JP2011116064A - Mask pattern forming apparatus, printer, mask pattern forming method, printing method, and program - Google Patents
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Abstract
【課題】レジストレーションの変動が起こった場合にも、出力画像のムラを少なくする。
【解決手段】マスクパターンを構成する各画素の画素値を0に初期化する。マスクパターンから画素値0の画素を1画素選択し、選択画素の画素値をマスクしないことを示す1に変更してマスクパターンを更新する処理を交互に複数回繰り返すことで、マスクパターンを完成させる。この時、一方のマスクパターンについて、画素値0の画素を1画素選択し、選択した選択画素の画素値を1に変更した修正マスクパターンを生成する。修正マスクパターンを画素単位でずらしながら、他方のマスクパターンと重ね合わせた時に画素値1の画素が重なる画素位置の数を求めることで、評価値を求める。それぞれの画素についての評価値を求め、評価値が最小である画素を特定し、特定した画素の画素値を1に変更することのマスクパターンを更新する。
【選択図】図1The present invention reduces unevenness of an output image even when registration fluctuations occur.
A pixel value of each pixel constituting a mask pattern is initialized to zero. A mask pattern is completed by selecting one pixel having a pixel value of 0 from the mask pattern, changing the pixel value of the selected pixel to 1 indicating no masking, and alternately updating the mask pattern a plurality of times. . At this time, for one of the mask patterns, one pixel having a pixel value of 0 is selected, and a modified mask pattern in which the pixel value of the selected selected pixel is changed to 1 is generated. The evaluation value is obtained by obtaining the number of pixel positions where the pixel value 1 overlaps when the correction mask pattern is overlaid with the other mask pattern while shifting the correction mask pattern in pixel units. An evaluation value for each pixel is obtained, a pixel having the smallest evaluation value is specified, and a mask pattern for changing the pixel value of the specified pixel to 1 is updated.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、マルチパス印刷のためのパス分割に用いるマスクパターンの作成技術、及びこのマスクパターンを用いた画像処理技術に関する。 The present invention relates to a technique for creating a mask pattern used for pass division for multi-pass printing, and an image processing technique using the mask pattern.
画像出力装置のような画像出力装置においては、プリントヘッドのような印字部の出力精度のばらつきに起因する印刷品質の劣化を防ぐために、マルチパス印刷がよく用いられている。マルチパス印刷を行うためには、入力された画像データを複数のパスに分割し、パス毎のデータを生成する。 In an image output apparatus such as an image output apparatus, multi-pass printing is often used in order to prevent deterioration in print quality due to variations in output accuracy of a printing unit such as a print head. In order to perform multi-pass printing, input image data is divided into a plurality of passes, and data for each pass is generated.
パス分割には様々な方法があるが、予め用意されたマスクパターンを用いる方法が、処理速度の観点で優れている。特許文献1に記載の方法では、このマスクパターンを斥力ポテンシャルに基づいて生成する。このことにより、ドット配置の分散性を高めることを目指している。 There are various methods for pass division, but a method using a mask pattern prepared in advance is superior from the viewpoint of processing speed. In the method described in Patent Document 1, this mask pattern is generated based on the repulsive potential. This aims to increase the dispersibility of the dot arrangement.
しかしながら、マルチパス印刷においては、プリントヘッド等の印字部、紙等の記録媒体の物理的な位置誤差(レジストレーションの変動)に伴い、印刷にムラができてしまう可能性がある。特許文献3の方法で用いるマスクは、各パスの印刷が正確に同じ領域に行われた場合にムラが最も低減されるように生成されている。すなわち、レジストレーションの変動が起こった場合、濃度ムラが生じる可能性がある。
However, in multi-pass printing, printing may be uneven due to a physical position error (registration fluctuation) of a printing unit such as a print head or a recording medium such as paper. The mask used in the method of
本発明は、レジストレーションの変動が起こった場合にも、出力画像のムラを少なくすることを目的とする。 An object of the present invention is to reduce unevenness of an output image even when registration fluctuation occurs.
本発明の目的を達成するために、例えば、本発明のマスクパターン作成装置は以下の構成を備える。すなわち、
画像データを2パスに分けて印刷する印刷装置において、第1パスで印刷する画像部分のデータを生成するために前記画像データに対して適用する第1のマスクパターンと、第2パスで印刷する画像部分のデータを生成するために前記画像データに対して適用する第2のマスクパターンと、を作成するマスクパターン作成装置であって、
前記第1のマスクパターン及び前記第2のマスクパターンを構成する各画素の画素値を、マスクすることを示す0に初期化する初期化手段と、
前記初期化手段による初期化後、前記第1のマスクパターンから画素値0の画素を1画素選択し、当該選択画素の画素値をマスクしないことを示す1に変更して当該第1のマスクパターンを更新する処理と、前記第2のマスクパターンから画素値0の画素を1画素選択し、当該選択画素の画素値を1に変更して当該第2のマスクパターンを更新する処理と、を交互に複数回繰り返すことで、前記第1のマスクパターン及び前記第2のマスクパターンを完成させる、生成手段と、
前記完成した第1のマスクパターン及び前記第2のマスクパターンをメモリに格納する、格納手段とを備え、
前記生成手段は、
前記第1のマスクパターンと前記第2のマスクパターンとのうち一方のマスクパターンについて、画素値0の画素を1画素選択する選択手段と、
前記選択手段が選択した選択画素の画素値を1に変更した修正マスクパターンを生成する、修正手段と、
前記修正マスクパターンと、前記第1のマスクパターンと前記第2のマスクパターンとのうち他方のマスクパターンとを、同一の画素位置が重なるように重ね合わせた時に、画素値1の画素が重なる画素位置の数を基準値として求める、第1の計算手段と、
前記修正マスクパターンを画素単位でずらしながら、前記他方のマスクパターンと重ね合わせた時に画素値1の画素が重なる画素位置の数と、前記基準値との差の絶対値を差分値として求める、第2の計算手段と、
前記第2の計算手段が前記修正マスクパターンをずらしながら求めた複数の前記差分値を合計した値を評価値として求める、第3の計算手段と、
前記選択手段が画素を選択する毎に、前記修正手段、及び前記第1、第2、第3の計算手段を動作させることで、前記選択手段が選択したそれぞれの画素についての前記評価値を求める手段と、
前記選択手段が選択した前記それぞれの画素のうち前記評価値が最小である画素を特定し、当該特定した画素の画素値を1に変更することで前記一方のマスクパターンを更新する手段と、を備えることを特徴とする。
In order to achieve the object of the present invention, for example, a mask pattern creating apparatus of the present invention comprises the following arrangement. That is,
In a printing apparatus that prints image data in two passes, a first mask pattern that is applied to the image data to generate image portion data to be printed in the first pass, and a second pass. A mask pattern creating apparatus for creating a second mask pattern to be applied to the image data to generate image portion data,
Initialization means for initializing a pixel value of each pixel constituting the first mask pattern and the second mask pattern to 0 indicating masking;
After initialization by the initialization means, one pixel of
Storage means for storing the completed first mask pattern and the second mask pattern in a memory;
The generating means includes
Selecting means for selecting one pixel having a pixel value of 0 for one of the first mask pattern and the second mask pattern;
Correction means for generating a correction mask pattern in which the pixel value of the selected pixel selected by the selection means is changed to 1,
A pixel in which pixels with a pixel value of 1 overlap when the correction mask pattern and the other mask pattern of the first mask pattern and the second mask pattern are overlapped so that the same pixel position overlaps First calculating means for obtaining the number of positions as a reference value;
Obtaining the absolute value of the difference between the reference value and the number of pixel positions where the pixel value of 1 overlaps when the correction mask pattern is shifted in units of pixels and superimposed on the other mask pattern; Two calculation means;
Third calculation means for obtaining, as an evaluation value, a value obtained by summing up the plurality of difference values obtained by shifting the correction mask pattern by the second calculation means;
Each time the selection means selects a pixel, the correction means and the first, second, and third calculation means are operated to obtain the evaluation value for each pixel selected by the selection means. Means,
Means for identifying the pixel having the smallest evaluation value among the respective pixels selected by the selection means, and updating the one mask pattern by changing the pixel value of the identified pixel to 1. It is characterized by providing.
レジストレーションの変動が起こった場合にも、出力画像のムラを少なくすることができる。 Even when registration fluctuations occur, the unevenness of the output image can be reduced.
本発明に係るマスクパターンは、このマスクパターンを用いてマルチパス印刷を行った場合、各パスにおける媒体上の印刷領域がずれたとしても、濃度が一定に保たれるように作成される。一例として、白と黒との2値化データを与えるマスクパターンであれば、マスクパターン同士を数ドットずらして重ねた場合でも、正確に重ねた場合と、黒ドットの重なり数がほぼ一定となる。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の実施の形態は特許請求の範囲に関る本発明を限定するものではなく、また、本実施の形態で説明されている特徴の全てが本発明の解決手段に必須のものとは限らない。
The mask pattern according to the present invention is created such that when multi-pass printing is performed using this mask pattern, the density is kept constant even if the print area on the medium in each pass is shifted. As an example, in the case of a mask pattern that gives binarized data of white and black, even if the mask patterns are overlapped with a shift of several dots, the number of overlaps of black dots is almost the same as when overlapped correctly. .
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. The following embodiments do not limit the present invention related to the scope of claims, and all the features described in the present embodiments are essential to the solution means of the present invention. Not exclusively.
[第1の実施形態]
本実施形態では、インクを吐出する記録ヘッドを記録媒体に対して走査し、その間にインクを吐出して記録を行う、いわゆるシリアル方式で印刷を行う。記録ヘッドは、C、M、Y、Kそれぞれのインクに対応して用意され、これらがキャリッジに装着されることにより、記録用紙等の記録媒体に対して印刷を行うことができる。それぞれの記録ヘッドは例えば、吐出口の配列密度が1200dpiであり、それぞれの吐出口から2ピコリットル(pl)のインク滴を吐出する。また、それぞれの記録ヘッドの吐出口の数は自由であるが、本実施形態では512個とする。
[First Embodiment]
In this embodiment, printing is performed by a so-called serial method in which a recording head that ejects ink is scanned with respect to a recording medium, and ink is ejected during that time to perform recording. The recording head is prepared corresponding to each ink of C, M, Y, and K, and when these are mounted on the carriage, printing can be performed on a recording medium such as recording paper. Each recording head has, for example, an ejection port arrangement density of 1200 dpi, and ejects 2 picoliter (pl) of ink droplets from each ejection port. Further, the number of ejection ports of each recording head is arbitrary, but in this embodiment, it is 512.
図2は、本実施形態に係る画像処理装置が行う処理を示すブロック図である。本実施形態では説明のために、1つの画像処理装置が印刷画像データの取得から印刷までを行うものとする。すなわち、本実施形態の画像処理装置は印刷装置である。しかしながら、当業者の間で一般に行われているように、例えばステップS201〜S205をコンピュータ等の画像処理装置(プリンタドライバ)が行い、ステップS206〜S209を画像出力装置が行うものとしてもよい。この場合、不図示の印刷指示データ生成部はステップS205で生成したデータに印刷制御情報を加えて印刷指示データとする。そして、画像出力装置のドット配置パターン化処理部706は、この印刷指示データを受け取って続く処理を行えばよい。また、この画像処理装置と画像出力装置との役割分担は、目的によって変えることもできる。
FIG. 2 is a block diagram illustrating processing performed by the image processing apparatus according to the present embodiment. In this embodiment, for the sake of explanation, it is assumed that one image processing apparatus performs from acquisition of print image data to printing. That is, the image processing apparatus of the present embodiment is a printing apparatus. However, as generally performed by those skilled in the art, for example, steps S201 to S205 may be performed by an image processing apparatus (printer driver) such as a computer, and steps S206 to S209 may be performed by the image output apparatus. In this case, a print instruction data generation unit (not shown) adds print control information to the data generated in step S205 to obtain print instruction data. Then, the dot arrangement
まず、前段処理部702は、コンピュータアプリケーション等で生成した印刷画像データを受け取り(S201)、前段処理、すなわち色域(Gamut)のマッピングを行う(S202)。この処理は、sRGB規格の画像データR、G、Bによって再現される色域を、画像処理装置によって再現される色域内に写像するためのデータ変換を行う。具体的には、R、G、Bのそれぞれが8bitで表現された256階調のデータを、3次元のLUT(ルックアップテーブル)を用いることにより、色域が異なるそれぞれ8bitのR、G、Bデータに変換する。
First, the
後段処理部703は、上記色域のマッピングがなされたR、G、Bデータに基づき、このデータが表す色を再現するインクの組み合わせである、色分解データC、M、Y、K(それぞれ8bit)を求める(S203)。ここでは前段処理と同様に、3次元LUTに補間演算を併用して変換を行う。γ補正部704は、後段処理部703が求めた色分解データの色成分ごとに、その濃度値(階調値)変換を行う(S204)。具体的には、1次元LUTを用い上記色分解データを画像出力の階調特性に線形的に対応づけられるような変換を行う。
The
ハーフトーニング部705は、8ビットの色分解データC、M、Y、Kのそれぞれについて、量子化処理を行い4ビットのデータに量子化する(S205)。本実施形態では、多値誤差拡散法を用いて、256階調の8ビットデータを、5階調を表すインデックスデータに変換する。このインデックスデータは、2値化処理であるドット配置パターン化処理(S206)のインデックスとなる階調値情報である。
The
次にドット配置パターン化処理部706は、インデックスデータに基づいてドット配置パターンを出力することにより2値化処理を行う(S206)。これにより、画像出力の際に用いる、インクを吐出するか否かの2値情報を得ることができる。図3は、5値のインデックスデータに応じた本実施形態のドット配置パターンを示す図である。C、M、Y、Kそれぞれのインデックスデータが示す階調レベル0〜階調レベル4の5値のそれぞれについてドットの配置パターンが定められている。
Next, the dot arrangement
同図に示す縦2画素、横2画素で構成される2×2の出力画素は、ハーフトーン処理で出力された1つの入力画素に対応するものであり、この入力画素は縦横ともに600dpi(ドット/インチ)の画素密度に対応する大きさである。1つの入力画素を構成する複数の画素夫々は、ドットの記録・非記録(インクの吐出・非吐出)が定義される領域である。「黒」で塗りつぶした領域がドットの記録が許容される画素(記録許容画素)を示し、「白」の領域がドットの記録が許容されない画素(非録許容画素)を示している。そして、インデックスデータが示すレベル0〜レベル4のいずれかの値に応じて、ドット記録が定義される記録許容画素の数が定まっている。
The 2 × 2 output pixel composed of two vertical pixels and two horizontal pixels shown in the figure corresponds to one input pixel output by halftone processing, and this input pixel is 600 dpi (dots in both vertical and horizontal directions). / Inch) is a size corresponding to the pixel density. Each of the plurality of pixels constituting one input pixel is an area where dot recording / non-recording (ink ejection / non-ejection) is defined. An area filled with “black” indicates a pixel in which dot recording is allowed (recording allowable pixel), and a “white” area indicates a pixel in which dot recording is not allowed (non-recording allowable pixel). Then, the number of print permitting pixels in which dot printing is defined is determined according to any value of
これらのドット配置パターンの1つの画素は、本実施形態に係る画像出力での、縦が1200dpi、横が1200dpiの記録密度の大きさに対応している。すなわち、本実施形態の画像処理装置が行う画像出力は、縦が約20μm、横が約20μmの1つの画素に対して、各色の記録ヘッドから2plのインク滴を1つずつ吐出して1つのドット形成する仕様となっている。ドット配置パターン化処理部706は、以上のドット配置パターンを用いて5値データを2値化する処理を行い、各エリアに対応する吐出口や記録するカラムについての「1」又は「0」の1ビットの吐出データを生成する。本実施形態においては印刷画像データ701の画素の大きさを600dpi(ドット/インチ)の画素密度に対応する大きさとするが、異なる大きさとしてもよい。この場合、画素の大きさに応じて異なるドット配置パターンを用いてもよいし、本実施形態に係る画像処理の途中で適宜拡大縮小を行ってもよい。
One pixel of these dot arrangement patterns corresponds to a recording density of 1200 dpi in the vertical direction and 1200 dpi in the horizontal direction in the image output according to the present embodiment. That is, the image output performed by the image processing apparatus according to the present embodiment is performed by ejecting 2 pl ink droplets one by one from the recording head of each color to one pixel of about 20 μm in length and about 20 μm in width. It is a specification to form dots. The dot arrangement
次に、マスクデータ変換処理部707は、ドット配置パターン化処理部706が決定した各色のドット配置パターンに対して、「1」又は「0」のデータから構成されるマスクパターンを用いてマスク処理を行う(S207)。マスク処理とは、ドット配置パターンとマスクパターンの論理積を計算する処理である。これにより、C、M、Y、Kの各色について各パスで印刷する画像部分の吐出データを生成する。なお、この処理で用いられるマスクパターンは、後述するマスクパターン作成装置によって作成されており、本実施形態に係る画像処理装置の保持手段に保持されている。このマスクパターンは、詳細を後述するように、各走査のレジストレーションが変動しても濃度ムラが目立たないように作成されたものである。以下の説明では、「1」のデータを持つ画素を記録許容画素、「0」のデータを持つ画素を記録禁止画素と呼ぶことにする。第1のマスクパターンと第2のマスクパターンとを用いて2パス分割を行う場合、第1のマスクパターンを用いて第1の吐出データ(第1の印刷データ)を生成し、第2のマスクパターンを用いて第2の吐出データ(印刷データ)を生成する。
Next, the mask data
ヘッド駆動部708は、マスクデータ変換処理部707が生成した吐出データを、各パスの走査に応じた適切なタイミングで記録ヘッド709に供給する(S208)。ヘッド駆動部708は、が各色の1bitデータを記録ヘッド709の駆動パルスに変換し、各色の記録ヘッド709からインクを吐出させる。これにより、吐出データに応じたインク吐出が行われ、記録媒体に画像の記録が行って画像出力710を行う。なお、本実施形態では、複数の記録モードに対応した複数のマスクデータが、マスクデータ変換処理部707等が有するメモリに格納してある。
The
記録素子としてシアン(C)インクを吐出するノズル列を備えた1つの記録ヘッドを用いて、2回の走査で画像を完成させる、本実施形態での2パスのマルチパス印刷について、次に説明する。図4(a)は、2パス記録を説明するために、記録ヘッド、マスクパターン及び記録媒体の位置関係を模式的に示す図である。記録ヘッド401はシアンのノズル列を備え、ノズル列は1200dpiの間隔で配列された512個のノズルを含む。このノズルは、それぞれ256個のノズルを含む、第1グループおよび第2グループに分割される。各グループには、マスクパターン402(2つのマスクパターンC1、C2)が対応付けられている。それぞれのマスクC1、C2の副走査方向(搬送方向)の大きさは各グループのノズル個数と同じ256画素で、主走査方向の大きさも256画素である。図4に示すように、第1走査において、記録媒体403の領域Aに対してマスクC1を用いて記録を行い、記録媒体が256画素分送られた後、領域Aに対してマスクC2を用いて記録を行う。この2回のパスによって画像の記録が完成する。
Next, the two-pass multi-pass printing in the present embodiment, in which an image is completed by two scans using a single recording head having a nozzle array that discharges cyan (C) ink as a recording element, will be described below. To do. FIG. 4A is a diagram schematically showing the positional relationship among the recording head, the mask pattern, and the recording medium in order to explain the two-pass recording. The
<マスクパターン作成方法>
以下では、マスクデータ変換処理部707が用いるマスクパターンの作成方法及びこのマスクパターンの作成装置を説明する。図10は、本実施形態に係るマスクパターンの作成装置を示すブロック図である。本実施形態では、第1のマスクパターンC1及び第2のマスクパターンC2に、マスクしないことを示す記録許容画素(画素値1の画素)を1画素ずつ交互に配置していく。そして、記録許容画素数がそれぞれ256×256÷2画素になるまで配置を複数回繰り返す。この第1マスクパターンC1を用いることで、画像データから第1パスのデータ(第1の印刷データ)を生成することができる。また、第2のマスクパターンC2を用いることで、画像データから第2パスのデータ(第2の印刷データ)を生成し、こうして画像データを分割することができる。
<Mask pattern creation method>
Hereinafter, a mask pattern creating method and a mask pattern creating apparatus used by the mask data
図5は、本実施形態におけるマスクパターン決定処理を示すフローチャートである。まず、初期化部1002は、ユーザ等の指示に基づくマスクパターン作成パラメータ1001を取得し、初期マスクパターンを生成する(S501)。パラメータ1001には、作成するマスクパターンの枚数、マスクパターンの大きさ、マスクパターンに配置する記録許容画素の数等、作成するマスクパターンの性質を示すパラメータが含まれている。初期化部1002は、マスクパターン作成パラメータ1001に示される大きさの、全てが記録禁止画素(画素値0)であるマスクパターン(C1及びC2)を生成することで、初期化を行う。記録禁止画素は、マスクすることを示す画素である。
FIG. 5 is a flowchart showing mask pattern determination processing in the present embodiment. First, the
ステップS501での初期化後、評価値計算部1003の有する各部が、記録許容画素を配置する画素を決定するために用いる評価値を計算する。まず、画素選択部1010は、記録許容画素を配置するマスクパターンを選択する(S502)。最初はC1を、次はC2を、その次はC1を、と交互に選択していけばよい。続いて評価値計算部1003は、ステップS502で選択したマスクパターンの全ての記録禁止画素について、評価値を計算する。評価値は次の計算によって求める。ここでは説明のために、ステップS502で一方のマスクパターンであるマスクパターンC1を選択しているものとする。マスクパターンC2は、他方のマスクパターンであるといえる。
After the initialization in step S501, each unit included in the evaluation value calculation unit 1003 calculates an evaluation value used for determining a pixel in which a print allowable pixel is arranged. First, the
まず、修正マスクパターン生成部1011は、マスクパターンC1の記録禁止画素を1画素選択する(S503)。そして、修正マスクパターン生成部1011は、ステップS503で選択した記録禁止画素が記録許容画素に変更されているマスクパターンである、修正マスクパターンを生成する(S504)。次に基準値計算部1012は、修正マスクパターンと、修正マスクパターンの基となっているマスクパターン以外との、相互相関関数を計算する(S505)。具体的には、ステップS504で生成した修正マスクパターンと、マスクパターンC2とを重ね合わせた時に、重なる記録許容画素の数を、基準値として求める(第1の計算手段)。
First, the corrected mask
ここまでの処理について、図1を用いて説明する。図1では、記録許容画素は黒で、記録禁止画素は白で示されている。ステップS503では、図1(a)に示される3×3画素のマスクパターンC1について、記録禁止画素である右下の画素を選択する。ステップS504では選択画素を記録許容画素に変更した、図1(b)の修正マスクパターンC11を生成する。ステップS505では、修正マスクパターンC11とマスクパターンC2とで、重なる記録許容画素の数を決定する。具体的には、右中央の画素と下中央との画素がともに記録許容画素であるため、基準値は2となる。 The processing so far will be described with reference to FIG. In FIG. 1, the print permitting pixels are shown in black, and the print prohibition pixels are shown in white. In step S503, a lower right pixel that is a recording prohibited pixel is selected for the 3 × 3 pixel mask pattern C1 shown in FIG. In step S504, the corrected mask pattern C11 shown in FIG. 1B is generated in which the selected pixel is changed to a recording allowable pixel. In step S505, the number of print permitting pixels that overlap with the corrected mask pattern C11 and the mask pattern C2 is determined. Specifically, since the right center pixel and the lower center pixel are both print-allowable pixels, the reference value is 2.
次に相互相関計算部1013は、修正マスクパターンを平行移動させた場合の、修正マスクパターンの基となっているマスクパターン以外との相互相関関数の値を計算する(S506)。そして、求めた値と基準値との差の絶対値を求め、この値をステップS503で選択した記録禁止画素に対する差分値とする(第2の計算手段)。本実施形態では、修正マスクパターンC11を画素単位で平行移動してから、マスクパターンC2と重ね合わせ、重なる記録許容画素の数を求める。さらに、平行移動量を変化させながら求めた複数の差分値を合計して、以下の評価値Fを求める(第3の計算手段)。この処理は、具体的には式(1)に示される。
ここで、C2に対してC11を主走査方向にiドット、副走査方向にjドット平行移動させた時の、C11とC2の記録許容画素の重なり数をd(i,j)とする。d(i,j)は、C11とC2の相互相関値である。d(0,0)は、ステップS505で求めた基準値である。F値が、評価値計算部1003が求める評価値である。F値は、C11とC2とを同一の画素位置が重なるように重ね合わせた状態から、C11をC2に対して平行移動させた時の、C11とC2のドット重なり数の変化量を示している。Σは、iに関しては−mからmまでの和を示し、jに関しては−nからnまでの和を示す。m、nはC11を移動させる範囲を定める値であって、1以上の整数である。本実施形態では、m、nの値を1とするが、それ以外の値であってもよい。 Here, d (i, j) is the overlap number of the printable pixels of C11 and C2 when C11 is translated by i dots in the main scanning direction and j dots in the sub-scanning direction. d (i, j) is a cross-correlation value between C11 and C2. d (0,0) is the reference value obtained in step S505. The F value is an evaluation value obtained by the evaluation value calculation unit 1003. The F value indicates the amount of change in the number of overlapping dots of C11 and C2 when C11 is translated with respect to C2 from the state where C11 and C2 are overlapped so that the same pixel position overlaps. . Σ represents the sum from −m to m for i, and represents the sum from −n to n for j. m and n are values that define a range in which C11 is moved, and are integers of 1 or more. In this embodiment, the values of m and n are 1, but other values may be used.
次に相互相関計算部1013は、ステップS502で選択したマスクパターンについて、全ての記録禁止画素をステップS503で選択しているかを判断する(S507)。全て選択している場合はステップS508に進み、まだ選択していない記録禁止画素がある場合はステップS503に戻ってまだ選択していない記録禁止画素を選択する。
Next, the
次に比較部1004は、ステップS502で選択したマスクパターンの記録禁止画素のうち、評価値が最小である画素を特定する(S508)。評価値が最も低い画素が複数ある場合は、そのうちの1つをランダムに決めればよい。次に配置部1005は、ステップS508で特定した画素を記録許容画素に変更することで、ステップS502で選択したマスクパターンに対して記録許容画素を1ドット配置する(S509)。こうして、ステップS502で選択したマスクパターンが更新される。
Next, the
次に配置部1005は、マスクパターンに対して配置したドット数が、パラメータ1001に示される所定のドット数となったか否かを判定する(S510)。例えば2パス分割する際は、マスクパターンの画素数の半分の数の記録許容画素を、各マスクパターンに配置した時に、所定のドット数となったと判断することが考えられる。所定のドット数を配置した場合はステップS511に進み、所定のドット数を配置していない場合はステップS502に戻って別のマスクパターンを選択する。最後に格納部1006は、記録許容画素の配置が終わったマスクパターンC1を、マスクパターン1007として、不図示の格納装置の有するメモリに格納する(S511)。
Next, the
以上説明した処理によってマスクパターンを作成した場合、このマスクパターンを用いて作成した各パスのドット配置パターンに関して評価値Fを計算すると、評価値Fの値は概ね0となる。その結果、各走査のレジストレーションが変動しても、ドットの重なり数は変動しない。このため、レジストレーションの変動による濃度ムラを低減しつつ、高画質画像を形成することが可能となる。 When a mask pattern is created by the processing described above, the evaluation value F is approximately 0 when the evaluation value F is calculated for the dot arrangement pattern of each pass created using this mask pattern. As a result, even if the registration of each scan varies, the number of overlapping dots does not vary. For this reason, it is possible to form a high-quality image while reducing density unevenness due to variations in registration.
評価値Fを求める式は先に示した式に限られない。C11をC2に対して平行移動させた時の、C11とC2との記録許容画素の重なり数の変化量を表現できる値であれば、評価値として用いることができる。また、マスクパターンの記録許容画素の重なり数ではなく、マスクパターンを用いてマスク処理を行った後の画像における黒画素の重なり数を評価してもよい。例えば、図1(b)に示すように、全画素が黒画素である二値画像D0に対して、修正マスクパターンC11及びマスクパターンC2を適用して二値画像D11及びD2を生成する。そして、D11とD2とについて評価値を計算してもよい。図1(b)の場合はマスクパターンの記録許容画素の重なり数を評価する場合と同じ結果となるが、図1(c)のように任意の二値画像D0を用いることも可能である。この場合、マスク処理を行う画像に適したマスクパターンを生成することができる。 The formula for obtaining the evaluation value F is not limited to the formula shown above. Any value can be used as an evaluation value as long as it can express the amount of change in the number of print-allowable pixels overlap between C11 and C2 when C11 is translated with respect to C2. In addition, the number of black pixels in the image after mask processing using the mask pattern may be evaluated instead of the number of print pattern allowable pixels in the mask pattern. For example, as shown in FIG. 1B, binary images D11 and D2 are generated by applying a correction mask pattern C11 and a mask pattern C2 to a binary image D0 in which all pixels are black pixels. Then, evaluation values may be calculated for D11 and D2. In the case of FIG. 1B, the same result as that in the case of evaluating the number of overlapping print permitting pixels of the mask pattern is obtained, but it is also possible to use an arbitrary binary image D0 as shown in FIG. In this case, a mask pattern suitable for an image to be masked can be generated.
[第2の実施形態]
本実施形態では、サーマルヘッドの熱によりインクシートを専用記録媒体に昇華・拡散させる、昇華型画像出力方式で印刷を行う。図8(c)は昇華型画像出力方法の基本原理を説明するための概略図である。昇華型画像出力方法では染料の拡散現象を用いて画像出力を行う。図中801は昇華性染料805が塗布されたプラスチックシート(インクシート)である。このインクシート801は専用記録媒体802と重ね合わせた形で、サーマルヘッド803とプラテンローラー804によって挟支される。このインクシート801を、サーマルヘッド803の熱により専用記録媒体に昇華・熱拡散させることにより、カラープリントを得る。なおサーマルヘッド803は、各色の入力画像データに応じて各色255階調のパターンを記録することが可能である。また、インクシートと専用記録媒体をサーマルヘッドに対して前後に複数回搬送することによって、実施形態1で示したようなマルチパス印刷を行うことが可能である。
[Second Embodiment]
In this embodiment, printing is performed by a sublimation type image output method in which an ink sheet is sublimated and diffused on a dedicated recording medium by the heat of a thermal head. FIG. 8C is a schematic diagram for explaining the basic principle of the sublimation image output method. In the sublimation type image output method, an image is output using a dye diffusion phenomenon. In the figure,
本実施形態に係る画像処理装置が行う処理は、第1の実施形態に係る図2の処理と同様である。ただし、各色255階調のパターンを記録することができるため、ハーフトーニング部705、ドット配置パターン化処理部706は必要なく、代わりに昇華型画像出力方法に適した画像処理部を加えてもよい。また、本実施形態ではマスクパターンが2値ではないので、マスクデータ変換処理部707は、マスクパターンを用いて論理積を取るのではなく、マスクパターンの値を用いて乗算を行い、印字データを生成する。
The processing performed by the image processing apparatus according to the present embodiment is the same as the processing of FIG. 2 according to the first embodiment. However, since a 255-tone pattern can be recorded for each color, the
以下では、本実施形態に係る記録システムにおいて用いられるマスクパターンの作成方法を説明する。本実施形態では第1の実施形態と同様、シアン(C)のみを用いた2パスのマルチパス印刷に関して説明する。図4(b)は、本実施形態に係る2パスのマルチパス印刷を説明する図である。第1の実施形態に係る図4(a)と構成は同様である。記録ヘッド411はシアンの記録素子列を備え、記録素子列は300dpiの間隔で配列された1500個の記録素子を含んでいる。各パスにはそれぞれマスクパターンC1、C2が対応付けられており、それぞれのマスクC1、C2の記録素子列方向の大きさは1500画素で、搬送方向の大きさは750画素である。図7に示すように、1パス目において記録媒体全域に対してマスクC1を用いて記録を行い、記録媒体を1パス目とは逆方向に搬送しつつ、1パス目と同一領域に対してマスクC2を用いて記録を行う。この2回のパスによって画像の記録が完成する。
Hereinafter, a method for creating a mask pattern used in the recording system according to the present embodiment will be described. In this embodiment, as in the first embodiment, two-pass multi-pass printing using only cyan (C) will be described. FIG. 4B is a view for explaining 2-pass multi-pass printing according to the present embodiment. The configuration is the same as in FIG. 4A according to the first embodiment. The
本実施形態においては、マスクパターンC1、C2の各画素は0から1までの実数値であり、各パスで記録する画像は、255階調の各色の入力画像データに対してマスクパターンの画素値を乗算することによって生成する。また、本実施形態では記録媒体の同じ位置に対応する、すなわち同一の画素位置のC1とC2との画素値の和を1とする。すなわち、C1の画素値が決まれば、C2の画素値は1からC1の画素値を減算することにより決まるため、以降、マスクパターンC1を決定する処理について示す。ただし、C1とC2との同一の画素位置にある画素値の和は1に限られず、所定値であればよい。 In the present embodiment, each pixel of the mask patterns C1 and C2 is a real value from 0 to 1, and the image recorded in each pass is the pixel value of the mask pattern for the input image data of 255 colors for each color. Is generated by multiplying In this embodiment, the sum of the pixel values of C1 and C2 corresponding to the same position of the recording medium, that is, the same pixel position is set to 1. That is, when the pixel value of C1 is determined, the pixel value of C2 is determined by subtracting the pixel value of C1 from 1, and therefore, processing for determining the mask pattern C1 will be described below. However, the sum of the pixel values at the same pixel position of C1 and C2 is not limited to 1, and may be a predetermined value.
以下で、マスクパターンC1を作成する処理について、図9を参照して説明する。この処理では、マスクパターンC1の画素値が全て決定されるまで、C1の画素値を1画素ごとに順次決定して行く処理である。本実施形態に係るマスクパターンの作成装置は、図10に示される第1の実施形態に係るマスクパターン作成装置と同様の装置である。本実施形態に係るマスクパターン作成処理も、図5を参照して説明した第1の実施形態に係る処理に近い方法で行う。以下、第1の実施形態とは異なる部分を中心に説明する。 Hereinafter, the process of creating the mask pattern C1 will be described with reference to FIG. In this process, the pixel value of C1 is sequentially determined for each pixel until all the pixel values of the mask pattern C1 are determined. The mask pattern creating apparatus according to this embodiment is the same apparatus as the mask pattern creating apparatus according to the first embodiment shown in FIG. The mask pattern creation process according to the present embodiment is also performed by a method similar to the process according to the first embodiment described with reference to FIG. Hereinafter, a description will be given centering on portions different from the first embodiment.
ステップS901で初期化部1002は、ユーザ等の指示に基づくマスクパターン作成パラメータ1001を取得し、マスクパターンC1を初期化する。マスクパターンC1の初期値は第1の実施形態と異なり、0、0.1、0.2、0.3、0.4、0.5、0.6、0.7、0.8、0.9、1.0の11個の値の中から画素ごとに乱数で決定する。もっとも、決定する値はこれらの11個には限られず、0〜1の間の任意の値から乱数によって決定すればよい。C1とC2との同一の画素位置にある画素値の和が1以外の所定値である場合は、所定値以下の任意の正の値から乱数によって決定すればよい。
In step S901, the
ステップS901での初期化後、ステップS902で画素選択部1010は、マスクパターンC1の画素のうち1つを選択する(第1の選択手段)。第1の実施形態とは異なり、本実施形態では全ての画素を選択するものとする。画素値を決定する順番は任意でよいが、本実施形態では、上のラインから下のラインの順番で画素値を決定し、同一ラインに関しては左の画素から右の画素の順番で画素値を決定する。ステップS903で修正マスクパターン生成部1011は、ステップS902で選択した画素の画素値を変化させて、修正マスクパターンC11を生成する(第1の修正手段)。画素値としては、0、0.1、0.2、0.3、0.4、0.5、0.6、0.7、0.8、0.9、1.0の中から、順番に選択する(第2の選択手段)。最終的には、1つの画素に対して、11個の画素値全てについて以下のステップS905で評価値を求めることとなる。
After initialization in step S901, in step S902, the
修正マスクパターン生成部1011はさらに、修正マスクパターンC11を用いて修正マスクパターンC22(相補マスクパターン)を求める(第2の修正手段)。同じ位置に対応する修正マスクパターンC11と修正マスクパターンC22との画素値の和が1となるようにすればよい。例えば、C11のある画素の画素値を0.1とした場合は、C22の対応する画素の画素値を0.9とする。この時の位置関係は図8(a)に示す通りである。
The correction mask
ステップS904で基準値計算部1012は、修正マスクパターンC11と修正マスクパターンC22との相互相関を求め、基準値とする。すなわち、修正マスクパターンC11の画素値と、修正マスクパターンC22の対応する画素値とを掛け合わせ、各画素位置について得られる値の総和を求める。図8(a)の例によれば、 0.5 * 0.5 + 0.6 * 0.4 + 0.2 * 0.8 + 1.0 * 0.0 + 0.5 * 0.5 + 0.3 * 0.7 + 0.5 * 0.5 + 0.2 * 0.8 + 0.4 * 0.6 が基準値となる。
In step S904, the reference
次に相互相関計算部1013は、修正マスクパターンC11を平行移動させた場合の、修正マスクパターンC22との相互相関を計算する。そして、求めた値と基準値との差の絶対値を求めてこの値を差分値とし、さらに第1の実施形態と同様に評価値を求める(S905)。平行移動の方法は第1の実施形態と同様であり、評価値は式(2)のように求められる。
式(2)において、基準値はR(0,0)である。また、D22に対してD11を主走査方向にi画素、副走査方向にj画素平行移動させてから求めた相互相関値をR(i,j)とする。すなわちR(i,j)は、重なる位置におけるD11の画素値とD22の画素値を乗算し、その値を全ての画素について足し合わせたものである。そして、評価値Fを上のようにして計算する。本実施形態においてもm、nの値は1とするが、それ以外の値であってもよい。また、評価値を求める式は先に示した式に限らず、D11とD22との相互相関値の変化量を表現できるものであればよい。 In Equation (2), the reference value is R (0,0). Also, let R (i, j) be the cross-correlation value obtained after D11 is translated by i pixels in the main scanning direction and j pixels in the sub scanning direction with respect to D22. That is, R (i, j) is obtained by multiplying the pixel value of D11 and the pixel value of D22 at the overlapping position and adding the values for all the pixels. Then, the evaluation value F is calculated as described above. In the present embodiment, the values of m and n are 1, but other values may be used. Further, the expression for obtaining the evaluation value is not limited to the expression shown above, and any expression that can express the amount of change in the cross-correlation value between D11 and D22 may be used.
ステップS906で相互相関計算部1013は、ステップS903で11個の画素値の全てについて修正マスクパターンC11を生成したか否かを判断する。全てについて生成している場合にはステップS907に進み、全てについて生成していない場合はステップS903に戻って次の画素値を選択する。ステップS907で比較部1004は、ステップS905で算出した評価値を比較し、ステップS903で選択した11個の画素値のうち、評価値が最小の画素値を特定する。最も評価値が小さくなる画素値が複数存在する場合は、何れか1つをランダムに選択すればよい。
In step S906, the
ステップS908で配置部1005は、ステップS907で特定した画素値で、ステップS902で選択した画素の画素値を置き換える。こうして、ステップS902で選択したマスクパターンが更新される。ステップS909で配置部1005は、ステップS902で全ての画素を選択したか否かを判断する。全ての画素を選択している場合はステップS910に進み、まだ選択していない画素がある場合にはステップS902に戻って次の画素を選択する。ステップS910では、第1の実施形態と同様に、ここまでの処理により得られたマスクパターンC1をマスクパターン1007として不図示の格納装置の有するメモリに格納する。さらに、上述のとおりマスクパターンC2をマスクパターンC1から求め、マスクパターンC2もマスクパターン1007として不図示の格納装置の有するメモリに格納する。
In step S908, the
以上説明した処理によってマスクパターンを作成した場合、このマスクパターンを用いて作成した各パスのドット配置パターンに関して評価値Fを計算すると、第1の実施形態と同様に評価値Fの値は概ね0となる。その結果、各走査のレジストレーションが変動しても、ドットの重なり数は変動しない。このため、レジストレーションの変動による濃度ムラを低減しつつ、高画質画像を形成することが可能となる。 When the mask pattern is created by the above-described processing, when the evaluation value F is calculated for the dot arrangement pattern of each pass created using this mask pattern, the evaluation value F is approximately 0 as in the first embodiment. It becomes. As a result, even if the registration of each scan varies, the number of overlapping dots does not vary. For this reason, it is possible to form a high-quality image while reducing density unevenness due to variations in registration.
評価値Fは先に示した式に限られず、C11をC2に対して平行移動させた時の、C11とC2との記録許容画素の重なり数の変化量を表現できる値であれば、評価値として用いることができる。第1の実施形態と同様に、マスクパターンの記録許容画素の重なり数ではなく、マスクパターンを用いてマスク処理を行った後の画像について相互相関値の評価を行っても。例えば、図8(a)に示すように、全画素が255値である画像D0に対して、修正マスクパターンC11及びマスクパターンC22を適用して画像D11及びD22を生成する。そして、D11とD22とについて評価値を計算してもよい。図8(a)の場合はマスクパターンの記録許容画素の重なり数を評価する場合と同じ結果となるが、図8(b)のように任意の画像D0を用いることも可能である。D0は各画素が同じ値を持つ必要はなく、マスク処理を行う画像に適したマスクパターンを生成することもできる。 The evaluation value F is not limited to the above-described formula, and any evaluation value can be used as long as it can express the amount of change in the number of overlapping printable pixels of C11 and C2 when C11 is translated with respect to C2. Can be used as As in the first embodiment, the cross-correlation value may be evaluated for the image after the mask process is performed using the mask pattern, instead of the number of mask pattern recording allowable pixels. For example, as shown in FIG. 8A, the images D11 and D22 are generated by applying the correction mask pattern C11 and the mask pattern C22 to the image D0 in which all pixels are 255 values. Then, evaluation values may be calculated for D11 and D22. In the case of FIG. 8A, the same result as that in the case of evaluating the number of maskable pixels of the mask pattern is evaluated, but an arbitrary image D0 can be used as shown in FIG. 8B. D0 does not have to have the same value for each pixel, and a mask pattern suitable for an image to be masked can be generated.
[第3の実施形態]
本実施形態では、上述の各実施形態に係る処理の少なくとも一部をコンピュータ101により行わせる。例として本実施形態では、ステップS201〜S205をコンピュータ101が行い、ステップS206〜S209をプリンタ105が行うものとする。もちろん、このコンピュータ101とプリンタ105との役割分担は、処理の目的に応じて変更してもよい。
[Third Embodiment]
In the present embodiment, at least a part of the processing according to each of the above-described embodiments is performed by the
図6はコンピュータ101の基本構成を示す図である。例えばこのコンピュータ101において各機能を実行する場合、各機能構成をプログラムにより表現し、このコンピュータに読み込ませる。こうして、このコンピュータ101で上述の実施形態の各機能を実現することができる。この場合、図6をはじめとする構成要素の各々は関数、若しくはCPU109が実行するサブルーチンで機能させればよい。
FIG. 6 is a diagram showing a basic configuration of the
また、通常、コンピュータプログラムは、CD−ROM等のコンピュータが読み取り可能な記憶媒体に格納されている。この記憶媒体を、コンピュータが有する読み取り装置(不図示のCD−ROMドライブ等)にセットし、システムにコピー若しくはインストールすることで実行可能になる。従って、係るコンピュータが読み取り可能な記憶媒体も本発明の範疇にあることは明らかである。 In general, the computer program is stored in a computer-readable storage medium such as a CD-ROM. This storage medium can be executed by setting it in a reading device (such as a CD-ROM drive (not shown)) of the computer and copying or installing it in the system. Therefore, it is obvious that such a computer-readable storage medium is also within the scope of the present invention.
図6において、ホストコンピュータであるコンピュータ101は、オペレーティングシステム(OS)103によって、アプリケーションソフトウェア102、プリンタドライバ104、モニタドライバ106の各ソフトウェアを動作させる。アプリケーションソフトウェア102は、ワープロ、表計算、インターネットブラウザ等に関するデータ処理を行う。モニタドライバ106は、モニタ107に表示する画像データを作成する等の処理を実行する。
In FIG. 6, a
プリンタドライバ104は、アプリケーションソフトウェア102からOS103へ発行される各種描画命令群(イメージ描画命令、テキスト描画命令グラフィクス描画命令等)を描画処理する。そして、最終的にプリンタ105のような画像出力装置で用いる画像データを生成する。具体的には、上述の実施形態と同様に、プリンタ105が用いるインクのシアン(C)、マゼンタ(M)、イエロー(Y)およびブラック(K)それぞれの色成分についてのデータを生成する。
The
コンピュータ101は、以上のソフトウェアを動作させるための各種ハードウェアとして、CPU109、ハードディスク(HD)108、RAM110、ROM111などを備える。すなわち、CPU109は、ハードディスク108やROM111に格納されている上記のソフトウェアプログラムに従ってその処理を実行し、RAM110はその処理実行の際にワークエリアとして用いられる。
The
[その他の実施形態]
第1及び第2の実施形態ではシアン(C)インクだけの形態を示したが、インクが2種類以上の場合も本発明は適用可能である。すなわち、各インクについて各実施形態で説明したマスクを用いればよい。また、例えばシアン(C)インクとイエロー(Y)インクを用いた場合、シアンインクに関するマスクパターンは実施形態1に示す方法で作成し、イエロー(Y)インクに関するマスクパターンは実施形態1に示した以外の任意の方法で作成してもよい。その場合、イエローインクの各パスのドット配置パターンに関する評価値Fの値は、シアンインクに関する評価値Fの値よりも大きくなる。しかしながら、シアンインクに比べイエローインクは目立たないため、仮にイエローインクに関するマスクパターンを実施形態1に示した方法で作成した場合と、画質に関して大きな差は見られない。もちろん、3色以上のインクを用いる場合にも、本発明は適用可能である。
[Other Embodiments]
In the first and second embodiments, only the cyan (C) ink is shown. However, the present invention can be applied to a case where two or more types of ink are used. That is, the mask described in each embodiment may be used for each ink. For example, when cyan (C) ink and yellow (Y) ink are used, a mask pattern for cyan ink is created by the method shown in the first embodiment, and a mask pattern for yellow (Y) ink is shown in the first embodiment. You may create by arbitrary methods other than. In that case, the evaluation value F regarding the dot arrangement pattern of each pass of yellow ink is larger than the evaluation value F regarding cyan ink. However, since yellow ink is less conspicuous than cyan ink, there is no significant difference in image quality from the case where a mask pattern related to yellow ink is created by the method shown in the first embodiment. Of course, the present invention can also be applied to the case of using three or more colors of ink.
第1の実施形態においては、ステップS503で、他のマスクパターンに記録許容画素がある位置の画素を選択しないようにすることにより、各マスクパターンの同一位置に記録許容画素が重ならないようにすることもできる。こうして、特に記録許容画素の数が少ないマスクパターンを生成する場合に、このマスクパターンを用いて記録媒体上に形成した画像の、粒状性を低減することが可能となる。 In the first embodiment, in step S503, by preventing the selection of pixels at positions where print permitting pixels exist in other mask patterns, the print permitting pixels do not overlap at the same position of each mask pattern. You can also. In this way, it is possible to reduce the graininess of an image formed on a recording medium using this mask pattern, particularly when generating a mask pattern with a small number of print-allowable pixels.
第2の実施形態では階調が255値の場合を示したが、階調は2値以上であれば本発明は適用可能である。さらに、また、第2の実施形態では画素値の候補を11個としたが、画素値に候補は11個でなくてもよく、第2の実施形態に示した11個の組とは異なっていてもかまわない。また、第2の実施形態では各パスのマスクパターンにおける同一の画素位置の画素値の和を1としたが、1以外であっても本発明は適用可能である。さらには、各マスクパターンを第2の実施形態の方法で独立に生成したとしても、ステップS504で選択する画素値の平均を固定することにより、一様なマスクパターンを生成することは可能である。この場合、ステップS504で選択する画素値を、各マスクパターンの同一位置の画素値の和が一定値(例えば1)を超えないようにすることが好ましい。すると、生成したマスクパターンを用て記録媒体上に形成した画像の、粒状性を低減することが可能となる。 In the second embodiment, the gradation has a value of 255, but the present invention can be applied if the gradation is binary or more. Furthermore, in the second embodiment, 11 pixel value candidates are used, but the pixel value may not be 11 candidates, which is different from the 11 sets shown in the second embodiment. It doesn't matter. In the second embodiment, the sum of the pixel values at the same pixel position in the mask pattern of each pass is set to 1, but the present invention can be applied to a value other than 1. Furthermore, even if each mask pattern is independently generated by the method of the second embodiment, it is possible to generate a uniform mask pattern by fixing the average of the pixel values selected in step S504. . In this case, the pixel value selected in step S504 is preferably set so that the sum of the pixel values at the same position in each mask pattern does not exceed a certain value (for example, 1). Then, it becomes possible to reduce the graininess of the image formed on the recording medium using the generated mask pattern.
また、第1の実施形態及び第2の実施形態では2パス分割するマスクパターンの場合の形態を示したが、3パス以上に分割する場合でも本発明は適用可能である。第1の実施形態においては、修正マスクパターンC11とマスクパターンC2との間で評価値を求めた。Nパスに分割するマスクパターンを作成する際に、マスクパターンC1に記録許容画素を配置する場合を考える。修正マスクパターンC11とマスクパターンC2との間で評価値を求め、さらに修正マスクパターンC11とマスクパターンC3との間で評価値を求める。N個目のマスクパターンまで、合計(N−1)個の評価値を求め、これらの合計をステップS508での判断に用いる評価値とすれば、N枚のマスクパターンの間での記録許容画素の重なり数を評価することができる。 In the first embodiment and the second embodiment, the form of a mask pattern that is divided into two passes has been described. However, the present invention can also be applied to a case of dividing into three or more passes. In the first embodiment, an evaluation value is obtained between the corrected mask pattern C11 and the mask pattern C2. Consider a case in which a print permitting pixel is arranged in the mask pattern C1 when creating a mask pattern to be divided into N passes. An evaluation value is obtained between the corrected mask pattern C11 and the mask pattern C2, and further an evaluation value is obtained between the corrected mask pattern C11 and the mask pattern C3. If a total of (N-1) evaluation values are obtained up to the Nth mask pattern, and these sums are used as the evaluation values used in the determination in step S508, the print allowable pixels between the N mask patterns. Can be evaluated.
他の方法として、修正マスクパターンC11と、2〜N枚目のマスクパターンとを重ねた時に、全てのマスクパターンにおいて記録許容画素が存在するような画素位置の数を、ステップS506で用いるd(i,j)の値とすることもできる。第2の実施形態においても、同様の方法でN枚のマスクパターンを作成することができる。すなわち、合計(N−1)個の評価値を求めて合計するか、修正マスクパターンと他のマスクパターンとを重ねた時に、重なる全ての画素値を積算してR(i,j)を求めればよい。 As another method, the number of pixel positions at which print permitting pixels exist in all mask patterns when the corrected mask pattern C11 and the 2nd to Nth mask patterns are overlaid is used in step S506. i, j). Also in the second embodiment, N mask patterns can be created by the same method. That is, a total of (N-1) evaluation values can be obtained and summed, or when the corrected mask pattern and another mask pattern are overlaid, all overlapping pixel values are integrated to obtain R (i, j). That's fine.
また、作成中のマスクパターンの、又は作成中のマスクパターンを用いて画像にマスク処理をすることで得たマスク画像の、パワースペクトルの直流成分を除く低周波成分(約10cycle/mm以下)の和を、評価値Fに加算してもよい。こうして、ドット分散性の高いドット配置パターンを生成するマスクパターンを作成することが可能となる。また、各走査のレジストレーションが変動した場合の濃度変化量は、明度で換算した場合0.3以下となることが望ましい。そこで、評価値Fとして、各走査のレジストレーションが変動した場合の明度変化量を用いる実施形態も考えられる。この場合、明度変化量は、物理モデルを用いて、各パスのドットパターンを元に予測する。 In addition, low frequency components (less than about 10 cycles / mm) except for the DC component of the power spectrum of the mask pattern being created or the mask image obtained by masking the image using the mask pattern being created The sum may be added to the evaluation value F. In this way, a mask pattern that generates a dot arrangement pattern with high dot dispersibility can be created. Further, it is desirable that the density change amount when the registration of each scan fluctuates is 0.3 or less when converted by lightness. In view of this, an embodiment using the amount of change in brightness when the registration of each scan varies as the evaluation value F is also conceivable. In this case, the brightness change amount is predicted based on the dot pattern of each pass using a physical model.
本発明は、以下の処理を実行することによっても実現される。即ち、上述した実施形態の機能を実現するソフトウェア(プログラム)をネットワーク又は各種記憶媒体を介してシステム或いは装置に供給し、そのシステム或いは装置のコンピュータ(又はCPUやMPU等)がプログラムコードを読み出して実行する。この場合、そのプログラム、及び該プログラムを記憶した記憶媒体は本発明を構成することになる。 The present invention is also realized by executing the following processing. That is, software (program) that realizes the functions of the above-described embodiments is supplied to a system or apparatus via a network or various storage media, and a computer (or CPU, MPU, etc.) of the system or apparatus reads the program code. Execute. In this case, the program and the storage medium storing the program constitute the present invention.
Claims (9)
前記第1のマスクパターン及び前記第2のマスクパターンを構成する各画素の画素値を、マスクすることを示す0に初期化する初期化手段と、
前記初期化手段による初期化後、前記第1のマスクパターンから画素値0の画素を1画素選択し、当該選択画素の画素値をマスクしないことを示す1に変更して当該第1のマスクパターンを更新する処理と、前記第2のマスクパターンから画素値0の画素を1画素選択し、当該選択画素の画素値を1に変更して当該第2のマスクパターンを更新する処理と、を交互に複数回繰り返すことで、前記第1のマスクパターン及び前記第2のマスクパターンを完成させる、生成手段と、
前記完成した第1のマスクパターン及び前記第2のマスクパターンをメモリに格納する、格納手段とを備え、
前記生成手段は、
前記第1のマスクパターンと前記第2のマスクパターンとのうち一方のマスクパターンについて、画素値0の画素を1画素選択する選択手段と、
前記選択手段が選択した選択画素の画素値を1に変更した修正マスクパターンを生成する、修正手段と、
前記修正マスクパターンと、前記第1のマスクパターンと前記第2のマスクパターンとのうち他方のマスクパターンとを、同一の画素位置が重なるように重ね合わせた時に、画素値1の画素が重なる画素位置の数を基準値として求める、第1の計算手段と、
前記修正マスクパターンを画素単位でずらしながら、前記他方のマスクパターンと重ね合わせた時に画素値1の画素が重なる画素位置の数と、前記基準値との差の絶対値を差分値として求める、第2の計算手段と、
前記第2の計算手段が前記修正マスクパターンをずらしながら求めた複数の前記差分値を合計した値を評価値として求める、第3の計算手段と、
前記選択手段が画素を選択する毎に、前記修正手段、及び前記第1、第2、第3の計算手段を動作させることで、前記選択手段が選択したそれぞれの画素についての前記評価値を求める手段と、
前記選択手段が選択した前記それぞれの画素のうち前記評価値が最小である画素を特定し、当該特定した画素の画素値を1に変更することで前記一方のマスクパターンを更新する手段と、
を備えることを特徴とする、マスクパターン作成装置。 In a printing apparatus that prints image data in two passes, a first mask pattern that is applied to the image data to generate image portion data to be printed in the first pass, and a second pass. A mask pattern creating apparatus for creating a second mask pattern to be applied to the image data to generate image portion data,
Initialization means for initializing a pixel value of each pixel constituting the first mask pattern and the second mask pattern to 0 indicating masking;
After initialization by the initialization means, one pixel of pixel value 0 is selected from the first mask pattern, and the pixel value of the selected pixel is changed to 1 indicating that the pixel value is not masked. And a process of selecting one pixel having a pixel value of 0 from the second mask pattern and changing the pixel value of the selected pixel to 1 to update the second mask pattern. Generating means for completing the first mask pattern and the second mask pattern by repeating a plurality of times,
Storage means for storing the completed first mask pattern and the second mask pattern in a memory;
The generating means includes
Selecting means for selecting one pixel having a pixel value of 0 for one of the first mask pattern and the second mask pattern;
Correction means for generating a correction mask pattern in which the pixel value of the selected pixel selected by the selection means is changed to 1,
A pixel in which pixels with a pixel value of 1 overlap when the correction mask pattern and the other mask pattern of the first mask pattern and the second mask pattern are overlapped so that the same pixel position overlaps First calculating means for obtaining the number of positions as a reference value;
Obtaining the absolute value of the difference between the reference value and the number of pixel positions where the pixel value of 1 overlaps when the correction mask pattern is shifted in units of pixels and superimposed on the other mask pattern; Two calculation means;
Third calculation means for obtaining, as an evaluation value, a value obtained by summing up the plurality of difference values obtained by shifting the correction mask pattern by the second calculation means;
Each time the selection means selects a pixel, the correction means and the first, second, and third calculation means are operated to obtain the evaluation value for each pixel selected by the selection means. Means,
Means for identifying the pixel having the smallest evaluation value among the respective pixels selected by the selection means, and updating the one mask pattern by changing the pixel value of the identified pixel to 1,
A mask pattern creating apparatus comprising:
The evaluation value is a pixel value 1 that overlaps when the correction mask pattern is shifted by i dots in the main scanning direction and j dots in the sub scanning direction from a state where the same pixel position as that of the other mask pattern overlaps. The number of pixels is d (i, j), and m and n are one or more integers that define a range in which the correction mask pattern is shifted. The mask pattern production apparatus described.
前記第1のマスクパターンを構成する各画素の画素値を、所定値以下のランダムな正の数に初期化する初期化手段と、
前記初期化手段による初期化後、前記第1のマスクパターンから1画素を選択し、当該選択画素の画素値を変更して当該第1のマスクパターンを更新する処理を各画素について行うことで、前記第1のマスクパターンを完成させる、生成手段と、
前記生成手段が完成させた第1のマスクパターンと、同一の画素位置が重なるように重ね合わせた時に、重なる画素値の和が前記所定値となる第2のマスクパターンを生成する手段と、
前記生成手段が完成させた第1のマスクパターンと、前記第2のマスクパターンとをメモリに格納する格納手段とを備え、
前記生成手段は、
前記第1のマスクパターンから1画素を選択する第1の選択手段と、
前記所定値以下の正の値を1つ選択する、第2の選択手段と、
前記選択画素の画素値を、前記第2の選択手段が決定した値に変更した修正マスクパターンを生成する、第1の修正手段と、
前記修正マスクパターンと、同一の画素位置が重なるように重ね合わせた時に、重なる画素値の和が前記所定値となる相補マスクパターンを生成する、第2の修正手段と、
前記修正マスクパターンと、前記相補マスクパターンとを、同一の画素位置が重なるように重ね合わせた時の、重なる画素値の積の各画素位置についての合計を基準値として求める、第1の計算手段と、
前記修正マスクパターンを画素単位でずらしながら、前記相補マスクパターンと重ね合わせた時の、重なる画素値の積の各画素位置についての合計と、前記基準値との差の絶対値を差分値として求める、第2の計算手段と、
前記第2の計算手段が前記修正マスクパターンをずらしながら求めた複数の前記差分値を合計した値を評価値として求める、第3の計算手段と、
前記第2の選択手段が値を選択するごとに、前記第1、第2の修正手段、及び前記第1、第2、第3の計算手段を動作させることで、前記第2の選択手段が選択したそれぞれの値についての前記評価値を求める手段と、
前記第2の選択手段が選択したそれぞれの値のうち前記評価値が最小である値を特定し、前記第1の選択手段が選択した画素の画素値を前記特定した値に変更することで前記第1のマスクパターンを更新する手段と、
を備えることを特徴とする、マスクパターン作成装置。 In a printing apparatus that prints image data in two passes, a first mask pattern that is applied to the image data to generate image portion data to be printed in the first pass, and a second pass. A mask pattern creating apparatus for creating a second mask pattern to be applied to the image data to generate image portion data,
Initialization means for initializing a pixel value of each pixel constituting the first mask pattern to a random positive number equal to or less than a predetermined value;
After the initialization by the initialization means, selecting one pixel from the first mask pattern, changing the pixel value of the selected pixel and updating the first mask pattern for each pixel, Generating means for completing the first mask pattern;
Means for generating a second mask pattern in which the sum of overlapping pixel values becomes the predetermined value when overlapping the first mask pattern completed by the generating means so that the same pixel position overlaps;
Storage means for storing the first mask pattern completed by the generation means and the second mask pattern in a memory;
The generating means includes
First selection means for selecting one pixel from the first mask pattern;
Second selection means for selecting one positive value less than or equal to the predetermined value;
First correction means for generating a correction mask pattern in which the pixel value of the selected pixel is changed to a value determined by the second selection means;
Second correction means for generating a complementary mask pattern in which the sum of overlapping pixel values becomes the predetermined value when the correction mask pattern and the same pixel position are overlapped with each other;
First calculation means for obtaining, as a reference value, a sum of pixel products of overlapping pixel values when the correction mask pattern and the complementary mask pattern are overlapped so that the same pixel position overlaps When,
The absolute value of the difference between the sum of the product of the overlapping pixel values and the reference value when the correction mask pattern is shifted in units of pixels and superimposed with the complementary mask pattern is obtained as a difference value. A second calculation means;
Third calculation means for obtaining, as an evaluation value, a value obtained by summing up the plurality of difference values obtained by shifting the correction mask pattern by the second calculation means;
Each time the second selection means selects a value, the second selection means operates by operating the first and second correction means and the first, second, and third calculation means. Means for determining the evaluation value for each selected value;
By specifying the value with the smallest evaluation value among the values selected by the second selection means, and changing the pixel value of the pixel selected by the first selection means to the specified value, Means for updating the first mask pattern;
A mask pattern creating apparatus comprising:
The evaluation value is the overlapped pixel value when the correction mask pattern is shifted by i dots in the main scanning direction and j dots in the sub scanning direction from the overlapped state so that the same pixel positions as the complementary mask pattern overlap. The sum of the product pixel positions is R (i, j), and m and n are integers greater than or equal to 1 that define the range in which the correction mask pattern is shifted. The mask pattern creating apparatus according to claim 3.
画像データを取得する取得手段と、
前記画像データに対して前記第1のマスクパターンを適用してマスク処理を行い、第1パスで印刷する第1の印刷データを生成する手段と、
前記画像データに対して前記第2のマスクパターンを適用してマスク処理を行い、第2パスで印刷する第2の印刷データを生成する手段と、
前記第1の印刷データ及び前記第2の印刷データを用いて、前記取得手段が取得した画像データを2パスに分けて印刷する手段と、
を備えることを特徴とする、印刷装置。 Means for holding the first mask pattern and the second mask pattern generated by the mask pattern creating apparatus according to any one of claims 1 to 4;
Acquisition means for acquiring image data;
Means for applying a first mask pattern to the image data to perform mask processing and generating first print data to be printed in a first pass;
Means for applying the second mask pattern to the image data to perform mask processing, and generating second print data to be printed in a second pass;
Means for printing the image data acquired by the acquisition means in two passes using the first print data and the second print data;
A printing apparatus comprising:
前記第1のマスクパターン及び前記第2のマスクパターンを構成する各画素の画素値を、マスクすることを示す0に初期化する初期化工程と、
前記初期化工程での初期化後、前記第1のマスクパターンから画素値0の画素を1画素選択し、当該選択画素の画素値をマスクしないことを示す1に変更して当該第1のマスクパターンを更新する処理と、前記第2のマスクパターンから画素値0の画素を1画素選択し、当該選択画素の画素値を1に変更して当該第2のマスクパターンを更新する処理と、を交互に複数回繰り返すことで、前記第1のマスクパターン及び前記第2のマスクパターンを完成させる、生成工程と、
前記完成した第1のマスクパターン及び前記第2のマスクパターンをメモリに格納する、格納工程とを備え、
前記生成工程は、
前記第1のマスクパターンと前記第2のマスクパターンとのうち一方のマスクパターンについて、画素値0の画素を1画素選択する選択工程と、
前記選択工程で選択した選択画素の画素値を1に変更した修正マスクパターンを生成する、修正工程と、
前記修正マスクパターンと、前記第1のマスクパターンと前記第2のマスクパターンとのうち他方のマスクパターンとを、同一の画素位置が重なるように重ね合わせた時に、画素値1の画素が重なる画素位置の数を基準値として求める、第1の計算工程と、
前記修正マスクパターンを画素単位でずらしながら、前記他方のマスクパターンと重ね合わせた時に画素値1の画素が重なる画素位置の数と、前記基準値との差の絶対値を差分値として求める、第2の計算工程と、
前記第2の計算工程で前記修正マスクパターンをずらしながら求めた複数の前記差分値を合計した値を評価値として求める、第3の計算工程と、
前記選択工程で画素を選択する毎に、前記修正工程、及び前記第1、第2、第3の計算工程を行うことで、前記選択工程で選択したそれぞれの画素についての前記評価値を求める工程と、
前記選択工程で選択した前記それぞれの画素のうち前記評価値が最小である画素を特定し、当該特定した画素の画素値を1に変更することで前記一方のマスクパターンを更新する工程と、
を備えることを特徴とする、マスクパターン作成方法。 In a printing apparatus that prints image data in two passes, a first mask pattern that is applied to the image data to generate image portion data to be printed in the first pass, and a second pass. A mask pattern creating method performed by a mask pattern creating apparatus for creating a second mask pattern to be applied to the image data to generate image portion data,
An initialization step of initializing a pixel value of each pixel constituting the first mask pattern and the second mask pattern to 0 indicating masking;
After initialization in the initialization step, one pixel having a pixel value of 0 is selected from the first mask pattern, and the pixel value of the selected pixel is changed to 1 indicating that the pixel value is not masked. A process of updating the pattern, and a process of selecting one pixel having a pixel value of 0 from the second mask pattern, changing the pixel value of the selected pixel to 1, and updating the second mask pattern. A generation process of completing the first mask pattern and the second mask pattern by alternately repeating a plurality of times, and
Storing the completed first mask pattern and the second mask pattern in a memory, and
The generating step includes
A selection step of selecting one pixel with a pixel value of 0 for one of the first mask pattern and the second mask pattern;
A correction step of generating a correction mask pattern in which the pixel value of the selected pixel selected in the selection step is changed to 1,
A pixel in which pixels with a pixel value of 1 overlap when the correction mask pattern and the other mask pattern of the first mask pattern and the second mask pattern are overlapped so that the same pixel position overlaps A first calculation step for determining the number of positions as a reference value;
Obtaining the absolute value of the difference between the reference value and the number of pixel positions where the pixel value of 1 overlaps when the correction mask pattern is shifted in units of pixels and superimposed on the other mask pattern; 2 calculation steps;
A third calculation step of obtaining, as an evaluation value, a value obtained by summing the plurality of difference values obtained while shifting the correction mask pattern in the second calculation step;
A step of obtaining the evaluation value for each pixel selected in the selection step by performing the correction step and the first, second, and third calculation steps each time a pixel is selected in the selection step. When,
Identifying the pixel having the smallest evaluation value among the respective pixels selected in the selection step, and updating the one mask pattern by changing the pixel value of the identified pixel to 1,
A mask pattern creating method comprising:
前記第1のマスクパターンを構成する各画素の画素値を、所定値以下のランダムな正の数に初期化する初期化工程と、
前記初期化工程での初期化後、前記第1のマスクパターンから1画素を選択し、当該選択画素の画素値を変更して当該第1のマスクパターンを更新する処理を各画素について行うことで、前記第1のマスクパターンを完成させる、生成工程と、
前記生成工程で完成させた第1のマスクパターンと、同一の画素位置が重なるように重ね合わせた時に、重なる画素値の和が前記所定値となる第2のマスクパターンを生成する工程と、
前記生成工程で完成させた第1のマスクパターンと、前記第2のマスクパターンとをメモリに格納する格納工程とを備え、
前記生成工程は、
前記第1のマスクパターンから1画素を選択する第1の選択工程と、
前記所定値以下の正の値を1つ選択する、第2の選択工程と、
前記選択画素の画素値を、前記第2の選択工程で決定した値に変更した修正マスクパターンを生成する、第1の修正工程と、
前記修正マスクパターンと、同一の画素位置が重なるように重ね合わせた時に、重なる画素値の和が前記所定値となる相補マスクパターンを生成する、第2の修正工程と、
前記修正マスクパターンと、前記相補マスクパターンとを、同一の画素位置が重なるように重ね合わせた時の、重なる画素値の積の各画素位置についての合計を基準値として求める、第1の計算工程と、
前記修正マスクパターンを画素単位でずらしながら、前記相補マスクパターンと重ね合わせた時の、重なる画素値の積の各画素位置についての合計と、前記基準値との差の絶対値を差分値として求める、第2の計算工程と、
前記第2の計算工程で前記修正マスクパターンをずらしながら求めた複数の前記差分値を合計した値を評価値として求める、第3の計算工程と、
前記第2の選択工程で値を選択するごとに、前記第1、第2の修正工程、及び前記第1、第2、第3の計算工程を行うことで、前記第2の選択工程で選択したそれぞれの値についての前記評価値を求める工程と、
前記第2の選択工程で選択したそれぞれの値のうち前記評価値が最小である値を特定し、前記第1の選択工程で選択した画素の画素値を前記特定した値に変更することで前記第1のマスクパターンを更新する工程と、
を備えることを特徴とする、マスクパターン作成方法。 In a printing apparatus that prints image data in two passes, a first mask pattern that is applied to the image data to generate image portion data to be printed in the first pass, and a second pass. A mask pattern creating method performed by a mask pattern creating apparatus for creating a second mask pattern to be applied to the image data to generate image portion data,
An initialization step of initializing a pixel value of each pixel constituting the first mask pattern to a random positive number equal to or less than a predetermined value;
After initialization in the initialization step, a process of selecting one pixel from the first mask pattern, changing the pixel value of the selected pixel, and updating the first mask pattern is performed for each pixel. Generating the first mask pattern; and
Generating a second mask pattern in which the sum of overlapping pixel values becomes the predetermined value when overlapping the first mask pattern completed in the generating step so that the same pixel position overlaps;
A storage step of storing the first mask pattern completed in the generation step and the second mask pattern in a memory;
The generating step includes
A first selection step of selecting one pixel from the first mask pattern;
A second selection step of selecting one positive value less than or equal to the predetermined value;
Generating a correction mask pattern in which the pixel value of the selected pixel is changed to the value determined in the second selection step;
A second correction step of generating a complementary mask pattern in which the sum of overlapping pixel values becomes the predetermined value when the correction mask pattern and the same pixel position are overlapped with each other;
A first calculation step of obtaining, as a reference value, a sum for each pixel position of a product of overlapping pixel values when the corrected mask pattern and the complementary mask pattern are overlapped so that the same pixel position overlaps When,
The absolute value of the difference between the sum of the product of the overlapping pixel values and the reference value when the correction mask pattern is shifted in units of pixels and superimposed with the complementary mask pattern is obtained as a difference value. A second calculation step;
A third calculation step of obtaining, as an evaluation value, a value obtained by summing the plurality of difference values obtained while shifting the correction mask pattern in the second calculation step;
Each time a value is selected in the second selection step, the first selection step is performed in the second selection step by performing the first and second correction steps and the first, second, and third calculation steps. Obtaining the evaluation value for each of the obtained values;
By specifying the value with the smallest evaluation value among the respective values selected in the second selection step, and changing the pixel value of the pixel selected in the first selection step to the specified value Updating the first mask pattern;
A mask pattern creating method comprising:
請求項6又は7に記載のマスクパターン作成方法で生成した前記第1のマスクパターン及び前記第2のマスクパターンを保持する工程と、
画像データを取得する取得工程と、
前記画像データに対して前記第1のマスクパターンを適用してマスク処理を行い、第1パスで印刷する第1の印刷データを生成する工程と、
前記画像データに対して前記第2のマスクパターンを適用してマスク処理を行い、第2パスで印刷する第2の印刷データを生成する工程と、
前記第1の印刷データ及び前記第2の印刷データを用いて、前記取得工程で取得した画像データを2パスに分けて印刷する工程と、
を備えることを特徴とする、印刷方法。 A printing method performed by a printing apparatus,
Holding the first mask pattern and the second mask pattern generated by the mask pattern creating method according to claim 6 or 7,
An acquisition process for acquiring image data;
Applying the first mask pattern to the image data to perform mask processing, and generating first print data to be printed in a first pass;
Applying the second mask pattern to the image data to perform mask processing, and generating second print data to be printed in a second pass;
Using the first print data and the second print data, printing the image data acquired in the acquisition step in two passes; and
A printing method comprising:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009277037A JP2011116064A (en) | 2009-12-04 | 2009-12-04 | Mask pattern forming apparatus, printer, mask pattern forming method, printing method, and program |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009277037A JP2011116064A (en) | 2009-12-04 | 2009-12-04 | Mask pattern forming apparatus, printer, mask pattern forming method, printing method, and program |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011116064A true JP2011116064A (en) | 2011-06-16 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009277037A Withdrawn JP2011116064A (en) | 2009-12-04 | 2009-12-04 | Mask pattern forming apparatus, printer, mask pattern forming method, printing method, and program |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
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-
2009
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