JP2011147840A - 水処理システム - Google Patents
水処理システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011147840A JP2011147840A JP2010008955A JP2010008955A JP2011147840A JP 2011147840 A JP2011147840 A JP 2011147840A JP 2010008955 A JP2010008955 A JP 2010008955A JP 2010008955 A JP2010008955 A JP 2010008955A JP 2011147840 A JP2011147840 A JP 2011147840A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- treated water
- distribution line
- water
- treatment system
- removal rate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 170
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 61
- 239000003673 groundwater Substances 0.000 claims abstract description 55
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims abstract description 40
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims abstract description 30
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 claims abstract description 9
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 38
- 239000012492 regenerant Substances 0.000 claims description 33
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 25
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 16
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 10
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 10
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 10
- 238000001728 nano-filtration Methods 0.000 claims description 10
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 claims description 10
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 10
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 claims description 5
- 238000007865 diluting Methods 0.000 claims description 5
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 4
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims description 4
- 235000020354 squash Nutrition 0.000 claims description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 description 15
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- XKMRRTOUMJRJIA-UHFFFAOYSA-N ammonia nh3 Chemical compound N.N XKMRRTOUMJRJIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 229910001448 ferrous ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 3
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 3
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 3
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005536 corrosion prevention Methods 0.000 description 2
- 238000006392 deoxygenation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 description 2
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- QDHHCQZDFGDHMP-UHFFFAOYSA-N Chloramine Chemical compound ClN QDHHCQZDFGDHMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940123973 Oxygen scavenger Drugs 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 230000000711 cancerogenic effect Effects 0.000 description 1
