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JP2011081231A - Substrate for liquid crystal device, method for manufacturing the liquid crystal device, the liquid crystal device and electronic device - Google Patents

Substrate for liquid crystal device, method for manufacturing the liquid crystal device, the liquid crystal device and electronic device Download PDF

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JP2011081231A
JP2011081231A JP2009234082A JP2009234082A JP2011081231A JP 2011081231 A JP2011081231 A JP 2011081231A JP 2009234082 A JP2009234082 A JP 2009234082A JP 2009234082 A JP2009234082 A JP 2009234082A JP 2011081231 A JP2011081231 A JP 2011081231A
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liquid crystal
alignment
crystal device
substrate
light
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JP2009234082A
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Takumi Seki
▲琢▼巳 関
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Seiko Epson Corp
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Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

【課題】液晶の配向方向を精度良く位置合わせすることができる液晶装置用基板および液晶装置の製造方法、並びに液晶装置、電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置は、互いに対向して配置された素子基板10および対向基板20と、素子基板10および対向基板20の間に挟持された液晶層40と、素子基板10および対向基板20のそれぞれの液晶層40に面する側に設けられた配向膜34と配向膜36と、を備えている。素子基板10にはワイヤーグリッド偏光子30が設けられており、対向基板20にはワイヤーグリッド偏光子32が設けられている。ワイヤーグリッド偏光子30とワイヤーグリッド偏光子32とは、互いに平面的に重なる領域と互いに平面的に重ならない領域とを有している。
【選択図】図2
A liquid crystal device substrate, a liquid crystal device manufacturing method, a liquid crystal device, and an electronic apparatus capable of accurately aligning the alignment direction of liquid crystals.
A liquid crystal device includes an element substrate and a counter substrate disposed opposite to each other, a liquid crystal layer sandwiched between the element substrate and the counter substrate, and the element substrate and the counter substrate. An alignment film 34 and an alignment film 36 provided on the side facing each liquid crystal layer 40 are provided. The element substrate 10 is provided with a wire grid polarizer 30, and the counter substrate 20 is provided with a wire grid polarizer 32. The wire grid polarizer 30 and the wire grid polarizer 32 have a region overlapping each other in a plane and a region not overlapping each other in a plane.
[Selection] Figure 2

Description

本発明は、液晶装置用基板および液晶装置の製造方法、並びに液晶装置、電子機器に関する。   The present invention relates to a substrate for a liquid crystal device, a method for manufacturing the liquid crystal device, a liquid crystal device, and an electronic apparatus.

スクリーン上に画像を投射するプロジェクター等の投射型表示装置には、光源からの光を変調する光変調素子として、液晶装置が用いられている。液晶装置は、通常、一対の基板の間に液晶が挟持された構成を有している。一対の基板の双方の表面には配向膜が設けられており、配向膜には液晶分子の配向を所定の方向に規制するためラビング等の配向処理が施されている。   In a projection display device such as a projector that projects an image on a screen, a liquid crystal device is used as a light modulation element that modulates light from a light source. A liquid crystal device usually has a configuration in which liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates. An alignment film is provided on both surfaces of the pair of substrates, and the alignment film is subjected to an alignment process such as rubbing in order to regulate the alignment of liquid crystal molecules in a predetermined direction.

液晶装置では、駆動電圧に応じて液晶分子の配向方向を変化させることにより、透過する光の偏光状態を制御する。そのため、一対の基板で互いの配向膜の配向方向が光学設計に基づく所定の方向に精度良く位置合わせされていないと、液晶装置の光学特性(コントラスト等)が低下することとなる。このような位置合わせ精度を向上させる方法として、基板にアライメントマークを設ける方法が提案されている(例えば、特許文献1および特許文献2参照)。   In a liquid crystal device, the polarization state of transmitted light is controlled by changing the alignment direction of liquid crystal molecules in accordance with a driving voltage. Therefore, if the alignment directions of the alignment films of the pair of substrates are not accurately aligned with a predetermined direction based on the optical design, the optical characteristics (contrast and the like) of the liquid crystal device are deteriorated. As a method for improving such alignment accuracy, a method of providing an alignment mark on a substrate has been proposed (see, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2).

特許文献1に記載された方法では、双方の基板に設けられた偏光板貼り付け用アライメントマークを基準にして、配向膜にラビング処理を行っている。また、偏光板にもアライメントマークを設け、基板に設けられたアライメントマークとで、偏光板貼り付け時の位置合わせを行っている。   In the method described in Patent Document 1, a rubbing process is performed on the alignment film with reference to the alignment mark for polarizing plate attachment provided on both substrates. Further, an alignment mark is also provided on the polarizing plate, and alignment is performed at the time of attaching the polarizing plate with the alignment mark provided on the substrate.

特許文献2に記載された方法では、双方の基板に設けられた組み立て用アライメントマークを基準にして、配向膜にラビング処理を行うとともに、基板同士の貼り合わせを行っている。また、偏光板貼り付け時は、組み立て用アライメントマークを基準にして、偏光板の外形との位置合わせを行っている。   In the method described in Patent Document 2, the alignment film is rubbed and the substrates are bonded to each other based on the assembly alignment marks provided on both substrates. In addition, when the polarizing plate is attached, the alignment with the outer shape of the polarizing plate is performed based on the assembly alignment mark.

特開2001−125092号公報JP 2001-125092 A 特開2000−221461号公報JP 2000-221461 A

しかしながら、上記特許文献1に記載された方法では、ラビング処理を行う際の具体的な位置合わせ方法については言及されておらず、基板を貼り合わせる際の基板同士の位置合わせ方法は記載されていない。そのため、配向方向を精度良く位置合わせすることができるか不明確であるという課題がある。上記特許文献2に記載された方法では、ラビング処理を行った後で、組み立て用アライメントマークとラビング処理時に形成されるラビングマークにより位置精度を検査する工程を有しており、工程が煩雑となるという課題がある。また、基板を貼り合わせる際にアライメントマークを目印として位置合わせを行うが、どこまで精度良く位置合わせできるかは定かでないという課題がある。さらに、双方の特許文献に記載された方法では、偏光板の外形あるいはアライメントマークと光学軸とのズレがある場合、基板に対して偏光板を精度良く位置合わせすることが困難であるいう課題がある。   However, the method described in Patent Document 1 does not mention a specific alignment method when performing the rubbing process, and does not describe an alignment method between the substrates when bonding the substrates together. . Therefore, there is a problem that it is unclear whether the alignment direction can be accurately aligned. The method described in Patent Document 2 includes a step of inspecting positional accuracy using an assembly alignment mark and a rubbing mark formed during the rubbing process after the rubbing process, and the process becomes complicated. There is a problem. In addition, alignment is performed using the alignment mark as a mark when the substrates are bonded together, but there is a problem that it is not clear how accurately the alignment can be performed. Furthermore, in the methods described in both patent documents, there is a problem that it is difficult to accurately align the polarizing plate with respect to the substrate when there is a deviation between the outer shape of the polarizing plate or the alignment mark and the optical axis. is there.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]本適用例に係る液晶装置用基板の製造方法は、基板に偏光分離機能を有する光学素子を形成する工程と、前記基板に配向膜を形成する工程と、前記基板の前記配向膜に配向処理を行う工程と、を含み、前記配向処理を行う工程では、前記光学素子の光学軸を基準にして前記配向処理を行うことを特徴とする。   Application Example 1 A method for manufacturing a substrate for a liquid crystal device according to this application example includes a step of forming an optical element having a polarization separation function on a substrate, a step of forming an alignment film on the substrate, and the alignment of the substrate A step of performing an alignment process on the film, wherein the alignment process is performed based on an optical axis of the optical element.

この方法によれば、配向膜における配向処理の方向が、基板に形成された光学素子の光学軸の方向を基準にして光学的に位置合わせされる。このため、液晶装置用基板の配向膜に、液晶装置の光学設計に基づく所定の方向に精度良く配向処理を行うことができる。また、これにより、配向処理の後に位置精度を検査する工程を不要にできる。   According to this method, the alignment processing direction in the alignment film is optically aligned with reference to the direction of the optical axis of the optical element formed on the substrate. For this reason, the alignment process of the alignment film of the substrate for a liquid crystal device can be accurately performed in a predetermined direction based on the optical design of the liquid crystal device. This also eliminates the need for a step of inspecting positional accuracy after the alignment process.

[適用例2]上記適用例に係る液晶装置用基板の製造方法であって、前記配向処理を行う工程は、前記配向処理を行う方向と所定の位置関係にある光学軸を有する基準偏光子と、前記光学素子と、が平面的に重なるように前記基板を前記基準偏光子に対向配置して、対向する面内における前記基準偏光子と前記基板との相対的な位置関係を決定する工程を含み、前記位置関係を決定する工程では、前記基準偏光子の前記光学軸に対して前記光学素子の前記光学軸が所定の方向となるように、前記基準偏光子と前記基板との相対的な位置関係を調整してもよい。   Application Example 2 In the method for manufacturing a substrate for a liquid crystal device according to the application example, the step of performing the alignment process includes: a reference polarizer having an optical axis that is in a predetermined positional relationship with the direction in which the alignment process is performed; And a step of determining the relative positional relationship between the reference polarizer and the substrate in the opposing plane by disposing the substrate facing the reference polarizer so that the optical element and the optical element overlap in a plane. Including the step of determining the positional relationship between the reference polarizer and the substrate so that the optical axis of the optical element is in a predetermined direction with respect to the optical axis of the reference polarizer. The positional relationship may be adjusted.

この方法によれば、基準偏光子の光学軸を基準にして基板に形成された光学素子の光学軸を所定の方向に合わせることで、基板に対して配向処理を行う方向を精度良く位置合わせすることができる。   According to this method, the optical axis of the optical element formed on the substrate is aligned with a predetermined direction with the optical axis of the reference polarizer as a reference, thereby accurately aligning the direction in which the alignment process is performed on the substrate. be able to.

[適用例3]上記適用例に係る液晶装置用基板の製造方法であって、前記所定の方向は、前記基準偏光子の前記光学軸に対して前記光学素子の前記光学軸が平行または直交する方向であってもよい。   Application Example 3 In the method for manufacturing a substrate for a liquid crystal device according to the application example, the predetermined direction is parallel or orthogonal to the optical axis of the optical element with respect to the optical axis of the reference polarizer. It may be a direction.

この方法によれば、光学素子と基準偏光子とを透過する光の強度が最大または最小となる方向に合わせるので、基板に対して配向処理を行う方向をより精度良く容易に位置合わせすることができる。   According to this method, since the intensity of light transmitted through the optical element and the reference polarizer is aligned in the maximum or minimum direction, the direction in which the alignment process is performed on the substrate can be more easily and accurately aligned. it can.

[適用例4]本適用例に係る液晶装置の製造方法は、互いに対向して配置された一対の基板と、前記一対の基板の間に挟持された液晶層と、を備えた液晶装置の製造方法であって、上記に記載の液晶装置用基板の製造方法を用いて製造された前記一対の基板を用意する工程と、前記一対の基板に形成された前記光学素子が互いに平面的に重なるように、前記一対の基板を対向させて配置する工程と、前記一対の基板同士の対向する面内における相対的な位置関係を決定する工程と、前記一対の基板同士を貼り合わせる工程と、を含み、前記位置関係を決定する工程では、一方の前記光学素子の光学軸に対して他方の前記光学素子の光学軸が所定の方向となるように、前記一対の基板同士の位置関係を調整することを特徴とする。   Application Example 4 A method for manufacturing a liquid crystal device according to this application example is a method for manufacturing a liquid crystal device including a pair of substrates disposed to face each other and a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates. A method of preparing the pair of substrates manufactured using the method for manufacturing a substrate for a liquid crystal device described above, and the optical elements formed on the pair of substrates overlapping each other in a plane. A step of arranging the pair of substrates to face each other, a step of determining a relative positional relationship in the plane of the pair of substrates facing each other, and a step of bonding the pair of substrates to each other. In the step of determining the positional relationship, the positional relationship between the pair of substrates is adjusted so that the optical axis of the other optical element is in a predetermined direction with respect to the optical axis of the one optical element. It is characterized by.

この方法によれば、一対の基板のそれぞれの配向膜には、基板に形成された光学素子の光学軸を基準にして、液晶装置の光学設計に基づく所定の方向に配向処理が行われている。そして、一対の基板同士の位置関係を決定する工程では、互いの基板に設けられた光学素子の光学軸を基準にして基板同士が位置合わせされる。したがって、配向膜の配向処理と基板同士の位置合わせとが、同じ光学素子の光学軸を基準にして光学的に行われるので、液晶装置における液晶の配向方向を、液晶装置の光学設計に基づく所定の方向に精度良く合わせることができる。この結果、より優れた光学特性(コントラスト等)を有する液晶装置を製造できる。   According to this method, each alignment film of the pair of substrates is subjected to an alignment process in a predetermined direction based on the optical design of the liquid crystal device with reference to the optical axis of the optical element formed on the substrates. . In the step of determining the positional relationship between the pair of substrates, the substrates are aligned with respect to the optical axis of the optical element provided on each substrate. Therefore, the alignment treatment of the alignment film and the alignment of the substrates are optically performed with reference to the optical axis of the same optical element. Therefore, the alignment direction of the liquid crystal in the liquid crystal device is determined based on the optical design of the liquid crystal device. Can be accurately adjusted to the direction. As a result, a liquid crystal device having more excellent optical characteristics (contrast and the like) can be manufactured.

[適用例5]上記適用例に係る液晶装置の製造方法であって、前記所定の方向は、前記一方の光学素子の前記光学軸に対して前記他方の光学素子の前記光学軸が平行または直交する方向であってもよい。   Application Example 5 In the method of manufacturing a liquid crystal device according to the application example, the predetermined direction is parallel or orthogonal to the optical axis of the other optical element with respect to the optical axis of the one optical element. It may be the direction to do.

この方法によれば、一方の光学素子と他方の光学素子とを透過する光の強度が最大または最小となる方向に合わせるので、基板同士の位置合わせをより精度良く容易に行うことができる。   According to this method, since the intensity of the light transmitted through one optical element and the other optical element is aligned in the maximum or minimum direction, alignment between the substrates can be easily performed with higher accuracy.

[適用例6]上記適用例に係る液晶装置の製造方法であって、貼り合わせた前記一対の基板の少なくとも一方の外側に偏光板を配置する工程をさらに含み、前記偏光板を配置する工程では、前記光学素子の光学軸に対して前記偏光板の光学軸が所定の方向となるように、前記一対の前記基板と前記偏光板との対向する面内における相対的な位置関係を決定してもよい。   Application Example 6 In the method of manufacturing a liquid crystal device according to the application example, the method further includes a step of disposing a polarizing plate outside at least one of the pair of bonded substrates, and the step of disposing the polarizing plate. Determining a relative positional relationship between the pair of substrates and the polarizing plate so that the optical axis of the polarizing plate is in a predetermined direction with respect to the optical axis of the optical element; Also good.

この方法によれば、偏光板を配置する工程では、光学素子の光学軸を基準にして偏光板の光学軸が所定の方向となるように、基板と偏光板との位置関係を決定する。したがって、配向膜の配向処理と基板同士の位置合わせと偏光板の位置合わせとが、同じ光学素子の光学軸を基準にして光学的に行われるので、液晶装置における偏光板の光学軸を、液晶装置の光学設計に基づく所定の方向に精度良く合わせることができる。   According to this method, in the step of arranging the polarizing plate, the positional relationship between the substrate and the polarizing plate is determined so that the optical axis of the polarizing plate is in a predetermined direction with respect to the optical axis of the optical element. Accordingly, the alignment treatment of the alignment film, the alignment between the substrates, and the alignment of the polarizing plate are optically performed with reference to the optical axis of the same optical element. It is possible to accurately match a predetermined direction based on the optical design of the apparatus.

[適用例7]上記適用例に係る液晶装置の製造方法であって、前記所定の方向は、前記光学素子の前記光学軸に対して前記偏光板の前記光学軸が平行または直交する方向であってもよい。   Application Example 7 In the method of manufacturing a liquid crystal device according to the application example, the predetermined direction is a direction in which the optical axis of the polarizing plate is parallel or orthogonal to the optical axis of the optical element. May be.

この方法によれば、光学素子と偏光板とを透過する光の強度が最大または最小となる方向に合わせるので、基板と偏光板との位置合わせをより精度良く容易に行うことができる。   According to this method, since the intensity of the light transmitted through the optical element and the polarizing plate is adjusted to the maximum or minimum, the alignment between the substrate and the polarizing plate can be easily performed with higher accuracy.

[適用例8]本適用例に係る液晶装置は、互いに対向して配置された一対の基板と、前記一対の基板の間に挟持された液晶層と、前記一対の基板のそれぞれの前記液晶層に面する側に設けられた配向膜と、を備え、前記一対の基板の少なくとも一方に、偏光分離機能を有する光学素子が設けられていることを特徴とする。   Application Example 8 A liquid crystal device according to this application example includes a pair of substrates disposed to face each other, a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, and the liquid crystal layer of each of the pair of substrates. And an optical element having a polarization separation function is provided on at least one of the pair of substrates.

この構成によれば、少なくとも一方の基板において、基板に設けられた光学素子の光学軸を基準にして、配向膜に液晶装置の光学設計に基づく所定の方向に配向処理を行うことができる。そして、一対の基板同士の位置関係を決定する工程では、一方の基板に設けられた光学素子の光学軸を基準にして、基板同士を位置合わせすることができる。したがって、配向膜の配向処理と基板同士の位置合わせとを、同じ光学素子の光学軸の方向を基準にして光学的に行うことで、液晶装置における液晶の配向方向を、液晶装置の光学設計に基づく所定の方向に精度良く合わせることができる。この結果、優れた光学特性(コントラスト等)を有する液晶装置を提供できる。   According to this configuration, alignment processing can be performed on the alignment film in a predetermined direction based on the optical design of the liquid crystal device with respect to the optical axis of the optical element provided on the substrate in at least one of the substrates. In the step of determining the positional relationship between the pair of substrates, the substrates can be aligned with respect to the optical axis of the optical element provided on one substrate. Therefore, the alignment process of the alignment film and the alignment of the substrates are optically performed with reference to the direction of the optical axis of the same optical element, so that the alignment direction of the liquid crystal in the liquid crystal device can be changed to the optical design of the liquid crystal device. It is possible to accurately match the predetermined direction based on the above. As a result, a liquid crystal device having excellent optical characteristics (such as contrast) can be provided.

[適用例9]上記適用例に係る液晶装置であって、前記光学素子は、前記一対の基板のそれぞれに設けられていてもよい。   Application Example 9 In the liquid crystal device according to the application example, the optical element may be provided on each of the pair of substrates.

この構成によれば、一対の基板のそれぞれについて、光学素子の光学軸を基準にして配向膜に精度良く配向処理を行うことができる。そして、一対の基板同士の位置関係を決定する工程では、互いの光学素子の光学軸を基準にして、基板同士の位置関係を光学的に位置合わせすることができる。これにより、液晶装置における液晶の配向方向を、より精度良く合わせることができる。   According to this configuration, the alignment process can be accurately performed on the alignment film with respect to the optical axis of the optical element for each of the pair of substrates. In the step of determining the positional relationship between the pair of substrates, the positional relationship between the substrates can be optically aligned based on the optical axis of each optical element. Thereby, the alignment direction of the liquid crystal in the liquid crystal device can be aligned with higher accuracy.

[適用例10]上記適用例に係る液晶装置であって、前記一対の基板に設けられた前記光学素子は、互いに平面的に重なる領域を有していてもよい。   Application Example 10 In the liquid crystal device according to the application example described above, the optical elements provided on the pair of substrates may have regions that overlap in a plane.

この構成によれば、一対の基板に設けられた光学素子同士が平面的に重なる領域に光を照射して、透過する光の強度を測定することにより、基板同士を精度良く位置合わせすることができる。   According to this configuration, the substrates can be accurately aligned by irradiating light onto a region where the optical elements provided on the pair of substrates are planarly overlapped and measuring the intensity of the transmitted light. it can.

[適用例11]上記適用例に係る液晶装置であって、前記一対の基板に設けられた前記光学素子は、互いに平面的に重なる領域と互いに平面的に重ならない領域とを有していてもよい。   Application Example 11 In the liquid crystal device according to the application example described above, the optical element provided on the pair of substrates may have a region that overlaps in a plane and a region that does not overlap in a plane. Good.

この構成によれば、一対の基板同士で互いの光学素子の光学軸が直交するように位置合わせされた場合、光学素子が互いに平面的に重なる領域では光が透過しないが、光学素子が互いに平面的に重ならない領域では光が透過する。このため、一対の基板に対して他の構成部材を光学的に位置合わせする場合、光学素子が互いに平面的に重ならない領域において、一方の基板の光学素子の光学軸を基準にして、その構成部材の位置合わせを行うことができる。   According to this configuration, when a pair of substrates are aligned so that the optical axes of the optical elements are orthogonal to each other, light does not transmit in a region where the optical elements overlap each other in a plane, but the optical elements are planar. The light is transmitted in a region that does not overlap. For this reason, when optically aligning other constituent members with respect to a pair of substrates, in the region where the optical elements do not overlap with each other in plane, the configuration is based on the optical axis of the optical element of one substrate. The member can be aligned.

[適用例12]上記適用例に係る液晶装置であって、前記一対の基板の少なくとも一方の外側に配置された偏光板をさらに備えていてもよい。   Application Example 12 The liquid crystal device according to the application example may further include a polarizing plate disposed outside at least one of the pair of substrates.

