JP2011066329A - Shield film, shielded wiring board including the same, ground connection method in the shield film - Google Patents
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Abstract
【課題】シールドフィルムが貼り付けられる対象となる基板のグランド導体を露出することなく、容易にグランド接続が可能なシールドフィルムと、そのシールドフィルムを用いて1工程でシールド機能とインピーダンスコントロール機能とを有することが可能なシールド配線板と、そのシールドフィルムを用いたグランド接続方法と、を提供する。
【解決手段】加熱および加圧によって導電部材30に接続されるシールドフィルム20は、加熱時の温度よりも融点の高い樹脂により形成され、接続において、導電性接着層33から突出した導電性粒子35の平均突出長L2よりも薄い層厚みL1で形成されるカバーフィルム25と、カバーフィルム25に順に積層された金属薄膜層24および接着層23と、を有する。
【選択図】図1A shield film that can be easily connected to a ground without exposing a ground conductor of a substrate to which the shield film is to be attached, and a shield function and an impedance control function in one step using the shield film. A shield wiring board that can be provided and a ground connection method using the shield film.
A shield film 20 connected to a conductive member 30 by heating and pressurization is formed of a resin having a melting point higher than the temperature at the time of heating, and conductive particles 35 protruding from a conductive adhesive layer 33 at the time of connection. The cover film 25 is formed with a layer thickness L1 thinner than the average protrusion length L2, and the metal thin film layer 24 and the adhesive layer 23 are sequentially laminated on the cover film 25.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、フレキシブルフラットケーブルなどの導電体を有する基板に用いられるシールドフィルム、そのシールドフィルムを有するシールド配線板、およびシールドフィルムにおけるグランド接続方法に関する。 The present invention relates to a shield film used for a substrate having a conductor such as a flexible flat cable, a shield wiring board having the shield film, and a ground connection method in the shield film.
従来、フレキシブルフラットケーブルなどの導電体を有する基板は、テレビやビデオ、携帯電話機やパソコンに代表されるOA機器などの各種電子機器において、機器内部や機器間の接続に多用されている。 2. Description of the Related Art Conventionally, a substrate having a conductor such as a flexible flat cable has been widely used for connection inside or between devices in various electronic devices such as televisions, videos, mobile phones, and OA devices represented by personal computers.
また、電子機器は、近年の情報社会の進展により、電気通信の高速化が求められるようになり、これに伴い、高速化された電気信号からの不要輻射や外部からのノイズを軽減するため、フレキシブルフラットケーブルなどの導電体を有する基板には、シールドフィルムが貼り付けられている。さらに、上述した基板は、接続される機器との間においてインピーダンスの整合が必要なため、インピーダンスをコントロールする機能を有したインピーダンスコントロールフィルムが貼り付けられている。 In addition, electronic devices have been required to increase the speed of telecommunications due to the progress of the information society in recent years.Accordingly, in order to reduce unnecessary radiation from external electric signals and external noise, A shield film is attached to a substrate having a conductor such as a flexible flat cable. Furthermore, since the above-described substrate needs impedance matching with the connected device, an impedance control film having a function of controlling impedance is attached.
例えば、特許文献1においては、図6に示すように、信号導体51とグランド導体52とからなる複数の導体が幅方向並行に配列され、絶縁性の接着層53を有する発泡絶縁体54で厚さ方向に両側から挟んだ後ラミネート加工され、さらに両側から導電性接着層55を有する金属層56で挟まれたフレキシブルフラットケーブル50が開示されている。また、金属層56には、絶縁性フィルム57が設けられている。 For example, in Patent Document 1, as shown in FIG. 6, a plurality of conductors composed of a signal conductor 51 and a ground conductor 52 are arranged in parallel in the width direction, and are thick with a foamed insulator 54 having an insulating adhesive layer 53. A flexible flat cable 50 is disclosed which is sandwiched between both sides in the vertical direction and then laminated and further sandwiched between both sides by a metal layer 56 having a conductive adhesive layer 55. In addition, an insulating film 57 is provided on the metal layer 56.
このような構成を有するフレキシブルフラットケーブル50は、発泡絶縁体54の誘電率と空気の誘電率とを複合することにより、特性インピーダンスを調整することができる。また、フレキシブルフラットケーブル50は、金属層56により、シールド効果を有している。 The flexible flat cable 50 having such a configuration can adjust the characteristic impedance by combining the dielectric constant of the foamed insulator 54 and the dielectric constant of air. The flexible flat cable 50 has a shielding effect due to the metal layer 56.
また例えば、特許文献2においては、図7に示すように、ベースフィルム63の上に信号導体61やグランド導体62からなる複数の導体が幅方向並行に配列され、絶縁層64が設けられた上に、さらに、導電性接着層65を有する開口金属薄膜層66と絶縁性フィルム67とからなるインピーダンスコントロールフィルムと、導電性接着層68を有する非開口金属薄膜層69と絶縁性フィルム70とからなるシールドフィルムと、が順次設けられたインピーダンスコントロールシールド配線板60が開示されている。 For example, in Patent Document 2, as shown in FIG. 7, a plurality of conductors including signal conductors 61 and ground conductors 62 are arranged in parallel in the width direction on a base film 63, and an insulating layer 64 is provided. In addition, the impedance control film includes an opening metal thin film layer 66 having a conductive adhesive layer 65 and an insulating film 67, and includes a non-open metal thin film layer 69 having a conductive adhesive layer 68 and an insulating film 70. An impedance control shield wiring board 60 in which a shield film is sequentially provided is disclosed.
このような構成を有するインピーダンスコントロールシールド配線板60は、開口金属薄膜層66によりインピーダンスコントロール効果を有し、非開口金属薄膜層69によりシールド効果を有している。 The impedance control shield wiring board 60 having such a configuration has an impedance control effect by the opening metal thin film layer 66 and has a shielding effect by the non-opening metal thin film layer 69.
しかしながら、図6に示すように、特許文献1に係るフレキシブルフラットケーブル50において、金属層56の電位をグランド電位にするためには、わざわざ導電性接着層55、発泡絶縁体54、および接着層53内の一部に予め非絶縁部58を形成し、その中を満たす導電性接着層59によって、金属層56とグランド導体52とを接続する必要があった。 However, as shown in FIG. 6, in the flexible flat cable 50 according to Patent Document 1, in order to set the potential of the metal layer 56 to the ground potential, the conductive adhesive layer 55, the foamed insulator 54, and the adhesive layer 53 are bothered. A non-insulating portion 58 was previously formed in a part of the inside, and the metal layer 56 and the ground conductor 52 had to be connected by a conductive adhesive layer 59 filling the inside.
また、フレキシブルフラットケーブル50が、インピーダンス効果とシールド効果の両方を得るためには、発泡絶縁体54を加工する工程と、その後、金属層56で挟む工程と、の少なくとも2工程を必要としていた。 Further, in order for the flexible flat cable 50 to obtain both the impedance effect and the shielding effect, at least two steps of processing the foamed insulator 54 and thereafter sandwiching the foamed insulator 54 by the metal layer 56 are required.
また、図7に示すように、特許文献2に係るインピーダンスコントロールシールド配線板60においても、開口金属薄膜層66の電位をグランド電位にするためには、わざわざ絶縁層64内の一部に予め非絶縁部71を設け、その中を満たす導電性接着層65によって、開口金属薄膜層66とグランド導体62とを接続する必要があった。 Further, as shown in FIG. 7, in the impedance control shield wiring board 60 according to Patent Document 2, in order to set the potential of the opening metal thin film layer 66 to the ground potential, a part of the insulating layer 64 is not previously used. It is necessary to connect the opening metal thin film layer 66 and the ground conductor 62 by the conductive adhesive layer 65 that is provided with the insulating portion 71 and fills the insulating portion 71.
