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JP2012051367A - Polyester film for supporting interlayer insulating material - Google Patents

Polyester film for supporting interlayer insulating material Download PDF

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JP2012051367A
JP2012051367A JP2011168866A JP2011168866A JP2012051367A JP 2012051367 A JP2012051367 A JP 2012051367A JP 2011168866 A JP2011168866 A JP 2011168866A JP 2011168866 A JP2011168866 A JP 2011168866A JP 2012051367 A JP2012051367 A JP 2012051367A
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Japan
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film
layer
polyester film
interlayer insulating
polyester
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JP2011168866A
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Japanese (ja)
Inventor
Isao Yoneda
勇雄 米田
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Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Plastics Inc
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Plastics Inc filed Critical Mitsubishi Plastics Inc
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Abstract

【課題】 配線の微細化および高密度化において発生する種々の問題に対応することができ、層間絶縁材料用支持フィルムとして好適なポリエステルフィルムを提供する。
【解決手段】 一方のフィルム表面の中心線平均粗さ(SRa)が0.5〜15nmであるポリエステルフィルムのもう一方の面に塗布層を有し、180℃で30分間熱処理した後の当該塗布層表面のオリゴマー量が3.0mg/m以下であることを特徴とする層間絶縁材料支持ポリエステルフィルム。
【選択図】 なし
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyester film that can cope with various problems that occur in miniaturization and densification of wiring and is suitable as a support film for an interlayer insulating material.
SOLUTION: A coating layer is provided on the other surface of a polyester film having a center line average roughness (SRa) of 0.5 to 15 nm on one film surface, and the coating is performed after heat treatment at 180 ° C. for 30 minutes. An interlayer insulating material-supporting polyester film, wherein the oligomer amount on the surface of the layer is 3.0 mg / m 2 or less.
[Selection figure] None

Description

本発明は、層間絶縁材料の支持フィルムに関し、特に回路基板に用いられる層間絶縁材料の支持フィルムに関するものであり、例えば、プリント配線板、多層配線板、半導体装置や液晶表示装置等の回路基板構成部材である層間絶縁層の形成に用いられる層間絶縁材料の支持フィルムとして好適な層間絶縁材料用支持ポリエステルフィルムを提供するものである。   The present invention relates to a support film of an interlayer insulating material, and more particularly to a support film of an interlayer insulating material used for a circuit board. For example, a circuit board configuration such as a printed wiring board, a multilayer wiring board, a semiconductor device, and a liquid crystal display device The present invention provides a support polyester film for an interlayer insulating material suitable as a support film for an interlayer insulating material used for forming an interlayer insulating layer as a member.

ここで層間絶縁材料用支持ポリエステルフィルムとは、あらかじめ、層間絶縁材料溶液をフィルム状に塗布・乾燥するのに用いられる支持フィルムであり、得られたフィルム状の層間絶縁材料を真空プレスあるいは真空ロールラミネータを用いて、回路基板上に貼り合わせた後に剥がされる。   Here, the support polyester film for an interlayer insulating material is a support film used to apply and dry an interlayer insulating material solution in a film shape in advance, and the obtained film-shaped interlayer insulating material is vacuum-pressed or vacuum-rolled. Using a laminator, it is peeled off after being bonded onto the circuit board.

プリント配線基板は、ICなどの電子部品を搭載、接続するために銅回路が形成されている基板であり、テレビなどの家電に用いられている民生用プリント配線基板と、コンピューターや計測機器などの産業用に用いられている産業用プリント配線板などが挙げられる。特に明確な区別がなされているわけではないが、プリント配線板の基材は、主に紙を基材とするフェノール樹脂積層板から製造されているものなどが民生用に使用され、エポキシ樹脂を用いたガラス布基材積層板などが産業用プリント配線板用の基材として使用されている。   A printed wiring board is a board on which a copper circuit is formed in order to mount and connect electronic components such as ICs, such as consumer printed wiring boards used in household appliances such as televisions, computers, measuring instruments, etc. Examples include industrial printed wiring boards used for industrial purposes. Although there is no clear distinction, the printed wiring board base material is mainly used for consumer use, such as those made from paper-based phenolic resin laminates. The used glass cloth base laminate is used as a base for an industrial printed wiring board.

プリント配線基板に設置されるICなど端子数が増加するに従い、限られた面積で必要な配線を収容するための手段として多層化が図られ、多層プリント配線板も量産されている。   As the number of terminals such as ICs installed on a printed wiring board increases, multilayering is achieved as means for accommodating necessary wiring in a limited area, and multilayer printed wiring boards are also mass-produced.

多層プリント配線板の中でも、リジッド基板上に配線パターンを形成し、その上に絶縁層を形成し、さらにその上に配線パターンを形成し、さらに絶縁層を形成するという工程を繰り返すことで、プリント配線板を形成するビルドアップ法は、携帯電話などの小型化が必要な製品や、コンピューターなどの高速動作が必要な用途に適した方法として用いられており、近年、更なる電子機器の小型化、高性能化が進み、ビルドアップ層もさらに複層化され、配線の微細化および高密度化も一層進んでいる。   Print out by repeating the process of forming a wiring pattern on a rigid board, forming an insulating layer on it, forming a wiring pattern on it, and then forming an insulating layer. The build-up method for forming wiring boards is used as a method suitable for products that require miniaturization, such as mobile phones, and for applications that require high-speed operation, such as computers. As the performance increases, the build-up layer is further multi-layered, and the miniaturization and density of wiring are further advanced.

多層プリント配線板に用いられる絶縁層は、ガラスクロスに、エポキシ系、ポリイミド系等の樹脂を含浸させたもの、あるいはセラミック系等の材料が用いられ、配線層の信号の伝播速度やプリント配線板の特性インピーダンス等の電気特性を左右する重要なパラメーターであるため、そのような電気特性を満足するような材料を選定することが必要であり、具体的には、できるだけ誘電率の低い材料が選定されており、各種提案もなされている。また、絶縁層の形成は、フィルム支持体の上に塗布する方法が、均一な厚さのものが得られるため、小型化や高性能化の要求に対して好ましく、塗布できる材料が用いられている。   The insulating layer used in the multilayer printed wiring board is made of glass cloth impregnated with epoxy or polyimide resin, or ceramic material. The signal propagation speed of the wiring layer or the printed wiring board Therefore, it is necessary to select a material that satisfies such electrical characteristics. Specifically, a material having a dielectric constant as low as possible is selected. Various proposals have been made. In addition, since the insulating layer is formed on the film support with a uniform thickness, it is preferable to meet the demands for miniaturization and high performance, and a material that can be applied is used. Yes.

絶縁層の形態は、小型化や高性能化に対応するための層間絶縁材料として、フィルム状の支持体に絶縁層となる熱硬化性樹脂などを塗布し、支持体のフィルムと硬化させた絶縁層とをロール状とする方法が提案されている。フィルム状態の絶縁層に関しては、樹脂とフィラーの最適な選択などにより、レーザー加工に適合し、粗化処理後の樹脂表面がめっき密着性を向上するように設計したビルドアップ用絶縁層を有するフィルムが提案され、近年の要求に対応するなど、絶縁層に関しては、種々の提案がなされている。   The insulation layer is formed by applying a thermosetting resin as an insulation layer to a film-like support as an interlayer insulation material to cope with downsizing and high performance, and curing the support film with the film. A method has been proposed in which the layers are rolled. With regard to the insulating layer in the film state, it is a film having an insulating layer for buildup that is designed to be suitable for laser processing and to improve the plating adhesion of the resin surface after the roughening treatment, by optimal selection of resin and filler, etc. Various proposals have been made regarding the insulating layer, such as to meet recent demands.

しかしながら、フィルム状の絶縁層を形成するための支持体であるフィルムに関しては、絶縁層の表面性や、絶縁層の形成時における生産性などに大きな影響を与えるにも関わらず、具体的な提案はなされていない状況である。特に、配線の微細化および高密度化が進み層間絶縁層表面の微細な表面欠陥や不純物の混入による電気的特性への悪影響が顕在化するようになってきたが、絶縁層を形成するための支持体に使用するフィルムに関しての提案がなされていない状況である。   However, with regard to the film that is a support for forming a film-like insulating layer, specific proposals are made despite the great influence on the surface properties of the insulating layer and the productivity when forming the insulating layer. The situation has not been made. In particular, the miniaturization and high density of wiring have progressed, and the adverse effects on the electrical characteristics due to the minute surface defects and impurities on the surface of the interlayer insulating layer have become apparent. No proposal has been made regarding the film used for the support.

特開2005−154727号公報JP 2005-154727 A 特開2005−39247号公報JP 2005-39247 A 特開2008−251971号公報JP 2008-251971 A

本発明は、上記のような事情に鑑みなされたもので、その解決しようとする課題は、配線の微細化および高密度化において発生する種々の問題に対応することができ、層間絶縁材料用支持フィルムとして好適なポリエステルフィルムを提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and the problem to be solved can cope with various problems that occur in miniaturization and densification of wiring, and support for interlayer insulating materials. It is providing the polyester film suitable as a film.

本発明者は、上記実状に鑑み、鋭意検討した結果、特定の構成からなるポリエステルフィルムによれば、上記課題を容易に解決できることを知見し、本発明を完成させるに至った。   As a result of intensive studies in view of the above-described actual situation, the present inventor has found that the above problem can be easily solved by a polyester film having a specific configuration, and has completed the present invention.

すなわち、本発明の要旨は、一方のフィルム表面の中心線平均粗さ(SRa)が0.5〜15nmであるポリエステルフィルムのもう一方の面に塗布層を有し、180℃で30分間熱処理した後の当該塗布層表面のオリゴマー量が3.0mg/m以下であることを特徴とする層間絶縁材料支持ポリエステルフィルムに存する。 That is, the gist of the present invention is to have a coating layer on the other surface of a polyester film having a center line average roughness (SRa) of one film surface of 0.5 to 15 nm and heat-treated at 180 ° C. for 30 minutes. It exists in the interlayer insulation material support polyester film characterized by the oligomer amount of the said coating layer surface of the back being 3.0 mg / m < 2 > or less.

本発明によれば、配線の微細化および高密度化において発生する種々の問題に対応することができる、層間絶縁材料用支持フィルムとして好適なポリエステルフィルムを提供することができ、本発明の工業的価値は高い。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the polyester film suitable as a support film for interlayer insulation materials which can respond to the various problems generate | occur | produced in refinement | miniaturization and high density of wiring can be provided, and the industrial film of this invention Value is high.

本発明のポリエステルフィルムにおいては、フィルムを180℃で30分間熱処理した後における塗布層表面のポリエステルオリゴマー量が、3.0mg/m以下である必要がある。熱処理後の塗布層表面のポリエステルオリゴマー量がこの範囲を超えると、層間絶縁層を基板上に形成する工程の熱処理により、フィルムから析出したオリゴマーが加工装置を汚し、ラミネート時の欠陥となったり、生産性が低下したりする。また、析出・滞積したオリゴマーが配線板に混入することにより電気的特性を損なわれたり、電気的欠陥が発生したりする。 In the polyester film of the present invention, the amount of the polyester oligomer on the surface of the coating layer after heat-treating the film at 180 ° C. for 30 minutes needs to be 3.0 mg / m 2 or less. If the amount of polyester oligomer on the surface of the coating layer after heat treatment exceeds this range, the oligomer deposited from the film fouls the processing equipment due to heat treatment in the process of forming the interlayer insulating layer on the substrate, resulting in defects during lamination, Productivity decreases. Further, the precipitated and accumulated oligomers are mixed into the wiring board, so that the electrical characteristics are impaired, or electrical defects are generated.

また、本発明のポリエステルフィルムの塗布層表面の表面固有抵抗は、1×1013Ω/□以下であることが好ましく、さらに好ましくは表面固有抵抗が1×1012Ω/□以下、特に好ましくは1×1010Ω/□以下である。表面固有抵抗が1×1013Ω/□を超える場合は、ロール状に巻いたフィルムを巻出した時や、重ね合わせた単枚状のフィルムを順次搬送するような時に、フィルム同士の密着や加工不良、異物や埃の付着といった問題を引き起こす場合がある。 The surface resistivity of the coated layer surface of the polyester film of the present invention is preferably 1 × 10 13 Ω / □ or less, more preferably 1 × 10 12 Ω / □ or less, particularly preferably. 1 × 10 10 Ω / □ or less. When the surface resistivity exceeds 1 × 10 13 Ω / □, when the film wound in a roll shape is unwound or when the laminated single film is sequentially conveyed, It may cause problems such as processing defects and adhesion of foreign matter and dust.

本発明において、フィルムに設けられる塗布層を構成する成分としては、4級アンモニウム塩基を有する化合物やポリビニルアルコールが好ましく用いられる。4級アンモニウム塩基を有する化合物とは、分子中の主鎖や側鎖に、4級アンモニウム塩基を含む構成要素を持つものを指す。そのような構成要素としては例えば、ピロリジウム環、アルキルアミンの4級化物、さらにこれらをアクリル酸やメタクリル酸と共重合したもの、N−アルキルアミノアクリルアミドの4級化物、ビニルベンジルトリメチルアンモニウム塩、2−ヒドロキシ3−メタクリルオキシプロピルトリメチルアンモニウム塩等を挙げることができる。さらに、これらを組み合わせて、あるいは他の樹脂と共重合させても構わない。また、これらの4級アンモニウム塩の対イオンとなるアニオンとしては例えば、ハロゲン、アルキルサルフェート、アルキルスルホネート、硝酸等のイオンが挙げられる。   In the present invention, as a component constituting the coating layer provided on the film, a compound having a quaternary ammonium base or polyvinyl alcohol is preferably used. The compound having a quaternary ammonium base refers to a compound having a component containing a quaternary ammonium base in the main chain or side chain in the molecule. Examples of such constituents include pyrrolidinium ring, quaternized alkylamine, copolymerized with acrylic acid or methacrylic acid, quaternized N-alkylaminoacrylamide, vinylbenzyltrimethylammonium salt, 2 -Hydroxy 3-methacryloxypropyltrimethylammonium salt etc. can be mentioned. Further, these may be combined or copolymerized with other resins. In addition, examples of anions that serve as counter ions for these quaternary ammonium salts include ions such as halogen, alkyl sulfate, alkyl sulfonate, and nitric acid.

また、本発明においては、4級アンモニウム塩基を有する化合物は、高分子化合物であることが望ましい。分子量が低すぎる場合は、塗布層中から容易に除去されて経時的に性能の低下を引き起こしたり、塗布層がべたついたりするおそれがある。また、分子量が低いと耐熱安定性に劣る場合がある。このような不具合を生じないためには、4級アンモニウム塩基を有する化合物の数平均分子量が、通常は1000以上、さらには2000以上、特に5000以上であることが望ましい。また一方で、かかる化合物は分子量が高すぎる場合は、塗布液の粘度が高くなりすぎる等の不具合を生じる場合がある。そのような不具合を生じないためには、数平均分子量が500000以下であることが好ましい。   In the present invention, the compound having a quaternary ammonium base is preferably a polymer compound. If the molecular weight is too low, it may be easily removed from the coating layer, causing deterioration in performance over time, or the coating layer becoming sticky. Moreover, when the molecular weight is low, the heat resistance stability may be inferior. In order not to cause such a problem, it is desirable that the number average molecular weight of the compound having a quaternary ammonium base is usually 1000 or more, more preferably 2000 or more, particularly 5000 or more. On the other hand, when such a compound has a molecular weight that is too high, problems such as excessively high viscosity of the coating solution may occur. In order not to cause such a problem, the number average molecular weight is preferably 500,000 or less.

本発明で用いるポリビニルアルコールは、通常の重合反応によって合成することができ、水溶性であることが好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、特に限定されるものではないが、通常100以上、好ましくは300〜40000のものが用いられる。重合度が100以下の場合、塗布層の耐水性が低下する傾向がある。ポリビニルアルコールのけん化度は、特に限定されるものではないが、通常70モル%以上、好ましくは80モル%以上、99.9モル%以下であるポリ酢酸ビニルけん化物が実用上用いられる。さらに塗布層中には、必要に応じて上記以外の水溶性または水分散性のバインダー樹脂の1種もしくは2種以上を併用することができる。かかるバインダー樹脂としては、例えば、ポリエステル、ポリウレタン、アクリル樹脂、ビニル樹脂、エポキシ樹脂、アミド樹脂等が挙げられる。これらは、それぞれの骨格構造が共重合等により実質的に複合構造を有していてもよい。複合構造を持つバインダー樹脂としては、例えば、アクリル樹脂グラフトポリエステル、アクリル樹脂グラフトポリウレタン、ビニル樹脂グラフトポリエステル、ビニル樹脂グラフトポリウレタン等が挙げられる。   The polyvinyl alcohol used in the present invention can be synthesized by a normal polymerization reaction and is preferably water-soluble. The degree of polymerization of polyvinyl alcohol is not particularly limited, but is usually 100 or more, preferably 300 to 40,000. When the degree of polymerization is 100 or less, the water resistance of the coating layer tends to decrease. The degree of saponification of polyvinyl alcohol is not particularly limited, but a polyvinyl acetate saponified product that is usually 70 mol% or more, preferably 80 mol% or more and 99.9 mol% or less is practically used. Furthermore, in the coating layer, one or more of water-soluble or water-dispersible binder resins other than those described above can be used in combination as required. Examples of the binder resin include polyester, polyurethane, acrylic resin, vinyl resin, epoxy resin, amide resin, and the like. In these, each skeleton structure may have a composite structure substantially by copolymerization or the like. Examples of the binder resin having a composite structure include acrylic resin graft polyester, acrylic resin graft polyurethane, vinyl resin graft polyester, and vinyl resin graft polyurethane.

さらに必要に応じて、塗布層中に架橋反応性化合物を含んでいてもよい。架橋反応性化合物は、主に塗布層構成成分中に含まれる官能基と架橋反応することで、塗布層の凝集性、表面硬度、耐擦傷性、耐溶剤性、耐水性を改良することができ好ましい。本発明のフィルムの塗布層は、界面活性剤、消泡剤、塗布性改良剤、増粘剤、帯電防止剤、有機系潤滑剤、有機粒子、無機粒子、酸化防止剤、紫外線吸収剤、発泡剤、染料、顔料等の添加剤を含有していてもよい。これらの添加剤は単独で用いてもよいが、必要に応じて二種以上を併用してもよい。   Furthermore, if necessary, the coating layer may contain a crosslinking reactive compound. The cross-linking reactive compound mainly improves the cohesiveness, surface hardness, scratch resistance, solvent resistance, and water resistance of the coating layer by a cross-linking reaction with the functional group contained in the coating layer component. preferable. The coating layer of the film of the present invention comprises a surfactant, an antifoaming agent, a coating property improving agent, a thickener, an antistatic agent, an organic lubricant, organic particles, inorganic particles, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and foaming. Additives such as agents, dyes, and pigments may be contained. These additives may be used alone or in combination of two or more as necessary.

塗布層構成成分中に占める4級アンモニウム塩基を有する化合物の比率は、通常10〜99重量%、好ましくは20重量%〜95重量%である。比率がこれらの範囲より高すぎたり低すぎたりした場合は、所望の帯電防止性能、オリゴマー析出防止性能が得られない場合がある。本発明において用いる塗布液は、取扱い上、作業環境上、水溶液または水分散液であることが望ましいが、水を主たる媒体としており、本発明の要旨を越えない範囲であれば、有機溶剤を含有していてもよい。塗布液の固形分濃度には特に制限はないが、通常0.3〜65重量%、好ましくは0.5〜30重量%、さらに好ましくは1〜20重量%である。濃度がこれらの範囲より高すぎる場合も低すぎる場合も、機能を十分に発現するために必要な厚さの塗布層を設けることが困難となることがある。   The ratio of the compound having a quaternary ammonium base in the coating layer constituting component is usually 10 to 99% by weight, preferably 20 to 95% by weight. If the ratio is too high or too low, the desired antistatic performance and oligomer precipitation prevention performance may not be obtained. The coating liquid used in the present invention is preferably an aqueous solution or an aqueous dispersion in terms of handling and working environment, but contains water as the main medium and contains an organic solvent as long as it does not exceed the gist of the present invention. You may do it. Although there is no restriction | limiting in particular in the solid content density | concentration of a coating liquid, Usually, 0.3 to 65 weight%, Preferably it is 0.5 to 30 weight%, More preferably, it is 1 to 20 weight%. When the concentration is too high or too low than these ranges, it may be difficult to provide a coating layer having a thickness necessary for fully expressing the function.

