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JP2011180523A - Antistatic optical film, polarizing plate, and image display apparatus - Google Patents

Antistatic optical film, polarizing plate, and image display apparatus Download PDF

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JP2011180523A
JP2011180523A JP2010046869A JP2010046869A JP2011180523A JP 2011180523 A JP2011180523 A JP 2011180523A JP 2010046869 A JP2010046869 A JP 2010046869A JP 2010046869 A JP2010046869 A JP 2010046869A JP 2011180523 A JP2011180523 A JP 2011180523A
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Abstract

【課題】本発明は、優れた帯電防止性を有し、さらに、耐擦傷性に優れ、かつ帯電防止性の湿度依存性が少ない帯電防止性の光学フィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】透明基材フィルム上に、バインダーと、親水性基を有する導電性高分子化合物と、フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーとを含む組成物から形成される層(A)を有し、該導電性高分子化合物は、該層(A)内の厚さ方向において、該透明基材フィルム側よりも該透明基材フィルムとは反対側に多く存在し、表面抵抗率が1×1012Ω/□以下である帯電防止性の光学フィルム。
【選択図】なし
An object of the present invention is to provide an antistatic optical film having excellent antistatic properties, excellent scratch resistance, and less antistatic humidity dependency.
A layer formed on a transparent substrate film from a composition comprising a binder, a conductive polymer compound having a hydrophilic group, and a fluoropolymer containing a fluoroaliphatic group and a hydrophilic group. (A), the conductive polymer compound is present on the surface opposite to the transparent substrate film more than the transparent substrate film side in the thickness direction in the layer (A). An antistatic optical film having a resistivity of 1 × 10 12 Ω / □ or less.
[Selection figure] None

Description

本発明は、帯電防止性の光学フィルム、該帯電防止性の光学フィルムを用いた偏光板、及び該帯電防止性の光学フィルム又は該偏光板をディスプレイの最表面に用いた画像表示装置に関する。   The present invention relates to an antistatic optical film, a polarizing plate using the antistatic optical film, and an image display device using the antistatic optical film or the polarizing plate on the outermost surface of a display.

反射防止フィルムは一般に、陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ(PDP)エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や液晶表示装置(LCD)のようなディスプレイ装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するようにディスプレイの最表面に配置される。   Anti-reflection films are generally used in display devices such as cathode ray tube display (CRT), plasma display (PDP), electroluminescence display (ELD), and liquid crystal display (LCD) to reduce contrast and reflect images. In order to prevent engraving, it is placed on the outermost surface of the display to reduce reflectivity using the principle of optical interference.

このような反射防止フィルムは、最表面に適切な膜厚の低屈折率層、場合により支持体との間に適宜高屈折率層、中屈折率層、ハードコート層などを形成することにより作製できる。低い反射率を実現するために低屈折率層にはできるだけ屈折率の低い材料が望まれる。また反射防止フィルムは最表面に用いられることからディスプレイ装置の保護膜としての機能が期待される。汚れや埃が付着しにくいことや、耐擦傷性が強いことが求められる。厚さ100nm前後の薄膜において高い耐擦傷性を実現するためには、皮膜自体の強度、及び下層への密着性が必要である。   Such an antireflection film is produced by forming a low refractive index layer having an appropriate thickness on the outermost surface, and optionally a high refractive index layer, a middle refractive index layer, a hard coat layer, etc. between the support and the support. it can. In order to realize a low reflectance, a material having a refractive index as low as possible is desired for the low refractive index layer. In addition, since the antireflection film is used on the outermost surface, a function as a protective film of the display device is expected. It is required that dirt and dust are difficult to adhere and that scratch resistance is strong. In order to realize high scratch resistance in a thin film having a thickness of around 100 nm, the strength of the coating itself and the adhesion to the lower layer are required.

材料の屈折率を下げるためには、フッ素原子を導入する方法が知られており、特にフッ素含有の架橋性材料を用いる手段が提案されている(特許文献1参照)。しかしながら、屈折率を低下させるために化合物中のフッ素原子の割合を増やすと、フィルム表面がマイナスに帯電しやすくなり、埃が付着しやすいという問題がある。埃付着低減の観点から、反射防止フィルムに導電性層(帯電防止層)を設けることで反射防止フィルムの表面の電荷を漏洩させる方法が知られている。例えば、特許文献2〜4では、層中に金属酸化物からなる導電性粒子を含有させている。この方法は、低屈折率層以外に新たに層を設けることが必要であり、製造時の設備や時間の負荷が大きく、生産性に劣るという問題を有している。また、従来一般に用いられている帯電防止のための金属酸化物からなる導電性粒子は、屈折率が1.6〜2.2程度のものが多いため、これらの粒子を含有する帯電防止層の屈折率が上がってしまう。帯電防止層の屈折率が高くなると、光学フィルムにおいては、隣接層との屈折率の違いにより意図せぬ干渉ムラが生じたり、反射色の色味が強くなるなどの問題が生じる。   In order to lower the refractive index of the material, a method of introducing a fluorine atom is known, and in particular, means using a fluorine-containing crosslinkable material has been proposed (see Patent Document 1). However, when the proportion of fluorine atoms in the compound is increased in order to reduce the refractive index, there is a problem that the film surface tends to be negatively charged and dust tends to adhere. From the viewpoint of reducing dust adhesion, a method is known in which charges on the surface of the antireflection film are leaked by providing a conductive layer (antistatic layer) on the antireflection film. For example, in patent documents 2 to 4, conductive particles made of a metal oxide are contained in the layer. This method has a problem that it is necessary to provide a new layer in addition to the low refractive index layer, and the load of equipment and time during production is large, resulting in poor productivity. In addition, conductive particles made of metal oxides for antistatic use generally used in the past generally have a refractive index of about 1.6 to 2.2. The refractive index will increase. If the refractive index of the antistatic layer increases, problems such as unintentional interference unevenness due to the difference in refractive index between adjacent layers and an increase in the color of the reflected color occur in the optical film.

帯電防止剤として有機化合物を添加したハードコートフィルムや反射防止フィルムも提案されている。例えば特許文献5及び6には低屈折率層に有機帯電防止剤を使用する技術が開示されており、低屈折率層中において、5〜10質量%の有機帯電防止剤の使用量で帯電防止性が得られている。しかしながら、当該量の帯電防止剤の使用量でも膜の強度は弱くなってしまい、更に低分子型の帯電防止剤を用いている場合は、帯電防止能の持続性も十分でなかった。また、帯電防止剤の濃度は、低屈折率層内で厚み方向に変化していてもよく、帯電防止成分が低屈折率層の表面で高濃度となるようにし、導電性のパス形成させることも出来ると記載されているが、具体的な実現手段に関する記載はない。したがって、十分な帯電防止性能を発現しながら、膜の硬度や耐擦傷性を維持することは困難であった。更に、帯電防止性化合物の添加量に応じて、屈折率が変化するため、帯電防止性と屈折率の両方を同時に制御することも困難であった。
特許文献7では、比較的少ない量の帯電防止剤で帯電防止性を発現させて耐擦傷性を維持したハードコートフィルムが開示されているが、屈折率は任意に制御できないため、該フィルムを反射防止フィルムの光学干渉層へ適用するには制限がある。また、特許文献8には、導電性金属酸化物被覆層を有する微粒子を低屈折率粒子として使用する技術が開示されているが、該粒子は製造工程が複雑であり、より簡易な技術が求められていた。
また、特許文献9〜11には含フッ素ポリマーと導電性化合物を同一層内に含む光学フィルムが開示されているが、帯電防止性とその湿度依存性、及び耐擦傷性の観点でさらなる改善が求められる。
以上のように、帯電防止性、耐擦傷性、及び光学機能を同時に満たしながら、生産性の高い反射防止フィルムを製造することは困難であった。
Hard coat films and antireflection films to which an organic compound is added as an antistatic agent have also been proposed. For example, Patent Documents 5 and 6 disclose a technique in which an organic antistatic agent is used in the low refractive index layer. In the low refractive index layer, an antistatic agent is used with an amount of 5 to 10% by mass of the organic antistatic agent used. Sex has been obtained. However, even when the antistatic agent is used in such an amount, the strength of the film is weakened. Further, when a low molecular weight antistatic agent is used, the antistatic ability is not sufficiently maintained. In addition, the concentration of the antistatic agent may be changed in the thickness direction in the low refractive index layer, and the antistatic component becomes high concentration on the surface of the low refractive index layer to form a conductive path. However, there is no description about a concrete means for realization. Therefore, it has been difficult to maintain the hardness and scratch resistance of the film while exhibiting sufficient antistatic performance. Furthermore, since the refractive index changes depending on the amount of the antistatic compound added, it is difficult to simultaneously control both the antistatic property and the refractive index.
Patent Document 7 discloses a hard coat film in which antistatic properties are expressed with a relatively small amount of an antistatic agent to maintain scratch resistance. However, since the refractive index cannot be arbitrarily controlled, the film is reflected. There are limitations to applying the prevention film to the optical interference layer. Further, Patent Document 8 discloses a technique of using fine particles having a conductive metal oxide coating layer as a low refractive index particle. However, the production process of the particle is complicated, and a simpler technique is required. It was done.
Patent Documents 9 to 11 disclose optical films containing a fluorine-containing polymer and a conductive compound in the same layer, but further improvements are made in terms of antistatic properties, their humidity dependence, and scratch resistance. Desired.
As described above, it has been difficult to produce an antireflection film with high productivity while simultaneously satisfying antistatic properties, scratch resistance, and optical functions.

特開2006−28409号公報JP 2006-28409 A 特開2003−294904号公報JP 2003-294904 A 特開平11−92750号公報JP-A-11-92750 特開2005−196122号公報JP 2005-196122 A 特開2005−316425号公報JP 2005-316425 A 特開2007−185824号公報JP 2007-185824 A 特開2007−216525号公報JP 2007-216525 A 特開2007−293325号公報JP 2007-293325 A 特開2005−115359号公報JP 2005-115359 A 特開2007−277318号公報JP 2007-277318 A 特開2001−81131号公報JP 2001-81131 A

本発明は、優れた帯電防止性を有し、更に、耐擦傷性に優れ、かつ帯電防止性の湿度依存性が少ない帯電防止性の光学フィルムを提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide an antistatic optical film having excellent antistatic properties, excellent scratch resistance, and low antistatic humidity dependency.

本発明者らは、上記課題を解消すべく鋭意検討した結果、下記構成とすることにより前記課題を解決し目的を達成しうることを知見し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that the following configuration can solve the problems and achieve the object, and the present invention has been completed.

1.
透明基材フィルム上に、少なくとも、バインダーと、親水性基を有する導電性高分子化合物と、フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーとを含む組成物から形成される層(A)を有し、該導電性高分子化合物は、該層(A)内の厚さ方向において、該透明基材フィルム側よりも該透明基材フィルムとは反対側に多く存在し、表面抵抗率が1×1012Ω/□以下である帯電防止性の光学フィルム。
2.
前記導電性高分子化合物が有する親水性基、及び前記含フッ素ポリマーが有する親水性基がイオン性基であり、前記導電性高分子化合物と前記含フッ素ポリマーとは、それぞれ反対に荷電し得るイオン性基を有する上記1に記載の帯電防止性の光学フィルム。
3.
前記層(A)内において、透明基材フィルム側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をa、透明基材フィルムとは反対側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をbとしたとき、a/bが0〜0.4である上記1又は2に記載の帯電防止性の光学フィルム。
4.
前記層(A)を形成する組成物が、該組成物に含まれる全固形分に対して、前記導電性高分子化合物を0.01〜5質量%含有する、上記1〜3のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
5.
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、重合可能な官能基及び親水性基を含有するモノマー(1)と、該モノマーと共重合可能な官能基及びフルオロ脂肪族基を含有するモノマー(2)との共重合体である上記1〜4のいずれかに記載の帯電防止性の光学フィルム。
6.
前記フルオロ脂肪族基を含有するモノマー(2)が下記一般式[1]で表される上記5に記載の帯電防止性の光学フィルム。
1.
A layer formed from a composition comprising at least a binder, a conductive polymer compound having a hydrophilic group, and a fluoropolymer containing a fluoroaliphatic group and a hydrophilic group on a transparent substrate film (A The conductive polymer compound is present more on the opposite side of the transparent substrate film than on the transparent substrate film side in the thickness direction in the layer (A), and has a surface resistivity. Is an antistatic optical film having a value of 1 × 10 12 Ω / □ or less.
2.
The hydrophilic group of the conductive polymer compound and the hydrophilic group of the fluorine-containing polymer are ionic groups, and the conductive polymer compound and the fluorine-containing polymer are ions that can be oppositely charged. 2. The antistatic optical film as described in 1 above, which has a functional group.
3.
In the layer (A), the amount of the conductive polymer compound present on the transparent substrate film side surface is a, and the amount of the conductive polymer compound present on the surface opposite to the transparent substrate film is b. The antistatic optical film as described in 1 or 2 above, wherein a / b is 0 to 0.4.
4).
Any one of the above 1-3, wherein the composition forming the layer (A) contains 0.01 to 5% by mass of the conductive polymer compound with respect to the total solid content contained in the composition. An antistatic optical film as described in the item.
5.
The fluoropolymer containing a fluoroaliphatic group and a hydrophilic group comprises a monomer (1) containing a polymerizable functional group and a hydrophilic group, a functional group copolymerizable with the monomer, and a fluoroaliphatic group. 5. The antistatic optical film as described in any one of 1 to 4 above, which is a copolymer with the monomer (2) contained.
6).
6. The antistatic optical film as described in 5 above, wherein the monomer (2) containing the fluoroaliphatic group is represented by the following general formula [1].

Figure 2011180523
Figure 2011180523

(式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Xは酸素原子、イオウ原子又は−N(R)−を表し、Zは水素原子又はフッ素原子を表し、mは1〜6の整数、及びnは2〜4の整数を表す。Rは水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。)
7.
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、カルボキシル基(−COOH)、スルホ基(−SOH)、ホスホノ基[−PO(OH)]及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも1種の親水性基を有し、前記導電性高分子化合物は、カチオン性基を有する、上記1〜6のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
8.
前記導電性高分子化合物のカチオン性基は、4級アンモニウム塩であることを特徴とする上記7に記載の帯電防止性の光学フィルム。
9.
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、4級アンモニウム塩を親水性基として有し、前記導電性高分子化合物は、アニオン性基を有する、上記1〜6のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
10.
前記導電性高分子化合物のアニオン性基は、カルボキシル基(−COOH)、スルホ基(−SOH)、ホスホノ基[−PO(OH)]及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも1種である上記9に記載の帯電防止性の光学フィルム。
11.
前記導電性高分子化合物は、更に、前記バインダーが有する官能基と共有結合し得る官能基を有する上記1〜10のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
12.
前記層(A)はハードコート層である、上記1〜11のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
13.
前記ハードコート層の上に、前記ハードコート層よりも屈折率の小さい層を少なくとも1層有する反射防止フィルムである、上記12に記載の帯電防止性の光学フィルム。
14.
少なくとも1層の光学干渉層を有する反射防止フィルムであって、該光学干渉層の少なくともいずれか1層は前記層(A)である、上記1〜11のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
15.
偏光膜と該偏光膜の両面を保護する2枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも1枚が上記1〜14のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルムである偏光板。
16.
上記1〜14のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム又は上記15に記載の偏光板をディスプレイの最表面に有する画像表示装置。
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 2 ) —, Z represents a hydrogen atom or a fluorine atom, and m represents an integer of 1 to 6. And n represents an integer of 2 to 4. R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)
7).
The fluoropolymer containing a fluoroaliphatic group and a hydrophilic group is a group consisting of a carboxyl group (—COOH), a sulfo group (—SO 3 H), a phosphono group [—PO (OH) 2 ] and salts thereof. The antistatic optical film according to any one of 1 to 6, which has at least one hydrophilic group selected from the above, and the conductive polymer compound has a cationic group.
8).
8. The antistatic optical film as described in 7 above, wherein the cationic group of the conductive polymer compound is a quaternary ammonium salt.
9.
The fluorine-containing polymer containing a fluoroaliphatic group and a hydrophilic group has a quaternary ammonium salt as a hydrophilic group, and the conductive polymer compound has an anionic group, 2. An antistatic optical film according to item 1.
10.
The anionic group of the conductive polymer compound is at least one selected from the group consisting of a carboxyl group (—COOH), a sulfo group (—SO 3 H), a phosphono group [—PO (OH) 2 ], and salts thereof. 10. The antistatic optical film as described in 9 above, which is a seed.
11.
11. The antistatic optical film according to any one of 1 to 10, wherein the conductive polymer compound further has a functional group that can be covalently bonded to a functional group of the binder.
12
The antistatic optical film according to any one of 1 to 11, wherein the layer (A) is a hard coat layer.
13.
13. The antistatic optical film as described in 12 above, which is an antireflection film having at least one layer having a refractive index smaller than that of the hard coat layer on the hard coat layer.
14
The antistatic property according to any one of 1 to 11 above, which is an antireflection film having at least one optical interference layer, wherein at least one of the optical interference layers is the layer (A). Optical film.
15.
15. A polarizing plate having a polarizing film and two protective films protecting both surfaces of the polarizing film, wherein at least one of the protective films is the antistatic optical film according to any one of 1 to 14 above A polarizing plate.
16.
15. An image display device having the antistatic optical film according to any one of 1 to 14 or the polarizing plate according to 15 above on the outermost surface of a display.

本発明によれば、優れた帯電防止性を有し、更に、耐擦傷性に優れ、かつ帯電防止性の湿度依存性が少ない帯電防止性の光学フィルムを提供することができる。また、低屈折率層等の反射防止層を積層することで、更に反射防止機能にも優れた光学フィルムを提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an antistatic optical film having excellent antistatic properties, excellent scratch resistance, and low antistatic humidity dependency. Further, by laminating an antireflection layer such as a low refractive index layer, an optical film having an excellent antireflection function can be provided.

以下、本発明について説明する。ただし、本発明は以下の記載により制限されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「(数値1)〜(数値2)」という記載は「(数値1)以上(数値2)以下」の意味を表す。また、本明細書において、「(メタ)アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「(メタ)アクリル酸」等も同様である。   The present invention will be described below. However, the present invention is not limited by the following description. In the present specification, when a numerical value represents a physical property value, a characteristic value, etc., the description “(numerical value 1) to (numerical value 2)” means “(numerical value 1) or more and (numerical value 2) or less”. . In the present specification, the description “(meth) acrylate” means “at least one of acrylate and methacrylate”. The same applies to “(meth) acrylic acid” and the like.

本発明の帯電防止性の光学フィルムは、透明基材フィルム上に、バインダーと、親水性基を有する導電性高分子化合物と、フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーとを含む組成物から形成される層(A)を有し、該導電性高分子化合物は、該層(A)内の厚さ方向において、該透明基材フィルム側よりも該透明基材フィルムとは反対側に多く存在し、表面抵抗率が1×1012Ω/□以下であることを特徴とする。 The antistatic optical film of the present invention includes a binder, a conductive polymer compound having a hydrophilic group, and a fluoropolymer containing a fluoroaliphatic group and a hydrophilic group on a transparent substrate film. It has a layer (A) formed from the composition, and the conductive polymer compound is more opposite to the transparent substrate film than the transparent substrate film side in the thickness direction in the layer (A). The surface resistivity is 1 × 10 12 Ω / □ or less.

本発明の帯電防止性の光学フィルムの表面抵抗率は1×1012Ω/□以下であるが、1×1011Ω/□以下であることがより好ましく、1×1010Ω/□以下であることが更に好ましい。 The surface resistivity of the antistatic optical film of the present invention is 1 × 10 12 Ω / □ or less, more preferably 1 × 10 11 Ω / □ or less, and preferably 1 × 10 10 Ω / □ or less. More preferably it is.

導電性化合物が十分な帯電防止性能を発現するためには、導電性化合物が層内に密に充填されていることが好ましく、更に、層の最表面側に局在していることが好ましい。導電性化合物を層内に密に充填させるために大量に添加すると層の強度が弱くなり、屈折率も変化するため、少量の導電性化合物を密に充填させることが好ましい。通常、導電性化合物の凝集性や局在性は、該化合物自身の性質に依存するのに加えて、同一層内に含まれるバインダーとの組み合わせ、下層との組み合わせ、等により決定されるため、任意に制御することが困難であり、素材の選択肢とその組み合わせが限られる。
本発明によれば、層(A)を形成するための組成物中に、バインダーと、親水性基を有する導電性高分子化合物と、フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーと含有させることで、含フッ素ポリマーの表面局在性を利用し、更に含フッ素ポリマーと導電性高分子化合物の親和性を利用することで、少量の導電性高分子化合物を層(A)の透明基材フィルムとは反対の表面側に密に局在させることができる。フルオロ脂肪族基含有ポリマーは、極性の低いフルオロ脂肪族基を有するために透明基材フィルムとは反対の表面側に局在する化合物であり、表面側に局在した含フッ素ポリマー中において、フルオロ脂肪族基は透明基材フィルムとは反対の表面側(上側)を、親水性基は透明基材フィルム側(下側)を向きやすい。一般的な有機化合物をバインダーとして用いた層内や、また、その中に微粒子を分散させた層内において、該含フッ素ポリマー中の親水性基と、親水性基を有する導電性高分子化合物は親和性が高いために、導電性高分子化合物を表面側に集積させることができる。該含フッ素ポリマーの親水性基と、親水性基を有する導電性高分子化合物を設計することで、より高い親和性を得ることができ、より少量の導電性高分子化合物をより高密度に集積させることができる。該含フッ素ポリマーの親水性基は負又は正に荷電し得るイオン性基を有し、それと対をなすイオン性基を有す導電性高分子化合物を組み合わせることが好ましい。
In order for the conductive compound to exhibit sufficient antistatic performance, it is preferable that the conductive compound is closely packed in the layer, and it is preferable that the conductive compound is localized on the outermost surface side of the layer. If a large amount of the conductive compound is added to densely fill the layer, the strength of the layer becomes weak and the refractive index changes. Therefore, it is preferable to pack a small amount of the conductive compound densely. Usually, the cohesiveness and localization of a conductive compound depend on the properties of the compound itself, and are determined by the combination with the binder contained in the same layer, the combination with the lower layer, etc. It is difficult to control arbitrarily, and the choices of materials and their combinations are limited.
According to the present invention, in the composition for forming the layer (A), a binder, a conductive polymer compound having a hydrophilic group, a fluoropolymer containing a fluoroaliphatic group and a hydrophilic group, By containing, the surface localization of the fluorine-containing polymer is used, and further by utilizing the affinity between the fluorine-containing polymer and the conductive polymer compound, a small amount of the conductive polymer compound is transparent in the layer (A). It can be densely localized on the surface side opposite to the base film. The fluoroaliphatic group-containing polymer is a compound that is localized on the surface side opposite to the transparent base film because it has a fluoroaliphatic group having low polarity. In the fluoropolymer localized on the surface side, The aliphatic group tends to face the surface side (upper side) opposite to the transparent base film, and the hydrophilic group tends to face the transparent base film side (lower side). In a layer using a general organic compound as a binder or in a layer in which fine particles are dispersed, a hydrophilic group in the fluoropolymer and a conductive polymer compound having a hydrophilic group are: Since the affinity is high, the conductive polymer compound can be accumulated on the surface side. By designing the hydrophilic group of the fluorine-containing polymer and the conductive polymer compound having a hydrophilic group, higher affinity can be obtained, and a smaller amount of the conductive polymer compound can be integrated at a higher density. Can be made. The hydrophilic group of the fluoropolymer has an ionic group that can be charged negatively or positively, and it is preferable to combine a conductive polymer compound having an ionic group that is paired with the ionic group.

本発明において、層(A)の厚さが0.5μm以下である場合には、層(A)の透明基材フィルム側とは、層(A)の透明基材フィルムに近い側の最表面から層(A)の厚さ全体の20%以内に含まれる任意の領域を表し、層(A)の透明基材フィルムと反対側とは、層(A)の透明基材フィルムに遠い側の最表面から層(A)の厚さ全体の20%以内に含まれる任意の領域を表す。また、層(A)の厚さが0.5μmより大きい場合には、層(A)の透明基材フィルム側とは、層(A)の透明基材フィルムに近い側の最表面から深さ100nm以内に含まれる任意の領域を表し、層(A)の透明基材フィルムと反対側とは、層(A)の透明基材フィルムに遠い側の最表面から深さ100nm以内に含まれる任意の領域を表す。このとき、透明基材フィルム側表面及びその反対側は同一の手段により分析を行い、実質的に同一の深さ領域を分析し、下記の導電性高分子化合物の量(a、b)を求めるものとする。   In the present invention, when the thickness of the layer (A) is 0.5 μm or less, the transparent substrate film side of the layer (A) is the outermost surface on the side close to the transparent substrate film of the layer (A) Represents an arbitrary region included within 20% of the total thickness of the layer (A), and the side opposite to the transparent substrate film of the layer (A) is the side far from the transparent substrate film of the layer (A) It represents an arbitrary region included within 20% of the entire thickness of the layer (A) from the outermost surface. Moreover, when the thickness of a layer (A) is larger than 0.5 micrometer, the transparent base film side of a layer (A) is a depth from the outermost surface of the side close | similar to the transparent base film of a layer (A). Represents an arbitrary region included within 100 nm, and the side opposite to the transparent substrate film of layer (A) is an arbitrary region included within a depth of 100 nm from the outermost surface on the side far from the transparent substrate film of layer (A) Represents the region. At this time, the transparent base film side surface and the opposite side are analyzed by the same means, and substantially the same depth region is analyzed to determine the amount (a, b) of the following conductive polymer compound. Shall.

前記層(A)内において、透明基材フィルム側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をa、透明基材フィルムとは反対側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をbとしたとき、a/bが0〜0.4であることが好ましく、0〜0.2であることが更に好ましい。導電性高分子化合物の量(a、b)は、ESCA等を用いて膜の表裏の元素分析を行うことで求めることができる。   In the layer (A), the amount of the conductive polymer compound present on the transparent substrate film side surface is a, and the amount of the conductive polymer compound present on the surface opposite to the transparent substrate film is b. The a / b is preferably 0 to 0.4, and more preferably 0 to 0.2. The amount (a, b) of the conductive polymer compound can be determined by conducting elemental analysis on the front and back of the film using ESCA or the like.

[親水性基を有する導電性高分子化合物]
導電性高分子化合物とは、媒体中に添加することで、該化合物を添加しない媒体に比べて電気抵抗値を低下し得る高分子化合物である。本発明の光学フィルムにおける層(A)に用いられる導電性化合物は高分子であるため、光学フィルムを使用する環境下での安定性や持続性に優れる。
[Conductive polymer compound having a hydrophilic group]
A conductive polymer compound is a polymer compound that can be added to a medium to lower the electrical resistance value compared to a medium to which the compound is not added. Since the conductive compound used for the layer (A) in the optical film of the present invention is a polymer, it is excellent in stability and sustainability in an environment where the optical film is used.

本発明における導電性高分子化合物は親水性基を有する。該親水性基としては、主成分となるバインダーよりも極性の高い官能基や連結基を選ぶことができるが、負又は正に荷電し得るイオン性基であることが好ましい。カチオン性基としては、4級アンモニウム塩であることが好ましく、アニオン性基としては、カルボキシル基(−COOH)、スルホ基(−SOH)、ホスホノ基[−PO(OH)]及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。 The conductive polymer compound in the present invention has a hydrophilic group. As the hydrophilic group, a functional group or a linking group having a polarity higher than that of the binder as a main component can be selected, but an ionic group that can be negatively or positively charged is preferable. The cationic group is preferably a quaternary ammonium salt, and the anionic group includes a carboxyl group (—COOH), a sulfo group (—SO 3 H), a phosphono group [—PO (OH) 2 ] and the like. It is preferably at least one selected from the group consisting of these salts.

導電性高分子化合物は、更に、バインダーの官能基と共有結合し得る官能基を有すると、導電性高分子化合物をバインダー中に固定化することができるため、膜の耐擦傷性を損なわず、帯電防止性能の温湿度依存性を低減でき、更に、ブリードアウトや水洗い、布拭き等による帯電防止剤の脱落を低減できるという理由から、導電性高分子化合物には重合性官能基が導入されていることが好ましい。重合性官能基としては、特に限定されないが、アクリル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合を有する基、エポキシ基等が挙げられ、用いるバインダーに応じて選ぶことができる。
導電性高分子化合物としてはイオン系導電性高分子やπ共役系導電性高分子が挙げられる。導電性高分子化合物は前記含フッ素ポリマーが有する親水性基と対をなして局在させるために、イオン性高分子化合物であることが好ましい。
特に、導電性高分子化合物が有する親水性基、及び含フッ素ポリマーが有する親水性基がイオン性基であり、導電性高分子化合物と含フッ素ポリマーとは、それぞれ反対に荷電し得るイオン性基を有することが、好ましい。導電性高分子化合物と含フッ素ポリマーの親和性を損なわないために、バインダーはイオン性基を有さないことが好ましい。
When the conductive polymer compound further has a functional group that can be covalently bonded to the functional group of the binder, the conductive polymer compound can be immobilized in the binder, so that the scratch resistance of the film is not impaired, Due to the fact that the temperature and humidity dependence of the antistatic performance can be reduced, and further, the falling off of the antistatic agent due to bleeding out, washing with water, cloth wiping, etc. can be reduced. Preferably it is. Although it does not specifically limit as a polymeric functional group, The group which has ethylenically unsaturated bonds, such as an acryl group, a vinyl group, and an allyl group, an epoxy group, etc. are mentioned, It can select according to the binder to be used.
Examples of the conductive polymer compound include ionic conductive polymers and π-conjugated conductive polymers. The conductive polymer compound is preferably an ionic polymer compound in order to localize in a pair with the hydrophilic group of the fluoropolymer.
In particular, the hydrophilic group of the conductive polymer compound and the hydrophilic group of the fluorine-containing polymer are ionic groups, and the conductive polymer compound and the fluorine-containing polymer can be charged in opposite directions. It is preferable to have In order not to impair the affinity between the conductive polymer compound and the fluorine-containing polymer, the binder preferably has no ionic group.

イオン性高分子化合物としては、特公昭49−23828号、同49−23827号、同47−28937号、特開平10−251621号、特開2005−148681号に見られるようなアニオン性高分子化合物;特公昭55−734号、特開昭50−54672号、特公昭59−14735号、同57−18175号、同57−18176号、同57−56059号、特開2005−148681号などに見られるような、主鎖中に解離基を持つアイオネン型ポリマー;特公昭53−13223号、同57−15376号、同58−56858号、特開昭55−145783号、同55−65950号、同55−67746号、同62−9346号、特開2005−148681号に見られるような、側鎖中にカチオン性基を持つカチオン性ペンダント型ポリマー;等を挙げることができる。   Examples of the ionic polymer compound include anionic polymer compounds as described in JP-B Nos. 49-23828, 49-23827, 47-28937, JP-A-10-251621, and JP-A-2005-148861. See JP-B-55-734, JP-A-50-54672, JP-B-59-14735, JP-A-57-18175, JP-A-57-18176, JP-A-57-56059, JP-A-2005-148681, etc. An ionene type polymer having a dissociation group in the main chain; Japanese Patent Publication Nos. 53-13223, 57-15376, 58-56858, Japanese Patent Laid-Open Nos. 55-145783, 55-65950, A cutlet having a cationic group in the side chain as seen in 55-67746, 62-9346, and JP-A-2005-148861 Down pendant type polymers; and the like.

カチオン性基を有する導電性高分子化合物としては、アルキルアミン類、第4級アンモニウム塩類等を高分子量化した高分子化合物等が好ましく用いられる。
アニオン性基を有する導電性高分子化合物としては、脂肪酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸類、アルキルスルホコハク酸塩類、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩類、アルキルリン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルアリル硫酸エステル塩類、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、特殊カルボン酸型高分子界面活性剤類等を高分子量化した高分子化合物等が好ましく用いられる。
As the conductive polymer compound having a cationic group, polymer compounds obtained by increasing the molecular weight of alkylamines, quaternary ammonium salts, and the like are preferably used.
Examples of conductive polymer compounds having an anionic group include fatty acid salts, alkyl sulfate esters, alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl sulfosuccinates, alkyl diphenyl ether disulfonates, alkyl phosphates, polyoxyethylene Polymer compounds obtained by increasing the molecular weight of alkyl sulfates, polyoxyethylene alkylallyl sulfates, naphthalenesulfonic acid formalin condensates, special carboxylic acid type polymer surfactants, and the like are preferably used.

四級アンモニウム系の導電性高分子化合物としては、四級アンモニウム塩基含有重合体、四級アンモニウム塩基含有シランカップリング剤又はその加水分解縮合物がある。このような四級アンモニウム塩基含有重合体の具体例を以下例示する。
(a)N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリル酸エステル/他の(メタ)アクリル酸エステルの共重合体、の四級アンモニウム塩、
(b)N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリルアミド/他の(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体、の四級アンモニウム塩、
(c)N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリル酸エステル/他の(メタ)アクリル酸エステル(/スチレン類)/ヒドロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステルの共重合体と、(メタ)アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩、
(d)N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリル酸エステル/他の(メタ)アクリル酸エステル(/スチレン類)/ヒドロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステル/(メタ)アクリロイル末端ポリジメチルシロキサンの共重合体と、(メタ)アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩、
(e)N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリル酸エステル/他の(メタ)アクリル酸エステル/(/スチレン類)/ヒドロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステル/(メタ)アクリロイル末端ポリジメチルシロキサンの共重合体、と(メタ)アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩に、更にアミノ基含有ポリジメチルシロキサンを付加したポリマー、
(f)N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリル酸エステル/(メタ)アクリル酸エステル(/スチレン類)/ヒドロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステル/メルカプト末端ポリジメチルシロキサンの共重合体、と(メタ)アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩、
(g)N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリルアミド/(メタ)アクリル酸エステル(/スチレン類)/ヒドロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステル/メルカプト末端ポリジメチルシロキサンの共重合体、と(メタ)アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩、等を例示することができる。
Examples of the quaternary ammonium-based conductive polymer compound include a quaternary ammonium base-containing polymer, a quaternary ammonium base-containing silane coupling agent, or a hydrolysis condensate thereof. Specific examples of such a quaternary ammonium base-containing polymer are shown below.
(A) quaternary ammonium salt of N, N-dialkylaminoalkyl (meth) acrylic acid ester / other (meth) acrylic acid ester copolymer,
(B) quaternary ammonium salt of N, N-dialkylaminoalkyl (meth) acrylamide / copolymer with other (meth) acrylic acid ester,
(C) N, N-dialkylaminoalkyl (meth) acrylic acid ester / other (meth) acrylic acid ester (/ styrenes) / hydroxyalkyl (meth) acrylic acid ester copolymer, and (meth) acryloyl group Quaternary ammonium salts of adducts with isocyanate compounds,
(D) N, N-dialkylaminoalkyl (meth) acrylic acid ester / other (meth) acrylic acid ester (/ styrenes) / hydroxyalkyl (meth) acrylic acid ester / (meth) acryloyl-terminated polydimethylsiloxane A quaternary ammonium salt of an adduct of a polymer and a (meth) acryloyl group-containing isocyanate compound,
(E) N, N-dialkylaminoalkyl (meth) acrylic acid ester / other (meth) acrylic acid ester / (/ styrenes) / hydroxyalkyl (meth) acrylic acid ester / (meth) acryloyl-terminated polydimethylsiloxane A polymer obtained by further adding an amino group-containing polydimethylsiloxane to a quaternary ammonium salt of a copolymer and an adduct of a (meth) acryloyl group-containing isocyanate compound,
(F) a copolymer of N, N-dialkylaminoalkyl (meth) acrylic acid ester / (meth) acrylic acid ester (/ styrenes) / hydroxyalkyl (meth) acrylic acid ester / mercapto-terminated polydimethylsiloxane; Quaternary ammonium salts of adducts with (meth) acryloyl group-containing isocyanate compounds,
(G) a copolymer of N, N-dialkylaminoalkyl (meth) acrylamide / (meth) acrylic acid ester (/ styrenes) / hydroxyalkyl (meth) acrylic acid ester / mercapto-terminated polydimethylsiloxane, and (meth) Examples include adducts with acryloyl group-containing isocyanate compounds, quaternary ammonium salts, and the like.

アミノ基を四級アンモニウム塩に変性するための四級化剤としては、ハロゲン化アルキル(メチルクロリド等)、ハロゲン化アルケニル(アリルクロリド等)、ハロゲン化アラルキル(ベンジルクロリド等)、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸等のアルキル硫酸類、p−トルエンスルホン酸メチル等のスルホン酸エステル類、クロロ酢酸メチル等のα−ハロ脂肪族カルボン酸誘導体、クロロアセトン等のα−ハロケトン類、クロロアセトニトリル等のα−ハロアルキルニトリル等を例示することができる。これらのうち、優れた帯電防止性を得るためには、炭素数4以下のハロゲン化アルキル、ハロゲン化アルケニル、α−ハロ脂肪族カルボン酸誘導体等を四級化剤として用いるのが好ましい。また、上記(f)のようなN、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリル酸エステルと、他の(メタ)アクリル酸エステル及び/又はスチレン類と、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステルと、メルカプト末端ポリジメチルシロキサンの共重合体と(メタ)アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物を、メチルクロリド、アリルクロリド、クロロ酢酸メチル等の四級化剤で変性した四級アンモニウム塩基含有重合体が特に好ましい。   Quaternizing agents for modifying amino groups to quaternary ammonium salts include alkyl halides (such as methyl chloride), alkenyl halides (such as allyl chloride), aralkyl halides (such as benzyl chloride), dimethyl sulfate, diethyl Alkyl sulfates such as sulfuric acid, sulfonate esters such as methyl p-toluenesulfonate, α-haloaliphatic carboxylic acid derivatives such as methyl chloroacetate, α-haloketones such as chloroacetone, α-haloalkyl such as chloroacetonitrile A nitrile etc. can be illustrated. Among these, in order to obtain excellent antistatic properties, it is preferable to use an alkyl halide having 4 or less carbon atoms, an alkenyl halide, an α-haloaliphatic carboxylic acid derivative, or the like as a quaternizing agent. In addition, N, N-dialkylaminoalkyl (meth) acrylic acid ester as in the above (f), other (meth) acrylic acid ester and / or styrenes, hydroxyalkyl (meth) acrylic acid ester, mercapto A quaternary ammonium base-containing polymer obtained by modifying an adduct of a terminal polydimethylsiloxane copolymer and a (meth) acryloyl group-containing isocyanate compound with a quaternizing agent such as methyl chloride, allyl chloride, or methyl chloroacetate preferable.

四級アンモニウム塩基含有シランカップリング剤は、一部市販のものもあるが、帯電防止剤としての機能は一般に低い。これは、その分子量が低いために、無機酸化物粒子の表面に容易に吸着されてしまい、四級アンモニウム基の濃度が低くなってしまうためである。以下に示すように、N、N−ジアルキルアミノアルコールと、NCO基を有するシランカップリング剤とをウレタン結合で接続した後、適切な四級化剤で四級化した、分子量が400以上のシランカップリング剤、及び/又はこの加水分解縮合物、あるいはN、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリル酸エステルと、SH基を有するシランカップリング剤のチオエーテル結合での付加物を四級化した分子量が400以上のシランカップリング剤、又はこのようなシランカップリング剤単独の加水分解縮合物、他のシランカップリング剤との加水分解共縮合物等が好ましい。   Although some quaternary ammonium base-containing silane coupling agents are commercially available, their functions as antistatic agents are generally low. This is because the molecular weight is low, so that it is easily adsorbed on the surface of the inorganic oxide particles, and the concentration of the quaternary ammonium group is lowered. As shown below, N, N-dialkylaminoalcohol and a silane coupling agent having an NCO group are connected by a urethane bond and then quaternized with an appropriate quaternizing agent, and a silane having a molecular weight of 400 or more. Molecular weight obtained by quaternization of an adduct of a coupling agent and / or a hydrolysis condensate thereof, or an N, N-dialkylaminoalkyl (meth) acrylic acid ester and a silane coupling agent having an SH group with a thioether bond Is preferably a silane coupling agent having a molecular weight of 400 or more, a hydrolysis condensate of such a silane coupling agent alone, a hydrolysis cocondensation product with another silane coupling agent, or the like.

このような四級アンモニウム塩基含有シランカップリング剤の具体例を例示すると、N、N−ジアルキルアミノ脂肪族アルコール(N、N−ジメチルアミノエタノール、N、N−ジメチルアミノプロパノール等)とNCO基を含有するトリアルコキシシラン(γ−トリメトキシシリルプロピルイソシアネート等)の反応物の四級アンモニウム塩、N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリル酸エステル(N、N−ジメチルアミノメタクリレート等)とメルカプト基を有するトリアルコキシシラン(γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等)との反応物の四級アンモニウム塩、これらの単独加水分解縮合物、これらと他のシランカップリング剤との共加水分解縮合物等を挙げることができる。他のシランカップリング剤としては、既に例示したアルキレンオキシド鎖を有するシランカップリング剤や、ラジカル重合可能なシランカップリング剤が特に好ましい。   Specific examples of such quaternary ammonium base-containing silane coupling agents include N, N-dialkylamino aliphatic alcohols (N, N-dimethylaminoethanol, N, N-dimethylaminopropanol, etc.) and NCO groups. Quaternary ammonium salts, N, N-dialkylaminoalkyl (meth) acrylic acid esters (N, N-dimethylaminomethacrylate, etc.) and mercapto groups of reaction products of trialkoxysilane (γ-trimethoxysilylpropyl isocyanate etc.) contained A quaternary ammonium salt of a reaction product with a trialkoxysilane (γ-mercaptopropyltrimethoxysilane or the like) having a silane, a single hydrolysis condensate of these, a cohydrolysis condensate of these with another silane coupling agent, etc. Can be mentioned. As other silane coupling agents, silane coupling agents having an alkylene oxide chain exemplified above and silane coupling agents capable of radical polymerization are particularly preferred.

以下に、イオン性高分子化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるわけではない。なお、下記の具体例IP−7〜21における添え字(m、p、q(q1、q2、q3含む)、r、x、y、z)は、高分子中での各繰り返し単位のモル比を表す。   Specific examples of the ionic polymer compound are listed below, but the present invention is not limited to these. In addition, the subscripts (m, p, q (including q1, q2, q3), r, x, y, z) in the following specific examples IP-7 to 21 are molar ratios of each repeating unit in the polymer. Represents.

Figure 2011180523
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他の導電性高分子化合物としては、エチレンオキシド鎖を有する多価アルコール又はその誘導体を例示することができる。このような化合物の代表例をいくつか具体的に示すと、ポリエチレングリコールのモノ(メタ)アクリレート等のポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート、多価アルコール(グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等)のアルキレンオキシド付加体、及びその(メタ)アクリル酸エステル等を挙げることができる。他の導電性高分子化合物として、ポリリン酸ナトリウム塩等のリン酸塩を挙げることができる。   Examples of the other conductive polymer compound include a polyhydric alcohol having an ethylene oxide chain or a derivative thereof. Some typical examples of such compounds are: polyalkylene glycol mono (meth) acrylates such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polyhydric alcohols (glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipenta An alkylene oxide adduct of erythritol and the like, and (meth) acrylic acid esters thereof. Examples of other conductive polymer compounds include phosphates such as sodium polyphosphate.

他の導電性高分子化合物として、π共役系導電性重合体を例示することができる。π共役系導電性高分子としては、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば特に制限されない。π共役系導電性高分子は、化合物安定性、高導電性という理由から、π共役系複素環式化合物又はπ共役系複素環式化合物の誘導体であることが好ましい。π共役系導電性高分子としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、ポリアセン、ポリアズレン、芳香族共役系のポリフェニレン、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、ポリイソチアナフテン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、ポリチエニレンビニレン、混合型共役系のポリ(フェニレンビニレン)、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、これらの導電性ポリマーの誘導体、及び、これらの共役高分子鎖を飽和高分子にグラフト又はブロック共重した高分子である導電性複合体からなる群より選択される少なくとも一種を挙げることができる。空気中での安定性の点からは、ポリピロール、ポリチオフェン及びポリアニリン又はこれらの誘導体が好ましく、ポリチオフェン、ポリアニリン、又はこれらの誘導体(すなわち、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体、及びポリアニリン誘導体)がより好ましい。   Examples of other conductive polymer compounds include π-conjugated conductive polymers. The π-conjugated conductive polymer is not particularly limited as long as it is an organic polymer having a main chain composed of a π-conjugated system. The π-conjugated conductive polymer is preferably a π-conjugated heterocyclic compound or a derivative of a π-conjugated heterocyclic compound because of compound stability and high conductivity. Examples of the π-conjugated conductive polymer include aliphatic conjugated polyacetylene, polyacene, polyazulene, aromatic conjugated polyphenylene, heterocyclic conjugated polypyrrole, polythiophene, polyisothianaphthene, and heteroatom-containing polyaniline. , Polythienylene vinylene, mixed conjugated poly (phenylene vinylene), double chain conjugated system having a plurality of conjugated chains in the molecule, derivatives of these conductive polymers, and conjugated high There may be mentioned at least one selected from the group consisting of conductive composites which are polymers in which molecular chains are grafted or block-copolymerized onto saturated polymers. From the viewpoint of stability in air, polypyrrole, polythiophene and polyaniline or derivatives thereof are preferable, and polythiophene, polyaniline, or derivatives thereof (that is, polythiophene, polyaniline, polythiophene derivatives, and polyaniline derivatives) are more preferable.

本発明における導電性高分子化合物は、好ましくは質量平均分子量が1,000〜1,000,000であり、より好ましくは2,000〜500,000であり、更に好ましくは3,000〜300,000である。該質量平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー等により測定することができる。   The conductive polymer compound in the present invention preferably has a mass average molecular weight of 1,000 to 1,000,000, more preferably 2,000 to 500,000, still more preferably 3,000 to 300,000. 000. The mass average molecular weight can be measured by gel permeation chromatography or the like.

前記層(A)を形成する組成物に含まれる全固形分に対して、導電性高分子化合物は0.01〜5質量%含有されることが好ましい。バインダーが本来有している強度と光学性能を損なうことなく、十分な帯電防止機能を発現するためには、層(A)の厚みに応じて、導電性高分子化合物の含量を調整することが好ましい。   It is preferable that 0.01-5 mass% of conductive polymer compounds are contained with respect to the total solid content contained in the composition forming the layer (A). In order to develop a sufficient antistatic function without impairing the strength and optical performance inherent in the binder, the content of the conductive polymer compound can be adjusted according to the thickness of the layer (A). preferable.

前記層(A)が後述するハードコート層である場合は、該層の厚みは0.5〜50μmの範囲から選ばれることが好ましく、該層の全固形分に対して、導電性高分子化合物は0.01〜3質量%であることが好ましく、0.01〜1質量%であることが更に好ましい。
前記層(A)が後述する光学干渉層(低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層、等)である場合は、該層の厚みは0.05〜0.2μmの範囲から選ばれることが好ましく、該層の全固形分に対して、導電性高分子化合物は0.1〜5質量%であることが好ましく、0.1〜3質量%であることが更に好ましい。
When the layer (A) is a hard coat layer to be described later, the thickness of the layer is preferably selected from the range of 0.5 to 50 μm, and the conductive polymer compound with respect to the total solid content of the layer Is preferably 0.01 to 3% by mass, and more preferably 0.01 to 1% by mass.
When the layer (A) is an optical interference layer (low refractive index layer, medium refractive index layer, high refractive index layer, etc.) described later, the thickness of the layer is selected from the range of 0.05 to 0.2 μm. The conductive polymer compound is preferably 0.1 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 3% by mass, based on the total solid content of the layer.

[フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマー]
本発明の光学フィルムにおける層(A)を形成するための組成物に含有されるフルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマー(「含フッ素ポリマー」、「フルオロ脂肪族基含有ポリマー」ともいう)について説明する。
[Fluoropolymer containing fluoroaliphatic group and hydrophilic group]
Fluoropolymers containing fluoroaliphatic groups and hydrophilic groups contained in the composition for forming the layer (A) in the optical film of the present invention ("fluorine-containing polymer", "fluoroaliphatic group-containing polymer") (Also called).

含フッ素ポリマーが有する親水性基としては、主成分となるバインダーよりも極性の高い官能基や連結基を選ぶことができ、イオン性基や水酸基、(ポリ)エーテル基などが挙げられるが、該親水性基は上記導電性高分子化合物と親和性を有することが好ましく、イオン性基であることが更に好ましい。イオン性基としては、カルボキシル基(−COOH)、スルホ基(−SOH)、ホスホノ基[−PO(OH)]及びそれらの塩からなるアニオン性基や、4級アンモニウム塩類からなるカチオン性基から選ばれることが好ましい。 As the hydrophilic group possessed by the fluoropolymer, a functional group or a linking group having a polarity higher than that of the binder as the main component can be selected, and examples thereof include an ionic group, a hydroxyl group, and a (poly) ether group. The hydrophilic group preferably has an affinity for the conductive polymer compound, and more preferably an ionic group. Examples of the ionic group include an anionic group comprising a carboxyl group (—COOH), a sulfo group (—SO 3 H), a phosphono group [—PO (OH) 2 ] and a salt thereof, and a cation comprising a quaternary ammonium salt. It is preferably selected from sex groups.

含フッ素ポリマーが有するフルオロ脂肪族基としては、水素原子の一部がフッ素原子に置換された直鎖状、分岐状、環状等の脂肪族基が挙げられるが、脂肪族基の水素原子/フッ素原子比は0〜0.5であることが好ましく、0〜0.3であることがより好ましい。   Examples of the fluoroaliphatic group possessed by the fluoropolymer include linear, branched, and cyclic aliphatic groups in which a part of hydrogen atoms are replaced by fluorine atoms. The atomic ratio is preferably 0 to 0.5, and more preferably 0 to 0.3.

本発明におけるフルオロ脂肪族基含有ポリマーは、重合可能な官能基及び親水性基を含有するモノマー(1)と、該モノマー(1)と共重合可能な官能基及びフルオロ脂肪族基を含有するモノマー(2)との共重合体であることが、ポリマーの分子量やモノマーの組成比を調整した分子設計が容易であるという理由から好ましい。   The fluoroaliphatic group-containing polymer in the present invention includes a monomer (1) containing a polymerizable functional group and a hydrophilic group, and a monomer containing a functional group and a fluoroaliphatic group copolymerizable with the monomer (1). A copolymer with (2) is preferable because it is easy to design a molecule in which the molecular weight of the polymer and the composition ratio of the monomer are adjusted.

重合可能な官能基及び親水性基を含有するモノマー(1)としては、分子内にアクリル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基等の重合性基を1つ以上有し、更に親水性基を1つ以上有すモノマーが挙げられるが、重合性基を一つ有す単官能モノマーであることが好ましい。   The monomer (1) containing a polymerizable functional group and a hydrophilic group has at least one polymerizable group such as an ethylenically unsaturated bond group such as an acrylic group, a vinyl group, and an allyl group in the molecule, Further, a monomer having one or more hydrophilic groups can be mentioned, and a monofunctional monomer having one polymerizable group is preferable.

該モノマー(1)と共重合可能な官能基及びフルオロ脂肪族基を含有するモノマー(2)としては、下記一般式[1]で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーが好適に用いられる。   As the monomer (2) containing a functional group copolymerizable with the monomer (1) and a fluoroaliphatic group, a fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the following general formula [1] is preferably used.

Figure 2011180523
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(式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Xは酸素原子、イオウ原子又は−N(R)−を表し、Zは水素原子又はフッ素原子を表し、mは1〜6の整数、及びnは2〜4の整数を表す。Rは水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。) (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 2 ) —, Z represents a hydrogen atom or a fluorine atom, and m represents an integer of 1 to 6. And n represents an integer of 2 to 4. R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)

本発明に用いることのできる含フッ素ポリマーアニオン性基及びフルオロ脂肪族基を含有するポリマーの具体例やそれらの製造方法については、特開2005−179636号、特開2005−181977号、特開2006−251642号等に詳細な記載がある。同様に、カチオン性基を有す重合性モノマーを用いることでカチオン基及びフルオロ脂肪族基を含有するポリマーも製造できる。   Specific examples of the polymer containing a fluorine-containing polymer anionic group and a fluoroaliphatic group that can be used in the present invention and methods for producing them are described in JP-A-2005-179636, JP-A-2005-181977, and JP-A-2006. -251642 and the like have detailed descriptions. Similarly, a polymer containing a cationic group and a fluoroaliphatic group can also be produced by using a polymerizable monomer having a cationic group.

前記層(A)を形成する組成物に含まれる全固形分に対して、前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーは0.1〜10質量%であることが好ましい。該範囲の下限値以上であれば、フルオロ脂肪族基含有ポリマーが表面を覆う量が十分となり、該範囲の上限値以下であれば、表面に局在させることができ、層内部にはほどんど存在しなくなるため、フィルムからの泣き出しが発生しにくくなったり、導電性高分子化合物を表面側により集積させることができるため好ましい。
前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーの質量平均分子量は3,000〜100,000であることが好ましく、6,000〜80,000であることが更に好ましい。
The fluoroaliphatic group-containing polymer is preferably 0.1 to 10% by mass based on the total solid content contained in the composition forming the layer (A). If the amount is not less than the lower limit of the range, the amount of the fluoroaliphatic group-containing polymer is sufficient to cover the surface. Since it does not exist, crying out from the film is less likely to occur, and the conductive polymer compound can be accumulated on the surface side, which is preferable.
The mass average molecular weight of the fluoroaliphatic group-containing polymer is preferably 3,000 to 100,000, and more preferably 6,000 to 80,000.

フルオロ脂肪族基含有ポリマーはレベリング剤としても機能することができ、上記添加量や分子量の範囲にすることで、塗布時や乾燥時のムラやハジキを低減させる効果も有し、より均一で欠陥のない塗膜を得ることができる。   Fluoroaliphatic group-containing polymer can also function as a leveling agent, and by making it within the above addition amount and molecular weight range, it has the effect of reducing unevenness and repellency during coating and drying, making it more uniform and defective It is possible to obtain a coating film free from any problem.

以下に本発明に好ましく使用できるフルオロ脂肪族基含有ポリマーの具体例を示すが、本発明はこれらの具体例によって何ら限定されるものではない。ここで、式中の数値は、それぞれ各モノマーの組成比を示す質量百分率であり、MwはGPCにより測定された標準ポリスチレン換算の質量平均分子量である。a、b、c、d等の数値は質量比を表す。下記化合物の他の具体例としては、特開2005−181977号の[0062]〜[0064]記載のP−1〜30、特開2006−251642号の[0068]〜[0071]記載のP−1〜30、等が挙げられる。   Specific examples of the fluoroaliphatic group-containing polymer that can be preferably used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited to these specific examples. Here, the numerical value in a formula is a mass percentage which shows the composition ratio of each monomer, respectively, and Mw is the mass mean molecular weight of standard polystyrene conversion measured by GPC. Numerical values such as a, b, c, and d represent mass ratios. Other specific examples of the following compounds include P-1 to 30 described in [0062] to [0064] of JP-A-2005-181977, and P-- described in [0068] to [0071] of JP-A-2006-251642. 1-30, etc. are mentioned.

Figure 2011180523
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[バインダー]
層(A)を形成するための組成物にはバインダーが含まれる。バインダーは、熱硬化性樹脂又は電離放射線硬化性化合物の一方又は両者から選ばれることが好ましい。すなわち、バインダー形成材料として重合性化合物(モノマー又はオリゴマー)やポリマーを含む組成物塗料を支持体上に塗布し、架橋反応又は重合反応させることにより層(A)を形成するのが好ましい。重合性化合物は電離放射線硬化性であることが好ましく、官能基としては、光(紫外線)、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。1分子内に2つ以上の重合性基を含有する多官能化合物であることが好ましい。
[binder]
The composition for forming the layer (A) contains a binder. The binder is preferably selected from one or both of a thermosetting resin and an ionizing radiation curable compound. That is, it is preferable to form a layer (A) by applying a composition coating containing a polymerizable compound (monomer or oligomer) or a polymer as a binder forming material on a support and causing a crosslinking reaction or a polymerization reaction. The polymerizable compound is preferably ionizing radiation curable, and the functional group is preferably a light (ultraviolet ray), electron beam, or radiation-polymerizable one, and among them, a photopolymerizable functional group is preferable. Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group is preferable. It is preferably a polyfunctional compound containing two or more polymerizable groups in one molecule.

低屈折率バインダーとして、フッ素原子及び重合性不飽和基を分子内に有する重合性化合物を用いることができ、特開2006−28409号公報の段落番号〔0023〕から〔0027〕に記載の化合物、特開2008−134585号公報の段落番号〔0054〕から〔0079〕に記載の化合物、特許3890022号公報の段落番号〔0008〕から〔0017〕に記載の化合物、特開平11−80312号公報の段落番号〔0011〕から〔0013〕に記載の化合物などが挙げられる。   As the low refractive index binder, a polymerizable compound having a fluorine atom and a polymerizable unsaturated group in the molecule can be used, and the compounds described in paragraphs [0023] to [0027] of JP-A-2006-28409, Compounds described in paragraphs [0054] to [0079] of JP-A-2008-134585, compounds described in paragraphs [0008] to [0017] of JP-A-3890022, paragraphs of JP-A-11-80312 And the compounds described in the numbers [0011] to [0013].

フッ素原子を含まない重合性の不飽和結合を有する化合物の具体例としては、ネオペンチルグリコールアクリレート、1,6−ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート等の多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
2,2−ビス{4−(アクリロキシ・ジエトキシ)フェニル}プロパン、2−2−ビス{4−(アクリロキシ・ポリプロポキシ)フェニル}プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類;
等を挙げることができる。
Specific examples of the compound having a polymerizable unsaturated bond that does not contain a fluorine atom include alkylene glycol (meta) such as neopentyl glycol acrylate, 1,6-hexanediol (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, and the like. ) Acrylic acid diesters;
(Meth) acrylic acid diesters of polyoxyalkylene glycols such as triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid diesters of polyhydric alcohols such as pentaerythritol di (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid diesters of ethylene oxide or propylene oxide adducts such as 2,2-bis {4- (acryloxy · diethoxy) phenyl} propane and 2-bis {4- (acryloxy · polypropoxy) phenyl} propane ;
Etc.

更にはエポキシ(メタ)アクリレート類、ウレタン(メタ)アクリレート類、ポリエステル(メタ)アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。   Furthermore, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, and polyester (meth) acrylates are also preferably used as the photopolymerizable polyfunctional monomer.

中でも、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル類が好ましい。更に好ましくは、1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。例えば、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性リン酸トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられる。   Among these, esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid are preferable. More preferably, a polyfunctional monomer having 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule is preferable. For example, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, PO modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO Modified tri (meth) acrylate phosphate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa ( (Meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-chlorohexane tetramethacrylate, polyurethane polyacrylate Over DOO, polyester polyacrylate and caprolactone-modified tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate.

(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類の具体化合物としては、特開2009−98658号公報の段落番号〔0119〕に記載されており、本発明においても同様である。   Specific compounds of polyfunctional acrylate compounds having a (meth) acryloyl group are described in paragraph [0119] of JP-A-2009-98658, and the same applies to the present invention.

更に、3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する樹脂、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物などのオリゴマー又はプレポリマー等もあげられる。   Furthermore, resins having three or more (meth) acryloyl groups, such as relatively low molecular weight polyester resins, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins. And oligomers or prepolymers such as polyfunctional compounds such as polyhydric alcohols.

モノマーバインダーとしては、例えば特開2005−76005号、同2005−36105号に記載されたデンドリマーや、例えば特開2005−60425号記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。   As the monomer binder, for example, dendrimers described in JP-A-2005-76005 and JP-A-2005-36105, and norbornene ring-containing monomers as described in JP-A-2005-60425 can be used.

多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。   Two or more polyfunctional monomers may be used in combination. Polymerization of the monomer having an ethylenically unsaturated group can be carried out by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photo radical initiator or a thermal radical initiator.

(ポリマーバインダー)
バインダーとしては、多官能モノマーや多官能オリゴマーだけでなく、反応性硬化樹脂を反応させてなる、架橋しているポリマーをバインダーとして用いることもできる。ポリマーバインダーについては、特開2008−262187号公報の段落番号〔0194〕〜〔0200〕に記載されており、本発明においても同様である。
(Polymer binder)
As the binder, not only a polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer but also a crosslinked polymer obtained by reacting a reactive curable resin can be used as the binder. The polymer binder is described in paragraph numbers [0194] to [0200] of JP-A-2008-262187, and the same applies to the present invention.

[帯電防止性の光学フィルム]
(帯電防止性の光学フィルムの製造方法)
本発明の帯電防止性の光学フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。まず層(A)を形成するための塗布用組成物が調製される。次に、該組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により透明基材フィルム上に塗布し、加熱・乾燥する。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法(米国特許第2681294号明細書、特開2006−122889号公報参照)がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
[Antistatic optical film]
(Method for producing antistatic optical film)
The antistatic optical film of the present invention can be formed by the following method, but is not limited to this method. First, a coating composition for forming the layer (A) is prepared. Next, the composition is applied onto a transparent substrate film by dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, die coating, etc., and heated and dried. . A micro gravure coating method, a wire bar coating method, and a die coating method (see US Pat. No. 2,681,294 and JP-A-2006-122889) are more preferable, and a die coating method is particularly preferable.

塗布後、光照射あるいは加熱して、塗布組成物から形成される層を硬化する。必要に応じて、透明基材フィルム上にあらかじめその他の層(以下に述べるフィルムを構成する層、例えば、ハードコート層、防眩層、中屈折率層、高屈折率層など)を塗設しておき、その上に層を形成することができる。このようにして本発明の光学フィルムが得られる。   After coating, the layer formed from the coating composition is cured by light irradiation or heating. If necessary, other layers (layers constituting the film described below, for example, a hard coat layer, an antiglare layer, a medium refractive index layer, a high refractive index layer, etc.) are coated on the transparent base film in advance. In addition, a layer can be formed thereon. In this way, the optical film of the present invention is obtained.