この構成によれば、偏光板を配置する際に、基板の光学素子の光学軸を基準にして、偏光板の光学軸を光学的に位置合わせすることができる。このため、偏光板の外形と光学軸との位置関係のずれによる位置合わせへの影響を排除できる。また、同じ光学素子の光学軸の方向を基準にして、配向膜の配向処理と基板同士の位置合わせと偏光板の位置合わせとを光学的に行うことができるので、液晶の配向方向に対する偏光板の光学軸の方向を液晶装置の光学設計に基づく所定の方向に精度良く合わせることができる。   According to this configuration, when the polarizing plate is disposed, the optical axis of the polarizing plate can be optically aligned with respect to the optical axis of the optical element of the substrate. For this reason, it is possible to eliminate the influence on the alignment due to the deviation of the positional relationship between the outer shape of the polarizing plate and the optical axis. Further, since the alignment process of the alignment film, the alignment of the substrates and the alignment of the polarizing plate can be optically performed with reference to the direction of the optical axis of the same optical element, the polarizing plate with respect to the alignment direction of the liquid crystal The direction of the optical axis can be accurately aligned with a predetermined direction based on the optical design of the liquid crystal device.

[適用例13]上記適用例に係る液晶装置であって、前記光学素子は、前記液晶層に平面的に重ならない領域に配置されていてもよい。   Application Example 13 In the liquid crystal device according to the application example described above, the optical element may be disposed in a region that does not overlap the liquid crystal layer in a planar manner.

この構成によれば、液晶層に平面的に重ならない領域に光学素子が配置されているので、一対の基板間に液晶を封入した後で基板の光学素子に光を照射しても、光学素子を透過する光の光路上に液晶は介在しない。このため、液晶を封入した後で光学素子の光学軸を基準にして偏光板等の他の構成部材を光学的に位置合わせする場合に、液晶による光学的影響を排除できる。   According to this configuration, since the optical element is disposed in a region that does not overlap the liquid crystal layer in a plan view, even if the optical element on the substrate is irradiated with light after sealing the liquid crystal between the pair of substrates, the optical element The liquid crystal is not interposed on the optical path of the light passing through. For this reason, when the liquid crystal is sealed and other components such as the polarizing plate are optically aligned with reference to the optical axis of the optical element, the optical influence of the liquid crystal can be eliminated.

[適用例14]本適用例に係る電子機器は、上記に記載の液晶装置を備えていることを特徴とする。   Application Example 14 An electronic apparatus according to this application example includes the liquid crystal device described above.

この構成によれば、電子機器は、上記の液晶装置を備えているので、コントラスト等の表示品質の向上が図られる。   According to this configuration, since the electronic apparatus includes the above-described liquid crystal device, display quality such as contrast can be improved.

電子機器の一例としての投射型表示装置の概略構成を示す模式図。The schematic diagram which shows schematic structure of the projection type display apparatus as an example of an electronic device. 第1の実施形態に係る液晶パネルの構成を示す概略構成図。1 is a schematic configuration diagram illustrating a configuration of a liquid crystal panel according to a first embodiment. 第1の実施形態に係る液晶パネルの電気的な構成を示す等価回路図。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram illustrating an electrical configuration of the liquid crystal panel according to the first embodiment. 第1の実施形態に係る液晶パネルが備える光学素子の構成を説明する図。The figure explaining the structure of the optical element with which the liquid crystal panel which concerns on 1st Embodiment is provided. 第1の実施形態に係る液晶ライトバルブの光学設計条件を説明する図。The figure explaining the optical design conditions of the liquid crystal light valve concerning a 1st embodiment. 第1の実施形態に係る液晶パネルの製造方法を示すフローチャート。3 is a flowchart showing a method for manufacturing the liquid crystal panel according to the first embodiment. 第1の実施形態に係る配向処理方法を説明する図。The figure explaining the orientation processing method which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る基板同士の位置合わせ方法を説明する図。The figure explaining the alignment method of the board | substrates which concern on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る基板同士の位置合わせ方法を説明する図。The figure explaining the alignment method of the board | substrates which concern on 1st Embodiment. 第2の実施形態に係る液晶ライトバルブの光学設計条件を説明する図。The figure explaining the optical design conditions of the liquid crystal light valve concerning a 2nd embodiment. 第2の実施形態に係る配向処理方法を説明する図。The figure explaining the orientation processing method which concerns on 2nd Embodiment. 第3の実施形態に係る液晶ディスプレイの構成を示す概略構成図。The schematic block diagram which shows the structure of the liquid crystal display which concerns on 3rd Embodiment. 第3の実施形態に係る液晶ディスプレイの製造方法を示すフローチャート。9 is a flowchart showing a method for manufacturing a liquid crystal display according to a third embodiment. 第3の実施形態に係る偏光板の位置合わせ方法を説明する図。The figure explaining the alignment method of the polarizing plate which concerns on 3rd Embodiment. 第4の実施形態に係る液晶パネルが備える光学素子の構成を説明する図。The figure explaining the structure of the optical element with which the liquid crystal panel which concerns on 4th Embodiment is provided.

以下に、本実施の形態について図面を参照して説明する。なお、参照する各図面において、構成をわかりやすく示すため、各構成要素の層厚や寸法の比率、角度等は適宜異ならせてある。   The present embodiment will be described below with reference to the drawings. In each of the drawings to be referred to, in order to show the configuration in an easy-to-understand manner, the layer thickness, dimensional ratio, angle, and the like of each component are appropriately changed.

<投射型表示装置>
まず、本実施の形態に係る液晶装置としての液晶ライトバルブを備えた電子機器の一例として、投射型表示装置(液晶プロジェクター)についてその概略構成を説明する。図1は、電子機器の一例としての投射型表示装置の概略構成を示す模式図である。
<Projection type display device>
First, a schematic configuration of a projection display device (liquid crystal projector) will be described as an example of an electronic apparatus including a liquid crystal light valve as a liquid crystal device according to the present embodiment. FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration of a projection display device as an example of an electronic apparatus.

図1に示すように、本実施の形態に係る投射型表示装置100は、光源110と、2つのダイクロイックミラー121,122と、3つの反射ミラー123,124,125と、光が入射する側のレンズ126と、リレーレンズ127と、光が射出される側のレンズ128と、液晶装置としての3つの液晶ライトバルブ1と、クロスダイクロイックプリズム130と、投射レンズ132と、を備えている。   As shown in FIG. 1, the projection display apparatus 100 according to the present embodiment includes a light source 110, two dichroic mirrors 121 and 122, three reflection mirrors 123, 124, and 125, and a light incident side. A lens 126, a relay lens 127, a lens 128 on which light is emitted, three liquid crystal light valves 1 as liquid crystal devices, a cross dichroic prism 130, and a projection lens 132 are provided.

投射型表示装置100は、赤色(R)光、緑色(G)光、および青色(B)光の各色光に対応して、3つの液晶ライトバルブ1R,1G,1B(以下では、対応する色光について区別しない場合には単に液晶ライトバルブ1とも呼ぶ)を備えている。各液晶ライトバルブ1は、液晶パネル2と、液晶パネル2の光が入射する側に配置された偏光板45と、液晶パネル2の光が射出される側に配置された偏光板46と、を備えている。液晶ライトバルブ1は、画像情報に応じて光束を変調する光変調手段として機能する。   The projection display device 100 corresponds to each color light of red (R) light, green (G) light, and blue (B) light, and three liquid crystal light valves 1R, 1G, 1B (hereinafter, corresponding color lights). Are also simply referred to as the liquid crystal light valve 1). Each liquid crystal light valve 1 includes a liquid crystal panel 2, a polarizing plate 45 disposed on the light incident side of the liquid crystal panel 2, and a polarizing plate 46 disposed on the light emitting side of the liquid crystal panel 2. I have. The liquid crystal light valve 1 functions as a light modulation unit that modulates a light beam according to image information.

なお、液晶パネル2と偏光板45,46とは、例えば、枠等で案内されて所定の位置関係に固定されている。偏光板45,46のうち少なくとも一方が、液晶パネル2に貼り付けられていてもよい。また、液晶パネル2と偏光板45,46との間に、位相差板や防塵ガラス等をさらに備えていてもよい。   The liquid crystal panel 2 and the polarizing plates 45 and 46 are fixed to a predetermined positional relationship, for example, by being guided by a frame or the like. At least one of the polarizing plates 45 and 46 may be attached to the liquid crystal panel 2. Further, a retardation plate, dustproof glass, or the like may be further provided between the liquid crystal panel 2 and the polarizing plates 45 and 46.

光源110は、ランプ111とリフレクター112とを備えている。ランプ111は、例えば、高圧水銀ランプ等からなる。リフレクター112は、ランプ111から放出された光を、ダイクロイックミラー121の方向に反射する。ダイクロイックミラー121は、光源110からの光束のうちの赤色(R)光を透過させるとともに、青色(B)光と緑色(G)光とを反射する。ダイクロイックミラー121を透過することによって分岐された赤色光は、反射ミラー125で反射されて、赤色光用の液晶ライトバルブ1Rに入射する。   The light source 110 includes a lamp 111 and a reflector 112. The lamp 111 is, for example, a high pressure mercury lamp. The reflector 112 reflects the light emitted from the lamp 111 in the direction of the dichroic mirror 121. The dichroic mirror 121 transmits red (R) light out of the light flux from the light source 110 and reflects blue (B) light and green (G) light. The red light branched by passing through the dichroic mirror 121 is reflected by the reflection mirror 125 and enters the liquid crystal light valve 1R for red light.

ダイクロイックミラー121で反射された光のうち緑色光は、ダイクロイックミラー122で反射されることによって分岐され、緑色光用の液晶ライトバルブ1Gに入射する。一方、ダイクロイックミラー121で反射された光のうち青色光は、ダイクロイックミラー122を透過することによって分岐され、導光手段120に入射する。   Of the light reflected by the dichroic mirror 121, the green light is branched by being reflected by the dichroic mirror 122, and enters the liquid crystal light valve 1G for green light. On the other hand, blue light out of the light reflected by the dichroic mirror 121 is branched by passing through the dichroic mirror 122 and enters the light guide unit 120.

導光手段120は、レンズ126、リレーレンズ127、レンズ128を含むリレーレンズ系からなる。導光手段120は、投射型表示装置100において青色光の光路の長さが他の色光の光路の長さよりも長いため、光の発散等による光の利用効率の低下を防止するために設けられている。ダイクロイックミラー122を透過した青色光は、導光手段120を介して、青色光用の液晶ライトバルブ1Bに入射する。   The light guide unit 120 includes a relay lens system including a lens 126, a relay lens 127, and a lens 128. The light guide unit 120 is provided in order to prevent a decrease in light use efficiency due to light divergence or the like because the length of the optical path of blue light is longer than the length of the optical path of other color lights in the projection display device 100. ing. The blue light transmitted through the dichroic mirror 122 enters the liquid crystal light valve 1B for blue light via the light guide means 120.

各液晶ライトバルブ1により変調されたR、G、Bの3つの色光は、クロスダイクロイックプリズム130に入射する。クロスダイクロイックプリズム130は、各液晶ライトバルブ1により変調された光学像を合成してカラー画像を形成する光学素子である。クロスダイクロイックプリズム130は4つの直角プリズムが貼り合わされた構成を有しており、直角プリズム同士が貼り合わされた略X字状の界面には誘電体多層膜が形成されている。略X字状の一方の界面に形成された誘電体多層膜は、赤色光を反射するものであり、他方の界面に形成された誘電体多層膜は、青色光を反射するものである。これらの誘電体多層膜によって赤色光および青色光は曲折され、緑色光の進行方向と揃えられることにより、3つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が形成される。   The three color lights of R, G, and B modulated by each liquid crystal light valve 1 enter the cross dichroic prism 130. The cross dichroic prism 130 is an optical element that combines the optical images modulated by the liquid crystal light valves 1 to form a color image. The cross dichroic prism 130 has a configuration in which four right-angle prisms are bonded together, and a dielectric multilayer film is formed on a substantially X-shaped interface where the right-angle prisms are bonded together. The dielectric multilayer film formed at one of the substantially X-shaped interfaces reflects red light, and the dielectric multilayer film formed at the other interface reflects blue light. By these dielectric multilayer films, the red light and the blue light are bent and aligned with the traveling direction of the green light, whereby the three color lights are combined to form light representing a color image.

クロスダイクロイックプリズム130によって合成された光は、投射光学系である投射レンズ132によってスクリーン140上に拡大投射される。これにより、スクリーン140上に画像が拡大されて表示される。   The light synthesized by the cross dichroic prism 130 is enlarged and projected on the screen 140 by the projection lens 132 which is a projection optical system. As a result, the image is enlarged and displayed on the screen 140.

このような投射型表示装置100では、より明るいカラー画像をコントラスト良くスクリーン140に映し出すために、液晶ライトバルブ1がより優れた光学特性(コントラスト等)を有していることが望ましい。   In such a projection display apparatus 100, it is desirable that the liquid crystal light valve 1 has more excellent optical characteristics (contrast and the like) in order to project a brighter color image on the screen 140 with good contrast.

(第1の実施形態)
<液晶ライトバルブの構成>
次に、第1の実施形態に係る液晶ライトバルブの構成について図を参照して説明する。図2は、第1の実施形態に係る液晶パネルの構成を示す概略構成図である。詳しくは、図2(a)は平面図であり、図2(b)は図2(a)中のA−A’線に沿った断面図である。図3は、第1の実施形態に係る液晶パネルの電気的な構成を示す等価回路図である。図4は、第1の実施形態に係る液晶パネルが備える光学素子の構成を説明する図である。詳しくは、図4(a)は光学素子の概略構成を示す斜視図であり、図4(b)は図4(a)中のB−B’線に沿った断面図である。図5は、第1の実施形態に係る液晶ライトバルブの光学設計条件を説明する図である。
(First embodiment)
<Configuration of liquid crystal light valve>
Next, the configuration of the liquid crystal light valve according to the first embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing the configuration of the liquid crystal panel according to the first embodiment. Specifically, FIG. 2A is a plan view, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG. FIG. 3 is an equivalent circuit diagram showing an electrical configuration of the liquid crystal panel according to the first embodiment. FIG. 4 is a diagram illustrating a configuration of an optical element included in the liquid crystal panel according to the first embodiment. Specifically, FIG. 4A is a perspective view illustrating a schematic configuration of the optical element, and FIG. 4B is a cross-sectional view taken along line BB ′ in FIG. FIG. 5 is a diagram for explaining optical design conditions of the liquid crystal light valve according to the first embodiment.

図2(a)、(b)に示すように、第1の実施形態に係る液晶パネル2は、互いに対向して配置された一対の基板としての素子基板10および対向基板20と、素子基板10と対向基板20との間に挟持された液晶層40とを備えている。素子基板10および対向基板20は、例えば透光性を有する石英等の基板であり、シール材41によって互いに貼り合わされている。シール材41によって囲まれた領域内には、液晶パネル2において光変調を行う画素領域3が配置されている。液晶パネル2は、画素領域3にマトリクス状に配置された複数の画素4を有するアクティブマトリクス型である。   As shown in FIGS. 2A and 2B, the liquid crystal panel 2 according to the first embodiment includes an element substrate 10 and a counter substrate 20 as a pair of substrates arranged to face each other, and the element substrate 10. And a liquid crystal layer 40 sandwiched between the counter substrate 20 and the counter substrate 20. The element substrate 10 and the counter substrate 20 are, for example, transparent substrates such as quartz, and are bonded to each other by a sealing material 41. In a region surrounded by the sealing material 41, a pixel region 3 that performs light modulation in the liquid crystal panel 2 is disposed. The liquid crystal panel 2 is an active matrix type having a plurality of pixels 4 arranged in a matrix in the pixel region 3.

図2(b)に示すように、素子基板10の液晶層40側には、各画素4を構成する画素電極16と、画素電極16を駆動制御するスイッチング素子としてのTFT(Thin Film Transistor:薄膜トランジスター)19とが設けられている。画素電極16は、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)等の透光性を有する電極からなる。素子基板10の液晶層40に面する側には、これら画素電極16等を覆うように、配向膜34が設けられている。配向膜34は、例えばポリイミド樹脂等からなる。配向膜34の表面には、例えば、ラビング処理等により所定の方向に配向処理が施されている。   As shown in FIG. 2B, on the liquid crystal layer 40 side of the element substrate 10, a pixel electrode 16 constituting each pixel 4 and a TFT (Thin Film Transistor) as a switching element for driving and controlling the pixel electrode 16. Transistor) 19 is provided. The pixel electrode 16 is made of a translucent electrode such as ITO (Indium Tin Oxide). An alignment film 34 is provided on the side of the element substrate 10 facing the liquid crystal layer 40 so as to cover the pixel electrodes 16 and the like. The alignment film 34 is made of, for example, a polyimide resin. The surface of the alignment film 34 is subjected to an alignment process in a predetermined direction by, for example, a rubbing process.

対向基板20の液晶層40側には、遮光層22,24が設けられている。遮光層22は、各画素4の領域を格子状に区画している。遮光層24は、画素領域3の周辺部に配置されている。遮光層22,24は、例えば、遮光性を有するクロム(Cr)等の金属や金属酸化物等の無機化合物、あるいは遮光性を有する有機化合物等からなる。また、遮光層22,24を覆うとともに画素領域3に平面的に重なるように、共通電極18が設けられている。共通電極18は、例えば、ITO等の透光性を有する電極からなる。   The light shielding layers 22 and 24 are provided on the counter substrate 20 on the liquid crystal layer 40 side. The light shielding layer 22 partitions the area of each pixel 4 in a lattice shape. The light shielding layer 24 is disposed in the periphery of the pixel region 3. The light shielding layers 22 and 24 are made of, for example, a metal such as chromium (Cr) having a light shielding property, an inorganic compound such as a metal oxide, or an organic compound having a light shielding property. A common electrode 18 is provided so as to cover the light shielding layers 22 and 24 and to overlap the pixel region 3 in a planar manner. The common electrode 18 is made of a translucent electrode such as ITO.

対向基板20の液晶層40に面する側には、共通電極18を覆うように、配向膜36が設けられている。配向膜36は、例えばポリイミド樹脂等からなるからなる。配向膜36の表面には、ラビング処理等により所定の方向に配向処理が施されている。なお、配向膜34および配向膜36は、シール材41によって囲まれた領域内に配置されている。   An alignment film 36 is provided on the side of the counter substrate 20 facing the liquid crystal layer 40 so as to cover the common electrode 18. The alignment film 36 is made of, for example, polyimide resin. The surface of the alignment film 36 is subjected to an alignment process in a predetermined direction by a rubbing process or the like. Note that the alignment film 34 and the alignment film 36 are disposed in a region surrounded by the sealing material 41.

図2(a)に示すように、素子基板10と対向基板20とを接合するシール材41は、画素領域3の周囲に額縁状に設けられている。シール材41は、例えば、熱硬化型または紫外線硬化型の接着剤からなる。図示を省略するが、シール材41は辺部の一部が欠落した注入口を有している。この注入口から、素子基板10と対向基板20とシール材41とによって囲まれた空間に液晶層40を構成する液晶が注入され、封止材で封止されている。   As shown in FIG. 2A, the sealing material 41 that joins the element substrate 10 and the counter substrate 20 is provided in a frame shape around the pixel region 3. The sealing material 41 is made of, for example, a thermosetting or ultraviolet curable adhesive. Although illustration is omitted, the sealing material 41 has an injection port in which a part of the side portion is missing. From this inlet, liquid crystal constituting the liquid crystal layer 40 is injected into a space surrounded by the element substrate 10, the counter substrate 20, and the sealing material 41, and sealed with a sealing material.

素子基板10は対向基板20に比べて一回り大きく、対向基板20から突出した一辺部を有している。この一辺部には、データ線駆動回路13と、外部接続端子11とが設けられている。外部接続端子11は、外部と接続する複数の端子を有している。素子基板10のシール材41の内側には、画素領域3を挟んで一対の走査線駆動回路15と、この間を繋ぐ配線15aとが設けられている。対向基板20の遮光層24は、走査線駆動回路15に平面的に重なるように設けられている。   The element substrate 10 is slightly larger than the counter substrate 20, and has one side protruding from the counter substrate 20. A data line driving circuit 13 and an external connection terminal 11 are provided on this one side. The external connection terminal 11 has a plurality of terminals connected to the outside. Inside the sealing material 41 of the element substrate 10, a pair of scanning line driving circuits 15 and a wiring 15 a connecting the pixel region 3 are provided. The light shielding layer 24 of the counter substrate 20 is provided so as to overlap the scanning line driving circuit 15 in a planar manner.

素子基板10と対向基板20との間に位置するシール材41の4つのコーナー部には、上下導通部42が配設されている。図示を省略するが、各上下導通部42には、上下導通材と上下導通端子とが設けられている。この上下導通部42により、対向基板20側の共通電極18が素子基板10側に電気的に接続されるとともに、外部接続端子11のうちの指定された端子に電気的に接続されている。   Vertical conduction portions 42 are disposed at four corner portions of the sealing material 41 located between the element substrate 10 and the counter substrate 20. Although not shown, each vertical conduction part 42 is provided with a vertical conduction material and a vertical conduction terminal. By the vertical conduction portion 42, the common electrode 18 on the counter substrate 20 side is electrically connected to the element substrate 10 side and is also electrically connected to a designated terminal of the external connection terminals 11.

図2(a)および(b)に示すように、素子基板10の周縁部には、光学素子としてのワイヤーグリッド偏光子30が設けられている。ワイヤーグリッド偏光子30は、例えば、素子基板10の対向基板20に対向する側の面に配置されている。また、対向基板20の周縁部には、光学素子としてのワイヤーグリッド偏光子32が設けられている。ワイヤーグリッド偏光子32は、例えば、対向基板20の素子基板10に対向する側の面に配置されている。   As shown in FIGS. 2A and 2B, a wire grid polarizer 30 as an optical element is provided on the periphery of the element substrate 10. For example, the wire grid polarizer 30 is disposed on the surface of the element substrate 10 facing the counter substrate 20. Further, a wire grid polarizer 32 as an optical element is provided on the peripheral edge of the counter substrate 20. For example, the wire grid polarizer 32 is disposed on the surface of the counter substrate 20 facing the element substrate 10.