- 231100000315 carcinogenic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 229940023913 cation exchange resins Drugs 0.000 description 1
- 239000012320 chlorinating reagent Substances 0.000 description 1
- -1 dissolved iron Chemical class 0.000 description 1
- 238000009296 electrodeionization Methods 0.000 description 1
- 229910001447 ferric ion Inorganic materials 0.000 description 1
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010525 oxidative degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000002349 well water Substances 0.000 description 1
- 235000020681 well water Nutrition 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
Abstract
【課題】システムを簡素化することができると共に、ランニングコストを低減することができる水処理システムを提供する。
【解決手段】地下水Ｗ１を嫌気状態で流通させる第１流通ラインＬ１と、地下水Ｗ１を陽イオン交換体３に導入して処理水Ｗ２を製造する陽イオン交換装置２と、処理水Ｗ２を嫌気状態で流通させる第２流通ラインＬ２と、処理水Ｗ２を嫌気状態で貯留する処理水貯留タンク６と、処理水Ｗ２を嫌気状態で被供給装置７に流通させる第３流通ラインＬ３とを備え、地下水Ｗ１及び処理水Ｗ２について、ｐＨ値を５から９の範囲かつ酸化還元電位を次式で求められるＥ１からＥ２の範囲に維持する。
Ｅ１［Ｖ］＝−０．０５９×ｐＨ値
Ｅ２［Ｖ］＝０．７−０．０５９×ｐＨ値
【選択図】図１
【解決手段】地下水Ｗ１を嫌気状態で流通させる第１流通ラインＬ１と、地下水Ｗ１を陽イオン交換体３に導入して処理水Ｗ２を製造する陽イオン交換装置２と、処理水Ｗ２を嫌気状態で流通させる第２流通ラインＬ２と、処理水Ｗ２を嫌気状態で貯留する処理水貯留タンク６と、処理水Ｗ２を嫌気状態で被供給装置７に流通させる第３流通ラインＬ３とを備え、地下水Ｗ１及び処理水Ｗ２について、ｐＨ値を５から９の範囲かつ酸化還元電位を次式で求められるＥ１からＥ２の範囲に維持する。
Ｅ１［Ｖ］＝−０．０５９×ｐＨ値
Ｅ２［Ｖ］＝０．７−０．０５９×ｐＨ値
【選択図】図１
Description
本発明は、ボイラ等に供給する地下水を前処理する水処理システムに関する。
従来より、地下水等の原水に含まれる溶存鉄及び溶存マンガンを、いわゆる接触酸化法によって除去する水処理システムが知られている（例えば、特許文献１参照）。
しかし、上記特許文献に記載の水処理システムは、原水中に含まれる溶存鉄及び溶存マンガンの除去に、薬剤（例えば、次亜塩素酸ナトリウム等の塩素剤）を使用する必要がある。そのため、システムが複雑化すると共に、ランニングコストが増加していた。また、原水中にアンモニア性窒素を多く含有する場合には、塩素剤との反応によりクロラミンを生成し、必要な塩素剤量が更に増加していた。加えて、塩素剤の使用により、副生成物（例えば、発癌性のあるトリハロメタン）の生成が問題視される場合もあった。
本発明は、システムを簡素化することができると共に、ランニングコストを低減することができる水処理システムを提供することを目的とする。
本発明は、地下水を空気と実質的に接触させることなく下流側に流通させる第１流通ラインと、前記第１流通ラインの下流側の端部に接続され、該第１流通ラインを流通する地下水を陽イオン交換体に導入してイオン交換処理することにより処理水を製造するイオン交換装置と、上流側の端部が前記イオン交換装置に接続され、処理水を空気と実質的に接触させることなく下流側に流通させる第２流通ラインと、前記第２流通ラインの下流側の端部に接続され、処理水を空気と実質的に接触させることなく貯留する処理水貯留タンクと、前記処理水貯留タンクに貯留された処理水を空気と実質的に接触させることなく被供給装置に流通させる第３流通ラインと、を備え、前記第１流通ラインを流通する地下水、前記第２流通ラインを流通する処理水、前記処理水貯留タンクに貯留される処理水及び前記第３流通ラインを流通する処理水について、ｐＨ値を５から９の範囲、かつ、酸化還元電位を次式で求められるＥ１からＥ２の範囲に維持する水処理システムに関する。
Ｅ１［Ｖ］＝−０．０５９×ｐＨ値
Ｅ２［Ｖ］＝０．７−０．０５９×ｐＨ値
Ｅ１［Ｖ］＝−０．０５９×ｐＨ値
Ｅ２［Ｖ］＝０．７−０．０５９×ｐＨ値
また、前記陽イオン交換体は、強酸性陽イオン交換樹脂からなることが好ましい。
また、前記陽イオン交換体は、ゼオライトからなることが好ましい。
また、前記イオン交換装置は、地下水又は処理水によって希釈可能な再生剤溶液を前記陽イオン交換体に供給する再生剤供給装置と、前記再生剤溶液を希釈する地下水若しくは処理水に還元剤を添加し、又は前記再生剤溶液に還元剤を添加する還元剤添加装置と、を備えることが好ましい。
また、前記第２流通ラインに、処理水をナノ濾過膜により膜分離する膜分離装置を備え、前記ナノ濾過膜は、溶存シリカの除去率が１から１０％、かつ、塩化物イオンの除去率及び硫酸イオンの除去率が４０から６０％であることが好ましい。
また、前記第２流通ラインに、処理水を逆浸透膜により膜分離する膜分離装置を備え、
前記逆浸透膜は、溶存シリカの除去率が９０％以上、かつ、塩化物イオンの除去率及び硫酸イオンの除去率が９０％以上であることが好ましい。
前記逆浸透膜は、溶存シリカの除去率が９０％以上、かつ、塩化物イオンの除去率及び硫酸イオンの除去率が９０％以上であることが好ましい。
本発明によれば、システムを簡素化することができると共に、ランニングコストを低減することができる水処理システムを提供することができる。
〔第１実施形態〕
以下に、本発明の第１実施形態について図１を参照しながら説明する。図１は、本発明の第１実施形態の水処理システム１を示す構成図である。
