JP2011053096A - 中性子光学素子 - Google Patents
中性子光学素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011053096A JP2011053096A JP2009202581A JP2009202581A JP2011053096A JP 2011053096 A JP2011053096 A JP 2011053096A JP 2009202581 A JP2009202581 A JP 2009202581A JP 2009202581 A JP2009202581 A JP 2009202581A JP 2011053096 A JP2011053096 A JP 2011053096A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- neutron
- side opening
- hole
- optical element
- neutron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 39
- -1 polyethylene Polymers 0.000 claims description 8
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 6
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims description 6
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 5
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 4
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 claims description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000002601 radiography Methods 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-diol;bis(4-fluorophenyl)methanone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1.C1=CC(F)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(F)C=C1 JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
【解決手段】この中性子集光素子10においては、中性子を通過させる円錐形状の貫通孔11が形成されている。この貫通孔11の一端(左側)は、中性子線を入射させる入射側開口部111となっており、他端(右側)は、中性子線を出射させる出射側開口部112となっている。入射側開口部111と出射側開口部112の形状は共に円形であり、出射側開口部112の面積は入射側開口部111の面積よりも小さくなっている。集光する中性子線の光軸100は、入射側開口部111の中心と出射側開口部112の中心とを通る。この中性子集光素子10においては、中性子が貫通孔11の内面で散乱され、その散乱角に広がりがあることを利用して、出射側開口部112における強度を高めることができる。
【選択図】図1
Description
本発明の中性子光学素子は、中性子線を入射側開口部から入射させ、出射側開口部から出射させる中性子光学素子であって、中性子散乱体で構成され、一端が前記入射側開口部、他端が前記出射側開口部となった貫通孔を具備し、前記出射側開口部の面積は前記入射側開口部の面積よりも小さいことを特徴とする。
本発明の中性子光学素子において、前記入射側開口部と前記出射側開口部との間の前記貫通孔の内面形状は、前記中性子線の光軸を含んだ断面上において、直線で構成されることを特徴とする。
本発明の中性子光学素子において、前記貫通孔の内面形状は、円錐面の一部で構成されることを特徴とする。
本発明の中性子光学素子において、前記貫通孔の内面形状は、多角形錐面の一部で構成されることを特徴とする。
本発明の中性子光学素子において、前記中性子散乱体は、有機高分子材料を主成分とすることを特徴とする。
本発明の中性子光学素子において、前記有機高分子材料は、ポリイミド、ポリエチレン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリエチレンテレフタレートのいずれかを主成分とすることを特徴とする。
本発明の中性子光学素子において、前記中性子散乱体は、ベリリウムを主成分とすることを特徴とする。
11 貫通孔
20 中性子線
100 光軸
111 入射側開口部
112 出射側開口部
113 貫通孔内上面
114 貫通孔内下面
Claims (7)
- 中性子線を入射側開口部から入射させ、出射側開口部から出射させる中性子光学素子であって、
中性子散乱体で構成され、
一端が前記入射側開口部、他端が前記出射側開口部となった貫通孔を具備し、
前記出射側開口部の面積は前記入射側開口部の面積よりも小さいことを特徴とする中性子光学素子。 - 前記入射側開口部と前記出射側開口部との間の前記貫通孔の内面形状は、前記中性子線の光軸を含んだ断面上において、直線で構成されることを特徴とする請求項1に記載の中性子光学素子。
- 前記貫通孔の内面形状は、円錐面の一部で構成されることを特徴とする請求項2に記載の中性子光学素子。
- 前記貫通孔の内面形状は、多角形錐面の一部で構成されることを特徴とする請求項2又は3に記載の中性子光学素子。
- 前記中性子散乱体は、有機高分子材料を主成分とすることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載の中性子光学素子。
- 前記有機高分子材料は、ポリイミド、ポリエチレン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリエチレンテレフタレートのいずれかを主成分とすることを特徴とする請求項5に記載の中性子光学素子。
- 前記中性子散乱体は、ベリリウムを主成分とすることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載の中性子光学素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009202581A JP2011053096A (ja) | 2009-09-02 | 2009-09-02 | 中性子光学素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009202581A JP2011053096A (ja) | 2009-09-02 | 2009-09-02 | 中性子光学素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011053096A true JP2011053096A (ja) | 2011-03-17 |
