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JP2011099034A - Polycarboxylic acid resin and polycarboxylic acid resin composition - Google Patents

Polycarboxylic acid resin and polycarboxylic acid resin composition Download PDF

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JP2011099034A
JP2011099034A JP2009254252A JP2009254252A JP2011099034A JP 2011099034 A JP2011099034 A JP 2011099034A JP 2009254252 A JP2009254252 A JP 2009254252A JP 2009254252 A JP2009254252 A JP 2009254252A JP 2011099034 A JP2011099034 A JP 2011099034A
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Japan
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acid
polycarboxylic acid
mass
parts
resin
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Pending
Application number
JP2009254252A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Komori
康広 小森
Yasuaki Kawaguchi
恭章 川口
Takehiro Kinoshita
健宏 木下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
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Application filed by Showa Denko KK filed Critical Showa Denko KK
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polycarboxylic acid resin that forms a cured coating film having excellent adhesion to various kinds of materials and excellent heat resistance and exhibits excellent developability, sensitivity and solvent resistance when mixed with an organic colorant such as pigment or dye. <P>SOLUTION: The polycarboxylic acid resin is obtained by reacting a straight-chain addition polymer (A) obtained by reacting one or more epoxy resins (a) containing two glycidyl groups with one or more dibasic acids (b) represented by formula (1): HOOC-R'-COOH (wherein R' is 2-8C alkylene, hydroxyalkylene, alkenylene, cycloalkylene or cycloalkenylene) having carbon atoms of ≥4 and ≤10 and one or more ethylenically unsaturated monocarboxylic acids (c) with one or more polybasic acid anhydrides (d) and one or more ethylenic unsaturated double bond-containing isocyanates (e). <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶表示板製造用のブラックマトリックス、カラーフィルター、フォトスペーサー、透明保護膜や有機EL素子を用いてカラー表示の可能な有機ELディスプレイに用いるカラーフィルター、更にはインクジェットでカラーフィルターを作製する際に適用可能な熱硬化性及び/又は感光性樹脂材料として使用することのできるポリカルボン酸樹脂に関する。   The present invention provides a color filter for use in an organic EL display capable of color display using a black matrix, a color filter, a photo spacer, a transparent protective film and an organic EL element for manufacturing a liquid crystal display panel, and further, a color filter is produced by inkjet. The present invention relates to a polycarboxylic acid resin that can be used as a thermosetting and / or photosensitive resin material that can be applied.

近年、省資源、省エネルギーの観点から印刷、塗料、接着剤の分野において、紫外線あるいは電子線で硬化可能な放射線硬化型樹脂が広く使用されるようになっている。
プリント配線板などの電子機器分野でも部品搭載後の回路板を長期に渡って保護するためにソルダーレジストが使用されている。フォトレジスト法でプリント配線板に使用される材料としては、酸ペンダント型ノボラックエポキシアクリレートが一般的だが、銅メッキとの密着性が十分でなく、多層プリント配線板用として使用した場合には、導体回路間の十分な密着強度が得られないという課題を有する他、可とう性も劣るために割れやすいといった課題を有していた。
これらの課題を解決するために、(メタ)アクリル共重合体を用いた感光性樹脂組成物に無機フィラーを混合する方法が提案されているが(例えば、特許文献1)、酸ペンダント型ノボラックエポキシアクリレートに対して耐熱性が劣るという課題が残っていた。
In recent years, radiation curable resins that can be cured with ultraviolet rays or electron beams have been widely used in the fields of printing, paints, and adhesives from the viewpoint of resource saving and energy saving.
In the field of electronic devices such as printed wiring boards, solder resist is used for protecting circuit boards after mounting components for a long period of time. Acid pendant type novolak epoxy acrylate is generally used as a material for printed wiring boards by the photoresist method, but the adhesion to copper plating is not sufficient, and when used for multilayer printed wiring boards, it is a conductor. In addition to the problem that sufficient adhesion strength between the circuits cannot be obtained, there is also a problem that it is easy to break due to poor flexibility.
In order to solve these problems, a method of mixing an inorganic filler into a photosensitive resin composition using a (meth) acrylic copolymer has been proposed (for example, Patent Document 1), but an acid pendant type novolak epoxy is proposed. The subject that heat resistance was inferior to acrylate remained.

カラー液晶表示装置や固体撮像素子にはカラーフィルターが用いられているが、これらは基板上に赤(R)、緑(G)、青(B)の三色を所定のパターンで作成された着色塗膜と、それらRGBの三色のカラーフィルター間の黒色のブラックマトリックスからなる。通常、ガラスなどの透明基板上にブラックマトリックスを形成し、次にR,G,Bのパターンを順次形成して製造される。
一般的にカラーフィルターは染色法、印刷法、顔料分散法、電着法などの製造方法がある。これらの中で、特にアルカリ可溶性樹脂、反応性希釈剤、光重合開始剤、顔料及び溶剤を主体とする光硬化性樹脂組成物を用い、透明基板上に塗布し、露光、現像、後硬化を繰り返すフォトリソグラフ工法で作成される顔料分散法は、耐光性・耐熱性などの耐久性に優れ、ピンホールなどの欠陥が少ないため現在主流となっている。
Color filters are used in color liquid crystal display devices and solid-state image sensors, and these are colored colors in which three colors of red (R), green (G), and blue (B) are formed in a predetermined pattern on a substrate. It consists of a coating film and a black black matrix between these three color filters of RGB. Usually, a black matrix is formed on a transparent substrate such as glass, and then R, G, and B patterns are sequentially formed.
In general, color filters include production methods such as a dyeing method, a printing method, a pigment dispersion method, and an electrodeposition method. Among these, in particular, a photocurable resin composition mainly composed of an alkali-soluble resin, a reactive diluent, a photopolymerization initiator, a pigment and a solvent is used, applied onto a transparent substrate, and exposed, developed, and postcured. The pigment dispersion method created by the repeated photolithographic method is currently mainstream because it has excellent durability such as light resistance and heat resistance and has few defects such as pinholes.

顔料分散法では、上記の利点を有している反面、ブラックマトリクス、R、G、Bのパターンを繰り返し形成することから、塗膜のバインダーとなるアルカリ可溶性樹脂に高い耐熱性を要求する。
耐熱性を向上する方法として従来から、側鎖に環状の構造を持った(メタ)アクリル酸エステルを共重合成分とする樹脂組成物(例えば、特許文献2)や、マレイミドを含む単量体を共重合成分とする樹脂組成物(例えば、特許文献3)等が提案されている。
しかし、前者の側鎖に環状の構造を持った(メタ)アクリル酸エステルを共重合成分とする樹脂組成物では、後硬化時に側鎖が熱分解され揮発性成分となることで製造ラインを汚染するという問題があった。また、後者のマレイミドを含む単量体を共重合成分とする樹脂組成物では、分子中に含まれる窒素原子を原因とした黄色から黄褐色の着色を有しており、塗膜の透明性を悪化させる。更に、加熱処理を行う後硬化時に着色が進行するという問題があった。
While the pigment dispersion method has the above-mentioned advantages, the pattern of black matrix, R, G, and B is repeatedly formed, so that high heat resistance is required for the alkali-soluble resin that becomes the binder of the coating film.
Conventionally, as a method for improving heat resistance, a resin composition (for example, Patent Document 2) containing a (meth) acrylic acid ester having a cyclic structure in the side chain as a copolymerization component, or a monomer containing maleimide is used. A resin composition (for example, Patent Document 3), which is a copolymerization component, has been proposed.
However, in the former resin composition with (meth) acrylic acid ester having a cyclic structure in the side chain as a copolymerization component, the side chain is thermally decomposed during post-curing and becomes a volatile component, which contaminates the production line. There was a problem to do. In addition, the resin composition having the latter maleimide-containing monomer as a copolymerization component has a yellow to yellow-brown color caused by nitrogen atoms contained in the molecule, and the transparency of the coating film is improved. make worse. Furthermore, there has been a problem that coloring proceeds during post-curing after heat treatment.

また、予備加熱乾燥時に容易に乾燥できて、タックフリー性の向上を示し、アルカリ水溶液による現像性等に優れるポリカルボン酸樹脂、このポリカルボン酸樹脂を含むポリカルボン酸樹脂組成物及びその硬化物が開示されている(例えば、特許文献4)。
しかしながら、この樹脂を使用した場合であっても、感度が十分でない場合があった。近年の技術の高度化から、より精度が高いパターン形成が可能な感光性樹脂の開発が求められていた。
In addition, a polycarboxylic acid resin that can be easily dried at the time of preheating drying, shows an improvement in tack-free property, and is excellent in developability with an alkaline aqueous solution, a polycarboxylic acid resin composition containing the polycarboxylic acid resin, and a cured product thereof Is disclosed (for example, Patent Document 4).
However, even when this resin is used, the sensitivity may not be sufficient. With the recent advancement of technology, development of a photosensitive resin capable of forming a pattern with higher accuracy has been demanded.

特開2006−190848号公報JP 2006-190848 A 特開2004−240396号公報JP 2004-240396 A 特開2003−29018号公報JP 2003-29018 A 特開2004−67814号公報JP 2004-67814 A

本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、各種材料との密着性や耐熱性に優れた硬化塗膜を形成すると共に、顔料、染料などの有機着色剤を混ぜたときに現像性や感度、耐溶剤性に優れるポリカルボン酸樹脂を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and forms a cured coating film excellent in adhesion to various materials and heat resistance, and is mixed with organic colorants such as pigments and dyes. It is an object of the present invention to provide a polycarboxylic acid resin having excellent developability, sensitivity, and solvent resistance.

本発明は、2個のグリシジル基を有するエポキシ樹脂(a)1種以上と、炭素数が4以上10以下である下記一般式(1)で表される二塩基酸(b)1種以上と、エチレン性不飽和モノカルボン酸(c)1種以上とを反応させて得られる直鎖状付加重合物(A)を、多塩基酸無水物(d)1種以上及びエチレン性不飽和二重結合を有するイソシアネート(e)1種以上と更に反応させて得られることを特徴とするポリカルボン酸樹脂(以下、ポリカルボン酸樹脂(I)と記すことがある)である。   The present invention includes at least one epoxy resin (a) having two glycidyl groups and at least one dibasic acid (b) represented by the following general formula (1) having 4 to 10 carbon atoms. A linear addition polymer (A) obtained by reacting one or more ethylenically unsaturated monocarboxylic acids (c) with one or more polybasic acid anhydrides (d) and ethylenically unsaturated doubles. A polycarboxylic acid resin (hereinafter sometimes referred to as polycarboxylic acid resin (I)) obtained by further reacting with one or more isocyanate (e) having a bond.

Figure 2011099034
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上記ポリカルボン酸樹脂は、下記一般式(2)で表されるものであることが好ましい。   The polycarboxylic acid resin is preferably represented by the following general formula (2).

Figure 2011099034
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Figure 2011099034
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Figure 2011099034
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また、本発明は、上記直鎖状付加重合物(A)と上記多塩基酸無水物(d)との反応で生じたカルボン酸基に、1個のグリシジル基を有するラジカル重合性化合物(f)を更に反応させて得られることを特徴とするポリカルボン酸樹脂(以下、ポリカルボン酸樹脂(II)と記すことがある)である。   The present invention also relates to a radically polymerizable compound (f) having one glycidyl group in the carboxylic acid group produced by the reaction between the linear addition polymer (A) and the polybasic acid anhydride (d). ) Is further obtained by further reaction (hereinafter, may be referred to as polycarboxylic acid resin (II)).