また、インピーダンスコントロールシールド配線板60が、インピーダンス効果とシールド効果の両方を得るためには、開口金属薄膜層および非開口金属薄膜層の両方を形成する少なくとも2工程を必要としていた。 Further, in order for the impedance control shield wiring board 60 to obtain both the impedance effect and the shield effect, at least two steps of forming both the open metal thin film layer and the non-open metal thin film layer are required.
このように、特許文献1に係るフレキシブルフラットケーブル50や特許文献2に係るインピーダンスコントロールシールド配線板60では、シールド効果およびインピーダンスコントロール効果を得るために、わざわざ非絶縁部を設けてグランド導体を露出したり、シールド効果を有する層とインピーダンスコントロール効果を有する層とを形成する少なくとも2工程が必要だったり、と手間やコストがかかってくる問題があった。 As described above, in the flexible flat cable 50 according to Patent Document 1 and the impedance control shield wiring board 60 according to Patent Document 2, in order to obtain a shielding effect and an impedance control effect, a ground conductor is exposed by bothering the provision of a non-insulating portion. In other words, there is a problem that it takes time and cost, and that at least two steps of forming a layer having a shielding effect and a layer having an impedance control effect are necessary.
そこで、本発明は、シールドフィルムが貼り付けられる対象となる基板のグランド導体を露出することなく、容易にグランド接続が可能なシールドフィルムと、そのシールドフィルムを用いて1工程でシールド機能とインピーダンスコントロール機能とを有することが可能なシールド配線板と、そのシールドフィルムを用いたグランド接続方法と、を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention provides a shield film that can be easily connected to the ground without exposing the ground conductor of the substrate to which the shield film is attached, and the shield function and impedance control in one step using the shield film. An object of the present invention is to provide a shield wiring board capable of having a function and a ground connection method using the shield film.
本発明のシールドフィルムは、外部グランド部材に接続するための金属層と導電性粒子を含む導電性接着層とを接触状態に備えた導電部材に、加熱および加圧により接続されるシールドフィルムであって、前記加熱によって軟化される樹脂により形成され、前記加熱および加圧により接続された後において、前記導電性接着層から突出した前記導電性粒子の平均突出長よりも薄い層厚みで形成されるとともに、前記導電性接着層に接着されるカバーフィルムと、前記カバーフィルムに順に積層された金属薄膜層および接着層と、を有する。 The shield film of the present invention is a shield film that is connected to a conductive member provided in contact with a metal layer for connection to an external ground member and a conductive adhesive layer containing conductive particles by heating and pressurization. And formed by a resin that is softened by heating and having a layer thickness that is thinner than the average protruding length of the conductive particles protruding from the conductive adhesive layer after being connected by heating and pressing. And a cover film adhered to the conductive adhesive layer, and a metal thin film layer and an adhesive layer sequentially laminated on the cover film.
上記の構成によれば、加熱および加圧によって導電部材を、カバーフィルム、金属薄膜層、および接着層からなるシールドフィルムに接続する際に、シールドフィルム内の樹脂で形成されたカバーフィルムが加熱によって軟化され、さらに、接続においてカバーフィルムの層厚みが導電部材内の導電性接着層から突出した導電性粒子の平均突出長よりも薄いため、加圧によって導電性接着層から突出した導電性粒子がシールドフィルム内のカバーフィルムを突き破って金属薄膜層にまで達することができる。これにより、導電性粒子を介してシールドフィルム内の金属薄膜層の電位をグランド電位にすることができるため、従来のように、シールドフィルムが貼り付けられる基板内のグランド導体とシールドフィルム内の金属薄膜層とを接続する必要がなくなる。そのため、予め基板を加工してグランド導体を露出する手間がいらず、加工コストもかからない。また、導電部材をシールドフィルムに接続するだけなので、例えば長尺状の基板を用いた場合でも所望の位置で容易にシールドフィルムのグランド接続をすることができる。 According to the above configuration, when the conductive member is connected to the shield film composed of the cover film, the metal thin film layer, and the adhesive layer by heating and pressurizing, the cover film formed of the resin in the shield film is heated. Furthermore, since the layer thickness of the cover film in connection is thinner than the average protruding length of the conductive particles protruding from the conductive adhesive layer in the conductive member, the conductive particles protruding from the conductive adhesive layer by pressurization are The cover film in the shield film can be penetrated to reach the metal thin film layer. As a result, the potential of the metal thin film layer in the shield film can be set to the ground potential via the conductive particles, so that the ground conductor in the substrate to which the shield film is attached and the metal in the shield film as in the past. There is no need to connect the thin film layer. Therefore, there is no need to process the substrate in advance to expose the ground conductor, and processing costs are not required. Further, since the conductive member is simply connected to the shield film, the shield film can be easily grounded at a desired position even when a long substrate is used.
また、本発明におけるシールドフィルムにおいて、前記接着層には、さらに介在層が接着されており、前記介在層が導電体を有する基板に接着されることにより、当該導電体を有する基板のインピーダンスをコントロールしていてもよい。 In the shield film of the present invention, an intervening layer is further adhered to the adhesive layer, and the intervening layer is adhered to a substrate having a conductor, thereby controlling the impedance of the substrate having the conductor. You may do it.
上記の構成によれば、介在層の厚みを調整することにより、導電体を有する基板のインピーダンスを調整することができる。従って、シールドフィルムは、導電体を有する基板のインピーダンスを調整する層とシールド効果を有する層とを備えていることになり、シールドフィルムを基板に貼り付ける1工程のみで、基板にシールド効果もインピーダンスコントロール効果も与えることができる。 According to said structure, the impedance of the board | substrate which has a conductor can be adjusted by adjusting the thickness of an intervening layer. Therefore, the shield film has a layer for adjusting the impedance of the substrate having a conductor and a layer having a shielding effect, and the shielding effect is also provided on the substrate by only one step of attaching the shielding film to the substrate. A control effect can also be given.
また、本発明におけるシールドフィルムにおいて、前記基板は、フレキシブルフラットケーブルであってもよい。 In the shield film of the present invention, the substrate may be a flexible flat cable.
上記の構成によれば、フレキシブルフラットケーブルに貼り付けるシールドフィルムを提供できる。 According to said structure, the shield film affixed on a flexible flat cable can be provided.
また、本発明は、導電体を有する基板と、上記に記載するシールドフィルムと、を有するシールド配線板である。 Moreover, this invention is a shield wiring board which has a board | substrate which has a conductor, and the shield film described above.
上記の構成によれば、シールドフィルムが貼り付けられたシールド配線板を提供できる。 According to said structure, the shield wiring board with which the shield film was affixed can be provided.
