preferably 0.1 mol% or more and 80 mol% or less. As described above, the antibacterial agent is preferably prepared so that the content of the organic group (CF 3 SO 2 ) 2 C— containing a bismethide acid group or a bismethide acid salt is 0.1 mol% or more and 80 mol% or less. .
一般式(1)で表される有機基(ビスメチド酸基、ビスメチド酸塩を含む有機基)を有する繰り返し単位には、発明2の樹脂が有する一般式(2)で表される繰り返し単位(a)が挙げられる。一般式(2)で表される繰り返し単位を例示すると、発明3のエステル結合を有する一般式(3)で表される繰り返し単位(a−1)、発明4の主鎖にスチレン鎖を有する一般式(4)で表される繰り返し単位(a−2)、発明5の主鎖にノルボルネン環を有する一般式(5)で表される繰り返し単位(a−3)が挙げられる。 The repeating unit having an organic group represented by the general formula (1) (an organic group containing a bismethide acid group or a bismethide acid salt) includes a repeating unit represented by the general formula (2) of the resin of the invention 2 (a ). When the repeating unit represented by the general formula (2) is exemplified, the repeating unit (a-1) represented by the general formula (3) having an ester bond of the invention 3 and a styrene chain in the main chain of the invention 4 Examples include the repeating unit (a-2) represented by the formula (4) and the repeating unit (a-3) represented by the general formula (5) having a norbornene ring in the main chain of the invention 5.
[発明2]
前記樹脂が、一般式(2):
The resin is represented by the general formula (2):
(式(2)中、R1、R2は、それぞれ独立に、炭素数1〜4のフルオロアルキル基である。R3は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン原子または炭素数1〜4のフルオロアルキル基である。R4、R5は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基またはハロゲン原子である。R6は単結合、炭素数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基、またはこれらの組み合わせを含む2価の炭化水素基であり、エーテル結合、エステル結合、アミド結合またはウレタン結合を有していてもよく、R6に含まれる炭素原子の一部が珪素で置換されていてもよく、水素原子の一部または全部がフッ素原子または水酸基で置換されていてもよい。また、R3とR4またはR5とR6は、結合して環を形成してもよく、炭素数3〜12の単環式、二環式または多環式の構造を含んでもよい。CとAは共有結合またはイオン結合で結合し、Aは水素原子または陽イオンである。)
で表される繰り返し単位(a)を有する樹脂である発明1の抗菌剤。
(In Formula (2), R 1 and R 2 are each independently a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms. R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, or a carbon number. R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a halogen atom, and R 6 is a single bond, having 1 to 12 carbon atoms. A divalent hydrocarbon group containing a linear, branched or cyclic divalent hydrocarbon group, or a combination thereof, and may have an ether bond, an ester bond, an amide bond or a urethane bond, Some of the carbon atoms contained in R 6 may be substituted with silicon, and some or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms or hydroxyl groups, and R 3 and R 4 or R 5 And R 6 combine to form a ring And may include a monocyclic, bicyclic or polycyclic structure having 3 to 12 carbon atoms, C and A are bonded by a covalent bond or an ionic bond, and A is a hydrogen atom or a cation .)
The antibacterial agent of the invention 1 which is resin which has the repeating unit (a) represented by these.
上記、一般式(1)および一般式(2)における、R1またはR2としては、CF3、C2F5、直鎖状もしくは分枝鎖状のC3F7、C4F9が挙げられ、本発明の抗菌剤において、合成のし易さより、CF3が好適に用いられる。 In the above general formula (1) and general formula (2), as R 1 or R 2 , CF 3 , C 2 F 5 , linear or branched C 3 F 7 , C 4 F 9 are In the antibacterial agent of the present invention, CF 3 is preferably used because of its ease of synthesis.
[発明3]
前記繰り返し単位(a)が、下記一般式(3):
The repeating unit (a) is represented by the following general formula (3):
(式(3)中、R7は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子またはトリフルオロメチル基をである。R8は単結合、炭素数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基またはこれらの組み合わせを含む2価の炭化水素基であり、エーテル結合、エステル結合、アミド結合またはウレタン結合を有していてもよく、R8に含まれる炭素原子の一部が珪素で置換されていてもよく、水素原子の一部または全部がフッ素原子または水酸基で置換されていてもよい。CとAは共有結合またはイオン結合で結合し、Aは水素原子または陽イオンである。)
で表される繰り返し単位(a−1)である発明2の抗菌剤。
(In the formula (3), R 7 is a hydrogen atom, an alkyl group, a halogen atom or a trifluoromethyl group. R 8 is a single bond, a linear, branched or cyclic divalent group having 1 to 12 carbon atoms. Or a combination thereof, which may have an ether bond, an ester bond, an amide bond or a urethane bond, and a part of the carbon atoms contained in R 8 is silicon. And a part or all of hydrogen atoms may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group, C and A are bonded by a covalent bond or an ionic bond, and A is a hydrogen atom or a cation. .)
The antibacterial agent of the invention 2 which is the repeating unit (a-1) represented by these.
[発明4]
前記繰り返し単位(a)が、一般式(4):
The repeating unit (a) is represented by the general formula (4):
(式(4)中、R9は単結合、炭素数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基またはこれらの組み合わせである2価の炭化水素基であり、エーテル結合、エステル結合、アミド結合またはウレタン結合を有していてもよく、R9に含まれる炭素原子の一部が珪素で置換されていてもよく、水素原子の一部または全部がフッ素原子または水酸基で置換されていてもよい。CとAは共有結合またはイオン結合で結合し、Aは水素原子または陽イオンである。)
で表される繰り返し単位(a−2)である発明2の抗菌剤。
(In Formula (4), R 9 is a single bond, a linear, branched or cyclic divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or a divalent hydrocarbon group that is a combination thereof, and an ether. May have a bond, an ester bond, an amide bond, or a urethane bond, a part of carbon atoms contained in R 9 may be substituted with silicon, and a part or all of hydrogen atoms may be fluorine atoms or hydroxyl groups C and A are bonded by a covalent bond or an ionic bond, and A is a hydrogen atom or a cation.)
The antibacterial agent of the invention 2 which is the repeating unit (a-2) represented by these.
[発明5]
前記繰り返し単位(a)が、一般式(5):
The repeating unit (a) is represented by the general formula (5):
(式(5)中、R10は単結合、炭素数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基またはこれらの組み合わせである2価の炭化水素基であり、エーテル結合、エステル結合、アミド結合またはウレタン結合を有していてもよく、R10に含まれる炭素原子の一部が珪素で置換されていてもよく、水素原子の一部または全部がフッ素原子または水酸基で置換されていてもよい。CとAは共有結合またはイオン結合で結合し、Aは水素原子または陽イオンである。)
で表される繰り返し単位(a−3)である発明2の抗菌剤。
(In the formula (5), R 10 is a single bond, a linear, branched or cyclic divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or a divalent hydrocarbon group that is a combination thereof, and an ether. May have a bond, an ester bond, an amide bond or a urethane bond, a part of carbon atoms contained in R 10 may be substituted with silicon, and a part or all of hydrogen atoms may be fluorine atoms or hydroxyl groups C and A are bonded by a covalent bond or an ionic bond, and A is a hydrogen atom or a cation.)
The antibacterial agent of the invention 2 which is the repeating unit (a-3) represented by these.
さらに、本発明の抗菌剤において、繰り返し単位(a)に加え、抗菌剤の有効成分であるビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機基の含有率を調整する、または樹脂の溶剤溶解性、塗布性、機械的特性を調整する、あるいは架橋性官能基を導入するために発明6に記載の繰り返し単位(b−1)、または発明7に記載の繰り返し単位(b−2)を用いてもよい。繰り返し単位(b−1)は架橋基を含まない繰り返し単位であり、繰り返し(b−2)は架橋基を含む繰り返し単位である。 Further, in the antibacterial agent of the present invention, in addition to the repeating unit (a), the content of the organic group containing the bismethide acid group or bismethide acid salt which is an active ingredient of the antibacterial agent is adjusted, or the solvent solubility of the resin, coating The repeating unit (b-1) described in Invention 6 or the repeating unit (b-2) described in Invention 7 may be used in order to adjust the property and mechanical properties, or to introduce a crosslinkable functional group. . The repeating unit (b-1) is a repeating unit containing no crosslinking group, and the repeating unit (b-2) is a repeating unit containing a crosslinking group.
2. 繰り返し単位(a)
次いで、本発明の抗菌剤の構成物であるビスメチド酸基を有する繰り返し単位(a)について説明する。
2. Repeating unit (a)
Next, the repeating unit (a) having a bismethide acid group, which is a constituent of the antibacterial agent of the present invention, will be described.
一般式(1)に表されるビスメチド酸基を有する繰り返し単位には、発明2の樹脂が有する一般式(2)に表される繰り返し単位(a)が挙げられる。一般式(2)に記載の繰り返し単位(a)を例示すると、発明3のエステル結合を有する一般式(3)で表される繰り返し単位(a−1)、発明4に記載の主鎖にスチレン鎖を有する一般式(4)で表される繰り返し単位(a−2)、発明5に記載の主鎖にノルボルネン環を有する一般式(5)表される繰り返し単位(a−3)が挙げられる。その他、ビニル系の繰り返し単位(a)を含有する樹脂、アミド結合を有する繰り返し単位(a)がある。 Examples of the repeating unit having a bismethide acid group represented by the general formula (1) include the repeating unit (a) represented by the general formula (2) possessed by the resin of the invention 2. When the repeating unit (a) described in the general formula (2) is exemplified, the repeating unit (a-1) represented by the general formula (3) having an ester bond of the invention 3 and styrene in the main chain described in the invention 4 Examples include the repeating unit (a-2) represented by the general formula (4) having a chain, and the repeating unit (a-3) represented by the general formula (5) having a norbornene ring in the main chain described in the invention 5. . In addition, there are a resin containing a vinyl-based repeating unit (a) and a repeating unit (a) having an amide bond.
このように、発明2の抗菌剤が含有するビスメチド酸基を有する樹脂には、発明3のエステル結合を有する一般式(3)で表される繰り返し単位(a−1)、発明4の主鎖にスチレン鎖を有する一般式(4)で表される繰り返し単位(a−2)、発明5の主鎖にノルボルネン環を有する繰り返し単位(a−3)を含有する樹脂がある。その他、ビニル系の繰り返し単位(a)を含有する樹脂、アミド結合を有する繰り返し単位(a)を含有する樹脂が挙げられる。 Thus, the resin having a bismethide acid group contained in the antibacterial agent of the invention 2 includes the repeating unit (a-1) represented by the general formula (3) having an ester bond of the invention 3 and the main chain of the invention 4 There is a resin containing a repeating unit (a-2) represented by formula (4) having a styrene chain and a repeating unit (a-3) having a norbornene ring in the main chain of invention 5. Other examples include resins containing a vinyl-based repeating unit (a) and resins containing a repeating unit (a) having an amide bond.
発明3のエステル結合を有する一般式(3)で表される繰り返し単位(a−1)には、以下のエステル系繰り返し単位(a−1)の1〜3が挙げられる。
発明4のスチレン結合を有する一般式(4)で表される繰り返し単位(a−2)には、以下のスチレン系繰り返し単位(a−2)が挙げられる。
発明5の一般式(5)で表される繰り返し単位(a−3)には、主鎖にノルボルネン鎖を有する繰り返し単位(a−3)が挙げられる。 The repeating unit (a-3) represented by the general formula (5) of the invention 5 includes a repeating unit (a-3) having a norbornene chain in the main chain.
主鎖にノルボルネン鎖を有する繰り返し単位(a−3)
発明2の一般式(2)で表される繰り返し単位(a)には、以下のビニル系の繰り返し単位(a)のアミド系繰り返し単位(a)1、2等、トリスメチド酸基を有する繰り返し単位(a)等が挙げられる。
3.繰り返し単位(b−1)および(b−2)
次いで、本発明の抗菌剤に使用する樹脂が有してもよい繰り返し単位(b−1)および(b−2)について説明する。
3. Repeating units (b-1) and (b-2)
Next, the repeating units (b-1) and (b-2) that the resin used in the antibacterial agent of the present invention may have will be described.
本発明の抗菌剤において、繰り返し単位(a)に加え、抗菌剤の有効成分である一般式(1)に記載の有機基の含有率を調整する、または樹脂の溶剤溶解性、塗布性、機械的特性を調整する、あるいは架橋性官能基を導入するために発明6の繰り返し単位(b−1)、または発明7の繰り返し単位(b−2)を用いてもよい。繰り返し単位(b−1)は架橋基を含まない繰り返し単位であり、繰り返し単位(b−2)は架橋基を含む繰り返し単位である。 In the antibacterial agent of the present invention, in addition to the repeating unit (a), the content of the organic group described in the general formula (1), which is an active ingredient of the antibacterial agent, is adjusted, or the solvent solubility of the resin, applicability, machine The repeating unit (b-1) of the invention 6 or the repeating unit (b-2) of the invention 7 may be used for adjusting the mechanical properties or introducing a crosslinkable functional group. The repeating unit (b-1) is a repeating unit containing no crosslinking group, and the repeating unit (b-2) is a repeating unit containing a crosslinking group.
本発明の抗菌剤が含有する樹脂は、繰り返し単位(a)のみを含む重合体であってもよいし、繰り返し単位(a)と繰り返し単位(b−1)または繰り返し単位(b−2)を含む重合体であってもよい。 The resin contained in the antibacterial agent of the present invention may be a polymer containing only the repeating unit (a), or the repeating unit (a) and the repeating unit (b-1) or the repeating unit (b-2). It may be a polymer containing.
繰り返し単位(b−1)に多官能アクリレート等の多官能重合性化合物を用いた場合には、機械的強度の高い樹脂を得ることが可能となり、好適に採用される。 When a polyfunctional polymerizable compound such as a polyfunctional acrylate is used for the repeating unit (b-1), a resin having high mechanical strength can be obtained, which is preferably employed.
また、繰り返し単位(b−1)または繰り返し単位(b−2)に水酸基等の架橋部位を含有する樹脂は、イソシアネート化合物等の硬化剤との反応によって、架橋構造を有する樹脂とすることも可能であり、機械的強度の高い樹脂を得ることが可能となり、好適に採用される。 Moreover, the resin containing a crosslinking site such as a hydroxyl group in the repeating unit (b-1) or the repeating unit (b-2) can be made into a resin having a crosslinked structure by reaction with a curing agent such as an isocyanate compound. Therefore, it becomes possible to obtain a resin having high mechanical strength, which is preferably employed.
本発明の抗菌剤を含有する樹脂が有してもよい繰り返し単位(b−1)は一般式(6)で表される。
式中、R11は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン原子または炭素数1〜4のフルオロアルキル基を表す。R12、R13は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基またはハロゲン原子を表す。R14は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜35の直鎖状、分岐状もしくは環状の1価の炭化水素基またはこれらの組み合わせである1価の炭化水素基を表し、エーテル結合、エステル結合、アミド結合またはウレタン結合を有していてもよく、R14に含まれる炭素原子の一部が珪素で置換されていてもよく、水素原子の一部または全部がフッ素原子または水酸基で置換されていてもよい。 In the formula, R 11 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, or a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms. R <12> , R < 13 > represents a hydrogen atom, a C1-C4 alkyl group, or a halogen atom each independently. R 14 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a linear, branched or cyclic monovalent hydrocarbon group having 1 to 35 carbon atoms, or a monovalent hydrocarbon group that is a combination thereof, an ether bond, an ester bond May have an amide bond or a urethane bond, a part of carbon atoms contained in R 14 may be substituted with silicon, and a part or all of hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms or hydroxyl groups. May be.
また、R11とR12またはR13とR14は、結合して環を形成してもよく、炭素数3〜12の単環式、二環式または多環式の構造を含んでもよい。 R 11 and R 12 or R 13 and R 14 may combine to form a ring, and may contain a monocyclic, bicyclic or polycyclic structure having 3 to 12 carbon atoms.
本発明の抗菌剤を含有する樹脂が有してもよい繰り返し単位(b−2)は一般式(7)で表される。
式中、R11は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン原子または炭素数1〜4のフルオロアルキル基を表す。R12、R13は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基またはハロゲン原子を表し、R11とR12またはR13は、結合して環を形成してもよく、炭素数3〜12の単環式、二環式または多環式の構造を含んでもよい。R15は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜35の直鎖状、分岐状もしくは環状の1価の炭化水素基またはこれらの組み合わせである1価の炭化水素基を表し、エーテル結合、エステル結合、アミド結合またはウレタン結合を有していてもよく、R15に含まれる炭素原子の一部が珪素で置換されていてもよく、水素原子の一部または全部がフッ素原子または水酸基で置換されていてもよい。R15は水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、アルケニル基、アルキニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロロシリル基、アルコキシシリル基またはヒドロシリル基から選ばれた架橋剤と反応し得る少なくとも一つの基であることを特徴とする。 In the formula, R 11 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, or a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms. R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a halogen atom, and R 11 and R 12 or R 13 may combine to form a ring, A monocyclic, bicyclic or polycyclic structure of 3 to 12 may be included. R 15 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a linear, branched or cyclic monovalent hydrocarbon group having 1 to 35 carbon atoms, or a monovalent hydrocarbon group that is a combination thereof, an ether bond, an ester bond May have an amide bond or a urethane bond, a part of carbon atoms contained in R 15 may be substituted with silicon, and a part or all of hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms or hydroxyl groups. May be. R 15 is at least one capable of reacting with a crosslinking agent selected from a hydroxyl group, mercapto group, carboxyl group, amino group, epoxy group, alkenyl group, alkynyl group, acryloyl group, methacryloyl group, chlorosilyl group, alkoxysilyl group or hydrosilyl group. It is characterized by two groups.
繰り返し単位(b−2)として、無水マレイン酸、アクリル酸エステル、含フッ素アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、含フッ素メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、含フッ素スチレン系化合物、ビニルエーテル、含フッ素ビニルエーテル、アリルエーテル、含フッ素アリルエーテル、オレフィン類、含フッ素オレフィン類、ノルボルネン化合物、含フッ素ノルボルネン化合物から選ばれた少なくとも一種類以上の化合物が採用される。 As repeating unit (b-2), maleic anhydride, acrylic ester, fluorine-containing acrylic ester, methacrylic ester, fluorine-containing methacrylate ester, styrene compound, fluorine-containing styrene compound, vinyl ether, fluorine-containing vinyl ether, allyl At least one compound selected from ethers, fluorine-containing allyl ethers, olefins, fluorine-containing olefins, norbornene compounds, and fluorine-containing norbornene compounds is employed.
