JP2011093279A - Method of manufacturing mold for antiglare film, and method of manufacturing antiglare film - Google Patents
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Abstract
【課題】金型表面の凹凸を所望の形状に精度良く、かつ再現性良く形成することができ、もって、高い防眩性能を示す防眩フィルムの製造に有用な金型の製造方法および当該方法によって得られる金型を用いた防眩フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】金型用基材２の表面１に対して鏡面加工を施す工程と、鏡面加工された面上に感光性樹脂膜３を形成する工程と、感光性樹脂膜上にパターンを露光する工程と、パターンが露光された感光性樹脂膜４を現像する工程と、現像された感光性樹脂膜を融解させることにより、感光性樹脂膜の表面形状を調整する工程と、表面形状が調整された感光性樹脂膜６上に保護膜７を形成する工程とを含む防眩フィルム製造用金型の製造方法および当該方法によって得られる金型を用いた防眩フィルムの製造方法である。
【選択図】図１Disclosed is a method for manufacturing a mold that can form irregularities on a mold surface in a desired shape with good accuracy and reproducibility, and is useful for manufacturing an antiglare film exhibiting high antiglare performance, and the method. The manufacturing method of the anti-glare film using the metal mold | die obtained by is provided.
A step of applying a mirror finish to a surface 1 of a mold substrate 2, a step of forming a photosensitive resin film 3 on the mirror-finished surface, and exposing a pattern on the photosensitive resin film. The step of developing the photosensitive resin film 4 exposed with the pattern, the step of adjusting the surface shape of the photosensitive resin film by melting the developed photosensitive resin film, and the surface shape is adjusted. A process for forming a protective film 7 on the photosensitive resin film 6 produced, and a method for producing an antiglare film using the mold obtained by the method.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、防眩フィルムの製造に用いられる金型の製造方法、および金型を用いた防眩フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a mold used for manufacturing an antiglare film, and a method for manufacturing an antiglare film using the mold.
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイパネル、ブラウン管（陰極線管：ＣＲＴ）ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイなどの画像表示装置は、その表示面に外光が映り込むと視認性が著しく損なわれてしまう。従来、このような外光の映り込みを防止するために、画質を重視するテレビやパーソナルコンピュータ、外光の強い屋外で使用されるビデオカメラやデジタルカメラ、および反射光を利用して表示を行なう携帯電話などにおいては、画像表示装置の表面に外光の映り込みを防止するためのフィルム層が設けられている。このフィルム層は、光学多層膜による干渉を利用した無反射処理が施されたフィルムからなるものと、表面に微細な凹凸を形成することにより入射光を散乱させて映り込み像をぼかす防眩処理が施されたフィルムからなるものとに大別される。前者の無反射フィルムは、均一な光学膜厚の多層膜を形成する必要があるため、コスト高になる。これに対して、後者の防眩フィルムは、比較的安価に製造することができるため、大型のパーソナルコンピュータやモニタなどの用途に広く用いられている。 In an image display device such as a liquid crystal display, a plasma display panel, a cathode ray tube (CRT) display, an organic electroluminescence (EL) display, and the like, when external light is reflected on the display surface, visibility is significantly impaired. Conventionally, in order to prevent such reflection of external light, display is performed using a television or personal computer that emphasizes image quality, a video camera or digital camera that is used outdoors with strong external light, and reflected light. In a cellular phone or the like, a film layer for preventing reflection of external light is provided on the surface of an image display device. This film layer consists of a film that has been subjected to anti-reflection treatment using interference by the optical multilayer film, and anti-glare treatment that scatters incident light by blurring the incident light by forming fine irregularities on the surface. It is divided roughly into the thing which consists of the film which was given. The former non-reflective film is costly because it is necessary to form a multilayer film having a uniform optical film thickness. On the other hand, since the latter anti-glare film can be manufactured at a relatively low cost, it is widely used in applications such as large personal computers and monitors.
このような防眩フィルムは従来、たとえば、微粒子を分散させた樹脂溶液を基材シート上に膜厚を調整して塗布し、該微粒子を塗布膜表面に露出させることでランダムな表面凹凸を基材シート上に形成する方法などにより製造されている。しかしながら、このような微粒子を分散させた樹脂溶液を用いて製造された防眩フィルムは、樹脂溶液中の微粒子の分散状態や塗布状態などによって表面凹凸の配置や形状が左右されてしまうため、意図したとおりの表面凹凸を得ることが困難であり、防眩フィルムのヘイズを低く設定する場合、十分な防眩効果が得られないという問題があった。また、最近の画像表示装置の高精細化に伴って、画像表示装置の画素と防眩フィルムの表面凹凸形状とが干渉し、その結果、輝度分布が発生して表示面が見えにくくなる、いわゆる「ギラツキ」現象が発生しやすいという問題もあった。ギラツキを解消するために、バインダー樹脂とこれに分散される微粒子との間に屈折率差を設けて光を散乱させる試みもあるが、そのような防眩フィルムを画像表示装置の表面に配置した際には、微粒子とバインダー樹脂との界面における光の散乱によって、コントラストが低下しやすいという問題もあった。 Conventionally, such an antiglare film is based on random surface irregularities by, for example, applying a resin solution in which fine particles are dispersed on a substrate sheet while adjusting the film thickness and exposing the fine particles to the coating film surface. It is manufactured by a method of forming on a material sheet. However, the antiglare film manufactured using a resin solution in which such fine particles are dispersed has an influence on the arrangement and shape of surface irregularities depending on the dispersion state and application state of the fine particles in the resin solution. It is difficult to obtain surface irregularities as described above, and when the haze of the antiglare film is set low, there is a problem that a sufficient antiglare effect cannot be obtained. Also, with the recent high definition of image display devices, the pixels of the image display device and the surface uneven shape of the antiglare film interfere with each other, and as a result, a luminance distribution occurs and the display surface becomes difficult to see. There was also a problem that the “glare” phenomenon was likely to occur. In order to eliminate glare, there is an attempt to scatter light by providing a refractive index difference between the binder resin and the fine particles dispersed therein, but such an antiglare film is disposed on the surface of the image display device. In some cases, there is a problem that the contrast tends to be lowered due to light scattering at the interface between the fine particles and the binder resin.
一方、微粒子を含有させずに、透明樹脂層の表面に形成された微細な凹凸だけで防眩性を発現させる試みもある。たとえば、特開２００２−１８９１０６号公報（特許文献１）には、透明樹脂フィルム上に、三次元１０点平均粗さ、および、三次元粗さ基準面上における隣接する凸部同士の平均距離が、それぞれ所定値を満足する微細な表面凹凸を有する電離放射線硬化性樹脂層の硬化物層が積層された防眩フィルムが開示されている。この防眩フィルムは、エンボス鋳型と透明樹脂フィルムとの間に電離放射線硬化性樹脂を挟んだ状態で、当該電離放射線硬化性樹脂を硬化させることにより製造される。しかしながら、特許文献１に開示される防眩フィルムによっても、十分な防眩効果、白ちゃけの抑制、高コントラスト、およびギラツキの抑制を達成することは難しかった。
On the other hand, there is also an attempt to develop anti-glare properties only by fine irregularities formed on the surface of the transparent resin layer without containing fine particles. For example, in Japanese Patent Laid-Open No. 2002-189106 (Patent Document 1), a three-dimensional 10-point average roughness on a transparent resin film and an average distance between adjacent convex portions on a three-dimensional roughness reference surface are described. Further, an antiglare film is disclosed in which a cured product layer of an ionizing radiation curable resin layer having fine surface irregularities each satisfying a predetermined value is laminated. This antiglare film is manufactured by curing the ionizing radiation curable resin in a state where the ionizing radiation curable resin is sandwiched between the embossing mold and the transparent resin film. However, even with the antiglare film disclosed in
また、表面に微細な凹凸が形成されたフィルムを作製する方法として、凹凸表面を有するロールの凹凸形状をフィルムに転写する方法が知られている。このような凹凸表面を有するロールの作製方法として、たとえば、特開平６−３４９６１号公報（特許文献２）には、金属などを用いて円筒体を作り、その表面に電子彫刻、エッチング、サンドブラストなどの手法により凹凸を形成する方法が開示されている。また、特開２００４−２９２４０号公報（特許文献３）には、ビーズショット法によってエンボスロールを作製する方法が開示されており、特開２００４−９０１８７号公報（特許文献４）には、ロールの表面に金属めっき層を形成する工程、金属めっき層の表面を鏡面研磨する工程、さらに必要に応じてピーニング処理をする工程を経て、エンボスロールを作製する方法が開示されている。 As a method for producing a film having fine irregularities formed on the surface, a method of transferring the irregular shape of a roll having an irregular surface to the film is known. As a method for producing a roll having such a concavo-convex surface, for example, in JP-A-6-34961 (Patent Document 2), a cylindrical body is made using a metal or the like, and electronic engraving, etching, sandblasting, or the like is performed on the surface. A method of forming irregularities by the above method is disclosed. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-29240 (Patent Document 3) discloses a method for producing an embossing roll by the bead shot method, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-90187 (Patent Document 4). There has been disclosed a method for producing an embossing roll through a step of forming a metal plating layer on the surface, a step of mirror polishing the surface of the metal plating layer, and a step of peening if necessary.
しかしながら、このようにエンボスロールの表面にブラスト処理を施したままの状態では、ブラスト粒子の粒径分布に起因する凹凸径の分布が生じるとともに、ブラストにより得られるくぼみの深さを制御することが困難であり、防眩機能に優れた凹凸の形状を再現性よく得ることに課題があった。 However, in such a state that the surface of the embossing roll is subjected to blasting treatment, the uneven diameter distribution caused by the particle size distribution of the blast particles is generated, and the depth of the dent obtained by blasting can be controlled. It was difficult to obtain an uneven shape excellent in antiglare function with good reproducibility.
また、上述した特許文献１には、好ましくは鉄の表面にクロムめっきしたローラを用い、サンドブラスト法やビーズショット法により凹凸型面を形成することが記載されている。さらに、このように凹凸が形成された型面には、使用時の耐久性を向上させる目的で、クロムめっきなどを施してから使用することが好ましく、それにより硬膜化および腐食防止を図ることができる旨の記載もある。一方、特開２００４−４５４７１号公報（特許文献５）、特開２００４−４５４７２号公報（特許文献６）のそれぞれの実施例には、鉄芯表面にクロムめっきし、＃２５０の液体サンドブラスト処理をした後に、再度クロムめっき処理して、表面に微細な凹凸形状を形成することが記載されている。
Further,
しかしながら、このようなエンボスロールの作製法では、硬度の高いクロムめっきの上にブラストやショットを行なうため、凹凸が形成されにくく、しかも形成された凹凸の形状を精密に制御することが困難であった。 However, in such an embossing roll manufacturing method, since blasting and shots are performed on chromium plating with high hardness, it is difficult to form unevenness, and it is difficult to precisely control the shape of the formed unevenness. It was.
特開２０００−２８４１０６号公報（特許文献７）には、基材にサンドブラスト加工を施した後、エッチング工程および／または薄膜の積層工程を施すことが記載されている。また、特開２００６−５３３７１号公報（特許文献８）には、基材を研磨し、サンドブラスト加工を施した後、無電解ニッケルめっきを施すことが記載されている。また、特開２００７−１８７９５２号公報（特許文献９）には、基材に銅めっきまたはニッケルめっきを施した後、研磨し、サンドブラスト加工を施した後、クロムめっきを施してエンボス版を作製することが記載されている。さらに、特開２００７−２３７５４１号公報（特許文献１０）には、銅めっきまたはニッケルめっきを施した後、研磨し、サンドブラスト加工を施した後、エッチング工程または銅めっき工程を施した後にクロムめっきを施してエンボス版を作製することが記載されている。これらのサンドブラスト加工を用いる製法では、表面凹凸形状を精密に制御された状態で形成することが難しいため、表面凹凸形状に５０μｍ以上の周期を持つ比較的大きい凹凸形状も作製されてしまう。その結果、それらの大きい凹凸形状と画像表示装置の画素とが干渉し、ギラツキが発生しやすいという問題があった。 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-284106 (Patent Document 7) describes performing an etching process and / or a thin film laminating process after subjecting a base material to sandblasting. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-53371 (Patent Document 8) describes that an electroless nickel plating is performed after a substrate is polished and sandblasted. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-188792 (Patent Document 9) discloses that an embossed plate is produced by performing copper plating or nickel plating on a substrate, polishing, sandblasting, and then performing chromium plating. It is described. Furthermore, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-237541 (Patent Document 10) discloses that after copper plating or nickel plating, polishing, sand blasting, etching or copper plating, and chromium plating are performed. To produce an embossed plate. In these production methods using sandblasting, it is difficult to form the surface uneven shape in a precisely controlled state, so that a relatively large uneven shape having a period of 50 μm or more is also produced in the surface uneven shape. As a result, there is a problem that the large uneven shape and the pixels of the image display device interfere with each other, and glare is likely to occur.
本発明の目的は、金型表面の凹凸を所望の形状に精度良く、かつ再現性良く形成することができ、もって、高い防眩性能を示す防眩フィルムの製造に有用な金型を製造することができる方法を提供することにある。また、本発明の他の目的は、この金型を用いて、優れた防眩性能を示す防眩フィルム、とりわけ防眩性能に優れるとともに、白ちゃけによる視認性の低下、高精細の画像表示装置に適用したときのギラツキの発生、およびコントラストの低下を効果的に抑制または防止することができる防眩フィルムを製造する方法を提供することにある。 An object of the present invention is to produce a mold useful for producing an antiglare film that can form unevenness on the mold surface in a desired shape with good accuracy and reproducibility, and exhibits high antiglare performance. It is to provide a method that can. Another object of the present invention is to use this mold to provide an anti-glare film exhibiting excellent anti-glare performance, in particular, excellent anti-glare performance, lower visibility due to whitishness, and high-definition image display. An object of the present invention is to provide a method for producing an antiglare film capable of effectively suppressing or preventing the occurrence of glare and the reduction in contrast when applied to an apparatus.
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、金型となる基材表面に対して鏡面加工を施した後、その鏡面加工された面に感光性樹脂膜を形成し、感光性樹脂膜上にパターンを露光した後、露光された感光性樹脂膜を現像し、現像された感光性樹脂膜を融解させてその表面形状を調整した後、その感光性樹脂膜表面に保護膜を形成して金型とすれば、表面に所望の微細な凹凸形状を有する防眩フィルム製造用金型を精度良く、かつ再現性よく製造できることを見出した。また、その金型の凹凸面を透明樹脂フィルムに転写して得られる凹凸面付き防眩フィルムは、低ヘイズでありながら十分な防眩性能を有し、画像表示装置に適用したときにも、白ちゃけやギラツキなどが発生せず、また、コントラストも低下せずに良好な視認性を示すという、従来品では兼備していなかった性能が発現されることを見出した。すなわち、本発明は以下のとおりである。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors performed a mirror finish on the surface of the base material to be a mold, and then formed a photosensitive resin film on the mirror finished surface. After the pattern is exposed on the photosensitive resin film, the exposed photosensitive resin film is developed, the developed photosensitive resin film is melted and the surface shape is adjusted, and then the surface of the photosensitive resin film is adjusted. It has been found that if a protective film is formed to form a mold, a mold for producing an antiglare film having a desired fine irregular shape on the surface can be produced with good accuracy and reproducibility. In addition, the anti-glare film with uneven surface obtained by transferring the uneven surface of the mold to the transparent resin film has sufficient anti-glare performance while being low haze, and when applied to an image display device, The present inventors have found that the performance, which is not shared by conventional products, is exhibited such that whiteness, glare, etc. do not occur, and the contrast is not lowered and good visibility is exhibited. That is, the present invention is as follows.
本発明の防眩フィルム製造用金型の製造方法は、金型用基材の表面に対して鏡面加工を施す工程と、鏡面加工された面上に感光性樹脂膜を形成する工程と、感光性樹脂膜上にパターンを露光する工程と、パターンが露光された感光性樹脂膜を現像する工程と、現像された感光性樹脂膜を融解させることにより、感光性樹脂膜の表面形状を調整する工程と、表面形状が調整された感光性樹脂膜上に保護膜を形成する工程とを含むことを特徴とする。 The method for producing a mold for producing an antiglare film according to the present invention comprises a step of applying a mirror finish to the surface of a mold substrate, a step of forming a photosensitive resin film on the mirror-finished surface, Adjusting the surface shape of the photosensitive resin film by exposing the pattern on the photosensitive resin film, developing the photosensitive resin film on which the pattern is exposed, and melting the developed photosensitive resin film And a step of forming a protective film on the photosensitive resin film whose surface shape is adjusted.
上記保護膜は、蒸着により形成される、炭素を主成分とする膜とすることが好ましい。また、パターンの露光は、コンピュータ上で作成された画像データであるパターンを、コンピュータ制御されたレーザヘッドから発するレーザ光によって描画することによって行なわれることが好ましい。 The protective film is preferably a film mainly composed of carbon formed by vapor deposition. The pattern exposure is preferably performed by drawing a pattern, which is image data created on a computer, with a laser beam emitted from a computer-controlled laser head.
感光性樹脂膜上に露光されるパターンは、そのエネルギースペクトルに関し、次の要件（ａ）および（ｂ）を満たすものであることが好ましい。
（ａ）Ｈ1 2／Ｈ2 2≦０．３
（ｂ）Ｈ3 2／Ｈ2 2≦３
ここで、Ｈ1 2は空間周波数０．０２μｍ-1におけるエネルギースペクトル、Ｈ2 2は空間周波数０．０４μｍ-1におけるエネルギースペクトル、Ｈ3 2は空間周波数０．１μｍ-1におけるエネルギースペクトルである。
The pattern exposed on the photosensitive resin film preferably satisfies the following requirements (a) and (b) with respect to its energy spectrum.
(A) H 1 2 / H 2 2 ≦ 0.3
(B) H 3 2 / H 2 2 ≦ 3
Here, H 1 2 is the energy spectrum in the spatial frequency 0.02μm -1, H 2 2 energy spectrum in the spatial frequency 0.04μm -1, H 3 2 is the energy spectrum in the spatial frequency 0.1 [mu] m -1.
本発明はまた、上記方法によって製造された金型の保護膜側表面の表面形状を、透明樹脂フィルム上に転写する工程を含む防眩フィルムの製造方法を提供する。 The present invention also provides a method for producing an antiglare film comprising a step of transferring the surface shape of the protective film side surface of the mold produced by the above method onto a transparent resin film.
本発明の金型の製造方法によれば、金型表面の微細凹凸を所望の形状に精度良く、かつ再現性良く、ほとんど欠陥が存在しない状態で形成できることから、高い防眩性能を示す防眩フィルムの製造に有用な金型を得ることができる。また、本発明の防眩フィルムの製造方法によれば、本発明の方法によって得られる金型を用いることから、ヘイズが低く、表示画像の明るさを保ちながら、映り込み防止や反射防止、白ちゃけの抑制、ギラツキ発生防止、コントラスト低下防止など、防眩性能に優れた防眩フィルムを工業的有利に製造することができる。 According to the mold manufacturing method of the present invention, the fine irregularities on the mold surface can be accurately and reproducibly formed in a desired shape with almost no defects. A mold useful for film production can be obtained. In addition, according to the method for producing an antiglare film of the present invention, the mold obtained by the method of the present invention is used, so that the haze is low and the brightness of the display image is maintained, while preventing reflection and antireflection, white An antiglare film excellent in antiglare performance, such as suppression of blurring, prevention of glare, and prevention of contrast reduction, can be produced industrially advantageously.