塗布層の厚さは乾燥厚さで、通常0.003〜1.5μm、好ましくは0.005〜0.5μm、さらに好ましくは0.01〜0.3μmである。塗布層の厚さが0.003μm未満の場合は十分な性能が得られない恐れがあり、1.5μmを超えるとフィルム同士のブロッキングが起こりやすくなる。ポリエステルフィルムに塗布層を設ける方法は、ポリエステルフィルムを製造する工程中で塗布液を塗布する方法が好適に採用される。例えば、未延伸フィルムに塗布した後、延伸する方法、一軸延伸フィルムに塗布した後、延伸する方法、二軸延伸フィルムに塗布した後、延伸する方法等がある。特に、未延伸または一軸延伸フィルムに塗布液を塗布した後、テンターにおいて乾燥および延伸を同時に行
う方法が経済的である。
The thickness of the coating layer is a dry thickness, and is usually 0.003 to 1.5 μm, preferably 0.005 to 0.5 μm, and more preferably 0.01 to 0.3 μm. If the thickness of the coating layer is less than 0.003 μm, sufficient performance may not be obtained, and if it exceeds 1.5 μm, blocking between films tends to occur. As a method of providing the coating layer on the polyester film, a method of applying the coating solution in the process of producing the polyester film is suitably employed. For example, there are a method of stretching after applying to an unstretched film, a method of stretching after coating to a uniaxially stretched film, a method of stretching after coating to a biaxially stretched film, and the like. In particular, it is economical to apply a coating solution to an unstretched or uniaxially stretched film and then perform drying and stretching simultaneously in a tenter.

ポリエステルフィルムに塗布液を塗布する方法としては、例えば、原崎勇次著、槙書店、1979年発行、「コーティング方式」に示されるような塗布技術を用いることができる。具体的には、エアドクターコーター、ブレードコーター、ロッドコーター、ナイフコーター、スクイズコーター、含浸コーター、リバースロールコーター、トランスファロールコーター、グラビアコーター、キスロールコーター、キャストコーター、スプレイコーター、カーテンコーター、カレンダコーター、押出コーター、バーコーター等のような技術が挙げられる。   As a method for applying the coating solution to the polyester film, for example, a coating technique as shown in “Coating system” published by Yuji Harasaki, Tsuji Shoten, published in 1979 can be used. Specifically, air doctor coater, blade coater, rod coater, knife coater, squeeze coater, impregnation coater, reverse roll coater, transfer roll coater, gravure coater, kiss roll coater, cast coater, spray coater, curtain coater, calendar coater And techniques such as an extrusion coater and a bar coater.

本発明のフィルム状の層間絶縁材料を形成するための支持体は、二軸配向ポリエステルフィルムよりなり、該ポリエステルフィルムは、溶融押出機を3台以上用いて、いわゆる共押出法により3層または4層以上の積層フィルムとすることができる。   The support for forming the film-like interlayer insulating material of the present invention comprises a biaxially oriented polyester film, and the polyester film is composed of three or four layers by a so-called coextrusion method using three or more melt extruders. It can be set as the laminated film of a layer or more.

本発明のポリエステルフィルムは、上述の塗布層を有する面の反対面を構成する最表層A層にB層が隣接し、A層と反対面となる最外層は、それぞれの表面となる層に用いるポリエステルには同じ粒子もしくは異なる粒子を配合した原料を用いることができる。   In the polyester film of the present invention, the B layer is adjacent to the outermost layer A layer constituting the surface opposite to the surface having the coating layer described above, and the outermost layer opposite to the A layer is used for each surface layer. The raw material which mix | blended the same particle | grain or different particle | grains can be used for polyester.

本発明においてポリエステルフィルムに使用するポリエステルは、ホモポリエステルであっても共重合ポリエステルであってもよい。ホモポリエステルからなる場合、芳香族ジカルボン酸と脂肪族グリコールとを重縮合させて得られるものが好ましい。芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸などが挙げられ、脂肪族グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール等が挙げられる。代表的なポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート(PET)等が例示される。一方、共重合ポリエステルのジカルボン酸成分としては、イソフタル酸、フタル酸、テレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、オキシカルボン酸(例えば、P−オキシ安息香酸など)等の一種または二種以上が挙げられ、グリコール成分として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグリコール等の一種または二種以上が挙げられる。何れにしても本発明でいうポリエステルとは、通常60モル%以上、好ましくは80モル%以上、さらに好ましくは90モル%以上がエチレンテレフタレート単位であるポリエチレンテレフタレート等であるポリエステルを指す。   The polyester used for the polyester film in the present invention may be a homopolyester or a copolyester. In the case of a homopolyester, those obtained by polycondensation of an aromatic dicarboxylic acid and an aliphatic glycol are preferred. Examples of the aromatic dicarboxylic acid include terephthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and examples of the aliphatic glycol include ethylene glycol, diethylene glycol, and 1,4-cyclohexanedimethanol. Representative polyester includes polyethylene terephthalate (PET) and the like. On the other hand, examples of the dicarboxylic acid component of the copolyester include isophthalic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, and oxycarboxylic acid (eg, P-oxybenzoic acid). 1 type or 2 types or more are mentioned, As a glycol component, 1 type or 2 types or more, such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, butanediol, 1, 4- cyclohexane dimethanol, neopentyl glycol, is mentioned. In any case, the polyester referred to in the present invention refers to a polyester that is polyethylene terephthalate or the like that is usually 60 mol% or more, preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, which is an ethylene terephthalate unit.

本発明においてポリエステルフィルムのA層は、ポリエステルのフィルム上で形成された層間絶縁層の表面性とフィルム上の傷欠陥発生防止を両立させるため、特定の表面粗さを必要とする。そのためには、平均粒子径が通常0.1〜0.6μm、好ましくは0.2〜0.5μmの粒子を含有させる。平均粒子径が0.1μm未満では、フィルムの表面粗度が低くなり、フィルムの滑り性が悪く、フィルム表面に傷が発生しやすくなったりすることがあり、支持フィルムを製膜した後にロール状態で製品を得ることができない場合がある。また、平均粒子径が0.6μmを超える場合は、層間絶縁層表面の凹みが大きくなり、配線の微細化、および回路の高密度化に弊害が生じることがある。   In the present invention, the A layer of the polyester film requires a specific surface roughness in order to achieve both the surface property of the interlayer insulating layer formed on the polyester film and the prevention of scratch defects on the film. For this purpose, particles having an average particle diameter of usually 0.1 to 0.6 μm, preferably 0.2 to 0.5 μm are contained. If the average particle size is less than 0.1 μm, the surface roughness of the film is low, the film slipperiness is poor, and the film surface may be easily damaged. You may not be able to get the product. Further, when the average particle diameter exceeds 0.6 μm, the dent on the surface of the interlayer insulating layer becomes large, which may adversely affect the miniaturization of the wiring and the high density of the circuit.

上記粒子のポリエステルフィルムのA層中の含有量は、通常100〜2000ppm、好ましくは、200〜1500ppm、さらに好ましくは500〜1000ppmとする。粒子の含有量が100ppm未満では、フィルムの滑り性が悪くなる傾向があり、また、含有量が2000ppmを超えると、フィルムの表面粗度が大きくなり過ぎて平面性が損なわれることがある。   The content of the particles in the layer A of the polyester film is usually 100 to 2000 ppm, preferably 200 to 1500 ppm, and more preferably 500 to 1000 ppm. If the content of the particles is less than 100 ppm, the slipperiness of the film tends to be poor, and if the content exceeds 2000 ppm, the surface roughness of the film becomes too large and the flatness may be impaired.

かかる粒子の例として、酸化珪素、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸リチウム、リン酸マグネシウム、フッ化リチウム、酸化アルミニウム、酸化チタン、カオリン、タルク、カーボンブラック、窒化ケイ素、窒化ホウ素、および特公昭59−5216号公報に記載されているような架橋高分子微粉体を挙げることができ、本発明の要旨を損なわれない限り、これらに限定されるものではない。   Examples of such particles include silicon oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, calcium sulfate, calcium phosphate, lithium phosphate, magnesium phosphate, lithium fluoride, aluminum oxide, titanium oxide, kaolin, talc, carbon black, silicon nitride. , Boron nitride, and crosslinked polymer fine powder as described in JP-B-59-5216 are not limited thereto, as long as the gist of the present invention is not impaired.

一方、使用する粒子の形状に関しても特に限定されるわけではなく、球状、塊状、棒状、扁平状等のいずれを用いてもよい。また、その硬度、比重、色等についても特に制限はない。これら一連の粒子は、必要に応じて2種類以上を併用してもよい。   On the other hand, the shape of the particles to be used is not particularly limited, and any of a spherical shape, a block shape, a rod shape, a flat shape and the like may be used. Moreover, there is no restriction | limiting in particular about the hardness, specific gravity, a color, etc. These series of particles may be used in combination of two or more as required.

ポリエステル層中に粒子を添加する方法としては、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を採用しうる。例えば、各層を構成するポリエステルを製造する任意の段階において添加することができるが、好ましくはエステル化の段階、もしくはエステル交換反応終了後、重縮合反応を進めてもよい。   The method for adding particles to the polyester layer is not particularly limited, and a conventionally known method can be adopted. For example, it can be added at any stage for producing the polyester constituting each layer, but the polycondensation reaction may proceed preferably after the esterification stage or after the transesterification reaction.

また、ベント付き混練押出機を用い、エチレングリコールまたは水などに分散させた粒子のスラリーとポリエステル原料とをブレンドする方法、または、混練押出機を用い、乾燥させた粒子とポリエステル原料とをブレンドする方法などによって行われる。   Also, a method of blending a slurry of particles dispersed in ethylene glycol or water with a vented kneading extruder and a polyester raw material, or a blending of dried particles and a polyester raw material using a kneading extruder. It is done by methods.