繰り返し単位(b−2)としてのアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルは、繰り返し単位(a)、繰り返し単位(a−1)、繰り返し単位(a−2)または繰り返し単位(a−3)と共重合可能であれば、そのエステル側鎖について特に制限なく使用できる。 The acrylic ester or methacrylic ester as the repeating unit (b-2) is copolymerized with the repeating unit (a), the repeating unit (a-1), the repeating unit (a-2) or the repeating unit (a-3). If possible, the ester side chain can be used without particular limitation.
アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルについて、公知の化合物を例示するならば、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、n−プロピルアクリレート、n−プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、n−ブチルアクリレート、n−ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、n−ヘキシルアクリレート、n−ヘキシルメタクリレート、n−オクチルアクリレート、n−オクチルメタクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ラウリルアクリレート、ラウリルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のアクリル酸またはメタクリル酸のアルキルエステル、エチレングリコール、プロピレングリコール、あるいはテトラメチレングリコール基を含有したアクリレートまたはメタクリレートが挙げられる。さらに、不飽和アミドであるアクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、またはジアセトンアクリルアミドが挙げられる。また、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルコキシシラン含有のビニルシランやアクリル酸またはメタクリル酸エステル、tert−ブチルアクリレート、tert−ブチルメタクリレート、3−オキソシクロヘキシルアクリレート、3−オキソシクロヘキシルメタクリレート、アダマンチルアクリレート、アダマンチルメタクリレート、アルキルアダマンチルアクリレート、アルキルアダマンチルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、トリシクロデカニルアクリレート、トリシクロデカニルメタクリレート、ラクトン環またはノルボルネン環から選ばれる環構造を有したアクリレートまたはメタクリレート、アクリル酸、あるいはメタクリル酸が挙げられる。また、α位にシアノ基を含有した上記アクリレート類化合物や、類似化合物としてマレイン酸、フマル酸または無水マレイン酸が挙げられる。 Examples of known compounds for acrylic acid esters or methacrylic acid esters include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl acrylate, isopropyl methacrylate, and n-butyl acrylate. , N-butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, n-hexyl acrylate, n-hexyl methacrylate, n-octyl acrylate, n-octyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, lauryl acrylate, lauryl methacrylate, 2- Hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, - hydroxypropyl acrylate, alkyl esters of acrylic acid or methacrylic acid such as 2-hydroxypropyl methacrylate, ethylene glycol, propylene glycol, or include acrylates or methacrylates containing tetramethylene glycol group. Furthermore, acrylamide which is unsaturated amide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, or diacetone acrylamide is mentioned. In addition, acrylonitrile, methacrylonitrile, alkoxysilane-containing vinyl silane, acrylic acid or methacrylic acid ester, tert-butyl acrylate, tert-butyl methacrylate, 3-oxocyclohexyl acrylate, 3-oxocyclohexyl methacrylate, adamantyl acrylate, adamantyl methacrylate, alkyl Examples include adamantyl acrylate, alkyl adamantyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, tricyclodecanyl acrylate, tricyclodecanyl methacrylate, acrylate or methacrylate having a ring structure selected from a lactone ring or a norbornene ring, acrylic acid, or methacrylic acid. It is done. In addition, the above acrylate compounds containing a cyano group at the α-position, and similar compounds include maleic acid, fumaric acid or maleic anhydride.
また、繰り返し単位(b−2)として、含フッ素アクリル酸エステル、含フッ素メタクリル酸エステルには、フッ素原子またはフッ素原子を有する基がアクリルのα位に含有した単量体、またはエステル部位にフッ素原子を含有した置換基を含むアクリル酸エステルあるいはメタクリル酸エステルであって、α位とエステル部ともにフッ素を含有した含フッ素化合物が挙げられ、さらにα位にシアノ基が導入されていてもよい。さらに、α位に含フッ素アルキル基が導入された重合性化合物としては、上述した非フッ素系のアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルのα位にトリフルオロメチル基、トリフルオロエチル基、またはノナフルオロ−n−ブチル基から選ばれる含フッ素基が導入された重合性化合物が採用される。 As the repeating unit (b-2), a fluorine-containing acrylic ester or a fluorine-containing methacrylate ester includes a fluorine atom or a monomer containing a fluorine atom group at the α-position of acrylic, or a fluorine atom at the ester site. An acrylic ester or methacrylic ester containing a substituent containing an atom, which includes a fluorine-containing compound containing fluorine at both the α-position and the ester moiety, and a cyano group may be introduced at the α-position. Furthermore, as a polymerizable compound having a fluorine-containing alkyl group introduced at the α-position, a trifluoromethyl group, a trifluoroethyl group, or nonafluoro-n at the α-position of the non-fluorinated acrylic acid ester or methacrylic acid ester described above. A polymerizable compound into which a fluorine-containing group selected from butyl groups is introduced is employed.
一方、そのエステル部位にフッ素を含有する重合性化合物としては、エステル部位にパーフルオロアルキル基、フルオロアルキル基であるフッ素アルキル基や、またエステル部位に環状構造とフッ素原子を共存する重合性化合物であって、その環状構造が、フッ素原子、トリフルオロメチル基、またはヘキサフルオロカルビノール基で置換された含フッ素ベンゼン環、含フッ素シクロペンタン環、含フッ素シクロヘキサン環、または含フッ素シクロヘプタン環等を有する単位を有するアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルが挙げられる。また、エステル部位が含フッ素のt−ブチルエステル基であるアクリル酸またはメタクリル酸のエステルも使用可能である。 On the other hand, the polymerizable compound containing fluorine at the ester site includes a perfluoroalkyl group at the ester site, a fluoroalkyl group that is a fluoroalkyl group, and a polymerizable compound that has a cyclic structure and a fluorine atom at the ester site. And the cyclic structure includes a fluorine-containing benzene ring, a fluorine-containing cyclopentane ring, a fluorine-containing cyclohexane ring, or a fluorine-containing cycloheptane ring substituted with a fluorine atom, a trifluoromethyl group, or a hexafluorocarbinol group. Acrylic acid ester or methacrylic acid ester having a unit to be included. Further, an ester of acrylic acid or methacrylic acid whose ester moiety is a fluorine-containing t-butyl ester group can also be used.
これらの含フッ素の官能基は、α位の含フッ素アルキル基と併用した重合性化合物を用いることも可能である。そのような重合性化合物としては、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルアクリレート、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルアクリレート、ヘプタフルオロイソプロピルアクリレート、1,1−ジヒドロヘプタフルオロ−n−ブチルアクリレート、1,1,5−トリヒドロオクタフルオロ−n−ペンチルアクリレート、1,1,2,2−テトラヒドロトリデカフルオロ−n−オクチルアクリレート、1,1,2,2−テトラヒドロヘプタデカフルオロ−n−デシルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルメタクリレート、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート、ヘプタフルオロイソプロピルメタクリレート、1,1−ジヒドロヘプタフルオロ−n−ブチルメタクリレート、1,1,5−トリヒドロオクタフルオロ−n−ペンチルメタクリレート、1,1,2,2−テトラヒドロトリデカフルオロ−n−オクチルメタクリレート、1,1,2,2−テトラヒドロヘプタデカフルオロ−n−デシルメタクリレート、パーフルオロシクロヘキシルメチルアクリレート、パーフルオロシクロヘキシルメチルメタクリレート、6−[3、3、3−トリフルオロ−2−ヒドロキシ−2−(トリフルオロメチル)プロピル]ビシクロ[2.2.1]ヘプチル−2−イルアクリレート、6−[3、3、3−トリフルオロ−2−ヒドロキシ−2−(トリフルオロメチル)プロピル]ビシクロ[2.2.1]ヘプチル−2−イル2−(トリフルオロメチル)アクリレート、6−[3、3、3−トリフルオロ−2−ヒドロキシ−2−(トリフルオロメチル)プロピル]ビシクロ[2.2.1]ヘプチル−2−イルメタクリレート、1、4−ビス(1、1、1、3、3、3−ヘキサフルオロ−2−ヒドロキシイソプロピル)シクロヘキシルアクリレート、1、4−ビス(1、1、1、3、3、3−ヘキサフルオロ−2−ヒドロキシイソプロピル)シクロヘキシルメタクリレート、または1、4−ビス(1、1、1、3、3、3−ヘキサフルオロ−2−ヒドロキシイソプロピル)シクロヘキシル 2−トリフルオロメチルアクリレートが挙げられる。含フッ素重合性化合物は、得られる樹脂の溶剤溶解性の向上や表面特性ならびに撥水性の向上に有効であり、本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂の有する繰り返し単位(b−1)を与える重合性化合物として、好ましく採用される。 As these fluorine-containing functional groups, it is also possible to use a polymerizable compound used in combination with the α-position fluorine-containing alkyl group. Such polymerizable compounds include 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl acrylate, 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl acrylate, Heptafluoroisopropyl acrylate, 1,1-dihydroheptafluoro-n-butyl acrylate, 1,1,5-trihydrooctafluoro-n-pentyl acrylate, 1,1,2,2-tetrahydrotridecafluoro-n-octyl Acrylate, 1,1,2,2-tetrahydroheptadecafluoro-n-decyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl methacrylate, 1,1,1, 3,3,3-hexafluoroisopropyl methacrylate, hep Fluoroisopropyl methacrylate, 1,1-dihydroheptafluoro-n-butyl methacrylate, 1,1,5-trihydrooctafluoro-n-pentyl methacrylate, 1,1,2,2-tetrahydrotridecafluoro-n-octyl methacrylate 1,1,2,2-tetrahydroheptadecafluoro-n-decyl methacrylate, perfluorocyclohexylmethyl acrylate, perfluorocyclohexylmethyl methacrylate, 6- [3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2- ( Trifluoromethyl) propyl] bicyclo [2.2.1] heptyl-2-yl acrylate, 6- [3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2- (trifluoromethyl) propyl] bicyclo [2. 2.1] Heptyl-2-yl -(Trifluoromethyl) acrylate, 6- [3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2- (trifluoromethyl) propyl] bicyclo [2.2.1] heptyl-2-yl methacrylate, 4-bis (1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-hydroxyisopropyl) cyclohexyl acrylate, 1,4-bis (1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2- Hydroxyisopropyl) cyclohexyl methacrylate or 1,4-bis (1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-hydroxyisopropyl) cyclohexyl 2-trifluoromethyl acrylate. The fluorine-containing polymerizable compound is effective for improving the solvent solubility and surface characteristics and water repellency of the resin obtained, and contains the repeating unit (b-1) of the resin which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention. It is preferably employed as the polymerizable compound to be given.
また、繰り返し単位(b−1)として、スチレン系化合物、含フッ素スチレン系化合物は、スチレン、フッ素化スチレン、またはヒドロキシスチレンの他、ヘキサフルオロカルビノール基またはその水酸基を保護した官能基が一つまたは複数個結合した化合物が挙げられる。即ち、フッ素原子またはトリフルオロメチル基で水素を置換したスチレンまたはヒドロキシスチレン、α位にハロゲン、アルキル基、含フッ素アルキル基が結合した上記スチレン、パーフルオロビニル基含有のスチレンが挙げられる。含フッ素スチレン系化合物は、含フッ素アクリル酸エステルと同様に、溶剤溶解性の向上や、得られる樹脂の表面特性ならびに撥水性の向上に有効であり、本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂の有する繰り返し単位(b−1)を与える重合性化合物として、好ましく採用される。 As the repeating unit (b-1), the styrene compound and the fluorine-containing styrene compound have one functional group that protects the hexafluorocarbinol group or its hydroxyl group in addition to styrene, fluorinated styrene, or hydroxystyrene. Or the compound which couple | bonded two or more is mentioned. That is, styrene or hydroxystyrene substituted with hydrogen by a fluorine atom or a trifluoromethyl group, the above styrene having a halogen, an alkyl group or a fluorine-containing alkyl group bonded to the α-position, or a styrene containing a perfluorovinyl group. The fluorine-containing styrene-based compound is a resin that is effective in improving solvent solubility, improving the surface characteristics and water repellency of the resulting resin, and is an effective component of the antibacterial agent of the present invention, like the fluorine-containing acrylic ester. Is preferably employed as the polymerizable compound that gives the repeating unit (b-1).
また、繰り返し単位(b−1)として、ビニルエーテル、含フッ素ビニルエーテル、アリルエーテル、含フッ素アリルエーテルは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシブチル基から選ばれたヒドロキシル基を含有するアルキルビニルエーテルあるいはアルキルアリルエーテルが上げられる。また、シクロヘキシル基、ノルボルネル基、芳香環やその環状構造内に水素やカルボニル結合を有した環状型ビニル、アリルエーテル、上記官能基の水素の一部または全部がフッ素原子で置換された含フッ素ビニルエーテル、または含フッ素アリルエーテルが挙げられる。 In addition, as the repeating unit (b-1), vinyl ether, fluorine-containing vinyl ether, allyl ether, fluorine-containing allyl ether is a hydroxyl group selected from a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hydroxyethyl group, and a hydroxybutyl group. Alkyl vinyl ethers or alkyl allyl ethers containing groups are raised. In addition, cyclohexyl group, norbornel group, aromatic ring and cyclic vinyl having hydrogen or carbonyl bond in its cyclic structure, allyl ether, fluorine-containing vinyl ether in which part or all of hydrogen of the above functional group is substituted with fluorine atom Or fluorine-containing allyl ether.
また、繰り返し単位(b−1)として、ビニルエステル、ビニルシラン、オレフィン、含フッ素オレフィン、ノルボルネン化合物、含フッ素ノルボルネン化合物、またはその他の重合性不飽和結合を含有した化合物であれば特に制限なく使用可能である。 In addition, as the repeating unit (b-1), any vinyl ester, vinyl silane, olefin, fluorine-containing olefin, norbornene compound, fluorine-containing norbornene compound, or other compound containing a polymerizable unsaturated bond can be used without particular limitation. It is.
また、繰り返し単位(b−1)としての炭化水素系のオレフィンは、エチレン、プロピレン、イソブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、フッ化炭化水素系のオレフィンは、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、またはヘキサフルオロイソブテンが挙げられる。 The hydrocarbon olefins as the repeating unit (b-1) are ethylene, propylene, isobutene, cyclopentene, cyclohexene, and fluorinated hydrocarbon olefins are vinyl fluoride, vinylidene fluoride, trifluoroethylene, and chloroethylene. Examples include trifluoroethylene, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, or hexafluoroisobutene.
また、繰り返し単位(b−1)としてのノルボルネン化合物は、ノルボルネン、1−メチルノルボルネン、5−メチルノルボルネン、5−エチルノルボルネン、5,6−ジメチルノルボルネン、7−メチルノルボルネン、5,5,6−トリメチルノルボルネン、トリシクロ[4.3.0.12.5 ]−3−デセン、トリシクロ[4.4.0.12.5]−3−ウンデセン、テトラシクロ[4.4.0.12.5 .17.10]−3−ドデセン、8−メチルテトラシクロ[4.4.0.12.5 .17.10]−3−ドデセン、または8−エチルテトラシクロ[4.4.0.12.5 .17.10]−3−ドデセンが挙げられる。尚、以上の重合性化合物は単独でも2種以上の併用で使用してもよい。 The norbornene compound as the repeating unit (b-1) is norbornene, 1-methylnorbornene, 5-methylnorbornene, 5-ethylnorbornene, 5,6-dimethylnorbornene, 7-methylnorbornene, 5,5,6- Trimethylnorbornene, tricyclo [4.3.0.12.5] -3-decene, tricyclo [4.4.0.12.5] -3-undecene, tetracyclo [4.4.0.12.5. 17.10] -3-dodecene, 8-methyltetracyclo [4.4.0.12.5. 17.10] -3-dodecene, or 8-ethyltetracyclo [4.4.0.12.5. 17.10] -3-dodecene. The above polymerizable compounds may be used alone or in combination of two or more.
繰り返し単位(b−2)として、特に以下の重合性化合物を用いることが好ましい。 As the repeating unit (b-2), it is particularly preferable to use the following polymerizable compound.
アクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸ヒドロキシプロピル、アクリル酸4−ヒドロキシブチル、アクリル酸3−(トリメトキシシリル)プロピル、メタクリル酸3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸エチル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸ヒドロキシプロピル、メタクリル酸3−(トリメトキシシリル)プロピル、メタクリル酸3−[トリス(トリメチルシリルオキシ)シリル]プロピル、メタクリル酸2−(トリメチルシリルオキシ)エチル、メタクリル酸3−(トリエトキシシリル)プロピル、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、[ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル]トリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、トリエトキシビニルシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−[2−(N−ビニルベンジルアミノ)エチル]−3−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、アリルトリクロロシラン、トリクロロビニルシラン、3−メチル−1−ペンテン−4−イン−3−オール、2−(フルフリルチオ)エチルアミン、trans−アコニット酸、アクリル酸、4−アミノけい皮酸、アンゲリカ酸、2−アセトアミドアクリル酸、3−ブテン−1,2,3−トリカルボン酸、2−ブロモけい皮酸、4−ブロモクロトン酸、2−ベンジルアクリル酸、カフェイン酸、4−クロロけい皮酸、trans−けい皮酸、シトラコン酸、trans−p−クマル酸、trans−o−クマル酸、trans−m−クマル酸、クロトン酸、α−シアノけい皮酸、1−シクロヘキセン−1−カルボン酸、1−シクロペンテンカルボン酸、α−シアノ−4−ヒドロキシけい皮酸、トラウマチン酸、trans−2−デセン酸、3,4−ジメトキシけい皮酸、trans−2,3−ジメトキシけい皮酸、trans−2,5−ジクロロけい皮酸、フマル酸、フマル酸モノエチル、trans−2−ヘキセン酸、2−ヘプテン酸、イタコン酸モノメチル、マレイン酸 モノアミド、メサコン酸、メタクリル酸、4−メチル−2−ペンテン酸、trans,trans−ムコン酸、ムコブロム酸、ムコクロロ酸、3−メチルクロトン酸、4−メトキシけい皮酸、こはく酸モノ(2−アクリロイルオキシエチル)、3−(5−ニトロ−2−フリル)アクリル酸、3−(3−ピリジル)アクリル酸、α−フェニルけい皮酸、シキミ酸、チグリン酸、2−チオフェンアクリル酸、2−(トリフルオロメチル)アクリル酸、3−(トリフルオロメチル)けい皮酸、4−(トリフルオロメチル)けい皮酸、2−(トリフルオロメチル)けい皮酸、アリルメルカプタン、アリルグリシジルエ−テル、1,3−ブタジエンモノエポキシド、1,2−エポキシ−5−ヘキセン、1,2−エポキシ−9−デセン、アロバルビタ−ル、1,9−デカジエン、1,11−ドデカジエン、ジシクロペンタジエン、2,5−ジメチル−1,5−ヘキサジエン、ジイソプロピリデンアセトン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、ジアリルマロン酸ジエチル、1,3−ジベンジリデン−2−シクロヘキサノン、2,6−ジメチル−2,4,6−オクタトリエン、1,5,9−デカトリエン、9,10−エポキシ−1,5−シクロドデカジエン、ファルネシルアセタート、ゲラニル−リナロール、ゲラニル ニトリル、1,5−ヘキサジエン、1,4−ヘキサジエン、1,5−ヘキサジエン−3,4−ジオール、イソプレン、(±)−リモネン、ミルセン、メチルシクロペンタジエン、2,5−ノルボルナジエン、1,7−オクタジエン、フマル酸モノエチル、マレイン酸水素エチル、マレイン酸 モノオクチル、マレイン酸モノメチル、フマル酸モノイソプロピル、こはく酸モノ(2−アクリロイルオキシエチル)、6−アクリルアミドヘキサン酸、アクリルアミド、アリルアミン、1−アリル−2−チオ尿素、1−アリル−3−(2−ヒドロキシエチル)−2−チオ尿素、アリル尿素、3−アミノクロトン酸メチル、3−アミノ−5,5−ジメチル−2−シクロヘキセン−1−オン、S−アリル−L−システイン、3−アミノ−4,4,4−トリフルオロクロトン酸 エチル、3−アミノ−2−シクロヘキセン−1−オン、3−ベンザルブチルアミド、クロトンアミド、けい皮酸アミド、2−(1−シクロヘキセニル)エチルアミン、メタクリル酸グリシジルまたはポリエチレングリコールジアクリレートを含む下記の多官能重合性化合物が挙げられる。
特に、ポリエチレングリコールジアクリレート、スチレン、2,3,4,5,6−ペンタフルオロスチレン、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリロニトリル、2−ノルボルネン等が好適に用いられる。 In particular, polyethylene glycol diacrylate, styrene, 2,3,4,5,6-pentafluorostyrene, 2-hydroxyethyl methacrylate, acrylonitrile, 2-norbornene and the like are preferably used.