ワイヤーグリッド偏光子30,32は、シール材41の外側に配置されている。つまり、ワイヤーグリッド偏光子30,32は、液晶層40に平面的に重ならない領域に配置されている。また、ワイヤーグリッド偏光子30,32は、互いに平面的に重なる領域と、互いに平面的に重ならない領域とを有している。ワイヤーグリッド偏光子30,32は、偏光分離機能を有している。ワイヤーグリッド偏光子30,32の構成については後述する。   The wire grid polarizers 30 and 32 are disposed outside the sealing material 41. That is, the wire grid polarizers 30 and 32 are disposed in a region that does not overlap the liquid crystal layer 40 in a planar manner. Further, the wire grid polarizers 30 and 32 have a region that overlaps with each other in a plane and a region that does not overlap with each other in a plane. The wire grid polarizers 30 and 32 have a polarization separation function. The configuration of the wire grid polarizers 30 and 32 will be described later.

図3に示すように、液晶パネル2の画素領域3には、走査線12とデータ線14とが互いに交差するように形成され、走査線12とデータ線14との交差に対応して画素4が設けられている。画素4のそれぞれには、画素電極16と、画素電極16を駆動制御するTFT19とが設けられている。   As shown in FIG. 3, in the pixel region 3 of the liquid crystal panel 2, the scanning lines 12 and the data lines 14 are formed so as to intersect each other, and the pixels 4 correspond to the intersections of the scanning lines 12 and the data lines 14. Is provided. Each pixel 4 is provided with a pixel electrode 16 and a TFT 19 for driving and controlling the pixel electrode 16.

TFT19のソース電極(図示しない)は、データ線駆動回路13から延在するデータ線14に電気的に接続されている。データ線14には、データ線駆動回路13からデータ信号S1、S2、…、Snが線順次で供給される。TFT19のゲート電極(図示しない)は、走査線駆動回路15から延在する走査線12の一部である。走査線12には、走査線駆動回路15から走査信号G1、G2、…、Gmが線順次で供給される。TFT19のドレイン電極(図示しない)は、画素電極16に電気的に接続されている。   A source electrode (not shown) of the TFT 19 is electrically connected to a data line 14 extending from the data line driving circuit 13. Data signals S1, S2,..., Sn are supplied to the data line 14 from the data line driving circuit 13 in a line sequential manner. A gate electrode (not shown) of the TFT 19 is a part of the scanning line 12 extending from the scanning line driving circuit 15. The scanning signals G1, G2,..., Gm are supplied to the scanning lines 12 from the scanning line driving circuit 15 in line sequence. A drain electrode (not shown) of the TFT 19 is electrically connected to the pixel electrode 16.

データ信号(画素信号)S1、S2、…、Snは、TFT19を一定期間だけオン状態とすることにより、データ線14を介して画素電極16に所定のタイミングで書き込まれる。このようにして画素電極16を介して液晶層40に書き込まれた所定レベルの画素信号は共通電極18(図2(b)参照)との間に形成される液晶容量で一定期間保持される。なお、保持された画素信号S1、S2、…、Snがリークするのを防止するため、走査線12に沿って形成された容量線17と画素電極16との間に蓄積容量17aが形成され、液晶容量と並列に配置されている。   The data signals (pixel signals) S1, S2,..., Sn are written to the pixel electrode 16 through the data line 14 at a predetermined timing by turning on the TFT 19 for a certain period. The pixel signal of a predetermined level written in the liquid crystal layer 40 through the pixel electrode 16 in this way is held for a certain period by the liquid crystal capacitance formed between the common electrode 18 (see FIG. 2B). In order to prevent leakage of the held pixel signals S1, S2,..., Sn, a storage capacitor 17a is formed between the capacitor line 17 formed along the scanning line 12 and the pixel electrode 16, Arranged in parallel with the liquid crystal capacitor.

<ワイヤーグリッド偏光子の構成>
続いて、ワイヤーグリッド偏光子30,32の構成について説明する。図4(a)および(b)に示すように、ワイヤーグリッド偏光子30,32は、ストライプ状に配置された複数の金属反射膜31を備えている。金属反射膜31は、直線状の形状を有しており、ワイヤーグリッド偏光子30では素子基板10上に、ワイヤーグリッド偏光子32では対向基板20上に、互いに略平行に配置されている。金属反射膜31は、光反射性の高い金属からなり、例えばアルミニウムからなる。金属反射膜31の材料は、APC(銀−パラジウム−銅の合金)等であってもよい。
<Configuration of wire grid polarizer>
Next, the configuration of the wire grid polarizers 30 and 32 will be described. As shown in FIGS. 4A and 4B, the wire grid polarizers 30 and 32 include a plurality of metal reflection films 31 arranged in a stripe shape. The metal reflection film 31 has a linear shape, and is disposed on the element substrate 10 in the wire grid polarizer 30 and substantially parallel to the counter substrate 20 in the wire grid polarizer 32. The metal reflection film 31 is made of a metal having high light reflectivity, for example, aluminum. The material of the metal reflective film 31 may be APC (silver-palladium-copper alloy) or the like.

金属反射膜31は所定のピッチで配置されている。金属反射膜31の配置ピッチは、入射する光の波長よりも小さく設定されており、例えば40nm〜140nm程度である。金属反射膜31の高さは、例えば100nm程度である。金属反射膜31の幅は、例えば100nm程度である。ワイヤーグリッド偏光子30,32は、半導体プロセスによりTFT19等を形成する工程の中で形成することができる。したがって、ワイヤーグリッド偏光子30,32は、TFT19等と同等の精度で形成される。   The metal reflection films 31 are arranged at a predetermined pitch. The arrangement pitch of the metal reflection films 31 is set to be smaller than the wavelength of incident light, and is, for example, about 40 nm to 140 nm. The height of the metal reflective film 31 is, for example, about 100 nm. The width of the metal reflection film 31 is, for example, about 100 nm. The wire grid polarizers 30 and 32 can be formed in the process of forming the TFT 19 and the like by a semiconductor process. Therefore, the wire grid polarizers 30 and 32 are formed with the same accuracy as the TFT 19 or the like.

ワイヤーグリッド偏光子30,32は、入射光を偏光状態の異なる反射光と透過光とに分離する機能を備えている。ワイヤーグリッド偏光子30,32は、入射光のうち、金属反射膜31の延在方向に平行な偏光成分を反射し、金属反射膜31の延在方向に対して直交する偏光成分を透過する。すなわち、ワイヤーグリッド偏光子30,32は、光学軸としての透過軸30a,32aおよび反射軸30b,32bを有している。図4(a)に示すように、透過軸30a,32aは金属反射膜31の延在方向と直交しており、反射軸30b,32bは金属反射膜31の延在方向に平行である。   The wire grid polarizers 30 and 32 have a function of separating incident light into reflected light and transmitted light having different polarization states. The wire grid polarizers 30 and 32 reflect a polarization component parallel to the extending direction of the metal reflection film 31 in the incident light and transmit a polarization component orthogonal to the extension direction of the metal reflection film 31. That is, the wire grid polarizers 30 and 32 have transmission axes 30a and 32a and reflection axes 30b and 32b as optical axes. As shown in FIG. 4A, the transmission axes 30 a and 32 a are orthogonal to the extending direction of the metal reflecting film 31, and the reflecting axes 30 b and 32 b are parallel to the extending direction of the metal reflecting film 31.

ワイヤーグリッド偏光子30,32は、配向膜34,36(図2(b)参照)にラビング処理等の配向処理を行う際、および素子基板10と対向基板20とを貼り合わせる際の位置合わせの基準として用いられる。すなわち、ワイヤーグリッド偏光子30,32の透過軸30a,32aを基準にして、配向膜34,36に配向処理を行う方向、および素子基板10と対向基板20との相対的な位置関係が決定される。   The wire grid polarizers 30 and 32 are aligned when the alignment films 34 and 36 (see FIG. 2B) are subjected to an alignment process such as a rubbing process and when the element substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded together. Used as a reference. That is, with reference to the transmission axes 30a and 32a of the wire grid polarizers 30 and 32, the direction in which the alignment films 34 and 36 are subjected to the alignment process and the relative positional relationship between the element substrate 10 and the counter substrate 20 are determined. The

なお、金属反射膜31は、素子基板10または対向基板20の直上に形成されていてもよいし、絶縁層上に形成されていてもよい。また、金属反射膜31は、酸化シリコン(SiO2)等からなる保護層に覆われていてもよい。 The metal reflective film 31 may be formed directly on the element substrate 10 or the counter substrate 20 or may be formed on an insulating layer. Further, the metal reflection film 31 may be covered with a protective layer made of silicon oxide (SiO 2 ) or the like.

<液晶ライトバルブの光学設計条件>
次に、第1の実施形態に係る液晶ライトバルブの光学設計条件を説明する。図5(a)に示すように、液晶ライトバルブ1は、液晶パネル2と偏光板45と偏光板46とを備えている。偏光板45は、液晶パネル2の対向基板20側に配置されている。偏光板46は、液晶パネル2の素子基板10側に配置されている。液晶ライトバルブ1に照射された光は、偏光板45の側から入射し、液晶パネル2を対向基板20側から素子基板10側に透過して、偏光板46の側から射出される。
<Optical design conditions for liquid crystal light valves>
Next, optical design conditions of the liquid crystal light valve according to the first embodiment will be described. As shown in FIG. 5A, the liquid crystal light valve 1 includes a liquid crystal panel 2, a polarizing plate 45, and a polarizing plate 46. The polarizing plate 45 is disposed on the counter substrate 20 side of the liquid crystal panel 2. The polarizing plate 46 is disposed on the element substrate 10 side of the liquid crystal panel 2. The light irradiated to the liquid crystal light valve 1 enters from the polarizing plate 45 side, passes through the liquid crystal panel 2 from the counter substrate 20 side to the element substrate 10 side, and is emitted from the polarizing plate 46 side.

第1の実施形態に係る液晶パネル2は、TN(Twisted Nematic)方式の液晶パネルである。液晶層40は、正の誘電率異方性を有する液晶で構成される。対向基板20の配向膜36には、矢印で示す配向方向36aにラビング処理等の配向処理が施されている。素子基板10の配向膜34には、矢印で示す配向方向34aにラビング処理等の配向処理が施されている。図5(b)に示すように、液晶パネル2における素子基板10の配向方向34aと、対向基板20の配向方向36aとは互いに直交している。   The liquid crystal panel 2 according to the first embodiment is a TN (Twisted Nematic) liquid crystal panel. The liquid crystal layer 40 is composed of liquid crystal having positive dielectric anisotropy. The alignment film 36 of the counter substrate 20 is subjected to an alignment process such as a rubbing process in an alignment direction 36a indicated by an arrow. The alignment film 34 of the element substrate 10 is subjected to an alignment process such as a rubbing process in an alignment direction 34a indicated by an arrow. As shown in FIG. 5B, the alignment direction 34a of the element substrate 10 and the alignment direction 36a of the counter substrate 20 in the liquid crystal panel 2 are orthogonal to each other.

偏光板45は、光学軸としての透過軸45aを有している。透過軸45aは、例えば、対向基板20の配向方向36aに平行である。また、偏光板46は、光学軸としての透過軸46aを有している。透過軸46aは、例えば、素子基板10の配向方向34aに平行である。したがって、偏光板45の透過軸45aと偏光板46の透過軸46aとは互いに直交している。   The polarizing plate 45 has a transmission axis 45a as an optical axis. The transmission axis 45a is, for example, parallel to the alignment direction 36a of the counter substrate 20. The polarizing plate 46 has a transmission axis 46a as an optical axis. The transmission axis 46 a is, for example, parallel to the alignment direction 34 a of the element substrate 10. Therefore, the transmission axis 45a of the polarizing plate 45 and the transmission axis 46a of the polarizing plate 46 are orthogonal to each other.

図5(a)に示すように、液晶パネル2に電圧が印加されない状態(非駆動状態)では、液晶層40において配向膜36との界面付近に存在する液晶分子40aは、長軸方向が配向方向36aに沿うように配向する。配向膜34との界面付近に存在する液晶分子40aは、長軸方向が配向方向34aに沿うように配向する。したがって、液晶層40においては、光が入射する側の配向膜36から光が射出される側の配向膜34に向かうに従って、液晶分子40aの長軸方向が90°ねじれた状態となるように配向が規制される。   As shown in FIG. 5A, in a state where no voltage is applied to the liquid crystal panel 2 (non-driving state), the liquid crystal molecules 40a existing in the vicinity of the interface with the alignment film 36 in the liquid crystal layer 40 are aligned in the major axis direction. Oriented along the direction 36a. The liquid crystal molecules 40a existing in the vicinity of the interface with the alignment film 34 are aligned so that the major axis direction is along the alignment direction 34a. Therefore, in the liquid crystal layer 40, the alignment is performed so that the major axis direction of the liquid crystal molecules 40a is twisted by 90 ° from the alignment film 36 on the light incident side toward the alignment film 34 on the light emission side. Is regulated.

液晶ライトバルブ1に照射された光は、偏光板45により透過軸45a(配向方向36a)に平行な直線偏光に変換されて対向基板20側から液晶パネル2に入射する。液晶パネル2に入射した透過軸45aに平行な直線偏光は、非駆動状態において、液晶層40における液晶分子40aのねじれによって90°旋光し、配向方向34a(透過軸46a)に平行な直線偏光として液晶パネル2の素子基板10側からから射出される。   The light irradiated to the liquid crystal light valve 1 is converted into linearly polarized light parallel to the transmission axis 45a (alignment direction 36a) by the polarizing plate 45 and enters the liquid crystal panel 2 from the counter substrate 20 side. The linearly polarized light parallel to the transmission axis 45a incident on the liquid crystal panel 2 is rotated by 90 ° by the twist of the liquid crystal molecules 40a in the liquid crystal layer 40 in a non-driven state, and is converted into linearly polarized light parallel to the alignment direction 34a (transmission axis 46a). The liquid crystal panel 2 is emitted from the element substrate 10 side.

この透過軸46aに平行な直線偏光は、そのまま偏光板46を透過して、液晶ライトバルブ1から射出される。このように、非駆動状態において光が透過する明表示状態となるような光学設計に基づく表示モードを、ノーマリーホワイトという。なお、表示モード(光学設計)は、これに限定されず、非駆動状態に光が透過しない暗表示状態となるノーマリーブラックであってもよい。   The linearly polarized light parallel to the transmission axis 46 a passes through the polarizing plate 46 as it is and is emitted from the liquid crystal light valve 1. A display mode based on an optical design that provides a bright display state in which light is transmitted in the non-driven state is referred to as normally white. Note that the display mode (optical design) is not limited to this, and may be normally black which is a dark display state where light is not transmitted in the non-driven state.

一方、図示しないが、液晶パネル2に電圧が印加された状態(駆動状態)では、液晶分子40aの長軸方向が立ち上がるように配列し、液晶分子40aの長軸方向が入射光の光軸に対して平行になるように配向状態が変化する。したがって、液晶パネル2に入射した透過軸45aに平行な直線偏光は、そのまま液晶パネル2から射出されるが、偏光板46を透過しないので、暗表示状態となる。   On the other hand, although not shown, when a voltage is applied to the liquid crystal panel 2 (driving state), the liquid crystal molecules 40a are arranged so that the major axis direction rises, and the major axis direction of the liquid crystal molecules 40a is the optical axis of the incident light. The alignment state changes so as to be parallel to the surface. Accordingly, the linearly polarized light parallel to the transmission axis 45a incident on the liquid crystal panel 2 is emitted from the liquid crystal panel 2 as it is, but is not transmitted through the polarizing plate 46, so that a dark display state is obtained.

本実施形態では、配向膜34,36の光学設計に基づく所定の配向方向34a,36aを、ワイヤーグリッド偏光子30,32の透過軸30a,32aに平行または直交する方向とする。なお、液晶パネル2において、配向膜34,36の配向方向34a,36aや偏光板45,46の透過軸45a,46a等の光学設計条件は、上記の形態に限定されるものではない。   In the present embodiment, the predetermined alignment directions 34 a and 36 a based on the optical design of the alignment films 34 and 36 are directions parallel or orthogonal to the transmission axes 30 a and 32 a of the wire grid polarizers 30 and 32. In the liquid crystal panel 2, the optical design conditions such as the alignment directions 34 a and 36 a of the alignment films 34 and 36 and the transmission axes 45 a and 46 a of the polarizing plates 45 and 46 are not limited to the above forms.

<液晶パネルの製造方法>
次に、第1の実施形態に係る液晶パネルの製造方法について図を参照して説明する。図6は、第1の実施形態に係る液晶パネルの製造方法を示すフローチャートである。図7は、第1の実施形態に係る配向処理方法を説明する図である。詳しくは、図7(a)はラビング装置を示す斜視図であり、図7(b)は図7(a)中のC−C’線に沿った断面図である。図8および図9は、第1の実施形態に係る基板同士の位置合わせ方法を説明する図である。
<Manufacturing method of liquid crystal panel>
Next, a manufacturing method of the liquid crystal panel according to the first embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 6 is a flowchart showing a method for manufacturing the liquid crystal panel according to the first embodiment. FIG. 7 is a diagram for explaining the alignment processing method according to the first embodiment. Specifically, FIG. 7A is a perspective view showing the rubbing apparatus, and FIG. 7B is a cross-sectional view taken along the line CC ′ in FIG. 7A. 8 and 9 are diagrams for explaining a method of aligning substrates according to the first embodiment.

図6において、工程P11から工程P13および工程P21から工程P23は、液晶パネル2用基板、すなわち素子基板10および対向基板20を製造する工程である。工程P11から工程P13は素子基板10を製造する工程であり、工程P21から工程P23は対向基板20を製造する工程である。素子基板10を製造する工程と対向基板20を製造する工程とはそれぞれ独立に行われる。工程P31から工程P33は、素子基板10と対向基板20とを組み合わせて液晶パネル2を製造する工程である。なお、これらの工程のうち詳述しない工程においては、公知の技術を適用することができる。   6, steps P11 to P13 and steps P21 to P23 are steps for manufacturing the substrate for the liquid crystal panel 2, that is, the element substrate 10 and the counter substrate 20. Steps P11 to P13 are steps for manufacturing the element substrate 10, and Steps P21 to P23 are steps for manufacturing the counter substrate 20. The process of manufacturing the element substrate 10 and the process of manufacturing the counter substrate 20 are performed independently. Process P31 to process P33 are processes for manufacturing the liquid crystal panel 2 by combining the element substrate 10 and the counter substrate 20. In addition, a well-known technique is applicable to the process which is not explained in full detail among these processes.

<液晶パネル用基板の製造工程>
まず、素子基板10を製造する工程を説明する。工程P11では、素子基板10上にTFT19、光学素子としてのワイヤーグリッド偏光子30、画素電極16等を形成する。ワイヤーグリッド偏光子30は、半導体プロセスによりTFT19等を形成する工程の中で形成される。
<Manufacturing process of liquid crystal panel substrate>
First, a process for manufacturing the element substrate 10 will be described. In the process P11, the TFT 19, the wire grid polarizer 30 as an optical element, the pixel electrode 16 and the like are formed on the element substrate 10. The wire grid polarizer 30 is formed in a process of forming the TFT 19 and the like by a semiconductor process.

より具体的には、素子基板10上にワイヤーグリッド偏光子30の形成材料からなる金属薄膜を形成し、例えばフォトリソグラフィ法を用いて、その金属薄膜をパターニングすることにより、ストライプ状に配置された複数の金属反射膜31を備えたワイヤーグリッド偏光子30が形成される。これにより、TFT19等と同等の精度で、かつ製造工程を煩雑にすることなく、ワイヤーグリッド偏光子30を形成することができる。なお、ワイヤーグリッド偏光子30を形成する方法として、レーザー光による二光束干渉露光法や電子線露光法等を用いてもよい。   More specifically, a metal thin film made of a material for forming the wire grid polarizer 30 is formed on the element substrate 10, and the metal thin film is patterned using, for example, a photolithography method, and arranged in a stripe shape. A wire grid polarizer 30 including a plurality of metal reflection films 31 is formed. Thereby, the wire grid polarizer 30 can be formed with the same accuracy as the TFT 19 and the like, and without complicating the manufacturing process. As a method of forming the wire grid polarizer 30, a two-beam interference exposure method using a laser beam, an electron beam exposure method, or the like may be used.

続いて、工程P12では、これらの素子、電極等が形成された素子基板10の表面に、例えば、ポリイミド樹脂をスピンコート法等により塗布して配向膜34を形成する。そして、工程P13では、配向膜34の表面に図5(b)に示す配向方向34aに配向処理を行う。本実施形態では、ラビング装置200を用いてラビング法により配向処理を行う。   Subsequently, in Step P12, for example, a polyimide resin is applied by spin coating or the like to the surface of the element substrate 10 on which these elements, electrodes, and the like are formed, thereby forming the alignment film 34. In Step P13, the surface of the alignment film 34 is subjected to an alignment process in the alignment direction 34a shown in FIG. In this embodiment, alignment processing is performed by a rubbing method using the rubbing apparatus 200.

<ラビング装置>
まず、本実施形態に係る液晶パネル用基板の製造に用いるラビング装置200の構成を説明する。図7(a)および(b)に示すように、ラビング装置200は、ステージ210と、光源216と、受光部218と、ラビング処理部220と、を備えている。ステージ210の上面は、例えば長方形状である。ステージ210は、回転ステージ212と基準偏光子214とを備えている。
<Rubbing device>
First, the structure of the rubbing apparatus 200 used for manufacturing the liquid crystal panel substrate according to the present embodiment will be described. As illustrated in FIGS. 7A and 7B, the rubbing apparatus 200 includes a stage 210, a light source 216, a light receiving unit 218, and a rubbing processing unit 220. The upper surface of the stage 210 has a rectangular shape, for example. The stage 210 includes a rotary stage 212 and a reference polarizer 214.