なお、本発明におけるポリエステルフィルム中には上述の粒子以外に必要に応じて従来公知の酸化防止剤、帯電防止剤、熱安定剤、潤滑剤、染料、顔料等を添加することができる。   In addition to the above-mentioned particles, conventionally known antioxidants, antistatic agents, thermal stabilizers, lubricants, dyes, pigments, and the like can be added to the polyester film in the present invention as necessary.

本発明においてポリエステルフィルムのB層中の粒径0.4μm以上の粒子量は、通常100ppm以下、好ましくは50ppm以下、さらに好ましくは0ppmである。100ppmを越えるとポリエステルフィルムのA層表面にうねりが発生し、配線の微細化、および回路の高密度化に弊害が生じるおそれがある。   In the present invention, the amount of particles having a particle size of 0.4 μm or more in the B layer of the polyester film is usually 100 ppm or less, preferably 50 ppm or less, more preferably 0 ppm. If it exceeds 100 ppm, waviness occurs on the surface of the A layer of the polyester film, which may cause adverse effects on the finer wiring and higher circuit density.

本発明の特徴の1つは、支持体となるポリエステルフィルムを特定の表面とすることであり、少なくとも、ポリエステルフィルムの片面の中心線平均粗さSRaAを0.5nm〜15nm、好ましくは0.5nm〜10nmの範囲とする。中心線平均粗さSRaAが0.5nm未満では、フィルムの滑り性やフィルム間でのエアーヌケが悪く、フィルム表面に傷が発生しやすくなり、フィルム成形後のロール状態で製品を得ることができない。
また、中心線平均粗さSRaAが15nmを超える場合は、配線の微細化、および回路の高密度化に弊害が生じ好ましくない。
One of the characteristics of the present invention is that the polyester film serving as the support has a specific surface, and at least the center line average roughness SRaA on one side of the polyester film is 0.5 nm to 15 nm, preferably 0.5 nm. The range is from -10 nm. When the center line average roughness SRaA is less than 0.5 nm, the slipperiness of the film and the air leakage between the films are poor, the film surface is likely to be damaged, and a product cannot be obtained in a roll state after film formation.
In addition, when the center line average roughness SRaA exceeds 15 nm, it is not preferable because adverse effects are caused in the miniaturization of wiring and the increase in density of circuits.

本発明のポリエステルフィルム自体は、接着シートとしてコア基材に層間絶縁層が接着された後は、剥離されその役割を終えるが、ポリエステルフィルムが剥がされた後のコア基材に接着された層間絶縁層の表面に影響を与える。   The polyester film itself of the present invention is peeled off after the interlayer insulating layer is bonded to the core substrate as an adhesive sheet, and the role is finished, but the interlayer insulation bonded to the core substrate after the polyester film is peeled off Affects the surface of the layer.

熱硬化性樹脂を塗布し、層間絶縁層が形成されるポリエステルフィルムの塗布層表面の中心線平均粗さRaは、通常30nm以下、好ましくは20nm以下であり、十点平均粗さRzは通常200nm以下、好ましくは100nm以下である。塗布層表面の中心性平均粗さRaが30nmを超えたり、十点平均粗さRzが200nmを超えたりする場合は、層間絶縁層の表面粗度が大きくなり、回路の高密度化に弊害が生じることがある。   The center line average roughness Ra of the coating layer surface of the polyester film on which the thermosetting resin is applied and the interlayer insulating layer is formed is usually 30 nm or less, preferably 20 nm or less, and the ten-point average roughness Rz is usually 200 nm. Hereinafter, it is preferably 100 nm or less. When the centrality average roughness Ra of the coating layer surface exceeds 30 nm or the ten-point average roughness Rz exceeds 200 nm, the surface roughness of the interlayer insulating layer increases, which has an adverse effect on circuit density. May occur.

本発明のポリエステルフィルムの厚みは、フィルムとして製膜可能な範囲であれば特に限定されるものではないが、通常15〜50μm、好ましくは20〜40μmの範囲である。フィルム厚みが15μm未満では、絶縁材を塗布した際にシワが入りやすくなる傾向があり、フィルム厚みが、50μmを超える場合は、使用するポリエステル量が増加するため、コストがかさむことになる。   The thickness of the polyester film of the present invention is not particularly limited as long as it can be formed as a film, but is usually 15 to 50 μm, preferably 20 to 40 μm. If the film thickness is less than 15 μm, wrinkles tend to occur when an insulating material is applied, and if the film thickness exceeds 50 μm, the amount of polyester used increases, resulting in an increase in cost.

本発明で用いる層間絶縁層に用いる硬化性樹脂は、支持体上で層を形成することができ、十分な絶縁性を有するものであれば、特に限定なく使用でき、例えば、エポキシ樹脂系、アクリル系、ポリイミド樹脂系、ポリイミドアミド樹脂系、ポリシアネート樹脂系、ポリエステル樹脂系、熱硬化型ポリフェニレンエーテル樹脂系などが挙げられる。また、これらを2種以上組み合わせて使用したり、多層構造としたりすることも可能である。   The curable resin used for the interlayer insulating layer used in the present invention can be used without particular limitation as long as it can form a layer on a support and has sufficient insulating properties. System, polyimide resin system, polyimide amide resin system, polycyanate resin system, polyester resin system, thermosetting polyphenylene ether resin system, and the like. Further, two or more of these may be used in combination, or a multilayer structure may be used.

層間絶縁層を支持体に形成する方法は、上記した熱硬化性樹脂などを溶媒に溶解した該樹脂組成物ワニスを塗布した後、加熱することにより溶剤を乾燥させると同時に樹脂を硬化させる公知の方法で作成することができる。   A method for forming an interlayer insulating layer on a support is a known method in which the resin composition varnish in which the above-described thermosetting resin or the like is dissolved in a solvent is applied, and then the solvent is dried by heating to simultaneously cure the resin. Can be created by the method.

本発明は、層間絶縁層となる硬化樹脂層をポリエステルフィルムからなる支持体上に積層フィルムとして設け、該積層フィルムをロール状とする。ロール状とする際は、そのままの状態でも、硬化樹脂の表面を保護するための保護フィルムを貼り合わせた状態でも、ロール状態で保管できれば、どちらでも構わない。但し、保護フィルムで保護することにより、樹脂組成物層表面へのゴミ等の付着やキズを防止することができるので、保護フィルムの無い状態でロールとした場合も、最終的には保護フィルムを貼りあわせる工程を追加した方が好ましい。   In the present invention, a cured resin layer serving as an interlayer insulating layer is provided as a laminated film on a support made of a polyester film, and the laminated film is formed into a roll shape. When making it into a roll shape, it does not matter whether it can be stored as it is, in a state where a protective film for protecting the surface of the cured resin is bonded, or in a roll state. However, by protecting with a protective film, it is possible to prevent the adhesion and scratches of dust etc. to the surface of the resin composition layer. It is preferable to add a step of bonding.

保護フィルムは、層間絶縁層の表面を保護する機能を有していれば特にこだわらず、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステルなどのプラスチックフィルムが用いられる。   The protective film is not particularly limited as long as it has a function of protecting the surface of the interlayer insulating layer, and a plastic film such as polyethylene, polypropylene, or polyester is used.

ポリエステルフィルムで形成する層間絶縁層の厚さは、通常は、導体層の厚さ以上とする。回路基板の導体層の厚さはが、通常5〜70μmの範囲であるので、樹脂組成物層の厚さは10〜100μmの厚みが好ましい。   The thickness of the interlayer insulating layer formed of a polyester film is usually not less than the thickness of the conductor layer. Since the thickness of the conductor layer of the circuit board is usually in the range of 5 to 70 μm, the thickness of the resin composition layer is preferably 10 to 100 μm.

本発明で得られた層間絶縁層を有するフィルムは、導電層をパターン加工して回路を形成する時に接着フィルムとして、層間絶縁層の保護フィルムが剥がされ、コア基板に積層される。コア基材/層間絶縁層/ポリエステルフィルム支持体の構成、またはコア基材の両面を層間絶縁層で挟む、ポリエステルフィルム支持体/層間絶縁/コア基材/層間絶縁層/ポリエステルフィルム支持体の構成で加熱処理などを行い、コア基材と層間絶縁層を接着させ、ポリエステルフィルムからなる支持体が剥がされる。   The film having an interlayer insulating layer obtained in the present invention is laminated on the core substrate by peeling off the protective film of the interlayer insulating layer as an adhesive film when patterning the conductive layer to form a circuit. Structure of core base material / interlayer insulating layer / polyester film support, or structure of polyester film support / interlayer insulation / core base material / interlayer insulating layer / polyester film support in which both sides of the core base material are sandwiched between interlayer insulating layers The core substrate and the interlayer insulating layer are adhered to each other by heating, and the support made of the polyester film is peeled off.

層間絶縁層をコア基材に接着する方法としては、真空ラミネート法により減圧下で回路基板にラミネートする方法が好適に用いられる。ラミネートの方法はバッチ式であってもロールでの連続式であってもよい。またラミネートを行う前に接着フィルムおよび回路基板を必要により加熱(プレヒート)しておいてもよい。   As a method of adhering the interlayer insulating layer to the core substrate, a method of laminating on the circuit board under reduced pressure by a vacuum laminating method is suitably used. The laminating method may be a batch method or a continuous method using a roll. Further, the adhesive film and the circuit board may be heated (preheated) as necessary before lamination.

ラミネートの条件は、圧着温度(ラミネート温度)を好ましくは70〜140℃、圧着圧力を好ましくは1〜11kgf/cm(9.8×10〜107.9×10N/m)とし、空気圧が20mmHg(26.7hPa)以下の減圧下でラミネートするのが好ましい。真空ラミネートは市販の真空ラミネーターを使用して行うことができる。 The laminating conditions are preferably a pressure bonding temperature (laminating temperature) of 70 to 140 ° C. and a pressure bonding pressure of preferably 1 to 11 kgf / cm 2 (9.8 × 10 4 to 107.9 × 10 4 N / m 2 ). Lamination is preferably performed under a reduced pressure of 20 mmHg (26.7 hPa) or less. The vacuum lamination can be performed using a commercially available vacuum laminator.