Family
ID=43942258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009202581A Pending JP2011053096A (ja) | 2009-09-02 | 2009-09-02 | 中性子光学素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2011053096A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019086429A (ja) * | 2017-11-08 | 2019-06-06 | 日本電信電話株式会社 | 中性子反射材位置決定方法、中性子反射材位置決定プログラム、および、中性子反射材位置決定装置 |
| JP2021521434A (ja) * | 2018-04-11 | 2021-08-26 | フェニックス ニュートロン イメージング エルエルシー | 中性子撮像システムおよび方法 |
| US12292391B2 (en) | 2022-04-15 | 2025-05-06 | Phoenix, Llc | Re-entrant cones for moderator chamber of a neutron imaging system |
Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0390900A (ja) * | 1989-08-25 | 1991-04-16 | General Atomic Co | 中性子ラジオグラフィー装置 |
| JPH1062365A (ja) * | 1996-08-20 | 1998-03-06 | Toshiba Corp | 中性子散乱材料検査装置 |
| JPH10247599A (ja) * | 1997-03-03 | 1998-09-14 | Rikagaku Kenkyusho | 中性子ビームの制御方法及び制御装置 |
| JPH10332895A (ja) * | 1997-05-19 | 1998-12-18 | Lucent Technol Inc | 冷中性子集束装置 |
| JP2001033593A (ja) * | 1999-07-22 | 2001-02-09 | Mitsubishi Pencil Co Ltd | 中性子カーボンミラーおよびその製造方法 |
| JP2002257996A (ja) * | 2001-03-06 | 2002-09-11 | Hitachi Ltd | 中性子発生装置 |
| JP2003512631A (ja) * | 1999-10-18 | 2003-04-02 | ムラディン、アブベキロウィッチ、クマホフ | 高エネルギー粒子流束の一体的レンズ、このようなレンズの製法、および分析装置におけるその利用、および放射線治療およびリソグラフィー用装置 |
| JP2003315289A (ja) * | 2002-04-19 | 2003-11-06 | Hitachi Ltd | 中性子発生装置を用いた検査・分析装置 |
| JP2004219393A (ja) * | 2003-01-15 | 2004-08-05 | Korea Atom Energ Res Inst | 高光度の平行ビーム生成装置 |
| JP2004317429A (ja) * | 2003-04-18 | 2004-11-11 | Nikon Corp | 光学装置及びその調整方法及びエネルギー線伝播装置 |
| JP2005516195A (ja) * | 2002-01-23 | 2005-06-02 | ハーン−マイトネル−インスチツート ベルリン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 中性子ビームまたは中性子パルスを所期のようにスペクトル成形するための中性子光学構成要素装置 |
| JP2007128681A (ja) * | 2005-11-01 | 2007-05-24 | Japan Atomic Energy Agency | 中性子偏極装置 |
| JP2008022920A (ja) * | 2006-07-18 | 2008-02-07 | Hitachi Ltd | ホウ素中性子捕捉療法用の医療装置 |
-
2009
- 2009-09-02 JP JP2009202581A patent/JP2011053096A/ja active Pending
Patent Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0390900A (ja) * | 1989-08-25 | 1991-04-16 | General Atomic Co | 中性子ラジオグラフィー装置 |
| JPH1062365A (ja) * | 1996-08-20 | 1998-03-06 | Toshiba Corp | 中性子散乱材料検査装置 |
| JPH10247599A (ja) * | 1997-03-03 | 1998-09-14 | Rikagaku Kenkyusho | 中性子ビームの制御方法及び制御装置 |
| JPH10332895A (ja) * | 1997-05-19 | 1998-12-18 | Lucent Technol Inc | 冷中性子集束装置 |
| JP2001033593A (ja) * | 1999-07-22 | 2001-02-09 | Mitsubishi Pencil Co Ltd | 中性子カーボンミラーおよびその製造方法 |
| JP2003512631A (ja) * | 1999-10-18 | 2003-04-02 | ムラディン、アブベキロウィッチ、クマホフ | 高エネルギー粒子流束の一体的レンズ、このようなレンズの製法、および分析装置におけるその利用、および放射線治療およびリソグラフィー用装置 |
| JP2002257996A (ja) * | 2001-03-06 | 2002-09-11 | Hitachi Ltd | 中性子発生装置 |
| JP2005516195A (ja) * | 2002-01-23 | 2005-06-02 | ハーン−マイトネル−インスチツート ベルリン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 中性子ビームまたは中性子パルスを所期のようにスペクトル成形するための中性子光学構成要素装置 |
| JP2003315289A (ja) * | 2002-04-19 | 2003-11-06 | Hitachi Ltd | 中性子発生装置を用いた検査・分析装置 |
| JP2004219393A (ja) * | 2003-01-15 | 2004-08-05 | Korea Atom Energ Res Inst | 高光度の平行ビーム生成装置 |
| JP2004317429A (ja) * | 2003-04-18 | 2004-11-11 | Nikon Corp | 光学装置及びその調整方法及びエネルギー線伝播装置 |
| JP2007128681A (ja) * | 2005-11-01 | 2007-05-24 | Japan Atomic Energy Agency | 中性子偏極装置 |
| JP2008022920A (ja) * | 2006-07-18 | 2008-02-07 | Hitachi Ltd | ホウ素中性子捕捉療法用の医療装置 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019086429A (ja) * | 2017-11-08 | 2019-06-06 | 日本電信電話株式会社 | 中性子反射材位置決定方法、中性子反射材位置決定プログラム、および、中性子反射材位置決定装置 |
| JP2021521434A (ja) * | 2018-04-11 | 2021-08-26 | フェニックス ニュートロン イメージング エルエルシー | 中性子撮像システムおよび方法 |
| US11662485B2 (en) | 2018-04-11 | 2023-05-30 | Phoenix Neutron Imaging Llc | Neutron imaging systems and methods |
| JP7337090B2 (ja) | 2018-04-11 | 2023-09-01 | フェニックス ニュートロン イメージング エルエルシー | 中性子撮像システムおよび方法 |
| US12292391B2 (en) | 2022-04-15 | 2025-05-06 | Phoenix, Llc | Re-entrant cones for moderator chamber of a neutron imaging system |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101236150B (zh) | 用于基于流式细胞术的仪器的光电传感器及其照射单元 | |
| US8744048B2 (en) | Integrated X-ray source having a multilayer total internal reflection optic device | |
| AU2015225939B2 (en) | X-ray collimator | |
| US9418767B2 (en) | X-ray focusing device | |
| WO1991001076A1 (en) | Focused x-ray source | |
| CN106996941B (zh) | 一种x射线荧光分析装置及其分析检测方法 | |
| KR102675627B1 (ko) | 수렴형 엑스레이 이미지 장치 및 방법 | |
| JP2011053096A (ja) | 中性子光学素子 | |
| CN109357992A (zh) | 用于对光束进行整形的光学系统及流式细胞仪 | |
| CN117079856A (zh) | 一种硬X射线微聚焦的Nb/Al多层膜Laue透镜 | |
| JP5338483B2 (ja) | X線集束装置 | |
| WO2019017233A1 (ja) | 中性子光学素子及び中性子源 | |
| Liu et al. | A desktop X-ray monochromator for synchrotron radiation based on refraction in mosaic prism lenses | |
| Ullrich et al. | Potential for concentration of synchrotron beams with capillary optics | |
| JP2007093315A (ja) | X線集束装置 | |
| CN109964118A (zh) | 基于光栅的相位对比成像 | |
| Xiao-Yan et al. | Simulation of x-ray transmission through an ellipsoidal capillary | |
| RU2469281C1 (ru) | Многопроходная оптическая система для возбуждения спектров комбинационного рассеяния света | |
| RU24312U1 (ru) | Линза для концентрации излучения в виде потока нейтральных или заряженных частиц со сканированием положения фокусного пятна | |
| JP7281829B2 (ja) | 放射線画像生成装置 | |
| RU2210126C1 (ru) | Устройство для получения рентгеновского излучения повышенной яркости | |
| RU26678U1 (ru) | Устройство для получения рентгеновского излучения повышенной интенсивности | |
| Petrov et al. | Refractive neutron lens | |
| RU2340023C9 (ru) | Капиллярная нейтронно-оптическая система | |
| KR100789385B1 (ko) | 마이크로 모세관을 이용한 엑스선 광학 소자 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120209 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20120828 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121002 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130423 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20130820 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |