JP2011099035A - Manufacturing method for cured product excellent in transparency, and cured product - Google Patents
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
Abstract
Description
本発明は硬化物の製造方法に関するものであり、更に詳しくは、ヒドロシリル化触媒の量を低減することにより透明性に優れた硬化物の製造方法および硬化物を提供するものである。 The present invention relates to a method for producing a cured product, and more specifically, provides a method for producing a cured product and a cured product having excellent transparency by reducing the amount of a hydrosilylation catalyst.
液晶表示装置に用いられる各種保護コーティング剤、LEDの封止剤やダイボンド剤、あるいは各種センサーのコーティング剤をはじめとした光学材料には高い透明性及び耐熱性が求められる(特許文献1〜3)。一方で、光学材料に用いる硬化物としてガラス転移温度(Tg)の高い硬化性組成物を用いると、組成物がTgから室温まで冷却される間に高い内部応力が発生し、クラックの発生やパッケージ材料との剥離等の原因となる。上述の内部応力を低減する方法として、組成物のTgを従来よりも低温側になるように硬化性組成物を設計することが挙げられる。しかしながら、この目的のために設計した組成物を用いて硬化を行うと硬化物の透明性が損なわれる等の問題があった。 High transparency and heat resistance are required for optical materials including various protective coating agents used in liquid crystal display devices, LED sealants and die bond agents, and various sensor coating agents (Patent Documents 1 to 3). . On the other hand, when a curable composition having a high glass transition temperature (Tg) is used as a cured product used for an optical material, a high internal stress is generated while the composition is cooled from Tg to room temperature, generating cracks and packaging. This may cause peeling from the material. As a method for reducing the above-mentioned internal stress, there is a method of designing a curable composition so that the Tg of the composition is lower than that in the past. However, when curing is performed using a composition designed for this purpose, there is a problem that transparency of the cured product is impaired.
本発明の目的は、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を含有する有機化合物と、SiH基を含有する化合物と、ヒドロシリル化触媒とからなる光学材料用組成物において、内部応力を低減し、かつ高い透明性を有する実用性の高い光学材料用組成物を得るための硬化方法、及びそれを用いた液晶表示装置及びLEDを提供することである。 An object of the present invention is to provide an internal stress in an optical material composition comprising an organic compound containing a carbon-carbon double bond that is reactive with SiH groups, a compound containing SiH groups, and a hydrosilylation catalyst. An object of the present invention is to provide a curing method for obtaining a highly practical composition for optical materials that is reduced and has high transparency, and a liquid crystal display device and an LED using the curing method.
かかる課題を解決するために本発明者らは鋭意研究の結果、本発明を完成するに至った。 In order to solve this problem, the present inventors have intensively researched and completed the present invention.
すなわち、本発明は、(A)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物、(C)ヒドロシリル化触媒、を必須成分として含有する硬化性組成物であって、前記(A)成分が下記一般式(I) That is, the present invention includes (A) an organic compound containing at least two carbon-carbon double bonds reactive with SiH groups in one molecule, and (B) containing at least two SiH groups in one molecule. A curable composition containing (C) a hydrosilylation catalyst as an essential component, wherein the component (A) is represented by the following general formula (I):
(式中R1は炭素数1〜50の一価の有機基を表し、それぞれのR1は異なっていても同一であってもよい。)で表される有機化合物であり、
前記(B)成分が、(α)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に1個以上含有する有機化合物と、(β)1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する直鎖状のポリオルガノシロキサンとをヒドロシリル化反応して得ることができる化合物である両末端にSiH基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンであり、前記(C)成分が白金−オレフィン錯体あるいは白金−ビニルシロキサン錯体であり、(C)成分の白金として3wt%溶液の含有量が全成分100重量部に対し、0.01重量部以下であることを特徴とする硬化性組成物(請求項1)であり、
前記(β)成分が下記一般式(II)
(Wherein R 1 represents a monovalent organic group having 1 to 50 carbon atoms, and each R 1 may be different or the same), and
The component (B) comprises (α) an organic compound containing one or more carbon-carbon double bonds reactive with SiH groups in one molecule, and (β) at least two SiH groups in one molecule. A linear polyorganosiloxane having SiH groups at both ends, which is a compound that can be obtained by hydrosilylation reaction with a linear polyorganosiloxane having an alkyl group, and the component (C) is a platinum-olefin complex or A curable composition characterized in that it is a platinum-vinylsiloxane complex, and the content of a 3 wt% solution as platinum of component (C) is 0.01 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of all components (claim) 1)
The component (β) is represented by the following general formula (II)
(式中R2は炭素数1〜6の一価の有機基を表し、複数のR2は異なっていても同一であってもよい。nは0〜1000の数)で表わされる化合物であることを特徴とする硬化性組成物(請求項2)であり、
請求項1又は2に記載の硬化性組成物からなる、電子材料用組成物(請求項3)である。
(Wherein R 2 represents a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms, and a plurality of R 2 may be different or the same. N is a number of 0 to 1000). A curable composition characterized in that (Claim 2),
It is a composition for electronic materials (Claim 3) which consists of a curable composition of Claim 1 or 2.
本発明のヒドロシリル化触媒の量を低減することにより硬化物の透明性を向上せしめる硬化方法を提供することよって、組成物のTgを従来よりも低温側になるように硬化性組成物を設計することが可能である。更に両末端にSiH基を含有する鎖状シロキサン化合物の反応性が、従来技術で使用していた環状シロキサン化合物よりも高い反応性を有するために架橋速度が速くなり、従来よりも生産効率が高まることが可能である。 The curable composition is designed so that the Tg of the composition is lower than the conventional one by providing a curing method that improves the transparency of the cured product by reducing the amount of the hydrosilylation catalyst of the present invention. It is possible. Furthermore, since the reactivity of the chain siloxane compound containing SiH groups at both ends is higher than that of the cyclic siloxane compound used in the prior art, the cross-linking speed is increased and the production efficiency is increased compared to the conventional one. It is possible.
((A)成分)
まず、本発明における(A)成分について説明する。
(A)成分は、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物であれば特に限定されない。上記有機化合物としては、ポリシロキサン−有機ブロックコポリマーやポリシロキサン−有機グラフトコポリマー等の、シロキサン単位(Si−O−Si)を含む化合物以外のものが好ましく、構成元素としてC、H、N、O、S及びハロゲン以外の元素を含まない化合物がより好ましい。シロキサン単位を含む化合物の場合は、ガス透過性やはじきの問題がある。
((A) component)
First, the component (A) in the present invention will be described.
The component (A) is not particularly limited as long as it is an organic compound containing at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with the SiH group in one molecule. The organic compound is preferably a compound other than a compound containing a siloxane unit (Si—O—Si), such as polysiloxane-organic block copolymer or polysiloxane-organic graft copolymer, and C, H, N, O as constituent elements. , Compounds containing no elements other than S and halogen are more preferred. In the case of a compound containing a siloxane unit, there are problems of gas permeability and repelling.
SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合の結合位置は特に限定されず、分子内のどこに存在してもよい。 (A)成分は、単独で用いても良いし、2種以上のものを組み合わせて用いてもよい。 (A)成分の化合物は、有機重合体系の化合物と有機単量体系の化合物に分類できる。 The bonding position of the carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group is not particularly limited, and may be present anywhere in the molecule. (A) A component may be used independently and may be used in combination of 2 or more types. The compound of the component (A) can be classified into an organic polymer compound and an organic monomer compound.
有機重合体系化合物としては特に限定されないが、例えば、ポリエーテル系、ポリエステル系、ポリアリレート系、ポリカーボネート系、飽和炭化水素系、不飽和炭化水素系、ポリアクリル酸エステル系、ポリアミド系、フェノール−ホルムアルデヒド系(フェノール樹脂系)、ポリイミド系の化合物等が挙げられる。 Although it does not specifically limit as an organic polymer type compound, For example, polyether type, polyester type, polyarylate type, polycarbonate type, saturated hydrocarbon type, unsaturated hydrocarbon type, polyacrylate ester type, polyamide type, phenol-formaldehyde Examples thereof include a phenolic compound and a polyimide compound.
有機単量体系化合物としては特に限定されないが、例えば、フェノール系、ビスフェノール系、ベンゼン、ナフタレン等の芳香族炭化水素系;鎖状、環状等の脂肪族炭化水素系;複素環系の化合物;これらの混合物等が挙げられる。
(A)成分のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合としては特に限定されないが、下記一般式(III)
Although it does not specifically limit as an organic monomer type compound, For example, aromatic hydrocarbon type, such as phenol type, bisphenol type, benzene, and naphthalene; And the like.
Although it does not specifically limit as a carbon-carbon double bond which has reactivity with SiH group of (A) component, The following general formula (III)
(式中R3は水素原子あるいはメチル基を表す。)で示される基が反応性の点から好適である。上記一般式(III)で示される基のうち、原料の入手の容易さから
で示される基が特に好ましい。
さらに、(A)成分のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合としては、下記一般式(IV)で表される部分構造を環内に有する脂環式の基が、硬化物の耐熱性が高いという点から好適である。
Is particularly preferred.
Furthermore, as the carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group of component (A), an alicyclic group having a partial structure represented by the following general formula (IV) in the ring is a cured product. This is preferable from the viewpoint of high heat resistance.
(式中R4は水素原子あるいはメチル基を表す。2つのR4は同じであってもよいし異なっていてもよい。)このうち、原料の入手の容易さから、下記式で表される部分構造を環内に有する脂環式の基が好適である。 (In the formula, R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group. Two R 4 may be the same or different.) Among these, from the availability of raw materials, it is represented by the following formula. An alicyclic group having a partial structure in the ring is preferred.
SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合は(A)成分の骨格部分に直接結合していてもよく、2価以上の置換基を介して共有結合していてもよい。上記2価以上の置換基としては特に限定されないが、炭素数0〜10の置換基が好ましく、構成元素としてC、H、N、O、S及びハロゲン以外の元素を含まない置換基がより好ましい。上記2価以上の置換基の例としては、 The carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group may be directly bonded to the skeleton portion of the component (A) or may be covalently bonded through a divalent or higher valent substituent. Although the divalent or higher valent substituent is not particularly limited, a substituent having 0 to 10 carbon atoms is preferable, and a substituent that does not contain elements other than C, H, N, O, S, and halogen is more preferable as a constituent element. . Examples of the divalent or higher substituent are as follows:
が挙げられる。また、例示した2価以上の置換基の2つ以上が共有結合によりつながって1つの2価以上の置換基を構成していてもよい。 Is mentioned. Further, two or more of the exemplified divalent or higher valent substituents may be connected by a covalent bond to constitute one divalent or higher valent substituent.
(A)成分の骨格部分に共有結合する基の例としては、ビニル基、アリル基、メタリル基、アクリル基、メタクリル基、2−ヒドロキシ−3−(アリルオキシ)プロピル基、2−アリルフェニル基、3−アリルフェニル基、4−アリルフェニル基、2−(アリルオキシ)フェニル基、3−(アリルオキシ)フェニル基、4−(アリルオキシ)フェニル基、2−(アリルオキシ)エチル基、2,2−ビス(アリルオキシメチル)ブチル基、3−アリルオキシ−2,2−ビス(アリルオキシメチル)
プロピル基、
Examples of the group covalently bonded to the skeleton of the component (A) include a vinyl group, allyl group, methallyl group, acrylic group, methacryl group, 2-hydroxy-3- (allyloxy) propyl group, 2-allylphenyl group, 3-allylphenyl group, 4-allylphenyl group, 2- (allyloxy) phenyl group, 3- (allyloxy) phenyl group, 4- (allyloxy) phenyl group, 2- (allyloxy) ethyl group, 2,2-bis ( Allyloxymethyl) butyl group, 3-allyloxy-2,2-bis (allyloxymethyl)
Propyl group,
が挙げられる。 Is mentioned.
