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JP2012089261A - Organic electroluminescent element and method of manufacturing the same - Google Patents

Organic electroluminescent element and method of manufacturing the same Download PDF

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JP2012089261A
JP2012089261A JP2010232740A JP2010232740A JP2012089261A JP 2012089261 A JP2012089261 A JP 2012089261A JP 2010232740 A JP2010232740 A JP 2010232740A JP 2010232740 A JP2010232740 A JP 2010232740A JP 2012089261 A JP2012089261 A JP 2012089261A
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JP
Japan
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group
organic
thiol
compound
formula
Prior art date
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Pending
Application number
JP2010232740A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Kato
剛 加藤
Masahiko Toba
正彦 鳥羽
Hiromi Hara
裕美 原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Showa Denko KK filed Critical Showa Denko KK
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem of a multilayer coating method in the manufacture of an organic EL element.SOLUTION: In the method of manufacturing an organic electroluminescent element including one or more organic compound layer formed between a pair of electrodes, at least one organic compound layer is formed by two following steps. The first step: a step for applying a composition containing an organic compound A having two or more thiol groups, the second step: a step for heating the composition applied in the first step, and making the organic compounds A react with each other to be insoluble.

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセント素子(以下「有機EL素子」とも記す。)の製造方法、該製造方法で得られる有機EL素子、及びその用途に関する。   The present invention relates to a method for producing an organic electroluminescent element (hereinafter also referred to as “organic EL element”), an organic EL element obtained by the production method, and an application thereof.

近年、エレクトロルミネッセンス現象を利用したデバイスが重要度を増している。このようなデバイスとして、発光材料を層状に形成し、この発光層に陽極と陰極とからなる一対の電極を設けて電圧を印加することで発光を行わせるエレクトロルミネッセント素子が注目を集めている。このようなエレクトロルミネッセント素子は、陽極と陰極の間に電圧を印加することで、陽極と陰極からそれぞれ正孔と電子を注入し、注入された電子と正孔とが、発光層で結合することにより生じるエネルギーを利用して発光を行う。即ち、エレクトロルミネッセント素子は、この結合によるエネルギーで発光層の発光材料が励起され、励起状態から再び基底状態に戻る際に光を発生する現象を利用したデバイスである。   In recent years, devices utilizing the electroluminescence phenomenon have become more important. As such a device, an electroluminescent element in which a light emitting material is formed in a layer form, a pair of electrodes including an anode and a cathode is provided on the light emitting layer, and light is emitted by applying a voltage attracts attention. Yes. Such an electroluminescent device injects holes and electrons from the anode and the cathode, respectively, by applying a voltage between the anode and the cathode, and the injected electrons and holes are combined in the light emitting layer. It emits light using the energy generated by doing so. In other words, an electroluminescent element is a device that utilizes a phenomenon in which light is generated when a light emitting material of a light emitting layer is excited by energy due to this coupling and returns from an excited state to a ground state again.

このエレクトロルミネッセント素子を表示装置として使用した場合、発光材料が自己発光であるため、発光材料としての応答速度が速く、視野角が広いという特徴を有する。更にエレクトロルミネッセント素子の構造上、表示装置の薄型化が容易になるという利点もある。また発光材料として例えば有機物質を利用した有機エレクトロルミネッセント素子は、白色での発光も可能であり、面発光であることから、このエレクトロルミネッセント素子を照明装置に組み込んで利用する用途も提案されている。   When this electroluminescent element is used as a display device, the light emitting material is self-luminous, and therefore, the response speed as the light emitting material is high and the viewing angle is wide. Further, the structure of the electroluminescent element has an advantage that the display device can be easily reduced in thickness. In addition, an organic electroluminescent element using, for example, an organic substance as a light emitting material can emit light in white and is surface emitting. Therefore, the electroluminescent element can be used by being incorporated in a lighting device. Proposed.

上記のように、有機EL素子は、通常、基板上に、陽極、陰極、およびこれら両極間に設けられた少なくとも発光層を含む有機層を有するものである。   As described above, the organic EL element usually has an organic layer including an anode, a cathode, and at least a light emitting layer provided between both electrodes on a substrate.

該有機層としては、一般的には発光層以外にも、正孔注入層(陽極バッファ層)、正孔輸送層、正孔阻止層、電子輸送層、電子注入層などが設けられる。通常、これらの層を陽極と陰極との間に積層することにより有機EL素子が構成されている。近年特に、発光効率や輝度、そして耐久性向上等のために各有機層を積層して解決にあたる手法が検討されている。   As the organic layer, in addition to the light emitting layer, a hole injection layer (anode buffer layer), a hole transport layer, a hole blocking layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and the like are generally provided. Usually, an organic EL element is constituted by laminating these layers between an anode and a cathode. In recent years, in particular, a method for laminating each organic layer to solve the problem in order to improve luminous efficiency, luminance, and durability has been studied.

有機層の形成方法は大きく分けると蒸着(以下「蒸着法」とも言う。)によるものと塗布(以下「塗布法」とも言う。)によるものを挙げることが出来る。   The method for forming the organic layer can be broadly divided into those by vapor deposition (hereinafter also referred to as “vapor deposition method”) and those by coating (hereinafter also referred to as “coating method”).

蒸着法には大型の設備が必要となり、その条件も厳密な制御が必要とされるなど、簡便な製造方法とは言えない。   The vapor deposition method requires a large facility and is not a simple manufacturing method because its conditions are strictly controlled.

これに対して塗布法では比較的簡単な設備で有機層の形成が可能で、素子の大型化にも適用しやすいことから近年開発がすすんでいる。   On the other hand, the coating method is capable of forming an organic layer with relatively simple equipment, and has been developed in recent years because it can be easily applied to the enlargement of elements.

しかし、塗布法による有機層の形成には様々な問題点がある。中でも、形成した有機層の上に更に塗布で別の層を形成しようとした場合に、下層の有機層が上層塗布の際に用いる溶媒などに溶解し上層との境界面が乱れることや、場合によっては下層そのものが溶出してしまい多層構造を形成出来ないことが一番の問題点である。   However, there are various problems in forming an organic layer by a coating method. In particular, when another layer is formed on the formed organic layer by coating, the lower organic layer dissolves in the solvent used for the upper layer coating and the interface with the upper layer is disturbed. In some cases, the lower layer itself elutes and a multilayer structure cannot be formed.

この課題解決のために、重合などの反応性を有する官能基を持つ化合物を塗布した層を形成した後に、これを反応させて溶媒等に対して溶けないようにする(以下「不溶化」とも言う。)方法が提案されている。   In order to solve this problem, after forming a layer coated with a compound having a functional group having reactivity such as polymerization, this is reacted so that it does not dissolve in a solvent or the like (hereinafter also referred to as “insolubilization”). .) A method is proposed.

特許文献1は、チオール材料とエン材料の混合組成物を塗布し、次いでこれを重合して溶媒に対して不溶化することで塗布法における有機層の多層化ができることを開示している。   Patent Document 1 discloses that an organic layer in a coating method can be multilayered by applying a mixed composition of a thiol material and an ene material, then polymerizing the mixture and insolubilizing it in a solvent.

特表2005−533873号公報JP 2005-533873 A

しかしこの重合反応を行うには紫外線を長時間照射するといった過酷な条件が必要であり、それは材料の劣化要因となり好ましくない。   However, this polymerization reaction requires harsh conditions such as irradiation with ultraviolet rays for a long period of time, which is not preferable because it causes deterioration of the material.

以上のように、塗布法による有機EL素子製造の際の多層化については、いまだ充分な解決手法が見いだされていない。   As described above, a sufficient solution method has not yet been found for multilayering in the production of an organic EL element by a coating method.

本発明は、有機EL素子の製造において、塗布法による多層化に関する問題点を解決することを目的とする。それにより極めて高効率の光出力を有し長寿命な有機EL素子の製造方法、並びに素子の提供を目的とする。   An object of this invention is to solve the problem regarding the multilayering by the apply | coating method in manufacture of an organic EL element. Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing an organic EL element having a very high efficiency light output and a long life, and an element.

本発明者等は上記の課題を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have completed the present invention.

すなわち、本発明は、たとえば以下の[1]〜[11]に関する。   That is, the present invention relates to the following [1] to [11], for example.

[1]
一対の電極の間に形成された一層以上の有機化合物層を含む有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、少なくとも一層の有機化合物層が以下の二つの工程により形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法;
第一工程:2個以上のチオール基を有する有機化合物Aを含む組成物を塗布する工程、
第二工程:第一工程によって塗布された組成物を加熱し、有機化合物Aが有するチオール基同士を反応させて不溶化させる工程。
[1]
A method of manufacturing an organic electroluminescence device including one or more organic compound layers formed between a pair of electrodes, wherein at least one organic compound layer is formed by the following two steps: Manufacturing method of electroluminescence element;
1st process: The process of apply | coating the composition containing the organic compound A which has a 2 or more thiol group,
2nd process: The process of heating the composition apply | coated by the 1st process and making the thiol group which the organic compound A has react, and making it insolubilize.

[2]
上記有機化合物Aが、正孔輸送性化合物、電子輸送性化合物または発光性化合物であることを特徴とする[1]に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
[2]
The method for producing an organic electroluminescent element according to [1], wherein the organic compound A is a hole transporting compound, an electron transporting compound or a light emitting compound.

[3]
上記有機化合物Aが、以下の一般式(1)で表わされる正孔輸送性化合物であることを特徴とする[1]に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
[3]
The method for producing an organic electroluminescent element according to [1], wherein the organic compound A is a hole transporting compound represented by the following general formula (1).

Figure 2012089261
Figure 2012089261

〔式(1)中、R2、R3、R8およびR13のうち少なくとも1つが、下記式(A1)で
表わされる置換基(A1)であり、
[In formula (1), at least one of R 2 , R 3 , R 8 and R 13 is a substituent (A1) represented by the following formula (A1),

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(A1)中、複数個あるRaaは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E) (In the formula (A1), a plurality of R aa are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a thiol-containing group (E) represented by the following formula (E):

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)を表し、n
は0、1または2を表す。)
骨格構造中のR1〜R15のうち置換基(A1)で置換されていないR1〜R15および置換基(A1)中のRa1〜Ra10は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、
アミノ基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E)
(In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms), and n
Represents 0, 1 or 2. )
R a1 to R a10 of R 1 to R 15 and in the substituent (A1) not substituted with a substituent (A1) of R 1 to R 15 of the backbone structure are each independently a hydrogen atom, a halogen atom , Cyano group,
An amino group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a thiol-containing group (E) represented by the following formula (E)

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)であり、
チオール含有基(E)は、正孔輸送性化合物(1)中に合計で2つ以上含まれる。〕
[4]
上記有機化合物Aが、以下の一般式(1)で表わされる正孔輸送性化合物であることを特徴とする[1]に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
(In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms),
Two or more thiol-containing groups (E) are contained in the hole transporting compound (1) in total. ]
[4]
The method for producing an organic electroluminescent element according to [1], wherein the organic compound A is a hole transporting compound represented by the following general formula (1).

Figure 2012089261
Figure 2012089261

〔式(1)中、R2、R3、R8およびR13のうち少なくとも1つが、下記式(B1)で
表わされる置換基(B1)であり、
[In the formula (1), at least one of R 2 , R 3 , R 8 and R 13 is a substituent (B1) represented by the following formula (B1),

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(B1)中、複数個あるRbbは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E) (In the formula (B1), a plurality of Rbbs are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a thiol-containing group (E) represented by the following formula (E)).

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)を表し、p
は0、1または2を表す。)
骨格構造中のR1〜R15のうち置換基(B1)で置換されていないR1〜R15および置換基(B1)中のRb1〜Rb8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基
(In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms), p
Represents 0, 1 or 2. )
R b1 to R b8 of R 1 to R 15 and substituents (B1) in which is not substituted with a substituent (B1) of R 1 to R 15 of the backbone structure are each independently a hydrogen atom, a halogen atom , A cyano group, an amino group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a thiol-containing group represented by the following formula (E)

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)であり、
チオール含有基(E)は、正孔輸送性化合物(1)中に合計で2つ以上含まれる。〕
[5]
上記有機化合物Aが、以下の一般式(2)で表わされる正孔輸送性化合物であることを特徴とする[1]に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
(In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms),
Two or more thiol-containing groups (E) are contained in the hole transporting compound (1) in total. ]
[5]
The method for producing an organic electroluminescent element according to [1], wherein the organic compound A is a hole transporting compound represented by the following general formula (2).

Figure 2012089261
Figure 2012089261

〔式(2)中、R29が、下記式(C1)で表わされる置換基(C1)であるか、または、下記式(D1)で表わされる置換基(D1)であり、 [In the formula (2), R 29 is a substituent (C1) represented by the following formula (C1) or a substituent (D1) represented by the following formula (D1),

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(C1)中、複数個あるRccは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E) (In the formula (C1), a plurality of R ccs are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a thiol-containing group (E) represented by the following formula (E)).

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)を表し、q
は0、1または2を表す。)
(In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms), q
Represents 0, 1 or 2. )

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(D1)中、複数個あるRddは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E) (In the formula (D1), a plurality of R dds are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a thiol-containing group (E) represented by the following formula (E)).

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)を表し、r
は0、1または2を表す。)
(2−i)R29が、置換基(C1)である場合は、
骨格構造中のR21〜R28および置換基(C1)中のRc1は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E)
(In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms), and r
Represents 0, 1 or 2. )
(2-i) when R 29 is a substituent (C1),
R 21 to R 28 in the skeleton structure and R c1 in the substituent (C1) are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an amino group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, 10 alkoxy groups or a thiol-containing group (E) represented by the following formula (E)

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)であり、
チオール含有基(E)は、正孔輸送性化合物(2)中に合計で2つ以上含まれ、
(2−ii)R29が、置換基(D1)である場合は、
骨格構造中のR21〜R28および置換基(D1)中のRd1〜Rd8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E)
(In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms),
Two or more thiol-containing groups (E) are contained in the hole transporting compound (2) in total,
(2-ii) when R 29 is a substituent (D1),
R 21 to R 28 in the skeleton structure and R d1 to R d8 in the substituent (D1) are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an amino group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, carbon A thiol-containing group (E) represented by the following formula (E):

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)であり、
チオール含有基(E)は、正孔輸送性化合物(2)中に合計で2つ以上含まれる。〕
[6]
上記第一工程および第二工程により形成された有機化合物層上に、以下の二つの工程に
より1層または複数層の有機化合物層をさらに形成することを特徴とする[1]〜[5]のいずれか一つに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
(In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms),
Two or more thiol-containing groups (E) are contained in the hole transporting compound (2) in total. ]
[6]
[1] to [5], wherein one or more organic compound layers are further formed on the organic compound layer formed by the first step and the second step by the following two steps. The manufacturing method of the organic electroluminescent element as described in any one.

