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JP2012047779A - Filter for display - Google Patents

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JP2012047779A JP2010186893A JP2010186893A JP2012047779A JP 2012047779 A JP2012047779 A JP 2012047779A JP 2010186893 A JP2010186893 A JP 2010186893A JP 2010186893 A JP2010186893 A JP 2010186893A JP 2012047779 A JP2012047779 A JP 2012047779A
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mesh
mass
conductive layer
less
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JP2010186893A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuyasu Kai
信康 甲斐
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Toray Advanced Film Co Ltd
Original Assignee
Toray Advanced Film Co Ltd
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Abstract

【課題】
帯電防止性に優れ、表面の光沢感と透明感が良好で、かつ低価格化が図られたディスプレイ用フィルターを提供する。
【解決手段】
基材フィルム、メッシュ状導電層、及び1以上の層からなる表面層がこの順に積層されたディスプレイ用フィルターであって、前記表面層の中のメッシュ状導電層に隣接する層Aが金属酸化物微粒子を該層Aの固形分総量100質量%に対して1質量%以上18質量%未満含有し、前記表面層のメッシュ状導電層表面からの平均厚みが1μm超7μm未満であり、かつ前記表面層表面の中心線平均粗さRaが20nm以上60nm未満であることを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
【選択図】図2
【Task】
Disclosed is a display filter which has excellent antistatic properties, good gloss and transparency on the surface, and low cost.
[Solution]
A display filter in which a base film, a mesh-like conductive layer, and a surface layer composed of one or more layers are laminated in this order, and the layer A adjacent to the mesh-like conductive layer in the surface layer is a metal oxide The fine particles are contained in an amount of 1% by mass to less than 18% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the layer A, the surface layer has an average thickness from the surface of the mesh conductive layer of more than 1 μm and less than 7 μm, A filter for display, wherein the center line average roughness Ra of the layer surface is 20 nm or more and less than 60 nm.
[Selection] Figure 2

Description

本発明は、CRT、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ等のディスプレイの前面に装着されるディスプレイ用フィルターに関する。詳しくは、帯電防止性に優れ、表面の光沢感と透明感が良好でかつ低価格化が図られたディスプレイ用フィルターに関し、特にプラズマディスプレイに好適なディスプレイ用フィルターに関する。   The present invention relates to a display filter mounted on the front surface of a display such as a CRT, a liquid crystal display, a plasma display, or an organic EL display. More specifically, the present invention relates to a display filter having excellent antistatic properties, good gloss and transparency on the surface, and low cost, and particularly to a display filter suitable for a plasma display.

CRT、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、及び有機ELディスプレイ等のディスプレイは、通常、その前面に、反射防止性、電磁波遮蔽性、あるいは近赤外線遮蔽性等の機能を有するディスプレイ用フィルターが装着されている。特にプラズマディスプレイは強度な電磁波が発生するため、電磁波遮蔽機能を有するディスプレイ用フィルターが通常用いられている。   A display such as a CRT, a liquid crystal display, a plasma display, and an organic EL display is usually provided with a display filter having a function such as antireflection, electromagnetic shielding, or near infrared shielding on the front surface. In particular, since a strong electromagnetic wave is generated in a plasma display, a display filter having an electromagnetic wave shielding function is usually used.

また、ディスプレイ用フィルターには、蛍光灯等の外光の反射を防止するための反射防止機能やディスプレイ用フィルターに傷等が発生することを防止するためのハードコート機能も一般的に付与されている。   In addition, the display filter is generally provided with an antireflection function for preventing reflection of external light such as a fluorescent lamp and a hard coat function for preventing the display filter from being damaged. Yes.

従来、ディスプレイ用フィルターとしては、電磁波遮蔽機能を有する電磁波遮蔽フィルム(基材フィルムに電磁波遮蔽層を積層したフィルム)と、反射防止性やハードコート性を有する光学フィルム(基材フィルムに反射防止層やハードコート層が積層されたフィルム)とが粘着剤層で積層されたディスプレイ用フィルターが一般に用いられている。   Conventionally, as a filter for a display, an electromagnetic wave shielding film having an electromagnetic wave shielding function (a film obtained by laminating an electromagnetic wave shielding layer on a base film) and an optical film having an antireflection property or a hard coat property (an antireflection layer on the base film) In general, a display filter in which an adhesive layer and a film on which a hard coat layer is laminated) is laminated is used.

近年、ディスプレイの低価格化に伴ってディスプレイ用フィルターも低価格化が余儀なくされている。上記のような複数枚のフィルムからなるディスプレイ用フィルターに対して、電磁波遮蔽フィルムの電磁波遮蔽層(メッシュ状導電層)上に、直接に反射防止層やハードコート層等の表面層を積層することによって、基材フィルム数が低減されて低価格化が図られる。   In recent years, the price of display filters has been inevitably reduced as the price of displays has been reduced. For the display filter composed of a plurality of films as described above, a surface layer such as an antireflection layer or a hard coat layer is directly laminated on the electromagnetic wave shielding layer (mesh-like conductive layer) of the electromagnetic wave shielding film. As a result, the number of substrate films is reduced and the cost is reduced.

上記のメッシュ状導電層上に直接にハードコート層や反射防止層等の表面層を積層することが提案されている(例えば、特許文献1〜4)。そして、これらの特許文献には、ハードコート層に金属酸化物微粒子を含有することも記載されている。   It has been proposed to laminate a surface layer such as a hard coat layer or an antireflection layer directly on the mesh-like conductive layer (for example, Patent Documents 1 to 4). These patent documents also describe that the hard coat layer contains metal oxide fine particles.

特開2008−216734号公報JP 2008-216734 A 特開2009−37237号公報JP 2009-37237 A 特開2009−271393号公報JP 2009-271393 A 国際公開第2009/096124号パンフレットInternational Publication No. 2009/096124 Pamphlet

ハードコート層の屈折率を高めるために、あるいはハードコート層の帯電防止性を高めるために、ハードコート層に金属酸化物微粒子を含有させることは一般的に知られているが、上記特許文献1〜4のように金属酸化物微粒子を含有するハードコート層をメッシュ状導電層上に直接に積層した場合、メッシュ状導電層の細線部上においてハードコート層の盛り上がりが大きくなり、ハードコート層表面の光沢感や透明感が低下するという不都合が生じることがある。   In order to increase the refractive index of the hard coat layer or to improve the antistatic property of the hard coat layer, it is generally known that the hard coat layer contains metal oxide fine particles. When the hard coat layer containing metal oxide fine particles is directly laminated on the mesh-like conductive layer as in ~ 4, the swell of the hard coat layer increases on the fine line portion of the mesh-like conductive layer, and the hard coat layer surface Inconvenience that the glossiness and the transparency of the film are lowered may occur.

また、上記不都合を回避するためにハードコート層中の金属酸化物微粒子の含有量を少なくすると、帯電防止性が低下するという問題が発生する。   Further, if the content of the metal oxide fine particles in the hard coat layer is reduced in order to avoid the inconvenience, there arises a problem that the antistatic property is lowered.

そこで、本発明の目的は、帯電防止性に優れ、表面の光沢感と透明感が良好で、かつ低価格化が図られたディスプレイ用フィルターを提供すること、加えて表面の耐擦傷性が良好で干渉縞の発生が抑制されたディスプレイ用フィルターを提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a display filter that has excellent antistatic properties, good surface glossiness and transparency, and low cost, and also has good surface scratch resistance. An object of the present invention is to provide a display filter in which the generation of interference fringes is suppressed.

本発明の上記目的は、以下の発明によって達成された。
1)基材フィルム、メッシュ状導電層、及び1以上の層からなる表面層がこの順に積層されたディスプレイ用フィルターであって、前記表面層の中のメッシュ状導電層に隣接する層Aが金属酸化物微粒子を該層Aの固形分総量100質量%に対して1質量%以上18質量%未満含有し、前記表面層のメッシュ状導電層表面からの平均厚みが1μm超7μm未満であり、かつ前記表面層表面の中心線平均粗さRaが20nm以上60nm未満である、ディスプレイ用フィルター。
2)前記金属酸化物微粒子が導電性金属の酸化物である、前記1)のディスプレイ用フィルター。
3)前記金属酸化物微粒子の数平均粒子径が150nm未満である、前記1)または2)のディスプレイ用フィルター。
4)前記メッシュ状導電層の厚みが0.3μm以上8μm未満である、前記1)〜3)のいずれかのディスプレイ用フィルター。
5)前記表面層が少なくともハードコート層を含む、前記1)〜4)のいずれかのディスプレイ用フィルター。
6)前記表面層側の表面抵抗率が1×1012Ω/□未満である、前記1)〜5)のいずれかのディスプレイ用フィルター。
7)前記表面層の基材フィルム表面からの平均厚みが12μm未満である、前記1)〜6)のいずれかのディスプレイ用フィルター。
8)前記基材フィルムの前記メッシュ状導電層が積層された側の面とは反対面に近赤外線遮蔽機能を有する層を有する、前記1)〜7)いずれかのディスプレイ用フィルター。
9)前記近赤外線遮蔽機能を有する層が粘着剤層である、前記8)のディスプレイ用フィルター。
The above object of the present invention has been achieved by the following invention.
1) A display filter in which a base film, a mesh-like conductive layer, and a surface layer composed of one or more layers are laminated in this order, and the layer A adjacent to the mesh-like conductive layer in the surface layer is a metal The oxide fine particles are contained in an amount of 1% by mass or more and less than 18% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the layer A, the average thickness of the surface layer from the surface of the mesh-like conductive layer is more than 1 μm and less than 7 μm, and The display filter, wherein a center line average roughness Ra of the surface layer surface is 20 nm or more and less than 60 nm.
2) The display filter according to 1), wherein the metal oxide fine particles are conductive metal oxides.
3) The display filter according to 1) or 2), wherein the number average particle diameter of the metal oxide fine particles is less than 150 nm.
4) The display filter according to any one of 1) to 3), wherein the mesh-shaped conductive layer has a thickness of 0.3 μm or more and less than 8 μm.
5) The display filter according to any one of 1) to 4), wherein the surface layer includes at least a hard coat layer.
6) The display filter according to any one of 1) to 5), wherein the surface resistivity on the surface layer side is less than 1 × 10 12 Ω / □.
7) The display filter according to any one of 1) to 6), wherein an average thickness of the surface layer from the surface of the base film is less than 12 μm.
8) The display filter according to any one of 1) to 7) above, wherein the substrate film has a layer having a near-infrared shielding function on a surface opposite to the surface on which the mesh conductive layer is laminated.
9) The display filter according to 8), wherein the layer having a near-infrared shielding function is an adhesive layer.

本発明によれば、帯電防止性に優れ、かつ表面の光沢感、透明感、及び耐擦傷性が良好で、かつ干渉縞の発生が抑制されたディスプレイ用フィルターを低価格で提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a low-cost display filter having excellent antistatic properties, good surface glossiness, transparency, and scratch resistance, and suppressed generation of interference fringes. .

本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示す表面層側の部分模式平面図。The partial model top view by the side of the surface layer which shows an example of the filter for displays of this invention. 図1の直線Yでの部分模式断面図。FIG. 2 is a partial schematic cross-sectional view taken along a straight line Y in FIG. 1.

本発明のディスプレイ用フィルターは、基材フィルム、メッシュ状導電層、及び1以上の層からなる表面層が順次積層されたものである。表面層の中のメッシュ状導電層に隣接する層Aは、金属酸化物微粒子を該層Aの固形分総量100質量%に対して1質量%以上18質量%未満含有する。   The display filter of the present invention is obtained by sequentially laminating a base film, a mesh-like conductive layer, and a surface layer composed of one or more layers. The layer A adjacent to the mesh-like conductive layer in the surface layer contains 1% by mass or more and less than 18% by mass of metal oxide fine particles with respect to 100% by mass of the total solid content of the layer A.

層Aが、金属酸化物微粒子を上記のように1質量%以上18質量%未満という比較的少量含有するだけで、メッシュ状導電層との相乗効果により、帯電防止性が向上することを見いだし、本発明を成すに至った。   The layer A has been found to improve the antistatic property due to the synergistic effect with the mesh-like conductive layer only by containing metal oxide fine particles in a relatively small amount of 1% by mass or more and less than 18% by mass as described above. The present invention has been accomplished.

即ち、表面層のメッシュ状導電層表面からの平均厚みを1μm超7μm未満とすることにより、層A中の金属酸化物微粒子とメッシュ状導電層との相乗効果が発現し、層A中の金属酸化物微粒子の含有量が上記したように比較的少量であっても、帯電防止性が向上することを見いだした。   That is, when the average thickness of the surface layer from the surface of the mesh-like conductive layer is more than 1 μm and less than 7 μm, a synergistic effect between the metal oxide fine particles in the layer A and the mesh-like conductive layer is expressed, and the metal in the layer A It has been found that the antistatic property is improved even when the content of the oxide fine particles is relatively small as described above.

帯電防止性の効果は、表面層側の表面抵抗率を測定することによって計ることができる。つまり、本発明のディスプレイ用フィルターにおいて、表面層側の表面抵抗率は1×1012Ω/□未満であることが好ましく、1×1011Ω/□未満であることがより好ましい。表面抵抗率の下限は、1×10Ω/□程度である。 The effect of antistatic properties can be measured by measuring the surface resistivity on the surface layer side. That is, in the display filter of the present invention, the surface resistivity on the surface layer side is preferably less than 1 × 10 12 Ω / □, and more preferably less than 1 × 10 11 Ω / □. The lower limit of the surface resistivity is about 1 × 10 3 Ω / □.

また、表面層表面の中心線平均粗さRaを20nm以上60nm未満とすることにより、表面層表面の光沢感と透明感が改善されることに加えて、更に帯電防止にも効果的であることを見いだした。   In addition to improving the gloss and transparency of the surface layer surface by setting the center line average roughness Ra of the surface layer surface to 20 nm or more and less than 60 nm, the surface layer surface is more effective in preventing static electricity. I found.