(A)成分の具体的な例としては、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、トリメチロールプロパンジアリルエーテル、ペンタエリスリトールトリアリルエーテル、1,1,2,2−テトラアリロキシエタン、ジアリリデンペンタエリスリット、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパンのジアリルエーテル、1,2,4−トリビニルシクロヘキサン、ジビニルベンゼン類(純度50〜100%のもの、好ましくは純度80〜100%のもの)、ジビニルビフェニル、1,3−ジイソプロペニルベンゼン、1,4−ジイソプロペニルベンゼン、それらのオリゴマー、1,2−ポリブタジエン(1,2比率10〜100%のもの、好ましくは1,2比率50〜100%のもの)、ノボラックフェノールのアリルエーテル、アリル化ポリフェニレンオキサイド、 Specific examples of the component (A) include diallyl phthalate, triallyl trimellitate, diethylene glycol bisallyl carbonate, trimethylolpropane diallyl ether, pentaerythritol triallyl ether, 1,1,2,2-tetraallyloxyethane. Diarylidene pentaerythritol, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, diallyl ether of 2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane, 1,2,4-trivinylcyclohexane, divinylbenzenes (purity 50 -100%, preferably 80-100% purity), divinylbiphenyl, 1,3-diisopropenylbenzene, 1,4-diisopropenylbenzene, oligomers thereof, 1,2-polybutadiene (1, 2 ratio 10 100% of those, preferably 1,2 ratio 50-100% of those), allyl ether of novolak phenol, allylated polyphenylene oxide,
、エポキシ樹脂のグリシジル基の一部あるいは全部をアリル基に置き換えたもの等が挙げられる。 And those in which part or all of the glycidyl group of the epoxy resin is replaced with an allyl group.
(A)成分としては、骨格部分と炭素−炭素二重結合とに分けて表現しがたい、低分子量化合物も用いることができる。上記低分子量化合物の具体例としては、ブタジエン、イソプレン、オクタジエン、デカジエン等の脂肪族鎖状ポリエン化合物系、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロオクタジエン、ジシクロペンタジエン、トリシクロペンタジエン、ノルボルナジエン等の脂肪族環状ポリエン化合物系、ビニルシクロペンテン、ビニルシクロヘキセン等の置換脂肪族環状オレフィン化合物系等が挙げられる。 As the component (A), low molecular weight compounds that are difficult to express separately for the skeleton portion and the carbon-carbon double bond can also be used. Specific examples of the low molecular weight compound include aliphatic chain polyene compound systems such as butadiene, isoprene, octadiene and decadiene, aliphatic groups such as cyclopentadiene, cyclohexadiene, cyclooctadiene, dicyclopentadiene, tricyclopentadiene and norbornadiene. Examples thereof include cyclic polyene compound systems and substituted aliphatic cyclic olefin compound systems such as vinylcyclopentene and vinylcyclohexene.
(A)成分としては、耐熱性をより向上し得るという観点からは、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を(A)成分1gあたり0.001mol以上含有するものが好ましく、0.005mol以上含有するものがより好ましく、0.008mol以上含有するものがさらに好ましい。 The component (A) preferably contains 0.001 mol or more of a carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group per 1 g of the component (A) from the viewpoint of further improving the heat resistance. What contains 0.005 mol or more is more preferable, and what contains 0.008 mol or more is further more preferable.
(A)成分のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合の個数は、1分子当たり少なくとも2個あればよいが、力学強度をより向上したい場合には2個を越えることが好ましく、3個以上であることがより好ましい。ただし(A)成分が種々の化合物の混合物であり、各化合物の上記炭素−炭素二重結合の個数が同定できない場合には、上記混合物全体に関して1分子あたりの上記炭素−炭素二重結合の平均個数を求め、それを、(A)成分の上記炭素−炭素二重結合の個数とする。(A)成分のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合の数が1分子内当たり1個以下の場合は、(B)成分と反応してもグラフト構造となるのみで架橋構造とならない。 The number of carbon-carbon double bonds reactive with the SiH group of component (A) should be at least two per molecule, but it is preferable to exceed two when it is desired to further improve the mechanical strength, More preferably, it is 3 or more. However, when the component (A) is a mixture of various compounds and the number of the carbon-carbon double bonds of each compound cannot be identified, the average of the carbon-carbon double bonds per molecule for the whole mixture The number is obtained and used as the number of the carbon-carbon double bonds of the component (A). When the number of carbon-carbon double bonds having reactivity with the SiH group of component (A) is 1 or less per molecule, only a graft structure is formed even if it reacts with component (B). Don't be.
(A)成分としては反応性が良好であるという観点からは、1分子中にビニル基を1個以上含有していることが好ましく、1分子中にビニル基を2個以上含有していることがより好ましい。また貯蔵安定性が良好となりやすいという観点からは、1分子中にビニル基を6個以下含有していることが好ましく、1分子中にビニル基を4個以下含有していることがより好ましい。 From the viewpoint of good reactivity as the component (A), it is preferable that one or more vinyl groups are contained in one molecule, and two or more vinyl groups are contained in one molecule. Is more preferable. Further, from the viewpoint that the storage stability tends to be good, it is preferable that 6 or less vinyl groups are contained in one molecule, and it is more preferable that 4 or less vinyl groups are contained in one molecule.
(A)成分としては、力学的耐熱性が高いという観点、並びに、原料液の糸引き性が少なく、成形性及び取扱い性が良好であるという観点からは、分子量が900未満のものが好ましく、700未満のものがより好ましく、500未満のものがさらに好ましい。 As the component (A), those having a molecular weight of less than 900 are preferable from the viewpoint of high mechanical heat resistance, and from the viewpoint of low stringiness of the raw material liquid and good moldability and handleability. Those less than 700 are more preferred, and those less than 500 are more preferred.
(A)成分としては、他の成分との均一な混合、および良好な作業性を得るためには、粘度が23℃において100Pa・s未満のものが好ましく、30Pa・s未満のものがより好ましく、3Pa・s未満のものがさらに好ましい。粘度はE型粘度計によって測定することができる。 As the component (A), in order to obtain uniform mixing with other components and good workability, the viscosity is preferably less than 100 Pa · s at 23 ° C., more preferably less than 30 Pa · s. More preferred is less than 3 Pa · s. The viscosity can be measured with an E-type viscometer.
(A)成分としては、着色(特に黄変)の抑制の観点からは、フェノール性水酸基およびフェノール性水酸基の誘導体を有する化合物の含有量が少ないものが好ましく、フェノール性水酸基およびフェノール性水酸基の誘導体を有する化合物を含まないものがより好ましい。本発明におけるフェノール性水酸基とは、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等の芳香族炭化水素核に直接結合した水酸基を示し、フェノール性水酸基の誘導体とは、上記フェノール性水酸基の水素原子をメチル基、エチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、アセトキシ基等のアシル基等により置換した基を示す。 As the component (A), from the viewpoint of suppression of coloring (particularly yellowing), those having a small content of a phenolic hydroxyl group and a compound having a phenolic hydroxyl group derivative are preferable. What does not contain the compound which has is more preferable. The phenolic hydroxyl group in the present invention refers to a hydroxyl group directly bonded to an aromatic hydrocarbon nucleus such as a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, etc., and the phenolic hydroxyl group derivative refers to a hydrogen atom of the phenolic hydroxyl group as a methyl group. And an alkyl group such as an ethyl group, an alkenyl group such as a vinyl group and an allyl group, and an acyl group such as an acetoxy group.
複屈折率が低い、光弾性係数が低い等のように光学特性が良好であるとともに耐候性が良好であるという観点からは、(A)成分は、脂肪族系化合物が好ましい。この場合、脂肪族系化合物とは、芳香環を含まないか又はその含有量が少ないものをいう。具体的には、芳香環の(A)成分中の成分重量比が50重量%以下であるものが好ましく、40重量%以下のものがより好ましく、30重量%以下のものがさらに好ましい。最も好ましいのは芳香族炭化水素環を含まないものである。 From the viewpoints of good optical properties such as low birefringence and low photoelastic coefficient, and good weather resistance, the component (A) is preferably an aliphatic compound. In this case, the aliphatic compound means one that does not contain an aromatic ring or has a low content. Specifically, the component weight ratio in the component (A) of the aromatic ring is preferably 50% by weight or less, more preferably 40% by weight or less, and even more preferably 30% by weight or less. Most preferred are those that do not contain an aromatic hydrocarbon ring.
得られる硬化物の着色が少なく、光学的透明性が高く、耐光性が高いという観点からは、(A)成分としてはビニルシクロヘキセン、ジシクロペンタジエン、トリアリルイソシアヌレート、2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパンのジアリルエーテル、1,2,4−トリビニルシクロヘキサンが好ましく、トリアリルイソシアヌレート、2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパンのジアリルエーテル、1,2,4−トリビニルシクロヘキサンが特に好ましい。 From the viewpoint that the obtained cured product is less colored, has high optical transparency, and has high light resistance, the component (A) includes vinylcyclohexene, dicyclopentadiene, triallyl isocyanurate, 2,2-bis (4 -Hydroxycyclohexyl) propane diallyl ether, 1,2,4-trivinylcyclohexane is preferred, triallyl isocyanurate, 2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane diallyl ether, 1,2,4-trivinyl Cyclohexane is particularly preferred.
(A)成分は、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合以外の反応性基を有していてもよい。上記反応性基としては特に限定されないが、例えば、エポキシ基、アミノ基、ラジカル重合性不飽和基、カルボキシル基、イソシアネート基、ヒドロキシル基、アルコキシシリル基等が挙げられる。上記反応性基を有している場合には得られる光学材料用組成物の接着性が高くなりやすく、得られる硬化物の強度が高くなりやすい。接着性がより高くなりうるという点からは、上記反応性基のうちエポキシ基が好ましい。また、得られる硬化物の耐熱性が高くなりやすいという点においては、上記反応性基を平均して1分子中に1個以上有していることが好ましい。 The component (A) may have a reactive group other than the carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group. Although it does not specifically limit as said reactive group, For example, an epoxy group, an amino group, a radically polymerizable unsaturated group, a carboxyl group, an isocyanate group, a hydroxyl group, an alkoxysilyl group etc. are mentioned. When it has the said reactive group, the adhesiveness of the composition for optical materials obtained tends to become high, and the intensity | strength of the hardened | cured material obtained tends to become high. Of these reactive groups, an epoxy group is preferred from the viewpoint that the adhesiveness can be further increased. Moreover, it is preferable that the average of the said reactive group is 1 or more in 1 molecule from the point that the heat resistance of the hardened | cured material obtained becomes high easily.
(一般式(I))
(A)成分としては、耐熱性および透明性が高いという観点から、下記一般式(I)で表される化合物が好ましい。
(General formula (I))
The component (A) is preferably a compound represented by the following general formula (I) from the viewpoint of high heat resistance and transparency.
(式中R1は炭素数1〜50の一価の有機基を表し、それぞれのR1は異なっていても同一であってもよい。) (In the formula, R 1 represents a monovalent organic group having 1 to 50 carbon atoms, and each R 1 may be different or the same.)
上記一般式(I)のR1としては、得られる硬化物の耐熱性がより高くなりうるという観点からは、炭素数1〜20の一価の有機基が好ましく、炭素数1〜10の一価の有機基がより好ましく、炭素数1〜4の一価の有機基がさらに好ましい。好ましいR1の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、ビニル基、アリル基、グリシジル基、 As R < 1 > of the said general formula (I), from a viewpoint that the heat resistance of the hardened | cured material obtained can become higher, a C1-C20 monovalent organic group is preferable, and it is C1-C10 one. A valent organic group is more preferable, and a monovalent organic group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable. Examples of preferable R 1 include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, phenyl group, benzyl group, phenethyl group, vinyl group, allyl group, glycidyl group,
等が挙げられる。
得られる硬化物の各種材料との接着性が良好になりうるという観点からは、上記一般式(I)の3つのR1のうち少なくとも1つが、エポキシ基を一つ以上含む炭素数1〜50の一価の有機基であることが好ましく、
Etc.
From the viewpoint that the adhesiveness of the obtained cured product to various materials can be improved, at least one of the three R 1 s in the general formula (I) has 1 to 50 carbon atoms including one or more epoxy groups. Is preferably a monovalent organic group,
で表されるエポキシ基を1個以上含む炭素数1〜50の一価の有機基であることがより好ましい。上記エポキシ基を一つ以上含む炭素数1〜50の一価の有機基としては、グリシジル基、 It is more preferable that it is a C1-C50 monovalent organic group containing 1 or more of epoxy groups represented by these. Examples of the monovalent organic group having 1 to 50 carbon atoms including one or more epoxy groups include a glycidyl group,
が好ましい。 Is preferred.
上記一般式(I)のR1としては、得られる硬化物の化学的な熱安定性が良好になりうるという観点からは、2個以下の酸素原子を含みかつ構成元素としてC、H、N及びO以外の元素を含まない炭素数1〜50の一価の有機基が好ましく、2個以下の酸素原子を含みかつ構成元素としてC、H及びO以外の元素を含まない炭素数1〜50の一価の有機基がより好ましく、炭素数1〜50の一価の炭化水素基がさらに好ましい。これらの好ましいR1の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、ビニル基、アリル基、グリシジル基、 As R 1 of the general formula (I), from the viewpoint that chemical thermal stability of the resulting cured product can be improved, it contains 2 or less oxygen atoms and is composed of C, H, N as constituent elements. And a monovalent organic group having 1 to 50 carbon atoms which does not contain any element other than O and O, preferably 1 to 50 carbon atoms which contain 2 or less oxygen atoms and which do not contain any elements other than C, H and O as constituent elements. Are more preferable, and a monovalent hydrocarbon group having 1 to 50 carbon atoms is more preferable. Examples of these preferable R 1 are methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, phenyl group, benzyl group, phenethyl group, vinyl group, allyl group, glycidyl group,
等が挙げられる。
反応性が良好になるという観点からは、上記一般式(I)の3つのR1のうち少なくとも1つが、
Etc.
From the viewpoint of improving the reactivity, at least one of the three R 1 in the general formula (I) is:
で表される基を1個以上含む炭素数1〜50の一価の有機基であることが好ましく、3つのR1のうち少なくとも1つが、下記一般式(III) In preferably a group represented by a one or more containing monovalent organic group having 1 to 50 carbon atoms, at least one of the three R 1, the following general formula (III)
(式中R3は水素原子あるいはメチル基を表す。)で表される基を1個以上含む炭素数1〜50の一価の有機基であることがより好ましく、3つのR1のうち少なくとも2つが、下記一般式(V) (Wherein R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group), more preferably a monovalent organic group having 1 to 50 carbon atoms containing at least one group represented by at least one of the three R 1 groups. Two are the following general formula (V)
(式中R5は直接結合あるいは炭素数1〜48の二価の有機基を表し、R6は水素原子あるいはメチル基を表す。複数のR5およびR6はそれぞれ異なっていても同一であってもよい。)で表される有機基であることがさらに好ましい。 (Wherein R 5 represents a direct bond or a divalent organic group having 1 to 48 carbon atoms, and R 6 represents a hydrogen atom or a methyl group. The plurality of R 5 and R 6 may be the same even if they are different from each other. It is more preferable that it is an organic group represented by.
上記一般式(V)のR5は、直接結合あるいは炭素数1〜48の二価の有機基であるが、得られる硬化物の耐熱性がより高くなりうるという観点からは、直接結合あるいは炭素数1〜20の二価の有機基が好ましく、直接結合あるいは炭素数1〜10の二価の有機基がより好ましく、直接結合あるいは炭素数1〜4の二価の有機基がさらに好ましい。なかでも好ましいR5の例としては、 R 5 in the general formula (V) is a direct bond or a divalent organic group having 1 to 48 carbon atoms. From the viewpoint that the heat resistance of the obtained cured product can be further increased, the direct bond or carbon A divalent organic group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, a direct bond or a divalent organic group having 1 to 10 carbon atoms is more preferable, and a direct bond or a divalent organic group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable. Particularly preferred examples of R 5 include
等が挙げられる。 Etc.
上記一般式(V)のR5としては、得られる硬化物の化学的な熱安定性が良好になりうるという観点からは、直接結合、あるいは、2つ以下の酸素原子を含みかつ構成元素としてC、H及びO以外の元素を含まない炭素数1〜48の二価の有機基が好ましく、直接結合あるいは炭素数1〜48の二価の炭化水素基がより好ましい。なかでも好ましいR5の例としては、 As R 5 of the general formula (V), from the viewpoint that the chemical thermal stability of the obtained cured product can be improved, it is a direct bond, or contains two or less oxygen atoms and is a constituent element. A divalent organic group having 1 to 48 carbon atoms containing no elements other than C, H and O is preferred, and a direct bond or a divalent hydrocarbon group having 1 to 48 carbon atoms is more preferred. Particularly preferred examples of R 5 include
が挙げられる。 Is mentioned.
上記一般式(V)のR6は、水素原子あるいはメチル基であるが、反応性が良好であるという観点からは、水素原子が好ましい。 R 6 in the general formula (V) is a hydrogen atom or a methyl group, and a hydrogen atom is preferable from the viewpoint of good reactivity.
ただし、上記一般式(I)で表される有機化合物においても、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有することは必要である。耐熱性をより向上し得るという観点からは、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に3個以上含有する有機化合物であることがより好ましい。 However, even in the organic compound represented by the general formula (I), it is necessary to contain at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with the SiH group in one molecule. From the viewpoint that heat resistance can be further improved, an organic compound containing three or more carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups in one molecule is more preferable.
上記一般式(I)で表される有機化合物の好ましい具体例としては、トリアリルイソシアヌレート、 Preferred specific examples of the organic compound represented by the general formula (I) include triallyl isocyanurate,
等が挙げられる。接着性向上のためには、(A)成分としてはトリアリルイソシアヌレートが好ましい。 Etc. For improving adhesiveness, triallyl isocyanurate is preferred as the component (A).
((B)成分)
次に、(B)成分であるSiH基を有する化合物について説明する。
((B) component)
Next, the compound which has SiH group which is (B) component is demonstrated.
本発明において(B)成分は(α)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に1個以上含有する有機化合物と、(β)1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する直鎖状のポリオルガノシロキサンとをヒドロシリル化反応して得ることができる化合物である両末端にSiH基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンである。 In the present invention, the component (B) comprises (α) an organic compound containing at least one carbon-carbon double bond reactive with a SiH group in one molecule, and (β) at least two SiH in one molecule. It is a linear polyorganosiloxane having SiH groups at both ends, which is a compound obtained by hydrosilylation reaction with a linear polyorganosiloxane having a group.
ここで、両末端にSiH基を含有する鎖状シロキサン化合物(β)成分としては、例えば下記一般式(II) Here, as the chain siloxane compound (β) component containing SiH groups at both ends, for example, the following general formula (II)
(式中R2は炭素数1〜6の一価の有機基を表し、複数のR2は異なっていても同一であってもよい。nは0〜1000の数)で表わされる化合物を挙げることができる。 (Wherein R 2 represents a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms, and a plurality of R 2 may be different or the same. N is a number of 0 to 1000). be able to.
上記一般式(II)のR2としては、具体的には水素原子、メチル基、フェニル基、エチル基、オクチル基、ビニル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等を挙げることができる。 Specific examples of R 2 in the general formula (II) include a hydrogen atom, a methyl group, a phenyl group, an ethyl group, an octyl group, a vinyl group, a cyano group, a trifluoromethyl group, a methoxy group, an ethoxy group, and a propoxy group. And a butoxy group.
これらのうち、工業的入手性が良いという観点からは、水素原子、メチル基、フェニル基が好ましく、メチル基、フェニル基がより好ましく、メチル基が最も好ましい。 Among these, from the viewpoint of good industrial availability, a hydrogen atom, a methyl group and a phenyl group are preferable, a methyl group and a phenyl group are more preferable, and a methyl group is most preferable.
上記一般式(II)のnとしては他の成分との相溶性が良好であるという観点においては、0〜10の数が好ましく、0〜3の数がより好ましく、0が最も好ましい。上記一般式(II)で表わされる化合物のより具体的な例としては、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,1,2,2,3,3−ヘキサメチルトリシロキサン等があげれる。 In the general formula (II), n is preferably a number of 0 to 10, more preferably a number of 0 to 3, and most preferably 0 from the viewpoint of good compatibility with other components. More specific examples of the compound represented by the general formula (II) include 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,1,2,2,3,3-hexamethyltrisiloxane, and the like. I can give it.
((α)成分と(β)成分の反応)
(B)成分が、両末端にSiH基を含有する鎖状シロキサン化合物(β)成分と上記(α)成分との反応物である場合の、両末端にSiH基を含有する鎖状シロキサン化合物(β)成分および(α)成分の説明や、それぞれの好ましい例等については上記説明と同じである。
(Reaction of (α) component and (β) component)
When the component (B) is a reaction product of a chain siloxane compound (β) component containing SiH groups at both ends and the component (α), a chain siloxane compound containing SiH groups at both ends ( The explanation of the (β) component and the (α) component, and preferred examples thereof are the same as those described above.
(B)成分を具体的に例示すると、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンとトリアリルイソシアヌレートの反応物、1,1,2,2,3,3−ヘキサメチルトリシロキサンとトリアリルイソシアヌレートとの反応物、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンとジアリルモノグリシジルイソシアヌレートの反応物、1,1,2,2,3,3−ヘキサメチルトリシロキサンとジアリルモノグリシジルイソシアヌレートとの反応物等を挙げることができる。 Specific examples of the component (B) include a reaction product of 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane and triallyl isocyanurate, 1,1,2,2,3,3-hexamethyltrisiloxane and triaryl. Reaction product of allyl isocyanurate, reaction product of 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane and diallyl monoglycidyl isocyanurate, 1,1,2,2,3,3-hexamethyltrisiloxane and diallyl monoglycidyl A reaction product with isocyanurate can be mentioned.
両末端にSiH基を含有する鎖状シロキサン化合物と(α)成分とを反応させる方法については、ヒドロシリル化反応は、必要に応じてヒドロシリル化触媒存在下に、両末端にSiH基を含有する鎖状シロキサン化合物と(α)成分とを混合すること等によって実施することができる。 With respect to the method of reacting the chain siloxane compound containing SiH groups at both ends and the component (α), the hydrosilylation reaction is carried out in the presence of a hydrosilylation catalyst, if necessary, with chains containing SiH groups at both ends. It can be carried out, for example, by mixing the siloxane compound and the component (α).
この場合のヒドロシリル化触媒の説明としては後述する本発明の(C)成分の説明と同じである。 The description of the hydrosilylation catalyst in this case is the same as the description of the component (C) of the present invention described later.
上記したような両末端にSiH基を含有する鎖状シロキサン化合物と(α)成分との混合比率は、得られる(B)成分が1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物である必要があるため、一般に両末端にSiH基を含有する鎖状シロキサン化合物中のSiH基の数(Y)と、(α)成分中のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合の数(X)との比が、5≧Y/X>1であることが好ましく、3≧Y/X≧1.5であることがより好ましい。 The mixing ratio of the chain siloxane compound containing SiH groups at both ends as described above and the component (α) is such that the component (B) obtained contains at least two SiH groups in one molecule. In general, the number of SiH groups in the chain siloxane compound containing SiH groups at both ends (Y), and the number of carbon-carbon double bonds reactive with the SiH groups in the component (α). The ratio with (X) is preferably 5 ≧ Y / X> 1, and more preferably 3 ≧ Y / X ≧ 1.5.
混合の方法としては種々の方法が適用できるが、反応中のゲル化を抑制するためには、両末端にSiH基を含有する鎖状シロキサン化合物中に(A)成分を徐々に添加する方法が好ましい。 Various methods can be applied as a mixing method, but in order to suppress gelation during the reaction, there is a method in which the component (A) is gradually added to the chain siloxane compound containing SiH groups at both ends. preferable.
本発明における組成物中の(α)成分と(β)成分の混合比率は、必要な強度を失わない限りは特に限定されないが、(β)成分中のSiH基の数(Y)の(α)成分中の炭素−炭素二重結合の数(X)に対する比が、2.0≧Y/X≧0.5であることが好ましく、1.5≧Y/X≧0.7がより好ましい。2.0>Y/XあるいはY/X<0.5の場合は、十分な硬化性が得られず、充分な強度が得られない場合があり、またY/X<0.5の場合は炭素−炭素二重結合が過剰となり着色の原因となりやすい。 The mixing ratio of the (α) component and the (β) component in the composition of the present invention is not particularly limited as long as the necessary strength is not lost, but the (α) of the number of SiH groups (Y) in the (β) component ) The ratio of carbon-carbon double bonds (X) in the component is preferably 2.0 ≧ Y / X ≧ 0.5, more preferably 1.5 ≧ Y / X ≧ 0.7 . If 2.0> Y / X or Y / X <0.5, sufficient curability may not be obtained, and sufficient strength may not be obtained. If Y / X <0.5, The carbon-carbon double bond is excessive and tends to cause coloring.
(β)成分の分子量は特に制約はなく任意のものが好適に使用できるが、より流動性を発現しやすいという観点から、低分子量のものが好ましく用いられる。この場合、好ましい分子量の下限は50であり、好ましい分子量の上限は100,000、より好ましくは1,000、さらに好ましくは700である。 (β)成分は単独で用いてもよいし、2種以上のものを組み合わせて用いてもよい。 The molecular weight of the component (β) is not particularly limited, and any one can be suitably used, but a low molecular weight is preferably used from the viewpoint that fluidity is more easily expressed. In this case, the lower limit of the preferred molecular weight is 50, and the upper limit of the preferred molecular weight is 100,000, more preferably 1,000, and still more preferably 700. The (β) component may be used alone or in combination of two or more.
(α)成分と(β)成分をヒドロシリル化反応させる場合には適当な触媒を用いてもよい。触媒としてはヒドロシリル化反応の触媒活性があれば特に限定されないが、例えば、白金の単体、アルミナ、シリカ、カーボンブラック等の担体に固体白金を担持させたもの、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトン等との錯体、白金−オレフィン錯体(例えば、Pt(CH2=CH2)2(PPh3)2、Pt(CH2=CH2)2Cl2)、白金−ビニルシロキサン錯体(例えば、Pt(ViMe2SiOSiMe2Vi)n、Pt[(MeViSiO)4]m)、白金−ホスフィン錯体(例えば、Pt(PPh3)4、Pt(PBu3)4)、白金−ホスファイト錯体(例えば、Pt[P(OPh)3]4、Pt[P(OBu)3]4)(式中、Meはメチル基、Buはブチル基、Viはビニル基、Phはフェニル基を表し、n、mは、整数を示す。)、ジカルボニルジクロロ白金、カールシュテト(Karstedt)触媒、アシュビー(Ashby)の米国特許第3159601号及び3159662号明細書中に記載された白金−炭化水素複合体、ラモロー(Lamoreaux)の米国特許第3220972号明細書中に記載された白金アルコラート触媒等が挙げられる。更に、モディック(Modic)の米国特許第3516946号明細書中に記載された塩化白金−オレフィン複合体も本発明において有用である。
白金化合物以外の触媒の例としては、RhCl(PPh)3、RhCl3、RhAl2O3、RuCl3、IrCl3、FeCl3、AlCl3、PdCl2・2H2O、NiCl2、TiCl4等が挙げられる。
When the (α) component and the (β) component are subjected to a hydrosilylation reaction, an appropriate catalyst may be used. The catalyst is not particularly limited as long as it has a catalytic activity for hydrosilylation reaction. For example, platinum alone, alumina, silica, carbon black or the like supported on solid platinum, chloroplatinic acid, chloroplatinic acid and alcohol , Complexes with aldehydes, ketones, etc., platinum-olefin complexes (for example, Pt (CH 2 ═CH 2 ) 2 (PPh 3 ) 2 , Pt (CH 2 ═CH 2 ) 2 Cl 2 ), platinum-vinylsiloxane complexes ( For example, Pt (ViMe 2 SiOSiMe 2 Vi) n , Pt [(MeViSiO) 4 ] m ), platinum-phosphine complex (eg, Pt (PPh 3 ) 4 , Pt (PBu 3 ) 4 ), platinum-phosphite complex ( For example, Pt [P (OPh) 3 ] 4, Pt [P (OBu) 3] 4) ( in the formula, Me represents a methyl group, Bu a butyl group, Vi represents a vinyl group, Ph is phenyl N and m are integers.), Dicarbonyldichloroplatinum, Karstedt catalyst, Ashby US Pat. Nos. 3,159,601 and 3,159,662 And the platinum alcoholate catalyst described in US Pat. No. 3,220,972 to Lamoreaux. In addition, platinum chloride-olefin complexes described in Modic US Pat. No. 3,516,946 are also useful in the present invention.
Examples of catalysts other than platinum compounds include RhCl (PPh) 3 , RhCl 3 , RhAl 2 O 3, RuCl 3 , IrCl 3 , FeCl 3 , AlCl 3 , PdCl 2 .2H 2 O, NiCl 2 , TiCl 4 and the like. It is done.
これらの中では、触媒活性の点から、塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体等が好ましい。上記触媒は単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。 Of these, chloroplatinic acid, platinum-olefin complexes, platinum-vinylsiloxane complexes and the like are preferable from the viewpoint of catalytic activity. The said catalyst may be used independently and may use 2 or more types together.
触媒の添加量は特に限定されないが、十分な硬化性を有し、かつ光学材料用組成物のコストを比較的低く抑えるため、前記(C)成分の白金として3wt%溶液の含有量が全成分100重量部に対し、0.01重量部以下である含有量が全成分100重量部に対し、上限が好ましくは0.05重量部以下であり、より好ましくは0.01重量部以下であり、下限が好ましくは0部以上であり、より好ましくは0.001部以上である。
上記触媒には助触媒を併用することが可能であり、例としてトリフェニルホスフィン等のリン系化合物、ジメチルマレエート等の1,2−ジエステル系化合物、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−ブチン等のアセチレンアルコール系化合物、単体の硫黄等の硫黄系化合物、トリエチルアミン等のアミン系化合物等が挙げられる。
The amount of the catalyst added is not particularly limited, but in order to have sufficient curability and keep the cost of the composition for optical materials relatively low, the content of 3 wt% solution as platinum of the component (C) is all components. The upper limit is preferably 0.05 parts by weight or less, more preferably 0.01 parts by weight or less, with respect to 100 parts by weight, with respect to 100 parts by weight. The lower limit is preferably 0 part or more, more preferably 0.001 part or more.
A co-catalyst can be used in combination with the above catalyst, for example, phosphorus compounds such as triphenylphosphine, 1,2-diester compounds such as dimethyl maleate, 2-hydroxy-2-methyl-1-butyne Acetylene alcohol compounds such as sulfur, sulfur compounds such as simple sulfur, and amine compounds such as triethylamine.
反応させる場合の(α)成分、(β)成分及び触媒の混合の方法としては、各種方法をとることができるが、(α)成分に触媒を混合したものを、(β)成分に混合する方法が好ましい。(α)成分と(β)成分の混合物に触媒を混合する方法の場合、反応の制御が困難である。(β)成分と触媒を混合したものに(α)成分を混合する方法をとる場合は、触媒の存在下(β)成分が混入している水分と反応性を有するため、変質することがある。 As the method of mixing the (α) component, the (β) component and the catalyst in the reaction, various methods can be used, but the (α) component mixed with the catalyst is mixed with the (β) component. The method is preferred. In the case of a method in which a catalyst is mixed with a mixture of the (α) component and the (β) component, it is difficult to control the reaction. When the method of mixing the (β) component with the mixture of the (β) component and the catalyst, the (β) component is reactive in the presence of the catalyst and may be altered due to its reactivity with water. .
反応温度としては種々設定できるが、好ましい温度範囲の下限は30℃、より好ましくは50℃であり、好ましい温度範囲の上限は200℃、より好ましくは150℃である。反応温度が低いと十分に反応させるための反応時間が長くなり、反応温度が高いと実用的でない。反応は一定の温度で行ってもよいが、必要に応じて多段階あるいは連続的に温度を変化させてもよい。反応時間、反応時の圧力も必要に応じ種々設定できる。 Although various reaction temperatures can be set, the lower limit of the preferred temperature range is 30 ° C., more preferably 50 ° C., and the upper limit of the preferred temperature range is 200 ° C., more preferably 150 ° C. If the reaction temperature is low, the reaction time for sufficiently reacting becomes long, and if the reaction temperature is high, it is not practical. The reaction may be carried out at a constant temperature, but the temperature may be changed in multiple steps or continuously as required. Various reaction times and pressures during the reaction can be set as required.
ヒドロシリル化反応の際に溶媒を使用してもよい。使用できる溶剤はヒドロシリル化反応を阻害しない限り特に限定されるものではなく、具体的に例示すれば、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、クロロホルム、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒を好適に用いることができる。溶媒は2種類以上の混合溶媒として用いることもできる。溶媒としては、トルエン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、クロロホルムが好ましい。使用する溶媒量も適宜設定できる。 A solvent may be used during the hydrosilylation reaction. Solvents that can be used are not particularly limited as long as they do not inhibit the hydrosilylation reaction. Specifically, hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, hexane, heptane, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1, Ether solvents such as 3-dioxolane and diethyl ether, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, and halogen solvents such as chloroform, methylene chloride and 1,2-dichloroethane can be preferably used. The solvent can also be used as a mixed solvent of two or more types. As the solvent, toluene, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane and chloroform are preferable. The amount of solvent to be used can also be set as appropriate.
その他、反応性を制御する目的等のために種々の添加剤を用いてもよい。
(α)成分と(β)成分を反応させた後に、溶媒、未反応の(α)成分及び/又は(β)成分を除去することもできる。これらの揮発分を除去することにより、得られる(B)成分が揮発分を有さないため(A)成分との硬化の場合に揮発分の揮発によるボイド、クラックの問題が生じにくい。除去する方法としては、例えば、減圧脱揮の他、活性炭、ケイ酸アルミニウム、シリカゲル等による処理等が挙げられる。減圧脱揮する場合には低温で処理することが好ましい。この場合の好ましい温度の上限は100℃であり、より好ましくは60℃である。高温で処理すると増粘等の変質を伴いやすい。
In addition, various additives may be used for the purpose of controlling reactivity.
After reacting the (α) component and the (β) component, the solvent, the unreacted (α) component and / or the (β) component can also be removed. By removing these volatile components, the component (B) obtained does not have volatile components, so that the problem of voids and cracks due to volatilization of the volatile components hardly occurs in the case of curing with the component (A). Examples of the removing method include treatment with activated carbon, aluminum silicate, silica gel and the like in addition to devolatilization under reduced pressure. When devolatilizing under reduced pressure, it is preferable to treat at a low temperature. The upper limit of the preferable temperature in this case is 100 ° C, more preferably 60 ° C. When treated at high temperatures, it tends to be accompanied by alterations such as thickening.
((A)成分と(B)成分の混合)
(A)成分と(B)成分の組み合わせについては、(A)成分の例として挙げたもの及びそれらの各種混合物/(B)成分の例として挙げたもの及びそれらの各種混合物、の各種組み合わせを挙げることができる。
(Mixing of component (A) and component (B))
About the combination of (A) component and (B) component, the combination of what was mentioned as an example of (A) component and those various mixtures / example of (B) component, and those various mixtures. Can be mentioned.
(A)成分と(B)成分の混合比率は、必要な強度を失わない限りは特に限定されないが、(B)成分中のSiH基の数(Y)の(A)成分中の炭素−炭素二重結合の数(X)に対する比において、好ましい範囲の下限はY/X≧0.3、より好ましくはY/X≧0.5、さらに好ましくはY/X≧0.7であり、好ましい範囲の上限は3≧Y/X、より好ましくは2≧Y/X、さらに好ましくは1.5≧Y/Xである。好ましい範囲からはずれた場合には十分な強度が得られなかったり、熱劣化しやすくなる場合がある。 The mixing ratio of the component (A) and the component (B) is not particularly limited as long as the necessary strength is not lost, but the number of SiH groups in the component (B) (Y) is the carbon-carbon in the component (A). In the ratio to the number of double bonds (X), the lower limit of the preferred range is Y / X ≧ 0.3, more preferably Y / X ≧ 0.5, and even more preferably Y / X ≧ 0.7, which is preferable. The upper limit of the range is 3 ≧ Y / X, more preferably 2 ≧ Y / X, and even more preferably 1.5 ≧ Y / X. When it deviates from the preferred range, sufficient strength may not be obtained or thermal deterioration may easily occur.
((C)成分)
次に本発明における(C)成分について説明する。
(C)成分であるヒドロシリル化触媒としては、ヒドロシリル化反応の触媒活性があれば特に限定されないが、例えば、白金の単体、アルミナ、シリカ、カーボンブラック等の担体に固体白金を担持させたもの、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトン等との錯体、白金−オレフィン錯体(例えば、Pt(CH2=CH2)2(PPh3)2、Pt(CH2=CH2)2Cl2)、白金−ビニルシロキサン錯体(例えば、Pt(ViMe2SiOSiMe2Vi)n、Pt[(MeViSiO)4]m)、白金−ホスフィン錯体(例えば、Pt(PPh3)4、Pt(PBu3)4)、白金−ホスファイト錯体(例えば、Pt[P(OPh)3]4、Pt[P(OBu)3]4)(式中、Meはメチル基、Buはブチル基、Viはビニル基、Phはフェニル基を表し、n、mは、整数を示す。)、ジカルボニルジクロロ白金、カールシュテト(Karstedt)触媒、アシュビー(Ashby)の米国特許第3159601号及び3159662号明細書中に記載された白金−炭化水素複合体、ラモロー(Lamoreaux)の米国特許第3220972号明細書中に記載された白金アルコラート触媒等が挙げられる。更に、モディック(Modic)の米国特許第3516946号明細書中に記載された塩化白金−オレフィン複合体も本発明において有用である。
((C) component)
Next, the component (C) in the present invention will be described.
The hydrosilylation catalyst that is component (C) is not particularly limited as long as it has catalytic activity for hydrosilylation reaction. For example, a catalyst in which solid platinum is supported on a carrier such as a simple substance of platinum, alumina, silica, or carbon black, Chloroplatinic acid, complexes of chloroplatinic acid with alcohols, aldehydes, ketones, etc., platinum-olefin complexes (eg, Pt (CH 2 ═CH 2 ) 2 (PPh 3 ) 2 , Pt (CH 2 ═CH 2 ) 2 Cl 2 ), a platinum-vinylsiloxane complex (eg, Pt (ViMe 2 SiOSiMe 2 Vi) n , Pt [(MeViSiO) 4 ] m ), a platinum-phosphine complex (eg, Pt (PPh 3 ) 4 , Pt (PBu 3 )) 4), platinum - phosphite complex (e.g., Pt [P (OPh) 3 ] 4, Pt [P (OBu) 3] 4) ( in the formula, Me represents a methyl group, Bu is a butyl group Vi represents a vinyl group, Ph represents a phenyl group, and n and m represent an integer.), Dicarbonyldichloroplatinum, Karlstedt catalyst, Ashby US Pat. Nos. 3,159,601 and 3,159,662 And the platinum alcoholate catalyst described in US Pat. No. 3,220,972 of Lamoreaux. In addition, platinum chloride-olefin complexes described in Modic US Pat. No. 3,516,946 are also useful in the present invention.
白金化合物以外の触媒の例としては、RhCl(PPh)3、RhCl3、RhAl2O3、RuCl3、IrCl3、FeCl3、AlCl3、PdCl2・2H2O、NiCl2、TiCl4等が挙げられる。 Examples of catalysts other than platinum compounds include RhCl (PPh) 3 , RhCl 3 , RhAl 2 O 3, RuCl 3 , IrCl 3 , FeCl 3 , AlCl 3 , PdCl 2 .2H 2 O, NiCl 2 , TiCl 4 and the like. It is done.
これらの中では、触媒活性の点から、塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体等が好ましい。上記触媒は単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。 Of these, chloroplatinic acid, platinum-olefin complexes, platinum-vinylsiloxane complexes and the like are preferable from the viewpoint of catalytic activity. The said catalyst may be used independently and may use 2 or more types together.
ヒドロシリル化触媒の添加量は特に限定されないが、十分な硬化性及び透明性を有し、かつ光学材料用組成物のコストを比較的低く抑えるため、
前記(C)成分の白金として3wt%溶液の含有量が全成分100重量部に対し、上限が好ましくは0.05重量部以下であり、より好ましくは0.01重量部以下であり、下限が好ましくは0部以上であり、より好ましくは0.001部以上である。
Although the addition amount of the hydrosilylation catalyst is not particularly limited, it has sufficient curability and transparency and keeps the cost of the composition for optical materials relatively low.
The content of 3 wt% solution of platinum as the component (C) is preferably 0.05 parts by weight or less, more preferably 0.01 parts by weight or less, and the lower limit is 100 parts by weight of all components. Preferably it is 0 part or more, More preferably, it is 0.001 part or more.
(添加剤)
次に本発明における任意成分について説明する。
(Additive)
Next, optional components in the present invention will be described.
(硬化遅延剤)
本発明の光学材料用組成物には、保存安定性を改良する目的、あるいは製造過程でのヒドロシリル化反応の反応性を調整する目的で、硬化遅延剤を配合することができる。硬化遅延剤としては特に限定されないが、例えば、脂肪族不飽和結合を含有する化合物、有機リン化合物、硫黄含有化合物、窒素含有化合物、スズ系化合物、有機過酸化物等が挙げられる。
(Curing retarder)
The composition for optical materials of the present invention can contain a curing retarder for the purpose of improving storage stability or adjusting the reactivity of the hydrosilylation reaction during the production process. Although it does not specifically limit as a hardening retarder, For example, the compound containing an aliphatic unsaturated bond, an organic phosphorus compound, a sulfur containing compound, a nitrogen containing compound, a tin type compound, an organic peroxide etc. are mentioned.
脂肪族不飽和結合を含有する化合物として、2−ヒドロキシ−2−メチル−3−ブチン、2−ヒドロキシ−2−フェニル−3−ブチン、1−エチニル−1−シクロヘキサノール等のプロパギルアルコール類、エン−イン化合物類、ジメチルマレエート等のマレイン酸エステル類等が例示される。有機リン化合物としては、トリフェニルホスフィン等のトリオルガノホスフィン類、ジオルガノホスフィン類、オルガノホスホン類、トリオルガノホスファイト類等が例示される。硫黄含有化合物としては、単体硫黄、オルガノメルカプタン類、ジオルガノスルフィド類、硫化水素、ベンゾチアゾール、ベンゾチアゾールジサルファイド等が例示される。窒素含有化合物としては、アンモニア、1〜3級アルキルアミン類、アリールアミン類、尿素、ヒドラジン等が例示される。スズ系化合物としては、ハロゲン化第一スズ2水和物、カルボン酸第一スズ等が例示される。有機過酸化物としては、ジ−t−ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、過安息香酸t−ブチル等が例示される。 As the compound containing an aliphatic unsaturated bond, propargyl alcohols such as 2-hydroxy-2-methyl-3-butyne, 2-hydroxy-2-phenyl-3-butyne, 1-ethynyl-1-cyclohexanol, Examples include en-in compounds and maleic esters such as dimethyl maleate. Examples of the organic phosphorus compound include triorganophosphines such as triphenylphosphine, diorganophosphines, organophosphones, and triorganophosphites. Examples of sulfur-containing compounds include elemental sulfur, organomercaptans, diorganosulfides, hydrogen sulfide, benzothiazole, benzothiazole disulfide, and the like. Examples of the nitrogen-containing compound include ammonia, primary to tertiary alkylamines, arylamines, urea, hydrazine and the like. Examples of tin compounds include stannous halide dihydrate and stannous carboxylate. Examples of the organic peroxide include di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, benzoyl peroxide, and t-butyl perbenzoate.
上記硬化遅延剤のうち、遅延活性が良好で原料入手性がよいという観点からは、ベンゾチアゾール、チアゾール、ジメチルマレエート、2−ヒドロキシ−2−メチル−3−ブチン、1−エチニル−1−シクロヘキサノールが好ましい。 Among the above-mentioned curing retardants, benzothiazole, thiazole, dimethyl maleate, 2-hydroxy-2-methyl-3-butyne, 1-ethynyl-1-cyclo is preferable from the viewpoint of good delay activity and good raw material availability. Hexanol is preferred.
上記硬化遅延剤を用いる場合の添加量は特に限定されず、種々設定できるが、ヒドロシリル化触媒1molに対する好ましい添加量の下限は10-1モル、より好ましくは1モルであり、好ましい添加量の上限は103モル、より好ましくは50モルである。 また、これらの硬化遅延剤は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。 The addition amount in the case of using the above-mentioned curing retardant is not particularly limited and can be variously set. However, the lower limit of the preferable addition amount with respect to 1 mol of the hydrosilylation catalyst is 10 −1 mol, more preferably 1 mol, and the upper limit of the preferable addition amount. Is 10 3 mol, more preferably 50 mol. Moreover, these hardening retarders may be used independently and may be used together 2 or more types.
(接着性改良剤)
本発明の光学材料用組成物には、接着性改良剤を配合してもよい。接着性改良剤としては特に限定されないが、例えば、一般に用いられている接着剤、カップリング剤、フェノール樹脂、クマロン−インデン樹脂、ロジンエステル樹脂、テルペン−フェノール樹脂、α−メチルスチレン−ビニルトルエン共重合体、ポリエチルメチルスチレン、芳香族ポリイソシアネート等を挙げることができる。
(Adhesion improver)
You may mix | blend an adhesive improvement agent with the composition for optical materials of this invention. The adhesion improver is not particularly limited. For example, commonly used adhesives, coupling agents, phenol resins, coumarone-indene resins, rosin ester resins, terpene-phenol resins, α-methylstyrene-vinyltoluene Examples thereof include polymers, polyethylmethylstyrene, and aromatic polyisocyanates.
カップリング剤としては例えばシランカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤とは、分子中に有機基と反応性のある官能基と加水分解性ケイ素基を各々少なくとも1個有する化合物である。有機基と反応性のある官能基としては特に限定されないが、取扱い性の点から、メタクリル基、アクリル基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、ビニル基、カルバメート基、グリシジル基から選ばれる少なくとも1個の官能基が好ましく、硬化性及び接着性の点から、メタクリル基、アクリル基、グリシジル基が特に好ましい。加水分解性ケイ素基としては特に限定されないが、取扱い性の点からアルコキシシリル基が好ましく、反応性の点からメトキシシリル基、エトキシシリル基が特に好ましい。
好ましいシランカップリング剤としては、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、アクリロキシメチルトリメトキシシラン、アクリロキシメチルトリエトキシシラン等のメタクリル基あるいはアクリル基を有するアルコキシシラン類や、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(商品名:A−187)や3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン(商品名:AZ−6165)等のグリシジル基を有するアルコキシシラン類が例示できる。
An example of the coupling agent is a silane coupling agent. The silane coupling agent is a compound having at least one functional group reactive with an organic group and at least one hydrolyzable silicon group in the molecule. The functional group reactive with the organic group is not particularly limited, but at least one selected from a methacryl group, an acrylic group, an isocyanate group, an isocyanurate group, a vinyl group, a carbamate group, and a glycidyl group from the viewpoint of handleability. A functional group is preferable, and a methacryl group, an acrylic group, and a glycidyl group are particularly preferable from the viewpoints of curability and adhesiveness. Although it does not specifically limit as a hydrolysable silicon group, The alkoxy silyl group is preferable from the point of handleability, and a methoxy silyl group and an ethoxy silyl group are especially preferable from a reactive point.
Preferred silane coupling agents include 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, methacryloxymethyltrimethoxysilane. , Alkoxysilanes having a methacrylic group or an acrylic group such as methacryloxymethyltriethoxysilane, acryloxymethyltrimethoxysilane, acryloxymethyltriethoxysilane, and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (trade name: A- 187) and 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane (trade name: AZ-6165) and other alkoxysilanes having a glycidyl group.
上記接着性改良剤を用いる場合の添加量としては特に限定されず、種々設定できるが、[(A)成分+(B)成分]100重量部に対しての好ましい添加量の下限は0.1重量部、より好ましくは0.5重量部であり、好ましい添加量の上限は50重量部、より好ましくは25重量部である。添加量が少ないと接着性改良効果が表れにくく、添加量が多いと硬化物の物性に悪影響を及ぼす場合がある。
上記接着性改良剤は単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
The amount of addition in the case of using the above-mentioned adhesion improver is not particularly limited and can be variously set. However, the lower limit of the preferable amount of addition with respect to 100 parts by weight of [(A) component + (B) component] is 0.1. The upper limit of the preferred amount added is 50 parts by weight, more preferably 25 parts by weight. If the addition amount is small, the effect of improving the adhesiveness is hardly exhibited, and if the addition amount is large, the physical properties of the cured product may be adversely affected.
The said adhesive improvement agent may be used independently and may use 2 or more types together.
(老化防止剤)
本発明の光学材料用組成物には老化防止剤を配合してもよい。老化防止剤としては、ヒンダートフェノール系等一般に用いられている老化防止剤の他、クエン酸やリン酸、硫黄系老化防止剤等が挙げられる。ヒンダートフェノール系老化防止剤としては、チバスペシャリティーケミカルズ社から入手できるイルガノックス1010をはじめとして、各種のものが用いられる。
(Anti-aging agent)
You may mix | blend an antioxidant with the composition for optical materials of this invention. Examples of the anti-aging agent include citric acid, phosphoric acid, sulfur-based anti-aging agent and the like in addition to the anti-aging agents generally used such as hindered phenol type. As the hindered phenol-based anti-aging agent, various types such as Irganox 1010 available from Ciba Specialty Chemicals are used.
硫黄系老化防止剤としては特に限定されないが、例えば、メルカプタン類、メルカプタンの塩類;スルフィドカルボン酸エステル類、ヒンダードフェノール系スルフィド類等のスルフィド類;ポリスルフィド類、ジチオカルボン酸塩類、チオウレア類、チオホスフェイト類、スルホニウム化合物、チオアルデヒド類、チオケトン類、メルカプタール類、メルカプトール類、モノチオ酸類、ポリチオ酸類、チオアミド類、スルホキシド類等が挙げられる。上記老化防止剤は単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。 Although it does not specifically limit as a sulfur type anti-aging agent, For example, sulfides, such as mercaptans, mercaptan salts; sulfide carboxylic acid esters, hindered phenol sulfides; polysulfides, dithiocarboxylates, thioureas, thio Examples include phosphates, sulfonium compounds, thioaldehydes, thioketones, mercaptals, mercaptols, monothioacids, polythioacids, thioamides, and sulfoxides. The above antioxidants may be used alone or in combination of two or more.
(光学材料用組成物の性状)
本発明の光学材料用組成物としては、上記したように各種組み合わせのものが使用できるが、狭い隙間への充填性、コーティング等による作業性が良好であるという点においては、組成物の粘度が、23℃において1000Pa・s以下であることが好ましく、10Pa・s以下であることがより好ましく、5.0Pa・s未満であることがさらに好ましく、1.0Pa・s以下であることが特に好ましく、0.1以下であることが最も好ましい。同じ理由で、100℃において10Pa・s以下であることが好ましく、1.0Pa・s以下であることがより好ましく、0.1Pa・s以下であることがさらに好ましい。粘度の温度依存性(チクソ性)についても種々のものが使用できる。粘度はE型粘度計によって測定することができる。
(Properties of composition for optical material)
As described above, the optical material composition of the present invention can be used in various combinations as described above. However, in terms of good workability by filling a narrow gap and coating, the viscosity of the composition is high. It is preferably 1000 Pa · s or less at 23 ° C., more preferably 10 Pa · s or less, even more preferably less than 5.0 Pa · s, and particularly preferably 1.0 Pa · s or less. And most preferably 0.1 or less. For the same reason, it is preferably 10 Pa · s or less at 100 ° C., more preferably 1.0 Pa · s or less, and further preferably 0.1 Pa · s or less. Various types of viscosity temperature dependency (thixotropic properties) can be used. The viscosity can be measured with an E-type viscometer.
本発明の光学材料用組成物の硬化性については、任意に設定できるが、120℃におけるゲル化時間が120秒以内であることが好ましく、60秒以内であることがより好ましい。また、150℃におけるゲル化時間が60秒以内であることが好ましく、30秒以内であることがより好ましい。また、100℃におけるゲル化時間が180秒以内であることが好ましく、120秒以内であることがより好ましい。硬化性が遅い場合には組成物としての作業性が悪くなる。逆に速い場合には貯蔵安定性が悪くなりやすい場合もある。上記ゲル化時間は、以下のようにして調べることができる。設定温度に調整したホットプレート上に厚み50μmのアルミ箔を置き、その上に組成物100mgを垂らしてゲル化するまでの時間を測定してゲル化時間とする。 The curability of the composition for optical materials of the present invention can be arbitrarily set, but the gelation time at 120 ° C. is preferably within 120 seconds, and more preferably within 60 seconds. Further, the gelation time at 150 ° C. is preferably within 60 seconds, and more preferably within 30 seconds. Further, the gelation time at 100 ° C. is preferably within 180 seconds, and more preferably within 120 seconds. When the curability is slow, workability as a composition is deteriorated. On the other hand, when it is fast, the storage stability may be easily deteriorated. The gelation time can be examined as follows. An aluminum foil having a thickness of 50 μm is placed on a hot plate adjusted to a set temperature, and the time until gelation is performed by dropping 100 mg of the composition thereon is defined as the gelation time.
(硬化)
本発明の光学材料用組成物は、各成分をあらかじめ混合し、組成物中のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合とSiH基の一部または全部を反応させることによって硬化させて光学材料として用いることができる。
(Curing)
The composition for optical materials of the present invention is prepared by mixing each component in advance and reacting a part or all of SiH groups with a carbon-carbon double bond having reactivity with SiH groups in the composition. It can be used as an optical material.
光学材料用組成物を反応させて硬化させる場合において、(A)、(B)、(C)各成分の必要量を一度に混合して反応させてもよいが、一部を混合して反応させた後残量を混合してさらに反応させる方法や、混合した後反応条件の制御や置換基の反応性の差の利用により組成物中の官能基の一部のみを反応(Bステージ化)させてから成形等の処理を行いさらに硬化させる方法をとることもできる。これらの方法によれば成形時の粘度調整が容易となる。 In the case where the composition for optical material is reacted and cured, the required amounts of the components (A), (B), and (C) may be mixed and reacted at one time. After reacting, reacting only part of the functional group in the composition by controlling the reaction conditions after mixing and using the difference in reactivity of the substituents (B-stage) It is also possible to take a method such as molding and then further curing. According to these methods, viscosity adjustment at the time of molding becomes easy.
硬化させる方法としては、単に混合するだけで反応させることもできるし、加熱して反応させることもできる。反応が速く、一般に耐熱性の高い材料が得られやすいという観点から加熱して反応させる方法が好ましい。 As a curing method, the reaction can be performed by simply mixing, or the reaction can be performed by heating. A method of heating and reacting is preferable from the viewpoint that the reaction is fast and generally a material having high heat resistance is easily obtained.
(硬化温度)
本発明では、硬化性組成物を、60〜90℃にて0.5〜10時間加熱処理したのち、100〜250℃にて0.5〜12時間加熱処理をおこなう。本発明では、この加熱処理条件に従う限り、60℃未満の温度で予備的加熱処理をおこなうことも可能である。予備的加熱処理の温度は、30℃以上60℃未満であることが好ましい。本発明の加熱処理における上限温度は、好ましくは250℃、より好ましくは220℃であり、特に好ましくは190℃である。加熱処理温度が低すぎると十分に反応させるための硬化時間が長くなることがあり、加熱処理温度が高すぎると成形加工が困難となりやすい。本発明では硬化反応を、多段階であるいは連続的に温度を変化させておこなうが、一定の温度で行うより多段階であるいは連続的に温度を上昇させながら反応させた方が、歪のない均一な硬化物が得られやすいという点において好ましい。
(Curing temperature)
In the present invention, the curable composition is heated at 60 to 90 ° C. for 0.5 to 10 hours, and then heated at 100 to 250 ° C. for 0.5 to 12 hours. In the present invention, preliminary heat treatment can be performed at a temperature of less than 60 ° C. as long as the heat treatment conditions are followed. The temperature of the preliminary heat treatment is preferably 30 ° C. or more and less than 60 ° C. The upper limit temperature in the heat treatment of the present invention is preferably 250 ° C, more preferably 220 ° C, and particularly preferably 190 ° C. If the heat treatment temperature is too low, the curing time for sufficient reaction may be long, and if the heat treatment temperature is too high, the molding process tends to be difficult. In the present invention, the curing reaction is performed in multiple stages or continuously by changing the temperature. However, it is more uniform and distortion-free if the reaction is performed in multiple stages or continuously while raising the temperature than in a constant temperature. It is preferable in that a cured product is easily obtained.
(加熱処理時間)
硬化物を得るための加熱処理時間も種々設定できるが、高温短時間で反応させるより、比較的低温長時間で反応させた方が、歪のない均一な硬化物が得られやすいという点において好ましい。温度範囲が60〜90℃(低温領域)での加熱処理時間は、好ましくは0.5〜10時間、より好ましくは0.5〜5時間、特に好ましくは0.5〜3時間である。温度範囲が100〜190℃(中温度領域)での加熱処理時間は、好ましくは0.2分〜10時間、より好ましくは0.2分〜5時間、特に好ましくは0.2〜3分である。温度200℃以上(高温度領域)での加熱処理時間は、好ましくは1〜60分、より好ましくは1〜30分、特に好ましくは1〜10分である。
(Heat treatment time)
Although various heat treatment times for obtaining a cured product can be set, it is preferable to react at a relatively low temperature for a long time rather than reacting at a high temperature for a short time, because it is easy to obtain a uniform cured product without distortion. . The heat treatment time in the temperature range of 60 to 90 ° C. (low temperature region) is preferably 0.5 to 10 hours, more preferably 0.5 to 5 hours, and particularly preferably 0.5 to 3 hours. The heat treatment time in the temperature range of 100 to 190 ° C. (medium temperature range) is preferably 0.2 minutes to 10 hours, more preferably 0.2 minutes to 5 hours, and particularly preferably 0.2 to 3 minutes. is there. The heat treatment time at a temperature of 200 ° C. or higher (high temperature region) is preferably 1 to 60 minutes, more preferably 1 to 30 minutes, and particularly preferably 1 to 10 minutes.
硬化時の圧力も必要に応じ種々設定でき、常圧、高圧、あるいは減圧状態で反応させることもできる。場合によって発生する揮発分を取り除きやすく、モールド部材等として用いた場合に細部への充填性が良好であるという点においては、減圧状態で硬化させることが好ましい。 The pressure at the time of curing can be variously set as required, and the reaction can be carried out under normal pressure, high pressure or reduced pressure. In terms of easy removal of volatile matter generated in some cases and good filling in details when used as a mold member or the like, curing in a reduced pressure state is preferred.
(ゲル化時間)
上記の加熱処理時間とは異なり組成物のゲル化時間を測定することにより、硬化性組成物の反応性や架橋速度を評価することができる。ゲル化時間は種々設定できるが、例えば温度範囲が110〜130℃でのゲル化時間は、好ましくは0.1〜7分、より好ましくは0.3〜5分、特に好ましくは0.5〜3分である。ゲル化時間が長すぎると生産効率が低下し、短すぎると歪のある不均一な硬化物となってしまうために好ましくない。
(Gel time)
Unlike the above heat treatment time, the reactivity and the crosslinking rate of the curable composition can be evaluated by measuring the gelation time of the composition. The gelation time can be variously set. For example, the gelation time at a temperature range of 110 to 130 ° C. is preferably 0.1 to 7 minutes, more preferably 0.3 to 5 minutes, and particularly preferably 0.5 to 3 minutes. If the gelling time is too long, the production efficiency is lowered, and if it is too short, a distorted and non-uniform cured product is not preferable.
光学材料用組成物が使用される製造工程において、組成物中へのボイドの発生および組成物からのアウトガスによる工程上の問題が生じ難いという観点においては、硬化中の重量減少が5重量%以下であることが好ましく、3重量%以下であることがより好ましく、1重量%以下であることがさらに好ましい。硬化中の重量減少は以下のように調べることができる。熱重量分析装置を用いて光学材料用組成物10mgを室温から150℃まで10℃/分の昇温速度で昇温して、減少した重量の初期重量の割合として求めることができる。また、シリコーン汚染の問題を起こし難いという点においては、この場合の揮発成分中のSi原子の含有量が1%以下であることが好ましい。 In the manufacturing process in which the composition for an optical material is used, the weight loss during curing is 5% by weight or less from the viewpoint that generation of voids in the composition and out-of-process problems due to outgas from the composition hardly occur. Preferably, it is 3% by weight or less, more preferably 1% by weight or less. The weight loss during curing can be examined as follows. Using a thermogravimetric analyzer, 10 mg of the optical material composition is heated from room temperature to 150 ° C. at a rate of temperature increase of 10 ° C./min, and can be determined as a ratio of the initial weight of the reduced weight. Further, in terms of hardly causing the problem of silicone contamination, the content of Si atoms in the volatile component in this case is preferably 1% or less.
(硬化物の性状)
本発明の光学材料用組成物は、耐熱性が良好であるという観点から、光学材料用組成物を硬化させて得られる硬化物のガラス転移温度(Tg)が100℃以上となるものが好ましく、150℃以上となるものがより好ましい。一方で、低応力であり、耐熱応力性が高いという観点から、光学材料用組成物を硬化させて得られる硬化物のTgが100℃未満であるものが好ましく、80℃以下であるものがより好ましい。
(Properties of cured product)
The composition for optical material of the present invention is preferably such that the glass transition temperature (Tg) of a cured product obtained by curing the composition for optical material is 100 ° C. or more from the viewpoint of good heat resistance. What becomes 150 degreeC or more is more preferable. On the other hand, from the viewpoint of low stress and high heat stress resistance, the cured product obtained by curing the composition for optical materials preferably has a Tg of less than 100 ° C, more preferably 80 ° C or less. preferable.
上記Tgは以下のようにして調べることができる。3mmx5mmx30mmの角柱状試験片を用いて引張りモード、測定周波数10Hz、歪0.1%、静/動力比1.5、昇温側度5℃/分の条件にて測定した動的粘弾性測定(アイティー計測制御社製DVA−200使用)のtanδのピーク温度をTgとする。 The Tg can be examined as follows. Dynamic viscoelasticity measurement using a 3 mm x 5 mm x 30 mm prismatic test piece under the conditions of tensile mode, measurement frequency 10 Hz, strain 0.1%, static / power ratio 1.5, temperature rising side 5 ° C / min ( Let Tg be the peak temperature of tan δ of DVA-200 manufactured by IT Measurement & Control Co.).
(光線透過率)
本発明の光学材料用組成物は、着色が少ないという観点から、光学材料用組成物を硬化させて得られる硬化物の波長400nmの光線透過率が70%以上であることが望ましい。
(Light transmittance)
From the viewpoint that the composition for optical materials of the present invention is less colored, the light transmittance at a wavelength of 400 nm of a cured product obtained by curing the composition for optical materials is preferably 70% or more.
上記の光線透過率は以下のように測定できる。光学材料用組成物を硬化させ、3mm厚の板状サンプルを作成する。このサンプルを分光光度計(日立U−3300型分光光度計を使用)にて波長400nmの光線の透過率を測定する。 The light transmittance can be measured as follows. The optical material composition is cured to produce a plate-like sample having a thickness of 3 mm. The transmittance of light with a wavelength of 400 nm is measured on this sample with a spectrophotometer (using a Hitachi U-3300 type spectrophotometer).
(光学材料)
本発明でいう光学材料とは、可視光、赤外線、紫外線、X線、レーザー等の光をその材料中を通過させる用途に用いる材料一般を示す。特に限定されないが、例えば、カラーフィルター保護膜、TFT平坦化膜、基板材料等の液晶表示装置に用いられる材料;モールド部材、ダイボンド剤等の発光ダイオード(LED)に用いられる材料等が挙げられる。なお本明細書におけるモールド部材は、モールド剤、又は、封止剤のことも含む概念である。
(Optical material)
The optical material as used in the field of this invention shows the general material used for the use which permeate | transmits light, such as visible light, infrared rays, an ultraviolet-ray, an X-ray, a laser, in the material. Although it does not specifically limit, For example, the material used for light emitting diodes (LED), such as a mold member and die bond agents, etc. which are used for liquid crystal display devices, such as a color filter protective film, TFT planarization film | membrane, and substrate materials. In addition, the mold member in this specification is a concept including a molding agent or a sealing agent.
液晶ディスプレイ分野における基板材料、導光板、プリズムシート、偏向板、位相差板、視野角補正フィルム、偏光子保護フィルム、カラーフィルター等;それらに用いられる各種コーティング剤、保護膜、モールド部材、接着剤等も挙げられる。
LED表示装置に使用されるLED素子のモールド部材、LEDのモールド部材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料;それらに用いられる各種コーティング剤、保護膜、モールド部材、接着剤等も挙げられる。
Substrate materials, light guide plates, prism sheets, deflector plates, retardation plates, viewing angle correction films, polarizer protective films, color filters, etc. in the liquid crystal display field; various coating agents, protective films, mold members, adhesives used for them And so on.
Examples include LED element mold members, LED mold members, front glass protective films, front glass substitute materials used in LED display devices; various coating agents, protective films, mold members, and adhesives used for these.
カラーPDP(プラズマディスプレイ)の反射防止フィルム、光学補正フィルム、ハウジング材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料等;それらに用いられる各種コーティング剤、保護膜、モールド部材、接着剤等も挙げられる。プラズマアドレス液晶(PALC)ディスプレイにおける基板材料、導光板、プリズムシート、偏向板、位相差板、視野角補正フィルム、偏光子保護フィルム;それらに用いられる各種コーティング剤、保護膜、モールド部材、接着剤等も挙げられる。有機EL(エレクトロルミネッセンス)ディスプレイにおける前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料;それらに用いられる各種コーティング剤、保護膜、モールド部材、接着剤等も挙げられる。フィールドエミッションディスプレイ(FED)における各種フィルム基板、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料;それらに用いられる各種コーティング剤、保護膜、モールド部材、接着剤等も挙げられる。 Color PDP (plasma display) anti-reflection film, optical correction film, housing material, front glass protective film, front glass substitute material, etc .; various coating agents, protective films, mold members, adhesives, etc. used for them . Substrate materials, light guide plates, prism sheets, deflection plates, retardation plates, viewing angle correction films, polarizer protective films for plasma addressed liquid crystal (PALC) displays; various coating agents, protective films, mold members, and adhesives used for them And so on. A protective film for the front glass in an organic EL (electroluminescence) display, a substitute material for the front glass; various coating agents, protective films, mold members, adhesives, and the like used for them. Various film substrates in a field emission display (FED), a protective film for a front glass, a substitute material for a front glass; various coating agents, protective films, mold members, adhesives and the like used for them.
光記録分野では、VD(ビデオディスク)、CD/CD−ROM、CD−R/RW、DVD−R/DVD−RAM、MO/MD、PD(相変化ディスク)、光カード用のディスク基板材料、ピックアップレンズ、保護フィルム;それらに用いられる各種コーティング剤、保護膜、モールド部材、接着剤等も挙げられる。 In the optical recording field, VD (video disc), CD / CD-ROM, CD-R / RW, DVD-R / DVD-RAM, MO / MD, PD (phase change disc), disc substrate material for optical cards, Pickup lenses, protective films; various coating agents, protective films, mold members, adhesives and the like used for them.
光学機器分野では、スチールカメラのレンズ用材料、ファインダプリズム、ターゲットプリズム、ファインダーカバー、受光センサー部;それらに用いられる各種コーティング剤、保護膜、モールド部材、接着剤等も挙げられる。ビデオカメラの撮影レンズ、ファインダー;それらに用いられる各種コーティング剤、保護膜、モールド部材、接着剤等も挙げられる。プロジェクションテレビの投射レンズ、保護フィルム;それらに用いられる各種コーティング剤、保護膜、モールド部材、接着剤等も挙げられる。光センシング機器のレンズ用材料、各種フィルム;それらに用いられる各種コーティング剤、保護膜、モールド部材、接着剤等も挙げられる。 In the field of optical equipment, steel camera lens materials, finder prisms, target prisms, finder covers, light receiving sensor parts; various coating agents, protective films, molding members, adhesives, and the like used for them. Examples include photographing lenses and finders of video cameras; various coating agents, protective films, mold members, adhesives and the like used for them. Examples include projection lenses and protective films for projection televisions; various coating agents, protective films, mold members, adhesives, and the like used for them. Materials for lenses of optical sensing devices, various films; various coating agents, protective films, mold members, adhesives and the like used for them.
光部品分野では、光通信システムでの光スイッチ周辺のファイバー材料、レンズ、導波路、素子;それらに用いられる各種コーティング剤、保護膜、モールド部材、接着剤等も挙げられる。光コネクタ周辺の光ファイバー材料、フェルール;それらに用いられる各種コーティング剤、保護膜、モールド部材、接着剤等も挙げられる。光受動部品、光回路部品では、レンズ、導波路;それらに用いられる各種コーティング剤、保護膜、モールド部材、接着剤等も挙げられる。光電子集積回路(OEIC)周辺の基板材料、ファイバー材料;それらに用いられる各種コーティング剤、保護膜、モールド部材、接着剤等も挙げられる。 In the field of optical components, fiber materials, lenses, waveguides, elements around optical switches in optical communication systems; various coating agents, protective films, mold members, adhesives and the like used for them are also included. Examples include optical fiber materials and ferrules around optical connectors; various coating agents, protective films, mold members, adhesives and the like used for them. In optical passive components and optical circuit components, lenses, waveguides; various coating agents, protective films, mold members, adhesives and the like used for them are also included. Examples include substrate materials and fiber materials around an optoelectronic integrated circuit (OEIC); various coating agents, protective films, mold members, adhesives and the like used for them.
光ファイバー分野では、装飾ディスプレイ用照明・ライトガイド等、工業用途のセンサー類、表示・標識類等、通信インフラ用及び家庭内のデジタル機器接続用の光ファイバー;それらに用いられる各種コーティング剤、保護膜、モールド部材、接着剤等も挙げられる。 In the field of optical fibers, lighting for optical displays, light guides, etc., sensors for industrial use, displays / signs, etc., optical fibers for communication infrastructure and home digital equipment connection; various coating agents used for them, protective films, A mold member, an adhesive agent, etc. are also mentioned.
半導体集積回路周辺材料では、LSI、超LSI材料用のマイクロリソグラフィー用のレジスト材料も挙げられる。 Examples of peripheral materials for semiconductor integrated circuits include resist materials for microlithography for LSI and VLSI materials.
自動車・輸送機分野では、自動車用ヘッドランプ・テールランプ・室内ランプ等のランプ材料、ランプリフレクタ、ランプレンズ、外装板・インテリアパネル等の各種内外装品、ガラス代替品;それらに用いられる各種コーティング剤、保護膜、モールド部材、接着剤等も挙げられる。鉄道車輌用の外装部品、ガラス代替品;それらに用いられる各種コーティング剤、保護膜、モールド部材、接着剤等も挙げられる。航空機の外装部品、ガラス代替品;それらに用いられる各種コーティング剤、保護膜、モールド部材、接着剤等も挙げられる。 In the field of automobiles and transportation equipment, lamp materials such as head lamps, tail lamps and interior lamps for automobiles, lamp reflectors, lamp lenses, various interior and exterior products such as exterior panels and interior panels, glass substitutes; various coating agents used for them , Protective films, mold members, adhesives and the like. Examples include exterior parts for railway vehicles, glass substitutes; various coating agents, protective films, mold members, adhesives and the like used for them. Aircraft exterior parts, glass substitutes; various coating agents, protective films, mold members, adhesives and the like used for them.
建築分野では、ガラス中間膜、ガラス代替品、太陽電池周辺材料;それらに用いられる各種コーティング剤、保護膜、モールド部材、接着剤等も挙げられる。
農業用では、ハウス被覆用フィルムも挙げられる。
In the construction field, glass intermediate films, glass substitutes, solar cell peripheral materials; various coating agents, protective films, mold members, adhesives and the like used for them are also included.
For agriculture, a house covering film is also included.
次世代の光・電子機能有機材料としては、有機EL素子周辺材料、有機フォトリフラクティブ素子、光−光変換デバイスである光増幅素子、光演算素子、有機太陽電池周辺の基板材料、ファイバー材料、素子のモールド部材;それらに用いられる各種コーティング剤、保護膜、モールド部材、接着剤等も挙げられる。 Next-generation optical / electronic functional organic materials include organic EL element peripheral materials, organic photorefractive elements, optical amplification elements that are light-to-light conversion devices, optical arithmetic elements, substrate materials around organic solar cells, fiber materials, elements Examples of the mold member include various coating agents, protective films, mold members, and adhesives used for them.
以下に、本発明の実施例および比較例を示すが、本発明は以下によって限定されるものではない。 Examples and Comparative Examples of the present invention are shown below, but the present invention is not limited to the following.
(合成例1)
5Lの四つ口フラスコに、攪拌装置、滴下漏斗、冷却管をセットした。このフラスコにトルエン1800g、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン1440gを入れ、120℃のオイルバス中で加熱、攪拌した。トリアリルイソシアヌレート200g、トルエン200g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)1.44mlの混合液を50分かけて滴下した。得られた溶液をそのまま6時間加温、攪拌した後、未反応の1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン及びトルエンを減圧留去した。1H−NMRによりこのものは1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのSiH基の一部がトリアリルイソシアヌレートと反応したものであることがわかった(反応物Aと称する)。また、1,2−ジブロモメタンを内部標準に用いて1H−NMRによりSiH基の含有量を求めたところ、8.08mmol/gのSiH基を含有していることがわかった。生成物は混合物であるが、本発明の(B)成分である下記のものを主成分として含有している。また、本発明の(C)成分である白金ビニルシロキサン錯体を含有している。
(Synthesis Example 1)
A stirrer, a dropping funnel, and a condenser tube were set in a 5 L four-necked flask. Into this flask, 1800 g of toluene and 1440 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane were placed, heated and stirred in an oil bath at 120 ° C. A mixed solution of 200 g of triallyl isocyanurate, 200 g of toluene and 1.44 ml of a xylene solution of platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum) was added dropwise over 50 minutes. The resulting solution was heated and stirred as it was for 6 hours, and unreacted 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane and toluene were distilled off under reduced pressure. By 1 H-NMR, it was found that this was one in which a part of the SiH group of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane reacted with triallyl isocyanurate (referred to as Reactant A). Further, when the content of SiH groups was determined by 1 H-NMR using 1,2-dibromomethane as an internal standard, it was found to contain 8.08 mmol / g of SiH groups. Although the product is a mixture, it contains as a main component the following component (B) of the present invention. Moreover, the platinum vinylsiloxane complex which is (C) component of this invention is contained.
(合成例2)
攪拌装置、添加ポット、温度調節機をセットしている2Lのオートクレーブに、トルエン840g、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン280gを入れ、オートクレーブ内部の温度が103〜108℃になるように加熱、攪拌した。トリアリルイソシアヌレート173.3g、トルエン178g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)0.27gの混合液を5〜10分毎に10回に分けてかけて滴下した。得られた溶液をそのまま5時間加温、攪拌した後、50℃まで冷却し1晩放置した。未反応の1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン及びトルエンを減圧留去した。1H−NMRによりこのものは1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンのSiH基の一部がトリアリルイソシアヌレートと反応したものであることがわかった(反応物Bと称する)。また、1,2−ジブロモメタンを内部標準に用いて1H−NMRによりSiH基の含有量を求めたところ、3.21mmol/gのSiH基を含有していることがわかった。生成物は混合物であるが、本発明の(B)成分である下記のものを主成分として含有している。また、本発明の(C)成分である白金ビニルシロキサン錯体を含有している。
(Synthesis Example 2)
840 g of toluene and 280 g of 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane are placed in a 2 L autoclave equipped with a stirrer, addition pot, and temperature controller so that the temperature inside the autoclave becomes 103 to 108 ° C. And stirred. A mixed solution of 173.3 g of triallyl isocyanurate, 178 g of toluene, and 0.27 g of a xylene solution of platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum) was added dropwise every 10 to 10 minutes. The obtained solution was heated and stirred as it was for 5 hours, then cooled to 50 ° C. and left overnight. Unreacted 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane and toluene were distilled off under reduced pressure. By 1 H-NMR, it was found that this was one in which a part of the SiH group of 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane reacted with triallyl isocyanurate (referred to as Reactant B). Further, when the content of SiH groups was determined by 1 H-NMR using 1,2-dibromomethane as an internal standard, it was found to contain 3.21 mmol / g of SiH groups. Although the product is a mixture, it contains as a main component the following component (B) of the present invention. Moreover, the platinum vinylsiloxane complex which is (C) component of this invention is contained.
(合成例3)
攪拌装置、添加ポット、温度調節機をセットしている2Lのオートクレーブに、トルエン655g、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン537gを入れ、オートクレーブ内部の温度が103〜108℃になるように加熱、攪拌した。ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート106g、トルエン200g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)0.1gの混合液を5〜10分毎に10回に分けてかけて滴下した。得られた溶液をそのまま5時間加温、攪拌した後、50℃まで冷却し1晩放置した。未反応の1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン及びトルエンを減圧留去した。1H−NMRによりこのものは1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンのSiH基の一部がジアリルモノグリシジルイソシアヌレートと反応したものであることがわかった(反応物Cと称する)。また、1,2−ジブロモメタンを内部標準に用いて1H−NMRによりSiH基の含有量を求めたところ、2.86mmol/gのSiH基を含有していることがわかった。生成物は混合物であるが、本発明の(B)成分である下記のものを主成分として含有している。また、本発明の(C)成分である白金ビニルシロキサン錯体を含有している。
(Synthesis Example 3)
655 g of toluene and 537 g of 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane are placed in a 2 L autoclave equipped with a stirrer, addition pot and temperature controller so that the temperature inside the autoclave becomes 103 to 108 ° C. And stirred. A mixed solution of 106 g of diallyl monoglycidyl isocyanurate, 200 g of toluene and 0.1 g of a xylene solution of platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum) was added dropwise every 5 to 10 minutes in 10 portions. The obtained solution was heated and stirred as it was for 5 hours, then cooled to 50 ° C. and left overnight. Unreacted 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane and toluene were distilled off under reduced pressure. 1 H-NMR revealed that a part of the SiH group of 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane was reacted with diallyl monoglycidyl isocyanurate (referred to as reactant C). Further, when the content of SiH groups was determined by 1 H-NMR using 1,2-dibromomethane as an internal standard, it was found to contain 2.86 mmol / g SiH groups. Although the product is a mixture, it contains as a main component the following component (B) of the present invention. Moreover, the platinum vinylsiloxane complex which is (C) component of this invention is contained.
(1H−NMR)バリアン・テクノロジーズ・ジャパン・リミテッド製、400MHz NMR装置を用いた。合成でのアリル基の反応率は、反応液を重クロロホルムで1%程度まで希釈したものをNMR用チューブに加えて測定し、未反応アリル基由来のメチレン基のピークと、反応アリル基由来のメチレン基のピークから求めた。 ( 1 H-NMR) A 400 MHz NMR apparatus manufactured by Varian Technologies Japan Limited was used. The reaction rate of the allyl group in the synthesis was measured by adding the reaction solution diluted to about 1% with deuterated chloroform to the NMR tube and measuring the peak of the methylene group derived from the unreacted allyl group and the reaction allyl group derived. It calculated | required from the peak of the methylene group.
(実施例1)
トリアリルイソシアヌレート 22.2g、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金3重量%含有)0.01g、ほう酸トリメチル 0.48g、老化防止剤(商品名:irganox1010) 3gを混合し、攪拌、脱泡したものをA液とした。また、合成例1で調製した反応物A 5.77g、合成例2で調製した反応物B 67.3g、1−エチニルシクロヘキサノール 0.3g、3―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(商品名:A−187)2.41gをB液とした。その後A液とB液を混合させたものを遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行った。
Example 1
Triallyl isocyanurate 22.2 g, platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex xylene solution (containing 3 wt% platinum) 0.01 g, trimethyl borate 0.48 g, anti-aging agent (trade name: irganox 1010) 3 g are mixed, A liquid obtained by stirring and degassing was designated as A liquid. Further, 5.77 g of the reactant A prepared in Synthesis Example 1, 67.3 g of the reactant B prepared in Synthesis Example 2, 0.3 g of 1-ethynylcyclohexanol, and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (trade name: A-187) 2.41 g was used as B liquid. Thereafter, the mixture of liquid A and liquid B was stirred and defoamed with a planetary stirring deaerator.
(実施例2)
トリアリルイソシアヌレート 17.28g、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金3重量%含有)0.01g、ほう酸トリメチル 0.48gを混合し、攪拌、脱泡したものをA液とした。また、合成例3で調製した反応物C 80g、1−エチニルシクロヘキサノール 0.3g、3―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(商品名:A−187)2.5gをB液とした。その後A液とB液を混合させたものを遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行った。
(Example 2)
A solution obtained by mixing 17.28 g of triallyl isocyanurate, 0.01 g of a platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex xylene solution (containing 3% by weight of platinum) and 0.48 g of trimethyl borate, stirring and degassing was used as solution A. . In addition, 80 g of the reactant C prepared in Synthesis Example 3, 0.3 g of 1-ethynylcyclohexanol, 2.5 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (trade name: A-187) were used as the liquid B. Thereafter, the mixture of liquid A and liquid B was stirred and defoamed with a planetary stirring deaerator.
(比較例1,2)
白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金3重量%含有)を0.1gにした以外は、上記実施例1,2と同様に行った。
(Comparative Examples 1 and 2)
The same procedure as in Examples 1 and 2 was carried out except that the amount of the xylene solution of platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex (containing 3% by weight of platinum) was changed to 0.1 g.
(比較例3、4)
B液として、反応物Aのみを用いた。
(Comparative Examples 3 and 4)
As the liquid B, only the reactant A was used.
(光線透過率)
光線透過率は以下のように測定した。実施例1,2及び比較例1,2で得た光学材料用組成物を、2枚のガラス板に3mm厚みのシリコーンゴムシートをスペーサーとしてはさみこんで作成したセルに流し、熱風乾燥機中で60℃/6時間、70℃/1時間、80℃/1時間、100℃/1時間、120℃/1時間、150℃/1時間、180℃/30分加熱して、3mm厚の硬化物を得た。
(Light transmittance)
The light transmittance was measured as follows. The composition for optical materials obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 was poured into a cell formed by sandwiching a 3 mm-thick silicone rubber sheet as a spacer between two glass plates, and in a hot air dryer 3 mm thick cured product by heating at 60 ° C / 6 hours, 70 ° C / 1 hour, 80 ° C / 1 hour, 100 ° C / 1 hour, 120 ° C / 1 hour, 150 ° C / 1 hour, 180 ° C / 30 minutes Got.
この硬化物を1cmx3cmの大きさに切断し、分光光度計(日立U−3300型分光光度計を使用)にて波長400nmの光線透過率を測定した。 This cured product was cut into a size of 1 cm × 3 cm, and the light transmittance at a wavelength of 400 nm was measured with a spectrophotometer (using a Hitachi U-3300 type spectrophotometer).
(ゲル時間)
ゲル化時間は以下のように測定した。120℃に加熱したホットプレート(井内株式会社製ウルトラホットプレートH−200)上にアルミ薄を設置した。アルミ薄の上に実施例及び比較例の液状の硬化性組成物10−20mgを滴下した後、つまようじで攪拌しながら目視にて液状の組成物が完全にゲル化するまでの時間を測定した。
(Gel time)
The gel time was measured as follows. An aluminum thin film was placed on a hot plate heated to 120 ° C. (Ultra Hot Plate H-200 manufactured by Iuchi Co., Ltd.). After 10-20 mg of the liquid curable compositions of Examples and Comparative Examples were dropped on a thin aluminum sheet, the time until the liquid composition was completely gelled was visually measured while stirring with a toothpick.
(試薬)
使用した試薬を以下に示す。
・トリアリルイソシアヌレート:デグサ製試薬
・ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート:四国化成製
・1、3、5、7−テトラメチルシクロテトラシロキサン:自社製
・1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン(LS−7040):信越化学工 業社製
・白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金3重量% 含有):N.E.ケムキャット製
・1−エチニルシクロヘキサノール:アルドリッチ製
・トリメトキシボラン:和光純薬製
・3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(A−187):GE東芝シリ コーン社製
(reagent)
The reagents used are shown below.
・ Triallyl isocyanurate: Degussa reagent ・ Diallyl monoglycidyl isocyanurate: Shikoku Kasei ・ 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane: In-house ・ 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane ( LS-7040): Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., xylene solution of platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex (containing 3% by weight of platinum): N.L. E. Chemcat, 1-ethynylcyclohexanol: Aldrich, trimethoxyborane: Wako Pure Chemical, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (A-187): GE Toshiba Silicone
実施例1,2、比較例1−4の配合、400nmの光線透過率、及び120℃における硬化時間を表に示す。 The formulations of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1-4, the light transmittance at 400 nm, and the curing time at 120 ° C. are shown in the table.
表に示すように、ヒドロシリル化触媒を0.01部に減量した実施例1,2において比較例1,2よりも高い光線透過率を示すことから、より高い透明性を有することがわかる。またヒドロシリル化触媒が0.01部での硬化時間が、比較例3よりも実施例1,2において短いことから環状シロキサン化合物(反応物A)を用いた組成物よりも直鎖状シロキサン化合物(反応物B及びC)を用いた組成物の方が反応性が高いことがわかる。 As shown in the table, Examples 1 and 2 in which the amount of hydrosilylation catalyst was reduced to 0.01 parts showed higher light transmittance than Comparative Examples 1 and 2, indicating that it has higher transparency. In addition, since the curing time at 0.01 parts of the hydrosilylation catalyst is shorter in Examples 1 and 2 than Comparative Example 3, the linear siloxane compound (composition using the cyclic siloxane compound (Reactant A)) It can be seen that the composition using reactants B and C) is more reactive.
Claims (3)
前記(B)成分が、(α)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に1個以上含有する有機化合物と、(β)1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する直鎖状のポリオルガノシロキサンとをヒドロシリル化反応して得ることができる化合物である両末端にSiH基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンであり、前記(C)成分が白金−オレフィン錯体あるいは白金−ビニルシロキサン錯体であり、(C)成分の白金として3wt%溶液の含有量が全成分100重量部に対し、0.01重量部以下であることを特徴とする硬化性組成物 (A) an organic compound containing at least two carbon-carbon double bonds reactive with SiH groups in one molecule, (B) a compound containing at least two SiH groups in one molecule, (C) A curable composition containing a hydrosilylation catalyst as an essential component, wherein the component (A) is represented by the following general formula (I):
The component (B) comprises (α) an organic compound containing one or more carbon-carbon double bonds reactive with SiH groups in one molecule, and (β) at least two SiH groups in one molecule. A linear polyorganosiloxane having SiH groups at both ends, which is a compound that can be obtained by hydrosilylation reaction with a linear polyorganosiloxane having an alkyl group, and the component (C) is a platinum-olefin complex or A curable composition characterized by being a platinum-vinylsiloxane complex, wherein the content of a 3 wt% solution as platinum of component (C) is 0.01 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of all components.
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