本発明における回路基板とは、主として、ガラスエポキシ、金属基板、ポリエステル基板、ポリイミド基板、BTレジン基板、熱硬化型ポリフェニレンエーテル基板等の基板の片面または両面にパターン加工された導体層(回路)が形成されたものをいう。また導体層と絶縁層が交互に層形成され、片面または両面がパターン加工された導体層(回路)となっている多層プリント配線板も本発明にいう回路基板に含まれる。なお導体回路層表面は黒化処理等によりあらかじめ粗化処理が施されていた方が絶縁層の回路基板への密着性の観点から好ましい。   The circuit board in the present invention mainly includes a conductor layer (circuit) patterned on one or both sides of a substrate such as a glass epoxy, metal substrate, polyester substrate, polyimide substrate, BT resin substrate, thermosetting polyphenylene ether substrate, or the like. The one formed. Also included in the circuit board of the present invention is a multilayer printed wiring board in which conductor layers and insulating layers are alternately formed and a conductor layer (circuit) is patterned on one or both sides. In addition, it is preferable from the viewpoint of the adhesiveness of the insulating layer to the circuit board that the surface of the conductor circuit layer has been previously roughened by blackening or the like.

このように接着フィルムを回路基板にラミネートした後、支持フィルムを剥離する場合は剥離し、熱硬化することにより回路基板に絶縁層を形成することができる。加熱硬化の条件は150℃〜220℃で20分〜180分の範囲で選択され、より好ましくは160℃〜200℃で30〜120分である。絶縁層を形成した後、硬化前に支持フィルムを剥離しなかった場合は、ここで剥離する。   Thus, after laminating the adhesive film on the circuit board, when the support film is peeled off, the insulating film can be formed on the circuit board by peeling and thermosetting. The conditions of heat curing are selected in the range of 20 to 180 minutes at 150 to 220 ° C, more preferably 30 to 120 minutes at 160 to 200 ° C. If the support film is not peeled off after the insulating layer is formed, it is peeled off here.

次に回路基板上に形成された絶縁層に穴開けを行いビアホール、スルーホールを形成する。穴あけは例えば、ドリル、レーザー、プラズマ等の公知の方法により、また必要によりこれらの方法を組み合わせて行うことができるが、炭酸ガスレーザー、YAGレーザー等のレーザーによる穴あけがもっとも一般的な方法である。   Next, holes are formed in the insulating layer formed on the circuit board to form via holes and through holes. Drilling can be performed by a known method such as drilling, laser, or plasma, or a combination of these methods if necessary. However, drilling by a laser such as a carbon dioxide laser or YAG laser is the most common method. .

次に本発明におけるポリエステルフィルムの製造例について具体的に説明するが、以下の製造例に何ら限定されるものではない。   Next, although the manufacture example of the polyester film in this invention is demonstrated concretely, it is not limited to the following manufacture examples at all.

まず、先に述べたポリエステル原料を使用し、ダイから押し出された溶融シートを冷却ロールで冷却固化して未延伸シートを得る方法が好ましい。この場合、シートの平面性を向上させるためシートと回転冷却ドラムとの密着性を高める必要があり、静電印加密着法および/または液体塗布密着法が好ましく採用される。次に得られた未延伸シートは二軸方向に延伸される。その場合、まず、前記の未延伸シートを一方向にロールまたはテンター方式の延伸機により延伸する。延伸温度は、通常70〜120℃、好ましくは80〜110℃であり、延伸倍率は通常2.5〜7倍、好ましくは3.0〜6倍である。次いで、一段目の延伸方向と直交する延伸温度は通常70〜170℃であり、延伸倍率は通常3.0〜7倍、好ましくは3.5〜6倍である。そして、引き続き180〜270℃の温度で緊張下または30%以内の弛緩下で熱処理を行い、二軸配向フィルムを得る。上記の延伸においては、一方向の延伸を2段階以上で行う方法を採用することもできる。その場合、最終的に二方向の延伸倍率がそれぞれ上記範囲となるように行うのが好ましい。   First, a method of using the polyester raw material described above and cooling and solidifying a molten sheet extruded from a die with a cooling roll to obtain an unstretched sheet is preferable. In this case, in order to improve the flatness of the sheet, it is necessary to improve the adhesion between the sheet and the rotary cooling drum, and an electrostatic application adhesion method and / or a liquid application adhesion method are preferably employed. Next, the obtained unstretched sheet is stretched in the biaxial direction. In that case, first, the unstretched sheet is stretched in one direction by a roll or a tenter type stretching machine. The stretching temperature is usually 70 to 120 ° C., preferably 80 to 110 ° C., and the stretching ratio is usually 2.5 to 7 times, preferably 3.0 to 6 times. Subsequently, the extending | stretching temperature orthogonal to the 1st step | paragraph extending | stretching direction is 70-170 degreeC normally, and a draw ratio is 3.0-7 times normally, Preferably it is 3.5-6 times. Subsequently, heat treatment is performed at a temperature of 180 to 270 ° C. under tension or under relaxation within 30% to obtain a biaxially oriented film. In the above-described stretching, a method in which stretching in one direction is performed in two or more stages can be employed. In that case, it is preferable to carry out so that the draw ratios in the two directions finally fall within the above ranges.

また、本発明におけるポリエステルフィルム製造に関しては同時二軸延伸法を採用することもできる。同時二軸延伸法は前記の未延伸シートを通常70〜120℃、好ましくは80〜110℃で温度コントロールされた状態で機械方向および幅方向に同時に延伸し配向させる方法で、延伸倍率としては、面積倍率で4〜50倍、好ましくは7〜35倍、さらに好ましくは10〜25倍である。そして、引き続き、170〜250℃の温度で緊張下または30%以内の弛緩下で熱処理を行い、延伸配向フィルムを得る。上述の延伸方式を採用する同時二軸延伸装置に関しては、スクリュー方式、パンタグラフ方式、リニアー駆動方式等、従来から公知の延伸方式を採用することができる。   The simultaneous biaxial stretching method can also be adopted for the production of the polyester film in the present invention. The simultaneous biaxial stretching method is a method in which the unstretched sheet is usually stretched and oriented in the machine direction and the width direction at 70 to 120 ° C., preferably 80 to 110 ° C., and the stretching ratio is as follows: The area magnification is 4 to 50 times, preferably 7 to 35 times, and more preferably 10 to 25 times. Subsequently, heat treatment is performed at a temperature of 170 to 250 ° C. under tension or under relaxation within 30% to obtain a stretched oriented film. With respect to the simultaneous biaxial stretching apparatus that employs the above-described stretching method, conventionally known stretching methods such as a screw method, a pantograph method, and a linear drive method can be employed.

さらに上述のポリエステルフィルムの延伸工程中にフィルム表面を処理する、いわゆる塗布延伸法(インラインコーティング)を施すことができる。塗布延伸法によりポリエステルフィルム上に塗布層が設けられる場合には、延伸と同時に塗布が可能になると共に塗布層の厚みを延伸倍率に応じて薄くすることができ、ポリエステルフィルムとして好適なフィルムを製造できる。   Furthermore, a so-called coating stretching method (in-line coating) in which the film surface is treated during the above-described polyester film stretching step can be applied. When a coating layer is provided on a polyester film by a coating stretching method, coating can be performed simultaneously with stretching and the thickness of the coating layer can be reduced according to the stretching ratio, producing a film suitable as a polyester film. it can.

本発明において、塗布層を設ける方法はリバースグラビアコート、ダイレクトグラビアコート、ロールコート、ダイコート、バーコート、カーテンコート等、従来公知の塗工方式を用いることができる。塗工方式に関しては「コーティング方式」槇書店 原崎勇次著 1979年発行に記載例がある。   In the present invention, as a method for providing the coating layer, a conventionally known coating method such as reverse gravure coating, direct gravure coating, roll coating, die coating, bar coating, curtain coating or the like can be used. Regarding the coating method, there is a description example in “Coating method” published by Yasuharu Harasaki in 1979.

本発明において、ポリエステルフィルム上に塗布層を形成する際の硬化条件に関しては特に限定されるわけではなく、例えば、塗布延伸法(インラインコーティング)により塗布層を設ける場合、通常、170〜280℃で3〜40秒間、好ましくは200〜280℃で3〜40秒間を目安として熱処理を行うのが良い。   In this invention, it does not necessarily limit about the curing conditions at the time of forming a coating layer on a polyester film, For example, when providing a coating layer by the coating extending | stretching method (in-line coating), it is 170-280 degreeC normally. The heat treatment may be performed for 3 to 40 seconds, preferably 200 to 280 ° C. for 3 to 40 seconds.

また、塗布延伸法(インラインコーティング)あるいはオフラインコーティングに係わらず、必要に応じて熱処理と紫外線照射等の活性エネルギー線照射とを併用してもよい。   Moreover, you may use together heat processing and active energy ray irradiation, such as ultraviolet irradiation, as needed irrespective of the coating extending | stretching method (in-line coating) or offline coating.

また、ポリエステルフィルムにはあらかじめ、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理を施してもよい。   The polyester film may be subjected to surface treatment such as corona treatment or plasma treatment in advance.

以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。また、本発明で用いた測定法は次のとおりである。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded. The measuring method used in the present invention is as follows.

(1)ポリエステルの固有粘度の測定
ポリエステルに非相溶な他のポリマー成分および顔料を除去したポリエステル1gを精秤し、フェノール/テトラクロロエタン=50/50(重量比)の混合溶媒100mlを加えて溶解させ、30℃で測定した。
(1) Measurement of intrinsic viscosity of polyester 1 g of polyester from which other polymer components and pigments incompatible with polyester have been removed are precisely weighed, and 100 ml of a mixed solvent of phenol / tetrachloroethane = 50/50 (weight ratio) is added. It was dissolved and measured at 30 ° C.

(2)平均粒径(d50:μm)の測定
遠心沈降式粒度分布測定装置(株式会社島津製作所社製SA−CP3型)を使用して測定した等価球形分布における積算(重量基準)50%の値を平均粒径とした。
(2) Measurement of average particle diameter (d 50 : μm) Integration (weight basis) 50% in equivalent spherical distribution measured using centrifugal sedimentation type particle size distribution measuring device (SA-CP3 type manufactured by Shimadzu Corporation) Was the average particle size.

(3)表面粗さ(SRa)
中心線平均粗さRa(μm)をもって表面粗さとする。(株)小坂研究所社製表面粗さ測定機(SE−3F)を用いて次のようにして求めた。すなわち、フィルム断面曲線からその中心線の方向に基準長さL(2.5mm)の部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をx軸、縦倍率の方向をy軸として粗さ曲線 y=f(x)で表わしたとき、次の式で与えられた値を〔μm〕で表わす。中心線平均粗さは、試料フィルム表面から10本の断面曲線を求め、これらの断面曲線から求めた抜き取り部分の中心線平均粗さの平均値で表わした。なお、触針の先端半径は2μm、荷重は30mgとし、カットオフ値は0.08mmとした。
Ra=(1/L)∫ |f(x)|dx
(3) Surface roughness (SRa)
The center line average roughness Ra (μm) is defined as the surface roughness. It calculated | required as follows using the Kosaka Laboratory Co., Ltd. surface roughness measuring machine (SE-3F). That is, a portion having a reference length L (2.5 mm) is extracted from the film cross-section curve in the direction of the center line, the center line of the extracted portion is the x axis, and the direction of the vertical magnification is the y axis. When represented by (x), the value given by the following equation is represented by [μm]. The center line average roughness was represented by the average value of the center line average roughness of the extracted portion obtained from 10 cross section curves obtained from the sample film surface. The tip radius of the stylus was 2 μm, the load was 30 mg, and the cutoff value was 0.08 mm.
Ra = (1 / L) ∫ 0 L | f (x) | dx

(4)表面固有抵抗値
日本ヒューレット・パッカード社製高抵抗測定器(HP4339B)および測定電極(HP16008B)を使用し、23℃,50%RHの測定雰囲気でサンプルを十分調湿後、印可電圧100Vで1分後の塗布層の表面固有抵抗値を測定した。
(4) Surface resistivity value Using a high resistance measuring instrument (HP4339B) and measuring electrode (HP16008B) manufactured by Hewlett-Packard Japan, fully controlled the sample in a measurement atmosphere of 23 ° C. and 50% RH, and then applied voltage 100V The surface specific resistance value of the coating layer after 1 minute was measured.

(5)フィルムの熱処理方法
A4サイズのケント紙と熱処理を行うポリエステルフィルムを重ね合わせる。その際、オリゴマー量を測定する面が外側になるようにゼムクリップ等で四隅をクリップし、ケント紙とポリエステルフィルムを止める。窒素雰囲気下で180℃のオーブンに前記ポリエステルフィルムを、30分間放置し熱処理を行う。
(5) Heat treatment method of film A4 size Kent paper and a heat-treated polyester film are overlapped. At that time, clip the four corners with a zem clip or the like so that the surface on which the amount of oligomer is measured is on the outside, and stop the Kent paper and the polyester film. The polyester film is left to stand for 30 minutes in an oven at 180 ° C. in a nitrogen atmosphere, and heat treatment is performed.

(6)フィルム表面オリゴマー量測定法
上記(5)示す方法にてフィルムを180℃、30分間熱処理する。次いで、上部が開放され、底辺の面積が250cm2となるように、ポリエステルフィルムを折って、四角の箱を作成する。塗布層を設けている場合は、塗布層面が内側となるようにする。次いで、上記の方法で作成した箱の中に、DMF(ジメチルホルムアミド)10mlを入れ3分間放置後DMFを回収する。回収したDMFを液体クロマトグラフィー(島津LC−7A)に供給してDMF中のポリエステルのオリゴマー量を求め、このオリゴマー量の値を、DMFを接触させたフィルム面積で割って、フィルム表面オリゴマー量(mg/m2)とする。
(6) Method for measuring film surface oligomer amount The film is heat-treated at 180 ° C. for 30 minutes by the method shown in (5) above. Next, the polyester film is folded so that the upper part is opened and the area of the bottom side is 250 cm 2 to create a square box. When the coating layer is provided, the coating layer surface is set to the inside. Next, 10 ml of DMF (dimethylformamide) is placed in the box prepared by the above method, and the DMF is recovered after being left for 3 minutes. The recovered DMF is supplied to liquid chromatography (Shimadzu LC-7A) to determine the amount of polyester oligomer in DMF, and the value of this oligomer amount is divided by the area of the film contacted with DMF to determine the amount of oligomer on the film surface ( mg / m2).

実施例および比較例において使用したポリエステルは、以下のようにして準備したものである。
〈ポリエステルの製造〉
製造例1(ポリエステルA)
ジメチルテレフタレート100部、エチレングリコール60部および酢酸マグネシウム・4水塩0.09部を反応器にとり、加熱昇温すると共にメタノールを留去し、エステル交換反応を行い、反応開始から4時間を要して230℃に昇温し、実質的にエステル交換反応を終了した。次いで、エチレングリコールスラリーエチルアシッドフォスフェート0.04部、三酸化アンチモン0.03部を添加した後、100分で温度を280℃、圧力を15mmHgに達せしめ、以後も徐々に圧力を減じ、最終的に0.3mmHgとした。4時間後、系内を常圧に戻し、固有粘度0.65のポリエチレンテレフタレートを得た。
The polyester used in the examples and comparative examples was prepared as follows.
<Manufacture of polyester>
Production Example 1 (Polyester A)
100 parts of dimethyl terephthalate, 60 parts of ethylene glycol and 0.09 part of magnesium acetate tetrahydrate are placed in a reactor, the temperature is raised by heating, methanol is distilled off, transesterification is performed, and 4 hours are required from the start of the reaction. The temperature was raised to 230 ° C. to substantially complete the transesterification reaction. Next, after adding 0.04 part of ethylene glycol slurry ethyl acid phosphate and 0.03 part of antimony trioxide, the temperature reached 280 ° C. and the pressure reached 15 mmHg in 100 minutes. It was 0.3 mmHg. After 4 hours, the system was returned to normal pressure to obtain polyethylene terephthalate having an intrinsic viscosity of 0.65.

製造例2(ポリエステルB)
ベーマイトを加熱、焼成することによって得られた、一次粒径30nmのθ型酸化アルミニウムの凝集体をエチレングリコールに分散させ、サンドグラインダーで徐々に分散させることにより平均粒径150nmの凝集体を得た。次いで、ジメチルテレフタレート100部、エチレングリコール65部および酢酸マグネシウム0.09部を反応器にとり、加熱昇温すると共にメタノールを留去しつつエステル交換反応を行った。反応開始後約4時間を要して230℃まで昇温し、実質的にエステル交換反応を終了した。次に、平均粒径70nmの酸化アルミニウム凝集体3.0重量%を添加し、さらにエチレングリコールスラリーエチルホスフェート0.4部、三酸化アンチモン0.03部を加えた後、常法に従って重合を行い、固有粘度0.63のポリエチレンテレフタレートを得た。
Production Example 2 (Polyester B)
Agglomerates having an average particle diameter of 150 nm were obtained by dispersing the aggregates of θ-type aluminum oxide having a primary particle diameter of 30 nm in ethylene glycol obtained by heating and baking boehmite, and gradually dispersing them with a sand grinder. . Next, 100 parts of dimethyl terephthalate, 65 parts of ethylene glycol and 0.09 part of magnesium acetate were placed in a reactor, and the ester exchange reaction was performed while heating and raising the temperature and distilling off methanol. Approximately 4 hours after the start of the reaction, the temperature was raised to 230 ° C. to substantially complete the transesterification reaction. Next, 3.0% by weight of an aluminum oxide aggregate having an average particle size of 70 nm was added, and 0.4 parts of ethylene glycol slurry ethyl phosphate and 0.03 part of antimony trioxide were added, followed by polymerization according to a conventional method. A polyethylene terephthalate having an intrinsic viscosity of 0.63 was obtained.

製造例3(ポリエステルC)
ジメチルテレフタレート100部、エチレングリコール60部および酢酸マグネシウム・4水塩0.09部を反応器にとり、加熱昇温すると共にメタノールを留去し、エステル交換反応を行い、反応開始から4時間を要して230℃に昇温し、実質的にエステル交換反応を終了した。次いで、エチレングリコールスラリーエチルアシッドフォスフェート0.04部、三酸化アンチモン0.03部、平均粒径0.4μmの架橋高分子粒子を0.2部添加した後、100分で温度を280℃、圧力を15mmHgに達せしめ、以後も徐々に圧力を減じ、最終的に0.3mmHgとした。4時間後、系内を常圧に戻し、固有粘度0.61のポリエチレンテレフタレートを得た。
Production Example 3 (Polyester C)
100 parts of dimethyl terephthalate, 60 parts of ethylene glycol and 0.09 part of magnesium acetate tetrahydrate are placed in a reactor, the temperature is raised by heating, methanol is distilled off, transesterification is performed, and 4 hours are required from the start of the reaction. The temperature was raised to 230 ° C. to substantially complete the transesterification reaction. Next, 0.04 part of ethylene glycol slurry ethyl acid phosphate, 0.03 part of antimony trioxide and 0.2 part of crosslinked polymer particles having an average particle diameter of 0.4 μm were added, and then the temperature was 280 ° C. in 100 minutes. The pressure was allowed to reach 15 mmHg, and thereafter the pressure was gradually reduced to finally 0.3 mmHg. After 4 hours, the system was returned to normal pressure to obtain polyethylene terephthalate having an intrinsic viscosity of 0.61.

製造例4(ポリエステルD)
製造例3において平均粒径0.4μmの架橋高分子粒子を0.2部添加する代わりに平均粒径0.6μmの合成炭酸カルシウム粒子を0.5部添加する以外は製造例3と同様にしてポリエチレンテレフタレートを得た。
Production Example 4 (Polyester D)
In the same manner as in Production Example 3, except that 0.2 parts of synthetic calcium carbonate particles having an average particle diameter of 0.6 μm are added instead of adding 0.2 parts of crosslinked polymer particles having an average particle diameter of 0.4 μm in Production Example 3. Thus, polyethylene terephthalate was obtained.

製造例5(ポリエステルE)
製造例3において平均粒径0.4μmの架橋高分子粒子を0.2部添加する代わりに平均粒径3.2μmの凝集シリカ粒子を0.5部添加する以外は製造例3と同様にしてポリエチレンテレフタレートを得た。
Production Example 5 (Polyester E)
In the same manner as in Production Example 3, except that 0.5 part of aggregated silica particles having an average particle diameter of 3.2 μm is added instead of adding 0.2 part of crosslinked polymer particles having an average particle diameter of 0.4 μm in Production Example 3. Polyethylene terephthalate was obtained.

製造例6(ポリエステルF)
製造例3において平均粒径0.4μmの架橋高分子粒子を0.2部添加する代わりに平均粒径0.40μmの単分散球状シリカ粒子を0.5部添加する以外は製造例3と同様にしてポリエチレンテレフタレートを得た。
Production Example 6 (Polyester F)
In the same manner as in Production Example 3, except that 0.2 part of monodispersed spherical silica particles having an average particle diameter of 0.40 μm is added instead of adding 0.2 part of crosslinked polymer particles having an average particle diameter of 0.4 μm in Production Example 3. Thus, polyethylene terephthalate was obtained.

製造例7(ポリエステルG)
製造例3において平均粒径0.4μmの架橋高分子粒子を0.2部添加する代わりに平均粒径0.60μmの単分散球状シリカ粒子を0.2部添加する以外は製造例3と同様にしてポリエチレンテレフタレートを得た。
Production Example 7 (Polyester G)
Similar to Production Example 3 except that 0.2 part of monodispersed spherical silica particles having an average particle diameter of 0.60 μm is added instead of adding 0.2 part of crosslinked polymer particles having an average particle diameter of 0.4 μm in Production Example 3. Thus, polyethylene terephthalate was obtained.

以下の実施例・比較例において使用した塗布液は以下のとおりである。
(塗布液H)
主鎖にピロリジウム環を有するポリマーである第一工業製薬社製シャロールDC−303P/けん化度=88モル%、重合度=500のポリビニルアルコール/平均粒径0.06μmのシリカゾルを、固形分換算の重量組成比で85/13/2の割合で含有する水性塗布液
The coating solutions used in the following examples and comparative examples are as follows.
(Coating liquid H)
A polymer having a pyrrolidinium ring in the main chain, a solol produced by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd./silica sol having a degree of saponification = 88 mol%, a degree of polymerization = 500, a polyvinyl alcohol / average particle size of 0.06 μm, Aqueous coating solution containing 85/13/2 by weight composition ratio

(塗布液J)
主鎖にピロリジウム環を有するポリマーである第一工業製薬社製シャロールDC−303P/けん化度=88モル%、重合度=500のポリビニルアルコール/メトキシメチロールメラミンである、大日本インキ化学工業製ベッカミン/平均粒径0.06μmのシリカゾルを、固形分換算の重量組成比で40/22/35/3の割合で含有する水性塗布液
(Coating liquid J)
Daikoku Ink Chemical Co., Ltd. Becamine / Daikyoku Kagaku Kogyo Co., Ltd., which is a polymer having a pyrrolidinium ring in the main chain, made of Sharol DC-303P manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. An aqueous coating solution containing silica sol having an average particle size of 0.06 μm in a weight composition ratio of 40/22/35/3 in terms of solid content

(塗布液K)
ポリトリメチルアミノエチルメタクリレート4級化物/10けん化度=88モル%、重合度=500のポリビニルアルコール/メトキシメチロールメラミンである、大日本インキ化学工業製ベッカミン/平均粒径0.06μmのシリカゾルを、固形分換算の重量組成比で40/22/35/3の割合で含有する水性塗布液
(Coating liquid K)
Polytrimethylaminoethyl methacrylate quaternized product / 10 saponification degree = 88 mol%, polymerization degree = 500 polyvinyl alcohol / methoxymethylol melamine, Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd. becamine / silica sol having an average particle size of 0.06 μm Aqueous coating solution containing 40/22/35/3 by weight composition ratio in terms of minutes

(塗布液L)
常法により、トリメチルアミノエチルメタクリレート4級化物/メチルメタクリレートを、重量組成比として65/35の割合で共重合した化合物(a1)を得た。この化合物a1を用いて、a1/けん化度=88モル%、重合度=500のポリビニルアルコール/メトキシメチロールメラミンである、大日本インキ化学工業製ベッカミン/平均粒径0.06μmのシリカゾルを、固形分換算の重量組成比で70/12/15/3の割合で含有する水性塗布液
(Coating liquid L)
By a conventional method, a compound (a1) obtained by copolymerizing trimethylaminoethyl methacrylate quaternized product / methyl methacrylate in a weight composition ratio of 65/35 was obtained. Using this compound a1, a silica sol having a becamine / average particle size of 0.06 μm manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, which is a polyvinyl alcohol / methoxymethylol melamine having a1 / saponification degree = 88 mol% and a polymerization degree = 500, Aqueous coating solution containing 70/12/15/3 in terms of weight composition ratio in terms of weight

(塗布液M)
けん化度=88モル%、重合度=500のポリビニルアルコール/メトキシメチロールメラミンである、大日本インキ化学工業製ベッカミン/平均粒径0.06μmのシリカゾルを、固形分換算の重量組成比で85/12/3の割合で含有する水性塗布液
(Coating liquid M)
A silica sol having a becamine / average particle size of 0.06 μm manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., having a degree of saponification = 88 mol% and a degree of polymerization = 500, is 85/12. / 3 aqueous coating solution

(塗布液N)
ポリトリメチルアミノエチルメタクリレート4級化物/アクリル酸アルキルエステルとメタクリル酸アルキルエステルを共重合した、Tgが約40℃のアクリル樹脂である、日本カーバイド工業製ニカゾール/メトキシメチロールメラミンである、大日本インキ化学工業製ベッカミン/平均粒径0.06μmのシリカゾルを、固形分換算の重量組成比で40/22/35/3の割合で含有する水性塗布液
(Coating liquid N)
Dainippon Ink Chemical Co., Ltd. is a nitrazole / methoxymethylol melamine manufactured by Nippon Carbide Industries Co., Ltd., an acrylic resin having a Tg of about 40 ° C., which is a copolymer of polytrimethylaminoethyl methacrylate quaternary product / alkyl acrylate and alkyl methacrylate. Aqueous coating solution containing industrial becamine / silica sol with an average particle size of 0.06 μm in a weight composition ratio of 40/22/35/3 in terms of solid content

(ポリエステルフィルムの製造)
上記ポリエステルA〜Gを下記表1に示す配合比でA層、B層、C層の混合原料とし、3台の二軸押出機に各々を供給し、各々285℃で溶融した後、3種3層(A層/B層/C層)の構成で20℃に冷却したキャスティングドラム上に共押出し、冷却固化させて無配向シートを得た。次いで、100℃にて縦方向に3.1倍延伸した。実施例1〜6、比較例2〜4は、縦延伸後にフィルムのC層側表面にコロナ放電処理を施して、表1に示す塗布液をC層表面に塗布した。この後、テンター内で予熱工程を経て120℃で4.3倍の横延伸を施した後、225℃で熱処理を行い、その後180℃で幅方向に10%の弛緩を加え、C層側表面に0.08μmの塗布層を有する表1に示す厚さのポリエステルフィルムを得た。得られたポリエステルフィルムの表面特性をまとめて表1に示す。
(Manufacture of polyester film)
The above polyesters A to G are mixed raw materials of the A layer, the B layer, and the C layer at the blending ratio shown in Table 1 below, and each is supplied to three twin-screw extruders and melted at 285 ° C. A non-oriented sheet was obtained by co-extrusion on a casting drum cooled to 20 ° C. in a three-layer structure (A layer / B layer / C layer) and cooled and solidified. Next, the film was stretched 3.1 times in the machine direction at 100 ° C. In Examples 1 to 6 and Comparative Examples 2 to 4, corona discharge treatment was applied to the C layer side surface of the film after longitudinal stretching, and the coating liquid shown in Table 1 was applied to the C layer surface. After this, after a preheating step in a tenter, the film was stretched 4.3 times at 120 ° C., heat treated at 225 ° C., and then relaxed by 10% in the width direction at 180 ° C. A polyester film having a thickness shown in Table 1 having a coating layer of 0.08 μm was obtained. Table 1 summarizes the surface characteristics of the obtained polyester film.

比較例1は表1に示す配合比でA層、B層、C層の混合原料とし、3台の二軸押出機に各々を供給し、各々285℃で溶融した後、3種3層(A層/B層/C層)の構成で20℃に冷却したキャスティングドラム上に共押出し、冷却固化させて無配向シートを得た。
次いで、100℃にて縦方向に3.1倍延伸し、テンター内で予熱工程を経て120℃で4.3倍の横延伸を施した後、225℃で熱処理を行い、その後180℃で幅方向に10%の弛緩を加え、表1に示す厚さのポリエステルフィルムを得た。
Comparative Example 1 is a mixed raw material of Layer A, Layer B, and Layer C shown in Table 1, and each is supplied to three twin-screw extruders and melted at 285 ° C. (A layer / B layer / C layer) was coextruded on a casting drum cooled to 20 ° C. and cooled and solidified to obtain a non-oriented sheet.
Next, the film was stretched 3.1 times in the longitudinal direction at 100 ° C., subjected to a preheating step in the tenter and 4.3 times transverse stretched at 120 ° C., then heat-treated at 225 ° C., and then at 180 ° C. in width. 10% relaxation was added in the direction to obtain a polyester film having the thickness shown in Table 1.

Figure 2012051367
Figure 2012051367

また、下記表2にポリエステルフィルムをロール状に巻き上げた外観を示した。
《ロール外観》
ポリエステルフィルムの製造において、該フィルムを1500mm幅で1万m長さにスリットして巻き上げた製品ロールの表面に凸状の突起、およびシワを目視により評価した。100ロール当たりの突起とシワの発生比率でランクを分け、その結果を表2に示した。
○:ロール外観の欠陥が5%未満
△:ロール外観の欠陥が5%以上10%未満
×:ロール外観の欠陥が10%以上
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
Table 2 below shows the appearance of the polyester film wound up in a roll.
<Roll appearance>
In the production of a polyester film, convex projections and wrinkles were visually evaluated on the surface of a product roll obtained by slitting the film to a length of 10,000 m with a width of 1500 mm. The rank was divided according to the ratio of protrusions and wrinkles per 100 rolls, and the results are shown in Table 2.
○: Roll appearance defect is less than 5%. Δ: Roll appearance defect is 5% or more and less than 10%. X: Roll appearance defect is 10% or more. Is a level.

比較例1と3はポリエステルフィルムのロール状に凸状の突起が発生する製品ロールの割合が高く、突起部分で樹脂組成ワニスの塗布欠陥が生じ、製品を得られなかった。なお、塗布欠陥の無い部分で層間絶縁層の表面観察を行った結果を表2に示した。   In Comparative Examples 1 and 3, the ratio of product rolls in which convex protrusions were generated in the form of polyester film rolls was high, and application defects of the resin composition varnish occurred at the protrusions, and no product was obtained. Table 2 shows the results of the surface observation of the interlayer insulating layer in the portion having no coating defect.

《防塵性》
基板/層間絶縁層/支持フィルムの構成で、支持フィルム表面側を目視検査で1m当たりに見えるフィルム表面の付着物をカウントし、下記ランクで評価した結果を表2に示した。
○:付着物がない
△:付着物が10個/m以下
×:付着物が10個/mを超える
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
《Dustproof property》
Table 2 shows the results of counting the number of deposits on the surface of the support film that were visible per 1 m 2 by visual inspection on the surface side of the support film in the configuration of substrate / interlayer insulating layer / support film, and evaluating with the following rank.
○: No deposits Δ: No more than 10 deposits / m 2 ×: More than 10 deposits / m 2 Of the above judgment criteria, those above Δ are those that can be used without problems in actual use.

《帯電》
製品ロールの表面に帯電跡の観察、および製品ロールから巻きほぐしたフィルムの状態を観察し、下記ランクで評価した結果を表2に示した。
○:毛羽立ち、フィルムの張り付きがない
△:ロールから引き出したフィルム表面で微かに毛羽立ちを感じる
×:ロール表面に帯電跡あるか、もしくは巻きほぐしたフィルムを放すとロール表面張り付く
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
<Charging>
Table 2 shows the results of the observation of the charge trace on the surface of the product roll and the observation of the state of the film unwound from the product roll, and the evaluation by the following rank.
○: No fuzzing or film sticking Δ: Slight fuzzing is felt on the surface of the film drawn out from the roll ×: The surface of the roll is charged, or the roll surface sticks when the unrolled film is released. The above is a level that can be used without problems in actual use.

《エポキシ樹脂組成物》
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製「エピコート828EL」)20部、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(東都化成(株)製YDB−500)20部、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量215、軟化点78℃、大日本インキ化学(株)製エピクロンN−673)20部、末端エポキシ化ポリブタジエンゴム(ナガセ化成工業(株)製デナレックスR−45EPT)15部をMEKに攪拌しながら加熱溶解させ、そこへ臭素化フェノキシ樹脂ワニス(不揮発分40重量%、臭素含有量25重量%、溶剤組成、キシレン:メトキシプロパノール:メチルエチルケトン=5:2:8、東都化成(株)製YPB−40−PXM40)50部、エポキシ硬化剤として2、4−ジアミノ−6−(2−メチル−1−イミダゾリエチル)−1、3、5−トリアジン・イソシアヌル酸付加物4部、さらに微粉砕シリカ2部、三酸化アンチモン4部、炭酸カルシウム5部を添加し樹脂組成ワニスを作製した。
<< Epoxy resin composition >>
20 parts of liquid bisphenol A type epoxy resin (“Epicoat 828EL” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), 20 parts of brominated bisphenol A type epoxy resin (YDB-500 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), cresol novolac type epoxy resin (epoxy) Equivalent 215, softening point 78 ° C., Dainippon Ink Chemical Co., Ltd. Epiklone N-673) 20 parts, terminal epoxidized polybutadiene rubber (Nagase Kasei Kogyo Co., Ltd. Denarex R-45EPT) 15 parts while stirring in MEK Heat-dissolved, brominated phenoxy resin varnish (non-volatile content 40 wt%, bromine content 25 wt%, solvent composition, xylene: methoxypropanol: methyl ethyl ketone = 5: 2: 8, YPB-40 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. -PXM40) 50 parts, 2,4-diamino- as epoxy curing agent Resin composition by adding 4 parts of-(2-methyl-1-imidazoliethyl) -1,3,5-triazine isocyanuric acid adduct, 2 parts of finely pulverized silica, 4 parts of antimony trioxide and 5 parts of calcium carbonate A varnish was prepared.

《ポリエステルフィルムへの樹脂組成ワニス塗布:層間絶縁層の形成》
上記の方法で作製した樹脂組成ワニスを、実施例1〜6、比較例1〜4で得られたポリエステルフィルムのA層上に、乾燥後の樹脂厚さが70μmとなる用にダイコーターで塗布し、80〜120℃(平均100℃)で乾燥し、ポリエステルフィルムを支持体とした層間絶縁層を作製した。
<< Resin composition varnish application to polyester film: Formation of interlayer insulation layer >>
The resin composition varnish produced by the above method was applied on the layer A of the polyester film obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 with a die coater so that the resin thickness after drying was 70 μm. And it dried at 80-120 degreeC (average 100 degreeC), and produced the interlayer insulation layer which used the polyester film as the support body.

《加工機付着》
ラミネート温度を130℃として、100回圧着を繰り返した後、プレス面を目視で評価し、その結果を表2に示した。
《Processing machine adhesion》
The lamination surface was set to 130 ° C., and the press bonding was repeated 100 times, and then the press surface was visually evaluated. The results are shown in Table 2.

(プレス面外観良好) ○>△>× (プレス面に汚れが見られ外観不良)
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
(Press surface appearance is good) ○>△> × (Stain is seen on the press surface and poor appearance)
Among the above criteria, those above Δ are levels that can be used without any problem in actual use.

《層間絶縁層の表面性》
得られた層間絶縁層のポリエステルフィルムに相当する表面をSEMで観察し、配線に影響を与える凹みの有無を下記の通り評価し、その結果を表2に示す。
○:外観上凹みが無い、もしくは凹みが僅かに見られる
△:実用上問題なく使用できるレベルの凹みの大きさが見られる
×:大きな凹みが有り、回路配線に悪影響を与える凹みが見られる
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
<Surface property of interlayer insulating layer>
The surface corresponding to the polyester film of the obtained interlayer insulation layer was observed with SEM, and the presence or absence of a dent affecting the wiring was evaluated as follows. The results are shown in Table 2.
○: There is no dent on the appearance, or a slight dent is seen. △: The size of the dent that can be used practically without problems is seen. ×: There is a big dent, and there is a dent that adversely affects circuit wiring. Among the determination criteria, those above Δ are levels that can be used without any problem in actual use.

《コストの優位性》
得られる特性と、歩留まり等の製造に関わるコスト評価を下記の通り評価し、その結果を表2に示す。
○:コスト的に優位性がある
△:コスト的に若干劣る
×:コスト的に劣る
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
《Cost advantage》
The obtained characteristics and the cost evaluation related to production such as yield are evaluated as follows, and the results are shown in Table 2.
◯: Superior in cost △: Slightly inferior ×: Inferior in cost Among the above criteria, those above Δ are at a level where they can be used without problems in actual use.

Figure 2012051367
Figure 2012051367

本発明のポリエステルフィルムは、ビルドアップビルドアップ法で製造する多層プリント配線板に用いられる、フィルム状の層間絶縁材料を形成するための支持体として、好適に使用することができる。   The polyester film of the present invention can be suitably used as a support for forming a film-like interlayer insulating material used for a multilayer printed wiring board produced by a build-up build-up method.

Claims (4)

一方のフィルム表面の中心線平均粗さ(SRa)が0.5〜15nmであるポリエステルフィルムのもう一方の面に塗布層を有し、180℃で30分間熱処理した後の当該塗布層表面のオリゴマー量が3.0mg/m以下であることを特徴とする層間絶縁材料支持ポリエステルフィルム。 Oligomer on the surface of the coating layer after having a coating layer on the other side of the polyester film having a center line average roughness (SRa) of 0.5 to 15 nm and heat-treating at 180 ° C. for 30 minutes An interlayer insulating material-supporting polyester film, characterized in that the amount is 3.0 mg / m 2 or less. 共押出法により得られる、少なくとも3層からなる二軸配向積層ポリエステルフィルムであって、一方の表層厚さが0.4〜5μmであり、当該表層と隣接する層中の平均粒径0.4μm以上の粒子量が100ppm以下でかつ当該層の厚さが1.0μm以下であることを特徴とする請求項1記載の層間絶縁材料支持ポリエステルフィルム。 A biaxially oriented laminated polyester film comprising at least three layers obtained by coextrusion method, one surface layer having a thickness of 0.4 to 5 μm, and an average particle size of 0.4 μm in a layer adjacent to the surface layer 2. The interlayer insulating material-supported polyester film according to claim 1, wherein the amount of the particles is 100 ppm or less and the thickness of the layer is 1.0 μm or less. 塗布層が、4級アンモニウム塩基を有する化合物を含有することを特徴とする請求項1または2記載の層間絶縁材料支持ポリエステルフィルム。 The interlayer insulating material-supporting polyester film according to claim 1 or 2, wherein the coating layer contains a compound having a quaternary ammonium base. 塗布層表面の表面固有抵抗が1×1013Ω/□以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の層間絶縁材料支持ポリエステルフィルム。 The interlayer insulating material-supporting polyester film according to any one of claims 1 to 3, wherein the coating layer surface has a surface resistivity of 1 x 10 13 Ω / □ or less.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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