また、本発明は、シールドフィルムのグランド接続方法であって、樹脂により形成されたカバーフィルムと、前記カバーフィルムに順に積層された金属薄膜層および接着層と、を有するシールドフィルムのグランド接続方法であって、
外部グランド部材に接続された金属層と導電性粒子を含む導電性接着層とを接触状態に備えた導電部材を、前記樹脂が軟化する温度で加熱しながら加圧して当該導電性接着層と前記カバーフィルムとを接着することにより、前記カバーフィルムの層厚みよりも長く突出した前記導電性粒子が前記金属薄膜層にまで達することでグランド接続することを特徴とするシールドフィルムのグランド接続方法である。
Further, the present invention is a shield film ground connection method, comprising: a cover film formed of a resin; a metal thin film layer and an adhesive layer sequentially laminated on the cover film; There,
A conductive member provided in contact with a metal layer connected to an external ground member and a conductive adhesive layer containing conductive particles is pressed while being heated at a temperature at which the resin softens, and the conductive adhesive layer and the conductive layer It is a ground connection method for a shield film, wherein the conductive particles protruding longer than the layer thickness of the cover film are connected to the ground by reaching the metal thin film layer by bonding the cover film. .
上記のグランド接続方法によれば、加熱および加圧によって導電部材を、カバーフィルム、金属薄膜層、および接着層からなるシールドフィルムに接続する際に、シールドフィルム内の樹脂で形成されたカバーフィルムが加熱によって軟化され、さらに、接続においてカバーフィルムの層厚みが導電部材内の導電性接着層から突出した導電性粒子の平均突出長よりも薄いため、加圧によって導電性接着層から突出した導電性粒子がシールドフィルム内のカバーフィルムを突き破って金属薄膜層にまで達することができる。これにより、導電性粒子を介してシールドフィルム内の金属薄膜層の電位をグランド電位にすることができるため、従来のように、シールドフィルムが貼り付けられる基板内のグランド導体とシールドフィルム内の金属薄膜層とを接続する必要がなくなる。そのため、予め基板を加工してグランド導体を露出する手間がいらず、加工コストもかからない。また、導電部材をシールドフィルムに接続するだけなので、例えば長尺状の基板を用いた場合でも所望の位置で容易にシールドフィルムのグランド接続をすることができる。 According to the above ground connection method, when the conductive member is connected to the shield film composed of the cover film, the metal thin film layer, and the adhesive layer by heating and pressing, the cover film formed of the resin in the shield film is Since the thickness of the cover film is softened by heating, and the thickness of the cover film is thinner than the average protruding length of the conductive particles protruding from the conductive adhesive layer in the conductive member, the conductive protruding from the conductive adhesive layer by pressing The particles can penetrate the cover film in the shield film and reach the metal thin film layer. As a result, the potential of the metal thin film layer in the shield film can be set to the ground potential via the conductive particles, so that the ground conductor in the substrate to which the shield film is attached and the metal in the shield film as in the past. There is no need to connect the thin film layer. Therefore, there is no need to process the substrate in advance to expose the ground conductor, and processing costs are not required. Further, since the conductive member is simply connected to the shield film, the shield film can be easily grounded at a desired position even when a long substrate is used.
本発明におけるシールドフィルムによれば、導電性粒子を介してシールドフィルム内の金属薄膜層の電位をグランド電位にすることができるため、予め基板を加工してグランド導体を露出する手間がいらず、加工コストもかからない。また、導電部材をシールドフィルムに接続するだけなので、所望の位置で容易にシールドフィルムのグランド接続をすることができる。 According to the shield film of the present invention, since the potential of the metal thin film layer in the shield film can be set to the ground potential via the conductive particles, there is no need to process the substrate in advance and expose the ground conductor, There is no processing cost. Moreover, since only the conductive member is connected to the shield film, the shield film can be easily grounded at a desired position.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
(全体構成)
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
(overall structure)
図1に示すように、本発明のシールドフィルム20は、外部グランド部材に接続するための金属層32と導電性粒子35を含む導電性接着層33とを接触状態に備えた導電部材30に、加熱および加圧により接続されるシールドフィルム20であって、加熱によって軟化される樹脂により形成され、加熱および加圧により接続される際に、導電性接着層33から突出した導電性粒子35の平均突出長L2よりも薄い層厚みL1となるよう形成されるとともに、導電性接着層33に接着されるカバーフィルム25と、カバーフィルム25に順に積層された金属薄膜層24および接着層23と、を有する。 As shown in FIG. 1, the shield film 20 of the present invention includes a conductive member 30 provided with a metal layer 32 for connection to an external ground member and a conductive adhesive layer 33 including conductive particles 35 in a contact state. The shield film 20 connected by heating and pressurization, formed of a resin softened by heating, and the average of the conductive particles 35 protruding from the conductive adhesive layer 33 when connected by heating and pressurization A cover film 25 that is formed to have a layer thickness L1 that is thinner than the protruding length L2, and that is adhered to the conductive adhesive layer 33, and a metal thin film layer 24 and an adhesive layer 23 that are sequentially laminated on the cover film 25. Have.
また、本発明のシールドフィルム20は、図1に示すように、フレキシブルフラットケーブル10などの導電体を有する基板に貼り付けられ、電気信号からの不要輻射や外部からのノイズを軽減し、フレキシブルフラットケーブル10と接続される機器との間にインピーダンスの不整合が生じないように、インピーダンスを調整する役割を有している。 Further, as shown in FIG. 1, the shield film 20 of the present invention is affixed to a substrate having a conductor such as a flexible flat cable 10 to reduce unnecessary radiation from an electric signal and noise from the outside. It has the role of adjusting the impedance so that impedance mismatch does not occur between the cable 10 and the connected device.
さらに、本発明のシールドフィルム20は、外部グランド部材に接続された導電部材30に加熱および加圧によって接続されることにより、その電位をグランド電位とすることができる。 Furthermore, the shield film 20 of the present invention can be grounded by being connected to the conductive member 30 connected to the external ground member by heating and pressing.
ここで、『接続』とは、二つ以上のものが少なくとも電気的に繋がることであり、この場合、シールドフィルム20と導電部材30とが、少なくとも電気的に繋がることをいう。
(導電部材30)
Here, “connection” means that two or more things are at least electrically connected. In this case, the shield film 20 and the conductive member 30 are at least electrically connected.
(Conductive member 30)
ここで先ず、本発明のシールドフィルム20に接続される導電部材30について説明する。導電部材30は、図4に示すように、導電性粒子35を含む導電性接着層33と接触状態に接着された金属層32と、さらにその上に金メッキ、錫メッキなどのメッキ31が施された構成を有している。
(導電性接着層33)
First, the conductive member 30 connected to the shield film 20 of the present invention will be described. As shown in FIG. 4, the conductive member 30 is provided with a metal layer 32 adhered in contact with a conductive adhesive layer 33 including conductive particles 35, and a plating 31 such as gold plating or tin plating thereon. It has a configuration.
(Conductive adhesive layer 33)
導電部材30に含まれる導電性接着層33は、導電性粒子35と接着剤34(アクリル系樹脂など)との混合体として形成されている。即ち、導電性接着層33は、アクリル系樹脂などの接着剤34に導電性粒子35を分散させたものである。導電性接着層33の電気的な接続は、接着剤34内の導電性粒子35が1個または複数個、導電性接着剤層33の厚み方向に連続的に接触することにより実現され、接着剤34の接着力により保持される。
(接着剤34)
The conductive adhesive layer 33 included in the conductive member 30 is formed as a mixture of conductive particles 35 and an adhesive 34 (acrylic resin or the like). That is, the conductive adhesive layer 33 is obtained by dispersing conductive particles 35 in an adhesive 34 such as an acrylic resin. The electrical connection of the conductive adhesive layer 33 is realized by continuously contacting one or more conductive particles 35 in the adhesive 34 in the thickness direction of the conductive adhesive layer 33. It is held by the adhesive force of 34.