図１に示すように、水処理システム１は、ボイラ７に供給する地下水Ｗ１を前処理するものである。この地下水Ｗ１は、例えば、通常の水質を有する井戸水等の地下水である。具体的には、地下水Ｗ１は、そのｐＨ値が５から９の範囲にあり、かつ、酸化還元電位（ＯＲＰ値）が次式（１）及び（２）で求められるＥ１からＥ２の範囲にある。
Ｅ１［Ｖ］＝−０．０５９×ｐＨ値 … （１）
Ｅ２［Ｖ］＝０．７−０．０５９×ｐＨ値 … （２）
以下に、本発明の第１実施形態について図１を参照しながら説明する。図１は、本発明の第１実施形態の水処理システム１を示す構成図である。
図１に示すように、水処理システム１は、ボイラ７に供給する地下水Ｗ１を前処理するものである。この地下水Ｗ１は、例えば、通常の水質を有する井戸水等の地下水である。具体的には、地下水Ｗ１は、そのｐＨ値が５から９の範囲にあり、かつ、酸化還元電位（ＯＲＰ値）が次式（１）及び（２）で求められるＥ１からＥ２の範囲にある。
Ｅ１［Ｖ］＝−０．０５９×ｐＨ値 … （１）
Ｅ２［Ｖ］＝０．７−０．０５９×ｐＨ値 … （２）
図１に示すように、水処理システム１は、地下水Ｗ１を流通させる第１流通ラインＬ１と、処理水（軟化水）Ｗ２を製造する陽イオン交換装置２と、処理水Ｗ２を下流側に流通させる第２流通ラインＬ２と、処理水Ｗ２を貯留する処理水貯留タンク６と、処理水Ｗ２を被供給装置としてのボイラ７に流通させる第３流通ラインＬ３と、を主体に構成されている。
なお、本明細書でいう「ライン」とは、流路、経路、管路等の流体の流通が可能なラインの総称である。
なお、本明細書でいう「ライン」とは、流路、経路、管路等の流体の流通が可能なラインの総称である。
第１流通ラインＬ１は、ポンプ等（図示せず）によって地下から汲み上げられた地下水Ｗ１を、空気（特に、酸素）と実質的に接触させることなく下流側の陽イオン交換装置２に流通させる。
ここで、「空気と実質的に接触させることなく」とは、「嫌気状態をほぼ保ったまま」の趣旨である。この趣旨は、後述する第２流通ラインＬ２、処理水貯留タンク６及び第３流通ラインＬ３についても同様である。
ここで、「空気と実質的に接触させることなく」とは、「嫌気状態をほぼ保ったまま」の趣旨である。この趣旨は、後述する第２流通ラインＬ２、処理水貯留タンク６及び第３流通ラインＬ３についても同様である。
陽イオン交換装置２は、第１流通ラインＬ１の下流側端部に接続されている。陽イオン交換装置２は、陽イオン交換体３と、再生剤供給装置４と、還元剤添加装置５と、コントロールバルブ（図示せず）と、を有する。具体的には、陽イオン交換体３は、ナトリウム型の陽イオン交換体であり、強酸性陽イオン交換樹脂からなる。
陽イオン交換装置２は、第１流通ラインＬ１を流通する地下水Ｗ１を、この陽イオン交換体３に導入してイオン交換処理することにより、溶存鉄、溶存マンガン、硬度成分及びアンモニア性窒素等の陽イオンが除去された処理水Ｗ２（軟化水）を製造する。
コントロールバルブは、陽イオン交換装置２の内部に設けられ、陽イオン交換装置２を流通する流体（地下水Ｗ１、処理水Ｗ２及び再生剤溶液（後述）等）の流路を制御するものである。
陽イオン交換装置２は、このコントロールバルブを作動させ、再生剤溶液を地下水Ｗ１によって希釈可能に構成されている。具体的には、陽イオン交換装置２は、地下水Ｗ１及び再生剤溶液（後述）をコントロールバルブ内に導入して混合するように構成されている。これにより、再生剤溶液は、コントロールバルブ内において、空気と実質的に接触することなく、地下水Ｗ１によって希釈される。
陽イオン交換装置２は、このコントロールバルブを作動させ、再生剤溶液を地下水Ｗ１によって希釈可能に構成されている。具体的には、陽イオン交換装置２は、地下水Ｗ１及び再生剤溶液（後述）をコントロールバルブ内に導入して混合するように構成されている。これにより、再生剤溶液は、コントロールバルブ内において、空気と実質的に接触することなく、地下水Ｗ１によって希釈される。
再生剤供給装置４は、陽イオン交換体３を再生させる再生剤溶液を、陽イオン交換体３に供給可能に構成されている。再生剤溶液としては、例えば、塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）溶液が挙げられる。
還元剤添加装置５は、再生剤溶液を希釈する地下水Ｗ１に、還元剤を添加するものである。還元剤としては、例えば、亜硫酸ナトリウムや重亜硫酸ナトリウム等が挙げられる。この還元剤添加装置５は、地下水Ｗ１の水質が上述のＥ１からＥ２の範囲から逸脱している場合（例えば、地下水Ｗ１の汲み上げ時点でのｐＨ値が７であり、かつ酸化還元電位が２９０ｍＶを超える場合等）に、例外的かつ最小限度に使用される。
第２流通ラインＬ２の上流側の端部は、陽イオン交換装置２に接続されている。第２流通ラインＬ２の下流側の端部は、処理水貯留タンク６（後述）に接続されている。第２流通ラインＬ２は、陽イオン交換装置２で製造された処理水Ｗ２を、空気と実質的に接触させることなく処理水貯留タンク６に流通させる。
また、第２流通ラインＬ２には、硬度監視装置９が設けられている。硬度監視装置９は、第２流通ラインＬ２における測定点Ｊ１において、処理水Ｗ２の硬度を監視（測定）する。
また、第２流通ラインＬ２には、硬度監視装置９が設けられている。硬度監視装置９は、第２流通ラインＬ２における測定点Ｊ１において、処理水Ｗ２の硬度を監視（測定）する。
処理水貯留タンク６は、第２流通ラインＬ２の下流側の端部に接続される。処理水貯留タンク６は、密閉タンクとして構成され、内部にビーズやフロート等の浮遊体６ａを有する。浮遊体６ａは、処理水貯留タンク６の処理水Ｗ２の水面に密集して浮かべられることにより、処理水貯留タンク６内に存在する空気と処理水Ｗ２とを、実質的に接触させないようにしている。
第３流通ラインＬ３の上流側の端部は、処理水貯留タンク６に接続されている。第３流通ラインＬ３の下流側の端部は、ボイラ７（後述）に接続されている。第３流通ラインＬ３には、処理水Ｗ２を下流側に送出するポンプ８が設けられている。第３流通ラインＬ３は、処理水貯留タンク６に貯留された処理水Ｗ２を、空気と実質的に接触させることなくボイラ７に流通させる。
ボイラ７は、第３流通ラインＬ３から供給される処理水Ｗ２を加熱して蒸気を発生させ、その蒸気を負荷装置（図示せず）に供給する。