上記2個のグリシジル基を有するエポキシ樹脂(a)は、下記一般式(7)で表されるエポキシ樹脂であることが好ましい。   The epoxy resin (a) having two glycidyl groups is preferably an epoxy resin represented by the following general formula (7).

Figure 2011099034
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上記エチレン性不飽和モノカルボン酸(c)は、アクリル酸、メタクリル酸又はこれらの混合物であることが好ましい。   The ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (c) is preferably acrylic acid, methacrylic acid or a mixture thereof.

また、本発明は、上記ポリカルボン酸樹脂と、光重合性モノマー(g)とを含有することを特徴とするポリカルボン酸樹脂組成物である。   Moreover, this invention contains the said polycarboxylic acid resin and a photopolymerizable monomer (g), It is a polycarboxylic acid resin composition characterized by the above-mentioned.

上記ポリカルボン酸樹脂組成物は、溶剤(h)、光重合開始剤(i)及び染料(j)の少なくとも1種を更に含有してもよい。   The polycarboxylic acid resin composition may further contain at least one of a solvent (h), a photopolymerization initiator (i), and a dye (j).

本発明によれば、各種材料との密着性や耐熱性に優れた硬化塗膜を形成すると共に、顔料、染料などの有機着色剤を混ぜたときに現像性や感度、耐溶剤性に優れるポリカルボン酸樹脂を提供することができる。   According to the present invention, a cured coating film having excellent adhesion and heat resistance to various materials is formed, and when an organic colorant such as a pigment or a dye is mixed, the developing property, sensitivity, and solvent resistance are excellent. Carboxylic acid resins can be provided.

以下、本発明のポリカルボン酸樹脂を詳細に説明する。
本発明のポリカルボン酸樹脂(I)は、2個のグリシジル基を有するエポキシ樹脂(a)1種以上と、炭素数が4以上10以下である下記一般式(1)で表される二塩基酸(b)1種以上と、エチレン性不飽和モノカルボン酸(c)1種以上とを反応させて得られる直鎖状付加重合物(A)を、多塩基酸無水物(d)1種以上及びエチレン性不飽和二重結合を有するイソシアネート(e)1種以上と更に反応させて得られるものである。
Hereinafter, the polycarboxylic acid resin of the present invention will be described in detail.
The polycarboxylic acid resin (I) of the present invention includes at least one epoxy resin (a) having two glycidyl groups and a dibasic represented by the following general formula (1) having 4 to 10 carbon atoms. A linear addition polymer (A) obtained by reacting at least one acid (b) with at least one ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (c) is converted into one polybasic acid anhydride (d). These are obtained by further reacting with one or more isocyanate (e) having an ethylenically unsaturated double bond.

Figure 2011099034
Figure 2011099034

また、本発明のポリカルボン酸樹脂(II)は、ポリカルボン酸樹脂(I)のカルボン酸基に、1個のグリシジル基を有するラジカル重合性化合物(f)を更に反応させて得られるものである。   The polycarboxylic acid resin (II) of the present invention is obtained by further reacting the carboxylic acid group of the polycarboxylic acid resin (I) with a radical polymerizable compound (f) having one glycidyl group. is there.

本発明で用いる2個のグリシジル基を有するエポキシ樹脂(a)は、1分子中にグリシジル基を2個有しているものであれば、特に限定されずに使用可能である。2個のグリシジル基を有するエポキシ樹脂(a)の具体的な例としては、グリシジルエーテル型として、ビスフェノール型エポキシ樹脂、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、テトラブロモビスフェノールA及びビスフェノールフルオレン等のビスフェノール類とエピクロルヒドリン及び/又はメチルエピクロルヒドリンとを反応させて得られるもの、あるいはビスフェノールAのグリシジルエーテルと前記フェノール類の縮合物とエピクロルヒドリン及び/又はメチルエピクロルヒドリンとを反応させて得られるもの、ビフェノールとエピクロルヒドリン及び/又はメチルエピクロルヒドリンとを反応させて得られるもの(例えば、ジャパンエポキシエジン製エピコートYX−4000);ジヒドロキシナフタレンとエピクロルヒドリン及び/又はメチルエピクロルヒドリンとを反応させて得られるもの(例えば、大日本インキ化学工業製EPICLON HP−4032);アルキルジフェノールとエピクロルヒドリン及び/又はメチルエピクロルヒドリンとを反応させて得られるもの(例えば、大日本インキ化学工業製EPICLON EXA−7120)等、更に、グリシジルエステル型のダイマー酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等、グリシジルアミン型のジグリシジルアニリン、ジグリシジルトルイジン等、脂環式型のアリサイクリックジエポキシアセタール、アリサイクリックジエポキシアジペート、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート、前記エポキシ樹脂とジイソシアネートとを反応させて得られるオキサゾリドン環を有する(例えば、旭化成エポキシ製アラルダイトAER4152)等が挙げられるが、これらに限られるものではない。また、これらの2個のグリシジル基を有するエポキシ樹脂(a)は、1種又は2種以上混合して用いてもよい。中でも、エポキシ樹脂(a)として特に好ましいのは、下記一般式(7)で示される構造を有するものである。このエポキシ樹脂は、耐熱性及び耐薬品性に優れ、分子内に2個のグリシジル基を持つため、反応においてはゲル化せずに直鎖状に分子量が増加するという特長を有している。   The epoxy resin (a) having two glycidyl groups used in the present invention can be used without particular limitation as long as it has two glycidyl groups in one molecule. Specific examples of the epoxy resin (a) having two glycidyl groups include glycidyl ether type, bisphenol type epoxy resin such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, tetrabromobisphenol A, and bisphenol fluorene. What can be obtained by reacting bisphenols with epichlorohydrin and / or methyl epichlorohydrin, or those obtained by reacting glycidyl ether of bisphenol A with a condensate of the above phenols with epichlorohydrin and / or methyl epichlorohydrin, biphenol and epichlorohydrin And / or obtained by reacting with methyl epichlorohydrin (for example, Epicoat YX-4000 manufactured by Japan Epoxy Edin); dihydroxynaphth What is obtained by reacting Len with epichlorohydrin and / or methyl epichlorohydrin (for example, EPICLON HP-4032 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals); What is obtained by reacting alkyldiphenol with epichlorohydrin and / or methyl epichlorohydrin ( For example, EPICLON EXA-7120 manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., glycidyl ester dimer acid diglycidyl ester, hexahydrophthalic acid diglycidyl ester, glycidyl amine diglycidyl aniline, diglycidyl toluidine, etc. Cyclic type alicyclic diepoxy acetals, alicyclic diepoxy adipates, alicyclic diepoxycarboxylates, the above epoxy resins and diisocyanates are reacted Having an oxazolidone ring obtained Te (e.g., Asahi Kasei Epoxy Ltd. Araldite AER4152) and others as mentioned, is not limited thereto. Moreover, you may use these epoxy resins (a) which have these two glycidyl groups 1 type or in mixture of 2 or more types. Among them, particularly preferred as the epoxy resin (a) is one having a structure represented by the following general formula (7). This epoxy resin is excellent in heat resistance and chemical resistance, and has two glycidyl groups in the molecule, and therefore has a feature that the molecular weight increases linearly without gelation in the reaction.

Figure 2011099034
Figure 2011099034

本発明で用いる二塩基酸(b)は、炭素数が4以上10以下である上記一般式(1)で表されるものであればよい。このような炭素数及び飽和又は不飽和の鎖状あるいは環状の構造を採用することにより、2個のグリシジル基を有するエポキシ樹脂(a)のグリシジル基と二塩基酸(b)のカルボキシル基との反応で生成する水酸基が、高分子量化した直鎖状付加重合物(A)の繰り返し単位中に占める割合が多くなり、速やかなアルカリ溶解性を発揮することができる。   The dibasic acid (b) used by this invention should just be represented by the said General formula (1) whose carbon number is 4-10. By adopting such a carbon number and a saturated or unsaturated chain or cyclic structure, the glycidyl group of the epoxy resin (a) having two glycidyl groups and the carboxyl group of the dibasic acid (b) The proportion of the hydroxyl group produced by the reaction in the repeating unit of the linear addition polymer (A) having a high molecular weight is increased, and rapid alkali solubility can be exhibited.

従って、二塩基酸(b)の炭素数が11以上では、本発明の目的とする十分なアルカリに溶解するポリカルボン酸樹脂は得られない。一方、炭素数が10以下では、直鎖状付加重合物(A)中の水酸基の占める割合が、アルカリに溶解するに足る量となるので好ましく、更に好ましくは炭素数8以下であり、最も好ましくは6以下である。二塩基酸(b)としては、例えば、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、グルタル酸、イタコン酸、アジピン酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、エチレングリコール・2モル無水マレイン酸付加物等が挙げられる。特に、イタコン酸を用いた場合は、その構造中にエチレン性不飽和結合を持つために本発明のポリカルボン酸樹脂の硬化性が改善され良好な硬化物を与えるので好ましい。   Therefore, when the number of carbon atoms of the dibasic acid (b) is 11 or more, a polycarboxylic acid resin that dissolves in a sufficient alkali targeted by the present invention cannot be obtained. On the other hand, when the number of carbon atoms is 10 or less, the proportion of the hydroxyl groups in the linear addition polymer (A) is preferably an amount sufficient to dissolve in an alkali, more preferably 8 or less, and most preferably. Is 6 or less. Examples of the dibasic acid (b) include succinic acid, fumaric acid, maleic acid, glutaric acid, itaconic acid, adipic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, ethylene glycol / 2-mole maleic anhydride adduct, etc. Can be mentioned. In particular, itaconic acid is preferably used because it has an ethylenically unsaturated bond in the structure, so that the curability of the polycarboxylic acid resin of the present invention is improved and a good cured product is obtained.

また、2個のグリシジル基を有するエポキシ樹脂(a)と反応させる二塩基酸(b)としては、水酸基を有するカルボン酸であってもよく、グリシジル基とカルボキシル基との反応で生じる以上に直鎖状付加重合物(A)の持つ水酸基を増加させ、本発明のポリカルボン酸樹脂の現像性、基板への密着性を向上させる目的として有用である。水酸基を有するカルボン酸としては、例えば、リンゴ酸、酒石酸、ムチン酸、等を挙げることができる。上記した二塩基酸(b)は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。   In addition, the dibasic acid (b) to be reacted with the epoxy resin (a) having two glycidyl groups may be a carboxylic acid having a hydroxyl group, which is more directly than the reaction between the glycidyl group and the carboxyl group. This is useful for the purpose of increasing the hydroxyl groups of the chain addition polymer (A) and improving the developability and adhesion to the substrate of the polycarboxylic acid resin of the present invention. Examples of the carboxylic acid having a hydroxyl group include malic acid, tartaric acid, mucinic acid, and the like. The above-mentioned dibasic acid (b) may be used alone or in combination of two or more.

