JP2012042334A - 低温応用装置用トランスファーライン継手 - Google Patents
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Abstract
【課題】低温応用装置の冷却性能を落とすことなく、簡単な方法でヘリウムガス配管内の圧力上昇を逃がすことのできる低温応用装置用トランスファーライン継手を提供する。
【解決手段】低温ガスを移送する配管を内部に有し、該配管を二重管構造にして、内管と外管の間を真空10に維持することにより、外界から内管への熱の侵入を抑えた低温応用装置用トランスファーラインのための継手であって、該トランスファーライン継手は、ガイド部34とニップル部35の嵌め合いによって接続される接続構造を持ち、該嵌め合い部には、内管の温度と外界温度との間で温度勾配がゆるやかになるような所定の長さを有する両者をつなぐガス抜き流路を備え、該ガス抜き流路の外界への出口部には安全弁63が設けられている。
【選択図】図5
【解決手段】低温ガスを移送する配管を内部に有し、該配管を二重管構造にして、内管と外管の間を真空10に維持することにより、外界から内管への熱の侵入を抑えた低温応用装置用トランスファーラインのための継手であって、該トランスファーライン継手は、ガイド部34とニップル部35の嵌め合いによって接続される接続構造を持ち、該嵌め合い部には、内管の温度と外界温度との間で温度勾配がゆるやかになるような所定の長さを有する両者をつなぐガス抜き流路を備え、該ガス抜き流路の外界への出口部には安全弁63が設けられている。
【選択図】図5
Description
本発明は、冷却式NMR装置や冷却式ESR装置などの低温分析装置、または冷却式電子顕微鏡などの低温観察装置など、装置の一部を低温に冷却して使用する低温応用装置に極低温ガスを送る際に用いられるトランスファーラインの継手に関する。
NMR装置は、試料に強力な磁場を印加して、試料中の核スピンを持った原子核の磁気モーメントに静磁場方向を軸とする歳差運動を惹起させた上で、静磁場方向に直交する向きの高周波磁場を印加して、原子核の磁気モーメントの歳差運動を励起し、その後、原子核の磁気モーメントの歳差運動が励起状態から基底状態に戻る際に放出されるNMR信号を、試料に固有な高周波磁界として観測する装置である。
NMR信号は、通常、きわめて微弱であるため、その検出感度を高めるため、検出部が組み込まれたNMRプローブに低温ガスの配管を設け、検出部を極低温に冷却することによって、NMR装置の熱雑音を減らし、NMR装置を高感度化することが行なわれている。
従来のNMRプローブと、静磁場を発生する超伝導磁石との位置関係を、図1に示す。図中、Aは超伝導磁石である。超伝導磁石Aの内部には、超伝導線により、主コイルBが巻回されている。主コイルBは、通常、液体ヘリウム等を蓄えることができる図示しない断熱容器中に置かれ、極低温に冷却されている。NMRプローブCは、このような磁石の外側に配置される鍔状のベース部70と、磁石の穴(ボア)に挿入される筒状部61とで構成され、筒状部71は、通常、この超伝導磁石Aの中心軸に沿って貫通された筒状のボアDの内部に向けて、下側の開口部から上方向に向けて挿入される。
次に、従来の低温NMRプローブと冷凍機の接続構造(従来技術1)を図2に示す。図中101は冷凍機真空容器である。冷凍機断熱容器真空容器101に、GM冷凍機102が設けられている。109、110はそれぞれGM冷凍機102を動かすために必要な高圧、および低圧ヘリウムガス配管である。103、104はプローブに送るヘリウムガスを冷却するため、冷凍機102の第1ステージおよび第2ステージに設けられた熱交換器である。105は往きと帰りのヘリウムガスの熱交換器である。プローブを冷却するためのヘリウムガスは、ヘリウムガス配管106より供給されて、ヘリウムガス配管107で回収される。
ヘリウムガス配管106、107、109、110は、それぞれ図示しないヘリウムガス圧縮機に接続されている。冷凍機102とプローブ間の往きと帰りの2本のヘリウムガス配管は、バイオネット継手30を経由して、トランスファーライン真空容器25とフレキシブルホース24、ヘリウムガス配管21、22で構成されたフレキシブルトランスファーライン20で接続される。
それらトランスファーライン真空容器25、フレキシブルホース24、冷凍機真空容器101の真空部は互いに接続されていて、内部は真空となっている。プローブは、内部の構成要素を冷却するため、周囲の外界から断熱する真空容器1に納められている。真空ポンプなど図示していないが、真空容器1の内側は、言うまでもなく断熱のため真空10に保たれている。
ヘリウムガス配管8、9は、熱交換器3に接続されている。熱交換器3は検出部2に熱接触している。検出部2は、NMR検出コイル、同調整合電気回路、NMRを測定する崔に必要となるパルス磁場勾配を発生させる磁場勾配コイルで構成されている。検出部2の電気回路から同軸ケーブル4により、コネクター5を経由して、図示していない分光器に接続される。
真空容器1を上下に貫通したパイプ6は、その検出部2の検出コイルの付近または全体が、検出コイルが発生する高周波磁場が透過できるように絶縁材料、例えば石英ガラスなどで作られている。パイプ6には、プローブ上部から、図示されていないホルダーで保持されつつ、NMR測定試料を入れた試料管7が挿入される。
パイプ6の下部からは、温度調整のための温度可変ガスが送風され、図示されていないが、試料管7とパイプ6の隙間を流れてから、外部に排気される。なお、検出部2などを真空断熱容器1内に固定する部材は、図示していない。
図3にバイオネット継手の一例を示す。バイオネット継手を理解する上では、非特許文献1が参考になる。バイオネット継手は、低温となる配管同士を簡単に着脱するための継手である。非特許文献1に開示された技術は、1本の配管を着脱する例である。当該従来技術の場合、往きと帰りの2本の配管を着脱する構造となっている。
図3の(1)、(2)、(3)にそれぞれプローブ側着脱部、トランスファーライン側着脱部、接続時を示す。
図3(1)に示すように、真空断熱容器1に円筒状の突き出しを設ける。それにフランジ32を介して、パイプ33が真空断熱容器1の内側に向かって取り付けられている。
パイプ33の先に、先端にプローブ内への往きのヘリウムガス配管8、その側面の途中の位置にプローブ内からの帰りのヘリウムガス配管9が接続されたガイド34が設けられている。往きのヘリウムガス配管8の先端部は、ニップル(突き出し形状の配管)35として、ガイド34の内側に突き出ている。
フランジ32は、接続時の固定用ナット31を被せてから、真空断熱容器1の円筒状の突き出しに取り付けられている。先端のガイド34は低温、フランジ32は室温なので、パイプ33は熱抵抗を確保するため、断面積に対して十分な長さに設定されている。フランジ32の内側(図中、左側)、パイプ33、およびガイド34の外側は、真空断熱容器1の内側なので、真空10となっている。
図3(2)にトランスファーライン着脱部を示す。トランスファーライン真空容器25の先端に、外側にネジ加工が施されたフランジ36が取り付けられている。このフランジ36の外側(図中、左)には、円周状の溝加工があり、Oリング37を入れている。フランジ36にパイプ38が取り付けられている。パイプ38の途中の側壁に、帰りのヘリウムガス配管22が開口している。
パイプ38の先端には、ガイド39が取り付けられている。ガイド39には貫通孔が設けられていて、それに往きのヘリウムガス配管21が接続されている。ガイド39にはパッキン40を被せている。図示していないが、パッキン40は抜け防止のため、ネジ込みなどで固定される。
接続時に、パッキン40の内側にプローブ側着脱部のニップル35が入る。パッキン40には、他の部材より熱膨張が大きな材料、例えばテフロン(登録商標)やダイフロン(登録商標)などが用いられる。低温下でパッキン40が他の部材よりも大きな熱収縮を起こし、ニップル35、ガイド39との気密が確保される。
言うまでもないが、トランスファーライン真空容器25、パイプ38、ガイド39、フレキシブルホース24、及び冷凍機真空容器1は接続されて、真空23に保たれている。
図3(3)にバイオネット継手の接続状態を示す。プローブ側着脱部にトランスファーライン側を差し込み、フランジ36とプローブ側フランジ32を、Oリング37を挟んでナット31で締めて固定する。
冷凍機からの往きのヘリウムガス配管21は、ガイド39、パッキン40、ニップル35により、プローブ側の往きのヘリウムガス配管8と接続される。
プローブ側の帰りのヘリウムガス配管9を経由して戻ってくるヘリウムガスは、パイプ33とパイプ38に囲まれた空間がOリング37で閉じられているので、冷凍機側の帰りのヘリウムガス配管22で回収される。
冷却時は、ガイド34、39、およびその周辺は低温となるが、十分に長いパイプ33、38を用いることで、室温であるフランジ36、32からの断熱を行なう。
動作について説明する。まずプローブを図示していないNMR用磁石に装着して、冷凍機102で冷却したヘリウムガスをトランスファーライン20、バイオネット継手30を経由して、プローブに循環させ、検出部2を冷却する。冷却により検出部2の検出コイルのQ値が向上し、さらに熱雑音の低減により感度が向上する。
もしパイプ6などの破損により、プローブの真空容器1の真空不良が発生すると、断熱不良となり、冷却器3、ヘリウムガス配管8、9を流れているヘリウムガスが熱膨張を起こす。しかし、バイオネット30、トランスファーライン20を経由して圧力が逃げるので、冷却器3、ヘリウムガス配管8、9、バイオネット30が過圧状態になって破損することはない。
次に、図4に別の従来例(従来技術2)を示す。基本構成は前述した従来例と同じである。図4(1)、(2)にそれぞれ全体図、拡大図を示す。プローブの真空容器1内にある帰りのヘリウムガス配管9の途中に配管51を接続して、真空容器1の外側に設けられた安全弁52に接続する。
ヘリウムガス配管9は、プローブ運転中は極低温であり、安全弁52は真空容器1の外側なので室温である。安全弁52には樹脂製のパッキンが使用されているので、これは低温に曝されると損傷してしまい、ガス漏れの原因となる。そのため、安全弁52は室温に保つ必要がある。ヘリウムガス配管9への熱侵入を低減させるため、配管51には十分な長さが必要である。
動作は、前述した従来例と同じである。もしパイプ6などの破損により、プローブの真空容器1の真空不良が発生すると、断熱不良となり、冷却器3、ヘリウムガス配管8、9を流れているヘリウムガスが熱膨張を起こす。その際、安全弁52を経由して外部に圧力が外部に逃げるので、冷却器3、ヘリウムガス配管8、9、バイオネット30が過圧状態になって破損することはない。
Randall F. Barron著『Cryogenic Systems』、Oxford University Press、Clarendon、1985年、410〜411頁。
〔従来技術1の問題点〕
冷凍機の防振対策のため、トランスファーラインの柔軟性を高める目的でヘリウムガス配管21、22を細くする必要がある場合、あるいはプローブと冷凍機が離れている場合に、以下の問題が生じる。
冷凍機の防振対策のため、トランスファーラインの柔軟性を高める目的でヘリウムガス配管21、22を細くする必要がある場合、あるいはプローブと冷凍機が離れている場合に、以下の問題が生じる。
パイプ6などの破損により、プローブの真空容器1の真空不良が発生した場合、断熱不良となり、冷却器3とヘリウムガス配管8、9を流れているヘリウムガスが熱膨張を起こし、圧力が上昇する。その際、バイオネット30、トランスファーライン20を経由して圧力が逃げる。
しかし、ヘリウムガス配管21、22が細くまたは長い場合には、圧力が十分に逃げ切らずに、圧力が上昇してしまい、部品が破損してしまう危険があった。
〔従来技術2の問題点〕
前述のような圧力上昇時には、安全弁52が働くので、問題は生じない。しかしながら、断熱のため十分な長さが必要なヘリウムガス配管51は、狭いプローブ内に設置することは困難であり、仮に設置できたとしても、ヘリウムガス配管51を接続することによって熱侵入が増えてしまうという問題が起こる。
前述のような圧力上昇時には、安全弁52が働くので、問題は生じない。しかしながら、断熱のため十分な長さが必要なヘリウムガス配管51は、狭いプローブ内に設置することは困難であり、仮に設置できたとしても、ヘリウムガス配管51を接続することによって熱侵入が増えてしまうという問題が起こる。
本発明は、上述した点に鑑み、低温応用装置の冷却性能を落とすことなく、簡単な方法でヘリウムガス配管内の圧力上昇を逃がすことのできる低温応用装置用トランスファーライン継手を提供することにある。
この目的を達成するため、本発明にかかる低温応用装置用トランスファーライン継手は、
低温ガスを移送する配管を内部に有し、該配管を二重管構造にして、内管と外管の間を真空に維持することにより、外界から内管への熱の侵入を抑えた低温応用装置用トランスファーラインのための継手であって、
該トランスファーライン継手は、ガイド部とニップル部の嵌め合いによって接続される接続構造を持ち、該嵌め合い部には、内管の温度と外界温度との間で温度勾配がゆるやかになるような所定の長さを有する両者をつなぐガス抜き流路を備え、該ガス抜き流路の外界への出口部には安全弁が設けられていることを特徴としている。
低温ガスを移送する配管を内部に有し、該配管を二重管構造にして、内管と外管の間を真空に維持することにより、外界から内管への熱の侵入を抑えた低温応用装置用トランスファーラインのための継手であって、
該トランスファーライン継手は、ガイド部とニップル部の嵌め合いによって接続される接続構造を持ち、該嵌め合い部には、内管の温度と外界温度との間で温度勾配がゆるやかになるような所定の長さを有する両者をつなぐガス抜き流路を備え、該ガス抜き流路の外界への出口部には安全弁が設けられていることを特徴としている。
また、冷凍機側から低温応用側への送り低温ガス配管は、前記ニップル部の中心軸に沿って敷設され、前記ガイド部側の配管と前記ガイド部の中心軸上で接続されるとともに、低温応用装置側から冷凍機側への戻り低温ガス配管は、前記ガイド部の側壁上の開口部から前記ニップル部の側壁上の開口部に接続されることを特徴としている。
また、前記ガス抜き流路は、前記ガイド部の側壁上の開口部から所定の長さの空間を介して外界への出口部に到達することを特徴としている。
また、前記低温応用装置は、冷却式NMR装置や冷却式ESR装置などの低温分析装置、または冷却式電子顕微鏡などの低温観察装置であることを特徴としている。
本発明の低温応用装置用トランスファーライン継手によれば、
低温ガスを移送する配管を内部に有し、該配管を二重管構造にして、内管と外管の間を真空に維持することにより、外界から内管への熱の侵入を抑えた低温応用装置用トランスファーラインのための継手であって、
該トランスファーライン継手は、ガイド部とニップル部の嵌め合いによって接続される接続構造を持ち、該嵌め合い部には、内管の温度と外界温度との間で温度勾配がゆるやかになるような所定の長さを有する両者をつなぐガス抜き流路を備え、該ガス抜き流路の外界への出口部には安全弁が設けられているので、
低温応用装置の冷却性能を落とすことなく、簡単な方法でヘリウムガス配管内の圧力上昇を逃がすことのできる低温応用装置用トランスファーライン継手を提供することが可能になった。
低温ガスを移送する配管を内部に有し、該配管を二重管構造にして、内管と外管の間を真空に維持することにより、外界から内管への熱の侵入を抑えた低温応用装置用トランスファーラインのための継手であって、
該トランスファーライン継手は、ガイド部とニップル部の嵌め合いによって接続される接続構造を持ち、該嵌め合い部には、内管の温度と外界温度との間で温度勾配がゆるやかになるような所定の長さを有する両者をつなぐガス抜き流路を備え、該ガス抜き流路の外界への出口部には安全弁が設けられているので、
低温応用装置の冷却性能を落とすことなく、簡単な方法でヘリウムガス配管内の圧力上昇を逃がすことのできる低温応用装置用トランスファーライン継手を提供することが可能になった。
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
図5にトランスファーライン継手の一実施例を示す。まず、真空断熱容器1に円筒状の突き出しを設ける。それにフランジ32を介して、パイプ33が真空断熱容器1の内側に向かって取り付けられている。
パイプ33の先に、先端にプローブ内への往きのヘリウムガス配管8、その側面の途中の位置にプローブ内からの帰りのヘリウムガス配管9が接続されたガイド34が設けられている。往きのヘリウムガス配管8の先端部は、ニップル(突き出し形状の配管)35として、ガイド34の内側に突き出ている。
フランジ32は、接続時の固定用ナット31を被せてから、真空断熱容器1の円筒状の突き出しに取り付けられている。先端のガイド34は低温、フランジ32は室温なので、パイプ33は熱抵抗を確保するため、断面積に対して十分な長さに設定されている。フランジ32の内側(図中、左側)、パイプ33、およびガイド34の外側は、真空断熱容器1の内側なので、真空10となっている。
トランスファーライン真空容器25の先端に、外側にネジ加工が施されたフランジ36が取り付けられている。このフランジ36の外側(図中、左)には、円周状の溝加工があり、Oリング37を入れている。フランジ36にパイプ38が取り付けられている。パイプ38の途中の側壁に、帰りのヘリウムガス配管22が開口している。
パイプ38の先端には、ガイド39が取り付けられている。ガイド39には貫通孔が設けられていて、それに往きのヘリウムガス配管21が接続されている。ガイド39にはパッキン40を被せている。図示していないが、パッキン40は抜け防止のため、ネジ込みなどで固定される。
接続時に、パッキン40の内側にプローブ側着脱部のニップル35が入る。パッキン40には、他の部材より熱膨張が大きな材料、例えばテフロン(登録商標)やダイフロン(登録商標)などが用いられる。低温下でパッキン40が他の部材よりも大きな熱収縮を起こし、ニップル35、ガイド39との気密が確保される。
言うまでもないが、トランスファーライン真空容器25、パイプ38、ガイド39、フレキシブルホース24、及び冷凍機真空容器1は接続されて、真空23に保たれている。
プローブ側着脱部にトランスファーライン側を差し込み、フランジ36とプローブ側フランジ32を、Oリング37を挟んでナット31で締めて固定する。
冷凍機からの往きのヘリウムガス配管21は、ガイド39、パッキン40、ニップル35により、プローブ側の往きのヘリウムガス配管8と接続される。
プローブ側の帰りのヘリウムガス配管9を経由して戻ってくるヘリウムガスは、パイプ33とパイプ38に囲まれた空間がOリング37で閉じられているので、冷凍機側の帰りのヘリウムガス配管22で回収される。
冷却時は、ガイド34、39、およびその周辺は低温となるが、十分に長いパイプ33、38を用いることで、室温であるフランジ36、32からの断熱を行なう。
このような構成において、フランジ25のパイプ38が取り付けられる部分を、円周状に座繰り61、ガス抜けのための連通空間を設けるとともに、横穴62を設けて、その先の外側に安全弁63を取り付ける。これにより、バイオネット自体の構造が従来例と同じ構造となるため、冷却時の熱侵入量は従来と変わらない。
一方、パイプ6などの破損により、プローブの真空容器1の真空不良が発生した場合、断熱不良となり、冷却器3、ヘリウムガス配管8、9を流れているヘリウムガスが熱膨張を起こし、内部圧力が上昇する。
その際、パイプ38の隙間、座繰り61、横穴62を経由して、安全弁52から外部にガスが放出されるので、圧力の上昇を避けることができる。図中、点線と矢印でガス放出経路64を示す。これにより、部品の破損を避けることができる。
本発明は、1本または3本以上の配管を接続するバイオネット継手にも適用できる。図6にトランスファーライン継手の変形例を示す。図6は、4本の配管の接続例である。
尚、安全弁はプローブ側着脱部に設けても良い。また、パイプ38、33の隙間からフランジ36または32に設けられる安全弁へガスが逃げる経路は、繋がっていれば良く、例えば座繰り61の代わりに、丸穴であっても良い。
尚、上記の実施例では、冷却式NMR装置について述べたが、冷却式ESR装置などの低温分析装置や、冷却型電子顕微鏡などの低温観察装置に対しても全く同じように適用できることは言うまでもない。
低温応用装置用のトランスファーラインに広く利用できる。
A:超伝導磁石、B:主コイル、C:NMRプローブ、D:ボア、1:真空容器、2:検出部、3:熱交換器、4:同軸ケーブル、5:コネクター、6:パイプ、7:試料管、8:ヘリウムガス配管、9:ヘリウムガス配管、10:真空、20:フレキシブルトランスファーライン、21:ヘリウムガス配管、22:ヘリウムガス配管、23:真空、24:フレキシブルホース、25:トランスファーライン真空容器、30:バイオネット継手、31:固定用ナット、32:フランジ、33:パイプ、34:ガイド、35:ニップル、36:フランジ、37:Oリング、38:パイプ、39:ガイド、40:パッキン、51:配管、52:安全弁、61:座繰り、62:横穴、63:安全弁、64:ガス放出経路、70:ベース部、71:筒状部、101:冷凍機真空容器、102:GM冷凍機、103:熱交換器、104:熱交換器、105:熱交換器、106:ヘリウムガス配管、107:ヘチウムガス配管、109:高圧ヘリウムガス配管、110:低圧ヘリウムガス配管
Claims (4)
- 低温ガスを移送する配管を内部に有し、該配管を二重管構造にして、内管と外管の間を真空に維持することにより、外界から内管への熱の侵入を抑えた低温応用装置用トランスファーラインのための継手であって、
該トランスファーライン継手は、ガイド部とニップル部の嵌め合いによって接続される接続構造を持ち、該嵌め合い部には、内管の温度と外界温度との間で温度勾配がゆるやかになるような所定の長さを有する両者をつなぐガス抜き流路を備え、該ガス抜き流路の外界への出口部には安全弁が設けられていることを特徴とする低温応用装置用トランスファーライン継手。 - 冷凍機側から低温応用装置側への送り低温ガス配管は、前記ニップル部の中心軸に沿って敷設され、前記ガイド部側の配管と前記ガイド部の中心軸上で接続されるとともに、低温応用装置側から冷凍機側への戻り低温ガス配管は、前記ガイド部の側壁上の開口部から前記ニップル部の側壁上の開口部に接続されることを特徴とする請求項1記載の低温応用装置用トランスファーライン継手。
- 前記ガス抜き流路は、前記ガイド部の側壁上の開口部から所定の長さの空間を介して外界への出口部に到達することを特徴とする請求項2記載の低温応用装置用トランスファーライン継手。
- 前記低温応用装置は、冷却式NMR装置や冷却式ESR装置などの低温分析装置、または冷却式電子顕微鏡などの低温観察装置であることを特徴とする請求項1、2、または3記載の低温応用装置用トランスファーライン継手。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010183705A JP2012042334A (ja) | 2010-08-19 | 2010-08-19 | 低温応用装置用トランスファーライン継手 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010183705A JP2012042334A (ja) | 2010-08-19 | 2010-08-19 | 低温応用装置用トランスファーライン継手 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012042334A true JP2012042334A (ja) | 2012-03-01 |
Family
ID=45898831
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010183705A Pending JP2012042334A (ja) | 2010-08-19 | 2010-08-19 | 低温応用装置用トランスファーライン継手 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2012042334A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015099037A (ja) * | 2013-11-18 | 2015-05-28 | 株式会社 Jeol Resonance | プローブ着脱装置 |
-
2010
- 2010-08-19 JP JP2010183705A patent/JP2012042334A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015099037A (ja) * | 2013-11-18 | 2015-05-28 | 株式会社 Jeol Resonance | プローブ着脱装置 |
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