(Adhesive 34)
導電性接着層33に含まれる接着剤34は、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系樹脂、熱可塑性エラストマ系樹脂、ゴム系樹脂、ポリエステル系樹脂などが挙げられる。なお、接着剤34は、上記樹脂の単体でも混合体でもよい。 Examples of the adhesive 34 included in the conductive adhesive layer 33 include acrylic resins, epoxy resins, silicon resins, thermoplastic elastomer resins, rubber resins, and polyester resins. The adhesive 34 may be a single substance or a mixture of the above resins.
また、接着剤34は、粘着性付与剤をさらに含んでいてもよい。粘着性付与剤としては、脂肪酸炭化水素樹脂、C5/C9混合樹脂、ロジン、ロジン誘導体、特殊樹脂、テルペン樹脂、芳香族系炭化水素樹脂、熱反応性樹脂等のタッキファイヤーが挙げられる。
(導電性粒子35)
The adhesive 34 may further include a tackifier. Examples of the tackifier include tackifiers such as fatty acid hydrocarbon resins, C5 / C9 mixed resins, rosin, rosin derivatives, special resins, terpene resins, aromatic hydrocarbon resins, and thermally reactive resins.
(Conductive particles 35)
導電性接着層33に含まれる導電性粒子35は、金属材料により一部または全部が形成されている。例えば、導電性粒子35は、銅粉、銀粉、ニッケル粉、銀コ−ト銅粉(AgコートCu粉)、金コート銅粉、銀コートニッケル粉(AgコートNi粉)、金コートニッケル粉があり、これら金属粉は、水アトマイズ法、カーボニル法などにより作製することができる。また、上記以外にも、金属粉に樹脂を被覆した粒子、樹脂に金属粉を被覆した粒子を用いることもできる。なお、導電性粒子35は、AgコートCu粉、またはAgコートNi粉であることが好ましい。この理由は、安価な材料により導電性の向上した導電性粒子35を得ることができるからである。 Part or all of the conductive particles 35 included in the conductive adhesive layer 33 are formed of a metal material. For example, the conductive particles 35 are copper powder, silver powder, nickel powder, silver-coated copper powder (Ag-coated Cu powder), gold-coated copper powder, silver-coated nickel powder (Ag-coated Ni powder), and gold-coated nickel powder. Yes, these metal powders can be produced by a water atomization method, a carbonyl method, or the like. In addition to the above, particles obtained by coating a metal powder with a resin and particles obtained by coating a resin with a metal powder can also be used. The conductive particles 35 are preferably Ag-coated Cu powder or Ag-coated Ni powder. This is because the conductive particles 35 with improved conductivity can be obtained from an inexpensive material.
また、図4(a)に示すように、導電性粒子35は、金属層32と接触状態にあるとともに、シールドフィルム20に貼り付けられる側において、導電性接着層33から一部が突出している。
(金属層32)
Further, as shown in FIG. 4A, the conductive particles 35 are in contact with the metal layer 32 and partly protrudes from the conductive adhesive layer 33 on the side to be attached to the shield film 20. .
(Metal layer 32)
導電部材30に含まれる金属層32は、ニッケル、銅、銀、錫、金、パラジウム、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛、および、これらの材料の何れか、または2つ以上を含む合金などの金属材料で形成されている。 The metal layer 32 included in the conductive member 30 is a metal such as nickel, copper, silver, tin, gold, palladium, aluminum, chromium, titanium, zinc, and an alloy including any one or more of these materials. Made of material.
また、金属層32は、図2に示すように、筐体などの外部グランド部材に接続されており、その電位がグランド電位に保たれている。 Further, as shown in FIG. 2, the metal layer 32 is connected to an external ground member such as a housing, and the potential thereof is kept at the ground potential.
さらに、金属層32には、金メッキ、錫メッキなどのメッキ31が施されている。
(シールドフィルム20)
Further, the metal layer 32 is plated with gold 31 or tin.
(Shield film 20)
上記の導電部材30を用いてグランド接続される本発明のシールドフィルム20は、図1に示すように、接着層21を有する介在層22と、接着層23を有する金属薄膜層24と、カバーフィルム25と、が層となるように順次積層されている。
(カバーフィルム25)
As shown in FIG. 1, the shield film 20 of the present invention connected to the ground using the conductive member 30 includes an intervening layer 22 having an adhesive layer 21, a metal thin film layer 24 having an adhesive layer 23, and a cover film. And 25 are sequentially stacked.
(Cover film 25)
シールドフィルム20に含まれるカバーフィルム25は、エポキシ系、ポリエステル系、アクリル系、フェノール系、ウレタン系などの樹脂またはこれらの混合物によって形成されている。 The cover film 25 included in the shield film 20 is formed of an epoxy resin, a polyester resin, an acrylic resin, a phenol resin, a urethane resin, or a mixture thereof.
ここで、図1における円部Eは、導電部材30内の導電性接着層33が、カバーフィルム25に接着されている様子を拡大した部分である。 Here, the circular part E in FIG. 1 is an enlarged part of the state where the conductive adhesive layer 33 in the conductive member 30 is bonded to the cover film 25.
図1の円部Eに示すように、導電部材30がシールドフィルム20に接続される際、導電部材30内の導電性接着層33が、シールドフィルム20内のカバーフィルム25に接着される。この接着時において、カバーフィルム25は、導電部材30側から加熱され、軟化されるようになっている。 As shown in a circle E in FIG. 1, when the conductive member 30 is connected to the shield film 20, the conductive adhesive layer 33 in the conductive member 30 is bonded to the cover film 25 in the shield film 20. At the time of adhesion, the cover film 25 is heated from the conductive member 30 side and softened.
また、カバーフィルム25を形成するエポキシ系樹脂は、導電部材30をシールドフィルム20に接続する際の加熱温度で軟化される樹脂により形成されており、その樹脂の軟化温度は、100℃〜140℃の範囲である。 Moreover, the epoxy resin that forms the cover film 25 is formed of a resin that is softened at a heating temperature when the conductive member 30 is connected to the shield film 20, and the softening temperature of the resin is 100 ° C. to 140 ° C. Range.
また、図1の円部Eに示すように、導電部材30内の導電性接着層33には、導電性粒子35が内在している。シールドフィルム20と導電部材30との接続において、この導電性粒子35は、導電性接着層33からその一部が突出し、その突出部における導電性粒子35の平均突出長L2は、カバーフィルム25の層厚みL1よりも長くなるように設定されている。
(金属薄膜層24)
Further, as shown in a circle E in FIG. 1, conductive particles 35 are contained in the conductive adhesive layer 33 in the conductive member 30. In connection between the shield film 20 and the conductive member 30, a part of the conductive particles 35 protrudes from the conductive adhesive layer 33, and the average protrusion length L <b> 2 of the conductive particles 35 at the protrusions of the cover film 25 is It is set to be longer than the layer thickness L1.
(Metal thin film layer 24)
シールドフィルム20に含まれる金属薄膜層24は、電気信号からの不要輻射や外部からのノイズを軽減するシールド効果を有する。 The metal thin film layer 24 included in the shield film 20 has a shielding effect for reducing unnecessary radiation from an electric signal and noise from the outside.
また、金属薄膜層24は、外部グランド部材に接続された導電部材30がシールドフィルム20に加熱および加圧によって接続されることにより、カバーフィルム25を突き破った導電性接着層33内の導電性粒子35を介して導電部材30と接続されるようになっている。これにより、シールドフィルム20は、導電部材30によってグランド接続することができる。 In addition, the metal thin film layer 24 includes conductive particles in the conductive adhesive layer 33 that has broken through the cover film 25 when the conductive member 30 connected to the external ground member is connected to the shield film 20 by heating and pressing. It is connected to the conductive member 30 via 35. Thereby, the shield film 20 can be grounded by the conductive member 30.