4.架橋剤
次いで、架橋剤について説明する。
4). Next, the crosslinking agent will be described.
本発明において、抗菌剤の耐久性を高めるために水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、アルケニル基、アルキニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロロシリル基、アルコキシシリル基またはヒドロシリル基等の官能基と反応し得る架橋剤を用いてもよい。 In the present invention, in order to enhance the durability of the antibacterial agent, hydroxyl group, mercapto group, carboxyl group, amino group, epoxy group, alkenyl group, alkynyl group, acryloyl group, methacryloyl group, chlorosilyl group, alkoxysilyl group or hydrosilyl group You may use the crosslinking agent which can react with a functional group.
このような架橋剤としては、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アルデヒド系化合物、クロロシラン類、アルコキシシラン類、メラミン系化合物、イオウまたはイオウ化合物が挙げられる。これらの化合物の中で多官能化合物が、本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を合成した際、樹脂の架橋密度を挙げることが可能で、機械的強度に優れた樹脂が得られることから、好ましく採用される。 Examples of such a crosslinking agent include isocyanate compounds, epoxy compounds, aldehyde compounds, chlorosilanes, alkoxysilanes, melamine compounds, sulfur and sulfur compounds. Among these compounds, when a polyfunctional compound synthesizes a resin that is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, it is possible to increase the crosslink density of the resin, and a resin having excellent mechanical strength can be obtained. Are preferably employed.
また、本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を合成において、過酸化物やアゾ化合物を架橋剤に使用して、ラジカル反応によって架橋させる樹脂の合成方法も採用可能であり、得られる樹脂に耐久性が得られることからも、本発明の抗菌剤に特に好ましく採用される。 Further, in the synthesis of a resin that is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, a method of synthesizing a resin that is crosslinked by radical reaction using a peroxide or an azo compound as a crosslinking agent can also be adopted. Since durability is obtained, it is particularly preferably employed in the antibacterial agent of the present invention.
本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を合成において架橋剤として使用し、水酸基やアミノ基等と反応して樹脂に架橋構造を形成するイソシアネート化合物としては、1,4−フェニレンジイソシアナート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、3,3’-ジクロロビフェニル−4,4’-ジイソシアナート、ジシクロヘキシルメタン―4,4’−ジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、m−キシリレンジイソシアナート、トリレン-2,6−ジイソシアナート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアナート、ナフタレンジイソシアネート、またはイソホロンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物が挙げられる。また、当該ジイソシアネート化合物のウレチジンジオン型二量化物、ビウレット型三量化物、イソシアヌレート型三量化物、1,3−プロパンジオール、トリメチロールプロパン等のポリオールのアダクト体等が挙げられる。また、トリフェニルメタンイソシアネート、またはトリス(イソシアナートファニル)チオホスフェイト等のトリイソシアネート等が挙げられる。 The resin which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention is used as a crosslinking agent in the synthesis, and as an isocyanate compound that reacts with a hydroxyl group or an amino group to form a crosslinked structure in the resin, 1,4-phenylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 3,3′-dichlorobiphenyl-4,4′-diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, And diisocyanate compounds such as tolylene-2,6-diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, or isophorone diisocyanate. Moreover, the adduct body of polyols, such as a uretidine dione type dimerization product, biuret type trimerization product, isocyanurate type trimerization product of the diisocyanate compound, 1,3-propanediol, and trimethylolpropane, and the like. Moreover, triisocyanate, such as triphenylmethane isocyanate or tris (isocyanatophanyl) thiophosphate, etc. are mentioned.
本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂の合成において、化合物としての安定性があり、得られる樹脂に柔軟性が得られることより、ヘキサメチレンジイソシアネートが特に好ましく採用される。 In the synthesis of the resin which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, hexamethylene diisocyanate is particularly preferably employed because it is stable as a compound and flexibility is obtained in the resulting resin.
本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を合成において架橋剤として使用し、カルボキシル基等と反応して架橋構造を形成するエポキシ化合物としては、グリシジルエーテル系化合物、グリシジルエステル系化合物、グリシジルアミン系化合物、または脂環式系化合物等が挙げられる。例えば、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、2,2―ビス(4−グリシジルオキシフェニル)プロパン、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸ジグリシジル、1,7−オクタジエンジエポキシド、1,5−ヘキサジエンジエポキシド、イソシアヌル酸トリグリシジル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,3−ブタジエンモノエポキシド、1,2−エポキシ−5−ヘキセン、または1,2−エポキシ−9−デセン等が挙げられる。本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂の合成において、適度な反応性をもった1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルは特に好ましく採用される。 As an epoxy compound that uses a resin as an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention as a crosslinking agent in synthesis and forms a crosslinked structure by reacting with a carboxyl group or the like, a glycidyl ether compound, a glycidyl ester compound, or a glycidyl amine compound is used. A compound, an alicyclic compound, and the like. For example, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 2,2-bis (4-glycidyloxyphenyl) propane, diglycidyl 1,2-cyclohexanedicarboxylate, 1,7-octadiene diepoxide, 1,5-hexadienedi Examples thereof include epoxide, triglycidyl isocyanurate, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,3-butadiene monoepoxide, 1,2-epoxy-5-hexene, and 1,2-epoxy-9-decene. In the synthesis of a resin that is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, 1,4-butanediol diglycidyl ether having moderate reactivity is particularly preferably employed.
本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を合成において架橋剤として使用し、フェノール性水酸基等と反応して架橋構造を形成するアルデヒド系化合物としては、ホルムアルデヒド、ホルマリン水溶液、パラホルムアルデヒド、トリオキサン、アセトアルデヒド、ポリオキシメチレンまたはプロピオンアルデヒドが挙げられる。本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂の合成において、適度な反応性があり、取り扱いが容易であることより、パラホルムアルデヒドが特に好ましく採用される。 Resin, which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, is used as a crosslinking agent in synthesis, and aldehyde compounds that react with phenolic hydroxyl groups to form a crosslinked structure include formaldehyde, formalin aqueous solution, paraformaldehyde, trioxane, acetaldehyde. , Polyoxymethylene or propionaldehyde. In the synthesis of a resin that is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, paraformaldehyde is particularly preferably employed because it has moderate reactivity and is easy to handle.
本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を合成において架橋剤として使用し、シロキサン結合を形成する架橋反応に有用なクロロシラン類としては、ジメチルジクロロシラン、ジエチルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、ジビニルジクロロシラン、メチルジクロロシラン、エチルジクロロシラン、フェニルジクロロシラン、ビニルジクロロシラン、ジクロロシラン、メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、トリクロロシラン、テトラクロロシラン、1,2−ビス(トリクロロシリル)エタン、ビス(トリクロロシリル)アセチレン、3−クロロプロピルトリクロロシラン、シクロヘキシルトリクロロシラン、トリクロロ(1H,1H,2H,2H−トリデカフルオロ−n−オクチル)シラン、トリクロロ-2-シアノエチルシラン、またはフェニルトリクロロシランが挙げられる。本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂の合成において、反応性がよく、安価であり入手し易いことより、ジメチルジクロロシランが特に好ましく採用される。 Resin, which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, is used as a crosslinking agent in synthesis, and chlorosilanes useful for the crosslinking reaction that forms a siloxane bond include dimethyldichlorosilane, diethyldichlorosilane, diphenyldichlorosilane, and divinyldichlorosilane. , Methyldichlorosilane, ethyldichlorosilane, phenyldichlorosilane, vinyldichlorosilane, dichlorosilane, methyltrichlorosilane, ethyltrichlorosilane, phenyltrichlorosilane, vinyltrichlorosilane, trichlorosilane, tetrachlorosilane, 1,2-bis (trichlorosilyl) ) Ethane, bis (trichlorosilyl) acetylene, 3-chloropropyltrichlorosilane, cyclohexyltrichlorosilane, trichloro (1H, 1H, 2H, 2H-tridecafluor -n- octyl) silane, trichloro-2-cyano-ethyl silane or phenyl trichlorosilane, and the like. In the synthesis of the resin which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, dimethyldichlorosilane is particularly preferably employed because it is highly reactive, inexpensive and easily available.
本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を合成において架橋剤として使用される、シロキサン結合を形成する架橋反応に有用なアルコキシシラン類としては、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジビニルジメトキシシラン、メチルジメトキシシラン、エチルジメトキシシラン、フェニルジメトキシシラン、ビニルジメトキシシラン、ジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、トリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、メチルジエトキシシラン、エチルジエトキシシラン、フェニルジエトキシシラン、ビニルジエトキシシラン、ジエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリエトキシシラン、テトラエトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−(2−アミノエチルアミノ)プロピルトリメトキシシラン、3−(2−アミノエチルアミノ)プロピルトリエトキシシラン、ビス[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アミン、1,2−ビス(トリメトキシシリル)エタン、ベンジルトリエトキシシラン、(3-ブロモプロピル)トリメトキシシラン、3−トリメトキシシリルプロピル クロリド、2-シアノエチルトリエトキシシラン、(クロロメチル)トリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、(3−メルカプトプロピル)トリメトキシシラン、(3−メルカプトプロピル)トリエトキシシラン、1,1,1−トリフルオロ−3−(トリメトキシシリル)プロパン、トリエトキシフェニルシラン、トリメトキシフェニルシラン、トリメトキシ(4−メトキシフェニル)シラン、またはトリメトキシ(p−トリル)シランが挙げられる。本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂の合成において、反応性がよく、安価であり入手し易いことより、ジメチルジメトキシシランが特に好ましく採用される。 Examples of the alkoxysilanes useful for the crosslinking reaction for forming a siloxane bond used as a crosslinking agent in the synthesis of the resin which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention include dimethyldimethoxysilane, diethyldimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, divinyl Dimethoxysilane, methyldimethoxysilane, ethyldimethoxysilane, phenyldimethoxysilane, vinyldimethoxysilane, dimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, trimethoxysilane, tetramethoxysilane, Dimethyldiethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, divinyldiethoxysilane, methyldiethoxysilane, ethyldiethoxysilane, Nyldiethoxysilane, vinyldiethoxysilane, diethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, phenyltriethoxysilane, vinyltriethoxysilane, triethoxysilane, tetraethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3- (2-aminoethylamino) propyltrimethoxysilane, 3- (2-aminoethylamino) propyltriethoxysilane, bis [3- (trimethoxysilyl) propyl] amine, 1,2-bis (trimethoxysilyl) ) Ethane, benzyltriethoxysilane, (3-bromopropyl) trimethoxysilane, 3-trimethoxysilylpropyl chloride, 2-cyanoethyltriethoxysilane, (chloromethyl) triethoxysilane, cyclohexyltrimethoxysilane 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, (3-mercaptopropyl) trimethoxysilane, (3-mercaptopropyl) triethoxysilane, 1,1, Examples include 1-trifluoro-3- (trimethoxysilyl) propane, triethoxyphenylsilane, trimethoxyphenylsilane, trimethoxy (4-methoxyphenyl) silane, or trimethoxy (p-tolyl) silane. In the synthesis of the resin which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, dimethyldimethoxysilane is particularly preferably employed because it is highly reactive, inexpensive and easily available.
本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を合成において架橋剤として使用される、水酸基等と反応して架橋構造を形成するメラミン系化合物としては、メラミン、メチロール化メラミン、メチロール化メラミン誘導体が挙げられる。また、メチロール化メラミンに低級アルコールを反応させて部分的あるいは完全にエーテル化した化合物を用いることができる。また、メラミン系化合物単量体あるいは2量体以上の多量体のいずれでもよく、これらの混合物でもよい。 Examples of the melamine compound used as a crosslinking agent in the synthesis of the resin that is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention and reacting with a hydroxyl group to form a crosslinked structure include melamine, methylolated melamine, and methylolated melamine derivatives. It is done. In addition, a compound obtained by reacting methylolated melamine with a lower alcohol and partially or completely etherified can be used. Further, it may be either a melamine compound monomer or a dimer or higher multimer, or a mixture thereof.
本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂の合成において、反応性がよく取り扱いが容易なことより、メチロール化メラミンとその誘導体が特に好ましく採用される。 In the synthesis of a resin which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, methylolated melamine and its derivatives are particularly preferably employed because of good reactivity and easy handling.
本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を合成において架橋剤として使用される、アルケニル基、アルキニル基、アクリロイル基またはメタクリロイル基等と反応して架橋構造を形成するイオウ及びイオウ化合物としては、イオウ、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、テトラキス(2−エチルヘキシル)チウラムジスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド、モルフォリンジスルフィド、または2−(4’−モルフォリノジチオ)ベンゾチアゾール等が挙げられる。 Sulfur and sulfur compounds used as a crosslinking agent in the synthesis of the antibacterial agent of the present invention, which reacts with an alkenyl group, alkynyl group, acryloyl group or methacryloyl group to form a crosslinked structure, include sulfur. Tetramethylthiuram disulfide, tetraethylthiuram disulfide, tetrabutylthiuram disulfide, tetrakis (2-ethylhexyl) thiuram disulfide, dipentamethylenethiuram tetrasulfide, morpholine disulfide, or 2- (4'-morpholinodithio) benzothiazole Can be mentioned.
本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂の合成において、安価であり取り扱いし易いことより、イオウが特に好ましく採用される。 In the synthesis of a resin which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, sulfur is particularly preferably employed because it is inexpensive and easy to handle.
本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を合成において架橋剤として使用される、アルキル基等へのラジカル反応による架橋に有用な過酸化物としては、ベンゾイルパーオキサイド、ジクロルベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(パーオキサイドベンゾエート)ヘキシン−3,1,4−ビス(tert−ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン、ラウロイルパーオキサイド、tert−ブチルペルアセテート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルペルオキシ)ヘキシン−3,2,5−トリメチル−2,5−ジ(tert−ブチルペルオキシ)ヘキサン、tert−ブチルペルベンゾエート、tert−ブチルペルフェニルアセテート、tert−ブチルペルイソブチレート、tert−ブチルペル−sec−オクトエート、tert−ブチルペルピパレート、またはクミルペルピパレート、tert−ブチルペルジエチルアセテートが挙げられる。 Peroxides useful for crosslinking by radical reaction to alkyl groups and the like used as crosslinking agents in the synthesis of resins that are active ingredients of the antibacterial agent of the present invention include benzoyl peroxide, dichlorobenzoyl peroxide, Milperoxide, di-tert-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (peroxide benzoate) hexyne-3,1,4-bis (tert-butylperoxyisopropyl) benzene, lauroyl peroxide, tert-butyl peracetate, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexyne-3,2,5-trimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, tert-butylper Benzoate, tert-butyl perphenyl acetate, ert- butyl perisobutyrate, tert- butyl per -sec- octoate, tert- butyl hydroperoxide peak Pareto or cumyl pin Pareto, include tert- butylperoxy diethyl acetate.
本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂の合成において、反応性よく、得られる樹脂が機械的特性に優れることから、ベンゾイルパーオキサイドが特に好ましく採用される。 In synthesizing a resin which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, benzoyl peroxide is particularly preferably employed because the resulting resin is excellent in mechanical properties with good reactivity.
本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を合成において架橋剤として使用される、アルキル基等へのラジカル反応による架橋に有用なアゾ化合物としては、アゾビスイソブチロニトリル、またはジメチルアゾイソブチレートが挙げられる。 As an azo compound useful for crosslinking by radical reaction to an alkyl group or the like used as a crosslinking agent in the synthesis of a resin which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, azobisisobutyronitrile or dimethylazoisobutyryl Rate.
本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂の合成において、低価格であり、取り扱いが容易なことから、アゾビスイソブチロニトリルが特に好ましく採用される。 In the synthesis of the resin which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, azobisisobutyronitrile is particularly preferably employed because it is inexpensive and easy to handle.
これら架橋剤は、単独あるいは複数を選んで使用することも可能であり、架橋剤の種類や使用量によって硬化速度やポットライフ、得られる樹脂の物性を適当に調整することも可能である。 These crosslinking agents can be used alone or in combination, and the curing rate, pot life, and physical properties of the resulting resin can be appropriately adjusted depending on the type and amount of the crosslinking agent.
