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JP2011150881A - Photoelectric transfer element, optical sensor, and solar cell - Google Patents

Photoelectric transfer element, optical sensor, and solar cell Download PDF

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JP2011150881A
JP2011150881A JP2010010983A JP2010010983A JP2011150881A JP 2011150881 A JP2011150881 A JP 2011150881A JP 2010010983 A JP2010010983 A JP 2010010983A JP 2010010983 A JP2010010983 A JP 2010010983A JP 2011150881 A JP2011150881 A JP 2011150881A
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JP
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photoelectric conversion
conversion element
semiconductor
mol
semiconductor layer
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Application number
JP2010010983A
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Japanese (ja)
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Kentaro Nakahara
謙太郎 中原
Arata Nakamura
新 中村
Katsumi Maeda
勝美 前田
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
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    • Y02E10/542Dye sensitized solar cells

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  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photoelectric transfer element of high transfer efficiency. <P>SOLUTION: The photoelectric transfer element includes a semiconductor electrode 9 having a semiconductor layer 6 having a pigment adsorbed, a counter electrode 3 provided opposedly to the semiconductor electrode 9, and an electrolyte layer 4 containing an ionic solution, nitroxyl radical and an oxoammonium salt, and provided to contact respectively with the semiconductor layer 6 of the semiconductor electrode 9 and the counter electrode 3, in a position sandwiched by the semiconductor electrode 9 and the counter electrode 3. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、光電変換素子、光センサ、および、太陽電池に関する。   The present invention relates to a photoelectric conversion element, an optical sensor, and a solar cell.

従来、光エネルギーを電気エネルギーに変換する光電変換素子として、種々の構造が提案されている。その中でも1991年にスイスのローザンヌ工科大学のグレッツェルらによって提案された色素増感型太陽電池(グレッツェル型)では、比較的安価な材料と簡易な製造プロセスによって、アモルファスシリコン並みの変換効率が得られた。このことから、グレッツェル型色素増感型太陽電池は次世代の太陽電池としてその実用化が期待されている。   Conventionally, various structures have been proposed as photoelectric conversion elements that convert light energy into electrical energy. Among them, the dye-sensitized solar cell (Gretzel type) proposed by Gretzer et al. Of Lausanne Institute of Technology in Switzerland in 1991 can achieve conversion efficiency equivalent to amorphous silicon by a relatively inexpensive material and a simple manufacturing process. It was. For this reason, the Gretzel type dye-sensitized solar cell is expected to be put to practical use as a next-generation solar cell.

グレッツェル型色素増感型太陽電池は、導電性基材上に吸収能をもつ色素を吸着した半導体層を形成した半導体電極と、この電極に相対する導電性基材からなる対電極と、両電極間に保持された電解質層(電荷輸送体)とを備えてなる。この電池では、半導体層に吸着させた色素が光吸収して励起状態となり、その励起された色素から半導体層に電子が注入される。電子の放出により酸化状態となった色素は、電解質層中のレドックス剤の酸化反応により色素に電子が移動することで、元の状態に戻る。そして、色素に電子を供与したレドックス剤は、対電極側で再び還元される。この一連の反応によって電池として機能する。   The Gretzel type dye-sensitized solar cell includes a semiconductor electrode in which a semiconductor layer adsorbing an absorbing dye is formed on a conductive substrate, a counter electrode made of a conductive substrate opposite to the electrode, and both electrodes And an electrolyte layer (charge transporter) held therebetween. In this battery, the dye adsorbed on the semiconductor layer absorbs light and enters an excited state, and electrons are injected from the excited dye into the semiconductor layer. The dye that is in an oxidized state due to the emission of electrons returns to the original state when electrons move to the dye due to the oxidation reaction of the redox agent in the electrolyte layer. Then, the redox agent that has donated electrons to the dye is reduced again on the counter electrode side. This series of reactions functions as a battery.

このような色素増感作用による光化学反応電池は古くから知られていたが、グレッツェル型の色素増感型太陽電池では、半導体層に微粒子を焼結した多孔性のチタニアを用いたことで有効な反応表面積が1000倍にも増大し、従来よりも大きな光電流が取り出せたことが大きな特長となっている。   Photochemical reaction cells with such a dye sensitizing action have been known for a long time, but Gretzel type dye-sensitized solar cells are effective by using porous titania in which fine particles are sintered in a semiconductor layer. The reaction surface area has increased by a factor of 1000, and it is a great feature that a larger photocurrent can be obtained than before.

グレッツェル型色素増感型太陽電池で用いられている色素の例として、特許文献1に記載の遷移金属錯体からなる分光増感色素がある。分光増感色素として、さらに具体的には、ビピリジン錯体の1種であるシス−ビス(イソチオシアナト)−ビス−(2,2´−ビピリジル−4,4´−ジカルボン酸)ルテニウム(II)二テトラブチルアンモニウム錯体(通称N719)があり、増感色素としての性能に優れており、一般的に用いられている。その他、ビピリジン錯体の一種である、シス−ビス(イソチオシアナト)−ビス−(2,2´−ビピリジル−4,4´−ジカルボン酸)ルテニウム(II)(通称:N3)や、テルピリジン錯体の一種である、トリス(イソチオシアナト)(2,2´:6´,2´´−テルピリジル−4,4´,4´´−トリカルボン酸)ルテニウム(II)三テトラブチルアンモニウム錯体(通称ブラックダイ)が一般的に用いられる。また、近年ではクマリンベース材料の誘導体等、金属錯体を含まない有機材料も報告されている。   As an example of the dye used in the Gretzel type dye-sensitized solar cell, there is a spectral sensitizing dye composed of a transition metal complex described in Patent Document 1. More specifically, as a spectral sensitizing dye, cis-bis (isothiocyanato) -bis- (2,2′-bipyridyl-4,4′-dicarboxylic acid) ruthenium (II) ditetra, which is a kind of bipyridine complex. There is a butylammonium complex (commonly known as N719), which is excellent in performance as a sensitizing dye and is generally used. In addition, cis-bis (isothiocyanato) -bis- (2,2′-bipyridyl-4,4′-dicarboxylic acid) ruthenium (II) (common name: N3), which is a kind of bipyridine complex, and a kind of terpyridine complex Tris (isothiocyanato) (2,2 ′: 6 ′, 2 ″ -terpyridyl-4,4 ′, 4 ″ -tricarboxylic acid) ruthenium (II) tritetrabutylammonium complex (commonly known as black dye) is common. Used for. In recent years, organic materials containing no metal complex such as derivatives of coumarin-based materials have been reported.

ここで、グレッツェル型色素増感型太陽電池で用いられる電解質層の形成方式としては、ヨウ素/ヨウ化物イオンからなるレドックス剤をニトリル系の有機溶媒または揮発性の低いイオン性液体に溶解した電解液を、半導体電極と対電極との間に注入する方式が一般的である。この方式では腐食性の高いヨウ素を用いることから、特許文献2には、外部への液体の漏洩を防ぐためにゲル化により擬似固体化することが記載されている。特許文献3には、ヨウ素を用いないレドックス材料として、ニトロキシルラジカルを用いた例が報告されている。特許文献4には、レドックス材料としてニトロキシルラジカルを用いた光電変換素子において、半導体電極とニトロキシルラジカルを含む電解質層との界面に、電子透過性の絶縁体層を用いることが提案されている。   Here, as a method of forming an electrolyte layer used in a Gretzel type dye-sensitized solar cell, an electrolytic solution in which a redox agent composed of iodine / iodide ions is dissolved in a nitrile organic solvent or an ionic liquid having low volatility Is generally injected between the semiconductor electrode and the counter electrode. In this method, since highly corrosive iodine is used, Patent Document 2 describes that the solidification is performed by gelation in order to prevent leakage of liquid to the outside. Patent Document 3 reports an example using a nitroxyl radical as a redox material that does not use iodine. Patent Document 4 proposes that in a photoelectric conversion element using a nitroxyl radical as a redox material, an electron-transmitting insulator layer is used at the interface between the semiconductor electrode and the electrolyte layer containing the nitroxyl radical. .

特開平11−345991号公報JP-A-11-345991 特開2002−289271号公報JP 2002-289271 A 特開2003−100360号公報JP 2003-100360 A 特開2009−021212号公報JP 2009-021212 A

しかし、特許文献1乃至4の光電変換素子はいずれも、変換効率が低いという問題があった。   However, all of the photoelectric conversion elements of Patent Documents 1 to 4 have a problem of low conversion efficiency.

なお、上記はグレッツェル型色素増感型太陽電池を例に説明したが、他の用途において利用する場合も同様に、十分な変更効率は得られない。   In addition, although the above demonstrated the Gretzel type | mold dye-sensitized solar cell as an example, when using in another use, sufficient change efficiency is not obtained similarly.

そこで、本発明の目的は、上述した課題である実用性に優れた光電変換素子を提供することにある。   Then, the objective of this invention is providing the photoelectric conversion element excellent in practicality which is the subject mentioned above.

本発明によれば、色素を吸着させた半導体層を有する半導体電極と、前記半導体電極に対向して設けられる対電極と、イオン液体、ニトロキシルラジカル、および、オキソアンモニウム塩を含み、前記半導体電極および前記対電極に挟まれる位置に、前記半導体電極の前記半導体層および前記対電極それぞれに接して設けられる電解質層と、を有する光電変換素子が提供される。   According to the present invention, the semiconductor electrode includes a semiconductor electrode having a semiconductor layer on which a dye is adsorbed, a counter electrode provided opposite to the semiconductor electrode, an ionic liquid, a nitroxyl radical, and an oxoammonium salt. There is also provided a photoelectric conversion element having an electrolyte layer provided in contact with each of the semiconductor layer and the counter electrode of the semiconductor electrode at a position sandwiched between the counter electrodes.

また、本発明によれば、上記光電変換素子を含むことを特徴とする光センサが提供される。   Moreover, according to this invention, the optical sensor characterized by including the said photoelectric conversion element is provided.

また、本発明によれば、上記光電変換素子を含むことを特徴とする太陽電池が提供される。   Moreover, according to this invention, the solar cell characterized by including the said photoelectric conversion element is provided.

本発明によれば、十分に高い変換効率を有する光電変換素子を実現することができる。   According to the present invention, a photoelectric conversion element having a sufficiently high conversion efficiency can be realized.

本実施形態の光電変換素子の一例を模式的に示した構造図である。It is the structure figure which showed typically an example of the photoelectric conversion element of this embodiment.

以下、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。なお、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In all the drawings, the same reference numerals are given to the same components, and the description will be omitted as appropriate.

<<実施形態>>
図1は、本実施形態における光電変換素子の構成の一例を示す断面図である。図1に示した光電変換素子は、半導体電極9と、対電極3と、スペーサ5を挟んで対峙した両極間に保持されている電解質層4とを備える。本実施形態の光電変換素子は、光エネルギーを半導体層6に吸着している色素で受け、透明導電膜7を経由して外部に取り出す素子である。以下、図1に示した光電変換素子を例に、各構成要素について詳述する。
<< Embodiment >>
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of the photoelectric conversion element in the present embodiment. The photoelectric conversion element shown in FIG. 1 includes a semiconductor electrode 9, a counter electrode 3, and an electrolyte layer 4 held between both electrodes facing each other with a spacer 5 interposed therebetween. The photoelectric conversion element of the present embodiment is an element that receives light energy with a dye adsorbed on the semiconductor layer 6 and extracts the energy via the transparent conductive film 7. Hereinafter, each component will be described in detail by taking the photoelectric conversion element shown in FIG. 1 as an example.

(i)半導体電極
半導体電極9は、半導体層6および半導体層6に吸着した色素(不図示)を有する。図1では、半導体電極9は、導電性基板(透明基板8、透明導電膜7)および半導体層6が素子の外側から内側に向かってこの順に積層した構成となっている。
(I) Semiconductor electrode The semiconductor electrode 9 has a semiconductor layer 6 and a dye (not shown) adsorbed on the semiconductor layer 6. In FIG. 1, the semiconductor electrode 9 has a configuration in which a conductive substrate (transparent substrate 8, transparent conductive film 7) and a semiconductor layer 6 are laminated in this order from the outside to the inside of the element.

(i−1)導電性基板
導電性基板は、基板自体が導電性を有しているものであってもよいし、基板上に導電層を形成することによって基板に導電性を持たせたものであってもよい。例えば、図1に示すように、透明基板8上に透明導電膜7を形成したものであってもよい。なお、基板および導電層は、上述のような透明であるのが望ましいが、必ずしもこれに限定されない。
(I-1) Conductive Substrate The conductive substrate may be one that has conductivity, or a substrate that is made conductive by forming a conductive layer on the substrate. It may be. For example, as shown in FIG. 1, a transparent conductive film 7 may be formed on a transparent substrate 8. The substrate and the conductive layer are preferably transparent as described above, but are not necessarily limited thereto.

ここで、基板としては、例えば、ガラス基板、プラスチック基板、金属板等が挙げられ、中でも透明性の高い基板が特に好ましい。また、基板上に形成される導電層の種類は、特に限定されるものではないが、例えば酸化インジウムスズ(Indium-Tin-Oxide:ITO)、フッ素ドープ酸化スズ(Fluorine doped Tin Oxide:FTO)、インジウム−亜鉛酸化物(Indium Zinc Oxide:IZO)、酸化スズ(SnO)等の透明材料から構成された導電層が好ましい。導電層は基板の全面または一部の面に膜状に形成されていてもよい。導電層の作製方法および膜厚等は、適宜選択することができるが、例えば0.1μm以上5μm以下程度のものを用いることができる。 Here, as a board | substrate, a glass substrate, a plastic substrate, a metal plate etc. are mentioned, for example, A board | substrate with high transparency is especially preferable especially. The type of the conductive layer formed on the substrate is not particularly limited. For example, indium tin oxide (ITO), fluorine doped tin oxide (FTO), A conductive layer made of a transparent material such as indium zinc oxide (IZO) or tin oxide (SnO 2 ) is preferable. The conductive layer may be formed in a film shape on the entire surface or a part of the surface of the substrate. A method for manufacturing the conductive layer, a film thickness, and the like can be selected as appropriate. For example, a conductive layer having a thickness of about 0.1 μm to 5 μm can be used.

(i−2)半導体層
(i−2−1)半導体層の材料・構造
半導体層6を構成する材料としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化タングステン、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、硫化カドミウム等の公知の半導体材料が挙げられる。これらの半導体材料は単独で用いることも2種類以上を混合して用いることもできる。これらの中でも、変換効率、安定性、安全性の観点からは、半導体層6が、酸化チタンを含む半導体材料により構成されていることが好ましい。酸化チタンとして、さらに具体的には、アナターゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタン、無定形酸化チタン、メタチタン酸、オルソチタン酸等の種々の酸化チタン、含酸化チタン複合体等が挙げられる。その中でも、光電変換の安定性をさらに向上させる観点からは、アナターゼ型酸化チタンであることが好ましい。
(I-2) Semiconductor layer (i-2-1) Material and structure of semiconductor layer As materials constituting the semiconductor layer 6, titanium oxide, zinc oxide, tungsten oxide, barium titanate, strontium titanate, cadmium sulfide, etc. And known semiconductor materials. These semiconductor materials can be used alone or in combination of two or more. Among these, it is preferable that the semiconductor layer 6 is comprised with the semiconductor material containing a titanium oxide from a viewpoint of conversion efficiency, stability, and safety. More specifically, examples of titanium oxide include anatase-type titanium oxide, rutile-type titanium oxide, amorphous titanium oxide, various titanium oxides such as metatitanic acid and orthotitanic acid, and titanium oxide-containing composites. Among these, anatase type titanium oxide is preferable from the viewpoint of further improving the stability of photoelectric conversion.

半導体層6の形状としては、半導体微粒子等を焼結することにより得られる多孔性半導体層、ゾルーゲル法・スパッタ法・スプレー熱分解法等により得られる薄膜状半導体層等が挙げられる。また、その他、繊維状半導体層や針状晶からなる半導体層6としてもよい。半導体層6の形状は、光電変換素子の使用目的に応じて、適宜選択することができる。   Examples of the shape of the semiconductor layer 6 include a porous semiconductor layer obtained by sintering semiconductor fine particles, a thin film semiconductor layer obtained by a sol-gel method, a sputtering method, a spray pyrolysis method, and the like. In addition, it is good also as the semiconductor layer 6 which consists of a fibrous semiconductor layer and an acicular crystal | crystallization. The shape of the semiconductor layer 6 can be appropriately selected according to the purpose of use of the photoelectric conversion element.

このうち、色素吸着量等の観点からは、多孔性半導体層、針状晶からなる半導体層等、比表面積の大きな半導体層が好ましい。さらに、半導体微粒子の粒径により入射光の利用率等を調整できる観点からは、半導体層6として半導体微粒子から形成される多孔性半導体層を用いることが好ましい。   Among these, a semiconductor layer having a large specific surface area such as a porous semiconductor layer and a semiconductor layer made of needle crystals is preferable from the viewpoint of the amount of dye adsorbed. Furthermore, it is preferable to use a porous semiconductor layer formed of semiconductor fine particles as the semiconductor layer 6 from the viewpoint of adjusting the utilization rate of incident light and the like by the particle size of the semiconductor fine particles.

半導体層6は、単層であっても多層であってもよい。多層にすることによって、充分な厚さの半導体層6をさらに容易に形成することができる。また、半導体微粒子から形成される多孔性の多層半導体層は、半導体微粒子の平均粒径の異なる複数の半導体層からなってもよい。例えば、光入射側に近い方の半導体層(第1半導体層)の半導体微粒子の平均粒径を、光入射側から遠い方の半導体層(第2半導体層)より小さくしてもよい。このように構成すれば、第1半導体層で多くの光を吸収させるとともに、第1半導体層を通過した光を第2半導体層で効率よく散乱させて第1半導体層に戻し、第1半導体層で吸収させることにより、全体の光吸収率をより一層向上させることができる。   The semiconductor layer 6 may be a single layer or a multilayer. By forming a multilayer, the semiconductor layer 6 having a sufficient thickness can be formed more easily. The porous multilayer semiconductor layer formed from semiconductor fine particles may be composed of a plurality of semiconductor layers having different average particle diameters of the semiconductor fine particles. For example, the average particle diameter of the semiconductor fine particles of the semiconductor layer closer to the light incident side (first semiconductor layer) may be smaller than that of the semiconductor layer farther from the light incident side (second semiconductor layer). With this configuration, the first semiconductor layer absorbs a large amount of light, and the light that has passed through the first semiconductor layer is efficiently scattered by the second semiconductor layer and returned to the first semiconductor layer. By making it absorb in, the whole light absorption rate can be improved further.

半導体層6の膜厚は、特に限定されるものではないが、透過性、変換効率等の観点より、例えば0.5μm以上45μm以下とすることができる。半導体層6の比表面積は、多量の色素を吸着させる観点から、例えば10m2/g以上200m2/g以下とすることができる。 The film thickness of the semiconductor layer 6 is not particularly limited, but can be set to, for example, 0.5 μm or more and 45 μm or less from the viewpoint of permeability, conversion efficiency, and the like. The specific surface area of the semiconductor layer 6 can be set to, for example, 10 m 2 / g or more and 200 m 2 / g or less from the viewpoint of adsorbing a large amount of dye.

また、多孔性の半導体層6に色素を吸着させた構成として、電解質中のイオンがさらに充分に拡散して電荷輸送が行われるためには、多孔性の半導体層6の空隙率を例えば40%以上80%以下とするのが望ましい。なお、空隙率とは、半導体層6の体積のうち、半導体層6中の細孔が占める体積の割合をパーセントで示したものである。   In addition, in the structure in which the dye is adsorbed on the porous semiconductor layer 6, in order for the ions in the electrolyte to be more sufficiently diffused and charge transport be performed, the porosity of the porous semiconductor layer 6 is set to 40%, for example. It is desirable to set it to 80% or less. The porosity is a percentage of the volume of the semiconductor layer 6 occupied by pores in the semiconductor layer 6.

(i−2−2)半導体層の形成方法
次に、半導体層6の形成方法について、多孔性半導体層を例にとって説明する。多孔性半導体層は、例えば、半導体層6を構成する材料として例示した、上述の半導体材料の微粒子(以下、「半導体微粒子」という)を高分子等の有機化合物および分散剤とともに、有機溶媒や水等分散媒に加えて懸濁液を調製する。そして、この懸濁液を導電性基板(図1では透明導電膜7)上に塗布し、これを乾燥、焼成することによって形成する。なお、本実施形態では、上記懸濁液の塗布、乾燥、焼成の工程を複数回繰り返すことで得られる複数の層からなる半導体層6とすることもできる。
(I-2-2) Method for Forming Semiconductor Layer Next, a method for forming the semiconductor layer 6 will be described taking a porous semiconductor layer as an example. The porous semiconductor layer includes, for example, the above-described fine particles of the semiconductor material (hereinafter referred to as “semiconductor fine particles”) exemplified as the material constituting the semiconductor layer 6 together with an organic compound such as a polymer and a dispersant, an organic solvent, and water. A suspension is prepared in addition to an equal dispersion medium. Then, this suspension is formed on a conductive substrate (transparent conductive film 7 in FIG. 1), dried and baked. In addition, in this embodiment, it can also be set as the semiconductor layer 6 which consists of several layers obtained by repeating the process of application | coating of the said suspension, drying, and baking several times.

半導体微粒子とともに分散媒に有機化合物を添加しておくと、焼成時に有機化合物が燃焼して多孔性半導体層内にさらに充分な隙間を確保することが可能となる。また焼成時に燃焼する有機化合物の分子量や添加量を制御することで空隙率を変化させることができる。なお、有機化合物の種類や量は、使用する微粒子の状態、懸濁液全体の総重量等により適宜選択し調整することができる。ただし、半導体微粒子の割合が懸濁液全体の総重量に対して10wt%以上のときは、作製した膜の強度をより一層充分に強くすることができる。このため、半導体微粒子の割合は懸濁液全体の総重量に対して10wt%以上であることが好ましい。また、半導体微粒子の割合が懸濁液全体の総重量に対して40wt%以下であれば、空隙率が大きな多孔性半導体層をより一層安定的に得ることができる。このため、半導体微粒子の割合は懸濁液全体の総重量に対して40wt%以下であることが好ましい。以上より、半導体微粒子の割合は、懸濁液全体の総重量に対して10wt%以上40wt%以下としてもよい。   When an organic compound is added to the dispersion medium together with the semiconductor fine particles, the organic compound is combusted at the time of firing, and a sufficient gap can be secured in the porous semiconductor layer. Moreover, the porosity can be changed by controlling the molecular weight and the addition amount of the organic compound combusted during firing. The type and amount of the organic compound can be appropriately selected and adjusted depending on the state of the fine particles used, the total weight of the entire suspension, and the like. However, when the ratio of the semiconductor fine particles is 10 wt% or more with respect to the total weight of the whole suspension, the strength of the produced film can be further sufficiently increased. For this reason, the ratio of the semiconductor fine particles is preferably 10 wt% or more with respect to the total weight of the entire suspension. Moreover, if the ratio of the semiconductor fine particles is 40 wt% or less with respect to the total weight of the whole suspension, a porous semiconductor layer having a large porosity can be obtained more stably. For this reason, the ratio of the semiconductor fine particles is preferably 40 wt% or less with respect to the total weight of the entire suspension. From the above, the ratio of the semiconductor fine particles may be 10 wt% or more and 40 wt% or less with respect to the total weight of the entire suspension.

半導体微粒子としては、適当な平均粒径、例えば、1nm以上500nm以下程度の平均粒径を有する単一または化合物半導体の粒子等が用いられる。その中でも比表面積を大きくするという点からは、1nm以上50nm以下程度の平均粒径のものが望ましい。また入射光の利用率を高めるために、200nm以上400nm以下程度の平均粒径の比較的大きな半導体粒子を添加してもよい。   As the semiconductor fine particles, single or compound semiconductor particles having an appropriate average particle diameter, for example, an average particle diameter of about 1 nm to 500 nm are used. Among these, from the viewpoint of increasing the specific surface area, those having an average particle diameter of about 1 nm to 50 nm are desirable. In order to increase the utilization factor of incident light, semiconductor particles having a relatively large average particle diameter of about 200 nm to 400 nm may be added.

ここで、半導体微粒子の製造方法としては、水熱合成法等のゾルーゲル法、硫酸法、塩素法等が挙げられ、目的の微粒子を製造できる方法であればどんな方法を用いてもよいが、結晶性の観点からは、水熱合成法により合成することが好ましい。また、半導体微粒子とともに分散媒に添加する有機化合物は、懸濁液中に溶解し、焼成するときに燃焼して除去できるものであれば何でも用いることができる。例えば、ポリエチレングリコール、エチルセルロース等の高分子が挙げられる。懸濁液の分散媒としては、エチレングリコールモノメチルエーテル等のグライム系溶媒;イソプロピルアルコール等のアルコール類;およびイソプロピルアルコール/トルエン等の混合溶媒;ならびに水等が挙げられる。   Here, examples of the method for producing the semiconductor fine particles include a sol-gel method such as a hydrothermal synthesis method, a sulfuric acid method, a chlorine method and the like, and any method can be used as long as it can produce the desired fine particles. From the viewpoint of property, it is preferable to synthesize by a hydrothermal synthesis method. As the organic compound added to the dispersion medium together with the semiconductor fine particles, any organic compound can be used as long as it dissolves in the suspension and can be removed by burning when baked. Examples thereof include polymers such as polyethylene glycol and ethyl cellulose. Examples of the dispersion medium for the suspension include glyme solvents such as ethylene glycol monomethyl ether; alcohols such as isopropyl alcohol; and mixed solvents such as isopropyl alcohol / toluene; and water.

懸濁液の塗布方法としては、ドクターブレード法、スキージ法、スピンコート法、スクリーン印刷法等が挙げられる。塗布後に行われる乾燥と焼成の条件は、例えば大気下または不活性ガス雰囲気下、50℃以上800℃以下程度の範囲内で、10秒以上12時間以下程度とすることができる。この乾燥および焼成は、単一の温度で1回または温度を変化させて2回以上行ってもよい。   Examples of the suspension application method include a doctor blade method, a squeegee method, a spin coating method, and a screen printing method. The conditions for drying and baking performed after the application can be, for example, about 10 seconds to 12 hours in the range of about 50 ° C. to 800 ° C. in the air or an inert gas atmosphere. This drying and baking may be performed once at a single temperature or twice or more by changing the temperature.

なお、ここでは、多孔性半導体層の形成方法について詳述したが、他の種類の半導体層6も種々の公知の方法を用いて形成することができる。   In addition, although the formation method of the porous semiconductor layer was explained in full detail here, the other kind of semiconductor layer 6 can also be formed using various well-known methods.

(i−3)色素
本実施形態において、色素は、光増感剤として機能するあらゆる公知な材料を用いることができる。例えば、半導体超微粒子等の無機材料や、光・電場・熱等の外部刺激を受けると特別な機能を示すいわゆる機能性色素や、顔料等の有機材料等であってもよい。しかし、効率よく光を吸収し、電荷を分離する観点から、特に機能性色素が好ましい。
(I-3) Dye In the present embodiment, any known material that functions as a photosensitizer can be used as the dye. For example, it may be an inorganic material such as semiconductor ultrafine particles, a so-called functional dye that exhibits a special function when subjected to external stimuli such as light, electric field, and heat, or an organic material such as a pigment. However, a functional dye is particularly preferable from the viewpoint of efficiently absorbing light and separating charges.

グレッツェル型色素増感型太陽電池で用いられている色素の例として、遷移金属錯体からなる分光増感色素がある。分光増感色素として、さらに具体的には、ビピリジン錯体の1種であるシス−ビス(イソチオシアナト)−ビス−(2,2´−ビピリジル−4,4´−ジカルボン酸)ルテニウム(II)二テトラブチルアンモニウム錯体(通称N719)があり、増感色素としての性能に優れており、一般的に用いられている。その他、ビピリジン錯体の一種である、シス−ビス(イソチオシアナト)−ビス−(2,2´−ビピリジル−4,4´−ジカルボン酸)ルテニウム(II)(通称:N3)や、テルピリジン錯体の一種である、トリス(イソチオシアナト)(2,2´:6´,2´´−テルピリジル−4,4´,4´´−トリカルボン酸)ルテニウム(II)三テトラブチルアンモニウム錯体(通称ブラックダイ)が一般的に用いられる。また、近年ではクマリンベース材料の誘導体等、金属錯体を含まない有機材料も報告されている。その他の色素としては、例えば、「FPD・DSSC・光メモリーと機能性色素の最新技術と材料開発」((株)エヌ・ティー・エス)にあるような色素を適用することができる。また、インドリン系色素D149を使用することもできる。特に半導体層6上で会合性を有する色素は、安定性の観点から好ましい。会合体を形成する効果のある色素としては、例えば、カルボキシル基、スルホニル基、ホスホニル基を有するものが挙げられる。中でも強固な会合体を形成することから、カルボキシル基を有する色素が好ましい。   As an example of the dye used in the Gretzel type dye-sensitized solar cell, there is a spectral sensitizing dye composed of a transition metal complex. More specifically, as a spectral sensitizing dye, cis-bis (isothiocyanato) -bis- (2,2′-bipyridyl-4,4′-dicarboxylic acid) ruthenium (II) ditetra, which is a kind of bipyridine complex. There is a butylammonium complex (commonly known as N719), which is excellent in performance as a sensitizing dye and is generally used. In addition, cis-bis (isothiocyanato) -bis- (2,2′-bipyridyl-4,4′-dicarboxylic acid) ruthenium (II) (common name: N3), which is a kind of bipyridine complex, and a kind of terpyridine complex Tris (isothiocyanato) (2,2 ′: 6 ′, 2 ″ -terpyridyl-4,4 ′, 4 ″ -tricarboxylic acid) ruthenium (II) tritetrabutylammonium complex (commonly known as black dye) is common. Used for. In recent years, organic materials containing no metal complex such as derivatives of coumarin-based materials have been reported. As other dyes, for example, the dyes described in “FPD / DSSC / Optical memory and functional dye latest technology and material development” (NTS Corp.) can be applied. Indoline dye D149 can also be used. In particular, a dye having associative properties on the semiconductor layer 6 is preferable from the viewpoint of stability. Examples of the dye having an effect of forming an aggregate include those having a carboxyl group, a sulfonyl group, and a phosphonyl group. Among these, a dye having a carboxyl group is preferable because it forms a strong aggregate.

次に、半導体超微粒子としては、硫化カドミウム、硫化鉛、硫化銀等の硫化物半導体等を用いることができる。またその粒子径としては、本実施形態の半導体層6に対して光増感作用があれば特に制限はないが、1nm以上10nm以下の範囲が望ましい。   Next, as the semiconductor ultrafine particles, sulfide semiconductors such as cadmium sulfide, lead sulfide, and silver sulfide can be used. The particle diameter is not particularly limited as long as it has a photosensitizing effect on the semiconductor layer 6 of the present embodiment, but a range of 1 nm to 10 nm is desirable.

半導体層6に光増感剤(色素)を担持させる方法は、例えば、光増感剤を溶かした溶液に、半導体層6を備えた半導体基板を浸漬させる方法が挙げられる。この溶液の溶媒としては、水、アルコール、トルエン、ジメチルホルムアミド、t−ブチルアルコール/アセトニトリル混合溶媒等、光増感剤を溶解可能なものであれば特段制限されない。また光増感剤溶液に一定時間浸漬させている時に、加熱還流をしたり、超音波を印加したりすることもできる。なお、光増感剤を担持させた後、担持されずに残ってしまった光増感剤を取り除くために、アルコールで洗浄あるいは加熱還流することが望ましい。   Examples of the method of supporting the photosensitizer (dye) on the semiconductor layer 6 include a method of immersing the semiconductor substrate provided with the semiconductor layer 6 in a solution in which the photosensitizer is dissolved. The solvent of this solution is not particularly limited as long as it can dissolve the photosensitizer, such as water, alcohol, toluene, dimethylformamide, t-butyl alcohol / acetonitrile mixed solvent. In addition, when immersed in the photosensitizer solution for a certain period of time, it can be heated to reflux or an ultrasonic wave can be applied. In addition, after carrying | supporting a photosensitizer, in order to remove the photosensitizer which was not carry | supported, it is desirable to wash | clean with alcohol or to heat-reflux.

光増感剤の担持量は、1×10−10mol/cm以上1×10−4mol/cm以下の範囲内であればよく、特に1×10−9mol/cm以上9.0×10−6mol/cm以下の範囲が好ましい。この範囲内であれば、経済的且つ十分に光電変換効率向上の効果を得ることができるからである。 The amount of the photosensitizer supported may be in the range of 1 × 10 −10 mol / cm 2 or more and 1 × 10 −4 mol / cm 2 or less, particularly 1 × 10 −9 mol / cm 2 or more. A range of 0 × 10 −6 mol / cm 2 or less is preferable. This is because within this range, the effect of improving the photoelectric conversion efficiency can be obtained economically and sufficiently.

(ii)対電極
本実施形態の対電極3は、基板1と触媒層2を積層した構造とすることができる。このような対電極3を有する光電変換素子は、触媒層2が以下で説明する電解質層4と接するように配置される。
(Ii) Counter Electrode The counter electrode 3 of the present embodiment can have a structure in which the substrate 1 and the catalyst layer 2 are laminated. The photoelectric conversion element having such a counter electrode 3 is disposed so that the catalyst layer 2 is in contact with the electrolyte layer 4 described below.

基板1としては、ガラスや高分子フィルム等の透明基板、金属板(箔)等が挙げられる。特に、対電極3の抵抗値を低下させるためには、導電性基板が望ましい。   Examples of the substrate 1 include transparent substrates such as glass and polymer films, metal plates (foil), and the like. In particular, in order to reduce the resistance value of the counter electrode 3, a conductive substrate is desirable.

触媒層2は、例えば、白金等の金属触媒または炭素材料を含む層とすることができる。炭素材料としては、特に限定されるものではないが、例えば活性炭やグラファイト、カーボンブラック、アセチレンブラック、ケッチェンブラック、カーボンナノファイバー、気相成長炭素繊維、カーボンナノチューブ、各種フラーレン等が挙げられる。触媒層2は、基板1の全面または一部に膜状に形成されてもよい。触媒層2の厚みは触媒機能を発現できる厚さであればよく、具体的には1nm以上20μm以下程度とすることができる。   The catalyst layer 2 can be, for example, a layer containing a metal catalyst such as platinum or a carbon material. The carbon material is not particularly limited, and examples thereof include activated carbon, graphite, carbon black, acetylene black, ketjen black, carbon nanofiber, vapor grown carbon fiber, carbon nanotube, and various fullerenes. The catalyst layer 2 may be formed in a film shape on the entire surface or a part of the substrate 1. The thickness of the catalyst layer 2 should just be the thickness which can express a catalyst function, and can specifically be about 1 nm or more and 20 micrometers or less.

なお、対電極3は、半導体電極9と同一基板上に形成してもよい。この場合、対電極3と半導体電極9の間の導電層をレーザスクライブ等により切断する等により、同一基板上に二つ以上の電極を形成することができる。   The counter electrode 3 may be formed on the same substrate as the semiconductor electrode 9. In this case, two or more electrodes can be formed on the same substrate by cutting the conductive layer between the counter electrode 3 and the semiconductor electrode 9 by laser scribing or the like.

(iii)電解質層
<イオン液体>
本実施形態における電解質層4にはイオン液体が含まれている。イオン液体とは、常温で液体のイオン化合物のことであり、カチオン成分とアニオン成分とからなっている。
(Iii) Electrolyte layer <ionic liquid>
The electrolyte layer 4 in this embodiment contains an ionic liquid. An ionic liquid is an ionic compound that is liquid at room temperature, and consists of a cation component and an anion component.

イオン液体のカチオン成分は特に限定されないが、例えばジアルキルイミダゾリウムカチオン、テトラアルキルアンモニウムカチオン、アルキルピリジニウムカチオン、ピラゾリウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、ピロリウムカチオン、ピペリジニウムカチオン、ピリジニウムカチオン、チアゾリウムカチオン等の含窒素化合物カチオンや、テトラアルキルホスホニウムカチオン等の含リン化合物カチオン、トリアルキルスルホニウムカチオン等の含硫黄化合物カチオン等が挙げられる。中でも比較的粘性が低く、イオン伝導性に優れるという観点から、ジアルキルイミダゾリウムカチオンであることが好ましい。   The cation component of the ionic liquid is not particularly limited. Examples thereof include nitrogen-containing compound cations such as a lithium cation, phosphorus-containing compound cations such as a tetraalkylphosphonium cation, and sulfur-containing compound cations such as a trialkylsulfonium cation. Of these, dialkylimidazolium cations are preferred from the viewpoint of relatively low viscosity and excellent ion conductivity.

イオン液体のアニオン成分は特に限定されないが、例えばN(FSON(CFSO)N(CSO)N(CFSO)(CSO)等のイミドアニオン、C(CFSO)C(CSO)等のメチドアニオン、ClO 、PF 、BF 、AsF 、B(C 、CFSO 、Cl、Br、I等が挙げられる。中でも安定性の観点から、ビス(トリフルオロメチルフルホニル)イミドアニオンであることが好ましい。 While anion component of the ionic liquid is not particularly limited, for example, - N (FSO 2) 2, - N (CF 3 SO 2) 2, - N (C 2 F 5 SO 2) 2, - N (CF 3 SO 2) (C 4 F 9 SO 2) imide such as anionic, - C (CF 3 SO 2 ) 3, - C (C 2 F 5 SO 2) 3, etc. methide anion, ClO 4 -, PF 6 - , BF 4 -, AsF 6 , B (C 2 O 4 ) 2 , CF 3 SO 3 , Cl , Br , I − and the like can be mentioned. Among these, bis (trifluoromethylsulfonyl) imide anion is preferable from the viewpoint of stability.

イオン液体の種類は特に限定されないが、吸湿性が低く安定性が高いと言う点から、疎水性のイオン液体であることが好ましい。疎水性イオン液体の構造は特に限定されないが、例えば1−エチル−3−メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメチルフルホニル)イミド塩や、1−メチル−3−プロピルイミダゾリウムビス(トリフルオロメチルフルホニル)イミド塩、1−メチル−3−ブチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメチルフルホニル)イミド塩、テトラブチルアンモニウムテトラフルオロボレート塩等が挙げられる。   The kind of the ionic liquid is not particularly limited, but is preferably a hydrophobic ionic liquid from the viewpoint of low hygroscopicity and high stability. The structure of the hydrophobic ionic liquid is not particularly limited. For example, 1-ethyl-3-methylimidazolium bis (trifluoromethyl sulfonyl) imide salt or 1-methyl-3-propylimidazolium bis (trifluoromethyl fluoride) is used. Phonyl) imide salt, 1-methyl-3-butylimidazolium bis (trifluoromethylsulfonyl) imide salt, tetrabutylammonium tetrafluoroborate salt and the like.

<ニトロキシルラジカル>
本実施形態における電解質層4にはレドックス種のひとつとしてニトロキシルラジカルが含まれている。ニトロキシルラジカルの構造は特に限定されないが、例えば2,2,6,6−テトラメチルピペリジノキシル、2,2,5,5−テトラメチルピロリジノキシル、2,2,5,5−テトラメチルピロリノキシル等の環状ニトロキシルラジカルが挙げられる。中でも安定性の観点から、下記一般式(2)で示される2,2,6,6−テトラメチルピペリジノキシルであることが好ましい。具体的には、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル(TEMPO)、2,2,5,5−テトラメチルピロリジノキシル(PROXYL)等が該当する。
<Nitroxyl radical>
The electrolyte layer 4 in the present embodiment contains nitroxyl radical as one of the redox species. The structure of the nitroxyl radical is not particularly limited. For example, 2,2,6,6-tetramethylpiperidinoxyl, 2,2,5,5-tetramethylpyrrolidinoxyl, 2,2,5,5-tetra And cyclic nitroxyl radicals such as methylpyrrolinoxyl. Of these, 2,2,6,6-tetramethylpiperidinoxyl represented by the following general formula (2) is preferable from the viewpoint of stability. Specifically, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl (TEMPO), 2,2,5,5-tetramethylpyrrolidinoxyl (PROXYL) and the like are applicable.

Figure 2011150881
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本実施形態におけるニトロキシルラジカルは、置換もしくは無置換のもので良く、高分子化合物の側鎖として結合しているものでもよい。高分子化合物の例としては、例えば2,2,6,6−テトラメチルピペリジノキシルがメタクリレート高分子の側鎖として結合した、ポリ(2,2,6,6−テトラメチルピペリジノキシル)メタクリレートや、2,2,6,6−テトラメチルピペリジノキシルがビニルエーテル高分子の側鎖として結合した、ポリビニルオキシ(2,2,6,6−テトラメチルピペリジノキシル)等が挙げられる。   The nitroxyl radical in the present embodiment may be substituted or unsubstituted, and may be bonded as a side chain of the polymer compound. Examples of the polymer compound include poly (2,2,6,6-tetramethylpiperidinoxyl) in which 2,2,6,6-tetramethylpiperidinoxyl is bonded as a side chain of the methacrylate polymer. ) Methacrylate, polyvinyloxy (2,2,6,6-tetramethylpiperidinoxyl) in which 2,2,6,6-tetramethylpiperidinoxyl is bonded as a side chain of a vinyl ether polymer It is done.

<オキソアンモニウム塩>
本実施形態における電解質層4にはレドックス種のひとつとしてオキソアンモニウム塩が含まれている。オキソアンモニウム塩とは、ニトロキシルラジカルの1電子酸化体であるオキソアンモニウムカチオンと1価のアニオンからなる塩のことである。
<Oxoammonium salt>
In the present embodiment, the electrolyte layer 4 contains an oxoammonium salt as one of the redox species. The oxoammonium salt is a salt composed of an oxoammonium cation which is a one-electron oxidant of a nitroxyl radical and a monovalent anion.

オキソアンモニウムカチオンの構造は特に限定されないが、例えば1−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジニウム、1−オキソ−2,2,5,5−テトラメチルピロリジニウム、1−オキソ−2,2,5,5−テトラメチルピロリニウム等の環状オキソアンモニウムカチオンが挙げられる。中でも安定性の観点から、下記一般式(3)で示される2,2,6,6−テトラメチルピペリジノキシルの1電子酸化体に相当する、1−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジニウムであることが好ましい。具体的には、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキソアンモニウムビストリフルオロメチルスルホニルイミド塩(TEMPO・TFSI)、1−オキソ−2,2,5,5−テトラメチルピロリジニウムビス(トリフルオロメチルスフホニル)イミド塩(PROXYL・TFSI)等が該当する。   The structure of the oxoammonium cation is not particularly limited. For example, 1-oxo-2,2,6,6-tetramethylpiperidinium, 1-oxo-2,2,5,5-tetramethylpyrrolidinium, And cyclic oxoammonium cations such as oxo-2,2,5,5-tetramethylpyrrolinium. Among these, from the viewpoint of stability, 1-oxo-2,2,6,6 corresponding to a one-electron oxidant of 2,2,6,6-tetramethylpiperidinoxyl represented by the following general formula (3) -Tetramethylpiperidinium is preferred. Specifically, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxoammonium bistrifluoromethylsulfonylimide salt (TEMPO · TFSI), 1-oxo-2,2,5,5-tetramethylpyrrolidinium Bis (trifluoromethylsulfonyl) imide salt (PROXYL · TFSI) and the like are applicable.

Figure 2011150881
Figure 2011150881

本実施形態におけるオキソアンモニウムカチオンは、置換もしくは無置換のもので良く、高分子化合物の側鎖として結合しているものでもよい。高分子化合物の例としては、例えば1−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジニウムがメタクリレート高分子の側鎖として結合した、ポリ(1−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジニウム)メタクリレートや、1−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジノキシルがビニルエーテル高分子の側鎖として結合した、ポリビニルオキシ(1−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジニウム)等が挙げられる。   The oxoammonium cation in this embodiment may be substituted or unsubstituted, and may be bonded as a side chain of the polymer compound. Examples of the polymer compound include poly (1-oxo-2,2,6,6) in which 1-oxo-2,2,6,6-tetramethylpiperidinium is bonded as a side chain of a methacrylate polymer. -Tetramethylpiperidinium) methacrylate or 1-oxo-2,2,6,6-tetramethylpiperidinoxyl bonded as a side chain of a vinyl ether polymer, polyvinyloxy (1-oxo-2,2, 6,6-tetramethylpiperidinium) and the like.

本実施形態におけるオキソアンモニウム塩のアニオンとしては、特に限定されないが、例えばN(FSON(CFSO)N(CSO)N(CFSO)(CSO)等のイミドアニオン、C(CFSO)C(CSO)等のメチドアニオン、ClO 、PF 、BF 、AsF 、B(C 、CFSO 、Cl、Br、I等が挙げられる。中でも安定性の観点から、ビス(トリフルオロメチルフルホニル)イミドアニオンであることが好ましい。 Examples of the anion of the oxoammonium salt in the present embodiment is not particularly limited, for example, - N (FSO 2) 2, - N (CF 3 SO 2) 2, - N (C 2 F 5 SO 2) 2, - N (CF 3 SO 2) (C 4 F 9 SO 2) imide anion, such as, - C (CF 3 SO 2 ) 3, - C (C 2 F 5 SO 2) 3, etc. methide anion, ClO 4 -, PF 6 -, BF 4 -, AsF 6 -, B (C 2 O 4) 2 -, CF 3 SO 3 -, Cl -, Br -, I - , and the like. Among these, bis (trifluoromethylsulfonyl) imide anion is preferable from the viewpoint of stability.

<レドックス種の濃度>
本実施形態における電解質層は、レドックス種としてニトロキシルラジカル−オキソアンモニウム塩の組み合わせを利用している。ニトロキシルラジカル−オキソアンモニウム塩の組み合わせは、レドックス種としての拡散が比較的遅いため、場合によっては所望の変換効率を得ることができない場合があり得る。しかし、ニトロキシルラジカル−オキソアンモニウム塩の合計濃度が1.5mol/L以上、好ましくは2mol/L以上、さらに好ましくは2.5mol/L以上である場合、十分な拡散電流を得ることができ、光電変換素子の変換効率が向上する。ただし、ニトロキシルラジカル−オキソアンモニウム塩の合計濃度が5mol/L以上になると、粘度が上がりすぎて十分な拡散電流が得られなくなる恐れがある。
<Concentration of redox species>
The electrolyte layer in this embodiment uses a combination of nitroxyl radical-oxoammonium salt as a redox species. The nitroxyl radical-oxoammonium salt combination has a relatively slow diffusion as a redox species, and in some cases, the desired conversion efficiency may not be obtained. However, when the total concentration of the nitroxyl radical-oxoammonium salt is 1.5 mol / L or more, preferably 2 mol / L or more, more preferably 2.5 mol / L or more, a sufficient diffusion current can be obtained, The conversion efficiency of the photoelectric conversion element is improved. However, when the total concentration of the nitroxyl radical-oxoammonium salt is 5 mol / L or more, there is a possibility that the viscosity increases so much that a sufficient diffusion current cannot be obtained.

そこで、本実施形態におけるニトロキシルラジカル−オキソアンモニウム塩の合計濃度は、1.5mol/L以上5mol/L以下、好ましくは2mol/L以上5mol/L以下、さらに好ましくは2.5mol/L以上4mol/L以下であってもよい。   Therefore, the total concentration of the nitroxyl radical-oxoammonium salt in this embodiment is 1.5 mol / L or more and 5 mol / L or less, preferably 2 mol / L or more and 5 mol / L or less, more preferably 2.5 mol / L or more and 4 mol or less. / L or less may be sufficient.

<混合物>
本実施形態における電解質層4にはイオン液体、ニトロキシルラジカル、オキソアンモニウム塩が含まれているが、光電変換素子の変換効率を上げるために、その他の有機溶媒や電解質、塩基性添加剤等を含んでもよい。
<Mixture>
The electrolyte layer 4 in this embodiment contains an ionic liquid, a nitroxyl radical, and an oxoammonium salt. In order to increase the conversion efficiency of the photoelectric conversion element, other organic solvents, electrolytes, basic additives, and the like are added. May be included.

電解質層に含まれる有機溶媒としては、粘度が低く、イオン移動度を向上させ、誘電率が高く、有効キャリア濃度を向上させるような優れたイオン伝導性を発現させる化合物が望ましい。このような溶媒としては、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート化合物、3−メチル−2−オキサゾリジノン等の複素環化合物、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル化合物、エチレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールジアルキルエーテル、ポリエチレングリコールジアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールジアルキルエーテル等の鎖状エーテル類、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールモノアルキルエーテル等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類、アセトニトリル、グルタロジニトリル、メトキシアセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル化合物、ジメチルスルフォキシド、スルフォラン等、非プロトン性溶媒等が挙げられる。   The organic solvent contained in the electrolyte layer is preferably a compound that has low viscosity, improves ion mobility, has a high dielectric constant, and exhibits excellent ion conductivity that improves effective carrier concentration. Examples of such solvents include carbonate compounds such as ethylene carbonate and propylene carbonate, heterocyclic compounds such as 3-methyl-2-oxazolidinone, ether compounds such as dioxane and diethyl ether, ethylene glycol dialkyl ether, propylene glycol dialkyl ether, and polyethylene. Chain ethers such as glycol dialkyl ether and polypropylene glycol dialkyl ether, methanol, ethanol, ethylene glycol monoalkyl ether, alcohols such as propylene glycol monoalkyl ether, polyethylene glycol monoalkyl ether, polypropylene glycol monoalkyl ether, ethylene glycol, Propylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene Call, polyhydric alcohols such as glycerin, acetonitrile, glutarodinitrile, methoxy acetonitrile, propionitrile, nitrile compounds such as benzonitrile, dimethyl sulfoxide, sulfolane and the like, aprotic solvents.

電解質層に含まれる電解質としては、例えばLiI、NaI、KI、CsI、CaI等の金属ヨウ化物塩とヨウ素Iとの組み合わせや、テトラアルキルアンモニウムヨーダイド、ピリジニウムヨーダイド、イミダゾリウムヨーダイド等の4級アンモニウムヨーダイド塩とヨウ素Iとの組み合わせ、LiBr、NaBr、KBr、CsBr、CaBr等の金属臭化物塩と臭素Brとの組み合わせ、テトラアルキルアンモニウムブロマイド、ピリジニウムブロマイド等4級アンモニウムブロマイド塩と臭素Brとの組み合わせ、フェロシアン酸塩−フェリシアン酸塩の組み合わせ、フェロセン−フェリシニウムイオン等金属錯体の組み合わせ、ヒドロキノン−キノンの組み合わせ等が挙げられる。 As the electrolyte contained in the electrolyte layer, e.g. LiI, NaI, KI, CsI, and combinations of metal iodide salt and iodine I 2, such as CaI 2, tetraalkylammonium iodide, pyridinium iodide, imidazolium iodide, etc. A combination of a quaternary ammonium iodide salt and iodine I 2 , a combination of a metal bromide salt such as LiBr, NaBr, KBr, CsBr, CaBr 2 and bromine Br 2 , a quaternary ammonium bromide such as tetraalkylammonium bromide, pyridinium bromide A combination of a salt and bromine Br 2 , a combination of ferrocyanate-ferricyanate, a combination of metal complexes such as ferrocene-ferricinium ion, a combination of hydroquinone-quinone, and the like.

電解質層に含まれる塩基性添加剤としては、t−ブチルピリジン、例えば4−t−ブチルピリジンや、2−ピコリン、2,6−ルチジン等が挙げられる。塩基性化合物を添加する場合の添加濃度は、例えば0.05mol/L以上2mol/L以下程度とすることができる。   Examples of the basic additive contained in the electrolyte layer include t-butylpyridine, such as 4-t-butylpyridine, 2-picoline, 2,6-lutidine and the like. The addition concentration in the case of adding a basic compound can be, for example, about 0.05 mol / L or more and 2 mol / L or less.

<<実施例>>
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれに限定されるものではない。以下の実施例では、上記実施形態に記載の光電変換素子(図1)からなる太陽電池を作成した。
<< Example >>
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the scope of the present invention is not limited thereto. In the following examples, solar cells composed of the photoelectric conversion elements (FIG. 1) described in the above embodiment were created.

(実施例1)
1.半導体電極の作製
半導体層6は以下の手順で作製した。平均1次粒子径が20nmの高純度酸化チタン粉末(日揮触媒化成株式会社製)を含むペーストをフッ素ドープSnO電極上にスクリーン印刷し、110℃で1時間乾燥させた後、空気中450℃で1時間焼結させた。さらにその電極上に、平均1次粒子径が400nmの高純度酸化チタン粉末(日揮触媒化成株式会社製)を含むペーストを重ねてスクリーン印刷し、110℃で1時間乾燥させた後、空気中450℃で1時間焼結させた。その後、四塩化チタン水溶液(和光純薬株式会社製)に70℃で40分間浸漬させ、空気中450℃で1時間焼結させることにより、半導体層6を得た。半導体層の厚さは6μmほどであった。
Example 1
1. Production of Semiconductor Electrode The semiconductor layer 6 was produced by the following procedure. A paste containing high-purity titanium oxide powder (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.) having an average primary particle size of 20 nm is screen-printed on a fluorine-doped SnO 2 electrode, dried at 110 ° C. for 1 hour, and then in air at 450 ° C. For 1 hour. Further, a paste containing a high-purity titanium oxide powder (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.) having an average primary particle diameter of 400 nm is stacked on the electrode, screen-printed, dried at 110 ° C. for 1 hour, and then 450 in air. Sintered at 1 ° C. for 1 hour. Then, the semiconductor layer 6 was obtained by being immersed in titanium tetrachloride aqueous solution (made by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) for 40 minutes at 70 degreeC, and sintering at 450 degreeC in the air for 1 hour. The thickness of the semiconductor layer was about 6 μm.

2.色素の吸着
次に下記式(4)で示される、インドリン系色素D149(三菱製紙株式会社製)をt−ブチルアルコール(シグマアルドリッチ社製)/アセトニトリル(和光純薬株式会社製)混合溶媒中に0.5mmol/Lの濃度で溶解させ、吸着用色素溶液を得た。この吸着用色素溶液に、上述で得られた半導体電極9を浸漬し、室温で4時間静置し色素を吸着させた。その後、t−ブチルアルコール/アセトニトリル混合溶媒で数回洗浄し、余分な色素を洗い流した。
2. Next, indoline dye D149 (manufactured by Mitsubishi Paper Industries) represented by the following formula (4) is mixed in a mixed solvent of t-butyl alcohol (manufactured by Sigma Aldrich) / acetonitrile (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.). It was dissolved at a concentration of 0.5 mmol / L to obtain an adsorption dye solution. The semiconductor electrode 9 obtained above was immersed in this dye solution for adsorption, and allowed to stand at room temperature for 4 hours to adsorb the dye. Thereafter, the mixture was washed several times with a t-butyl alcohol / acetonitrile mixed solvent to wash away excess dye.

Figure 2011150881
Figure 2011150881

3.光電変換素子の作製
溶剤として疎水性イオン液体である1−エチル−3−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメチルスルホニルイミド塩(EMI・TFSI)(東洋合成株式会社製)を用い、レドックス種として2.5mol/Lの2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル(TEMPO)(和光純薬株式会社製)および、0.05mol/Lの2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキソアンモニウムビストリフルオロメチルスルホニルイミド塩(TEMPO・TFSI)を含む電解液を作製した。この電解液に上述で得られた半導体電極9を浸漬させ、ロータリーポンプで約2分間真空引きして充分にしみこませた。次に白金からなる触媒層2を有する対電極3を対峙させ、スペーサ5を挟んで治具にて固定し、光電変換素子を作製した。
3. Production of Photoelectric Conversion Element As a solvent, 1-ethyl-3-methylimidazolium bistrifluoromethylsulfonylimide salt (EMI • TFSI) (manufactured by Toyo Gosei Co., Ltd.), which is a hydrophobic ionic liquid, is used as a redox species and 2.5 mol / L 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl (TEMPO) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 0.05 mol / L 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1- An electrolytic solution containing oxoammonium bistrifluoromethylsulfonylimide salt (TEMPO · TFSI) was prepared. The semiconductor electrode 9 obtained above was immersed in this electrolytic solution, and was evacuated with a rotary pump for about 2 minutes so that it was sufficiently impregnated. Next, the counter electrode 3 which has the catalyst layer 2 which consists of platinum was made to face, and the spacer 5 was pinched | interposed and it fixed with the jig | tool, and the photoelectric conversion element was produced.

(実施例2)
レドックス種であるTEMPOの濃度が3.0mol/L、TEMPO・TFSIの濃度が0.05mol/Lであることを除けば、実施例1と同じ手法で光電変換素子を作製した。
(Example 2)
A photoelectric conversion element was produced in the same manner as in Example 1 except that the concentration of TEMPO as a redox species was 3.0 mol / L and the concentration of TEMPO · TFSI was 0.05 mol / L.

(実施例3)
レドックス種であるTEMPOの濃度が3.5mol/L、TEMPO・TFSIの濃度が0.05mol/Lであることを除けば、実施例1と同じ手法で光電変換素子を作製した。
(Example 3)
A photoelectric conversion element was produced by the same method as in Example 1 except that the concentration of TEMPO as a redox species was 3.5 mol / L and the concentration of TEMPO · TFSI was 0.05 mol / L.

(実施例4)
レドックス種であるTEMPOの濃度が4.0mol/L、TEMPO・TFSIの濃度が0.05mol/Lであることを除けば、実施例1と同じ手法で光電変換素子を作製した。
Example 4
A photoelectric conversion element was produced in the same manner as in Example 1 except that the concentration of TEMPO as redox species was 4.0 mol / L and the concentration of TEMPO · TFSI was 0.05 mol / L.

(実施例5)
レドックス種であるTEMPOの濃度が4.5mol/L、TEMPO・TFSIの濃度が0.05mol/Lであることを除けば、実施例1と同じ手法で光電変換素子を作製した。
(Example 5)
A photoelectric conversion element was produced in the same manner as in Example 1 except that the concentration of TEMPO as a redox species was 4.5 mol / L and the concentration of TEMPO · TFSI was 0.05 mol / L.

(実施例6)
レドックス種であるTEMPOの濃度が2.0mol/L、TEMPO・TFSIの濃度が0.05mol/Lであることを除けば、実施例1と同じ手法で光電変換素子を作製した。
(Example 6)
A photoelectric conversion element was produced in the same manner as in Example 1 except that the concentration of TEMPO as a redox species was 2.0 mol / L and the concentration of TEMPO · TFSI was 0.05 mol / L.

(実施例7)
レドックス種であるTEMPOの濃度が2.5mol/L、TEMPO・TFSIの濃度が0.02mol/Lであることを除けば、実施例1と同じ手法で光電変換素子を作製した。
(Example 7)
A photoelectric conversion element was produced in the same manner as in Example 1 except that the concentration of TEMPO as a redox species was 2.5 mol / L and the concentration of TEMPO · TFSI was 0.02 mol / L.

(実施例8)
レドックス種であるTEMPOの濃度が2.5mol/L、TEMPO・TFSIの濃度が0.1mol/Lであることを除けば、実施例1と同じ手法で光電変換素子を作製した。
(Example 8)
A photoelectric conversion element was produced in the same manner as in Example 1 except that the concentration of TEMPO as a redox species was 2.5 mol / L and the concentration of TEMPO · TFSI was 0.1 mol / L.

(実施例9)
レドックス種として2.5mol/Lの2,2,5,5−テトラメチルピロリジノキシル(PROXYL)(和光純薬株式会社製)、0.05mol/Lの1−オキソ−2,2,5,5−テトラメチルピロリジニウムビス(トリフルオロメチルスフホニル)イミド塩(PROXYL・TFSI)を用いたことを除けば、実施例1と同じ手法で光電変換素子を作製した。
Example 9
As the redox species, 2.5 mol / L 2,2,5,5-tetramethylpyrrolidinoxyl (PROXYL) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 0.05 mol / L 1-oxo-2,2,5,5 A photoelectric conversion element was produced in the same manner as in Example 1 except that 5-tetramethylpyrrolidinium bis (trifluoromethylsulfonyl) imide salt (PROXYL · TFSI) was used.

(実施例10)
色素として、D149の代わりにシス−ビス(イソチオシアナト)−ビス−(2,2´−ビピリジル−4,4´−ジカルボン酸)ルテニウム(II)二テトラブチルアンモニウム錯体(N719)(ソーラロニクス社製)を用い、電解質層に1.5mol/Lの4−t−ブチルピリジンを加えたことを除けば、実施例1と同じ手法で光電変換素子を作製した。
(Example 10)
As a dye, cis-bis (isothiocyanato) -bis- (2,2′-bipyridyl-4,4′-dicarboxylic acid) ruthenium (II) ditetrabutylammonium complex (N719) (manufactured by Solaronics) instead of D149 A photoelectric conversion element was produced in the same manner as in Example 1 except that 1.5 mol / L of 4-t-butylpyridine was added to the electrolyte layer.

(実施例11)
レドックス種であるTEMPOの濃度が1.5mol/L、TEMPO・TFSIの濃度が0.05mol/Lであることを除けば、実施例1と同じ手法で光電変換素子を作製した。
(Example 11)
A photoelectric conversion element was produced in the same manner as in Example 1 except that the concentration of TEMPO as a redox species was 1.5 mol / L and the concentration of TEMPO · TFSI was 0.05 mol / L.

(実施例12)
レドックス種であるTEMPOの濃度が5.0mol/L、TEMPO・TFSIの濃度が0.05mol/Lであることを除けば、実施例1と同じ手法で光電変換素子を作製した。
(Example 12)
A photoelectric conversion element was produced in the same manner as in Example 1 except that the concentration of TEMPO as a redox species was 5.0 mol / L and the concentration of TEMPO · TFSI was 0.05 mol / L.

(実施例13)
レドックス種として1.5mol/Lの2,2,5,5−テトラメチルピロリジノキシル(PROXYL)、0.05mol/Lの1−オキソ−2,2,5,5−テトラメチルピロリジニウムビス(トリフルオロメチルスフホニル)イミド塩(PROXYL・TFSI)を用いたことを除けば、実施例1と同じ手法で光電変換素子を作製した。
(Example 13)
As redox species, 1.5 mol / L 2,2,5,5-tetramethylpyrrolidinoxyl (PROXYL), 0.05 mol / L 1-oxo-2,2,5,5-tetramethylpyrrolidinium bis A photoelectric conversion element was produced in the same manner as in Example 1 except that (trifluoromethylsulfonyl) imide salt (PROXYL · TFSI) was used.

(実施例14)
色素として、D149の代わりにシス−ビス(イソチオシアナト)−ビス−(2,2´−ビピリジル−4,4´−ジカルボン酸)ルテニウム(II)二テトラブチルアンモニウム錯体(N719)を用い、電解質層に1.5mol/Lの4−t−ブチルピリジンを加え、レドックス種であるTEMPOの濃度が1.5mol/L、TEMPO・TFSIの濃度が0.05mol/Lであることを除けば、実施例1と同じ手法で光電変換素子を作製した。
(Example 14)
As the dye, cis-bis (isothiocyanato) -bis- (2,2′-bipyridyl-4,4′-dicarboxylic acid) ruthenium (II) ditetrabutylammonium complex (N719) is used instead of D149, and the electrolyte layer is used. Example 1 except that 1.5 mol / L of 4-t-butylpyridine was added and the concentration of TEMPO, which is a redox species, was 1.5 mol / L and the concentration of TEMPO · TFSI was 0.05 mol / L. The photoelectric conversion element was produced by the same method.

(比較例1)
レドックス種として濃度1.5mol/LのTEMPOのみを用いたことを除けば、実施例1と同じ手法で光電変換素子を作製した。
(Comparative Example 1)
A photoelectric conversion element was produced in the same manner as in Example 1 except that only TEMPO having a concentration of 1.5 mol / L was used as the redox species.

(比較例2)
レドックス種として濃度2.0mol/LのTEMPOのみを用いたことを除けば、実施例1と同じ手法で光電変換素子を作製した。
(Comparative Example 2)
A photoelectric conversion element was produced in the same manner as in Example 1 except that only TEMPO having a concentration of 2.0 mol / L was used as the redox species.

(比較例3)
レドックス種として濃度2.5mol/LのTEMPOのみを用いたことを除けば、実施例1と同じ手法で光電変換素子を作製した。
(Comparative Example 3)
A photoelectric conversion element was produced in the same manner as in Example 1 except that only TEMPO having a concentration of 2.5 mol / L was used as the redox species.

(比較例4)
レドックス種として濃度3.0mol/LのTEMPOのみを用いたことを除けば、実施例1と同じ手法で光電変換素子を作製した。
(Comparative Example 4)
A photoelectric conversion element was produced in the same manner as in Example 1 except that only TEMPO having a concentration of 3.0 mol / L was used as the redox species.

(比較例5)
レドックス種として濃度3.5mol/LのTEMPOのみを用いたことを除けば、実施例1と同じ手法で光電変換素子を作製した。
(Comparative Example 5)
A photoelectric conversion element was produced in the same manner as in Example 1 except that only TEMPO having a concentration of 3.5 mol / L was used as the redox species.

(比較例6)
レドックス種として濃度4.0mol/LのTEMPOのみを用いたことを除けば、実施例1と同じ手法で光電変換素子を作製した。
(Comparative Example 6)
A photoelectric conversion element was produced in the same manner as in Example 1 except that only TEMPO having a concentration of 4.0 mol / L was used as the redox species.

(比較例7)
レドックス種として濃度4.5mol/LのTEMPOのみを用いたことを除けば、実施例1と同じ手法で光電変換素子を作製した。
(Comparative Example 7)
A photoelectric conversion element was produced in the same manner as in Example 1 except that only TEMPO having a concentration of 4.5 mol / L was used as the redox species.

(比較例8)
レドックス種として濃度5.0mol/LのTEMPOのみを用いたことを除けば、実施例1と同じ手法で光電変換素子を作製した。
(Comparative Example 8)
A photoelectric conversion element was produced in the same manner as in Example 1 except that only TEMPO having a concentration of 5.0 mol / L was used as the redox species.

実施例1〜14および比較例1〜8で作製した各光電変換素子の評価として、ソーラーシュミレーター用いてAM1.5、100mW/cm照射条件化でのI−V測定を行った。ここで、光電変換素子の両端を電子負荷装置に接続して、開放電圧から取り出し電圧がゼロになるまで5mV/secステップの電位走査を繰り返して行った。 As evaluation of each photoelectric conversion element manufactured in Examples 1 to 14 and Comparative Examples 1 to 8 were subjected to I-V measurement at AM 1.5, 100 mW / cm 2 irradiation conditions by using a solar simulator. Here, both ends of the photoelectric conversion element were connected to an electronic load device, and potential scanning at a step of 5 mV / sec was repeated until the voltage taken out from the open circuit voltage became zero.

実施例1の変換効率を100%とした場合、実施例2は98%、実施例3は95%、実施例4は90%、実施例5は83%、実施例6は92%、実施例7は96%、実施例8は93%、実施例9は82%、実施例10は91%、実施例11は76%、実施例12は69%、実施例13は74%、実施例14は70%、比較例1〜8は1%未満となった。   Assuming that the conversion efficiency of Example 1 is 100%, Example 2 is 98%, Example 3 is 95%, Example 4 is 90%, Example 5 is 83%, Example 6 is 92%, Example 7 is 96%, Example 8 is 93%, Example 9 is 82%, Example 10 is 91%, Example 11 is 76%, Example 12 is 69%, Example 13 is 74%, Example 14 Was 70%, and Comparative Examples 1 to 8 were less than 1%.

これらの結果から、電解質層にイオン液体、ニトロキシルラジカル、および、オキソアンモニウム塩を含んでいる場合、オキソアンモニウム塩を含まない場合に比べて、変換効率が大きく向上することが分かった。   From these results, it was found that when the electrolyte layer contains an ionic liquid, a nitroxyl radical, and an oxoammonium salt, the conversion efficiency is greatly improved as compared with the case where no oxoammonium salt is contained.

実施例1〜8と実施例11、12を比べると、変換効率の観点からは、レドックス種であるTEMPOとTEMPO・TFSIの合計濃度は2mol/L以上5mol/L以下であることが好ましく、さらに2.5mol/L以上4mol/L以下であることが好ましいことが分かった。実施例9と実施例13を比べると、レドックス種がTEMPOとTEMPO・TFSIの組み合わせではなく、PROXYLとPROXYL・TFSIとの組み合わせの場合でも、レドックス種の合計濃度は2mol/L以上であることが好ましいことが分かった。同様に実施例10と実施例14を比べると、色素がN719であり、電解質層に1.5mol/Lの4−t−ブチルピリジンが加えられている場合でも、レドックス種であるTEMPOとTEMPO・TFSIの合計濃度は2mol/L以上であることが好ましいことが分かった。   Comparing Examples 1 to 8 and Examples 11 and 12, from the viewpoint of conversion efficiency, the total concentration of redox species TEMPO and TEMPO · TFSI is preferably 2 mol / L or more and 5 mol / L or less. It turned out that it is preferable that they are 2.5 mol / L or more and 4 mol / L or less. Comparing Example 9 and Example 13, even if the redox species is not a combination of TEMPO and TEMPO · TFSI, but a combination of PROXYL and PROXYL · TFSI, the total concentration of the redox species may be 2 mol / L or more. It turned out to be preferable. Similarly, when Example 10 and Example 14 are compared, even when the dye is N719 and 1.5 mol / L of 4-t-butylpyridine is added to the electrolyte layer, redox species TEMPO and TEMPO · It was found that the total concentration of TFSI is preferably 2 mol / L or more.

なお、このような変換効率の高い光電変換素子を従来技術に準じて光センサおよび太陽電池に利用することで、実用性に優れた光センサおよび太陽電池を提供することができる。   In addition, the optical sensor and solar cell excellent in practical use can be provided by utilizing such a photoelectric conversion element with high conversion efficiency for an optical sensor and a solar cell according to a prior art.

1 基板
2 触媒層
3 対電極
4 電解質層
5 スペーサ
6 半導体層
7 透明導電膜
8 透明基板
9 半導体電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Catalyst layer 3 Counter electrode 4 Electrolyte layer 5 Spacer 6 Semiconductor layer 7 Transparent conductive film 8 Transparent substrate 9 Semiconductor electrode

Claims (8)

色素を吸着させた半導体層を有する半導体電極と、
前記半導体電極に対向して設けられる対電極と、
イオン液体、ニトロキシルラジカル、および、オキソアンモニウム塩を含み、前記半導体電極および前記対電極に挟まれる位置に、前記半導体電極の前記半導体層および前記対電極それぞれに接して設けられる電解質層と、
を有する光電変換素子。
A semiconductor electrode having a semiconductor layer adsorbed with a dye;
A counter electrode provided opposite to the semiconductor electrode;
An electrolyte layer that includes an ionic liquid, a nitroxyl radical, and an oxoammonium salt, and is provided in contact with each of the semiconductor layer and the counter electrode of the semiconductor electrode at a position sandwiched between the semiconductor electrode and the counter electrode;
A photoelectric conversion element having
請求項1に記載の光電変換素子において、
前記ニトロキシラジカルと前記オキソアンモニウム塩の合計モル濃度が2mol/L以上5mol/L以下である光電変換素子。
The photoelectric conversion element according to claim 1,
A photoelectric conversion element in which a total molar concentration of the nitroxy radical and the oxoammonium salt is 2 mol / L or more and 5 mol / L or less.
請求項1または2に記載の光電変換素子において、
前記ニトロキシルラジカルが、一般式(1)に示した2,2,6,6−テトラメチルピペリジノキシルである光電変換素子。
Figure 2011150881
In the photoelectric conversion element according to claim 1 or 2,
The photoelectric conversion element in which the nitroxyl radical is 2,2,6,6-tetramethylpiperidinoxyl represented by the general formula (1).
Figure 2011150881
請求項1から3のいずれか一に記載の光電変換素子において、
前記イオン液体が、疎水性イオン液体である光電変換素子。
In the photoelectric conversion element according to any one of claims 1 to 3,
The photoelectric conversion element whose said ionic liquid is hydrophobic ionic liquid.
請求項4に記載の光電変換素子において、
前記疎水性イオン液体が、イミダゾリウムカチオンとビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミドアニオンからなる疎水性イオン液体である光電変換素子。
The photoelectric conversion element according to claim 4,
The photoelectric conversion element in which the hydrophobic ionic liquid is a hydrophobic ionic liquid composed of an imidazolium cation and a bis (trifluoromethylsulfonyl) imide anion.
請求項1から5のいずれか一に記載の光電変換素子において、
前記半導体層が、酸化チタンを含む半導体材料により構成されていることを特徴とする光電変換素子。
In the photoelectric conversion element according to any one of claims 1 to 5,
The said semiconductor layer is comprised with the semiconductor material containing a titanium oxide, The photoelectric conversion element characterized by the above-mentioned.
請求項1から6のいずれか一に記載の光電変換素子を含むことを特徴とする光センサ。   An optical sensor comprising the photoelectric conversion element according to claim 1. 請求項1から6のいずれか一に記載の光電変換素子を含むことを特徴とする太陽電池。   A solar cell comprising the photoelectric conversion element according to claim 1.
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