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JP2011009093A - Organic el device and electronic equipment - Google Patents

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JP2011009093A
JP2011009093A JP2009151906A JP2009151906A JP2011009093A JP 2011009093 A JP2011009093 A JP 2011009093A JP 2009151906 A JP2009151906 A JP 2009151906A JP 2009151906 A JP2009151906 A JP 2009151906A JP 2011009093 A JP2011009093 A JP 2011009093A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light emitting
emitting element
pixel
organic
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP2009151906A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masatsugu Goto
正嗣 後藤
Mari Sakai
真理 酒井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2009151906A priority Critical patent/JP2011009093A/en
Publication of JP2011009093A publication Critical patent/JP2011009093A/en
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Abstract

【課題】従来の有機EL装置では、表示品位を向上させることが困難である。
【解決手段】Rの光を発光し、X方向に沿って配列された第1発光素子及び第2発光素子と、Gの色の光を発光し、Y方向に沿って配列された第3発光素子、第4発光素子及び第5発光素子と、Bの色の光を発光し、Y方向に沿って配列された第6発光素子及び第7発光素子とを有し、第4発光素子は第1発光素子と第2発光素子との間に配置されており、第6発光素子は第3発光素子と第4発光素子との間に配置されており、第7発光素子は第4発光素子と第5発光素子との間に配置されており、第1発光素子、第2発光素子、第3発光素子、第4発光素子及び第5発光素子が各々有する発光層は、塗布法によって形成されており、第6発光素子及び第7発光素子が各々有する発光層は、蒸着法またはスピンコート法によって形成されていることを特徴とする有機EL装置。
【選択図】図3
In a conventional organic EL device, it is difficult to improve display quality.
First and second light-emitting elements that emit R light and are arranged along the X direction, and third light that emits G-color light and that is arranged along the Y direction. An element, a fourth light emitting element, and a fifth light emitting element; and a sixth light emitting element and a seventh light emitting element that emit light of B color and are arranged along the Y direction. The sixth light emitting element is disposed between the third light emitting element and the fourth light emitting element, and the seventh light emitting element is disposed between the fourth light emitting element and the second light emitting element. The first light emitting element, the second light emitting element, the third light emitting element, the light emitting layer included in each of the fourth light emitting element and the fifth light emitting element are formed by a coating method. The light emitting layers of the sixth light emitting element and the seventh light emitting element are formed by vapor deposition or spin coating. The organic EL device, characterized in that.
[Selection] Figure 3

Description

本発明は、有機EL装置及び電子機器等に関する。   The present invention relates to an organic EL device, an electronic device, and the like.

従来、複数の色の色ごとに発光色が分類される複数種の画素を有する有機EL(Electro Luminescence)装置において、複数種の画素のうちの一部の種類の画素の発光層が、この一部の種類の画素と他の種類の画素とを含む複数種の画素間にわたって設けられた構成が知られている(例えば、特許文献1参照)。   2. Description of the Related Art Conventionally, in an organic EL (Electro Luminescence) device having a plurality of types of pixels in which emission colors are classified for each of a plurality of colors, the light-emitting layer of some types of pixels among the plurality of types of pixels is the same. There is known a configuration in which a plurality of types of pixels including a plurality of types of pixels and other types of pixels are provided (see, for example, Patent Document 1).

特開平10−153967号公報JP-A-10-153967

上記特許文献1には、発光色が赤、緑及び青の3つに分類される3種類の画素を有する有機EL装置が記載されている。この有機EL装置は、赤色の光を発する発光層が設けられた画素(以下、赤色画素と呼ぶ)と、緑色の光を発する発光層が設けられた画素(以下、緑色画素と呼ぶ)と、青色の光を発する発光層が設けられた画素(以下、青色画素と呼ぶ)と、の3種類の画素を有している。
特許文献1によれば、赤色の光を発する発光層(以下、赤色発光層と呼ぶ)と、緑色の光を発する発光層(以下、緑色発光層と呼ぶ)とは、それぞれ、インクジェット法によって画素ごとにパターニングされる。そして、青色の光を発する発光層(以下、青色発光層と呼ぶ)は、この青色発光層が設けられるべき画素を含む3種類の画素間にわたって、赤色発光層及び緑色発光層上にも形成される。これにより、有機EL装置におけるフルカラー表示が実現され得る。
Patent Document 1 describes an organic EL device having three types of pixels whose emission colors are classified into three, red, green, and blue. This organic EL device includes a pixel provided with a light emitting layer that emits red light (hereinafter referred to as a red pixel), a pixel provided with a light emitting layer that emits green light (hereinafter referred to as a green pixel), It has three types of pixels, a pixel provided with a light emitting layer that emits blue light (hereinafter referred to as a blue pixel).
According to Patent Document 1, a light emitting layer that emits red light (hereinafter referred to as a red light emitting layer) and a light emitting layer that emits green light (hereinafter referred to as a green light emitting layer) are each formed by an inkjet method. Each pattern is patterned. A light emitting layer that emits blue light (hereinafter referred to as a blue light emitting layer) is also formed on the red light emitting layer and the green light emitting layer across three types of pixels including the pixel on which the blue light emitting layer is to be provided. The Thereby, full color display in an organic EL device can be realized.

ここで、上記特許文献1に記載された有機EL装置では、次に記す製造方法が採用され得る。
この製造方法では、上記の各色の発光層は、図15(a)に示す基板801に形成される。基板801には、隔壁803が設けられている。隔壁803は、赤色画素の領域805、緑色画素の領域807及び青色画素の領域809のそれぞれを、画素ごとに区画している。
この製造方法では、領域805及び領域807のそれぞれに、図15(b)に示すように、液状体811a及び液状体813aのそれぞれを配置する。液状体811aには、赤色発光層を構成する有機材料が含まれている。液状体813aには、緑色発光層を構成する有機材料が含まれている。液状体811a及び液状体813aの配置には、液滴吐出ヘッド815を利用したインクジェット法が活用され得る。
Here, in the organic EL device described in Patent Document 1, the following manufacturing method can be adopted.
In this manufacturing method, the light emitting layers of the respective colors are formed on the substrate 801 shown in FIG. A partition wall 803 is provided on the substrate 801. The partition wall 803 partitions a red pixel region 805, a green pixel region 807, and a blue pixel region 809 for each pixel.
In this manufacturing method, as shown in FIG. 15B, the liquid body 811a and the liquid body 813a are arranged in the region 805 and the region 807, respectively. The liquid body 811a contains an organic material constituting the red light emitting layer. The liquid body 813a contains an organic material constituting the green light emitting layer. For the arrangement of the liquid body 811a and the liquid body 813a, an ink jet method using a droplet discharge head 815 can be used.

液滴吐出ヘッド815から液状体811aや液状体813aなどを液滴811bや液滴813bとして吐出する技術は、インクジェット技術と呼ばれる。そして、インクジェット技術を活用して液状体811aや液状体813aなどを所定の位置に配置する方法は、インクジェット法と呼ばれる。このインクジェット法は、塗布法の1つである。
次いで、液状体811a及び液状体813aのそれぞれを乾燥させることによって、図15(c)に示す赤色発光層821及び緑色発光層823が形成され得る。
次いで、図15(d)に示すように、基板801に蒸着法で青色発光層825を形成する。これにより、領域809に青色発光層825が形成され得る。
上記の製造方法により、フルカラー表示を行うことができる有機EL装置が製造され得る。
A technique for ejecting the liquid body 811a, the liquid body 813a, and the like from the droplet ejection head 815 as the droplet 811b and the droplet 813b is called an inkjet technique. A method of arranging the liquid material 811a, the liquid material 813a, and the like at predetermined positions using the ink jet technique is called an ink jet method. This ink jet method is one of coating methods.
Next, by drying each of the liquid body 811a and the liquid body 813a, the red light emitting layer 821 and the green light emitting layer 823 shown in FIG. 15C can be formed.
Next, as shown in FIG. 15D, a blue light emitting layer 825 is formed on the substrate 801 by a vapor deposition method. Accordingly, a blue light emitting layer 825 can be formed in the region 809.
With the above manufacturing method, an organic EL device capable of performing full color display can be manufactured.

ところで、上記の基板801では、液状体811aや液状体813aの乾燥において、赤色発光層821や緑色発光層823の膜厚が、図16に示すように、偏りやすい。
有機EL装置では、発光層の厚みが画素の領域内でばらつくと、画素の領域内での輝度がばらつきやすい。つまり、発光層の厚みが画素の領域内でばらつくと、発光層の厚みに応じて、画素の領域内で輝度の高低差が発生しやすい。
上記の基板801では、赤色発光層821や緑色発光層823の膜厚が偏りやすいので、領域805及び領域807のそれぞれにおいて、輝度の高い部位が偏りやすい。このことは、表示品位の低下につながりやすい。
つまり、従来の有機EL装置では、表示品位を向上させることが困難であるという課題がある。
By the way, in the above-described substrate 801, the film thickness of the red light emitting layer 821 and the green light emitting layer 823 tends to be biased when the liquid 811a and the liquid 813a are dried, as shown in FIG.
In the organic EL device, when the thickness of the light emitting layer varies within the pixel region, the luminance within the pixel region tends to vary. In other words, if the thickness of the light emitting layer varies within the pixel region, a difference in brightness tends to occur within the pixel region according to the thickness of the light emitting layer.
In the above-described substrate 801, the red light emitting layer 821 and the green light emitting layer 823 are likely to be uneven in thickness, and therefore, regions having high luminance are likely to be uneven in each of the region 805 and the region 807. This tends to lead to a decrease in display quality.
That is, the conventional organic EL device has a problem that it is difficult to improve display quality.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現され得る。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]第1の色の光を発光し、第1方向に沿って配列された第1発光素子及び第2発光素子と、前記第1の色とは異なる第2の色の光を発光し、前記第1方向と交差する第2方向に沿って配列された第3発光素子、第4発光素子及び第5発光素子と、前記第1の色及び前記第2の色とは異なる第3の色の光を発光し、前記第2方向に沿って配列された第6発光素子及び第7発光素子と、を有し、前記第4発光素子は前記第1発光素子と前記第2発光素子との間に配置されており、前記第6発光素子は前記第3発光素子と前記第4発光素子との間に配置されており、前記第7発光素子は前記第4発光素子と前記第5発光素子との間に配置されており、前記第1発光素子、前記第2発光素子、前記第3発光素子、前記第4発光素子及び前記第5発光素子が各々有する発光層は、塗布法によって形成されており、前記第6発光素子及び前記第7発光素子が各々有する発光層は、蒸着法またはスピンコート法によって形成されていることを特徴とする有機EL装置。   Application Example 1 First and second light emitting elements that emit light of a first color and are arranged along a first direction, and light of a second color that is different from the first color The third light emitting element, the fourth light emitting element, and the fifth light emitting element that emit light and are arranged along the second direction intersecting the first direction are different from the first color and the second color. And a sixth light emitting element and a seventh light emitting element arranged along the second direction, wherein the fourth light emitting element includes the first light emitting element and the second light emitting element. The sixth light emitting element is disposed between the third light emitting element and the fourth light emitting element, and the seventh light emitting element is disposed between the fourth light emitting element and the fourth light emitting element. The first light-emitting element, the second light-emitting element, the third light-emitting element, the fourth light-emitting element, and the The light emitting layers of the five light emitting elements are formed by a coating method, and the light emitting layers of the sixth light emitting element and the seventh light emitting element are formed by an evaporation method or a spin coating method. An organic EL device.

この適用例の有機EL装置は、第1発光素子及び第2発光素子と、第3発光素子、第4発光素子及び第5発光素子と、第6発光素子及び第7発光素子と、を有している。
第1発光素子及び第2発光素子は、第1の色の光を発光する。第1発光素子及び第2発光素子は、第1方向に沿って配列されている。
第3発光素子、第4発光素子及び第5発光素子は、第1の色とは異なる第2の色の光を発光する。第3発光素子、第4発光素子及び第5発光素子は、第1方向と交差する第2方向に沿って配列されている。
第6発光素子及び第7発光素子は、第1の色及び第2の色とは異なる第3の色の光を発光する。第6発光素子及び第7発光素子は、第2方向に沿って配列されている。
この有機EL装置では、第4発光素子は、第1発光素子と第2発光素子との間に配置されている。第6発光素子は、第3発光素子と第4発光素子との間に配置されている。第7発光素子は、第4発光素子と第5発光素子との間に配置されている。
そして、第1発光素子、第2発光素子、第3発光素子、第4発光素子及び第5発光素子が各々有する発光層は、塗布法によって形成されている。また、第6発光素子及び第7発光素子が各々有する発光層は、蒸着法またはスピンコート法によって形成されている。
The organic EL device of this application example includes a first light emitting element and a second light emitting element, a third light emitting element, a fourth light emitting element and a fifth light emitting element, and a sixth light emitting element and a seventh light emitting element. ing.
The first light emitting element and the second light emitting element emit light of the first color. The first light emitting element and the second light emitting element are arranged along the first direction.
The third light emitting element, the fourth light emitting element, and the fifth light emitting element emit light of a second color different from the first color. The third light emitting element, the fourth light emitting element, and the fifth light emitting element are arranged along a second direction that intersects the first direction.
The sixth light emitting element and the seventh light emitting element emit light of a third color different from the first color and the second color. The sixth light emitting element and the seventh light emitting element are arranged along the second direction.
In this organic EL device, the fourth light emitting element is disposed between the first light emitting element and the second light emitting element. The sixth light emitting element is disposed between the third light emitting element and the fourth light emitting element. The seventh light emitting element is disposed between the fourth light emitting element and the fifth light emitting element.
And the light emitting layer which each of the first light emitting element, the second light emitting element, the third light emitting element, the fourth light emitting element, and the fifth light emitting element has is formed by a coating method. Further, the light emitting layers of the sixth light emitting element and the seventh light emitting element are formed by vapor deposition or spin coating.

この有機EL装置では、第1方向において、第4発光素子は、第1発光素子及び第2発光素子によって挟まれている。このため、第4発光素子の発光層を塗布法で形成するときに、塗布された発光層の材料は、第1発光素子及び第2発光素子のそれぞれの発光層の材料によって第1方向に挟まれる。これにより、第4発光素子の発光層の材料の両端部において、材料の乾燥状態をそろえやすくすることができる。この結果、第1方向において、第4発光素子の発光層の膜厚を両端部でそろえやすくすることができる。このため、第1方向において、第4発光素子の発光層の膜厚を対称にしやすくすることができる。
他方で、第4発光素子は、第6発光素子及び第7発光素子によって第2方向に挟まれている。このため、第4発光素子の発光層を塗布法で形成するときに、塗布された発光層の材料は、第6発光素子及び第7発光素子のそれぞれの領域によって第2方向に挟まれる。これにより、第4発光素子の発光層の材料の両端部において、材料の乾燥状態をそろえやすくすることができる。この結果、第2方向において、第4発光素子の発光層の膜厚を両端部でそろえやすくすることができる。このため、第2方向において、第4発光素子の発光層の膜厚を対称にしやすくすることができる。
つまり、この有機EL装置では、第1方向及び第2方向のそれぞれにおいて、第4発光素子の発光層の膜厚が対称になりやすい。この結果、この有機EL装置では、第1方向及び第2方向のそれぞれにおいて、発光素子の発光領域内での輝度の分布が対称になりやすい。従って、この有機EL装置では、表示品位を向上させやすくすることができる。
In this organic EL device, the fourth light emitting element is sandwiched between the first light emitting element and the second light emitting element in the first direction. For this reason, when the light emitting layer of the fourth light emitting element is formed by a coating method, the material of the applied light emitting layer is sandwiched in the first direction by the materials of the respective light emitting layers of the first light emitting element and the second light emitting element. It is. Thereby, it is possible to easily prepare the dry state of the material at both ends of the material of the light emitting layer of the fourth light emitting element. As a result, the thickness of the light emitting layer of the fourth light emitting element can be easily aligned at both ends in the first direction. For this reason, in the first direction, the thickness of the light emitting layer of the fourth light emitting element can be easily made symmetrical.
On the other hand, the fourth light emitting element is sandwiched between the sixth light emitting element and the seventh light emitting element in the second direction. Therefore, when the light emitting layer of the fourth light emitting element is formed by a coating method, the material of the applied light emitting layer is sandwiched in the second direction by the respective regions of the sixth light emitting element and the seventh light emitting element. Thereby, it is possible to easily prepare the dry state of the material at both ends of the material of the light emitting layer of the fourth light emitting element. As a result, in the second direction, the thickness of the light emitting layer of the fourth light emitting element can be easily aligned at both ends. For this reason, in the second direction, the thickness of the light emitting layer of the fourth light emitting element can be easily made symmetrical.
That is, in this organic EL device, the film thickness of the light emitting layer of the fourth light emitting element tends to be symmetric in each of the first direction and the second direction. As a result, in this organic EL device, the luminance distribution in the light emitting region of the light emitting element tends to be symmetric in each of the first direction and the second direction. Therefore, in this organic EL device, display quality can be easily improved.

[適用例2]第1の色の光を発光し、第1方向に沿って配列された第1発光素子及び第2発光素子と、前記第1の色とは異なる第2の色の光を発光し、前記第1方向と交差する第2方向に沿って配列された第3発光素子、第4発光素子及び第5発光素子と、前記第1の色及び前記第2の色とは異なる第3の色の光を発光し、前記第1方向に沿って配列された第6発光素子及び第7発光素子と、を有し、前記第4発光素子は前記第1発光素子と前記第2発光素子との間に配置されており、前記第6発光素子は前記第1発光素子と前記第4発光素子との間に配置されており、前記第7発光素子は前記第4発光素子と前記第2発光素子との間に配置されており、前記第1発光素子、前記第2発光素子、前記第3発光素子、前記第4発光素子及び前記第5発光素子が各々有する発光層は、塗布法によって形成されており、前記第6発光素子及び前記第7発光素子が各々有する発光層は、蒸着法またはスピンコート法によって形成されていることを特徴とする有機EL装置。   Application Example 2 First and second light emitting elements that emit light of a first color and are arranged along a first direction, and light of a second color that is different from the first color. The third light emitting element, the fourth light emitting element, and the fifth light emitting element that emit light and are arranged along the second direction intersecting the first direction are different from the first color and the second color. And a sixth light emitting element and a seventh light emitting element that are arranged along the first direction, and the fourth light emitting element includes the first light emitting element and the second light emitting element. The sixth light emitting element is disposed between the first light emitting element and the fourth light emitting element, and the seventh light emitting element is disposed between the fourth light emitting element and the fourth light emitting element. Two light emitting elements, the first light emitting element, the second light emitting element, the third light emitting element, the fourth light emitting element, and the The light emitting layers of the five light emitting elements are formed by a coating method, and the light emitting layers of the sixth light emitting element and the seventh light emitting element are formed by an evaporation method or a spin coating method. An organic EL device.

この適用例の有機EL装置は、第1発光素子及び第2発光素子と、第3発光素子、第4発光素子及び第5発光素子と、第6発光素子及び第7発光素子と、を有している。
第1発光素子及び第2発光素子は、第1の色の光を発光する。第1発光素子及び第2発光素子は、第1方向に沿って配列されている。
第3発光素子、第4発光素子及び第5発光素子は、第1の色とは異なる第2の色の光を発光する。第3発光素子、第4発光素子及び第5発光素子は、第1方向と交差する第2方向に沿って配列されている。
第6発光素子及び第7発光素子は、第1の色及び第2の色とは異なる第3の色の光を発光する。第6発光素子及び第7発光素子は、第1方向に沿って配列されている。
この有機EL装置では、第4発光素子は、第1発光素子と第2発光素子との間に配置されている。第6発光素子は、第1発光素子と第4発光素子との間に配置されている。第7発光素子は、第4発光素子と第2発光素子との間に配置されている。
そして、第1発光素子、第2発光素子、第3発光素子、第4発光素子及び第5発光素子が各々有する発光層は、塗布法によって形成されている。また、第6発光素子及び第7発光素子が各々有する発光層は、蒸着法またはスピンコート法によって形成されている。
The organic EL device of this application example includes a first light emitting element and a second light emitting element, a third light emitting element, a fourth light emitting element and a fifth light emitting element, and a sixth light emitting element and a seventh light emitting element. ing.
The first light emitting element and the second light emitting element emit light of the first color. The first light emitting element and the second light emitting element are arranged along the first direction.
The third light emitting element, the fourth light emitting element, and the fifth light emitting element emit light of a second color different from the first color. The third light emitting element, the fourth light emitting element, and the fifth light emitting element are arranged along a second direction that intersects the first direction.
The sixth light emitting element and the seventh light emitting element emit light of a third color different from the first color and the second color. The sixth light emitting element and the seventh light emitting element are arranged along the first direction.
In this organic EL device, the fourth light emitting element is disposed between the first light emitting element and the second light emitting element. The sixth light emitting element is disposed between the first light emitting element and the fourth light emitting element. The seventh light emitting element is disposed between the fourth light emitting element and the second light emitting element.
And the light emitting layer which each of the first light emitting element, the second light emitting element, the third light emitting element, the fourth light emitting element, and the fifth light emitting element has is formed by a coating method. Further, the light emitting layers of the sixth light emitting element and the seventh light emitting element are formed by vapor deposition or spin coating.

この有機EL装置では、第2方向において、第4発光素子は、第3発光素子及び第5発光素子によって挟まれている。このため、第4発光素子の発光層を塗布法で形成するときに、塗布された発光層の材料は、第3発光素子及び第5発光素子のそれぞれの発光層の材料によって第2方向に挟まれる。これにより、第4発光素子の発光層の材料の両端部において、材料の乾燥状態をそろえやすくすることができる。この結果、第2方向において、第4発光素子の発光層の膜厚を両端部でそろえやすくすることができる。このため、第2方向において、第4発光素子の発光層の膜厚を対称にしやすくすることができる。
他方で、第4発光素子は、第6発光素子及び第7発光素子によって第1方向に挟まれている。このため、第4発光素子の発光層を塗布法で形成するときに、塗布された発光層の材料は、第6発光素子及び第7発光素子のそれぞれの領域によって第1方向に挟まれる。これにより、第4発光素子の発光層の材料の両端部において、材料の乾燥状態をそろえやすくすることができる。この結果、第1方向において、第4発光素子の発光層の膜厚を両端部でそろえやすくすることができる。このため、第1方向において、第4発光素子の発光層の膜厚を対称にしやすくすることができる。
つまり、この有機EL装置では、第1方向及び第2方向のそれぞれにおいて、第4発光素子の発光層の膜厚が対称になりやすい。この結果、この有機EL装置では、第1方向及び第2方向のそれぞれにおいて、発光素子の発光領域内での輝度の分布が対称になりやすい。従って、この有機EL装置では、表示品位を向上させやすくすることができる。
In this organic EL device, the fourth light emitting element is sandwiched between the third light emitting element and the fifth light emitting element in the second direction. For this reason, when the light emitting layer of the fourth light emitting element is formed by the coating method, the material of the applied light emitting layer is sandwiched in the second direction by the materials of the light emitting layers of the third light emitting element and the fifth light emitting element. It is. Thereby, it is possible to easily prepare the dry state of the material at both ends of the material of the light emitting layer of the fourth light emitting element. As a result, in the second direction, the thickness of the light emitting layer of the fourth light emitting element can be easily aligned at both ends. For this reason, in the second direction, the thickness of the light emitting layer of the fourth light emitting element can be easily made symmetrical.
On the other hand, the fourth light emitting element is sandwiched between the sixth light emitting element and the seventh light emitting element in the first direction. For this reason, when forming the light emitting layer of a 4th light emitting element by the apply | coating method, the material of the apply | coated light emitting layer is pinched | interposed by the 1st direction by each area | region of a 6th light emitting element and a 7th light emitting element. Thereby, it is possible to easily prepare the dry state of the material at both ends of the material of the light emitting layer of the fourth light emitting element. As a result, the thickness of the light emitting layer of the fourth light emitting element can be easily aligned at both ends in the first direction. For this reason, in the first direction, the thickness of the light emitting layer of the fourth light emitting element can be easily made symmetrical.
That is, in this organic EL device, the film thickness of the light emitting layer of the fourth light emitting element tends to be symmetric in each of the first direction and the second direction. As a result, in this organic EL device, the luminance distribution in the light emitting region of the light emitting element tends to be symmetric in each of the first direction and the second direction. Therefore, in this organic EL device, display quality can be easily improved.

[適用例3]上記の有機EL装置であって、前記第1発光素子と前記第4発光素子との間の間隔は、前記第4発光素子と前記第2発光素子との間の間隔と略等しく、前記第3発光素子と前記第4発光素子との間の間隔は、前記第4発光素子と前記第5発光素子との間の間隔と略等しいことを特徴とする有機EL装置。   Application Example 3 In the above organic EL device, the distance between the first light emitting element and the fourth light emitting element is substantially the same as the distance between the fourth light emitting element and the second light emitting element. Equally, the distance between the third light emitting element and the fourth light emitting element is substantially equal to the distance between the fourth light emitting element and the fifth light emitting element.

この適用例の有機EL装置では、第1発光素子と第4発光素子との間の間隔が、第4発光素子と第2発光素子との間の間隔と略等しく、第3発光素子と第4発光素子との間の間隔が、第4発光素子と第5発光素子との間の間隔と略等しいので、第1方向及び第2方向のそれぞれにおいて、第4発光素子の発光層の膜厚が対称になりやすい。この結果、この有機EL装置では、第1方向及び第2方向のそれぞれにおいて、発光素子の発光領域内での輝度の分布が対称になりやすい。従って、この有機EL装置では、表示品位を向上させやすくすることができる。   In the organic EL device of this application example, the distance between the first light emitting element and the fourth light emitting element is substantially equal to the distance between the fourth light emitting element and the second light emitting element, and the third light emitting element and the fourth light emitting element are the same. Since the distance between the light emitting elements is substantially the same as the distance between the fourth light emitting element and the fifth light emitting element, the thickness of the light emitting layer of the fourth light emitting element in each of the first direction and the second direction is It tends to be symmetric. As a result, in this organic EL device, the luminance distribution in the light emitting region of the light emitting element tends to be symmetric in each of the first direction and the second direction. Therefore, in this organic EL device, display quality can be easily improved.

[適用例4]上記の有機EL装置であって、前記第1の色の光を発光し、前記第1発光素子を間に挟むと共に、前記第2方向に沿って配列された第8発光素子及び第9発光素子を有し、前記第1発光素子と前記第4発光素子との間の間隔は、前記第4発光素子と前記第2発光素子との間の間隔と略等しく、前記第3発光素子と前記第4発光素子との間の間隔は、前記第4発光素子と前記第5発光素子との間の間隔と略等しく、前記第8発光素子と前記第1発光素子との間の間隔は、前記第1発光素子と前記第9発光素子との間の間隔と略等しく、前記第6発光素子は、前記第8発光素子と前記第1発光素子との間にも配置されており、前記第7発光素子は、前記第1発光素子と前記第9発光素子との間にも配置されていることを特徴とする有機EL装置。   Application Example 4 In the organic EL device described above, an eighth light emitting element that emits light of the first color, sandwiches the first light emitting element, and is arranged along the second direction. And a ninth light emitting element, and a distance between the first light emitting element and the fourth light emitting element is substantially equal to a distance between the fourth light emitting element and the second light emitting element. An interval between the light emitting element and the fourth light emitting element is substantially equal to an interval between the fourth light emitting element and the fifth light emitting element, and is between the eighth light emitting element and the first light emitting element. The interval is substantially equal to the interval between the first light emitting element and the ninth light emitting element, and the sixth light emitting element is also disposed between the eighth light emitting element and the first light emitting element. The seventh light emitting element is also disposed between the first light emitting element and the ninth light emitting element. EL devices.

この適用例の有機EL装置は、第8発光素子及び第9発光素子を有している。第8発光素子及び第9発光素子は、第1の色の光を発光する。第8発光素子及び第9発光素子は、第1発光素子を間に挟んで、第2方向に沿って配列されている。
この有機EL装置では、第1発光素子と第4発光素子との間の間隔が、第4発光素子と第2発光素子との間の間隔と略等しく、第3発光素子と第4発光素子との間の間隔が、第4発光素子と第5発光素子との間の間隔と略等しく、第8発光素子と第1発光素子との間の間隔が、第1発光素子と第9発光素子との間の間隔と略等しい。
また、この有機EL装置では、第6発光素子が第8発光素子と第1発光素子との間にも配置されており、第7発光素子が第1発光素子と第9発光素子との間にも配置されている。このため、この有機EL装置では、第2方向において、第1発光素子の発光層の膜厚を対称にしやすくすることができる。
The organic EL device of this application example includes an eighth light emitting element and a ninth light emitting element. The eighth light emitting element and the ninth light emitting element emit light of the first color. The 8th light emitting element and the 9th light emitting element are arranged along the 2nd direction on both sides of the 1st light emitting element.
In this organic EL device, the distance between the first light emitting element and the fourth light emitting element is substantially equal to the distance between the fourth light emitting element and the second light emitting element, and the third light emitting element, the fourth light emitting element, Is approximately equal to the distance between the fourth light emitting element and the fifth light emitting element, and the distance between the eighth light emitting element and the first light emitting element is between the first light emitting element and the ninth light emitting element. Is approximately equal to the interval between
In this organic EL device, the sixth light emitting element is also disposed between the eighth light emitting element and the first light emitting element, and the seventh light emitting element is interposed between the first light emitting element and the ninth light emitting element. Also arranged. For this reason, in this organic EL device, the film thickness of the light emitting layer of the first light emitting element can be easily made symmetrical in the second direction.

[適用例5]上記の有機EL装置であって、前記第6発光素子が有する発光層と前記第7発光素子が有する発光層とは、連続していることを特徴とする有機EL装置。   Application Example 5 In the above organic EL device, the light emitting layer included in the sixth light emitting element and the light emitting layer included in the seventh light emitting element are continuous.

[適用例6]上記の有機EL装置であって、前記第6発光素子が有する発光層及び前記第7発光素子が有する発光層は蒸着法によって形成されており、前記第6発光素子が有する発光層は、前記第7発光素子が有する発光層と分離していることを特徴とする有機EL装置。   Application Example 6 In the organic EL device described above, the light emitting layer included in the sixth light emitting element and the light emitting layer included in the seventh light emitting element are formed by vapor deposition, and the light emission included in the sixth light emitting element. The layer is separated from the light-emitting layer of the seventh light-emitting element.

[適用例7]上記の有機EL装置であって、前記第3の色は青系の色であることを特徴とする有機EL装置。   Application Example 7 In the organic EL device described above, the third color is a blue color.

[適用例8]上記の有機EL装置を有する、ことを特徴とする電子機器。   Application Example 8 An electronic apparatus having the organic EL device described above.

この適用例の電子機器は、有機EL装置を有している。この有機EL装置では、第1方向及び第2方向のそれぞれにおいて、発光層の膜厚が対称になりやすい。このため、この有機EL装置では、第1方向及び第2方向のそれぞれにおいて、発光素子の発光領域内での輝度の分布が対称になりやすい。従って、この有機EL装置では、表示品位を向上させやすくすることができる。
そして、この電子機器は、表示品位を向上させやすくすることができる有機EL装置を有している。このため、この電子機器では、有機EL装置における表示品位を向上させやすくすることができる。
The electronic apparatus of this application example has an organic EL device. In this organic EL device, the film thickness of the light emitting layer tends to be symmetric in each of the first direction and the second direction. For this reason, in this organic EL device, the luminance distribution in the light emitting region of the light emitting element tends to be symmetric in each of the first direction and the second direction. Therefore, in this organic EL device, display quality can be easily improved.
The electronic apparatus has an organic EL device that can easily improve display quality. For this reason, in this electronic device, the display quality in the organic EL device can be easily improved.

本実施形態における表示装置を示す斜視図。The perspective view which shows the display apparatus in this embodiment. 図1中のA−A線における断面図。Sectional drawing in the AA in FIG. 本実施形態における複数の画素の一部を示す平面図。FIG. 3 is a plan view showing a part of a plurality of pixels in the embodiment. 第1実施形態における表示装置の回路構成を示す図。The figure which shows the circuit structure of the display apparatus in 1st Embodiment. 図3(b)中のD−D線における断面図。Sectional drawing in the DD line | wire in FIG.3 (b). 第1実施形態での素子基板の製造工程を説明する図。The figure explaining the manufacturing process of the element substrate in 1st Embodiment. 第1実施形態での素子基板の製造工程を説明する図。The figure explaining the manufacturing process of the element substrate in 1st Embodiment. 第1実施形態での素子基板の製造工程を説明する図。The figure explaining the manufacturing process of the element substrate in 1st Embodiment. 図8(a)中のE部の拡大図。The enlarged view of the E section in Fig.8 (a). 図9中のF−F線における断面図。Sectional drawing in the FF line | wire in FIG. 第2実施形態での素子基板の製造工程を説明する図。The figure explaining the manufacturing process of the element substrate in 2nd Embodiment. 第2実施形態での素子基板の製造工程を説明する図。The figure explaining the manufacturing process of the element substrate in 2nd Embodiment. 第3実施形態における複数の画素の一部を示す平面図。FIG. 9 is a plan view showing a part of a plurality of pixels in a third embodiment. 本実施形態における表示装置を適用した電子機器の斜視図。The perspective view of the electronic device to which the display apparatus in this embodiment is applied. 従来技術を説明する図。The figure explaining a prior art. 従来技術を説明する図。The figure explaining a prior art.

実施形態について、電子機器の1つである有機EL装置を利用した表示装置を例に、図面を参照しながら説明する。
本実施形態における表示装置1は、図1に示すように、素子基板3と、封止基板5と、を有している。素子基板3と封止基板5とは、互いに対向している。
表示装置1では、素子基板3の封止基板5側とは反対側の面である表示面7に、画像などを表示することができる。
Embodiments will be described with reference to the drawings, taking as an example a display device using an organic EL device which is one of electronic devices.
As shown in FIG. 1, the display device 1 in the present embodiment includes an element substrate 3 and a sealing substrate 5. The element substrate 3 and the sealing substrate 5 are opposed to each other.
In the display device 1, an image or the like can be displayed on the display surface 7 that is the surface opposite to the sealing substrate 5 side of the element substrate 3.

ここで、表示装置1には、複数の複合画素9が設定されている。複数の複合画素9は、表示領域11内で、図中のX方向及びY方向に配列しており、X方向を行方向とし、Y方向を列方向とするマトリクスMを構成している。X方向及びY方向は、平面視で互いに交差(直交)する方向である。本実施形態では、X方向は、後述する走査線が延在する方向でもある。また、Y方向は、後述する信号線が延在する方向でもある。
表示装置1は、複数の複合画素9から選択的に表示面7を介して表示装置1の外に光を射出することで、表示面7に画像などを表示する。なお、表示領域11とは、画像が表示され得る領域である。図1では、構成をわかりやすく示すため、複合画素9が誇張され、且つ複合画素9の個数が減じられている。
Here, a plurality of composite pixels 9 are set in the display device 1. The plurality of composite pixels 9 are arranged in the X direction and Y direction in the drawing within the display area 11 and constitute a matrix M in which the X direction is the row direction and the Y direction is the column direction. The X direction and the Y direction are directions that intersect (orthogonal) each other in plan view. In the present embodiment, the X direction is also a direction in which scanning lines described later extend. Further, the Y direction is also a direction in which signal lines to be described later extend.
The display device 1 displays an image or the like on the display surface 7 by selectively emitting light from the plurality of composite pixels 9 to the outside of the display device 1 via the display surface 7. The display area 11 is an area where an image can be displayed. In FIG. 1, the composite pixel 9 is exaggerated and the number of composite pixels 9 is reduced for easy understanding of the configuration.

表示装置1において、封止基板5は、図1中のA−A線における断面図である図2に示すように、素子基板3側とは反対側の面である底面13を有している。
素子基板3には、底面13側すなわち封止基板5側に、後述する有機EL素子などが設けられている。なお、表示装置1において、表示面7と底面13とは、互いに表裏の関係にある。
In the display device 1, the sealing substrate 5 has a bottom surface 13 that is a surface opposite to the element substrate 3 side, as shown in FIG. 2, which is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 1. .
The element substrate 3 is provided with an organic EL element, which will be described later, on the bottom surface 13 side, that is, the sealing substrate 5 side. In the display device 1, the display surface 7 and the bottom surface 13 are in a front-back relationship.

封止基板5は、素子基板3よりも底面13側で素子基板3に対向した状態で設けられている。素子基板3と封止基板5とは、接着剤16を介して接合されている。表示装置1では、有機EL素子は、接着剤16によって底面13側から覆われている。
また、素子基板3と封止基板5との間は、表示装置1の周縁よりも内側で表示領域11を囲むシール材17によって封止されている。つまり、表示装置1では、有機EL素子と接着剤16とが、素子基板3及び封止基板5並びにシール材17によって封止されている。
The sealing substrate 5 is provided in a state of facing the element substrate 3 on the bottom surface 13 side with respect to the element substrate 3. The element substrate 3 and the sealing substrate 5 are bonded via an adhesive 16. In the display device 1, the organic EL element is covered with the adhesive 16 from the bottom surface 13 side.
Further, the element substrate 3 and the sealing substrate 5 are sealed with a sealing material 17 that surrounds the display region 11 inside the periphery of the display device 1. That is, in the display device 1, the organic EL element and the adhesive 16 are sealed with the element substrate 3, the sealing substrate 5, and the sealing material 17.

ここで、表示装置1における複数の複合画素9は、図3(a)に示すように、複数の複合画素列21と、複数の複合画素行23とを構成している。
本実施形態では、Y方向に沿って並ぶ複数の複合画素9が、1つの複合画素列21を構成している。また、X方向に沿って並ぶ複数の複合画素9が、1つの複合画素行23を構成している。複合画素列21では、複数の複合画素9がY方向に略等間隔に並んでいる。また、複合画素列21では、複数の複合画素9がX方向に略等間隔に並んでいる。
複合画素9は、図3(a)中のC部の拡大図である図3(b)に示すように、複数の画素25(本実施形態では、3つの画素25)を包含している。1つの複合画素9における複数の画素25は、射出する光の色が相互に異なる。
Here, the plurality of composite pixels 9 in the display device 1 constitute a plurality of composite pixel columns 21 and a plurality of composite pixel rows 23 as shown in FIG.
In the present embodiment, a plurality of composite pixels 9 arranged along the Y direction constitute one composite pixel row 21. A plurality of composite pixels 9 arranged along the X direction constitute one composite pixel row 23. In the composite pixel row 21, a plurality of composite pixels 9 are arranged at substantially equal intervals in the Y direction. In the composite pixel row 21, a plurality of composite pixels 9 are arranged at substantially equal intervals in the X direction.
The composite pixel 9 includes a plurality of pixels 25 (three pixels 25 in the present embodiment) as shown in FIG. 3B, which is an enlarged view of a portion C in FIG. The plurality of pixels 25 in one composite pixel 9 have different colors of emitted light.

本実施形態では、複合画素9において、複数の画素25は、それぞれ、表示面7から射出する光の色が、赤系(R)、緑系(G)及び青系(B)のうちの1つに設定されている。複合画素9は、射出する光の色が相互に異なる3種類の画素25を包含している。つまり、複合画素9を構成する複数の画素25は、Rの光を射出する画素25Rと、Gの光を射出する画素25Gと、Bの光を射出する画素25Bとを含んでいる。
なお、以下においては、画素25という表記と、画素25R、画素25G及び画素25Bという表記とが、適宜、使いわけられる。
In the present embodiment, in the composite pixel 9, each of the plurality of pixels 25 has a color of light emitted from the display surface 7 of one of red (R), green (G), and blue (B). Is set to one. The composite pixel 9 includes three types of pixels 25 having different colors of emitted light. That is, the plurality of pixels 25 constituting the composite pixel 9 include a pixel 25R that emits R light, a pixel 25G that emits G light, and a pixel 25B that emits B light.
In the following, the notation of pixel 25 and the notation of pixel 25R, pixel 25G, and pixel 25B are used appropriately.

ここで、Rの色は、純粋な赤の色相に限定されず、橙等を含む。Gの色は、純粋な緑の色相に限定されず、青緑や黄緑等を含む。Bの色は、純粋な青の色相に限定されず、青紫や青緑等を含む。他の観点から、Rの色を呈する光は、光の波長のピークが、可視光領域で570nm以上の範囲にある光であると定義され得る。また、Gの色を呈する光は、光の波長のピークが500nm〜565nmの範囲にある光であると定義され得る。Bの色を呈する光は、光の波長のピークが415nm〜495nmの範囲にある光であると定義され得る。   Here, the color of R is not limited to a pure red hue, and includes orange and the like. The color of G is not limited to a pure green hue, and includes bluish green and yellowish green. The color of B is not limited to a pure blue hue, and includes bluish purple and blue-green. From another viewpoint, light exhibiting the color of R can be defined as light having a light wavelength peak in a range of 570 nm or more in the visible light region. The light exhibiting the color G can be defined as light having a light wavelength peak in the range of 500 nm to 565 nm. Light exhibiting the color B can be defined as light having a light wavelength peak in the range of 415 nm to 495 nm.

本実施形態では、X方向に沿って並ぶ複数の画素25が、図3(b)に示すように、1つの画素行27を構成している。1つの複合画素行23は、画素行27Sと画素行27Pとの2つの画素行27を包含している。画素行27Sを構成する複数の画素25は、射出する光の色がR、G及びBのうちの1つに統一されている。つまり、画素行27Sを構成する複数の画素25は、画素25R、画素25G及び画素25Bのうちの1つの種類に統一されている。本実施形態では、画素行27Sを構成する複数の画素25は、画素25Bに統一されている。画素行27Sでは、複数の画素25BがX方向に沿って並んでいる。   In the present embodiment, a plurality of pixels 25 arranged along the X direction constitute one pixel row 27 as shown in FIG. One composite pixel row 23 includes two pixel rows 27 of a pixel row 27S and a pixel row 27P. In the plurality of pixels 25 constituting the pixel row 27S, the color of the emitted light is unified to one of R, G, and B. That is, the plurality of pixels 25 constituting the pixel row 27S are unified into one type of the pixel 25R, the pixel 25G, and the pixel 25B. In the present embodiment, the plurality of pixels 25 constituting the pixel row 27S are unified into the pixel 25B. In the pixel row 27S, a plurality of pixels 25B are arranged along the X direction.

他方で、画素行27Pを構成する複数の画素25は、画素25R、画素25G及び画素25Bのうちの残りの2つの種類を含んでいる。本実施形態では、画素行27Pを構成する複数の画素25は、画素25Rと、画素25Gとを含んでいる。画素行27Pでは、画素25Rと画素25Gとが、X方向に沿って交互に並んでいる。
そして、本実施形態では、画素行27Sと画素行27Pとが、Y方向に交互に並んでいる。
On the other hand, the plurality of pixels 25 constituting the pixel row 27P includes the remaining two types of the pixel 25R, the pixel 25G, and the pixel 25B. In the present embodiment, the plurality of pixels 25 constituting the pixel row 27P includes a pixel 25R and a pixel 25G. In the pixel row 27P, the pixels 25R and the pixels 25G are alternately arranged along the X direction.
In the present embodiment, the pixel rows 27S and the pixel rows 27P are alternately arranged in the Y direction.

本実施形態では、画素25Bは、X方向の長さがY方向の長さよりも長い。つまり、画素25Bは、X方向に延在している。これに対し、画素25R及び画素25Gは、それぞれ、Y方向の長さがX方向の長さよりも長い。つまり、画素25R及び画素25Gは、それぞれ、Y方向に延在している。本実施形態では、画素25B、画素25R及び画素25Gのそれぞれの領域は、相互に略同じ面積に設定されている。これにより、画素25から射出される光の量を、画素25B、画素25R及び画素25Gの間で略同等にすることができる。しかしながら、画素25B、画素25R及び画素25Gのそれぞれの領域は、相互に略同じ面積であることに限定されず、相互に異なる面積であったり、いずれか1つだけが他の2つと異なる面積であったりしてもよい。   In the present embodiment, the pixel 25B has a length in the X direction that is longer than a length in the Y direction. That is, the pixel 25B extends in the X direction. In contrast, the pixel 25R and the pixel 25G each have a longer length in the Y direction than a length in the X direction. That is, the pixel 25R and the pixel 25G each extend in the Y direction. In the present embodiment, the regions of the pixel 25B, the pixel 25R, and the pixel 25G are set to have substantially the same area. Thereby, the amount of light emitted from the pixel 25 can be made substantially equal among the pixel 25B, the pixel 25R, and the pixel 25G. However, the respective regions of the pixel 25B, the pixel 25R, and the pixel 25G are not limited to being substantially the same area as each other. There may be.

ところで、複合画素9の領域は、平面視で四辺形を呈している。本実施形態では、複合画素9の領域は、略正方形に設定されている。
本実施形態では、複合画素9の領域内において、3つの画素25は、画素25Bを起点として時計回りの方向に画素25B、画素25G及び画素25Rの順に配置されている。しかしながら、3つの画素25の配置順は、これに限定されず、例えば、画素25Bを起点として時計回りの方向に画素25B、画素25R及び画素25Gの配置順も採用され得る。この配置順では、図3(b)に示す画素25Rと画素25Gとが互いに入れ替わった配置となる。
By the way, the region of the composite pixel 9 has a quadrilateral shape in plan view. In the present embodiment, the area of the composite pixel 9 is set to be substantially square.
In the present embodiment, in the region of the composite pixel 9, the three pixels 25 are arranged in the order of the pixel 25B, the pixel 25G, and the pixel 25R in the clockwise direction from the pixel 25B. However, the arrangement order of the three pixels 25 is not limited to this, and for example, the arrangement order of the pixels 25B, 25R, and 25G in the clockwise direction from the pixel 25B can be employed. In this arrangement order, the pixel 25R and the pixel 25G shown in FIG. 3B are replaced with each other.

X方向に隣り合う2つの画素25Bの間隔は、画素行27Sにわたって略等間隔に設定されている。また、Y方向に隣り合う2つの複合画素9間で、Y方向に並ぶ2つの画素25Bの間隔は、複合画素列21にわたって略等間隔に設定されている。
他方で、X方向に隣り合う画素25Rと画素25Gとの間隔は、画素行27Pにわたって略等間隔に設定されている。また、Y方向に隣り合う2つの複合画素9間で、Y方向に並ぶ2つの画素25Rの間隔は、複合画素列21にわたって略等間隔に設定されている。同様に、Y方向に隣り合う2つの複合画素9間で、Y方向に並ぶ2つの画素25Gの間隔も、複合画素列21にわたって略等間隔に設定されている。
The interval between two pixels 25B adjacent in the X direction is set to be approximately equal over the pixel row 27S. Further, between two composite pixels 9 adjacent in the Y direction, the interval between the two pixels 25 </ b> B arranged in the Y direction is set to be substantially equal across the composite pixel row 21.
On the other hand, the interval between the pixel 25R and the pixel 25G adjacent in the X direction is set at substantially equal intervals over the pixel row 27P. Further, between two composite pixels 9 adjacent in the Y direction, the interval between the two pixels 25 </ b> R arranged in the Y direction is set to be substantially equal across the composite pixel row 21. Similarly, the interval between two pixels 25 </ b> G arranged in the Y direction between two adjacent composite pixels 9 in the Y direction is also set to be approximately equidistant across the composite pixel row 21.

表示装置1は、回路構成を示す図である図4に示すように、画素25ごとに、選択トランジスター31と、駆動トランジスター33と、容量素子35と、有機EL素子37とを有している。有機EL素子37は、画素電極39と、有機層41と、共通電極43とを有している。選択トランジスター31及び駆動トランジスター33は、それぞれ、TFT(Thin Film Transistor)素子で構成されており、スイッチング素子としての機能を有する。なお、以下において、画素25R、画素25G及び画素25Bごとに有機EL素子37が識別される場合には、有機EL素子37R、有機EL素子37G及び有機EL素子37Bという表記が使われる。このとき、画素25Rにおける有機EL素子37が有機EL素子37Rに対応し、画素25Gにおける有機EL素子37が有機EL素子37Gに対応し、画素25Bにおける有機EL素子37が有機EL素子37Bに対応する。
また、表示装置1は、走査線駆動回路45と、信号線駆動回路47と、複数の走査線GTと、複数の信号線SIと、複数の電源線PWとを有している。
The display device 1 includes a selection transistor 31, a drive transistor 33, a capacitor element 35, and an organic EL element 37 for each pixel 25, as shown in FIG. The organic EL element 37 has a pixel electrode 39, an organic layer 41, and a common electrode 43. Each of the selection transistor 31 and the drive transistor 33 is configured by a TFT (Thin Film Transistor) element and has a function as a switching element. In the following, when the organic EL element 37 is identified for each of the pixel 25R, the pixel 25G, and the pixel 25B, the notation of the organic EL element 37R, the organic EL element 37G, and the organic EL element 37B is used. At this time, the organic EL element 37 in the pixel 25R corresponds to the organic EL element 37R, the organic EL element 37 in the pixel 25G corresponds to the organic EL element 37G, and the organic EL element 37 in the pixel 25B corresponds to the organic EL element 37B. .
In addition, the display device 1 includes a scanning line driving circuit 45, a signal line driving circuit 47, a plurality of scanning lines GT, a plurality of signal lines SI, and a plurality of power supply lines PW.

複数の走査線GTは、それぞれ走査線駆動回路45につながっており、Y方向に互いに間隔をあけた状態でX方向に延びている。
複数の信号線SIは、それぞれ信号線駆動回路47につながっており、X方向に互いに間隔をあけた状態でY方向に延びている。
複数の電源線PWは、Y方向に互いに間隔をあけた状態で、且つ各電源線PWと各走査線GTとがY方向に間隔をあけた状態でX方向に延びている。
The plurality of scanning lines GT are respectively connected to the scanning line driving circuit 45, and extend in the X direction with a space therebetween in the Y direction.
The plurality of signal lines SI are respectively connected to the signal line drive circuit 47, and extend in the Y direction with a space therebetween in the X direction.
The plurality of power supply lines PW extend in the X direction in a state in which the power supply lines PW are spaced from each other in the Y direction, and the power supply lines PW and the scanning lines GT are spaced in the Y direction.

各画素25は、各走査線GTと各信号線SIとの交差に対応して設定されている。各走査線GT及び各電源線PWは、それぞれ、図3(b)に示す各画素行27に対応している。また、各信号線SIは、Y方向に並ぶ画素25Rの列、及びY方向に並ぶ画素25Gの列のそれぞれに対応して設けられている。
図4に示す各選択トランジスター31のゲート電極は、対応する各走査線GTに電気的につながっている。各選択トランジスター31のソース電極は、対応する各信号線SIに電気的につながっている。各選択トランジスター31のドレイン電極は、各駆動トランジスター33のゲート電極及び各容量素子35の一方の電極に電気的につながっている。
本実施形態では、画素25Bにおける選択トランジスター31のソース電極が、画素25Rに対応する信号線SIにつながっている。しかしながら、画素25Bにおける選択トランジスター31のソース電極は、画素25Gに対応する信号線SIにつながっていてもよい。
Each pixel 25 is set corresponding to the intersection of each scanning line GT and each signal line SI. Each scanning line GT and each power supply line PW correspond to each pixel row 27 shown in FIG. Each signal line SI is provided corresponding to each of a column of pixels 25R arranged in the Y direction and a column of pixels 25G arranged in the Y direction.
The gate electrode of each selection transistor 31 shown in FIG. 4 is electrically connected to each corresponding scanning line GT. The source electrode of each selection transistor 31 is electrically connected to each corresponding signal line SI. The drain electrode of each select transistor 31 is electrically connected to the gate electrode of each drive transistor 33 and one electrode of each capacitive element 35.
In the present embodiment, the source electrode of the selection transistor 31 in the pixel 25B is connected to the signal line SI corresponding to the pixel 25R. However, the source electrode of the selection transistor 31 in the pixel 25B may be connected to the signal line SI corresponding to the pixel 25G.

容量素子35の他方の電極と、駆動トランジスター33のソース電極は、それぞれ、対応する各電源線PWに電気的につながっている。
各駆動トランジスター33のドレイン電極は、各画素電極39に電気的につながっている。各画素電極39と共通電極43とは、画素電極39を陽極とし、共通電極43を陰極とする一対の電極を構成している。
ここで、共通電極43は、マトリクスMを構成する複数の画素25間にわたって一連した状態で設けられており、複数の画素25間にわたって共通して機能する。
各画素電極39と共通電極43との間に介在する有機層41は、有機材料で構成されており、後述する発光層を含んだ構成を有している。
The other electrode of the capacitive element 35 and the source electrode of the drive transistor 33 are electrically connected to the corresponding power supply line PW.
The drain electrode of each drive transistor 33 is electrically connected to each pixel electrode 39. Each pixel electrode 39 and the common electrode 43 constitute a pair of electrodes having the pixel electrode 39 as an anode and the common electrode 43 as a cathode.
Here, the common electrode 43 is provided in a series of states between the plurality of pixels 25 constituting the matrix M, and functions in common between the plurality of pixels 25.
The organic layer 41 interposed between each pixel electrode 39 and the common electrode 43 is made of an organic material and has a configuration including a light emitting layer to be described later.

選択トランジスター31は、この選択トランジスター31につながる走査線GTに選択信号が供給されるとON状態となる。このとき、この選択トランジスター31につながる信号線SIからデータ信号が供給され、駆動トランジスター33がON状態になる。駆動トランジスター33のゲート電位は、データ信号の電位が容量素子35に一定の期間だけ保持されることによって、一定の期間だけ保持される。これにより、駆動トランジスター33のON状態が一定の期間だけ保持される。なお、各データ信号は、階調表示に応じた電位に生成される。   The selection transistor 31 is turned on when a selection signal is supplied to the scanning line GT connected to the selection transistor 31. At this time, a data signal is supplied from the signal line SI connected to the selection transistor 31, and the driving transistor 33 is turned on. The gate potential of the driving transistor 33 is held for a certain period by holding the potential of the data signal in the capacitor 35 for a certain period. As a result, the ON state of the drive transistor 33 is held for a certain period. Each data signal is generated at a potential corresponding to the gradation display.

駆動トランジスター33のON状態が保持されているときに、駆動トランジスター33のゲート電位に応じた電流が、電源線PWから画素電極39と有機層41を経て共通電極43に流れる。そして、有機層41に含まれる発光層が、有機層41を流れる電流量に応じた輝度で発光する。これにより、表示装置1では、階調表示が行われ得る。
表示装置1は、有機層41に含まれる発光層が発光し、発光層からの光が素子基板3を介して表示面7から射出されるボトムエミッション型の有機EL装置の1つである。なお、表示装置1では、表示面7側という表現が上側とも表現され、底面13側という表現が下側とも表現される。
When the ON state of the drive transistor 33 is maintained, a current corresponding to the gate potential of the drive transistor 33 flows from the power supply line PW to the common electrode 43 through the pixel electrode 39 and the organic layer 41. Then, the light emitting layer included in the organic layer 41 emits light with a luminance corresponding to the amount of current flowing through the organic layer 41. Thereby, the display device 1 can perform gradation display.
The display device 1 is one of bottom emission type organic EL devices in which a light emitting layer included in the organic layer 41 emits light, and light from the light emitting layer is emitted from the display surface 7 through the element substrate 3. In the display device 1, the expression “display surface 7 side” is also expressed as the upper side, and the expression “bottom surface 13 side” is also expressed as the lower side.

ここで、素子基板3及び封止基板5のそれぞれの構成について、詳細を説明する。
素子基板3は、図3(b)中のD−D線における断面図である図5に示すように、第1基板51と、素子層53と、を有している。素子層53は、駆動素子層55を含んでいる。
なお、図5では、構成をわかりやすく示すため、図4に示す選択トランジスター31、駆動トランジスター33、容量素子35、走査線GT、信号線SI及び電源線PWが省略されている。選択トランジスター31、駆動トランジスター33、容量素子35、走査線GT、信号線SI及び電源線PWは、駆動素子層55に含まれている。
Here, the details of the configurations of the element substrate 3 and the sealing substrate 5 will be described.
The element substrate 3 includes a first substrate 51 and an element layer 53, as shown in FIG. 5 which is a cross-sectional view taken along the line DD in FIG. The element layer 53 includes a drive element layer 55.
5, the selection transistor 31, the drive transistor 33, the capacitor 35, the scanning line GT, the signal line SI, and the power supply line PW shown in FIG. 4 are omitted for easy understanding of the configuration. The selection transistor 31, the drive transistor 33, the capacitor element 35, the scanning line GT, the signal line SI, and the power supply line PW are included in the drive element layer 55.

第1基板51は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、底面13側に向けられた第1面52aと、表示面7側に向けられた第2面52bと、を有している。
駆動素子層55は、第1基板51の第1面52aに設けられている。
駆動素子層55の底面13側には、画素電極39が設けられている。画素電極39の材料としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)やインジウム亜鉛酸化物(Indium Zinc Oxide)などが採用され得る。本実施形態では、画素電極39の材料としてITOが採用されている。
The first substrate 51 is made of a light-transmitting material such as glass or quartz, for example, and includes a first surface 52a directed to the bottom surface 13 side, and a second surface 52b directed to the display surface 7 side. ,have.
The drive element layer 55 is provided on the first surface 52 a of the first substrate 51.
A pixel electrode 39 is provided on the bottom surface 13 side of the drive element layer 55. As a material of the pixel electrode 39, for example, ITO (Indium Tin Oxide), indium zinc oxide (Indium Zinc Oxide), or the like can be adopted. In the present embodiment, ITO is adopted as the material of the pixel electrode 39.

隣り合う画素電極39同士の間には、各画素25を区画する絶縁膜(第1隔壁)57が設けられている。絶縁膜57は、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、アクリル系の樹脂などの光透過性を有する材料で構成されている。絶縁膜57は、平面視で、表示領域11にわたって、各画素25の領域が開口した網目状に設けられている。このため、表示領域11は、絶縁膜57によって複数の画素25の領域に区画されている。1つの画素25に着目すると、絶縁膜57は、平面視で環状に設けられている。なお、各画素電極39は、絶縁膜57によって囲まれた各画素25の領域に平面視で重なっている。本実施形態では、絶縁膜57の材料として酸化シリコンが採用されている。   An insulating film (first partition) 57 that partitions each pixel 25 is provided between adjacent pixel electrodes 39. The insulating film 57 is made of a light transmissive material such as silicon oxide, silicon nitride, or acrylic resin. The insulating film 57 is provided in a mesh shape in which the area of each pixel 25 is opened over the display area 11 in plan view. For this reason, the display region 11 is partitioned into regions of the plurality of pixels 25 by the insulating film 57. When attention is paid to one pixel 25, the insulating film 57 is provided in an annular shape in plan view. Each pixel electrode 39 overlaps the area of each pixel 25 surrounded by the insulating film 57 in plan view. In this embodiment, silicon oxide is employed as the material for the insulating film 57.

絶縁膜57の底面13側には、各画素25の領域を囲む絶縁膜(第2隔壁)59が設けられている。絶縁膜59は、例えば、カーボンブラックやクロムなどの光吸収性が高い材料を含有するアクリル系の樹脂やポリイミド樹脂などの有機材料で構成されており、平面視で絶縁膜57に沿って網目状に設けられている。1つの画素25に着目すると、絶縁膜59は、平面視で各画素25の領域を囲んでいる。このため、絶縁膜59は、画素25ごとに環状に設けられているとみなされ得る。本実施形態では、絶縁膜59の材料としてアクリル系の樹脂が採用されている。   On the bottom surface 13 side of the insulating film 57, an insulating film (second partition) 59 surrounding the region of each pixel 25 is provided. The insulating film 59 is made of, for example, an organic material such as an acrylic resin or a polyimide resin containing a material having high light absorption such as carbon black or chromium, and has a mesh shape along the insulating film 57 in a plan view. Is provided. Focusing on one pixel 25, the insulating film 59 surrounds the region of each pixel 25 in plan view. For this reason, the insulating film 59 can be regarded as being provided in a ring shape for each pixel 25. In the present embodiment, an acrylic resin is employed as the material of the insulating film 59.

画素電極39の底面13側には、有機層41が設けられている。
有機層41は、各画素25に対応して設けられており、正孔注入層61と、発光層65と、を有している。
正孔注入層61は、有機材料で構成されており、画素25ごとに、画素電極39の底面13側に設けられている。
正孔注入層61の有機材料としては、3,4−ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリチオフェン誘導体と、ポリスチレンスルホン酸(PSS)等との混合物が採用され得る。正孔注入層61の有機材料としては、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやこれらの誘導体なども採用され得る。本実施形態では、正孔注入層61の有機材料として、PEDOTとPSSとの混合物が採用されている。
An organic layer 41 is provided on the bottom surface 13 side of the pixel electrode 39.
The organic layer 41 is provided corresponding to each pixel 25 and has a hole injection layer 61 and a light emitting layer 65.
The hole injection layer 61 is made of an organic material, and is provided on the bottom surface 13 side of the pixel electrode 39 for each pixel 25.
As the organic material of the hole injection layer 61, a mixture of a polythiophene derivative such as 3,4-polyethylenedioxythiophene (PEDOT) and polystyrene sulfonic acid (PSS) or the like may be employed. As the organic material for the hole injection layer 61, polythiophene, polypyrrole, polyaniline, polyacetylene, derivatives thereof, and the like may be employed. In the present embodiment, a mixture of PEDOT and PSS is employed as the organic material for the hole injection layer 61.

発光層65は、有機材料で構成されており、画素25R、画素25G及び画素25Bごとに異なる構成を有している。
ここで、以下において、発光層65がR,G及びBごとに識別される場合には、発光層65R、発光層65G及び発光層65Bという表記が使われる。発光層65Rは、Rの光を発する発光層65である。同様に、発光層65GがGの光を発する発光層65であり、発光層65BがBの光を発する発光層65である。
画素25Rに対応する有機層41Rは、発光層65Rと発光層65Bとを有している。
画素25Gに対応する有機層41Gは、発光層65Gと発光層65Bとを有している。
画素25Bに対応する有機層41Bは、発光層65Bを有している。
The light emitting layer 65 is made of an organic material, and has a different configuration for each of the pixels 25R, 25G, and 25B.
Here, in the following, when the light emitting layer 65 is identified for each of R, G, and B, the notation of the light emitting layer 65R, the light emitting layer 65G, and the light emitting layer 65B is used. The light emitting layer 65R is a light emitting layer 65 that emits R light. Similarly, the light emitting layer 65G is a light emitting layer 65 that emits G light, and the light emitting layer 65B is a light emitting layer 65 that emits B light.
The organic layer 41R corresponding to the pixel 25R includes a light emitting layer 65R and a light emitting layer 65B.
The organic layer 41G corresponding to the pixel 25G has a light emitting layer 65G and a light emitting layer 65B.
The organic layer 41B corresponding to the pixel 25B has a light emitting layer 65B.

画素25Rにおいて、発光層65Rは、正孔注入層61の底面13側に設けられている。発光層65Rは、平面視で各画素電極39に重なる領域に設けられている。本実施形態では、各画素25Rにおいて、発光層65Rは、正孔注入層61を底面13側から覆っている。
発光層65Rの有機材料としては、例えば、下記化合物1が採用され得る。
In the pixel 25 </ b> R, the light emitting layer 65 </ b> R is provided on the bottom surface 13 side of the hole injection layer 61. The light emitting layer 65R is provided in a region overlapping each pixel electrode 39 in plan view. In the present embodiment, in each pixel 25R, the light emitting layer 65R covers the hole injection layer 61 from the bottom surface 13 side.
As the organic material of the light emitting layer 65R, for example, the following compound 1 may be employed.

Figure 2011009093
Figure 2011009093

有機層41Rにおいて、発光層65Bは、発光層65Rの底面13側に設けられている。本実施形態では、各画素25Rにおいて、発光層65Bは、発光層65Rを底面13側から覆っている。
画素25Gにおいて、発光層65Gは、正孔注入層61の底面13側に設けられている。発光層65Gは、平面視で各画素電極39に重なる領域に設けられている。本実施形態では、各画素25Gにおいて、発光層65Gは、正孔注入層61を底面13側から覆っている。
発光層65Gの有機材料としては、例えば、下記化合物2が採用され得る。
In the organic layer 41R, the light emitting layer 65B is provided on the bottom surface 13 side of the light emitting layer 65R. In the present embodiment, in each pixel 25R, the light emitting layer 65B covers the light emitting layer 65R from the bottom surface 13 side.
In the pixel 25G, the light emitting layer 65G is provided on the bottom surface 13 side of the hole injection layer 61. The light emitting layer 65G is provided in a region overlapping each pixel electrode 39 in plan view. In the present embodiment, in each pixel 25G, the light emitting layer 65G covers the hole injection layer 61 from the bottom surface 13 side.
As the organic material for the light emitting layer 65G, for example, the following compound 2 may be employed.

Figure 2011009093
Figure 2011009093

有機層41Gにおいて、発光層65Bは、発光層65Gの底面13側に設けられている。本実施形態では、各画素25Gにおいて、発光層65Bは、発光層65Gを底面13側から覆っている。
画素25Bにおいて、発光層65Bは、正孔注入層61の底面13側に設けられている。発光層65Bは、平面視で各画素電極39に重なる領域に設けられている。本実施形態では、各画素25Bにおいて、発光層65Bは、正孔注入層61を底面13側から覆っている。
発光層65Bの有機材料としては、例えば、下記化合物3が採用され得る。
In the organic layer 41G, the light emitting layer 65B is provided on the bottom surface 13 side of the light emitting layer 65G. In the present embodiment, in each pixel 25G, the light emitting layer 65B covers the light emitting layer 65G from the bottom surface 13 side.
In the pixel 25 </ b> B, the light emitting layer 65 </ b> B is provided on the bottom surface 13 side of the hole injection layer 61. The light emitting layer 65B is provided in a region overlapping each pixel electrode 39 in plan view. In the present embodiment, in each pixel 25B, the light emitting layer 65B covers the hole injection layer 61 from the bottom surface 13 side.
As the organic material of the light emitting layer 65B, for example, the following compound 3 may be employed.

Figure 2011009093
Figure 2011009093

本実施形態では、発光層65Bは、複数の画素25間にわたって、すなわち絶縁膜59をまたいで一連した状態で設けられている。しかしながら、発光層65Bの態様は、これに限定されず、画素25ごとに個別に独立して、すなわち画素25間で途切れた状態で設けられた態様も採用され得る。   In the present embodiment, the light emitting layer 65 </ b> B is provided between the plurality of pixels 25, that is, in a state in which the light emitting layer 65 </ b> B extends across the insulating film 59. However, the mode of the light emitting layer 65B is not limited to this, and a mode in which each pixel 25 is provided independently independently, that is, in a state in which the pixels 25 are interrupted may be employed.

有機層41の底面13側には、共通電極43が設けられている。本実施形態では、共通電極43は、平面視で絶縁膜57をまたいで複数の画素25間にわたって一連した状態で設けられている。
本実施形態では、共通電極43として、図示しない複数の層を積層させた構成が採用されている。本実施形態では、共通電極43を構成する複数の層には、有機層41から底面13側に向かって順にフッ化リチウム層、カルシウム層及びアルミニウム層が含まれている。
フッ化リチウム層は、フッ化リチウムを主成分とする材料で構成されている。カルシウム層は、カルシウムを主成分とする材料で構成されている。アルミニウム層は、アルミニウムを主成分とする材料で構成されている。
A common electrode 43 is provided on the bottom surface 13 side of the organic layer 41. In the present embodiment, the common electrode 43 is provided in a state in which the common electrode 43 extends over the plurality of pixels 25 across the insulating film 57 in a plan view.
In the present embodiment, the common electrode 43 has a configuration in which a plurality of layers (not shown) are stacked. In the present embodiment, the plurality of layers constituting the common electrode 43 include a lithium fluoride layer, a calcium layer, and an aluminum layer in order from the organic layer 41 toward the bottom surface 13 side.
The lithium fluoride layer is made of a material mainly composed of lithium fluoride. The calcium layer is made of a material mainly composed of calcium. The aluminum layer is made of a material mainly composed of aluminum.

なお、表示装置1では、各画素25において発光する領域は、平面視で、絶縁膜57によって囲まれた領域内で、画素電極39と有機層41と共通電極43とが重なる領域であると定義され得る。また、画素25ごとに発光する領域を構成する要素の一群が1つの有機EL素子37であると定義され得る。表示装置1では、1つの有機EL素子37は、1つの画素電極39と、1つの有機層41と、1つの画素25に対応する共通電極43とを含んだ構成を有している。   In the display device 1, the region emitting light in each pixel 25 is defined as a region where the pixel electrode 39, the organic layer 41, and the common electrode 43 overlap in a region surrounded by the insulating film 57 in plan view. Can be done. In addition, a group of elements constituting a region that emits light for each pixel 25 may be defined as one organic EL element 37. In the display device 1, one organic EL element 37 has a configuration including one pixel electrode 39, one organic layer 41, and a common electrode 43 corresponding to one pixel 25.

封止基板5は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面7側に向けられた対向面5aと、底面13側に向けられた外向面5bと、を有している。
上記の構成を有する素子基板3及び封止基板5は、素子基板3の共通電極43と封止基板5の対向面5aとの間が、接着剤16を介して接合されている。
The sealing substrate 5 is made of a light-transmitting material such as glass or quartz, for example, and includes a facing surface 5a facing the display surface 7 side and an outward surface 5b facing the bottom surface 13 side. Have.
In the element substrate 3 and the sealing substrate 5 having the above-described configuration, the common electrode 43 of the element substrate 3 and the facing surface 5 a of the sealing substrate 5 are bonded via an adhesive 16.

表示装置1では、図2に示すシール材17は、図5に示す第1基板51の第1面52aと、封止基板5の対向面5aとによって挟持されている。つまり、表示装置1では、有機EL素子37及び接着剤16が、第1基板51及び封止基板5並びにシール材17によって封止されている。なお、シール材17は、対向面5a及び共通電極43の間に設けられていてもよい。この場合、有機EL素子37及び接着剤16は、素子基板3及び封止基板5並びにシール材17によって封止されているとみなされ得る。   In the display device 1, the sealing material 17 illustrated in FIG. 2 is sandwiched between the first surface 52 a of the first substrate 51 and the facing surface 5 a of the sealing substrate 5 illustrated in FIG. 5. That is, in the display device 1, the organic EL element 37 and the adhesive 16 are sealed with the first substrate 51, the sealing substrate 5, and the sealing material 17. The sealing material 17 may be provided between the facing surface 5 a and the common electrode 43. In this case, the organic EL element 37 and the adhesive 16 can be regarded as being sealed by the element substrate 3, the sealing substrate 5, and the sealing material 17.

ここで、表示装置1の製造方法について説明する。
表示装置1の製造方法は、素子基板3を製造する工程と、表示装置1を組み立てる工程とに大別される。
素子基板3を製造する工程では、図6(a)に示すように、まず、第1基板51の第1面52aに駆動素子層55を形成する。
次いで、駆動素子層55の底面13側に、各画素25に対応した画素電極39を形成する。
次いで、隣り合う画素電極39間に、絶縁膜57を、各画素電極39の周縁に重ねて形成する。
次いで、絶縁膜57の底面13側に絶縁膜59を形成する。
Here, a method for manufacturing the display device 1 will be described.
The manufacturing method of the display device 1 is roughly divided into a step of manufacturing the element substrate 3 and a step of assembling the display device 1.
In the process of manufacturing the element substrate 3, first, the drive element layer 55 is formed on the first surface 52 a of the first substrate 51 as shown in FIG.
Next, pixel electrodes 39 corresponding to the respective pixels 25 are formed on the bottom surface 13 side of the drive element layer 55.
Next, an insulating film 57 is formed on the periphery of each pixel electrode 39 between adjacent pixel electrodes 39.
Next, an insulating film 59 is formed on the bottom surface 13 side of the insulating film 57.

ここで、画素電極39の形成では、例えばスパッタリング技術や真空蒸着技術などの成膜技術や、フォトリソグラフィー技術及びエッチング技術などのパターニング技術が活用され得る。画素電極39の形成では、まず、例えばスパッタリング技術や真空蒸着技術などを活用して、駆動素子層55の底面13側にITOの膜を形成する。次いで、フォトリソグラフィー技術及びエッチング技術などのパターニング技術を活用して、ITOの膜をパターニングすることによって画素電極39が形成され得る。   Here, in the formation of the pixel electrode 39, for example, a film forming technique such as a sputtering technique or a vacuum evaporation technique, or a patterning technique such as a photolithography technique or an etching technique can be used. In forming the pixel electrode 39, first, an ITO film is formed on the bottom surface 13 side of the drive element layer 55 by utilizing, for example, a sputtering technique or a vacuum deposition technique. Next, the pixel electrode 39 may be formed by patterning the ITO film using a patterning technique such as a photolithography technique and an etching technique.

絶縁膜57の形成では、CVD(Chemical Vapor Deposition)技術や、PVD(Physical Vapor Deposition)技術などの成膜技術や、フォトリソグラフィー技術及びエッチング技術などのパターニング技術が活用され得る。絶縁膜57の形成では、まず、例えばCVD技術やPVD技術などを活用して酸化シリコンの膜を形成する。次いで、フォトリソグラフィー技術及びエッチング技術などのパターニング技術を活用して、酸化シリコンの膜をパターニングすることによって絶縁膜57が形成され得る。
絶縁膜59の形成では、まず、ネガ型の感光物質を含むアクリル系の樹脂で、平面視で画素電極39及び絶縁膜57を覆う樹脂膜を形成する。この樹脂膜の形成では、スピンコート技術や印刷技術などが活用され得る。次いで、例えばフォトリソグラフィー技術を活用することによって、樹脂膜をパターニングする。これにより、絶縁膜59が形成され得る。
なお、駆動素子層55から絶縁膜59までの構成が形成された第1基板51は、以下において基板51aと呼ばれる。
In forming the insulating film 57, a film forming technique such as a CVD (Chemical Vapor Deposition) technique, a PVD (Physical Vapor Deposition) technique, or a patterning technique such as a photolithography technique and an etching technique can be used. In forming the insulating film 57, first, a silicon oxide film is formed by utilizing, for example, a CVD technique or a PVD technique. Next, the insulating film 57 can be formed by patterning the silicon oxide film using a patterning technique such as a photolithography technique and an etching technique.
In forming the insulating film 59, first, a resin film that covers the pixel electrode 39 and the insulating film 57 in a plan view is formed with an acrylic resin containing a negative photosensitive material. In the formation of the resin film, spin coating technology, printing technology, or the like can be used. Next, the resin film is patterned by utilizing, for example, a photolithography technique. Thereby, the insulating film 59 can be formed.
The first substrate 51 on which the configuration from the drive element layer 55 to the insulating film 59 is formed is hereinafter referred to as a substrate 51a.

次いで、図6(b)に示すように、基板51aにプラズマ処理を施す。このプラズマ処理では、基板51aに酸素プラズマ処理を施してから、基板51aにCF4プラズマ処理を施す。基板51aに酸素プラズマ処理を施すことにより、画素電極39に後述する液状体61aに対する親液性が付与される。また、基板51aにCF4プラズマ処理を施すことにより、絶縁膜59に、後述する液状体61aに対する撥液性が付与される。
本実施形態では、処理室内を所定の真空度に保った状態で処理室内に処理ガスを導入しながら、処理室内にプラズマを発生させる方法が採用されている。本実施形態では、酸素プラズマ処理において、処理ガスとして酸素を含むガスが採用されている。また、CF4プラズマ処理において、処理ガスとして、フッ素化合物を含むガスであるCF4ガスが採用されている。なお、CF4プラズマ処理では、処理ガスは、CF4ガスに限定されず、SF6やCHF3などのハロゲンガスや、フッ素ガスなども採用され得る。
Next, as shown in FIG. 6B, the substrate 51a is subjected to plasma treatment. In this plasma processing, oxygen plasma processing is performed on the substrate 51a, and then CF 4 plasma processing is performed on the substrate 51a. By subjecting the substrate 51a to oxygen plasma treatment, the pixel electrode 39 is given lyophilicity to the liquid 61a described later. In addition, by performing CF 4 plasma treatment on the substrate 51a, the insulating film 59 is provided with liquid repellency with respect to the liquid 61a described later.
In the present embodiment, a method is employed in which plasma is generated in the processing chamber while introducing a processing gas into the processing chamber while the processing chamber is kept at a predetermined degree of vacuum. In the present embodiment, a gas containing oxygen is used as the processing gas in the oxygen plasma processing. Further, the CF 4 plasma treatment, as the processing gas, CF 4 gas is employed is a gas containing a fluorine compound. In the CF 4 plasma processing, the processing gas is not limited to CF 4 gas, and halogen gas such as SF 6 or CHF 3 , fluorine gas, or the like may be employed.

基板51aにプラズマ処理を施す工程に次いで、図7(a)に示すように、絶縁膜59によって囲まれた各画素25の領域内に液状体61aを配置する。液状体61aには、正孔注入層61を構成する有機材料が含まれている。液状体61aの配置には、液滴吐出ヘッド71を利用したインクジェット法が活用され得る。
液滴吐出ヘッド71から液状体61aなどを液滴61bとして吐出する技術は、インクジェット技術と呼ばれる。そして、インクジェット技術を活用して液状体61aなどを所定の位置に配置する方法は、インクジェット法と呼ばれる。このインクジェット法は、塗布法の1つである。
Following the step of performing plasma treatment on the substrate 51a, as shown in FIG. 7A, the liquid material 61a is disposed in the region of each pixel 25 surrounded by the insulating film 59. The liquid material 61 a contains an organic material that constitutes the hole injection layer 61. For the arrangement of the liquid material 61a, an ink jet method using a droplet discharge head 71 can be used.
A technique for ejecting the liquid 61a or the like as the droplet 61b from the droplet ejection head 71 is called an inkjet technique. And the method of arrange | positioning the liquid body 61a etc. in a predetermined position using an inkjet technique is called the inkjet method. This ink jet method is one of coating methods.

各画素25の領域内に配置された液状体61aを減圧乾燥法で乾燥させてから焼成を行うことによって、図7(b)に示す正孔注入層61が形成され得る。なお、液状体61aには、PEDOTとPSSとの混合物を、溶媒に溶解させた構成が採用され得る。溶媒としては、例えば、ジエチレングリコール、イソプロピルアルコール、ノルマルブタノールなどが採用され得る。
なお、減圧乾燥法は、減圧環境下で行う乾燥方法であり、真空乾燥法とも呼ばれる。また、液状体61aの焼成条件は、環境温度が約200℃で、保持時間が約15分間である。
The hole injection layer 61 shown in FIG. 7B can be formed by drying the liquid material 61a disposed in the region of each pixel 25 after drying by a reduced pressure drying method. In addition, the liquid body 61a may employ a configuration in which a mixture of PEDOT and PSS is dissolved in a solvent. As the solvent, for example, diethylene glycol, isopropyl alcohol, normal butanol and the like can be employed.
The reduced pressure drying method is a drying method performed under a reduced pressure environment, and is also called a vacuum drying method. The firing conditions of the liquid 61a are an environmental temperature of about 200 ° C. and a holding time of about 15 minutes.

次いで、図7(b)に示すように、絶縁膜59によって囲まれた画素25の領域のうちの画素25R及び画素25Gの各領域に、液状体65Ra及び液状体65Gaのそれぞれを配置する。画素25Rに対しては、液滴吐出ヘッド71から液状体65Raを液滴65Rbとして吐出することで、絶縁膜59によって囲まれた領域内に液状体65Raを配置する。また、画素25Gに対しては、液滴吐出ヘッド71から液状体65Gaを液滴65Gbとして吐出することで、絶縁膜59によって囲まれた領域内に液状体65Gaを配置する。
このとき、画素25Bの領域に対しては、液状体の配置を行わない。
なお、液状体65Raの配置と、液状体65Gaの配置とは、いずれが先でも後でもかまわない。
Next, as illustrated in FIG. 7B, the liquid material 65Ra and the liquid material 65Ga are disposed in the respective regions of the pixel 25R and the pixel 25G in the region of the pixel 25 surrounded by the insulating film 59. For the pixel 25R, the liquid 65Ra is disposed in the region surrounded by the insulating film 59 by discharging the liquid 65Ra as the droplet 65Rb from the droplet discharge head 71. For the pixel 25G, the liquid material 65Ga is disposed in a region surrounded by the insulating film 59 by discharging the liquid material 65Ga as the liquid droplet 65Gb from the liquid droplet discharge head 71.
At this time, the liquid material is not arranged in the region of the pixel 25B.
Note that the arrangement of the liquid material 65Ra and the arrangement of the liquid material 65Ga may be either before or after.

液状体65Raには、発光層65Rを構成する有機材料が含まれている。また、液状体65Gaには、発光層65Gを構成する有機材料が含まれている。
本実施形態では、液状体65Raとして、前述した化合物1を溶媒に溶解させた構成が採用され得る。また、液状体65Gaとして、前述した化合物2を溶媒に溶解させた構成が採用され得る。溶媒としては、それぞれ、例えば、シクロヘキシルベンゼンなどが採用され得る。
次いで、液状体65Ra及び液状体65Gaを減圧乾燥法で乾燥させる。これにより、図8(a)に示す発光層65R及び発光層65Gが形成され得る。
なお、以下において、駆動素子層55から発光層65R及び発光層65Gまでの構成が形成された第1基板51は、基板51bと呼ばれる。
The liquid body 65Ra contains an organic material that constitutes the light emitting layer 65R. The liquid material 65Ga contains an organic material that constitutes the light emitting layer 65G.
In the present embodiment, a configuration in which the above-described compound 1 is dissolved in a solvent may be employed as the liquid 65Ra. Moreover, the structure which melt | dissolved the compound 2 mentioned above in the solvent as liquid 65Ga may be employ | adopted. As the solvent, for example, cyclohexylbenzene or the like can be employed.
Next, the liquid material 65Ra and the liquid material 65Ga are dried by a reduced pressure drying method. Thereby, the light emitting layer 65R and the light emitting layer 65G shown in FIG. 8A can be formed.
In the following, the first substrate 51 on which the structure from the drive element layer 55 to the light emitting layer 65R and the light emitting layer 65G is formed is referred to as a substrate 51b.

次いで、図8(b)に示すように、基板51bの底面13側に、液状体65Baで液状体膜65Bbを形成する。液状体65Baには、発光層65Bを構成する有機材料が含まれている。液状体膜65Bbは、例えばスピンコート技術を活用することにより形成され得る。なお、スピンコート技術を活用した成膜方法は、塗布法の1つである。
本実施形態では、液状体65Baとして、前述した化合物3を溶媒に溶解させた構成が採用され得る。溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール、ノルマルブタノールなどが採用され得る。本実施形態では、液状体65Baの溶媒として、イソプロピルアルコールが採用されている。
次いで、不活性ガス中で、液状体膜65Bbに加熱処理を施す。これにより、図5に示す発光層65Bが形成され得る。なお、加熱処理の条件としては、環境温度が約130℃で、保持時間が約15分間である。また、本実施形態では、不活性ガスとして窒素ガスが採用されている。
Next, as shown in FIG. 8B, a liquid film 65Bb is formed of the liquid material 65Ba on the bottom surface 13 side of the substrate 51b. The liquid body 65Ba contains an organic material constituting the light emitting layer 65B. The liquid film 65Bb can be formed by utilizing, for example, a spin coating technique. Note that a film formation method utilizing a spin coating technique is one of application methods.
In the present embodiment, a configuration in which the above-described compound 3 is dissolved in a solvent may be employed as the liquid 65Ba. As the solvent, for example, isopropyl alcohol, normal butanol and the like can be employed. In the present embodiment, isopropyl alcohol is employed as the solvent for the liquid 65Ba.
Next, heat treatment is performed on the liquid film 65Bb in an inert gas. Thereby, the light emitting layer 65B shown in FIG. 5 may be formed. The heat treatment conditions are an environmental temperature of about 130 ° C. and a holding time of about 15 minutes. Moreover, in this embodiment, nitrogen gas is employ | adopted as inert gas.

次いで、蒸着技術などを活用して、フッ化リチウム層、カルシウム層及びアルミニウム層の順に膜を形成することにより、図5に示す共通電極43が形成され得る。
これにより、素子基板3が製造され得る。
表示装置1を組み立てる工程では、図2に示すように、素子基板3及び封止基板5を、接着剤16及びシール材17を介して接合する。
このとき、素子基板3及び封止基板5は、図5に示すように、第1基板51の第1面52aと、封止基板5の対向面5aとが向き合った状態で接合される。これにより、表示装置1が製造され得る。
Next, the common electrode 43 shown in FIG. 5 can be formed by forming a film in the order of the lithium fluoride layer, the calcium layer, and the aluminum layer by utilizing a vapor deposition technique or the like.
Thereby, the element substrate 3 can be manufactured.
In the process of assembling the display device 1, as shown in FIG. 2, the element substrate 3 and the sealing substrate 5 are joined via an adhesive 16 and a sealing material 17.
At this time, the element substrate 3 and the sealing substrate 5 are bonded together with the first surface 52a of the first substrate 51 and the facing surface 5a of the sealing substrate 5 facing each other, as shown in FIG. Thereby, the display apparatus 1 can be manufactured.

本実施形態において、表示装置1が有機EL装置に対応し、有機EL素子37が発光素子に対応し、X方向が第1方向に対応し、Y方向が第2方向に対応している。
本実施形態では、X方向に隣り合う画素25Rと画素25Gとの間隔が、画素行27Pにわたって略等間隔に設定されている。このため、画素行27P(図3(b))内で連続して並ぶ3つの画素25のうちの中央に位置する画素25では、発光層65の厚みが、図8(a)中のE部の拡大図である図9に示すように、X方向の幅の中央線81に対して対称になりやすい。
In the present embodiment, the display device 1 corresponds to the organic EL device, the organic EL element 37 corresponds to the light emitting element, the X direction corresponds to the first direction, and the Y direction corresponds to the second direction.
In the present embodiment, the interval between the pixel 25R and the pixel 25G adjacent in the X direction is set at substantially equal intervals over the pixel row 27P. For this reason, in the pixel 25 located at the center of the three pixels 25 continuously arranged in the pixel row 27P (FIG. 3B), the thickness of the light emitting layer 65 is the E portion in FIG. As shown in FIG. 9, which is an enlarged view of FIG.

従来、一般的な有機EL装置では、画素25R、画素25G及び画素25Bが、X方向に略等間隔で並んだ構成が多い。この構成では、複合画素9内でX方向に隣り合う画素25Rと画素25Gとの間隔と、X方向に隣り合う複合画素9間でX方向に隣り合う画素25Rと画素25Gとの間隔とが、異なる。このことは、画素25の領域内に配置された液状体65Raや液状体65Gaの乾燥状態がX方向に偏ってしまう要因の1つとなる。
このため、この構成では、発光層65の膜厚が、中央線81に対して非対称になりやすい。つまり、この構成では、発光層65の膜厚が、偏りやすい。
Conventionally, in general organic EL devices, there are many configurations in which the pixels 25R, 25G, and 25B are arranged at substantially equal intervals in the X direction. In this configuration, an interval between the pixel 25R and the pixel 25G adjacent in the X direction in the composite pixel 9, and an interval between the pixel 25R and the pixel 25G adjacent in the X direction between the composite pixels 9 adjacent in the X direction are as follows. Different. This is one of the factors that cause the dried state of the liquid material 65Ra and the liquid material 65Ga disposed in the region of the pixel 25 to be biased in the X direction.
For this reason, in this configuration, the thickness of the light emitting layer 65 tends to be asymmetric with respect to the center line 81. That is, in this configuration, the thickness of the light emitting layer 65 tends to be biased.

これに対し、本実施形態では、X方向に隣り合う画素25Rと画素25Gとの間隔が、画素行27Pにわたって略等間隔に設定されている。このため、画素25の領域内に配置された液状体65Raや液状体65Gaの乾燥状態を、中央線81に対して対称にしやすくすることができる。この結果、本実施形態では、発光層65の厚みを中央線81に対して対称にしやすくすることができる。   On the other hand, in the present embodiment, the interval between the pixel 25R and the pixel 25G adjacent in the X direction is set to be approximately equal over the pixel row 27P. For this reason, the dry state of the liquid material 65Ra and the liquid material 65Ga disposed in the region of the pixel 25 can be easily made symmetrical with respect to the center line 81. As a result, in the present embodiment, the thickness of the light emitting layer 65 can be easily made symmetrical with respect to the center line 81.

同様に、本実施形態では、Y方向に隣り合う複合画素9間で、Y方向に並ぶ2つの画素25Rの間隔と、Y方向に並ぶ2つの画素25Gの間隔とは、それぞれ、複合画素列21にわたって略等間隔に設定されている。このため、画素25Rや画素25Gでは、発光層65の厚みが、図9中のF−F線における断面図である図10に示すように、Y方向の幅の中央線83に対して対称になりやすい。これは、上述した理由と同じ理由による。
以上の結果、本実施形態では、X及びY方向のそれぞれにおいて、発光層65の膜厚が対称になりやすい。よって、本実施形態では、X方向及びY方向のそれぞれにおいて、画素25の領域内での輝度の分布が対称になりやすい。従って、本実施形態では、表示装置1における表示品位を向上させやすくすることができる。
Similarly, in the present embodiment, between the composite pixels 9 adjacent in the Y direction, the interval between the two pixels 25R arranged in the Y direction and the interval between the two pixels 25G arranged in the Y direction are respectively the composite pixel column 21. It is set at substantially equal intervals. Therefore, in the pixel 25R and the pixel 25G, the thickness of the light emitting layer 65 is symmetrical with respect to the center line 83 having a width in the Y direction, as shown in FIG. 10 which is a cross-sectional view taken along line FF in FIG. Prone. This is for the same reason as described above.
As a result, in the present embodiment, the film thickness of the light emitting layer 65 tends to be symmetric in each of the X and Y directions. Therefore, in this embodiment, the luminance distribution in the region of the pixel 25 tends to be symmetric in each of the X direction and the Y direction. Therefore, in this embodiment, the display quality in the display device 1 can be easily improved.

第2実施形態について説明する。
第2実施形態における表示装置1では、発光層65Bと共通電極43と(図5)の間に、後述する正孔阻止層及び電子輸送層が介在している。また、第2実施形態では、発光層65Bの材料及び発光層65Bの形成方法が、第1実施形態とは異なる。第2実施形態における表示装置1は、これらの点を除いては、第1実施形態における表示装置1と同様の構成を有している。従って、以下においては、重複した説明を避けるため、第2実施形態における表示装置1の構成のうち、第1実施形態における表示装置1と同一の構成については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
第2実施形態では、発光層65Bとして、下記化合物4として示されるCBPなどのホスト材料に、下記化合物5として示されるFIrpicなどのドーパント材料を混合した材料が採用されている。
A second embodiment will be described.
In the display device 1 according to the second embodiment, a hole blocking layer and an electron transport layer, which will be described later, are interposed between the light emitting layer 65B and the common electrode 43 (FIG. 5). In the second embodiment, the material of the light emitting layer 65B and the method of forming the light emitting layer 65B are different from those of the first embodiment. Except for these points, the display device 1 in the second embodiment has the same configuration as the display device 1 in the first embodiment. Therefore, in the following, in order to avoid redundant description, the same components as those of the display device 1 in the first embodiment among the components of the display device 1 in the second embodiment are denoted by the same reference numerals and detailed. Description is omitted.
In the second embodiment, a material in which a dopant material such as FIrpic shown as the following compound 5 is mixed with a host material such as CBP shown as the following compound 4 is employed as the light emitting layer 65B.

Figure 2011009093
Figure 2011009093

Figure 2011009093
Figure 2011009093

また、発光層65Bの形成では、蒸着技術(蒸着法)が活用される。発光層65Bの形成では、図8(a)に示す基板51bの底面13側に、化合物4のホスト材料と化合物5のドーパント材料とを、共蒸着によって蒸着する。これにより、図11(a)に示す発光層65Bが形成され得る。
次いで、図11(b)に示すように、発光層65Bの底面13側に正孔阻止層87を形成する。正孔阻止層87を構成する材料としては、例えば、下記化合物6として示されるBCPなどが採用され得る。本実施形態では、蒸着法によってBCPで正孔阻止層87が形成される。
Further, in the formation of the light emitting layer 65B, a vapor deposition technique (vapor deposition method) is utilized. In the formation of the light emitting layer 65B, the host material of Compound 4 and the dopant material of Compound 5 are vapor-deposited on the bottom surface 13 side of the substrate 51b shown in FIG. Thereby, the light emitting layer 65B shown to Fig.11 (a) can be formed.
Next, as shown in FIG. 11B, a hole blocking layer 87 is formed on the bottom surface 13 side of the light emitting layer 65B. As a material constituting the hole blocking layer 87, for example, BCP shown as the following compound 6 may be employed. In the present embodiment, the hole blocking layer 87 is formed of BCP by vapor deposition.

Figure 2011009093
Figure 2011009093

次いで、図12(a)に示すように、正孔阻止層87の底面13側に電子輸送層89を形成する。電子輸送層89を構成する材料としては、例えば、下記化合物7として示されるAlq3(アルミニウムキノリノール)などが採用され得る。本実施形態では、蒸着法によってAlq3で電子輸送層89が形成される。   Next, as shown in FIG. 12A, an electron transport layer 89 is formed on the bottom surface 13 side of the hole blocking layer 87. As a material constituting the electron transport layer 89, for example, Alq3 (aluminum quinolinol) shown as the following compound 7 can be employed. In this embodiment, the electron transport layer 89 is formed of Alq3 by a vapor deposition method.

Figure 2011009093
Figure 2011009093

次いで、図12(b)に示すように、電子輸送層89の底面13側に共通電極43を形成する。第2実施形態では、共通電極43として、電子輸送層89から底面13側に向かって順にフッ化リチウム層及びアルミニウム層を含む積層構成が採用されている。蒸着法によって共通電極43を形成することにより、図12(b)に示す素子基板3が製造され得る。
上記の構成を有する第2実施形態においても、第1実施形態と同様の効果が得られる。
なお、第2実施形態において、発光層65Bを画素25Bごとに独立して設けるには、例えばマスクを用いたマスク蒸着技術が活用され得る。
Next, as shown in FIG. 12B, the common electrode 43 is formed on the bottom surface 13 side of the electron transport layer 89. In the second embodiment, as the common electrode 43, a stacked configuration including a lithium fluoride layer and an aluminum layer in order from the electron transport layer 89 toward the bottom surface 13 is employed. By forming the common electrode 43 by the vapor deposition method, the element substrate 3 shown in FIG. 12B can be manufactured.
In the second embodiment having the above-described configuration, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.
In the second embodiment, in order to provide the light emitting layer 65B independently for each pixel 25B, for example, a mask vapor deposition technique using a mask can be used.

第3実施形態について説明する。
第3実施形態における表示装置1は、複合画素9における画素25の構成が異なることを除いては、第1実施形態における表示装置1と同様の構成を有している。従って、以下においては、重複した説明を避けるため、第3実施形態における表示装置1の構成のうち、第1実施形態における表示装置1と同一の構成については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
A third embodiment will be described.
The display device 1 in the third embodiment has the same configuration as that of the display device 1 in the first embodiment except that the configuration of the pixel 25 in the composite pixel 9 is different. Therefore, in the following, in order to avoid redundant description, among the configurations of the display device 1 in the third embodiment, the same configurations as those of the display device 1 in the first embodiment are denoted by the same reference numerals and detailed. Description is omitted.

第3実施形態では、複合画素9は、図13に示すように、4つの画素25を包含している。第3実施形態は、複合画素9が画素25R、画素25G及び画素25Bの3種類の画素25を包含している点で、第1実施形態と共通している。
第3実施形態では、複合画素9は、1つの画素25Rと、1つの画素25Gと、2つの画素25Bと、を包含している。複合画素9内において、4つの画素25は、X方向に沿って並んでいる。また、各画素25は、Y方向の長さがX方向の長さよりも長い。つまり、各画素25は、Y方向に延在している。
In the third embodiment, the composite pixel 9 includes four pixels 25 as shown in FIG. The third embodiment is common to the first embodiment in that the composite pixel 9 includes three types of pixels 25, a pixel 25R, a pixel 25G, and a pixel 25B.
In the third embodiment, the composite pixel 9 includes one pixel 25R, one pixel 25G, and two pixels 25B. Within the composite pixel 9, the four pixels 25 are arranged along the X direction. Each pixel 25 has a length in the Y direction longer than a length in the X direction. That is, each pixel 25 extends in the Y direction.

画素25BのX方向における幅寸法は、画素25Rや画素25GのX方向における幅寸法よりも狭い。複合画素9内において、2つの画素25Bの面積の合計は、画素25Rの面積や、画素25Gの面積と同等に設定されている。これにより、複合画素9内において、画素25から射出される光の量を、画素25B、画素25R及び画素25Gの間で略同等にすることができる。しかしながら、複合画素9内において、2つの画素25Bの面積の合計は、画素25Rの面積や、画素25Gの面積と同等であることに限定されず、相互に異なっていてもよい。
第3実施形態では、画素25Rと画素25Gとが、X方向に、略等間隔で交互に並んでいる。そして、X方向において、画素25Rと画素25Gとの間に画素25Bが介在している。
第3実施形態では、Y方向に沿って一列に並ぶ複数の画素25が、1つの画素列91を構成している。また、X方向に沿って一列に並ぶ複数の画素25が、1つの画素行93を構成している。
The width dimension in the X direction of the pixel 25B is narrower than the width dimension in the X direction of the pixel 25R and the pixel 25G. In the composite pixel 9, the total area of the two pixels 25B is set equal to the area of the pixel 25R and the area of the pixel 25G. Thereby, in the composite pixel 9, the amount of light emitted from the pixel 25 can be made substantially equal among the pixel 25B, the pixel 25R, and the pixel 25G. However, in the composite pixel 9, the total area of the two pixels 25B is not limited to being equal to the area of the pixel 25R or the area of the pixel 25G, and may be different from each other.
In the third embodiment, the pixels 25R and the pixels 25G are alternately arranged in the X direction at substantially equal intervals. In the X direction, the pixel 25B is interposed between the pixel 25R and the pixel 25G.
In the third embodiment, a plurality of pixels 25 arranged in a line along the Y direction constitute one pixel column 91. A plurality of pixels 25 arranged in a line along the X direction form one pixel row 93.

1つの画素列91内の各画素25は、光の色がR、G及びBのうちの1つに設定されている。つまり、第3実施形態では、複数の画素25RがY方向に配列した画素列91Rと、複数の画素25GがY方向に配列した画素列91Gと、複数の画素25BがY方向に配列した画素列91Bと、がある。
なお、以下においては、画素列91という表記と、画素列91R、画素列91G及び画素列91Bという表記とが、適宜、使いわけられる。
第3実施形態では、1つの複合画素行23は、1つの画素行93を包含している。また、1つの複合画素列21は、4つの画素列91を包含している。これらの4つの画素列91には、1つの画素列91Rと、1つの画素列91Gと、2つの画素列91Bと、が含まれる。
The light color of each pixel 25 in one pixel column 91 is set to one of R, G, and B. That is, in the third embodiment, a pixel column 91R in which a plurality of pixels 25R are arranged in the Y direction, a pixel column 91G in which a plurality of pixels 25G are arranged in the Y direction, and a pixel column in which a plurality of pixels 25B are arranged in the Y direction. 91B.
Hereinafter, the notation of the pixel column 91 and the notation of the pixel column 91R, the pixel column 91G, and the pixel column 91B are appropriately used.
In the third embodiment, one composite pixel row 23 includes one pixel row 93. One composite pixel column 21 includes four pixel columns 91. These four pixel columns 91 include one pixel column 91R, one pixel column 91G, and two pixel columns 91B.

第3実施形態は、走査線GT(図4)が画素行93(図13)に対応して設けられている点で第1実施形態と共通している。しかしながら、第3実施形態は、信号線SI(図4)が画素列91(図13)に対応して設けられている点で第1実施形態とは異なっている。
また、第3実施形態では、発光層65Bの有機材料や、表示装置1の製造方法も、第1実施形態に準じている。
上記の構成を有する第3実施形態においても、第1実施形態及び第2実施形態のそれぞれと同様の効果が得られる。なお、第3実施形態において、画素行93が発光素子配列に対応している。
The third embodiment is common to the first embodiment in that the scanning line GT (FIG. 4) is provided corresponding to the pixel row 93 (FIG. 13). However, the third embodiment is different from the first embodiment in that the signal line SI (FIG. 4) is provided corresponding to the pixel column 91 (FIG. 13).
Moreover, in 3rd Embodiment, the organic material of the light emitting layer 65B and the manufacturing method of the display apparatus 1 are also according to 1st Embodiment.
In the third embodiment having the above-described configuration, the same effects as those of the first embodiment and the second embodiment can be obtained. In the third embodiment, the pixel row 93 corresponds to the light emitting element array.

第4実施形態について説明する。
第4実施形態における表示装置1では、発光層65Bと共通電極43と(図5)の間に、正孔阻止層87及び電子輸送層89が介在している。また、第4実施形態では、発光層65Bの材料及び発光層65Bの形成方法が、第3実施形態とは異なる。第4実施形態における表示装置1は、これらの点を除いては、第3実施形態における表示装置1と同様の構成を有している。従って、以下においては、重複した説明を避けるため、第4実施形態における表示装置1の構成のうち、第3実施形態における表示装置1と同一の構成については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
第4実施形態では、発光層65Bとして、前述した化合物4として示されるCBPなどのホスト材料に、前述した化合物5として示されるFIrpicなどのドーパント材料を混合した材料が採用されている。
A fourth embodiment will be described.
In the display device 1 according to the fourth embodiment, the hole blocking layer 87 and the electron transport layer 89 are interposed between the light emitting layer 65B and the common electrode 43 (FIG. 5). In the fourth embodiment, the material of the light emitting layer 65B and the method of forming the light emitting layer 65B are different from those of the third embodiment. Except for these points, the display device 1 in the fourth embodiment has the same configuration as the display device 1 in the third embodiment. Therefore, in the following, in order to avoid redundant description, among the configurations of the display device 1 in the fourth embodiment, the same configurations as those of the display device 1 in the third embodiment are denoted by the same reference numerals and detailed. Description is omitted.
In the fourth embodiment, a material in which a dopant material such as FIrpic shown as the compound 5 is mixed with a host material such as CBP shown as the compound 4 described above is used as the light emitting layer 65B.

また、発光層65Bの形成では、蒸着技術(蒸着法)が活用される。発光層65Bの形成では、図8(a)に示す基板51bの底面13側に、化合物4のホスト材料と化合物5のドーパント材料とを、共蒸着によって蒸着する。これにより、発光層65Bが形成され得る。
次いで、発光層65Bの底面13側に正孔阻止層87を形成してから、正孔阻止層87の底面13側に電子輸送層89を形成する。
第4実施形態では、正孔阻止層87の材料として、化合物6として示されるBCPが採用されている。電子輸送層89の材料として、化合物7として示されるAlq3が採用されている。また、正孔阻止層87及び電子輸送層89は、それぞれ、蒸着法によって形成される。
そして、電子輸送層89の底面13側に共通電極43を形成する。共通電極43の構成及び形成方法は、第2実施形態に準じる。
上記の構成を有する第4実施形態においても、第1実施形態〜第3実施形態のそれぞれと同様の効果が得られる。
なお、第4実施形態において、発光層65Bを画素25Bごとに独立して設けるには、例えばマスクを用いたマスク蒸着技術が活用され得る。
Further, in the formation of the light emitting layer 65B, a vapor deposition technique (vapor deposition method) is utilized. In the formation of the light emitting layer 65B, the host material of Compound 4 and the dopant material of Compound 5 are vapor-deposited on the bottom surface 13 side of the substrate 51b shown in FIG. Thereby, the light emitting layer 65B can be formed.
Next, after forming the hole blocking layer 87 on the bottom surface 13 side of the light emitting layer 65 </ b> B, the electron transport layer 89 is formed on the bottom surface 13 side of the hole blocking layer 87.
In the fourth embodiment, BCP shown as the compound 6 is adopted as the material of the hole blocking layer 87. As a material of the electron transport layer 89, Alq3 shown as the compound 7 is adopted. Further, the hole blocking layer 87 and the electron transport layer 89 are each formed by a vapor deposition method.
Then, the common electrode 43 is formed on the bottom surface 13 side of the electron transport layer 89. The configuration and formation method of the common electrode 43 are the same as those in the second embodiment.
In the fourth embodiment having the above-described configuration, the same effects as those in the first to third embodiments can be obtained.
In the fourth embodiment, for example, a mask vapor deposition technique using a mask can be used to provide the light emitting layer 65B independently for each pixel 25B.

なお、第1実施形態〜第4実施形態では、それぞれ、表示装置1に3種類の画素25(画素25R、画素25G及び画素25B)が設定されている例が示されているが、画素25の種類は、3種類に限定されない。画素25の種類としては、画素25R、画素25G及び画素25Bの3種類に、例えば、白系の光を射出する画素25や、マゼンタ系の光を射出する画素25などを加えた4種類以上も採用され得る。   In the first to fourth embodiments, an example in which three types of pixels 25 (pixel 25R, pixel 25G, and pixel 25B) are set in the display device 1 is shown. The types are not limited to three types. As the types of the pixels 25, four or more types including the pixel 25R, the pixel 25G, and the pixel 25B, for example, the pixel 25 that emits white light and the pixel 25 that emits magenta light are used. Can be done.

また、第1実施形態〜第4実施形態では、それぞれ、複数の画素25が設定され、画素25ごとに有機EL素子37を有する表示装置1を例に説明したが、実施の形態はこれに限定されない。実施の形態としては、有機EL素子37を表示領域11にわたって一連した状態で設けた照明装置などの形態もある。このような照明装置は、例えば液晶表示装置などの光源に好適である。   In the first to fourth embodiments, the display device 1 in which a plurality of pixels 25 are set and the organic EL element 37 is provided for each pixel 25 has been described as an example. However, the embodiment is limited to this. Not. As an embodiment, there is a form such as a lighting device in which the organic EL elements 37 are arranged in a series over the display region 11. Such an illuminating device is suitable for a light source such as a liquid crystal display device.

また、第1実施形態〜第4実施形態では、それぞれ、絶縁膜57が光透過性を有する材料で構成されているが、絶縁膜57の材料はこれに限定されない。絶縁膜57の材料としては、光吸収性が高い材料も採用され得る。絶縁膜57の材料に光吸収性が高い材料を採用すれば、隣り合う画素25同士間における遮光性が高められる。これにより、表示におけるコントラストを向上させやすくすることができ、表示品位を向上させやすくすることができる。   In the first embodiment to the fourth embodiment, the insulating film 57 is made of a light-transmitting material, but the material of the insulating film 57 is not limited to this. As the material of the insulating film 57, a material having high light absorption can be adopted. If a material having a high light absorption property is adopted as the material of the insulating film 57, the light shielding property between the adjacent pixels 25 is enhanced. Thereby, the contrast in display can be easily improved, and the display quality can be easily improved.

また、第1実施形態〜第4実施形態では、それぞれ、有機層41からの光を素子基板3を介して表示面7から射出するボトムエミッション型の有機EL装置を例に説明したが、有機EL装置はこれに限定されない。有機EL装置は、有機層41からの光を封止基板5を介して底面13から射出するトップエミッション型も採用され得る。
トップエミッション型の場合、有機層41からの光が底面13から射出されるので、底面13側に表示面7が設定される。つまり、トップエミッション型では、表示装置1の底面13と表示面7とが入れ替わる。そして、トップエミッション型では、底面13側が上側に対応し、表示面7側が下側に対応する。
In the first to fourth embodiments, the bottom emission type organic EL device that emits light from the organic layer 41 from the display surface 7 through the element substrate 3 is described as an example. The apparatus is not limited to this. As the organic EL device, a top emission type in which light from the organic layer 41 is emitted from the bottom surface 13 through the sealing substrate 5 may be employed.
In the case of the top emission type, since the light from the organic layer 41 is emitted from the bottom surface 13, the display surface 7 is set on the bottom surface 13 side. That is, in the top emission type, the bottom surface 13 and the display surface 7 of the display device 1 are interchanged. In the top emission type, the bottom surface 13 side corresponds to the upper side, and the display surface 7 side corresponds to the lower side.

上述した表示装置1は、例えば、図14に示す電子機器500の表示部510に適用され得る。この電子機器500は、携帯電話機である。この電子機器500は、操作ボタン511を有している。表示部510は、操作ボタン511で入力した内容や着信情報を始めとする様々な情報について表示を行うことができる。この電子機器500では、表示部510に表示装置1が適用されているので、表示部510における表示品位を向上させやすくすることができる。   The display device 1 described above can be applied to, for example, the display unit 510 of the electronic device 500 illustrated in FIG. The electronic device 500 is a mobile phone. This electronic device 500 has an operation button 511. The display unit 510 can display various information including information input by the operation buttons 511 and incoming call information. In this electronic apparatus 500, since the display device 1 is applied to the display unit 510, the display quality in the display unit 510 can be easily improved.

なお、電子機器500としては、携帯電話機に限られず、モバイルコンピューター、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、カーナビゲーションシステム用の表示機器などの車載機器、オーディオ機器等の種々の電子機器が挙げられる。   The electronic device 500 is not limited to a mobile phone, and includes various electronic devices such as mobile computers, digital still cameras, digital video cameras, in-vehicle devices such as display devices for car navigation systems, and audio devices.

1…表示装置、3…素子基板、5…封止基板、7…表示面、9…複合画素、13…底面、21…複合画素列、23…複合画素行、25…画素、27…画素行、27S…画素行、37…有機EL素子、37R,37G,37B…有機EL素子、41…有機層、41R,41G,41B…有機層、65…発光層、65R,65G,65B…発光層、65Ra,65Ga…液状体、65Rb,65Gb…液滴、65Ba…液状体、65Bb…液状体膜、71…液滴吐出ヘッド、87…正孔阻止層、89…電子輸送層、91…画素列、91R,91G,91B…画素列、93…画素行、500…電子機器、510…表示部。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Display apparatus, 3 ... Element substrate, 5 ... Sealing substrate, 7 ... Display surface, 9 ... Composite pixel, 13 ... Bottom surface, 21 ... Composite pixel column, 23 ... Composite pixel row, 25 ... Pixel, 27 ... Pixel row 27S ... pixel row, 37 ... organic EL element, 37R, 37G, 37B ... organic EL element, 41 ... organic layer, 41R, 41G, 41B ... organic layer, 65 ... light emitting layer, 65R, 65G, 65B ... light emitting layer, 65Ra, 65Ga ... liquid, 65Rb, 65Gb ... droplet, 65Ba ... liquid, 65Bb ... liquid film, 71 ... droplet ejection head, 87 ... hole blocking layer, 89 ... electron transport layer, 91 ... pixel row, 91R, 91G, 91B... Pixel columns, 93... Pixel rows, 500.

Claims (8)

第1の色の光を発光し、第1方向に沿って配列された第1発光素子及び第2発光素子と、
前記第1の色とは異なる第2の色の光を発光し、前記第1方向と交差する第2方向に沿って配列された第3発光素子、第4発光素子及び第5発光素子と、
前記第1の色及び前記第2の色とは異なる第3の色の光を発光し、前記第2方向に沿って配列された第6発光素子及び第7発光素子と、
を有し、
前記第4発光素子は前記第1発光素子と前記第2発光素子との間に配置されており、
前記第6発光素子は前記第3発光素子と前記第4発光素子との間に配置されており、
前記第7発光素子は前記第4発光素子と前記第5発光素子との間に配置されており、
前記第1発光素子、前記第2発光素子、前記第3発光素子、前記第4発光素子及び前記第5発光素子が各々有する発光層は、塗布法によって形成されており、
前記第6発光素子及び前記第7発光素子が各々有する発光層は、蒸着法またはスピンコート法によって形成されていることを特徴とする有機EL装置。
A first light emitting element and a second light emitting element that emit light of a first color and are arranged along a first direction;
A third light emitting element, a fourth light emitting element, and a fifth light emitting element that emit light of a second color different from the first color and are arranged along a second direction that intersects the first direction;
A sixth light emitting element and a seventh light emitting element that emit light of a third color different from the first color and the second color and are arranged along the second direction;
Have
The fourth light emitting element is disposed between the first light emitting element and the second light emitting element;
The sixth light emitting element is disposed between the third light emitting element and the fourth light emitting element;
The seventh light emitting element is disposed between the fourth light emitting element and the fifth light emitting element;
The light emitting layers of each of the first light emitting element, the second light emitting element, the third light emitting element, the fourth light emitting element, and the fifth light emitting element are formed by a coating method,
The organic EL device, wherein the light emitting layers of the sixth light emitting element and the seventh light emitting element are formed by vapor deposition or spin coating.
第1の色の光を発光し、第1方向に沿って配列された第1発光素子及び第2発光素子と、
前記第1の色とは異なる第2の色の光を発光し、前記第1方向と交差する第2方向に沿って配列された第3発光素子、第4発光素子及び第5発光素子と、
前記第1の色及び前記第2の色とは異なる第3の色の光を発光し、前記第1方向に沿って配列された第6発光素子及び第7発光素子と、
を有し、
前記第4発光素子は前記第1発光素子と前記第2発光素子との間に配置されており、
前記第6発光素子は前記第1発光素子と前記第4発光素子との間に配置されており、
前記第7発光素子は前記第4発光素子と前記第2発光素子との間に配置されており、
前記第1発光素子、前記第2発光素子、前記第3発光素子、前記第4発光素子及び前記第5発光素子が各々有する発光層は、塗布法によって形成されており、
前記第6発光素子及び前記第7発光素子が各々有する発光層は、蒸着法またはスピンコート法によって形成されていることを特徴とする有機EL装置。
A first light emitting element and a second light emitting element that emit light of a first color and are arranged along a first direction;
A third light emitting element, a fourth light emitting element, and a fifth light emitting element that emit light of a second color different from the first color and are arranged along a second direction that intersects the first direction;
A sixth light emitting element and a seventh light emitting element that emit light of a third color different from the first color and the second color and are arranged along the first direction;
Have
The fourth light emitting element is disposed between the first light emitting element and the second light emitting element;
The sixth light emitting element is disposed between the first light emitting element and the fourth light emitting element;
The seventh light emitting element is disposed between the fourth light emitting element and the second light emitting element;
The light emitting layers of each of the first light emitting element, the second light emitting element, the third light emitting element, the fourth light emitting element, and the fifth light emitting element are formed by a coating method,
The organic EL device, wherein the light emitting layers of the sixth light emitting element and the seventh light emitting element are formed by vapor deposition or spin coating.
前記第1発光素子と前記第4発光素子との間の間隔は、前記第4発光素子と前記第2発光素子との間の間隔と略等しく、
前記第3発光素子と前記第4発光素子との間の間隔は、前記第4発光素子と前記第5発光素子との間の間隔と略等しいことを特徴とする請求項1または2に記載の有機EL装置。
The distance between the first light emitting element and the fourth light emitting element is substantially equal to the distance between the fourth light emitting element and the second light emitting element.
The distance between the third light emitting element and the fourth light emitting element is substantially equal to the distance between the fourth light emitting element and the fifth light emitting element. Organic EL device.
前記第1の色の光を発光し、前記第1発光素子を間に挟むと共に、前記第2方向に沿って配列された第8発光素子及び第9発光素子を有し、
前記第1発光素子と前記第4発光素子との間の間隔は、前記第4発光素子と前記第2発光素子との間の間隔と略等しく、
前記第3発光素子と前記第4発光素子との間の間隔は、前記第4発光素子と前記第5発光素子との間の間隔と略等しく、
前記第8発光素子と前記第1発光素子との間の間隔は、前記第1発光素子と前記第9発光素子との間の間隔と略等しく、
前記第6発光素子は、前記第8発光素子と前記第1発光素子との間にも配置されており、
前記第7発光素子は、前記第1発光素子と前記第9発光素子との間にも配置されていることを特徴とする請求項1に記載の有機EL装置。
Having the eighth light emitting element and the ninth light emitting element that emit light of the first color, sandwich the first light emitting element therebetween, and are arranged along the second direction;
The distance between the first light emitting element and the fourth light emitting element is substantially equal to the distance between the fourth light emitting element and the second light emitting element.
The distance between the third light emitting element and the fourth light emitting element is substantially equal to the distance between the fourth light emitting element and the fifth light emitting element.
A distance between the eighth light emitting element and the first light emitting element is substantially equal to a distance between the first light emitting element and the ninth light emitting element.
The sixth light emitting element is also disposed between the eighth light emitting element and the first light emitting element,
The organic EL device according to claim 1, wherein the seventh light emitting element is also disposed between the first light emitting element and the ninth light emitting element.
前記第6発光素子が有する発光層と前記第7発光素子が有する発光層とは、連続していることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の有機EL装置。   5. The organic EL device according to claim 1, wherein a light emitting layer included in the sixth light emitting element and a light emitting layer included in the seventh light emitting element are continuous. 前記第6発光素子が有する発光層及び前記第7発光素子が有する発光層は蒸着法によって形成されており、前記第6発光素子が有する発光層は、前記第7発光素子が有する発光層と分離していることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の有機EL装置。   The light emitting layer of the sixth light emitting element and the light emitting layer of the seventh light emitting element are formed by vapor deposition, and the light emitting layer of the sixth light emitting element is separated from the light emitting layer of the seventh light emitting element. The organic EL device according to claim 1, wherein the organic EL device is an organic EL device. 前記第3の色は青系の色であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の有機EL装置。   The organic EL device according to claim 1, wherein the third color is a blue color. 請求項1乃至7のいずれか一項に記載の有機EL装置を有する、ことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the organic EL device according to claim 1.
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