5.重合方法
次いで、本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂に、繰り返し単位(a)、繰り返し単位(a−1)、繰り返し単位(a−2)、または繰り返し単位(a−3)を与える、これら繰り返し単位の前駆体である重合性化合物を単独重合させ樹脂を得る重合方法について説明する。また、本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂に、繰り返し単位(a)、繰り返し単位(a−1)、繰り返し単位(a−2)、または繰り返し単位(a−3)を与える、これら繰り返し単位の前駆体である重合性化合物と、繰り返し単位(b−1)、繰り返し単位(b−2)を与えるこれら繰り返し単位の前駆体である重合性化合物を共重合させ樹脂を得る重合方法について説明する。
5). Polymerization method Next, the repeating unit (a), the repeating unit (a-1), the repeating unit (a-2), or the repeating unit (a-3) is given to the resin that is the active ingredient of the antibacterial agent of the present invention. A polymerization method for obtaining a resin by homopolymerizing a polymerizable compound which is a precursor of these repeating units will be described. Moreover, the repeating unit (a), the repeating unit (a-1), the repeating unit (a-2), or the repeating unit (a-3) is given to the resin which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention. The polymerization method which obtains resin by copolymerizing the polymerizable compound which is the precursor of the unit and the polymerizable compound which is the precursor of these repeating units giving the repeating unit (b-1) and the repeating unit (b-2) is explained. To do.
重合方法には、ラジカル重合および遷移金属による重合がある。 Polymerization methods include radical polymerization and polymerization with transition metals.
初めに、ラジカル重合について、説明する。 First, radical polymerization will be described.
本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を得るための重合方法としては、一般的に使用される方法であれば特に制限されないが、ラジカル重合およびイオン重合が好ましく、配位アニオン重合、リビングアニオン重合、カチオン重合、開環メタセシス重合、またはビニレン重合を採用することが可能である。 The polymerization method for obtaining the resin which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention is not particularly limited as long as it is a generally used method, but radical polymerization and ionic polymerization are preferable, and coordination anion polymerization, living anion Polymerization, cationic polymerization, ring-opening metathesis polymerization, or vinylene polymerization can be employed.
ラジカル重合は、ラジカル重合開始剤またはラジカル開始源の存在下で、塊状重合、溶液重合、懸濁重合または乳化重合から選ばれる公知の重合方法により、回分式、半連続式または連続式から選ばれる操作で行なう。 The radical polymerization is selected from batch, semi-continuous or continuous by a known polymerization method selected from bulk polymerization, solution polymerization, suspension polymerization or emulsion polymerization in the presence of a radical polymerization initiator or radical initiator. Perform by operation.
ラジカル重合開始剤は特に限定されないが、アゾ系化合物、過酸化物系化合物、レドックス系化合物が挙げられ、本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を合成するには、アゾビスイソブチロニトリル、t−ブチルパーオキシピバレート、ジ−t−ブチルパーオキシド、i−ブチリルパーオキシド、ラウロイルパーオキサイド、スクシン酸パーオキシド、ジシンナミルパーオキシド、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシアリルモノカーボネート、過酸化ベンゾイル、過酸化水素、または過硫酸アンモニウムが、本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を得るための重合反応に好ましく使用される。 The radical polymerization initiator is not particularly limited, and examples thereof include azo compounds, peroxide compounds, and redox compounds. To synthesize a resin that is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, azobisisobutyronitrile is used. , T-butyl peroxypivalate, di-t-butyl peroxide, i-butyryl peroxide, lauroyl peroxide, succinic acid peroxide, dicinnamyl peroxide, di-n-propyl peroxydicarbonate, t-butyl peroxide Oxyallyl monocarbonate, benzoyl peroxide, hydrogen peroxide, or ammonium persulfate is preferably used in the polymerization reaction for obtaining a resin that is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention.
本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を得るための重合反応において、重合反応に用いる反応容器は特に限定されない。重合反応において、重合溶媒を用いてもよい。本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を得るための重合反応における、重合溶媒としては、ラジカル重合を阻害しないものが好ましく、酢酸エチル、酢酸n−ブチルから選ばれるエステル系、アセトン、メチルイソブチルケトンから選ばれるケトン系、トルエン、シクロヘキサンから選ばれる炭化水素系、メタノール、イソプロピルアルコール、メチルイソブチルカルビノールまたはエチレングリコールモノメチルエーテルから選ばれるアルコール系溶剤を用いることができる。また、水、エーテル系、環状エーテル系、フロン系、または芳香族系から選ばれた種々の溶媒を使用することも可能である。これらの溶剤は、単独あるいは2種類以上を混合してもよい。また、メルカプタンのような分子量調整剤を併用してもよい。本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を得るための重合反応において、共重合反応の反応温度はラジカル重合開始剤あるいはラジカル重合開始源により適宜選択され、通常は20℃以上、200℃以下の範囲内が好ましく、特に30℃以上、140℃以下の範囲内が好ましい。 In the polymerization reaction for obtaining a resin which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, the reaction vessel used for the polymerization reaction is not particularly limited. In the polymerization reaction, a polymerization solvent may be used. As a polymerization solvent in the polymerization reaction for obtaining a resin that is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, a solvent that does not inhibit radical polymerization is preferable, an ester system selected from ethyl acetate and n-butyl acetate, acetone, methyl isobutyl Alcohol solvents selected from ketones selected from ketones, hydrocarbons selected from toluene and cyclohexane, methanol, isopropyl alcohol, methyl isobutyl carbinol or ethylene glycol monomethyl ether can be used. It is also possible to use various solvents selected from water, ether series, cyclic ether series, chlorofluorocarbon series, and aromatic series. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Moreover, you may use together molecular weight regulators, such as a mercaptan. In the polymerization reaction for obtaining a resin which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, the reaction temperature of the copolymerization reaction is appropriately selected depending on the radical polymerization initiator or radical polymerization initiator, and is usually 20 ° C. or higher and 200 ° C. or lower. Within the range, the range of 30 ° C. or higher and 140 ° C. or lower is particularly preferable.
次いで、遷移金属による重合について説明する。 Next, polymerization with a transition metal will be described.
開環メタセシス重合は、共触媒の存在下、IV、V、VI、またはVII属の遷移金属触媒を用いればよく、溶媒の存在下、公知の方法を用いればよい。遷移金属触媒は特に限定されないが、Ti系、V系、Mo系、またはW系の触媒が挙げられ、特に、本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を得るための重合反応においては、塩化チタン(IV)、塩化バナジウム(IV)、バナジウムトリスアセチルアセトナート、バナジウムビスアセチルアセトナートジクロリド、塩化モリブデン(VI)、または塩化タングステン(VI)が好ましい。触媒量としては、使用モノマーに対して0.001mol%以上、10mol%以下、好ましくは、0.01mol%以上、1mol%以下である。 In the ring-opening metathesis polymerization, a transition metal catalyst of group IV, V, VI, or VII may be used in the presence of a cocatalyst, and a known method may be used in the presence of a solvent. The transition metal catalyst is not particularly limited, and examples thereof include Ti-based, V-based, Mo-based, and W-based catalysts. In particular, in the polymerization reaction for obtaining a resin that is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, Titanium (IV), vanadium chloride (IV), vanadium trisacetylacetonate, vanadium bisacetylacetonate dichloride, molybdenum (VI), or tungsten (VI) chloride is preferred. The catalyst amount is 0.001 mol% or more and 10 mol% or less, preferably 0.01 mol% or more and 1 mol% or less, based on the monomer used.
共触媒としては、アルキルアルミニウム、またはアルキルすずが挙げられ、特に、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−2−メチルブチルアルミニウム、トリ−3−メチルブチルアルミニウム、トリ−2−メチルペンチルアルミニウム、トリ−3−メチルペンチルアルミニウム、トリ−4−メチルペンチルアルミニウム、トリ−2−メチルヘキシルアルミニウム、トリ−3−メチルヘキシルアルミニウム、またはトリオクチルアルミニウムから選ばれるトリアルキルアルアルミニウム類、ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジイソプロピルアルミニウムクロライド、またはジイソブチルアルミニウムクロライドから選ばれるジアルキルアルミニウムハライド類、メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジアイオダイド、プロピルアルミニウムジクロライド、イソプロピルアルミニウムジクロライド、ブチルアルミニウムジクロライド、またはイソブチルアルミニウムジクロライドから選ばれるモノアルキルアルミニウムハライド類、メチルアルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウムセスキクロライド、プロピルアルミニウムセスキクロライド、またはイソブチルアルミニウムセスキクロライドから選ばれるアルキルアルミニウムセスキクロライド類に代表されるアルミニウム系、テトラ−n−ブチルすず、テトラフェニルすず、またはトリフェニルクロロすずが挙げられる。共触媒の使用量は、遷移金属触媒に対してモル比で、100当量以下、好ましくは30当量以下の範囲である。 Cocatalysts include alkylaluminum or alkyltin, especially trimethylaluminum, triethylaluminum, tripropylaluminum, triisopropylaluminum, triisobutylaluminum, tri-2-methylbutylaluminum, tri-3-methylbutylaluminum. , Tri-2-methylpentylaluminum, tri-3-methylpentylaluminum, tri-4-methylpentylaluminum, tri-2-methylhexylaluminum, tri-3-methylhexylaluminum, or trioctylaluminum Aluminums, dimethylaluminum chloride, diethylaluminum chloride, diisopropylaluminum chloride, or diisobutylal Dialkylaluminum halides selected from nium chloride, methylaluminum dichloride, ethylaluminum dichloride, ethylaluminum diiodide, propylaluminum dichloride, isopropylaluminum dichloride, butylaluminum dichloride, or isobutylaluminum dichloride, methyl Aluminum-based, tetra-n-butyltin, tetraphenyltin, or triphenylchlorotin represented by alkylaluminum sesquichlorides selected from aluminum sesquichloride, ethylaluminum sesquichloride, propylaluminum sesquichloride, or isobutylaluminum sesquichloride Mentioned That. The amount of the cocatalyst used is in a range of 100 equivalents or less, preferably 30 equivalents or less, in terms of molar ratio to the transition metal catalyst.
重合溶媒としては重合反応を阻害しなければよく、代表的なものとして、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、またはジクロロベンゼンから選ばれる芳香族炭化水素系、ヘキサン、ヘプタン、またはシクロヘキサンから選ばれる炭化水素系、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、または1,2−ジクロロエタンから選ばれるハロゲン化炭化水素が挙げられる。本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を得るための重合反応において、これらの重合溶剤は単独でも使用しても、2種類以上を混合して使用してもよい。反応温度は、通常は−70℃以上、200℃以下が好ましく、特に−30℃以上、60℃以下が好ましい。 The polymerization solvent should not inhibit the polymerization reaction, and representative examples include aromatic hydrocarbons selected from benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, hydrocarbons selected from hexane, heptane, or cyclohexane. Mention may be made of halogenated hydrocarbons selected from the systems, carbon tetrachloride, chloroform, methylene chloride, or 1,2-dichloroethane. In the polymerization reaction for obtaining a resin which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, these polymerization solvents may be used alone or in combination of two or more. The reaction temperature is usually preferably from −70 ° C. to 200 ° C., particularly preferably from −30 ° C. to 60 ° C.
ビニレン重合は、共触媒存在下、鉄、ニッケル、ロジウム、パラジウム、白金等のVIII属の遷移金属触媒や、ジルコニウム、チタン、バナジウム、クロム、モリブデン、またはタングステンから選ばれるIVB乃至VIB属の金属触媒を用いればよく、溶媒存在下、公知の方法を用いればよい。重合触媒は特に限定されないが、本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を得るための重合反応において、特に、鉄(II)クロライド、鉄(III)クロライド、鉄(II)ブロマイド、鉄(III)ブロマイド、鉄(II)アセテート、鉄(III)アセチルアセトナート、フェロセン、ニッケロセン、ニッケル(II)アセテート、ニッケルブロマイド、ニッケルクロライド、ジクロロヘキシルニッケルアセテート、ニッケルラクテート、ニッケルオキサイド、ニッケルテトラフルオロボレート、ビス(アリル)ニッケル、ビス(シクロペンタジエニル)ニッケル、ニッケル(II)ヘキサフルオロアセチルアセトナートテトラハイドレート、ニッケル(II)トリフルオロアセチルアセトナートジハイドレート、ニッケル(II)アセチルアセトナートテトラハイドレート、塩化ロジウム(III)、ロジウムトリス(トリフェニルホスフィン)トリクロライド、パラジウム(II)ビス(トリフルオロアセテート)、パラジウム(II)ビス(アセチルアセトナート)、パラジウム(II)2−エチルヘキサノエート、パラジウム(II)ブロマイド、パラジウム(II)クロライド、パラジウム(II)アイオダイド、パラジウム(II)オキサイド、モノアセトニトリルトリス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)テトラフルオロボレート、テトラキス(アセトニトリル)パラジウム(II)テトラフルオロボレート、ジクロロビス(アセトニトリル)パラジウム(II)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロビス(ベンゾニトリル)パラジウム(II)、パラジウムアセチルアセトナート、パラジウムビス(アセトニトリル)ジクロライド、パラジウムビス(ジメチルスルホキサイド)ジクロライド、またはプラチニウムビス(トリエチルホスフィン)ハイドロブロマイドから選ばれるVIII属の遷移金属類や、塩化バナジウム(IV)、バナジウムトリスアセチルアセトナート、バナジウムビスアセチルアセトナートジクロリド、トリメトキシ(ペンタメチルシクロペンタジエニル)チタニウム(IV)、ビス(シクロペンタジエニル)チタニウムジクロリド、またはビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドから選ばれるIVB乃至VIB属の遷移金属類を用いることが好ましい。触媒量としては、使用モノマーに対して0.001mol%以上、10mol%以下、好ましくは、0.01mol%以上、1mol%以下である。共触媒としては、アルキルアルミノキサン、またはアルキルアルミニウムが挙げられ、本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を得るための重合反応において、特に、メチルアルミノキサン(MAO)や、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−2−メチルブチルアルミニウム、トリ−3−メチルブチルアルミニウム、トリ−2−メチルペンチルアルミニウム、トリ−3−メチルペンチルアルミニウム、トリ−4−メチルペンチルアルミニウム、トリ−2−メチルヘキシルアルミニウム、トリ−3−メチルヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム等のトリアルキルアルアルミニウム類、ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジイソプロピルアルミニウムクロライド、またはジイソブチルアルミニウムクロライドから選ばれるジアルキルアルミニウムハライド類、メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジアイオダイド、プロピルアルミニウムジクロライド、イソプロピルアルミニウムジクロライド、ブチルアルミニウムジクロライド、またはイソブチルアルミニウムジクロライドから選ばれるモノアルキルアルミニウムハライド類、メチルアルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウムセスキクロライド、プロピルアルミニウムセスキクロライド、イソブチルアルミニウムセスキクロライドから選ばれるアルキルアルミニウムセスキクロライド類が挙げられる。共触媒量は、メチルアルミノキサンの場合、Al換算で50当量以上、500当量以下、その他アルキルアルミニウムの場合、遷移金属触媒に対してモル比で、100当量以下、好ましくは30当量以下の範囲である。また、重合溶媒は重合反応を阻害しなければよく、代表的なものとして、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、またはジクロロベンゼンから選ばれる芳香族炭化水素系、ヘキサン、ヘプタン、またはシクロヘキサンから選ばれる炭化水素系、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、または1,2−ジクロロエタンから選ばれるハロゲン化炭化水素系、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、またはN−シクロヘキシルピロリドンが挙げられる。これらの重合溶剤は単独あるいは2種類以上を混合してもよい。反応温度は、通常は−70℃以上、200℃以下が好ましく、特に、−40℃以上、80℃以下が好ましい。 Vinylene polymerization is carried out in the presence of a cocatalyst in the presence of a co-catalyst such as iron, nickel, rhodium, palladium, platinum, etc. May be used, and a known method may be used in the presence of a solvent. The polymerization catalyst is not particularly limited. In the polymerization reaction for obtaining a resin which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, in particular, iron (II) chloride, iron (III) chloride, iron (II) bromide, iron (III) ) Bromide, iron (II) acetate, iron (III) acetylacetonate, ferrocene, nickelocene, nickel (II) acetate, nickel bromide, nickel chloride, dichlorohexyl nickel acetate, nickel lactate, nickel oxide, nickel tetrafluoroborate, bis (Allyl) nickel, bis (cyclopentadienyl) nickel, nickel (II) hexafluoroacetylacetonate tetrahydrate, nickel (II) trifluoroacetylacetonate dihydrate, nickel (II) acetate Ruacetonate tetrahydrate, rhodium (III) chloride, rhodium tris (triphenylphosphine) trichloride, palladium (II) bis (trifluoroacetate), palladium (II) bis (acetylacetonate), palladium (II) 2 -Ethylhexanoate, palladium (II) bromide, palladium (II) chloride, palladium (II) iodide, palladium (II) oxide, monoacetonitrile tris (triphenylphosphine) palladium (II) tetrafluoroborate, tetrakis (acetonitrile) Palladium (II) tetrafluoroborate, dichlorobis (acetonitrile) palladium (II), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium (II), dichlorobis (be A transition metal of group VIII selected from (zonitrile) palladium (II), palladium acetylacetonate, palladium bis (acetonitrile) dichloride, palladium bis (dimethyl sulfoxide) dichloride, or platinium bis (triethylphosphine) hydrobromide, Vanadium chloride (IV), vanadium trisacetylacetonate, vanadium bisacetylacetonate dichloride, trimethoxy (pentamethylcyclopentadienyl) titanium (IV), bis (cyclopentadienyl) titanium dichloride, or bis (cyclopentadienyl) ) It is preferable to use transition metals belonging to group IVB to VIB selected from zirconium dichloride. The catalyst amount is 0.001 mol% or more and 10 mol% or less, preferably 0.01 mol% or more and 1 mol% or less, based on the monomer used. Examples of the cocatalyst include alkylaluminoxane or alkylaluminum. In the polymerization reaction for obtaining a resin which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, in particular, methylaluminoxane (MAO), trimethylaluminum, triethylaluminum, trialuminum Propyl aluminum, triisopropyl aluminum, triisobutyl aluminum, tri-2-methylbutyl aluminum, tri-3-methylbutyl aluminum, tri-2-methylpentyl aluminum, tri-3-methylpentyl aluminum, tri-4-methylpentyl aluminum , Trialkylaluminums such as tri-2-methylhexylaluminum, tri-3-methylhexylaluminum, trioctylaluminum, dimethylaluminum chloride Dialkylaluminum halides selected from diethylaluminum chloride, diisopropylaluminum chloride, or diisobutylaluminum chloride, methylaluminum dichloride, ethylaluminum dichloride, ethylaluminum diiodide, propylaluminum dichloride, isopropylaluminum dichloride, butylaluminum dichloride, or isobutylaluminum dichloride And alkylaluminum sesquichlorides selected from methylaluminum sesquichloride, ethylaluminum sesquichloride, propylaluminum sesquichloride, and isobutylaluminum sesquichloride. The amount of cocatalyst is 50 equivalents or more and 500 equivalents or less in terms of Al in the case of methylaluminoxane, and in the case of other alkylaluminums, it is in a range of 100 equivalents or less, preferably 30 equivalents or less, in molar ratio to the transition metal catalyst. . In addition, the polymerization solvent should not inhibit the polymerization reaction, and representative examples thereof include aromatic hydrocarbons selected from benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, carbonization selected from hexane, heptane, or cyclohexane. And halogenated hydrocarbons selected from hydrogen, carbon tetrachloride, chloroform, methylene chloride, or 1,2-dichloroethane, dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, or N-cyclohexylpyrrolidone. These polymerization solvents may be used alone or in combination of two or more. The reaction temperature is usually preferably from −70 ° C. to 200 ° C., particularly preferably from −40 ° C. to 80 ° C.