回転ステージ212は、例えば円形状でステージ210よりも平面的に一回り小さい上面を有し、その厚さはステージ210の厚さよりも薄い。ステージ210には上面側に回転ステージ212に対応する凹部が設けられており、回転ステージ212はその凹部に配置されている。ステージ210の上面と回転ステージ212の上面とは、ほぼ段差のない平面となっている。   The rotary stage 212 has, for example, a circular shape and has an upper surface that is slightly smaller in plan than the stage 210, and the thickness thereof is thinner than the thickness of the stage 210. The stage 210 is provided with a concave portion corresponding to the rotary stage 212 on the upper surface side, and the rotary stage 212 is disposed in the concave portion. The upper surface of the stage 210 and the upper surface of the rotary stage 212 are substantially flat surfaces.

回転ステージ212は、円形状の上面の中心に回転軸(図示しない)を有しており、その回転軸を中心にして図7(a)に回転矢印R1で示すように回転可能である。また、回転ステージ212のうち、少なくとも基準偏光子214に平面的に重なる領域周辺の部分は、透光性を有する材料からなる。図示しないが、回転ステージ212は吸引装置に接続された吸着孔や吸引路を有しており、回転ステージ212の上面には配向処理を行う素子基板10(または対向基板20)が配向膜34(図示しない)を上にして載置され吸着固定される。   The rotation stage 212 has a rotation axis (not shown) at the center of the circular upper surface, and can rotate around the rotation axis as indicated by a rotation arrow R1 in FIG. In addition, at least a portion around the region of the rotary stage 212 that overlaps the reference polarizer 214 in a plane is made of a light-transmitting material. Although not shown, the rotary stage 212 has a suction hole and a suction path connected to a suction device, and the element substrate 10 (or the counter substrate 20) for performing an alignment process is formed on the alignment film 34 (on the upper surface of the rotary stage 212). It is placed and fixed by suction (not shown).

基準偏光子214は、ステージ210に設けられており、回転ステージ212に平面的に重なる位置に、回転ステージ212の上面に対して平行になるように配置されている。基準偏光子214は、例えば偏光板であり、光学軸としての透過軸(図示しない)を有している。基準偏光子214の透過軸は、後述するステージ210の移動方向D1に対して所定の位置関係、例えば、平行または直交する方向となっている。基準偏光子214は、ワイヤーグリッド偏光子等の偏光分離機能を有する光学素子であってもよい。   The reference polarizer 214 is provided on the stage 210 and is disposed so as to be parallel to the upper surface of the rotary stage 212 at a position overlapping the rotary stage 212 in a plane. The reference polarizer 214 is a polarizing plate, for example, and has a transmission axis (not shown) as an optical axis. The transmission axis of the reference polarizer 214 has a predetermined positional relationship, for example, a direction parallel or orthogonal to a moving direction D1 of the stage 210 described later. The reference polarizer 214 may be an optical element having a polarization separation function such as a wire grid polarizer.

回転ステージ212に載置される素子基板10(または対向基板20)は、ワイヤーグリッド偏光子30(またはワイヤーグリッド偏光子32)が基準偏光子214に平面的に重なるように配置される。なお、基準偏光子214は、ワイヤーグリッド偏光子30,32よりも十分大きな面積を有していることが望ましい。また、基準偏光子214は、ステージ210の回転ステージ212に平面的に重なる領域内の複数個所に設けられていてもよいし、回転ステージ212の全領域に平面的に重なるように回転ステージ212と略同一の大きさを有していてもよい。   The element substrate 10 (or the counter substrate 20) placed on the rotation stage 212 is arranged so that the wire grid polarizer 30 (or the wire grid polarizer 32) overlaps the reference polarizer 214 in a plane. The reference polarizer 214 desirably has a sufficiently larger area than the wire grid polarizers 30 and 32. In addition, the reference polarizer 214 may be provided at a plurality of locations in a region that overlaps the rotation stage 212 of the stage 210 in a plane, or the reference polarizer 214 and the rotation stage 212 so as to overlap the entire region of the rotation stage 212 in a plane. They may have substantially the same size.

さらには、基準偏光子214がその基準となる透過軸の方向(ステージ210の移動方向D1に対して所定の位置関係)を維持したまま、回転ステージ212の回転と同期してその回転方向に移動する構成であってもよい。このような構成であれば、回転ステージ212によってワイヤーグリッド偏光子30(またはワイヤーグリッド偏光子32)が回転方向に大幅に移動した場合であっても、基準偏光子214に平面的に重なる配置とすることができる。   Further, the reference polarizer 214 moves in the rotation direction in synchronization with the rotation of the rotary stage 212 while maintaining the direction of the transmission axis as a reference (predetermined positional relationship with respect to the movement direction D1 of the stage 210). It may be configured to. With such a configuration, even when the wire grid polarizer 30 (or the wire grid polarizer 32) is significantly moved in the rotation direction by the rotation stage 212, the reference polarizer 214 is planarly overlapped. can do.

光源216は、ステージ210の上面とは反対側に、基準偏光子214に平面的に重なるように配置されている。光源216は、基準偏光子214の方向に略平行光を照射する。光源216として、例えば可視光領域の波長を有する光を発するランプを用いてもよいし、発光ダイオード(LED)やレーザーダイオード等を用いてもよい。光源216の基準偏光子214側にコリメーターレンズを配置してもよい。   The light source 216 is disposed on the side opposite to the upper surface of the stage 210 so as to overlap the reference polarizer 214 in a plane. The light source 216 irradiates substantially parallel light in the direction of the reference polarizer 214. As the light source 216, for example, a lamp that emits light having a wavelength in the visible light region may be used, or a light emitting diode (LED), a laser diode, or the like may be used. A collimator lens may be disposed on the reference polarizer 214 side of the light source 216.

なお、ステージ210の基準偏光子214および光源216に平面的に重なる部分は、例えば貫通孔となっており、光源216から基準偏光子214に照射される光が遮られないようになっている。光源216が、ステージ210の貫通孔内に設けられていてもよい。また、ステージ210の基準偏光子214および光源216に平面的に重なる部分あるいは全体が、透光性を有する材料で構成されていてもよい。   Note that a portion of the stage 210 that overlaps the reference polarizer 214 and the light source 216 in plan view is a through hole, for example, so that the light irradiated from the light source 216 to the reference polarizer 214 is not blocked. A light source 216 may be provided in the through hole of the stage 210. In addition, a part or the whole of the stage 210 that overlaps the reference polarizer 214 and the light source 216 in a plan view may be made of a light-transmitting material.

受光部218は、ステージ210の光源216とは反対側に配置されている。受光部218は、光源216から照射され基準偏光子214とワイヤーグリッド偏光子30(またはワイヤーグリッド偏光子32)とを透過する光L1の光路上に位置している。受光部218は、受光する光L1の強度を測定する機能を有している。受光部218として、例えばフォトマルチメーター等を用いて、光L1の強度を電気信号に変換して測定してもよい。あるいは、受光部218として輝度計等を用いて、光の輝度を測定してもよい。   The light receiving unit 218 is disposed on the side opposite to the light source 216 of the stage 210. The light receiving unit 218 is located on the optical path of the light L1 that is irradiated from the light source 216 and passes through the reference polarizer 214 and the wire grid polarizer 30 (or the wire grid polarizer 32). The light receiving unit 218 has a function of measuring the intensity of the received light L1. For example, a photomultimeter may be used as the light receiving unit 218 to convert the intensity of the light L1 into an electrical signal and measure it. Alternatively, the luminance of light may be measured using a luminance meter or the like as the light receiving unit 218.

なお、光源216から射出される光が、基準偏光子214の法線、つまり回転ステージ212に載置された素子基板10(または対向基板20)の法線の方向から入射するように、ステージ210に対して光源216を相対的に配置することが望ましい。光源216と受光部218との位置関係は、図面上において上下逆であってもよい。また、光源216および受光部218が、回転ステージ212の回転と同期してその回転方向に移動する構成であってもよい。   Note that the stage 210 is arranged such that light emitted from the light source 216 is incident from the normal direction of the reference polarizer 214, that is, the normal direction of the element substrate 10 (or the counter substrate 20) placed on the rotary stage 212. It is desirable to arrange the light source 216 relative to the other. The positional relationship between the light source 216 and the light receiving unit 218 may be upside down in the drawing. The light source 216 and the light receiving unit 218 may be configured to move in the rotation direction in synchronization with the rotation of the rotary stage 212.

ラビング処理部220は、ローラー222とラビング布224とを備えている。ローラー222は円柱形状であり、その長さは、例えば、素子基板10(または対向基板20)の長辺の長さ以上である。ローラー222は、例えば、SUSやアルミ等の金属材料で形成されている。ローラー222は、モーター、変速機等を備えた回転駆動機構(図示しない)により、回転軸226を中心として、回転矢印R2で示す向きに回転する。ラビング布224は、ローラー222の周囲に巻き付けられている。ラビング布224は、例えば、基材にレーヨン等の短繊維が植毛されたものである。   The rubbing processing unit 220 includes a roller 222 and a rubbing cloth 224. The roller 222 has a cylindrical shape, and the length thereof is, for example, not less than the length of the long side of the element substrate 10 (or the counter substrate 20). The roller 222 is made of, for example, a metal material such as SUS or aluminum. The roller 222 is rotated about a rotation shaft 226 in a direction indicated by a rotation arrow R2 by a rotation drive mechanism (not shown) including a motor, a transmission, and the like. The rubbing cloth 224 is wound around the roller 222. The rubbing cloth 224 is obtained by, for example, planting short fibers such as rayon on a base material.

ラビング装置200は、ラビング処理部220に対して、ステージ210を所定の方向に移動させる移動機構(図示しない)を備えている。この移動機構は、例えば、ラック・アンド・ピニオン方式等の駆動装置を含んで構成される。ステージ210は、移動機構により、ステージ210の上面に平行な移動方向D1に沿って矢印の向きに、ラビング処理部220に向かって移動する。図7(a)のC−C’線の方向は、ステージ210の移動方向D1に沿った方向である。これにより、ラビング処理部220は、素子基板10に対して矢印と反対の向きに相対的に移動する。なお、ラビング装置200は、ラビング処理部220をステージ210に対して移動させる構成であってもよい。   The rubbing apparatus 200 includes a moving mechanism (not shown) that moves the stage 210 in a predetermined direction with respect to the rubbing processing unit 220. The moving mechanism includes a drive device such as a rack and pinion method. The stage 210 is moved by the moving mechanism toward the rubbing processing unit 220 in the direction of the arrow along the moving direction D1 parallel to the upper surface of the stage 210. The direction of the C-C ′ line in FIG. 7A is a direction along the moving direction D <b> 1 of the stage 210. Accordingly, the rubbing processing unit 220 moves relative to the element substrate 10 in the direction opposite to the arrow. Note that the rubbing apparatus 200 may be configured to move the rubbing processing unit 220 relative to the stage 210.

ローラー222の回転軸226の方向は、例えば、ステージ210の移動方向D1と直交する方向である。この場合、ラビング処理により配向膜34には、ステージ210の移動方向D1に沿って配向異方性が付与される。したがって、配向膜34の表面に付与される配向異方性の方向、すなわち配向方向34aは、移動方向D1に沿った方向となる。また、回転軸226の方向は、光学設計に基づく配向方向34aに応じて適宜調整することができる。   The direction of the rotating shaft 226 of the roller 222 is, for example, a direction orthogonal to the moving direction D1 of the stage 210. In this case, alignment anisotropy is imparted to the alignment film 34 along the moving direction D1 of the stage 210 by rubbing. Therefore, the direction of orientation anisotropy imparted to the surface of the orientation film 34, that is, the orientation direction 34a is a direction along the movement direction D1. Moreover, the direction of the rotating shaft 226 can be appropriately adjusted according to the orientation direction 34a based on the optical design.

ローラー222の回転軸226の方向と、ステージ210の移動方向D1と直交する方向とが異なる場合、ラビング処理により配向膜34に付与される配向方向34aは、ローラー222の回転軸226と直交する方向とステージ210の移動方向D1との合成ベクトルで与えられる。したがって、配向処理によって配向膜34に付与される配向方向34aは、基準偏光子214の透過軸と所定の位置関係となる。   When the direction of the rotation axis 226 of the roller 222 is different from the direction orthogonal to the moving direction D1 of the stage 210, the alignment direction 34a applied to the alignment film 34 by the rubbing process is a direction orthogonal to the rotation axis 226 of the roller 222. And a combined vector of the moving direction D1 of the stage 210. Therefore, the alignment direction 34 a applied to the alignment film 34 by the alignment process has a predetermined positional relationship with the transmission axis of the reference polarizer 214.

<ラビング方法>
次に、工程P13でラビング法により配向処理を行う方法(ラビング方法)について説明する。まず、図7(a)および(b)に示すように、回転ステージ212の上面に、配向膜34が形成された面を上にして素子基板10を載置し吸着固定する。このとき、素子基板10に設けられたワイヤーグリッド偏光子30が基準偏光子214に平面的に重なるように配置する。なお、ステージ210とラビング処理部220とは十分に離間されている。
<Rubbing method>
Next, a method (rubbing method) of performing an alignment process by the rubbing method in Step P13 will be described. First, as shown in FIGS. 7A and 7B, the element substrate 10 is placed on the upper surface of the rotary stage 212 with the surface on which the alignment film 34 is formed facing up, and is fixed by suction. At this time, the wire grid polarizer 30 provided on the element substrate 10 is arranged so as to overlap the reference polarizer 214 in a planar manner. The stage 210 and the rubbing processing unit 220 are sufficiently separated from each other.

次に、素子基板10の配向膜34に光学設計に基づく配向方向34aに配向処理が行われるように、ステージ210に設けられた基準偏光子214と対向する面内における素子基板10の相対的な位置関係を決定する。ここでは、ワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30aに対して基準偏光子214の透過軸が所定の方向、例えば平行または直交する方向となるように、基準偏光子214と素子基板10(ワイヤーグリッド偏光子30)との相対的な位置関係を調整する。   Next, relative alignment of the element substrate 10 in the plane facing the reference polarizer 214 provided on the stage 210 is performed so that the alignment film 34 of the element substrate 10 is subjected to an alignment process in the alignment direction 34a based on the optical design. Determine the positional relationship. Here, the reference polarizer 214 and the element substrate 10 (wire grid polarization) are set so that the transmission axis of the reference polarizer 214 is in a predetermined direction, for example, parallel or orthogonal to the transmission axis 30a of the wire grid polarizer 30. The relative positional relationship with the child 30) is adjusted.

より具体的には、光源216から光を照射し、基準偏光子214とワイヤーグリッド偏光子30,32とを透過する光L1の強度を受光部218で測定する。そして、回転ステージ212を回転させることにより、ワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30aと基準偏光子214の透過軸との相対的な位置関係を変化させて、受光部218で受光する光L1の強度が最大または最小となるように調整する。   More specifically, the light receiving unit 218 measures the intensity of the light L1 that is irradiated with light from the light source 216 and passes through the reference polarizer 214 and the wire grid polarizers 30 and 32. Then, by rotating the rotary stage 212, the relative positional relationship between the transmission axis 30a of the wire grid polarizer 30 and the transmission axis of the reference polarizer 214 is changed, and the intensity of the light L1 received by the light receiving unit 218. Adjust so that becomes the maximum or minimum.

このとき、受光部218で受光する光L1の強度が最大となるのは、ワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30aと基準偏光子214の透過軸とが互いに平行になるときである。また、受光部218で受光する光L1の強度が最小となるのは、ワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30aと基準偏光子214の透過軸とが互いに直交するときである。   At this time, the intensity of the light L1 received by the light receiving unit 218 is maximized when the transmission axis 30a of the wire grid polarizer 30 and the transmission axis of the reference polarizer 214 are parallel to each other. Further, the intensity of the light L1 received by the light receiving unit 218 is minimized when the transmission axis 30a of the wire grid polarizer 30 and the transmission axis of the reference polarizer 214 are orthogonal to each other.

受光する光L1の強度が最大となる場合と最小となる場合とのどちらを選択するかは、光L1の強度を測定する機器の感度特性(光の強度が小さい側で感度が高い、または光の強度が大きい側で感度が高い)等に応じて決定することができる。なお、ワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30aの方向および基準偏光子214の透過軸の方向は、液晶パネル2の光学設計に応じて任意に設定することができる。これにより、ステージ210と素子基板10との相対的な位置関係、すなわち、素子基板10に対して配向処理を行う方向が決定される。   Whether to select the maximum or minimum intensity of the received light L1 depends on the sensitivity characteristics of the device that measures the intensity of the light L1 (the sensitivity is high on the side where the light intensity is low, or the light The higher the intensity, the higher the sensitivity). The direction of the transmission axis 30 a of the wire grid polarizer 30 and the direction of the transmission axis of the reference polarizer 214 can be arbitrarily set according to the optical design of the liquid crystal panel 2. As a result, the relative positional relationship between the stage 210 and the element substrate 10, that is, the direction in which the alignment process is performed on the element substrate 10 is determined.

次に、素子基板10に対するラビング布224の押込み量が所望の値となるように調整し、ステージ210を移動方向D1に沿って矢印の向きに移動させる。ステージ210の移動により、ラビング処理部220は、素子基板10の配向膜34を擦りながら相対的に移動する。ラビング処理を一方向に行ったら、吸着固定を解除し素子基板10を取り外す。ラビング処理は、同一方向に複数回行ってもよい。   Next, the pressing amount of the rubbing cloth 224 against the element substrate 10 is adjusted to a desired value, and the stage 210 is moved in the direction of the arrow along the movement direction D1. By the movement of the stage 210, the rubbing processing unit 220 relatively moves while rubbing the alignment film 34 of the element substrate 10. When the rubbing process is performed in one direction, the suction fixation is released and the element substrate 10 is removed. The rubbing process may be performed a plurality of times in the same direction.

以上で、工程P13が終了する。工程P13でラビング処理が行われた素子基板10においては、ワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30aと配向膜34の配向方向34aとは所定の位置関係、例えば、互いに平行または直交する位置関係となる。このような方法によれば、配向膜34における配向方向34aを、ワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30aを基準にして光学的に位置合わせすることができる。このため、素子基板10の外形やアライメントマーク等を基準にラビング処理を行う場合に比べて、素子基板10の配向膜34に、液晶パネル2の光学設計に基づく所定の方向に精度良く配向処理を行うことができる。また、これにより、配向処理の後に位置精度を検査する工程を不要にできる。   Above, process P13 is completed. In the element substrate 10 subjected to the rubbing process in the process P13, the transmission axis 30a of the wire grid polarizer 30 and the alignment direction 34a of the alignment film 34 have a predetermined positional relationship, for example, a positional relationship that is parallel or orthogonal to each other. . According to such a method, the alignment direction 34 a in the alignment film 34 can be optically aligned with reference to the transmission axis 30 a of the wire grid polarizer 30. For this reason, the alignment process on the alignment film 34 of the element substrate 10 is accurately performed in a predetermined direction based on the optical design of the liquid crystal panel 2 as compared with the case where the rubbing process is performed based on the outer shape of the element substrate 10 and the alignment mark. It can be carried out. This also eliminates the need for a step of inspecting positional accuracy after the alignment process.

次に、対向基板20を製造する工程のうち工程P21では、対向基板20上に遮光層22,24を形成するとともに、工程P11と同様にして、光学素子としてのワイヤーグリッド偏光子32、共通電極18等を形成する。そして、工程P22では、工程P12と同様にして、対向基板20の表面に配向膜36を形成する。そして、工程P23では、工程P13と同様にして、配向膜36の表面に図5(b)に示す配向方向36aに配向処理を行う。これにより、対向基板20の配向膜36に、液晶パネル2の光学設計に基づく所定の方向に精度良く配向処理を行うことができる。以上で、素子基板10および対向基板20の一対の基板が用意される。   Next, in the process P21 of the process of manufacturing the counter substrate 20, the light shielding layers 22 and 24 are formed on the counter substrate 20, and the wire grid polarizer 32 as the optical element, the common electrode, as in the process P11. 18 etc. are formed. In step P22, the alignment film 36 is formed on the surface of the counter substrate 20 in the same manner as in step P12. Then, in the process P23, the alignment process is performed on the surface of the alignment film 36 in the alignment direction 36a shown in FIG. As a result, the alignment film 36 of the counter substrate 20 can be accurately aligned in a predetermined direction based on the optical design of the liquid crystal panel 2. Thus, a pair of substrates of the element substrate 10 and the counter substrate 20 are prepared.

<液晶パネルの製造工程>
次に、工程P31では、素子基板10と対向基板20との位置合わせを行う。まず、図8に示すように、素子基板10に形成されたワイヤーグリッド偏光子30と、対向基板20に形成されたワイヤーグリッド偏光子32とが互いに平面的に重なるように、素子基板10と対向基板20とを対向させて配置する。なお、素子基板10または対向基板20には、予めシール材41を塗布しておく。
<Manufacturing process of liquid crystal panel>
Next, in the process P31, the element substrate 10 and the counter substrate 20 are aligned. First, as shown in FIG. 8, the wire grid polarizer 30 formed on the element substrate 10 and the wire grid polarizer 32 formed on the counter substrate 20 are opposed to the element substrate 10 so as to overlap each other in a plane. The substrate 20 is disposed facing the substrate 20. A sealing material 41 is applied in advance to the element substrate 10 or the counter substrate 20.

素子基板10と対向基板20とは、それぞれ吸着固定可能な保持部230,232により、互いに平行に保持される。また、対向基板20は、対向基板20(素子基板10)の表面の法線方向を回転軸として回転可能に保持される。保持部230,232は、例えば透光性を有する材料からなる。保持部230,232の材料が非透光性である場合は、ワイヤーグリッド偏光子30,32に平面的に重なる位置に、光を透過させる貫通孔等が設けられていてもよい。   The element substrate 10 and the counter substrate 20 are held in parallel with each other by holding portions 230 and 232 that can be fixed by suction. Further, the counter substrate 20 is rotatably held with the normal direction of the surface of the counter substrate 20 (element substrate 10) as a rotation axis. The holding parts 230 and 232 are made of a material having translucency, for example. When the material of the holding parts 230 and 232 is non-translucent, a through hole or the like that transmits light may be provided at a position that overlaps the wire grid polarizers 30 and 32 in a plane.