本発明のディスプレイ用フィルターは長尺ロールで供給されることが好ましい。この長尺ロールを所定サイズのシートに加工する際、長尺ロールは巻き出されて切断されるが、巻き出し時に静電気が発生し、空気中の塵埃や切断時の切断カスが付着するという不都合が生じることがある。また、所定サイズのシート状に切断加工された複数枚のシートが積み重ねられた重畳シートを1枚ずつ分離するときにも静電気が発生することがあり、空気中の塵埃等が付着するという不都合が生じることがある。   The display filter of the present invention is preferably supplied by a long roll. When this long roll is processed into a sheet of a predetermined size, the long roll is unwound and cut, but static electricity is generated at the time of unwinding, and there is an inconvenience that dust in the air and cutting waste at the time of cutting adhere. May occur. In addition, static electricity may be generated when separating the overlapping sheets in which a plurality of sheets cut into a predetermined size sheet are stacked one by one, and there is a disadvantage that dust in the air adheres. May occur.

これらの不都合な問題は、層Aに金属酸化物微粒子を該層Aの固形分総量100質量%に対して1質量%以上18質量%未満含有させること、及び表面層のメッシュ状導電層表面からの平均厚みを1μm超7μm未満とすることに加えて更に、表面層表面の中心線平均粗さRaを20nm以上60nm未満とすることにより一段と改善される。   These disadvantages are that the layer A contains metal oxide fine particles in an amount of 1% by mass or more and less than 18% by mass with respect to the total solid content of the layer A of 100% by mass, and from the surface of the mesh-like conductive layer of the surface layer. In addition to making the average thickness of more than 1 μm and less than 7 μm, the center line average roughness Ra of the surface layer surface is further improved to 20 nm or more and less than 60 nm.

(表面層)
本発明にかかる表面層は、本発明のディスプレイ用フィルターをディスプレイに装着したときにディスプレイ側とは反対側の最表面となる層である。即ち、観察者側の最表面となる層である。表面層はメッシュ状導電層上に直接に塗工によって積層されていることが好ましい。
(Surface layer)
The surface layer concerning this invention is a layer used as the outermost surface on the opposite side to the display side, when the display filter of this invention is mounted | worn with a display. That is, it is the layer that becomes the outermost surface on the viewer side. The surface layer is preferably laminated directly on the mesh conductive layer by coating.

本発明の表面層は1以上の層からなる。表面層は、単一層で構成されていてもよいし、複数の層で構成されていてもよい。表面層が単一層で構成される場合は、メッシュ状導電層上に層Aのみが積層された構成となり、表面層が複数層で構成される場合は、メッシュ状導電層上に層Aと他の層が順次積層された構成となる。   The surface layer of the present invention comprises one or more layers. The surface layer may be composed of a single layer or may be composed of a plurality of layers. When the surface layer is composed of a single layer, only the layer A is laminated on the mesh-shaped conductive layer, and when the surface layer is composed of a plurality of layers, the layer A and others are disposed on the mesh-shaped conductive layer. These layers are sequentially stacked.

表面層は、少なくともハードコート層を含むことが好ましい。そして、上記ハードコート層は、メッシュ状導電層に隣接する位置に配置されていることが好ましい。即ち層Aはハードコート層であることが好ましい。   The surface layer preferably includes at least a hard coat layer. And it is preferable that the said hard-coat layer is arrange | positioned in the position adjacent to a mesh-shaped electroconductive layer. That is, the layer A is preferably a hard coat layer.

表面層が複数層で構成される態様としては、ハードコート層と反射防止層の積層構成が挙げられる。   As an aspect in which the surface layer is composed of a plurality of layers, a laminated structure of a hard coat layer and an antireflection layer can be mentioned.

表面層のメッシュ状導電層表面からの平均厚みは、1μm超7μm未満である。ここで、表面層のメッシュ状導電層表面からの平均厚みについて、図1、2を用いて説明する。   The average thickness of the surface layer from the surface of the mesh-like conductive layer is more than 1 μm and less than 7 μm. Here, the average thickness from the surface of the mesh-like conductive layer of the surface layer will be described with reference to FIGS.

図1は本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示す表面層側の部分模式平面図であり、図2は図1の直線Yでの部分模式断面図である。本発明のディスプレイ用フィルターは、基材フィルム1上にメッシュ状導電層2を有し、更に表面層3が積層されている。メッシュ状導電層は、細線部と細線部で囲まれた開口部を有する。図1及び図2の符号2は、説明の便宜上、メッシュ状導電層と細線部との両方を意味する。メッシュ状導電層の開口部は、細線部2と細線部2とで囲まれた領域である。   FIG. 1 is a partial schematic plan view on the surface layer side showing an example of the display filter of the present invention, and FIG. 2 is a partial schematic cross-sectional view taken along a straight line Y in FIG. The display filter of the present invention has a mesh-like conductive layer 2 on a base film 1, and a surface layer 3 is further laminated. The mesh-like conductive layer has a fine line part and an opening surrounded by the fine line part. Reference numeral 2 in FIGS. 1 and 2 means both a mesh-like conductive layer and a thin line portion for convenience of explanation. The opening of the mesh-like conductive layer is a region surrounded by the fine wire portion 2 and the fine wire portion 2.

図1において、ある1つの開口部の重心に対応する表面層最表面の点Aと、該開口部に隣接する開口部の重心に対応する表面層最表面の点Cとを結ぶ直線Yで切断したときの断面図が図2である。図2において、メッシュ状導電層の細線部2上における表面層の頂点Bと細線部2の表面までの垂直距離Lが表面層のメッシュ状導電層表面からの厚みであり、任意に選択した5つの箇所について上記垂直距離Lをそれぞれ求め平均したものが、表面層のメッシュ状導電層表面からの平均厚みとなる。   In FIG. 1, the surface layer outermost surface point A corresponding to the center of gravity of a certain opening is cut by a straight line Y connecting the surface layer outermost surface point C corresponding to the center of gravity of the opening adjacent to the opening. FIG. 2 is a cross-sectional view at this time. In FIG. 2, the vertical distance L between the vertex B of the surface layer on the fine wire portion 2 of the mesh-like conductive layer and the surface of the fine wire portion 2 is the thickness of the surface layer from the surface of the mesh-like conductive layer, and is arbitrarily selected 5 The average thickness from the surface of the mesh-like conductive layer of the surface layer is obtained by averaging the vertical distances L for one location.

表面層のメッシュ状導電層表面からの平均厚みが、7μm以上となると帯電防止性が低下する。一方、該平均厚みが1μm以下となると表面層の耐擦傷性が低下し、傷等が発生しやすくなる。表面層のメッシュ状導電層表面からの平均厚みは、帯電防止性の観点からは6μm未満が好ましく、5.5μm未満がより好ましく、特に5μm未満が好ましい。一方、表面層の耐擦傷性を確保するという観点からは1.5μm以上が好ましく、2μm以上がより好ましく、特に3μm以上が好ましい。   When the average thickness from the surface of the mesh-like conductive layer of the surface layer is 7 μm or more, the antistatic property is lowered. On the other hand, when the average thickness is 1 μm or less, the scratch resistance of the surface layer is lowered, and scratches and the like are likely to occur. The average thickness of the surface layer from the mesh-like conductive layer surface is preferably less than 6 μm, more preferably less than 5.5 μm, and particularly preferably less than 5 μm from the viewpoint of antistatic properties. On the other hand, from the viewpoint of ensuring the scratch resistance of the surface layer, it is preferably 1.5 μm or more, more preferably 2 μm or more, and particularly preferably 3 μm or more.

本発明において、表面層の基材フィルム表面からの平均厚みも、ディスプレイ用フィルターのカール等の観点から重要である。かかる表面層の基材フィルム表面からの平均厚みは、12μm未満が好ましく、10μm未満がより好ましく、特に9μm未満が好ましい。下限は2μm以上が好ましく、3μm以上がより好ましい。表面層の基材フィルム表面からの平均厚みが12μm以上となるとディスプレイ用フィルターにカールが発生しやすくなる。   In the present invention, the average thickness of the surface layer from the surface of the base film is also important from the viewpoint of curling the display filter. The average thickness of the surface layer from the substrate film surface is preferably less than 12 μm, more preferably less than 10 μm, and particularly preferably less than 9 μm. The lower limit is preferably 2 μm or more, and more preferably 3 μm or more. When the average thickness of the surface layer from the surface of the base film is 12 μm or more, the display filter is easily curled.

上記表面層の基材フィルム表面からの厚みは、図2においてメッシュ状導電層の開口部の重心に対応する表面層最表面の点Aと基材フィルムとの垂直距離Mであり、任意に選択した5つの開口部でそれぞれ上記垂直距離Mを求め平均したものが表面層の基材フィルム表面からの平均厚みとなる。   The thickness of the surface layer from the surface of the base film is the vertical distance M between the point A on the outermost surface layer corresponding to the center of gravity of the opening of the mesh-like conductive layer in FIG. The average thickness from the surface of the base film of the surface layer is obtained by averaging the vertical distances M obtained from the five openings.

本発明において表面層表面の中心線平均粗さRaは、20nm以上60nm未満の範囲である。表面層表面の中心線平均粗さRaが60nm以上となると、表面層の光沢感と透明感が低下する。一方表面層表面の中心線平均粗さRaが20nm未満となると干渉縞が発生しやすくなり、また帯電防止効果も低下する傾向にある。   In the present invention, the center line average roughness Ra of the surface layer surface is in the range of 20 nm or more and less than 60 nm. When the center line average roughness Ra of the surface layer surface is 60 nm or more, the glossiness and transparency of the surface layer are lowered. On the other hand, when the center line average roughness Ra of the surface layer surface is less than 20 nm, interference fringes are likely to occur, and the antistatic effect tends to decrease.

表面層表面の中心線平均粗さRaの下限は、25nm以上が好ましく、28nm以上がより好ましい。上限は、55nm未満が好ましく、50nm未満がより好ましく、45nm未満が特に好ましい。   The lower limit of the center line average roughness Ra on the surface layer surface is preferably 25 nm or more, and more preferably 28 nm or more. The upper limit is preferably less than 55 nm, more preferably less than 50 nm, and particularly preferably less than 45 nm.

上記の中心線平均粗さRa(20nm以上60nm未満の範囲)を有する表面層は、メッシュ状導電層の細線部上に適度な盛り上がりを形成することによって実現することができる。上記の表面層の盛り上がりは、表面層をメッシュ状導電層上に直接に塗工する際に、塗工量、粘度、組成等を調整することによって形成することができる。例えば、表面層の塗工量は、塗工によって最終的に形成される表面層の厚みが、メッシュ状導電層の厚み100%に対して150〜700%の範囲となるように調整することによって、あるいは表面層塗工液の粘度を2〜50mPa・sの範囲に調整することによって、メッシュ状導電層の細線部上に適度な盛り上がりを形成することができる。   The surface layer having the above-described center line average roughness Ra (range of 20 nm or more and less than 60 nm) can be realized by forming an appropriate bulge on the fine line portion of the mesh-like conductive layer. The bulge of the surface layer can be formed by adjusting the coating amount, viscosity, composition, and the like when the surface layer is applied directly onto the mesh-like conductive layer. For example, the coating amount of the surface layer is adjusted so that the thickness of the surface layer finally formed by coating is in the range of 150 to 700% with respect to 100% of the thickness of the mesh-like conductive layer. Alternatively, by adjusting the viscosity of the surface layer coating liquid to a range of 2 to 50 mPa · s, an appropriate bulge can be formed on the fine line portion of the mesh-like conductive layer.

また、詳しくは後述するが、表面層に金属酸化物微粒子を含有させることによって盛り上がりが形成されやすくなるので、含有量を調整することが重要である。   Moreover, although mentioned later in detail, since it becomes easy to form a swell by making a surface layer contain metal oxide microparticles | fine-particles, it is important to adjust content.

本発明の表面層は、メッシュ状導電層の細線部上にのみ適度な盛り上がりを形成することが好ましい。メッシュ状導電層の細線部上以外に表面層の盛り上がりが存在すると、即ちメッシュ状導電層の開口部に表面層の盛り上がりが存在すると、光沢感や透明感が低下することがあるので好ましくない。従って、表面層を構成するいずれの層も、メッシュ状導電層の開口部に表面層の盛り上がりを形成するような比較的大きな粒子は含有しないことが好ましい。   The surface layer of the present invention preferably forms an appropriate bulge only on the fine line portion of the mesh-like conductive layer. If the surface layer is raised other than on the fine line portion of the mesh-like conductive layer, that is, if the surface layer is raised at the opening of the mesh-like conductive layer, glossiness and transparency may be lowered, which is not preferable. Therefore, it is preferable that none of the layers constituting the surface layer contain relatively large particles that form the bulge of the surface layer in the openings of the mesh-like conductive layer.

(層A)
層A(表面層の中のメッシュ状導電層に隣接する層)は、金属酸化物微粒子を層Aの固形分総量100質量%に対して1質量%以上18質量%未満含有する。
前述したように、層Aはハードコート層であることが好ましく、以下、層Aについてハードコート層を例にとって説明する。但し、本発明において層Aはハードコート層に限定されることはない。
(Layer A)
Layer A (a layer adjacent to the mesh-like conductive layer in the surface layer) contains metal oxide fine particles in an amount of 1% by mass to less than 18% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of layer A.
As described above, the layer A is preferably a hard coat layer, and the layer A will be described below taking the hard coat layer as an example. However, in the present invention, the layer A is not limited to the hard coat layer.

(ハードコート層)
ハードコート層は、JIS K5600−5−4(1999年)で定義される鉛筆硬度が、H以上が好ましく、2H以上がより好ましい。上限は9H程度である。
(Hard coat layer)
The hard coat layer has a pencil hardness defined by JIS K5600-5-4 (1999) of preferably H or higher, more preferably 2H or higher. The upper limit is about 9H.

ハードコート層は、樹脂として熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられ、特に活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられる。
上記熱硬化性樹脂としては、熱によって重合又は架橋する、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド系樹脂等が挙げられる。
In the hard coat layer, a thermosetting resin or an active energy ray curable resin is preferably used as the resin, and an active energy ray curable resin is particularly preferably used.
Examples of the thermosetting resin include an acrylic resin, a polyester resin, a polyurethane resin, a polycarbonate resin, a polystyrene resin, a polyolefin resin, a fluorine resin, and a polyimide resin that are polymerized or crosslinked by heat. .