このようにして得られる本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂の溶液または分散液から、媒質である有機溶媒または水を除去する方法としては、公知の方法を利用できる。例えば、再沈殿、ろ過、または減圧下での加熱留出等の方法が挙げられる。 As a method for removing the organic solvent or water as a medium from the solution or dispersion of the resin that is the active ingredient of the antibacterial agent of the present invention thus obtained, a known method can be used. For example, a method such as reprecipitation, filtration, or heating distillation under reduced pressure can be used.
6.基材の表面処理方法
次いで、基材の表面処理方法について説明する。
6). Substrate Surface Treatment Method Next, the substrate surface treatment method will be described.
本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂は、目的とする基材にコーティングし機材の表面処理をすることが可能である。予め重合反応によって得た樹脂を、溶剤に溶解し、これを基材に塗布、乾燥して皮膜を得ることが可能である。また、塗布時に硬化剤を混合して用い、皮膜の強度を向上することも可能であり、本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂のコーティングにおいて、好ましく採用される。 The resin, which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention, can be coated on a target base material to treat the surface of the equipment. It is possible to obtain a film by dissolving a resin obtained in advance by a polymerization reaction in a solvent, applying this to a substrate, and drying. Further, it is possible to improve the strength of the film by mixing a curing agent at the time of application, and it is preferably employed in the coating of a resin which is an active ingredient of the antibacterial agent of the present invention.
また、重合性化合物あるいはこれに硬化剤を混合したものを基材に塗布し、熱や光あるいは触媒を作用させることによって皮膜を硬化させることも可能である。無溶剤で塗布することも可能であり、製造環境を改善するために非常に効果的である。 It is also possible to cure the film by applying a polymerizable compound or a mixture of this with a curing agent to a base material, and applying heat, light or a catalyst. It can be applied without solvent and is very effective for improving the manufacturing environment.
本発明の抗菌剤の有効成分である樹脂を溶解させる溶媒としては、樹脂が可溶であれば特に制限されないが、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソアミルケトン、または2‐ヘプタノンから選ばれるケトン類、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノアセテート、モノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプロピルエーテル、モノブチルエーテルまたはモノフェニルエーテルから選ばれる多価アルコール類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールまたはメチルイソブチルカルビノールから選ばれる一価アルコール類、あるいはその誘導体、ジオキサンのような環式エーテル類、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチルから選ばれるエステル類、キシレン、またはトルエンから選ばれる芳香族系溶媒、フロン、代替フロン、パーフルオロ化合物、またはヘキサフルオロイソプロピルアルコールから選ばれるフッ素系溶剤、塗布性を高める目的で高沸点弱溶剤であるターペン系の石油ナフサ溶媒やパラフィン系溶媒を使用可能である。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いて構わない。 The solvent for dissolving the resin that is the active ingredient of the antibacterial agent of the present invention is not particularly limited as long as the resin is soluble, but ketones selected from acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl isoamyl ketone, or 2-heptanone, From ethylene glycol, ethylene glycol monoacetate, diethylene glycol, diethylene glycol monoacetate, propylene glycol, propylene glycol monoacetate, dipropylene glycol, dipropylene glycol monoacetate, monomethyl ether, monoethyl ether, monopropyl ether, monobutyl ether or monophenyl ether Selected from selected polyhydric alcohols, methanol, ethanol, isopropyl alcohol or methyl isobutyl carbinol Monohydric alcohols or derivatives thereof, cyclic ethers such as dioxane, methyl lactate, ethyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, methyl methoxypropionate, ethoxypropionic acid Esters selected from ethyl, aromatic solvents selected from xylene or toluene, fluorinated solvents selected from chlorofluorocarbons, alternative chlorofluorocarbons, perfluoro compounds, or hexafluoroisopropyl alcohol, high-boiling weak solvents for the purpose of improving coating properties A terpene-based petroleum naphtha solvent or a paraffin-based solvent can be used. These may be used alone or in combination of two or more.
本発明において、発明1に示したビスメチド酸基を有する樹脂を有効成分として含有する抗菌剤、および発明2〜8に示した特定のポリマー鎖にビスメチド酸基を結合させた樹脂を有効成分として含有する抗菌剤を基材表面に塗布して皮膜を形成する。 In the present invention, the antibacterial agent containing the resin having the bismethide acid group shown in the invention 1 as an active ingredient, and the resin having the bismethide acid group bonded to the specific polymer chain shown in the inventions 2 to 8 as the active ingredient An antibacterial agent is applied to the substrate surface to form a film.
即ち、本発明は、発明1乃至発明8のいずれかの抗菌剤を基材表面に塗布して皮膜を形成することを特徴とする基材の表面処理方法である。 That is, the present invention is a surface treatment method for a substrate characterized in that the antibacterial agent of any one of Inventions 1 to 8 is applied to the substrate surface to form a film.
発明2の繰り返し単位(a)、発明3の繰り返し単位(a−1)、発明4の繰り返し単位(a−2)、または発明5の繰り返し単位(a−3)を与える重合性化合物に加えて、発明6の繰り返し単位(b−1)、発明7の繰り返し単位(b−2)を与える重合性化合物を加えてもよく、発明8の架橋剤を加えてもよい。 In addition to the polymerizable compound that gives the repeating unit (a) of invention 2, the repeating unit (a-1) of invention 3, the repeating unit (a-2) of invention 4, or the repeating unit (a-3) of invention 5 The polymerizable compound which gives the repeating unit (b-1) of Invention 6 and the repeating unit (b-2) of Invention 7 may be added, or the crosslinking agent of Invention 8 may be added.
発明1〜8の抗菌剤の有効成分とする樹脂を合成するための2個以上の重合性二重結合を有する多官能性重合性化合物を用意した。詳しくは、発明2〜5に示したビスメチド酸基を有する繰り返し単位(a)を与える重合性化合物、および発明6の繰り返し単位(b−1)、および発明7の繰り返し単位(b−2)を与える重合性化合物を用意した。これら化合物を、溶剤を用いないで直接にガラス基材の上にバーコータ、スプレー、スピンコート等で塗布した後に、または、これら化合物を含む溶液をガラス基材の上にバーコータ、スプレー、スピンコート等で塗布した後に、重合させることで、本発明の無色透明な抗菌剤の皮膜(抗菌性皮膜)が得られた。 A polyfunctional polymerizable compound having two or more polymerizable double bonds for synthesizing a resin as an active ingredient of the antibacterial agent of inventions 1 to 8 was prepared. Specifically, the polymerizable compound which gives the repeating unit (a) having a bismethide acid group shown in the inventions 2 to 5, the repeating unit (b-1) of the invention 6, and the repeating unit (b-2) of the invention 7 A polymerizable compound to be provided was prepared. After applying these compounds directly on a glass substrate without using a solvent by a bar coater, spray, spin coating or the like, or a solution containing these compounds on a glass substrate, a bar coater, spray, spin coating, etc. After coating, the film of the colorless and transparent antibacterial agent of the present invention (antibacterial film) was obtained by polymerization.
化合物によっては、溶剤を用いずに基材表面に直接塗布することが可能であり、溶剤を用い溶液とした場合と異なり、重合後に乾燥工程を必要としないため、溶剤を用いないで皮膜を得ることが好適である。 Depending on the compound, it can be applied directly to the surface of the substrate without using a solvent. Unlike a solution using a solvent, a drying process is not required after polymerization, so a film can be obtained without using a solvent. Is preferred.
尚、溶液で塗布する際は、溶剤には重合に使用可能な溶剤が好適に用いられる。この際、酢酸エチルおよび酢酸n−ブチル等のエステル系溶剤、アセトン、メチルイソブチルトンまたはシクロヘキサノン等のケトン系溶剤、n−ヘキサンおよびn−ヘプタン等の炭化水素系溶剤、メタノール、イソプロピルアルコール、メチルイソブチルカルビノールまたはエチレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤、水、エーテル系溶剤、環状エーテル系溶剤、フロン系溶剤、あるいはトルエンまたはキシレン等の芳香族系溶剤が使用される。これらの溶剤を、単独で、または複数の種類を混合して、重合溶剤として使用することができる。 In addition, when apply | coating with a solution, the solvent which can be used for superposition | polymerization is used suitably for a solvent. At this time, ester solvents such as ethyl acetate and n-butyl acetate, ketone solvents such as acetone, methylisobutylton or cyclohexanone, hydrocarbon solvents such as n-hexane and n-heptane, methanol, isopropyl alcohol, methyl isobutyl Alcohol solvents such as carbinol or ethylene glycol monomethyl ether, water, ether solvents, cyclic ether solvents, chlorofluorocarbon solvents, or aromatic solvents such as toluene or xylene are used. These solvents can be used alone or in combination as a polymerization solvent.
ラジカル重合反応の開始剤としては、アゾ系化合物、過酸化物系化合物、レドックス系化合物が挙げられ、特にアゾビスイソブチロニトリル、tert−ブチルパーオキシピバレート、ジ−tert−ブチルパーオキシド、i−ブチリルパーオキシド、ラウロイルパーオキサイド、スクシン酸パーオキシド、ジシンナミルパーオキシド、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、tert−ブチルパーオキシアリルモノカーボネート、過酸化ベンゾイル、過酸化水素、または過硫酸アンモニウムを用いることが好ましい。入手しやすく反応性が良好なことより、過ピバル酸−tert−ブチルが、本発明において、特に好適に用いられる。 Examples of the initiator for the radical polymerization reaction include azo compounds, peroxide compounds, and redox compounds. Particularly, azobisisobutyronitrile, tert-butyl peroxypivalate, di-tert-butyl peroxide, i-butyryl peroxide, lauroyl peroxide, succinic acid peroxide, dicinnamyl peroxide, di-n-propyl peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyallyl monocarbonate, benzoyl peroxide, hydrogen peroxide, or ammonium persulfate. It is preferable to use it. Perpivalate-tert-butyl is particularly preferably used in the present invention because it is easily available and has good reactivity.
また、ラジカル重合反応を行なうには、光重合開始剤を用いることもでき、アルキルフェノン系では2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオニル)ベンジル]フェニル}−2−メチルプロパン−1−オン、2−メチル−1−(4−メチルフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルフォリニル)フェニル]−1−ブタノン、またはオリゴ{2−ヒドロキシ−2−メチル−[4−(1−メチルビニル)フェニル]}プロパノン、アシルホスフィンオキサイド系では2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキサイドまたはビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイドを用いることが好ましい。光重合開始剤としては、入手しやすく反応性が良好なことより、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンが特に好適に用いられる。 In addition, a photopolymerization initiator can also be used for the radical polymerization reaction. In the case of alkylphenone series, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2- Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1 -{4- [4- (2-hydroxy-2-methylpropionyl) benzyl] phenyl} -2-methylpropan-1-one, 2-methyl-1- (4-methylphenyl) -2-morpholinopropane- 1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1,2- (dimethylamino) -2-[(4- Tilphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone, or oligo {2-hydroxy-2-methyl- [4- (1-methylvinyl) phenyl]} propanone, acylphosphine oxide In the system, 2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphine oxide or bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide is preferably used. As the photopolymerization initiator, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone is particularly preferably used because it is easily available and has good reactivity.
重合の反応温度は、用いる開始剤の種類によって異なる。熱重合開始剤を使用した場合、通常、50℃以上、150℃以下が好ましく、ハンドリング上、特に80℃〜120℃が好ましい。 The polymerization reaction temperature varies depending on the type of initiator used. When a thermal polymerization initiator is used, it is usually preferably 50 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, and particularly preferably 80 ° C. to 120 ° C. for handling.
また、光重合開始剤を使用した場合、PETフィルムのような比較的耐熱性の低い基材上でラジカル重合させることが可能であり、高圧水銀ランプを用いて、約10mW/cm2の条件で10分間照射することにより光硬化させる。重合反応の反応温度は、通常、0℃以上、100℃以下が好ましく、ハンドリング上、特に20℃以上、50℃以下が好ましい。 In addition, when a photopolymerization initiator is used, radical polymerization can be performed on a relatively low heat-resistant substrate such as a PET film, and a high-pressure mercury lamp is used under a condition of about 10 mW / cm 2 . Light cure by irradiation for 10 minutes. The reaction temperature for the polymerization reaction is usually preferably 0 ° C. or more and 100 ° C. or less, and particularly preferably 20 ° C. or more and 50 ° C. or less for handling.
塗布する基材としては、ガラス、プラスチック、金属等があり、電気部品、電子用品、建材、工芸用品、服飾産業用品、医療用品等が例示される。 Examples of the base material to be applied include glass, plastic, metal, and the like, and electric parts, electronic products, building materials, craft products, clothing industrial products, medical products, and the like are exemplified.
抗菌性樹脂は、必要に応じ、塩酸水溶液や硫酸水溶液中に浸漬し、イオン交換水で洗浄を行うことができる。 If necessary, the antibacterial resin can be immersed in an aqueous hydrochloric acid solution or an aqueous sulfuric acid solution and washed with ion-exchanged water.
また、重合性化合物および架橋性化合物を含む原料溶液を多孔質フィルムへ含浸させる、原料溶液に繊維、ナノシリカ微粒子やグラスファイバー等のフィラーを混合すること等によって、抗菌性樹脂の機械的強度を高めてもよい。 In addition, the mechanical strength of the antibacterial resin is increased by impregnating the porous film with a raw material solution containing a polymerizable compound and a crosslinkable compound, and by mixing fillers such as fibers, nanosilica fine particles, and glass fibers with the raw material solution. May be.
抗菌性樹脂の厚みに特に制限はないが、20nm以上、1mm以下が好ましい。20nmより薄く塗布することは困難であり、1mmより厚くする必要はない。膜厚は基板上への塗布厚、即ち、単位体積あたりへの塗布量により調整する。 Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of an antibacterial resin, 20 nm or more and 1 mm or less are preferable. It is difficult to apply thinner than 20 nm, and it is not necessary to make it thicker than 1 mm. The film thickness is adjusted by the coating thickness on the substrate, that is, the coating amount per unit volume.
以下、本発明について、具体的な実施例を示す。本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, specific examples of the present invention will be described. The present invention is not limited to the following examples.
本発明の実施例において、発明3のビスメチド酸基を含むアクリル系繰り返し単位(a−1)を樹脂に含有させるための重合性化合物として、MA−ABMDを用いた例を樹脂の合成例1〜11、および実施例1〜11に示した。 In the Example of this invention, the example using MA-ABMD as a polymeric compound for making a resin contain the acryl-type repeating unit (a-1) containing the bismethide acid group of the invention 3 is the synthesis example 1 of resin. 11 and Examples 1-11.
次いで、発明4のビスメチド酸基を含むスチレン系繰り返し単位(a−2)を樹脂に含有させるための重合性化合物として、BTSB−DMSSを用いた例を、合成例12、13、および実施例12、13に示した。 Next, as an example of using BTSB-DMSS as a polymerizable compound for causing the resin to contain the styrenic repeating unit (a-2) containing a bismethide acid group of Invention 4, Synthesis Examples 12, 13 and Example 12 were used. , 13.
次いで、発明5のビスメチド酸基を含むノルボルネン系繰り返し単位(a−3)を樹脂に含有させるための重合性化合物として、BTSB−NB−OHを用いた例を、合成例14、15、および実施例14、15に示した。 Next, as an example of using BTSB-NB-OH as a polymerizable compound for causing the resin to contain the norbornene-based repeating unit (a-3) containing a bismethide acid group of Invention 5, Synthesis Examples 14, 15 and Examples 14 and 15 are shown.
さらに、樹脂の合成例1〜15で得られたものを、実施例1〜19にて樹脂膜化し、得られた樹脂膜を試験片として、実施例JIS Z2801:2006「抗菌性試験方法」の方法に従って大腸菌(Escherichia coli NBRC3972)を用いて抗菌性試験を行い、抗菌性を評価した。 Furthermore, what was obtained in Resin Synthesis Examples 1 to 15 was converted into a resin film in Examples 1 to 19, and the obtained resin film was used as a test piece, and Example JIS Z2801: 2006 "Antimicrobial Test Method" According to the method, an antibacterial test was conducted using Escherichia coli NBRC 3972 to evaluate the antibacterial property.
比較例1に、ポリエチレングリコールジアクリレートとモノメチド酸基を有する構造のMA−EATfを反応させてなる樹脂、比較例2に、ポリエチレングリコールジアクリレートとヘキサフルオロカルビノール基(−(CF3)2OH)を有するMA−3,5−HFA−CHOHを反応させてなる樹脂、比較例3にポリエチレングリコールジアクリレートのみを反応させた樹脂、および比較例4としてポリエチレンフィルムを用いて、抗菌活性試験を行い、本発明のビスメチド酸基を含む樹脂(実施例1〜13)と抗菌性を比較した。 A resin obtained by reacting polyethylene glycol diacrylate with MA-EATf having a structure having a monomethide acid group in Comparative Example 1, and in Comparative Example 2, a polyethylene glycol diacrylate and a hexafluorocarbinol group (— (CF 3 ) 2 OH ), A resin obtained by reacting MA-3,5-HFA-CHOH, a resin obtained by reacting only polyethylene glycol diacrylate with Comparative Example 3, and a polyethylene film as Comparative Example 4, and performing an antibacterial activity test. The antibacterial properties were compared with the resin (Examples 1 to 13) containing a bismethide acid group of the present invention.
樹脂の合成例1〜15で用いたビスメチド酸基を含む樹脂は、合成しやすく取り扱いが容易であることから、特に本発明の抗菌剤に好適に用いることができる。 Since the resin containing bismethide acid groups used in Resin Synthesis Examples 1 to 15 is easy to synthesize and easy to handle, it can be particularly suitably used for the antibacterial agent of the present invention.
