JP2010538162A - 精鉱バーナー - Google Patents

Abstract

粉状の精鉱混合物および反応ガスを、自溶炉の反応シャフト（1）に供給するための精鉱バーナー。精鉱バーナーは、精鉱混合物を反応シャフト（1）に供給し、開口部（3）が反応シャフトに開口する供給パイプ（2）と、供給パイプ（2）の内側に同軸に配設され、開口部から反応シャフト（1）の内側へ延び、分散ガスを周囲を流れる精鉱混合物へと案内する分散装置（4）とを含む。反応ガスを反応シャフト（1）に供給するために、ガス供給装置（5）は、反応シャフトの外側に配設され、同心円状に供給パイプ（2）を囲む環状放出口（7）を介して反応シャフト（1）に開口して、放出口から放出される反応ガスと供給パイプの中央部から放出される粉状固体とを混合させる反応ガス室（6）を含み、精鉱混合物を分散ガスによって側部に案内する。反応ガス室（6）は乱流室として構成され、反応ガスを反応ガス室の接線方向に案内する流入路（9）が反応ガス室の接線方向に開口する。流入路（9）には、反応ガス流の断面積を調整する調整部材（11）が配設される。

Description

発明の分野

本発明は、特許請求の範囲の前段に規定する精鉱バーナーに関するものである。

発明の背景

自溶炉製錬処理は、３つの部分からなる自溶炉、すなわち、反応シャフト、下部炉、およびアップテークにて行われる。自溶炉製錬処理では、硫化精鉱、フラックス、およびその他の粉状成分で構成される粉状精鉱混合物を、反応シャフト上部の精鉱バーナーを用いて反応ガスと混合する。精鉱バーナーの構造体は、自溶炉製錬処理の正常化において基本的な役割を果たす。反応ガスは、空気、酸素富化空気、または酸素を含んでよい。精鉱バーナーは複数の同心流路を含み、これらの流路を介して反応ガスおよび精鉱を炉内に吹き込んで混合する。精鉱バーナーは公知であり、たとえば、フィンランド特許公報第98071号および同第100889号に記載されている。このバーナーはオウトクンプ社製バーナーとして知られていて、精鉱やフラックスなどの粉状固体物質用流路とプロセス・ガス用流路とを別個に含むものであり、世界的規模で広く使用されている自溶炉用バーナーである。精鉱バーナーは供給パイプを備え、このパイプの口は反応シャフトに開口し、粉状物質を反応シャフトに供給する。空気または反応ガスの一部を分散ガスとして用い、分散ガスを供給パイプの内側から分散パイプを通して供給するのが望ましい。分散パイプ下部の上面は外向きに曲がっていて、その下縁部には側面に向けて複数の孔が設けられ、この孔を通して反応ガスが実質的に水平に供給され、下降してくる粉状固体に向かう。分散パイプは供給パイプの内側に同心円状に配設され、分散パイプは反応シャフト内部の開口部からある程度延びて、分散ガスを分散パイプの周囲を流動する精鉱粉末へと導く。反応ガスの大部分は、ガス供給装置を通じて反応シャフトに供給される。ガス供給装置は反応ガス室を備え、このガス室は反応シャフトの外側に設けられ、中央供給パイプを同心円状に囲む管状の放出口を通じて反応シャフトに開口し、放出口から放出される反応ガスを、供給パイプから重力によって流れてきて分散ガスによって側方に誘導される粉状固体と混合させる。精鉱バーナーの主な目的は、反応シャフトに固形微粒子および反応ガスからなる最適な懸濁を供給することにある。個々の粒子を加熱すると、発火して、反応ガス中の酸素によって燃え始める。細かい硫化物を使用すると燃焼反応は速く、必要熱量が放出されて、供給混合物中の精鉱混合粒子およびその他の固体を完全に融解させる。融解した微粒子は下方に流れて下部炉に堆積し、下部炉ではスラグおよび硫化物マットそれぞれの層が形成される。燃焼ガス（主にSO₂とN₂との混合物）は、アップテークを通って廃熱ボイラーに流れ、このボイラーでは燃焼ガスの熱が回収される。

中国実用新案公告公報第2513062号および中国特許公報第1246486号には精鉱バーナーが開示され、この精鉱バーナーでは、互いに重ねて配設された複数の反応ガス室を乱流室とし、放出口から放出される反応ガスの乱流を形成する。各反応ガス室は、内部に反応ガスを接線方向に案内する吸気流路が接線方向に開口している円筒状上部と、円筒状上部から放出口に向かって下向きに円錐状に収束する円錐状下部とを備える。このような機構にすることで、反応ガスに反応ガス室で渦を形成することができ、反応ガスは渦を巻きながら放出口から反応シャフトへと流出する。

公知の精鉱バーナーにおける問題点は、乱流の量を調節する手段がないことである。乱流は過剰に効果的な炎が急速に燃え上がってしまうため、シャフトの中央部に問題を引き起こす。

発明の目的

本発明の目的は、上述の問題点を解消することである。

本発明の他の目的は、自溶炉製錬処理をさらに改善および向上させることである。

本発明の目的はとくに、以下のような精鉱バーナーを開示することである。すなわち、
−反応シャフトにおける精鉱混合粒子の処理時間を延ばし、
−精鉱バーナーによって供給される物質の混合を向上させて懸濁を生成し、またかかる物質間の化学反応を高め、
−酸素の使用効率を向上させ、
−炎の安定性を向上させて、従来より炎の状態を有効にするバーナーである。

本発明による精鉱バーナーは、請求項１に記載されている事項を特徴とする。

本発明では調整部材を吸気流路に配設して反応ガス流の断面積を調整する。

これにより、放出口から放出される乱流の速度を調整することができる。乱流の量も調整可能である。乱流が過剰に効果的な炎を過度に急速に燃え立たせて、シャフトの中央部に問題を引き起こす場合、調整部材を用いて乱流量を調整してその量をほぼゼロに減らすことができる。

精鉱バーナーの適用において、反応ガス室は、流入路が接線方向に開口する円筒状上部と、円筒状上部から放出口に向かって下向きに円錐状に収束する円錐状下部とを含む。

精鉱バーナーの適用において、流入路は矩形断面を有する。矩形の流入路は、構造および流動技術の点から見て有利である。矩形の流入路から反応ガス室へと向かう反応ガスの流れは、その全幅において均等である。

精鉱バーナーの適用において、案内羽根を反応ガス室に設けて、反応ガスの乱流の渦巻角度を決める。乱流速度または体積流量率を交互に調整するなど、様々な動作条件において渦巻角度を一定に保つことにより、案内羽根を使用して炎の安定性を高めることができる。これにより、流動パターンが様々な条件の下でも同一になる。炎、混合、化学反応、および酸素使用効率の安定性が向上する。速度が径方向内向きになるため、またはプロセスガスの径方向への移動が制限されるため、精鉱混合粒子とプロセスガスの混合も改善することができ、したがって酸素使用効率を高めることができる。さらに、乱流を起こすことによって得られる利点をすべて得ることができる。すなわち、精鉱混合粒子が反応シャフトにおいて処理される時間が増し、精鉱バーナーによって供給される物を混合させて懸濁を生成し、これらの物質間の化学反応を促進させ、酸素使用効率を高め、炎の安定性を高め、炎の形状の条件（適切な幅および適切な長さ）を従来に比べて有利にする。酸素使用効率が高いと、精鉱バーナーをとくに、酸化度の高い直接浸炭製錬およびDON処理として知られる処理での使用に有利である。直接浸炭製錬は、粗銅を生産する銅の自溶炉製錬処理である。DON処理（オウトクンプ（オウトテック）式直接ニッケル処理）は、ニッケルの自溶炉製錬処理である。

精鉱バーナーの適用において、案内羽根は反応ガス室の円錐状下部領域に配設される。

精鉱バーナーの適用において、円錐状下部の放出口に隣接する下端部には案内羽根がない領域がある。このため、凝集物を案内羽根周辺から容易に除去することができ、さらに、案内羽根により決定される反応ガスの最適な渦巻角度を確保することができる。なお適用状態に応じて、案内羽根を流入路の近くに配することもできるということに留意すべきである。

精鉱バーナーの適用において、反応ガス室の環状放出口は、円錐台形で下方内側に向かって垂直軸に対して角度qで収束する壁部によって外側方向に制限される。このような環状放出口の外壁部の内側への傾斜は、炎の安定性を向上させ、精鉱混合粒子の処理時間を長くし、混合および化学反応を向上させ、炎の形状を好適にするために利用することも可能なため、有利である。最もよく知られているバーナーの構造では、上述のフラスト−コニカル壁部は垂直軸に対して一定の角度で下方外側に広がり、放出口から放出される乱流に径方向外向きの速度をもたせ、その結果、反応ガスと精鉱混合粒子とを十分に混合させることができず、流動状態が化学反応および燃焼に不利な状態になることもある。乱気流量が増加するにつれて、径方向外向きの速度も増す。接線方向速度の高い激しい乱気流では径方向外向きの速度が高くなることがあり、炎が拡大する可能性があるため（これは炉の耐火性ライニングにとって望ましくない）、燃焼が不安定になる。乱流状態で生じる遠心力の影響により、径方向外向きの速度が加わって、ある程度の精鉱混合粒子が炉壁に到達することもある。反応ガス室の環状放出口が下方内側に向かって垂直軸に対して角度qで収束するフラスト−コニカル壁部によって横方向外側に制限を受ける機構によって、径方向内向きの速度が放出口から放出される乱流にもたらされる。内側に傾斜する角度qによっては、なおも、接線方向速度が極めて高い非常に強力な乱流に径方向外向きの速度が生じることもあるが、従来のバーナーに比べ、この径方向外向きの速度を大幅に減少させることができる。放出領域において反応が起きる正確な位置は、この領域が途切れることなく下方向に収束する領域であるため、たいていの場合さらに下流に移動する。上述の角度を利用して、所望の流動パターンにすることで炎を安定させ、化学反応を高め、所望の炎の形状（広すぎず、長すぎない形状）にする。これにより、既述したように直接浸炭製錬において重要な、またDON処理においてもある程度重要な酸素利用の効率が高まる。

精鉱バーナーの適用において、角度qは約20〜50度であり、好ましくは約30〜35度である。

精鉱バーナーの適用において、精鉱バーナーは、供給パイプの周りに制御のもとで供給パイプ方向に移動可能に配設された、放出口の断面積を調整する調整体を供える。精鉱バーナーはさらに、供給パイプの外側に配設されて調整体を動かす調整ロッドを含む。また、精鉱バーナーは、供給パイプおよび調整ロッドを囲むように構成され、反応ガス室に実質的にそのままの乱流をもたらすケーシングチューブを含む。ケーシングチューブに覆われた調整ロッドは流れを妨げないので、反応ガス室の流れの擾乱を可能な限り防ぐことができる。

以下、本発明を最適な具体例を用いて添付の図面を参照しながら詳細に述べる。
本発明による精鉱バーナーの実施形態の概略断面図である。 図１の精鉱バーナーをII-II方向から見た図である。 図１のIII-III間の断面図である。 図１の拡大詳細部Ａを示す図である。

発明の詳細な説明

図１は、自溶炉の反応シャフト1の上部に備えられて、粉状精鉱混合物および反応ガスを自溶炉の反応シャフト1に供給する精鉱バーナーを示す。

精鉱バーナーは、供給パイプ2と、反応シャフトに開口して精鉱混合物を反応シャフト1に供給する供給パイプの開口部3とを含む。供給パイプ2の内側には、同軸に配設された分散装置4が備えられ、この分散装置は開口部3からいくらか反応シャフト1の内部に延びている。分散装置4は、分散装置を通して供給されるガスを、分散装置の下縁部から、分散装置の外側を下方向に向かう固体物質の流れに向けて導く。また、精鉱バーナーは、反応ガスを反応シャフト1に供給するガス供給装置5を含む。ガス供給装置は反応ガス室6を含み、反応ガス室は、反応シャフト1の外側に位置し、供給パイプ2を同心円状に囲む環状放出口7を介して反応シャフト1に開口する。放出口7から放出される反応ガスを、供給パイプ2の中央部から放出される粉状固体物質と混合させて懸濁を生成し、放出口7近傍の固体物質は分散装置から吹き出すガスによって側方に向かう。

反応ガス室6は乱流室として形成され、放出口7から放出される反応ガスの乱流をもたらす。このため、反応室6は円筒状上部8を含み、円筒状上部には吸気流路9が接線方向に開口している。反応ガスは反応室6の内部に接線方向に入り、反応ガスの乱流を発生させ、円筒状上部8から円錐状に進んで、下向きに収束する円錐状下部10を経て放出口7から出て行く。反応ガス室6には案内羽根12が設けられ、反応ガスの乱流の渦巻角度を決める。案内羽根12は、反応ガス室6の円錐状下部10の領域に配設される。下部10の放出口7に隣接する下端部には、案内羽根12のない部分がある。

図２に示すように、吸気流路9は矩形断面を有する。

図３は、流入路9には反応ガス流の断面積を調整する調整部材11を設けられていることを示す。調整部材11は調整弁を含み、調整弁は制御により、流入路9の長手軸方向に対してある角度で、実質的に反応ガス室6の接線方向に流入路9を横断することができる。調整弁11を用いて、反応ガスの流入速度を調整することができる。

図１および図３は精鉱バーナーが調整体14を含むことを示し、この調整体は、供給パイプの周りに、制御によって移動可能となるよう供給パイプ方向に配設されて、放出口7の断面積を調整する。調整ロッド15は、供給パイプ2の外側に配設され、調整体14を動かす。ケーシングチューブ16は供給パイプ2および調整ロッド15を囲むように構成され、反応ガス室の乱流は実質的に妨げられることはない。

図４は、反応ガス室6の環状放出口7がフラスト−コニカル壁部13によって外側方向に制限を受ける様子を示し、フラスト−コニカル壁部は下方内側に向かって垂直軸に対して角度qで収束している。角度qは約20〜50度であり、好ましくは、約30〜35度である。

本発明は上述の好適な実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲で規定する発明の概念の範囲内において様々に変更可能である。

Claims (9)

1. −開口部（3）が自溶炉の反応シャフトに開口する、粉状精鉱混合物を該反応シャフト（1）に供給する供給パイプ（2）と、
   −該供給パイプ（2）の内側に同軸に配設され、前記開口部から前記反応シャフト（1）の内側へ延び、分散ガスを周囲を流れる前記精鉱混合物へ向ける分散装置（4）と、
   −該反応ガスを前記反応シャフト（1）に供給するガス供給装置（5）とを含み、該ガス供給装置は、該反応シャフトの外側に位置し、同心円状に前記供給パイプ（2）を囲む環状放出口（7）を介して該反応シャフト（1）に開口し、該放出口から放出される前記反応ガスと前記供給パイプの中央部から放出される前記粉状固体物質とを混合させる反応ガス室（6）を含み、該固体物質は前記分散ガスによって側方に案内され、該反応ガス室（6）は乱流室として形成され、前記放出口（7）から放出される反応ガスの乱流をもたらし、流入路（9）が該反応ガス室（6）に接線方向に開口して前記反応ガスを該反応ガス室の接線方向に案内する、前記粉状精鉱混合物および反応ガスを前記反応シャフト（1）に供給する精鉱バーナーにおいて、調整部材（11）が前記流入路（9）に配設されて前記反応ガスの流れの断面積を調整することを特徴とする精鉱バーナー。
2. 請求項１に記載の精鉱バーナーにおいて、前記反応ガス室（6）は、前記流入路（9）が接線方向に開口する円筒状上部（8）と、該円筒状上部（8）から前記放出口（7）へと下向きの円錐状に収束する円錐状下部（10）とを含むことを特徴とする精鉱バーナー。
3. 請求項１または２に記載の精鉱バーナーにおいて、前記流入路（9）は矩形断面を有することを特徴とする精鉱バーナー。
4. 請求項１ないし３のいずれかに記載の精鉱バーナーにおいて、前記反応ガス室（6）には案内羽根（12）が設けられ、前記反応ガスの乱流の渦巻角度が決定されることを特徴とする精鉱バーナー。
5. 請求項４に記載の精鉱バーナーにおいて、前記案内羽根（12）は前記反応ガス室（6）の円錐状下部（10）領域に配設されることを特徴とする精鉱バーナー。
6. 請求項４または５に記載の精鉱バーナーにおいて、前記下部（10）は、前記放出口（7）付近に前記案内羽根（12）がない領域を含むことを特徴とする精鉱バーナー。
7. 請求項１ないし６のいずれかに記載の精鉱バーナーにおいて、前記反応ガス室（6）の環状放出口（7）はフラスト−コニカル壁部（13）によって外側方向に制限され、該フラスト−コニカル壁部は下方内側に向かって垂直軸に対して角度qで収束することを特徴とする精鉱バーナー。
8. 請求項７に記載の精鉱バーナーにおいて、前記角度qは約20〜50度であり、好ましくは約30〜35度であることを特徴とする精鉱バーナー。
9. 請求項１ないし８のいずれかに記載の精鉱バーナーにおいて、該精鉱バーナーは、前記供給パイプ（2）の周りに制御のもと移動可能に該供給パイプ方向に配設されて前記放出口（7）の断面積を調整する調整体（14）と、該供給パイプ（2）の外側に配設されて該調整体（14）を動かす調整ロッド（15）と、該供給パイプ（2）および該調整ロッド（15）を囲むように構成されて前記反応ガス室に実質的に妨害されない乱流をもたらすケーシングチューブ（16）とを含むことを特徴とする精鉱バーナー。

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