この金属薄膜層24を形成する金属材料としては、ニッケル、銅、銀、錫、金、パラジウム、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛、および、これらの材料の何れか、または2つ以上を含む合金などを挙げることができる。また、金属薄膜層24の金属材料および厚みは、求められるシールド効果および繰り返し屈曲・摺動耐性に応じて適宜選択すればよいが、厚さにおいては、3μm〜20μm程度の厚さとすればよい。また、好ましくは6μm〜15μm、さらに好ましくは9μm〜12μmである。厚さが3μm未満では、十分な伝送特性が得られず、20μmを超えると屈曲性が問題となる。さらに、金属薄膜層24は、金属箔、メッキなどが考えられるが、金属箔が好ましい。
(介在層22)
Examples of the metal material for forming the metal thin film layer 24 include nickel, copper, silver, tin, gold, palladium, aluminum, chromium, titanium, zinc, and an alloy containing any one or more of these materials. Can be mentioned. The metal material and thickness of the metal thin film layer 24 may be appropriately selected according to the required shielding effect and repeated bending / sliding resistance, but the thickness may be about 3 μm to 20 μm. Moreover, Preferably they are 6 micrometers-15 micrometers, More preferably, they are 9 micrometers-12 micrometers. If the thickness is less than 3 μm, sufficient transmission characteristics cannot be obtained, and if it exceeds 20 μm, flexibility becomes a problem. Furthermore, although the metal thin film layer 24 can be a metal foil, plating, or the like, a metal foil is preferable.
(Intervening layer 22)
シールドフィルム20に含まれる介在層22は、ポリエチレンテフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、発泡ポリエチレンテフタレート、発泡ポリエチレン、発泡ポリプロピレン、不織布などから構成され、接着層23で金属薄膜層24に積層されることによって、よりシールドフィルム20に厚みをもたしている。また、この厚みを調整することにより、フレキシブルフラットケーブル10にシールドフィルム20を貼りつけた際、フレキシブルフラットケーブル10のインピーダンスを調整することが可能となる。さらに、介在層22は、接着層21により、フレキシブルフラットケーブル10に接着することができる。このような構成により、シールドフィルム20は、接着層23の接着によって、介在層22をフレキシブルフラットケーブル10などに貼り付けることができる。このように、介在層22の厚みを調整することにより、フレキシブルフラットケーブル10のインピーダンスを調整することができる。従って、シールドフィルム20は、フレキシブルフラットケーブル10のインピーダンスを調整する層とシールド効果を有する層とを備えていることになり、シールドフィルム20をフレキシブルフラットケーブル10に貼り付ける1工程のみで、フレキシブルフラットケーブル10にシールド効果もインピーダンスコントロール効果も与えることができる。
(接着層21・23)
The intervening layer 22 included in the shield film 20 is composed of polyethylene terephthalate, polyethylene, polypropylene, foamed polyethylene terephthalate, foamed polyethylene, foamed polypropylene, non-woven fabric, and the like, and is laminated on the metal thin film layer 24 with the adhesive layer 23. Further, the shield film 20 is made thicker. Further, by adjusting this thickness, when the shield film 20 is attached to the flexible flat cable 10, the impedance of the flexible flat cable 10 can be adjusted. Further, the intervening layer 22 can be adhered to the flexible flat cable 10 by the adhesive layer 21. With such a configuration, the shield film 20 can affix the intervening layer 22 to the flexible flat cable 10 or the like by adhesion of the adhesive layer 23. Thus, the impedance of the flexible flat cable 10 can be adjusted by adjusting the thickness of the intervening layer 22. Therefore, the shield film 20 is provided with a layer for adjusting the impedance of the flexible flat cable 10 and a layer having a shielding effect, and the flexible flat cable 10 is bonded to the flexible flat cable 10 only in one step. The cable 10 can be given a shielding effect and an impedance control effect.
(Adhesive layers 21 and 23)
シールドフィルム20に含まれる接着層21・23は、オレフィン系、ウレタン系、酢酸ビニル系、ポリエステル系、ポリアミド系、ゴム系、アクリル系、などの熱可塑性樹脂や、フェノール系、エポキシ系、ウレタン系、メラミン系、ポリイミド系、アルキッド系などの熱硬化型樹脂から構成されている。接着層21によって、介在層22は、フレキシブルフラットケーブル10に接着することができる。また、接着層23によって、金属薄膜層24は、介在層22と接着することができる。 The adhesive layers 21 and 23 included in the shield film 20 are olefin-based, urethane-based, vinyl acetate-based, polyester-based, polyamide-based, rubber-based, acrylic-based thermoplastic resins, phenol-based, epoxy-based, urethane-based, etc. , Melamine-based, polyimide-based, alkyd-based thermosetting resins. The intervening layer 22 can be adhered to the flexible flat cable 10 by the adhesive layer 21. Further, the metal thin film layer 24 can be bonded to the intervening layer 22 by the adhesive layer 23.
上記の構成を有するシールドフィルム20を用いれば、加熱および加圧によって導電部材30を、カバーフィルム25、金属薄膜層24、および接着層23からなるシールドフィルム20に接続する際に、シールドフィルム20内の樹脂で形成されたカバーフィルム25が加熱によって軟化され、さらに、接続においてカバーフィルム25の層厚みL1が導電部材30内の導電性接着層33から突出した導電性粒子35の平均突出長L2よりも薄いため、加圧によって導電性接着層33から突出した導電性粒子35がシールドフィルム20内のカバーフィルム25を突き破って金属薄膜層24にまで達することができる。これにより、導電性粒子35を介してシールドフィルム20内の金属薄膜層24の電位をグランド電位にすることができるため、従来のように、シールドフィルム20が貼り付けられる基板内のグランド導体とシールドフィルム20内の金属薄膜層24とを接続する必要がなくなる。そのため、予め基板を加工してグランド導体を露出する手間がいらず、加工コストもかからない。また、導電部材30をシールドフィルム20に接続するだけなので、例えば長尺状の基板を用いた場合でも所望の位置で容易にシールドフィルム20のグランド接続をすることができる。
(フレキシブルフラットケーブル10)
When the shield film 20 having the above configuration is used, when the conductive member 30 is connected to the shield film 20 including the cover film 25, the metal thin film layer 24, and the adhesive layer 23 by heating and pressurization, the inside of the shield film 20 The cover film 25 made of the above resin is softened by heating, and the layer thickness L1 of the cover film 25 in connection is more than the average protrusion length L2 of the conductive particles 35 protruding from the conductive adhesive layer 33 in the conductive member 30. Therefore, the conductive particles 35 protruding from the conductive adhesive layer 33 by pressurization can penetrate the cover film 25 in the shield film 20 and reach the metal thin film layer 24. Thereby, since the potential of the metal thin film layer 24 in the shield film 20 can be set to the ground potential via the conductive particles 35, the ground conductor and the shield in the substrate to which the shield film 20 is attached as in the prior art. It is not necessary to connect the metal thin film layer 24 in the film 20. Therefore, there is no need to process the substrate in advance to expose the ground conductor, and processing costs are not required. Further, since only the conductive member 30 is connected to the shield film 20, for example, even when a long substrate is used, the shield film 20 can be easily grounded at a desired position.