具体的には、MA−ABMD、BTSB−DMSS、BTSB−NB−OHが重合したことにより得られたビスメチド酸基を有する繰り返し単位(a)を含む樹脂である。 Specifically, it is a resin containing a repeating unit (a) having a bismethide acid group obtained by polymerizing MA-ABMD, BTSB-DMSS, and BTSB-NB-OH.
以下に、MA−ABMD、BTSB−DMSS、BTSB−NB−OH、MA−EATf、MA−3,5−HFA−CHOH、BTSB−CDMS、NBOGおよびA−200の構造式を示す。
以下、本発明の抗菌剤の有効成分としての樹脂に含有させる繰り返し単位を与える、重合性単量体の合成例を示す。 Hereinafter, the synthesis example of the polymerizable monomer which gives the repeating unit contained in the resin as the active ingredient of the antibacterial agent of the present invention is shown.
[BTSB−DMSSの合成例]
窒素雰囲気下で、還流冷却器を備えた100mlの三口フラスコ内に、マグネシウム2.08g、テトラヒドロフラン22mlを加え、23℃にて攪拌した。引き続き窒素雰囲気下、当該温度で、p−ブロモスチレン14.50g、ジブロモエチレン0.31g、テトラヒドロフラン62mlの混合液を少量ずつ1時間かけて、徐々に三口フラスコ内に滴下した。滴下後、2時間攪拌し続け、23℃にてBTSB−CDMS9.81gを少量ずつ30分かけて、徐々に滴下した。滴下後、30分攪拌し続け、その後、1N塩酸水溶液およびトルエンを加え、攪拌混合する洗浄操作を2回行った。洗浄操作を行った後の内容物はトルエンと共沸させて、脱水操作を行った後、上記ノンフレックスMBP0.25gを加え、150Paの減圧下138〜142℃で減圧蒸留を行い、4−(4,4−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)ブチルジメチルシリル)スチレン(以下、BTSB−DMSSと略する)を留出させて、11.42gが得られた。この際、収率は53.9%であった。尚、本合成例の反応式は以下、Reaction Formula(1)に示す通りである。
[Synthesis example of BTSB-DMSS]
Under a nitrogen atmosphere, 2.08 g of magnesium and 22 ml of tetrahydrofuran were added to a 100 ml three-necked flask equipped with a reflux condenser and stirred at 23 ° C. Subsequently, a mixture of p-bromostyrene (14.50 g), dibromoethylene (0.31 g) and tetrahydrofuran (62 ml) was gradually added dropwise into the three-necked flask over 1 hour at this temperature under a nitrogen atmosphere. After dropping, stirring was continued for 2 hours, and 9.81 g of BTSB-CDMS was gradually added dropwise at 23 ° C. over 30 minutes. After the dropping, stirring was continued for 30 minutes, and then a washing operation of adding a 1N aqueous hydrochloric acid solution and toluene and stirring and mixing was performed twice. After the washing operation, the content was azeotroped with toluene, and after dehydration operation, 0.25 g of the above non-flex MBP was added, vacuum distillation was performed at 138 to 142 ° C. under a reduced pressure of 150 Pa, and 4- ( 4,4-bis (trifluoromethanesulfonyl) butyldimethylsilyl) styrene (hereinafter abbreviated as BTSB-DMSS) was distilled to obtain 11.42 g. At this time, the yield was 53.9%. The reaction formula of this synthesis example is as shown in Reaction Formula (1) below.
[BTSB−DMSSのスペクトルデータ]
1H−NMR(溶剤:重クロロホルム);σ=6.15−5.97(m,2H),5.72−5.67(m,1H),4.78(t,J=8.0Hz,1H),2.49−2.47(m,2H),1.76−1.69(m,2H),0.63(t,J=8.0Hz,2H),0.10(s,6H)ppm
19F−NMR(溶剤:重クロロホルム);σ=−73.30ppm
1H-NMR (solvent: deuterated chloroform); σ = 6.15-5.97 (m, 2H), 5.72-5.67 (m, 1H), 4.78 (t, J = 8.0 Hz, 1H), 2.49-2.47 (m, 2H), 1.76-1.69 (m, 2H), 0.63 (t, J = 8.0 Hz, 2H), 0.10 (s, 6H) ppm
19F-NMR (solvent: deuterated chloroform); σ = −73.30 ppm
[BTSB−NB−OHの合成例]
窒素雰囲気下で、還流冷却器を備えた100mlの三口フラスコ内に、ビスメチド酸10.06g(0.0359モル)、テトラヒドロフラン17mlを加え、0℃にて攪拌した。引き続き窒素雰囲気下、当該温度で、メチルマグネシウムクロリド(3M)24mlを少量ずつ30分かけて、徐々に三口フラスコ内に滴下した。滴下後、23℃にて30分攪拌し続け、当該温度にて前記構造のNBOG6.46g(0.0359モル)をテトラヒドロフラン24mlに溶解させた溶液を少量ずつ10分かけて、徐々に滴下した。滴下後、3時間攪拌し続け、その後、1N塩酸水溶液およびトルエンを加え、攪拌混合する洗浄操作を2回行った。洗浄操作を行った後の内容物はトルエンと共沸させて、脱水操作を行った後、上記ノンフレックスMBP0.25gを加え、130Paの減圧下149〜152℃で減圧蒸留を行い、ノルボルネン化合物(以下、BTSB−NB−OHと略する)を留出させて、11.4gが得られた。この際、収率は68.9%であった。尚、本合成例の反応式は以下、Reaction Formula(2)に示す通りである。
[Synthesis Example of BTSB-NB-OH]
Under a nitrogen atmosphere, 10.06 g (0.0359 mol) of bismethide acid and 17 ml of tetrahydrofuran were added to a 100 ml three-necked flask equipped with a reflux condenser and stirred at 0 ° C. Subsequently, 24 ml of methylmagnesium chloride (3M) was gradually added dropwise into the three-necked flask over 30 minutes at this temperature under a nitrogen atmosphere. After the dropping, stirring was continued for 30 minutes at 23 ° C., and a solution prepared by dissolving 6.46 g (0.0359 mol) of NBOG having the above structure in 24 ml of tetrahydrofuran was gradually added dropwise over 10 minutes at that temperature. After dropping, stirring was continued for 3 hours, and then a washing operation of adding 1N hydrochloric acid aqueous solution and toluene and stirring and mixing was performed twice. After the washing operation, the content was azeotroped with toluene, and after dehydration operation, 0.25 g of the above non-flex MBP was added, and vacuum distillation was performed at 149 to 152 ° C. under a reduced pressure of 130 Pa. (Hereinafter abbreviated as BTSB-NB-OH) was distilled to obtain 11.4 g. At this time, the yield was 68.9%. The reaction formula of this synthesis example is as shown in Reaction Formula (2) below.
[BTSB−NB−OHのスペクトルデータ]
1H−NMR(溶剤:重クロロホルム);σ=6.15(m,1H),5.92(m,1H),5.57(m,1H),4.04(m,1H),3.63−3.59(m,2H),3.27−3.23(m,2H),2.58−2.52(m,2H),2.36(m,1H),1.82(m,1H),1.58(m,1H),1.50(m,1H),1.27(m,1H),1.14(m,1H),0.51(m,1H)ppm19F−NMR(溶剤:重クロロホルム);σ=−72.80(s,3F),−73.80(s,3F)ppm
1H-NMR (solvent: deuterated chloroform); σ = 6.15 (m, 1H), 5.92 (m, 1H), 5.57 (m, 1H), 4.04 (m, 1H), 3. 63-3.59 (m, 2H), 3.27-3.23 (m, 2H), 2.58-2.52 (m, 2H), 2.36 (m, 1H), 1.82 ( m, 1H), 1.58 (m, 1H), 1.50 (m, 1H), 1.27 (m, 1H), 1.14 (m, 1H), 0.51 (m, 1H) ppm19F -NMR (solvent: deuterated chloroform); σ = -72.80 (s, 3F), -73.80 (s, 3F) ppm
以下に、本発明の抗菌剤に使用する樹脂の重合方法について説明する。 Below, the polymerization method of resin used for the antibacterial agent of this invention is demonstrated.
[樹脂の合成例1]
ガラス製フラスコ中で、3−メタクリロキシ−1,1−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)ブタン酸(以下、MA−ABMDと略する)、1.51g(0.0037mol)とポリエチレングリコールジアクリレート(新中村化学工業株式会社製、製品名:A−200)2.68g(0.0088mol)、および重合開始剤としての過ピバル酸−tert−ブチル(日本油脂株式会社製、製品名:パーブチルPV)0.10gを加え、十分に攪拌しながら脱気し、窒素ガスを導入した。
[Resin Synthesis Example 1]
In a glass flask, 3-methacryloxy-1,1-bis (trifluoromethanesulfonyl) butanoic acid (hereinafter abbreviated as MA-ABMD), 1.51 g (0.0037 mol) and polyethylene glycol diacrylate (Shin Nakamura Chemical) 2.68 g (0.0088 mol) manufactured by Kogyo Co., Ltd., product name: A-200), and tert-butyl perpivalate as a polymerization initiator (product name: Perbutyl PV manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) 0.10 g The mixture was degassed with sufficient stirring, and nitrogen gas was introduced.
ガラス板上に前記溶液5mlを載せ、バーコーターを使用して塗布した。予め80℃に調整した窒素導入装置付きのイナートオーブンに入れ、80℃で30分間加熱した。次に、毎分1℃で昇温させ、さらに120℃にて60分間保持して硬化させ、ガラス基板上に硬化塗膜を形成した。 5 ml of the solution was placed on a glass plate and applied using a bar coater. The mixture was placed in an inert oven equipped with a nitrogen introducing device that had been adjusted to 80 ° C. in advance, and heated at 80 ° C. for 30 minutes. Next, the temperature was raised at 1 ° C. per minute, and further cured by holding at 120 ° C. for 60 minutes to form a cured coating film on the glass substrate.
また、予め2枚のガラス板を用意し、隙間ができるようスペーサーとなる厚さ0.2mmの薄いガラスの小片を周辺部に挟み込み、その隙間部分に毛細管現象を利用して前記溶液を注入した。窒素雰囲気下、80℃に昇温させたオーブン内にて30分間保持した後、毎分1℃で昇温させ、さらに120℃にて60分間保持して硬化させた。オーブンから取り出して室温まで冷却した後、水をはったバットに浸漬した。1時間後、樹脂膜をガラス板から剥がし、水分をウエスで拭き取った後、室温で放置して乾燥し、硬化した自立膜を得た。 In addition, two glass plates were prepared in advance, and a small piece of 0.2 mm thick glass serving as a spacer was sandwiched between the peripheral portions so that a gap was formed, and the solution was injected into the gap using the capillary phenomenon. . After maintaining in an oven heated to 80 ° C. for 30 minutes in a nitrogen atmosphere, the temperature was increased at 1 ° C. per minute, and further maintained at 120 ° C. for 60 minutes for curing. After removing from the oven and cooling to room temperature, it was immersed in a vat with water. After 1 hour, the resin film was peeled off from the glass plate, wiped with a waste cloth, and then allowed to dry at room temperature to obtain a cured self-supporting film.
[樹脂の合成例2]
ガラス製フラスコ中に、MA−ABMD、4.06g(0.0100mol)とポリエチレングリコールジアクリレート(新中村化学工業株式会社製、製品名:A−200)0.76g(0.0025mol)、および重合開始剤としての過ピバル酸−tert−ブチル(日本油脂株式会社製、製品名:パーブチルPV)0.10gを加え、十分に攪拌しながら脱気し、窒素ガスを導入した。その後、樹脂の合成例1と同様の手順で該溶液を硬化させた。
[Resin Synthesis Example 2]
In a glass flask, MA-ABMD, 4.06 g (0.0100 mol), polyethylene glycol diacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product name: A-200) 0.76 g (0.0025 mol), and polymerization 0.10 g of perpivalic acid-tert-butyl (manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd., product name: perbutyl PV) as an initiator was added, deaerated while being sufficiently stirred, and nitrogen gas was introduced. Thereafter, the solution was cured by the same procedure as in Resin Synthesis Example 1.
[樹脂の合成例3]
ガラス製フラスコ中に、MA−ABMD、0.528g(0.0013mol)とポリエチレングリコールジアクリレート(新中村化学工業株式会社製、製品名:A−200)3.435g(0.0113mol)、および重合開始剤としての過ピバル酸−tert−ブチル(日本油脂株式会社製、製品名:パーブチルPV)0.10gを加え、十分に攪拌しながら脱気し、窒素ガスを導入した。その後、樹脂の合成例1と同様の手順で該溶液を硬化させた。
[Resin Synthesis Example 3]
In a glass flask, MA-ABMD, 0.528 g (0.0013 mol) and polyethylene glycol diacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product name: A-200) 3.435 g (0.0113 mol), and polymerization 0.10 g of perpivalic acid-tert-butyl (manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd., product name: perbutyl PV) as an initiator was added, deaerated while being sufficiently stirred, and nitrogen gas was introduced. Thereafter, the solution was cured by the same procedure as in Resin Synthesis Example 1.
[樹脂の合成例4]
ガラス製フラスコ中に、MA−ABMD、0.053g(0.00013mol)とポリエチレングリコールジアクリレート(新中村化学工業株式会社製、製品名:A−200)3.760g(0.01237mol)、および重合開始剤としての過ピバル酸−tert−ブチル(日本油脂株式会社製、製品名:パーブチルPV)0.10gを加え、十分に攪拌しながら脱気し、窒素ガスを導入した。その後、樹脂の合成例1と同様の手順で該溶液を硬化させた。
[Resin Synthesis Example 4]
In a glass flask, MA-ABMD, 0.053 g (0.00013 mol) and polyethylene glycol diacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product name: A-200) 3.760 g (0.01237 mol), and polymerization 0.10 g of perpivalic acid-tert-butyl (manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd., product name: perbutyl PV) as an initiator was added, deaerated while being sufficiently stirred, and nitrogen gas was introduced. Thereafter, the solution was cured by the same procedure as in Resin Synthesis Example 1.
[樹脂の合成例5]
ガラス製フラスコ中に、MA−ABMD、0.053g(0.00013mol)とポリエチレングリコールジアクリレート(新中村化学工業株式会社製、製品名:A−200)7.864g(0.02587mol)、および重合開始剤としての過ピバル酸−tert−ブチル(日本油脂株式会社製、製品名:パーブチルPV)0.10gを加え、十分に攪拌しながら脱気し、窒素ガスを導入した。その後、樹脂の合成例1と同様の手順で該溶液を硬化させた。
[Resin Synthesis Example 5]
In a glass flask, MA-ABMD, 0.053 g (0.00013 mol), polyethylene glycol diacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product name: A-200) 7.864 g (0.02587 mol), and polymerization 0.10 g of perpivalic acid-tert-butyl (manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd., product name: perbutyl PV) as an initiator was added, deaerated while being sufficiently stirred, and nitrogen gas was introduced. Thereafter, the solution was cured by the same procedure as in Resin Synthesis Example 1.
[樹脂の合成例6]
ガラス製フラスコ中に、MA−ABMD、0.0053g(0.000013mol)とポリエチレングリコールジアクリレート(新中村化学工業株式会社製、製品名:A−200)3.7960g(0.012487mol)、および重合開始剤としての過ピバル酸−tert−ブチル(日本油脂株式会社製、製品名:パーブチルPV)0.10gを加え、十分に攪拌しながら脱気し、窒素ガスを導入した。その後、樹脂の合成例1と同様の手順で該溶液を硬化させた。
[Resin Synthesis Example 6]
In a glass flask, MA-ABMD, 0.0053 g (0.000013 mol), polyethylene glycol diacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product name: A-200) 3.7960 g (0.012487 mol), and polymerization 0.10 g of perpivalic acid-tert-butyl (manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd., product name: perbutyl PV) as an initiator was added, deaerated while being sufficiently stirred, and nitrogen gas was introduced. Thereafter, the solution was cured by the same procedure as in Resin Synthesis Example 1.
[樹脂の合成例7]
ガラス製フラスコ中にて2−ブタノン10.4gへMA−ABMDを5.00g(0.0123モル)溶解し混合した。この溶液に重合開始剤として過ピバル酸−tert−ブチル(日本油脂株式会社製、製品名:パーブチルPV)0.057gを加え、十分に攪拌しながら脱気し、窒素ガスを導入した後に70℃にて16時間反応を行なった。反応終了後の溶液を240gのn−ヘプタンに滴下し、白色の沈殿を得た。この沈殿を濾別し、75℃にて減圧乾燥を行い4.08gの白色固体を得た。
[Resin Synthesis Example 7]
In a glass flask, 5.00 g (0.0123 mol) of MA-ABMD was dissolved in 10.4 g of 2-butanone and mixed. To this solution was added 0.057 g of perpivalic acid-tert-butyl (manufactured by NOF Corporation, product name: perbutyl PV) as a polymerization initiator, degassed with sufficient stirring, and after introducing nitrogen gas, 70 ° C. The reaction was carried out for 16 hours. The solution after completion of the reaction was added dropwise to 240 g of n-heptane to obtain a white precipitate. This precipitate was separated by filtration and dried under reduced pressure at 75 ° C. to obtain 4.08 g of a white solid.
GPC測定結果;Mw=80,100、Mw/Mn=2.77
DSC測定結果;Tg=160℃
[樹脂の合成例8]
ガラス製フラスコ中にて2−ブタノン9.8gへMA−ABMDを3.90g(0.0096モル)、スチレン(東京化成工業株式会社製)を1.00g(0.0096モル)溶解し混合した。この溶液に重合開始剤として過ピバル酸−tert−ブチル(日本油脂株式会社製、製品名:パーブチルPV)0.094gを加え、十分に攪拌しながら脱気し、窒素ガスを導入した後に70℃にて16時間反応を行なった。反応終了後の溶液を100gのn−ヘプタンに滴下し、白色の沈殿を得た。この沈殿を濾別し、75℃にて減圧乾燥を行い1.59gの白色固体を得た。
GPC measurement results; Mw = 80,100, Mw / Mn = 2.77
DSC measurement result; Tg = 160 ° C.
[Resin Synthesis Example 8]
In a glass flask, 3.90 g (0.0096 mol) of MA-ABMD and 1.00 g (0.0096 mol) of styrene (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were dissolved and mixed with 9.8 g of 2-butanone. . To this solution was added 0.094 g of perpivalic acid-tert-butyl (manufactured by NOF Corporation, product name: perbutyl PV) as a polymerization initiator, degassed with sufficient stirring, and after introducing nitrogen gas, 70 ° C. The reaction was carried out for 16 hours. The solution after completion of the reaction was added dropwise to 100 g of n-heptane to obtain a white precipitate. This precipitate was separated by filtration and dried under reduced pressure at 75 ° C. to obtain 1.59 g of a white solid.
GPC測定結果;Mw=31,200、Mw/Mn=1.98
DSC測定結果;Tg=116℃
[樹脂の合成例9]
ガラス製フラスコ中にて2−ブタノン9.8gへMA−ABMDを2.03g(0.0050モル)、2,3,4,5,6−ペンタフルオロスチレン(東京化成工業株式会社製)を0.97g(0.0050モル)溶解し混合した。この溶液に重合開始剤として過ピバル酸−tert−ブチル(日本油脂株式会社製、製品名:パーブチルPV)0.049gを加え、十分に攪拌しながら脱気し、窒素ガスを導入した後に70℃にて16時間反応を行なった。反応終了後の溶液を200gのn−ヘプタンに滴下し、白色の沈殿を得た。この沈殿を濾別し、75℃にて減圧乾燥を行い2.31gの白色固体を得た。
GPC measurement result; Mw = 31,200, Mw / Mn = 1.98
DSC measurement result; Tg = 116 ° C.
[Resin Synthesis Example 9]
In a glass flask, 2-butanone 9.8 g, MA-ABMD 2.03 g (0.0050 mol), 2,3,4,5,6-pentafluorostyrene (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 0 .97 g (0.0050 mol) was dissolved and mixed. To this solution was added 0.049 g of perpivalic acid-tert-butyl (manufactured by NOF Corporation, product name: perbutyl PV) as a polymerization initiator, degassed with sufficient stirring, and after introducing nitrogen gas, 70 ° C. The reaction was carried out for 16 hours. The solution after completion of the reaction was added dropwise to 200 g of n-heptane to obtain a white precipitate. This precipitate was separated by filtration and dried under reduced pressure at 75 ° C. to obtain 2.31 g of a white solid.
GPC測定結果;Mw=74,500、Mw/Mn=2.02
DSC測定結果;Tg=132℃
[樹脂の合成例10]
ガラス製フラスコ中にて2−ブタノン1.4gへMA−ABMDを1.80g(0.0044モル)、メタクリル酸2−ヒドロキシエチルを0.07g(0.0005モル)溶解し混合した。この溶液に重合開始剤として過ピバル酸−tert−ブチル(日本油脂株式会社製、製品名:パーブチルPV)0.024gを加え、十分に攪拌しながら脱気し、窒素ガスを導入した後に70℃にて16時間反応を行なった。反応終了後の溶液を100gのn−ヘプタンに滴下し、白色の沈殿を得た。この沈殿を濾別し、75℃にて減圧乾燥を行い1.77gの白色固体を得た。
GPC measurement results; Mw = 74,500, Mw / Mn = 2.02
DSC measurement result; Tg = 132 ° C.
[Resin Synthesis Example 10]
In a glass flask, 1.80 g (0.0044 mol) of MA-ABMD and 0.07 g (0.0005 mol) of 2-hydroxyethyl methacrylate were dissolved and mixed with 1.4 g of 2-butanone. To this solution was added 0.024 g of perpivalic acid-tert-butyl (manufactured by NOF Corporation, product name: perbutyl PV) as a polymerization initiator, degassed with sufficient stirring, and after introducing nitrogen gas, 70 ° C. The reaction was carried out for 16 hours. The solution after completion of the reaction was added dropwise to 100 g of n-heptane to obtain a white precipitate. This precipitate was separated by filtration and dried under reduced pressure at 75 ° C. to obtain 1.77 g of a white solid.
GPC測定結果;Mw=429,400、Mw/Mn=4.87
DSC測定結果;Tg=148℃
[樹脂の合成例11]
ガラス製フラスコ中にて2−ブタノン10.3gへMA−ABMDを0.20g(0.0005モル)、メタクリル酸メチル(東京化成工業株式会社製)を4.96g(0.0495モル)溶解し混合した。この溶液に重合開始剤として過ピバル酸−tert−ブチル(日本油脂株式会社製、製品名:パーブチルPV)0.123gを加え、十分に攪拌しながら脱気し、窒素ガスを導入した後に70℃にて16時間反応を行なった。反応終了後の溶液を105gのn−ヘプタンに滴下し、白色の沈殿を得た。この沈殿を濾別し、75℃にて減圧乾燥を行い4.13gの白色固体を得た。
GPC measurement results; Mw = 429,400, Mw / Mn = 4.87
DSC measurement result; Tg = 148 ° C.
[Resin Synthesis Example 11]
In a glass flask, 0.20 g (0.0005 mol) of MA-ABMD and 4.96 g (0.0495 mol) of methyl methacrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were dissolved in 10.3 g of 2-butanone. Mixed. To this solution was added 0.123 g of perpivalic acid-tert-butyl (manufactured by NOF Corporation, product name: perbutyl PV) as a polymerization initiator, degassed with sufficient stirring, and after introducing nitrogen gas, 70 ° C. The reaction was carried out for 16 hours. The solution after completion of the reaction was added dropwise to 105 g of n-heptane to obtain a white precipitate. This precipitate was separated by filtration and dried under reduced pressure at 75 ° C. to obtain 4.13 g of a white solid.
GPC測定結果;Mw=36,400、Mw/Mn=1.71
DSC測定結果;Tg=148℃
[樹脂の合成例12]
ガラス製フラスコ中にて酢酸ブチル2.8gへBTSB−DMSSを5.08g(0.0105モル)加え、溶解し混合した。この溶液に重合開始剤として過ピバル酸−tert−ブチル(日本油脂株式会社製、製品名:パーブチルPV)0.55gを加え、十分に攪拌しながら脱気し、窒素ガスを導入した後に70℃にて16時間反応を行なった。反応終了後の溶液を28gのn−ヘプタンに滴下し、白色の沈殿を得た。この沈殿を濾別し、75℃にて減圧乾燥を行い4.65gの白色固体を得た。
GPC measurement result; Mw = 36,400, Mw / Mn = 1.71
DSC measurement result; Tg = 148 ° C.
[Resin Synthesis Example 12]
In a glass flask, 5.08 g (0.0105 mol) of BTSB-DMSS was added to 2.8 g of butyl acetate and dissolved and mixed. To this solution, 0.55 g of perpivalic acid-tert-butyl (manufactured by NOF Corporation, product name: perbutyl PV) was added as a polymerization initiator, degassed with sufficient stirring, and after introducing nitrogen gas, 70 ° C. The reaction was carried out for 16 hours. The solution after completion of the reaction was added dropwise to 28 g of n-heptane to obtain a white precipitate. This precipitate was separated by filtration and dried under reduced pressure at 75 ° C. to obtain 4.65 g of a white solid.
GPC測定結果;Mw=33,300、Mw/Mn=1.44
[樹脂の合成例13]
ガラス製フラスコ中にて酢酸ブチル7.7gへBTSB−DMSSを7.54g(0.0156モル)、アクリロニトリル8.01g(0.1511モル)加え、溶解し混合した。この溶液に重合開始剤として過ピバル酸−tert−ブチル(日本油脂株式会社製、製品名:パーブチルPV)0.41gを加え、十分に攪拌しながら脱気し、窒素ガスを導入した後に70℃にて16時間反応を行なった。反応終了後の溶液を120gのn−ヘプタンに滴下し、白色の沈殿を得た。この沈殿を濾別し、75℃にて減圧乾燥を行い14.90gの白色固体を得た。
GPC measurement result; Mw = 33,300, Mw / Mn = 1.44
[Resin Synthesis Example 13]
In a glass flask, 7.54 g (0.0156 mol) of BTSB-DMSS and 8.01 g (0.1511 mol) of acrylonitrile were added to 7.7 g of butyl acetate and dissolved and mixed. To this solution, 0.41 g of perpivalic acid-tert-butyl (manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd., product name: perbutyl PV) was added as a polymerization initiator, degassed with sufficient stirring, and nitrogen gas was introduced. The reaction was carried out for 16 hours. The solution after completion of the reaction was added dropwise to 120 g of n-heptane to obtain a white precipitate. This precipitate was separated by filtration and dried under reduced pressure at 75 ° C. to obtain 14.90 g of a white solid.
GPC測定結果;Mw50万以上
[樹脂の合成例14]
ガラス製フラスコ中にてトルエン4.4gへBTSB−NB−OHを9.24g(0.0201モル)を加え、溶解し混合した。この溶液にジクロロビス(ベンゾニトリル)パラジウム(II)0.141g、三フッ化ホウ素エチルエーテル2.15gを加え、十分に攪拌しながら脱気し、窒素ガスを導入した後に23℃にて4時間反応を行なった。反応終了後の溶液を82gのn−ヘプタンに滴下し、白色の沈殿を得た。この沈殿を濾別し、75℃にて減圧乾燥を行い5.09gの白色固体を得た。
GPC measurement result: Mw 500,000 or more [Resin synthesis example 14]
In a glass flask, 9.24 g (0.0201 mol) of BTSB-NB-OH was added to 4.4 g of toluene, dissolved and mixed. To this solution, 0.141 g of dichlorobis (benzonitrile) palladium (II) and 2.15 g of boron trifluoride ethyl ether were added, degassed with sufficient stirring, and nitrogen gas was introduced, followed by reaction at 23 ° C. for 4 hours. Was done. The solution after completion of the reaction was added dropwise to 82 g of n-heptane to obtain a white precipitate. This precipitate was separated by filtration and dried under reduced pressure at 75 ° C. to obtain 5.09 g of a white solid.
GPC測定結果;Mw=9,000、Mw/Mn=1.48
[樹脂の合成例15]
ガラス製フラスコ中にてトルエン4.4gへBTSB−NB−OHを2.47g(0.0054モル)、2−ノルボルネン4.59g(0.0488モル)を加え、溶解し混合した。この溶液にジクロロビス(ベンゾニトリル)パラジウム(II)0.200g、三フッ化ホウ素エチルエーテル2.05gを加え、十分に攪拌しながら脱気し、窒素ガスを導入した後に23℃にて4時間反応を行なった。反応終了後の溶液を80gのn−ヘプタンに滴下し、白色の沈殿を得た。この沈殿を濾別し、75℃にて減圧乾燥を行い6.31gの白色固体を得た。
GPC measurement results; Mw = 9,000, Mw / Mn = 1.48
[Resin Synthesis Example 15]
In a glass flask, 2.47 g (0.0054 mol) of BTSB-NB-OH and 4.59 g (0.0488 mol) of 2-norbornene were added to 4.4 g of toluene and dissolved and mixed. To this solution, 0.200 g of dichlorobis (benzonitrile) palladium (II) and 2.05 g of boron trifluoride ethyl ether were added, degassed with sufficient stirring, and nitrogen gas was introduced, followed by reaction at 23 ° C. for 4 hours. Was done. The solution after completion of the reaction was added dropwise to 80 g of n-heptane to obtain a white precipitate. This precipitate was separated by filtration and dried under reduced pressure at 75 ° C. to obtain 6.31 g of a white solid.
GPC測定結果;Mw50万以上
合成した樹脂の抗菌性を評価するための試験片を作製した。作製した試験片を用い、JIS Z2801:2006「抗菌性試験方法」の方法に従って大腸菌(Escherichia coli NBRC3972)を用いて抗菌性試験を行った。無加工試験片としてはポリエチレンフィルムを用いた。実施例については、上記樹脂の合成例1〜6の硬化物、合成例1〜6の硬化物、合成例7〜15の白色固体から抗菌性樹脂を得る工程について説明する。
GPC measurement result: Mw 500,000 or more A test piece for evaluating the antibacterial property of the synthesized resin was prepared. Using the prepared test piece, an antibacterial test was performed using Escherichia coli NBRC 3972 according to the method of JIS Z2801: 2006 “Antimicrobial test method”. A polyethylene film was used as the unprocessed test piece. About an Example, the process of obtaining an antibacterial resin from the hardened | cured material of the synthesis examples 1-6 of the said resin, the hardened | cured material of the synthesis examples 1-6, and the white solid of the synthesis examples 7-15 is demonstrated.
[実施例1]
樹脂の合成例1で得た硬化物を室温まで冷却後、水に浸漬することで、50mm×50mm×0.05mmの樹脂膜を得た。
[Example 1]
The cured product obtained in Resin Synthesis Example 1 was cooled to room temperature and then immersed in water to obtain a resin film of 50 mm × 50 mm × 0.05 mm.
[実施例2]
樹脂の合成例2で得た硬化物から、実施例1と同様の手順で樹脂膜を得た。
[Example 2]
A resin film was obtained from the cured product obtained in Resin Synthesis Example 2 in the same procedure as in Example 1.
[実施例3]
樹脂の合成例3で得た硬化物から、実施例1と同様の手順で樹脂膜を得た。
[Example 3]
From the cured product obtained in Resin Synthesis Example 3, a resin film was obtained in the same procedure as in Example 1.
[実施例4]
樹脂の合成例4で得た硬化物から、実施例1と同様の手順で樹脂膜を得た。
[Example 4]
From the cured product obtained in Resin Synthesis Example 4, a resin film was obtained in the same procedure as in Example 1.
[実施例5]
樹脂の合成例5で得た硬化物から、実施例1と同様の手順で樹脂膜を得た。
[Example 5]
A resin film was obtained from the cured product obtained in Resin Synthesis Example 5 in the same procedure as in Example 1.
[実施例6]
樹脂の合成例6で得た硬化物から、実施例1と同様の手順で樹脂膜を得た。
[Example 6]
From the cured product obtained in Resin Synthesis Example 6, a resin film was obtained in the same procedure as in Example 1.
[実施例7]
樹脂の合成例7で得た白色固体0.2gをN,N−ジメチルホルムアミド(以後、DMFと略する)3.8gに溶解し混合した。前記溶液をガラス板上に塗布し、120℃に昇温させたオーブン内にて30分間保持した後、毎分1℃で昇温させ、さらに160℃に60分間保持して硬化させ、樹脂膜を得た。
[Example 7]
0.2 g of the white solid obtained in Resin Synthesis Example 7 was dissolved and mixed in 3.8 g of N, N-dimethylformamide (hereinafter abbreviated as DMF). The solution is applied on a glass plate, held in an oven heated to 120 ° C. for 30 minutes, then heated at 1 ° C. per minute, and further held at 160 ° C. for 60 minutes to cure, thereby forming a resin film Got.
[実施例8]
樹脂の合成例8で得た白色固体0.2gをDMF3.8gに溶解し混合した。実施例7と同様の手順で樹脂膜を得た。
[Example 8]
0.2 g of the white solid obtained in Resin Synthesis Example 8 was dissolved in 3.8 g of DMF and mixed. A resin film was obtained in the same procedure as in Example 7.
[実施例9]
樹脂の合成例9で得た白色固体0.2gをDMF3.8gに溶解し混合した。実施例7と同様の手順で樹脂膜を得た。
[Example 9]
0.2 g of the white solid obtained in Resin Synthesis Example 9 was dissolved and mixed in 3.8 g of DMF. A resin film was obtained in the same procedure as in Example 7.
[実施例10]
樹脂の合成例10で得た白色固体1.50gをシクロヘキサノン10.0gに溶解し、ピリジン0.33g、ヘキサメチレンジイソシアナートを0.10g加えて攪拌し、均一溶液を得た。前記溶液をガラス板上に塗布し、室温にて1時間仮乾燥した後、80℃に昇温させたオーブン内にて30分間保持した後、毎分1℃で昇温させ、さらに130℃に60分間保持して硬化膜を得た。これを1N塩酸水溶液1Lの入ったビーカーに80℃にて1時間浸漬させた後、イオン交換水で洗浄し、75℃にて減圧乾燥を行い、樹脂膜を得た。
[Example 10]
1.50 g of the white solid obtained in Resin Synthesis Example 10 was dissolved in 10.0 g of cyclohexanone, and 0.33 g of pyridine and 0.10 g of hexamethylene diisocyanate were added and stirred to obtain a uniform solution. The solution was applied on a glass plate, temporarily dried at room temperature for 1 hour, held in an oven heated to 80 ° C. for 30 minutes, then heated at 1 ° C. per minute, and further increased to 130 ° C. The cured film was obtained by holding for 60 minutes. This was immersed in a beaker containing 1 L of 1N hydrochloric acid aqueous solution at 80 ° C. for 1 hour, washed with ion-exchanged water, and dried under reduced pressure at 75 ° C. to obtain a resin film.
[実施例11]
樹脂の合成例11で得た白色固体0.2gをDMF3.8gに溶解し混合した。実施例7と同様の手順で樹脂膜を得た。
[Example 11]
0.2 g of the white solid obtained in Resin Synthesis Example 11 was dissolved and mixed in 3.8 g of DMF. A resin film was obtained in the same procedure as in Example 7.
[実施例12]
樹脂の合成例12で得た白色固体0.2gをDMF3.8gに溶解し混合した。実施例7と同様の手順で樹脂膜を得た。
[Example 12]
0.2 g of the white solid obtained in Resin Synthesis Example 12 was dissolved in 3.8 g of DMF and mixed. A resin film was obtained in the same procedure as in Example 7.
[実施例13]
樹脂の合成例13で得た白色固体0.2gをDMF3.8gに溶解し混合した。実施例7と同様の手順で樹脂膜を得た。
[Example 13]
0.2 g of the white solid obtained in Resin Synthesis Example 13 was dissolved in 3.8 g of DMF and mixed. A resin film was obtained in the same procedure as in Example 7.
[実施例14]
樹脂の合成例14で得た白色固体0.2gをDMF3.8gに溶解し混合した。実施例7と同様の手順で樹脂膜を得た。
[Example 14]
0.2 g of the white solid obtained in Resin Synthesis Example 14 was dissolved in 3.8 g of DMF and mixed. A resin film was obtained in the same procedure as in Example 7.
[実施例15]
樹脂の合成例11で得た白色固体0.1gをメチルイソブチルカルビノール9.9gに溶解した。前記溶液を4インチシリコンウェハ基板上にスピンコータにより塗布し、90℃にて3分間乾燥して、厚み20nmの硬化膜を得た。
[Example 15]
0.1 g of the white solid obtained in Resin Synthesis Example 11 was dissolved in 9.9 g of methyl isobutyl carbinol. The solution was applied onto a 4-inch silicon wafer substrate by a spin coater and dried at 90 ° C. for 3 minutes to obtain a cured film having a thickness of 20 nm.