＜防眩フィルム製造用金型の製造方法＞
図１は、本発明の金型の製造方法の好ましい一例を模式的に示す図である。図１には、各工程での金型の断面を模式的に示している。本発明の金型の製造方法は、〔１〕鏡面加工工程と、〔２〕感光性樹脂膜形成工程と、〔３〕露光工程と、〔４〕現像工程と、〔５〕融解工程と、〔６〕保護膜形成工程を含む。以下、図１を参照しながら、本発明の金型の製造方法の各工程について詳細に説明する。
<Method for producing mold for producing antiglare film>
FIG. 1 is a diagram schematically showing a preferred example of the mold manufacturing method of the present invention. In FIG. 1, the cross section of the metal mold | die in each process is shown typically. The method for producing a mold according to the present invention includes: [1] mirror finishing step, [2] photosensitive resin film forming step, [3] exposure step, [4] development step, [5] melting step, [6] A protective film forming step is included. Hereafter, each process of the manufacturing method of the metal mold | die of this invention is demonstrated in detail, referring FIG.
〔１〕鏡面加工工程
本発明の金型の製造方法ではまず、金型に用いる基材（金型用基材２）の表面１に対して鏡面加工を施す。当該工程を経て、基材表面１は、鏡面または鏡面に近い状態に加工されることが好ましい。これは、基材となる金属板や金属ロールは、所望の精度にするために、切削や研削などの機械加工が施されていることが多く、それにより基材表面１に加工目が残っているためである。また、後述するように、基材表面１にめっきを施す場合でも、それらの加工目が残ることがあるし、また、めっきした状態で、表面が完全に平滑になるとは限らないためである。すなわち、このような深い加工目などが残った表面に後述する工程を施したとしても、各工程を施して得られる凹凸よりも加工目などの凹凸の方が深いことがあるなど、加工目などの影響が残る可能性があり、そのような金型を用いて防眩フィルムを製造した場合には、光学特性に予期できない影響を及ぼすことがある。図１（ａ）には、平板状の金型用基材２が鏡面加工工程によって基材表面１が鏡面またはこれに近い状態とされた状態を模式的に示している。
[1] Mirror Surface Processing Step In the mold manufacturing method of the present invention, first, mirror surface processing is performed on the
基材表面１に対して鏡面加工を施す方法については特に制限されるものではなく、切削加工および／または研磨加工を用いることができる。切削加工によって鏡面加工を行なう場合には、超精密旋盤を用い、切削工具を用いて鏡面切削することが好ましい。切削工具の材質や形状などは特に制限されるものではなく、超硬バイト、ＣＢＮバイト、セラミックバイト、ダイヤモンドバイトなどを使用することができるが、加工精度の観点からダイヤモンドバイトを用いることが好ましい。また、研磨加工によって鏡面加工を行なう場合には、機械研磨法、電解研磨法、化学研磨法などの従来公知の方法を使用することができる。機械研磨法としては、超仕上げ法、ラッピング、流体研磨法、バフ研磨法などが例示される。さらに、所定の表面粗さを得るために切削加工と研磨加工とを組み合わせて鏡面加工を行なうこともできる。
The method for applying a mirror finish to the
鏡面加工により、基材表面１は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１の規定に準拠した中心線平均粗さＲａが０．１μｍ以下となるように平滑化されることが好ましく、中心線平均粗さＲａはより好ましくは０．０５μｍ以下である。鏡面加工後の中心線平均粗さＲａが０．１μｍより大きいと、最終的な金型表面の凹凸形状に鏡面加工後の表面粗度の影響が残る可能性がある。中心線平均粗さＲａの下限については特に制限されず、鏡面加工後の中心線平均粗さＲａの値は、加工時間や加工コストを考慮して、上記範囲から適宜選択される。
The
本発明の金型の製造方法において、金型用基材２に好適に用いられる金属材料としては、コストの観点からアルミニウム、鉄などが挙げられ、さらに熱伝導率の観点から、ステンレス鋼、チタンなどが挙げられる。ここでいうアルミニウム、鉄、チタンなどは純金属であることもできるが、コスト、硬度、切削性などの観点から、それぞれアルミニウム、鉄、チタンなどを主体とする合金であることが好ましい。
In the metal mold manufacturing method of the present invention, examples of the metal material suitably used for the
また、金型用基材２の形状は、当分野において従来採用されている形状から適宜選択することができ、たとえば平板状や、円柱状または円筒状のロール形状を挙げる。ロール形状の基材を用いて金型を作製すれば、防眩フィルムを連続的なロール状で製造することができるという利点がある。
Moreover, the shape of the
本工程では、金型用基材２の表面１にめっきを施した後、鏡面加工を行なってもよい。金型用基材２の表面１にめっきを施すことにより、基材に存在していた微小な凹凸や鬆を解消することができる。めっきは、銅めっきまたはニッケルめっきであることが好ましい。銅めっきまたはニッケルめっきは、被覆性が高く、また平滑化作用が強いことから、金型用基材２の微小な凹凸や鬆などを埋めて平坦で光沢のある表面を形成するためである。また、銅めっきまたニッケルめっきは切削性が良いことから、後の鏡面加工工程における切削加工や研磨加工が容易となる。
In this step, the
めっきに用いられる銅またはニッケルとしては、それぞれの純金属であることができるほか、銅を主体とする合金、またはニッケルを主体とする合金であってもよく、したがって、本明細書でいう「銅」は、銅および銅合金を含む意味であり、また「ニッケル」は、ニッケルおよびニッケル合金を含む意味である。銅めっきおよびニッケルめっきは、それぞれ電解めっきで行なっても無電解めっきで行なってもよいが、通常、銅めっきには電解めっきが採用され、ニッケルめっきには無電解めっきが採用される。 The copper or nickel used for the plating may be a pure metal of each, and may be an alloy mainly composed of copper or an alloy mainly composed of nickel. "Is meant to include copper and copper alloys, and" nickel "is meant to include nickel and nickel alloys. Copper plating and nickel plating may be performed by electrolytic plating or electroless plating, respectively, but usually electrolytic plating is employed for copper plating and electroless plating is employed for nickel plating.
銅めっきまたはニッケルめっきを施す際には、めっき層が余り薄いと、下地表面の影響が排除しきれないことから、その厚みは５０μｍ以上であるのが好ましい。めっき層厚みの上限は臨界的でないが、コストなどに鑑み、めっき層厚みの上限は５００μｍ程度までとすることが好ましい。 When copper plating or nickel plating is performed, if the plating layer is too thin, the influence of the underlying surface cannot be completely eliminated. Therefore, the thickness is preferably 50 μm or more. Although the upper limit of the plating layer thickness is not critical, the upper limit of the plating layer thickness is preferably about 500 μm in view of cost and the like.
〔２〕感光性樹脂膜形成工程
続く感光性樹脂膜形成工程では、鏡面加工が施された金型用基材２の表面上に、感光性樹脂を塗布し、必要に応じて加熱・乾燥することにより、感光性樹脂膜３を形成する。図１（ｂ）には、金型用基材２の表面上に感光性樹脂膜３が形成された状態を模式的に示している。
[2] Photosensitive resin film forming step In the subsequent photosensitive resin film forming step, a photosensitive resin is applied on the surface of the
感光性樹脂としては、それ自体（ポジ型の場合）もしくは感光により生成するその硬化物（ネガ型の場合）が後述する融解工程において熱処理等によって融解するものである限り、従来公知の感光性樹脂を用いることができる。たとえば、感光部分が硬化する性質をもったネガ型の感光性樹脂としては、分子中にアクリル基および／またはメタアクリル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの単量体やプレポリマー、ビスアジドとジエンゴムとの混合物、ポリビニルシンナマート系化合物などが挙げられる。また、現像により感光部分が溶出し、未感光部分だけが残る性質をもったポジ型の感光性樹脂としては、フェノール樹脂、ノボラック樹脂などが挙げられる。感光性樹脂には、必要に応じて、増感剤、現像促進剤、密着性改質剤、塗布性改良剤などの各種添加剤を配合してもよい。 As long as the photosensitive resin itself (in the case of a positive type) or its cured product (in the case of a negative type) melted by heat treatment or the like in a melting step described later, a conventionally known photosensitive resin is used. Can be used. For example, the negative photosensitive resin having the property of curing the photosensitive part includes (meth) acrylic acid ester monomers and prepolymers having acryl and / or methacryl groups in the molecule, bisazide and diene rubber And mixtures thereof, polyvinyl cinnamate compounds, and the like. Further, examples of the positive photosensitive resin having a property that a photosensitive part is eluted by development and only an unexposed part remains are phenol resin and novolac resin. Various additives such as a sensitizer, a development accelerator, an adhesion modifier, and a coating property improver may be blended with the photosensitive resin as necessary.
感光性樹脂膜を金型用基材２の表面に形成する方法としては、良好な塗膜を形成するために、感光性樹脂を適当な溶媒で希釈して溶液とし、これを金型用基材２の表面に塗布して加熱、乾燥させる方法が好ましく採用される。溶媒としては、セロソルブ系溶媒、プロピレングリコール系溶媒、エステル系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、高極性溶媒などを使用することができる。
As a method of forming the photosensitive resin film on the surface of the
感光性樹脂溶液を塗布する方法としては、メニスカスコート、ファウンティンコート、ディップコート、回転塗布、ロール塗布、ワイヤーバー塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、カーテン塗布などの公知の方法を用いることができる。感光性樹脂膜の厚さは乾燥後で１〜６μｍの範囲とすることが好ましい。 As a method for applying the photosensitive resin solution, known methods such as meniscus coating, fountain coating, dip coating, spin coating, roll coating, wire bar coating, air knife coating, blade coating, and curtain coating can be used. . The thickness of the photosensitive resin film is preferably in the range of 1 to 6 μm after drying.
〔３〕露光工程
続く露光工程では、所定のパターンを上述した感光性樹脂膜形成工程で形成された感光性樹脂膜３上に露光する。露光工程に用いる光源は、塗布された感光性樹脂の感光波長や感度等に合わせて適宜選択すればよく、たとえば、高圧水銀灯のｇ線（波長：４３６ｎｍ）、高圧水銀灯のｈ線（波長：４０５ｎｍ）、高圧水銀灯のｉ線（波長：３６５ｎｍ）、半導体レーザ（波長：８３０ｎｍ、５３２ｎｍ、４８８ｎｍ、４０５ｎｍなど）、ＹＡＧレーザ（波長：１０６４ｎｍ）、ＫｒＦエキシマーレーザ（波長：２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマーレーザ（波長：１９３ｎｍ）、Ｆ２エキシマーレーザ（波長：１５７ｎｍ）等を用いることができる。
[3] Exposure Step In the subsequent exposure step, a predetermined pattern is exposed on the
金型表面に所望する凹凸形状を精度良く、かつ再現性良く形成するためには、所定のパターンを感光性樹脂膜上に精密に制御された状態で露光することが好ましく、このような露光方法として、コンピュータ上で所定のパターンを画像データ（パターンデータ）として作成し、その画像データに基づいたパターンを、コンピュータ制御されたレーザヘッドから発するレーザ光によって描画する方法が好ましく採用される。このようなレーザ描画を行なうに際しては印刷版作成用のレーザ描画装置を使用することができる。レーザ描画装置としては、たとえばＬａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸ（（株）シンク・ラボラトリー製）などが挙げられる。 In order to form a desired uneven shape on the mold surface with good accuracy and reproducibility, it is preferable to expose a predetermined pattern on the photosensitive resin film in a precisely controlled state. Such an exposure method A method of creating a predetermined pattern as image data (pattern data) on a computer and drawing a pattern based on the image data with a laser beam emitted from a computer-controlled laser head is preferably employed. When performing such laser drawing, a laser drawing apparatus for making a printing plate can be used. Examples of the laser drawing apparatus include Laser Stream FX (manufactured by Sink Laboratory Co., Ltd.).
露光工程において感光性樹脂膜上に露光されるパターンは規則的なパターンでもよいし、ランダムなパターンでもよいが、規則的なパターンを露光した場合には、得られる金型の最終的な表面微細凹凸が規則的なものとなり、このような金型を用いて製造される防眩フィルムの表面微細凹凸も規則的なものとなる。規則的な表面微細凹凸を有する防眩フィルムは、その規則性に起因する干渉色が発生する可能性がある。よって、露光工程において露光されるパターンはランダムであることがより好ましい。 The pattern exposed on the photosensitive resin film in the exposure process may be a regular pattern or a random pattern. However, when the regular pattern is exposed, the final surface fineness of the obtained mold is obtained. Concavities and convexities are regular, and the surface fine irregularities of the antiglare film produced using such a mold are also regular. An antiglare film having regular fine surface irregularities may generate interference colors due to its regularity. Therefore, the pattern exposed in the exposure step is more preferably random.
ランダムなパターンの一例として、複数（通常、多数）のドットをランダムに配置して作成した画像データからなるパターンを挙げることができる。この場合、１種類のドット径を有する複数のドットをランダムに配置してもよいし、複数種類のドット径を有する複数種類のドットをランダムに配置してもよい。ドットの平均ドット径（パターン中の全ドットの直径の平均値）は特に限定されないが、たとえば６〜３０μｍであり、後述するエネルギースペクトルに関する要件（ａ）および（ｂ）を満たすパターンを得るためには、２０μｍ未満であることが好ましい。 As an example of the random pattern, a pattern made of image data created by randomly arranging a plurality of (usually many) dots can be cited. In this case, a plurality of dots having one type of dot diameter may be randomly arranged, or a plurality of types of dots having a plurality of types of dot diameters may be randomly arranged. The average dot diameter of dots (the average value of the diameters of all dots in the pattern) is not particularly limited, but is 6 to 30 μm, for example, in order to obtain a pattern that satisfies the requirements (a) and (b) related to the energy spectrum described later. Is preferably less than 20 μm.
複数のドットをランダムに描画する手段としては、たとえば、幅ＷＸ、高さＷＹの画像に対し、０から１の値をとる擬似乱数列Ｒ[ｂ]を生成させることにより、たとえばドット中心のｘ座標がＷＸ×Ｒ[２×ａ−１]、ｙ座標がＷＹ×Ｒ[２×ａ]である多数のドットを生成する手法が挙げられる。ここで、ａ、ｂはともに自然数である。擬似乱数列を生成する方法としては、線形合同法、Ｘｏｒｓｈｉｆｔあるいはメルセンヌツイスタなど、任意の擬似乱数生成法を用いることができる。あるいは、擬似乱数に限らず、熱雑音などにより乱数を生成するハードウェアにより、ランダムにドットが配列されたパターンを作成してもよい。 As a means for randomly drawing a plurality of dots, for example, by generating a pseudo-random number sequence R [b] having a value from 0 to 1 for an image of width WX and height WY, for example, x at the center of the dot There is a method of generating a large number of dots whose coordinates are WX × R [2 × a−1] and whose y coordinates are WY × R [2 × a]. Here, both a and b are natural numbers. As a method for generating the pseudo-random number sequence, any pseudo-random number generation method such as a linear congruential method, Xorshift, or Mersenne twister can be used. Alternatively, not only pseudorandom numbers, but also a pattern in which dots are randomly arranged may be created by hardware that generates random numbers by thermal noise or the like.
また、ランダムなパターンの他の例としては、上記した複数のドットをランダムに配置して形成される画像データからなるパターンに対し、特定の操作を施して得られるパターンであってもよい。このような操作としては、たとえば、（ｉ）特定の下限値Ｂ以下の空間周波数からなる低空間周波数成分を除去するハイパスフィルタを適用する操作、および、（ｉｉ）特定の下限値Ｂ’より低い空間周波数からなる低空間周波数成分および特定の上限値Ｔ’を超える空間周波数からなる高空間周波数成分を除去し、該下限値Ｂ’から該上限値Ｔ’に至る特定の範囲の空間周波数からなる空間周波数成分を抽出するバンドパスフィルタを適用する操作、などを挙げることができる。 Another example of the random pattern may be a pattern obtained by performing a specific operation on a pattern composed of image data formed by randomly arranging a plurality of dots as described above. As such an operation, for example, (i) an operation of applying a high-pass filter that removes a low spatial frequency component having a spatial frequency equal to or lower than a specific lower limit value B, and (ii) lower than a specific lower limit value B ′. A low spatial frequency component consisting of a spatial frequency and a high spatial frequency component consisting of a spatial frequency exceeding a specific upper limit value T ′ are removed, and the spatial frequency consists of a specific range from the lower limit value B ′ to the upper limit value T ′. For example, an operation of applying a bandpass filter for extracting a spatial frequency component can be given.
上記（ｉ）のハイパスフィルタを適用して得られるパターンによれば、ドットを複数ランダムに配置してなるパターンに含まれる空間周波数成分から、低空間周波数成分が除去されるため、周期が５０μｍ超の微細凹凸表面がより形成されにくくなり、ギラツキを効果的に防止することが可能となる。上記下限値Ｂは、たとえば０．０２〜０．０５μｍ-1の範囲内とすることができる。 According to the pattern obtained by applying the high-pass filter of (i) above, the low spatial frequency component is removed from the spatial frequency component included in the pattern in which a plurality of dots are randomly arranged, so that the period exceeds 50 μm. The surface of the fine irregularities is more difficult to be formed, and glare can be effectively prevented. The lower limit B can be set within a range of 0.02 to 0.05 μm −1 , for example.
また、上記（ｉｉ）のバンドパスフィルタを適用して得られるパターンによれば、ドットを複数ランダムに配置してなるパターンに含まれる空間周波数成分から、低空間周波数成分および高空間周波数成分除去されるため、周期が５０μｍ超の微細凹凸表面がより形成されにくくなり、ギラツキを効果的に防止することが可能となるとともに、該パターンを用いて防眩フィルムを製造する際の加工再現性を向上させることができる。下限値Ｂ’は、たとえば０．０１μｍ-1以上であり、好ましくは０．０２μｍ-1以上である。上限値Ｔ’は、１／（Ｄ×２）μｍ-1以下であることが好ましい。ここで、Ｄ（μｍ）は、金型に凹凸表面を形成する際に用いられる加工装置の分解能（たとえば、レーザ描画装置を用いて感光性樹脂膜を露光する場合における、レーザのスポット直径）である。 Further, according to the pattern obtained by applying the bandpass filter of (ii) above, the low spatial frequency component and the high spatial frequency component are removed from the spatial frequency component included in the pattern in which a plurality of dots are randomly arranged. Therefore, it becomes more difficult to form a fine uneven surface with a period exceeding 50 μm, and it is possible to effectively prevent glare and improve processing reproducibility when manufacturing an antiglare film using the pattern. Can be made. The lower limit B ′ is, for example, 0.01 μm −1 or more, preferably 0.02 μm −1 or more. The upper limit value T ′ is preferably 1 / (D × 2) μm −1 or less. Here, D (μm) is a resolution of a processing apparatus used when forming an uneven surface on a mold (for example, a laser spot diameter when a photosensitive resin film is exposed using a laser drawing apparatus). is there.
レーザ描画装置等を用いて感光性樹脂膜を露光する場合、画像データであるパターンは、二値化されたパターンであることが好ましい。 When the photosensitive resin film is exposed using a laser drawing apparatus or the like, the pattern as image data is preferably a binarized pattern.
図２は、ランダムなパターン（画像データ）のいくつかの例を一部拡大して示す図である。図２（ａ）は、白と黒とに二値化された２階調の画像データ（画像解像度：１２８００ｄｐｉ）であり、ドット径（ドットの直径）が１６μｍである１種類のドットを多数ランダムに配置したものである。図２（ｂ）は、多数のドットをランダムに配置して作成したパターンに対して、特定範囲の空間周波数からなる空間周波数成分を抽出するバンドパスフィルタを適用させて得られたパターンである。 FIG. 2 is an enlarged view showing some examples of random patterns (image data). FIG. 2A shows two-tone image data binarized into white and black (image resolution: 12800 dpi), and a large number of one type of dot having a dot diameter (dot diameter) of 16 μm is randomly selected. It is arranged in. FIG. 2B shows a pattern obtained by applying a bandpass filter that extracts a spatial frequency component consisting of a specific range of spatial frequencies to a pattern created by randomly arranging a large number of dots.
ここで、防眩フィルムの微細凹凸表面は、防眩フィルムの微細凹凸表面によって発生するギラツキを抑制するという観点から、５０μｍを超える長周期成分を含まないことが好ましい。一方、１０μｍ未満の短周期成分のみを含む微細凹凸表面では優れた防眩性能が発現しない。よって、防眩フィルムの微細凹凸表面は、十分な防眩効果を発現しつつ、ギラツキを十分に防止するために、１０〜５０μｍの周期を持つ表面形状を主成分として含むことが好ましい。このような防眩フィルムを実現するために、防眩フィルム製造用金型は、１０〜５０μｍの周期を持つ表面形状を主成分として含むことが好ましい。 Here, it is preferable that the fine uneven surface of the antiglare film does not contain a long-period component exceeding 50 μm from the viewpoint of suppressing glare generated by the fine uneven surface of the antiglare film. On the other hand, excellent antiglare performance does not appear on a fine uneven surface containing only short-period components of less than 10 μm. Therefore, the fine uneven surface of the antiglare film preferably includes a surface shape having a period of 10 to 50 μm as a main component in order to sufficiently prevent glare while exhibiting a sufficient antiglare effect. In order to realize such an antiglare film, it is preferable that the mold for producing the antiglare film contains a surface shape having a period of 10 to 50 μm as a main component.
このような表面形状を有する金型を作製するために、露光工程において露光されるパターン（たとえば画像データからなるパターン）は、そのエネルギースペクトルに関し、次の要件（ａ）および（ｂ）を満たすものであることが好ましい。
（ａ）Ｈ1 2／Ｈ2 2≦０．３
（ｂ）Ｈ3 2／Ｈ2 2≦３
ここで、Ｈ1 2は空間周波数０．０２μｍ-1におけるエネルギースペクトル、Ｈ2 2は空間周波数０．０４μｍ-1におけるエネルギースペクトル、Ｈ3 2は空間周波数０．１μｍ-1におけるエネルギースペクトルである。
In order to produce a mold having such a surface shape, the pattern exposed in the exposure process (for example, a pattern made of image data) satisfies the following requirements (a) and (b) with respect to its energy spectrum. It is preferable that
(A) H 1 2 / H 2 2 ≦ 0.3
(B) H 3 2 / H 2 2 ≦ 3
Here, H 1 2 is the energy spectrum in the spatial frequency 0.02μm -1, H 2 2 energy spectrum in the spatial frequency 0.04μm -1, H 3 2 is the energy spectrum in the spatial frequency 0.1 [mu] m -1.
露光されるパターンのエネルギースペクトルの比Ｈ1 2／Ｈ2 2が０．３を上回る場合には、得られる防眩フィルムに周期が５０μｍを超える微細凹凸表面が形成されやすくなり、結果として、高精細の画像表示装置の表面に配置したときにギラツキが発生することとなる。また、パターンのエネルギースペクトルの比Ｈ3 2／Ｈ2 2が３を上回る場合には、得られる防眩フィルムに周期が１０μｍ未満である微細凹凸表面が形成されやすくなり、結果として、十分な防眩効果が発現しない。露光されるパターンのエネルギースペクトルの比Ｈ1 2／Ｈ2 2はより好ましくは０．１５以下であり、また、パターンのエネルギースペクトルの比Ｈ3 2／Ｈ2 2はより好ましくは１．５以下である。 When the ratio H 1 2 / H 2 2 of the energy spectrum of the pattern to be exposed exceeds 0.3, a fine uneven surface with a period exceeding 50 μm is likely to be formed on the resulting antiglare film. Glare will occur when placed on the surface of a fine image display device. In addition, when the ratio H 3 2 / H 2 2 of the energy spectrum of the pattern is more than 3, a fine uneven surface having a period of less than 10 μm is likely to be formed on the resulting antiglare film, and as a result, sufficient anti-reflection Dazzle effect does not appear. The ratio H 1 2 / H 2 2 of the energy spectrum of the pattern to be exposed is more preferably 0.15 or less, and the ratio H 3 2 / H 2 2 of the pattern energy spectrum is more preferably 1.5 or less. It is.
パターンのエネルギースペクトルは、たとえば画像データであれば、画像データを２階調の二値化画像データに変換した後（ただし、パターンがもともと二値化された画像データである場合にはこの操作を行なう必要はない）、画像データの階調を二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）で表し、得られた二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）をフーリエ変換して二次元関数Ｈ（ｆx，ｆy）を計算し、得られた二次元関数Ｈ（ｆx，ｆy）を二乗することによって求められる。ここで、ｘおよびｙは、画像データ面内の直交座標を表し（たとえば、ｘ方向が画像データの横方向、ｙ方向が画像データの縦方向である）、ｆxおよびｆyはそれぞれ、ｘ方向の空間周波数、ｙ方向の空間周波数を表す。実際には、画像データの階調を示す二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）は、各画素毎の階調が離散的なデータ点の集合として得られるため離散関数である。よって、下記式（１）で定義される離散フーリエ変換によって離散関数Ｈ（ｆx，ｆy）を計算し、離散関数Ｈ（ｆx，ｆy）を二乗することによってエネルギースペクトルが求められる。ここで式（１）中のπは円周率、ｉは虚数単位である。また、Ｍはｘ方向の画素数であり、Ｎはｙ方向の画素数であり、ｌは−Ｍ／２以上Ｍ／２以下の整数であり、ｍは−Ｎ／２以上Ｎ／２以下の整数である。さらに、ΔｆxおよびΔｆyはそれぞれ、ｘ方向、ｙ方向の空間周波数間隔であり、下記式（２）および式（３）で定義される。ここで、式（２）および式（３）中のΔｘおよびΔｙはそれぞれ、ｘ方向、ｙ方向の画素の間隔である。 For example, if the energy spectrum of a pattern is image data, the image data is converted into binary image data of two gradations (however, this operation is performed when the pattern is originally binarized image data). need not be performed), the gradation two-dimensional function h (x of the image data, expressed in y), resulting two-dimensional function h (x, by Fourier transform y) two-dimensional function H (f x, f calculate the y), two resulting dimensional function H (f x, is determined by squaring the f y). Here, x and y represent orthogonal coordinates of the image data plane (e.g., the horizontal direction in the x direction image data, y direction is the vertical direction of the image data), f x and f y are each, x It represents the spatial frequency in the direction and the spatial frequency in the y direction. Actually, the two-dimensional function h (x, y) indicating the gradation of the image data is a discrete function because the gradation for each pixel is obtained as a set of discrete data points. Thus, a discrete function H (f x, f y) by a discrete Fourier transform defined by the following formula (1) to calculate the discrete function H (f x, f y) is the energy spectrum by squaring the determined. Here, π in the formula (1) is a pi, and i is an imaginary unit. M is the number of pixels in the x direction, N is the number of pixels in the y direction, l is an integer from −M / 2 to M / 2, and m is from −N / 2 to N / 2. It is an integer. Further, each of the Delta] f x and Delta] f y, x-direction, the spatial frequency interval in the y direction, defined by the following formula (2) and (3). Here, Δx and Δy in Equation (2) and Equation (3) are the pixel intervals in the x and y directions, respectively.
露光するパターンがランダムである場合には、エネルギースペクトルＨ2（ｆx，ｆy）は、横、縦、高さをそれぞれｆx、ｆy、エネルギースペクトルＨ2（ｆx，ｆy）とする３次元グラフで表したとき、原点を中心に対称となる。よって、パターンの空間周波数０．０２μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ1 2、空間周波数０．０４μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ2 2、および空間周波数０．１μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ3 2は、エネルギースペクトルＨ2（ｆx，ｆy）の原点を通る任意の断面より求めることができる。 When the pattern to be exposed is random, the energy spectrum H 2 (f x , f y ) has the horizontal, vertical, and height fx and f y , respectively, and the energy spectrum H 2 (f x , f y ) and When represented by a three-dimensional graph, the image is symmetric about the origin. Therefore, energy spectrum H 3 2 in the energy spectrum H 1 2, energy spectrum H 2 2 in the spatial frequency 0.04 .mu.m -1, and the spatial frequency 0.1 [mu] m -1 in the spatial frequency 0.02 [mu] m -1 pattern, energy spectrum H 2 (f x, f y ) can be obtained from any cross-section passing through the origin of.
図３は、図２に示したパターンのエネルギースペクトルＨ2（ｆx，ｆy）のｆx＝０における断面を示す図である。この図における空間周波数（この空間周波数はｙ方向の空間周波数ｆyである）＝０．０２μｍ-1、０．０４μｍ-1、および０．１μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ2の値から、それぞれエネルギースペクトルＨ1 2、エネルギースペクトルＨ2 2、およびエネルギースペクトルＨ3 2を求めることができる。これより、図２（ａ）に示したパターンの比Ｈ1 2／Ｈ2 2および比Ｈ3 2／Ｈ2 2は、それぞれ０．２３８、０．１８８であり、図２（ｂ）に示したパターンの比Ｈ1 2／Ｈ2 2および比Ｈ3 2／Ｈ2 2は、それぞれ０．００９、０．０８４である。 Figure 3 is a view showing a cross section taken along f x = 0 of the energy spectrum of H 2 pattern illustrated in FIG. 2 (f x, f y) . The spatial frequency in FIG. (The spatial frequency is a spatial frequency f y in the y direction) = 0.02 [mu] m -1, the value of the energy spectrum H 2 at 0.04 .mu.m -1, and 0.1 [mu] m -1, respectively energy A spectrum H 1 2 , an energy spectrum H 2 2 , and an energy spectrum H 3 2 can be obtained. Accordingly, the ratio H 1 2 / H 2 2 and the ratio H 3 2 / H 2 2 of the pattern shown in FIG. 2A are 0.238 and 0.188, respectively, and are shown in FIG. The pattern ratios H 1 2 / H 2 2 and H 3 2 / H 2 2 are 0.009 and 0.084, respectively.
露光されるパターンを、ドットを多数ランダムに配置して作成する場合や、これにハイパスフィルタまたはバンドパスフィルタを適用して作成する場合、ドット径、ドット密度、ハイパスフィルタの下限値Ｂ、バンドパスフィルタの下限値Ｂ’および上限値Ｔ’等を適切に制御することにより、上記エネルギースペクトル特性を示すパターンを得ることができる。ドットを多数配置してパターンを作成する場合、上記エネルギースペクトル特性を得るために、ドットはランダムかつ均一に配置されることがより好ましい。 When creating a pattern to be exposed by arranging a large number of dots at random, or by applying a high-pass filter or band-pass filter to it, the dot diameter, dot density, lower limit B of the high-pass filter, band pass By appropriately controlling the lower limit value B ′, the upper limit value T ′ and the like of the filter, a pattern showing the energy spectrum characteristics can be obtained. When a pattern is created by arranging a large number of dots, it is more preferable that the dots are arranged randomly and uniformly in order to obtain the energy spectrum characteristics.
図１（ｃ）には、感光性樹脂膜３にパターンが露光された状態を模式的に示している。感光性樹脂膜をネガ型の感光性樹脂で形成した場合には、露光された領域４は露光によって樹脂の架橋反応が進行し、後述する現像液に対する溶解性が低下する。よって、現像工程において露光されていない領域５が現像液によって溶解され、露光された領域４のみ基材表面上に残る。一方、感光性樹脂膜をポジ型の感光性樹脂で形成した場合には、露光された領域４は露光によって樹脂の結合が切断され、後述する現像液に対する溶解性が増加する。よって、現像工程において露光された領域４が現像液によって溶解され、露光されていない領域５のみ基材表面上に残る。
FIG. 1C schematically shows a state in which the pattern is exposed to the
〔４〕現像工程
続く現像工程においては、感光性樹脂膜３にネガ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光されていない領域５は現像液によって溶解され、露光された領域４のみ金型用基材上に残存する。一方、感光性樹脂膜３にポジ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光された領域４のみ現像液によって溶解され、露光されていない領域５が金型用基材上に残存する。
[4] Development Step In the subsequent development step, when a negative photosensitive resin is used for the
現像工程に用いる現像液については従来公知のものを使用することができる。たとえば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水などの無機アルカリ類、エチルアミン、ｎ−プロピルアミンなどの第一アミン類、ジエチルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミンなどの第二アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミンなどの第三アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシドなどの第四級アンモニウム塩、ピロール、ピペリジンなどの環状アミン類などのアルカリ性水溶液；および、キシレン、トルエンなどの有機溶剤などを挙げることができる。 A conventionally well-known thing can be used about the developing solution used for a image development process. For example, inorganic alkalis such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, aqueous ammonia, primary amines such as ethylamine and n-propylamine, diethylamine, di-n-butylamine, etc. Secondary amines, tertiary amines such as triethylamine and methyldiethylamine, alcohol amines such as dimethylethanolamine and triethanolamine, secondary amines such as tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide and trimethylhydroxyethylammonium hydroxide Examples include alkaline aqueous solutions such as quaternary ammonium salts, cyclic amines such as pyrrole and piperidine; and organic solvents such as xylene and toluene.
現像工程における現像方法については特に制限されず、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像などの方法を用いることができる。 The development method in the development step is not particularly limited, and methods such as immersion development, spray development, brush development, and ultrasonic development can be used.
図１（ｄ）には、感光性樹脂膜３の形成にポジ型の感光性樹脂を用いて、現像処理を行なった状態を模式的に示している。図１（ｃ）において露光された領域４が現像液によって溶解され、露光されていない領域５のみ基材表面上に残る。
FIG. 1D schematically shows a state in which development processing is performed using a positive photosensitive resin for forming the
〔５〕融解工程
続く融解工程では、現像工程後に残存した感光性樹脂膜を融解させて、感光性樹脂膜の表面形状を調整する。ここでいう表面形状の調整とは、感光性樹脂膜の表面凹凸を適切な程度まで平滑化することを意味しており、具体的には、感光性樹脂膜の微細凹凸表面の平均傾斜角度θaveが３°以下となるように調整することを意味する。感光性樹脂膜表面の平均傾斜角度が３°以下に調整されることにより、防眩フィルムの微細凹凸表面によって発生する白ちゃけを効果的に抑制することができる。また、防眩フィルムに良好な防眩性を発現させるために、感光性樹脂膜表面の平均傾斜角度は０．５°以上とすることが好ましい。図１（ｄ）に模式的に示すように、現像工程後に残存した感光性樹脂膜の表面形状は、傾斜角度が略０°である領域と、傾斜角度が急峻な領域とから形成されている。本工程では、このような感光性樹脂膜の表面形状を、表面の平均傾斜角度が３°以下となる程度まで平滑化する（図１（ｅ）参照）。
[5] Melting process In the subsequent melting process, the photosensitive resin film remaining after the development process is melted to adjust the surface shape of the photosensitive resin film. The adjustment of the surface shape here means that the surface unevenness of the photosensitive resin film is smoothed to an appropriate level. Specifically, the average inclination angle θ of the surface of the fine unevenness of the photosensitive resin film θ It means to adjust so that ave becomes 3 ° or less. By adjusting the average inclination angle of the surface of the photosensitive resin film to 3 ° or less, it is possible to effectively suppress the whiteness generated by the fine uneven surface of the antiglare film. In order to make the antiglare film exhibit good antiglare properties, the average inclination angle of the photosensitive resin film surface is preferably 0.5 ° or more. As schematically shown in FIG. 1D, the surface shape of the photosensitive resin film remaining after the development step is formed of a region having an inclination angle of approximately 0 ° and a region having a steep inclination angle. . In this step, the surface shape of such a photosensitive resin film is smoothed to such an extent that the average inclination angle of the surface is 3 ° or less (see FIG. 1E).
ここで、感光性樹脂膜の微細凹凸表面の平均傾斜角度θaveは、該微細凹凸表面の断面曲線の傾きから計算することができる。すなわち、図４に示すように、微細凹凸表面の断面曲線を断面と平行な方向をｘとし、高さ方向をｘの関数ｈ（ｘ）として表したとき、平均傾斜角度θaveは下記式： Here, the average inclination angle θ ave of the fine uneven surface of the photosensitive resin film can be calculated from the inclination of the cross-sectional curve of the fine uneven surface. That is, as shown in FIG. 4, when the cross-sectional curve of the surface of the fine irregularities is represented by x as the direction parallel to the cross section and the height direction as a function h (x) of x, the average inclination angle θ ave is expressed by the following formula:
から計算することができる。ここで、Ｌは測定に用いた断面の長さであり、２００μｍ以上であることが好ましく、より好ましくは５００μｍ以上である。感光性樹脂膜の微細凹凸表面の断面曲線は、表面粗さ計、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）などの装置により測定することができる。 Can be calculated from Here, L is the length of the cross section used for the measurement, and is preferably 200 μm or more, more preferably 500 μm or more. The cross-sectional curve of the fine uneven surface of the photosensitive resin film can be measured by a device such as a surface roughness meter, a confocal microscope, an interference microscope, an atomic force microscope (AFM).
感光性樹脂膜を融解させて表面形状を調整する方法としては、感光性樹脂膜の温度を融点以上にできる限り特に制限されないが、感光性樹脂膜に対して熱処理を施す方法が好適である。熱処理方法としては、たとえば、現像後の感光性樹脂膜が形成された金型用基材を加熱炉や赤外線ヒータなどを用いて加熱する方法などを挙げることができる。なかでも感光性樹脂膜全体を加熱できる方法を採用することが好ましい。 The method for adjusting the surface shape by melting the photosensitive resin film is not particularly limited as long as the temperature of the photosensitive resin film is equal to or higher than the melting point, but a method of subjecting the photosensitive resin film to heat treatment is preferable. Examples of the heat treatment method include a method of heating a mold substrate on which a developed photosensitive resin film is formed using a heating furnace, an infrared heater, or the like. In particular, it is preferable to employ a method capable of heating the entire photosensitive resin film.
熱処理による表面形状の平滑化の程度は、感光性樹脂膜の種類、感光性樹脂膜の膜厚、露光工程において露光されるパターン、熱処理温度、熱処理時間などに依存するが、平滑化の程度を制御するうえで最も大きな因子は、熱処理温度と熱処理時間である。熱処理は１２０〜２５０℃の温度範囲で行なわれることが好ましく、１５０〜２３０℃の温度範囲で行われることがより好ましい。また、熱処理時間は１０〜１２０分が好ましい。 The degree of smoothing of the surface shape by heat treatment depends on the type of photosensitive resin film, the thickness of the photosensitive resin film, the pattern exposed in the exposure process, the heat treatment temperature, the heat treatment time, etc. The biggest factors in controlling are the heat treatment temperature and the heat treatment time. The heat treatment is preferably performed in a temperature range of 120 to 250 ° C, and more preferably in a temperature range of 150 to 230 ° C. The heat treatment time is preferably 10 to 120 minutes.