上記活性エネルギー線硬化性樹脂としては、ビニル基、アリル基、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ基等のエチレン性不飽和基を有する、モノマー、オリゴマー、プレポリマーを適宜混合した組成物を用いることができる。   The active energy ray-curable resin is a composition in which monomers, oligomers, and prepolymers having an ethylenically unsaturated group such as a vinyl group, an allyl group, a (meth) acryloyl group, and a (meth) acryloyloxy group are appropriately mixed. Can be used.

モノマーの例としては、スチレン、メチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシ(メタ)アクリレート等の単官能アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ(メタ)トリアクリレート、トリメチロールプロパン(メタ)アクリル酸安息香酸エステル、トリメチロールプロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレート等を挙げることができる。   Examples of monomers include styrene, methyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate , Monofunctional acrylates such as isobornyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxy (meth) acrylate, and neopentyl glycol di (meth) acrylate 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol Ritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol tri (meth) acrylate Polyfunctional acrylate such as tripentaerythritol hexa (meth) triacrylate, trimethylolpropane (meth) acrylic acid benzoate, trimethylolpropane benzoate, glycerin di (meth) acrylate hexamethylene diisocyanate, pentaerythritol tri (meth) ) Urethane acrylates such as acrylate hexamethylene diisocyanate.

オリゴマー、プレポリマーとしては、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、アルキット(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレート等を挙げることができる。   As oligomers and prepolymers, polyester (meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, alkit (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, silicone (meth) acrylate, etc. Can be mentioned.

上記した、モノマー、オリゴマー、プレポリマーは、単独もしくは複数混合して使用してもよいが、3官能以上の多官能モノマーを用いることが好ましい。   The monomers, oligomers and prepolymers described above may be used alone or in combination, but it is preferable to use a trifunctional or higher polyfunctional monomer.

上記した、モノマー、オリゴマー、プレポリマーの重合を開始させるために、光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、p−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、2種以上組み合せて用いてもよい。   In order to initiate the polymerization of the monomer, oligomer and prepolymer described above, it is preferable to contain a photopolymerization initiator. Specific examples of such photopolymerization initiators include acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4 , 4'-bisdiethylaminobenzophenone, Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, methyl benzoyl formate, p-isopropyl-α-hydroxyisobutylphenone, α-hydroxyisobutylphenone, 2,2 -Carbonyl compounds such as dimethoxy-2-phenylacetophenone and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, tetramethylthiuram monosulfide, tetramethyl Sulfur compounds such as ruthiuram disulfide, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, and 2-methylthioxanthone can be used. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

ハードコート層は、金属酸化物微粒子をハードコート層の固形分総量100質量%に対して1質量%以上18質量%未満含有する。上記金属酸化物微粒子の含有量が18質量%以上となると、メッシュ状導電層の細線部上における盛り上がりが大きくなり、表面層表面の中心線平均粗さRaを60nm未満に調整することが難しくなる。一方、上記金属酸化物微粒子の含有量が1質量%未満となると、良好な帯電防止性が得られない。   The hard coat layer contains metal oxide fine particles in an amount of 1% by mass to less than 18% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the hard coat layer. When the content of the metal oxide fine particles is 18% by mass or more, the swell on the fine line portion of the mesh-like conductive layer increases, and it becomes difficult to adjust the center line average roughness Ra of the surface layer surface to less than 60 nm. . On the other hand, when the content of the metal oxide fine particles is less than 1% by mass, good antistatic properties cannot be obtained.

ハードコート層における金属酸化物微粒子の含有量は、表面層表面の中心線平均粗さRaを60nm未満に調整するという観点から、ハードコート層の固形分総量100質量%に対して17質量%未満が好ましく、16質量%未満がより好ましく、特に15質量%未満が好ましい。一方、良好な帯電防止性を確保するという観点から、ハードコート層における金属酸化物微粒子の含有量は、ハードコート層の固形分総量100質量%に対して2質量%以上が好ましく、4質量%以上がより好ましく、特に6質量%以上が好ましい。   The content of the metal oxide fine particles in the hard coat layer is less than 17% by mass with respect to the total solid content of 100% by mass of the hard coat layer from the viewpoint of adjusting the center line average roughness Ra of the surface layer surface to less than 60 nm. Is preferable, less than 16 mass% is more preferable, and especially less than 15 mass% is preferable. On the other hand, from the viewpoint of ensuring good antistatic properties, the content of the metal oxide fine particles in the hard coat layer is preferably 2% by mass or more with respect to 100% by mass of the solid content of the hard coat layer, and is preferably 4% by mass. The above is more preferable, and particularly 6% by mass or more is preferable.

上記金属酸化物微粒子としては、導電性金属の酸化物微粒子が好ましく、例えば、亜鉛、錫、アンチモン、アルミニウム、鉄、インジウム等の導電性金属の酸化物粒子が挙げられる。上記金属酸化物微粒子の具体例としては、例えば、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いても良いし、複数併用してもよい。   The metal oxide fine particles are preferably conductive metal oxide fine particles, and examples include conductive metal oxide particles such as zinc, tin, antimony, aluminum, iron, and indium. Specific examples of the metal oxide fine particles include, for example, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, iron oxide, zinc antimonate, tin oxide-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), phosphorus-doped tin oxide, Examples thereof include aluminum-doped zinc oxide, gallium-doped zinc oxide, and fluorine-doped tin oxide. These metal oxide fine particles may be used alone or in combination.

上記金属酸化物微粒子の数平均粒子径は、150nm未満が好ましく、120nm未満がより好ましく、更に80nm未満が好ましく、特に50nm未満が好ましい。金属酸化物微粒子の下限の数平均粒子径は1nm程度である。上記金属酸化物微粒子の数平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察によって求めた数平均粒子径である。金属酸化物微粒子の数平均粒子径が150nm以上となると、表面層のヘイズ値が高くなり透明感が低下する場合がある。また、帯電防止性の観点からも金属酸化物微粒子の数平均粒子径は小さい方が好ましい。   The number average particle diameter of the metal oxide fine particles is preferably less than 150 nm, more preferably less than 120 nm, further preferably less than 80 nm, and particularly preferably less than 50 nm. The lower limit number average particle diameter of the metal oxide fine particles is about 1 nm. The number average particle diameter of the metal oxide fine particles is a number average particle diameter determined by observation with a transmission electron microscope. When the number average particle diameter of the metal oxide fine particles is 150 nm or more, the haze value of the surface layer is increased and the transparency may be lowered. From the viewpoint of antistatic properties, the metal oxide fine particles preferably have a smaller number average particle size.

また、ハードコート層は、更に界面活性剤を含有することが好ましい。これによって、表面層の耐擦傷性が向上する。かかる界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤が好ましく用いられる。ハードコート層における界面活性剤の含有量は、ハードコート層の固形分総量100質量%に対して、0.05〜3質量%の範囲が好ましく、0.1〜2質量%の範囲がより好ましく、特に0.2〜1質量%の範囲が好ましい。   Moreover, it is preferable that a hard-coat layer contains surfactant further. This improves the scratch resistance of the surface layer. As such a surfactant, a fluorine-based surfactant and a silicone-based surfactant are preferably used. The content of the surfactant in the hard coat layer is preferably in the range of 0.05 to 3% by mass and more preferably in the range of 0.1 to 2% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the hard coat layer. In particular, the range of 0.2 to 1% by mass is preferable.

ハードコート層の屈折率は、1.57未満であることが好ましく、1.55未満であることがより好ましく、1.54未満であることが特に好ましい。ハードコート層の下限の屈折率は1.47程度である。ハードコート層の屈折率を1.57以上とするには、上記した金属酸化物微粒子を比較的多量に含有させる必要があり、表面層表面の中心線平均粗さRaを60nm未満に調整することが難しくなる。また、基材フィルムとしてポリエステル樹脂フィルム(特にポリエチレンテレフタレートフィルム)を用い、かつ表面層としてハードコート層のみを積層した場合、ハードコート層の屈折率を1.57未満、好ましくは1.55未満、更に好ましくは1.54未満とすることにより、反射率が低下するので好ましい。   The refractive index of the hard coat layer is preferably less than 1.57, more preferably less than 1.55, and particularly preferably less than 1.54. The lower limit refractive index of the hard coat layer is about 1.47. In order to set the refractive index of the hard coat layer to 1.57 or more, it is necessary to contain the above-mentioned metal oxide fine particles in a relatively large amount, and the center line average roughness Ra of the surface layer surface is adjusted to less than 60 nm. Becomes difficult. Further, when a polyester resin film (particularly polyethylene terephthalate film) is used as the base film and only the hard coat layer is laminated as the surface layer, the refractive index of the hard coat layer is less than 1.57, preferably less than 1.55. More preferably, it is preferably less than 1.54 because the reflectance decreases.

(反射防止層)
表面層が複数層の積層構成の場合、ハードコート層と反射防止層の積層構成が挙げられる。上記積層構成において、ハードコート層が層A(表面層の中のメッシュ状導電層に隣接する層)となる。反射防止層としては、低屈折率層のみの単一層、高屈折率層(ハードコート層側)と低屈折率層の積層構成が挙げられる。本発明においてハードコート層上に反射防止層を設ける場合は、反射防止層としては低屈折率層のみの単一層であることが好ましい。
(Antireflection layer)
In the case where the surface layer has a laminated structure of a plurality of layers, a laminated structure of a hard coat layer and an antireflection layer can be mentioned. In the above laminated structure, the hard coat layer is layer A (a layer adjacent to the mesh-like conductive layer in the surface layer). Examples of the antireflection layer include a single layer having only a low refractive index layer, and a laminated structure of a high refractive index layer (hard coat layer side) and a low refractive index layer. In the present invention, when an antireflection layer is provided on the hard coat layer, the antireflection layer is preferably a single layer consisting of only a low refractive index layer.

上記低屈折率層の屈折率は1.30〜1.44の範囲が好ましく、1.33〜1.43の範囲がより好ましく、特に1.35〜1.43の範囲が好ましい。上記高屈折率層の屈折率は、1.55〜1.80の範囲が好ましく、1.58〜1.75の範囲がより好ましく、特に1.60〜1.70の範囲が好ましい。   The refractive index of the low refractive index layer is preferably in the range of 1.30 to 1.44, more preferably in the range of 1.33 to 1.43, and particularly preferably in the range of 1.35 to 1.43. The refractive index of the high refractive index layer is preferably in the range of 1.55 to 1.80, more preferably in the range of 1.58 to 1.75, and particularly preferably in the range of 1.60 to 1.70.

(低屈折率層)
低屈折率層は、紫外線や電子線等の活性エネルギー線によって硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂と、低屈折率材料として低屈折率無機粒子及び/または含フッ素化合物とを含む層であることが好ましい。
(Low refractive index layer)
The low refractive index layer is a layer containing an active energy ray-curable resin that is cured by active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams, and low refractive index inorganic particles and / or fluorine-containing compounds as a low refractive index material. preferable.

上記の活性エネルギー線硬化性樹脂は、前述のハードコート層に用いられるものと同様のものが用いられるので、ここでの説明は省略する。また、活性エネルギー線硬化性樹脂と併せて用いることができる光重合開始剤も、前述のハードコート層に用いられるものと同様のものが用いられるので、ここでの説明は省略する。   Since the same active energy ray-curable resin as that used for the hard coat layer is used, the description thereof is omitted here. Moreover, since the same photoinitiator that can be used in combination with the active energy ray-curable resin is the same as that used for the hard coat layer, the description thereof is omitted here.

上記の低屈折率無機粒子としては、シリカやフッ化マグネシウム等の無機粒子が好ましく用いられる。更にこれらの無機微粒子は中空状や多孔質のものが好ましい。上記無機粒子の屈折率は1.2〜1.4の範囲が好ましく、1.2〜1.35の範囲がより好ましい。   As the low refractive index inorganic particles, inorganic particles such as silica and magnesium fluoride are preferably used. Further, these inorganic fine particles are preferably hollow or porous. The refractive index of the inorganic particles is preferably in the range of 1.2 to 1.4, more preferably in the range of 1.2 to 1.35.

上記の含フッ素化合物としては、含フッ素モノマー、含フッ素高分子化合物が挙げられる。   Examples of the fluorine-containing compound include a fluorine-containing monomer and a fluorine-containing polymer compound.

含フッ素モノマーとしては、例えば、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレートなどのフッ素含有(メタ)アクリル酸エステル類が挙げられる。   Examples of the fluorine-containing monomer include 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorobutyl) ethyl (meth) ) Acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, and other fluorine-containing (meth) acrylic acids Examples include esters.

含フッ素高分子化合物としては、例えば、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する(メタ)アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する(メタ)アクリレートモノマー(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート等)が挙げられる。   Examples of the fluorine-containing polymer compound include a fluorine-containing copolymer having a fluorine-containing monomer and a monomer for imparting a crosslinkable group as constituent units. Specific examples of the fluorine-containing monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc. ), (Meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemicals) and M-2020 (manufactured by Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers, and the like. As a monomer for imparting a crosslinkable group, in addition to a (meth) acrylate monomer having a crosslinkable functional group in the molecule like glycidyl methacrylate, it has a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, a sulfonic acid group, etc. ) Acrylate monomers (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, etc.).

低屈折率層の厚みは、0.05〜0.15μmの範囲が適当であり、0.08〜0.12μmの範囲が好ましい。   The thickness of the low refractive index layer is suitably in the range of 0.05 to 0.15 μm, and preferably in the range of 0.08 to 0.12 μm.

(高屈折率層)
高屈折率層は、紫外線や電子線等の活性エネルギー線によって硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂と、高屈折率材料として金属酸化物微粒子とを含む層であることが好ましい。
(High refractive index layer)
The high refractive index layer is preferably a layer containing an active energy ray-curable resin that is cured by active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams, and metal oxide fine particles as a high refractive index material.

上記の活性エネルギー線硬化性樹脂は、前述のハードコート層に用いられるものと同様のものが用いられるので、ここでの説明は省略する。また、活性エネルギー線硬化性樹脂と併せて用いることができる光重合開始剤も、前述のハードコート層に用いられるものと同様のものが用いられるので、ここでの説明は省略する。   Since the same active energy ray-curable resin as that used for the hard coat layer is used, the description thereof is omitted here. Moreover, since the same photoinitiator that can be used in combination with the active energy ray-curable resin is the same as that used for the hard coat layer, the description thereof is omitted here.