次に、水処理システム１の作用について説明する。通常の地下水Ｗ１は、地下から汲み上げられた時点で、ｐＨ値が５から９の範囲にあり、かつ、酸化還元電位（ＯＲＰ値）が上述の式（１）及び（２）で求められるＥ１からＥ２の範囲、いわゆる還元状態（嫌気状態、脱酸素状態）となっている。
そのため、この地下水Ｗ１を、嫌気状態（還元状態）をほぼ保ったままイオン交換処理することにより、溶存鉄、溶存マンガン、硬度成分等のスケールやスラッジの原因となる陽イオンを除去し、同時に硝酸性窒素も除去して処理水Ｗ２を製造することができる。また、この処理水Ｗ２のｐＨ値及び酸化還元電位を上記範囲内に維持することができる。
そのため、この地下水Ｗ１を、嫌気状態（還元状態）をほぼ保ったままイオン交換処理することにより、溶存鉄、溶存マンガン、硬度成分等のスケールやスラッジの原因となる陽イオンを除去し、同時に硝酸性窒素も除去して処理水Ｗ２を製造することができる。また、この処理水Ｗ２のｐＨ値及び酸化還元電位を上記範囲内に維持することができる。
そして、この処理水Ｗ２を、嫌気状態をほぼ保ったまま、第２流通ラインＬ２を介して処理水貯留タンク６に貯留し、更に、処理水貯留タンク６に貯留された処理水Ｗ２を、嫌気状態をほぼ保ったまま、第３流通ラインＬ３を介してボイラ７に供給する。
そのため、処理水Ｗ２のｐＨ値及び酸化還元電位を上記範囲内に維持しながら、ボイラ７に供給することができる。従って、各種配管やボイラ７の腐食抑制のために、脱酸素剤等の薬剤を添加する必要がない。
そのため、処理水Ｗ２のｐＨ値及び酸化還元電位を上記範囲内に維持しながら、ボイラ７に供給することができる。従って、各種配管やボイラ７の腐食抑制のために、脱酸素剤等の薬剤を添加する必要がない。
また、地下水Ｗ１及び処理水Ｗ２を、嫌気状態をほぼ保ったまま、上記のように下流側のボイラ７に流通することにより、地下水Ｗ１中の鉄分を第一鉄イオン（Ｆｅ２＋）の状態に保つと共に、地下水Ｗ１及び処理水Ｗ２の溶存酸素濃度を１ｍｇ／Ｌ以下とすることができる。
従って、地下水Ｗ１及び処理水Ｗ２の酸化還元電位を、Ｅ１からＥ２の範囲に維持することにより、地下水Ｗ１中の鉄分は、第一鉄イオン（Ｆｅ２＋）の状態で存在する。そのため、陽イオン交換装置２において、イオン交換反応による鉄分の除去が容易になると共に、陽イオン交換体３の再生も容易になる。また、地下水Ｗ１及び処理水Ｗ２の溶存酸素濃度が、１ｍｇ／Ｌ以下となり、更なる脱酸素処理を行わなくても、各種配管やボイラ７の腐食を抑制することができる。
処理水Ｗ２の硬度は、第２流通ラインＬ２における測定点Ｊ１において硬度監視装置９によって監視（測定）される。そして、処理水Ｗ２の硬度が所定の閾値に達した場合には、再生剤供給装置４によって再生剤溶液を陽イオン交換体３に供給する。これにより、陽イオン交換体３は、再生される。
還元剤添加装置５は、地下水Ｗ１の水質が上述のＥ１からＥ２の範囲から逸脱している場合（例えば、地下水Ｗ１の汲み上げ時点でのｐＨ値が７であり、かつ酸化還元電位が２９０ｍＶを超える場合等）に、再生剤溶液を希釈する地下水Ｗ１に、還元剤を添加する。この還元剤の添加により、陽イオン交換体３に吸着している第二鉄イオンが第一鉄イオンに還元され、再生時に脱着し易くなる。そのため、再生剤溶液による陽イオン交換体３の再生を、より効率的に行うことができる。
この還元剤添加装置５は、地下水Ｗ１の水質が前記所定の場合に限り、例外的かつ最小限度に使用される。
この還元剤添加装置５は、地下水Ｗ１の水質が前記所定の場合に限り、例外的かつ最小限度に使用される。
以上に説明した第１実施形態の水処理システム１によれば、以下に示す各効果が奏される。
第１実施形態の水処理システム１においては、地下水Ｗ１を空気と実質的に接触させることなく流通させる第１流通ラインＬ１と、地下水Ｗ１を陽イオン交換体３に導入して処理水Ｗ２を製造する陽イオン交換装置２と、処理水Ｗ２を空気と実質的に接触させることなく流通させる第２流通ラインＬ２と、処理水Ｗ２を空気と実質的に接触させることなく貯留する処理水貯留タンク６と、処理水Ｗ２を空気と実質的に接触させることなくボイラ７に流通させる第３流通ラインＬ３と、を備える。
第１実施形態の水処理システム１においては、地下水Ｗ１を空気と実質的に接触させることなく流通させる第１流通ラインＬ１と、地下水Ｗ１を陽イオン交換体３に導入して処理水Ｗ２を製造する陽イオン交換装置２と、処理水Ｗ２を空気と実質的に接触させることなく流通させる第２流通ラインＬ２と、処理水Ｗ２を空気と実質的に接触させることなく貯留する処理水貯留タンク６と、処理水Ｗ２を空気と実質的に接触させることなくボイラ７に流通させる第３流通ラインＬ３と、を備える。
そのため、第１流通ラインＬ１を流通する地下水Ｗ１、第２流通ラインＬ２を流通する処理水Ｗ２、処理水貯留タンク６に貯留される処理水Ｗ２及び第３流通ラインＬ３を流通する処理水Ｗ２について、ｐＨ値を５から９の範囲、かつ、酸化還元電位を上述のＥ１からＥ２の範囲に維持することができる。
従って、第１実施形態の水処理システム１によれば、除鉄・除マンガン処理のために従来必要とされていた次亜塩素酸ナトリウム等の添加処理や、防食のための脱酸素処理を不要にすることができ、ランニングコストを低減することができると共に、水処理システム１を簡素化することができる。
なお、後述する第２実施形態及び第３実施形態のシステムにおいては、次亜塩素酸ナトリウムの添加処理が不要となることにより、ナノ濾過膜や逆浸透膜の酸化劣化防止のために必要とされていた還元剤（例えば、重亜硫酸ナトリウム等）の添加処理も不要となる。
従って、第１実施形態の水処理システム１によれば、除鉄・除マンガン処理のために従来必要とされていた次亜塩素酸ナトリウム等の添加処理や、防食のための脱酸素処理を不要にすることができ、ランニングコストを低減することができると共に、水処理システム１を簡素化することができる。
なお、後述する第２実施形態及び第３実施形態のシステムにおいては、次亜塩素酸ナトリウムの添加処理が不要となることにより、ナノ濾過膜や逆浸透膜の酸化劣化防止のために必要とされていた還元剤（例えば、重亜硫酸ナトリウム等）の添加処理も不要となる。
また、第１実施形態の水処理システム１においては、陽イオン交換体３は、強酸性陽イオン交換樹脂からなる。
そのため、汎用的な陽イオン交換体３によって、地下水Ｗ１中の溶存鉄、溶存マンガン、硬度成分及びアンモニア性窒素等の陽イオンを、ナトリウムイオンで置換することができ、容易に処理水Ｗ２（軟化水）を製造することができる。