(Flexible flat cable 10)
次に、上記の構成を有するシールドフィルム20に貼り付けられるフレキシブルフラットケーブル10について説明する。フレキシブルフラットケーブル10は、図1に示すように、ベースフィルム14上に、信号導体11とグランド導体12とからなる複数の導体が幅方向並行に配列され、さらにその上に、絶縁フィルム13が設けられた構成を有している。 Next, the flexible flat cable 10 attached to the shield film 20 having the above configuration will be described. As shown in FIG. 1, the flexible flat cable 10 has a plurality of conductors composed of signal conductors 11 and ground conductors 12 arranged in parallel in the width direction on a base film 14, and further provided with an insulating film 13 thereon. It has the structure which was made.
ベースフィルム14と絶縁フィルム13は、いずれもエンジニアリングプラスチックからなる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、架橋ポリエチレン、ポリエステル、ポリベンツイミダゾール、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンサルファイド(PPS)などの樹脂が挙げられる。あまり耐熱性を要求されない場合は、安価なポリエステルフィルムが好ましく、難燃性が要求される場合においては、ポリフェニレンサルファイドフィルム、さらに耐熱性が要求される場合にはポリイミドフィルムが好ましい。 Both the base film 14 and the insulating film 13 are made of engineering plastic. Examples thereof include resins such as polyethylene terephthalate, polypropylene, cross-linked polyethylene, polyester, polybenzimidazole, polyimide, polyimide amide, polyether imide, and polyphenylene sulfide (PPS). An inexpensive polyester film is preferable when heat resistance is not required, and a polyphenylene sulfide film is preferable when flame resistance is required, and a polyimide film is preferable when heat resistance is required.
また、ベースフィルム14と信号導体11およびグランド導体12との接合は、接着剤によって接着してもよいし、樹脂を押し出して成形してもよい。 Further, the base film 14, the signal conductor 11 and the ground conductor 12 may be joined by an adhesive, or may be molded by extruding a resin.
また、図3に示すように、フレキシブルフラットケーブル10の端部には補強板40が設けられており、フレキシブルフラットケーブルのコネクタ挿入部の強度を向上させている。 Moreover, as shown in FIG. 3, the reinforcement board 40 is provided in the edge part of the flexible flat cable 10, and the intensity | strength of the connector insertion part of a flexible flat cable is improved.
上記の構成を有するフレキシブルフラットケーブル10は、シールドフィルム20内の金属薄膜層24によって、回路信号が安定化されている。さらに、フレキシブルフラットケーブル10は、シールドフィルム20により電磁シールド効果を有する。 In the flexible flat cable 10 having the above configuration, the circuit signal is stabilized by the metal thin film layer 24 in the shield film 20. Furthermore, the flexible flat cable 10 has an electromagnetic shielding effect due to the shield film 20.
なお、シールドフィルム20は、フレキシブルフラットケーブルの他に、FPC、COF(チップオンフレキ)、RF(フレックスプリント板)、多層フレキシブル基板、リジット基板などに利用できるが、必ずしもこれらに限られない。 In addition to the flexible flat cable, the shield film 20 can be used for FPC, COF (chip-on-flex), RF (flex printed board), multilayer flexible board, rigid board, etc., but is not necessarily limited thereto.
また、フレキシブルフラットケーブル10のグランド導体12は、図2に示すように、導電部材30と同様に、組み込まれる電子機器の筐体などの外部グランド部材に接続されており、これによって、グランド導体12と導電部材30とが同じグランド電位となる。さらに、前述したように、導電部材30とシールドフィルム20とは、導電性粒子35を介して同電位とすることができるため、シールドフィルム20とグランド導体12とを同じグランド電位にすることができる。
(シールド配線板1)
Further, as shown in FIG. 2, the ground conductor 12 of the flexible flat cable 10 is connected to an external ground member such as a housing of an electronic device to be incorporated, as in the case of the conductive member 30. And the conductive member 30 have the same ground potential. Furthermore, as described above, since the conductive member 30 and the shield film 20 can be set to the same potential via the conductive particles 35, the shield film 20 and the ground conductor 12 can be set to the same ground potential. .
(Shield wiring board 1)
次に、シールドフィルム20とフレキシブルフラットケーブル10とから構成されるシールド配線板1について説明する。 Next, the shield wiring board 1 comprised from the shield film 20 and the flexible flat cable 10 is demonstrated.
図1および図3に示すように、本発明のシールド配線板1は、1枚のシールドフィルム20によって、フレキシブルフラットケーブル10(FFC)の片面または両面に貼るか、フレキシブルフラットケーブル10の両面にラップ巻きした構成を有しており、シールドフィルム20には、導電部材30が接続されるようになっている。 As shown in FIG. 1 and FIG. 3, the shield wiring board 1 of the present invention is attached to one side or both sides of the flexible flat cable 10 (FFC) with one shield film 20 or wrapped on both sides of the flexible flat cable 10. A conductive member 30 is connected to the shield film 20.
上記のように、シールドフィルム20に導電部材30が接続されることにより、筐体などの外部グランド部材に接続された導電部材30を通して、シールドフィルム20のグランド接続を可能にしている。
(シールドフィルム20のグランド接続方法)
As described above, when the conductive member 30 is connected to the shield film 20, the shield film 20 can be grounded through the conductive member 30 connected to an external ground member such as a housing.
(Ground connection method of shield film 20)
次に、図4を用いて、シールドフィルム20のグランド接続方法を詳細に説明する。 Next, the ground connection method of the shield film 20 will be described in detail with reference to FIG.
本発明のシールドフィルム20におけるグランド接続方法は、図4に示すように、樹脂により形成されたカバーフィルム25と、カバーフィルム25に順に積層された金属薄膜層24および接着層23と、を有するシールドフィルム20のグランド接続方法であって、外部グランド部材に接続された金属層32と導電性粒子35を含む導電性接着層33とを接触状態に備えた導電部材30を、樹脂が軟化する温度で加熱しながら加圧して導電性接着層33とカバーフィルム25とを接着することにより、カバーフィルム25の層厚みL1よりも長く突出した導電性粒子35が金属薄膜層24にまで達することでグランド接続するシールドフィルム20のグランド接続方法である。 As shown in FIG. 4, the ground connection method in the shield film 20 of the present invention includes a cover film 25 formed of a resin, and a metal thin film layer 24 and an adhesive layer 23 that are sequentially laminated on the cover film 25. A method for ground connection of the film 20, wherein the conductive member 30 provided in contact with the metal layer 32 connected to the external ground member and the conductive adhesive layer 33 including the conductive particles 35 is at a temperature at which the resin softens. By applying pressure while heating and bonding the conductive adhesive layer 33 and the cover film 25, the conductive particles 35 that protrude longer than the layer thickness L <b> 1 of the cover film 25 reach the metal thin film layer 24 to reach the ground connection. This is a ground connection method of the shield film 20 to be performed.