上記金属酸化物微粒子としては、屈折率が1.6以上のものが好ましく、特に屈折率が1.7〜2.8のものが好ましく用いられる。かかる金属酸化物微粒子としては、チタン、ジルコニウム、亜鉛、錫、アンチモン、セリウム、鉄、インジウム等の金属酸化物粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子の具体例としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いても良いし、複数併用してもよい。   As the metal oxide fine particles, those having a refractive index of 1.6 or more are preferable, and those having a refractive index of 1.7 to 2.8 are particularly preferably used. Examples of the metal oxide fine particles include metal oxide particles such as titanium, zirconium, zinc, tin, antimony, cerium, iron, and indium. Specific examples of the metal oxide fine particles include, for example, titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, cerium oxide, iron oxide, zinc antimonate, tin oxide-doped indium oxide (ITO), and antimony-doped tin oxide. (ATO), phosphorus-doped tin oxide, aluminum-doped zinc oxide, gallium-doped zinc oxide, fluorine-doped tin oxide and the like. These metal oxide fine particles may be used alone or in combination.

金属酸化物微粒子の数平均粒子径は1〜200nmの範囲が好ましい。金属酸化物微粒子の数平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察によって求めた数平均粒子径である。   The number average particle diameter of the metal oxide fine particles is preferably in the range of 1 to 200 nm. The number average particle size of the metal oxide fine particles is a number average particle size obtained by observation with a transmission electron microscope.

金属酸化物微粒子の含有量は、高屈折率層の固形分総量100質量%に対して20〜90質量%の範囲が好ましく、30〜85質量%の範囲がより好ましく、特に40〜80質量%の範囲が好ましい。   The content of the metal oxide fine particles is preferably in the range of 20 to 90% by mass, more preferably in the range of 30 to 85% by mass, particularly 40 to 80% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the high refractive index layer. The range of is preferable.

高屈折率層の厚みは、0.05〜0.2μmの範囲が好ましく、0.08〜0.15μmの範囲がより好ましい。   The thickness of the high refractive index layer is preferably in the range of 0.05 to 0.2 μm, and more preferably in the range of 0.08 to 0.15 μm.

(メッシュ状導電層)
メッシュ状導電層は、ディスプレイから発生される電磁波を遮蔽する役目を有する。その意味において、メッシュ状導電層の表面抵抗率は低い方が好ましい。具体的には、メッシュ状導電層の表面抵抗率は3Ω/□以下が好ましく、1Ω/□以下がより好ましく、特に0.5Ω/□以下が好ましい。メッシュ状導電層の表面抵抗率の現実的な下限は0.01Ω/□程度である。
(Mesh-like conductive layer)
The mesh-like conductive layer has a role of shielding electromagnetic waves generated from the display. In that sense, the surface resistivity of the mesh conductive layer is preferably low. Specifically, the surface resistivity of the mesh conductive layer is preferably 3Ω / □ or less, more preferably 1Ω / □ or less, and particularly preferably 0.5Ω / □ or less. A practical lower limit of the surface resistivity of the mesh conductive layer is about 0.01Ω / □.

メッシュ状導電層の厚みは、メッシュ状導電層上に積層される表面層の厚みが比較的小さい場合(表面層のメッシュ状導電層表面からの厚みが1μm超7μm未満)であっても、表面層表面の中心線平均粗さRaが20nm以上60nm未満となるように制御するという観点から、小さい方が好ましい。具体的には、メッシュ状導電層の厚みは、8μm未満が好ましく、6μm未満がより好ましく、更に5μm未満が好ましく、特に3μm未満が好ましい。   Even when the thickness of the surface layer laminated on the mesh-like conductive layer is relatively small (the thickness of the surface layer from the surface of the mesh-like conductive layer is more than 1 μm and less than 7 μm) From the viewpoint of controlling the center line average roughness Ra of the layer surface to be 20 nm or more and less than 60 nm, a smaller one is preferable. Specifically, the thickness of the mesh-like conductive layer is preferably less than 8 μm, more preferably less than 6 μm, further preferably less than 5 μm, and particularly preferably less than 3 μm.

メッシュ状導電層の厚みが8μm以上となると、その上に積層される表面層の厚み(表面層のメッシュ状導電層表面からの平均厚み)を7μm以上としないと、表面層表面の中心線平均粗さRaを20nm以上60nm未満に制御することが難しくなり、上記表面層の厚みを7μm以上とすると帯電防止性が低下する。   When the thickness of the mesh-like conductive layer is 8 μm or more, unless the thickness of the surface layer laminated thereon (average thickness of the surface layer from the mesh-like conductive layer surface) is 7 μm or more, the center line average of the surface layer surface It becomes difficult to control the roughness Ra to 20 nm or more and less than 60 nm, and when the thickness of the surface layer is 7 μm or more, the antistatic property is lowered.

一方、良好な電磁波遮蔽性を確保するという観点からは、メッシュ状導電層の厚みは0.3μm以上が好ましく、0.5μm以上がより好ましく、更に0.8μm以上が好ましく、特に1μm以上が好ましい。   On the other hand, from the viewpoint of ensuring good electromagnetic wave shielding properties, the thickness of the mesh conductive layer is preferably 0.3 μm or more, more preferably 0.5 μm or more, further preferably 0.8 μm or more, and particularly preferably 1 μm or more. .

メッシュ状導電層の線幅は、3〜50μm程度が適当であり、5〜40μmの範囲が好ましく、6〜30μmの範囲がより好ましく、特に8〜25μmの範囲が好ましい。メッシュ状導電層のピッチ(隣接する細線部と細線部との距離)は、50〜500μmの範囲が適当であり、75〜450nmの範囲が好ましく、100〜350μmの範囲が更に好ましい。   The line width of the mesh conductive layer is suitably about 3 to 50 μm, preferably 5 to 40 μm, more preferably 6 to 30 μm, and particularly preferably 8 to 25 μm. The pitch of the mesh-like conductive layer (distance between adjacent fine line portions) is suitably in the range of 50 to 500 μm, preferably in the range of 75 to 450 nm, and more preferably in the range of 100 to 350 μm.

メッシュ状導電層のメッシュパターンの形状(開口部の形状)は、例えば、正方形、長方形、菱形等の4角形からなる格子状メッシュパターン、三角形、5角形、6角形、8角形、12角形のような多角形からなるメッシュパターン、円形、楕円形からなるメッシュパターン、前記の複合形状からなるメッシュパターン、及びランダムメッシュパターンが挙げられる。上記の中でも、4角形からなる格子状メッシュパターン、6角形からなるメッシュパターンが好ましく、更に規則的なメッシュパターンが好ましく用いられる。   The shape of the mesh pattern of the mesh-like conductive layer (opening shape) is, for example, a lattice mesh pattern made of a quadrangle such as a square, a rectangle, or a rhombus, a triangle, a pentagon, a hexagon, an octagon, or a dodecagon. Examples thereof include a mesh pattern consisting of a simple polygon, a mesh pattern consisting of a circle and an ellipse, a mesh pattern consisting of the composite shape, and a random mesh pattern. Among these, a lattice mesh pattern made of a tetragon and a mesh pattern made of a hexagon are preferable, and a regular mesh pattern is more preferably used.

メッシュ状導電層の製造方法としては、公知の方法を用いることができるが、基材フィルム上に接着剤を介在させずにメッシュ状導電層を形成して積層する製造方法が好ましい。かかる製造方法として、1)基材フィルム上に気相製膜法及び/またはメッキ法により金属薄膜を形成した後にエッチング処理してメッシュパターン化する方法、2)基材フィルム上に形成されたメッシュパターン状の無電解メッキ触媒層に無電解メッキを施す方法が好ましく用いられる。   As a method for producing the mesh-like conductive layer, a known method can be used, but a production method in which the mesh-like conductive layer is formed and laminated without interposing an adhesive on the base film is preferable. As such a production method, 1) a method of forming a metal thin film on a base film by a vapor deposition method and / or a plating method, and then performing an etching process to form a mesh pattern, 2) a mesh formed on the base film A method of applying electroless plating to the patterned electroless plating catalyst layer is preferably used.

上記1)の製造方法は、基材フィルム上に気相製膜法及び/またはメッキ法により金属薄膜を形成した後にエッチング処理してメッシュパターン化する方法であり、具体的には、基材フィルム上に金属薄膜を気相製膜法及び/またはメッキ法によって形成し、更にこの金属薄膜上にレジストパターンを形成した後、金属薄膜をエッチングする方法である。   The production method 1) is a method in which a metal thin film is formed on a base film by a vapor deposition method and / or a plating method, followed by etching to form a mesh pattern. In this method, a metal thin film is formed on the metal thin film by a vapor deposition method and / or a plating method, a resist pattern is formed on the metal thin film, and then the metal thin film is etched.

基材フィルム上に金属薄膜を形成する方法として、気相製膜法、メッキ法のどちらか一方、あるいは気相製膜法とメッキ法とを併用する方法を用いることができるが、気相製膜法のみで金属薄膜を形成することが好ましい。気相法製膜法で金属薄膜を形成することによって、表面抵抗率が小さいメッシュ状導電層を薄膜で形成することができる。   As a method for forming a metal thin film on a base film, either a vapor deposition method or a plating method, or a method using a vapor deposition method and a plating method in combination can be used. It is preferable to form the metal thin film only by the film method. By forming a metal thin film by a vapor deposition method, a mesh-like conductive layer having a low surface resistivity can be formed as a thin film.

気相製膜法としては、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等が挙げられ、これらの1つの方法あるいは2以上の方法を組み合わせて用いることができる。本発明では、スパッタリング、イオンプレーティング、及び真空蒸着が好ましく、特にスパッタリング及び真空蒸着が好ましい。   Examples of the vapor deposition method include sputtering, ion plating, electron beam vapor deposition, vacuum vapor deposition, chemical vapor deposition, and the like, and these one method or a combination of two or more methods can be used. In the present invention, sputtering, ion plating, and vacuum deposition are preferable, and sputtering and vacuum deposition are particularly preferable.

金属薄膜を形成するための金属としては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、クロム、チタンなどの金属の内、1種または2種以上を組合せた合金あるいは多層のものを使用することができる。これらの中でも、良好な電磁波シールド性が得られ、メッシュパターン加工が容易で、かつ低価格であるなどの点から、銅が好ましく用いられる。   As a metal for forming a metal thin film, an alloy or a multilayer of one or more of metals such as copper, aluminum, nickel, iron, gold, silver, stainless steel, chromium and titanium is used. can do. Among these, copper is preferably used from the viewpoints of obtaining good electromagnetic shielding properties, easy mesh pattern processing, and low cost.

また、金属薄膜の金属として銅を用いる場合は、基材フィルムと銅薄膜との間に、0.005〜0.1μmの厚みのニッケル薄膜を用いるのが好ましい。つまり、金属薄膜の金属として銅を用いる場合は、ニッケル薄膜と銅薄膜の積層構成とすることが好ましい。これによって、基材フィルムと銅薄膜の接着性が向上する。   Moreover, when using copper as a metal of a metal thin film, it is preferable to use a nickel thin film with a thickness of 0.005-0.1 micrometer between a base film and a copper thin film. That is, when copper is used as the metal of the metal thin film, it is preferable to have a laminated structure of a nickel thin film and a copper thin film. Thereby, the adhesiveness of a base film and a copper thin film improves.

また、金属薄膜の表面に、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物等の金属化合物を、気相製膜法で積層することができる。この金属化合物の積層によって、金属薄膜の反射色を調整することができるので干渉縞の抑制に効果的である。かかる金属化合物としては、金、白金、銀、水銀、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、鉄、スズ、亜鉛、インジウム、パラジウム、イリジウム、コバルト、タンタル、アンチモン、及びチタン等の金属の酸化物、窒化物、あるいは硫化物が挙げられる。   Further, a metal compound such as a metal oxide, metal nitride, or metal sulfide can be laminated on the surface of the metal thin film by a vapor deposition method. Since the reflection color of the metal thin film can be adjusted by laminating the metal compound, it is effective for suppressing interference fringes. Examples of such metal compounds include gold, platinum, silver, mercury, copper, aluminum, nickel, chromium, iron, tin, zinc, indium, palladium, iridium, cobalt, tantalum, antimony, titanium, and other metal oxides, nitriding Or sulfide.

上記の金属化合物の厚みは、0.005〜0.1μmの範囲が好ましく、0.01〜0.1μmの範囲がより好ましい。この金属化合物層は、金属薄膜の一部を構成し、更にメッシュ状導電層の一部を構成する。メッシュ状導電層の表面に金属化合物層を設けることは、干渉縞低減の観点から好ましい。   The thickness of the metal compound is preferably in the range of 0.005 to 0.1 μm, and more preferably in the range of 0.01 to 0.1 μm. This metal compound layer constitutes a part of the metal thin film and further constitutes a part of the mesh-like conductive layer. Providing a metal compound layer on the surface of the mesh-like conductive layer is preferable from the viewpoint of reducing interference fringes.

金属薄膜上にはレジストパターンが形成されるが、かかるレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフ法や印刷法がある。   A resist pattern is formed on the metal thin film. As a method for forming such a resist pattern, there are a photolithographic method and a printing method.

上記フォトリソグラフ法は、金属薄膜上にフォトレジスト層を積層し、所望のパターンのフォトマスクを介して露光、あるいはレーザーで直接に走査露光し、現像してレジストパターンを形成する方法である。金属薄膜上にフォトレジスト層を積層する方法としては、例えば、金属薄膜上にレジストフィルムを貼り付ける方法、あるいは液状レジストを塗布する方法が用いられる。   The photolithographic method is a method of forming a resist pattern by laminating a photoresist layer on a metal thin film, exposing through a photomask of a desired pattern, or directly scanning and exposing with a laser, and developing. As a method of laminating a photoresist layer on a metal thin film, for example, a method of attaching a resist film on a metal thin film or a method of applying a liquid resist is used.

金属薄膜上にレジストパターンを印刷法で形成する方法は、紫外線や電子線等で硬化する樹脂とアルカリ可溶性樹脂を含むインキをグラビア印刷法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法等の印刷法により所望のレジストパターンを金属薄膜上に形成する方法である。上記の印刷法の中でも、生産性よく高精細で連続的にメッシュパターンが形成できることからグラビア印刷が好ましく用いられる。   A method for forming a resist pattern on a metal thin film by a printing method is a method in which an ink containing a resin curable with ultraviolet rays or an electron beam and an alkali-soluble resin is printed by a printing method such as a gravure printing method, a screen printing method, or an offset printing method. In this method, a resist pattern is formed on a metal thin film. Among the above printing methods, gravure printing is preferably used because a mesh pattern can be formed continuously with high productivity and high definition.

上記のようにして、金属薄膜上にレジストパターンを形成した後、金属薄膜をエッチング処理することによってメッシュ状導電層が形成される。最後に、メッシュ状導電層上に残るレジストパターンが剥離除去されて、基材フィルム上にメッシュ状導電層が形成される。   As described above, after forming a resist pattern on the metal thin film, the metal thin film is etched to form a mesh-like conductive layer. Finally, the resist pattern remaining on the mesh-like conductive layer is peeled off and a mesh-like conductive layer is formed on the base film.

次に、メッシュ状導電層の好ましい製造方法の1つである、上記2)の製造方法について説明する。この製造方法は、基材フィルム上に形成されたメッシュパターン状の無電解メッキ触媒層に無電解メッキを施す方法である。この方法は、先ず、基材フィルム上にメッシュパターン状の無電解メッキ触媒層が形成される。   Next, the production method 2), which is one of the preferred production methods for the mesh-like conductive layer, will be described. This manufacturing method is a method in which electroless plating is performed on an electroless plating catalyst layer having a mesh pattern formed on a base film. In this method, first, a mesh pattern electroless plating catalyst layer is formed on a substrate film.

基材フィルム上にメッシュパターン状の無電解メッキ触媒層を形成する方法としては、a)基材フィルム上に無電解メッキ触媒インキでパターン印刷する方法、b)基材フィルム上に還元剤を含有するインキによりパターン印刷を行って還元剤含有パターン層を形成し、次いで還元剤含有パターン層上に、還元により無電解めっき触媒になり得る金属イオンを含む金属イオン溶液を塗布し、前記還元剤と金属イオンとの接触により該金属イオンを還元して無電解めっき触媒層を形成させる方法である。   As a method of forming a mesh pattern electroless plating catalyst layer on a base film, a) a pattern printing method using an electroless plating catalyst ink on the base film, and b) a reducing agent on the base film A pattern printing is performed with an ink to form a reducing agent-containing pattern layer, and then a reducing agent-containing pattern layer is coated with a metal ion solution containing metal ions that can become an electroless plating catalyst by reduction, and the reducing agent and In this method, the metal ions are reduced by contact with metal ions to form an electroless plating catalyst layer.

上記a)の方法に用いられる無電解めっき触媒インキとしては、無電解めっき触媒、バインダー樹脂、及び有機溶剤を含むインキが挙げられる。無電解めっき触媒としては、高い触媒活性が得られることから、パラジウム、銀、白金、および金などの金属原子の塩化物、水酸化物、酸化物、硫酸塩、アンモニウム塩などのアンミン錯体などが用いられる。特に、パラジウム化合物が好ましく、更に塩化パラジウムが好ましい。   Examples of the electroless plating catalyst ink used in the method a) include inks containing an electroless plating catalyst, a binder resin, and an organic solvent. As electroless plating catalysts, high catalytic activity can be obtained, such as chlorides, hydroxides, oxides, sulfates and ammonium salts of metal atoms such as palladium, silver, platinum, and gold, etc. Used. In particular, a palladium compound is preferable and palladium chloride is more preferable.

上記b)の方法に用いられる還元剤を含有するインキとしては、還元剤、バインダー樹脂及び溶剤が含むインキが挙げられる。還元剤としては、無電解めっき触媒になり得る金属のイオンと接触することで、該金属イオンを金属に還元し自らは酸化反応を起こすことのできる物質であれば特に限定されない。例えば、Pb、Sn、Ni、Co、Zn、Ti、Cu等の触媒金属より電気化学的に卑な金属の粒子や、Sn(II)、Fe(II)の塩等が挙げられる。これらの中でも、Sn(II)及びFe(II)からなる群から選ばれる金属の塩が好ましく、更にSn(II)の塩が好ましく用いられる。上記金属の塩としては、塩化物、硫酸塩、蓚酸塩、酢酸塩等が挙げられ、より好ましくは塩化物又は硫酸塩が挙げられる。特に好ましい金属塩としては、SnCl2及びSnSO4からなる群から選ばれる金属塩が用いられる。 Examples of the ink containing a reducing agent used in the method b) include inks containing a reducing agent, a binder resin, and a solvent. The reducing agent is not particularly limited as long as it is a substance capable of causing an oxidation reaction by itself by reducing the metal ion to a metal by contact with a metal ion that can be an electroless plating catalyst. For example, particles of metal that are electrochemically lower than catalytic metals such as Pb, Sn, Ni, Co, Zn, Ti, and Cu, and salts of Sn (II) and Fe (II), and the like can be given. Among these, a metal salt selected from the group consisting of Sn (II) and Fe (II) is preferable, and a salt of Sn (II) is preferably used. Examples of the metal salts include chlorides, sulfates, oxalates, acetates, and the like, and more preferably chlorides or sulfates. As a particularly preferred metal salt, a metal salt selected from the group consisting of SnCl 2 and SnSO 4 is used.

上記の還元剤を含有するインキが基材フィルム上にパターン印刷された後、還元剤含有パターン層上に、還元により無電解めっき触媒になり得る金属イオンを含む金属イオン溶液を塗布し、前記還元剤と金属イオンとの接触により該金属イオンを還元して無電解めっき触媒層を形成させる。かかる金属イオン溶液に含まれる金属イオンとしては、Ag、Au、Pd、Pt、Rhなどの金属のイオンが挙げられる。これらの中でも、Pd(II)イオン、Ag(I)イオンが好ましく用いられる。上記金属イオンを含む溶液は、金属塩を溶液に溶解することにより得られる。用いられる金属塩としては、塩化物、臭化物、酢酸塩、硝酸塩、クエン酸塩等が挙げられる。具体的には、PdCl2、PdBr2、Pd(CH3COO)2等のPd(II)塩、CH3COOAg、AgNO3、クエン酸銀(I)等のAg(I)塩、等が挙げられる。 After the ink containing the reducing agent is pattern-printed on the substrate film, a metal ion solution containing metal ions that can become an electroless plating catalyst by reduction is applied on the reducing agent-containing pattern layer, and the reduction is performed. The metal ions are reduced by contact between the agent and the metal ions to form an electroless plating catalyst layer. Examples of metal ions contained in the metal ion solution include ions of metals such as Ag, Au, Pd, Pt, and Rh. Among these, Pd (II) ions and Ag (I) ions are preferably used. The solution containing the metal ions can be obtained by dissolving a metal salt in the solution. Examples of the metal salt used include chloride, bromide, acetate, nitrate, citrate and the like. Specific examples include Pd (II) salts such as PdCl 2 , PdBr 2 and Pd (CH 3 COO) 2 , Ag (I) salts such as CH 3 COOAg, AgNO 3 and silver citrate (I). It is done.

上記a)、b)のパターン印刷に用いられる印刷方法としては、グラビア印刷、フレキソ印刷、グラビアオフセット印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、静電印刷等の公知の印刷方法が挙げられる。これらの中でも、生産性よく高精細で連続的にメッシュパターンが形成できることからグラビア印刷が好ましく用いられる。   Examples of the printing method used for the pattern printing of a) and b) include known printing methods such as gravure printing, flexographic printing, gravure offset printing, screen printing, inkjet printing, and electrostatic printing. Among these, gravure printing is preferably used because a mesh pattern can be formed continuously with high productivity and high definition.

また、上記b)の方法については、例えば特開2009−123408号公報に記載されており、本発明に用いることが可能である。   The method b) is described in, for example, JP-A-2009-123408, and can be used in the present invention.

上述のa)あるいはb)の方法で、基材フィルム上にメッシュパターン状の無電解メッキ触媒層が形成された後、無電解メッキが施される。無電解メッキに用いられる金属としては、銅、ニッケル、金、銀、錫、亜鉛、もしくはそれらの合金が挙げられる。これらの中でも銅が好ましく用いられる。この無電解メッキによって、基材フィルム上にメッシュ状導電層が形成される。更に、上記で形成されたメッシュ状導電層上に電解銅メッキを施すことができ、更に、メッシュ状導電層表面を黒化するために、黒色合金(亜鉛−ニッケル合金、ニッケル−錫合金等)をメッキすることができる。この黒色合金メッキを施すことは、干渉縞低減の観点から好ましい。   After the electroless plating catalyst layer having a mesh pattern is formed on the base film by the method a) or b), electroless plating is performed. Examples of the metal used for electroless plating include copper, nickel, gold, silver, tin, zinc, or alloys thereof. Among these, copper is preferably used. A mesh-like conductive layer is formed on the base film by this electroless plating. Furthermore, electrolytic copper plating can be performed on the mesh-like conductive layer formed as described above, and in order to blacken the surface of the mesh-like conductive layer, a black alloy (zinc-nickel alloy, nickel-tin alloy, etc.) Can be plated. The black alloy plating is preferable from the viewpoint of reducing interference fringes.

本発明にかかるメッシュ状導電層は、ディスプレイに設置したときに透光部となる部分以外、つまり画像表示領域以外の部分や額縁印刷に隠れた部分は、必ずしもメッシュパターンを有している必要がなく、これらの部分はパターニングされていない、例えば金属ベタであっても良い。しかし、メッシュ状導電層上に表面層を生産性よく均一に連続塗工するというという観点から、メッシュ状導電層は連続的にメッシュパターンが形成されていることが好ましい。   The mesh-like conductive layer according to the present invention needs to have a mesh pattern other than a portion that becomes a light-transmitting portion when installed on a display, that is, a portion other than an image display area or a portion hidden in frame printing. Alternatively, these portions may be unpatterned, for example, a solid metal. However, it is preferable that a mesh pattern is continuously formed on the mesh-like conductive layer from the viewpoint of uniformly coating the surface layer on the mesh-like conductive layer with good productivity.

上記の連続的にメッシュパターンが形成されているとは、例えば、長尺の基材フィルムの長手方向にメッシュ状導電層のメッシュパターンが途切れることなく連続的に形成されていることを言う。   That the mesh pattern is continuously formed means that, for example, the mesh pattern of the mesh-like conductive layer is continuously formed in the longitudinal direction of the long base film without interruption.

(基材フィルム)
本発明のディスプレイ用フィルターに用いられる基材フィルムとしては、プラスチックフィルムが好ましい。かかるプラスチックフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アートン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂及びセルロース樹脂が好ましく、特にポリエステル樹脂が好ましく用いられ、更にポリエチレンテレフタレートが好ましく用いられる。また、基材フィルムは、上記の樹脂からなる層が2層以上積層された積層プラスチックフィルムであってもよい。
(Base film)
As a base film used for the display filter of the present invention, a plastic film is preferable. Examples of the resin constituting the plastic film include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, cellulose resins such as triacetyl cellulose, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and polybutylene, acrylic resins, polycarbonate resins, arton resins, and epoxy resins. , Polyimide resin, polyetherimide resin, polyamide resin, polysulfone resin, polyphenylene sulfide resin, polyether sulfone resin, and the like. Among these, polyester resins, polyolefin resins, and cellulose resins are preferable, polyester resins are particularly preferably used, and polyethylene terephthalate is more preferably used. The base film may be a laminated plastic film in which two or more layers made of the above resin are laminated.

基材フィルムの厚みとしては、50〜300μmの範囲が適当であるが、コスト及びディスプレイ用フィルターの剛性を確保するという観点から90〜250μmの範囲が特に好ましい。   The thickness of the substrate film is suitably in the range of 50 to 300 μm, but is preferably in the range of 90 to 250 μm from the viewpoint of securing cost and rigidity of the display filter.

本発明に用いられる基材フィルムは、前述した表面層、メッシュ状導電層あるいは後述する近赤外線遮蔽層等との密着性(接着強度)を強化するための易接着層(プライマー層)を有するプラスチックフィルムが好ましい。   The base film used in the present invention is a plastic having an easy-adhesion layer (primer layer) for enhancing adhesion (adhesion strength) with the above-described surface layer, mesh-like conductive layer, or near-infrared shielding layer described later. A film is preferred.

本発明にかかるディスプレイ用フィルターは、基材フィルムが1枚のみで構成されていることが好ましい。   The display filter according to the present invention is preferably composed of only one base film.

(近赤外線遮蔽層)
基材フィルムのメッシュ状導電層が積層された側の面とは反対面に、近赤外線遮蔽層を有することが好ましい。かかる近赤外線遮蔽層は、波長800〜1100nmの範囲における平均透過率が20%以下となるように調整するのが好ましい。
(Near-infrared shielding layer)
It is preferable to have a near-infrared shielding layer on the surface opposite to the surface on which the mesh-like conductive layer of the base film is laminated. The near-infrared shielding layer is preferably adjusted so that the average transmittance in the wavelength range of 800 to 1100 nm is 20% or less.

近赤外線遮蔽層は、近赤外線吸収剤を含む樹脂層であってもよいし、近赤外線吸収剤を含む粘着剤層であってもよい。近赤外線吸収剤としては、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物等の有機系近赤外線吸収剤、あるいは酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、硫化亜鉛、セシウム含有酸化タングステン等の無機系近赤外線吸収剤を用いることができる。   The near-infrared shielding layer may be a resin layer containing a near-infrared absorber or a pressure-sensitive adhesive layer containing a near-infrared absorber. Near-infrared absorbers include organic near-infrared absorbers such as phthalocyanine compounds, anthraquinone compounds, dithiol compounds, diimonium compounds, or titanium oxide, zinc oxide, indium oxide, tin oxide, zinc sulfide, cesium-containing oxides An inorganic near infrared absorber such as tungsten can be used.

樹脂バインダーとしては、ポリエステル系樹脂、( メタ) アクリル系樹脂、( メタ) アクリルウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等が好ましく用いられ、中でも( メタ) アクリル系樹脂が好適である。   As the resin binder, polyester resins, (meth) acrylic resins, (meth) acrylic urethane resins, polycarbonate resins, and the like are preferably used, and (meth) acrylic resins are particularly preferable.

粘着剤としては、アクリル系、シリコーン系、ウレタン系、ポリビニルブチラール系、エチレン−酢酸ビニル系等の粘着剤層を用いることができる。特にアクリル系粘着剤が好ましい。   As the pressure-sensitive adhesive, an acrylic, silicone-based, urethane-based, polyvinyl butyral, or ethylene-vinyl acetate-based pressure-sensitive adhesive layer can be used. An acrylic adhesive is particularly preferable.

近赤外線遮蔽層には、更に、570〜610nmに極大吸収を有する色素、例えばテトラアザポルフィリン系色素を含有させることが好ましい。前記吸収極大波長における透過率は30%以下となるように調整することが好ましい。   The near-infrared shielding layer preferably further contains a dye having a maximum absorption at 570 to 610 nm, for example, a tetraazaporphyrin-based dye. The transmittance at the absorption maximum wavelength is preferably adjusted to be 30% or less.

また、近赤外線遮蔽層には、500nm付近、550nm付近に吸収を有する色素を含有させて色補正機能を付与することができる。   The near-infrared shielding layer can be provided with a color correction function by containing a dye having absorption in the vicinity of 500 nm and 550 nm.

(粘着剤層)
本発明のディスプレイ用フィルターは、基材フィルムに対してメッシュ状導電層とは反対側の最表面に粘着剤層を有することが好ましい。かかる粘着剤層は、本発明のディスプレイ用フィルターを、ディスプレイに直接にあるいはガラス板やアクリル板等の高剛性の透明基板を介して間接的に貼り付ける役目を有する。本発明のディスプレイ用フィルターは、ディスプレイ用フィルターに直接に貼り付けられることが好ましい。
(Adhesive layer)
The display filter of the present invention preferably has an adhesive layer on the outermost surface on the side opposite to the mesh-like conductive layer with respect to the base film. The pressure-sensitive adhesive layer has a function of attaching the display filter of the present invention directly to the display or indirectly through a high-rigidity transparent substrate such as a glass plate or an acrylic plate. The display filter of the present invention is preferably attached directly to the display filter.

また、近赤外線遮蔽層が粘着剤層である場合は、この粘着剤層が上記の貼着用粘着剤層の役目を兼ねることができる。   Moreover, when a near-infrared shielding layer is an adhesive layer, this adhesive layer can serve as the above-mentioned adhesive layer for sticking.

(ディスプレイ用フィルターの構成)
本発明にかかるディスプレイ用フィルターは、1枚のみの基材フィルムからなる1枚基材フィルターであることが好ましい。かかる1枚基材フィルターの好ましい構成例を以下に例示するが、本発明はこれらに限定されない。
1)粘着剤層/近赤外線遮蔽層/基材フィルム/メッシュ状導電層/表面層(ハードコート層)
2)粘着剤層/近赤外線遮蔽層/基材フィルム/メッシュ状導電層/表面層(ハードコート層/低屈折率層)
3)近赤外線遮蔽機能を有する粘着剤層/基材フィルム/メッシュ状導電層/表面層(ハードコート層)
4)近赤外線遮蔽機能を有する粘着剤層/基材フィルム/メッシュ状導電層/表面層(ハードコート層/低屈折率層)
(Configuration of display filter)
The display filter according to the present invention is preferably a single substrate filter composed of only one substrate film. Although the preferable structural example of this single substrate filter is illustrated below, this invention is not limited to these.
1) Adhesive layer / Near-infrared shielding layer / Base film / Mesh-like conductive layer / Surface layer (hard coat layer)
2) Adhesive layer / Near-infrared shielding layer / Base film / Mesh-like conductive layer / Surface layer (hard coat layer / low refractive index layer)
3) Pressure-sensitive adhesive layer having a near-infrared shielding function / base film / mesh-like conductive layer / surface layer (hard coat layer)
4) Adhesive layer having a near-infrared shielding function / base film / mesh-like conductive layer / surface layer (hard coat layer / low refractive index layer)

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれにより何ら制限されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

(評価方法)
(1)表面層表面の中心線平均粗さRaの測定
JIS B0601(1982)に基づき、表面粗さ測定器SE−3400((株)小坂研究所製)を用いて測定した。サンプルの5箇所について計測し、その平均値を求め、表面層表面の中心線平均粗さRaとした。なお測定の際は、サンプルの粘着剤層側を厚み2.5mmのガラス板に貼り付けたものを用いた。また、上記の計測に際し、測定針の移動方向を、メッシュ状導電層の細線部に平行で、かつメッシュ状導電層の開口部のほぼ中心を通るようにセットし、測定した。
<測定条件>
送り速さ;0.5mm/S
カットオフ値λc;0.25mm
評価長さ;8mm。
(Evaluation methods)
(1) Measurement of center line average roughness Ra of surface layer surface Based on JIS B0601 (1982), it measured using surface roughness measuring instrument SE-3400 (made by Kosaka Laboratory). It measured about five places of the sample, the average value was calculated | required, and it was set as centerline average roughness Ra of the surface layer surface. In addition, in the case of the measurement, what stuck the adhesive layer side of the sample to the glass plate of thickness 2.5mm was used. In the above measurement, the measuring needle was moved in the direction parallel to the fine wire portion of the mesh-like conductive layer and passed through the approximate center of the opening of the mesh-like conductive layer.
<Measurement conditions>
Feeding speed: 0.5mm / S
Cut-off value λc; 0.25 mm
Evaluation length: 8 mm.

(2)メッシュ状導電層及び表面層の厚みの測定
図1に示すようにメッシュ状導電層の開口部の重心を通る線分Yに従ってミクロトームにてサンプル断面を切り出し、その断面を電解放射型走査電子顕微鏡((株)日立製S―800、加速電圧26kV、観察倍率3000倍)にて観察して、メッシュ状導電層の厚み、表面層のメッシュ状導電層表面からの厚み(L)、及び表面層の基材フィルムからの厚み(M)を計測した。各実施例及び比較例について、20cm×20cmサイズのサンプル1枚から任意の5箇所についてそれぞれ計測し平均した。
(2) Measurement of the thickness of the mesh-like conductive layer and the surface layer As shown in FIG. 1, the sample cross section is cut out with a microtome according to the line segment Y passing through the center of gravity of the opening of the mesh-like conductive layer, and the cross section is electrolytically scanned. Observed with an electron microscope (Hitachi S-800, acceleration voltage 26 kV, observation magnification 3000 times), the thickness of the mesh-like conductive layer, the thickness of the surface layer from the mesh-like conductive layer surface (L), and The thickness (M) of the surface layer from the base film was measured. About each Example and the comparative example, it measured and averaged each of arbitrary 5 places from one sample of 20 cm x 20 cm size.

(3)メッシュ状導電層の線幅、ピッチの測定
(株)キーエンス製デジタルマイクロスコープ(VHX−200)を用いて、倍率450倍で表面観察を行った。その測長機能を用いて、格子状メッシュ状導電層の線幅とピッチを測長した。各実施例及び比較例について、20cm×20cmサイズのサンプル1枚から、任意の5箇所について計測し平均した。
(3) Measurement of line width and pitch of mesh-like conductive layer Surface observation was performed at a magnification of 450 times using a Keyence digital microscope (VHX-200). Using the length measurement function, the line width and pitch of the lattice mesh conductive layer were measured. About each Example and the comparative example, it measured and averaged five arbitrary places from one sample of 20 cm x 20 cm size.

(4)光沢感の評価
<評価用サンプルの作成>
各サンプルの粘着剤層側をガラス板に貼り付け、該ガラス板の反対面(ディスプレイ用フィルターサンプルが貼り付けられた面とは反対側の面)に黒テープ(日東電工製 No.21トク(BC))を貼り付けて評価用サンプルを作製した。
<評価>
暗室中で、評価用サンプルのディスプレイ用フィルター側最表面から直上50cmの場所に3波長蛍光灯(ナショナル パルック 3波長形昼白色(F.L 15EX-N 15W))を設置する。評価用サンプルのディスプレイ用フィルター側最表面を正面30cmの距離から目視観察し、ディスプレイ用フィルター側最表面に映り込んだ蛍光灯像の輪郭の鮮明性を以下の基準で評価する。
・映り込み像の輪郭が鮮明に見える : ○
・映り込み像の輪郭が僅かに不鮮明 : △
・映り込み像の輪郭が不鮮明 : ×。
(4) Evaluation of glossiness <Preparation of sample for evaluation>
The adhesive layer side of each sample is attached to a glass plate, and black tape (Nitto Denko No. 21 Tokoku (Nitto Denko Corporation) is attached to the opposite side of the glass plate (the side opposite to the side on which the display filter sample is attached). BC)) was affixed to produce a sample for evaluation.
<Evaluation>
In a dark room, install a three-wavelength fluorescent lamp (National Parrook, three-wavelength daylight white (FL 15EX-N 15W)) at a location 50 cm directly above the surface of the display filter side of the sample for evaluation. The display filter side outermost surface of the evaluation sample is visually observed from a distance of 30 cm in front, and the sharpness of the contour of the fluorescent lamp image reflected on the display filter side outermost surface is evaluated according to the following criteria.
・ The outline of the reflected image is clearly visible: ○
・ The outline of the reflected image is slightly blurred: △
・ The outline of the reflected image is unclear: ×.

(5)透明感の評価
ディスプレイ用フィルターの表面層側の透明感が低下すると、ディスプレイ用フィルターを介して視認される黒画像が白っぽく見えるようになるので、黒画像が白っぽく見える程度を下記の方法で評価した。
上記(4)と同様にして評価用サンプルを作製する。この評価用サンプルを一般的な事務作業部屋(照度は蛍光灯下約500ルックス)の机上に評価用サンプルのディスプレイ用フィルター側が上になるように置いて、評価用サンプルを斜め45°の角度から目視で観察し、評価用サンプルの裏面の黒テープの黒がどの程度白っぽく見えるかを以下の基準で評価した。
・黒が全く白っぽく見えない : ○
・黒がやや白っぽく見える : △
・黒がかなり白っぽく見える : ×。
(5) Evaluation of transparency When the transparency on the surface layer side of the display filter is reduced, the black image viewed through the display filter appears whitish. It was evaluated with.
An evaluation sample is prepared in the same manner as in (4) above. This evaluation sample is placed on a desk in a general office work room (illuminance is about 500 lux under fluorescent lamp) so that the display filter side of the evaluation sample is on the top, and the evaluation sample is inclined from a 45 ° angle. It was observed visually, and how much whitish black of the black tape on the back of the evaluation sample looked was evaluated according to the following criteria.
・ Black does not look white at all: ○
・ Black looks a little whitish: △
・ Black looks quite whitish: ×.

(6)耐擦傷性の評価;スチールウール硬度評価
耐擦傷性は、ディスプレイ用フィルターの表面層表面を#0000のスチールウールに250gの荷重をかけて、ストローク幅10cm、速度30mm/secで10往復摩擦した後、表面を目視で観察し、傷の付き方を次の5段階で評価した。
5級:傷が全く付かない
4級:傷が1本以上5本以下
3級:傷が6本以上10本以下
2級:傷が11本以上
1級:全面に無数の傷
上記評価において、3級、4級、5級のいずれかであれば合格レベル(○)であり、1級及び2級は不可レベル(×)である。
(6) Evaluation of scratch resistance; steel wool hardness evaluation The scratch resistance is 10 reciprocations at a stroke width of 10 cm and a speed of 30 mm / sec by applying a load of 250 g to # 0000 steel wool on the surface layer surface of the display filter. After rubbing, the surface was visually observed, and the scratching was evaluated in the following five stages.
5th grade: No scratches 4th grade: 1 or more and 5 or less scratches 3rd grade: 6 or more and 10 or less scratches 2nd grade: 11 or more scratches 1st grade: Countless scratches on the entire surface In the above evaluation, If it is any of the third grade, the fourth grade, and the fifth grade, it is a pass level (◯), and the first grade and the second grade are impossible levels (×).

(7)干渉縞の評価
上記(4)と同様にして評価用サンプルを作製する。暗室中で、評価用サンプルのディスプレイ用フィルター側最表面から直上50cmの場所に3波長蛍光灯(ナショナル パルック 3波長形昼白色(F.L 15EX-N 15W))を設置する。評価用サンプルのディスプレイ用フィルター側最表面を正面30cmの距離から目視観察し、干渉縞の発生程度を以下の基準で評価する。
・干渉縞の発生がほとんど認められない : ○
・干渉縞の発生が認められる : ×。
(7) Evaluation of interference fringes An evaluation sample is produced in the same manner as in (4) above. In a dark room, install a three-wavelength fluorescent lamp (National Parrook, three-wavelength daylight white (FL 15EX-N 15W)) at a location 50 cm directly above the surface of the display filter side of the sample for evaluation. The display filter outermost surface of the sample for evaluation is visually observed from a distance of 30 cm in front, and the degree of occurrence of interference fringes is evaluated according to the following criteria.
-Almost no interference fringes are observed: ○
-Generation of interference fringes is observed: x.

(8)表面層側の表面抵抗率と帯電防止性
表面層側の表面抵抗率をJIS K6911(1995)に準拠して、高抵抗率計(三菱化学株式会社製「Hiresta(登録商標)−UPMCP−HT450」)を用いて測定した。ただし、導電性ゴムまたは導電性ペイントで裏面電極を形成する代わりに、金属板の上にサンプルを設置し、測定雰囲気は温度20℃、湿度30%RHとした。サンプルは、表面層とは反対側に粘着剤層を形成する前、または粘着剤層を剥がしたものとし、基材フィルム面に裏面電極代わりの金属板を密着させて測定した。印加電圧は500Vとし、表面抵抗率が1×1013Ω/□以上となる場合は1000Vにした。測定した結果を以下の基準で評価した。
◎:表面抵抗率が1×1011Ω/□未満であり帯電防止性に優れる。
○:表面抵抗率が1×1011Ω/□以上1×1012Ω/□未満であり帯電防止性が良好である。
×:表面抵抗率が1×1012Ω/□以上であり帯電防止性が不良である。
(8) Surface resistivity and antistatic property on the surface layer side According to JIS K6911 (1995), the surface resistivity on the surface layer side is a high resistivity meter (“Hiresta (registered trademark) -UPMCP manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation). -HT450 "). However, instead of forming the back electrode with conductive rubber or conductive paint, a sample was placed on a metal plate, and the measurement atmosphere was a temperature of 20 ° C. and a humidity of 30% RH. The sample was measured before the pressure-sensitive adhesive layer was formed on the side opposite to the surface layer, or after the pressure-sensitive adhesive layer was peeled off, and a metal plate instead of the back electrode was adhered to the base film surface. The applied voltage was 500 V, and 1000 V when the surface resistivity was 1 × 10 13 Ω / □ or more. The measurement results were evaluated according to the following criteria.
A: The surface resistivity is less than 1 × 10 11 Ω / □, and the antistatic property is excellent.
○: The surface resistivity is 1 × 10 11 Ω / □ or more and less than 1 × 10 12 Ω / □, and the antistatic property is good.
X: The surface resistivity is 1 × 10 12 Ω / □ or more and the antistatic property is poor.