本発明で用いるエチレン性不飽和モノカルボン酸(c)は、感光性基としてエチレン性不飽和基を本発明のポリカルボン酸樹脂の末端に導入するとともに、直鎖状付加重合物(A)の分子量を制御する役割を果たす。エチレン性不飽和モノカルボン酸(c)としては、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、桂皮酸等を挙げることができる。また、(c)成分として、1個の水酸基と1個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能(メタ)アクリレート(例えば、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート等)と多塩基酸無水物との反応物等も用いることができる。上記したエチレン性不飽和モノカルボン酸(c)は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。これらの中でも、反応性及びコスト面から、(メタ)アクリル酸を用いることが好ましい。   The ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (c) used in the present invention introduces an ethylenically unsaturated group as a photosensitive group into the terminal of the polycarboxylic acid resin of the present invention, and the linear addition polymer (A). It plays a role in controlling the molecular weight. Examples of the ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (c) include (meth) acrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid and the like. In addition, as the component (c), a polyfunctional (meth) acrylate having one hydroxyl group and one or more (meth) acryloyl groups (for example, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl ( (Meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate and the like) and a polybasic acid anhydride can also be used. The ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (c) described above may be used alone or in combination of two or more. Among these, it is preferable to use (meth) acrylic acid from the viewpoint of reactivity and cost.

直鎖状付加重合物(A)を生成する場合の二塩基酸(b)とエチレン性不飽和モノカルボン酸(c)との割合は、前者:後者としてモル比で1:20〜5:1の範囲が好ましく、更に好ましくは1:5〜1:1の範囲である。エチレン性不飽和モノカルボン酸(c)の割合が少な過ぎると分子量が増大し過ぎて、本発明のポリカルボン酸樹脂は感光性樹脂材料として適さない場合があり、また、エチレン性不飽和モノカルボン酸(c)の割合が多過ぎると充分な分子量増大の効果が得られない場合がある。   The ratio of the dibasic acid (b) to the ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (c) in the production of the linear addition polymer (A) is 1:20 to 5: 1 as the former: the latter in a molar ratio. The range is preferably 1, and more preferably in the range of 1: 5 to 1: 1. If the proportion of the ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (c) is too small, the molecular weight will increase too much, and the polycarboxylic acid resin of the present invention may not be suitable as a photosensitive resin material. If the ratio of the acid (c) is too large, the effect of increasing the molecular weight may not be obtained.

更に、直鎖状付加重合物(A)を生成する場合の2個のグリシジル基を有するエポキシ樹脂(a)と二塩基酸(b)とエチレン性不飽和モノカルボン酸(c)との割合は、2個のグリシジル基を有するエポキシ樹脂(a)のエポキシ基1当量に対し、二塩基酸(b)とエチレン性不飽和モノカルボン酸(c)とのカルボキシル基当量の和が、0.9〜1.1当量であることが好ましく、0.95〜1.05当量であることが更に好ましい。カルボキシル基当量が0.9未満では、多塩基酸無水物(d)との反応時にゲル化し易く、1.1を超えると未反応の酸が多くなり過ぎて、レジスト配合後の安定性を低下させる傾向となる。   Furthermore, the ratio of the epoxy resin (a) having two glycidyl groups, the dibasic acid (b) and the ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (c) in the case of producing the linear addition polymer (A) is The sum of the carboxyl group equivalents of the dibasic acid (b) and the ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (c) is 0.9 with respect to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin (a) having two glycidyl groups. It is preferable that it is -1.1 equivalent, and it is still more preferable that it is 0.95-1.05 equivalent. If the carboxyl group equivalent is less than 0.9, gelation is likely to occur during the reaction with the polybasic acid anhydride (d), and if it exceeds 1.1, the amount of unreacted acid will increase and the stability after compounding the resist will be reduced. It tends to be.

本発明で用いる多塩基酸無水物(d)としては、例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。多塩基酸無水物(d)の付加量は、二塩基酸(b)とエチレン性不飽和モノカルボン酸(c)との和を100mol%としたときに、好ましくは5〜80mol%であり、更に好ましくは10〜60mol%であり、最も好ましくは15〜40mol%である。多塩基酸無水物(d)の付加量が5mol%未満では1個のグリシジル基を有するラジカル重合性化合物(f)の付加量が少なくなり好ましくない。また、多塩基酸無水物(d)の付加量が80mol%を超えるとエチレン性不飽和二重結合を有するイソシアネート(e)の付加量が少なくなり、基材との密着性や感度に対する効果が薄れ好ましくない。   Examples of the polybasic acid anhydride (d) used in the present invention include maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride. , Endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenonetetracarboxylic dianhydride, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. May be used. The addition amount of the polybasic acid anhydride (d) is preferably 5 to 80 mol% when the sum of the dibasic acid (b) and the ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (c) is 100 mol%, More preferably, it is 10-60 mol%, Most preferably, it is 15-40 mol%. If the addition amount of the polybasic acid anhydride (d) is less than 5 mol%, the addition amount of the radical polymerizable compound (f) having one glycidyl group is unfavorable. Moreover, when the addition amount of polybasic acid anhydride (d) exceeds 80 mol%, the addition amount of isocyanate (e) having an ethylenically unsaturated double bond decreases, and the effect on the adhesion and sensitivity to the base material is reduced. Thinning is not preferable.

本発明で用いるエチレン性不飽和二重結合を有するイソシアネート(e)は、特に限定されるものではないが、例えば、下記一般式(8)で示される構造を有するものであり、具体的には、(メタ)アクリロイルオキシアルキルイソシアネートが挙げられる。(メタ)アクリロイルオキシアルキルイソシアネートとしては、(メタ)アクリロイルオキシ基が炭素数1〜6のアルキレン基を介してイソシアネート基(−NCO)と結合したもので、具体的には、2−アクリロイルオキシエチルイソシアネート、2−メタクリオイルオキシエチルイソシアネート等が例示される。   The isocyanate (e) having an ethylenically unsaturated double bond used in the present invention is not particularly limited. For example, it has a structure represented by the following general formula (8), and specifically, And (meth) acryloyloxyalkyl isocyanate. As (meth) acryloyloxyalkyl isocyanate, a (meth) acryloyloxy group is bonded to an isocyanate group (—NCO) via an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, specifically, 2-acryloyloxyethyl. Examples include isocyanate and 2-methacryloyloxyethyl isocyanate.

Figure 2011099034
Figure 2011099034

エチレン性不飽和二重結合を有するイソシアネート(e)の付加量は、二塩基酸(b)とエチレン性不飽和モノカルボン酸(c)との和を100mol%としたときに、好ましくは5〜80mol%であり、更に好ましくは10〜60mol%であり、最も好ましくは15〜40mol%である。イソシアネート(e)の付加量が5mol%未満では基材との密着性が低下し、また架橋密度が低下するため、耐溶剤性が低下し、好ましくない。また、イソシアネート(e)の付加量が80mol%を超えると2級水酸基量が少なくなり、現像性、特に現像形態が悪くなる傾向があり、好ましくない。   The addition amount of the isocyanate (e) having an ethylenically unsaturated double bond is preferably 5 to 5 when the sum of the dibasic acid (b) and the ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (c) is 100 mol%. It is 80 mol%, More preferably, it is 10-60 mol%, Most preferably, it is 15-40 mol%. If the addition amount of isocyanate (e) is less than 5 mol%, the adhesion to the substrate is lowered, and the crosslinking density is lowered, so that the solvent resistance is lowered, which is not preferable. On the other hand, when the addition amount of isocyanate (e) exceeds 80 mol%, the amount of secondary hydroxyl group decreases, and the developability, particularly the development form tends to deteriorate, such being undesirable.

更に、多塩基酸無水物(d)とエチレン性不飽和二重結合を有するイソシアネート(e)とを合計した割合は、二塩基酸(b)とエチレン性不飽和モノカルボン酸(c)との和を100mol%としたときに、98mol%以下とすることが好ましい。98mol%を超えると未反応モノマーが多くなりポストベーク時のアウトガスの原因となり好ましくない。また、直鎖状付加重合物(A)と(d)、(e)の付加の方法としては、(d)を付加した後に(e)成分を付加、(e)成分を付加した後に(d)成分を付加、(e)成分及び(d)成分を同時に付加のいずれの方法でもよいが、(e)成分は水酸基、カルボン酸とも反応するため(e)成分を付加した後に(d)成分を付加した方が酸価調整しやすく好ましい。   Furthermore, the ratio of the total of the polybasic acid anhydride (d) and the isocyanate (e) having an ethylenically unsaturated double bond is the ratio between the dibasic acid (b) and the ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (c). When the sum is 100 mol%, it is preferably 98 mol% or less. If it exceeds 98 mol%, the amount of unreacted monomer increases, which causes undesired outgassing during post-baking. In addition, as a method of adding the linear addition polymer (A), (d), and (e), the component (e) is added after the addition of (d), and the component (e) is added (d). The component (e) may be added, and the component (e) and the component (d) may be added simultaneously. However, since the component (e) reacts with a hydroxyl group and a carboxylic acid, the component (e) is added after the component (e) is added. It is easier to adjust the acid value when adding.

本発明で使用する1個のグリシジル基を有するラジカル重合性化合物(f)としては特に限定はされず、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、脂環式エポキシを有する3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート及びそのラクトン付加物[例えば、ダイセル化学工業(株)製サイクロマーA200、M100]、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートのモノ(メタ)アクリル酸エステル、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレートのエポキシ化物、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレートのエポキシ化物等が挙げられるが、原料入手のし易さから、グリシジル(メタ)アクリレート及び3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレートが好ましく用いられる。これらのラジカル重合性化合物(f)は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。   The radically polymerizable compound (f) having one glycidyl group used in the present invention is not particularly limited. For example, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meta) having glycidyl (meth) acrylate and alicyclic epoxy is used. ) Acrylates and lactone adducts thereof [eg, Cyclomer A200, M100 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.], mono (meth) acrylic acid ester of 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate , Epoxidized product of dicyclopentenyl (meth) acrylate, epoxidized product of dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, etc., but glycidyl (meth) acrylate and 3,4-epoxycyclohexyl are available because of easy availability of raw materials. Methyl (meth) acryl Over doors are preferably used. These radically polymerizable compounds (f) may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

1個のグリシジル基を有するラジカル重合性化合物(f)の付加量は、ポリカルボン酸樹脂(II)の酸価が5〜120KOHmg/gとなる範囲であることが好ましい。   The addition amount of the radically polymerizable compound (f) having one glycidyl group is preferably in the range where the acid value of the polycarboxylic acid resin (II) is 5 to 120 KOHmg / g.

ポリカルボン酸樹脂(I)及び(II)の酸価は5〜120KOHmg/gの範囲が好ましく、15〜70KOHmg/gの範囲が更に好ましい。酸価が5KOHmg/g未満ではアルカリ現像速度が遅くなり、また120KOHmg/gを超えるとアルカリ現像後のパターン形状のカケが発生しやすく好ましくない。   The acid value of the polycarboxylic acid resins (I) and (II) is preferably in the range of 5 to 120 KOHmg / g, more preferably in the range of 15 to 70 KOHmg / g. If the acid value is less than 5 KOH mg / g, the alkali development rate is slow, and if it exceeds 120 KOH mg / g, pattern shape after alkali development tends to occur, which is not preferable.