続いて、素子基板10の対向基板20とは反対側に光源234を配置する。また、対向基板20の素子基板10とは反対側に受光部236を配置する。そして、光源234からの光を、ワイヤーグリッド偏光子30とワイヤーグリッド偏光子32とに順次入射させる。このワイヤーグリッド偏光子30とワイヤーグリッド偏光子32とを透過した光L2を受光部236で受光し、光L2の強度を測定する。   Subsequently, the light source 234 is arranged on the opposite side of the element substrate 10 from the counter substrate 20. In addition, the light receiving unit 236 is disposed on the opposite side of the counter substrate 20 from the element substrate 10. Then, light from the light source 234 is sequentially incident on the wire grid polarizer 30 and the wire grid polarizer 32. The light L2 transmitted through the wire grid polarizer 30 and the wire grid polarizer 32 is received by the light receiving unit 236, and the intensity of the light L2 is measured.

このとき、光源234から射出される光が、素子基板10(対向基板20)の法線の方向から入射するように、光源234を相対的に配置することが望ましい。光源234と受光部236との位置関係は、図面上において上下逆であってもよい。なお、光源234はラビング装置200における光源216と同様の構成を有し、受光部236はラビング装置200における受光部218と同様の構成を有している。   At this time, it is desirable to relatively arrange the light source 234 so that the light emitted from the light source 234 enters from the direction of the normal line of the element substrate 10 (counter substrate 20). The positional relationship between the light source 234 and the light receiving unit 236 may be upside down in the drawing. The light source 234 has the same configuration as that of the light source 216 in the rubbing device 200, and the light receiving unit 236 has the same configuration as that of the light receiving unit 218 in the rubbing device 200.

次に、図9に示すように、素子基板10および対向基板20同士の対向する面内における相対的な位置関係を決定する。ここでは、素子基板10のワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30aを基準にして、対向基板20のワイヤーグリッド偏光子32の透過軸32aが所定の方向となるように、素子基板10および対向基板20同士の位置関係を調整する。なお、図9では、図8における保持部230と保持部232との図示を省略している。   Next, as shown in FIG. 9, the relative positional relationship between the opposing surfaces of the element substrate 10 and the counter substrate 20 is determined. Here, with reference to the transmission axis 30a of the wire grid polarizer 30 of the element substrate 10, the element substrate 10 and the counter substrate 20 are arranged such that the transmission axis 32a of the wire grid polarizer 32 of the counter substrate 20 is in a predetermined direction. Adjust the positional relationship between each other. In FIG. 9, illustration of the holding unit 230 and the holding unit 232 in FIG. 8 is omitted.

より具体的には、素子基板10を固定した状態で、素子基板10および対向基板20同士が対向する面内で対向基板20を回転させて、受光部236で受光する光L2の強度が最大または最小となるように、ワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30aとワイヤーグリッド偏光子32の透過軸32aとの位置関係を変化させる。   More specifically, with the element substrate 10 fixed, the counter substrate 20 is rotated in a plane where the element substrate 10 and the counter substrate 20 face each other, and the intensity of the light L2 received by the light receiving unit 236 is maximum or The positional relationship between the transmission axis 30a of the wire grid polarizer 30 and the transmission axis 32a of the wire grid polarizer 32 is changed so as to be minimized.

ここで、受光部236で受光する光L2の強度が最大となるのは、ワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30aとワイヤーグリッド偏光子32の透過軸32aとが互いに平行になるときである。また、受光部236で受光する光L2の強度が最小となるのは、ワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30aとワイヤーグリッド偏光子32の透過軸32aとが互いに直交するときである。   Here, the intensity of the light L2 received by the light receiving unit 236 is maximized when the transmission axis 30a of the wire grid polarizer 30 and the transmission axis 32a of the wire grid polarizer 32 are parallel to each other. In addition, the intensity of the light L2 received by the light receiving unit 236 is minimized when the transmission axis 30a of the wire grid polarizer 30 and the transmission axis 32a of the wire grid polarizer 32 are orthogonal to each other.

ところで、素子基板10の配向膜34には、工程P13におけるラビング処理により、ワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30aを基準にして、液晶パネル2の光学設計に基づく所定の配向方向34aに配向処理が行われている。また、対向基板20の配向膜36には、工程P23におけるラビング処理により、ワイヤーグリッド偏光子32の透過軸32aを基準にして、液晶パネル2の光学設計に基づく所定の配向方向36aに配向処理が行われている。   By the way, the alignment film 34 of the element substrate 10 is subjected to an alignment process in a predetermined alignment direction 34a based on the optical design of the liquid crystal panel 2 based on the transmission axis 30a of the wire grid polarizer 30 by the rubbing process in the process P13. Has been done. Further, the alignment film 36 of the counter substrate 20 is subjected to an alignment process in a predetermined alignment direction 36a based on the optical design of the liquid crystal panel 2 based on the transmission axis 32a of the wire grid polarizer 32 by the rubbing process in the process P23. Has been done.

例えば、ワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30aと配向膜34の配向方向34aとが互いに平行であり、ワイヤーグリッド偏光子32の透過軸32aと配向膜36の配向方向36aとが互いに平行であるとする。このとき、ワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30aとワイヤーグリッド偏光子32の透過軸32aとが互いに直交するように調整すれば、素子基板10の配向方向34aと対向基板20の配向方向36aとは、液晶パネル2の光学設計に基づく互いに直交する位置関係となる(図5(b)参照)。   For example, the transmission axis 30a of the wire grid polarizer 30 and the alignment direction 34a of the alignment film 34 are parallel to each other, and the transmission axis 32a of the wire grid polarizer 32 and the alignment direction 36a of the alignment film 36 are parallel to each other. To do. At this time, if the transmission axis 30a of the wire grid polarizer 30 and the transmission axis 32a of the wire grid polarizer 32 are adjusted so as to be orthogonal to each other, the orientation direction 34a of the element substrate 10 and the orientation direction 36a of the counter substrate 20 are The positions are orthogonal to each other based on the optical design of the liquid crystal panel 2 (see FIG. 5B).

これにより、素子基板10と対向基板20とを、それぞれの配向方向34aと配向方向36aとが液晶パネル2の光学設計に基づく所定の方向になるように、精度良く位置合わせすることができる。以上で、素子基板10と対向基板20との位置関係が決定される。なお、対向基板20を固定した状態で素子基板10を回転させて位置合わせを行ってもよいし、素子基板10と対向基板20との双方を回転させて位置合わせを行ってもよい。   Thereby, the element substrate 10 and the counter substrate 20 can be aligned with high precision so that the respective alignment directions 34a and 36a are in predetermined directions based on the optical design of the liquid crystal panel 2. Thus, the positional relationship between the element substrate 10 and the counter substrate 20 is determined. Note that the alignment may be performed by rotating the element substrate 10 in a state where the counter substrate 20 is fixed, or the alignment may be performed by rotating both the element substrate 10 and the counter substrate 20.

次に、工程P32では、素子基板10および対向基板20同士の貼り合わせを行う。貼り合わせは、工程P31で位置合わせされた位置関係を維持した状態で、対向する素子基板10と対向基板20とを予め塗布されているシール材41を介して接触させ、圧着して行われる。続いて、工程P33では、シール材41の開口部(注入口)から素子基板10と対向基板20との間に液晶を注入し、注入口を封止する。以上により、液晶パネル2が製造される。   Next, in the process P32, the element substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded to each other. The bonding is performed by bringing the opposing element substrate 10 and the counter substrate 20 into contact with each other through the sealing material 41 applied in advance while maintaining the positional relationship aligned in the process P31, and performing pressure bonding. Subsequently, in process P33, liquid crystal is injected between the element substrate 10 and the counter substrate 20 from the opening (injection port) of the sealing material 41, and the injection port is sealed. Thus, the liquid crystal panel 2 is manufactured.

本実施形態に係る液晶パネルの製造方法によれば、素子基板10に設けられたワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30a、および対向基板20に設けられたワイヤーグリッド偏光子32の透過軸32aを基準にして、素子基板10と対向基板20とを光学的に位置合わせすることができる。したがって、配向膜34,36の配向処理と、素子基板10と対向基板20との位置合わせとが、ワイヤーグリッド偏光子30,32の透過軸30a,32aを基準にして光学的に行われるので、液晶パネル2における液晶層40の配向方向を、光学設計に基づく所定の方向に精度良く合わせることができる。この結果、より優れた光学特性(コントラスト等)を有する液晶パネル2を製造できる。   According to the method for manufacturing a liquid crystal panel according to the present embodiment, the transmission axis 30a of the wire grid polarizer 30 provided on the element substrate 10 and the transmission axis 32a of the wire grid polarizer 32 provided on the counter substrate 20 are used as a reference. Thus, the element substrate 10 and the counter substrate 20 can be optically aligned. Therefore, the alignment treatment of the alignment films 34 and 36 and the alignment between the element substrate 10 and the counter substrate 20 are optically performed with reference to the transmission axes 30a and 32a of the wire grid polarizers 30 and 32. The alignment direction of the liquid crystal layer 40 in the liquid crystal panel 2 can be accurately aligned with a predetermined direction based on the optical design. As a result, the liquid crystal panel 2 having more excellent optical characteristics (contrast and the like) can be manufactured.

なお、素子基板10を製造する工程(工程P11から工程P13)、および対向基板20を製造する工程(工程P21から工程P23)では、例えば、複数個分の素子基板10または対向基板20が面付けされたマザー基板の状態で製造を行ってもよい。また、液晶パネル2を製造する工程(工程P31から工程P33)では、例えば、素子基板10が面付けされたマザー基板に対して対向基板20を個々に貼り合わせ液晶を注入・封止してから、これを所定の位置で切断するようにしてもよい。   In the process of manufacturing the element substrate 10 (process P11 to process P13) and the process of manufacturing the counter substrate 20 (process P21 to process P23), for example, a plurality of element substrates 10 or counter substrates 20 are impositioned. Manufacture may be performed in the state of the mother substrate. Further, in the process of manufacturing the liquid crystal panel 2 (from the process P31 to the process P33), for example, the counter substrate 20 is individually bonded to the mother substrate on which the element substrate 10 is attached, and the liquid crystal is injected and sealed. This may be cut at a predetermined position.

ここでは説明を省略するが、液晶ライトバルブ1を備えた投射型表示装置100の製造工程では、液晶パネル2と偏光板45,46(図1参照)との位置合わせが行われる。この液晶パネル2と偏光板45,46との位置合わせの際、例えば、素子基板10に設けられたワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30a(または対向基板20に設けられたワイヤーグリッド偏光子32の透過軸32a)を基準にして、偏光板45の透過軸45aおよび偏光板46の透過軸46aの少なくとも一方を、光学的に位置合わせすることができる。   Although not described here, in the manufacturing process of the projection display device 100 including the liquid crystal light valve 1, the alignment between the liquid crystal panel 2 and the polarizing plates 45 and 46 (see FIG. 1) is performed. When the liquid crystal panel 2 and the polarizing plates 45 and 46 are aligned, for example, the transmission axis 30a of the wire grid polarizer 30 provided on the element substrate 10 (or the wire grid polarizer 32 provided on the counter substrate 20). With reference to the transmission axis 32a), at least one of the transmission axis 45a of the polarizing plate 45 and the transmission axis 46a of the polarizing plate 46 can be optically aligned.

このような方法によれば、液晶パネル2と偏光板45,46との位置合わせが、液晶パネル2における配向膜34,36の配向処理の方向と素子基板10および対向基板20同士の位置合わせで用いたワイヤーグリッド偏光子30の方向を基準にして光学的に行われる。このため、液晶ライトバルブ1における偏光板45,46の透過軸45a,46aを、液晶ライトバルブの光学設計に基づく所定の方向に精度良く合わせることができる(図5(a)および(b)参照)。   According to such a method, the alignment between the liquid crystal panel 2 and the polarizing plates 45 and 46 is based on the alignment processing direction of the alignment films 34 and 36 in the liquid crystal panel 2 and the alignment between the element substrate 10 and the counter substrate 20. Optically based on the direction of the wire grid polarizer 30 used. For this reason, the transmission axes 45a and 46a of the polarizing plates 45 and 46 in the liquid crystal light valve 1 can be accurately aligned in a predetermined direction based on the optical design of the liquid crystal light valve (see FIGS. 5A and 5B). ).

なお、液晶パネル2において、ワイヤーグリッド偏光子30,32は、互いに平面的に重ならない領域を有している(図2(a)および(b)参照)。したがって、ワイヤーグリッド偏光子30,32のいずれか一方における他方と平面的に重ならない領域において、液晶パネル2と偏光板45,46との位置合わせを光学的に行うことができる。また、ワイヤーグリッド偏光子30,32は、液晶層40に平面的に重ならない領域に配置されている。したがって、液晶パネル2と偏光板45,46とを光学的に位置合わせする際、液晶層40による光学的影響を排除できる。   In the liquid crystal panel 2, the wire grid polarizers 30 and 32 have regions that do not overlap each other in plan view (see FIGS. 2A and 2B). Therefore, the alignment between the liquid crystal panel 2 and the polarizing plates 45 and 46 can be optically performed in a region where one of the wire grid polarizers 30 and 32 does not overlap the other in plan view. Further, the wire grid polarizers 30 and 32 are disposed in a region that does not overlap the liquid crystal layer 40 in a planar manner. Therefore, when the liquid crystal panel 2 and the polarizing plates 45 and 46 are optically aligned, the optical influence by the liquid crystal layer 40 can be eliminated.

(第2の実施形態)
<液晶ライトバルブの構成および光学設計条件>
次に、第2の実施形態に係る液晶ライトバルブの構成について図を参照して説明する。第2の実施形態に係る液晶ライトバルブは、第1の実施形態に係る液晶ライトバルブに対して、液晶パネルの配向方式と配向膜における配向処理とが異なっているが、その他の構成は同じである。図10は、第2の実施形態に係る液晶ライトバルブの光学設計条件を説明する図である。第1の実施形態と共通する構成要素については、同一の符号を付しその説明を省略する。
(Second Embodiment)
<Configuration of liquid crystal light valve and optical design conditions>
Next, the configuration of the liquid crystal light valve according to the second embodiment will be described with reference to the drawings. The liquid crystal light valve according to the second embodiment differs from the liquid crystal light valve according to the first embodiment in the alignment method of the liquid crystal panel and the alignment treatment in the alignment film, but the other configurations are the same. is there. FIG. 10 is a view for explaining optical design conditions of the liquid crystal light valve according to the second embodiment. Constituent elements common to the first embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図10(a)に示すように、第2の実施形態に係る液晶ライトバルブ5は、液晶パネル6と、液晶パネル6の光が入射する側に配置され透過軸55aを有する偏光板55と、液晶パネル6の光が射出される側に配置され透過軸56aを有する偏光板56と、を備えている。液晶パネル6は、素子基板10と対向基板20との間に挟持された液晶層50を備えている。第2の実施形態に係る液晶パネル6は、VA(Vertical Alignment)方式の液晶パネルである。液晶層50は、負の誘電率異方性を有する液晶で構成される。   As shown in FIG. 10A, the liquid crystal light valve 5 according to the second embodiment includes a liquid crystal panel 6, and a polarizing plate 55 that is disposed on the light incident side of the liquid crystal panel 6 and has a transmission axis 55a. And a polarizing plate 56 having a transmission axis 56a, which is disposed on the light emission side of the liquid crystal panel 6. The liquid crystal panel 6 includes a liquid crystal layer 50 sandwiched between the element substrate 10 and the counter substrate 20. The liquid crystal panel 6 according to the second embodiment is a VA (Vertical Alignment) type liquid crystal panel. The liquid crystal layer 50 is composed of a liquid crystal having negative dielectric anisotropy.

液晶パネル6において、素子基板10の液晶層50に面する側には配向膜52が設けられている。また、対向基板20の液晶層50に面する側には配向膜54が設けられている。配向膜52,54は、光配向材料からなる。配向膜52,54の材料としては、例えば、シンナモイル基、クマリン基、カルコン基等を官能基として含有する樹脂材料のように光二重化反応によって配向される光配向材料や、アゾ基を官能基として含有する樹脂材料のように光異性化反応によって配向される光配向材料等があげられる。   In the liquid crystal panel 6, an alignment film 52 is provided on the side of the element substrate 10 facing the liquid crystal layer 50. An alignment film 54 is provided on the side of the counter substrate 20 facing the liquid crystal layer 50. The alignment films 52 and 54 are made of a photo-alignment material. Examples of the material of the alignment films 52 and 54 include a photo-alignment material that is aligned by a photoduplexing reaction such as a resin material containing a cinnamoyl group, a coumarin group, or a chalcone group as a functional group, and an azo group as a functional group. Examples thereof include a photo-alignment material that is aligned by a photoisomerization reaction, such as a resin material to be contained.

液晶パネル6では、配向膜52,54に、光配向法により配向処理が施されている。配向膜52には、例えば、矢印で示す配向方向52aに配向処理が施されている。配向膜54には、例えば、矢印で示す配向方向54aに配向処理が施されている。図10(b)に示すように、液晶パネル6における素子基板10の配向方向52aと、対向基板20の配向方向54aとは互いに平行であるが、互いに相反する向きである。   In the liquid crystal panel 6, the alignment films 52 and 54 are subjected to an alignment process by a photo-alignment method. For example, the alignment film 52 is subjected to an alignment process in an alignment direction 52a indicated by an arrow. For example, the alignment film 54 is subjected to an alignment process in an alignment direction 54a indicated by an arrow. As shown in FIG. 10B, the alignment direction 52a of the element substrate 10 and the alignment direction 54a of the counter substrate 20 in the liquid crystal panel 6 are parallel to each other, but are opposite to each other.

図10(b)に示すように、偏光板55の透過軸55aは、例えば、配向膜54の配向方向54aに対して反時計回りに45°ずれている。また、偏光板56の透過軸56aは、例えば、配向膜52の配向方向52aに対して時計回りに45°ずれている。したがって、透過軸55aと透過軸56aとは互いに直交している。   As shown in FIG. 10B, the transmission axis 55a of the polarizing plate 55 is shifted by 45 ° counterclockwise with respect to the alignment direction 54a of the alignment film 54, for example. Further, the transmission axis 56 a of the polarizing plate 56 is shifted by 45 ° clockwise with respect to the alignment direction 52 a of the alignment film 52, for example. Therefore, the transmission shaft 55a and the transmission shaft 56a are orthogonal to each other.

液晶パネル6に電圧が印加されない状態(非駆動状態)では、液晶層50において、液晶分子50aは長軸方向が素子基板10および対向基板20の法線方向に沿うように立ち上がって配向する。したがって、液晶パネル6に入射した偏光板55の透過軸55aに平行な直線偏光は、そのままの状態で液晶層50を透過して液晶パネル6から射出されるが、偏光板56を透過しないので暗表示状態となる。つまり、液晶パネル6の表示モード(光学設計)は、非駆動状態において光が透過しないノーマリーブラックである。   In a state where no voltage is applied to the liquid crystal panel 6 (non-driving state), in the liquid crystal layer 50, the liquid crystal molecules 50a are aligned with their major axis directions rising along the normal direction of the element substrate 10 and the counter substrate 20. Accordingly, the linearly polarized light that is incident on the liquid crystal panel 6 and is parallel to the transmission axis 55a of the polarizing plate 55 passes through the liquid crystal layer 50 and is emitted from the liquid crystal panel 6 as it is. Display state. That is, the display mode (optical design) of the liquid crystal panel 6 is normally black that does not transmit light in the non-driven state.

一方、図示しないが、液晶パネル6に電圧が印加された状態(駆動状態)では、液晶分子50aは長軸方向が倒れるように配列する。この駆動状態において液晶パネル6に入射する光には、液晶層50の複屈折性により90°の位相差が付与される。したがって、液晶パネル6に入射した偏光板55の透過軸55aに平行な直線偏光は、液晶層50の複屈折性により、振動方向が90°回転した直線偏光となり、液晶パネル6から射出される。この直線偏光は、偏光板56の透過軸56aに平行であり、偏光板56を透過するので、明表示状態となる。   On the other hand, although not shown, in a state where a voltage is applied to the liquid crystal panel 6 (driving state), the liquid crystal molecules 50a are arranged so that the major axis direction is tilted. The light incident on the liquid crystal panel 6 in this driving state is given a 90 ° phase difference due to the birefringence of the liquid crystal layer 50. Therefore, the linearly polarized light that is incident on the liquid crystal panel 6 and is parallel to the transmission axis 55 a of the polarizing plate 55 becomes linearly polarized light whose oscillation direction is rotated by 90 ° due to the birefringence of the liquid crystal layer 50 and is emitted from the liquid crystal panel 6. Since this linearly polarized light is parallel to the transmission axis 56a of the polarizing plate 56 and transmits through the polarizing plate 56, a bright display state is obtained.

なお、液晶パネル6において、配向膜52,54の配向方向52a,54aや偏光板55,56の透過軸55a,56a等の光学設計条件は、上記の形態に限定されるものではない。   In the liquid crystal panel 6, the optical design conditions such as the alignment directions 52 a and 54 a of the alignment films 52 and 54 and the transmission axes 55 a and 56 a of the polarizing plates 55 and 56 are not limited to the above forms.

ここで、液晶パネル6において、図10(c)に示すように、非駆動状態において液晶分子50aの長軸方向が素子基板10(対向基板20)の法線方向に対して角度αだけ傾いて立ち上がるように配向してもよい。この傾きをプレチルトと呼び、角度αをプレチルト角と呼ぶ。プレチルトは、駆動状態において、液晶分子50aが倒れる方向を制御するためのものである。液晶分子50aが倒れる方向は、液晶パネル6の視野角特性に関与する。例えば、液晶パネル6において、画素領域を複数の小領域に分割し、小領域によって液晶分子50aが倒れる方向を異ならせることにより、視野角特性をより広くすることができる。   Here, in the liquid crystal panel 6, as shown in FIG. 10C, in the non-driven state, the major axis direction of the liquid crystal molecules 50a is inclined by the angle α with respect to the normal direction of the element substrate 10 (opposing substrate 20). You may orient so that it may stand up. This inclination is called a pretilt, and the angle α is called a pretilt angle. The pretilt is for controlling the direction in which the liquid crystal molecules 50a are tilted in the driving state. The direction in which the liquid crystal molecules 50 a are tilted is related to the viewing angle characteristics of the liquid crystal panel 6. For example, in the liquid crystal panel 6, the viewing angle characteristics can be further widened by dividing the pixel region into a plurality of small regions and changing the direction in which the liquid crystal molecules 50 a are tilted depending on the small regions.

液晶パネル6では、配向膜52,54の配向方向52a,54aにより、プレチルトの方向とプレチルト角αとが制御される。液晶分子50aのプレチルトの方向は、配向方向52a,54aに平行な方向である。液晶分子50aは、配向膜52側が配向方向52aに沿った矢印の向きに、配向膜54側が配向方向54aに沿った矢印の向きに、それぞれ配向規制されてプレチルトした状態となる。   In the liquid crystal panel 6, the pretilt direction and the pretilt angle α are controlled by the alignment directions 52 a and 54 a of the alignment films 52 and 54. The pretilt direction of the liquid crystal molecules 50a is parallel to the alignment directions 52a and 54a. The liquid crystal molecules 50a are in a pre-tilted state in which the alignment film 52 side is pre-tilted with the alignment restricted in the direction of the arrow along the alignment direction 52a and the alignment film 54 side in the direction of the arrow along the alignment direction 54a.

なお、第2の実施形態に係る液晶パネル6においても、素子基板10および対向基板20に、ワイヤーグリッド偏光子30,32がそれぞれ設けられている。ワイヤーグリッド偏光子30,32は、配向膜52,54に配向処理を行う際、および素子基板10と対向基板20とを貼り合わせる際の位置合わせの基準として用いられる。   In the liquid crystal panel 6 according to the second embodiment, wire grid polarizers 30 and 32 are provided on the element substrate 10 and the counter substrate 20, respectively. The wire grid polarizers 30 and 32 are used as a reference for alignment when performing alignment processing on the alignment films 52 and 54 and bonding the element substrate 10 and the counter substrate 20 together.

<液晶パネルの製造方法>
次に、第2の実施形態に係る液晶パネルの製造方法について図を参照して説明する。第2の実施形態に係る液晶パネルの製造方法は、第1の実施形態に係る液晶パネルの製造方法と同様の工程を含んでいるが、光配向法により配向膜に配向処理を行う点が第1の実施形態に係る液晶パネルの製造方法と異なっている。第1の実施形態と共通する構成要素については、同一の符号を付しその説明を省略する。
<Manufacturing method of liquid crystal panel>
Next, a method for manufacturing a liquid crystal panel according to the second embodiment will be described with reference to the drawings. The manufacturing method of the liquid crystal panel according to the second embodiment includes the same steps as the manufacturing method of the liquid crystal panel according to the first embodiment, but the first is that alignment processing is performed on the alignment film by a photo-alignment method. This is different from the liquid crystal panel manufacturing method according to the first embodiment. Constituent elements common to the first embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

素子基板10を製造する工程における工程P12では、素子基板10の表面に、上述の光配向材料を、例えばスピンコート法等により塗布して配向膜52を形成する。続いて、工程P13では、配向膜52の表面に図10(b)に示す配向方向52aに、光配向法により配向処理を行う。また、対向基板20を製造する工程においても、工程P22で対向基板20の表面に光配向材料を塗布して配向膜54を形成し、工程P23で配向膜54の表面に図10(b)に示す配向方向54aに、光配向法により配向処理を行う。以下、第2の実施形態に係る配向処理方法を説明する。図11は、第2の実施形態に係る配向処理方法を説明する図である。   In step P12 in the process of manufacturing the element substrate 10, the alignment film 52 is formed by applying the above-described photo-alignment material to the surface of the element substrate 10 by, for example, a spin coating method. Subsequently, in process P13, an alignment process is performed on the surface of the alignment film 52 in the alignment direction 52a shown in FIG. Also in the process of manufacturing the counter substrate 20, a photo-alignment material is applied to the surface of the counter substrate 20 in the process P 22 to form the alignment film 54, and the process shown in FIG. 10B on the surface of the alignment film 54 in the process P 23. An alignment process is performed by an optical alignment method in the alignment direction 54a shown. Hereinafter, an alignment processing method according to the second embodiment will be described. FIG. 11 is a diagram for explaining an alignment processing method according to the second embodiment.

<光配向装置>
まず、本実施形態に係る液晶パネルの配向処理に用いる光照射装置300の概略構成を、図11を参照して説明する。本実施形態に係る液晶パネルの配向処理に用いる光照射装置300は、光源310と、シャッター316と、偏光子318と、ステージ320と、受光部322と、を備えている。
<Optical alignment device>
First, a schematic configuration of the light irradiation apparatus 300 used for the alignment process of the liquid crystal panel according to the present embodiment will be described with reference to FIG. The light irradiation apparatus 300 used for the alignment process of the liquid crystal panel according to the present embodiment includes a light source 310, a shutter 316, a polarizer 318, a stage 320, and a light receiving unit 322.

ステージ320上には、配向処理を行う素子基板10または対向基板20が載置される。ステージ320の素子基板10または対向基板20が載置される側の面を、載置面と呼ぶ。ステージ320は、例えば、透光性を有する材料で構成されている。ステージ320に不透光性材料を用い、素子基板10に設けられたワイヤーグリッド偏光子30または対向基板20に設けられたワイヤーグリッド偏光子32に平面的に重なる領域に、貫通孔や透光性を有する部材を配置する構成としてもよい。   On the stage 320, the element substrate 10 or the counter substrate 20 that performs the alignment process is placed. A surface of the stage 320 on which the element substrate 10 or the counter substrate 20 is placed is referred to as a placement surface. The stage 320 is made of a material having translucency, for example. A translucent material is used for the stage 320, and a through hole or a translucent material is formed in a region overlapping the wire grid polarizer 30 provided on the element substrate 10 or the wire grid polarizer 32 provided on the counter substrate 20 in a plane. It is good also as a structure which arrange | positions the member which has this.

ステージ320は、ステージ320を載置面に平行な面内で回転させる回転機構(図示しない)を備えている。回転機構は、例えば、ステージ320のワイヤーグリッド偏光子30,32に平面的に重なる領域に載置面の法線方向に平行な回転軸を有し、その回転軸を回転中心としてステージ320を回転させる。   The stage 320 includes a rotation mechanism (not shown) that rotates the stage 320 in a plane parallel to the placement surface. The rotation mechanism has, for example, a rotation axis parallel to the normal direction of the mounting surface in a region that overlaps the wire grid polarizers 30 and 32 of the stage 320 and rotates the stage 320 around the rotation axis. Let

光源310は、ステージ320の載置面に対向するように配置されている。光源310は、光配向処理を行なうための紫外線を含む光L3を放出する光源である。光源310は、ランプ312と集光鏡314とを備えている。ランプ312は、例えば、高圧水銀ランプ等で構成される。集光鏡314は、ランプ312のステージ320とは反対側の部分を覆うように配置されている。ランプ312から放出された光L3は、集光鏡314で反射されるとともに集光されて、例えば、ステージ320の載置面の法線方向に沿った平行光としてステージ320側に照射される。   The light source 310 is disposed so as to face the mounting surface of the stage 320. The light source 310 is a light source that emits light L3 including ultraviolet rays for performing photo-alignment processing. The light source 310 includes a lamp 312 and a condenser mirror 314. The lamp 312 is composed of, for example, a high pressure mercury lamp. The condensing mirror 314 is disposed so as to cover a portion of the lamp 312 opposite to the stage 320. The light L3 emitted from the lamp 312 is reflected and collected by the condenser mirror 314, and is irradiated on the stage 320 side as, for example, parallel light along the normal direction of the mounting surface of the stage 320.

シャッター316は、光源310からステージ320側に照射される光L3の光路上に位置しており、ステージ320の載置面に平行に配置されている。シャッター316は、遮光性を有する材料からなる。シャッター316は、シャッター保持部(図示しない)によって、ステージ320の載置面に平行な面内で移動可能に保持されている。シャッター316をシャッター保持部により移動させることで、光源310からの光L3を、素子基板10の配向膜52,54に照射することや、配向膜52,54に照射されないように遮光することができる。   The shutter 316 is located on the optical path of the light L3 emitted from the light source 310 to the stage 320 side, and is arranged in parallel to the mounting surface of the stage 320. The shutter 316 is made of a light-shielding material. The shutter 316 is movably held in a plane parallel to the mounting surface of the stage 320 by a shutter holding unit (not shown). By moving the shutter 316 by the shutter holding unit, the light L3 from the light source 310 can be irradiated to the alignment films 52 and 54 of the element substrate 10 or can be shielded from being irradiated to the alignment films 52 and 54. .

ここで、配向膜52,54はシール材41に囲まれた領域内に配置されており、ワイヤーグリッド偏光子30,32はシール材41の外側に配置されている(図2(a)および(b)参照)。したがって、シャッター316が、配向膜52,54に平面的に重なるとともにワイヤーグリッド偏光子30,32に平面的に重ならない位置に配置すれば、光源310からの光L3を、ワイヤーグリッド偏光子30,32に照射するとともに配向膜52,54に照射しないようにすることができる。なお、シャッター316のワイヤーグリッド偏光子30,32に平面的に重なる領域に、貫通孔や切り欠き等が設けられていてもよい。   Here, the alignment films 52 and 54 are disposed in a region surrounded by the seal material 41, and the wire grid polarizers 30 and 32 are disposed outside the seal material 41 (FIGS. 2A and 2B). b)). Therefore, if the shutter 316 is disposed at a position where the shutter 316 overlaps the alignment films 52 and 54 in a plane and does not overlap the wire grid polarizers 30 and 32, the light L3 from the light source 310 is converted into the wire grid polarizer 30, 32 and the alignment films 52 and 54 can be prevented from being irradiated. A through hole, a notch, or the like may be provided in a region that overlaps the wire grid polarizers 30 and 32 of the shutter 316 in a planar manner.

偏光子318は、光源310からステージ320側に照射される光L3の光路上に位置している。偏光子318は、保持部(図示しない)によって保持され、ステージ320の載置面に平行に配置されている。偏光子318は、例えば、シャッター316とステージ320との間に配置されている。偏光子318は、光源310とシャッター316との間に配置されていてもよい。   The polarizer 318 is located on the optical path of the light L3 irradiated from the light source 310 to the stage 320 side. The polarizer 318 is held by a holding unit (not shown), and is arranged in parallel with the mounting surface of the stage 320. For example, the polarizer 318 is disposed between the shutter 316 and the stage 320. The polarizer 318 may be disposed between the light source 310 and the shutter 316.

偏光子318は、ワイヤーグリッド等の偏光分離機能を有する光学素子または偏光板等からなり、所定の方向に透過軸を有している。光源310からの光L3は、偏光子318を透過することにより、偏光子318の透過軸に平行な直線偏光L3aとしてステージ320側に照射される。直線偏光L3aが素子基板10の配向膜52に照射されると、配向膜52には偏光子318の透過軸に平行な方向に配向処理が行われる。   The polarizer 318 includes an optical element having a polarization separation function such as a wire grid, a polarizing plate, or the like, and has a transmission axis in a predetermined direction. The light L3 from the light source 310 passes through the polarizer 318, and is irradiated on the stage 320 side as linearly polarized light L3a parallel to the transmission axis of the polarizer 318. When the linearly polarized light L3a is irradiated onto the alignment film 52 of the element substrate 10, the alignment film 52 is subjected to an alignment process in a direction parallel to the transmission axis of the polarizer 318.

受光部322は、ステージ320の載置面とは反対側に、ワイヤーグリッド偏光子30,32に平面的に重なるように配置されている。つまり、受光部322は、偏光子318を透過した直線偏光L3aのうち、ワイヤーグリッド偏光子30,32を透過する光L4の光路上に位置している。受光部322は、第1の実施形態における受光部218や受光部236と同様に、受光する光L4の強度を測定する機能を有している。   The light receiving unit 322 is disposed on the side opposite to the mounting surface of the stage 320 so as to overlap the wire grid polarizers 30 and 32 in a plane. That is, the light receiving unit 322 is positioned on the optical path of the light L4 that passes through the wire grid polarizers 30 and 32 out of the linearly polarized light L3a that has passed through the polarizer 318. The light receiving unit 322 has a function of measuring the intensity of the received light L4, like the light receiving unit 218 and the light receiving unit 236 in the first embodiment.

<光配向方法>
次に、工程P13および工程P23で光配向法により配向処理を行う方法(光配向方法)について説明する。なお、以下は工程P13について説明するが、工程P23についても工程P13と同様にして配向処理が行われる。
<Photo alignment method>
Next, a method (photo-alignment method) of performing an alignment process by the photo-alignment method in step P13 and step P23 will be described. In the following, the process P13 will be described, but the alignment process is performed also in the process P23 in the same manner as in the process P13.

まず、図11に示すように、ステージ320の載置面に、配向膜52が形成された面を上にして素子基板10を載置する。このとき、シャッター316は、光源310からの光L3が、ワイヤーグリッド偏光子30に照射されるとともに配向膜52に照射されない位置に配置されている。   First, as shown in FIG. 11, the element substrate 10 is mounted on the mounting surface of the stage 320 with the surface on which the alignment film 52 is formed facing up. At this time, the shutter 316 is arranged at a position where the light L3 from the light source 310 is irradiated on the wire grid polarizer 30 and not on the alignment film 52.

次に、ステージ320に載置された素子基板10と偏光子318との対向する面内における相対的な位置関係を決定する。ここでは、ワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30aを基準にして、偏光子318の透過軸が所定の方向となるように、偏光子318と素子基板10(ワイヤーグリッド偏光子30)との相対的な位置関係を調整する。   Next, the relative positional relationship between the element substrate 10 placed on the stage 320 and the polarizer 318 in the facing surface is determined. Here, relative to the polarizer 318 and the element substrate 10 (wire grid polarizer 30) so that the transmission axis of the polarizer 318 is in a predetermined direction with reference to the transmission axis 30a of the wire grid polarizer 30. The correct positional relationship.

より具体的には、光源310からの光L3のうち偏光子318を透過した直線偏光L3aをワイヤーグリッド偏光子30に照射し、ワイヤーグリッド偏光子30を透過する光L4の強度を受光部322で測定する。そして、ステージ320を回転させて、受光部322で受光する光L4の強度が最大または最小となるように、ワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30aと偏光子318の透過軸との相対的な位置関係を変化させる。   More specifically, of the light L3 from the light source 310, linearly polarized light L3a that has passed through the polarizer 318 is applied to the wire grid polarizer 30, and the intensity of the light L4 that passes through the wire grid polarizer 30 is determined by the light receiving unit 322. taking measurement. Then, by rotating the stage 320, the relative position between the transmission axis 30a of the wire grid polarizer 30 and the transmission axis of the polarizer 318 so that the intensity of the light L4 received by the light receiving unit 322 is maximized or minimized. Change the relationship.

ここで、受光部322で受光する光L4の強度が最大となるのは、ワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30aと偏光子318の透過軸とが互いに平行になるときである。また、受光部322で受光する光L4の強度が最小となるのは、ワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30aと偏光子318の透過軸とが互いに直交するときである。これにより、偏光子318に対する素子基板10の相対的な位置関係が決定される。つまり、配向膜52に照射する直線偏光L3aの偏光方向が、ワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30aを基準にして、光学設計に基づく所定の方向に決定される。   Here, the intensity of the light L4 received by the light receiving unit 322 is maximized when the transmission axis 30a of the wire grid polarizer 30 and the transmission axis of the polarizer 318 are parallel to each other. In addition, the intensity of the light L4 received by the light receiving unit 322 is minimized when the transmission axis 30a of the wire grid polarizer 30 and the transmission axis of the polarizer 318 are orthogonal to each other. Thereby, the relative positional relationship of the element substrate 10 with respect to the polarizer 318 is determined. That is, the polarization direction of the linearly polarized light L3a applied to the alignment film 52 is determined as a predetermined direction based on the optical design with reference to the transmission axis 30a of the wire grid polarizer 30.

次に、シャッター保持部によりシャッター316を移動させて、偏光子318を透過した直線偏光L3aを配向膜52に照射する。これにより、配向膜52内の分子が所定の一方向に配列される。つまり、ワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30aを基準にして、配向膜52に光学設計に基づく所定の配向方向52a(図10参照)に配向処理が行われる。素子基板10が直線偏光L3aの光束に対して大きい場合は、配向処理を行う際にステージ320を載置面に平行な面内で所定の方向に沿って移動させてもよい。   Next, the shutter 316 is moved by the shutter holding unit, and the alignment film 52 is irradiated with the linearly polarized light L <b> 3 a that has passed through the polarizer 318. Thereby, the molecules in the alignment film 52 are arranged in a predetermined direction. That is, the alignment process is performed on the alignment film 52 in a predetermined alignment direction 52a (see FIG. 10) based on the optical design with reference to the transmission axis 30a of the wire grid polarizer 30. When the element substrate 10 is larger than the light beam of the linearly polarized light L3a, the stage 320 may be moved along a predetermined direction in a plane parallel to the placement surface when performing the alignment process.

なお、上記の方法では、素子基板10と偏光子318との位置関係を光学的に調整する際の光を照射する光源として、光照射装置300の光源310を用いているが、光源310とは別に第1の実施形態における光源234(図8参照)のような光源を用いてもよい。また、偏光子318に対してステージ320を回転させているが、ステージ320を固定し偏光子318を対向する面内で回転させるようにしてもよい。   In the above method, the light source 310 of the light irradiation device 300 is used as a light source for irradiating light when the positional relationship between the element substrate 10 and the polarizer 318 is optically adjusted. Alternatively, a light source such as the light source 234 (see FIG. 8) in the first embodiment may be used. In addition, although the stage 320 is rotated with respect to the polarizer 318, the stage 320 may be fixed and the polarizer 318 may be rotated within the facing surface.

液晶パネル6におけるワイヤーグリッド偏光子30の透過軸30a、および光照射装置300における偏光子318の透過軸は、液晶パネル6の光学設計に応じて任意に設定することができる。   The transmission axis 30 a of the wire grid polarizer 30 in the liquid crystal panel 6 and the transmission axis of the polarizer 318 in the light irradiation device 300 can be arbitrarily set according to the optical design of the liquid crystal panel 6.

ところで、上述の工程P13では、光源310からの光L3がステージ320の載置面の法線方向に沿ってステージ320側に照射される構成であったが、光源310からの光L3を載置面の法線方向に対して所定の角度で傾けて照射するようにしてもよい。このようにすれば、載置面の法線方向に対する光L3の傾き角度に応じて、図10(c)に示す液晶分子50aのプレチルト角αを効果的に制御することができる。   By the way, in the above-described process P13, the light L3 from the light source 310 is irradiated to the stage 320 side along the normal direction of the mounting surface of the stage 320. However, the light L3 from the light source 310 is mounted. You may make it irradiate by inclining with a predetermined angle with respect to the normal line direction of a surface. In this way, the pretilt angle α of the liquid crystal molecules 50a shown in FIG. 10C can be effectively controlled according to the inclination angle of the light L3 with respect to the normal direction of the mounting surface.

第2の実施形態に係る液晶パネルの製造方法によれば、第1の実施形態に係る液晶パネルの製造方法と同様の効果が得られる。また、素子基板10および対向基板20に位置合わせの基準となるワイヤーグリッド偏光子30,32が設けられているので、光照射装置300に位置合わせ用の基準偏光子を設けなくてもよい。   According to the manufacturing method of the liquid crystal panel according to the second embodiment, the same effect as the manufacturing method of the liquid crystal panel according to the first embodiment can be obtained. In addition, since the element substrate 10 and the counter substrate 20 are provided with the wire grid polarizers 30 and 32 serving as the alignment reference, the light irradiation device 300 may not include the alignment reference polarizer.

なお、第1の実施形態に係る液晶パネル2の配向膜34,36を、第2の実施形態に係る液晶パネル6と同様に光配向材料で形成し、その配向膜34,36に第2の実施形態に係る液晶パネルの製造方法と同様に光配向処理を行う構成としてもよい。また、第2の実施形態に係る液晶パネル6の配向膜52,54を、第1の実施形態に係る液晶パネル2と同様にポリイミド樹脂等で形成し、その配向膜52,54に、第1の実施形態に係る液晶パネルの製造方法と同様にラビング処理を行う構成としてもよい。いずれの構成においても、それぞれと同様の効果が得られる。   The alignment films 34 and 36 of the liquid crystal panel 2 according to the first embodiment are formed of a photo-alignment material in the same manner as the liquid crystal panel 6 according to the second embodiment, and the alignment films 34 and 36 have a second alignment film. It is good also as a structure which performs a photo-alignment process similarly to the manufacturing method of the liquid crystal panel which concerns on embodiment. Further, the alignment films 52 and 54 of the liquid crystal panel 6 according to the second embodiment are formed of polyimide resin or the like in the same manner as the liquid crystal panel 2 according to the first embodiment. It is good also as a structure which performs a rubbing process similarly to the manufacturing method of the liquid crystal panel which concerns on this embodiment. In any configuration, the same effects as those can be obtained.

(第3の実施形態)
上記実施形態では、液晶装置として液晶ライトバルブについて説明したが、本発明は液晶ディスプレイにも適用することができる。次に、第3の実施形態に係る液晶装置としての液晶ディスプレイについて説明する。
(Third embodiment)
In the above embodiment, the liquid crystal light valve has been described as the liquid crystal device, but the present invention can also be applied to a liquid crystal display. Next, a liquid crystal display as a liquid crystal device according to a third embodiment will be described.

<液晶ディスプレイの構成>
図12は、第3の実施形態に係る液晶ディスプレイの構成を示す概略構成図である。詳しくは、図12(a)は平面図であり、図12(b)は図12(a)中のA−A’線に沿った断面図である。
<Configuration of liquid crystal display>
FIG. 12 is a schematic configuration diagram illustrating a configuration of a liquid crystal display according to the third embodiment. Specifically, FIG. 12A is a plan view, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG.

第3の実施形態に係る液晶ディスプレイは、第1の実施形態に係る液晶ライトバルブに対して、素子基板10および対向基板20に複数のワイヤーグリッド偏光子を備えている点、および偏光板45と偏光板46とが液晶パネル2に貼り付けられている点が異なっているが、その他の構成は同じである。第1の実施形態と共通する構成要素については、同一の符号を付しその説明を省略する。   The liquid crystal display according to the third embodiment is different from the liquid crystal light valve according to the first embodiment in that the element substrate 10 and the counter substrate 20 include a plurality of wire grid polarizers, The difference is that the polarizing plate 46 is attached to the liquid crystal panel 2, but the other configurations are the same. Constituent elements common to the first embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図12(a)、(b)に示すように、第3の実施形態に係る液晶ディスプレイ7は、液晶パネル8と偏光板45と偏光板46とを備えている。液晶パネル8は、素子基板10と対向基板20と液晶層40とを備えている。   As shown in FIGS. 12A and 12B, the liquid crystal display 7 according to the third embodiment includes a liquid crystal panel 8, a polarizing plate 45, and a polarizing plate 46. The liquid crystal panel 8 includes an element substrate 10, a counter substrate 20, and a liquid crystal layer 40.

本実施形態では、素子基板10は、周縁部に光学素子としてのワイヤーグリッド偏光子37a,37bを備えている。また、対向基板20は、周縁部に光学素子としてのワイヤーグリッド偏光子38a,38bを備えている。ワイヤーグリッド偏光子37aとワイヤーグリッド偏光子38aとは、互いに平面的に重ならないように配置されている。ワイヤーグリッド偏光子37bとワイヤーグリッド偏光子38bとは、互いに平面的に重なる領域を有している。   In the present embodiment, the element substrate 10 includes wire grid polarizers 37a and 37b as optical elements at the periphery. The counter substrate 20 includes wire grid polarizers 38a and 38b as optical elements at the peripheral edge. The wire grid polarizer 37a and the wire grid polarizer 38a are arranged so as not to overlap each other in a plane. The wire grid polarizer 37b and the wire grid polarizer 38b have areas that overlap each other in a plane.

素子基板10において、ワイヤーグリッド偏光子37a,37bのそれぞれの透過軸(図示しない)は、互いに平行となっており、配向膜34に配向処理を行う際の位置合わせの基準として用いられる。同様に、対向基板20において、ワイヤーグリッド偏光子38a,38bのそれぞれの透過軸(図示しない)は、互いに平行となっており、配向膜36に配向処理を行う際の位置合わせの基準として用いられる。   In the element substrate 10, the transmission axes (not shown) of the wire grid polarizers 37 a and 37 b are parallel to each other, and are used as a reference for alignment when the alignment film 34 is subjected to the alignment process. Similarly, in the counter substrate 20, the transmission axes (not shown) of the wire grid polarizers 38 a and 38 b are parallel to each other, and are used as a reference for alignment when performing alignment processing on the alignment film 36. .

図12(b)に示すように、偏光板45は、対向基板20の外側、すなわち液晶層40とは反対側の面に貼り付けられている。偏光板46は、素子基板10の外側、すなわち液晶層40とは反対側の面に貼り付けられている。   As shown in FIG. 12 (b), the polarizing plate 45 is attached to the outside of the counter substrate 20, that is, the surface opposite to the liquid crystal layer 40. The polarizing plate 46 is attached to the outside of the element substrate 10, that is, the surface opposite to the liquid crystal layer 40.

第3の実施形態に係る液晶ディスプレイ7は、図示しないが、電子機器としての携帯電話機に搭載して用いることができる。また、液晶ディスプレイ7を搭載する電子機器は、電子ブック、パーソナルコンピューター、デジタルスチルカメラ、ビューファインダー型あるいはモニター直視型のビデオテープレコーダー、カーナビゲーション装置の車載モニター等であってもよい。   Although not shown, the liquid crystal display 7 according to the third embodiment can be used by being mounted on a mobile phone as an electronic device. Further, the electronic device on which the liquid crystal display 7 is mounted may be an electronic book, a personal computer, a digital still camera, a viewfinder type or a monitor direct-view type video tape recorder, an in-vehicle monitor of a car navigation device, and the like.

<液晶ディスプレイの製造方法>
次に、第3の実施形態に係る液晶ディスプレイの製造方法について図を参照して説明する。第3の実施形態に係る液晶ディスプレイの製造方法は、第1の実施形態に係る液晶パネルの製造方法に対して、偏光板貼付工程をさらに含む点が異なるが、その他の構成は同じである。図13は、第3の実施形態に係る液晶ディスプレイの製造方法を示すフローチャートである。図14は、第3の実施形態に係る偏光板の位置合わせ方法を説明する図である。第1の実施形態と共通する構成要素については、同一の符号を付しその説明を省略する。
<Manufacturing method of liquid crystal display>
Next, a method for manufacturing a liquid crystal display according to the third embodiment will be described with reference to the drawings. The manufacturing method of the liquid crystal display according to the third embodiment is different from the manufacturing method of the liquid crystal panel according to the first embodiment in that it further includes a polarizing plate attaching step, but the other configurations are the same. FIG. 13 is a flowchart showing a method for manufacturing a liquid crystal display according to the third embodiment. FIG. 14 is a diagram for explaining a polarizing plate alignment method according to the third embodiment. Constituent elements common to the first embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図13に示すように、第3の実施形態に係る液晶ディスプレイの製造方法は、液晶注入・封止工程P33の後に、偏光板貼付工程P34を有している。   As shown in FIG. 13, the manufacturing method of the liquid crystal display according to the third embodiment includes a polarizing plate attaching step P34 after the liquid crystal injection / sealing step P33.

本実施形態では、素子基板10を製造する工程における工程P13では、ワイヤーグリッド偏光子37a,37bの少なくとも一方の透過軸を基準にして光学的に位置合わせし、第1の実施形態と同様にして、配向膜34に光学設計上の所定の方向に配向処理を行う。また、対向基板20を製造する工程における工程P23では、ワイヤーグリッド偏光子38a,38bの少なくとも一方の透過軸を基準にして光学的に位置合わせし、第1の実施形態と同様にして、配向膜36に光学設計上の所定の方向に配向処理を行う。   In this embodiment, in the process P13 in the process of manufacturing the element substrate 10, optical alignment is performed with reference to at least one transmission axis of the wire grid polarizers 37a and 37b, and the same as in the first embodiment. Then, the alignment film 34 is subjected to an alignment process in a predetermined direction in optical design. In step P23 in the process of manufacturing the counter substrate 20, optical alignment is performed with reference to at least one transmission axis of the wire grid polarizers 38a and 38b, and the alignment film is formed in the same manner as in the first embodiment. In 36, an alignment process is performed in a predetermined direction in the optical design.

工程P31では、素子基板10に形成されたワイヤーグリッド偏光子37bと、対向基板20に形成されたワイヤーグリッド偏光子38bとが互いに平面的に重なるように、素子基板10と対向基板20とを対向させて配置し、第1の実施形態と同様にして光学的に位置合わせを行う。   In step P31, the element substrate 10 and the counter substrate 20 are opposed to each other so that the wire grid polarizer 37b formed on the element substrate 10 and the wire grid polarizer 38b formed on the counter substrate 20 overlap each other in a plane. The optical alignment is performed in the same manner as in the first embodiment.

次に、工程P34では、液晶パネル8の両外側に偏光板45と偏光板46とを位置合わせして貼り付ける。偏光板45または偏光板46のいずれか一方の貼り付けを先に行い、その後で他方の貼り付けを行う。ここでは、偏光板45の貼り付けを先に行うこととする。   Next, in process P34, the polarizing plate 45 and the polarizing plate 46 are aligned and affixed on both outer sides of the liquid crystal panel 8. One of the polarizing plate 45 and the polarizing plate 46 is attached first, and then the other is attached. Here, the polarizing plate 45 is attached first.

まず、図14に示すように、液晶パネル8の対向基板20の外側に偏光板45を配置する。液晶パネル8と偏光板45とは、それぞれ保持部(図示しない)により、互いに平行に保持される。また、偏光板45は、液晶パネル8の表面(対向基板20の表面)および偏光板45の表面の法線方向を回転軸として回転可能に保持される。   First, as shown in FIG. 14, a polarizing plate 45 is disposed outside the counter substrate 20 of the liquid crystal panel 8. The liquid crystal panel 8 and the polarizing plate 45 are held in parallel with each other by holding parts (not shown). Further, the polarizing plate 45 is held rotatably about the surface of the liquid crystal panel 8 (the surface of the counter substrate 20) and the normal direction of the surface of the polarizing plate 45 as a rotation axis.

続いて、液晶パネル8の素子基板10の外側に光源234を配置する。また、偏光板45の液晶パネル8とは反対側に受光部236を配置する。そして、光源234からの光を、ワイヤーグリッド偏光子37aと偏光板45とに順次入射させる。このワイヤーグリッド偏光子37aと偏光板45とを透過した光L5を受光部236で受光し、光L5の強度を測定する。   Subsequently, the light source 234 is disposed outside the element substrate 10 of the liquid crystal panel 8. In addition, a light receiving portion 236 is disposed on the opposite side of the polarizing plate 45 from the liquid crystal panel 8. Then, light from the light source 234 is sequentially incident on the wire grid polarizer 37 a and the polarizing plate 45. The light L5 transmitted through the wire grid polarizer 37a and the polarizing plate 45 is received by the light receiving unit 236, and the intensity of the light L5 is measured.

このとき、光源234から射出される光が、素子基板10(対向基板20)の法線の方向から入射するように、光源234を相対的に配置することが望ましい。光源234と受光部236との位置関係は、図面上において上下逆であってもよい。   At this time, it is desirable to relatively arrange the light source 234 so that the light emitted from the light source 234 enters from the direction of the normal line of the element substrate 10 (counter substrate 20). The positional relationship between the light source 234 and the light receiving unit 236 may be upside down in the drawing.

次に、液晶パネル8および偏光板45同士の対向する面内における相対的な位置関係を決定する。ここでは、素子基板10のワイヤーグリッド偏光子37aの透過軸を基準にして、偏光板45の透過軸45aが所定の方向となるように、液晶パネル8および偏光板45同士の位置関係を調整する。   Next, the relative positional relationship in the plane where the liquid crystal panel 8 and the polarizing plate 45 face each other is determined. Here, the positional relationship between the liquid crystal panel 8 and the polarizing plate 45 is adjusted so that the transmission axis 45a of the polarizing plate 45 is in a predetermined direction with reference to the transmission axis of the wire grid polarizer 37a of the element substrate 10. .

より具体的には、液晶パネル8を固定した状態で、液晶パネル8および偏光板45同士が対向する面内で偏光板45を回転させて、受光部236で受光する光L5の強度が最大または最小となるように、ワイヤーグリッド偏光子37aの透過軸と偏光板45の透過軸45aとの相対的な位置関係を変化させる。このとき、偏光板45を固定した状態で液晶パネル8を回転させてもよいし、液晶パネル8と偏光板45との双方を回転させてもよい。   More specifically, with the liquid crystal panel 8 fixed, the polarizing plate 45 is rotated in a plane where the liquid crystal panel 8 and the polarizing plate 45 face each other, and the intensity of the light L5 received by the light receiving unit 236 is maximum or The relative positional relationship between the transmission axis of the wire grid polarizer 37a and the transmission axis 45a of the polarizing plate 45 is changed so as to be minimized. At this time, the liquid crystal panel 8 may be rotated with the polarizing plate 45 fixed, or both the liquid crystal panel 8 and the polarizing plate 45 may be rotated.

受光部236で受光する光L5の強度が最大となるのは、ワイヤーグリッド偏光子37aの透過軸と偏光板45の透過軸45aとが互いに平行になるときである。また、受光部236で受光する光L5の強度が最小となるのは、ワイヤーグリッド偏光子37aの透過軸と偏光板45の透過軸45aとが互いに直交するときである。これにより、液晶パネル8と偏光板45との位置関係が決定される。   The intensity of the light L5 received by the light receiving unit 236 is maximized when the transmission axis of the wire grid polarizer 37a and the transmission axis 45a of the polarizing plate 45 are parallel to each other. In addition, the intensity of the light L5 received by the light receiving unit 236 is minimized when the transmission axis of the wire grid polarizer 37a and the transmission axis 45a of the polarizing plate 45 are orthogonal to each other. Thereby, the positional relationship between the liquid crystal panel 8 and the polarizing plate 45 is determined.

なお、光源234からの光を、素子基板10のワイヤーグリッド偏光子37aではなく、対向基板20のワイヤーグリッド偏光子38aとに入射させるようにしてもよい。ワイヤーグリッド偏光子37aとワイヤーグリッド偏光子38aとは互いに平面的に重なっていないので、いずれか一方のワイヤーグリッド偏光子の透過軸を基準にして、液晶パネル8と偏光板45との位置合わせを行うことができる。また、ワイヤーグリッド偏光子37a,38aは液晶層40に平面的に重ならない領域に配置されているので、位置合わせの際に液晶層40による光学的影響を排除できる。   The light from the light source 234 may be incident on the wire grid polarizer 38a of the counter substrate 20 instead of the wire grid polarizer 37a of the element substrate 10. Since the wire grid polarizer 37a and the wire grid polarizer 38a do not overlap with each other in plane, the alignment between the liquid crystal panel 8 and the polarizing plate 45 is performed with reference to the transmission axis of one of the wire grid polarizers. It can be carried out. In addition, since the wire grid polarizers 37a and 38a are arranged in a region that does not overlap the liquid crystal layer 40 in plan view, the optical influence of the liquid crystal layer 40 can be eliminated during alignment.

続いて、上記で決定された液晶パネル8と偏光板45との位置関係を維持して、偏光板45を液晶パネル8の対向基板20に貼り付ける。これにより、ワイヤーグリッド偏光子37aの透過軸を基準にして、透過軸45aを光学設計上の所定の方向に光学的に位置合わせし、偏光板45を貼り付けることができる。   Subsequently, while maintaining the positional relationship between the liquid crystal panel 8 and the polarizing plate 45 determined as described above, the polarizing plate 45 is attached to the counter substrate 20 of the liquid crystal panel 8. Thereby, the transmission axis 45a can be optically aligned in a predetermined direction in optical design with the transmission axis of the wire grid polarizer 37a as a reference, and the polarizing plate 45 can be attached.

次に、偏光板45が貼り付けられた液晶パネル8の素子基板10に偏光板46を貼り付ける。液晶パネル8には、先に偏光板45が光学設計上の所定の方向に光学的に位置合わせして貼り付けられているので、偏光板45の透過軸45aを基準にして、偏光板46の透過軸46aが光学設計上の所定の方向となるように光学的に位置合わせすることができる。   Next, a polarizing plate 46 is attached to the element substrate 10 of the liquid crystal panel 8 to which the polarizing plate 45 is attached. Since the polarizing plate 45 is first optically aligned and attached to the liquid crystal panel 8 in a predetermined direction in the optical design, the polarizing plate 46 has the transmission axis 45a as a reference. Optical alignment can be performed so that the transmission axis 46a is in a predetermined direction in optical design.

図示を省略するが、液晶パネル8の素子基板10の外側に偏光板46を配置して、光源234からの光を、液晶パネル8(偏光板45)と偏光板46とに順次入射させる。このとき、ワイヤーグリッド偏光子37a,37bおよびワイヤーグリッド偏光子38a,38bが設けられていない領域に光源234からの光を入射させるようにしてもよい。そして、受光部236で受光する光L5の強度が最大または最小となるように液晶パネル8(偏光板45)と偏光板46との位置関係を決定し、偏光板46を液晶パネル8の素子基板10に貼り付ける。以上により、液晶ディスプレイ7が完成する。   Although not shown, a polarizing plate 46 is disposed outside the element substrate 10 of the liquid crystal panel 8, and light from the light source 234 is sequentially incident on the liquid crystal panel 8 (polarizing plate 45) and the polarizing plate 46. At this time, the light from the light source 234 may be incident on an area where the wire grid polarizers 37a and 37b and the wire grid polarizers 38a and 38b are not provided. The positional relationship between the liquid crystal panel 8 (polarizing plate 45) and the polarizing plate 46 is determined so that the intensity of the light L5 received by the light receiving unit 236 is maximized or minimized, and the polarizing plate 46 is used as the element substrate of the liquid crystal panel 8. Paste to 10. Thus, the liquid crystal display 7 is completed.

第3の実施形態に係る液晶ディスプレイの構成および製造方法によれば、第1の実施形態および第2の実施形態と同様に、液晶パネル8における配向膜34,36の配向処理の方向と、素子基板10および対向基板20同士の位置関係とを、液晶ディスプレイ7の光学設計に基づく所定の方向に精度良く合わせることができる。   According to the configuration and the manufacturing method of the liquid crystal display according to the third embodiment, the direction of the alignment treatment of the alignment films 34 and 36 in the liquid crystal panel 8 and the element, as in the first and second embodiments. The positional relationship between the substrate 10 and the counter substrate 20 can be accurately matched with a predetermined direction based on the optical design of the liquid crystal display 7.

第3の実施形態に係る液晶ディスプレイ7の構成および製造方法によれば、液晶パネル8と偏光板45,46との位置合わせは、ワイヤーグリッド偏光子37a(または38a)の方向を基準にして光学的に行われる。このワイヤーグリッド偏光子37a(または38a)は、ワイヤーグリッド偏光子37b(または38b)とともに、液晶パネル8における配向膜34,36の配向処理の方向の基準となっており、かつ、素子基板10および対向基板20同士の位置合わせの基準となっている。このため、偏光板の外形あるいはアライメントマーク等を基準にして位置合わせを行う方法に比べて、液晶ディスプレイ7における偏光板45,46の透過軸45a,46aを、液晶ディスプレイ7の光学設計に基づく所定の方向により精度良く合わせることができる。   According to the configuration and the manufacturing method of the liquid crystal display 7 according to the third embodiment, the alignment between the liquid crystal panel 8 and the polarizing plates 45 and 46 is optical with respect to the direction of the wire grid polarizer 37a (or 38a). Done. The wire grid polarizer 37a (or 38a), together with the wire grid polarizer 37b (or 38b), serves as a reference for the direction of the alignment treatment of the alignment films 34 and 36 in the liquid crystal panel 8, and the element substrate 10 and This is a reference for alignment between the counter substrates 20. Therefore, the transmission axes 45a and 46a of the polarizing plates 45 and 46 in the liquid crystal display 7 are determined based on the optical design of the liquid crystal display 7 as compared with a method of aligning with reference to the outer shape of the polarizing plate or the alignment mark. The direction can be adjusted with higher accuracy.

なお、液晶ディスプレイ7におけるワイヤーグリッド偏光子の構成は、上記の形態に限定されない。素子基板10および対向基板20のそれぞれに3つ以上のワイヤーグリッド偏光子が設けられていてもよい。また、素子基板10および対向基板20のいずれか一方の基板に複数のワイヤーグリッド偏光子が設けられ、その複数のワイヤーグリッド偏光子のうちのいずれかに平面的に重なるように一つのワイヤーグリッド偏光子が他方の基板に設けられていてもよい。   The configuration of the wire grid polarizer in the liquid crystal display 7 is not limited to the above form. Each of the element substrate 10 and the counter substrate 20 may be provided with three or more wire grid polarizers. In addition, one of the element substrate 10 and the counter substrate 20 is provided with a plurality of wire grid polarizers, and one wire grid polarization so as to overlap with any one of the plurality of wire grid polarizers in a plane. The child may be provided on the other substrate.

さらに、ワイヤーグリッド偏光子37a,37bのそれぞれの透過軸は、互いに直交していてもよい。また、ワイヤーグリッド偏光子38a,83bのそれぞれの透過軸は、互いに直交していてもよい。このような構成によれば、工程P13および工程P23の配向処理、工程P32の基板の貼り合わせ、および工程P34の偏光板貼り付けの各工程において、ワイヤーグリッド偏光子37a,37b(またはワイヤーグリッド偏光子38a,38b)を基準にして位置合わせする際に、対向する偏光子や偏光板の透過軸と平行する位置関係と直交する位置関係とを同時に構成することが可能となる。したがって、液晶ディスプレイ7の光学設計条件や測定機器の感度特性等に応じて、互いに対向する透過軸同士が平行する位置関係と直交する位置関係のいずれか一方、あるいは双方を選択して位置合わせを行うことができる。   Further, the transmission axes of the wire grid polarizers 37a and 37b may be orthogonal to each other. Further, the transmission axes of the wire grid polarizers 38a and 83b may be orthogonal to each other. According to such a configuration, the wire grid polarizers 37a and 37b (or the wire grid polarized light) in the alignment process of the process P13 and the process P23, the bonding of the substrate of the process P32, and the polarizing plate bonding of the process P34. When aligning with respect to the optical elements 38a and 38b), it is possible to simultaneously configure a positional relation parallel to the transmission axis of the opposing polarizer or polarizing plate and a perpendicular positional relation. Therefore, according to the optical design conditions of the liquid crystal display 7 and the sensitivity characteristics of the measuring device, the alignment is performed by selecting either one or both of the positional relationships perpendicular to each other and the transmission axes facing each other. It can be carried out.

なお、本実施形態の液晶ディスプレイにおける素子基板と対向基板とのそれぞれが複数のワイヤーグリッド偏光子を有する構成、およびそれらのワイヤーグリッド偏光子を基準にして位置合わせを行う製造方法は、第2の実施形態に係る液晶パネル6に偏光板55と偏光板56とを貼り付けて液晶ディスプレイとする場合にも適用することができる。   In addition, the structure in which each of the element substrate and the counter substrate in the liquid crystal display of the present embodiment has a plurality of wire grid polarizers, and the manufacturing method for performing alignment based on these wire grid polarizers are the second. The present invention can also be applied to the case where a polarizing plate 55 and a polarizing plate 56 are attached to the liquid crystal panel 6 according to the embodiment to form a liquid crystal display.

(第4の実施形態)
次に、第4の実施形態に係る液晶装置について図を参照して説明する。第4の実施形態に係る液晶装置は、上記実施形態の液晶装置に対して、液晶パネルにワイヤーグリッド偏光子の代わりに誘電体干渉膜プリズムを光学素子として備えている点が異なっているが、その他の構成は同じである。
(Fourth embodiment)
Next, a liquid crystal device according to a fourth embodiment will be described with reference to the drawings. The liquid crystal device according to the fourth embodiment differs from the liquid crystal device of the above embodiment in that the liquid crystal panel includes a dielectric interference film prism as an optical element instead of a wire grid polarizer. Other configurations are the same.

図15は、第4の実施形態に係る液晶パネルが備える光学素子の構成を説明する図である。詳しくは、図15(a)は光学素子の斜視図であり、図15(b)は図15(a)中のD−D’線に沿った断面図である。上記実施形態と共通する構成要素については、同一の符号を付しその説明を省略する。   FIG. 15 is a diagram illustrating a configuration of an optical element included in the liquid crystal panel according to the fourth embodiment. Specifically, FIG. 15A is a perspective view of the optical element, and FIG. 15B is a cross-sectional view taken along line D-D ′ in FIG. Constituent elements common to the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

第4の実施形態に係る液晶パネルは、図15(a)、(b)に示すように、光学素子として、プリズムアレイ71と、プリズムアレイ71上に形成された誘電体干渉膜74とを有する光学素子を備えている。ここでは、この光学素子を誘電体干渉膜プリズム70と称する。   As shown in FIGS. 15A and 15B, the liquid crystal panel according to the fourth embodiment includes a prism array 71 and a dielectric interference film 74 formed on the prism array 71 as optical elements. An optical element is provided. Here, this optical element is referred to as a dielectric interference film prism 70.

プリズムアレイ71は、素子基板10(または対向基板20)上に形成されており、2つの斜面を有する三角柱状(プリズム形状)の複数の凸条72を有している。換言すれば、凸条72が連続して周期的に形成されることにより、断面が三角波状のプリズムアレイ71が構成されている。プリズムアレイ71は、例えば、アクリル樹脂等の熱硬化性または光硬化性の透光性を有する樹脂からなる。プリズムアレイ71の凸条72の高さは、例えば0.5μm〜3μm程度であり、互いに隣接する凸条72間のピッチは、例えば1μm〜6μm程度である。   The prism array 71 is formed on the element substrate 10 (or the counter substrate 20), and has a plurality of triangular prisms (prism shape) of ridges 72 having two inclined surfaces. In other words, the convex stripes 72 are formed continuously and periodically, whereby the prism array 71 having a triangular wave section is formed. The prism array 71 is made of, for example, a resin having a thermosetting or photocurable translucency such as an acrylic resin. The height of the ridges 72 of the prism array 71 is, for example, about 0.5 μm to 3 μm, and the pitch between the adjacent ridges 72 is, for example, about 1 μm to 6 μm.

誘電体干渉膜74は、プリズムアレイ71上に形成されることで、複数の凸条72による三角柱状(プリズム形状)の斜面が反映された表面を有している。誘電体干渉膜74は、屈折率の異なる2種類の材料からなる誘電体膜が交互に複数積層された、所謂3次元フォトニック結晶層である。誘電体干渉膜74は、例えば、酸化チタン(TiO2)膜と酸化シリコン(SiO2)膜とを交互に7層積層することで形成されている。誘電体膜の材料は、酸化タンタル(Ta25)やシリコン(Si)であってもよい。誘電体干渉膜74を構成する1層の誘電体膜の膜厚は、例えば10nm〜100nm程度であり、誘電体干渉膜74の総膜厚は、例えば300nm〜1μm程度である。 Since the dielectric interference film 74 is formed on the prism array 71, the dielectric interference film 74 has a surface reflecting a triangular prism-shaped (prism-shaped) slope formed by the plurality of ridges 72. The dielectric interference film 74 is a so-called three-dimensional photonic crystal layer in which a plurality of dielectric films made of two kinds of materials having different refractive indexes are alternately stacked. The dielectric interference film 74 is formed, for example, by laminating seven layers of titanium oxide (TiO 2 ) films and silicon oxide (SiO 2 ) films alternately. The material of the dielectric film may be tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) or silicon (Si). The film thickness of one dielectric film constituting the dielectric interference film 74 is, for example, about 10 nm to 100 nm, and the total film thickness of the dielectric interference film 74 is, for example, about 300 nm to 1 μm.

誘電体干渉膜プリズム70は、入射光を偏光状態の異なる反射光と透過光とに分離する偏光分離機能を備えている。図15(a)に示すように、誘電体干渉膜プリズム70は、入射光のうち、凸条72の延在方向に平行な偏光成分を反射し、凸条72の延在方向に対して直交する偏光成分を透過する。すなわち、誘電体干渉膜プリズム70は、光学軸としての透過軸70aおよび反射軸70bを有している。透過軸70aは凸条72の延在方向と直交しており、反射軸70bは凸条72の延在方向に平行である。   The dielectric interference film prism 70 has a polarization separation function for separating incident light into reflected light and transmitted light having different polarization states. As shown in FIG. 15A, the dielectric interference film prism 70 reflects a polarization component parallel to the extending direction of the ridges 72 in the incident light, and is orthogonal to the extending direction of the ridges 72. Transmits polarized light components. That is, the dielectric interference film prism 70 has a transmission axis 70a and a reflection axis 70b as optical axes. The transmission axis 70 a is orthogonal to the extending direction of the ridge 72, and the reflection axis 70 b is parallel to the extending direction of the ridge 72.

誘電体干渉膜74を構成する誘電体膜の積層ピッチおよび凸条72のピッチは、誘電体干渉膜プリズム70に要求される特性に応じて適宜調整される。誘電体干渉膜74では、誘電体干渉膜74を構成する誘電体膜の積層数によってその透過率(反射率)を制御することができる。すなわち、誘電体膜の積層数を減ずることで、反射軸70b(凸条72の延在方向)に平行な直線偏光の透過率を増大させ、反射率を低下させることができる。所定数以上の誘電体膜を積層した場合には、反射軸70bに平行な直線偏光のほとんどが反射される。   The stacking pitch of the dielectric films constituting the dielectric interference film 74 and the pitch of the ridges 72 are appropriately adjusted according to the characteristics required for the dielectric interference film prism 70. In the dielectric interference film 74, the transmittance (reflectance) can be controlled by the number of laminated dielectric films constituting the dielectric interference film 74. That is, by reducing the number of laminated dielectric films, it is possible to increase the transmittance of linearly polarized light parallel to the reflection axis 70b (the extending direction of the ridges 72) and to reduce the reflectance. When a predetermined number or more of dielectric films are stacked, most of the linearly polarized light parallel to the reflection axis 70b is reflected.

本実施形態に係る誘電体干渉膜プリズム70では、誘電体干渉膜74の調整により、入射光のうち、例えば反射軸70bに平行な直線偏光の70%程度を反射し、残り30%程度を透過するように設定されている。なお、誘電体干渉膜74の表面は、樹脂層により覆われて平坦化されていてもよい。   In the dielectric interference film prism 70 according to the present embodiment, by adjusting the dielectric interference film 74, for example, about 70% of linearly polarized light parallel to the reflection axis 70b is reflected among the incident light, and the remaining 30% is transmitted. It is set to be. The surface of the dielectric interference film 74 may be covered with a resin layer and flattened.

上記実施形態における液晶装置が、ワイヤーグリッド偏光子30,32,37a,37b,38a,38bの代わりに誘電体干渉膜プリズム70を光学素子として備える場合においても、上記実施形態の液晶装置の製造方法を適用することができるとともに、上記実施形態と同様の効果が得られる。   Even when the liquid crystal device in the above embodiment includes the dielectric interference film prism 70 as an optical element instead of the wire grid polarizers 30, 32, 37a, 37b, 38a, and 38b, the method for manufacturing the liquid crystal device in the above embodiment Can be applied, and the same effects as in the above embodiment can be obtained.

以上、本発明の実施形態について説明したが、上記実施形態に対しては、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形を加えることができる。変形例としては、例えば以下のようなものが考えられる。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described, various deformation | transformation can be added with respect to the said embodiment in the range which does not deviate from the meaning of this invention. As modifications, for example, the following can be considered.

(変形例1)
上記実施形態の液晶装置の製造方法では、ラビング法または光配向法により、配向膜の配向処理を行う構成であったが、この形態に限定されない。配向処理を行う方法として、例えば、配向膜にイオンビームを照射する方法や、斜方蒸着により配向膜を形成する方法等の他の方法を適用した構成であってもよい。
(Modification 1)
In the manufacturing method of the liquid crystal device of the above embodiment, the alignment film is subjected to the alignment treatment by the rubbing method or the photo-alignment method. As a method for performing the alignment treatment, for example, another method such as a method of irradiating the alignment film with an ion beam or a method of forming the alignment film by oblique deposition may be applied.

イオンビームを照射する方法では、基板上に無機材料等で形成した配向膜に対して、アルゴンイオン等のイオンビームを所定の方向および所定の角度で照射することにより、配向処理を行う方法である。この方法では、イオンビームを照射する方向に沿って配向が規制されるとともに、イオンビームを照射する角度によってプレチルト角が付与される。   In the method of irradiating an ion beam, an alignment treatment is performed by irradiating an alignment film formed of an inorganic material or the like on a substrate with an ion beam such as argon ions at a predetermined direction and a predetermined angle. . In this method, the orientation is regulated along the direction in which the ion beam is irradiated, and a pretilt angle is given depending on the angle at which the ion beam is irradiated.

斜方蒸着により配向膜を形成する方法では、基板に対して所定の方向および所定の角度に位置する蒸着源により無機材料等からなる配向膜を蒸着する方法である。この方法では、基板に対する蒸着源の方向に沿って配向が規制されるとともに、基板に対する蒸着源の角度によってプレチルト角が付与される。   In the method of forming an alignment film by oblique vapor deposition, an alignment film made of an inorganic material or the like is vapor-deposited by a vapor deposition source located in a predetermined direction and a predetermined angle with respect to the substrate. In this method, the orientation is regulated along the direction of the vapor deposition source relative to the substrate, and a pretilt angle is given depending on the angle of the vapor deposition source relative to the substrate.

このようなイオンビームを照射する方法や斜方蒸着により配向膜を形成する方法においても、イオンビームを照射する方向や蒸着源の方向と基板との相対的な位置合わせを、上記実施形態のワイヤーグリッド偏光子の透過軸を基準にして行うことができる。したがって、このような方法で配向処理を行う場合でも、上記実施形態と同様の効果が得られる。   In such a method of irradiating an ion beam and a method of forming an alignment film by oblique vapor deposition, the relative alignment between the direction of irradiating the ion beam or the direction of the vapor deposition source and the substrate is determined by the wire of the above embodiment. This can be done with reference to the transmission axis of the grid polarizer. Therefore, even when the alignment treatment is performed by such a method, the same effect as in the above embodiment can be obtained.

(変形例2)
上記実施形態の液晶装置は、光学素子としてワイヤーグリッド偏光子または誘電体干渉膜プリズムを備えた構成であったが、この形態に限定されない。光学素子は、偏光分離機能を有するものであれば他の光学素子であってもよい。
(Modification 2)
The liquid crystal device of the above embodiment has a configuration including a wire grid polarizer or a dielectric interference film prism as an optical element, but is not limited to this configuration. The optical element may be another optical element as long as it has a polarization separation function.

(変形例3)
上記の実施形態では、液晶装置がTN方式やVA方式の液晶パネルを備えていたが、この形態に限定されない。液晶装置は、基板に平行な方向の横電界により液晶分子の配向制御を行うFFS(Fringe-Field Switching)方式やIPS(In-Plane Switching)方式の液晶パネルを備えていてもよい。また、液晶装置は、素子基板と対向基板との間に生じる縦電界により液晶分子の配向制御を行うECB(Electrically Controlled Birefringence)方式等の液晶パネルを備えていてもよい。これらの液晶装置であっても、上記実施形態の液晶装置の構成および液晶装置の製造方法を適用することができる。
(Modification 3)
In the above embodiment, the liquid crystal device includes a TN liquid crystal panel or a VA liquid crystal panel, but the present invention is not limited to this form. The liquid crystal device may include an FFS (Fringe-Field Switching) type or IPS (In-Plane Switching) type liquid crystal panel that controls the alignment of liquid crystal molecules by a lateral electric field in a direction parallel to the substrate. In addition, the liquid crystal device may include an ECB (Electrically Controlled Birefringence) type liquid crystal panel that controls alignment of liquid crystal molecules by a vertical electric field generated between the element substrate and the counter substrate. Even in these liquid crystal devices, the configuration of the liquid crystal device and the manufacturing method of the liquid crystal device of the above embodiment can be applied.

1,5…液晶装置としての液晶ライトバルブ、7…液晶装置としての液晶ディスプレイ、10…一対の基板としての素子基板、20…一対の基板としての対向基板、30,32,37a,37b,38a,38b…光学素子としてのワイヤーグリッド偏光子、30a,32a…光学軸としての透過軸、34,36,52,54…配向膜、40…液晶層、45,46,55,56…偏光板、45a,46a,55a,56a…光学軸としての透過軸、70…光学素子としての誘電体干渉膜プリズム、70a…光学素子としての透過軸、100…電子機器の一例としての投射型表示装置、214…基準偏光子。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,5 ... Liquid crystal light valve as a liquid crystal device, 7 ... Liquid crystal display as a liquid crystal device, 10 ... Element substrate as a pair of substrates, 20 ... Opposite substrates as a pair of substrates, 30, 32, 37a, 37b, 38a , 38b ... wire grid polarizer as optical element, 30a, 32a ... transmission axis as optical axis, 34, 36, 52, 54 ... alignment film, 40 ... liquid crystal layer, 45, 46, 55, 56 ... polarizing plate, 45a, 46a, 55a, 56a ... Transmission axis as optical axis, 70 ... Dielectric interference film prism as optical element, 70a ... Transmission axis as optical element, 100 ... Projection type display device as an example of electronic equipment, 214 ... reference polarizer.

Claims (14)

基板に偏光分離機能を有する光学素子を形成する工程と、
前記基板に配向膜を形成する工程と、
前記基板の前記配向膜に配向処理を行う工程と、を含み、
前記配向処理を行う工程では、前記光学素子の光学軸を基準にして前記配向処理を行うことを特徴とする液晶装置用基板の製造方法。
Forming an optical element having a polarization separation function on a substrate;
Forming an alignment film on the substrate;
Performing an alignment treatment on the alignment film of the substrate,
In the step of performing the alignment process, the alignment process is performed with reference to the optical axis of the optical element.
請求項1に記載の液晶装置用基板の製造方法であって、
前記配向処理を行う工程は、前記配向処理を行う方向と所定の位置関係にある光学軸を有する基準偏光子と、前記光学素子と、が平面的に重なるように前記基板を前記基準偏光子に対向配置して、対向する面内における前記基準偏光子と前記基板との相対的な位置関係を決定する工程を含み、
前記位置関係を決定する工程では、前記基準偏光子の前記光学軸に対して前記光学素子の前記光学軸が所定の方向となるように、前記基準偏光子と前記基板との相対的な位置関係を調整することを特徴とする液晶装置用基板の製造方法。
A method for producing a substrate for a liquid crystal device according to claim 1,
The step of performing the alignment process includes the step of placing the substrate on the reference polarizer so that a reference polarizer having an optical axis that is in a predetermined positional relationship with a direction in which the alignment process is performed and the optical element overlap in a plane. Disposing and determining a relative positional relationship between the reference polarizer and the substrate in an opposing plane,
In the step of determining the positional relationship, the relative positional relationship between the reference polarizer and the substrate is such that the optical axis of the optical element is in a predetermined direction with respect to the optical axis of the reference polarizer. A method for manufacturing a substrate for a liquid crystal device, wherein
請求項2に記載の液晶装置用基板の製造方法であって、
前記所定の方向は、前記基準偏光子の前記光学軸に対して前記光学素子の前記光学軸が平行または直交する方向であることを特徴とする液晶装置用基板の製造方法。
It is a manufacturing method of the substrate for liquid crystal devices according to claim 2,
The method for manufacturing a substrate for a liquid crystal device, wherein the predetermined direction is a direction in which the optical axis of the optical element is parallel or orthogonal to the optical axis of the reference polarizer.
互いに対向して配置された一対の基板と、前記一対の基板の間に挟持された液晶層と、を備えた液晶装置の製造方法であって、
請求項1から3のいずれか一項に記載の液晶装置用基板の製造方法を用いて製造された前記一対の基板を用意する工程と、
前記一対の基板に形成された前記光学素子が互いに平面的に重なるように、前記一対の基板を対向させて配置する工程と、
前記一対の基板同士の対向する面内における相対的な位置関係を決定する工程と、
前記一対の基板同士を貼り合わせる工程と、を含み、
前記位置関係を決定する工程では、一方の前記光学素子の光学軸に対して他方の前記光学素子の光学軸が所定の方向となるように、前記一対の基板同士の位置関係を調整することを特徴とする液晶装置の製造方法。
A method of manufacturing a liquid crystal device, comprising: a pair of substrates disposed opposite to each other; and a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates,
Preparing the pair of substrates manufactured using the method for manufacturing a substrate for a liquid crystal device according to any one of claims 1 to 3,
Placing the pair of substrates facing each other so that the optical elements formed on the pair of substrates overlap each other in plan view;
Determining a relative positional relationship in the opposing surfaces of the pair of substrates;
Bonding the pair of substrates together,
In the step of determining the positional relationship, the positional relationship between the pair of substrates is adjusted such that the optical axis of the other optical element is in a predetermined direction with respect to the optical axis of the one optical element. A method for manufacturing a liquid crystal device.
請求項4に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記所定の方向は、前記一方の光学素子の前記光学軸に対して前記他方の光学素子の前記光学軸が平行または直交する方向であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
A method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 4,
The method of manufacturing a liquid crystal device, wherein the predetermined direction is a direction in which the optical axis of the other optical element is parallel or orthogonal to the optical axis of the one optical element.
請求項5に記載の液晶装置の製造方法であって、
貼り合わせた前記一対の基板の少なくとも一方の外側に偏光板を配置する工程をさらに含み、
前記偏光板を配置する工程では、前記光学素子の光学軸に対して前記偏光板の光学軸が所定の方向となるように、前記一対の前記基板と前記偏光板との対向する面内における相対的な位置関係を決定することを特徴とする液晶装置の製造方法。
A manufacturing method of a liquid crystal device according to claim 5,
Further comprising the step of disposing a polarizing plate on the outside of at least one of the pair of substrates bonded together,
In the step of disposing the polarizing plate, relative to the optical axis of the optical element in a plane in which the pair of substrates and the polarizing plate face each other so that the optical axis of the polarizing plate is in a predetermined direction. A method for manufacturing a liquid crystal device, wherein a specific positional relationship is determined.
請求項6に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記所定の方向は、前記光学素子の前記光学軸に対して前記偏光板の前記光学軸が平行または直交する方向であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
It is a manufacturing method of the liquid crystal device according to claim 6,
The method of manufacturing a liquid crystal device, wherein the predetermined direction is a direction in which the optical axis of the polarizing plate is parallel or orthogonal to the optical axis of the optical element.
互いに対向して配置された一対の基板と、
前記一対の基板の間に挟持された液晶層と、
前記一対の基板のそれぞれの前記液晶層に面する側に設けられた配向膜と、を備え、
前記一対の基板の少なくとも一方に、偏光分離機能を有する光学素子が設けられていることを特徴とする液晶装置。
A pair of substrates disposed opposite each other;
A liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates;
An alignment film provided on each of the pair of substrates facing the liquid crystal layer,
A liquid crystal device, wherein an optical element having a polarization separation function is provided on at least one of the pair of substrates.
請求項8に記載の液晶装置であって、
前記光学素子は、前記一対の基板のそれぞれに設けられていることを特徴とする液晶装置。
The liquid crystal device according to claim 8,
The liquid crystal device, wherein the optical element is provided on each of the pair of substrates.
請求項9に記載の液晶装置であって、
前記一対の基板に設けられた前記光学素子は、互いに平面的に重なる領域を有していることを特徴とする液晶装置。
The liquid crystal device according to claim 9,
2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the optical elements provided on the pair of substrates have a region overlapping each other in a plane.
請求項10に記載の液晶装置であって、
前記一対の基板に設けられた前記光学素子は、互いに平面的に重なる領域と互いに平面的に重ならない領域とを有していることを特徴とする液晶装置。
The liquid crystal device according to claim 10,
The liquid crystal device, wherein the optical elements provided on the pair of substrates have a region that overlaps with each other in a plane and a region that does not overlap with each other in a plane.
請求項8から11のいずれか一項に記載の液晶装置であって、
前記一対の基板の少なくとも一方の外側に配置された偏光板をさらに備えたことを特徴とする液晶装置。
The liquid crystal device according to any one of claims 8 to 11,
A liquid crystal device, further comprising: a polarizing plate disposed outside at least one of the pair of substrates.
請求項8から12のいずれか一項に記載の液晶装置であって、
前記光学素子は、前記液晶層に平面的に重ならない領域に配置されていることを特徴とする液晶装置。
The liquid crystal device according to any one of claims 8 to 12,
The liquid crystal device, wherein the optical element is disposed in a region that does not overlap the liquid crystal layer in a planar manner.
請求項8から13のいずれか一項に記載の液晶装置を備えていることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to any one of claims 8 to 13.
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