(9)金属酸化物微粒子の数平均粒子径の測定
金属酸化物微粒子の数平均粒子径は、透過型電子顕微鏡((株)日立製作所製のH−7100FA型)を用いて、無機系微粒子分散物を倍率10万〜50万倍で撮影して得られた写真投影図において、任意の50個の粒子についてそれぞれの最大径を測定し、平均したものである。撮影倍率は、金属酸化物微粒子の数平均粒子径に応じて適宜選択する。
(9) Measurement of number average particle diameter of metal oxide fine particles The number average particle diameter of metal oxide fine particles is measured by using a transmission electron microscope (H-7100FA type manufactured by Hitachi, Ltd.) to disperse inorganic fine particles. In a photographic projection obtained by photographing an object at a magnification of 100,000 to 500,000, the maximum diameter of each of 50 arbitrary particles is measured and averaged. The photographing magnification is appropriately selected according to the number average particle diameter of the metal oxide fine particles.

(10)表面層の屈折率の測定
シリコンウエハー上に乾燥膜厚が1.5μmとなるように、測定対象となる層の塗料をスピンコーターを用いて塗布する。次いでイナートオーブンINH−21CD(光洋サーモシステム(株)社製)を用いて、130℃で1分間、加熱硬化することにより被膜を形成する。この被膜について、位相差測定装置(ニコン(株)製:NPDM−1000)で633nmにおける屈折率を測定した。
(10) Measurement of refractive index of surface layer A coating material of a layer to be measured is applied onto a silicon wafer using a spin coater so that the dry film thickness is 1.5 μm. Next, using an inert oven INH-21CD (manufactured by Koyo Thermo System Co., Ltd.), a film is formed by heat curing at 130 ° C. for 1 minute. About this film, the refractive index in 633 nm was measured with the phase difference measuring apparatus (Nikon Co., Ltd. product: NPDM-1000).

(実施例1)
以下の要領でディスプレイ用フィルターを作製した。
<メッシュ状導電層の作製>
両面に易接着層が積層されたポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み100μm)の一方の面に、スパッタリング法によるニッケル層(厚み0.01μm)、真空蒸着法による銅層(厚み1.5μm)、スパッタリング法による窒化銅層(厚み0.03μm)をこの順に製膜した。続いて、上記の窒化銅層の表面にレジスト層(アルカリ現像型ネガレジストフィルム)を積層し、正方形の格子状メッシュパターンのマスクを介してレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施し、最後にレジスト層を剥離除去して、メッシュ状導電層を作製した。このメッシュ状導電層は、開口部が正方形の格子状パターンであり、厚みが1.5μm、線幅が20μm、ピッチが300μmであった。
Example 1
A display filter was prepared as follows.
<Preparation of mesh conductive layer>
On one side of a polyethylene terephthalate film (thickness 100 μm) with an easy adhesion layer laminated on both sides, a nickel layer (thickness 0.01 μm) by sputtering, a copper layer (thickness 1.5 μm) by vacuum deposition, and by sputtering A copper nitride layer (thickness 0.03 μm) was formed in this order. Subsequently, a resist layer (alkali developing negative resist film) is laminated on the surface of the copper nitride layer, the resist layer is exposed and developed through a square lattice mesh pattern mask, and then subjected to an etching treatment. Finally, the resist layer was peeled and removed to produce a mesh-like conductive layer. This mesh-shaped conductive layer had a square lattice pattern with openings, a thickness of 1.5 μm, a line width of 20 μm, and a pitch of 300 μm.

<表面層の形成>
上記のメッシュ状導電層上に、表面層として下記のハードコート層を積層した。
<ハードコート層>
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを46質量部、ウレタンアクリレートを40質量部、金属酸化物微粒子としてリンドープ酸化錫(数平均粒子径15nm)を10質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)を3.5質量部、フッ素系界面活性剤(DIC(株)「ディフェンサ(登録商標)MCF−350−SF」0.5質量部を、有機溶媒(プロパノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンの混合溶媒)で溶解・分散して固形分濃度が45質量%の塗料を調製した。
上記のようにして調製した塗料をグラビアコーターで塗工し、100℃で乾燥後、紫外線を照射して硬化させてハードコート層を形成した。このハードコート層の厚み(乾燥硬化後の厚み)は、図2の表面層の基材フィルム表面からの厚みMが約6μmとなるように塗工した。このハードコート層の屈折率は、1.52であった。
<Formation of surface layer>
The following hard coat layer was laminated as a surface layer on the mesh conductive layer.
<Hard coat layer>
46 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 40 parts by mass of urethane acrylate, 10 parts by mass of phosphorus-doped tin oxide (number average particle diameter 15 nm) as metal oxide fine particles, photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 3.5 parts by mass of “Irgacure (registered trademark) 184”) and 0.5 parts by mass of a fluorosurfactant (DIC Corporation “Defenser (registered trademark) MCF-350-SF”) , A mixed solvent of methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone) to prepare a coating material having a solid content concentration of 45 mass%.
The coating material prepared as described above was applied with a gravure coater, dried at 100 ° C., and then cured by irradiation with ultraviolet rays to form a hard coat layer. The thickness of the hard coat layer (thickness after drying and curing) was applied such that the thickness M from the surface of the base film of the surface layer in FIG. 2 was about 6 μm. The refractive index of this hard coat layer was 1.52.

<ディスプレイ用フィルターの作製>
上記ポリエチレンテレフタレートフィルムのメッシュ状導電層及び表面層が形成されている面とは反対面に、下記の近赤外線遮蔽機能を有する粘着剤層を積層してディスプレイ用フィルターを作製した。
<近赤外線遮蔽機能を有する粘着剤層の積層>
アクリル系粘着剤200質量部(粘着剤成分に換算した量として)に、ジイモニウム系近赤外線吸収色素を3質量部、フタロシアニン系近赤外線吸収色素を1質量部、570〜610nmに極大吸収波長を有するネオン光カット色素としてテトラアザポルフィリン(三井化学(株)製、商品名「PD−320」)0.3質量部を混合したものを乾燥厚みが25μmとなるように、離型PETフィルム(厚み38μm)上にスロットダイコーターで塗工し、乾燥して粘着剤層を形成した。次に、この離型PETフィルムに塗工された粘着剤層を、上記ポリエチレンテレフタレートフィルムのメッシュ状導電層及び表面層が形成されている面とは反対面に積層した。
<Preparation of display filter>
A display-use filter was prepared by laminating a pressure-sensitive adhesive layer having the following near-infrared shielding function on the surface opposite to the surface on which the mesh-like conductive layer and surface layer of the polyethylene terephthalate film were formed.
<Lamination of pressure-sensitive adhesive layer having a near-infrared shielding function>
200 parts by mass of acrylic pressure-sensitive adhesive (as an amount converted to the pressure-sensitive adhesive component) has 3 parts by weight of diimonium-based near infrared absorbing dye, 1 part by weight of phthalocyanine-based near infrared absorbing dye, and has a maximum absorption wavelength at 570 to 610 nm. A release PET film (thickness: 38 μm) prepared by mixing 0.3 part by mass of tetraazaporphyrin (trade name “PD-320”, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) as a neon light cut pigment so that the dry thickness is 25 μm. ) Coated with a slot die coater and dried to form an adhesive layer. Next, the pressure-sensitive adhesive layer applied to the release PET film was laminated on the surface opposite to the surface on which the mesh-like conductive layer and the surface layer of the polyethylene terephthalate film were formed.

(実施例2)
下記のハードコート層に変更する以外は、実施例1と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
<ハードコート層>
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを46質量部、ウレタンアクリレートを45質量部、金属酸化物微粒子としてリンドープ酸化錫(数平均粒子径15nm)を5質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)を3.5質量部、フッ素系界面活性剤(DIC(株)「ディフェンサ(登録商標)MCF−350−SF」0.5質量部を、有機溶媒(プロパノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンの混合溶媒)で溶解・分散して、固形分濃度が45質量%の塗料を調製した。このハードコート層の屈折率は、1.51であった。
(Example 2)
A display filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer was changed to the following.
<Hard coat layer>
46 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 45 parts by mass of urethane acrylate, 5 parts by mass of phosphorus-doped tin oxide (number average particle diameter 15 nm) as metal oxide fine particles, photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 3.5 parts by mass of “Irgacure (registered trademark) 184”) and 0.5 parts by mass of a fluorosurfactant (DIC Corporation “Defenser (registered trademark) MCF-350-SF”) And a coating solution having a solid content concentration of 45% by mass was prepared by dissolving and dispersing in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, and the refractive index of the hard coat layer was 1.51.

(実施例3)
下記のハードコート層に変更する以外は、実施例1と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
<ハードコート層>
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを46質量部、ウレタンアクリレートを35質量部、金属酸化物微粒子としてリンドープ酸化錫(数平均粒子径15nm)を15質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)を3.5質量部、フッ素系界面活性剤(DIC(株)「ディフェンサ(登録商標)MCF−350−SF」0.5質量部を、有機溶媒(プロパノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンの混合溶媒)で溶解・分散して、固形分濃度が45質量%の塗料を調製した。このハードコート層の屈折率は1.53であった。
(Example 3)
A display filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer was changed to the following.
<Hard coat layer>
46 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 35 parts by mass of urethane acrylate, 15 parts by mass of phosphorus-doped tin oxide (number average particle size 15 nm) as fine metal oxide particles, photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 3.5 parts by mass of “Irgacure (registered trademark) 184”) and 0.5 parts by mass of a fluorosurfactant (DIC Corporation “Defenser (registered trademark) MCF-350-SF”) And a coating solution having a solid content concentration of 45% by mass was dissolved and dispersed in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, and the refractive index of the hard coat layer was 1.53.

(実施例4)
実施例1において、ハードコート層の厚み(図2の表面層の基材フィルム表面からの厚みM)が約4μmとなるように塗工する以外は、実施例1と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
Example 4
In Example 1, the display filter was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer was coated so that the thickness of the hard coat layer (the thickness M from the surface of the base film of FIG. 2) was about 4 μm. Produced.

(実施例5)
実施例1において、ハードコート層の厚み(図2の表面層の基材フィルム表面からの厚みM)が約7μmとなるように塗工する以外は、実施例1と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
(Example 5)
In Example 1, the display filter was prepared in the same manner as in Example 1 except that coating was performed so that the thickness of the hard coat layer (the thickness M of the surface layer of FIG. 2 from the substrate film surface) was about 7 μm. Produced.

(実施例6)
下記のハードコート層に変更する以外は、実施例1と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
<ハードコート層>
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを46質量部、ウレタンアクリレートを40質量部、金属酸化物微粒子としてアンチモンドープ酸化錫(数平均粒子径30nm)を10質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)を3.5質量部、フッ素系界面活性剤(DIC(株)「ディフェンサ(登録商標)MCF−350−SF」0.5質量部を、有機溶媒(プロパノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンの混合溶媒)で溶解・分散して固形分濃度が45質量%の塗料を調製した。このハードコート層の屈折率は、1.52であった。
(Example 6)
A display filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer was changed to the following.
<Hard coat layer>
46 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 40 parts by mass of urethane acrylate, 10 parts by mass of antimony-doped tin oxide (number average particle diameter 30 nm) as metal oxide fine particles, photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ) "Irgacure (registered trademark) 184") 3.5 parts by mass, fluorosurfactant (DIC Corporation "Defenser (registered trademark) MCF-350-SF" 0.5 parts by mass, organic solvent ( A paint having a solid content concentration of 45% by mass was prepared by dissolving and dispersing in a mixed solvent of propanol, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone, and the refractive index of the hard coat layer was 1.52.

(比較例1)
実施例1において、ハードコート層の厚み(図2の表面層の基材フィルム表面からの厚みM)が約9μmとなるように塗工する以外は、実施例1と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
(Comparative Example 1)
In Example 1, a display filter was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer was coated so that the thickness of the hard coat layer (the thickness M of the surface layer from FIG. 2) was about 9 μm. Produced.

(比較例2)
下記のハードコート層に変更する以外は、実施例1と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
<ハードコート層>
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを46質量部、ウレタンアクリレートを40質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)を3.5質量部、フッ素系界面活性剤(DIC(株)「ディフェンサ(登録商標)MCF−350−SF」0.5質量部を、有機溶媒(プロパノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンの混合溶媒)で溶解・分散して固形分濃度が45質量%の塗料を調製した。このハードコート層の屈折率は1.50であった。
(Comparative Example 2)
A display filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer was changed to the following.
<Hard coat layer>
46 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 40 parts by mass of urethane acrylate, 3.5 parts by mass of photopolymerization initiator (“Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals), fluorine-based interface 0.5 parts by mass of an activator (DIC Corporation “Defenser (registered trademark) MCF-350-SF”) is dissolved and dispersed in an organic solvent (a mixed solvent of propanol, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone) to obtain a solid content concentration. A paint of 45% by mass was prepared, and the refractive index of this hard coat layer was 1.50.

(比較例3)
下記のハードコート層に変更する以外は、実施例1と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
<ハードコート層>
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを36質量部、ウレタンアクリレートを35質量部、金属酸化物微粒子としてリンドープ酸化錫(数平均粒子径15nm)を25質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)を3.5質量部、フッ素系界面活性剤(DIC(株)「ディフェンサ(登録商標)MCF−350−SF」0.5質量部を、有機溶媒(プロパノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンの混合溶媒)で溶解・分散して固形分濃度が45質量%の塗料を調製した。このハードコート層の屈折率は1.54であった。
(Comparative Example 3)
A display filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer was changed to the following.
<Hard coat layer>
36 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 35 parts by mass of urethane acrylate, 25 parts by mass of phosphorus-doped tin oxide (number average particle diameter 15 nm) as metal oxide fine particles, photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 3.5 parts by mass of “Irgacure (registered trademark) 184”) and 0.5 parts by mass of a fluorosurfactant (DIC Corporation “Defenser (registered trademark) MCF-350-SF”) , A mixed solvent of methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone) to prepare a paint having a solid content concentration of 45% by mass, and the refractive index of this hard coat layer was 1.54.

(比較例4)
比較例2において、ハードコート層の厚み(図2の表面層の基材フィルム表面からの厚みM)が約2μmとなるように塗工する以外は、実施例1と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
(Comparative Example 4)
In Comparative Example 2, the display filter was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer was coated so that the thickness (the thickness M of the surface layer of FIG. 2 from the surface of the base film) was about 2 μm. Produced.

(実施例7)
以下の要領でディスプレイ用フィルターを作製した。
<メッシュ状導電層の作製>
<メッシュパターン状の無電解メッキ触媒層の形成>
両面に易接着層が積層されたポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み100μm)の一方の面に、ポリエステル樹脂と該ポリエステル樹脂に対して無電解メッキ触媒(塩化パラジウム)を10質量%含む無電解めっき触媒インキをメッシュパターン状にグラビア印刷し、加熱乾燥してメッシュパターン状の無電解めっき触媒層を形成した。このメッシュパターン状の無電解めっき触媒層は、開口部が正方形の格子状パターンであり、線幅が20μm、ピッチが300μmであった。
<銅メッキ>
上記無電解めっき触媒層を5%の硫酸により脱脂処理した後、無電解銅メッキを施して無電解メッキ触媒層上に無電解銅メッキ層を形成した。続いて、上記無電解銅メッキ層上に電解銅メッキを施して電解銅メッキを形成した。上記無電解銅メッキ層と電解銅メッキ層の合計の厚みは1.8μmであった。
<黒化層の形成>
上記の電解銅メッキ層上に、更にニッケル−亜鉛合金メッキを施して、黒化層を有するメッシュ状導電層を作製した。このメッシュ状導電層は、厚みが4.3μm、線幅は23μm、ピッチが297μmであった。
<表面層の形成>
上記のメッシュ状導電層上に、実施例1と同様のハードコート層を、ハードコート層の厚み(図2の表面層の基材フィルム表面からの厚みM)が約10μmとなるように塗工する以外は、実施例1と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
(Example 7)
A display filter was prepared as follows.
<Preparation of mesh conductive layer>
<Formation of mesh pattern electroless plating catalyst layer>
On one surface of a polyethylene terephthalate film (thickness: 100 μm) having an easy adhesion layer laminated on both sides, an electroless plating catalyst ink containing 10% by mass of an electroless plating catalyst (palladium chloride) with respect to the polyester resin. Gravure printing was performed on the mesh pattern, and heating drying was performed to form a mesh pattern electroless plating catalyst layer. The mesh pattern-shaped electroless plating catalyst layer had a square lattice pattern with openings, a line width of 20 μm, and a pitch of 300 μm.
<Copper plating>
The electroless plating catalyst layer was degreased with 5% sulfuric acid and then subjected to electroless copper plating to form an electroless copper plating layer on the electroless plating catalyst layer. Subsequently, electrolytic copper plating was performed on the electroless copper plating layer to form electrolytic copper plating. The total thickness of the electroless copper plating layer and the electrolytic copper plating layer was 1.8 μm.
<Formation of blackened layer>
On the electrolytic copper plating layer, nickel-zinc alloy plating was further applied to prepare a mesh-like conductive layer having a blackened layer. This mesh conductive layer had a thickness of 4.3 μm, a line width of 23 μm, and a pitch of 297 μm.
<Formation of surface layer>
The same hard coat layer as in Example 1 was applied on the mesh-shaped conductive layer so that the thickness of the hard coat layer (the thickness M of the surface layer of FIG. 2 from the surface of the base film) was about 10 μm. A display filter was produced in the same manner as in Example 1 except that.

(比較例5)
実施例7のハードコート層を下記のハードコート層に変更する以外は、実施例7と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
<ハードコート層>
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを41質量部、ウレタンアクリレートを35質量部、金属酸化物微粒子として錫ドープ酸化インジウム(数平均粒子径150nm)を20質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)を3.5質量部、フッ素系界面活性剤(DIC(株)「ディフェンサ(登録商標)MCF−350−SF」0.5質量部を、有機溶媒(プロパノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンの混合溶媒)で溶解・分散して固形分濃度が45質量%の塗料を調製した。
上記のようにして調製した塗料をグラビアコーターで塗工し、100℃で乾燥後、紫外線を照射して硬化させてハードコート層を形成した。このハードコート層の厚み(乾燥硬化後の厚み)は、図2の表面層の基材フィルム表面からの厚みMが約14μmとなるように塗工した。このハードコート層の屈折率は1.52であった。
(Comparative Example 5)
A display filter was produced in the same manner as in Example 7 except that the hard coat layer of Example 7 was changed to the following hard coat layer.
<Hard coat layer>
41 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 35 parts by mass of urethane acrylate, 20 parts by mass of tin-doped indium oxide (number average particle diameter 150 nm) as metal oxide fine particles, photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ) "Irgacure (registered trademark) 184") 3.5 parts by mass, fluorosurfactant (DIC Corporation "Defenser (registered trademark) MCF-350-SF" 0.5 parts by mass, organic solvent ( A mixed solvent of propanol, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone) was dissolved and dispersed to prepare a coating material having a solid content concentration of 45% by mass.
The coating material prepared as described above was applied with a gravure coater, dried at 100 ° C., and then cured by irradiation with ultraviolet rays to form a hard coat layer. The thickness of the hard coat layer (thickness after drying and curing) was applied such that the thickness M from the surface of the base film of the surface layer in FIG. 2 was about 14 μm. The refractive index of this hard coat layer was 1.52.

(実施例8)
実施例1のハードコート層上に下記の反射防止層(低屈折率層のみ)を積層する以外は、実施例1と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
<反射防止層(低屈折率層)>
中空シリカ50質量部と紫外線硬化性アクリル樹脂(ジペンタエリスリトールトリアクリレート)50質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)2質量部を、メチルエチルケトンとイソプロピルアルコールの混合溶媒に溶解・分散して調整した低屈折率層形成用塗布液(固形分濃度3質量%)を、乾燥厚みが0.1μmとなるようにグラビアコーターで塗布し、乾燥後、紫外線を照射して硬化させて低屈折率層(屈折率1.35)を形成した。
(Example 8)
A display filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the following antireflection layer (only the low refractive index layer) was laminated on the hard coat layer of Example 1.
<Antireflection layer (low refractive index layer)>
50 parts by mass of hollow silica, 50 parts by mass of an ultraviolet curable acrylic resin (dipentaerythritol triacrylate), 2 parts by mass of a photopolymerization initiator (“Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) A low refractive index layer-forming coating solution (solid content concentration 3% by mass) prepared by dissolving and dispersing in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and isopropyl alcohol is applied with a gravure coater so that the dry thickness becomes 0.1 μm, and dried. Then, the low refractive index layer (refractive index 1.35) was formed by irradiating with ultraviolet rays and curing.

(評価)
上記で作製した実施例及び比較例のそれぞれのサンプルについて、表面層のメッシュ状導電層表面からの平均厚み(L)、表面層の基材フィルム表面からの平均厚み(M)、表面層表面の中心線平均粗さRa、表面層側の表面抵抗率(帯電防止性)、光沢感、透明感、耐擦傷性及び干渉縞について、測定及び評価をおこなった。その結果を表1に示す。
(Evaluation)
About each sample of the Example produced above and a comparative example, the average thickness (L) from the mesh-like conductive layer surface of the surface layer, the average thickness (M) from the substrate film surface of the surface layer, the surface layer surface The center line average roughness Ra, the surface resistivity (antistatic property) on the surface layer side, glossiness, transparency, scratch resistance and interference fringes were measured and evaluated. The results are shown in Table 1.

Figure 2012047779
Figure 2012047779

表1の結果から、本発明の実施例はいずれも、表面層側の表面抵抗率が低く帯電防止性に優れ、光沢感、透明感、耐擦傷性が良好で、干渉縞の発生も抑制されていることが分かる。   From the results shown in Table 1, all of the examples of the present invention have low surface resistivity on the surface layer side, excellent antistatic properties, good gloss, transparency and scratch resistance, and the occurrence of interference fringes is also suppressed. I understand that

一方、比較例1は、表面層のメッシュ状導電層表面からの平均厚み(L)が7μm以上であり、表面抵抗率が高く帯電防止性に劣るものである。また、比較例1は、表面層表面の中心線平均粗さRaが20nm未満となっており、干渉縞の発生が認められた。   On the other hand, in Comparative Example 1, the average thickness (L) from the surface of the mesh-like conductive layer of the surface layer is 7 μm or more, and the surface resistivity is high and the antistatic property is inferior. In Comparative Example 1, the center line average roughness Ra of the surface layer surface was less than 20 nm, and the occurrence of interference fringes was observed.

比較例2は、ハードコート層に金属酸化物微粒子が含まれていないので、表面抵抗率が高く帯電防止性に劣るものである。また、比較例2は、表面層表面の中心線平均粗さRaが20nm未満となっており、干渉縞の発生が認められた。   In Comparative Example 2, since the metal oxide fine particles are not contained in the hard coat layer, the surface resistivity is high and the antistatic property is inferior. In Comparative Example 2, the center line average roughness Ra of the surface layer surface was less than 20 nm, and the occurrence of interference fringes was observed.

比較例3は、ハードコート層が金属酸化物微粒子を18質量%以上含有しているので、表面層表面の中心線平均粗さRaが60nm以上となり、光沢感、透明感が悪化している。   In Comparative Example 3, since the hard coat layer contains 18% by mass or more of metal oxide fine particles, the center line average roughness Ra of the surface layer surface is 60 nm or more, and glossiness and transparency are deteriorated.

比較例4は、ハードコート層を極薄膜で積層しているために、表面層のメッシュ状導電層表面からの平均厚み(L)が1μm以下となっており、表面層の耐擦傷性が劣っており、また、ハードコート層が金属酸化物微粒子を含有していないので表面抵抗率が高く帯電防止性に劣るものである。   In Comparative Example 4, since the hard coat layer is laminated with an extremely thin film, the average thickness (L) from the surface of the mesh-like conductive layer of the surface layer is 1 μm or less, and the scratch resistance of the surface layer is inferior. In addition, since the hard coat layer does not contain metal oxide fine particles, the surface resistivity is high and the antistatic property is poor.

比較例5は、ハードコート層が数平均粒子径150nmという比較的大きい金属酸化物微粒子を、18質量%以上含有しているために、透明感が低下している。また、比較例5は、表面層の基材フィルム表面からの平均厚み(M)が大きいためにカールの発生が認められた。   In Comparative Example 5, since the hard coat layer contains 18% by mass or more of relatively large metal oxide fine particles having a number average particle diameter of 150 nm, the transparency is lowered. Moreover, since the average thickness (M) from the base film surface of a surface layer was large in the comparative example 5, generation | occurrence | production of the curl was recognized.

1 基材フィルム
2 メッシュ状導電層/細線部
3 表面層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base film 2 Mesh-like conductive layer / fine wire part 3 Surface layer

Claims (9)

基材フィルム、メッシュ状導電層、及び1以上の層からなる表面層がこの順に積層されたディスプレイ用フィルターであって、前記表面層の中のメッシュ状導電層に隣接する層Aが金属酸化物微粒子を該層Aの固形分総量100質量%に対して1質量%以上18質量%未満含有し、前記表面層のメッシュ状導電層表面からの平均厚みが1μm超7μm未満であり、かつ前記表面層表面の中心線平均粗さRaが20nm以上60nm未満である、ディスプレイ用フィルター。   A display filter in which a base film, a mesh-like conductive layer, and a surface layer composed of one or more layers are laminated in this order, and the layer A adjacent to the mesh-like conductive layer in the surface layer is a metal oxide The fine particles are contained in an amount of 1% by mass to less than 18% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the layer A, the average thickness of the surface layer from the surface of the mesh-like conductive layer is more than 1 μm and less than 7 μm, and the surface A filter for display, wherein the center line average roughness Ra of the layer surface is 20 nm or more and less than 60 nm. 前記金属酸化物微粒子が導電性金属の酸化物である、請求項1のディスプレイ用フィルター。   The display filter according to claim 1, wherein the metal oxide fine particles are oxides of conductive metals. 前記金属酸化物微粒子の数平均粒子径が150nm未満である、請求項1または2のディスプレイ用フィルター。   The display filter according to claim 1 or 2, wherein the metal oxide fine particles have a number average particle diameter of less than 150 nm. 前記メッシュ状導電層の厚みが0.3μm以上8μm未満である、請求項1〜3のいずれかのディスプレイ用フィルター。   The display filter according to claim 1, wherein a thickness of the mesh conductive layer is 0.3 μm or more and less than 8 μm. 前記表面層が少なくともハードコート層を含む、請求項1〜4のいずれかのディスプレイ用フィルター。   The display filter according to claim 1, wherein the surface layer includes at least a hard coat layer. 前記表面層側の表面抵抗率が1×1012Ω/□未満である、請求項1〜5のいずれかのディスプレイ用フィルター。 The display filter according to claim 1, wherein the surface resistivity on the surface layer side is less than 1 × 10 12 Ω / □. 前記表面層の基材フィルム表面からの平均厚みが12μm未満である、請求項1〜6のいずれかのディスプレイ用フィルター。   The display filter according to claim 1, wherein the average thickness of the surface layer from the surface of the base film is less than 12 μm. 前記基材フィルムの前記メッシュ状導電層が積層された側の面とは反対面に近赤外線遮蔽機能を有する層を有する、請求項1〜7いずれかのディスプレイ用フィルター。   The display filter according to any one of claims 1 to 7, further comprising a layer having a near-infrared shielding function on a surface opposite to a surface on which the mesh conductive layer of the base film is laminated. 前記近赤外線遮蔽機能を有する層が粘着剤層である、請求項8のディスプレイ用フィルター。   The display filter according to claim 8, wherein the layer having a near-infrared shielding function is an adhesive layer.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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