そのため、汎用的な陽イオン交換体３によって、地下水Ｗ１中の溶存鉄、溶存マンガン、硬度成分及びアンモニア性窒素等の陽イオンを、ナトリウムイオンで置換することができ、容易に処理水Ｗ２（軟化水）を製造することができる。
また、第１実施形態の水処理システム１においては、陽イオン交換装置２は、地下水Ｗ１によって希釈可能な再生剤溶液を陽イオン交換体３に供給する再生剤供給装置４と、再生剤溶液を希釈する地下水Ｗ１に還元剤を添加する還元剤添加装置５と、を備える。
そのため、再生剤供給装置４による再生剤溶液の供給によって、陽イオン交換体３を容易に再生することができる。また、還元剤添加装置５による還元剤溶液の供給によって、陽イオン交換体３を効率的に再生することができる。
そのため、再生剤供給装置４による再生剤溶液の供給によって、陽イオン交換体３を容易に再生することができる。また、還元剤添加装置５による還元剤溶液の供給によって、陽イオン交換体３を効率的に再生することができる。
次に、本発明の他の実施形態について説明する。他の実施形態については、主として、第１実施形態とは異なる点を中心に説明し、第１実施形態と同様の構成については、同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。他の実施形態において特に説明しない点は、第１実施形態についての説明が適宜適用又は援用される。
〔第２実施形態〕
本発明の第２実施形態について図２を参照しながら説明する。図２は、本発明の第２実施形態の水処理システム１Ａを示す構成図である。
図２に示すように、第２実施形態の水処理システム１Ａは、前記第１実施形態における水処理システム１の第２流通ラインＬ２に、膜分離装置１５を更に備えたものである。
本発明の第２実施形態について図２を参照しながら説明する。図２は、本発明の第２実施形態の水処理システム１Ａを示す構成図である。
図２に示すように、第２実施形態の水処理システム１Ａは、前記第１実施形態における水処理システム１の第２流通ラインＬ２に、膜分離装置１５を更に備えたものである。
膜分離装置１５は、ナノ濾過膜（図示せず）を有し、処理水Ｗ２をナノ濾過膜により膜分離処理し、処理水Ｗ３を製造するものである。このナノ濾過膜は、溶存シリカの除去率が１から１０％、かつ、塩化物イオンの除去率及び硫酸イオンの除去率が４０から６０％である。
膜分離装置１５で製造された処理水Ｗ３は、嫌気状態をほぼ保ったまま、第２流通ラインＬ２を介して処理水貯留タンク６に貯留される。処理水貯留タンク６に貯留された処理水Ｗ３は、嫌気状態をほぼ保ったまま、第３流通ラインＬ３を介してボイラ７に供給される。
以上に説明した第２実施形態の水処理システム１Ａによれば、前記第１実施形態の水処理システム１と同様の効果が奏されると共に、以下に示す各効果が奏される。
第２実施形態の水処理システム１Ａにおいては、前記第１実施形態の水処理システム１の構成に加え、第２流通ラインＬ２に、ナノ濾過膜を有した膜分離装置１５を備える。このナノ濾過膜は、溶存シリカの除去率が１から１０％、かつ、塩化物イオンの除去率及び硫酸イオンの除去率が４０から６０％である。
第２実施形態の水処理システム１Ａにおいては、前記第１実施形態の水処理システム１の構成に加え、第２流通ラインＬ２に、ナノ濾過膜を有した膜分離装置１５を備える。このナノ濾過膜は、溶存シリカの除去率が１から１０％、かつ、塩化物イオンの除去率及び硫酸イオンの除去率が４０から６０％である。
そのため、ボイラ７の伝熱管等の腐食を促進する塩化物イオン及び硫酸イオンを確実に除去することができると共に、地下水Ｗ１由来のシリカを伝熱管等の防食に寄与させることができる。
〔第３実施形態〕
本発明の第３実施形態について図３を参照しながら説明する。図３は、本発明の第３実施形態の水処理システム１Ｂを示す構成図である。
図３に示すように、第３実施形態の水処理システム１Ｂは、前記第１実施形態における水処理システム１の第２流通ラインＬ２に、膜分離装置２０を更に備える。第３実施形態の水処理システム１Ｂは、前記第１実施形態におけるボイラ７を備えておらず、いわゆる純水製造システムとして構成されている。
本発明の第３実施形態について図３を参照しながら説明する。図３は、本発明の第３実施形態の水処理システム１Ｂを示す構成図である。
図３に示すように、第３実施形態の水処理システム１Ｂは、前記第１実施形態における水処理システム１の第２流通ラインＬ２に、膜分離装置２０を更に備える。第３実施形態の水処理システム１Ｂは、前記第１実施形態におけるボイラ７を備えておらず、いわゆる純水製造システムとして構成されている。
膜分離装置２０は、逆浸透膜装置（図示せず）を有し、処理水Ｗ２を逆浸透膜により透過水（純水）Ｗ４と濃縮水（図示せず）とに膜分離するものである。この逆浸透膜は、溶存シリカの除去率が９０％以上、かつ、塩化物イオンの除去率及び硫酸イオンの除去率が９０％以上である。
膜分離装置２０で製造された処理水としての透過水Ｗ４は、嫌気状態をほぼ保ったまま、第２流通ラインＬ２を介して処理水貯留タンク６に貯留される。処理水貯留タンク６に貯留された透過水Ｗ４は、嫌気状態をほぼ保ったまま、第３流通ラインＬ３を介して、図示しない被供給装置等に純水として供給される。
以上に説明した第３実施形態の水処理システム１Ｂによれば、前記第１実施形態の水処理システム１と同様の効果が奏されると共に、以下に示す各効果が奏される。
第３実施形態の水処理システム１Ｂにおいては、前記第１実施形態の水処理システム１の構成に加え、第２流通ラインＬ２に、逆浸透膜装置を有した膜分離装置２０を備える。この逆浸透膜は、溶存シリカの除去率が９０％以上、かつ、塩化物イオンの除去率及び硫酸イオンの除去率が９０％以上である。
第３実施形態の水処理システム１Ｂにおいては、前記第１実施形態の水処理システム１の構成に加え、第２流通ラインＬ２に、逆浸透膜装置を有した膜分離装置２０を備える。この逆浸透膜は、溶存シリカの除去率が９０％以上、かつ、塩化物イオンの除去率及び硫酸イオンの除去率が９０％以上である。
そのため、溶存シリカ、塩化物イオン及び硫酸イオンを確実に除去することができ、純度の高い透過水Ｗ４（純水）を製造することができる。
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は、前述した実施形態に制限されるものではなく、適宜変更が可能である。
例えば、前記第１実施形態から前記第３実施形態においては、陽イオン交換体３は、ナトリウム型の陽イオン交換体であるとして説明したが、カリウム型又は水素イオン型の陽イオン交換体であってもよい。陽イオン交換体３をカリウム型の陽イオン交換体とする場合は、再生剤供給装置４の再生剤として、塩化カリウムを使用するとよい。また、陽イオン交換体３を水素イオン型の陽イオン交換体とする場合は、再生剤供給装置４の再生剤として、塩酸を使用するとよい。
例えば、前記第１実施形態から前記第３実施形態においては、陽イオン交換体３は、ナトリウム型の陽イオン交換体であるとして説明したが、カリウム型又は水素イオン型の陽イオン交換体であってもよい。陽イオン交換体３をカリウム型の陽イオン交換体とする場合は、再生剤供給装置４の再生剤として、塩化カリウムを使用するとよい。また、陽イオン交換体３を水素イオン型の陽イオン交換体とする場合は、再生剤供給装置４の再生剤として、塩酸を使用するとよい。
また、前記第１実施形態から前記第３実施形態においては、再生剤供給装置４は、再生剤溶液を地下水Ｗ１によって希釈するとして説明したが、処理水Ｗ２によって希釈してもよい。
また、前記第１実施形態から前記第３実施形態においては、陽イオン交換体３は、強酸性陽イオン交換樹脂からなるものとして説明したが、アンモニウムイオン（アンモニア性窒素）の吸着性に優れるゼオライト（例えば、ナトリウム型の人工ゼオライト）からなっていてもよい。
また、前記第１実施形態から前記第３実施形態においては、還元剤添加装置５は、再生剤溶液を希釈する地下水Ｗ１に還元剤を添加するものとして説明したが、再生剤溶液又は再生剤溶液を希釈する処理水Ｗ２等に還元剤を添加してもよい。
また、前記第１実施形態から前記第３実施形態においては、処理水貯留タンク６を密閉タンクとし構成し、処理水Ｗ２等の水面に浮遊体６ａを浮かべることにより、処理水Ｗ２等と処理水貯留タンク６内の空気とを実質的に接触させないようにしているが、これに制限されない。例えば、処理水貯留タンク６を密閉タンクとして構成し、処理水Ｗ２等の水面の上方に形成される空間に窒素ガスを封入してもよい。
また、前記第１実施形態から前記第３実施形態においては、地下水Ｗ１の水質が上述のＥ１からＥ２の範囲から逸脱している場合（例えば、地下水Ｗ１の汲み上げ時点でのｐＨ値が７であり、かつ酸化還元電位が２９０ｍＶを超える場合等）に、還元剤添加装置５によって地下水Ｗ１に還元剤を添加するものとして説明したが、これに制限されない。例えば、汲み上げた地下水Ｗ１を一旦受水槽（図示せず）で受け、その地下水Ｗ１に、窒素ガスや水素ガスをバブリングしたり、加圧溶解させることで、イオン交換前の酸化還元電位値を低下させるようにしてもよい。
また、前記第３実施形態においては、膜分離装置２０で製造された透過水Ｗ４を、第２流通ラインＬ２を介して処理水貯留タンク６に貯留するものとして説明したが、膜分離装置２０の下流側における第２流通ラインＬ２に、電気脱イオン装置（ＥＤＩ）を更に設けてもよい。これにより、更に高純度の純水を提供することができる。
１，１Ａ，１Ｂ 水処理システム
２ 陽イオン交換装置
３ 陽イオン交換体
４ 再生剤供給装置
５ 還元剤添加装置
６ 処理水貯留タンク
７ ボイラ（被供給装置）
１０ 還元剤添加装置
１５，２０ 膜分離装置
Ｌ１ 第１流通ライン
Ｌ２ 第２流通ライン
Ｌ３ 第３流通ライン
Ｗ１ 地下水
Ｗ２，Ｗ４ 処理水
Ｗ３ 透過水（処理水）
２ 陽イオン交換装置
３ 陽イオン交換体
４ 再生剤供給装置
５ 還元剤添加装置
６ 処理水貯留タンク
７ ボイラ（被供給装置）
１０ 還元剤添加装置
１５，２０ 膜分離装置
Ｌ１ 第１流通ライン
Ｌ２ 第２流通ライン
Ｌ３ 第３流通ライン
Ｗ１ 地下水
Ｗ２，Ｗ４ 処理水
Ｗ３ 透過水（処理水）
Claims (6)
- 地下水を空気と実質的に接触させることなく下流側に流通させる第１流通ラインと、
前記第１流通ラインの下流側の端部に接続され、該第１流通ラインを流通する地下水を陽イオン交換体に導入してイオン交換処理することにより処理水を製造するイオン交換装置と、
上流側の端部が前記イオン交換装置に接続され、処理水を空気と実質的に接触させることなく下流側に流通させる第２流通ラインと、
前記第２流通ラインの下流側の端部に接続され、処理水を空気と実質的に接触させることなく貯留する処理水貯留タンクと、
前記処理水貯留タンクに貯留された処理水を空気と実質的に接触させることなく被供給装置に流通させる第３流通ラインと、
を備え、
前記第１流通ラインを流通する地下水、前記第２流通ラインを流通する処理水、前記処理水貯留タンクに貯留される処理水及び前記第３流通ラインを流通する処理水について、ｐＨ値を５から９の範囲、かつ、酸化還元電位を次式で求められるＥ１からＥ２の範囲に維持する水処理システム。
Ｅ１［Ｖ］＝−０．０５９×ｐＨ値
Ｅ２［Ｖ］＝０．７−０．０５９×ｐＨ値 - 前記陽イオン交換体は、強酸性陽イオン交換樹脂からなる請求項１に記載の水処理システム。
- 前記陽イオン交換体は、ゼオライトからなる請求項１に記載の水処理システム。
- 前記イオン交換装置は、
地下水又は処理水によって希釈可能な再生剤溶液を前記陽イオン交換体に供給する再生剤供給装置と、
前記再生剤溶液を希釈する地下水若しくは処理水に還元剤を添加し、又は前記再生剤溶液に還元剤を添加する還元剤添加装置と、
を備える請求項１から３のいずれか一つに記載の水処理システム。 - 前記第２流通ラインに、処理水をナノ濾過膜により膜分離する膜分離装置を備え、
前記ナノ濾過膜は、溶存シリカの除去率が１から１０％、かつ、塩化物イオンの除去率及び硫酸イオンの除去率が４０から６０％である請求項１から４のいずれか一つに記載の水処理システム。 - 前記第２流通ラインに、処理水を逆浸透膜により膜分離する膜分離装置を備え、
前記逆浸透膜は、溶存シリカの除去率が９０％以上、かつ、塩化物イオンの除去率及び硫酸イオンの除去率が９０％以上である請求項１から４のいずれか一つに記載の水処理システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010008955A JP5463928B2 (ja) | 2010-01-19 | 2010-01-19 | 水処理システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010008955A JP5463928B2 (ja) | 2010-01-19 | 2010-01-19 | 水処理システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011147840A true JP2011147840A (ja) | 2011-08-04 |
| JP5463928B2 JP5463928B2 (ja) | 2014-04-09 |
Family
ID=44535353
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010008955A Expired - Fee Related JP5463928B2 (ja) | 2010-01-19 | 2010-01-19 | 水処理システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5463928B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101541589B1 (ko) * | 2013-03-26 | 2015-08-03 | 세종대학교산학협력단 | 무산소 연수시스템 |
| JP2018012069A (ja) * | 2016-07-21 | 2018-01-25 | 株式会社日立製作所 | 水処理システム |
| JP2018176141A (ja) * | 2017-04-21 | 2018-11-15 | 美浜株式会社 | 水処理装置及び水処理方法 |
| CN118978255A (zh) * | 2024-08-06 | 2024-11-19 | 安徽建筑大学 | 一种高氮垃圾渗滤液的降解装置和降解方法 |
Citations (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6060456A (ja) * | 1983-09-14 | 1985-04-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 給湯機器 |
| JPH09150165A (ja) * | 1995-11-28 | 1997-06-10 | Toray Ind Inc | 水処理方法およびその装置 |
| JPH10328696A (ja) * | 1997-05-30 | 1998-12-15 | Mitsubishi Electric Corp | 水の加熱部にスケールが発生するのを抑制する方法及びこれを用いた加熱機器 |
| JPH11660A (ja) * | 1997-06-12 | 1999-01-06 | Hiroshima Alum Kogyo Kk | 工業用循環水配管系内の閉塞防止剤および閉塞防止方法 |
| JP2002346562A (ja) * | 2001-05-25 | 2002-12-03 | Toshiba Plant Kensetsu Co Ltd | 水処理方法および水処理装置 |
| JP2003047978A (ja) * | 2001-08-08 | 2003-02-18 | Fudo Constr Co Ltd | 地下水浄化杭用材料、その製造方法及び地下水浄化杭 |
| JP2004293922A (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Miura Co Ltd | ボイラシステム |
| JP2005013851A (ja) * | 2003-06-25 | 2005-01-20 | Miura Co Ltd | ボイラ用給水の処理方法および処理装置 |
| JP2008157579A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Miura Co Ltd | ボイラ給水用補給水の供給方法 |
| JP2008157577A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Miura Co Ltd | ボイラ給水用補給水の供給方法 |
| JP2008157580A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Miura Co Ltd | ボイラ給水用補給水の供給方法 |
| JP2009112921A (ja) * | 2007-11-05 | 2009-05-28 | Miura Co Ltd | 水処理システム |
| JP2009172462A (ja) * | 2008-01-22 | 2009-08-06 | Miura Co Ltd | 水質改質装置、及び水処理システム、並びに排水の再利用システム |
| JP2009192194A (ja) * | 2008-02-18 | 2009-08-27 | Miura Co Ltd | ボイラシステム |
-
2010
- 2010-01-19 JP JP2010008955A patent/JP5463928B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6060456A (ja) * | 1983-09-14 | 1985-04-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 給湯機器 |
| JPH09150165A (ja) * | 1995-11-28 | 1997-06-10 | Toray Ind Inc | 水処理方法およびその装置 |
| JPH10328696A (ja) * | 1997-05-30 | 1998-12-15 | Mitsubishi Electric Corp | 水の加熱部にスケールが発生するのを抑制する方法及びこれを用いた加熱機器 |
| JPH11660A (ja) * | 1997-06-12 | 1999-01-06 | Hiroshima Alum Kogyo Kk | 工業用循環水配管系内の閉塞防止剤および閉塞防止方法 |
| JP2002346562A (ja) * | 2001-05-25 | 2002-12-03 | Toshiba Plant Kensetsu Co Ltd | 水処理方法および水処理装置 |
| JP2003047978A (ja) * | 2001-08-08 | 2003-02-18 | Fudo Constr Co Ltd | 地下水浄化杭用材料、その製造方法及び地下水浄化杭 |
| JP2004293922A (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Miura Co Ltd | ボイラシステム |
| JP2005013851A (ja) * | 2003-06-25 | 2005-01-20 | Miura Co Ltd | ボイラ用給水の処理方法および処理装置 |
| JP2008157579A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Miura Co Ltd | ボイラ給水用補給水の供給方法 |
| JP2008157577A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Miura Co Ltd | ボイラ給水用補給水の供給方法 |
| JP2008157580A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Miura Co Ltd | ボイラ給水用補給水の供給方法 |
| JP2009112921A (ja) * | 2007-11-05 | 2009-05-28 | Miura Co Ltd | 水処理システム |
| JP2009172462A (ja) * | 2008-01-22 | 2009-08-06 | Miura Co Ltd | 水質改質装置、及び水処理システム、並びに排水の再利用システム |
| JP2009192194A (ja) * | 2008-02-18 | 2009-08-27 | Miura Co Ltd | ボイラシステム |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101541589B1 (ko) * | 2013-03-26 | 2015-08-03 | 세종대학교산학협력단 | 무산소 연수시스템 |
| JP2018012069A (ja) * | 2016-07-21 | 2018-01-25 | 株式会社日立製作所 | 水処理システム |
| JP2018176141A (ja) * | 2017-04-21 | 2018-11-15 | 美浜株式会社 | 水処理装置及び水処理方法 |
| CN118978255A (zh) * | 2024-08-06 | 2024-11-19 | 安徽建筑大学 | 一种高氮垃圾渗滤液的降解装置和降解方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP5463928B2 (ja) | 2014-04-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102781849B (zh) | 水处理方法和超纯水制造方法 | |
| CN102781850B (zh) | 水处理方法及超纯水的制造方法 | |
| JP2010531724A5 (ja) | ||
| JP5914964B2 (ja) | 超純水製造方法 | |
| JP5609174B2 (ja) | 水処理システム | |
| US20140076817A1 (en) | Method and System for Treating Produced Water | |
| JP5463928B2 (ja) | 水処理システム | |
| JP5516892B2 (ja) | 水処理方法及び超純水製造方法 | |
| JP5789922B2 (ja) | 水処理方法及び超純水製造方法 | |
| JP6872442B2 (ja) | 水処理方法および水処理装置 | |
| WO2012128212A1 (ja) | 水処理方法及び超純水製造方法 | |
| JP5604913B2 (ja) | 水処理方法及び超純水製造方法 | |
| JP5782675B2 (ja) | 水処理方法及び超純水製造方法 | |
| JP2012196630A (ja) | 酸性液の処理装置及び処理方法 | |
| JP2011183245A (ja) | 超純水製造方法及び装置 | |
| EP3068731A1 (en) | A process for removing urea from water | |
| JP2019103957A (ja) | 水処理システム | |
| WO2018193907A1 (ja) | 水処理方法 | |
| JP2012196626A (ja) | 酸性液の処理装置及び処理方法 | |
| JP2023000376A (ja) | 純水製造装置及び純水製造方法 | |
| JP2019107592A (ja) | 透過水の製造方法、水処理装置及び該水処理装置の運転方法 | |
| WO2022168948A1 (ja) | 水処理装置及び方法 | |
| JP2022181919A (ja) | 水処理方法及び水処理装置 | |
| JP2014124600A (ja) | 排水処理システム | |
| JP2015188848A (ja) | バナジウム含有水の処理方法及び装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20120810 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20120810 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121023 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130911 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131001 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131108 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131224 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140106 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |