JP2011116878A - 近赤外線遮蔽粘着剤組成物 - Google Patents

Abstract

【課題】高い粘着力を有し、近赤外線遮蔽能の持続性が高い近赤外線遮蔽材を作製するのに有用な近赤外線遮蔽粘着剤組成物を提供する。
【解決手段】この近赤外線遮蔽粘着剤組成物は、ジイモニウム塩（Ａ）と、計算ガラス転移点が０℃以下である樹脂（Ｂ）と、架橋剤（Ｃ）と、溶媒（Ｄ）とを含んでいる。この近赤外線遮蔽粘着剤組成物が二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に積層され粘着テープとされたときの、ガラスに対する粘着力は５Ｎ／ｉｎｃｈ以上である。好ましくは、上記溶媒（Ｄ）に対する上記ジイモニウム塩（Ａ）の溶解度は５質量％未満とされる。好ましくは、この近赤外線遮蔽粘着剤組成物では、上記ジイモニウム塩（Ａ）を上記溶媒（Ｄ）に分散させた分散体（Ｍ１）が混合されている。
【選択図】なし

Description

本発明は、近赤外線遮蔽粘着剤組成物、この近赤外線遮蔽粘着剤組成物に用いられる近赤外線遮蔽分散体、この近赤外線遮蔽粘着剤組成物を含有する近赤外線遮蔽材などに関する。

近年、薄型で大画面に適用できる液晶ディスプレーやＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ）等の薄型ディスプレーが注目されている。薄型ディスプレーは波長が８００ｎｍ〜１１００ｎｍの近赤外線を発生させる。この近赤外線が家電用リモコンの誤作動を誘発することが問題となっている。また、ＣＣＤカメラ等に使用される光半導体素子も近赤外線領域の感度が高いため、近赤外線の除去が必要である。そこで、近赤外線の吸収能が高く、可視領域の透明性が高い近赤外線遮蔽材料が求められている。

近赤外線を吸収する近赤外線遮蔽色素としては、従来、シアニン系色素、ポリメチン系色素、スクアリリウム系色素、ポルフィリン系色素、金属ジチオール錯体系色素、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素または無機酸化物粒子が使用されている。中でもジイモニウム系色素は近赤外線の吸収能が高く、可視光領域での透明性が高いことから多用されている（例えば、特許文献１、２参照）。

また、ＰＤＰは、パネル内部に封入された希ガス、特にネオンを主体としたガス中で放電を発生させ、その際に発生する真空紫外線により、パネル内部のセルに設けられたＲ、Ｇ、Ｂの蛍光体を発光させる。よって、この発光過程でＰＤＰの作動に不必要な電磁波も同時に放出される。この電磁波も遮蔽されることが必要である。また、反射光を抑えるために反射防止フィルム、ぎらつき防止フィルム（アンチグレアフィルム）も必要である。このため、プラズマディスプレー用光学フィルターは、近赤外線遮蔽フィルム、電磁波遮蔽フィルム及び反射防止フィルムを、支持体であるガラスや衝撃吸収材の上に積層して作製されることが一般的である。このようなプラズマディスプレー用光学フィルターは、ＰＤＰの前面側に載置される。このようなプラズマディスプレー用光学フィルターは、接着剤や粘着剤を用いて、支持体であるガラスや衝撃吸収材の上に直接貼合わされて使用される場合もある。

近年、光学フィルターの薄層化や、光学フィルターの製造工程の簡略化を目的として、粘着剤に近赤外線遮蔽色素を含有させて近赤外線遮蔽フィルムと粘着剤層とを一体化させる試みがなされている（特許文献３及び特許文献４）。

特開２００３−９６０４０号公報 特開２０００−８００７１号公報 特許第３６２１３２２号 国際公開ＷＯ２００８／０２６７８６公報

ジイモニウム系色素は耐久性が劣る場合があり、近赤外線の吸収能の低下や着色は、光半導体素子やディスプレー用途で使用する際の重大な問題となりうる。特に、粘着剤樹脂のようなガラス転移点（Ｔｇ）の低い樹脂中では色素の劣化が激しい。

特開２００５−３２５２９２号公報にはジイモニウムカチオンのアルキル基にハロゲン原子を導入することにより耐久性を向上させたジイモニウム色素が開示されている。確かにこのジイモニウム色素と高Ｔｇバインダー樹脂を用いた近赤外線遮断フィルターでは、従来のジイモニウム色素と比較して耐久性の向上が見られる。しかし、劣化の激しい低Ｔｇの粘着剤樹脂との組み合わせでは、その耐久性は不十分となりやすい。国際公開ＷＯ２００８／０２６７８６公報では、ジイモニウム色素を適切に限定することにより、粘着剤組成物中における色素の耐久性が向上させている。本発明では、国際公開ＷＯ２００８／０２６７８６公報の発明とは異なる観点から、粘着剤樹脂中におけるジイモニウム色素の耐久性を向上させうる技術を見いだした。

通常、粘着剤樹脂に近赤外線遮蔽能などの機能付与のために顔料を添加した粘着剤組成物では、粘着力が低下することがある。粘着力向上の観点から、粘着剤組成物に、粘着付与剤がさらに添加されることがある。この粘着付与剤の添加は、粘着剤組成物の近赤外線遮蔽能に影響する。粘着力及び近赤外線遮蔽能の両立は、困難である。さらにこの粘着付与剤の添加は、粘着剤組成物の透明性を阻害する上に、生産コストを上昇させる。

本発明は、高い粘着力を有し、近赤外線遮蔽能の持続性が高い近赤外線遮蔽材を作製するのに有用な近赤外線遮蔽粘着剤組成物を提供することを目的とする。

本発明者は、近赤外線遮蔽粘着剤組成物の近赤外線遮蔽能及び粘着力の向上について鋭意検討を行った。その結果、近赤外線遮蔽粘着剤組成物に架橋剤を添加し、ガラスに対する粘着力を適切な値とした場合、高い粘着力を有し、近赤外線遮蔽能の持続性が高い近赤外線遮蔽粘着剤組成物が得られることを見出した。

本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物は、 ジイモニウム塩（Ａ）と、計算ガラス転移点が０℃以下である樹脂（Ｂ）と、架橋剤（Ｃ）と、溶媒（Ｄ）とを含んでいる。この近赤外線遮蔽粘着剤組成物が二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に積層され粘着テープとされたときの、ガラスに対する粘着力は５Ｎ／ｉｎｃｈ以上である。

好ましくは、この近赤外線遮蔽粘着剤組成物では、上記溶媒（Ｄ）に対する上記ジイモニウム塩（Ａ）の溶解度は５質量％未満である。

好ましくは、この近赤外線遮蔽粘着剤組成物では、上記ジイモニウム塩（Ａ）を上記溶媒（Ｄ）に対して０．０１質量％の割合で混合した混合液を調整し、この混合液を３０分間超音波にかけた後、１時間以上静置し、その後、この混合液の上澄み液を光路長１ｍｍのセルに入れて紫外可視分光光度計により３５０ｎｍ以上１５００ｎｍ以下の範囲で測定された上記上澄み液のλｍａｘでの吸光度（Ｘ）は０．５以下である。

好ましくは、この近赤外線遮蔽粘着剤組成物では、上記ジイモニウム塩（Ａ）を上記溶媒（Ｄ）に分散させた分散体（Ｍ１）が混合されている。

好ましくは、この近赤外線遮蔽粘着剤組成物では、上記樹脂（Ｂ）の酸価は０以上３００以下である。

好ましくは、この近赤外線遮蔽粘着剤組成物では、上記樹脂（Ｂ）の計算溶解度パラメーターは１０．２以下である。

好ましくは、この近赤外線遮蔽粘着剤組成物では、上記溶媒（Ｄ）はトルエン、酢酸エチル及び酢酸ブチルからなる群から選ばれた少なくとも一つである。

本発明の近赤外線遮蔽材は、上記いずれかの近赤外線遮蔽粘着剤組成物が、上記架橋剤（Ｃ）によって架橋され形成されたものを含む。上記樹脂（Ｂ）は、少なくとも１種類以上の官能基を含んでいる。この架橋剤（Ｃ）は、この官能基と反応しうる官能基を１分子当たり少なくとも２個有している。

本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物は、近赤外線遮蔽能及びジイモニウム色素の耐久性に優れる。この近赤外線遮蔽粘着剤組成物では、ジイモニウム色素の近赤外線遮蔽能が長期間に渡って維持されうる。この近赤外線遮蔽粘着剤組成物は、高い粘着力を有する。よって、この近赤外線遮蔽粘着剤組成物を、光半導体素子や薄型ディスプレー用の光学フィルターの作製に使用すると、光学フィルターの薄層化や、光学フィルターの製造工程の簡略化が可能となる。

以下において、本発明の実施形態が説明される。

１．ジイモニウム塩（ジイモニウム色素）Ａ
本発明に用いられるジイモニウム塩（Ａ）は、後述される方法で測定される上澄み液のλｍａｘでの吸光度（Ｘ）が０．５以下であるものが好ましい。

ジイモニウム色素（Ａ）のジイモニウムカチオンとして、下記式（１）で示されるジイモニウムカチオンが例示される。

好ましいジイモニウム色素は、下記式（１Ｓ）で表されるように、上記式（１）で示されるジイモニウムカチオンと、ジイモニウムアニオンＺ⁻とからなる。

ただし、式（１）及び式（１Ｓ）中において、Ｒ^１からＲ^８は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基または置換基を有するアルキル基を示す。式（１Ｓ）中において、Ｚ⁻はジイモニウムアニオンを示す。

Ｒ^１からＲ^８がアルキル基又は置換基を有するアルキル基である場合、そのアルキル基の炭素数は、Ｒ^１からＲ^８のそれぞれについて、１以上２２以下が好ましく、２以上１２以下がより好ましい。

Ｒ^１〜Ｒ^８を構成するハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。

好ましいＲ^１〜Ｒ^８として、炭素数が１から１０の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基及び脂環式アルキル基が挙げられる。このようなアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、イソアミル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、等が挙げられる。他の好ましいＲ^１〜Ｒ^８として、４，４，４−トリフルオロブチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基及びペルフルオロブチル基が挙げられる。Ｒ^１〜Ｒ^８は全て同じであってもよいし、それぞれ異なっていてもよい。なお、このＲ^１〜Ｒ^８には、脂環式アルキル基を構成する一部の炭素に側鎖として直鎖状アルキル基又は分岐状アルキル基が導入されたものも含まれる。

より好ましくは、Ｒ^１〜Ｒ^８は、炭素数が３から５の直鎖又は分岐状のアルキル基である。更に好ましくは、Ｒ^１〜Ｒ^８は、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−アミル基又はイソアミル基であり、ｎ−ブチル基、イソブチル基又はイソアミル基が更に好ましく、イソブチル基が特に好ましい。

また、Ｒ^１〜Ｒ^８のアルキル基に結合しうる置換基としては、シアノ基；ヒドロキシル基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシプロポキシ基、メトキシブトキシ基、エトキシブトキシ基等の炭素数２〜８のアルコキシアルコキシ基；メトキシメトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基等の炭素数３〜１５のアルコキシアルコキシアルコキシ基；アリルオキシ基；フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフチルオキシ基等の炭素数６〜１２のアリールオキシ基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基等の炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基；メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基等の炭素数２〜７のアルキルカルボニルオキシ基；メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｎ−ブトキシカルボニルオキシ基等の炭素数２〜７のアルコキシカルボニルオキシ基等がある。置換基が結合したアルキル基の好ましい例として、メトキシエチル基が挙げられる。即ち、Ｒ^１〜Ｒ^８の好ましい一例として、メトキシエチル基が挙げられる。

ジイモニウムアニオンは特に限定されない。好ましいジイモニウムアニオンは、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホン酸）イミドイオン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸イオン、トリス（トリフルオロメタンスルホン酸）メチドイオンなどである。より好ましいジイモニウムアニオンとして、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン［ＳｂＦ_６ ⁻］及びトリス（トリフルオロメタンスルホン酸）メチドイオン［（ＣＦ_３ＳＯ_２）_３Ｃ⁻］が挙げられる。

好ましいジイモニウム塩（Ａ）は、ジイモニウムカチオン１個に対して、２個のアニオンが結合する形態である。

ジイモニウム塩（Ａ）として、トリス（トリフルオロメチルスルホニル）メチド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジ（ｉｓｏ−ブチル）アミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム 及びヘキサフルオロアンチモン酸−Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｉｓｏ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウムが挙げられる。これらの製造方法は、後述の合成例により説明される。これらは、粘着剤組成物中における耐久性が高いので、特に好ましい。

２．溶媒（Ｄ）
溶媒（Ｄ）は、粘着剤組成物に含まれうる。この粘着剤組成物において、溶媒（Ｄ）は揮発により消滅していてもよい。この溶媒（Ｄ）は、粘着剤組成物の粘度を調整するための希釈溶媒として用いられても良い。溶媒（Ｄ）により、粘着剤組成物の粘度が、基材等への塗布に適した粘度に調整される。この粘度により、粘着剤組成物層の厚みが調整されうる。

溶媒（Ｄ）として、トルエン、酢酸エチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸ブチル、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。本発明では、ジイモニウム塩の耐久性の観点から、溶媒（Ｄ）は、トルエン、酢酸エチル及び酢酸ブチルからなる群から選ばれた少なくとも一つが好ましい。

３．吸光度（Ｘ）の測定
溶媒（Ｄ）は、ジイモニウム塩の上澄み液の上記吸光度（Ｘ）を測定する際にも用いられる。溶媒（Ｄ）としては、測定されるジイモニウム塩の溶解度（Ｙ）が５質量％未満となるものが好ましい。この溶媒（Ｄ）としては、ジイモニウム塩の溶解度（Ｙ）が０．０１質量％未満となるものがより好ましい。この溶解度（Ｙ）の測定の詳細については、後述される。この吸光度（Ｘ）の測定に用いられる溶媒（Ｄ）としては、トルエン、酢酸エチル、キシレン、酢酸ブチル及びメチルシクロヘキサンが例示される。トルエン、酢酸エチル及び酢酸ブチルが特に好ましい。

［上澄み液の吸光度（Ｘ）の測定］
この吸光度（Ｘ）の測定では、ジイモニウム塩を溶媒（Ｄ）に対して０．０１質量％の割合で混合した混合液を調整し、この混合液を３０分間超音波にかけた後、１時間以上静置した。その後、この混合液の上澄み液を光路長１ｍｍのセルに入れて測定がなされる。光路長１ｍｍのセルは、石英製である。測定は、紫外可視分光光度計により行われる。この紫外可視分光光度計として、島津製作所製のＵＶ−３１００が用いられる。測定範囲は、３５０ｎｍ以上１５００ｎｍ以下とされる。λｍａｘは、測定された波長範囲において吸光度が最大となる波長を意味する。吸光度は、透過率をＴ（％）とするとき、下記式により求められる。
吸光度＝−ｌｏｇ（Ｔ／１００）

混合方法及び上澄み液の採取方法は、以下の通りである。先ず、ジイモニウム塩を溶媒（Ｄ）に対して０．０１質量％の割合で混合した混合液５０ミリリットルが作製される。この混合に用いられる混合容器は、ねじ口瓶である。このねじ口瓶の外径は４０ｍｍであり、高さは７５ｍｍである。この混合容器において、上記５０ミリリットルの混合液の液面（液の最上面）の高さは、５０ｍｍである。この混合液を超音波にかけ、更に１時間以上静置した後、液面（液の最上面）から５ｍｍまでの部分の上澄み液が採取され、測定に用いられる。なお、好ましくは、１時間以上静置された後の上記混合液において、混合容器の底面には、溶解していないジイモニウム塩が沈んでいる。この測定において、溶媒（Ｄ）の温度は、２５℃とされる。超音波の付与には、ブランソン（ＢＲＡＮＳＯＮ）社製の卓上型超音波洗浄機（商品名「ブランソニック３５１０Ｊ−ＤＴＨ」）が用いられる。この卓上型超音波洗浄機のタンクに水を張り、この水が張られたタンク内に上記混合容器を配置し、４００００Ｈｚ以上（４２ｋＨｚ）の周波数でタンクを振動させて、上記混合容器中の混合液に超音波が付与される。

本発明では、溶媒（Ｄ）に対する上記吸光度（Ｘ）が０．５以下である場合、後述する樹脂（Ｂ）中におけるジイモニウム塩の耐久性が向上しうることが確認されている。ジイモニウム塩の耐久性の観点から、吸光度（Ｘ）は、０．５以下が好ましく、０．３以下がより好ましく、０．２５以下がより好ましい。ジイモニウム塩の耐久性の観点から、より好ましくは、溶媒（Ｄ）がトルエン、酢酸エチル及び酢酸ブチルのいずれかにおいて、吸光度（Ｘ）が０．５以下となるのが好ましく、０．３以下がより好ましく、０．２５以下がより好ましく、０．１５以下が更に好ましい。ジイモニウム塩の耐久性の観点から、更に好ましくは、溶媒（Ｄ）がトルエン、酢酸エチル及び酢酸ブチルのいずれであっても、吸光度（Ｘ）が０．５以下となるのが好ましく、０．３以下がより好ましく、０．２５以下がより好ましい。

４．溶解度（Ｙ）の測定
好ましい粘着剤組成物は、溶媒（Ｄ）と、この溶媒（Ｄ）に対する溶解度（Ｙ）が５質量％未満であるジイモニウム塩とを含む。この溶媒（Ｄ）は、溶解度（Ｙ）の測定にも用いられる。

溶媒（Ｄ）は、用いられるジイモニウム塩によって種々選択されうる。この溶解度の測定に用いられる溶媒（Ｄ）としては、トルエン、酢酸エチル、キシレン、酢酸ブチル及びメチルシクロヘキサンが例示される。トルエン、酢酸エチル及び酢酸ブチルが特に好ましい。

［溶解度（Ｙ）の測定方法］
ジイモニウム塩の含有割合が０．０１質量％、０．１質量％、１．０質量％、２．０質量％及び５．０質量％である５種類のサンプルを調整して、それぞれ超音波攪拌する。攪拌時間は３０分以上とされ、溶媒の温度は２５℃とされる。次に、各サンプルのそれぞれについて、残渣があるか否かを確認する。残渣は、ろ過後のろ紙上に残渣があるか否かを目視で観察することにより確認する。残渣の有無によって、溶解度（Ｙ）が決定される。５．０質量％のサンプル（及び他のサンプル）に残渣が確認されなかった場合、「溶解度（Ｙ）が５質量％以上である」と判断される。０．０１質量％のサンプル（及び他のサンプル）に残渣が確認された場合、「溶解度（Ｙ）が０．０１質量％未満である」と判断される。０．１質量％のサンプルに残渣が確認され且つ０．０１質量％のサンプルに残渣が確認されなかった場合、「溶解度（Ｙ）が０．０１質量％以上０．１質量％未満である」と判断される。

５．希釈溶媒
近赤外線遮蔽粘着剤組成物は、希釈溶媒をさらに含んでいてもよい。この希釈溶媒が、上記溶媒（Ｄ）とされてもよい。希釈溶媒により、粘着剤組成物の粘度が、基材等への塗布に適した粘度に調整されうる。この粘度により、粘着剤組成物層の厚みが調整されうる。

希釈溶媒として、トルエン、酢酸エチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸ブチル、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。

ジイモニウム塩の耐久性の観点から、希釈溶媒は、トルエン、酢酸エチル及び酢酸ブチルが好ましい。

なお、希釈溶媒は、用いられなくてもよい。例えば、後述する分散体（Ｍ１）に含まれる溶媒のみによって、近赤外線遮蔽粘着剤組成物の粘度が適切に調整されてもよい。

６．分散体Ｍ１（近赤外線遮蔽分散体）
本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物では、ジイモニウム塩（Ａ）を溶媒（Ｄ）に分散させた分散体（Ｍ１）が混合されていてもよい。本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物の製造方法は、ジイモニウム塩と溶媒（Ｄ）とが混合されて分散体（Ｍ１）が作製される第一工程と、この分散体（Ｍ１）及び架橋剤（Ｃ）（後述）が樹脂（Ｂ）（後述）に混合される第二工程とを含むのが好ましい。この第二工程では、架橋剤（Ｃ）を溶媒（Ｓｍ）に溶解させたものを樹脂（Ｂ）に混合させてもよい。この場合の溶媒（Ｓｍ）は、用いられるジイモニウム塩によって適宜選択されうる。この溶媒（Ｓｍ）としては、トルエン、酢酸エチル、キシレン、酢酸ブチル及びメチルシクロヘキサンが例示される。ジイモニウム塩の耐久性の観点から、トルエン、酢酸エチル及び酢酸ブチルが好ましい。この溶媒（Ｓｍ）に、上記溶媒（Ｄ）と同じものが用いられてもよい。この溶媒（Ｓｍ）に、上記溶媒（Ｄ）とは異なるものが用いられてもよい。

ジイモニウム色素（Ａ）は、分散しやすい形態とされるのが好ましい。好ましくは、ジイモニウム色素は、粉砕等により微細化されているのが好ましい。分散体（Ｍ１）の製造方法として、ジイモニウム塩を粉砕するための粒子を用いた方法が例示される。この製造方法として、湿式及び乾式の方法が採用されうる。湿式の製造方法として、ビーズミル、ボールミル、液流、レーザー又は超音波を用いてジイモニウム塩を粉砕（微細化）する方法が採用されうる。乾式の方法としては、ボールミル、アトライターの他、ロールミルや気流によりジイモニウム塩を微細化する方法が採用されうる。より好ましくは、ジルコニアビーズ、ガラスビーズ、アルミナビーズ等の粒子を用いてジイモニウム色素を粉砕する方法が採用されうる。例えば、ジルコニア粒子を用いた分散体（Ｍ１）の製造方法として、ジイモニウム色素と溶媒（Ｄ）とジルコニアビーズとが混合されてなる液状混合物を作成し、この液状混合物を容器内で振とうした後、ジルコニアビーズを分離する方法が例示される。好ましい上記溶媒（Ｄ）として、粉砕対象であるジイモニウム塩を用いて上記方法で測定された吸光度（Ｘ）が０．５以下となるような溶媒（Ｄ）が挙げられる。他の好ましい上記溶媒（Ｄ）として、粉砕対象であるジイモニウム塩を用いて上記方法で測定された溶解度（Ｙ）が０．０１％未満となるような溶媒（Ｄ）が挙げられる。

いったん分散体（Ｍ１）が作製された後、この分散体（Ｍ１）を後述の樹脂（Ｂ）と混合することにより、近赤外線遮蔽粘着剤組成物中におけるジイモニウム塩の分散状態が改善される。この理由は、樹脂（Ｂ）が分散剤として寄与しているためであると考えられる。

なお、上記分散体（Ｍ１）には、種々の添加剤が加えられてもよい。この添加剤として、アニオン性、カチオン性又はノニオン性の界面活性剤や高分子系分散剤などが挙げられる。

７．樹脂（Ｂ）
本発明に係る樹脂（Ｂ）は、ガラス転移温度が０℃以下のものであれば特に限定されない。本発明に係る樹脂（Ｂ）は、粘着性を有している。この粘着性は、近赤外線遮蔽粘着剤組成物と被着体との直接的な接着を可能とする。接着剤を介在させることなく、近赤外線遮蔽粘着剤組成物と被着体とが接着されうる。本願において、この樹脂（Ｂ）を粘着剤樹脂ともいう。

７−１．ガラス転移温度
被着体への粘着性を付与する観点から、粘着剤樹脂（Ｂ）のガラス転移温度は、０℃以下が好ましく、−１０℃以下がより好ましく、−２０℃以下がより好ましく、さらに好ましくは−３０℃以下である。０℃よりも高い場合、粘着性が不足することがある。ガラス転移温度は示差走査熱量計（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｃａｌｏｒｉｍｅｔｅｒ）や動的粘弾性測定により損失正接（ｔａｎδ）の極大値温度を求めることでも得られるが、本願にいうガラス転移温度は、下記のＦｏｘの式により求められる計算ガラス転移温度を意味する。樹脂（Ｂ）の重合に使用される単量体は、下記式で表されるＦｏｘの式を用いて計算された計算ガラス転移温度Ｔｇが所定の値を満足していれば特に限定されない。
１／（Ｔｇ＋２７３）＝Σ［Ｗｉ／（Ｔｇｉ＋２７３）］ ： Ｆｏｘの式
Ｔｇ（℃） ： 計算ガラス転移温度
Ｗｉ ： 各単量体の重量分率
Ｔｇｉ（℃） ： 各単量体成分の単独重合体のガラス転移温度

７−２．酸価
樹脂（Ｂ）には、被着体との密着性向上および粘着力アップを目的として、アクリル酸等のカルボキシル基含有単量体が共重合されるのが一般的である。ただし、カルボキシル基等の官能基はジイモニウム色素を劣化させるため、樹脂（Ｂ）の酸価は３００以下が好ましく、１００以下がより好ましく、８０以下が更に好ましい。ジイモニウム塩の耐久性の観点から、樹脂（Ｂ）の酸価は、０以上が好ましく、５以上がより好ましく、１０以上が更に好ましい。「酸価」とは、樹脂１ｇを中和するのに必要な水酸化カリウムのｍｇ量を言う。酸価の測定方法の詳細は、後述される。

例えば、後述される透明基材がガラスである場合、ガラス表面（ガラスと近赤外線遮蔽粘着剤組成物層との界面）では、次の（反応１）が起こっていると推測されている。ガラス中のＮａ^＋イオンは拡散によってガラス表面に出てくると考えられている。このＮａ^＋イオンは、近赤外線遮蔽粘着剤組成物中に存在するＨ_２Ｏ（又は粘着剤組成物の塗布前にガラス表面に付着していたＨ_２Ｏ）と反応し、ＮａＯＨが生成すると考えられる。
（反応１）Ｎａ^＋ ＋ Ｈ_２Ｏ → ＮａＯＨ ＋ Ｈ^＋（ガラス内部へ）

このＮａＯＨは、ジイモニウム塩を劣化させる。樹脂（Ｂ）にカルボキシル基が存在する場合、このカルボキシル基がＮａ^＋をトラップする。このトラップにより、ＮａＯＨの生成が抑制され、ジイモニウム塩の劣化が抑制されると考えられる。特に、耐湿熱性の評価では、Ｈ_２Ｏが多く存在するため、上記反応１が起こりやすい。よって、特に耐湿熱性の観点からは、上記酸価は大きいほうが好ましく、具体的には、前述のように、０以上が好ましく、５以上がより好ましく、１０以上が更に好ましい。

一方、樹脂（Ｂ）の酸価が過度に高い場合、樹脂（Ｂ）に対するジイモニウム塩の溶解度が増加し、会合体（Ｘ）が減少しやすい。よって、特に高温での耐久性を評価する耐熱性の観点からは、上記酸価は小さいほうが好ましく、具体的には、前述のように、３００以下が好ましく、１００以下がより好ましく、８０以下が更に好ましい。

７−３．計算溶解性パラメータ
樹脂（Ｂ）の計算溶解性パラメータが高い場合にはジイモニウム色素の耐久性が劣る場合があるため、溶解性パラメータは１０．２以下であることが好ましい。計算溶解性パラメータは、「ＰＯＬＹＭＥＲ ＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧ ＡＮＤ ＳＣＩＥＮＣＥ」（１９７４年、Ｖｏｌ．１４、Ｎｏ．２）の１４７ページから１５４ページ記載の方法によって計算される値である。以下にその方法を概説する。

単独重合体の溶解性パラメータ（δ）は、該重合体を形成している構成単位の蒸発エネルギー（△ｅｉ）及びモル体積（△ｖｉ）に基づいて、下式の計算法により算出される。
δ＝（Σ△ｅｉ／Σ△ｖｉ）^１／２
△ｅｉ： ｉ成分の原子または原子団の蒸発エネルギー
△ｖｉ： ｉ成分の原子または原子団のモル体積

共重合体の溶解性パラメータは、その共重合体を構成する各構成単量体の蒸発エネルギーにモル分率を乗じて合算したもの（Σ△Ｅｉ）を、各構成単量体のモル体積にモル分率を乗じて合算したもの（Σ△Ｖｉ）で割り、１／２乗をとることで算出される。

７−４．共重合体組成
樹脂（Ｂ）は、共重合体でもよい。樹脂（Ｂ）は、水酸基を含有する（メタ）アクリル酸エステルと他の化合物との共重合体であるのが好ましい。更には、ジイモニウム色素の耐久性の観点から、樹脂（Ｂ）は、脂環式、多環性脂環式、芳香環式または多環性芳香環式のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステルが５〜４０質量％共重合された共重合体であるのが好ましい。ジイモニウム色素の耐久性が向上する理由は不明であるが、これら脂環式、多環性脂環式、芳香環式、多環性芳香環式のアルキル基部分とジイモニウム色素がスタッキング構造を採ることにより、耐熱性や耐湿熱性を向上させるものと考えられる。

好ましくは、前記樹脂（Ｂ）が、下記単量体（ｐ１）〜（ｐ３）を共重合してなる樹脂である。
（ｐ１）炭素数が１以上１２以下であるアルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステル
（ｐ２）官能基含有モノマー
（ｐ３）その他共重合可能な単量体

単量体の好ましい比率は、（ｐ１）の（メタ）アクリル酸エステルが６０質量％以上９９．９質量％以下であり、（ｐ２）の官能基含有モノマーが０．１質量％以上２０質量％以下であり、（ｐ３）の他の共重合可能な単量体が０質量％以上３０質量％以下である。より好ましくは、（ｐ２）の官能基含有モノマーの比率は、０．１質量％以上１０質量％以下である。

ジイモニウム色素の耐久性の観点から、より好ましくは、上記単量体（ｐ１）におけるアルキル基は、直鎖型、分岐型及び脂環式のアルキル基である。

上記（ｐ１）の（メタ）アクリル酸エステルの例として、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ｉ−オクチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ドデシル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

上記（ｐ２）の官能基含有モノマーとして、水酸基もしくはカルボキシル基含有モノマーが好ましく、水酸基もしくはカルボキシル基含有（メタ）アクリルモノマーがより好ましい。ジイモニウム色素の耐久性の観点から、カルボキシル基含有（メタ）アクリルモノマーが好ましい。カルボキシル基含有（メタ）アクリルモノマーのカルボキシル基は架橋点となる。よって、カルボキシル基含有（メタ）アクリルモノマーの配合量により、粘着性の調整が可能である。また、別の理由により、カルボキシル基含有（メタ）アクリルモノマーのカルボキシル基は、耐久性の向上に寄与していると考えられる。この理由の詳細は、前述の通りである。

カルボキシル基含有（メタ）アクリルモノマーとして、アクリル酸及びメタクリル酸が好適に用いられる。

水酸基含有（メタ）アクリルモノマーの例として、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。水酸基含有（メタ）アクリルモノマーの水酸基は、架橋点となりうる。よって、水酸基含有（メタ）アクリルモノマーは、粘着物性の調整に寄与する。上記（ｐ２）が水酸基含有（メタ）アクリルモノマーの場合、この水酸基含有（メタ）アクリルモノマーの比率は、モノマー全量に対して、０．１質量％以上１０質量％以下が特に好ましい。

上記（ｐ３）の、他の共重合可能な単量体として、ベンジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシー３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。他に、上記（ｐ３）の例として、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類；α−メチルスチレン、ビニルトルエン、スチレンなどに代表されるスチレン系単量体；メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテルなどに代表されるビニルエーテル系単量体；フマル酸；フマル酸のモノアルキルエステル；フマル酸のジアルキルエステル；マレイン酸；マレイン酸のモノアルキルエステル；マレイン酸のジアルキルエステル；イタコン酸；イタコン酸のモノアルキルエステル；イタコン酸のジアルキルエステル；（メタ）アクリロニトリル；塩化ビニル；塩化ビニリデン；酢酸ビニル；ビニルケトン；ビニルピリジン；ビニルカルバゾールなどを挙げることができる。また、カルボキシル基、オキサゾリニル基、ピロリドニル基、フルオロアルキル基等の官能基を有する単量体も、本発明の目的を損なわない範囲で共重合してもよい。

より好ましい樹脂（Ｂ）は、下記（ｍ１）〜（ｍ４）を共重合してなる樹脂である。
（ｍ１）脂環式、多環性脂環式、芳香環式または多環性芳香環式のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステル。
（ｍ２）アルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステル。ただし、このアルキル基は、直鎖型または分岐型であり、このアルキル基の炭素数は１以上１０以下である。
（ｍ３）官能基含有モノマー
（ｍ４）その他共重合可能な単量体。

共重合体の樹脂（Ｂ）において、単量体の好ましい比率は、（ｍ１）の（メタ）アクリル酸エステルが５質量％以上４０質量％以下であり、（ｍ２）の（メタ）アクリル酸エステルが６０質量％以上９５質量％以下であり、（ｍ３）の官能基含有モノマーが０．１質量％以上２０質量％以下であり、（ｍ４）のその他の単量体が０質量％以上２０質量％以下である。

上記（ｍ１）の（メタ）アクリル酸エステルの例としては、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシー３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

上記（ｍ２）の（メタ）アクリル酸エステルの例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ｉ−オクチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

上記（ｍ３）の官能基含有モノマーとして、水酸基もしくはカルボキシル基含有モノマーが好ましく、水酸基もしくはカルボキシル基含有（メタ）アクリルモノマーがより好ましい。ジイモニウム色素の耐久性の観点から、カルボキシル基含有（メタ）アクリルモノマーが好ましい。カルボキシル基含有（メタ）アクリルモノマーのカルボキシル基は架橋点となる。よって、カルボキシル基含有（メタ）アクリルモノマーの配合量により、粘着性の調整が可能である。また、別の理由により、カルボキシル基含有（メタ）アクリルモノマーのカルボキシル基は、耐久性の向上に寄与していると考えられる。この理由の詳細は、前述の通りである。

カルボキシル基含有（メタ）アクリルモノマーとして、アクリル酸及びメタクリル酸が好適に用いられる。

水酸基含有（メタ）アクリルモノマーの例として、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。水酸基含有（メタ）アクリルモノマーの水酸基は、架橋点となりうる。よって、水酸基含有（メタ）アクリルモノマーは、粘着物性の調整に寄与する。上記（ｍ３）が水酸基含有（メタ）アクリルモノマーの場合、この水酸基含有（メタ）アクリルモノマーの比率は、モノマー全量に対して、０．１質量％以上１０質量％以下が特に好ましい。

上記（ｍ４）の単量体の例としては、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類；α−メチルスチレン、ビニルトルエン、スチレンなどに代表されるスチレン系単量体；メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテルなどに代表されるビニルエーテル系単量体；フマル酸；フマル酸のモノアルキルエステル；フマル酸のジアルキルエステル；マレイン酸；マレイン酸のモノアルキルエステル；マレイン酸のジアルキルエステル；イタコン酸；イタコン酸のモノアルキルエステル；イタコン酸のジアルキルエステル；（メタ）アクリロニトリル；塩化ビニル；塩化ビニリデン；酢酸ビニル；ビニルケトン；ビニルピリジン；ビニルカルバゾールなどを挙げることができる。

樹脂（Ｂ）の重合に使用される開始剤として、過酸化物系、アゾ系等、市販のものが使用できる。過酸化物系の開始剤としては、パーブチルＯ、パーヘキシルＯ（いずれも日本油脂製）などのパーオキシエステル系；パーロイルＬ、パーロイルＯ（いずれも日本油脂製）などのパーオキシジカーボネート系；ナイパーＢＷ、ナイパーＢＭＴ（いずれも日本油脂製）などのジアシルパーオキサイド系；パーヘキサ３Ｍ、パーヘキサＭＣ（いずれも日本油脂製）などのパーオキシケタール系；パーブチルＰ、パークミルＤ（いずれも日本油脂製）などのジアルキルパーオキサイド系；パークミルＰ、パーメンタＨ（いずれも日本油脂製）などのハイドロパーオキサイド系等が挙げられる。アゾ系の開始剤としてはＡＢＮ−Ｅ、ＡＢＮ−Ｒ、ＡＢＮ−Ｖ（いずれも日本ヒドラジン工業製）等が挙げられる。

樹脂（Ｂ）の重合の際には必要に応じて連鎖移動剤を使用してもよい。連鎖移動剤は特に制約されず、ノルマルドデシルメルカプタン、ジチオグリコール、チオグリコール酸オクチル、メルカプトエタノール等のチオール化合物等が使用できる。

また、樹脂（Ｂ）の重合は無溶剤で行ってもよいし、有機溶剤中で行ってもよい。有機溶剤中で重合する際には、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤；その他の公知の有機溶剤が使用できる。使用する有機溶剤の種類は得られる樹脂の溶解性、重合温度を考慮して決められるが、乾燥時の残存溶剤の残りにくさの点からトルエン、酢酸エチル、メチルエチルケトン等の沸点が１２０℃以下の有機溶剤が好ましい。また、ジイモニウム色素の耐久性の観点から、ジイモニウム色素の溶解度（Ｙ）が５質量％未満の有機溶剤が好ましく、溶解度（Ｙ）が０．０１質量％未満の有機溶剤がより好ましい。

また、樹脂（Ｂ）は単一の組成からなるものでもよいし、異なる組成のポリマーを複合化したポリマーアロイやポリマーブレンドであってもよい。

分岐型の樹脂を得るためにはマクロモノマー、多官能モノマー、多官能開始剤、多官能連鎖移動剤が使用できる。マクロモノマーとしては、ＡＡ−６、ＡＡ−２、ＡＳ−６、ＡＢ−６、ＡＫ−５（いずれも東亜合成製）等が使用できる。多官能モノマーとしては、ライトエスエルＥＧ、ライトエスエル１，４ＢＧ、ライトエステルＮＰ、ライトエステルＴＭＰ（いずれも共栄社化学製）等が挙げられる。多官能開始剤としては、パーテトラＡ、ＢＴＴＢ−５０（いずれも日本油脂製）、トリゴノックス１７−４０ＭＢ、パーカドックス１２−ＸＬ２５（いずれも火薬アクゾ製）等が挙げられる。多官能連鎖移動剤としてはペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（チオグリコレート）等が使用できる。

８．架橋剤（Ｃ）
本発明に係る架橋剤（Ｃ）は、粘着剤組成物に含まれる樹脂（Ｂ）を架橋しうるものであれば特に限定されない。この架橋剤（Ｃ）としては、樹脂（Ｂ）が含む官能基と反応し得る官能基を１分子中に２個以上有する化合物が好ましい。例えば、多官能エポキシ化合物、多官能メラミン化合物、多官能イソシアネート化合物、金属架橋剤、アジリジン化合物等の、樹脂（Ｂ）の水酸基又はカルボキシル基と反応しうる官能基を有する化合物が好ましく挙げられる。

上記多官能エポキシ化合物としては、１分子当たりエポキシ基を２個以上有する化合物であれば特に限定されない。具体的には、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡ・エピクロルヒドリン型エポキシ樹脂、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルトルイジン等が挙げられる。

上記多官能メラミン化合物としては、１分子当たりメチロール基、アルコキシメチル基、イミノ基のうちいずれかの官能基を２個以上有する化合物であれば特に限定されない。具体的には、例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサエトキシメチルメラミン、ヘキサプロポキシメチルメラミン、ヘキサブトキシメチルメラミン、ヘキサペンチルオキシメチルメラミン等が挙げられる。

上記多官能イソシアネート化合物としては、１分子当たりイソシアネート基を２個以上有する化合物であれば特に限定されない。具体的には、例えば、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、水素化ジフェニルメタンジイソシアネート、水素化トリレンジイソシアネート、水素化キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等のイソシアネート化合物；スミジュールＮ（住友バイエルウレタン社製）等のビュレットポリイソシアネート化合物；デスモジュールＩＬ、ＨＬ（バイエルａ．Ｇ．社製）、コロネートＥＨ（日本ポリウレタン工業社製）等の、イソシアヌレート環を有するポリイソシアネート化合物；スミジュールＬ（住友バイエルウレタン社製）、コロネートＬ（日本ポリウレタン社製）等のアダクトポリイソシアネート化合物等が挙げられる。また、これら多価イソシアネート化合物のイソシアネート基が活性水素を有するマスク剤と反応して不活性化したブロックイソシアネートも用いることができる。

上記金属架橋剤としては、特に限定されるものではないが、具体的には、例えば、アルミニウム、亜鉛、カドミウム、ニッケル、コバルト、銅、カルシウム、バリウム、チタン、マンガン、鉄、鉛、ジルコニウム、クロム、錫等の金属にアセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、乳酸エチル、サリチル酸メチル等が配位した金属キレート化合物等が挙げられる。

上記アジリジン化合物としては、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−１．６−ビス（１−アジリジンカルボキシアミド）、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、ビスイソフタロイル−１−（２−メチルアジリジン）、トリ−１−アジリジニルホスフォンオキサイド、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルエタン−４，４’−ビス（１−アジリジンカルボキシアミド）等が挙げられる。

本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物では、架橋剤は１種のみを用いてもよいし、２種類以上を適宜混合して用いてもよい。架橋剤の配合量は架橋剤の種類及び用途によって適宜選択することができる。本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物を１０〜３０μｍの薄膜として使用する場合、配合量は、樹脂の固形分に対して、好ましくは０．０１〜１０質量％であり、より好ましくは０．１〜７質量％である。例えば、架橋剤としてアダクトポリイソシアネート化合物（例えば、「コロネートＬ−５５Ｅ」（日本ポリウレタン社製））を使用する場合、この架橋剤の配合量は、樹脂の固形分に対して、好ましくは０．０２〜２０質量％であり、より好ましくは０．０５〜１０質量％である。０．０２質量％未満であると、架橋点が不十分となるため、十分な架橋密度が得られず、凝集力が不足するおそれがあるので好ましくない。２０質量％を超えると、添加に見合う効果が得られず経済的でない上、粘着力が低下するために好ましくない。

この粘着剤組成物では、十分な粘着力が得られるという観点から、架橋剤（Ｃ）としては、多官能エポキシ化合物及び多官能イソシアネート化合物が好ましい。安定した保持力が得られるという観点から、この架橋剤（Ｃ）としては多官能エポキシ化合物が特に好ましい。

９．近赤外線遮蔽粘着剤組成物
本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物は、粘着性を有する樹脂を含有するので、被着体に対して容易に接着されうる。本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物は、架橋剤を含み、そのそのガラスに対する粘着力が、適切な値とされているので、高い粘着力を有する。この近赤外線遮蔽粘着剤組成物は、被着体を安定に保持しうる。好ましくは、本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物は、上記吸光度（Ｘ）又は上記溶解度（Ｙ）が考慮されたジイモニウム色素が用いられる。この近赤外線遮蔽粘着剤組成物は、近赤外線遮蔽能の持続性及び可視領域の透明性に優れる。この近赤外線遮蔽粘着剤組成物が、ジイモニウム塩が溶媒（Ｄ）に分散した分散体（Ｍ１）を含んでいる場合、近赤外線遮蔽能の持続性及び可視領域の透明性がさらに向上される。

［近赤外線遮蔽粘着剤組成物の粘着力］
本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物の、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、ＰＥＴフィルム）の片面に積層され粘着テープとされたときの、ガラスに対する粘着力は、５Ｎ／ｉｎｃｈ以上である。この近赤外線遮蔽粘着剤組成物は、高い粘着力を有する。

粘着剤組成物のガラスに対する粘着力は、次のようにして得られる。この粘着力の測定方法は、ＪＩＳ Ｚ ０２３７に準じている。粘着剤組成物が、ＰＥＴフィルム（易接着処理ＰＥＴフィルム（東洋紡績社製、コスモシャインＡ４３００））上にアプリケータにて塗工される。塗工時の厚みは、乾燥後の粘着剤組成物からなる層の厚みが２５μｍとなるように設定される。粘着剤組成物からなる層が、１００℃の熱風循環式のオーブン中で２分間乾燥される。粘着剤組成物からなる層に離型フィルム（シリコン処理されたＰＥＴフィルム）を貼り合わせた後、この粘着剤組成物からなる層を２３℃で７日間養生し、粘着テープが形成される。この粘着テープは、粘着剤組成物からなる。この粘着テープは、ＰＥＴフィルムと離型フィルムとに挟まれている。この粘着テープから、粘着力の測定に供試する試験体（幅＝２５ｍｍ、長さ＝１００ｍｍ）が鋭利な刃物を用いて切り出される。

ガラス（日本テストパネル社製、ＪＩＳ Ｒ ３２０２、２ｍｍ×７０ｍｍ×１５０ｍｍ）を被着体とし、この被着体に、前述の試験体を貼り付け、温度２３℃、相対湿度６５％の雰囲気下で２ｋｇのゴムローラを３往復させて、被着体に試験体を圧着したものが、２４時間放置される。放置後、温度２３℃、相対湿度６５％の雰囲気下で、引張試験機（ＱＣ引張試験機：テスター産業社製）を用い、被着体と試験体のフィルム部分（粘着剤組成物が塗布されていない部分）とをそれぞれ把持し、速度３００ｍｍ／分で試験体を１８０°方向に引っ張って、被着体から試験体を剥離させたときの強度が、測定される。この強度が、近赤外線遮蔽粘着剤組成物の、ＰＥＴフィルムの片面に積層され粘着テープとされたときの、ガラス対する粘着力である。

前述したように、本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物では、そのガラスに対する粘着力は５Ｎ／ｉｎｃｈ以上である。近赤外線遮蔽粘着剤組成物が高い粘着力を有し、被着体を安定に保持しうるという観点から、この粘着力は、７Ｎ／ｉｎｃｈ以上が好ましく、８Ｎ／ｉｎｃｈ以上がより好ましく、９．２Ｎ／ｉｎｃｈ以上がさらに好ましく、９．８Ｎ／ｉｎｃｈ以上が特に好ましい。粘着力は高いのが好ましいので、この粘着力の上限は特に規定されない。

本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物には、他の近赤外線遮蔽色素が添加されてもよい。併用されうる他の近赤外線遮蔽色素としては、公知のシアニン系色素、ポリメチン系色素、スクアリリウム系色素、ポルフィリン系色素、金属ジチオール錯体系色素、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素、無機酸化物粒子等が挙げられる。

好ましい他の色素（ジイモニウム色素以外の色素）は、上記ジイモニウム色素に対してクエンチャー効果を奏しうる色素である。クエンチャー効果とは、励起状態にある活性分子を脱励起させる効果である。本発明の場合、ジイモニウム色素分子、ジイモニウムアニオン又はジイモニウムカチオンを脱励起して安定化させる効果を有する他の色素が好ましい。クエンチャー効果の観点から、この他の色素として、フタロシアニン系色素が好ましい。本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物の粘着剤樹脂が酸含有モノマーを共重合してなる樹脂である場合、中心金属が銅であるフタロシアニン色素が特に好ましい。

本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物を薄型ディスプレイ用光学フィルターとして使用する場合には、上記のジイモニウム色素とともに最大吸収波長が８００〜９５０ｎｍのフタロシアニン系色素、最大吸収波長が８００〜９５０ｎｍのシアニン系色素または最大吸収波長が８００〜９５０ｎｍの金属ジチオール錯体系色素が併用されるのが好ましい。この併用により、８００〜１１００ｎｍの近赤外線が効果的に吸収されうる。耐久性の良好な近赤外線遮蔽粘着剤組成物を得る観点から、フタロシアニン色素が併用されるのが特に好ましい。

本発明で使用できるフタロシアニン系化合物としては、近赤外線遮蔽能に優れるものであれば特に制限されず、公知のフタロシアニン系化合物が使用できる。好ましいフタロシアニン系化合物として、下記式（ア）で表される化合物、または下記式（イ）で表される化合物が挙げられる。

［式（ア）で示されるフタロシアニン系化合物］

上記式（ア）において、Ａ^１からＡ^１６は官能基を表す。上記式（ア）において、Ａ^１からＡ^１６は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ヒドロキシスルホニル基、カルボキシル基、チオール基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルコキシ基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリール基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアラルキルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルキルチオ基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールチオ基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアラルキルチオ基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルキルスルホニル基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールスルホニル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアラルキルスルホニル基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアシル基、置換されていてもよい炭素原子数２〜２０個のアルコキシカルボニル基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールオキシカルボニル基、置換されていてもよい炭素原子数２〜２０個のアラルキルオキシカルボニル基、置換されていてもよい炭素原子数２〜２０個のアルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールカルボニルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数８〜２０個のアラルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数２〜２０個の複素環基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基または置換されていてもよいアミノカルボニル基を表す。Ａ^１からＡ^１６の官能基は同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよく、官能基同士が連結基を介して繋がっていても良い。Ｍ^１は２個の水素原子、２価の金属原子、３価の置換金属原子、４価の置換金属原子またはオキシ金属を表す。なお、本明細書において、「アシル基」とは、日刊工業新聞社発行の第三版科学技術用語大辞典の１７頁に記載される定義と同様であり、具体的には、有機酸からヒドロキシル基が除去された基であり、式：ＲＣＯ−（Ｒは、脂肪基、脂環基または芳香族基である）で表される基である。

（末端がアミノ基以外の官能基の場合）
上記式（ア）において、官能基Ａ^１からＡ^１６のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｉｓｏ−プロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、ｉｓｏ−ブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、等の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフトキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ジフェニルメチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、ジフェニルメチルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｉｓｏ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、ｎ−ペンチルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、ｎ−ヘプチルチオ基、ｎ−オクチルチオ基、２−エチルヘキシルチオ基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルチオ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールチオ基としては、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアラルキルチオ基としては、ベンジルチオ基、フェネチルチオ基、ジフェニルメチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、ｉｓｏ−プロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｉｓｏ−ブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基、ｎ−ペンチルスルホニル基、ｎ−ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、ｎ−ヘプチルスルホニル基、ｎ−オクチルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキルスルホニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていても良い炭素原子数６〜２０個のアリールスルホニル基としては、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよいアラルキルスルホニル基としては、ベンジルスルホニル基、フェネチルスルホニル基、ジフェニルメチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアシル基としてはメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、ｎ−ペンチルカルボニル基、ｎ−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、ｎ−ヘプチルカルボニル基、ｎ−オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基、ベンジルカルボニル基、フェニルカルボニル基等のアリールカルボニル基、ベンゾイル基等のアラルキルカルボニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数２〜２０個のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロピルオキシカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルオキシカルボニル基、ｎ−ブチルオキシカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル基、ｔ−ブチルオキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアリールオキシカルボニル基としては、フェノキシカルボニル、ナフチルカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数８〜２０個のアラルキルオキシカルボニル基としては、ベンジルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基、ジフェニルメチルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数２〜２０個のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、ｉｓｏ−プロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、ｉｓｏ−ブチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ基、ｔ−ブチルカルボニルオキシ基、ｎ−ペンチルカルボニルオキシ基、ｎ−ヘキシルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、ｎ−ヘプチルカルボニルオキシ基、３−ヘプチルカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアリールカルボニルオキシ基としては、ベンゾイルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数８〜２０個のアラルキルカルボニルオキシ基としては、ベンジルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数２〜２０個の複素環基としては、ピロール基、イミダゾール基、ピペリジン基、モルホリン基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

また、上記式（ア）において、官能基Ａ^１からＡ^１６のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アラルキルスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アラルキルカルボニルオキシ基または複素環基が置換されている場合、これらの官能基Ａ^１からＡ^１６に存在する置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していてもよく、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。

（末端がアミノ基である官能基の場合）
上記式（ア）において、官能基Ａ^１からＡ^１６の置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基、置換されていてもよいアミノカルボニル基への置換基としては、水素原子；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；アセチル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、ｎ−ペンチルカルボニル基、ｎ−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、ｎ−ヘプチルカルボニル基、３−ヘプチルカルボニル基、ｎ−オクチルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基；ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基等のアリールカルボニル基；ベンジルカルボニル基等のアラルキルカルボニル基などが挙げられるが、これらに限定されるものではなく、これらの置換基はさらに置換基で置換されていても良い。これらの置換基は０個、１個または２個存在していてもよく、２個存在する場合にはお互いが同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基が２個の場合、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。

上記置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基または置換されていてもよいアミノカルボニル基への置換基であるアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アラルキルカルボニル基などに更に存在しても良い置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していてもよく、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。

また、金属Ｍ^１としての２価の金属の例としては、Ｃｕ（ＩＩ）、Ｃｏ（ＩＩ）、Ｚｎ（ＩＩ）、Ｆｅ（ＩＩ）、Ｎｉ（ＩＩ）、Ｒｕ（ＩＩ）、Ｒｈ（ＩＩ）、Ｐｄ（ＩＩ）、Ｐｔ（ＩＩ）、Ｍｎ（ＩＩ）、Ｍｇ（ＩＩ）、Ｔｉ（ＩＩ）、Ｂｅ（ＩＩ）、Ｃａ（ＩＩ）、Ｂａ（ＩＩ）、Ｃｄ（ＩＩ）、Ｈｇ（ＩＩ）、Ｐｂ（ＩＩ）、Ｓｎ（ＩＩ）などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。３価の置換金属原子の例としては、Ａｌ−Ｆ、Ａｌ−Ｃｌ、Ａｌ−Ｂｒ、Ａｌ−Ｉ、Ｆｅ−Ｃｌ、Ｇａ−Ｆ、Ｇａ−Ｃｌ、Ｇａ−Ｉ、Ｇａ−Ｂｒ、Ｉｎ−Ｆ、Ｉｎ−Ｃｌ、Ｉｎ−Ｂｒ、Ｉｎ−Ｉ、Ｔｌ−Ｆ、Ｔｌ−Ｃｌ、Ｔｌ−Ｂｒ、Ｔｌ−Ｉ、Ａｌ−Ｃ_６Ｈ_５、Ａｌ−Ｃ_６Ｈ_４（ＣＨ_３）、Ｉｎ−Ｃ_６Ｈ_５、Ｉｎ−Ｃ_６Ｈ_４（ＣＨ_３）、Ｉｎ−Ｃ_６Ｈ_５、Ｍｎ（ＯＨ）、Ｍｎ（ＯＣ_６Ｈ_５）、Ｍｎ〔ＯＳｉ（ＣＨ_３）_３〕、Ｒｕ−Ｃｌ等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。４価の置換金属原子の例としては、ＣｒＣｌ_２、ＳｉＦ_２、ＳｉＣｌ_２、ＳｉＢｒ_２、ＳｉＩ_２、ＺｒＣｌ_２、ＧｅＦ_２、ＧｅＣｌ_２、ＧｅＢｒ_２、ＧｅＩ_２、ＳｎＦ_２、ＳｎＣｌ_２、ＳｎＢｒ_２、ＴｉＦ_２、ＴｉＣｌ_２、ＴｉＢｒ_２、Ｇｅ（ＯＨ）_２、Ｍｎ（ＯＨ）_２、Ｓｉ（ＯＨ）_２、Ｓｎ（ＯＨ）_２、Ｚｒ（ＯＨ）_２、Ｃｒ（Ｒ_１）_２、Ｇｅ（Ｒ_１）_２、Ｓｉ（Ｒ_１）_２、Ｓｎ（Ｒ_１）_２、Ｔｉ（Ｒ_１）_２｛Ｒ_１は、アルキル基、フェニル基、ナフチル基またはそれらの誘導体を表す｝Ｃｒ（ＯＲ_２）_２、Ｇｅ（ＯＲ_２）_２、Ｓｉ（ＯＲ_２）_２、Ｓｎ（ＯＲ_２）_２、Ｔｉ（ＯＲ_２）_２、｛Ｒ_２は、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基またはそれらの誘導体を表す｝、Ｓｎ（ＳＲ_３）_２、Ｇｅ（ＳＲ_３）_２｛Ｒ_３は、アルキル基、フェニル基、ナフチル基またはそれらの誘導体を表す｝などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。オキシ金属の例としては、ＶＯ、ＭｎＯ、ＴｉＯなどが挙げられるがこれらに限定されるものではない。

［式（イ）で示されるフタロシアニン系化合物］

上記式（イ）において、Ｂ^１からＢ^２４は官能基を表す。Ｂ^１からＢ^２４のそれぞれは、上記式（ア）においてＡ^１からＡ^１６で示された官能基のいずれかである。Ｂ^１からＢ^２４の官能基は同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよく、官能基同士が連結基を介して繋がっていても良い。

上記式（イ）において、Ｍ^２は２個の水素原子、２価の金属原子、３価の置換金属原子、４価の置換金属原子またはオキシ金属を表す。Ｍ^２の例は、上記式（ア）におけるＭ^１の例と同じであるが、これらに限定されない。

具体的なフタロシアニン系化合物として、商品名イーエクスカラーＩＲ−１０Ａ、イーエクスカラーＩＲ−１２、イーエクスカラーＩＲ−１４、イーエクスカラーＩＲ−９０６、イーエクスカラーＩＲ−９１０、ＴＸ−ＥＸ−８２０及びＴＸ−ＥＸ−９１５（いずれも日本触媒製）が挙げられる。

また、本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物には近赤外線遮蔽色素としてシアニン系色素が併用されてもよい。シアニン系色素は近赤外線遮蔽能に優れるものであれば特に制限されないが、インドリウム系カチオンまたはベンゾチアゾリウム系カチオンと、対アニオンからなる塩が好ましく使用できる。インドリウム系カチオンまたはベンゾチアゾリウム系カチオンとしては、上記式（ａ）〜（ｉ）で示されるカチオンが好ましく使用できるが、これらに限定されるものではない。

インドリウム系カチオンまたはベンゾチアゾリウム系カチオンの対アニオンは、特に制限されず、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、過塩素酸イオン、硝酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、プロピル硫酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ベンゼンスルフィン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、プロピオン酸イオン、安息香酸イオン、シュウ酸イオン、コハク酸イオン、マロン酸イオン、オレイン酸イオン、ステアリン酸イオン、クエン酸イオン、一水素二リン酸イオン、二水素一リン酸イオン、ペンタクロロスズ酸イオン、クロロスルホン酸イオン、フルオロスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ヘキサフルオロヒ酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、モリブデン酸イオン、タングステン酸イオン、チタン酸イオン、ジルコン酸イオン、硫酸イオン、バナジン酸イオン、ホウ酸イオンなどが使用できる。

より具体的には、上記一般式（ａ）で表されるカチオンを含むシアニン系色素として、アメリカンダイソース社製のＡＤＳ８１２ＭＩ（対アニオンはヨウ化物イオン）；上記一般式（ｂ）で表されるカチオンを含むシアニン系色素として、ＦＥＷケミカル社製のＳ０７１２（対アニオンはヘキサフルオロリン酸イオン）；上記一般式（ｃ）で表されるカチオンを含むシアニン系色素として、ＦＥＷケミカル社製のＳ０７２６（対アニオンは塩化物イオン）；上記一般式（ｄ）で表されるカチオンを含むシアニン系色素として、アメリカンダイソース社製のＡＤＳ７８０ＭＴ（対アニオンはｐ−トルエンスルホン酸イオン）；上記一般式（ｅ）で表されるカチオンを含むシアニン系色素として、ＦＥＷケミカル社製のＳ０００６（対アニオンは過塩素酸イオン）；上記一般式（ｆ）で表されるカチオンを含むシアニン系色素として、ＦＥＷケミカル社製のＳ００８１（対アニオンは過塩素酸イオン）；上記一般式（ｇ）で表されるカチオンを含むシアニン系色素として、ＦＥＷケミカル社製のＳ０７７３（対アニオンはテトラフルオロホウ酸イオン）；上記一般式（ｈ）で表されるカチオンを含むシアニン系色素として、ＦＥＷケミカル社製の商品名Ｓ０７７２（対アニオンはテトラフルオロホウ酸イオン）；上記一般式（ｉ）で表されるカチオンを含むシアニン系色素として、ＦＥＷケミカル社製の商品名Ｓ０７３４（対アニオンはテトラフルオロホウ酸イオン）等の市販されているものを用いることができる。シアニン系色素を使用することにより可視領域の透明性が高い近赤外線遮蔽粘着剤組成物が得られる。

本発明のジイモニウム色素の配合量、または本発明のジイモニウム色素とその他の近赤外線遮蔽色素とを合計した配合量は、色素の種類と用途によって適宜選択することが出来る。本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物を１０〜３０μｍの薄膜として使用する場合、配合量は、樹脂の固形分に対して、好ましくは０．０１〜１０質量％であり、より好ましくは０．１〜５質量％である。例えば、ジイモニウム色素とフタロシアニン系色素とを併用する場合、これらの色素を合計した配合量は、樹脂の固形分に対して、好ましくは０．０１〜１０質量％であり、より好ましくは０．１〜５質量％である。配合量が０．０１質量％未満であると、十分な近赤外線遮蔽能が達成できなくなる可能性がある。逆に１０質量％を超えると、添加に見合う効果が得られず経済的でない上、逆に可視領域での透明性が損なわれる可能性がある。

本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物は可視領域の透明性、近赤外線遮蔽能の持続性、良好な粘着性を特徴とする。本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物には、必要に応じて可視光を吸収する色素が添加されてもよい。可視光を吸収する色素としては、シアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ポルフィリン系、テトラアザポルフィリン系、金属ジチオール錯体系、スクアリリウム系、アズレニウム系、ジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、オキサジン系、アジン系、チオピリリウム系、ビオローゲン系、アゾ系、アゾ金属錯体系、ビスアゾ系、アントラキノン系、ペリレン系、インダンスロン系、ニトロソ系、インジコ系、アゾメチン系、キサンテン系、オキサノール系、インドアニリン系、キノリン系、ジケトピロロピロール系等、従来公知の色素を広く使用することができる。

本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物をＰＤＰ用の光学フィルターとして使用する場合は、不要なネオン発光を吸収するために最大吸収波長が５５０〜６５０ｎｍの可視吸収色素を併用するのが好ましい。ネオン発光を吸収する色素の種類は特に限定されないが、シアニン色素、テトラアザポルフィリン色素が使用できる。具体的にはアデカアークルズＴＹ−１０２（旭電化工業社製）、アデカアークルズＴＹ−１４（旭電化工業社製）、アデカアークルズＴＹ−１５（旭電化工業社製）、ＴＡＰ−２（山田化学工業製）、ＴＡＰ−１８（山田化学工業製）、ＴＡＰ−４５（山田化学工業製）、商品名ＮＫ−５４５１（林原生物化学研究所製）、ＮＫ−５５３２（林原生物化学研究所製）、ＮＫ−５４５０（林原生物化学研究所製）等が挙げられる。ネオン発光を吸収するための色素の添加量は、色素の種類によって異なるが、最大吸収波長での透過率が２０〜８０％程度になるように添加するのが好ましい。

また、近赤外線遮蔽粘着剤組成物からなる薄膜の色調を調整するために、調色用の可視光吸収色素を添加してもよい。調色用の色素の種類は特に限定されないが、１：２クロム錯体、１：２コバルト錯体、銅フタロシアニン、アントラキノン、ジケトピロロピロール等が使用できる。具体的には、オラゾールブルーＧＮ（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、オラゾールブルーＢＬ（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、オラゾールレッド２Ｂ（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、オラゾールレッドＧ（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、オラゾールブラックＣＮ（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、オラゾールイエロー２ＧＬＮ（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、オラゾールイエロー２ＲＬＮ（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、マイクロリスＤＰＰレッドＢ−Ｋ（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、等が挙げられる。

本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物は、必要に応じて、その性能を失わない範囲で希釈溶剤や添加剤、硬化剤を１種または２種以上含んでいてもよい。

近赤外線遮蔽粘着剤組成物に含まれうる希釈溶剤は限定されず、上記溶剤（Ｓ）として例示したものが好ましい。

塗工時において、近赤外線遮蔽粘着剤組成物の粘度は、塗工機の種類によって適宜選択されるが、マイクログラビアコーター等のような小径グラビアキスリバース方式で塗工する場合は１〜１０００ｍＰａ・ｓ、ダイコーター等押し出し方式で塗工する場合は１００〜１００００ｍＰａ・ｓが一般的である。近赤外線遮蔽粘着剤組成物の固形分は塗料粘度に合わせて調整される。

また、近赤外線遮蔽粘着剤組成物が含有しうる添加剤としては、フィルムやコーティング膜等を形成する樹脂組成物に使用される従来公知の添加剤が用いられうる。この添加剤として、分散剤、レベリング剤、消泡剤、粘性調整剤、つや消し剤、粘着付与剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収材、光安定化剤、消光剤、硬化剤、アンチブロッキング剤等が挙げられる。なお、硬化剤としては、チオール化合物、アミン系化合物、イミン系化合物、オキサゾリン化合物、シランカップリング剤、ＵＶ硬化剤等を使用することができる。

本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物は、光学用、農業用、建築用または車両用の近赤外線遮蔽材料、感光紙などの画像記録材料、光ディスク用などの情報記録用材料、色素増感型太陽電池などの太陽電池、半導体レーザー光などを光源とする感光材料、眼精疲労防止材に使用されうる。本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物は、特にフィルムやシート状での使用が好ましい。

１０．近赤外線遮蔽材
本発明に係る近赤外線遮蔽材は、前記近赤外線遮蔽粘着剤組成物を含む。本発明の近赤外線遮蔽材は、前記近赤外線遮蔽粘着剤組成物をフィルム状に成形したものであってもよいし、透明基材上に前記近赤外線遮蔽粘着剤組成物を含む塗膜を積層したものであってもよい。

透明基材としては、一般に光学材に使用し得るものであって、実質的に透明であれば特に制限はない。具体的な例としてはガラス；シクロポリオレフィン、非晶質ポリオレフィン等のオレフィン系ポリマー；ポリメチルメタクリレート等のメタクリル系ポリマー；酢酸ビニルやハロゲン化ビニル等のビニル系ポリマー；ＰＥＴ等のポリエステル；ポリカーボネート、ブチラール樹脂等のポリビニルアセタール；ポリアリールエーテル系樹脂；ラクトン環含有樹脂フィルム等が挙げられる。更に、該透明基材には、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理等の従来公知の方法による表面処理や、アンカーコート剤やプライマー等のコーティングが施されてもよい。また、上記透明基材を構成する基材樹脂には、公知の添加剤、耐熱老化防止剤、滑剤、帯電防止剤等の配合が可能である。上記透明基材は、公知の射出成形、Ｔダイ成形、カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤に溶融させてキャスティングする方法などを用い、フィルムまたはシート状に成形される。かかる透明基材を構成する基材は、未延伸でも延伸されていてもよく、また他の基材と積層されていてもよい。

コーティング法で近赤外線遮蔽フィルムを得る場合の透明基材としてはＰＥＴフィルムが好ましく、特に易接着処理をしたＰＥＴフィルムが好適である。具体的にはコスモシャインＡ４３００（東洋紡績製）、ルミラーＵ３４（東レ製）、メリネックス７０５（帝人デュポン製）等が挙げられる。また、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルム、反射防止フィルム、ぎらつき防止フィルム、衝撃吸収フィルム、電磁波シールドフィルム、紫外線吸収フィルムなどの機能性フィルムも透明基材として使用できる。これにより、簡便に薄型ディスプレー用や光半導体素子用の光学フィルターを作製することができる。透明基材は、フィルムであることが好ましい。

これらのうち、ガラス、ＰＥＴフィルム、ラクトン環含有樹脂フィルム、易接着性ＰＥＴフィルム、ＴＡＣフィルム、反射防止フィルム及び電磁波シールドフィルムが透明基材として好ましく使用される。透明基材として、ガラス等の無機基材を使用する場合には、アルカリ成分が少ないものが近赤外線遮蔽色素の耐久性の観点から好ましい。

本発明の近赤外線遮蔽材の厚みは、一般に０．１μｍから１０ｍｍ程度とされるが、目的に応じて適宜決定される。また近赤外線遮蔽材に含まれる近赤外線遮蔽色素の含有量も目的に応じて、適宜決定される。

本発明の近赤外線遮蔽材を作製する方法としては、特に限定されるものではないが、例えば次の方法が利用できる。例えば、（Ｉ）樹脂と本発明に係る近赤外線遮蔽粘着剤組成物とを混練し、加熱成形して樹脂板又はフィルムを作製する方法；（II）本発明に係る近赤外線遮蔽粘着剤組成物とモノマー又はオリゴマーを重合触媒の存在下にキャスト重合し、樹脂板又はフィルムを作製する方法；（III）本発明に係る近赤外線遮蔽粘着剤組成物を上記の透明基材上にコーティングする方法等である。

（Ｉ）の作製方法としては、用いる樹脂によって加工温度、フィルム化（樹脂板化）条件等が多少異なるが、通常、本発明に係る近赤外線遮蔽粘着剤組成物を樹脂の粉体又はペレットに添加し、１５０〜３５０℃に加熱、溶解させた後、成形して樹脂板を作製する方法、押し出し機によりフィルム化（樹脂板化）する方法等が挙げられる。

（II）の作製方法としては、本発明に係る近赤外線遮蔽粘着剤組成物とモノマー又はオリゴマーとを重合触媒の存在下にキャスト重合し、それらの混合物を型内に注入し、反応させて硬化させるか、又は金型に流し込んで型内で硬い製品となるまで固化させて成形する方法が挙げられる。多くの樹脂がこの過程で成形可能である。その様な樹脂の具体例としてアクリル樹脂、ジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリスチレン樹脂、シリコン樹脂、等が挙げられる。その中でも、硬度、耐熱性、耐薬品性に優れたアクリルシートが得られるメタクリル酸メチルの塊状重合によるキャスティング法が好ましい。

重合触媒としては公知のラジカル熱重合開始剤が利用でき、例えばベンゾイルパーオキシド、ｐ−クロロベンゾイルパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート等の過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物が挙げられる。その使用量は混合物の総量に対して、一般的に０．０１〜５質量％である。熱重合における加熱温度は、一般的に４０〜２００℃であり、重合時間は一般的に３０分〜８時間程度である。また熱重合以外に、光重合開始剤や増感剤を添加して光重合する方法も利用できる。

（III）の方法としては、本発明の近赤外吸収材料を透明基材上にコーティングする方法、本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物を微粒子に固定化し、該微粒子を分散させた塗料を透明基材上にコーティングする方法等がある。

基材に近赤外線遮蔽粘着剤組成物を塗布する際には公知の塗工機が使用できる。例えばコンマコーター等のナイフコーター、スロットダイコーター、リップコーター等のファウンテンコーター、マイクログラビアコーター等のキスコーター、グラビアコーター、リバースロールコーター等のロールコーター、フローコーター、スプレーコーター、バーコーターが挙げられる。塗布前にコロナ放電処理、プラズマ処理等の公知の方法で基材の表面処理を行ってもよい。乾燥・硬化方法としては、熱風、遠赤外線、ＵＶ硬化等公知の方法が使用できる。乾燥・硬化後は公知の保護フィルムとともに巻き取ってもよい。

乾燥方法は特に限定されないが、熱風乾燥や遠赤外線乾燥を用いることができる。乾燥温度は乾燥ラインの長さ、ライン速度、塗布量、残存溶剤量、基材の種類等を考慮して決めればよい。基材がＰＥＴフィルムであれば、一般的な乾燥温度は５０〜１５０℃である。１ラインに複数の乾燥機がある場合は、それぞれの乾燥機を異なる温度、風速に設定してもよい。塗工外観の良好な塗膜を得るためには、入り口側の乾燥条件をマイルドにするのが好ましい。

本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物は、可視領域の透明性及び近赤外線の吸収能が高い優れた光学フィルターの構成材料となりうる。本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物は、従来の近赤外線遮蔽材料と比べて耐久性、特に耐熱性及び耐光性が高いため、長期間の保管や使用でも外観と近赤外線遮蔽能が維持される。さらに、本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物は、シートやフィルム状にするのが容易なため、薄型ディスプレー用や光半導体素子用に有効である。そのほかに、本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物は、赤外線をカットする必要があるフィルターやフィルム、例えば農業用フィルム、断熱フィルム、サングラス、光記録材料等にも使用することができる。

本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物は、架橋剤（Ｃ）を含んでいる。近赤外線遮蔽材は、近赤外線遮蔽粘着剤組成物が架橋剤（Ｃ）によって架橋され形成されたものである。この近赤外線遮蔽材は、高い粘着力及び凝集力を有している。この近赤外線遮蔽材は、被着体を安定に保持しうる。この近赤外線遮蔽材によれば、光学フィルターとしての機能が安定に維持される。

近赤外線遮蔽材の好適な用途として、光学フィルターが挙げられる。この光学フィルターは、前記近赤外線遮蔽材を用いてなる。この光学フィルターは、光半導体素子用光学フィルターまたは薄型ディスプレー用光学フィルターとして好適である。このような光学フィルターは、可視領域の全光線透過率が４０％以上、好ましくは５０％以上、さらに好ましくは６０％以上であり、波長８００〜１１００ｎｍの近赤外線の透過率が３０％以下、好ましくは１５％以下である。

本発明の光学フィルターには、上記の近赤外線遮蔽粘着剤組成物からなる近赤外線遮蔽層のほかに、電磁波遮蔽層、反射防止層、ぎらつき防止（アンチグレア）層、傷付き防止層、色調整層、ガラス等の支持体などが設けられていてもよい。

光学フィルターの各層の構成は任意に選択すればよい。例えば、好ましくは反射防止層とぎらつき防止層のうち少なくともどちらか一層と、近赤外線遮蔽層の少なくとも２層を組み合わせた光学フィルターが好適であり、より好ましくは更に電磁波遮蔽層を組み合わせた少なくとも３層を有する光学フィルターである。

反射防止層、またはぎらつき防止層が人側の最表層とされるのが好ましい。近赤外線遮蔽層と電磁波遮蔽層相互間の積層順序は任意である。また、３層の間には傷付き防止層、色調整層、衝撃吸収層、支持体、透明基材等の他の層が挿入されていてもよい。

各層を張り合わせる際にはコロナ処理、プラズマ処理等の物理的な処理をしてもよいし、ポリエチレンイミン、オキサゾリン系ポリマー、ポリエステル、セルロース等の公知の高極性ポリマーをアンカーコート剤として使用してもよい。

薄型ディスプレー用光学フィルターには、画面を見やすくするために、反射防止層またはぎらつき防止層を人側の最表層に設けることが好ましい。

反射防止層は、表面の反射を抑えて、表面への蛍光灯などの外光の写り込みを防止するためのものである。反射防止層は、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物の薄膜からなる場合と、アクリル樹脂、フッ素樹脂などの屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させたものからなる場合とがあり、前者の場合の製造方法として、蒸着やスパッタリング法を用いて単層あるいは多層の形態で、透明基材上に反射防止コーティングを形成させる方法がある。また、後者の場合の製造方法として、透明フィルム上に、コンマコーター等のナイフコーター、スロットコーター、リップコーター等のファウンテンコーター、グラビアコーター、フローコーター、スプレーコーター、バーコーターを用いて透明基材の表面に反射防止コーティングを塗布する方法がある。

ぎらつき防止層は、シリカ、メラミン樹脂、アクリル樹脂等の微粉体をインキ化し、従来公知の塗布法で、本発明のフィルターのいずれかの層上に塗布し、熱或いは光硬化させることにより形成される。また、アンチグレア処理したフィルムを該フィルター上に貼りつけてもよい。

また、傷付き防止層は、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、多官能アクリレート等のアクリレートと光重合開始剤を有機溶剤に溶解或いは分散させた塗布液を従来公知の塗布法で、本発明のフィルターのいずれかの層上に、塗布し、乾燥させ、光硬化させることにより形成される。

反射防止層またはぎらつき防止層と近赤外線遮蔽層とを有する光学フィルターは、反射防止フィルムまたはぎらつき防止フィルムの裏面に本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物又は近赤外線遮蔽材からなる層を積層させることで得られる。積層させる方法としては、フィルム状にした本発明に係る近赤外線遮蔽層と反射防止フィルムまたはぎらつき防止フィルムとを直接張り合わせてもよいし、溶液化した本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物を反射防止フィルムまたはぎらつき防止フィルムの裏面に直接塗布してもよい。反射防止フィルムまたはぎらつき防止フィルムの裏面に近赤外線遮蔽層を設ける場合には、紫外線による色素の劣化を抑えるために、透明基材として紫外線吸収フィルムを使用するのが好ましい。本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物は粘着性を有している。よって、近赤外線遮蔽層と、他の層とが接着される場合、粘着剤や接着剤が不要とされうる。近赤外線遮蔽層は、本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物を含む層である。

プラズマディスプレー用光学フィルターには、パネルから発生する電磁波を除去するために、電磁波遮蔽層を設けることが好ましい。

電磁波遮蔽層はエッチング、印刷等の手法で金属のメッシュをフィルム上にパターニングしたものを樹脂で平滑化したフィルムや、繊維メッシュの上に金属を蒸着させたものを樹脂中に抱埋したフィルムが使用される。

近赤外線遮蔽層と電磁波遮蔽層の２層を有する光学フィルターは電磁波防止材料と近赤外線遮蔽粘着剤組成物とを複合化することで得られる。複合化させる方法としては、フィルム状にした本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物と電磁波遮蔽フィルムを張り合わせてもよいし、溶液化した本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物を電磁波遮蔽フィルムに直接塗布してもよい。また、フィルム上の金属のメッシュを平滑化する際に本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物を使用することもできる。また、金属を蒸着した繊維を抱埋する際に、本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物を使用することもできる。

近赤外線遮蔽層、反射またはぎらつき防止層および電磁波遮蔽層の３層を有する光学フィルターとしては、本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物からなる近赤外線遮蔽フィルム、反射またはぎらつき防止フィルム、電磁波遮蔽フィルムの３枚を張り合わせたものが使用できる。好ましくは、本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物からなる近赤外線遮蔽フィルムが、反射またはぎらつき防止フィルムと、電磁波遮蔽フィルムとで挟まれた構造を有する光学フィルターが好ましい。この光学フィルターは、近赤外線遮蔽フィルムの粘着性を利用して積層されているため、従来フィルム同士の張り合わせのためだけに設けられていた粘着層を省略して製造されうる。必要に応じてガラス等の支持体や色調整フィルム等の機能性フィルムを張り合わせてもよい。近赤外線遮蔽粘着剤組成物は、高い粘着力を有しているので、被着体を安定に保持しうる。

光学フィルターの製造工程やフィルム構成をさらに簡略化するためには、複数の機能を有する複合化フィルムを使用するのが良い。好ましい光学フィルターは、１枚のフィルムに電磁波遮蔽層と反射またはぎらつき防止層とを含む複合化フィルムに、本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物からなる近赤外線遮蔽粘着層を張り合わせた光学フィルターである。

本発明の薄型ディスプレー用光学フィルターは表示装置から離して設置してもよいし、表示装置に直接貼り付けてもよい。表示装置から離して設置する場合は支持体としてガラスを使用するのが好ましい。表示装置に直接張り合わせる場合にはガラスを使用しない光学フィルターが好ましい。

本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物を積層した光学フィルターを薄型ディスプレーに搭載すると、長期間にわたり良好な画質が維持される。薄型ディスプレーに係る本発明は、本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物、本発明の近赤外線遮蔽材、または本発明の光学フィルターを用いてなる、薄型ディスプレーである。表示体に直接、光学フィルターを張り合わせた薄型ディスプレーはより鮮明な画質が得られる。光学フィルターを直接張り合わせる場合は表示体のガラスが強化ガラスを使用するか、衝撃吸収層を設けた光学フィルターを使用するのが好ましい。本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物、本発明の近赤外線遮蔽材、または本発明の光学フィルターは、高い粘着力を有しているので、表示体を安定に保持しうる。

この近赤外線遮蔽材からなる層（以下、粘着剤層ともいう。）の厚みは、通常５〜２０００μｍ、好ましくは１０〜１０００μｍである。粘着剤層の表面に剥離フィルムを設け、この剥離フィルムにより、光学フィルターを薄型ディスプレーの表面に張り付けるまでの間、粘着剤層を保護し、粘着剤層にゴミ等が付着しないようにするのもよい。この場合、フィルターの縁綾部の粘着剤層と剥離フィルムとの間に、粘着剤層を設けない部分を形成したり非粘着性のフィルムを挟む等して非粘着部分を形成し、この非粘着部分を剥離開始部とすれば、貼着時の作業が行いやすい。

衝撃吸収層は表示装置を外部からの衝撃から保護するためのものである。支持体を使用しない光学フィルターで使用するのが好ましい。衝撃吸収材としては特開２００４−２４６３６５号公報、特開２００４−２６４４１６号公報に示されているような、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アクリル系ポリマー、ポリ塩化ビニル、ウレタン系、シリコン系樹脂等が使用できるが、これらに限定されるものではない。

以下において、実施例により本発明が具体的に説明される。これらの実施例は何ら本発明を制限するものではない。なお以下の成分比率において、特に説明されない限り、「％」は質量％を意味し、「部」は質量部を意味するものとする。評価方法は以下の通りである。

（１）保持力の評価
ＪＩＳ Ｇ ４３０５に規定するＳＵＳ３０４鋼板を被着体とし、試験体を、貼り付け面積２５ｍｍ×２５ｍｍで、温度２３℃、相対湿度６５％の雰囲気下で貼り付けた。２ｋｇのゴムローラを３往復させて、試験体を被着体に圧着させ、２５分間放置した。その後、８０℃に調整された保持力試験機に投入され、この試験機内に試験体が鉛直に垂れ下がるように吊り下げられた。吊り下げられた状態で、この試験体は２０分間放置された。放置後、この試験体に質量が１ｋｇである錘が取り付けられた。錘を取り付けてからこの錘が落ちるまでの時間（ｍｉｎ）又はそのズレ幅（ｍｍ）が、測定された。この試験を３枚の試験体について行い、その平均値が求められた。この平均値が、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、ＰＥＴフィルム）の片面に積層され粘着テープとされたときの、ＪＩＳ Ｇ ４３０５に規定するＳＵＳ３０４鋼板に対する保持力として、下記の表に示されている。なお、表中、ＳＵＳ３０４鋼板が２４時間以上落下しなかったもので、そのズレが全く認められなかったものについては「ＮＣ」と示している。

（２）近赤外線遮蔽能の評価
試験体の３５０〜１５００の透過スペクトルを測定した。透過スペクトルの測定にはＵＶ−３７００（島津製作所製）を使用した。この透過スペクトルから、８５０〜１０００ｎｍの平均透過率を求めた。この結果が、下記の表に示されている。表中、平均透過率が３０％以下であったものが「Ｇ］で、３０％よりも高かったものが「Ｂ」で示されている。

（３）耐光性の評価
スガ試験機社製の「ＳＸ２−７５ スーパーキセノンウェザーメーター」にて、６３℃で且つ５０％ＲＨの環境下、試験体に、３００〜４００ｎｍにおける照射強度が６０Ｗ／ｍ^２である光を１００時間照射した。この試験前後のそれぞれにおいて、３５０〜１５００ｎｍの光の透過スペクトルを測定した。透過スペクトルの測定にはＵＶ−３７００（島津製作所製）を使用した。得られた試験前後の透過スペクトルから、λｍａｘにおける色素残存率（％）を評価した。なお、表中、色素残存率が８０％以上であったものが「Ａ」で、５０％以上８０％未満であったものが「Ｂ」で、５０％未満であったものが「Ｃ」で示されている。

色素残存率Ｐｘ（％）は、試験後のλｍａｘでの吸光度がＡｘ（％）とされ、試験前のλｍａｘでの吸光度がＢｘ（％）とされるとき、下記の式で計算される。
Ｐｘ＝（Ａｘ／Ｂｘ）×１００

（４）ジイモニウム塩の上記吸光度（Ｘ）
前述した方法により測定された。

（５）ジイモニウム塩の上記溶解度（Ｙ）
５種類のサンプルを用いた前述の測定方法により測定された。

（６）酸価の測定
樹脂０．５ｇを精秤し、トルエン５０ｇを加えて均一に溶解させた。指示薬としてフェノールフタレイン／アルコール溶液を２〜３滴加え、０．１Ｎ水酸化カリウム／アルコール溶液で滴定し、液の赤みが約３０秒で消えなくなったときを終点とした。このときの滴定量と樹脂の固形分から酸価を求めた。酸価は、樹脂固形分１ｇを中和するのに必要な水酸化カリウムのｍｇで表される。

合成例１：
［ジイモニウム化合物ａの合成及び分散体１の作製］
ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）３６部中に、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジ（ｉｓｏ−ブチル）アミノフェニル）−ｐ−フェニレンジアミン６部を加え、６０℃に加熱溶解した。その後、トリス（トリフルオロメチルスルホニル）メタン５８．４％水溶液１０．１部を加えた。次に、ＤＭＦ３５部に溶解した硝酸銀２．３２部を加え、３０分間加熱撹拌した。不溶解分を濾別した後、反応液に水を加え、析出した結晶を濾過、メタノール洗浄、水洗及び乾燥して、８．４部のトリス（トリフルオロメチルスルホニル）メチド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジ（ｉｓｏ−ブチル）アミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム（以下、化合物ａともいう）を得た。この化合物ａは、上記式（２）における、Ｒ^１〜Ｒ^８が全てｉｓｏ−ブチル基であり且つ上記式（２）におけるＺ⁻が［（ＣＦ_３ＳＯ_２）_３Ｃ⁻］であるジイモニウム塩である。この化合物ａの上記吸光度（Ｘ）は、溶媒がトルエンの場合が０．１３８（λｍａｘは１０９６ｎｍ）であり、溶媒が酢酸エチルの場合が０．２３９（λｍａｘは１０８１ｎｍ）であり、溶媒が酢酸ブチルの場合が０．０７５０（λｍａｘは１０８５ｎｍ）であった。この化合物ａの上記溶解度（Ｙ）を測定したところ、溶媒がトルエンの場合が０．０１質量％未満であり、溶媒が酢酸エチルの場合が０．０１質量％未満であり、溶媒が酢酸ブチルの場合が０．０１質量％未満であった。

０．５部の上記化合物ａ、９．５部の酢酸エチル及び２５部のジルコニアビーズを７０ｍｌのマヨネーズ瓶に入れ、ペイントシェーカーで４時間振とうした後、ジルコニアビーズを濾別して、化合物ａを含む分散体１を得た。なお、ジルコニアビーズはニッカトー社製であり、その粒子径は３００μｍであった。

合成例２：
［ジイモニウム化合物ｂの合成及び分散体２〜４の作製］
ＤＭＦ３０部中に、Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’−テトラキス（アミノフェニル）−ｐ−フェニレンジアミン３.８部、ｉｓｏ−ブチルブロミド２１部及び炭酸カリウム１５部を加え、８０℃で１時間、更に９０℃で７時間、更に１３０℃で１時間反応させた。冷却後、濾過し、この反応液（濾液）にイソプロパノール３０部を加え、５℃以下で１時間撹拌した。生成した結晶をメタノールで洗浄した後、乾燥し、薄茶色の結晶状化合物２.５部を得た。ＤＭＦ１０部中に上記結晶状化合物１部を加え、６０℃に加熱してこの結晶状化合物を溶解させた液体Ａ１を得た。ＤＭＦ１０部に六フッ化アンチモン酸銀０.７８部を溶解させて得られた液体Ｂ１を、上記液体Ａ１に加え、３０分反応させた。冷却後、析出した銀を濾別した。この反応液（濾液）に水１０部をゆっくりと滴下し、滴下後１５分撹拌した。生成した黒色結晶を濾過し、５０部の水で洗浄し、得られたケーキ（残渣）を乾燥して、０．５部のヘキサフルオロアンチモン酸−Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジ（ｉｓｏ−ブチル）アミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム（以下、化合物ｂともいう）を得た。この化合物ｂは、上記式（２）における、Ｒ^１〜Ｒ^８が全てｉｓｏ−ブチル基であり且つ上記式（２）におけるＺ⁻が［ＳｂＦ_６ ⁻］であるジイモニウム塩である。この化合物ｂの上記吸光度（Ｘ）を測定したところ、溶媒がトルエンの場合が０．０７０（λｍａｘは１０８８ｎｍ）であり、溶媒が酢酸エチルの場合が０．１１３（λｍａｘは１０６９ｎｍ）であり、溶媒が酢酸ブチルの場合が０．０２８６（λｍａｘは１０６９ｎｍ）であった。この化合物ｂの上記溶解度（Ｙ）を測定したところ、溶媒がトルエンである場合０．０１質量％未満であり、溶媒が酢酸エチルである場合０．０１質量％未満であり、溶媒が酢酸ブチルの場合が０．０１質量％未満であった。

０．５部の上記化合物ｂ、９．５部の酢酸エチル及び２５部の上記ジルコニアビーズを７０ｍｌのマヨネーズ瓶に入れ、ペイントシェーカーで４時間振とうした後、ジルコニアビーズを濾別して、化合物ｂを含む分散体２を得た。

０．５部の上記化合物ｂ、９．５部のトルエン及び２５部の上記ジルコニアビーズを７０ｍｌのマヨネーズ瓶に入れ、ペイントシェーカーで４時間振とうした後、ジルコニアビーズを濾別して、化合物ｂを含む分散体３を得た。

０．５部の上記化合物ｂ、９．５部の酢酸ブチル及び２５部の上記ジルコニアビーズを７０ｍｌのマヨネーズ瓶に入れ、ペイントシェーカーで４時間振とうした後、ジルコニアビーズを濾別して、化合物ｂを含む分散体４を得た。

［分散体５の作製］
化合物ｃとして、ジイモニウム色素（日本化薬社製の商品名「ＫＡＹＡＳＯＲＢ ＩＲＧ−０２２」）が準備された。この化合物ｃは、上記式（２）における、Ｒ^１〜Ｒ^８が全てノルマルブチル基であり且つ上記式（２）におけるＺ⁻が［ＳｂＦ_６ ⁻］であるジイモニウム塩である。０．５部の化合物ｃ、９．５部の酢酸エチル及び２５部の上記ジルコニアビーズを７０ｍｌのマヨネーズ瓶に入れ、ペイントシェーカーで４時間振とうした後、ジルコニアビーズを濾別して、化合物ｃを含む分散体５を得た。この化合物ｃの上記吸光度（Ｘ）を測定したところ、溶媒がトルエンの場合が０．９２（λｍａｘは１０８６ｎｍ）であり、溶媒が酢酸エチルの場合が０．６０（λｍａｘは１０６３ｎｍ）であり、溶媒が酢酸ブチルの場合が０．１１３５（λｍａｘは１０６８ｎｍ）であった。この化合物ｃの上記溶解度（Ｙ）を測定したところ、溶媒がトルエンである場合０．０１質量％未満であり、溶媒が酢酸エチルである場合０．１質量％未満であり、溶媒が酢酸ブチルの場合が０．０１質量％未満であった。

［分散体６の作製］
化合物ｄとして、二酸化チタン（石原産業製の商品名「ＣＲ−５０−２」）が準備された。この試料を１０ｇ、１ｍｍのガラスビーズ１６ｇ、酢酸エチル６ｇを７０ｍｌのマヨネーズ瓶に入れ、ペイントシェーカーで３０分振とうした後、ガラスビーズを濾別して、化合物ｄを含む分散体６を得た。

樹脂製造例１：
モノマーとして、３６０．６ｇの２−エチルヘキシルアクリレート、６０ｇのブチルアクリレート、１５６ｇのシクロヘキシルメタクリレート、１８ｇのアクリル酸及び５．４ｇのヒドロキシエチルアクリレートを秤量し、十分に混合して、重合性モノマー混合物（１）を得た。

１６０ｇの酢酸エチルと、３００ｇの重合性モノマー混合物（１）とを、温度計、攪拌機、不活性ガス導入管、還流冷却器及び滴下ロートを備えたフラスコに入れた。また、上記滴下ロートに、３００ｇの重合性モノマー混合物（１）、１６ｇの酢酸エチル及び０．１５ｇのナイパーＢＭＴ−Ｋ４０（重合開始剤、日本油脂社製）を入れ、良く混合して、滴下用混合物（１）とした。

窒素ガスを２０ｍｌ／分で流通させながら、フラスコの内温を９５℃まで上昇させ、重合開始剤であるナイパーＢＭＴ−Ｋ４０（０．１５ｇ）をフラスコに投入し、重合反応を開始させた。重合開始剤の投入から３０分後に、滴下ロートからの滴下用混合物（１）の滴下を開始した。滴下用混合物（１）は、９０分かけて、均等に滴下された。滴下用混合物（１）の滴下終了後、粘度の上昇に応じて酢酸エチルで希釈を適宜行いながら、還流温度を維持しながら６時間熟成を行った。

反応終了後、不揮発分が約４５％になるように酢酸エチルで反応液を希釈し、計算ガラス転移温度（Ｔｇ）が−３８．５℃であり、計算溶解性パラメータが９．０８である樹脂（１）を得た。この樹脂（１）は、粘着剤樹脂であった。樹脂（１）の重量平均分子量（Ｍｗ）は４３万であり、樹脂（１）の酸価は２３．４であった。

［実施例１］
架橋剤であるコロネートＬ−５５Ｅ（日本ポリウレタン社製）を酢酸エチル溶液に溶解して、固形分２．７５％の架橋剤溶液を調整した。樹脂製造例１で得られた樹脂（１）、合成例１で得られた分散体１、近赤外線遮蔽剤としてのフタロシアニン系化合物（日本触媒製の商品名「イーエクスカラーＩＲ−１４」）及び架橋剤溶液を、固形分重量比で１００／１／０．３／０．２５となるように混合し、固形分が２５％となるように希釈溶剤としての酢酸エチルで希釈して、近赤外線遮蔽粘着剤組成物を得た。なお、この固形分重量比は、（樹脂（１）／分散体１／フタロシアニン系化合物／架橋剤溶液の順で表記されている。

近赤外線遮蔽粘着剤組成物をアプリケーターにて、易接着処理ＰＥＴフィルム（東洋紡績社製、コスモシャインＡ４３００）上に塗工した。塗工時の厚みは、乾燥後の粘着剤組成物層の厚みが２５μｍとなるように設定した。次いで、１００℃の熱風循環オーブン中にて２分間乾燥させた。この粘着剤組成物からなる層に離型フィルム（シリコン処理されたＰＥＴフィルム）を張り合わせた後、２３℃で７日間養生させて、近赤外線遮蔽材を得た。離型フィルムを剥がした後、この近赤外線遮蔽材をガラスに貼り付けて、実施例１に係る試験体を得た。この試験体のガラスに対する粘着力は、９．８Ｎ／ｉｎｃｈとされた。この試験体について、保持力、近赤外線遮蔽能及び耐光性に関する評価がなされた。この評価結果が下記の表に示される。

［実施例２］
架橋剤を１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン（表４において、「Ｘ」と表示）とし、樹脂製造例１で得られた樹脂（１）、合成例１で得られた分散体１、フタロシアニン系化合物（日本触媒製の商品名「イーエクスカラーＩＲ−１４」）及び架橋剤溶液を、固形分重量比で１００／１／０．３／０．１とした他は実施例１と同様にして、実施例２に係る試験体を得た。この試験体のガラスに対する粘着力は、１０．６Ｎ／ｉｎｃｈとされた。この試験体について、保持力、近赤外線遮蔽能及び耐光性に関する評価がなされた。この評価結果が下記の表に示される。

［実施例３］
分散体１に代えて分散体２が用いられた他は実施例１と同様にして、実施例３に係る試験体を得た。この試験体のガラスに対する粘着力は、１０．２Ｎ／ｉｎｃｈとされた。この試験体について、保持力、近赤外線遮蔽能及び耐光性に関する評価がなされた。この評価結果が下記の表に示される。

［実施例４］
分散体１に代えて分散体２を用い、架橋剤を１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン（表４において、「Ｘ」と表示）とし、樹脂製造例１で得られた樹脂（１）、分散体２、フタロシアニン系化合物（日本触媒製の商品名「イーエクスカラーＩＲ−１４」）及び架橋剤溶液を、固形分重量比で１００／１／０．３／０．１とした他は実施例１と同様にして、実施例４に係る試験体を得た。この試験体のガラスに対する粘着力は、１１．４Ｎ／ｉｎｃｈとされた。この試験体について、保持力、近赤外線遮蔽能及び耐光性に関する評価がなされた。この評価結果が下記の表に示される。

［実施例５］
分散体１に代えて分散体３が用いられた他は実施例１と同様にして、実施例５に係る試験体を得た。この試験体のガラスに対する粘着力は、９．２Ｎ／ｉｎｃｈとされた。この試験体について、保持力、近赤外線遮蔽能及び耐光性に関する評価がなされた。この評価結果が下記の表に示される。

［実施例６］
分散体１に代えて分散体４が用いられた他は実施例１と同様にして、実施例５に係る試験体を得た。この試験体のガラスに対する粘着力は、９．５Ｎ／ｉｎｃｈとされた。この試験体について、保持力、近赤外線遮蔽能及び耐光性に関する評価がなされた。この評価結果が下記の表に示される。

［実施例７］
分散体１に代えて分散体５が用いられた他は実施例１と同様にして、実施例５に係る試験体を得た。この試験体のガラスに対する粘着力は、８．８Ｎ／ｉｎｃｈとされた。この試験体について、保持力、近赤外線遮蔽能及び耐光性に関する評価がなされた。この評価結果が下記の表に示される。

［実施例８］
合成例１で得られたジイモニウム化合物ａを、メチルエチルケトンに５質量％で溶解した溶液が用いられ、希釈溶剤としてメチルエチルケトンを用いた他は実施例１と同様にして、実施例８に係る試験体を得た。この試験体のガラスに対する粘着力は、９．５Ｎ／ｉｎｃｈとされた。この試験体について、保持力、近赤外線遮蔽能及び耐光性に関する評価がなされた。この評価結果が下記の表に示される。

［比較例１］
分散体１に代えて分散体６を用い、樹脂製造例１で得られた樹脂（１）、分散体６及び架橋剤溶液を、固形分重量比で１００／２０／０．２５とした他は実施例１と同様にして、比較例１に係る試験体を得た。この試験体のガラスに対する粘着力は、３．５Ｎ／ｉｎｃｈとされた。この試験体について、保持力、近赤外線遮蔽能及び耐光性に関する評価がなされた。この評価結果が下記の表に示される。

本発明の近赤外線遮蔽粘着剤組成物は、近赤外線遮蔽能の持続性及び可視領域の透明性が高く、耐熱性、耐湿熱性及び耐光性に優れることから、例えば薄型ディスプレー用の光学フィルターとして有用である。また、光情報記録材料としても使用することができる。

Claims (8)

1. ジイモニウム塩（Ａ）と、計算ガラス転移点が０℃以下である樹脂（Ｂ）と、架橋剤（Ｃ）と、溶媒（Ｄ）とを含んでおり、
   二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に積層され粘着テープとされたときの、ガラスに対する粘着力が５Ｎ／ｉｎｃｈ以上である近赤外線遮蔽粘着剤組成物。
2. 上記溶媒（Ｄ）に対する上記ジイモニウム塩（Ａ）の溶解度が、５質量％未満である請求項１に記載の近赤外線遮蔽粘着剤組成物。
3. 上記ジイモニウム塩（Ａ）を上記溶媒（Ｄ）に対して０．０１質量％の割合で混合した混合液を調整し、この混合液を３０分間超音波にかけた後、１時間以上静置し、その後、この混合液の上澄み液を光路長１ｍｍのセルに入れて紫外可視分光光度計により３５０ｎｍ以上１５００ｎｍ以下の範囲で測定された上記上澄み液のλｍａｘでの吸光度（Ｘ）が、０．５以下である請求項１又は２に記載の近赤外線遮蔽粘着剤組成物。
4. 上記ジイモニウム塩（Ａ）を上記溶媒（Ｄ）に分散させた分散体（Ｍ１）が混合されている請求項１から３のいずれかに記載の近赤外線遮蔽粘着剤組成物。
5. 上記樹脂（Ｂ）の酸価が、０以上３００以下である請求項１から４のいずれかに記載の近赤外線遮蔽粘着剤組成物。
6. 上記樹脂（Ｂ）の計算溶解度パラメーターが、１０．２以下である請求項１から５のいずれかに記載の近赤外線遮蔽粘着剤組成物。
7. 上記溶媒（Ｄ）が、トルエン、酢酸エチル及び酢酸ブチルからなる群から選ばれた少なくとも一つである請求項１から６のいずれかに記載の近赤外線遮蔽粘着剤組成物。
8. 請求項１から７のいずれかに記載の近赤外線遮蔽粘着剤組成物が上記架橋剤（Ｃ）によって架橋され形成されたものを含んでおり、
   上記樹脂（Ｂ）が、少なくとも１種類以上の官能基を含んでおり、
   この架橋剤（Ｃ）がこの官能基と反応しうる官能基を１分子当たり少なくとも２個有している近赤外線遮蔽材。