(光学フィルムの層構成)
本発明の光学フィルムは、透明基材フィルム上に、層(A)、及び目的に応じて必要な機能層を単独又は複数層設けることにより作製することができる。好ましい態様としては、層(A)がハードコート層である態様、該ハードコート層上に該ハードコート層よりも屈折率の小さい層を有する反射防止フィルムの態様、及び透明基材フィルム上に少なくとも1層の光学干渉層を有する反射防止フィルムであって、該光学干渉層の少なくともいずれか1層が前記層(A)である態様が挙げられる。透明基材フィルム上に少なくとも1層の光学干渉層を有する反射防止フィルムは、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層された反射防止フィルムとすることができる。
反射防止フィルムは、最も単純な構成では、透明支持体上に低屈折率層のみを塗設した構成である。更に反射率を低下させるには、反射防止層を、透明支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と、透明支持体よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成することが好ましい。構成例としては、透明支持体側から高屈折率層/低屈折率層の2層のものや、屈折率の異なる3層を、中屈折率層(透明支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層)/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層を有する透明支持体上に、中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層の順に有することが好ましく、例えば、特開平8−122504号公報、特開平8−110401号公報、特開平10−300902号公報、特開2002−243906号公報、特開2000−111706号公報等に記載の構成が挙げられる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの(例、特開平10−206603号公報、特開2002−243906号公報等)等が挙げられる。
(Layer structure of optical film)
The optical film of the present invention can be produced by providing a layer (A) and a functional layer required according to the purpose singly or in layers on a transparent substrate film. As a preferred embodiment, an embodiment in which the layer (A) is a hard coat layer, an embodiment of an antireflection film having a layer having a refractive index smaller than that of the hard coat layer on the hard coat layer, and at least on a transparent substrate film An antireflection film having one optical interference layer, in which at least one of the optical interference layers is the layer (A). The antireflection film having at least one optical interference layer on the transparent base film was laminated in consideration of the refractive index, the film thickness, the number of layers, the layer order, etc. so as to reduce the reflectance by optical interference. It can be set as an antireflection film.
In the simplest configuration, the antireflection film has a configuration in which only a low refractive index layer is coated on a transparent support. In order to further reduce the reflectance, the antireflection layer is preferably composed of a high refractive index layer having a higher refractive index than the transparent support and a low refractive index layer having a lower refractive index than the transparent support. . Examples of the configuration include two layers of a high refractive index layer / low refractive index layer from the transparent support side, and three layers having different refractive indices, a medium refractive index layer (having a refractive index higher than that of the transparent support and having a high refractive index. In which the refractive index layer is lower than that of the refractive index layer) / high refractive index layer / low refractive index layer, and the like, and more antireflection layers are also proposed. Among them, in view of durability, optical characteristics, cost, productivity, etc., it is preferable to have a medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer in this order on a transparent support having a hard coat layer. Examples include the configurations described in Kaihei 8-122504, JP-A-8-110401, JP-A-10-300902, JP-A 2002-243906, JP-A 2000-117066, and the like. Other functions may be imparted to each layer, for example, an antifouling low refractive index layer or an antistatic high refractive index layer (eg, JP-A-10-206603, JP-A-2002). -243906 publication etc.) etc. are mentioned.

本発明の光学フィルムのより具体的な層構成の例を下記に示す。下記層構成において、支持体とは透明基材フィルムを表し、支持体以外のいずれかの少なくとも1層が本発明における層(A)である。
・支持体/ハードコート層、
・支持体/低屈折率層、
・支持体/防眩層/低屈折率層
・支持体/ハードコート層/低屈折率層、
・支持体/ハードコート層/防眩層/低屈折率層
・支持体/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
・支持体/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・支持体/ハードコート層/防眩層/高屈折率層/低屈折率層
・支持体/ハードコート層/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・支持体/防眩層/高屈折率層/低屈折率層
・支持体/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
The example of the more concrete layer structure of the optical film of this invention is shown below. In the following layer configuration, the support represents a transparent substrate film, and at least one layer other than the support is the layer (A) in the present invention.
・ Support / hard coat layer,
-Support / low refractive index layer,
Support / Anti-Glare layer / Low refractive index layerSupport / Hard coat layer / Low refractive index layer
Support / hard coat layer / antiglare layer / low refractive index layerSupport / hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layerSupport / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / Low refractive index layer / support / hard coat layer / antiglare layer / high refractive index layer / low refractive index layer / support / hard coat layer / antiglare layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index Index layer / support / antiglare layer / high refractive index layer / low refractive index layer / support / antiglare layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer

本発明の反射防止フィルムの好ましい態様の一つは、透明支持体上に、中屈折率層、高屈折率層、及び低屈折率層がこの順に透明支持体側から積層されており、該中屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.60〜1.65であり、該中屈折率層の厚さが50.0nm〜70.0nmであり、該高屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.70〜1.74であり、該高屈折率層の厚さが90.0nm〜115.0nmであり、該低屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.33〜1.38であり、該低屈折率層の厚さが85.0nm〜95.0nmである。   One of the preferred embodiments of the antireflection film of the present invention is that a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are laminated in this order from the transparent support side on the transparent support. The refractive index of the refractive index layer at a wavelength of 550 nm is 1.60 to 1.65, the thickness of the medium refractive index layer is 50.0 nm to 70.0 nm, and the refractive index of the high refractive index layer is 550 nm. 1.70 to 1.74, the thickness of the high refractive index layer is 90.0 nm to 115.0 nm, and the refractive index of the low refractive index layer at a wavelength of 550 nm is 1.33 to 1.38. The thickness of the low refractive index layer is 85.0 nm to 95.0 nm.

本発明の反射防止フィルムは、上記構成の中でも、以下に示す構成(1)又は構成(2)が、特に好ましい。
構成(1):中屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.60〜1.64であり、中屈折率層の厚さが55.0nm〜65.0nmであり、高屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.70〜1.74であり、高屈折率層の厚さが105.0nm〜115.0nmであり、低屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.33〜1.38であり、低屈折率層の厚さが85.0nm〜95.0nmを有する低屈折率層である反射防止フィルム。
構成(2):中屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.60〜1.65であり、中屈折率層の厚さが55.0nm〜65.0nmであり、高屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.70〜1.74であり、高屈折率層の厚さが90.0nm〜100.0nmであり、低屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.33〜1.38であり、低屈折率層の厚さが85.0nm〜95.0nmである反射防止フィルム。
Among the above-described configurations, the antireflection film of the present invention is particularly preferably the following configuration (1) or configuration (2).
Configuration (1): The refractive index at a wavelength of 550 nm of the medium refractive index layer is 1.60 to 1.64, the thickness of the medium refractive index layer is 55.0 nm to 65.0 nm, and the wavelength of the high refractive index layer The refractive index at 550 nm is 1.70 to 1.74, the thickness of the high refractive index layer is 105.0 nm to 115.0 nm, and the refractive index at a wavelength of 550 nm of the low refractive index layer is 1.33 to 1.75. An antireflection film, which is 38 and is a low refractive index layer having a low refractive index layer having a thickness of 85.0 nm to 95.0 nm.
Configuration (2): The refractive index at a wavelength of 550 nm of the middle refractive index layer is 1.60 to 1.65, the thickness of the middle refractive index layer is 55.0 nm to 65.0 nm, and the wavelength of the high refractive index layer The refractive index at 550 nm is 1.70 to 1.74, the thickness of the high refractive index layer is 90.0 nm to 100.0 nm, and the refractive index at a wavelength of 550 nm of the low refractive index layer is 1.33 to 1.74. 38, and the thickness of the low refractive index layer is 85.0 nm to 95.0 nm.

各層の屈折率と厚みを上記範囲内とすることで反射色の変動をより小さくできる。構成(1)は反射色の変動を小さく抑えつつ、反射率を特に低くすることができる構成であり、特に好ましい。また、構成(2)は反射率の変動が構成(1)よりも更に小さく抑えられる構成であり、膜厚変動に対するロバスト性に優れるため、特に好ましい。   By making the refractive index and thickness of each layer within the above ranges, the variation in reflected color can be further reduced. The configuration (1) is a configuration that can particularly reduce the reflectance while suppressing the fluctuation of the reflected color, and is particularly preferable. In addition, the configuration (2) is particularly preferable because the variation in reflectance is further suppressed to be smaller than that in the configuration (1), and the robustness against the variation in film thickness is excellent.

そして、本発明においては、設計波長λ(=550nm:視感度が最も高い波長域の代表)に対して、上記中屈折率層が下式(I)を、上記高屈折率層が下式(II)を、上記低屈折率層が下式(III)をそれぞれ満足することが好ましい。   In the present invention, for the design wavelength λ (= 550 nm: representative of the wavelength region having the highest visibility), the medium refractive index layer is represented by the following formula (I), and the high refractive index layer is represented by the following formula ( II), the low refractive index layer preferably satisfies the following formula (III).

式(I) λ/4×0.68<n<λ/4×0.74
式(II) λ/2×0.66<n<λ/2×0.72
式(III) λ/4×0.84<n<λ/4×0.92
Formula (I) λ / 4 × 0.68 <n 1 d 1 <λ / 4 × 0.74
Formula (II) λ / 2 × 0.66 <n 2 d 2 <λ / 2 × 0.72
Formula (III) λ / 4 × 0.84 <n 3 d 3 <λ / 4 × 0.92

(但し、式中、nは中屈折率層の屈折率であり、dは中屈折率層の層厚(nm)であり、nは高屈折率層の屈折率であり、dは高屈折率層の層厚(nm)であり、nは低屈折率層の屈折率であり、dは低屈折率層の層厚(nm)であり、n<n<nである) (Where n 1 is the refractive index of the medium refractive index layer, d 1 is the layer thickness (nm) of the medium refractive index layer, n 2 is the refractive index of the high refractive index layer, and d 2 Is the layer thickness (nm) of the high refractive index layer, n 3 is the refractive index of the low refractive index layer, d 3 is the layer thickness (nm) of the low refractive index layer, and n 3 <n 1 <n 2 )

上記式(I)、式(II)、式(III)を満足する場合には、反射率が低くなり、かつ反射色の変化を抑制することができるために好ましい。また、これにより、指紋や皮脂等の油脂成分が付着した際に色味の変化が少ないために汚れが視認されにくくなるために好ましい。   When the above formula (I), formula (II), and formula (III) are satisfied, it is preferable because the reflectance becomes low and the change in reflected color can be suppressed. In addition, this is preferable because the change in color is small when an oil or fat component such as fingerprints or sebum adheres, so that dirt is hardly visible.

波長380nmから780nmの領域におけるCIE標準光源D65の5度入射光に対する正反射光の色味が、CIE1976L*a*b*色空間のa*、b*値がそれぞれ0≦a*≦8、かつ、−10≦b*≦0の範囲内にすること、更には上記の色味変動範囲内で、各層のうち任意の層の層厚が2.5%変動したときの色差ΔEを下記式(5)の範囲にすることで、反射色のニュートラル性が良好で、製品ごとに反射色に差がなく、かつ、指紋や皮脂等の油脂成分が表面に付着した際に汚れが目立たなくなるため好ましい。本発明における重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤、及び含フッ素多官能アクリレートを含有した低屈折率層と上記層構成とを組み合わせて用いることで、多層干渉膜構成にしてもマジックや指紋、皮脂等の油脂成分が付着しにくく、付着しても拭き取りやすくかつ目立たなくすることが可能となる。   The CIE standard light source D65 in the wavelength range of 380 nm to 780 nm has a color of specularly reflected light with respect to 5 ° incident light, and the a * and b * values of the CIE 1976 L * a * b * color space are 0 ≦ a * ≦ 8, respectively In the range of −10 ≦ b * ≦ 0, and further within the above-mentioned color fluctuation range, the color difference ΔE when the layer thickness of any layer among the layers fluctuates by 2.5% is expressed by the following formula ( The range 5) is preferable because the neutrality of the reflected color is good, there is no difference in the reflected color for each product, and dirt is not noticeable when oil or fat components such as fingerprints and sebum adhere to the surface. . By using the fluorine-containing antifouling agent having a polymerizable unsaturated group in the present invention and a low refractive index layer containing a fluorine-containing polyfunctional acrylate in combination with the above layer structure, even in a multilayer interference film structure, Oils and fats such as fingerprints and sebum are difficult to adhere, and even if they adhere, they can be easily wiped off and made inconspicuous.

式(5):
ΔE={(L*−L*’)+(a*−a*’)+(b*−b*’)1/2≦3 (L*’、a*’、b*’は設計膜厚時の反射光の色味)
Formula (5):
ΔE = {(L * −L * ′) 2 + (a * −a * ′) 2 + (b * −b * ′) 2 } 1/2 ≦ 3 (L * ′, a * ′, b * ′ Is the color of the reflected light at the design film thickness)

また、画像表示装置の表面に設置した場合、鏡面反射率の平均値を0.5%以下とすることにより、映り込みを著しく低減することができ、好ましい。   Further, when it is installed on the surface of the image display device, it is preferable that the average value of the specular reflectance is 0.5% or less, so that the reflection can be remarkably reduced.

鏡面反射率及び色味の測定は、分光光度計“V−550”(日本分光(株)製)にアダプター“ARV−474”を装着して、380〜780nmの波長領域において、入射角θ(θ=5〜45°、5°間隔)における出射角−θの鏡面反射率を測定し、450〜650nmの平均反射率を算出し、反射防止性を評価することができる。更に、測定された反射スペクトルから、CIE標準光源D65の各入射角の入射光に対する正反射光の色味を表すCIE1976L*a*b*色間のL*値、a*値、b*値を算出し、反射光の色味を評価することができる。   The specular reflectance and color are measured by attaching an adapter “ARV-474” to a spectrophotometer “V-550” (manufactured by JASCO Corporation), and in the wavelength region of 380 to 780 nm, the incident angle θ ( Antireflection properties can be evaluated by measuring the specular reflectivity at an output angle −θ at θ = 5 to 45 ° and 5 ° intervals, and calculating an average reflectivity of 450 to 650 nm. Further, from the measured reflection spectrum, CIE 1976 L * a * b * color L * value, a * value, and b * value representing the color of the regular reflection light with respect to the incident light at each incident angle of the CIE standard light source D65 are obtained. It is possible to calculate and evaluate the color of the reflected light.

各層の屈折率の測定は、各層の塗布液を3〜5μmの厚みになるようにガラス板に塗布し、多波長アッベ屈折計DR−M2(アタゴ(株)製)にて測定することができる。本明細書では、「DR−M2,M4用干渉フィルター546(e)nm 部品番号:RE−3523」のフィルターを使用して測定した屈折率を波長550nmにおける屈折率として採用した。 各層の膜厚は光の干渉を利用した反射分光膜厚計“FE−3000”(大塚電子(株)製)や、TEM(透過型電子顕微鏡)による断面観察により測定することができる。反射分光膜厚計でも膜厚と同時に屈折率の測定も可能であるが、膜厚の測定精度を上げるために、別手段で測定した各層の屈折率を用いることが望ましい。各層の屈折率が測定できない場合は、TEMによる膜厚測定が望ましい。その場合は、10箇所以上測定し、平均した値を用いることが望ましい。   The refractive index of each layer can be measured with a multi-wavelength Abbe refractometer DR-M2 (manufactured by Atago Co., Ltd.) by applying the coating solution of each layer to a glass plate so as to have a thickness of 3 to 5 μm. . In this specification, a refractive index measured using a filter of “DR-M2, M4 interference filter 546 (e) nm, part number: RE-3523” was adopted as a refractive index at a wavelength of 550 nm. The film thickness of each layer can be measured by cross-sectional observation using a reflection spectral film thickness meter “FE-3000” (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) utilizing light interference or a TEM (transmission electron microscope). Although the reflection spectral film thickness meter can also measure the refractive index simultaneously with the film thickness, it is desirable to use the refractive index of each layer measured by another means in order to increase the measurement accuracy of the film thickness. When the refractive index of each layer cannot be measured, the film thickness measurement by TEM is desirable. In that case, it is desirable to measure 10 or more locations and use an average value.

本発明の光学フィルムは、製造時の形態がフィルムをロール状に巻き取った形態をしているのが好ましい。その場合に、反射色の色味のニュートラリティーを得るためには、任意の1000m長の範囲の層厚の平均値d(平均値)、最小値d(最小値)、及び最大値d(最大値)をパラメーターとする下記式(6)で算出される層厚分布の値が、薄膜層の各層につき、5%以下であるのが好ましく、より好ましくは4%以下、更に好ましくは3%以下、より更に好ましくは2.5%以下、2%以下が特に好ましい。   It is preferable that the optical film of the present invention has a form in which the film is wound into a roll shape. In that case, in order to obtain the neutrality of the color of the reflected color, the average value d (average value), minimum value d (minimum value), and maximum value d (maximum value) of the layer thickness in an arbitrary 1000 m long range The value of the layer thickness distribution calculated by the following formula (6) using the value) as a parameter is preferably 5% or less, more preferably 4% or less, and even more preferably 3% or less for each layer of the thin film layer. More preferably, it is particularly preferably 2.5% or less and 2% or less.

式(6):(最大値d−最小値d)×100/平均値d   Formula (6): (maximum value d−minimum value d) × 100 / average value d

次に、本発明の光学フィルムにおける透明基材フィルム及び各層について詳細に説明する。
[透明基材フィルム]
本発明における透明基材フィルム(透明支持体ともいう)としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートなど、特に限定は無い。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム(例えば、セルローストリアセテートフィルム(屈折率1.48)、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム)、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、(メタ)アクリルニトリルフィルムポリオレフィン、脂環式構造を有するポリマー(ノルボルネン系樹脂(アートン:商品名、JSR社製、非晶質ポリオレフィン(ゼオネックス:商品名、日本ゼオン社製))、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
透明支持体の厚さは通常25μm〜1000μm程度のものを用いることができるが、好ましくは25μm〜250μmであり、30μm〜90μmであることがより好ましい。
Next, the transparent base film and each layer in the optical film of the present invention will be described in detail.
[Transparent substrate film]
The transparent substrate film (also referred to as a transparent support) in the present invention is not particularly limited, such as a transparent resin film, a transparent resin plate, and a transparent resin sheet. Transparent resin films include cellulose acylate films (for example, cellulose triacetate film (refractive index 1.48), cellulose diacetate film, cellulose acetate butyrate film, cellulose acetate propionate film), polyethylene terephthalate film, polyethersulfone. Film, polyacrylic resin film, polyurethane resin film, polyester film, polycarbonate film, polysulfone film, polyether film, polymethylpentene film, polyetherketone film, (meth) acrylonitrile film polyolefin, alicyclic structure Polymer (Norbornene resin (Arton: trade name, manufactured by JSR Corporation, amorphous polyolefin (ZEONEX: Name, Nippon Zeon Co., Ltd.)), and the like. Among these, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, is preferably a polymer having an alicyclic structure, particularly triacetyl cellulose.
Although the thickness of a transparent support body can use the thing of about 25 micrometers-1000 micrometers normally, Preferably it is 25 micrometers-250 micrometers, and it is more preferable that it is 30 micrometers-90 micrometers.

透明支持体の幅は任意のものを使うことができるが、ハンドリング、得率、生産性の点から通常は100〜5000mmのものが用いられ、800〜3000mmであることが好ましく、1000〜2000mmであることが更に好ましい。透明支持体はロール形態の長尺で取り扱うことができ、通常100m〜5000m、好ましくは500m〜3000mのものである。
透明支持体の表面は平滑であることが好ましく、平均粗さRaの値が1μm以下であることが好ましく、0.0001〜0.5μmであることが好ましく、0.001〜0.1μmであることが更に好ましい。
透明支持体については、特開2009−98658号公報の段落[0163]〜[0169]に記載されており、本発明においても同様である。
Although the arbitrary width | variety of a transparent support body can be used, the thing of 100-5000 mm is normally used from the point of handling, a yield, and productivity, and it is preferable that it is 800-3000 mm, 1000-2000 mm More preferably it is. The transparent support can be handled in the form of a roll, and is usually 100 m to 5000 m, preferably 500 m to 3000 m.
The surface of the transparent support is preferably smooth, and the average roughness Ra is preferably 1 μm or less, preferably 0.0001 to 0.5 μm, and 0.001 to 0.1 μm. More preferably.
The transparent support is described in paragraphs [0163] to [0169] of JP-A-2009-98658, and the same applies to the present invention.

(ハードコート層)
本発明の光学フィルムには、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を設けることができる。本発明においては、ハードコート層を設けなくてもよいが、ハードコート層を設けた方が鉛筆引掻き試験などの耐擦傷性面が強くなり、好ましい。
好ましくは、ハードコート層上に低屈折率層が設けられ、更に好ましくはハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられ、反射防止フィルムを構成する。
ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
(Hard coat layer)
The optical film of the present invention can be provided with a hard coat layer in order to impart the physical strength of the film. In the present invention, it is not necessary to provide a hard coat layer, but it is preferable to provide a hard coat layer because the scratch resistance surface such as a pencil scratch test becomes strong.
Preferably, a low refractive index layer is provided on the hard coat layer, and more preferably an intermediate refractive index layer and a high refractive index layer are provided between the hard coat layer and the low refractive index layer to constitute an antireflection film.
The hard coat layer may be composed of two or more layers.

本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、屈折率が1.48〜2.00の範囲にあることが好ましく、より好ましくは1.48〜1.60である。本発明では、ハードコート層の上に低屈折率層が少なくとも1層あるので、屈折率がこの範囲より小さ過ぎると反射防止性が低下し、大き過ぎると反射光の色味が強くなる傾向がある。   The refractive index of the hard coat layer in the present invention is preferably in the range of 1.48 to 2.00, more preferably 1.48 to 1, from the optical design for obtaining an antireflection film. .60. In the present invention, since there is at least one low refractive index layer on the hard coat layer, if the refractive index is too small, the antireflection property is lowered, and if it is too large, the color of the reflected light tends to be strong. is there.

ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、通常0.5μm〜50μm程度とし、好ましくは1μm〜20μm、更に好ましくは5μm〜20μmである。
ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることが更に好ましく、3H以上であることが最も好ましい。更に、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
The film thickness of the hard coat layer is usually about 0.5 μm to 50 μm, preferably 1 μm to 20 μm, more preferably 5 μm to 20 μm, from the viewpoint of imparting sufficient durability and impact resistance to the film.
The strength of the hard coat layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher in the pencil hardness test. Furthermore, in the Taber test according to JIS K5400, the smaller the wear amount of the test piece before and after the test, the better.

ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。 電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。 光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。具体的には前記(重合性不飽和基を有する多官能モノマー)で挙げた化合物を好ましく用いることができる。   The hard coat layer is preferably formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound. For example, it may be formed by applying a coating composition containing an ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer on a transparent support and subjecting the polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer to a crosslinking reaction or a polymerization reaction. it can. The functional group of the ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer is preferably a light, electron beam, or radiation polymerizable group, and among them, a photopolymerizable functional group is preferable. Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group is preferable. Specifically, the compounds mentioned above (polyfunctional monomers having a polymerizable unsaturated group) can be preferably used.

ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が1.0〜10.0μm、好ましくは1.5〜7.0μmのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子を含有してもよい。   The hard coat layer contains matte particles having an average particle diameter of 1.0 to 10.0 μm, preferably 1.5 to 7.0 μm, such as inorganic compound particles or resin particles, for the purpose of imparting internal scattering properties. May be.

ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、各種屈折率モノマー又は無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマー及び/又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。屈折率を制御するための無機微粒子としてはシリカ微粒子を用いる事が支持体とハードコート層の干渉による色味ムラを抑制するという観点から好ましい。   Various refractive index monomers, inorganic particles, or both can be added to the binder of the hard coat layer for the purpose of controlling the refractive index of the hard coat layer. In addition to the effect of controlling the refractive index, the inorganic particles also have the effect of suppressing cure shrinkage due to the crosslinking reaction. In the present invention, a polymer formed by polymerizing the polyfunctional monomer and / or the high refractive index monomer after the formation of the hard coat layer, and the inorganic particles dispersed therein are referred to as a binder. As the inorganic fine particles for controlling the refractive index, it is preferable to use silica fine particles from the viewpoint of suppressing color unevenness due to interference between the support and the hard coat layer.

(防眩層)
防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの硬度、耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。
防眩層については特開2009−98658号公報の段落[0178]〜[0189]に記載されており、本発明においても同様である。
(Anti-glare layer)
The antiglare layer is formed for the purpose of contributing to the film an antiglare property due to surface scattering and preferably a hard coat property for improving the hardness and scratch resistance of the film.
The antiglare layer is described in paragraphs [0178] to [0189] of JP-A-2009-98658, and the same applies to the present invention.

[高屈折率層及び中屈折率層]
高屈折率層の屈折率は、前記のように1.70〜1.74であることが好ましく、1.71〜1.73であることがより好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、1.60〜1.64であることが好ましく、1.61〜1.63であることが更に好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層の形成方法は化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。
[High refractive index layer and medium refractive index layer]
As described above, the refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.70 to 1.74, more preferably 1.71 to 1.73. The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be a value between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the medium refractive index layer is preferably 1.60 to 1.64, and more preferably 1.61 to 1.63.
The high refractive index layer and the medium refractive index layer are formed by chemical vapor deposition (CVD) or physical vapor deposition (PVD), particularly by vacuum vapor deposition or sputtering, which is a kind of physical vapor deposition, to form a transparent thin film of inorganic oxide. Although it can be used, an all wet coating method is preferred.

上記中屈折率層は、上記高屈折率層と屈折率を異ならせた以外は同様の材料を用いて同様に調整できるので、以下、特に高屈折率層について説明する。
上記高屈折率層は、無機微粒子、3官能以上の重合性基を有する硬化性化合物(以下、「バインダー」と称する場合もある)、溶媒及び重合開始剤を含有する塗布組成物を塗布し、溶媒を乾燥させた後、加熱、電離放射線照射あるいは両手段の併用により硬化して形成されたものであるのが好ましい。硬化性化合物や開始剤を用いる場合は、塗布後に熱及び/又は電離放射線による重合反応により硬化性化合物を硬化させることで、耐傷性や密着性に優れる中屈折率層や高屈折率層が形成できる。
Since the medium refractive index layer can be similarly adjusted using the same material except that the refractive index is different from that of the high refractive index layer, the high refractive index layer will be particularly described below.
The high refractive index layer is coated with a coating composition containing inorganic fine particles, a curable compound having a tri- or higher functional polymerizable group (hereinafter sometimes referred to as “binder”), a solvent and a polymerization initiator, It is preferable that the solvent is dried and then cured by heating, irradiation with ionizing radiation, or a combination of both means. When a curable compound or initiator is used, a medium refractive index layer or a high refractive index layer excellent in scratch resistance and adhesion is formed by curing the curable compound by a polymerization reaction by heat and / or ionizing radiation after coating. it can.

(無機微粒子)
上記無機微粒子としては、金属の酸化物を含有する無機微粒子が好ましく、Ti、Zr、In、Zn、Sn、Al及びSbから選ばれた少なくとも1種の金属の酸化物を含有する無機微粒子がより好ましい。また、層(A)に導入する導電性高分子化合物によって発現される帯電防止性を補助するために、中屈折率層及び高屈折率層のうち少なくともいずれかが、導電性の無機微粒子を含有してもよい。
無機微粒子としては、屈折率の観点から、酸化ジルコニウムの微粒子が好ましい。また、導電性の観点からは、Sb、In、Snのうちの少なくとも1種類の金属の酸化物を主成分とする無機微粒子を用いることが好ましい。導電性の無機微粒子としては、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、フッ素ドープ酸化錫(FTO)、リンドープ酸化錫(PTO)、アンチモン酸亜鉛(AZO)、インジウムドープ酸化亜鉛(IZO)、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、酸化レニウム、酸化銀、酸化ニッケル及び酸化銅からなる群から少なくとも一つ選択される金属酸化物が更に好ましい。
無機微粒子の量を変化させることで所定の屈折率に調整することができる。層中の無機微粒子の平均粒径は、酸化ジルコニウムを主成分として用いた場合、1〜120nmであることが好ましく、更に好ましくは1〜60nm、2〜40nmが更に好ましい。この範囲内で、ヘイズを抑え、分散安定性、表面の適度の凹凸による上層との密着性が良好となり、好ましい。
(Inorganic fine particles)
As the inorganic fine particles, inorganic fine particles containing metal oxides are preferable, and inorganic fine particles containing at least one metal oxide selected from Ti, Zr, In, Zn, Sn, Al and Sb are more preferable. preferable. Moreover, in order to assist the antistatic property expressed by the conductive polymer compound introduced into the layer (A), at least one of the medium refractive index layer and the high refractive index layer contains conductive inorganic fine particles. May be.
The inorganic fine particles are preferably zirconium oxide fine particles from the viewpoint of refractive index. Further, from the viewpoint of conductivity, it is preferable to use inorganic fine particles mainly composed of an oxide of at least one kind of metal among Sb, In, and Sn. Examples of the conductive inorganic fine particles include tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), fluorine-doped tin oxide (FTO), phosphorus-doped tin oxide (PTO), zinc antimonate (AZO), and indium-doped zinc oxide. More preferred is a metal oxide selected from the group consisting of (IZO), zinc oxide, ruthenium oxide, rhenium oxide, silver oxide, nickel oxide and copper oxide.
The refractive index can be adjusted to a predetermined refractive index by changing the amount of the inorganic fine particles. The average particle size of the inorganic fine particles in the layer is preferably 1 to 120 nm, more preferably 1 to 60 nm, and further preferably 2 to 40 nm when zirconium oxide is used as a main component. Within this range, haze is suppressed, dispersion stability, and adhesion with the upper layer due to moderate irregularities on the surface become favorable, which is preferable.

酸化ジルコニウムを主成分とする無機微粒子は、屈折率が1.90〜2.80であることが好ましく、2.00〜2.40であることが更に好ましく、2.00〜2.20であることが最も好ましい。   The inorganic fine particles mainly composed of zirconium oxide preferably have a refractive index of 1.90 to 2.80, more preferably 2.00 to 2.40, and 2.00 to 2.20. Most preferred.

無機微粒子の添加量は、添加する層により異なり、中屈折率層では中屈折率層全体の固形分に対し、20〜60質量%が好ましく、25〜55質量%がより好ましく、30〜50質量%が更に好ましい。高屈折率層では高屈折率層全体の固形分に対し、40〜90質量%が好ましく、50〜85質量%がより好ましく、60〜80質量%が更に好ましい。   The addition amount of the inorganic fine particles varies depending on the layer to be added. In the medium refractive index layer, the solid refractive index layer is preferably 20 to 60% by mass, more preferably 25 to 55% by mass, and more preferably 30 to 50% by mass with respect to the solid content of the entire medium refractive index layer. % Is more preferable. In a high refractive index layer, 40 to 90 mass% is preferable with respect to solid content of the whole high refractive index layer, 50 to 85 mass% is more preferable, and 60 to 80 mass% is still more preferable.

無機微粒子の粒子径は、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。 無機微粒子の比表面積は、10〜400m/gであることが好ましく、20〜200m/gであることが更に好ましく、30〜150m/gであることが最も好ましい。 The particle diameter of the inorganic fine particles can be measured by a light scattering method or an electron micrograph. The specific surface area of the inorganic fine particles is preferably 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, and most preferably from 30 to 150 m 2 / g.

無機微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用いられる。なかでも、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有するシランカップリング剤による処理が特に有効である。無機微粒子の化学的表面処理剤、溶媒、触媒、及び分散物の安定剤は特開2006−17870号公報の[0058]〜[0083]に記載されている。   Inorganic fine particles are treated with physical surface treatment such as plasma discharge treatment or corona discharge treatment in order to stabilize dispersion in the dispersion or coating solution, or to improve the affinity and binding properties with the binder component. Chemical surface treatment with a surfactant, a coupling agent, or the like may be performed. The use of a coupling agent is particularly preferred. As the coupling agent, an alkoxy metal compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent) is preferably used. Of these, treatment with a silane coupling agent having an acryloyl group or a methacryloyl group is particularly effective. Chemical surface treatment agents for inorganic fine particles, solvents, catalysts, and dispersion stabilizers are described in JP-A-2006-17870, [0058] to [0083].

無機微粒子の分散は、分散機を用いて分散することができる。分散機の例には、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが含まれる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが含まれる。
無機微粒子は、分散媒体中でなるべく微細化されていることが好ましく、質量平均径は10〜120nmである。好ましくは20〜100nmであり、更に好ましくは30〜90nm、特に好ましくは30〜80nmである。 無機微粒子を200nm以下に微細化することで透明性を損なわない高屈折率層及び中屈折率層を形成できる。
The inorganic fine particles can be dispersed using a disperser. Examples of the disperser include a sand grinder mill (eg, a bead mill with pins), a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor, and a colloid mill. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.
The inorganic fine particles are preferably made as fine as possible in the dispersion medium, and the mass average diameter is 10 to 120 nm. Preferably it is 20-100 nm, More preferably, it is 30-90 nm, Most preferably, it is 30-80 nm. By refining the inorganic fine particles to 200 nm or less, a high refractive index layer and a medium refractive index layer that do not impair transparency can be formed.

(硬化性化合物)
硬化性化合物としては、重合性化合物が好ましく、重合性化合物としては電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーが好ましく用いられる。これらの化合物中の官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。 光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
(Curable compound)
As the curable compound, a polymerizable compound is preferable, and as the polymerizable compound, an ionizing radiation curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer is preferably used. The functional group in these compounds is preferably a light, electron beam, or radiation polymerizable group, and among them, a photopolymerizable functional group is preferable. Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group is preferable.

光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、(重合性不飽和基を有する多官能モノマー)で述べた化合物を好適に用いる事ができる。   As specific examples of the photopolymerizable polyfunctional monomer having a photopolymerizable functional group, the compounds described in (Polyfunctional monomer having a polymerizable unsaturated group) can be preferably used.

高屈折率層には、前記の成分(無機微粒子、硬化性化合物、重合開始剤、光増感剤など)以外に、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤(顔料、染料)、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、導電性の金属微粒子、などを添加することもできる。   In the high refractive index layer, in addition to the above components (inorganic fine particles, curable compounds, polymerization initiators, photosensitizers, etc.), surfactants, antistatic agents, coupling agents, thickeners, anti-coloring agents , Colorants (pigments, dyes), antifoaming agents, leveling agents, flame retardants, UV absorbers, infrared absorbers, adhesion promoters, polymerization inhibitors, antioxidants, surface modifiers, conductive metal particles, Etc. can also be added.

本発明に用いる高屈折率層及び中屈折率層は、上記のようにして分散媒体中に無機微粒子を分散した分散液に、更にマトリックス形成に必要なバインダー前駆体である硬化性化合物(例えば、前述の電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど)、光重合開始剤等を加えて高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布組成物とし、透明支持体上に高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布組成物を塗布して、硬化性化合物の架橋反応又は重合反応により硬化させて形成することが好ましい。   The high refractive index layer and medium refractive index layer used in the present invention are a curable compound (for example, a binder precursor necessary for matrix formation) in a dispersion in which inorganic fine particles are dispersed in a dispersion medium as described above. The above-mentioned ionizing radiation-curable polyfunctional monomer and polyfunctional oligomer), a photopolymerization initiator, etc. are added to form a coating composition for forming a high refractive index layer and a middle refractive index layer, and a high refractive index on a transparent support. It is preferable to form by applying a coating composition for forming a layer and a medium refractive index layer and curing it by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of a curable compound.

更に、高屈折率層及び中屈折率層のバインダーを層の塗布と同時又は塗布後に、分散剤と架橋反応又は重合反応させることが好ましい。 このようにして作製した高屈折率層及び中屈折率層のバインダーは、例えば、上記の好ましい分散剤と電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋又は重合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。更に高屈折率層及び中屈折率層のバインダーは、アニオン性基が無機微粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋又は重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、無機微粒子を含有する高屈折率層及び中屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良する。   Furthermore, it is preferable to cause the binder of the high refractive index layer and the medium refractive index layer to undergo a crosslinking reaction or a polymerization reaction with the dispersant simultaneously with or after the coating of the layer. The binder of the high refractive index layer and the medium refractive index layer produced in this way is, for example, the above-mentioned preferred dispersant and ionizing radiation curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer are crosslinked or polymerized to form a binder. The anionic group of the dispersant is incorporated. Furthermore, the binder of the high refractive index layer and the medium refractive index layer has a function in which the anionic group maintains the dispersion state of the inorganic fine particles, and the crosslinked or polymerized structure imparts a film forming ability to the binder and contains the inorganic fine particles. To improve the physical strength, chemical resistance and weather resistance of the high refractive index layer and medium refractive index layer.

高屈折率層の形成において、硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応は、酸素濃度が10体積%以下の雰囲気で実施することが好ましい。 高屈折率層を酸素濃度が10体積%以下の雰囲気で形成することにより、高屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性、更には、高屈折率層と高屈折率層と隣接する層との接着性を改良することができる。 好ましくは酸素濃度が6体積%以下の雰囲気で硬化性樹脂の架橋反応、又は、重合反応により形成することであり、更に好ましくは酸素濃度が4体積%以下、特に好ましくは酸素濃度が2体積%以下、最も好ましくは1体積%以下である。   In the formation of the high refractive index layer, the crosslinking reaction or polymerization reaction of the curable compound is preferably carried out in an atmosphere having an oxygen concentration of 10% by volume or less. By forming the high refractive index layer in an atmosphere having an oxygen concentration of 10% by volume or less, the physical strength, chemical resistance, and weather resistance of the high refractive index layer, and further, the high refractive index layer and the high refractive index layer are adjacent to each other. Adhesion with the layer can be improved. Preferably, it is formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of a curable resin in an atmosphere having an oxygen concentration of 6% by volume or less, more preferably an oxygen concentration of 4% by volume or less, particularly preferably an oxygen concentration of 2% by volume. Hereinafter, it is most preferably 1% by volume or less.

上述したように、中屈折率層は、高屈折率層と同様の材料を用いかつ同様にして得ることができる。
具体的には、中屈折率層、高屈折率層が前記式(I)、式(II)の膜厚と屈折率を満足するように微粒子の種類、樹脂の種類を選択すると共にその配合比率を決め、主な組成を決定することが一例として挙げられる。
As described above, the medium refractive index layer can be obtained in the same manner by using the same material as that of the high refractive index layer.
Specifically, the type of fine particles and the type of resin are selected so that the medium refractive index layer and the high refractive index layer satisfy the film thickness and refractive index of the above formulas (I) and (II) and the blending ratio thereof. An example is to determine the main composition.

上記全ての層を形成するための塗布組成物には、低屈折率層用組成物と同様の溶剤を用いることができる。   For the coating composition for forming all the above layers, the same solvent as the composition for the low refractive index layer can be used.

[低屈折率層]
本発明における低屈折率層は、屈折率が1.30〜1.47であることが好ましい。多層薄膜干渉型の反射防止フィルム(中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層)の場合の低屈折率層の屈折率は1.33〜1.38であることが望ましく、更に望ましくは1.35〜1.37が望ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。
[Low refractive index layer]
The low refractive index layer in the present invention preferably has a refractive index of 1.30 to 1.47. In the case of a multilayer thin film interference type antireflection film (medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer), the refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.33 to 1.38, and more preferably. Is preferably 1.35 to 1.37. Within the above range, the reflectance can be suppressed and the film strength can be maintained, which is preferable. The low refractive index layer can be formed by a chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method, particularly a vacuum vapor deposition method or a sputtering method, which is a kind of physical vapor deposition method. It is preferable to use an all wet coating method using the composition for a low refractive index layer.

低屈折率層のヘイズは、3%以下であることが好ましく、2%以下であることが更に好ましく、1%以下であることが最も好ましい。
低屈折率層まで形成した反射防止フィルムの強度は、500g荷重の鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることが更に好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が95゜以上であることが好ましい。更に好ましくは102゜以上である。特に、接触角が105°以上であると、指紋に対する防汚性能が著しく良化するため、特に好ましい。また、水の接触角が102°以上で、かつ、表面自由エネルギーが25dyne/cm以下であることがより好ましく、23dyne/cm以下であることが特に好ましく、20dyne/cm以下であることが更に好ましい。最も好ましくは、水の接触角が105°以上で、かつ、表面自由エネルギーが20dyne/cm以下である。
The haze of the low refractive index layer is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, and most preferably 1% or less.
The strength of the antireflection film formed up to the low refractive index layer is preferably H or more, more preferably 2H or more, and most preferably 3H or more in a pencil hardness test under a 500 g load.
In order to improve the antifouling performance of the antireflection film, it is preferable that the contact angle of the surface with water is 95 ° or more. More preferably, it is 102 ° or more. In particular, a contact angle of 105 ° or more is particularly preferable because the antifouling performance against fingerprints is remarkably improved. Further, the contact angle of water is 102 ° or more, and the surface free energy is more preferably 25 dyne / cm or less, particularly preferably 23 dyne / cm or less, and further preferably 20 dyne / cm or less. . Most preferably, the contact angle of water is 105 ° or more and the surface free energy is 20 dyne / cm or less.

(低屈折率層の形成)
低屈折率層は、重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤、重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、無機微粒子、その他所望により含有される任意成分を溶解あるいは分散させた塗布組成物を塗布と同時、又は塗布・乾燥後に電離放射線照射(例えば光照射、電子線ビーム照射等が挙げられる。)や加熱することによる架橋反応、又は、重合反応により硬化して、形成することが好ましい。
特に、低屈折率層が電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成される場合、架橋反応、又は、重合反応は酸素濃度が10体積%以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が1体積%以下の雰囲気で形成することにより、物理強度、耐薬品性に優れた最外層を得ることができる。
好ましくは酸素濃度が0.5体積%以下であり、更に好ましくは酸素濃度が0.1体積%以下、特に好ましくは酸素濃度が0.05体積%以下、最も好ましくは0.02体積%以下である。
(Formation of a low refractive index layer)
The low refractive index layer is a coating in which a fluorine-containing antifouling agent having a polymerizable unsaturated group, a fluorine-containing copolymer having a polymerizable unsaturated group, inorganic fine particles, and other optional components contained therein are dissolved or dispersed. Forming the composition by curing with ionizing radiation irradiation (for example, light irradiation, electron beam irradiation, etc.) or heating, or a polymerization reaction at the same time as coating or after coating and drying. Is preferred.
In particular, when the low refractive index layer is formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound, the crosslinking reaction or the polymerization reaction is preferably performed in an atmosphere having an oxygen concentration of 10% by volume or less. . By forming in an atmosphere having an oxygen concentration of 1% by volume or less, an outermost layer excellent in physical strength and chemical resistance can be obtained.
The oxygen concentration is preferably 0.5% by volume or less, more preferably the oxygen concentration is 0.1% by volume or less, particularly preferably the oxygen concentration is 0.05% by volume or less, and most preferably 0.02% by volume or less. is there.

酸素濃度を1体積%以下にする手法としては、大気(窒素濃度約79体積%、酸素濃度約21体積%)を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換(窒素パージ)することである。   As a method for reducing the oxygen concentration to 1% by volume or less, it is preferable to replace the atmosphere (nitrogen concentration of about 79% by volume, oxygen concentration of about 21% by volume) with another gas, particularly preferably replacement with nitrogen (nitrogen purge). It is to be.

本発明において、層(A)がこれまでに述べた層とは別の層である場合には、層(A)は各層の間に位置する層として、又は透明支持体の最も近くに位置する層との間に位置する層として、又は、フィルム表面に近い層の上層として、設けることができる。   In the present invention, when the layer (A) is a layer different from the layers described so far, the layer (A) is located between the layers or closest to the transparent support. It can be provided as a layer located between the layers or as an upper layer of a layer close to the film surface.

本発明において、反射防止フィルムが有するこれまでに述べた層の少なくとも1層を層(A)とすることができる。特に、低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層、又はハードコート層の少なくともいずれかの層に導電性を付与させ層(A)とすることがプロセスを簡略化できることから非常に好ましい。この場合には、層(A)はその層の膜厚と屈折率が先に述べた中屈折率層、高屈折率層の条件を満たすように材料の選択をすることが好ましい。   In the present invention, at least one of the layers described so far in the antireflection film can be used as the layer (A). In particular, it is very preferable to provide a layer (A) by imparting conductivity to at least one of the low refractive index layer, the middle refractive index layer, the high refractive index layer, and the hard coat layer because the process can be simplified. . In this case, the material of the layer (A) is preferably selected so that the thickness and refractive index of the layer satisfy the conditions of the medium refractive index layer and the high refractive index layer described above.

(有機溶媒)
導電性層形成用硬化性組成物に用いられる有機溶媒は、前述のように、導電性無機酸化物粒子を分散させる分散媒として用いられる。有機溶媒の配合量は、導電性無機酸化物粒子100質量部に対し、好ましくは、20〜4,000質量部、更に好ましくは、100〜1,000質量部である。溶媒量が20質量部未満であると、粘度が高いため均一の反応が困難であることがあり、4,000質量部を超えると、塗布性が低下することがある。
(Organic solvent)
As described above, the organic solvent used in the curable composition for forming a conductive layer is used as a dispersion medium for dispersing conductive inorganic oxide particles. The blending amount of the organic solvent is preferably 20 to 4,000 parts by mass, and more preferably 100 to 1,000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the conductive inorganic oxide particles. When the amount of the solvent is less than 20 parts by mass, a uniform reaction may be difficult due to the high viscosity, and when it exceeds 4,000 parts by mass, the coatability may be deteriorated.

このような有機溶媒としては、例えば、常圧での沸点が200℃以下の溶媒を挙げることができる。具体的には、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、炭化水素類、アミド類が用いられ、これらは、1種単独で又は2種以上を組合わせて用いることができる。中でも、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類が好ましい。   Examples of such an organic solvent include a solvent having a boiling point of 200 ° C. or less at normal pressure. Specifically, alcohols, ketones, ethers, esters, hydrocarbons, and amides are used, and these can be used alone or in combination of two or more. Of these, alcohols, ketones, ethers and esters are preferred.

ここで、アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブタノール、n―ブタノール、tert―ブタノール、エトキシエタノール、ブトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等を挙げることができる。ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等を挙げることができる。エーテル類としては、例えば、ジブチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等を挙げることができる。エステル類としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等を挙げることができる。炭化水素類としては、例えば、トルエン、キシレン等を挙げることができる。アミド類としては、例えば、ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N―メチルピロリドン等を挙げることができる。中でも、イソプロピルアルコール、エトキシエタノール、ブトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、酢酸ブチル、乳酸エチル等が好ましい。   Here, examples of alcohols include methanol, ethanol, isopropyl alcohol, isobutanol, n-butanol, tert-butanol, ethoxyethanol, butoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, benzyl alcohol, phenethyl alcohol, and the like. . Examples of ketones include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone. Examples of ethers include dibutyl ether and propylene glycol monoethyl ether acetate. Examples of the esters include ethyl acetate, butyl acetate, and ethyl lactate. Examples of hydrocarbons include toluene and xylene. Examples of amides include formamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like. Of these, isopropyl alcohol, ethoxyethanol, butoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, propylene glycol monoethyl ether acetate, butyl acetate, and ethyl lactate are preferable.

[偏光板用保護フィルム]
光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム(偏光板用保護フィルム)として用いる場合、薄膜層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の2枚の保護フィルムのうち、光学フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム(位相差フィルム)は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開2001−100042号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
[Protective film for polarizing plate]
When an optical film is used as a surface protective film for a polarizing film (protective film for polarizing plate), the surface of the transparent support opposite to the side having the thin film layer, that is, the surface to be bonded to the polarizing film is made hydrophilic. Thus, it is possible to improve adhesion with a polarizing film containing polyvinyl alcohol as a main component.
Of the two protective films of the polarizer, the film other than the optical film is preferably an optical compensation film having an optical compensation layer comprising an optical anisotropic layer. The optical compensation film (retardation film) can improve the viewing angle characteristics of the liquid crystal display screen.
A known film can be used as the optical compensation film, but the optical compensation film described in JP-A-2001-100042 is preferable in terms of widening the viewing angle.

反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フィルム(偏光板用保護フィルム)として用いる場合、透明支持体としては、トリアセチルセルロースフィルムを用いることが特に好ましい。   When the antireflection film is used as a surface protective film for a polarizing film (protective film for polarizing plate), it is particularly preferable to use a triacetyl cellulose film as the transparent support.

本発明における偏光板用保護フィルムを作製する手法としては、(1)予め鹸化処理した透明支持体の一方の面に上記の光学フィルムを構成する各層を塗設する手法、(2)透明支持体の一方の面に反射防止層を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側又は両面を鹸化処理する手法、(3)透明支持体の一方の面に各層の一部を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側又は両面を鹸化処理した後に残りの層を塗設する手法、の3手法があげられるが、(1)は各層を塗設するべき面まで親水化され、透明支持体と反射防止層との密着性の確保が困難となるため、(2)の手法が特に好ましい。   As a method for producing a protective film for polarizing plate in the present invention, (1) a method of coating each layer constituting the optical film on one surface of a transparent support previously saponified, (2) a transparent support A method in which an antireflection layer is coated on one side of the film, and then the saponification treatment is performed on the side or both sides to be bonded to the polarizing film; (3) a part of each layer is coated on one side of the transparent support; There are three methods, the method of applying the remaining layer after the saponification treatment on the side or both sides to be bonded to the membrane, but (1) is hydrophilized to the surface on which each layer is to be applied, and the transparent support and reflection Since it is difficult to ensure adhesion with the prevention layer, the method (2) is particularly preferable.

[偏光板]
次に、本発明の偏光板について説明する。本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する2枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が前記本発明の光学フィルムであることを特徴とする。
[Polarizer]
Next, the polarizing plate of the present invention will be described. The polarizing plate of the present invention is a polarizing plate having a polarizing film and two protective films protecting both surfaces of the polarizing film, wherein at least one of the protective films is the optical film of the present invention. To do.

光学フィルムの透明支持体が、必要に応じてポリビニルアルコールからなる接着剤層等を介して偏光膜に接着しており、偏光膜のもう一方の側にも保護フィルムを有する構成が好ましい。もう一方の保護フィルムの偏光膜と反対側の面には粘着剤層を有していても良い。   A configuration in which the transparent support of the optical film is adhered to the polarizing film through an adhesive layer made of polyvinyl alcohol, if necessary, and a protective film is also provided on the other side of the polarizing film. The surface of the other protective film opposite to the polarizing film may have an adhesive layer.

本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、耐光性に優れた反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。   By using the optical film of the present invention as a protective film for a polarizing plate, a polarizing plate having an antireflection function excellent in physical strength and light resistance can be produced, and the cost can be greatly reduced and the display device can be thinned.

また、本発明の偏光板は、光学補償機能を有することもできる。その場合、2枚の表面保護フィルムの表面及び裏面のいずれかの一面側のみを上記反射防止フィルムを用いて形成されており、該偏光板の光学フィルムを有する側とは他面側の表面保護フィルムが光学補償フィルムであることが好ましい。   Moreover, the polarizing plate of the present invention can also have an optical compensation function. In that case, only one side of either the front surface or the back surface of the two surface protective films is formed using the antireflection film, and the side of the polarizing plate having the optical film is the surface protection on the other surface side. The film is preferably an optical compensation film.

本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、更に、液晶表示装置の明室でのコントラスト、上下左右の視野角を改善することができる。   By producing a polarizing plate using the optical film of the present invention as one of the protective films for polarizing plates and the optical compensation film having optical anisotropy as the other protective film of the polarizing film, It can improve the contrast in the bright room and the viewing angle of up, down, left and right.

本発明の光学フィルムの構成の中でも特に以下の反射防止フィルムの構成(3)、又は(4)とすることにより低反射率で反射色が均一でニュートラルであり、指紋や皮脂が付着した際に拭き取れやすく、かつ目立ちにくい優れた防汚性を示し、耐擦傷性にも優れるため、好ましい。   Among the configurations of the optical film of the present invention, particularly when the following antireflection film configuration (3) or (4) is used, the reflection color is uniform with a low reflectance and neutral, and fingerprints and sebum are attached. It is preferable because it can be easily wiped off, exhibits excellent antifouling properties that are not easily noticeable, and has excellent scratch resistance.

構成(3)透明支持体:トリセルロースアセテートフィルム(屈折率:1.49、膜厚80μm)ハードコート層:重合性不飽和基を有する多官能モノマー、シリカゾル、光重合開始剤(屈折率1.49、膜厚10μm)中屈折率層:重合性不飽和基を有する多官能モノマー、酸化ジルコニウム微粒子、光重合開始剤(屈折率:1.62、膜厚60nm)高屈折率層:重合性不飽和基を有する多官能モノマー、酸化ジルコニウム微粒子、光重合開始剤(屈折率:1.72、膜厚110nm)低屈折率層:重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、中空シリカ微粒子、重合性不飽和基を有する多官能モノマー(フッ素を含有する化合物及びフッ素を含有しない化合物)、重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤、光重合開始剤(屈折率:1.36、膜厚90nm)
構成(4)透明支持体:トリセルロースアセテートフィルム(屈折率:1.49、膜厚80μm)ハードコート層:重合性不飽和基を有する多官能モノマー、シリカゾル、光重合開始剤(屈折率1.49、膜厚10μm)中屈折率層:重合性不飽和基を有する多官能モノマー、リン含有酸化錫微粒子又はアンチモンドープ酸化錫微粒子、光重合開始剤(屈折率:1.635、膜厚60nm、)高屈折率層:重合性不飽和基を有する多官能モノマー、酸化ジルコニウム微粒子、光重合開始剤(屈折率:1.72、膜厚95nm)低屈折率層:重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、中空シリカ微粒子、重合性不飽和基を有する多官能モノマー(フッ素を含有する化合物及びフッ素を含有しない化合物)、重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤、光重合開始剤(屈折率:1.36、膜厚90nm)
Structure (3) Transparent support: Tricellulose acetate film (refractive index: 1.49, film thickness 80 μm) Hard coat layer: polyfunctional monomer having a polymerizable unsaturated group, silica sol, photopolymerization initiator (refractive index 1. 49, film thickness 10 μm) middle refractive index layer: polyfunctional monomer having polymerizable unsaturated group, zirconium oxide fine particles, photopolymerization initiator (refractive index: 1.62, film thickness 60 nm) high refractive index layer: polymerizable non-polymerizable Polyfunctional monomer having a saturated group, zirconium oxide fine particles, photopolymerization initiator (refractive index: 1.72, film thickness 110 nm) low refractive index layer: fluorine-containing copolymer having a polymerizable unsaturated group, hollow silica fine particles, Polyfunctional monomer having a polymerizable unsaturated group (a compound containing fluorine and a compound not containing fluorine), a fluorine-containing antifouling agent having a polymerizable unsaturated group, a photopolymerization initiator (refractive index: 1.3) 6, film thickness 90nm)
Structure (4) Transparent support: Tricellulose acetate film (refractive index: 1.49, film thickness 80 μm) Hard coat layer: polyfunctional monomer having a polymerizable unsaturated group, silica sol, photopolymerization initiator (refractive index 1. 49, film thickness 10 μm) middle refractive index layer: polyfunctional monomer having polymerizable unsaturated group, phosphorus-containing tin oxide fine particles or antimony-doped tin oxide fine particles, photopolymerization initiator (refractive index: 1.635, film thickness 60 nm, ) High refractive index layer: polyfunctional monomer having a polymerizable unsaturated group, zirconium oxide fine particles, photopolymerization initiator (refractive index: 1.72, film thickness 95 nm) Low refractive index layer: containing a polymerizable unsaturated group Fluorine copolymer, hollow silica fine particles, polyfunctional monomer having polymerizable unsaturated group (fluorine-containing compound and fluorine-free compound), fluorine-containing antifouling having polymerizable unsaturated group Agent, photopolymerization initiator (refractive index: 1.36, film thickness 90 nm)

また、本発明の画像表示装置は、前記本発明の反射防止フィルム又は偏光板をディスプレイの最表面に有することを特徴とする。   The image display device of the present invention is characterized by having the antireflection film or polarizing plate of the present invention on the outermost surface of the display.

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによっていささかも限定して解釈されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the scope of the present invention should not be construed as being limited thereto.

〔ハードコート層用塗布液の調製〕
(塗布液HC−1の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液(HC−1)とした。HC−1に含まれる全固形分に対して、導電性ポリマー(CP−1)の含率は0.1質量%であった。導電性ポリマー及びフルオロ脂肪族基含有ポリマーの質量平均分子量(Mw)は、GPC分析を行い、ポリスチレン換算して求めた。
[Preparation of coating solution for hard coat layer]
(Preparation of coating solution HC-1)
The following composition was put into a mixing tank, stirred, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to obtain a hard coat layer coating solution (HC-1). The content of the conductive polymer (CP-1) was 0.1% by mass with respect to the total solid content contained in HC-1. The weight average molecular weight (Mw) of the conductive polymer and the fluoroaliphatic group-containing polymer was determined by polystyrene conversion by GPC analysis.

<ハードコート層塗布液(HC−1)の組成>
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製) 759質量部
シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製、固形分濃度30質量%)
600質量部
光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 50質量部
導電性ポリマー(CP−1、Mw=23,000) 1質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−1、Mw=15,000)10質量部
メチルエチルケトン 480質量部
シクロヘキサノン 100質量部
<Composition of hard coat layer coating solution (HC-1)>
Partially caprolactone-modified polyfunctional acrylate (DPCA-20, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 759 parts by mass silica sol (MIBK-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., solid content concentration 30% by mass)
600 parts by mass photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 50 parts by mass conductive polymer (CP-1, Mw = 23,000) 1 part by mass fluoroaliphatic group-containing polymer (FP- 1, Mw = 15,000) 10 parts by mass Methyl ethyl ketone 480 parts by mass Cyclohexanone 100 parts by mass

Figure 2011180523
Figure 2011180523

(塗布液HC−2の調製)
上記ハードコート層塗布液(HC−1)において、固形分中のカチオン系導電性ポリマー(CP−1)の含率を0.5質量%とする以外はHC−1の調製と同様にして、ハードコート層塗布液(HC−2)を調製した。
(塗布液HC−3の調製)
上記ハードコート層塗布液(HC−1)において、固形分中のカチオン系導電性ポリマー(CP−1)の含率を3.0質量%とする以外はHC−1の調製と同様にして、ハードコート層塗布液(HC−3)を調製した。
(Preparation of coating solution HC-2)
In the hard coat layer coating solution (HC-1), except that the content of the cationic conductive polymer (CP-1) in the solid content is 0.5% by mass, the same as the preparation of HC-1, A hard coat layer coating solution (HC-2) was prepared.
(Preparation of coating solution HC-3)
In the hard coat layer coating solution (HC-1), except that the content of the cationic conductive polymer (CP-1) in the solid content is 3.0% by mass, as in the preparation of HC-1, A hard coat layer coating solution (HC-3) was prepared.

(塗布液HC−4の調製)
ポリ(4−スチレンスルホン酸ナトリウム)水溶液に、塩酸を添加してナトリウム塩を遊離酸にし、透析により過剰な塩酸及び塩化ナトリウムを除去した。その後減圧乾燥によりポリスチレンスルホン酸を得た。これを導電性ポリマー(CP−2)とした。
(Preparation of coating solution HC-4)
Hydrochloric acid was added to a poly (sodium 4-styrenesulfonate) solution to make the sodium salt a free acid, and excess hydrochloric acid and sodium chloride were removed by dialysis. Thereafter, polystyrenesulfonic acid was obtained by drying under reduced pressure. This was designated as a conductive polymer (CP-2).

下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液(HC−4)とした。HC−4に含まれる全固形分に対して、(CP−2)の含率は0.8質量%であった。
<ハードコート層塗布液(HC−4)の組成>
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製) 752質量部
シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製) 600質量部
光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 50質量部
導電性ポリマー(CP−2、Mw=39,000) 8質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−2、Mw=25,000)10質量部
メチルエチルケトン 480質量部
シクロヘキサノン 100質量部
The following composition was put into a mixing tank, stirred, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to obtain a hard coat layer coating solution (HC-4). The content of (CP-2) was 0.8% by mass with respect to the total solid content contained in HC-4.
<Composition of hard coat layer coating solution (HC-4)>
Partially caprolactone-modified polyfunctional acrylate (DPCA-20, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 752 parts by mass silica sol (MIBK-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) 600 parts by mass photopolymerization initiator (Irgacure 184, Ciba 50 parts by mass conductive polymer (CP-2, Mw = 39,000) 8 parts by mass fluoroaliphatic group-containing polymer (FP-2, Mw = 25,000) 10 parts by mass methyl ethyl ketone 480 100 parts by mass of cyclohexanone

Figure 2011180523
Figure 2011180523

(塗布液HC−5の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液(HC−5)とした。HC−5に含まれる全固形分に対して、導電性ポリマー(CP−3)の含率は0.6質量%であった。
<ハードコート層塗布液(HC−5)の組成>
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製) 754質量部
シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製) 600質量部
光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 50質量部
導電性ポリマー(CP−3、Mw=41,000) 6質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−3、Mw=19,000)10質量部
メチルエチルケトン 480質量部
シクロヘキサノン 100質量部
(Preparation of coating solution HC-5)
The following composition was put into a mixing tank, stirred, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to obtain a hard coat layer coating solution (HC-5). The content of the conductive polymer (CP-3) was 0.6% by mass with respect to the total solid content contained in HC-5.
<Composition of hard coat layer coating solution (HC-5)>
Partially caprolactone-modified polyfunctional acrylate (DPCA-20, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 754 parts by mass silica sol (MIBK-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) 600 parts by mass photopolymerization initiator (Irgacure 184, Ciba 50 parts by mass conductive polymer (CP-3, Mw = 41,000) 6 parts by mass fluoroaliphatic group-containing polymer (FP-3, Mw = 19,000) 10 parts by mass methyl ethyl ketone 480 100 parts by mass of cyclohexanone

Figure 2011180523
Figure 2011180523

(塗布液HC−6の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液(HC−6)とした。HC−6に含まれる全固形分に対して、導電性ポリマー(CP−4)の含率は0.6質量%であった。
<ハードコート層塗布液(HC−6)の組成>
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製) 754質量部
シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製) 600質量部
光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 50質量部
導電性ポリマー(CP−4、Mw=31,000) 6質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−4、Mw=13,000)10質量部
メチルエチルケトン 480質量部
シクロヘキサノン 100質量部
(Preparation of coating solution HC-6)
The following composition was put into a mixing tank, stirred, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to obtain a hard coat layer coating solution (HC-6). The content of the conductive polymer (CP-4) was 0.6% by mass with respect to the total solid content contained in HC-6.
<Composition of hard coat layer coating solution (HC-6)>
Partially caprolactone-modified polyfunctional acrylate (DPCA-20, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 754 parts by mass silica sol (MIBK-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) 600 parts by mass photopolymerization initiator (Irgacure 184, Ciba 50 parts by mass conductive polymer (CP-4, Mw = 31,000) 6 parts by mass fluoroaliphatic group-containing polymer (FP-4, Mw = 13,000) 10 parts by mass methyl ethyl ketone 480 100 parts by mass of cyclohexanone

Figure 2011180523
Figure 2011180523

(塗布液HC−7の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液(HC−7)とした。HC−7に含まれる全固形分に対して、導電性ポリマー(CP−1)の含率は0.5質量%であった。
<ハードコート層塗布液(HC−7)の組成>
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製) 754質量部
シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製) 600質量部
光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 50質量部
導電性ポリマー(CP−1) 5質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−5、Mw=29,000)10質量部
メチルエチルケトン 480質量部
シクロヘキサノン 100質量部
(Preparation of coating solution HC-7)
The following composition was put into a mixing tank, stirred, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to obtain a hard coat layer coating solution (HC-7). The content of the conductive polymer (CP-1) was 0.5% by mass with respect to the total solid content contained in HC-7.
<Composition of hard coat layer coating solution (HC-7)>
Partially caprolactone-modified polyfunctional acrylate (DPCA-20, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 754 parts by mass silica sol (MIBK-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) 600 parts by mass photopolymerization initiator (Irgacure 184, Ciba 50 parts by weight conductive polymer (CP-1) 5 parts by weight fluoroaliphatic group-containing polymer (FP-5, Mw = 29,000) 10 parts by weight methyl ethyl ketone 480 parts by weight cyclohexanone 100 parts by weight

Figure 2011180523
Figure 2011180523

(塗布液HC−8の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液(HC−8)とした。
<ハードコート層塗布液(HC−8)の組成>
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製) 760質量部
シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製) 600質量部
光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 50質量部
メチルエチルケトン 480質量部
シクロヘキサノン 100質量部
(Preparation of coating solution HC-8)
The following composition was put into a mixing tank, stirred, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to obtain a hard coat layer coating solution (HC-8).
<Composition of hard coat layer coating solution (HC-8)>
Partially caprolactone-modified polyfunctional acrylate (DPCA-20, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 760 parts by mass of silica sol (MIBK-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) 600 parts by mass of photopolymerization initiator (Irgacure 184, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 50 parts by mass Methyl ethyl ketone 480 parts by mass Cyclohexanone 100 parts by mass

(塗布液HC−9の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液(HC−9)とした。
<ハードコート層塗布液(HC−9)の組成>
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製) 755質量部
シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製) 600質量部
光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 50質量部
導電性ポリマー(CP−1) 5質量部
メチルエチルケトン 480質量部
シクロヘキサノン 100質量部
(Preparation of coating solution HC-9)
The following composition was put into a mixing tank, stirred, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to obtain a hard coat layer coating solution (HC-9).
<Composition of hard coat layer coating solution (HC-9)>
Partially caprolactone-modified polyfunctional acrylate (DPCA-20, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 755 parts by mass silica sol (MIBK-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) 600 parts by mass photopolymerization initiator (Irgacure 184, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 50 parts by weight conductive polymer (CP-1) 5 parts by weight methyl ethyl ketone 480 parts by weight cyclohexanone 100 parts by weight

(塗布液HC−10の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液(HC−10)とした。
<ハードコート層塗布液(HC−10)の組成>
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製) 752質量部
シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製) 600質量部
光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 50質量部
導電性ポリマー(CP−2) 8質量部
メチルエチルケトン 480質量部
シクロヘキサノン 100質量部
(Preparation of coating solution HC-10)
The following composition was put into a mixing tank, stirred, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to obtain a hard coat layer coating solution (HC-10).
<Composition of hard coat layer coating solution (HC-10)>
Partially caprolactone-modified polyfunctional acrylate (DPCA-20, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 752 parts by mass silica sol (MIBK-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) 600 parts by mass photopolymerization initiator (Irgacure 184, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 50 parts by weight conductive polymer (CP-2) 8 parts by weight methyl ethyl ketone 480 parts by weight cyclohexanone 100 parts by weight

(塗布液HC−11の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液(HC−11)とした。
<ハードコート層塗布液(HC−11)の組成>
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製) 610質量部
シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製) 600質量部
光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 50質量部
導電性ポリマー(CP−1) 150質量部
メチルエチルケトン 480質量部
シクロヘキサノン 100質量部
(Preparation of coating solution HC-11)
The following composition was put into a mixing tank, stirred, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to obtain a hard coat layer coating solution (HC-11).
<Composition of hard coat layer coating solution (HC-11)>
Partially caprolactone-modified polyfunctional acrylate (DPCA-20, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 610 parts by mass silica sol (MIBK-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) 600 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 184, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 50 parts by weight conductive polymer (CP-1) 150 parts by weight methyl ethyl ketone 480 parts by weight cyclohexanone 100 parts by weight

(塗布液HC−12の調製)
上記ハードコート層塗布液(HC−5)において、フルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−3)の代わりに、下記の親水性基を有さないフルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−6、Mw=20,000)を用いる以外はHC−5の調製と同様にして、ハードコート層塗布液(HC−12)を調製した。
(Preparation of coating solution HC-12)
In the hard coat layer coating solution (HC-5), instead of the fluoroaliphatic group-containing polymer (FP-3), the following fluoroaliphatic group-containing polymer (FP-6, Mw = The hard coat layer coating solution (HC-12) was prepared in the same manner as in the preparation of HC-5 except that 20,000) was used.

Figure 2011180523
Figure 2011180523

〔中屈折率層用塗布液の調製〕
(塗布液Mn−1の調製)
ZrO微粒子含有ハードコート剤(デソライトZ7404[屈折率1.72、固形分濃度:60質量%、酸化ジルコニウム微粒子含量:70質量%(対固形分)、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径:約20nm、溶剤組成:メチルイソブチルケトン/メチルエチルケトン=9/1、JSR(株)製])5.1質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)1.5質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.05質量部、メチルエチルケトン66.6質量部、メチルイソブチルケトン7.7質量部及びシクロヘキサノン19.1質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液(Mn−1)を調製した。
[Preparation of coating solution for medium refractive index layer]
(Preparation of coating liquid Mn-1)
Hard coating agent containing ZrO 2 fine particles (Desolite Z7404 [refractive index 1.72, solid content concentration: 60% by mass, zirconium oxide fine particle content: 70% by mass (based on solid content), average particle size of zirconium oxide fine particles: about 20 nm, Solvent composition: methyl isobutyl ketone / methyl ethyl ketone = 9/1, manufactured by JSR Corporation]) 5.1 parts by mass, mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 1.5 parts by mass, light A polymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.05 parts by mass, methyl ethyl ketone 66.6 parts by mass, methyl isobutyl ketone 7.7 parts by mass and cyclohexanone 19.1 parts by mass were added and stirred. did. After sufficiently stirring, the solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a medium refractive index layer coating solution (Mn-1).

(塗布液Mn−2の調製)
ZrO微粒子含有ハードコート剤(上記デソライトZ7404)5.1質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)1.28質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.05質量部、上記導電性ポリマー(CP−1)0.12質量部、上記フルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−1)0.1質量部、メチルエチルケトン66.6質量部、メチルイソブチルケトン7.7質量部及びシクロヘキサノン19.1質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液(Mn−2)を調製した。
(Preparation of coating solution Mn-2)
A hard coating agent containing ZrO 2 particles (desolite Z7404) 5.1 parts by mass, 1.28 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), a photopolymerization initiator (Irgacure 907, Ciba -Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.05 parts by mass, 0.12 parts by mass of the conductive polymer (CP-1), 0.1 parts by mass of the fluoroaliphatic group-containing polymer (FP-1), methyl ethyl ketone 66 .6 parts by mass, 7.7 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 19.1 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred. After sufficiently stirring, the solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a medium refractive index layer coating solution (Mn-2).

〔高屈折率層用塗布液の調製〕
(塗布液Hn−1の調製)
ZrO微粒子含有ハードコート剤(上記デソライトZ7404)15.5質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)0.5質量部、メチルエチルケトン61.9質量部、メチルイソブチルケトン3.4質量部、シクロヘキサノン1.1質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液(Hn−1)を調製した。
[Preparation of coating solution for high refractive index layer]
(Preparation of coating solution Hn-1)
15.5 parts by mass of the ZrO 2 fine particle-containing hard coating agent (desolite Z7404) 0.5 parts by mass of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), 61.9 parts by mass of methyl ethyl ketone, methyl isobutyl 3.4 parts by mass of ketone and 1.1 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred. The mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm to prepare a coating solution for high refractive index layer (Hn-1).

(塗布液Hn−2の調製)
ZrO微粒子含有ハードコート剤(上記デソライトZ7404)15.5質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)0.1質量部、上記導電性ポリマー(CP−1)0.2質量部、上記フルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−1)0.2質量部、メチルエチルケトン61.9質量部、メチルイソブチルケトン3.4質量部、シクロヘキサノン1.1質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液(Hn−2)を調製した。
(Preparation of coating solution Hn-2)
15.5 parts by mass of a ZrO 2 fine particle-containing hard coating agent (desolite Z7404), 0.1 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), the conductive polymer (CP-1) 0.2 parts by mass, 0.2 part by mass of the above-described fluoroaliphatic group-containing polymer (FP-1), 61.9 parts by mass of methyl ethyl ketone, 3.4 parts by mass of methyl isobutyl ketone, 1.1 parts by mass of cyclohexanone were added. Stir. The mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm to prepare a coating solution for high refractive index layer (Hn-2).

(塗布液Hn−3の調製)
ZrO微粒子含有ハードコート剤(上記デソライトZ7404)15.5質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)0.4質量部、上記導電性ポリマー(CP−1)0.2質量部、メチルエチルケトン61.9質量部、メチルイソブチルケトン3.4質量部、シクロヘキサノン1.1質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液(Hn−3)を調製した。
(Preparation of coating solution Hn-3)
ZrO 2 fine particle-containing hard coating agent (desolite Z7404) 15.5 parts by mass, dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate mixture (DPHA) 0.4 part by mass, conductive polymer (CP-1) 0.2 parts by mass, 61.9 parts by mass of methyl ethyl ketone, 3.4 parts by mass of methyl isobutyl ketone, and 1.1 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred. The mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm to prepare a coating solution for high refractive index layer (Hn-3).

(塗布液Hn−4の調製)
ZrO微粒子含有ハードコート剤(上記デソライトZ7404)14.2質量部に、上記導電性ポリマー(CP−1)1.3質量部、メチルエチルケトン61.9質量部、メチルイソブチルケトン3.4質量部、シクロヘキサノン1.1質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液(Hn−4)を調製した。
(Preparation of coating solution Hn-4)
To 14.2 parts by mass of the hard coating agent containing ZrO 2 fine particles (desolite Z7404) 1.3 parts by mass of the conductive polymer (CP-1), 61.9 parts by mass of methyl ethyl ketone, 3.4 parts by mass of methyl isobutyl ketone, 1.1 parts by mass of cyclohexanone was added and stirred. The mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm to prepare a coating solution for high refractive index layer (Hn-4).

〔低屈折率層用塗布液の調製〕
(パーフルオロオレフィン共重合体(1)の合成)
[Preparation of coating solution for low refractive index layer]
(Synthesis of perfluoroolefin copolymer (1))

Figure 2011180523
Figure 2011180523

上記構造式中、50:50はモル比を表す。   In the above structural formula, 50:50 represents a molar ratio.

内容量100mlのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル40ml、ヒドロキシエチルビニルエーテル14.7g及び過酸化ジラウロイル0.55gを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。更にヘキサフルオロプロピレン(HFP)25gをオートクレーブ中に導入して65℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が65℃に達した時点の圧力は、0.53MPa(5.4kg/cm)であった。該温度を保持し8時間反応を続け、圧力が0.31MPa(3.2kg/cm)に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。更にこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから2回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー28gを得た。次に該ポリマーの20gをN,N−ジメチルアセトアミド100mlに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド11.4gを滴下した後、室温で10時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体(1)を19g得た。得られたポリマーの屈折率は1.422であり、GPC分析から求めた質量平均分子量は約50000であった。 Into an autoclave with a stirrer made of stainless steel having an internal volume of 100 ml, 40 ml of ethyl acetate, 14.7 g of hydroxyethyl vinyl ether and 0.55 g of dilauroyl peroxide were charged, and the inside of the system was deaerated and replaced with nitrogen gas. Further, 25 g of hexafluoropropylene (HFP) was introduced into the autoclave and the temperature was raised to 65 ° C. The pressure when the temperature in the autoclave reached 65 ° C. was 0.53 MPa (5.4 kg / cm 2 ). The reaction was continued for 8 hours while maintaining the temperature, and when the pressure reached 0.31 MPa (3.2 kg / cm 2 ), the heating was stopped and the mixture was allowed to cool. When the internal temperature dropped to room temperature, unreacted monomers were driven out, the autoclave was opened, and the reaction solution was taken out. The obtained reaction solution was poured into a large excess of hexane, and the polymer was precipitated by removing the solvent by decantation. Further, this polymer was dissolved in a small amount of ethyl acetate and reprecipitated twice from hexane to completely remove the residual monomer. After drying, 28 g of polymer was obtained. Next, 20 g of the polymer was dissolved in 100 ml of N, N-dimethylacetamide, and 11.4 g of acrylic acid chloride was added dropwise under ice cooling, followed by stirring at room temperature for 10 hours. Ethyl acetate was added to the reaction solution, washed with water, the organic layer was extracted and concentrated, and the resulting polymer was reprecipitated with hexane to obtain 19 g of perfluoroolefin copolymer (1). The refractive index of the obtained polymer was 1.422, and the mass average molecular weight determined from GPC analysis was about 50,000.

(中空シリカ粒子分散液の調製)
中空シリカ粒子微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業(株)製CS60−IPA、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20質量%、シリカ粒子の屈折率1.31)500質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン30質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.51質量部を加え混合した後に、イオン交換水9質量部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8質量部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力30Torrで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度18.2質量%の分散液Sを得た。得られた分散液のIPA残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ0.5%以下であった。
(Preparation of hollow silica particle dispersion)
Hollow silica particle fine particle sol (isopropyl alcohol silica sol, CS60-IPA manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd., average particle diameter 60 nm, shell thickness 10 nm, silica concentration 20% by mass, silica particle refractive index 1.31) in 500 parts by mass, After adding 30 parts by mass of acryloyloxypropyltrimethoxysilane and 1.51 parts by mass of diisopropoxyaluminum ethyl acetate, 9 parts by mass of ion-exchanged water was added. After making it react at 60 degreeC for 8 hours, it cooled to room temperature and added 1.8 mass parts of acetylacetone, and obtained the dispersion liquid. Then, while adding cyclohexanone so that the silica content was almost constant, solvent substitution was performed by distillation under reduced pressure at a pressure of 30 Torr, and finally a dispersion S having a solid content concentration of 18.2% by mass was obtained by adjusting the concentration. . When the amount of IPA remaining in the obtained dispersion was analyzed by gas chromatography, it was 0.5% or less.

(塗布液Ln−1の調製)
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分5質量%の低屈折率層塗布液(Ln−1)を作製した。
<低屈折率層塗布液(Ln−1)の組成>
パーフルオロオレフィン共重合体(1) 15質量部
DPHA(ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬(株)製) 7質量部
ディフェンサMCF−323(フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業(株)製) 5質量部
含フッ素重合性化合物M−1 20質量部
中空シリカ粒子分散液S(固形分濃度18.2質量%) 50質量部
イルガキュア127(光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 3質量部
(Preparation of coating liquid Ln-1)
Each component was mixed as described below and dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a low refractive index layer coating solution (Ln-1) having a solid content of 5% by mass.
<Composition of low refractive index layer coating liquid (Ln-1)>
Perfluoroolefin copolymer (1) 15 parts by mass DPHA (mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 7 parts by mass Defensa MCF-323 (fluorine surfactant, Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 5 parts by mass fluorinated polymerizable compound M-1 20 parts by mass hollow silica particle dispersion S (solid content concentration 18.2% by mass) 50 parts by mass Irgacure 127 (photopolymerization initiator) , Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 3 parts by mass

Figure 2011180523
Figure 2011180523

(塗布液Ln−2の調製)
各成分を下記のように混合し、MEKに溶解して固形分5質量%の低屈折率層塗布液(Ln−2)を作製した。
<低屈折率層塗布液(Ln−2)の組成>
パーフルオロオレフィン共重合体(1) 15質量部
DPHA(ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬(株)製) 4.3質量部
ディフェンサMCF−323(フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業(株)製) 5質量部
含フッ素重合性化合物M−1 20質量部
中空シリカ粒子分散液S(固形分濃度18.2質量%) 50質量部
イルガキュア127(光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 3質量部
導電性ポリマー(CP−1) 1.2質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−1) 1.5質量部
(Preparation of coating liquid Ln-2)
Each component was mixed as follows and dissolved in MEK to prepare a low refractive index layer coating solution (Ln-2) having a solid content of 5% by mass.
<Composition of low refractive index layer coating liquid (Ln-2)>
Perfluoroolefin copolymer (1) 15 parts by mass DPHA (mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 4.3 parts by mass Defensa MCF-323 (fluorine surface activity) Agent, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 5 parts by mass of fluorine-containing polymerizable compound M-1 20 parts by mass of hollow silica particle dispersion S (solid content concentration 18.2% by mass) 50 parts by mass of Irgacure 127 (photopolymerization) Initiator, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 3 parts by mass conductive polymer (CP-1) 1.2 parts by mass fluoroaliphatic group-containing polymer (FP-1) 1.5 parts by mass

(塗布液Ln−3の調製)
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分5質量%の低屈折率層塗布液(Ln−3)を作製した。
<低屈折率層塗布液(Ln−3)の組成>
パーフルオロオレフィン共重合体(1) 15質量部
DPHA(ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬(株)製) 4.5質量部
ディフェンサMCF−323(フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業(株)製) 5質量部
含フッ素重合性化合物M−1 20質量部
中空シリカ粒子分散液S(固形分濃度18.2質量%) 50質量部
イルガキュア127(光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 3質量部
導電性ポリマー(CP−2) 1.5質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−2) 2.0質量部
(Preparation of coating liquid Ln-3)
Each component was mixed as described below and dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a low refractive index layer coating solution (Ln-3) having a solid content of 5% by mass.
<Composition of low refractive index layer coating liquid (Ln-3)>
Perfluoroolefin copolymer (1) 15 parts by mass DPHA (mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 4.5 parts by mass Defensa MCF-323 (fluorine-based surfactant) Agent, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 5 parts by mass of fluorine-containing polymerizable compound M-1 20 parts by mass of hollow silica particle dispersion S (solid content concentration 18.2% by mass) 50 parts by mass of Irgacure 127 (photopolymerization) Initiator, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 3 parts by weight conductive polymer (CP-2) 1.5 parts by weight fluoroaliphatic group-containing polymer (FP-2) 2.0 parts by weight

(塗布液Ln−4の調製)
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分5質量%の低屈折率層塗布液(Ln−4)を作製した。
<低屈折率層塗布液(Ln−4)の組成>
パーフルオロオレフィン共重合体(1) 15質量部
DPHA(ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬(株)製) 5.8質量部
ディフェンサMCF−323(フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業(株)製) 5質量部
含フッ素重合性化合物M−1 20質量部
中空シリカ粒子分散液S(固形分濃度18.2質量%) 50質量部
イルガキュア127(光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 3質量部
導電性ポリマー(CP−1) 1.2質量部
(Preparation of coating liquid Ln-4)
Each component was mixed as described below and dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a low refractive index layer coating solution (Ln-4) having a solid content of 5% by mass.
<Composition of low refractive index layer coating liquid (Ln-4)>
Perfluoroolefin copolymer (1) 15 parts by mass DPHA (mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 5.8 parts by mass of defensa MCF-323 (fluorine-based surfactant) Agent, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 5 parts by mass of fluorine-containing polymerizable compound M-1 20 parts by mass of hollow silica particle dispersion S (solid content concentration 18.2% by mass) 50 parts by mass of Irgacure 127 (photopolymerization) Initiator, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 3 parts by weight conductive polymer (CP-1) 1.2 parts by weight

(塗布液Ln−5の調製)
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分5質量%の低屈折率層塗布液(Ln−5)を作製した。
<低屈折率層塗布液(Ln−5)の組成>
パーフルオロオレフィン共重合体(1) 15質量部
DPHA(ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬(株)製) 5.5質量部
ディフェンサMCF−323(フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業(株)製) 5質量部
含フッ素重合性化合物M−1 20質量部
中空シリカ粒子分散液S(固形分濃度18.2質量%) 50質量部
イルガキュア127(光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 3質量部
導電性ポリマー(CP−2) 1.5質量部
(Preparation of coating liquid Ln-5)
Each component was mixed as described below, and dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a low refractive index layer coating solution (Ln-5) having a solid content of 5% by mass.
<Composition of low refractive index layer coating liquid (Ln-5)>
Perfluoroolefin copolymer (1) 15 parts by mass DPHA (mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 5.5 parts by mass Defensa MCF-323 (fluorine surface activity) Agent, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 5 parts by mass of fluorine-containing polymerizable compound M-1 20 parts by mass of hollow silica particle dispersion S (solid content concentration 18.2% by mass) 50 parts by mass of Irgacure 127 (photopolymerization) Initiator, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 3 parts by weight conductive polymer (CP-2) 1.5 parts by weight

(塗布液Ln−6の調製)
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分5質量%の低屈折率層塗布液(Ln−6)を作製した。
<低屈折率層塗布液(Ln−6)の組成>
パーフルオロオレフィン共重合体(1) 15質量部
DPHA(ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬(株)製) 1質量部
ディフェンサMCF−323(フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業(株)製) 5質量部
含フッ素重合性化合物M−1 20質量部
中空シリカ粒子分散液S(固形分濃度18.2質量%) 50質量部
イルガキュア127(光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 3質量部
導電性ポリマー(CP−1) 6質量部
(Preparation of coating liquid Ln-6)
Each component was mixed as described below and dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a low refractive index layer coating solution (Ln-6) having a solid content of 5% by mass.
<Composition of low refractive index layer coating liquid (Ln-6)>
Perfluoroolefin copolymer (1) 15 parts by mass DPHA (mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1 part by mass defensa MCF-323 (fluorine surfactant, Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 5 parts by mass fluorinated polymerizable compound M-1 20 parts by mass hollow silica particle dispersion S (solid content concentration 18.2% by mass) 50 parts by mass Irgacure 127 (photopolymerization initiator) , Manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 3 parts by mass of conductive polymer (CP-1) 6 parts by mass

〔反射防止フィルムの作製〕
上記のように調製した塗布液を用いて、下記のように各層を形成した。表1に示す通りに各層を積層して、実施例1〜15、比較例1〜11のハードコートフィルム及び反射防止フィルムを作製した。
[Preparation of antireflection film]
Each layer was formed as follows using the coating liquid prepared as described above. As shown in Table 1, the layers were laminated to prepare hard coat films and antireflection films of Examples 1 to 15 and Comparative Examples 1 to 11.

(ハードコート層の形成)
層厚80μmの透明支持体としてのトリアセチルセルロースフィルム(TD80UF、富士フイルム(株)製、屈折率1.48)上に、前記ハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。100℃で乾燥した後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm、照射量150mJ/cmの紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ12μmのハードコート層を形成した。
(Formation of hard coat layer)
The hard coat layer coating solution was applied onto a triacetyl cellulose film (TD80UF, manufactured by Fuji Film Co., Ltd., refractive index 1.48) as a transparent support having a layer thickness of 80 μm using a gravure coater. After drying at 100 ° C., using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm while purging with nitrogen so that the oxygen concentration becomes 1.0 vol% or less, the illuminance is 400 mW / The coating layer was cured by irradiating with an ultraviolet ray of cm 2 and an irradiation amount of 150 mJ / cm 2 to form a hard coat layer having a thickness of 12 μm.

(中屈折率層の形成)
上記作製したハードコート層の上に、前記中屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。90℃で30秒間乾燥し、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、180W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度300mW/cm、照射量240mJ/cmの紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ60nmの中屈折率層を形成した。
(Formation of medium refractive index layer)
The medium refractive index layer coating solution was applied onto the hard coat layer prepared above using a gravure coater. Using a 180 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) while irradiating at 90 ° C. for 30 seconds and purging with nitrogen so that the oxygen concentration is 1.0 vol% or less, the illuminance is 300 mW. / Cm 2 , irradiation of 240 mJ / cm 2 of ultraviolet rays was applied to cure the coating layer to form a medium refractive index layer having a thickness of 60 nm.

(高屈折率層の形成)
上記作製した中屈折率層の上に、前記高屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。90℃で30秒間乾燥し、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度300mW/cm、照射量240mJ/cmの紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ110nmの高屈折率層を形成した。
(Formation of high refractive index layer)
The high refractive index layer coating solution was applied onto the intermediate refractive index layer produced using a gravure coater. Using a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) with an illuminance of 300 mW while drying at 90 ° C. for 30 seconds and purging with nitrogen so that the oxygen concentration is 1.0 vol% or less. The coating layer was cured by irradiating with UV light of / cm 2 and an irradiation amount of 240 mJ / cm 2 to form a high refractive index layer having a thickness of 110 nm.

(低屈折率層の形成)
上記作製したハードコート層、又は、高屈折率層の上に、前記低屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。90℃で30秒間乾燥し、酸素濃度が0.1体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度600mW/cm、照射量600mJ/cmの紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ90nmの低屈折率層を形成した。
(Formation of a low refractive index layer)
The low-refractive-index layer coating solution was applied on the hard coat layer or the high-refractive index layer prepared above using a gravure coater. Using a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) while irradiating at 90 ° C. for 30 seconds and purging with nitrogen so that the oxygen concentration is 0.1 vol% or less, the illuminance is 600 mW. The coating layer was cured by irradiating with UV light of / cm 2 and an irradiation amount of 600 mJ / cm 2 to form a low refractive index layer having a thickness of 90 nm.

(導電性化合物の表面存在比の測定)
上記各層用の導電性化合物を含む塗布液を、上記各層と同じ膜厚になるようにガラス板上に塗布して、紫外線照射して各層を形成した。ガラス板より各層を剥離して、ガラス板側表面及び反対側表面のESCA測定(島津製作所(株)製ESCA−3400、真空度1×10−5Pa、X線源;ターゲットMg、電圧12kV、電流20mA)を行い、最表面から深さ10nm程度までに含まれる元素を調べた。ガラス板側のN/C又はS/Cをa、反対側のN/C又はS/Cをbとして、a/bを求めた。
(Measurement of surface abundance ratio of conductive compounds)
The coating solution containing the conductive compound for each layer was applied on a glass plate so as to have the same film thickness as each of the layers, and each layer was formed by ultraviolet irradiation. Each layer was peeled off from the glass plate, and ESCA measurement on the glass plate side surface and the opposite surface (ESCA-3400, manufactured by Shimadzu Corporation, vacuum degree 1 × 10 −5 Pa, X-ray source; target Mg, voltage 12 kV, An electric current of 20 mA) was performed, and the elements contained from the outermost surface to a depth of about 10 nm were examined. N / C or S / C on the glass plate side was a, N / C or S / C on the opposite side was b, and a / b was determined.

(反射防止フィルムの評価)
以下の方法により反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表3に示す。
(Evaluation of antireflection film)
Various characteristics of the antireflection film were evaluated by the following methods. The results are shown in Table 3.

(1)表面抵抗値測定
25℃、60%RH条件下に試料を2時間置いた後に同条件下で表面抵抗値を円電極法で測定した。表面抵抗値の常用対数(logSR)で示す。
(1) Measurement of surface resistance value After placing the sample under the conditions of 25 ° C and 60% RH for 2 hours, the surface resistance value was measured by the circular electrode method under the same conditions. It is shown as a common logarithm (log SR) of the surface resistance value.

(2)ゴミ付着性
反射防止フィルムの透明支持体側をCRT(KV−25DS65、ソニー(株)製)の表面に貼り付け、0.5μm以上の埃及びティッシュペーパー屑を、1ft(立法フィート)当たり100〜200万個有する部屋(25℃、60%RH)で24時間使用した。反射防止フィルム100cm当たり、付着した埃とティッシュペーパー屑の数を測定し、それぞれの結果の平均値が50個未満の場合を◎、50〜199個の場合を○、200〜500個の場合を△、500個より多い場合を×として評価した。
(2) Adhesion of dust The transparent support side of the antireflection film is attached to the surface of a CRT (KV-25DS65, manufactured by Sony Corporation), and 1 ft 3 (legal feet) of 0.5 μm or more dust and tissue paper waste. It was used for 24 hours in a room (25 ° C., 60% RH) having 1 to 2 million pieces per unit. The number of adhering dust and tissue paper waste per 100 cm 2 of the antireflection film is measured, and the average value of each result is less than 50, the case of 50 to 199 is ○, the case of 200 to 500 Was evaluated as Δ, and when more than 500, ×.

(3)スチールウール耐傷性評価
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストを行うことで、耐擦傷性の指標とすることができる。評価環境条件:25℃、60%RH こすり材:スチールウール(日本スチールウール(株)製、ゲレードNo.0000)試料と接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)に巻いて、バンド固定。移動距離(片道):13cm、こすり速度:13cm/秒、荷重:500g/cm、先端部接触面積:1cm×1cm、こすり回数:10往復。こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を評価した。
◎ :非常に注意深く見ても、全く傷が見えない
○ :非常に注意深く見ると、僅かに弱い傷が見える。
× :注意深く見なくても、傷が見える。
(3) Steel wool scratch resistance evaluation By using a rubbing tester and performing a rubbing test under the following conditions, it can be used as an index of scratch resistance. Evaluation environmental conditions: 25 ° C., 60% RH Rub material: Steel wool (manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd., GELAID No. 0000) Wrap around a scraper tip (1 cm × 1 cm) of a tester that comes into contact with the sample and fix the band. Moving distance (one way): 13 cm, rubbing speed: 13 cm / sec, load: 500 g / cm 2 , tip contact area: 1 cm × 1 cm, rubbing frequency: 10 reciprocations. An oily black ink was applied to the back side of the rubbed sample and visually observed with reflected light to evaluate scratches on the rubbed portion.
◎: Even when viewed very carefully, no scratches are visible. ○: When viewed very carefully, slightly weak scratches are visible.
×: Scratches can be seen without looking carefully.

(4)鏡面反射率
分光光度計V−550(日本分光(株)製)にアダプターARV−474を装着して、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における出射角5度の鏡面反射率を測定し、450〜650nmの平均反射率を算出した。平均反射率が1%より小さいものを◎、1〜3%のものを○、3%より大きいものを×とした。
(4) Specular Reflectance A spectrophotometer V-550 (manufactured by JASCO Corporation) is equipped with an adapter ARV-474, and in the wavelength range of 380 to 780 nm, the specular reflection with an output angle of 5 ° at an incident angle of 5 °. The average reflectance of 450 to 650 nm was calculated. A sample having an average reflectivity of less than 1% is marked with ◎, a sample with a mean reflectivity of 1 to 3% is marked with よ り 大 き い, and a sample with a mean reflectivity of over 3% is marked with ×.

Figure 2011180523
Figure 2011180523

実施例1〜3のハードコートフィルムは、帯電防止性が高く、ゴミ付着量が少なく、更に、耐擦傷性に優れた。一方、比較例1のハードコートフィルムは、耐擦傷性は優れるが、帯電防止性が低く、ゴミ付着量が多かった。   The hard coat films of Examples 1 to 3 had high antistatic properties, a small amount of dust adhesion, and excellent scratch resistance. On the other hand, the hard coat film of Comparative Example 1 was excellent in scratch resistance, but had low antistatic properties and a large amount of dust.

ハードコート層上に低屈折率層を形成した実施例4〜11の反射防止フィルムは、帯電防止性が高く、ゴミ付着量が少ない。更に、耐擦傷性に優れ、反射率が低い優れた反射防止性能を示した。一方、比較例2、3、5、6、8の反射防止フィルムは、反射防止性能や耐擦傷性は優れるが、帯電防止性が低く、ゴミ付着量が多かった。比較例4、7の反射防止フィルムは、帯電防止性は優れるが、耐擦傷性が悪かった。   The antireflection films of Examples 4 to 11 in which the low refractive index layer is formed on the hard coat layer have high antistatic properties and a small amount of dust. Furthermore, it showed excellent antireflection performance with excellent scratch resistance and low reflectance. On the other hand, the antireflection films of Comparative Examples 2, 3, 5, 6, and 8 were excellent in antireflection performance and scratch resistance, but had low antistatic properties and a large amount of dust. The antireflection films of Comparative Examples 4 and 7 were excellent in antistatic properties but poor in scratch resistance.

ハードコート層上に、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層をこの順に形成した実施例12〜15の反射防止フィルムは、帯電防止性が高く、ゴミ付着量が少ない。更に、耐擦傷性に優れ、反射率が極めて低く、反射色味もニュートラルであり、優れた反射防止性能を示した。一方、比較例9、10の反射防止フィルムは、反射防止性能は優れるが、帯電防止性が低く、ゴミ付着量が多かった。比較例11の反射防止フィルムは、帯電防止性は優れるが、耐擦傷性が悪かった。   The antireflection films of Examples 12 to 15 in which the middle refractive index layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer are formed in this order on the hard coat layer have high antistatic properties and a small amount of dust. Furthermore, it was excellent in scratch resistance, had a very low reflectance, had a neutral reflection color, and exhibited excellent antireflection performance. On the other hand, the antireflection films of Comparative Examples 9 and 10 were excellent in antireflection performance, but had low antistatic properties and a large amount of dust adhesion. The antireflection film of Comparative Example 11 was excellent in antistatic properties but poor in scratch resistance.

実施例5の反射防止フィルムにおいて、HC−4中のCP−2の代わりにp−トルエンスルホン酸を用いて、比較例12の反射防止フィルムを作製した。logSRは13.2であり、ゴミ付着性は×であった。更に、実施例1〜15のフィルムは、25℃、60%RHの環境から25℃、30%RHの環境に変更し、2時間置いた後のlogSRの上昇は1以内であったが、比較例12のフィルムのlogSRの上昇は2.0であり、湿度依存性が大きかった。   In the antireflection film of Example 5, the antireflection film of Comparative Example 12 was produced using p-toluenesulfonic acid instead of CP-2 in HC-4. The log SR was 13.2, and the dust adhesion was x. Furthermore, the film of Examples 1 to 15 was changed from an environment of 25 ° C. and 60% RH to an environment of 25 ° C. and 30% RH, and the increase in log SR after 2 hours was within one. The increase in log SR of the film of Example 12 was 2.0, and the humidity dependency was large.

(偏光板の作製)
1.5mol/L、55℃のNaOH水溶液中に2分間浸漬したあと中和、水洗することにより鹸化処理した、80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士フイルム(株)製)と、同様にして鹸化処理した実施例及び及び比較例の反射防止フィルムとで、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作製した。
(Preparation of polarizing plate)
80 μm-thick triacetylcellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.), which was saponified by immersing in an aqueous solution of NaOH at 1.5 mol / L and 55 ° C. for 2 minutes, neutralizing and washing with water. Then, with the anti-reflection films of Examples and Comparative Examples that were similarly saponified, iodine was adsorbed on polyvinyl alcohol, and both sides of a polarizer prepared by stretching were bonded and protected to produce a polarizing plate.

(液晶表示装置の作製)
VA型液晶表示装置(LC−37GS10、シャープ(株)製)に設けられている偏光板及び及び位相差膜を剥がし、代わりに上記で作製した偏光板を透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように貼り付けて、実施例及び比較例の反射防止フィルムを有する液晶表示装置を作製した。なお、反射防止フィルムが視認側になるように貼り付けた。
(Production of liquid crystal display device)
Polarized light in which the polarizing plate and retardation film provided in the VA type liquid crystal display device (LC-37GS10, manufactured by Sharp Corporation) are peeled off, and the polarizing plate prepared above is attached to the product instead. It stuck so that it might correspond with a board, and the liquid crystal display device which has the antireflection film of an Example and a comparative example was produced. In addition, it affixed so that an antireflection film might become a visual recognition side.

上記ようにして作製された実施例の反射防止フィルム付き偏光板及び画像表示装置は、それぞれ貼り付けた反射防止フィルムと同様、実施例は比較例に比べ、優れた反射防止性、防塵性、耐擦傷性を示した。   The polarizing plate with an antireflection film and the image display device of Examples prepared as described above are excellent in antireflection properties, dust resistance, and anti-resistance properties as compared with Comparative Examples, as in the case of the antireflection film attached thereto. Abrasion was shown.

Claims (16)

透明基材フィルム上に、少なくとも、バインダーと、親水性基を有する導電性高分子化合物と、フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーとを含む組成物から形成される層(A)を有し、該導電性高分子化合物は、該層(A)内の厚さ方向において、該透明基材フィルム側よりも該透明基材フィルムとは反対側に多く存在し、表面抵抗率が1×1012Ω/□以下である帯電防止性の光学フィルム。 A layer formed from a composition comprising at least a binder, a conductive polymer compound having a hydrophilic group, and a fluoropolymer containing a fluoroaliphatic group and a hydrophilic group on a transparent substrate film (A The conductive polymer compound is present more on the opposite side of the transparent substrate film than on the transparent substrate film side in the thickness direction in the layer (A), and has a surface resistivity. Is an antistatic optical film having a value of 1 × 10 12 Ω / □ or less. 前記導電性高分子化合物が有する親水性基、及び前記含フッ素ポリマーが有する親水性基がイオン性基であり、前記導電性高分子化合物と前記含フッ素ポリマーとは、それぞれ反対に荷電し得るイオン性基を有する請求項1に記載の帯電防止性の光学フィルム。   The hydrophilic group of the conductive polymer compound and the hydrophilic group of the fluorine-containing polymer are ionic groups, and the conductive polymer compound and the fluorine-containing polymer are ions that can be oppositely charged. The antistatic optical film according to claim 1, which has a functional group. 前記層(A)内において、透明基材フィルム側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をa、透明基材フィルムとは反対側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をbとしたとき、a/bが0〜0.4である請求項1又は2に記載の帯電防止性の光学フィルム。   In the layer (A), the amount of the conductive polymer compound present on the transparent substrate film side surface is a, and the amount of the conductive polymer compound present on the surface opposite to the transparent substrate film is b. The antistatic optical film according to claim 1 or 2, wherein a / b is from 0 to 0.4. 前記層(A)を形成する組成物が、該組成物に含まれる全固形分に対して、前記導電性高分子化合物を0.01〜5質量%含有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。   4. The composition according to claim 1, wherein the composition forming the layer (A) contains 0.01 to 5% by mass of the conductive polymer compound based on the total solid content in the composition. 2. An antistatic optical film according to item 1. 前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、重合可能な官能基および親水性基を含有するモノマー(1)と、該モノマーと共重合可能な官能基およびフルオロ脂肪族基を含有するモノマー(2)との共重合体である請求項1〜4のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。   The fluoropolymer containing a fluoroaliphatic group and a hydrophilic group comprises a monomer (1) containing a polymerizable functional group and a hydrophilic group, a functional group copolymerizable with the monomer, and a fluoroaliphatic group. It is a copolymer with the monomer (2) to contain, The antistatic optical film of any one of Claims 1-4. 前記フルオロ脂肪族基を含有するモノマー(2)が下記一般式[1]で表される請求項5に記載の帯電防止性の光学フィルム。
Figure 2011180523





(式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Xは酸素原子、イオウ原子又は−N(R)−を表し、Zは水素原子又はフッ素原子を表し、mは1〜6の整数、及びnは2〜4の整数を表す。Rは水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表す。)
The antistatic optical film according to claim 5, wherein the monomer (2) containing the fluoroaliphatic group is represented by the following general formula [1].
Figure 2011180523





(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 2 ) —, Z represents a hydrogen atom or a fluorine atom, and m represents an integer of 1 to 6. And n represents an integer of 2 to 4. R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、カルボキシル基(−COOH)、スルホ基(−SOH)、ホスホノ基[−PO(OH)]及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも1種の親水性基を有し、前記導電性高分子化合物は、カチオン性基を有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。 The fluoropolymer containing a fluoroaliphatic group and a hydrophilic group is a group consisting of a carboxyl group (—COOH), a sulfo group (—SO 3 H), a phosphono group [—PO (OH) 2 ] and salts thereof. The antistatic optical film according to claim 1, further comprising at least one hydrophilic group selected from the above, wherein the conductive polymer compound has a cationic group. 前記導電性高分子化合物のカチオン性基は、4級アンモニウム塩であることを特徴とする請求項7に記載の帯電防止性の光学フィルム。   The antistatic optical film according to claim 7, wherein the cationic group of the conductive polymer compound is a quaternary ammonium salt. 前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、4級アンモニウム塩を親水性基として有し、前記導電性高分子化合物は、アニオン性基を有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。   The fluoropolymer containing a fluoroaliphatic group and a hydrophilic group has a quaternary ammonium salt as a hydrophilic group, and the conductive polymer compound has an anionic group. 2. An antistatic optical film according to item 1. 前記導電性高分子化合物のアニオン性基は、カルボキシル基(−COOH)、スルホ基(−SOH)、ホスホノ基[−PO(OH)]及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも1種である請求項9に記載の帯電防止性の光学フィルム。 The anionic group of the conductive polymer compound is at least one selected from the group consisting of a carboxyl group (—COOH), a sulfo group (—SO 3 H), a phosphono group [—PO (OH) 2 ], and salts thereof. The antistatic optical film according to claim 9, which is a seed. 前記導電性高分子化合物は、さらに、前記バインダーが有する官能基と共有結合し得る官能基を有する請求項1〜10のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。   The antistatic optical film according to claim 1, wherein the conductive polymer compound further has a functional group capable of being covalently bonded to a functional group of the binder. 前記層(A)はハードコート層である、請求項1〜11のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。   The antistatic optical film according to claim 1, wherein the layer (A) is a hard coat layer. 前記ハードコート層の上に、前記ハードコート層よりも屈折率の小さい層を少なくとも1層有する反射防止フィルムである、請求項12に記載の帯電防止性の光学フィルム。   The antistatic optical film according to claim 12, which is an antireflection film having at least one layer having a refractive index smaller than that of the hard coat layer on the hard coat layer. 少なくとも1層の光学干渉層を有する反射防止フィルムであって、該光学干渉層の少なくともいずれか1層は前記層(A)である、請求項1〜11のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。   The antistatic film according to any one of claims 1 to 11, wherein the antireflection film has at least one optical interference layer, and at least one of the optical interference layers is the layer (A). Optical film. 偏光膜と該偏光膜の両面を保護する2枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも1枚が請求項1〜14のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルムである偏光板。   It is a polarizing plate which has two protective films which protect both surfaces of a polarizing film and this polarizing film, Comprising: At least 1 sheet of this protective film is the antistatic optics of any one of Claims 1-14. A polarizing plate that is a film. 請求項1〜14のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルムまたは請求項15に記載の偏光板をディスプレイの最表面に有する画像表示装置。   The image display apparatus which has the antistatic optical film of any one of Claims 1-14, or the polarizing plate of Claim 15 in the outermost surface of a display.
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