熱処理による平滑化の程度を精度良く制御するためには、熱処理工程を通じて感光性樹脂膜の表面形状を監視することが好ましい。このような表面形状を監視する方法としては、たとえば、熱処理中の金型基材表面に平行光を照射し、金型基材表面からの反射率を検出器によって監視する方法や、熱処理中の金型基材表面にレーザ光を照射し、金型基材表面からの反射によって生ずる回折パターンを検出器によって監視する方法などが挙げられる。これらの反射率および回折パターンはいずれも、感光性樹脂膜表面の平均傾斜角度に依存して変化するパラメータである。 In order to accurately control the degree of smoothing by the heat treatment, it is preferable to monitor the surface shape of the photosensitive resin film through the heat treatment step. As a method of monitoring such a surface shape, for example, a method of irradiating the mold base surface during heat treatment with parallel light and monitoring the reflectance from the mold base surface with a detector, Examples include a method of irradiating the mold base surface with laser light and monitoring a diffraction pattern generated by reflection from the mold base surface with a detector. Both the reflectance and the diffraction pattern are parameters that change depending on the average inclination angle of the photosensitive resin film surface.
〔６〕保護膜形成工程
続いて、表面形状が調整された感光性樹脂膜６上に保護膜７を形成することによって、金型の表面硬度および耐摩耗性を向上させ、金型としての耐久性を向上させる。保護膜７を形成することによって、使用中に凹凸が磨り減ったり、金型が損傷したりすることを防止することができる。図１（ｆ）には、表面形状が調整された感光性樹脂膜６の表面に保護膜７を形成した状態が示されている。
[6] Protective film forming step Subsequently, by forming a protective film 7 on the
本発明の製造方法においては、光沢があって、硬度が高く、摩擦係数が小さく、良好な離型性を与え得ることから、炭素を主成分とする膜（炭素膜）を保護膜として採用することが好ましい。炭素膜としては、たとえば、ダイヤモンド薄膜、ダイヤモンド状炭素膜、水素化アモルファス炭素膜（以下、ＤＬＣ膜という）が挙げられる。これらの炭素膜の形成方法としては、各種の蒸着法を用いることができ、たとえば、ダイヤモンド薄膜は、マイクロ波プラズマＣＶＤ法、熱フィラメントＣＶＤ法、プラズマジェット法、ＥＣＲプラズマＣＶＤ法等により、ダイヤモンド状炭素膜およびＤＬＣ膜は、プラズマＣＶＤ法、イオンビーム・スパッタ法、イオンビーム蒸着法、プラズマ・スパッタ法等により形成される。 In the production method of the present invention, a film containing carbon as a main component (carbon film) is employed as a protective film because it is glossy, has high hardness, has a small coefficient of friction, and can provide good releasability. It is preferable. Examples of the carbon film include a diamond thin film, a diamond-like carbon film, and a hydrogenated amorphous carbon film (hereinafter referred to as a DLC film). As a method for forming these carbon films, various vapor deposition methods can be used. For example, a diamond thin film is formed in a diamond shape by a microwave plasma CVD method, a hot filament CVD method, a plasma jet method, an ECR plasma CVD method, or the like. The carbon film and the DLC film are formed by plasma CVD, ion beam / sputtering, ion beam vapor deposition, plasma / sputtering, or the like.
上記炭素膜の厚みは０．１〜５μｍの範囲内であることが好ましく、０．５〜３μｍの範囲内であることがより好ましい。炭素膜の厚みが薄いと、金型としての耐久性が不十分となる可能性がある。一方で、炭素膜の厚みが厚すぎると、生産性が悪くなるため好ましくない。 The thickness of the carbon film is preferably in the range of 0.1 to 5 μm, and more preferably in the range of 0.5 to 3 μm. If the carbon film is thin, the durability as a mold may be insufficient. On the other hand, when the thickness of the carbon film is too thick, productivity is deteriorated, which is not preferable.
＜防眩フィルムの製造方法＞
本発明はまた、上述した本発明の金型の製造方法で得られた金型を用いた防眩フィルムの製造方法についても提供する。すなわち、本発明の防眩フィルムの製造方法は、本発明の金型の製造方法で製造された金型の保護膜側表面の表面形状（凹凸形状）を透明樹脂フィルム上に転写する工程を含むものである。このような本発明の防眩フィルムの製造方法によって、好ましい光学特性を示す防眩フィルムが好適に製造される。
<Method for producing antiglare film>
The present invention also provides a method for producing an antiglare film using the mold obtained by the above-described mold production method of the present invention. That is, the method for producing an antiglare film of the present invention includes a step of transferring the surface shape (uneven shape) of the surface on the protective film side of the mold produced by the method for producing a mold of the present invention onto a transparent resin film. It is a waste. By such a method for producing an antiglare film of the present invention, an antiglare film exhibiting preferable optical properties is suitably produced.
金型表面形状の透明樹脂フィルムへの転写は、表面形状を精度よく、かつ、再現性よく転写できることから、エンボスにより行なうことが好ましい。エンボスとしては、光硬化性樹脂を用いるＵＶエンボス法、熱可塑性樹脂を用いるホットエンボス法が例示され、なかでも、生産性の観点から、ＵＶエンボス法が好ましい。 Transfer of the mold surface shape to the transparent resin film is preferably carried out by embossing because the surface shape can be transferred with good accuracy and reproducibility. Examples of the embossing include a UV embossing method using a photocurable resin and a hot embossing method using a thermoplastic resin. Among these, the UV embossing method is preferable from the viewpoint of productivity.
ＵＶエンボス法は、透明樹脂フィルムの表面に紫外線硬化性樹脂層を形成し、その紫外線硬化性樹脂層を金型の凹凸面に押し付けながら硬化させることで、金型の凹凸面が光硬化性樹脂層に転写される方法である。具体的には、透明樹脂フィルム上に紫外線硬化型樹脂を塗工し、塗工した紫外線硬化型樹脂を金型の凹凸面に密着させた状態で透明樹脂フィルム側から紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂を硬化させ、その後金型から、硬化後の紫外線硬化型樹脂層が形成された透明樹脂フィルムを剥離することにより、金型の表面形状を紫外線硬化型樹脂に転写する。 The UV embossing method forms a UV curable resin layer on the surface of a transparent resin film, and cures the UV curable resin layer while pressing the UV curable resin layer against the rugged surface of the mold. It is a method of transferring to a layer. Specifically, an ultraviolet curable resin is applied onto the transparent resin film, and the ultraviolet curable resin is irradiated with ultraviolet rays from the transparent resin film side in a state where the applied ultraviolet curable resin is in close contact with the uneven surface of the mold. The mold resin is cured, and then the surface shape of the mold is transferred to the ultraviolet curable resin by peeling the transparent resin film on which the cured ultraviolet curable resin layer is formed from the mold.
ＵＶエンボス法を用いる場合、透明樹脂フィルムとしては、実質的に光学的に透明なフィルムであればよく、たとえばトリアセチルセルロースフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系化合物をモノマーとする非晶性環状ポリオレフィンなどの熱可塑性樹脂の溶剤キャストフィルムや押出フィルムなどの樹脂フィルムが挙げられる。 When the UV embossing method is used, the transparent resin film may be a substantially optically transparent film. For example, a triacetyl cellulose film, a polyethylene terephthalate film, a polymethyl methacrylate film, a polycarbonate film, or a norbornene compound is used as a monomer. And a resin film such as a solvent cast film of thermoplastic resin such as amorphous cyclic polyolefin and an extruded film.
ＵＶエンボス法を用いる場合における紫外線硬化型樹脂の種類は特に限定されず、市販の適宜のものを用いることができる。また、紫外線硬化型樹脂に適宜選択された光開始剤を組み合わせて、紫外線より波長の長い可視光でも硬化が可能な樹脂を用いることも可能である。具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどの多官能アクリレートをそれぞれ単独で、あるいはそれら２種以上を混合して用い、それと、イルガキュアー９０７（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製）、ルシリンＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）などの光重合開始剤とを混合したものを好適に用いることができる。 The type of the ultraviolet curable resin in the case of using the UV embossing method is not particularly limited, and a commercially available appropriate one can be used. It is also possible to use a resin that can be cured by visible light having a wavelength longer than that of ultraviolet rays by combining an ultraviolet curable resin with an appropriately selected photoinitiator. Specifically, polyfunctional acrylates such as trimethylolpropane triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate are used alone or in admixture of two or more thereof, and Irgacure 907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) ), Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), and a photopolymerization initiator such as Lucillin TPO (manufactured by BASF) can be suitably used.
一方、ホットエンボス法は、熱可塑性樹脂で形成された透明樹脂フィルムを加熱状態で金型に押し付け、金型の表面形状を透明樹脂フィルムに転写する方法である。ホットエンボス法に用いる透明樹脂フィルムとしては、実質的に透明なものであればいかなるものであってもよく、たとえば、ポリメチルメタクリレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、ノルボルネン系化合物をモノマーとする非晶性環状ポリオレフィンなどの熱可塑性樹脂の溶剤キャストフィルムや押出フィルムなどを用いることができる。 On the other hand, the hot embossing method is a method in which a transparent resin film formed of a thermoplastic resin is pressed against a mold in a heated state, and the surface shape of the mold is transferred to the transparent resin film. The transparent resin film used in the hot embossing method may be any film as long as it is substantially transparent. For example, polymethyl methacrylate film, polycarbonate film, polyethylene terephthalate film, triacetyl cellulose film, norbornene compound A solvent cast film or an extruded film of a thermoplastic resin such as an amorphous cyclic polyolefin having a monomer as a monomer can be used.