第三工程:有機化合物Aとは異なる、2個以上のチオール基を有する有機化合物を含む組成物を塗布する工程、
第四工程:第三工程によって塗布された組成物を加熱し、有機化合物Aとは異なる有機化合物が有するチオール基同士を反応させて不溶化させる工程。
Third step: A step of applying a composition containing an organic compound having two or more thiol groups, which is different from the organic compound A,
Fourth step: A step of heating the composition applied in the third step to react and insolubilize thiol groups of an organic compound different from the organic compound A.

[7]
上記組成物が、さらに酸化剤を含むことを特徴とする[1]〜[6]のいずれか一つに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
[7]
The said composition contains an oxidizing agent further, The manufacturing method of the organic electroluminescent element as described in any one of [1]-[6] characterized by the above-mentioned.

[8]
第二工程における加熱温度が30℃〜200℃であることを特徴とする[1]〜[7]のいずれか一つ記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
[8]
Heating temperature in a 2nd process is 30 to 200 degreeC, The manufacturing method of the organic electroluminescent element as described in any one of [1]-[7] characterized by the above-mentioned.

[9]
[1]〜[8]のいずれか一つに記載の製造方法で得られる有機エレクトロルミネッセンス素子。
[9]
The organic electroluminescent element obtained by the manufacturing method as described in any one of [1]-[8].

[10]
[9]に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備える表示装置。
[10]
A display apparatus provided with the organic electroluminescent element as described in [9].

[11]
[9]に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備える面発光光源。
[11]
A surface-emitting light source comprising the organic electroluminescence element according to [9].

本発明によれば、有機EL素子の製造において、塗布法による多層化に関する問題点を解決することができる。それにより極めて高効率の光出力を有し長寿命な有機EL素子の製造方法、並びに素子が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the problem regarding multilayering by the apply | coating method can be solved in manufacture of an organic EL element. As a result, a method for producing an organic EL device having a very high-efficiency light output and a long lifetime, and the device are provided.

図1は、本発明における有機EL素子の一例を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an organic EL element in the present invention. 図2は、本発明における有機EL素子の一例を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the organic EL element in the present invention. 図3は、本発明における有機EL素子の一例を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of the organic EL element in the present invention. 図4は、実施例における有機化合物層の厚さの測定方法を模式的に示す図である。FIG. 4 is a diagram schematically showing a method of measuring the thickness of the organic compound layer in the example.

11、21、31 ・・・ 基板
12、22、32 ・・・ 陽極
13、23 ・・・ 正孔輸送層
14、24、34 ・・・ 発光層
25 ・・・ 電子輸送層
16、26、36 ・・・ 陰極
11, 21, 31 ... substrate 12, 22, 32 ... anode 13, 23 ... hole transport layer 14, 24, 34 ... light emitting layer 25 ... electron transport layer 16, 26, 36 ... Cathode

<有機EL素子の製造方法>
本発明の有機EL素子の製造方法は、一対の電極の間(具体的には陽極と陰極との間)に形成された一層以上の有機化合物層を含む有機EL素子の製造方法であって、少なくと
も一層の有機化合物層が以下の二つの工程により形成されることを特徴とする;
第一工程:2個以上のチオール基を有する有機化合物Aを含む組成物を塗布する工程、
第二工程:第一工程によって塗布された組成物を加熱し、有機化合物A同士を反応させて不溶化させる工程。
<Method for producing organic EL element>
The method for producing an organic EL device of the present invention is a method for producing an organic EL device comprising one or more organic compound layers formed between a pair of electrodes (specifically, between an anode and a cathode), At least one organic compound layer is formed by the following two steps;
1st process: The process of apply | coating the composition containing the organic compound A which has a 2 or more thiol group,
2nd process: The process of heating the composition apply | coated by the 1st process and making organic compound A react and insolubilize.

〔第一工程〕
第一工程では、2個以上のチオール基を有する有機化合物Aを含む組成物を塗布する。
[First step]
In the first step, a composition containing an organic compound A having two or more thiol groups is applied.

組成物に含まれる有機化合物Aは、1分子内に2個以上のチオール基を有し、通常2〜6個のチオール基を有する。また、有機化合物Aは、正孔輸送性化合物、電子輸送性化合物または発光性化合物であることが好ましい。なお、本明細書中においては、正孔輸送性化合物、電子輸送性化合物、発光性化合物の全てあるいは一種類以上からなる化合物および層を、それぞれ「有機EL化合物」、「有機EL化合物層」ともいう。具体的には、有機EL化合物層には、正孔輸送性化合物を用いて形成される正孔輸送層、電子輸送性化合物を用いて形成される電子輸送層、発光性化合物を用いて形成される発光層などがある。   The organic compound A contained in the composition has two or more thiol groups in one molecule, and usually has 2 to 6 thiol groups. The organic compound A is preferably a hole transporting compound, an electron transporting compound, or a light emitting compound. In this specification, a compound and a layer composed of all or one or more of a hole transporting compound, an electron transporting compound, and a light emitting compound are referred to as “organic EL compound” and “organic EL compound layer”, respectively. Say. Specifically, the organic EL compound layer is formed using a hole transport layer formed using a hole transport compound, an electron transport layer formed using an electron transport compound, and a light emitting compound. Such as a light emitting layer.

有機化合物Aが正孔輸送性化合物である場合には、例えば、トリアリールアミン誘導体、N,N,N’,N’−テトラアリール(ビフェニルジアミン)誘導体、N,N,N’,N’−テトラアリール(テルフェニルジアミン)誘導体、スチルベン系アリールアミン誘導体、カルバゾール誘導体、オリゴチオフェン誘導体等の正孔輸送性化合物に2個以上のチオール基を導入したものが挙げられる。   When the organic compound A is a hole transporting compound, for example, a triarylamine derivative, an N, N, N ′, N′-tetraaryl (biphenyldiamine) derivative, an N, N, N ′, N′— Examples thereof include those in which two or more thiol groups are introduced into a hole transporting compound such as a tetraaryl (terphenyldiamine) derivative, a stilbene arylamine derivative, a carbazole derivative, and an oligothiophene derivative.

有機化合物Aが電子輸送性化合物である場合には、例えば、フェニレンビニレン誘導体、ベンズオキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、ポリフェニレン誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、ピラゾン誘導体、アゾメチン誘導体、フルオレノン誘導体、フルオニリデン誘導体、ペリレン誘導体、ホウ素誘導体等の電子輸送性化合物に2個以上のチオール基を導入したものが挙げられる。   When the organic compound A is an electron transporting compound, for example, a phenylene vinylene derivative, a benzoxazole derivative, an oxadiazole derivative, a thiadiazole derivative, a polyphenylene derivative, a pyridine derivative, a pyrimidine derivative, a triazine derivative, a pyrazone derivative, an azomethine derivative, And those obtained by introducing two or more thiol groups into an electron transporting compound such as a fluorenone derivative, a fluorenylidene derivative, a perylene derivative, or a boron derivative.

有機化合物Aが発光性化合物である場合には、例えば、フェニレンビニレン誘導体、縮合多環芳香族誘導体、キナクリドン誘導体、スチルベン誘導体、クマリン誘導体、ピラン誘導体、オキサゾリン誘導体、ポルフィリン誘導体、ピラジン誘導体、有機金属錯体類、ペリレン誘導体等の発光性化合物に2個以上のチオール基を導入したものが挙げられる。   When the organic compound A is a luminescent compound, for example, phenylene vinylene derivative, condensed polycyclic aromatic derivative, quinacridone derivative, stilbene derivative, coumarin derivative, pyran derivative, oxazoline derivative, porphyrin derivative, pyrazine derivative, organometallic complex And luminescent compounds such as perylene derivatives, in which two or more thiol groups are introduced.

上記正孔輸送性化合物は単独で用いても二種以上を混合して用いてもよく、上記電子輸送性化合物および発光性化合物についても同様である。   The hole transporting compound may be used alone or in combination of two or more, and the same applies to the electron transporting compound and the light emitting compound.

また、上記正孔輸送性化合物、電子輸送性化合物および発光性化合物のうち二種以上を混合して用いてもよい。たとえば上記正孔輸送性化合物、電子輸送性化合物および発光性化合物を全て用いてもよい。   Further, two or more of the hole transporting compound, the electron transporting compound and the light emitting compound may be mixed and used. For example, all of the above hole transporting compound, electron transporting compound and light emitting compound may be used.

なお、2個以上のチオール基を有する有機化合物として、正孔輸送性、電子輸送性および発光性のうち二種以上の機能を有する化合物を用いてもよい。   In addition, as an organic compound having two or more thiol groups, a compound having two or more functions among hole transporting property, electron transporting property, and light emitting property may be used.

また、有機化合物Aとしては、下記式(1)または(2)で表わされる骨格構造を有する正孔輸送性化合物がより好ましく用いられる。   As the organic compound A, a hole transporting compound having a skeleton structure represented by the following formula (1) or (2) is more preferably used.

下記式(1)で表わされる骨格構造を有する正孔輸送性化合物(1)は、   The hole transporting compound (1) having a skeleton structure represented by the following formula (1) is:

Figure 2012089261
Figure 2012089261

式(1)中、R2、R3、R8およびR13のうち少なくとも1つが、下記式(A1)で表
わされる置換基(A1)であるか、または、下記式(B1)で表わされる置換基(B1)である(ただし、正孔輸送性化合物(1)は、置換基(A1)および置換基(B1)を両方有することはない。)。
In formula (1), at least one of R 2 , R 3 , R 8 and R 13 is a substituent (A1) represented by the following formula (A1), or represented by the following formula (B1). It is a substituent (B1) (however, the hole transporting compound (1) does not have both the substituent (A1) and the substituent (B1)).

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(A1)中、複数個あるRaaは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E) (In the formula (A1), a plurality of R aa are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a thiol-containing group (E) represented by the following formula (E):

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)を表し、n
は0、1または2を表す。)
(In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms), and n
Represents 0, 1 or 2. )

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(B1)中、複数個あるRbbは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E) (In the formula (B1), a plurality of Rbbs are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a thiol-containing group (E) represented by the following formula (E)).

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)を表し、p
は0、1または2を表す。)
(1−i)まず、R2、R3、R8およびR13のうち少なくとも1つが、置換基(A1)
である場合(正孔輸送性化合物(1−i))について説明する。
(In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms), p
Represents 0, 1 or 2. )
(1-i) First, at least one of R 2 , R 3 , R 8 and R 13 is a substituent (A1).
(Hole transporting compound (1-i)) will be described.

置換基(A1)中のRaaにおけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ターシャリーブチル基、アミル基、ヘキシル基等が挙げられ、正孔輸送性化合物(1)の合成容易性の観点からは、メチル基、エチル基、イソプロピル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。 Examples of the alkyl group in R aa in the substituent (A1) include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tertiary butyl group, an amyl group, and a hexyl group. From the viewpoint of easy synthesis of the transportable compound (1), a methyl group, an ethyl group, and an isopropyl group are preferable, and a methyl group is particularly preferable.

aaにおけるチオール含有基(E)について、アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等が挙げられる。 Regarding the thiol-containing group (E) in R aa, examples of the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and a butylene group.

骨格構造中のR1〜R15のうち置換基(A1)で置換されていないR1〜R15および置換基(A1)中のRa1〜Ra10は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、
アミノ基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E)
R a1 to R a10 of R 1 to R 15 and in the substituent (A1) not substituted with a substituent (A1) of R 1 to R 15 of the backbone structure are each independently a hydrogen atom, a halogen atom , Cyano group,
An amino group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a thiol-containing group (E) represented by the following formula (E)

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)である。 (In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms).

上記R1〜R15およびRa1〜Ra10におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子が好ましい。 Examples of the halogen atom in R 1 to R 15 and R a1 to R a10 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, and a fluorine atom is preferable.

上記R1〜R15およびRa1〜Ra10におけるアルキル基としては、上述したRaaにおけるアルキル基の具体例が挙げられ、正孔輸送性化合物(1)の合成容易性の観点からは、メチル基、エチル基、イソプロピル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。 Examples of the alkyl group in R 1 to R 15 and R a1 to R a10 include the specific examples of the alkyl group in R aa described above. From the viewpoint of ease of synthesis of the hole transporting compound (1), methyl Group, ethyl group and isopropyl group are preferable, and methyl group is particularly preferable.

上記R1〜R15およびRa1〜Ra10におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、およびターシャルブトキシ基等が挙げられメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基が好ましく、メトキシ基が特に好ましい。 Examples of the alkoxy group in R 1 to R 15 and R a1 to R a10 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, an isopropoxy group, an isobutoxy group, and a tertiary butoxy group. Group, propoxy group and butoxy group are preferable, and methoxy group is particularly preferable.

上記R1〜R15およびRa1〜Ra10におけるチオール含有基(E)について、アルキレン基としては、上述したRaaにおけるチオール含有基(E)でのアルキレン基の具体例が挙げられる。 Regarding the thiol-containing group (E) in R 1 to R 15 and R a1 to R a10, examples of the alkylene group include specific examples of the alkylene group in the thiol-containing group (E) in R aa described above.

チオール含有基(E)は、正孔輸送性化合物(1−i)中に合計で2つまたは3つ以上含まれる。これにより、有機化合物層の多層化において後述するような好ましい効果が発揮される。   Two or three or more thiol-containing groups (E) are contained in the hole transporting compound (1-i) in total. Thereby, the preferable effect which is mentioned later in the multilayering of an organic compound layer is exhibited.

(1−ii)次に、R2、R3、R8およびR13のうち少なくとも1つが、置換基(B1
)である場合(正孔輸送性化合物(1−ii))について説明する。
(1-ii) Next, at least one of R 2 , R 3 , R 8 and R 13 is a substituent (B1
) (Hole transporting compound (1-ii)) will be described.

置換基(B1)中のRbbにおけるアルキル基としては、上述したRaaにおけるアルキル基の具体例が挙げられ、正孔輸送性化合物(1)の合成容易性の観点からは、メチル基、エチル基、イソプロピル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。 Examples of the alkyl group for R bb in the substituent (B1) include the specific examples of the alkyl group for R aa described above. From the viewpoint of ease of synthesis of the hole transporting compound (1), a methyl group, Group, isopropyl group is preferable, and methyl group is particularly preferable.

bbにおけるチオール含有基(E)について、アルキレン基としては、上述したRaaにおけるチオール含有基(E)でのアルキレン基の具体例が挙げられる。 Regarding the thiol-containing group (E) in R bb, examples of the alkylene group include specific examples of the alkylene group in the thiol-containing group (E) in R aa described above.

骨格構造中のR1〜R15のうち置換基(B1)で置換されていないR1〜R15および置換基(B1)中のRb1〜Rb8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E) R b1 to R b8 of R 1 to R 15 and substituents (B1) in which is not substituted with a substituent (B1) of R 1 to R 15 of the backbone structure are each independently a hydrogen atom, a halogen atom , A cyano group, an amino group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a thiol-containing group (E) represented by the following formula (E)

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)である。 (In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms).

上記R1〜R15およびRb1〜Rb8におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
The halogen atom in the R 1 to R 15 and R b1 to R b8, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, a fluorine atom is preferable.

上記R1〜R15およびRb1〜Rb8におけるアルキル基としては、上述したRaaにおける
アルキル基の具体例が挙げられ、正孔輸送性化合物(1)の合成容易性の観点からは、メチル基、エチル基、イソプロピル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
Examples of the alkyl group in R 1 to R 15 and R b1 to R b8 include specific examples of the alkyl group in R aa described above. From the viewpoint of ease of synthesis of the hole transporting compound (1), methyl Group, ethyl group and isopropyl group are preferable, and methyl group is particularly preferable.

上記R1〜R15およびRb1〜Rb8におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキ
シ基、プロポキシ基、ブトキシ基、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、およびターシャルブトキシ基等が挙げられメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基が好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
Examples of the alkoxy group in R 1 to R 15 and R b1 to R b8 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, an isopropoxy group, an isobutoxy group, and a tertiary butoxy group. Group, propoxy group and butoxy group are preferable, and methoxy group is particularly preferable.

上記R1〜R15およびRb1〜Rb8におけるチオール含有基(E)について、アルキレン
基としては、上述したRaaにおけるチオール含有基(E)でのアルキレン基の具体例が挙げられる。
Regarding the thiol-containing group (E) in R 1 to R 15 and R b1 to R b8, examples of the alkylene group include specific examples of the alkylene group in the thiol-containing group (E) in R aa described above.

チオール含有基(E)は、正孔輸送性化合物(1−ii)中に合計で2つまたは3つ以上含まれる。これにより、有機化合物層の多層化において後述するような好ましい効果が発揮される。   Two or more thiol-containing groups (E) are contained in total in the hole transporting compound (1-ii). Thereby, the preferable effect which is mentioned later in the multilayering of an organic compound layer is exhibited.

下記式(2)で表わされる骨格構造を有する正孔輸送性化合物(2)は、   The hole transporting compound (2) having a skeleton structure represented by the following formula (2) is:

Figure 2012089261
Figure 2012089261

式(2)中、R29が、下記式(C1)で表わされる置換基(C1)であるか、または、下記式(D1)で表わされる置換基(D1)である。 In formula (2), R 29 is a substituent (C1) represented by the following formula (C1) or a substituent (D1) represented by the following formula (D1).

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(C1)中、複数個あるRccは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E) (In the formula (C1), a plurality of R ccs are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a thiol-containing group (E) represented by the following formula (E)).

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)を表し、q
は0、1または2を表す。)
(In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms), q
Represents 0, 1 or 2. )

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(D1)中、複数個あるRddは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E) (In the formula (D1), a plurality of R dds are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a thiol-containing group (E) represented by the following formula (E)).

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)を表し、r
は0、1または2を表す。)
(2−i)まず、R29が、置換基(C1)である場合(正孔輸送性化合物(2−i))について説明する。
(In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms), and r
Represents 0, 1 or 2. )
(2-i) First, the case where R 29 is a substituent (C1) (hole transporting compound (2-i)) will be described.

置換基(C1)中のRccにおけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ターシャリーブチル基、アミル基、ヘキシル基等が挙げられ、正孔輸送性化合物(2)の合成容易性の観点からは、メチル基、エチル基、イソプロピル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。 Examples of the alkyl group for R cc in the substituent (C1) include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tertiary butyl group, an amyl group, and a hexyl group. From the viewpoint of ease of synthesis of the transportable compound (2), a methyl group, an ethyl group, and an isopropyl group are preferable, and a methyl group is particularly preferable.

ccにおけるチオール含有基(E)について、アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等が挙げられる。 For thiol-containing group (E) in the R cc, the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, butylene group.

骨格構造中のR21〜R28および置換基(C1)中のRc1は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E) R 21 to R 28 in the skeleton structure and R c1 in the substituent (C1) are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an amino group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, 10 alkoxy groups or a thiol-containing group (E) represented by the following formula (E)

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)である。 (In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms).

上記R21〜R28およびRc1におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子が好ましい。 Examples of the halogen atom in R 21 to R 28 and R c1 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, and a fluorine atom is preferable.

上記R21〜R28およびRc1におけるアルキル基としては、上述したRccにおけるアルキル基の具体例が挙げられ、正孔輸送性化合物(2)の合成容易性の観点からは、メチル基、エチル基、イソプロピル基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。 Examples of the alkyl group in R 21 to R 28 and R c1 include the specific examples of the alkyl group in R cc described above. From the viewpoint of ease of synthesis of the hole transporting compound (2), a methyl group, ethyl Group and isopropyl group are preferable, and methyl group and ethyl group are particularly preferable.

上記R21〜R28およびRc1におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、およびターシャルブトキシ基等が挙げられメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基が好ましく、メトキシ基が特に好ましい。 Examples of the alkoxy group in R 21 to R 28 and R c1 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, an isopropoxy group, an isobutoxy group, and a tertiary butoxy group. Group, butoxy group is preferable, and methoxy group is particularly preferable.

上記R21〜R28およびRc1におけるチオール含有基(E)について、アルキレン基としては、上述したRccにおけるチオール含有基(E)でのアルキレン基の具体例が挙げられる。 As for the thiol-containing group (E) in R 21 to R 28 and R c1, examples of the alkylene group include specific examples of the alkylene group in the thiol-containing group (E) in R cc described above.

チオール含有基(E)は、正孔輸送性化合物(2−i)中に合計で2つまたは3つ以上含まれる。これにより、有機化合物層の多層化において後述するような好ましい効果が発揮される。   Two or three or more thiol-containing groups (E) are contained in the hole transporting compound (2-i) in total. Thereby, the preferable effect which is mentioned later in the multilayering of an organic compound layer is exhibited.

(2−ii)次に、R29が、置換基(D1)である場合(正孔輸送性化合物(2−ii))について説明する。 (2-ii) Next, the case where R 29 is a substituent (D1) (hole transporting compound (2-ii)) will be described.

置換基(D1)中のRddにおけるアルキル基としては、上述したRccにおけるアルキル基の具体例が挙げられ、正孔輸送性化合物(2)の合成容易性の観点からは、メチル基、エチル基、イソプロピル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。 Examples of the alkyl group in R dd in the substituent (D1) include specific examples of the alkyl group in R cc described above. From the viewpoint of ease of synthesis of the hole transporting compound (2), a methyl group, ethyl Group, isopropyl group is preferable, and methyl group is particularly preferable.

ddにおけるチオール含有基(E)について、アルキレン基としては、上述したRccにおけるチオール含有基(E)でのアルキレン基の具体例が挙げられる。 Regarding the thiol-containing group (E) in R dd, examples of the alkylene group include specific examples of the alkylene group in the thiol-containing group (E) in R cc described above.

骨格構造中のR21〜R28および置換基(D1)中のRd1〜Rd8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E) R 21 to R 28 in the skeleton structure and R d1 to R d8 in the substituent (D1) are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an amino group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, carbon A thiol-containing group (E) represented by the following formula (E):

Figure 2012089261
Figure 2012089261

(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)である。 (In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms).

上記R21〜R28およびRd1〜Rd8におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子が好ましい。 Examples of the halogen atom in R 21 to R 28 and R d1 to R d8 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, and a fluorine atom is preferable.

上記R21〜R28およびRd1〜Rd8におけるアルキル基としては、上述したRccにおけるアルキル基の具体例が挙げられ、正孔輸送性化合物(2)の合成容易性の観点からは、メチル基、エチル基、イソプロピル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。 Examples of the alkyl group in R 21 to R 28 and R d1 to R d8 include specific examples of the alkyl group in R cc described above. From the viewpoint of ease of synthesis of the hole transporting compound (2), methyl Group, ethyl group and isopropyl group are preferable, and methyl group is particularly preferable.

上記R21〜R28およびRd1〜Rd8におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、およびターシャルブトキシ基等が挙げられメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基が好ましく、メトキシ基が特に好ましい。 Examples of the alkoxy group in R 21 to R 28 and R d1 to R d8 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, an isopropoxy group, an isobutoxy group, and a tertiary butoxy group. Group, propoxy group and butoxy group are preferable, and methoxy group is particularly preferable.

上記R21〜R28およびRd1〜Rd8におけるチオール含有基(E)について、アルキレン基としては、上述したRccにおけるチオール含有基(E)でのアルキレン基の具体例が挙げられる。 Regarding the thiol-containing group (E) in R 21 to R 28 and R d1 to R d8, examples of the alkylene group include specific examples of the alkylene group in the thiol-containing group (E) in R cc described above.

チオール含有基(E)は、正孔輸送性化合物(2−ii)中に合計で2つまたは3つ以上含まれる。これにより、有機化合物層の多層化において後述するような好ましい効果が発揮される。   Two or three or more thiol-containing groups (E) are contained in the hole transporting compound (2-ii) in total. Thereby, the preferable effect which is mentioned later in the multilayering of an organic compound layer is exhibited.

式(1)で表わされる正孔輸送性化合物(1)として、具体的には下記式(A1−1)〜(A1−2)および(B1−1)で表わされる正孔輸送性化合物が挙げられる。   Specific examples of the hole transporting compound (1) represented by the formula (1) include hole transporting compounds represented by the following formulas (A1-1) to (A1-2) and (B1-1). It is done.

Figure 2012089261
Figure 2012089261

正孔輸送性化合物(A1−1)は、正孔輸送性化合物(1)において、R8が置換基(
A1)で置換され、nが1の場合である。このとき、骨格構造の中心のNと、置換基(A1)中のNとの間に介在する二価の基は、上記チオール含有基(E)で置換されていないことが好ましい。言い換えると、R6〜R7、R9〜R10および4つのRaaは、水素原子ま
たは上記アルキル基であることが好ましい。そして、R1〜R5、R11〜R15、Ra1〜Ra5およびRa6〜Ra10のうち2つ以上が上記チオール含有基(E)であることが好ましく、
上記チオール含有基(E)ではない基が水素原子または上記アルキル基であることが好ましい。さらに、R1〜R5およびR11〜R15のうち1つ以上が上記チオール含有基(E)で
あり、かつRa1〜Ra5およびRa6〜Ra10のうち1つ以上が上記チオール含有基(E)で
あり、上記チオール含有基(E)ではない基が水素原子または上記アルキル基であることがより好ましい。
In the hole transporting compound (A1-1), in the hole transporting compound (1), R 8 is a substituent (
A1) is substituted and n is 1. At this time, it is preferable that the divalent group interposed between N at the center of the skeleton structure and N in the substituent (A1) is not substituted with the thiol-containing group (E). In other words, R 6 to R 7 , R 9 to R 10 and four R aa are preferably a hydrogen atom or the above alkyl group. And it is preferable that two or more of R 1 to R 5 , R 11 to R 15 , R a1 to R a5 and R a6 to R a10 are the thiol-containing group (E),
The group that is not the thiol-containing group (E) is preferably a hydrogen atom or the alkyl group. Further, one or more of R 1 to R 5 and R 11 to R 15 are the thiol-containing group (E), and one or more of R a1 to R a5 and R a6 to R a10 are the thiol-containing groups. More preferably, the group that is the group (E) and is not the thiol-containing group (E) is a hydrogen atom or the alkyl group.

Figure 2012089261
Figure 2012089261

正孔輸送性化合物(A1−2)は、正孔輸送性化合物(1)において、R3、R8およびR13が置換基(A1)で置換され、nが0の場合である。このとき、骨格構造の中心のNと、置換基(A1)中のNとの間に介在する二価の基は、上記チオール含有基(E)で置換されていないことが好ましい。言い換えると、R1〜R2、R4〜R5、R6〜R7、R9
10、R11〜R12およびR14〜R15は、水素原子または上記アルキル基であることが好ましい。そして、Ra1〜Ra10(3個ずつあるRa1〜Ra10の合計30個の基)のうち2つ以上が上記チオール含有基(E)であることが好ましく、上記チオール含有基(E)ではない基が水素原子または上記アルキル基であることが好ましい。
The hole transporting compound (A1-2) is a case where R 3 , R 8 and R 13 are substituted with a substituent (A1) in the hole transporting compound (1), and n is 0. At this time, it is preferable that the divalent group interposed between N at the center of the skeleton structure and N in the substituent (A1) is not substituted with the thiol-containing group (E). In other words, R 1 to R 2 , R 4 to R 5 , R 6 to R 7 , R 9 to
R 10 , R 11 to R 12 and R 14 to R 15 are preferably a hydrogen atom or the above alkyl group. And it is preferable that two or more of R a1 to R a10 (a total of 30 groups of three R a1 to R a10 each) are the thiol-containing group (E), and the thiol-containing group (E) It is preferable that the group which is not is a hydrogen atom or the said alkyl group.

Figure 2012089261
Figure 2012089261

正孔輸送性化合物(B1−1)は、正孔輸送性化合物(1)において、R3、R8およびR13が置換基(B1)で置換され、pが0の場合である。このとき、骨格構造の中心のNと、置換基(A1)中のNとの間に介在する二価の基は、上記チオール含有基(E)で置換されていないことが好ましい。いいかえると、R1〜R2、R4〜R5、R6〜R7、R9
10、R11〜R12およびR14〜R15は、水素原子または上記アルキル基であることが好ましい。そして、Rb1〜Rb8(3個ずつあるRb1〜Rb8の合計24個の基)のうち2つ以上が上記チオール含有基(E)であることが好ましく、上記チオール含有基(E)ではない基が水素原子または上記アルキル基であることが好ましい。
The hole transporting compound (B1-1) is a case where R 3 , R 8 and R 13 are substituted with the substituent (B1) in the hole transporting compound (1), and p is 0. At this time, it is preferable that the divalent group interposed between N at the center of the skeleton structure and N in the substituent (A1) is not substituted with the thiol-containing group (E). In other words, R 1 to R 2 , R 4 to R 5 , R 6 to R 7 , R 9 to
R 10 , R 11 to R 12 and R 14 to R 15 are preferably a hydrogen atom or the above alkyl group. And it is preferable that two or more of R b1 to R b8 (a total of 24 groups of three R b1 to R b8 each) is the thiol-containing group (E), and the thiol-containing group (E) It is preferable that the group which is not is a hydrogen atom or the said alkyl group.

式(2)で表わされる正孔輸送性化合物(2)として、具体的には下記式(C1−1)および(D1−1)で表わされる正孔輸送性化合物が挙げられる。   Specific examples of the hole transporting compound (2) represented by the formula (2) include hole transporting compounds represented by the following formulas (C1-1) and (D1-1).

Figure 2012089261
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正孔輸送性化合物(C1−1)は、正孔輸送性化合物(2)において、R29が置換基(
C1)で置換され、qが0の場合である。このとき、Rc1は、上記アルキル基であることが好ましい。そして、R21〜R24およびR25〜R28のうち2つ以上が上記チオール含有基(E)であることが好ましく、上記チオール含有基(E)ではない基が水素原子または上記アルキル基であることが好ましい。さらに、R21〜R24のうち1つ以上が上記チオール含有基(E)であり、かつR25〜R28のうち1つ以上が上記チオール含有基(E)であり、上記チオール含有基(E)ではない基が水素原子または上記アルキル基であることがより好ましい。
In the hole-transporting compound (C1-1), in the hole-transporting compound (2), R 29 is a substituent (
This is the case when q is 0. At this time, R c1 is preferably the alkyl group. And it is preferable that two or more of R 21 to R 24 and R 25 to R 28 are the thiol-containing group (E), and the group that is not the thiol-containing group (E) is a hydrogen atom or the alkyl group. Preferably there is. Furthermore, one or more of R 21 to R 24 are the thiol-containing group (E), and one or more of R 25 to R 28 are the thiol-containing group (E), and the thiol-containing group ( More preferably, the group other than E) is a hydrogen atom or the above alkyl group.

Figure 2012089261
Figure 2012089261

正孔輸送性化合物(D1−1)は、正孔輸送性化合物(2)において、R29が置換基(D1)で置換され、rが2の場合である。このとき、骨格構造のNと、置換基(D1)中のNとの間に介在する二価の基は、上記チオール含有基(E)で置換されていないことが好ましい。いいかえると、Rddは、水素原子または上記アルキル基であることが好ましい。そして、R21〜R24、R25〜R28、Rd1〜Rd4およびRd5〜Rd8のうち2つ以上が上記チオール含有基(E)であることが好ましく、上記チオール含有基(E)ではない基が水素原子または上記アルキル基であることが好ましい。 The hole transporting compound (D1-1) is a case where R 29 is substituted with a substituent (D1) and r is 2 in the hole transporting compound (2). At this time, it is preferable that the divalent group interposed between N in the skeleton structure and N in the substituent (D1) is not substituted with the thiol-containing group (E). In other words, R dd is preferably a hydrogen atom or the above alkyl group. And it is preferable that two or more of R 21 to R 24 , R 25 to R 28 , R d1 to R d4 and R d5 to R d8 are the thiol-containing group (E), and the thiol-containing group (E ) Is preferably a hydrogen atom or the above alkyl group.

組成物には、有機化合物Aとともに溶媒が用いられる。溶媒としては、種々の有機溶媒を用いることができ、たとえばトルエン、キシレン、アニソール等の芳香族系溶媒や、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化アルキル溶媒、メタノール、エタノールのようなアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、ジメトキシエタン、THFなどのエーテル系溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は混合して用いても
良い。特にトルエン、メタノールが好適に用いられる。溶媒は、通常有機化合物A100質量部に対して100〜100000質量部の量で用いられる。
In the composition, a solvent is used together with the organic compound A. As the solvent, various organic solvents can be used. For example, aromatic solvents such as toluene, xylene, anisole, halogenated alkyl solvents such as chloroform and dichloroethane, alcohol solvents such as methanol and ethanol, acetone, Examples include ketone solvents such as methyl ethyl ketone and ether solvents such as dimethoxyethane and THF. These solvents may be used as a mixture. In particular, toluene and methanol are preferably used. The solvent is usually used in an amount of 100 to 100,000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the organic compound A.

その他、組成物は、後述する反応の速度を大きくするため、酸化剤を含んでいてもよい。酸化剤としては、臭素、ヨウ素、酸素、過酸化水素などが挙げられ、特にヨウ素が好適に用いられる。酸化剤は、通常有機化合物A100質量部に対して0.01〜10質量部の量で用いられる。   In addition, the composition may contain an oxidizing agent in order to increase the rate of reaction described later. Examples of the oxidizing agent include bromine, iodine, oxygen, hydrogen peroxide and the like, and iodine is particularly preferably used. The oxidizing agent is usually used in an amount of 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the organic compound A.

さらに、組成物は、2個以上のチオール基を有しない有機化合物Bを含んでいてもよい。有機化合物Bとしては、下記のような2個以上のチオール基を有しない有機EL化合物が挙げられる。   Furthermore, the composition may contain the organic compound B which does not have two or more thiol groups. Examples of the organic compound B include organic EL compounds having no two or more thiol groups as described below.

Figure 2012089261
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Figure 2012089261
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Figure 2012089261
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Figure 2012089261
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Figure 2012089261
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Figure 2012089261
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有機化合物Bは、後述するような有機化合物層の多層化に悪い影響を与えない範囲で用いられ、通常有機化合物A100質量部に対して1〜200質量部の量で用いられる。   The organic compound B is used in a range that does not adversely affect the multilayering of the organic compound layer as described later, and is usually used in an amount of 1 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the organic compound A.

組成物は、溶媒に有機化合物Aおよび必要に応じて上記成分を溶解し、あるいは分散させて得られる。   The composition is obtained by dissolving or dispersing the organic compound A and, if necessary, the above components in a solvent.

組成物の塗布方法は特に限定がないが、該組成物による有機化合物層を形成したい層の上に、主にスピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法等の塗布法により形成することができる。ここで、該組成物による有機化合物層を形成したい層とは、たとえば陽極や、すでに陽極上に形成されている有機化合物層である。   The coating method of the composition is not particularly limited, but the spin coating method, the casting method, the micro gravure coating method, the gravure coating method, the bar coating method, the roll are mainly formed on the layer where the organic compound layer by the composition is to be formed. It can be formed by a coating method such as a coating method, a wire bar coating method, a dip coating method, a spray coating method, a screen printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, or an inkjet printing method. Here, the layer for which the organic compound layer is to be formed of the composition is, for example, an anode or an organic compound layer already formed on the anode.

また、組成物は、第二工程後に好適な膜厚が得られる量を塗布することが好ましい。   Moreover, it is preferable to apply | coat the composition the quantity by which a suitable film thickness is obtained after a 2nd process.

〔第二工程〕
第二工程では、第一工程によって塗布された組成物を加熱し、有機化合物A同士を反応
させて不溶化させる。このようにして、本発明において有機化合物層が形成される。
[Second step]
In the second step, the composition applied in the first step is heated and the organic compounds A are reacted with each other to be insolubilized. Thus, the organic compound layer is formed in the present invention.

不溶化とは、具体的には、第一工程および第二工程によって形成された有機化合物層上に、新たな有機化合物層を形成するための材料溶液であって有機溶剤を溶媒とする材料溶液を塗布しても、該第一工程および第二工程を経て得られた有機化合物層が溶解しないことをいう。   Specifically, insolubilization is a material solution for forming a new organic compound layer on the organic compound layer formed in the first step and the second step, and a material solution using an organic solvent as a solvent. Even when applied, it means that the organic compound layer obtained through the first step and the second step does not dissolve.

不溶化について、たとえば第一工程および第二工程を経て得られた有機化合物層に下記の処理を施した際の当該層の厚さの減少率((1−処理後の厚さ/処理前の厚さ)×100(%))として評価すると、この減少率はたとえば30%以下、好ましくは10%以下、さらに好ましくは5%以下である。なお、本明細書において「不溶化されている」とは、減少率が上記範囲にあることをいう。   For insolubilization, for example, the reduction rate of the thickness of the organic compound layer obtained through the first step and the second step when the following treatment is performed ((1−thickness after treatment / thickness before treatment). (S) x 100 (%)), this reduction rate is, for example, 30% or less, preferably 10% or less, and more preferably 5% or less. In the present specification, “insolubilized” means that the reduction rate is in the above range.

(処理):厚さ20nmである第一工程および第二工程を経て得られた有機化合物層を表面に備えた基板(25mm角、板厚1.1mm、青板ガラス)を、スピンコーターにセットし、当該層上に0.10mlのトルエンを滴下した後、3000rpmで30秒間の条件で回転させる。この回転はトルエンの滴下後5秒以内に開始する。その後、当該層を窒素雰囲気下に140℃で1時間放置する。   (Process): A substrate (25 mm square, plate thickness 1.1 mm, blue plate glass) provided on the surface with an organic compound layer obtained through the first step and the second step having a thickness of 20 nm is set on a spin coater. Then, 0.10 ml of toluene is dropped onto the layer, and then rotated at 3000 rpm for 30 seconds. This rotation starts within 5 seconds after the dropwise addition of toluene. Thereafter, the layer is left at 140 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere.

また、本発明の製造方法において「有機化合物A同士を反応させて不溶化させる」とは、言い換えると(あるいは上記説明に加えて)、有機化合物Aが有するチオール基同士(具体的には異なる有機化合物Aの分子に含まれるチオール基同士)を反応させ、−S−S−結合を生成させることにより、有機化合物Aをつなげて高分子量化することをいう。   In addition, in the production method of the present invention, “reacting the organic compounds A with each other to insolubilize” means (or in addition to the above description) thiol groups of the organic compound A (specifically different organic compounds). The thiol groups contained in the molecule of A are reacted to form an —SS— bond, thereby connecting the organic compound A to increase the molecular weight.

この−S−S−結合の生成は、実施例に記載の方法により確認できる。   The formation of this -S-S- bond can be confirmed by the method described in Examples.

第一工程および第二工程を経て得られた有機化合物層(本明細書において、このような有機化合物層を高分子量化された有機化合物層ともいう。)とその上に一層以上の有機化合物層とを有する有機EL素子は、効率および寿命などの点で優れる。   Organic compound layer obtained through the first step and the second step (in this specification, such an organic compound layer is also referred to as a high molecular weight organic compound layer) and one or more organic compound layers thereon The organic EL element having the above is excellent in terms of efficiency and lifetime.

この原因は以下のように考えられる。高分子量化された有機化合物層は、有機化合物Aが−S−S−結合により高分子量化しているため、その上に塗布法によってさらに有機化合物層を積層させる場合も、高分子量化された有機化合物層は溶解しない。また、高分子量化された有機化合物層とその上の有機化合物層との界面の乱れが抑えられていると考えられる。これにより、効率および寿命などの点で優れると考えられる。   The cause is considered as follows. In the organic compound layer having a high molecular weight, since the organic compound A has a high molecular weight due to —S—S— bond, the organic compound layer having a high molecular weight can be formed even when an organic compound layer is further laminated thereon by a coating method. The compound layer does not dissolve. Further, it is considered that the disorder of the interface between the high molecular weight organic compound layer and the organic compound layer thereon is suppressed. This is considered to be excellent in terms of efficiency and life.

また、有機化合物層として、第一工程および第二工程を経て得られた有機化合物層一層のみを有する有機EL素子も、効率および寿命などの点で優れる。   An organic EL device having only one organic compound layer obtained through the first step and the second step as the organic compound layer is also excellent in terms of efficiency and life.

この原因は以下のように考えられる。従来の通常の塗布法で形成された有機化合物層は、溶媒の蒸発で形成される空洞が十分に埋まらず、緻密な膜を形成できない場合もある。一方、本発明での高分子量化された有機化合物層は、有機化合物Aが−S−S−結合により高分子量化する際に、溶媒の蒸発で形成される空洞が十分に埋まり、緻密な膜が形成されていると考えられる。これにより、効率および寿命などの点で優れると考えられる。   The cause is considered as follows. In the organic compound layer formed by a conventional ordinary coating method, a cavity formed by evaporation of the solvent is not sufficiently filled and a dense film may not be formed. On the other hand, the organic compound layer having a high molecular weight according to the present invention is a dense film in which the cavity formed by evaporation of the solvent is sufficiently filled when the organic compound A has a high molecular weight by -SS-bonding. It is thought that is formed. This is considered to be excellent in terms of efficiency and life.

なお、特開2000−223278号公報にはメルカプト基を有する化合物の溶液に電極を浸漬した後、余分な溶液を洗い流して減圧乾燥することで、電極表面に該化合物の単〜数分子層からなる超薄膜が形成されることが記載されている。この方法により、上にさらに他の層を塗布成膜(積層)できる有機層を、穏やかな条件で形成することを試みている。しかし、この方法では化合物のメルカプト基と電極を構成する原子が結合することで
化合物を不溶化しているため、電極表面の単分子層のみが不溶化していると考えられる。つまり上述した高分子量化された有機化合物層ではない。この文献にはメルカプト基を有する化合物の層を単分子層の膜厚よりも大きい数十〜数百nm積層し、正孔輸送層を担わせることができると記載されているが([0044])、この膜は高分子量化された有機化合物層ではないので、さらに塗布により積層する場合には、その溶媒に溶解してしまう可能性が高く、このような化合物を用いても塗布により積層膜を形成することは困難であると考えられる。
In JP-A-2000-223278, after immersing an electrode in a solution of a compound having a mercapto group, the excess solution is washed away and dried under reduced pressure, thereby forming a single to several molecular layers of the compound on the electrode surface. It is described that an ultra-thin film is formed. By this method, an attempt is made to form an organic layer on which other layers can be coated (laminated) on a mild condition. However, in this method, the mercapto group of the compound is bonded to the atoms constituting the electrode, so that the compound is insolubilized. Therefore, it is considered that only the monomolecular layer on the electrode surface is insolubilized. That is, it is not the organic compound layer having a high molecular weight described above. This document describes that a compound layer having a mercapto group can be stacked several tens to several hundreds of nanometers larger than the thickness of a monomolecular layer, and can serve as a hole transport layer ([0044] ) Since this film is not a high molecular weight organic compound layer, when it is further laminated by coating, there is a high possibility that it will be dissolved in the solvent. Is considered difficult to form.

第二工程における加熱温度および加熱時間は、有機化合物Aが十分に高分子量化するよう適宜選択される。たとえば、加熱温度は30℃〜200℃であることが好ましい。30℃以上であると、反応速度の点から好ましく、200℃以下であると、化合物の耐熱性の点から好ましい。また、40℃〜150℃であることがより好ましく、50℃〜100℃であることがさらに好ましい。また、加熱時間は0.5〜12時間であることが好ましい。   The heating temperature and heating time in the second step are appropriately selected so that the organic compound A has a sufficiently high molecular weight. For example, the heating temperature is preferably 30 ° C to 200 ° C. It is preferable from the point of reaction rate as it is 30 degreeC or more, and it is preferable from the point of the heat resistance of a compound as it is 200 degrees C or less. Moreover, it is more preferable that it is 40 to 150 degreeC, and it is further more preferable that it is 50 to 100 degreeC. The heating time is preferably 0.5 to 12 hours.

第一工程および第二工程を経て得られた有機化合物層は、通常10μm未満、好ましくは0.5μm以下、より好ましくは0.0001〜0.5μmであることが望ましい。   The organic compound layer obtained through the first step and the second step is usually less than 10 μm, preferably 0.5 μm or less, more preferably 0.0001 to 0.5 μm.

一対の電極の間、すなわち陽極と陰極の間に二層以上の有機化合物層が形成された有機EL素子を製造する場合は、陽極に積層する有機化合物層(第一層)を上述した第一工程および第二工程によって形成することが好ましい。これにより、効率および寿命などの点で優れる有機EL素子が得られる。   When manufacturing an organic EL device in which two or more organic compound layers are formed between a pair of electrodes, that is, between an anode and a cathode, the organic compound layer (first layer) laminated on the anode is the first described above. It is preferable to form by a process and a 2nd process. Thereby, the organic EL element which is excellent in terms of efficiency and lifetime can be obtained.

また、第一工程および第二工程により形成された有機化合物層上に、以下の二つの工程により1層または複数層の有機化合物層をさらに形成することも好ましい。   Moreover, it is also preferable to further form one or more organic compound layers by the following two steps on the organic compound layer formed by the first step and the second step.

第三工程:有機化合物Aとは異なる、2個以上のチオール基を有する有機化合物を含む組成物を塗布する工程、
第四工程:第三工程によって塗布された組成物を加熱し、有機化合物Aとは異なる有機化合物が有するチオール基同士を反応させて不溶化させる工程。
Third step: A step of applying a composition containing an organic compound having two or more thiol groups, which is different from the organic compound A,
Fourth step: A step of heating the composition applied in the third step to react and insolubilize thiol groups of an organic compound different from the organic compound A.

ここで、「有機化合物Aとは異なる有機化合物」とは、第一工程および第二工程で用いた有機化合物A(具体的には有機化合物a1)とは異なるが、上述した有機化合物Aから選ばれる有機化合物(具体的には有機化合物a2)である。その他、第三工程および第四工程の具体的な説明については、それぞれ上述した第一工程および第二工程と同様である。   Here, “an organic compound different from the organic compound A” is different from the organic compound A (specifically, the organic compound a1) used in the first step and the second step, but is selected from the organic compounds A described above. Organic compound (specifically, organic compound a2). In addition, specific descriptions of the third step and the fourth step are the same as those of the first step and the second step described above, respectively.

いいかえると、第一工程および第二工程を2回以上繰り返すことも好ましい。すなわち、陽極と陰極の間に二層以上の有機化合物層が形成された有機EL素子を製造する場合において、隣り合う二層の有機化合物層が、両方とも上述した第一工程および第二工程によって形成されることが好ましい。なお、ここで、1回目の第一工程および第二工程で用いられる有機化合物および2回目の第一工程および第二工程で用いられる有機化合物は、それぞれ上述した有機化合物Aから選ばれる有機化合物であり、かつお互いに異なる有機化合物である。これにより、効率および寿命などの点で優れる有機EL素子が得られる。これにより、効率および寿命などの点で優れる有機EL素子が得られる。   In other words, it is also preferable to repeat the first step and the second step twice or more. That is, in the case of manufacturing an organic EL device in which two or more organic compound layers are formed between an anode and a cathode, the two adjacent organic compound layers are both subjected to the first step and the second step described above. Preferably it is formed. Here, the organic compound used in the first step and the second step of the first time and the organic compound used in the first step and the second step of the second time are organic compounds selected from the organic compound A described above, respectively. Organic compounds that are different from each other. Thereby, the organic EL element which is excellent in terms of efficiency and lifetime can be obtained. Thereby, the organic EL element which is excellent in terms of efficiency and lifetime can be obtained.

たとえば、陽極と陰極の間に三層以上の有機化合物層が形成された有機EL素子を製造する場合は、陽極に積層する有機化合物層(第一層)を上述した第一工程および第二工程によって形成し、その上に積層する有機化合物層(第二層)を上述した第三工程および第四工程によって形成することがより好ましい。   For example, when manufacturing an organic EL device in which three or more organic compound layers are formed between the anode and the cathode, the organic compound layer (first layer) laminated on the anode is the first step and the second step described above. More preferably, the organic compound layer (second layer) formed thereon is formed by the third step and the fourth step described above.

また、第一工程〜第四工程によって、第一層と第二層とを形成する場合、第一層を形成するために用いる有機化合物Aは3個以上のチオール基を有することも好ましい。   Moreover, when forming a 1st layer and a 2nd layer by a 1st process-a 4th process, it is also preferable that the organic compound A used in order to form a 1st layer has a 3 or more thiol group.

また、陽極と陰極の間に二層以上の有機化合物層が形成された有機EL素子を製造する場合は、有機化合物層を上述した第一工程〜第四工程によって形成することも好ましい。   Moreover, when manufacturing the organic EL element in which the organic compound layer of two or more layers was formed between the anode and the cathode, it is also preferable to form an organic compound layer by the 1st process-the 4th process mentioned above.

なお、第一工程および第二工程を経て得られた有機化合物層の上に、通常の塗布法によって有機化合物層を設けてもよい。通常の塗布法によって有機化合物層を設けるとは、たとえば、有機EL化合物(チオール基を2個以上有さない有機EL化合物)と有機溶剤とを含む溶液を塗布し、有機化合物層を形成することをいう。   In addition, you may provide an organic compound layer by the normal apply | coating method on the organic compound layer obtained through the 1st process and the 2nd process. The provision of the organic compound layer by a normal coating method means, for example, that a solution containing an organic EL compound (an organic EL compound not having two or more thiol groups) and an organic solvent is applied to form an organic compound layer. Say.

以下に、本発明のより具体的な実施形態について説明する。   Hereinafter, more specific embodiments of the present invention will be described.

〔実施形態1〕
実施形態1の製造方法は、図1に示すように基板/陽極/正孔輸送層/発光層/陰極をこの順で積層した有機EL素子の製造方法である。ここでは、正孔輸送層が、上記第一工程および第二工程によって形成され、発光層が、通常の塗布法または蒸着法によって形成される。
Embodiment 1
The manufacturing method of Embodiment 1 is a manufacturing method of an organic EL element in which a substrate / anode / hole transport layer / light emitting layer / cathode is laminated in this order as shown in FIG. Here, the hole transport layer is formed by the first step and the second step, and the light emitting layer is formed by a normal coating method or vapor deposition method.

基板には、有機EL素子に要求される機械的強度を満たす材料が用いられる。たとえば、可視光に対して透明な基板が用いられ、具体的には、ソーダガラス、無アルカリガラスなどのガラス;アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ナイロン樹脂などの透明プラスチック;シリコンなどからなる基板を使用できる。   A material that satisfies the mechanical strength required for the organic EL element is used for the substrate. For example, a substrate transparent to visible light is used. Specifically, glass such as soda glass and non-alkali glass; transparent plastic such as acrylic resin, methacrylic resin, polycarbonate resin, polyester resin, and nylon resin; silicon, etc. Can be used.

基板の厚さは、要求される機械的強度にもよるが、好ましくは0.1〜10mm、より好ましくは0.25〜2mmである。   The thickness of the substrate is preferably 0.1 to 10 mm, more preferably 0.25 to 2 mm, although it depends on the required mechanical strength.

まず、上記基板の上に、たとえば真空蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法、化学反応法、コーティング法により、陽極を設ける。   First, an anode is provided on the substrate by, for example, vacuum deposition, electron beam deposition, sputtering, chemical reaction, or coating.

陽極としては、−5〜80℃の温度範囲で面抵抗が好ましくは1000オーム□以下、より好ましくは100オーム□以下である物質を用いることができる。   As the anode, a material having a surface resistance of preferably 1000 ohms or less, more preferably 100 ohms or less in a temperature range of -5 to 80 ° C can be used.

有機EL素子の陽極側から光を取り出す場合(ボトムエミッション)には、陽極は可視光に対して透明(380〜680nmの光に対する平均透過率が50%以上)であることが必要であるから、陽極の材料としては、酸化インジウム錫(ITO)、インジウム−亜鉛酸化物(IZO)などが挙げられ、有機EL素子の陽極として入手が容易であることを考慮すると、これらの中でもITOが好ましい。   When extracting light from the anode side of the organic EL element (bottom emission), the anode needs to be transparent to visible light (average transmittance for light of 380 to 680 nm is 50% or more). Examples of the material for the anode include indium tin oxide (ITO), indium-zinc oxide (IZO), and the like, and ITO is preferable among them because it is easily available as the anode of the organic EL element.

また、有機EL素子の陰極側から光を取り出す場合(トップエミッション)には、陽極の光透過度は制限されず、陽極の材料としては、ITO、IZO、ステンレス、あるいは銅、銀、金、白金、タングステン、チタン、タンタルもしくはニオブの単体、またはこれらの合金を使用できる。   In addition, when light is extracted from the cathode side of the organic EL element (top emission), the light transmittance of the anode is not limited, and the anode material is ITO, IZO, stainless steel, or copper, silver, gold, platinum. , Tungsten, titanium, tantalum or niobium, or an alloy thereof can be used.

陽極の厚さは、ボトムエミッションの場合には、高い光透過率を実現するために、好ましくは2〜300nmであり、トップエミッションの場合には、好ましくは2nm〜2mmである。   In the case of bottom emission, the thickness of the anode is preferably 2 to 300 nm in order to achieve high light transmittance, and in the case of top emission, it is preferably 2 nm to 2 mm.

次いで、上記陽極の上に、上述した第一工程および第二工程により正孔輸送層を形成する。ここで、上述した正孔輸送性化合物(1)または(2)が好適に用いられる。   Next, a hole transport layer is formed on the anode by the first step and the second step described above. Here, the above-described hole transporting compound (1) or (2) is preferably used.

次いで、上記正孔輸送層の上に、発光層を設ける。発光層は、発光性化合物と有機溶剤とを含む溶液を用いて、主にスピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法等の塗布法により形成することができる。   Next, a light emitting layer is provided on the hole transport layer. The light-emitting layer uses a solution containing a light-emitting compound and an organic solvent, and is mainly used for spin coating, casting, micro gravure coating, gravure coating, bar coating, roll coating, wire bar coating, dip It can be formed by a coating method such as a coating method, a spray coating method, a screen printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, or an inkjet printing method.

ここで用いる発光性化合物は、通常有機化合物Aではない、すなわちチオール基を2個以上含む化合物ではない。具体的には、大森裕:応用物理、第70巻、第12号、1419−1425頁(2001年)に記載されている発光性低分子化合物及び発光性高分子化合物であって、チオール基を2個以上含まない化合物などを例示することができる。この中でも、素子作製プロセスが簡素化されるという点で発光性高分子化合物が好ましく、発光効率が高い点で燐光発光性化合物が好ましい。従って、特に燐光発光性高分子化合物が好ましい。   The luminescent compound used here is not usually the organic compound A, that is, not a compound containing two or more thiol groups. Specifically, Omori Hiroshi: luminescent low molecular weight compound and luminescent high molecular weight compound described in Applied Physics, Vol. 70, No. 12, pp. 1419-1425 (2001), wherein a thiol group Examples thereof include compounds not containing two or more. Among these, a light-emitting polymer compound is preferable in that the element manufacturing process is simplified, and a phosphorescent compound is preferable in terms of high luminous efficiency. Therefore, a phosphorescent polymer compound is particularly preferable.

また、発光性高分子化合物は、共役発光性高分子化合物と非共役発光性高分子化合物とに分類することもできるが、中でも非共役発光性高分子化合物が好ましい。   The light-emitting polymer compound can be classified into a conjugated light-emitting polymer compound and a non-conjugated light-emitting polymer compound, and among them, the non-conjugated light-emitting polymer compound is preferable.

上記の理由から、本発明で用いられる発光材料としては、燐光発光性非共役高分子化合物(前記燐光発光性高分子であり、かつ前記非共役発光性高分子化合物でもある発光材料)が特に好ましい。   For the reasons described above, the phosphorescent material used in the present invention is particularly preferably a phosphorescent non-conjugated polymer compound (the phosphorescent polymer and the non-conjugated luminous polymer compound). .

発光層は、好ましくは、燐光を発光する燐光発光性単位とキャリアを輸送するキャリア輸送性単位とを一つの分子内に備えた、燐光発光性高分子を少なくとも含む。前記燐光発光性高分子は、重合性置換基を有する燐光発光性化合物と、重合性置換基を有するキャリア輸送性化合物とを共重合することによって得られる。燐光発光性化合物はイリジウム、白金および金の中から一つ選ばれる金属元素を含む金属錯体であり、中でもイリジウム錯体が好ましい。   The light emitting layer preferably contains at least a phosphorescent polymer having a phosphorescent unit that emits phosphorescence and a carrier transporting unit that transports carriers in one molecule. The phosphorescent polymer can be obtained by copolymerizing a phosphorescent compound having a polymerizable substituent and a carrier transporting compound having a polymerizable substituent. The phosphorescent compound is a metal complex containing a metal element selected from iridium, platinum and gold, and among them, an iridium complex is preferable.

燐光発光性高分子のさらに具体的な例と合成法は、例えば特開2003−342325号公報、特開2003−119179号公報、特開2003−113246号公報、特開2003−206320号公報、特開2003−147021号公報、特開2003−171391号公報、特開2004−346312号公報、特開2005−97589号公報に開示されている。   More specific examples and synthesis methods of phosphorescent polymers are disclosed in, for example, JP-A Nos. 2003-342325, 2003-119179, 2003-113246, and 2003-206320. JP 2003-147021 A, JP 2003-171391 A, JP 2004-346212 A, and JP 2005-97589 A.

発光層は、好ましくは前記燐光発光性化合物を含む層であるが、発光層のキャリア輸送性を補う目的で、正孔輸送性化合物や電子輸送性化合物であって、チオール基を2個以上含まない化合物が含まれていてもよい。いいかえると、この発光層は、後述する実施例1のように、電子輸送兼発光層であってもよい。これらの目的で用いられる正孔輸送性化合物としては、例えば、TPD(N,N'−ジメチル−N,N'−(3−メチルフェニル)−1,1'−ビフェニル−4,4'ジアミン)、α−NPD(4,4'−ビス[N−(1−ナ
フチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル)、m−MTDATA(4、4',4''−ト
リス(3−メチルフェニルフェニルアミノ)トリフェニルアミン)などの低分子トリフェニルアミン誘導体や、ポリビニルカルバゾール、前記トリフェニルアミン誘導体に重合性官能基を導入して高分子化したもの、例えば特開平8−157575号公報に開示されているトリフェニルアミン骨格の高分子化合物、ポリパラフェニレンビニレン、ポリジアルキルフルオレン(これらはチオール基を2個以上含まない)などが挙げられ、また、電子輸送性化合物としては、例えば、Alq3(トリス(8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム(III))などのキノリノール誘導体金属錯体、オキサジアゾール誘導体、トリ
アゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリアジン誘導体、トリアリールボラン誘導体な
どの低分子材料や、上記の低分子電子輸送性化合物に重合性官能基を導入して高分子化したもの、例えば特開平10−1665号公報に開示されているポリPBDなどの既知の電子輸送性化合物(これらはチオール基を2個以上含まない)が使用できる。
The light emitting layer is preferably a layer containing the phosphorescent compound, but for the purpose of supplementing the carrier transport property of the light emitting layer, it is a hole transporting compound or an electron transporting compound and contains two or more thiol groups. May be included. In other words, the light emitting layer may be an electron transport / light emitting layer as in Example 1 described later. As the hole transporting compound used for these purposes, for example, TPD (N, N′-dimethyl-N, N ′-(3-methylphenyl) -1,1′-biphenyl-4,4′diamine) is used. , Α-NPD (4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl), m-MTDATA (4,4 ′, 4 ″ -tris (3-methylphenylphenylamino) Low molecular triphenylamine derivatives such as triphenylamine), polyvinyl carbazole, and polymers obtained by introducing a polymerizable functional group into the triphenylamine derivative, for example, disclosed in JP-A-8-157575 Examples include a polymer compound of a triphenylamine skeleton, polyparaphenylene vinylene, and polydialkylfluorene (these do not contain two or more thiol groups). Examples of the electron transporting compound include quinolinol derivative metal complexes such as Alq3 (tris (8-hydroxyquinolinato) aluminum (III)), oxadiazole derivatives, triazole derivatives, imidazole derivatives, triazine derivatives, and triarylboranes. A low molecular material such as a derivative, or a polymer obtained by introducing a polymerizable functional group into the above low molecular electron transporting compound, for example, a poly PBD disclosed in JP-A-10-1665 Electron transporting compounds (these do not contain two or more thiol groups) can be used.

最後に、発光層の上に、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などにより、陰極を形成する。   Finally, a cathode is formed on the light emitting layer by resistance heating vapor deposition, electron beam vapor deposition, sputtering, ion plating, or the like.

本発明の有機EL光素子の陰極材料としては、仕事関数が低く、かつ化学的に安定なものが使用され、Al、MgAg合金、AlLiやAlCaなどのAlとアルカリ金属の合金などの既知の陰極材料を例示することができるが、化学的安定性を考慮すると仕事関数は−2.9eV以下であることが好ましい。   As the cathode material of the organic EL optical device of the present invention, a material having a low work function and being chemically stable is used, and known cathodes such as Al, MgAg alloy, Al and alkali metal alloys such as AlLi and AlCa, etc. The material can be exemplified, but in view of chemical stability, the work function is preferably −2.9 eV or less.

陰極の厚さは10nm〜1μmが好ましく、50〜500nmがより好ましい。   The thickness of the cathode is preferably 10 nm to 1 μm, and more preferably 50 to 500 nm.

以上により、基板/陽極/正孔輸送層/発光層/陰極をこの順で積層した有機EL素子が得られる。実施形態1の製造方法では、正孔輸送層を第一工程および第二工程によって高分子量化された有機化合物層とするため、最終的に効率、寿命などの点で優れた有機EL素子が得られる。   As described above, an organic EL device in which the substrate / anode / hole transport layer / light emitting layer / cathode is laminated in this order is obtained. In the manufacturing method of Embodiment 1, since the hole transport layer is an organic compound layer having a high molecular weight formed in the first step and the second step, an organic EL element excellent in terms of efficiency and life is finally obtained. It is done.

なお、実施形態1は、基板/陽極/第一正孔輸送層/第二正孔輸送層/発光層/陰極をこの順で積層した有機EL素子の製造方法であってもよい。ここでは、第一正孔輸送層および第二正孔輸送層が、上記第一工程および第二工程によって形成され、発光層が通常の塗布法によって形成される。第一正孔輸送層および第二正孔輸送層は、イオン化ポテンシャルの異なる二層となるように上述した正孔輸送性化合物(1)および(2)から適宜選択することが好ましい。   Embodiment 1 may be a method for manufacturing an organic EL element in which a substrate / anode / first hole transport layer / second hole transport layer / light emitting layer / cathode are laminated in this order. Here, the first hole transport layer and the second hole transport layer are formed by the first step and the second step, and the light emitting layer is formed by a normal coating method. The first hole transport layer and the second hole transport layer are preferably appropriately selected from the above-described hole transport compounds (1) and (2) so as to be two layers having different ionization potentials.

〔実施形態2〕
実施形態2の製造方法は、図2に示すように基板/陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極をこの順で積層した有機EL素子の製造方法である。ここでは、正孔輸送層が、上記第一工程および第二工程によって形成され、発光層は通常の塗布法によって形成され、電子輸送層は蒸着法で形成される。
[Embodiment 2]
The manufacturing method of Embodiment 2 is a manufacturing method of an organic EL element in which a substrate / anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode are laminated in this order as shown in FIG. Here, the hole transport layer is formed by the first step and the second step, the light emitting layer is formed by a normal coating method, and the electron transport layer is formed by a vapor deposition method.

実施形態2では、基板、陽極、正孔輸送層および発光層の積層については、実施形態1の製造方法と同様である。   In the second embodiment, the lamination of the substrate, the anode, the hole transport layer, and the light emitting layer is the same as the manufacturing method of the first embodiment.

次いで、実施形態2では、形成された発光層の上に、蒸着法で電子輸送層を設ける。   Next, in Embodiment 2, an electron transport layer is provided on the formed light emitting layer by a vapor deposition method.

最後に、電子輸送層の上に、実施形態1の製造方法と同様に陰極を形成する。   Finally, a cathode is formed on the electron transport layer in the same manner as in the manufacturing method of the first embodiment.

以上により、基板/陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極をこの順で積層した有機EL素子が得られる。実施形態2の製造方法では、正孔輸送層を第一工程および第二工程によって高分子量化された有機化合物層とするため、最終的に効率、寿命などの点で優れた有機EL素子が得られる。   As described above, an organic EL device in which the substrate / anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode is laminated in this order is obtained. In the manufacturing method of Embodiment 2, since the hole transport layer is an organic compound layer having a high molecular weight in the first step and the second step, an organic EL element excellent in terms of efficiency and life is finally obtained. It is done.

また、実施形態2の形態において、正孔輸送層および発光層が、上記第一工程および第二工程によって形成され、電子輸送層は通常塗布法で形成されてもよい。この場合、電子輸送層は、電子輸送性化合物と有機溶剤とを含む溶液を用いて、主にスピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法等の塗布法により
形成することができる。
Moreover, in the form of Embodiment 2, a positive hole transport layer and a light emitting layer may be formed by said 1st process and a 2nd process, and an electron carrying layer may be normally formed by the apply | coating method. In this case, the electron transport layer is mainly composed of a solution containing an electron transport compound and an organic solvent, and mainly a spin coating method, a casting method, a micro gravure coating method, a gravure coating method, a bar coating method, a roll coating method, a wire coating method. It can be formed by a coating method such as a bar coating method, a dip coating method, a spray coating method, a screen printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, and an ink jet printing method.

ここで用いる電子輸送性化合物は、通常有機化合物Aではない、すなわちチオール基を2個以上含む化合物ではない。具体的には、上述した実施形態1の発光層に含ませてもよい電子輸送性化合物が挙げられる。   The electron transporting compound used here is not usually the organic compound A, that is, not a compound containing two or more thiol groups. Specifically, the electron transport compound which may be included in the light emitting layer of Embodiment 1 mentioned above is mentioned.

なお、実施形態2は、基板/陽極/第一正孔輸送層/第二正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極をこの順で積層した有機EL素子の製造方法であってもよい。ここでは、第一正孔輸送層および第二正孔輸送層が、上記第一工程および第二工程によって形成され、発光層が通常の塗布法によって形成され、電子輸送層が蒸着法で形成されるか、または、第一正孔輸送層、第二正孔輸送層および発光層が、上記第一工程および第二工程によって形成され、電子輸送層が通常の塗布法または蒸着法によって形成される。第一正孔輸送層および第二正孔輸送層は、イオン化ポテンシャルの異なる二層となるように上述した正孔輸送性化合物(1)および(2)から適宜選択することが好ましい。   Embodiment 2 may be a method for manufacturing an organic EL element in which a substrate / anode / first hole transport layer / second hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode are laminated in this order. . Here, the first hole transport layer and the second hole transport layer are formed by the first step and the second step, the light emitting layer is formed by a normal coating method, and the electron transport layer is formed by a vapor deposition method. Alternatively, the first hole transport layer, the second hole transport layer and the light emitting layer are formed by the first step and the second step, and the electron transport layer is formed by a normal coating method or vapor deposition method. . The first hole transport layer and the second hole transport layer are preferably appropriately selected from the above-described hole transport compounds (1) and (2) so as to be two layers having different ionization potentials.

なお、実施形態2で得られる有機EL素子は、キャリヤ輸送と発光の機能を分離したものであり、極めて材料選択の自由度が増すとともに、発光波長を異にする種々の化合物が使用できるため、発光色相の多様化が可能になる。さらに、中央の発光層に各キャリヤあるいは励起子を有効に閉じこめて発光効率の向上を図ることも可能になる。   The organic EL device obtained in Embodiment 2 has functions of separating carrier transport and light emission, so that the degree of freedom of material selection is greatly increased and various compounds having different emission wavelengths can be used. Diversification of luminescent hues becomes possible. In addition, it is possible to effectively confine each carrier or exciton in the central light emitting layer to improve the light emission efficiency.

〔実施形態3〕
実施形態3の製造方法は、図3に示すように基板/陽極/発光層/陰極をこの順で積層した有機EL素子の製造方法である。ここでは、発光層が、上記第一工程および第二工程によって形成される。
[Embodiment 3]
The manufacturing method of Embodiment 3 is a manufacturing method of an organic EL element in which a substrate / anode / light emitting layer / cathode is laminated in this order as shown in FIG. Here, the light emitting layer is formed by the first step and the second step.

実施形態3では、基板および陽極の積層については、実施形態1の製造方法と同様である。   In the third embodiment, the lamination of the substrate and the anode is the same as the manufacturing method of the first embodiment.

次いで、実施形態3では、上記陽極の上に、上述した第一工程および第二工程により発光層を形成する。ここで、上述した2個以上のチオール基を有する発光性化合物が好適に用いられる。   Next, in Embodiment 3, a light emitting layer is formed on the anode by the first process and the second process described above. Here, the light emitting compound which has the 2 or more thiol group mentioned above is used suitably.

最後に、発光層の上に、実施形態1の製造方法と同様に陰極を形成する。   Finally, a cathode is formed on the light emitting layer in the same manner as in the manufacturing method of the first embodiment.

以上により、基板/陽極/発光層/陰極をこの順で積層した有機EL素子が得られる。実施形態3の製造方法では、発光層を第一工程および第二工程によって高分子量化された有機化合物層とするため、最終的に効率、寿命などの点で優れた有機EL素子が得られる。   As described above, an organic EL element in which the substrate / anode / light emitting layer / cathode is laminated in this order is obtained. In the manufacturing method of Embodiment 3, since the light emitting layer is an organic compound layer having a high molecular weight by the first step and the second step, an organic EL element excellent in terms of efficiency, life and the like is finally obtained.

なお、上記発光性化合物はそれ自体で正孔輸送能、エレクトロン輸送能及び発光性の性能を単一で有している場合であってもよく、それぞれの特性を有する化合物を混合して使ってもよい。   In addition, the light emitting compound may be a case where it has a hole transport ability, an electron transport ability and a light emission performance by itself, and a mixture of compounds having respective characteristics is used. Also good.

上記実施形態1〜3において、陰極作製後、該有機EL素子を保護する保護層を装着していてもよい。該有機EL素子を長期安定的に用いるためには、素子を外部から保護するために、保護層および/または保護カバーを装着することが好ましい。該保護層としては、高分子化合物、金属酸化物、金属フッ化物、金属ホウ化物などを用いることができる。また、保護カバーとしては、ガラス板、表面に低透水率処理を施したプラスチック板、金属などを用いることができ、該カバーを熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂で素子基板と貼り合わせて密閉する方法が好適に用いられる。スペーサーを用いて空間を維持すれば、素子が
キズつくのを防ぐことが容易である。該空間に窒素やアルゴンのような不活性なガスを封入すれば、陰極の酸化を防止することができ、さらに酸化バリウム等の乾燥剤を該空間内に設置することにより製造工程で吸着した水分が素子にタメージを与えるのを抑制することが容易となる。これらのうち、いずれか1つ以上の方策をとることが好ましい。
In Embodiments 1 to 3, a protective layer for protecting the organic EL element may be mounted after the cathode is manufactured. In order to use the organic EL element stably for a long period of time, it is preferable to attach a protective layer and / or a protective cover in order to protect the element from the outside. As the protective layer, a polymer compound, metal oxide, metal fluoride, metal boride and the like can be used. As the protective cover, a glass plate, a plastic plate with a low water permeability treatment on the surface, a metal, or the like can be used. The cover is bonded to the element substrate with a thermosetting resin or a photocurable resin and sealed. Is preferably used. If a space is maintained using a spacer, it is easy to prevent the element from being damaged. If an inert gas such as nitrogen or argon is sealed in the space, the cathode can be prevented from being oxidized, and moisture adsorbed in the manufacturing process by installing a desiccant such as barium oxide in the space. It becomes easy to suppress giving an image to an element. Among these, it is preferable to take any one or more measures.

実施形態1〜3は、ごく基本的な素子構成であり、本発明の製造方法によって得られる有機EL素子の構成はこれらに限定されるものではない。例えば、電極と有機層界面に絶縁性層を設ける、接着層あるいは干渉層を設ける、電子注入効率の良い電子注入層を陰極、電子輸送層界面に挿入する、など多様な層構成をとることができる。   Embodiments 1 to 3 are very basic device configurations, and the configuration of the organic EL device obtained by the production method of the present invention is not limited to these. For example, various layer configurations such as providing an insulating layer at the interface between the electrode and the organic layer, providing an adhesive layer or interference layer, and inserting an electron injection layer with good electron injection efficiency into the cathode or electron transport layer interface can be adopted. it can.

<有機EL素子およびその用途>
本発明の有機EL素子は、上述した製造方法によって得られる。本発明の有機EL素子は、マトリックス方式またはセグメント方式による画素として画像表示装置に好適に用いられる。また、上記有機EL素子は、画素を形成せずに、面発光光源としても好適に用いられる。
<Organic EL element and its use>
The organic EL device of the present invention is obtained by the above-described manufacturing method. The organic EL element of the present invention is suitably used in an image display device as a matrix or segment pixel. The organic EL element is also suitably used as a surface light source without forming pixels.

本発明の有機EL素子は、具体的には、コンピュータ、テレビ、携帯端末、携帯電話、カーナビゲーション、標識、看板、ビデオカメラのビューファインダー等における表示装置、バックライト、電子写真、照明、レジスト露光、読み取り装置、インテリア照明、光通信システム等における光照射装置に好適に用いられる。   Specifically, the organic EL device of the present invention includes a display device in a computer, a television, a mobile terminal, a mobile phone, a car navigation system, a sign, a signboard, a viewfinder of a video camera, a backlight, electrophotography, illumination, resist exposure. It is preferably used for a light irradiation device in a reading device, interior lighting, an optical communication system or the like.

[実施例]
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明していくが、本発明はこれらに限定されるものではない。
[Example]
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

[評価方法]
(1)初期輝度、電流効率、100時間後の輝度の測定方法
有機EL素子に定電圧電源(Keithley製、SM2400)を用いて段階的に電圧を印加し、有機EL素子の輝度を輝度計(トプコン製、BM-9)で定量した。電流密度に対する輝度の比から発光効率を決定した。
[Evaluation methods]
(1) Method of measuring initial luminance, current efficiency, and luminance after 100 hours A voltage is applied stepwise to the organic EL element using a constant voltage power source (Keithley, SM2400), and the luminance of the organic EL element is measured with a luminance meter ( Quantification was performed with Topcon's BM-9). Luminous efficiency was determined from the ratio of luminance to current density.

また、有機EL素子に、同装置を用いて定電流を印加し続け、一定時間おきに輝度を測定することで、発光寿命測定を行った。   Moreover, the light emission lifetime measurement was performed by continuing applying a constant current to the organic EL element using the same apparatus and measuring the luminance at regular intervals.

(2)不溶化
(積層体A、Bの作製)
下記実施例の有機EL素子とは別に、不溶化の評価(減少率の算出)のために、青板ガラス(25mm角、板厚1.1mm)上に、後述する実施例に記載する第一工程および第二工程の手順によって、高分子量化された有機化合物層(厚さ20nm)を設けた積層体を2枚作製し、それぞれ積層体A、積層体Bとした。
(2) Insolubilization (Preparation of laminates A and B)
Separately from the organic EL elements of the following examples, for the evaluation of insolubilization (calculation of the reduction rate), on the blue plate glass (25 mm square, plate thickness 1.1 mm), the first step described in the examples described later and Two laminates provided with a high molecular weight organic compound layer (thickness 20 nm) were produced by the procedure of the second step, and were designated as laminate A and laminate B, respectively.

(有機化合物層の厚さの測定)
積層体Aの有機化合物層の一部を針で切削して基板を露出させ(以下、こうして露出された基板表面を「基板露出部」ともいう。)、AFM(原子間力顕微鏡)を用いて、積層体Aの有機化合物層側表面を、図4に示すように基板露出部を横断するように観測することにより、有機化合物層(以下「溶解試験処理前の有機化合物層」ともいう。)の厚さを測定した。
(Measurement of organic compound layer thickness)
A part of the organic compound layer of the layered product A is cut with a needle to expose the substrate (hereinafter, the substrate surface thus exposed is also referred to as “substrate exposed portion”), and using an AFM (atomic force microscope). By observing the surface of the laminate A on the side of the organic compound layer so as to cross the exposed portion of the substrate as shown in FIG. 4, the organic compound layer (hereinafter also referred to as “organic compound layer before dissolution test treatment”). The thickness of was measured.

(溶解試験処理)
積層体Bの高分子量化された有機化合物層に下記の溶解試験処理を施した。
(Dissolution test processing)
The organic compound layer having a high molecular weight of the laminate B was subjected to the following dissolution test treatment.

積層体Bの有機化合物層上に0.10mlのトルエンを滴下した後、3000rpmで30秒間の条件で回転させた。この回転はトルエンの滴下後5秒以内に開始した。次いで、試料を窒素雰囲気下に140℃で1時間放置した。   After 0.10 ml of toluene was dropped on the organic compound layer of the laminate B, it was rotated at 3000 rpm for 30 seconds. This rotation started within 5 seconds after the dropwise addition of toluene. The sample was then left for 1 hour at 140 ° C. under a nitrogen atmosphere.

その後、積層体Bの有機化合物層(以下「溶解試験処理後の有機化合物層」ともいう。)の厚さを、積層体Aの場合と同様の方法で測定し、下式で定義される、有機化合物層の厚さの「減少率(%)」を算出した。   Thereafter, the thickness of the organic compound layer of the laminate B (hereinafter also referred to as “organic compound layer after the dissolution test treatment”) is measured by the same method as that of the laminate A, and is defined by the following formula: The “reduction rate (%)” of the thickness of the organic compound layer was calculated.

減少率=(1−溶解試験処理後の有機化合物層の厚さ/溶解試験処理前の有機化合物層の厚さ)×100
なお、実施例3については、第一正孔輸送層を設けた積層体A、積層体Bを用いた場合と第一正孔輸送層を設けた積層体A、積層体Bを用いた場合について、それぞれ上記評価を行った。
Reduction rate = (1−Thickness of organic compound layer after dissolution test treatment / Thickness of organic compound layer before dissolution test treatment) × 100
In addition, about Example 3, about the case where the laminated body A and the laminated body B which provided the 1st positive hole transport layer and the laminated body A and the laminated body B which provided the 1st positive hole transport layer were used. Each of the above evaluations was performed.

(3)高分子量化
高分子量化は、チオール基の消失により確認した。
(3) High molecular weight High molecular weight was confirmed by disappearance of the thiol group.

(積層体Cの作製)
化合物Bおよび化合物Bに対して0.1wt%のヨウ素をトルエンに溶解し2.0wt%(化合物Bおよびヨウ素の合計の濃度)の塗布液を調製した。この塗布液を用いて、青板ガラス(25mm角、板厚1.1mm)上に、スピンコート法(2000rpm)により成膜し、60℃にて10分間、120℃にて1時間熱処理を行い50nmの積層体Cを作製した。
(Preparation of laminate C)
Compound B and 0.1 wt% of iodine with respect to compound B were dissolved in toluene to prepare a 2.0 wt% (total concentration of compound B and iodine) coating solution. Using this coating solution, a film was formed on blue plate glass (25 mm square, plate thickness 1.1 mm) by spin coating (2000 rpm), and heat-treated at 60 ° C. for 10 minutes and 120 ° C. for 1 hour to 50 nm. A laminate C was prepared.

(積層体Dの作製)
化合物Bをトルエンに溶解し2.0wt%の塗布液を調製した。この塗布液を用いて、青板ガラス(25mm角、板厚1.1mm)上に、スピンコート法(2000rpm)により成膜し、室温、減圧下にて乾燥させ50nmの積層体Dを作製した。
(Preparation of laminate D)
Compound B was dissolved in toluene to prepare a 2.0 wt% coating solution. Using this coating solution, a film was formed on a blue plate glass (25 mm square, plate thickness 1.1 mm) by a spin coating method (2000 rpm), and dried at room temperature under reduced pressure to produce a 50 nm laminate D.

(チオール基の消失)
IRの測定により、積層体DにみられたSH基に由来する2564cm-1のピークが、積層体Cではまったく見られなかったことから、チオール基同士が反応し、−S−S−結合を生成させることにより、高分子量化したと考えられる。
(Disappearance of thiol group)
As a result of IR measurement, the peak of 2564 cm −1 derived from the SH group found in the laminate D was not seen in the laminate C, so that the thiol groups reacted with each other, and the —SS— bond was observed. It is thought that the molecular weight was increased by the generation.

実施例1〜3の第一工程および第二工程を経て得られた有機化合物層においても、SH基に由来する2564cm-1のピークはまったく見られないと考えられる。したがって、チオール基同士が反応し、−S−S−結合を生成し、高分子量化していると考えられる。 Even in the organic compound layers obtained through the first step and the second step in Examples 1 to 3, it is considered that the peak at 2564 cm −1 derived from the SH group is not observed at all. Therefore, it is considered that the thiol groups react with each other to generate -S-S- bonds, thereby increasing the molecular weight.

[実施例1]
ガラス基板上に酸化錫インジウム(ITO)をスパッタ法にて120nmの膜厚で成膜したものを透明導電性支持基板として用いた。これをアセトン、イソプロピルアルコール(IPA)で順次超音波洗浄し、IPAで煮沸洗浄、乾燥をした。さらに、UV/オゾン洗浄したものを透明導電性支持基板として使用した。
[Example 1]
What formed indium tin oxide (ITO) into a film thickness of 120 nm on the glass substrate by the sputtering method was used as a transparent conductive support substrate. This was ultrasonically washed successively with acetone and isopropyl alcohol (IPA), boiled and washed with IPA, and dried. Furthermore, what was UV / ozone cleaned was used as a transparent conductive support substrate.

(第一工程および第二工程)化合物Aをトルエンに溶解させ、2.0wt%の塗布液を
調製した。この塗布液を用いて、透明支持基板上にスピンコート法(2000rpm)により成膜し、140℃にて2時間熱処理を行い50nmの膜厚の有機化合物層を作製し、正孔輸送層を形成した。
(First Step and Second Step) Compound A was dissolved in toluene to prepare a 2.0 wt% coating solution. Using this coating solution, a film is formed on a transparent support substrate by spin coating (2000 rpm), and heat treatment is performed at 140 ° C. for 2 hours to produce an organic compound layer having a thickness of 50 nm, thereby forming a hole transport layer. did.

次に、化合物P、化合物Xを重量比10:90とした混合物をトルエンに溶解させ、2.0w
t%の塗布液を調製した。なお、化合物Xは特開2005−200638記載の方法で合
成した。この塗布液を用いて、先に作製した膜上にスピンコート法(2000rpm)により成膜し、窒素雰囲気下、140℃にて1時間熱処理を行い50nmの膜を作製し、電子輸送兼発光層を形成した。
Next, a mixture of Compound P and Compound X in a weight ratio of 10:90 was dissolved in toluene, and 2.0 w
A coating solution of t% was prepared. Compound X was synthesized by the method described in JP-A No. 2005-006368. Using this coating solution, a film was formed on the previously prepared film by spin coating (2000 rpm) and heat-treated at 140 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere to form a 50 nm film, and an electron transport / light emitting layer Formed.

さらに、アルミニウムとリチウム(リチウム濃度1原子%)からなる蒸着材料を用いて、先ほどの有機層の上に、真空蒸着法により厚さ150nmの金属層膜を形成し、図1に示す構造の素子を作製した。蒸着時の真空度は1.0×10-4Pa、成膜速度は1.0〜1.2nm/secの条件で成膜した。この様にして得られた素子に、ITO電極を正極、アルミニウム−リチウム電極を負極にして、真空中で直流電圧を印加して100時間連続発光させた結果を表1に示す。 Further, using a vapor deposition material composed of aluminum and lithium (lithium concentration of 1 atomic%), a metal layer film having a thickness of 150 nm is formed on the organic layer by vacuum deposition, and the element having the structure shown in FIG. Was made. The degree of vacuum at the time of vapor deposition was 1.0 × 10 −4 Pa, and the film formation rate was 1.0 to 1.2 nm / sec. Table 1 shows the results obtained by continuously emitting light for 100 hours by applying a DC voltage in a vacuum with the ITO electrode as the positive electrode and the aluminum-lithium electrode as the negative electrode.

Figure 2012089261
Figure 2012089261

Figure 2012089261
Figure 2012089261

Figure 2012089261
Figure 2012089261

[比較例1]
実施例1の化合物AをN,N'−ジフェニル−N,N'−ジ(3−メチルフェニル)−4,4'−ジアミノ−1,1'−ビフェニルに変えて正孔輸送層を形成した他は実施例1の素子と全く同様にして比較例1の素子を作製した。この様にして得られた素子に、ITO電極を正極、アルミニウム−リチウム電極を負極にして、真空中で直流電圧を印加して100時間連続発光させた結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
Compound A of Example 1 was changed to N, N′-diphenyl-N, N′-di (3-methylphenyl) -4,4′-diamino-1,1′-biphenyl to form a hole transport layer. Otherwise, the device of Comparative Example 1 was fabricated in exactly the same manner as the device of Example 1. Table 1 shows the results obtained by continuously emitting light for 100 hours by applying a DC voltage in a vacuum with the ITO electrode as the positive electrode and the aluminum-lithium electrode as the negative electrode.

Figure 2012089261
Figure 2012089261

[実施例2]
ガラス基板上に酸化錫インジウム(ITO)をスパッタ法にて120nmの膜厚で成膜したものを透明導電性支持基板として用いた。これをアセトン、イソプロピルアルコール(IPA)で順次超音波洗浄し、IPAで煮沸洗浄、乾燥をした。さらに、UV/オゾン洗浄したものを透明導電性支持基板として使用した。
[Example 2]
What formed indium tin oxide (ITO) into a film thickness of 120 nm on the glass substrate by the sputtering method was used as a transparent conductive support substrate. This was ultrasonically washed successively with acetone and isopropyl alcohol (IPA), boiled and washed with IPA, and dried. Furthermore, what was UV / ozone cleaned was used as a transparent conductive support substrate.

(第一工程および第二工程)化合物Bおよび化合物Bに対して0.1wt%のヨウ素をトルエンに溶解し2.0wt%(化合物Bおよびヨウ素の合計の濃度)の塗布液を調製した。この塗布液を用いて、透明支持基板上にスピンコート法(2000rpm)により成膜し、60℃にて10分間、120℃にて1時間熱処理を行い50nmの有機化合物層(正孔輸送層)を作製した。   (First Step and Second Step) 0.1 wt% iodine was dissolved in toluene with respect to Compound B and Compound B to prepare a coating solution of 2.0 wt% (total concentration of Compound B and iodine). Using this coating solution, a film was formed on a transparent support substrate by a spin coating method (2000 rpm), and heat-treated at 60 ° C. for 10 minutes and at 120 ° C. for 1 hour, and a 50 nm organic compound layer (hole transport layer) Was made.

次に、化合物P、化合物Xを重量比10:90とした混合物をトルエンに溶解させ、2.0w
t%の塗布液を調製した。この塗布液を用いて、先に作製した膜上にスピンコート法(2000rpm)により成膜し、窒素雰囲気下、140℃にて1時間熱処理を行い50nmの膜を作製し、電子輸送兼発光層を形成した。
Next, a mixture of Compound P and Compound X in a weight ratio of 10:90 was dissolved in toluene, and 2.0 w
A coating solution of t% was prepared. Using this coating solution, a film was formed on the previously prepared film by spin coating (2000 rpm) and heat-treated at 140 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere to form a 50 nm film, and an electron transport / light emitting layer Formed.

さらに、アルミニウムとリチウム(リチウム濃度1原子%)からなる蒸着材料を用いて、先ほどの有機層の上に、真空蒸着法により厚さ150nmの金属層膜を形成し、図1に示す構造の素子を作製した。蒸着時の真空度は1.0×10-4Pa、成膜速度は1.0〜1.2nm/secの条件で成膜した。 Further, using a vapor deposition material composed of aluminum and lithium (lithium concentration of 1 atomic%), a metal layer film having a thickness of 150 nm is formed on the organic layer by vacuum deposition, and the element having the structure shown in FIG. Was made. The degree of vacuum at the time of vapor deposition was 1.0 × 10 −4 Pa, and the film formation rate was 1.0 to 1.2 nm / sec.

この様にして作製した素子に、ITO電極を陽極にアルミニウム−リチウム電極を陰極に直流の電圧を印加したところ、32.9cd/Aの緑色発光が観測された。その他の結
果も合わせて表1に示す。
When a direct current voltage was applied to the device thus fabricated using an ITO electrode as an anode and an aluminum-lithium electrode as a cathode, 32.9 cd / A of green light emission was observed. The other results are also shown in Table 1.

Figure 2012089261
Figure 2012089261

[実施例3]
ガラス基板上に酸化錫インジウム(ITO)をスパッタ法にて120nmの膜厚で成膜したものを透明導電性支持基板として用いた。これをアセトン、イソプロピルアルコール(IPA)で順次超音波洗浄し、IPAで煮沸洗浄、乾燥をした。さらに、UV/オゾン洗浄したものを透明導電性支持基板として使用した。
[Example 3]
What formed indium tin oxide (ITO) into a film thickness of 120 nm on the glass substrate by the sputtering method was used as a transparent conductive support substrate. This was ultrasonically washed successively with acetone and isopropyl alcohol (IPA), boiled and washed with IPA, and dried. Furthermore, what was UV / ozone cleaned was used as a transparent conductive support substrate.

(1回目の第一工程および第二工程)化合物Bおよび化合物Bに対して0.1wt%のヨウ素をトルエンに溶解し2.0wt%(化合物Bおよびヨウ素の合計の濃度)の塗布液を調製した。この塗布液を用いて、透明支持基板上にスピンコート法(2000rpm)により成膜し、60℃にて10分間、120℃にて1時間熱処理を行い50nmの有機化合物層(第一正孔輸送層)を作製した。   (First Step and First Step) 0.1 wt% iodine is dissolved in toluene with respect to Compound B and Compound B to prepare 2.0 wt% (total concentration of Compound B and iodine). did. Using this coating solution, a film is formed on a transparent support substrate by a spin coating method (2000 rpm), and heat-treated at 60 ° C. for 10 minutes and at 120 ° C. for 1 hour, and a 50 nm organic compound layer (first hole transport) Layer).

(2回目の第一工程および第二工程)次に、化合物Cをトルエンに溶解させ、1.0w
t%の塗布液を調製した。この塗布液を用いて、先に作製した膜上にスピンコート法(2000rpm)により成膜し、140℃にて2時間熱処理を行い20nmの膜厚の有機化合物層(第二正孔輸送層)を作製した。
(Second Step 1 and Step 2) Next, Compound C is dissolved in toluene, and 1.0 w is added.
A coating solution of t% was prepared. Using this coating solution, a film was formed by spin coating (2000 rpm) on the previously prepared film, and heat-treated at 140 ° C. for 2 hours to form an organic compound layer (second hole transport layer) having a thickness of 20 nm. Was made.

次に、化合物P、化合物Xを重量比10:90とした混合物をトルエンに溶解させ、2.0w
t%の塗布液を調製した。この塗布液を用いて、先に作製した膜上にスピンコート法(2000rpm)により成膜し、窒素雰囲気下、140℃にて1時間熱処理を行い50nmの膜を作製し、電子輸送兼発光層を形成した。
Next, a mixture of Compound P and Compound X in a weight ratio of 10:90 was dissolved in toluene, and 2.0 w
A coating solution of t% was prepared. Using this coating solution, a film was formed on the previously prepared film by spin coating (2000 rpm) and heat-treated at 140 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere to form a 50 nm film, and an electron transport / light emitting layer Formed.

さらに、アルミニウムとリチウム(リチウム濃度1原子%)からなる蒸着材料を用いて、先ほどの有機層の上に、真空蒸着法により厚さ150nmの金属層膜を形成し、図1に
示す構造において、正孔輸送層を第一正孔輸送層および第二輸送層に変えた構造の素子を作製した。蒸着時の真空度は1.0×10-4Pa、成膜速度は1.0〜1.2nm/secの条件で成膜した。
Furthermore, using a vapor deposition material composed of aluminum and lithium (lithium concentration 1 atom%), a metal layer film having a thickness of 150 nm is formed on the organic layer by a vacuum vapor deposition method. In the structure shown in FIG. A device having a structure in which the hole transport layer was changed to the first hole transport layer and the second transport layer was produced. The degree of vacuum at the time of vapor deposition was 1.0 × 10 −4 Pa, and the film formation rate was 1.0 to 1.2 nm / sec.

この様にして作製した素子に、ITO電極を陽極にアルミニウム−リチウム電極を陰極に直流の電圧を印加したところ、42.3cd/Aの緑色発光が観測された。その他の結
果も合わせて表1に示す。
When a direct current voltage was applied to the device thus fabricated using an ITO electrode as an anode and an aluminum-lithium electrode as a cathode, a green light emission of 42.3 cd / A was observed. The other results are also shown in Table 1.

Figure 2012089261
Figure 2012089261

Claims (11)

一対の電極の間に形成された一層以上の有機化合物層を含む有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、少なくとも一層の有機化合物層が以下の二つの工程により形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法;
第一工程:2個以上のチオール基を有する有機化合物Aを含む組成物を塗布する工程、
第二工程:第一工程によって塗布された組成物を加熱し、有機化合物Aが有するチオール基同士を反応させて不溶化させる工程。
A method of manufacturing an organic electroluminescence device including one or more organic compound layers formed between a pair of electrodes, wherein at least one organic compound layer is formed by the following two steps: Manufacturing method of electroluminescence element;
1st process: The process of apply | coating the composition containing the organic compound A which has a 2 or more thiol group,
2nd process: The process of heating the composition apply | coated by the 1st process and making the thiol group which the organic compound A has react, and making it insolubilize.
前記有機化合物Aが、正孔輸送性化合物、電子輸送性化合物または発光性化合物であることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。   The method for producing an organic electroluminescent element according to claim 1, wherein the organic compound A is a hole transporting compound, an electron transporting compound, or a light emitting compound. 前記有機化合物Aが、以下の一般式(1)で表わされる正孔輸送性化合物であることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
Figure 2012089261
〔式(1)中、R2、R3、R8およびR13のうち少なくとも1つが、下記式(A1)で
表わされる置換基(A1)であり、
Figure 2012089261
(式(A1)中、複数個あるRaaは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E)
Figure 2012089261
(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)を表し、n
は0、1または2を表す。)
骨格構造(1)中のR1〜R15のうち置換基(A1)で置換されていないR1〜R15および置換基(A1)中のRa1〜Ra10は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シア
ノ基、アミノ基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E)
Figure 2012089261
(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)であり、
チオール含有基(E)は、正孔輸送性化合物(1)中に合計で2つ以上含まれる。〕
The method for producing an organic electroluminescent element according to claim 1, wherein the organic compound A is a hole transporting compound represented by the following general formula (1).
Figure 2012089261
[In formula (1), at least one of R 2 , R 3 , R 8 and R 13 is a substituent (A1) represented by the following formula (A1),
Figure 2012089261
(In the formula (A1), a plurality of R aa are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a thiol-containing group (E) represented by the following formula (E):
Figure 2012089261
(In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms), and n
Represents 0, 1 or 2. )
R a1 to R a10 of R 1 to R 15 and in the substituent (A1) not substituted with a substituent (A1) of R 1 to R 15 of the skeletal structure (1) are each independently a hydrogen atom , A halogen atom, a cyano group, an amino group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a thiol-containing group (E) represented by the following formula (E)
Figure 2012089261
(In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms),
Two or more thiol-containing groups (E) are contained in the hole transporting compound (1) in total. ]
前記有機化合物Aが、以下の一般式(1)で表わされる正孔輸送性化合物であることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
Figure 2012089261
〔式(1)中、R2、R3、R8およびR13のうち少なくとも1つが、下記式(B1)で
表わされる置換基(B1)であり、
Figure 2012089261
(式(B1)中、複数個あるRbbは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E)
Figure 2012089261
(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)を表し、p
は0、1または2を表す。)
骨格構造(1)中のR1〜R15のうち置換基(B1)で置換されていないR1〜R15および置換基(B1)中のRb1〜Rb8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基
Figure 2012089261
(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)であり、
チオール含有基(E)は、正孔輸送性化合物(1)中に合計で2つ以上含まれる。〕
The method for producing an organic electroluminescent element according to claim 1, wherein the organic compound A is a hole transporting compound represented by the following general formula (1).
Figure 2012089261
[In the formula (1), at least one of R 2 , R 3 , R 8 and R 13 is a substituent (B1) represented by the following formula (B1),
Figure 2012089261
(In the formula (B1), a plurality of Rbbs are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a thiol-containing group (E) represented by the following formula (E)).
Figure 2012089261
(In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms), p
Represents 0, 1 or 2. )
R b1 to R b8 of R 1 to R 15 and in the substituent (B1) not substituted with a substituent (B1) of R 1 to R 15 of the skeletal structure (1) are each independently a hydrogen atom , A halogen atom, a cyano group, an amino group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a thiol-containing group represented by the following formula (E)
Figure 2012089261
(In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms),
Two or more thiol-containing groups (E) are contained in the hole transporting compound (1) in total. ]
前記有機化合物Aが、以下の一般式(2)で表わされる正孔輸送性化合物であることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
Figure 2012089261
〔式(2)中、R29が、下記式(C1)で表わされる置換基(C1)であるか、または、下記式(D1)で表わされる置換基(D1)であり、
Figure 2012089261
(式(C1)中、複数個あるRccは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E)
Figure 2012089261
(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)を表し、q
は0、1または2を表す。)
Figure 2012089261
(式(D1)中、複数個あるRddは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E)
Figure 2012089261
(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)を表し、r
は0、1または2を表す。)
(2−i)R29が、置換基(C1)である場合は、
骨格構造(2)中のR21〜R28および置換基(C1)中のRc1は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E)
Figure 2012089261
(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)であり、
チオール含有基(E)は、正孔輸送性化合物(2)中に合計で2つ以上含まれ、
(2−ii)R29が、置換基(D1)である場合は、
骨格構造(2)中のR21〜R28および置換基(D1)中のRd1〜Rd8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、または下記式(E)で表わされるチオール含有基(E)
Figure 2012089261
(式(E)中、Reは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)であり、
チオール含有基(E)は、正孔輸送性化合物(2)中に合計で2つ以上含まれる。〕
The method for producing an organic electroluminescent element according to claim 1, wherein the organic compound A is a hole transporting compound represented by the following general formula (2).
Figure 2012089261
[In the formula (2), R 29 is a substituent (C1) represented by the following formula (C1) or a substituent (D1) represented by the following formula (D1),
Figure 2012089261
(In the formula (C1), a plurality of R ccs are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a thiol-containing group (E) represented by the following formula (E)).
Figure 2012089261
(In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms), q
Represents 0, 1 or 2. )
Figure 2012089261
(In the formula (D1), a plurality of R dds are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a thiol-containing group (E) represented by the following formula (E)).
Figure 2012089261
(In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms), and r
Represents 0, 1 or 2. )
(2-i) when R 29 is a substituent (C1),
R 21 to R 28 in the skeleton structure (2) and R c1 in the substituent (C1) are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an amino group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, carbon A thiol-containing group (E) represented by the following formula (E):
Figure 2012089261
(In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms),
Two or more thiol-containing groups (E) are contained in the hole transporting compound (2) in total,
(2-ii) when R 29 is a substituent (D1),
R 21 to R 28 in the skeleton structure (2) and R d1 to R d8 in the substituent (D1) are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an amino group, or an alkyl having 1 to 10 carbon atoms. Group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a thiol-containing group (E) represented by the following formula (E)
Figure 2012089261
(In formula (E), Re represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms),
Two or more thiol-containing groups (E) are contained in the hole transporting compound (2) in total. ]
前記第一工程および第二工程により形成された有機化合物層上に、以下の二つの工程により1層または複数層の有機化合物層をさらに形成することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
第三工程:有機化合物Aとは異なる、2個以上のチオール基を有する有機化合物を含む組成物を塗布する工程、
第四工程:第三工程によって塗布された組成物を加熱し、有機化合物Aとは異なる有機化合物が有するチオール基同士を反応させて不溶化させる工程。
One or more organic compound layers are further formed on the organic compound layer formed by the first step and the second step by the following two steps. The manufacturing method of the organic electroluminescent element as described in one.
Third step: A step of applying a composition containing an organic compound having two or more thiol groups, which is different from the organic compound A,
Fourth step: A step of heating the composition applied in the third step to react and insolubilize thiol groups of an organic compound different from the organic compound A.
前記組成物が、さらに酸化剤を含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。   The said composition contains an oxidizing agent further, The manufacturing method of the organic electroluminescent element as described in any one of Claims 1-6 characterized by the above-mentioned. 第二工程における加熱温度が30℃〜200℃であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。   The manufacturing temperature of the organic electroluminescent element according to any one of claims 1 to 7, wherein a heating temperature in the second step is 30C to 200C. 請求項1〜8のいずれか一項に記載の製造方法で得られる有機エレクトロルミネッセンス素子。   The organic electroluminescent element obtained by the manufacturing method as described in any one of Claims 1-8. 請求項9に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備える表示装置。   A display apparatus provided with the organic electroluminescent element of Claim 9. 請求項9に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備える面発光光源。   A surface-emitting light source comprising the organic electroluminescence element according to claim 9.
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