ポリカルボン酸樹脂(I)及び(II)の分子量は、ポリスチレン換算の重量平均分子量で1,000〜40,000の範囲であり、好ましくは3,000〜20,000の範囲である。重量平均分子量が1,000未満ではアルカリ現像後のパターン形状のカケが発生し易く、また分子量が40,000を超えるとアルカリ現像時間が長くなり好ましくない。
なお、本発明におけるポリカルボン酸樹脂(I)及び(II)の重量平均分子量(Mw)の値は、ゲル・パーミッション・クロマトグラフィー(GPC)を用いて、下記条件にて測定し、ポリスチレン換算にて算出されるものである。
カラム:ショーデックス KF−802+KF−802
カラム温度:40℃
展開溶媒:テトラヒドロフラン
検出器:示差屈折計(ショーデックス RI−101)
流速:1mL/min
The molecular weight of the polycarboxylic acid resins (I) and (II) is in the range of 1,000 to 40,000, preferably in the range of 3,000 to 20,000, in terms of polystyrene weight average molecular weight. If the weight average molecular weight is less than 1,000, pattern-shaped chipping after alkali development tends to occur, and if the molecular weight exceeds 40,000, the alkali development time becomes long.
In addition, the value of the weight average molecular weight (Mw) of polycarboxylic acid resin (I) and (II) in this invention is measured on the following conditions using gel permeation chromatography (GPC), and is converted into polystyrene. Is calculated.
Column: Shodex KF-802 + KF-802
Column temperature: 40 ° C
Developing solvent: Tetrahydrofuran Detector: Differential refractometer (Shodex RI-101)
Flow rate: 1 mL / min

以上のようにして得られたポリカルボン酸樹脂(I)及び/又はポリカルボン酸樹脂(II)に光重合性モノマー(g)、及び必要に応じて溶剤(h)、光重合開始剤(i)、染料(j)等を添加することにより、ポリカルボン酸樹脂組成物が得られる。   The polycarboxylic acid resin (I) and / or the polycarboxylic acid resin (II) obtained as described above are added to the photopolymerizable monomer (g), and if necessary, the solvent (h), a photopolymerization initiator (i ), Dye (j), and the like are added to obtain a polycarboxylic acid resin composition.

使用できる光重合性モノマー(g)としては、ポリカルボン酸樹脂(I)及び/又はポリカルボン酸樹脂(II)と反応可能なものであれば特に制限はされない。光重合性モノマー(g)の具体例としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、α−クロロメチルスチレン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、ジアリルベンゼンホスホネート等の芳香族ビニル系モノマー類;酢酸ビニル、アジピン酸ビニル等のポリカルボン酸モノマー類;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、β−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのトリ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル系モノマー;トリアリルシアヌレート等を挙げることができる。これらは1種単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
光重合性モノマー(g)の添加量は、ポリカルボン酸樹脂(I)及び/又はポリカルボン酸樹脂(II)の100質量部に対して、通常は10〜200質量部、好ましくは20〜150質量部である。上記範囲にすることにより、光硬化性を適正な範囲に保つことができ、更に、粘度を調整することもできる。また、使用する光重合性モノマー(g)の種類によっては、感光性樹脂組成物の粘度を調整するために、溶剤(h)を更に添加してもよい。
The photopolymerizable monomer (g) that can be used is not particularly limited as long as it can react with the polycarboxylic acid resin (I) and / or the polycarboxylic acid resin (II). Specific examples of the photopolymerizable monomer (g) include aromatic vinyl monomers such as styrene, α-methylstyrene, α-chloromethylstyrene, vinyltoluene, divinylbenzene, diallylphthalate, diallylbenzenephosphonate; Polycarboxylic acid monomers such as vinyl and vinyl adipate; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, β-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meta ) Acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane di ( (Meth) acrylic such as tri (meth) acrylate of tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tris (hydroxyethyl) isocyanurate Monomer; triallyl cyanurate and the like. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.
The addition amount of the photopolymerizable monomer (g) is usually 10 to 200 parts by mass, preferably 20 to 150 parts per 100 parts by mass of the polycarboxylic acid resin (I) and / or the polycarboxylic acid resin (II). Part by mass. By setting it as the said range, photocurability can be maintained in an appropriate range, and also a viscosity can be adjusted. Moreover, depending on the kind of photopolymerizable monomer (g) to be used, a solvent (h) may be further added in order to adjust the viscosity of the photosensitive resin composition.

使用できる溶剤(h)としては、ポリカルボン酸樹脂(I)及び/又はポリカルボン酸樹脂(II)並びに光重合性モノマー(g)と反応しない不活性な溶剤であれば制限なく使用することができる。
溶剤(h)の具体例としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート等を挙げることができる。これらは1種単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。これらの中でも、前記ラジカル重合反応において好ましく使用されるプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを用いることが好ましい。
溶剤(h)の添加量は、ポリカルボン酸樹脂(I)及び/又はポリカルボン酸樹脂(II)の100質量部に対して、通常は30〜1000質量部、好ましくは50〜800質量部である。上記範囲とすることにより、粘度を適度に保つことができる。
The solvent (h) that can be used is not limited as long as it is an inert solvent that does not react with the polycarboxylic acid resin (I) and / or the polycarboxylic acid resin (II) and the photopolymerizable monomer (g). it can.
Specific examples of the solvent (h) include, for example, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl acetate, butyl acetate, isopropyl acetate, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, Examples include tripropylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethylene glycol monoethyl ether acetate, and diethylene glycol ethyl ether acetate. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type. Among these, it is preferable to use propylene glycol monomethyl ether acetate preferably used in the radical polymerization reaction.
The amount of the solvent (h) added is usually 30 to 1000 parts by mass, preferably 50 to 800 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polycarboxylic acid resin (I) and / or the polycarboxylic acid resin (II). is there. By setting it as the said range, a viscosity can be kept moderate.

本発明のポリカルボン酸樹脂組成物は、活性エネルギー線として紫外線などの活性光を用いて光硬化させる場合、光重合開始剤(i)を添加することができる。使用できる光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等のベンゾインとそのアルキルエーテル類;アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン、4−(1−t−ブチルジオキシ−1−メチルエチル)アセトフェノン等のアセトフェノン類;2−メチルアントラキノン、2−アミルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン等のアントラキノン類;2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン等のチオキサントン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;ベンゾフェノン、4−(1−t−ブチルジオキシ−1−メチルエチル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラキス(t−ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類;2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オンや2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタノンー1;アシルホスフィンオキサイド類及びキサントン類等が挙げられる。これらは1種単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。光重合開始剤の添加量は、本発明のポリカルボン酸樹脂組成物中の固形分100質量部に対して、通常0.1〜30質量部、好ましくは0.5〜20質量部、更に好ましくは1〜10質量部である。光重合開始剤の添加量を0.1〜30質量部とすることにより、光硬化性を適正な範囲に保つことができる。   When the polycarboxylic acid resin composition of the present invention is photocured using active light such as ultraviolet rays as active energy rays, a photopolymerization initiator (i) can be added. Usable photopolymerization initiators include, for example, benzoin such as benzoin, benzoin methyl ether, and benzoin ethyl ether and alkyl ethers thereof; acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 4 Acetophenones such as-(1-t-butyldioxy-1-methylethyl) acetophenone; anthraquinones such as 2-methylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone and 1-chloroanthraquinone; 2,4-dimethyl Thioxanthones such as thioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone and 2-chlorothioxanthone; Ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; Benzophenone, 4- (1-t Benzophenones such as butyldioxy-1-methylethyl) benzophenone and 3,3 ′, 4,4′-tetrakis (t-butyldioxycarbonyl) benzophenone; 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2 -Morpholino-propan-1-one and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1; acylphosphine oxides and xanthones. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type. The addition amount of the photopolymerization initiator is usually 0.1 to 30 parts by mass, preferably 0.5 to 20 parts by mass, more preferably 100 parts by mass of the solid content in the polycarboxylic acid resin composition of the present invention. Is 1 to 10 parts by mass. By setting the addition amount of the photopolymerization initiator to 0.1 to 30 parts by mass, the photocurability can be maintained in an appropriate range.

染料(j)としては特に限定はされないが、有機溶剤やアルカリ現像液に対する溶解性、硬化性組成物中の他の成分との相互作用、耐熱性等からカルボン酸等の酸性基を有する酸性染料、酸性染料の窒素化合物との塩、酸性染料のスルホンアミド体等が使用される。
使用できる染料の具体例としては、例えば、acid alizarin violet N;acid black1,2,24,48;acid blue1,7,9,25,29,40,45,62,70,74,80,83,90,92,112,113,120,129,147;acid chrome violet K;acid Fuchsin;acid green1,3,5,25,27,50;acid orange6,7,8,10,12,50,51,52,56,63,74,95;acid red1,4,8,14,17,18,26,27,29,31,34,35,37,42,44,50,51,52,57,69,73,80,87,88,91,92,94,97,103,111,114,129,133,134,138,143,145,150,151,158,176,183,198,211,215,216,217,249,252,257,260,266,274;acid violet 6B,7,9,17,19;acid yellow1,3,9,11,17,23,25,29,34,36,42,54,72,73,76,79,98,99,111,112,114,116;food yellow3及びこれらの誘導体が挙げられる。
中でも、アゾ系、キサンテン系、アンスラキノン系もしくはフタロシアニン系の酸性染料が好ましい。これらの有機色素は、目的とする画素の色に応じてそれぞれ単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。
Although it does not specifically limit as dye (j), The acidic dye which has acidic groups, such as carboxylic acid, from the solubility with an organic solvent or an alkali developing solution, interaction with the other component in a curable composition, heat resistance, etc. Further, salts of acidic dyes with nitrogen compounds, sulfonamides of acidic dyes, and the like are used.
Specific examples of the dye that can be used include, for example, acid alizarin violet N; acid black 1, 2, 24, 48; acid blue 1, 7, 9, 25, 29, 40, 45, 62, 70, 74, 80, 83, 90, 92, 112, 113, 120, 129, 147; acid chroma violet K; acid Fuchsin; acid green 1, 3, 5, 25, 27, 50; acid orange 6, 7, 8, 10, 12, 50, 51, 52, 56, 63, 74, 95; acid red1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 69 73, 80, 87, 88, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 13 , 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 183, 198, 211, 215, 216, 217, 249, 252, 257, 260, 266, 274; acid violet 6B, 7, 9, 17 19; acid yellow 1,3,9,11,17,23,25,29,34,36,42,54,72,73,76,79,98,99,111,112,114,116; food yellow3 And derivatives thereof.
Among them, azo, xanthene, anthraquinone or phthalocyanine acid dyes are preferable. These organic dyes are used alone or in combination of two or more according to the color of the target pixel.

本発明のポリカルボン酸樹脂組成物には、必要に応じて公知の顔料等の着色剤、分散剤、消泡剤、カップリング剤、レベリング剤等を添加することができる。   A known colorant such as a pigment, a dispersant, an antifoaming agent, a coupling agent, a leveling agent, and the like can be added to the polycarboxylic acid resin composition of the present invention as necessary.