本発明の製造方法によって得られた金型を用いて製造される防眩フィルムは、微細凹凸表面が精度よく制御されて形成されるため、十分な防眩性を発現し、かつ、白ちゃけが発生せず、画像表示装置の表面に配置した際にもギラツキが発生せず、高いコントラストを示すものとなる。 Since the anti-glare film produced using the mold obtained by the production method of the present invention is formed with a fine uneven surface controlled with high precision, it exhibits sufficient anti-glare properties and is whiteish. It does not occur, and no glare occurs even when it is arranged on the surface of the image display device, so that high contrast is exhibited.
以下に実施例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
＜実施例１＞
直径２００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ５０５６）の表面に銅バラードめっきが施されたものを用意する。銅バラードめっきは、銅めっき層／薄い銀めっき層／表面銅めっき層からなるものであり、めっき層全体の厚みは、約２００μｍとなるように設定する。その銅めっき表面を鏡面研磨し、研磨された銅めっき表面に感光性樹脂を塗布、乾燥して感光性樹脂膜を形成する。ついで、図５に示すパターンを繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光し、現像する。レーザ光による露光、および現像はＬａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸ（（株）シンク・ラボラトリー製）を用いて行なう。感光性樹脂膜にはポジ型の感光性樹脂を使用する。なお、図５に示すパターンは、１２μｍのドット径を有するドットを多数ランダムに配置したパターンに対して、０．０３７μｍ-1以下の低空間周波数成分と０．０４７μｍ-1以上の高空間周波数成分を除去するバンドパスフィルタを適用することにより作成した。
<Example 1>
A surface of a 200 mm diameter aluminum roll (JIS A5056) with copper ballad plating is prepared. Copper ballad plating consists of a copper plating layer / thin silver plating layer / surface copper plating layer, and the thickness of the entire plating layer is set to be about 200 μm. The copper plating surface is mirror-polished, and a photosensitive resin is applied to the polished copper plating surface and dried to form a photosensitive resin film. Next, a pattern in which the patterns shown in FIG. 5 are repeatedly arranged is exposed on the photosensitive resin film with a laser beam and developed. Laser beam exposure and development are performed using Laser Stream FX (manufactured by Sink Laboratories). A positive photosensitive resin is used for the photosensitive resin film. It should be noted that the pattern shown in Figure 5, the pattern of arranging the dots having a dot diameter of 12μm on a number randomly, 0.037Myuemu -1 or lower spatial frequency components and 0.047 -1 or more high spatial frequency components It was created by applying a bandpass filter that removes.
その後、熱処理によって感光性樹脂膜を融解し、表面の平均傾斜角度が１°となるように表面形状を調整する。表面形状が調整された感光性樹脂膜上にＤＬＣ膜を形成して金型Ａを作製する。このときの、ＤＬＣ膜の厚みは０．５μｍとなるように設定する。 Thereafter, the photosensitive resin film is melted by heat treatment, and the surface shape is adjusted so that the average inclination angle of the surface becomes 1 °. A mold A is produced by forming a DLC film on the photosensitive resin film whose surface shape is adjusted. At this time, the thickness of the DLC film is set to 0.5 μm.
光硬化性樹脂組成物ＧＲＡＮＤＩＣ ８０６Ｔ（大日本インキ化学工業（株）製）を酢酸エチルにて溶解して、５０重量％濃度の溶液とし、さらに、光重合開始剤であるルシリンＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製、化学名：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド）を、硬化性樹脂成分１００重量部あたり５重量部添加して塗布液を調製する。厚み８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、この塗布液を乾燥後の塗布厚みが１０μｍとなるように塗布し、６０℃に設定した乾燥機中で３分間乾燥させる。乾燥後のフィルムを、先に得られた金型Ａの凹凸面に、光硬化性樹脂組成物層が金型側となるようにゴムロールで押し付けて密着させる。この状態でＴＡＣフィルム側より、強度２０ｍＷ／ｃｍ2の高圧水銀灯からの光をｈ線換算光量で２００ｍＪ／ｃｍ2となるように照射して、光硬化性樹脂組成物層を硬化させる。この後、ＴＡＣフィルムを硬化樹脂ごと金型から剥離して、表面に凹凸を有する硬化樹脂とＴＡＣフィルムとの積層体からなる、透明な防眩フィルムＡを作製する。 A photocurable resin composition GRANDIC 806T (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) is dissolved in ethyl acetate to obtain a 50% strength by weight solution. Further, a photopolymerization initiator, Lucillin TPO (manufactured by BASF). Chemical name: 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide) is added at 5 parts by weight per 100 parts by weight of the curable resin component to prepare a coating solution. This coating solution is coated on a 80 μm thick triacetylcellulose (TAC) film so that the coating thickness after drying is 10 μm, and dried for 3 minutes in a dryer set at 60 ° C. The dried film is brought into close contact with the uneven surface of the previously obtained mold A with a rubber roll so that the photocurable resin composition layer is on the mold side. In this state, light from a high-pressure mercury lamp with an intensity of 20 mW / cm 2 is irradiated from the TAC film side so that the amount of light converted to h-ray is 200 mJ / cm 2 to cure the photocurable resin composition layer. Thereafter, the TAC film is peeled from the mold together with the cured resin, and a transparent anti-glare film A composed of a laminate of the cured resin having irregularities on the surface and the TAC film is produced.
＜実施例２＞
図６に示すパターンを繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光すること以外は実施例１と同様にして金型Ｂを作製する。得られた金型Ｂを用いること以外は、実施例１と同様にして防眩フィルムＢを作製する。なお、図６に示すパターンは、１２μｍのドット径を有するドットを多数ランダムに配置したパターンに対して、０．０５１μｍ-1以下の低空間周波数成分と０．０６４μｍ-1以上の高空間周波数成分を除去するバンドパスフィルタを適用することにより作成した。
<Example 2>
A mold B is manufactured in the same manner as in Example 1 except that a pattern in which the patterns shown in FIG. 6 are repeatedly arranged is exposed on the photosensitive resin film with a laser beam. An antiglare film B is produced in the same manner as in Example 1 except that the obtained mold B is used. It should be noted that the pattern shown in Figure 6, the pattern of arranging the dots having a dot diameter of 12μm on a number randomly, 0.051Myuemu -1 or lower spatial frequency components and 0.064Myuemu -1 or more high spatial frequency components It was created by applying a bandpass filter that removes.
（パターンのエネルギースペクトル）
図７に実施例１および実施例２で使用したパターンのエネルギースペクトルＨ2（ｆx，ｆy）のｆx＝０における断面を示した。実施例１で使用したパターンのエネルギースペクトルの比Ｈ1 2／Ｈ2 2および比Ｈ3 2／Ｈ2 2はそれぞれ０．２４３、２．４９３であった。また、実施例２で使用したパターンのエネルギースペクトルの比Ｈ1 2／Ｈ2 2および比Ｈ3 2／Ｈ2 2はそれぞれ０．００２、０．０２１であった。
(Pattern energy spectrum)
Energy spectrum H 2 (f x, f y ) of the pattern used in Example 1 and Example 2 in Figure 7 showing a cross section of an f x = 0 in. The ratio H 1 2 / H 2 2 and the ratio H 3 2 / H 2 2 of the energy spectrum of the pattern used in Example 1 were 0.243 and 2.493, respectively. Further, the ratio H 1 2 / H 2 2 and the ratio H 3 2 / H 2 2 of the energy spectrum of the pattern used in Example 2 were 0.002 and 0.021, respectively.
本発明の製造方法によって作製された金型は、表面凹凸形状の平均傾斜角度および周期が適切に制御されて形成される。また、本発明の製造方法から得られる防眩フィルムも表面凹凸形状の平均傾斜角度および周期が適切に制御されて形成されるため、優れた防眩機能を示しながら、白ちゃけによる視認性の低下が十分に防止され、高精細の画像表示装置の表面に配置したときにギラツキが発生せず、コントラストの低下しないものとなる。 The mold produced by the production method of the present invention is formed by appropriately controlling the average inclination angle and period of the surface irregularity shape. In addition, since the antiglare film obtained from the production method of the present invention is also formed by appropriately controlling the average inclination angle and period of the surface irregularity shape, it has excellent antiglare function, and has visibility due to whitishness. The drop is sufficiently prevented, and no glare occurs when it is arranged on the surface of a high-definition image display device, so that the contrast does not drop.
今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 It should be understood that the embodiments and examples disclosed herein are illustrative and non-restrictive in every respect. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.
１ 金型用基材の表面、２ 金型用基材、３ 感光性樹脂膜、４ 露光された領域、５ 露光されていない領域、６ 表面形状が調整された感光性樹脂膜、７ 保護膜。
DESCRIPTION OF
Claims (5)
鏡面加工された面上に感光性樹脂膜を形成する工程と、
感光性樹脂膜上にパターンを露光する工程と、
パターンが露光された感光性樹脂膜を現像する工程と、
現像された感光性樹脂膜を融解させることにより、感光性樹脂膜の表面形状を調整する工程と、
表面形状が調整された感光性樹脂膜上に保護膜を形成する工程と、
を含む、防眩フィルム製造用金型の製造方法。 A step of applying a mirror finish to the surface of the mold substrate;
Forming a photosensitive resin film on the mirror-finished surface;
Exposing a pattern on the photosensitive resin film;
Developing a photosensitive resin film exposed to a pattern;
Adjusting the surface shape of the photosensitive resin film by melting the developed photosensitive resin film;
Forming a protective film on the photosensitive resin film whose surface shape is adjusted;
The manufacturing method of the metal mold | die for glare-proof film manufacture containing this.
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