先ず、図4(a)に示すように、グランド電位に保たれた導電部材30をシールドフィルム20に合わせ、導電部材30側から加熱する。この時の加熱温度は、樹脂で形成されたカバーフィルム25が軟化する100℃〜140℃の範囲とし、この加熱によって、カバーフィルム25が軟化をし始める。なお、この時の加熱温度は、120℃〜135℃が好ましく、100℃未満では十分な接着が得られない。また、140℃を超えるとフレキシブルフラットケーブル10にダメージを与えるので好ましくない。次に、カバーフィルム25を加熱した後、導電部材30側からシールドフィルム20に向けて加圧することによって、導電部材30内の導電性接着層33は、カバーフィルム25に、さらに密着する。この時、カバーフィルム25は、軟化によって粘着性を持ち、導電性接着層33から突出した導電性粒子35は、カバーフィルム25内に入りこむ。ここで、シールドフィルム20と導電部材30との接続において、導電性接着層33から突出した導電性粒子35の平均突出長L2は、カバーフィルムの層厚みL1よりも長くなるため、さらなる導電部材30側からの加圧によって、導電性粒子35は、カバーフィルム25を突き破り、金属薄膜層24にまで達するようになる。 First, as shown in FIG. 4A, the conductive member 30 kept at the ground potential is aligned with the shield film 20 and heated from the conductive member 30 side. The heating temperature at this time is set to a range of 100 ° C. to 140 ° C. at which the cover film 25 formed of resin is softened, and the cover film 25 starts to soften by this heating. The heating temperature at this time is preferably 120 ° C. to 135 ° C., and if it is less than 100 ° C., sufficient adhesion cannot be obtained. Moreover, since it will damage the flexible flat cable 10 when it exceeds 140 degreeC, it is unpreferable. Next, after the cover film 25 is heated, the conductive adhesive layer 33 in the conductive member 30 is further adhered to the cover film 25 by applying pressure from the conductive member 30 side toward the shield film 20. At this time, the cover film 25 has adhesiveness due to softening, and the conductive particles 35 protruding from the conductive adhesive layer 33 enter the cover film 25. Here, in the connection between the shield film 20 and the conductive member 30, the average protruding length L2 of the conductive particles 35 protruding from the conductive adhesive layer 33 is longer than the layer thickness L1 of the cover film. By the pressurization from the side, the conductive particles 35 break through the cover film 25 and reach the metal thin film layer 24.
これにより、図4(b)に示すように、金属層32と金属薄膜層24とは、導電性粒子35を介して導通状態となり、金属薄膜層24の電位をグランド電位とすることができる。 As a result, as shown in FIG. 4B, the metal layer 32 and the metal thin film layer 24 become conductive through the conductive particles 35, and the potential of the metal thin film layer 24 can be set to the ground potential.
このように、上記のグランド接続方法によれば、加熱および加圧によって導電部材30を、カバーフィルム25、金属薄膜層24および接着層23からなるシールドフィルム20に接続する際に、シールドフィルム20内の樹脂で形成されたカバーフィルム25が加熱によって軟化され、さらに、接続においてカバーフィルム25の層厚みL1が導電部材30内の導電性接着層33から突出した導電性粒子35の平均突出長L2よりも薄いため、加圧によって導電性接着層33から突出した導電性粒子35がシールドフィルム内の、カバーフィルム25を突き破って金属薄膜層24にまで達することができる。これにより、導電性粒子35を介してシールドフィルム20内の金属薄膜層24の電位をグランド電位にすることができるため、従来のように、シールドフィルム20が貼り付けられる基板内のグランド導体とシールドフィルム20内の金属薄膜層24とを接続する必要がなくなる。そのため、予め基板を加工してグランド導体を露出する手間がいらず、加工コストもかからない。また、導電部材30をシールドフィルム20に接続するだけなので、例えば長尺状の基板を用いた場合でも所望の位置で容易にシールドフィルム20のグランド接続をすることができる。
(シールドフィルム20の製造方法)
As described above, according to the ground connection method, when the conductive member 30 is connected to the shield film 20 including the cover film 25, the metal thin film layer 24, and the adhesive layer 23 by heating and pressurization, The cover film 25 made of the above resin is softened by heating, and the layer thickness L1 of the cover film 25 in connection is more than the average protrusion length L2 of the conductive particles 35 protruding from the conductive adhesive layer 33 in the conductive member 30. Therefore, the conductive particles 35 protruding from the conductive adhesive layer 33 by pressurization can penetrate the cover film 25 in the shield film and reach the metal thin film layer 24. Thereby, since the potential of the metal thin film layer 24 in the shield film 20 can be set to the ground potential via the conductive particles 35, the ground conductor and the shield in the substrate to which the shield film 20 is attached as in the prior art. It is not necessary to connect the metal thin film layer 24 in the film 20. Therefore, there is no need to process the substrate in advance to expose the ground conductor, and processing costs are not required. Further, since only the conductive member 30 is connected to the shield film 20, for example, even when a long substrate is used, the shield film 20 can be easily grounded at a desired position.
(Method for producing shield film 20)
次に、図5を用いて、シールドフィルム20の製造方法を説明する。 Next, the manufacturing method of the shield film 20 is demonstrated using FIG.
本実施形態に係るシールドフィルム20の製造方法は、図5に示すように、ロール状に巻回された金属薄膜層24を巻き出す巻出工程と、金属薄膜層24にカバーフィルム25を形成するカバーフィルム形成工程と、金属薄膜層24に接着層23を形成する接着層形成工程と、接着層21を有する介在層22を接着層23によって貼り合わせてシールドフィルム20を形成する介在層形成工程と、形成したシールドフィルム20をロール状に巻き取る巻取工程と、を有している。 As shown in FIG. 5, the manufacturing method of the shield film 20 according to the present embodiment forms an unwinding step of unwinding the metal thin film layer 24 wound in a roll shape, and forms the cover film 25 on the metal thin film layer 24. A cover film forming step, an adhesive layer forming step for forming the adhesive layer 23 on the metal thin film layer 24, and an intermediate layer forming step for forming the shield film 20 by bonding the intervening layer 22 having the adhesive layer 21 together with the adhesive layer 23. And a winding step of winding the formed shield film 20 into a roll.
具体的には、先ず巻出工程において、巻出機41にセットされたロール状の金属薄膜層24を巻き出す。その後、巻き出された金属薄膜層24は、案内ローラにガイドされながら塗工装置42に移動される。 Specifically, first, in the unwinding step, the roll-shaped metal thin film layer 24 set in the unwinding machine 41 is unwound. Thereafter, the unrolled metal thin film layer 24 is moved to the coating device 42 while being guided by the guide roller.
次に、カバーフィルム形成工程において、金属薄膜層24には、エポキシ系樹脂などが塗工装置42によって塗工され、乾燥炉43で乾燥されてカバーフィルム25が形成される。その後、再び案内ローラにガイドされながら塗工装置44に移動される。 Next, in the cover film forming step, an epoxy resin or the like is applied to the metal thin film layer 24 by the coating device 42 and dried in the drying furnace 43 to form the cover film 25. After that, it is moved to the coating device 44 while being guided by the guide roller again.
次に、接着層形成工程において、カバーフィルム25が形成された金属薄膜層24には、熱可塑性樹脂や熱硬化型樹脂が塗工装置44によって塗工され、乾燥炉45で乾燥されて接着層23が形成される。 Next, in the adhesive layer forming step, a thermoplastic resin or a thermosetting resin is applied to the metal thin film layer 24 on which the cover film 25 is formed by a coating device 44 and dried in a drying furnace 45 to be an adhesive layer. 23 is formed.
次に、介在層形成工程において、カバーフィルム25と接着層23が形成された金属薄膜層24には、予め別に製造されていた接着層21を有する介在層22が貼り合せ機46によって貼り合わされ、シールドフィルム20が製造される。 Next, in the intervening layer forming step, the intervening layer 22 having the adhesive layer 21 manufactured separately in advance is bonded to the metal thin film layer 24 formed with the cover film 25 and the adhesive layer 23 by the laminating machine 46, The shield film 20 is manufactured.
最後に、出来上がったシールドフィルム20は、案内ローラにガイドされながら巻取機47によってロール状に巻き取られていく。これにより、本実施形態に係るシールドフィルム20を製造することができる。 Finally, the completed shield film 20 is wound into a roll by the winder 47 while being guided by the guide roller. Thereby, the shield film 20 which concerns on this embodiment can be manufactured.
以上、本発明の一実施形態を説明した。なお、本発明は上記の実施形態に限定される必要はない。 The embodiment of the present invention has been described above. Note that the present invention need not be limited to the above-described embodiment.
例えば、本実施形態の場合、導電性粒子35の断面が円形の形を有しているが、これに限定される必要はなく、接続において、金属層32に接触し、且つ導電性接着層33からの平均突出長L2が、カバーフィルム25の層厚みL1よりも長くなっていれば、円形(楕円形、玉子形など角が丸みを帯びているものであればよい)、デンドライト形状、鱗片形状、針形状、連鎖形状、スパイク形状など何れの形を有していてもよい。なお、好ましくは、円形がよい。 For example, in the case of the present embodiment, the cross section of the conductive particles 35 has a circular shape. However, the present invention is not limited to this, and the metal particles 32 are in contact with the conductive particles 35 and the conductive adhesive layer 33 is connected. As long as the average protrusion length L2 from the layer is longer than the layer thickness L1 of the cover film 25, the shape may be circular (an ellipse, an egg shape, etc., with rounded corners), dendrite shape, scale shape It may have any shape such as a needle shape, a chain shape, or a spike shape. In addition, Preferably, circular is good.
また、図4において、導電部材30は、導電性接着層33の厚さ方向に1個の導電性粒子35が含まれ、その導電性粒子35が導電性接着層33の幅方向において、複数個配列された構成となっているが、本発明においてこれに限定される必要はない。例えば、導電性接着層33の厚さ方向において含まれる導電性粒子35は1個に限らず、導電性粒子35の粒子径に応じて、複数個の導電性粒子35が導電性接着層33の厚さ方向において接触状態に連続して配列されていてもよい。 In FIG. 4, the conductive member 30 includes one conductive particle 35 in the thickness direction of the conductive adhesive layer 33, and a plurality of the conductive particles 35 in the width direction of the conductive adhesive layer 33. Although the arrangement is arranged, the present invention is not limited to this. For example, the number of conductive particles 35 included in the thickness direction of the conductive adhesive layer 33 is not limited to one, and a plurality of conductive particles 35 may be formed on the conductive adhesive layer 33 according to the particle diameter of the conductive particles 35. You may arrange | position continuously in a contact state in the thickness direction.
また、図5におけるシールドフィルム20の製造方法において、予め接着層21が形成された介在層22が、カバーフィルム25と接着層23が形成された金属薄膜層24に貼り合せ機46によって貼り合わされているが、これに限定される必要はなく、カバーフィルム25と接着層23が形成された金属薄膜層24に、介在層22と接着層21が順次形成されるようになっていてもよい。 Further, in the manufacturing method of the shield film 20 in FIG. 5, the intervening layer 22 on which the adhesive layer 21 is formed in advance is bonded to the metal thin film layer 24 on which the cover film 25 and the adhesive layer 23 are formed by the bonding machine 46. However, the present invention is not limited to this, and the intervening layer 22 and the adhesive layer 21 may be sequentially formed on the metal thin film layer 24 on which the cover film 25 and the adhesive layer 23 are formed.
以上、本発明の実施例を説明したが、具体例を例示したに過ぎず、特に本発明を限定するものではなく、具体的構成などは、適宜設計変更可能である。また、発明の実施形態に記載された、作用および効果は、本発明から生じる最も好適な作用および効果を列挙したに過ぎず、本発明による作用および効果は、本発明の実施形態に記載されたものに限定されるものではない。 The embodiments of the present invention have been described above, but only specific examples have been illustrated, and the present invention is not particularly limited. Specific configurations and the like can be appropriately changed in design. Further, the actions and effects described in the embodiments of the present invention only list the most preferable actions and effects resulting from the present invention, and the actions and effects according to the present invention are described in the embodiments of the present invention. It is not limited to things.
本発明は、フレキシブルフラットケーブルなどの導電体を有する基板に用いられるシールドフィルム、シールドフィルムを有するシールド配線板に利用することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used for a shield film used for a substrate having a conductor such as a flexible flat cable, and a shield wiring board having a shield film.
1 シールド配線板
10 フレキシブルフラットケーブル
11 信号導体
12 グランド導体
13 絶縁フィルム
14 ベースフィルム
20 シールドフィルム
21 接着層
22 介在層
23 接着層
24 金属薄膜層
25 カバーフィルム
30 導電部材
33 導電性接着層
35 導電性粒子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Shield wiring board 10 Flexible flat cable 11 Signal conductor 12 Ground conductor 13 Insulating film 14 Base film 20 Shield film 21 Adhesive layer 22 Intervening layer 23 Adhesive layer 24 Metal thin film layer 25 Cover film 30 Conductive member 33 Conductive adhesive layer 35 Conductivity particle
Claims (5)
前記加熱によって軟化される樹脂により形成され、前記加熱および加圧により接続された後において、前記導電性接着層から突出した前記導電性粒子の平均突出長よりも薄い層厚みで形成されるとともに、前記導電性接着層に接着されるカバーフィルムと、
前記カバーフィルムに順に積層された金属薄膜層および接着層と、
を有することを特徴とするシールドフィルム。 A shield film connected by heating and pressurizing to a conductive member provided in a contact state with a metal layer for connecting to an external ground member and a conductive adhesive layer containing conductive particles,
After being formed by the resin softened by heating and connected by the heating and pressurization, and formed with a layer thickness thinner than the average protruding length of the conductive particles protruding from the conductive adhesive layer, A cover film bonded to the conductive adhesive layer;
A metal thin film layer and an adhesive layer sequentially laminated on the cover film;
A shielding film characterized by comprising:
前記介在層が導電体を有する基板に接着されることにより、当該導電体を有する基板のインピーダンスをコントロールすることを特徴とする請求項1に記載のシールドフィルム。 An intervening layer is further bonded to the adhesive layer,
The shield film according to claim 1, wherein an impedance of the substrate having the conductor is controlled by bonding the intervening layer to the substrate having the conductor.
請求項1ないし3の何れか1項に記載のシールドフィルムと、
を有するシールド配線板。 A substrate having a conductor;
The shield film according to any one of claims 1 to 3,
Shield wiring board having
外部グランド部材に接続された金属層と導電性粒子を含む導電性接着層とを接触状態に備えた導電部材を、前記樹脂が軟化する温度で加熱しながら加圧して当該導電性接着層と前記カバーフィルムとを接着することにより、前記カバーフィルムの層厚みよりも長く突出した前記導電性粒子が前記金属薄膜層にまで達することでグランド接続することを特徴とするシールドフィルムのグランド接続方法。
A shield film ground connection method comprising: a cover film formed of a resin; and a metal thin film layer and an adhesive layer sequentially laminated on the cover film,
A conductive member provided in contact with a metal layer connected to an external ground member and a conductive adhesive layer containing conductive particles is pressed while being heated at a temperature at which the resin softens, and the conductive adhesive layer and the conductive layer A method for ground connection of a shield film, characterized in that the conductive particles protruding longer than the layer thickness of the cover film reach the metal thin film layer by bonding to a cover film to make a ground connection.
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