使用できる顔料の具体例としては、例えば、C.I.ピグメントイエロー1、3、12、13、14、15、16、17、20、24、31、53、83、86、93、94、109、110、117、125、128、137、138、139、147、148、150、153、154、166、173、194、214等の黄色顔料;C.I.ピグメントオレンジ13、31、36、38、40、42、43、51、55、59、61、64、65、71、73等の橙色顔料;C.I.ピグメントレッド9、97、105、122、123、144、149、166、168、176、177、180、192、209、215、216、224、242、254、255、264、265等の赤色顔料;C.I.ピグメントブルー15、15:3、15:4、15:6、60等の青色顔料;C.I.ピグメントバイオレット1、19、23、29、32、36、38などのバイオレット色顔料;C.I.ピグメントグリーン7、36等の緑色顔料;C.I.ピグメントブラウン23、25等の茶色顔料;C.I.ピグメントブラック1、7、カーボンブラック、チタンブラック、酸化鉄などの黒色顔料等が挙げられる。これらの顔料機顔料は、目的とする画素の色に応じてそれぞれ単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。   Specific examples of pigments that can be used include C.I. I. Pigment Yellow 1, 3, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 128, 137, 138, 139, Yellow pigments such as 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 194, 214; I. Orange pigments such as CI Pigment Orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 71, 73; I. Red pigments such as CI Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 209, 215, 216, 224, 242, 254, 255, 264, 265; C. I. Blue pigments such as CI Pigment Blue 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 60; I. Violet color pigments such as CI Pigment Violet 1, 19, 23, 29, 32, 36, 38; I. Green pigments such as CI Pigment Green 7 and 36; I. C.I. Brown pigments such as CI Pigment Brown 23 and 25; I. And black pigments such as CI pigment blacks 1 and 7, carbon black, titanium black, and iron oxide. These pigment machine pigments are used singly or in combination of two or more according to the color of the target pixel.

また、顔料の分散性を向上させるために、公知の分散剤を添加してもよい。分散剤としては、高分子分散剤を用いると経時の分散安定性に優れるので好ましい。高分子分散剤としては、例えば、ウレタン系分散剤、ポリエチレンイミン系分散剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系分散剤、ポリオキシエチレングリコールジエステル系分散剤、ソルビタン脂肪族エステル系分散剤、脂肪族変性エステル系分散剤等を挙げることができる。このような分散剤の具体例としては、商品名で、EFKA(エフカーケミカルズビーブイ(EFKA)社製)、Disperbyk(ビックケミー社製)、ディスパロン(楠本化成株式会社製)、SOLSPERSE(ゼネカ社製)等が挙げられる。   In order to improve the dispersibility of the pigment, a known dispersant may be added. As the dispersant, a polymer dispersant is preferably used because of excellent dispersion stability with time. Examples of the polymer dispersant include a urethane dispersant, a polyethyleneimine dispersant, a polyoxyethylene alkyl ether dispersant, a polyoxyethylene glycol diester dispersant, a sorbitan aliphatic ester dispersant, and an aliphatic modified ester. And the like, and the like. Specific examples of such a dispersant are trade names of EFKA (manufactured by EFKA Chemicals Beebuy (EFKA)), Disperbyk (manufactured by BYK Chemie), Disparon (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.), and SOLPERSE (manufactured by GENECA). Etc.

本発明のポリカルボン酸樹脂組成物は、例えば、プリント配線基板上にスクリーン印刷法、ロールコーター法、カーテンコーター法、スプレーコーター法、スピンコート法等で塗布され、必要部分を光硬化させた後、その未硬化(未露光)部分をアルカリ水溶液で洗い流すことにより現像が行われる。   The polycarboxylic acid resin composition of the present invention is applied, for example, on a printed wiring board by a screen printing method, a roll coater method, a curtain coater method, a spray coater method, a spin coat method, and the like, after photocuring a necessary portion. The development is performed by washing away the uncured (unexposed) portion with an alkaline aqueous solution.

現像に使用されるアルカリ水溶液としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、水酸化ナトリウム等の水溶液、アミン系では、アミノフェノール系化合物も有用であるが、p−フェニレンジアミン系化合物が好ましく使用され、その代表例として3−メチル−4−アミノ−N,N−ジエチルアニリン、3−メチル−4−アミノ−N−エチル−N−β−ヒドロキシエチルアニリン、3−メチル−4−アミノ−N−エチル−N−β−メタンスルホンアミドエチルアニリン、3−メチル−4−アミノ−N−エチル−N−β−メトキシエチルアニリン及びこれらの硫酸塩、塩酸塩もしくはp−トルエンスルホン酸塩の水溶液が挙げられる。   As an aqueous alkali solution used for development, an aqueous solution of sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, sodium hydroxide or the like, or an amine type, an aminophenol type compound is also useful, but a p-phenylenediamine type compound is preferably used. Representative examples thereof include 3-methyl-4-amino-N, N-diethylaniline, 3-methyl-4-amino-N-ethyl-N-β-hydroxyethylaniline, 3-methyl-4-amino-N- Examples include ethyl-N-β-methanesulfonamidoethylaniline, 3-methyl-4-amino-N-ethyl-N-β-methoxyethylaniline, and aqueous solutions of these sulfates, hydrochlorides or p-toluenesulfonates. It is done.

更に、本発明のポリカルボン酸樹脂組成物に、公知のエポキシ樹脂、硬化促進剤を添加することにより熱硬化も可能であり、熱硬化性のインクジェット法にも適用可能である。   Furthermore, thermosetting is possible by adding a known epoxy resin and a curing accelerator to the polycarboxylic acid resin composition of the present invention, and it can also be applied to thermosetting ink jet methods.

光照射して塗布面を硬化させる際に用いられる光源としては、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタハライドランプ等が用いられる。   As a light source used for curing the coated surface by light irradiation, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metahalide lamp, or the like is used.

本発明のポリカルボン酸樹脂及びそれを含有する組成物は、例えば、プリント配線基板製造用ソルダーレジスト、無電解メッキレジスト、ビルドアップ法プリント配線基板の絶縁層あるいは広範囲の印刷版、液晶表示材料用、プラズマディスプレイ用、有機ELディスプレイ用の感光性材料として用いることが可能であり、露光感度が高く、かつアルカリ水溶液による現像性が良好である。現像後の硬化物は電気特性、機械特性、耐熱性、耐薬品性等に優れた硬化塗膜を形成し得る感光性材料である。   The polycarboxylic acid resin of the present invention and the composition containing the same are, for example, a solder resist for manufacturing a printed wiring board, an electroless plating resist, an insulating layer of a build-up printed wiring board or a wide range of printing plates, for liquid crystal display materials It can be used as a photosensitive material for plasma displays and organic EL displays, has high exposure sensitivity, and good developability with an alkaline aqueous solution. The cured product after development is a photosensitive material capable of forming a cured coating film excellent in electrical characteristics, mechanical characteristics, heat resistance, chemical resistance, and the like.

(合成例1)
四つ口フラスコに攪拌器、温度計、空気封入管及び還流冷却器をセットした反応装置に、ビスフェノールA型エポキシ樹脂〔アラルダイトAER2603、旭化成エポキシ(株)製、エポキシ当量189〕189質量部、アジピン酸40.2質量部、アクリル酸31.0質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート206.5質量部、トリフェニルホスフィン0.8質量部及びメチルハイドロキノン0.2質量部を仕込み、空気を吹き込みながら、120℃に加熱し、約20時間反応させ、酸価0.5KOHmg/gの反応物を得た。
次いで、フラスコに、2−メタクロイルオキシエチルイソシアネート(MOI、昭和電工(株)製)93.0質量部を仕込み、赤外吸光分析によりイソシアネートの吸収のピークが無くなるまで80℃で3時間反応させ、次いでテトラヒドロ無水フタル酸30.4質量部を仕込み、赤外吸光分析により酸無水物の吸収のピークが無くなるまで100℃で更に6時間反応させ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート368.7質量部を仕込み、固形分酸価31.0KOHmg/g、固形分濃度40%のポリスチレン換算の重量平均分子量8,000のポリカルボン酸樹脂を得た。
(Synthesis Example 1)
In a reactor equipped with a stirrer, thermometer, air-sealed tube and reflux condenser in a four-necked flask, bisphenol A type epoxy resin [Araldite AER2603, manufactured by Asahi Kasei Epoxy Co., Ltd., epoxy equivalent 189] 189 parts by mass, adipine While charging 40.2 parts by mass of acid, 31.0 parts by mass of acrylic acid, 206.5 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate, 0.8 parts by mass of triphenylphosphine and 0.2 parts by mass of methyl hydroquinone, The mixture was heated to 120 ° C. and reacted for about 20 hours to obtain a reaction product having an acid value of 0.5 KOH mg / g.
Next, 93.0 parts by mass of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI, manufactured by Showa Denko KK) was charged into the flask and reacted at 80 ° C. for 3 hours until the absorption peak of isocyanate disappeared by infrared absorption analysis. Next, 30.4 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added, and the mixture was further reacted at 100 ° C. for 6 hours until the absorption peak of acid anhydride disappeared by infrared absorption analysis, and 368.7 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate was added. A polycarboxylic acid resin having a weight-average molecular weight of 8,000 in terms of polystyrene having a solid content acid value of 31.0 KOH mg / g and a solid content concentration of 40% was obtained.

(合成例2)
合成例1と同じ構成の反応装置に、ビスフェノールA型エポキシ樹脂〔アラルダイトAER2603、旭化成エポキシ(株)製、エポキシ当量189〕189質量部、アジピン酸7.3質量部、アクリル酸63.4質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート206.3質量部、トリフェニルホスフィン0.8質量部及びメチルハイドロキノン0.2質量部を仕込み、空気を吹き込みながら、120℃に加熱し、約20時間反応させ、酸価0.5KOHmg/gの反応物を得た。
次いで、フラスコに、2−メタクロイルオキシエチルイソシアネート(MOI、昭和電工(株)製)93.0質量部仕込み、赤外吸光分析によりイソシアネートの吸収のピークが無くなるまで80℃で3時間反応させ、次いでテトラヒドロ無水フタル酸30.4質量部を仕込み、赤外吸光分析により酸無水物の吸収のピークが無くなるまで100℃で更に6時間反応させ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート368.3質量部を仕込み、固形分酸価31.1KOHmg/g、固形分濃度40%のポリスチレン換算の重量平均分子量3,000のポリカルボン酸樹脂を得た。
(Synthesis Example 2)
In a reactor having the same configuration as in Synthesis Example 1, 189 parts by mass of bisphenol A type epoxy resin [Araldite AER2603, manufactured by Asahi Kasei Epoxy Co., Ltd., epoxy equivalent 189], 7.3 parts by mass of adipic acid, and 63.4 parts by mass of acrylic acid , 206.3 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate, 0.8 part by weight of triphenylphosphine and 0.2 part by weight of methylhydroquinone were charged, heated to 120 ° C. while blowing air, and reacted for about 20 hours. A reaction product of 0.5 KOH mg / g was obtained.
Next, 93.0 parts by mass of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI, manufactured by Showa Denko KK) was charged into the flask and reacted at 80 ° C. for 3 hours until the absorption peak of isocyanate disappeared by infrared absorption analysis. Next, 30.4 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was charged, and further reacted at 100 ° C. for 6 hours until the absorption peak of acid anhydride disappeared by infrared absorption analysis, and 368.3 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate was charged. A polycarboxylic acid resin having a weight-average molecular weight of 3,000 in terms of polystyrene having a solid content acid value of 31.1 KOH mg / g and a solid content concentration of 40% was obtained.

(合成例3)
合成例1と同じ構成の反応装置に、ビスフェノールA型エポキシ樹脂〔アラルダイトAER2603、旭化成エポキシ(株)製、エポキシ当量189〕189質量部、アジピン酸51.1質量部、アクリル酸20.2質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート181.2質量部、トリフェニルホスフィン0.8質量部及びメチルハイドロキノン0.2質量部を仕込み、空気を吹き込みながら、120℃に加熱し、約20時間反応させ、酸価0.5KOHmg/gの反応物を得た。
次いで、フラスコに、2−メタクロイルオキシエチルイソシアネート(MOI、昭和電工(株)製)15.5質量部仕込み、赤外吸光分析によりイソシアネートの吸収のピークが無くなるまで80℃で3時間反応させ、次いでテトラヒドロ無水フタル酸60.8質量部を仕込み、赤外吸光分析により酸無水物の吸収のピークが無くなるまで100℃で更に6時間反応させ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート323.5質量部を仕込み、固形分酸価69.1KOHmg/g、固形分濃度40%のポリスチレン換算の重量平均分子量15,000のポリカルボン酸樹脂を得た。
(Synthesis Example 3)
In the reactor having the same configuration as in Synthesis Example 1, 189 parts by mass of bisphenol A type epoxy resin [Araldite AER2603, manufactured by Asahi Kasei Epoxy Co., Ltd., epoxy equivalent 189], 51.1 parts by mass of adipic acid, and 20.2 parts by mass of acrylic acid , 181.2 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate, 0.8 part by mass of triphenylphosphine and 0.2 part by mass of methyl hydroquinone were charged, heated to 120 ° C. while blowing air, and reacted for about 20 hours. A reaction product of 0.5 KOH mg / g was obtained.
Next, 15.5 parts by mass of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI, manufactured by Showa Denko KK) was charged into the flask, and reacted at 80 ° C. for 3 hours until there was no isocyanate absorption peak by infrared absorption analysis. Next, 60.8 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was charged, and further reacted at 100 ° C. for 6 hours until the absorption peak of acid anhydride disappeared by infrared absorption analysis, and 323.5 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate was charged, A polycarboxylic acid resin having a weight-average molecular weight of 15,000 in terms of polystyrene having a solid content acid value of 69.1 KOH mg / g and a solid content concentration of 40% was obtained.

(合成例4)
合成例1と同じ構成の反応装置に、ビスフェノールA型エポキシ樹脂〔アラルダイトAER2603、旭化成エポキシ(株)製、エポキシ当量189〕189質量部、アジピン酸40.2質量部、アクリル酸31.0質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート194.4質量部、トリフェニルホスフィン0.8質量部及びメチルハイドロキノン0.2質量部を仕込み、空気を吹き込みながら、120℃に加熱し、約20時間反応させ、酸価0.5KOHmg/gの反応物を得た。
次いで、フラスコに、2−アクロイルオキシエチルイソシアネート(AOI、昭和電工(株)製)70.5質量部仕込み、赤外吸光分析によりイソシアネートの吸収のピークが無くなるまで80℃で3時間反応させ、次いでテトラヒドロ無水フタル酸60.8質量部を仕込み、赤外吸光分析により酸無水物の吸収のピークが無くなるまで100℃で更に6時間反応させ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート347.2質量部を仕込み、固形分酸価33.0KOHmg/g、固形分濃度40%のポリスチレン換算の重量平均分子量7,000のポリカルボン酸樹脂を得た。
(Synthesis Example 4)
In a reactor having the same configuration as in Synthesis Example 1, 189 parts by mass of bisphenol A type epoxy resin [Araldite AER2603, manufactured by Asahi Kasei Epoxy Co., Ltd., epoxy equivalent 189], 40.2 parts by mass of adipic acid, and 31.0 parts by mass of acrylic acid , 194.4 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate, 0.8 part by mass of triphenylphosphine and 0.2 part by mass of methylhydroquinone were charged, heated to 120 ° C. while blowing air, and allowed to react for about 20 hours. A reaction product of 0.5 KOH mg / g was obtained.
Next, 70.5 parts by mass of 2-acryloyloxyethyl isocyanate (AOI, manufactured by Showa Denko KK) was charged into the flask and reacted at 80 ° C. for 3 hours until the absorption peak of isocyanate disappeared by infrared absorption analysis. Next, 60.8 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added, and further reacted at 100 ° C. for 6 hours until the absorption peak of acid anhydride disappeared by infrared absorption analysis, and 347.2 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate was prepared. A polycarboxylic acid resin having a solid content acid value of 33.0 KOH mg / g and a solid content concentration of 40% in terms of polystyrene and having a weight average molecular weight of 7,000 was obtained.

(合成例5)
合成例1と同じ構成の反応装置に、ビスフェノールA型エポキシ樹脂〔アラルダイトAER2603、旭化成エポキシ(株)製、エポキシ当量189〕189質量部、アジピン酸40.2質量部、アクリル酸31.0質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート197.8質量部、トリフェニルホスフィン0.8質量部及びメチルハイドロキノン0.2質量部を仕込み、空気を吹き込みながら、120℃に加熱し、約20時間反応させ、酸価0.5KOHmg/gの反応物を得た。
次いで、フラスコに、2−メタクロイルオキシエチルイソシアネート(MOI、昭和電工(株)製)46.5質量部仕込み、赤外吸光分析によりイソシアネートの吸収のピークが無くなるまで80℃で3時間反応させ、次いでテトラヒドロ無水フタル酸60.8質量部を仕込み、赤外吸光分析により酸無水物の吸収のピークが無くなるまで100℃で更に6時間反応させた。次いで、グリシジルメタクリレート28.4質量部仕込み、120℃で10時間反応させ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート395.9質量部を仕込み、固形分酸価31.5KOHmg/g、固形分濃度40%のポリスチレン換算の重量平均分子量9,000のポリカルボン酸樹脂を得た。
(Synthesis Example 5)
In a reactor having the same configuration as in Synthesis Example 1, 189 parts by mass of bisphenol A type epoxy resin [Araldite AER2603, manufactured by Asahi Kasei Epoxy Co., Ltd., epoxy equivalent 189], 40.2 parts by mass of adipic acid, and 31.0 parts by mass of acrylic acid , 197.8 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate, 0.8 part by mass of triphenylphosphine and 0.2 part by mass of methylhydroquinone were charged, heated to 120 ° C. while blowing air, and reacted for about 20 hours. A reaction product of 0.5 KOH mg / g was obtained.
Next, 46.5 parts by mass of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI, manufactured by Showa Denko KK) was charged into the flask, and reacted at 80 ° C. for 3 hours until the absorption peak of isocyanate disappeared by infrared absorption analysis. Next, 60.8 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was charged, and the mixture was further reacted at 100 ° C. for 6 hours until the absorption peak of acid anhydride disappeared by infrared absorption analysis. Next, 28.4 parts by mass of glycidyl methacrylate was charged, reacted at 120 ° C. for 10 hours, charged with 395.9 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate, converted to polystyrene with a solid content acid value of 31.5 KOHmg / g and a solid content concentration of 40%. A polycarboxylic acid resin having a weight average molecular weight of 9,000 was obtained.

(合成例6)
合成例1と同じ構成の反応装置に、ビスフェノールF型エポキシ樹脂〔エポトートYD−128、東都化成(株)製、エポキシ当量170〕170質量部、イタコン酸35.8質量部、アクリル酸31.0質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート168.4質量部、トリフェニルホスフィン0.8質量部及びメチルハイドロキノン0.2質量部を仕込み、空気を吹き込みながら、120℃に加熱し、約20時間反応させ、酸価0.5KOHmg/gの反応物を得た。
次いで、フラスコに、2−メタクロイルオキシエチルイソシアネート(MOI、昭和電工(株)製)15.5質量部仕込み、赤外吸光分析によりイソシアネートの吸収のピークが無くなるまで80℃で3時間反応させ、次いで無水コハク酸50.0質量部を仕込み、赤外吸光分析により酸無水物の吸収のピークが無くなるまで100℃で更に6時間反応させた。次いで、グリシジルメタクリレート42.6質量部仕込み、120℃で10時間反応させ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート354.6質量部を仕込み、固形分酸価37.0KOHmg/g、固形分濃度40%のポリスチレン換算の重量平均分子量10,000のポリカルボン酸樹脂を得た。
(Synthesis Example 6)
In a reactor having the same configuration as in Synthesis Example 1, 170 parts by mass of bisphenol F type epoxy resin [Epototo YD-128, manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., epoxy equivalent 170], 35.8 parts by mass of itaconic acid, 31.0 parts of acrylic acid Parts by weight, propylene glycol monomethyl ether acetate 168.4 parts by weight, triphenylphosphine 0.8 parts by weight and methylhydroquinone 0.2 parts by weight, heated to 120 ° C. while blowing air, and allowed to react for about 20 hours, A reaction product having an acid value of 0.5 KOH mg / g was obtained.
Next, 15.5 parts by mass of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI, manufactured by Showa Denko KK) was charged into the flask, and reacted at 80 ° C. for 3 hours until there was no isocyanate absorption peak by infrared absorption analysis. Next, 50.0 parts by mass of succinic anhydride was added, and the mixture was further reacted at 100 ° C. for 6 hours until the absorption peak of acid anhydride disappeared by infrared absorption analysis. Next, 42.6 parts by mass of glycidyl methacrylate was charged, reacted at 120 ° C. for 10 hours, 354.6 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate was added, and the polystyrene conversion with a solid content acid value of 37.0 KOHmg / g and a solid content concentration of 40% A polycarboxylic acid resin having a weight average molecular weight of 10,000 was obtained.

(合成例7)
合成例1と同じ構成の反応装置に、ビスフェノールF型エポキシ樹脂〔エポトートYD−128、東都化成(株)製、エポキシ当量170〕170質量部、イタコン酸45.5質量部、アクリル酸20.2質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート166.8質量部、トリフェニルホスフィン0.8質量部及びメチルハイドロキノン0.2質量部を仕込み、空気を吹き込みながら、120℃に加熱し、約20時間反応させ、酸価0.5KOHmg/gの反応物を得た。
次いで、フラスコに、2−アクロイルオキシエチルイソシアネート(AOI、昭和電工(株)製)14.1質量部仕込み、赤外吸光分析によりイソシアネートの吸収のピークがなくなるまで80℃で3時間反応させ、次いで無水コハク酸60.0質量部を仕込み、赤外吸光分析により酸無水物の吸収のピークがなくなるまで100℃で更に6時間反応させた。次いで、グリシジルメタクリレート8.5質量部仕込み、120℃で10時間反応させ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート310.2質量部を仕込み、固形分酸価98.5KOHmg/g、固形分濃度40%のポリスチレン換算の重量平均分子量16,000のポリカルボン酸樹脂を得た。
(Synthesis Example 7)
In a reactor having the same configuration as in Synthesis Example 1, bisphenol F type epoxy resin [Epototo YD-128, manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., epoxy equivalent 170] 170 parts by mass, itaconic acid 45.5 parts by mass, acrylic acid 20.2 Parts by weight, 166.8 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate, 0.8 parts by weight of triphenylphosphine and 0.2 parts by weight of methylhydroquinone, heated to 120 ° C. while blowing air, and allowed to react for about 20 hours, A reaction product having an acid value of 0.5 KOH mg / g was obtained.
Next, 14.1 parts by mass of 2-acryloyloxyethyl isocyanate (AOI, Showa Denko KK) was charged into the flask and reacted at 80 ° C. for 3 hours until the absorption peak of isocyanate disappeared by infrared absorption analysis. Next, 60.0 parts by mass of succinic anhydride was charged, and the mixture was further reacted at 100 ° C. for 6 hours until the absorption peak of acid anhydride disappeared by infrared absorption analysis. Next, 8.5 parts by weight of glycidyl methacrylate was charged and reacted at 120 ° C. for 10 hours, 310.2 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate was added, and converted to polystyrene with a solid content acid value of 98.5 KOHmg / g and a solid content concentration of 40%. A polycarboxylic acid resin having a weight average molecular weight of 16,000 was obtained.

(比較合成例1)
合成例1と同じ構成の反応装置に、ビスフェノールA型エポキシ樹脂〔アラルダイトAER2603、旭化成エポキシ(株)製、エポキシ当量189〕189質量部、アクリル酸70.6質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート164.3質量部、トリフェニルホスフィン0.8質量部及びメチルハイドロキノン0.2質量部を仕込み、空気を吹き込みながら、120℃に加熱し、約20時間反応させ、酸価0.5KOHmg/gの反応物を得た。
次いで、フラスコに、テトラヒドロ無水フタル酸45.6質量部を仕込み、赤外吸光分析により酸無水物の吸収のピークが無くなるまで100℃で更に6時間反応させ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート293.4質量部を仕込み、固形分酸価55.2KOHmg/g、固形分濃度40%のポリスチレン換算の重量平均分子量1,000の樹脂を得た。
(Comparative Synthesis Example 1)
Bisphenol A type epoxy resin (Araldite AER2603, manufactured by Asahi Kasei Epoxy Co., Ltd., epoxy equivalent 189), 189 parts by mass, acrylic acid 70.6 parts by mass, propylene glycol monomethyl ether acetate 164. 3 parts by mass, 0.8 parts by mass of triphenylphosphine and 0.2 parts by mass of methylhydroquinone were charged, heated to 120 ° C. while blowing air, reacted for about 20 hours, and a reaction product having an acid value of 0.5 KOHmg / g Got.
Next, 45.6 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was placed in the flask and reacted at 100 ° C. for another 6 hours until the absorption peak of acid anhydride disappeared by infrared absorption analysis, and 293.4 mass of propylene glycol monomethyl ether acetate. The resin with a weight-average molecular weight of 1,000 in terms of polystyrene having a solid content acid value of 55.2 KOH mg / g and a solid content concentration of 40% was obtained.

(比較合成例2)
合成例1と同じ構成の反応装置に、o−クレゾール型エポキシ樹脂〔エポトートYDCN−704L、東都化成(株)製、エポキシ当量214〕214質量部、アクリル酸70.6質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート194.2質量部、トリフェニルホスフィン0.8質量部及びメチルハイドロキノン0.2質量部を仕込み、空気を吹き込みながら、120℃に加熱し、約20時間反応させ、酸価0.5KOHmg/gの反応物を得た。
次いで、フラスコに、テトラヒドロ無水フタル酸76.0質量部を仕込み、赤外吸光分析により酸無水物の吸収のピークがなくなるまで100℃で更に6時間反応させ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート346.6質量部を仕込み、固形分酸価77.8KOHmg/g、固形分濃度40%のポリスチレン換算の重量平均分子量8,000の樹脂を得た。
(Comparative Synthesis Example 2)
In a reactor having the same configuration as in Synthesis Example 1, o-cresol type epoxy resin [Epototo YDCN-704L, manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., epoxy equivalent 214] 214 parts by mass, acrylic acid 70.6 parts by mass, propylene glycol monomethyl ether 194.2 parts by mass of acetate, 0.8 part by mass of triphenylphosphine and 0.2 part by mass of methylhydroquinone were charged, heated to 120 ° C. while blowing air, reacted for about 20 hours, and an acid value of 0.5 KOH mg / g. The reaction product was obtained.
Next, 76.0 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was placed in the flask and reacted at 100 ° C. for another 6 hours until the absorption peak of the acid anhydride disappeared by infrared absorption analysis, and 346.6 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate. A resin with a weight-average molecular weight of 8,000 in terms of polystyrene having a solid content acid value of 77.8 KOH mg / g and a solid content concentration of 40% was obtained.

(比較合成例3)
合成例1と同じ構成の反応装置に、ビスフェノールA型エポキシ樹脂〔アラルダイトAER2603、旭化成エポキシ(株)製、エポキシ当量189〕189質量部、イタコン酸32.5質量部、アクリル酸34.6質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート162.4質量部、トリフェニルホスフィン0.8質量部及びメチルハイドロキノン0.2質量部を仕込み、空気を吹き込みながら、120℃に加熱し、約20時間反応させ、酸価0.5KOHmg/gの反応物を得た。
次いで、フラスコに、テトラヒドロ無水フタル酸45.6質量部を仕込み、赤外吸光分析により酸無水物の吸収のピークがなくなるまで100℃で更に6時間反応させ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート290.1質量部を仕込み、固形分酸価55.8KOHmg/g、固形分濃度40%のポリスチレン換算の重量平均分子量4,000の樹脂を得た。
(Comparative Synthesis Example 3)
In the reaction apparatus having the same configuration as in Synthesis Example 1, 189 parts by mass of bisphenol A type epoxy resin [Araldite AER2603, manufactured by Asahi Kasei Epoxy Co., Ltd., epoxy equivalent 189], 32.5 parts by mass of itaconic acid, 34.6 parts by mass of acrylic acid , 162.4 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate, 0.8 part by mass of triphenylphosphine and 0.2 part by mass of methylhydroquinone were charged, heated to 120 ° C. while blowing air, and allowed to react for about 20 hours. A reaction product of 0.5 KOH mg / g was obtained.
Next, 45.6 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was placed in the flask and reacted at 100 ° C. for another 6 hours until the absorption peak of acid anhydride disappeared by infrared absorption analysis. 290.1 mass of propylene glycol monomethyl ether acetate The resin with a weight average molecular weight of 4,000 in terms of polystyrene having a solid content acid value of 55.8 KOH mg / g and a solid content concentration of 40% was obtained.

(比較合成例4)
攪拌装置、滴下ロート、コンデンサー、温度計及びガス導入管を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート229.2質量部を投入し、窒素置換しながら攪拌し120℃に昇温した。次に、ベンジルメタクリレート147.8質量部及びメタクリル酸56.8質量部からなるモノマー混合物にt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエートをモノマー混合物100質量部に対し10質量部を添加した。これを滴下ロートから2時間かけてフラスコに滴下し、更に、120℃で2時間攪拌し共重合体を得た。次に、フラスコ内を空気置換に替え、グリシジルメタクリレート21.3質量部、トリフェニルホスフィン0.54質量部、メチルハイドロキノン0.11質量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート25.5質量部を上記共重合体の溶液中に投入し120℃で反応を続け、固形分酸価93.5KOHmg/g、固形分濃度40%のポリスチレン換算の重量平均分子量10,000の樹脂を得た。
(Comparative Synthesis Example 4)
Into a flask equipped with a stirrer, a dropping funnel, a condenser, a thermometer, and a gas introduction tube, 229.2 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate was added, stirred while replacing with nitrogen, and heated to 120 ° C. Next, 10 parts by mass of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate was added to 100 parts by mass of the monomer mixture to a monomer mixture consisting of 147.8 parts by mass of benzyl methacrylate and 56.8 parts by mass of methacrylic acid. This was dropped into the flask over 2 hours from the dropping funnel, and further stirred at 120 ° C. for 2 hours to obtain a copolymer. Next, the inside of the flask was replaced with air substitution, and 21.3 parts by mass of glycidyl methacrylate, 0.54 parts by mass of triphenylphosphine, 0.11 parts by mass of methylhydroquinone and 25.5 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate were combined. The mixture was put into a combined solution and the reaction was continued at 120 ° C. to obtain a resin having a solid content acid value of 93.5 KOH mg / g and a solid content concentration of 40% in terms of polystyrene and a weight average molecular weight of 10,000.

[実施例1〜14及び比較例1〜8]
合成例1〜7、比較合成例1〜4から得られた樹脂を用いて、下記に示す各成分を配合し、各々の光硬化型樹脂組成物を得た。尚、顔料を用いた例としては、合成例1、2、3、4、5、6、7及び比較合成例1、2、3、4を用いた組成物をそれぞれ実施例1、2、3、4、5、6、7及び比較例1、2、3、4とする。また、染料を用いた例としては、合成例1、2、3、4、5、6、7及び比較合成例1、2、3、4を用いた組成物をそれぞれ実施例8、9、10、11、12、13、14及び比較例5、6、7、8とする。
[Examples 1-14 and Comparative Examples 1-8]
Each component shown below was mix | blended using resin obtained from the synthesis examples 1-7 and the comparative synthesis examples 1-4, and each photocurable resin composition was obtained. As examples using pigments, compositions using Synthesis Examples 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 and Comparative Synthesis Examples 1, 2, 3, 4 were used in Examples 1, 2, 3 respectively. 4, 5, 6, 7 and Comparative Examples 1, 2, 3, and 4. Further, as examples using dyes, compositions using Synthesis Examples 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 and Comparative Synthesis Examples 1, 2, 3, 4 and Examples 8, 9, 10 respectively. 11, 12, 13, 14 and Comparative Examples 5, 6, 7, and 8.

<透明レジスト樹脂硬化塗膜の作製>
各樹脂の溶液の固形分100質量部にペンタエリスリトールテトラアクリレート30質量部、光重合開始剤として、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン4質量部を添加して調製した樹脂組成物をアプリケーターでガラス基板上に湿潤時の厚み10μmで塗布し、100℃の温風乾燥器中で低沸点物を揮発させた後、オーク製作所(株)製超高圧水銀灯を用い、必要に応じてマスクを通して50mJ/cm2で露光し、厚み2μmの硬化塗膜を得た後、アルカリ現像を行った。
<Preparation of transparent resist resin cured coating>
A resin composition prepared by adding 30 parts by mass of pentaerythritol tetraacrylate and 4 parts by mass of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone as a photopolymerization initiator to 100 parts by mass of the solid content of each resin solution was obtained with an applicator. It is applied to a glass substrate with a thickness of 10 μm when wet, and low-boiling substances are volatilized in a hot air dryer at 100 ° C. Then, using an ultra-high pressure mercury lamp manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd., 50 mJ through a mask as necessary. After being exposed at / cm 2 to obtain a cured coating film having a thickness of 2 μm, alkali development was performed.