[実施例16]
実施例1と同様の手順で得た樹脂膜から、大きさ50mm×50mmの試験片を切り出し、0.05N水酸化ナトリウム水溶液200mLに浸漬した。室温で12時間放置後、混合溶液から膜を取り出し、膜表面を蒸留水で洗浄した。液中のナトリウムイオンにより、樹脂膜中のビスメチド酸基は、ナトリウム塩(ビスメチド酸塩)を含む有機基となる。
[Example 16]
A test piece having a size of 50 mm × 50 mm was cut out from the resin film obtained in the same procedure as in Example 1, and immersed in 200 mL of 0.05N aqueous sodium hydroxide solution. After leaving at room temperature for 12 hours, the membrane was taken out from the mixed solution, and the membrane surface was washed with distilled water. Due to the sodium ions in the liquid, the bismethide acid group in the resin film becomes an organic group containing a sodium salt (bismethide acid salt).
[実施例17]
実施例2と同様の手順で得た樹脂膜から、大きさ50mm×50mmの試験片を切り出し、0.05N水酸化ナトリウム水溶液200mLに浸漬した。室温で12時間放置後、混合溶液から膜を取り出し、膜表面を蒸留水で洗浄した。液中のナトリウムイオンにより、樹脂膜中のビスメチド酸基は、ナトリウム塩(ビスメチド酸塩)を含む有機基となる。
[Example 17]
A test piece having a size of 50 mm × 50 mm was cut out from the resin film obtained in the same procedure as in Example 2, and immersed in 200 mL of 0.05N aqueous sodium hydroxide solution. After leaving at room temperature for 12 hours, the membrane was taken out from the mixed solution, and the membrane surface was washed with distilled water. By the sodium ions in the liquid, the bismethide acid group in the resin film becomes an organic group including a sodium salt (bismethide acid salt).
[実施例18]
実施例5と同様の手順で得た樹脂膜から、大きさ50mm×50mmの試験片を切り出し、0.5質量%酢酸銀水溶液500mLに浸漬した。室温で12時間放置後、混合溶液から膜を取り出し、膜表面を蒸留水で洗浄した。液中の銀イオンにより、樹脂膜中のビスメチド酸基は、銀塩(ビスメチド酸塩)を含む有機基となる。
[Example 18]
A test piece having a size of 50 mm × 50 mm was cut out from the resin film obtained in the same procedure as in Example 5, and immersed in 500 mL of a 0.5% by mass silver acetate aqueous solution. After leaving at room temperature for 12 hours, the membrane was taken out from the mixed solution, and the membrane surface was washed with distilled water. Due to the silver ions in the liquid, the bismethide acid group in the resin film becomes an organic group containing a silver salt (bismethide acid salt).
[実施例19]
実施例5と同様の手順で得た樹脂膜から、大きさ50mm×50mmの試験片を切り出し、0.5質量%イミダゾール水溶液500mLに浸漬した。室温で12時間放置後、混合溶液から膜を取り出し、膜表面を蒸留水で洗浄した。。樹脂膜中のビスメチド酸基は、イミダゾーリウム塩(ビスメチド酸塩)を含む有機基となる。
[Example 19]
A test piece having a size of 50 mm × 50 mm was cut out from a resin film obtained in the same procedure as in Example 5, and immersed in 500 mL of a 0.5 mass% imidazole aqueous solution. After leaving at room temperature for 12 hours, the membrane was taken out from the mixed solution, and the membrane surface was washed with distilled water. . The bismethide acid group in the resin film becomes an organic group containing an imidazolium salt (bismethide salt).
[比較例1]
ガラス製フラスコ中に、前記構造のモノメチド酸基を含む構造のMA−EATf、0.97g(0.0037mol)とポリエチレングリコールジアクリレート(新中村化学工業株式会社製、製品名:A−200)3.40g(0.0088mol)、および重合開始剤としての過ピバル酸−tert−ブチル(日本油脂株式会社製、製品名:パーブチルPV)0.10gを加え、十分に攪拌しながら脱気し、窒素ガスを導入した。その後、実施例1と同様の手順で該溶液を硬化させて樹脂膜を得た。
[Comparative Example 1]
MA-EATf, 0.97 g (0.0037 mol) and polyethylene glycol diacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product name: A-200) 3 containing a monomethide acid group having the above structure in a glass flask. .40 g (0.0088 mol) and 0.10 g of perpivalic acid-tert-butyl (manufactured by NOF Corporation, product name: perbutyl PV) as a polymerization initiator were added, and the mixture was deaerated while being sufficiently stirred, and nitrogen Gas was introduced. Thereafter, the solution was cured by the same procedure as in Example 1 to obtain a resin film.
[比較例2]
ガラス製フラスコ中に、前記構造のヘキサフルオロカルビノール基(−(CF3)2OH)を含むMA−3,5−HFA−CHOH、1.85g(0.0037mol)とポリエチレングリコールジアクリレート(新中村化学工業株式会社製、製品名:A−200)2.68g(0.0088mol)、および重合開始剤としての過ピバル酸−tert−ブチル(日本油脂株式会社製、製品名:パーブチルPV)0.10gを加え、十分に攪拌しながら脱気し、窒素ガスを導入した。その後、実施例1と同様の手順で該溶液を硬化させて樹脂膜を得た。
[Comparative Example 2]
In a glass flask, MA-3,5-HFA-CHOH containing a hexafluorocarbinol group (-(CF 3 ) 2 OH) having the above structure, 1.85 g (0.0037 mol) and polyethylene glycol diacrylate (new) 2.68 g (0.0088 mol) manufactured by Nakamura Chemical Co., Ltd., product name: A-200, and tert-butyl perpivalate as a polymerization initiator (manufactured by NOF Corporation, product name: perbutyl PV) 0 .10 g was added, degassed with sufficient stirring, and nitrogen gas was introduced. Thereafter, the solution was cured by the same procedure as in Example 1 to obtain a resin film.
[比較例3]
ガラス製フラスコ中にてポリエチレングリコールジアクリレート(新中村化学工業株式会社製、製品名:A−200)3.80g(0.0125mol)、および重合開始剤としての過ピバル酸−tert−ブチル(日本油脂株式会社製、製品名:パーブチルPV)0.10gを加え、十分に攪拌しながら脱気し、窒素ガスを導入した。その後、実施例1と同様の手順で該溶液を硬化させて樹脂膜を得た。
[Comparative Example 3]
In a glass flask, polyethylene glycol diacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product name: A-200) 3.80 g (0.0125 mol) and perpivalic acid-tert-butyl as a polymerization initiator (Japan) 0.10 g (manufactured by Yushi Co., Ltd., product name: perbutyl PV) was added, deaerated while being sufficiently stirred, and nitrogen gas was introduced. Thereafter, the solution was cured by the same procedure as in Example 1 to obtain a resin film.
[比較例4]
無加工試験片としてのポリエチレンフィルム。
[Comparative Example 4]
Polyethylene film as an unprocessed test piece.
[比較例5]
比較用試験片としてのナフィオン117フィルム。
[Comparative Example 5]
Nafion 117 film as a test specimen for comparison.
[抗菌性の評価]
合成した樹脂膜の抗菌性を評価するため、ビスメチド酸基を有する樹脂を含む樹脂膜(実施例1〜18)、ビスメチド酸基を含まない樹脂膜(比較例1〜3、5)、無加工試験片としてのポリエチレンフィルム(比較例4)の厚み0.2mmの樹脂膜から、大きさ50mm×50mmの試験片を切り出し、JIS Z2801:2006「抗菌性試験方法」の方法に従って大腸菌(Escherichia coli NBRC3972)を用いて抗菌性試験を行った。結果を表1に示す。
[Evaluation of antibacterial properties]
In order to evaluate the antibacterial properties of the synthesized resin films, resin films containing resins having bismethide acid groups (Examples 1 to 18), resin films not containing bismethide acid groups (Comparative Examples 1 to 3 and 5), unprocessed A test piece having a size of 50 mm × 50 mm was cut out from a resin film having a thickness of 0.2 mm of a polyethylene film (Comparative Example 4) as a test piece, and Escherichia coli NBRC 3972 according to the method of JIS Z2801: 2006 “Antimicrobial Test Method”. ) Was used to conduct an antibacterial test. The results are shown in Table 1.
尚、表1中のメチド量とは、ビスメチド酸基を含む重合性化合物(モノマー1)と、ビスメチド酸基を含まない重合性化合物(モノマー2)の和に占めるモノマー1のモル数の割合である。また滅菌率とは、下記の式によって算出される。抗菌活性値は、無加工品の24時間培養後菌数(B) を抗菌加工品の24時間培養後菌数(C)で除した数の対数値であり、抗菌活性値2.0以上(滅菌率、99%以上)で効果があると定義される。
表1に示すように、本発明の実施例1〜19で得られたビスメチド酸基を有する抗菌剤で表面を被覆してなる抗菌性部材は優れた抗菌活性を示すことが判った。比較して、ビスメチド酸基を有しない抗菌性部材は抗菌活性を示さなかった。 As shown in Table 1, it was found that the antibacterial member obtained by coating the surface with the antibacterial agent having bismethide acid groups obtained in Examples 1 to 19 of the present invention showed excellent antibacterial activity. In comparison, the antibacterial member having no bismethide acid group did not exhibit antibacterial activity.
[カビ抵抗性の評価]
合成した樹脂膜のカビ抵抗性を評価するため、ビスメチド酸基を有する樹脂を含む樹脂膜(実施例1、3,4、6)、無加工試験片としてのポリエチレンフィルム(比較例4)、ナフィオン117フィルム(比較例5)の樹脂膜から、大きさ、40mm×40mmの試験片を切り出した。
[Evaluation of mold resistance]
In order to evaluate the mold resistance of the synthesized resin film, a resin film containing a resin having a bismethide acid group (Examples 1, 3, 4, 6), a polyethylene film as a non-processed test piece (Comparative Example 4), and Nafion A test piece having a size of 40 mm × 40 mm was cut out from the resin film of 117 film (Comparative Example 5).
試験方法は、JIS Z 2911:2000「 かび抵抗性試験方法(付属書1プラスチック製品の試験)」に準拠し、菌株は表2に示す指定された5種類を混合して用いて行った。
試験の判定基準は表3に示す通りである。
試験の結果は表4に示す通りである。実施例1、3、4、6のフィルムでカビ抵抗性がみられ、比較例4、5のフィルムではカビ抵抗性はみられなかった。
[抗ウィルス性の評価]
合成した樹脂膜の抗ウィルス性を評価するため、ビスメチド酸基を有する樹脂を含む樹脂膜(実施例3、4)、無加工試験片としてのポリエチレンフィルム(比較例4)の厚み約0.2mmの樹脂膜から、大きさ、50mm×50mmの試験片を切り出した。
[Evaluation of antiviral properties]
In order to evaluate the antiviral properties of the synthesized resin film, the thickness of a resin film containing a resin having a bismethide acid group (Examples 3 and 4) and a polyethylene film (Comparative Example 4) as an unprocessed test piece is about 0.2 mm. A test piece having a size of 50 mm × 50 mm was cut out from the resin film.
評価ウィルスとして、エンベロープを持つA型インフルエンザウィルス及びエンベロープを持たないネコカリシウィルスを用いた。 As an evaluation virus, an influenza A virus having an envelope and a feline calicivirus having no envelope were used.
試験は、試験片にウィルス液を200mlを滴下した後、試験片とウィルスの接触効率を上げるため、大きさ、40mm×40mmのポリプロピレンフィルムを乗せて行った。 The test was carried out by placing a polypropylene film having a size of 40 mm × 40 mm in order to increase the contact efficiency between the test piece and the virus after 200 ml of the virus solution was dropped on the test piece.
2時間後、試験片とウィルス液を接触させた液からウィルスを回収し、反応を停止させた液を10倍段階希釈して、反応停止液原液または希釈液をウィルス感染価測定用細胞に感染させ、ウィルス増殖による細胞変性効果を観察した。 Two hours later, the virus is recovered from the solution obtained by bringing the test piece into contact with the virus solution, and the solution for which the reaction has been stopped is diluted 10-fold, and the reaction stop solution stock solution or the diluted solution is infected to the virus infectivity titration cell. The cytopathic effect due to virus growth was observed.
結果、実施例3、4の樹脂膜はA型インフルエンザウィルスおよびネコカリシウィルスに対して高い抗ウィルス性を示し、希釈液のみならず反応停止液原液において細胞変性効果が全くみられなかった。 As a result, the resin membranes of Examples 3 and 4 showed high antiviral properties against influenza A virus and feline calicivirus, and no cytopathic effect was observed not only in the diluted solution but also in the reaction stop solution stock solution.
また、同様な方法で試験したポリエチレンフィルムは、A型インフルエンザウィルスに対しては反応停止液原液から105倍希釈までは細胞変性効果がみられ、106倍希釈以上で細胞変性効果を示さなくなった。ネコカリシウィルスに対しては反応停止液原液から104倍希釈までは細胞変性効果がみられ、105倍希釈以上の希釈率で細胞変性効果を示さなくなった。 Furthermore, a polyethylene film was tested in a similar way, the reaction stop solution undiluted for influenza A virus to 10 5 fold dilutions was observed cytopathic effects, and do not show a cytopathic effect in 10 6 dilution or It was. For up to 10 4 fold dilution from reaction stopper undiluted feline calicivirus virus observed cytopathic effect, no longer show a cytopathic effect in 10 5 fold dilution or dilution.
さらに、同様な方法でナフィオン117フィルム(比較例5)を試験した。結果、A型インフルエンザウィルスに対して溶出液原液では生細胞率が80%以下となり、細胞毒性がみられた。また、10倍以上に希釈した場合には細胞毒性はみられず、抗ウィルス性を示した。ネコカリシウィルスに対しての細胞毒性はみられず、溶出液原液で抗ウィルス性を示した。 Furthermore, Nafion 117 film (Comparative Example 5) was tested in the same manner. As a result, the viability of the eluate stock solution against influenza A virus was 80% or less, and cytotoxicity was observed. When diluted 10 times or more, no cytotoxicity was observed and antiviral properties were exhibited. No cytotoxicity against feline calicivirus was observed, and the eluate stock solution showed antiviral properties.
Claims (15)
で表される有機基を含む樹脂を有効成分として含有する抗菌剤。 General formula (1):
The antibacterial agent which contains resin containing the organic group represented by this as an active ingredient.
で表される繰り返し単位(a)を有する樹脂である請求項1に記載の抗菌剤。 The resin is represented by the general formula (2):
The antibacterial agent of Claim 1 which is resin which has the repeating unit (a) represented by these.
で表される繰り返し単位(a−1)である請求項2に記載の抗菌剤。 The repeating unit (a) is represented by the following general formula (3):
The antibacterial agent of Claim 2 which is a repeating unit (a-1) represented by these.
で表される繰り返し単位(a−2)である請求項2に記載の抗菌剤。 The repeating unit (a) is represented by the general formula (4):
The antibacterial agent of Claim 2 which is a repeating unit (a-2) represented by these.
で表される繰り返し単位(a−3)である請求項2に記載の抗菌剤。 The repeating unit (a) is represented by the general formula (5):
The antibacterial agent of Claim 2 which is a repeating unit (a-3) represented by these.
で表される繰り返し単位(b−1)を含む樹脂である請求項2に記載の抗菌剤。 The resin further has the general formula (6):
The antibacterial agent of Claim 2 which is resin containing the repeating unit (b-1) represented by these.
で表される繰り返し単位(b−2)を含む樹脂である請求項2に記載の抗菌剤。 The resin further has the general formula (7):
The antibacterial agent of Claim 2 which is resin containing the repeating unit (b-2) represented by these.
で表される繰り返し単位の前駆体である重合性化合物を基材表面に塗布または付着させて請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載の抗菌剤の皮膜を形成することを特徴とする基材の表面処理方法。 General formula (2-1)
A coating of an antibacterial agent according to any one of claims 1 to 8 is formed by applying or adhering a polymerizable compound, which is a precursor of a repeating unit represented by Substrate surface treatment method.
で表される重合性化合物に、さらに一般式(6−1):
または一般式(7−1):
で表される重合性化合物を加えた後、基材表面に塗布または付着させて請求項6または請求項7に記載の抗菌剤の皮膜を形成することを特徴とする請求項10に記載の基材の表面処理方法。 General formula (2-1):
In addition to the polymerizable compound represented by general formula (6-1):
Or general formula (7-1):
The base according to claim 10, wherein the antibacterial agent film according to claim 6 is formed by adding or adhering to the surface of the substrate after adding the polymerizable compound represented by formula (10). Material surface treatment method.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011208995A JP5803498B2 (en) | 2010-09-28 | 2011-09-26 | Antibacterial agent and substrate surface treatment method using the same |
| US13/876,406 US9204652B2 (en) | 2010-09-28 | 2011-09-28 | Antibacterial agent, substrate surface treatment method using the same, antibacterial agent composition, and substrate surface treatment method using the same |
| EP11829172.3A EP2622960A4 (en) | 2010-09-28 | 2011-09-28 | Antibacterial agent, substrate surface treatment method using the same, antibacterial agent composition, and substrate surface treatment method using the same |
| PCT/JP2011/072166 WO2012043619A1 (en) | 2010-09-28 | 2011-09-28 | Antibacterial agent, substrate surface treatment method using the same, antibacterial agent composition, and substrate surface treatment method using the same |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010216979 | 2010-09-28 | ||
| JP2010216979 | 2010-09-28 | ||
| JP2011208995A JP5803498B2 (en) | 2010-09-28 | 2011-09-26 | Antibacterial agent and substrate surface treatment method using the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012092089A true JP2012092089A (en) | 2012-05-17 |
| JP5803498B2 JP5803498B2 (en) | 2015-11-04 |
Family
ID=46385879
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011208995A Expired - Fee Related JP5803498B2 (en) | 2010-09-28 | 2011-09-26 | Antibacterial agent and substrate surface treatment method using the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5803498B2 (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2020105260A (en) * | 2018-12-26 | 2020-07-09 | 東ソー株式会社 | Polymer and optical film using the same |
| CN113383794A (en) * | 2017-10-12 | 2021-09-14 | 揖斐电株式会社 | Antiviral substrate, antimicrobial substrate, methods for producing them, antiviral composition, and antimicrobial composition |
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-
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| JP7192933B2 (en) | 2017-07-13 | 2022-12-20 | 東ソー株式会社 | Polymer, method for producing the same, and optical film using the same |
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| JP7293650B2 (en) | 2018-12-26 | 2023-06-20 | 東ソー株式会社 | Polymer and optical film using the same |
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|---|---|
| JP5803498B2 (en) | 2015-11-04 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A521 | Written amendment |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150804 |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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