(1)耐熱性の評価
各硬化塗膜を切り出し、熱重量分析(TGA)を行った。切り出した試料を220℃まで加熱し、2時間保持した時の重量変化率を測定した。
○:−2.0%未満
×:−2.0%以上
(1) Evaluation of heat resistance Each cured coating film was cut out and subjected to thermogravimetric analysis (TGA). The cut sample was heated to 220 ° C., and the weight change rate when held for 2 hours was measured.
○: Less than −2.0% ×: −2.0% or more

(2)耐熱変色の評価
ガラス基板上に製膜した塗膜を、230℃の乾燥機中に1時間放置し、加熱処理前後の塗膜の着色を色差計にて比較した。
○:ΔE*abが0.3未満
×:ΔE*abが0.3以上
(2) Evaluation of heat-resistant discoloration The coating film formed on the glass substrate was left in a dryer at 230 ° C. for 1 hour, and the coloring of the coating film before and after the heat treatment was compared with a color difference meter.
○: ΔE * ab is less than 0.3 ×: ΔE * ab is 0.3 or more

(3)透明性の評価
ガラス基板上に製膜した塗膜を、230℃の乾燥機中に1時間放置し、加熱処理前後の塗膜の400nmでの光線透過率を分光光度計にて測定した。
○:透過率の変化率が1%未満
×:透過率の変化率が1%以上
(3) Evaluation of transparency The coating film formed on the glass substrate is left in a dryer at 230 ° C. for 1 hour, and the light transmittance at 400 nm of the coating film before and after the heat treatment is measured with a spectrophotometer. did.
○: Change rate of transmittance is less than 1% ×: Change rate of transmittance is 1% or more

(4)密着性の評価
硬化塗膜をJIS K5400に準じて碁盤目試験を行い、100個の碁盤目の剥離状態を目視観察して以下の基準で評価した。
○:剥離が全く認められないもの。
△:全体の10%未満に剥離が認められるもの。
×:全体の10%以上に剥離が認められるもの。
(4) Evaluation of adhesion The cross-cut test was performed on the cured coating film according to JIS K5400, and the peeled state of 100 cross-cuts was visually observed and evaluated according to the following criteria.
○: No separation was observed.
Δ: Peeling is observed in less than 10% of the whole.
X: Exfoliation is recognized in 10% or more of the whole.

<カラーレジスト(顔料タイプ)の調製>
(緑色顔料分散液の調製)
直径0.5mmのジルコニアビーズ180質量部が充填されたSUS容器に、C.Iピグメントグリーン36を10.00質量部、溶剤(PGMAc)を33.75質量部、分散剤(ビックケミー・ジャパン株式会社 Disperbyk−161)を6.25質量部投入し、ペイントシェーカーで3時間分散させて、緑色顔料分散液を得た。
<Preparation of color resist (pigment type)>
(Preparation of green pigment dispersion)
In a SUS container filled with 180 parts by mass of zirconia beads having a diameter of 0.5 mm, C.I. 10.00 parts by mass of I Pigment Green 36, 33.75 parts by mass of solvent (PGMAc), and 6.25 parts by mass of a dispersant (Bicchemy Japan Co., Ltd. Disperbyk-161) are added and dispersed for 3 hours with a paint shaker. Thus, a green pigment dispersion was obtained.

上記で得られた緑色顔料分散液を用いて、下記表1に示す配合割合でカラーレジスト(顔料タイプ)を調製した。

Figure 2011099034
Using the green pigment dispersion obtained above, a color resist (pigment type) was prepared at a blending ratio shown in Table 1 below.
Figure 2011099034

<カラーレジスト(染料タイプ)の調製>
染料「Acid Green3」を用いて、下記表2に示す配合割合でカラーレジスト(染料タイプ)を調製した。
<Preparation of color resist (dye type)>
A color resist (dye type) was prepared using the dye “Acid Green 3” at a blending ratio shown in Table 2 below.

Figure 2011099034
Figure 2011099034

<カラーレジスト硬化塗膜の作製>
5cm角ガラス基板(無アルカリガラス)上に乾燥時膜厚2.2μmとなるようにカラーレジストをスピンコートし、80℃で3分プリベーク後、塗布膜から100μmの距離にフォトマスクを配置して150mJ/cm2で露光した。次いで、0.1重量%炭酸ナトリウム水溶液で0.3MPaの水圧でスプレー現像を行った後、230℃で30分ポストベークを行い、カラーレジスト硬化塗膜を得た。
<Preparation of color resist cured coating>
A color resist was spin-coated on a 5 cm square glass substrate (non-alkali glass) so as to have a film thickness of 2.2 μm when dried, prebaked at 80 ° C. for 3 minutes, and a photomask was placed at a distance of 100 μm from the coating film. The exposure was performed at 150 mJ / cm 2 . Next, spray development was performed with a 0.1 wt% aqueous sodium carbonate solution at a water pressure of 0.3 MPa, and then post-baking was performed at 230 ° C. for 30 minutes to obtain a cured color resist coating film.

(5)アルカリ現像性の評価
マスクを通して露光した硬化塗膜を23℃で0.1%の炭酸ナトリウム水溶液を用いてスプレー現像し、パターンが完全に見えたときの時間及び現像後の残渣の有無を目視にて評価した。
○:目視で残渣なし
×:目視で残渣あり
(5) Evaluation of alkali developability The cured coating film exposed through a mask was spray-developed at 23 ° C. with a 0.1% aqueous sodium carbonate solution, and the time when the pattern was completely visible and the presence or absence of a residue after development. Was visually evaluated.
○: No visual residue ×: Visual residue

(6)現像形態
ネガ型のレジストの現像工程においては、レジスト層の硬化していない未露光部分がアルカリ現像液により溶解し基板上から離脱していくが、その現像形態としては、離脱していく部分が主に大きな塊となって剥がれる剥離型と、染料が水に溶けていくように徐々に溶解、拡散する溶解型とがある。前者の剥離型は固液分の塊が異物となって系内に残留し、他の色の画素を汚染しやすいので好まれない現像形態であり、後者の溶解型が望まれる現像形態である。
×:剥離型
○:溶解型
(6) Development mode In the development process of the negative resist, the unexposed portion of the resist layer that has not been cured is dissolved by the alkaline developer and is released from the substrate. There are a peeling type in which the part is peeled off mainly as a large lump, and a dissolving type in which the dye is gradually dissolved and diffused so as to dissolve in water. The former peeling type is a development mode that is not preferred because the solid-liquid mass remains in the system as a foreign substance and easily contaminates the pixels of other colors, and the latter dissolution type is a development type that the latter is desired. .
×: Peeling type ○: Dissolving type

(7)感度の評価
マスクを通して露光した硬化塗膜を23℃で0.1%の炭酸ナトリウム水溶液を用いてスプレー現像を30秒間行い、アルカリ現像前後の膜減り量を測定した。膜減り量が少ないほど感度が良好として評価した。
○:0.20μm未満
×:0.20μm以上
(7) Evaluation of sensitivity The cured coating film exposed through the mask was subjected to spray development for 30 seconds using a 0.1% aqueous sodium carbonate solution at 23 ° C., and the amount of film loss before and after alkali development was measured. The smaller the film loss, the better the sensitivity.
○: Less than 0.20 μm ×: 0.20 μm or more

(8)耐溶剤性の評価
カラーレジスト硬化塗膜の作製において、フォトマスクを使用せずに前面露光すること以外は(7)感度の評価と同様にして硬化塗膜を作製した。次いで、蓋のできる容量500mlのガラス瓶にn−メチル2−ピロリドンを200ml入れ、その中に硬化塗膜を浸漬し23℃−60分後の色変化を色差計にて比較した。
○:ΔE*abが0.3未満
×:ΔE*abが0.3以上
尚、透明レジストは(1)〜(4)、顔料を使用したカラーレジストは(5)〜(8)、染料を用いたカラーレジストは(2)〜(8)の項目を評価した。
(8) Evaluation of solvent resistance A cured coating film was prepared in the same manner as the evaluation of (7) sensitivity, except that in the preparation of a color resist cured coating film, front exposure was performed without using a photomask. Next, 200 ml of n-methyl 2-pyrrolidone was placed in a 500 ml glass bottle capable of being covered, and the cured coating film was immersed therein, and the color change after 23 ° C.-60 minutes was compared with a color difference meter.
○: ΔE * ab is less than 0.3 ×: ΔE * ab is 0.3 or more In addition, transparent resists (1) to (4), color resists using pigments (5) to (8), dyes The used color resist was evaluated for items (2) to (8).

Figure 2011099034
Figure 2011099034

Figure 2011099034
Figure 2011099034

Claims (7)

2個のグリシジル基を有するエポキシ樹脂(a)1種以上と、炭素数が4以上10以下である下記一般式(1)で表される二塩基酸(b)1種以上と、エチレン性不飽和モノカルボン酸(c)1種以上とを反応させて得られる直鎖状付加重合物(A)を、多塩基酸無水物(d)1種以上及びエチレン性不飽和二重結合を有するイソシアネート(e)1種以上と更に反応させて得られることを特徴とするポリカルボン酸樹脂。
Figure 2011099034
At least one epoxy resin (a) having two glycidyl groups, at least one dibasic acid (b) represented by the following general formula (1) having 4 to 10 carbon atoms, A linear addition polymer (A) obtained by reacting one or more saturated monocarboxylic acids (c) with one or more polybasic acid anhydrides (d) and an isocyanate having an ethylenically unsaturated double bond (E) A polycarboxylic acid resin obtained by further reacting with one or more kinds.
Figure 2011099034
前記ポリカルボン酸樹脂が、下記一般式(2)で表されることを特徴とする請求項1に記載のポリカルボン酸樹脂。
Figure 2011099034
Figure 2011099034
Figure 2011099034
Figure 2011099034
Figure 2011099034
The polycarboxylic acid resin according to claim 1, wherein the polycarboxylic acid resin is represented by the following general formula (2).
Figure 2011099034
Figure 2011099034
Figure 2011099034
Figure 2011099034
Figure 2011099034
前記直鎖状付加重合物(A)と前記多塩基酸無水物(d)との反応で生じたカルボン酸基に、1個のグリシジル基を有するラジカル重合性化合物(f)を更に反応させて得られることを特徴とする請求項1又は2に記載のポリカルボン酸樹脂。   The carboxylic acid group produced by the reaction of the linear addition polymer (A) and the polybasic acid anhydride (d) is further reacted with a radical polymerizable compound (f) having one glycidyl group. The polycarboxylic acid resin according to claim 1, wherein the polycarboxylic acid resin is obtained. 前記2個のグリシジル基を有するエポキシ樹脂(a)が、下記一般式(7)で表されるエポキシ樹脂であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のポリカルボン酸樹脂。
Figure 2011099034
The polycarboxylic acid according to any one of claims 1 to 3, wherein the epoxy resin (a) having two glycidyl groups is an epoxy resin represented by the following general formula (7). resin.
Figure 2011099034
前記エチレン性不飽和モノカルボン酸(c)が、アクリル酸、メタクリル酸又はこれらの混合物であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のポリカルボン酸樹脂。   The polycarboxylic acid resin according to any one of claims 1 to 4, wherein the ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (c) is acrylic acid, methacrylic acid or a mixture thereof. 請求項1〜5のいずれか一項に記載のポリカルボン酸樹脂と、光重合性モノマー(g)とを含有することを特徴とするポリカルボン酸樹脂組成物。   A polycarboxylic acid resin composition comprising the polycarboxylic acid resin according to any one of claims 1 to 5 and a photopolymerizable monomer (g). 溶剤(h)、光重合開始剤(i)及び染料(j)の少なくとも1種を更に含有することを特徴とする請求項6に記載のポリカルボン酸樹脂組成物。   The polycarboxylic acid resin composition according to claim 6, further comprising at least one of a solvent (h), a photopolymerization initiator (i), and a dye (j).
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